WO2023120647A1 - 有機銅化合物、及び有機銅化合物の製造方法 - Google Patents
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- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Definitions
- the present invention relates to an organic copper compound and a method for producing an organic copper compound.
- Non-Patent Document 1 discloses an organic zinc iodide compound protected with a 9-fluorenylmethyloxycarbonyl protecting group (Fmoc).
- Patent Document 1 discloses an organic zinc iodide compound protected with a tert-butoxycarbonyl protecting group (Boc) and an organic zinc bromine compound protected with Boc.
- Patent Document 2 discloses an organic zinc iodide compound protected with Boc and an organic zinc iodide compound protected with a benzyloxycarbonyl protecting group (Cbz).
- the purpose of the present invention is to newly provide an organocopper compound that is useful in the synthesis of special amino acids.
- the present inventor conducted extensive research, and as a result, was able to newly produce a useful organocopper compound in the synthesis of special amino acids by using a copper agent.
- the present invention includes the following organocopper compounds and methods for producing the organocopper compounds.
- X is a chlorine atom, a bromine atom, a cyano group, or a trifluoromethanesulfonate group
- Prot is a protecting group selected from a 9-fluorenylmethyloxycarbonyl protecting group, a tert-butoxycarbonyl protecting group, an allyloxycarbonyl protecting group, or a benzyloxycarbonyl protecting group
- R 1 is a hydroxyl group or a carboxylic acid-protecting group
- R2 is a hydrogen atom or an alkyl group.
- X is a chlorine atom, a bromine atom, a cyano group, or a trifluoromethanesulfonate group
- Prot is a protecting group selected from a 9-fluorenylmethyloxycarbonyl protecting group, a tert-butoxycarbonyl protecting group, an allyloxycarbonyl protecting group, or a benzyloxycarbonyl protecting group
- R 1 is a hydroxyl group or a carboxylic acid-protecting group
- R2 is a hydrogen atom or an alkyl group.
- the copper agent when producing a compound in which X is a chlorine atom or a bromine atom, the copper agent includes copper (I) chloride, copper (I) bromide, and copper (I) iodide. ) is at least one compound selected from the group consisting of In the general formula (1), when producing a compound in which X is a cyano group, the copper agent is copper (I) cyanide. 3. The production method according to item 2 above.
- the copper agent when producing a compound in which X is a chlorine atom or a bromine atom, is preferably copper (I) chloride, copper (I) bromide, and copper iodide.
- the reaction is carried out in the presence (combination) of at least one compound selected from the group consisting of (I) and at least one compound selected from the group consisting of lithium chloride, lithium bromide, and lithium iodide. .
- the copper agent when producing a compound in which X is a cyano group, is preferably copper (I) cyanide, and the reaction is carried out in the presence (combination) of lithium chloride. conduct.
- the organic solvent is at least one organic solvent selected from the group consisting of aprotic polar solvents, halogen solvents, ether solvents, ester solvents, hydrocarbon solvents, and aromatic solvents.
- aprotic polar solvents halogen solvents
- ether solvents ether solvents
- ester solvents hydrocarbon solvents
- aromatic solvents aromatic solvents.
- the organocopper compound has excellent stability and is useful in synthesizing special amino acids, particularly in derivatization to aryl-type special amino acids.
- the present invention can newly provide an organocopper compound useful in the synthesis of special amino acids.
- X is a chlorine atom, a bromine atom , a cyano group (-C ⁇ N, CN), or a trifluoromethanesulfonate group ( CF3SO3- , TfO group);
- Prot is a protection selected from a 9-fluorenylmethyloxycarbonyl protecting group (Fmoc), a tert-butoxycarbonyl protecting group (Boc), an allyloxycarbonyl protecting group (Alloc), or a benzyloxycarbonyl protecting group (Cbz) is the basis,
- R 1 is a hydroxyl group or a carboxylic acid-protecting group;
- R2 is a hydrogen atom or an alkyl group.
- the copper agent is preferably copper (I) chloride (CuCl), copper (I) bromide (CuBr), and copper (I) iodide (CuI).
- the copper agent is preferably copper (I) chloride (CuCl), copper (I) bromide (CuBr), and at least one compound selected from the group consisting of copper (I) iodide (CuI), lithium chloride (LiCl), lithium bromide (LiBr) , and lithium iodide (LiI) in the presence (combination) of at least one compound.
- the copper agent is preferably copper (I) cyanide (CuCN) is.
- the copper agent is preferably copper cyanide (I) (CuCN) and the reaction is carried out in the presence (combination) of lithium chloride (LiCl).
- the organic solvent is preferably a group consisting of aprotic polar solvents, halogen solvents, ether solvents, ester solvents, hydrocarbon solvents, and aromatic solvents. is at least one organic solvent selected from
- the organocopper compound has excellent stability and is useful in synthesizing special amino acids, particularly in derivatization to aryl-type special amino acids.
- X is a chlorine atom, a bromine atom, a cyano group, or a trifluoromethanesulfonate group.
- Prot is a protecting group selected from a 9-fluorenylmethyloxycarbonyl protecting group, a tert-butoxycarbonyl protecting group, an allyloxycarbonyl protecting group, or a benzyloxycarbonyl protecting group.
- R 1 is a hydroxyl group or a protective group for carboxylic acid.
- R 1 is preferably a carboxylic acid-protecting group, and the carboxylic acid-protecting group may be a commonly known one, for example, "Protective Groups in Organic Synthesis” by Theodora W. Greene , 1981 by John Wiley & Sons. Inc.”, Chapter 5.
- R 1 more preferably has a number of carbon atoms such as methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropyloxy, n-butoxy, isobutyloxy, sec-butoxy, tert-butoxy, 1-ethylpropyloxy, etc.
- n-pentyloxy isopentyloxy, neopentyloxy, n-hexyloxy, isohexyloxy, 3-methylpentyloxy, n-heptyloxy, n- octyloxy, n-nonyloxy, n-decyloxy, n-undecyloxy, n-dodecyloxy, 5-propylnonyloxy, n-tridecyloxy, n-tetradecyloxy, n-pentadecyloxy, hexadecyloxy, Linear or branched alkoxy groups with 1 to 18 carbon atoms including heptadecyloxy, octadecyloxy, etc.; 3 to 8 cyclic alkoxy groups with substituents such as phenoxy, 2,6-dimethylphenoxy, 2,6-di-tert-
- R 1 is more preferably a linear or branched alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenoxy group which may have a substituent, a substituent benzyloxy group.
- R 1 is particularly preferably methoxy, tert-butoxy or the like.
- R2 is a hydrogen atom or an alkyl group.
- R 2 is preferably a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic alkyl group, specifically, for example, a hydrogen atom, methyl, ethyl, n-propyl , isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, 1-ethylpropyl, linear or branched alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms; n-pentyl, isopentyl, neopentyl, n- hexyl, isohexyl, 3-methylpentyl, n-heptyl, n-octyl, n-nonyl, n-decyl, n-undecyl, n-dodecyl, 5-propylnonyl, n-tridecyl, n-tetradecyl, n-pentadecyl
- R 2 is more preferably a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or the like. In general formula (2), R 2 is more preferably a hydrogen atom, methyl or the like.
- the compound represented by the general formula (2) has a three-dimensional structure of L-type (compound represented by the general formula (2a) (L-form)) or D-type (the compound represented by the general formula (2b) compound (D-form)), or a mixture of a compound that is L-form and a compound that is D-form.
- X is a chlorine atom, a bromine atom, a cyano group, or a trifluoromethanesulfonate group
- Prot is a protecting group selected from a 9-fluorenylmethyloxycarbonyl protecting group, a tert-butoxycarbonyl protecting group, an allyloxycarbonyl protecting group, or a benzyloxycarbonyl protecting group
- R 1 is a hydroxyl group or a carboxylic acid-protecting group
- R2 is a hydrogen atom or an alkyl group.
- X is a chlorine atom, a bromine atom, a cyano group, or a trifluoromethanesulfonate group
- Prot is a protecting group selected from a 9-fluorenylmethyloxycarbonyl protecting group, a tert-butoxycarbonyl protecting group, an allyloxycarbonyl protecting group, or a benzyloxycarbonyl protecting group
- R 1 is a hydroxyl group or a carboxylic acid-protecting group
- R2 is a hydrogen atom or an alkyl group.
- the compound represented by the general formula (2) used in the method for producing the organocopper compound of the present invention is obtained by adding zinc to the compound represented by the general formula (3) by a conventionally known method such as Org. . Chem., 1(23), 4254-4261 (2003).
- X is a chlorine atom, a bromine atom, a cyano group, or a trifluoromethanesulfonate group
- Prot is a protecting group selected from a 9-fluorenylmethyloxycarbonyl protecting group, a tert-butoxycarbonyl protecting group, an allyloxycarbonyl protecting group, or a benzyloxycarbonyl protecting group
- R 1 is a hydroxyl group or a carboxylic acid-protecting group
- R2 is a hydrogen atom or an alkyl group.
- X in the compound represented by the general formula (3) is a chlorine atom or a bromine atom
- the compound represented by the general formula (3) is reacted with zinc in the presence of a halogen compound in an organic solvent.
- a compound represented by general formula (2) can be produced.
- the organic solvent is preferably at least one organic solvent selected from the group consisting of aprotic polar solvents, halogen solvents, ether solvents, ester solvents, hydrocarbon solvents, and aromatic solvents. .
- the amount of the organic solvent used is such that the concentration (M (mol/L)) of the compound represented by the general formula (3) is preferably 0.01M to 5M, more preferably 0.1M to 2M. It should be adjusted so that the concentration of
- the halogen compound is preferably at least one halogen compound selected from the group consisting of halogen and halogenated alkyl.
- Alkyl halides are organic compounds represented by the general formula R a -X a (R a represents an alkyl group and X a represents a halogen atom).
- R a represents an alkyl group, preferably a linear, branched or cyclic alkyl group, specifically, for example, methyl, ethyl, n-propyl , isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, 1-ethylpropyl, linear or branched alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms; n-pentyl, isopentyl, neopentyl, n- hexyl, isohexyl, 3-methylpentyl, n-heptyl, n-octyl, n-nonyl, n-decyl, n-undecyl, n-dodecyl, 5-propylnonyl, n-tridecyl, n-tetradecyl, n-penta
- X a represents a halogen atom and is at least one halogen atom selected from the group consisting of fluorine, chlorine, bromine and iodine, more preferably a chlorine atom or bromine is an atom.
- the amount of the halogen compound used is adjusted so that the concentration (M (mol/L)) in the organic solvent is preferably 0.01M to 5M, more preferably 0.1M to 2M. Just do it.
- the amount of zinc used is adjusted so that the concentration (M (mol/L)) in the organic solvent is preferably 0.01M to 5M, more preferably 0.1M to 2M. Just do it.
- the reaction temperature is preferably 0°C to 100°C, preferably 10°C to 80°C, more preferably 20°C to 60°C. And it is sufficient.
- the reaction time is preferably 0.1 hour to 100 hours, preferably 0.1 hour to 50 hours, more preferably 0.1 hour to 10 hours. And it is sufficient.
- the ⁇ -position configuration of the compound represented by the general formula (2) to be obtained maintains the ⁇ -position configuration of the compound represented by the general formula (3) to be used.
- the compound represented by the general formula (2a), or the compound represented by the general formula (2b), or the mixture of the compound represented by the general formula (2a) and the compound represented by the general formula (2b) It can be produced by selecting the compound represented by the general formula (3) to be used.
- the method for producing an organocopper compound of the present invention includes the step of reacting the compound (substrate) represented by the general formula (2) with a copper agent in an organic solvent.
- the organic solvent is preferably at least one organic solvent selected from the group consisting of aprotic polar solvents, halogen solvents, ether solvents, ester solvents, hydrocarbon solvents, and aromatic solvents. .
- the aprotic polar solvent is preferably acetone, acetonitrile, N,N-dimethylformamide (DMF), dimethylsulfoxide (DMSO), or the like.
- the halogen-based solvent is preferably dichloromethane (CH 2 Cl 2 ), trichloromethane (CHCl 3 ), or the like.
- the ether solvent is preferably tetrahydrofuran (THF), dioxane, diethyl ether (Et 2 O), isopropyl ether (IPE), or the like.
- the ester solvent is preferably ethyl acetate (AcOEt) or the like.
- the hydrocarbon-based solvent is preferably n-hexane or the like.
- the aromatic solvent is preferably toluene or the like.
- the organic solvent is more preferably an aprotic polar solvent such as acetone, acetonitrile, DMF or DMSO, an ether solvent (polar solvent) such as THF, dioxane or diethyl ether, or a halogen solvent such as dichloromethane or trichloromethane.
- an aprotic polar solvent such as acetone, acetonitrile, DMF or DMSO
- an ether solvent such as THF, dioxane or diethyl ether
- a halogen solvent such as dichloromethane or trichloromethane.
- the amount of the organic solvent used is such that the concentration (M (mol/L)) of the compound (substrate) represented by the general formula (2) is preferably 0.01 M to 5 M, more preferably 0.1 Adjust so that the concentration is between M and 2M.
- the method for producing the organocopper compound of the present invention includes the step of reacting the compound represented by the general formula (2) with a copper agent in an organic solvent.
- the copper (Cu) in the organocopper compound represented by the general formula (1) of the product produced by the method for producing an organocopper compound of the present invention is copper derived from a copper agent used as a substrate (raw material compound). be.
- the copper agent is preferably , copper (I) chloride, copper (I) bromide, and copper (I) iodide.
- the copper agent is preferably , at least one compound selected from the group consisting of copper (I) chloride, copper (I) bromide, and copper (I) iodide, and from the group consisting of lithium chloride, lithium bromide, and lithium iodide
- the reaction is carried out in the presence (combination) of at least one selected compound.
- the copper agent is preferably copper (I) cyanide.
- the copper agent is preferably copper cyanide (I) (CuCN) and the reaction is carried out in the presence (in combination) of lithium chloride.
- the copper agent is more preferably copper chloride (I ) with lithium chloride.
- the copper agent when producing a compound in which the X in the general formula (1) is a cyano group, is more preferably copper cyanide (I) and chloride It is a combination with lithium.
- the amount of the copper agent used is such that the concentration (M (mol/L)) in the organic solvent is preferably 0.01 M to 5 M, more preferably 0.1 Adjust so that the concentration is between M and 2M.
- the amount of the copper agent to be used is the concentration relative to the compound (substrate) represented by the general formula (2) (when the substrate is 100 mol%), and the molar ratio is as follows: It is preferably 20 mol % to 10,000 mol %, more preferably 80 mol % to 1,000 mol %, still more preferably 90 mol % to 500 mol %.
- the amount of lithium halide (LiCl, LiBr, LiI, etc.) used in the copper agent is equivalent to the compound (substrate) represented by the general formula (2) (substrate 1 equivalent), the molar ratio is preferably 0.2 equivalent to 200 equivalents, more preferably 0.8 equivalents to 20 equivalents, still more preferably 0.9 equivalents to 10 equivalents.
- the amount of the copper agent to be used is as an equivalent to the compound (substrate) represented by the general formula (2) (when the substrate is taken as 1 equivalent), in terms of molar ratio, especially , 1 equivalent of at least one compound selected from the group consisting of copper (I) chloride, copper (I) bromide, copper (I) iodide and copper (I) cyanide with 2 equivalents of lithium chloride Therefore, the desired organocopper compound represented by the general formula (1) can be obtained with the maximum yield.
- the organocopper compound of the present invention is useful in synthesizing special amino acids, particularly in derivatization to aryl-type special amino acids.
- a new organic copper compound can be produced by using a copper agent, and this organic copper compound is stable. It is useful in synthesizing special amino acids, particularly in derivatization to aryl-type special amino acids.
- the reaction temperature is preferably 0°C to 100°C, preferably 10°C to 80°C, and more preferably 20°C to 60°C.
- the target organocopper compound can be produced while maintaining the three-dimensional structure of the substrate.
- the organocopper compound (L-form) represented by formula (1a) can be produced.
- X is a chlorine atom, a bromine atom, a cyano group, or a trifluoromethanesulfonate group
- Prot is a protecting group selected from a 9-fluorenylmethyloxycarbonyl protecting group, a tert-butoxycarbonyl protecting group, an allyloxycarbonyl protecting group, or a benzyloxycarbonyl protecting group
- R 1 is a hydroxyl group or a carboxylic acid-protecting group
- R2 is a hydrogen atom or an alkyl group.
- X is a chlorine atom, a bromine atom, a cyano group, or a trifluoromethanesulfonate group
- Prot is a protecting group selected from a 9-fluorenylmethyloxycarbonyl protecting group, a tert-butoxycarbonyl protecting group, an allyloxycarbonyl protecting group, or a benzyloxycarbonyl protecting group
- R 1 is a hydroxyl group or a carboxylic acid-protecting group
- R2 is a hydrogen atom or an alkyl group.
- the organocopper compound represented by the formula (1) maintaining the ratio of the L- and D-isomers A mixture of the L and D forms of is produced.
- Organic copper compound The organic copper compound of the present invention has the following general formula (1):
- X is a chlorine atom, a bromine atom, a cyano group, or a trifluoromethanesulfonate group
- Prot is a protecting group selected from a 9-fluorenylmethyloxycarbonyl protecting group, a tert-butoxycarbonyl protecting group, an allyloxycarbonyl protecting group, or a benzyloxycarbonyl protecting group
- R 1 is a hydroxyl group or a carboxylic acid-protecting group
- R2 is a hydrogen atom or an alkyl group.
- the organocopper compound of the present invention is produced according to the method for producing the organocopper compound of the present invention by a step of reacting the compound represented by the general formula (2) with a copper agent in an organic solvent. I can do things.
- X is a chlorine atom, a bromine atom, a cyano group, or a trifluoromethanesulfonate group.
- Prot is a protecting group selected from a 9-fluorenylmethyloxycarbonyl protecting group, a tert-butoxycarbonyl protecting group, an allyloxycarbonyl protecting group, or a benzyloxycarbonyl protecting group.
- R 1 is a hydroxyl group or a protective group for carboxylic acid.
- R 1 is preferably a carboxylic acid-protecting group, and the carboxylic acid-protecting group may be a commonly known one, such as "Protective Groups in Organic Synthesis” by Theodora W. Greene. , 1981 by John Wiley & Sons. Inc.”, Chapter 5.
- R 1 more preferably has a number of carbon atoms such as methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropyloxy, n-butoxy, isobutyloxy, sec-butoxy, tert-butoxy, 1-ethylpropyloxy, etc.
- n-pentyloxy isopentyloxy, neopentyloxy, n-hexyloxy, isohexyloxy, 3-methylpentyloxy, n-heptyloxy, n- octyloxy, n-nonyloxy, n-decyloxy, n-undecyloxy, n-dodecyloxy, 5-propylnonyloxy, n-tridecyloxy, n-tetradecyloxy, n-pentadecyloxy, hexadecyloxy, Linear or branched alkoxy groups with 1 to 18 carbon atoms including heptadecyloxy, octadecyloxy, etc.; 3-8 cyclic alkoxy groups with substituents such as phenoxy, 2,6-dimethylphenoxy, 2,6-di-tert-but
- R 1 is more preferably a linear or branched alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenoxy group which may have a substituent, or a substituent. benzyloxy group.
- R 1 is particularly preferably methoxy, tert-butoxy or the like.
- R2 is a hydrogen atom or an alkyl group.
- R 2 is preferably a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic alkyl group, specifically, for example, a hydrogen atom, methyl, ethyl, n-propyl , isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, 1-ethylpropyl, linear or branched alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms; n-pentyl, isopentyl, neopentyl, n- hexyl, isohexyl, 3-methylpentyl, n-heptyl, n-octyl, n-nonyl, n-decyl, n-undecyl, n-dodecyl, 5-propylnonyl, n-tridecyl,
- R 2 is more preferably a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or the like. In general formula (1), R 2 is more preferably a hydrogen atom, methyl or the like.
- the compound represented by the general formula (1) has an L-type (organic copper compound represented by the general formula (1a)) or a D-type (organic copper compound represented by the general formula (1b)). compounds), or mixtures of Forms L and D.
- X is a chlorine atom, a bromine atom, a cyano group, or a trifluoromethanesulfonate group
- Prot is a protecting group selected from a 9-fluorenylmethyloxycarbonyl protecting group, a tert-butoxycarbonyl protecting group, an allyloxycarbonyl protecting group, or a benzyloxycarbonyl protecting group
- R 1 is a hydroxyl group or a carboxylic acid-protecting group
- R2 is a hydrogen atom or an alkyl group.
- X is a chlorine atom, a bromine atom, a cyano group, or a trifluoromethanesulfonate group
- Prot is a protecting group selected from a 9-fluorenylmethyloxycarbonyl protecting group, a tert-butoxycarbonyl protecting group, an allyloxycarbonyl protecting group, or a benzyloxycarbonyl protecting group
- R 1 is a hydroxyl group or a carboxylic acid-protecting group
- R2 is a hydrogen atom or an alkyl group.
- the organocopper compound of the present invention has excellent stability and is useful in synthesizing special amino acids, particularly in derivatization to allylic special amino acids.
- the present invention is not limited to these.
- MeO represents a methoxy group
- t-BuO represents a tert-butoxy group
- DMSO dimethyl sulfoxide
- DMSO dimethyl sulfoxide
- DMSO dimethyl sulfoxide
- DMSO dimethyl sulfoxide
- the organocopper compound of the present invention is useful in synthesizing special amino acids, particularly in derivatization to allylic special amino acids.
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Abstract
本発明は、新たに、特殊アミノ酸の合成における有用な有機銅化合物を提供する事を目的とする。 有機銅化合物、及び有機銅化合物の製造方法。
Description
本発明は、有機銅化合物、及び有機銅化合物の製造方法に関する。
非特許文献1は、9-フルオレニルメチルオキシカルボニル保護基（Fmoc）で保護した有機ヨウ素亜鉛化合物を開示している。
特許文献1は、tert-ブトキシカルボニル保護基（Boc）で保護した有機ヨウ素亜鉛化合物、及びBocで保護した有機臭素亜鉛化合物を開示している。
特許文献2は、Bocで保護した有機ヨウ素亜鉛化合物、及びベンジルオキシカルボニル保護基（Cbz）で保護した有機ヨウ素亜鉛化合物を開示している。
Org. Biomol. Chem., 1(23), 4254-4261 (2003)
本発明は、新たに、特殊アミノ酸の合成における有用な有機銅化合物を提供する事を目的とする。
本発明者は、上記課題を解決すべく、鋭意研究を重ねた結果、銅剤を使用する事に依り、新たに、特殊アミノ酸の合成における有用な有機銅化合物を製造する事が出来た。
本発明者は、係る知見に基づき、更に研究を重ね、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、以下の有機銅化合物、及び有機銅化合物の製造方法を包含する。
項１．
下記一般式（1）：
下記一般式（1）：
Xは、塩素原子、臭素原子、シアノ基、又はトリフルオロメタンスルホナート基であり、
Protは、9-フルオレニルメチルオキシカルボニル保護基、tert-ブトキシカルボニル保護基、アリルオキシカルボニル保護基、又はベンジルオキシカルボニル保護基から選択される保護基であり、
R1は、水酸基、又はカルボン酸の保護基であり、
R2は、水素原子、又はアルキル基である。）
で表される、
有機銅化合物。
項２．
下記一般式（1）：
下記一般式（1）：
Xは、塩素原子、臭素原子、シアノ基、又はトリフルオロメタンスルホナート基であり、
Protは、9-フルオレニルメチルオキシカルボニル保護基、tert-ブトキシカルボニル保護基、アリルオキシカルボニル保護基、又はベンジルオキシカルボニル保護基から選択される保護基であり、
R1は、水酸基、又はカルボン酸の保護基であり、
R2は、水素原子、又はアルキル基である。）
で表される有機銅化合物の製造方法であって、
有機溶媒中で、
下記一般式（2）：
で表される化合物と銅剤とを反応させる工程、を含む、
有機銅化合物の製造方法。
項３．
前記一般式（1）中、前記Xが、塩素原子、又は臭素原子である化合物を製造する時、前記銅剤は、塩化銅（I）、臭化銅（I）、及びヨウ化銅（I）から成る群から選択される少なくとも一種の化合物であり、
前記一般式（1）中、前記Xが、シアノ基である化合物を製造する時、前記銅剤は、シアン化銅（I）である、
前記項2に記載の製造方法。
前記一般式（1）中、前記Xが、塩素原子、又は臭素原子である化合物を製造する時、前記銅剤は、塩化銅（I）、臭化銅（I）、及びヨウ化銅（I）から成る群から選択される少なくとも一種の化合物であり、
前記一般式（1）中、前記Xが、シアノ基である化合物を製造する時、前記銅剤は、シアン化銅（I）である、
前記項2に記載の製造方法。
一般式（1）中、前記Xが、塩素原子、又は臭素原子である化合物を製造する時、好ましくは、前記銅剤は、塩化銅（I）、臭化銅（I）、及びヨウ化銅（I）から成る群から選択される少なくとも一種の化合物であり、塩化リチウム、臭化リチウム、及びヨウ化リチウムから成る群から選択される少なくとも一種の化合物の存在下（組み合わせ）で、反応を行う。
一般式（1）中、前記Xが、シアノ基である化合物を製造する時、好ましくは、前記銅剤は、シアン化銅（I）であり、塩化リチウムの存在下（組み合わせ）で、反応を行う。
項４．
前記有機溶媒は、非プロトン性極性溶媒、ハロゲン系溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、炭化水素系溶媒、及び芳香族系溶媒から成る群から選択される少なくとも一種の有機溶媒である、請求項2又は3に記載の製造方法。
前記有機溶媒は、非プロトン性極性溶媒、ハロゲン系溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、炭化水素系溶媒、及び芳香族系溶媒から成る群から選択される少なくとも一種の有機溶媒である、請求項2又は3に記載の製造方法。
前記有機銅化合物は、安定性に優れ、特殊アミノ酸の合成において、特に、アリール型特殊アミノ酸へ誘導化において、有用である。
本発明は、新たに、特殊アミノ酸の合成における有用な有機銅化合物を提供する事が出来る。
以下に本発明を詳細に説明する。
本明細書において、「含む」及び「含有」は、「含む（comprise）」、「実質的にのみからなる（consist essentially of）」、及び「のみからなる（consist of）」のいずれも包含する概念である。
本明細書において、数値範囲を「A～B」で示す場合、A以上B以下を意味する。
［1］有機銅鉛化合物の製造方法
本発明の下記一般式（1）：
本発明の下記一般式（1）：
Xは、塩素原子、臭素原子、シアノ基（-C≡N、CN）、又はトリフルオロメタンスルホナート基（CF3SO3-、TfO基）であり、
Protは、9-フルオレニルメチルオキシカルボニル保護基（Fmoc）、tert-ブトキシカルボニル保護基（Boc）、アリルオキシカルボニル保護基（Alloc）、又はベンジルオキシカルボニル保護基（Cbz）から選択される保護基であり、
R1は、水酸基、又はカルボン酸の保護基であり、
R2は、水素原子、又はアルキル基である。）
で表される有機銅化合物の製造方法（以下、「本発明の有機銅化合物の製造方法」とも記す）は、
有機溶媒中で、
下記一般式（2）：
で表される化合物と銅剤とを反応させる工程を含む。
本発明の有機銅化合物の製造方法では、前記一般式（1）中、前記Xが、塩素原子、又は臭素原子である化合物を製造する時、前記銅剤は、好ましくは、塩化銅（I）（CuCl）、臭化銅（I）（CuBr）、及びヨウ化銅（I）（CuI）から成る群から選択される少なくとも一種の化合物である。
本発明の有機銅化合物の製造方法では、前記一般式（1）中、前記Xが、塩素原子、又は臭素原子である化合物を製造する時、好ましくは、前記銅剤は、塩化銅（I）（CuCl）、臭化銅（I）（CuBr）、及びヨウ化銅（I）（CuI）から成る群から選択される少なくとも一種の化合物であり、塩化リチウム（LiCl）、臭化リチウム（LiBr）、及びヨウ化リチウム（LiI）から成る群から選択される少なくとも一種の化合物の存在下（組み合わせ）で、反応を行う。
本発明の有機銅化合物の製造方法では、前記一般式（1）中、前記Xが、シアノ基である化合物を製造する時、前記銅剤は、好ましくは、シアン化銅（I）（CuCN）である。
本発明の有機銅化合物の製造方法では、前記一般式（1）中、前記Xが、シアノ基である化合物を製造する時、好ましくは、前記銅剤は、シアン化銅（I）（CuCN）であり、塩化リチウム（LiCl）の存在下（組み合わせ）で、反応を行う。
本発明の有機銅化合物の製造方法では、前記有機溶媒は、好ましくは、非プロトン性極性溶媒、ハロゲン系溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、炭化水素系溶媒、及び芳香族系溶媒から成る群から選択される少なくとも一種の有機溶媒である。
前記有機銅化合物は、安定性に優れ、特殊アミノ酸の合成において、特に、アリール型特殊アミノ酸へ誘導化において、有用である。
［1-1］一般式（2）で表される化合物
本発明の有機銅化合物の製造方法は、有機溶媒中で、基質（原料化合物）として、下記一般式（2）：
本発明の有機銅化合物の製造方法は、有機溶媒中で、基質（原料化合物）として、下記一般式（2）：
一般式（2）中、Xは、塩素原子、臭素原子、シアノ基、又はトリフルオロメタンスルホナート基である。
一般式（2）中、Protは、9-フルオレニルメチルオキシカルボニル保護基、tert-ブトキシカルボニル保護基、アリルオキシカルボニル保護基、又はベンジルオキシカルボニル保護基から選択される保護基である。
一般式（2）中、R1は、水酸基、又はカルボン酸の保護基である。
一般式（2）中、R1は、好ましくは、カルボン酸の保護基であり、カルボン酸の保護基としては、通常公知のものでよく、例えばTheodora W. Greene著の“Protective Groups in Organic Synthesis, 1981 by John Wiley ＆ Sons. Inc.”第5章に記載される保護基等である。
一般式（2）中、R1は、より好ましくは、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、イソプロピルオキシ、n-ブトキシ、イソブチルオキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシ、1-エチルプロピルオキシ等の炭素数1～4の直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシ基；n-ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、n-ヘキシルオキシ、イソヘキシルオキシ、3-メチルペンチルオキシ、n-ヘプチルオキシ、n-オクチルオキシ、n-ノニルオキシ、n-デシルオキシ、n-ウンデシルオキシ、n-ドデシルオキシ、5-プロピルノニルオキシ、n-トリデシルオキシ、n-テトラデシルオキシ、n-ペンタデシルオキシ、ヘキサデシルオキシ、ヘプタデシルオキシ、オクタデシルオキシ等を加えた炭素数1～18の直鎖状又は分岐状アルコキシ基；シクロプロピルオキシ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ、シクロヘプチルオキシ、シクロオクチルオキシ等の炭素数3～8の環状アルコキシ基であり、フェノキシ、2,6-ジメチルフェノキシ、2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノキシ、2-（ジメチルアミノ）-5-ニトロフェノキシ等の置換基を有していてもよいフェノキシ基であり、ベンジルオキシ、ジフェニルメチルオキシ、トリフェニルメチルオキシ等の置換基を有していてもよいベンジル基であり、フェナシルオキシ、p-ブロモフェナシルオキシ、α-メチルフェナシルオキシ、3,4,5-トリメトキシフェナシルオキシ等の置換基を有していてもよいフェナシルオキシ基であり、トリメチルシリルオキシ、トリエチルシリルオキシ等のトリアルキルシリルオキシ基等である。
一般式（2）中、R1は、更に好ましくは、炭素数1～4の直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシ基、置換基を有していてもよいフェノキシ基、置換基を有していてもよいベンジルオキシ基である。
一般式（2）中、R1は、特に好ましくは、メトキシ、tert-ブトキシ等である。
一般式（2）中、R2は、水素原子、又は、アルキル基である。
一般式（2）中、R2は、好ましくは、水素原子、又は直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、水素原子、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、1-エチルプロピル等の炭素数1～4の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基；n-ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、n-ヘキシル、イソヘキシル、3-メチルペンチル、n-ヘプチル、n-オクチル、n-ノニル、n-デシル、n-ウンデシル、n-ドデシル、5-プロピルノニル、n-トリデシル、n-テトラデシル、n-ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル等を加えた炭素数1～18の直鎖状又は分岐状アルキル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等の炭素数3～8の環状アルキル基等である。
一般式（2）中、R2は、より好ましくは、水素原子、又は炭素数1～4の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基等である。
一般式（2）中、R2は、更に好ましくは、水素原子、メチル等である。
一般式（2）中、R2は、更に好ましくは、水素原子、メチル等である。
なお、一般式（2）で表される化合物は、その立体構造がL型（一般式（2a）で表される化合物（L体））、もしくはD型（一般式（2b）で表される化合物（D体））のどちらか一方である化合物、又は、L型である化合物とD型である化合物との混合物を包含する。
Xは、塩素原子、臭素原子、シアノ基、又はトリフルオロメタンスルホナート基であり、
Protは、9-フルオレニルメチルオキシカルボニル保護基、tert-ブトキシカルボニル保護基、アリルオキシカルボニル保護基、又はベンジルオキシカルボニル保護基から選択される保護基であり、
R1は、水酸基、又はカルボン酸の保護基であり、
R2は、水素原子、又はアルキル基である。）。
Xは、塩素原子、臭素原子、シアノ基、又はトリフルオロメタンスルホナート基であり、
Protは、9-フルオレニルメチルオキシカルボニル保護基、tert-ブトキシカルボニル保護基、アリルオキシカルボニル保護基、又はベンジルオキシカルボニル保護基から選択される保護基であり、
R1は、水酸基、又はカルボン酸の保護基であり、
R2は、水素原子、又はアルキル基である。）。
本発明の有機銅化合物の製造方法で使用する、一般式（2）で表される化合物は、一般式（3）で表される化合物に、亜鉛を、従来公知の方法、例えば、Org. Biomol. Chem., 1(23), 4254-4261 (2003)に記載の方法等に従い、反応させることで製造することができる。
Xは、塩素原子、臭素原子、シアノ基、又はトリフルオロメタンスルホナート基であり、
Protは、9-フルオレニルメチルオキシカルボニル保護基、tert-ブトキシカルボニル保護基、アリルオキシカルボニル保護基、又はベンジルオキシカルボニル保護基から選択される保護基であり、
R1は、水酸基、又はカルボン酸の保護基であり、
R2は、水素原子、又はアルキル基である。）。
一般式（3）で表される化合物のXが塩素原子、又は臭素原子である場合、有機溶媒中で、ハロゲン化合物の存在下、一般式（3）で表される化合物と亜鉛とを反応させることで一般式（2）で表される化合物を製造することができる。
前記有機溶媒は、好ましくは、非プロトン性極性溶媒、ハロゲン系溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、炭化水素系溶媒、及び芳香族系溶媒から成る群から選択される少なくとも一種の有機溶媒である。
前記有機溶媒の使用量は、前記一般式（3）で表される化合物の濃度（M（mol／L））が、好ましくは、0.01M～5Mの濃度に、より好ましくは、0.1M～2Mの濃度に成る様に調整すればよい。
前記ハロゲン化合物は、好ましくは、ハロゲン、及びハロゲン化アルキルから成る群から選択される少なくとも一種のハロゲン化合物である。
ハロゲン化アルキルは、一般式Ra-Xa（Raはアルキル基を表し、Xaはハロゲン原子を表す）で表される有機化合物である。
一般式Ra-Xaにおいて、Raは、アルキル基を表し、好ましくは、直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、1-エチルプロピル等の炭素数1～4の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基；n-ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、n-ヘキシル、イソヘキシル、3-メチルペンチル、n-ヘプチル、n-オクチル、n-ノニル、n-デシル、n-ウンデシル、n-ドデシル、5-プロピルノニル、n-トリデシル、n-テトラデシル、n-ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル等を加えた炭素数1～18の直鎖状又は分岐状アルキル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等の炭素数3～8の環状アルキル基等である。
一般式Ra-Xaにおいて、Xaは、ハロゲン原子を表し、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素から成る群から選択される少なくとも一種のハロゲン原子であり、より好ましくは、塩素原子、又は臭素原子である。
ハロゲン化合物の使用量は、前記有機溶媒中の濃度（M（mol／L））が、好ましくは、0.01M～5Mの濃度に、より好ましくは、0.1M～2Mの濃度に成る様に調整すればよい。
前記亜鉛の使用量は、前記有機溶媒中の濃度（M（mol／L））が、好ましくは、0.01M～5Mの濃度に、より好ましくは、0.1M～2Mの濃度に成る様に調整すればよい。
一般式（2）で表される化合物の製造方法では、反応温度は、好ましくは、0℃～100℃であり、好ましくは、10℃～80℃であり、更に好ましくは、20℃～60℃とすればよい。
一般式（2）で表される化合物の製造方法では、反応時間は、好ましくは、0.1時間～100時間であり、好ましくは、0.1時間～50時間であり、更に好ましくは、0.1時間～10時間とすればよい。
この製造方法によれば、得られる一般式（2）で表される化合物のα位の立体配置は、使用する一般式（3）で表される化合物のα位の立体配置が維持されるため、一般式（2a）で表される化合物、もしくは一般式（2b）で表される化合物、又は一般式（2a）で表される化合物と一般式（2b）で表される化合物の混合物は、使用する一般式（3）で表される化合物を選択することによって製造することができる。
［1-2］有機溶媒
本発明の有機銅化合物の製造方法は、有機溶媒中で、前記一般式（2）で表される化合物（基質）と銅剤とを反応させる工程を含む。
本発明の有機銅化合物の製造方法は、有機溶媒中で、前記一般式（2）で表される化合物（基質）と銅剤とを反応させる工程を含む。
前記有機溶媒は、好ましくは、非プロトン性極性溶媒、ハロゲン系溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、炭化水素系溶媒、及び芳香族系溶媒から成る群から選択される少なくとも一種の有機溶媒である。
前記非プロトン性極性溶媒は、好ましくは、アセトン、アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド（DMF）、ジメチルスルホキシド（DMSO）等である。
前記ハロゲン系溶媒は、好ましくは、ジクロロメタン（CH2Cl2）、トリクロロメタン（CHCl3）等である。
前記エーテル系溶媒は、好ましくは、テトラヒドロフラン（THF）、ジオキサン、ジエチルエーテル（Et2O）、イソプロピルエーテル（IPE）等である。
前記エステル系溶媒は、好ましくは、酢酸エチル（AcOEt）等である。
前記炭化水素系溶媒は、好ましくは、n-ヘキサン等である。
前記芳香族系溶媒は、好ましくは、トルエン等である。
前記有機溶媒は、より好ましくは、アセトン、アセトニトリル、DMF、DMSO等の非プロトン性極性溶媒、THF、ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒（極性溶媒）、ジクロロメタン、トリクロロメタン等のハロゲン系溶媒である。
前記有機溶媒の使用量は、前記一般式（2）で表される化合物（基質）の濃度（M（mol／L））が、好ましくは、0.01M～5Mの濃度に、より好ましくは、0.1M～2Mの濃度に成る様に調整する。
［1-3］銅剤
本発明の有機銅化合物の製造方法は、有機溶媒中で、前記一般式（2）で表される化合物と銅剤とを反応させる工程を含む。
本発明の有機銅化合物の製造方法は、有機溶媒中で、前記一般式（2）で表される化合物と銅剤とを反応させる工程を含む。
本発明の有機銅化合物の製造方法で生成される、生成物の一般式（1）で表される有機銅化合物の銅（Cu）は、基質（原料化合物）として用いる、銅剤由来の銅である。
本発明の有機銅化合物の製造方法では、前記一般式（1）中、前記Xが、塩素原子（Cl）、又は臭素原子（Br）である化合物を製造する時、前記銅剤は、好ましくは、塩化銅（I）、臭化銅（I）、及びヨウ化銅（I）から成る群から選択される少なくとも一種の化合物である。
本発明の有機銅化合物の製造方法では、前記一般式（1）中、前記Xが、塩素原子（Cl）、又は臭素原子（Br）である化合物を製造する時、好ましくは、前記銅剤は、塩化銅（I）、臭化銅（I）、及びヨウ化銅（I）から成る群から選択される少なくとも一種の化合物であり、塩化リチウム、臭化リチウム、及びヨウ化リチウムから成る群から選択される少なくとも一種の化合物の存在下（組み合わせ）で、反応を行う。
本発明の有機銅化合物の製造方法では、前記一般式（1）中、前記Xが、シアノ基である化合物を製造する時、前記銅剤は、好ましくは、シアン化銅（I）である。
本発明の有機銅化合物の製造方法では、前記一般式（1）中、前記Xが、シアノ基である化合物を製造する時、好ましくは、前記銅剤は、シアン化銅（I）（CuCN）であり、塩化リチウムの存在下（組み合わせ）で、反応を行う。
本発明の有機銅化合物の製造方法では、前記一般式（1）中、前記Xが、塩素原子、又は臭素原子である化合物を製造する時、前記銅剤は、より好ましくは、塩化銅（I）と塩化リチウムとの組み合わせである。
本発明の有機銅化合物の製造方法では、前記一般式（1）中、前記Xが、シアノ基である化合物を製造する時、前記銅剤は、より好ましくは、シアン化銅（I）と塩化リチウムとの組み合わせである。
本発明の有機銅化合物の製造方法において、銅剤の使用量は、前記有機溶媒中の濃度（M（mol／L））が、好ましくは、0.01M～5Mの濃度に、より好ましくは、0.1M～2Mの濃度に成る様に調整する。
本発明の有機銅化合物の製造方法において、銅剤の使用量は、前記一般式（2）で表される化合物（基質）に対する濃度として（基質を100モル%とする時に）、モル比で、好ましくは、20モル%～10,000モル%であり、より好ましくは、80モル%～1,000モル%であり、更に好ましくは、90モル%～500モル%である。
本発明の有機銅化合物の製造方法において、銅剤中のリチウムハライド（LiCl, LiBr, LiI等）の使用量は、前記一般式（2）で表される化合物（基質）に対する当量として（基質を1当量とする時に）、モル比で、好ましくは、0.2当量～200当量であり、より好ましくは、0.8当量～20当量であり、更に好ましくは、0.9当量～10当量である。
本発明の有機銅化合物の製造方法において、銅剤の使用量は、前記一般式（2）で表される化合物（基質）に対する当量として（基質を1当量とする時に）、モル比で、特に、1当量の塩化銅（I）、臭化銅（I）、ヨウ化銅（I）及びシアン化銅（I）から成る群から選択される少なくとも一種の化合物対して、2当量の塩化リチウムであり、最大の収率で、目的化合物の一般式（1）で表される有機銅化合物を得ることができる。
本発明の有機銅化合物の製造方法では、銅剤を用いる事に依り、新たに、有機銅化合物を製造する事が出来、この有機銅化合物は、安定性に優れる。
本発明の有機銅化合物は、特殊アミノ酸の合成において、特に、アリール型特殊アミノ酸へ誘導化において、有用である。
［1-4］有機銅化合物の製造方法
本発明の有機銅化合物の製造方法では、銅剤を用いる事に依り、新たに、有機銅化合物を製造する事が出来、この有機銅化合物は、安定性に優れ、特殊アミノ酸の合成において、特に、アリール型特殊アミノ酸へ誘導化において、有用である。
本発明の有機銅化合物の製造方法では、銅剤を用いる事に依り、新たに、有機銅化合物を製造する事が出来、この有機銅化合物は、安定性に優れ、特殊アミノ酸の合成において、特に、アリール型特殊アミノ酸へ誘導化において、有用である。
本発明の有機銅化合物の製造方法では、反応温度は、好ましくは、0℃～100℃であり、好ましくは、10℃～80℃であり、更に好ましくは、20℃～60℃である。
本発明の製造方法では、基質の立体構造が維持されたまま目的とする有機銅化合物を製造することができる。
基質として、その立体構造がL型である式（2a）で表される化合物を用いると、式（1a）で表される有機銅化合物（L体）が製造できる。
Xは、塩素原子、臭素原子、シアノ基、又はトリフルオロメタンスルホナート基であり、
Protは、9-フルオレニルメチルオキシカルボニル保護基、tert-ブトキシカルボニル保護基、アリルオキシカルボニル保護基、又はベンジルオキシカルボニル保護基から選択される保護基であり、
R1は、水酸基、又はカルボン酸の保護基であり、
R2は、水素原子、又はアルキル基である。）。
一方で、基質として、その立体構造がD型である式（2b）で表される化合物を用いると、式（1b）で表される有機銅化合物（D体）が製造できる。
（式中、
Xは、塩素原子、臭素原子、シアノ基、又はトリフルオロメタンスルホナート基であり、
Protは、9-フルオレニルメチルオキシカルボニル保護基、tert-ブトキシカルボニル保護基、アリルオキシカルボニル保護基、又はベンジルオキシカルボニル保護基から選択される保護基であり、
R1は、水酸基、又はカルボン酸の保護基であり、
R2は、水素原子、又はアルキル基である。）。
同様に、基質として式（2）で表される化合物にL体とD体との混合物を用いると、L体とD体との存在割合を維持した式（1）で表される有機銅化合物のL体とD体との混合物が製造される。
［2］有機銅化合物
本発明の有機銅化合物は、下記一般式（1）：
本発明の有機銅化合物は、下記一般式（1）：
Xは、塩素原子、臭素原子、シアノ基、又はトリフルオロメタンスルホナート基であり、
Protは、9-フルオレニルメチルオキシカルボニル保護基、tert-ブトキシカルボニル保護基、アリルオキシカルボニル保護基、又はベンジルオキシカルボニル保護基から選択される保護基であり、
R1は、水酸基、又はカルボン酸の保護基であり、
R2は、水素原子、又はアルキル基である。）
で表される有機銅化合物である。
本発明の有機銅化合物は、前記本発明の有機銅化合物の製造方法に依り、有機溶媒中で、前記一般式（2）で表される化合物と銅剤とを反応させる工程に依り、製造する事が出来る。
一般式（1）中、Xは、塩素原子、臭素原子、シアノ基、又はトリフルオロメタンスルホナート基である。
一般式（1）中、Protは、9-フルオレニルメチルオキシカルボニル保護基、tert-ブトキシカルボニル保護基、アリルオキシカルボニル保護基、又はベンジルオキシカルボニル保護基から選択される保護基である。
一般式（1）中、R1は、水酸基、又はカルボン酸の保護基である。
一般式（1）中、R1は、好ましくは、カルボン酸の保護基であり、カルボン酸の保護基としては、通常公知のものでよく、例えばTheodora W. Greene著の“Protective Groups in Organic Synthesis, 1981 by John Wiley ＆ Sons. Inc.”第5章に記載される保護基等である。
一般式（1）中、R1は、より好ましくは、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、イソプロピルオキシ、n-ブトキシ、イソブチルオキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシ、1-エチルプロピルオキシ等の炭素数1～4の直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシ基；n-ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、n-ヘキシルオキシ、イソヘキシルオキシ、3-メチルペンチルオキシ、n-ヘプチルオキシ、n-オクチルオキシ、n-ノニルオキシ、n-デシルオキシ、n-ウンデシルオキシ、n-ドデシルオキシ、5-プロピルノニルオキシ、n-トリデシルオキシ、n-テトラデシルオキシ、n-ペンタデシルオキシ、ヘキサデシルオキシ、ヘプタデシルオキシ、オクタデシルオキシ等を加えた炭素数1～18の直鎖状又は分岐状アルコキシ基；シクロプロピルオキシ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ、シクロヘプチルオキシ、シクロオクチルオキシ等の炭素数3～8の環状アルコキシ基であり、フェノキシ、2,6-ジメチルフェノキシ、2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノキシ、2-（ジメチルアミノ）-5-ニトロフェノキシ等の置換基を有していてもよいフェノキシ基であり、ベンジルオキシ、ジフェニルメチルオキシ、トリフェニルメチルオキシ等の置換基を有していてもよいベンジル基であり、フェナシルオキシ、p-ブロモフェナシルオキシ、α-メチルフェナシルオキシ、3,4,5-トリメトキシフェナシルオキシ等の置換基を有していてもよいフェナシルオキシ基であり、トリメチルシリルオキシ、トリエチルシリルオキシ等のトリアルキルシリルオキシ基等である。
一般式（1）中、R1は、更に好ましくは、炭素数1～4の直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシ基、置換基を有していてもよいフェノキシ基、置換基を有していてもよいベンジルオキシ基である。
一般式（1）中、R1は、特に好ましくは、メトキシ、tert-ブトキシ等である。
一般式（1）中、R2は、水素原子、又はアルキル基である。
一般式（1）中、R2は、好ましくは、水素原子、又は直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、水素原子、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、1-エチルプロピル等の炭素数1～4の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基；n-ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、n-ヘキシル、イソヘキシル、3-メチルペンチル、n-ヘプチル、n-オクチル、n-ノニル、n-デシル、n-ウンデシル、n-ドデシル、5-プロピルノニル、n-トリデシル、n-テトラデシル、n-ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル等を加えた炭素数1～18の直鎖状又は分岐状アルキル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等の炭素数3～8の環状アルキル基等である。
一般式（1）中、R2は、好ましくは、水素原子、又は直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、水素原子、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、1-エチルプロピル等の炭素数1～4の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基；n-ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、n-ヘキシル、イソヘキシル、3-メチルペンチル、n-ヘプチル、n-オクチル、n-ノニル、n-デシル、n-ウンデシル、n-ドデシル、5-プロピルノニル、n-トリデシル、n-テトラデシル、n-ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル等を加えた炭素数1～18の直鎖状又は分岐状アルキル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等の炭素数3～8の環状アルキル基等である。
一般式（1）中、R2は、より好ましくは、水素原子、又は炭素数1～4の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基等である。
一般式（1）中、R2は、更に好ましくは、水素原子、メチル等である。
一般式（1）中、R2は、更に好ましくは、水素原子、メチル等である。
なお、一般式（1）で表される化合物は、その立体構造がL型（一般式（1a）で表される有機銅化合物）、もしくはD型（一般式（1b）で表される有機銅化合物）のどちらか一方である化合物、又は、L型とD型との混合物を包含する。
Xは、塩素原子、臭素原子、シアノ基、又はトリフルオロメタンスルホナート基であり、
Protは、9-フルオレニルメチルオキシカルボニル保護基、tert-ブトキシカルボニル保護基、アリルオキシカルボニル保護基、又はベンジルオキシカルボニル保護基から選択される保護基であり、
R1は、水酸基、又はカルボン酸の保護基であり、
R2は、水素原子、又はアルキル基である。）。
Xは、塩素原子、臭素原子、シアノ基、又はトリフルオロメタンスルホナート基であり、
Protは、9-フルオレニルメチルオキシカルボニル保護基、tert-ブトキシカルボニル保護基、アリルオキシカルボニル保護基、又はベンジルオキシカルボニル保護基から選択される保護基であり、
R1は、水酸基、又はカルボン酸の保護基であり、
R2は、水素原子、又はアルキル基である。）。
本発明の有機銅化合物は、安定性に優れ、特殊アミノ酸の合成において、特に、アリル型特殊アミノ酸への誘導化において、有用である。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこうした例に何ら限定されるものではない。本発明は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々なる形態で実施し得ることは勿論である。
以下、実施例に基づき、本発明の実施形態をより具体的に説明する。
本発明がこれらに限定されるものではない。
なお、実施例中、MeOはメトキシ基、t-BuOはtert-ブトキシ基を示す。
参考例
（一般式(2)中、Prot=Fmoc, X=Br, R 1 =MeO, R 2 =Hである化合物の製造）
ジメチルスルホキシド（DMSO）（5mL）中に、亜鉛（3mmol、196.2mg）、ヨウ素（0.02mmol、5mg）を順に投入し、1分～5分間、撹拌した。
（一般式(2)中、Prot=Fmoc, X=Br, R 1 =MeO, R 2 =Hである化合物の製造）
ジメチルスルホキシド（DMSO）（5mL）中に、亜鉛（3mmol、196.2mg）、ヨウ素（0.02mmol、5mg）を順に投入し、1分～5分間、撹拌した。
保護された(l)-ブロモセリンメチルエステル（一般式（3）中、Prot=Fmoc, X=Br, R1=MeO, R2=Hである化合物）（2mmol、800mg）を加え、12時間撹拌し、一般式（2）で表される化合物（L体：Prot=Fmoc, X=Br, R1=MeO, R2=Hである化合物）を得た。
得られた有機亜鉛化合物を凍結乾燥した後、DMSO-d6中にて測定したNMRを記す。
1H NMR (300 MHz, d6-DMSO): 8.03 (d,J=8.4Hz,1H), 7.90 (d, J=7.2Hz, 2H), 7.73 (d, J=7.2Hz, 2H), 7.43(t, J=6.9Hz, 2H), 7.34(t, J=6.9Hz, 2H), 6.30(d, J=6.6Hz, 1H),3.96-3.89(m, 1H), 3.54(s, 3H), 0.27-0.18(m, 2H)
実施例の製造方法
実施例1
（一般式（1）中、Prot=Fmoc, X=Cl, R 1 =MeO，R 2 =Hである化合物の製造）
有機溶媒としてジメチルスルホキシド（DMSO）溶媒（1mL）中に、塩化銅（I）（CuCl）（2mmol、200mg）と塩化リチウム（LiCl）（4mmol、170mg）を投入し、30分間、室温下で撹拌した。
実施例1
（一般式（1）中、Prot=Fmoc, X=Cl, R 1 =MeO，R 2 =Hである化合物の製造）
有機溶媒としてジメチルスルホキシド（DMSO）溶媒（1mL）中に、塩化銅（I）（CuCl）（2mmol、200mg）と塩化リチウム（LiCl）（4mmol、170mg）を投入し、30分間、室温下で撹拌した。
その後、反応液を0℃まで冷却し、基質として有機亜鉛化合物（一般式（2a）（L体）中、Prot=Fmoc, X=Cl, R1=MeO，R2=Hである化合物）（850mg）を含むDMSO溶媒（5mL）を投入し、1時間～10時間撹拌した。
前記製造方法に依り、有機銅化合物（一般式（1a）（L体）中、Prot=Fmoc, X=Cl, R1=MeO，R2=Hである化合物）を得る事が出来た。
得られた有機銅化合物を凍結乾燥した後、DMSO-d6中にて測定したNMRを記す。
1H NMR (300 MHz, d6-DMSO): 8.02 (d,J=8.4Hz,1H), 7.90 (d, J=7.4Hz, 2H), 7.73 (d, J=7.4Hz, 2H), 7.44(t, J=6.9Hz, 2H), 7.34(t, J=6.9Hz, 2H), 6.30(d, J=6.6Hz, 1H),3.85-3.79(m, 1H), 3.54(s, 3H), 0.37-0.29(m, 2H)
実施例2
（一般式（1）中、Prot=Fmoc, X=Cl, R 1 =MeO，R 2 =Hである化合物の製造）
有機溶媒としてジメチルスルホキシド（DMSO）溶媒（1mL）中に、シアン化銅（I）（CuCN）（2mmol、180mg）と塩化リチウム（LiCl）（4mmol、170mg）を投入し、30分間、室温下で撹拌した。
（一般式（1）中、Prot=Fmoc, X=Cl, R 1 =MeO，R 2 =Hである化合物の製造）
有機溶媒としてジメチルスルホキシド（DMSO）溶媒（1mL）中に、シアン化銅（I）（CuCN）（2mmol、180mg）と塩化リチウム（LiCl）（4mmol、170mg）を投入し、30分間、室温下で撹拌した。
その後、反応液を0℃まで冷却し、基質として有機亜鉛化合物（一般式（2a）（L体）中、Prot=Fmoc, X=Cl, R1=MeO，R2=Hである化合物）（850mg）を含むDMSO溶媒（5mL）を投入し、1時間～10時間撹拌した。
前記製造方法に依り、有機銅化合物（一般式（1a）（L体）中、Prot=Fmoc, X=Cl, R1=MeO，R2=Hである化合物）を得る事が出来た。
得られた有機銅化合物を凍結乾燥した後、DMSO-d6中にて測定したNMRを記す。
1H NMR (300 MHz, d6-DMSO): 8.02 (d,J=8.4Hz,1H), 7.90 (d, J=7.4Hz, 2H), 7.73 (d, J=7.4Hz, 2H), 7.44(t, J=6.9Hz, 2H), 7.34(t, J=6.9Hz, 2H), 6.30(d, J=6.6Hz, 1H),3.85-3.79(m, 1H), 3.53(s, 3H), 0.49-0.39(m, 2H)
実施例3
（一般式（1）中、Prot=Boc, X=Cl, R 1 =MeO，R 2 =Hである化合物の製造）
有機溶媒としてジメチルスルホキシド（DMSO）溶媒（1mL）中に、塩化銅（I）（CuCl）（2mmol、200mg）と塩化リチウム（LiCl）（4mmol、170mg）を投入し、30分間、室温下で撹拌した。
（一般式（1）中、Prot=Boc, X=Cl, R 1 =MeO，R 2 =Hである化合物の製造）
有機溶媒としてジメチルスルホキシド（DMSO）溶媒（1mL）中に、塩化銅（I）（CuCl）（2mmol、200mg）と塩化リチウム（LiCl）（4mmol、170mg）を投入し、30分間、室温下で撹拌した。
その後、反応液を0℃まで冷却し、基質として有機亜鉛化合物（一般式（2a）（L体）中、Prot=Boc, X=Cl, R 1 =MeO，R2=Hである化合物）（610mg）を含むDMSO溶媒（5mL）を投入し、1時間～10時間撹拌した。
前記製造方法に依り、有機銅化合物（一般式（1a）（L体）中、Prot=Boc, X=Cl, R 1 =MeO，R2=Hである化合物）を得る事が出来た。
得られた有機銅化合物を凍結乾燥した後、DMSO-d6中にて測定したNMRを記す。
1H NMR (300 MHz, d6-DMSO): 6.11(d, J=6.6Hz, 1H),3.85-3.79(m, 1H), 3.53(s, 3H), 1.39 (s, 9H), 0.49-0.41(m, 2H)
実施例4
（一般式（1）中、Prot=Boc, X=Cl, R 1 =MeO，R 2 =Hである化合物の製造）
有機溶媒としてジメチルスルホキシド（DMSO）溶媒（1mL）中に、ヨウ化銅（I）（CuI）（2mmol、380mg）と塩化リチウム（LiCl）（4mmol、170mg）を投入し、30分間、室温下で撹拌した。
（一般式（1）中、Prot=Boc, X=Cl, R 1 =MeO，R 2 =Hである化合物の製造）
有機溶媒としてジメチルスルホキシド（DMSO）溶媒（1mL）中に、ヨウ化銅（I）（CuI）（2mmol、380mg）と塩化リチウム（LiCl）（4mmol、170mg）を投入し、30分間、室温下で撹拌した。
その後、反応液を0℃まで冷却し、基質として有機亜鉛化合物（一般式（2a）（L体）中、Prot=Boc, X=Cl, R1=MeO，R2=Hである化合物）（610mg）を含むDMSO溶媒（5mL）を投入し、1時間～10時間撹拌した。
前記製造方法に依り、有機銅化合物（一般式（1a）（L体）中、Prot=Boc, X=Cl, R1=MeO，R2=Hである化合物）を得る事が出来た。
得られた有機銅化合物を凍結乾燥した後、DMSO-d6中にて測定したNMRを記す。
1H NMR (300 MHz, d6-DMSO): 6.13(d, J=6.6Hz, 1H),3.85-3.79(m, 1H), 3.53(s, 3H), 1.30 (s, 9H), 0.22-0.11(m, 2H)
本発明の有機銅化合物の製造方法では、銅剤を用いる事に依り、新たに、有機銅化合物を製造する事が出来、この有機銅化合物は、安定性に優れる。
本発明の有機銅化合物は、特殊アミノ酸の合成において、特に、アリル型特殊アミノ酸への誘導化において、有用である。
Claims (4)
- 下記一般式（1）：
Xは、塩素原子、臭素原子、シアノ基、又はトリフルオロメタンスルホナート基であり、
Protは、9-フルオレニルメチルオキシカルボニル保護基、tert-ブトキシカルボニル保護基、アリルオキシカルボニル保護基、又はベンジルオキシカルボニル保護基から選択される保護基であり、
R1は、水酸基、又はカルボン酸の保護基であり、
R2は、水素原子、又はアルキル基である。）
で表される、
有機銅化合物。 - 下記一般式（1）：
Xは、塩素原子、臭素原子、シアノ基、又はトリフルオロメタンスルホナート基であり、
Protは、9-フルオレニルメチルオキシカルボニル保護基、tert-ブトキシカルボニル保護基、アリルオキシカルボニル保護基、又はベンジルオキシカルボニル保護基から選択される保護基であり、
R1は、水酸基、又はカルボン酸の保護基であり、
R2は、水素原子、又はアルキル基である。）
で表される有機銅化合物の製造方法であって、
有機溶媒中で、
下記一般式（2）：
で表される化合物と銅剤とを反応させる工程、を含む、
有機銅化合物の製造方法。 - 前記一般式（1）中、前記Xが、塩素原子、又は臭素原子である化合物を製造する時、前記銅剤は、塩化銅（I）、臭化銅（I）、及びヨウ化銅（I）から成る群から選択される少なくとも一種の化合物であり、
前記一般式（1）中、前記Xが、シアノ基である化合物を製造する時、前記銅剤は、シアン化銅（I）である、
請求項2に記載の製造方法。 - 前記有機溶媒は、非プロトン性極性溶媒、ハロゲン系溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、炭化水素系溶媒、及び芳香族系溶媒から成る群から選択される少なくとも一種の有機溶媒である、請求項2又は3に記載の製造方法。
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Citations (3)
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|---|---|---|---|---|
| JP2001226310A (ja) * | 1999-12-09 | 2001-08-21 | Ube Ind Ltd | ５−（４−クロロフェニル）−ペンタン−２−オンの製造法 |
| JP2004513942A (ja) * | 2000-11-17 | 2004-05-13 | メディヴァー ユーケイ リミテッド | システインプロテアーゼインヒビター |
| JP2021501785A (ja) * | 2017-11-02 | 2021-01-21 | カリコ ライフ サイエンシーズ エルエルシー | 統合的ストレス経路の調節剤 |
-
2022
- 2022-12-22 WO PCT/JP2022/047381 patent/WO2023120647A1/ja unknown
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001226310A (ja) * | 1999-12-09 | 2001-08-21 | Ube Ind Ltd | ５−（４−クロロフェニル）−ペンタン−２−オンの製造法 |
| JP2004513942A (ja) * | 2000-11-17 | 2004-05-13 | メディヴァー ユーケイ リミテッド | システインプロテアーゼインヒビター |
| JP2021501785A (ja) * | 2017-11-02 | 2021-01-21 | カリコ ライフ サイエンシーズ エルエルシー | 統合的ストレス経路の調節剤 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| DUNN MICHAEL J., JACKSON RICHARD F. W., PIETRUSZKA JOERG, TURNER DEBRA: "Synthesis of Enantiomerically Pure Unsaturated .alpha.-Amino Acids Using Serine-Derived Zinc/Copper Reagents", THE JOURNAL OF ORGANIC CHEMISTRY, AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, vol. 60, no. 7, 1 April 1995 (1995-04-01), pages 2210 - 2215, XP093076059, ISSN: 0022-3263, DOI: 10.1021/jo00112a048 * |
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