WO2023112840A1 - 感光性組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置 - Google Patents

感光性組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2023112840A1
WO2023112840A1 PCT/JP2022/045385 JP2022045385W WO2023112840A1 WO 2023112840 A1 WO2023112840 A1 WO 2023112840A1 JP 2022045385 W JP2022045385 W JP 2022045385W WO 2023112840 A1 WO2023112840 A1 WO 2023112840A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
photosensitive composition
mass
pigment
pigment derivative
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2022/045385
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
敬史 川島
和也 尾田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2023567753A priority Critical patent/JPWO2023112840A1/ja
Publication of WO2023112840A1 publication Critical patent/WO2023112840A1/ja
Priority to US18/667,601 priority patent/US20240310728A1/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B67/00Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
    • C09B67/006Preparation of organic pigments
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • GPHYSICS
    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09FDISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • G09F9/30Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements

Definitions

  • the present invention relates to a photosensitive composition containing a blue pigment.
  • the present invention also relates to a film, a color filter, a solid-state imaging device, and an image display device using the photosensitive composition.
  • CCD charge-coupled device
  • a color filter is manufactured using a photosensitive composition containing a coloring agent. Further, when a pigment is used as the colorant, the pigment is generally dispersed in the photosensitive composition using a pigment derivative, resin, or the like.
  • Patent Document 1 discloses a photosensitive composition containing a pigment, a predetermined dye derivative having a triazine structure, a predetermined resin-type dispersant, a polymerizable monomer, a photopolymerization initiator, a resin binder, and a solvent. is described.
  • a film obtained using a photosensitive composition containing a blue pigment tends to discolor when exposed to light.
  • an object of the present invention is to provide a photosensitive composition capable of forming a film having excellent light resistance and moisture resistance.
  • Another object of the present invention is to provide a film, a color filter, a solid-state imaging device, and an image display device.
  • the present inventors have found that the above objects can be achieved with the following configuration, and have completed the present invention. Accordingly, the present invention provides the following. ⁇ 1> A photosensitive composition containing a coloring agent A containing a pigment, a pigment derivative B, and a resin C,
  • the coloring agent A contains a blue pigment
  • the pigment derivative B includes a transparent pigment derivative B1 and a chromatic pigment derivative B2,
  • a photosensitive composition wherein the total content of the coloring agent A and the pigment derivative B in the total solid content of the photosensitive composition is 40% by mass or more.
  • ⁇ 2> The photosensitive composition according to ⁇ 1>, wherein the maximum molar absorption coefficient in the wavelength region of 400 to 700 nm of the pigment derivative B1 is 3000 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or less.
  • ⁇ 3> The photosensitive composition according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein the maximum molar absorption coefficient in the wavelength region of 400 to 700 nm of the pigment derivative B2 is 10000 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or more.
  • ⁇ 4> The photosensitive composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>, wherein the pigment derivative B1 is a compound having a triazine ring.
  • ⁇ 5> The photosensitive composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein the pigment derivative B1 is a compound containing a group represented by formula (A1);
  • A1 * represents a bond, Ya 1 and Ya 2 each independently represent -N(Ra 1 )- or -O-;
  • Ra 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an aryl group;
  • B 1 and B 2 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • the pigment derivative B2 is a phthalocyanine compound.
  • ⁇ 7> The photosensitive composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, wherein the pigment derivative B2 has a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 400 to 700 nm.
  • ⁇ 8> The photosensitive composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>, wherein the blue pigment is a phthalocyanine compound.
  • the coloring agent A contains a blue pigment and a purple pigment.
  • ⁇ 10> The photosensitive composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 9>, further comprising a polymerizable monomer and a photopolymerization initiator.
  • the average value of the transmittance of light in the wavelength range of 400 to 500 nm in the thickness direction of the film is 55% or more
  • the average value of the transmittance of light in the wavelength range of 600 to 700 nm in the thickness direction of the film is 20% or less
  • the wavelength at which the transmittance is 50% is present in the wavelength range of 450 to 550 nm
  • ⁇ 1>- The photosensitive composition according to any one of ⁇ 10>.
  • ⁇ 12> The photosensitive composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 11>, which is a photosensitive composition for forming blue pixels.
  • ⁇ 13> A film obtained from the photosensitive composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 12>.
  • ⁇ 14> A color filter having the film according to ⁇ 13>.
  • ⁇ 15> A solid-state imaging device comprising the film according to ⁇ 13>.
  • ⁇ 16> An image display device comprising the film according to ⁇ 13>.
  • the present invention can provide a photosensitive composition, a film, a color filter, a solid-state imaging device, and an image display device capable of forming a film having excellent light resistance and moisture resistance.
  • is used to include the numerical values before and after it as lower and upper limits.
  • a description that does not describe substitution or unsubstituted includes a group (atomic group) having no substituent as well as a group (atomic group) having a substituent.
  • an "alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
  • exposure includes not only exposure using light but also drawing using particle beams such as electron beams and ion beams, unless otherwise specified.
  • Light used for exposure includes actinic rays or radiation such as emission line spectra of mercury lamps, far ultraviolet rays represented by excimer lasers, extreme ultraviolet rays (EUV light), X-rays, and electron beams.
  • EUV light extreme ultraviolet rays
  • (meth)acrylate” represents both or either acrylate and methacrylate
  • (meth)acryl represents both or either acrylic and methacrylic
  • (meth) ) acryloyl refers to acryloyl and/or methacryloyl.
  • the symbols before or after the name are terms used to distinguish the constituent elements, the types of constituent elements, the It does not limit the number and the superiority or inferiority of the constituent elements.
  • the weight average molecular weight and number average molecular weight are polystyrene equivalent values measured by GPC (gel permeation chromatography).
  • total solid content refers to the total mass of all components of the composition excluding the solvent.
  • a pigment means a colorant that is difficult to dissolve in a solvent.
  • the pigment preferably has a solubility of 0.1 g or less, more preferably 0.01 g or less, in 100 g of water at 23°C and 100 g of propylene glycol monomethyl ether acetate at 23°C.
  • process includes not only an independent process, but also when the intended action of the process is achieved even if it cannot be clearly distinguished from other processes. .
  • the photosensitive composition of the present invention is a photosensitive composition containing a coloring agent A containing a pigment, a pigment derivative B, and a resin C, Colorant A contains a blue pigment, The pigment derivative B includes a transparent pigment derivative B1 and a chromatic pigment derivative B2, The total content of the coloring agent A and the pigment derivative B in the total solid content of the photosensitive composition is 40% by mass or more.
  • the photosensitive composition of the present invention can form a film with excellent light resistance and moisture resistance.
  • the reason why such effects are obtained is presumed to be as follows. Since the photosensitive composition of the present invention contains a transparent pigment derivative B1, the photosensitive composition is used to form a photosensitive composition layer on a support, and the photosensitive composition layer is exposed and cured. In this case, it is presumed that light can be easily transmitted to a deep portion (on the support side) of the photosensitive composition layer by exposure. Therefore, it is presumed that a sufficiently cured film can be formed by exposure.
  • the photosensitive composition of the present invention further contains the chromatic pigment derivative B2 in addition to the transparent pigment derivative B1, even if the film after film formation is irradiated with light, the pigment derivative B2 is It is speculated that it can moderately absorb light and suppress the decomposition and denaturation of resins and coloring agents. Therefore, it is presumed that a film having excellent light resistance could be formed by using the photosensitive composition of the present invention.
  • the photosensitive composition of the present invention contains the transparent pigment derivative B1 in addition to the chromatic pigment derivative B2, the film formed using the photosensitive composition is exposed to a high-humidity environment. It is presumed that even if the derivative was decomposed or modified, the influence of the spectral fluctuation due to the decomposition or modification of the pigment derivative could be reduced, so that a film with excellent moisture resistance could be formed.
  • the photosensitive composition of the present invention also has excellent storage stability. Since the photosensitive composition of the present invention contains two or more pigment derivatives, it is presumed that a pigment-pigment derivative-resin network is easily formed in the photosensitive composition to suppress aggregation of the pigment. As a result, it is presumed that the storage stability of the photosensitive composition could be improved.
  • a blue hue is a hue with a high transmittance in the vicinity of a wavelength of 400 to 500 nm, and is a hue that has an extremely large effect on spectroscopy due to yellowing of resin and the like. Since the film formed from the photosensitive composition of the present invention can suppress yellowing due to light irradiation, the photosensitive composition of the present invention can be preferably used as a photosensitive composition for forming blue pixels. can.
  • the photosensitive composition of the present invention is preferably used as a photosensitive composition for color filters. Specifically, it is preferably used as a photosensitive composition for forming blue pixels of a color filter.
  • the average transmittance of light in the wavelength range of 400 to 500 nm in the thickness direction of the film is 55% or more, It is preferable that the average value of the transmittance of light in the wavelength range of 600 to 700 nm in the thickness direction of the film is 20% or less, and the wavelength exhibiting the transmittance of 50% exists in the wavelength range of 450 to 550 nm.
  • a photosensitive composition that satisfies such spectral characteristics can be preferably used as a photosensitive composition for forming blue pixels.
  • the average value of the transmittance of light in the wavelength range of 400 to 500 nm of the film is preferably 60% or more, more preferably 70% or more.
  • the average value of transmittance of light in the wavelength range of 600 to 700 nm of the film is preferably 15% or less, more preferably 10% or less.
  • the wavelength at which the transmittance of the film is 50% is preferably in the wavelength range of 460 to 540 nm, more preferably in the wavelength range of 470 to 520 nm.
  • the solid content concentration of the photosensitive composition of the present invention is preferably 5 to 30% by mass.
  • the lower limit is preferably 7.5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 25% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, and even more preferably 15% by mass or less.
  • the photosensitive composition of the present invention contains colorant A (hereinafter also referred to as colorant).
  • colorant A hereinafter also referred to as colorant.
  • a colorant containing a pigment is used.
  • the content of the pigment in the colorant contained in the photosensitive composition is preferably 20 to 100% by mass, more preferably 30 to 100% by mass, and further preferably 40 to 100% by mass. preferable. It is also preferred that the coloring agent contained in the photosensitive composition is substantially only pigments. When the coloring agent contained in the photosensitive composition is substantially only a pigment, it means that the content of the pigment in the coloring agent is 99% by mass or more, and is 99.9% by mass or more. is preferred, and it is more preferred that it contains only a pigment. Colorants included in the photosensitive composition may include pigments and dyes. When a pigment and a dye are used together, the amount of the dye is preferably 2 to 300 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the blue pigment. The upper limit is preferably 200 parts by mass or less, more preferably 100 parts by mass or less. The lower limit is preferably 5 parts by mass or more, more preferably 10 parts by mass or more.
  • the average primary particle size of the pigment is preferably 1 to 200 nm.
  • the lower limit is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more.
  • the upper limit is preferably 180 nm or less, more preferably 150 nm or less, and even more preferably 100 nm or less.
  • the primary particle diameter of the pigment can be determined from the photograph obtained by observing the primary particles of the pigment with a transmission electron microscope. Specifically, the projected area of the primary particles of the pigment is obtained, and the corresponding circle equivalent diameter is calculated as the primary particle diameter of the pigment.
  • the average primary particle size of the pigment in this specification is the arithmetic mean value of the primary particle sizes of 400 primary particles of the pigment.
  • the primary particles of the pigment refer to independent particles without agglomeration.
  • the crystallite size obtained from the half width of the peak derived from any crystal face in the X-ray diffraction spectrum when CuK ⁇ rays of the pigment are used as the X-ray source is preferably 0.1 nm to 100 nm, and 0.1 nm to 100 nm. It is more preferably 5 nm to 50 nm, still more preferably 1 nm to 30 nm, and particularly preferably 5 nm to 25 nm.
  • the coloring agent contained in the photosensitive composition of the present invention contains a blue pigment.
  • blue pigments include phthalocyanine pigments and triarylmethane pigments, and phthalocyanine pigments are preferred.
  • Specific examples of blue pigments include Color Index (C.I.) Pigment Blue 1, 2, 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 29, 60, 64, 66, 79, 80, 87, 88 and the like.
  • an aluminum phthalocyanine pigment having a phosphorus atom can be used as the blue pigment. Specific examples include compounds described in paragraph numbers 0022 to 0030 of JP-A-2012-247591 and paragraph number 0047 of JP-A-2011-157478.
  • the content of the blue pigment in the colorant contained in the photosensitive composition is preferably 5% by mass or more, more preferably 8% by mass or more, and even more preferably 10% by mass or more, It is more preferably 20% by mass or more, even more preferably 30% by mass or more, and particularly preferably 50% by mass or more.
  • the upper limit can be 100% by mass or less, 80% by mass or less, or 60% by mass or less.
  • the coloring agent preferably further contains a purple pigment. That is, the colorant preferably contains a blue pigment and a purple pigment. According to this aspect, it is easy to form a film having a hue suitable for blue spectrum. Conventionally, when a blue pigment and a violet pigment are used in combination, the spectral characteristics derived from the violet pigment tend to fluctuate due to light irradiation. Even when a pigment is used in combination, fluctuations in spectral characteristics due to light irradiation can be suppressed, and a film with excellent light resistance can be formed.
  • purple pigments examples include xanthene pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, and benzimidazolone pigments, with xanthene pigments and dioxazine pigments being preferred.
  • Specific examples of purple pigments include C.I. I. Pigment Violet 1, 19, 23, 27, 32, 37, 42, 60, 61 and the like.
  • the content of the purple pigment is preferably 2 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the blue pigment.
  • the upper limit is preferably 80 parts by mass or less, more preferably 60 parts by mass or less.
  • the lower limit is preferably 3 parts by mass or more, more preferably 5 parts by mass or more, still more preferably 10 parts by mass or more, and particularly preferably 20 parts by mass or more.
  • the total content of the blue pigment and the purple pigment in the colorant contained in the photosensitive composition is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, and 20% by mass or more. is more preferably 30% by mass or more, even more preferably 50% by mass or more, and particularly preferably 70% by mass or more.
  • the upper limit can be 100% by mass or less, 90% by mass or less, or 80% by mass or less.
  • Colorants contained in the photosensitive composition are preferably substantially only blue pigments and violet pigments.
  • the colorant contained in the photosensitive composition is substantially only a blue pigment and a violet pigment, it means that the total content of the blue pigment and the violet pigment in the colorant is 99% by mass or more. , 99.9% by mass or more, and more preferably only the pigment.
  • the coloring agent can further contain pigments with hues other than blue pigments and purple pigments (hereinafter also referred to as other pigments).
  • Other pigments include yellow pigments, orange pigments, red pigments, green pigments, and the like. Specific examples of these include the following.
  • a halogenated zinc phthalocyanine pigment having an average number of halogen atoms of 10 to 14, an average number of bromine atoms of 8 to 12, and an average number of chlorine atoms of 2 to 5 per molecule.
  • Specific examples include compounds described in International Publication No. 2015/118720.
  • Phthalocyanine compounds phthalocyanine compounds described in JP-A-2018-180023, compounds described in JP-A-2019-038958, aluminum phthalocyanine compounds described in JP-A-2020-070426, JP-A-2020-076995 Core-shell type dyes and the like described can also be used.
  • an azobarbiturate nickel complex having the following structure can also be used.
  • diketopyrrolopyrrole compounds in which at least one bromine atom is substituted in the structure described in JP-A-2017-201384 diketopyrrolopyrrole compounds described in paragraphs 0016 to 0022 of Japanese Patent No.
  • the content of other pigments in the colorant contained in the photosensitive composition is preferably 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, and even more preferably 5% by mass or less. , 1% by mass or less.
  • Dyes can also be used as coloring agents.
  • Dyes include pyrazole azo dyes, anilinoazo dyes, triarylmethane dyes, anthraquinone dyes, anthrapyridone dyes, benzylidene dyes, oxonol dyes, pyrazolotriazole azo dyes, pyridone azo dyes, cyanine dyes, phenothiazine dyes, pyrrolopyrazole azomethine dyes, and xanthene dyes.
  • phthalocyanine dyes benzopyran dyes, indigo dyes, pyrromethene dyes, and the like.
  • the dyes used in the present invention are preferably blue dyes or violet dyes because they easily form a film with a hue suitable for blue spectroscopy.
  • the dye is preferably a xanthene dye or a triarylmethane dye.
  • Colorants include diarylmethane compounds described in JP-A-2020-504758, triarylmethane dye polymers described in Korean Patent Publication No. 10-2020-0028160, and those described in JP-A-2020-117638.
  • Xanthene compounds phthalocyanine compounds described in International Publication No. 2020/174991, isoindoline compounds described in JP-A-2020-160279 or salts thereof, formula 1 described in Korean Patent Publication No. 10-2020-0069442 a compound represented by Formula 1 described in Korean Patent Publication No. 10-2020-0069730, a compound represented by Formula 1 described in Korean Patent Publication No. 10-2020-0069070, Compound represented by formula 1 described in Korean Patent Publication No.
  • 10-2020-0069067 compound represented by Formula 1 described in Korean Patent Publication No. 10-2020-0069062, described in Patent No. 6809649 and the isoindoline compound described in JP-A-2020-180176 can be used.
  • the chromatic colorant may be a rotaxane, and the dye skeleton may be used in the cyclic structure of the rotaxane, may be used in the rod-like structure, or may be used in both structures.
  • the total content of the colorant A and the pigment derivative B in the total solid content of the photosensitive composition is 40% by mass or more, preferably 42% by mass or more, more preferably 45% by mass or more. It is preferably 47% by mass or more, and more preferably 47% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 85% by mass or less, more preferably 80% by mass or less, and even more preferably 70% by mass or less.
  • the pigment content in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 20% by mass or more, more preferably 25% by mass or more, and even more preferably 30% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 80% by mass or less, more preferably 70% by mass or less, and even more preferably 60% by mass or less.
  • the content of the blue pigment in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 5% by mass or more, more preferably 8% by mass or more, and even more preferably 10% by mass or more. .
  • the upper limit is preferably 80% by mass or less, more preferably 70% by mass or less, and even more preferably 60% by mass or less.
  • the content of the blue pigment and the purple pigment in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 10% by mass or more, more preferably 15% by mass or more, and 20% by mass or more. is more preferable, 25% by mass or more is even more preferable, and 30% by mass or more is particularly preferable.
  • the upper limit is preferably 80% by mass or less, more preferably 70% by mass or less, and even more preferably 60% by mass or less.
  • the photosensitive composition of the present invention contains pigment derivative B (hereinafter also referred to as pigment derivative).
  • Pigment derivatives used in the photosensitive composition of the present invention include transparent pigment derivative B1 and chromatic pigment derivative B2.
  • Pigment derivative B1 preferably has a maximum molar absorption coefficient of 3000 L mol -1 cm -1 or less in the wavelength region of 400 to 700 nm, more preferably 1000 L mol -1 cm -1 or less. Preferably, it is 100 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or less.
  • the lower limit of the maximum value of the molar extinction coefficient is, for example, 1 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or more, and may be 10 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or more.
  • Pigment derivative B1 preferably satisfies any one of the following spectral characteristics (a) to (d).
  • the maximum value of the molar extinction coefficient in the wavelength range of more than 700 nm and 750 nm or less is preferably 3000 L mol -1 cm -1 or less, and preferably 1000 L mol -1 cm -1 or less. More preferably, it is 100 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or less.
  • the maximum value of the molar extinction coefficient in the wavelength range of more than 750 nm and 800 nm or less is preferably 3000 L mol -1 cm -1 or less, and preferably 1000 L mol -1 cm -1 or less.
  • the maximum value of the molar extinction coefficient in the wavelength range of more than 800 nm and 850 nm or less is preferably 3000 L mol -1 cm -1 or less, and preferably 1000 L mol -1 cm -1 or less. More preferably, it is 100 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or less.
  • the maximum value of the molar extinction coefficient in the wavelength range of more than 850 nm and 900 nm or less is preferably 3000 L mol -1 cm -1 or less, and preferably 1000 L mol -1 cm -1 or less. More preferably, it is 100 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or less.
  • the pigment derivative B1 preferably contains an aromatic ring.
  • the aromatic ring may be an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocyclic ring.
  • the aromatic ring may be a monocyclic ring or a condensed ring.
  • the aromatic ring includes a benzene ring, a naphthalene ring, a fluorene ring, a perylene ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, an oxazole ring, a thiazole ring, an imidazoline ring, a pyridine ring, a triazole ring, an imidazoline ring, a pyrazine ring, and a pyrimidine.
  • the condensed ring as a whole may be either an aromatic ring or a non-aromatic ring, but is preferably an aromatic ring.
  • the pigment derivative B1 may have only one aromatic ring or condensed ring. It is preferable to have two or more of these rings because it is easy to suppress the aggregation of .
  • the above aromatic ring or condensed ring may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described later.
  • Pigment derivative B1 is more preferably a compound having a nitrogen-containing aromatic heterocycle, and more preferably a compound having a triazine ring.
  • Pigment derivative B1 is particularly preferably a compound having a group represented by formula (A1).
  • * represents a bond
  • Ya 1 and Ya 2 each independently represent -N(Ra 1 )- or -O-
  • Ra 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an aryl group
  • B 1 and B 2 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • Ya 1 and Ya 2 in formula (A1) each independently represent -N(Ra 1 )- or -O-, and -N(Ra 1 ) because the effects of the present invention are likely to be obtained more remarkably. - is preferred.
  • Ra 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an aryl group, preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group represented by Ra 1 is preferably 1-20, more preferably 1-15, even more preferably 1-8.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the alkyl group represented by Ra 1 may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described later.
  • the alkenyl group represented by Ra 1 preferably has 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 8 carbon atoms.
  • the alkenyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the alkenyl group represented by Ra 1 may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described later.
  • the alkynyl group represented by Ra 1 preferably has 2 to 40 carbon atoms, more preferably 2 to 30 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 25 carbon atoms.
  • the alkynyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the alkynyl group represented by Ra 1 may further have a substituent.
  • substituents include the substituent T described later.
  • the aryl group represented by Ra 1 preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and still more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the aryl group represented by Ra 1 may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described later.
  • B 1 and B 2 in formula (A1) each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • Substituents include a substituent T described later, preferably an alkyl group, an aryl group and a heterocyclic group, more preferably an aryl group and a heterocyclic group, and still more preferably an aryl group.
  • At least one of B 1 and B 2 is also preferably a heterocyclic group because it is easier to suppress color unevenness.
  • the heterocyclic group is preferably a nitrogen-containing heterocyclic group, more preferably a benzimidazolone group.
  • the alkyl group, aryl group and heterocyclic group represented by B 1 and B 2 may further have a substituent.
  • Further substituents include alkyl groups (preferably alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms), fluoroalkyl groups (preferably fluoroalkyl groups having 1 to 30 carbon atoms), alkenyl groups (preferably fluoroalkyl groups having 2 to 30 carbon atoms).
  • alkenyl group alkynyl group (preferably alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms), aryl group (preferably aryl group having 6 to 30 carbon atoms), amino group (preferably amino group having 0 to 30 carbon atoms), alkoxy group (preferably alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms), aryloxy group (preferably aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms), heteroaryloxy group, acyl group (preferably acyl group having 1 to 30 carbon atoms) , an alkoxycarbonyl group (preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms), an aryloxycarbonyl group (preferably an aryloxycarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms), an acyloxy group (preferably an acyloxy group having 2 to 30 carbon atoms) ), an acylamino group (preferably an acylamino group having 2 to 30 carbon atoms), an alkoxycarbonylamino group (preferably an alkoxycarbony
  • Said further substituents may be acid groups or basic groups.
  • the acid group is preferably at least one selected from a carboxyl group, a sulfo group, a phosphoric acid group and salts thereof, more preferably at least one selected from a carboxyl group, a sulfo group and salts thereof.
  • Atoms or atomic groups constituting the salt include alkali metal ions (Li + , Na + , K + etc.), alkaline earth metal ions (Ca 2+ , Mg 2+ etc.), ammonium ions, imidazolium ions, pyridinium ions, phosphonium ion and the like.
  • the basic group is preferably at least one selected from an amino group, a pyridyl group and salts thereof, an ammonium group salt, and a phthalimidomethyl group, and an amino group, an amino group salt, and an ammonium group salt. It is more preferably at least one selected, more preferably an amino group or a salt of an amino group.
  • the amino group includes -NH 2 , dialkylamino group, alkylarylamino group, diarylamino group, cyclic amino group and the like.
  • the dialkylamino group, alkylarylamino group, diarylamino group and cyclic amino group may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described above.
  • Atoms or atomic groups constituting salts include hydroxide ions, halogen ions, carboxylate ions, sulfonate ions, and phenoxide ions. It is also preferred that the alkyl, aryl and heterocyclic groups represented by B 1 and B 2 do not have further substituents as described above.
  • Substituent T includes halogen atom, cyano group, nitro group, alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, heterocyclic group, -ORt 1 , -CORt 1 , -COORt 1 , -OCORt 1 , -NRt 1 Rt 2 , —NHCORt 1 , —CONRt 1 Rt 2 , —NHCONRt 1 Rt 2 , —NHCOORt 1 , —SRt 1 , —SO 2 Rt 1 , —SO 2 ORt 1 , —NHSO 2 Rt 1 or —SO 2 NRt 1 Rt2 can be mentioned.
  • Rt 1 and Rt 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heteroaryl group. Rt 1 and Rt 2 may combine to form a ring.
  • Halogen atoms include fluorine, chlorine, bromine and iodine atoms.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1-30, more preferably 1-15, even more preferably 1-8.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the alkenyl group preferably has 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 8 carbon atoms.
  • the alkenyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the alkynyl group preferably has 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 25 carbon atoms.
  • the alkynyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the number of carbon atoms in the aryl group is preferably 6-30, more preferably 6-20, even more preferably 6-12.
  • the heterocyclic group may be monocyclic or condensed.
  • the heterocyclic group is preferably a monocyclic ring or a condensed ring having 2 to 4 condensed rings.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1-3.
  • a heteroatom constituting the ring of the heterocyclic group is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of carbon atoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 3-30, more preferably 3-18, and more preferably 3-12.
  • Alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups and heterocyclic groups may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the substituents exemplified as the substituent T described above.
  • aromatic ring possessed by the pigment derivative B1 include groups having the following structures and groups having structures shown as specific examples of Z1 described later.
  • Me represents a methyl group.
  • Pigment derivative B1 preferably contains at least one group selected from an acid group and a basic group.
  • the acid group is preferably at least one selected from a carboxyl group, a sulfo group, a phosphoric acid group and salts thereof, more preferably at least one selected from a carboxyl group, a sulfo group and salts thereof.
  • Atoms or atomic groups constituting the salt include alkali metal ions (Li + , Na + , K + etc.), alkaline earth metal ions (Ca 2+ , Mg 2+ etc.), ammonium ions, imidazolium ions, pyridinium ions, phosphonium ion and the like.
  • the basic group is preferably at least one selected from an amino group, a pyridyl group and salts thereof, an ammonium group salt, and a phthalimidomethyl group, and an amino group, an amino group salt, and an ammonium group salt. It is more preferably at least one selected, more preferably an amino group or a salt of an amino group.
  • the amino group includes -NH 2 , dialkylamino group, alkylarylamino group, diarylamino group, cyclic amino group and the like.
  • the dialkylamino group, alkylarylamino group, diarylamino group and cyclic amino group may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described above.
  • Atoms or atomic groups constituting salts include hydroxide ions, halogen ions, carboxylate ions, sulfonate ions, and phenoxide ions.
  • Pigment derivative B1 is preferably a compound represented by the following formula (b1).
  • a 1 -L 1 -Z 1 (b1) In formula (b1), A 1 represents a group containing an aromatic ring, L 1 represents a single bond or a divalent linking group, Z 1 represents a group having an acid group or a basic group.
  • a 1 in formula (b1) represents a group containing an aromatic ring.
  • the aromatic ring contained in A 1 may be an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocyclic ring.
  • the aromatic ring may be a monocyclic ring or a condensed ring.
  • Examples of groups represented by A 1 include benzene ring, naphthalene ring, fluorene ring, perylene ring, imidazole ring, pyrazole ring, oxazole ring, thiazole ring, imidazoline ring, pyridine ring, triazole ring, imidazoline ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, quinoxaline ring, quinazoline ring, benzimidazole ring, benzopyrazole ring, benzoxazole ring, benzothiazole ring, benzotriazole ring, indole ring, isoindole ring, triazine ring, pyrrole ring, carbazole ring , a benzimidazolinone ring, a phthalimide ring, a phthalocyanine ring,
  • the group represented by A 1 may further have a substituent.
  • substituents include the substituent T described above.
  • the group represented by A 1 is preferably a group containing a benzimidazolinone ring or a group represented by formula (A1) above, more preferably a group represented by formula (A1) above.
  • Z 1 is a group represented by formula (Z1) described later, it is particularly preferred that A 1 is a group represented by formula (A1).
  • L1 in formula (b1) represents a single bond or a divalent linking group, preferably a divalent linking group.
  • the divalent linking group represented by L 1 includes an alkylene group, an arylene group, a heterocyclic group, -O-, -N(R L1 )-, -NHCO-, -CONH-, -OCO-, -COO-, -CO-, -SO 2 NH-, -SO 2 - and combinations thereof.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group is preferably 1-30, more preferably 1-15, still more preferably 1-8, and particularly preferably 1-5.
  • the alkylene group may be linear, branched, or cyclic, preferably linear or branched, and particularly preferably linear.
  • the arylene group preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 15 carbon atoms.
  • the arylene group is preferably a phenylene group.
  • R L1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an aryl group, preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom.
  • the preferred ranges of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group and aryl group represented by R L1 are the same as the preferred ranges of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group and aryl group of Ra 1 .
  • the divalent linking group represented by L1 is preferably a group represented by the following formula (L1). -L 1A -L 1B -L 1C - (L1) wherein L 1A and L 1C are each independently -O-, -N(R L1 )-, -NHCO-, -CONH-, -OCO-, -COO-, -CO-, -SO 2 NH represents - or -SO 2 -, and L 1B represents a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group represented by L 1B includes an alkylene group, an arylene group, a single bond between an alkylene group and an arylene group, or -O-, -N(R L1 )-, -NHCO-, -CONH-, and -OCO- , —COO—, —CO—, —SO 2 NH—, —SO 2 — and groups bonded through a group consisting of a combination thereof, alkylene groups or arylene groups may be replaced by —O—, —N(R L1 )-, -NHCO-, -CONH-, -OCO-, -COO-, -CO-, -SO 2 NH-, -SO 2 - and a group bonded through a group consisting of combinations thereof. .
  • L 1 include groups having the following structures.
  • Z 1 in formula (b1) represents a group having an acid group or a basic group.
  • Types of acid groups and basic groups include the groups described above.
  • Z 1 in formula (b1) is preferably a group represented by formula (Z1) or a group represented by formula (Z10).
  • * represents a bond
  • Yz 1 represents -N(Ry 1 )- or -O-
  • Ry 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an aryl group
  • Lz 1 represents a divalent linking group
  • Rz 1 and Rz 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an aryl group
  • Rz 1 and Rz 2 may be bonded via a divalent group to form a ring
  • m represents an integer of 1 to 5;
  • * represents a bond
  • Lc 1 and Lc 2 each independently represent a single bond or a linking group
  • Rc 1 and Rc 2 each independently represent a substituent
  • Rc 1 and Rc At least one of 2 represents an acid group or a basic group.
  • Yz 1 represents -N(Ry 1 )- or -O-, preferably -N(Ry 1 )-.
  • Ry 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an aryl group, preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom.
  • the preferred ranges of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group and aryl group represented by Ry 1 are the same as the preferred ranges of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group and aryl group of Ra 1 .
  • the divalent linking group represented by Lz 1 includes an alkylene group, an arylene group, a heterocyclic group, -O-, -N(R L1 )-, -NHCO-, -CONH-, and -OCO. -, -COO-, -CO-, -SO 2 NH-, -SO 2 - and combinations thereof, with alkylene groups being preferred.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group is preferably 1-30, more preferably 1-15, still more preferably 1-8, and particularly preferably 1-5.
  • the alkylene group may be linear, branched, or cyclic, preferably linear or branched, and particularly preferably linear.
  • Rz 1 and Rz 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an aryl group, preferably an alkyl group or an aryl group, and an alkyl group. is more preferred.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1-10, more preferably 1-5, even more preferably 1-3, and particularly preferably 1 or 2.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the alkenyl group preferably has 2 to 10 carbon atoms, more preferably 2 to 8 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 5 carbon atoms.
  • the alkenyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the alkynyl group preferably has 2 to 10 carbon atoms, more preferably 2 to 8 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 5 carbon atoms.
  • the alkynyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the number of carbon atoms in the aryl group is preferably 6-30, more preferably 6-20, even more preferably 6-12.
  • Rz 1 and Rz 2 may combine via a divalent group to form a ring.
  • Divalent groups include -CH 2 -, -O- and -SO 2 -.
  • Specific examples of the ring formed by Rz 1 and Rz 2 via a divalent group include the following.
  • m represents an integer of 1 to 5, preferably 1 to 4, more preferably 1 to 3, further preferably 2 or 3, and particularly preferably 2.
  • the group represented by formula (Z1) is preferably a group represented by formula (Z2) below.
  • * represents a bond
  • Yz 2 and Yz 3 each independently represent -N(Ry 2 )- or -O-
  • Ry 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an aryl group
  • Lz 2 and Lz 3 each independently represent a divalent linking group
  • Rz 3 to Rz 6 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an aryl group
  • Rz 3 and Rz 4 , and Rz 5 and Rz 6 may each combine via a divalent group to form a ring.
  • Yz 2 and Yz 3 in formula (Z2) have the same meaning as Yz 1 in formula (Z1), and the preferred ranges are also the same.
  • Ry2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an aryl group, preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom.
  • the preferred ranges of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group and aryl group represented by Ry 2 are the same as the preferred ranges of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group and aryl group of Ra 1 .
  • Lz 2 and Lz 3 in formula (Z2) are synonymous with Lz 1 in formula (Z1), and the preferred ranges are also the same.
  • Rz 3 to Rz 6 in formula (Z2) are synonymous with Rz 1 and Rz 2 in formula (Z1), and the preferred ranges are also the same.
  • Lc 1 and Lc 2 each independently represent a single bond or a linking group, preferably a divalent linking group.
  • the divalent linking group includes an alkylene group, an arylene group, -O-, -N(R L1 )-, -NHCO-, -CONH-, -OCO-, -COO-, -CO-, and -SO NH -, -SO 2 - and combinations thereof.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group is preferably 1-30, more preferably 1-15, still more preferably 1-8, and particularly preferably 1-5.
  • the alkylene group may be linear, branched, or cyclic, preferably linear or branched, and particularly preferably linear.
  • the arylene group preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 15 carbon atoms.
  • the arylene group is preferably a phenylene group.
  • R L1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group represented by R L1 is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, even more preferably 1 to 8.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the alkyl group represented by R L1 may further have a substituent.
  • substituents include the substituent T described above.
  • the number of carbon atoms in the aryl group represented by R L1 is preferably 6-30, more preferably 6-20, even more preferably 6-12.
  • the aryl group represented by R L1 may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described above.
  • Rc 1 and Rc 2 each independently represent a substituent.
  • Substituents include alkyl groups, aryl groups, heterocyclic groups, hydroxyl groups, acid groups and basic groups.
  • at least one of Rc 1 and Rc 2 represents an acid group or a basic group.
  • At least one of Rc 1 and Rc 2 is preferably a basic group, more preferably both Rc 1 and Rc 2 are basic groups.
  • Acid groups and basic groups include those described above.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1-30, more preferably 1-15, even more preferably 1-8.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the number of carbon atoms in the aryl group is preferably 6-30, more preferably 6-20, even more preferably 6-12.
  • the heterocyclic group may be monocyclic or condensed.
  • the heterocyclic group is preferably a monocyclic ring or a condensed ring having 2 to 4 condensed rings.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1-3.
  • a heteroatom constituting the ring of the heterocyclic group is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of carbon atoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 3-30, more preferably 3-18, and more preferably 3-12.
  • Alkyl groups, aryl groups, and heterocyclic groups may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described above.
  • the group represented by the formula (Z10) is preferably a group represented by the following formula (Z11), more preferably a group represented by the following formula (Z12).
  • * represents a linking hand
  • Lc 11 and Lc 12 each independently represent a single bond or a linking group
  • Rc 11 and Rc 12 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • Rc 13 and Rc 14 each independently represent a substituent
  • at least one of Rc 13 and Rc 14 represents an acid group or a basic group.
  • Rc 13 and Rc 14 in formula (Z11) are synonymous with Rc 1 and Rc 2 in formula (Z10), and the preferred ranges are also the same.
  • Rc 11 and Rc 12 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • Substituents represented by Rc 11 and Rc 12 include alkyl groups and aryl groups.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1-20, more preferably 1-15, even more preferably 1-8.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the number of carbon atoms in the aryl group is preferably 6-30, more preferably 6-20, even more preferably 6-12.
  • the alkyl group and aryl group may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described above.
  • Rc 11 and Rc 12 are preferably hydrogen atoms.
  • Lc 11 and Lc 12 each independently represent a single bond or a linking group, preferably a divalent linking group.
  • the divalent linking group include an alkylene group, an arylene group, -O-, -N(R L11 )-, -NHCO-, -CONH-, -OCO-, -COO-, -CO-, and -SO NH -, -SO 2 - and combinations thereof, preferably a group containing at least one selected from an alkylene group and an arylene group, more preferably a group containing an alkylene group, and an alkylene group is more preferred.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group is preferably 1-30, more preferably 1-15, still more preferably 1-8, and particularly preferably 1-5.
  • the alkylene group may be linear, branched, or cyclic, preferably linear or branched, and particularly preferably linear.
  • the arylene group preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 15 carbon atoms.
  • the arylene group is preferably a phenylene group.
  • R L1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom.
  • the alkyl group and aryl group represented by RL11 are synonymous with the alkyl group and aryl group represented by RL1 described above.
  • * represents a linking hand
  • Lc 21 and Lc 22 each independently represent a single bond or a linking group
  • Rc 21 and Rc 22 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • Rc 23 to Rc 26 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • Rc 23 and Rc 24 may be bonded via a divalent group to form a ring; may be bonded via a group to form a ring.
  • Rc 21 and Rc 22 in formula (Z12) have the same meanings as Rc 11 and Rc 12 in formula (Z11), and the preferred ranges are also the same.
  • Lc 21 and Lc 22 of formula (Z12) are synonymous with Lc 11 and Lc 12 of formula (Z11), and the preferred ranges are also the same.
  • Rc 23 to Rc 26 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, preferably a substituent.
  • the substituent includes an alkyl group and an aryl group, preferably an alkyl group.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1-10, more preferably 1-5, and even more preferably 1-3.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the number of carbon atoms in the aryl group is preferably 6-30, more preferably 6-20, even more preferably 6-12.
  • the alkyl group and aryl group may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described above.
  • Rc 23 and Rc 24 may be bonded via a divalent group to form a ring, and Rc 25 and Rc 26 are bonded via a divalent group to form a ring.
  • You may have Divalent groups include -CH 2 -, -O- and -SO 2 -. Specific examples of the ring formed by the above groups via a divalent group include the following.
  • Z 1 include groups having the following structures.
  • Ph represents a phenyl group.
  • Pigment derivative B1 is preferably a compound represented by the following formula (b2). By using such compounds, the effects of the present invention can be obtained more remarkably.
  • a 1 represents a group containing an aromatic ring
  • X 1 and X 2 are each independently a single bond, -O-, -N(R 1 )-, -NHCO-, -CONH-, -OCO-, -COO-, -CO-, -SO 2 NH -, or -SO 2 -
  • R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an aryl group
  • L2 represents a single bond or a divalent linking group
  • Z 1 represents a group represented by formula (Z1) described above.
  • a 1 and Z 1 in formula (b2) have the same meanings as A 1 and Z 1 in formula (b1), and preferred ranges are also the same.
  • X 1 and X 2 in formula (b2) are each independently a single bond, -O-, -N(R 1 )-, -NHCO-, -CONH-, -OCO-, -COO-, -CO- , —SO 2 NH—, or —SO 2 —, and —O—, —N(R 1 )—, —NHCO—, —CONH—, —OCO—, —COO—, —CO—, —SO 2 NH- or -SO 2 - is preferred.
  • R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an aryl group, preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom.
  • the preferred ranges of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group and aryl group represented by R 1 are the same as the preferred ranges of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group and aryl group represented by Ra 1 .
  • L2 in formula (b2) represents a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group represented by L 2 includes an alkylene group, an arylene group, a single bond between an alkylene group and an arylene group, or -O-, -N(R 2 )-, -NHCO-, -CONH-, -OCO- , —COO—, —CO—, —SO 2 NH—, —SO 2 — and groups bonded through a group consisting of a combination thereof, alkylene groups or arylene groups, and —O—, —N(R 2 )-, -NHCO-, -CONH-, -OCO-, -COO-, -CO-, -SO 2 NH-, -SO 2 - and a group bonded through a group consisting of combinations thereof.
  • R2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an aryl group, preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom.
  • the preferred ranges of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group and aryl group represented by R 2 are the same as the preferred ranges of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group and aryl group represented by Ra 1 .
  • pigment derivative B1 examples include the compounds shown below and the compounds described in Examples described later.
  • the symbols described in the columns for the structure of A 1 , the structure of L 1 , and the structure of Z 1 are specific examples of A 1 (that is, specific examples of the group represented by the above formula (A1)). , L 1 , and Z 1 .
  • Pigment derivative B2 is a chromatic pigment derivative.
  • examples of the pigment derivative B2 include compounds having a structure in which a portion of the chromophore is substituted with an acid group or a basic group.
  • the acid group is preferably at least one selected from a carboxyl group, a sulfo group, a phosphoric acid group and salts thereof, more preferably at least one selected from a carboxyl group, a sulfo group and salts thereof.
  • Atoms or atomic groups constituting the salt include alkali metal ions (Li + , Na + , K + etc.), alkaline earth metal ions (Ca 2+ , Mg 2+ etc.), ammonium ions, imidazolium ions, pyridinium ions, phosphonium ion and the like.
  • the basic group is preferably at least one selected from an amino group, a pyridyl group and salts thereof, an ammonium group salt, and a phthalimidomethyl group, and an amino group, an amino group salt, and an ammonium group salt. It is more preferably at least one selected, more preferably an amino group or a salt of an amino group.
  • the amino group includes -NH 2 , dialkylamino group, alkylarylamino group, diarylamino group, cyclic amino group and the like.
  • the dialkylamino group, alkylarylamino group, diarylamino group, and cyclic amino group may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described above.
  • Atoms or atomic groups constituting salts include hydroxide ions, halogen ions, carboxylate ions, sulfonate ions, and phenoxide ions.
  • Chromophores constituting the pigment derivative B2 include a quinoline skeleton, a benzimidazolone skeleton, a diketopyrrolopyrrole skeleton, an azo skeleton, a phthalocyanine skeleton, an anthraquinone skeleton, a quinacridone skeleton, a dioxazine skeleton, a perinone skeleton, a perylene skeleton, a thioindigo skeleton, Isoindoline skeletons, isoindolinone skeletons, quinophthalone skeletons, threne skeletons, metal complex skeletons, etc., and phthalocyanine skeletons, benzimidazolone skeletons, and dioxazine skeletons are preferred because they facilitate the formation of films with superior light resistance.
  • the pigment derivative B2 is preferably a phthalocyanine compound, a benzimidazolone compound or a dioxazine compound, more preferably a phthalocyanine compound.
  • the maximum absorption wavelength of the pigment derivative B2 is preferably in the wavelength range of 400 to 700 nm.
  • the hue exhibited by the pigment derivative B2 includes blue, purple, red, yellow, green, and the like, and blue or purple is preferable because it facilitates formation of a film having excellent light resistance.
  • the maximum value of the molar extinction coefficient in the wavelength region of 400 to 700 nm of the pigment derivative B2 is preferably 10000 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or more, more preferably 15000 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or more. , 20000 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or more.
  • the upper limit is preferably 200000 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or less.
  • the difference between the maximum molar absorption coefficient in the wavelength region of 400 to 700 nm of the pigment derivative B2 and the maximum molar absorption coefficient in the wavelength region of 400 to 700 nm of the pigment derivative B1 is 10000 L mol -1 cm -1 It is preferably 20000 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or more, and even more preferably 30000 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or more.
  • the upper limit is preferably 200000 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or less.
  • the pigment derivative B2 is preferably a compound having an acid group.
  • the pigment derivative B2 is preferably a compound having a basic group.
  • the content of the pigment derivative B in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.5 to 40% by mass.
  • the lower limit is preferably 1% by mass or more, more preferably 2% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 20% by mass or less, more preferably 15% by mass or less.
  • the content of the pigment derivative B is preferably 1 to 60 parts by mass with respect to the total of 100 parts by mass of the colorant A and the pigment derivative B.
  • the lower limit is preferably 2 parts by mass or more, more preferably 3 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 40 parts by mass or less, more preferably 30 parts by mass or less.
  • the content of the pigment derivative B2 is preferably 1 to 90 parts by mass with respect to the total of 100 parts by mass of the pigment derivative B1.
  • the lower limit is preferably 2 parts by mass or more, more preferably 5 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 80 parts by mass or less, more preferably 70 parts by mass or less.
  • the photosensitive composition of the present invention contains resin C (hereinafter referred to as resin).
  • resin is blended, for example, for dispersing the pigment in the photosensitive composition or as a binder.
  • a resin mainly used for dispersing a pigment in a photosensitive composition is also called a dispersant.
  • a resin as a dispersing agent can be used during the preparation of the dispersion. However, such uses of the resin are only examples, and the resin can be used for purposes other than such uses.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the resin is preferably 2,000 to 2,000,000.
  • the upper limit is preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less.
  • the lower limit is preferably 3,000 or more, more preferably 4,000 or more, and even more preferably 5,000 or more.
  • resins examples include (meth)acrylic resins, (meth)acrylamide resins, ene-thiol resins, polycarbonate resins, polyether resins, polyarylate resins, polysulfone resins, polyethersulfone resins, polyphenylene resins, and polyarylene ether phosphine oxides. resins, polyimide resins, polyamideimide resins, polyolefin resins, cyclic olefin resins, polyester resins, styrene resins, siloxane resins, and the like.
  • a resin having a glass transition temperature of 390° C. or higher can also be used as the resin.
  • Examples of commercially available resins having a glass transition temperature of 390° C. or higher include polyimide varnish H520 manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. and the like.
  • a resin having an acid group As the resin.
  • acid groups include carboxy groups, phosphoric acid groups, sulfo groups, and phenolic hydroxy groups. Only one kind of these acid groups may be used, or two or more kinds thereof may be used.
  • a resin having an acid group can be used, for example, as an alkali-soluble resin.
  • the acid value of the resin having acid groups is preferably 30-500 mgKOH/g.
  • the lower limit is preferably 50 mgKOH/g or more, more preferably 70 mgKOH/g or more.
  • the upper limit is preferably 400 mgKOH/g or less, more preferably 200 mgKOH/g or less, still more preferably 150 mgKOH/g or less, and most preferably 120 mgKOH/g or less.
  • a resin containing a repeating unit derived from a compound represented by the formula (ED1) and/or a compound represented by the formula (ED2) (hereinafter, these compounds may be referred to as an "ether dimer"). It is also preferred to include
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent.
  • R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms.
  • the description in JP-A-2010-168539 can be referred to.
  • paragraph number 0317 of JP-A-2013-029760 can be referred to, the content of which is incorporated herein.
  • a resin having a basic group can also be used as the resin.
  • a copolymer having a repeating unit having a basic group in its side chain and a repeating unit containing no basic group can be used.
  • Resins having basic groups can also be used as dispersants.
  • the amine value of the resin having basic groups is preferably 5-300 mgKOH/g.
  • the lower limit is preferably 10 mgKOH/g or more, more preferably 20 mgKOH/g or more.
  • the upper limit is preferably 200 mgKOH/g or less, more preferably 100 mgKOH/g or less.
  • resins having basic groups include DISPERBYK-161, 162, 163, 164, 166, 167, 168, 174, 182, 183, 184, 185, 2000, 2001, 2050, 2150, 2163, 2164, BYK-LPN6919 (manufactured by BYK-Chemie), Solsperse 11200, 13240, 13650, 13940, 24000, 26000, 28000, 32000, 32500, 32550, 32600, 33000, 34750, 35100, 35200, 37500, 38 500, 39000, 53095, 56000, 7100 (manufactured by Nippon Lubrizol), Efka PX 4300, 4330, 4046, 4060, 4080 (manufactured by BASF) and the like.
  • the resin having a basic group is a block copolymer (B) described in paragraph numbers 0063 to 0112 of JP-A-2014-219665, and described in paragraph numbers 0046-0076 of JP-A-2018-156021. It is also possible to use the block copolymer A1 described above and vinyl resins having basic groups described in paragraphs 0150 to 0153 of JP-A-2019-184763, the contents of which are incorporated herein.
  • the resin it is also preferable to use a resin having an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • ethylenically unsaturated bond-containing groups include vinyl groups, (meth)allyl groups, and (meth)acryloyl groups.
  • the low-molecular-weight component (a) of the ethylenically unsaturated bond-containing group site is extracted from the resin by alkali treatment, and the content is measured by high performance liquid chromatography (HPLC) and calculated from the following formula. If the low-molecular-weight component (a) cannot be extracted from the resin by alkali treatment, a value measured by NMR (nuclear magnetic resonance) is used.
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 21 and R 22 each independently represent an alkylene group
  • n represents an integer of 0-15.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group represented by R 21 and R 22 is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, even more preferably 1 to 3, particularly 2 or 3.
  • n represents an integer of 0 to 15, preferably an integer of 0 to 5, more preferably an integer of 0 to 4, and even more preferably an integer of 0 to 3.
  • Examples of the compound represented by formula (X) include ethylene oxide- or propylene oxide-modified (meth)acrylate of paracumylphenol.
  • Commercially available products include Aronix M-110 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.).
  • resin Ac a resin having an aromatic carboxy group
  • the aromatic carboxy group may be contained in the main chain of the repeating unit or may be contained in the side chain of the repeating unit.
  • the aromatic carboxy group is preferably contained in the main chain of the repeating unit.
  • an aromatic carboxy group is a group having a structure in which one or more carboxy groups are bonded to an aromatic ring.
  • the number of carboxy groups bonded to the aromatic ring is preferably 1-4, more preferably 1-2.
  • Resin Ac is preferably a resin containing at least one repeating unit selected from repeating units represented by formula (Ac-1) and repeating units represented by formula (Ac-2).
  • Ar 1 represents a group containing an aromatic carboxyl group
  • L 1 represents -COO- or -CONH-
  • L 2 represents a divalent linking group
  • Ar 10 represents a group containing an aromatic carboxyl group
  • L 11 represents -COO- or -CONH-
  • L 12 represents a trivalent linking group
  • P 10 represents a polymer represents a chain.
  • aromatic carboxy group-containing group represented by Ar 1 in formula (Ac-1) examples include structures derived from aromatic tricarboxylic acid anhydrides, structures derived from aromatic tetracarboxylic acid anhydrides, and the like.
  • Aromatic tricarboxylic anhydrides and aromatic tetracarboxylic anhydrides include compounds having the following structures.
  • Q 1 is a single bond, -O-, -CO-, -COOCH 2 CH 2 OCO-, -SO 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, represented by the following formula (Q-1) or a group represented by the following formula (Q-2).
  • the group containing an aromatic carboxyl group represented by Ar 1 may have a polymerizable group.
  • the polymerizable group is preferably an ethylenically unsaturated bond-containing group and a cyclic ether group, more preferably an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • Specific examples of the group containing an aromatic carboxy group represented by Ar 1 include a group represented by formula (Ar-11), a group represented by formula (Ar-12), and a group represented by formula (Ar-13). and the like.
  • n1 represents an integer of 1 to 4, preferably 1 or 2, more preferably 2.
  • n2 represents an integer of 1 to 8, preferably an integer of 1 to 4, more preferably 1 or 2, and still more preferably 2.
  • n3 and n4 each independently represent an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2, more preferably 1 or 2, preferably 1 More preferred. However, at least one of n3 and n4 is an integer of 1 or more.
  • Q 1 is a single bond, -O-, -CO-, -COOCH 2 CH 2 OCO-, -SO 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, the above formula (Q- 1) or a group represented by the above formula (Q-2).
  • *1 represents the bonding position with L1 .
  • L 1 represents -COO- or -CONH-, preferably -COO-.
  • the divalent linking group represented by L 2 in formula (Ac-1) includes an alkylene group, an arylene group, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH-, -S- and these A group obtained by combining two or more of The number of carbon atoms in the alkylene group is preferably 1-30, more preferably 1-20, even more preferably 1-15.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic.
  • the arylene group preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and even more preferably 6 to 10 carbon atoms.
  • An alkylene group and an arylene group may have a substituent. A hydroxy group etc.
  • the divalent linking group represented by L 2 is preferably a group represented by -L 2a -O-.
  • L 2a is an alkylene group; an arylene group; a group in which an alkylene group and an arylene group are combined; at least one selected from an alkylene group and an arylene group; Examples include groups in which at least one selected from —NH— and —S— are combined, and alkylene groups are preferred.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group is preferably 1-30, more preferably 1-20, even more preferably 1-15.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic. An alkylene group and an arylene group may have a substituent. A hydroxy group etc. are mentioned as a substituent.
  • the group containing an aromatic carboxyl group represented by Ar 10 in formula (Ac-2) has the same meaning as Ar 1 in formula (Ac-1), and the preferred range is also the same.
  • L 11 represents -COO- or -CONH-, preferably -COO-.
  • the trivalent linking group represented by L 12 in formula (Ac-2) includes a hydrocarbon group, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH-, -S- and 2 of these Groups in which more than one species are combined are included.
  • Hydrocarbon groups include aliphatic hydrocarbon groups and aromatic hydrocarbon groups. The number of carbon atoms in the aliphatic hydrocarbon group is preferably 1-30, more preferably 1-20, even more preferably 1-15.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be linear, branched or cyclic. The number of carbon atoms in the aromatic hydrocarbon group is preferably 6-30, more preferably 6-20, even more preferably 6-10.
  • the hydrocarbon group may have a substituent. A hydroxy group etc. are mentioned as a substituent.
  • the trivalent linking group represented by L 12 is preferably a group represented by formula (L12-1), more preferably a group represented by formula (L12-2).
  • L 12b represents a trivalent linking group
  • X 1 represents S
  • *1 represents the bonding position with L 11 of formula (Ac-2)
  • *2 represents formula ( The binding position of Ac-2) with P10 is shown.
  • the trivalent linking group represented by L 12b includes a hydrocarbon group; and at least one selected from -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH- and -S- is preferably a hydrocarbon group or a group of a combination of a hydrocarbon group and —O—.
  • L 12c represents a trivalent linking group
  • X 1 represents S
  • *1 represents the bonding position with L 11 of formula (Ac-2)
  • *2 represents formula ( The binding position of Ac-2) with P10 is shown.
  • the trivalent linking group represented by L 12c includes a hydrocarbon group; and at least one selected from -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH- and -S- and the like, preferably a hydrocarbon group.
  • P 10 in formula (Ac-2) represents a polymer chain.
  • the polymer chain represented by P10 preferably has at least one repeating unit selected from poly(meth)acrylic repeating units, polyether repeating units, polyester repeating units and polyol repeating units.
  • the weight average molecular weight of the polymer chain P10 is preferably 500-20,000.
  • the lower limit is preferably 1000 or more.
  • the upper limit is preferably 10,000 or less, more preferably 5,000 or less, even more preferably 3,000 or less. If the weight average molecular weight of P10 is within the above range, the dispersibility of the pigment in the composition is good.
  • the resin having an aromatic carboxyl group is a resin having repeating units represented by formula (Ac-2), this resin is preferably used as a dispersant.
  • the polymer chain represented by P10 may contain a polymerizable group.
  • Polymerizable groups include ethylenically unsaturated bond-containing groups and cyclic ether groups.
  • This resin is preferably used as a dispersant.
  • Rp 1 represents an alkylene group
  • Rp 2 represents a hydrogen atom or a substituent
  • n represents a number of 10-1000
  • y represents a number of 1-2.
  • the alkylene group represented by Rp 1 preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms, and still more preferably 2 or 3 carbon atoms.
  • Rp 1 is preferably an ethylene group.
  • substituent represented by Rp 2 include an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group and the like, preferably an alkyl group.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 5-30.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably branched.
  • the weight-average molecular weight of the resin having the structure represented by formula (P-3-1) is preferably 2,000 to 50,000, more preferably 3,000 to 45,000, and even more preferably 4,000 to 40,000.
  • the acid value of the resin having the structure represented by formula (P-3-1) is preferably 10-200 mgKOH/g, more preferably 20-150 mgKOH/g, and even more preferably 30-120 mgKOH/g.
  • the photosensitive composition of the present invention preferably contains a resin as a dispersant.
  • Dispersants include acidic dispersants (acidic resins) and basic dispersants (basic resins).
  • the acidic dispersant (acidic resin) represents a resin in which the amount of acid groups is greater than the amount of basic groups.
  • the acidic dispersant (acidic resin) a resin having an acid group content of 70 mol % or more is preferable when the total amount of the acid group and the basic group is 100 mol %.
  • the acid group possessed by the acidic dispersant (acidic resin) includes a carboxy group, a sulfo group and a phosphoric acid group, preferably a carboxy group.
  • the acid value of the acidic dispersant is preferably 10-105 mgKOH/g.
  • a basic dispersant represents a resin in which the amount of basic groups is greater than the amount of acid groups.
  • a resin containing more than 50 mol % of basic groups is preferable when the total amount of acid groups and basic groups is 100 mol %.
  • the basic group possessed by the basic dispersant is preferably an amino group.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a graft resin.
  • graft resin for details of the graft resin, reference can be made to paragraphs 0025 to 0094 of JP-A-2012-255128, the contents of which are incorporated herein.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a polyimine-based dispersant containing nitrogen atoms in at least one of its main chain and side chains.
  • the polyimine-based dispersant has a main chain having a partial structure having a functional group with a pKa of 14 or less and a side chain having 40 to 10,000 atoms, and at least one of the main chain and the side chain has a basic nitrogen atom.
  • a resin having The basic nitrogen atom is not particularly limited as long as it is a nitrogen atom exhibiting basicity.
  • the description in paragraphs 0102 to 0166 of JP-A-2012-255128 can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a resin having a structure in which a plurality of polymer chains are bonded to the core.
  • resins include, for example, dendrimers (including star polymers). Further, specific examples of dendrimers include polymer compounds C-1 to C-31 described in paragraphs 0196 to 0209 of JP-A-2013-043962.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a resin having an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • resins described in JP-A-2018-087939, block copolymers (EB-1) to (EB-9) described in paragraphs 0219 to 0221 of Japanese Patent No. 6432077, international publications Polyethyleneimine having a polyester side chain described in No. 2016/104803, a block copolymer described in WO 2019/125940, a block polymer having an acrylamide structural unit described in JP 2020-066687, particularly A block polymer having an acrylamide structural unit described in JP-A-2020-066688, a dispersant described in WO 2016/104803, and the like can also be used.
  • Dispersants are also available as commercial products, and specific examples thereof include Disperbyk series manufactured by BYK-Chemie (e.g., Disperbyk-111, 161, 2001, etc.), Solsperse manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd. series (for example, Solsperse 20000, 76500, etc.), Ajinomoto Fine-Techno Co., Inc. Ajisper series, and the like.
  • Dispersants are also available as commercial products, and specific examples thereof include Disperbyk series manufactured by BYK-Chemie (e.g., Disperbyk-111, 161, 2001, etc.), Solsperse manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd. series (for example, Solsperse 20000, 76500, etc.), Ajinomoto Fine-Techno Co., Inc. Ajisper series, and the like.
  • the content of the resin in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 5-50% by mass.
  • the upper limit is preferably 40% by mass or less, more preferably 30% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 10% by mass or more, more preferably 20% by mass or more.
  • the content of the dispersant is preferably 1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the colorant.
  • the lower limit is preferably 5 parts by mass or more, more preferably 10 parts by mass or more, and even more preferably 15 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 50 parts by mass or less, more preferably 40 parts by mass or less, and even more preferably 30 parts by mass or less.
  • the content of the dispersant is preferably 50 to 1500 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment derivative.
  • the lower limit is preferably 100 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 1000 parts by mass or less, more preferably 500 parts by mass or less.
  • the photosensitive composition of the present invention may contain only one resin, or may contain two or more resins. When two or more resins are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the photosensitive composition of the invention preferably contains a polymerizable monomer.
  • the polymerizable monomer is preferably a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group. Examples of ethylenically unsaturated bond-containing groups include vinyl groups, (meth)allyl groups, and (meth)acryloyl groups.
  • the polymerizable monomer used in the present invention is preferably a radically polymerizable monomer.
  • the molecular weight of the polymerizable monomer is preferably 100-3000.
  • the upper limit is more preferably 2000 or less, and even more preferably 1500 or less.
  • the lower limit is more preferably 150 or more, even more preferably 250 or more.
  • the polymerizable monomer is preferably a compound containing 3 or more ethylenically unsaturated bond-containing groups, more preferably a compound containing 3 to 15 ethylenically unsaturated bond-containing groups, an ethylenically unsaturated bond Compounds containing 3 to 6 containing groups are more preferred.
  • the polymerizable monomer is preferably a 3- to 15-functional (meth)acrylate compound, more preferably a 3- to 6-functional (meth)acrylate compound.
  • Polymerizable monomers include dipentaerythritol tri(meth)acrylate (commercially available as KAYARAD D-330; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol tetra(meth)acrylate (commercially available as KAYARAD D-320 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol penta(meth)acrylate (as a commercial product, KAYARAD D-310; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol hexa(meth)acrylate (as a commercial product, KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., NK Ester A-DPH-12E; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), and their (meth)acryloyl groups via ethylene glycol and/or propylene glycol residues Compounds of conjugated structures (eg SR454,
  • diglycerin EO ethylene oxide modified (meth) acrylate
  • pentaerythritol tetraacrylate manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK Ester A -TMMT
  • 1,6-hexanediol diacrylate manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD HDDA
  • RP-1040 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • Aronix TO-2349 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • NK Oligo UA-7200 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • DPHA-40H manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • the polymerizable monomers include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, trimethylolpropane propylene oxide-modified tri(meth)acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide-modified tri(meth)acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide-modified tri(meth)acrylate, Trifunctional (meth)acrylate compounds such as pentaerythritol tri(meth)acrylate can also be used.
  • Commercial products of trifunctional (meth)acrylate compounds include Aronix M-309, M-310, M-321, M-350, M-360, M-313, M-315, M-306 and M-305.
  • M-303, M-452, M-450 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • a compound having an acid group can also be used as the polymerizable monomer.
  • the acid group includes a carboxy group, a sulfo group, a phosphoric acid group and the like, and a carboxy group is preferred.
  • Commercially available polymerizable monomers having an acid group include Aronix M-510, M-520 and Aronix TO-2349 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.).
  • the acid value of the polymerizable monomer having an acid group is preferably 0.1-40 mgKOH/g, more preferably 5-30 mgKOH/g.
  • a compound having a caprolactone structure can also be used for the polymerizable monomer.
  • Commercially available polymerizable monomers having a caprolactone structure include KAYARAD DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, and DPCA-120 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).
  • a polymerizable monomer having an alkyleneoxy group can also be used as the polymerizable monomer.
  • the polymerizable monomer having an alkyleneoxy group is preferably a polymerizable monomer having an ethyleneoxy group and/or a propyleneoxy group, more preferably a polymerizable monomer having an ethyleneoxy group, and 3 to 4 having 4 to 20 ethyleneoxy groups.
  • a hexafunctional (meth)acrylate compound is more preferred.
  • polymerizable monomers having an alkyleneoxy group include, for example, SR-494, a tetrafunctional (meth)acrylate having four ethyleneoxy groups manufactured by Sartomer Co., Ltd., and an isobutyleneoxy group manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYARAD TPA-330, which is a trifunctional (meth)acrylate having three.
  • a polymerizable monomer having a fluorene skeleton can also be used as the polymerizable monomer.
  • Commercially available polymerizable monomers having a fluorene skeleton include Ogsol EA-0200 and EA-0300 (manufactured by Osaka Gas Chemicals Co., Ltd., (meth)acrylate monomers having a fluorene skeleton).
  • the polymerizable monomer it is also preferable to use a compound that does not substantially contain environmentally regulated substances such as toluene.
  • environmentally regulated substances such as toluene.
  • Commercially available products of such compounds include KAYARAD DPHA LT and KAYARAD DPEA-12 LT (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).
  • the content of the polymerizable monomer in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.1 to 50% by mass.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more, and even more preferably 5% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 40% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, even more preferably 30% by mass or less, even more preferably 20% by mass or less, and 15% by mass. The following are even more preferred. Only one polymerizable monomer may be used, or two or more polymerizable monomers may be used. When two or more kinds are used, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the photosensitive composition of the present invention preferably contains a photopolymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator is not particularly limited and can be appropriately selected from known photopolymerization initiators. For example, compounds having photosensitivity to light in the ultraviolet region to the visible region are preferred.
  • the photopolymerization initiator is preferably a photoradical polymerization initiator.
  • photopolymerization initiators include halogenated hydrocarbon derivatives (e.g., compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.), acylphosphine compounds, hexaarylbiimidazole compounds, oxime compounds, organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds and the like.
  • halogenated hydrocarbon derivatives e.g., compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.
  • acylphosphine compounds e.g., acylphosphine compounds, hexaarylbiimidazole compounds, oxime compounds, organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds and the like.
  • photopolymerization initiators include trihalomethyltriazine compounds, benzyldimethylketal compounds, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds, acylphosphine compounds, phosphine oxide compounds, metallocene compounds, oxime compounds, hexaarylbi imidazole compounds, onium compounds, benzothiazole compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds, cyclopentadiene-benzene-iron complexes, halomethyloxadiazole compounds and 3-aryl-substituted coumarin compounds, oxime compounds, ⁇ -hydroxyketones compounds, ⁇ -aminoketone compounds, and acylphosphine compounds, more preferably oxime compounds.
  • hexaarylbiimidazole compounds include 2,2′,4-tris(2-chlorophenyl)-5-(3,4-dimethoxyphenyl)-4,5-diphenyl-1,1′-biimidazole, etc. is mentioned.
  • ⁇ -hydroxyketone compounds include Omnirad 184, Omnirad 1173, Omnirad 2959, Omnirad 127 (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 184, Irgacure 1173, Irgacure 2959, Irgacure 127 (above, BASF company) and the like.
  • Commercially available ⁇ -aminoketone compounds include Omnirad 907, Omnirad 369, Omnirad 369E, Omnirad 379EG (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure 369E, and Irgacure 3.
  • acylphosphine compounds include Omnirad 819, Omnirad TPO (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 819 and Irgacure TPO (manufactured by BASF).
  • Examples of oxime compounds include compounds described in JP-A-2001-233842, compounds described in JP-A-2000-080068, compounds described in JP-A-2006-342166, J. Am. C. S. Compounds described in Perkin II (1979, pp.1653-1660); C. S. Compounds described in Perkin II (1979, pp.156-162), compounds described in Journal of Photopolymer Science and Technology (1995, pp.202-232), compounds described in JP-A-2000-066385, Compounds described in JP-A-2004-534797, compounds described in JP-A-2006-342166, compounds described in JP-A-2017-019766, compounds described in Patent No. 6065596, International Publication No.
  • oxime compounds include 3-benzoyloxyiminobutane-2-one, 3-acetoxyiminobutane-2-one, 3-propionyloxyiminobutane-2-one, 2-acetoxyiminopentane-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3-(4-toluenesulfonyloxy)iminobutan-2-one, 2-ethoxycarbonyloxyimino -1-phenylpropane-1-one, 1-[4-(phenylthio)phenyl]-3-cyclohexyl-propane-1,2-dione-2-(O-acetyloxime) and the like.
  • An oxime compound having a fluorene ring can also be used as the photopolymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorene ring include compounds described in JP-A-2014-137466, compounds described in Japanese Patent No. 6636081, and compounds described in Korean Patent Publication No. 10-2016-0109444. mentioned.
  • an oxime compound having a skeleton in which at least one benzene ring of the carbazole ring is a naphthalene ring can also be used.
  • Specific examples of such oxime compounds include compounds described in WO2013/083505.
  • An oxime compound having a fluorine atom can also be used as the photopolymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorine atom include compounds described in JP-A-2010-262028, compounds 24, 36 to 40 described in JP-A-2014-500852, and JP-A-2013-164471. and the compound (C-3) of.
  • An oxime compound having a nitro group can be used as the photopolymerization initiator.
  • the oxime compound having a nitro group is also preferably a dimer.
  • Specific examples of the oxime compound having a nitro group include the compounds described in paragraph numbers 0031 to 0047 of JP-A-2013-114249 and paragraph numbers 0008-0012 and 0070-0079 of JP-A-2014-137466; Compounds described in paragraphs 0007 to 0025 of Japanese Patent No. 4223071 and ADEKA Arkles NCI-831 (manufactured by ADEKA Corporation) can be mentioned.
  • An oxime compound having a benzofuran skeleton can also be used as the photopolymerization initiator.
  • Specific examples include OE-01 to OE-75 described in WO 2015/036910.
  • an oxime compound in which a substituent having a hydroxyl group is bonded to the carbazole skeleton can also be used.
  • Examples of such a photopolymerization initiator include the compounds described in International Publication No. 2019/088055.
  • oxime compounds preferably used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited to these.
  • the oxime compound is preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 350 to 500 nm, more preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 360 to 480 nm.
  • the molar extinction coefficient of the oxime compound at a wavelength of 365 nm or a wavelength of 405 nm is preferably high from the viewpoint of sensitivity, more preferably 1000 to 300000, further preferably 2000 to 300000, even more preferably 5000 to 200000. It is particularly preferred to have
  • the molar extinction coefficient of a compound can be measured using known methods. For example, it is preferably measured at a concentration of 0.01 g/L using an ethyl acetate solvent with a spectrophotometer (Cary-5 spectrophotometer manufactured by Varian).
  • the photopolymerization initiator it is also preferable to use a combination of Irgacure OXE01 (manufactured by BASF) and/or Irgacure OXE02 (manufactured by BASF) and Omnirad 2959 (manufactured by IGM Resins B.V.).
  • a bifunctional or trifunctional or higher functional photoradical polymerization initiator may be used as the photopolymerization initiator.
  • a radical photopolymerization initiator two or more radicals are generated from one molecule of the radical photopolymerization initiator, so good sensitivity can be obtained.
  • the crystallinity is lowered, the solubility in a solvent or the like is improved, and precipitation becomes difficult over time, and the stability over time of the photosensitive composition can be improved.
  • Specific examples of bifunctional or trifunctional or higher photoradical polymerization initiators include Japanese Patent Publication No. 2010-527339, Japanese Patent Publication No. 2011-524436, International Publication No.
  • the content of the photopolymerization initiator in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.1 to 30% by mass.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 20% by mass or less, more preferably 15% by mass or less, even more preferably 10% by mass or less, even more preferably 7.5% by mass or less, and even more preferably 5% by mass or less.
  • a photoinitiator may use only 1 type and may use 2 or more types. When two or more kinds are used, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the photosensitive composition of the invention preferably contains a solvent.
  • An organic solvent is mentioned as a solvent.
  • the type of solvent is basically not particularly limited as long as it satisfies the solubility of each component and the coatability of the composition.
  • Organic solvents include ester-based solvents, ketone-based solvents, alcohol-based solvents, amide-based solvents, ether-based solvents, and hydrocarbon-based solvents. For these details, reference can be made to paragraph number 0223 of WO2015/166779, the content of which is incorporated herein. Ester-based solvents substituted with cyclic alkyl groups and ketone-based solvents substituted with cyclic alkyl groups can also be preferably used.
  • organic solvents include polyethylene glycol monomethyl ether, dichloromethane, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2 -heptanone, 3-pentanone, 4-heptanone, cyclohexanone, 2-methylcyclohexanone, 3-methylcyclohexanone, 4-methylcyclohexanone, cycloheptanone, cyclooctanone, cyclohexyl acetate, cyclopentanone, ethylcarbitol acetate, butylcarbylate tall acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxy-N,N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N,N-di
  • aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc.) as organic solvents may be better reduced for environmental reasons (e.g., 50 mass ppm (parts per million), 10 ppm by mass or less, or 1 ppm by mass or less).
  • an organic solvent with a low metal content it is preferable to use an organic solvent with a low metal content, and the metal content of the organic solvent is preferably, for example, 10 mass ppb (parts per billion) or less. If necessary, an organic solvent at a mass ppt (parts per trillion) level may be used, and such an organic solvent is provided, for example, by Toyo Gosei Co., Ltd. (Chemical Daily, November 13, 2015). .
  • Examples of methods for removing impurities such as metals from organic solvents include distillation (molecular distillation, thin film distillation, etc.) and filtration using a filter.
  • the filter pore size of the filter used for filtration is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 5 ⁇ m or less, and even more preferably 3 ⁇ m or less.
  • the material of the filter is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene or nylon.
  • the organic solvent may contain isomers (compounds with the same number of atoms but different structures). Moreover, only one isomer may be contained, or a plurality of isomers may be contained.
  • the content of peroxide in the organic solvent is preferably 0.8 mmol/L or less, and more preferably substantially free of peroxide.
  • the content of the solvent in the photosensitive composition is preferably 10-95% by mass.
  • the upper limit is preferably 92.5% by mass or less, more preferably 90% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 20% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, still more preferably 75% by mass or more, and even more preferably 80% by mass or more from the viewpoint of coating properties. It is preferably 85% by mass or more, and particularly preferably 85% by mass or more.
  • the photosensitive composition of the present invention preferably does not substantially contain environmentally regulated substances.
  • substantially free of environmental regulation substances means that the content of environmental regulation substances in the photosensitive composition is 50 mass ppm or less, and 30 mass ppm or less. It is preferably 10 mass ppm or less, more preferably 1 mass ppm or less, particularly preferably 1 mass ppm or less.
  • Environmental control substances include, for example, benzene; alkylbenzenes such as toluene and xylene; and halogenated benzenes such as chlorobenzene.
  • a method for reducing the amount of environmentally regulated substances there is a method in which the system is heated or decompressed to raise the temperature to the boiling point of the environmentally regulated substances or higher, and the environmentally regulated substances are distilled off from the system.
  • the system is heated or decompressed to raise the temperature to the boiling point of the environmentally regulated substances or higher, and the environmentally regulated substances are distilled off from the system.
  • it is also useful to azeotrope with a solvent having a boiling point equivalent to that of the solvent in order to increase the efficiency.
  • a polymerization inhibitor or the like is added and distilled off under reduced pressure in order to suppress the radical polymerization reaction from progressing during the vacuum distillation and the intermolecular cross-linking.
  • distillation methods are performed at the stage of raw materials, at the stage of reacting raw materials (for example, resin solution or polyfunctional monomer solution after polymerization), or at the stage of photosensitive compositions prepared by mixing these compounds. Any stage, such as stages, is possible.
  • the photosensitive composition of the invention can contain a compound having a cyclic ether group.
  • Cyclic ether groups include epoxy groups and oxetanyl groups.
  • the compound having a cyclic ether group is preferably a compound having an epoxy group (hereinafter also referred to as an epoxy compound).
  • a compound having a cyclic ether group may be a low-molecular compound (for example, a molecular weight of less than 1000) or a macromolecule (for example, a molecular weight of 1000 or more, and in the case of a polymer, a weight-average molecular weight of 1000 or more).
  • the weight average molecular weight of the cyclic ether group is preferably from 200 to 100,000, more preferably from 500 to 50,000.
  • the upper limit of the weight average molecular weight is preferably 10,000 or less, more preferably 5,000 or less, and even more preferably 3,000 or less.
  • the content of the compound having a cyclic ether group in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.1 to 20% by mass.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 15% by mass or less, more preferably 10% by mass or less. Only one kind of compound having a cyclic ether group may be used, or two or more kinds thereof may be used. When two or more kinds are used, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the photosensitive composition of the present invention may contain a curing accelerator.
  • Curing accelerators include thiol compounds, methylol compounds, amine compounds, phosphonium salt compounds, amidine salt compounds, amide compounds, base generators, isocyanate compounds, alkoxysilane compounds, onium salt compounds and the like.
  • the curing accelerator include compounds described in paragraph numbers 0094 to 0097 of WO 2018/056189, compounds described in paragraph numbers 0246 to 0253 of JP 2015-034963, JP 2013-041165 Compounds described in paragraphs 0186 to 0251 of the publication, ionic compounds described in JP 2014-055114, compounds described in paragraphs 0071 to 0080 of JP 2012-150180, JP 2011-253054 Alkoxysilane compounds having an epoxy group described in JP-A-2005-200557, compounds described in paragraphs 0085 to 0092 of Japanese Patent No. 5765059, carboxy group-containing epoxy curing agents described in JP-A-2017-036379, and the like.
  • the content of the curing accelerator in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.3 to 8.9% by mass, more preferably 0.8 to 6.4% by mass.
  • the photosensitive composition of the invention can contain an ultraviolet absorber.
  • ultraviolet absorbers include conjugated diene compounds, aminodiene compounds, salicylate compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, acrylonitrile compounds, hydroxyphenyltriazine compounds, indole compounds, and triazine compounds. Specific examples of such compounds include paragraph numbers 0038 to 0052 of JP-A-2009-217221, paragraph numbers 0052-0072 of JP-A-2012-208374, and paragraph numbers 0317-0317 of JP-A-2013-068814.
  • UV absorbers examples include UV-503 (manufactured by Daito Chemical Co., Ltd.), Tinuvin series and Uvinul series manufactured by BASF, and Sumisorb series manufactured by Sumika Chemtex Co., Ltd. .
  • Benzotriazole compounds include the MYUA series manufactured by Miyoshi Oil (Kagaku Kogyo Nippo, February 1, 2016).
  • the ultraviolet absorber is a compound described in paragraph numbers 0049 to 0059 of Japanese Patent No.
  • a thioaryl group-substituted benzotriazole-type ultraviolet absorber described in can also be used.
  • the content of the ultraviolet absorber in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 5% by mass. Only one type of ultraviolet absorber may be used, or two or more types may be used. When two or more kinds are used, it is preferable that the total amount thereof falls within the above range.
  • the photosensitive composition of the invention can contain a polymerization inhibitor.
  • Polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, tert-butylcatechol, benzoquinone, 4,4′-thiobis(3-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2′-methylenebis(4-methyl-6-t-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine salts (ammonium salts, cerous salts, etc.).
  • p-methoxyphenol is preferred.
  • the content of the polymerization inhibitor in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.0001 to 5% by mass. Only one type of polymerization inhibitor may be used, or two or more types may be used. When two or more types are used, the total amount is preferably within the above range.
  • the photosensitive composition of the invention can contain a silane coupling agent.
  • a silane coupling agent means a silane compound having a hydrolyzable group and other functional groups.
  • the hydrolyzable group refers to a substituent that is directly bonded to a silicon atom and capable of forming a siloxane bond by at least one of hydrolysis reaction and condensation reaction.
  • Hydrolyzable groups include, for example, halogen atoms, alkoxy groups, acyloxy groups and the like, with alkoxy groups being preferred. That is, the silane coupling agent is preferably a compound having an alkoxysilyl group.
  • Examples of functional groups other than hydrolyzable groups include vinyl group, (meth)allyl group, (meth)acryloyl group, mercapto group, epoxy group, oxetanyl group, amino group, ureido group, sulfide group and isocyanate group. , phenyl group, etc., and amino group, (meth)acryloyl group and epoxy group are preferred.
  • silane coupling agent examples include N- ⁇ -aminoethyl- ⁇ -aminopropylmethyldimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBM-602), N- ⁇ -aminoethyl- ⁇ -amino propyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBM-603), N- ⁇ -aminoethyl- ⁇ -aminopropyltriethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBE-602), ⁇ -aminopropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBM-903), ⁇ -aminopropyltriethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBM
  • silane coupling agent examples include compounds described in paragraph numbers 0018 to 0036 of JP-A-2009-288703 and compounds described in paragraph numbers 0056-0066 of JP-A-2009-242604. , the contents of which are incorporated herein.
  • the content of the silane coupling agent in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.01 to 15.0% by mass, more preferably 0.05 to 10.0% by mass. Only one kind of silane coupling agent may be used, or two or more kinds thereof may be used. When two or more types are used, the total amount is preferably within the above range.
  • the photosensitive composition of the invention can contain a surfactant.
  • a surfactant various surfactants such as fluorosurfactants, nonionic surfactants, cationic surfactants, anionic surfactants and silicone surfactants can be used.
  • the surfactant is preferably a silicone-based surfactant or a fluorine-based surfactant. Examples of surfactants include surfactants described in paragraphs 0238 to 0245 of International Publication No. 2015/166779, and surfactants described in JP 2020-008634. incorporated into the book.
  • the fluorine content in the fluorine-based surfactant is preferably 3-40% by mass, more preferably 5-30% by mass, and particularly preferably 7-25% by mass.
  • a fluorosurfactant having a fluorine content within this range is effective in terms of uniformity of the thickness of the coating film and liquid saving, and has good solubility in the photosensitive composition.
  • JP 2014-041318 Paragraph Nos. 0060 to 0064 As the fluorine-based surfactant, JP 2014-041318 Paragraph Nos. 0060 to 0064 (corresponding International Publication No. 2014/017669 Paragraph Nos. 0060 to 0064) surfactants described in, JP 2011- 132503, paragraphs 0117-0132, the contents of which are incorporated herein.
  • Commercially available fluorosurfactants include Megafac F-171, F-172, F-173, F-176, F-177, F-141, F-142, F-143, and F-144.
  • Fluorine-based surfactants also include acrylic compounds that have a molecular structure with a functional group containing a fluorine atom, and when heat is applied, the portion of the functional group containing a fluorine atom is cleaved and the fluorine atom volatilizes. It can be used preferably.
  • fluorine-based surfactants include Megafac DS series manufactured by DIC Corporation (Chemical Daily (February 22, 2016), Nikkei Sangyo Shimbun (February 23, 2016)), for example, Mega Fac DS-21.
  • fluorosurfactant it is also preferable to use a polymer of a fluorine atom-containing vinyl ether compound having a fluorinated alkyl group or a fluorinated alkylene ether group and a hydrophilic vinyl ether compound as the fluorosurfactant.
  • fluorosurfactants include fluorosurfactants described in JP-A-2016-216602, the contents of which are incorporated herein.
  • a block polymer can also be used as the fluorosurfactant.
  • the fluorosurfactant has a repeating unit derived from a (meth)acrylate compound having a fluorine atom and 2 or more (preferably 5 or more) alkyleneoxy groups (preferably ethyleneoxy groups and propyleneoxy groups) (meta)
  • a fluorine-containing polymer compound containing a repeating unit derived from an acrylate compound can also be preferably used.
  • the fluorine-containing surfactants described in paragraphs 0016 to 0037 of JP-A-2010-032698 and the following compounds are also exemplified as fluorine-based surfactants used in the present invention.
  • the weight average molecular weight of the above compound is preferably 3000-50000, for example 14000. In the above compounds, % indicating the ratio of repeating units is mol%.
  • a fluoropolymer having an ethylenically unsaturated bond-containing group in a side chain can also be used as the fluorosurfactant.
  • Specific examples include compounds described in paragraph numbers 0050 to 0090 and paragraph numbers 0289 to 0295 of JP-A-2010-164965, MEGAFACE RS-101, RS-102 and RS-718K manufactured by DIC Corporation, and RS-72-K.
  • compounds described in paragraphs 0015 to 0158 of JP-A-2015-117327 can also be used.
  • a fluorine-containing imide salt compound represented by formula (fi-1) is also preferable to use as a surfactant.
  • m represents 1 or 2
  • n represents an integer of 1 to 4
  • a represents 1 or 2
  • X a + represents a valent metal ion, primary ammonium ion, Represents secondary ammonium ion, tertiary ammonium ion, quaternary ammonium ion or NH 4 + .
  • Nonionic surfactants include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane and their ethoxylates and propoxylates (e.g., glycerol propoxylate, glycerol ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, Polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester, Pluronic L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2 (BASF company), Tetronic 304, 701, 704, 901, 904, 150R1 (manufactured by BASF), Solsperse 20000 (manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd.), NCW-101, NCW-1001, NCW-1002 (Fuji
  • silicone surfactants include DC3PA, SH7PA, DC11PA, SH21PA, SH28PA, SH29PA, SH30PA, SH8400, SH8400 FLUID, FZ-2122, 67 Additive, 74 Additive, M Additive, SF 8419 OIL (the above, Dow ⁇ Toray Co., Ltd.), TSF-4300, TSF-4445, TSF-4460, TSF-4452 (manufactured by Momentive Performance Materials), KP-341, KF-6000, KF-6001, KF-6002, KF-6003 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), BYK-307, BYK-322, BYK-323, BYK-330, BYK-333, BYK-3760, BYK-UV3510 (manufactured by BYK-Chemie), etc. are mentioned.
  • a compound having the following structure can also be used as the silicone-based surfactant.
  • the content of the surfactant in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.001% by mass to 5.0% by mass, more preferably 0.005% by mass to 3.0% by mass. . Only one type of surfactant may be used, or two or more types may be used. When two or more types are used, the total amount is preferably within the above range.
  • the photosensitive composition of the invention can contain an antioxidant.
  • Antioxidants include phenol compounds, phosphite ester compounds, thioether compounds and the like. Any phenolic compound known as a phenolic antioxidant can be used as the phenolic compound. Preferred phenolic compounds include hindered phenolic compounds. A compound having a substituent at a site adjacent to the phenolic hydroxy group (ortho position) is preferred. As the aforementioned substituent, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms is preferred.
  • the antioxidant is also preferably a compound having a phenol group and a phosphite ester group in the same molecule.
  • Phosphorus-based antioxidants can also be suitably used as antioxidants.
  • the content of the antioxidant in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.3 to 15% by mass.
  • an antioxidant is contained, only one kind of antioxidant may be used, or two or more kinds thereof may be used.
  • the total amount is preferably within the above range.
  • the photosensitive composition of the present invention may optionally contain sensitizers, curing accelerators, fillers, thermosetting accelerators, plasticizers and other auxiliary agents (e.g., conductive particles, fillers, antifoaming agents). , flame retardants, leveling agents, release accelerators, fragrances, surface tension modifiers, chain transfer agents, etc.). Properties such as film physical properties can be adjusted by appropriately containing these components. These components are, for example, described in JP 2012-003225, paragraph number 0183 and later (corresponding US Patent Application Publication No. 2013/0034812, paragraph number 0237), JP 2008-250074 paragraph The descriptions of numbers 0101 to 0104, 0107 to 0109, etc.
  • the photosensitive composition of the present invention may contain a latent antioxidant, if necessary.
  • the latent antioxidant is a compound in which the site functioning as an antioxidant is protected with a protecting group, and is heated at 100 to 250°C, or heated at 80 to 200°C in the presence of an acid/base catalyst.
  • a compound that functions as an antioxidant by removing the protecting group by the reaction is exemplified.
  • Examples of latent antioxidants include compounds described in International Publication No. 2014/021023, International Publication No. 2017/030005, and JP-A-2017-008219.
  • Commercially available latent antioxidants include ADEKA Arkles GPA-5001 (manufactured by ADEKA Co., Ltd.).
  • the photosensitive composition of the present invention may contain an aromatic group-containing phosphonium salt described in JP-A-2020-079833.
  • the photosensitive composition of the invention may contain a metal oxide in order to adjust the refractive index of the resulting film.
  • metal oxides include TiO 2 , ZrO 2 , Al 2 O 3 and SiO 2 .
  • the primary particle size of the metal oxide is preferably 1 to 100 nm, more preferably 3 to 70 nm, even more preferably 5 to 50 nm.
  • Metal oxides may have a core-shell structure. Moreover, in this case, the core portion may be hollow.
  • the photosensitive composition of the present invention may contain a light resistance improver.
  • a light resistance improver compounds described in paragraph numbers 0036 to 0037 of JP-A-2017-198787, compounds described in paragraph numbers 0029-0034 of JP-A-2017-146350, JP-A-2017-129774 Compounds described in paragraph numbers 0036 to 0037, 0049 to 0052 of JP 2017-129674 JP 2017-129674 paragraph numbers 0031 to 0034, 0058 to 0059 compounds described in JP 2017-122803 paragraph numbers 0036 to 0037 , compounds described in 0051 to 0054, compounds described in paragraph numbers 0025 to 0039 of WO 2017/164127, compounds described in paragraph numbers 0034 to 0047 of JP 2017-186546, JP 2015-025116 Compounds described in paragraph numbers 0019 to 0041 of JP-A-2012-145604, compounds described in paragraph numbers 0101-0125 of JP-A-2012-103475,
  • perfluoroalkylsulfonic acid and its salts may be regulated.
  • perfluoroalkylsulfonic acid especially perfluoroalkylsulfonic acid having 6 to 8 carbon atoms in the perfluoroalkyl group
  • the content of perfluoroalkylcarboxylic acid especially perfluoroalkylcarboxylic acid having 6 to 8 carbon atoms in the perfluoroalkyl group
  • the content of perfluoroalkylcarboxylic acid (especially perfluoroalkylcarboxylic acid having 6 to 8 carbon atoms in the perfluoroalkyl group) and its salt is 0.01ppb to 1,000ppb to the total solid content of the photosensitive composition.
  • the photosensitive composition of the present invention may be substantially free of perfluoroalkylsulfonic acid and its salts and perfluoroalkylcarboxylic acid and its salts.
  • a compound that can substitute for perfluoroalkylsulfonic acid and its salt and a compound that can substitute for perfluoroalkylcarboxylic acid and its salt, perfluoroalkylsulfonic acid and its salt, and perfluoroalkylcarboxylic acid and salts thereof may be selected.
  • Compounds that can substitute for the regulated compounds include, for example, compounds excluded from the regulation due to the difference in the number of carbon atoms in the perfluoroalkyl group.
  • the above contents do not prevent the use of perfluoroalkylsulfonic acid and its salts, and perfluoroalkylcarboxylic acid and its salts.
  • the photosensitive composition of the present invention may contain perfluoroalkylsulfonic acid and its salts and perfluoroalkylcarboxylic acid and its salts within the maximum permissible range.
  • the water content of the photosensitive composition of the present invention is usually 3% by mass or less, preferably 0.01 to 1.5% by mass, more preferably 0.1 to 1.0% by mass.
  • the water content can be measured by the Karl Fischer method.
  • the photosensitive composition of the present invention can be used by adjusting the viscosity for the purpose of adjusting the film surface state (flatness, etc.) and adjusting the film thickness.
  • the viscosity value can be appropriately selected as necessary, and is preferably, for example, 0.3 mPa ⁇ s to 50 mPa ⁇ s, more preferably 0.5 mPa ⁇ s to 20 mPa ⁇ s at 25°C.
  • a method for measuring the viscosity for example, a cone-plate type viscometer can be used, and the viscosity can be measured in a state where the temperature is adjusted to 25°C.
  • the storage container for the photosensitive composition is not particularly limited, and known storage containers can be used.
  • a storage container a multi-layer bottle whose inner wall is composed of 6 types and 6 layers of resin and a bottle with a 7-layer structure of 6 types of resin are used in order to suppress the contamination of raw materials and compositions with impurities. It is also preferred to use Examples of such a container include the container described in JP-A-2015-123351.
  • the photosensitive composition of the present invention can be prepared by mixing the aforementioned ingredients.
  • all components may be simultaneously dissolved and/or dispersed in a solvent to prepare the photosensitive composition, or if necessary, each component may be appropriately mixed into two or more solutions or dispersions. They may be prepared as liquids and mixed at the time of use (at the time of application) to prepare a photosensitive composition.
  • a process of dispersing the pigment when preparing the photosensitive composition.
  • mechanical forces used for dispersing pigments include compression, squeezing, impact, shearing, cavitation, and the like.
  • Specific examples of these processes include bead mills, sand mills, roll mills, ball mills, paint shakers, microfluidizers, high speed impellers, sand grinders, flow jet mixers, high pressure wet atomization, ultrasonic dispersion, and the like.
  • beads with a small diameter or to increase the filling rate of the beads so as to increase the pulverization efficiency.
  • the process and dispersing machine for dispersing pigments are described in "Dispersion Technology Complete Works, Information Organization Co., Ltd., July 15, 2005” and "Dispersion technology centered on suspension (solid / liquid dispersion system) and industrial Practical Application General Documents, Published by Management Development Center Publishing Department, October 10, 1978", the process and dispersing machine described in paragraph number 0022 of JP-A-2015-157893 can be suitably used.
  • the particles may be made finer in the salt milling process. Materials, equipment, processing conditions, etc. used in the salt milling step can be referred to, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2015-194521 and 2012-046629.
  • Beads used for dispersion can be zirconia, agate, quartz, titania, tungsten carbide, silicon nitride, alumina, stainless steel, glass, or combinations thereof. Also, an inorganic compound having a Mohs hardness of 2 or more can be used. The composition may contain 1 to 10000 ppm of the beads.
  • any filter that has been conventionally used for filtration or the like can be used without particular limitation.
  • PTFE polytetrafluoroethylene
  • PVDF polyvinylidene fluoride
  • polyamide resins such as nylon (eg nylon-6, nylon-6,6), polyethylene, polyolefin resins such as polypropylene (PP) ( (including high-density, ultra-high-molecular-weight polyolefin resin).
  • PP polypropylene
  • polypropylene including high density polypropylene
  • nylon are preferred.
  • the pore size of the filter is preferably 0.01-7.0 ⁇ m, more preferably 0.01-3.0 ⁇ m, and even more preferably 0.05-0.5 ⁇ m. If the pore diameter of the filter is within the above range, fine foreign matter can be removed more reliably.
  • the pore size value of the filter reference can be made to the filter manufacturer's nominal value.
  • Various filters provided by Nippon Pall Co., Ltd. (DFA4201NXEY, DFA4201NAEY, DFA4201J006P, etc.), Advantech Toyo Co., Ltd., Nihon Entegris Co., Ltd. (former Japan Microlith Co., Ltd.), Kitz Micro Filter Co., Ltd., etc. can be used as filters. .
  • fiber-like filter media include polypropylene fiber, nylon fiber, and glass fiber.
  • Commercially available products include SBP type series (SBP008, etc.), TPR type series (TPR002, TPR005, etc.), and SHPX type series (SHPX003, etc.) manufactured by Roki Techno.
  • filters different filters (eg, a first filter and a second filter, etc.) may be combined. At that time, filtration with each filter may be performed only once, or may be performed twice or more. Also, filters with different pore sizes within the range described above may be combined. Further, the filtration with the first filter may be performed only on the dispersion liquid, and after mixing other components, the filtration with the second filter may be performed.
  • the film of the present invention is a film obtained from the photosensitive composition of the present invention described above.
  • the film of the present invention can be used in color filters. More specifically, it can be preferably used for blue pixels of color filters.
  • the film thickness of the film of the present invention can be appropriately adjusted depending on the purpose.
  • the film thickness is preferably 20 ⁇ m or less, more preferably 10 ⁇ m or less, even more preferably 5 ⁇ m or less.
  • the lower limit of the film thickness is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more, and even more preferably 0.3 ⁇ m or more.
  • the color filter of the invention has the film of the invention described above.
  • the color filter of the present invention preferably has the film of the present invention as a colored pixel of the color filter, and more preferably has the film of the present invention as a blue pixel.
  • the color filter of the present invention preferably further includes colored pixels selected from red pixels, green pixels, cyan pixels and yellow pixels.
  • One aspect of the color filter of the present invention is a color filter having a blue pixel, a green pixel, and a red pixel that are made of the film of the present invention.
  • the color filter of the present invention can be used for solid-state imaging devices such as CCDs (charge-coupled devices) and CMOSs (complementary metal oxide semiconductors), image display devices, and the like.
  • CCDs charge-coupled devices
  • CMOSs complementary metal oxide semiconductors
  • the thickness of the film in the color filter of the present invention can be appropriately adjusted according to the purpose.
  • the film thickness is preferably 5 ⁇ m or less, more preferably 1 ⁇ m or less, and even more preferably 0.6 ⁇ m or less.
  • the lower limit of the film thickness is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more, and even more preferably 0.3 ⁇ m or more.
  • the width of pixels included in the color filter is preferably 0.2 to 10.0 ⁇ m.
  • the lower limit is preferably 0.4 ⁇ m or more, more preferably 0.5 ⁇ m or more, and even more preferably 0.6 ⁇ m or more.
  • the upper limit is preferably 5.0 ⁇ m or less, more preferably 2.0 ⁇ m or less, even more preferably 1.0 ⁇ m or less, and even more preferably 0.8 ⁇ m or less.
  • the Young's modulus of the pixel is preferably 0.5 to 20 GPa, more preferably 2.5 to 15 GPa.
  • Each pixel included in the color filter preferably has high flatness.
  • the pixel surface roughness Ra is preferably 100 nm or less, more preferably 40 nm or less, and even more preferably 15 nm or less. Although the lower limit is not specified, it is preferably 0.1 nm or more, for example.
  • the surface roughness of a pixel can be measured using, for example, AFM (Atomic Force Microscope) Dimension 3100 manufactured by Veeco.
  • the contact angle of water on the pixel can be appropriately set to a preferable value, but is typically in the range of 50 to 110°. The contact angle can be measured using, for example, a contact angle meter CV-DT-A type (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.).
  • the volume resistance value of the pixel is high.
  • the volume resistance value of the pixel is preferably 10 9 ⁇ cm or more, more preferably 10 11 ⁇ cm or more.
  • the upper limit is not specified, it is preferably 10 14 ⁇ cm or less, for example.
  • the volume resistance value of the pixel can be measured using, for example, a super-high resistance meter 5410 (manufactured by Advantest).
  • a protective layer may be provided on the surface of the pixels.
  • the protective layer By providing the protective layer, it is possible to impart various functions such as blocking oxygen, reducing reflection, making the film hydrophilic and hydrophobic, and blocking light of a specific wavelength (ultraviolet rays, near-infrared rays, etc.).
  • the thickness of the protective layer is preferably 0.01-10 ⁇ m, more preferably 0.1-5 ⁇ m.
  • Examples of the method of forming the protective layer include a method of applying a resin composition dissolved in an organic solvent, a chemical vapor deposition method, and a method of adhering a molded resin with an adhesive.
  • Components constituting the protective layer include (meth)acrylic resins, ene-thiol resins, polycarbonate resins, polyether resins, polyarylate resins, polysulfone resins, polyethersulfone resins, polyphenylene resins, polyarylene ether phosphine oxide resins, and polyimides.
  • Resins polyamideimide resins, polyolefin resins, cyclic olefin resins, polyester resins, styrene resins, polyol resins, polyvinylidene chloride resins, melamine resins, urethane resins, aramid resins, polyamide resins, alkyd resins, epoxy resins, modified silicone resins, fluorine Resins, polyacrylonitrile resins, cellulose resins, Si, C, W, Al 2 O 3 , Mo, SiO 2 , Si 2 N 4 and the like, and two or more of these components may be contained.
  • the protective layer in the case of a protective layer intended to block oxygen, preferably contains a polyol resin, SiO 2 and Si 2 N 4 .
  • the protective layer in the case of a protective layer intended to reduce reflection, preferably contains a (meth)acrylic resin and a fluororesin.
  • a resin composition When a resin composition is applied to form a protective layer, known methods such as spin coating, casting, screen printing, and ink-jetting can be used as methods for applying the resin composition.
  • Known organic solvents eg, propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate, cyclopentanone, ethyl lactate, etc.
  • the protective layer is formed by a chemical vapor deposition method
  • the chemical vapor deposition method includes known chemical vapor deposition methods (thermal chemical vapor deposition method, plasma chemical vapor deposition method, photochemical vapor deposition method). can be used.
  • the protective layer contains organic/inorganic fine particles, absorbers for light of specific wavelengths (e.g., ultraviolet rays, near-infrared rays, etc.), refractive index modifiers, antioxidants, adhesion agents, additives such as surfactants. may contain.
  • organic/inorganic fine particles include polymeric fine particles (eg, silicone resin fine particles, polystyrene fine particles, melamine resin fine particles), titanium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, indium oxide, aluminum oxide, titanium nitride, and titanium oxynitride. , magnesium fluoride, hollow silica, silica, calcium carbonate, barium sulfate, and the like.
  • a known absorber can be used as the absorber for light of a specific wavelength.
  • the content of these additives can be appropriately adjusted, but is preferably 0.1 to 70% by mass, more preferably 1 to 60% by mass, based on the total mass of the protective layer.
  • the protective layer the protective layers described in paragraphs 0073 to 0092 of JP-A-2017-151176 can also be used.
  • the color filter may have a structure in which each pixel is embedded in a space partitioned by partition walls, for example, in a grid pattern.
  • the method for producing a color filter includes the steps of forming a photosensitive composition layer on a support using the photosensitive composition of the present invention described above, exposing the photosensitive composition layer in a pattern, and forming a pattern (pixels) by developing and removing unexposed portions of the layer. If necessary, a step of baking the photosensitive composition layer (pre-baking step) and a step of baking the developed pattern (pixels) (post-baking step) may be provided.
  • the photosensitive composition of the present invention is used to form a photosensitive composition layer on a support.
  • the support is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the application. Examples thereof include glass substrates and silicon substrates, and silicon substrates are preferred. Also, a charge-coupled device (CCD), a complementary metal oxide semiconductor (CMOS), a transparent conductive film, or the like may be formed on the silicon substrate.
  • CCD charge-coupled device
  • CMOS complementary metal oxide semiconductor
  • the silicon substrate is formed with a black matrix that isolates each pixel.
  • the silicon substrate may be provided with an underlying layer for improving adhesion with the upper layer, preventing diffusion of substances, or flattening the substrate surface.
  • a known method can be used as a method for applying the photosensitive composition.
  • drop method drop cast
  • slit coating method spray method
  • roll coating method spin coating
  • methods described in publications inkjet (e.g., on-demand method, piezo method, thermal method), ejection system printing such as nozzle jet, flexographic printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, metal mask printing, etc. a printing method; a transfer method using a mold or the like; a nanoimprint method, and the like.
  • inkjet e.g., on-demand method, piezo method, thermal method
  • ejection system printing such as nozzle jet, flexographic printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, metal mask printing, etc.
  • a printing method a transfer method using a mold or the like
  • nanoimprint method and the like.
  • the application method for inkjet is not particularly limited.
  • the photosensitive composition layer formed on the support may be dried (pre-baked). Pre-baking may not be performed when the film is manufactured by a low-temperature process.
  • the pre-baking temperature is preferably 150° C. or lower, more preferably 120° C. or lower, and even more preferably 110° C. or lower.
  • the lower limit can be, for example, 50° C. or higher, and can also be 80° C. or higher.
  • the pre-bake time is preferably 10 to 300 seconds, more preferably 40 to 250 seconds, even more preferably 80 to 220 seconds. Pre-baking can be performed using a hot plate, an oven, or the like.
  • the photosensitive composition layer is exposed in a pattern (exposure step).
  • the photosensitive composition layer can be exposed in a pattern by exposing through a mask having a predetermined mask pattern using a stepper exposure machine, a scanner exposure machine, or the like. Thereby, the exposed portion can be cured.
  • Radiation (light) that can be used for exposure includes g-line, i-line, and the like.
  • Light with a wavelength of 300 nm or less (preferably light with a wavelength of 180 to 300 nm) can also be used.
  • Light having a wavelength of 300 nm or less includes KrF rays (wavelength: 248 nm), ArF rays (wavelength: 193 nm), etc., and KrF rays (wavelength: 248 nm) are preferable.
  • a long-wave light source of 300 nm or more can also be used.
  • the light when exposing, the light may be continuously irradiated and exposed, or may be irradiated and exposed in pulses (pulse exposure).
  • pulse exposure is an exposure method in which light irradiation and pause are repeated in a cycle of short time (for example, less than millisecond level).
  • the dose is, for example, preferably 0.03 to 2.5 J/cm 2 , more preferably 0.05 to 1.0 J/cm 2 .
  • the oxygen concentration at the time of exposure can be selected as appropriate, and in addition to exposure in the atmosphere, for example, in a low oxygen atmosphere with an oxygen concentration of 19% by volume or less (e.g., 15% by volume, 5% by volume, or substantially oxygen-free) or in a high-oxygen atmosphere with an oxygen concentration exceeding 21% by volume (for example, 22% by volume, 30% by volume, or 50% by volume).
  • the exposure illuminance can be set as appropriate, and is usually selected from the range of 1000 W/m 2 to 100000 W/m 2 (eg, 5000 W/m 2 , 15000 W/m 2 or 35000 W/m 2 ). can be done.
  • the oxygen concentration and exposure illuminance may be appropriately combined.
  • the illuminance may be 10000 W/m 2 at an oxygen concentration of 10% by volume and 20000 W/m 2 at an oxygen concentration of 35% by volume.
  • the unexposed areas of the photosensitive composition layer are removed by development to form a pattern (pixels).
  • the development removal of the unexposed portion of the photosensitive composition layer can be performed using a developer.
  • the unexposed portion of the photosensitive composition layer in the exposure step is eluted into the developer, leaving only the photocured portion.
  • the temperature of the developer is preferably 20 to 30° C., for example.
  • the development time is preferably 20 to 180 seconds.
  • the step of shaking off the developer every 60 seconds and then supplying new developer may be repeated several times.
  • the developer includes an organic solvent, an alkaline developer, etc., and an alkaline developer is preferably used.
  • an alkaline developer an alkaline aqueous solution (alkali developer) obtained by diluting an alkaline agent with pure water is preferable.
  • alkaline agents include ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, diglycolamine, diethanolamine, hydroxylamine, ethylenediamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, and tetrabutylammonium hydroxide.
  • alkaline compounds and inorganic alkaline compounds such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium bicarbonate, sodium silicate and sodium metasilicate.
  • concentration of the alkaline agent in the alkaline aqueous solution is preferably 0.001 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 1% by mass.
  • the developer may further contain a surfactant.
  • the surfactant include the surfactants described above, and nonionic surfactants are preferred.
  • the developer may be produced once as a concentrated solution and then diluted to the required concentration when used.
  • the dilution ratio is not particularly limited, it can be set, for example, in the range of 1.5 to 100 times.
  • wash (rinse) with pure water after development. Rinsing is preferably carried out by supplying a rinse solution to the photosensitive composition layer after development while rotating the support on which the photosensitive composition layer after development is formed. It is also preferable to move the nozzle for discharging the rinsing liquid from the central portion of the support to the peripheral portion of the support.
  • the moving speed of the nozzle may be gradually decreased.
  • in-plane variations in rinsing can be suppressed.
  • a similar effect can be obtained by gradually decreasing the rotation speed of the support while moving the nozzle from the center of the support to the periphery.
  • Additional exposure processing and post-baking are post-development curing treatments for complete curing.
  • the heating temperature in post-baking is, for example, preferably 100 to 240.degree. C., more preferably 200 to 240.degree.
  • Post-baking can be performed continuously or batchwise using a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot air circulating dryer), or a high-frequency heater so that the developed film satisfies the above conditions. .
  • the light used for exposure preferably has a wavelength of 400 nm or less. Further, the additional exposure process may be performed by the method described in Korean Patent Publication No. 10-2017-0122130.
  • the solid-state imaging device of the present invention has the film of the present invention described above.
  • the configuration of the solid-state imaging device is not particularly limited as long as it has the film of the present invention and functions as a solid-state imaging device.
  • a plurality of photodiodes and transfer electrodes made of polysilicon or the like are provided on the substrate, forming the light-receiving area of a solid-state imaging device (CCD (charge-coupled device) image sensor, CMOS (complementary metal-oxide semiconductor) image sensor, etc.). and a device protective film made of silicon nitride or the like formed on the light shielding film so as to cover the entire surface of the light shielding film and the photodiode light receiving portion. and a color filter on the device protective film.
  • CCD charge-coupled device
  • CMOS complementary metal-oxide semiconductor
  • the color filter may have a structure in which each color pixel is embedded in a space partitioned by partition walls, for example, in a grid pattern.
  • the partition wall preferably has a low refractive index for each color pixel. Examples of imaging devices having such a structure include devices described in JP-A-2012-227478, JP-A-2014-179577, and International Publication No. 2018/043654.
  • an ultraviolet absorption layer may be provided in the structure of the solid-state imaging device to improve light resistance.
  • An imaging device equipped with the solid-state imaging device of the present invention can be used not only for digital cameras and electronic devices having an imaging function (mobile phones, etc.), but also for vehicle-mounted cameras and monitoring cameras.
  • the image display device of the present invention has the film of the present invention described above.
  • image display devices include liquid crystal display devices and organic electroluminescence display devices.
  • electroluminescence display devices For a definition of an image display device and details of each image display device, see, for example, “Electronic Display Device (by Akio Sasaki, Industrial Research Institute, 1990)", “Display Device (by Junsho Ibuki, Sangyo Tosho ( Co., Ltd.), issued in 1989), etc.
  • Liquid crystal display devices are described, for example, in “Next Generation Liquid Crystal Display Technology (edited by Tatsuo Uchida, published by Kogyo Choukai Co., Ltd., 1994)". There is no particular limitation on the liquid crystal display device to which the present invention can be applied.
  • ⁇ Production of micronized pigment 100 parts by mass of the pigment shown in the table below, 1200 parts by mass of sodium chloride, and 120 parts by mass of diethylene glycol were placed in a stainless steel 1-gallon kneader (manufactured by Inoue Seisakusho) and kneaded at 60° C. for 4 hours. The resulting kneaded composition was put into 3000 parts by mass of hot water, stirred for 1 hour to form a slurry, filtered and washed repeatedly to remove sodium chloride and diethylene glycol, and then dried at 80 ° C. for a whole day and night. The finely divided pigment described was obtained.
  • dispersion liquid A mixed liquid obtained by mixing raw materials shown in the table below was mixed and dispersed for 3 hours using a bead mill (zirconia beads with a diameter of 0.1 mm). Next, using a high-pressure disperser with a pressure reduction mechanism (NANO-3000-10, manufactured by Nippon BEE Co., Ltd.), dispersion treatment was carried out under conditions of a pressure of 2000 kg/cm 2 and a flow rate of 500 g/min. This dispersion treatment was repeated 10 times to produce each dispersion.
  • NANO-3000-10 a pressure reduction mechanism
  • pigment derivative A compound having the following structure (a blue pigment derivative. The maximum molar extinction coefficient in the wavelength region of 400 to 700 nm is 10000 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or more.)
  • Syn-2 A compound having the following structure (purple pigment derivative. The maximum molar absorption coefficient in the wavelength region of 400 to 700 nm is 10000 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or more.)
  • Syn-3 A compound with the following structure (a transparent pigment derivative, with a maximum molar absorption coefficient of 3000 L ⁇ mol ⁇ 1 cm ⁇ 1 or less in the wavelength range of 400 to 700 nm).
  • Syn-4 A compound with the following structure (a transparent pigment derivative, the maximum value of the molar extinction coefficient in the wavelength range of 400 to 700 nm is 3000 L mol -1 cm -1 or less.)
  • Syn-5 A compound with the following structure (transparent pigment derivative. The maximum value of the molar extinction coefficient in the wavelength range of 400 to 700 nm is 3000 L mol -1 cm -1 or less.)
  • Syn-6 A compound with the following structure (a transparent pigment derivative, with a maximum molar absorption coefficient of 3000 L ⁇ mol ⁇ 1 cm ⁇ 1 or less in the wavelength range of 400 to 700 nm).
  • Syn-7 A compound with the following structure (a transparent pigment derivative, with a maximum molar extinction coefficient of 3000 L ⁇ mol ⁇ 1 cm ⁇ 1 or less in the wavelength range of 400 to 700 nm).
  • D-1 Resin having the following structure (weight-average molecular weight: 20,000, the numerical value attached to the main chain is the molar ratio, and the numerical value attached to the side chain is the number of repeating units.)
  • D-2 Resin having the following structure (weight average molecular weight 800)
  • D-3 Resin having the following structure (weight average molecular weight: 15,000, the numerical value attached to the main chain is the molar ratio, and the numerical value attached to the side chain is the number of repeating units.)
  • D-4 Resin shown below (weight average molecular weight 8000, acid value 37 mgKOH/g, ethylenically unsaturated bond-containing group value 0.22 mmol/g)
  • Dye 1 a dye having the following structure (xanthene dye, weight average molecular weight: 9000)
  • (resin) B-1 A compound having the following structure (weight average molecular weight: 11000, numerical values attached to the main chain are molar ratios.)
  • M-1 a compound having the following structure
  • M-2 A mixture of compounds having the following structure (a mixture in which the molar ratio of the left compound (hexafunctional (meth)acrylate compound) and the right compound (pentafunctional (meth)acrylate compound) is 7:3)
  • the photosensitive composition obtained above was coated on a glass substrate of 5 cm ⁇ 5 cm using a spin coater so that the film thickness after drying would be 0.6 ⁇ m, and then coated using a hot plate at 100° C. at 120° C. It was pre-baked for 2 seconds to obtain a monochromatic color filter for light resistance evaluation.
  • a SiO 2 layer with a thickness of 100 nm was formed on the color filter by chemical vapor deposition.
  • a sharp cut filter (L38, manufactured by HOYA Co., Ltd.) was placed on the obtained monochromatic color filter for light resistance evaluation for the purpose of cutting light of 380 nm or less, and irradiated with a xenon lamp at 100,000 lux for 20 hours ( equivalent to 2 million lux ⁇ h).
  • the color difference ( ⁇ E*ab value) of the monochromatic color filter before and after irradiation with the xenon lamp was measured, and the light resistance was evaluated according to the following criteria. It can be said that the smaller the ⁇ E*ab value, the better the light resistance.
  • Viscosity change rate (%) (
  • Example 12 Similar results were obtained when the amounts of the dispersion liquid and the resin added were changed, and the total content of the colorant and the pigment derivative in the total solid content was changed to 45% by mass or 50% by mass. .

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

顔料を含む着色剤Aと、顔料誘導体Bと、樹脂Cと、を含む感光性組成物であって、着色剤Aは青色顔料を含み、顔料誘導体Bは、透明な顔料誘導体B1と、有彩色の顔料誘導体B2とを含み、感光性組成物の全固形分中における着色剤Aと顔料誘導体Bとの合計の含有量が40質量%以上である、感光性組成物、感光性組成物を用いた膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置。

Description

感光性組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置
 本発明は、青色顔料を含む感光性組成物に関する。また、本発明は、感光性組成物を用いた膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置に関する。
 近年、デジタルカメラ、カメラ付き携帯電話等の普及から、電荷結合素子(CCD)イメージセンサなどの固体撮像素子の需要が大きく伸びている。ディスプレイや光学素子のキーデバイスとしてカラーフィルタが使用されている。
 カラーフィルタは、着色剤を含む感光性組成物を用いて製造されている。また、一般的に着色剤として顔料を用いた場合には、顔料誘導体や樹脂などを用いて感光性組成物中に顔料を分散させている。
 特許文献1には、顔料と、トリアジン構造を有する所定の色素誘導体と、所定の樹脂型分散剤と、重合性モノマーと、光重合開始剤と、樹脂バインダーと、溶剤とを含む感光性組成物に関する発明が記載されている。
特開2019-133154号公報
 青色顔料を含む感光性組成物を用いて得られる膜は、光照射によって変色しやすい傾向にあった。近年、カラーフィルタなどに用いられる膜について、耐光性の更なる向上が求められており、青色顔料を含む感光性組成物を用いて得られる膜についても、耐光性の更なる向上が望まれている。
 また、近年、カラーフィルタなどに用いられる膜について、耐湿性の更なる向上も求められている。
 よって、本発明の目的は、耐光性および耐湿性に優れた膜を形成することができる感光性組成物を提供することにある。また、本発明は、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置を提供することにある。
 本発明者の検討によれば、以下の構成とすることにより上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。よって、本発明は以下を提供する。
 <1> 顔料を含む着色剤Aと、顔料誘導体Bと、樹脂Cと、を含む感光性組成物であって、
 上記着色剤Aは青色顔料を含み、
 上記顔料誘導体Bは、透明な顔料誘導体B1と、有彩色の顔料誘導体B2とを含み、
 上記感光性組成物の全固形分中における上記着色剤Aと上記顔料誘導体Bとの合計の含有量が40質量%以上である、感光性組成物。
 <2> 上記顔料誘導体B1の400~700nmの波長領域におけるモル吸光係数の最大値が3000L・mol-1・cm-1以下である、<1>に記載の感光性組成物。
 <3> 上記顔料誘導体B2の400~700nmの波長領域におけるモル吸光係数の最大値が10000L・mol-1・cm-1以上である、<1>または<2>に記載の感光性組成物。
 <4> 上記顔料誘導体B1はトリアジン環を有する化合物である、<1>~<3>のいずれか1つに記載の感光性組成物。
 <5> 上記顔料誘導体B1は、式(A1)で表される基を含む化合物である、<1>~<4>のいずれか1つに記載の感光性組成物;
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 式(A1)中、*は結合手を表し、
 YaおよびYaは、それぞれ独立して-N(Ra)-または-O-を表し、
 Raは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、
 BおよびBは、それぞれ独立して水素原子または置換基を表す。
 <6> 上記顔料誘導体B2は、フタロシアニン化合物である、<1>~<5>のいずれか1つに記載の感光性組成物。
 <7> 上記顔料誘導体B2の極大吸収波長が波長400~700nmの範囲に存在する、<1>~<6>のいずれか1つに記載の感光性組成物。
 <8> 上記青色顔料はフタロシアニン化合物である、<1>~<7>のいずれか1つに記載の感光性組成物。
 <9> 上記着色剤Aは、青色顔料と紫色顔料を含む、<1>~<8>のいずれか1つに記載の感光性組成物。
 <10> 更に重合性モノマーと光重合開始剤とを含む、<1>~<9>のいずれか1つに記載の感光性組成物。
 <11> 上記感光性組成物を用いて膜厚が1μmの膜を形成した際に、上記膜の厚み方向における波長400~500nmの範囲の光の透過率の平均値が55%以上であり、上記膜の厚み方向における波長600~700nmの範囲の光の透過率の平均値が20%以下であり、透過率が50%を示す波長が波長450~550nmの範囲に存在する、<1>~<10>のいずれか1つに記載の感光性組成物。
 <12> 青色の画素形成用の感光性組成物である、<1>~<11>のいずれか1つに記載の感光性組成物。
 <13> <1>~<12>のいずれか1つに記載の感光性組成物から得られる膜。
 <14> <13>に記載の膜を有するカラーフィルタ。
 <15> <13>に記載の膜を有する固体撮像素子。
 <16> <13>に記載の膜を有する画像表示装置。
 本発明は、耐光性および耐湿性に優れた膜を形成することができる感光性組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置を提供することができる。
 以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
 本明細書において、「~」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
 本明細書における基(原子団)の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基(原子団)と共に置換基を有する基(原子団)をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含する。
 本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線(EUV光)、X線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
 本明細書において、「(メタ)アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「(メタ)アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「(メタ)アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
 本明細書において、名称の前、又は名称の後に付記される記号(例えば、A、BおよびCなど)は、構成要素を区別するために使用する用語であり、構成要素の種類、構成要素の数、及び構成要素の優劣を制限するものではない。
 本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィ)法により測定したポリスチレン換算値である。
 本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
 本明細書において、顔料とは、溶剤に対して溶解しにくい着色剤のことを意味する。例えば、顔料は、23℃の水100gおよび23℃のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100gに対する溶解度がいずれも0.1g以下であることが好ましく、0.01g以下であることがより好ましい。
 本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
<感光性組成物>
 本発明の感光性組成物は、顔料を含む着色剤Aと、顔料誘導体Bと、樹脂Cと、を含む感光性組成物であって、
 着色剤Aは青色顔料を含み、
 顔料誘導体Bは、透明な顔料誘導体B1と、有彩色の顔料誘導体B2とを含み、
 感光性組成物の全固形分中における着色剤Aと顔料誘導体Bとの合計の含有量が40質量%以上であることを特徴とする。
 本発明の感光性組成物は、耐光性および耐湿性に優れた膜を形成することができる。このような効果が得られる理由は、以下によるものであると推測される。
 本発明の感光性組成物は、透明な顔料誘導体B1を含むので、感光性組成物を用いて支持体上に感光性組成物層を形成し、この感光性組成物層を露光して硬化する際において、露光によって感光性組成物層の深部(支持体側)まで光を透過させる易くすることができると推測される。このため、露光によって十分に硬化した膜を形成することができると推測される。また、本発明の感光性組成物は、透明な顔料誘導体B1の他に、更に、有彩色の顔料誘導体B2を含むので、製膜後の膜に光が照射されても、この顔料誘導体B2が光を適度に吸収して、樹脂や着色剤などの分解や変性などを抑制できると推測される。このため、本発明の感光性組成物を用いることで、耐光性に優れた膜を形成することができたと推測される。
 また、本発明の感光組成物は、有彩色の顔料誘導体B2の他に、透明な顔料誘導体B1を含むので、感光性組成物を用いて形成した膜が湿度の高い環境に晒されて、顔料誘導体の分解や変性が生じたとしても、顔料誘導体の分解や変性による分光変動の影響を小さくできるので、耐湿性に優れた膜を形成することができたと推測される。
 また、本発明の感光性組成物は、保存安定性にも優れる。本発明の感光性組成物は2種以上の顔料誘導体を含むので、感光性組成物中において、顔料-顔料誘導体-樹脂のネットワークが形成され易くなって顔料の凝集が抑制されると推測され、その結果、感光性組成物の保存安定性を向上することができたと推測される。
 青色の色相は、波長400~500nm近傍の透過率の高い色相であり、樹脂などの黄変による分光への影響が極めて大きい色相である。本発明の感光組成物によって形成される膜は、光照射による黄変を抑制することができるので、本発明の感光性組成物は、青色の画素形成用の感光性組成物として好ましく用いることができる。
 本発明の感光性組成物は、カラーフィルタ用の感光性組成物として好ましく用いられる。具体的には、カラーフィルタの青色画素形成用の感光性組成物として好ましく用いられる。
 本発明の感光性組成物を用いて膜厚が1μmの膜を形成した際に、この膜の厚み方向における波長400~500nmの範囲の光の透過率の平均値は、55%以上であり、膜の厚み方向における波長600~700nmの範囲の光の透過率の平均値が20%以下であり、透過率が50%を示す波長が波長450~550nmの範囲に存在することが好ましい。このような分光特性を満たす感光性組成物は、青色の画素形成用の感光性組成物として好ましく用いることができる。
 上記膜の波長400~500nmの範囲の光の透過率の平均値は60%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましい。
 上記膜の波長600~700nmの範囲の光の透過率の平均値は15%以下であることが好ましく、10%以下であることがより好ましい。
 上記膜の透過率が50%を示す波長は、波長460~540nmの範囲に存在することが好ましく、波長470~520nmの範囲に存在することがより好ましい。
 本発明の感光性組成物の固形分濃度は、5~30質量%であることが好ましい。下限は、7.5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましい。上限は、25質量%以下が好ましく、20質量%以下がより好ましく、15質量%以下が更に好ましい。
 以下、本発明の感光性組成物に用いられる各成分について説明する。
<<着色剤A>>
 本発明の感光性組成物は着色剤A(以下、着色剤ともいう)を含む。本発明では、着色剤として顔料を含むものが用いられる。
 感光性組成物に含まれる着色剤中の顔料の含有量は、20~100質量%であることが好ましく、30~100質量%であることがより好ましく、40~100質量%であることが更に好ましい。
 感光性組成物に含まれる着色剤は実質的に顔料のみであることも好ましい。感光性組成物に含まれる着色剤が実質的に顔料のみである場合とは、着色剤中の顔料の含有量が99質量%以上であることを意味し、99.9質量%以上であることが好ましく、顔料のみであることが更に好ましい。
 感光性組成物に含まれる着色剤は顔料と染料とを含むものであってもよい。顔料と染料とを併用する場合、染料は、青色顔料100質量部に対して2~300質量部であることが好ましい。上限は、200質量部以下であることが好ましく、100質量部以下であることがより好ましい。下限は5質量部以上であることが好ましく、10質量部以上であることがより好ましい。
 顔料の平均一次粒子径は、1~200nmが好ましい。下限は5nm以上が好ましく、10nm以上がより好ましい。上限は、180nm以下が好ましく、150nm以下がより好ましく、100nm以下が更に好ましい。顔料の平均一次粒子径が上記範囲であれば、感光性組成物中における顔料の分散性が良好である。なお、顔料の一次粒子径は、顔料の一次粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた写真から求めることができる。具体的には、顔料の一次粒子の投影面積を求め、それに対応する円相当径を顔料の一次粒子径として算出する。また、本明細書における顔料の平均一次粒子径とは、400個の顔料の一次粒子についての一次粒子径の算術平均値とする。また、顔料の一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
 顔料のCuKα線をX線源としたときのX線回折スペクトルにおけるいずれかの結晶面に由来するピークの半値幅より求めた結晶子サイズは、0.1nm~100nmであることが好ましく、0.5nm~50nmであることがより好ましく、1nm~30nmであることが更に好ましく、5nm~25nmであることが特に好ましい。
 本発明の感光性組成物に含まれる着色剤は、青色顔料を含む。青色顔料としては、フタロシアニン顔料、トリアリールメタン顔料などが挙げられ、フタロシアニン顔料であることが好ましい。青色顔料の具体例としては、カラーインデックス(C.I.)ピグメントブルー1,2,15,15:1,15:2,15:3,15:4,15:6,16,22,29,60,64,66,79,80,87,88等が挙げられる。また、青色顔料として、リン原子を有するアルミニウムフタロシアニン顔料を用いることもできる。具体例としては、特開2012-247591号公報の段落番号0022~0030、特開2011-157478号公報の段落番号0047に記載の化合物が挙げられる。
 感光性組成物に含まれる着色剤中の青色顔料の含有量は、5質量%以上であることが好ましく、8質量%以上であることがより好ましく、10質量%以上であることが更に好ましく、20質量%以上であることがより一層好ましく、30質量%以上であることが更に一層好ましく、50質量%以上であることが特に好ましい。上限は、100質量%以下とすることもでき、80質量%以下とすることもでき、60質量%以下とすることもできる。
 着色剤は、更に紫色顔料を含むものであることが好ましい。すなわち、着色剤は、青色顔料と紫色顔料とを含むものであることが好ましい。この態様によれば、青色の分光に適した色相の膜を形成しやすい。また、従来は、青色顔料と紫色顔料とを併用した場合、光照射によって紫色顔料由来の分光特性が変動しやすい傾向にあったが、本発明の感光性組成物によれば、青色顔料と紫色顔料とを併用した場合であっても、光照射による分光特性の変動を抑制でき、耐光性に優れた膜を形成することができる。
 紫色顔料としては、キサンテン顔料、キナクリドン顔料、ジオキサジン顔料、ベンゾイミダゾロン顔料などが挙げられ、キサンテン顔料、ジオキサジン顔料であることが好ましい。紫色顔料の具体例としては、C.I.ピグメントバイオレット1,19,23,27,32,37,42,60,61等が挙げられる。
 紫色顔料の含有量は、青色顔料の100質量部に対して2~100質量部であることが好ましい。上限は、80質量部以下であることが好ましく、60質量部以下であることがより好ましい。下限は、3質量部以上であることが好ましく、5質量部以上であることがより好ましく、10質量部以上であることが更に好ましく、20質量部以上であることが特に好ましい。
 また、感光性組成物に含まれる着色剤中の青色顔料と紫色顔料の合計の含有量は、5質量%以上であることが好ましく、10質量%以上であることがより好ましく、20質量%以上であることが更に好ましく、30質量%以上であることがより一層好ましく、50質量%以上であることが更に一層好ましく、70質量%以上であることが特に好ましい。上限は、100質量%以下とすることもでき、90質量%以下とすることもでき、80質量%以下とすることもできる。
 感光性組成物に含まれる着色剤は、実質的に青色顔料と紫色顔料のみであることが好ましい。感光性組成物に含まれる着色剤が実質的に青色顔料と紫色顔料のみである場合とは、着色剤中の青色顔料と紫色顔料の合計の含有量が99質量%以上であることを意味し、99.9質量%以上であることが好ましく、顔料のみであることが更に好ましい。
 着色剤には、青色顔料及び紫色顔料以外の色相の顔料(以下、他の顔料ともいう)を更に含有することができる。他の顔料としては、黄色顔料、オレンジ色顔料、赤色顔料、緑色顔料などが挙げられる。これらの具体例としては、例えば、以下が挙げられる。
 C.I.Pigment Yellow 1,2,3,4,5,6,10,11,12,13,14,15,16,17,18,20,24,31,32,34,35,35:1,36,36:1,37,37:1,40,42,43,53,55,60,61,62,63,65,73,74,77,81,83,86,93,94,95,97,98,100,101,104,106,108,109,110,113,114,115,116,117,118,119,120,123,125,126,127,128,129,137,138,139,147,148,150,151,152,153,154,155,156,161,162,164,166,167,168,169,170,171,172,173,174,175,176,177,179,180,181,182,185,187,188,193,194,199,213,214,215,228,231,232,233,234,235,236等(以上、黄色顔料)、
 C.I.Pigment Orange 2,5,13,16,17:1,31,34,36,38,43,46,48,49,51,52,55,59,60,61,62,64,71,73等(以上、オレンジ色顔料)、
 C.I.Pigment Red 1,2,3,4,5,6,7,9,10,14,17,22,23,31,38,41,48:1,48:2,48:3,48:4,49,49:1,49:2,52:1,52:2,53:1,57:1,60:1,63:1,66,67,81:1,81:2,81:3,83,88,90,105,112,119,122,123,144,146,149,150,155,166,168,169,170,171,172,175,176,177,178,179,184,185,187,188,190,200,202,206,207,208,209,210,216,220,224,226,242,246,254,255,264,269,270,272,279,291,294,295,296,297等(以上、赤色顔料)、
 C.I.Pigment Green 7,10,36,37,58,59,62,63,64,65,66等(以上、緑色顔料)。
 また、緑色顔料として、1分子中のハロゲン原子数が平均10~14個であり、臭素原子数が平均8~12個であり、塩素原子数が平均2~5個であるハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料を用いることもできる。具体例としては、国際公開第2015/118720号に記載の化合物が挙げられる。また、緑色顔料として中国特許出願第106909027号明細書に記載の化合物、国際公開第2012/102395号に記載のリン酸エステルを配位子として有するフタロシアニン化合物、特開2019-008014号公報に記載のフタロシアニン化合物、特開2018-180023号公報に記載のフタロシアニン化合物、特開2019-038958号公報に記載の化合物、特開2020-070426号公報に記載のアルミニウムフタロシアニン化合物、特開2020-076995号公報に記載のコアシェル型色素などを用いることもできる。
 また、黄色顔料として、下記構造のアゾバルビツール酸ニッケル錯体を用いることもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 また、黄色顔料として、特開2017-201003号公報に記載の化合物、特開2017-197719号公報に記載の化合物、特開2017-171912号公報の段落番号0011~0062、0137~0276に記載の化合物、特開2017-171913号公報の段落番号0010~0062、0138~0295に記載の化合物、特開2017-171914号公報の段落番号0011~0062、0139~0190に記載の化合物、特開2017-171915号公報の段落番号0010~0065、0142~0222に記載の化合物、特開2013-054339号公報の段落番号0011~0034に記載のキノフタロン化合物、特開2014-026228号公報の段落番号0013~0058に記載のキノフタロン化合物、特開2018-062644号公報に記載のイソインドリン化合物、特開2018-203798号公報に記載のキノフタロン化合物、特開2018-062578号公報に記載のキノフタロン化合物、特許第6432076号公報に記載のキノフタロン化合物、特開2018-155881号公報に記載のキノフタロン化合物、特開2018-111757号公報に記載のキノフタロン化合物、特開2018-040835号公報に記載のキノフタロン化合物、特開2017-197640号公報に記載のキノフタロン化合物、特開2016-145282号公報に記載のキノフタロン化合物、特開2014-085565号公報に記載のキノフタロン化合物、特開2014-021139号公報に記載のキノフタロン化合物、特開2013-209614号公報に記載のキノフタロン化合物、特開2013-209435号公報に記載のキノフタロン化合物、特開2013-181015号公報に記載のキノフタロン化合物、特開2013-061622号公報に記載のキノフタロン化合物、特開2013-032486号公報に記載のキノフタロン化合物、特開2012-226110号公報に記載のキノフタロン化合物、特開2008-074987号公報に記載のキノフタロン化合物、特開2008-081565号公報に記載のキノフタロン化合物、特開2008-074986号公報に記載のキノフタロン化合物、特開2008-074985号公報に記載のキノフタロン化合物、特開2008-050420号公報に記載のキノフタロン化合物、特開2008-031281号公報に記載のキノフタロン化合物、特公昭48-032765号公報に記載のキノフタロン化合物、特開2019-008014号公報に記載のキノフタロン化合物、特許第6607427号公報に記載のキノフタロン化合物、韓国公開特許第10-2014-0034963号公報に記載の化合物、特開2017-095706号公報に記載の化合物、台湾特許出願公開第201920495号公報に記載の化合物、特許第6607427号公報に記載の化合物、特開2020-033525号公報に記載の化合物、特開2020-033524号公報に記載の化合物、特開2020-033523号公報に記載の化合物、特開2020-033522号公報に記載の化合物、特開2020-033521号公報に記載の化合物、国際公開第2020/045200号に記載の化合物、国際公開第2020/045199号に記載の化合物、国際公開第2020/045197号に記載の化合物、特開2020-093994号公報に記載のアゾ化合物、特開2020-083982号公報に記載のペリレン化合物、国際公開第2020/105346号に記載のペリレン化合物、特表2020-517791号公報に記載のキノフタロン化合物を用いることもできる。
 赤色顔料として、特開2017-201384号公報に記載の構造中に少なくとも1つの臭素原子が置換したジケトピロロピロール化合物、特許第6248838号の段落番号0016~0022に記載のジケトピロロピロール化合物、国際公開第2012/102399号に記載のジケトピロロピロール化合物、国際公開第2012/117965号に記載のジケトピロロピロール化合物、特開2020-085947号公報に記載の臭素化ジケトピロロピロール化合物、特開2012-229344号公報に記載のナフトールアゾ化合物、特許第6516119号公報に記載の赤色顔料、特許第6525101号公報に記載の赤色顔料、特開2020-090632号公報の段落番号0229に記載の臭素化ジケトピロロピロール化合物、韓国公開特許第10-2019-0140741号公報に記載のアントラキノン化合物、韓国公開特許第10-2019-0140744号公報に記載のアントラキノン化合物、特開2020-079396号公報に記載のペリレン化合物、特開2020-066702号公報の段落番号0025~0041に記載のジケトピロロピロール化合物などを用いることもできる。また、赤色顔料として、芳香族環に対して、酸素原子、硫黄原子または窒素原子が結合した基が導入された芳香族環基がジケトピロロピロール骨格に結合した構造を有する化合物を用いることもできる。
 感光性組成物に含まれる着色剤中の他の顔料の含有量は、20質量%以下であることが好ましく、10質量%以下であることがより好ましく、5質量%以下であることが更に好ましく、1質量%以下であることが特に好ましい。
 着色剤には、染料を用いることもできる。染料として、ピラゾールアゾ染料、アニリノアゾ染料、トリアリールメタン染料、アントラキノン染料、アントラピリドン染料、ベンジリデン染料、オキソノール染料、ピラゾロトリアゾールアゾ染料、ピリドンアゾ染料、シアニン染料、フェノチアジン染料、ピロロピラゾールアゾメチン染料、キサンテン染料、フタロシアニン染料、ベンゾピラン染料、インジゴ染料、ピロメテン染料等が挙げられる。本発明で用いられる染料は、青色の分光に適した色相の膜を形成しやすいという理由から、青色染料または紫色染料であることが好ましい。また、染料はキサンテン染料またはトリアリールメタン染料であることが好ましい。
 着色剤には、特表2020-504758号公報に記載のジアリールメタン化合物、韓国公開特許第10-2020-0028160号公報に記載されたトリアリールメタン染料ポリマー、特開2020-117638号公報に記載のキサンテン化合物、国際公開第2020/174991号に記載のフタロシアニン化合物、特開2020-160279号公報に記載のイソインドリン化合物又はそれらの塩、韓国公開特許第10-2020-0069442号公報に記載の式1で表される化合物、韓国公開特許第10-2020-0069730号公報に記載の式1で表される化合物、韓国公開特許第10-2020-0069070号公報に記載の式1で表される化合物、韓国公開特許第10-2020-0069067号公報に記載の式1で表される化合物、韓国公開特許第10-2020-0069062号公報に記載の式1で表される化合物、特許第6809649号に記載のハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料、特開2020-180176号公報に記載のイソインドリン化合物を用いることができる。有彩色着色剤は、ロタキサンであってもよく、色素骨格はロタキサンの環状構造に使用されていてもよく、棒状構造に使用されていてもよく、両方の構造に使用されていてもよい。
 感光性組成物の全固形分中における着色剤Aと顔料誘導体Bとの合計の含有量は40質量%以上であり、42質量%以上であることが好ましく、45質量%以上であることがより好ましく、47質量%以上であることが更に好ましい。上限は85質量%以下であることが好ましく、80質量%以下であることがより好ましく、70質量%以下であることが更に好ましい。
 また、感光性組成物の全固形分中における顔料の含有量は、20質量%以上であることが好ましく、25質量%以上であることがより好ましく、30質量%以上であることが更に好ましい。上限は80質量%以下であることが好ましく、70質量%以下であることがより好ましく、60質量%以下であることが更に好ましい。
 また、感光性組成物の全固形分中における青色顔料の含有量は、5質量%以上であることが好ましく、8質量%以上であることがより好ましく、10質量%以上であることが更に好ましい。上限は80質量%以下であることが好ましく、70質量%以下であることがより好ましく、60質量%以下であることが更に好ましい。
 また、感光性組成物の全固形分中における青色顔料と紫色顔料の含有量は、10質量%以上であることが好ましく、15質量%以上であることがより好ましく、20質量%以上であることが更に好ましく、25質量%以上であることがより一層好ましく、30質量%以上であることが特に好ましい。上限は80質量%以下であることが好ましく、70質量%以下であることがより好ましく、60質量%以下であることが更に好ましい。
<<顔料誘導体B>>
 本発明の感光性組成物は顔料誘導体B(以下、顔料誘導体ともいう)を含む。本発明の感光性組成物に用いられる顔料誘導体は、透明な顔料誘導体B1と、有彩色の顔料誘導体B2とを含む。
(顔料誘導体B1)
 顔料誘導体B1は、400~700nmの波長領域におけるモル吸光係数の最大値が3000L・mol-1・cm-1以下であることが好ましく、1000L・mol-1・cm-1以下であることがより好ましく、100L・mol-1・cm-1以下であることが更に好ましい。上記モル吸光係数の最大値の下限は、例えば1L・mol-1・cm-1以上であり、10L・mol-1・cm-1以上でもよい。
 顔料誘導体B1は、以下の(a)~(d)のいずれかの分光特性を満たしていることも好ましい。
 (a) 波長700nmを超え750nm以下の範囲のモル吸光係数の最大値が、3000L・mol-1・cm-1以下であることが好ましく、1000L・mol-1・cm-1以下であることがより好ましく、100L・mol-1・cm-1以下であることが更に好ましい。
 (b) 波長750nmを超え800nm以下の範囲のモル吸光係数の最大値が、3000L・mol-1・cm-1以下であることが好ましく、1000L・mol-1・cm-1以下であることがより好ましく、100L・mol-1・cm-1以下であることが更に好ましい。
 (c) 波長800nmを超え850nm以下の範囲のモル吸光係数の最大値が、3000L・mol-1・cm-1以下であることが好ましく、1000L・mol-1・cm-1以下であることがより好ましく、100L・mol-1・cm-1以下であることが更に好ましい。
 (d) 波長850nmを超え900nm以下の範囲のモル吸光係数の最大値が、3000L・mol-1・cm-1以下であることが好ましく、1000L・mol-1・cm-1以下であることがより好ましく、100L・mol-1・cm-1以下であることが更に好ましい。
 顔料誘導体B1は、芳香族環を含むことが好ましい。芳香族環としては、芳香族炭化水素環であってもよく、芳香族複素環であってもよい。また、芳香族環は、単環であってもよく縮合環であってもよい。具体的には、芳香族環は、ベンゼン環、ナフタレン環、フルオレン環、ペリレン環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾリン環、ピリジン環、トリアゾール環、イミダゾリン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、キノリン環、イソキノリン環、キノキサリン環、キナゾリン環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾピラゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾトリアゾール環、インドール環、イソインドール環、トリアジン環、ピロール環、カルバゾール環、ベンゾイミダゾリノン環、フタルイミド環、フタロシアニン環、アントラキノン環、ジケトピロロピロール環、イソインドリノン環、イソインドリン環およびキナクリドン環から選ばれる芳香族環、または、これらの芳香族環を含む縮合環などが好ましい。上記の縮合環は、全体として、芳香族環であってもよく非芳香族環であってもよいが、芳香族環であることが好ましい。また、顔料誘導体B1は、芳香族環または縮合環を1個のみ有してもよいが、芳香族環が多い方がπ-π相互作用により、顔料吸着性が向上して膜中での顔料の凝集を抑制しやすいという理由から、これらの環を2個以上有していることが好ましい。上記芳香族環または縮合環は、さらに置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Tが挙げられる。
 顔料誘導体B1は、含窒素芳香族複素環を有する化合物であることがより好ましく、トリアジン環を有する化合物であることが更に好ましい。顔料誘導体B1は、式(A1)で表される基を有する化合物であることが特に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 式(A1)中、*は結合手を表し、
 YaおよびYaは、それぞれ独立して-N(Ra)-または-O-を表し、
 Raは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、
 BおよびBは、それぞれ独立して水素原子または置換基を表す。
 式(A1)のYaおよびYaは、それぞれ独立して-N(Ra)-または-O-を表し、本発明の効果がより顕著に得られやすいという理由から-N(Ra)-であることが好ましい。
 Raは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、水素原子またはアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
 Raが表すアルキル基の炭素数は、1~20が好ましく、1~15がより好ましく、1~8が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。Raが表すアルキル基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Tが挙げられる。
 Raが表すアルケニル基の炭素数は、2~20が好ましく、2~12がより好ましく、2~8が特に好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。Raが表すアルケニル基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Tが挙げられる。
 Raが表すアルキニル基の炭素数は、2~40が好ましく、2~30がより好ましく、2~25が特に好ましい。アルキニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。Raが表すアルキニル基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Tが挙げられる。
 Raが表すアリール基の炭素数は、6~30が好ましく、6~20がより好ましく、6~12が更に好ましい。Raが表すアリール基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Tが挙げられる。
 式(A1)のBおよびBは、それぞれ独立して水素原子または置換基を表す。置換基としては後述する置換基Tが挙げられ、アルキル基、アリール基および複素環基が好ましく、アリール基および複素環基がより好ましく、アリール基が更に好ましい。また、色ムラをより抑制しやすいという理由から、BおよびBの少なくとも一方は、複素環基であることも好ましい。複素環基としては、含窒素複素環基であることが好ましく、ベンズイミダゾロン基であることがより好ましい。
 BおよびBが表すアルキル基、アリール基および複素環基は更に置換基を有していてもよい。更なる置換基としては、アルキル基(好ましくは炭素数1~30のアルキル基)、フルオロアルキル基(好ましくは炭素数1~30のフルオロアルキル基)、アルケニル基(好ましくは炭素数2~30のアルケニル基)、アルキニル基(好ましくは炭素数2~30のアルキニル基)、アリール基(好ましくは炭素数6~30のアリール基)、アミノ基(好ましくは炭素数0~30のアミノ基)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1~30のアルコキシ基)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6~30のアリールオキシ基)、ヘテロアリールオキシ基、アシル基(好ましくは炭素数1~30のアシル基)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2~30のアルコキシカルボニル基)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7~30のアリールオキシカルボニル基)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2~30のアシルオキシ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2~30のアシルアミノ基)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2~30のアルコキシカルボニルアミノ基)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7~30のアリールオキシカルボニルアミノ基)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0~30のスルファモイル基)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1~30のカルバモイル基)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1~30のアルキルチオ基)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6~30のアリールチオ基)、ヘテロアリールチオ基(好ましくは炭素数1~30のヘテロアリールチオ基)、アルキルスルホニル基(好ましくは炭素数1~30のアルキルスルホニル基)、アリールスルホニル基(好ましくは炭素数6~30のアリールスルホニル基)、ヘテロアリールスルホニル基(好ましくは炭素数1~30のヘテロアリールスルホニル基)、アルキルスルフィニル基(好ましくは炭素数1~30のアルキルスルフィニル基)、アリールスルフィニル基(好ましくは炭素数6~30のアリールスルフィニル基)、ヘテロアリールスルフィニル基(好ましくは炭素数1~30のヘテロアリールスルフィニル基)、ウレイド基(好ましくは炭素数1~30のウレイド基)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1~30のリン酸アミド基)、水酸基、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、アルキルスルフィノ基、アリールスルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、などが挙げられ、アルキル基、フルオロアルキル基、アルコキシ基、アミノ基、ハロゲン原子、アルケニル基、水酸基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、ニトロ基が好ましい。
 上記更なる置換基は、酸基または塩基性基であってもよい。酸基は、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基およびそれらの塩から選ばれる少なくとも1種であることが好ましく、カルボキシル基、スルホ基およびそれらの塩から選ばれる少なくとも1種であることがより好ましい。塩を構成する原子または原子団としては、アルカリ金属イオン(Li、Na、Kなど)、アルカリ土類金属イオン(Ca2+、Mg2+など)、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。塩基性基は、アミノ基、ピリジル基およびそれらの塩、アンモニウム基の塩、並びにフタルイミドメチル基から選ばれる少なくとも1種であることが好ましく、アミノ基、アミノ基の塩、およびアンモニウム基の塩から選ばれる少なくとも1種であることがより好ましく、アミノ基またはアミノ基の塩であることがより好ましい。アミノ基としては、-NH、ジアルキルアミノ基、アルキルアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、環状アミノ基などが挙げられる。ジアルキルアミノ基、アルキルアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、環状アミノ基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Tが挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、水酸化物イオン、ハロゲンイオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオンなどが挙げられる。
 BおよびBが表すアルキル基、アリール基および複素環基は、上述したさらなる置換基を有さないことも好ましい。
(置換基T)
 置換基Tとしては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、-ORt、-CORt、-COORt、-OCORt、-NRtRt、-NHCORt、-CONRtRt、-NHCONRtRt、-NHCOORt、-SRt、-SORt、-SOORt、-NHSORtまたは-SONRtRtが挙げられる。RtおよびRtは、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。RtとRtが結合して環を形成してもよい。
 ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
 アルキル基の炭素数は、1~30が好ましく、1~15がより好ましく、1~8が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。
 アルケニル基の炭素数は、2~30が好ましく、2~12がより好ましく、2~8が特に好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。
 アルキニル基の炭素数は、2~30が好ましく、2~25がより好ましい。アルキニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。
 アリール基の炭素数は、6~30が好ましく、6~20がより好ましく、6~12が更に好ましい。
 複素環基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。複素環基は、単環または縮合数が2~4の縮合環が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は1~3が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成する炭素原子の数は3~30が好ましく、3~18がより好ましく、3~12がより好ましい。
 アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基および複素環基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述した置換基Tとして挙げた置換基が挙げられる。
 顔料誘導体B1が有する芳香族環の具体例としては下記構造の基および後述するZの具体例として示した構造の基などが挙げられる。以下の構造式中、Meはメチル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 顔料誘導体B1は、酸基および塩基性基から選ばれる少なくとも1種の基を含むことが好ましい。酸基は、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基およびそれらの塩から選ばれる少なくとも1種であることが好ましく、カルボキシル基、スルホ基およびそれらの塩から選ばれる少なくとも1種であることがより好ましい。塩を構成する原子または原子団としては、アルカリ金属イオン(Li、Na、Kなど)、アルカリ土類金属イオン(Ca2+、Mg2+など)、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。塩基性基は、アミノ基、ピリジル基およびそれらの塩、アンモニウム基の塩、並びにフタルイミドメチル基から選ばれる少なくとも1種であることが好ましく、アミノ基、アミノ基の塩、およびアンモニウム基の塩から選ばれる少なくとも1種であることがより好ましく、アミノ基またはアミノ基の塩であることがより好ましい。アミノ基としては、-NH、ジアルキルアミノ基、アルキルアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、環状アミノ基などが挙げられる。ジアルキルアミノ基、アルキルアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、環状アミノ基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Tが挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、水酸化物イオン、ハロゲンイオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオンなどが挙げられる。
 顔料誘導体B1は、下記式(b1)で表される化合物であることが好ましい。
 A-L-Z   ・・・(b1)
 式(b1)中、Aは、芳香族環を含む基を表し、
 Lは、単結合または2価の連結基を表し、
 Zは、酸基または塩基性基を有する基を表す。
 式(b1)のAは芳香族環を含む基を表す。Aに含まれる芳香族環は、芳香族炭化水素環であってもよく、芳香族複素環であってもよい。また、芳香族環は、単環であってもよく縮合環であってもよい。
 Aが表す基としては、ベンゼン環、ナフタレン環、フルオレン環、ペリレン環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾリン環、ピリジン環、トリアゾール環、イミダゾリン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、キノリン環、イソキノリン環、キノキサリン環、キナゾリン環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾピラゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾトリアゾール環、インドール環、イソインドール環、トリアジン環、ピロール環、カルバゾール環、ベンゾイミダゾリノン環、フタルイミド環、フタロシアニン環、アントラキノン環、ジケトピロロピロール環、イソインドリノン環、イソインドリン環およびキナクリドン環から選ばれる芳香族環を含む基;これらの芳香族環を含む縮合環を含む基などが挙げられる。上記の縮合環は芳香族環であってもよく、非芳香族環であってもよいが、芳香族環であることが好ましい。
 Aが表す基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Tが挙げられる。
 Aが表す基は、ベンゾイミダゾリノン環を含む基または上記式(A1)で表される基であることが好ましく、上記式(A1)で表される基であることがより好ましい。Zが後述する式(Z1)で表される基である場合は、Aが表す基式(A1)で表される基であることが特に好ましい。
 式(b1)のLは単結合または2価の連結基を表し、2価の連結基であることが好ましい。Lが表す2価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、複素環基、-O-、-N(RL1)-、-NHCO-、-CONH-、-OCO-、-COO-、-CO-、-SONH-、-SO-およびそれらの組み合わせが挙げられる。アルキレン基の炭素数は、1~30が好ましく、1~15がより好ましく、1~8が更に好ましく、1~5が特に好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖が特に好ましい。アリーレン基の炭素数は6~30が好ましく、6~15がより好ましい。アリーレン基はフェニレン基であることが好ましい。RL1は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、水素原子またはアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。RL1が表すアルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびアリール基の好ましい範囲については、Raのアルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびアリール基の好ましい範囲として説明した範囲と同様である。
 Lが表す2価の連結基は、下記式(L1)で表される基であることが好ましい。
 -L1A-L1B-L1C-   ・・・(L1)
 式中、L1AおよびL1Cはそれぞれ独立して、-O-、-N(RL1)-、-NHCO-、-CONH-、-OCO-、-COO-、-CO-、-SONH-、または、-SO-を表し、L1Bは、単結合または2価の連結基を表す。
 L1Bが表す2価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、アルキレン基とアリーレン基を単結合または-O-、-N(RL1)-、-NHCO-、-CONH-、-OCO-、-COO-、-CO-、-SONH-、-SO-およびそれらの組み合わせからなる基を介して結合した基、アルキレン基同士またはアリーレン基同士を-O-、-N(RL1)-、-NHCO-、-CONH-、-OCO-、-COO-、-CO-、-SONH-、-SO-およびそれらの組み合わせからなる基を介して結合した基などが挙げられる。
 Lの具体例としては下記構造の基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 式(b1)のZは、酸基または塩基性基を有する基を表す。酸基及び塩基性基の種類としては上述した基が挙げられる。
 式(b1)のZは、式(Z1)で表される基または式(Z10)で表される基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 式(Z1)中、*は結合手を表し、
 Yzは-N(Ry)-または-O-を表し、
 Ryは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、
 Lzは、2価の連結基を表し、
 RzおよびRzは、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、
 RzとRzは2価の基を介して結合して環を形成していてもよく、
 mは1~5の整数を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 式(Z10)中、*は結合手を表し、LcおよびLcはそれぞれ独立して単結合または連結基を表し、RcおよびRcはそれぞれ独立して置換基を表し、RcおよびRcの少なくとも一方は酸基または塩基性基を表す。
 まず、式(Z1)について説明する。
 式(Z1)において、Yzは-N(Ry)-または-O-を表し、-N(Ry)-であることが好ましい。Ryは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、水素原子またはアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。Ryが表すアルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびアリール基の好ましい範囲については、Raのアルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびアリール基の好ましい範囲として説明した範囲と同様である。
 式(Z1)において、Lzが表す2価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、複素環基、-O-、-N(RL1)-、-NHCO-、-CONH-、-OCO-、-COO-、-CO-、-SONH-、-SO-およびそれらの組み合わせが挙げられ、アルキレン基が好ましい。アルキレン基の炭素数は、1~30が好ましく、1~15がより好ましく、1~8が更に好ましく、1~5が特に好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖が特に好ましい。
 式(Z1)において、RzおよびRzは、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、アルキル基またはアリール基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましい。アルキル基の炭素数は、1~10が好ましく、1~5がより好ましく、1~3が更に好ましく、1または2が特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アルケニル基の炭素数は、2~10が好ましく、2~8がより好ましく、2~5が特に好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アルキニル基の炭素数は、2~10が好ましく、2~8がより好ましく、2~5が特に好ましい。アルキニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アリール基の炭素数は、6~30が好ましく、6~20がより好ましく、6~12が更に好ましい。
 式(Z1)において、RzとRzは2価の基を介して結合して環を形成していてもよい。2価の基としては、-CH-、-O-、-SO-が挙げられる。RzとRzとが2価の基を介して形成される環の具体例としては以下が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 式(Z1)において、mは1~5の整数を表し、1~4が好ましく、1~3がより好ましく、2または3が更に好ましく、2が特に好ましい。
 式(Z1)で表される基は、下記式(Z2)で表される基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 式(Z2)中、*は結合手を表し、
 YzおよびYzは、それぞれ独立して-N(Ry)-または-O-を表し、
 Ryは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、
 LzおよびLzは、それぞれ独立して2価の連結基を表し、
 Rz~Rzは、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、
 RzとRz、および、RzとRzは、それぞれ2価の基を介して結合して環を形成していてもよい。
 式(Z2)のYzおよびYzは、式(Z1)のYzと同義であり、好ましい範囲も同様である。Ryは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、水素原子またはアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。Ryが表すアルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびアリール基の好ましい範囲については、Raのアルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびアリール基の好ましい範囲として説明した範囲と同様である。
 式(Z2)のLzおよびLzは、式(Z1)のLzと同義であり、好ましい範囲も同様である。式(Z2)のRz~Rzは、式(Z1)のRzおよびRzと同義であり、好ましい範囲も同様である。
 次に、式(Z10)について説明する。
 式(Z10)において、LcおよびLcはそれぞれ独立して単結合または連結基を表し、2価の連結基であることが好ましい。2価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、-O-、-N(RL1)-、-NHCO-、-CONH-、-OCO-、-COO-、-CO-、-SONH-、-SO-およびそれらの組み合わせが挙げられる。アルキレン基の炭素数は、1~30が好ましく、1~15がより好ましく、1~8が更に好ましく、1~5が特に好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖が特に好ましい。アリーレン基の炭素数は6~30が好ましく、6~15がより好ましい。アリーレン基はフェニレン基であることが好ましい。RL1は、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、水素原子またはアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。RL1が表すアルキル基の炭素数は、1~20が好ましく、1~15がより好ましく、1~8が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。RL1が表すアルキル基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Tが挙げられる。RL1が表すアリール基の炭素数は、6~30が好ましく、6~20がより好ましく、6~12が更に好ましい。RL1が表すアリール基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Tが挙げられる。
 式(Z10)において、RcおよびRcはそれぞれ独立して置換基を表す。置換基としてはアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシル基、酸基および塩基性基が挙げられる。ただし、RcおよびRcの少なくとも一方は酸基または塩基性基を表す。RcおよびRcの少なくとも一方は塩基性基であることが好ましく、RcおよびRcの両方が塩基性基であることがより好ましい。酸基および塩基性基としては、上述したものが挙げられる。アルキル基の炭素数は、1~30が好ましく、1~15がより好ましく、1~8が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アリール基の炭素数は、6~30が好ましく、6~20がより好ましく、6~12が更に好ましい。複素環基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。複素環基は、単環または縮合数が2~4の縮合環が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は1~3が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成する炭素原子の数は3~30が好ましく、3~18がより好ましく、3~12がより好ましい。アルキル基、アリール基、複素環基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Tが挙げられる。
 上記式(Z10)で表される基は、下記式(Z11)で表される基であることが好ましく、下記式(Z12)で表される基であることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 式(Z11)中、*は連結手を表し、Lc11およびLc12はそれぞれ独立して単結合または連結基を表し、Rc11およびRc12はそれぞれ独立して水素原子または置換基を表し、Rc13およびRc14はそれぞれ独立して置換基を表し、Rc13およびRc14の少なくとも一方は酸基または塩基性基を表す。
 式(Z11)のRc13およびRc14は、式(Z10)のRcおよびRcと同義であり、好ましい範囲も同様である。
 式(Z11)において、Rc11およびRc12はそれぞれ独立して水素原子または置換基を表す。Rc11およびRc12が表す置換基としては、アルキル基およびアリール基が挙げられる。アルキル基の炭素数は、1~20が好ましく、1~15がより好ましく、1~8が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アリール基の炭素数は、6~30が好ましく、6~20がより好ましく、6~12が更に好ましい。アルキル基およびアリール基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Tが挙げられる。Rc11およびRc12は水素原子であることが好ましい。
 式(Z11)において、Lc11およびLc12はそれぞれ独立して単結合または連結基を表し、2価の連結基であることが好ましい。2価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、-O-、-N(RL11)-、-NHCO-、-CONH-、-OCO-、-COO-、-CO-、-SONH-、-SO-およびそれらの組み合わせが挙げられ、アルキレン基およびアリーレン基から選ばれる少なくとも一種を含む基であることが好ましく、アルキレン基を含む基であることがより好ましく、アルキレン基であることが更に好ましい。アルキレン基の炭素数は、1~30が好ましく、1~15がより好ましく、1~8が更に好ましく、1~5が特に好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖が特に好ましい。アリーレン基の炭素数は6~30が好ましく、6~15がより好ましい。アリーレン基はフェニレン基であることが好ましい。RL1は、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、水素原子またはアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。RL11が表すアルキル基およびアリール基については、上述したRL1が表すアルキル基およびアリール基と同義である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 式(Z12)中、*は連結手を表し、Lc21およびLc22はそれぞれ独立して単結合または連結基を表し、Rc21およびRc22はそれぞれ独立して水素原子または置換基を表し、Rc23~Rc26はそれぞれ独立して水素原子または置換基を表し、Rc23とRc24は2価の基を介して結合して環を形成していてもよく、Rc25とRc26は2価の基を介して結合して環を形成していてもよい。
 式(Z12)のRc21およびRc22は、式(Z11)のRc11およびRc12と同義であり、好ましい範囲も同様である。式(Z12)のLc21およびLc22は、式(Z11)のLc11およびLc12と同義であり、好ましい範囲も同様である。
 式(Z12)において、Rc23~Rc26はそれぞれ独立して水素原子または置換基を表し、置換基であることが好ましい。置換基としては、アルキル基およびアリール基が挙げられ、アルキル基であることが好ましい。アルキル基の炭素数は、1~10が好ましく、1~5がより好ましく、1~3が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アリール基の炭素数は、6~30が好ましく、6~20がより好ましく、6~12が更に好ましい。アルキル基およびアリール基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Tが挙げられる。
 式(Z12)において、Rc23とRc24は2価の基を介して結合して環を形成していてもよく、Rc25とRc26は2価の基を介して結合して環を形成していてもよい。2価の基としては、-CH-、-O-、-SO-が挙げられる。上記の基同士が2価の基を介して形成される環の具体例としては以下が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 Zの具体例としては下記構造の基が挙げられる。以下の構造式中、Phはフェニル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 顔料誘導体B1は、下記式(b2)で表される化合物であることが好ましい。このような化合物を用いることにより、本発明の効果がより顕著に得られる。
 A-X-L-X-Z   ・・・(b2)
 式(b2)中、Aは芳香族環を含む基を表し、
 XおよびXは、それぞれ独立して単結合、-O-、-N(R)-、-NHCO-、-CONH-、-OCO-、-COO-、-CO-、-SONH-、または、-SO-を表し、
 Rは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、
 Lは、単結合または2価の連結基を表し、
 Zは、上述した式(Z1)で表される基を表す。
 式(b2)のAおよびZは式(b1)のAおよびZと同義であり、好ましい範囲も同様である。
 式(b2)のXおよびXは、それぞれ独立して単結合、-O-、-N(R)-、-NHCO-、-CONH-、-OCO-、-COO-、-CO-、-SONH-、または、-SO-を表し、-O-、-N(R)-、-NHCO-、-CONH-、-OCO-、-COO-、-CO-、-SONH-、または、-SO-であることが好ましい。Rは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、水素原子またはアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。Rが表すアルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびアリール基の好ましい範囲については、Raのアルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびアリール基の好ましい範囲として説明した範囲と同様である。
 式(b2)のLは、単結合または2価の連結基を表す。Lが表す2価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、アルキレン基とアリーレン基を単結合または-O-、-N(R)-、-NHCO-、-CONH-、-OCO-、-COO-、-CO-、-SONH-、-SO-およびそれらの組み合わせからなる基を介して結合した基、アルキレン基同士またはアリーレン基同士を-O-、-N(R)-、-NHCO-、-CONH-、-OCO-、-COO-、-CO-、-SONH-、-SO-およびそれらの組み合わせからなる基を介して結合した基などが挙げられる。Rは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、水素原子またはアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。Rが表すアルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびアリール基の好ましい範囲については、Raのアルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびアリール基の好ましい範囲として説明した範囲と同様である。
 顔料誘導体B1の具体例としては以下に示す化合物及び後述する実施例に記載の化合物が挙げられる。以下の表中、Aの構造、Lの構造、Zの構造の欄に記載の記号は、それぞれAの具体例(つまり、上記式(A1)で表される基の具体例)、Lの具体例、Zの具体例で挙げた構造である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000019
(顔料誘導体B2)
 次に、顔料誘導体B2について説明する。顔料誘導体B2は、有彩色の顔料誘導体である。顔料誘導体B2としては、発色団の一部分を酸基または塩基性基で置換した構造を有する化合物が挙げられる。
 酸基は、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基およびそれらの塩から選ばれる少なくとも1種であることが好ましく、カルボキシル基、スルホ基およびそれらの塩から選ばれる少なくとも1種であることがより好ましい。塩を構成する原子または原子団としては、アルカリ金属イオン(Li、Na、Kなど)、アルカリ土類金属イオン(Ca2+、Mg2+など)、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。塩基性基は、アミノ基、ピリジル基およびそれらの塩、アンモニウム基の塩、並びにフタルイミドメチル基から選ばれる少なくとも1種であることが好ましく、アミノ基、アミノ基の塩、およびアンモニウム基の塩から選ばれる少なくとも1種であることがより好ましく、アミノ基またはアミノ基の塩であることがより好ましい。アミノ基としては、-NH、ジアルキルアミノ基、アルキルアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、環状アミノ基などが挙げられる。ジアルキルアミノ基、アルキルアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、環状アミノ基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Tが挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、水酸化物イオン、ハロゲンイオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオンなどが挙げられる。
 顔料誘導体B2を構成する発色団としては、キノリン骨格、ベンゾイミダゾロン骨格、ジケトピロロピロール骨格、アゾ骨格、フタロシアニン骨格、アンスラキノン骨格、キナクリドン骨格、ジオキサジン骨格、ペリノン骨格、ペリレン骨格、チオインジゴ骨格、イソインドリン骨格、イソインドリノン骨格、キノフタロン骨格、スレン骨格、金属錯体骨格等が挙げられ、より耐光性に優れた膜を形成しやすいという理由からフタロシアニン骨格、ベンゾイミダゾロン骨格、ジオキサジン骨格であることが好ましく、フタロシアニン骨格であることが好ましい。すなわち、顔料誘導体B2は、フタロシアニン化合物、ベンゾイミダゾロン化合物またはジオキサジン化合物であることが好ましく、フタロシアニン化合物であることがより好ましい。
 顔料誘導体B2の極大吸収波長は、波長400~700nmの範囲に存在することが好ましい。顔料誘導体B2が呈している色相としては、青色、紫色、赤色、黄色、緑色などが挙げられ、より耐光性に優れた膜を形成しやすいという理由から青色または紫色であることが好ましい。
 顔料誘導体B2の400~700nmの波長領域におけるモル吸光係数の最大値が10000L・mol-1・cm-1以上であることが好ましく、15000L・mol-1・cm-1以上であることがより好ましく、20000L・mol-1・cm-1以上であることが更に好ましい。上限は、200000L・mol-1・cm-1以下であることが好ましい。
 顔料誘導体B2の400~700nmの波長領域におけるモル吸光係数の最大値と、顔料誘導体B1の400~700nmの波長領域におけるモル吸光係数の最大値との差は、10000L・mol-1・cm-1以上であることが好ましく、20000L・mol-1・cm-1以上であることがより好ましく、30000L・mol-1・cm-1以上であることが更に好ましい。上限は、200000L・mol-1・cm-1以下であることが好ましい。
 顔料誘導体B1が酸基を有する化合物である場合、顔料誘導体B2は、酸基を有する化合物であることが好ましい。
 また、顔料誘導体B1が塩基性基を有する化合物である場合、顔料誘導体B2は、塩基性基を有する化合物であることが好ましい。
 感光性組成物の全固形分中における顔料誘導体Bの含有量は0.5~40質量%であることが好ましい。下限は1質量%以上であることが好ましく、2質量%以上であることがより好ましい。上限は20質量%以下であることが好ましく、15質量%以下であることがより好ましい。
 また、顔料誘導体Bの含有量は、着色剤Aと顔料誘導体Bの合計100質量部に対して1~60質量部であることが好ましい。下限は2質量部以上であることが好ましく、3質量部以上であることがより好ましい。上限は40質量部以下であることが好ましく、30質量部以下であることがより好ましい。
 また、顔料誘導体B2の含有量は、顔料誘導体B1の合計100質量部に対して1~90質量部であることが好ましい。下限は2質量部以上であることが好ましく、5質量部以上であることがより好ましい。上限は80質量部以下であることが好ましく、70質量部以下であることがより好ましい。
<<樹脂C>>
 本発明の感光性組成物は樹脂C(以下、樹脂と記す)を含有する。樹脂は、例えば、顔料を感光性組成物中で分散させる用途や、バインダーの用途で配合される。なお、主に顔料を感光性組成物中で分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。分散剤としての樹脂は、分散液の調製時に用いることができる。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外を目的として樹脂を使用することもできる。
 樹脂の重量平均分子量(Mw)は、2000~2000000が好ましい。上限は、1000000以下が好ましく、500000以下がより好ましい。下限は、3000以上が好ましく、4000以上がより好ましく、5000以上が更に好ましい。
 樹脂としては、例えば、(メタ)アクリル樹脂、(メタ)アクリルアミド樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、シロキサン樹脂などが挙げられる。また、特開2017-206689号公報の段落番号0041~0060に記載の樹脂、特開2018-010856号公報の段落番号0022~0071に記載の樹脂、特開2017-057265号公報に記載の樹脂、特開2017-032685号公報に記載の樹脂、特開2017-075248号公報に記載の樹脂、特開2017-066240号公報に記載の樹脂、特開2020-122052号公報に記載された樹脂、特開2020-111656号公報に記載された樹脂、特開2020-139021号公報に記載された樹脂、特開2020-139021号公報に記載のウレア官能基を有するアルカリ可溶性樹脂、特開2017-138503号公報に記載の主鎖に環構造を有する構成単位と側鎖にビフェニル基を有する構成単位とを含む樹脂、特開2020-186373号公報の段落0199~0233に記載の樹脂、特開2020-186325号公報に記載のアルカリ可溶性樹脂、韓国公開特許第10-2020-0078339号公報に記載の式1で表される樹脂を使用することができる。また、樹脂としてガラス転移温度が390℃以上の樹脂を用いることもできる。ガラス転移温度が390℃以上の樹脂の市販品としては、三菱ガス化学(株)製のポリイミドワニスH520などが挙げられる。
 樹脂として、酸基を有する樹脂を用いることが好ましい。酸基としては、例えば、カルボキシ基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられる。これら酸基は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。酸基を有する樹脂は、例えば、アルカリ可溶性樹脂として用いることができる。酸基を有する樹脂の酸価は、30~500mgKOH/gが好ましい。下限は、50mgKOH/g以上が好ましく、70mgKOH/g以上がより好ましい。上限は、400mgKOH/g以下が好ましく、200mgKOH/g以下がより好ましく、150mgKOH/g以下が更に好ましく、120mgKOH/g以下が最も好ましい。
 樹脂としては、式(ED1)で示される化合物および/または式(ED2)で表される化合物(以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。)由来の繰り返し単位を含む樹脂を含むことも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 式(ED1)中、RおよびRは、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数1~25の炭化水素基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 式(ED2)中、Rは、水素原子または炭素数1~30の有機基を表す。式(ED2)の具体例としては、特開2010-168539号公報の記載を参酌できる。
 エーテルダイマーの具体例については、特開2013-029760号公報の段落番号0317を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
 樹脂として、塩基性基を有する樹脂を用いることもできる。塩基性基を有する樹脂としては、塩基性基を側鎖に有する繰り返し単位と、塩基性基を含まない繰り返し単位とを有する共重合体などが挙げられる。塩基性基を有する樹脂は分散剤として用いることもできる。塩基性基を有する樹脂のアミン価は、5~300mgKOH/gが好ましい。下限は、10mgKOH/g以上が好ましく、20mgKOH/g以上がより好ましい。上限は、200mgKOH/g以下が好ましく、100mgKOH/g以下がより好ましい。塩基性基を有する樹脂の市販品としては、DISPERBYK-161、162、163、164、166、167、168、174、182、183、184、185、2000、2001、2050、2150、2163、2164、BYK-LPN6919(以上、ビックケミー社製)、ソルスパース11200、13240、13650、13940、24000、26000、28000、32000、32500、32550、32600、33000、34750、35100、35200、37500、38500、39000、53095、56000、7100(以上、日本ルーブリゾール社製)、Efka PX 4300、4330、4046、4060、4080(以上、BASF社製)等が挙げられる。また、塩基性基を有する樹脂は、特開2014-219665号公報の段落番号0063~0112に記載されたブロック共重合体(B)、特開2018-156021号公報の段落番号0046~0076に記載されたブロック共重合体A1、特開2019-184763号公報の段落番号0150~0153に記載された塩基性基を有するビニル樹脂を用いることもでき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
 樹脂としては、エチレン性不飽和結合含有基を有する樹脂を用いることも好ましい。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、(メタ)アリル基、(メタ)アクリロイル基等が挙げられる。樹脂のエチレン性不飽和結合含有基価(以下、C=C価ともいう)は、現像性および硬化性の観点から0.01~2.0mmol/gであることが好ましく、0.1~1.5mmol/gであることがより好ましく、0.1~1.0mmol/gであることが更に好ましい。樹脂のC=C価とは、樹脂の固形分1gあたりのエチン性不飽和結合含有基基のモル量を表した数値である。樹脂のC=C価は、樹脂の合成に用いた原料から算出できるものについては仕込みの原料から算出した値を用いる。また、樹脂のC=C価について、樹脂の合成に用いた原料から算出ができないものについては、加水分解法を用いて測定した値を用いる。具体的には、アルカリ処理によって樹脂からエチレン性不飽和結合含有基部位の低分子成分(a)を取り出し、その含有量を高速液体クロマトグラフィー(HPLC)により測定し、下記式から算出する。また、樹脂から、上記低分子成分(a)をアルカリ処理で抽出することができない場合においては、NMR法(核磁気共鳴)にて測定した値を用いる。
 樹脂のC=C価[mmol/g]=(低分子成分(a)の含有量[ppm]/低分子成分(a)の分子量[g/mol])/(樹脂の秤量値[g]×(樹脂の固形分濃度[質量%]/100)×10)
 樹脂としては、式(X)で表される化合物由来の繰り返し単位を含む樹脂を用いることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 式中、Rは水素原子またはメチル基を表し、R21およびR22はそれぞれ独立してアルキレン基を表し、nは0~15の整数を表す。R21およびR22が表すアルキレン基の炭素数は1~10であることが好ましく、1~5であることがより好ましく、1~3であることが更に好ましく、2または3であることが特に好ましい。nは0~15の整数を表し、0~5の整数であることが好ましく、0~4の整数であることがより好ましく、0~3の整数であることが更に好ましい。
 式(X)で表される化合物としては、パラクミルフェノールのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイド変性(メタ)アクリレートなどが挙げられる。市販品としては、アロニックスM-110(東亞合成(株)製)などが挙げられる。
 樹脂としては、芳香族カルボキシ基を有する樹脂(以下、樹脂Acともいう)を用いることも好ましい。樹脂Acにおいて、芳香族カルボキシ基は繰り返し単位の主鎖に含まれていてもよく、繰り返し単位の側鎖に含まれていてもよい。芳香族カルボキシ基は繰り返し単位の主鎖に含まれていることが好ましい。なお、本明細書において、芳香族カルボキシ基とは、芳香族環にカルボキシ基が1個以上結合した構造の基のことである。芳香族カルボキシ基において、芳香族環に結合したカルボキシ基の数は、1~4個であることが好ましく、1~2個であることがより好ましい。
 樹脂Acは、式(Ac-1)で表される繰り返し単位および式(Ac-2)で表される繰り返し単位から選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位を含む樹脂であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 式(Ac-1)中、Arは芳香族カルボキシ基を含む基を表し、Lは、-COO-または-CONH-を表し、Lは、2価の連結基を表す。
 式(Ac-2)中、Ar10は芳香族カルボキシ基を含む基を表し、L11は、-COO-または-CONH-を表し、L12は3価の連結基を表し、P10はポリマー鎖を表す。
 式(Ac-1)においてArが表す芳香族カルボキシ基を含む基としては、芳香族トリカルボン酸無水物から由来する構造、芳香族テトラカルボン酸無水物から由来する構造などが挙げられる。芳香族トリカルボン酸無水物および芳香族テトラカルボン酸無水物としては、下記構造の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 上記式中、Qは、単結合、-O-、-CO-、-COOCHCHOCO-、-SO-、-C(CF-、下記式(Q-1)で表される基または下記式(Q-2)で表される基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 Arが表す芳香族カルボキシ基を含む基は、重合性基を有していてもよい。重合性基は、エチレン性不飽和結合含有基および環状エーテル基であることが好ましく、エチレン性不飽和結合含有基であることがより好ましい。Arが表す芳香族カルボキシ基を含む基の具体例としては、式(Ar-11)で表される基、式(Ar-12)で表される基、式(Ar-13)で表される基などが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
 式(Ar-11)中、n1は1~4の整数を表し、1または2であることが好ましく、2であることがより好ましい。
 式(Ar-12)中、n2は1~8の整数を表し、1~4の整数であることが好ましく、1または2であることがより好ましく、2であることが更に好ましい。
 式(Ar-13)中、n3およびn4はそれぞれ独立して0~4の整数を表し、0~2の整数であることが好ましく、1または2であることがより好ましく、1であることが更に好ましい。ただし、n3およびn4の少なくとも一方は1以上の整数である。
 式(Ar-13)中、Qは、単結合、-O-、-CO-、-COOCHCHOCO-、-SO-、-C(CF-、上記式(Q-1)で表される基または上記式(Q-2)で表される基を表す。
 式(Ar-11)~(Ar-13)中、*1はLとの結合位置を表す。
 式(Ac-1)においてLは、-COO-または-CONH-を表し、-COO-を表すことが好ましい。
 式(Ac-1)においてLが表す2価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NH-、-S-およびこれらの2種以上を組み合わせた基が挙げられる。アルキレン基の炭素数は、1~30が好ましく、1~20がより好ましく、1~15が更に好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アリーレン基の炭素数は、6~30が好ましく、6~20がより好ましく、6~10が更に好ましい。アルキレン基およびアリーレン基は置換基を有していてもよい。置換基としては、ヒドロキシ基などが挙げられる。Lが表す2価の連結基は、-L2a-O-で表される基であることが好ましい。L2aは、アルキレン基;アリーレン基;アルキレン基とアリーレン基とを組み合わせた基;アルキレン基およびアリーレン基から選ばれる少なくとも1種と、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NH-および-S-から選ばれる少なくとも1種とを組み合わせた基などが挙げられ、アルキレン基であることが好ましい。アルキレン基の炭素数は、1~30が好ましく、1~20がより好ましく、1~15が更に好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アルキレン基およびアリーレン基は置換基を有していてもよい。置換基としては、ヒドロキシ基などが挙げられる。
 式(Ac-2)においてAr10が表す芳香族カルボキシ基を含む基としては、式(Ac-1)のArと同義であり、好ましい範囲も同様である。
 式(Ac-2)においてL11は、-COO-または-CONH-を表し、-COO-を表すことが好ましい。
 式(Ac-2)においてL12が表す3価の連結基としては、炭化水素基、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NH-、-S-およびこれらの2種以上を組み合わせた基が挙げられる。炭化水素基は、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基が挙げられる。脂肪族炭化水素基の炭素数は、1~30が好ましく、1~20がより好ましく、1~15が更に好ましい。脂肪族炭化水素基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。芳香族炭化水素基の炭素数は、6~30が好ましく、6~20がより好ましく、6~10が更に好ましい。炭化水素基は置換基を有していてもよい。置換基としては、ヒドロキシ基などが挙げられる。L12が表す3価の連結基は、式(L12-1)で表される基であることが好ましく、式(L12-2)で表される基であることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 式(L12-1)中、L12bは3価の連結基を表し、XはSを表し、*1は式(Ac-2)のL11との結合位置を表し、*2は式(Ac-2)のP10との結合位置を表す。L12bが表す3価の連結基としては、炭化水素基;炭化水素基と、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NH-および-S-から選ばれる少なくとも1種とを組み合わせた基などが挙げられ、炭化水素基または炭化水素基と-O-とを組み合わせた基であることが好ましい。
 式(L12-2)中、L12cは3価の連結基を表し、XはSを表し、*1は式(Ac-2)のL11との結合位置を表し、*2は式(Ac-2)のP10との結合位置を表す。L12cが表す3価の連結基としては、炭化水素基;炭化水素基と、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NH-および-S-から選ばれる少なくとも1種とを組み合わせた基などが挙げられ、炭化水素基であることが好ましい。
 式(Ac-2)においてP10はポリマー鎖を表す。P10が表すポリマー鎖は、ポリ(メタ)アクリル繰り返し単位、ポリエーテル繰り返し単位、ポリエステル繰り返し単位およびポリオール繰り返し単位から選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位を有することが好ましい。ポリマー鎖P10の重量平均分子量は500~20000が好ましい。下限は1000以上が好ましい。上限は10000以下が好ましく、5000以下がより好ましく、3000以下が更に好ましい。P10の重量平均分子量が上記範囲であれば組成物中における顔料の分散性が良好である。芳香族カルボキシ基を有する樹脂が式(Ac-2)で表される繰り返し単位を有する樹脂である場合は、この樹脂は分散剤として好ましく用いられる。
 P10が表すポリマー鎖は、重合性基を含んでいてもよい。重合性基としては、エチレン性不飽和結合含有基および環状エーテル基が挙げられる。
 樹脂として、式(P-3-1)で表される構造の樹脂を用いることも好ましい。この樹脂は分散剤として好ましく用いられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
 式(P-3-1)中、Rpはアルキレン基を表し、Rpは水素原子または置換基を表し、nは10~1000の数を表し、yは1~2の数を表す。
 Rpが表すアルキレン基の炭素数は1~10が好ましく、1~5がより好ましく、2または3が更に好ましい。Rpはエチレン基であることが好ましい。
 Rpが表す置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基等が挙げられ、アルキル基であることが好ましい。アルキル基の炭素数は5~30が好ましい。アルキル基は、直鎖状、分岐状、及び、環状のいずれでもよく、直鎖状または分岐状が好ましく、分岐状であることがより好ましい。
 式(P-3-1)で表される構造の樹脂の重量平均分子量は、2000~50000が好ましく、3000~45000がより好ましく、4000~40000が更に好ましい。
 式(P-3-1)で表される構造の樹脂の酸価は10~200mgKOH/gが好ましく、20~150mgKOH/gがより好ましく、30~120mgKOH/gが更に好ましい。
 本発明の感光性組成物は、分散剤としての樹脂を含有することが好ましい。分散剤としては、酸性分散剤(酸性樹脂)、塩基性分散剤(塩基性樹脂)が挙げられる。ここで、酸性分散剤(酸性樹脂)とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性分散剤(酸性樹脂)としては、酸基の量と塩基性基の量の合計量を100モル%としたときに、酸基の量が70モル%以上である樹脂が好ましい。酸性分散剤(酸性樹脂)が有する酸基は、カルボキシ基、スルホ基およびリン酸基が挙げられ、カルボキシ基であることが好ましい。酸性分散剤(酸性樹脂)の酸価は、10~105mgKOH/gが好ましい。また、塩基性分散剤(塩基性樹脂)とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基性分散剤(塩基性樹脂)としては、酸基の量と塩基性基の量の合計量を100モル%としたときに、塩基性基の量が50モル%を超える樹脂が好ましい。塩基性分散剤が有する塩基性基は、アミノ基が好ましい。
 分散剤として用いる樹脂は、グラフト樹脂であることも好ましい。グラフト樹脂の詳細については、特開2012-255128号公報の段落番号0025~0094の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
 分散剤として用いる樹脂は、主鎖及び側鎖の少なくとも一方に窒素原子を含むポリイミン系分散剤であることも好ましい。ポリイミン系分散剤としては、pKa14以下の官能基を有する部分構造を有する主鎖と、原子数40~10000の側鎖とを有し、かつ主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂が好ましい。塩基性窒素原子は、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はない。ポリイミン系分散剤については、特開2012-255128号公報の段落番号0102~0166の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
 分散剤として用いる樹脂は、コア部に複数個のポリマー鎖が結合した構造の樹脂であることも好ましい。このような樹脂としては、例えば、デンドリマー(星型ポリマーを含む)が挙げられる。また、デンドリマーの具体例としては、特開2013-043962号公報の段落番号0196~0209に記載された高分子化合物C-1~C-31などが挙げられる。
 分散剤として用いる樹脂は、エチレン性不飽和結合含有基を有する樹脂であることも好ましい。エチレン性不飽和結合含有基を有する樹脂のC=C価(エチレン性不飽和結合含有基価)は、0.01~2.0mmol/gであることが好ましく、0.1~1.5mmol/gであることがより好ましく、0.1~1.0mmol/gであることが更に好ましい。上記エチレン性不飽和結合含有基を有する樹脂は、現像性および顔料の分散性の観点からは、更に酸基を有することも好ましい。
 分散剤として、特開2018-087939号公報に記載された樹脂、特許第6432077号公報の段落番号0219~0221に記載されたブロック共重合体(EB-1)~(EB-9)、国際公開第2016/104803号に記載のポリエステル側鎖を有するポリエチレンイミン、国際公開第2019/125940号に記載のブロック共重合体、特開2020-066687号公報に記載のアクリルアミド構造単位を有するブロックポリマー、特開2020-066688号公報に記載のアクリルアミド構造単位を有するブロックポリマー、国際公開第2016/104803号に記載の分散剤などを用いることもできる。
 分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、ビックケミー社製のDisperbykシリーズ(例えば、Disperbyk-111、161、2001など)、日本ルーブリゾール(株)製のソルスパースシリーズ(例えば、ソルスパース20000、76500など)、味の素ファインテクノ(株)製のアジスパーシリーズ等が挙げられる。また、特開2012-137564号公報の段落番号0129に記載された製品、特開2017-194662号公報の段落番号0235に記載された製品を分散剤として用いることもできる。
 感光性組成物の全固形分中における樹脂の含有量は5~50質量%であることが好ましい。上限は、40質量%以下であることが好ましく、30質量%以下であることがより好ましい。下限は、10質量%以上であることが好ましく、20質量%以上であることがより好ましい。
 また、分散剤の含有量は、着色剤100質量部に対して1~100質量部であることが好ましい。下限は5質量部以上であることが好ましく、10質量部以上であることがより好ましく、15質量部以上であることが更に好ましい。上限は50質量部以下であることが好ましく、40質量部以下であることがより好ましく、30質量部以下であることが更に好ましい。
 また、分散剤の含有量は、顔料誘導体の100質量部に対して50~1500質量部であることが好ましい。下限は100質量部以上であることが好ましい。上限は1000質量部以下であることが好ましく、500質量部以下であることがより好ましい。
 本発明の感光性組成物は、樹脂を、1種のみ含んでいてもよいし、2種以上含んでいてもよい。樹脂を2種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<重合性モノマー>>
 本発明の感光性組成物は、重合性モノマーを含有することが好ましい。重合性モノマーは、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物であることが好ましい。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、(メタ)アリル基、(メタ)アクリロイル基などが挙げられる。本発明で用いられる重合性モノマーは、ラジカル重合性モノマーであることが好ましい。
 重合性モノマーの分子量は、100~3000が好ましい。上限は、2000以下がより好ましく、1500以下が更に好ましい。下限は、150以上がより好ましく、250以上が更に好ましい。
 重合性モノマーは、エチレン性不飽和結合含有基を3個以上含む化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和結合含有基を3~15個含む化合物であることがより好ましく、エチレン性不飽和結合含有基を3~6個含む化合物であることが更に好ましい。また、重合性モノマーは、3~15官能の(メタ)アクリレート化合物であることが好ましく、3~6官能の(メタ)アクリレート化合物であることがより好ましい。重合性モノマーの具体例としては、特開2009-288705号公報の段落番号0095~0108、特開2013-029760号公報の段落0227、特開2008-292970号公報の段落番号0254~0257、特開2013-253224号公報の段落番号0034~0038、特開2012-208494号公報の段落番号0477、特開2017-048367号公報、特許第6057891号公報、特許第6031807号公報に記載されている化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
 重合性モノマーとしては、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート(市販品としてはKAYARAD D-330;日本化薬(株)製)、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート(市販品としてはKAYARAD D-320;日本化薬(株)製)、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート(市販品としてはKAYARAD D-310;日本化薬(株)製)、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート(市販品としてはKAYARAD DPHA;日本化薬(株)製、NKエステルA-DPH-12E;新中村化学工業(株)製)、およびこれらの(メタ)アクリロイル基がエチレングリコールおよび/またはプロピレングリコール残基を介して結合している構造の化合物(例えば、サートマー社から市販されている、SR454、SR499)が好ましい。また、重合性モノマーとしては、ジグリセリンEO(エチレンオキシド)変性(メタ)アクリレート(市販品としてはM-460;東亞合成製)、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(新中村化学工業(株)製、NKエステルA-TMMT)、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート(日本化薬(株)製、KAYARAD HDDA)、RP-1040(日本化薬(株)製)、アロニックスTO-2349(東亞合成(株)製)、NKオリゴUA-7200(新中村化学工業(株)製)、DPHA-40H(日本化薬(株)製)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600、LINC-202UA(共栄社化学(株)製)、8UH-1006、8UH-1012(以上、大成ファインケミカル(株)製)、ライトアクリレートPOB-A0(共栄社化学(株)製)などを用いることもできる。
 また、重合性モノマーには、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性トリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートなどの3官能の(メタ)アクリレート化合物を用いることもできる。3官能の(メタ)アクリレート化合物の市販品としては、アロニックスM-309、M-310、M-321、M-350、M-360、M-313、M-315、M-306、M-305、M-303、M-452、M-450(東亞合成(株)製)、NKエステル A9300、A-GLY-9E、A-GLY-20E、A-TMM-3、A-TMM-3L、A-TMM-3LM-N、A-TMPT、TMPT(新中村化学工業(株)製)、KAYARAD GPO-303、TMPTA、THE-330、TPA-330、PET-30(日本化薬(株)製)などが挙げられる。
 また、重合性モノマーには、酸基を有する化合物を用いることもできる。酸基としては、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基等が挙げられ、カルボキシ基が好ましい。酸基を有する重合性モノマーの市販品としては、アロニックスM-510、M-520、アロニックスTO-2349(東亞合成(株)製)等が挙げられる。酸基を有する重合性モノマーの好ましい酸価としては、0.1~40mgKOH/gであり、より好ましくは5~30mgKOH/gである。
 重合性モノマーには、カプロラクトン構造を有する化合物を用いることもできる。カプロラクトン構造を有する重合性モノマーの市販品としては、KAYARAD DPCA-20、DPCA-30、DPCA-60、DPCA-120(以上、日本化薬(株)製)などが挙げられる。
 重合性モノマーには、アルキレンオキシ基を有する重合性モノマーを用いることもできる。アルキレンオキシ基を有する重合性モノマーは、エチレンオキシ基および/またはプロピレンオキシ基を有する重合性モノマーが好ましく、エチレンオキシ基を有する重合性モノマーがより好ましく、エチレンオキシ基を4~20個有する3~6官能(メタ)アクリレート化合物がさらに好ましい。アルキレンオキシ基を有する重合性モノマーの市販品としては、例えば、サートマー社製のエチレンオキシ基を4個有する4官能(メタ)アクリレートであるSR-494、日本化薬(株)製のイソブチレンオキシ基を3個有する3官能(メタ)アクリレートであるKAYARAD TPA-330などが挙げられる。
 重合性モノマーには、フルオレン骨格を有する重合性モノマーを用いることもできる。フルオレン骨格を有する重合性モノマーの市販品としては、オグソールEA-0200、EA-0300(大阪ガスケミカル(株)製、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレートモノマー)などが挙げられる。
 重合性モノマーとしては、トルエンなどの環境規制物質を実質的に含まない化合物を用いることも好ましい。このような化合物の市販品としては、KAYARAD DPHA LT、KAYARAD DPEA-12 LT(日本化薬(株)製)などが挙げられる。
 感光性組成物の全固形分中における重合性モノマーの含有量は0.1~50質量%であることが好ましい。下限は、0.5質量%以上であることが好ましく、1質量%以上であることがより好ましく、5質量%以上であることが更に好ましい。上限は、40質量%以下であることが好ましく、30質量%以下であることがより好ましく、30質量%以下であることが更に好ましく、20質量%以下であることがより一層好ましく、15質量%以下であることが更に一層好ましい。重合性モノマーは、1種のみを用いてもよく、2種以上を用いてもよい。2種以上を用いる場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
<光重合開始剤>>
 本発明の感光性組成物は光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
 光重合開始剤としては、ハロゲン化炭化水素誘導体(例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など)、アシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α-ヒドロキシケトン化合物、α-アミノケトン化合物などが挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α-ヒドロキシケトン化合物、α-アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン-ベンゼン-鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物および3-アリール置換クマリン化合物であることが好ましく、オキシム化合物、α-ヒドロキシケトン化合物、α-アミノケトン化合物、および、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物であることがより好ましく、オキシム化合物であることが更に好ましい。また、光重合開始剤としては、特開2014-130173号公報の段落0065~0111に記載された化合物、特許第6301489号公報に記載された化合物、MATERIAL STAGE 37~60p,vol.19,No.3,2019に記載されたパーオキサイド系光重合開始剤、国際公開第2018/221177号に記載の光重合開始剤、国際公開第2018/110179号に記載の光重合開始剤、特開2019-043864号公報に記載の光重合開始剤、特開2019-044030号公報に記載の光重合開始剤、特開2019-167313号公報に記載の過酸化物系開始剤、特開2020-055992号公報に記載のオキサゾリジン基を有するアミノアセトフェノン系開始剤、特開2013-190459号公報に記載のオキシム系光重合開始剤、特開2020-172619号公報に記載の重合体、国際公開第2020/152120号に記載の式1で表される化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
 ヘキサアリールビイミダゾール化合物の具体例としては、2,2’,4-トリス(2-クロロフェニル)-5-(3,4-ジメトキシフェニル)-4,5-ジフェニル-1,1’-ビイミダゾールなどが挙げられる。
 α-ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、Omnirad 184、Omnirad 1173、Omnirad 2959、Omnirad 127(以上、IGM Resins B.V.社製)、Irgacure 184、Irgacure 1173、Irgacure 2959、Irgacure 127(以上、BASF社製)などが挙げられる。α-アミノケトン化合物の市販品としては、Omnirad 907、Omnirad 369、Omnirad 369E、Omnirad 379EG(以上、IGM Resins B.V.社製)、Irgacure 907、Irgacure 369、Irgacure 369E、Irgacure 379EG(以上、BASF社製)などが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、Omnirad 819、Omnirad TPO(以上、IGM Resins B.V.社製)、Irgacure 819、Irgacure TPO(以上、BASF社製)などが挙げられる。
 オキシム化合物としては、特開2001-233842号公報に記載の化合物、特開2000-080068号公報に記載の化合物、特開2006-342166号公報に記載の化合物、J.C.S.Perkin II(1979年、pp.1653-1660)に記載の化合物、J.C.S.Perkin II(1979年、pp.156-162)に記載の化合物、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995年、pp.202-232)に記載の化合物、特開2000-066385号公報に記載の化合物、特表2004-534797号公報に記載の化合物、特開2006-342166号公報に記載の化合物、特開2017-019766号公報に記載の化合物、特許第6065596号公報に記載の化合物、国際公開第2015/152153号に記載の化合物、国際公開第2017/051680号に記載の化合物、特開2017-198865号公報に記載の化合物、国際公開第2017/164127号の段落番号0025~0038に記載の化合物、国際公開第2013/167515号に記載の化合物、特許第5430746号に記載の化合物、特許第5647738号に記載の化合物などが挙げられる。オキシム化合物の具体例としては、3-ベンゾイルオキシイミノブタン-2-オン、3-アセトキシイミノブタン-2-オン、3-プロピオニルオキシイミノブタン-2-オン、2-アセトキシイミノペンタン-3-オン、2-アセトキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン、2-ベンゾイルオキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン、3-(4-トルエンスルホニルオキシ)イミノブタン-2-オン、2-エトキシカルボニルオキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン、1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-3-シクロヘキシル-プロパン-1,2-ジオン-2-(O-アセチルオキシム)などが挙げられる。市販品としては、Irgacure OXE01、Irgacure OXE02、Irgacure OXE03、Irgacure OXE04(以上、BASF社製)、TR-PBG-304、TR-PBG-327(トロンリー社製)、アデカオプトマーN-1919((株)ADEKA製、特開2012-014052号公報に記載の光重合開始剤2)が挙げられる。また、オキシム化合物としては、着色性が無い化合物や、透明性が高く変色し難い化合物を用いることも好ましい。市販品としては、アデカアークルズNCI-730、NCI-831、NCI-930(以上、(株)ADEKA製)などが挙げられる。
 光重合開始剤としては、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開2014-137466号公報に記載の化合物、特許第6636081号公報に記載の化合物、韓国公開特許第10-2016-0109444号公報に記載の化合物が挙げられる。
 光重合開始剤としては、カルバゾール環の少なくとも1つのベンゼン環がナフタレン環となった骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。そのようなオキシム化合物の具体例としては、国際公開第2013/083505号に記載の化合物が挙げられる。
 光重合開始剤としては、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開2010-262028号公報に記載の化合物、特表2014-500852号公報に記載の化合物24、36~40、特開2013-164471号公報に記載の化合物(C-3)などが挙げられる。
 光重合開始剤としては、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開2013-114249号公報の段落番号0031~0047、特開2014-137466号公報の段落番号0008~0012、0070~0079に記載されている化合物、特許4223071号公報の段落番号0007~0025に記載されている化合物、アデカアークルズNCI-831((株)ADEKA製)が挙げられる。
 光重合開始剤としては、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。具体例としては、国際公開第2015/036910号に記載されているOE-01~OE-75が挙げられる。
 光重合開始剤としては、カルバゾール骨格にヒドロキシ基を有する置換基が結合したオキシム化合物を用いることもできる。このような光重合開始剤としては国際公開第2019/088055号に記載された化合物などが挙げられる。
 本発明において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
 オキシム化合物は、波長350~500nmの範囲に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、波長360~480nmの範囲に極大吸収波長を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物の波長365nm又は波長405nmにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、高いことが好ましく、1000~300000であることがより好ましく、2000~300000であることが更に好ましく、5000~200000であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、分光光度計(Varian社製Cary-5 spectrophotometer)にて、酢酸エチル溶媒を用い、0.01g/Lの濃度で測定することが好ましい。
 光重合開始剤としては、Irgacure OXE01(BASF社製)および/またはIrgacure OXE02(BASF社製)と、Omnirad 2959(IGM Resins B.V.社製)とを組み合わせて用いることも好ましい。
 光重合開始剤としては、2官能あるいは3官能以上の光ラジカル重合開始剤を用いてもよい。そのような光ラジカル重合開始剤を用いることにより、光ラジカル重合開始剤の1分子から2つ以上のラジカルが発生するため、良好な感度が得られる。また、非対称構造の化合物を用いた場合においては、結晶性が低下して溶剤などへの溶解性が向上して、経時で析出しにくくなり、感光性組成物の経時安定性を向上させることができる。2官能あるいは3官能以上の光ラジカル重合開始剤の具体例としては、特表2010-527339号公報、特表2011-524436号公報、国際公開第2015/004565号、特表2016-532675号公報の段落番号0407~0412、国際公開第2017/033680号の段落番号0039~0055に記載されているオキシム化合物の2量体、特表2013-522445号公報に記載されている化合物(E)および化合物(G)、国際公開第2016/034963号に記載されているCmpd1~7、特表2017-523465号公報の段落番号0007に記載されているオキシムエステル類光開始剤、特開2017-167399号公報の段落番号0020~0033に記載されている光開始剤、特開2017-151342号公報の段落番号0017~0026に記載されている光重合開始剤(A)、特許第6469669号公報に記載されているオキシムエステル光開始剤などが挙げられる。
 感光性組成物の全固形分中における光重合開始剤の含有量は0.1~30質量%が好ましい。下限は、0.5質量%以上が好ましく、1質量%以上がより好ましい。上限は、20質量%以下が好ましく、15質量%以下がより好ましく、10質量%以下が更に好ましく、7.5質量%以下がより一層好ましく、5質量%以下が更に一層好ましい。光重合開始剤は1種のみを用いてもよく、2種以上を用いてもよい。2種以上を用いる場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<溶剤>>
 本発明の感光性組成物は、溶剤を含有することが好ましい。溶剤としては、有機溶剤が挙げられる。溶剤の種類は、各成分の溶解性や組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はない。有機溶剤としては、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開第2015/166779号の段落番号0223を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤も好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジクロロメタン、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、2-ヘプタノン、3-ペンタノン、4-ヘプタノン、シクロヘキサノン、2-メチルシクロヘキサノン、3-メチルシクロヘキサノン、4-メチルシクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシ-N,N-ジメチルプロパンアミド、3-ブトキシ-N,N-ジメチルプロパンアミド、プロピレングリコールジアセテート、3-メトキシブタノール、メチルエチルケトン、ガンマブチロラクトン、スルホラン、アニソール、1,4-ジアセトキシブタン、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、二酢酸ブタン-1,3-ジイル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセタート、ジアセトンアルコール(別名としてダイアセトンアルコール、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン)、2-メトキシプロピルアセテート、2-メトキシ-1-プロパノール、イソプロピルアルコールなどが挙げられる。ただし有機溶剤としての芳香族炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等)は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある(例えば、有機溶剤全量に対して、50質量ppm(parts per million)以下とすることもでき、10質量ppm以下とすることもでき、1質量ppm以下とすることもできる)。
 本発明においては、金属含有量の少ない有機溶剤を用いることが好ましく、有機溶剤の金属含有量は、例えば、10質量ppb(parts per billion)以下であることが好ましい。必要に応じて質量ppt(parts per trillion)レベルの有機溶剤を用いてもよく、そのような有機溶剤は,例えば、東洋合成社が提供している(化学工業日報、2015年11月13日)。
 有機溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留(分子蒸留や薄膜蒸留等)やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、10μm以下が好ましく、5μm以下がより好ましく、3μm以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフロロエチレン、ポリエチレンまたはナイロンが好ましい。
 有機溶剤は、異性体(原子数が同じであるが構造が異なる化合物)が含まれていてもよい。また、異性体は、1種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
 有機溶剤中の過酸化物の含有率が0.8mmol/L以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
 感光性組成物中における溶剤の含有量は、10~95質量%であることが好ましい。上限は、92.5質量%以下であることが好ましく、90質量%以下であることがより好ましい。下限は、塗布性の観点から20質量%以上であることが好ましく、50質量%以上であることがより好ましく、75質量%以上であることが更に好ましく、80質量%以上であることがより一層好ましく、85質量%以上であることが特に好ましい。
 また、本発明の感光性組成物は、環境規制の観点から環境規制物質を実質的に含有しないことが好ましい。なお、本発明において、環境規制物質を実質的に含有しないとは、感光性組成物中における環境規制物質の含有量が50質量ppm以下であることを意味し、30質量ppm以下であることが好ましく、10質量ppm以下であることが更に好ましく、1質量ppm以下であることが特に好ましい。環境規制物質は、例えば、ベンゼン;トルエン、キシレン等のアルキルベンゼン類;クロロベンゼン等のハロゲン化ベンゼン類等が挙げられる。これらは、REACH(Registration Evaluation Authorization and Restriction of CHemicals)規則、PRTR(Pollutant Release and Transfer Register)法、VOC(Volatile Organic Compounds)規制等のもとに環境規制物質として登録されており、使用量や取り扱い方法が厳しく規制されている。これらの化合物は、感光性組成物に用いられる各成分などを製造する際に溶媒として用いられることがあり、残留溶媒として感光性組成物中に混入することがある。人への安全性、環境への配慮の観点よりこれらの物質は可能な限り低減することが好ましい。環境規制物質を低減する方法としては、系中を加熱や減圧して環境規制物質の沸点以上にして系中から環境規制物質を留去して低減する方法が挙げられる。また、少量の環境規制物質を留去する場合においては、効率を上げる為に該当溶媒と同等の沸点を有する溶媒と共沸させることも有用である。また、ラジカル重合性を有する化合物を含有する場合、減圧留去中にラジカル重合反応が進行して分子間で架橋してしまうことを抑制するために重合禁止剤等を添加して減圧留去してもよい。これらの留去方法は、原料の段階、原料を反応させた生成物(例えば、重合した後の樹脂溶液や多官能モノマー溶液)の段階、またはこれらの化合物を混ぜて作製した感光性組成物の段階などのいずれの段階でも可能である。
<<環状エーテル基を有する化合物>>
 本発明の感光性組成物は、環状エーテル基を有する化合物を含有することができる。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられる。環状エーテル基を有する化合物は、エポキシ基を有する化合物(以下、エポキシ化合物ともいう)であることが好ましい。
 環状エーテル基を有する化合物は、低分子化合物(例えば分子量1000未満)でもよいし、高分子化合物(macromolecule)(例えば、分子量1000以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が1000以上)でもよい。環状エーテル基の重量平均分子量は、200~100000が好ましく、500~50000がより好ましい。重量平均分子量の上限は、10000以下が好ましく、5000以下がより好ましく、3000以下が更に好ましい。
 環状エーテル基を有する化合物としては、特開2013-011869号公報の段落番号0034~0036に記載された化合物、特開2014-043556号公報の段落番号0147~0156に記載された化合物、特開2014-089408号公報の段落番号0085~0092に記載された化合物、特開2017-179172号公報に記載された化合物を用いることもできる。
 環状エーテル基を有する化合物の市販品としては、デナコール EX-212L、EX-212、EX-214L、EX-214、EX-216L、EX-216、EX-321L、EX-321、EX-850L、EX-850(以上、ナガセケムテックス(株)製)、ADEKA RESIN EP-4000S、EP-4003S、EP-4010S、EP-4011S(以上、(株)ADEKA製)、NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502(以上、(株)ADEKA製)、セロキサイド2021P、セロキサイド2081、セロキサイド2083、セロキサイド2085、EHPE3150、EPOLEAD PB 3600、PB 4700(以上、(株)ダイセル製)、サイクロマーP ACA 200M、ACA 230AA、ACA Z250、ACA Z251、ACA Z300、ACA Z320(以上、(株)ダイセル製)、jER1031S、jER157S65、jER152、jER154、jER157S70(以上、三菱ケミカル(株)製)、アロンオキセタンOXT-121、OXT-221、OX-SQ、PNOX(以上、東亞合成(株)製)、アデカグリシロール ED-505((株)ADEKA製、エポキシ基含有モノマー)、マープルーフG-0150M、G-0105SA、G-0130SP、G-0250SP、G-1005S、G-1005SA、G-1010S、G-2050M、G-01100、G-01758(日油(株)製、エポキシ基含有ポリマー)、OXT-101、OXT-121、OXT-212、OXT-221(以上、東亞合成(株)製、オキセタニル基含有モノマー)、OXE-10、OXE-30(以上、大阪有機化学工業(株)製、オキセタニル基含有モノマー)、BATG(昭和電工(株)製)などが挙げられる。
 感光性組成物の全固形分中における環状エーテル基を有する化合物の含有量は、0.1~20質量%が好ましい。下限は、0.5質量%以上であることが好ましく、1質量%以上であることがより好ましい。上限は、15質量%以下であることが好ましく、10質量%以下であることがより好ましい。環状エーテル基を有する化合物は1種のみを用いてもよく、2種以上を用いてもよい。2種以上を用いる場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<硬化促進剤>>
 本発明の感光性組成物は、硬化促進剤を含んでもよい。硬化促進剤としては、チオール化合物、メチロール化合物、アミン化合物、ホスホニウム塩化合物、アミジン塩化合物、アミド化合物、塩基発生剤、イソシアネート化合物、アルコキシシラン化合物、オニウム塩化合物などが挙げられる。硬化促進剤の具体例としては、国際公開第2018/056189号の段落番号0094~0097に記載の化合物、特開2015-034963号公報の段落番号0246~0253に記載の化合物、特開2013-041165号公報の段落番号0186~0251に記載の化合物、特開2014-055114号公報に記載のイオン性化合物、特開2012-150180号公報の段落番号0071~0080に記載の化合物、特開2011-253054号公報に記載のエポキシ基を有するアルコキシシラン化合物、特許第5765059号公報の段落番号0085~0092に記載の化合物、特開2017-036379号公報に記載のカルボキシ基含有エポキシ硬化剤などが挙げられる。硬化促進剤を含有する場合、感光性組成物の全固形分中における硬化促進剤の含有量は0.3~8.9質量%が好ましく、0.8~6.4質量%がより好ましい。
<<紫外線吸収剤>>
 本発明の感光性組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、共役ジエン化合物、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物、インドール化合物、トリアジン化合物などが挙げられる。このような化合物の具体例としては、特開2009-217221号公報の段落番号0038~0052、特開2012-208374号公報の段落番号0052~0072、特開2013-068814号公報の段落番号0317~0334、特開2016-162946号公報の段落番号0061~0080に記載された化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、UV-503(大東化学(株)製)、BASF社製のTinuvinシリーズ、Uvinul(ユビナール)シリーズ、住化ケムテックス(株)製のSumisorbシリーズなどが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としては、ミヨシ油脂製のMYUAシリーズ(化学工業日報、2016年2月1日)が挙げられる。また、紫外線吸収剤は、特許第6268967号公報の段落番号0049~0059に記載された化合物、国際公開第2016/181987号の段落番号0059~0076に記載された化合物、国際公開第2020/137819号に記載されたチオアリール基置換ベンゾトリアゾール型紫外線吸収剤を用いることもできる。感光性組成物の全固形分中における紫外線吸収剤の含有量は、0.01~10質量%であることが好ましく、0.01~5質量%であることがより好ましい。紫外線吸収剤は1種のみを用いてもよく、2種以上を用いてもよい。2種以上を用いる場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<重合禁止剤>>
 本発明の感光性組成物は、重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、p-メトキシフェノール、ジ-tert-ブチル-p-クレゾール、ピロガロール、tert-ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’-チオビス(3-メチル-6-tert-ブチルフェノール)、2,2’-メチレンビス(4-メチル-6-t-ブチルフェノール)、N-ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩(アンモニウム塩、第一セリウム塩等)が挙げられる。中でも、p-メトキシフェノールが好ましい。重合禁止剤を含有する場合、感光性組成物の全固形分中における重合禁止剤の含有量は、0.0001~5質量%が好ましい。重合禁止剤は、1種類のみでもよく、2種類以上でもよい。2種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<シランカップリング剤>>
 本発明の感光性組成物は、シランカップリング剤を含有することができる。本明細書において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応及び縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基としては、例えば、ビニル基、(メタ)アリル基、(メタ)アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、フェニル基などが挙げられ、アミノ基、(メタ)アクリロイル基およびエポキシ基が好ましい。シランカップリング剤の具体例としては、N-β-アミノエチル-γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン(信越化学工業(株)製、商品名 KBM-602)、N-β-アミノエチル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製、商品名 KBM-603)、N-β-アミノエチル-γ-アミノプロピルトリエトキシシラン(信越化学工業(株)製、商品名 KBE-602)、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製、商品名 KBM-903)、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン(信越化学工業(株)製、商品名 KBE-903)、3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン(信越化学工業(株)製、商品名 KBM-502)、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製、商品名 KBM-503)等がある。また、シランカップリング剤の具体例については、特開2009-288703号公報の段落番号0018~0036に記載の化合物、特開2009-242604号公報の段落番号0056~0066に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。感光性組成物の全固形分中におけるシランカップリング剤の含有量は、0.01~15.0質量%であることが好ましく、0.05~10.0質量%であることがより好ましい。シランカップリング剤は、1種類のみでもよく、2種類以上でもよい。2種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<界面活性剤>>
 本発明の感光性組成物は、界面活性剤を含有することができる。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用することができる。界面活性剤はシリコーン系界面活性剤またはフッ素系界面活性剤であることが好ましい。界面活性剤については、国際公開第2015/166779号の段落番号0238~0245に記載された界面活性剤、特開2020-008634号公報に記載された界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
 フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、3~40質量%が好適であり、より好ましくは5~30質量%であり、特に好ましくは7~25質量%である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、感光性組成物中における溶解性も良好である。
 フッ素系界面活性剤としては、特開2014-041318号公報の段落番号0060~0064(対応する国際公開第2014/017669号の段落番号0060~0064)等に記載の界面活性剤、特開2011-132503号公報の段落番号0117~0132に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックF-171、F-172、F-173、F-176、F-177、F-141、F-142、F-143、F-144、F-437、F-475、F-477、F-479、F-482、F-554、F-555-A、F-556、F-557、F-558、F-559、F-560、F-561、F-565、F-563、F-568、F-575、F-780、EXP、MFS-330、R-01、R-40、R-40-LM、R-41、R-41-LM、RS-43、TF-1956、RS-90、R-94、RS-72-K、DS-21(以上、DIC(株)製)、フロラードFC430、FC431、FC171(以上、住友スリーエム(株)製)、サーフロンS-382、SC-101、SC-103、SC-104、SC-105、SC-1068、SC-381、SC-383、S-393、KH-40(以上、AGC(株)製)、PolyFox PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(以上、OMNOVA社製)、フタージェント208G、215M、245F、601AD、601ADH2、602A、610FM、710FL、710FM、710FS、FTX-218、(以上、株)NEOS製)等が挙げられる。
 また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、DIC(株)製のメガファックDSシリーズ(化学工業日報(2016年2月22日)、日経産業新聞(2016年2月23日))、例えば、メガファックDS-21が挙げられる。
 また、フッ素系界面活性剤は、フッ素化アルキル基またはフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。このようなフッ素系界面活性剤は、特開2016-216602号公報に記載されたフッ素系界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
 フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する(メタ)アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基(好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基)を2以上(好ましくは5以上)有する(メタ)アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。また、特開2010-032698号公報の段落番号0016~0037に記載されたフッ素含有界面活性剤や、下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
 上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは3000~50000であり、例えば、14000である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す%はモル%である。
 また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開2010-164965号公報の段落番号0050~0090および段落番号0289~0295に記載された化合物、DIC(株)製のメガファックRS-101、RS-102、RS-718K、RS-72-K等が挙げられる。また、フッ素系界面活性剤は、特開2015-117327号公報の段落番号0015~0158に記載の化合物を用いることもできる。
 また、国際公開第2020/084854号に記載の界面活性剤を、炭素数6以上のパーフルオロアルキル基を有する界面活性剤の代替として用いることも、環境規制の観点から好ましい。
 また、式(fi-1)で表される含フッ素イミド塩化合物を界面活性剤として用いることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 式(fi-1)において、mは1または2を表し、nは1~4の整数を表し、aは1または2を表し、Xa+はa価の金属イオン、第1級アンモニウムイオン、第2級アンモニウムイオン、第3級アンモニウムイオン、第4級アンモニウムイオンまたはNH を表す。
 ノニオン性界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート(例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等)、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックL10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2(BASF社製)、テトロニック304、701、704、901、904、150R1(BASF社製)、ソルスパース20000(日本ルーブリゾール(株)製)、NCW-101、NCW-1001、NCW-1002(富士フイルム和光純薬(株)製)、パイオニンD-6112、D-6112-W、D-6315(竹本油脂(株)製)、オルフィンE1010、サーフィノール104、400、440(日信化学工業(株)製)などが挙げられる。
 シリコーン系界面活性剤としては、DC3PA、SH7PA、DC11PA、SH21PA、SH28PA、SH29PA、SH30PA、SH8400、SH 8400 FLUID、FZ-2122、67 Additive、74 Additive、M Additive、SF 8419 OIL(以上、ダウ・東レ(株)製)、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4460、TSF-4452(以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製)、KP-341、KF-6000、KF-6001、KF-6002、KF-6003(以上、信越化学工業(株)製)、BYK-307、BYK-322、BYK-323、BYK-330、BYK-333、BYK-3760、BYK-UV3510(以上、ビックケミー社製)等が挙げられる。また、シリコーン系界面活性剤には下記構造の化合物を用いることもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 感光性組成物の全固形分中における界面活性剤の含有量は、0.001質量%~5.0質量%であることが好ましく、0.005~3.0質量%であることがより好ましい。界面活性剤は、1種類のみでもよく、2種類以上でもよい。2種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<酸化防止剤>>
 本発明の感光性組成物は、酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物などが挙げられる。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。フェノール性ヒドロキシ基に隣接する部位(オルト位)に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数1~22の置換又は無置換のアルキル基が好ましい。また、酸化防止剤は、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。また、酸化防止剤は、リン系酸化防止剤も好適に使用することができる。感光性組成物の全固形分中における酸化防止剤の含有量は、0.01~20質量%であることが好ましく、0.3~15質量%であることがより好ましい。酸化防止剤を含有する場合、酸化防止剤は1種のみを用いてもよく、2種以上を用いてもよい。2種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<その他成分>>
 本発明の感光性組成物は、必要に応じて、増感剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、可塑剤及びその他の助剤類(例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など)を含有してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、膜物性などの性質を調整することができる。これらの成分は、例えば、特開2012-003225号公報の段落番号0183以降(対応する米国特許出願公開第2013/0034812号明細書の段落番号0237)の記載、特開2008-250074号公報の段落番号0101~0104、0107~0109等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、本発明の感光性組成物は、必要に応じて、潜在酸化防止剤を含有してもよい。潜在酸化防止剤としては、酸化防止剤として機能する部位が保護基で保護された化合物であって、100~250℃で加熱するか、又は酸/塩基触媒存在下で80~200℃で加熱することにより保護基が脱離して酸化防止剤として機能する化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤としては、国際公開第2014/021023号、国際公開第2017/030005号、特開2017-008219号公報に記載された化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤の市販品としては、アデカアークルズGPA-5001((株)ADEKA製)等が挙げられる。また、本発明の感光性組成物は、特開2020-079833号公報に記載の芳香族基含有ホスホニウム塩を含んでいてもよい。
 本発明の感光性組成物は、得られる膜の屈折率を調整するために金属酸化物を含有させてもよい。金属酸化物としては、TiO、ZrO、Al、SiO等が挙げられる。金属酸化物の一次粒子径は1~100nmが好ましく、3~70nmがより好ましく、5~50nmが更に好ましい。金属酸化物はコア-シェル構造を有していてもよい。また、この場合、コア部は中空状であってもよい。
 本発明の感光性組成物は、耐光性改良剤を含んでもよい。耐光性改良剤としては、特開2017-198787号公報の段落番号0036~0037に記載の化合物、特開2017-146350号公報の段落番号0029~0034に記載の化合物、特開2017-129774号公報の段落番号0036~0037、0049~0052に記載の化合物、特開2017-129674号公報の段落番号0031~0034、0058~0059に記載の化合物、特開2017-122803号公報の段落番号0036~0037、0051~0054に記載の化合物、国際公開第2017/164127号の段落番号0025~0039に記載の化合物、特開2017-186546号公報の段落番号0034~0047に記載の化合物、特開2015-025116号公報の段落番号0019~0041に記載の化合物、特開2012-145604号公報の段落番号0101~0125に記載の化合物、特開2012-103475号公報の段落番号0018~0021に記載の化合物、特開2011-257591号公報の段落番号0015~0018に記載の化合物、特開2011-191483号公報の段落番号0017~0021に記載の化合物、特開2011-145668号公報の段落番号0108~0116に記載の化合物、特開2011-253174号公報の段落番号0103~0153に記載の化合物などが挙げられる。
 環境規制の観点から、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩の使用が規制されることがある。本発明の感光性組成物において、上記した化合物の含有率を小さくする場合、パーフルオロアルキルスルホン酸(特にパーフルオロアルキル基の炭素数が6~8のパーフルオロアルキルスルホン酸)及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸(特にパーフルオロアルキル基炭素数が6~8のパーフルオロアルキルカルボン酸)及びその塩の含有率は、感光性組成物の全固形分に対して、0.01ppb~1,000ppbの範囲であることが好ましく、0.05ppb~500ppbの範囲であることがより好ましく、0.1ppb~300ppbの範囲であることが更に好ましい。本発明の感光性組成物は、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩を実質的に含まなくてもよい。例えば、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩の代替となりうる化合物、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩の代替となりうる化合物を用いることで、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩を実質的に含まない組成物を選択してもよい。規制化合物の代替となりうる化合物としては、例えば、パーフルオロアルキル基の炭素数の違いによって規制対象から除外された化合物が挙げられる。ただし、上記した内容は、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩の使用を妨げるものではない。本発明の感光性組成物は、許容される最大の範囲内で、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩を含んでもよい。
 本発明の感光性組成物の含水率は、通常3質量%以下であり、0.01~1.5質量%が好ましく、0.1~1.0質量%の範囲であることがより好ましい。含水率は、カールフィッシャー法にて測定することができる。
 本発明の感光性組成物は、膜面状(平坦性など)の調整、膜厚の調整などを目的として粘度を調整して用いることができる。粘度の値は必要に応じて適宜選択することができるが、例えば、25℃において0.3mPa・s~50mPa・sが好ましく、0.5mPa・s~20mPa・sがより好ましい。粘度の測定方法としては、例えば、コーンプレートタイプの粘度計を使用し、25℃に温度調整を施した状態で測定することができる。
<<収容容器>>
 感光性組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収容容器として、原材料や組成物中への不純物混入を抑制することを目的に、容器内壁を6種6層の樹脂で構成する多層ボトルや6種の樹脂を7層構造にしたボトルを使用することも好ましい。このような容器としては例えば、特開2015-123351号公報に記載の容器が挙げられる。
<感光性組成物の調製方法>
 本発明の感光性組成物は、前述の成分を混合して調製できる。感光性組成物の調製に際しては、全成分を同時に溶剤に溶解および/または分散して感光性組成物を調製してもよいし、必要に応じて、各成分を適宜2つ以上の溶液または分散液としておいて、使用時(塗布時)にこれらを混合して感光性組成物を調製してもよい。
 また、感光性組成物の調製に際して、顔料を分散させるプロセスを含むことが好ましい。顔料を分散させるプロセスにおいて、顔料の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、キャビテーションなどが挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、超音波分散などが挙げられる。またサンドミル(ビーズミル)における顔料の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくする事等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。また、粉砕処理後にろ過、遠心分離などで粗粒子を除去することが好ましい。また、顔料を分散させるプロセスおよび分散機は、「分散技術大全集、株式会社情報機構発行、2005年7月15日」や「サスペンション(固/液分散系)を中心とした分散技術と工業的応用の実際 総合資料集、経営開発センター出版部発行、1978年10月10日」、特開2015-157893号公報の段落番号0022に記載のプロセス及び分散機を好適に使用出来る。また顔料を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて粒子の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、処理条件等は、例えば、特開2015-194521号公報、特開2012-046629号公報の記載を参酌できる。分散に使用するビーズとしては、ジルコニア、メノウ、石英、チタニア、タングステンカーバイト、窒化ケイ素、アルミナ、ステンレス鋼、ガラスまたはそれらの組み合わせを使用できる。また、モース硬度が2以上の無機化合物を使用できる。組成物中に上記ビーズが1~10000ppm含まれていてもよい。
 感光性組成物の調製にあたり、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、感光性組成物をフィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルタであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)等のフッ素樹脂、ナイロン(例えばナイロン-6、ナイロン-6,6)等のポリアミド樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン(PP)等のポリオレフィン樹脂(高密度、超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む)等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン(高密度ポリプロピレンを含む)及びナイロンが好ましい。
 フィルタの孔径は、0.01~7.0μmが好ましく、0.01~3.0μmがより好ましく、0.05~0.5μmが更に好ましい。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物をより確実に除去できる。フィルタの孔径値については、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。フィルタは、日本ポール株式会社(DFA4201NXEY、DFA4201NAEY、DFA4201J006Pなど)、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社(旧日本マイクロリス株式会社)及び株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタを用いることができる。
 また、フィルタとしてファイバ状のろ材を用いることも好ましい。ファイバ状のろ材としては、例えば、ポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられる。市販品としては、ロキテクノ社製のSBPタイプシリーズ(SBP008など)、TPRタイプシリーズ(TPR002、TPR005など)、SHPXタイプシリーズ(SHPX003など)が挙げられる。フィルタを使用する際、異なるフィルタ(例えば、第1のフィルタと第2のフィルタなど)を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、1回のみでもよいし、2回以上行ってもよい。また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。また、第1のフィルタでのろ過は、分散液のみに対して行い、他の成分を混合した後で、第2のフィルタでろ過を行ってもよい。
<膜>
 本発明の膜は、上述した本発明の感光性組成物から得られる膜である。本発明の膜は、カラーフィルタに用いることができる。より具体的にはカラーフィルタの青色画素に好ましく用いることができる。本発明の膜の膜厚は、目的に応じて適宜調整できる。例えば、膜厚は、20μm以下が好ましく、10μm以下がより好ましく、5μm以下がさらに好ましい。膜厚の下限は、0.1μm以上が好ましく、0.2μm以上がより好ましく、0.3μm以上がさらに好ましい。
<カラーフィルタ>
 本発明のカラーフィルタは、上述した本発明の膜を有する。本発明のカラーフィルタは、カラーフィルタの着色画素として、本発明の膜を有することが好ましく、青色画素として本発明の膜を有することがより好ましい。本発明のカラーフィルタは、更に、赤色画素、緑色画素、シアン色画素および黄色画素から選ばれる着色画素を含むことが好ましい。本発明のカラーフィルタの一態様として、本発明の膜で構成された青色画素と、緑色画素と、赤色画素とを有するカラーフィルタが挙げられる。
 本発明のカラーフィルタは、CCD(電荷結合素子)やCMOS(相補型金属酸化膜半導体)などの固体撮像素子や、画像表示装置などに用いることができる。
 本発明のカラーフィルタにおいて膜の膜厚は、目的に応じて適宜調整できる。膜厚は、5μm以下が好ましく、1μm以下がより好ましく、0.6μm以下がさらに好ましい。膜厚の下限は、0.1μm以上が好ましく、0.2μm以上がより好ましく、0.3μm以上がさらに好ましい。
 カラーフィルタに含まれる画素の幅は0.2~10.0μmであることが好ましい。下限は、0.4μm以上であることが好ましく、0.5μm以上であることがより好ましく、0.6μm以上であることが更に好ましい。上限は、5.0μm以下であることが好ましく、2.0μm以下であることがより好ましく、1.0μm以下であることが更に好ましく、0.8μm以下であることがより一層好ましい。また、画素のヤング率は0.5~20GPaであることが好ましく、2.5~15GPaがより好ましい。
 カラーフィルタに含まれる各画素は高い平坦性を有することが好ましい。具体的には、画素の表面粗さRaは、100nm以下であることが好ましく、40nm以下であることがより好ましく、15nm以下であることが更に好ましい。下限は規定されないが、例えば0.1nm以上であることが好ましい。画素の表面粗さは、例えばVeeco社製のAFM(原子間力顕微鏡) Dimension3100を用いて測定することができる。また、画素上の水の接触角は適宜好ましい値に設定することができるが、典型的には、50~110°の範囲である。接触角は、例えば接触角計CV-DT・A型(協和界面科学(株)製)を用いて測定できる。また、画素の体積抵抗値は高いことが好ましい。具体的には、画素の体積抵抗値は10Ω・cm以上であることが好ましく、1011Ω・cm以上であることがより好ましい。上限は規定されないが、例えば1014Ω・cm以下であることが好ましい。画素の体積抵抗値は、例えば超高抵抗計5410(アドバンテスト社製)を用いて測定することができる。
 カラーフィルタにおいては、画素の表面に保護層が設けられていてもよい。保護層を設けることで、酸素遮断化、低反射化、親疎水化、特定波長の光(紫外線、近赤外線等)の遮蔽等の種々の機能を付与することができる。保護層の厚さとしては、0.01~10μmが好ましく、0.1~5μmがより好ましい。保護層の形成方法としては、有機溶剤に溶解した樹脂組成物を塗布して形成する方法、化学気相蒸着法、成型した樹脂を接着材で貼りつける方法等が挙げられる。保護層を構成する成分としては、(メタ)アクリル樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、ポリオール樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アラミド樹脂、ポリアミド樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、変性シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、セルロース樹脂、Si、C、W、Al、Mo、SiO、Siなどが挙げられ、これらの成分を二種以上含有しても良い。例えば、酸素遮断化を目的とした保護層の場合、保護層はポリオール樹脂と、SiOと、Siを含むことが好ましい。また、低反射化を目的とした保護層の場合、保護層は(メタ)アクリル樹脂とフッ素樹脂を含むことが好ましい。
 樹脂組成物を塗布して保護層を形成する場合、樹脂組成物の塗布方法としては、スピンコート法、キャスト法、スクリーン印刷法、インクジェット法等の公知の方法を用いることができる。樹脂組成物に含まれる有機溶剤は、公知の有機溶剤(例えば、プロピレングリコール1-モノメチルエーテル2-アセテート、シクロペンタノン、乳酸エチル等)を用いることが出来る。保護層を化学気相蒸着法にて形成する場合、化学気相蒸着法としては、公知の化学気相蒸着法(熱化学気相蒸着法、プラズマ化学気相蒸着法、光化学気相蒸着法)を用いることができる。
 保護層は、必要に応じて、有機・無機微粒子、特定波長の光(例えば、紫外線、近赤外線等)の吸収剤、屈折率調整剤、酸化防止剤、密着剤、界面活性剤等の添加剤を含有しても良い。有機・無機微粒子の例としては、例えば、高分子微粒子(例えば、シリコーン樹脂微粒子、ポリスチレン微粒子、メラミン樹脂微粒子)、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化インジウム、酸化アルミニウム、窒化チタン、酸窒化チタン、フッ化マグネシウム、中空シリカ、シリカ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等が挙げられる。特定波長の光の吸収剤は公知の吸収剤を用いることができる。これらの添加剤の含有量は適宜調整できるが、保護層の全質量に対して0.1~70質量%が好ましく、1~60質量%がさらに好ましい。
 また、保護層としては、特開2017-151176号公報の段落番号0073~0092に記載の保護層を用いることもできる。
 カラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各画素が埋め込まれた構造を有していてもよい。
<カラーフィルタの製造方法>
 次に、本発明の感光性組成物を用いたカラーフィルタの製造方法について説明する。カラーフィルタの製造方法は、上述した本発明感光性組成物を用いて支持体上に感光性組成物層を形成する工程と、感光性組成物層をパターン状に露光する工程と、感光性組成物層の未露光部を現像除去してパターン(画素)を形成する工程と、を含むことが好ましい。必要に応じて、感光性組成物層をベークする工程(プリベーク工程)、および、現像されたパターン(画素)をベークする工程(ポストベーク工程)を設けてもよい。
 感光性組成物層を形成する工程では、本発明の感光性組成物を用いて、支持体上に感光性組成物層を形成する。支持体としては、特に限定は無く、用途に応じて適宜選択できる。例えば、ガラス基板、シリコン基板などが挙げられ、シリコン基板であることが好ましい。また、シリコン基板には、電荷結合素子(CCD)、相補型金属酸化膜半導体(CMOS)、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、シリコン基板には、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されている場合もある。また、シリコン基板には、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下地層が設けられていてもよい。
 感光性組成物の塗布方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法(ドロップキャスト);スリットコート法;スプレー法;ロールコート法;回転塗布法(スピンコーティング);流延塗布法;スリットアンドスピン法;プリウェット法(たとえば、特開2009-145395号公報に記載されている方法);インクジェット(例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式)、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷などの各種印刷法;金型等を用いた転写法;ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット-特許に見る無限の可能性-、2005年2月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法(特に115ページ~133ページ)や、特開2003-262716号公報、特開2003-185831号公報、特開2003-261827号公報、特開2012-126830号公報、特開2006-169325号公報などに記載の方法が挙げられる。また、感光性組成物の塗布方法については、国際公開第2017/030174号、国際公開第2017/018419号の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
 支持体上に形成した感光性組成物層は、乾燥(プリベーク)してもよい。低温プロセスにより膜を製造する場合は、プリベークを行わなくてもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、150℃以下が好ましく、120℃以下がより好ましく、110℃以下が更に好ましい。下限は、例えば、50℃以上とすることができ、80℃以上とすることもできる。プリベーク時間は、10~300秒が好ましく、40~250秒がより好ましく、80~220秒がさらに好ましい。プリベークは、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。
 次に、感光性組成物層をパターン状に露光する(露光工程)。例えば、感光性組成物層に対し、ステッパー露光機やスキャナ露光機などを用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、パターン状に露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。
 露光に際して用いることができる放射線(光)としては、g線、i線等が挙げられる。また、波長300nm以下の光(好ましくは波長180~300nmの光)を用いることもできる。波長300nm以下の光としては、KrF線(波長248nm)、ArF線(波長193nm)などが挙げられ、KrF線(波長248nm)が好ましい。また、300nm以上の長波な光源も利用できる。
 また、露光に際して、光を連続的に照射して露光してもよく、パルス的に照射して露光(パルス露光)してもよい。なお、パルス露光とは、短時間(例えば、ミリ秒レベル以下)のサイクルで光の照射と休止を繰り返して露光する方式の露光方法のことである。
 照射量(露光量)は、例えば、0.03~2.5J/cmが好ましく、0.05~1.0J/cmがより好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が19体積%以下の低酸素雰囲気下(例えば、15体積%、5体積%、または、実質的に無酸素)で露光してもよく、酸素濃度が21体積%を超える高酸素雰囲気下(例えば、22体積%、30体積%、または、50体積%)で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常1000W/m~100000W/m(例えば、5000W/m、15000W/m、または、35000W/m)の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度10体積%で照度10000W/m、酸素濃度35体積%で照度20000W/mなどとすることができる。
 次に、感光性組成物層の未露光部を現像除去してパターン(画素)を形成する。感光性組成物層の未露光部の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の感光性組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが残る。現像液の温度は、例えば、20~30℃が好ましい。現像時間は、20~180秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を60秒ごとに振り切り、さらに新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。
 現像液は、有機溶剤、アルカリ現像液などが挙げられ、アルカリ現像液が好ましく用いられる。アルカリ現像液としては、アルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液(アルカリ現像液)が好ましい。アルカリ剤としては、例えば、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス(2-ヒドロキシエチル)アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。アルカリ剤は、分子量が大きい化合物の方が環境面および安全面で好ましい。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、0.001~10質量%が好ましく、0.01~1質量%がより好ましい。また、現像液は、さらに界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤としては、上述した界面活性剤が挙げられ、ノニオン性界面活性剤が好ましい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば1.5~100倍の範囲に設定することができる。また、現像後純水で洗浄(リンス)することも好ましい。また、リンスは、現像後の感光性組成物層が形成された支持体を回転させつつ、現像後の感光性組成物層へリンス液を供給して行うことが好ましい。また、リンス液を吐出させるノズルを支持体の中心部から支持体の周縁部に移動させて行うことも好ましい。この際、ノズルの支持体中心部から周縁部へ移動させるにあたり、ノズルの移動速度を徐々に低下させながら移動させてもよい。このようにしてリンスを行うことで、リンスの面内ばらつきを抑制できる。また、ノズルを支持体中心部から周縁部へ移動させつつ、支持体の回転速度を徐々に低下させても同様の効果が得られる。
 現像後、乾燥を施した後に追加露光処理や加熱処理(ポストベーク)を行うことが好ましい。追加露光処理やポストベークは、硬化を完全なものとするための現像後の硬化処理である。ポストベークにおける加熱温度は、例えば100~240℃が好ましく、200~240℃がより好ましい。ポストベークは、現像後の膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン(熱風循環式乾燥機)、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。追加露光処理を行う場合、露光に用いられる光は、波長400nm以下の光であることが好ましい。また、追加露光処理は、韓国公開特許第10-2017-0122130号公報に記載された方法で行ってもよい。
<固体撮像素子>
 本発明の固体撮像素子は、上述した本発明の膜を有する。固体撮像素子の構成としては、本発明の膜を備え、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はないが、例えば、以下のような構成が挙げられる。
 基板上に、固体撮像素子(CCD(電荷結合素子)イメージセンサ、CMOS(相補型金属酸化膜半導体)イメージセンサ等)の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口した遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、カラーフィルタを有する構成である。更に、デバイス保護膜上であってカラーフィルタの下(基板に近い側)に集光手段(例えば、マイクロレンズ等。以下同じ)を有する構成や、カラーフィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、カラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各着色画素が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は各着色画素に対して低屈折率であることが好ましい。このような構造を有する撮像装置の例としては、特開2012-227478号公報、特開2014-179577号公報、国際公開第2018/043654号に記載の装置が挙げられる。また、特開2019-211559号公報の中で示しているように固体撮像素子の構造内に紫外線吸収層を設けて耐光性を改良してもよい。本発明の固体撮像素子を備えた撮像装置は、デジタルカメラや、撮像機能を有する電子機器(携帯電話等)の他、車載カメラや監視カメラ用としても用いることができる。
<画像表示装置>
 本発明の画像表示装置は、上述した本発明の膜を有する。画像表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や各画像表示装置の詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス(佐々木昭夫著、(株)工業調査会、1990年発行)」、「ディスプレイデバイス(伊吹順章著、産業図書(株)平成元年発行)」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術(内田龍男編集、(株)工業調査会、1994年発行)」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。
 以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。以下に示す構造式中のiPrはイソプロピル基を表す。
<微細化顔料の製造>
 下記表に記載の顔料の100質量部、塩化ナトリウムの1200質量部、及びジエチレングリコールの120質量部をステンレス製1ガロンニーダー(井上製作所社製)に仕込み、60℃で4時間混練した。得られた混練組成物を3000質量部の温水に投入し、1時間攪拌してスラリー状とし、ろ過、水洗を繰り返して塩化ナトリウム及びジエチレングリコールを除いた後、80℃で一昼夜乾燥し、下記表に記載の微細化顔料を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000035
<分散液の製造>
 下記表に記載の原料を混合した混合液を、ビーズミル(ジルコニアビーズ0.1mm径)を用いて3時間混合および分散した。次に、減圧機構付き高圧分散機(NANO-3000-10、日本ビーイーイー(株)製)を用いて、圧力2000kg/cmおよび流量500g/minの条件下で分散処理を行なった。この分散処理を全10回繰り返して、各分散液を製造した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000036
 上記中の略語で示す素材の詳細は以下の通りである。
(微細化顔料)
 Pig-1~Pig-5:上述の微細化顔料Pig-1~Pig-5
(顔料誘導体)
 Syn-1:下記構造の化合物(青色の顔料誘導体。400~700nmの波長領域におけるモル吸光係数の最大値が10000L・mol-1・cm-1以上。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
 Syn-2:下記構造の化合物(紫色の顔料誘導体。400~700nmの波長領域におけるモル吸光係数の最大値が10000L・mol-1・cm-1以上。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
 Syn-3:下記構造の化合物(透明な顔料誘導体。波長400~700nmの範囲のモル吸光係数の最大値が3000L・mol-1・cm-1以下。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
 Syn-4:下記構造の化合物(透明な顔料誘導体。波長400~700nmの範囲のモル吸光係数の最大値が3000L・mol-1・cm-1以下。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
 Syn-5:下記構造の化合物(透明な顔料誘導体。波長400~700nmの範囲のモル吸光係数の最大値が3000L・mol-1・cm-1以下。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
 Syn-6:下記構造の化合物(透明な顔料誘導体。波長400~700nmの範囲のモル吸光係数の最大値が3000L・mol-1・cm-1以下。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
 Syn-7:下記構造の化合物(透明な顔料誘導体。波長400~700nmの範囲のモル吸光係数の最大値が3000L・mol-1・cm-1以下。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
(分散剤)
 D-1:下記構造の樹脂(重量平均分子量20000、主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
 D-2:下記構造の樹脂(重量平均分子量800)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
 D-3:下記構造の樹脂(重量平均分子量15000、主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
 D-4:以下に示す樹脂(重量平均分子量8000、酸価37mgKOH/g、エチレン性不飽和結合含有基価0.22mmol/g)
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000047
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
(溶剤)
 S-1:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)
 S-2:シクロペンタノン
 S-3:シクロヘキサノン
<感光性組成物の製造>
 下記の表に記載の原料を混合し、撹拌した後、孔径0.45μmのナイロン製フィルタ(日本ポール(株)製)を用いて、ろ過を行って感光性組成物を製造した。配合量の欄に記載の数値の単位は質量部である。また、各感光性組成物の全固形分中における着色剤と顔料誘導体の合計の含有量を「着色剤と顔料誘導体の合計含有量」の欄に記載する。 
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000051
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000052
 上記中の略語で示す素材の詳細は以下の通りである。
(分散液)
 BB-1~BB-12、BB-c1、BB-c2:上述の分散液BB-1~BB-12、BB-c1、BB-c2
(染料)
 染料1:下記構造の染料(キサンテン染料、重量平均分子量:9000)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
  (樹脂)
 B-1:下記構造の化合物(重量平均分子量:11000、主鎖に付記した数値はモル比である。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
(重合性モノマー)
 M-1:下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
 M-2:下記構造の化合物の混合物(左側化合物(6官能の(メタ)アクリレート化合物)と右側化合物(5官能の(メタ)アクリレート化合物)とのモル比が7:3の混合物)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
(光重合開始剤)
 I-1:下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
 I-2:下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
 I-3:下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
(界面活性剤)
 W-1:KF-6000(シリコーン系界面活性剤、信越化学工業(株)製)
(溶剤)
   S-1:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
<耐光性の評価>
 上記で得られた感光性組成物を、5cm×5cmのガラス基板の上に乾燥後の膜厚が0.6μmになるようにスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレートを用いて100℃で120秒間プリベークし、耐光性評価用の単色のカラーフィルタを得た。このカラーフィルタ上に、化学気相蒸着法により、厚さ100nmのSiO層を形成した。得られた耐光性評価用の単色のカラーフィルタ上に、380nm以下の光をカットする目的でシャープカットフィルター(L38、HOYA(株)製)を載せ、キセノンランプを10万luxで20時間照射(200万lux・h相当)した。キセノンランプ照射の前後での単色のカラーフィルタの色差(ΔE*ab値)を測定し、下記の基準で耐光性を評価した。ΔE*ab値は小さいほど、耐光性に優れているといえる。
 A:ΔE*ab値が3未満
 B:ΔE*ab値が3以上10未満
 C:ΔE*ab値が10以上
<耐湿性の評価>
 上記で得られた感光性組成物を、5cm×5cmのガラス基板の上に乾燥後の膜厚が0.6μmになるようにスピンコート法で塗布し、ホットプレートを用いて100℃で120秒間プリベークし、耐湿性評価用の単色のカラーフィルタを得た。このカラーフィルタ上に、化学気相蒸着法により、厚さ500nmのSiN層を形成した。得られた耐湿性評価用の単色のカラーフィルタを130℃、湿度85%の環境下で96時間放置した。放置前後でのカラーフィルタの色差(ΔE*ab値)を測定し、下記の基準で耐湿性を評価した。ΔE*ab値が小さいほど、耐湿性に優れているといえる。
 A:ΔE*ab値が3未満
 B:ΔE*ab値が3以上10未満
 C:ΔE*ab値が10以上
<保存安定性の評価>
 上記で得られた感光性組成物の25℃の条件での粘度をE型粘度計(東機産業(株)製、RE-85L)にて測定後、感光性組成物を45℃、3日間の条件にて静置した後、再度粘度を測定した。静置前後の感光性組成物の粘度変化率を算出し、下記評価基準に従って保存安定性を評価した。粘度変化率の数値が小さいほど、保存安定性が良好であるといえる。感光性組成物の粘度は25℃に温度調整を施した状態で測定した。評価基準は下記の通りとし、評価結果は下記表に記載した。
 粘度変化率(%)=(|45℃で3日間静置後の感光性組成物の粘度-製造直後の感光性組成物の粘度|/製造直後の感光性組成物の粘度)×100
 A:粘度変化率が10%未満
 B:粘度変化率が10%以上、50%未満
 C:粘度変化率が50%以上
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000060
 上記表に示すように、実施例は比較例よりも耐光性および耐湿性の評価が良好であった。
 実施例12において、分散液と樹脂の添加量を変更し、全固形分中における着色剤と顔料誘導体の合計含有量を45質量%または50質量%に変更した場合も同様の結果が得られた。
 

Claims (16)

  1.  顔料を含む着色剤Aと、顔料誘導体Bと、樹脂Cと、を含む感光性組成物であって、
     前記着色剤Aは青色顔料を含み、
     前記顔料誘導体Bは、透明な顔料誘導体B1と、有彩色の顔料誘導体B2とを含み、
     前記感光性組成物の全固形分中における前記着色剤Aと前記顔料誘導体Bとの合計の含有量が40質量%以上である、感光性組成物。
  2.  前記顔料誘導体B1の400~700nmの波長領域におけるモル吸光係数の最大値が3000L・mol-1・cm-1以下である、請求項1に記載の感光性組成物。
  3.  前記顔料誘導体B2の400~700nmの波長領域におけるモル吸光係数の最大値が10000L・mol-1・cm-1以上である、請求項1または2に記載の感光性組成物。
  4.  前記顔料誘導体B1はトリアジン環を有する化合物である、請求項1または2に記載の感光性組成物。
  5.  前記顔料誘導体B1は、式(A1)で表される基を含む化合物である、請求項1または2に記載の感光性組成物;
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     式(A1)中、*は結合手を表し、
     YaおよびYaは、それぞれ独立して-N(Ra)-または-O-を表し、
     Raは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、
     BおよびBは、それぞれ独立して水素原子または置換基を表す。
  6.  前記顔料誘導体B2は、フタロシアニン化合物である、請求項1または2に記載の感光性組成物。
  7.  前記顔料誘導体B2の極大吸収波長が波長400~700nmの範囲に存在する、請求項1または2に記載の感光性組成物。
  8.  前記青色顔料はフタロシアニン化合物である、請求項1または2に記載の感光性組成物。
  9.  前記着色剤Aは、青色顔料と紫色顔料を含む、請求項1または2に記載の感光性組成物。
  10.  更に重合性モノマーと光重合開始剤とを含む、請求項1または2に記載の感光性組成物。
  11.  前記感光性組成物を用いて膜厚が1μmの膜を形成した際に、前記膜の厚み方向における波長400~500nmの範囲の光の透過率の平均値が55%以上であり、前記膜の厚み方向における波長600~700nmの範囲の光の透過率の平均値が20%以下であり、透過率が50%を示す波長が波長450~550nmの範囲に存在する、請求項1または2に記載の感光性組成物。
  12.  青色の画素形成用の感光性組成物である、請求項1または2に記載の感光性組成物。
  13.  請求項1または2に記載の感光性組成物から得られる膜。
  14.  請求項13に記載の膜を有するカラーフィルタ。
  15.  請求項13に記載の膜を有する固体撮像素子。
  16.  請求項13に記載の膜を有する画像表示装置。
PCT/JP2022/045385 2021-12-17 2022-12-09 感光性組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置 Ceased WO2023112840A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2023567753A JPWO2023112840A1 (ja) 2021-12-17 2022-12-09
US18/667,601 US20240310728A1 (en) 2021-12-17 2024-05-17 Photosensitive composition, film, color filter, solid-state imaging element, and image display device

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021204678 2021-12-17
JP2021-204678 2021-12-17

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US18/667,601 Continuation US20240310728A1 (en) 2021-12-17 2024-05-17 Photosensitive composition, film, color filter, solid-state imaging element, and image display device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2023112840A1 true WO2023112840A1 (ja) 2023-06-22

Family

ID=86774639

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2022/045385 Ceased WO2023112840A1 (ja) 2021-12-17 2022-12-09 感光性組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20240310728A1 (ja)
JP (1) JPWO2023112840A1 (ja)
TW (1) TW202328352A (ja)
WO (1) WO2023112840A1 (ja)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003294935A (ja) * 2002-01-29 2003-10-15 Toyo Ink Mfg Co Ltd カラーフィルタ用着色組成物およびカラーフィルタ
JP2005234478A (ja) * 2004-02-23 2005-09-02 Toyo Ink Mfg Co Ltd カラーフィルタ用着色組成物およびカラーフィルタ
JP2011157511A (ja) * 2010-02-02 2011-08-18 Fujifilm Corp 顔料分散体、これを用いた光硬化性組成物及びカラーフルタ、これに用いられる顔料誘導体及びその製造方法
JP2019133154A (ja) * 2018-01-31 2019-08-08 東洋インキScホールディングス株式会社 感光性着色組成物及びカラーフィルタ
WO2020075569A1 (ja) * 2018-10-11 2020-04-16 富士フイルム株式会社 着色組成物、膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、構造体、固体撮像素子及び画像表示装置
WO2020110873A1 (ja) * 2018-11-27 2020-06-04 富士フイルム株式会社 着色感光性組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003294935A (ja) * 2002-01-29 2003-10-15 Toyo Ink Mfg Co Ltd カラーフィルタ用着色組成物およびカラーフィルタ
JP2005234478A (ja) * 2004-02-23 2005-09-02 Toyo Ink Mfg Co Ltd カラーフィルタ用着色組成物およびカラーフィルタ
JP2011157511A (ja) * 2010-02-02 2011-08-18 Fujifilm Corp 顔料分散体、これを用いた光硬化性組成物及びカラーフルタ、これに用いられる顔料誘導体及びその製造方法
JP2019133154A (ja) * 2018-01-31 2019-08-08 東洋インキScホールディングス株式会社 感光性着色組成物及びカラーフィルタ
WO2020075569A1 (ja) * 2018-10-11 2020-04-16 富士フイルム株式会社 着色組成物、膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、構造体、固体撮像素子及び画像表示装置
WO2020110873A1 (ja) * 2018-11-27 2020-06-04 富士フイルム株式会社 着色感光性組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2023112840A1 (ja) 2023-06-22
TW202328352A (zh) 2023-07-16
US20240310728A1 (en) 2024-09-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2024052779A (ja) 着色組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子及び画像表示装置
JPWO2020013089A1 (ja) 着色組成物、膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子及び画像表示装置
WO2022168743A1 (ja) 樹脂組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子および画像表示装置
WO2021166855A1 (ja) 着色組成物、膜、赤色画素、カラーフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置およびキット
KR102508636B1 (ko) 감광성 조성물, 막, 컬러 필터, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치
WO2022168741A1 (ja) 着色組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および化合物
JP7290731B2 (ja) 着色組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子及び画像表示装置
JPWO2020110873A1 (ja) 着色感光性組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置
JP2024040152A (ja) 着色組成物、膜、カラーフィルタおよび固体撮像素子
JP2024012409A (ja) 着色感光性組成物、硬化物、カラーフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、及び、非対称ジケトピロロピロール化合物
JP7080325B2 (ja) 硬化性組成物、膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置
WO2021166859A1 (ja) 着色組成物、膜、赤色画素、カラーフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置およびキット
WO2022168742A1 (ja) 着色組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および化合物
WO2021149596A1 (ja) 着色組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子及び画像表示装置
JP7383146B2 (ja) 感光性組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子及び画像表示装置
WO2023145700A1 (ja) 赤外線吸収組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびカメラモジュール
WO2023145699A1 (ja) 赤外線吸収組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびカメラモジュール
WO2023037828A1 (ja) 着色組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、及び、化合物
WO2023120387A1 (ja) 樹脂組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子および画像表示装置
WO2023085072A1 (ja) 着色硬化性組成物、硬化物の製造方法、膜、光学素子、イメージセンサ、固体撮像素子、画像表示装置、及び、ラジカル重合開始剤
WO2023120036A1 (ja) 樹脂組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子および画像表示装置
WO2023085056A1 (ja) 硬化性組成物、硬化物の製造方法、膜、光学素子、イメージセンサ、固体撮像素子、画像表示装置、及び、ラジカル重合開始剤
WO2023243414A1 (ja) 樹脂組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子および画像表示装置
WO2023120431A1 (ja) 着色組成物、膜、光学素子、イメージセンサ、固体撮像素子、画像表示装置、及び、カラーフィルタ用顔料
WO2022230625A1 (ja) 着色組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および化合物

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 22907367

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2023567753

Country of ref document: JP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 22907367

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1