WO2023054215A1 - 構造体、構造体の製造方法、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ - Google Patents

構造体、構造体の製造方法、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ Download PDF

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WO2023054215A1
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filter layer
compound
compounds
ring
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洋佑 正木
哲志 宮田
峻輔 北島
良司 折田
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富士フイルム株式会社
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    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00

Definitions

  • the present invention relates to a structure having a support, an optical filter layer provided on the support, and an oxygen shielding film provided on the optical filter layer.
  • the present invention also relates to a structure manufacturing method, a solid-state imaging device, an image display device, and an infrared sensor.
  • CCDs charge-coupled devices
  • CMOSs complementary metal-oxide semiconductors
  • CCDs charge-coupled devices
  • CMOSs complementary metal-oxide semiconductors
  • These solid-state imaging devices use silicon photodiodes that are sensitive to infrared rays in their light receiving portions. For this reason, a near-infrared cut filter layer such as a near-infrared cut filter is sometimes provided to correct visibility (see, for example, Patent Document 1).
  • the near-infrared cut filter layer is sometimes used by laminating a color filter layer on the near-infrared cut filter layer. Further, in recent years, it has been studied to further provide an oxygen shielding film on the laminate of the near-infrared cut filter layer and the color filter layer.
  • the inventor of the present invention has extensively studied a structure in which an oxygen shielding film is further provided on a laminate of a near-infrared cut filter layer and a color filter layer. It was found that the spectral characteristics of the filter layer tend to fluctuate.
  • an object of the present invention is to provide a structure with excellent heat resistance. Another object of the present invention is to provide a structure manufacturing method, a solid-state imaging device, an image display device, and an infrared sensor.
  • the present invention provides the following.
  • the optical filter layer includes a near-infrared cut filter layer formed using a composition for forming a near-infrared cut filter layer containing a near-infrared absorbing dye and a compound having a cyclic ether group, and the near-infrared cut filter layer and thickness and a color filter layer disposed directionally adjacent.
  • the compound having a cyclic ether group is a compound having at least one group selected from an epoxy group and an oxetanyl group.
  • ⁇ 3> The structure according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein the composition for forming a near-infrared cut filter layer has a cyclic ether group value of 0.1 to 2.5 mmol/g in total solid content.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer is applied to a glass substrate, heated at 100° C. for 120 seconds, then exposed to light with a wavelength of 365 nm at an exposure amount of 1000 mJ/cm 2 , and then exposed.
  • the cyclic ether value of the film is 0.1 to 2.5 mmol/g when heated at 220 ° C. for 300 seconds to form a film with a thickness of 0.7 ⁇ m.
  • ⁇ 8> The structure according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>, wherein the near-infrared absorbing dye is at least one selected from pyrrolopyrrole compounds, squarylium compounds and cyanine compounds.
  • a solid-state imaging device having the structure according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 8>.
  • An image display device comprising the structure according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 8>.
  • An infrared sensor comprising the structure according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 8>.
  • the present invention it is possible to provide a structure having excellent heat resistance, a method for manufacturing a structure, a solid-state imaging device, an image display device, and an infrared sensor.
  • FIG. 4 is a schematic diagram showing another aspect of the structure of the present invention.
  • a numerical range represented by "to” means a range including the numerical values before and after “to” as lower and upper limits.
  • a description that does not describe substitution or unsubstituted includes a group (atomic group) having no substituent as well as a group (atomic group) having a substituent.
  • an "alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
  • Exposure includes not only exposure using light but also drawing using particle beams such as electron beams and ion beams, unless otherwise specified.
  • Light used for exposure includes actinic rays or radiation such as emission line spectra of mercury lamps, far ultraviolet rays represented by excimer lasers, extreme ultraviolet rays (EUV light), X-rays, and electron beams.
  • (meth)acrylate represents both or either acrylate and methacrylate
  • (meth)acryl represents both or either acrylic and methacrylic
  • (meth) ) Allyl represents both or either of allyl and methallyl
  • (meth)acryloyl represents both or either of acryloyl and methacryloyl.
  • the weight average molecular weight and number average molecular weight are defined as polystyrene equivalent values in gel permeation chromatography (GPC) measurement.
  • GPC gel permeation chromatography
  • near-infrared rays refer to light (electromagnetic waves) with a wavelength of 700 to 2500 nm.
  • total solid content refers to the total mass of all components of the composition excluding the solvent.
  • step not only represents an independent step, but even if it cannot be clearly distinguished from other steps, if the intended action of the step is achieved, the term include.
  • a structure of the present invention comprises a support, an optical filter layer provided on the support, and an oxygen shielding film provided on the optical filter layer,
  • the optical filter layer includes a near-infrared cut filter layer formed using a composition for forming a near-infrared cut filter layer containing a near-infrared absorbing dye and a compound having a cyclic ether group, and the near-infrared cut filter layer and thickness and color filter layers arranged adjacent to each other in a direction.
  • a near-infrared absorbing dye has a low LUMO (Lowest Unoccupied Molecular Orbital) level and is susceptible to nucleophilic attack because it absorbs at long wavelengths.
  • the inventor of the present invention has extensively studied a structure in which an oxygen shielding film is further provided on a laminate of a near-infrared cut filter layer and a color filter layer. It was found that the spectral characteristics of the filter layer tend to fluctuate.
  • the near-infrared cut filter layer in the optical filter layer of the structure of the present invention is formed using a composition for forming a near-infrared cut filter layer containing a near-infrared absorbing dye and a compound having a cyclic ether group.
  • a composition for forming a near-infrared cut filter layer containing a near-infrared absorbing dye and a compound having a cyclic ether group When the body is heated, even if nucleophilic components such as amines are generated from materials such as resins contained in the near-infrared cut filter layer and color filter layer, the generated nucleophilic components such as amines are removed by the near-infrared cut filter. It is speculated that it can be quenched by compounds with cyclic ether groups contained in the layer, resulting in degradation or modification of the near-infrared absorbing dye.
  • the oxygen shielding film is provided on the optical filter layer, the spectral characteristics of the near-infrared cut filter layer due to heating can be suppressed, and the structure has excellent heat resistance.
  • the support is not particularly limited, and includes semiconductor substrates such as silicon substrates and transparent substrates. Moreover, a charge-coupled device (CCD), a complementary metal oxide semiconductor (CMOS), a transparent conductive film, or the like may be formed on the support. Moreover, a partition wall or a black matrix for isolating each pixel may be formed on the support. In addition, if necessary, an undercoat layer may be provided on the support for improving adhesion to the upper layer, preventing diffusion of substances, or planarizing the surface of the substrate.
  • CCD charge-coupled device
  • CMOS complementary metal oxide semiconductor
  • a partition wall or a black matrix for isolating each pixel may be formed on the support.
  • an undercoat layer may be provided on the support for improving adhesion to the upper layer, preventing diffusion of substances, or planarizing the surface of the substrate.
  • the structure of the present invention has an optical filter layer on the support.
  • This optical filter layer has a near-infrared cut filter layer and a color filter layer arranged adjacent to the near-infrared cut filter layer in the thickness direction.
  • the order of lamination of the near-infrared cut filter layer and the color filter layer is not particularly limited. You may laminate
  • the near-infrared cut filter layer and the color filter layer are preferably in direct contact with each other, but an intermediate layer such as an adhesive layer may be interposed between the near-infrared cut filter layer and the color filter layer.
  • the optical filter layer may further have an infrared transmission filter layer.
  • the optical filter layer further has an infrared transmission filter layer
  • the near-infrared cut filter layer and the color filter layer do not exist on the optical path of the infrared transmission filter layer as in the structure shown in FIG. is preferred. That is, it is preferable that the infrared transmission filter layer is provided on a region different from the region on the support where the laminate of the near-infrared cut filter layer and the color filter layer is provided.
  • the near-infrared cut filter layer is a filter layer formed using a composition for forming a near-infrared cut filter layer containing a near-infrared absorbing dye and a compound having a cyclic ether group.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer will be described later.
  • the near-infrared cut filter layer preferably has a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 700 to 1300 nm, more preferably has a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 700 to 1200 nm, and has a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 700 to 1100 nm. It is more preferable to have an absorption wavelength, and it is particularly preferable to have a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 700 to 1000 nm. Further, for the near-infrared cut filter layer, the ratio A 1 /A 2 between the absorbance A 1 at a wavelength of 500 nm and the absorbance A 2 at the maximum absorption wavelength is preferably 0.08 or less, and is 0.04 or less. is more preferred.
  • the near-infrared cut filter layer preferably satisfies at least one of the following conditions (1) to (4), and more preferably satisfies all of the conditions (1) to (4).
  • the transmittance of light having a wavelength of 400 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, still more preferably 85% or more, and particularly preferably 90% or more.
  • the transmittance of light having a wavelength of 500 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, still more preferably 90% or more, and particularly preferably 95% or more.
  • the transmittance of light having a wavelength of 600 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, still more preferably 90% or more, and particularly preferably 95% or more.
  • the transmittance of light having a wavelength of 650 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, still more preferably 90% or more, and particularly preferably 95% or more.
  • the near-infrared cut filter layer preferably has a minimum transmittance of 70% or more, more preferably 80% or more, and even more preferably 90% or more in the wavelength range of 400 to 650 nm.
  • the transmittance at at least one point in the wavelength range of 700 to 1300 nm is 20% or less. is preferably
  • the thickness of the near-infrared cut filter layer is preferably 20 ⁇ m or less, more preferably 10 ⁇ m or less, even more preferably 5 ⁇ m or less, even more preferably 3 ⁇ m or less, and 1.5 ⁇ m or less. is particularly preferred.
  • the lower limit is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more, and even more preferably 0.3 ⁇ m or more.
  • the color filter layer is preferably a filter layer having colored pixels containing a chromatic colorant. Colored pixels include pixels exhibiting colors such as red, green, blue, yellow, cyan, and magenta.
  • the color filter layer is preferably a filter layer having a plurality of colored pixels. Also, the color filter layer may further have pixels other than colored pixels, such as transparent pixels.
  • the thickness of the color filter layer is preferably 20 ⁇ m or less, more preferably 10 ⁇ m or less, even more preferably 5 ⁇ m or less, even more preferably 3 ⁇ m or less, and 1.5 ⁇ m or less. is particularly preferred.
  • the lower limit is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more, and even more preferably 0.3 ⁇ m or more.
  • One aspect of the color filter layer is a filter layer having at least red pixels, blue pixels and green pixels.
  • the color filter layer can be formed using a composition for forming a color filter layer, which will be described later.
  • the optical filter layer may further have an infrared transmission filter layer.
  • the infrared transmission filter layer include a filter layer having any one of the following spectral characteristics (i1) to (i3).
  • a filter layer having such spectral characteristics can block light in the wavelength range of 400 to 850 nm and transmit light in the wavelength range of 950 nm or more.
  • the maximum transmittance in the wavelength range of 400 to 950 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum transmittance in the wavelength range of 1100 to 1500 nm is A filter layer that is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • a filter layer having such spectral characteristics can block light in the wavelength range of 400 to 950 nm and transmit light in the wavelength range of 1050 nm or more.
  • the maximum transmittance in the wavelength range of 400 to 1050 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum transmittance in the wavelength range of 1200 to 1500 nm is A filter layer that is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • a filter layer having such spectral characteristics can block light in the wavelength range of 400 to 1050 nm and transmit light in the wavelength range of 1150 nm or more.
  • the thickness of the infrared transmission filter layer is preferably 20 ⁇ m or less, more preferably 10 ⁇ m or less, still more preferably 5 ⁇ m or less, even more preferably 3 ⁇ m or less, and 1.5 ⁇ m or less. It is particularly preferred to have The lower limit is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more, and even more preferably 0.3 ⁇ m or more.
  • the infrared transmission filter layer can be formed using a composition for forming an infrared transmission filter layer, which will be described later.
  • the structure of the present invention has an oxygen shielding film on the optical filter layer.
  • the oxygen shielding film is made of inorganic materials such as SiO2 , SiN, Al2O3 , CaO, Fe2O3 , MgO, Ga2O , ZrO2 , TiO2 , CaF2 , tetraethoxysilane, and tetraethyl orthotitanate. , an alkoxy group-containing compound such as tetramethoxysilane, ethyltriethoxysilane, or methyltrimethoxysilane, or an organic polymer.
  • organic polymers examples include polyvinyl alcohol (PVA), polyvinylpyrrolidone, polyacrylamides, water-soluble polyamides, water-soluble salts of polyacrylic acid, polymers of polyvinyl ether and maleic anhydride, ethylene oxide polymers, ethyl cellulose, and hydroxyethyl cellulose. , celluloses such as water-soluble salts of carboxyethyl cellulose, gum arabic, alkoxysilane-containing polymers, and mixtures of two or more of these.
  • PVA polyvinyl alcohol
  • polyvinylpyrrolidone polyacrylamides
  • water-soluble polyamides water-soluble salts of polyacrylic acid
  • polymers of polyvinyl ether and maleic anhydride ethylene oxide polymers
  • ethyl cellulose ethyl cellulose
  • hydroxyethyl cellulose hydroxyethyl cellulose.
  • celluloses such as water-soluble salts of carboxyethyl cellulose
  • the thickness of the oxygen shielding film is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 5 ⁇ m or less, and more preferably 1 ⁇ m or less.
  • the lower limit of the film thickness of the oxygen shielding film is not particularly defined, it can be, for example, 0.05 ⁇ m or more.
  • the oxygen permeability of the oxygen shielding film is preferably 200 ml/m 2 ⁇ day ⁇ atm or less, more preferably 150 ml/m 2 ⁇ day ⁇ atm or less, and 100 ml/m 2 ⁇ day ⁇ atm or less. It is particularly preferred to have Although the lower limit is not particularly limited, it is preferably 0 ml/m 2 ⁇ day ⁇ atm.
  • the oxygen permeability of the oxygen shielding film can be measured, for example, as follows. Model 3600 manufactured by Orbisphere Laboratories Japan Inc. is used as an oxygen electrode. Polyfluoroalkoxy (PFA) 2956A is used as the electrode diaphragm.
  • a thin layer of silicone grease (SH111, manufactured by Dow Corning Toray Co., Ltd.) is applied to the electrode diaphragm, a thin film material to be measured is attached thereon, and the oxygen concentration value is measured. It has been confirmed that the coating film of silicone grease does not affect the oxygen permeation rate. Next, the oxygen permeation rate (ml/m 2 ⁇ day ⁇ atm) for the oxygen concentration value is converted.
  • the oxygen shielding film of the present invention may also function as a refractive index control film.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing one embodiment of the structure of the present invention.
  • This structure comprises a support 110 on which an optical filter layer 120a is arranged.
  • the optical filter layer 120 a has a color filter layer 122 laminated on a near-infrared cut filter layer 121 . That is, the color filter layer 122 is arranged on the incident light h ⁇ side.
  • the color filter layer 122 may have multiple pixels.
  • a microlens 130 is arranged on the optical filter layer 120a, and an oxygen shielding film 140 is provided on the surface of the microlens 130. As shown in FIG.
  • the support 110 may have a charge-coupled device (CCD), a complementary metal-oxide semiconductor (CMOS), a transparent conductive film, or the like formed thereon.
  • the support 110 may be provided with a partition wall or a black matrix that isolates each pixel.
  • an undercoat layer may be provided on the surface of the support 110 .
  • the microlenses 130 are arranged on the optical filter layer 120a, but the microlenses 130 may not be present.
  • an intermediate layer may be further arranged between the microlens 130 and the oxygen shielding film 140 .
  • other layers or members may be further arranged on the surface of the oxygen shielding film 140 .
  • FIG. 1 charge-coupled device
  • CMOS complementary metal-oxide semiconductor
  • the stacking order of the near-infrared cut filter layer 121 and the color filter layer 122 in the optical filter layer 120a may be reversed. That is, the near-infrared cut filter layer 121 may be arranged on the incident light h ⁇ side.
  • FIG. 2 is a schematic diagram showing another embodiment of the structure of the present invention.
  • the structure comprises a support 110 on which an optical filter layer 120b is arranged.
  • the optical filter layer 120 b has a near-infrared cut filter layer 121 , a color filter layer 122 and an infrared transmission filter layer 123 .
  • the color filter layer 122 may have multiple pixels.
  • the color filter layer 122 is laminated on the near-infrared cut filter layer 121 .
  • the infrared transmission filter layer 123 is provided on a region different from the region on the support 110 where the laminate of the near-infrared cut filter layer 121 and the color filter layer 122 is provided.
  • the color filter layer 122 may have multiple pixels.
  • a microlens 130 is arranged on the optical filter layer 120b, and an oxygen shielding film 140 is provided on the surface of the microlens 130.
  • a charge-coupled device (CCD), a complementary metal-oxide semiconductor (CMOS), a transparent conductive film, or the like may be formed on the support 110 .
  • the support 110 may be provided with a partition wall or a black matrix that isolates each pixel.
  • an undercoat layer may be provided on the surface of the support 110 .
  • the microlenses 130 are arranged on the optical filter layer 120b, but the microlenses 130 may not be present.
  • an intermediate layer may be further arranged between the microlens 130 and the oxygen shielding film 140 .
  • other layers or members may be further arranged on the surface of the oxygen shielding film 140 . Also in the structure shown in FIG. 2, the stacking order of the near-infrared cut filter layer 121 and the color filter layer 122 in the optical filter layer 120b may be reversed.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer contains a near-infrared absorbing dye and a compound having a cyclic ether group.
  • the cyclic ether group value of the total solid content of the composition for forming a near-infrared cut filter layer is preferably 0.1 to 2.5 mmol/g.
  • the lower limit is preferably 0.2 mmol/g or more, more preferably 0.3 mmol/g or more, still more preferably 0.5 mmol/g or more, and 1.0 mmol/g or more. is even more preferred.
  • the upper limit is preferably 1.8 mmol/g or less, more preferably 1.5 mmol/g or less. If the cyclic ether group value of the total solid content of the composition for forming a near-infrared cut filter layer is within the above range, the effects of the present invention are exhibited more remarkably.
  • the cyclic ether group value of the total solid content of the composition for forming a near-infrared cut filter layer is a numerical value representing the molar amount of cyclic ether groups per 1 g of the total solid content of the composition for forming a near-infrared cut filter layer. That is.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer was applied to a glass substrate, heated at 100° C. for 120 seconds, and then irradiated with light having a wavelength of 365 nm to obtain 1000 mJ/ cm 2 and then heated at 220° C. for 300 seconds to form a film with a thickness of 0.7 ⁇ m.
  • the lower limit is preferably 0.2 mmol/g or more, more preferably 0.3 mmol/g or more, still more preferably 0.5 mmol/g or more, and 1.0 mmol/g or more. is even more preferred.
  • the upper limit is preferably 1.8 mmol/g or less, more preferably 1.5 mmol/g or less.
  • the cyclic ether value of the total solid content of the composition for forming the near-infrared cut filter layer and the cyclic ether value of the film can be measured by a method such as Fourier transform infrared spectroscopy.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer contains a near-infrared absorbing dye.
  • the near-infrared absorbing dye is preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 700 to 1300 nm, more preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 700 to 1200 nm.
  • a compound having a maximum absorption wavelength in the range of 1100 nm is more preferable, and a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 700 to 1000 nm is particularly preferable.
  • the ratio A500 / Amax between the absorbance A500 at a wavelength of 500 nm and the absorbance Amax at the maximum absorption wavelength of the near-infrared absorbing dye is preferably 0.08 or less, more preferably 0.04 or less. preferable.
  • the near-infrared absorbing dye may be a pigment (hereinafter also referred to as a near-infrared absorbing pigment) or a dye (hereinafter also referred to as a near-infrared absorbing dye). Also, a near-infrared absorbing dye and a near-infrared absorbing pigment may be used together.
  • the near-infrared absorbing dye used in the composition for forming the near-infrared cut filter layer is preferably a near-infrared absorbing dye.
  • Near-infrared absorbing dyes tend to be inferior in heat resistance to near-infrared absorbing pigments. It can be an excellent structure. Therefore, the effects of the present invention can be obtained particularly remarkably when a near-infrared absorbing dye is used as the near-infrared absorbing dye.
  • the solubility of the near-infrared absorbing dye in 100 g of propylene glycol methyl ether acetate at 25°C is preferably 1 g or more, more preferably 2 g or more, and even more preferably 5 g or more.
  • the near-infrared absorbing pigment preferably has a solubility in 100 g of propylene glycol methyl ether acetate at 25° C. of less than 1 g, more preferably 0.1 g or less, and further preferably 0.01 g or less. preferable.
  • Examples of near-infrared absorbing dyes include pyrrolopyrrole compounds, cyanine compounds, squarylium compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, quaterrylene compounds, merocyanine compounds, croconium compounds, oxonol compounds, iminium compounds, dithiol compounds, triarylmethane compounds, pyrromethene compounds, azomethine compounds, anthraquinone compounds, dibenzofuranone compounds, boradiazine compounds, etc., and more preferably at least one selected from pyrrolopyrrole compounds, cyanine compounds, squarylium compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds and boradiazine compounds; It is more preferably at least one selected from pyrrole compounds, cyanine compounds and squarylium compounds, and particularly preferably pyrrolopyrrole compounds.
  • pyrrolopyrrole compound compounds described in paragraph numbers 0016 to 0058 of JP-A-2009-263614, compounds described in paragraph numbers 0037-0052 of JP-A-2011-068731, WO 2015/166873 Compounds described in Paragraph Nos. 0010 to 0033 and the like.
  • examples of the squarylium compound include compounds described in paragraph numbers 0044 to 0049 of JP-A-2011-208101, compounds described in paragraph numbers 0060 to 0061 of Japanese Patent No. 6065169, and paragraph number 0040 of WO 2016/181987.
  • Examples of the squarylium compound and croconium compound include the squarylium compound described in JP-A-2017-197437, the squarylium compound described in JP-A-2017-025311, the squarylium compound described in International Publication No. 2016/154782, and Japanese Patent No. 5884953. No. 6036689, squarylium compounds described in Japanese Patent No. 5810604, squarylium compounds described in paragraphs 0090 to 0107 of International Publication No.
  • boradiazine compounds examples include compounds described in paragraphs 0103 to 0117 of JP-A-2015-040231.
  • cyanine compound compounds described in paragraphs 0044 to 0045 of JP-A-2009-108267, compounds described in paragraphs 0026-0030 of JP-A-2002-194040, and JP-A-2015-172004.
  • phthalocyanine compound examples include compounds described in paragraph number 0093 of JP-A-2012-077153, oxytitanium phthalocyanine described in JP-A-2006-343631, and paragraph numbers 0013 to 0029 of JP-A-2013-195480. compounds, vanadium phthalocyanine compounds described in Japanese Patent No. 6081771, vanadium phthalocyanine compounds described in International Publication No. 2020/071486, and phthalocyanine compounds described in International Publication No. 2020/071470.
  • naphthalocyanine compounds examples include compounds described in paragraph number 0093 of JP-A-2012-077153.
  • the pyrrolopyrrole compound is preferably a compound represented by formula (PP-1).
  • Rp 1 and Rp 2 each independently represent an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group
  • Rp 3 to Rp 6 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • Rp 7 and Rp 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, -BRp 11 Rp 12 or a metal atom
  • Rp 11 and Rp 12 each independently represent a substituent
  • Rp 11 and Rp 12 may combine with each other to form a ring.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group represented by Rp 1 and Rp 2 is preferably 1-30, more preferably 1-20, even more preferably 1-10.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, but preferably linear or branched.
  • the aryl group represented by Rp 1 and Rp 2 preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and still more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the number of carbon atoms constituting the ring of the heteroaryl group represented by Rp 1 and Rp 2 is preferably 1-30, more preferably 1-12.
  • Types of heteroatoms that make up the heteroaryl group include, for example, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom.
  • the number of heteroatoms constituting the heteroaryl group is preferably 1-3, more preferably 1-2.
  • the heteroaryl group is preferably a monocyclic ring or a condensed ring, more preferably a monocyclic ring or a condensed ring with 2 to 8 condensed numbers, and still more preferably a monocyclic ring or a condensed ring with 2 to 4 condensed numbers.
  • the alkyl group, aryl group and heteroaryl group represented by Rp 1 and Rp 2 may have a substituent or may be unsubstituted. Substituents include substituents T shown below. In addition, when the alkyl group, aryl group and heteroaryl group represented by Rp 1 and Rp 2 have two or more substituents, the substituents may combine to form a ring.
  • Rp 1 and Rp 2 are preferably each independently an alkyl group or an aryl group.
  • Preferred embodiments of Rp 1 and Rp 2 include embodiments in which Rp 1 and Rp 2 are each independently an alkyl group.
  • Another preferred embodiment of Rp 1 and Rp 2 is an embodiment in which Rp 1 and Rp 2 are each independently an aryl group.
  • Another preferred embodiment of Rp 1 and Rp 2 is an embodiment in which one of Rp 1 and Rp 2 is an alkyl group and the other is an aryl group.
  • Substituent T includes the following groups.
  • Halogen atom e.g., fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom
  • alkyl group preferably alkyl group having 1 to 30 carbon atoms
  • alkenyl group preferably alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms
  • alkynyl group Preferably an alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms
  • an aryl group preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms
  • a heteroaryl group preferably a heteroaryl group having 1 to 30 carbon atoms
  • an amino group preferably amino group having 0 to 30 carbon atoms
  • alkoxy group preferably alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms
  • aryloxy group preferably aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms
  • heteroaryloxy group preferably carbon 1 to 30 heteroaryloxy groups
  • acyl groups preferably acyl groups having 2 to 30 carbon
  • Rp 3 to Rp 6 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • substituents include the substituent T described above.
  • one of R3 and R4 is a heteroaryl group and the other is an electron-withdrawing group.
  • one of R5 and R6 is preferably a heteroaryl group and the other is an electron-withdrawing group.
  • a substituent having a positive Hammett's ⁇ p value acts as an electron-withdrawing group.
  • a substituent having a Hammett's ⁇ p value of 0.2 or more can be exemplified as an electron-withdrawing group.
  • the ⁇ p value is preferably 0.25 or more, more preferably 0.3 or more, and particularly preferably 0.35 or more.
  • the upper limit is not particularly limited, it is preferably 0.80 or less.
  • electron-withdrawing groups include a cyano group (0.66), a carboxy group (-COOH: 0.45), an alkoxycarbonyl group (e.g., -COOCH 3 : 0.45), an aryloxycarbonyl group ( For example, —COOCH 3 : 0.44), carbamoyl group (for example —CONH 2 : 0.36), alkylcarbonyl group (for example —COCH 3 : 0.50), arylcarbonyl group (for example —COPh: 0 .43), alkylsulfonyl groups (eg —SO 2 CH 3 : 0.72), arylsulfonyl groups (eg —SO 2 Ph: 0.68), and the like.
  • the electron-withdrawing group is preferably a cyano group, an alkylcarbonyl group, an alkylsulfonyl group and an arylsulfonyl group, more preferably a cyano group. That is, one of R 1 and R 2 and one of R 3 and R 4 in Formula (1) are each preferably a cyano group.
  • Ph represents a phenyl group.
  • Hammett's ⁇ p value can be referred to paragraphs 0024 to 0025 of JP-A-2009-263614, the contents of which are incorporated herein.
  • the number of carbon atoms is preferably 1-30, more preferably 1-12.
  • Types of heteroatoms that constitute the heteroaryl group include, for example, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom.
  • the number of heteroatoms constituting the heteroaryl group is preferably 1-3, more preferably 1-2.
  • the heteroaryl group is preferably a monocyclic ring or a condensed ring, more preferably a monocyclic ring or a condensed ring with 2 to 8 condensed numbers, and still more preferably a monocyclic ring or a condensed ring with 2 to 4 condensed numbers.
  • the heteroaryl group may be unsubstituted or may have a substituent. Examples of the substituent include the groups described for the substituent T described above.
  • Rp 7 and Rp 8 in formula (PP-1) each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, -BRp 11 Rp 12 or a metal atom, and is -BRp 11 Rp 12 is preferred.
  • the substituents represented by Rp 11 and Rp 12 in the group represented by -BRp 11 Rp 12 include a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an alkoxy group, an aryloxy group and a heteroaryloxy group.
  • a halogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group is preferred, a halogen atom, an alkyl group or an aryl group is more preferred, and an aryl group is even more preferred.
  • a halogen atom includes a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, with a fluorine atom being preferred.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group and alkoxy group is preferably 1-20, more preferably 1-15, even more preferably 1-8.
  • Alkyl groups and alkoxy groups may be linear, branched or cyclic, but are preferably linear or branched.
  • the alkyl group and alkoxy group may have a substituent or may be unsubstituted. Substituents include aryl groups, heteroaryl groups, halogen atoms, and the like.
  • the alkenyl group preferably has 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 15 carbon atoms, and still more preferably 2 to 8 carbon atoms.
  • the alkenyl group may have a substituent or may be unsubstituted.
  • Substituents include alkoxy groups, aryl groups, heteroaryl groups, halogen atoms and the like.
  • the aryl group and the aryloxy group preferably have 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the aryl group and aryloxy group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of substituents include alkyl groups, alkoxy groups, and halogen atoms.
  • a heteroaryl group and a heteroaryloxy group may be monocyclic or condensed.
  • the number of heteroatoms constituting the heteroaryl ring of the heteroaryl group and heteroaryloxy group is preferably 1 to 3.
  • a heteroatom constituting the heteroaryl ring is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of carbon atoms constituting the heteroaryl ring is preferably 1-30, more preferably 1-18, even more preferably 1-12.
  • the heteroaryl ring is preferably a 5- or 6-membered ring.
  • a heteroaryl group and a heteroaryloxy group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of substituents include alkyl groups, alkoxy groups, and halogen atoms.
  • Rp 11 and Rp 12 in the group represented by -BRp 11 Rp 12 may combine with each other to form a ring.
  • Examples of the ring to be formed include structures represented by formulas (B-1) to (B-5).
  • Rb represents a substituent
  • Rb 1 to Rb 4 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • b1 to b3 each independently represent an integer of 0 to 4
  • b4 is 0 to It represents an integer of 6
  • * represents a link.
  • Substituents represented by Rb and Rb 1 to Rb 4 include the groups exemplified for the substituent T described above, preferably halogen atoms, alkyl groups and alkoxy groups.
  • the pyrrolopyrrole compound is also preferably a compound represented by formula (PP-2).
  • Lp 21 represents an n-valent linking group
  • Rp 21 represents an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group
  • Rp 22 to Rp 25 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • Rp 26 and Rp 27 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, -BRp 31 Rp 32 or a metal atom
  • Rp 31 and Rp 32 each independently represent a substituent
  • Rp 31 and Rp 32 may combine with each other to form a ring
  • n represents an integer of 2 or more.
  • n in formula (PP-2) represents an integer of 2 or more, preferably an integer of 2 to 4, more preferably 2.
  • the n-valent linking group represented by Lp 21 of formula (PP-2) includes an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, a heterocyclic group, -O-, -S-, -CO-, and -COO- , -OCO-, -SO 2 -, -NR L -, -NR L CO-, -CONR L -, -NR L SO 2 -, -SO 2 NR L - and groups consisting of combinations thereof.
  • RL represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
  • the number of carbon atoms in the aliphatic hydrocarbon group is preferably 1-20, more preferably 2-20, still more preferably 2-10, and particularly preferably 2-5.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be linear, branched or cyclic. Moreover, the cyclic aliphatic hydrocarbon group may be either monocyclic or polycyclic. The number of carbon atoms in the aromatic hydrocarbon group is preferably 6-18, more preferably 6-14, even more preferably 6-10.
  • the aromatic hydrocarbon group is preferably a monocyclic or condensed ring aromatic hydrocarbon group having 2 to 4 condensed rings.
  • the aromatic hydrocarbon group is preferably a benzene ring group.
  • the heterocyclic group is preferably a monocyclic ring or a condensed ring having 2 to 4 condensed rings. The number of heteroatoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1-3.
  • a heteroatom constituting the ring of the heterocyclic group is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of carbon atoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1-30, more preferably 1-18, and more preferably 1-12.
  • the aliphatic hydrocarbon group, aromatic hydrocarbon group and heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent include the groups exemplified for the substituent T described above.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group represented by R 1 L is preferably 1-20, more preferably 1-15, even more preferably 1-8.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the alkyl group represented by RL may further have a substituent.
  • substituents include the substituent T described above.
  • the aryl group represented by R L preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and still more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the aryl group represented by RL may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described above.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group represented by Rp 21 in formula (PP-2) is preferably 1-30, more preferably 1-20, even more preferably 1-10.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, but preferably linear or branched.
  • the number of carbon atoms in the aryl group represented by Rp 21 in formula (PP-2) is preferably 6-30, more preferably 6-20, and even more preferably 6-12.
  • the number of carbon atoms constituting the ring of the heteroaryl group represented by Rp 21 of formula (PP-2) is preferably 1-30, more preferably 1-12.
  • Types of heteroatoms that make up the heteroaryl group include, for example, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom.
  • the number of heteroatoms constituting the heteroaryl group is preferably 1-3, more preferably 1-2.
  • the heteroaryl group is preferably a monocyclic ring or a condensed ring, more preferably a monocyclic ring or a condensed ring with 2 to 8 condensed numbers, and still more preferably a monocyclic ring or a condensed ring with 2 to 4 condensed numbers.
  • the alkyl group, aryl group and heteroaryl group represented by Rp 21 in formula (PP-2) may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the substituent T described above.
  • the alkyl group, aryl group and heteroaryl group represented by Rp 21 may combine to form a ring.
  • Rp 21 in formula (PP-2) is preferably an alkyl group or an aryl group.
  • Rp 22 to Rp 25 in formula (PP-2) each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • substituents include the substituent T described above.
  • one of R22 and R23 is a heteroaryl group and the other is an electron-withdrawing group.
  • one of R 24 and R 25 is preferably a heteroaryl group and the other is an electron-withdrawing group.
  • Examples of the electron-withdrawing group include the groups described above, and a cyano group is preferred.
  • the heteroaryl group is a heteroaryl group represented by either one of R 3 and R 4 in formula (PP-1), and a heteroaryl group represented by either one of R 5 and R 6 in formula (PP-1). and the preferred ranges are also the same.
  • Rp 26 and Rp 27 in formula (PP-2) each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, -BRp 31 Rp 32 or a metal atom, and -BRp 31 Rp 32 is preferred.
  • Rp 31 and Rp 32 in the group represented by -BRp 31 Rp 32 in formula (PP-2) Rp 11 in the group represented by -BRp 11 Rp 12 in formula (PP-1) and the groups described as the substituents represented by Rp 12 , and the preferred ranges are also the same.
  • Rp 31 and Rp 32 in the group represented by -BRp 31 Rp 32 may combine with each other to form a ring. Examples of the ring to be formed include structures represented by formulas (B-1) to (B-5) described above.
  • the squarylium compound is preferably a compound represented by the following formula (SQ).
  • a 1 and A 2 each independently represent an aryl group, a heteroaryl group or a group represented by formula (A-1);
  • Z 1 represents a nonmetallic atomic group forming a nitrogen-containing heterocyclic ring
  • R 2 represents an alkyl group, an alkenyl group or an aralkyl group
  • d represents 0 or 1
  • a wavy line represents a link.
  • the aryl group represented by A 1 and A 2 preferably has 6 to 48 carbon atoms, more preferably 6 to 24 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the heteroaryl group represented by A 1 and A 2 is preferably a 5- or 6-membered ring. Further, the heteroaryl group is preferably a monocyclic ring or a condensed ring having 2 to 8 condensed numbers, more preferably a monocyclic ring or a condensed ring having 2 to 4 condensed numbers. Two or three condensed rings are more preferred.
  • the heteroatom constituting the ring of the heteroaryl group is exemplified by a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, preferably a nitrogen atom and a sulfur atom.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heteroaryl group is preferably 1-3, more preferably 1-2.
  • the aryl group and heteroaryl group may have a substituent.
  • the aryl group and heteroaryl group may have two or more substituents, the multiple substituents may be the same or different.
  • Substituents include halogen atoms, cyano groups, nitro groups, alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, heteroaryl groups, aralkyl groups, —OR 10 , —COR 11 , —COOR 12 , —OCOR 13 , — NR 14 R 15 , —NHCOR 16 , —CONR 17 R 18 , —NHCONR 19 R 20 , —NHCOOR 21 , —SR 22 , —SO 2 R 23 , —SO 2 OR 24 , —NHSO 2 R 25 or —SO 2 NR 26 R 27 can be mentioned.
  • R 10 to R 27 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heteroaryl group or an aralkyl group.
  • R 12 of —COOR 12 is a hydrogen atom
  • the hydrogen atom may be dissociated or in a salt state.
  • R 24 of —SO 2 OR 24 is a hydrogen atom
  • the hydrogen atom may be dissociated or in a salt state.
  • the halogen atom includes a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1-20, more preferably 1-15, even more preferably 1-8.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched.
  • the alkenyl group preferably has 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 8 carbon atoms.
  • the alkenyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched.
  • the alkynyl group preferably has 2 to 40 carbon atoms, more preferably 2 to 30 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 25 carbon atoms.
  • the alkynyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched.
  • the number of carbon atoms in the aryl group is preferably 6-30, more preferably 6-20, even more preferably 6-12.
  • the alkyl portion of the aralkyl group is the same as the alkyl group described above.
  • the aryl portion of the aralkyl group is the same as the above aryl group.
  • the number of carbon atoms in the aralkyl group is preferably 7-40, more preferably 7-30, even more preferably 7-25.
  • the heteroaryl group is preferably a single ring or a condensed ring with 2 to 8 condensed numbers, more preferably a monocyclic ring or a condensed ring with 2 to 4 condensed numbers.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heteroaryl group is preferably 1-3.
  • a heteroatom constituting the ring of the heteroaryl group is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • a heteroaryl group is preferably a 5- or 6-membered ring.
  • the number of carbon atoms constituting the ring of the heteroaryl group is preferably 3-30, more preferably 3-18, and more preferably 3-12.
  • Alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aralkyl groups, aryl groups and heteroaryl groups may have a substituent or may be unsubstituted. Substituents include the substituents described above.
  • R 2 represents an alkyl group, an alkenyl group or an aralkyl group, preferably an alkyl group.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1-30, more preferably 1-20, even more preferably 1-12, and particularly preferably 2-8.
  • the alkenyl group preferably has 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, and still more preferably 2 to 12 carbon atoms.
  • the alkyl group and alkenyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched.
  • the aralkyl group preferably has 7 to 30 carbon atoms, more preferably 7 to 20 carbon atoms.
  • the nitrogen-containing heterocyclic ring formed by Z 1 is preferably a 5- or 6-membered ring.
  • the nitrogen-containing heterocyclic ring is preferably a single ring or a condensed ring having 2 to 8 condensed numbers, more preferably a monocyclic ring or a condensed ring having 2 to 4 condensed numbers, and more preferably a condensed ring having 2 or 3 condensed numbers.
  • the nitrogen-containing heterocyclic ring may contain a sulfur atom in addition to the nitrogen atom.
  • the nitrogen-containing heterocyclic ring may have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described above.
  • the squarylium compound is preferably a compound represented by Formula (SQ-1).
  • Ring A and ring B each independently represent an aromatic ring
  • X A and X B each independently represent a substituent
  • G A and G B each independently represent a substituent
  • kA represents an integer from 0 to n A
  • kB represents an integer from 0 to n B
  • n A and n B each represents the maximum integer substitutable for ring A or ring B
  • X A and G A , and X B and G B may be bonded to each other to form a ring, and when there are a plurality of each of G A and GB , they may be bonded to each other to form a ring structure.
  • Substituents represented by G A and G B include the substituents described in formula (SQ) above.
  • the substituents represented by X A and X B include the substituents described in the above formula (SQ), preferably a group having an active hydrogen, such as —OH, —SH, —COOH, —SO 3 H, — NR X1 R X2 , -NHCOR X1 , -CONR X1 R X2 , -NHCONR X1 R X2 , -NHCOOR X1 , -NHSO 2 R X1 , -B(OH) 2 and -PO(OH) 2 are more preferred, and -OH , —SH and —NR X1 R X2 are more preferred.
  • an active hydrogen such as —OH, —SH, —COOH, —SO 3 H, — NR X1 R X2 , -NHCOR X1 , -CONR X1 R X2 , -NHCONR X1 R X2 , -NHCOOR
  • R X1 and R X2 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • substituents include alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, and heteroaryl groups, with alkyl groups being preferred.
  • Alkyl groups are preferably linear or branched. The details of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, and heteroaryl group are the same as those described above in the section on substituents.
  • Ring A and ring B each independently represent an aromatic ring.
  • the aromatic ring may be monocyclic or condensed.
  • Specific examples of aromatic rings include benzene ring, naphthalene ring, pentalene ring, indene ring, azulene ring, heptalene ring, indacene ring, perylene ring, pentacene ring, acenaphthene ring, phenanthrene ring, anthracene ring, naphthacene ring and chrysene ring.
  • triphenylene ring fluorene ring, biphenyl ring, pyrrole ring, furan ring, thiophene ring, imidazole ring, oxazole ring, thiazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, indolizine ring, indole ring, benzofuran ring, benzothiophene ring, isobenzofuran ring, quinolidine ring, quinoline ring, phthalazine ring, naphthyridine ring, quinoxaline ring, quinoxazoline ring, isoquinoline ring, carbazole ring, phenanthridine ring, acridine ring, phenanthroline ring, thianthrene ring, chromene ring, xanthene ring ring, phenoxathiin ring, pheno
  • X A and G A , and X B and G B may combine with each other to form a ring, and when there are a plurality of each of G A and GB , they may combine with each other to form a ring.
  • a 5- or 6-membered ring is preferred.
  • the ring may be monocyclic or condensed.
  • X A and G A , X B and G B , G A or G B are bonded to each other to form a ring, these may be directly bonded to form a ring, and an alkylene group, —CO—
  • a ring may be formed by bonding through a divalent linking group consisting of -O-, -NH-, -BR- and combinations thereof.
  • R represents a hydrogen atom or a substituent.
  • substituents described in formula (SQ) above and an alkyl group or an aryl group is preferable.
  • kA represents an integer of 0 to nA
  • kB represents an integer of 0 to nB
  • nA represents the maximum substitutable integer for ring A
  • nB represents the maximum substitutable integer for ring B.
  • kA and kB are each independently preferably 0 to 4, more preferably 0 to 2, and particularly preferably 0 to 1.
  • the cyanine compound is preferably a compound represented by formula (C).
  • Formula (C) In the formula, Z 1 and Z 2 are each independently a non-metallic atomic group forming an optionally condensed 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring, R 101 and R 102 each independently represent an alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aralkyl group or aryl group; L 1 represents a methine chain with an odd number of methine groups, a and b are each independently 0 or 1; When a is 0, the carbon atom and the nitrogen atom are bonded with a double bond, and when b is 0, the carbon atom and the nitrogen atom are bonded with a single bond, When the site represented by Cy in the formula is a cation moiety, X 1 represents an anion, c represents a number necessary to balance the charge, and the site represented by Cy in the formula is an anion moiety. , X 1 represents a cation, c
  • Z 1 and Z 2 each independently represent a non-metallic atomic group forming an optionally fused 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring.
  • the nitrogen-containing heterocycle may be condensed with another heterocycle, aromatic ring or aliphatic ring.
  • the nitrogen-containing heterocyclic ring is preferably a 5-membered ring.
  • a structure in which a benzene ring or a naphthalene ring is condensed with a 5-membered nitrogen-containing heterocyclic ring is more preferable.
  • nitrogen-containing heterocycles include oxazole ring, isoxazole ring, benzoxazole ring, naphthoxazole ring, oxazolocarbazole ring, oxazolodibenzofuran ring, thiazole ring, benzothiazole ring, naphthothiazole ring, indolenine ring, Benzoindolenine ring, imidazole ring, benzimidazole ring, naphthimidazole ring, quinoline ring, pyridine ring, pyrrolopyridine ring, furopyrrole ring, indolizine ring, imidazoquinoxaline ring, quinoxaline ring, etc., quinoline ring, indolenine ring , benzoindolenine ring, benzoxazole ring, benzothiazole ring and benzimidazole ring are preferred, and indol
  • R 101 and R 102 each independently represent an alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aralkyl group or aryl group. These preferred ranges are the same as the ranges described for formula (SQ).
  • Alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aralkyl groups and aryl groups may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the substituents described for the formula (SQ).
  • L 1 represents a methine chain with an odd number of methine groups.
  • L 1 is preferably a methine chain with 3, 5 or 7 methine groups.
  • a methine group may have a substituent.
  • the substituted methine group is preferably the central (meso position) methine group.
  • substituents include the substituents described for formula (SQ) and the groups represented by formula (a). Also, two substituents on the methine chain may combine to form a 5- or 6-membered ring.
  • * represents a linking portion with a methine chain
  • A1 represents -O-.
  • a and b are each independently 0 or 1.
  • a is 0, a carbon atom and a nitrogen atom are bonded with a double bond
  • b is 0, a carbon atom and a nitrogen atom are bonded with a single bond.
  • Both a and b are preferably zero. Note that when both a and b are 0, the formula (C) is expressed as follows.
  • X1 represents an anion
  • c represents a number necessary to balance the charge.
  • anions include halide ions (Cl ⁇ , Br ⁇ , I ⁇ ), paratoluenesulfonate, ethylsulfate, PF 6 ⁇ , BF 4 ⁇ , ClO 4 ⁇ , tris(halogenoalkylsulfonyl)methide anions (such as , (CF 3 SO 2 ) 3 C ⁇ ), di(halogenoalkylsulfonyl)imide anions (eg (CF 3 SO 2 ) 2 N ⁇ ), tetracyanoborate anions, and the like.
  • X 1 represents a cation
  • c represents a number necessary to balance the charge.
  • alkali metal ions Li + , Na + , K + etc.
  • alkaline earth metal ions Mg 2+ , Ca 2+ , Ba 2+ , Sr 2+ etc.
  • transition metal ions Alkaline earth metal ions
  • Al 3+ etc. transition metal ions
  • ammonium ion triethylammonium ion, tributylammonium ion, pyridinium ion, tetrabutylammonium ion, guanidinium ion, tetramethylguanidinium ion um ion, diazabicycloundecenium ion, and the like.
  • Preferred cations are Na + , K + , Mg 2+ , Ca 2+ , Zn 2+ and diazabicycloundecenium ions.
  • X 1 does not exist when the charge of the site represented by Cy in the formula is neutralized in the molecule. That is, c is 0.
  • the cyanine compounds are also preferably compounds represented by the following formulas (C-1) to (C-3).
  • R 1A , R 2A , R 1B and R 2B each independently represent an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group or an aryl group
  • L 1A and L 1B each independently represent a methine chain having an odd number of methine groups
  • Y 1 and Y 2 each independently represent -S-, -O-, -NR X1 - or -CR X2 R X3 -
  • R X1 , R X2 and R X3 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group
  • V 1A , V 2A , V 1B and V 2B each independently represent a substituent
  • m1 and m2 each independently represent 0 to 4,
  • X 1 represents an anion
  • c represents the number necessary to balance the charge
  • R 1A , R 2A , R 1B and R 2B are synonymous with the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aralkyl group and aryl group described for R 101 and R 102 in formula (C), and preferred ranges is also the same.
  • Y 1 and Y 2 each independently represent -S-, -O-, -NR X1 - or -CR X2 R X3 -, preferably -NR X1 -.
  • R X1 , R X2 and R X3 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, preferably an alkyl group.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1-10, more preferably 1-5, and particularly preferably 1-3.
  • the alkyl group may be linear, branched, or cyclic, preferably linear or branched, and particularly preferably linear.
  • the alkyl group is particularly preferably a methyl group or an ethyl group.
  • L 1A and L 1B have the same definition as L 1 in Formula (C), and the preferred ranges are also the same.
  • the substituents represented by V 1A , V 2A , V 1B and V 2B include the substituents described in formula (SQ).
  • m1 and m2 each independently represent 0 to 4, preferably 0 to 2.
  • the anion and cation represented by X1 are synonymous with the ranges described for X1 in formula (C), and the preferred ranges are also the same.
  • commercial products can also be used as near-infrared absorbing dyes.
  • SDO-C33 manufactured by Arimoto Chemical Industry Co., Ltd.
  • eX Color IR-14 eX Color IR-10A
  • eX Color TX-EX-801B eX Color TX-EX-805K
  • the content of the near-infrared absorbing dye in the total solid content of the composition for forming a near-infrared cut filter layer is preferably 3% by mass or more, and preferably 3 to 40% by mass.
  • the upper limit is preferably 35% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, and even more preferably 25% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer may contain only one type of near-infrared absorbing dye, or may contain two or more types. When two or more near-infrared absorbing dyes are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer contains a compound having a cyclic ether group.
  • the compound having a cyclic ether group is preferably a compound having at least one group selected from an epoxy group and an oxetanyl group, and more preferably a compound having an epoxy group.
  • the epoxy group may be a cycloaliphatic epoxy group.
  • the alicyclic epoxy group means a monovalent functional group having a cyclic structure in which an epoxy ring and a saturated hydrocarbon ring are condensed.
  • the cyclic ether group value of the compound having a cyclic ether group is preferably 1.0 to 15.0 mmol/g.
  • the lower limit is preferably 2.0 mmol/g or more, more preferably 3.0 mmol/g or more, and even more preferably 5.0 mmol/g or more.
  • the upper limit is preferably 12.0 mmol/g or less, more preferably 10.0 mmol/g or less.
  • the cyclic ether group value of a compound having a cyclic ether group is a value calculated by dividing the number of cyclic ether groups contained in the compound having a cyclic ether group by the molecular weight of the compound having a cyclic ether group.
  • the acid value of the compound having a cyclic ether group is preferably 150 mgKOH/g or less, more preferably 100 mgKOH/g or less, still more preferably 50 mgKOH/g or less, and 10 mgKOH/g or less. is more preferred, and 1 mgKOH/g or less is particularly preferred. According to this aspect, the effects of the present invention are exhibited more remarkably.
  • the weight average molecular weight of the compound having a cyclic ether group is preferably 5,000 to 50,000.
  • the upper limit is preferably 30,000 or less, more preferably 25,000 or less, even more preferably 20,000 or less, and even more preferably 18,000 or less.
  • the lower limit is preferably 6000 or more, more preferably 8000 or more.
  • a compound having a cyclic ether group is preferably a compound having no acid group. Moreover, the compound having a cyclic ether group is preferably a compound containing no silicon atom, and more preferably a compound containing no alkoxysilyl group.
  • the compound having a cyclic ether group is preferably a compound containing repeating units having a cyclic ether group.
  • Repeating units having a cyclic ether group include repeating units represented by formula (ep-1).
  • X e1 represents a trivalent linking group
  • L e1 represents a single bond or a divalent linking group
  • Z e1 represents a cyclic ether group
  • the trivalent linking group represented by X a1 in formula (ep-1) includes a poly(meth)acrylic linking group, a polyalkyleneimine linking group, a polyester linking group, a polyurethane linking group, a polyurea linking group, A polyamide-based linking group, a polyether-based linking group, a polystyrene-based linking group, a bisphenol-based linking group, a novolak-based linking group, and the like.
  • a bisphenol-based linking group and a novolac-based linking group are preferable, and a polyether-based linking group, a novolak-based linking group and a poly(meth)acrylic-based linking group are more preferable, and a poly(meth)acrylic-based linking group is preferable. It is even more preferable to have
  • the divalent linking group represented by L e1 in formula (ep-1) includes an alkylene group (preferably an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms), an arylene group (preferably an arylene group having 6 to 20 carbon atoms), - NH—, —SO—, —SO 2 —, —CO—, —O—, —COO—, —OCO—, —S— and groups in which two or more of these are combined.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched.
  • the alkylene group may have a substituent or may be unsubstituted. A hydroxy group, an alkoxy group, etc. are mentioned as a substituent.
  • the cyclic ether group represented by Z e1 in formula (ep-1) includes an epoxy group and an oxetanyl group, preferably an epoxy group.
  • the repeating unit represented by formula (ep-1) is preferably a repeating unit represented by formula (ep-1-1).
  • R e1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • L e1 represents a single bond or a divalent linking group
  • Z e1 represents a cyclic ether group.
  • L e1 and Z e1 in formula (ep-1-1) are synonymous with L e1 and Z e1 in formula (ep-1).
  • the content of the repeating unit represented by formula (ep-1) in the compound containing repeating units having a cyclic ether group is 30 mol% or more of all repeating units in the compound containing repeating units having a cyclic ether group. is preferably 60 mol % or more, more preferably 80 mol % or more, and even more preferably 90 mol % or more.
  • the upper limit can be 100 mol %, or 99 mol % or less.
  • the compound containing repeating units having a cyclic ether group preferably does not contain repeating units other than the repeating unit represented by formula (ep-1).
  • the compound containing a repeating unit having a cyclic ether group may further contain a repeating unit represented by formula (ep-2).
  • X e2 represents a trivalent linking group
  • L e2 represents a single bond or a divalent linking group
  • Y e2 represents an alkyl group or an aryl group.
  • X a2 and L a2 in formula (ep-2) include the groups described as X a1 and L a1 in formula (ep-1), and the preferred ranges are also the same.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group represented by Y e2 is preferably 1-30, more preferably 1-20, even more preferably 1-10.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, but preferably linear or branched.
  • the aryl group represented by Y e2 preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and still more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the repeating unit represented by formula (ep-2) is preferably a repeating unit represented by formula (ep-2-1).
  • R e2 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • L e2 represents a single bond or a divalent linking group
  • Y e2 represents a cyclic ether group.
  • L e2 and Y e2 in formula (ep-2-1) are synonymous with L e2 and Y e2 in formula (ep-2).
  • the content of the repeating unit represented by formula (ep-2) in the compound containing repeating units having a cyclic ether group is 50 mol% or less of all repeating units in the compound containing repeating units having a cyclic ether group. is preferably 30 mol % or less, more preferably 10 mol % or less, and even more preferably 5 mol % or less.
  • the lower limit can be 0 mol %, or 1 mol % or more.
  • Examples of commercial products of compounds having a cyclic ether group include EPICLON HP5000 and EPICLON HP4032D (manufactured by DIC Corporation) as naphthalene-modified epoxy resins.
  • Examples of alkyldiphenol-type epoxy resins include EPICLON 820 (manufactured by DIC Corporation).
  • jER825, jER827, jER828, jER834, jER1001, jER1002, jER1003, jER1055, jER1007, jER1009, jER1010 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), EPICLON860, EPICLON1050, EPICLON1051, EPICLON1055 (and Co., Ltd.) and the like.
  • Phenol novolac type epoxy resins include jER152, jER154, jER157S70, jER157S65 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), EPICLON N-740, EPICLON N-770, EPICLON N-775 (manufactured by DIC Corporation), and the like. mentioned.
  • EPICLON N-660, EPICLON N-665, EPICLON N-670, EPICLON N-673, EPICLON N-680, EPICLON N-690, EPICLON N-695 (manufactured by DIC Corporation) as cresol novolak type epoxy resins , and EOCN-1020 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).
  • ADEKA RESIN EP-4080S, EP-4085S, EP-4088S manufactured by ADEKA Corporation
  • Celoxide 2021P Celoxide 2081, Celoxide 2083, Celoxide 2085, EHPE3150, EPOLEAD PB 3600, EPOLEAD PB 4700 (manufactured by Daicel Corporation), Denacol EX-212L, EX-214L, EX-216L, EX-321L, EX-850L (manufactured by Nagase ChemteX Corporation) and the like.
  • OXT-101, OXT-121, OXT-212, OXT-221 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • OXE-10, OXE-30 manufactured by Osaka Organic Chemical Industry ( Co., Ltd.) and the like.
  • compounds described in paragraph numbers 0034 to 0036 of JP-A-2013-011869, compounds described in paragraph numbers 0147-0156 of JP-A-2014-043556, in particular Compounds described in paragraph numbers 0085 to 0092 of JP 2014-089408, compounds described in JP 2017-179172, compounds described in paragraph numbers 0117 to 0120 of JP 2020-515680 can also be used.
  • the content of the compound having a cyclic ether group in the total solid content of the composition for forming a near-infrared cut filter layer is preferably 5 to 50% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 40% by mass or less, more preferably 35% by mass or less, even more preferably 30% by mass or less, and even more preferably 25% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 10% by mass or more, more preferably 15% by mass or more, and even more preferably 20% by mass or more.
  • the content of the compound having a cyclic ether group is preferably 1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the near-infrared absorbing dye.
  • the upper limit is preferably 25 parts by mass or less, more preferably 20 parts by mass or less, even more preferably 15 parts by mass or less, and even more preferably 10 parts by mass or less.
  • the lower limit is preferably 3 parts by mass or more, more preferably 5 parts by mass or more.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer may contain only one type of compound having a cyclic ether group, or may contain two or more types thereof. When two or more compounds having a cyclic ether group are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the near-infrared cut filter layer-forming composition may further contain a dye derivative.
  • Dye derivatives are used as dispersing aids.
  • a dispersing aid is a material that enhances the dispersibility of the pigment in the composition.
  • the near-infrared cut filter layer-forming composition further contains a resin such as a dispersant, a network can be formed between the pigment, the dispersing aid, and the resin to improve the dispersibility of the pigment.
  • the dye derivative includes a compound having a structure in which an acid group or a basic group is bonded to a dye skeleton, and a compound having a structure in which an acid group is bonded to a dye skeleton (hereinafter also referred to as an acidic dye derivative). preferable.
  • dye skeletons constituting dye derivatives include squarylium dye skeleton, pyrrolopyrrole dye skeleton, diketopyrrolopyrrole dye skeleton, quinacridone dye skeleton, anthraquinone dye skeleton, dianthraquinone dye skeleton, benzoisoindole dye skeleton, and thiazineindigo dye skeleton.
  • azo dye skeleton, quinophthalone dye skeleton, phthalocyanine dye skeleton, naphthalocyanine dye skeleton, dioxazine dye skeleton, perylene dye skeleton, perinone dye skeleton, benzimidazolone dye skeleton, benzothiazole dye skeleton, benzimidazole dye skeleton and benzoxazole dye skeleton A squarylium dye skeleton, a pyrrolopyrrole dye skeleton, a diketopyrrolopyrrole dye skeleton, a phthalocyanine dye skeleton, a quinacridone dye skeleton and a benzimidazolone dye skeleton are preferred.
  • the acid group includes a carboxy group, a sulfo group, a phosphoric acid group, a boronic acid group, a carboxylic acid amide group, a sulfonic acid amide group, an imidic acid group and salts thereof.
  • Atoms or atomic groups constituting the salt include alkali metal ions (Li + , Na + , K + etc.), alkaline earth metal ions (Ca 2+ , Mg 2+ etc.), ammonium ions, imidazolium ions, pyridinium ions, phosphonium ion and the like.
  • the carboxylic acid amide group a group represented by —NHCOR A1 is preferable.
  • sulfonic acid amide group a group represented by —NHSO 2 R A2 is preferable.
  • the imidic acid group is preferably a group represented by -SO 2 NHSO 2 R A3 , -CONHSO 2 R A4 , -CONHCOR A5 or -SO 2 NHCOR A6 , more preferably -SO 2 NHSO 2 R A3 .
  • R A1 to R A6 each independently represent an alkyl group or an aryl group.
  • the alkyl groups and aryl groups represented by R A1 to R A6 may have substituents.
  • the substituent is preferably a halogen atom, more preferably a fluorine atom.
  • Basic groups include amino groups, pyridinyl groups and salts thereof, salts of ammonium groups, and phthalimidomethyl groups.
  • Atoms or atomic groups constituting salts include hydroxide ions, halogen ions, carboxylate ions, sulfonate ions, and phenoxide ions.
  • the content of the dye derivative is preferably 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the near-infrared absorbing dye.
  • the lower limit is preferably 3 parts by mass or more, more preferably 5 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 40 parts by mass or less, more preferably 30 parts by mass or less.
  • the dye derivative contained in the composition for forming a near-infrared cut filter layer is preferably only an acidic dye derivative.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer may contain only one type of dye derivative, or may contain two or more types. When two or more dye derivatives are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer preferably contains a polymerizable compound.
  • the polymerizable compound include compounds having an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • ethylenically unsaturated bond-containing groups include vinyl groups, (meth)allyl groups, and (meth)acryloyl groups.
  • the polymerizable compound is preferably a compound polymerizable by radicals (radical polymerizable compound).
  • the molecular weight of the polymerizable compound is preferably 100-2000.
  • the upper limit is preferably 1500 or less, more preferably 1000 or less.
  • the lower limit is more preferably 150 or more, even more preferably 250 or more.
  • the polymerizable compound is preferably a compound having substantially no molecular weight distribution.
  • the compound having substantially no molecular weight distribution is preferably a compound having a degree of dispersion (weight average molecular weight (Mw)/number average molecular weight (Mn)) of 1.0 to 1.5. 1.0 to 1.3 is more preferable.
  • the polymerizable compound is preferably a compound containing two or more ethylenically unsaturated bond-containing groups, more preferably a compound containing three or more ethylenically unsaturated bond-containing groups, containing an ethylenically unsaturated bond A compound containing 3 to 15 groups is more preferable, and a compound containing 3 to 6 ethylenically unsaturated bond-containing groups is even more preferable.
  • the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group is preferably a 3- to 15-functional (meth)acrylate compound, more preferably a 3- to 6-functional (meth)acrylate compound.
  • dipentaerythritol tri(meth)acrylate (commercially available as KAYARAD D-330; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol tetra(meth)acrylate (commercially available as KAYARAD D-320 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol penta(meth)acrylate (as a commercial product, KAYARAD D-310; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol hexa(meth)acrylate (as a commercial product, KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., NK Ester A-DPH-12E; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), and their (meth)acryloyl groups via ethylene glycol and/or propylene glycol residues
  • Compounds of conjugated structures (eg SR454,
  • diglycerin EO ethylene oxide modified (meth) acrylate
  • pentaerythritol tetraacrylate manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK Ester A -TMMT
  • 1,6-hexanediol diacrylate manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD HDDA
  • RP-1040 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • Aronix TO-2349 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • NK Oligo UA-7200 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • 8UH-1006, 8UH-1012 manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.
  • light acrylate POB-A0 manufactured by Kyoe
  • trimethylolpropane tri(meth)acrylate trimethylolpropane propylene oxide-modified tri(meth)acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide-modified tri(meth)acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide-modified tri(meth)acrylate, penta
  • trifunctional (meth)acrylate compounds such as erythritol tri(meth)acrylate.
  • Commercial products of trifunctional (meth)acrylate compounds include Aronix M-309, M-310, M-321, M-350, M-360, M-313, M-315, M-306 and M-305.
  • M-303, M-452, M-450 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • a polymerizable compound having an acid group can also be used as the polymerizable compound.
  • the acid group includes a carboxy group, a sulfo group, a phosphoric acid group and the like, and a carboxy group is preferred.
  • Commercially available polymerizable compounds having an acid group include Aronix M-305, M-510, M-520 and Aronix TO-2349 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.).
  • the acid value of the polymerizable compound having an acid group is preferably 0.1-40 mgKOH/g, more preferably 5-30 mgKOH/g.
  • a polymerizable compound having a caprolactone structure can also be used as the polymerizable compound.
  • Polymerizable compounds having a caprolactone structure are commercially available from Nippon Kayaku Co., Ltd. under the KAYARAD DPCA series, including DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, and DPCA-120.
  • a polymerizable compound having an alkyleneoxy group can also be used as the polymerizable compound.
  • the polymerizable compound having an alkyleneoxy group is preferably a polymerizable compound having an ethyleneoxy group and/or a propyleneoxy group, more preferably a polymerizable compound having an ethyleneoxy group. More preferably, it is a tri- to hexa-functional (meth)acrylate compound having up to 20 groups.
  • Examples of commercially available polymerizable compounds having an alkyleneoxy group include SR-494, a tetrafunctional (meth)acrylate having four ethyleneoxy groups manufactured by Sartomer Co., Ltd., and 3 isobutyleneoxy groups manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYARAD TPA-330, which is a unique trifunctional (meth)acrylate, and the like.
  • a polymerizable compound having a fluorene skeleton can also be used as the polymerizable compound.
  • Commercially available polymerizable compounds having a fluorene skeleton include Ogsol EA-0200 and EA-0300 (manufactured by Osaka Gas Chemicals Co., Ltd., (meth)acrylate monomers having a fluorene skeleton).
  • polymerizable compound it is also preferable to use a polymerizable compound that does not substantially contain environmentally regulated substances such as toluene.
  • Commercially available products of such polymerizable compounds include KAYARAD DPHA LT and KAYARAD DPEA-12 LT (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).
  • polymerizable compound examples include urethane acrylates such as those described in JP-B-48-041708, JP-A-51-037193, JP-B-02-032293, JP-B-02-016765, Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-58-049860, JP-B-56-017654, JP-B-62-039417 and JP-B-62-039418 are also suitable. It is also preferable to use a polymerizable compound having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909 and JP-A-01-105238.
  • the polymerizable compound includes UA-7200 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), DPHA-40H (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), UA-306H, UA-306T, UA-306I, AH-600, Commercially available products such as T-600, AI-600, LINC-202UA (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) can also be used.
  • the content of the polymerizable compound in the total solid content of the near-infrared cut filter layer-forming composition is preferably 0.1 to 50% by mass.
  • the lower limit is preferably 1% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, still more preferably 10% by mass or more, and even more preferably 15% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 45% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, even more preferably 35% by mass or less, and particularly preferably 30% by mass or less.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer may contain only one type of polymerizable compound, or may contain two or more types. When two or more polymerizable compounds are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer contains a polymerizable compound
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer preferably further contains a photopolymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator is not particularly limited and can be appropriately selected from known photopolymerization initiators. For example, compounds having photosensitivity to light in the ultraviolet region to the visible region are preferred.
  • the photopolymerization initiator is preferably a photoradical polymerization initiator.
  • photopolymerization initiators include halogenated hydrocarbon derivatives (e.g., compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.), acylphosphine compounds, hexaarylbiimidazole compounds, oxime compounds, organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds and the like.
  • halogenated hydrocarbon derivatives e.g., compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.
  • acylphosphine compounds e.g., acylphosphine compounds, hexaarylbiimidazole compounds, oxime compounds, organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds and the like.
  • photopolymerization initiators include trihalomethyltriazine compounds, benzyldimethylketal compounds, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds, acylphosphine compounds, phosphine oxide compounds, metallocene compounds, oxime compounds, hexaarylbi imidazole compounds, onium compounds, benzothiazole compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds, cyclopentadiene-benzene-iron complexes, halomethyloxadiazole compounds and 3-aryl-substituted coumarin compounds, oxime compounds, ⁇ -hydroxyketones compounds, ⁇ -aminoketone compounds, and acylphosphine compounds, more preferably oxime compounds.
  • hexaarylbiimidazole compounds include 2,2′,4-tris(2-chlorophenyl)-5-(3,4-dimethoxyphenyl)-4,5-diphenyl-1,1′-biimidazole, etc. is mentioned.
  • ⁇ -hydroxyketone compounds include Omnirad 184, Omnirad 1173, Omnirad 2959, Omnirad 127 (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 184, Irgacure 1173, Irgacure 2959, Irgacure 127 (above company) and the like.
  • ⁇ -aminoketone compounds include Omnirad 907, Omnirad 369, Omnirad 369E, Omnirad 379EG (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure 369E, Irgacure 379EG (manufactured by Irgacure 369E, Irgacure 379EG). made), etc.
  • acylphosphine compounds include Omnirad 819, Omnirad TPO (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 819 and Irgacure TPO (manufactured by BASF).
  • Examples of oxime compounds include compounds described in JP-A-2001-233842, compounds described in JP-A-2000-080068, compounds described in JP-A-2006-342166, J. Am. C. S. Compounds described in Perkin II (1979, pp.1653-1660); C. S. Compounds described in Perkin II (1979, pp.156-162), compounds described in Journal of Photopolymer Science and Technology (1995, pp.202-232), compounds described in JP-A-2000-066385, Compounds described in JP-A-2004-534797, compounds described in JP-A-2006-342166, compounds described in JP-A-2017-019766, compounds described in Patent No. 6065596, International Publication No.
  • oxime compounds include 3-benzoyloxyiminobutane-2-one, 3-acetoxyiminobutane-2-one, 3-propionyloxyiminobutane-2-one, 2-acetoxyiminopentane-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3-(4-toluenesulfonyloxy)iminobutan-2-one, and 2-ethoxycarbonyloxy and imino-1-phenylpropan-1-one.
  • An oxime compound having a fluorene ring can also be used as the photopolymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorene ring include compounds described in JP-A-2014-137466, compounds described in Japanese Patent No. 6636081, and compounds described in Korean Patent Publication No. 10-2016-0109444. be done.
  • an oxime compound having a skeleton in which at least one benzene ring of the carbazole ring is a naphthalene ring can also be used.
  • Specific examples of such oxime compounds include compounds described in WO2013/083505.
  • An oxime compound having a fluorine atom can also be used as the photopolymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorine atom include compounds described in JP-A-2010-262028, compounds 24, 36 to 40 described in JP-A-2014-500852, and JP-A-2013-164471. and the compound (C-3) of.
  • An oxime compound having a nitro group can be used as the photopolymerization initiator.
  • the oxime compound having a nitro group is also preferably a dimer.
  • Specific examples of the oxime compound having a nitro group include the compounds described in paragraph numbers 0031 to 0047 of JP-A-2013-114249 and paragraph numbers 0008-0012 and 0070-0079 of JP-A-2014-137466; Compounds described in paragraphs 0007 to 0025 of Japanese Patent No. 4223071 and ADEKA Arkles NCI-831 (manufactured by ADEKA Corporation) can be mentioned.
  • An oxime compound having a benzofuran skeleton can also be used as the photopolymerization initiator.
  • Specific examples include OE-01 to OE-75 described in WO 2015/036910.
  • an oxime compound in which a substituent having a hydroxyl group is bonded to the carbazole skeleton can also be used.
  • Examples of such a photopolymerization initiator include the compounds described in International Publication No. 2019/088055.
  • oxime compounds include the compounds shown below.
  • the oxime compound is preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 350 to 500 nm, more preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 360 to 480 nm.
  • the molar extinction coefficient of the oxime compound at a wavelength of 365 nm or a wavelength of 405 nm is preferably high from the viewpoint of sensitivity, more preferably 1000 to 300000, further preferably 2000 to 300000, even more preferably 5000 to 200000. It is particularly preferred to have
  • the molar extinction coefficient of a compound can be measured using known methods. For example, it is preferably measured at a concentration of 0.01 g/L using an ethyl acetate solvent with a spectrophotometer (Cary-5 spectrophotometer manufactured by Varian).
  • a bifunctional or trifunctional or higher functional photoradical polymerization initiator may be used as the photopolymerization initiator.
  • a radical photopolymerization initiator two or more radicals are generated from one molecule of the radical photopolymerization initiator, so good sensitivity can be obtained.
  • the crystallinity is lowered, the solubility in a solvent or the like is improved, the precipitation becomes difficult over time, and the stability over time of the composition can be improved.
  • Specific examples of bifunctional or trifunctional or higher photoradical polymerization initiators include Japanese Patent Publication No. 2010-527339, Japanese Patent Publication No. 2011-524436, International Publication No.
  • the content of the photopolymerization initiator in the total solid content of the composition for forming a near-infrared cut filter layer is preferably 0.1 to 40% by mass.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more, and even more preferably 2% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 35% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, even more preferably 25% by mass or less, and particularly preferably 20% by mass or less.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer may contain only one type of photopolymerization initiator, or may contain two or more types. When two or more photopolymerization initiators are included, the total amount thereof preferably falls within the above range.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer can further contain a resin other than the compound having a cyclic ether group described above.
  • the resin is blended, for example, for the purpose of dispersing particles such as pigment in the composition and for the purpose of binder.
  • a resin that is mainly used to disperse particles such as pigments is also called a dispersant.
  • such uses of the resin are only examples, and the resin can be used for purposes other than such uses.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the resin is preferably 2,000 to 2,000,000.
  • the upper limit is preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less.
  • the lower limit is preferably 3000 or more, more preferably 5000 or more.
  • resins examples include (meth)acrylic resins, ene-thiol resins, polycarbonate resins, polyether resins, polyarylate resins, polysulfone resins, polyethersulfone resins, polyphenylene resins, polyarylene ether phosphine oxide resins, polyimide resins, polyamide resins, Polyamidoimide resins, polyolefin resins, cyclic olefin resins, polyester resins, styrene resins, vinyl acetate resins, polyvinyl alcohol resins, polyvinyl acetal resins, polyurethane resins, polyurea resins, and the like. One of these resins may be used alone, or two or more may be mixed and used.
  • norbornene resin is preferable from the viewpoint of improving heat resistance.
  • Commercially available norbornene resins include, for example, the ARTON series manufactured by JSR Corporation (for example, ARTON F4520). Further, as the resin, the resin described in the examples of International Publication No.
  • a resin having a fluorene skeleton can also be preferably used.
  • the description of US Patent Application Publication No. 2017/0102610 can be referred to, the content of which is incorporated herein.
  • the resin the resin described in paragraphs 0199 to 0233 of JP-A-2020-186373, the alkali-soluble resin described in JP-A-2020-186325, and the Korean Patent Publication No. 10-2020-0078339.
  • a resin represented by the formula 1 can also be used.
  • a resin having an acid group examples include carboxy groups, phosphoric acid groups, sulfo groups, and phenolic hydroxy groups.
  • a resin having an acid group can also be used as an alkali-soluble resin.
  • the acid value of the resin having acid groups is preferably 30-500 mgKOH/g.
  • the lower limit is preferably 40 mgKOH/g or more, more preferably 50 mgKOH/g or more.
  • the upper limit is preferably 400 mgKOH/g or less, more preferably 300 mgKOH/g or less, and even more preferably 200 mgKOH/g or less.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the acid group-containing resin is preferably 5,000 to 100,000, more preferably 5,000 to 50,000.
  • the number average molecular weight (Mn) of the resin having an acid group is preferably 1,000 to 20,000.
  • the resin having an acid group preferably contains a repeating unit having an acid group on its side chain, and more preferably contains 5 to 70 mol % of repeating units having an acid group on its side chain in all repeating units of the resin.
  • the upper limit of the content of repeating units having an acid group in a side chain is preferably 50 mol % or less, more preferably 30 mol % or less.
  • the lower limit of the content of repeating units having an acid group in the side chain is preferably 10 mol % or more, more preferably 20 mol % or more.
  • the resin is derived from a monomer component containing a compound represented by the following formula (ED1) and/or a compound represented by the following formula (ED2) (hereinafter, these compounds may be referred to as an "ether dimer"). It is also preferable to use a resin containing a repeating unit that
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent.
  • R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms.
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 21 and R 22 each independently represent an alkylene group
  • n represents an integer of 0-15.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group represented by R 21 and R 22 is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, even more preferably 1 to 3, particularly 2 or 3.
  • n represents an integer of 0 to 15, preferably an integer of 0 to 5, more preferably an integer of 0 to 4, and even more preferably an integer of 0 to 3.
  • Examples of the compound represented by formula (X) include ethylene oxide- or propylene oxide-modified (meth)acrylate of paracumylphenol.
  • Commercially available products include Aronix M-110 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.).
  • a fluororesin having an ethylenically unsaturated bond-containing group in its side chain can also be used. Specific examples include compounds described in paragraph numbers 0050 to 0090 and paragraph numbers 0289 to 0295 of JP-A-2010-164965, MEGAFACE RS-101, RS-102 and RS-718K manufactured by DIC Corporation, and RS-72-K. By using such a resin, uneven distribution of the near-infrared absorbing dye on the surface can be suppressed.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer can also contain a resin as a dispersant.
  • a pigment when used as the near-infrared absorbing dye, it preferably contains a dispersant.
  • Dispersants include acidic dispersants (acidic resins) and basic dispersants (basic resins).
  • the acidic dispersant (acidic resin) represents a resin in which the amount of acid groups is greater than the amount of basic groups.
  • the acidic dispersant (acidic resin) a resin having an acid group content of 70 mol % or more is preferable when the total amount of the acid group and the basic group is 100 mol %.
  • the acid group possessed by the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a carboxy group.
  • the acid value of the acidic dispersant (acidic resin) is preferably 10-105 mgKOH/g.
  • a basic dispersant (basic resin) represents a resin in which the amount of basic groups is greater than the amount of acid groups.
  • the basic dispersant (basic resin) a resin containing more than 50 mol % of basic groups is preferable when the total amount of acid groups and basic groups is 100 mol %.
  • the basic group possessed by the basic dispersant is preferably an amino group.
  • the resin used as the dispersant preferably contains a repeating unit having an acid group.
  • the resin used as the dispersant contains a repeating unit having an acid group, it is possible to further reduce the residue generated on the base of the pixels during pattern formation by photolithography.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a graft resin.
  • graft resin for details of the graft resin, reference can be made to paragraphs 0025 to 0094 of JP-A-2012-255128, the contents of which are incorporated herein.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a polyimine-based dispersant containing nitrogen atoms in at least one of its main chain and side chains.
  • the polyimine-based dispersant has a main chain having a partial structure having a functional group with a pKa of 14 or less and a side chain having 40 to 10,000 atoms, and at least one of the main chain and the side chain has a basic nitrogen atom.
  • a resin having The basic nitrogen atom is not particularly limited as long as it is a nitrogen atom exhibiting basicity.
  • the description in paragraphs 0102 to 0166 of JP-A-2012-255128 can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a resin having a structure in which a plurality of polymer chains are bonded to the core.
  • resins include, for example, dendrimers (including star polymers). Further, specific examples of dendrimers include polymer compounds C-1 to C-31 described in paragraphs 0196 to 0209 of JP-A-2013-043962.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a resin containing a repeating unit having an ethylenically unsaturated bond-containing group in its side chain.
  • the content of repeating units having an ethylenically unsaturated bond-containing group in the side chain is preferably 10 mol% or more, more preferably 10 to 80 mol%, more preferably 20 to 70, of the total repeating units of the resin. More preferably, it is mol %.
  • resins described in JP-A-2018-087939, block copolymers (EB-1) to (EB-9) described in paragraphs 0219 to 0221 of Japanese Patent No. 6432077, Polyethyleneimine having a polyester side chain described in International Publication No. 2016/104803, a block copolymer described in International Publication No. 2019/125940, a block polymer having an acrylamide structural unit described in JP-A-2020-066687 , a block polymer having an acrylamide structural unit described in JP-A-2020-066688, a dispersant described in WO 2016/104803, and the like can also be used.
  • Dispersants are also available as commercial products, and specific examples thereof include DSIPERBYK series manufactured by BYK-Chemie (for example, DSIPERBYK-111, 140, 161, 2001, 2026, etc.), Nippon Lubrizol Co., Ltd. Solsperse series (for example, Solsperse 20000, 76500, etc.) manufactured by Ajinomoto Fine-Techno Co., Inc., and Ajisper series manufactured by Ajinomoto Fine-Techno Co., Inc., and the like.
  • the product described in paragraph number 0129 of JP-A-2012-137564 and the product described in paragraph number 0235 of JP-A-2017-194662 can also be used as a dispersant.
  • the content of the resin in the total solid content of the composition for forming a near-infrared cut filter layer is preferably 1 to 70% by mass.
  • the lower limit is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, still more preferably 20% by mass or more, and particularly preferably 25% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 65% by mass or less, more preferably 50% by mass or less, and even more preferably 40% by mass or less.
  • the content of the resin having an acid group in the total solid content of the composition for forming a near-infrared cut filter layer is preferably 1 to 70% by mass.
  • the lower limit is preferably 2% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, still more preferably 5% by mass or more, even more preferably 10% by mass or more, and 20% by mass. More preferably, it is 25% by mass or more, and particularly preferably 25% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 65% by mass or less, more preferably 50% by mass or less, even more preferably 40% by mass or less, and particularly preferably 30% by mass or less.
  • the content of the dispersant is preferably 10 to 300 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the near-infrared absorbing dye.
  • the lower limit is preferably 20 parts by mass or more, more preferably 50 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 200 parts by mass or less, more preferably 150 parts by mass or less.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer may contain only one type of resin, or may contain two or more types. When two or more resins are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer preferably contains a solvent.
  • the solvent include water and organic solvents, and organic solvents are preferred.
  • Organic solvents include ester-based solvents, ketone-based solvents, alcohol-based solvents, amide-based solvents, ether-based solvents, and hydrocarbon-based solvents.
  • Ester-based solvents substituted with cyclic alkyl groups and ketone-based solvents substituted with cyclic alkyl groups can also be preferably used.
  • organic solvents include polyethylene glycol monomethyl ether, dichloromethane, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2 -heptanone, 2-pentanone, 3-pentanone, 4-heptanone, cyclohexanone, 2-methylcyclohexanone, 3-methylcyclohexanone, 4-methylcyclohexanone, cycloheptanone, cyclooctanone, cyclohexyl acetate, cyclopentanone, ethylcarbitol Acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxy-N,N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N
  • aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc.) as organic solvents may be better reduced for environmental reasons (e.g., 50 mass ppm (parts per million), 10 mass ppm or less, or 1 mass ppm or less).
  • an organic solvent with a low metal content it is preferable to use an organic solvent with a low metal content, and the metal content of the organic solvent is preferably, for example, 10 mass ppb (parts per billion) or less. If necessary, an organic solvent with a ppt (parts per trillion) mass level may be used, and such an organic solvent is provided by, for example, Toyo Gosei Co., Ltd. (Chemical Daily, November 13, 2015).
  • Examples of methods for removing impurities such as metals from organic solvents include distillation (molecular distillation, thin film distillation, etc.) and filtration using a filter.
  • the filter pore size of the filter used for filtration is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 5 ⁇ m or less, and even more preferably 3 ⁇ m or less.
  • the material of the filter is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene or nylon.
  • the organic solvent may contain isomers (compounds with the same number of atoms but different structures). Moreover, only one isomer may be contained, or a plurality of isomers may be contained.
  • the content of peroxide in the organic solvent is preferably 0.8 mmol/L or less, and more preferably substantially free of peroxide.
  • the content of the solvent in the near-infrared cut filter layer-forming composition is preferably 10 to 97% by mass.
  • the lower limit is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, still more preferably 50% by mass or more, even more preferably 60% by mass or more, and 70% by mass. It is particularly preferable that it is above.
  • the upper limit is preferably 96% by mass or less, more preferably 95% by mass or less.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer may contain only one type of solvent, or may contain two or more types. When two or more solvents are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer preferably further contains a surfactant.
  • a surfactant various surfactants such as fluorine-based surfactants, nonionic surfactants, cationic surfactants, anionic surfactants and silicone surfactants can be used.
  • the surfactant is preferably a silicone-based surfactant or a fluorine-based surfactant.
  • Surfactants include those described in paragraphs 0238-0245 of WO2015/166779, the contents of which are incorporated herein.
  • JP 2014-041318 Paragraph Nos. 0060 to 0064 (corresponding International Publication No. 2014/017669 Paragraph Nos. 0060 to 0064) surfactants described in, JP 2011- Examples include surfactants described in paragraphs 0117 to 0132 of JP-A-132503 and surfactants described in JP-A-2020-008634, the contents of which are incorporated herein.
  • Commercially available fluorosurfactants include Megafac F-171, F-172, F-173, F-176, F-177, F-141, F-142, F-143 and F-144.
  • fluorine-based surfactant there is also an acrylic compound that has a molecular structure with a functional group containing a fluorine atom, and when heat is applied, the portion of the functional group containing the fluorine atom is cleaved and the fluorine atom volatilizes. It can be used preferably.
  • fluorine-based surfactants include Megafac DS series manufactured by DIC Corporation (The Chemical Daily (February 22, 2016), Nikkei Sangyo Shimbun (February 23, 2016)), for example, Megafac and DS-21.
  • fluorosurfactant it is also preferable to use a polymer of a fluorine atom-containing vinyl ether compound having a fluorinated alkyl group or a fluorinated alkylene ether group and a hydrophilic vinyl ether compound as the fluorosurfactant.
  • fluorosurfactants include fluorosurfactants described in JP-A-2016-216602, the contents of which are incorporated herein.
  • a block polymer can also be used as the fluorosurfactant.
  • a fluorosurfactant a repeating unit derived from a (meth)acrylate compound having a fluorine atom and 2 or more (preferably 5 or more) alkyleneoxy groups (preferably ethyleneoxy groups and propyleneoxy groups) (meta)
  • a fluorine-containing polymer compound containing a repeating unit derived from an acrylate compound can also be preferably used.
  • the fluorine-containing surfactants described in paragraphs 0016 to 0037 of JP-A-2010-032698 and the following compounds are also exemplified as fluorine-based surfactants used in the present invention.
  • the weight average molecular weight of the above compound is preferably 3000-50000, for example 14000. In the above compounds, % indicating the ratio of repeating units is mol %.
  • a fluorine-containing imide salt compound represented by formula (fi-1) is also preferable to use as a surfactant.
  • m represents 1 or 2
  • n represents an integer of 1 to 4
  • a represents 1 or 2
  • X a+ is an a-valent metal ion, primary ammonium ion, Represents secondary ammonium ion, tertiary ammonium ion, quaternary ammonium ion or NH 4 + .
  • Nonionic surfactants include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane and their ethoxylates and propoxylates (e.g., glycerol propoxylate, glycerol ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, Polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester, Pluronic L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2 (BASF company), Tetronic 304, 701, 704, 901, 904, 150R1 (manufactured by BASF), Solsperse 20000 (manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd.), NCW-101, NCW-1001, NCW-1002 (Fuji
  • Cationic surfactants include tetraalkylammonium salts, alkylamine salts, benzalkonium salts, alkylpyridium salts, imidazolium salts, and the like. Specific examples include dihydroxyethylstearylamine, 2-heptadecenyl-hydroxyethylimidazoline, lauryldimethylbenzylammonium chloride, cetylpyridinium chloride, stearamidomethylpyridinium chloride and the like.
  • Anionic surfactants include dodecylbenzenesulfonic acid, sodium dodecylbenzenesulfonate, sodium lauryl sulfate, sodium alkyldiphenyletherdisulfonate, sodium alkylnaphthalenesulfonate, sodium dialkylsulfosuccinate, sodium stearate, potassium oleate, sodium dioctyl Sulfosuccinate, sodium polyoxyethylene alkyl ether sulfate, sodium polyoxyethylene alkyl ether sulfate, sodium polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfate, sodium dialkyl sulfosuccinate, sodium stearate, sodium oleate, t-octylphenoxyethoxy polyethoxyethyl sodium sulfate and the like.
  • silicone surfactants examples include SH8400, SH8400 FLUID, FZ-2122, 67 Additive, 74 Additive, M Additive, SF 8419 OIL (manufactured by Dow Toray Industries, Inc.), TSF-4440, and TSF-4300. , TSF-4445, TSF-4460, TSF-4452 (manufactured by Momentive Performance Materials), KP-341, KF-6000, KF-6001, KF-6002, KF-6003 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Co., Ltd.), BYK-307, BYK-322, BYK-323, BYK-330, BYK-3760, BYK-UV3510 (manufactured by BYK-Chemie) and the like.
  • a compound having the following structure can also be used as the silicone-based surfactant.
  • the content of the surfactant in the total solid content of the composition for forming a near-infrared cut filter layer is preferably 0.001 to 1% by mass, more preferably 0.001 to 0.5% by mass. Preferably, it is more preferably 0.001 to 0.2% by mass.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer may contain only one type of surfactant, or may contain two or more types. When two or more surfactants are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the near-infrared cut filter layer-forming composition may further contain a polymerization inhibitor.
  • Polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, tert-butylcatechol, benzoquinone, 4,4′-thiobis(3-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2′-methylenebis(4-methyl-6-t-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine salts (ammonium salts, cerous salts, etc.), and p-methoxyphenol is preferred.
  • the content of the polymerization inhibitor in the total solid content of the composition for forming a near-infrared cut filter layer is preferably 0.0001 to 5% by mass.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer may contain only one type of polymerization inhibitor, or may contain two or more types. When two or more polymerization inhibitors are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the near-infrared cut filter layer-forming composition may further contain a silane coupling agent.
  • a silane coupling agent means a silane compound having a hydrolyzable group and other functional groups.
  • the hydrolyzable group refers to a substituent that is directly bonded to a silicon atom and capable of forming a siloxane bond by at least one of hydrolysis reaction and condensation reaction.
  • Hydrolyzable groups include, for example, halogen atoms, alkoxy groups, acyloxy groups and the like, with alkoxy groups being preferred. That is, the silane coupling agent is preferably a compound having an alkoxysilyl group.
  • Examples of functional groups other than hydrolyzable groups include vinyl group, (meth)acryloyl group, mercapto group, epoxy group, oxetanyl group, amino group, ureido group, sulfide group, isocyanate group, and phenyl group. with (meth)acryloyl groups and epoxy groups being preferred.
  • the silane coupling agent includes compounds described in paragraph numbers 0018 to 0036 of JP-A-2009-288703, and compounds described in paragraph numbers 0056-0066 of JP-A-2009-242604. incorporated into the specification.
  • the content of the silane coupling agent in the total solid content of the near-infrared cut filter layer-forming composition is preferably 0.01 to 15.0% by mass, and is 0.05 to 10.0% by mass. is more preferable.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer may contain only one type of silane coupling agent, or may contain two or more types. When two or more silane coupling agents are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the near-infrared cut filter layer-forming composition may further contain an ultraviolet absorber.
  • ultraviolet absorbers include conjugated diene compounds, aminodiene compounds, salicylate compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, acrylonitrile compounds, hydroxyphenyltriazine compounds, indole compounds, triazine compounds, and merocyanine dyes. Specific examples of such compounds include paragraph numbers 0038 to 0052 of JP-A-2009-217221, paragraph numbers 0052-0072 of JP-A-2012-208374, and paragraph numbers 0317-0317 of JP-A-2013-068814.
  • UV absorbers include Tinuvin series and Uvinul series manufactured by BASF.
  • Benzotriazole compounds include the MYUA series manufactured by Miyoshi Oil (Kagaku Kogyo Nippo, February 1, 2016).
  • the ultraviolet absorber compounds described in paragraph numbers 0049 to 0059 of Japanese Patent No. 6268967 and paragraph numbers 0059 to 0076 of WO 2016/181987 can also be used.
  • the content of the ultraviolet absorber in the total solid content of the composition for forming a near-infrared cut filter layer is preferably 0.01 to 30% by mass, more preferably 0.05 to 25% by mass.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer may contain only one type of ultraviolet absorber, or may contain two or more types. When two or more ultraviolet absorbers are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer may further contain an antioxidant.
  • Antioxidants include phenol compounds, phosphite ester compounds, thioether compounds and the like. Any phenolic compound known as a phenolic antioxidant can be used as the phenolic compound. Preferred phenolic compounds include hindered phenolic compounds. A compound having a substituent at a site adjacent to the phenolic hydroxy group (ortho position) is preferred. As the aforementioned substituent, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms is preferred.
  • the antioxidant is also preferably a compound having a phenol group and a phosphite ester group in the same molecule.
  • Phosphorus-based antioxidants can also be suitably used as antioxidants.
  • a phosphorus antioxidant tris[2-[[2,4,8,10-tetrakis(1,1-dimethylethyl)dibenzo[d,f][1,3,2]dioxaphosphepin-6 -yl]oxy]ethyl]amine, tris[2-[(4,6,9,11-tetra-tert-butyldibenzo[d,f][1,3,2]dioxaphosphepin-2-yl ) oxy]ethyl]amine, ethyl bis(2,4-di-tert-butyl-6-methylphenyl) phosphite, and the like.
  • antioxidants include, for example, Adekastab AO-20, Adekastab AO-30, Adekastab AO-40, Adekastab AO-50, Adekastab AO-50F, Adekastab AO-60, Adekastab AO-60G, Adekastab AO-80. , ADEKA STAB AO-330 (manufactured by ADEKA Corporation) and the like.
  • antioxidants are compounds described in paragraph numbers 0023 to 0048 of Japanese Patent No. 6268967, compounds described in WO 2017/006600, and compounds described in WO 2017/164024. can also be used.
  • the content of the antioxidant in the total solid content of the composition for forming a near-infrared cut filter layer is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.3 to 15% by mass.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer may contain only one antioxidant, or may contain two or more antioxidants. When two or more kinds of antioxidants are included, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer may optionally contain a sensitizer, a curing accelerator, a filler, a thermosetting accelerator, a plasticizer and other auxiliaries (e.g., conductive particles, an antifoaming agent, flame retardants, leveling agents, release accelerators, fragrances, surface tension modifiers, chain transfer agents, etc.). Properties such as film physical properties can be adjusted by appropriately containing these components. These components are, for example, described in JP 2012-003225, paragraph number 0183 and later (corresponding US Patent Application Publication No. 2013/0034812, paragraph number 0237), JP 2008-250074 paragraph The descriptions of numbers 0101 to 0104, 0107 to 0109, etc.
  • auxiliaries e.g., conductive particles, an antifoaming agent, flame retardants, leveling agents, release accelerators, fragrances, surface tension modifiers, chain transfer agents, etc.
  • the composition for forming a near-infrared cut filter layer may contain a latent antioxidant, if necessary.
  • the latent antioxidant is a compound in which the site functioning as an antioxidant is protected with a protective group, and is heated at 100 to 250°C, or heated at 80 to 200°C in the presence of an acid/base catalyst.
  • a compound that functions as an antioxidant by removing the protective group by the reaction is exemplified.
  • Examples of latent antioxidants include compounds described in International Publication No. 2014/021023, International Publication No. 2017/030005, and JP-A-2017-008219.
  • Commercially available latent antioxidants include ADEKA Arkles GPA-5001 (manufactured by ADEKA Co., Ltd.).
  • composition for forming color filter layer ⁇ Composition for forming color filter layer> Next, the composition for forming a color filter layer will be described.
  • the composition for forming a color filter layer preferably contains a chromatic colorant.
  • chromatic coloring agents include coloring agents having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 400 to 700 nm. Examples include green colorants, red colorants, yellow colorants, purple colorants, blue colorants, orange colorants, and the like.
  • the chromatic coloring agent may be a pigment or a dye, but is preferably a pigment.
  • the average primary particle size of the pigment is preferably 1 to 200 nm.
  • the lower limit is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more.
  • the upper limit is preferably 180 nm or less, more preferably 150 nm or less, and even more preferably 100 nm or less.
  • the primary particle diameter of the pigment can be determined from the image photograph obtained by observing the primary particles of the pigment with a transmission electron microscope. Specifically, the projected area of the primary particles of the pigment is obtained, and the corresponding circle equivalent diameter is calculated as the primary particle diameter of the pigment.
  • the average primary particle size in this specification is the arithmetic mean value of the primary particle sizes of 400 primary particles of the pigment.
  • the primary particles of the pigment refer to independent particles without agglomeration.
  • green colorants examples include phthalocyanine compounds and squarylium compounds, with phthalocyanine compounds being preferred.
  • the green colorant is preferably a pigment.
  • Specific examples of green colorants include C.I. I. Green pigments such as Pigment Green 7, 10, 36, 37, 58, 59, 62, 63, 64, 65 and 66 are included.
  • a green colorant a halogenated zinc phthalocyanine having an average number of halogen atoms of 10 to 14, an average number of bromine atoms of 8 to 12, and an average number of chlorine atoms of 2 to 5 per molecule. Pigments can also be used. Specific examples include compounds described in International Publication No. 2015/118720.
  • the compound described in Chinese Patent Application No. 106909027 the phthalocyanine compound having a phosphoric acid ester as a ligand described in WO 2012/102395, described in JP 2019-008014.
  • the phthalocyanine compound, the phthalocyanine compound described in JP-A-2018-180023, the compound described in JP-A-2019-038958, the aluminum phthalocyanine compound described in JP-A-2020-070426, JP-A-2020-076995 Core-shell type dyes described in, diarylmethane compounds described in JP-A-2020-504758, and the like can also be used.
  • the green coloring agent is C.I. I. Pigment Green 7, 36, 58, 59, 62 and 63 are preferred, C.I. I. Pigment Green 7, 36, 58 and 59 are more preferred.
  • red colorants examples include diketopyrrolopyrrole compounds, anthraquinone compounds, azo compounds, naphthol compounds, azomethine compounds, xanthene compounds, quinacridone compounds, perylene compounds, thioindigo compounds, and diketopyrrolopyrrole compounds, anthraquinone compounds, azo It is preferably a compound, more preferably a diketopyrrolopyrrole compound. Also, the red colorant is preferably a pigment. Specific examples of red colorants include C.I. I.
  • a red colorant a diketopyrrolopyrrole compound in which at least one bromine atom is substituted in the structure described in JP-A-2017-201384, a diketopyrrolopyrrole described in paragraphs 0016 to 0022 of Japanese Patent No.
  • 10-2019-0140741 anthraquinone compounds described in Korean Patent Publication No. 10-2019-0140744, JP 2020 -Perylene compounds described in JP-A-079396, perylene compounds described in JP-A-2020-083982, xanthene compounds described in JP-A-2018-035345, paragraph numbers 0025 to 0041 of JP-A-2020-066702
  • the described diketopyrrolopyrrole compounds and the like can also be used.
  • red colorant a compound having a structure in which an aromatic ring group in which a group having an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom is bonded to an aromatic ring is bonded to a diketopyrrolopyrrole skeleton is used.
  • Lumogen F Orange 240 manufactured by BASF, red pigment, perylene pigment
  • red colorant can also be used as a red colorant.
  • the red coloring agent is C.I. I. Pigment Red 122, 177, 179, 254, 255, 264, 269, 272, 291 are preferred.
  • yellow colorants examples include azo compounds, azomethine compounds, isoindoline compounds, pteridine compounds, quinophthalone compounds and perylene compounds.
  • the yellow colorant is preferably a pigment, more preferably an azo pigment, an azomethine pigment, an isoindoline pigment, a pteridine pigment, a quinophthalone pigment or a perylene pigment, more preferably an azo pigment or an azomethine pigment.
  • Specific examples of yellow colorants include C.I. I.
  • an azobarbiturate nickel complex having the following structure can also be used.
  • the yellow coloring agent is C.I. I. Pigment Yellow 117, 129, 138, 139, 150 and 185 are preferred.
  • C.I. I. Pigment Orange 2 5, 13, 16, 17: 1, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 71, 73, etc. of orange pigments.
  • C.I. I. Purple pigments such as Pigment Violet 1, 19, 23, 27, 32, 37, 42, 60, 61 are included.
  • C.I. I. pigment blue 1, 2, 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 22, 29, 60, 64, 66, 79, 80, 87, 88, etc. be done.
  • An aluminum phthalocyanine compound having a phosphorus atom can also be used as a blue colorant. Specific examples include compounds described in paragraph numbers 0022 to 0030 of JP-A-2012-247591 and paragraph number 0047 of JP-A-2011-157478.
  • Dyes can also be used as chromatic colorants.
  • the dye is not particularly limited, and known dyes can be used.
  • a pigment multimer can also be used as a chromatic colorant.
  • the dye multimer is preferably a dye dissolved in an organic solvent. Further, the dye multimer may form particles. When the dye multimer is particles, it is usually used in a state of being dispersed in a solvent.
  • the particulate dye multimer can be obtained, for example, by emulsion polymerization, and specific examples include the compounds and production methods described in JP-A-2015-214682.
  • a dye multimer has two or more dye structures in one molecule, and preferably has three or more dye structures. The upper limit is not particularly limited, but may be 100 or less.
  • a plurality of dye structures in one molecule may be the same dye structure or different dye structures.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the dye multimer is preferably 2,000 to 50,000.
  • the lower limit is more preferably 3000 or more, and even more preferably 6000 or more.
  • the upper limit is more preferably 30,000 or less, and even more preferably 20,000 or less.
  • Dye multimers are described in JP-A-2011-213925, JP-A-2013-041097, JP-A-2015-028144, JP-A-2015-030742, WO 2016/031442, etc. Compounds can also be used.
  • the chromatic colorants include diarylmethane compounds described in JP-A-2020-504758, triarylmethane dye polymers described in Korean Patent Publication No. 10-2020-0028160, and JP-A-2020-117638.
  • Xanthene compounds described phthalocyanine compounds described in International Publication No. 2020/174991, isoindoline compounds described in JP-A-2020-160279 or salts thereof,
  • Korean Patent Publication No. 10-2020-0069442 described Compound represented by Formula 1, compound represented by Formula 1 described in Korean Patent Publication No. 10-2020-0069730, represented by Formula 1 described in Korean Patent Publication No. 10-2020-0069070 Compounds, compounds represented by Formula 1 described in Korean Patent Publication No.
  • the chromatic colorant may be a rotaxane, and the dye skeleton may be used in the cyclic structure of the rotaxane, may be used in the rod-like structure, or may be used in both structures.
  • Two or more chromatic colorants may be used in combination.
  • the content of the chromatic coloring agent in the total solid content of the composition for forming a color filter layer is preferably 10 to 75% by mass.
  • the upper limit is preferably 70% by mass or less, more preferably 65% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more. Only one kind of chromatic colorant may be used, or two or more kinds thereof may be used. When two or more types are used, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the composition for forming a color filter layer can contain a pigment derivative.
  • the composition for forming a color filter layer preferably contains a pigment derivative.
  • the dye derivative include the materials that can be included in the near-infrared cut filter layer forming composition described above.
  • the content of the dye derivative is preferably 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment.
  • the lower limit is preferably 3 parts by mass or more, more preferably 5 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 40 parts by mass or less, more preferably 30 parts by mass or less. Only one kind of dye derivative may be used, or two or more kinds thereof may be used. When two or more types are used, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the composition for forming a color filter layer further includes a compound having a cyclic ether group, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, a resin, a solvent, a polymerization inhibitor, a silane coupling agent, a surfactant, an ultraviolet absorber, and an antioxidant. agents and the like can be contained. Specific examples and contents thereof are the same as the specific examples and contents described for the composition for forming a near-infrared cut filter layer.
  • the composition for forming an infrared transmission filter layer preferably contains a coloring material that transmits infrared rays and blocks visible light (hereinafter also referred to as a coloring material that blocks visible light).
  • the colorant that blocks visible light is preferably a colorant that absorbs light in the wavelength range from violet to red.
  • the coloring material that blocks visible light is preferably a coloring material that blocks light in the wavelength range of 450 to 650 nm.
  • the coloring material that blocks visible light is preferably a coloring material that transmits light with a wavelength of 900 to 1300 nm.
  • the colorant that blocks visible light preferably satisfies at least one of the following requirements (A) and (B).
  • the chromatic colorants include the materials mentioned above.
  • a chromatic colorant may be a pigment or a dye.
  • the chromatic colorant preferably contains a pigment.
  • the content of the pigment in the chromatic colorant is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, still more preferably 80% by mass or more, and 90% by mass or more. is particularly preferred. Examples of pigments include those shown below.
  • organic black colorants include bisbenzofuranone compounds, azomethine compounds, perylene compounds, and azo compounds, with bisbenzofuranone compounds and perylene compounds being preferred.
  • bisbenzofuranone compounds include compounds described in Japanese Patent Application Publication No. 2010-534726, Japanese Patent Application Publication No. 2012-515233, Japanese Patent Application Publication No. 2012-515234, etc.
  • perylene compounds include compounds described in paragraphs 0016 to 0020 of JP-A-2017-226821, C.I. I. Pigment Black 31, 32 and the like.
  • the azomethine compound include compounds described in JP-A-01-170601, JP-A-02-034664, and the like.
  • examples of combinations of chromatic colorants include the following. (1) An embodiment containing a yellow colorant, a blue colorant, a purple colorant and a red colorant. (2) Embodiment containing a yellow colorant, a blue colorant and a red colorant. (3) An embodiment containing a yellow colorant, a purple colorant and a red colorant. (4) An embodiment containing a yellow colorant and a purple colorant. (5) An embodiment containing a green colorant, a blue colorant, a purple colorant and a red colorant. (6) An embodiment containing a purple colorant and an orange colorant. (7) An embodiment containing a green colorant, a purple colorant and a red colorant. (8) An embodiment containing a green colorant and a red colorant.
  • the content of the coloring material that blocks visible light in the total solid content of the composition for forming an infrared transmission filter layer is preferably 10 to 75% by mass.
  • the upper limit is preferably 70% by mass or less, more preferably 65% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more.
  • the composition for forming an infrared transmission filter layer can contain a near-infrared absorption dye.
  • the near-infrared absorbing dye has a role of limiting the light (near-infrared rays) passing through the obtained film to the longer wavelength side.
  • the near-infrared absorption dye include the materials listed as those that can be included in the composition for forming the near-infrared cut filter layer.
  • the content of the near-infrared absorbing dye in the total solid content of the composition for forming an infrared transmission filter layer is preferably 1 to 50% by mass.
  • the upper limit is preferably 40% by mass or less, more preferably 30% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 3% by mass or more, more preferably 5% by mass or more. Only one type of near-infrared absorbing dye may be used, or two or more types may be used. When two or more types are used, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the composition for forming an infrared transmission filter layer can contain a pigment derivative.
  • the dye derivative include the materials that can be included in the near-infrared cut filter layer forming composition described above.
  • the content of the dye derivative is preferably 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment.
  • the lower limit is preferably 3 parts by mass or more, more preferably 5 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 40 parts by mass or less, more preferably 30 parts by mass or less. Only one kind of dye derivative may be used, or two or more kinds thereof may be used. When two or more types are used, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the composition for forming an infrared transmission filter layer further contains a compound having a cyclic ether group, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, a resin, a solvent, a polymerization inhibitor, a silane coupling agent, a surfactant, an ultraviolet absorber, an oxidation Inhibitors and the like can be included. Specific examples and contents thereof are the same as the specific examples and contents described for the composition for forming a near-infrared cut filter layer.
  • compositions described above can be prepared by mixing the components described above.
  • the composition may be prepared by dissolving or dispersing all the components in a solvent at the same time, or if necessary, two or more solutions or dispersions in which each component is appropriately blended are prepared in advance. They may be prepared and mixed at the time of use (at the time of application) to prepare a composition.
  • a method for producing a structure of the present invention includes the steps of forming an optical filter layer on a support and forming an oxygen shielding film on the optical filter layer.
  • the method is characterized by including a step of forming a near-infrared cut filter layer using a composition for forming a near-infrared cut filter layer containing an absorbing dye and a compound having a cyclic ether group.
  • a near-infrared cut filter layer is formed on a support using the composition for forming a near-infrared cut filter layer of the present invention, and then a color filter layer is formed on the near-infrared cut filter layer.
  • a color filter layer may be formed using a forming composition to form an optical filter layer.
  • a color filter layer is formed on a support using a color filter layer forming composition, and then the color filter layer is formed.
  • An optical filter layer may be formed by forming a near-infrared cut filter layer on the layer using the composition for forming a near-infrared cut filter layer of the present invention.
  • the optical filter layer is formed by forming a near-infrared cut filter layer on a support using the composition for forming a near-infrared cut filter layer of the present invention, and then applying a composition for forming a color filter layer on this near-infrared cut filter layer. is preferably used to form the color filter layer.
  • the support to which each composition is applied includes semiconductor substrates such as silicon substrates and transparent substrates.
  • a charge-coupled device (CCD), a complementary metal oxide semiconductor (CMOS), a transparent conductive film, or the like may be formed on the support.
  • the support may be provided with a partition wall or a black matrix for isolating each pixel.
  • an undercoat layer may be provided on the support.
  • a known method can be used as a method for applying the composition.
  • drop method drop cast
  • slit coating method spray method
  • roll coating method spin coating
  • methods described in publications inkjet
  • ejection system printing e.g., on-demand method, piezo method, thermal method
  • ejection system printing such as nozzle jet, flexographic printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, metal mask printing, etc.
  • a printing method a transfer method using a mold or the like; a nanoimprint method, and the like.
  • the application method for inkjet is not particularly limited.
  • the composition layer formed by applying the above composition may be dried (pre-baked).
  • the pre-baking temperature is preferably 80° C. or lower, more preferably 70° C. or lower, still more preferably 60° C. or lower, and particularly preferably 50° C. or lower.
  • the lower limit can be, for example, 40° C. or higher.
  • the prebake time is preferably 10 to 3600 seconds. Pre-baking can be performed using a hot plate, an oven, or the like.
  • a pattern may be formed on the composition layer formed by applying the above composition.
  • Examples of the pattern forming method include a pattern forming method using a photolithography method and a pattern forming method using a dry etching method.
  • the pattern formation method by photolithography includes a step of patternwise exposing a composition layer formed by applying each composition (exposure step), and developing by removing an unexposed portion of the composition layer. and a step of forming a pattern (developing step). If necessary, a step of baking the developed pattern (post-baking step) may be provided. Each step will be described below.
  • the composition layer is exposed in a pattern.
  • the composition layer can be exposed in a pattern by exposing through a mask having a predetermined mask pattern using a stepper exposure machine, a scanner exposure machine, or the like. Thereby, the exposed portion can be cured.
  • Radiation (light) that can be used for exposure includes g-line, i-line, and the like.
  • Light with a wavelength of 300 nm or less (preferably light with a wavelength of 180 to 300 nm) can also be used.
  • Light having a wavelength of 300 nm or less includes KrF rays (wavelength: 248 nm), ArF rays (wavelength: 193 nm), etc., and KrF rays (wavelength: 248 nm) are preferable.
  • a long-wave light source of 300 nm or more can also be used.
  • the light when exposing, the light may be continuously irradiated and exposed, or may be irradiated and exposed in pulses (pulse exposure).
  • pulse exposure is an exposure method in which exposure is performed by repeating light irradiation and rest in short-time (for example, millisecond level or less) cycles.
  • the irradiation amount is, for example, preferably 0.03 to 2.5 J/cm 2 , more preferably 0.05 to 1.0 J/cm 2 .
  • the oxygen concentration at the time of exposure can be selected as appropriate, and in addition to exposure in the atmosphere, for example, in a low oxygen atmosphere with an oxygen concentration of 19% by volume or less (e.g., 15% by volume, 5% by volume, or substantially oxygen-free) or in a high-oxygen atmosphere with an oxygen concentration exceeding 21% by volume (for example, 22% by volume, 30% by volume, or 50% by volume).
  • the exposure illuminance can be set as appropriate, and is usually selected from the range of 1000 W/m 2 to 100000 W/m 2 (eg, 5000 W/m 2 , 15000 W/m 2 or 35000 W/m 2 ). can be done. Oxygen concentration and exposure illuminance may be appropriately combined. For example, illuminance of 10000 W/m 2 at oxygen concentration of 10% by volume and illuminance of 20000 W/m 2 at oxygen concentration of 35% by volume.
  • an unexposed portion of the composition layer after exposure is removed by development to form a pattern.
  • the development and removal of the composition layer in the unexposed area can be carried out using a developer.
  • the unexposed portion of the composition layer in the exposure step is eluted into the developer, leaving only the photocured portion on the support.
  • the temperature of the developer is preferably 20 to 30° C., for example.
  • the development time is preferably 20 to 180 seconds. Further, in order to improve the residue removability, the step of shaking off the developer every 60 seconds and then supplying new developer may be repeated several times.
  • the developer includes an organic solvent, an alkaline developer, etc., and an alkaline developer is preferably used.
  • an alkaline developer an alkaline aqueous solution (alkali developer) obtained by diluting an alkaline agent with pure water is preferable.
  • alkaline agents include ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, diglycolamine, diethanolamine, hydroxylamine, ethylenediamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, and tetrabutylammonium hydroxide.
  • alkaline compounds and inorganic alkaline compounds such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium bicarbonate, sodium silicate and sodium metasilicate.
  • concentration of the alkaline agent in the alkaline aqueous solution is preferably 0.001 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 1% by mass.
  • the developer may further contain a surfactant.
  • a nonionic surfactant is preferable as the surfactant.
  • the developer may be produced once as a concentrated solution and then diluted to the required concentration when used. Although the dilution ratio is not particularly limited, it can be set, for example, in the range of 1.5 to 100 times.
  • wash (rinse) with pure water after development. Rinsing is preferably carried out by supplying a rinse liquid to the composition layer after development while rotating the support on which the composition layer after development is formed. It is also preferable to move the nozzle for discharging the rinsing liquid from the central portion of the support to the peripheral portion of the support.
  • the moving speed of the nozzle may be gradually decreased.
  • in-plane variations in rinsing can be suppressed.
  • a similar effect can be obtained by gradually decreasing the rotation speed of the support while moving the nozzle from the center of the support to the periphery.
  • Additional exposure processing and post-baking are post-development curing treatments for complete curing.
  • the heating temperature in post-baking is, for example, preferably 100 to 240.degree. C., more preferably 200 to 240.degree.
  • Post-baking can be performed continuously or batchwise using a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot air circulating dryer), or a high-frequency heater so that the developed film satisfies the above conditions. .
  • the light used for exposure preferably has a wavelength of 400 nm or less.
  • the additional exposure process may be performed by the method described in Korean Patent Publication No. 10-2017-0122130.
  • a color filter layer having a plurality of pixels can be formed by repeating the above-described steps for each type of pixel.
  • Pattern formation by a dry etching method includes curing the composition layer formed by coating the composition on a support to form a cured product layer, and then forming a photoresist layer patterned on the cured product layer. is formed, and then dry etching is performed on the cured product layer using an etching gas using the patterned photoresist layer as a mask. In forming the photoresist layer, pre-baking is preferably performed.
  • description in paragraphs 0010 to 0067 of JP-A-2013-064993 can be referred to, and the contents thereof are incorporated into this specification.
  • an oxygen shielding film is formed on the optical filter layer thus formed.
  • the oxygen shielding film may be formed directly on the surface of the optical filter layer, or may be formed on the surface of these members after forming a flattening layer, microlenses, etc. on the surface of the optical filter layer.
  • the oxygen shielding film is formed by methods such as vacuum deposition, chemical vapor deposition, sputtering, spraying, roll coating, air knife coating, blade coating, rod coating, bar coating, spin coating, and spray coating. can be formed.
  • the solid-state imaging device of the present invention has the structure of the present invention described above.
  • the configuration of the solid-state imaging device of the present invention is not particularly limited as long as it has the structure of the present invention and functions as a solid-state imaging device.
  • the image display device of the present invention includes the structure of the present invention.
  • image display devices include liquid crystal display devices and organic electroluminescence (organic EL) display devices.
  • organic EL organic electroluminescence
  • For the definition and details of the image display device see, for example, “Electronic Display Device (written by Akio Sasaki, Industrial Research Institute, 1990)", “Display Device (written by Junsho Ibuki, published by Sangyo Tosho Co., Ltd., 1989). issued)”, etc.
  • Liquid crystal display devices are described, for example, in “Next Generation Liquid Crystal Display Technology (edited by Tatsuo Uchida, published by Kogyo Choukai Co., Ltd., 1994)”.
  • the image display device may have a white organic EL element.
  • a white organic EL device preferably has a tandem structure.
  • the spectrum of white light emitted by the organic EL element preferably has strong maximum emission peaks in the blue region (430-485 nm), green region (530-580 nm) and yellow region (580-620 nm). In addition to these emission peaks, those having a maximum emission peak in the red region (650 to 700 nm) are more preferred.
  • An infrared sensor of the present invention includes the structure of the present invention as described above.
  • the configuration of the infrared sensor is not particularly limited as long as it functions as an infrared sensor.
  • IR composition for forming near-infrared cut filter layer
  • the materials shown in the table below were mixed and stirred in the proportions (parts by mass) shown in the table below, and then filtered through a nylon filter with a pore size of 0.45 ⁇ m (manufactured by Nippon Pall Co., Ltd.) to give IR composition 1.
  • IR composition r1 was prepared.
  • A-1 to A-4 compounds having the following structures
  • B-1 Resin having the following structure (weight-average molecular weight: 40,000; numerical values attached to repeating units are molar ratios)
  • B-2 RS-72-K (manufactured by DIC Corporation, fluorine resin)
  • B-3 Resin having the following structure (weight average molecular weight: 30,000, numerical values attached to repeating units are molar ratios)
  • B-4 Resin having the following structure (weight average molecular weight: 11000, numerical values attached to repeating units are molar ratios)
  • B-5 Resin having the following structure (weight average molecular weight: 12000, numerical values attached to repeating units are molar ratios)
  • C-1 a mixture of the following compounds (a mixture in which the molar ratio of the left compound and the right compound is 7:3)
  • C-2 a mixture of the following compounds (a mixture in which the molar ratio of the left compound and the right compound is 6:4)
  • C-3 A compound having the following structure
  • C-4 a compound having the following structure
  • F-1 Resin having the following structure (cyclic ether value: 7.03 mmol/g, acid value: 0 mgKOH/g, weight average molecular weight: 10,000)
  • F-2 Resin having the following structure (cyclic ether value 3.31 mmol/g, acid value 0 mgKOH/g, weight average molecular weight 20000)
  • F-3 Resin having the following structure (cyclic ether value 7.03 mmol/g, acid value 0 mgKOH/g, weight average molecular weight 6000)
  • F-4 Resin having the following structure (cyclic ether value 7.03 mmol/g, acid value 0 mgKOH/g, weight average molecular weight 50000)
  • F-5 Resin having the following structure (cyclic ether value: 2.06 mmol/g, acid value: 0 mgKOH/g, weight average molecular weight: 10,000)
  • F-6 Resin having the following structure (cyclic ether value: 2.28 mmol/g, acid value: 75
  • the cyclic ether group value of the total solid content of each IR composition and the cyclic ether group value of the film formed using each IR composition are as follows.
  • the cyclic ether group value of the post-baked film of each IR composition was measured by the following method.
  • a film was formed by spin-coating the IR composition onto a glass substrate so that the film thickness after post-baking was 0.7 ⁇ m.
  • the infrared absorption peak intensity (peak intensity 1) derived from the initial cyclic ether of the film was measured using a Fourier transform infrared spectrophotometer.
  • the film was heated (pre-baked) at 100° C. for 120 seconds using a hot plate, and then an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5+ (manufactured by Canon Inc.) was used to expose the film to a wavelength of 365 nm.
  • the hot plate was used again to heat (post-bake) at 220° C. for 300 seconds to form a film.
  • the infrared absorption peak intensity (peak intensity 2) derived from the cyclic ether of the post-baked film was measured using a Fourier transform infrared spectrophotometer. Calculate the cyclic ether group consumption rate of the film after post-baking from the ratio of peak intensity 1 and peak intensity 2, and from the cyclic ether group consumption rate and the cyclic ether group value of the total solid content of the IR composition, post-bake The cyclic ether value of the post-membrane was calculated.
  • CF composition ⁇ Preparation of composition for forming color filter layer (CF composition)> After mixing and stirring the materials shown in the table below in the proportions (parts by mass) shown in the table below, the CF composition 1 was filtered through a nylon filter with a pore size of 0.45 ⁇ m (manufactured by Nippon Pall Co., Ltd.). ⁇ 3 were produced.
  • Resin 1 Resin B-4 described above
  • Resin 2 Resin having the following structure
  • Resin 3 Resin having the following structure
  • Resin 4 resin having the following structure
  • Resin 5 resin having the following structure
  • Polymerizable compound 1 compound having the following structure
  • Polymerizable compound 2 Polymerizable compound C-1 described above
  • Polymerizable compound 3 compound having the following structure
  • Photoinitiator 1 Photoinitiator D-4 described above
  • Photopolymerization initiator 2 Photopolymerization initiator D-1 described above
  • Polymerization inhibitor 1 Polymerization inhibitor 1: p-methoxyphenol
  • Silane coupling agent 1 compound having the following structure
  • UV absorber 1 compound having the following structure
  • Surfactant 1 A compound having the following structure (weight average molecular weight: 14000, % indicating the ratio of repeating units in the following formula is mol %)
  • Surfactant 2 Pionin D-6112-W (manufactured by Takemoto Oil Co., Ltd.)
  • Surfactant 3 a compound having the following structure
  • Green pigment dispersion liquid 1, red pigment dispersion liquid 1 and blue pigment dispersion liquid 1 are mixed liquids having the following compositions, using zirconia beads with a diameter of 0.3 mm, and using a bead mill (high-pressure dispersing machine NANO-3000 with a decompression mechanism). 10 (manufactured by Nippon BEE Co., Ltd.)) and mixed for 2 hours.
  • IR composition a near-infrared cut filter layer shown in the table below
  • IR composition a near-infrared cut filter layer shown in the table below
  • FPA-3000i5+ manufactured by Canon Inc.
  • the above film was irradiated with light having a wavelength of 365 nm to expose the entire surface with an exposure amount of 1000 mJ/cm 2 .
  • the exposed film was heated at 220° C. for 300 seconds using a hot plate to form a near-infrared cut filter layer with a thickness of 0.7 ⁇ m.
  • a composition for forming a color filter layer shown in the table below is applied by spin coating, and then heated at 100° C. for 120 seconds using a hot plate. to form a membrane. Then, using an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5+ (manufactured by Canon Inc.), the above film was irradiated with light having a wavelength of 365 nm to expose the entire surface with an exposure amount of 1000 mJ/cm 2 . Next, the exposed film was heated at 220° C. for 300 seconds using a hot plate to form a color filter layer having a thickness of 0.6 ⁇ m.
  • an oxygen shielding film having a thickness of 0.1 ⁇ m was formed on the color filter layer under condition 1, condition 2 or condition 3 shown below to manufacture structures.
  • Condition 1 A SiO 2 film was formed on the color filter layer by chemical vapor deposition (CVD) to form an oxygen shielding film.
  • Condition 2 A SiON film was formed on the color filter layer by chemical vapor deposition (CVD) to form an oxygen shielding film.
  • Condition 3 An oxygen shielding film was formed by spin-coating a 1% by mass aqueous solution of polyvinyl alcohol available from Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd. onto the color filter layer.
  • ⁇ Heat resistance> The maximum absorption wavelength ⁇ max (nm) in the wavelength range of 700 to 1200 nm was measured for the resulting structure using an ultraviolet-visible-near-infrared spectrophotometer U-4100 (manufactured by Hitachi High-Tech Co., Ltd.). After that, the average absorbance A 1 in the wavelength range from ⁇ max -50 to ⁇ max +50 (nm) was measured. Next, after heating this structure at 260° C. for 300 seconds using a hot plate, the average absorbance A2 of the structure after heating in the same wavelength range was measured. The absorbance retention rate of the structure before and after heating was calculated, and the heat resistance was evaluated according to the following criteria.
  • Absorbance retention rate (average absorbance A 2 /average absorbance A 1 ) x 100 4: Absorbance maintenance rate of 65% or more 3; Absorbance maintenance rate of 45% or more and less than 65% 2: Absorbance maintenance rate of 25% or more and less than 45% 1: Absorbance maintenance rate of less than 25%

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Abstract

支持体１１０と、支持体１１０上に設けられた光学フィルタ層１２０ａと、光学フィルタ層１２０ａ上に設けられた酸素遮蔽膜１４０と、を有する構造体であって、光学フィルタ層１２０ａは、近赤外線吸収色素と環状エーテル基を有する化合物とを含む近赤外線カットフィルタ層形成用組成物を用いて形成された近赤外線カットフィルタ層１２１と、近赤外線カットフィルタ層１２１と厚み方向で隣接して配置されたカラーフィルタ層１２２とを有する構造体、前述の構造体の製造方法、ならびに、前述の構造体を有する固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ。

Description

構造体、構造体の製造方法、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
　本発明は、支持体と、支持体上に設けられた光学フィルタ層と、光学フィルタ層上に設けられた酸素遮蔽膜と、を有する構造体に関する。また、本発明は、構造体の製造方法、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサに関する。
　ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などには、カラー画像の固体撮像素子である、ＣＣＤ（電荷結合素子）や、ＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）が用いられている。これら固体撮像素子は、その受光部において赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードを使用している。このために、近赤外線カットフィルタなどの近赤外線カットフィルタ層を設けて視感度補正を行うことがある（例えば、特許文献１参照）。
国際公開第２０１５／１６６８７３号
　近赤外線カットフィルタ層は、近赤外線カットフィルタ層上にカラーフィルタ層を積層して用いられることがある。また、近年では、近赤外線カットフィルタ層とカラーフィルタ層との積層体上に更に酸素遮蔽膜を設けることも検討されている。
　本発明者が、近赤外線カットフィルタ層とカラーフィルタ層との積層体上に更に酸素遮蔽膜を設けた構造体について鋭意検討を進めたところ、このような構造体を加熱した場合、近赤外線カットフィルタ層の分光特性が変動し易いことが分かった。
　よって、本発明の目的は、耐熱性に優れた構造体を提供することにある。また、本発明の目的は、構造体の製造方法、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサを提供することにある。
　本発明は以下を提供する。
　＜１＞　支持体と、上記支持体上に設けられた光学フィルタ層と、上記光学フィルタ層上に設けられた酸素遮蔽膜と、を有する構造体であって、
　上記光学フィルタ層は、近赤外線吸収色素と環状エーテル基を有する化合物とを含む近赤外線カットフィルタ層形成用組成物を用いて形成された近赤外線カットフィルタ層と、上記近赤外線カットフィルタ層と厚み方向で隣接して配置されたカラーフィルタ層とを有する、構造体。
　＜２＞　上記環状エーテル基を有する化合物は、エポキシ基およびオキセタニル基から選ばれる少なくとも１種の基を有する化合物である、＜１＞に記載の構造体。
　＜３＞　上記近赤外線カットフィルタ層形成用組成物の全固形分の環状エーテル基価が０．１～２．５ｍｍｏｌ／ｇである、＜１＞または＜２＞に記載の構造体。
　＜４＞　上記近赤外線カットフィルタ層形成用組成物をガラス基板に塗布し、１００℃で１２０秒間加熱し、次いで、波長３６５ｎｍの光を照射して１０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で露光し、次いで、２２０℃で３００秒間加熱して厚さ０．７μｍの膜を形成した際に、上記膜の環状エーテル基価が０．１～２．５ｍｍｏｌ／ｇである、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の構造体。
　＜５＞　上記環状エーテル基を有する化合物の環状エーテル基価が１．０～１５．０ｍｍｏｌ／ｇである、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の構造体。
　＜６＞　上記環状エーテル基を有する化合物の酸価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の構造体。
　＜７＞　上記近赤外線吸収色素は染料である、＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の構造体。
　＜８＞　上記近赤外線吸収色素はピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物及びシアニン化合物から選ばれる少なくとも１種である、＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の構造体。
　＜９＞　＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の構造体の製造方法であって、
　支持体上に光学フィルタ層を形成する工程と、上記光学フィルタ層上に酸素遮蔽膜を形成する工程とを含み、
　上記光学フィルタ層を形成する工程は、近赤外線吸収色素と環状エーテル基を有する化合物とを含む近赤外線カットフィルタ層形成用組成物を用いて近赤外線カットフィルタ層を形成する工程を含む、構造体の製造方法。
　＜１０＞　＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の構造体を有する固体撮像素子。
　＜１１＞　＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の構造体を有する画像表示装置。
　＜１２＞　＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の構造体を有する赤外線センサ。
　本発明によれば、耐熱性に優れた構造体、構造体の製造方法、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサを提供することができる。
本発明の構造体の一態様を示す概略図である。 本発明の構造体の別の態様を示す概略図である。
　以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
　本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
　本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
　本明細書において、「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も含む。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
　本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アリル」は、アリルおよびメタリルの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
　本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）測定でのポリスチレン換算値として定義される。
　本明細書において、近赤外線とは波長７００～２５００ｎｍの光（電磁波）をいう。
　本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
　本明細書において、「工程」との語は、独立した工程を表すだけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
＜構造体＞
　本発明の構造体は、支持体と、支持体上に設けられた光学フィルタ層と、光学フィルタ層上に設けられた酸素遮蔽膜と、を有する構造体であって、
　上記光学フィルタ層は、近赤外線吸収色素と環状エーテル基を有する化合物とを含む近赤外線カットフィルタ層形成用組成物を用いて形成された近赤外線カットフィルタ層と、上記近赤外線カットフィルタ層と厚み方向で隣接して配置されたカラーフィルタ層とを有することを特徴とする。
　一般的に、近赤外線吸収色素は長波に吸収を持つため、ＬＵＭＯ（Ｌｏｗｅｓｔ　Ｕｎｏｃｃｕｐｉｅｄ　Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ　Ｏｒｂｉｔａｌ）準位が低く、求核攻撃を受けやすい化合物である。本発明者が、近赤外線カットフィルタ層とカラーフィルタ層との積層体上に更に酸素遮蔽膜を設けた構造体について鋭意検討を進めたところ、このような構造体を加熱した場合、近赤外線カットフィルタ層の分光特性が変動し易いことが分かった。このような理由は、推測であるが、近赤外線カットフィルタ層とカラーフィルタ層との積層体を酸素が遮断された状態で加熱すると、近赤外線カットフィルタ層やカラーフィルタ層に含まれる樹脂などの素材からアミンなどの求核成分が発生し、この発生したアミン等の求核成分が近赤外線カットフィルタ層へ拡散して、近赤外線カットフィルタ層中の近赤外線吸収色素を攻撃し、近赤外線吸収色素が分解したりや変性したりするためであると推測される。
　本発明の構造体の光学フィルタ層における近赤外線カットフィルタ層は、近赤外線吸収色素と環状エーテル基を有する化合物とを含む近赤外線カットフィルタ層形成用組成物を用いて形成されているので、構造体を加熱した際に、近赤外線カットフィルタ層やカラーフィルタ層に含まれる樹脂などの素材からアミン等の求核成分が発生しても、この発生したアミン等の求核成分を近赤外線カットフィルタ層に含まれる環状エーテル基を有する化合物によりクエンチすることができると推測され、その結果、近赤外線吸収色素が分解したりや変性したりすることができる。
　このため、本発明の構造体によれば、光学フィルタ層上に酸素遮蔽膜が設けられているにもかかわらず、加熱による近赤外線カットフィルタ層の分光特性を抑制でき、耐熱性に優れた構造体とすることができる。
　以下、本発明の構造体についてさらに詳しく説明する。
＜＜支持体＞＞
　本発明の構造体において、支持体としては、特に限定はないが、シリコン基板などの半導体基材や、透明基材が挙げられる。また、支持体には、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、支持体上には、各画素を隔離する隔壁やブラックマトリクスが形成されていてもよい。また、支持体上には、必要により、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下塗り層が設けられていてもよい。
＜＜光学フィルタ層＞＞
　本発明の構造体は、支持体上に光学フィルタ層を有する。この光学フィルタ層は、近赤外線カットフィルタ層と、近赤外線カットフィルタ層と厚み方向で隣接して配置されたカラーフィルタ層とを有する。近赤外線カットフィルタ層と、カラーフィルタ層との積層順序については、特に限定はなく、支持体上に近赤外線カットフィルタ層、カラーフィルタ層の順に積層されていてもよく、カラーフィルタ層、近赤外線カットフィルタ層の順に積層されていてもよい。また、近赤外線カットフィルタ層と、カラーフィルタ層は直接接していることが好ましいが、近赤外線カットフィルタ層と、カラーフィルタ層との間に密着層などの中間層が介在していてもよい。
　また、光学フィルタ層は、更に赤外線透過フィルタ層を有していてもよい。光学フィルタ層が更に赤外線透過フィルタ層を有している場合、図２に示す構造体のように、赤外線透過フィルタ層の光路上には、近赤外線カットフィルタ層およびカラーフィルタ層は存在していないことが好ましい。すなわち、赤外線透過フィルタ層は、支持体上の、近赤外線カットフィルタ層とカラーフィルタ層との積層体が設けられている領域とは別の領域に設けられていることが好ましい。
＜＜＜近赤外線カットフィルタ層＞＞＞
　近赤外線カットフィルタ層は、近赤外線吸収色素と環状エーテル基を有する化合物とを含む近赤外線カットフィルタ層形成用組成物を用いて形成されたフィルタ層である。近赤外線カットフィルタ層形成用組成物については後述する。
　近赤外線カットフィルタ層は、波長７００～１３００ｎｍの範囲に極大吸収波長が存在することが好ましく、波長７００～１２００ｎｍの範囲に極大吸収波長が存在することがより好ましく、波長７００～１１００ｎｍの範囲に極大吸収波長が存在することが更に好ましく、波長７００～１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長が存在することが特に好ましい。また、近赤外線カットフィルタ層について、波長５００ｎｍにおける吸光度Ａ１と極大吸収波長における吸光度Ａ２との比率Ａ１／Ａ２は、０．０８以下であることが好ましく、０．０４以下であることがより好ましい。また、近赤外線カットフィルタ層は、以下の（１）～（４）のうちの少なくとも１つの条件を満たすことが好ましく、（１）～（４）のすべての条件を満たすことがより好ましい。
　（１）波長４００ｎｍの光の透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、８５％以上であることが更に好ましく、９０％以上であることが特に好ましい。
　（２）波長５００ｎｍの光の透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましく、９５％以上であることが特に好ましい。
　（３）波長６００ｎｍの光の透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましく、９５％以上であることが特に好ましい。
　（４）波長６５０ｎｍの光の透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましく、９５％以上であることが特に好ましい。
　近赤外線カットフィルタ層は、波長４００～６５０ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましい。また、波長７００～１３００ｎｍの範囲（好ましくは波長７００～１２００ｎｍの範囲、より好ましくは波長７００～１１００ｎｍの範囲、更に好ましくは波長７００～１０００ｎｍの範囲）の少なくとも１点での透過率は２０％以下であることが好ましい。
　近赤外線カットフィルタ層の厚さは、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、５μｍ以下であることが更に好ましく、３μｍ以下であることがより一層好ましく、１．５μｍ以下であることが特に好ましい。下限は、０．１μｍ以上であることが好ましく、０．２μｍ以上であることがより好ましく、０．３μｍ以上であることが更に好ましい。
＜＜＜カラーフィルタ層＞＞＞
　カラーフィルタ層は、有彩色着色剤を含む着色画素を有するフィルタ層であることが好ましい。着色画素としては、赤、緑、青、黄色、シアンおよびマゼンタなどの色を呈する画素が挙げられる。カラーフィルタ層は、複数の着色画素を有するフィルタ層であることが好ましい。また、カラーフィルタ層は、透明画素などの着色画素以外の画素を更に有していてもよい。
　カラーフィルタ層の厚さは、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、５μｍ以下であることが更に好ましく、３μｍ以下であることがより一層好ましく、１．５μｍ以下であることが特に好ましい。下限は、０．１μｍ以上であることが好ましく、０．２μｍ以上であることがより好ましく、０．３μｍ以上であることが更に好ましい。
　カラーフィルタ層の一態様として、赤色画素、青色画素および緑色画素を少なくとも有するフィルタ層が挙げられる。
　カラーフィルタ層は、後述するカラーフィルタ層形成用組成物を用いて形成することができる。
＜＜＜赤外線透過フィルタ層＞＞＞
　光学フィルタ層は、更に赤外線透過フィルタ層を有していてもよい。赤外線透過フィルタ層としては、例えば、以下の（ｉ１）～（ｉ３）のいずれかの分光特性を有するフィルタ層が挙げられる。
　（ｉ１）：波長４００～８５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１０００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ層。このような分光特性を有するフィルタ層は、波長４００～８５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長９５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　（ｉ２）：波長４００～９５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１１００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ層。このような分光特性を有するフィルタ層は、波長４００～９５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長１０５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　（ｉ３）：波長４００～１０５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１２００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ層。このような分光特性を有するフィルタ層は、波長４００～１０５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長１１５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　赤外線透過フィルタ層の厚さは、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、５μｍ以下であることが更に好ましく、３μｍ以下であることがより一層好ましく、１．５μｍ以下であることが特に好ましい。下限は、０．１μｍ以上であることが好ましく、０．２μｍ以上であることがより好ましく、０．３μｍ以上であることが更に好ましい。
　赤外線透過フィルタ層は、後述する赤外線透過フィルタ層形成用組成物を用いて形成することができる。
＜＜酸素遮蔽膜＞＞
　本発明の構造体は、光学フィルタ層上に酸素遮蔽膜を有する。酸素遮蔽膜は、ＳｉＯ２、ＳｉＮ、Ａｌ２Ｏ３、ＣａＯ、Ｆｅ２Ｏ３、ＭｇＯ、Ｇａ２Ｏ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＣａＦ２などの無機材料や、テトラエトキシシラン、オルトチタン酸テトラエチル、テトラメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシランなどのアルコキシ基含有化合物や、有機ポリマーなどを用いて形成することができる。有機ポリマーとしては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド類、水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ポリビニルエーテルと無水マレイン酸との重合体、エチレンオキサイド重合体、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシエチルセルロースの水溶性塩等のセルロース類、アラビアゴム、含アルコキシシラン基ポリマー等やこれらの２種以上の混合物が挙げられる。
　酸素遮蔽膜の膜厚は、１０μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下であることがより好ましく、１μｍ以下であることがより好ましい。酸素遮蔽膜の膜厚の下限値は、特に定めるものではないが、例えば０．０５μｍ以上とすることができる。
　酸素遮蔽膜の酸素透過率は、２００ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることが好ましく、１５０ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることがより好ましく、１００ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることが特に好ましい。下限は特に限定されないが、０ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍが好ましい。酸素遮蔽膜の酸素透過率は、例えば、以下のようにして測定することができる。酸素電極としてオービスフェアラボラトリーズジャパンインク製ｍｏｄｅｌ３６００を使用する。電極隔膜としては、ポリフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）２９５６Ａを使用する。電極隔膜にシリコーングリス（ＳＨ１１１、東レダウコーニング（株）製）を薄く塗布し、その上に測定する薄膜材料を貼付し、酸素濃度値を測定する。なお、シリコーングリスの塗布膜は、酸素透過速度に影響を与えないことが確認されている。次に、酸素濃度値に対する酸素透過速度（ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）を換算する。なお、本発明の酸素遮蔽膜は、屈折率制御膜としての機能も有していてもよい。
＜＜具体例＞＞
　本発明の構造体の具体例について、図面を用いて説明する。図１は、本発明の構造体の一態様を示す概略図である。この構造体は、支持体１１０上に、光学フィルタ層１２０ａが配置されている。この光学フィルタ層１２０ａは、近赤外線カットフィルタ層１２１上にカラーフィルタ層１２２が積層している。すなわち、カラーフィルタ層１２２が入射光ｈν側に配置されている。カラーフィルタ層１２２は複数の画素を有するものであってもよい。そして、光学フィルタ層１２０ａ上には、マイクロレンズ１３０が配置されており、このマイクロレンズ１３０の表面に酸素遮蔽膜１４０が設けられている。
　図示しないが、支持体１１０には、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、支持体１１０には、各画素を隔離する隔壁やブラックマトリクスが形成されていてもよい。また、支持体１１０の表面には、下塗り層が設けられていてもよい。
　なお、図１の構造体は、光学フィルタ層１２０ａ上に、マイクロレンズ１３０が配置されているが、マイクロレンズ１３０が存在しない態様であってもよい。また、マイクロレンズ１３０と酸素遮蔽膜１４０との間に中間層が更に配置されていてもよい。また、酸素遮蔽膜１４０の表面に他の層や部材が更に配置されていてもよい。
　また、図１の構造体において、光学フィルタ層１２０ａにおける近赤外線カットフィルタ層１２１とカラーフィルタ層１２２との積層順序が入れ替わっていてもよい。すなわち、近赤外線カットフィルタ層１２１が入射光ｈν側に配置されていてもよい。
　図２は、本発明の構造体の別の態様を示す概略図である。この構造体は、支持体１１０上に、光学フィルタ層１２０ｂが配置されている。この光学フィルタ層１２０ｂは、近赤外線カットフィルタ層１２１と、カラーフィルタ層１２２と、赤外線透過フィルタ層１２３とを有している。カラーフィルタ層１２２は複数の画素を有するものであってもよい。そして、カラーフィルタ層１２２は、近赤外線カットフィルタ層１２１上に積層している。また、赤外線透過フィルタ層１２３は、支持体１１０上の、近赤外線カットフィルタ層１２１とカラーフィルタ層１２２との積層体が設けられている領域とは別の領域に設けられている。カラーフィルタ層１２２は複数の画素を有するものであってもよい。そして、光学フィルタ層１２０ｂ上には、マイクロレンズ１３０が配置されており、このマイクロレンズ１３０の表面に酸素遮蔽膜１４０が設けられている。
　この態様においても、図示しないが、支持体１１０には、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、支持体１１０には、各画素を隔離する隔壁やブラックマトリクスが形成されていてもよい。また、支持体１１０の表面には、下塗り層が設けられていてもよい。
　また、図２の構造体においても、光学フィルタ層１２０ｂ上に、マイクロレンズ１３０が配置されているが、マイクロレンズ１３０が存在しない態様であってもよい。また、マイクロレンズ１３０と酸素遮蔽膜１４０との間に中間層が更に配置されていてもよい。また、酸素遮蔽膜１４０の表面に他の層や部材が更に配置されていてもよい。
　また、図２の構造体においても、光学フィルタ層１２０ｂにおける近赤外線カットフィルタ層１２１とカラーフィルタ層１２２との積層順序が入れ替わっていてもよい。
＜近赤外線カットフィルタ層形成用組成物＞
　次に、本発明の構造体の近赤外線カットフィルタ層の形成に用いられる近赤外線カットフィルタ層形成用組成物について説明する。
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は、近赤外線吸収色素と環状エーテル基を有する化合物とを含む。
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物の全固形分の環状エーテル基価は、０．１～２．５ｍｍｏｌ／ｇであることが好ましい。下限は、０．２ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましく、０．３ｍｍｏｌ／ｇ以上であることがより好ましく、０．５ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが更に好ましく、１．０ｍｍｏｌ／ｇ以上であることがより一層好ましい。上限は、１．８ｍｍｏｌ／ｇ以下であることが好ましく、１．５ｍｍｏｌ／ｇ以下であることがより好ましい。近赤外線カットフィルタ層形成用組成物の全固形分の環状エーテル基価が上記範囲であれば、本発明の効果がより顕著に奏される。なお、近赤外線カットフィルタ層形成用組成物の全固形分の環状エーテル基価とは、近赤外線カットフィルタ層形成用組成物の全固形分１ｇあたりの環状エーテル基のモル量を表した数値のことである。
　また、近赤外線カットフィルタ層形成用組成物については、近赤外線カットフィルタ層形成用組成物をガラス基板に塗布し、１００℃で１２０秒間加熱し、次いで、波長３６５ｎｍの光を照射して１０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で露光し、次いで、２２０℃で３００秒間加熱して厚さ０．７μｍの膜を形成した際に、この膜の環状エーテル基価が０．１～２．５ｍｍｏｌ／ｇであることが好ましい。下限は、０．２ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましく、０．３ｍｍｏｌ／ｇ以上であることがより好ましく、０．５ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが更に好ましく、１．０ｍｍｏｌ／ｇ以上であることがより一層好ましい。上限は、１．８ｍｍｏｌ／ｇ以下であることが好ましく、１．５ｍｍｏｌ／ｇ以下であることがより好ましい。上記膜の環状エーテル基価が上記範囲であれば、本発明の効果がより顕著に奏される。
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物の全固形分の環状エーテル基価および膜の環状エーテル基価は、フーリエ変換赤外分光法などの方法により測定することができる。
　以下、近赤外線カットフィルタ層形成用組成物に用いられる各素材について説明する。
＜＜近赤外線吸収色素＞＞
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は、近赤外線吸収色素を含有する。近赤外線吸収色素は、波長７００～１３００ｎｍの範囲に極大吸収波長が存在する化合物であることが好ましく、波長７００～１２００ｎｍの範囲に極大吸収波長が存在する化合物であることがより好ましく、波長７００～１１００ｎｍの範囲に極大吸収波長が存在する化合物であることが更に好ましく、波長７００～１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長が存在する化合物であることが特に好ましい。また、近赤外線吸収色素の波長５００ｎｍにおける吸光度Ａ５００と極大吸収波長における吸光度Ａｍａｘとの比率Ａ５００／Ａｍａｘは、０．０８以下であることが好ましく、０．０４以下であることがより好ましい。
　近赤外線吸収色素は、顔料（以下、近赤外線吸収顔料ともいう）であってもよく、染料（以下、近赤外線吸収染料ともいう）であってもよい。また、近赤外線吸収染料と近赤外線吸収顔料とを併用してもよい。近赤外線吸収染料と近赤外線吸収顔料とを併用する場合、両者の質量比は、近赤外線吸収染料：近赤外線吸収顔料＝９９．９：０．１～０．１：９９．９であることが好ましく、９９．９：０．１～１０：９０であることがより好ましく、９９．９：０．１～２０：８０であることが更に好ましい。近赤外線カットフィルタ層形成用組成物に用いられる近赤外線吸収色素は近赤外線吸収染料であることが好ましい。近赤外線吸収染料は、近赤外線吸収顔料に比べて、耐熱性が劣る傾向にあるが、本発明によれば、近赤外線吸収色素として近赤外線吸収染料を用いた場合であっても、耐熱性に優れた構造体とすることができる。このため、近赤外線吸収色素として近赤外線吸収染料を用いた場合において、本発明の効果が特に顕著に得られる。
　近赤外線吸収染料は、２５℃のプロピレングリコールメチルエーテルアセテート１００ｇへの溶解度が、１ｇ以上であることが好ましく、２ｇ以上であることがより好ましく、５ｇ以上であることがさらに好ましい。また、近赤外線吸収顔料は、２５℃のプロピレングリコールメチルエーテルアセテート１００ｇへの溶解度が、１ｇ未満であることが好ましく、０．１ｇ以下であることがより好ましく、０．０１ｇ以下であることがさらに好ましい。
　近赤外線吸収色素としては、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、クアテリレン化合物、メロシアニン化合物、クロコニウム化合物、オキソノール化合物、イミニウム化合物、ジチオール化合物、トリアリールメタン化合物、ピロメテン化合物、アゾメチン化合物、アントラキノン化合物、ジベンゾフラノン化合物、ボラジアジン化合物などが挙げられ、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物およびボラジアジン化合物から選ばれる少なくとも１種であることがより好ましく、ピロロピロール化合物、シアニン化合物およびスクアリリウム化合物から選ばれる少なくとも１種であることが更に好ましく、ピロロピロール化合物であることが特に好ましい。
　ピロロピロール化合物としては、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００１６～００５８に記載の化合物、特開２０１１－０６８７３１号公報の段落番号００３７～００５２に記載の化合物、国際公開第２０１５／１６６８７３号の段落番号００１０～００３３に記載の化合物などが挙げられる。スクアリリウム化合物としては、特開２０１１－２０８１０１号公報の段落番号００４４～００４９に記載の化合物、特許第６０６５１６９号公報の段落番号００６０～００６１に記載の化合物、国際公開第２０１６／１８１９８７号の段落番号００４０に記載の化合物、特開２０１５－１７６０４６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１９０１６２号の段落番号００７２に記載の化合物、特開２０１６－０７４６４９号公報の段落番号０１９６～０２２８に記載の化合物、特開２０１７－０６７９６３号公報の段落番号０１２４に記載の化合物、国際公開第２０１７／１３５３５９号に記載の化合物、特開２０１７－１１４９５６号公報に記載の化合物、特許６１９７９４０号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１２０１６６号に記載の化合物などが挙げられる。
　スクアリリウム化合物およびクロコニウム化合物としては、特開２０１７－１９７４３７号公報に記載のスクアリリウム化合物、特開２０１７－０２５３１１号公報に記載のスクアリリウム化合物、国際公開第２０１６／１５４７８２号に記載のスクアリリウム化合物、特許第５８８４９５３号公報に記載のスクアリリウム化合物、特許第６０３６６８９号公報に記載のスクアリリウム化合物、特許第５８１０６０４号公報に記載のスクアリリウム化合物、国際公開第２０１７／２１３０４７号の段落番号００９０～０１０７に記載のスクアリリウム化合物、特開２０１８－０５４７６０号公報の段落番号００１９～００７５に記載の化合物、特開２０１８－０４０９５５号公報の段落番号００７８～００８２に記載の化合物、特開２０１８－００２７７３号公報の段落番号００４３～００６９に記載の化合物、特開２０１８－０４１０４７号公報の段落番号００２４～００８６に記載のアミドα位に芳香環を有するスクアリリウム化合物、特開２０１７－１７９１３１号公報に記載のアミド連結型スクアリリウム化合物、特開２０１７－１４１２１５号公報に記載のピロールビス型スクアリリウム骨格又はクロコニウム骨格を有する化合物、特開２０１７－０８２０２９号公報に記載されたジヒドロカルバゾールビス型のスクアリリウム化合物、特開２０１７－０６８１２０号公報の段落番号００２７～０１１４に記載の化合物、特開２０１７－０６７９６３号公報に記載の化合物などが挙げられる。
　ボラジアジン化合物としては、特開２０１５－０４０２３１号公報の段落番号０１０３～０１１７に記載の化合物が挙げられる。
　シアニン化合物としては、特開２００９－１０８２６７号公報の段落番号００４４～００４５に記載の化合物、特開２００２－１９４０４０号公報の段落番号００２６～００３０に記載の化合物、特開２０１５－１７２００４号公報に記載の化合物、特開２０１５－１７２１０２号公報に記載の化合物、特開２００８－０８８４２６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１９０１６２号の段落番号００９０に記載の化合物、特開２０１７－０３１３９４号公報に記載の化合物などが挙げられる。
　フタロシアニン化合物としては、特開２０１２－０７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物、特開２００６－３４３６３１号公報に記載のオキシチタニウムフタロシアニン、特開２０１３－１９５４８０号公報の段落番号００１３～００２９に記載の化合物、特許第６０８１７７１号公報に記載のバナジウムフタロシアニン化合物、国際公開第２０２０／０７１４８６号に記載のバナジウムフタロシアニン化合物、国際公開第２０２０／０７１４７０号に記載のフタロシアニン化合物が挙げられる。
　ナフタロシアニン化合物としては、特開２０１２－０７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物が挙げられる。
　ピロロピロール化合物は、式（ＰＰ－１）で表される化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　式中、Ｒｐ１およびＲｐ２は、それぞれ独立してアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
　Ｒｐ３～Ｒｐ６は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表し、
　Ｒｐ７およびＲｐ８は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲｐ１１Ｒｐ１２または金属原子を表し、
　Ｒｐ１１およびＲｐ１２はそれぞれ独立して置換基を表し、
　Ｒｐ１１とＲｐ１２は互いに結合して環を形成してよい。
　式（ＰＰ－１）の詳細については、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００１７～００４７、特開２０１１－０６８７３１号公報の段落番号００１１～００３６、国際公開第２０１５／１６６８７３号の段落番号００１０～００２４の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　Ｒｐ１およびＲｐ２が表すアルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１０が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐および環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐であることが好ましい。
　Ｒｐ１およびＲｐ２が表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。
　Ｒｐ１およびＲｐ２が表すヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は、１～３０が好ましく、１～１２がより好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の種類としては、例えば、窒素原子、酸素原子および硫黄原子を挙げることができる。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数としては、１～３が好ましく、１～２がより好ましい。ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～８の縮合環がより好ましく、単環または縮合数が２～４の縮合環が更に好ましい。
　Ｒｐ１およびＲｐ２が表すアルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、以下に示す置換基Ｔが挙げられる。また、Ｒｐ１およびＲｐ２が表すアルキル基、アリール基およびヘテロアリール基が２個以上の置換基を有している場合、置換基同士が結合して環を形成していてもよい。
　式（ＰＰ－１）において、Ｒｐ１およびＲｐ２は、それぞれ独立してアルキル基またはアリール基であることが好ましい。Ｒｐ１およびＲｐ２の好ましい態様として、Ｒｐ１およびＲｐ２がそれぞれ独立してアルキル基である態様が挙げられる。また、Ｒｐ１およびＲｐ２の別の好ましい態様として、Ｒｐ１およびＲｐ２がそれぞれ独立してアリール基である態様が挙げられる。また、Ｒｐ１およびＲｐ２の別の好ましい態様として、Ｒｐ１およびＲｐ２の一方がアルキル基で、他方がアリール基である態様が挙げられる。
（置換基Ｔ）
　置換基Ｔとして、次の基が挙げられる。ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキル基）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルケニル基）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルキニル基）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０のアリール基）、ヘテロアリール基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリール基）、アミノ基（好ましくは炭素数０～３０のアミノ基）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～３０のアルコキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールオキシ基）、ヘテロアリールオキシ基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールオキシ基）、アシル基（好ましくは炭素数２～３０のアシル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニル基）、ヘテロアリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～３０のヘテロアリールオキシカルボニル基）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルオキシ基）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアミノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニルアミノ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～３０のスルファモイル基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは炭素数０～３０のスルファモイルアミノ基）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～３０のカルバモイル基）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールチオ基）、ヘテロアリールチオ基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールチオ基）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルスルホニル基）、アルキルスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルスルホニルアミノ基）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６～３０のアリールスルホニル基）、アリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールスルホニルアミノ基）、ヘテロアリールスルホニル基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールスルホニル基）、ヘテロアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールスルホニルアミノ基）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルスルフィニル基）、アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６～３０のアリールスルフィニル基）、ヘテロアリールスルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールスルフィニル基）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～３０のウレイド基）、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、カルボン酸アミド基、スルホン酸アミド基、イミド基、ホスフィノ基、メルカプト基、シアノ基、アルキルスルフィノ基、アリールスルフィノ基、アリールアゾ基、ヘテロアリールアゾ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、ヒドラジノ基、イミノ基。これらの基は、更に置換可能な基である場合、更に置換基を有してもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔで説明した基が挙げられる。
　式（ＰＰ－１）において、Ｒｐ３～Ｒｐ６は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表す。置換基としては上述した置換基Ｔが挙げられる。
　Ｒ３およびＲ４の一方はヘテロアリール基で、他方は電子求引性基であることが好ましい。また、Ｒ５およびＲ６の一方はヘテロアリール基で、他方は電子求引性基であることが好ましい。
　ここで、Ｈａｍｍｅｔｔのσｐ値（シグマパラ値）が正の置換基は、電子求引性基として作用する。本明細書においては、Ｈａｍｍｅｔｔのσｐ値が０．２以上の置換基を電子求引性基として例示することができる。σｐ値は、好ましくは０．２５以上であり、より好ましくは０．３以上であり、特に好ましくは０．３５以上である。上限は特に制限はないが、好ましくは０．８０以下である。電子求引性基の具体例としては、シアノ基（０．６６）、カルボキシ基（－ＣＯＯＨ：０．４５）、アルコキシカルボニル基（例えば、－ＣＯＯＣＨ３：０．４５）、アリールオキシカルボニル基（例えば、－ＣＯＯＣＨ３：０．４４）、カルバモイル基（例えば、－ＣＯＮＨ２：０．３６）、アルキルカルボニル基（例えば、－ＣＯＣＨ３：０．５０）、アリールカルボニル基（例えば、－ＣＯＰｈ：０．４３）、アルキルスルホニル基（例えば、－ＳＯ２ＣＨ３：０．７２）、アリールスルホニル基（例えば、－ＳＯ２Ｐｈ：０．６８）などが挙げられる。電子求引性基は、シアノ基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基およびアリールスルホニル基であることが好ましく、シアノ基であることがより好ましい。すなわち、式（１）のＲ１およびＲ２の一方、ならびに、Ｒ３およびＲ４の一方はそれぞれシアノ基であることが好ましい。ここで、Ｐｈはフェニル基を表す。Ｈａｍｍｅｔｔのσｐ値については、特開２００９－２６３６１４号公報の段落００２４～００２５を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　式（ＰＰ－１）のＲ３およびＲ４のいずれか一方が表すヘテロアリール基、ならびに、式（ＰＰ－１）のＲ５およびＲ６のいずれか一方が表すヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は、１～３０が好ましく、１～１２がより好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の種類としては、例えば、窒素原子、酸素原子および硫黄原子を挙げることができる。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数としては、１～３が好ましく、１～２がより好ましい。ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～８の縮合環がより好ましく、単環または縮合数が２～４の縮合環が更に好ましい。上記ヘテロアリール基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔで説明した基が挙げられる。
　式（ＰＰ－１）のＲｐ７およびＲｐ８は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲｐ１１Ｒｐ１２または金属原子を表し、－ＢＲｐ１１Ｒｐ１２であることが好ましい。
　－ＢＲｐ１１Ｒｐ１２で表される基におけるＲｐ１１およびＲｐ１２が表す置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基およびヘテロアリールオキシ基が挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基であることが好ましく、ハロゲン原子、アルキル基またはアリール基であることがより好ましく、アリール基であることが更に好ましい。
　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
　アルキル基およびアルコキシ基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基およびアルコキシ基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐であることが好ましい。アルキル基およびアルコキシ基は、置換基を有してもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン原子などが挙げられる。
　アルケニル基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１５がより好ましく、２～８が更に好ましい。アルケニル基は、置換基を有してもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アルコキシ基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン原子などが挙げられる。
　アリール基およびアリールオキシ基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。アリール基およびアリールオキシ基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。
　ヘテロアリール基およびヘテロアリールオキシ基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。ヘテロアリール基およびヘテロアリールオキシ基のヘテロアリール環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール環の環を構成する炭素原子の数は１～３０が好ましく、１～１８がより好ましく、１～１２が更に好ましい。ヘテロアリール環は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基およびヘテロアリールオキシ基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。
　－ＢＲｐ１１Ｒｐ１２で表される基におけるＲｐ１１とＲｐ１２は互いに結合して環を形成してよい。形成される環としては、例えば、式（Ｂ－１）～（Ｂ－５）に示す構造などが挙げられる。以下において、Ｒｂは置換基を表し、Ｒｂ１～Ｒｂ４は、それぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、ｂ１～ｂ３は、それぞれ独立して０～４の整数を表し、ｂ４は０～６の整数を表し、＊は連結手を表す。ＲｂおよびＲｂ１～Ｒｂ４が表す置換基としては、上述した置換基Ｔで挙げた基が挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　ピロロピロール化合物は、式（ＰＰ－２）で表される化合物であることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　式中、Ｌｐ２１はｎ価の連結基を表し、
　Ｒｐ２１は、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
　Ｒｐ２２～Ｒｐ２５は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表し、
　Ｒｐ２６およびＲｐ２７は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲｐ３１Ｒｐ３２または金属原子を表し、
　Ｒｐ３１およびＲｐ３２はそれぞれ独立して置換基を表し、
　Ｒｐ３１とＲｐ３２は互いに結合して環を形成してよく、
　ｎは２以上の整数を表す。
　式（ＰＰ－２）のｎは２以上の整数を表し、２～４の整数であることが好ましく、２であることがより好ましい。
　式（ＰＰ－２）のＬｐ２１が表すｎ価の連結基としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＳＯ２－、－ＮＲＬ－、－ＮＲＬＣＯ－、－ＣＯＮＲＬ－、－ＮＲＬＳＯ２－、－ＳＯ２ＮＲＬ－およびこれらの組み合わせからなる基が挙げられる。ＲＬは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。脂肪族炭化水素基の炭素数は、１～２０が好ましく、２～２０がより好ましく、２～１０がさらに好ましく、２～５が特に好ましい。脂肪族炭化水素基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。また、環状の脂肪族炭化水素基は、単環、多環のいずれであってもよい。芳香族炭化水素基の炭素数は、６～１８が好ましく、６～１４がより好ましく、６～１０がさらに好ましい。芳香族炭化水素基は、単環または縮合数が２～４の縮合環の芳香族炭化水素基であることが好ましい。芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環基であることが好ましい。複素環基は、単環または縮合数が２～４の縮合環が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成する炭素原子の数は１～３０が好ましく、１～１８がより好ましく、１～１２がより好ましい。脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基および複素環基は置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。また、ＲＬが表すアルキル基の炭素数は１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。ＲＬが表すアルキル基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Ｔが挙げられる。ＲＬが表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。ＲＬが表すアリール基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては上述した置換基Ｔが挙げられる。
　式（ＰＰ－２）のＲｐ２１が表すアルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１０が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐および環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐であることが好ましい。
　式（ＰＰ－２）のＲｐ２１が表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。
　式（ＰＰ－２）のＲｐ２１が表すヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は、１～３０が好ましく、１～１２がより好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の種類としては、例えば、窒素原子、酸素原子および硫黄原子を挙げることができる。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数としては、１～３が好ましく、１～２がより好ましい。ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～８の縮合環がより好ましく、単環または縮合数が２～４の縮合環が更に好ましい。
　式（ＰＰ－２）のＲｐ２１が表すアルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられる。また、Ｒｐ２１が表すアルキル基、アリール基およびヘテロアリール基が２個以上の置換基を有している場合、置換基同士が結合して環を形成していてもよい。
　式（ＰＰ－２）のＲｐ２１は、アルキル基またはアリール基であることが好ましい。
　式（ＰＰ－２）のＲｐ２２～Ｒｐ２５は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表す。置換基としては上述した置換基Ｔが挙げられる。
　Ｒ２２およびＲ２３の一方はヘテロアリール基で、他方は電子求引性基であることが好ましい。また、Ｒ２４およびＲ２５の一方はヘテロアリール基で、他方は電子求引性基であることが好ましい。電子求引性基としては、上述した基が挙げられ、シアノ基であることが好ましい。ヘテロアリール基は、式（ＰＰ－１）のＲ３およびＲ４のいずれか一方が表すヘテロアリール基、ならびに、式（ＰＰ－１）のＲ５およびＲ６のいずれか一方が表すヘテロアリール基として説明した基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　式（ＰＰ－２）のＲｐ２６およびＲｐ２７は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲｐ３１Ｒｐ３２または金属原子を表し、－ＢＲｐ３１Ｒｐ３２であることが好ましい。
　式（ＰＰ－２）の－ＢＲｐ３１Ｒｐ３２で表される基におけるＲｐ３１およびＲｐ３２が表す置換基としては、式（ＰＰ－１）の－ＢＲｐ１１Ｒｐ１２で表される基におけるＲｐ１１およびＲｐ１２が表す置換基として説明した基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。また、－ＢＲｐ３１Ｒｐ３２で表される基におけるＲｐ３１とＲｐ３２は互いに結合して環を形成してよい。形成される環としては、例えば、上述した式（Ｂ－１）～（Ｂ－５）に示す構造などが挙げられる。
　スクアリリウム化合物は、下記式（ＳＱ）で表される化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 　式（ＳＱ）中、Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立に、アリール基、ヘテロアリール基または式（Ａ－１）で表される基を表す；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 　式（Ａ－１）中、Ｚ１は、含窒素複素環を形成する非金属原子団を表し、Ｒ２は、アルキル基、アルケニル基またはアラルキル基を表し、ｄは、０または１を表し、波線は連結手を表す。
　Ａ１およびＡ２が表すアリール基の炭素数は、６～４８が好ましく、６～２４がより好ましく、６～１２が特に好ましい。
　Ａ１およびＡ２が表すヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。また、ヘテロアリール基は、単環または縮合数が２～８の縮合環であることが好ましく、単環または縮合数が２～４の縮合環であることがより好ましく、単環または縮合数が２または３の縮合環であることが更に好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が例示され、窒素原子、硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は、１～３が好ましく、１～２がより好ましい。
　アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよい。アリール基およびヘテロアリール基が、置換基を２個以上有する場合、複数の置換基は同一であってもよく、異なっていてもよい。
　置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、－ＯＲ１０、－ＣＯＲ１１、－ＣＯＯＲ１２、－ＯＣＯＲ１３、－ＮＲ１４Ｒ１５、－ＮＨＣＯＲ１６、－ＣＯＮＲ１７Ｒ１８、－ＮＨＣＯＮＲ１９Ｒ２０、－ＮＨＣＯＯＲ２１、－ＳＲ２２、－ＳＯ２Ｒ２３、－ＳＯ２ＯＲ２４、－ＮＨＳＯ２Ｒ２５または－ＳＯ２ＮＲ２６Ｒ２７が挙げられる。Ｒ１０～Ｒ２７は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、またはアラルキル基を表す。なお、－ＣＯＯＲ１２のＲ１２が水素原子の場合は、水素原子が解離してもよく、塩の状態であってもよい。また、－ＳＯ２ＯＲ２４のＲ２４が水素原子の場合は、水素原子が解離してもよく、塩の状態であってもよい。
　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
　アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
　アルケニル基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１２がより好ましく、２～８が特に好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
　アルキニル基の炭素数は、２～４０が好ましく、２～３０がより好ましく、２～２５が特に好ましい。アルキニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
　アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。
　アラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基のアリール部分は、上記アリール基と同様である。アラルキル基の炭素数は、７～４０が好ましく、７～３０がより好ましく、７～２５が更に好ましい。
　ヘテロアリール基は、単環または縮合数が２～８の縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～４の縮合環がより好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がより好ましい。
　アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述した置換基が挙げられる。
　次に、Ａ１およびＡ２が表す式（Ａ－１）で表される基について説明する。
　式（Ａ－１）において、Ｒ２は、アルキル基、アルケニル基またはアラルキル基を表し、アルキル基が好ましい。
　アルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１２が更に好ましく、２～８が特に好ましい。
　アルケニル基の炭素数は、２～３０が好ましく、２～２０がより好ましく、２～１２が更に好ましい。
　アルキル基およびアルケニル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
　アラルキル基の炭素数は７～３０が好ましく、７～２０がより好ましい。
　式（Ａ－１）において、Ｚ１により形成される含窒素複素環としては、５員環または６員環が好ましい。また、含窒素複素環は、単環または縮合数が２～８の縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～４の縮合環がより好ましく、縮合数が２または３の縮合環がより好ましい。含窒素複素環は、窒素原子の他に、硫黄原子を含んでいてもよい。また、含窒素複素環は置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられる。
　式（ＳＱ）の詳細については、特開２０１１－２０８１０１号公報の段落番号００２０～００４９の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　なお、式（ＳＱ）においてカチオンは、以下のように非局在化して存在している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　スクアリリウム化合物は、式（ＳＱ－１）で表される化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 　環Ａおよび環Ｂは、それぞれ独立に芳香族環を表し、
　ＸＡおよびＸＢはそれぞれ独立に置換基を表し、
　ＧＡおよびＧＢはそれぞれ独立に置換基を表し、
　ｋＡは０～ｎＡの整数を表し、ｋＢは０～ｎＢの整数を表し、
　ｎＡおよびｎＢはそれぞれ環Ａまたは環Ｂに置換可能な最大の整数を表し、
　ＸＡとＧＡ、ＸＢとＧＢは互いに結合して環を形成しても良く、ＧＡおよびＧＢがそれぞれ複数存在する場合は、互いに結合して環構造を形成していても良い。
　ＧＡおよびＧＢが表す置換基としては、上述した式（ＳＱ）で説明した置換基が挙げられる。
　ＸＡおよびＸＢが表す置換基としては、上述した式（ＳＱ）で説明した置換基が挙げられ、活性水素を有する基が好ましく、－ＯＨ、－ＳＨ、－ＣＯＯＨ、－ＳＯ３Ｈ、－ＮＲＸ１ＲＸ２、－ＮＨＣＯＲＸ１、－ＣＯＮＲＸ１ＲＸ２、－ＮＨＣＯＮＲＸ１ＲＸ２、－ＮＨＣＯＯＲＸ１、－ＮＨＳＯ２ＲＸ１、－Ｂ（ＯＨ）２および－ＰＯ（ＯＨ）２がより好ましく、－ＯＨ、－ＳＨおよび－ＮＲＸ１ＲＸ２が更に好ましい。
　ＲＸ１およびＲＸ２は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表す。置換基としてはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または、ヘテロアリール基が挙げられ、アルキル基が好ましい。アルキル基は直鎖または分岐が好ましい。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、および、ヘテロアリール基の詳細については、上述した置換基の欄で説明した範囲と同義である。
　環Ａおよび環Ｂは、それぞれ独立に、芳香族環を表す。芳香族環は単環であってもよく、縮合環であってもよい。芳香族環の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、ペンタレン環、インデン環、アズレン環、ヘプタレン環、インダセン環、ペリレン環、ペンタセン環、アセナフテン環、フェナントレン環、アントラセン環、ナフタセン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオレン環、ビフェニル環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、インドリジン環、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、イソベンゾフラン環、キノリジン環、キノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キノキサゾリン環、イソキノリン環、カルバゾール環、フェナントリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、チアントレン環、クロメン環、キサンテン環、フェノキサチイン環、フェノチアジン環、および、フェナジン環が挙げられ、ベンゼン環またはナフタレン環が好ましい。
　芳香族環は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した式（ＳＱ）で説明した置換基が挙げられる。
　ＸＡとＧＡ、ＸＢとＧＢは互いに結合して環を形成しても良く、ＧＡおよびＧＢがそれぞれ複数存在する場合は、互いに結合して環を形成していても良い。環としては、５員環または６員環が好ましい。環は単環であってもよく、縮合環であってもよい。ＸＡとＧＡ、ＸＢとＧＢ、ＧＡ同士またはＧＢ同士が結合して環を形成する場合、これらが直接結合して環を形成してもよく、アルキレン基、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＢＲ－およびそれらの組み合わせからなる２価の連結基を介して結合して環を形成してもよい。ＸＡとＧＡ、ＸＢとＧＢ、ＧＡ同士またはＧＢ同士が、－ＢＲ－を介して結合して環を形成することが好ましい。Ｒは、水素原子または置換基を表す。置換基としては、上述した式（ＳＱ）で説明した置換基が挙げられ、アルキル基またはアリール基が好ましい。
　ｋＡは０～ｎＡの整数を表し、ｋＢは０～ｎＢの整数を表し、ｎＡは、環Ａに置換可能な最大の整数を表し、ｎＢは、環Ｂに置換可能な最大の整数を表す。ｋＡおよびｋＢは、それぞれ独立に０～４が好ましく、０～２がより好ましく、０～１が特に好ましい。
　シアニン化合物は、式（Ｃ）で表される化合物であることが好ましい。
式（Ｃ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 　式中、Ｚ１およびＺ２は、それぞれ独立に、縮環してもよい５員または６員の含窒素複素環を形成する非金属原子団であり、
　Ｒ１０１およびＲ１０２は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基またはアリール基を表し、
　Ｌ１は、奇数個のメチン基を有するメチン鎖を表し、
　ａおよびｂは、それぞれ独立に、０または１であり、
　ａが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが二重結合で結合し、ｂが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが単結合で結合し、
　式中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ１はアニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ１はカチオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、ｃは０である。
　式（Ｃ）において、Ｚ１およびＺ２は、それぞれ独立に、縮環してもよい５員又は６員の含窒素複素環を形成する非金属原子団を表す。含窒素複素環には、他の複素環、芳香族環または脂肪族環が縮合してもよい。含窒素複素環は、５員環が好ましい。５員の含窒素複素環に、ベンゼン環又はナフタレン環が縮合している構造がさらに好ましい。含窒素複素環の具体例としては、オキサゾール環、イソオキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、ナフトオキサゾール環、オキサゾロカルバゾール環、オキサゾロジベンゾフラン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ナフトチアゾール環、インドレニン環、ベンゾインドレニン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ナフトイミダゾール環、キノリン環、ピリジン環、ピロロピリジン環、フロピロール環、インドリジン環、イミダゾキノキサリン環、キノキサリン環等が挙げられ、キノリン環、インドレニン環、ベンゾインドレニン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環が好ましく、インドレニン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環が特に好ましい。含窒素複素環及びそれに縮合している環は、置換基を有していてもよい。置換基としては、式（ＳＱ）で説明した置換基が挙げられる。
　式（Ｃ）において、Ｒ１０１およびＲ１０２は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基またはアリール基を表す。これらの好ましい範囲については、式（ＳＱ）で説明した範囲と同様である。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基およびアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、式（ＳＱ）で説明した置換基が挙げられる。
　式（Ｃ）において、Ｌ１は、奇数個のメチン基を有するメチン鎖を表す。Ｌ１は、３個、５個または７個のメチン基を有するメチン鎖が好ましい。
　メチン基は置換基を有していてもよい。置換基を有するメチン基は、中央の（メソ位の）メチン基であることが好ましい。置換基の具体例としては、式（ＳＱ）で説明した置換基、および、式（ａ）で表される基などが挙げられる。また、メチン鎖の二つの置換基が結合して５または６員環を形成しても良い。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 　式（ａ）中、＊は、メチン鎖との連結部を表し、Ａ１は、－Ｏ－を表す。
　式（Ｃ）において、ａおよびｂは、それぞれ独立に、０または１である。ａが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが二重結合で結合し、ｂが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが単結合で結合する。ａおよびｂはともに０であることが好ましい。なお、ａおよびｂがともに０の場合は、式（Ｃ）は以下のように表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　式（Ｃ）において、式中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ１はアニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表す。アニオンの例としては、ハライドイオン（Ｃｌ－、Ｂｒ－、Ｉ－）、パラトルエンスルホン酸イオン、エチル硫酸イオン、ＰＦ６ －、ＢＦ４ －、ＣｌＯ４ －、トリス（ハロゲノアルキルスルホニル）メチドアニオン（例えば、（ＣＦ３ＳＯ２）３Ｃ－）、ジ（ハロゲノアルキルスルホニル）イミドアニオン（例えば（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ－）、テトラシアノボレートアニオンなどが挙げられる。
　式（Ｃ）において、式中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ１はカチオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表す。カチオンとしては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋など）、アルカリ土類金属イオン（Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｂａ２＋、Ｓｒ２＋など）、遷移金属イオン（Ａｇ＋、Ｆｅ２＋、Ｃｏ２＋、Ｎｉ２＋、Ｃｕ２＋、Ｚｎ２＋など）、その他の金属イオン（Ａｌ３＋など）、アンモニウムイオン、トリエチルアンモニウムイオン、トリブチルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオン、グアニジニウムイオン、テトラメチルグアニジニウムイオン、ジアザビシクロウンデセニウムイオンなどが挙げられる。カチオンとしては、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｚｎ２＋、ジアザビシクロウンデセニウムイオンが好ましい。
　式（Ｃ）において、式中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、Ｘ１は存在しない。すなわち、ｃは０である。
　シアニン化合物は、下記式（Ｃ－１）～（Ｃ－３）で表される化合物であることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 　式中、Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａ、Ｒ１ＢおよびＲ２Ｂは、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基またはアリール基を表し、
　Ｌ１ＡおよびＬ１Ｂは、それぞれ独立に奇数個のメチン基を有するメチン鎖を表し、
　Ｙ１およびＹ２は、各々独立に－Ｓ－、－Ｏ－、－ＮＲＸ１－または－ＣＲＸ２ＲＸ３－を表し、
　ＲＸ１、ＲＸ２およびＲＸ３は、各々独立に水素原子またはアルキル基を表し、
　Ｖ１Ａ、Ｖ２Ａ、Ｖ１ＢおよびＶ２Ｂは、それぞれ独立に、置換基を表し、
　ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立に０～４を表し、
　式中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ１はアニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、
式中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ１はカチオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、
式中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、Ｘ１は存在しない。
　Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａ、Ｒ１ＢおよびＲ２Ｂが表す基は、式（Ｃ）のＲ１０１およびＲ１０２で説明したアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基およびアリール基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　Ｙ１およびＹ２は、各々独立に－Ｓ－、－Ｏ－、－ＮＲＸ１－または－ＣＲＸ２ＲＸ３－を表し、－ＮＲＸ１－が好ましい。ＲＸ１、ＲＸ２およびＲＸ３は、各々独立に水素原子またはアルキル基を表し、アルキル基が好ましい。アルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３が特に好ましい。アルキル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、直鎖が特に好ましい。アルキル基は、メチル基またはエチル基が特に好ましい。
　Ｌ１ＡおよびＬ１Ｂは、式（Ｃ）のＬ１と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　Ｖ１Ａ、Ｖ２Ａ、Ｖ１ＢおよびＶ２Ｂが表す置換基は、式（ＳＱ）で説明した置換基が挙げられる。
　ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立に０～４を表し、０～２が好ましい。
　Ｘ１が表すアニオンおよびカチオンは、式（Ｃ）のＸ１で説明した範囲と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　本発明において、近赤外線吸収色素には、市販品を用いることもできる。例えば、ＳＤＯ－Ｃ３３（有本化学工業（株）製）、イーエクスカラーＩＲ－１４、イーエクスカラーＩＲ－１０Ａ、イーエクスカラーＴＸ－ＥＸ－８０１Ｂ、イーエクスカラーＴＸ－ＥＸ－８０５Ｋ（（株）日本触媒製）、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ－８０４１、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ－８０４２、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ－８１４、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ－８２０、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ－８３９（ハッコーケミカル社製）、ＥｐｏｌｉｔｅＶ－６３、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ３８０１、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ３０３６（ＥＰＯＬＩＮ社製）、ＰＲＯ－ＪＥＴ８２５ＬＤＩ（富士フイルム（株）製）、ＮＫ－３０２７、ＮＫ－５０６０（（株）林原製）、ＹＫＲ－３０７０（三井化学（株）製）、ＦＤＲ－００３、ＦＤＲ－００４、ＦＤＲ－００５（山田化学工業（株））などが挙げられる。
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物の全固形分中における近赤外線吸収色素の含有量は、３質量％以上であることが好ましく、３～４０質量％であることが好ましい。上限は、３５質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下であることがより好ましく、２５質量％以下であることが更に好ましい。下限は、５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましい。
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は近赤外線吸収色素を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。近赤外線吸収色素を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜環状エーテル基を有する化合物＞＞
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は、環状エーテル基を有する化合物を含有する。環状エーテル基を有する化合物は、エポキシ基およびオキセタニル基から選ばれる少なくとも１種の基を有する化合物であることが好ましく、エポキシ基を有する化合物であることがより好ましい。エポキシ基は、脂環式エポキシ基であってもよい。なお、脂環式エポキシ基とは、エポキシ環と飽和炭化水素環とが縮合した環状構造を有する１価の官能基のことを意味する。
　環状エーテル基を有する化合物の環状エーテル基価は１．０～１５．０ｍｍｏｌ／ｇであることが好ましい。下限は、２．０ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましく、３．０ｍｍｏｌ／ｇ以上であることがより好ましく、５．０ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが更に好ましい。上限は、１２．０ｍｍｏｌ／ｇ以下であることが好ましく、１０．０ｍｍｏｌ／ｇ以下であることがより好ましい。なお、環状エーテル基を有する化合物の環状エーテル基価は、環状エーテル基を有する化合物に含まれる環状エーテル基の数を、環状エーテル基を有する化合物の分子量で割ることで算出した値である。
　環状エーテル基を有する化合物の酸価は、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましく、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましく、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより一層好ましく、１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが特に好ましい。この態様によれば、本発明の効果がより顕著に奏される。
　環状エーテル基を有する化合物の重量平均分子量は、５０００～５００００であることが好ましい。上限は、３００００以下であることが好ましく、２５０００以下であることがより好ましく、２００００以下であることが更に好ましく、１８０００以下であることがより一層好ましい。下限は、６０００以上であることが好ましく、８０００以上であることがより好ましい。
　環状エーテル基を有する化合物は、酸基を有さない化合物であることが好ましい。また、環状エーテル基を有する化合物は、ケイ素原子を含まない化合物であることが好ましく、アルコキシシリル基を含まない化合物であることがより好ましい。
　環状エーテル基を有する化合物は、環状エーテル基を有する繰り返し単位を含む化合物であることが好ましい。環状エーテル基を有する繰り返し単位としては、式（ｅｐ－１）で表される繰り返し単位が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　式（ｅｐ－１）中、Ｘｅ１は３価の連結基を表し、Ｌｅ１は単結合または２価の連結基を表し、Ｚｅ１は環状エーテル基を表す。
　式（ｅｐ－１）のＸａ１が表す３価の連結基としては、ポリ（メタ）アクリル系連結基、ポリアルキレンイミン系連結基、ポリエステル系連結基、ポリウレタン系連結基、ポリウレア系連結基、ポリアミド系連結基、ポリエーテル系連結基、ポリスチレン系連結基、ビスフェノール系連結基、ノボラック系連結基などが挙げられ、ポリ（メタ）アクリル系連結基、ポリエーテル系連結基、ポリエステル系連結基、ビスフェノール系連結基およびノボラック系連結基であることが好ましく、ポリエーテル系連結基、ノボラック系連結基およびポリ（メタ）アクリル系連結基であることがより好ましく、ポリ（メタ）アクリル系連結基であることが更に好ましい。
　式（ｅｐ－１）のＬｅ１が表す２価の連結基としては、アルキレン基（好ましくは炭素数１～１２のアルキレン基）、アリーレン基（好ましくは炭素数６～２０のアリーレン基）、－ＮＨ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ－およびこれらを２以上を組み合わせた基が挙げられる。アルキレン基は、直鎖、分岐及び環状のいずれでもよく、直鎖または分岐であることが好ましい。また、アルキレン基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、ヒドロキシ基、アルコキシ基などが挙げられる。
　式（ｅｐ－１）のＺｅ１が表す環状エーテル基としては、エポキシ基およびオキセタニル基が挙げられ、エポキシ基であることが好ましい。
　式（ｅｐ－１）で表される繰り返し単位は、式（ｅｐ－１－１）で表される繰り返し単位であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　式（ｅｐ－１－１）中、Ｒｅ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｌｅ１は単結合または２価の連結基を表し、Ｚｅ１は環状エーテル基を表す。式（ｅｐ－１－１）のＬｅ１およびＺｅ１は、式（ｅｐ－１）のＬｅ１およびＺｅ１と同義である。
　環状エーテル基を有する繰り返し単位を含む化合物中における式（ｅｐ－１）で表される繰り返し単位の含有量は、環状エーテル基を有する繰り返し単位を含む化合物の全繰り返し単位中３０モル％以上であることが好ましく、６０モル％以上であることがより好ましく、８０モル％以上であることが更に好ましく、９０モル％以上であることがより一層好ましい。上限は１００モル％とすることもでき、９９モル％以下とすることもできる。
環状エーテル基を有する繰り返し単位を含む化合物は、式（ｅｐ－１）で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位を含まないことが好ましい。
　環状エーテル基を有する繰り返し単位を含む化合物は、更に式（ｅｐ－２）で表される繰り返し単位を含んでいてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　式（ｅｐ－２）中、Ｘｅ２は３価の連結基を表し、Ｌｅ２は単結合または２価の連結基を表し、Ｙｅ２はアルキル基またはアリール基を表す。
　式（ｅｐ－２）のＸａ２およびＬａ２は、式（ｅｐ－１）のＸａ１およびＬａ１として説明した基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　Ｙｅ２が表すアルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１０が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐および環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐であることが好ましい。
　Ｙｅ２が表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。
　式（ｅｐ－２）で表される繰り返し単位は、式（ｅｐ－２－１）で表される繰り返し単位であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
　式（ｅｐ－２－１）中、Ｒｅ２は水素原子またはメチル基を表し、Ｌｅ２は単結合または２価の連結基を表し、Ｙｅ２は環状エーテル基を表す。式（ｅｐ－２－１）のＬｅ２およびＹｅ２は、式（ｅｐ－２）のＬｅ２およびＹｅ２と同義である。
　環状エーテル基を有する繰り返し単位を含む化合物中における式（ｅｐ－２）で表される繰り返し単位の含有量は、環状エーテル基を有する繰り返し単位を含む化合物の全繰り返し単位中５０モル％以下であることが好ましく、３０モル％以下であることがより好ましく、１０モル％以下であることが更に好ましく、５モル％以下であることがより一層好ましい。下限は、０モル％とすることもでき、１モル％以上とすることもできる。
　環状エーテル基を有する化合物の具体例としては、後述する実施例に記載の化合物が挙げられる。
　環状エーテル基を有する化合物の市販品としては、例えば、ナフタレン変性エポキシ樹脂として、ＥＰＩＣＬＯＮ　ＨＰ５０００、ＥＰＩＣＬＯＮ　ＨＰ４０３２Ｄ（以上、ＤＩＣ（株）製）などが挙げられる。アルキルジフェノール型エポキシ樹脂として、ＥＰＩＣＬＯＮ　８２０（ＤＩＣ（株）製）などが挙げられる。ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂として、ｊＥＲ８２５、ｊＥＲ８２７、ｊＥＲ８２８、ｊＥＲ８３４、ｊＥＲ１００１、ｊＥＲ１００２、ｊＥＲ１００３、ｊＥＲ１０５５、ｊＥＲ１００７、ｊＥＲ１００９、ｊＥＲ１０１０（以上、三菱ケミカル（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８６０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５１、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５５（以上、ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂として、ｊＥＲ８０６、ｊＥＲ８０７、ｊＥＲ４００４、ｊＥＲ４００５、ｊＥＲ４００７、ｊＥＲ４０１０（以上、三菱ケミカル（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８３０、ＥＰＩＣＬＯＮ８３５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＬＣＥ－２１、ＲＥ－６０２Ｓ（以上、日本化薬（株）製）等が挙げられる。フェノールノボラック型エポキシ樹脂として、ｊＥＲ１５２、ｊＥＲ１５４、ｊＥＲ１５７Ｓ７０、ｊＥＲ１５７Ｓ６５（以上、三菱ケミカル（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７４０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７７０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７７５（以上、ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。クレゾールノボラック型エポキシ樹脂として、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６６０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６６５、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６７０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６７３、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６８０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＥＯＣＮ－１０２０（日本化薬（株）製）等が挙げられる。脂肪族エポキシ樹脂として、ＡＤＥＫＡ　ＲＥＳＩＮ　ＥＰ－４０８０Ｓ、同ＥＰ－４０８５Ｓ、同ＥＰ－４０８８Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、ＥＨＰＥ３１５０、ＥＰＯＬＥＡＤ　ＰＢ　３６００、ＥＰＯＬＥＡＤ　ＰＢ　４７００（以上、（株）ダイセル製）、デナコール　ＥＸ－２１２Ｌ、ＥＸ－２１４Ｌ、ＥＸ－２１６Ｌ、ＥＸ－３２１Ｌ、ＥＸ－８５０Ｌ（以上、ナガセケムテックス（株）製）等が挙げられる。また、オキセタニル基を有する化合物として、ＯＸＴ－１０１、ＯＸＴ－１２１、ＯＸＴ－２１２、ＯＸＴ－２２１（以上、東亞合成（株）製）、ＯＸＥ－１０、ＯＸＥ－３０（以上、大阪有機化学工業（株）製）などが挙げられる。また、環状エーテル基を有する化合物としては、特開２０１３－０１１８６９号公報の段落番号００３４～００３６に記載された化合物、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０１４７～０１５６に記載された化合物、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落番号００８５～００９２に記載された化合物、特開２０１７－１７９１７２号公報に記載された化合物、特表２０２０－５１５６８０号公報の段落番号０１１７～０１２０に記載された化合物を用いることもできる。
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物の全固形分中における環状エーテル基を有する化合物の含有量は、５～５０質量％以上であることが好ましい。上限は４０質量％以下であることが好ましく、３５質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以下であることが更に好ましく、２５質量％以下であることがより一層好ましい。下限は、１０質量％以上であることが好ましく、１５質量％以上であることがより好ましく、２０質量％以上であることが更に好ましい。
　また、環状エーテル基を有する化合物の含有量は、近赤外線吸収色素の１００質量部に対して１～３０質量部であることが好ましい。上限は、２５質量部以下であることが好ましく、２０質量部以下であることがより好ましく、１５質量部以下であることが更に好ましく、１０質量部以下であることがより一層好ましい。下限は、３質量部以上であることが好ましく、５質量部以上であることがより好ましい。
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は環状エーテル基を有する化合物を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。環状エーテル基を有する化合物を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜色素誘導体＞＞
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は、さらに色素誘導体を含有することができる。色素誘導体は分散助剤として用いられる。分散助剤とは、組成物中において顔料の分散性を高めるための素材のことである。近赤外線カットフィルタ層形成用組成物が更に分散剤などの樹脂を含む場合には、顔料と分散助剤と樹脂との間でネットワークを形成して顔料の分散性を向上させることができる。
　色素誘導体としては、色素骨格に酸基または塩基性基が結合した構造を有する化合物が挙げられ、色素骨格に酸基が結合した構造を有する化合物（以下、酸性色素誘導体ともいう）であることが好ましい。
　色素誘導体を構成する色素骨格としては、スクアリリウム色素骨格、ピロロピロール色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、キナクリドン色素骨格、アントラキノン色素骨格、ジアントラキノン色素骨格、ベンゾイソインドール色素骨格、チアジンインジゴ色素骨格、アゾ色素骨格、キノフタロン色素骨格、フタロシアニン色素骨格、ナフタロシアニン色素骨格、ジオキサジン色素骨格、ペリレン色素骨格、ペリノン色素骨格、ベンゾイミダゾロン色素骨格、ベンゾチアゾール色素骨格、ベンゾイミダゾール色素骨格およびベンゾオキサゾール色素骨格が挙げられ、スクアリリウム色素骨格、ピロロピロール色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、フタロシアニン色素骨格、キナクリドン色素骨格およびベンゾイミダゾロン色素骨格が好ましい。
　酸基としては、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、ボロン酸基、カルボン酸アミド基、スルホン酸アミド基、イミド酸基及びこれらの塩等が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋など）、アルカリ土類金属イオン（Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋など）、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。カルボン酸アミド基としては、－ＮＨＣＯＲＡ１で表される基が好ましい。スルホン酸アミド基としては、－ＮＨＳＯ２ＲＡ２で表される基が好ましい。イミド酸基としては、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２ＲＡ３、－ＣＯＮＨＳＯ２ＲＡ４、－ＣＯＮＨＣＯＲＡ５または－ＳＯ２ＮＨＣＯＲＡ６で表される基が好ましく、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２ＲＡ３がより好ましい。ＲＡ１～ＲＡ６は、それぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表す。ＲＡ１～ＲＡ６が表すアルキル基及びアリール基は、置換基を有してもよい。置換基としてはハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。
　塩基性基としては、アミノ基、ピリジニル基およびその塩、アンモニウム基の塩、並びにフタルイミドメチル基が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、水酸化物イオン、ハロゲンイオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオンなどが挙げられる。
　色素誘導体の含有量は近赤外線吸収色素１００質量部に対して１～５０質量部であることが好ましい。下限は、３質量部以上であることが好ましく、５質量部以上であることがより好ましい。上限は、４０質量部以下であることが好ましく、３０質量部以下であることがより好ましい。また、近赤外線カットフィルタ層形成用組成物に含まれる色素誘導体は、酸性色素誘導体のみであることが好ましい。
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は色素誘導体を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。色素誘導体を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜重合性化合物＞＞
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は、重合性化合物を含有することが好ましい。重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物などが挙げられる。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。重合性化合物はラジカルにより重合可能な化合物（ラジカル重合性化合物）であることが好ましい。
　重合性化合物の分子量は、１００～２０００であることが好ましい。上限は、１５００以下であることが好ましく、１０００以下であることがより好ましい。下限は、１５０以上であることがより好ましく、２５０以上であることが更に好ましい。また、重合性化合物は、分子量分布を実質的に有さない化合物であることも好ましい。ここで、分子量分布を実質的に有さない化合物としては、化合物の分散度（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））が、１．０～１．５である化合物が好ましく、１．０～１．３がより好ましい。
　重合性化合物は、エチレン性不飽和結合含有基を２個以上含む化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和結合含有基を３個以上含む化合物であることがより好ましく、エチレン性不飽和結合含有基を３～１５個含む化合物であることが更に好ましく、エチレン性不飽和結合含有基を３～６個含む化合物であることがより一層好ましい。また、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物は、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物の具体例としては、特開２００９－２８８７０５号公報の段落番号００９５～０１０８、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落０２２７、特開２００８－２９２９７０号公報の段落番号０２５４～０２５７、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３４～００３８、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０４７７、特開２０１７－０４８３６７号公報、特許第６０５７８９１号公報、特許第６０３１８０７号公報、特開２０１７－１９４６６２号公報に記載されている化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　重合性化合物としては、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、及びこれらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコール及び／又はプロピレングリコール残基を介して結合している構造の化合物（例えば、サートマー社から市販されている、ＳＲ４５４、ＳＲ４９９）が好ましい。また、重合性化合物としては、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ－４６０；東亞合成製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＨＤＤＡ）、ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製）、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、ＮＫオリゴＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（大成ファインケミカル（株）製）、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ０（共栄社化学（株）製）などを用いることもできる。
　また、重合性化合物として、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどの３官能の（メタ）アクリレート化合物を用いることも好ましい。３官能の（メタ）アクリレート化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０９、Ｍ－３１０、Ｍ－３２１、Ｍ－３５０、Ｍ－３６０、Ｍ－３１３、Ｍ－３１５、Ｍ－３０６、Ｍ－３０５、Ｍ－３０３、Ｍ－４５２、Ｍ－４５０（東亞合成（株）製）、ＮＫエステル　Ａ９３００、Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、Ａ－ＴＭＭ－３、Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ、Ａ－ＴＭＭ－３ＬＭ－Ｎ、Ａ－ＴＭＰＴ、ＴＭＰＴ（新中村化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＧＰＯ－３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ－３３０、ＴＰＡ－３３０、ＰＥＴ－３０（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　重合性化合物として、酸基を有する重合性化合物を用いることもできる。酸基としては、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基等が挙げられ、カルボキシ基が好ましい。酸基を有する重合性化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０５、Ｍ－５１０、Ｍ－５２０、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）等が挙げられる。酸基を有する重合性化合物の好ましい酸価としては、０．１～４０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、より好ましくは５～３０ｍｇＫＯＨ／ｇである。
　重合性化合物として、カプロラクトン構造を有する重合性化合物を用いることもできる。カプロラクトン構造を有する重合性化合物は、例えば、日本化薬（株）からＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡシリーズとして市販されており、ＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０、ＤＰＣＡ－１２０等が挙げられる。
　重合性化合物として、アルキレンオキシ基を有する重合性化合物を用いることもできる。アルキレンオキシ基を有する重合性化合物は、エチレンオキシ基及び／又はプロピレンオキシ基を有する重合性化合物であることが好ましく、エチレンオキシ基を有する重合性化合物であることがより好ましく、エチレンオキシ基を４～２０個有する３～６官能（メタ）アクリレート化合物であることがさらに好ましい。アルキレンオキシ基を有する重合性化合物の市販品としては、例えばサートマー社製のエチレンオキシ基を４個有する４官能（メタ）アクリレートであるＳＲ－４９４、日本化薬（株）のイソブチレンオキシ基を３個有する３官能（メタ）アクリレートであるＫＡＹＡＲＡＤ　ＴＰＡ－３３０などが挙げられる。
　重合性化合物として、フルオレン骨格を有する重合性化合物を用いることもできる。フルオレン骨格を有する重合性化合物の市販品としては、オグソールＥＡ－０２００、ＥＡ－０３００（大阪ガスケミカル（株）製、フルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートモノマー）などが挙げられる。
　重合性化合物としては、トルエンなどの環境規制物質を実質的に含まない重合性化合物を用いることも好ましい。このような重合性化合物の市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ　ＬＴ、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＥＡ－１２　ＬＴ（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　重合性化合物としては、特公昭４８－０４１７０８号公報、特開昭５１－０３７１９３号公報、特公平０２－０３２２９３号公報、特公平０２－０１６７６５号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８－０４９８６０号公報、特公昭５６－０１７６５４号公報、特公昭６２－０３９４１７号公報、特公昭６２－０３９４１８号公報に記載されたエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物も好適である。また、特開昭６３－２７７６５３号公報、特開昭６３－２６０９０９号公報、特開平０１－１０５２３８号公報に記載された分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する重合性化合物を用いることも好ましい。また、重合性化合物は、ＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、ＤＰＨＡ－４０Ｈ（日本化薬（株）製）、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＡＨ－６００、Ｔ－６００、ＡＩ－６００、ＬＩＮＣ－２０２ＵＡ（共栄社化学（株）製）などの市販品を用いることもできる。
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物の全固形分中における重合性化合物の含有量は、０．１～５０質量％であることが好ましい。下限は、１質量％以上であることが好ましく、５質量％以上であることがより好ましく、１０質量％以上であることが更に好ましく、１５質量％以上であることがより一層好ましい。上限は、４５質量％以下であることが好ましく、４０質量％以下であることがより好ましく、３５質量％以下であることが更に好ましく、３０質量％以下であることが特に好ましい。近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は重合性化合物を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。重合性化合物を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜光重合開始剤＞＞
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物が重合性化合物を含む場合、近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は更に光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
　光重合開始剤としては、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など）、アシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物などが挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物および３－アリール置換クマリン化合物であることが好ましく、オキシム化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、および、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物であることがより好ましく、オキシム化合物であることが更に好ましい。また、光重合開始剤としては、特開２０１４－１３０１７３号公報の段落００６５～０１１１に記載された化合物、特許第６３０１４８９号公報に記載された化合物、ＭＡＴＥＲＩＡＬ　ＳＴＡＧＥ　３７～６０ｐ，ｖｏｌ．１９，Ｎｏ．３，２０１９に記載されたパーオキサイド系光重合開始剤、国際公開第２０１８／２２１１７７号に記載の光重合開始剤、国際公開第２０１８／１１０１７９号に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４３８６４号公報に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４４０３０号公報に記載の光重合開始剤、特開２０１９－１６７３１３号公報に記載の過酸化物系開始剤、特開２０２０－０５５９９２号公報に記載のオキサゾリジン基を有するアミノアセトフェノン系開始剤、特開２０１３－１９０４５９号公報に記載のオキシム系光重合開始剤、特開２０２０－１７２６１９号公報に記載の重合体、国際公開第２０２０／１５２１２０号に記載の式１で表される化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　ヘキサアリールビイミダゾール化合物の具体例としては、２，２’，４－トリス（２－クロロフェニル）－５－（３，４－ジメトキシフェニル）－４，５－ジフェニル－１，１’－ビイミダゾールなどが挙げられる。
　α－ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　１８４、Ｏｍｎｉｒａｄ　１１７３、Ｏｍｎｉｒａｄ　２９５９、Ｏｍｎｉｒａｄ　１２７（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１１７３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　２９５９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。α－アミノケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　９０７、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９Ｅ、Ｏｍｎｉｒａｄ　３７９ＥＧ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　９０７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９Ｅ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　８１９、Ｏｍｎｉｒａｄ　ＴＰＯ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　８１９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
　オキシム化合物としては、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－０８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１６５３－１６６０）に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１５６－１６２）に記載の化合物、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年、ｐｐ．２０２－２３２）に記載の化合物、特開２０００－０６６３８５号公報に記載の化合物、特表２００４－５３４７９７号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、特開２０１７－０１９７６６号公報に記載の化合物、特許第６０６５５９６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１５／１５２１５３号に記載の化合物、国際公開第２０１７／０５１６８０号に記載の化合物、特開２０１７－１９８８６５号公報に記載の化合物、国際公開第２０１７／１６４１２７号の段落番号００２５～００３８に記載の化合物、国際公開第２０１３／１６７５１５号に記載の化合物、特許第５４３０７４６号に記載の化合物、特許第５６４７７３８号に記載の化合物などが挙げられる。オキシム化合物の具体例としては、３－ベンゾイルオキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、及び２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オンなどが挙げられる。市販品としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０２、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカオプトマーＮ－１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２－０１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）が挙げられる。また、オキシム化合物としては、着色性が無い化合物や、透明性が高く変色し難い化合物を用いることも好ましい。市販品としては、アデカアークルズＮＣＩ－７３０、ＮＣＩ－８３１、ＮＣＩ－９３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。
　光重合開始剤としては、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４－１３７４６６号公報に記載の化合物、特許６６３６０８１号公報に記載の化合物、韓国公開特許第１０－２０１６－０１０９４４４号公報に記載の化合物が挙げられる。
　光重合開始剤としては、カルバゾール環の少なくとも１つのベンゼン環がナフタレン環となった骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。そのようなオキシム化合物の具体例としては、国際公開第２０１３／０８３５０５号に記載の化合物が挙げられる。
　光重合開始剤としては、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられる。
　光重合開始剤としては、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３－１１４２４９号公報の段落番号００３１～００４７、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落番号０００８～００１２、００７０～００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７～００２５に記載されている化合物、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
　光重合開始剤としては、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／０３６９１０号に記載されているＯＥ－０１～ＯＥ－７５が挙げられる。
　光重合開始剤としては、カルバゾール骨格にヒドロキシ基を有する置換基が結合したオキシム化合物を用いることもできる。このような光重合開始剤としては国際公開第２０１９／０８８０５５号に記載された化合物などが挙げられる。
　オキシム化合物の具体例としては以下に示す化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
　オキシム化合物は、波長３５０～５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、波長３６０～４８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物の波長３６５ｎｍ又は波長４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、高いことが好ましく、１０００～３０００００であることがより好ましく、２０００～３０００００であることが更に好ましく、５０００～２０００００であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ－５　ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。
　光重合開始剤としては、２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤を用いてもよい。そのような光ラジカル重合開始剤を用いることにより、光ラジカル重合開始剤の１分子から２つ以上のラジカルが発生するため、良好な感度が得られる。また、非対称構造の化合物を用いた場合においては、結晶性が低下して溶剤などへの溶解性が向上して、経時で析出しにくくなり、組成物の経時安定性を向上させることができる。２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤の具体例としては、特表２０１０－５２７３３９号公報、特表２０１１－５２４４３６号公報、国際公開第２０１５／００４５６５号、特表２０１６－５３２６７５号公報の段落番号０４０７～０４１２、国際公開第２０１７／０３３６８０号の段落番号００３９～００５５に記載されているオキシム化合物の２量体、特表２０１３－５２２４４５号公報に記載されている化合物（Ｅ）および化合物（Ｇ）、国際公開第２０１６／０３４９６３号に記載されているＣｍｐｄ１～７、特表２０１７－５２３４６５号公報の段落番号０００７に記載されているオキシムエステル類光開始剤、特開２０１７－１６７３９９号公報の段落番号００２０～００３３に記載されている光開始剤、特開２０１７－１５１３４２号公報の段落番号００１７～００２６に記載されている光重合開始剤（Ａ）、特許第６４６９６６９号公報に記載されているオキシムエステル光開始剤などが挙げられる。
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物の全固形分中における光重合開始剤の含有量は、０．１～４０質量％であることが好ましい。下限は、０．５質量％以上であることが好ましく、１質量％以上であることがより好ましく、２質量％以上であることが更に好ましい。上限は、３５質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下であることがより好ましく、２５質量％以下であることが更に好ましく、２０質量％以下であることが特に好ましい。近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は光重合開始剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。光重合開始剤を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜樹脂＞＞
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は、更に、上述した環状エーテル基を有する化合物以外の樹脂を含有することができる。樹脂は、例えば、顔料などの粒子を組成物中で分散させる用途やバインダーの用途で配合される。なお、主に顔料などの粒子を分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外の目的で樹脂を使用することもできる。
　樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２０００～２００００００であることが好ましい。上限は、１００００００以下であることが好ましく、５０００００以下であることがより好ましい。下限は、３０００以上であることが好ましく、５０００以上であることがより好ましい。
　樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂などが挙げられる。これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。環状オレフィン樹脂としては、耐熱性向上の観点からノルボルネン樹脂が好ましい。ノルボルネン樹脂の市販品としては、例えば、ＪＳＲ（株）製のＡＲＴＯＮシリーズ（例えば、ＡＲＴＯＮ　Ｆ４５２０）などが挙げられる。また、樹脂としては、国際公開第２０１６／０８８６４５号の実施例に記載された樹脂、特開２０１７－０５７２６５号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０３２６８５号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０７５２４８号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０６６２４０号公報に記載された樹脂、特開２０１７－１６７５１３号公報に記載された樹脂、特開２０１７－１７３７８７号公報に記載された樹脂、特開２０１７－２０６６８９号公報の段落番号００４１～００６０に記載された樹脂、特開２０１８－０１０８５６号公報の段落番号００２２～００７１に記載された樹脂、特開２０１６－２２２８９１号公報に記載されたブロックポリイソシアネート樹脂、特開２０２０－１２２０５２号公報に記載された樹脂、特開２０２０－１１１６５６号公報に記載された樹脂、特開２０２０－１３９０２１号公報に記載された樹脂、特開２０１７－１３８５０３号公報に記載の主鎖に環構造を有する構成単位と側鎖にビフェニル基を有する構成単位とを含む樹脂を用いることもできる。また、樹脂としては、フルオレン骨格を有する樹脂を好ましく用いることもできる。フルオレン骨格を有する樹脂については、米国特許出願公開第２０１７／０１０２６１０号明細書の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、樹脂としては、特開２０２０－１８６３７３号公報の段落０１９９～０２３３に記載の樹脂、特開２０２０－１８６３２５号公報に記載のアルカリ可溶性樹脂、韓国公開特許第１０－２０２０－００７８３３９号公報に記載の式１で表される樹脂を用いることもできる。
　樹脂としては、酸基を有する樹脂を用いることが好ましい。酸基としては、例えば、カルボキシ基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられる。酸基を有する樹脂はアルカリ可溶性樹脂として用いることもできる。
　酸基を有する樹脂の酸価は、３０～５００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。下限は、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることがより好ましい。上限は、４００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましく、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましい。酸基を有する樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５０００～１０００００であることが好ましく、５０００～５００００であることがより好ましい。また、酸基を有する樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）は、１０００～２００００であることが好ましい。
　酸基を有する樹脂は、酸基を側鎖に有する繰り返し単位を含むことが好ましく、酸基を側鎖に有する繰り返し単位を樹脂の全繰り返し単位中５～７０モル％含むことがより好ましい。酸基を側鎖に有する繰り返し単位の含有量の上限は、５０モル％以下であることが好ましく、３０モル％以下であることがより好ましい。酸基を側鎖に有する繰り返し単位の含有量の下限は、１０モル％以上であることが好ましく、２０モル％以上であることがより好ましい。
　酸基を有する樹脂については、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０５５８～０５７１（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０６８５～０７００）の記載、特開２０１２－１９８４０８号公報の段落番号００７６～００９９の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、酸基を有する樹脂は市販品を用いることもできる。
　樹脂としては、下記式（ＥＤ１）で示される化合物および／または下記式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）を含むモノマー成分に由来する繰り返し単位を含む樹脂を用いることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
　式（ＥＤ１）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 　式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１～３０の有機基を表す。式（ＥＤ２）の詳細については、特開２０１０－１６８５３９号公報の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　エーテルダイマーの具体例としては、例えば、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落番号０３１７の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　樹脂としては、式（Ｘ）で表される化合物由来の繰り返し単位を含む樹脂を用いることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 　式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２１およびＲ２２はそれぞれ独立してアルキレン基を表し、ｎは０～１５の整数を表す。Ｒ２１およびＲ２２が表すアルキレン基の炭素数は１～１０であることが好ましく、１～５であることがより好ましく、１～３であることが更に好ましく、２または３であることが特に好ましい。ｎは０～１５の整数を表し、０～５の整数であることが好ましく、０～４の整数であることがより好ましく、０～３の整数であることが更に好ましい。
　式（Ｘ）で表される化合物としては、パラクミルフェノールのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレートなどが挙げられる。市販品としては、アロニックスＭ－１１０（東亞合成（株）製）などが挙げられる。
　樹脂としては、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有するフッ素系樹脂を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０－１６４９６５号公報の段落番号００５０～００９０および段落番号０２８９～０２９５に記載された化合物、ＤＩＣ（株）製のメガファックＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ等が挙げられる。このような樹脂を用いることで、近赤外線吸収色素の表面偏在を抑制することができる。
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は、分散剤としての樹脂を含むこともできる。特に、近赤外線吸収色素として顔料を用いた場合、分散剤を含むことが好ましい。分散剤は、酸性分散剤（酸性樹脂）、塩基性分散剤（塩基性樹脂）が挙げられる。ここで、酸性分散剤（酸性樹脂）とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性分散剤（酸性樹脂）としては、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、酸基の量が７０モル％以上である樹脂が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）が有する酸基は、カルボキシ基であることが好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）の酸価は、１０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。また、塩基性分散剤（塩基性樹脂）とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基性分散剤（塩基性樹脂）としては、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、塩基性基の量が５０モル％を超える樹脂が好ましい。塩基性分散剤が有する塩基性基は、アミノ基であることが好ましい。
　分散剤として用いる樹脂は、酸基を有する繰り返し単位を含むことが好ましい。分散剤として用いる樹脂が酸基を有する繰り返し単位を含むことにより、フォトリソグラフィ法によりパターン形成する際、画素の下地に発生する残渣をより低減することができる。
　分散剤として用いる樹脂は、グラフト樹脂であることも好ましい。グラフト樹脂の詳細については、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号００２５～００９４の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　分散剤として用いる樹脂は、主鎖及び側鎖の少なくとも一方に窒素原子を含むポリイミン系分散剤であることも好ましい。ポリイミン系分散剤としては、ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造を有する主鎖と、原子数４０～１００００の側鎖とを有し、かつ主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂が好ましい。塩基性窒素原子は、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はない。ポリイミン系分散剤については、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号０１０２～０１６６の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　分散剤として用いる樹脂は、コア部に複数個のポリマー鎖が結合した構造の樹脂であることも好ましい。このような樹脂としては、例えば、デンドリマー（星型ポリマーを含む）が挙げられる。また、デンドリマーの具体例としては、特開２０１３－０４３９６２号公報の段落番号０１９６～０２０９に記載された高分子化合物Ｃ－１～Ｃ－３１などが挙げられる。
　分散剤として用いる樹脂は、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する繰り返し単位を含む樹脂であることも好ましい。エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する繰り返し単位の含有量は、樹脂の全繰り返し単位中１０モル％以上であることが好ましく、１０～８０モル％であることがより好ましく、２０～７０モル％であることが更に好ましい。
　また、分散剤として、特開２０１８－０８７９３９号公報に記載された樹脂、特許第６４３２０７７号公報の段落番号０２１９～０２２１に記載されたブロック共重合体（ＥＢ－１）～（ＥＢ－９）、国際公開第２０１６／１０４８０３号に記載のポリエステル側鎖を有するポリエチレンイミン、国際公開第２０１９／１２５９４０号に記載のブロック共重合体、特開２０２０－０６６６８７号公報に記載のアクリルアミド構造単位を有するブロックポリマー、特開２０２０－０６６６８８号公報に記載のアクリルアミド構造単位を有するブロックポリマー、国際公開第２０１６／１０４８０３号に記載の分散剤などを用いることもできる。
　分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、ビックケミー社製のＤＳＩＰＥＲＢＹＫシリーズ（例えば、ＤＳＩＰＥＲＢＹＫ－１１１、１４０、１６１、２００１、２０２６など）、日本ルーブリゾール（株）製のソルスパースシリーズ（例えば、ソルスパース２００００、７６５００など）、味の素ファインテクノ（株）製のアジスパーシリーズ等が挙げられる。また、特開２０１２－１３７５６４号公報の段落番号０１２９に記載された製品、特開２０１７－１９４６６２号公報の段落番号０２３５に記載された製品を分散剤として用いることもできる。
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物の全固形分中における樹脂の含有量は、１～７０質量％であることが好ましい。下限は、５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましく、２０質量％以上であることが更に好ましく、２５質量％以上であることが特に好ましい。上限は、６５質量％以下であることが好ましく、５０質量％以下であることがより好ましく、４０質量％以下であることが更に好ましい。
　また、近赤外線カットフィルタ層形成用組成物の全固形分中における酸基を有する樹脂の含有量は、１～７０質量％であることが好ましい。下限は、２質量％以上であることが好ましく、３質量％以上であることがより好ましく、５質量％以上であることが更に好ましく、１０質量％以上であることがより一層好ましく、２０質量％以上であることが更に一層好ましく、２５質量％以上であることが特に好ましい。上限は、６５質量％以下であることが好ましく、５０質量％以下であることがより好ましく、４０質量％以下であることが更に好ましく、３０質量％以下であることが特に好ましい。
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物が分散剤としての樹脂を含有する場合、分散剤の含有量は、近赤外線吸収色素１００質量部に対して１０～３００質量部であることが好ましい。下限は、２０質量部以上であることが好ましく、５０質量部以上であることがより好ましい。上限は、２００質量部以下であることが好ましく、１５０質量部以下であることがより好ましい。
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は樹脂を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。樹脂を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜溶剤＞＞
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は、溶剤を含有することが好ましい。溶剤としては、水、有機溶剤が挙げられ、有機溶剤であることが好ましい。有機溶剤としては、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２２３を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤も好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジクロロメタン、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、２－ペンタノン、３－ペンタノン、４－ヘプタノン、シクロヘキサノン、２－メチルシクロヘキサノン、３－メチルシクロヘキサノン、４－メチルシクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、プロピレングリコールジアセテート、３－メトキシブタノール、メチルエチルケトン、ガンマブチロラクトン、スルホラン、アニソール、１，４－ジアセトキシブタン、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、二酢酸ブタン－１，３－ジイル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセタート、ジアセトンアルコール（別名としてダイアセトンアルコール、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン）、２－メトキシプロピルアセテート、２－メトキシ－１－プロパノール、イソプロピルアルコールなどが挙げられる。ただし有機溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、有機溶剤全量に対して、５０質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｍｉｌｌｉｏｎ）以下とすることもでき、１０質量ｐｐｍ以下とすることもでき、１質量ｐｐｍ以下とすることもできる）。
　本発明においては、金属含有量の少ない有機溶剤を用いることが好ましく、有機溶剤の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの有機溶剤を用いてもよく、そのような有機溶剤は例えば東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。
　有機溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフロロエチレン、ポリエチレンまたはナイロンが好ましい。
　有機溶剤は、異性体（原子数が同じであるが構造が異なる化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
　有機溶剤中の過酸化物の含有率が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物中における溶剤の含有量は、１０～９７質量％であることが好ましい。下限は、３０質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、５０質量％以上であることが更に好ましく、６０質量％以上であることがより一層好ましく、７０質量％以上であることが特に好ましい。上限は、９６質量％以下であることが好ましく、９５質量％以下であることがより好ましい。近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は溶剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。溶剤を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜界面活性剤＞＞
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は、更に界面活性剤を含有することが好ましい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用することができる。界面活性剤はシリコーン系界面活性剤またはフッ素系界面活性剤であることが好ましい。界面活性剤については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２３８～０２４５に記載された界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　フッ素系界面活性剤としては、特開２０１４－０４１３１８号公報の段落番号００６０～００６４（対応する国際公開第２０１４／０１７６６９号の段落番号００６０～００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１－１３２５０３号公報の段落番号０１１７～０１３２に記載の界面活性剤、特開２０２０－００８６３４号公報に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７３、Ｆ－１７６、Ｆ－１７７、Ｆ－１４１、Ｆ－１４２、Ｆ－１４３、Ｆ－１４４、Ｆ－４３７、Ｆ－４７５、Ｆ－４７７、Ｆ－４７９、Ｆ－４８２、Ｆ－５５４、Ｆ－５５５－Ａ、Ｆ－５５６、Ｆ－５５７、Ｆ－５５８、Ｆ－５５９、Ｆ－５６０、Ｆ－５６１、Ｆ－５６３、Ｆ－５６５、Ｆ－５６８、Ｆ－５７５、Ｆ－７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０、Ｒ－０１、Ｒ－４０、Ｒ－４０－ＬＭ、Ｒ－４１、Ｒ－４１－ＬＭ、ＲＳ－４３、ＴＦ－１９５６、ＲＳ－９０、Ｒ－９４、ＤＳ－２１（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ　ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）、フタージェント２０８Ｇ、２１５Ｍ、２４５Ｆ、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２、６０２Ａ、６１０ＦＭ、７１０ＦＬ、７１０ＦＭ、７１０ＦＳ、ＦＴＸ－２１８（以上、（株）ＮＥＯＳ製）等が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤として、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報（２０１６年２月２２日）、日経産業新聞（２０１６年２月２３日））、例えばメガファックＤＳ－２１が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤として、フッ素化アルキル基またはフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。このようなフッ素系界面活性剤は、特開２０１６－２１６６０２号公報に記載されたフッ素系界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　フッ素系界面活性剤として、ブロックポリマーを用いることもできる。フッ素系界面活性剤として、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。また、特開２０１０－０３２６９８号公報の段落番号００１６～００３７に記載されたフッ素含有界面活性剤や、下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 　上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３０００～５００００であり、例えば、１４０００である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。
　また、国際公開第２０２０／０８４８５４号に記載の界面活性剤を、炭素数６以上のパーフルオロアルキル基を有する界面活性剤の代替として用いることも、環境規制の観点から好ましい。
　また、式（ｆｉ－１）で表される含フッ素イミド塩化合物を界面活性剤として用いることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 　式（ｆｉ－１）中、ｍは１または２を表し、ｎは１～４の整数を表し、ａは１または２を表し、Ｘａ＋はａ価の金属イオン、第１級アンモニウムイオン、第２級アンモニウムイオン、第３級アンモニウムイオン、第４級アンモニウムイオンまたはＮＨ４ ＋を表す。
　ノニオン性界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（ＢＡＳＦ社製）、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（富士フイルム和光純薬（株）製）、パイオニンＤ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（日信化学工業（株）製）などが挙げられる。
　カチオン性界面活性剤としては、テトラアルキルアンモニウム塩、アルキルアミン塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジウム塩、イミダゾリウム塩等が挙げられる。具体例としては、ジヒドロキシエチルステアリルアミン、２－ヘプタデセニル－ヒドロキシエチルイミダゾリン、ラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、セチルピリジニウムクロライド、ステアラミドメチルピリジウムクロライド等が挙げられる。
　アニオン性界面活性剤としては、ドデシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸カリウム、ナトリウムジオクチルスルホサクシネート、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテ硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸ナトリウム、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウム、ｔ－オクチルフェノキシエトキシポリエトキシエチル硫酸ナトリウム塩等が挙げられる。
　シリコーン系界面活性剤としては、例えば、ＳＨ８４００、ＳＨ８４００　ＦＬＵＩＤ、ＦＺ－２１２２、６７　Ａｄｄｉｔｉｖｅ、７４　Ａｄｄｉｔｉｖｅ、Ｍ　Ａｄｄｉｔｉｖｅ、ＳＦ　８４１９　ＯＩＬ（以上、ダウ・東レ（株）製）、ＴＳＦ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６０００、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２、ＫＦ－６００３（以上、信越化学工業（株）製）、ＢＹＫ－３０７、ＢＹＫ－３２２、ＢＹＫ－３２３、ＢＹＫ－３３０、ＢＹＫ－３７６０、ＢＹＫ－ＵＶ３５１０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。
　また、シリコーン系界面活性剤には下記構造の化合物を用いることもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物の全固形分中における界面活性剤の含有量は、０．００１～１質量％であることが好ましく、０．００１～０．５質量％であることがより好ましく、０．００１～０．２質量％であることが更に好ましい。近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は界面活性剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。界面活性剤を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜重合禁止剤＞＞
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は、更に重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）が挙げられ、ｐ－メトキシフェノールが好ましい。近赤外線カットフィルタ層形成用組成物の全固形分中における重合禁止剤の含有量は、０．０００１～５質量％であることが好ましい。近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は重合禁止剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。重合禁止剤を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜シランカップリング剤＞＞
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は、更にシランカップリング剤を含有することができる。本明細書において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応および縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、フェニル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基およびエポキシ基が好ましい。シランカップリング剤は、特開２００９－２８８７０３号公報の段落番号００１８～００３６に記載の化合物、特開２００９－２４２６０４号公報の段落番号００５６～００６６に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。近赤外線カットフィルタ層形成用組成物の全固形分中におけるシランカップリング剤の含有量は、０．０１～１５．０質量％であることが好ましく、０．０５～１０．０質量％であることがより好ましい。近赤外線カットフィルタ層形成用組成物はシランカップリング剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。シランカップリング剤を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜紫外線吸収剤＞＞
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は、更に紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、共役ジエン化合物、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物、インドール化合物、トリアジン化合物、メロシアニン色素などが挙げられる。このような化合物の具体例としては、特開２００９－２１７２２１号公報の段落番号００３８～００５２、特開２０１２－２０８３７４号公報の段落番号００５２～００７２、特開２０１３－０６８８１４号公報の段落番号０３１７～０３３４、特開２０１６－１６２９４６号公報の段落番号００６１～００８０に記載された化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。紫外線吸収剤の市販品としては、ＢＡＳＦ社製のＴｉｎｕｖｉｎシリーズ、Ｕｖｉｎｕｌ（ユビナール）シリーズなどが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としては、ミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）が挙げられる。また、紫外線吸収剤は、特許第６２６８９６７号公報の段落番号００４９～００５９、国際公開第２０１６／１８１９８７号の段落番号００５９～００７６に記載された化合物を用いることもできる。近赤外線カットフィルタ層形成用組成物の全固形分中における紫外線吸収剤の含有量は、０．０１～３０質量％であることが好ましく、０．０５～２５質量％であることがより好ましい。近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は紫外線吸収剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。紫外線吸収剤を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜酸化防止剤＞＞
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は、更に酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物などが挙げられる。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。フェノール性ヒドロキシ基に隣接する部位（オルト位）に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数１～２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましい。また、酸化防止剤は、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。また、酸化防止剤は、リン系酸化防止剤も好適に使用することができる。リン系酸化防止剤としてはトリス［２－［［２，４，８，１０－テトラキス（１，１－ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－６－イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２－［（４，６，９，１１－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－２－イル）オキシ］エチル］アミン、亜リン酸エチルビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－６－メチルフェニル）などが挙げられる。酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブ　ＡＯ－２０、アデカスタブ　ＡＯ－３０、アデカスタブ　ＡＯ－４０、アデカスタブ　ＡＯ－５０、アデカスタブ　ＡＯ－５０Ｆ、アデカスタブ　ＡＯ－６０、アデカスタブ　ＡＯ－６０Ｇ、アデカスタブ　ＡＯ－８０、アデカスタブ　ＡＯ－３３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。また、酸化防止剤は、特許第６２６８９６７号公報の段落番号００２３～００４８に記載された化合物、国際公開第２０１７／００６６００号に記載された化合物、国際公開第２０１７／１６４０２４号に記載された化合物を使用することもできる。近赤外線カットフィルタ層形成用組成物の全固形分中における酸化防止剤の含有量は、０．０１～２０質量％であることが好ましく、０．３～１５質量％であることがより好ましい。近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は酸化防止剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。酸化防止剤を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜その他成分＞＞
　近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は、必要に応じて、増感剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、可塑剤及びその他の助剤類（例えば、導電性粒子、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を含有してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、膜物性などの性質を調整することができる。これらの成分は、例えば、特開２０１２－００３２２５号公報の段落番号０１８３以降（対応する米国特許出願公開第２０１３／００３４８１２号明細書の段落番号０２３７）の記載、特開２００８－２５００７４号公報の段落番号０１０１～０１０４、０１０７～０１０９等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、近赤外線カットフィルタ層形成用組成物は、必要に応じて、潜在酸化防止剤を含有してもよい。潜在酸化防止剤としては、酸化防止剤として機能する部位が保護基で保護された化合物であって、１００～２５０℃で加熱するか、又は酸／塩基触媒存在下で８０～２００℃で加熱することにより保護基が脱離して酸化防止剤として機能する化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤としては、国際公開第２０１４／０２１０２３号、国際公開第２０１７／０３０００５号、特開２０１７－００８２１９号公報に記載された化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤の市販品としては、アデカアークルズＧＰＡ－５００１（（株）ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。
＜カラーフィルタ層形成用組成物＞
　次に、カラーフィルタ層形成用組成物について説明する。
　カラーフィルタ層形成用組成物は、有彩色着色剤を含有することが好ましい。有彩色着色剤としては、波長４００～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する着色剤が挙げられる。例えば、緑色着色剤、赤色着色剤、黄色着色剤、紫色着色剤、青色着色剤、オレンジ色着色剤などが挙げられる。有彩色着色剤は、顔料であってもよく、染料であってもよいが、顔料であることが好ましい。
　顔料の平均一次粒子径は、１～２００ｎｍが好ましい。下限は５ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましい。上限は、１８０ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以下が更に好ましい。なお、本明細書において、顔料の一次粒子径は、顔料の一次粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた画像写真から求めることができる。具体的には、顔料の一次粒子の投影面積を求め、それに対応する円相当径を顔料の一次粒子径として算出する。また、本明細書における平均一次粒子径は、４００個の顔料の一次粒子についての一次粒子径の算術平均値とする。また、顔料の一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
　緑色着色剤としては、フタロシアニン化合物およびスクアリリウム化合物が挙げられ、フタロシアニン化合物であることが好ましい。また、緑色着色剤は顔料であることが好ましい。緑色着色剤の具体例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７，１０，３６，３７，５８，５９，６２，６３，６４，６５，６６等の緑色顔料が挙げられる。また、緑色着色剤として、１分子中のハロゲン原子数が平均１０～１４個であり、臭素原子数が平均８～１２個であり、塩素原子数が平均２～５個であるハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／１１８７２０号に記載の化合物が挙げられる。また、緑色着色剤として中国特許出願第１０６９０９０２７号明細書に記載の化合物、国際公開第２０１２／１０２３９５号に記載のリン酸エステルを配位子として有するフタロシアニン化合物、特開２０１９－００８０１４号公報に記載のフタロシアニン化合物、特開２０１８－１８００２３号公報に記載のフタロシアニン化合物、特開２０１９－０３８９５８号公報に記載の化合物、特開２０２０－０７０４２６号公報に記載のアルミニウムフタロシアニン化合物、特開２０２０－０７６９９５号公報に記載のコアシェル型色素、特表２０２０－５０４７５８号公報に記載のジアリールメタン化合物などを用いることもできる。
　緑色着色剤は、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７，３６，５８，５９，６２，６３が好ましく、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７，３６，５８，５９がより好ましい。
　赤色着色剤としては、ジケトピロロピロール化合物、アントラキノン化合物、アゾ化合物、ナフトール化合物、アゾメチン化合物、キサンテン化合物、キナクリドン化合物、ペリレン化合物、チオインジゴ化合物などが挙げられ、ジケトピロロピロール化合物、アントラキノン化合物、アゾ化合物であることが好ましく、ジケトピロロピロール化合物であることがより好ましい。また、赤色着色剤は顔料であることが好ましい。赤色着色剤の具体例としては、Ｃ．Ｉ．（カラーインデックス）ピグメントレッド１，２，３，４，５，６，７，９，１０，１４，１７，２２，２３，３１，３８，４１，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５２：１，５２：２，５３：１，５７：１，６０：１，６３：１，６６，６７，８１：１，８１：２，８１：３，８３，８８，９０，１０５，１１２，１１９，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１５０，１５５，１６６，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１６，２２０，２２４，２２６，２４２，２４６，２５４，２５５，２６４，２６９，２７０，２７２，２７９，２９１，２９４，２９５，２９６，２９７等の赤色顔料が挙げられる。また、赤色着色剤として、特開２０１７－２０１３８４号公報に記載の構造中に少なくとも１つの臭素原子が置換したジケトピロロピロール化合物、特許第６２４８８３８号の段落番号００１６～００２２に記載のジケトピロロピロール化合物、国際公開第２０１２／１０２３９９号に記載のジケトピロロピロール化合物、国際公開第２０１２／１１７９６５号に記載のジケトピロロピロール化合物、特開２０２０－０８５９４７号公報に記載の臭素化ジケトピロロピロール化合物、特開２０１２－２２９３４４号公報に記載のナフトールアゾ化合物、特許第６５１６１１９号公報に記載の赤色着色剤、特許第６５２５１０１号公報に記載の赤色着色剤、特開２０２０－０９０６３２号公報の段落番号０２２９に記載の臭素化ジケトピロロピロール化合物、韓国公開特許第１０－２０１９－０１４０７４１号公報に記載のアントラキノン化合物、韓国公開特許第１０－２０１９－０１４０７４４号公報に記載のアントラキノン化合物、特開２０２０－０７９３９６号公報に記載のペリレン化合物、特開２０２０－０８３９８２号公報に記載のペリレン化合物、特開２０１８－０３５３４５号公報に記載のキサンテン化合物、特開２０２０－０６６７０２号公報の段落番号００２５～００４１に記載のジケトピロロピロール化合物などを用いることもできる。また、赤色着色剤として、芳香族環に対して、酸素原子、硫黄原子または窒素原子が結合した基が導入された芳香族環基がジケトピロロピロール骨格に結合した構造を有する化合物を用いることもできる。赤色着色剤として、Ｌｕｍｏｇｅｎ　Ｆ　Ｏｒａｎｇｅ　２４０（ＢＡＳＦ製、赤色顔料、ペリレン顔料）を用いることもできる。
　赤色着色剤は、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２，１７７，１７９，２５４，２５５，２６４，２６９，２７２，２９１が好ましい。
　黄色着色剤としては、アゾ化合物、アゾメチン化合物、イソインドリン化合物、プテリジン化合物、キノフタロン化合物およびペリレン化合物などが挙げられる。黄色着色剤は、顔料であることが好ましく、アゾ顔料、アゾメチン顔料、イソインドリン顔料、プテリジン顔料、キノフタロン顔料またはペリレン顔料であることがより好ましく、アゾ顔料またはアゾメチン顔料であることがより好ましい。黄色着色剤の具体例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１，２，３，４，５，６，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２０，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，８６，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２５，１２６，１２７，１２８，１２９，１３７，１３８，１３９，１４７，１４８，１５０，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９３，１９４，１９９，２１３，２１４，２１５，２２８，２３１，２３２，２３３，２３４，２３５，２３６等の黄色顔料が挙げられる。
　また、黄色着色剤として、下記構造のアゾバルビツール酸ニッケル錯体を用いることもできる。
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　黄色着色剤は、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１１７，１２９，１３８，１３９，１５０，１８５が好ましい。
　オレンジ色着色剤しては、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ２，５，１３，１６，１７：１，３１，３４，３６，３８，４３，４６，４８，４９，５１，５２，５５，５９，６０，６１，６２，６４，７１，７３等のオレンジ色顔料が挙げられる。
　紫色着色剤としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１，１９，２３，２７，３２，３７，４２，６０，６１等の紫色顔料が挙げられる。
　青色着色剤としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１，２，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，２２，２９，６０，６４，６６，７９，８０，８７，８８等が挙げられる。また、青色着色剤として、リン原子を有するアルミニウムフタロシアニン化合物を用いることもできる。具体例としては、特開２０１２－２４７５９１号公報の段落番号００２２～００３０、特開２０１１－１５７４７８号公報の段落番号００４７に記載の化合物が挙げられる。
　有彩色着色剤には染料を用いることもできる。染料としては特に制限はなく、公知の染料が使用できる。例えば、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリアリールメタン系、アントラキノン系、アントラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系、ピロメテン系等の染料が挙げられる。
　有彩色着色剤には色素多量体を用いることもできる。色素多量体は、有機溶剤に溶解して用いられる染料であることが好ましい。また、色素多量体は、粒子を形成していてもよい。色素多量体が粒子である場合は通常溶剤に分散した状態で用いられる。粒子状態の色素多量体は、例えば乳化重合によって得ることができ、特開２０１５－２１４６８２号公報に記載されている化合物および製造方法が具体例として挙げられる。色素多量体は、一分子中に、色素構造を２以上有するものであり、色素構造を３以上有することが好ましい。上限は、特に限定はないが、１００以下とすることもできる。一分子中に有する複数の色素構造は、同一の色素構造であってもよく、異なる色素構造であってもよい。色素多量体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２０００～５００００が好ましい。下限は、３０００以上がより好ましく、６０００以上がさらに好ましい。上限は、３００００以下がより好ましく、２００００以下がさらに好ましい。色素多量体は、特開２０１１－２１３９２５号公報、特開２０１３－０４１０９７号公報、特開２０１５－０２８１４４号公報、特開２０１５－０３０７４２号公報、国際公開第２０１６／０３１４４２号等に記載されている化合物を用いることもできる。
　有彩色着色剤には、特表２０２０－５０４７５８号公報に記載のジアリールメタン化合物、韓国公開特許第１０－２０２０－００２８１６０号公報に記載されたトリアリールメタン染料ポリマー、特開２０２０－１１７６３８号公報に記載のキサンテン化合物、国際公開第２０２０／１７４９９１号に記載のフタロシアニン化合物、特開２０２０－１６０２７９号公報に記載のイソインドリン化合物又はそれらの塩、韓国公開特許第１０－２０２０－００６９４４２号公報に記載の式１で表される化合物、韓国公開特許第１０－２０２０－００６９７３０号公報に記載の式１で表される化合物、韓国公開特許第１０－２０２０－００６９０７０号公報に記載の式１で表される化合物、韓国公開特許第１０－２０２０－００６９０６７号公報に記載の式１で表される化合物、韓国公開特許第１０－２０２０－００６９０６２号公報に記載の式１で表される化合物、特許第６８０９６４９号に記載のハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料、特開２０２０－１８０１７６号公報に記載のイソインドリン化合物を用いることができる。有彩色着色剤は、ロタキサンであってもよく、色素骨格はロタキサンの環状構造に使用されていてもよく、棒状構造に使用されていてもよく、両方の構造に使用されていてもよい。
　有彩色着色剤は、２種以上組み合わせて用いてもよい。
　カラーフィルタ層形成用組成物の全固形分中における有彩色着色剤の含有量は１０～７５質量％であることが好ましい。上限は、７０質量％以下であることが好ましく、６５質量％以下であることがより好ましい。下限は２０質量％以上であることが好ましく、３０質量％以上であることがより好ましい。有彩色着色剤は１種のみでもよく、２種以上でもよい。２種以上の場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
　カラーフィルタ層形成用組成物は、色素誘導体を含有することができる。有彩色着色剤として顔料を用いた場合には、カラーフィルタ層形成用組成物は、色素誘導体を含有することが好ましい。色素誘導体としては、上述した近赤外線カットフィルタ層形成用組成物が含むことができるものとして挙げた素材が挙げられる。カラーフィルタ層形成用組成物が色素誘導体を含有する場合、色素誘導体の含有量は顔料１００質量部に対し１～５０質量部であることが好ましい。下限値は、３質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。上限値は、４０質量部以下が好ましく、３０質量部以下がより好ましい。色素誘導体は１種のみでもよく、２種以上でもよい。２種以上の場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
　カラーフィルタ層形成用組成物は、更に、環状エーテル基を有する化合物、重合性化合物、光重合開始剤、樹脂、溶剤、重合禁止剤、シランカップリング剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤などを含有することができる。これらの具体例および含有量については、上述した近赤外線カットフィルタ層形成用組成物で説明した具体例および含有量と同様である。
＜赤外線透過フィルタ層形成用組成物＞
　赤外線透過フィルタ層形成用組成物は、赤外線を透過させて可視光を遮光する色材（以下、可視光を遮光する色材ともいう）を含有することが好ましい。
　可視光を遮光する色材は、紫色から赤色の波長領域の光を吸収する色材であることが好ましい。また、可視光を遮光する色材は、波長４５０～６５０ｎｍの波長領域の光を遮光する色材であることが好ましい。また、可視光を遮光する色材は、波長９００～１３００ｎｍの光を透過する色材であることが好ましい。
　可視光を遮光する色材は、以下の（Ａ）および（Ｂ）の少なくとも一方の要件を満たすことが好ましい。
（Ａ）：２種類以上の有彩色着色剤を含み、２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成している。
（Ｂ）：有機系黒色着色剤を含む。
　有彩色着色剤としては、上述した素材が挙げられる。有彩色着色剤は、顔料であってもよく、染料であってもよい。有彩色着色剤は、顔料を含むものであることが好ましい。有彩色着色剤中における顔料の含有量は、５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上であることが更に好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。顔料としては以下に示すものが挙げられる。
　有機系黒色着色剤としては、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、アゾ化合物などが挙げられ、ビスベンゾフラノン化合物、ペリレン化合物が好ましい。ビスベンゾフラノン化合物としては、特表２０１０－５３４７２６号公報、特表２０１２－５１５２３３号公報、特表２０１２－５１５２３４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、ＢＡＳＦ社製の「Ｉｒｇａｐｈｏｒ　Ｂｌａｃｋ」として入手可能である。ペリレン化合物としては、特開２０１７－２２６８２１号公報の段落番号００１６～００２０に記載の化合物、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌａｃｋ　３１、３２などが挙げられる。アゾメチン化合物としては、特開平０１－１７０６０１号公報、特開平０２－０３４６６４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、大日精化社製の「クロモファインブラックＡ１１０３」として入手できる。
　２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成する場合の、有彩色着色剤の組み合わせとしては、例えば以下が挙げられる。
（１）黄色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（２）黄色着色剤、青色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（３）黄色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（４）黄色着色剤および紫色着色剤を含有する態様。
（５）緑色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（６）紫色着色剤およびオレンジ色着色剤を含有する態様。
（７）緑色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（８）緑色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
　赤外線透過フィルタ層形成用組成物の全固形分中における可視光を遮光する色材の含有量は、１０～７５質量％であることが好ましい。上限は、７０質量％以下であることが好ましく、６５質量％以下であることがより好ましい。下限は２０質量％以上であることが好ましく、３０質量％以上であることがより好ましい。
　赤外線透過フィルタ層形成用組成物は、近赤外線吸収色素を含有することができる。赤外線透過フィルタ層形成用組成物において、近赤外線吸収色素は、得られる膜を透過する光（近赤外線）をより長波長側に限定する役割を有している。近赤外線吸収色素としては、上述した近赤外線カットフィルタ層形成用組成物が含むことができるものとして挙げた素材が挙げられる。赤外線透過フィルタ層形成用組成物の全固形分中における近赤外線吸収色素の含有量は、１～５０質量％であることが好ましい。上限は、４０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下であることがより好ましい。下限は３質量％以上であることが好ましく、５質量％以上であることがより好ましい。近赤外線吸収色素は１種のみでもよく、２種以上でもよい。２種以上の場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
　赤外線透過フィルタ層形成用組成物は、色素誘導体を含有することができる。色素誘導体としては、上述した近赤外線カットフィルタ層形成用組成物が含むことができるものとして挙げた素材が挙げられる。赤外線透過フィルタ層形成用組成物が色素誘導体を含有する場合、色素誘導体の含有量は顔料１００質量部に対して１～５０質量部であることが好ましい。下限値は、３質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。上限値は、４０質量部以下が好ましく、３０質量部以下がより好ましい。色素誘導体は１種のみでもよく、２種以上でもよい。２種以上の場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
　赤外線透過フィルタ層形成用組成物は、更に、環状エーテル基を有する化合物、重合性化合物、光重合開始剤、樹脂、溶剤、重合禁止剤、シランカップリング剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤などを含有することができる。これらの具体例および含有量については、上述した近赤外線カットフィルタ層形成用組成物で説明した具体例および含有量と同様である。
＜組成物の調製方法＞
　上述した各組成物は、前述の成分を混合して調製できる。組成物の調製に際しては、全成分を同時に溶剤に溶解または分散して組成物を調製してもよいし、必要に応じては、各成分を適宜配合した２つ以上の溶液または分散液をあらかじめ調製し、使用時（塗布時）にこれらを混合して組成物として調製してもよい。
＜構造体の製造方法＞
　次に、本発明の構造体の製造方法について説明する。本発明の構造体の製造方法は、支持体上に光学フィルタ層を形成する工程と、光学フィルタ層上に酸素遮蔽膜を形成する工程とを含み、光学フィルタ層を形成する工程は、近赤外線吸収色素と環状エーテル基を有する化合物とを含む近赤外線カットフィルタ層形成用組成物を用いて近赤外線カットフィルタ層を形成する工程を含むことを特徴とする。
＜＜光学フィルタ層を形成する工程＞＞
　光学フィルタ層を形成する工程では、支持体上に本発明の近赤外線カットフィルタ層形成用組成物を用いて近赤外線カットフィルタ層を形成し、次いで、この近赤外線カットフィルタ層上にカラーフィルタ層形成用組成物を用いてカラーフィルタ層を形成して光学フィルタ層を形成してもよく、支持体上にカラーフィルタ層形成用組成物を用いてカラーフィルタ層を形成し、次いで、このカラーフィルタ層上に本発明の近赤外線カットフィルタ層形成用組成物を用いて近赤外線カットフィルタ層を形成して光学フィルタ層を形成してもよい。光学フィルタ層は、支持体上に本発明の近赤外線カットフィルタ層形成用組成物を用いて近赤外線カットフィルタ層を形成し、次いで、この近赤外線カットフィルタ層上にカラーフィルタ層形成用組成物を用いてカラーフィルタ層を形成して形成することが好ましい。
　本発明の構造体の製造方法において、各組成物を適用する支持体としては、シリコン基板などの半導体基材や、透明基材が挙げられる。また、支持体には、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、支持体には、各画素を隔離する隔壁やブラックマトリクスが形成されていてもよい。また、支持体上には下塗り層が設けられていてもよい。
　上記組成物の適用方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９－１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット－特許に見る無限の可能性－、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法（特に１１５ページ～１３３ページ）や、特開２００３－２６２７１６号公報、特開２００３－１８５８３１号公報、特開２００３－２６１８２７号公報、特開２０１２－１２６８３０号公報、特開２００６－１６９３２５号公報などに記載の方法が挙げられる。
　上記組成物を適用して形成した組成物層は、乾燥（プリベーク）してもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、８０℃以下が好ましく、７０℃以下がより好ましく、６０℃以下が更に好ましく、５０℃以下が特に好ましい。下限は、例えば、４０℃以上とすることができる。プリベーク時間は、１０～３６００秒が好ましい。プリベークは、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。
　上記組成物を適用して形成した組成物層に対して、パターンを形成してもよい。パターン形成方法としては、フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成方法や、ドライエッチング法を用いたパターン形成方法が挙げられる。
（フォトリソグラフィ法でパターン形成する場合）
　フォトリソグラフィ法でのパターン形成方法は、各組成物を適用して形成した組成物層に対しパターン状に露光する工程（露光工程）と、未露光部の組成物層を除去することにより現像してパターンを形成する工程（現像工程）と、を含むことが好ましい。必要に応じて、現像されたパターンをベークする工程（ポストベーク工程）を設けてもよい。以下、各工程について説明する。
　露光工程では組成物層をパターン状に露光する。例えば、組成物層に対し、ステッパー露光機やスキャナ露光機などを用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、パターン状に露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。
　露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等が挙げられる。また、波長３００ｎｍ以下の光（好ましくは波長１８０～３００ｎｍの光）を用いることもできる。波長３００ｎｍ以下の光としては、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ線（波長１９３ｎｍ）などが挙げられ、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）が好ましい。また、３００ｎｍ以上の長波な光源も利用できる。
　また、露光に際して、光を連続的に照射して露光してもよく、パルス的に照射して露光（パルス露光）してもよい。なお、パルス露光とは、短時間（例えば、ミリ秒レベル以下）のサイクルで光の照射と休止を繰り返して露光する方式の露光方法のことである。
　照射量（露光量）は、例えば、０．０３～２．５Ｊ／ｃｍ２が好ましく、０．０５～１．０Ｊ／ｃｍ２がより好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、または、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、または、５０体積％）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常１０００Ｗ／ｍ２～１０００００Ｗ／ｍ２（例えば、５０００Ｗ／ｍ２、１５０００Ｗ／ｍ２、または、３５０００Ｗ／ｍ２）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１００００Ｗ／ｍ２、酸素濃度３５体積％で照度２００００Ｗ／ｍ２などとすることができる。
　次に、露光後の組成物層における未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する。未露光部の組成物層の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが支持体上に残る。現像液の温度は、例えば、２０～３０℃が好ましい。現像時間は、２０～１８０秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、更に新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。
　現像液は、有機溶剤、アルカリ現像液などが挙げられ、アルカリ現像液が好ましく用いられる。アルカリ現像液としては、アルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液（アルカリ現像液）が好ましい。アルカリ剤としては、例えば、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス（２－ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。アルカリ剤は、分子量が大きい化合物の方が環境面および安全面で好ましい。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％がより好ましい。また、現像液は、更に界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤としては、ノニオン性界面活性剤が好ましい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば１．５～１００倍の範囲に設定することができる。また、現像後純水で洗浄（リンス）することも好ましい。また、リンスは、現像後の組成物層が形成された支持体を回転させつつ、現像後の組成物層へリンス液を供給して行うことが好ましい。また、リンス液を吐出させるノズルを支持体の中心部から支持体の周縁部に移動させて行うことも好ましい。この際、ノズルの支持体中心部から周縁部へ移動させるにあたり、ノズルの移動速度を徐々に低下させながら移動させてもよい。このようにしてリンスを行うことで、リンスの面内ばらつきを抑制できる。また、ノズルを支持体中心部から周縁部へ移動させつつ、支持体の回転速度を徐々に低下させても同様の効果が得られる。
　現像後、乾燥を施した後に追加露光処理や加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。追加露光処理やポストベークは、硬化を完全なものとするための現像後の硬化処理である。ポストベークにおける加熱温度は、例えば１００～２４０℃が好ましく、２００～２４０℃がより好ましい。ポストベークは、現像後の膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。追加露光処理を行う場合、露光に用いられる光は、波長４００ｎｍ以下の光であることが好ましい。また、追加露光処理は、韓国公開特許第１０－２０１７－０１２２１３０号公報に記載された方法で行ってもよい。
　カラーフィルタ層の形成にあたり、上述した工程を画素の種類毎に繰り返し行うことで複数の画素を備えたカラーフィルタ層を形成することができる。
（ドライエッチング法でパターン形成する場合）
　ドライエッチング法でのパターン形成は、上記組成物を支持体上に塗布して形成した組成物層を硬化して硬化物層を形成し、次いで、この硬化物層上にパターニングされたフォトレジスト層を形成し、次いで、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとして硬化物層に対してエッチングガスを用いてドライエッチングするなどの方法で行うことができる。フォトレジスト層の形成においては、プリベーク処理を施すことが好ましい。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開２０１３－０６４９９３号公報の段落番号００１０～００６７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
＜＜酸素遮蔽膜を形成する工程＞＞
　本発明の構造体の製造方法においては、このようにして形成した光学フィルタ層上に酸素遮蔽膜を形成する。酸素遮蔽膜は、光学フィルタ層の表面に直接形成してもよく、光学フィルタ層の表面に平坦化層やマイクロレンズなどを形成したのち、これらの部材の表面に形成してもよい。
　酸素遮蔽膜は、真空蒸着法、化学蒸着法、スパッタリング法、スプレー法、ロールコート法、エアナイフコート法、ブレードコート法、ロッドコート法、バーコート法、スピンコート法、スプレーコート法等の方法により形成することができる。
＜固体撮像素子＞
　本発明の固体撮像素子は、上述した本発明の構造体を有する。本発明の固体撮像素子の構成としては、本発明の構造体を有する構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はない。
＜画像表示装置＞
　本発明の画像表示装置は、本発明の構造体を含む。画像表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木昭夫著、（株）工業調査会、１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男編集、（株）工業調査会、１９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。画像表示装置は、白色有機ＥＬ素子を有するものであってもよい。白色有機ＥＬ素子としては、タンデム構造であることが好ましい。有機ＥＬ素子のタンデム構造については、特開２００３－０４５６７６号公報、三上明義監修、「有機ＥＬ技術開発の最前線－高輝度・高精度・長寿命化・ノウハウ集－」、技術情報協会、３２６～３２８ページ、２００８年などに記載されている。有機ＥＬ素子が発光する白色光のスペクトルは、青色領域（４３０～４８５ｎｍ）、緑色領域（５３０～５８０ｎｍ）および黄色領域（５８０～６２０ｎｍ）に強い極大発光ピークを有するものが好ましい。これらの発光ピークに加えさらに赤色領域（６５０～７００ｎｍ）に極大発光ピークを有するものがより好ましい。
＜赤外線センサ＞
　本発明の赤外線センサは、上述した本発明の構造体を含む。赤外線センサの構成としては、赤外線センサとして機能する構成であれば特に限定はない。
　以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、以下に示す構造式中におけるＭｅはメチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
＜近赤外線カットフィルタ層形成用組成物（ＩＲ組成物）の製造＞
　下記の表に示す素材を、下記の表に示す割合（質量部）で混合および撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、ＩＲ組成物１～８、ＩＲ組成物ｒ１を製造した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000026
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000027
（近赤外線吸収色素）
　Ａ－１～Ａ－４：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
（樹脂）
　Ｂ－１：下記構造の樹脂（重量平均分子量４００００、繰り返し単位に付記した数値はモル比である）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 　Ｂ－２：ＲＳ－７２－Ｋ（ＤＩＣ（株）製、フッ素系樹脂）
　Ｂ－３：下記構造の樹脂（重量平均分子量３００００、繰り返し単位に付記した数値はモル比である）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
 　Ｂ－４：下記構造の樹脂（重量平均分子量１１０００、繰り返し単位に付記した数値はモル比である）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
 　Ｂ－５：下記構造の樹脂（重量平均分子量１２０００、繰り返し単位に付記した数値はモル比である）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
（重合性化合物）
　Ｃ－１：下記化合物の混合物（左側化合物と右側化合物とのモル比が７：３の混合物）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 　Ｃ－２：下記化合物の混合物（左側化合物と右側化合物とのモル比が６：４の混合物）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 　Ｃ－３：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
 　Ｃ－４：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
（光重合開始剤）
　Ｄ－１～Ｄ－４：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
（重合禁止剤）
　Ｅ－１：ｐ－メトキシフェノール
（環状エーテル基を有する化合物）
　Ｆ－１：下記構造の樹脂（環状エーテル基価７．０３ｍｍｏｌ／ｇ、酸価０ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量１００００）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
 　Ｆ－２：下記構造の樹脂（環状エーテル基価３．３１ｍｍｏｌ／ｇ、酸価０ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量２００００）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
 　Ｆ－３：下記構造の樹脂（環状エーテル基価７．０３ｍｍｏｌ／ｇ、酸価０ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量６０００）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
 　Ｆ－４：下記構造の樹脂（環状エーテル基価７．０３ｍｍｏｌ／ｇ、酸価０ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量５００００）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
 　Ｆ－５：下記構造の樹脂（環状エーテル基価２．０６ｍｍｏｌ／ｇ、酸価０ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量１００００）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
 　Ｆ－６：下記構造の樹脂（環状エーテル基価２．２８ｍｍｏｌ／ｇ、酸価７５ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量３００００）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
 　Ｆ－７：下記構造の樹脂（環状エーテル基価２．２８ｍｍｏｌ／ｇ、酸価７５ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量３００００）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
（溶剤）
　Ｇ－１：シクロヘキサノン
　各ＩＲ組成物の全固形分の環状エーテル基価および、各ＩＲ組成物を用いて形成した膜の環状エーテル基価は以下の通りである。なお、各ＩＲ組成物のポストベーク後の膜の環状エーテル基価は以下の方法で測定した。
（ポストベーク後の膜の環状エーテル基価の測定方法）
　ガラス基板上に、ＩＲ組成物を、ポストベーク後の膜厚が０．７μｍとなるようにスピンコート法で塗布して膜を形成した。
　得られた膜について、フーリエ変換赤外分光光度計を用いて、膜の初期の環状エーテル由来の赤外線吸収ピーク強度（ピーク強度１）を測定した。
　次いで、上記膜について、ホットプレートを用いて、１００℃、１２０秒間の加熱（プリベーク）を行った後、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を用いて波長３６５ｎｍの波長の光を照射して１０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で全面露光した後、再度ホットプレートを用いて２２０℃、３００秒間の加熱（ポストベーク）して膜を形成した。得られた膜について、フーリエ変換赤外分光光度計を用いてポストベーク後の膜の環状エーテル由来の赤外線吸収ピーク強度（ピーク強度２）を測定した。
　ピーク強度１とピーク強度２の比率からポストベーク後の膜の環状エーテル基の消費率を算出し、環状エーテル基の消費率と、ＩＲ組成物の全固形分の環状エーテル基価から、ポストベーク後の膜の環状エーテル基価を算出した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000045
＜カラーフィルタ層形成用組成物（ＣＦ組成物）の調製＞
　下記の表に示す素材を、下記の表に示す割合（質量部）で混合および撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、ＣＦ組成物１～３を製造した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000046
　上記表に記載の素材は以下の通りである。
（樹脂）
　樹脂１：上述した樹脂Ｂ－４
　樹脂２：下記構造の樹脂
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
 　樹脂３：下記構造の樹脂
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
 　樹脂４：下記構造の樹脂
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
 　樹脂５：下記構造の樹脂
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
（重合性化合物）
　重合性化合物１：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
 　重合性化合物２：上述した重合性化合物Ｃ－１
　重合性化合物３：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
（光重合開始剤）
　光重合開始剤１：上述した光重合開始剤Ｄ－４
　光重合開始剤２：上述した光重合開始剤Ｄ－１
（重合禁止剤）
　重合禁止剤１：ｐ－メトキシフェノール
（シランカップリング剤）
　シランカップリング剤１：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
（紫外線吸収剤）
　紫外線吸収剤１：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
（溶剤）
　溶剤１：シクロヘキサノン
　溶剤２：１－メトキシ－２－プロピルアセテート
　溶剤３：プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
　溶剤４：プロピレングリコールメチルエーテル
　溶剤５：酢酸ブチル
　溶剤６：キシレン
　溶剤７：エチルベンゼン
（界面活性剤）
　界面活性剤１：下記構造の化合物（重量平均分子量１４０００、下記の式中の繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
 　界面活性剤２：パイオニンＤ－６１１２－Ｗ（竹本油脂（株）製）
　界面活性剤３：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
（顔料分散液）
　緑色顔料分散液１、赤色顔料分散液１および青色顔料分散液１は、下記組成の混合液を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ－３０００－１０（日本ビーイーイー（株）製））で、２時間、混合して調製したものを用いた。
〔緑色顔料分散液１の組成〕
・Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン５８　　・・・１１．４質量部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５　　・・・２．３質量部
・色素誘導体１（下記構造の化合物）　　・・・１．４質量部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
 ・分散剤１（下記構造の樹脂、重量平均分子量２２９００、主鎖の繰り返し単位に付記した数値はモル比であり、側鎖の繰り返し単位に併記される数値は、繰り返し単位の繰り返し数を示す。）　　・・・７．２質量部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
 ・ＰＧＭＥＡ　　・・・７７．７７質量部
〔顔料分散液２の組成〕
・Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４　　・・・１１．４質量部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９　　・・・２．３質量部
・色素誘導体２（下記構造の化合物）　　・・・１．４質量部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
 ・分散剤１　　・・・７．２質量部
・ＰＧＭＥＡ　　・・・７７．７７質量部
〔顔料分散液３の組成〕
・Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６　　・・・１１．４質量部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３　　・・・２．３質量部
・色素誘導体３（下記構造の化合物）　　・・・１．４質量部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
 ・分散剤１　　・・・７．２質量部
・ＰＧＭＥＡ　　・・・８１．９質量部
＜構造体の製造＞
　ガラス基板上に、下記表に記載の近赤外線カットフィルタ層形成用組成物（ＩＲ組成物）をスピンコート法で塗布し、その後ホットプレートを用いて、１００℃で１２０秒間加熱して膜を形成した。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を用いて上記膜に波長３６５ｎｍの波長の光を照射して１０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で全面露光した。次に、ホットプレートを用いて、上記露光後の膜を２２０℃で３００秒間加熱して、厚さ０．７μｍの近赤外線カットフィルタ層を形成した。
　次に、近赤外線カットフィルタ層上に、下記表に記載のカラーフィルタ層形成用組成物（ＣＦ組成物）を、スピンコート法で塗布し、その後ホットプレートを用いて、１００℃で１２０秒間加熱して膜を形成した。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を用いて上記膜に波長３６５ｎｍの波長の光を照射して１０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で全面露光した。次に、ホットプレートを用いて、上記露光後の膜を２２０℃で３００秒間加熱し、厚さ０．６μｍのカラーフィルタ層を形成した。
　次に、以下に示す条件１、条件２または条件３にてカラーフィルタ層上に厚さ０．１μｍの酸素遮蔽膜を形成して、構造体を製造した。
　条件１：化学蒸着法（ＣＶＤ）により、カラーフィルタ層上にＳｉＯ２膜を製膜して酸素遮蔽膜を形成した。
　条件２：化学蒸着法（ＣＶＤ）により、カラーフィルタ層上にＳｉＯＮ膜を製膜して酸素遮蔽膜を形成した。
　条件３：富士フイルム和光純薬（株）製のポリビニルアルコールの１質量％水溶液をカラーフィルタ層上にスピンコート法で塗布して酸素遮蔽膜を形成した。
＜耐熱性＞
　得られた構造体について、紫外可視近赤外分光光度計Ｕ－４１００（（株）日立ハイテク製）を用いて、波長７００～１２００ｎｍの範囲における最大吸収波長λｍａｘ（ｎｍ）を測定した。その後、λｍａｘ－５０～λｍａｘ＋５０（ｎｍ）の波長範囲における吸光度の平均値Ａ１を測定した。次に、この構造体を、ホットプレートを用いて２６０℃で、３００秒間加熱した後、加熱後の構造体の同波長範囲における吸光度の平均値Ａ２を測定した。
　加熱前後の構造体の吸光度の維持率を算出し、以下の基準で耐熱性を評価した。
　吸光度の維持率＝（吸光度の平均値Ａ２／吸光度の平均値Ａ１）×１００
　４：吸光度の維持率が６５％以上
　３；吸光度の維持率が４５％以上６５％未満
　２：吸光度の維持率が２５％以上４５％未満
　１：吸光度の維持率が２５％未満
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000061
　上記表に示されるように、実施例の構造体は、いずれも耐熱性が優れていた。
　各実施例において、ガラス基板上にカラーフィルタ層を形成し、カラーフィルタ層上に近赤外線カットフィルタ層を形成して構造体を製造した場合であっても、各実施例と同様の効果が得られた。
　また、各実施例において、酸素遮蔽膜の膜厚を調整して酸素遮蔽膜の酸素透過率を１５０ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ、１００ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ、５０ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍに変更した場合であっても、各実施例と同様の効果が得られた。
　１１０：支持体
　１２０ａ、１２０ｂ：光学フィルタ層
　１２１：近赤外線カットフィルタ層
　１２２：カラーフィルタ層
　１２３：赤外線透過フィルタ層
　１３０：マイクロレンズ
　１４０：酸素遮蔽膜

Claims (12)

  1. 　支持体と、前記支持体上に設けられた光学フィルタ層と、前記光学フィルタ層上に設けられた酸素遮蔽膜と、を有する構造体であって、
    　前記光学フィルタ層は、近赤外線吸収色素と環状エーテル基を有する化合物とを含む近赤外線カットフィルタ層形成用組成物を用いて形成された近赤外線カットフィルタ層と、前記近赤外線カットフィルタ層と厚み方向で隣接して配置されたカラーフィルタ層とを有する、構造体。
  2. 　前記環状エーテル基を有する化合物は、エポキシ基およびオキセタニル基から選ばれる少なくとも１種の基を有する化合物である、請求項１に記載の構造体。
  3. 　前記近赤外線カットフィルタ層形成用組成物の全固形分の環状エーテル基価が０．１～２．５ｍｍｏｌ／ｇである、請求項１または２に記載の構造体。
  4. 　前記近赤外線カットフィルタ層形成用組成物をガラス基板に塗布し、１００℃で１２０秒間加熱し、次いで、波長３６５ｎｍの光を照射して１０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で露光し、次いで、２２０℃で３００秒間加熱して厚さ０．７μｍの膜を形成した際に、前記膜の環状エーテル基価が０．１～２．５ｍｍｏｌ／ｇである、請求項１または２に記載の構造体。
  5. 　前記環状エーテル基を有する化合物の環状エーテル基価が１．０～１５．０ｍｍｏｌ／ｇである、請求項１または２に記載の構造体。
  6. 　前記環状エーテル基を有する化合物の酸価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である、請求項１または２に記載の構造体。
  7. 　前記近赤外線吸収色素は染料である、請求項１または２に記載の構造体。
  8. 　前記近赤外線吸収色素はピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物及びシアニン化合物から選ばれる少なくとも１種である、請求項１または２に記載の構造体。
  9. 　請求項１または２に記載の構造体の製造方法であって、
    　支持体上に光学フィルタ層を形成する工程と、前記光学フィルタ層上に酸素遮蔽膜を形成する工程とを含み、
    　前記光学フィルタ層を形成する工程は、近赤外線吸収色素と環状エーテル基を有する化合物とを含む近赤外線カットフィルタ層形成用組成物を用いて近赤外線カットフィルタ層を形成する工程を含む、構造体の製造方法。
  10. 　請求項１または２に記載の構造体を有する固体撮像素子。
  11. 　請求項１または２に記載の構造体を有する画像表示装置。
  12. 　請求項１または２に記載の構造体を有する赤外線センサ。
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