WO2022210642A1 - 積層セラミックコンデンサ - Google Patents

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WO2022210642A1
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晋一 山口
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株式会社村田製作所
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Definitions

  • the present invention relates to a multilayer ceramic capacitor.
  • Such a multilayer ceramic capacitor generally has an effective dielectric portion in which a plurality of dielectric ceramic layers and a plurality of internal electrodes are laminated, and provided on the upper and lower surfaces of the effective dielectric portion, the dielectric ceramic layers and a cover layer containing the same main component as the structure.
  • the cover layer is mainly composed of ceramic particles, and glass particles are present in the gaps between the ceramic particles of the cover layer.
  • the ratio of the area of voids in which glass particles are present to the total area of voids and voids in which no glass particles are present is 80% or more per unit area.
  • Patent Document 1 can only deal with the dielectric breakdown voltage caused by the strain in the stacking direction due to the electrostrictive effect. In other words, it is not possible to suppress the decrease in dielectric breakdown voltage due to the increase in the electric field strength applied to the ceramic elements as the thickness of the ceramic elements constituting the multilayer ceramic capacitor is reduced.
  • the main object of the present invention is to provide a multilayer ceramic capacitor that can further improve the dielectric breakdown voltage.
  • a multilayer ceramic capacitor according to the present invention includes a plurality of laminated dielectric layers, and has first and second main surfaces facing each other in the lamination direction, and first main surfaces facing each other in a width direction orthogonal to the lamination direction. and a first end face and a second end face facing each other in a length direction orthogonal to the lamination direction and the width direction; a plurality of first internal electrode layers exposed on the end face of the dielectric layer, a plurality of second internal electrode layers exposed on the second end face and connected to the first internal electrode layer;
  • a multilayer ceramic capacitor comprising a first external electrode arranged on a first end face and a second external electrode connected to a second internal electrode layer and arranged on the second end face, The one internal electrode layer and the second internal electrode layer are alternately arranged, the first internal electrode layer and the second internal electrode layer contain Ni, and the first internal electrode layer and the second internal electrode layer Pt is dissolved in Ni contained in one of the layers, and Pt is not dissolved in Ni contained in the other of the first
  • the multilayer ceramic capacitor of the present invention Pt is dissolved in Ni contained in either one of the first internal electrode layer and the second internal electrode layer, and the first internal electrode layer and Any one of the first internal electrode layer and the second internal electrode layer in which Pt is not dissolved in Ni contained in the other of the second internal electrode layers and Pt is dissolved in Ni is connected to the cathode side when the multilayer ceramic capacitor is mounted, the dielectric breakdown voltage of the multilayer ceramic capacitor can be improved.
  • FIG. 1 is an external perspective view showing an example of a laminated ceramic capacitor according to the present invention
  • FIG. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II of FIG. 1 showing the multilayer ceramic capacitor according to the present invention
  • FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line III-III of FIG. 1 showing a multilayer ceramic capacitor according to the present invention
  • (a) is an illustrative view of the LT section showing the presence or absence of Pt in each internal electrode layer of the laminate
  • (b) is an illustrative view of the WT section.
  • FIG. 4 is an illustrative view showing a region where Ni and Pt mapping analysis is performed in internal electrode layers of a multilayer ceramic capacitor in an experimental example
  • FIG. 1 is an external perspective view showing an example of a laminated ceramic capacitor according to the present invention.
  • 2 is a cross-sectional view taken along line II-II in FIG. 1 showing the laminated ceramic capacitor according to the present invention
  • FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line III-III in FIG. 1 showing the laminated ceramic capacitor according to the present invention. be.
  • the laminated ceramic capacitor 10 includes a rectangular parallelepiped laminated body 12 .
  • the laminate 12 has a plurality of laminated dielectric layers 14 and a plurality of internal electrode layers 16 . Furthermore, the laminate 12 has a first main surface 12a and a second main surface 12b facing in the lamination direction x, and a first side surface 12c and a second side surface facing in the width direction y orthogonal to the lamination direction x. 12d, and a first end face 12e and a second end face 12f facing each other in a length direction z orthogonal to the stacking direction x and width direction y.
  • the laminate 12 has rounded corners and ridges. A corner portion is a portion where three adjacent surfaces of the laminate intersect, and a ridge portion is a portion where two adjacent surfaces of the laminate intersect.
  • unevenness or the like is formed on part or all of the first main surface 12a and the second main surface 12b, the first side surface 12c and the second side surface 12d, and the first end surface 12e and the second end surface 12f. may have been
  • the dielectric layer 14 of the laminate 12 includes an outer layer portion 14a and an inner layer portion 14b.
  • the outer layer portion 14a is located on the first main surface 12a side and the second main surface 12b side of the laminate 12, and is between the first main surface 12a and the internal electrode layer 16 closest to the first main surface 12a. and a dielectric layer 14 located between the second major surface 12b and the internal electrode layer 16 closest to the second major surface 12b.
  • a region sandwiched between the two outer layer portions 14a is the inner layer portion 14b.
  • the dielectric layer 14 can be made of, for example, a dielectric material.
  • the powder of the dielectric material forming the dielectric layer 14 is desirably composed mainly of a perovskite-type oxide containing Ba and Ti.
  • part of Ba may be replaced with Ca
  • part of Ti may be replaced with Zr.
  • the dielectric layer 14 may contain, for example, rare earth elements, Mn, Mg, Si, etc. as subcomponents.
  • the dielectric ceramic raw material powder is produced, for example, by a solid-phase synthesis method. Specifically, first, compound powders such as oxides and carbonates containing constituent elements of the main component are mixed in a predetermined ratio and calcined. In addition to the solid-phase synthesis method, a hydrothermal method or the like may be applied.
  • the dielectric ceramic according to the present invention may contain alkali metals, transition metals, Cl, S, P, Hf, and the like in amounts that do not interfere with the effects of the present invention.
  • the thickness of the dielectric layer 14 after firing is preferably 0.5 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less.
  • the laminate 12 has, as the plurality of internal electrode layers 16, a plurality of substantially rectangular first internal electrode layers 16a and a plurality of second internal electrode layers 16b, for example.
  • the plurality of first internal electrode layers 16a and the plurality of second internal electrode layers 16b are buried so as to be alternately arranged at regular intervals along the stacking direction x of the stack 12 with the dielectric layers 14 interposed therebetween. ing.
  • the first internal electrode layer 16a is positioned on one end side of the first internal electrode layer 16a and the first counter electrode portion 18a facing the second internal electrode layer 16b. It has a first extraction electrode portion 20a extending to the first end surface 12e of the laminate 12 .
  • the first lead-out electrode portion 20 a has its end led out to the first end face 12 e and exposed from the laminate 12 .
  • the second internal electrode layer 16b is located on a second counter electrode portion 18b facing the first internal electrode layer 16a, and on one end side of the second internal electrode layer 16b. It has a second extraction electrode portion 20b extending to the second end face 12f of the laminate 12 .
  • the second extraction electrode portion 20b is exposed from the laminate 12 with its end being extracted to the second end surface 12f.
  • the laminate 12 is formed between one end of the first counter electrode portion 18a and the second counter electrode portion 18b in the width direction y and the first side surface 12c and between the first counter electrode portion 18a and the second counter electrode portion 18b. It includes a side portion (hereinafter referred to as “W gap”) 22a of the laminate 12 formed between the other end of 18b in the width direction y and the second side surface 12d. Furthermore, the laminate 12 has a gap between the end portion of the first internal electrode layer 16a opposite to the first lead-out electrode portion 20a and the second end face 12f and the second internal electrode layer 16b of the second internal electrode layer 16b. It includes an end portion (hereinafter referred to as “L gap”) 22b of the laminate 12 formed between the end portion opposite to the extraction electrode portion 20b and the first end face 12e.
  • the first internal electrode layers 16a and the second internal electrode layers 16b contain Ni, for example.
  • Pt is dissolved in Ni contained in either one of the first internal electrode layer 16a and the second internal electrode layer 16b. Further, Pt does not form a solid solution in Ni contained in the other of the first internal electrode layers 16a and the second internal electrode layers 16b.
  • Pt is not dissolved in Ni contained in the first internal electrode layers 16a, and Pt is contained in the second internal electrode layers 16b.
  • An example is shown in which Pt is dissolved in the Ni contained in the film.
  • one of the first internal electrode layer 16a and the second internal electrode layer 16b in which Pt is dissolved is connected to the cathode side during mounting.
  • the molar ratio of Pt to the total of Ni and Pt is 2.6 mol% or more. It is preferably 24.7 mol % or less.
  • the solid solution of Pt in Ni contained in either one of the first internal electrode layers 16a and the second internal electrode layers 16b can be obtained by, for example, WDX (Wavelength Dispersive X-ray Spectroscopy). can be confirmed by
  • the first internal electrode layer 16a and the second internal electrode layer 16b may further contain dielectric particles having the same composition as the ceramic contained in the dielectric layer 14.
  • the dielectric layer 14 and the internal electrode layer 16 may have a different phase composed of Ni or an element contained in the dielectric layer 14 .
  • the thickness of the internal electrode layer 16 is preferably 0.2 ⁇ m or more and 2.0 ⁇ m or less. Also, the number of internal electrode layers 16 is not particularly limited.
  • External electrodes 24 are arranged on the first end surface 12 e side and the second end surface 12 f side of the laminate 12 .
  • the external electrode 24 has a first external electrode 24a and a second external electrode 24b.
  • the first external electrode 24a is arranged on the surface of the first end surface 12e of the laminate 12 and extends from the first end surface 12e to form the first main surface 12a, the second main surface 12b, and the first side surface. It is formed to cover a portion of each of 12c and second side 12d.
  • the first external electrode 24a is electrically connected to the first extraction electrode portion 20a of the first internal electrode layer 16a.
  • the second external electrode 24b is arranged on the surface of the second end surface 12f of the laminate 12, and extends from the second end surface 12f to form the first main surface 12a, the second main surface 12b, and the first side surface. It is formed to cover a portion of each of 12c and second side 12d. In this case, the second external electrode 24b is electrically connected to the second extraction electrode portion 20b of the second internal electrode layer 16b.
  • the first counter electrode portion 18a of the first internal electrode layer 16a and the second counter electrode portion 18b of the second internal electrode layer 16b face each other with the dielectric layer 14 interposed therebetween.
  • a capacitance is formed. Therefore, a capacitance can be obtained between the first external electrode 24a to which the first internal electrode layer 16a is connected and the second external electrode 24b to which the second internal electrode layer 16b is connected. , the characteristics of the capacitor appear.
  • the first external electrode 24a includes, in order from the laminate 12 side, a first base electrode layer 26a and a first plating layer disposed on the surface of the first base electrode layer 26a. layer 28a.
  • the second external electrode 24b has a second base electrode layer 26b and a second plated layer 28b arranged on the surface of the second base electrode layer 26b in order from the laminate 12 side.
  • the first base electrode layer 26a is arranged on the surface of the first end surface 12e of the laminate 12 and extends from the first end surface 12e to form the first main surface 12a, the second main surface 12b, and the first main surface 12b. It is formed to cover a portion of each of the side surface 12c and the second side surface 12d. However, the first base electrode layer 26a may be arranged only on the surface of the first end surface 12e of the laminate 12. As shown in FIG. Further, the second base electrode layer 26b is arranged on the surface of the second end surface 12f of the laminate 12, and extends from the second end surface 12f to form the first principal surface 12a, the second principal surface 12b, the second principal surface 12b, and the second principal surface 12b. It is formed to cover a portion of each of the first side 12c and the second side 12d. However, the second base electrode layer 26b may be arranged only on the surface of the second end face 12f of the laminate 12. As shown in FIG.
  • the first base electrode layer 26a and the second base electrode layer 26b each include at least one layer selected from a baked layer and a thin film layer.
  • the formed first base electrode layer 26a and second base electrode layer 26b will be described.
  • the baking layer includes glass and metal.
  • the metal of the baking layer includes, for example, at least one selected from Cu, Ni, Ag, Pd, Ag—Pd alloy, Au, and the like.
  • the glass of the baking layer contains at least one selected from B, Si, Ba, Mg, Al, Li and the like.
  • the baking layer may be multiple layers.
  • the baking layer is obtained by applying a conductive paste containing glass and metal to the laminate 12 and baking it. It may be baked after firing the layer 16 .
  • the thickness of the thickest portion of the baking layer is preferably 10 ⁇ m or more and 50 ⁇ m or less.
  • a resin layer containing conductive particles and a thermosetting resin may be formed on the surface of the baking layer.
  • the resin layer may be directly formed on the laminate 12 without forming the baking layer.
  • the resin layer may be a plurality of layers.
  • the thickness of the thickest portion of the resin layer is preferably 20 ⁇ m or more and 150 ⁇ m or less.
  • the thin film layer is a layer of 1 ⁇ m or less formed by a thin film forming method such as a sputtering method or a vapor deposition method and having metal particles deposited thereon.
  • the first plating layer 28a is arranged to cover the first base electrode layer 26a. Specifically, the first plating layer 28a is disposed on the first end surface 12e of the surface of the first base electrode layer 26a, and the first main surface 12a and the first main surface 12a of the surface of the first base electrode layer 26a. It is preferably provided so as to reach the second main surface 12b, the first side surface 12c and the second side surface 12d.
  • the first base electrode layer 26a is arranged only on the surface of the first end face 12e of the laminate 12
  • the first plated layer 28a is formed only on the surface of the first base electrode layer 26a. It is sufficient if it is provided so as to cover the
  • the second plating layer 28b is arranged to cover the second base electrode layer 26b.
  • the second plated layer 28b is arranged on the second end surface 12f of the surface of the second base electrode layer 26b, and the first main surface 12a and the second plated layer 28b of the surface of the second base electrode layer 26b. It is preferably provided so as to reach the second main surface 12b, the first side surface 12c and the second side surface 12d.
  • the second base electrode layer 26b is arranged only on the surface of the second end surface 12f of the laminate 12
  • the second plating layer 28b is formed only on the surface of the second base electrode layer 26b. It is sufficient if it is provided so as to cover the
  • the first plated layer 28a and the second plated layer 28b are made of at least one selected from, for example, Cu, Ni, Sn, Ag, Pd, Ag—Pd alloy, Au, and the like. A metal or an alloy containing the metal is used.
  • the plating layer may be formed of multiple layers. In this case, the plating layer preferably has a two-layer structure of a Ni plating layer and a Sn plating layer.
  • the Ni plating layer is provided so as to cover the surface of the base electrode layer, and is used to prevent the base electrode layer from being eroded by solder when mounting the multilayer ceramic capacitor 10 . Further, by providing the Sn plating layer on the surface of the Ni plating layer, the wettability of the solder used for mounting the multilayer ceramic capacitor can be improved and the mounting can be facilitated.
  • each plating layer is preferably 1 ⁇ m or more and 15 ⁇ m or less. Also, the plated layer preferably does not contain glass. Furthermore, the plating layer preferably has a metal ratio of 99% by volume or more per unit volume.
  • the first base electrode layer 26a is composed of a plated layer that is directly connected to the first internal electrode layer 16a, is arranged directly on the surface of the first end surface 12e of the laminate 12, and extends from the first end surface 12e. It is formed so as to extend and cover a portion of each of the first main surface 12a, the second main surface 12b, the first side surface 12c and the second side surface 12d.
  • the second base electrode layer 26b is composed of a plated layer directly connected to the second internal electrode layer 16b, is arranged directly on the surface of the second end face 12f of the laminate 12, and is directly connected to the second end face 12f.
  • first base electrode layer 26a and the second base electrode layer 26b to be composed of plated layers, a catalyst is provided on the laminate 12 as a pretreatment.
  • the first base electrode layer 26a made of a plated layer is preferably covered with a first plated layer 28a.
  • the second base electrode layer 26b made of a plated layer is preferably covered with a second plated layer 28b.
  • the first base electrode layer 26a and the second base electrode layer 26b, and the first plated layer 28a and the second plated layer 28b are made of Cu, Ni, Sn, Pb, Au, Ag, Pd, Bi, for example. , Zn, or an alloy containing the metal.
  • Ni is used for the internal electrode layers 16
  • Cu which has good bonding properties with Ni
  • Ni for the first base electrode layer 26a and the second base electrode layer 26b.
  • Sn or Au which has good solder wettability.
  • Ni which has solder barrier properties.
  • the first plating layer 28a and the second plating layer 28b are formed as required, and the first external electrode 24a is composed only of the first base electrode layer 26a, and the second external electrode 24b is composed of only the first base electrode layer 26a. may be composed only of the second underlying electrode layer 26b. Also, the first plating layer 28a and the second plating layer 28b may be provided as the outermost layers of the first external electrode 24a and the second external electrode 24b, and the first plating layer 28a or the second plating layer 28a may be provided as the outermost layers. Other plating layers may be provided on layer 28b.
  • each plating layer is preferably 1 ⁇ m or more and 15 ⁇ m or less. Also, the plated layer preferably does not contain glass. Furthermore, the plating layer preferably has a metal ratio of 99% by volume or more per unit volume.
  • the dimension in the length direction z of the multilayer ceramic capacitor 10 including the multilayer body 12, the first external electrode 24a and the second external electrode 24b is defined as the L dimension, and the multilayer body 12, the first external electrode 24a and the second external electrode
  • the dimension in the stacking direction x of the multilayer ceramic capacitor 10 including the electrode 24b is the dimension T, and the dimension in the width direction y of the multilayer ceramic capacitor 10 including the multilayer body 12, the first external electrode 24a and the second external electrode 24b is the dimension W. dimension.
  • the dimensions of the multilayer ceramic capacitor 10 are not particularly limited, but the L dimension in the length direction z is 0.2 mm or more and 3.2 mm or less, the W dimension in the width direction y is 0.1 mm or more and 2.5 mm or less, and the lamination direction x is The T dimension is 0.1 mm or more and 2.5 mm or less. Note that the L dimension in the length direction z is not necessarily longer than the W dimension in the width direction y. Also, the dimensions of the laminated ceramic capacitor 10 can be measured with a microscope.
  • BaTiO 3 powder which is the main component
  • BaTiO 3 powder which is the main component
  • predetermined amounts of BaCO 3 powder and TiO 2 powder are weighed, mixed by a ball mill for a certain period of time, and then subjected to heat treatment to obtain BaTiO 3 powder as the main component.
  • the powder of the dielectric material forming the dielectric layer 14 is desirably composed mainly of perovskite-type oxides containing Ba and Ti.
  • powders of Dy 2 O 3 , MgO, MnO and SiO 2 as subcomponents are prepared.
  • 0.75 mol part of Dy 2 O 3 , 1 mol part of MgO, 0.2 mol part of MnO, and 1 mol part of SiO 2 are weighed with respect to 100 mol part of BaTiO 3 which is the main component.
  • These powders are blended with BaTiO 3 powder as the main component, mixed for a certain period of time in a ball mill, dried and dry-pulverized to obtain raw material powders.
  • an internal electrode conductive paste 1 is prepared for forming the first internal electrode layers 16a.
  • Ni powder is prepared as the conductive powder, a polyvinyl butyral-based binder and an organic solvent such as ethanol are added, and the mixture is wet-mixed using a ball mill to prepare the internal electrode conductive paste 1 .
  • an internal electrode conductive paste 2 for forming the second internal electrode layer 16b is prepared.
  • a Ni—Pt alloy powder is prepared as the conductive powder, a polyvinyl butyral-based binder and an organic solvent such as ethanol are added, and wet-mixed by a ball mill to prepare the internal electrode conductive paste 2 .
  • the prepared Ni—Pt alloy powder is adjusted such that the Pt/(Ni+Pt) ratio is, for example, 2.3 mol % or more and 25.5 mol % or less.
  • the prepared internal electrode conductive paste 1 is printed on the surface of the ceramic green sheet to form a print pattern for the first internal electrode layers 16a.
  • This sheet is referred to as a green sheet 1 after printing.
  • the prepared internal electrode conductive paste 2 is printed on the surface of the ceramic green sheet to form a print pattern for the second internal electrode layer 16b.
  • This sheet is a green sheet 2 after printing.
  • the internal electrode conductive paste 1 and the internal electrode conductive paste 2 can be printed on the ceramic green sheets by a known method such as screen printing or gravure printing.
  • the printed green sheet 2 is stacked on the printed green sheet 1.
  • a set of the two-layered green sheets is laminated so that the sides on which the printed patterns are drawn out are alternately laminated to produce a laminate block.
  • the laminate block is cut into a predetermined shape and size, and unfired laminate chips are cut out.
  • the corners and ridges of the laminate may be rounded by barrel polishing or the like.
  • the cut-out unfired laminate chip is heated, for example, at a temperature of 350° C. in a N 2 atmosphere, and after the binder is burned, the oxygen partial pressure is 10 ⁇ 12 MPa or more and 10 ⁇ 10 MPa or less.
  • the temperature is raised at a rate of 20° C./min, and sintered at 1200° C. or higher and 1265° C. or lower for 20 minutes.
  • the amount of Pt in the internal electrode layers increases, the internal electrode layers become more difficult to sinter, so it is necessary to set the firing temperature high.
  • a conductive paste for external electrodes is applied to both end surfaces of the laminated body 12 after firing, and baked to form first external electrodes 24a electrically connected to the first internal electrode layers 16a.
  • a second base electrode layer 26b of the second external electrode 24b electrically connected to the base electrode layer 26a and the second internal electrode layer 16b is formed.
  • the conductive paste for external electrodes for example, Cu paste containing B 2 O 3 --SiO 2 --BaO glass frit is used. Also, baking is performed at 900° C. in a N 2 atmosphere.
  • a first plated layer 28a is formed to cover the first base electrode layer 26a, and a second plated layer 28b is formed to cover the second base electrode layer 26b. be done.
  • the first plating layer 28a and the second plating layer 28b are formed of Ni plating layers, wet electroplating is used as the forming method.
  • a Sn plating layer is formed on the surface of each Ni plating layer by wet electroplating as necessary. It is formed.
  • the multilayer ceramic capacitor 10 according to the present embodiment is manufactured as described above.
  • a conductive paste using a powder containing a Ni—Pt alloy as a main component was used as a means for forming internal electrode layers made of an alloy of Ni and Pt, but the present invention is not limited to this.
  • Ni powder or an alloy powder containing Ni as a main component and Pt metal, an alloy containing Pt, or a Pt compound mixed therein may be used.
  • the printed green sheet 2 is stacked on the printed green sheet 1, and these two layers of green sheets are made into a set so that the sides from which the printed pattern is drawn out are alternately arranged.
  • the printed green sheet 1 is stacked on the printed green sheet 2, and these two layers of green sheets are set as a set, and the printed pattern is printed.
  • a laminate block may be produced by laminating a plurality of sheets such that the sides of the tapes with which the tape is pulled out are staggered.
  • the laminated ceramic capacitor 10 of the present invention Pt is dissolved in Ni contained in either one of the first internal electrode layers 16a and the second internal electrode layers 16b.
  • Ni contained in the other of the first internal electrode layer 16a and the second internal electrode layer 16b does not contain Pt in a solid solution, and the first internal electrode layer in which Pt dissolves in Ni is a solid solution. Since one of 16a and second internal electrode layer 16b is connected to the cathode side when the laminated ceramic capacitor is mounted, the dielectric breakdown voltage of the laminated ceramic capacitor can be improved.
  • the mechanism that can suppress the dielectric breakdown voltage due to electric field concentration is considered as follows.
  • the work function of the metal increases.
  • Arranging the metal on the cathode side is thought to increase the Schottky barrier at the interface between the ceramic and the internal electrode layers at the cathode, thereby alleviating electric field concentration. As a result, it is considered that the dielectric breakdown voltage of the multilayer ceramic capacitor 10 is improved.
  • the multilayer ceramic capacitor 10 when Pt dissolves in Ni contained in either one of the first internal electrode layers 16a and the second internal electrode layers 16b, Ni and Pt When the molar ratio of Pt to the total of is 2.6 mol% or more and 24.7 mol% or less, the breakdown voltage is improved by setting the molar ratio of Pt to the total of Ni and Pt in this range, and , the high temperature load life can be improved.
  • the thickness of each layer was 1.5 ⁇ m, and the average thickness of the internal electrode layers was 0.9 ⁇ m.
  • the total number of internal electrode layers was 150 layers.
  • the main component of the dielectric layer material was BaTiO 3 .
  • the structure of the external electrode was such that the base electrode layer was a baked layer of Cu paste, and the plating layer was a two-layer structure of Ni plating and Sn plating.
  • the Pt/(Ni+Pt) ratio was 2.3 mol% for sample number 1, 2.6 mol% for sample number 2, and 7.8 mol% for sample number 3.
  • Ni—Pt alloy powders were prepared so that No. 4 had 13.5 mol %, Sample No. 5 had 19.3 mol %, Sample No. 6 had 24.7 mol %, and Sample No. 7 had 25.5 mol %.
  • Sample Nos. 8 to 14 were obtained by laminating the printed green sheet 1 on the printed green sheet 2, forming a pair of these two layers of green sheets, and alternating the sides from which the printed pattern was drawn out.
  • a laminate B was obtained by laminating a plurality of sheets so as to be equal to each other. That is, Pt is dissolved in Ni contained in the first internal electrode layers, and Pt is not dissolved in Ni contained in the second internal electrode layers.
  • the content of Pt dissolved in Ni contained in the first internal electrode layers was changed. Therefore, in the first internal electrode layer, the Pt/(Ni+Pt) ratio was 2.3 mol% for sample number 8, 2.6 mol% for sample number 9, and 7.8 mol% for sample number 10.
  • Ni—Pt alloy powders were prepared so that No. 11 had 13.5 mol %, Sample No. 12 had 19.3 mol %, Sample No. 13 had 24.7 mol %, and Sample No. 14 had 25.5 mol %.
  • a laminate C was obtained by laminating a plurality of sheets using only the green sheet 2 after printing so that the sides on which the printed pattern was drawn alternately. That is, Pt is dissolved in both Ni contained in the first internal electrode layer and the second internal electrode layer.
  • the content of Pt dissolved in Ni contained in each of the first internal electrode layers and the second internal electrode layers was varied. Therefore, in the first internal electrode layer and the second internal electrode layer, the Pt/(Ni+Pt) ratio was set to 2.3 mol% for both sample number 15 and 7.8 mol% for sample number 16.
  • Ni—Pt alloy powders were prepared so that sample number 17 was 13.5 mol %, sample number 18 was 19.3 mol %, and sample number 19 was 24.7 mol %.
  • a laminate D was obtained by laminating a plurality of sheets using only the green sheet 1 after printing so that the sides on which the printed pattern was pulled out were staggered. That is, Pt is not dissolved in Ni contained in the first internal electrode layers and the second internal electrode layers.
  • ⁇ Mapping analysis in the internal electrode layer As shown in FIG. The central portion in each width direction y was divided into three regions: an upper region, a middle region, and a lower region. Then, the vicinity of the central portion of each region was defined as a mapping region, and mapping analysis of Ni and Pt was performed in each mapping region by WDX (wavelength dispersive X-ray analysis method). As a result, it was confirmed that the Pt/(Ni+Pt) ratio was the desired content when Pt was contained in the internal electrode layers for the samples of each sample number. In addition, in sample numbers 1 to 7, the content of Pt in the first internal electrode layers was all below the lower limit of detection. Further, in sample Nos. 8 to 14, the Pt content in the second internal electrode layer was all below the lower limit of detection. Furthermore, in sample number 20, the Pt content in both the first internal electrode layers and the second internal electrode layers was below the lower limit of detection.
  • WDX wavelength dispersive X-ray analysis method
  • Evaluation Results Table 1 shows the evaluation results of the multilayer ceramic capacitors for each sample number. Note that the sample numbers marked with * in the table are outside the scope of the present invention. In particular, sample numbers 15 to 19 are reference examples in which Pt is dissolved in both the first internal electrode layer and the second internal electrode layer.
  • sample according to sample number 20 which is outside the scope of the present invention, has a dielectric breakdown voltage of 240 V because Pt does not form a solid solution in Ni contained in the first internal electrode layer and the second internal electrode layer. It was confirmed to be less than 100% and to be unsatisfactory.
  • samples according to sample numbers 2 to 6 have a further improved dielectric breakdown voltage when the Pt/(Ni+Pt) ratio is 2.6 mol % or more and 24.7 mol % or less in the second internal electrode layer. It was also confirmed that the mean time to failure (MTTF) of 31 hours or more was good.
  • MTTF mean time to failure
  • the mechanism that can suppress the dielectric breakdown voltage due to electric field concentration is considered as follows. That is, when part of the Ni contained in the internal electrode layer 16 is replaced with Pt, the work function of the metal (electrode) increases. Arranging the metal on the cathode side is thought to increase the Schottky barrier at the interface between the ceramic and the internal electrode layers at the cathode, thereby alleviating electric field concentration. As a result, it is considered that the dielectric breakdown voltage of the multilayer ceramic capacitor 10 is improved.
  • the concentration of Pt is less than 2.6 mol %, the effect of increasing the Schottky barrier is considered to be small.
  • the concentration of Pt is higher than 24.7 mol %, the firing temperature rises, and the internal electrode layer (the concentration of Pt is below the detection limit) on the counter electrode side is oversintered and sphered, thereby forming a dielectric ceramic element. It is presumed that the insulation breakdown voltage was lowered because it was compressed and thinned, and the electric field was concentrated in that portion.

Abstract

より絶縁破壊電圧を向上しうる積層セラミックコンデンサを提供する。 積層セラミックコンデンサ10は、積層体12と外部電極24とを備える。積層体12は、積層された複数の誘電体層14と誘電体層14と交互に積層された複数の内部電極層16を含む。内部電極層16は、第1の内部電極層16aと第2の内部電極層16bとを有し、第1の内部電極層16aおよび第2の内部電極層16bのうちのいずれか一方に含まれるNiにPtが固溶しており、第1の内部電極層16aおよび第2の内部電極層16bのうちの他方に含まれるNiにPtが固溶していない。NiにPtが固溶する第1の内部電極層および第2の内部電極層のうちのいずれか一方は、実装時に、陰極側に接続される。

Description

積層セラミックコンデンサ
 本発明は、積層セラミックコンデンサに関する。
 近年、積層セラミックコンデンサは、小型化が急速に進んでおり、積層セラミックコンデンサに対する要求特性はより高く、高信頼性化が求められている。
 このような積層セラミックコンデンサは、一般的には、複数の誘電体セラミック層と複数の内部電極とが積層された有効誘電体部と、有効誘電体部の上下面に設けられ、誘電体セラミック層と同様の主成分を含むカバー層とを備えた構造となっている。
 そして、積層セラミックコンデンサの小型化のために、誘電体セラミック層の薄層化が検討されている。積層セラミックコンデンサは、電圧が印加されると、有効誘電体部が積層方向に伸びる電歪効果が発生するが、通常、有効誘電体部の上下面に設けられているカバー層の厚みが薄い場合には、有効誘電体部の電歪効果による積層方向の伸びを抑える力が弱くなり、有効誘電体部の歪みが大きくなる。有効誘電体部の歪みが大きくなると、有効誘電体部の内部における歪みが集中した部分に電界が集中するようになり、その結果、積層セラミックコンデンサの絶縁破壊電圧が低下する。
 このような課題を解決する手段として、たとえば、特許文献1に記載される積層セラミックコンデンサでは、カバー層がセラミック粒子を主体とし、カバー層のセラミック粒子間の空隙において、ガラス粒子が存在している空隙とガラス粒子が存在していない空隙との合計面積に対するガラス粒子の存在している空隙の面積の比率が単位面積当たりで80%以上であることを特徴とする。このような構成にすることで、特許文献1では、カバー層の強度を高め、電歪効果による積層方向の歪みを抑え、歪みが集中した空隙への電界の集中を抑制し、絶縁破壊電圧の低下を抑制しうる技術が開示されている。
特許第6224853号公報
 しかしながら、特許文献1による構成では、電歪効果による積層方向の歪みに起因した絶縁破壊電圧のみしか対応することができない。すなわち、積層セラミックコンデンサを構成するセラミック素子の薄層化に伴うセラミック素子にかかる電界強度が高まることによる絶縁破壊電圧の低下の抑制には対応できない。
 また、特許文献1による構成では、カバー層に存在するガラス成分が多くなるため、めっき液やフラックスの種類によってはガラスが溶解してしまい、耐湿性が低下する問題が生じることがある。
 それゆえに、この発明の主たる目的は、より絶縁破壊電圧を向上しうる積層セラミックコンデンサを提供することである。
 この発明にかかる積層セラミックコンデンサは、積層された複数の誘電体層を含み、積層方向に相対する第1の主面および第2の主面と、積層方向に直交する幅方向に相対する第1の側面および第2の側面と、積層方向および幅方向に直交する長さ方向に相対する第1の端面および第2の端面と、を含む積層体と、誘電体層上に配置され、第1の端面に露出する複数の第1の内部電極層と、誘電体層上に配置され、第2の端面に露出する複数の第2の内部電極層と、第1の内部電極層に接続され、第1の端面上に配置される第1の外部電極と、第2の内部電極層に接続され、第2の端面上に配置される第2の外部電極と、を備える積層セラミックコンデンサにおいて、第1の内部電極層および第2の内部電極層は、交互に配置され、第1の内部電極層および第2の内部電極層は、Niを含み、第1の内部電極層および第2の内部電極層のうちのいずれか一方に含まれるNiにPtが固溶しており、第1の内部電極層および第2の内部電極層のうちの他方に含まれるNiにPtが固溶しておらず、NiにPtが固溶する第1の内部電極層および第2の内部電極層のうちのいずれか一方が、積層セラミックコンデンサの実装時に陰極側に接続される、積層セラミックコンデンサである。
 この発明にかかる積層セラミックコンデンサによれば、第1の内部電極層および第2の内部電極層のうちのいずれか一方に含まれるNiにPtが固溶しており、第1の内部電極層および第2の内部電極層のうちの他方に含まれるNiにPtが固溶しておらず、NiにPtが固溶する第1の内部電極層および第2の内部電極層のうちのいずれか一方が、積層セラミックコンデンサの実装時に陰極側に接続されるので、積層セラミックコンデンサの絶縁破壊電圧を向上させることができる。
 この発明によれば、より絶縁破壊電圧を向上しうる積層セラミックコンデンサを提供することができる。
 この発明の上述の目的、その他の目的、特徴および利点は、図面を参照して行う以下の発明を実施するための形態の説明から一層明らかとなろう。
この発明にかかる積層セラミックコンデンサの一例を示す外観斜視図である。 この発明にかかる積層セラミックコンデンサを示す図1の線II-IIにおける断面図である。 この発明にかかる積層セラミックコンデンサを示す図1の線III-IIIにおける断面図である。 (a)は積層体の各内部電極層におけるPtの有無を示すLT断面の図解図であり、(b)はWT断面の図解図である。 実験例において、積層セラミックコンデンサの内部電極層におけるNiおよびPtのマッピング分析を行う領域を示す図解図である。
1.積層セラミックコンデンサ
 この発明にかかる積層セラミックコンデンサについて説明する。図1は、この発明にかかる積層セラミックコンデンサの一例を示す外観斜視図である。図2は、この発明にかかる積層セラミックコンデンサを示す図1の線II-IIにおける断面図であり、図3は、この発明にかかる積層セラミックコンデンサを示す図1の線III-IIIにおける断面図である。
 図1ないし図3に示すように、積層セラミックコンデンサ10は、直方体状の積層体12を含む。
 積層体12は、積層された複数の誘電体層14と複数の内部電極層16とを有する。さらに、積層体12は、積層方向xに相対する第1の主面12aおよび第2の主面12bと、積層方向xに直交する幅方向yに相対する第1の側面12cおよび第2の側面12dと、積層方向xおよび幅方向yに直交する長さ方向zに相対する第1の端面12eおよび第2の端面12fとを有する。この積層体12には、角部および稜線部に丸みがつけられている。なお、角部とは、積層体の隣接する3面が交わる部分のことであり、稜線部とは、積層体の隣接する2面が交わる部分のことである。また、第1の主面12aおよび第2の主面12b、第1の側面12cおよび第2の側面12d、ならびに第1の端面12eおよび第2の端面12fの一部または全部に凹凸などが形成されていてもよい。
 積層体12の誘電体層14は、外層部14aと内層部14bとを含む。外層部14aは、積層体12の第1の主面12a側および第2の主面12b側に位置し、第1の主面12aと第1の主面12aに最も近い内部電極層16との間に位置する誘電体層14、および第2の主面12bと第2の主面12bに最も近い内部電極層16との間に位置する誘電体層14である。そして、両外層部14aに挟まれた領域が内層部14bである。
 誘電体層14は、たとえば、誘電体材料により形成することができる。誘電体層14を構成する誘電体材料の粉末は、BaおよびTiを含むペロブスカイト型酸化物を主成分とすることが望ましい。なお、Baの一部はCaで置換されてもよく、Tiの一部はZrで置換されてもよい。なお、誘電体層14には、主成分の他に、たとえば、希土類元素や、Mn、Mg、Si等が副成分として含まれていてもよい。
 誘電体セラミックの原料粉末は、たとえば、固相合成法で作製される。具体的には、まず、主成分の構成元素を含む酸化物、炭酸物等の化合物粉末を所定の割合で混合し、仮焼する。なお、固相合成法の他に、水熱法等を適用してもよい。なお、本発明にかかる誘電体セラミックに対して、アルカリ金属、遷移金属、Cl、S、P、Hf等が本発明の効果を妨げない量の範囲で含まれていてもよい。
 焼成後の誘電体層14の厚みは、0.5μm以上10μm以下であることが好ましい。
 積層体12は、複数の内部電極層16として、たとえば略矩形状の複数の第1の内部電極層16aおよび複数の第2の内部電極層16bを有する。複数の第1の内部電極層16aおよび複数の第2の内部電極層16bは、積層体12の積層方向xに沿って誘電体層14を挟んで等間隔に交互に配置されるように埋設されている。
 第1の内部電極層16aは、第2の内部電極層16bと対向する第1の対向電極部18aと、第1の内部電極層16aの一端側に位置し、第1の対向電極部18aから積層体12の第1の端面12eまでの第1の引出電極部20aを有する。第1の引出電極部20aは、その端部が第1の端面12eに引き出され、積層体12から露出している。
 第2の内部電極層16bは、第1の内部電極層16aと対向する第2の対向電極部18bと、第2の内部電極層16bの一端側に位置し、第2の対向電極部18bから積層体12の第2の端面12fまでの第2の引出電極部20bを有する。第2の引出電極部20bは、その端部が第2の端面12fに引き出され、積層体12から露出している。
 積層体12は、第1の対向電極部18aおよび第2の対向電極部18bの幅方向yの一端と第1の側面12cとの間および第1の対向電極部18aおよび第2の対向電極部18bの幅方向yの他端と第2の側面12dとの間に形成される積層体12の側部(以下、「Wギャップ」という。)22aを含む。さらに、積層体12は、第1の内部電極層16aの第1の引出電極部20aとは反対側の端部と第2の端面12fとの間および第2の内部電極層16bの第2の引出電極部20bとは反対側の端部と第1の端面12eとの間に形成される積層体12の端部(以下、「Lギャップ」という。)22bを含む。
 第1の内部電極層16aおよび第2の内部電極層16bは、たとえば、Niを含む。
 第1の内部電極層16aおよび第2の内部電極層16bのうちのいずれか一方に含まれるNiには、Ptが固溶している。そして、第1の内部電極層16aおよび第2の内部電極層16bのうちの他方に含まれるNiには、Ptが固溶していない。なお、図4(a)および(b)に示す積層セラミックコンデンサ10では、第1の内部電極層16aに含まれるNiにはPtが固溶しておらず、第2の内部電極層16bに含まれるNiにはPtが固溶している例を示している。
 そして、Ptが固溶している第1の内部電極層16aおよび第2の内部電極層16bのいずれか一方は、実装時に、陰極側に接続される。
 第1の内部電極層16aおよび第2の内部電極層16bのうちのいずれか一方に含まれるNiにPtが固溶するとき、NiとPtとの合計に対するPtのモル比が2.6mol%以上24.7mol%以下であることが好ましい。NiとPtとの合計に対するPtのモル比をこの範囲とすることで、絶縁破壊電圧を向上させ、かつ、高温負荷寿命を向上させることができる。
 なお、第1の内部電極層16aおよび第2の内部電極層16bのうちのいずれか一方に含まれるNiにPtが固溶していることは、たとえば、WDX(波長分散型X線分析法)により確認することができる。
 第1の内部電極層16aおよび第2の内部電極層16bは、さらに、誘電体層14に含まれるセラミックスと同一組成系の誘電体粒子を含んでいてもよい。
 また、誘電体層14と内部電極層16には、Niや誘電体層14に含まれる元素から構成される異相が存在してもよい。
 内部電極層16の厚みは、0.2μm以上2.0μm以下であることが好ましい。また、内部電極層16の枚数は、特に限定されない。
 積層体12の第1の端面12e側および第2の端面12f側には、外部電極24が配置される。外部電極24は、第1の外部電極24aおよび第2の外部電極24bを有する。
 第1の外部電極24aは、積層体12の第1の端面12eの表面に配置され、第1の端面12eから延伸して第1の主面12a、第2の主面12b、第1の側面12cおよび第2の側面12dのそれぞれの一部分を覆うように形成される。この場合、第1の外部電極24aは、第1の内部電極層16aの第1の引出電極部20aと電気的に接続される。
 第2の外部電極24bは、積層体12の第2の端面12fの表面に配置され、第2の端面12fから延伸して第1の主面12a、第2の主面12b、第1の側面12cおよび第2の側面12dのそれぞれの一部分を覆うように形成される。この場合、第2の外部電極24bは、第2の内部電極層16bの第2の引出電極部20bと電気的に接続される。
 積層体12内においては、第1の内部電極層16aの第1の対向電極部18aと第2の内部電極層16bの第2の対向電極部18bとが誘電体層14を介して対向することにより、静電容量が形成されている。そのため、第1の内部電極層16aが接続された第1の外部電極24aと第2の内部電極層16bが接続された第2の外部電極24bとの間に、静電容量を得ることができ、コンデンサの特性が発現する。
 第1の外部電極24aは、図2および図3に示すように、積層体12側から順に、第1の下地電極層26aと第1の下地電極層26aの表面に配置された第1のめっき層28aとを有する。同様に、第2の外部電極24bは、積層体12側から順に、第2の下地電極層26bと第2の下地電極層26bの表面に配置された第2のめっき層28bとを有する。
 第1の下地電極層26aは、積層体12の第1の端面12eの表面に配置され、第1の端面12eから延伸して第1の主面12a、第2の主面12b、第1の側面12cおよび第2の側面12dのそれぞれの一部分を覆うように形成される。もっとも、第1の下地電極層26aは、積層体12の第1の端面12eの表面上にのみ配置されていてもよい。
 また、第2の下地電極層26bは、積層体12の第2の端面12fの表面に配置され、第2の端面12fから延伸して第1の主面12a、第2の主面12b、第1の側面12cおよび第2の側面12dのそれぞれの一部分を覆うように形成される。もっとも、第2の下地電極層26bは、積層体12の第2の端面12fの表面上にのみ配置されていてもよい。
 第1の下地電極層26aおよび第2の下地電極層26b(以下、単に下地電極層ともいう)は、それぞれ、焼付け層や薄膜層などから選ばれる少なくとも1つを含むが、ここでは焼付け層で形成された第1の下地電極層26aおよび第2の下地電極層26bについて説明する。
 焼付け層は、ガラスと金属とを含む。焼付け層の金属としては、たとえば、Cu、Ni、Ag、PdまたはAg-Pd合金、Au等から選ばれる少なくとも1つを含む。また、焼付け層のガラスとしては、B、Si、Ba、Mg、AlおよびLi等から選ばれる少なくとも1つを含む。焼付け層は、複数層であってもよい。焼付け層は、ガラスおよび金属を含む導電性ペーストを積層体12に塗布して焼き付けたものであり、誘電体層14および内部電極層16と同時に焼成したものでもよく、誘電体層14および内部電極層16を焼成した後に焼き付けたものでもよい。焼付け層のうちの最も厚い部分の厚みは、10μm以上50μm以下であることが好ましい。
 焼付け層の表面に、導電性粒子と熱硬化性樹脂とを含む樹脂層が形成されてもよい。なお、樹脂層は、焼付け層を形成せずに積層体12上に直接形成してもよい。また、樹脂層は、複数層であってもよい。樹脂層のうちの最も厚い部分の厚みは、20μm以上150μm以下であることが好ましい。
 また、薄膜層は、スパッタ法または蒸着法等の薄膜形成法により形成され、金属粒子が堆積された1μm以下の層である。
 第1のめっき層28aは、第1の下地電極層26aを覆うように配置される。具体的には、第1のめっき層28aは、第1の下地電極層26aの表面の第1の端面12eに配置され、第1の下地電極層26aの表面の第1の主面12aおよび第2の主面12bならびに第1の側面12cおよび第2の側面12dにも至るように設けられていることが好ましい。なお、第1の下地電極層26aが、積層体12の第1の端面12eの表面上にのみ配置される場合には、第1のめっき層28aは、第1の下地電極層26aの表面のみを覆うように設けられていればよい。
 同様に、第2のめっき層28bは、第2の下地電極層26bを覆うように配置される。具体的には、第2のめっき層28bは、第2の下地電極層26bの表面の第2の端面12fに配置され、第2の下地電極層26bの表面の第1の主面12aおよび第2の主面12bならびに第1の側面12cおよび第2の側面12dにも至るように設けられていることが好ましい。なお、第2の下地電極層26bが、積層体12の第2の端面12fの表面上にのみ配置される場合には、第2のめっき層28bは、第2の下地電極層26bの表面のみを覆うように設けられていればよい。
 また、第1のめっき層28aおよび第2のめっき層28b(以下、単にめっき層ともいう)としては、たとえば、Cu、Ni、Sn、Ag、Pd、Ag-Pd合金、Au等から選ばれる少なくとも1種の金属または当該金属を含む合金が用いられる。
 めっき層は、複数層によって形成されてもよい。この場合、めっき層は、Niめっき層とSnめっき層の2層構造であることが好ましい。Niめっき層が、下地電極層の表面を覆うように設けられることで、下地電極層が積層セラミックコンデンサ10を実装する際のはんだによって侵食されることを防止するために用いられる。また、Niめっき層の表面に、Snめっき層を設けることにより、積層セラミックコンデンサを実装する際に、実装に用いられるはんだの濡れ性を向上させ、容易に実装することができる。
 めっき層一層あたりの厚みは、1μm以上15μm以下であることが好ましい。また、めっき層は、ガラスを含まないことが好ましい。さらに、めっき層は、単位体積あたりの金属割合が99体積%以上であることが好ましい。
 次に、第1の下地電極層26aおよび第2の下地電極層26bがめっき電極からなる場合について説明する。
 第1の下地電極層26aは、第1の内部電極層16aと直接接続されるめっき層から構成され、積層体12の第1の端面12eの表面に直接に配置され、第1の端面12eから延伸して第1の主面12a、第2の主面12b、第1の側面12cおよび第2の側面12dのそれぞれの一部分を覆うように形成される。
 また、第2の下地電極層26bは、第2の内部電極層16bと直接接続されるめっき層から構成され、積層体12の第2の端面12fの表面に直接に配置され、第2の端面12fから延伸して第1の主面12a、第2の主面12b、第1の側面12cおよび第2の側面12dのそれぞれの一部分を覆うように形成される。
 ただし、第1の下地電極層26aおよび第2の下地電極層26bがめっき層から構成されるためには、前処理として積層体12上に触媒が設けられる。
 めっき層からなる第1の下地電極層26aは、第1のめっき層28aにて覆うことが好ましい。同様に、めっき層からなる第2の下地電極層26bは、第2のめっき層28bにて覆うことが好ましい。
 第1の下地電極層26aおよび第2の下地電極層26b、ならびに、第1のめっき層28aおよび第2のめっき層28bは、たとえば、Cu、Ni、Sn、Pb、Au、Ag、Pd、Bi、Znから選ばれる1種の金属または当該金属を含む合金のめっきを含むことが好ましい。
 たとえば、内部電極層16としてNiを用いた場合、第1の下地電極層26aおよび第2の下地電極層26bとしては、Niと接合性のよいCuを用いることが好ましい。
 また、第1のめっき層28aおよび第2のめっき層28bとしては、はんだ濡れ性のよいSnやAuを用いることが好ましく、第1の下地電極層26aおよび第2の下地電極層26bとしては、はんだバリア性能を有するNiを用いることが好ましい。
 第1のめっき層28aおよび第2のめっき層28bは必要に応じて形成されるものであり、第1の外部電極24aは第1の下地電極層26aのみから構成され、第2の外部電極24bは第2の下地電極層26bのみから構成されたものであってもよい。また、第1のめっき層28aおよび第2のめっき層28bを、第1の外部電極24aおよび第2の外部電極24bの最外層として設けてもよく、第1のめっき層28aまたは第2のめっき層28b上に他のめっき層を設けてもよい。
 めっき層一層あたりの厚みは、1μm以上15μm以下であることが好ましい。また、めっき層は、ガラスを含まないことが好ましい。さらに、めっき層は、単位体積あたりの金属割合が99体積%以上であることが好ましい。
 積層体12、第1の外部電極24aおよび第2の外部電極24bを含む積層セラミックコンデンサ10の長さ方向zの寸法をL寸法とし、積層体12、第1の外部電極24aおよび第2の外部電極24bを含む積層セラミックコンデンサ10の積層方向xの寸法をT寸法とし、積層体12、第1の外部電極24aおよび第2の外部電極24bを含む積層セラミックコンデンサ10の幅方向yの寸法をW寸法とする。
 積層セラミックコンデンサ10の寸法は、特に限定されないが、長さ方向zのL寸法が0.2mm以上3.2mm以下、幅方向yのW寸法が0.1mm以上2.5mm以下、積層方向xのT寸法が0.1mm以上2.5mm以下である。なお、長さ方向zのL寸法は、幅方向yのW寸法よりも必ずしも長いとは限らない。また、積層セラミックコンデンサ10の寸法は、マイクロスコープにより測定することができる。
2.積層セラミックコンデンサの製造方法
 次に、本発明にかかる積層セラミックコンデンサの製造方法について説明する。
 (a)誘電体原料粉末の作製
 最初に、主成分であるBaTiO3粉末が用意される。具体的には、BaCO3粉末、TiO2粉末が所定量秤量され、ボールミルにより一定時間混合された後、熱処理を行い、主成分のBaTiO3粉末が得られる。
 なお、誘電体層14を構成する誘電体材料の粉末は、BaおよびTiを含むペロブスカイト型酸化物を主成分とすることが望ましい。
 次に、副成分であるDy23、MgO、MnOおよびSiO2の各粉末が用意される。そして、主成分であるBaTiO3100mol部に対してDy23が0.75mol部、MgOが1mol部、MnOが0.2mol部、SiO2が1mol部となるように秤量する。これらの粉末が主成分のBaTiO3粉末と配合され、ボールミルにより一定時間混合された後、乾燥、乾式粉砕され、原料粉末が得られる。
 (b)積層セラミックコンデンサの製造
 次に、原料粉末にポリビニルブチラール系バインダおよびエタノール等の有機溶剤を加えて、ボールミルにより湿式混合し、スラリーが調整される。このセラミックスラリーが、ドクターブレード法によりシート成形され、たとえば、厚み1.9μmのセラミックグリーンシートが得られる。
 次に、第1の内部電極層16aを形成するための、内部電極用導電性ペースト1が用意される。導電性粉末として、Ni粉末が用意され、ポリビニルブチラール系バインダおよびエタノールなどの有機溶剤を加えて、ボールミルにより湿式混合し、内部電極用導電性ペースト1が作製される。
 さらに、第2の内部電極層16bを形成するための内部電極用導電性ペースト2が用意される。導電性粉末として、Ni-Pt合金粉末が用意され、ポリビニルブチラール系バインダおよびエタノールなどの有機溶剤を加えて、ボールミルにより湿式混合し、内部電極用導電性ペースト2が作製される。なお、用意されるNi-Pt合金粉末は、Pt/(Ni+Pt)比率が、たとえば、2.3mol%以上25.5mol%以下となるように調整される。
 続いて、セラミックグリーンシートの表面に、用意した内部電極用導電性ペースト1を印刷し、第1の内部電極層16aのための印刷パターンが形成される。このシートは、印刷後グリーンシート1とされる。
 一方、セラミックグリーンシートの表面に、用意した内部電極用導電性ペースト2を印刷し、第2の内部電極層16bのための印刷パターンが形成される。このシートは、印刷後グリーンシート2とされる。
 なお、内部電極用導電性ペースト1および内部電極用導電性ペースト2は、スクリーン印刷やグラビア印刷などの公知の方法により、セラミックグリーンシートに対して印刷することができる。
 続いて、印刷後グリーンシート1の上に印刷後グリーンシート2が積まれる。この2層のグリーンシートを1組として、それを印刷パターンの引き出されている側が互い違いになるように、複数枚積層し、積層体ブロックが作製される。
 その後、積層体ブロックが所定の形状寸法に切断され、未焼成の積層体チップが切り出される。なお、このとき、バレル研磨などにより積層体の角部や稜線部に丸みをつけてもよい。
 続いて、切り出された未焼成の積層体チップが、たとえば、N2雰囲気にて350℃の温度で加熱し、バインダが燃焼された後、酸素分圧10-12MPa以上10-10MPa以下のH2-N2-H2Oガスからなる還元雰囲気中において、20℃/minで昇温し、1200℃以上1265℃以下にて20分焼成される。内部電極層中のPt量が多いほど内部電極層が焼結しにくくなるため、焼成温度を高く設定する必要がある。
 次に、焼成後の積層体12の両端面に外部電極用導電性ペーストが塗布され、焼き付けられ、第1の内部電極層16aと電気的に接続される第1の外部電極24aの第1の下地電極層26aおよび第2の内部電極層16bと電気的に接続される第2の外部電極24bの第2の下地電極層26bが形成される。外部電極用導電性ペーストは、たとえば、B23-SiO2-BaO系ガラスフリットが含有されるCuペーストが用いられる。また、焼き付けは、N2雰囲気中において900℃で行われる。
 続いて、必要に応じて、第1の下地電極層26aを覆うように、第1のめっき層28aが形成され、第2の下地電極層26bを覆うように、第2のめっき層28bが形成される。
 第1のめっき層28aおよび第2のめっき層28bがNiめっき層で形成される場合は、その形成方法として湿式電解めっきが用いられる。
 なお、第1のめっき層28aおよび第2のめっき層28bは、2層構造で形成される場合、必要に応じて、湿式電解めっきの方法で、それぞれのNiめっき層の表面にSnめっき層が形成される。
 上述のようにして、本実施の形態にかかる積層セラミックコンデンサ10が製造される。
 なお、上述した製造方法では、NiとPtからなる合金による内部電極層を形成する手段としてNi-Pt合金を主成分とする粉末を用いた導電性ペーストを使用したが、これに限るものではなく、Ni粉末またはNiを主成分とする合金粉末にPt金属、Ptを含む合金またはPt化合物を混合した導電性ペーストを使用してもよい。
 また、上述した製造方法では、印刷後グリーンシート1の上に印刷後グリーンシート2積んだうえ、この2層のグリーンシートを1組として、それを印刷パターンの引き出されている側が互い違いになるように、複数枚積層し、積層体ブロックが作製されているが、印刷後グリーンシート2の上に印刷後グリーンシート1を積んだうえ、この2層のグリーンシートを1組として、それを印刷パターンの引き出されている側が互い違いになるように、複数枚積層し、積層体ブロックが作製されてもよい。
 この発明にかかる積層セラミックコンデンサ10によれば、第1の内部電極層16aおよび第2の内部電極層16bのうちのいずれか一方に含まれるNiにはPtが固溶している。そして、第1の内部電極層16aおよび第2の内部電極層16bのうちの他方に含まれるNiには、Ptが固溶しておらず、NiにPtが固溶する第1の内部電極層16aおよび第2の内部電極層16bのうちのいずれか一方が、積層セラミックコンデンサの実装時に陰極側に接続されるので、積層セラミックコンデンサの絶縁破壊電圧を向上させることができる。
 このように、電界集中による絶縁破壊電圧を抑制しうるメカニズムは、以下のように考えられる。すなわち、内部電極層16に含まれるNiの一部をPtで置換すると、金属(電極)の仕事関数が高くなる。その金属を陰極側に配置すると、陰極におけるセラミックと内部電極層の界面のショットキー障壁が高くなり、電界集中が緩和されると考えられる。その結果、積層セラミックコンデンサ10の絶縁破壊電圧が向上したものと考えられる。
 また、この発明にかかる積層セラミックコンデンサ10によれば、第1の内部電極層16aおよび第2の内部電極層16bのうちのいずれか一方に含まれるNiにPtが固溶するとき、NiとPtとの合計に対するPtのモル比が2.6mol%以上24.7mol%以下であると、NiとPtとの合計に対するPtのモル比をこの範囲とすることで、絶縁破壊電圧を向上させ、かつ、高温負荷寿命を向上させることができる。
3.実験例
 次に、上述した本発明にかかる積層セラミックコンデンサ10の効果を確認するために、積層セラミックコンデンサの絶縁破壊電圧および高温負荷寿命の評価する実験を行った。
(1)評価のための試料の作製
 以下、上述の製造方法を使用して、以下の条件に基づいて実験例の各試料(試料番号1ないし試料番号20)の積層セラミックコンデンサが作製された。
 (a)設計条件
 積層セラミックコンデンサのサイズ(設計値)は、長さ×幅×高さ=1.0mm×0.5mm×0.5mmであり、複数の内部電極層の間に介在する誘電体層一層あたりの厚みは、1.5μmであり、内部電極層の平均厚みは0.9μmであった。また、内部電極層の総数は、150層とした。誘電体層の材料の主成分は、BaTiO3とした。外部電極の構造は、下地電極層をCuペーストの焼付け層とし、めっき層をNiめっきとSnめっきの2層構造とした。
 (b)各試料の製造条件
 試料番号1ないし試料番号7は、印刷後グリーンシート1の上に印刷後グリーンシート2を積み、この2層のグリーンシートを1組として、それを印刷パターンの引き出されている側が互い違いになるように複数枚積層し、積層体Aを得た。すなわち、第1の内部電極層のNiにPtは固溶しておらず、第2の内部電極層に含まれるNiにPtが固溶している。試料番号1ないし試料番号7では、第2の内部電極層に含まれるNiに固溶されるPtの含有量を変化させた。このため、第2の内部電極層において、Pt/(Ni+Pt)比率が、試料番号1は2.3mol%とし、試料番号2は2.6mol%とし、試料番号3は7.8mol%とし、試料番号4は13.5mol%とし、試料番号5は19.3mol%とし、試料番号6は24.7mol%とし、試料番号7は25.5mol%となるようにNi-Pt合金粉末を用意した。
 また、試料番号8ないし試料番号14は、印刷後グリーンシート2の上に印刷後グリーンシート1を積み、この2層のグリーンシートを1組として、それを印刷パターンの引き出されている側が互い違いになるように複数枚積層し、積層体Bを得た。すなわち、第1の内部電極層に含まれるNiにPtが固溶しており、第2の内部電極層のNiにPtは固溶していない。試料番号8ないし試料番号14では、第1の内部電極層に含まれるNiに固溶されるPtの含有量を変化させた。このため、第1の内部電極層において、Pt/(Ni+Pt)比率が、試料番号8は2.3mol%とし、試料番号9は2.6mol%とし、試料番号10は7.8mol%とし、試料番号11は13.5mol%とし、試料番号12は19.3mol%とし、試料番号13は24.7mol%とし、試料番号14は25.5mol%なるようにNi-Pt合金粉末を用意した。
 また、試料番号15ないし試料番号19は、印刷後グリーンシート2のみを用いて印刷パターンの引き出されている側が互い違いになるように複数枚積層し、積層体Cを得た。すなわち、第1の内部電極層および第2の内部電極層に含まれるNiにPtがいずれも固溶している。試料番号15ないし試料番号19では、第1の内部電極層および第2の内部電極層のそれぞれに含まれるNiに固溶されるPtの含有量を変化させた。このため、第1の内部電極層および第2の内部電極層において、Pt/(Ni+Pt)比率が、試料番号15はいずれも2.3mol%とし、試料番号16はいずれも7.8mol%とし、試料番号17はいずれも13.5mol%とし、試料番号18はいずれも19.3mol%とし、試料番号19はいずれも24.7mol%となるようにNi-Pt合金粉末を用意した。
 また、試料番号20は、印刷後グリーンシート1のみを用いて印刷パターンの引き出されている側が互い違いになるように複数枚積層し、積層体Dを得た。すなわち、第1の内部電極層および第2の内部電極層に含まれるNiにPtは固溶していない。
 これらの積層体のLW面の上面(積層の積み終わり側の面)をL方向に3等分した領域であって、Ni-Pt合金粉末を含む内部電極用導電性ペースト2が引き出されている側に、Niを主成分とするペーストを長さ方向zに約0.1mm、幅方向yに約0.2mmの大きさの図形で印刷し、外部電極の形成後でも、どちらの端面にPtが固溶された内部電極層が引き出されているかが判別できるようにした。
 なお、本実験例では、上述した方法により、Ptの固溶された内部電極層が引き出されている側を判別できるようにしたが、判別さえできれば、その手段は問わない。
 また、各試料番号に対する試料数は、40個(総数800個)準備し、試料番号ごとに、うち20個を絶縁破壊電圧の測定に用い、残りの20個を高温負荷試験に用いた。
(2)評価項目および評価方法
 (a)内部電極層中にPtが存在することの確認
 上述のようにして作製した表1の各試料(積層セラミックコンデンサ)について、以下に説明する方法により、内部電極層中にPtが存在することを確認した。
 ・研磨
 各試料を垂直になるように立てて、各試料の周りを樹脂で固めた。このとき、各試料のWT面が露出するようにした。続いて、研磨機により、WT面を研磨した。積層セラミックコンデンサの長さ方向zの1/2程度の深さで研磨を終了し、WT面を露出させた。そして、研磨による内部電極層のダレをなくすために、研磨終了後、イオンミリングにより、研磨表面を加工した。
 ・内部電極層におけるマッピング分析
 図5に示すとおり、WT面の長さ方向zの1/2程度において、試料の内部電極層が積層されている領域を積層方向xに3等分に分割し、それぞれの幅方向yにおける中央部を、上部領域、中間領域、下部領域と3つの領域に分けた。そして、それぞれの領域の中央部付近をマッピング領域とし、その各マッピング領域において、WDX(波長分散型X線分析法)によりNiおよびPtのマッピング分析を行った。その結果、各試料番号の試料について、内部電極層にPtが含有されるとき、Pt/(Ni+Pt)比率が、所望の含有量であることが確認された。
 なお、試料番号1ないし試料番号7では、第1の内部電極層におけるPtの含有量は、いずれも検出下限以下であった。また、試料番号8ないし試料番号14では、第2の内部電極層におけるPtの含有量は、いずれも検出下限以下であった。さらに、試料番号20では、第1の内部電極層および第2の内部電極層におけるPtの含有量は、いずれも検出下限以下であった。
 (b)絶縁破壊電圧の測定
 作製した試料を20個サンプリングし、LW面の上面の印を確認して、PtがNiに固溶した内部電極層が絶縁破壊電圧測定器のどちらの極に接続しているかを確認して、積層セラミックコンデンサを測定器に設置した。そして、昇圧速度を100V/秒として絶縁破壊電圧を測定し、絶縁破壊電圧の平均値として求めた。絶縁破壊電圧が240V未満の試料を不良と判定した。
 (c)高温負荷試験
 また、作製した別の試料を20個サンプリングし、LW面の上面の印を確認してPtがNiに固溶した内部電極層が高温負荷試験機のどちらの極に接続しているかを確認して、積層セラミックコンデンサを試験機に設置した。そして、150℃、40Vで高温負荷試験を行い、絶縁抵抗が10kΩ以下になった時間を故障と判定した。この故障時間から平均故障時間(MTTF:Mean Time To Failure)を算出し、比較を行った。MTTFが31時間未満の試料を不良と判定した。
(3)評価結果
 各試料番号に対する積層セラミックコンデンサの各評価結果を表1に示す。なお、表中の*印を付した試料番号は、本発明の範囲外である。特に、試料番号15ないし試料番号19は、第1の内部電極層および第2の内部電極層のいずれもPtが固溶されている試料を参考例として示している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 表1に示すように、本発明の範囲外である、試料番号8ないし試料番号14に係る試料は、第1の内部電極層に含まれるNiにPtが固溶しており、第2の内部電極層に含まれるNiにPtが固溶しておらず、Ptが固溶していない第2の内部電極層が陰極側に接続されるので、試料番号8ないし試料番号14のいずれの試料も、絶縁破壊電圧が240未満と不良であるとともに、平均故障時間(MTTF)は31時間未満であり、不良であることが確認された。
 また、本発明の範囲外である、試料番号20に係る試料は、第1の内部電極層および第2の内部電極層に含まれるNiにPtは固溶していないので、絶縁破壊電圧が240V未満であり、不良であることが確認された。
 一方、試料番号1ないし試料番号7に係る試料は、第2の内部電極層に含まれるNiにPtが固溶しており、第1の内部電極層に含まれるNiにPtが固溶しておらず、Ptが固溶している第2の内部電極層が陰極側に接続されているので、試料番号1ないし試料番号7のいずれの試料も、絶縁破壊電圧が240V以上であり、良好な結果が得られることが確認された。
 さらに、試料番号2ないし試料番号6に係る試料は、第2の内部電極層において、Pt/(Ni+Pt)比率が、2.6mol%以上24.7mol%以下である場合、絶縁破壊電圧がより向上し、平均故障時間(MTTF)も、31時間以上の良好な結果が得られることが確認された。
 電界集中による絶縁破壊電圧を抑制しうるメカニズムは、以下のように考えられる。すなわち、内部電極層16に含まれるNiの一部をPtで置換すると、金属(電極)の仕事関数が高くなる。その金属を陰極側に配置すると、陰極におけるセラミックと内部電極層の界面のショットキー障壁が高くなり、電界集中が緩和されると考えられる。その結果、積層セラミックコンデンサ10の絶縁破壊電圧が向上したものと考えられる。
 なお、Ptの濃度が、2.6mol%より少ない場合、ショットキー障壁を高める効果が小さいと考えられる。一方、Ptの濃度が24.7mol%より大きい場合、焼成温度が高くなり、対極側の内部電極層(Ptの濃度が検出下限以下)が過焼結となり球形化することで誘電体セラミック素子が圧迫されて肉薄化し、その部分に電界が集中したため、絶縁破壊電圧が低下したと推定される。
 また、参考例として示される試料番号15ないし試料番号19に係る試料は、第1の内部電極層および第2の内部電極層に含まれるNiにPtがいずれも固溶しているので、試料番号15ないし試料番号19のいずれの試料も絶縁破壊電圧が、240V以上であることが確認された。
 また、以上のように、本発明の実施の形態は、前記記載で開示されているが、本発明は、これに限定されるものではない。
 すなわち、本発明の技術的思想及び目的の範囲から逸脱することなく、以上説明した実施の形態に対し、機序、形状、材質、数量、位置又は配置等に関して、様々の変更を加えることができるものであり、それらは、本発明に含まれるものである。
 10 積層セラミックコンデンサ
 12 積層体
 12a 第1の主面
 12b 第2の主面
 12c 第1の側面
 12d 第2の側面
 12e 第1の端面
 12f 第2の端面
 14 誘電体層
 14a 外層部
 14b 内層部
 16 内部電極層
 16a 第1の内部電極層
 16b 第2の内部電極層
 18a 第1の対向電極部
 18b 第2の対向電極部
 20a 第1の引出電極部
 20b 第2の引出電極部
 22a 側部(Wギャップ)
 22b 端部(Lギャップ)
 24 外部電極
 24a 第1の外部電極
 24b 第2の外部電極
 26a 第1の下地電極層
 26b 第2の下地電極層
 28a 第1のめっき層
 28b 第2のめっき層
 x 積層方向
 y 幅方向
 z 長さ方向

Claims (2)

  1.  積層された複数の誘電体層を含み、積層方向に相対する第1の主面および第2の主面と、積層方向に直交する幅方向に相対する第1の側面および第2の側面と、積層方向および幅方向に直交する長さ方向に相対する第1の端面および第2の端面と、を含む積層体と、
     前記誘電体層上に配置され、前記第1の端面に露出する複数の第1の内部電極層と、
     前記誘電体層上に配置され、前記第2の端面に露出する複数の第2の内部電極層と、
     前記第1の内部電極層に接続され、前記第1の端面上に配置される第1の外部電極と、
     前記第2の内部電極層に接続され、前記第2の端面上に配置される第2の外部電極と、
    を備える積層セラミックコンデンサにおいて、
     前記第1の内部電極層および前記第2の内部電極層は、交互に配置され、
     前記第1の内部電極層および前記第2の内部電極層は、Niを含み、
     前記第1の内部電極層および前記第2の内部電極層のうちのいずれか一方に含まれるNiにPtが固溶しており、
     前記第1の内部電極層および前記第2の内部電極層のうちの他方に含まれるNiにPtが固溶しておらず、
     NiにPtが固溶する前記第1の内部電極層および前記第2の内部電極層のうちのいずれか一方が、前記積層セラミックコンデンサの実装時に陰極側に接続される、積層セラミックコンデンサ。
  2.  NiにPtが固溶する前記第1の内部電極層および前記第2の内部電極層のうちのいずれか一方のPt/(Ni+Pt)比率が、2.6mol%以上24.7mol%以下であることを特徴とする、請求項1に記載の積層セラミックコンデンサ。
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