WO2022210315A1

WO2022210315A1 - 電子写真感光体、電子写真感光体カートリッジ及び画像形成装置

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Publication number: WO2022210315A1
Application number: PCT/JP2022/014214
Authority: WO
Inventors: 明安藤; ちよ子佐藤
Original assignee: 三菱ケミカル株式会社
Priority date: 2021-03-30
Filing date: 2022-03-25
Publication date: 2022-10-06
Also published as: CN117043684A; US20240027928A1; JPWO2022210315A1

Abstract

像流れの抑制と電気特性の維持を両立でき、かつ、マルテンス硬さ及び弾性変形率が良好である電子写真感光体として、導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体であって、保護層、例えば導電性支持体と反対側の最表層が、特定の構造を有する重合体、例えば下記式（ａ）で表される構造を有する重合体を含有する電子写真感光体を提案する。　Ａ１－Ｌ１－Ｘ－Ｌ２－Ａ２　（ａ）　（式（ａ）中、Ｘは炭素数４以上２０以下の炭化水素構造を表し、前記炭化水素構造はアルキレン構造、アルケニレン構造またはアルキニレン構造である。Ｌ１、Ｌ２はそれぞれ独立して、－Ｏ－、－ＣＯ－，－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）－，－（Ｃ＝Ｏ）－Ｏ－，－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－を表す。Ａ１、Ａ２はそれぞれ独立して下記式（Ａ）を表す。）　（式（Ａ）中、Ｒ１１～Ｒ１３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基または下記式（２）で表される基であり、Ｒ１１～Ｒ１３のうち少なくとも２つは、下記式（２）で表される基である。Ｚ１は任意の原子との結合手を示す。）　（式（２）中、Ｒ２１は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ２２、Ｒ２３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。ｎ２１は１以上１０以下の整数を表す。Ｚ２は前記式（Ａ）におけるＲ１１～Ｒ１３が結合する炭素原子との結合手を示す。Ｚ３は任意の原子との結合手を示す。）

Description

電子写真感光体、電子写真感光体カートリッジ及び画像形成装置

　本発明は、複写機やプリンター等に用いられる電子写真感光体、これを用いたカートリッジ及び画像形成装置に関する。

　プリンター及び複写機などでは、帯電した有機系感光体（ＯＰＣ）ドラムに光を照射すると、その部分が除電されて静電潜像が生じ、静電潜像にトナーが付着することにより画像を得ることができる。このように電子写真技術を利用した機器において、感光体は基幹部材である。

　この種の有機系感光体は、材料選択の余地が大きく、感光体の特性を制御し易いことから、負電荷の発生と移動の機能を別々の化合物に分担させる“機能分離型の感光体”が主流となってきている。例えば、電荷発生物質（ＣＧＭ）と電荷輸送物質（ＣＴＭ）を同一層中に有する単層型の電子写真感光体（以下、単層型感光体という）と、電荷発生物質（ＣＧＭ）を含有する電荷発生層と電荷輸送物質（ＣＴＭ）を含有する電荷輸送層を積層してなる積層型の電子写真感光体（以下、積層型感光体という）とが知られている。また、感光体の帯電方式としては、感光体表面を負電荷に帯電させる負帯電方式と、感光体表面を正電荷に帯電させる正帯電方式を挙げることができる。
　現在実用化されている感光体の層構成と帯電方式の組み合わせとしては、“負帯電積層型感光体”と、“正帯電単層型感光体”とを挙げることができる。

　“負帯電積層型感光体”は、アルミニウム管等の導電性基体上に、樹脂等からなる下引き層（ＵＣＬ）を設け、その上に電荷発生物質（ＣＧＭ）と樹脂などからなる電荷発生層（ＣＧＬ）を設け、さらにその上に、正孔輸送物質（ＨＴＭ）と樹脂などからなる電荷輸送層（ＣＴＬ）を設けてなる構成を有するものが一般的である。

　一方で、“正帯電単層型感光体”は、アルミニウム管等の導電性基体上に、樹脂等からなる下引き層（ＵＣＬ）を設け、その上に電荷発生物質（ＣＧＭ）、正孔輸送物質（ＨＴＭ）及び電子輸送物質（ＥＴＭ）と樹脂などからなる単層の感光層を設けてなる構成を有するものが一般的である（例えば特許文献１参照）。

　いずれの感光体においても、コロナ放電方式や接触方式で感光体表面を帯電させた後、感光体を露光して表面電荷を中和することで、周囲表面との電位差による静電潜像を形成する。その後、トナーを感光体表面に接触させて、静電潜像に対応するトナー像を形成し、これを紙などに転写・加熱溶融定着させることでプリントが完成する。

　上述のように、電子写真感光体は、導電性支持体上に感光層を形成したものが基本構成であるが、耐摩耗性等の改良目的で、感光層上に保護層を設けることも行われている。

　感光体表面の機械的強度ないし耐摩耗性を改良する技術としては、感光体の最表層にバインダー樹脂として連鎖重合性官能基を有する化合物を含有する層を形成し、これに熱や光、放射線などのエネルギーを与えることで重合させて硬化樹脂層を形成した感光体が開示されている（例えば特許文献１、２を参照）。

　さらに特許文献３には、層構成を有する電子写真感光体であって、該層のうち少なくとも一方の最表層が、芳香族基に少なくとも１つのカルボニル基が結合した構造及び下記式（Ａ）で表される構造を有する重合体を含有する電子写真感光体が開示されている。下記式（Ａ）中、Ｒ^１１～Ｒ^１３のうち少なくとも２つは下記式（２）で表される基であり、下記式（２）中、Ｒ^２１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^２２ _、Ｒ^２３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。

　式（Ａ）

　式（２）

米国特許第９４１７５３８号明細書国際公開第２０１０／０３５６８３号国際公開第２０２０／２１８２５９号

　（メタ）アクリルモノマーの硬化物を含有する（メタ）アクリルモノマー硬化型保護層を、感光体の最表層として備えた従来の感光体は、高湿度環境下で像流れ（画像ボケ）が発生する課題を抱えていた。

　このような像流れ抑制のための手段として、低吸湿な（メタ）アクリルモノマー構造、例えば（メタ）アクリロイル基を有する置換基を結合させた構造のモノマーを選択して使用することが考えられる。しかし、そのような構造のモノマーの中には、使用すると電気特性が悪化する場合があるものが存在することが分かってきた。

　本発明の目的は、像流れの抑制と電気特性の維持を両立でき、かつ、マルテンス硬さ及び弾性変形率が良好である電子写真感光体、該電子写真感光体を用いた電子写真感光体カートリッジ及び画像形成装置を提供することにある。

　本発明者らは、前記目的のため、導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体であって、保護層、例えば導電性支持体と反対側の最表層が、特定の構造を有する重合体を含有する電子写真感光体を提案するものである。

　本発明の要旨は、以下の[１]～[２０]に存在する。

　[１]　導電性支持体上に、少なくとも感光層と保護層とを順次有する電子写真感光体であって、
　前記保護層が、下記式（ａ）で表される構造を有する重合体を含有する電子写真感光体。

　Ａ^１－Ｌ^１－Ｘ－Ｌ^２－Ａ^２　　（ａ）

　上記式（ａ）中、Ｘは炭素数４以上２０以下の炭化水素構造を表し、前記炭化水素構造はアルキレン構造、アルケニレン構造またはアルキニレン構造である。Ｌ^１、Ｌ^２はそれぞれ独立して、－Ｏ－、－ＣＯ－，－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）－，－（Ｃ＝Ｏ）－Ｏ－，－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－を表す。Ａ^１、Ａ^２はそれぞれ独立して下記式（Ａ）を表す。

　上記式（Ａ）中、Ｒ^１１～Ｒ^１３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基または下記式（２）で表される基であり、Ｒ^１１～Ｒ^１３のうち少なくとも２つは、下記式（２）で表される基である。Ｚ^１は任意の原子との結合手を示す。

　上記式（２）中、Ｒ^２１は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ^２２、Ｒ^２３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。ｎ^２１は１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（Ａ）におけるＲ^１１～Ｒ^１３が結合する炭素原子との結合手を示す。Ｚ^３は任意の原子との結合手を示す。

　[２]　導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体であって、
　導電性支持体と反対側の最表層が、前記式（ａ）で表される構造を有する重合体を含有する電子写真感光体。

　[３]　前記重合体は、下記式（ａ´）で表される化合物の重合体である、前記[１]又は[２]に記載の電子写真感光体。

　Ａ^１－Ｌ^１－Ｘ－Ｌ^２－Ａ^２　　（ａ´）

　上記式（ａ´）中、Ｘは炭素数４以上２０以下の炭化水素構造を表し、前記炭化水素構造は、アルキレン構造、アルケニレン構造またはアルキニレン構造である。Ｌ^１、Ｌ^２はそれぞれ独立して、－Ｏ－、－ＣＯ－，－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）－，－（Ｃ＝Ｏ）－Ｏ－，－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－を表す。Ａ^１、Ａ^２はそれぞれ独立して下記式（Ａ´）を表す。

　上記式（Ａ´）中、Ｒ^１１～Ｒ^１３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基または下記式（２´）で表される基であり、Ｒ^１１～Ｒ^１３のうち少なくとも２つは下記式（２´）で表される基である。Ｚ^１は任意の原子との結合手を示す。

　上記式（２´）中、Ｒ^２１は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ^２２、Ｒ^２３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。ｎ^２１は１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（Ａ´）におけるＲ^１１～Ｒ^１３が結合する炭素原子との結合手を示す。

　[４]　導電性支持体上に、少なくとも感光層と保護層とを順次有する電子写真感光体であって、
　前記保護層が、下記式（ｂ）で表される部分構造及び下記式（Ａ）で表される部分構造を有する重合体を含有する電子写真感光体。

　－ＣＯ－Ｘ－ＣＯ－　（ｂ）

　上記式（ｂ）中、Ｘは炭素数４以上２０以下の炭化水素構造を表し、前記炭化水素構造は、アルキレン構造、アルケニレン構造またはアルキニレン構造である。

　上記式（Ａ）中、Ｒ^１１～Ｒ^１３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基または下記式（２）で表される基であり、Ｒ^１１～Ｒ^１３の内少なくとも２つは下記式（２）で表される基である。Ｚ^１は任意の原子との結合手を示す。

　[５]　導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体であって、
　電子写真感光体と反対側の最表層が、前記式（ｂ）で表される部分構造及び前記式（Ａ）で表される部分構造を有する重合体を含有する電子写真感光体。

　[６]　前記重合体は、前記式（ｂ）で表される部分構造及び下記式（Ａ´）で表される部分構造を同一分子内に有する化合物の重合体である、前記[４]又は[５]に記載の電子写真感光体。

　[７]　導電性支持体上に、少なくとも感光層と保護層とを順次有する電子写真感光体であって、
　前記保護層が、下記部分構造Ｘ及び下記式（Ｂ）で表される部分構造を有する重合体を含有する電子写真感光体。

　Ｘ：炭素数４以上２０以下の炭化水素構造を表し、前記炭化水素構造は、アルキレン構造、アルケニレン構造またはアルキニレン構造である。

　上記式（Ｂ）中、Ｒ^１１～Ｒ^１３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基、下記式（２）で表される基または下記式（３）で表される基を表し、Ｒ^１１～Ｒ^１３のうち少なくとも２つは下記式（２）で表される基または下記式（３）で表される基である。Ｒ^１４、Ｒ^１５はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。Ｒ^１６は単結合または酸素原子である。Ｒ^１７は単結合である。ｎ^１１は１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^４は任意の原子との結合手を示す。

　上記式（２）中、Ｒ^２１は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ^２２、Ｒ^２３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。ｎ^２１は１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（Ｂ）におけるＲ^１１～Ｒ^１３が結合する炭素原子との結合手を示す。Ｚ^３は任意の原子との結合手を示す。

　上記式（３）中、Ｒ^３１～Ｒ^３３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基または前記式（２）で表される基を表し、Ｒ^３１～Ｒ^３３のうち少なくとも２つは前記式（２）で表される基を表す。Ｒ^３４～Ｒ^３７はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。ｎ^３１、ｎ^３２はそれぞれ独立に、１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（Ｂ）におけるＲ^１１～Ｒ^１３が結合する炭素原子との結合手を示す。

　[８]　　前記重合体は、下記式（１）で表される構造を有する重合体である、前記[１]～[７]のいずれか１に記載の電子写真感光体。

　上記式（１）中、Ｘは炭素数４以上２０以下の炭化水素構造であり、前記炭化水素構造は、アルキレン構造、アルケニレン構造またはアルキニレン構造である。Ｒ^１１～Ｒ^１３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基、下記式（２）で表される基または下記式（３）で表される基である。Ｒ^１１～Ｒ^１３のうち少なくとも２つは下記式（２）で表される基または下記式（３）で表される基である。Ｒ^１４、Ｒ^１５はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。Ｒ^１６は単結合または酸素原子である。Ｒ^１７は単結合である。ｎ^１２は２であり、ｎ^１１は１以上１０以下の整数を表す。

　上記式（２）中、Ｒ^２１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^２２、Ｒ^２３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表し、ｎ^２１は１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（１）におけるＲ^１１～Ｒ^１３が結合する炭素原子との結合手を示す。Ｚ^３は任意の原子との結合手を示す。

　上記式（３）中、Ｒ^３１～Ｒ^３３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基または前記式（２）で表される基を表し、Ｒ^３１～Ｒ^３３のうち少なくとも２つは前記式（２）で表される基を表す。Ｒ^３４～Ｒ^３７はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。ｎ^３１、ｎ^３２はそれぞれ独立に、１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（１）におけるＲ^１１～Ｒ ^１３が結合する炭素原子との結合手を示す。

　[９]　前記Ｒ^１１、Ｒ^１２及びＲ^１３がいずれも、下記式（２）で表される基である、前記[１] [２] [４] [５]又は [７]に記載の電子写真感光体。

　[１０]　前記Ｒ^１１、Ｒ^１２及びＲ^１３がいずれも、下記式（２´）で表される基である、前記[３]又は[６]に記載の電子写真感光体。

　式（２´）中、Ｒ^２１は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ^２２、Ｒ^２３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。ｎ^２１は１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（Ａ´）におけるＲ^１１～Ｒ^１３が結合する炭素原子との結合手を示す。

　[１１]　前記Ｘの炭素数が１０以下である、前記[１]～[１０]のいずれか１に記載の電子写真感光体。
　[１２]　前記Ｘが、炭素と水素からなる鎖状構造である、前記[１]～[１１]のいずれか１に記載の電子写真感光体。

　[１３]　導電性支持体上に、少なくとも感光層と保護層とを順次有する電子写真感光体であって、
　前記保護層が、脂肪族ジカルボン酸又は脂肪族ジカルボン酸クロライドと、多価アルコールと、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸クロライド及びメタクリル酸クロライドからなる群から選ばれる少なくとも1種との反応物を重合させてなる重合体を含有する電子写真感光体。

　[１４]　前記保護層又は前記最表層と接する感光層は、電荷輸送物質を含み、当該感光層における電荷輸送物質の濃度が３０質量％以上７０重量％以下である、前記[１]～[１３]のいずれか１に記載の電子写真感光体。
　[１５]　前記保護層又は前記最表層と接する感光層のガラス転移温度が５０℃以上１３０℃以下である、前記[１]～[１４]のいずれか１に記載の電子写真感光体。

　[１６]　前記保護層又は前記最表層は、紫外光又は／及び可視光の照射により硬化されてなる層である、前記[１]～[１５]のいずれか１に記載の電子写真感光体。

　[１７]　前記保護層又は前記最表層は、金属酸化物粒子を含有する、前記[１]～[１６]のいずれか１に記載の電子写真感光体。
　[１８]　前記保護層又は前記最表層中の前記金属酸化物粒子の含有量は、前記保護層又は前記最表層の前記重合体１００質量部に対して３００質量部以下である、前記 [１７]に記載の電子写真感光体。

　[１９]　前記感光層が積層型感光層である、前記[１]～[１８]のいずれか１に記載の電子写真感光体。

　[２０]　前記[１]～[１９]のいずれか１に記載の電子写真感光体を有する電子写真感光体カートリッジ。
　[２１]　前記[１]～[１９]のいずれか１に記載の電子写真感光体を有する画像形成装置。

　本発明の電子写真感光体は、保護層（最表層）が含有する前記重合体の作用により、像流れの抑制と電気特性の維持を両立でき、さらには、マルテンス硬さ及び弾性変形率を良好とすることができる。

比較例４で得られた積層型感光体の断面の走査型電子顕微鏡画像（ＳＥＭ画像）である。保護層（最表層）と接する感光層を形成するバインダー樹脂のマルテンス硬さ及び弾性変形率を測定する際の、又は、感光体表面のマルテンス硬さ及び弾性変形率を測定する際の、圧子の押込み深さに対する荷重曲線のモデルを示したグラフである。

　以下、本発明を実施するための形態（以下、発明の実施の形態）について詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することが出来る。

　本発明において「（メタ）アクリル」とは、アクリル又はメタクリルを意味する。「（メタ）アクリロイル」とは、アクリロイル又はメタアクリロイルを意味する。

　＜＜本電子写真感光体＞＞
　本発明の実施形態の一例に係る電子写真感光体（「本電子写真感光体」と称する）は、導電性支持体上に、少なくとも感光層と保護層とを順次有する電子写真感光体であって、前記保護層が、特定の構造を有する重合体を含有するものである。

　本電子写真感光体において、導電性支持体とは反対側が、上側又は表面側となり、導電性支持体側が、下側又は裏面側となる。よって、前記保護層（最表層）は、導電性支持体とは反対側に位置する。

　本電子写真感光体は、一般的な電子写真感光体の層構成と同様の層構成をとることができる。一般的な電子写真感光体の層構成としては、導電性支持体上に少なくとも感光層と、保護層（最表層）とを順次備えたものを挙げることができる。
　なお、保護層は、本発明の効果がより得られる観点から、最表層、すなわち導電性支持体と反対側に位置する最表層であるのが好ましい。但し、保護層は必ずしも最表層でなくても、本発明の効果を享受することができる。例えば感光体の最表層に、何らかの偏析層が存在する場合など、保護層が最表層でなくても効果を享受できる。そこで本明細書において、「保護層（最表層）」は、保護層は必ずしも最表層でなくてもよいが、好ましくは最表層としての保護層であるという意味を包含する。

　＜導電性支持体＞
　本電子写真感光体は、後述する感光層の下側に導電性支持体を備えている。
　導電性支持体としては、その上に位置する感光層を支持することができ、導電性を示すものであれば、特に限定されない。

　導電性支持体としては、例えばアルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼、銅、ニッケル等の金属材料や、金属、カーボン、酸化錫などの導電性粉体を共存させて導電性を付与した樹脂材料や、アルミニウム、ニッケル、ＩＴＯ（酸化インジウム酸化錫合金）等の導電性材料をその表面に蒸着または塗布した樹脂、ガラス、紙等を使用することができる。

　導電性支持体の形態としては、例えばドラム状、シート状、ベルト状などを挙げることができる。

　導電性支持体としてアルミニウム合金等の金属材料を用いる場合、金属材料に陽極酸化被膜を施してから用いてもよい。

　金属材料に陽極酸化被膜を施す場合、封孔処理を行うことが好ましい。封孔処理は、公知の方法で行うことができる。

　陽極酸化被膜の平均膜厚は、通常２０μｍ以下、特に７μｍ以下とすることが好ましい。

　前記導電性支持体の表面は、平滑であってもよく、また特別な切削方法を用いたり、研磨処理を施したりすることにより、粗面化されていてもよい。また、支持体を構成する材料に適当な粒径の粒子を混合することによって、粗面化されたものであってもよい。
　なお、前記導電性支持体と感光層との間には、接着性・ブロッキング性等の改善のために、後述する下引き層を設けてもよい。

　＜感光層＞
　本電子写真感光体は、前記導電性支持体上に感光層を備えている。
　当該感光層は、電荷発生物質（ＣＧＭ）、正孔輸送物質（ＨＴＭ）、電子輸送物質（ＥＴＭ）及びバインダー樹脂が同一層内に存在する単層型感光層であってもよいし、また、電荷発生層と電荷輸送層とに分離された積層型感光層であってもよい。

　前記積層型感光層は、導電性支持体側から、電荷発生層、電荷輸送層の順番に積層した形態、または、電荷輸送層、電荷発生層の順番に積層した形態のどちらでもよい。

　本電子写真感光体は、単層型感光層及び積層型感光層のいずれであっても、前記保護層（最表層）と接する感光層は電荷輸送物質を含むことが好ましい。当該感光層における電荷輸送物質の濃度は、電気特性の観点から、３０質量％以上であるのが好ましく、中でも３５質量％以上、その中でも４０質量％以上であるのがさらに好ましい。他方、保護層（最表層）との混合を抑制する観点から、７０質量％以下であるのが好ましく、中でも６５質量％以下、その中でも６２質量％以下であるのがさらに好ましい。

　保護層（最表層）との混合を抑制する観点から、前記保護層（最表層）と接する感光層のガラス転移温度は５０℃以上であるのが好ましく、中でも６０℃以上、その中でも７０℃以上であるのがさらに好ましい。他方、残留応力を低減する観点から、当該ガラス転移温度は１３０℃以下であるのが好ましく、中でも１２０℃以下、その中でも１１０℃以下であるのがさらに好ましい。

　保護層（最表層）の耐摩耗性を向上させる観点から、前記保護層（最表層）と接する感光層のマルテンス硬さは、１６０Ｎ／ｍｍ^２以上であるのが好ましく、中でも１７０Ｎ／ｍｍ^２以上、その中でも１８０Ｎ／ｍｍ^２以上であるのがさらに好ましい。他方、クラック抑制の観点から、当該マルテンス硬さは２６０Ｎ／ｍｍ^２以下であるのが好ましく、中でも２５０Ｎ／ｍｍ^２以下、その中でも２４０Ｎ／ｍｍ^２以下であるのがさらに好ましい。

　保護層（最表層）の耐摩耗性を向上させる観点から、前記保護層（最表層）と接する感光層の弾性変形率は、３５％以上であるのが好ましく、中でも３７％以上、その中でも３９％以上であるのがさらに好ましい。他方、クラック抑制の観点から、当該弾性変形率は５０％以下であるのが好ましく、中でも４７％以下、その中でも４４％以下であるのがさらに好ましい。
　なお、前記保護層（最表層）と接する感光層のマルテンス硬さ及び弾性変形率は、保護層（最表層）を有しない、すなわち、感光層が最表面層である感光体について、後述する方法で求めた値を意味する。
　前記保護層（最表層）と接する感光層のマルテンス硬さ及び弾性変形率の測定方法は、後述する、感光層を形成するバインダー樹脂のマルテンス硬さ及び弾性変形率の測定方法と同様である。

　（積層型感光層）
　先ず、積層型感光層の構成について説明する。

　（電荷発生層（ＣＧＬ））
　前記電荷発生層（ＣＧＬ）は、通常、電荷発生物質（ＣＧＭ）とバインダー樹脂を含有する。

　バインダー樹脂に対する電荷発生物質の含有割合は、バインダー樹脂１００質量部に対して電荷発生物質が１０質量部以上であるのが好ましく、中でも３０質量部以上であるのがさらに好ましい。他方、１０００質量部以下であるのが好ましく、中でも５００質量部以下であるのがさらに好ましい。また、膜強度の観点からは、３００質量部以下であるのがより好ましく、２００質量部以下であるのがさらに好ましい。

　電荷発生層の厚さは、０．１μｍ以上であるのが好ましく、中でも０．１５μｍ以上であるのがさらに好ましい。他方、１０μｍ以下であるのが好ましく、中でも０．６μｍ以下であるのがさらに好ましい。

　（電荷輸送層（ＣＴＬ））
　前記電荷輸送層（ＣＴＬ）は、通常、正孔輸送物質（ＨＴＭ）及びバインダー樹脂を含有する。また、さらに電子輸送物質（ＥＴＭ）を含有してもよい。

　電荷輸送層（ＣＴＬ）において、バインダー樹脂に対する前記正孔輸送物質（ＨＴＭ）の含有割合は、バインダー樹脂１００質量部に対して正孔輸送物質（ＨＴＭ）が２０質量部以上であるのが好ましい。中でも、残留電位低減の観点からは、バインダー樹脂１００質量部に対して正孔輸送物質（ＨＴＭ）が３０質量部以上であることがさらに好ましく、更に繰り返し使用した際の安定性や電荷移動度の観点からは、４０質量部以上であることがより好ましい。一方、感光層の熱安定性の観点からは、バインダー樹脂１００質量部に対して正孔輸送物質（ＨＴＭ）が２００質量部以下であることが好ましく、更に正孔輸送物質（ＨＴＭ）とバインダー樹脂との相溶性の観点からは、１５０質量部以下であることがより好ましく、ガラス転移温度の観点からは、１２０質量部以下であることが特に好ましい。

　電荷輸送層（ＣＴＬ）にさらに電子輸送物質（ＥＴＭ）を含有する場合、バインダー樹脂に対する前記電子輸送物質（ＥＴＭ）の含有割合は、電荷輸送層中の電子輸送性の観点から、バインダー樹脂１００質量部に対して電子輸送物質（ＥＴＭ）が０．５質量部以上であるのが好ましく、中でも１質量部以上、その中でも２質量部以上であることがさらに好ましい。他方、電荷輸送層中の正孔輸送性の観点から、３０質量部以下であるのが好ましく、中でも２０質量部以下、その中でも１０質量部以下であることがさらに好ましい。
　また、電荷輸送層（ＣＴＬ）において、前記正孔輸送物質（ＨＴＭ）に対する前記電子輸送物質（ＥＴＭ）の含有比率（質量比）は、電子輸送性の観点から、前記正孔輸送物質（ＨＴＭ）に対して前記電子輸送物質（ＥＴＭ）が０．００５以上であるのが好ましく、中でも０．０１以上、その中でも０．０２以上であることがさらに好ましい。他方、正孔輸送性の観点から、０．２以下であるのが好ましく、中でも０．１以下、その中でも０．０５以下であることがさらに好ましい。

　電荷輸送層の厚さは、特に制限するものではない。電気特性、画像安定性の観点、更には高解像度の観点から、５μｍ以上５０μｍ以下であるのが好ましく、中でも１０μｍ以上或いは３５μｍ以下、その中でも１５μｍ以上或いは２５μｍ以下であるのがさらに好ましい。

　（単層型感光層）
　前記単層型感光層は、通常、電荷発生物質（ＣＧＭ）、正孔輸送物質（ＨＴＭ）、電子輸送物質（ＥＴＭ）及びバインダー樹脂を含有する。

　単層型感光層において、バインダー樹脂に対する電荷発生物質の含有割合は、バインダー樹脂１００質量部に対して電荷発生物質が１質量部以上であるのが好ましく、中でも１．５質量部以上であるのがより好ましく、その中でも２質量部以上であるのがさらに好ましい。他方、１０質量部以下であるのが好ましく、中でも５質量部以下であるのがさらに好ましく、その中でも３質量部以下であるのがさらに好ましい。

　単層型感光層において、バインダー樹脂に対する前記正孔輸送物質（ＨＴＭ）の含有割合は、正孔輸送性の観点から、バインダー樹脂１００質量部に対して正孔輸送物質（ＨＴＭ）が４０質量部以上であるのが好ましく、中でも７０質量部以上、その中でも９０質量部以上であるのがさらに好ましい。他方、保護層（最表層）との混合を抑制する観点から、２００質量部以下であるのが好ましく、中でも１５０質量部以下、その中でも１２０質量部以下であるのがさらに好ましい。

　単層型感光層において、バインダー樹脂に対する前記電子輸送物質（ＥＴＭ）の含有割合は、電子輸送性の観点から、バインダー樹脂１００質量部に対して電子輸送物質（ＥＴＭ）が２０質量部以上であるのが好ましく、中でも３５質量部以上、その中でも５０質量部以上であるのがさらに好ましい。他方、保護層（最表層）との混合を抑制する観点から、１００質量部以下であるのが好ましく、中でも９０質量部以下、その中でも８０質量部以下であるのがさらに好ましい。

　単層型感光層において、前記正孔輸送物質（ＨＴＭ）に対する前記電子輸送物質（ＥＴＭ）の含有比率（質量比）は、電子輸送性の観点から、前記正孔輸送物質（ＨＴＭ）に対して前記電子輸送物質（ＥＴＭ）が０．２以上であるのが好ましく、中でも０．４以上、その中でも０．５以上であるのがさらに好ましい。他方、正孔輸送性の観点から、１．２以下であるのが好ましく、中でも１以下、その中でも０．８以下であるのがさらに好ましい。

　単層型感光層の厚さは、通常１５μｍ以上であり、２０μｍ以上であるのが好ましく、中でも２５μｍ以上であるのがさらに好ましい。他方、通常５０μｍ以下であり、４０μｍ以下であるのが好ましく、中でも３５μｍ以下であるのがさらに好ましい。

　[電荷発生物質（ＣＧＭ）]
　感光層（単層型及び積層型のいずれも包含する）に用いる電荷発生物質としては、例えば、セレン及びその合金、硫化カドミウム、その他無機系光導電材料；フタロシアニン顔料、アゾ顔料、ペリレン顔料、多環キノン顔料などの有機顔料；などの各種光導電材料を使用することができる。中でも、特に有機顔料が好ましく、更に、フタロシアニン顔料、アゾ顔料がより好ましい。

　特に、電荷発生物質としてフタロシアニン顔料を用いる場合、具体的には、無金属フタロシアニン、銅、ガリウム、錫、チタン等の金属、またはその酸化物、ハロゲン化物等の配位したフタロシアニン類などを使用することができる。中でも、特に感度の高いＸ型、τ型無金属フタロシアニン、Ａ型，Ｂ型，Ｄ型等のチタニルフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン等が好適である。

　また、アゾ顔料を使用する場合には、各種公知のビスアゾ顔料、トリスアゾ顔料が好適に用いられる。

　電荷発生物質は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。さらに、電荷発生物質を２種以上併用する場合、併用する電荷発生物質の混合は、それぞれを後から混合して用いてもよいし、合成、顔料化、結晶化等の電荷発生物質の製造・処理工程において混合して用いてもよい。

　感光層中の電荷発生物質の粒子径は充分小さいことが望ましい。具体的には、通常、１μｍ以下が好ましく、より好ましくは０．５μｍ以下である。

　さらに、感光層中の電荷発生物質の含有量は、感度の観点から、通常０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましい。また、感度及び帯電性の観点から、通常５０質量％以下が好ましく、より好ましくは２０質量％以下である。

　[電荷輸送物質]
　感光層（単層型及び積層型のいずれも包含する）に用いる電荷輸送物質は、主に正孔輸送能を有する正孔輸送物質（ＨＴＭ）と、主に電子輸送能を有する電子輸送物質（ＥＴＭ）に分類される。正孔輸送物質と電子輸送物質の何れか一方のみを用いてもよく、両方を併用してもよい。

　[正孔輸送物質（ＨＴＭ）]
　前記正孔輸送物質としては、公知の材料であれば特に限定されるものではない。例えばカルバゾール誘導体、インドール誘導体、イミダゾール誘導体、オキサゾール誘導体、ピラゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、ベンゾフラン誘導体等の複素環化合物、アニリン誘導体、ヒドラゾン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、ブタジエン誘導体及びエナミン誘導体並びにこれらの化合物の複数種が結合したもの、及びこれらの化合物からなる基を主鎖若しくは側鎖に有する重合体等の電子供与性物質等を挙げることができる。これらの中でも、カルバゾール誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、ブタジエン誘導体及びエナミン誘導体並びにこれらの化合物の複数種が結合したものが好ましい。さらにこれらの中でも、電気特性の観点から、アリールアミン誘導体又はエナミン誘導体がより好ましい。

　［電子輸送物質（ＥＴＭ）］
　前記電子輸送物質としては、公知の材料であれば特に限定されるものではない。例えば２，４，７－トリニトロフルオレノン等の芳香族ニトロ化合物、テトラシアノキノジメタン等のシアノ化合物、ジフェノキノン等のキノン化合物等の電子吸引性物質や、公知の環状ケトン化合物やペリレン顔料（ペリレン誘導体）等を挙げることができる。これらの中でも、電気特性の観点から、キノン化合物、ペリレン顔料（ペリレン誘導体）が好ましく、キノン化合物がより好ましい。

　キノン化合物としては、ベンゾキノン、ナフトキノン、アントラキノン、ジフェノキノン、ジナフトキノン等を挙げることができる。この中でも、電子輸送性の観点から、ジフェノキノン、ジナフトキノンが好ましい。

　[バインダー樹脂]
　感光層（単層型及び積層型のいずれも包含する）に用いるバインダー樹脂は、特に限定されない。例えば、アクリル酸エステル樹脂；メタクリル酸エステル樹脂；ポリビニルブチラール樹脂；ポリアリレート樹脂；ポリアミド樹脂；ポリカーボネート樹脂；ポリエステル樹脂；ポリエステルカーボネート樹脂；フェノキシ樹脂；エポキシ樹脂；シリコーン樹脂；及びこれらの部分的架橋硬化物等を挙げることができる。また前記樹脂は珪素試薬等で修飾されていてもよい。これらは１種を単独で用いてもよく、また２種以上を任意の比率及び組み合わせで用いることもできる。前記樹脂の中でも、正孔輸送物質や電子輸送物質との相溶性の観点から、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂が好ましく、電気特性の観点から、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂がより好ましい。

　感光層に用いるバインダー樹脂は、以上の中でも、ビスフェノールまたはビフェノール成分を含有するポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂が感度及び残留電位の点から好ましく、保護層（最表層）と感光層の混合を抑制する観点からは、ビスフェノール成分を含有するポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂が好ましく、移動度の面から、ビスフェノール成分を含有するポリカーボネート樹脂がより好ましい。

　保護層（最表層）と、当該保護層（最表層）と接する感光層との界面において、両者の成分が混合乃至相溶するのを抑制する観点から、前記炭化水素構造Ｘ及び式（Ａ´）で表される構造を同一分子内に有する化合物のＳＰ値と、当該保護層（最表層）と接する感光層を形成するバインダー樹脂のＳＰ値の差は２以上であるのが好ましく、中でも３以上、その中でも４以上であるのがさらに好ましい。

　当該保護層（最表層）と接する感光層を形成するバインダー樹脂の粘度平均分子量は、保護層（最表層）と感光層の混合を抑制する観点から、３００００以上が好ましく、４００００以上がより好ましい。他方、塗布性の観点から、前記粘度平均分子量は１０００００以下が好ましく、７００００以下がより好ましい。

　当該保護層（最表層）と接する感光層を形成するバインダー樹脂のマルテンス硬さは１２０Ｎ／ｍｍ^２以上が好ましく、１３０Ｎ／ｍｍ^２以上がより好ましく、１４０Ｎ／ｍｍ^２以上がさらに好ましい。他方、クラック抑制の観点から、前記マルテンス硬さは２２０Ｎ／ｍｍ^２以下が好ましく、２１０Ｎ／ｍｍ^２以下がより好ましく、２００Ｎ／ｍｍ^２以下がさらに好ましい。
　また、当該保護層（最表層）と接する感光層を形成するバインダー樹脂の弾性変形率は、３６％以上が好ましく、３８％以上がより好ましく、４０％以上がさらに好ましい。他方、クラック抑制の観点から、前記弾性変形率は、５５％以下が好ましく、５０％以下がより好ましい。
　なお、前記マルテンス硬さ及び弾性変形率は、次に述べる方法で求めた値を意味する。

　前記マルテンス硬さ及び弾性変形率は、Ｆｉｓｃｈｅｒ社製微小硬度計ＦＩＳＣＨＥＲＳＣＯＰＥＨＭ２０００を用いて、温度２５℃、相対湿度５０％の環境下で測定することができる。測定には対面角１３６°のビッカース四角錐ダイヤモンド圧子を用いる。測定条件は以下の通りに設定して行い、圧子にかかる荷重とその荷重下における押し込み深さとを連続的に読み取り、それぞれＹ軸、Ｘ軸にプロットした図２に示すようなプロファイルを取得する。
　＜測定条件＞
　最大押込み加重：０．２ｍＮ
　負荷所要時間：１０秒
　除荷所要時間：１０秒

　マルテンス硬さは、その時の押込み深さから以下の式により定義される値である。
　マルテンス硬さ（Ｎ／ｍｍ^２）＝試験荷重（Ｎ）／試験荷重下でのビッカース圧子の表面積（ｍｍ^２）

　弾性変形率は、以下の式により定義される値であり、押し込みに要した全仕事量に対して、除荷の際に膜が弾性によって行う仕事の割合である。
　弾性変形率（％）＝（Ｗｅ／Ｗｔ）×１００
　上記式中、全仕事量Ｗｔ（ｎＪ）は図２中のＡ－Ｂ－Ｄ－Ａで囲まれる面積を示し、弾性変形仕事量Ｗｅ（ｎＪ）はＣ－Ｂ－Ｄ－Ｃで囲まれる面積を示す。弾性変形率が大きいほど、負荷に対する変形が残留しにくく、弾性変形率が１００の場合には変形が残らないことを意味する。

　[その他の物質]
　感光層（単層型及び積層型のいずれも包含する）は、前記材料以外にも、成膜性、可撓性、塗布性、耐汚染性、耐ガス性、耐光性等を向上させるために周知の酸化防止剤、可塑剤、紫外線吸収剤、電子吸引性化合物、レベリング剤、可視光遮光剤などの添加物を含有してもよい。
　感光層には、これらを適宜、１種単独で、または２種以上を任意の比率及び組み合わせで用いることができる。特に、酸化防止剤及び電子吸引性化合物が含有されていることが好ましい。

　［酸化防止剤］
　酸化防止剤は、本電子写真感光体の酸化を防止するために用いられる安定剤の一種である。

　酸化防止剤は、ラジカル補足剤としての機能があるものであればよく、具体的には、フェノール誘導体、アミン化合物、ビタミン等が好ましい。また、嵩高い置換基をヒドロキシ基近辺に有する、ヒンダードフェノール、またはトリアルキルアミン誘導体等がより好ましい。
　酸化防止剤は１種または２種以上を任意の比率及び組み合わせで用いることができる。

　前記酸化防止剤の使用量は、特に制限されないが、感光層中のバインダー樹脂１００質量部当り０．１質量部以上、好ましくは１質量部以上である。また良好な電気特性および耐刷性を得るため、好ましくは２５質量部以下、より好ましくは２０質量部以下である。

　［電子吸引性化合物］
　また、本電子写真感光体中には電子吸引性化合物を有してもよい。
　電子吸引性化合物の例として具体的には、スルホン酸エステル化合物、カルボン酸エステル化合物、有機シアノ化合物、ニトロ化合物、芳香族ハロゲン誘導体等が挙げられ、好ましくは、スルホン酸エステル化合物、有機シアノ化合物であり、特に好ましくはスルホン酸エステル化合物である。前記電子吸引性化合物は１種のみを単独で用いてもよく、また２種以上を任意の比率及び組み合わせで用いてもよい。

　本電子写真感光体に用いられる前記電子吸引性化合物の量は、特に制限されない。前記電子吸引性化合物が感光層に使用される場合、感光層に含まれるバインダー樹脂１００質量部に対して０．０１質量部以上が好ましく、より好ましくは０．０５質量部以上である。また良好な電気特性を得るため、通常５０質量部以下が好ましく、より好ましくは４０質量部以下、さらに好ましくは３０質量部以下である。

　（感光層の形成方法）
　前記感光層の形成方法は特に限定されない。例えば、電荷発生物質や電荷輸送物質、バインダー樹脂及びその他の物質を、溶媒（または分散媒）に溶解（または分散）して得た塗布液を、導電性支持体上（後述する下引き層等の中間層を設ける場合は、これらの中間層上）に塗布することにより形成することができる。

　以下、感光層の形成に用いられる溶媒または分散媒、及び塗布方法を説明する。

　［溶媒または分散媒］
　感光層の形成に用いられる溶媒または分散媒としては、特に限定されない。例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、２－メトキシエタノール等のアルコール類；テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール等の芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２－ジクロロエタン、１，１，２－トリクロロエタン、１，１，１－トリクロロエタン、テトラクロロエタン、１，２－ジクロロプロパン、トリクロロエチレン等の塩素化炭化水素類；などを挙げることができる。これらは１種を単独で用いてもよく、また２種以上を任意の比率及び組み合わせで併用して用いてもよい。

　［塗布方法］
　感光層を形成するための塗布液の塗布方法としては、例えば、スプレー塗布法、スパイラル塗布法、リング塗布法、浸漬塗布法等を挙げることができる。

　塗布液または分散液の粘度を好ましくは５０ｍＰａ・ｓ以上、より好ましくは１００ｍＰａ・ｓ以上とする。また、好ましくは７００ｍＰａ・ｓ以下、より好ましくは５００ｍＰａ・ｓ以下とする。これにより膜厚の均一性に優れた感光層とすることができる。

　前記塗布法により塗布膜を形成した後、塗膜を乾燥させるが、必要且つ充分な乾燥が行われる様に乾燥温度時間を調整することが好ましい。
　乾燥温度は、残留溶媒抑制の観点から、通常８０℃以上、好ましくは９０℃以上、より好ましくは１００℃以上である。また、気泡の発生防止、電気特性の観点から、通常２５０℃以下、好ましくは１７０℃以下、さらに好ましくは１４０℃以下であり、段階的に温度を変更してもよい。
　乾燥方法としては、熱風乾燥機、蒸気乾燥機、赤外線乾燥機および遠赤外線乾燥機等を用いることができる。

　また、保護層（最表層）を設けるにあたって、感光層の塗布後は室温での風乾のみを実施し、保護層（最表層）塗布後に前記方法での熱乾燥を実施してもよい。

　＜保護層（最表層）＞
　次に、本電子写真感光体の保護層（最表層）について説明する。

　保護層（最表層）は、所定の重合体を含有する層であり、中でも好ましくは、紫外光又は／及び可視光の照射により硬化されてなる層である。

　（保護層（最表層）が含有する重合体）
　（１）第一の実施態様
　本発明の第一の実施態様においては、前記保護層は、下記式（ａ）で表される構造を有する重合体を含有する。

　Ａ^１－Ｌ^１－Ｘ－Ｌ^２－Ａ^２　　（ａ）

　式（ａ）中、Ｘは炭素数４以上２０以下の炭化水素構造を表し、前記炭化水素構造はアルキレン構造、アルケニレン構造またはアルキニレン構造である。Ｌ^１、Ｌ^２はそれぞれ独立して、－Ｏ－、－ＣＯ－，－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）－，－（Ｃ＝Ｏ）－Ｏ－，－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－を表す。Ａ^１、Ａ^２はそれぞれ独立して下記式（Ａ）を表す。

　式（Ａ）中、Ｒ^１１～Ｒ^１３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基または下記式（２）で表される基であり、Ｒ^１１～Ｒ^１３のうち少なくとも２つは、下記式（２）で表される基である。Ｚ^１は任意の原子との結合手を示す。

　式（２）中、Ｒ^２１は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ^２２、Ｒ^２３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。ｎ^２１は１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（Ａ）におけるＲ^１１～Ｒ^１３が結合する炭素原子との結合手を示す。Ｚ^３は任意の原子との結合手を示す。

　（２）第二の実施態様
　本発明の第二の実施態様においては、前記保護層は、下記式（ｂ）で表される部分構造及び下記式（Ａ）で表される部分構造を有する重合体を含有する。

　－ＣＯ－Ｘ－ＣＯ－　（ｂ）

　式（ｂ）中、Ｘは炭素数４以上２０以下の炭化水素構造を表し、前記炭化水素構造は、アルキレン構造、アルケニレン構造またはアルキニレン構造である。

　式（Ａ）中、Ｒ^１１～Ｒ^１３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基または下記式（２）で表される基であり、Ｒ^１１～Ｒ^１３のうち少なくとも２つは下記式（２）で表される基である。Ｚ^１は任意の原子との結合手を示す。

　（３）第三の実施態様
　本発明の第三の実施態様においては、前記保護層は、下記部分構造Ｘ及び下記式（Ｂ）で表される部分構造を有する重合体を含有する。

　式（Ｂ）中、Ｒ^１１～Ｒ^１３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基、下記式（２）で表される基または下記式（３）で表される基を表し、Ｒ^１１～Ｒ^１３のうち少なくとも２つは下記式（２）で表される基または下記式（３）で表される基である。Ｒ^１４、Ｒ^１５はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。Ｒ^１６は単結合または酸素原子である。Ｒ^１７は単結合である。ｎ^１１は１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^４は任意の原子との結合手を示す。

　式（２）中、Ｒ^２１は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ^２２、Ｒ^２３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。ｎ^２１は１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（Ｂ）におけるＲ^１１～Ｒ^１３が結合する炭素原子との結合手を示す。Ｚ^３は任意の原子との結合手を示す。

　式（３）中、Ｒ^３１～Ｒ^３３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基または前記式（２）で表される基を表し、Ｒ^３１～Ｒ^３３のうち少なくとも２つは前記式（２）で表される基を表す。Ｒ^３４～Ｒ^３７はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。ｎ^３１、ｎ^３２はそれぞれ独立に、１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（Ｂ）におけるＲ^１１～Ｒ^１３が結合する炭素原子との結合手を示す。

　本電子写真感光体は、前述の第一、第二又は第三の実施態様をとることで、像流れの抑制と電気特性の維持を両立することができ、かつ、マルテンス硬さ及び弾性変形率が良好となる。
　前述の通り、（メタ）アクリルモノマーの硬化物を含有する（メタ）アクリルモノマー硬化型保護層を、感光体の最表層として備えた従来の感光体は、高湿度環境下で像流れ（画像ボケ）が発生する課題を抱えていた。
　従来の（メタ）アクリルモノマー硬化型保護層が高湿度環境下で像流れを発生する理由は、次のように考えられる。当該保護層中のアクリル樹脂部分が吸湿することで、水分子を構成する水素イオンまたは水酸化物イオンによりイオン伝導性が高まって感光体の表面抵抗が低下する。これにより、感光体表面の未露光部に帯電している電荷が動き、露光部と未露光部のコントラストが低下することで、電荷が形成する静電潜像が流れてしまう（画像がボケる）と推察される。
　一方、本電子写真感光体の保護層（最表層）が含有する前記重合体は、前記構造Ｘ（以下、炭化水素構造Ｘとも称する）、すなわち、極性の低いアルキレン構造、アルケニレン構造またはアルキニレン構造を有する骨格を有することから、高湿度環境下においても水分の吸着量が少ないため、吸湿による感光体の表面抵抗の低下を抑制することができる。そのため、感光体表面の未露光部に帯電している電荷が動くのを抑制することができ、露光部と未露光部のコントラストが低下せず、静電潜像が流れるのを防ぐことができると考えられる。

　また、前述の通り、保護層（最表層）に低吸湿な（メタ）アクリルモノマー構造、例えば（メタ）アクリロイル基を有する置換基を結合させた構造のモノマーの中には、電気特性が悪化する場合があるものが存在することが分かってきた。この理由は、前記の低吸湿な構造と感光層の含有成分（例えば、正孔輸送物質、電子輸送物質、バインダー樹脂など）との親和性が高いと、両層の間に、両層の成分が混合した層（「混合層」と称する）が形成され、感光層から保護層（最表層）への電荷輸送が阻害されるためだと推察される。
　本電子写真感光体の保護層（最表層）が含有する前記重合体は、（メタ）アクリロイル基を２ないし３個有する構造が重合してなる部分構造（前記式(Ａ)又は式(Ｂ)）を有しており、この式（Ａ）又は式(Ｂ)の構造が、前記の低極性な骨格の周囲に位置して立体的に保護することができる。これにより、当該重合体が感光層の含有成分と混合するのを抑制することができ、混合層の形成を防ぎ、感光層から保護層（最表層）への電荷輸送を十分に行うことができると考えられる。

　この際、前記重合体は、前記保護層（最表層）の主成分重合体であるのが好ましい。すなわち、前記重合体は、前記保護層（最表層）を構成する重合体の中で最も質量割合の高い重合体であるのが好ましく、前記保護層（最表層）を構成する重合体の合計質量の５０％以上、中でも７０％以上、中でも８０％以上、中でも９０％以上、中でも９５％以上（１００％を含む）を占めるのが好ましい。

　保護層（最表層）が含有する前記重合体は、極性を低くして吸湿性を抑える観点から、１分子内に炭化水素構造Ｘを６ｗｔ％以上の割合で含有するのが好ましく、中でも１０ｗｔ％以上、その中でも１２ｗｔ％以上の割合で含有するのがさらに好ましい。他方、感光層との混合を抑制する観点から、１分子内に炭化水素構造Ｘを３０ｗｔ％以下の割合で含有するのが好ましく、中でも２２ｗｔ％以下、その中でも１８ｗｔ％以下の割合で含有するのがさらに好ましい。

　（４）第四の実施態様
　上記第一～第三の実施態様に示した本電子写真感光体の保護層（最表層）の好ましい例として、脂肪族ジカルボン酸又は脂肪族ジカルボン酸クロライドと、多価アルコールと、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸クロライド及びメタクリル酸クロライドからなる群から選ばれる少なくとも1種との反応物を重合させてなる重合体を有する層を挙げることができる。より具体的には、脂肪族ジカルボン酸と、多価アルコールと、アクリル酸又はメタクリル酸とを脱水縮合により反応させて得られた反応物を、ラジカル重合させてなる重合体を有する層を挙げることができる。また、ラジカル重合させる反応物は、予め多価アルコールとアクリル酸又はメタクリル酸又はアクリル酸クロライド又はメタクリル酸クロライドとを縮合させたアルコール体と、脂肪族ジカルボン酸又は脂肪族ジカルボン酸クロライドとを縮合して得られた反応物でもよい。

　この場合、前記脂肪族ジカルボン酸としては、炭素数が４以上のものが好ましく、５以上のものがより好ましく、７以上のものがさらに好ましい。他方、炭素数が１６以下のものが好ましく、１２以下のものがより好ましく、１０以下のものがさらに好ましい。ここで言う炭素数には、カルボン酸を構成する炭素の数を含まない。
　脂肪族ジカルボン酸として、具体的には、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸、トリデカン二酸、テトラデカン二酸、ペンタデカン二酸、ヘキサデカン二酸、ヘプタデカン二酸、オクタデカン二酸、ノナデカン二酸、イコサン二酸、ヘンイコサン二酸、ドコサン二酸、３－メチル－１，６－ブタンジカルボン酸、４－メチル－１，７－ペンタンジカルボン酸、ジヒドロムコン酸、２，４－ヘキサジエン－１，６－ジカルボン酸、アセチレンジカルボン酸、１，４－シクロヘキサンジカルボン酸、１，３－シクロヘキサンジカルボン酸、１，２－シクロヘキサンジカルボン酸、デカヒドロ－１，４－ナフタレンジカルボン酸、シス－４－シクロヘキセン－１，２－ジカルボン酸等を挙げることができる。その中でも、電気特性と像流れの観点から、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸、テトラデカン二酸、１，４－シクロヘキサンジカルボン酸が好ましく、電気特性の観点から、アジピン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸がより好ましい。
　脂肪族ジカルボン酸クロライドについても、前記脂肪族ジカルボン酸と同様の構造でジカルボン酸クロライドとなっているものが好ましい。

　また、前記多価アルコールとしては、炭素数２～１２のものが好ましく、炭素数３～１０のものがより好ましく、炭素数４～６のものがさらに好ましく、また、水酸基の数が３個以上のものが好ましく、４個以上のものがより好ましい。
　多価アルコールとして、具体的には、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン等を挙げることができる。その中でも、保護層（最表層）と感光層との混合を抑制する観点から、ペンタエリスリトール又はジペンタエリスリトールが好ましく、像流れ抑制の観点から、ペンタエリスリトールがより好ましい。

　（５）第五の実施態様
　上記第一～第三の実施態様に示した本電子写真感光体の保護層（最表層）の主成分重合体である前記重合体のより好ましい一例として、下記式（１）で表される構造を有する重合体を挙げることができる。

　式（１）中、Ｘは、炭素数４以上２０以下の炭化水素構造であり、前記炭化水素構造は、アルキレン構造、アルケニレン構造またはアルキニレン構造である。Ｒ^１１～Ｒ^１３は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基、下記式（２）で表される基または下記式（３）で表される基である。Ｒ^１１～Ｒ^１３のうち少なくとも２つは、下記式（２）で表される基または下記式（３）で表される基である。Ｒ^１４、Ｒ^１５は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。Ｒ^１６は、単結合または酸素原子である。Ｒ^１７は、単結合である。ｎ^１２は２であり、ｎ^１１は１以上１０以下の整数を表す。

　式（２）中、Ｒ^２１は、水素原子またはメチル基を表す。Ｒ^２２、Ｒ^２３は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。ｎ^２１は１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（１）におけるＲ^１１～Ｒ^１３が結合する炭素原子との結合手を示し、Ｚ^３は任意の原子との結合手を示す。

　式（３）中、Ｒ^３１～Ｒ^３３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基または前記式（２）で表される基を表す。Ｒ^３１～Ｒ^３３のうち少なくとも２つは前記式（２）で表される基を表す。Ｒ^３４～Ｒ^３７はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。ｎ^３１、ｎ^３２はそれぞれ独立に、１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（１）におけるＲ^１１～Ｒ^１３が結合する炭素原子との結合手を示す。

　以下、上記第一～第五の実施態様における部分構造及び構造式について、詳細に説明する。

　［構造Ｘ］
　前記構造Ｘは、炭素数４以上２０以下の炭化水素構造を表し、前記炭化水素構造は、アルキレン構造、アルケニレン構造またはアルキニレン構造であればよい。この中でも、疎水性の観点から、アルキレン構造が好ましい。
　当該炭化水素構造Ｘは、鎖状構造のものであっても環状構造のものであってもよい。炭化水素構造Ｘが鎖状構造である場合、直鎖状でも側鎖を含む分岐鎖状のものであってもよい。また、疎水性の観点から、炭素と水素からなることが好ましい。炭化水素構造Ｘが環状構造である場合、シクロ環を有するものであることが好ましい。これらの中でも、鎖状構造のものが好ましく、炭素と水素からなる直鎖状構造のものがより好ましい。
　炭化水素構造Ｘの炭素数は、４以上２０以下であればよく、下限としては、５以上が好ましく、６以上がより好ましく、７以上がさらに好ましい。一方、上限としては、１６以下が好ましく、１２以下がより好ましく、１０以下がさらに好ましい。

　［式（ａ）］
　前記式（ａ）中の構造Ｘの好ましい態様は、前述の通りである。
　Ｌ^１、Ｌ^２はそれぞれ独立して、－Ｏ－、－ＣＯ－，－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）－，－（Ｃ＝Ｏ）－Ｏ－，－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－を表す。その中でも、合成の容易さの観点から、－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）－，－（Ｃ＝Ｏ）－Ｏ－が好ましい。
　Ａ^１、Ａ^２は、それぞれ独立して、前記式（Ａ）を表す。式（Ａ）の好ましい態様は、後述の通りである。なお、Ａ^１、Ａ^２は、それぞれ独立して、前記式（Ａ）を表すことから、当然、Ａ^１、Ａ^２におけるＲ^１１～Ｒ^１３、Ｒ^２１～Ｒ^２３同士はそれぞれ互いに同一でも異なっていてもよい。以下、複数の基を“それぞれ独立して”と定義する場合は、同様に該複数の基が有する置換基は、それぞれ互いに同一でも異なっていてもよい。

　［式（ｂ）］
　前記式（ｂ）中の構造Ｘの好ましい態様は、前述の通りである。

　［式（Ａ）、式（Ｂ）及び式（１）］
　前記式（Ａ）、式（Ｂ）及び式（１）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３の炭化水素基として、脂肪族炭化水素基及び芳香族炭化水素基を挙げることができる。
　当該脂肪族炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基及びアルキニル基を挙げることができる。脂肪族炭化水素基の炭素数に特に制限はないが、アルキル基は通常１以上、アルケニル基及びアルキニル基は通常２以上である。
　一方、アルキル基、アルケニル基及びアルキニル基ともに、好ましくは２０以下、より好ましくは１０以下、特に好ましくは６以下である。前記炭素数の範囲とすることで、高い溶媒親和性が得られる。

　前記脂肪族炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｉ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、ネオペンチル基、１－メチルブチル基、２－メチルブチル基、１，１－ジメチルプロピル基、１，２－ジメチルプロピル基、ビニル基、１－プロペニル基、２－プロペニル基、イソプロペニル基、１－ブテニル基、２－ブテニル基、３－ブテニル基、１－ペンテニル基、２－ペンテニル基、３－ペンテニル基、４－ペンテニル基、エチニル基、１－プロピニル基、２－プロピニル基、１－ブチニル基、２－ブチニル基、３－ブチニル基、１－ペンチニル基、２－ペンチニル基、３－ペンチニル基、４－ペンチニル基を挙げることができる。この中でも、メチル基、エチル基が好ましい。

　前記芳香族炭化水素基としては、アリール基及びアラルキル基を挙げることができる。芳香族炭化水素基の炭素数に特に制限はないが、通常６以上であり、一方、通常２０以下、好ましくは１２以下である。前記範囲とすることで、溶解性及び電気特性に優れる。

　前記芳香族炭化水素基の具体例としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、ｎ－プロピルフェニル基、ｉ－プロピルフェニル基、ｎ－ブチルフェニル基、ｓｅｃ－ブチルフェニル基、ｉ－ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、ナフチル基、アントレセン基、ビフェニル基及びピレン基を挙げることができる。

　Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基及びフェノキシ基を挙げることができる。

　前記式（Ａ）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３のうち、少なくとも２つは、前記式（２）で表される基であり、反応後の膜強度の観点から、Ｒ^１１、Ｒ^１２およびＲ^１３のいずれもが、式（２）で表される基であるのが好ましい。
　また、前記式（Ｂ）及び（１）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２およびＲ^１３のうち、少なくとも２つは、式（２）で表される基または式（３）で表される基であり、反応後の膜強度の観点から、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３のいずれもが、式（２）で表される基、または、式（３）で表される基であるのが好ましい。
　式（２）及び（３）の詳細については、後述する。

　前記式（Ｂ）及び（１）中、Ｒ^１４、Ｒ^１５は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基であるが、具体的には、前記Ｒ^１１～Ｒ^１３について説明したものと同様の基を挙げることができる。Ｒ^１４、Ｒ^１５は、溶媒溶解性の観点から水素原子が好ましい。
　Ｒ^１６、Ｒ^１７は単結合、酸素原子であり、電気特性の観点から、Ｒ^１６が酸素原子、Ｒ^１７が単結合であることが好ましい。

　前記式（Ｂ）及び（１）中、ｎ^１１は、１以上１０以下の整数であり、好ましくは６以下、より好ましくは４以下であり、溶媒溶解性の観点から１が最も好ましい。
　前記式（１）中、ｎ^１２は、溶解性および反応後の膜強度の観点から、２である。

　また、前記式（１）中、Ｘは、炭素数４以上２０以下の炭化水素構造であり、前記炭化水素構造及びその炭素数については、前述の内容を適用することができる。

　［式（２）及び式（３）］
　前記式（２）中、Ｒ^２２、Ｒ^２３はそれぞれ独立して、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表し、具体的には、前記Ｒ^１１～Ｒ^１３において説明したものと同様の基を挙げることができる。

　前記式（２）及び（３）中、ｎ^２１、ｎ^３１及びｎ^３２は、それぞれ１以上１０以下の整数であり、通常１以上、通常１０以下、好ましくは６以下、より好ましくは４以下であり、溶媒溶解性の観点から１が最も好ましい。

　前記式（３）中、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基または前記式（２）で表される基を表し、Ｒ^３１～Ｒ^３３のうち少なくとも２つは前記式（２）で表される基を表す。この際、前記炭化水素基及びアルコキシ基は、前記Ｒ^１１～Ｒ^１３において説明したものと同様の基を挙げることができる。
　Ｒ^３４、Ｒ^３５、Ｒ^３６、Ｒ^３７は、それぞれ独立して、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。具体的には、前記Ｒ^１１～Ｒ^１３において説明したものと同様の基を挙げることができる。

　（保護層（最表層）が含有する重合体の原料）
　本発明の第一、第二又は第三の実施態様における前記重合体の原料に特に制限はない。

　本発明の第一の実施態様における前記重合体は、後述する式（ａ´）で表される化合物の重合体であるのが好ましい。

　本発明の第二の実施態様における前記重合体は、前記式（ｂ）で表される部分構造及び後述する式（Ａ´）で表される部分構造を同一分子内に有する化合物の重合体であるのが好ましい。
　当該重合体において、前記式（ｂ）で表される部分構造及び前記式（Ａ´）で表される部分構造は、分子内にランダムに存在していればよく、中でも、前記式（ｂ）で表される部分構造は、重合体の骨格、すなわち置換基ではなく主鎖の構造であるのが好ましい。

　本発明の第三の実施態様における前記重合体は、前記炭化水素構造Ｘ及び後述する式（Ｂ´）で表される部分構造を同一分子内に有する化合物の重合体であるのが好ましい。
　当該重合体において、炭化水素構造Ｘ及び前記式（Ｂ´）で表される部分構造は、分子内にランダムに存在していればよく、中でも、前記炭化水素構造Ｘは、重合体の骨格、すなわち置換基ではなく主鎖の構造であるのが好ましい。

　[（ａ´）]
　Ａ^１－Ｌ^１－Ｘ－Ｌ^２－Ａ^２　　（ａ´）

　式（ａ´）中、Ｘは炭素数４以上２０以下の炭化水素構造を表し、前記炭化水素構造は、アルキレン構造、アルケニレン構造またはアルキニレン構造である。Ｌ^１、Ｌ^２はそれぞれ独立して、－Ｏ－、－ＣＯ－，－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）－，－（Ｃ＝Ｏ）－Ｏ－，－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－を表す。Ａ^１、Ａ^２はそれぞれ独立して下記式（Ａ´）を表す。

　式（Ａ´）中、Ｒ^１１～Ｒ^１３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基または下記式（２´）で表される基であり、Ｒ^１１～Ｒ^１３のうち少なくとも２つは下記式（２´）で表される基である。Ｚ^１は任意の原子との結合手を示す。

　尚、上記式（Ａ´）及び（２´）におけるＲ^１１～Ｒ^１３及びＲ^２１～Ｒ^２３、及びｎ^２１の具体例及び好ましいものは、前記式（Ａ）及び（２）におけるＲ^１１～Ｒ^１３及びＲ^２１～Ｒ^２３、及びｎ^２１と同じである。

　[（Ｂ´）]

　式（Ｂ´）中、Ｒ^１１～Ｒ^１３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基、上記式（２´）で表される基または下記式（３´）で表される基を表し、Ｒ^１１～Ｒ^１３のうち少なくとも２つは上記式（２´）で表される基または下記式（３´）で表される基である。Ｒ^１４、Ｒ^１５はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。Ｒ^１６は単結合または酸素原子である。Ｒ^１７は単結合である。ｎ^１１は１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^４は任意の原子との結合手を示す。

　式（３´）中、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基、または前記式（２´）で表される基を表し、Ｒ^３１～Ｒ^３３の内少なくとも２つは前記式（２´）で表される基を表す。Ｒ^３４～Ｒ^３７は、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表し、ｎ^３１、ｎ^３２はそれぞれ独立して、１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（１´）におけるＲ^１１～Ｒ^１３が結合する炭素原子との結合手を示す。

　尚、上記式（Ｂ´）（２´）及び（３´）におけるＲ^１１～Ｒ^１７、Ｒ^２１～Ｒ^２３、Ｒ^3１～Ｒ³⁷、ｎ^１１、ｎ^２１、ｎ^３１及びｎ^３２の具体例及び好ましいものは、前記式（Ｂ）、（２）、及び（３）におけるＲ^１１～Ｒ^１７、Ｒ^２１～Ｒ^２３、Ｒ^3１～Ｒ³⁷、ｎ^１１、ｎ^２１、ｎ^３１及びｎ^３２と同じである。

　本発明の第四の実施態様における前記重合体の原料は、脂肪族ジカルボン酸又は脂肪族ジカルボン酸クロライドと、多価アルコールと、アクリル酸又はメタクリル酸又はアクリル酸クロライド又はメタクリル酸クロライドとの反応物である。例えば、脂肪族ジカルボン酸と、多価アルコールと、アクリル酸又はメタクリル酸とを、脱水縮合により反応させて得られる化合物や、予め多価アルコールとアクリル酸又はメタクリル酸又はアクリル酸クロライド又はメタクリル酸クロライドを縮合して得たアルコール体と、脂肪族カルボン酸又は脂肪族カルボン酸クロライドを縮合反応させて得られる化合物を挙げることができる。

　本発明の第五の実施態様における前記重合体、すなわち、前記式（１）で表される構造を有する重合体の原料に特に制限はない。下記式（１´）で表される構造を有する化合物を重合して得ることが好ましい。

　式（１´）中、Ｘはアルキレン構造、アルケニレン構造またはアルキニレン構造を表す。Ｒ^１１～Ｒ^１３は、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基、前記式（２´）で表される基または前記式（３´）で表される基である。Ｒ^１１～Ｒ^１３のうち少なくとも２つは、前記式（２´）で表される基または前記式（３´）で表される基である。Ｒ^１４、Ｒ^１５はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表し、Ｒ^１６は単結合または酸素原子である。Ｒ^１７は、単結合である。ｎ^１２は２であり、ｎ^１１は１以上１０以下の整数を表す。

　尚、上記式（１´）、（２´）及び（３´）におけるＲ^１１～Ｒ^１７、Ｒ^２１～Ｒ^２３及びＲ^３１～Ｒ^３７、ｎ^１１、ｎ^２１、ｎ^３１及びｎ^３２の具体例及び好ましいものは、前記式（Ｂ）、（２）及び（３）におけるＲ^１１～Ｒ^１７、Ｒ^２１～Ｒ^２３及びＲ^３１～Ｒ^３７、ｎ^１１、ｎ^２１、ｎ^３１及びｎ^３２と同じである。

　式（２´）は、連鎖重合性官能基であるアクリロイル基またはメタクリロイル基を有する。したがって、保護層（最表層）が含有する重合体の原料である前述の各化合物は、アクリロイル基またはメタクリロイル基を複数個有している。このことから、重合反応による分子間架橋が高密度で起こり、機械的強度に優れた硬化膜が形成されると考えられる。

　保護層（最表層）が含有する重合体の原料である前述の各化合物の吸水率は、保護層（最表層）と感光層との混合を抑制する観点から、０．１％以上が好ましく、０．２％以上がより好ましく、０．３％以上がさらに好ましい。他方、像流れを抑制する観点から、１．５％以下が好ましく、１．３％以下がより好ましく、１．０％以下がさらに好ましい。
　なお、前記吸水率は、後述する実施例に記載の方法で測定することができる。

　以下に、保護層（最表層）が含有する重合体の原料である前述の各化合物を例示する。

　これらの中でも、溶解性および電気特性の観点から、以下の化合物（１－１）～（１－６）が好ましく、電気特性の観点から、化合物（１－１）～（１－５）がより好ましく、化合物（１－２）が特に好ましい。

　（保護層（最表層）が含有する重合体の重合方法）
　保護層（最表層）が含有する重合体は、上述した原料に、熱、光、放射線などのエネルギーを与えることで反応が開始するラジカル重合などの方法で重合すればよい。但し、前記重合体を得ることができれば、特に制限はない。

　（保護層（最表層）が含有する重合体が有してもよい部分構造）
　保護層（最表層）が含有する前述の各重合体はそれぞれ、保護層（最表層）の機械的強度と電荷輸送性を向上させる観点から、「電荷輸送能を有する部分構造」をさらに有することが好ましい。

　保護層（最表層）が含有する前述の各重合体がそれぞれ「電荷輸送能を有する部分構造」をさらに有する場合の原料は、特に制限はない。中でも、保護層（最表層）が含有する重合体の原料である前述の各化合物と、連鎖重合性官能基を有する電荷輸送物質とを重合して得ることが好ましい。

　前記連鎖重合性官能基を有する電荷輸送物質の連鎖重合性官能基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基及びエポキシ基を挙げることができる。この中でも硬化性の観点から、アクリロイル基またはメタクリロイル基が好ましい。
　前記連鎖重合性官能基を有する電荷輸送物質の電荷輸送物質部分の構造、すなわち重合体の電荷輸送能を有する部分構造としては、カルバゾール誘導体、インドール誘導体、イミダゾール誘導体、オキサゾール誘導体、ピラゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、ベンゾフラン誘導体等の複素環化合物、アニリン誘導体、ヒドラゾン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、ブタジエン誘導体及びエナミン誘導体並びにこれらの化合物の複数種が結合したもの、及びこれらの化合物からなる基を主鎖若しくは側鎖に有する重合体等の電子供与性物質由来の構造を挙げることができる。これらの中でも、電気特性の観点から、カルバゾール誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、ブタジエン誘導体及びエナミン誘導体並びにこれらの化合物の複数種が結合したものに由来する構造が好ましく、アリールアミン誘導体に由来する構造がより好ましい。
　前記アリールアミン誘導体に由来する構造としては、トリアリールアミン構造が好ましい。

　電荷輸送能を有する部分構造がトリアリールアミン構造である場合、トリアリールアミン構造に対する前記炭化水素構造Ｘの含有比率（質量比）は、０．２以上４以下が好ましく、０．４以上がより好ましく、また、２以下がより好ましい。

　保護層（最表層）が含有する前述の各重合体は、下記式（４）で表される構造をさらに有することが好ましい。

　式（４）中、Ａｒ^４１～Ａｒ^４３は、芳香族基である。Ｒ^４１～Ｒ^４３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、ベンジル基または下記式（５）で表される基である。ｎ^４１～ｎ^４３はそれぞれ独立して１以上の整数である。ただし、ｎ^４１が１の場合、Ｒ^４１は式（５）で表される基であり、ｎ^４１が２以上の整数の場合、２以上存在するＲ^４１はそれぞれ同一であっても異なってもよいが、少なくとも１つは式（５）で表される基である。ｎ^４２が２以上の整数の場合、２以上存在するＲ^４２はそれぞれ同一であっても異なってもよい。ｎ^４３が２以上の整数の場合、２以上存在するＲ^４３はそれぞれ同一であっても異なってもよい。

　式（５）中、Ｒ^５１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^５２、Ｒ^５３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表し、Ｒ^５４は単結合または酸素原子を表し、ｎ^５１は０以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（４）におけるＡｒ^４１～Ａｒ^４３との結合手を示し、Ｚ^３は任意の原子との結合手を示す。

　式（４）中、Ａｒ ^４１～Ａｒ ^４３は芳香族基である。

　Ｒ^４１～Ｒ^４３はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、ベンジル基または前記式（５）である。このうち、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基の炭素数は、通常１以上、一方通常１０以下、好ましくは８以下、より好ましくは６以下、更に好ましくは４以下である。
　アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソブチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、シクロヘキソキシ基等を挙げることができる。アリール基としては、フェニル基またはナフチル基等を挙げることができる。ハロゲン化アルキル基としては、クロロアルキル基、フルオロアルキル基等を挙げることができる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等を挙げることができる。より好ましくはメチル基、エチル基、フェニル基である。

　ｎ^４１～ｎ^４３はそれぞれ独立して１以上の整数であり、通常１以上、通常５以下、好ましくは３以下であり、１が最も好ましい。
　ただし、ｎ^４１が１の場合、Ｒ^４１は式（５）で表される基であり、ｎ^４１が２以上の整数の場合、２以上存在するＲ^４１はそれぞれ同一であっても異なってもよいが少なくとも１つは式（５）で表される基である。
　ｎ^４２が２以上の整数の場合、２以上存在するＲ^４２はそれぞれ同一であっても異なってもよく、ｎ^４３が２以上の整数の場合、２以上存在する ^４３はそれぞれ同一であっても異なってもよい。
　硬化膜の強度の観点から、ｎ^４１～ｎ^４３が１であり、Ｒ^４１が式（５）で表される基であり、かつＲ^４２とＲ^４３のどちらか一方が式（５）で表される基である場合、または、ｎ^４１～ｎ^４３が１であり、Ｒ^４１～Ｒ^４３が式（５）で表される基である場合が好ましい。
　溶解性の観点から、ｎ^４１～ｎ^４３が１であり、Ｒ^４１が式（５）で表される基、かつＲ^４２とＲ^４３のどちらか一方が式（５）で表される基である場合がより好ましい。

　Ｒ^５２、Ｒ^５３は、前記Ｒ^２２、Ｒ^２３とそれぞれ同等のものを挙げることができる。
　ｎ^５１は０以上１０以下の整数であり、通常０以上、通常１０以下、好ましくは６以下、より好ましくは４以下であり、更に好ましくは３以下である。

　したがって、前記連鎖重合性官能基を有する電荷輸送物質としては、下記式（４´）で表される構造を有する化合物が好ましい。

　式（４´）中、Ａｒ^４１～Ａｒ^４３は、芳香族基である。
　Ｒ^４１～Ｒ^４３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、ベンジル基または下記式（５´）で表される基である。
　ｎ^４１～ｎ^４３はそれぞれ独立して１以上の整数である。ただし、ｎ^４１が１の場合、Ｒ^４１は式（５´）で表される基であり、ｎ^４１が２以上の整数の場合、２以上存在するＲ^４１はそれぞれ同一であっても異なってもよいが、少なくとも１つは式（５´）で表される基である。ｎ^４２が２以上の整数の場合、２以上存在するＲ^４２はそれぞれ同一であっても異なってもよく、ｎ^４３が２以上の整数の場合、２以上存在するＲ^４３はそれぞれ同一であっても異なってもよい。

　式（５´）中、Ｒ^５１は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ^５２、Ｒ^５３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。Ｒ^５４は単結合または酸素原子を表す。ｎ^５１は０以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は式（４´）におけるＡｒ^４１～Ａｒ^４３との結合手を示す。

　以下に、式（４´）で表される構造を有する化合物を例示する。

　前記の化合物の中でも、電気特性の点から、式（４－１）、式（４－２）、式（４－３）、式（４－４）、式（４－６）、式（４－７）で表される化合物が好ましく、式（４－１）、式（４－２）、式（４－３）で表される化合物がより好ましい。

　保護層（最表層）が含有する前述の各重合体が、式（４）で表される構造をさらに有する場合、それぞれの重合体において、式（４）で表される構造に対する、式（Ａ）、式（Ｂ）又は式（１）で表される構造の含有比率（質量比）は、通常０．２以上、好ましくは０．４以上、通常４以下、好ましくは２以下である。

　保護層（最表層）が含有する前述の各重合体は、保護層（最表層）の機械的強度の調整の観点から、他の部分構造をさらに有してもよい。
　かかる重合体の原料に特に制限はないが、例えば、保護層（最表層）が含有する重合体の原料である前述の各化合物と、連鎖重合性官能基を有する化合物を重合して得ることが好ましい。

　連鎖重合性官能基を有する化合物の連鎖重合性官能基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、エポキシ基を挙げることができる。連鎖重合性官能基を有する化合物としては、公知の材料であれば特に限定はされないが、硬化性の観点から、アクリロイル基またはメタクリロイル基を有するモノマー、オリゴマー、ポリマーが好ましい。

　以下に好ましい連鎖重合性官能基を有する化合物を例示する。
　トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ＨＰＡ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＨＰＡ変性トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセロールトリアクリレート、ＥＣＨ変性グリセロールトリアクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリアクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ＥＯ変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ＰＯ変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、２，２，５，５，－テトラヒドロキシメチルシクロペンタノンテトラアクリレート、２－ヒドロキシ－３－アクリロイロキシプロピルメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、ＰＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、９，９－ビス［４－（２－アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、デカンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジメタクリレート、ＰＯ変性ビスフェノールＡジメタクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート、デカンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート等を挙げることができる。
　ここで、ＥＯとはエチレンオキシドを意味し、ＰＯとはプロピレンオキシドを意味し、ＨＰＡとは２－ヒドロキシプロピルアクリレートを意味し、ＥＣＨとはエピクロロヒドリンを意味する。

　アクリロイル基またはメタクリロイル基を有するオリゴマー、ポリマーとしては、公知のウレタンアクリレート、エステルアクリレート、アクリルアクリレート、エポキシアクリレート等を使用できる。
　ウレタンアクリレートとしては、「ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）８３０１」、「ＥＢＥＣＲＹＬ１２９０」、「ＥＢＥＣＲＹＬ１８３０」、「ＫＲＭ８２００」（以上、ダイセル・オルネクス株式会社製）、「ＵＶ１７００Ｂ」、「ＵＶ７６４０Ｂ」、「ＵＶ７６０５Ｂ」、「ＵＶ６３００Ｂ」、「ＵＶ７５５０Ｂ」（以上、三菱ケミカル株式会社製）等を挙げることができる。
　エステルアクリレートとしては、「Ｍ－７１００」、「Ｍ－７３００Ｋ」、「Ｍ－８０３０」、「Ｍ－８０６０」、「Ｍ－８１００」、「Ｍ－８５３０」、「Ｍ－８５６０」、「Ｍ－９０５０」（以上、東亞合成株式会社製）等を挙げることができる。
　アクリルアクリレートとしては、「８ＢＲ－６００」、「８ＢＲ－９３０ＭＢ」、「８ＫＸ―０７８」、「８ＫＸ－０８９」、「８ＫＸ－１６８」（以上、大成ファインケミカル株式会社製）等を挙げることができる。
　これらは、単独又は２種類以上を併用しても差し支えない。

　[その他の材料]
　本電子写真感光体の保護層（最表層）は、前述の各重合体の他に、電荷輸送能を付与する目的で、電荷輸送物質や金属酸化物粒子を含有させてもよい。
　また、重合反応を促進するため、重合開始剤を含有させてもよい。
　また、電子写真感光体表面の摩擦抵抗や摩耗を軽減する目的で、保護層（最表層）にフッ素樹脂、シリコーン樹脂等を含んでもよく、これらの樹脂からなる粒子や酸化アルミニウム等の無機化合物の粒子を含有させてもよい。

　次に、保護層（最表層）に含有されていてもよい「前記重合体以外のその他の材料」として、電荷輸送物質、金属酸化物粒子、重合開始剤について詳述する。なお、これらの材料は、保護層（最表層）を形成するための原料として用いられるものを含む。

　[電荷輸送物質]
　保護層（最表層）に含有させる電荷輸送物質は、前記感光層に用いられる電荷輸送物質と同様のものを用いることができる。

　本電子写真感光体の少なくとも一方の保護層（最表層）中での電荷輸送物質の使用量は特に限定されない。電気特性の観点から、バインダー樹脂１００質量部に対して、好ましくは１０質量部以上、より好ましくは３０質量部以上、特に好ましくは５０質量部以上である。また、表面抵抗を良好に保持する観点から、好ましくは３００質量部以下、より好ましくは２００質量部以下、特に好ましくは１５０質量部以下である。ここで言う電荷輸送物質には、前記した「連鎖重合性官能基を有する電荷輸送物質」および後述する金属酸化物粒子は含まないものとする。

　[金属酸化物粒子]
　保護層（最表層）には、電荷輸送能を付与する観点及び機械的強度を向上させる観点から、金属酸化物粒子を含有させてもよい。

　金属酸化物粒子としては、通常、電子写真感光体に使用可能な如何なる金属酸化物粒子も使用することができる。
　金属酸化物粒子として、より具体的には、酸化チタン、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化鉄等の１種の金属元素を含む金属酸化物粒子、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム等の複数の金属元素を含む金属酸化物粒子を挙げることができる。これらの中でもバンドギャップが２～４ｅＶの金属酸化物粒子が好ましい。
　金属酸化物粒子は、一種類の粒子のみを用いてもよいし、複数の種類の粒子を混合して用いてもよい。これらの金属酸化物粒子の中でも、酸化チタン、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化珪素、および酸化亜鉛が好ましく、より好ましくは酸化チタンおよび酸化スズである。特には酸化チタンが好ましい。

　酸化チタン粒子の結晶型としては、ルチル、アナターゼ、ブルッカイト、アモルファスのいずれも用いることができる。また、これらの結晶状態の異なるものから、複数の結晶状態のものが含まれていてもよい。

　金属酸化物粒子は、その表面に種々の表面処理を行ってもよい。例えば、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化珪素等の無機物、またはステアリン酸、ポリオール、有機珪素化合物等の有機物による処理を施していてもよい。特に、酸化チタン粒子を用いる場合には、有機珪素化合物により表面処理されていることが好ましい。
　有機珪素化合物としては、ジメチルポリシロキサン、メチル水素ポリシロキサン等のシリコーンオイル、メチルジメトキシシラン、ジフェニルジジメトキシシラン等のオルガノシラン、ヘキサメチルジシラザン等のシラザン、３－メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３－アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ－アミノプロピルトリエトキシシラン等のシランカップリング剤等を挙げることができる。特に、保護層（最表層）の機械的強度を向上させる観点から、連鎖重合性官能基を有する、３－メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３－アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシランが好ましい。
　なお、これらの表面処理された粒子の最表面はこのような処理剤で処理されているが、該処理のその前に酸化アルミニウム、酸化珪素または酸化ジルコニウム等の処理剤などで処理されていても構わない。

　使用する金属酸化物粒子は、通常、平均一次粒子径が５００ｎｍ以下のものが好ましく用いられ、より好ましくは１００ｎｍ以下、さらに好ましくは５０ｎｍ以下のものが用いられ、また、より好ましくは１ｎｍ以上、さらに好ましくは５ｎｍ以上のものが用いられる。
　この平均一次粒子径は、透過型電子顕微鏡（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ　ｅｌｅｃｔｒｏｎ　ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ　以下、ＴＥＭとも称する）により直接観察される粒子の径の算術平均値によって求めることが可能である。

　本発明に係る金属酸化物粒子のうち、酸化チタン粒子の具体的な商品名としては、表面処理を施していない超微粒子酸化チタン「ＴＴＯ－５５（Ｎ）」、「ＴＴＯ－５１（Ｎ）」、Ａｌ _２Ｏ _３被覆を施した超微粒子酸化チタン「ＴＴＯ－５５（Ａ）」、「ＴＴＯ－５５（Ｂ）」、ステアリン酸で表面処理を施した超微粒子酸化チタン「ＴＴＯ－５５（Ｃ）」、Ａｌ _２Ｏ _３とオルガノシロキサンで表面処理を施した超微粒子酸化チタン「ＴＴＯ－５５（Ｓ）」、高純度酸化チタン「Ｃ－ＥＬ」、硫酸法酸化チタン「Ｒ－５５０」、「Ｒ－５８０」、「Ｒ－６３０」、「Ｒ－６７０」、「Ｒ－６８０」、「Ｒ－７８０」、「Ａ－１００」、「Ａ－２２０」、「Ｗ－１０」、塩素法酸化チタン「ＣＲ－５０」、「ＣＲ－５８」、「ＣＲ－６０」、「ＣＲ－６０－２」、「ＣＲ－６７」、導電性酸化チタン「ＥＴ－３００Ｗ」（以上、石原産業株式会社製）や、「Ｒ－６０」、「Ａ－１１０」、「Ａ－１５０」などの酸化チタンをはじめ、Ａｌ _２Ｏ _３被覆を施した「ＳＲ－１」、「Ｒ－ＧＬ」、「Ｒ－５Ｎ」、「Ｒ－５Ｎ－２」、「Ｒ－５２Ｎ」、「ＲＫ－１」、「Ａ－ＳＰ」、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３被覆を施した「Ｒ－ＧＸ」、「Ｒ－７Ｅ」、ＺｎＯ、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３被覆を施した「Ｒ－６５０」、ＺｒＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３被覆を施した「Ｒ－６１Ｎ」（以上、堺化学工業株式会社製）、また、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３で表面処理された「ＴＲ－７００」、ＺｎＯ、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３で表面処理された「ＴＲ－８４０」、「ＴＡ－５００」の他、「ＴＡ－１００」、「ＴＡ－２００」、「ＴＡ－３００」など表面未処理の酸化チタン、Ａｌ_２Ｏ_３で表面処理を施した「ＴＡ－４００」（以上、富士チタン工業株式会社製）、表面処理を施していない「ＭＴ－１５０Ｗ」、「ＭＴ－５００Ｂ」、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３で表面処理された「ＭＴ－１００ＳＡ」、「ＭＴ－５００ＳＡ」、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３とオルガノシロキサンで表面処理された「ＭＴ－１００ＳＡＳ」、「ＭＴ－５００ＳＡＳ」（テイカ株式会社製）等を挙げることができる。
　また、酸化アルミニウム粒子の具体的な商品名としては、「Ａｌｕｍｉｎｉｕｍ　Ｏｘｉｄｅ　Ｃ」（日本アエロジル社製）等を挙げることができる。

　また、酸化珪素粒子の具体的な商品名としては、「２００ＣＦ」、「Ｒ９７２」（日本アエロジル社製）、「ＫＥＰ－３０」（日本触媒株式会社製）等を挙げることができる。

　また、酸化スズ粒子の具体的な商品名としては、「ＳＮ－１００Ｐ」、「ＳＮ－１００Ｄ」（石原産業株式会社製）、「ＳｎＯ_２」（ＣＩＫナノテック株式会社製）、「Ｓ－２０００」、リンドープ酸化スズ「ＳＰ－２」、アンチモンドープ酸化スズ「Ｔ－１」、インジウムドープ酸化スズ「Ｅ－ＩＴＯ」（三菱マテリアル株式会社製）等を挙げることができる。

　酸化亜鉛粒子の具体的な商品名としては「ＭＺ－３０５Ｓ」（テイカ株式会社製）を挙げることができるが、本発明において使用可能な金属酸化物粒子は、これらに限定されるものではない。

　本電子写真感光体の少なくとも一方の保護層（最表層）中での金属酸化物粒子の含有量は特に限定されない。電気特性の観点から、バインダー樹脂１００質量部に対して、好ましくは１０質量部以上、より好ましくは２０質量部以上、特に好ましくは３０質量部以上である。また、表面抵抗を良好に保持する観点から、好ましくは３００質量部以下、より好ましくは２００質量部以下、特に好ましくは１００質量部以下である。

　また、前記保護層（最表層）中の金属酸化物粒子の含有量は、表面電荷を維持する観点から、前記保護層（最表層）が含有する前記重合体１００質量部に対して、３００質量部以下であるのが好ましく、中でも２００質量部以下であるのがより好ましく、中でも１６０質量部以下、その中でも１２０質量部以下であるのがさらに好ましい。他方、電気特性の観点から、２０質量部以上であるのが好ましく、中でも６０質量部以上、その中でも８０質量部以上であるのがさらに好ましい。

　[重合開始剤]
　重合開始剤には、熱重合開始剤、光重合開始剤等が含まれる。
　熱重合開始剤としては、２，５－ジメチルヘキサン－２，５－ジヒドロパーオキサイド等の過酸化物系化合物、２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル）等のアゾ系化合物を挙げることができる。

　光重合開始剤は、ラジカル発生機構の違いにより、直接開裂型と水素引き抜き型に分類できる。直接開裂型の光重合開始剤は、光エネルギーを吸収すると、分子内の共有結合の一部が開裂することでラジカルを発生する。一方、水素引き抜き型の光重合開始剤は、光エネルギーを吸収することで励起状態となった分子が、水素供与体から水素を引き抜くことでラジカルを発生する。

　直接開裂型の光重合開始剤としては、アセトフェノン、２－ベンゾイル－２－プロパノール、１－ベンゾイルシクロヘキサノール、２，２－ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、２－メチル－４’－（メチルチオ）－２－モルフォリノプロピオフェノンなどのアセトフェノン系またはケタール系化合物、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、Ｏ－トシルベンゾインなどのベンゾインエーテル系化合物、ジフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フォスフィンオキサイド、フェニルビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フォスフィンオキサイド、リチウムフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フォスフォネートなどのアシルフォスフィンオキサイド系化合物を挙げることができる。

　水素引き抜き型の光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、４－ベンゾイル安息香酸、２－ベンゾイル安息香酸、２－ベンゾイル安息香酸メチル、ベンゾイルぎ酸メチル、ベンジル、ｐ－アニシル、２－ベンゾイルナフタレン、４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’－ジクロロベンゾフェノン、１，４－ジベンゾイルベンゼンなどのベンゾフェノン系化合物、２－エチルアントラキノン、２－イソプロピルチオキサントン、２－クロロチオキサントン、２，４－ジメチルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントンなどのアントラキノン系またはチオキサントン系化合物等を挙げることができる。その他の光重合開始剤としては、カンファーキノン、１－フェニル－１，２－プロパンジオン－２－（ｏ－エトキシカルボニル）オキシム、アクリジン系化合物、トリアジン系化合物、イミダゾール系化合物などを挙げることができる。

　光重合開始剤は、効率的に光エネルギーを吸収してラジカルを発生させるために、光照射に用いられる光源の波長領域に、吸収波長を有することが好ましい。その中でも、比較的長波長側に吸収波長を有する、アシルフォスフィンオキサイド系化合物を含有することが好ましい。
　また、保護層（最表層）表面の硬化性を補う観点から、アシルフォスフィンオキサイド系化合物と水素引き抜き型開始剤を併用することがさらに好ましい。
　アシルフォスフィンオキサイド系化合物に対する水素引き抜き型開始剤の含有割合は、特に限定されるものではない。表面硬化性を補う観点から、アシルフォスフィンオキサイド系化合物１質量部に対し、０．１質量部以上が好ましく、内部硬化性を維持する観点から、５質量部以下が好ましい。

　また、光重合促進効果を有するものを単独または前記光重合開始剤と併用して用いることもできる。例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸（２－ジメチルアミノ）エチル、４，４’－ジメチルアミノベンゾフェノンなどを挙げることができる。

　これらの重合開始剤は１種又は２種以上を混合して用いてもよい。重合開始剤の含有量は、保護層（最表層）を形成する原料の組成として、ラジカル重合性を有する総含有物１００質量部に対し、０．５～４０質量部であり、好ましくは１～２０質量部である。なお、重合開始剤は、保護層（最表層）を形成する過程で消費される。

　（保護層（最表層）の形成方法）
　次に、保護層（最表層）の形成方法について説明する。
　前記保護層（最表層）の形成方法は、特に限定されない。例えば、バインダー樹脂、電荷輸送物質、金属酸化物粒子、及びその他の物質を溶媒に溶解した塗布液または分散媒に分散した塗布液を塗布することにより形成することができる。

　前記重合体を含有する保護層（最表層）を形成する場合、前記重合体の原料である前述の各化合物を溶媒に溶解した塗布液を塗布し、重合させて形成する。

　以下、保護層（最表層）の形成に用いられる溶媒または分散媒、及び塗布方法を説明する。

　［保護層（最表層）形成用塗布液に用いる溶媒］
　保護層（最表層）形成用塗布液に用いる有機溶媒としては、本発明に係る物質を溶解することができる有機溶媒であれば、どのようなものでも使用することができる。
　具体的には、メタノール、エタノール、プロパノール、２－メトキシエタノール等のアルコール類；テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル類；ギ酸メチル、酢酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール等の芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、１，２－ジクロロエタン、１，１，２－トリクロロエタン、１，１，１－トリクロロエタン、テトラクロロエタン、１，２－ジクロロプロパン、トリクロロエチレン等の塩素化炭化水素類；ｎ－ブチルアミン、イソプロパノールアミン、ジエチルアミン、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、トリエチレンジアミン等の含窒素化合物類；アセトニトリル、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶剤類等を挙げることができる。これらの中から任意の組み合わせ及び任意の割合の混合溶媒を用いることもできる。
　また、単独では本発明に係る保護層（最表層）用の物質を溶解しない有機溶媒であっても、例えば、前記の有機溶媒との混合溶媒とすることで溶解可能であれば、使用することができる。
　一般に、混合溶媒を用いた方が塗布ムラを少なくすることができる。後述の塗布方法において浸漬塗布法を用いる場合、下層を溶解しない溶媒を選択することが好ましい。この観点から、感光層に好適に用いられるポリカーボネート、ポリアリレートへの溶解性が低い、アルコール類を含有させることが好ましい。

　保護層（最表層）形成用塗布液に用いる有機溶媒と、固形分の量比は、保護層（最表層）形成用塗布液の塗布方法により異なり、適用する塗布方法において均一な塗膜が形成されるように適宜変更して用いればよい。

　［塗布方法］
　保護層（最表層）を形成するための塗布液の塗布方法は、特に限定されない。例えば、スプレー塗布法、スパイラル塗布法、リング塗布法、浸漬塗布法等を挙げることができる。

　前記塗布法により塗布膜を形成した後、塗膜を乾燥させる。この際、必要且つ充分な乾燥が得られれば、乾燥の温度、時間は問わない。ただし、感光層塗布後に風乾のみで保護層（最表層）の塗布を行った場合は、前述の感光層の［塗布方法］に記載の方法で、充分な乾燥を行うことが好ましい。
　保護層（最表層）の厚みは、使用される材料などにより適宜最適な厚みが選択される。寿命の観点より、０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましく、０．５μｍ以上が特に好ましい。電気特性の観点より、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下が特に好ましい。

　［保護層（最表層）の硬化方法］
　該保護層（最表層）は、かかる塗工液を塗布後、外部からエネルギーを与え硬化させて形成するものである。このとき用いられる外部エネルギーとしては熱、光、放射線がある。熱のエネルギーを加える方法としては、空気、窒素などの気体、蒸気、あるいは各種熱媒体、赤外線、電磁波を用い塗工表面側あるいは支持体側から加熱することによって行なわれる。
　加熱温度は１００℃以上、１７０℃以下が好ましく、前記下限温度以上では、充分な反応速度となり、完全に反応が進行する。前記上限温度以下では、反応が均一に進行し保護層（最表層）中に大きな歪みが発生するのを抑制できる。硬化反応を均一に進めるために、１００℃未満の比較的低温で加熱後、さらに１００℃以上に加温し反応を完結させる方法も有効である。

　光のエネルギーとしては、主に紫外光（ＵＶ）に発光波長をもつ高圧水銀灯やメタルハライドランプ、無電極ランプバルブ、発光ダイオードなどのＵＶ照射光源が利用でき、連鎖重合性化合物や光重合開始剤の吸収波長に合わせ可視光光源の選択も可能である。
　光照射量は、硬化性の観点から０．１Ｊ／ｃｍ ^２以上が好ましく、１Ｊ／ｃｍ ^２以上がさらに好ましく、１０Ｊ／ｃｍ ^２以上が特に好ましい。また、電気特性の観点から、２００Ｊ／ｃｍ ^２以下が好ましく、１００Ｊ／ｃｍ ^２以下がさらに好ましく、５０Ｊ／ｃｍ ^２以下が特に好ましい。

　放射線のエネルギーとしては電子線（ＥＢ）を用いるものを挙げることができる。

　これらのエネルギーの中で、反応速度制御の容易さ、装置の簡便さ、ポッドライフの長さの観点から、光のエネルギーを用いたものが好ましい。

　該保護層（最表層）を硬化した後、残留応力の緩和、残留ラジカルの緩和、電気特性改良の観点から、加熱工程を加えてもよい。加熱温度としては、好ましくは６０℃以上、より好ましくは１００℃以上であり、好ましくは２００℃以下、より好ましくは１５０℃以下である。

　＜下引き層＞
　本電子写真感光体は、前記感光層と導電性支持体との間に下引き層を有していてもよい。

　下引き層としては、例えば、樹脂、樹脂に有機顔料や金属酸化物等の粒子を分散したもの等が用いられる。
　下引き層に用いる有機顔料の例としては特に限定されない。例えば、前述した電荷発生物質として用いる場合のフタロシアニン顔料やアゾ顔料等を挙げることができる。

　下引き層に用いる金属酸化物粒子の例としては、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化鉄等の１種の金属元素を含む金属酸化物粒子、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム等の複数の金属元素を含む金属酸化物粒子を挙げることができる。下引き層には、前記１種類の粒子のみを用いてもよく、複数の種類の粒子を任意の比率及び組み合わせで混合して用いてもよい。

　前記金属酸化物粒子の中でも、酸化チタンおよび酸化アルミニウムが好ましく、特に酸化チタンが好ましい。なお、酸化チタン粒子は、その表面が無機物または有機物等によって処理されていてもよい。

　下引き層に用いられる金属酸化物粒子の粒径としては、特に限定されない。下引き層の特性、および下引き層を形成するための溶液の安定性の面から、平均一次粒径として１０ｎｍ以上であることが好ましく、また１００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは５０ｎｍ以下である。

　ここで、下引き層は粒子をバインダー樹脂に分散した形で形成することが望ましい。下引き層に用いられるバインダー樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、スチレン－アルキッド樹脂、シリコーン－アルキッド樹脂、フェノール－ホルミアルデヒド樹脂等の絶縁性樹脂の中から選択し、用いることができるが、これらポリマーに限定されるものではない。また、これらバインダー樹脂は単独で用いても、２種類以上を混合して用いてもよく、硬化剤とともに硬化した形でも使用してもよい。なかでも、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアミド樹脂が良好な分散性及び塗布性を示すことから好ましい。

　前記バインダー樹脂に対する粒子の混合比は、任意に選ぶことができ、中でも、１０質量％から５００質量％の範囲で使用することが、分散液の安定性及び塗布性の面で好ましい。
　また下引き層の膜厚は、任意に選ぶことができ、中でも電子写真感光体の特性、および前記分散液の塗布性から、通常０．１μｍ以上、２０μｍ以下とすることが好ましい。また下引き層には、公知の酸化防止剤等を含んでいてもよい。

　＜その他の層＞
　また本電子写真感光体は、上述した導電性支持体、感光層、保護層（最表層）及び下引き層以外に必要に応じて適宜他の層を有していてもよい。

　＜＜電子写真感光体カートリッジ＞＞
　本発明に係る電子写真感光体カートリッジは、前記電子写真感光体を有する。
　電子写真感光体カートリッジのその他の構成は、従来公知のものを公知の方法で用いることができる。例えば、電子写真感光体、並びに、前記電子写真感光体を帯電させる帯電装置、帯電した前記電子写真感光体を露光させて静電潜像を形成する露光装置、及び、前記電子写真感光体上に形成された静電潜像を現像する現像装置よりなる群から選ばれる少なくとも１の装置を備える。

　＜＜画像形成装置＞＞
　本発明に係る画像形成装置は、前記電子写真感光体を有する。
　画像形成装置のその他の構成は、従来公知のものを公知の方法で用いることができる。例えば、電子写真感光体、前記電子写真感光体を帯電させる帯電装置、帯電した前記電子写真感光体を露光させて静電潜像を形成する露光装置、及び、前記電子写真感光体上に形成された前記静電潜像を現像する現像装置を備える。

　＜＜語句の説明＞＞
　本発明において「Ｘ～Ｙ」（Ｘ，Ｙは任意の数字）と表現する場合、特にことわらない限り「Ｘ以上Ｙ以下」の意と共に、「好ましくはＸより大きい」或いは「好ましくはＹより小さい」の意も包含する。
　また、「Ｘ以上」（Ｘは任意の数字）或いは「Ｙ以下」（Ｙは任意の数字）と表現した場合、「Ｘより大きいことが好ましい」或いは「Ｙ未満であることが好ましい」旨の意図も包含する。

　本発明について、以下の実施例により更に説明する。但し、実施例はいかなる方法でも本発明を限定することを意図するものではない。
　以下の実施例、及び比較例中の「部」の記載は、特に指定しない限り「質量部」を示す。

　［製造例１：化合物（１－１）の製造］
　２００ｍＬ４つ口反応容器に、アジピン酸（２．１５ｇ）とペンタエリスリトール（１０．００ｇ）をはかりとり、トルエン（３０．００ｇ）、アクリル酸（２２．２３ｇ）、ハイドロキノン（０．０５ｇ）、ｐ－トルエンスルホン酸一水和物（１．５８ｇ）、塩化銅（II）（０．０５ｇ）を加えた。昇温して還流状態とし、反応の進行と共に生成する水を留去しながら４時間撹拌を続けた後、６０℃まで冷却し水５０ｍＬを添加した。有機層を分離して、０．１規定水酸化ナトリウム水溶液（５０ｍＬ）で２回洗浄後、０．０５規定塩酸水溶液（５０ｍＬ）で洗浄し、さらに脱塩水（５０ｍＬ）で２回洗浄した。得られた有機層に４-メトキシフェノール（２ｍｇ）を添加し減圧濃縮することにより、前述の化合物（１－１）を含有する反応物２３．４３ｇを黄色オイルとして得た。
　当該反応物をゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で分析したところ、数平均分子量（Ｍｎ）＝７４５、質量平均分子量（Ｍｗ）＝１０８６、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．４５９であった。
　ちなみに、化合物（１－１）の重合体は、第一、二、三、四、五の実施形態における重合体となる。

　［製造例２：化合物（１－２）の製造］
　製造例１で使用したアジピン酸の代わりにアゼライン酸（２．７６ｇ）を使用した以外は、製造例１と同様にして、前述の化合物（１－２）を含有する反応物２３．４８ｇを黄色オイルとして得た。
　当該反応物をＧＰＣで分析したところ、Ｍｎ＝７６８、Ｍｗ＝１２６２、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．６４３であった。
　ちなみに、化合物（１－２）の重合体は、第一、二、三、四、五の実施形態における重合体となる。

　［製造例３：化合物（１－３）の製造］
　製造例１で使用したアジピン酸の代わりにセバシン酸（２．９７ｇ）を使用した以外は、製造例１と同様にして、前述の化合物（１－３）を含有する反応物２６．２８ｇを黄色オイルとして得た。
　当該反応物をＧＰＣで分析したところ、Ｍｎ＝７６４、Ｍｗ＝１２８０、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．６７５であった。
　ちなみに、化合物（１－３）の重合体は、第一、二、三、四、五の実施形態における重合体となる。

　［製造例４：化合物（１－４）の製造］
　製造例１で使用したアジピン酸の代わりにテトラデカン二酸（３．８０ｇ）を使用した以外は、製造例１と同様にして、前述の化合物（１－４）を含有する反応物２６．６２ｇを黄色オイルとして得た。
　当該反応物をＧＰＣで分析したところ、Ｍｎ＝７６５、Ｍｗ＝１３３０、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．７３９であった。
　ちなみに、化合物（１－４）の重合体は、第一、二、三、四、五の実施形態における重合体となる。

　［製造例５：化合物（１－５）の製造］
　製造例１で使用したアジピン酸の代わりに１，４－シクロヘキサンジカルボン酸（２．５３ｇ）を使用した以外は、製造例１と同様にして、前述の化合物（１－５）を含有する反応物２４．０８ｇを黄色オイルとして得た。
　当該反応物をＧＰＣで分析したところ、Ｍｎ＝７５２、Ｍｗ＝１０８０、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．４３６であった。
　ちなみに、化合物（１－５）の重合体は、第一、二、三、四、五の実施形態における重合体となる。

　［製造例６：化合物（１－６）の製造］
　製造例１で使用したペンタエリスリトールの代わりにトリメチロールエタン（２．５３ｇ）を使用し、アジピン酸（２．９２ｇ）、トルエン（３６．００ｇ）、アクリル酸（２３．０３ｇ）ハイドロキノン（０．０６ｇ）、ｐ－トルエンスルホン酸一水和物（１．６１ｇ）、塩化銅（II）（０．０６ｇ）を使用した以外は、製造例１と同様にして、前述の化合物（１－６）を含有する反応物２７．２９ｇを黄色オイルとして得た。
　当該反応物をＧＰＣで分析したところ、Ｍｎ＝５３７、Ｍｗ＝６７５、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．２５７であった。
　ちなみに、化合物（１－６）の重合体は、第一、二、三、四、五の実施形態における重合体となる。

　［製造例７：化合物（２）の製造］
　２００ｍＬ４つ口反応容器に、イソフタル酸クロライド（東京化成工業株式会社製）（５．００ｇ）とペンタエリスリトールトリアクリレート（トリエステル５７％）（商品名：ＮＫエステル　Ａ－ＴＭＭ－３ＬＭ－Ｎ、新中村化学工業株式会社製）（２２．０４ｇ）を秤取り、トルエン（９０ｍＬ）に溶解させた。続いて、トリエチルアミン（７．４８ｇ）とトルエン（１０ｍＬ）との混合溶液を０℃～５℃に冷却した反応容器内へ２０分かけて滴下した。反応温度を室温とし５時間攪拌を続けた後、０．１規定塩酸（８０ｍＬ）を添加し、酸洗浄を行った。次いで有機層を分離し、この有機層を０．１規定塩酸（８０ｍＬ）にて洗浄を２回行い、さらに、脱塩水（８０ｍＬ）にて洗浄を２回行った。その後、分離した有機層に４－メトキシフェノール１ｍｇを添加し濃縮することにより、以下の化合物（２）を含有する反応物を得た。

　化合物（２）の化学構造は次のとおりである。

　＜積層型感光体の作製＞
　以下の手順により、積層型感光体を作製した。

　（下引き層の形成）
　平均一次粒子径４０ｎｍのルチル型酸化チタン（石原産業社製「ＴＴＯ５５Ｎ」）と、該酸化チタンに対して３質量％のメチルジメトキシシラン（東芝シリコーン社製「ＴＳＬ８１１７」）とを、ヘンシェルミキサーにて混合して得られた表面処理酸化チタンを、メタノール溶媒中でビーズミルにより分散させることにより、表面処理酸化チタンの分散スラリーとした。
　該分散スラリーと、メタノール／１－プロパノール／トルエンの混合溶媒と、ε－カプロラクタム／ビス（４－アミノ－３－メチルシクロヘキシル）メタン／ヘキサメチレンジアミン／デカメチレンジカルボン酸／オクタデカメチレンジカルボン酸の組成モル比率が、６０％／１５％／５％／１５％／５％からなる共重合ポリアミドのペレットとを加熱しながら撹拌、混合してポリアミドペレットを溶解させた後、超音波分散処理を行った。
　このようにして、メタノール／１－プロパノール／トルエンの質量比が７／１／２で、表面処理酸化チタン／共重合ポリアミドを質量比３／１で含有する、固形分濃度１８．０％の下引き層用塗布液を作製した。
　この塗布液を、外径３０ｍｍ、長さ２５４ｍｍ、肉厚０．７５ｍｍのアルミニウム合金よりなるシリンダー（導電性支持体）上に、乾燥後の膜厚が１．５μｍとなるように浸漬塗布した後、風乾して下引き層を形成した。

　（電荷発生層の形成）
　電荷発生物質として、ＣｕＫα線を用いた粉末Ｘ線回折において、回折角２θ±０．２°が２７．３°に明瞭なピークを示すＤ型チタニルフタロシアニン２０部と、１，２－ジメトキシエタン２８０部を混合し、サンドグラインドミルで２時間粉砕して微粒化分散処理を行った。続いて、ポリビニルブチラール（電気化学工業（株）製、商品名「デンカブチラール」＃６０００Ｃ）の２．５％　１，２－ジメトキシエタン溶液４００部と、１７０部の１，２－ジメトキシエタンを混合して電荷発生層用塗布液を作製した。
　この塗布液を、前記下引き層上に、乾燥後の膜厚が０．４μｍとなるように浸漬塗布した後、風乾して電荷発生層を形成した。

　（電荷輸送層の形成）
　下記構造の正孔輸送物質１を７５部、下記構造のバインダー樹脂１を１００部、下記構造の酸化防止剤１を４部、レベリング剤としてシリコーンオイル（信越シリコーン社製「ＫＦ－９６」）０．０５部を、テトラヒドロフラン（以下適宜ＴＨＦと略する）とトルエン（以下適宜ＴＬと略する）の混合溶媒（ＴＨＦ　８０質量％、ＴＬ　２０質量％）６１６部に混合し、電荷輸送層用塗布液を作製した。

　正孔輸送物質１の化学構造を次に示す。

　この塗布液を、前記電荷発生層上に、乾燥後の膜厚が約３０μｍになるように浸漬塗布した後、１２５℃で２４分間乾燥させ、電荷輸送層を形成した。

　バインダー樹脂１：粘度平均分子量　４５，７００
　バインダー樹脂1は次の化学構造を有する。

　酸化防止剤１の化学構造は次のとおりである。

　［実施例１］
　＜保護層の形成＞
　製造例１で得られた反応物を１００部、粒子に対し７質量％の３－メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランで表面処理した酸化チタン粒子（石原産業株式会社製「ＴＴＯ５５Ｎ」）を５５部、光重合開始剤として、ベンゾフェノンを１部、ジフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フォスフィンオキサイドを２部を、メタノール、１－プロパノール及びトルエンの混合溶媒（メタノール　７０質量％、１－プロパノール　１０質量％、トルエン　２０質量％）７２０部と混合し、保護層用塗布液を作製した。
　この塗布液を、前記のように作製した積層型感光体の電荷輸送層上に、硬化後の膜厚が約１μｍになるように浸漬塗布した。この塗膜の表面側から、３８５ｎｍにピーク波長を有するＵＶ－ＬＥＤランプを搭載したＵＶ光照射装置を用いて、積算光量３０Ｊ／ｃｍ^２となるようにＵＶ光を照射し、製造例１で得られた反応物を重合させた。さらに、１２５℃で５分間加熱した後、２５℃まで放冷して保護層を形成し、最表層としての保護層を有する積層型感光体（サンプル）を得た。

　［実施例２～７、比較例１～６］
　製造例１で得られた反応物１００部の代わりに、表１のように使用する化合物と、酸化チタン粒子の質量部を変更した以外は、実施例１と同様にして、保護層を有する積層型感光体（サンプル）を得た。

　＜単層型感光体の作製＞
　以下の手順により、単層型感光体を作製した。

　（下引き層の形成）
　ＣｕＫα線を用いた粉末Ｘ線回折において、回折角２θ±０．２°が２７．３°に明瞭なピークを示すＤ型チタニルフタロシアニン２０部と、１，２－ジメトキシエタン２８０部を混合し、サンドグラインドミルで２時間粉砕して微粒化分散処理を行った。続いて、ポリビニルブチラール（電気化学工業（株）製、商品名「デンカブチラール」＃６０００Ｃ）の２．５％１，２－ジメトキシエタン溶液４００部と、１７０部の１，２－ジメトキシエタンを混合して下引き層用塗布液を作製した。
　この塗布液を、外径３０ｍｍ、長さ２４４ｍｍ、肉厚０．７５ｍｍのアルミニウム合金よりなるシリンダー（導電性支持体）上に、乾燥後の膜厚が０．４μｍとなるように浸漬塗布した後、風乾して下引き層を形成した。

　（単層型感光層の形成）
　ＣｕＫα線を用いた粉末Ｘ線回折において、回折角２θ±０．２°が２７．３°に明瞭なピークを示すＤ型チタニルフタロシアニンを２．６部、下記構造のペリレン顔料１を１．３部、下記構造の正孔輸送物質２を１００部、前述のＥＴ－２で表される電子輸送物質を６０部、下記構造のバインダー樹脂２を１００部、レベリング剤としてシリコーンオイル（信越シリコーン社製「ＫＦ－９６」）を０．０５部を、混合溶媒（ＴＨＦ　８０質量％、ＴＬ　２０質量％）７９２部と混合し、単層型感光層用塗布液を作製した。
　この塗布液を、前記下引き層上に、乾燥後の膜厚が約３０μｍになるように浸漬塗布した後、１００℃で２４分間乾燥させ、単層型感光層を形成した。

　正孔輸送物質２の化学構造を次に示す。

　ペリレン顔料１の化学構造は次のとおりである。

　バインダー樹脂２：粘度平均分子量　４９，４００
　バインダー樹脂２は次の化学構造を有する。

　［実施例８～１０、比較例７］
　積層型感光体の代わりに前記単層型感光体を用い、製造例１で得られた反応物１００部の代わりに、表１のように使用する化合物と、酸化チタン粒子の質量部を変更した以外は、実施例１と同様にして、保護層を有する単層型感光体（サンプル）を得た。

　＜感光層のマルテンス硬さ・弾性変形率測定＞
　保護層の形成を行わないこと以外は実施例１と同様にして、保護層を有しない積層型感光体（サンプル）を得た。また、保護層の形成を行わないこと以外は実施例９と同様にして、保護層を有しない単層型感光体（サンプル）を得た。
　次に、前述の方法で、前記保護層を有しない積層型感光体（サンプル）及び前記保護層を有しない単層型感光体（サンプル）を用いて、実施例で使用した積層型感光層及び単層型感光層のマルテンス硬さ及び弾性変形率を測定した。
　その結果、前記積層型感光層のマルテンス硬さは１９５Ｎ／ｍｍ^２、弾性変形率は４３％であり、前記単層型感光層のマルテンス硬さは２３４Ｎ／ｍｍ^２、弾性変形率は４１％であった。

　＜感光体表面のマルテンス硬さ・弾性変形率測定＞
　前述の通り作製した保護層（最表層）を有する積層型感光体（サンプル）及び単層型感光体（サンプル）について、前記感光層のマルテンス硬さ・弾性変形率測定と同様の方法で、感光体表面のマルテンス硬さ及び弾性変形率を測定した。測定結果を表１に示す。
　本発明では、感光体表面のマルテンス硬さが２４０Ｎ／ｍｍ^２以上の場合を「合格（〇）」、２４０Ｎ／ｍｍ^２未満の場合を「不合格（×）」、感光体表面の弾性変形率が４０％以上の場合を「合格（〇）」、感光体表面の弾性変形率が４０％未満の場合を「不合格（×）」、と評価した。

　＜感光層のガラス転移温度測定＞
　保護層の形成を行わないこと以外は実施例１と同様にして、保護層を有しない積層型感光体（サンプル）を得た。また、保護層の形成を行わないこと以外は実施例９と同様にして、保護層を有しない単層型感光体（サンプル）を得た。
　次に、前記保護層を有しない積層型感光体（サンプル）の表面にカッターで切り込みを入れ、下引き層から感光層を剥がして、積層型感光層のガラス転移温度測定用サンプルを採取した。同様に、前記保護層を有しない単層型感光体（サンプル）の表面にカッターで切り込みを入れ、下引き層から感光層を剥がして、単層型感光層のガラス転移温度測定用サンプルを採取した。

　積層型感光層及び単層型感光層の前記ガラス転移温度測定用サンプルを用いて、示差走査熱量測定（ＤＳＣ測定）を実施した。測定条件は下記の通りに設定し、１回昇温した後に急冷し、再度昇温して得られたＤＳＣチャートから、ガラス転移温度を求めた。
　＜測定条件＞
　測定装置：株式会社島津製作所製　ＤＳＣ－６０
　温度範囲：３０～１５０℃
　昇温速度：１０℃／ｍｉｎ
　雰囲気：Ｎ_２フロー（５０ｍＬ／ｍｉｎ）
　測定の結果、前記積層型感光層のガラス転移温度は１００℃であり、前記単層型感光層のガラス転移温度は８３℃であった。

　＜電気特性試験＞
　前記の実施例及び比較例で得られた感光体（サンプル）を、電子写真学会測定標準に従って作製された電子写真特性評価装置（続電子写真技術の基礎と応用、電子写真学会編、コロナ社、４０４～４０５頁記載）に装着し、帯電、露光、電位測定、除電のサイクルによる電気特性の評価を行った。温度２５℃、相対湿度５０％の環境下で、感光体の初期表面電位Ｖ０が、積層型感光体の場合は－７００Ｖとなるように、単層型感光体の場合は＋７００Ｖとなるように帯電させ、ハロゲンランプの光を干渉フィルターで７８０ｎｍの単色光としたものを照射して、任意の露光量で表面電位を測定した。この時、露光から電位測定までの時間を６０ミリ秒とし、０．９μＪ／ｃｍ^２照射した後の表面電位を測定した。得られた表面電位の絶対値に応じて、電気特性を以下の基準で評価した。結果を表１に示す。
　◎：表面電位の絶対値が４０以下である。
　○：表面電位の絶対値が４０より大きく５０以下である。
　△：表面電位の絶対値が５０より大きく７０以下である。
　×：表面電位の絶対値が７０より大きい。

　＜像流れ評価＞
　前記の実施例及び比較例で得られた積層型感光体（サンプル）を、電子写真方式のプリンター（ＭＬ－６５１０ＮＤ、Ｓａｍｓｕｎｇ社製）に装着し、温度３２℃、相対湿度８０％の環境下で印刷して、常温常湿下で画像を観察した。全く像流れ（画像ボケ）が見られない場合を「〇」と評価し、わずかに像流れ（画像ボケ）が見られる場合を「△」と評価し、はっきり像流れ（画像ボケ）が見られる場合を「×」と評価し、著しく像流れ（画像ボケ）が見られる場合を「××」とし、○／△／×／××の４段階で像流れの程度を評価した。
　次に、前記の実施例及び比較例で得られた単層型感光体（サンプル）を、電子写真方式のプリンターに装着し、前記の積層型感光体（サンプル）の場合と同様の方法で、像流れの程度を評価した。結果を表１に示す。

　＜混合層の観察＞
　前記の実施例及び比較例で得られた積層型感光体（サンプル）および単層型感光体（サンプル）の断面を、走査型電子顕微鏡（ＺＥＩＳＳ社製、装置名ｕｌｔｒａ５５）を用いて加速電圧３ｋＶの条件で観察した。
　得られた画像の中で、保護層と、電荷輸送層または単層型感光層の界面に、両者が混合した層（混合層）が見られるかどうかを観察した。結果を表１に示す。
　混合層が見られないものを「〇（very good）」、わずかに混合層が見られるものを「△（good）」、はっきりと混合層が見られる場合を「×（poor）」とした。
　観察した画像の例として、比較例４で得られた積層型感光体の断面の走査型電子顕微鏡画像（ＳＥＭ画像）を図１に示す。図１の上部が保護層側である。

　＜総合評価＞
　前記電気特性、像流れ、感光体表面のマルテンス硬さ及び弾性変形率の評価を合わせた総合評価を以下の基準で評価した。本発明では、総合評価が「Ａ」又は「Ｂ」の場合を、総合的な「合格」と評価した。
　Ａ：電気特性と像流れのどちらも○又は◎であり、かつ、感光体表面のマルテンス硬さ及び弾性変形率が合格
　Ｂ：電気特性と像流れの一方が○又は◎であり、他方が△、かつ、感光体表面のマルテンス硬さ及び弾性変形率が合格
　Ｃ：電気特性と像流れの一方が○又は◎であり、他方が△、かつ、感光体表面のマルテンス硬さと弾性変形率の少なくとも一方が不合格
　Ｄ：電気特性と像流れのどちらも△（感光体表面のマルテンス硬さ及び弾性変形率の合否は問わない）
　Ｅ：電気特性と像流れの少なくとも一方が×又は××（感光体表面のマルテンス硬さ及び弾性変形率の合否は問わない）

　表１中、比較例１～５，７の各重合体は、それぞれ以下の市販品を硬化させたものである。
　ＵＶ６３００Ｂ：ウレタンアクリレートオリゴマー（三菱ケミカル株式会社製）
　ＡＢＥ３００：ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート（新中村化学株式会社製）
　Ａ－ＤＣＰ：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（新中村化学株式会社製）
　Ａ－ＢＰＥＦ：９，９－ビス［４－（２－アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン（新中村化学株式会社製）

　＜吸水率の測定＞
　製造例１～７で得られた反応物、および比較例で使用した市販品のアクリルモノマーについて、次のようにして吸水率を測定した。
　製造例１～７で得られた反応物または比較例で使用した市販品のアクリルモノマー１００部、光重合開始剤として、ベンゾフェノン１部、ジフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フォスフィンオキサイド２部を攪拌混合した。
　得られた混合物をガラス板上に製膜し、厚さが２００μｍの塗膜を得た。この塗膜の表面に、３８５ｎｍにピーク波長を有するＵＶ－ＬＥＤランプを搭載したＵＶ光照射装置を用いて、積算光量が３０Ｊ／ｃｍ^２となるようにＵＶ光を照射し、重合反応物を得た。得られた重合反応物をガラス板から剥がし、粉砕したものを吸水率測定用サンプルとした。
　吸水用測定サンプルの温度２５℃、相対湿度５０％の環境下での重量をＸ（ｇ）、温度３２℃、相対湿度８０％の環境下に２昼夜静置した後の重量をＹ（ｇ）としたとき、下記の式から求めた値を吸水率とした。結果を表２に示す。

　吸水率（％）＝１００×〔（Ｙ－Ｘ）／Ｘ〕

　＜考察＞
　前記実施例・比較例、並びに、これまで本発明者が行ってきた試験結果から、次のようなことが分かった。

　比較例のような（メタ）アクリルモノマーの硬化物を含有する保護層を最表層として備えた従来の感光体は、当該保護層中のアクリル樹脂部分が吸湿することで、水分子を構成する水素イオンまたは水酸化物イオンによりイオン伝導性が高まって感光体の表面抵抗が低下し、これにより、感光体表面の未露光部に帯電している電荷が動き、露光部と未露光部のコントラストが低下することで、電荷が形成する静電潜像が流れてしまう（画像がボケる）と推察される。
　このような像流れ抑制のための手段として、低吸湿な（メタ）アクリルモノマー構造、例えば（メタ）アクリロイル基を有する置換基を結合させた構造のモノマーを選択して使用することが考えられたが、そのような構造のモノマーの中でも、前記の低吸湿な構造と感光層の含有成分との親和性が高いモノマーを選択して使用すると、両層の間に混合層が形成され、感光層から保護層への電荷輸送が阻害され、電気特性が悪化する場合があると推察される。
　これに対し、最表層としての保護層が、極性の低いアルキレン構造、アルケニレン構造またはアルキニレン構造から選ばれる炭化水素構造Ｘと、（メタ）アクリロイル基を２ないし３個有する構造で置換した構造（「式(Ａ)構造」と称する）とを有していれば、前記炭化水素構造Ｘの極性が低いため、高湿度環境下においても水分の吸着量が少なくなり、吸湿による抵抗の低下を抑制することができる。そのため、感光体表面の未露光部に帯電している電荷が動くのを抑制することができ、露光部と未露光部のコントラストが低下せず、静電潜像が流れるのを防ぐことができると考えられる。同時に、前記式(Ａ)構造が、前記炭化水素構造Ｘの周囲に位置して立体的に保護することになるため、当該重合体が感光層の含有成分と混合するのを抑制することができ、混合層の形成を防ぎ、感光層から保護層への電荷輸送を十分に行うことができるため、電気特性の悪化を防ぐことができる。

Claims

　導電性支持体上に、少なくとも感光層と保護層とを順次有する電子写真感光体であって、
　前記保護層が、下記式（ａ）で表される構造を有する重合体を含有する電子写真感光体。
　Ａ^１－Ｌ^１－Ｘ－Ｌ^２－Ａ^２　　（ａ）
　（式（ａ）中、Ｘは炭素数４以上２０以下の炭化水素構造を表し、前記炭化水素構造はアルキレン構造、アルケニレン構造またはアルキニレン構造である。Ｌ^１、Ｌ^２はそれぞれ独立して、－Ｏ－、－ＣＯ－，－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）－，－（Ｃ＝Ｏ）－Ｏ－，－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－を表す。Ａ^１、Ａ^２はそれぞれ独立して下記式（Ａ）を表す。）

　（式（Ａ）中、Ｒ^１１～Ｒ^１３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基または下記式（２）で表される基であり、Ｒ^１１～Ｒ^１３のうち少なくとも２つは、下記式（２）で表される基である。Ｚ^１は任意の原子との結合手を示す。）

　（式（２）中、Ｒ^２１は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ^２２、Ｒ^２３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。ｎ^２１は１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（Ａ）におけるＲ^１１～Ｒ^１３が結合する炭素原子との結合手を示す。Ｚ^３は任意の原子との結合手を示す。）
　導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体であって、
　導電性支持体と反対側の最表層が、下記式（ａ）で表される構造を有する重合体を含有する電子写真感光体。
　Ａ^１－Ｌ^１－Ｘ－Ｌ^２－Ａ^２　　（ａ）
　（式（ａ）中、Ｘは炭素数４以上２０以下の炭化水素構造を表し、前記炭化水素構造は、アルキレン構造、アルケニレン構造またはアルキニレン構造である。Ｌ^１、Ｌ^２はそれぞれ独立して、－Ｏ－、－ＣＯ－，－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）－，－（Ｃ＝Ｏ）－Ｏ－，－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－を表す。Ａ^１、Ａ^２はそれぞれ独立して下記式（Ａ）を表す。）

　（式（Ａ）中、Ｒ^１１～Ｒ^１３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基または下記式（２）で表される基であり、Ｒ^１１～Ｒ^１３の内少なくとも２つは下記式（２）で表される基である。Ｚ^１は任意の原子との結合手を示す。）

　（式（２）中、Ｒ^２１は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ^２２、Ｒ^２３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。ｎ^２１は１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（Ａ）におけるＲ^１１～Ｒ^１３が結合する炭素原子との結合手を示す。Ｚ^３は任意の原子との結合手を示す。）
　前記重合体は、下記式（ａ´）で表される化合物の重合体である、請求項１又は２に記載の電子写真感光体。
　Ａ^１－Ｌ^１－Ｘ－Ｌ^２－Ａ^２　　（ａ´）
　（式（ａ´）中、Ｘは炭素数４以上２０以下の炭化水素構造を表し、前記炭化水素構造は、アルキレン構造、アルケニレン構造またはアルキニレン構造である。Ｌ^１、Ｌ^２はそれぞれ独立して、－Ｏ－、－ＣＯ－，－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）－，－（Ｃ＝Ｏ）－Ｏ－，－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－を表す。Ａ^１、Ａ^２はそれぞれ独立して下記式（Ａ´）を表す。）

　（式（Ａ´）中、Ｒ^１１～Ｒ^１３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基または下記式（２´）で表される基であり、Ｒ^１１～Ｒ^１３のうち少なくとも２つは下記式（２´）で表される基である。Ｚ^１は任意の原子との結合手を示す。）

　（式（２´）中、Ｒ^２１は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ^２２、Ｒ^２３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。ｎ^２１は１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（Ａ´）におけるＲ^１１～Ｒ^１３が結合する炭素原子との結合手を示す。）
　導電性支持体上に、少なくとも感光層と保護層とを順次有する電子写真感光体であって、
　前記保護層が、下記式（ｂ）で表される部分構造及び下記式（Ａ）で表される部分構造を有する重合体を含有する電子写真感光体。
　－ＣＯ－Ｘ－ＣＯ－　（ｂ）
　（式（ｂ）中、Ｘは炭素数４以上２０以下の炭化水素構造を表し、前記炭化水素構造は、アルキレン構造、アルケニレン構造またはアルキニレン構造である。）

　（式（Ａ）中、Ｒ^１１～Ｒ^１３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基または下記式（２）で表される基であり、Ｒ^１１～Ｒ^１３の内少なくとも２つは下記式（２）で表される基である。Ｚ^１は任意の原子との結合手を示す。）

　（式（２）中、Ｒ^２１は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ^２２、Ｒ^２３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。ｎ^２１は１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（Ａ）におけるＲ^１１～Ｒ^１３が結合する炭素原子との結合手を示す。Ｚ^３は任意の原子との結合手を示す。）
　導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体であって、
　電子写真感光体と反対側の最表層が、下記式（ｂ）で表される部分構造及び下記式（Ａ）で表される部分構造を有する重合体を含有する電子写真感光体。
　－ＣＯ－Ｘ－ＣＯ－　（ｂ）
　（式（ｂ）中、Ｘは炭素数４以上２０以下の炭化水素構造を表し、前記炭化水素構造は、アルキレン構造、アルケニレン構造またはアルキニレン構造である。）

　（式（Ａ）中、Ｒ^１１～Ｒ^１３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基または下記式（２）で表される基であり、Ｒ^１１～Ｒ^１３のうち少なくとも２つは下記式（２）で表される基である。Ｚ^１は任意の原子との結合手を示す。）

　（式（２）中、Ｒ^２１は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ^２２、Ｒ^２３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。ｎ^２１は１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（Ａ）におけるＲ^１１～Ｒ^１３が結合する炭素原子との結合手を示す。Ｚ^３は任意の原子との結合手を示す。）
　前記重合体は、前記式（ｂ）で表される部分構造及び下記式（Ａ´）で表される部分構造を同一分子内に有する化合物の重合体である、請求項４又は５に記載の電子写真感光体。

　（式（Ａ´）中、Ｒ^１１～Ｒ^１３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基または下記式（２´）で表される基であり、Ｒ^１１～Ｒ^１３のうち少なくとも２つは下記式（２´）で表される基である。Ｚ^１は任意の原子との結合手を示す。）

　（式（２´）中、Ｒ^２１は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ^２２、Ｒ^２３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。ｎ^２１は１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（Ａ´）におけるＲ^１１～Ｒ^１３が結合する炭素原子との結合手を示す。）
　導電性支持体上に、少なくとも感光層と保護層とを順次有する電子写真感光体であって、
　前記保護層が、下記部分構造Ｘ及び下記式（Ｂ）で表される部分構造を有する重合体を含有する電子写真感光体。
　Ｘ：炭素数４以上２０以下の炭化水素構造を表し、前記炭化水素構造は、アルキレン構造、アルケニレン構造またはアルキニレン構造である。

　（式（Ｂ）中、Ｒ^１１～Ｒ^１３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基、下記式（２）で表される基または下記式（３）で表される基を表し、Ｒ^１１～Ｒ^１３のうち少なくとも２つは下記式（２）で表される基または下記式（３）で表される基である。Ｒ^１４、Ｒ^１５はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。Ｒ^１６は単結合または酸素原子である。Ｒ^１７は単結合である。ｎ^１１は１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^４は任意の原子との結合手を示す。）

　（式（２）中、Ｒ^２１は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ^２２、Ｒ^２３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。ｎ^２１は１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（Ｂ）におけるＲ^１１～Ｒ^１３が結合する炭素原子との結合手を示す。Ｚ^３は任意の原子との結合手を示す。）

　（式（３）中、Ｒ^３１～Ｒ^３３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基または前記式（２）で表される基を表し、Ｒ^３１～Ｒ^３３のうち少なくとも２つは前記式（２）で表される基を表す。Ｒ^３４～Ｒ^３７はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。ｎ^３１、ｎ^３２はそれぞれ独立に、１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（Ｂ）におけるＲ^１１～Ｒ^１３が結合する炭素原子との結合手を示す。）
　前記重合体は、下記式（１）で表される構造を有する重合体である、請求項１～７のいずれか１項に記載の電子写真感光体。

　（式（１）中、Ｘは炭素数４以上２０以下の炭化水素構造であり、前記炭化水素構造は、アルキレン構造、アルケニレン構造またはアルキニレン構造である。Ｒ^１１～Ｒ^１３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基、下記式（２）で表される基または下記式（３）で表される基である。Ｒ^１１～Ｒ^１３のうち少なくとも２つは下記式（２）で表される基または下記式（３）で表される基である。Ｒ^１４、Ｒ^１５はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。Ｒ^１６は単結合または酸素原子である。Ｒ^１７は単結合である。ｎ^１２は２であり、ｎ^１１は１以上１０以下の整数を表す。）

　（式（２）中、Ｒ^２１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^２２、Ｒ^２３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表し、ｎ^２１は１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（１）におけるＲ^１１～Ｒ^１３が結合する炭素原子との結合手を示す。Ｚ^３は任意の原子との結合手を示す。）

　（式（３）中、Ｒ^３１～Ｒ^３３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、メチロール基または前記式（２）で表される基を表し、Ｒ^３１～Ｒ^３３のうち少なくとも２つは前記式（２）で表される基を表す。Ｒ^３４～Ｒ^３７はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。ｎ^３１、ｎ^３２はそれぞれ独立に、１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（１）におけるＲ^１１～Ｒ ^１３が結合する炭素原子との結合手を示す。）
　前記Ｒ^１１、Ｒ^１２及びＲ^１３がいずれも、下記式（２）で表される基である、請求項１、２、４、５又は７に記載の電子写真感光体。

　（式（２）中、Ｒ^２１は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ^２２、Ｒ^２３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。ｎ^２１は１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（Ａ）におけるＲ^１１～Ｒ^１３が結合する炭素原子との結合手を示す。Ｚ^３は任意の原子との結合手を示す。）
　前記Ｒ^１１、Ｒ^１２及びＲ^１３がいずれも、下記式（２´）で表される基である、請求項３又は６に記載の電子写真感光体。

　（式（２´）中、Ｒ^２１は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ^２２、Ｒ^２３はそれぞれ独立に、水素原子、炭化水素基またはアルコキシ基を表す。ｎ^２１は１以上１０以下の整数を表す。Ｚ^２は前記式（Ａ´）におけるＲ^１１～Ｒ^１３が結合する炭素原子との結合手を示す。）
　前記Ｘの炭素数が１０以下である、請求項１～１０のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
　前記Ｘが、炭素と水素からなる鎖状構造である、請求項１～１１のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
　導電性支持体上に、少なくとも感光層と保護層とを順次有する電子写真感光体であって、
　前記保護層が、脂肪族ジカルボン酸又は脂肪族ジカルボン酸クロライドと、多価アルコールと、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸クロライド及びメタクリル酸クロライドからなる群から選ばれる少なくとも1種との反応物を重合させてなる重合体を含有する電子写真感光体。
　前記保護層又は前記最表層と接する感光層は、電荷輸送物質を含み、当該感光層における電荷輸送物質の濃度が３０質量％以上７０重量％以下である、請求項１～１３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
　前記保護層又は前記最表層と接する感光層のガラス転移温度が５０℃以上１３０℃以下である、請求項１～１４のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
　前記保護層又は前記最表層は、紫外光又は／及び可視光の照射により硬化されてなる層である、請求項１～１５のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
　前記保護層又は前記最表層は、金属酸化物粒子を含有する、請求項１～１６のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
　前記保護層又は前記最表層中の前記金属酸化物粒子の含有量は、前記保護層又は前記最表層の前記重合体１００質量部に対して３００質量部以下である、請求項１７に記載の電子写真感光体。
　前記感光層が積層型感光層である、請求項１～１８に記載の電子写真感光体。
　請求項１～１９のいずれか１項に記載の電子写真感光体を有する電子写真感光体カートリッジ。
　請求項１～１９のいずれか１項に記載の電子写真感光体を有する画像形成装置。