WO2022188216A1 - 显示面板及其制备方法 - Google Patents

显示面板及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2022188216A1
WO2022188216A1 PCT/CN2021/083814 CN2021083814W WO2022188216A1 WO 2022188216 A1 WO2022188216 A1 WO 2022188216A1 CN 2021083814 W CN2021083814 W CN 2021083814W WO 2022188216 A1 WO2022188216 A1 WO 2022188216A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
area
light
layer
display area
substrate
Prior art date
Application number
PCT/CN2021/083814
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
吕磊
金蒙
袁涛
黄金昌
Original Assignee
武汉华星光电半导体显示技术有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 filed Critical 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
Publication of WO2022188216A1 publication Critical patent/WO2022188216A1/zh

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/805—Electrodes
    • H10K50/82—Cathodes
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations

Definitions

  • the cathode layer includes electrode portions corresponding to the pixel openings one-to-one and an overlap portion for connecting two adjacent electrode portions, and the overlap portion is located on the first display. area and the third display area.
  • the shape of the orthographic projection of the first light-transmitting block and the second light-transmitting block on the substrate is adapted to the shape of the corresponding light-transmitting partition.
  • the shape of the sides of the orthographic projections of the first light-transmitting block and the second light-transmitting block on the substrate is an arc.
  • a suppression layer is formed on a side of the pixel definition layer away from the substrate, the suppression layer is located in the gap region; the suppression layer includes a first cathode suppression layer located in the first display region and a cathode suppression layer located in the first display region. a second cathode suppression layer in the third display area;
  • FIG. 8 is a schematic diagram of a fifth arrangement of pixel openings and a first light-transmitting block and a second light-transmitting block in a display panel provided by an embodiment of the present application;
  • the pixel density of the first sub-pixels 20 in the first display area 11 and the pixel density of the first sub-pixels 20 in the third display area 13 , and the second sub-pixels 20 in the second display area 12 may be the same or different.
  • the area of the orthographic projection of the second light-transmitting block 442 a on the substrate 41 (hereinafter referred to as “the area of the second light-transmitting block 442 a”) is smaller than that of the first light-transmitting block 441 a on the substrate 41
  • the area of the orthographic projection (hereinafter referred to as "the area of the first light-transmitting block 441a") or/and the number of the second light-transmitting blocks 442a is smaller than the number of the first light-transmitting blocks 441a.
  • the number of the second light-transmitting blocks 442a is less than the number of the first light-transmitting blocks 441a or/and the area of the single second light-transmitting block 442a is smaller than the area of the single first light-transmitting block 441a, thus The area of the second cathode suppression layer 442 is made smaller than that of the first cathode suppression layer 441 .

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

本申请公开了一种显示面板及其制备方法，显示面板包括第一显示区、第三显示区；显示面板包括基底、抑制层；第二阴极抑制层在基底上的正投影的面积与第三显示区的面积之比小于第一阴极抑制层在基底上的正投影的面积与第一显示区的面积之比。第三显示区起过渡作用，利用抑制层提高第一显示区的透光率，缩小各显示区的亮度差异。

Description

显示面板及其制备方法 技术领域
本申请涉及显示领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法。
 背景技术
OLED（Organic Light Emitting Diode，有机发光二极管）显示技术受到了越来越多科研工作者的关注，并被广泛应用于手机、平板和电视等显示领域，而随着显示设备的快速发展，用户对显示设备的屏占比的要求越来越高，使得大尺寸和高分辨率的全面显示设备成为未来的发展方向。
在现有技术当中，为了尽可能的提升屏占比，通常采用将前置摄像头和面部识别等光学元件设置在屏下，但是，现有的OLED全面显示设备中，阴极采用整面设置的方式，而阴极对于光线的透过率低，从而导致设置在屏下的光学元件无法接收到充足的光信号，影响光学元件的正常工作。
因此，亟需一种显示面板及其制备方法以解决上述技术问题。
 技术问题
本申请实施例提供一种显示面板及其制备方法，以解决设置在屏下的光学元件无法接收到充足的光信号，影响光学元件的正常工作的问题。
 技术解决方案
为解决上述问题，本申请提供的技术方案如下：
本申请实施例提供了一种显示面板，所述显示面板包括第一显示区、第二显示区，以及，位于所述第一显示区和所述第二显示区之间的第三显示区；所述显示面板还包括：
基底；
像素定义层，所述像素定义层设置于所述基底的一侧，所述像素定义层上设置有多个相间隔的像素开口，相邻两个所述像素开口之间设置有间隙区；
抑制层，所述抑制层设置于所述像素定义层远离所述基底的一侧，所述抑制层位于所述间隙区；
其中，所述抑制层包括位于所述第一显示区的第一阴极抑制层以及位于所述第三显示区的第二阴极抑制层；所述第二阴极抑制层在所述基底上的正投影的面积与所述第三显示区的面积之比小于所述第一阴极抑制层在所述基底上的正投影的面积与所述第一显示区的面积之比。
在一实施例中，所述第二阴极抑制层在所述基底上的正投影的面积与所述第三显示区的面积之比小于或等于所述第一阴极抑制层在所述基底上的正投影的面积与所述第一显示区的面积之比的二分之一。
在一实施例中，所述第一阴极抑制层包括多个相间隔的第一透光块，所述第二阴极抑制层包括多个相间隔的第二透光块；其中，所述第二透光块在所述基底上的正投影的面积小于所述第一透光块在所述基底上的正投影的面积或/和所述第二透光块的数量小于所述第一透光块的数量。
在一实施例中，所述第三显示区包括多个沿远离所述第一显示区排布的分区，所述第二阴极抑制层包括多个分体，所述分体与所述分区一一对应；其中，所述分体包括多个所述第二透光块；与所述第一显示区的距离越大的所述分体，在所述基底上的正投影的面积越小。
在一实施例中，与所述第一显示区的距离越大的所述分体中，所述第二透光块的数量越少。
在一实施例中，与所述第一显示区的距离越大的所述分体中，所述第二透光块在所述基底上的正投影的面积越小。
在一实施例中，所述显示面板还包括设置于所述像素定义层远离所述基底的一侧的阴极层，所述阴极层覆盖所述像素开口和至少部分所述抑制层；其中，位于所述抑制层上的所述阴极层的厚度小于位于所述像素开口上的所述阴极层的厚度。
在一实施例中，所述阴极层包括与所述像素开口一一对应的电极部以及用于连接相邻两个所述电极部的搭接部，所述搭接部位于所述第一显示区和所述第三显示区。
在一实施例中，所述第一显示区和所述第三显示区均包括多个透光分区，每一所述透光分区由所述搭接部与多个所述像素开口中的第一像素开口、第二像素开口、第三像素开口以及第四像素开口所围成；其中，所述第二像素开口与所述第一像素开口相邻且位于所述第一像素开口沿第一方向的侧部，所述第三像素开口与所述第二像素开口相邻且位于所述第二像素开口沿第二方向的侧部，所述第四像素开口同时与所述第一像素开口和所述第三像素开口相邻；一个所述第一透光块与所述第一显示区中的一个所述透光分区对应设置，一个所述第二透光块与所述第三显示区中的一个透光分区对应设置。
在一实施例中，所述第一透光块和所述第二透光块在所述基底上的正投影的形状与对应的透光分区的形状相适配。
在一实施例中，所述第一透光块和所述第二透光块在所述基底上的正投影的边侧的形状为弧形。
在一实施例中，所述抑制层在所述基底上的正投影与所述第二显示区在所述基底上的正投影相离。
在一实施例中，所述抑制层在所述基底上的正投影与所述阳极在所述基底上的正投影相离。
本申请实施例还提供了一种显示面板的制备方法，所述显示面板包括第一显示区、围绕所述第一显示区的至少部分设置的第二显示区，以及，位于所述第一显示区和所述第二显示区之间的第三显示区，所述显示面板的制备方法包括：
在所述基底的一侧形成像素定义层，所述像素定义层上设置有多个相间隔的像素开口，相邻两个所述像素开口之间设置有间隙区；
在所述像素定义层远离所述基底的一侧上形成抑制层，所述抑制层位于所述间隙区；所述抑制层包括位于所述第一显示区的第一阴极抑制层以及位于所述第三显示区的第二阴极抑制层；
其中，所述第二阴极抑制层在所述基底上的正投影的面积与所述第三显示区的面积之比小于所述第一阴极抑制层在所述基底上的正投影的面积与所述第一显示区的面积之比。
在一实施例中，所述第二阴极抑制层在所述基底上的正投影的面积与所述第三显示区的面积之比小于或等于所述第一阴极抑制层在所述基底上的正投影的面积与所述第一显示区的面积之比的二分之一。
在一实施例中，所述第一阴极抑制层包括多个相间隔的第一透光块，所述第二阴极抑制层包括多个相间隔的第二透光块；其中，所述第二透光块在所述基底上的正投影的面积小于所述第一透光块在所述基底上的正投影的面积或/和所述第二透光块的数量小于所述第一透光块的数量。
在一实施例中，所述第三显示区包括多个沿远离所述第一显示区排布的分区，所述第二阴极抑制层包括多个分体，所述分体与所述分区一一对应；其中，所述分体包括多个所述第二透光块；与所述第一显示区的距离越大的所述分体，在所述基底上的正投影的面积越小。
在一实施例中，与所述第一显示区的距离越大的所述分体中，所述第二透光块的数量越少。
在一实施例中，所述抑制层在所述基底上的正投影与所述第二显示区在所述基底上的正投影相离。
在一实施例中，所述抑制层在所述基底上的正投影与所述阳极在所述基底上的正投影相离。
 有益效果
通过设置与阴极层粘合力较小甚至相斥的抑制层，在采用整面蒸镀工艺形成阴极层时，在抑制层上沉积的阴极层较薄或没有阴极层沉积，从而可以在不改变阴极层的制程工艺的前提下，极大的提升第一显示区的透光率，使得设置在第一显示区的光学元件可以接收到充足的光信号，进而提升光学元件的成像效果；同时通过在第一显示区和第二显示区之间设置起过渡作用的第三显示区，并且第三显示区也可以进行显示，不会影响显示面板的全面显示，同时通过对第一显示区和第二显示区中的抑制层的面积的设置，在利用抑制层提高第一显示区的透光率的前提下，可以利用抑制层使得第一显示区的显示亮度大于第二显示区的显示亮度，并且第二显示区的显示亮度大于第三显示区的显示亮度，缩小第一显示区与第三显示区的边界处以及第二显示区与第三显示区的边界处的亮度差异，从而提升显示效果。
 附图说明
图1是本申请实施例提供的显示面板的第一种结构的平面示意图；
图2是本申请实施例提供的显示面板的第二种结构的结构示意图；
图3是本申请实施例提供的显示面板的第三种结构的结构示意图；
图4是本申请实施例提供的显示面板中像素开口与第一透光块和第二透光块的第一种排布方式的排布示意图；
图5是本申请实施例提供的显示面板中像素开口与第一透光块和第二透光块的第二种排布方式的排布示意图；
图6是本申请实施例提供的显示面板中像素开口与第一透光块和第二透光块的第三种排布方式的排布示意图；
图7是本申请实施例提供的显示面板中像素开口与第一透光块和第二透光块的第四种排布方式的排布示意图；
图8是本申请实施例提供的显示面板中像素开口与第一透光块和第二透光块的第五种排布方式的排布示意图；
图9是本申请实施例提供的显示面板中像素开口与第一透光块和第二透光块的第六种排布方式的排布示意图；
图10是本申请实施例提供的显示面板中像素开口与第一透光块和第二透光块的第七种排布方式的排布示意图；
图11是本申请实施例提供的显示面板中像素开口与第一透光块和第二透光块的第八种排布方式的排布示意图；
图12是本申请实施例提供的显示面板的第四种结构的平面示意图；
图13是本申请实施例提供的显示面板的的制备步骤示意图。
附图标记说明：
11、第一显示区；12、第二显示区；13、第三显示区；141、发光区；142、透光区；20、第一子像素；21、阳极；22、发光层；23、阴极层；231、搭接部；24、第一辅助层；25、第二辅助层；30、第二子像素；41、基底；42、阵列层；421、有源层；422、第一绝缘层；423、第一栅极；424、第二绝缘层；425、第二栅极；426、层间介质层；427、源漏金属层；428、平坦层；43、像素定义层；431、像素开口；431a、第一像素开口；431b、第二像素开口；431c、第三像素开口；431d、第四像素开口；441、第一阴极抑制层；441a、第一透光块；442、第二阴极抑制层；442a、第二透光块。
 本发明的实施方式
本申请提供一种显示面板及其制备方法，为使本申请的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下参照附图并举实施例对本申请进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。
本申请实施例提供一种显示面板及其制备方法。以下分别进行详细说明。需说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。
本申请实施例提供一种显示面板，如图1所示，所述显示面板包括第一显示区11、第二显示区12和第三显示区13；所述第二显示区12临近所述第一显示区11设置，所述第三显示区13位于所述第一显示区11和所述第二显示区12之间，第一显示区11可以设置于显示面板上的任意位置。
其中，显示面板为全面屏显示面板，所述第一显示区11和所述第三显示区13中排布有多个第一子像素20，所述第二显示区12中排布有多个第二子像素30。
需要说明的是，第一显示区11为功能附加区，第一显示区11既可以用于显示图像，从而使得显示面板可以呈现全屏显示的效果，又可以用于安装摄像头、光学触控组件以及指纹识别传感器等光学元件，从而提高用户体验；第二显示区12为主显示区，第二显示区12用于显示图像；第三显示区13为显示过渡区，用于缓解第一显示区11和第二显示区12的亮度差异导致显示效果降低的问题。
还需要说明的是，第一显示区11中的第一子像素20的像素密度与第三显示区13中的第一子像素20的像素密度，以及，第二显示区12中的第二子像素30的像素密度可以相同或不同。
在一实施方式中，所述第一显示区11的透光率大于所述第二显示区12的透光率，第三显示区13的透光率可以大于或小于所述第一显示区11的透光率。
可以理解的是，对于光学元件而言，第一显示区11的透光性对光学元件的工作具有极大的影响，而第一显示区11处的透光性又与第一显示区11处的膜层结构相关，以光学元件为摄像头为例，第一显示区11的透光率越高，摄像头进行拍摄工作时，摄像头的成像品质越好。
具体的，如图2和图3所示，所述显示面板包括基底41、设置于所述基底41的一侧的像素定义层43，以及，设置于所述像素定义层43远离所述基底41的一侧的阴极层23；所述像素定义层43上设置有多个相间隔的像素开口431，相邻两个所述像素开口431之间设置有间隙区。
其中，基底41可以是柔性基底41，柔性基底41的材料可以是聚酰亚胺等有机材料；基底41也可以是刚性基底41，刚性基底41的材料例如可以为玻璃、金属、塑料等；基底41可以为单层膜层结构或多层膜层结构。
在本申请实施例中，所述第一显示区11和第三显示区13设置有抑制层，所述由抑制层由透光材料制成；所述抑制层设置于所述像素定义层43远离所述基底的一侧，并且所述抑制层位于所述间隙区。
其中，所述阴极层23覆盖所述像素开口431和至少部分所述抑制层，位于所述抑制层上的所述阴极层23的厚度小于位于所述像素开口431上的所述阴极层的厚度。
需要说明的是，通过设置与阴极层23粘合力较小甚至相斥的抑制层，在采用整面蒸镀工艺形成阴极层23时，由于阴极层23与其他膜层的粘合力大于阴极层23与抑制层的粘合力，使得在抑制层上沉积的阴极层23较薄、较少或没有阴极层23沉积，从而在间隙区处沉积的阴极层23较薄或没有阴极层23沉积，从而在不改变阴极层23的制程工艺的前提下，提升第一显示区11的透光率，使得设置在第一显示区11的光学元件可以接收到充足的光信号。
在一实施方式中，如图2所示，位于所述抑制层上的所述阴极层23的厚度大于0，即在抑制层上沉积有较薄的阴极层23。
在另一实施方式中，如图3所示，所述抑制层包括多个透光块，所述透光块包括平台部和位于所述平台部边缘的边缘部，位于所述平台部上的所述阴极层23的厚度为0，所述阴极层23覆盖所述边缘部的至少一部分，即仅在边缘部沉积有较薄的阴极层，而在平台部上没有阴极层23沉积。
在一实施例中，阴极层23的材料可以为金属镁，抑制层的材料可以为BAlq(双(2-甲基-8-羟基喹啉)-4-(对苯基苯酚)合铝)、TAZ(3-(联苯-4-基)-5-(4-叔丁基苯基)-4-苯基-4H-1,2,4-三唑)及OTI（氧化铟）中的至少一种。金属镁在BAlq、TAZ和OTI材料上的附着力较差，在蒸镀金属镁形成阴极层23时，抑制层抑制金属镁在抑制层上成膜。
在本申请实施例中，所述抑制层包括位于所述第一显示区11的第一阴极抑制层441，以及，位于所述第三显示区13的第二阴极抑制层442。
其中，所述第二阴极抑制层442在所述基底41上的正投影的面积与所述第三显示区13的面积之比小于所述第一阴极抑制层441在所述基底41上的正投影的面积与所述第一显示区11的面积之比。
需要说明的是，理论上，第一阴极抑制层441的面积越大，第一显示区11的透光率越大，然而，在利用第一阴极抑制层441减薄甚至去除部分阴极层23时，会造成第一显示区11的显示亮度明显增大，导致第一显示区11的显示亮度比第二显示区12的显示亮度大，从而会导致第一显示区11与第二显示区12在边界处存在较大的亮度差异，影响显示面板的显示效果。
可以理解的是，通过在第一显示区11和第二显示区12之间设置起过渡作用的第三显示区13，并且第三显示区13也可以进行显示，不会影响显示面板的全面显示，同时通过对第一显示区11和第二显示区12中的第一阴极抑制层441和第二阴极抑制层442的面积的设置，在利用第一阴极抑制层441提高第一显示区11的透光率的前提下，可以使得第一显示区11的显示亮度大于第二显示区12的显示亮度，并且第二显示区12的显示亮度大于第三显示区13的显示亮度，缩小第一显示区11与第三显示区13的边界处以及第二显示区12与第三显示区13的边界处的亮度差异，从而提升显示效果。
在一实施例中，所述第二阴极抑制层442在所述基底41上的正投影的面积与所述第三显示区13的面积之比小于或等于所述第一阴极抑制层441在所述基底41上的正投影的面积与所述第一显示区11的面积之比的二分之一，以使得第二显示区12可以起到更好的显示亮度过渡作用，从而可以进一步改善第一显示区11与第三显示区13之间的亮度差异。
在一实施例中，所述阴极层23与所述像素开口431对应的部分的厚度大于或等于所述抑制层的厚度，以防止阴极层23与抑制层之间形成较大的高度差影响封装层的设置。
在本申请实施例中，所述第一阴极抑制层441在所述基底41上的正投影的面积（以下简称“第一阴极抑制层441的面积”）小于或等于所述第一显示区11的面积的0.95倍。
可以理解的是，理论上，第一阴极抑制层441的面积越大，第一显示区11的透光率越大，然而，由于第一显示区11中需要设置足够数量的第一子像素20，并且在利用第一阴极抑制层441减薄甚至去除位于第一显示区11中的阴极层23时，阴极层23变薄的同时会导致阴极层23的电阻增大，影响阴极层23的电学性能，从而影响第一子像素20的正常显示，因此所述第一阴极抑制层441的设置面积不可能无限大，通过对第一阴极抑制层441与第一显示区11的面积比例进行设置，以在保证第一显示区11可以正常进行显示的前提下，最大可能的提升第一显示区11的透光率。
进一步的，所述第一阴极抑制层441在所述基底41上的正投影的面积大于或等于所述第一显示区11的面积的0.05倍。
需要说明的是，第一阴极抑制层441设置的面积越小，对第一显示区11中阴极层23的电学性能和第一子像素20的影响越少，然而，设置第一阴极抑制层441需要增加额外的工序和材料，会提高显示面板的制备成本，第一阴极抑制层441的设置面积过小，会导致第一显示区11的透光率提升较小，降低了设置第一阴极抑制层441的性价比。
在一实施例中，所述第一子像素20设置于所述基底41的一侧；所述第一子像素20包括阳极21、发光层22以及所述阴极层23；所述发光层22设置于所述阳极21远离所述基底41的一侧，所述阴极层23设置于所述发光层22远离所述基底41的一侧上。
具体的，所述显示面板还包括设置于所述基底41的一侧的阵列层42。
其中，所述阳极21位于所述阵列层42远离所述基底41的一侧上，所述像素开口431露出阳极21的至少一部分；所述像素定义层43设置于所述阵列层42和所述阳极21远离所述基底41的一侧上，所述阴极23设置于所述像素定义层43远离所述基底41的一侧。
具体的，所述抑制层在所述基底41上的正投影与所述阳极21在所述基底41上的正投影相离，即第一阴极抑制层441在基底41上的正投影与第一显示区11中的阳极21在基底41上的正投影相离，同时第二阴极抑制层442在基底41上的正投影与第三显示区13中的阳极21在基底41上的正投影相离。
需要说明的是，阳极21在基底41上的正投影会覆盖所述像素开口431在所述基底41上的正投影，而为了保证第一子像素20的正常显示，需要保证阴极层23在基底41上的正投影覆盖所述像素开口431在所述基底41上的正投影，通过将抑制层与阳极21设置成不重合，可以保证第一透光块441a和第二透光块442a与像素开口431保持一定的间距，同时保证阴极层23在基底41上的正投影可以覆盖所述像素开口431在所述基底41上的正投影，防止抑制层的设置对第一显示区11和第三显示区13的显示造成干扰和不良影响。
在一实施例中，所述抑制层在所述基底41上的正投影与所述第二显示区12在所述基底41上的正投影相离。
可以理解的是，抑制层仅设置在第一显示区11和第三显示区13，第二显示区12中未设置抑制层，以避免抑制层影响第二显示区12的正常显示。
如图2至图11所示，在一实施例中，所述第一阴极抑制层441包括多个相间隔的第一透光块441a，所述第二阴极抑制层442包括多个相间隔的第二透光块442a。
其中，所述第二透光块442a在所述基底41上的正投影的面积（以下简称“第二透光块442a的面积”）小于所述第一透光块441a在所述基底41上的正投影的面积（以下简称“第一透光块441a的面积”）或/和所述第二透光块442a的数量小于所述第一透光块441a的数量。
可以理解的是，通过设置成第二透光块442a的数量少于第一透光块441a的数量或/和单个第二透光块442a的面积小于单个第一透光块441a的面积，从而使得第二阴极抑制层442的面积小于第一阴极抑制层441的面积。
需要说明的是，所有第一透光块441a在所述基底41上的正投影的面积可以相同或不同，所有第二透光块442a在所述基底41上的正投影的面积可以相同或不同，第二透光块442a在基底41上的正投影的面积小于第一透光块441a在基底41上的正投影的面积，指的是面积最大的第二透光块442a的面积小于面积最小的第一透光块441a的面积。
在一实施方式中，所述第二透光块442a的数量小于所述第一透光块441a的数量时，所有所述第一透光块441a在所述基底41上的正投影的面积均相同，所有所述第二透光块442a在所述基底41上的正投影的面积均相同，所述第一透光块441a在所述基底41上的正投影的面积与所述第二透光块442a在所述基底41上的正投影的面积相同。
具体的，所述第三显示区13包括多个沿远离所述第一显示区11排布的分区，所述第二阴极抑制层442包括多个分体，所述分体与所述分区一一对应。
其中，所述分体包括多个所述第二透光块442a；与所述第一显示区11的距离越大的所述分体，在所述基底41上的正投影的面积越小（以下简称“分体的面积”）。
可以理解的是，分区与第一显示区11的距离越大，即与该分区对应设置的分体与第一显示区11的距离越大，每一分体由位于对应的分区中的所有第二透光块442a组成，通过将第三显示区13中的第一阴极抑制层441的分体设置为渐变式排布的方式，分体的面积越小的区域处的显示亮度越小，从而使得第三显示区13的各分区的显示亮度呈现由第一显示区11向第二显示区12的方向逐渐降低的现象，从而使得第三显示区13起到更好的显示亮度过渡作用，提升显示面板的显示效果。
需要说明的是，分体可以为一体成型的结构，即多个第二透光块442a相互连接一体成型；每一分体的所有第二透光块442a也可以间隔设置，每一分体的所有第二透光块442a可以绕第一显示区11排布。
在一实施方式中，与所述第一显示区11的距离越大的所述分体中，所述第二透光块442a的数量越少。
此时，所有分体中的所有第二透光块442a的面积可以相同或不同。
在一实施方式中，与所述第一显示区11的距离越大的所述分体中，所述第二透光块442a在所述基底41上的正投影的面积越小。
此时，所有分体中的所有第二透光块442a的数量可以相同或不同。
需要说明的是，通过对第二透光块442a的数量或/和面积进行设置，从而使得各分区中分体的面积呈现渐进式的变化。
具体的，所述阴极层23包括与所述像素开口431一一对应的电极部以及用于连接相邻两个所述电极部的搭接部231，所述搭接部231位于所述第一显示区11和所述第三显示区13，相邻两个电极部通过所述搭接部231连接。
需要说明的是，电极部与第一子像素20一一对应，电极部分散设置，即第一子像素20分散设置，可以避免显示集中导致显示时出现大片区域不显示或显示较差的情况，有助于提升用户的使用体验，同时利用搭接部231连接电极部，以降低阴极层23的整体电阻，进而可减小压降导致的第一显示区11的中心区域与边缘区域的电流大小的差别，从而可提升第一显示区11的显示亮度的均匀性。
在一实施例中，所述搭接部231与电极部位于不同层别，搭接部231与电极部可以采用相同或不同的材料制成。
当搭接部231与电极部采用不同的材料制成时，搭接部231可以采用透明导电金属制成，此时可在整面蒸镀阴极层23时，利用抑制层去除阴极层23与阳极21对应之外的部分，仅保留阴极层23与阳极21对应的部分，从而大幅度提升第一显示区11的透光率，同时利用搭接部231减小阴极层23的整体电阻。
在一实施例中，所述搭接部231与电极部同层设置，搭接部231与电极部可以采用相同或不同的材料制成。
当搭接部231与电极部采用不同的材料制成时，搭接部231可以采用透明导电金属制成，以大幅度提升第一显示区11的透光率，同时利用搭接部231减小电极部的电阻。
当搭接部231与电极部采用相同的材料制成时，所述搭接部231可以与所述电极部一体成型。
此时，相邻两个所述第一透光块441a之间以及相邻两个所述第二透光块442a之间均设置有搭接区，所述搭接部231位于所述搭接区。
需要说明的是，在整面蒸镀形成所有子像素的阴极层23时，在相邻两个所述第一透光块441a之间以及相邻两个所述第二透光块442a之间的搭接区处同时沉积阴极材料，以同时形成电极部和连接电极部的搭接部231，从而可以在无需增加制程的前提下，减小阴极层23的整体电阻。
具体的，所述第一显示区11和所述第三显示区13均包括发光区141和透光区142，所述发光区141用于发射光线以进行显示，所述透光区142用于透射外部光线以提升第一显示区11和第三显示区13的透光率。
其中，所述第一子像素20的阳极21位于所述发光区141，所述第一透光块441a和所述第二透光块442a位于所述透光区142。
可以理解的是，将抑制层集中设置在透光区142，同时通过对抑制层的第一阴极抑制层441和第二阴极抑制层442的面积的设置，可以达到第一显示区11的透光率大于第三显示区13的透光率，并且第三显示区13的透光率大于第二显示区12的透光率的效果。
在一实施例中，所述第一显示区11和所述第三显示区13均包括多个透光分区，每一所述透光分区由所述搭接部231与多个所述像素开口431中的第一像素开口431a、第二像素开口431b、第三像素开口431c以及第四像素开口431d所围成。
其中，所述第二像素开口431b与所述第一像素开口431a相邻且位于所述第一像素开口431a沿第一方向的侧部，所述第三像素开口431c与所述第二像素开口431b相邻且位于所述第二像素开口431b沿第二方向的侧部，所述第四像素开口431d同时与所述第一像素开口431a和所述第三像素开口431c相邻。
需要说明的是，参见图4，每一透光分区由4个相邻的像素开口431与搭接部231所围成。
还需要说明的是，第一方向和第二方向为不同的方向，即第一方向与第二方向交叉，如参见图4所示，在图4中，第一方向平行于第一像素开口431a与第二像素开口431b之间搭接部231的长度方向，第二方向平行于第二像素开口431b与第三像素开口431c之间搭接部231的长度方向。
可以理解的是，通过对像素开口431以及第一透光块441a和第二透光块442a的位置进行设计，使得第一子像素20和第一透光块441a在第一显示区11中的分布更加均匀，从而保证第一显示区11的显示亮度和透光率的整体均一性。
在一实施例中，一个所述第一透光块441a与所述第一显示区中的一个所述透光分区对应设置，一个所述第二透光块442a与所述第三显示区中的一个所述透光分区对应设置，以使得第一透光块441a和第二透光块442a分布的更加均匀，从而提升第一显示区11和第三显示区13的显示亮度的均匀性。
其中，可以设置为所述第一显示区11中的所述第一透光块441a与所述透光分区一一对应，所述第二显示区12中的所述第二透光块442a位于部分所述透光分区中。
可以理解的是，第一显示区11中的每一透光分区均对应设置有第一透光块441a，从而增加第一显示区11中第一阴极抑制层441的面积，大幅度提升第一显示区11的透光率，而第三显示区13中仅有部分透光分区中设置有第二透光块442a，从而可以通过减少第二透光块442a的数量来减少第三显示区13中抑制层的第二阴极抑制层442的面积。
在一实施例中，围合形成透光分区的四个所述像素开口431中，每一所述像素开口431对应一个所述第一子像素20，与围合形成透光分区的四个所述像素开口431对应的四个第一子像素20中，包括至少一个红色子像素（“R”子像素）、一个绿色子像素（“G”子像素）和一个蓝色子像素（“B”子像素）。
在一实施例中，如图4所示，所述第一透光块441a和所述第二透光块442a在所述基底41上的正投影的形状与对应的透光分区的形状相适配，以在透光分区的面积不变的前提下，增大所述第一透光块441a和所述第二透光块442a的可设置面积，从而进一步提升第一显示区11和第三显示区13的透光率。
在一实施例中，如图5和图6所示，所述第一透光块441a和所述第二透光块442a在所述基底41上的正投影的边侧的形状为弧形，所述第一透光块441a和所述第二透光块442a的整体形状可以为圆形（图5）、大半圆形、椭圆形（图6）或大半椭圆形等边侧为弧形的形状。
可以理解的是，在抑制层的制备过程中，所述第一透光块441a和所述第二透光块442a的形状取决于图案化时使用的掩膜板上开孔的形状，开孔的形状和精度取决于工艺和加工设备的精度，弧形控的工艺更成熟，加工精度更高，从而使得最终成型的所述第一透光块441a和所述第二透光块442a的形状的精度更高，从而可以防止最终成型的所述第一透光块441a和所述第二透光块442a与落入像素开口431中影响第一子像素20的正常显示，以提升显示面板的制备良率。
如图7和图8所示，所述第一透光块441a和所述第二透光块442a的形状也可以为方形（图7）、八边形（图8）或三角形等规则或不规则的形状。
需要说明的是，需要说明的是，像素开口431的形状与第一子像素20的形状相匹配，图4至图8仅示意了像素开口431的形状为圆形的情况，在一实施例中，如图9至图11所示，像素开口431的形状还可以为棱形（图9）、方形（图10）或椭圆形（图11）等，所有像素开口431的形状可以相同或不同。
还需要说明的是，图4至图11中仅示意了所述第一透光块441a和所述第二透光块442a的形状和大小均相同的情况，在一实施例中，所述第一透光块441a和所述第二透光块442a的形状可以均不相同或部分不同，所述第一透光块441a和所述第二透光块442a的大小可以均不相同或部分不同。
可以理解的是，图4至图11中的搭接部231的形状仅为示意，搭接部231的形状可以与搭接区的形状相适配，搭接部231分布在整个搭接区。
如图12所示，在一实施例中，所述发光层22为有机发光材料层，所述显示面板还包括位于阳极21远离所述基底41的一侧第一辅助层24，以及，位于第一辅助层24远离所述基底41的一侧的第二辅助层25。
其中，所述发光层22位于所述第一辅助层24和第二辅助层25之间，所述发光层22位于所述像素开口431中，所述第一辅助层24的部分位于所述像素定义层43上且覆盖所述阳极21位于所述像素开口431中的部分。
其中，第一辅助层24可以包括沿远离基底41的方向依次层叠设置的空穴注入层和空穴传输层，所述空穴注入层覆盖所述阳极21；所述第二辅助层25可以包括沿远离基底41的方向依次层叠设置的电子传输层和电子注入层，所述电子传输层覆盖所述发光层22。
在本申请实施例中，所述第一辅助层24和所述第二辅助层25的制备材料为透明材料，对第一显示区11的透光率的影响较小，因此，所述第一辅助层24和所述第二辅助层25可以覆盖发光区141和透光区142。
可以理解的是，此时，所述阴极层23和所述抑制层设置于所述第二辅助层25远离所述基底41的一侧上，所述阴极层23与所述第二辅助层25的粘合力大于所述阴极层23与所述抑制层的粘合力，使得所述阴极层23在所述第二辅助层25上的部分的厚度，大于所述阴极层23在所述抑制层上的部分的厚度。
在一实施例中，所述发光层22仅位于发光区141，透光区142中未设置发光层22，可避免发光层22影响透光区142的透光率，有助于提升第一显示区11的透光率。
在一实施例中，所述阵列层42包括设置于所述基底41上的有源层421、覆盖所述有源层421的第一绝缘层422、设置于所述第一绝缘层422远离所述有源层421的一侧上的第一栅极423、覆盖所述第一栅极423的第二绝缘层424、设置于所述第二绝缘层424远离所述基底41的一侧上的第二栅极425、覆盖所述第二栅极425的层间介质层426、设置于所述层间介质层426远离所述基底41的一侧上的源漏金属层427，以及，覆盖所述源漏金属层427的平坦层428。
其中，所述阳极21和所述像素定义层43设置于所述平坦层428远离所述基底41的一侧上，所述源漏金属层427包括源极和漏极，所述阳极21通过过孔与源极和漏极中的一者触接。
基于上述显示面板，本申请还提供一种显示面板的制备方法，所述显示面板包括第一显示区11、围绕所述第一显示区11的至少部分设置的第二显示区12，以及，位于所述第一显示区11和所述第二显示区12之间的第三显示区13。
具体的，如图13所示，所述显示面板的制备方法包括：
S10、在所述基底41的一侧形成像素定义层43，所述像素定义层43上设置有多个相间隔的像素开口431，相邻两个所述像素开口431之间设置有间隙区；
S20、在所述像素定义层43远离所述基底41的一侧上形成抑制层，所述抑制层位于所述间隙区；所述抑制层包括位于所述第一显示区11的第一阴极抑制层441以及位于所述第三显示区13的第二阴极抑制层442；所述第二阴极抑制层442在所述基底41上的正投影的面积与所述第三显示区13的面积之比小于所述第一阴极抑制层441在所述基底41上的正投影的面积与所述第一显示区11的面积之比。
在本申请实施例中，所述显示面板的具体结构可以参阅任一上述显示面板的实施例及附图，在此不再赘述。
可以理解的是，对本领域普通技术人员来说，可以根据本申请的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，而所有这些改变或替换都应属于本申请所附的权利要求的保护范围。

Claims (20)

  1. 一种显示面板，其中，所述显示面板包括第一显示区、第二显示区，以及，位于所述第一显示区和所述第二显示区之间的第三显示区；所述显示面板还包括：
    基底；
    像素定义层，所述像素定义层设置于所述基底的一侧，所述像素定义层上设置有多个相间隔的像素开口，相邻两个所述像素开口之间设置有间隙区；
    抑制层，所述抑制层设置于所述像素定义层远离所述基底的一侧，所述抑制层位于所述间隙区；
    其中，所述抑制层包括位于所述第一显示区的第一阴极抑制层以及位于所述第三显示区的第二阴极抑制层；所述第二阴极抑制层在所述基底上的正投影的面积与所述第三显示区的面积之比小于所述第一阴极抑制层在所述基底上的正投影的面积与所述第一显示区的面积之比。
  2. 根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述第二阴极抑制层在所述基底上的正投影的面积与所述第三显示区的面积之比小于或等于所述第一阴极抑制层在所述基底上的正投影的面积与所述第一显示区的面积之比的二分之一。
  3. 根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述第一阴极抑制层包括多个相间隔的第一透光块，所述第二阴极抑制层包括多个相间隔的第二透光块；
    其中，所述第二透光块在所述基底上的正投影的面积小于所述第一透光块在所述基底上的正投影的面积或/和所述第二透光块的数量小于所述第一透光块的数量。
  4. 根据权利要求3所述的显示面板，其中，所述第三显示区包括多个沿远离所述第一显示区排布的分区，所述第二阴极抑制层包括多个分体，所述分体与所述分区一一对应；
    其中，所述分体包括多个所述第二透光块；与所述第一显示区的距离越大的所述分体，在所述基底上的正投影的面积越小。
  5. 根据权利要求4所述的显示面板，其中，与所述第一显示区的距离越大的所述分体中，所述第二透光块的数量越少。
  6. 根据权利要求4或5所述的显示面板，其中，与所述第一显示区的距离越大的所述分体中，所述第二透光块在所述基底上的正投影的面积越小。
  7. 根据权利要求3所述的显示面板，其中，所述显示面板还包括设置于所述像素定义层远离所述基底的一侧的阴极层，所述阴极层覆盖所述像素开口和至少部分所述抑制层；
    其中，位于所述抑制层上的所述阴极层的厚度小于位于所述像素开口上的所述阴极层的厚度。
  8. 根据权利要求7所述的显示面板，其中，所述阴极层包括与所述像素开口一一对应的电极部以及用于连接相邻两个所述电极部的搭接部，所述搭接部位于所述第一显示区和所述第三显示区。
  9. 根据权利要求8所述的显示面板，其中，所述第一显示区和所述第三显示区均包括多个透光分区，每一所述透光分区由所述搭接部与多个所述像素开口中的第一像素开口、第二像素开口、第三像素开口以及第四像素开口所围成；
    其中，所述第二像素开口与所述第一像素开口相邻且位于所述第一像素开口沿第一方向的侧部，所述第三像素开口与所述第二像素开口相邻且位于所述第二像素开口沿第二方向的侧部，所述第四像素开口同时与所述第一像素开口和所述第三像素开口相邻；一个所述第一透光块与所述第一显示区中的一个所述透光分区对应设置，一个所述第二透光块与所述第三显示区中的一个透光分区对应设置。
  10. 根据权利要求9所述的显示面板，其中，所述第一透光块和所述第二透光块在所述基底上的正投影的形状与对应的透光分区的形状相适配。
  11. 根据权利要求9所述的显示面板，其中，所述第一透光块和所述第二透光块在所述基底上的正投影的边侧的形状为弧形。
  12. 根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述抑制层在所述基底上的正投影与所述第二显示区在所述基底上的正投影相离。
  13. 根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述抑制层在所述基底上的正投影与所述阳极在所述基底上的正投影相离。
  14. 一种显示面板的制备方法，其中，所述显示面板包括第一显示区、围绕所述第一显示区的至少部分设置的第二显示区，以及，位于所述第一显示区和所述第二显示区之间的第三显示区，所述显示面板的制备方法包括：
    在所述基底的一侧形成像素定义层，所述像素定义层上设置有多个相间隔的像素开口，相邻两个所述像素开口之间设置有间隙区；
    在所述像素定义层远离所述基底的一侧上形成抑制层，所述抑制层位于所述间隙区；所述抑制层包括位于所述第一显示区的第一阴极抑制层以及位于所述第三显示区的第二阴极抑制层；
    其中，所述第二阴极抑制层在所述基底上的正投影的面积与所述第三显示区的面积之比小于所述第一阴极抑制层在所述基底上的正投影的面积与所述第一显示区的面积之比。
  15. 根据权利要求14所述的显示面板的制备方法，其中，所述第二阴极抑制层在所述基底上的正投影的面积与所述第三显示区的面积之比小于或等于所述第一阴极抑制层在所述基底上的正投影的面积与所述第一显示区的面积之比的二分之一。
  16. 根据权利要求14所述的显示面板的制备方法，其中，所述第一阴极抑制层包括多个相间隔的第一透光块，所述第二阴极抑制层包括多个相间隔的第二透光块；
    其中，所述第二透光块在所述基底上的正投影的面积小于所述第一透光块在所述基底上的正投影的面积或/和所述第二透光块的数量小于所述第一透光块的数量。
  17. 根据权利要求16所述的显示面板的制备方法，其中，所述第三显示区包括多个沿远离所述第一显示区排布的分区，所述第二阴极抑制层包括多个分体，所述分体与所述分区一一对应；
    其中，所述分体包括多个所述第二透光块；与所述第一显示区的距离越大的所述分体，在所述基底上的正投影的面积越小。
  18. 根据权利要求17所述的显示面板的制备方法，其中，与所述第一显示区的距离越大的所述分体中，所述第二透光块的数量越少。
  19. 根据权利要求14所述的显示面板的制备方法，其中，所述抑制层在所述基底上的正投影与所述第二显示区在所述基底上的正投影相离。
  20. 根据权利要求14所述的显示面板的制备方法，其中，所述抑制层在所述基底上的正投影与所述阳极在所述基底上的正投影相离。
PCT/CN2021/083814 2021-03-09 2021-03-30 显示面板及其制备方法 WO2022188216A1 (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110257751.1A CN113054134B (zh) 2021-03-09 2021-03-09 显示面板
CN202110257751.1 2021-03-09

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2022188216A1 true WO2022188216A1 (zh) 2022-09-15

Family

ID=76510916

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/CN2021/083814 WO2022188216A1 (zh) 2021-03-09 2021-03-30 显示面板及其制备方法

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN113054134B (zh)
WO (1) WO2022188216A1 (zh)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220046551A (ko) 2019-06-26 2022-04-14 오티아이 루미오닉스 인크. 광 회절 특성을 갖는 광 투과 영역을 포함하는 광전자 디바이스
US11832473B2 (en) 2019-06-26 2023-11-28 Oti Lumionics Inc. Optoelectronic device including light transmissive regions, with light diffraction characteristics
US11985841B2 (en) 2020-12-07 2024-05-14 Oti Lumionics Inc. Patterning a conductive deposited layer using a nucleation inhibiting coating and an underlying metallic coating
CN113113456B (zh) * 2021-03-31 2022-11-08 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种oled显示面板及其制备方法、显示装置
CN113555395B (zh) * 2021-07-07 2022-11-01 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及显示装置
CN113629205B (zh) * 2021-07-19 2023-02-10 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及显示装置
CN113629207B (zh) * 2021-07-20 2023-04-07 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及显示装置
CN113629208B (zh) * 2021-07-20 2023-04-07 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及显示装置
CN113745433B (zh) * 2021-09-08 2023-06-02 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示面板
CN113997868B (zh) * 2021-11-15 2023-07-04 武汉华星光电技术有限公司 车载显示装置
CN117396037A (zh) * 2022-02-14 2024-01-12 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及移动终端

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110867523A (zh) * 2019-10-30 2020-03-06 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及其制造方法
CN111682120A (zh) * 2020-06-22 2020-09-18 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板及其制备方法和显示装置
CN112054048A (zh) * 2020-09-17 2020-12-08 合肥维信诺科技有限公司 透光显示模组、显示面板及其制备方法
CN112103318A (zh) * 2020-09-17 2020-12-18 合肥维信诺科技有限公司 显示面板、显示面板的制备方法及显示装置
WO2021017322A1 (zh) * 2019-07-30 2021-02-04 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 有机发光二极管显示面板及其制作方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021017322A1 (zh) * 2019-07-30 2021-02-04 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 有机发光二极管显示面板及其制作方法
CN110867523A (zh) * 2019-10-30 2020-03-06 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及其制造方法
CN111682120A (zh) * 2020-06-22 2020-09-18 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板及其制备方法和显示装置
CN112054048A (zh) * 2020-09-17 2020-12-08 合肥维信诺科技有限公司 透光显示模组、显示面板及其制备方法
CN112103318A (zh) * 2020-09-17 2020-12-18 合肥维信诺科技有限公司 显示面板、显示面板的制备方法及显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN113054134B (zh) 2022-06-10
CN113054134A (zh) 2021-06-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2022188216A1 (zh) 显示面板及其制备方法
WO2022188214A1 (zh) 显示面板及其制备方法
JP7297067B2 (ja) 透明な表示パネル、ディスプレイ及びマスク板
US10886481B2 (en) Display substrate with angle-adjusting portion, manufacturing method thereof, and display device
CN107731871B (zh) 显示面板及其制作方法和显示装置
US9722005B2 (en) Light-emitting device, array substrate, display device and manufacturing method of light-emitting device
CN110838505B (zh) 显示结构和显示装置
CN108461527B (zh) 一种有机电致发光显示面板、其制作方法及显示装置
JP2023166481A (ja) 画素アレイ及び表示装置
US11539019B2 (en) Display substrate, manufacturing method thereof, and display device
CN108695370A (zh) Oled基板及制作方法、显示装置
US11502135B2 (en) Display substrate, display panel and display device
US20220255047A1 (en) Display panel and display device
CN108598114A (zh) 有机发光显示面板及其制备方法、显示装置
WO2020077714A1 (zh) 显示面板及其制作方法、显示模组
EP4006982A1 (en) Display substrate and display device
WO2022205507A1 (zh) 一种 oled 显示面板及其制备方法、显示装置
CN112038383A (zh) 一种显示面板、制备方法及显示装置
WO2021012399A1 (zh) 显示面板、显示装置及其制作方法
WO2020233485A1 (zh) 发光器件及其制造方法、掩膜板、显示装置
US11950442B2 (en) Array substrate and manufacturing method thereof, display panel, and electronic apparatus
US20230165098A1 (en) Display substrate, manufacturing method thereof and three-dimensional display apparatus
EP4141949A1 (en) Display panel, display device, and method for manufacturing display panel
CN109950418A (zh) 显示面板及显示屏
US20230055419A1 (en) Display device

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 21929688

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 21929688

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1