WO2022176788A1 - 樹脂組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、樹脂および樹脂の製造方法 - Google Patents

樹脂組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、樹脂および樹脂の製造方法 Download PDF

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WO2022176788A1
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雅臣 牧野
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富士フイルム株式会社
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    • C08F290/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
    • C08F290/04—Polymers provided for in subclasses C08C or C08F
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    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
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    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144—Devices controlled by radiation
    • H01L27/146—Imager structures

Definitions

  • the present invention relates to resin compositions, films, optical filters, solid-state imaging devices, image display devices, resins, and methods for producing resins.
  • a film containing pigments such as color filters is used in solid-state imaging devices.
  • a film containing a colorant such as a color filter is manufactured using a resin composition containing a pigment, a resin, and a solvent.
  • Patent Document 1 discloses a resin composition containing a pigment, a dispersant, a binder resin, an epoxy compound, and a solvent, wherein the dispersant is a tetracarboxylic anhydride (b1) and a tricarboxylic anhydride (b2 ), a polyester portion X1′ having a carboxyl group, obtained by reacting an acid anhydride group in one or more acid anhydrides (b) with a hydroxyl group in a hydroxyl group-containing compound (a), and an ethylenically unsaturated and a vinyl polymer portion X2′ obtained by radically polymerizing the monomer (c) and having a thermally crosslinkable functional group, wherein the thermally crosslinkable functional group is a hydroxyl group, an oxetane group, a t-butyl group, or a block
  • An invention relating to a resin composition containing at least one dispersant (X) selected from the group consisting of iso
  • the dispersibility of the pigment is good. If the dispersibility of the pigment is insufficient, the pigment tends to agglomerate in the resin composition and become coarse, or the viscosity of the resin composition tends to increase. Further, even if the viscosity of the resin composition immediately after production is low, the viscosity may increase over time.
  • an object of the present invention is to provide a resin composition having excellent pigment dispersibility. Another object of the present invention is to provide a film, an optical filter, a solid-state imaging device, and an image display device using the resin composition. Another object of the present invention is to provide a resin and a method for producing the resin.
  • a coloring material A containing a pigment a resin B; a solvent C
  • the resin B is a compound having three or more functional groups selected from primary amino groups, secondary amino groups and hydroxy groups and having a molecular weight of less than 500, and a macromonomer having an acid anhydride structure at the terminal.
  • a resin composition comprising a resin B1a that is a reaction product with ⁇ 2> a coloring material A containing a pigment; a resin B; a solvent C,
  • the resin B is a resin composition containing a resin B1b represented by the following formula (1);
  • Z 1 represents an l+m-valent linking group
  • Z 2 represents a 2+n-valent linking group
  • X 1 , X 2 and X 3 each independently represent O or NR x1
  • R x1 represents a hydrogen atom or a substituent
  • L 1 represents a divalent linking group
  • P 1 represents the polymer chain
  • R 1 represents a hydrogen atom, a substituent or a counterion
  • Y 1 represents a hydrogen atom or a substituent
  • n represents an integer of 1 or more
  • m represents an integer of 1 or more
  • l represents an integer of 0 or more
  • l + m is 3 or more, when l is 2 or more
  • ⁇ 3> The resin composition according to ⁇ 2>, wherein X 1 and X 3 in formula (1) each independently represent NR x1 , and R x1 represents a hydrogen atom or a substituent.
  • X 1 and X 3 in formula (1) each independently represent NR x1
  • R x1 represents a hydrogen atom or a substituent.
  • m in formula (1) is an integer of 2 or more.
  • Y 1 in the above formula (1) is selected from a hydrogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a phosphoric acid group, an ethylenically unsaturated bond-containing group, an epoxy group, an oxetanyl group, and a group having a dye partial structure.
  • the resin composition according to any one of ⁇ 2> to ⁇ 4> which represents a group having at least one functional group.
  • the polymer chain represented by P 1 in the above formula (1) is a polymer chain containing repeating units of at least one structure selected from a polyether structure, a polyester structure, a poly(meth)acrylic structure, and a polystyrene structure.
  • the polymer chain represented by P 1 in formula (1) contains at least one selected from an ethylenically unsaturated bond-containing group, an epoxy group, an oxetanyl group, and a t-butyl group, ⁇ 2> The resin composition according to any one of ⁇ 6>. ⁇ 8> The resin composition according to any one of ⁇ 2> to ⁇ 7>, wherein L 1 in formula (1) is a divalent linking group containing a sulfur atom.
  • ⁇ 10> The resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 9>, wherein the coloring material A contains at least one selected from diketopyrrolopyrrole pigments and phthalocyanine pigments.
  • the coloring material A contains at least one selected from diketopyrrolopyrrole pigments and phthalocyanine pigments.
  • ⁇ 11> The resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 10>, further comprising a polymerizable monomer.
  • ⁇ 12> The resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 11>, further comprising a photopolymerization initiator.
  • ⁇ 13> A film obtained using the resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 12>.
  • An optical filter comprising the film according to ⁇ 13>.
  • ⁇ 15> A solid-state imaging device comprising the film according to ⁇ 13>.
  • Z 1 represents an l+m-valent linking group
  • Z 2 represents a 2+n-valent linking group
  • X 1 , X 2 and X 3 each independently represent O or NR x1
  • R x1 represents a hydrogen atom or a substituent
  • L 1 represents a divalent linking group
  • P 1 represents the polymer chain
  • R 1 represents a hydrogen atom, a substituent or a counterion
  • Y 1 represents a hydrogen atom or a substituent
  • n represents an integer of 1 or more
  • m represents an integer of 1 or more
  • l represents an integer of 0 or more
  • l + m is 3 or more
  • l X 3 and Y 1 may be the same or different, when m is 2 or more, m X 1 , Z 2 , X 2 , L 1 and P 1 may be the same or different,
  • m X 1 , Z 2 , X 2 , L 1 and P 1
  • a method for producing a resin comprising a step of reacting.
  • a resin composition with excellent pigment dispersibility.
  • a film, an optical filter, a solid-state imaging device, and an image display device using the resin composition can be provided.
  • a resin and a method for producing the resin can be provided.
  • ⁇ is used to include the numerical values before and after it as lower and upper limits.
  • a description that does not describe substitution or unsubstituted includes a group (atomic group) having no substituent as well as a group (atomic group) having a substituent.
  • an "alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
  • Exposure includes not only exposure using light but also drawing using particle beams such as electron beams and ion beams, unless otherwise specified.
  • Light used for exposure includes actinic rays or radiation such as emission line spectra of mercury lamps, far ultraviolet rays represented by excimer lasers, extreme ultraviolet rays (EUV light), X-rays, and electron beams.
  • the (meth)allyl group represents both or either allyl and methallyl
  • “(meth)acrylate” represents both or either acrylate and methacrylate
  • “(meth) "Acrylic” represents both or either of acrylic and methacrylic
  • “(meth)acryloyl” represents both or either of acryloyl and methacryloyl.
  • the weight average molecular weight and number average molecular weight are polystyrene equivalent values measured by GPC (gel permeation chromatography).
  • near-infrared light refers to light with a wavelength of 700 to 2500 nm.
  • total solid content refers to the total mass of all components of the composition excluding the solvent.
  • process does not refer only to an independent process, and even if it cannot be clearly distinguished from other processes, the term can be used as long as the intended action of the process is achieved. included.
  • pigment means a coloring material that is difficult to dissolve in a solvent.
  • symbols e.g., A, etc.
  • added before or after the name are terms used to distinguish the constituent elements, and the type of constituent elements, the number of constituent elements, and the configuration It does not limit the superiority or inferiority of elements.
  • a first aspect of the resin composition of the present invention is A coloring material A containing a pigment; a resin B; a solvent C, Resin B is a compound having three or more functional groups selected from primary amino groups, secondary amino groups, and hydroxy groups and having a molecular weight of less than 500, and a macromonomer having an acid anhydride structure at its terminal. is characterized by containing a resin B1a which is a reaction product of
  • the second aspect of the resin composition of the present invention is a coloring material A containing a pigment; a resin B; a solvent C,
  • the resin B is characterized by containing a resin B1b represented by Formula (1).
  • the resin composition of the present invention is excellent in pigment dispersibility. Although the detailed reason why such an effect is obtained is unknown, it is presumed to be due to the following. That is, the resin B1a has 3 or more functional groups and a molecular weight of less than 500, and a macromonomer having an acid anhydride structure at the terminal reacts to form an amide bond or an ester bond. , is presumed to have a structure in which polymer chains are linked via an amide bond or an ester bond. Further, the resin B1b has a structure in which the polymer chain P1 is bonded via an amide bond (where X 1 in formula ( 1 ) is N RX1 ) or an ester bond (where X 1 in formula (1) is O). .
  • the resin B1a and the resin B1b have an amide bond or an ester bond site, the adsorption of the resin B1a or the resin B1b to the pigment surface is promoted, and the polymer chains possessed by the resin B1a or the resin B1b serve as steric repulsion groups. It is presumed that the aggregation of pigments could be suppressed, and as a result, a resin composition having excellent pigment dispersibility could be obtained.
  • the resin B1a is a reaction product of a compound having three or more primary amino groups and a molecular weight of less than 500 and a macromonomer having an acid anhydride structure at the terminal
  • the resin B1b is N RX1 , an amide bond is formed, the dispersibility of the pigment can be further improved.
  • the resin composition of the present invention by using the resin composition of the present invention, a film having excellent heat resistance can be formed.
  • the resin B1a is a reaction product of a compound having three or more primary amino groups and a molecular weight of less than 500 and a macromonomer having an acid anhydride structure at the terminal
  • the resin B1b In the case where an amide bond is formed when X 1 of is N RX 1 , it is difficult to decompose even at high temperatures, and it is possible to form a film having excellent heat resistance that does not easily cause film shrinkage even after heat treatment at high temperatures.
  • the film was heat-treated at 300° C. for 5 hours in a nitrogen atmosphere.
  • the thickness of the film after heat treatment at 350° C. for 5 hours in a nitrogen atmosphere is preferably 70% or more, and preferably 80% or more, of the thickness of the film before heat treatment. is more preferable, 90% or more is still more preferable, and 95% or more is particularly preferable.
  • the thickness of the film after heat treatment at 400° C. for 5 hours in a nitrogen atmosphere is preferably 70% or more, and preferably 80% or more, of the thickness of the film before heat treatment. is more preferable, 90% or more is still more preferable, and 95% or more is particularly preferable.
  • the absorbance change rate ⁇ A of the heat-treated film represented by the following formula (A1) is preferably 50% or less, more preferably 45% or less, and 40% or less. More preferably, it is particularly preferably 35% or less.
  • ⁇ A (%)
  • A1 is the maximum absorbance in the wavelength range of 400 to 1100 nm of the film before heat treatment
  • A2 is the absorbance of the film after heat treatment, which is the absorbance at the wavelength showing the maximum absorbance in the wavelength range of 400 to 1100 nm of the film before heat treatment.
  • the above physical properties can be achieved by a method such as adjusting the type and content of the specific resin to be used.
  • the wavelength ⁇ 1 showing the maximum absorbance in the wavelength range of 400 to 1100 nm of the film and the wavelength ⁇ 2 indicating the maximum absorbance of the film after the film is heat-treated at 300° C. for 5 hours in a nitrogen atmosphere. It is more preferably 40 nm or less.
  • the above physical properties can be achieved by a method such as adjusting the type and content of the specific resin used.
  • the maximum value of the absorbance change rate ⁇ A ⁇ in the wavelength range of 400 to 1100 nm of the film after heat treatment is preferably 30% or less, more preferably 27% or less, and further preferably 25% or less. preferable.
  • the change rate of absorbance is a value calculated from the following formula (2).
  • ⁇ A ⁇
  • ⁇ A ⁇ is the rate of change in absorbance at the wavelength ⁇ of the film after heat treatment
  • A1 ⁇ is the absorbance at wavelength ⁇ of the film before heat treatment
  • A2 ⁇ is the absorbance at wavelength ⁇ of the film after heat treatment.
  • the resin composition of the present invention is preferably used as a resin composition for optical filters.
  • the optical filter include a color filter, a near-infrared transmission filter, a near-infrared cut filter, and the like, and a color filter is preferable.
  • the resin composition of the present invention can be preferably used as a resin composition for solid-state imaging devices, and more preferably used as a resin composition for pixel formation of optical filters used in solid-state imaging devices.
  • color filters include filters having colored pixels that transmit light of a specific wavelength, and at least one colored pixel selected from red pixels, blue pixels, green pixels, yellow pixels, cyan pixels, and magenta pixels.
  • the filter has A color filter can be formed using a resin composition containing a chromatic colorant.
  • Examples of near-infrared cut filters include filters having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 700 to 1800 nm.
  • the maximum absorption wavelength of the near-infrared cut filter preferably exists in the wavelength range of 700 to 1300 nm, more preferably in the wavelength range of 700 to 1100 nm.
  • the transmittance of the near-infrared cut filter over the entire wavelength range of 400 to 650 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, and even more preferably 90% or more. Also, the transmittance at at least one point in the wavelength range of 700 to 1800 nm is preferably 20% or less.
  • absorbance Amax/absorbance A550 which is the ratio of absorbance Amax at the maximum absorption wavelength of the near-infrared cut filter and absorbance A550 at a wavelength of 550 nm, is preferably 20 to 500, more preferably 50 to 500. , more preferably 70-450, and particularly preferably 100-400.
  • a near-infrared cut filter can be formed using a resin composition containing a near-infrared absorbing colorant.
  • a near-infrared transmission filter is a filter that transmits at least part of near-infrared rays.
  • the near-infrared transmission filter is preferably a filter that blocks at least part of visible light and transmits at least part of near-infrared light.
  • the near-infrared transmission filter has a maximum transmittance of 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less) in the wavelength range of 400 to 640 nm, and has a transmittance in the wavelength range of 1100 to 1300 nm. Filters satisfying spectral characteristics with a minimum value of 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more) are preferred.
  • the near-infrared transmission filter is preferably a filter that satisfies any one of the following spectral characteristics (1) to (5).
  • the maximum transmittance in the wavelength range of 400 to 640 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum transmittance in the wavelength range of 800 to 1500 nm is A filter that is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the maximum transmittance in the wavelength range of 400 to 750 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum transmittance in the wavelength range of 900 to 1500 nm is A filter that is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the maximum transmittance in the wavelength range of 400 to 830 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum transmittance in the wavelength range of 1000 to 1500 nm is A filter that is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the maximum transmittance in the wavelength range of 400 to 950 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum transmittance in the wavelength range of 1100 to 1500 nm is A filter that is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the maximum transmittance in the wavelength range of 400 to 1050 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum transmittance in the wavelength range of 1200 to 1500 nm is A filter that is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the transmittance of light in the thickness direction of the film has a wavelength of 360 to 700 nm.
  • An aspect that satisfies the spectral characteristics in which the maximum value in the range is 50% or more is exemplified.
  • a resin composition satisfying such spectral characteristics can be preferably used as a resin composition for forming pixels of a color filter. Specifically, it can be preferably used as a resin composition for forming colored pixels selected from red pixels, blue pixels, green pixels, yellow pixels, cyan pixels and magenta pixels.
  • the resin composition having the above spectral characteristics preferably contains a chromatic coloring material.
  • a resin composition containing a red colorant and a yellow colorant can be preferably used as a resin composition for forming red pixels.
  • a resin composition containing a blue colorant and a purple colorant can be preferably used as a resin composition for forming a blue pixel.
  • a resin composition containing a green colorant can be preferably used as a resin composition for forming green or cyan pixels.
  • the resin composition is used as a resin composition for forming green pixels, it is preferable that the resin composition further contains a yellow colorant in addition to the green colorant.
  • spectral characteristics of the resin composition of the present invention is that Amin/B, which is the ratio of the minimum absorbance Amin in the wavelength range of 400 to 640 nm and the absorbance B at a wavelength of 1500 nm, is 5 or more.
  • An embodiment that satisfies certain spectral characteristics is mentioned.
  • a resin composition satisfying such spectral characteristics can be preferably used as a resin composition for forming a near-infrared transmission filter.
  • the value of Amin/B, which is the absorbance ratio is preferably 7.5 or more, more preferably 15 or more, and even more preferably 30 or more.
  • the absorbance A ⁇ at the wavelength ⁇ is defined by the following formula ( ⁇ 1).
  • a ⁇ ⁇ log(T ⁇ /100) ( ⁇ 1)
  • a ⁇ is the absorbance at wavelength ⁇
  • T ⁇ is the transmittance (%) at wavelength ⁇ .
  • the absorbance value may be the value measured in the state of solution or the value of the film formed using the composition.
  • the composition is applied onto a glass substrate by a method such as spin coating, and dried using a hot plate or the like at 100° C. for 120 seconds to obtain a film. is preferred.
  • the resin composition of the present invention preferably satisfies any one of the following spectral characteristics (Ir1) to (Ir5).
  • A4/B4 which is the ratio of the minimum absorbance value A4 in the wavelength range of 400 to 950 nm to the maximum absorbance value B4 in the wavelength range of 1100 to 1500 nm, is 4.5 or more;7. It is preferably 5 or more, more preferably 15 or more, and even more preferably 30 or more.
  • A5/B5 which is the ratio of the minimum absorbance value A5 in the wavelength range of 400 to 1050 nm to the maximum absorbance value B5 in the wavelength range of 1200 to 1500 nm, is 4.5 or more;7. It is preferably 5 or more, more preferably 15 or more, and even more preferably 30 or more. According to this aspect, it is possible to form a film that can block light in the wavelength range of 400 to 1050 nm and transmit light in the wavelength range of 1150 nm or more.
  • the resin composition of the present invention is also preferably a resin composition for pattern formation by photolithography. According to this aspect, fine-sized pixels can be easily formed. Therefore, it can be particularly preferably used as a resin composition for forming pixels of optical filters used in solid-state imaging devices.
  • a component having an ethylenically unsaturated bond-containing group e.g., a resin having an ethylenically unsaturated bond-containing group or a monomer having an ethylenically unsaturated bond-containing group
  • a resin composition containing a photopolymerization initiator can be preferably used as a resin composition for pattern formation in photolithography. It is also preferable that the resin composition for pattern formation by photolithography further contains an alkali-soluble resin.
  • the resin composition of the present invention can also be used as a resin composition for forming a black matrix or a resin composition for forming a light shielding film.
  • the resin composition of the present invention contains coloring material A (hereinafter referred to as coloring material).
  • coloring material A examples include white colorants, black colorants, chromatic colorants, and near-infrared absorption colorants.
  • the white colorant includes not only a pure white colorant but also a light gray colorant close to white (for example, grayish white, light gray, etc.).
  • the colorant preferably contains at least one selected from the group consisting of a chromatic colorant, a black colorant, and a near-infrared absorbing colorant, and is selected from the group consisting of a chromatic colorant and a near-infrared absorbing colorant. More preferably, it contains at least one colorant, more preferably contains a chromatic colorant, and at least one chromatic colorant selected from the group consisting of a red colorant, a yellow colorant, a blue colorant, and a purple colorant. It is even more preferred to include a material.
  • the colorant preferably contains a chromatic colorant and a near-infrared absorbing colorant, and preferably contains two or more kinds of chromatic colorant and near-infrared absorbing colorant.
  • black may be formed by a combination of two or more chromatic colorants.
  • the colorant preferably contains a black colorant and a near-infrared absorbing colorant.
  • the resin composition of the present invention can be preferably used as a resin composition for forming a near-infrared transmission filter.
  • the coloring material contained in the resin composition of the present invention contains a pigment.
  • the pigment may be either an inorganic pigment or an organic pigment, but an organic pigment is preferred from the viewpoints of color variation, ease of dispersibility, safety, and the like.
  • the pigment preferably contains at least one selected from chromatic pigments and near-infrared absorbing pigments, and more preferably contains a chromatic pigment.
  • the pigment contains at least one selected from phthalocyanine pigments, dioxazine pigments, quinacridone pigments, anthraquinone pigments, perylene pigments, azo pigments, diketopyrrolopyrrole pigments, pyrrolopyrrole pigments, isoindoline pigments, quinophthalone pigments and pteridine pigments. It preferably contains at least one selected from phthalocyanine pigments, diketopyrrolopyrrole pigments and pyrrolopyrrole pigments, and even more preferably contains a phthalocyanine pigment or a diketopyrrolopyrrole pigment.
  • phthalocyanine pigments are phthalocyanine pigments that do not have a central metal or have copper or zinc as a central metal because they tend to form films whose spectral characteristics are less likely to change even after heating to a high temperature (e.g., 300° C. or higher). Phthalocyanine pigments are preferred.
  • the average primary particle size of the pigment is preferably 1 to 200 nm.
  • the lower limit is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more.
  • the upper limit is preferably 180 nm or less, more preferably 150 nm or less, and even more preferably 100 nm or less.
  • the primary particle size of the pigment can be determined from the photograph obtained by observing the primary particles of the pigment with a transmission electron microscope. Specifically, the projected area of the primary particles of the pigment is obtained, and the corresponding circle equivalent diameter is calculated as the primary particle diameter of the pigment.
  • the average primary particle size in the present invention is the arithmetic mean value of the primary particle sizes of 400 primary particles of the pigment. Further, the primary particles of the pigment refer to independent particles without agglomeration.
  • chromatic coloring materials include coloring materials having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 400 to 700 nm. Examples thereof include yellow colorants, orange colorants, red colorants, green colorants, purple colorants, and blue colorants.
  • the chromatic colorant is preferably a pigment (chromatic pigment), more preferably a red pigment, a yellow pigment, and a blue pigment, and still more preferably a red pigment and a blue pigment. Specific examples of chromatic pigments include those shown below.
  • C.I. I. Pigment Red 254, C.I. I. Pigment Red 264, C.I. I. Pigment Red 272, C.I. I. Pigment Red 122, C.I. I. Pigment Red 177, C.I. I. Pigment Red 179 is preferred.
  • As a blue pigment C.I. I. Pigment Blue 15:3, C.I. I. Pigment Blue 15:4, C.I. I. Pigment Blue 15:6, C.I. I. Pigment Blue 16 is preferred.
  • a halogenated zinc phthalocyanine pigment having an average number of halogen atoms of 10 to 14, an average number of bromine atoms of 8 to 12, and an average number of chlorine atoms of 2 to 5 per molecule.
  • Specific examples include compounds described in International Publication No. 2015/118720.
  • Phthalocyanine compounds phthalocyanine compounds described in JP-A-2018-180023, compounds described in JP-A-2019-038958, aluminum phthalocyanine compounds described in JP-A-2020-070426, JP-A-2020-076995 Core-shell type dyes and the like described can also be used.
  • an aluminum phthalocyanine pigment having a phosphorus atom can be used as the blue pigment.
  • Specific examples include compounds described in paragraph numbers 0022 to 0030 of JP-A-2012-247591 and paragraph number 0047 of JP-A-2011-157478.
  • a nickel azobarbiturate complex having the following structure can also be used.
  • quinophthalone compounds described in JP-T-2020-517791 the following formula ( A compound represented by QP1) and a compound represented by the following formula (QP2) can also be used. Moreover, those obtained by polymerizing these compounds are also preferably used from the viewpoint of improving the color value.
  • X 1 to X 16 each independently represent a hydrogen atom or a halogen atom
  • Z 1 represents an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms.
  • Specific examples of the compound represented by formula (QP1) include compounds described in paragraph 0016 of Japanese Patent No. 6443711.
  • Y 1 to Y 3 each independently represent a halogen atom.
  • n and m are integers of 0 to 6; p is an integer of 0 to 5; (n+m) is 1 or more.
  • Specific examples of the compound represented by formula (QP2) include compounds described in paragraphs 0047 to 0048 of Japanese Patent No. 6432077.
  • diketopyrrolopyrrole compounds in which at least one bromine atom is substituted in the structure described in JP-A-2017-201384 diketopyrrolopyrrole compounds described in paragraphs 0016 to 0022 of Japanese Patent No.
  • the pyrrolopyrrole pigment has a crystallite size of 140 ⁇ or less in the plane direction corresponding to the maximum peak in the X-ray diffraction pattern among the eight planes ( ⁇ 1 ⁇ 1 ⁇ 1) of the crystal lattice planes. is also preferred. Further, the physical properties of the pyrrolopyrrole pigment are preferably set as described in paragraphs 0028 to 0073 of JP-A-2020-097744.
  • chromatic colorants triarylmethane dye polymers described in Korean Patent Publication No. 10-2020-0028160, xanthene compounds described in JP-A-2020-117638, and International Publication No. 2020/174991.
  • the phthalocyanine compound described, the isoindoline compound described in JP-A-2020-160279, or a salt thereof can be used.
  • Two or more chromatic colorants may be used in combination.
  • the combination of two or more chromatic colorants may form a black color. Examples of such combinations include the following aspects (1) to (7).
  • the resin composition of the present invention forms a near-infrared transmission filter. It can be preferably used as a resin composition for (1) A mode containing a red colorant and a blue colorant. (2) A mode containing a red colorant, a blue colorant, and a yellow colorant.
  • a mode containing a red colorant, a blue colorant, a yellow colorant, and a purple colorant is a mode containing a red colorant, a blue colorant, a yellow colorant, a purple colorant, and a green colorant.
  • a mode containing a red colorant, a blue colorant, a yellow colorant, and a green colorant is a mode containing a red colorant, a blue colorant, and a green colorant.
  • a mode containing a red colorant, a blue colorant, and a green colorant is containing a yellow colorant and a purple colorant.
  • White colorants include titanium oxide, strontium titanate, barium titanate, zinc oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, aluminum oxide, barium sulfate, silica, talc, mica, aluminum hydroxide, calcium silicate, aluminum silicate, Examples include hollow resin particles and inorganic pigments (white pigments) such as zinc sulfide.
  • the white pigment is preferably particles containing titanium atoms, more preferably titanium oxide.
  • the white pigment is preferably particles having a refractive index of 2.10 or more for light with a wavelength of 589 nm. The aforementioned refractive index is preferably 2.10 to 3.00, more preferably 2.50 to 2.75.
  • the white pigment can also use the titanium oxide described in "Titanium Oxide Physical Properties and Application Techniques Manabu Seino, Pages 13-45, June 25, 1991, published by Gihodo Publishing".
  • the white pigment is not only made of a single inorganic substance, but also particles combined with other materials may be used.
  • particles having voids or other materials inside, particles in which a large number of inorganic particles are attached to a core particle, and core-shell composite particles consisting of a core particle made of polymer particles and a shell layer made of inorganic nanoparticles are used. is preferred.
  • the core and shell composite particles composed of the core particles composed of the polymer particles and the shell layer composed of the inorganic nanoparticles for example, the description of paragraphs 0012 to 0042 of JP-A-2015-047520 can be referred to, The contents of which are incorporated herein.
  • Hollow inorganic particles can also be used as the white pigment.
  • a hollow inorganic particle is an inorganic particle having a structure having a cavity inside, and refers to an inorganic particle having a cavity surrounded by an outer shell.
  • Examples of hollow inorganic particles include hollow inorganic particles described in JP 2011-075786, WO 2013/061621, JP 2015-164881, etc., the contents of which are incorporated herein. be
  • the black colorant is not particularly limited, and known ones can be used.
  • inorganic black colorants include inorganic pigments (inorganic black pigments) such as carbon black, titanium black, and graphite. Carbon black and titanium black are preferred, and titanium black is more preferred.
  • Titanium black is black particles containing titanium atoms, preferably low order titanium oxide or titanium oxynitride. Titanium black can be surface-modified as necessary for the purpose of improving dispersibility, suppressing cohesion, and the like. For example, it is possible to coat the surface of titanium black with silicon oxide, titanium oxide, germanium oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, or zirconium oxide. Further, treatment with a water-repellent substance as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No.
  • Titanium black preferably has a small primary particle size and an average primary particle size of individual particles. Specifically, the average primary particle size is preferably 10 to 45 nm. Titanium black can also be used as a dispersion. For example, a dispersion containing titanium black particles and silica particles, in which the content ratio of Si atoms and Ti atoms in the dispersion is adjusted to the range of 0.20 to 0.50, may be mentioned. Regarding the dispersion, the description in paragraphs 0020 to 0105 of JP-A-2012-169556 can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
  • titanium black examples include titanium black 10S, 12S, 13R, 13M, 13M-C, 13R-N, 13M-T (trade name: manufactured by Mitsubishi Materials Corporation), Tilac D ( Trade name: manufactured by Ako Kasei Co., Ltd.) and the like.
  • an inorganic black pigment C.I. I. Pigment Black 1, 7, etc. can also be used.
  • organic black colorants include bisbenzofuranone compounds, azomethine compounds, perylene compounds, and azo compounds.
  • bisbenzofuranone compounds include compounds described in Japanese Patent Application Publication No. 2010-534726, Japanese Patent Application Publication No. 2012-515233, Japanese Patent Application Publication No. 2012-515234, etc.
  • "Irgaphor Black” manufactured by BASF Corporation. Available examples of perylene compounds include compounds described in paragraphs 0016 to 0020 of JP-A-2017-226821, C.I. I. Pigment Black 31, 32 and the like.
  • the azomethine compound include compounds described in JP-A-01-170601, JP-A-02-034664, and the like.
  • the coloring material used in the resin composition of the present invention may be the above-described black coloring material only, or may further contain a chromatic coloring material. According to this aspect, it is easy to obtain a resin composition capable of forming a film having excellent light-shielding properties in the visible region.
  • chromatic colorant 100:10 to 300, preferably 100:20 to 200. is more preferable.
  • it is preferable to use a black pigment as the black colorant and it is preferable to use a chromatic pigment as the chromatic colorant.
  • Preferred combinations of black colorants and chromatic colorants include, for example, the following.
  • A-1 An embodiment containing an organic black colorant and a blue colorant.
  • A-2) An embodiment containing an organic black colorant, a blue colorant and a yellow colorant.
  • A-3) An embodiment containing an organic black colorant, a blue colorant, a yellow colorant and a red colorant.
  • A-4) An embodiment containing an organic black colorant, a blue colorant, a yellow colorant and a purple colorant.
  • the near-infrared absorbing colorant is preferably a pigment, more preferably an organic pigment. Also, the near-infrared absorbing colorant preferably has a maximum absorption wavelength in the range of more than 700 nm and 1400 nm or less. Also, the maximum absorption wavelength of the near-infrared absorbing colorant is preferably 1200 nm or less, more preferably 1000 nm or less, and even more preferably 950 nm or less.
  • the near-infrared absorbing colorant preferably has an A 550 /A max ratio of the absorbance A 550 at a wavelength of 550 nm to the absorbance A max at the maximum absorption wavelength of 0.1 or less, and is 0.05 or less. is more preferably 0.03 or less, and particularly preferably 0.02 or less.
  • the lower limit is not particularly limited, but can be, for example, 0.0001 or more, and can also be 0.0005 or more. If the absorbance ratio is within the above range, a near-infrared absorbing colorant having excellent visible light transparency and near-infrared shielding properties can be obtained.
  • the maximum absorption wavelength of the near-infrared absorbing colorant and the absorbance at each wavelength are values obtained from the absorption spectrum of a film formed using a resin composition containing the near-infrared absorbing colorant.
  • Near-infrared absorbing colorants include pyrrolopyrrole compounds, cyanine compounds, squarylium compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, quaterrylene compounds, merocyanine compounds, croconium compounds, oxonol compounds, iminium compounds, dithiol compounds, triarylmethane compounds, and pyrromethene compounds. , azomethine compounds, anthraquinone compounds, dibenzofuranone compounds, dithiolene metal complexes, metal oxides, metal borides, and the like.
  • pyrrolopyrrole compound compounds described in paragraph numbers 0016 to 0058 of JP-A-2009-263614, compounds described in paragraph numbers 0037-0052 of JP-A-2011-068731, WO 2015/166873 Compounds described in Paragraph Nos. 0010 to 0033 and the like.
  • examples of the squarylium compound include compounds described in paragraph numbers 0044 to 0049 of JP-A-2011-208101, compounds described in paragraph numbers 0060 to 0061 of Japanese Patent No. 6065169, and paragraph number 0040 of WO 2016/181987.
  • Examples of croconium compounds include compounds described in JP-A-2017-082029.
  • As the iminium compound for example, compounds described in JP-A-2008-528706, compounds described in JP-A-2012-012399, compounds described in JP-A-2007-092060, International Publication No. 2018/043564 and the compounds described in paragraphs 0048 to 0063 of.
  • Examples of the phthalocyanine compound include compounds described in paragraph number 0093 of JP-A-2012-077153, oxytitanium phthalocyanine described in JP-A-2006-343631, and paragraph numbers 0013 to 0029 of JP-A-2013-195480. compounds, vanadium phthalocyanine compounds described in Japanese Patent No. 6081771, vanadium phthalocyanine compounds described in International Publication No. 2020/071486, and phthalocyanine compounds described in International Publication No. 2020/071470. Examples of naphthalocyanine compounds include compounds described in paragraph number 0093 of JP-A-2012-077153. Dithiolene metal complexes include compounds described in Japanese Patent No. 5733804.
  • metal oxides include indium tin oxide, antimony tin oxide, zinc oxide, Al-doped zinc oxide, fluorine-doped tin dioxide, niobium-doped titanium dioxide, and tungsten oxide.
  • metal borides include lanthanum boride.
  • Commercially available lanthanum boride products include LaB 6 -F (manufactured by Nippon New Metal Co., Ltd.).
  • a metal boride the compound as described in international publication 2017/119394 can also be used.
  • commercially available products of indium tin oxide include F-ITO (manufactured by DOWA Hitech Co., Ltd.).
  • the near-infrared absorbing colorant the squarylium compound described in JP-A-2017-197437, the squarylium compound described in JP-A-2017-025311, the squarylium compound described in International Publication No. 2016/154782, the patent Squarylium compounds described in Japanese Patent No. 5884953, squarylium compounds described in Japanese Patent No. 6036689, squarylium compounds described in Japanese Patent No. 5810604, squarylium compounds described in paragraph numbers 0090 to 0107 of International Publication No.
  • amide-linked squarylium compounds compounds having a pyrrole bis-type squarylium skeleton or croconium skeleton described in JP-A-2017-141215, dihydrocarbazole bis-type squarylium compounds described in JP-A-2017-082029, JP-A-2017 -Asymmetric compounds described in paragraph numbers 0027 to 0114 of JP-A-068120, pyrrole ring-containing compounds (carbazole type) described in JP-A-2017-067963, phthalocyanine compounds described in Japanese Patent No. 6251530, etc. can also be used.
  • the content of the coloring material in the total solid content of the resin composition is preferably 20 to 90% by mass.
  • the lower limit is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, and even more preferably 50% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 80% by mass or less, more preferably 70% by mass or less.
  • the content of the pigment in the total solid content of the resin composition is preferably 20 to 90% by mass.
  • the lower limit is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, and even more preferably 50% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 80% by mass or less, more preferably 70% by mass or less.
  • the content of the dye in the coloring material is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, and even more preferably 30% by mass or less.
  • the resin composition of the present invention does not substantially contain a dye, because the change in film thickness when the resulting film is heated to a high temperature can be more effectively suppressed.
  • the content of the dye in the total solid content of the resin composition of the present invention is preferably 0.1% by mass or less, and 0.05% by mass. It is more preferable that it is the following, and it is particularly preferable that it is not contained.
  • the resin composition of the present invention contains resin B (hereinafter also referred to as resin).
  • the resin contained in the resin composition is a compound having three or more functional groups selected from primary amino groups, secondary amino groups and hydroxy groups and having a molecular weight of less than 500 (hereinafter also referred to as compound a). and a resin B1a, which is a reaction product of a macromonomer having an acid anhydride structure at its end, or a resin B1b represented by formula (1).
  • the resin B1a and the resin B1b are collectively referred to as a specific resin.
  • Resin B1a is preferably resin B1b represented by formula (1). That is, the resin B contained in the resin composition of the present invention preferably contains the resin B1b.
  • Compound a is preferably a compound having 3 or more primary amino groups or secondary amino groups, more preferably a compound having 3 or more primary amino groups.
  • a primary amino group means a group represented by —NH 2 .
  • the secondary amino group means a group represented by *-NH-*, where "*" is a connecting portion with a carbon atom.
  • the number of functional groups in compound a is 3 or more, preferably 3 to 16, more preferably 3 to 10, even more preferably 3 to 6.
  • the molecular weight of compound a is less than 500, preferably 100-499, more preferably 200-450.
  • the value of the molecular weight of compound a is a value calculated from the structural formula.
  • Compound X is preferably a compound having no molecular weight distribution.
  • Compound a includes compounds represented by formula (a-1) and compounds represented by formula (a-2).
  • Za 1 represents a q-valent linking group
  • Ra 1 represents a hydrogen atom or a substituent
  • q represents an integer of 3 or more.
  • the q-valent linking group represented by Za 1 in formulas (a-1) and (a-2) includes 1 to 100 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, Groups consisting of 1-200 hydrogen atoms, and 0-20 sulfur atoms include 1-60 carbon atoms, 0-10 nitrogen atoms, 0-40 oxygen atoms, 1-120 hydrogen atoms and groups consisting of 0-10 sulfur atoms are preferred, 1-50 carbon atoms, 0-10 nitrogen atoms, 0-30 oxygen atoms, 1-100 hydrogen atoms , and groups consisting of 0-7 sulfur atoms are more preferred, with 1-40 carbon atoms, 0-8 nitrogen atoms, 0-20 oxygen atoms, 1-80 hydrogen atoms, and 0 Groups consisting of ⁇ 5 sulfur atoms are particularly preferred.
  • Examples of the q-valent linking group include the following structural units or groups (which may form a ring structure) formed by combining two or more of the following structural units. *
  • the q-valent linking group represented by Za 1 may have a substituent.
  • substituents include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, aryl groups having 6 to 16 carbon atoms, carboxy groups, sulfonamide groups, N-sulfonylamide groups, acyloxy groups having 1 to 6 carbon atoms, and 1 to 20 carbon atoms. alkoxy group, halogen atom, alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, cyano group, carbonate ester group, ethylenically unsaturated bond-containing group, epoxy group, oxetane group and the like.
  • the q-valent linking group represented by Za 1 is preferably a group represented by any one of formulas (Za-1) to (Za-4).
  • La 3 represents a trivalent group
  • Ta 3 represents a single bond or a divalent linking group
  • the three Ta 3 present may be the same or different.
  • La 4 represents a tetravalent group
  • Ta 4 represents a single bond or a divalent linking group
  • the four Ta 4 present may be the same or different.
  • La 5 represents a pentavalent group
  • Ta 5 represents a single bond or a divalent linking group
  • the five Ta 5 present may be the same or different.
  • La 6 represents a hexavalent group
  • Ta 6 represents a single bond or a divalent linking group
  • the six Ta 6s present may be the same or different.
  • * represents a bond.
  • Divalent linking groups represented by Ta 3 to Ta 6 include an alkylene group, an arylene group, a heterocyclic group, -C(CF 3 ) 2 -, -NH-, -SO-, -SO 2 -, and -CO- , -O-, -COO-, -OCO-, -S-, -NHCO-, -CONH-, and groups formed by combining two or more of these.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group is preferably 1-20, more preferably 1-10.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the arylene group preferably has 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the heterocyclic group may be a non-aromatic heterocyclic group or an aromatic heterocyclic group.
  • the heterocyclic group is preferably a 5- or 6-membered ring. Types of heteroatoms constituting the heterocyclic group include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom and the like. The number of heteroatoms constituting the heterocyclic group is preferably 1-3.
  • the heterocyclic group may be monocyclic or condensed.
  • the alkylene group, the arylene group and the heterocyclic group may have substituents as described below for the substituent T.
  • Examples of the trivalent group represented by La 3 include groups obtained by removing one hydrogen atom from the above divalent linking group.
  • Examples of the tetravalent group represented by La 4 include groups obtained by removing two hydrogen atoms from the above divalent linking group.
  • Examples of the pentavalent group represented by La 5 include groups obtained by removing three hydrogen atoms from the above divalent linking group.
  • the hexavalent group represented by La 6 includes a group obtained by removing 4 hydrogen atoms from the above divalent linking group.
  • the tri- to hexavalent groups represented by La 3 to La 6 may have the substituents described for the substituent T described later.
  • q-valent linking groups represented by Za 1 in formulas (a-1) and (a-2) include groups having the structures shown below. * is a bond.
  • the q-valent linking group represented by Za 1 the group of the structure described in paragraph numbers 0056 to 0059 of WO 2016/136089, described in paragraph number 0050 of JP 2013-177542 Examples include a group having a structure in which the OH portion of polyhydric phenol is replaced with a bond.
  • Substituents represented by Ra 1 and Ra 2 in formula (a-2) include the substituent T described later.
  • Ra 1 and Ra 2 are preferably hydrogen atoms.
  • q represents an integer of 3 or more, preferably an integer of 3 to 16, more preferably an integer of 3 to 10, and an integer of 3 to 6. More preferably, it is an integer.
  • macromonomer AH having an acid anhydride structure at the end
  • Macromonomer AH is preferably a compound having an acid anhydride structure at the end of the polymer chain. Moreover, the number of terminal acid anhydride structures in the macromonomer AH is preferably one.
  • Macromonomer AH is preferably a compound represented by formula (AH1).
  • R AH1 ⁇ (L AH1 ⁇ P AH1 ) m (AH1) In formula (AH1), R AH1 represents a group having an acid anhydride structure, L AH1 represents a divalent linking group, P AH1 represents the polymer chain, m represents an integer of 1 to 5;
  • the group having an acid anhydride structure represented by RAH1 in formula ( AH1 ) is preferably a group having a cyclic acid anhydride structure.
  • Examples of the group having a cyclic acid anhydride structure include groups containing structures represented by formulas (AH-1) to (AH-6) shown below, represented by formula (AH-3) A group containing a structure is preferred.
  • R AH1 Specific examples of the group having an acid anhydride structure represented by R AH1 include groups represented by formulas (AAH-1) to (AAH-10) shown below, and represented by formula (AAH-10) It is preferably a group that is In the following formulas, * is the linking part with L AH1 in formula (AH1).
  • the divalent linking group represented by L AH1 in formula (AH1) includes a hydrocarbon group, a heterocyclic group, —NR LH1 —, —SO—, —SO 2 —, —CO—, —O—, and —COO—. , —OCO—, —S—, —NR LH1 CO— , —CONR LH1 —, and groups in which two or more of these are combined.
  • R LH1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, preferably a hydrogen atom.
  • Hydrocarbon groups include aliphatic hydrocarbon groups and aromatic hydrocarbon groups.
  • the number of carbon atoms in the aliphatic hydrocarbon group is preferably 1-30, more preferably 1-20, even more preferably 1-15.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be linear, branched or cyclic.
  • the cyclic aliphatic hydrocarbon group may be monocyclic or condensed.
  • the cyclic aliphatic hydrocarbon group may have a crosslinked structure.
  • the number of carbon atoms in the aromatic hydrocarbon group is preferably 6-30, more preferably 6-20, even more preferably 6-10.
  • the heterocyclic group may be a non-aromatic heterocyclic group or an aromatic heterocyclic group.
  • the heterocyclic group is preferably a 5- or 6-membered ring.
  • Types of heteroatoms constituting the heterocyclic group include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom and the like.
  • the number of heteroatoms constituting the heterocyclic group is preferably 1-3.
  • the heterocyclic group may be monocyclic or condensed.
  • a hydrocarbon group and a heterocyclic group may have a substituent. Substituents include the substituent T described later.
  • the polymer chain represented by P AH1 of formula (AH1) is preferably a polymer chain containing repeating units of at least one structure selected from polyether structure, polyester structure, poly(meth)acrylic structure, and polystyrene structure.
  • Poly(meth)acrylic structure and polystyrene structure more preferably a polymer chain containing a repeating unit of at least one structure, from the viewpoint of dispersibility and heat resistance of the pigment, repeating poly(meth)acrylic structure More preferred are polymer chains comprising units.
  • the polymer chain represented by PAH1 may have a crosslinkable group.
  • crosslinkable groups include ethylenically unsaturated bond-containing groups such as vinyl groups, (meth)allyl groups and (meth)acryloyl groups, cyclic ether groups such as epoxy groups and oxetane groups, and blocked isocyanate groups.
  • the blocked isocyanate group is a group capable of generating an isocyanate group by heat, and for example, a group obtained by reacting a blocking agent with an isocyanate group to protect the isocyanate group can be preferably exemplified.
  • blocking agents include oxime compounds, lactam compounds, phenol compounds, alcohol compounds, amine compounds, active methylene compounds, pyrazole compounds, mercaptan compounds, imidazole compounds, and imide compounds.
  • Blocking agents include compounds described in paragraphs 0115 to 0117 of JP-A-2017-067930, the contents of which are incorporated herein.
  • the blocked isocyanate group is preferably a group capable of generating an isocyanate group by heating at 90 to 260°C.
  • the polymer chain represented by PAH1 also preferably has a tertiary alkyl group.
  • a tertiary alkyl group includes a t-butyl group and the like.
  • polymer chains represented by P AH1 contain epoxy or oxetane groups and t-butyl groups, respectively.
  • the polymer chain represented by P AH1 preferably contains a repeating unit represented by any one of formulas (P1-1) to (P1-6), and is represented by formula (P1-5) or formula (P1-6). It more preferably contains a repeating unit represented by the formula (P1-5), and more preferably contains a repeating unit represented by formula (P1-5).
  • R G1 and R G2 each represent an alkylene group.
  • the alkylene group represented by R G1 and R G2 is preferably a linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, and a linear or branched alkylene group having 2 to 16 carbon atoms. More preferably, it is a linear or branched alkylene group having 3 to 12 carbon atoms.
  • RG3 represents a hydrogen atom, a methyl group, a fluorine atom, a chlorine atom or a hydroxymethyl group, preferably a hydrogen atom or a methyl group.
  • Q G1 represents -O- or -NR q -
  • R q represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group.
  • Q G1 is preferably -O-.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group represented by R q is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 15, still more preferably 1 to 8, even more preferably 1 to 5, and particularly preferably 1 to 3.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the aryl group represented by R q preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and still more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the heterocyclic group represented by R q may be a non-aromatic heterocyclic group or an aromatic heterocyclic group.
  • the heterocyclic group is preferably a 5- or 6-membered ring.
  • Types of heteroatoms constituting the heterocyclic group include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom and the like.
  • the number of heteroatoms constituting the heterocyclic group is preferably 1-3.
  • the heterocyclic group may be monocyclic or condensed.
  • the alkyl group, aryl group and heterocyclic group described above may have a substituent or may be unsubstituted. Substituents include the substituent T described later.
  • LG1 represents a single bond or an arylene group, preferably a single bond.
  • LG2 represents a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group includes an alkylene group (preferably an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms), an arylene group (preferably an arylene group having 6 to 20 carbon atoms), —NR LG1 —, —SO—, and —SO 2 .
  • RLG1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, preferably a hydrogen atom.
  • the above-described alkylene group and arylene may have a substituent or may be unsubstituted. Substituents include the substituent T described later.
  • RG4 represents a hydrogen atom or a substituent.
  • Substituents include hydroxy group, carboxy group, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, alkylthioether group, arylthioether group, heterocyclic thioether group, and ethylenically unsaturated Examples include bond-containing groups, epoxy groups, oxetanyl groups, blocked isocyanate groups, and the like.
  • R G4 is preferably at least one selected from an alkyl group, an aryl group, an ethylenically unsaturated bond-containing group, an epoxy group and an oxetanyl group, an ethylenically unsaturated bond-containing group, an epoxy group, an oxetanyl group, and More preferably, it is at least one selected from t-butyl groups.
  • RG5 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • RG6 represents an aryl group.
  • the aryl group represented by R G6 preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and still more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the aryl group represented by RG6 may have a substituent.
  • Substituents include hydroxy group, carboxy group, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, alkylthioether group, arylthioether group, heterocyclic thioether group, and ethylenically unsaturated Examples include bond-containing groups, epoxy groups, oxetanyl groups, blocked isocyanate groups, and the like.
  • the polymer chain represented by PAH1 may contain two or more repeating units.
  • the weight average molecular weight of the polymer chain represented by PAH1 is preferably 500 to 100,000, more preferably 1,000 to 50,000, even more preferably 2,000 to 20,000. If the weight-average molecular weight of the polymer chain is within the above range, more excellent dispersibility of the pigment is likely to be obtained.
  • the weight average molecular weight of the polymer chain can be measured by GPC (gel permeation chromatography). More specifically, it can be calculated from the weight average molecular weight of the raw material monomer used for introducing the polymer chain.
  • Examples of the above-mentioned substituent T include the following groups. Alkyl groups (preferably alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms), alkenyl groups (preferably alkenyl groups having 2 to 30 carbon atoms), alkynyl groups (preferably alkynyl groups having 2 to 30 carbon atoms), aryl groups (preferably aryl group having 6 to 30 carbon atoms), amino group (preferably amino group having 0 to 30 carbon atoms), alkoxy group (preferably alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms), aryloxy group (preferably 6 to 30 aryloxy groups), heteroaryloxy groups (preferably heteroaryloxy groups having 1 to 30 carbon atoms), acyl groups (preferably acyl groups having 2 to 30 carbon atoms), alkoxycarbonyl groups (preferably 2 carbon atoms alkoxycarbonyl group to 30), aryloxycarbonyl group (preferably aryloxycarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms), acyloxy group (preferably acyloxy group having
  • m in formula (AH1) represents an integer of 1 to 5, preferably 1 or 2, more preferably 1.
  • Macromonomer AH is preferably a compound represented by formula (AH2).
  • L AH2 represents a divalent linking group
  • P AH2 represents a polymer chain.
  • the divalent linking group represented by L AH2 in formula (AH2) includes a hydrocarbon group, a heterocyclic group, —NR LH2 —, —SO—, —SO 2 —, —CO—, —O—, and —COO—. , —OCO—, —S—, —NR LH2 CO—, —CONR LH2 —, and groups in which two or more of these are combined.
  • R LH2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, preferably a hydrogen atom.
  • Hydrocarbon groups include aliphatic hydrocarbon groups and aromatic hydrocarbon groups.
  • the number of carbon atoms in the aliphatic hydrocarbon group is preferably 1-30, more preferably 1-20, even more preferably 1-15.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be linear, branched or cyclic.
  • the cyclic aliphatic hydrocarbon group may be monocyclic or condensed.
  • the cyclic aliphatic hydrocarbon group may have a crosslinked structure.
  • the number of carbon atoms in the aromatic hydrocarbon group is preferably 6-30, more preferably 6-20, even more preferably 6-10.
  • the heterocyclic group may be a non-aromatic heterocyclic group or an aromatic heterocyclic group.
  • the heterocyclic group is preferably a 5- or 6-membered ring.
  • Types of heteroatoms constituting the heterocyclic group include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom and the like.
  • the number of heteroatoms constituting the heterocyclic group is preferably 1-3.
  • the heterocyclic group may be monocyclic or condensed.
  • a hydrocarbon group and a heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described above.
  • P AH2 of formula (AH2) is synonymous with P AH1 of formula (AH1).
  • the weight average molecular weight of the macromonomer AH is preferably from 500 to 100,000, more preferably from 1,000 to 50,000, even more preferably from 2,000 to 20,000.
  • the macromonomer AH can be synthesized, for example, by reacting a polymer obtained by radically polymerizing a radically polymerizable compound using a chain transfer agent having a hydroxyl group or an amino group with an acid anhydride or an acid anhydride chloride.
  • Chain transfer agents include mercaptoethanol, mercaptopropanol, mercaptohexanol, mercaptododecanol, thioglycerol, dimercaprol, dithiothreitol and the like.
  • the acid anhydride or acid anhydride chloride reacted with the polymer is preferably trimellitic anhydride chloride.
  • a base is preferably used for the reaction of the above polymer with an acid anhydride or an acid anhydride chloride.
  • a base sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, potassium carbonate, trimethylamine, triethylamine, morpholine, pyridine, picoline, lutidine, pyrrole, imidazole, methylimidazole, butylimidazole, triazole, tetrazole and the like can be used. It is preferable to select a hydrochloride with low solubility in the solvent used in order to efficiently remove the generated hydrochloride. Pyridine, picoline, lutidine, imidazole, methylimidazole, and butylimidazole are more preferred in this respect.
  • a polymer having a hydroxy group obtained by radically polymerizing a radically polymerizable compound using a chain transfer agent having a hydroxy group is reacted with trimellitic anhydride chloride. and synthesis.
  • the macromonomer AH can also be synthesized by enethiol addition of a polymer having a thiol group at the end to an unsaturated acid anhydride.
  • the macromonomer AH can also be synthesized by radically polymerizing a radically polymerizable compound using a thiol chain transfer agent having an acid anhydride group.
  • Resin B1a is preferably resin B1b represented by Formula (1).
  • Resin B1b is the resin of the present invention.
  • Z 1 represents an l+m-valent linking group
  • Z 2 represents a 2+n-valent linking group
  • X 1 , X 2 and X 3 each independently represent O or NR x1
  • R x1 represents a hydrogen atom or a substituent
  • L 1 represents a divalent linking group
  • P 1 represents the polymer chain
  • R 1 represents a hydrogen atom, a substituent or a counterion
  • Y 1 represents a hydrogen atom or a substituent
  • n represents an integer of 1 or more
  • m represents an integer of 1 or more
  • l represents an integer of 0 or more
  • l + m is 3 or more
  • l X 3 and Y 1 may be the same or different, when m is 2 or more, m X 1 , Z 2 , X 2 , L
  • Examples of the l+m-valent linking group represented by Z 1 in formula (1) include the groups described as the q-valent linking group represented by Za 1 in formulas (a-1) and (a-2). is also the same.
  • Examples of the 2+n-valent linking group represented by Z 2 in formula (1) include a group containing a hydrocarbon group.
  • Groups containing hydrocarbon groups include hydrocarbon groups; hydrocarbon groups, heterocyclic groups, -C(CF 3 ) 2 -, -NR Zb1 -, -SO-, -SO 2 -, -CO-, - A group combined with at least one group selected from O—, —COO—, —OCO—, —S—, —NR Zb1 CO— and —CONR Zb1 — can be mentioned.
  • R Zb1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, preferably a hydrogen atom.
  • Hydrocarbon groups include aliphatic hydrocarbon groups and aromatic hydrocarbon groups.
  • the number of carbon atoms in the aliphatic hydrocarbon group is preferably 1-30, more preferably 1-20, even more preferably 1-15.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be linear, branched or cyclic.
  • the cyclic aliphatic hydrocarbon group may be monocyclic or condensed.
  • the cyclic aliphatic hydrocarbon group may have a crosslinked structure.
  • the number of carbon atoms in the aromatic hydrocarbon group is preferably 6-30, more preferably 6-20, even more preferably 6-10.
  • the heterocyclic group may be a non-aromatic heterocyclic group or an aromatic heterocyclic group.
  • the heterocyclic group is preferably a 5- or 6-membered ring.
  • Types of heteroatoms constituting the heterocyclic group include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom and the like.
  • the number of heteroatoms constituting the heterocyclic group is preferably 1-3.
  • the heterocyclic group may be monocyclic or condensed.
  • a hydrocarbon group and a heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described above.
  • the 2+n-valent linking group represented by Z 2 in formula (1) is preferably a group containing a cyclic aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group, and is preferably a group containing an aromatic hydrocarbon group. More preferably, it is a group containing a benzene ring.
  • X 1 , X 2 and X 3 in Formula (1) each independently represent O or NR x1
  • R x1 represents a hydrogen atom or a substituent.
  • R x1 represents a hydrogen atom or a substituent.
  • the substituent represented by R x1 include an alkyl group and an aryl group. Alkyl groups and aryl groups may further have substituents. Examples of the substituent include the groups described for the substituent T described above.
  • X 1 and X 3 are each independently NR x1 . According to this aspect, the dispersibility of the pigment can be further improved, and the heat resistance of the resulting film can be improved.
  • X2 can be either O or NR x1 . When X 2 is NR x1 , it is preferable from the viewpoint of heat resistance, and when X 2 is O, it is preferable from the viewpoint of ease of synthesis.
  • L 1 in formula (1) represents a divalent linking group.
  • the divalent linking group represented by L 1 includes a hydrocarbon group, a heterocyclic group, -NR Lb1 -, -SO-, -SO 2 -, -CO-, -O-, -COO-, -OCO-, —S—, —NR Lb1 CO—, —CONR Lb1 —, and groups in which two or more of these are combined.
  • R Lb1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, preferably a hydrogen atom.
  • Hydrocarbon groups include aliphatic hydrocarbon groups and aromatic hydrocarbon groups.
  • the number of carbon atoms in the aliphatic hydrocarbon group is preferably 1-30, more preferably 1-20, even more preferably 1-15.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be linear, branched or cyclic.
  • the cyclic aliphatic hydrocarbon group may be monocyclic or condensed.
  • the cyclic aliphatic hydrocarbon group may have a crosslinked structure.
  • the number of carbon atoms in the aromatic hydrocarbon group is preferably 6-30, more preferably 6-20, even more preferably 6-10.
  • the heterocyclic group may be a non-aromatic heterocyclic group or an aromatic heterocyclic group.
  • the heterocyclic group is preferably a 5- or 6-membered ring.
  • Types of heteroatoms constituting the heterocyclic group include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom and the like.
  • the number of heteroatoms constituting the heterocyclic group is preferably 1-3.
  • the heterocyclic group may be monocyclic or condensed.
  • a hydrocarbon group and a heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described above.
  • the divalent linking group represented by L 1 is preferably a divalent linking group containing a sulfur atom, more preferably a group represented by formula (L-1).
  • *1 is the linking portion with X 2 in formula (1)
  • *2 is the linking portion with P 1 in formula (1)
  • L b10 is a hydrocarbon group, Alternatively, it represents a group in which two or more hydrocarbon groups are bonded with a single bond or a linking group.
  • Examples of the hydrocarbon group represented by L b10 include those exemplified above as the hydrocarbon group represented by L 1 .
  • the linking group linking two or more hydrocarbon groups includes -NR Lb1 -, -SO-, -SO 2 -, -CO-, -O-, -COO-, -OCO-, -S-, -NR Lb1 CO— and —CONR Lb1 — are included.
  • R Lb1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, preferably a hydrogen atom.
  • P 1 in formula (1) represents a polymer chain.
  • Examples of the polymer chain represented by P1 in formula ( 1 ) include the polymer chains described as the polymer chain represented by PAH1 in formula ( AH1 ), and the preferred ranges are also the same.
  • R 1 in formula (1) represents a hydrogen atom, a substituent or a counterion.
  • substituents represented by R 1 include groups containing alkyl groups, aryl groups and crosslinkable groups.
  • crosslinkable groups include ethylenically unsaturated bond-containing groups such as vinyl groups, (meth)allyl groups and (meth)acryloyl groups, cyclic ether groups such as epoxy groups and oxetane groups, and blocked isocyanate groups.
  • Alkyl groups and aryl groups may further have substituents. Examples of the substituent include the groups described for the substituent T described above.
  • Counter ions represented by R 1 include alkali metal ions (Li + , Na + , K + , etc.), ammonium ions, imidazolium ions, pyridinium ions, phosphonium ions, and the like.
  • R 1 in formula (1) is preferably a hydrogen atom or a substituent, more preferably a hydrogen atom or a group containing a crosslinkable group, and still more preferably a hydrogen atom.
  • Y 1 in Formula (1) represents a hydrogen atom or a substituent.
  • the substituent represented by Y 1 includes at least one functional group selected from a carboxy group, a sulfo group, a phosphoric acid group, an ethylenically unsaturated bond-containing group, an epoxy group, an oxetanyl group, and a group having a dye partial structure (hereinafter , also referred to as a specific functional group) and the substituent T described above, and a group having a specific functional group is preferred.
  • Groups having a dye partial structure in the specific functional group include benzimidazolone dyes, benzimidazolinone dyes, quinophthalone dyes, phthalocyanine dyes, anthraquinone dyes, diketopyrrolopyrrole dyes, quinacridone dyes, azo dyes, isoindolinone dyes, iso
  • a group having a partial structure derived from a dye selected from indoline dyes, dioxazine dyes, perylene dyes and thioindigo dyes can be mentioned.
  • Specific examples of groups having a dye partial structure include groups having the structures shown below.
  • Examples of the group having the specific functional group include groups represented by formula (y-1). (Y 101 ) y ⁇ L 101 ⁇ (y ⁇ 1)
  • Y 101 represents a carboxy group, a sulfo group, a phosphoric acid group, an ethylenically unsaturated bond-containing group, an epoxy group, an oxetanyl group and a group having a dye partial structure
  • L 101 represents a y+1 valent linking group
  • y represents an integer of 1 or more
  • y Y 101 may be the same or different.
  • the y+1-valent linking group represented by L 101 includes a hydrocarbon group, a heterocyclic group, —NR Ly1 —, —SO—, —SO 2 —, —CO—, —O—, —COO—, —OCO—, —S—, —NR Ly1 CO— , —CONR Ly1 —, and groups in which two or more of these are combined.
  • R Ly1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, preferably a hydrogen atom.
  • Hydrocarbon groups include aliphatic hydrocarbon groups and aromatic hydrocarbon groups. The number of carbon atoms in the aliphatic hydrocarbon group is preferably 1-30, more preferably 1-20, even more preferably 1-15.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be linear, branched or cyclic. Moreover, the cyclic aliphatic hydrocarbon group may be monocyclic or condensed. Moreover, the cyclic aliphatic hydrocarbon group may have a crosslinked structure. The number of carbon atoms in the aromatic hydrocarbon group is preferably 6-30, more preferably 6-20, even more preferably 6-10.
  • the heterocyclic group may be a non-aromatic heterocyclic group or an aromatic heterocyclic group. The heterocyclic group is preferably a 5- or 6-membered ring. Types of heteroatoms constituting the heterocyclic group include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom and the like.
  • the number of heteroatoms constituting the heterocyclic group is preferably 1-3.
  • the heterocyclic group may be monocyclic or condensed.
  • a hydrocarbon group and a heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described above.
  • Y 1 in formula (1) is preferably a hydrogen atom or a group having the above specific functional group, preferably a hydrogen atom or a group represented by the above formula (y-1).
  • n represents an integer of 1 or more
  • m represents an integer of 1 or more
  • l represents an integer of 0 or more
  • l+m is 3 or more.
  • n is preferably an integer of 1 to 4, more preferably 1 or 2, and even more preferably 1.
  • m is preferably an integer of 2 or more, more preferably an integer of 2 to 6, and even more preferably an integer of 2 to 5.
  • l is preferably an integer of 0-5, more preferably an integer of 0-4, and even more preferably an integer of 0-2.
  • l+m is 3 or more, preferably 3 to 16, more preferably 3 to 10, even more preferably 3 to 6.
  • Resin B1b is preferably a resin represented by formula (2).
  • Z 1 represents an l+m-valent linking group
  • X 1 , X 2 and X 3 each independently represent O or NR x1
  • R x1 represents a hydrogen atom or a substituent
  • L 1 represents a divalent linking group
  • P 1 represents the polymer chain
  • Y 1 represents a hydrogen atom or a substituent
  • m represents an integer of 1 or more
  • l represents an integer of 0 or more
  • l+m is 3 or more
  • l X 3 and Y 1 may be the same or different
  • m is 2 or more
  • m X 1 , X 2 , L 1 and P 1 may be the same or different.
  • Z 1 , X 1 , X 2 , X 3 , L 1 , P 1 , Y 1 , m and l in formula (2) are equivalent to Z 1 , X 1 , X 2 , X 3 and L 1 in formula (1) , P 1 , Y 1 , m and l, and the preferred ranges are also the same.
  • the acid value of the specific resin is preferably 0-150 mgKOH/g.
  • the lower limit is preferably 1 mgKOH/g or more, more preferably 5 mgKOH/g or more.
  • the upper limit is preferably 130 mgKOH/g or less, more preferably 100 mgKOH/g or less.
  • the weight average molecular weight of the specific resin is preferably 1,000 to 100,000.
  • the upper limit is preferably 80,000 or less, more preferably 50,000 or less.
  • the lower limit is preferably 2000 or more, more preferably 3000 or more.
  • the specific resin preferably has a 5% mass loss temperature of 280° C. or higher, more preferably 300° C. or higher, and 320° C. or higher by TG/DTA (thermal mass measurement/differential thermal measurement) in a nitrogen atmosphere. is more preferable.
  • the upper limit of the 5% mass loss temperature is not particularly limited, and may be, for example, 1,000° C. or lower.
  • the 5% mass reduction temperature is determined by a known TG/DTA measurement method as the temperature at which the mass reduction rate becomes 5% when left standing at a specific temperature for 5 hours in a nitrogen atmosphere.
  • the specific resin preferably has a mass reduction rate of 10% or less, more preferably 5% or less, and 2% or less when left standing at 300 ° C.
  • the lower limit of the mass reduction rate is not particularly limited, and may be 0% or more.
  • the mass reduction rate is a value calculated as a rate of mass reduction in the specific resin before and after being left to stand at 300° C. for 5 hours in a nitrogen atmosphere.
  • Specific examples of the specific resins include resins B-1 to B-64 described in Examples described later.
  • the specific resin can be synthesized by reacting the compound a described above with the macromonomer AH described above.
  • the acid anhydride group of macromonomer AH is 0 with respect to a total of 1 mol of the primary amino group, secondary amino group and hydroxy group of compound a.
  • the ratio is preferably 0.1 to 2 mol, more preferably 0.3 to 1.5 mol, even more preferably 0.5 to 1.0 mol.
  • cyclic acid anhydrides succinic anhydride, glutaric anhydride, maleic anhydride, phthalic anhydride, itaconic anhydride, cis-4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, ( ⁇ ) -trans-1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, cis-1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, 5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, exo-3,6-epoxy-1,2, 3,6-tetrahydrophthalic anhydride, 4-methylcyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride, trimellitic anhydride, 2,3-naphthalenedicarboxylic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, tetrabromophthalic anhydride acid anhydride, 2-sulfobenzoic anhydride, tetrab
  • the amino group or hydroxy group of compound a reacts with the above compound to give the resin a functional group such as an acid group, an ethylenically unsaturated bond-containing group, an epoxy group, an oxetanyl group, and a group having a dye partial structure. groups can be added.
  • the resin composition of the present invention may contain other resins than the specific resins described above.
  • Other resins include (meth)acrylic resins, epoxy resins, (meth)acrylamide resins, ene-thiol resins, polycarbonate resins, polyether resins, polyarylate resins, polysulfone resins, polyethersulfone resins, polyphenylene resins, polyarylene resins.
  • other resins include resins described in Examples of International Publication No.
  • the weight average molecular weight (Mw) of other resins is preferably 3,000 to 2,000,000.
  • the upper limit is preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less.
  • the lower limit is preferably 4000 or more, more preferably 5000 or more.
  • the other resin it is preferable to use a resin with alkali developability or a resin as a dispersant.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the resin having alkali developability is preferably 3,000 to 2,000,000.
  • the upper limit is more preferably 1,000,000 or less, and even more preferably 500,000 or less.
  • the lower limit is more preferably 4000 or more, and even more preferably 5000 or more.
  • resins having alkali developability examples include (meth)acrylic resins, polyimine resins, polyether resins, polyolefin resins, cyclic olefin resins, polyester resins, styrene resins, polyimide resins, etc. (meth)acrylic resins and polyimine resins. is preferred, and (meth)acrylic resin is more preferred.
  • the resin having alkali developability it is preferable to use a resin having an acid group.
  • the acid group include phenolic hydroxy group, carboxy group, sulfo group, phosphoric acid group, phosphonic acid group, active imide group, sulfonamide group and the like, and carboxy group is preferred.
  • the resin having an acid group a resin obtained by introducing an acid group by reacting an acid anhydride with a hydroxy group generated by epoxy ring opening may be used. Examples of such resins include those described in Japanese Patent No. 6349629.
  • a resin having an acid group can be used, for example, as an alkali-soluble resin.
  • the alkali-developable resin preferably contains a repeating unit having an acid group, and more preferably contains 1 to 70 mol % of the repeating unit having an acid group in the total repeating units of the resin.
  • the upper limit of the content of repeating units having an acid group is preferably 50 mol % or less, more preferably 40 mol % or less.
  • the lower limit of the content of repeating units having an acid group is preferably 2 mol % or more, more preferably 5 mol % or more.
  • the acid value of the resin having alkali developability is preferably 200 mgKOH/g or less, more preferably 150 mgKOH/g or less, even more preferably 120 mgKOH/g or less, and particularly preferably 100 mgKOH/g or less.
  • the acid value of the resin having alkali developability is preferably 5 mgKOH/g or more, more preferably 10 mgKOH/g or more, and even more preferably 20 mgKOH/g or more.
  • the resin having alkali developability further have an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • the ethylenically unsaturated bond-containing group includes a vinyl group, an allyl group, a (meth)acryloyl group and the like, preferably an allyl group and a (meth)acryloyl group, and more preferably a (meth)acryloyl group.
  • the resin having alkali developability includes a compound represented by the following formula (ED1) and/or a compound represented by the following formula (ED2) (hereinafter, these compounds are sometimes referred to as "ether dimer”). It is also preferred that repeating units derived from monomer components are included.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent.
  • R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms.
  • the alkali-developable resin preferably contains a repeating unit derived from a compound represented by the following formula (X).
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 2 represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms
  • R 3 represents a hydrogen atom or 1 to 20 carbon atoms which may contain a benzene ring.
  • represents an alkyl group of n represents an integer from 1 to 15;
  • resins having alkali developability examples include resins having the following structures.
  • Me represents a methyl group.
  • the resin composition of the present invention can also contain a resin as a dispersant.
  • Dispersants include acidic dispersants (acidic resins) and basic dispersants (basic resins).
  • the acidic dispersant (acidic resin) represents a resin in which the amount of acid groups is greater than the amount of basic groups.
  • the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a resin in which the amount of acid groups is 70 mol % or more when the total amount of acid groups and basic groups is 100 mol %. A resin consisting only of groups is more preferred.
  • the acid group possessed by the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a carboxy group.
  • the acid value of the acidic dispersant is preferably from 40 to 105 mgKOH/g, more preferably from 50 to 105 mgKOH/g, even more preferably from 60 to 105 mgKOH/g.
  • a basic dispersant represents a resin in which the amount of basic groups is greater than the amount of acid groups.
  • the basic dispersant is preferably a resin in which the amount of basic groups exceeds 50 mol % when the total amount of acid groups and basic groups is 100 mol %.
  • the basic group possessed by the basic dispersant is preferably an amino group.
  • the resin used as the dispersant preferably contains a repeating unit having an acid group.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a graft polymer.
  • Graft polymers include resins described in paragraphs 0025 to 0094 of JP-A-2012-255128, the contents of which are incorporated herein.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a polyimine-based dispersant (polyimine resin) containing nitrogen atoms in at least one of the main chain and the side chain.
  • the polyimine-based dispersant has a main chain having a partial structure having a functional group with a pKa of 14 or less and a side chain having 40 to 10,000 atoms, and at least one of the main chain and the side chain has a basic nitrogen atom.
  • a resin having The basic nitrogen atom is not particularly limited as long as it is a nitrogen atom exhibiting basicity.
  • Polyimine-based dispersants include resins described in paragraphs 0102 to 0166 of JP-A-2012-255128, the contents of which are incorporated herein.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a resin having a structure in which a plurality of polymer chains are bonded to the core.
  • resins include, for example, dendrimers (including star polymers). Further, specific examples of dendrimers include polymer compounds C-1 to C-31 described in paragraphs 0196 to 0209 of JP-A-2013-043962.
  • the dispersant includes block copolymers (EB-1) to (EB-9) described in paragraphs 0219 to 0221 of Japanese Patent No. 6432077, and resins described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2018-087939.
  • Polyethyleneimine having a polyester side chain described in WO 2016/104803, a block copolymer described in WO 2019/125940, a block having an acrylamide structural unit described in JP 2020-066687 Polymers, block polymers having acrylamide structural units described in JP-A-2020-066688, dispersants described in WO 2016/104803, resins described in JP-A-2019-095548, etc. can also be used. .
  • Dispersants are also available as commercial products, and specific examples thereof include BYK Chemie's DISPERBYK series (e.g., DISPERBYK-111, 161, etc.), Lubrizol's Solsperse series (e.g., Solsperse 36000, etc.). etc. Also, the pigment dispersants described in paragraphs 0041 to 0130 of JP-A-2014-130338 can be used, the contents of which are incorporated herein.
  • the resin described as the dispersant can also be used for applications other than the dispersant.
  • it can also be used as a binder.
  • the resin content in the total solid content of the resin composition is preferably 5 to 60% by mass.
  • the lower limit is preferably 10% by mass or more, more preferably 15% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less.
  • the content of the above-mentioned specific resin in the total solid content of the resin composition is preferably 5-60% by mass.
  • the lower limit is preferably 10% by mass or more, more preferably 15% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less.
  • the content of the specific resin described above is preferably 10 to 80 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment.
  • the lower limit is preferably 20 parts by mass or more, more preferably 30 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 70 parts by mass or less, more preferably 50 parts by mass or less.
  • the resin composition of the present invention preferably contains 20% by mass or more of the specific resin, more preferably 30% by mass or more, and 40% by mass in the total solid content of the resin composition excluding the coloring material. % or more is more preferable.
  • the upper limit can be 100% by mass, 90% by mass or less, or 85% by mass or less. If the content of the specific resin is within the above range, it is easy to form a film with excellent heat resistance, and it is easier to suppress film shrinkage after heating. Furthermore, when an inorganic film or the like is formed on the surface of the film obtained using the resin composition of the present invention, even if this laminate is exposed to high temperatures, cracks or the like in the inorganic film can be suppressed.
  • the total content of the colorant and the specific resin in the total solid content of the resin composition is preferably 25 to 100% by mass.
  • the lower limit is more preferably 30% by mass or more, and even more preferably 40% by mass or more.
  • the upper limit is more preferably 90% by mass or less, and even more preferably 80% by mass or less.
  • the content of the other resin described above is preferably 230 parts by mass or less, more preferably 200 parts by mass or less, and 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the specific resin described above. More preferably: The lower limit may be 0 parts by mass, 5 parts by mass or more, or 10 parts by mass or more. It is also preferred that the resin composition does not substantially contain the other resins described above. According to this aspect, it is easy to form a film having excellent heat resistance. When substantially free of other resins, it means that the content of other resins in the total solid content of the resin composition is 0.1% by mass or less, and is 0.05% by mass or less. is preferred, and not containing is more preferred.
  • the resin composition of the present invention contains solvent C (hereinafter referred to as solvent).
  • solvent is basically not particularly limited as long as it satisfies the solubility of each component and the coatability of the resin composition.
  • the solvent is an organic solvent.
  • Organic solvents include ester-based solvents, ketone-based solvents, alcohol-based solvents, amide-based solvents, ether-based solvents, and hydrocarbon-based solvents.
  • Ester-based solvents substituted with cyclic alkyl groups and ketone-based solvents substituted with cyclic alkyl groups can also be preferably used.
  • organic solvents include polyethylene glycol monomethyl ether, dichloromethane, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2 -heptanone, 2-pentanone, 3-pentanone, 4-heptanone, cyclohexanone, 2-methylcyclohexanone, 3-methylcyclohexanone, 4-methylcyclohexanone, cycloheptanone, cyclooctanone, cyclohexyl acetate, cyclopentanone, ethylcarbitol Acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxy-N,N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N
  • aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc.) as organic solvents may be better reduced for environmental reasons (for example, 50 mass ppm (parts per million), 10 mass ppm or less, or 1 mass ppm or less).
  • an organic solvent with a low metal content it is preferable to use an organic solvent with a low metal content, and the metal content of the organic solvent is preferably, for example, 10 mass ppb (parts per billion) or less. If necessary, an organic solvent with a ppt (parts per trillion) mass level may be used, and such an organic solvent is provided by, for example, Toyo Gosei Co., Ltd. (Chemical Daily, November 13, 2015).
  • Methods for removing impurities such as metals from organic solvents include, for example, distillation (molecular distillation, thin film distillation, etc.) and filtration using a filter.
  • the filter pore size of the filter used for filtration is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 5 ⁇ m or less, and even more preferably 3 ⁇ m or less.
  • the material of the filter is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene or nylon.
  • the organic solvent may contain isomers (compounds with the same number of atoms but different structures). Moreover, only one isomer may be contained, or a plurality of isomers may be contained.
  • the content of peroxide in the organic solvent is preferably 0.8 mmol/L or less, and more preferably substantially free of peroxide.
  • the content of the solvent in the resin composition is preferably 10-95% by mass, more preferably 20-90% by mass, and even more preferably 30-90% by mass.
  • the resin composition of the present invention may contain a pigment derivative.
  • Pigment derivatives include compounds having a structure in which an acid group or a basic group is bonded to a pigment skeleton.
  • Dye skeletons constituting pigment derivatives include quinoline dye skeletons, benzimidazolone dye skeletons, benzoisoindole dye skeletons, benzothiazole dye skeletons, iminium dye skeletons, squarylium dye skeletons, croconium dye skeletons, oxonol dye skeletons, and pyrrolopyrrole dye skeletons.
  • diketopyrrolopyrrole dye skeleton azo dye skeleton, azomethine dye skeleton, phthalocyanine dye skeleton, naphthalocyanine dye skeleton, anthraquinone dye skeleton, quinacridone dye skeleton, dioxazine dye skeleton, perinone dye skeleton, perylene dye skeleton, thioindigo dye skeleton, Isoindoline dye skeletons, isoindolinone dye skeletons, quinophthalone dye skeletons, iminium dye skeletons, dithiol dye skeletons, triarylmethane dye skeletons, pyrromethene dye skeletons, and the like can be mentioned.
  • the acid group includes a carboxy group, a sulfo group, a phosphoric acid group, a boronic acid group, a carboxylic acid amide group, a sulfonic acid amide group, an imidic acid group and salts thereof.
  • Atoms or atomic groups constituting the salt include alkali metal ions (Li + , Na + , K + etc.), alkaline earth metal ions (Ca 2+ , Mg 2+ etc.), ammonium ions, imidazolium ions, pyridinium ions, phosphonium ion and the like.
  • the carboxylic acid amide group a group represented by —NHCOR X1 is preferable.
  • sulfonic acid amide group a group represented by —NHSO 2 R X2 is preferable.
  • the imidic acid group is preferably a group represented by —SO 2 NHSO 2 R X3 , —CONHSO 2 R X4 , —CONHCOR X5 or —SO 2 NHCOR X6 , more preferably —SO 2 NHSO 2 R X3 .
  • R X1 to R X6 each independently represent an alkyl group or an aryl group.
  • the alkyl groups and aryl groups represented by R X1 to R X6 may have substituents.
  • the substituent is preferably a halogen atom, more preferably a fluorine atom.
  • Basic groups include amino groups, pyridinyl groups and salts thereof, salts of ammonium groups, and phthalimidomethyl groups.
  • Atoms or atomic groups constituting salts include hydroxide ions, halogen ions, carboxylate ions, sulfonate ions, and phenoxide ions.
  • a pigment derivative excellent in visible light transparency (hereinafter also referred to as a transparent pigment derivative) can be used.
  • the maximum value ( ⁇ max) of the molar extinction coefficient of the transparent pigment derivative in the wavelength region of 400 to 700 nm is preferably 3000 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or less, and 1000 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or less. is more preferable, and 100 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or less is even more preferable.
  • the lower limit of ⁇ max is, for example, 1 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or more, and may be 10 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or more.
  • pigment derivatives include the compounds described in the examples described later, JP-A-56-118462, JP-A-63-264674, JP-A-01-217077, and JP-A-03-009961. , JP-A-03-026767, JP-A-03-153780, JP-A-03-045662, JP-A-04-285669, JP-A-06-145546, JP-A-06-212088, Patent JP-A-06-240158, JP-A-10-030063, JP-A-10-195326, paragraph numbers 0086 to 0098 of WO 2011/024896, paragraph numbers 0063 to 0094 of WO 2012/102399 , Paragraph No.
  • the content of the pigment derivative is preferably 1 to 30 parts by mass, more preferably 3 to 20 parts by mass, based on 100 parts by mass of the pigment. Only one pigment derivative may be used, or two or more pigment derivatives may be used in combination.
  • the resin composition of the present invention preferably contains a polymerizable monomer.
  • a known compound that can be crosslinked by radicals, acids, or heat can be used as the polymerizable monomer.
  • the polymerizable monomer include compounds having an ethylenically unsaturated bond-containing group, compounds having a cyclic ether group, and the like, and compounds having an ethylenically unsaturated bond-containing group are preferred.
  • Examples of ethylenically unsaturated bond-containing groups include vinyl groups, (meth)allyl groups, and (meth)acryloyl groups.
  • Cyclic ether groups include epoxy groups and oxetane groups.
  • a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group can be preferably used as a radically polymerizable monomer.
  • a compound having a cyclic ether group can also be preferably used as a cationically polymerizable monomer.
  • the polymerizable monomer is preferably a polyfunctional polymerizable monomer. That is, the polymerizable monomer is preferably a monomer having two or more polymerizable groups such as ethylenically unsaturated bond-containing groups and cyclic ether groups.
  • the molecular weight of the polymerizable monomer is preferably 100-3000.
  • the upper limit is more preferably 2000 or less, and even more preferably 1500 or less.
  • the lower limit is more preferably 150 or more, even more preferably 250 or more.
  • the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group that is used as a polymerizable monomer is preferably a polyfunctional compound. That is, it is preferably a compound containing two or more ethylenically unsaturated bond-containing groups, more preferably a compound containing three or more ethylenically unsaturated bond-containing groups, and three ethylenically unsaturated bond-containing groups. A compound containing up to 15 groups is more preferable, and a compound containing 3 to 6 ethylenically unsaturated bond-containing groups is even more preferable.
  • the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group is preferably a 3- to 15-functional (meth)acrylate compound, more preferably a 3- to 6-functional (meth)acrylate compound.
  • Specific examples of the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group paragraph numbers 0095 to 0108 of JP-A-2009-288705, paragraph 0227 of JP-A-2013-029760, paragraph of JP-A-2008-292970 Numbers 0254 to 0257, paragraph numbers 0034 to 0038 of JP 2013-253224, paragraph number 0477 of JP 2012-208494, JP 2017-048367, JP 6057891, JP 6031807 , and compounds described in JP-A-2017-194662, the contents of which are incorporated herein.
  • Examples of compounds having an ethylenically unsaturated bond-containing group include dipentaerythritol tri(meth)acrylate (commercially available as KAYARAD D-330; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and dipentaerythritol tetra(meth)acrylate (commercially available).
  • KAYARAD D-320 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • dipentaerythritol penta(meth)acrylate commercially available KAYARAD D-310; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • dipentaerythritol hexa(meth)acrylate ) acrylate (as a commercial product, KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., NK Ester A-DPH-12E; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
  • these (meth)acryloyl groups are ethylene glycol and / or Compounds with structures that are linked via a propylene glycol residue (for example, SR454, SR499, commercially available from Sartomer) are preferred.
  • Examples of compounds having an ethylenically unsaturated bond-containing group include diglycerin EO (ethylene oxide)-modified (meth)acrylate (commercially available as M-460; manufactured by Toagosei), pentaerythritol tetraacrylate (Shin-Nakamura Chemical Industry ( Ltd., NK Ester A-TMMT), 1,6-hexanediol diacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD HDDA), RP-1040 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Aronix TO-2349 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) Toagosei Co., Ltd.), NK Oligo UA-7200 (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), 8UH-1006, 8UH-1012 (Taisei Fine Chemical Co., Ltd.), Light acrylate POB-A0 (Kyoeish
  • trifunctional (meth)acrylate compounds such as tri(meth)acrylate and pentaerythritol tri(meth)acrylate.
  • Commercial products of trifunctional (meth)acrylate compounds include Aronix M-309, M-310, M-321, M-350, M-360, M-313, M-315, M-306 and M-305.
  • M-303, M-452, M-450 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • a compound having an acid group can also be used as the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group. Generation of development residue can be suppressed by using a compound having an acid group.
  • the acid group includes a carboxy group, a sulfo group, a phosphoric acid group and the like, and a carboxy group is preferred.
  • Commercially available polymerizable monomers having an acid group include Aronix M-305, M-510, M-520 and Aronix TO-2349 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.).
  • the acid value of the polymerizable monomer having an acid group is preferably 0.1-40 mgKOH/g, more preferably 5-30 mgKOH/g.
  • the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group is a compound having a caprolactone structure.
  • Compounds having a caprolactone structure are commercially available from Nippon Kayaku Co., Ltd. under the KAYARAD DPCA series, including DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120, and the like.
  • a compound having an alkyleneoxy group can also be used as the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • the compound having an alkyleneoxy group is preferably a compound having an ethyleneoxy group and/or a propyleneoxy group, more preferably a compound having an ethyleneoxy group, and a tri- to hexa-functional (meth)acrylate having 4 to 20 ethyleneoxy groups. Compounds are more preferred.
  • Commercially available compounds having an alkyleneoxy group include, for example, SR-494, a tetrafunctional (meth)acrylate having four ethyleneoxy groups manufactured by Sartomer Co., Ltd., and three isobutyleneoxy groups manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYARAD TPA-330, which is a trifunctional (meth)acrylate, and the like.
  • a compound having a fluorene skeleton can also be used as the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • Commercially available compounds having a fluorene skeleton include Ogsol EA-0200 and EA-0300 (manufactured by Osaka Gas Chemicals Co., Ltd., (meth)acrylate monomers having a fluorene skeleton).
  • the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group it is also preferable to use a compound such as toluene that does not substantially contain environmentally regulated substances.
  • Commercially available products of such compounds include KAYARAD DPHA LT and KAYARAD DPEA-12 LT (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).
  • a polymerizable monomer having an amino structure or a sulfide structure in its molecule which is described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909 and JP-A-01-105238.
  • the polymerizable monomers include UA-7200 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), DPHA-40H (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), UA-306H, UA-306T, UA-306I, AH-600, Commercially available products such as T-600, AI-600, LINC-202UA (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) can also be used.
  • Compounds having a cyclic ether group that are also used as polymerizable monomers include compounds having an epoxy group (hereinafter also referred to as epoxy compounds) and compounds having an oxetane group (hereinafter also referred to as oxetane compounds).
  • the epoxy compound is preferably a polyfunctional epoxy compound. That is, the epoxy compound is preferably a compound having two or more epoxy groups. The upper limit of the number of epoxy groups is preferably 20 or less, more preferably 10 or less.
  • the oxetane compound is preferably a polyfunctional oxetane compound. That is, the oxetane compound is preferably a compound having two or more oxetane groups. The upper limit of the number of oxetane groups is preferably 20 or less, more preferably 10 or less.
  • ADEKA Resin EP-4000S, EP-4003S, EP-4010S, EP-4011S manufactured by ADEKA Corporation
  • NC-2000, NC-3000, NC-7300, XD-1000, EPPN -501, EPPN-502 manufactured by ADEKA Co., Ltd.
  • oxetane compounds include OXT-201, OXT-211, OXT-212, OXT-213, OXT-121, OXT-221, OX-SQ TX-100 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), etc. can be used.
  • the content of the polymerizable monomer in the total solid content of the resin composition is preferably 0.1 to 40% by mass.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less.
  • the content of the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group as the polymerizable monomer is 1 per 100 parts by mass of the specific resin described above. It is preferably up to 50 parts by mass.
  • the lower limit is preferably 3 parts by mass or more, more preferably 5 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 40 parts by mass or less, more preferably 30 parts by mass or less.
  • the content of the compound having a cyclic ether group as the polymerizable monomer is 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the specific resin described above.
  • the lower limit is preferably 3 parts by mass or more, more preferably 5 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 40 parts by mass or less, more preferably 30 parts by mass or less.
  • the resin composition contains a cyclic ether with respect to 100 parts by mass of the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group. It is preferable to contain 10 to 500 parts by mass of the compound having a group.
  • the lower limit is preferably 20 parts by mass or more, more preferably 30 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 400 parts by mass or less, more preferably 300 parts by mass or less. If the ratio of the two is within the above range, a film with more excellent heat resistance (crack suppression and film shrinkage suppression) can be formed.
  • the resin composition of the present invention preferably contains a photopolymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator is not particularly limited and can be appropriately selected from known photopolymerization initiators. For example, compounds having photosensitivity to light in the ultraviolet range to the visible range are preferred.
  • the photopolymerization initiator is preferably a photoradical polymerization initiator.
  • photopolymerization initiators include halogenated hydrocarbon derivatives (e.g., compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.), acylphosphine compounds, biimidazole compounds, oxime compounds, organic peroxides, thio compounds, Ketone compounds, aromatic onium salts, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds and the like.
  • photopolymerization initiators include trihalomethyltriazine compounds, benzyldimethylketal compounds, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds, acylphosphine compounds, phosphine oxide compounds, metallocene compounds, oxime compounds, and biimidazole compounds.
  • Biimidazole compounds include 2,2-bis(2-chlorophenyl)-4,4′,5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis(o-chlorophenyl)-4,4′,5 ,5-tetrakis(3,4,5-trimethoxyphenyl)-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis(2,3-dichlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl biimidazole, and 2,2'-bis(o-chlorophenyl)-4,4,5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole.
  • ⁇ -hydroxyketone compounds include Omnirad 184, Omnirad 1173, Omnirad 2959, Omnirad 127 (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 184, Irgacure 1173, Irgacure 2959, Irgacure 127 (above company) and the like.
  • ⁇ -aminoketone compounds include Omnirad 907, Omnirad 369, Omnirad 369E, Omnirad 379EG (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure 369E, Irgacure 379EG (manufactured by Irgacure 369E, Irgacure 379EG). made), etc.
  • acylphosphine compounds include Omnirad 819, Omnirad TPO (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 819 and Irgacure TPO (manufactured by BASF).
  • Examples of oxime compounds include compounds described in JP-A-2001-233842, compounds described in JP-A-2000-080068, compounds described in JP-A-2006-342166, J. Am. C. S. Compounds described in Perkin II (1979, pp.1653-1660); C. S. Compounds described in Perkin II (1979, pp.156-162), compounds described in Journal of Photopolymer Science and Technology (1995, pp.202-232), compounds described in JP-A-2000-066385, Compounds described in JP-A-2004-534797, compounds described in JP-A-2006-342166, compounds described in JP-A-2017-019766, compounds described in Patent No. 6065596, International Publication No.
  • oxime compounds include 3-benzoyloxyiminobutane-2-one, 3-acetoxyiminobutane-2-one, 3-propionyloxyiminobutane-2-one, 2-acetoxyiminopentane-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3-(4-toluenesulfonyloxy)iminobutan-2-one, and 2-ethoxycarbonyloxy and imino-1-phenylpropan-1-one.
  • An oxime compound having a fluorene ring can also be used as a photopolymerization initiator.
  • Specific examples of oxime compounds having a fluorene ring include compounds described in JP-A-2014-137466.
  • an oxime compound having a skeleton in which at least one benzene ring of a carbazole ring is a naphthalene ring can be used.
  • Specific examples of such oxime compounds include compounds described in WO2013/083505.
  • An oxime compound having a fluorine atom can also be used as a photopolymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorine atom include compounds described in JP-A-2010-262028, compounds 24, 36 to 40 described in JP-A-2014-500852, and JP-A-2013-164471. and the compound (C-3) of.
  • an oxime compound in which a substituent having a hydroxy group is bonded to the carbazole skeleton can also be used.
  • Examples of such a photopolymerization initiator include the compounds described in International Publication No. 2019/088055.
  • An oxime compound having a nitro group can be used as a photopolymerization initiator.
  • the oxime compound having a nitro group is also preferably a dimer.
  • Specific examples of the oxime compound having a nitro group include the compounds described in paragraph numbers 0031 to 0047 of JP-A-2013-114249 and paragraph numbers 0008-0012 and 0070-0079 of JP-A-2014-137466; Compounds described in paragraphs 0007 to 0025 of Japanese Patent No. 4223071 and ADEKA Arkles NCI-831 (manufactured by ADEKA Corporation) can be mentioned.
  • An oxime compound having a benzofuran skeleton can also be used as a photopolymerization initiator.
  • Specific examples include OE-01 to OE-75 described in WO 2015/036910.
  • an oxime compound in which a substituent having a hydroxy group is bonded to the carbazole skeleton can also be used.
  • Examples of such a photopolymerization initiator include the compounds described in International Publication No. 2019/088055.
  • the oxime compound is preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 350 to 500 nm, more preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 360 to 480 nm.
  • the molar extinction coefficient of the oxime compound at a wavelength of 365 nm or a wavelength of 405 nm is preferably high from the viewpoint of sensitivity, more preferably 1000 to 300000, further preferably 2000 to 300000, even more preferably 5000 to 200000. It is particularly preferred to have The molar extinction coefficient of a compound can be measured using known methods. For example, it is preferable to measure with a spectrophotometer (Cary-5 spectrophotometer manufactured by Varian) using ethyl acetate at a concentration of 0.01 g/L.
  • a bifunctional or trifunctional or higher functional photoradical polymerization initiator may be used as the photopolymerization initiator.
  • a radical photopolymerization initiator two or more radicals are generated from one molecule of the radical photopolymerization initiator, so good sensitivity can be obtained.
  • the crystallinity is lowered, the solubility in a solvent or the like is improved, and precipitation becomes difficult over time, and the stability over time of the resin composition can be improved.
  • Specific examples of bifunctional or trifunctional or higher photoradical polymerization initiators include Japanese Patent Publication No. 2010-527339, Japanese Patent Publication No. 2011-524436, International Publication No.
  • the content of the photopolymerization initiator in the total solid content of the resin composition is preferably 0.1 to 30% by mass.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 20% by mass or less, more preferably 15% by mass or less.
  • a photoinitiator may use only 1 type and may use 2 or more types.
  • the resin composition of the present invention can contain a silane coupling agent.
  • a silane coupling agent means a silane compound having a hydrolyzable group and other functional groups.
  • the hydrolyzable group refers to a substituent that is directly bonded to a silicon atom and capable of forming a siloxane bond by at least one of a hydrolysis reaction and a condensation reaction.
  • Hydrolyzable groups include, for example, halogen atoms, alkoxy groups, acyloxy groups and the like, with alkoxy groups being preferred. That is, the silane coupling agent is preferably a compound having an alkoxysilyl group.
  • Examples of functional groups other than hydrolyzable groups include vinyl group, (meth)allyl group, (meth)acryloyl group, mercapto group, epoxy group, amino group, ureido group, sulfide group, isocyanate group, and phenyl group. etc., and amino group, (meth)acryloyl group and epoxy group are preferred.
  • Specific examples of the silane coupling agent include compounds described in paragraph numbers 0018 to 0036 of JP-A-2009-288703 and compounds described in paragraph numbers 0056-0066 of JP-A-2009-242604. the contents of which are incorporated herein.
  • the content of the silane coupling agent in the total solid content of the resin composition is preferably 0.1 to 5% by mass.
  • the upper limit is preferably 3% by mass or less, more preferably 2% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more.
  • the number of silane coupling agents may be one, or two or more.
  • the resin composition of the present invention can further contain a curing accelerator for the purpose of accelerating the reaction of the resin and polymerizable monomers and lowering the curing temperature.
  • Curing accelerators include methylol compounds (for example, compounds exemplified as cross-linking agents in paragraph number 0246 of JP-A-2015-034963), amines, phosphonium salts, amidine salts, amide compounds (above, for example, JP-A Curing agent described in paragraph number 0186 of 2013-041165), base generator (e.g., ionic compound described in JP-A-2014-055114), cyanate compound (e.g., JP-A-2012-150180 Compounds described in paragraph number 0071), alkoxysilane compounds (e.g., alkoxysilane compounds having an epoxy group described in JP-A-2011-253054), onium salt compounds (e.g., paragraph numbers of JP-A-2015-034963 0216 as examples of
  • the content of the curing accelerator is preferably 0.3 to 8.9 mass% of the total solid content of the resin composition, and 0.8 to 6.4 % by mass is more preferred.
  • the resin composition of the present invention can contain a polymerization inhibitor.
  • Polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, tert-butylcatechol, benzoquinone, 4,4′-thiobis(3-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2′-methylenebis(4-methyl-6-t-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine salts (ammonium salts, cerous salts, etc.). Among them, p-methoxyphenol is preferred.
  • the content of the polymerization inhibitor in the total solid content of the resin composition is preferably 0.0001 to 5% by mass.
  • the resin composition of the present invention can contain a surfactant.
  • a surfactant various surfactants such as fluorine-based surfactants, nonionic surfactants, cationic surfactants, anionic surfactants and silicone surfactants can be used.
  • the surfactant is preferably a fluorosurfactant or a silicone surfactant.
  • Surfactants include those described in paragraphs 0238-0245 of WO2015/166779, the contents of which are incorporated herein.
  • the fluorine content in the fluorine-based surfactant is preferably 3-40% by mass, more preferably 5-30% by mass, and particularly preferably 7-25% by mass.
  • a fluorosurfactant having a fluorine content within this range is effective in uniformity of the thickness of the coating film and liquid saving, and has good solubility in the resin composition.
  • JP 2014-041318 Paragraph Nos. 0060 to 0064 As the fluorine-based surfactant, JP 2014-041318 Paragraph Nos. 0060 to 0064 (corresponding International Publication No. 2014/017669 Paragraph Nos. 0060 to 0064) surfactants described in, JP 2011- 132503, paragraphs 0117-0132, the contents of which are incorporated herein.
  • Commercially available fluorosurfactants include Megafac F-171, F-172, F-173, F-176, F-177, F-141, F-142, F-143 and F-144.
  • fluorosurfactant it is also preferable to use a polymer of a fluorine atom-containing vinyl ether compound having a fluorinated alkyl group or a fluorinated alkylene ether group and a hydrophilic vinyl ether compound as the fluorosurfactant.
  • fluorine-based surfactants the description in JP-A-2016-216602 can be referred to, the content of which is incorporated herein.
  • a block polymer can also be used as the fluorosurfactant.
  • the fluorosurfactant has 2 or more (preferably 5 or more) repeating units derived from a (meth)acrylate compound having a fluorine atom and an alkyleneoxy group (preferably an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group) (meta).
  • a fluorine-containing polymer compound containing a repeating unit derived from an acrylate compound can also be preferably used.
  • the following compounds are also exemplified as fluorosurfactants used in the present invention.
  • the weight average molecular weight of the above compound is preferably 3000-50000, for example 14000. In the above compounds, % indicating the ratio of repeating units is mol%.
  • a fluoropolymer having an ethylenically unsaturated bond-containing group in a side chain can also be used as the fluorosurfactant.
  • Specific examples include compounds described in paragraph numbers 0050 to 0090 and paragraph numbers 0289 to 0295 of JP-A-2010-164965, MEGAFACE RS-101, RS-102 and RS-718K manufactured by DIC Corporation, and RS-72-K.
  • compounds described in paragraphs 0015 to 0158 of JP-A-2015-117327 can also be used.
  • a fluorine-containing imide salt compound represented by formula (fi-1) is also preferable to use as a surfactant.
  • m represents 1 or 2
  • n represents an integer of 1 to 4
  • a represents 1 or 2
  • X a+ is an a-valent metal ion, primary ammonium ion, Represents secondary ammonium ion, tertiary ammonium ion, quaternary ammonium ion or NH 4 + .
  • Nonionic surfactants include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane and their ethoxylates and propoxylates (e.g., glycerol propoxylate, glycerol ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, Polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester, Pluronic L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2 (BASF company), Tetronic 304, 701, 704, 901, 904, 150R1 (manufactured by BASF), Solsperse 20000 (manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd.), NCW-101, NCW-1001, NCW-1002 (Fuji
  • Cationic surfactants include tetraalkylammonium salts, alkylamine salts, benzalkonium salts, alkylpyridium salts, imidazolium salts, and the like. Specific examples include dihydroxyethylstearylamine, 2-heptadecenyl-hydroxyethylimidazoline, lauryldimethylbenzylammonium chloride, cetylpyridinium chloride, stearamidomethylpyridinium chloride and the like.
  • Anionic surfactants include dodecylbenzenesulfonic acid, sodium dodecylbenzenesulfonate, sodium lauryl sulfate, sodium alkyldiphenyletherdisulfonate, sodium alkylnaphthalenesulfonate, sodium dialkylsulfosuccinate, sodium stearate, potassium oleate, sodium dioctyl Sulfosuccinate, sodium polyoxyethylene alkyl ether sulfate, sodium polyoxyethylene alkyl ether sulfate, sodium polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfate, sodium dialkyl sulfosuccinate, sodium stearate, sodium oleate, t-octylphenoxyethoxypolyethoxyethyl sodium sulfate and the like.
  • silicone-based surfactants include DC3PA, SH7PA, DC11PA, SH21PA, SH28PA, SH29PA, SH30PA, SH8400, SH8400 FLUID, FZ-2122, 67 Additive, 74 Additive, M Additive, SF8419 OIL (Dow Toray Co., Ltd.), TSF-4300, TSF-4445, TSF-4460, TSF-4452 (manufactured by Momentive Performance Materials), KP-341, KF-6000, KF-6001, KF-6002, KF-6003 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), BYK-307, BYK-322, BYK-323, BYK-330, BYK-333, BYK-3760, BYK-UV3510 (manufactured by BYK-Chemie), etc. is mentioned.
  • a compound having the following structure can also be used as the silicone-based surfactant.
  • the content of the surfactant in the total solid content of the resin composition is preferably 0.001% by mass to 5.0% by mass, more preferably 0.005% by mass to 3.0% by mass. Only one type of surfactant may be used, or two or more types may be used. When two or more kinds are used, the total amount is preferably within the above range.
  • the resin composition of the present invention can contain an ultraviolet absorber.
  • a conjugated diene compound, an aminodiene compound, a salicylate compound, a benzophenone compound, a benzotriazole compound, an acrylonitrile compound, a hydroxyphenyltriazine compound, an indole compound, a triazine compound, or the like can be used as the ultraviolet absorber.
  • paragraph numbers 0052 to 0072 of JP 2012-208374, paragraph numbers 0317 to 0334 of JP 2013-068814, paragraph numbers 0061 to 0080 of JP 2016-162946 are described. The contents of which can be referred to are incorporated herein.
  • UV absorbers examples include UV-503 (manufactured by Daito Chemical Co., Ltd.), Tinuvin series and Uvinul series manufactured by BASF, and Sumisorb series manufactured by Sumika Chemtex Co., Ltd. .
  • UV-503 manufactured by Daito Chemical Co., Ltd.
  • Tinuvin series and Uvinul series manufactured by BASF and Sumisorb series manufactured by Sumika Chemtex Co., Ltd.
  • MYUA series made from Miyoshi oil and fats (Chemical Daily, February 1, 2016) is mentioned.
  • the ultraviolet absorber is a compound described in paragraph numbers 0049 to 0059 of Japanese Patent No. 6268967, a compound described in paragraph numbers 0059 to 0076 of WO 2016/181987, and WO 2020/137819.
  • a thioaryl group-substituted benzotriazole-type ultraviolet absorber described in can also be used.
  • the content of the ultraviolet absorber in the total solid content of the resin composition is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 5% by mass. Only one type of ultraviolet absorber may be used, or two or more types may be used. When two or more kinds are used, the total amount is preferably within the above range.
  • the resin composition of the present invention can contain an antioxidant.
  • Antioxidants include phenol compounds, phosphite ester compounds, thioether compounds and the like. Any phenolic compound known as a phenolic antioxidant can be used as the phenolic compound. Preferred phenolic compounds include hindered phenolic compounds. A compound having a substituent at a site adjacent to the phenolic hydroxy group (ortho position) is preferred. As the aforementioned substituent, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms is preferred.
  • the antioxidant is also preferably a compound having a phenol group and a phosphite ester group in the same molecule.
  • Phosphorus-based antioxidants can also be suitably used as antioxidants.
  • antioxidants may be compounds described in Korean Patent Publication No. 10-2019-0059371.
  • the content of the antioxidant in the total solid content of the resin composition is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.3 to 15% by mass. Only one kind of antioxidant may be used, or two or more kinds thereof may be used. When two or more kinds are used, the total amount is preferably within the above range.
  • the resin composition of the present invention may optionally contain sensitizers, fillers, thermosetting accelerators, plasticizers and other auxiliaries (e.g., conductive particles, antifoaming agents, flame retardants, leveling agents, peeling agents, etc.). accelerators, fragrances, surface tension modifiers, chain transfer agents, etc.). Properties such as film physical properties can be adjusted by appropriately containing these components. These components are described, for example, from paragraph number 0183 of JP-A-2012-003225 (paragraph number 0237 of corresponding US Patent Application Publication No. 2013/0034812), paragraph of JP-A-2008-250074 The descriptions of numbers 0101 to 0104, 0107 to 0109, etc.
  • auxiliaries e.g., conductive particles, antifoaming agents, flame retardants, leveling agents, peeling agents, etc.
  • the resin composition may contain a latent antioxidant as needed.
  • the latent antioxidant is a compound in which the site functioning as an antioxidant is protected by a protective group, and is heated at 100 to 250°C, or heated at 80 to 200°C in the presence of an acid/base catalyst.
  • a compound that functions as an antioxidant by removing the protective group by the reaction is exemplified.
  • Examples of latent antioxidants include compounds described in International Publication No. 2014/021023, International Publication No. 2017/030005, and JP-A-2017-008219.
  • Commercially available products include ADEKA Arkles GPA-5001 (manufactured by ADEKA Co., Ltd.).
  • the resin composition of the present invention may contain a metal oxide in order to adjust the refractive index of the resulting film.
  • metal oxides include TiO 2 , ZrO 2 , Al 2 O 3 and SiO 2 .
  • the primary particle size of the metal oxide is preferably 1 to 100 nm, more preferably 3 to 70 nm, even more preferably 5 to 50 nm.
  • Metal oxides may have a core-shell structure. Moreover, in this case, the core portion may be hollow.
  • the resin composition of the present invention may contain a light resistance improver.
  • a light resistance improver compounds described in paragraph numbers 0036 to 0037 of JP-A-2017-198787, compounds described in paragraph numbers 0029-0034 of JP-A-2017-146350, JP-A-2017-129774 Compounds described in paragraph numbers 0036 to 0037, 0049 to 0052 of JP 2017-129674 JP 2017-129674 paragraph numbers 0031 to 0034, 0058 to 0059 compounds described in JP 2017-122803 paragraph numbers 0036 to 0037 , compounds described in 0051 to 0054, compounds described in paragraph numbers 0025 to 0039 of WO 2017/164127, compounds described in paragraph numbers 0034 to 0047 of JP 2017-186546, JP 2015-025116 Compounds described in paragraph numbers 0019 to 0041 of JP-A-2012-145604, compounds described in paragraph numbers 0101-0125 of JP-A-2012-103475, compounds
  • the content of free metals that are not bound or coordinated with pigments is preferably 100 ppm or less, more preferably 50 ppm or less, and even more preferably 10 ppm or less. , is particularly preferably substantially free.
  • stabilization of pigment dispersibility prevention of aggregation
  • improvement of spectral characteristics due to improvement of dispersibility stabilization of curable components
  • suppression of conductivity fluctuations due to elution of metal atoms and metal ions display Effects such as improved characteristics can be expected.
  • the free metal types include Na, K, Ca, Sc, Ti, Mn, Cu, Zn, Fe, Cr, Co, Mg, Al, Sn, Zr, Ga, Ge, Ag, Au, Pt, Cs, Ni, Cd, Pb, Bi and the like are included.
  • the content of free halogen that is not bound or coordinated with pigments is preferably 100 ppm or less, more preferably 50 ppm or less, and preferably 10 ppm or less. It is more preferable, and it is particularly preferable that it does not contain substantially.
  • Halogens include F, Cl, Br, I and their anions.
  • Methods for reducing free metals and halogens in the resin composition include methods such as washing with ion-exchanged water, filtration, ultrafiltration, and purification with an ion-exchange resin.
  • perfluoroalkylsulfonic acid and its salts may be regulated.
  • perfluoroalkylsulfonic acid especially perfluoroalkylsulfonic acid having 6 to 8 carbon atoms in the perfluoroalkyl group
  • perfluoroalkylsulfonic acid especially perfluoroalkylsulfonic acid having 6 to 8 carbon atoms in the perfluoroalkyl group
  • the content of fluoroalkylcarboxylic acid (especially perfluoroalkylcarboxylic acid having 6 to 8 carbon atoms in the perfluoroalkyl group) and its salt is 0.01ppb to 1,000ppb with respect to the total solid content of the resin composition.
  • the resin composition of the present invention may be substantially free of perfluoroalkylsulfonic acid and its salts and perfluoroalkylcarboxylic acid and its salts.
  • a compound that can substitute for perfluoroalkylsulfonic acid and its salt and a compound that can substitute for perfluoroalkylcarboxylic acid and its salt, perfluoroalkylsulfonic acid and its salt, and perfluoroalkylcarboxylic acid and salts thereof may be selected.
  • Examples of compounds that can substitute for regulated compounds include compounds that are excluded from the scope of regulation due to differences in the number of carbon atoms in perfluoroalkyl groups. However, the above content does not prevent the use of perfluoroalkylsulfonic acid and its salts, and perfluoroalkylcarboxylic acid and its salts.
  • the resin composition of the present invention may contain perfluoroalkylsulfonic acid and its salts, and perfluoroalkylcarboxylic acid and its salts within the maximum permissible range.
  • the resin composition of the present invention preferably does not substantially contain terephthalic acid ester.
  • substantially free means that the content of the terephthalic acid ester is 1000 mass ppb or less, more preferably 100 mass ppb or less, in the total amount of the resin composition. Zero is particularly preferred.
  • the storage container for the resin composition is not particularly limited, and known storage containers can be used.
  • a storage container for the purpose of suppressing the contamination of raw materials and resin compositions, a multi-layer bottle whose inner wall is composed of 6 types and 6 layers of resin, and a bottle with a 7-layer structure of 6 types of resin It is also preferred to use Examples of such a container include the container described in JP-A-2015-123351.
  • the inner wall of the container is preferably made of glass or stainless steel for the purpose of preventing metal elution from the inner wall of the container, enhancing the storage stability of the resin composition, and suppressing deterioration of components.
  • the resin composition of the present invention can be prepared by mixing the aforementioned components. In preparing the resin composition, all components may be dissolved and/or dispersed in an organic solvent at the same time to prepare the resin composition. , and these may be mixed at the time of use (at the time of application) to prepare a resin composition.
  • a process of dispersing the pigment when preparing the resin composition.
  • mechanical forces used for dispersing pigments include compression, squeezing, impact, shearing, cavitation, and the like.
  • Specific examples of these processes include bead mills, sand mills, roll mills, ball mills, paint shakers, microfluidizers, high speed impellers, sand grinders, flow jet mixers, high pressure wet atomization, ultrasonic dispersion, and the like.
  • 2015-157893 can be suitably used. Further, in the process of dispersing the pigment, the particles may be made finer in the salt milling process. Materials, equipment, processing conditions, etc. used in the salt milling process can be referred to, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2015-194521 and 2012-046629.
  • any filter that has been conventionally used for filtration or the like can be used without particular limitation.
  • PTFE polytetrafluoroethylene
  • PVDF polyvinylidene fluoride
  • polyamide resins such as nylon (eg nylon-6, nylon-6,6), polyethylene
  • polyolefin resins such as polypropylene (PP) (including high-density, ultra-high-molecular-weight polyolefin resin).
  • PP polypropylene
  • polypropylene including high density polypropylene
  • nylon are preferred.
  • the pore size of the filter is preferably 0.01-7.0 ⁇ m, more preferably 0.01-3.0 ⁇ m, and even more preferably 0.05-0.5 ⁇ m. If the pore diameter of the filter is within the above range, fine foreign matter can be removed more reliably.
  • the pore size value of the filter reference can be made to the filter manufacturer's nominal value.
  • Various filters provided by Nippon Pall Co., Ltd. (DFA4201NXEY, DFA4201NAEY, DFA4201J006P, etc.), Advantech Toyo Co., Ltd., Nihon Entegris Co., Ltd. (former Japan Microlith Co., Ltd.), Kitz Micro Filter Co., Ltd., etc. can be used as filters. .
  • fibrous filter media include polypropylene fibers, nylon fibers, and glass fibers.
  • Commercially available products include SBP type series (SBP008, etc.), TPR type series (TPR002, TPR005, etc.), and SHPX type series (SHPX003, etc.) manufactured by Roki Techno.
  • filters When using filters, different filters (eg, a first filter and a second filter, etc.) may be combined. At that time, filtration with each filter may be performed only once, or may be performed twice or more. Also, filters with different pore sizes within the range described above may be combined. Further, the filtration with the first filter may be performed only on the dispersion liquid, and after mixing other components, the filtration with the second filter may be performed. In addition, the filter can be appropriately selected according to the hydrophilicity/hydrophobicity of the resin composition.
  • the method for producing the resin of the present invention comprises a compound having three or more primary amino groups, secondary amino groups or hydroxy groups and having a molecular weight of less than 500, and a macromonomer having an acid anhydride structure at its end. is reacted.
  • Compounds having three or more primary amino groups, secondary amino groups or hydroxy groups and having a molecular weight of less than 500 include the compound a described in the section on specific resins.
  • Examples of the macromonomer having an acid anhydride structure at its terminal include the macromonomer AH described in the section on the specific resin.
  • the acid anhydride group of macromonomer AH is 0 with respect to a total of 1 mol of the primary amino group, secondary amino group and hydroxy group of compound a.
  • the ratio is preferably 0.1 to 2 mol, more preferably 0.3 to 1.5 mol, even more preferably 0.5 to 1.0 mol.
  • cyclic acid anhydrides succinic anhydride, glutaric anhydride, maleic anhydride, phthalic anhydride, itaconic anhydride, cis-4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, ( ⁇ )-trans-1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, cis-1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, 5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, exo-3,6-epoxy-1 , 2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, 4-methylcyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride, trimellitic anhydride, 2,3-naphthalenedicarboxylic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, tetrabromophthalic anhydride, 2-sulfobenzoic anhydride, tetrab
  • the amino group or hydroxy group of compound a reacts with the above compound to give the resin a functional group such as an acid group, an ethylenically unsaturated bond-containing group, an epoxy group, an oxetanyl group, and a group having a dye partial structure. groups can be added.
  • the film of the present invention is a film obtained from the resin composition of the present invention described above.
  • the film of the present invention can be used for optical filters such as color filters, near-infrared transmission filters, and near-infrared cut filters.
  • the film of the present invention can be used as a black matrix, a light-shielding film, and the like.
  • the film thickness of the film of the present invention can be appropriately adjusted according to the purpose.
  • the film thickness is preferably 20 ⁇ m or less, more preferably 10 ⁇ m or less, and even more preferably 5 ⁇ m or less.
  • the lower limit of the film thickness is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more, and even more preferably 0.3 ⁇ m or more.
  • the film of the present invention When using the film of the present invention as a color filter, the film of the present invention preferably has a hue of green, red, blue, cyan, magenta or yellow. Moreover, the film of the present invention can be preferably used as a colored pixel of a color filter. Examples of colored pixels include red pixels, green pixels, blue pixels, magenta pixels, cyan pixels, and yellow pixels.
  • the maximum absorption wavelength of the film of the present invention preferably exists in the wavelength range of 700 to 1800 nm, more preferably in the wavelength range of 700 to 1300 nm. More preferably, it exists in the wavelength range of 700 to 1100 nm.
  • the transmittance of the film over the entire wavelength range of 400 to 650 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, and even more preferably 90% or more. Further, it is preferable that the transmittance of the film at least at one point in the wavelength range of 700 to 1800 nm is 20% or less.
  • the absorbance Amax/absorbance A550 which is the ratio of the absorbance Amax at the maximum absorption wavelength and the absorbance A550 at a wavelength of 550 nm, is preferably 20 to 500, more preferably 50 to 500, and 70 to 450. more preferably 100 to 400.
  • the film of the present invention preferably has, for example, any one of the following spectral characteristics (i1) to (i5).
  • a film having such spectral characteristics can block light in the wavelength range of 400 to 640 nm and transmit light in the wavelength range of 750 nm or more.
  • the maximum transmittance in the wavelength range of 400 to 750 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum transmittance in the wavelength range of 900 to 1500 nm is A filter that is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • a film having such spectral characteristics can block light in the wavelength range of 400 to 750 nm and transmit light in the wavelength range of 850 nm or more.
  • the maximum transmittance in the wavelength range of 400 to 830 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum transmittance in the wavelength range of 1000 to 1500 nm is A filter that is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • a film having such spectral characteristics can block light in the wavelength range of 400 to 830 nm and transmit light in the wavelength range of 950 nm or more.
  • the maximum transmittance in the wavelength range of 400 to 950 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum transmittance in the wavelength range of 1100 to 1500 nm is A filter that is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • a film having such spectral properties can block light in the wavelength range of 400 to 950 nm and transmit light in the wavelength range of 1050 nm or more.
  • the maximum transmittance in the wavelength range of 400 to 1050 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum transmittance in the wavelength range of 1200 to 1500 nm is A filter that is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • a film having such spectral characteristics can block light in the wavelength range of 400 to 1050 nm and transmit light in the wavelength range of 1150 nm or more.
  • the thickness of the film after heat treatment at 300° C. for 5 hours in a nitrogen atmosphere is preferably 70% or more, preferably 80% or more, of the thickness of the film before heat treatment. is more preferably 90% or more, even more preferably 95% or more, and particularly preferably 99% or more.
  • the thickness of the film after heat treatment at 350° C. for 5 hours in a nitrogen atmosphere is preferably 70% or more, and preferably 80% or more, of the thickness of the film before heat treatment. is more preferably 90% or more, still more preferably 95% or more, and particularly preferably 99% or more.
  • the thickness of the film after heat treatment at 400° C. for 5 hours in a nitrogen atmosphere is preferably 70% or more, and preferably 80% or more, of the thickness of the film before heat treatment. is more preferably 90% or more, still more preferably 95% or more, and particularly preferably 99% or more.
  • the membrane of the present invention can be produced through the step of applying the above resin composition of the present invention onto a support. It is preferable that the method for producing a film of the present invention further includes a step of forming a pattern (pixels).
  • a method for forming the pattern (pixels) includes a photolithography method and a dry etching method, and the photolithography method is preferable.
  • Pattern formation by photolithography includes the steps of forming a resin composition layer on a support using the resin composition of the present invention, exposing the resin composition layer in a pattern, and exposing the resin composition layer to light. and forming a pattern (pixels) by developing and removing the exposed portion. If necessary, a step of baking the resin composition layer (pre-baking step) and a step of baking the developed pattern (pixels) (post-baking step) may be provided.
  • the resin composition of the present invention is used to form a resin composition layer on a support.
  • the support is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the application. Examples thereof include glass substrates and silicon substrates, and silicon substrates are preferred. Also, a charge-coupled device (CCD), a complementary metal oxide semiconductor (CMOS), a transparent conductive film, or the like may be formed on the silicon substrate.
  • CCD charge-coupled device
  • CMOS complementary metal oxide semiconductor
  • the silicon substrate is formed with a black matrix that isolates each pixel.
  • the silicon substrate may be provided with an underlying layer for improving adhesion with the upper layer, preventing diffusion of substances, or flattening the substrate surface.
  • the surface contact angle of the underlayer is preferably 20 to 70° when measured with diiodomethane. Further, it is preferably 30 to 80° when measured with water. If the surface contact angle of the underlayer is within the above range, the wettability of the resin composition is good.
  • the surface contact angle of the underlayer can be adjusted, for example, by adding a surfactant.
  • a known method can be used as a method for applying the resin composition.
  • drop method drop cast
  • slit coating method spray method
  • roll coating method spin coating
  • methods described in publications inkjet (e.g., on-demand method, piezo method, thermal method), ejection system printing such as nozzle jet, flexographic printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, metal mask printing, etc. a printing method; a transfer method using a mold or the like; a nanoimprint method, and the like.
  • inkjet e.g., on-demand method, piezo method, thermal method
  • ejection system printing such as nozzle jet, flexographic printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, metal mask printing, etc.
  • a printing method a transfer method using a mold or the like
  • nanoimprint method and the like.
  • the application method for inkjet is not particularly limited.
  • the resin composition layer formed on the support may be dried (pre-baked). Pre-baking may not be performed when the film is manufactured by a low-temperature process.
  • the pre-baking temperature is preferably 150° C. or lower, more preferably 120° C. or lower, and even more preferably 110° C. or lower.
  • the lower limit can be, for example, 50° C. or higher, and can also be 80° C. or higher.
  • the pre-bake time is preferably 10 to 300 seconds, more preferably 40 to 250 seconds, even more preferably 80 to 220 seconds. Pre-baking can be performed using a hot plate, an oven, or the like.
  • the resin composition layer is exposed in a pattern (exposure step).
  • the resin composition layer can be exposed in a pattern by exposing through a mask having a predetermined mask pattern using a stepper exposure machine, a scanner exposure machine, or the like. Thereby, the exposed portion can be cured.
  • Radiation (light) that can be used for exposure includes g-line, i-line, and the like.
  • Light with a wavelength of 300 nm or less (preferably light with a wavelength of 180 to 300 nm) can also be used.
  • Light having a wavelength of 300 nm or less includes KrF rays (wavelength: 248 nm), ArF rays (wavelength: 193 nm), etc., and KrF rays (wavelength: 248 nm) are preferable.
  • a long-wave light source of 300 nm or more can also be used.
  • the exposure may be performed by continuously irradiating the light, or by pulsing the light (pulse exposure).
  • pulse exposure is an exposure method in which exposure is performed by repeating light irradiation and rest in short-time (for example, millisecond level or less) cycles.
  • the pulse width is preferably 100 nanoseconds (ns) or less, more preferably 50 nanoseconds or less, and even more preferably 30 nanoseconds or less.
  • the lower limit of the pulse width is not particularly limited, but may be 1 femtosecond (fs) or more, and may be 10 femtoseconds or more.
  • the frequency is preferably 1 kHz or higher, more preferably 2 kHz or higher, and even more preferably 4 kHz or higher.
  • the upper limit of the frequency is preferably 50 kHz or less, more preferably 20 kHz or less, and even more preferably 10 kHz or less.
  • the maximum instantaneous illuminance is preferably 50000000 W/ m2 or more, more preferably 100000000 W/ m2 or more, and even more preferably 200000000 W/ m2 or more.
  • the upper limit of the maximum instantaneous illuminance is preferably 1000000000 W/m 2 or less, more preferably 800000000 W/m 2 or less, and even more preferably 500000000 W/m 2 or less.
  • the pulse width is the time during which the light is applied in the pulse period.
  • the frequency is the number of pulse cycles per second.
  • the maximum instantaneous illuminance is the average illuminance within the time during which the light is irradiated in the pulse period.
  • the pulse cycle is a cycle in which light irradiation and rest in pulse exposure are set as one cycle.
  • the irradiation amount is, for example, preferably 0.03 to 2.5 J/cm 2 , more preferably 0.05 to 1.0 J/cm 2 .
  • the oxygen concentration at the time of exposure can be selected as appropriate, and in addition to exposure in the atmosphere, for example, in a low oxygen atmosphere with an oxygen concentration of 19% by volume or less (e.g., 15% by volume, 5% by volume, or substantially oxygen-free) or in a high-oxygen atmosphere with an oxygen concentration exceeding 21% by volume (for example, 22% by volume, 30% by volume, or 50% by volume).
  • the exposure illuminance can be set as appropriate, and is usually selected from the range of 1000 W/m 2 to 100000 W/m 2 (eg, 5000 W/m 2 , 15000 W/m 2 or 35000 W/m 2 ). can be done. Oxygen concentration and exposure illuminance may be appropriately combined. For example, illuminance of 10000 W/m 2 at oxygen concentration of 10% by volume and illuminance of 20000 W/m 2 at oxygen concentration of 35% by volume.
  • the unexposed portions of the resin composition layer are removed by development to form a pattern (pixels).
  • the development and removal of the unexposed portion of the resin composition layer can be performed using a developer.
  • the unexposed portion of the resin composition layer in the exposure step is eluted into the developer, leaving only the photocured portion.
  • the temperature of the developer is preferably 20 to 30° C., for example.
  • the development time is preferably 20 to 180 seconds. Further, in order to improve the residue removability, the step of shaking off the developer every 60 seconds and then supplying new developer may be repeated several times.
  • the developer includes an organic solvent, an alkaline developer, etc., and an alkaline developer is preferably used.
  • an alkaline developer an alkaline aqueous solution (alkali developer) obtained by diluting an alkaline agent with pure water is preferable.
  • alkaline agents include ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, diglycolamine, diethanolamine, hydroxylamine, ethylenediamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, and tetrabutylammonium hydroxide.
  • alkaline compounds and inorganic alkaline compounds such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium bicarbonate, sodium silicate and sodium metasilicate.
  • concentration of the alkaline agent in the alkaline aqueous solution is preferably 0.001 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 1% by mass.
  • the developer may further contain a surfactant.
  • the surfactant include the surfactants described above, and nonionic surfactants are preferred.
  • the developer may be produced once as a concentrated solution and then diluted to the required concentration when used.
  • the dilution ratio is not particularly limited, it can be set, for example, in the range of 1.5 to 100 times.
  • wash (rinse) with pure water after development. Rinsing is preferably carried out by supplying a rinse liquid to the resin composition layer after development while rotating the support on which the resin composition layer after development is formed. It is also preferable to move the nozzle for discharging the rinsing liquid from the central portion of the support to the peripheral portion of the support.
  • the moving speed of the nozzle may be gradually decreased.
  • in-plane variations in rinsing can be suppressed.
  • a similar effect can be obtained by gradually decreasing the rotation speed of the support while moving the nozzle from the center of the support to the periphery.
  • post-baking After development, it is preferable to perform additional exposure processing and heat processing (post-baking) after drying. Additional exposure processing and post-baking are post-development curing treatments for complete curing.
  • the heating temperature in post-baking is, for example, preferably 100 to 240.degree. C., more preferably 200 to 240.degree. Also, the heating temperature in post-baking may be 240 to 400.degree. C., 250 to 350.degree. C., or 300 to 350.degree.
  • the heating time in post-baking is, for example, preferably 5 minutes to 5 hours, more preferably 1 to 4 hours, and even more preferably 2 to 4 hours.
  • Post-baking can be performed continuously or batchwise using a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot air circulating dryer), or a high-frequency heater so that the developed film satisfies the above conditions.
  • a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot air circulating dryer), or a high-frequency heater so that the developed film satisfies the above conditions.
  • the light used for exposure preferably has a wavelength of 400 nm or less.
  • the additional exposure process may be performed by the method described in Korean Patent Publication No. 10-2017-0122130.
  • Pattern formation by a dry etching method includes the steps of forming a resin composition layer on a support using the resin composition of the present invention, and curing the entire resin composition layer to form a cured product layer; a step of forming a photoresist layer on the cured layer; a step of patternwise exposing the photoresist layer and then developing it to form a resist pattern; and etching the cured layer using the resist pattern as a mask. and dry etching using a gas.
  • the optical filter of the present invention has the film of the present invention as described above.
  • the optical filter includes a color filter, a near-infrared transmission filter, a near-infrared cut filter, and the like, and is preferably a color filter.
  • a color filter it is preferable to have the film of the present invention as a colored pixel of the color filter.
  • the optical filter of the present invention can be used for solid-state imaging devices such as CCDs (charge-coupled devices) and CMOSs (complementary metal-oxide semiconductors), image display devices, and the like.
  • the film thickness of the film of the present invention can be appropriately adjusted according to the purpose.
  • the film thickness is preferably 5 ⁇ m or less, more preferably 1 ⁇ m or less, even more preferably 0.6 ⁇ m or less.
  • the lower limit of the film thickness is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more, and even more preferably 0.3 ⁇ m or more.
  • the width of pixels included in the optical filter is preferably 0.4 to 10.0 ⁇ m.
  • the lower limit is preferably 0.4 ⁇ m or more, more preferably 0.5 ⁇ m or more, and even more preferably 0.6 ⁇ m or more.
  • the upper limit is preferably 5.0 ⁇ m or less, more preferably 2.0 ⁇ m or less, even more preferably 1.0 ⁇ m or less, and even more preferably 0.8 ⁇ m or less.
  • the Young's modulus of the pixel is preferably 0.5 to 20 GPa, more preferably 2.5 to 15 GPa.
  • Each pixel included in the optical filter preferably has high flatness.
  • the pixel surface roughness Ra is preferably 100 nm or less, more preferably 40 nm or less, and even more preferably 15 nm or less. Although the lower limit is not specified, it is preferably 0.1 nm or more, for example.
  • the surface roughness of a pixel can be measured using, for example, AFM (Atomic Force Microscope) Dimension 3100 manufactured by Veeco.
  • the contact angle of water on the pixel can be appropriately set to a preferable value, but is typically in the range of 50 to 110°. The contact angle can be measured using, for example, a contact angle meter CV-DT-A type (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.).
  • the volume resistance value of the pixel is high.
  • the volume resistance value of the pixel is preferably 10 9 ⁇ cm or more, more preferably 10 11 ⁇ cm or more.
  • the upper limit is not specified, it is preferably 10 14 ⁇ cm or less, for example.
  • the volume resistance value of the pixel can be measured using an ultra-high resistance meter 5410 (manufactured by Advantest).
  • a protective layer may be provided on the surface of the film of the present invention.
  • the protective layer By providing the protective layer, it is possible to impart various functions such as blocking oxygen, reducing reflection, making the film hydrophilic and hydrophobic, and blocking light of a specific wavelength (ultraviolet rays, near-infrared rays, etc.).
  • the thickness of the protective layer is preferably 0.01-10 ⁇ m, more preferably 0.1-5 ⁇ m.
  • Examples of the method of forming the protective layer include a method of applying a protective layer-forming resin composition dissolved in an organic solvent, a chemical vapor deposition method, and a method of bonding a molded resin with an adhesive.
  • Components constituting the protective layer include (meth)acrylic resins, ene-thiol resins, polycarbonate resins, polyether resins, polyarylate resins, polysulfone resins, polyethersulfone resins, polyphenylene resins, polyarylene ether phosphine oxide resins, and polyimides.
  • the protective layer preferably contains a polyol resin, SiO 2 and Si 2 N 4 .
  • the protective layer preferably contains a (meth)acrylic resin and a fluororesin.
  • the protective layer-forming resin composition When the protective layer-forming resin composition is applied to form the protective layer, known methods such as a spin coating method, a casting method, a screen printing method, an inkjet method, and the like can be used as a method for applying the protective layer-forming resin composition. can be used.
  • known methods such as a spin coating method, a casting method, a screen printing method, an inkjet method, and the like can be used as a method for applying the protective layer-forming resin composition. can be used.
  • the organic solvent contained in the protective layer-forming resin composition known organic solvents (eg, propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate, cyclopentanone, ethyl lactate, etc.) can be used.
  • the protective layer is formed by a chemical vapor deposition method
  • the chemical vapor deposition method includes known chemical vapor deposition methods (thermal chemical vapor deposition method, plasma chemical vapor deposition method, photochemical vapor deposition method). can be used.
  • the protective layer contains organic/inorganic fine particles, absorbers for light of specific wavelengths (e.g., ultraviolet rays, near-infrared rays, etc.), refractive index modifiers, antioxidants, adhesion agents, additives such as surfactants. may contain.
  • organic/inorganic fine particles include polymeric fine particles (eg, silicone resin fine particles, polystyrene fine particles, melamine resin fine particles), titanium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, indium oxide, aluminum oxide, titanium nitride, and titanium oxynitride. , magnesium fluoride, hollow silica, silica, calcium carbonate, barium sulfate, and the like.
  • a known absorber can be used as the absorber for light of a specific wavelength.
  • the content of these additives can be appropriately adjusted, but is preferably 0.1 to 70% by mass, more preferably 1 to 60% by mass, based on the total mass of the protective layer.
  • the protective layer the protective layers described in paragraphs 0073 to 0092 of JP-A-2017-151176 can also be used.
  • the optical filter may have a structure in which each pixel is embedded in a space partitioned by partition walls, for example, in a grid pattern.
  • the resin composition of the present invention can also be suitably used for the pixel configuration described in International Publication No. 2019/102887.
  • the solid-state imaging device of the present invention has the film of the present invention described above.
  • the configuration of the solid-state imaging device of the present invention is not particularly limited as long as it has the film of the present invention and functions as a solid-state imaging device.
  • a plurality of photodiodes forming a light receiving area of a solid-state imaging device CCD (charge-coupled device) image sensor, CMOS (complementary metal oxide semiconductor) image sensor, etc.) and transfer electrodes made of polysilicon or the like are provided on the substrate. and a device protective film made of silicon nitride or the like formed on the light shielding film so as to cover the entire surface of the light shielding film and the photodiode light receiving portion. and a color filter on the device protective film.
  • the color filter may have a structure in which each color pixel is embedded in a space partitioned by partition walls, for example, in a grid pattern.
  • the partition wall preferably has a lower refractive index than each color pixel. Examples of imaging devices having such a structure are described in JP-A-2012-227478, JP-A-2014-179577, International Publication No. 2018/043654, and US Patent Application Publication No.
  • an ultraviolet absorption layer may be provided in the structure of the solid-state imaging device to improve light resistance.
  • An imaging device equipped with the solid-state imaging device of the present invention can be used not only for digital cameras and electronic devices having an imaging function (mobile phones, etc.), but also for vehicle-mounted cameras and monitoring cameras.
  • the solid-state imaging device incorporating the color filter of the present invention may further incorporate another color filter, a near-infrared cut filter, an organic photoelectric conversion film, etc., in addition to the color filter of the present invention.
  • the image display device of the present invention has the film of the present invention described above.
  • image display devices include liquid crystal display devices and organic electroluminescence display devices.
  • electroluminescence display devices For a definition of an image display device and details of each image display device, see, for example, “Electronic Display Device (by Akio Sasaki, Industrial Research Institute, 1990)", “Display Device (by Junsho Ibuki, Sangyo Tosho ( Co., Ltd.), issued in 1989), etc.
  • Liquid crystal display devices are described, for example, in “Next Generation Liquid Crystal Display Technology (edited by Tatsuo Uchida, published by Kogyo Choukai Co., Ltd., 1994)".
  • the present invention can be applied to liquid crystal display devices of various systems described in the above-mentioned "next generation liquid crystal display technology”.
  • A 56.11 x Vs x 0.5 x f/w
  • f titer of 0.1 mol/L potassium hydroxide aqueous solution
  • w mass of sample (g) (in terms of solid content)
  • the obtained solution of hydroxy-terminated polymer was cooled to 5° C., 32.1 g of trimellitic anhydride chloride was added, and 15.3 g of N-methylimidazole was added dropwise over 6 hours. Further, the mixture was stirred at room temperature for 24 hours, and insoluble matter was removed by filtration to obtain a macromonomer solution having an acid anhydride structure at the end of the following structure.
  • the weight average molecular weight of the resulting macromonomer having an acid anhydride structure at its end was 2,500.
  • the resulting macromonomer solution having an acid anhydride structure at its end was heated to 110°C, and 3.4 g of pentaerythritol (manufactured by FUJIFILM Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added. Further, the mixture was heated and stirred at 110° C. for 5 hours. 280 g of propylene glycol monomethyl ether acetate was added to adjust the solid content concentration to obtain a 30% by mass propylene glycol monomethyl ether acetate solution of resin B-1 having the following structure.
  • the obtained resin B-1 had a weight average molecular weight of 11200, an acid value of 23 mgKOH/g, and an amine value of 0 mgKOH/g.
  • Y1-1, Y1-2, Y1-3, Y1-4, Y1-8, Y1-9, Y1-10, Y1-11, Y1-12, Y1-13, Y1-14, Y1- in the above table 15 and Y1-16 are groups having the structures shown below. Note that * in the structural formula is a connecting portion with X3 in formula ( 1 ).
  • Z1-1, Z1-3, Z1-7, Z1-8, Z1-13, Z1-14, Z1-15, Z1-22, Z1-23, Z1-24, Z1-25, Z1- in the above table 26, Z1-27, Z1-29, Z1-30, Z1-31, Z1-32, Z1-33, Z1-35, Z1-36, Z1-37 and Z1-38 are groups of the structures shown below, respectively is. Note that * in the structural formula is a connecting portion with X1 or X3 in formula ( 1 ).
  • Z2-1 to Z2-9 in the above table are groups having the structures shown below.
  • * 2 is in formula (1).
  • is the connection with the carbonyl group (-C( O)-) on the X2 side that is bonded to Z2 of
  • the wavy line is the connection with COOR1 .
  • R1-1 and R1-2 in the above table are groups having the structures shown below. Note that * in the structural formula is a connecting part.
  • P1-1 to P1-10 and P1-12 to P1-15 in the table above are groups having the structures shown below. Note that * in the structural formula is a connecting part. The numerical value attached to the main chain represents the number of repeating units.
  • the table below shows the weight average molecular weight (Mw) and acid value of resins B-1 to B-64.
  • a mixed liquid obtained by mixing the raw materials shown in the table below was mixed and dispersed for 3 hours using a bead mill (using zirconia beads with a diameter of 0.3 mm), and then a high-pressure disperser NANO-3000-10 (Nippon BEE) with a decompression mechanism. (manufactured by Co., Ltd.) under a pressure of 2000 MPa and a flow rate of 500 g/min. This dispersion treatment was repeated 10 times to obtain each dispersion.
  • the unit of the numerical value indicating the compounding amount of each raw material described in the above table is parts by mass.
  • the details of the raw materials indicated by abbreviations are as follows.
  • PR122 C.I. I. Pigment Red 122 (red pigment, quinacridone pigment)
  • PR179 C.I. I. Pigment Red 179 (red pigment, perylene pigment)
  • PR254 C.I. I. Pigment Red 254 (red pigment, diketopyrrolopyrrole pigment)
  • PR264 C.I. I. Pigment Red 264 (red pigment, diketopyrrolopyrrole pigment)
  • PR291 C.I. I.
  • Pigment Red 291 red pigment, diketopyrrolopyrrole pigment
  • PO71 C.I. I. Pigment Orange 71 (orange pigment, diketopyrrolopyrrole pigment)
  • PB15:6 C.I. I. Pigment Blue 15:6 (blue pigment, phthalocyanine pigment)
  • PB16 C.I. I. Pigment Blue 16 (blue pigment, phthalocyanine pigment)
  • PG7 C.I. I. Pigment Green 7 (green pigment, phthalocyanine pigment)
  • PG36 C.I. I. Pigment Green 36 (green pigment, phthalocyanine pigment)
  • PG58 C.I. I. Pigment Green 58 (green pigment, phthalocyanine pigment)
  • PY185 C.I.
  • I. Pigment Yellow 185 (yellow pigment, isoindoline pigment)
  • PY215 C.I. I. Pigment Yellow 215 (yellow pigment, pteridine pigment)
  • PV23 C.I. I. Pigment Violet 23 (purple pigment, dioxazine pigment)
  • IR dye compound with the following structure (near-infrared absorbing pigment, in the structural formula, Me represents a methyl group and Ph represents a phenyl group)
  • IRGAPHORE Irgaphor Black S 0100 CF (manufactured by BASF, compound having the following structure, lactam pigment)
  • PBk32 C.I. I. Pigment Black 32 (compound with the following structure, perylene pigment)
  • ⁇ resin ⁇ Ba-1 resin having the following structure (numerical values attached to the main chain are molar ratios; weight average molecular weight: 11,000)
  • Ba-2 resin having the following structure (numerical values attached to the main chain are molar ratios; weight average molecular weight: 15,000)
  • Ba-3 resin having the following structure (numerical values attached to the main chain are molar ratios. The total value of x, y and z is 50.
  • Bb-1 Resin having the following structure (numerical values attached to the main chain are molar ratios; weight average molecular weight: 13,000)
  • Bb-2 resin cB-1 described above B-1, B-6, B-11, B-14, B-24, B-26, B-29, B-30: Resins B-1, B-6, B-11, B having the structures described above -14, B-24, B-26, B-29, B-30
  • D-1 Acrylate compound (KAYARAD DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., a mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate)
  • D-2 Epoxy compound (TETRAD-X, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc., N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylylenediamine)
  • D-3 Oxetane compound (OXT-221, manufactured by Toagosei Co., Ltd., 3-ethyl-3 ⁇ [(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]methyl ⁇ oxetane)
  • D-4 Oxetane compound (OX-SQ TX-100, manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
  • E-1 Omnirad 379EG (manufactured by IGM Resins B.V., 2-dimethylamino-2-(4-methyl-benzyl)-1-(4-morpholin-4-yl-phenyl)-butane-1- on)
  • E-2 Irgacure OXE01 (manufactured by BASF, oxime compound)
  • E-3 A compound having the following structure
  • ⁇ Vis was 0.5 mPa ⁇ s or less.
  • B ⁇ Vis exceeded 0.5 mPa ⁇ s and was 1.0 mPa ⁇ s or less.
  • D ⁇ Vis exceeded 2.0 mPa ⁇ s and was 2.5 mPa ⁇ s or less.
  • E ⁇ Vis exceeded 2.5 mPa ⁇ s.
  • A The number average particle size of the pigment was 0.05 ⁇ m or less.
  • B The number average particle size of the pigment was more than 0.05 ⁇ m and 0.10 ⁇ m or less.
  • C The number average particle size of the pigment exceeded 0.10 ⁇ m and was 0.20 ⁇ m or less.
  • D The number average particle size of the pigment was more than 0.20 ⁇ m and 0.50 ⁇ m or less.
  • E The number average particle size of the pigment exceeded 0.50 ⁇ m.
  • the film thickness of the film after the heat treatment was measured in the same manner, the film shrinkage ratio was obtained from the following formula, and the film shrinkage ratio was evaluated according to the following evaluation criteria.
  • Both T 0 and T 1 below were measured in a laboratory where the temperature and humidity were controlled at 22 ⁇ 5° C. and 60 ⁇ 20%, and the substrate temperature was adjusted to 25° C. It can be said that the smaller the film shrinkage ratio is, the more the film shrinkage is suppressed, which is a favorable result.
  • Film shrinkage rate (%) (1-(T 1 /T 0 )) x 100
  • T 1 Film thickness after heat treatment at 300° C.
  • the surface of the inorganic film after heat treatment was observed with an optical microscope, the number of cracks per 1 cm 2 was counted, and the presence or absence of cracks was evaluated according to the following evaluation criteria.
  • E The number of cracks per 1 cm 2 was 101 or more.
  • Contaminant increase rate (number of contaminants 2/number of contaminants 1).
  • the storage stability and particle size were both evaluated as excellent, and the dispersibility of the pigments was excellent as compared to the case of using the resin compositions of Comparative Examples. Furthermore, when the resin compositions of Examples were used, the film shrinkage rate was smaller than when the resin compositions of Comparative Examples were used, and the occurrence of cracks and precipitation defects was suppressed. . For this reason, it can be said that the resin compositions of Examples are capable of expanding the process window in the steps after the production of the film as compared with the resin compositions of Comparative Examples.
  • Example 1000 Pattern formation by photolithography
  • the resin composition of Example 1 is applied by spin coating, dried at 100 ° C. for 120 seconds using a hot plate (pre-bake), and then heated at 200 ° C. for 30 minutes using an oven (post-bake). to form a resin composition layer having a thickness of 0.60 ⁇ m.
  • the resin composition layer is exposed to an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5+ (Canon Co., Ltd.) through a mask pattern in which square non-masked portions with a side length of 1.1 ⁇ m are arranged in an area of 4 mm ⁇ 3 mm.
  • the silicon wafer on which the resin composition layer after exposure is formed is placed on a horizontal rotating table of a spin shower developing machine (DW-30 type, manufactured by Chemitronics Co., Ltd.), and a developing solution (CD -2000, manufactured by Fuji Film Electronic Materials Co., Ltd.), puddle development was performed at 23° C. for 60 seconds.
  • a pure water shower was supplied from above the center of rotation to perform a rinsing treatment, followed by spray drying to form a pattern (pixels).
  • the fabricated silicon wafer with pixels was divided into two, one of which was heat-treated at 300°C for 5 hours in a nitrogen atmosphere (hereinafter, one is referred to as a substrate before heat treatment at 300°C, and the other is referred to as a substrate after heat treatment at 300°C).
  • a substrate before heat treatment at 300°C one is referred to as a substrate before heat treatment at 300°C
  • a substrate after heat treatment at 300°C the cross section of the pixels formed on the substrate before the 300° C. heat treatment and the substrate after the 300° C. heat treatment was evaluated with a scanning electron microscope (SEM), the height of the pixels formed on the substrate after the 300° C. heat treatment was reduced.
  • the thickness (thickness) was 95% of the height (thickness) of the pixels formed on the substrate before heat treatment at 300°C.

Abstract

顔料を含む色材Ａと、樹脂Ｂと、溶剤Ｃと、を含み、樹脂Ｂは、式（１）で表される樹脂Ｂ１ｂを含む、樹脂組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、樹脂および樹脂の製造方法。

Description

樹脂組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、樹脂および樹脂の製造方法
　本発明は、樹脂組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、樹脂および樹脂の製造方法に関する。
　近年、デジタルカメラ、カメラ付き携帯電話等の普及から、電荷結合素子（ＣＣＤ）イメージセンサなどの固体撮像素子の需要が大きく伸びている。固体撮像素子には、カラーフィルタなどの顔料を含む膜が用いられている。カラーフィルタなどの色材を含む膜は、顔料と樹脂と溶剤とを含む樹脂組成物などを用いて製造されている。
　例えば、特許文献１には、顔料、分散剤、バインダー樹脂、エポキシ化合物、および溶剤を含有する樹脂組成物であって、分散剤が、テトラカルボン酸無水物（ｂ１）及びトリカルボン酸無水物（ｂ２）から選ばれる一種以上の酸無水物（ｂ）中の酸無水物基と水酸基含有化合物（ａ）中の水酸基とを反応させてなる、カルボキシ基を有するポリエステル部分Ｘ１’と、エチレン性不飽和単量体（ｃ）をラジカル重合してなり、かつ熱架橋性官能基を有するビニル重合体部分Ｘ２’とを有し、熱架橋性官能基が、水酸基、オキセタン基、ｔ－ブチル基、ブロックイソシアネート基、および（メタ）アクリロイル基からなる群より選ばれる少なくとも１種である分散剤（Ｘ）を含有する樹脂組成物に関する発明が記載されている。
特開２０１６－１７０３２５号公報
　顔料と樹脂と溶剤とを含む樹脂組成物においては、顔料の分散性が良好であることが好ましい。顔料の分散性が不十分であると、樹脂組成物中で顔料が凝集して粗大化したり、樹脂組成物の粘度が高くなり易い。また、製造直後の樹脂組成物の粘度は低くても、粘度が経時で増加することもある。
　本発明者の検討によれば、特許文献１に記載された樹脂組成物では、顔料の分散性は十分ではなく、更なる改善の余地があることが分かった。
　よって、本発明の目的は、顔料の分散性に優れた樹脂組成物を提供することにある。また、本発明の目的は、樹脂組成物を用いた膜、光学フィルタ、固体撮像素子および画像表示装置を提供することにある。また、本発明の目的は、樹脂および樹脂の製造方法を提供することにある。
　本発明の代表的な実施態様の例を以下に示す。
　＜１＞　顔料を含む色材Ａと、
　樹脂Ｂと、
　溶剤Ｃと、を含み、
　上記樹脂Ｂは、１級アミノ基、２級アミノ基およびヒドロキシ基から選ばれる官能基を３個以上有し、かつ、分子量が５００未満である化合物と、末端に酸無水物構造を有するマクロモノマーとの反応生成物である樹脂Ｂ１ａを含む、樹脂組成物。
　＜２＞　顔料を含む色材Ａと、
　樹脂Ｂと、
　溶剤Ｃと、を含み、
　上記樹脂Ｂは、下記式（１）で表される樹脂Ｂ１ｂを含む、樹脂組成物；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 　式（１）中、Ｚ１はｌ＋ｍ価の連結基を表し、
　Ｚ２は２＋ｎ価の連結基を表し、
　Ｘ１、Ｘ２およびＸ３はそれぞれ独立にＯまたはＮＲｘ１を表し、Ｒｘ１は水素原子または置換基を表し、
　Ｌ１は２価の連結基を表し、
　Ｐ１はポリマー鎖を表し、
　Ｒ１は水素原子、置換基または対イオンを表し、
　Ｙ１は水素原子または置換基を表し、
　ｎは１以上の整数を表し、ｍは１以上の整数を表し、ｌは０以上の整数を表し、ｌ＋ｍは３以上であり、
　ｌが２以上の場合、ｌ個のＸ３およびＹ１は同一であってもよく、異なっていてもよく、
　ｍが２以上の場合、ｍ個のＸ１、Ｚ２、Ｘ２、Ｌ１およびＰ１は同一であってもよく、異なっていてもよく、
　ｎが２以上の場合、ｎ個のＲ１は同一であってもよく、異なっていてもよい。
　＜３＞　上記式（１）のＸ１およびＸ３はそれぞれ独立にＮＲｘ１を表し、Ｒｘ１は水素原子または置換基を表す、＜２＞に記載の樹脂組成物。
　＜４＞　上記式（１）のｍが２以上の整数である、＜２＞または＜３＞に記載の樹脂組成物。
　＜５＞　上記式（１）のＹ１は、水素原子、または、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、エチレン性不飽和結合含有基、エポキシ基、オキセタニル基および色素部分構造を有する基から選ばれる少なくとも１種の官能基を有する基を表す、＜２＞～＜４＞のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
　＜６＞　上記式（１）のＰ１が表すポリマー鎖は、ポリエーテル構造、ポリエステル構造、ポリ（メタ）アクリル構造、およびポリスチレン構造から選ばれる少なくとも１種の構造の繰り返し単位を含むポリマー鎖である、＜２＞～＜５＞のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
　＜７＞　上記式（１）のＰ１が表すポリマー鎖は、エチレン性不飽和結合含有基、エポキシ基、オキセタニル基、および、ｔ－ブチル基から選択される少なくとも１種を含む、＜２＞～＜６＞のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
　＜８＞　上記式（１）のＬ１は、硫黄原子を含む２価の連結基である、＜２＞～＜７＞のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
　＜９＞　上記樹脂Ｂ１ｂは、式（２）で表される樹脂である、＜２＞～＜８＞のいずれか１つに記載の樹脂組成物；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 　式（２）中、Ｚ１はｌ＋ｍ価の連結基を表し、
　Ｘ１、Ｘ２およびＸ３はそれぞれ独立にＯまたはＮＲｘ１を表し、Ｒｘ１は水素原子または置換基を表し、
　Ｌ１は２価の連結基を表し、
　Ｐ１はポリマー鎖を表し、
　Ｙ１は水素原子または置換基を表し、
　ｍは１以上の整数を表し、ｌは０以上の整数を表し、ｌ＋ｍは３以上であり、
　ｌが２以上の場合、ｌ個のＸ３およびＹ１は同一であってもよく、異なっていてもよく、
　ｍが２以上の場合、ｍ個のＸ１、Ｘ２、Ｌ１およびＰ１は同一であってもよく、異なっていてもよい。
　＜１０＞　上記色材Ａは、ジケトピロロピロール顔料およびフタロシアニン顔料から選ばれる少なくとも１種を含有する、＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
　＜１１＞　更に、重合性モノマーを含む、＜１＞～＜１０＞のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
　＜１２＞　更に光重合開始剤を含む、＜１＞～＜１１＞のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
　＜１３＞　＜１＞～＜１２＞のいずれか１つに記載の樹脂組成物を用いて得られる膜。
　＜１４＞　＜１３＞に記載の膜を有する光学フィルタ。
　＜１５＞　＜１３＞に記載の膜を有する固体撮像素子。
　＜１６＞　＜１３＞に記載の膜を有する画像表示装置。
　＜１７＞　式（１）で表される樹脂；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 　式（１）中、Ｚ１はｌ＋ｍ価の連結基を表し、
　Ｚ２は２＋ｎ価の連結基を表し、
　Ｘ１、Ｘ２およびＸ３はそれぞれ独立にＯまたはＮＲｘ１を表し、Ｒｘ１は水素原子または置換基を表し、
　Ｌ１は２価の連結基を表し、
　Ｐ１はポリマー鎖を表し、
　Ｒ１は水素原子、置換基または対イオンを表し、
　Ｙ１は水素原子または置換基を表し、
　ｎは１以上の整数を表し、ｍは１以上の整数を表し、ｌは０以上の整数を表し、ｌ＋ｍは３以上であり、
　ｌが２以上の場合、ｌ個のＸ３およびＹ１は同一であってもよく、異なっていてもよく、
　ｍが２以上の場合、ｍ個のＸ１、Ｚ２、Ｘ２、Ｌ１およびＰ１は同一であってもよく、異なっていてもよく、
　ｎが２以上の場合、ｎ個のＲ１は同一であってもよく、異なっていてもよい。
　＜１８＞　１級アミノ基、２級アミノ基およびヒドロキシ基から選ばれる官能基を３個以上有し、かつ、分子量が５００未満である化合物と、末端に酸無水物構造を有するマクロモノマーとを反応させる工程を含む樹脂の製造方法。
　本発明によれば、顔料の分散性に優れた樹脂組成物を提供することができる。また、樹脂組成物を用いた膜、光学フィルタ、固体撮像素子および画像表示装置を提供することができる。また、樹脂および樹脂の製造方法を提供することができる。
　以下、本発明の主要な実施形態について説明する。しかしながら、本発明は、明示した実施形態に限られるものではない。
　本明細書において、「～」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
　本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
　本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線又は放射線が挙げられる。
　本明細書において、（メタ）アリル基は、アリル及びメタリルの双方、又は、いずれかを表し、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの双方、又は、いずれかを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルの双方、又は、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの双方、又は、いずれかを表す。
　本明細書において、重量平均分子量及び数平均分子量は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィ）法により測定したポリスチレン換算値である。
　本明細書において、近赤外線とは、波長７００～２５００ｎｍの光をいう。
　本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
　本明細書において「工程」との語は独立した工程だけを指すのではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
　本明細書において、顔料とは、溶剤に対して溶解しにくい色材を意味する。
　本明細書において、名称の前、又は名称の後に付記される記号（例えば、Ａなど）は、構成要素を区別するために使用する用語であり、構成要素の種類、構成要素の数、及び構成要素の優劣を制限するものではない。
＜樹脂組成物＞
　本発明の樹脂組成物の第１の態様は、
　顔料を含む色材Ａと、
　樹脂Ｂと、
　溶剤Ｃと、を含み、
　樹脂Ｂは、１級アミノ基、２級アミノ基およびヒドロキシ基から選ばれる官能基を３個以上有し、かつ、分子量が５００未満である化合物と、末端に酸無水物構造を有するマクロモノマーとの反応生成物である樹脂Ｂ１ａを含むことを特徴とする。
　また、本発明の樹脂組成物の第２の態様は、
　顔料を含む色材Ａと、
　樹脂Ｂと、
　溶剤Ｃと、を含み、
　樹脂Ｂは、式（１）で表される樹脂Ｂ１ｂを含むことを特徴とする。
　本発明の樹脂組成物は、顔料の分散性に優れている。このような効果が得られる詳細な理由は不明であるが、以下によるものであると推測される。
　すなわち、樹脂Ｂ１ａは、上記官能基を３個以上有し、かつ、分子量が５００未満である化合物と、末端に酸無水物構造を有するマクロモノマーとの反応によりアミド結合やエステル結合が形成されて、アミド結合やエステル結合を介してポリマー鎖が結合した構造を有していると推測される。また、樹脂Ｂ１ｂは、アミド結合（式（１）のＸ１がＮＲＸ１）やエステル結合（式（１）のＸ１がＯ）を介してポリマー鎖Ｐ１が結合した構造を有している。樹脂Ｂ１ａや樹脂Ｂ１ｂにアミド結合やエステル結合の部位があることによって樹脂Ｂ１ａや樹脂Ｂ１ｂの顔料表面への吸着が促進されるとともに、樹脂Ｂ１ａや樹脂Ｂ１ｂが有するポリマー鎖が立体反発基となって顔料同士の凝集などを抑制でき、その結果、顔料の分散性に優れた樹脂組成物とすることができたと推測される。特に、樹脂Ｂ１ａが、１級アミノ基を３個以上有し、かつ、分子量が５００未満である化合物と、末端に酸無水物構造を有するマクロモノマーとの反応生成物である場合や、樹脂Ｂ１ｂのＸ１がＮＲＸ１であるときにアミド結合が形成される場合においては、顔料の分散性をより向上させることができる。
　また、本発明の樹脂組成物を用いることにより耐熱性に優れた膜を形成することができる。特に、樹脂Ｂ１ａが、１級アミノ基を３個以上有し、かつ、分子量が５００未満である化合物と、末端に酸無水物構造を有するマクロモノマーとの反応生成物である場合や、樹脂Ｂ１ｂのＸ１がＮＲＸ１であるときにアミド結合が形成される場合においては、高温でも分解されにくく、高温での加熱処理後も膜収縮が生じにくいより優れた耐熱性を有する膜を形成できる。
　本発明の樹脂組成物を用いて、２００℃で３０分間加熱して厚さ０．６０μｍの膜を形成した際に、上記膜を窒素雰囲気下にて３００℃で５時間加熱処理した後の膜の厚さは、加熱処理前の膜の厚さの７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましい。
　また、上記膜を窒素雰囲気下にて３５０℃で５時間加熱処理した後の膜の厚さは、加熱処理前の膜の厚さの７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましく、９５％以上であることが特に好ましい。
　また、上記膜を窒素雰囲気下にて４００℃で５時間加熱処理した後の膜の厚さは、加熱処理前の膜の厚さの７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましく、９５％以上であることが特に好ましい。
　また、本発明の樹脂組成物を用いて、２００℃で３０分間加熱して厚さ０．６０μｍの膜を形成した際に、上記膜を窒素雰囲気下にて３００℃で５時間加熱処理したときに、加熱処理後の膜の下記式（Ａ１）で表される吸光度の変化率ΔＡは、５０％以下であることが好ましく、４５％以下であることがより好ましく、４０％以下であることが更に好ましく、３５％以下であることが特に好ましい。
　ΔＡ（％）＝｜１００－（Ａ２／Ａ１）×１００｜　　　・・・（Ａ１）
　ΔＡは、加熱処理後の膜の吸光度の変化率であり、
　Ａ１は、加熱処理前の膜の波長４００～１１００ｎｍの範囲における吸光度の最大値であり、
　Ａ２は、加熱処理後の膜の吸光度であって、加熱処理前の膜の波長４００～１１００ｎｍの範囲における吸光度の最大値を示す波長での吸光度である。
　上記物性は、用いる特定樹脂の種類や含有量を調整する等の方法により達成することができる。
　また、本発明の樹脂組成物を用い、２００℃で３０分加熱して厚さ０．６０μｍの膜を形成した際に、上記膜の波長４００～１１００ｎｍの範囲における吸光度の最大値を示す波長λ１と、上記膜を窒素雰囲気下にて、３００℃で５時間加熱処理した後の膜の吸光度の最大値を示す波長λ２との差の絶対値は、５０ｎｍ以下であることが好ましく、４５ｎｍ以下であることがより好ましく、４０ｎｍ以下であることが更に好ましい。
　上記物性は、用いる特定樹脂の種類や含有量を調整する等の方法により達成することができる。
　また、本発明の樹脂組成物を用い、２００℃で３０分加熱して厚さ０．６０μｍの膜を形成した際に、上記膜を窒素雰囲気下にて３００℃で５時間加熱処理したとき、加熱処理後の膜の波長４００～１１００ｎｍの範囲における吸光度の変化率ΔＡλの最大値が３０％以下であることが好ましく、２７％以下であることがより好ましく、２５％以下であることが更に好ましい。なお、吸光度の変化率は、下記式（２）から算出される値である。
　ΔＡλ＝｜１００－（Ａ２λ／Ａ１λ）×１００｜　　　・・・（２）
　ΔＡλは、加熱処理後の膜の波長λにおける吸光度の変化率であり、
　Ａ１λは、加熱処理前の膜の波長λにおける吸光度であり、
　Ａ２λは、加熱処理後の膜の波長λにおける吸光度である。
　上記物性は、用いる特定樹脂の種類や含有量を調整する等の方法により達成することができる。
　本発明の樹脂組成物は、光学フィルタ用の樹脂組成物として好ましく用いられる。光学フィルタとしては、カラーフィルタ、近赤外線透過フィルタ、近赤外線カットフィルタなどが挙げられ、カラーフィルタであることが好ましい。また、本発明の樹脂組成物は、固体撮像素子用の樹脂組成物として好ましく用いることができ、固体撮像素子に用いられる光学フィルタの画素形成用の樹脂組成物としてより好ましく用いることができる。
　カラーフィルタとしては、特定の波長の光を透過させる着色画素を有するフィルタが挙げられ、赤色画素、青色画素、緑色画素、黄色画素、シアン色画素及びマゼンタ色画素から選ばれる少なくとも１種の着色画素を有するフィルタであることが好ましい。カラーフィルタは、有彩色色材を含む樹脂組成物を用いて形成することができる。
　近赤外線カットフィルタとしては、極大吸収波長が波長７００～１８００ｎｍの範囲に存在するフィルタが挙げられる。近赤外線カットフィルタの極大吸収波長は、波長７００～１３００ｎｍの範囲に存在することが好ましく、波長７００～１１００ｎｍの範囲に存在することがより好ましい。また、近赤外線カットフィルタの波長４００～６５０ｎｍの全範囲での透過率は７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましい。また、波長７００～１８００ｎｍの範囲の少なくとも１点での透過率は２０％以下であることが好ましい。また、近赤外線カットフィルタの極大吸収波長における吸光度Ａｍａｘと、波長５５０ｎｍにおける吸光度Ａ５５０との比である吸光度Ａｍａｘ／吸光度Ａ５５０は、２０～５００であることが好ましく、５０～５００であることがより好ましく、７０～４５０であることが更に好ましく、１００～４００であることが特に好ましい。近赤外線カットフィルタは、近赤外線吸収色材を含む樹脂組成物を用いて形成することができる。
　近赤外線透過フィルタは、近赤外線の少なくとも一部を透過させるフィルタである。近赤外線透過フィルタは、可視光の少なくとも一部を遮光し、近赤外線の少なくとも一部を透過させるフィルタであることが好ましい。近赤外線透過フィルタとしては、波長４００～６４０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１１００～１３００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）である分光特性を満たしているフィルタなどが好ましく挙げられる。近赤外線透過フィルタは、以下の（１）～（５）のいずれかの分光特性を満たしているフィルタであることが好ましい。
　（１）：波長４００～６４０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長８００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。
　（２）：波長４００～７５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長９００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。
　（３）：波長４００～８３０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１０００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。
　（４）：波長４００～９５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１１００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。
　（５）：波長４００～１０５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１２００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。
　本発明の樹脂組成物が備える分光特性の好ましい一態様としては、樹脂組成物を用いて厚さ５μｍの膜を形成した際に、上記膜の厚み方向における光の透過率の波長３６０～７００ｎｍの範囲における最大値が５０％以上である分光特性を満たしている態様が挙げられる。このような分光特性を満たしている樹脂組成物は、カラーフィルタの画素形成用の樹脂組成物として好ましく用いることができる。具体的には、赤色画素、青色画素、緑色画素、黄色画素、シアン色画素及びマゼンタ色から選ばれる着色画素形成用の樹脂組成物として好ましく用いることができる。
　上記の分光特性を備える樹脂組成物は、有彩色色材を含むことが好ましい。例えば、赤色色材と黄色色材を含む樹脂組成物は、赤色画素形成用の樹脂組成物として好ましく用いることができる。また、青色色材と紫色色材を含む樹脂組成物は、青色画素形成用の樹脂組成物として好ましく用いることができる。また、緑色色材を含む樹脂組成物は、緑色またはシアン色画素形成用の樹脂組成物として好ましく用いることができる。樹脂組成物を緑色画素形成用の樹脂組成物として用いる場合には、緑色色材のほかに更に黄色色材を含むことも好ましい。
　本発明の樹脂組成物が備える分光特性の別の好ましい一態様としては、波長４００～６４０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａｍｉｎと、波長１５００ｎｍにおける吸光度Ｂとの比であるＡｍｉｎ／Ｂが５以上である分光特性を満たしている態様が挙げられる。このような分光特性を満たす樹脂組成物は、近赤外線透過フィルタ形成用の樹脂組成物として好ましく用いることができる。上記の吸光度の比であるＡｍｉｎ／Ｂの値は、７．５以上であることが好ましく、１５以上であることがより好ましく、３０以上であることが更に好ましい。
　ここで、波長λにおける吸光度Ａλは、以下の式（λ１）により定義される。
　Ａλ＝－ｌｏｇ（Ｔλ／１００）　　　・・・（λ１）
　Ａλは、波長λにおける吸光度であり、Ｔλは、波長λにおける透過率（％）である。
　本発明において、吸光度の値は、溶液の状態で測定した値であってもよく、組成物を用いて製膜した膜の値であってもよい。膜の状態で吸光度を測定する場合は、ガラス基板上にスピンコート等の方法によって組成物を塗布し、ホットプレート等を用いて１００℃、１２０秒間乾燥して得られた膜を用いて測定することが好ましい。
　本発明の樹脂組成物は、以下の（Ｉｒ１）～（Ｉｒ５）のいずれかの分光特性を満たしていることが好ましい。
　（Ｉｒ１）：波長４００～６４０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａ１と、波長８００～１５００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂ１との比であるＡ１／Ｂ１の値は４．５以上であり、７．５以上であることが好ましく、１５以上であることがより好ましく、３０以上であることが更に好ましい。この態様によれば、波長４００～６４０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長７５０ｎｍを超える光を透過させることができる膜を形成することができる。
　（Ｉｒ２）：波長４００～７５０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａ２と、波長９００～１５００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂ２との比であるＡ２／Ｂ２の値は４．５以上であり、７．５以上であることが好ましく、１５以上であることがより好ましく、３０以上であることが更に好ましい。この態様によれば、波長４００～７５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長８５０ｎｍを超える光を透過させることができる膜を形成することができる。
　（Ｉｒ３）：波長４００～８３０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａ３と、波長１０００～１５００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂ３との比であるＡ３／Ｂ３の値は４．５以上であり、７．５以上であることが好ましく、１５以上であることがより好ましく、３０以上であることが更に好ましい。この態様によれば、波長４００～８３０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長９５０ｎｍを超える光を透過させることができる膜を形成することができる。
　（Ｉｒ４）：波長４００～９５０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａ４と、波長１１００～１５００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂ４との比であるＡ４／Ｂ４の値は４．５以上であり、７．５以上であることが好ましく、１５以上であることがより好ましく、３０以上であることが更に好ましい。この態様によれば、波長４００～９５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長１０５０ｎｍを超える光を透過させることができる膜を形成することができる。
　（Ｉｒ５）：波長４００～１０５０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａ５と、波長１２００～１５００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂ５との比であるＡ５／Ｂ５の値は４．５以上であり、７．５以上であることが好ましく、１５以上であることがより好ましく、３０以上であることが更に好ましい。この態様によれば、波長４００～１０５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長１１５０ｎｍを超える光を透過させることができる膜を形成することができる。
　本発明の樹脂組成物は、フォトリソグラフィ法でのパターン形成用の樹脂組成物であることも好ましい。この態様によれば、微細なサイズの画素を容易に形成することができる。このため、固体撮像素子に用いられる光学フィルタの画素形成用の樹脂組成物として特に好ましく用いることができる。例えば、エチレン性不飽和結合含有基を有する成分（例えば、エチレン性不飽和結合含有基を有する樹脂やエチレン性不飽和結合含有基を有するモノマー）と、光重合開始剤とを含有する樹脂組成物は、フォトリソグラフィ法でのパターン形成用の樹脂組成物として好ましく用いることができる。フォトリソグラフィ法でのパターン形成用の樹脂組成物は、更にアルカリ可溶性樹脂を含むことも好ましい。
　本発明の樹脂組成物は、ブラックマトリクス形成用の樹脂組成物や遮光膜形成用の樹脂組成物として用いることもできる。
　以下、本発明の樹脂組成物に用いられる各成分について説明する。
＜＜色材Ａ＞＞
　本発明の樹脂組成物は、色材Ａ（以下、色材と記す）を含有する。色材としては白色色材、黒色色材、有彩色色材、近赤外線吸収色材が挙げられる。なお、本発明において、白色色材には純白色のみならず、白に近い明るい灰色（例えば灰白色、薄灰色など）の色材も含まれる。
　色材は、有彩色色材、黒色色材、及び近赤外線吸収色材よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましく、有彩色色材及び近赤外線吸収色材よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含むことがより好ましく、有彩色色材を含むことが更に好ましく、赤色色材、黄色色材、青色色材及び紫色色材よりなる群から選ばれた少なくとも１種の有彩色色材を含むことが更に好ましい。
　また、色材は、有彩色色材及び近赤外線吸収色材を含むことも好ましく、２種以上の有彩色色材と近赤外線吸収色材とを含むことも好ましい。また、２種以上の有彩色色材の組み合わせで黒色を形成していてもよい。また、色材は、黒色色材と近赤外線吸収色材とを含むことも好ましい。これらの態様によれば、本発明の樹脂組成物を、近赤外線透過フィルタ形成用の樹脂組成物として好ましく用いることができる。２種以上の有彩色色材の組み合わせで黒色を形成する色材の組み合わせについては、特開２０１３－０７７００９号公報、特開２０１４－１３０３３８号公報、国際公開第２０１５／１６６７７９号等を参照できる。
　本発明の樹脂組成物に含まれる色材は、顔料を含むものが用いられる。顔料は、無機顔料、有機顔料のいずれでもよいが、カラーバリエーションの多さ、分散の容易性、安全性等の観点から有機顔料であることが好ましい。また、顔料は、有彩色顔料及び近赤外線吸収顔料から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましく、有彩色顔料を含むことがより好ましい。
　また、顔料は、フタロシアニン顔料、ジオキサジン顔料、キナクリドン顔料、アントラキノン顔料、ペリレン顔料、アゾ顔料、ジケトピロロピロール顔料、ピロロピロール顔料、イソインドリン顔料、キノフタロン顔料およびプテリジン顔料から選ばれる少なくとも１種を含むものであることが好ましく、フタロシアニン顔料、ジケトピロロピロール顔料及びピロロピロール顔料から選ばれる少なくとも１種を含むものであることがより好ましく、フタロシアニン顔料又はジケトピロロピロール顔料を含むものであることが更に好ましい。また、高温（例えば３００℃以上）に加熱した後も分光特性が変動しにくい膜を形成しやすいという理由からフタロシアニン顔料は、中心金属を持たないフタロシアニン顔料や、中心金属として、銅又は亜鉛を有するフタロシアニン顔料が好ましい。
　顔料の平均一次粒子径は、１～２００ｎｍが好ましい。下限は５ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましい。上限は、１８０ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以下が更に好ましい。顔料の平均一次粒子径が上記範囲であれば、樹脂組成物中における顔料の分散安定性が良好である。なお、本発明において、顔料の一次粒子径は、顔料の一次粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた写真から求めることができる。具体的には、顔料の一次粒子の投影面積を求め、それに対応する円相当径を顔料の一次粒子径として算出する。また、本発明における平均一次粒子径は、４００個の顔料の一次粒子についての一次粒子径の算術平均値とする。また、顔料の一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
（有彩色色材）
　有彩色色材としては、波長４００～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する色材が挙げられる。例えば、黄色色材、オレンジ色色材、赤色色材、緑色色材、紫色色材、青色色材などが挙げられる。耐熱性の観点から有彩色色材は、顔料（有彩色顔料）であることが好ましく、赤色顔料、黄色顔料、及び青色顔料がより好ましく、赤色顔料及び青色顔料が更に好ましい。有彩色顔料の具体例としては、例えば、以下に示すものが挙げられる。
　Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１，２，３，４，５，６，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２０，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，８６，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２５，１２６，１２７，１２８，１２９，１３７，１３８，１３９，１４７，１４８，１５０，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９３，１９４，１９９，２１３，２１４，２１５，２２８，２３１，２３２，２３３，２３４，２３５，２３６等（以上、黄色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ２，５，１３，１６，１７：１，３１，３４，３６，３８，４３，４６，４８，４９，５１，５２，５５，５９，６０，６１，６２，６４，７１，７３等（以上、オレンジ色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１，２，３，４，５，６，７，９，１０，１４，１７，２２，２３，３１，３８，４１，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５２：１，５２：２，５３：１，５７：１，６０：１，６３：１，６６，６７，８１：１，８１：２，８１：３，８３，８８，９０，１０５，１１２，１１９，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１５０，１５５，１６６，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１６，２２０，２２４，２２６，２４２，２４６，２５４，２５５，２６４，２６９，２７０，２７２，２７９，２９１，２９４，２９５，２９６，２９７等（以上、赤色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７，１０，３６，３７，５８，５９，６２，６３，６４（フタロシアニン系），６５，６６等（以上、緑色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１，１９，２３，２７，３２，３７，４２，６０，６１等（以上、紫色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１，２，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，２２，２９，６０，６４，６６，７９，８０，８７，８８等（以上、青色顔料）。
　これらの有彩色顔料のうち、高温（例えば３００℃以上）に加熱した後も分光特性が変動しにくい膜を形成しやすいという理由から赤色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２６４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２７２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７９が好ましい。また、青色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１６が好ましい。
　また、緑色顔料として、１分子中のハロゲン原子数が平均１０～１４個であり、臭素原子数が平均８～１２個であり、塩素原子数が平均２～５個であるハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／１１８７２０号に記載の化合物が挙げられる。また、緑色顔料として中国特許出願第１０６９０９０２７号明細書に記載の化合物、国際公開第２０１２／１０２３９５号に記載のリン酸エステルを配位子として有するフタロシアニン化合物、特開２０１９－００８０１４号公報に記載のフタロシアニン化合物、特開２０１８－１８００２３号公報に記載のフタロシアニン化合物、特開２０１９－０３８９５８号公報に記載の化合物、特開２０２０－０７０４２６号公報に記載のアルミニウムフタロシアニン化合物、特開２０２０－０７６９９５号公報に記載のコアシェル型色素などを用いることもできる。
　また、青色顔料として、リン原子を有するアルミニウムフタロシアニン顔料を用いることもできる。具体例としては、特開２０１２－２４７５９１号公報の段落番号００２２～００３０、特開２０１１－１５７４７８号公報の段落番号００４７に記載の化合物が挙げられる。
　また、黄色顔料として、下記構造のアゾバルビツール酸ニッケル錯体を用いることもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　また、黄色顔料として、特開２０１７－２０１００３号公報に記載の化合物、特開２０１７－１９７７１９号公報に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１２号公報の段落番号００１１～００６２、０１３７～０２７６に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１３号公報の段落番号００１０～００６２、０１３８～０２９５に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１４号公報の段落番号００１１～００６２、０１３９～０１９０に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１５号公報の段落番号００１０～００６５、０１４２～０２２２に記載の化合物、特開２０１３－０５４３３９号公報の段落番号００１１～００３４に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０２６２２８号公報の段落番号００１３～００５８に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０６２６４４号公報に記載のイソインドリン化合物、特開２０１８－２０３７９８号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０６２５７８号公報に記載のキノフタロン化合物、特許第６４３２０７６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－１５５８８１号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－１１１７５７号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０４０８３５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１７－１９７６４０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１６－１４５２８２号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０８５５６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０２１１３９号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－２０９６１４号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－２０９４３５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－１８１０１５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－０６１６２２号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－０３２４８６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１２－２２６１１０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８７号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０８１５６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０５０４２０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０３１２８１号公報に記載のキノフタロン化合物、特公昭４８－０３２７６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１９－００８０１４号公報に記載のキノフタロン化合物、特許第６６０７４２７号公報に記載のキノフタロン化合物、韓国公開特許第１０－２０１４－００３４９６３号公報に記載の化合物、特開２０１７－０９５７０６号公報に記載の化合物、台湾特許出願公開第２０１９２０４９５号公報に記載の化合物、特許第６６０７４２７号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２５号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２４号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２３号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２２号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２１号公報に記載の化合物、国際公開第２０２０／０４５２００号に記載の化合物、国際公開第２０２０／０４５１９９号に記載の化合物、国際公開第２０２０／０４５１９７号に記載の化合物、特開２０２０－０９３９９４号公報に記載のアゾ化合物、特開２０２０－０８３９８２号公報に記載のペリレン化合物、国際公開第２０２０／１０５３４６号に記載のペリレン化合物、特表２０２０－５１７７９１号公報に記載のキノフタロン化合物、下記式（ＱＰ１）で表される化合物、下記式（ＱＰ２）で表される化合物を用いることもできる。また、これらの化合物を多量体化したものも、色価向上の観点から好ましく用いられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　式（ＱＰ１）中、Ｘ１～Ｘ１６は各々独立に水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｚ１は炭素数１～３のアルキレン基を表す。式（ＱＰ１）で表される化合物の具体例としては、特許第６４４３７１１号公報の段落番号００１６に記載されている化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　式（ＱＰ２）中、Ｙ１～Ｙ３は、それぞれ独立にハロゲン原子を示す。ｎ、ｍは０～６の整数、ｐは０～５の整数を表す。（ｎ＋ｍ）は１以上である。式（ＱＰ２）で表される化合物の具体例としては、特許６４３２０７７号公報の段落番号００４７～００４８に記載されている化合物が挙げられる。
　赤色顔料として、特開２０１７－２０１３８４号公報に記載の構造中に少なくとも１つの臭素原子が置換したジケトピロロピロール化合物、特許第６２４８８３８号の段落番号００１６～００２２に記載のジケトピロロピロール化合物、国際公開第２０１２／１０２３９９号に記載のジケトピロロピロール化合物、国際公開第２０１２／１１７９６５号に記載のジケトピロロピロール化合物、特開２０２０－０８５９４７号公報に記載の臭素化ジケトピロロピロール化合物、特開２０１２－２２９３４４号公報に記載のナフトールアゾ化合物、特許第６５１６１１９号公報に記載の赤色顔料、特許第６５２５１０１号公報に記載の赤色顔料、特開２０２０－０９０６３２号公報の段落番号０２２９に記載の臭素化ジケトピロロピロール化合物、韓国公開特許第１０－２０１９－０１４０７４１号公報に記載のアントラキノン化合物、韓国公開特許第１０－２０１９－０１４０７４４号公報に記載のアントラキノン化合物、特開２０２０－０７９３９６号公報に記載のペリレン化合物、特開２０２０－０６６７０２号公報の段落番号００２５～００４１に記載のジケトピロロピロール化合物などを用いることもできる。また、赤色顔料として、芳香族環に対して、酸素原子、硫黄原子または窒素原子が結合した基が導入された芳香族環基がジケトピロロピロール骨格に結合した構造を有する化合物を用いることもできる。
　各種顔料が有していることが好ましい回折角については、特許第６５６１８６２号公報、特許第６４１３８７２号公報、特許第６２８１３４５号公報、特開２０２０－０２６５０３号公報、特開２０２０－０３３５２６号公報の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、ピロロピロール顔料としては結晶格子面のうち（±１±１±１）の８個の面の中でＸ線回折パターンにおける最大ピークに対応する面方向の結晶子サイズが１４０Å以下であるものを用いることも好ましい。また、ピロロピロール顔料の物性については、特開２０２０－０９７７４４号公報の段落番号００２８～００７３に記載の通り設定することも好ましい。
　また、有彩色色材として、韓国公開特許第１０－２０２０－００２８１６０号公報に記載されたトリアリールメタン染料ポリマー、特開２０２０－１１７６３８号公報に記載のキサンテン化合物、国際公開第２０２０／１７４９９１号に記載のフタロシアニン化合物、特開２０２０－１６０２７９号公報に記載のイソインドリン化合物又はそれらの塩を用いることができる。
　有彩色色材は、２種以上組み合わせて用いてもよい。また、有彩色色材は、２種以上組み合わせて用いる場合、２種以上の有彩色色材の組み合わせで黒色を形成していてもよい。そのような組み合わせとしては、例えば以下の（１）～（７）の態様が挙げられる。樹脂組成物中に有彩色色材を２種以上含み、かつ、２種以上の有彩色色材の組み合わせで黒色を呈している場合においては、本発明の樹脂組成物は、近赤外線透過フィルタ形成用の樹脂組成物として好ましく用いることができる。
（１）赤色色材と青色色材とを含有する態様。
（２）赤色色材と青色色材と黄色色材とを含有する態様。
（３）赤色色材と青色色材と黄色色材と紫色色材とを含有する態様。
（４）赤色色材と青色色材と黄色色材と紫色色材と緑色色材とを含有する態様。
（５）赤色色材と青色色材と黄色色材と緑色色材とを含有する態様。
（６）赤色色材と青色色材と緑色色材とを含有する態様。
（７）黄色色材と紫色色材とを含有する態様。
（白色色材）
　白色色材としては、酸化チタン、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、硫酸バリウム、シリカ、タルク、マイカ、水酸化アルミニウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、中空樹脂粒子、硫化亜鉛などの無機顔料（白色顔料）が挙げられる。白色顔料は、チタン原子を有する粒子が好ましく、酸化チタンがより好ましい。また、白色顔料は、波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が２．１０以上の粒子であることが好ましい。前述の屈折率は、２．１０～３．００であることが好ましく、２．５０～２．７５であることがより好ましい。
　また、白色顔料は「酸化チタン　物性と応用技術　清野学著　１３～４５ページ　１９９１年６月２５日発行、技報堂出版発行」に記載の酸化チタンを用いることもできる。
　白色顔料は、単一の無機物からなるものだけでなく、他の素材と複合させた粒子を用いてもよい。例えば、内部に空孔や他の素材を有する粒子、コア粒子に無機粒子を多数付着させた粒子、ポリマー粒子からなるコア粒子と無機ナノ微粒子からなるシェル層とからなるコア及びシェル複合粒子を用いることが好ましい。上記ポリマー粒子からなるコア粒子と無機ナノ微粒子からなるシェル層とからなるコア及びシェル複合粒子としては、例えば、特開２０１５－０４７５２０号公報の段落番号００１２～００４２の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　白色顔料は、中空無機粒子を用いることもできる。中空無機粒子とは、内部に空洞を有する構造の無機粒子であり、外殻に包囲された空洞を有する無機粒子のことを言う。中空無機粒子としては、特開２０１１－０７５７８６号公報、国際公開第２０１３／０６１６２１号、特開２０１５－１６４８８１号公報などに記載された中空無機粒子が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
（黒色色材）
　黒色色材としては特に限定されず、公知のものを用いることができる。例えば、無機黒色色材としては、カーボンブラック、チタンブラック、グラファイト等の無機顔料（無機黒色顔料）が挙げられ、カーボンブラック、チタンブラックが好ましく、チタンブラックがより好ましい。チタンブラックとは、チタン原子を含有する黒色粒子であり、低次酸化チタンや酸窒化チタンが好ましい。チタンブラックは、分散性向上、凝集性抑制などの目的で必要に応じ、表面を修飾することが可能である。例えば、酸化珪素、酸化チタン、酸化ゲルマニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、又は、酸化ジルコニウムでチタンブラックの表面を被覆することが可能である。また、特開２００７－３０２８３６号公報に表されるような撥水性物質での処理も可能である。チタンブラックは、個々の粒子の一次粒子径及び平均一次粒子径のいずれもが小さいことが好ましい。具体的には、平均一次粒子径が１０～４５ｎｍであることが好ましい。チタンブラックは、分散物として用いることもできる。例えば、チタンブラック粒子とシリカ粒子とを含み、分散物中のＳｉ原子とＴｉ原子との含有比が０．２０～０．５０の範囲に調整された分散物などが挙げられる。上記分散物については、特開２０１２－１６９５５６号公報の段落００２０～０１０５の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。チタンブラックの市販品の例としては、チタンブラック１０Ｓ、１２Ｓ、１３Ｒ、１３Ｍ、１３Ｍ－Ｃ、１３Ｒ－Ｎ、１３Ｍ－Ｔ（商品名：三菱マテリアル（株）製）、ティラック（Ｔｉｌａｃｋ）Ｄ（商品名：赤穂化成（株）製）などが挙げられる。無機黒色顔料として、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１，７等を用いることもできる。
　また、有機黒色色材として、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、アゾ化合物などが挙げられる。ビスベンゾフラノン化合物としては、特表２０１０－５３４７２６号公報、特表２０１２－５１５２３３号公報、特表２０１２－５１５２３４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、ＢＡＳＦ社製の「Ｉｒｇａｐｈｏｒ　Ｂｌａｃｋ」として入手可能である。ペリレン化合物としては、特開２０１７－２２６８２１号公報の段落番号００１６～００２０に記載の化合物、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌａｃｋ　３１、３２などが挙げられる。アゾメチン化合物としては、特開平０１－１７０６０１号公報、特開平０２－０３４６６４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、大日精化社製の「クロモファインブラックＡ１１０３」として入手できる。
　本発明の樹脂組成物に用いられる色材は、上述した黒色色材のみであってもよく、有彩色色材を更に含むものであってもよい。この態様によれば、可視領域での遮光性に優れた膜を形成できる樹脂組成物が得られやすい。色材として黒色色材と有彩色色材とを併用する場合、両者の質量比は、黒色色材：有彩色色材＝１００：１０～３００であることが好ましく、１００：２０～２００であることがより好ましい。また、上記黒色色材としては黒色顔料を用いることが好ましく、上記有彩色色材としては有彩色顔料を用いることが好ましい。
　黒色色材と有彩色色材の好ましい組み合わせとしては、例えば以下が挙げられる。
　（Ａ－１）有機黒色色材と青色色材とを含有する態様。
　（Ａ－２）有機黒色色材と青色色材と黄色色材とを含有する態様。
　（Ａ－３）有機黒色色材と青色色材と黄色色材と赤色色材とを含有する態様。
　（Ａ－４）有機黒色色材と青色色材と黄色色材と紫色色材とを含有する態様。
　上記（Ａ－１）の態様において、有機黒色色材と青色色材との質量比は、有機黒色色材：青色色材＝１００：１～７０であることが好ましく、１００：５～６０であることがより好ましく、１００：１０～５０であることが更に好ましい。
　上記（Ａ－２）の態様において、有機黒色色材と青色色材と黄色色材の質量比は、有機黒色色材：青色色材：黄色色材＝１００：１０～９０：１０～９０であることが好ましく、１００：１５～８５：１５～８０であることがより好ましく、１００：２０～８０：２０～７０であることが更に好ましい。
　上記（Ａ－３）の態様において、有機黒色色材と青色色材と黄色色材と赤色色材との質量比は、有機黒色色材：青色色材：黄色色材：赤色色材＝１００：２０～１５０：１～６０：１０～１００であることが好ましく、１００：３０～１３０：５～５０：２０～９０であることがより好ましく、１００：４０～１２０：１０～４０：３０～８０であることが更に好ましい。
　上記（Ａ－４）の態様において、有機黒色色材と青色色材と黄色色材と紫色色材との質量比は、有機黒色色材：青色色材：黄色色材：紫色色材＝１００：２０～１５０：１～６０：１０～１００であることが好ましく、１００：３０～１３０：５～５０：２０～９０であることがより好ましく、１００：４０～１２０：１０～４０：３０～８０であることが更に好ましい。
（近赤外線吸収色材）
　近赤外線吸収色材は、顔料であることが好ましく、有機顔料であることがより好ましい。また、近赤外線吸収色材は、波長７００ｎｍを超え１４００ｎｍ以下の範囲に極大吸収波長を有することが好ましい。また、近赤外線吸収色材の極大吸収波長は、１２００ｎｍ以下であることが好ましく、１０００ｎｍ以下であることがより好ましく、９５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、近赤外線吸収色材は、波長５５０ｎｍにおける吸光度Ａ５５０と極大吸収波長における吸光度Ａｍａｘとの比であるＡ５５０／Ａｍａｘが０．１以下であることが好ましく、０．０５以下であることがより好ましく、０．０３以下であることが更に好ましく、０．０２以下であることが特に好ましい。下限は、特に限定はないが、例えば、０．０００１以上とすることができ、０．０００５以上とすることもできる。上述の吸光度の比が上記範囲であれば、可視光透明性及び近赤外線遮蔽性に優れた近赤外線吸収色材とすることができる。なお、本発明において、近赤外線吸収色材の極大吸収波長及び各波長における吸光度の値は、近赤外線吸収色材を含む樹脂組成物を用いて形成した膜の吸収スペクトルから求めた値である。
　近赤外線吸収色材としては、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、クアテリレン化合物、メロシアニン化合物、クロコニウム化合物、オキソノール化合物、イミニウム化合物、ジチオール化合物、トリアリールメタン化合物、ピロメテン化合物、アゾメチン化合物、アントラキノン化合物、ジベンゾフラノン化合物、ジチオレン金属錯体、金属酸化物、金属ホウ化物等が挙げられる。ピロロピロール化合物としては、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００１６～００５８に記載の化合物、特開２０１１－０６８７３１号公報の段落番号００３７～００５２に記載の化合物、国際公開第２０１５／１６６８７３号の段落番号００１０～００３３に記載の化合物などが挙げられる。スクアリリウム化合物としては、特開２０１１－２０８１０１号公報の段落番号００４４～００４９に記載の化合物、特許第６０６５１６９号公報の段落番号００６０～００６１に記載の化合物、国際公開第２０１６／１８１９８７号の段落番号００４０に記載の化合物、特開２０１５－１７６０４６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１９０１６２号の段落番号００７２に記載の化合物、特開２０１６－０７４６４９号公報の段落番号０１９６～０２２８に記載の化合物、特開２０１７－０６７９６３号公報の段落番号０１２４に記載の化合物、国際公開第２０１７／１３５３５９号に記載の化合物、特開２０１７－１１４９５６号公報に記載の化合物、特許６１９７９４０号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１２０１６６号に記載の化合物などが挙げられる。シアニン化合物としては、特開２００９－１０８２６７号公報の段落番号００４４～００４５に記載の化合物、特開２００２－１９４０４０号公報の段落番号００２６～００３０に記載の化合物、特開２０１５－１７２００４号公報に記載の化合物、特開２０１５－１７２１０２号公報に記載の化合物、特開２００８－０８８４２６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１９０１６２号の段落番号００９０に記載の化合物、特開２０１７－０３１３９４号公報に記載の化合物などが挙げられる。クロコニウム化合物としては、特開２０１７－０８２０２９号公報に記載の化合物が挙げられる。イミニウム化合物としては、例えば、特表２００８－５２８７０６号公報に記載の化合物、特開２０１２－０１２３９９号公報に記載の化合物、特開２００７－０９２０６０号公報に記載の化合物、国際公開第２０１８／０４３５６４号の段落番号００４８～００６３に記載の化合物が挙げられる。フタロシアニン化合物としては、特開２０１２－０７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物、特開２００６－３４３６３１号公報に記載のオキシチタニウムフタロシアニン、特開２０１３－１９５４８０号公報の段落番号００１３～００２９に記載の化合物、特許第６０８１７７１号公報に記載のバナジウムフタロシアニン化合物、国際公開第２０２０／０７１４８６号に記載のバナジウムフタロシアニン化合物、国際公開第２０２０／０７１４７０号に記載のフタロシアニン化合物が挙げられる。ナフタロシアニン化合物としては、特開２０１２－０７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物が挙げられる。ジチオレン金属錯体としては、特許第５７３３８０４号公報に記載の化合物が挙げられる。金属酸化物としては、例えば、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ、酸化亜鉛、Ａｌドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ二酸化スズ、ニオブドープ二酸化チタン、酸化タングステンなどが挙げられる。酸化タングステンの詳細については、特開２０１６－００６４７６号公報の段落番号００８０を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。金属ホウ化物としては、ホウ化ランタンなどが挙げられる。ホウ化ランタンの市販品としては、ＬａＢ６－Ｆ（日本新金属（株）製）などが挙げられる。また、金属ホウ化物としては、国際公開第２０１７／１１９３９４号に記載の化合物を用いることもできる。酸化インジウムスズの市販品としては、Ｆ－ＩＴＯ（ＤＯＷＡハイテック（株）製）などが挙げられる。
　また、近赤外線吸収色材としては、特開２０１７－１９７４３７号公報に記載のスクアリリウム化合物、特開２０１７－０２５３１１号公報に記載のスクアリリウム化合物、国際公開第２０１６／１５４７８２号に記載のスクアリリウム化合物、特許第５８８４９５３号公報に記載のスクアリリウム化合物、特許第６０３６６８９号公報に記載のスクアリリウム化合物、特許第５８１０６０４号公報に記載のスクアリリウム化合物、国際公開第２０１７／２１３０４７号の段落番号００９０～０１０７に記載のスクアリリウム化合物、特開２０１８－０５４７６０号公報の段落番号００１９～００７５に記載のピロール環含有化合物、特開２０１８－０４０９５５号公報の段落番号００７８～００８２に記載のピロール環含有化合物、特開２０１８－００２７７３号公報の段落番号００４３～００６９に記載のピロール環含有化合物、特開２０１８－０４１０４７号公報の段落番号００２４～００８６に記載のアミドα位に芳香環を有するスクアリリウム化合物、特開２０１７－１７９１３１号公報に記載のアミド連結型スクアリリウム化合物、特開２０１７－１４１２１５号公報に記載のピロールビス型スクアリリウム骨格又はクロコニウム骨格を有する化合物、特開２０１７－０８２０２９号公報に記載されたジヒドロカルバゾールビス型のスクアリリウム化合物、特開２０１７－０６８１２０号公報の段落番号００２７～０１１４に記載の非対称型の化合物、特開２０１７－０６７９６３号公報に記載されたピロール環含有化合物（カルバゾール型）、特許第６２５１５３０号公報に記載されたフタロシアニン化合物などを用いることもできる。
　樹脂組成物の全固形分中における色材の含有量は２０～９０質量％であることが好ましい。下限は、３０質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、５０質量％以上であることが更に好ましい。上限は、８０質量％以下であることが好ましく、７０質量％以下であることがより好ましい。
　また、樹脂組成物の全固形分中における顔料の含有量は２０～９０質量％であることが好ましい。下限は、３０質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、５０質量％以上であることが更に好ましい。上限は、８０質量％以下であることが好ましく、７０質量％以下であることがより好ましい。
　また、色材中における染料の含有量は５０質量％以下であることが好ましく、４０質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以下であることが更に好ましい。
　また、本発明の樹脂組成物は、得られる膜を高温に加熱した際の膜厚変化をより効果的に抑制しやすいという理由から染料を実質的に含有しないことも好ましい。本発明の樹脂組成物が染料を実質的に含まない場合、本発明の樹脂組成物の全固形分中における染料の含有量が０．１質量％以下であることが好ましく、０．０５質量％以下であることがより好ましく、含有しないことが特に好ましい。
＜＜樹脂Ｂ＞＞
（特定樹脂）
　本発明の樹脂組成物は樹脂Ｂ（以下、樹脂ともいう）を含む。樹脂組成物に含まれる樹脂は、１級アミノ基、２級アミノ基およびヒドロキシ基から選ばれる官能基を３個以上有し、かつ、分子量が５００未満である化合物（以下、化合物ａともいう）と、末端に酸無水物構造を有するマクロモノマーとの反応生成物である樹脂Ｂ１ａ、または、式（１）で表される樹脂Ｂ１ｂを含む。以下、樹脂Ｂ１ａと樹脂Ｂ１ｂとを合わせて特定樹脂ともいう。樹脂Ｂ１ａは、式（１）で表される樹脂Ｂ１ｂであることが好ましい。すなわち、本発明の樹脂組成物に含まれる樹脂Ｂは、樹脂Ｂ１ｂを含むことが好ましい。
　まず、樹脂Ｂ１ａに係る上記化合物ａについて説明する。化合物ａは、１級アミノ基または２級アミノ基を３個以上有する化合物であることが好ましく、１級アミノ基を３個以上有する化合物であることがより好ましい。なお、本明細書において、１級アミノ基とは、－ＮＨ２で表される基のことを意味する。また、２級アミノ基とは、＊－ＮＨ－＊で表される基のことを意味し、「＊」は炭素原子との連結部である。
　化合物ａが有する上記官能基の個数は３個以上であり、３～１６個であることが好ましく、３～１０個であることがより好ましく、３～６個であることが更に好ましい。
　化合物ａの分子量は、５００未満であり、１００～４９９であることが好ましく、２００～４５０であることがより好ましい。化合物ａの分子量の値は、構造式から算出した値である。化合物Ｘは分子量分布を有さない化合物であることが好ましい。
　化合物ａとしては、式（ａ－１）で表される化合物および式（ａ－２）で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 　式中、Ｚａ１はｑ価の連結基を表し、
　Ｒａ１は水素原子または置換基を表し、
　ｑは３以上の整数を表す。
　式（ａ－１）および式（ａ－２）のＺａ１が表すｑ価の連結基としては、１～１００個の炭素原子、０～１０個の窒素原子、０～５０個の酸素原子、１～２００個の水素原子、および０～２０個の硫黄原子から成り立つ基が挙げられ、１～６０個の炭素原子、０～１０個の窒素原子、０～４０個の酸素原子、１～１２０個の水素原子、および０～１０個の硫黄原子から成り立つ基が好ましく、１～５０個の炭素原子、０～１０個の窒素原子、０～３０個の酸素原子、１～１００個の水素原子、および０～７個の硫黄原子から成り立つ基がより好ましく、１～４０個の炭素原子、０～８個の窒素原子、０～２０個の酸素原子、１～８０個の水素原子、および０～５個の硫黄原子から成り立つ基が特に好ましい。ｑ価の連結基としては、下記の構造単位または以下の構造単位が２以上組み合わさって構成される基（環構造を形成していてもよい）を挙げることができる。以下の式中の＊は結合手を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　Ｚａ１が表すｑ価の連結基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～１６のアリール基、カルボキシ基、スルホンアミド基、Ｎ－スルホニルアミド基、炭素数１～６のアシルオキシ基、炭素数１～２０のアルコキシ基、ハロゲン原子、炭素数２～７のアルコキシカルボニル基、シアノ基、炭酸エステル基、エチレン性不飽和結合含有基、エポキシ基、オキセタン基等が挙げられる。
　Ｚａ１が表すｑ価の連結基は、式（Ｚａ－１）～（Ｚａ－４）のいずれかで表される基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 　式（Ｚａ－１）中、Ｌａ３は３価の基を表し、Ｔａ３は単結合又は２価の連結基を表し、３個存在するＴａ３は互いに同一であっても異なっていてもよい。
　式（Ｚａ－２）中、Ｌａ４は４価の基を表し、Ｔａ４は単結合又は２価の連結基を表し、４個存在するＴａ４は互いに同一であっても異なっていてもよい。
　式（Ｚａ－３）中、Ｌａ５は５価の基を表し、Ｔａ５は単結合又は２価の連結基を表し、５個存在するＴａ５は互いに同一であっても異なっていてもよい。
　式（Ｚａ－４）中、Ｌａ６は６価の基を表し、Ｔａ６は単結合又は２価の連結基を表し、６個存在するＴａ６は互いに同一であっても異なっていてもよい。
　上記式中、＊は結合手を表す。
　Ｔａ３～Ｔａ６が表す２価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、複素環基、－Ｃ（ＣＦ３）２－、－ＮＨ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、およびこれらの２以上を組み合わせてなる基が挙げられる。
　アルキレン基の炭素数は１～２０が好ましく、１～１０がより好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐であることが好ましく、直鎖であることがより好ましい。
　アリーレン基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。
　複素環基は、非芳香族の複素環基であってもよく、芳香族複素環基であってもよい。複素環基は、５員環または６員環が好ましい。複素環基を構成するヘテロ原子の種類は窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。複素環基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。複素環基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。
　アルキレン基、アリーレン基および複素環基は、後述する置換基Ｔで説明した置換基を有していてもよい。
　Ｌａ３が表す３価の基としては、上記の２価の連結基から水素原子を１個除いた基が挙げられる。Ｌａ４が表す４価の基としては、上記の２価の連結基から水素原子を２個除いた基が挙げられる。Ｌａ５が表す５価の基としては、上記の２価の連結基から水素原子を３個除いた基が挙げられる。Ｌａ６が表す６価の基としては、上記の２価の連結基から水素原子を４個除いた基が挙げられる。Ｌａ３～Ｌａ６が表す３～６価の基は、後述する置換基Ｔで説明した置換基を有していてもよい。
　式（ａ－１）および式（ａ－２）のＺａ１が表すｑ価の連結基の具体例としては、以下に示す構造の基が挙げられる。＊は結合手である。また、Ｚａ１が表すｑ価の連結基としては、国際公開第２０１６／１３６０８９号の段落番号００５６～００５９に記載された構造の基、特開２０１３－１７７５４２号公報の段落番号００５０に記載された多価フェノールのＯＨの部位を結合手に置き換えた構造の基などが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　式（ａ－２）のＲａ１およびＲａ２が表す置換基としては、後述する置換基Ｔが挙げられる。Ｒａ１およびＲａ２は水素原子であることが好ましい。
　式（ａ－１）および式（ａ－２）のｑは３以上の整数を表し、３～１６の整数であることが好ましく、３～１０の整数であることがより好ましく、３～６の整数であることが更に好ましい。
　次に、樹脂Ｂ１ａに係る末端に酸無水物構造を有するマクロモノマー（以下、マクロモノマーＡＨともいう）について説明する。
　ここで、マクロモノマーとは、末端に反応性基を有する高分子化合物のことを意味する。マクロモノマーＡＨは、ポリマー鎖の末端に酸無水物構造を有する化合物であることが好ましい。また、マクロモノマーＡＨにおける末端の酸無水物構造の数は１個であることが好ましい。マクロモノマーＡＨは、式（ＡＨ１）で表される化合物であることが好ましい。
　ＲＡＨ１－（ＬＡＨ１－ＰＡＨ１）ｍ　　・・・（ＡＨ１）
　式（ＡＨ１）中、ＲＡＨ１は酸無水物構造を有する基を表し、
　ＬＡＨ１は、２価の連結基を表し、
　ＰＡＨ１はポリマー鎖を表し、
　ｍは１～５の整数を表す。
　式（ＡＨ１）のＲＡＨ１が表す酸無水物構造を有する基としては、環状の酸無水物構造を有する基であることが好ましい。環状の酸無水物構造を有する基としては、以下に示す式（ＡＨ－１）～式（ＡＨ－６）で表される構造を含む基が挙げられ、式（ＡＨ－３）で表される構造を含む基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
　ＲＡＨ１が表す酸無水物構造を有する基の具体例としては、以下に示す式（ＡＡＨ－１）～式（ＡＡＨ－１０）で表される基が挙げられ、式（ＡＡＨ－１０）で表される基であることが好ましい。以下の式において、＊は式（ＡＨ１）のＬＡＨ１との連結部である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
　式（ＡＨ１）のＬＡＨ１が表す２価の連結基としては、炭化水素基、複素環基、－ＮＲＬＨ１－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＲＬＨ１ＣＯ－、－ＣＯＮＲＬＨ１－およびこれらを２以上組み合わせた基が挙げられる。ＲＬＨ１は水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、水素原子であることが好ましい。
　炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基が挙げられる。脂肪族炭化水素基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましい。脂肪族炭化水素基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。また、環状の脂肪族炭化水素基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。また、環状の脂肪族炭化水素基は架橋構造を有していてもよい。芳香族炭化水素基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１０が更に好ましい。
　複素環基は、非芳香族の複素環基であってもよく、芳香族複素環基であってもよい。複素環基は、５員環または６員環が好ましい。複素環基を構成するヘテロ原子の種類は窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。複素環基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。複素環基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。
　炭化水素基および複素環基は置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔが挙げられる。
　式（ＡＨ１）のＰＡＨ１が表すポリマー鎖は、ポリエーテル構造、ポリエステル構造、ポリ（メタ）アクリル構造、およびポリスチレン構造から選ばれる少なくとも１種の構造の繰り返し単位を含むポリマー鎖であることが好ましく、ポリ（メタ）アクリル構造およびポリスチレン構造から選ばれる少なくとも１種の構造の繰り返し単位を含むポリマー鎖であることがより好ましく、顔料の分散性及び耐熱性の観点からポリ（メタ）アクリル構造の繰り返し単位を含むポリマー鎖であることが更に好ましい。
　ＰＡＨ１が表すポリマー鎖は、架橋性基を有していてもよい。架橋性基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基等のエチレン性不飽和結合含有基、エポキシ基、オキセタン基などの環状エーテル基、ブロックイソシアネート基などが挙げられる。なお、本明細書においてブロックイソシアネート基とは、熱によりイソシアネート基を生成することが可能な基であり、例えば、ブロック剤とイソシアネート基とを反応させイソシアネート基を保護した基が好ましく例示できる。ブロック剤としては、オキシム化合物、ラクタム化合物、フェノール化合物、アルコール化合物、アミン化合物、活性メチレン化合物、ピラゾール化合物、メルカプタン化合物、イミダゾール系化合物、イミド系化合物等を挙げることができる。ブロック剤については、特開２０１７－０６７９３０号公報の段落番号０１１５～０１１７に記載された化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、ブロックイソシアネート基は、９０～２６０℃の熱によりイソシアネート基を生成することが可能な基であることが好ましい。
　ＰＡＨ１が表すポリマー鎖は、３級アルキル基を有していることも好ましい。３級アルキル基としては、ｔ－ブチル基などが挙げられる。
　ＰＡＨ１が表すポリマー鎖は、エポキシ基またはオキセタン基と、ｔ－ブチル基とをそれぞれ含むことも好ましい。
　ＰＡＨ１が表すポリマー鎖は、式（Ｐ１－１）～式（Ｐ１－６）のいずれかで表される繰り返し単位を含むことが好ましく、式（Ｐ１－５）または式（Ｐ１－６）で表される繰り返し単位を含むことがより好ましく、式（Ｐ１－５）で表される繰り返し単位を含むことが更に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
　上記式中、ＲＧ１およびＲＧ２は、それぞれアルキレン基を表す。ＲＧ１およびＲＧ２が表すアルキレン基としては、炭素数１～２０の直鎖状又は分岐状のアルキレン基であることが好ましく、炭素数２～１６の直鎖状又は分岐状のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数３～１２の直鎖状又は分岐状のアルキレン基であることが更に好ましい。
　上記式中、ＲＧ３は、水素原子、メチル基、フッ素原子、塩素原子またはヒドロキシメチル基を表し、水素原子またはメチル基であることが好ましい。
　上記式中、ＱＧ１は、－Ｏ－または－ＮＲｑ－を表し、Ｒｑは水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す。ＱＧ１は、－Ｏ－であることが好ましい。
　Ｒｑが表すアルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましく、１～５がより一層好ましく、１～３が特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。
　Ｒｑが表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。
　Ｒｑが表す複素環基は、非芳香族の複素環基であってもよく、芳香族複素環基であってもよい。複素環基は、５員環または６員環が好ましい。複素環基を構成するヘテロ原子の種類は窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。複素環基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。複素環基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。
　上述したアルキル基、アリール基および複素環基は置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔが挙げられる。
　上記式中、ＬＧ１は、単結合またはアリーレン基を表し、単結合であることが好ましい。
　上記式中、ＬＧ２は、単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、アルキレン基（好ましくは炭素数１～１２のアルキレン基）、アリーレン基（好ましくは炭素数６～２０のアリーレン基）、－ＮＲＬＧ１－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＲＬＧ１ＣＯ－、－ＣＯＮＲＬＧ１－、およびこれらの２以上を組み合わせてなる基が挙げられ、アルキレン基またはアリーレン基を含む基であることが好ましい。ＲＬＧ１は、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、水素原子であることが好ましい。上述したアルキレン基、アリーレンは置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔが挙げられる。
　上記式中、ＲＧ４は、水素原子または置換基を表す。置換基としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アルキルチオエーテル基、アリールチオエーテル基、複素環チオエーテル基、エチレン性不飽和結合含有基、エポキシ基、オキセタニル基およびブロックイソシアネート基等が挙げられる。ＲＧ４は、アルキル基、アリール基、エチレン性不飽和結合含有基、エポキシ基およびオキセタニル基から選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、エチレン性不飽和結合含有基、エポキシ基、オキセタニル基、およびｔ－ブチル基から選ばれる少なくとも１種であることがより好ましい。
　上記式中、ＲＧ５は、水素原子またはメチル基を表し、ＲＧ６はアリール基を表す。ＲＧ６が表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。ＲＧ６が表すアリール基は置換基を有していてもよい。置換基としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アルキルチオエーテル基、アリールチオエーテル基、複素環チオエーテル基、エチレン性不飽和結合含有基、エポキシ基、オキセタニル基およびブロックイソシアネート基等が挙げられる。
　ＰＡＨ１が表すポリマー鎖は、２種以上の繰り返し単位を含んでいてもよい。
　ＰＡＨ１が表すポリマー鎖の重量平均分子量は５００～１０００００であることが好ましく、１０００～５００００であることがより好ましく、２０００～２００００であることが更に好ましい。上記ポリマー鎖の重量平均分子量が上記範囲であればより優れた顔料の分散性が得られやすい。ポリマー鎖の重量平均分子量は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィ）法で測定することができる。より具体的には、ポリマー鎖の導入に用いた原料モノマーの重量平均分子量から算出することができる。
　上述した置換基Ｔとして、次の基が挙げられる。アルキル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキル基）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルケニル基）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルキニル基）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０のアリール基）、アミノ基（好ましくは炭素数０～３０のアミノ基）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～３０のアルコキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールオキシ基）、ヘテロアリールオキシ基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールオキシ基）、アシル基（好ましくは炭素数２～３０のアシル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニル基）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルオキシ基）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニルアミノ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～３０のスルファモイル基）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～３０のカルバモイル基）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールチオ基）、ヘテロアリールチオ基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールチオ基）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルスルホニル基）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６～３０のアリールスルホニル基）、ヘテロアリールスルホニル基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールスルホニル基）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルスルフィニル基）、アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６～３０のアリールスルフィニル基）、ヘテロアリールスルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールスルフィニル基）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～３０のウレイド基）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１～３０のリン酸アミド基）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など）、シアノ基、スルホ基、カルボキシ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、複素環基。これらの基は、さらに置換可能な基である場合、さらに置換基を有してもよい。さらなる置換基としては、上述した置換基Ｔで説明した基、架橋性基などが挙げられる。
　式（ＡＨ１）のｍは１～５の整数を表し、１または２であることが好ましく、１であることがより好ましい。
　マクロモノマーＡＨは、式（ＡＨ２）で表される化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 　式（ＡＨ２）中、ＬＡＨ２は２価の連結基を表し、ＰＡＨ２はポリマー鎖を表す。
　式（ＡＨ２）のＬＡＨ２が表す２価の連結基としては、炭化水素基、複素環基、－ＮＲＬＨ２－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＲＬＨ２ＣＯ－、－ＣＯＮＲＬＨ２－およびこれらを２以上組み合わせた基が挙げられる。ＲＬＨ２は水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、水素原子であることが好ましい。炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基が挙げられる。脂肪族炭化水素基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましい。脂肪族炭化水素基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。また、環状の脂肪族炭化水素基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。また、環状の脂肪族炭化水素基は架橋構造を有していてもよい。芳香族炭化水素基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１０が更に好ましい。複素環基は、非芳香族の複素環基であってもよく、芳香族複素環基であってもよい。複素環基は、５員環または６員環が好ましい。複素環基を構成するヘテロ原子の種類は窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。複素環基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。複素環基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。炭化水素基および複素環基は置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられる。
　式（ＡＨ２）のＰＡＨ２は式（ＡＨ１）のＰＡＨ１と同義である。
　マクロモノマーＡＨの重量平均分子量は５００～１０００００であることが好ましく、１０００～５００００であることがより好ましく、２０００～２００００であることが更に好ましい。
　マクロモノマーＡＨは、例えば、ヒドロキシ基またはアミノ基を有する連鎖移動剤を用いてラジカル重合性化合物をラジカル重合して得られたポリマーを、酸無水物または酸無水物クロリドと反応させて合成することができる。連鎖移動剤としては、メルカプトエタノール、メルカプトプロパノール、メルカプトヘキサノール、メルカプトドデカノール、チオグリセロール、ジメルカプロール、ジチオトレイトール等が挙げられる。
　上記ポリマーと反応させる酸無水物または酸無水物クロリドは、トリメリット酸無水物クロリドであることが好ましい。
　上記ポリマーと、酸無水物または酸無水物クロリドとの反応は塩基を用いることが好ましい。塩基としては炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、トリメチルアミン、トリエチルアミン、モルホリン、ピリジン、ピコリン、ルチジン、ピロール、イミダゾール、メチルイミダゾール、ブチルイミダゾール、トリアゾール、テトラゾール等を用いることができる。発生する塩酸塩を効率的に除去するため使用する溶媒に対して溶解度の低い塩酸塩を選択することが好適である。このような点でピリジン、ピコリン、ルチジン、イミダゾール、メチルイミダゾール、ブチルイミダゾールがより好ましい。
　マクロモノマーＡＨの合成方法の好ましい一態様として、ヒドロキシ基を有する連鎖移動剤を用いてラジカル重合性化合物をラジカル重合して得られたヒドロキシ基を有するポリマーを、トリメリット酸無水物クロリドと反応させて合成する態様が挙げられる。
　マクロモノマーＡＨは、末端にチオール基を有するポリマーを、不飽和酸無水物にエンチオール付加させて合成することもできる。また、マクロモノマーＡＨは、酸無水物基を有するチオール連鎖移動剤を用いてラジカル重合性化合物をラジカル重合して合成することもできる。
　樹脂Ｂ１ａは、式（１）で表される樹脂Ｂ１ｂであることが好ましい。樹脂Ｂ１ｂは、本発明の樹脂である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 　式（１）中、Ｚ１はｌ＋ｍ価の連結基を表し、
　Ｚ２は２＋ｎ価の連結基を表し、
　Ｘ１、Ｘ２およびＸ３はそれぞれ独立にＯまたはＮＲｘ１を表し、Ｒｘ１は水素原子または置換基を表し、
　Ｌ１は２価の連結基を表し、
　Ｐ１はポリマー鎖を表し、
　Ｒ１は水素原子、置換基または対イオンを表し、
　Ｙ１は水素原子または置換基を表し、
　ｎは１以上の整数を表し、ｍは１以上の整数を表し、ｌは０以上の整数を表し、ｌ＋ｍは３以上であり、
　ｌが２以上の場合、ｌ個のＸ３およびＹ１は同一であってもよく、異なっていてもよく、
　ｍが２以上の場合、ｍ個のＸ１、Ｚ２、Ｘ２、Ｌ１およびＰ１は同一であってもよく、異なっていてもよく、
　ｎが２以上の場合、ｎ個のＲ１は同一であってもよく、異なっていてもよい。
　式（１）のＺ１が表すｌ＋ｍ価の連結基としては、式（ａ－１）および式（ａ－２）のＺａ１が表すｑ価の連結基として説明した基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　式（１）のＺ２が表す２＋ｎ価の連結基としては、炭化水素基を含む基が挙げられる。
　炭化水素基を含む基としては、炭化水素基；炭化水素基と、複素環基、－Ｃ（ＣＦ３）２－、－ＮＲＺｂ１－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＲＺｂ１ＣＯ－および－ＣＯＮＲＺｂ１－から選ばれる少なくとも１種の基とを組み合わせた基が挙げられる。
　ＲＺｂ１は水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、水素原子であることが好ましい。
　炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基が挙げられる。脂肪族炭化水素基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましい。脂肪族炭化水素基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。また、環状の脂肪族炭化水素基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。また、環状の脂肪族炭化水素基は架橋構造を有していてもよい。芳香族炭化水素基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１０が更に好ましい。
　複素環基は、非芳香族の複素環基であってもよく、芳香族複素環基であってもよい。複素環基は、５員環または６員環が好ましい。複素環基を構成するヘテロ原子の種類は窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。複素環基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。複素環基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。
　炭化水素基および複素環基は置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられる。
　式（１）のＺ２が表す２＋ｎ価の連結基は、環状の脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基を含む基であることが好ましく、芳香族炭化水素基を含む基であることがより好ましく、ベンゼン環を含む基であることが更に好ましい。Ｚ２が表す２＋ｎ価の連結基の具体例としては、以下に示す構造の基が挙げられる。以下に示す構造中の＊は式（１）のＺ２と結合しているカルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）との連結部であり、波線はＣＯＯＲ１との連結部である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
　式（１）のＸ１、Ｘ２およびＸ３はそれぞれ独立にＯまたはＮＲｘ１を表し、Ｒｘ１は水素原子または置換基を表す。Ｒｘ１が表す置換基としては、アルキル基、アリール基などが挙げられる。アルキル基やアリール基は更に置換基を有してもよい。置換基としては上述した置換基Ｔで説明した基が挙げられる。Ｘ１およびＸ３はそれぞれ独立にＮＲｘ１であることが好ましい。この態様によれば、顔料の分散性をより向上でき、更には、得られる膜の耐熱性を向上させることができる。Ｘ２はＯおよびＮＲｘ１のいずれでもよい。Ｘ２がＮＲｘ１の場合は、耐熱性の観点で好ましく、Ｘ２がＯの場合は合成容易性の観点で好ましい。
　式（１）のＬ１は２価の連結基を表す。Ｌ１が表す２価の連結基としては、炭化水素基、複素環基、－ＮＲＬｂ１－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＲＬｂ１ＣＯ－、－ＣＯＮＲＬｂ１－およびこれらを２以上組み合わせた基が挙げられる。ＲＬｂ１は水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、水素原子であることが好ましい。炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基が挙げられる。脂肪族炭化水素基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましい。脂肪族炭化水素基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。また、環状の脂肪族炭化水素基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。また、環状の脂肪族炭化水素基は架橋構造を有していてもよい。芳香族炭化水素基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１０が更に好ましい。複素環基は、非芳香族の複素環基であってもよく、芳香族複素環基であってもよい。複素環基は、５員環または６員環が好ましい。複素環基を構成するヘテロ原子の種類は窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。複素環基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。複素環基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。炭化水素基および複素環基は置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられる。
　Ｌ１が表す２価の連結基は、硫黄原子を含む２価の連結基であることが好ましく、式（Ｌ－１）で表される基であることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 　式（Ｌ－１）中、＊１は式（１）のＸ２との連結部であり、＊２は式（１）のＰ１との連結部であり、Ｌｂ１０は、炭化水素基、または、２以上の炭化水素基を単結合または連結基で結合した基を表す。
　Ｌｂ１０が表す炭化水素基としては、Ｌ１が表す炭化水素基として上で例示したものが挙げられる。２以上の炭化水素基を連結する連結基としては、－ＮＲＬｂ１－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＲＬｂ１ＣＯ－および－ＣＯＮＲＬｂ１－が挙げられる。ＲＬｂ１は水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、水素原子であることが好ましい。
　式（１）のＰ１はポリマー鎖を表す。式（１）のＰ１が表すポリマー鎖としては、式（ＡＨ１）のＰＡＨ１が表すポリマー鎖として説明したポリマー鎖が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　式（１）のＲ１は水素原子、置換基または対イオンを表す。Ｒ１が表す置換基としては、アルキル基、アリール基及び架橋性基を含む基などが挙げられる。架橋性基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基等のエチレン性不飽和結合含有基、エポキシ基、オキセタン基などの環状エーテル基、ブロックイソシアネート基などが挙げられる。アルキル基やアリール基は更に置換基を有してもよい。置換基としては上述した置換基Ｔで説明した基などが挙げられる。Ｒ１が表す対イオンとしては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋など）、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。式（１）のＲ１は水素原子または置換基であることが好ましく、水素原子または架橋性基を含む基であることがより好ましく、水素原子であることが更に好ましい。
　式（１）のＹ１は水素原子または置換基を表す。Ｙ１が表す置換基としては、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、エチレン性不飽和結合含有基、エポキシ基、オキセタニル基および色素部分構造を有する基から選ばれる少なくとも１種の官能基（以下、特定官能基ともいう）を有する基および上述した置換基Ｔが挙げられ、特定官能基を有する基であることが好ましい。特定官能基における色素部分構造を有する基としては、ベンズイミダゾロン色素、ベンズイミダゾリノン色素、キノフタロン色素、フタロシアニン色素、アントラキノン色素、ジケトピロロピロール色素、キナクリドン色素、アゾ色素、イソインドリノン色素、イソインドリン色素、ジオキサジン色素、ペリレン色素およびチオインジゴ色素から選ばれる色素由来の部分構造を有する基が挙げられる。色素部分構造を有する基の具体例としては、以下に示す構造の基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
　上記特定官能基を有する基としては、式（ｙ－１）で表される基が挙げられる。
　（Ｙ１０１）ｙ－Ｌ１０１－　　　・・・（ｙ－１）
　式（ｙ－１）中、Ｙ１０１は、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、エチレン性不飽和結合含有基、エポキシ基、オキセタニル基および色素部分構造を有する基を表し、
　Ｌ１０１は、ｙ＋１価の連結基を表し、
　ｙは１以上の整数を表し、
　ｙが２以上の場合、ｙ個のＹ１０１は同一であってもよく、異なっていてもよい。
　Ｌ１０１が表すｙ＋１価の連結基としては、炭化水素基、複素環基、－ＮＲＬｙ１－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＲＬｙ１ＣＯ－、－ＣＯＮＲＬｙ１－およびこれらを２以上組み合わせた基が挙げられる。ＲＬｙ１は水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、水素原子であることが好ましい。
　炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基が挙げられる。脂肪族炭化水素基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましい。脂肪族炭化水素基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。また、環状の脂肪族炭化水素基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。また、環状の脂肪族炭化水素基は架橋構造を有していてもよい。芳香族炭化水素基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１０が更に好ましい。
　複素環基は、非芳香族の複素環基であってもよく、芳香族複素環基であってもよい。複素環基は、５員環または６員環が好ましい。複素環基を構成するヘテロ原子の種類は窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。複素環基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。複素環基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。
　炭化水素基及び複素環基は置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられる。
　上記特定官能基を有する基の具体例としては以下に示す基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
　式（１）のＹ１は水素原子または上記特定官能基を有する基であることが好ましく、水素原子または上記式（ｙ－１）で表される基であることが好ましい。
　式（１）のｎは１以上の整数を表し、ｍは１以上の整数を表し、ｌは０以上の整数を表し、ｌ＋ｍは３以上である。
　ｎは１～４の整数であることが好ましく、１または２であることがより好ましく、１であることが更に好ましい。
　ｍは２以上の整数であることが好ましく、２～６の整数であることがより好ましく、２～５の整数であることが更に好ましい。
　ｌは０～５の整数であることが好ましく、０～４の整数であることがより好ましく、０～２の整数であることが更に好ましい。
ｌ＋ｍは３以上であり、３～１６であることが好ましく、３～１０であることがより好ましく、３～６であることが更に好ましい。
　樹脂Ｂ１ｂは、式（２）で表される樹脂であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 　式（２）中、Ｚ１はｌ＋ｍ価の連結基を表し、
　Ｘ１、Ｘ２およびＸ３はそれぞれ独立にＯまたはＮＲｘ１を表し、Ｒｘ１は水素原子または置換基を表し、
　Ｌ１は２価の連結基を表し、
　Ｐ１はポリマー鎖を表し、
　Ｙ１は水素原子または置換基を表し、
　ｍは１以上の整数を表し、ｌは０以上の整数を表し、ｌ＋ｍは３以上であり、
　ｌが２以上の場合、ｌ個のＸ３およびＹ１は同一であってもよく、異なっていてもよく、
　ｍが２以上の場合、ｍ個のＸ１、Ｘ２、Ｌ１およびＰ１は同一であってもよく、異なっていてもよい。
　式（２）のＺ１、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｌ１、Ｐ１、Ｙ１、ｍおよびｌは、式（１）のＺ１、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｌ１、Ｐ１、Ｙ１、ｍおよびｌと同義であり、好ましい範囲も同様である。
　特定樹脂の酸価は０～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、１ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることがより好ましい。上限は１３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましい。
　特定樹脂の重量平均分子量は１０００～１０００００であることが好ましい。上限は、８００００以下であることが好ましく、５００００以下であることがより好ましい。下限は、２０００以上であることが好ましく、３０００以上であることがより好ましい。
　特定樹脂は、窒素雰囲気下でのＴＧ／ＤＴＡ（熱質量測定／示差熱測定）による５％質量減少温度は２８０℃以上であることが好ましく、３００℃以上であることがより好ましく、３２０℃以上であることがさらに好ましい。上記５％質量減少温度の上限は、特に限定されず、例えば１，０００℃以下であればよい。上記５％質量減少温度は、窒素雰囲気下で特定の温度で５時間静置した時の質量減少率が５％となる温度として、公知のＴＧ／ＤＴＡ測定方法により求められる。
　また、特定樹脂は、窒素雰囲気下で３００℃、５時間静置したときの質量減少率が１０％以下であることが好ましく、５％以下であることがより好ましく、２％以下であることがさらに好ましい。上記質量減少率の下限は特に限定されず、０％以上であればよい。
　上記質量減少率は、窒素雰囲気下で３００℃、５時間静置する前後の特定樹脂における質量の減少の割合として算出される値である。
　特定樹脂の具体例としては、後述する実施例に記載の樹脂Ｂ－１～Ｂ－６４が挙げられる。
　特定樹脂は、上述した化合物ａと、上述したマクロモノマーＡＨとを反応させることで合成することができる。
　化合物ａとマクロモノマーＡＨとを反応させるために両者を混合するとき、化合物ａの１級アミノ基と２級アミノ基とヒドロキシ基の合計１モルに対してマクロモノマーＡＨの酸無水物基が０．１～２モルの割合であることが好ましく、０．３～１．５モルの割合であることがより好ましく、０．５～１．０モルの割合であることが更に好ましい。
　特定樹脂の製造にあたり、環状酸無水物（無水コハク酸、無水グルタル酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、イタコン酸無水物、ｃｉｓ－４－シクロヘキセン－１，２－ジカルボン酸無水物、（±）－ｔｒａｎｓ－１，２－シクロヘキサンジカルボン酸無水物、ｃｉｓ－１，２－シクロヘキサンジカルボン酸無水物、５－ノルボルネン－２，３－ジカルボン酸無水物、ｅｘｏ－３，６－エポキシ－１，２，３，６－テトラヒドロフタル酸無水物、４－メチルシクロヘキサン－１，２－ジカルボン酸無水物、トリメリット酸無水物、２，３－ナフタレンジカルボン酸無水物、テトラクロロフタル酸無水物、テトラブロモフタル酸無水物、２－スルホ安息香酸無水物、テトラブロモ－ｏ－スルホ安息香酸無水物等）、エチレン性不飽和結合含有基を有する酸クロリド化合物、エポキシ基を有する酸クロリド化合物、オキセタニル基を有する酸クロリド化合物、および、色素部分構造とエチレン性不飽和結合含有基を有する化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を、化合物ａとマクロモノマーＡＨとの反応時、あるいは、反応後に加えてもよい。これにより、化合物ａのアミノ基またはヒドロキシ基と、上記化合物とが反応して、樹脂に、酸基、エチレン性不飽和結合含有基、エポキシ基、オキセタニル基、色素部分構造を有する基などの官能基を付加することができる。
（他の樹脂）
　本発明の樹脂組成物は、樹脂として上述した特定樹脂以外の他の樹脂を含んでもよい。他の樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、（メタ）アクリルアミド樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、シロキサン樹脂などが挙げられる。また、他の樹脂としては、国際公開第２０１６／０８８６４５号の実施例に記載された樹脂、特開２０１７－０５７２６５号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０３２６８５号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０７５２４８号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０６６２４０号公報に記載された樹脂、特開２０１７－１６７５１３号公報に記載された樹脂、特開２０１７－１７３７８７号公報に記載された樹脂、特開２０１７－２０６６８９号公報の段落番号００４１～００６０に記載された樹脂、特開２０１８－０１０８５６号公報の段落番号００２２～００７１に記載された樹脂、特開２０１６－２２２８９１号公報に記載されたブロックポリイソシアネート樹脂、特開２０２０－１２２０５２号公報に記載された樹脂、特開２０２０－１１１６５６号公報に記載された樹脂、特開２０２０－１３９０２１号公報に記載された樹脂、特開２０１７－１３８５０３号公報に記載の主鎖に環構造を有する構成単位と側鎖にビフェニル基を有する構成単位とを含む樹脂を用いることもできる。また、他の樹脂として、特定樹脂を合成した時の副生成物を含んでいてもよい。
　他の樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、３０００～２００００００が好ましい。上限は、１００００００以下が好ましく、５０００００以下がより好ましい。下限は、４０００以上が好ましく、５０００以上がより好ましい。
　他の樹脂には、アルカリ現像性を有する樹脂や、分散剤としての樹脂を用いることが好ましい。
〔アルカリ現像性を有する樹脂〕
　アルカリ現像性を有する樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、３０００～２００００００が好ましい。上限は、１００００００以下がより好ましく、５０００００以下がさらに好ましい。下限は、４０００以上がより好ましく、５０００以上がさらに好ましい。
　アルカリ現像性を有する樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂、ポリイミン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、ポリイミド樹脂などが挙げられ、（メタ）アクリル樹脂及びポリイミン樹脂が好ましく、（メタ）アクリル樹脂がより好ましい。
　アルカリ現像性を有する樹脂としては、酸基を有する樹脂を用いることが好ましい。酸基としては、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、ホスホン酸基、活性イミド基、スルホンアミド基などが挙げられ、カルボキシ基が好ましい。また、酸基を有する樹脂としては、エポキシ開環で生じたヒドロキシ基に酸無水物を反応させて酸基を導入した樹脂を用いてもよい。このような樹脂としては、特許６３４９６２９号公報に記載された樹脂が挙げられる。酸基を有する樹脂は、例えば、アルカリ可溶性樹脂として用いることができる。
　アルカリ現像性を有する樹脂は、酸基を有する繰り返し単位を含むことが好ましく、酸基を有する繰り返し単位を樹脂の全繰り返し単位中１～７０モル％含むことがより好ましい。酸基を有する繰り返し単位の含有量の上限は、５０モル％以下であることが好ましく、４０モル％以下であることがより好ましい。酸基を有する繰り返し単位の含有量の下限は、２モル％以上であることが好ましく、５モル％以上であることがより好ましい。
　アルカリ現像性を有する樹脂の酸価は、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましく、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が特に好ましい。また、アルカリ現像性を有する樹脂の酸価は、５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が更に好ましい。
　アルカリ現像性を有する樹脂は、更にエチレン性不飽和結合含有基を有することも好ましい。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられ、アリル基及び（メタ）アクリロイル基が好ましく、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
　アルカリ現像性を有する樹脂は、下記式（ＥＤ１）で示される化合物及び／又は下記式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）を含むモノマー成分に由来する繰り返し単位を含むことも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
　式（ＥＤ１）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
 　式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１～３０の有機基を表す。式（ＥＤ２）の詳細については、特開２０１０－１６８５３９号公報の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　エーテルダイマーの具体例としては、例えば、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落番号０３１７の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　アルカリ現像性を有する樹脂は、下記式（Ｘ）で示される化合物に由来する繰り返し単位を含むことも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 　式（Ｘ）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は炭素数２～１０のアルキレン基を表し、Ｒ３は、水素原子又はベンゼン環を含んでもよい炭素数１～２０のアルキル基を表す。ｎは１～１５の整数を表す。
　アルカリ現像性を有する樹脂としては、例えば下記構造の樹脂などが挙げられる。以下の構造式中、Ｍｅはメチル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
〔分散剤〕
　本発明の樹脂組成物は、分散剤としての樹脂を含むこともできる。分散剤は、酸性分散剤（酸性樹脂）、塩基性分散剤（塩基性樹脂）が挙げられる。ここで、酸性分散剤（酸性樹脂）とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性分散剤（酸性樹脂）は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、酸基の量が７０モル％以上を占める樹脂が好ましく、実質的に酸基のみからなる樹脂がより好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）が有する酸基は、カルボキシ基が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）の酸価は、４０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、６０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇがさらに好ましい。また、塩基性分散剤（塩基性樹脂）とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基性分散剤（塩基性樹脂）は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、塩基性基の量が５０モル％を超える樹脂が好ましい。塩基性分散剤が有する塩基性基は、アミノ基であることが好ましい。
　分散剤として用いる樹脂は、酸基を有する繰り返し単位を含むことが好ましい。
　分散剤として用いる樹脂は、グラフトポリマーであることも好ましい。グラフトポリマーとしては、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号００２５～００９４に記載された樹脂が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　分散剤として用いる樹脂は、主鎖及び側鎖の少なくとも一方に窒素原子を含むポリイミン系分散剤（ポリイミン樹脂）であることも好ましい。ポリイミン系分散剤としては、ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造を有する主鎖と、原子数４０～１００００の側鎖とを有し、かつ主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂が好ましい。塩基性窒素原子とは、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はない。ポリイミン系分散剤としては、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号０１０２～０１６６に記載された樹脂が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　分散剤として用いる樹脂は、コア部に複数個のポリマー鎖が結合した構造の樹脂であることも好ましい。このような樹脂としては、例えばデンドリマー（星型ポリマーを含む）が挙げられる。また、デンドリマーの具体例としては、特開２０１３－０４３９６２号公報の段落番号０１９６～０２０９に記載された高分子化合物Ｃ－１～Ｃ－３１などが挙げられる。
　また、分散剤には、特許第６４３２０７７号公報の段落番号０２１９～０２２１に記載されたブロック共重合体（ＥＢ－１）～（ＥＢ－９）、特開２０１８－０８７９３９号公報に記載された樹脂、国際公開第２０１６／１０４８０３号に記載のポリエステル側鎖を有するポリエチレンイミン、国際公開第２０１９／１２５９４０号に記載のブロック共重合体、特開２０２０－０６６６８７号公報に記載のアクリルアミド構造単位を有するブロックポリマー、特開２０２０－０６６６８８号公報に記載のアクリルアミド構造単位を有するブロックポリマー、国際公開第２０１６／１０４８０３号に記載の分散剤、特開２０１９－０９５５４８号公報に記載の樹脂などを用いることもできる。
　分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫシリーズ（例えば、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１１１、１６１など）、Ｌｕｂｒｉｚｏｌ製のＳｏｌｓｐｅｒｓｅシリーズ（例えば、Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ　３６０００など）などが挙げられる。また、特開２０１４－１３０３３８号公報の段落番号００４１～０１３０に記載された顔料分散剤を用いることもでき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　なお、上記分散剤として説明した樹脂は、分散剤以外の用途で使用することもできる。例えば、バインダーとして用いることもできる。
　樹脂組成物の全固形分中における樹脂の含有量は、５～６０質量％が好ましい。下限は、１０質量％以上が好ましく、１５質量％以上がより好ましい。上限は、５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましい。
　樹脂組成物の全固形分中における上述した特定樹脂の含有量は、５～６０質量％が好ましい。下限は、１０質量％以上が好ましく、１５質量％以上がより好ましい。上限は、５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましい。
　上述した特定樹脂の含有量は、顔料１００質量部に対して１０～８０質量部が好ましい。下限は、２０質量部以上が好ましく、３０質量部以上がより好ましい。上限は、７０質量部以下が好ましく、５０質量部以下がより好ましい。
　また、本発明の樹脂組成物は、樹脂組成物の全固形分から色材を除いた成分中に、特定樹脂を２０質量％以上含むことが好ましく、３０質量％以上含むことがより好ましく、４０質量％以上含むことが更に好ましい。上限は、１００質量％とすることもでき、９０質量％以下とすることもでき、８５質量％以下とすることもできる。特定樹脂の含有量が上記範囲であれば、耐熱性に優れた膜を形成しやすく、加熱後の膜収縮などをより抑制しやすい。更には、本発明の樹脂組成物を用いて得られる膜の表面に無機膜などを形成した際において、この積層体が高温に晒されても、無機膜にクラックなどが生じることを抑制することもできる。
　また、樹脂組成物の全固形分中における色材と上述した特定樹脂の合計の含有量は、２５～１００質量％が好ましい。下限は、３０質量％以上がより好ましく、４０質量％以上がさらに好ましい。上限は、９０質量％以下がより好ましく、８０質量％以下がさらに好ましい。
　樹脂組成物において、上述した他の樹脂の含有量は、上述した特定樹脂の１００質量部に対して２３０質量部以下であることが好ましく、２００質量部以下であることがより好ましく、１５０質量部以下であることが更に好ましい。下限は０質量部であってもよく、５質量部以上とすることもでき、１０質量部以上とすることもできる。また、樹脂組成物は上述した他の樹脂を実質的に含まないことも好ましい。この態様によれば、より耐熱性に優れた膜を形成しやすい。他の樹脂を実質的に含まない場合とは、樹脂組成物の全固形分中における他の樹脂の含有量が０．１質量％以下であることを意味し、０．０５質量％以下であることが好ましく、含有しないことがより好ましい。
＜＜溶剤Ｃ＞＞
　本発明の樹脂組成物は、溶剤Ｃ（以下、溶剤という）を含有する。溶剤としては、各成分の溶解性や樹脂組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はない。溶剤は有機溶剤であることが好ましい。有機溶剤としては、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２２３を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤も好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジクロロメタン、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、２－ペンタノン、３－ペンタノン、４－ヘプタノン、シクロヘキサノン、２－メチルシクロヘキサノン、３－メチルシクロヘキサノン、４－メチルシクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、プロピレングリコールジアセテート、３－メトキシブタノール、メチルエチルケトン、ガンマブチロラクトン、スルホラン、アニソール、１，４－ジアセトキシブタン、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、二酢酸ブタン－１，３－ジイル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセタート、ジアセトンアルコール（別名としてダイアセトンアルコール、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン）、２－メトキシプロピルアセテート、２－メトキシ－１－プロパノール、イソプロピルアルコールなどが挙げられる。ただし有機溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、有機溶剤全量に対して、５０質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｍｉｌｌｉｏｎ）以下とすることもでき、１０質量ｐｐｍ以下とすることもでき、１質量ｐｐｍ以下とすることもできる）。
　本発明においては、金属含有量の少ない有機溶剤を用いることが好ましく、有機溶剤の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの有機溶剤を用いてもよく、そのような有機溶剤は例えば東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。有機溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフロロエチレン、ポリエチレン又はナイロンが好ましい。
　有機溶剤は、異性体（原子数が同じであるが構造が異なる化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
　有機溶剤中の過酸化物の含有率が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
　樹脂組成物中における溶剤の含有量は、１０～９５質量％であることが好ましく、２０～９０質量％であることがより好ましく、３０～９０質量％であることが更に好ましい。
＜＜顔料誘導体＞＞
　本発明の樹脂組成物は顔料誘導体を含有してもよい。顔料誘導体としては、色素骨格に酸基または塩基性基が結合した構造を有する化合物が挙げられる。
　顔料誘導体を構成する色素骨格としては、キノリン色素骨格、ベンゾイミダゾロン色素骨格、ベンゾイソインドール色素骨格、ベンゾチアゾール色素骨格、イミニウム色素骨格、スクアリリウム色素骨格、クロコニウム色素骨格、オキソノール色素骨格、ピロロピロール色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、アゾ色素骨格、アゾメチン色素骨格、フタロシアニン色素骨格、ナフタロシアニン色素骨格、アントラキノン色素骨格、キナクリドン色素骨格、ジオキサジン色素骨格、ペリノン色素骨格、ペリレン色素骨格、チオインジゴ色素骨格、イソインドリン色素骨格、イソインドリノン色素骨格、キノフタロン色素骨格、イミニウム色素骨格、ジチオール色素骨格、トリアリールメタン色素骨格、ピロメテン色素骨格等が挙げられる。
　酸基としては、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、ボロン酸基、カルボン酸アミド基、スルホン酸アミド基、イミド酸基及びこれらの塩等が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋など）、アルカリ土類金属イオン（Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋など）、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。カルボン酸アミド基としては、－ＮＨＣＯＲＸ１で表される基が好ましい。スルホン酸アミド基としては、－ＮＨＳＯ２ＲＸ２で表される基が好ましい。イミド酸基としては、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２ＲＸ３、－ＣＯＮＨＳＯ２ＲＸ４、－ＣＯＮＨＣＯＲＸ５または－ＳＯ２ＮＨＣＯＲＸ６で表される基が好ましく、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２ＲＸ３がより好ましい。ＲＸ１～ＲＸ６は、それぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表す。ＲＸ１～ＲＸ６が表すアルキル基及びアリール基は、置換基を有してもよい。置換基としてはハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。
　塩基性基としては、アミノ基、ピリジニル基およびその塩、アンモニウム基の塩、並びにフタルイミドメチル基が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、水酸化物イオン、ハロゲンイオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオンなどが挙げられる。
　顔料誘導体としては、可視光透明性に優れた顔料誘導体（以下、透明顔料誘導体ともいう）を用いることもできる。透明顔料誘導体の４００～７００ｎｍの波長領域におけるモル吸光係数の最大値（εｍａｘ）は３０００Ｌ・ｍｏｌ－１・ｃｍ－１以下であることが好ましく、１０００Ｌ・ｍｏｌ－１・ｃｍ－１以下であることがより好ましく、１００Ｌ・ｍｏｌ－１・ｃｍ－１以下であることがさらに好ましい。εｍａｘの下限は、例えば１Ｌ・ｍｏｌ－１・ｃｍ－１以上であり、１０Ｌ・ｍｏｌ－１・ｃｍ－１以上でもよい。
　顔料誘導体の具体例としては、後述する実施例に記載の化合物、特開昭５６－１１８４６２号公報、特開昭６３－２６４６７４号公報、特開平０１－２１７０７７号公報、特開平０３－００９９６１号公報、特開平０３－０２６７６７号公報、特開平０３－１５３７８０号公報、特開平０３－０４５６６２号公報、特開平０４－２８５６６９号公報、特開平０６－１４５５４６号公報、特開平０６－２１２０８８号公報、特開平０６－２４０１５８号公報、特開平１０－０３００６３号公報、特開平１０－１９５３２６号公報、国際公開第２０１１／０２４８９６号の段落番号００８６～００９８、国際公開第２０１２／１０２３９９号の段落番号００６３～００９４、国際公開第２０１７／０３８２５２号の段落番号００８２、特開２０１５－１５１５３０号公報の段落番号０１７１、特開２０１１－２５２０６５号公報の段落番号０１６２～０１８３、特開２００３－０８１９７２号公報、特許第５２９９１５１号公報、特開２０１５－１７２７３２号公報、特開２０１４－１９９３０８号公報、特開２０１４－０８５５６２号公報、特開２０１４－０３５３５１号公報、特開２００８－０８１５６５号公報、特開２０１９－１０９５１２号公報に記載の化合物、国際公開第２０２０／００２１０６号に記載のチオール連結基を有するジケトピロロピロール化合物が挙げられる。
　顔料誘導体の含有量は、顔料１００質量部に対して１～３０質量部が好ましく、３～２０質量部が更に好ましい。顔料誘導体は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
＜＜重合性モノマー＞＞
　本発明の樹脂組成物は、重合性モノマーを含有することが好ましい。重合性モノマーは、例えば、ラジカル、酸または熱により架橋可能な公知の化合物を用いることができる。重合性モノマーとしては、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物、環状エーテル基を有する化合物などが挙げられ、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物であることが好ましい。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタン基などが挙げられる。エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物はラジカル重合性モノマーとして好ましく用いることができる。また、環状エーテル基を有する化合物はカチオン重合性モノマーとして好ましく用いることができる。重合性モノマーは、多官能の重合性モノマーであることが好ましい。すなわち、重合性モノマーは、エチレン性不飽和結合含有基や環状エーテル基などの重合性基を２個以上有するモノマーであることが好ましい。
　重合性モノマーの分子量は、１００～３０００が好ましい。上限は、２０００以下がより好ましく、１５００以下が更に好ましい。下限は、１５０以上がより好ましく、２５０以上が更に好ましい。
（エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物）
　重合性モノマーとして用いられるエチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、多官能の化合物であることが好ましい。すなわち、エチレン性不飽和結合含有基を２個以上含む化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和結合含有基を３個以上含む化合物であることがより好ましく、エチレン性不飽和結合含有基を３～１５個含む化合物であることが更に好ましく、エチレン性不飽和結合含有基を３～６個含む化合物であることがより一層好ましい。また、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物は、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物の具体例としては、特開２００９－２８８７０５号公報の段落番号００９５～０１０８、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落０２２７、特開２００８－２９２９７０号公報の段落番号０２５４～０２５７、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３４～００３８、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０４７７、特開２０１７－０４８３６７号公報、特許第６０５７８９１号公報、特許第６０３１８０７号公報、特開２０１７－１９４６６２号公報に記載されている化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、及びこれらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコール及び／又はプロピレングリコール残基を介して結合している構造の化合物（例えば、サートマー社から市販されている、ＳＲ４５４、ＳＲ４９９）が好ましい。また、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ－４６０；東亞合成製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＨＤＤＡ）、ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製）、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、ＮＫオリゴＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（大成ファインケミカル（株）製）、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ０（共栄社化学（株）製）などを用いることもできる。
　また、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物として、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどの３官能の（メタ）アクリレート化合物を用いることも好ましい。３官能の（メタ）アクリレート化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０９、Ｍ－３１０、Ｍ－３２１、Ｍ－３５０、Ｍ－３６０、Ｍ－３１３、Ｍ－３１５、Ｍ－３０６、Ｍ－３０５、Ｍ－３０３、Ｍ－４５２、Ｍ－４５０（東亞合成（株）製）、ＮＫエステル　Ａ９３００、Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、Ａ－ＴＭＭ－３、Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ、Ａ－ＴＭＭ－３ＬＭ－Ｎ、Ａ－ＴＭＰＴ、ＴＭＰＴ（新中村化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＧＰＯ－３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ－３３０、ＴＰＡ－３３０、ＰＥＴ－３０（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物は、酸基を有する化合物を用いることもできる。酸基を有する化合物を用いることで、現像残渣の発生を抑制できる。酸基としては、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基等が挙げられ、カルボキシ基が好ましい。酸基を有する重合性モノマーの市販品としては、アロニックスＭ－３０５、Ｍ－５１０、Ｍ－５２０、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）等が挙げられる。酸基を有する重合性モノマーの好ましい酸価としては、０．１～４０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、より好ましくは５～３０ｍｇＫＯＨ／ｇである。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物は、カプロラクトン構造を有する化合物であることも好ましい態様である。カプロラクトン構造を有する化合物は、例えば、日本化薬（株）からＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡシリーズとして市販されており、ＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０、ＤＰＣＡ－１２０等が挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物は、アルキレンオキシ基を有する化合物を用いることもできる。アルキレンオキシ基を有する化合物は、エチレンオキシ基及び／又はプロピレンオキシ基を有する化合物が好ましく、エチレンオキシ基を有する化合物がより好ましく、エチレンオキシ基を４～２０個有する３～６官能（メタ）アクリレート化合物がさらに好ましい。アルキレンオキシ基を有する化合物の市販品としては、例えばサートマー社製のエチレンオキシ基を４個有する４官能（メタ）アクリレートであるＳＲ－４９４、日本化薬（株）のイソブチレンオキシ基を３個有する３官能（メタ）アクリレートであるＫＡＹＡＲＡＤ　ＴＰＡ－３３０などが挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物は、フルオレン骨格を有する化合物を用いることもできる。フルオレン骨格を有する化合物の市販品としては、オグソールＥＡ－０２００、ＥＡ－０３００（大阪ガスケミカル（株）製、フルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートモノマー）などが挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、トルエンなどの環境規制物質を実質的に含まない化合物を用いることも好ましい。このような化合物の市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ　ＬＴ、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＥＡ－１２　ＬＴ（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、特公昭４８－０４１７０８号公報、特開昭５１－０３７１９３号公報、特公平０２－０３２２９３号公報、特公平０２－０１６７６５号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８－０４９８６０号公報、特公昭５６－０１７６５４号公報、特公昭６２－０３９４１７号公報、特公昭６２－０３９４１８号公報に記載されたエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物も好適である。また、特開昭６３－２７７６５３号公報、特開昭６３－２６０９０９号公報、特開平０１－１０５２３８号公報に記載された分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する重合性モノマーを用いることも好ましい。また、重合性モノマーは、ＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、ＤＰＨＡ－４０Ｈ（日本化薬（株）製）、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＡＨ－６００、Ｔ－６００、ＡＩ－６００、ＬＩＮＣ－２０２ＵＡ（共栄社化学（株）製）などの市販品を用いることもできる。
（環状エーテル基を有する化合物）
　重合性モノマーとしても用いられる環状エーテル基を有する化合物としては、エポキシ基を有する化合物（以下、エポキシ化合物ともいう）、オキセタン基を有する化合物（以下、オキセタン化合物ともいう）が挙げられる。エポキシ化合物は、多官能のエポキシ化合物であることが好ましい。すなわち、エポキシ化合物は、エポキシ基を２個以上有する化合物であることが好ましい。エポキシ基の数の上限は、２０個以下が好ましく、１０個以下がより好ましい。また、オキセタン化合物は、多官能のオキセタン化合物であることが好ましい。すなわち、オキセタン化合物は、オキセタン基を２個以上有する化合物であることが好ましい。オキセタン基の数の上限は、２０個以下が好ましく、１０個以下がより好ましい。
　エポキシ化合物の市販品としては、ＪＥＲ８２８、ＪＥＲ１００７、ＪＥＲ１５７Ｓ７０（三菱ケミカル（株）製）、ＪＥＲ１５７Ｓ６５（（株）三菱ケミカルホールディングス製）など、特開２０１１－２２１４９４号公報の段落０１８９に記載の市販品などが挙げられる。その他の市販品として、ＡＤＥＫＡ　ＲＥＳＩＮ　ＥＰ－４０００Ｓ、ＥＰ－４００３Ｓ、ＥＰ－４０１０Ｓ、ＥＰ－４０１１Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＮＣ－２０００、ＮＣ－３０００、ＮＣ－７３００、ＸＤ－１０００、ＥＰＰＮ－５０１、ＥＰＰＮ－５０２（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、デナコールＥＸ－６１１、ＥＸ－６１２、ＥＸ－６１４、ＥＸ－６１４Ｂ、ＥＸ－６２２、ＥＸ－５１２、ＥＸ－５２１、ＥＸ－４１１、ＥＸ－４２１、ＥＸ－３１３、ＥＸ－３１４、ＥＸ－３２１、ＥＸ－２１１、ＥＸ－２１２、ＥＸ－８１０、ＥＸ－８１１、ＥＸ－８５０、ＥＸ－８５１、ＥＸ－８２１、ＥＸ－８３０、ＥＸ－８３２、ＥＸ－８４１、ＥＸ－９１１、ＥＸ－９４１、ＥＸ－９２０、ＥＸ－９３１、ＥＸ－２１２Ｌ、ＥＸ－２１４Ｌ、ＥＸ－２１６Ｌ、ＥＸ－３２１Ｌ、ＥＸ－８５０Ｌ、ＤＬＣ－２０１、ＤＬＣ－２０３、ＤＬＣ－２０４、ＤＬＣ－２０５、ＤＬＣ－２０６、ＤＬＣ－３０１、ＤＬＣ－４０２、ＥＸ－１１１，ＥＸ－１２１、ＥＸ－１４１、ＥＸ－１４５、ＥＸ－１４６、ＥＸ－１４７、ＥＸ－１７１、ＥＸ－１９２（以上ナガセケムテック製）、ＹＨ－３００、ＹＨ－３０１、ＹＨ－３０２、ＹＨ－３１５、ＹＨ－３２４、ＹＨ－３２５（以上、新日鐵住金化学（株）製）、セロキサイド２０２１Ｐ、２０８１、２０００、３０００、ＥＨＰＥ３１５０、エポリードＧＴ４００、セルビナースＢ０１３４、Ｂ０１７７（（株）ダイセル製）、ＴＥＴＲＡＤ－Ｘ（三菱ガス化学（株）製）などが挙げられる。
　オキセタン化合物の市販品としては、ＯＸＴ－２０１、ＯＸＴ－２１１、ＯＸＴ－２１２、ＯＸＴ－２１３、ＯＸＴ－１２１、ＯＸＴ－２２１、ＯＸ－ＳＱ　ＴＸ－１００、（以上、東亞合成（株）製）などを用いることができる。
　樹脂組成物の全固形分中における重合性モノマーの含有量は０．１～４０質量％であることが好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。上限は、３０質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましい。
　重合性モノマーとしてエチレン性不飽和結合含有基を有する化合物を用いる場合、重合性モノマーとしてのエチレン性不飽和結合含有基を有する化合物の含有量は、上述した特定樹脂１００質量部に対して、１～５０質量部であることが好ましい。下限は、３質量部以上であることが好ましく、５質量部以上であることがより好ましい。上限は、４０質量部以下であることが好ましく、３０質量部以下であることがより好ましい。
　重合性モノマーとして環状エーテル基を有する化合物を用いる場合、重合性モノマーとしての環状エーテル基を有する化合物の含有量は、上述した特定樹脂１００質量部に対して、１～５０質量部であることが好ましい。下限は、３質量部以上であることが好ましく、５質量部以上であることがより好ましい。上限は、４０質量部以下であることが好ましく、３０質量部以下であることがより好ましい。
　重合性モノマーとしてエチレン性不飽和結合含有基を有する化合物と環状エーテル基を有する化合物とを用いる場合、樹脂組成物は、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物の１００質量部に対して環状エーテル基を有する化合物を１０～５００質量部含有することが好ましい。下限は、２０質量部以上であることが好ましく、３０質量部以上であることがより好ましい。上限は、４００質量部以下であることが好ましく、３００質量部以下であることがより好ましい。両者の割合が上記範囲であれば、より耐熱性（クラック抑制と膜収縮抑制）に優れた膜を形成できる。
＜＜光重合開始剤＞＞
　本発明の樹脂組成物は光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。光重合開始剤は光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
　光重合開始剤としては、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など）、アシルホスフィン化合物、ビイミダゾール化合物、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物などが挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、ビイミダゾール化合物、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物および３－アリール置換クマリン化合物であることが好ましく、オキシム化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、および、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物であることがより好ましく、オキシム化合物であることが更に好ましい。また、光重合開始剤としては、特開２０１４－１３０１７３号公報の段落００６５～０１１１に記載された化合物、特許第６３０１４８９号公報に記載された化合物、ＭＡＴＥＲＩＡＬ　ＳＴＡＧＥ　３７～６０ｐ，ｖｏｌ．１９，Ｎｏ．３，２０１９に記載されたパーオキサイド系光重合開始剤、国際公開第２０１８／２２１１７７号に記載の光重合開始剤、国際公開第２０１８／１１０１７９号に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４３８６４号公報に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４４０３０号公報に記載の光重合開始剤、特開２０１９－１６７３１３号公報に記載の過酸化物系開始剤、特開２０２０－０５５９９２号公報に記載のオキサゾリジン基を有するアミノアセトフェノン系開始剤、特開２０１３－１９０４５９号公報に記載のオキシム系光重合開始剤、特開２０２０－１７２６１９号公報に記載の重合体などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　ビイミダゾール化合物としては、２，２－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ－クロロフェニル）－４，４’，５，５－テトラキス（３，４，５－トリメトキシフェニル）－１，２’－ビイミダゾール、２，２’－ビス（２，３－ジクロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、及び２，２’－ビス（ｏ－クロロフェニル）－４，４，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾールなどが挙げられる。α－ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　１８４、Ｏｍｎｉｒａｄ　１１７３、Ｏｍｎｉｒａｄ　２９５９、Ｏｍｎｉｒａｄ　１２７（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１１７３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　２９５９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。α－アミノケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　９０７、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９Ｅ、Ｏｍｎｉｒａｄ　３７９ＥＧ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　９０７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９Ｅ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　８１９、Ｏｍｎｉｒａｄ　ＴＰＯ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　８１９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
　オキシム化合物としては、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－０８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１６５３－１６６０）に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１５６－１６２）に記載の化合物、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年、ｐｐ．２０２－２３２）に記載の化合物、特開２０００－０６６３８５号公報に記載の化合物、特表２００４－５３４７９７号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、特開２０１７－０１９７６６号公報に記載の化合物、特許第６０６５５９６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１５／１５２１５３号に記載の化合物、国際公開第２０１７／０５１６８０号に記載の化合物、特開２０１７－１９８８６５号公報に記載の化合物、国際公開第２０１７／１６４１２７号の段落番号００２５～００３８に記載の化合物、国際公開第２０１３／１６７５１５号に記載の化合物などが挙げられる。オキシム化合物の具体例としては、３－ベンゾイルオキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、及び２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オンなどが挙げられる。市販品としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０２、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカオプトマーＮ－１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２－０１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）が挙げられる。また、オキシム化合物としては、着色性が無い化合物や、透明性が高く変色し難い化合物を用いることも好ましい。市販品としては、アデカアークルズＮＣＩ－７３０、ＮＣＩ－８３１、ＮＣＩ－９３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。
　光重合開始剤として、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４－１３７４６６号公報に記載の化合物が挙げられる。
　また、光重合開始剤として、カルバゾール環の少なくとも１つのベンゼン環がナフタレン環となった骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。そのようなオキシム化合物の具体例としては、国際公開第２０１３／０８３５０５号に記載の化合物が挙げられる。
　光重合開始剤として、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられる。
　光重合開始剤として、カルバゾール骨格にヒドロキシ基を有する置換基が結合したオキシム化合物を用いることもできる。このような光重合開始剤としては国際公開第２０１９／０８８０５５号に記載された化合物などが挙げられる。
　光重合開始剤として、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３－１１４２４９号公報の段落番号００３１～００４７、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落番号０００８～００１２、００７０～００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７～００２５に記載されている化合物、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
　光重合開始剤として、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／０３６９１０号に記載されるＯＥ－０１～ＯＥ－７５が挙げられる。
　光重合開始剤として、カルバゾール骨格にヒドロキシ基を有する置換基が結合したオキシム化合物を用いることもできる。このような光重合開始剤としては国際公開第２０１９／０８８０５５号に記載された化合物などが挙げられる。
　オキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
　オキシム化合物は、波長３５０～５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、波長３６０～４８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物の波長３６５ｎｍ又は波長４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、高いことが好ましく、１０００～３０００００であることがより好ましく、２０００～３０００００であることが更に好ましく、５０００～２０００００であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ－５　ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチルを用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。
　光重合開始剤としては、２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤を用いてもよい。そのような光ラジカル重合開始剤を用いることにより、光ラジカル重合開始剤の１分子から２つ以上のラジカルが発生するため、良好な感度が得られる。また、非対称構造の化合物を用いた場合においては、結晶性が低下して溶剤などへの溶解性が向上して、経時で析出しにくくなり、樹脂組成物の経時安定性を向上させることができる。２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤の具体例としては、特表２０１０－５２７３３９号公報、特表２０１１－５２４４３６号公報、国際公開第２０１５／００４５６５号、特表２０１６－５３２６７５号公報の段落番号０４０７～０４１２、国際公開第２０１７／０３３６８０号の段落番号００３９～００５５に記載されているオキシム化合物の２量体、特表２０１３－５２２４４５号公報に記載されている化合物（Ｅ）及び化合物（Ｇ）、国際公開第２０１６／０３４９６３号に記載されているＣｍｐｄ１～７、特表２０１７－５２３４６５号公報の段落番号０００７に記載されているオキシムエステル類光開始剤、特開２０１７－１６７３９９号公報の段落番号００２０～００３３に記載されている光開始剤、特開２０１７－１５１３４２号公報の段落番号００１７～００２６に記載されている光重合開始剤（Ａ）、特許第６４６９６６９号に記載されているオキシム化合物などが挙げられる。
　樹脂組成物の全固形分中の光重合開始剤の含有量は０．１～３０質量％が好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。上限は、２０質量％以下が好ましく、１５質量％以下がより好ましい。光重合開始剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。
＜＜シランカップリング剤＞＞
　本発明の樹脂組成物は、シランカップリング剤を含有することができる。本明細書において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応及び縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、フェニル基などが挙げられ、アミノ基、（メタ）アクリロイル基及びエポキシ基が好ましい。シランカップリング剤の具体例としては、特開２００９－２８８７０３号公報の段落番号００１８～００３６に記載の化合物、特開２００９－２４２６０４号公報の段落番号００５６～００６６に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　樹脂組成物の全固形分中におけるシランカップリング剤の含有量は、０．１～５質量％が好ましい。上限は、３質量％以下が好ましく、２質量％以下がより好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。シランカップリング剤は、１種のみでもよく、２種以上でもよい。
＜＜硬化促進剤＞＞
　本発明の樹脂組成物は、樹脂や重合性モノマーの反応を促進させたり、硬化温度を下げる目的で、硬化促進剤をさらに含有することができる。硬化促進剤は、メチロール系化合物（例えば特開２０１５－０３４９６３号公報の段落番号０２４６において、架橋剤として例示されている化合物）、アミン類、ホスホニウム塩、アミジン塩、アミド化合物（以上、例えば特開２０１３－０４１１６５号公報の段落番号０１８６に記載の硬化剤）、塩基発生剤（例えば、特開２０１４－０５５１１４号公報に記載のイオン性化合物）、シアネート化合物（例えば、特開２０１２－１５０１８０号公報の段落番号００７１に記載の化合物）、アルコキシシラン化合物（例えば、特開２０１１－２５３０５４号公報に記載のエポキシ基を有するアルコキシシラン化合物）、オニウム塩化合物（例えば、特開２０１５－０３４９６３号公報の段落番号０２１６に酸発生剤として例示されている化合物、特開２００９－１８０９４９号公報に記載の化合物）などを用いることもできる。
　本発明の樹脂組成物が硬化促進剤を含有する場合、硬化促進剤の含有量は、樹脂組成物の全固形分中０．３～８．９質量％が好ましく、０．８～６．４質量％がより好ましい。
＜＜重合禁止剤＞＞
　本発明の樹脂組成物は、重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）が挙げられる。中でも、ｐ－メトキシフェノールが好ましい。樹脂組成物の全固形分中における重合禁止剤の含有量は、０．０００１～５質量％が好ましい。
＜＜界面活性剤＞＞
　本発明の樹脂組成物は、界面活性剤を含有することができる。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用することができる。界面活性剤はフッ素系界面活性剤またはシリコーン系界面活性剤であることが好ましい。界面活性剤については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２３８～０２４５に記載された界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３～４０質量％が好適であり、より好ましくは５～３０質量％であり、特に好ましくは７～２５質量％である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、樹脂組成物中における溶解性も良好である。
　フッ素系界面活性剤としては、特開２０１４－０４１３１８号公報の段落番号００６０～００６４（対応する国際公開第２０１４／０１７６６９号の段落番号００６０～００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１－１３２５０３号公報の段落番号０１１７～０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７３、Ｆ－１７６、Ｆ－１７７、Ｆ－１４１、Ｆ－１４２、Ｆ－１４３、Ｆ－１４４、Ｒ－３０、Ｆ－４３７、Ｆ－４７５、Ｆ－４７７、Ｆ－４７９、Ｆ－４８２、Ｆ－５５４、Ｆ－５５５－Ａ、Ｆ－５５６、Ｆ－５５７、Ｆ－５５８、Ｆ－５５９、Ｆ－５６０、Ｆ－５６１、Ｆ－５６５、Ｆ－５６３、Ｆ－５６８、Ｆ－５７５、Ｆ－７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０、Ｒ－０１、Ｒ－４０、Ｒ－４０－ＬＭ、Ｒ－４１、Ｒ－４１－ＬＭ、ＲＳ－４３、Ｒ－４３、ＴＦ－１９５６、ＲＳ－９０、Ｒ－９４、ＲＳ－７２－Ｋ、ＤＳ－２１（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ　ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）、フタージェント２０８Ｇ、２１５Ｍ、２４５Ｆ、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２、６０２Ａ、６１０ＦＭ、７１０ＦＬ、７１０ＦＭ、７１０ＦＳ、ＦＴＸ－２１８（以上、（株）ＮＥＯＳ製）等が挙げられる。
　フッ素系界面活性剤は、フッ素化アルキル基又はフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。このようなフッ素系界面活性剤は、特開２０１６－２１６６０２号公報の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。例えば特開２０１１－０８９０９０号公報に記載された化合物が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
 　上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３０００～５００００であり、例えば、１４０００である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。
　また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０－１６４９６５号公報の段落番号００５０～００９０および段落番号０２８９～０２９５に記載された化合物、ＤＩＣ（株）製のメガファックＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ等が挙げられる。また、フッ素系界面活性剤は、特開２０１５－１１７３２７号公報の段落番号００１５～０１５８に記載の化合物を用いることもできる。
　また、国際公開第２０２０／０８４８５４号に記載の界面活性剤を、炭素数６以上のパーフルオロアルキル基を有する界面活性剤の代替として用いることも、環境規制の観点から好ましい。
　また、式（ｆｉ－１）で表される含フッ素イミド塩化合物を界面活性剤として用いることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 　式（ｆｉ－１）中、ｍは１または２を表し、ｎは１～４の整数を表し、ａは１または２を表し、Ｘａ＋はａ価の金属イオン、第１級アンモニウムイオン、第２級アンモニウムイオン、第３級アンモニウムイオン、第４級アンモニウムイオンまたはＮＨ４ ＋を表す。
　ノニオン性界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（ＢＡＳＦ社製）、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（富士フイルム和光純薬（株）製）、パイオニンＤ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（日信化学工業（株）製）などが挙げられる。
　カチオン性界面活性剤としては、テトラアルキルアンモニウム塩、アルキルアミン塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジウム塩、イミダゾリウム塩等が挙げられる。具体例としては、ジヒドロキシエチルステアリルアミン、２－ヘプタデセニル－ヒドロキシエチルイミダゾリン、ラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、セチルピリジニウムクロライド、ステアラミドメチルピリジウムクロライド等が挙げられる。
　アニオン性界面活性剤としては、ドデシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸カリウム、ナトリウムジオクチルスルホサクシネート、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテ硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸ナトリウム、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウム、ｔ－オクチルフェノキシエトキシポリエトキシエチル硫酸ナトリウム塩等が挙げられる。
　シリコーン系界面活性剤としては、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ　８４００　ＦＬＵＩＤ、ＦＺ－２１２２、６７　Ａｄｄｉｔｉｖｅ、７４　Ａｄｄｉｔｉｖｅ、Ｍ　Ａｄｄｉｔｉｖｅ、ＳＦ　８４１９　ＯＩＬ（以上、ダウ・東レ（株）製）、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６０００、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２、ＫＦ－６００３（以上、信越化学工業（株）製）、ＢＹＫ－３０７、ＢＹＫ－３２２、ＢＹＫ－３２３、ＢＹＫ－３３０、ＢＹＫ－３３３、ＢＹＫ－３７６０、ＢＹＫ－ＵＶ３５１０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。
　また、シリコーン系界面活性剤には下記構造の化合物を用いることもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
　樹脂組成物の全固形分中における界面活性剤の含有量は、０．００１質量％～５．０質量％が好ましく、０．００５～３．０質量％がより好ましい。界面活性剤は、１種のみでもよく、２種以上でもよい。２種以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜紫外線吸収剤＞＞
　本発明の樹脂組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤は、共役ジエン化合物、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物、インドール化合物、トリアジン化合物などを用いることができる。これらの詳細については、特開２０１２－２０８３７４号公報の段落番号００５２～００７２、特開２０１３－０６８８１４号公報の段落番号０３１７～０３３４、特開２０１６－１６２９４６号公報の段落番号００６１～００８０の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、ＵＶ－５０３（大東化学（株）製）、ＢＡＳＦ社製のＴｉｎｕｖｉｎシリーズ、Ｕｖｉｎｕｌ（ユビナール）シリーズ、住化ケムテックス（株）製のＳｕｍｉｓｏｒｂシリーズなどが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としては、ミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）が挙げられる。また、紫外線吸収剤は、特許第６２６８９６７号公報の段落番号００４９～００５９に記載された化合物、国際公開第２０１６／１８１９８７号の段落番号００５９～００７６に記載された化合物、国際公開第２０２０／１３７８１９号に記載されたチオアリール基置換ベンゾトリアゾール型紫外線吸収剤を用いることもできる。樹脂組成物の全固形分中における紫外線吸収剤の含有量は、０．０１～１０質量％が好ましく、０．０１～５質量％がより好ましい。紫外線吸収剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜酸化防止剤＞＞
　本発明の樹脂組成物は、酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物などが挙げられる。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。フェノール性ヒドロキシ基に隣接する部位（オルト位）に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数１～２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましい。また、酸化防止剤は、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。また、酸化防止剤は、リン系酸化防止剤も好適に使用することができる。また、酸化防止剤は、韓国公開特許第１０－２０１９－００５９３７１号公報に記載の化合物を用いることもできる。樹脂組成物の全固形分中における酸化防止剤の含有量は、０．０１～２０質量％であることが好ましく、０．３～１５質量％であることがより好ましい。酸化防止剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜その他成分＞＞
　本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、増感剤、フィラー、熱硬化促進剤、可塑剤及びその他の助剤類（例えば、導電性粒子、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を含有してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、膜物性などの性質を調整することができる。これらの成分は、例えば、特開２０１２－００３２２５号公報の段落番号０１８３以降（対応する米国特許出願公開第２０１３／００３４８１２号明細書の段落番号０２３７）の記載、特開２００８－２５００７４号公報の段落番号０１０１～０１０４、０１０７～０１０９等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、樹脂組成物は、必要に応じて、潜在酸化防止剤を含有してもよい。潜在酸化防止剤としては、酸化防止剤として機能する部位が保護基で保護された化合物であって、１００～２５０℃で加熱するか、又は酸／塩基触媒存在下で８０～２００℃で加熱することにより保護基が脱離して酸化防止剤として機能する化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤としては、国際公開第２０１４／０２１０２３号、国際公開第２０１７／０３０００５号、特開２０１７－００８２１９号公報に記載された化合物が挙げられる。市販品としては、アデカアークルズＧＰＡ－５００１（（株）ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。
　本発明の樹脂組成物は、得られる膜の屈折率を調整するために金属酸化物を含有させてもよい。金属酸化物としては、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２等が挙げられる。金属酸化物の一次粒子径は１～１００ｎｍが好ましく、３～７０ｎｍがより好ましく、５～５０ｎｍが更に好ましい。金属酸化物はコア－シェル構造を有していてもよい。また、この場合、コア部は中空状であってもよい。
　本発明の樹脂組成物は、耐光性改良剤を含んでもよい。耐光性改良剤としては、特開２０１７－１９８７８７号公報の段落番号００３６～００３７に記載の化合物、特開２０１７－１４６３５０号公報の段落番号００２９～００３４に記載の化合物、特開２０１７－１２９７７４号公報の段落番号００３６～００３７、００４９～００５２に記載の化合物、特開２０１７－１２９６７４号公報の段落番号００３１～００３４、００５８～００５９に記載の化合物、特開２０１７－１２２８０３号公報の段落番号００３６～００３７、００５１～００５４に記載の化合物、国際公開第２０１７／１６４１２７号の段落番号００２５～００３９に記載の化合物、特開２０１７－１８６５４６号公報の段落番号００３４～００４７に記載の化合物、特開２０１５－０２５１１６号公報の段落番号００１９～００４１に記載の化合物、特開２０１２－１４５６０４号公報の段落番号０１０１～０１２５に記載の化合物、特開２０１２－１０３４７５号公報の段落番号００１８～００２１に記載の化合物、特開２０１１－２５７５９１号公報の段落番号００１５～００１８に記載の化合物、特開２０１１－１９１４８３号公報の段落番号００１７～００２１に記載の化合物、特開２０１１－１４５６６８号公報の段落番号０１０８～０１１６に記載の化合物、特開２０１１－２５３１７４号公報の段落番号０１０３～０１５３に記載の化合物などが挙げられる。
　本発明の樹脂組成物は、顔料などと結合又は配位していない遊離の金属の含有量が１００ｐｐｍ以下であることが好ましく、５０ｐｐｍ以下であることがより好ましく、１０ｐｐｍ以下であることが更に好ましく、実質的に含有しないことが特に好ましい。この態様によれば、顔料分散性の安定化（凝集抑止）、分散性向上に伴う分光特性の向上、硬化性成分の安定化、金属原子・金属イオンの溶出に伴う導電性変動の抑止、表示特性の向上などの効果が期待できる。また、特開２０１２－１５３７９６号公報、特開２０００－３４５０８５号公報、特開２００５－２００５６０号公報、特開平０８－０４３６２０号公報、特開２００４－１４５０７８号公報、特開２０１４－１１９４８７号公報、特開２０１０－０８３９９７号公報、特開２０１７－０９０９３０号公報、特開２０１８－０２５６１２号公報、特開２０１８－０２５７９７号公報、特開２０１７－１５５２２８号公報、特開２０１８－０３６５２１号公報などに記載された効果も得られる。上記の遊離の金属の種類としては、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｃｓ、Ｎi、Ｃｄ、Ｐｂ、Ｂｉ等が挙げられる。また、本発明の樹脂組成物は、顔料などと結合又は配位していない遊離のハロゲンの含有量が１００ｐｐｍ以下であることが好ましく、５０ｐｐｍ以下であることがより好ましく、１０ｐｐｍ以下であることが更に好ましく、実質的に含有しないことが特に好ましい。ハロゲンとしては、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ及びそれらの陰イオンが挙げられる。樹脂組成物中の遊離の金属やハロゲンの低減方法としては、イオン交換水による洗浄、ろ過、限外ろ過、イオン交換樹脂による精製等の方法が挙げられる。
　環境規制の観点から、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩の使用が規制されることがある。本発明の樹脂組成物において、上記した化合物の含有率を小さくする場合、パーフルオロアルキルスルホン酸（特にパーフルオロアルキル基の炭素数が６～８のパーフルオロアルキルスルホン酸）及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸（特にパーフルオロアルキル基の炭素数が６～８のパーフルオロアルキルカルボン酸）及びその塩の含有率は、樹脂組成物の全固形分に対して、０．０１ｐｐｂ～１，０００ｐｐｂの範囲であることが好ましく、０．０５ｐｐｂ～５００ｐｐｂの範囲であることがより好ましく、０．１ｐｐｂ～３００ｐｐｂの範囲であることが更に好ましい。本発明の樹脂組成物は、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩を実質的に含まなくてもよい。例えば、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩の代替となりうる化合物、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩の代替となりうる化合物を用いることで、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩を実質的に含まない樹脂組成物を選択してもよい。規制化合物の代替となりうる化合物としては、例えば、パーフルオロアルキル基の炭素数の違いによって規制対象から除外された化合物が挙げられる。ただし、上記した内容は、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩の使用を妨げるものではない。本発明の樹脂組成物は、許容される最大の範囲内で、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩を含んでもよい。
　本発明の樹脂組成物は、テレフタル酸エステルを実質的に含まないことも好ましい。ここで、「実質的に含まない」とは、テレフタル酸エステルの含有量が、樹脂組成物の全量中、１０００質量ｐｐｂ以下であることを意味し、１００質量ｐｐｂ以下であることがより好ましく、ゼロであることが特に好ましい。
＜収容容器＞
　樹脂組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収容容器として、原材料や樹脂組成物中への不純物混入を抑制することを目的に、容器内壁を６種６層の樹脂で構成する多層ボトルや６種の樹脂を７層構造にしたボトルを使用することも好ましい。このような容器としては例えば特開２０１５－１２３３５１号公報に記載の容器が挙げられる。また、容器内壁は、容器内壁からの金属溶出を防ぎ、樹脂組成物の保存安定性を高めたり、成分変質を抑制するなど目的で、ガラス製やステンレス製などにすることも好ましい。
＜樹脂組成物の調製方法＞
　本発明の樹脂組成物は、前述の成分を混合して調製できる。樹脂組成物の調製に際しては、全成分を同時に有機溶剤に溶解及び／又は分散して樹脂組成物を調製してもよいし、必要に応じて、各成分を適宜２つ以上の溶液又は分散液としておいて、使用時（塗布時）にこれらを混合して樹脂組成物を調製してもよい。
　また、樹脂組成物の調製に際して、顔料を分散させるプロセスを含むことが好ましい。顔料を分散させるプロセスにおいて、顔料の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、キャビテーションなどが挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、超音波分散などが挙げられる。またサンドミル（ビーズミル）における顔料の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくする事等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。また、粉砕処理後にろ過、遠心分離などで粗粒子を除去することが好ましい。また、顔料を分散させるプロセス及び分散機は、「分散技術大全集、株式会社情報機構発行、２００５年７月１５日」や「サスペンション（固／液分散系）を中心とした分散技術と工業的応用の実際　総合資料集、経営開発センター出版部発行、１９７８年１０月１０日」、特開２０１５－１５７８９３号公報の段落番号００２２に記載のプロセス及び分散機を好適に使用出来る。また、顔料を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて粒子の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、処理条件等は、例えば特開２０１５－１９４５２１号公報、特開２０１２－０４６６２９号公報の記載を参酌できる。
　樹脂組成物の調製にあたり、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、樹脂組成物をフィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルタであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン－６、ナイロン－６，６）等のポリアミド樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）及びナイロンが好ましい。
　フィルタの孔径は、０．０１～７．０μｍが好ましく、０．０１～３．０μｍがより好ましく、０．０５～０．５μｍが更に好ましい。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物をより確実に除去できる。フィルタの孔径値については、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。フィルタは、日本ポール株式会社（ＤＦＡ４２０１ＮＸＥＹ、ＤＦＡ４２０１ＮＡＥＹ、ＤＦＡ４２０１Ｊ００６Ｐなど）、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）及び株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタを用いることができる。
　また、フィルタとしてファイバ状のろ材を用いることも好ましい。ファイバ状のろ材としては、例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられる。市販品としては、ロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）が挙げられる。
　フィルタを使用する際、異なるフィルタ（例えば、第１のフィルタと第２のフィルタなど）を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。また、第１のフィルタでのろ過は、分散液のみに対して行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタでろ過を行ってもよい。また樹脂組成物の親疎水性に合わせて、適宜フィルタを選択することができる。
＜樹脂の製造方法＞
　次に、本発明の樹脂の製造方法について説明する。本発明の樹脂の製造方法は、１級アミノ基、２級アミノ基またはヒドロキシ基を３個以上有し、かつ、分子量が５００未満である化合物と、末端に酸無水物構造を有するマクロモノマーとを反応させる工程を含む。１級アミノ基、２級アミノ基またはヒドロキシ基を３個以上有し、かつ、分子量が５００未満である化合物としては、特定樹脂の項で説明した化合物ａが挙げられる。末端に酸無水物構造を有するマクロモノマーとしては、特定樹脂の項で説明したマクロモノマーＡＨが挙げられる。
　化合物ａとマクロモノマーＡＨとを反応させるために両者を混合するとき、化合物ａの１級アミノ基と２級アミノ基とヒドロキシ基の合計１モルに対してマクロモノマーＡＨの酸無水物基が０．１～２モルの割合であることが好ましく、０．３～１．５モルの割合であることがより好ましく、０．５～１．０モルの割合であることが更に好ましい。
　本発明の樹脂の製造方法において、環状酸無水物（無水コハク酸、無水グルタル酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、イタコン酸無水物、ｃｉｓ－４－シクロヘキセン－１，２－ジカルボン酸無水物、（±）－ｔｒａｎｓ－１，２－シクロヘキサンジカルボン酸無水物、ｃｉｓ－１，２－シクロヘキサンジカルボン酸無水物、５－ノルボルネン－２，３－ジカルボン酸無水物、ｅｘｏ－３，６－エポキシ－１，２，３，６－テトラヒドロフタル酸無水物、４－メチルシクロヘキサン－１，２－ジカルボン酸無水物、トリメリット酸無水物、２，３－ナフタレンジカルボン酸無水物、テトラクロロフタル酸無水物、テトラブロモフタル酸無水物、２－スルホ安息香酸無水物、テトラブロモ－ｏ－スルホ安息香酸無水物等）、エチレン性不飽和結合含有基を有する酸クロリド化合物、エポキシ基を有する酸クロリド化合物、オキセタニル基を有する酸クロリド化合物、および、色素部分構造とエチレン性不飽和結合含有基を有する化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を、化合物ａとマクロモノマーＡＨとの反応時、あるいは、反応後に加えてもよい。これにより、化合物ａのアミノ基またはヒドロキシ基と、上記化合物とが反応して、樹脂に、酸基、エチレン性不飽和結合含有基、エポキシ基、オキセタニル基、色素部分構造を有する基などの官能基を付加することができる。
＜膜＞
　本発明の膜は、上述した本発明の樹脂組成物から得られる膜である。本発明の膜は、カラーフィルタ、近赤外線透過フィルタ、近赤外線カットフィルタなどの光学フィルタに用いることができる。また、本発明の膜は、ブラックマトリクスや遮光膜などに用いることもできる。
　本発明の膜の膜厚は、目的に応じて適宜調整できる。例えば、膜厚は、２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましい。膜厚の下限は、０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましく、０．３μｍ以上がさらに好ましい。
　本発明の膜をカラーフィルタとして用いる場合、本発明の膜は、緑色、赤色、青色、シアン色、マゼンタ色または黄色の色相を有することが好ましい。また、本発明の膜は、カラーフィルタの着色画素として好ましく用いることができる。着色画素としては、赤色画素、緑色画素、青色画素、マゼンタ色画素、シアン色画素、黄色画素などが挙げられる。
　本発明の膜を近赤外線カットフィルタとして用いる場合、本発明の膜の極大吸収波長は、波長７００～１８００ｎｍの範囲に存在することが好ましく、波長７００～１３００ｎｍの範囲に存在することがより好ましく、波長７００～１１００ｎｍの範囲に存在することが更に好ましい。また、膜の波長４００～６５０ｎｍの全範囲での透過率は７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましい。また、膜の波長７００～１８００ｎｍの範囲の少なくとも１点での透過率は２０％以下であることが好ましい。また、極大吸収波長における吸光度Ａｍａｘと、波長５５０ｎｍにおける吸光度Ａ５５０との比である吸光度Ａｍａｘ／吸光度Ａ５５０は、２０～５００であることが好ましく、５０～５００であることがより好ましく、７０～４５０であることが更に好ましく、１００～４００であることが特に好ましい。
　本発明の膜を近赤外線透過フィルタとして用いる場合、本発明の膜は、例えば、以下の（ｉ１）～（ｉ５）のいずれかの分光特性を有することが好ましい。
　（ｉ１）：波長４００～６４０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長８００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。このような分光特性を有する膜は、波長４００～６４０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長７５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　（ｉ２）：波長４００～７５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長９００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。このような分光特性を有する膜は、波長４００～７５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長８５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　（ｉ３）：波長４００～８３０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１０００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。このような分光特性を有する膜は、波長４００～８３０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長９５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　（ｉ４）：波長４００～９５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１１００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。このような分光特性を有する膜は、波長４００～９５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長１０５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　（ｉ５）：波長４００～１０５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１２００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。このような分光特性を有する膜は、波長４００～１０５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長１１５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　本発明の膜は、窒素雰囲気下にて３００℃で５時間加熱処理した後の膜の厚さが、加熱処理前の膜の厚さの７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましく、９５％以上であることがより一層好ましく、９９％以上であることが特に好ましい。
　また、上記膜を窒素雰囲気下にて３５０℃で５時間加熱処理した後の膜の厚さは、加熱処理前の膜の厚さの７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましく、９５％以上であることがより一層好ましく、９９％以上であることが特に好ましい。
　また、上記膜を窒素雰囲気下にて４００℃で５時間加熱処理した後の膜の厚さは、加熱処理前の膜の厚さの７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましく、９５％以上であることがより一層好ましく、９９％以上であることが特に好ましい。
＜膜の製造方法＞
　本発明の膜は、上述した本発明の樹脂組成物を支持体上に塗布する工程を経て製造できる。本発明の膜の製造方法においては、更にパターン（画素）を形成する工程を含むことが好ましい。パターン（画素）の形成方法としては、フォトリソグラフィ法及びドライエッチング法が挙げられ、フォトリソグラフィ法が好ましい。
（フォトリソグラフィ法）
　まず、フォトリソグラフィ法によりパターンを形成して膜を製造する場合について説明する。フォトリソグラフィ法によるパターン形成は、本発明の樹脂組成物を用いて支持体上に樹脂組成物層を形成する工程と、樹脂組成物層をパターン状に露光する工程と、樹脂組成物層の未露光部を現像除去してパターン（画素）を形成する工程と、を含むことが好ましい。必要に応じて、樹脂組成物層をベークする工程（プリベーク工程）、及び、現像されたパターン（画素）をベークする工程（ポストベーク工程）を設けてもよい。
　樹脂組成物層を形成する工程では、本発明の樹脂組成物を用いて、支持体上に樹脂組成物層を形成する。支持体としては、特に限定は無く、用途に応じて適宜選択できる。例えば、ガラス基板、シリコン基板などが挙げられ、シリコン基板であることが好ましい。また、シリコン基板には、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、シリコン基板には、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されている場合もある。また、シリコン基板には、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下地層が設けられていてもよい。下地層の表面接触角は、ジヨードメタンで測定した際に２０～７０°であることが好まい。また、水で測定した際に３０～８０°であることが好ましい。下地層の表面接触角が上記範囲であれば、樹脂組成物の濡れ性が良好である。下地層の表面接触角の調整は、たとえば、界面活性剤の添加などの方法で行うことができる。
　樹脂組成物の塗布方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９－１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット－特許に見る無限の可能性－、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法（特に１１５ページ～１３３ページ）や、特開２００３－２６２７１６号公報、特開２００３－１８５８３１号公報、特開２００３－２６１８２７号公報、特開２０１２－１２６８３０号公報、特開２００６－１６９３２５号公報などに記載の方法が挙げられる。また、樹脂組成物の塗布方法は、国際公開第２０１７／０３０１７４号、国際公開第２０１７／０１８４１９号に記載された方法を用いることもでき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　支持体上に形成した樹脂組成物層は、乾燥（プリベーク）してもよい。低温プロセスにより膜を製造する場合は、プリベークを行わなくてもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１１０℃以下が更に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができ、８０℃以上とすることもできる。プリベーク時間は、１０～３００秒が好ましく、４０～２５０秒がより好ましく、８０～２２０秒がさらに好ましい。プリベークは、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。
　次に、樹脂組成物層をパターン状に露光する（露光工程）。例えば、樹脂組成物層に対し、ステッパー露光機やスキャナ露光機などを用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、パターン状に露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。
　露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等が挙げられる。また、波長３００ｎｍ以下の光（好ましくは波長１８０～３００ｎｍの光）を用いることもできる。波長３００ｎｍ以下の光としては、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ線（波長１９３ｎｍ）などが挙げられ、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）が好ましい。また、３００ｎｍ以上の長波な光源も利用できる。
　また、露光に際して、光を連続的に照射して露光してもよく、パルス的に照射して露光（パルス露光）してもよい。なお、パルス露光とは、短時間（例えば、ミリ秒レベル以下）のサイクルで光の照射と休止を繰り返して露光する方式の露光方法のことである。パルス露光の場合、パルス幅は、１００ナノ秒（ｎｓ）以下であることが好ましく、５０ナノ秒以下であることがより好ましく、３０ナノ秒以下であることが更に好ましい。パルス幅の下限は、特に限定はないが、１フェムト秒（ｆｓ）以上とすることができ、１０フェムト秒以上とすることもできる。周波数は、１ｋＨｚ以上であることが好ましく、２ｋＨｚ以上であることがより好ましく、４ｋＨｚ以上であることが更に好ましい。周波数の上限は５０ｋＨｚ以下であることが好ましく、２０ｋＨｚ以下であることがより好ましく、１０ｋＨｚ以下であることが更に好ましい。最大瞬間照度は、５０００００００Ｗ／ｍ２以上であることが好ましく、１００００００００Ｗ／ｍ２以上であることがより好ましく、２００００００００Ｗ／ｍ２以上であることが更に好ましい。また、最大瞬間照度の上限は、１０００００００００Ｗ／ｍ２以下であることが好ましく、８００００００００Ｗ／ｍ２以下であることがより好ましく、５００００００００Ｗ／ｍ２以下であることが更に好ましい。なお、パルス幅とは、パルス周期における光が照射されている時間のことである。また、周波数とは、１秒あたりのパルス周期の回数のことである。また、最大瞬間照度とは、パルス周期における光が照射されている時間内での平均照度のことである。また、パルス周期とは、パルス露光における光の照射と休止を１サイクルとする周期のことである。
　照射量（露光量）は、例えば、０．０３～２．５Ｊ／ｃｍ２が好ましく、０．０５～１．０Ｊ／ｃｍ２がより好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、又は、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、又は、５０体積％）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常１０００Ｗ／ｍ２～１０００００Ｗ／ｍ２（例えば、５０００Ｗ／ｍ２、１５０００Ｗ／ｍ２、又は、３５０００Ｗ／ｍ２）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１００００Ｗ／ｍ２、酸素濃度３５体積％で照度２００００Ｗ／ｍ２などとすることができる。
　次に、樹脂組成物層の未露光部を現像除去してパターン（画素）を形成する。樹脂組成物層の未露光部の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の樹脂組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが残る。現像液の温度は、例えば、２０～３０℃が好ましい。現像時間は、２０～１８０秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、さらに新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。
　現像液は、有機溶剤、アルカリ現像液などが挙げられ、アルカリ現像液が好ましく用いられる。アルカリ現像液としては、アルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液（アルカリ現像液）が好ましい。アルカリ剤としては、例えば、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス（２－ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。アルカリ剤は、分子量が大きい化合物の方が環境面及び安全面で好ましい。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％がより好ましい。また、現像液は、さらに界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤としては、上述した界面活性剤が挙げられ、ノニオン性界面活性剤が好ましい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば１．５～１００倍の範囲に設定することができる。また、現像後純水で洗浄（リンス）することも好ましい。また、リンスは、現像後の樹脂組成物層が形成された支持体を回転させつつ、現像後の樹脂組成物層へリンス液を供給して行うことが好ましい。また、リンス液を吐出させるノズルを支持体の中心部から支持体の周縁部に移動させて行うことも好ましい。この際、ノズルの支持体中心部から周縁部へ移動させるにあたり、ノズルの移動速度を徐々に低下させながら移動させてもよい。このようにしてリンスを行うことで、リンスの面内ばらつきを抑制できる。また、ノズルを支持体中心部から周縁部へ移動させつつ、支持体の回転速度を徐々に低下させても同様の効果が得られる。
　現像後、乾燥を施した後に追加露光処理や加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。追加露光処理やポストベークは、硬化を完全なものとするための現像後の硬化処理である。ポストベークにおける加熱温度は、例えば１００～２４０℃が好ましく、２００～２４０℃がより好ましい。また、ポストベークにおける加熱温度は、２４０～４００℃とすることもでき、２５０～３５０℃とすることもでき、３００～３５０℃とすることもできる。ポストベークにおける加熱時間は、例えば５分～５時間が好ましく、１～４時間がより好ましく、２～４時間がさらに好ましい。ポストベークは、現像後の膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。追加露光処理を行う場合、露光に用いられる光は、波長４００ｎｍ以下の光であることが好ましい。また、追加露光処理は、韓国公開特許第１０－２０１７－０１２２１３０号公報に記載された方法で行ってもよい。
（ドライエッチング法）
　ドライエッチング法でのパターン形成は、本発明の樹脂組成物を用いて支持体上に樹脂組成物層を形成し、この樹脂組成物層の全体を硬化させて硬化物層を形成する工程と、この硬化物層上にフォトレジスト層を形成する工程と、フォトレジスト層をパターン状に露光したのち、現像してレジストパターンを形成する工程と、このレジストパターンをマスクとして硬化物層に対してエッチングガスを用いてドライエッチングする工程と、を含むことが好ましい。フォトレジスト層の形成においては、更にプリベーク処理を施すことが好ましい。特に、フォトレジスト層の形成プロセスとしては、露光後の加熱処理、現像後の加熱処理（ポストベーク処理）を実施する形態が望ましい。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開２０１３－０６４９９３号公報の段落番号００１０～００６７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
＜光学フィルタ＞
　本発明の光学フィルタは、上述した本発明の膜を有する。光学フィルタの種類としては、光学フィルタとしては、カラーフィルタ、近赤外線透過フィルタ、近赤外線カットフィルタなどが挙げられ、カラーフィルタであることが好ましい。カラーフィルタとしては、カラーフィルタの着色画素として本発明の膜を有することが好ましい。本発明の光学フィルタは、ＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）などの固体撮像素子や画像表示装置などに用いることができる。
　光学フィルタにおいて本発明の膜の膜厚は、目的に応じて適宜調整できる。膜厚は、５μｍ以下が好ましく、１μｍ以下がより好ましく、０．６μｍ以下がさらに好ましい。膜厚の下限は、０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましく、０．３μｍ以上がさらに好ましい。
　光学フィルタに含まれる画素の幅は０．４～１０．０μｍであることが好ましい。下限は、０．４μｍ以上であることが好ましく、０．５μｍ以上であることがより好ましく、０．６μｍ以上であることが更に好ましい。上限は、５．０μｍ以下であることが好ましく、２．０μｍ以下であることがより好ましく、１．０μｍ以下であることが更に好ましく、０．８μｍ以下であることがより一層好ましい。また、画素のヤング率は０．５～２０ＧＰａであることが好ましく、２．５～１５ＧＰａがより好ましい。
　光学フィルタに含まれる各画素は高い平坦性を有することが好ましい。具体的には、画素の表面粗さＲａは、１００ｎｍ以下であることが好ましく、４０ｎｍ以下であることがより好ましく、１５ｎｍ以下であることが更に好ましい。下限は規定されないが、例えば０．１ｎｍ以上であることが好ましい。画素の表面粗さは、例えばＶｅｅｃｏ社製のＡＦＭ（原子間力顕微鏡）　Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ３１００を用いて測定することができる。また、画素上の水の接触角は適宜好ましい値に設定することができるが、典型的には、５０～１１０°の範囲である。接触角は、例えば接触角計ＣＶ－ＤＴ・Ａ型（協和界面科学（株）製）を用いて測定できる。また、画素の体積抵抗値は高いことが好ましい。具体的には、画素の体積抵抗値は１０９Ω・ｃｍ以上であることが好ましく、１０１１Ω・ｃｍ以上であることがより好ましい。上限は規定されないが、例えば１０１４Ω・ｃｍ以下であることが好ましい。画素の体積抵抗値は、超高抵抗計５４１０（アドバンテスト社製）を用いて測定することができる。
　光学フィルタにおいては、本発明の膜の表面に保護層が設けられていてもよい。保護層を設けることで、酸素遮断化、低反射化、親疎水化、特定波長の光（紫外線、近赤外線等）の遮蔽等の種々の機能を付与することができる。保護層の厚さとしては、０．０１～１０μｍが好ましく、０．１～５μｍがより好ましい。保護層の形成方法としては、有機溶剤に溶解した保護層形成用樹脂組成物を塗布して形成する方法、化学気相蒸着法、成型した樹脂を接着材で貼りつける方法等が挙げられる。保護層を構成する成分としては、（メタ）アクリル樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、ポリオール樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アラミド樹脂、ポリアミド樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、変性シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、セルロース樹脂、Ｓｉ、Ｃ、Ｗ、Ａｌ２Ｏ３、Ｍｏ、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｎ４などが挙げられ、これらの成分を二種以上含有しても良い。例えば、酸素遮断化を目的とした保護層の場合、保護層はポリオール樹脂と、ＳｉＯ２と、Ｓｉ２Ｎ４を含むことが好ましい。また、低反射化を目的とした保護層の場合、保護層は（メタ）アクリル樹脂とフッ素樹脂を含むことが好ましい。
　保護層形成用樹脂組成物を塗布して保護層を形成する場合、保護層形成用樹脂組成物の塗布方法としては、スピンコート法、キャスト法、スクリーン印刷法、インクジェット法等の公知の方法を用いることができる。保護層形成用樹脂組成物に含まれる有機溶剤は、公知の有機溶剤（例えば、プロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート、シクロペンタノン、乳酸エチル等）を用いることが出来る。保護層を化学気相蒸着法にて形成する場合、化学気相蒸着法としては、公知の化学気相蒸着法（熱化学気相蒸着法、プラズマ化学気相蒸着法、光化学気相蒸着法）を用いることができる。
　保護層は、必要に応じて、有機・無機微粒子、特定波長の光（例えば、紫外線、近赤外線等）の吸収剤、屈折率調整剤、酸化防止剤、密着剤、界面活性剤等の添加剤を含有しても良い。有機・無機微粒子の例としては、例えば、高分子微粒子（例えば、シリコーン樹脂微粒子、ポリスチレン微粒子、メラミン樹脂微粒子）、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化インジウム、酸化アルミニウム、窒化チタン、酸窒化チタン、フッ化マグネシウム、中空シリカ、シリカ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等が挙げられる。特定波長の光の吸収剤は公知の吸収剤を用いることができる。これらの添加剤の含有量は適宜調整できるが、保護層の全質量に対して０．１～７０質量％が好ましく、１～６０質量％がさらに好ましい。また、保護層としては、特開２０１７－１５１１７６号公報の段落番号００７３～００９２に記載の保護層を用いることもできる。
　光学フィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各画素が埋め込まれた構造を有していてもよい。また、本発明の樹脂組成物は国際公開第２０１９／１０２８８７号に記載された画素構成にも好適に使用することができる。
＜固体撮像素子＞
　本発明の固体撮像素子は、上述した本発明の膜を有する。本発明の固体撮像素子の構成としては、本発明の膜を備え、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はないが、例えば、以下のような構成が挙げられる。
　基板上に、固体撮像素子（ＣＣＤ（電荷結合素子）イメージセンサ、ＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）イメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオード及び転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口した遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面及びフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、カラーフィルタを有する構成である。更に、デバイス保護膜上であってカラーフィルタの下（基板に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、カラーフィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、カラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各着色画素が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は各着色画素よりも低屈折率であることが好ましい。このような構造を有する撮像装置の例としては、特開２０１２－２２７４７８号公報、特開２０１４－１７９５７７号公報、国際公開第２０１８／０４３６５４号、米国特許出願公開第２０１８／００４０６５６号明細書に記載の装置が挙げられる。また、特開２０１９－２１１５５９号公報のように固体撮像素子の構造内に紫外線吸収層を設けて耐光性を改良してもよい。本発明の固体撮像素子を備えた撮像装置は、デジタルカメラや、撮像機能を有する電子機器（携帯電話等）の他、車載カメラや監視カメラ用としても用いることができる。さらに、本発明のカラーフィルタを組み込んだ固体撮像素子は、本発明のカラーフィルタに加え、更に別のカラーフィルタ、近赤外線カットフィルタ、有機光電変換膜などを組み込んでもよい。
＜画像表示装置＞
　本発明の画像表示装置は、上述した本発明の膜を有する。画像表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や各画像表示装置の詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木昭夫著、（株）工業調査会、１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男編集、（株）工業調査会、１９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。
　以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
＜重量平均分子量（Ｍｗ）の測定方法＞
　試料の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により、以下の条件で測定した。
カラムの種類：ＴＯＳＯＨ　ＴＳＫｇｅｌ　Ｓｕｐｅｒ　ＨＺＭ－Ｈと、ＴＯＳＯＨ　ＴＳＫｇｅｌ　Ｓｕｐｅｒ　ＨＺ４０００と、ＴＯＳＯＨ　ＴＳＫｇｅｌ　Ｓｕｐｅｒ　ＨＺ２０００とを連結したカラム
展開溶媒：テトラヒドロフラン
カラム温度：４０℃
流量（サンプル注入量）：１．０μＬ（サンプル濃度：０．１質量％）
装置名：東ソー製　ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ
検出器：ＲＩ（屈折率）検出器
検量線ベース樹脂：ポリスチレン樹脂
＜酸価の測定方法＞
　試料の酸価は次のようにして測定した。すなわち、測定試料をテトラヒドロフラン／水＝９／１（質量比）混合溶媒に溶解し、得られた溶液を、電位差滴定装置（商品名：ＡＴ－５１０、京都電子工業製）を用いて、２５℃にて、０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウム水溶液で中和滴定した。滴定ｐＨ曲線の変曲点を滴定終点として、次式により酸価を算出した。
　Ａ＝５６．１１×Ｖｓ×０．５×ｆ／ｗ
　Ａ：酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
　Ｖｓ：滴定に要した０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウム水溶液の使用量（ｍＬ）
　ｆ：０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウム水溶液の力価
　ｗ：試料の質量（ｇ）（固形分換算）
＜アミン価の測定方法＞
　試料のアミン価は次のようにして測定した。すなわち、測定試料を酢酸に溶解し、得られた溶液を、電位差滴定装置（商品名：ＡＴ－５１０、京都電子工業製）を用いて、２５℃にて、０．１ｍｏｌ／Ｌ過塩素酸／酢酸溶液で中和滴定した。滴定ｐＨ曲線の変曲点を滴定終点として、以下の式によりアミン価を算出した。
　Ｂ＝５６．１１×Ｖｓ×０．１×ｆ／ｗ
　Ｂ：アミン価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
　Ｖｓ：滴定に要した０．１ｍｏｌ／Ｌ過塩素酸／酢酸溶液の使用量（ｍＬ）
　ｆ：０．１ｍｏｌ／Ｌ過塩素酸／酢酸溶液の力価
　ｗ：試料の質量（ｇ）（固形分換算）
＜樹脂の合成方法＞
　（合成例１）　樹脂Ｂ－１の合成
　窒素置換した３つ口フラスコにメタクリル酸メチルの１００．１ｇとアクリル酸ブチルの１２８．２ｇを加えプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの３５０ｇで希釈した。これを窒素雰囲気下で７５℃に加温した。次にメルカプトエタノールの２０．９ｇと重合開始剤（Ｖ－６０１、富士フイルム和光純薬（株）製）の２．０ｇを加え窒素雰囲気下７５℃で８時間加熱攪拌して下記構造の末端ヒドロキシ基ポリマーの溶液を得た。得られた末端ヒドロキシ基ポリマーの重量平均分子量は２３００であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
　次に、得られた末端ヒドロキシ基ポリマーの溶液を５℃に冷却し、無水トリメリット酸クロリドの３２．１ｇを加え、Ｎ－メチルイミダゾールの１５．３ｇを６時間かけて滴下した。さらに室温で２４時間攪拌し、不溶物をろ過して除去して下記構造の末端に酸無水物構造を有するマクロモノマーの溶液を得た。得られた末端に酸無水物構造を有するマクロモノマーの重量平均分子量は２５００であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
　次に、得られた末端に酸無水物構造を有するマクロモノマーの溶液を１１０℃に加温し、ペンタエリスリトール（富士フイルム和光純薬（株）製）３．４ｇを加えた。さらに１１０℃で５時間加熱攪拌した。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを２８０ｇ加えて固形分濃度を調整し、下記構造の樹脂Ｂ－１の固形分濃度３０質量％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を得た。得られた樹脂Ｂ－１の重量平均分子量は１１２００、酸価は２３ｍｇＫＯＨ／ｇ、アミン価は０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
　（合成例２～６４）　樹脂Ｂ－２～Ｂ－６４の合成
　樹脂Ｂ－１と同様の方法で樹脂Ｂ－２～Ｂ－６４をそれぞれ合成した。
　合成例１～６４で合成した樹脂Ｂ－１～Ｂ－６４の構造は、下記の式（１）で示される。式（１）を構成する各要素の構造又は数値を下記の表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000038
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000039
　上記表中のＹ１－１、Ｙ１－２、Ｙ１－３、Ｙ１－４、Ｙ１－８、Ｙ１－９、Ｙ１－１０、Ｙ１－１１、Ｙ１－１２、Ｙ１－１３、Ｙ１－１４、Ｙ１－１５、Ｙ１－１６は、それぞれ以下に示す構造の基である。なお、構造式中の＊は式（１）のＸ３との連結部である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
　上記表中のＺ１－１、Ｚ１－３、Ｚ１－７、Ｚ１－８、Ｚ１－１３、Ｚ１－１４、Ｚ１－１５、Ｚ１－２２、Ｚ１－２３、Ｚ１－２４、Ｚ１－２５、Ｚ１－２６、Ｚ１－２７、Ｚ１－２９、Ｚ１－３０、Ｚ１－３１、Ｚ１－３２、Ｚ１－３３、Ｚ１－３５、Ｚ１－３６、Ｚ１－３７およびＺ１－３８は、それぞれ以下に示す構造の基である。なお、構造式中の＊は式（１）のＸ１またはＸ３との連結部である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
　上記表中のＺ２－１～Ｚ２－９は、それぞれ以下に示す構造の基である。なお、構造式中の＊１は式（１）のＺ２と結合しているＸ１側のカルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）との連結部であり、＊２は式（１）のＺ２と結合しているＸ２側のカルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）との連結部であり、波線はＣＯＯＲ１との連結部である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
　上記表中のＲ１－１およびＲ１－２は、それぞれ以下に示す構造の基である。なお、構造式中の＊は連結部である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
　上記表中のＰ１－１～Ｐ１－１０、Ｐ１－１２～Ｐ１－１５は、それぞれ以下に示す構造の基である。なお、構造式中の＊は連結部である。主鎖に付記した数値は繰り返し単位の数を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
　下記表に樹脂Ｂ－１～Ｂ－６４の重量平均分子量（Ｍｗ）および酸価を記す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000046
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000047
＜分散液の製造＞
　下記表に記載の原料を混合した混合液を、ビーズミル（０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用）を用いて３時間混合及び分散した後さらに減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ－３０００－１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて、２０００ＭＰａの圧力下で流量５００ｇ／ｍｉｎとして分散処理を行った。この分散処理を１０回繰り返して各分散液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000048
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000049
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000050
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000051
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000052
　上記表に記載の各原料の配合量を示す数値の単位は質量部である。上記表に示した原料のうち、略語で示した原料の詳細は以下の通りである。
〔色材〕
　ＰＲ１２２　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２（赤色顔料、キナクリドン顔料）
　ＰＲ１７９　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７９（赤色顔料、ペリレン顔料）
　ＰＲ２５４　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４（赤色顔料、ジケトピロロピロール顔料）
　ＰＲ２６４　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２６４（赤色顔料、ジケトピロロピロール顔料） 
　ＰＲ２９１　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２９１（赤色顔料、ジケトピロロピロール顔料）
　ＰＯ７１　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ７１（オレンジ色顔料、ジケトピロロピロール顔料）
　ＰＢ１５：６　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６（青色顔料、フタロシアニン顔料）
　ＰＢ１６　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１６（青色顔料、フタロシアニン顔料）
　ＰＧ７　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７（緑色顔料、フタロシアニン顔料）
　ＰＧ３６　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６（緑色顔料、フタロシアニン顔料）
　ＰＧ５８　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン５８（緑色顔料、フタロシアニン顔料）
　ＰＹ１８５　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５（黄色顔料、イソインドリン顔料）
　ＰＹ２１５　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２１５（黄色顔料、プテリジン顔料）
　ＰＶ２３　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３（紫色顔料、ジオキサジン顔料）
　ＩＲ色素：下記構造の化合物（近赤外線吸収顔料、構造式中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
 　ＩＲＧＡＰＨＯＲＥ：　Ｉｒｇａｐｈｏｒ　Ｂｌａｃｋ　Ｓ　０１００　ＣＦ（ＢＡＳＦ社製、下記構造の化合物、ラクタム顔料）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
 　ＰＢｋ３２：　Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック３２（下記構造の化合物、ペリレン顔料）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
〔顔料誘導体〕
　誘導体１：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
 　誘導体２：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
 　誘導体３：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
〔樹脂（分散剤）〕
（特定樹脂）
　Ｂ－１、Ｂ－３、Ｂ－５、Ｂ－８、Ｂ－１０、Ｂ－１２、Ｂ－１４、Ｂ－１５、Ｂ－１６、Ｂ－１８、Ｂ－１９、Ｂ－２２、Ｂ－２３、Ｂ－２４、Ｂ－２５、Ｂ－２８、Ｂ－３０、Ｂ－３２、Ｂ－３３、Ｂ－３５、Ｂ－３７、Ｂ－３８、Ｂ－３９、Ｂ－４０、Ｂ－４２、Ｂ－４３、Ｂ－４５、Ｂ－４７、Ｂ－４８、Ｂ－５０、Ｂ－５１、Ｂ－５４、Ｂ－５７、Ｂ－６０、Ｂ－６２、Ｂ－６４：上述した樹脂
（比較樹脂）
　ｃＢ－１：下記構造の樹脂（重量平均分子量は１０８８５、酸価は７４ｍｇＫＯＨ／ｇである。「Ｐｏｌｙｍ」の記載は、「Ｐｏｌｙｍ」で示す構造の繰り返し単位が添え字の数値の数で結合した構造のポリマー鎖が硫黄原子（Ｓ）に結合していることを示している。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
〔溶剤〕
　Ｓ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　Ｓ－２：プロピレングリコールモノメチルエーテル
　Ｓ－３：シクロヘキサノン
＜樹脂組成物の製造＞
　下記表に記載の原料を混合して実施例および比較例の樹脂組成物を調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000060
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000061
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000062
　上記表に記載の原料のうち、略語で示した原料の詳細は以下の通りである。
〔分散液〕
　分散液Ｒ１～Ｒ１５、Ｂ１～Ｂ１４、Ｇ１～Ｇ１４、Ｉ１～Ｉ７、Ｂｋ１～Ｂｋ２１、ＣＲ１、ＣＲ２、ＣＢ１、ＣＢ２、ＣＧ１、ＣＧ２、ＣＩ１、ＣＩ２、ＣＢｋ１～４：上述した分散液
〔樹脂〕
　Ｂａ－１：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比である。重量平均分子量１１０００）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
 　Ｂａ－２：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比である。重量平均分子量１５０００）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
 　Ｂａ－３：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比である。ｘとｙとｚの合計値は５０である。Ｍｗ＝１５０００）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
 　Ｂｂ－１：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比である。重量平均分子量１３０００）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
 　Ｂｂ－２：上述した樹脂ｃＢ－１
　Ｂ－１、Ｂ－６、Ｂ－１１、Ｂ－１４、Ｂ－２４、Ｂ－２６、Ｂ－２９、Ｂ－３０：上述した構造の樹脂Ｂ－１、Ｂ－６、Ｂ－１１、Ｂ－１４、Ｂ－２４、Ｂ－２６、Ｂ－２９、Ｂ－３０
〔重合性モノマー〕
　Ｄ－１：アクリレート化合物（ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物）
　Ｄ－２：エポキシ化合物（ＴＥＴＲＡＤ－Ｘ、三菱ガス化学（株）製、Ｎ,Ｎ,Ｎ‘,Ｎ’－テトラグリシジル－ｍ－キシリレンジアミン）
　Ｄ－３：オキセタン化合物（ＯＸＴ－２２１、東亞合成（株）製、３－エチル－３｛［（３－エチルオキセタン－３－イル）メトキシ］メチル｝オキセタン）
　Ｄ－４：オキセタン化合物（ＯＸ－ＳＱ　ＴＸ－１００、東亞合成（株）製）
〔光重合開始剤〕
　Ｅ－１：Ｏｍｎｉｒａｄ　３７９ＥＧ（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製、２－ジメチルアミノ－２－（４－メチル－ベンジル）－１－（４－モルフォリン－４－イル－フェニル）－ブタン－１－オン）
　Ｅ－２：Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製、オキシム化合物）
　Ｅ－３：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
〔溶剤〕
　Ｓ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　Ｓ－２：プロピレングリコールモノメチルエーテル
　Ｓ－３：シクロヘキサノン
＜評価＞
［分散性の評価］
（保存安定性）
　各実施例及び比較例の樹脂組成物の粘度（ｍＰａ・ｓ）を、東機産業（株）製「ＲＥ－８５Ｌ」にて測定した。上記測定後、樹脂組成物を４５℃、遮光、３日間の条件にて静置し、再度粘度（ｍＰａ・ｓ）を測定した。上記静置前後での粘度差（ΔＶｉｓ）から下記評価基準に従って保存安定性を評価した。粘度差（ΔＶｉｓ）の数値が小さいほど、樹脂組成物の保存安定性が良好であり、顔料の分散性が良好であるといえる。上記粘度測定は、いずれも、温湿度を２２±５℃、６０±２０％に管理した実験室で、樹脂組成物の温度を２５℃に調整した状態で行った。
－評価基準－
　Ａ：ΔＶｉｓが０．５ｍＰａ・ｓ以下であった。
　Ｂ：ΔＶｉｓが０．５ｍＰａ・ｓを超え、１．０ｍＰａ・ｓ以下であった。
　Ｃ：ΔＶｉｓが１．０ｍＰａ・ｓを超え、２．０ｍＰａ・ｓ以下であった。
　Ｄ：ΔＶｉｓが２．０ｍＰａ・ｓを超え、２．５ｍＰａ・ｓ以下であった。
　Ｅ：ΔＶｉｓが２．５ｍＰａ・ｓを超えた。
（粒子径）
　ＪＩＳ８８２６：２００５に準じた動的光散乱式粒径分布測定装置（堀場製作所社製、ＬＢ－５００）を用いて、上記で得られた樹脂組成物を２０ｍｌサンプル瓶に分取し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートにより固形分濃度が０．２質量％になるように希釈調整した。温度２５℃で２ｍｌの測定用石英セルを使用して、上記希釈液のデータ取り込みを５０回行い、得られた個数基準の算術平均の顔料の粒子径（数平均粒子径）を求めた。顔料の数平均粒子径の値が小さいほど顔料の分散性が良好であるといえる。
－評価基準－
　Ａ：顔料の数平均粒子径が０．０５μｍ以下であった。
　Ｂ：顔料の数平均粒子径が０．０５μｍを超え、０．１０μｍ以下であった。
　Ｃ：顔料の数平均粒子径が０．１０μｍを超え、０．２０μｍ以下であった。
　Ｄ：顔料の数平均粒子径が０．２０μｍを超え、０．５０μｍ以下であった。
　Ｅ：顔料の数平均粒子径が０．５０μｍを超えた。
〔膜収縮率の評価〕
　各実施例及び比較例の樹脂組成物をガラス基板上にスピンコートで塗布し、ホットプレートを用いて１００℃で１２０秒乾燥（プリベーク）した後に、オーブンを用いて２００℃で３０分加熱（ポストベーク）して厚さ０．６０μｍの膜を製造した。膜厚は、膜の一部を削ってガラス基板表面を露出し、ガラス基板表面と塗布膜の段差（塗布膜の膜厚）を触針式段差計（ＤｅｋｔａｋＸＴ、ＢＲＵＫＥＲ社製）を用いて測定した。次いで、得られた膜を窒素雰囲気下にて３００℃で５時間加熱処理した。加熱処理後の膜の膜厚を同様にして測定し、下記式より膜収縮率を求め、下記評価基準に従って膜収縮率を評価した。下記Ｔ０及びＴ１は、いずれも、温湿度を２２±５℃、６０±２０％に管理した実験室で、基板温度を２５℃に温度調整を施した状態で測定した。膜収縮率が小さいほど、膜収縮が抑制されており、好ましい結果であるといえる。
　膜収縮率（％）＝（１－（Ｔ１／Ｔ０））×１００
　Ｔ０：製造直後の膜の膜厚（＝０．６０μｍ）
　Ｔ１：窒素雰囲気下にて３００℃で５時間加熱処理した後の膜厚
－評価基準－
　Ａ：膜収縮率が１％以下であった。
　Ｂ：膜収縮率が１％を超え５％以下であった。
　Ｃ：膜収縮率が５％を超え１０％以下であった。
　Ｄ：膜収縮率が１０％を超え３０％以下であった。
　Ｅ：膜収縮率が３０％を超えた。
〔クラックの評価〕
　各実施例及び比較例の樹脂組成物をガラス基板上にスピンコートで塗布し、ホットプレートを用いて１００℃で１２０秒乾燥（プリベーク）した後に、オーブンを用いて２００℃で３０分加熱（ポストベーク）して厚さ０．６０μｍの膜を製造した。次いで、得られた膜の表面に、スパッタ法によりＳｉＯ２を２００ｎｍ積層して無機膜を形成した。この無機膜が表面に形成された膜を、窒素雰囲気下にて３００℃で５時間加熱処理した。加熱処理後の無機膜の表面を光学顕微鏡で観察し、１ｃｍ２当たりのクラックの個数をカウントして、下記評価基準に従ってクラックの有無を評価した。
－評価基準－
　Ａ：１ｃｍ２当たりのクラックの個数が０個であった。
　Ｂ：１ｃｍ２当たりのクラックの個数が１～１０個であった。
　Ｃ：１ｃｍ２当たりのクラックの個数が１１～５０個であった。
　Ｄ：１ｃｍ２当たりのクラックの個数が５１個～１００個であった。
　Ｅ：１ｃｍ２当たりのクラックの個数が１０１個以上であった。
［析出欠陥の評価方法］
　各実施例及び比較例の樹脂組成物をシリコンウエハ上にスピンコートで塗布し、ホットプレートを用いて１００℃で１２０秒乾燥（プリベーク）して厚さ０．６０μｍの膜を製造した。この膜が形成されたシリコンウエハについて、欠陥評価装置（ＣｏｍＰＬＵＳ、ＡＭＡＴ製）を使用して、膜中に存在する１．０μｍ以上の大きさの異物の数（異物数１）をカウントした。次にこの膜が形成されたシリコンウエハを、２５０℃で１０分間加熱したのち、膜中に存在する１．０μｍ以上の大きさの異物の数（異物数２）をカウントし、下記式より異物増加率を算出して、以下の基準で欠陥の析出の度合い（析出欠陥）を評価した。判定基準Ｃ以上が実用上望ましい。
　異物増加率＝（異物数２／異物数１）で算出した。
　Ａ：異物増加率＜１．１
　Ｂ：１．１≦異物増加率＜１．３
　Ｃ：１．３≦異物増加率＜１．５
　Ｄ：１．５≦異物増加率＜３．０
　Ｅ：３．０≦異物増加率
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000068
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000069
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000070
　実施例の樹脂組成物を用いた場合、比較例の樹脂組成物を用いた場合と比較して、いずれも保存安定性および粒子径の評価が優れており、顔料の分散性に優れていた。更には、実施例の樹脂組成物を用いた場合、比較例の樹脂組成物を用いた場合と比較して、いずれも膜収縮率が小さく、クラックの発生及び析出欠陥の発生が抑制されていた。このため、実施例の樹脂組成物は比較例の樹脂組成物と比較して、膜を製造した後の工程におけるプロセスウインドウの拡大を図ることが可能であるといえる。
（実施例１０００：フォトリソグラフィ法でのパターン形成）
　シリコンウエハ上に、実施例１の樹脂組成物をスピンコートで塗布し、ホットプレートを用いて１００℃で１２０秒乾燥（プリベーク）した後に、オーブンを用いて２００℃で３０分加熱（ポストベーク）して厚さ０．６０μｍの樹脂組成物層を形成した。次いで、この樹脂組成物層に対して、一辺１．１μｍの正方形状の非マスク部が４ｍｍ×３ｍｍの領域に配列されたマスクパターンを介して、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して波長３６５ｎｍの光を５００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で照射して露光した。次いで、露光後の樹脂組成物層が形成されているシリコンウエハを、スピン・シャワー現像機（ＤＷ－３０型、（株）ケミトロニクス製）の水平回転テーブル上に載置し、現像液（ＣＤ－２０００、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を用い、２３℃で６０秒間パドル現像した。次いで、シリコンウエハを回転数５０ｒｐｍで回転させつつ、その回転中心の上方より純水を噴出ノズルからシャワー状に供給してリンス処理を行ない、その後スプレー乾燥してパターン（画素）を形成した。
　作製した画素付きシリコンウエハを２分割し、一方を窒素雰囲気下にて３００℃で５時間加熱処理した（以下、一方を３００℃加熱処理前基板、他方を３００℃加熱処理後基板とする）。３００℃加熱処理前基板、及び、３００℃加熱処理後基板に形成されている画素の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で評価したところ、３００℃加熱処理後基板に形成されている画素の高さ（厚さ）は、３００℃加熱処理前基板に形成されている画素の高さ（厚さ）の９５％であった。

Claims (18)

  1. 　顔料を含む色材Ａと、
    　樹脂Ｂと、
    　溶剤Ｃと、を含み、
    　前記樹脂Ｂは、１級アミノ基、２級アミノ基およびヒドロキシ基から選ばれる官能基を３個以上有し、かつ、分子量が５００未満である化合物と、末端に酸無水物構造を有するマクロモノマーとの反応生成物である樹脂Ｂ１ａを含む、樹脂組成物。
  2. 　顔料を含む色材Ａと、
    　樹脂Ｂと、
    　溶剤Ｃと、を含み、
    　前記樹脂Ｂは、下記式（１）で表される樹脂Ｂ１ｂを含む、樹脂組成物；
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     　式（１）中、Ｚ１はｌ＋ｍ価の連結基を表し、
    　Ｚ２は２＋ｎ価の連結基を表し、
    　Ｘ１、Ｘ２およびＸ３はそれぞれ独立にＯまたはＮＲｘ１を表し、Ｒｘ１は水素原子または置換基を表し、
    　Ｌ１は２価の連結基を表し、
    　Ｐ１はポリマー鎖を表し、
    　Ｒ１は水素原子、置換基または対イオンを表し、
    　Ｙ１は水素原子または置換基を表し、
    　ｎは１以上の整数を表し、ｍは１以上の整数を表し、ｌは０以上の整数を表し、ｌ＋ｍは３以上であり、
    　ｌが２以上の場合、ｌ個のＸ３およびＹ１は同一であってもよく、異なっていてもよく、
    　ｍが２以上の場合、ｍ個のＸ１、Ｚ２、Ｘ２、Ｌ１およびＰ１は同一であってもよく、異なっていてもよく、
    　ｎが２以上の場合、ｎ個のＲ１は同一であってもよく、異なっていてもよい。
  3. 　前記式（１）のＸ１およびＸ３はそれぞれ独立にＮＲｘ１を表し、Ｒｘ１は水素原子または置換基を表す、請求項２に記載の樹脂組成物。
  4. 　前記式（１）のｍが２以上の整数である、請求項２または３に記載の樹脂組成物。
  5. 　前記式（１）のＹ１は、水素原子、または、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、エチレン性不飽和結合含有基、エポキシ基、オキセタニル基および色素部分構造を有する基から選ばれる少なくとも１種の官能基を有する基を表す、請求項２～４のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
  6. 　前記式（１）のＰ１が表すポリマー鎖は、ポリエーテル構造、ポリエステル構造、ポリ（メタ）アクリル構造、およびポリスチレン構造から選ばれる少なくとも１種の構造の繰り返し単位を含むポリマー鎖である、請求項２～５のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
  7. 　前記式（１）のＰ１が表すポリマー鎖は、エチレン性不飽和結合含有基、エポキシ基、オキセタニル基、および、ｔ－ブチル基から選択される少なくとも１種を含む、請求項２～６のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
  8. 　前記式（１）のＬ１は、硫黄原子を含む２価の連結基である、請求項２～７のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
  9. 　前記樹脂Ｂ１ｂは、式（２）で表される樹脂である、請求項２～８のいずれか１項に記載の樹脂組成物；
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     　式（２）中、Ｚ１はｌ＋ｍ価の連結基を表し、
    　Ｘ１、Ｘ２およびＸ３はそれぞれ独立にＯまたはＮＲｘ１を表し、Ｒｘ１は水素原子または置換基を表し、
    　Ｌ１は２価の連結基を表し、
    　Ｐ１はポリマー鎖を表し、
    　Ｙ１は水素原子または置換基を表し、
    　ｍは１以上の整数を表し、ｌは０以上の整数を表し、ｌ＋ｍは３以上であり、
    　ｌが２以上の場合、ｌ個のＸ３およびＹ１は同一であってもよく、異なっていてもよく、
    　ｍが２以上の場合、ｍ個のＸ１、Ｘ２、Ｌ１およびＰ１は同一であってもよく、異なっていてもよい。
  10. 　前記色材Ａは、ジケトピロロピロール顔料およびフタロシアニン顔料から選ばれる少なくとも１種を含有する、請求項１～９のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
  11. 　更に、重合性モノマーを含む、請求項１～１０のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
  12. 　更に光重合開始剤を含む、請求項１～１１のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
  13. 　請求項１～１２のいずれか１項に記載の樹脂組成物を用いて得られる膜。
  14. 　請求項１３に記載の膜を有する光学フィルタ。
  15. 　請求項１３に記載の膜を有する固体撮像素子。
  16. 　請求項１３に記載の膜を有する画像表示装置。
  17. 　式（１）で表される樹脂；
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     　式（１）中、Ｚ１はｌ＋ｍ価の連結基を表し、
    　Ｚ２は２＋ｎ価の連結基を表し、
    　Ｘ１、Ｘ２およびＸ３はそれぞれ独立にＯまたはＮＲｘ１を表し、Ｒｘ１は水素原子または置換基を表し、
    　Ｌ１は２価の連結基を表し、
    　Ｐ１はポリマー鎖を表し、
    　Ｒ１は水素原子、置換基または対イオンを表し、
    　Ｙ１は水素原子または置換基を表し、
    　ｎは１以上の整数を表し、ｍは１以上の整数を表し、ｌは０以上の整数を表し、ｌ＋ｍは３以上であり、
    　ｌが２以上の場合、ｌ個のＸ３およびＹ１は同一であってもよく、異なっていてもよく、
    　ｍが２以上の場合、ｍ個のＸ１、Ｚ２、Ｘ２、Ｌ１およびＰ１は同一であってもよく、異なっていてもよく、
    　ｎが２以上の場合、ｎ個のＲ１は同一であってもよく、異なっていてもよい。
  18. 　１級アミノ基、２級アミノ基およびヒドロキシ基から選ばれる官能基を３個以上有し、かつ、分子量が５００未満である化合物と、末端に酸無水物構造を有するマクロモノマーとを反応させる工程を含む樹脂の製造方法。
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