WO2022131500A1 - 실리콘 이형 코팅용 조성물 및 이를 포함하는 이형 필름 - Google Patents
실리콘 이형 코팅용 조성물 및 이를 포함하는 이형 필름 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2022131500A1 WO2022131500A1 PCT/KR2021/013675 KR2021013675W WO2022131500A1 WO 2022131500 A1 WO2022131500 A1 WO 2022131500A1 KR 2021013675 W KR2021013675 W KR 2021013675W WO 2022131500 A1 WO2022131500 A1 WO 2022131500A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- substituted
- group
- unsubstituted
- carbon atoms
- silicone release
- Prior art date
Links
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 title claims abstract description 65
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 title claims abstract description 21
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 25
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 129
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 36
- -1 Polysiloxane Polymers 0.000 claims description 34
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 26
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 25
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims description 25
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 22
- 125000000592 heterocycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 22
- 125000004404 heteroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 18
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 17
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 16
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims description 14
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 14
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000004475 heteroaralkyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000004446 heteroarylalkyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 11
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 10
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 5
- QYLFHLNFIHBCPR-UHFFFAOYSA-N 1-ethynylcyclohexan-1-ol Chemical compound C#CC1(O)CCCCC1 QYLFHLNFIHBCPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 4
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims description 4
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims description 4
- 125000000923 (C1-C30) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- VMAWODUEPLAHOE-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8-tetrakis(ethenyl)-2,4,6,8-tetramethyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetraoxatetrasilocane Chemical compound C=C[Si]1(C)O[Si](C)(C=C)O[Si](C)(C=C)O[Si](C)(C=C)O1 VMAWODUEPLAHOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 2-methylbut-3-yn-2-ol Chemical group CC(C)(O)C#C CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- KSLSOBUAIFEGLT-UHFFFAOYSA-N 2-phenylbut-3-yn-2-ol Chemical compound C#CC(O)(C)C1=CC=CC=C1 KSLSOBUAIFEGLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NECRQCBKTGZNMH-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethylhex-1-yn-3-ol Chemical compound CC(C)CC(C)(O)C#C NECRQCBKTGZNMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HFYAEUXHCMTPOL-UHFFFAOYSA-N 3-Methyl-1-penten-3-ol Chemical compound CCC(C)(O)C=C HFYAEUXHCMTPOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- LAKYCCVWZNCNIO-UHFFFAOYSA-N 3-methylidenepent-1-yne Chemical compound CCC(=C)C#C LAKYCCVWZNCNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000000739 C2-C30 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Chemical class OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000003679 aging effect Effects 0.000 claims description 3
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 claims description 3
- KPWVUBSQUODFPP-UHFFFAOYSA-N ethenyl-(ethenyl-methyl-phenylsilyl)oxy-methyl-phenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C)(C=C)O[Si](C)(C=C)C1=CC=CC=C1 KPWVUBSQUODFPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RSPZSDWVQWRAEF-UHFFFAOYSA-N hepta-1,6-diyne Chemical compound C#CCCCC#C RSPZSDWVQWRAEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- YFIBSNDOVCWPBL-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diyne Chemical compound C#CCCC#C YFIBSNDOVCWPBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical class OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011976 maleic acid Chemical class 0.000 claims description 3
- CRJSCSRODDRNDN-UHFFFAOYSA-N methyl-tris(2-methylbut-3-yn-2-yloxy)silane Chemical compound C#CC(C)(C)O[Si](C)(OC(C)(C)C#C)OC(C)(C)C#C CRJSCSRODDRNDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Chemical class OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 39
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 16
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 abstract description 10
- 230000005611 electricity Effects 0.000 abstract description 5
- 230000003068 static effect Effects 0.000 abstract description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 12
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- 239000002048 multi walled nanotube Substances 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002109 single walled nanotube Substances 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 5
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000002079 double walled nanotube Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- 125000002941 2-furyl group Chemical group O1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M Cetrimonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical compound C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001573 adamantine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 150000003974 aralkylamines Chemical group 0.000 description 1
- 125000005264 aryl amine group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- RSLWZZXJRRZAOD-UHFFFAOYSA-N but-1-en-3-yn-2-ylbenzene Chemical compound C#CC(=C)C1=CC=CC=C1 RSLWZZXJRRZAOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 235000019000 fluorine Nutrition 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005241 heteroarylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000001867 hydroperoxy group Chemical class [*]OO[H] 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 125000002962 imidazol-1-yl group Chemical group [*]N1C([H])=NC([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000003406 indolizinyl group Chemical group C=1(C=CN2C=CC=CC12)* 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000136 polysorbate Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 125000000561 purinyl group Chemical group N1=C(N=C2N=CNC2=C1)* 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002098 pyridazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000246 pyrimidin-2-yl group Chemical group [H]C1=NC(*)=NC([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007763 reverse roll coating Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007764 slot die coating Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 125000004306 triazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/02—Elements
- C08K3/04—Carbon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/02—Elements
- C08K3/04—Carbon
- C08K3/041—Carbon nanotubes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/20—Diluents or solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/40—Adhesives in the form of films or foils characterised by release liners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/40—Adhesives in the form of films or foils characterised by release liners
- C09J7/401—Adhesives in the form of films or foils characterised by release liners characterised by the release coating composition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K2201/00—Specific properties of additives
- C08K2201/017—Additives being an antistatic agent
Definitions
- the present invention relates to a composition for a silicone release coating and a release film comprising the same, and more particularly, to a composition for a silicone release coating that is excellent in minimum aging and exhibits an antistatic effect, and a release film comprising the same.
- the release film is a process film for cast film such as urethane resin, acrylic resin, vinyl chloride resin, etc., protective film for adhesive layer such as adhesive tape, adhesive sheet, and adhesive film, and electronic parts such as ceramic green sheet and printed circuit board. It is used as a process film for manufacture.
- a release film the thing in which the release layer which consists of a silicone type or a non-silicone type release agent was formed on the surface of base films, such as a polyester film, is main.
- the release film is used in the manufacture of a liquid crystal display device (LCD), and specifically, in the process of attaching a polarizing plate to a liquid crystal cell, the release film is first peeled and removed from the pressure-sensitive adhesive layer, and the liquid crystal cell After pasting, when the role of the surface protection film is finished in the post process, it is also peeled off and removed.
- LCD liquid crystal display device
- the release film is peeled off after the resin sheet is molded, when the adhesive film is used, or after the production of electronic components, but when peeled, static electricity is easily charged. Therefore, when storing resin sheets in stacks, there is a problem in that the resin sheets are repulsed or stuck to each other due to electrical repulsion or attraction, and in the case of an adhesive film, foreign matter such as dust adheres to the adhesive layer and adheres The floor was becoming a cause of contamination.
- the unreacted functional group of the silicone resin in the silicone release layer and the unreacted functional group in the component of the adhesive layer react slowly while being stored for a long time in the state of being laminated with the adhesive layer, or the polymer of the adhesive layer and the silicone release Due to the entanglement of the polymer of the layer, a tearing phenomenon may occur when the silicone release film is peeled off, or damage to the adhesive layer may be caused thereby.
- the silicone release film does not have a problem in peeling stability due to change over time, and it is necessary to develop a silicone release film capable of exhibiting a charging effect.
- Patent Document 1 KR 10-0965378 B1
- An object of the present invention relates to a silicone release coating composition and a release film comprising the same.
- Another object of the present invention relates to a composition for a silicone release coating that has excellent minimum aging, and does not cause tearing when the release film is peeled off, even when stored for a long time in a state laminated with an adhesive layer, and a release film comprising the same .
- Another object of the present invention is to exhibit an antistatic effect and to prevent static electricity generation after peeling of the release film. It relates to a one-component silicone release coating composition that does not need to form an antistatic layer, and a release film comprising the same.
- composition for a silicone release coating is a solvent; Polydimethylsiloxane represented by the following formula (1); CNT dispersion; retardant; crosslinking agent; and catalysts:
- n and m are integers from 1 to 1000,
- R 1 to R 10 are the same as or different from each other, and each independently hydrogen, halogen, a substituted or unsubstituted C 1 to C 30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C 2 to C 30 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C 2 to C 24 of an alkynyl group, a substituted or unsubstituted heteroalkyl group having 2 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 6 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 5 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heteroalkyl group having 2 to 30 carbon atoms An aryl group, a substituted or unsubstituted unsubstituted heteroarylalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 20 carbon
- At least one of R 1 to R 10 is a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms.
- the polydimethylsiloxane represented by Formula 1 may include at least one vinyl group as a substituent.
- the crosslinking agent may be a compound represented by the following Chemical Formula 2:
- R 11 to R 19 are the same as or different from each other, and each independently hydrogen, halogen, a substituted or unsubstituted C1-C30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C2-C30 alkenyl group, or a substituted or unsubstituted C2-C24 of an alkynyl group, a substituted or unsubstituted heteroalkyl group having 2 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 6 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 5 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heteroalkyl group having 2 to 30 carbon atoms Aryl group, substituted or unsubstituted unsubstituted heteroarylalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, substituted or un
- At least three or more of R 11 , R 14 to R 15 , R 18 and R 19 are substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms.
- the retarder is 2-methyl-3-butyn-2-ol, 2-phenyl-3-butyn-2-ol, 3,5-dimethyl-1-hexyn-3-ol, 1-ethynyl cyclohexanol, 1,5-hexadiyne, 1,6-heptadiyne, 3,5-dimethyl-1-hexene-1-yne, 3-ethyl-3-butene-1-yne, 3-phenyl-3-butene- 1-phosphorus, 1,3-divinyltetramethyldisiloxane, 1,3,5,7-tetravinyltetramethylcyclotetrasiloxane, 1,3-divinyl-1,3-diphenyldimethyldisiloxane and methyl Tris(3-methyl-1-butyne-3-oxy)silane, tributylamine, tetramethylethylenediamine, benzotriazole, triphenylphosphine,
- the CNT dispersion may include 0.3 to 0.5 parts by weight of CNT and 0.3 to 0.5 parts by weight of the dispersant based on 100 parts by weight of the solvent.
- Silicone release film according to another embodiment of the present invention is a base film; and a release layer formed on one surface of the base film, wherein the release layer is formed by applying the silicone release coating composition.
- the release layer is a solvent, polydimethylsiloxane represented by the following formula (1); CNT dispersion, retarder and crosslinking agent uniformly dispersed main agent; And the catalyst is mixed before coating on one side of the base film to prepare a coating composition, and then a release layer can be formed by applying it to one side of the base film:
- n and m are integers from 1 to 1000,
- R 1 to R 10 are the same as or different from each other, and each independently hydrogen, halogen, a substituted or unsubstituted C 1 to C 30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C 2 to C 30 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C 2 to C 24 of an alkynyl group, a substituted or unsubstituted heteroalkyl group having 2 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 6 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 5 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heteroalkyl group having 2 to 30 carbon atoms Aryl group, substituted or unsubstituted unsubstituted heteroarylalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, substituted or
- At least one of R 1 to R 10 is a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms.
- alkyl refers to a monovalent substituent derived from a saturated hydrocarbon having 1 to 40 carbon atoms in a straight or branched chain. Examples thereof include, but are not limited to, methyl, ethyl, propyl, isobutyl, sec-butyl, pentyl, iso-amyl, hexyl, and the like.
- alkenyl refers to a monovalent substituent derived from a straight or branched unsaturated hydrocarbon having 2 to 40 carbon atoms and having one or more carbon-carbon double bonds. Examples thereof include, but are not limited to, vinyl, allyl, isopropenyl, 2-butenyl, and the like.
- alkynyl refers to a monovalent substituent derived from a linear or branched unsaturated hydrocarbon having 2 to 40 carbon atoms and having one or more carbon-carbon triple bonds. Examples thereof include, but are not limited to, ethynyl, 2-propynyl, and the like.
- aralkyl refers to an aryl-alkyl group wherein aryl and alkyl are as described above. Preferred aralkyls include lower alkyl groups. Non-limiting examples of suitable aralkyl groups include benzyl, 2-phenethyl and naphthalenylmethyl. Binding to the parent moiety is through an alkyl.
- aryl refers to a monovalent substituent derived from an aromatic hydrocarbon having 6 to 60 carbon atoms in which a single ring or two or more rings are combined.
- two or more rings may be simply attached to each other (pendant) or condensed form may be included.
- Examples of such aryl include, but are not limited to, phenyl, naphthyl, phenanthryl, anthryl, fluorenyl, dimethylfluorenyl, and the like.
- heteroaryl refers to a monovalent substituent derived from a monoheterocyclic or polyheterocyclic aromatic hydrocarbon having 6 to 30 carbon atoms.
- one or more carbons in the ring preferably 1 to 3 carbons, are substituted with a heteroatom such as N, O, S or Se.
- a form in which two or more rings are simply attached to each other or condensed may be included, and further, a form condensed with an aryl group may be included.
- heteroaryl examples include 6-membered monocyclic rings such as pyridyl, pyrazinyl, pyrimidinyl, pyridazinyl, triazinyl, phenoxathienyl, indolizinyl, indolyl ( polycyclic rings such as indolyl), purinyl, quinolyl, benzothiazole, and carbazolyl, and 2-furanyl, N-imidazolyl, 2-isoxazolyl , 2-pyridinyl, 2-pyrimidinyl, and the like, but is not limited thereto.
- 6-membered monocyclic rings such as pyridyl, pyrazinyl, pyrimidinyl, pyridazinyl, triazinyl, phenoxathienyl, indolizinyl, indolyl ( polycyclic rings such as indolyl), purinyl, quinolyl, benzothiazole
- heteroarylkyl group refers to an aryl-alkyl group substituted with a heterocyclic group.
- cycloalkyl refers to a monovalent substituent derived from a monocyclic or polycyclic non-aromatic hydrocarbon having 3 to 40 carbon atoms.
- examples of such cycloalkyl include, but are not limited to, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, norbornyl, adamantine, and the like.
- heterocycloalkyl means a monovalent substituent derived from a non-aromatic hydrocarbon having 3 to 40 carbon atoms, and at least one carbon in the ring, preferably 1 to 3 carbons, is N, O, S or Se substituted with a hetero atom such as Examples of such heterocycloalkyl include, but are not limited to, morpholine and piperazine.
- substitution means that a hydrogen atom bonded to a carbon atom of a compound is replaced with another substituent, and the position to be substituted is not limited as long as the position at which the hydrogen atom is substituted, that is, a position where the substituent is substitutable, is not limited, and when two or more are substituted , two or more substituents may be the same as or different from each other.
- the substituent is hydrogen, deuterium, a cyano group, a nitro group, a halogen group, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 24 carbon atoms, a heteroalkyl group having 2 to 30 carbon atoms, a carbon number
- the present invention has excellent minimum aging property, and even when stored for a long time in a state of being laminated with an adhesive layer, a tear phenomenon does not occur when the release film is peeled, and it exhibits an antistatic effect, thereby preventing the generation of static electricity after peeling of the release film
- the silicone release coating composition is applied to form a release layer, so that it can be provided as a one-component type without the need to form a separate antistatic layer.
- the present invention is a solvent; polysiloxane; CNT dispersion; retardant; crosslinking agent; and a catalyst, and relates to a composition for a silicone release coating capable of forming a release layer having excellent light peeling and minimum aging properties.
- composition for a silicone release coating includes a solvent; Polysiloxane represented by the following formula (1); CNT dispersion; retardant; crosslinking agent; and catalysts:
- n and m are the same as or different from each other, and are each independently an integer from 1 to 1000,
- R 1 to R 10 are the same as or different from each other, and each independently hydrogen, halogen, a substituted or unsubstituted C 1 to C 30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C 2 to C 30 alkenyl group, a substituted or unsubstituted C 2 to C 24 of an alkynyl group, a substituted or unsubstituted heteroalkyl group having 2 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 6 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 5 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heteroalkyl group having 2 to 30 carbon atoms Aryl group, substituted or unsubstituted unsubstituted heteroarylalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, substituted or
- At least one of R 1 to R 10 is a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms.
- the polysiloxane represented by Formula 1 may include at least one vinyl group as a substituent.
- the polysiloxane may be combined with Si-H in a crosslinking agent to form a release layer, as will be described later.
- the composition for release coating using polysiloxane includes a vinyl group and is disclosed for binding with a crosslinking agent.
- a crosslinking agent for binding with a crosslinking agent.
- the remaining Si-H in the release layer may be said to be the cause of the change with time.
- the release film should have no change in releasability in a high-temperature and high-humidity environment, but the Si-H bond remaining in the release layer showed a change in releasability in a high-temperature and high-humidity environment, causing a release defect.
- the residual Si-H is minimized to improve stability over time.
- the polysiloxane represented by Formula 1 may include at least one vinyl group as a substituent, and more preferably include a polysiloxane having a vinyl group at both ends as a substituent, and a side chain substituted with a vinyl group.
- the compound represented by Formula 1 may be a compound represented by Formula 3 below:
- q and r are the same as or different from each other, and are each independently an integer from 1 to 1000,
- R 20 to R 26 are the same or different from each other, and each independently represents hydrogen, halogen, a substituted or unsubstituted C 1 to C 30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C 2 to C 30 alkenyl group, or a substituted or unsubstituted C 2 to C 24 of an alkynyl group, a substituted or unsubstituted heteroalkyl group having 2 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 6 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 5 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heteroalkyl group having 2 to 30 carbon atoms Aryl group, substituted or unsubstituted unsubstituted heteroarylalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, substituted
- the vinyl group When the vinyl group is included as a substituent as described above, bonding occurs between the vinyl group and Si-H of the crosslinking agent, and after the release layer is formed, the residual Si-H in the release layer can be minimized. Compared to polysiloxane in which vinyl groups are substituted at both ends, this may increase bonding with a crosslinking agent by additionally including a vinyl group in the side chain, thereby exhibiting minimum aging characteristics.
- the polysiloxane included in the present invention is a polysiloxane having a narrow molecular weight distribution, and is characterized in that it has a PDI (Mw/Mn) of 1.7 to 2.
- PDI Mw/Mn
- the crosslinking agent may be a compound represented by the following Chemical Formula 2:
- o and p are the same as or different from each other, and are each independently an integer from 1 to 1000,
- R 11 to R 19 are the same as or different from each other, and each independently hydrogen, halogen, a substituted or unsubstituted C1-C30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C2-C30 alkenyl group, or a substituted or unsubstituted C2-C24 of an alkynyl group, a substituted or unsubstituted heteroalkyl group having 2 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 6 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 5 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heteroalkyl group having 2 to 30 carbon atoms An aryl group, a substituted or unsubstituted unsubstituted heteroarylalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atom
- At least three or more of R 11 to R 19 are substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms.
- the crosslinking agent may be a compound represented by Formula 4 below:
- s and t are the same as or different from each other, and are each independently an integer from 1 to 1000.
- the crosslinking density in the release layer is increased, and the physical properties of the release layer can be strengthened. , there is a problem that the minimum temporality is not secured.
- the crosslinking agent when provided as a release layer, the crosslinking density is maintained to secure physical properties, and the residual Si-H in the release layer is minimized to minimize the lapse of time.
- the crosslinking density when provided as a release layer, the crosslinking density is maintained to secure physical properties, and the residual Si-H in the release layer is minimized to minimize the lapse of time.
- the polysiloxane additionally includes a vinyl group in the side chain at one end in addition to both ends, it is possible to form a release layer having a high crosslinking density on the surface adjacent to the base layer, thereby providing stability over time during peeling, light peeling properties can be implemented.
- the release film is used in the OLED display panel, and in order to protect the OCA (Optical Clear Adhesive), it is put into the manufacturing process in a form attached to one side of the OCA, and then the release film attached to the OCA must be removed. , In this case, when the release film exhibits high adhesive strength, damage to the OLED layer occurs during the removal process of the release film.
- OCA Optical Clear Adhesive
- the release film In order to prevent this problem, it is necessary for the release film to exhibit light peeling properties, and by using the silicone release coating composition of the present invention, it can exhibit super light peeling properties when manufactured as a release film, so when used in OCA film Even in the process of removing the release film, there is no damage to the OLED.
- the retarder is included to prevent pre-curing or gelation before processing, 2-methyl-3-butyn-2-ol, 2-phenyl-3-butyn-2-ol, 3,5-dimethyl-1 -Hexyn-3-ol, 1-ethynyl cyclohexanol, 1,5-hexadiyne, 1,6-heptadiyne, 3,5-dimethyl-1-hexen-1-yne, 3-ethyl-3 -Butene-1-yne, 3-phenyl-3-butene-1-yne, 1,3-divinyltetramethyldisiloxane, 1,3,5,7-tetravinyltetramethylcyclotetrasiloxane, 1,3- divinyl-1,3-diphenyldimethyldisiloxane, methyltris(3-methyl-1-butyn-3-oxy)silane, tributylamine, tetramethylethylenediamine, benzo
- the catalyst may be a platinum-based catalyst, a palladium-based catalyst or a rhodium-based catalyst for the purpose of accelerating the polymerization reaction, and is preferably a platinum-based catalyst, but is not limited to the above examples Or the content can be used all within the range commonly used in the field of release film.
- an antistatic layer made of a cationic antistatic agent is installed on one surface of the base film, and the release layer is formed on the other surface.
- an antistatic layer made of a cationic antistatic agent is installed on one surface of the base film, and the release layer is formed on the other surface.
- it is often used to impart an antistatic function to the release film, and although it may exhibit an antistatic effect to a certain extent, it cannot sufficiently prevent static electricity from being charged to the release film.
- a method of imparting an antistatic function to the release film by forming an antistatic layer between the base film and the release layer has also been proposed.
- the proposed technique since two coating layers are formed on the base film, two application steps are required, and there is a problem that the cost of the process is high and the production efficiency is also low.
- a technique for imparting antistatic properties and releasability to a base film with a single coating layer using a conductive polymer has been proposed.
- the coating layer formed using a conductive polymer is not crosslinked by a curable resin or a crosslinking agent, it is easily dissolved in a solvent. Sufficient releasability may not be obtained.
- a conductive polymer dispersed in a solvent there are few solvents in which the conductive polymer can be dispersed. Since it is necessary to use , there is a problem in handling properties, and when a surfactant is used, there is also a problem in that the surfactant is transferred from the coating layer (bleeding).
- the release film exhibiting an antistatic effect has a problem in that the antistatic effect is lowered or the economical efficiency is lowered due to a manufacturing procedure.
- the present invention is characterized in that the CNT dispersion is mixed in order to exhibit an antistatic effect.
- the silicone release coating composition containing the CNT dispersion when the CNT dispersion is uniformly distributed in the release coating composition, is cured, and forms a release layer on one surface of the base film, the release layer can exhibit an antistatic effect Therefore, it may be provided as a one-component silicone release coating composition.
- the CNTs are carbon nanotubes, and may be selected from the group consisting of single-walled carbon nanotubes, double-walled carbon nanotubes, multi-walled carbon nanotubes, and mixtures thereof.
- CNTs are classified into single-walled carbon nanotubes, double-walled carbon nanotubes, and multi-walled carbon nanotubes according to the number of bonds forming the wall. It is known that there is a difference in the antistatic effect depending on the number of walls, so single-walled carbon nanotubes can exhibit the best antistatic effect.
- single-walled carbon nanotubes may be expensive compared to multi-walled carbon nanotubes, and production cost may be a problem. Accordingly, in the present invention, a CNT dispersion capable of exhibiting an excellent antistatic effect using multi-walled carbon nanotubes can be used.
- the CNT dispersion may include 0.3 to 0.5 parts by weight of CNT and 0.3 to 0.5 parts by weight of the dispersant based on 100 parts by weight of the solvent.
- the dispersant includes surfactants, coupling agents, block copolymers, monomers, oligomers, vinyls, lactics, caprolactones, silicones, waxes, silanes, fluorines, ethers, alcohols, esters and may be selected from the group consisting of mixtures thereof.
- it may be selected from anionic surfactants SDS, NaDDBS, cationic surfactants CTAB, nonionic TWEEN, TRITION, amphoteric surfactants Tego5, and SAZM Z-3-18, more preferably NaDDBS , dispersed PVP, Tego5, SDS, and mixtures thereof.
- the solvent may be selected from the group consisting of water, alcohol, cellusolve, ketone, amide, ester, ether, aromatic, hydrocarbon, and mixtures thereof.
- the CNT dispersion may be prepared by adding CNTs and a dispersing agent to a solvent, and uniformly mixing using an ultrasonic disperser, and it is possible to provide a CNT dispersion having excellent dispersibility when used by mixing within the above range.
- the dispersion process proceeds by stirring using the disperser, the CNTs in the dispersion are cut, and the average diameter is cut to 50 to 100 nm and uniformly dispersed.
- the CNTs are MWCNTs, which are included in the form of bundles, but are cut by a disperser and have an average diameter of 50 to 100 nm, and are uniformly mixed in the dispersion by the dispersant, thereby exhibiting an antistatic effect.
- the silicone release coating composition of the present invention is based on 100 parts by weight of the solvent, 40 to 60 parts by weight of polysiloxane, 5 to 10 parts by weight of a crosslinking agent, 70 to 80 parts by weight of a CNT dispersion, 0.05 to 0.5 parts by weight of a retarder, and 1 to 1 to a catalyst. It may be included in 5 parts by weight. It will be said that it is possible to provide a release film that exhibits minimum aging characteristics, light peeling characteristics and excellent antistatic properties after manufacturing as a release film when mixed within the above range.
- Silicone release film according to another embodiment of the present invention is a base film; and a release layer formed on one surface of the base film, wherein the release layer is formed by applying the silicone release coating composition according to an embodiment of the present invention.
- n and m are the same as or different from each other, and are each independently an integer from 1 to 1000,
- R 1 to R 10 are the same as or different from each other, and each independently represents hydrogen, halogen, a substituted or unsubstituted C 1 to C 30 alkyl group, a substituted or unsubstituted C 2 to C 30 alkenyl group, or a substituted or unsubstituted C 2 to C 24 of an alkynyl group, a substituted or unsubstituted heteroalkyl group having 2 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 6 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 5 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heteroalkyl group having 2 to 30 carbon atoms An aryl group, a substituted or unsubstituted unsubstituted heteroarylalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 20
- At least one of R 1 to R 10 is a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms.
- the polysiloxane is cross-linked with a cross-linking agent, and the cross-linking reaction proceeds by a catalyst. Accordingly, the catalyst is mixed with the main chain immediately before being applied to one surface of the base film, and applied to the base film to form a release layer.
- drying method after coating is mainly hot air.
- a drying method is used. The higher the curing temperature during drying, the shorter the curing time. Preferably, drying conditions within 1 to 5 minutes under a temperature of 80 to 180° C. are suitable.
- a dispersion 100 parts by weight of alcohol and 0.5 parts by weight of MWCNT were mixed, and the mixture was prepared as a dispersion for 20 to 30 hours using a homogenizer. Then, 0.5 parts by weight of a dispersing agent mixed with NaDDBS and dispersed PVP in a weight ratio of 1:1 was mixed, and mixed for 1 hour using a homogenizer to prepare a CNT dispersion.
- the CNTs in the CNT dispersion have an average diameter of 50 to 100 nm.
- polysiloxane represented by the following formula (5) 1-ethynyl cyclohexanol, a crosslinking agent represented by the following formula (4) and a CNT dispersion were mixed to prepare a main material.
- a silicone release coating composition was prepared by mixing a platinum catalyst and a solvent with the above base material. After preparing a solvent mixture in which methyl ethyl ketone (MEK) and toluene were mixed in 1:1 parts by weight, the release coating composition was mixed at a solid content of 5% by weight with respect to the solvent mixture, and a coating solution was prepared. The coating solution was applied to one surface of the polyester film to a thickness of 1 ⁇ m, and cured at 160° C. for 3 minutes to prepare a release film.
- MEK methyl ethyl ketone
- s, t, x and y are the same as or different from each other, and are each independently an integer from 1 to 1000,
- the PDI of the compound represented by Formula 5 is 1.7.
- the content of the silicone release coating composition is shown in Table 1 below.
- Example 1 Example 2
- Example 3 Example 4
- Example 5 menstruum 100 100 100 100 100 100 polysiloxane 30 40 50 60 70 retardant 0.01 0.05 0.1 0.5 One crosslinking agent One 5 7 10 15 CNT dispersion 60 70 75 80 90 catalyst 0.5 One 3 5 10
- a dispersion was prepared for 40 hours using a homogenizer, and CNTs were prepared in the same manner as in Example 3, except that the average diameter was cut to 10 to 30 ⁇ m.
- a dispersion was prepared for 5 hours using a homogenizer, and the CNTs were prepared in the same manner as in Example 3, except that the CNTs had an average diameter of 1,000 to 2,000 nm.
- a standard adhesive tape (Nitto 31B) was attached to the coated surface of the release layer and cut to a size of 25mm ⁇ 15cm to prepare a sample. Then, using SHIMADZU's AGS-X, it was measured at an angle of 180 degrees at a peeling rate of 300 mm/min.
- a standard adhesive tape (Nitto 31B) was attached to the coated surface of the release layer, and the sample was compressed at room temperature under a load of 20 g/cm 2 for 24 hours.
- the tape adhered to the coating surface of the coating layer was collected without contamination, and then adhered to the PET film surface with a flat and clean surface, followed by reciprocating compression once with a 2 kg tape roller (ASTMD-1000-55T). Peel force was measured as follows and the residual adhesion rate was calculated. Using AGS-X manufactured by SHIMADZU, it was measured at an angle of 180 degrees at a peeling rate of 300 mm/min.
- Residual adhesive rate (%) [Peel force of the adhesive tape peeled after adhesion to the coated surface / Peel force of the adhesive tape not in contact with the coated surface] ⁇ 100
- Example 1 Example 2 Example 3
- Example 4 Example 5 Peel force (gf/in) 4.11 4.24 4.33 5.6 10.21 Residual adhesion rate (%) 88.3 92.2 98.6 94.2 81.1
- Examples 1 to 4 exhibit light peeling properties, and in particular, Examples 2 to 4 can confirm that the residual adhesion rate is excellent.
- An adhesive tape (Nitto 31B) was placed on the coated side of the release layer, and the sample was prepared by reciprocating it twice using a 2Kg rubber roll, and then cutting it into a size of 25mm ⁇ 15cm. After applying a load of 70 g/cm 2 to the prepared sample and leaving it to stand for 72 hrs at a temperature of 60° C. and a humidity of 90%, a Peel Tester (SHIMADZU, AGS-X) was used to evaluate peel peeling at 180 degrees.
- Average change over time of release force Average value continuously measured over a range of 10 cm.
- Deviation of change over time of release force The difference between the maximum and minimum values is shown while continuously measuring a range of 10 cm.
- Example 1 Example 2
- Example 3 Example 4
- Example 5 average release force 24 12 13 11 48 Deviation of release force 2.1 One 0.9 1.2 5
- Example 5 was not excellent in the minimum aging characteristics, and it was confirmed that the excellent minimum aging characteristics were exhibited in the range of Examples 2 to 4.
- Example 3 Antistatic properties for Example 3 and Examples 6 to 10 were evaluated. According to ASTM D257 measurement method, it was measured under the conditions of 55% RH, 23°C, and applied voltage of 500V.
- SWCNT was used as a control, and a release film was prepared in the same manner as in Example 3, except that only NaDDBS was used as a dispersing agent.
- Example 12 surface resistance ( ⁇ /w) 10E10 10E9 10E13 10E13 10E14 10E8 10E13 10E13 10E13
- the present invention relates to a composition for a silicone release coating and a release film comprising the same, and more particularly, to a composition for a silicone release coating that is excellent in minimum aging and exhibits an antistatic effect, and a release film comprising the same.
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
본 발명은 실리콘 이형 코팅용 조성물 및 이를 포함하는 이형 필름에 관한 것으로, 최소 경시성이 우수하여, 점착층과 합지된 상태로 장시간 보관 시에도, 이형 필름의 박리 시 뜯김 현상이 발생하지 않고, 대전 방지 효과를 나타내어, 이형 필름의 박리 후, 정전기 발생을 방지할 수 있는 것으로, 이형 필름의 제조 시, 실리콘 이형 코팅용 조성물을 도포하여, 이형층을 형성함으로 인해, 별도의 대전 방지층을 형성할 필요 없는 1액형으로 제공될 수 있다.
Description
본 발명은 실리콘 이형 코팅용 조성물 및 이를 포함하는 이형 필름에 관한 것으로, 보다 구체적으로 최소 경시성이 우수하고, 대전 방지 효과를 나타낼 수 있는 실리콘 이형 코팅용 조성물 및 이를 포함하는 이형 필름에 관한 것이다.
이형 필름은 우레탄 수지, 아크릴 수지, 염화비닐 수지 등의 캐스트(cast) 제막용의 공정 필름, 점착 테이프, 점착 시트, 점착 필름 등의 점착제층의 보호 필름, 세라믹 그린 시트나 프린트 기판 등의 전자부품 제조용의 공정 필름으로서 이용되고 있다. 이형 필름으로서는 일반적으로 폴리에스터 필름 등의 기재 필름의 표면에 실리콘계 또는 비실리콘계 이형제로 이루어지는 이형층이 형성된 것이 주이다.
상기 이형 필름은 액정표시장치((Liquid crystal display device, LCD)의 제조 시 이용되며, 구체적으로, 편광판을 액정셀에 부착하는 공정에서 있어서, 점착제층으로부터 이형필름이 먼저 박리 제거되고, 액정셀에 붙인 후에 후공정에서 표면보호필름의 역할이 끝나면 이 또한 박리 제거된다.
뿐만 아니라, OLED의 제조 시에도 제조 공정 상에서 주로 이용되고 있다.
통상, 이형 필름은 수지 시트의 성형 후, 점착 필름의 사용 시, 혹은 전자부품의 제조 후에 박리되는 것이지만, 박리했을 때에는 정전기가 대전하기 쉽다. 그 때문에 수지 시트 등을 겹쳐쌓아 보관하는 경우에는 전기적 반발 또는 끌어당김에 의해, 수지 시트끼리 반발 혹은 달라붙은 상태로 되는 문제나, 점착 필름의 경우에는 점착층에 먼지 등의 이물이 부착하여, 점착층이 오염되는 원인으로 되고 있었다.
또, 세라믹 그린 시트의 경우는 세라믹 콘덴서의 소형화, 대용량화에 수반하여 박층화가 진행되고 있지만, 박층화가 진행되면, 종래의 이형 필름에 서는 박리 대전이 크고, 그에 따른 정전기 장해가 큰 문제로 되고 있었다. 이들 문제로부터, 근래에는 이형 필름에 대전방지 기능이 요구되게 되었다.
또한, 종래의 실리콘 이형필름은 점착층과 합지된 상태로 장시간 보관되는 사이에 실리콘 이형층 중 실리콘 수지의 미반응 작용기와 점착층 성분 중의 미반응 작용기가 서서히 반응하거나, 점착층의 고분자와 실리콘 이형층의 고분자의 엉킴(Entanglment) 현상으로 인하여, 실리콘 이형필름 박리시 뜯김 현상이 발생하거나, 그로 인해 점착층에 손상을 유발시킬 수 있다.
또한, 실리콘 이형층의 고분자 및 미반응 화합물 등이 점착층으로의 전이로 인하여 점착력의 저하가 일어나는 품질 문제가 발생될 수 있다.
상기와 같이 실리콘 이형 필름이, 경시 변화에 의한 박리 안정성에 문제가 없으며, 대전 효과를 나타낼 수 있는 실리콘 이형 필름에 대한 개발이 필요하다.
[선행기술문헌]
[특허문헌]
(특허문헌 1) KR 10-0965378 B1
본 발명의 목적은 실리콘 이형 코팅용 조성물 및 이를 포함하는 이형 필름에 관한 것이다.
본 발명의 다른 목적은 최소 경시성이 우수하여, 점착층과 합지된 상태로 장시간 보관 시에도, 이형 필름의 박리 시 뜯김 현상이 발생하지 않는 실리콘 이형 코팅용 조성물 및 이를 포함하는 이형 필름에 관한 것이다.
본 발명의 다른 목적은 대전 방지 효과를 나타내어, 이형 필름의 박리 후, 정전기 발생을 방지할 수 있는 것으로, 이형 필름의 제조 시, 실리콘 이형 코팅용 조성물을 도포하여, 이형층을 형성함으로 인해, 별도의 대전 방지층을 형성할 필요 없는 1액형인 실리콘 이형 코팅용 조성물 및 이를 포함하는 이형 필름에 관한 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 실리콘 이형 코팅용 조성물은 용매; 하기 화학식 1로 표시되는 폴리디메틸실록산; CNT 분산액; 지연제; 가교제; 및 촉매를 포함할 수 있다:
[화학식 1]
여기서,
n 및 m은 1 내지 1000의 정수이며,
R1 내지 R10는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 24의 알키닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 6 내지 30의 아르알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 5 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환의 비치환의 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 30의 헤테로아르알킬기 및 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 20개의 헤테로알케닐기로 이루어진 군으로부터 선택되며,
상기 R1 내지 R10 중 적어도 하나 이상은 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 알케닐기이다.
상기 화학식 1로 표시되는 폴리디메틸실록산은 적어도 하나 이상의 비닐기를 치환기로 포함할 수 있다.
상기 가교제는 하기 화학식 2로 표시되는 화합물일 수 있다:
[화학식 2]
여기서,
R11 내지 R19는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 24의 알키닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 6 내지 30의 아르알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 5 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환의 비치환의 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 30의 헤테로아르알킬기 및 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 20개의 헤테로알케닐기로 이루어진 군으로부터 선택되며,
상기 R11, R14 내지 R15, R18 및 R19 중 적어도 셋 이상은 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 30의 알킬기이다.
상기 지연제는 2-메틸-3-부틴-2-올, 2-페닐-3-부틴-2-올, 3,5-디메틸-1-헥신-3-올, 1-에티닐 사이클로헥산올, 1,5-헥사디인, 1,6-헵타디인, 3,5-디메틸-1-헥센-1-인, 3-에틸-3-부텐-1-인, 3-페닐-3-부텐-1- 인, 1,3-디비닐테트라메틸디실록산, 1,3,5,7-테트라비닐테트라메틸사이클로테트라실록산, 1,3-디비닐-1,3-디페 닐디메틸디실록산과, 메틸트리스(3-메틸-1-부틴-3-옥시)실란, 트리부틸아민, 테트타메틸에틸렌디아민, 벤조트리 아졸, 트리페닐포스핀, 황-함유 화합물, 하이드로퍼옥시 화합물, 말레산 유도체-1-에티닐사이클로헥사놀, 3- 메틸-1-펜텐-3-올 및 이들의 혼합으로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다.
상기 CNT 분산액은 용매 100 중량부에 대하여, CNT 0.3 내지 0.5 중량부 및 분산제 0.3 내지 0.5 중량부로 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예에 따른 실리콘 이형 필름은 기재필름; 및 상기 기재필름의 일면에 형성된 이형층을 포함하며, 상기 이형층은 상기 실리콘 이형 코팅용 조성물이 도포되어 형성되는 것이다.
상기 이형층은 용매, 하기 화학식 1로 표시되는 폴리디메틸실록산; CNT 분산액, 지연제 및 가교제가 균일하게 분산된 주제; 및 촉매를 기재필름의 일면에 코팅 전 혼합하여 코팅 조성물로 제조한 후, 기재 필름의 일면에 도포하여 이형층이 형성될 수 있다:
[화학식 1]
여기서,
n 및 m은 1 내지 1000의 정수이며,
R1 내지 R10는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 24의 알키닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 6 내지 30의 아르알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 5 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환의 비치환의 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 30의 헤테로아르알킬기 및 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 20개의 헤테로알케닐기로 이루어진 군으로부터 선택되며,
상기 R1 내지 R10 중 적어도 하나 이상은 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 알케닐기이다.
본 발명에서 “알킬”은 탄소수 1 내지 40개의 직쇄 또는 측쇄의 포화 탄화수소에서 유래되는 1가의 치환기를 의미한다. 이의 예로는 메틸, 에틸, 프로필, 이소부틸, sec-부틸, 펜틸, iso-아밀, 헥실 등을 들 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.
본 발명에서 “알케닐(alkenyl)”은 탄소-탄소 이중 결합을 1개 이상 가진탄소수 2 내지 40개의 직쇄 또는 측쇄의 불포화 탄화수소에서 유래되는 1가의 치환기를 의미한다. 이의 예로는 비닐(vinyl), 알릴(allyl), 이소프로펜일(isopropenyl), 2-부텐일(2-butenyl) 등을 들 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.
본 발명에서 “알키닐(alkynyl)”은 탄소-탄소 삼중 결합을 1개 이상 가진 탄소수 2 내지 40개의 직쇄 또는 측쇄의 불포화 탄화수소에서 유래되는 1가의 치환기를 의미한다. 이의 예로는 에티닐(ethynyl), 2-프로파닐(2-propynyl) 등을 들 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.
본 발명에서 "아르알킬"은, 아릴 및 알킬이 상기한 바와 같은 아릴-알킬 그룹을 의미한다. 바람직한 아르알킬은 저급 알킬 그룹을 포함한다. 적합한 아르알킬 그룹의 비제한적인 예는 벤질, 2-펜에틸 및 나프탈레닐메틸을 포함한다. 모 잔기에 대한 결합은 알킬을 통해 이루어진다.
본 발명에서 “아릴”은 단독 고리 또는 2이상의 고리가 조합된 탄소수 6 내지 60개의 방향족 탄화수소로부터 유래된 1가의 치환기를 의미한다. 또한, 2 이상의 고리가 서로 단순 부착(pendant)되거나 축합된 형태도 포함될 수 있다. 이러한 아릴의 예로는 페닐, 나프틸, 페난트릴, 안트릴, 플루오닐, 다이메틸플루오레닐 등을 들 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.
본 발명에서 “헤테로아릴”은 탄소수 6 내지 30개의 모노헤테로사이클릭 또는 폴리헤테로사이클릭 방향족 탄화수소로부터 유래된 1가의 치환기를 의미한다. 이때, 고리 중 하나 이상의 탄소, 바람직하게는 1 내지 3개의 탄소가 N, O, S 또는 Se와 같은 헤테로원자로 치환된다. 또한, 2 이상의 고리가 서로 단순 부착(pendant)되거나 축합된 형태도 포함될 수 있고, 나아가 아릴기와의 축합된 형태도 포함될 수 있다. 이러한 헤테로아릴의 예로는 피리딜, 피라지닐, 피리미디닐, 피리다지닐, 트리아지닐과 같은 6-원 모노사이클릭 고리, 페녹사티에닐(phenoxathienyl), 인돌리지닐(indolizinyl), 인돌릴(indolyl), 퓨리닐(purinyl), 퀴놀릴(quinolyl), 벤조티아졸(benzothiazole), 카바졸릴(carbazolyl)과 같은 폴리사이클릭 고리 및 2-퓨라닐, N-이미다졸릴, 2-이속사졸릴, 2-피리디닐, 2-피리미디닐 등을 들 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.
본 발명에서 “헤테로아르알킬기”는 헤테로고리기로 치환된 아릴-알킬 그룹을 의미한다.
본 발명에서 “시클로알킬”은 탄소수 3 내지 40개의 모노사이클릭 또는 폴리사이클릭 비-방향족 탄화수소로부터 유래된 1가의 치환기를 의미한다. 이러한 사이클로알킬의 예로는 사이클로프로필, 사이클로부틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 노르보닐(norbornyl), 아다만틴(adamantine) 등을 들 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.
본 발명에서 “헤테로시클로알킬”은 탄소수 3 내지 40개의 비-방향족 탄화수소로부터 유래된 1가의 치환기를 의미하며, 고리 중 하나 이상의 탄소, 바람직하게는 1 내지 3개의 탄소가 N, O, S 또는 Se와 같은 헤테로 원자로 치환된다. 이러한 헤테로시클로알킬의 예로는 모르폴린, 피페라진 등을 들 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다.
본 명세서에서 "치환"은 화합물의 탄소 원자에 결합된 수소 원자가 다른 치환기로 바뀌는 것을 의미하며, 치환되는 위치는 수소 원자가 치환되는 위치 즉, 치환기가 치환 가능한 위치라면 한정하지 않으며, 2 이상 치환되는 경우, 2 이상의 치환기는 서로 동일하거나 상이할 수 있다. 상기 치환기는 수소, 중수소, 시아노기, 니트로기, 할로겐기, 히드록시기, 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 탄소수 2 내지 24의 알키닐기, 탄소수 2 내지 30의 헤테로알킬기, 탄소수 6 내지 30의 아르알킬기, 탄소수 5 내지 30의 아릴기, 탄소수 2 내지 30의 헤테로아릴기, 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴알킬기, 탄소수 1 내지 30의 알콕시기, 탄소수 1 내지 30의 알킬아민기, 탄소수 6 내지 30의 아릴아민기, 탄소수 6 내지 30의 아르알킬아민기 및 탄소수 2 내지 24의 헤테로 아릴아민기로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 치환기로 치환될 수 있으나, 상기 예시에 국한되지 않는다.
본 발명은 최소 경시성이 우수하여, 점착층과 합지된 상태로 장시간 보관 시에도, 이형 필름의 박리 시 뜯김 현상이 발생하지 않고, 대전 방지 효과를 나타내어, 이형 필름의 박리 후, 정전기 발생을 방지할 수 있는 것으로, 이형 필름의 제조 시, 실리콘 이형 코팅용 조성물을 도포하여, 이형층을 형성함으로 인해, 별도의 대전 방지층을 형성할 필요 없는 1액형으로 제공될 수 있다.
본 발명은 용매; 폴리실록산; CNT 분산액; 지연제; 가교제; 및 촉매를 포함하며, 경박리 및 최소 경시성이 우수한 이형층을 형성할 수 있는 실리콘 이형 코팅용 조성물에 관한 것이다.
이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
본 발명의 일 실시예에 따른 실리콘 이형 코팅용 조성물은 용매; 하기 화학식 1로 표시되는 폴리실록산; CNT 분산액; 지연제; 가교제; 및 촉매를 포함할 수 있다:
[화학식 1]
여기서,
n 및 m은 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 1 내지 1000의 정수이며,
R1 내지 R10는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 24의 알키닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 6 내지 30의 아르알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 5 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환의 비치환의 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 30의 헤테로아르알킬기 및 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 20개의 헤테로알케닐기로 이루어진 군으로부터 선택되며,
상기 R1 내지 R10 중 적어도 하나 이상은 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 알케닐기이다.
구체적으로, 상기 화학식 1로 표시되는 폴리실록산은 적어도 하나 이상의 비닐기를 치환기로 포함할 수 있다. 상기 폴리실록산은, 후술하는 바와 같이 가교제 내에 Si-H와 결합되어 이형층을 형성할 수 있다.
종래 폴리실록산을 이용한 이형 코팅용 조성물은 비닐기를 포함하여, 가교제와 결합하는 내용이 개시되어 있다. 다만, 가교제 내 Si-H와 반응이 모두 일어나지 않아, 잔류하는 Si-H 결합이 존재하였다.
상기 가교제의 혼합 및 폴리실록산과의 미 반응으로 인해, 이형층 내 잔류하는 Si-H는 경시 변화를 유발하는 원인이라 할 것이다.
즉, 이형필름은 고온, 고습 환경에서 이형성에 변화가 없어야 하지만, 이형층 내 잔류하는 Si-H 결합이 고온, 고습 환경에서 이형성에 변화를 나타내어, 이형 불량을 유발하였다.
이에, 본 발명에서는, 폴리실록산과 가교제와의 결합에 있어, 잔류 Si-H를 최소화하여 경시 안정성을 높이고자 한다.
구체적으로, 상기 화학식 1로 표시되는 폴리실록산은 적어도 하나 이상의 비닐기를 치환기로 포함할 수 있고, 보다 바람직하게는 양 말단에 비닐기를 치환기로 포함하며, 측쇄에 비닐기가 치환된 폴리실록산을 포함할 수 있다.
보다 구체적으로, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물일 수 있다:
[화학식 3]
여기서,
q 및 r은 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 1 내지 1000의 정수이며,
R20 내지 R26는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 24의 알키닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 6 내지 30의 아르알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 5 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환의 비치환의 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 30의 헤테로아르알킬기 및 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 20개의 헤테로알케닐기로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다.
상기와 같이 비닐기를 치환기로 포함하는 경우, 비닐기와 가교제의 Si-H간에 결합이 발생하게 되고, 이형층을 형성한 후, 이형층 내 Si-H의 잔류를 최소화할 수 있다. 이는 양 말단에 비닐기가 치환된 폴리실록산과 비교하여, 측쇄에 비닐기를 추가로 포함함에 따라, 가교제와 결합을 높여, 최소 경시 특성을 나타낼 수 있다.
상기 본 발명에 포함되는 폴리실록산은 좁은 분자량 분포를 갖는 폴리실록산으로, 1.7 내지 2의 PDI(Mw/Mn)을 갖는 것을 특징으로 한다. 상기 PDI 값이 클수록 넓은 범위의 분자량 분포를 갖는 고분자를 사용하는 것을 의미하는 것이며, 이는 이형 필름으로 제조 시, 초경박 특성의 구현이 불가하다. 즉, 상기 범위 내에서 PDI를 갖는 폴리실록산을 이용하여 초경박 특성의 구현이 가능한 이형 필름으로 제조가 가능하다고 할 것이다.
상기 가교제는 하기 화학식 2로 표시되는 화합물일 수 있다:
[화학식 2]
여기서,
o 및 p는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 1 내지 1000의 정수이며,
R11 내지 R19는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 24의 알키닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 6 내지 30의 아르알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 5 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환의 비치환의 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 30의 헤테로아르알킬기 및 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 20개의 헤테로알케닐기로 이루어진 군으로부터 선택되며,
상기 R11 내지 R19 중 적어도 셋 이상은 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 30의 알킬기이다.
상기 가교제는 보다 구체적으로 하기 화학식 4로 표시되는 화합물일 수 있다:
[화학식 4]
여기서,
s 및 t는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 1 내지 1000의 정수이다.
앞서 설명한 바와 같이, 가교제 내 규소 원자와 결합된 수소 원자가 증가되면, 이형층 내, 가교 밀도가 높아지게 되어, 이형층에 대한 물리적인 특성이 강화될 수 있으나, 규소 원자와 결합된 수소 원자가 증가하게 되면, 최소 경시성이 확보되지 않는 문제가 있다.
이에, 본 발명에서는, 가교제를 상기 화학식 4로 표시되는 화합물을 사용함에 따라, 이형층으로 제공 시, 가교 밀도를 유지하여 물리적인 특성을 확보하면서, 이형층 내 잔류 Si-H를 최소화하여 최소 경시성을 나타낼 수 있다.
또한, 상기 폴리실록산은 양 말단 외에 일 말단의 측쇄에 비닐기를 추가로 포함하고 있어, 기재층과 근접한 면에서 가교 밀도가 높은 이형층을 형성할 수 있어, 박리시 경시 안정성을 제공하여, 경박리 특성을 구현할 수 있다.
즉, 이형필름은 OLED 디스플레이 패널에 사용되는 것으로, OCA(Optical Clear Adhesive)를 보호하기 위해, OCA의 일면에 부착된 형태로 제조 공정에 투입되며, 이후 OCA에 부착된 이형필름이 제거해야 되는 바, 이때 이형필름이 높은 점착력을 나타낼 경우, 이형필름의 제거 과정상에서 OLED 층에 손상이 발생하게 된다.
이러한 문제를 방지하기 위해서, 이형필름이 경박리 특성을 나타내는 것이 필요하며, 본 발명의 실리콘 이형 코팅용 조성물을 이용하여, 이형 필름으로 제조 시, 초경박리 특성을 나타낼 수 있어, OCA 필름에 사용 시에도, 이형필름의 제거 공정 상에서 OLED에 손상이 발생하지 않는다.
상기 지연제는 가공 전에 미리 경화되거나 겔화되는 것을 방지하기 위해 포함되는 것으로, 2-메틸-3-부틴-2-올, 2-페닐-3-부틴-2-올, 3,5-디메틸-1-헥신-3-올, 1-에티닐 사이클로헥산올, 1,5-헥사디인, 1,6-헵타디인, 3,5-디메틸-1-헥센-1-인, 3-에틸-3-부텐-1-인, 3-페닐-3-부텐-1- 인, 1,3-디비닐테트라메틸디실록산, 1,3,5,7-테트라비닐테트라메틸사이클로테트라실록산, 1,3-디비닐-1,3-디페 닐디메틸디실록산과, 메틸트리스(3-메틸-1-부틴-3-옥시)실란, 트리부틸아민, 테트타메틸에틸렌디아민, 벤조트리 아졸, 트리페닐포스핀, 황-함유 화합물, 하이드로퍼옥시 화합물, 말레산 유도체-1-에티닐사이클로헥사놀, 3- 메틸-1-펜텐-3-올 및 이들의 혼합으로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다.
상기 촉매는 중합반응의 촉진을 목적으로, 일반적으로 백금계 촉매, 팔라듐계 촉매 또는 로듐계 촉매가 사용될 수 있고, 바람직하게는 백금계 촉매이지만 상기 예시에 국한되지 않으며, 앞서 예시한 촉매 이외에 촉매 종류 또는 함량은 이형필름 분야에서 사용되는 통용되는 범위 내에서 모두 사용이 가능하다.
상기 이형 필름에 대전방지 기능을 부여하는 방법으로서, 예를 들면 양이온성 대전방지제로 이루어지는 대전방지층을 기재 필름의 일면에 설치하고, 이형층을 다른 일방의 면에 형성하였다. 종래 흔히 이형 필름에 대전 방지 기능을 부여하기 위해 사용되는 것으로, 일정 부분 대전 방지 효과를 나타낼 수 있기는 하나, 이는 이형 필름에의 정전기의 대전을 충분히 방지할 수는 없다.
기재필름과 이형층의 사이에 대전방지층을 형성함으로써 이형 필름에 대전방지 기능을 부여하는 방법도 제안되었다. 상기 제안 기술의 경우, 기재 필름 상에 2층의 코팅층을 형성시키기 때문에 2회의 도포 공정이 필요하여, 공정에 드는 비용이 높아 생산 효율도 낮다고 하는 문제가 있다. 다른 제안 기술로, 도전성 고분자를 이용하여, 단일 코팅층으로 기재 필름에 대전방지성과 이형성을 부여하는 기술이 제안되었다.
다만, 도전성 고분자를 이용하여 형성된 코팅층은 경화성 수지나 가교제 등에 의해 가교되어 있지 않기 때문에, 용제에 용해되기 쉬워져, 용제를 포함하는 수지막, 점착제층, 세라믹 슬러리 등이 당해 코팅층에 접한 경우에, 충분한 이형성이 얻어지지 않는 경우가 있다. 또한, 용제에 분산한 도전성 고분자를 이용하고 있지만, 도전성 고분자를 분산할 수 있는 용제의 종류가 적기 때문에, 상기 코팅층을 형성하는 코팅제를 조제할 때는 코팅제의 용매를 한정하거나, 또는 분산제(계면활성제)를 사용하는 것이 필요하여, 취급성에 문제가 있고, 계면활성제를 사용하는 경우는 코팅층으로부터의 계면활성제의 이행(bleeding)이 발생하는 문제도 있다.
이에, 대전 방지 효과를 나타내는 이형 필름은 앞서 설명한 바와 같이, 대전 방지 효과가 떨어지거나, 제조 상의 절차로 인해 경제성이 떨어지는 문제가 있다.
본 발명은 대전 방지 효과를 나타내기 위해, CNT 분산액을 혼합하는 것을 특징으로 한다.
상기 CNT 분산액을 포함하는 실리콘 이형 코팅 조성물은, 이형 코팅 조성물 내에 CNT 분산액이 균일하게 분포하고 있고, 경화되어, 기재필름의 일면에 이형층을 형성한 경우, 이형층에 의해 대전 방지 효과를 나타낼 수 있어, 1액형의 실리콘 이형 코팅 조성물로 제공될 수 있다.
상기 CNT는 탄소나노튜브로, 단일벽 탄소나노튜브, 이중벽 탄소나노튜브, 다중벽 탄소나노튜브 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다. 일반적으로 CNT는 벽을 이루고 있는 결합수에 따라, 단일벽 탄소나노튜브, 이중벽 탄소나노튜브 및 다중벽 탄소나노튜브로 구분하고 있다. 벽의 수에 따라 대전 방지 효과에 차이가 나타나는 것으로 알려져 있어, 단일벽 탄소나노튜브가 가장 우수한 대전 방지 효과를 나타낼 수 있다.
다만, 단일벽 탄소나노튜브는 다중벽 탄소나노튜브와 비교하여 비싼 가격으로 인해, 생산 단가가 문제될 수 있다. 이에, 본 발명에서는 다중벽 탄소나노튜브를 이용하여 우수한 대전 방지효과를 나타낼 수 있는 CNT 분산액을 이용할 수 있다.
상기 CNT 분산액은 용매 100 중량부에 대하여, CNT 0.3 내지 0.5 중량부 및 분산제 0.3 내지 0.5 중량부로 포함할 수 있다.
상기 분산제는 계면활성제류, 커플링제류, 블락 코폴리머, 모노머류, 올리고머류, 비닐류, 락틱류, 카프로 락톤류, 실리콘류, 왁스류, 실란류, 불소류, 에테르류, 알콜류, 에스테류 및 그 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다. 바람직하게는 음이온계 계면활성제인 SDS, NaDDBS, 양이온계 계면활성제인 CTAB, 비이온계 TWEEN, TRITION, 양성계 계면활성제인 Tego5, SAZM Z-3-18 중 선택될 수 있으며, 보다 바람직하게는 NaDDBS, 분산 PVP, Tego5, SDS 및 이들의 혼합으로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다.
상기 용매는 물, 알콜계, 셀루솔브계, 케톤계, 아미드계, 에스테르계, 에테르계, 아로마틱계, 하이드로카본계, 및 그 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다.
상기 CNT 분산액은 용매에 CNT 및 분산제를 넣고, 초음파 분산기를 이용하여 균일하게 혼합하여 제조될 수 있으며, 상기 범위 내에서 혼합하여 사용 시 분산성이 우수한 CNT 분산액으로의 제공이 가능하게 된다. 상기 분산기를 이용하여 교반에 의해 분산 공정이 진행됨에 따라, 분산액 내 CNT는 절단되어, 평균 직경이 50 내지 100nm로 절단되어 균일하게 분산된다. 상기 CNT는 MWCNT로, 다발 형태로 포함되나, 분산기에 의해 절단되어 평균 직경이 50 내지 100nm이고, 상기 분산제에 의해 분산액 내 균일하게 혼합되어, 대전 방지 효과를 나타낼 수 있다.
상기 본 발명의 실리콘 이형 코팅용 조성물은 용매 100 중량부에 대하여, 폴리실록산 40 내지 60 중량부, 가교제 5 내지 10 중량부, CNT 분산액 70 내지 80 중량부, 지연제 0.05 내지 0.5 중량부 및 촉매 1 내지 5 중량부로 포함할 수 있다. 상기 범위 내에서 혼합하여 사용 시 이형 필름으로 제조 후, 최소 경시 특성을 나타내며, 경박리 특성 및 우수한 대전 방지 특성을 나타내는 이형 필름으로 제공이 가능하다고 할 것이다.
본 발명의 다른 일 실시예에 따른 실리콘 이형 필름은 기재필름; 및 상기 기재필름의 일면에 형성된 이형층을 포함하며, 상기 이형층은 제상기 본 발명의 일 실시예에 따른 실리콘 이형 코팅용 조성물이 도포되어 형성되는 것이다.
상기 본 발명의 코팅 조성물을 도포하는 경우, 용매, 하기 화학식 1로 표시되는 폴리실록산; CNT 분산액, 지연제 및 가교제가 균일하게 분산된 주제; 및 촉매를 기재필름의 일면에 코팅 전 혼합하여 코팅 조성물로 제조한 후, 기재 필름의 일면에 도포한다.
[화학식 1]
여기서,
n 및 m은 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 1 내지 1000의 정수이며,
R1 내지 R10는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 24의 알키닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 6 내지 30의 아르알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 5 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환의 비치환의 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 30의 헤테로아르알킬기 및 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 20개의 헤테로알케닐기로 이루어진 군으로부터 선택되며,
상기 R1 내지 R10 중 적어도 하나 이상은 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 알케닐기이다.
상기 폴리실록산은 가교제와 가교 결합이 일어나게 되는데, 상기 가교 결합은 촉매에 의해 반응이 진행되는 것으로, 이형 코팅용 조성물의 제조 시, 촉매를 혼합하면, 이형층으로 제조가 불가하게 된다. 이에, 기재 필름의 일면에 도포하기 직전에 촉매를 주쇄에 혼합하고, 기재필름에 도포하여 이형층을 형성한다.
이형 코팅용 조성물을 기재필름에 도포하는 방법으로는 그라비아롤 코팅법, 슬롯다이 코팅법, 리버스롤 코팅법, 에어나이프 코팅법 등 공지된 방법을 채용할 수 있으며, 코팅 후 건조방법으로는 주로 열풍 건조 방법이 이용된다. 건조 시 경화 온도는 높을수록 짧은 시간에 경화시킬 수는 있지만 필름이 변형되지 않는 온도에서의 생산성을 고려하여 적정한 시간에서 경화시키는 것이 좋다. 바람직하게는 80 내지 180℃ 온도 하에서 1 내지 5분 이내의 건조조건이 적당하다.
제조예 1
CNT 분산액의 제조
100 중량부의 알코올 및 MWCNT 0.5 중량부를 혼합하고, 상기 혼합물을 호모게나이저를 이용하여 20 내지 30시간 동안 분산액을 제조하였다. 이후, NaDDBS 및 분산 PVP를 1:1의 중량비율로 혼합한 분산제를 0.5 중량부만큼 혼합하고, 호모게나이저를 이용하여 1시간 동안 혼합하여 CNT 분산액을 제조하였다. CNT 분산액 내 CNT는 평균 직경이 50 내지 100nm이다.
제조예 2
실리콘 이형 필름의 제조
톨루엔, 하기 화학식 5로 표시되는 폴리실록산, 1-에티닐 사이클로헥산올, 하기 화학식 4로 표시되는 가교제 및 CNT 분산액을 혼합하여 주제로 제조하였다.
상기 주제에 백금 촉매 및 용제를 혼합하여 실리콘 이형 코팅 조성물로 제조하였다. 메틸에틸케톤(MEK)과 톨루엔이 1:1중량부로 혼합된 용제 혼합물을 제조한 후, 상기 이형 코팅 조성물을 상기 용제 혼합물에 대해, 5 중량%의 고형분으로 혼합하고, 코팅액으로 제조하였다. 상기 코팅액을 폴리에스테르 필름의 일면에 1㎛의 두께로 도포하고, 160℃에서 3분 동안 경화하여 이형 필름을 제조하였다.
[화학식 4]
[화학식 5]
여기서,
s, t, x 및 y는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 1 내지 1000의 정수이며,
상기 화학식 5로 표시되는 화합물의 PDI는 1.7이다.
상기 실리콘 이형 코팅 조성물의 함량은 하기 표 1과 같다.
| 실시예 1 | 실시예 2 | 실시예 3 | 실시예 4 | 실시예 5 | |
| 용매 | 100 | 100 | 100 | 100 | 100 |
| 폴리실록산 | 30 | 40 | 50 | 60 | 70 |
| 지연제 | 0.01 | 0.05 | 0.1 | 0.5 | 1 |
| 가교제 | 1 | 5 | 7 | 10 | 15 |
| CNT 분산액 | 60 | 70 | 75 | 80 | 90 |
| 촉매 | 0.5 | 1 | 3 | 5 | 10 |
(단위 중량부)
실시예 6
CNT 분산액의 제조 시 분산제로 NaDDBS만 사용한 것을 제외하고, 실시예 3과 동일하게 제조하였다.
실시예 7
CNT 분산액의 제조 시 분산제로 분산 PVP만 사용한 것을 제외하고, 실시예 3과 동일하게 제조하였다.
실시예 8
CNT 분산액의 제조 시 분산제를 0.1 중량부로 혼합한 것을 제외하고 실시예 3과 동일하게 제조하였다.
실시예 9
CNT 분산액의 제조 시 분산제를 0.3 중량부로 혼합한 것을 제외하고 실시예 3과 동일하게 제조하였다.
실시예 10
CNT 분산액의 제조 시 분산제를 0.7 중량부로 혼합한 것을 제외하고 실시예 3과 동일하게 제조하였다.
실시예 11
CNT 분산액의 제조 시 호모게나이저를 이용하여 40시간 동안 분산액을 제조하여, CNT는 평균 직경이 10 내지 30㎛로 절단한 것을 제외하고, 실시예 3과 동일하게 제조하였다.
실시예 12
CNT 분산액의 제조 시 호모게나이저를 이용하여 5시간 동안 분산액을 제조하여, CNT는 평균 직경이 1,000 내지 2,000nm로 포함한 것을 제외하고, 실시예 3과 동일하게 제조하였다.
실험예 1
경박리 특성 및 잔류접착율 평가
박리력의 측정을 위해, 이형층의 코팅면에 표준 점착테이프(Nitto 31B)를 붙인 후 25mmХ15cm의 크기로 잘라 샘플을 준비하였다. 이후, SHIMADZU사의 AGS-X를 사용하여, 박리 속도 300mm/min의 속도로 180도의 각도로 측정하였다.
측정용 샘플을 25℃, 65%RH에서 24시간 보존 후, 이형층의 코팅면에 표준 점착테이프(Nitto 31B)를 붙인 후 이 샘플을 상온에서 20g/cm2의 하중으로 24시간 압착하였다. 도포층의 코팅면에 접착했던 테이프를 오염 없이 수거 후 표면이 평탄하고 깨끗한 PET 필름면에 접착한 후 2kg의 테이프 롤러(ASTMD-1000-55T)로 1회 왕복 압착시켰다. 하기와 같이 박리력을 측정하고 잔류접착률을 산출하였다. SHIMADZU사의 AGS-X를 사용하여, 박리 속도 300mm/min의 속도로 180도의 각도로 측정하였다.
측정 데이터: 잔류접착율(%) = [코팅면에 접착 후 박리된 접착테이프의 박리력/코팅면에 접촉하지 않은 접착테이프의 박리력] Х 100
| 실시예 1 | 실시예 2 | 실시예 3 | 실시예 4 | 실시예 5 | |
| 박리력(gf/in) | 4.11 | 4.24 | 4.33 | 5.6 | 10.21 |
| 잔류접착율(%) | 88.3 | 92.2 | 98.6 | 94.2 | 81.1 |
상기 실험 결과에 의하면, 실시예 1 내지 4는 경박리 특성을 나타냄을 확인할 수 있고, 특히 실시예 2 내지 4는 잔류 접착율이 우수한 것을 확인할 수 있다.
실험예 2
경시 변화 측정
이형층의 코팅면에 점착테이프(Nitto 31B)를 놓고 2Kg 고무롤을 사용하여 2회 왕복 문지른 다음 25mmХ15cm의 크기로 잘라 샘플을 준비하였다. 준비된 샘플을 70g/㎠의 하중을 주고 온도 60℃ 습도 90% 환경에서 72hr 방치한 후 Peel Tester(SHIMADZU사, AGS-X)를 사용하여 180도 Peel 박리 평가를 실시하였다.
이형력 경시변화 평균: 10cm 범위를 연속 측정한 평균 값임.
이형력 경시변화 편차: 10cm 범위를 연속 측정하면서 최대값과 최소값의 차이를 나타냄.
| 실시예 1 | 실시예 2 | 실시예 3 | 실시예 4 | 실시예 5 | |
| 이형력 평균 | 24 | 12 | 13 | 11 | 48 |
| 이형력 편차 | 2.1 | 1 | 0.9 | 1.2 | 5 |
상기 실험 결과에 의하면, 실시예 5는 최소 경시 특성이 우수하지 않은 것을 확인할 수 있고, 실시예 2 내지 4의 범위에서 우수한 최소 경시 특성을 나타냄을 확인하였다.
실험예 3
대전 방지 특성 평가
실시예 3 및 실시예 6 내지 10에 대한 대전 방지 특성을 평가하였다. ASTM D257 측정방법에 의거하여 55% RH, 23℃, 인가전압 500V의 조건으로 측정하였다.
대조군으로 SWCNT를 사용하였으며, 분산제로 NaDDBS만 사용한 것을 제외하고, 실시예 3과 동일하게 제조하여 이형 필름을 제조하였다.
| 대조군 | 실시예 3 | 실시예 6 | 실시예 7 | 실시예 8 | 실시예 9 | 실시예 10 | 실시예 11 | 실시예 12 | |
| 표면 저항 (Ω/ㅁ) |
10E10 | 10E9 | 10E13 | 10E13 | 10E14 | 10E8 | 10E13 | 10E13 | 10E13 |
이형필름에 대전 방지 효과가 나타나기 위해서는, CNT가 균일하게 분산되어야 할 것인 바, 실시예 6 내지 8 및 10 내지 12는 CNT가 균일하게 분산되지 못해, 표면 저항이 1012 Ω/ㅁ 초과하여, 대전 방지 특성이 발휘되지 않음을 확인하였다. 반면, 실시예 3 및 실시예 9는 SWCNT를 사용한 정도의 우수한 대전 방지 특성을 발휘함을 확인하였다. 이는 MWCNT를 사용하더라도, 분산제의 사용에 의해 분산성을 개선하여 대전 방지 특성을 발휘할 수 있음을 의미한다 할 것이다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
본 발명은 실리콘 이형 코팅용 조성물 및 이를 포함하는 이형 필름에 관한 것으로, 보다 구체적으로 최소 경시성이 우수하고, 대전 방지 효과를 나타낼 수 있는 실리콘 이형 코팅용 조성물 및 이를 포함하는 이형 필름에 관한 것이다.
Claims (7)
- 용매;하기 화학식 1로 표시되는 폴리실록산;CNT 분산액;지연제;가교제; 및촉매를 포함하며,경박리 및 최소 경시성이 우수한 이형층을 형성할 수 있는실리콘 이형 코팅용 조성물:[화학식 1]
여기서,n 및 m은 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 1 내지 1000의 정수이며,R1 내지 R10는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 24의 알키닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 6 내지 30의 아르알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 5 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환의 비치환의 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 30의 헤테로아르알킬기 및 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 20개의 헤테로알케닐기로 이루어진 군으로부터 선택되며,상기 R1 내지 R10 중 적어도 하나 이상은 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 알케닐기이다. - 제1항에 있어서,상기 화학식 1로 표시되는 폴리실록산은 적어도 하나 이상의 비닐기를 치환기로 포함하는실리콘 이형 코팅용 조성물.
- 제1항에 있어서,상기 가교제는 하기 화학식 2로 표시되는 화합물인실리콘 이형 코팅용 조성물:[화학식 2]
여기서,o 및 p는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 1 내지 1000의 정수이며,R11 내지 R19는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 24의 알키닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 6 내지 30의 아르알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 5 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환의 비치환의 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 30의 헤테로아르알킬기 및 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 20개의 헤테로알케닐기로 이루어진 군으로부터 선택되며,상기 R11 내지 R19 중 적어도 셋 이상은 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 30의 알킬기이다. - 제1항에 있어서,상기 지연제는 2-메틸-3-부틴-2-올, 2-페닐-3-부틴-2-올, 3,5-디메틸-1-헥신-3-올, 1-에티닐 사이클로헥산올, 1,5-헥사디인, 1,6-헵타디인, 3,5-디메틸-1-헥센-1-인, 3-에틸-3-부텐-1-인, 3-페닐-3-부텐-1- 인, 1,3-디비닐테트라메틸디실록산, 1,3,5,7-테트라비닐테트라메틸사이클로테트라실록산, 1,3-디비닐-1,3-디페 닐디메틸디실록산과, 메틸트리스(3-메틸-1-부틴-3-옥시)실란, 트리부틸아민, 테트타메틸에틸렌디아민, 벤조트리 아졸, 트리페닐포스핀, 황-함유 화합물, 하이드로퍼옥시 화합물, 말레산 유도체-1-에티닐사이클로헥사놀, 3- 메틸-1-펜텐-3-올 및 이들의 혼합으로 이루어진 군으로부터 선택되는실리콘 이형 코팅용 조성물.
- 제1항에 있어서,상기 CNT 분산액은 용매 100 중량부에 대하여, CNT 0.3 내지 0.5 중량부 및 분산제 0.3 내지 0.5 중량부로 포함하는 것인실리콘 이형 코팅용 조성물.
- 기재필름; 및상기 기재필름의 일면에 형성된 이형층을 포함하며,상기 이형층은 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 따른 실리콘 이형 코팅용 조성물이 도포되어 형성되는 것인실리콘 이형 필름.
- 제6항에 있어서,상기 이형층은 용매, 하기 화학식 1로 표시되는 폴리디메틸실록산; CNT 분산액, 지연제 및 가교제가 균일하게 분산된 주제; 및 촉매를 기재필름의 일면에 코팅 전 혼합하여 코팅 조성물로 제조한 후, 기재 필름의 일면에 도포하여 이형층이 형성되는 것인실리콘 이형 필름:[화학식 1]
여기서,n 및 m은 1 내지 1000의 정수이며,R1 내지 R10는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 24의 알키닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 헤테로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 6 내지 30의 아르알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 5 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환의 탄소수 2 내지 30의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환의 비치환의 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 헤테로시클로알킬기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 20개의 시클로알케닐기, 치환 또는 비치환의 탄소수 3 내지 30의 헤테로아르알킬기 및 치환 또는 비치환의 탄소수 1 내지 20개의 헤테로알케닐기로 이루어진 군으로부터 선택되며,상기 R1 내지 R10 중 적어도 하나 이상은 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 알케닐기이다.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202180085425.5A CN116685648A (zh) | 2020-12-17 | 2021-10-06 | 硅酮离型涂料用组合物和包含其的离型膜 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2020-0177527 | 2020-12-17 | ||
| KR1020200177527A KR102512223B1 (ko) | 2020-12-17 | 2020-12-17 | 실리콘 이형 코팅용 조성물 및 이를 포함하는 이형 필름 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| WO2022131500A1 true WO2022131500A1 (ko) | 2022-06-23 |
Family
ID=82059592
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PCT/KR2021/013675 WO2022131500A1 (ko) | 2020-12-17 | 2021-10-06 | 실리콘 이형 코팅용 조성물 및 이를 포함하는 이형 필름 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102512223B1 (ko) |
| CN (1) | CN116685648A (ko) |
| WO (1) | WO2022131500A1 (ko) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006348260A (ja) * | 2005-06-13 | 2006-12-28 | Toray Saehan Inc | シリコーン離型組成物及びそれを用いたシリコーン離型プラスチックフィルム |
| JP2007302775A (ja) * | 2006-05-11 | 2007-11-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性シリコ−ン離型剤組成物及びそれを用いた調理用シート |
| KR20120132090A (ko) * | 2011-05-27 | 2012-12-05 | 도레이첨단소재 주식회사 | 대전방지 실리콘 이형필름 |
| KR20170067067A (ko) * | 2015-12-07 | 2017-06-15 | 주식회사 케이씨씨 | 초경박리 필름 코팅용 용제형 실리콘 이형 조성물 |
| KR20200004639A (ko) * | 2018-07-04 | 2020-01-14 | 도레이첨단소재 주식회사 | 재사용 가능한 이형필름 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100965378B1 (ko) | 2005-12-07 | 2010-06-22 | 도레이첨단소재 주식회사 | 박리력을 조절할 수 있는 실리콘 이형 조성물 및 이를 코팅한 실리콘 이형필름 |
-
2020
- 2020-12-17 KR KR1020200177527A patent/KR102512223B1/ko active IP Right Grant
-
2021
- 2021-10-06 WO PCT/KR2021/013675 patent/WO2022131500A1/ko active Application Filing
- 2021-10-06 CN CN202180085425.5A patent/CN116685648A/zh active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006348260A (ja) * | 2005-06-13 | 2006-12-28 | Toray Saehan Inc | シリコーン離型組成物及びそれを用いたシリコーン離型プラスチックフィルム |
| JP2007302775A (ja) * | 2006-05-11 | 2007-11-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性シリコ−ン離型剤組成物及びそれを用いた調理用シート |
| KR20120132090A (ko) * | 2011-05-27 | 2012-12-05 | 도레이첨단소재 주식회사 | 대전방지 실리콘 이형필름 |
| KR20170067067A (ko) * | 2015-12-07 | 2017-06-15 | 주식회사 케이씨씨 | 초경박리 필름 코팅용 용제형 실리콘 이형 조성물 |
| KR20200004639A (ko) * | 2018-07-04 | 2020-01-14 | 도레이첨단소재 주식회사 | 재사용 가능한 이형필름 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR102512223B1 (ko) | 2023-03-21 |
| KR20220087127A (ko) | 2022-06-24 |
| CN116685648A (zh) | 2023-09-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2020209450A1 (ko) | 불소기 함유 이형 필름 | |
| WO2016190722A1 (ko) | 2종 이상의 아민을 포함하는 기능화 그래핀 및 그 제조방법 | |
| WO2015147449A1 (ko) | 전자기파 차폐시트, 및 이의 제조방법 | |
| WO2012091451A2 (ko) | 이형필름 | |
| WO2020009401A1 (ko) | 재사용 가능한 이형필름 | |
| WO2018159918A1 (ko) | 윈도우 기판 및 이를 포함하는 화상 표시 장치 | |
| WO2022045785A1 (ko) | 실리콘계 코팅 조성물 및 이를 포함하는 실리콘계 이형필름 | |
| WO2014204250A1 (ko) | 점착제 조성물 | |
| WO2022196878A1 (ko) | 실리콘계 조성물 및 이의 경화물 | |
| WO2022097872A1 (ko) | 이형필름 및 이의 제조방법 | |
| WO2017078488A1 (ko) | 광학용 점착제 조성물 및 광학용 점착 필름 | |
| WO2017116201A1 (ko) | 이형 필름 및 이의 제조방법 | |
| WO2019143000A1 (ko) | 2 종 이상의 필러를 포함하는 고열전도성 폴리이미드 필름 | |
| WO2018048245A1 (ko) | 폴더블 디스플레이용 점착제 조성물 | |
| WO2022131500A1 (ko) | 실리콘 이형 코팅용 조성물 및 이를 포함하는 이형 필름 | |
| WO2021095990A1 (ko) | 초경박리 이형필름 | |
| WO2010076990A2 (ko) | 이방 전도성 필름 조성물 및 이를 이용한 이방 전도성 필름 | |
| WO2017018753A1 (ko) | 가요성 기판의 제조방법 | |
| WO2020141925A1 (ko) | 방열 시트 제조방법 | |
| JPH08253755A (ja) | 導電性感圧粘着剤組成物及び導電性感圧粘着テープ | |
| WO2017069383A1 (ko) | 실리콘 점착제 조성물 | |
| WO2018048240A1 (ko) | 폴더블 디스플레이용 점착제 조성물 | |
| WO2019083255A2 (ko) | 광학 필름, 광학 필름 제조 방법 및 유기발광전자장치 제조 방법 | |
| WO2021194071A1 (ko) | 보호필름용 점착제 조성물, 이를 포함한 점착제 및 이를 이용한 점착시트 | |
| WO2022145643A1 (ko) | 실리콘 점착 코팅용 조성물 및 이를 포함하는 점착 필름 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 21906805 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
| WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 202180085425.5 Country of ref document: CN |
|
| NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
| 122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 21906805 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |