WO2022075017A1

WO2022075017A1 - 調光装置、画像表示装置及び表示装置

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Publication number: WO2022075017A1
Application number: PCT/JP2021/033757
Authority: WO
Inventors: 正洋河野; 暁夫町田; 宏治角野; 敦高橋
Original assignee: ソニーグループ株式会社
Priority date: 2020-10-05
Filing date: 2021-09-14
Publication date: 2022-04-14
Also published as: KR20230074783A; JPWO2022075017A1

Abstract

調光速度の更なる高速化の実現や、調光速度の低下の更なる抑制の実現を可能とする、調光装置を提供すること。第１電極と、該第１電極と対向する第２電極と、該第１電極と該第２電極との間に配されている調光層と、該第１電極に接して、該第１電極の周囲の少なくとも一部に形成されている第１金属電極配線と、該第２電極に接して、該第２電極の周囲の少なくとも一部に形成されている第２金属電極配線と、該第１金属電極配線と該第２金属電極配線との間に形成されている絶縁体と、を備える、調光装置を提供する。

Description

調光装置、画像表示装置及び表示装置

　本技術は、調光装置、画像表示装置及び表示装置に関する。

　近年、現実の環境（あるいはその一部）に付加情報としてバーチャルな物体や各種情報を電子情報として合成・提示する拡張現実技術（ＡＲ技術：ＡｕｇｍｅｎｔｅｄＲｅａｌｉｔｙ）が、注目を浴びている。この拡張現実技術を実現するために、視覚情報を提示する装置として、例えば、頭部装着型ディスプレイが検討されている。そして、応用分野として、現実の環境における作業支援が期待されており、例えば、道路案内情報の提供、メンテナンス等を行う技術者に対する技術情報提供等を挙げることができる。特に、頭部装着型ディスプレイは、手が塞がることがないため、非常に便利である。また、屋外を移動しながら映像や画像を楽しみたい場合にも、視界に映像や画像と外部環境とを同時に捉えることができるため、スムーズな移動が可能となる。

　画像形成装置によって形成された２次元画像を虚像光学系により拡大虚像として観察者に観察させるための表示装置がある。この表示装置において２次元画像に基づく虚像を形成することで、観察者は、外界の像と形成された虚像とを重畳して見ることができる。そして、表示装置の置かれた周囲の環境が非常に明るい場合や、形成された虚像の内容に依っては、観察者が観察する虚像に十分なコントラストを与えることができないといったことが生じる場合がある。このような場合において、表示装置に調光装置が用いられることがある。

　調光装置としては、例えば、特許文献１～特許文献３で提案された技術が挙げられる。特許文献１～特許文献３で提案された技術では、調光速度低下に対する対策が講じられている。

特開平1－９０４２２号公報特表２０１７－５２６９８２号公報特開平６－１６７７２４号公報

　しかしながら、特許文献１～特許文献３で提案された技術では、調光速度の更なる高速化や、調光速度の低下の更なる抑制を図れないおそれがある。

　そこで、本技術は、このような状況に鑑みてなされたものであり、調光速度の更なる高速化の実現や、調光速度の低下の更なる抑制の実現を可能とする、調光装置、並びにその調光装置を備える画像表示装置及び表示装置を提供することを主目的とする。

　本発明者らは、上述の目的を解決するために鋭意研究を行った結果、驚くべきことに、調光速度の更なる高速化の実現や、調光速度の低下の更なる抑制の実現に成功し、本技術を完成するに至った。

　すなわち、本技術は、第１の側面として、
　第１電極と、
　該第１電極と対向する第２電極と、
　該第１電極と該第２電極との間に配されている調光層と、
　該第１電極に接して、該第１電極の周囲の少なくとも一部に形成されている第１金属電極配線と、
　該第２電極に接して、該第２電極の周囲の少なくとも一部に形成されている第２金属電極配線と、を備える、調光装置を提供する。

　本技術に係る第１の側面の調光装置が、絶縁体を更に備えていてもよく、
　該絶縁体が、前記第１金属電極配線と前記第２金属電極配線との間に形成されていてもよい。

　本技術に係る第１の側面の調光装置において、
　前記第１金属電極配線が、前記第１電極の全周囲に形成されていてもよい。

　本技術に係る第１の側面の調光装置において、
　前記第２金属電極配線が、前記第２電極の全周囲に形成されていてもよい。

　本技術に係る第１の側面の調光装置において、
　前記第１金属電極配線が、前記第１電極の周囲の一部に形成されていてもよい。

　本技術に係る第１の側面の調光装置において、
　前記第２金属電極配線が、前記第２電極の周囲の一部に形成されていてもよい。

　本技術に係る第１の側面の調光装置において、
　前記第１金属電極配線が、前記第１電極の前記調光層が配されている側とは反対側に形成されていてもよい。

　本技術に係る第１の側面の調光装置において、
　前記第２金属電極配線が、前記第２電極の前記調光層が配されている側に形成されていてもよい。

　本技術に係る第１の側面の調光装置において、
　前記第２金属電極配線が、前記第２電極の前記調光層が配されている側とは反対側に形成されていてもよく、
　　　前記第２金属電極配線が、貫通電極を含んでよく、
　該貫通電極が、前記第２電極に接していてよい。

　本技術に係る第１の側面の調光装置において、
　前記第１金属電極配線と前記第２金属電極配線とが、立体的に交差して形成されていてもよい。

　本技術に係る第１の側面の調光装置において、
　外部電源からの電圧を印加するために設けられた第１電極パッド部を更に備えていてもよく、
　該第１電極パッド部が、前記第１金属電極配線に接続されていてもよい。

　本技術に係る第１の側面の調光装置において、
　外部電源からの電圧を印加するために設けられた第２電極パッド部を更に備えていてもよく、
　該第２電極パッド部が、前記第２金属電極配線に接続されていてもよい。

　本技術に係る第１の側面の調光装置において、
　外部電源からの電圧を印加するために設けられた第１電極パッド部及び第２電極パッド部を更に備えていてもよく、
　該第１電極パッド部が、前記第１金属電極配線に接続されていてもよく、
　該第２電極パッド部が、前記第２金属電極配線に接続されていてもよく、
　前記第１金属電極配線と前記第２金属電極配線とが、立体的に交差して形成されていてもよく、
　該第１電極パッド部と該第２電極パッド部とが平面視で互いに異なる位置に形成されていてもよい。

　本技術に係る第１の側面の調光装置において、
　平面視での前記第１電極の大きさと、平面視での前記第２電極の大きさとが互いに異なっていてもよく、
　本技術に係る第１の側面の調光装置が、断面視で段差構造を有していてもよい。

　本技術に係る第１の側面の調光装置において、
　平面視での前記第１電極の大きさと、平面視での前記第２電極の大きさとが互いに略同一であってもよく、
　本技術に係る第１の側面の調光装置が、断面視で段差構造を有さなくてもよい。

　本技術に係る第１の側面の調光装置が、３次元の曲面構造を有していてもよい。

　また、本技術は、第２の側面として、
　画像形成装置と、
　該画像形成装置から出射された光に基づき虚像が形成される虚像形成領域を有する光学装置と、
　少なくとも該虚像形成領域に対向して配され、外部から入射する外光の光量を調整する調光装置と、を含み、
　該調光装置が、本技術に係る第１の側面の調光装置である、画像表示装置を提供する。

　さらに、本技術は、第３の側面として、
　観察者の頭部に装着されるフレームと、
　該フレームに取り付けられた画像表示装置と、を備え、
　該画像表示装置が、
　画像形成装置と、
　該画像形成装置から出射された光に基づき虚像が形成される虚像形成領域を有する光学装置と、
　少なくとも該虚像形成領域に対向して配され、外部から入射する外光の光量を調整する調光装置と、を含み、
　該調光装置が、本技術に係る第１の側面の調光装置である、表示装置を提供する。

　本技術によれば、調光速度の更なる高速化や、調光速度の低下の更なる抑制が実現され得る。なお、ここに記載された効果は、必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれかの効果であってもよい。

図１は、本技術に係る調光装置の構成例、及び本技術以外の技術に係る調光装置の構成例を示す図である。図２は、本技術に係る調光装置の構成例を示す図である。図３は、本技術に係る調光装置の構成例、及び本技術以外の技術に係る調光装置の構成例を示す図である。図４は、本技術に係る調光装置の構成例、及び本技術以外の技術に係る調光装置の構成例を示す図である。図５は、本技術を適用した第１の実施形態の調光装置の構成例を示す図である。図６は、本技術を適用した第２の実施形態の調光装置の構成例を示す図である。図７は、本技術を適用した第３の実施形態の調光装置の構成例を示す図である。図８は、本技術を適用した第４の実施形態の調光装置の構成例を示す図である。図９は、本技術に係る調光装置の構成例、及び本技術以外の技術に係る調光装置の構成例を示す図である。図１０は、本技術に係る調光装置の調光速度の結果、及び本技術以外の技術に係る調光装置の調光速度の結果を示す図である。図１１は、本技術に係る調光装置の構成例、及び本技術以外の技術に係る調光装置の構成例を示す図である。図１２は、本技術を適用した第５の実施形態の表示装置おける画像表示装置の概念図である。図１３は、本技術を適用した第５の実施形態の表示装置における画像表示装置の変形例の概念図である。図１４は、本技術を適用した第５の実施形態の表示装置を上方から眺めた模式図である。図１５は、本技術を適用した第５の実施形態の表示装置を正面から眺めた模式図である。

　以下、本技術を実施するための好適な形態について説明する。以下に説明する実施形態は、本技術の代表的な実施形態の一例を示したものであり、これにより本技術の範囲が狭く解釈されることはない。なお、特に断りがない限り、図面において、「上」とは図中の上方向又は上側を意味し、「下」とは、図中の下方向又は下側を意味し、「左」とは図中の左方向又は左側を意味し、「右」とは図中の右方向又は右側を意味する。また、図面を用いた説明においては、同一又は同等の要素又は部材には同一の符号を付し、重複する説明は、特別な事情がない限り、省略する。

　なお、説明は以下の順序で行う。
　１．本技術の概要
　２．第１の実施形態（調光装置の例１）
　３．第２の実施形態（調光装置の例２）
　４．第３の実施形態（調光装置の例３）
　５．第４の実施形態（調光装置の例４）
　６．第５の実施形態（表示装置の例１）

＜１．本技術の概要＞
　まず、本技術の概要について説明をする。本技術は、調光装置、画像表示装置及び表示装置に関するものである。

　本技術に係る調光装置においては、第１電極（上の透明電極）の周囲に沿って第１金属電極配線が形成され、第２電極（下の透明電極）の周囲に沿って第２金属電極配線が形成される。そして、本技術に係る調光装置においては、第２金属電極配線を覆うように絶縁体（絶縁層）が形成されてよく、この絶縁体（絶縁層）の形成によって、第１金属電極配線と第２金属電極配線との間において絶縁性を確保することできる。

　本技術に係る調光装置によれば、動作速度の向上、狭額縁化、作製の簡易化に伴う作製コストダウン、３Ｄ曲面への調光装置の作製の容易化を実現することができる。

　全固体の調光装置（エレクトロクロミック（ＥＣ）素子）は、基板側に、スパッタ、蒸着、その他の成膜方式によって、第２電極（下の透明電極）と、電圧を印加すると透過率が変わる調光（ＥＣ）層と、第１電極（上の透明電極）との順に成膜して、製造され得る。透明電極である第１電極及び第２電極は、金属と比較すると抵抗が高いため、より効率良く電圧を印加するため、第１電極（上の透明電極）及び第２電極（下の透明電極）の周囲の少なくとも一部に、第１電極（上の透明電極）及び第２電極（下の透明電極）に接する金属電極配線（金属電極配線に接続される電極引き出し部を配してもよい。）を形成する。形成方法は、スパッタ、蒸着、金属ペースト塗布、メッキ等技術で行う。

　本技術に係る調光装置は、第１電極（上の透明電極）と、第１電極と対向する第２電極（下の透明電極）と、第１電極と第２電極との間に配されている調光層と、第１電極に接して、第１電極の周囲の少なくとも一部に形成されている第１金属電極配線と、第２電極に接して、第２電極の周囲の少なくとも一部に形成されている第２金属電極配線と、を備える、調光装置である。

　そして、本技術に係る調光装置は、絶縁体（絶縁層）を更に備えてもよい。絶縁体（絶縁層）は、第１金属電極配線と第２金属電極配線との間に形成されてよい。この絶縁体（絶縁層）を設けることで、第２金属電極配線（下金属電極配線）の上側（直上でもよい。）、又は、第２金属電極配線（下金属電極配線）に近接した場所に第１金属電極配線（上金属電極配線）を形成することができる。

　また、本技術に係る調光装置においては、外部から電圧を印加するために、調光層の外側に、第１金属電極配線（上金属電極配線）及び第２金属電極配線（下金属電極配線）のそれぞれにつながる電極パッド部を設けてもよい。上述したとおり、第２金属電極配線（下金属電極配線）上に絶縁体を設けることで、第１金属電極配線（上金属電極配線）が、第２金属電極配線（下金属電極配線）と立体的に交差できるようになるため、第２金属電極配線（下金属電極配線）に接続される第２電極パッド部（下電極バッド部）がない箇所であれば、任意に（随意に）、第１金属電極配線（上金属電極配線）に接続される第１電極パッド部（上電極バッド部）を引き出すことができる。

　まず、図１～図２を用いて説明をする。図１は、本技術に係る調光装置の構成例、及び本技術以外の技術に係る調光装置の構成例を示す図である。図２は、本技術に係る調光装置の構成例を示す図である。

　より詳しくは、図１Ａ－２は、本技術以外の技術に係る第１例の調光装置１０１－１の上面図（平面レイアウト図）であり、図１Ａ－１は、図１Ａ－２に示されるＡ１Ａ－Ｂ１Ａに従った調光装置１０１－１の断面図であり、図１Ｂ－２は、本技術に係る第１例の調光装置１０１－２の上面図（平面レイアウト図）であり、図１Ｂ－１は、図１Ｂ－２に示されるＡ１Ｂ－Ｂ１Ｂに従った調光装置１０１－２の断面図であり、図１Ｃ－２は、本技術に係る第２例の調光装置１０１－３の上面図（平面レイアウト図）であり、図１Ｃ－１は、図１Ｃ－２に示されるＡ１Ｃ－２－Ｂ１Ｃ－２に従った調光装置１０１－３の断面図である。図２Ａは、図１Ｃ－２に示されるＡ１Ｃ－１－Ｂ１Ｃ－１に従った調光装置１０１－３の断面図であり、図２Ｂは、図１Ｃ－２に示されるＡ１Ｃ－３－Ｂ１Ｃ－３に従った調光装置１０１－３の断面図である。

　調光装置１０１－１は、第１電極４（透明電極）と、第１電極４と対向して基板９上に形成された第２電極８（透明電極）と、第１電極４と第２電極８との間に配されている調光層と、金属配線１１と、金属配線２１と、を備える。調光層は、第１電極（透明電極）４側から順に、還元着色層５と、電解質層６と、酸化着色層７とから構成されている。低抵抗の金属配線１１は、１本の配線から構成されて、図１Ａ－２に示されるように、第１電極４の右端上に設けられ、図１Ａ－２に示されるように、第１電極４の右短辺に沿って設けられている。一方、低抵抗の金属配線２１は、１本の配線から構成されて、図１Ａ－１に示されるように、第２電極８の左端上（段差構造を構成するテラス部上）に設けられ、図１Ａ－２に示されるように、第２電極８の左短辺（第１電極４の左短辺の外側）に沿って設けられている。すなわち、金属の配線１１と、金属の配線２１とは対向して配置されている。金属の配線１１と金属の配線２１とが対向して配置されているので、平面視における調光装置１０１－１の面積を大きくすると、電圧を印加して着消色動作の際の電圧降下が大きくなり、調光動作が遅くなるおそれがある。なお、後述する調光装置１０３－２及び１０４－２においては、外部電源からの電圧を印加するために設けられて、金属配線１１に接続されている第１電極パッド部１１ａ、及び外部電源からの電圧を印加するために設けられて、金属配線２１に接続されている第２電極パッド部２１ａも、対向して配置されている。

　調光装置１０１－２は、第１電極４と、第１電極４と対向して基板９上に形成された第２電極８と、第１電極４と第２電極８との間に配されている調光層と、第１電極４に接して、第１電極４の全周囲に形成されている第１金属電極配線１２と、第２電極８に接して、第２電極８の全周囲に形成されている第２金属電極配線２２と、を備える。調光層は、第１電極（透明電極）４側から順に、還元着色層５と、電解質層６と、酸化着色層７とから構成されている。第１金属電極配線１２が、第１電極４の全周囲に形成されて、第２金属電極配線２２が、第２電極８の全周囲に形成されているので、電圧を印加して着消色動作の際の電圧降下を抑制することができる。なお、第１金属電極配線１２は、第１電極４の周囲の一部に形成されてもよいし、第２金属電極配線２２は、第２電極８の周囲の一部に形成されてもよい。

　調光装置１０１－３は、第１電極４と、第１電極４と対向する第２電極８と、第１電極４と第２電極８との間に配されている調光層と、第１電極４に接して、第１電極４の全周囲に形成されている第１金属電極配線１と、第２電極８に接して、第２電極８の全周囲に形成されている第２金属電極配線２と、第１金属電極配線１と第２金属電極配線２との間に形成されている絶縁体３（絶縁層）と、を備える。調光層は、第１電極（透明電極）４側から順に、還元着色層５と、電解質層６と、酸化着色層７とから構成されている。第１金属電極配線１が、第１電極４の全周囲に形成されて、第２金属電極配線２が、第２電極８の全周囲に形成されているので、電圧を印加して着消色動作の際の電圧降下を抑制することができる。また、絶縁体３（絶縁層）を介して（絶縁体３（絶縁層）を挟んで）、第１金属電極配線１と第２金属電極配線２とが互いに近接しているので（第１金属電極配線１と第２金属電極配線２とが重なっていてもよい。）、狭額縁化が可能である。さらに、上述したとおり、第１金属電極配線１と第２金属電極配線２との間に絶縁体３（絶縁層）が形成されているので、第１金属電極配線１と第２金属電極配線２とが互いに立体交差されているので、電極引き出しが容易となる。すなわち、外部電源からの電圧を印加するために設けられて、金属配線２に接続されている第２電極パッド部２ａが配置されていないところであれば、どこでも、外部電源からの電圧を印加するために設けられて、金属配線１に接続されている第１電極パッド部１ａを引き出すことができる。なお、第１金属電極配線１は、第１電極４の周囲の一部に形成されてもよいし、第２金属電極配線２は、第２電極８の周囲の一部に形成されてもよい。

　第１電極パッド部１ａは、図２Ａに示されるように、基板９上に、絶縁体３（絶縁層）を覆うように形成されて、絶縁体３（絶縁層）が覆われていない第１電極パッド部１ａの左側面部や上面部と、外部電源（不図示）とが電気的に接続され得る。一方、第２電極パッド部２ａは、図２Ｂに示されるように、基板９上に、第２電極パッド部２ａの右上部は、絶縁体３（絶縁層）に覆われて形成されて、第２電極パッド部２ａの右下部で第２電極８と電気的に接続し、絶縁体３（絶縁層）が覆われていない第２電極パッド部２ａの左側面部や上面部と外部電源（不図示）とが電気的に接続され得る。

　ところで、一つの技術として、全固体の調光装置（調光素子）において、上下の透明電極間で電圧を印加した際に、ショートせず、調光層（調光膜）にのみ電圧が印加されるようにするために、２段以上の段差構造が設けられている場合がある。

・調光動作について
　段差構造を設けるため、上下の引き出しの金属電極配線の位置は、対向した位置になる場合が多い。このような構造を用いた場合、調光装置（調光素子）の面積を大きくすると、上下の引き出しの金属電極配線の間隔が大きくなる。また、調光装置（調光素子）の面積が大きくなると、着消色時に流す電流が、調光装置（調光素子）の面積に応じて増える。着消色動作の際に、大面積化により、抵抗が高い透明電極を電流が流れる距離大きくなる、さらに、流れる電流も増えることにより、電圧降下が起こりやすく、着消色が遅くなることがある。

・額縁について
　基板に対し、エリア規制をしたマスクを重ねて成膜を行うことで、それぞれの膜を部分的に、成膜したいエリアにのみ、成膜を行う。段差構造は、各膜の成膜するエリアを少しずつ、ずらすことで、段差を形成している。メカ精度、マスク抑え精度にもよるが、リークを発生させないためには、各段に、例えば１ｍｍ程度のテラス部を設ける必要があり、結果的に額縁（調光しない領域）が、調光装置（調光素子）の周囲部に、例えば３ｍｍ程度で生じてしまう。

・製造コストについて
　上記で説明したとおり、段差構造は、マスクを用いて、各層の成膜エリアを少しずつずらすことで、形成されている。２段の段差を形成するために、少なくともマスク交換が2度必要で、3度に分けて調光膜を成膜する必要がある。スパッタや蒸着などの真空系装置で成膜を行う場合、３度成膜するためには、毎回装置からの取り出しが必要で、その度に、マスク交換等作業のため作製する際に人手がかかる、真空引きが必要となり、装置の処理能力（一定時間内での成膜可能枚数）を低下させる等の問題が生じる。これらは、結果的に、作製される調光装置（調光素子）の製造コストのアップにつながることがある。

・３次元の曲面構造を有する調光装置（調光素子）の作製について
　上記で説明したとおり、段差構造を設けるために、マスクでエリア規制を行い、成膜を行っている。平面の場合、安価で作製可能な開口部を設けた板状マスクを平面の基板に重ねることでエリア規制を行うことができる。しかしながら、３次元の曲面構造を有する調光装置（調光素子）の作製する場合、曲面の基板にたいして、安価な平面マスクでは、重ねても空間が空いてしまい、エリア規制ができない。基板の曲面に合わせたマスクを作製する場合、マスクの費用が、非常に高くなり、コストアップにつながることがある。

　上記で説明をした、透明電極での電圧降下による調光速度の低下に対する対策として、例えば、本技術以外の技術として、第２例、第３例及び第４例が挙げられる。第２例～第４例について、図３及び図４を参照しながら、説明をする。

　図３及び図４は、本技術に係る調光装置の構成例、及び本技術以外の技術に係る調光装置の構成例を示す図である。

　より詳しくは、図３Ａ－２は、本技術以外の技術に係る第２例の調光装置１０３－１の上面図（平面レイアウト図）であり、図３Ａ－１は、図３Ａ－２に示されるＡ３Ａ－１－Ｂ３Ａ－１及びＡ３Ａ－２－Ｂ３Ａ－２に従った調光装置１０３－１の断面図であり、図３Ｂ－２は、本技術以外の技術に係る第１例の調光装置１０３－２の上面図（平面レイアウト図）であり、図３Ｂ－１は、図３Ｂ－２に示されるＡ３Ｂ－Ｂ３Ｂに従った調光装置１０３－２の断面図であり、図３Ｃ－２は、本技術に係る第２例の調光装置１０３－３の上面図（平面レイアウト図）であり、図３Ｃ－１は、図３Ｃ－２に示されるＡ３Ｃ－Ｂ３Ｃに従った調光装置１０３－３の断面図である。

　図４Ａ－２は、本技術以外の技術に係る第４例の調光装置１０４－１の上面図（平面レイアウト図）であり、図４Ａ－１は、図４Ａ－２に示されるＡ４Ａ－１－Ｂ４Ａ－１及びＡ４Ａ－２－Ｂ４Ａ－２に従った調光装置１０４－１の断面図であり、図４Ｂ－２は、本技術以外の技術に係る第１例の調光装置１０４－２の上面図（平面レイアウト図）であり、図４Ｂ－１は、図４Ｂ－２に示されるＡ４Ｂ－Ｂ４Ｂに従った調光装置１０４－２の断面図であり、図４Ｃ－２は、本技術に係る第２例の調光装置１０４－３の上面図（平面レイアウト図）であり、図４Ｃ－１は、図４Ｃ－２に示されるＡ４Ｃ－Ｂ４Ｃに従った調光装置１０４－３の断面図である。

　本技術以外の技術に係る第２例及び第３例では、抵抗が高い第１電極４（透明電極）の上部に細いストライプ状の低抵抗の金属から構成される配線１１－１（１１－１ａ）が形成され、そして、抵抗が高い第２電極８（透明電極）の下部に細いストライプ状の低抵抗の金属から構成される配線２１－１（２１－１ａ）が形成されているか、又はメッシュ状に配線を形成することで（第３例）、見かけ上、第１電極４（透明電極）及び第２電極８（透明電極）の抵抗を下げている。

　このようにすることで、着消色動作時に電流が流れた際の電圧降下が抑制され、着色動作の遅延は緩和される。しかしながら、この第２例及び第３例では、調光装置（調光素子）の面内に、透明ではない電極がストライプ状（第２例）、メッシュ状（第３例）に形成されてしまい、調光装置（調光素子）として均一な透明性が損なわれる。

　本技術以外の技術に係る第４例における、抵抗の高い透明電極を低抵抗の金属配線で補助して抵抗を下げる方針は、上述した本技術以外の技術に係る第２例及び第３例と同様であるが、調光エリアの中心部は避け，対向する取り出し電極部２１－２ａ及び１１－２ａから、上下の第１電極４（透明電極）及び第２電極８（透明電極）のそれぞれの端部に沿って金属の配線の形成を行う（配線１１－２（１１－２ａ）及び配線２１－２（２１－２ａ））。

　しかしながら、この第４例の場合、上述した、額縁が大きくなることや、製造コスト（作製コスト）が高くなることや、３次元の曲面構造を有する調光装置（調光素子）の作製が難しいこと改善されないおそれがある。

　額縁が大きくなることについては、上下電極間のリーク対策に、段差構造を設けているため、テラス部を設ける必要があるためである。さらに、図４Ａ－１及び図４Ａ－２に示されるように、金属の上配線１１－２（１１－２ａ）と、金属の下配線２１－２（２１－２ａ）とが、段差構造を挟んで形成される必要があり、額縁部がより広くなることとなる。この第４例では、段差構造部で、絶縁性を確保しているため、金属の上配線１１－２（１１－２ａ）は、段差構造部をまたぐことができない。そのため、金属の上配線１１－２（１１－２ａ）の引き出しは、段差構造部ではない場所に限られ、デザイン上の制約につながることとなる。

　本技術はこのような状況を鑑みてなされたものである。本技術によれば、少なくとも、下記の５点が実現され得る。
１．動作速度が上がり、調光装置（調光素子）の大面積化による動作速度低下を緩和できる。
２．狭額縁化が可能となる。
３．電極パッド部（電極取り出し部）設置場所の自由度を高くすることができる。
４．調光装置の製造コストを抑制でき、調光装置を安価に製造することができる。
５．メガネレンズのような、３Ｄ曲面への調光装置（調光素子）の作製が可能になる。

　上記５点について更に詳細に説明をする。

・動作速度が上がり、調光装置（調光素子）の大面積化による動作速度低下を緩和できることについて
　図９及び図１０を用いて説明をする。図９は、本技術に係る調光装置の構成例、及び本技術以外の技術に係る調光装置の構成例を示す図であり、より詳しくは、図９Ａ－２は、本技術以外の技術に係る第１例の調光装置１０９－１の上面図（平面レイアウト図）であり、図９Ａ－１は、図９Ａ－２に示されるＡ９Ａ－Ｂ９Ａに従った調光装置１０９－１の断面図であり、図９Ｂ－２は、本技術に係る第２例の調光装置１０９－２の上面図（平面レイアウト図）であり、図９Ｂ－１は、図９Ｂ－２に示されるＡ９Ｂ－Ｂ９Ｂに従った調光装置１０９－２の断面図である。

　調光装置１０９－１には、リーク電流対策のために段差構造が設けられている。そして、低抵抗の金属配線１１は、１本の配線から構成されて、図９Ａ－１に示されるように、第１電極４の右端上に設けられ、図９Ａ－２に示されるように、第１電極４の右短辺に沿って設けられている。一方、低抵抗の金属配線２１は、１本の配線から構成されて、図９Ａ－１に示されるように、第２電極８の左端上（段差構造を構成するテラス部上）に設けられ、図９Ａ－２に示されるように、第２電極８の左短辺（第１電極４の左短辺の外側）に沿って設けられている。すなわち、金属の配線１１と、金属の配線２１とは対向して配置されている。

　本技術に係る調光装置１０９－２では、基板９上に第２電極８（下透明電極）が形成されて、第２電極８（下透明電極）の周囲に沿って、第２金属電極配線２（下金属電極配線）が形成され、第２金属電極配線２（下金属配線）上に絶縁体３（絶縁層）が形成されて、続いて、調光層を構成する酸化着色層７、電解質層６及び還元着色層５がこの順で形成され、さらに、還元着色層５上に第１電極４（上透明電極）が形成されて、第１電極４（上透明電極）の周囲に沿って、第１金属電極配線１（上金属電極配線）が形成される。

　図１０は、本技術に係る調光装置の調光速度の結果、及び本技術以外の技術に係る調光装置の調光速度の結果を示す図であり、詳しくは、本技術に係る調光装置の調光速度と、本技術以外の技術の第５例に係る調光装置の調光速度との比較結果を示す図である。図１０における横軸は時間を示し、縦軸は透過率を示す。参照符号Ｌ１は、本技術に係る調光装置に対して、時間の経過にともなって着色のための電圧を印加した際の、時間に対する透過率の変化を示し、点Ｐ１－１～点Ｐ１－４（計４点）がプロットされたグラフであり、参照符号Ｌ２は、本技術以外の技術の第５例に係る調光装置に対して、時間の経過にともなって着色のための電圧を印加した際の、時間に対する透過率の変化を示し、点Ｐ２－１～点Ｐ２－４（計４点）がプロットされたグラフである。

　この透過率変化の比較を参照すると（グラフＬ１vsグラフＬ２）、例えば、透過率１５％への到達時間で比較すると（点Ｐ１－２と点Ｐ２－３との比較）、本技術以外の技術の第５例に係る調光装置に対して、本技術に係る調光装置では、１／３程度の時間で到達していることがわかる。このように、本技術を用いることで、動作速度が上がる。この傾向は、素子が大型になると顕著であり、本技術以外の技術であれば、素子が大型化すると、動作速度が著しく低下し、商品性の低下を招いた。本技術では、大型化した場合でも，本技術以外の技術より、動作速度が速いため、商品性が維持される。

・狭額縁化について
　本技術に係る調光装置によれば、調光動作をしない、調光装置の周囲のエリアを非常に小さくすることができる。

・電極パッド部（電極取り出し部）設置場所の自由度を高くすることができることについて
　図１１を用いて説明をする。図１１は、本技術に係る調光装置の構成例、及び本技術以外の技術に係る調光装置の構成例を示す図である。より詳しくは、図１１Ａ－２は、本技術以外の技術に係る第４例の調光装置１１１－１の上面図（平面レイアウト図）であり、図１１Ａ－１は、図１１Ａ－２に示されるＡ１１Ａ－１－Ｂ１１Ａ－１及びＡ１１Ａ－２－Ｂ１１Ａ－２に従った調光装置１１１－１の断面図であり、図１１Ｂ－２は、本技術以外の技術に係る第１例の調光装置１１１－２の上面図（平面レイアウト図）であり、図１１Ｂ－１は、図１１Ｂ－２に示されるＡ１１Ｂ－Ｂ１１Ｂに従った調光装置１１１－２の断面図であり、図１１Ｃ－２は、本技術に係る第２例の調光装置１１１－３の上面図（平面レイアウト図）であり、図１１Ｃ－１は、図１１Ｃ－２に示されるＡ１１Ｃ－Ｂ１１Ｃに従った調光装置１０４－３の断面図である。

　本技術以外の技術に係る第４例の調光装置１１１－１では、上述のとおり、金属の上配線１１－２（１１－２ａ）及び金属の下配線２１－２（２１－２ａ）のそれぞれを、第１電極４（透明電極）及び第２電極８（透明電極）のそれぞれの周囲に延伸させることで、第１電極４（透明電極）及び第２電極８（透明電極）の見かけ上の抵抗を下げている。しかしながら、この第４例の場合、リーク対策として、段差構造を設けているため、額縁部が、少なくとも、配線２本分（上配線１１－２（１１－２ａ）及び下配線２１－２（２１－２ａ））と段差テラス幅分とが必要であり、広くなる。

　本技術に係る第２例の調光装置１１１－３では、第２金属電極配線２（下金属電極配線）上に絶縁体３（絶縁層）を介して、第１金属電極配線１（上金属電極配線）を重ねることができるため、電極幅1本分相当まで、額縁部を狭くすることができる。また、図１１Ｃ－１及びＣ－２に示されるように、絶縁体３（絶縁層）があるため、第１金属電極配線１（上金属電極配線）は、第２金属電極配線２（下金属電極配線）上を乗り越えることもできるため、第１電極パッド１ａ（電極取り出し部）を、第２電極パッド２ａ（電極取り出し部）がない位置であれば、何処にでも作製することができる。

・調光装置の製造コストを抑制でき、調光装置を安価に製造することができることについて
　リーク対策のため、２段の段差構造はマスクを用いて、各層の成膜エリアを少しずつずらすことで、形成される。２段の段差を形成するために、少なくともマスク交換が２度必要で、3度に分けて調光層を成膜する必要がある。スパッタや蒸着などの真空系装置で成膜を行う場合、3度成膜するためには、毎回装置からの取り出しが必要で、その度に、マスク交換等作業のため作製する際に人手がかかる。また、毎度、真空引きが必要となり、装置の処理能力（一定時間内での成膜可能枚数）を低下させる。これらは結果的に、作製するEC素子のコストアップにつながる。

　本技術では、段差ではなく、絶縁体（絶縁層）により、リーク対策を行うことで、成膜回数を３回から、２回に減らすことができる。成膜回数を減らすことで、作業する手間が減る、装置の処理能力があがる等のメリットがあり、結果的に、本技術以外の技術より安価に作成ができるようになる。

・メガネレンズのような、３Ｄ曲面への調光装置（調光素子）の作製が可能になることについて
　段差構造を設けるために、マスクでエリア規制を行い、成膜を行っている。平面上の調光装置の場合、安価で作製可能な開口部を設けた板状マスクを平面の基板に重ねることでエリア規制を行うことができる。

　しかしながら、３Ｄ曲面構造を有する調光装置を作製する場合、曲面の基板に対して、安価な平面マスクでは、重ねても空間が空いてしまい、エリア規制ができない。基板の曲面に合わせたマスクを作製する場合、マスク費用が、非常に高くなり、コストアップにつながる。

　本技術の場合、段差ではなく絶縁体によるリーク対策を行う。絶縁体は、樹脂等、塗布技術により作製可能であり、例えば、ディスペンサ、印刷等の技術で形成することができる。この場合、３Ｄ曲面構造も容易に形成することができるため、3D曲面への調光装置の作製が可能になる。

　以下、本技術を実施するための好適な形態について図面を参照しながら詳細に説明する。以下に説明する実施形態は、本技術の代表的な実施形態の一例を示したものであり、これにより本技術の範囲が狭く解釈されることはない。

＜２．第１の実施形態（調光装置の例１）＞
　本技術に係る第１の実施形態（調光装置の例１）の調光装置は、第１電極と、第１電極と対向する第２電極と、第１電極と第２電極との間に配されている調光層と、第１電極に接して、第１電極の全周囲に形成されている第１金属電極配線と、第２電極に接して、第２電極の全周囲に形成されている第２金属電極配線と、第１金属電極配線と第２金属電極配線との間に形成されている絶縁体と、を少なくとも備える。

　第１金属電極配線は、第１電極に接して第１電極の全周囲に形成されていればよく、第１金属電極配線の少なくとも一部が、第１電極の上面に形成されてもよいし、第１電極の側面に形成されてもよいし、第１電極の上面及び側面の両方に形成されてもよい。

　第２金属電極配線は、第２電極に接して第２電極の全周囲に形成されていればよく、第２金属電極配線の少なくとも一部が、第２電極の上面に形成されてもよいし、第２電極の側面に形成されてもよいし、第２電極の上面及び側面の両方に形成されてもよい。

　本技術に係る第１の実施形態の調光装置は、例えば、平面視での第１電極の大きさ（エリア面積）と、平面視での第２電極の大きさ（エリア面積）とが互いに異なって、断面視で段差構造を有してもよいし、例えば、平面視での第１電極の大きさ（エリア面積）と、平面視での第２電極の大きさ（エリア面積）とが互いに略同一で、断面視で段差構造を有していなくてもよい。

　第１電極は、パターニングされていてもよいし、パターニングされていなくともよい。第２電極も、パターニングされていてもよいし、パターニングされていなくともよい。第１電極及び第２電極を構成する材料として、透明導電材料、具体的には、インジウム－スズ複合酸化物（ＩＴＯ、ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ、ＳｎドープのＩｎ_２Ｏ_３、結晶性ＩＴＯ及びアモルファスＩＴＯを含む）、フッ素ドープＳｎＯ_２（ＦＴＯ）、ＩＦＯ（ＦドープのＩｎ_２Ｏ_３）、アンチモンドープＳｎＯ_２（ＡＴＯ）、ＳｎＯ_２、ＺｎＯ（ＡｌドープのＺｎＯやＢドープのＺｎＯを含む）、インジウム－亜鉛複合酸化物（ＩＺＯ，ＩｎｄｉｕｍＺｉｎｃＯｘｉｄｅ）、スピネル型酸化物、ＹｂＦｅ_２Ｏ_４構造を有する酸化物、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン等の導電性高分子、カーボンナノチューブ、グラフェン等を挙げることができるが、これらに限定されるものではなく、また、これらを２種類以上組み合わせて用いることもできる。あるいは又、第１電極及び第２電極を、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、チタン等の金属、あるいは、合金から成る細線から構成することができる。

　第１金属電極配線及び第２金属電極配線は、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、チタン等の金属、あるいは、これらの合金から構成することができるし、あるいは又、第１金属電極配線及び第２金属電極配線は、銀ペーストや銅ペーストを用いて形成することもできる。第１金属電極配線及び第２金属電極配線は、第１電極及び第２電極よりも電気抵抗が低い。

　第１電極及び第２電極、並びに、第１金属電極配線及び第２金属電極配線は、真空蒸着法やスパッタリング法等の各種物理的気相成長法（ＰＶＤ法）、各種化学的気相成長法（ＣＶＤ法）、各種塗布法、各種印刷法等に基づき形成することができるし、パターニングは、エッチング法、リフトオフ法、各種マスク（例えば、メタルマスク）を用いる方法等、任意の方法で行うことができる。

　調光層は、無機又は有機のエレクトロクロミック材料の酸化還元反応によって発生する物質の色変化を応用した一種の光シャッタから成る形態とすることができる。より具体的には、調光層は、無機又は有機のエレクトロクロミック材料を含む形態とすることができる。すなわち、調光層は、例えば、酸化タングステンから成る還元着色層、酸化タンタルから成る電解質層及びイリジウム原子を含む酸化着色層の積層構造を有する形態とすることができ、この場合、酸化着色層は酸化イリジウムスズ系材料から成る形態とすることができる。具体的には、調光層は、第１電極側から、ＷＯ_３層／Ｔａ_２Ｏ_５層／Ｉｒ_ＸＳｎ_１－ＸＯ層といった無機エレクトロクロミック材料層の積層構造を有する形態とすることができるし、あるいは又、第１電極側からＷＯ_３層／Ｔａ_２Ｏ_５層／ＩｒＯ_Ｘ層といった無機エレクトロクロミック材料層の積層構造を有する形態とすることができる。なお、第２電極側から、ＷＯ_３層／Ｔａ_２Ｏ_５層／Ｉｒ_ＸＳｎ_１－ＸＯ層といった無機エレクトロクロミック材料層の積層構造を有する形態でもよいし、あるいは又、第２電極側から、ＷＯ_３層／Ｔａ_２Ｏ_５層／ＩｒＯ_Ｘ層といった無機エレクトロクロミック材料層の積層構造を有する形態でもよい。ＷＯ３層の代わりに、ＭｏＯ_３層やＶ_２Ｏ_５層を用いることができる。また、ＩｒＯ_Ｘ層の代わりに、ＺｒＯ_２層、リン酸ジルコニウム層を用いることができるし、あるいは又、プルシアンブルー錯体／ニッケル置換プルシアンブルー錯体等を用いることもできるし、ビオロゲン誘導体、ポリチオフェン誘導体、プルシアンブルー誘導体等の有機材料を挙げることができるし、酸化着色層を構成する材料として、その他、酸化ロジウム（ＲｈＯ_Ｘ）、酸化ニッケル（ＮｉＯ_Ｘ）、酸化クロム（ＣｒＯ_Ｘ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_Ｘ）、リン酸ジルコニウム、水酸化ニッケル、塩化銅等の無機材料や、金属錯体（プルシアンブルー錯体、ルテニウムパープル錯体）、ペンタシアノカルボニル鉄酸鉄；アミン誘導体、フェナジン、ビオロゲン誘導体等の有機材料を挙げることができる。また、電解質層として、その他、炭酸プロピレン、イオン液体、アセトニトリルやエチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のゲル、イオンポリマーを挙げることができる。

　調光層の形成においては、スパッタ、蒸着他真空成膜技術や、塗布後焼成技術や、その他の膜形成技術が用いられ得る。

　ＷＯ_３層／Ｔａ_２Ｏ_５層／Ｉｒ_ＸＳｎ_１－ＸＯ層から構成される無機エレクトロクロミック材料層の積層構造を有する調光層の場合、以下の反応式となる。

　Ｉｒ_ＸＳｎ_１－ＸＯ層中では、ＩｒとＨ_２Ｏとが反応して、水酸化イリジウムＩｒ（ＯＨ）_ｎとして存在する。第１電極に負の電位を、第２電極に正の電位を加えると、Ｉｒ_ＸＳｎ_１－ＸＯ層からＴａ_２Ｏ_５層へのプロトンＨ^＋の移動、第２電極への電子放出が生じ、次の酸化反応が進んで、Ｉｒ_ＸＳｎ_１－ＸＯ層は着色する。

　Ｉｒ（ＯＨ）_ｎ→ＩｒＯ_Ｘ（ＯＨ）_ｎ－Ｘ（着色）＋Ｘ・Ｈ^＋＋Ｘ・ｅ^－

　一方、Ｔａ_２Ｏ_５層中のプロトンＨ^＋がＷＯ_３層中へ移動し、第１電極から電子がＷＯ_３層に注入され、ＷＯ_３層では、次の還元反応が進んでＷＯ_３層は着色する。

　ＷＯ_３＋Ｘ・Ｈ^＋＋Ｘ・ｅ^－→ＨＸＷＯ_３（着色）

　これとは逆に、第１電極に正の電位を、第２電極に負の電位を加えると、Ｉｒ_ＸＳｎ_１－ＸＯ層では、上記と逆向きに還元反応が進み、消色し、ＷＯ_３層では、上記と逆向きに酸化反応が進み、消色する。なお、Ｔａ_２Ｏ_５層にはＨ_２Ｏが含まれており、第１電極、第２電極に電圧を印加することで電離し、プロトンＨ^＋、ＯＨ^－イオンの状態が含まれ、着色反応及び消色反応に寄与している。

　絶縁体（絶縁膜）の形成においては、絶縁性酸化膜等を成膜する技術や、絶縁性樹脂を塗布（印刷）し、その後に硬化（例えば、ＵＶ硬化、光硬化、熱硬化、開始剤を用いた硬化等）させる技術が用いられ得る。

　以下、本技術に係る第１の実施形態（調光装置の例１）の調光装置について、図５を用いて説明をする。図５は、本技術に係る第１の実施形態の調光装置の構成例を示す図であり、より詳しくは、図５Ｄは、本技術に係る第１の実施形態の調光装置である調光装置１０５の上面図であり、図５Ａは、図５Ｄに示されるＡ５１－Ｂ５１に従った調光装置１０５の断面図であり、図５Ｂは、図５Ｄに示されるＡ５２－Ｂ５２に従った調光装置１０５の断面図であり、図５Ｃは、図５Ｄに示されるＡ５３－Ｂ５３に従った調光装置１０５の断面図である。

　調光装置１０５は、第１電極４と、第１電極４と対向する第２電極８と、第１電極４と第２電極８との間に配されている調光層５６７と、第１電極４に接して、第１電極４の全周囲に形成されている第１金属電極配線１－１と、第２電極８に接して、第２電極８の全周囲に形成されている第２金属電極配線２－１と、第１金属電極配線１－１と第２金属電極配線２－１との間に形成されている絶縁体３－１と、を備える。

　調光装置１０５について更に詳しく説明をする。図５Ａ～図５Ｃに示されるように、透明又は不透明な基板９（例えば、ガラス、プラスチック等）上に，透明電極である第２電極８を形成する。基板９を構成するプラスチックとしては、例えば、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等が挙げられる。

　形成された第２電極８の全周囲に、低抵抗の第２金属電極配線（下金属配線）２－１を形成する（図５Ｄ）。この際、調光装置１－５に外部から、第２金属電極配線２－１を通して電圧を印加させるために，第２電極パッド部（第２電極引き出し部）２－１ａを同時に設けることができる。次に、第２金属電極配線２－１を覆うように、絶縁体（絶縁層）３－１の形成を行う。図５Ｃに示されるように、第２電極パッド部（第２電極引き出し部）２－１ａ上は、素子化後（調光装置１－５の作製後）、外部電源からの電圧の印加を、第２金属電極配線を通して行うために、絶縁体（絶縁層）３－１の形成を行わない。

　第２金属電極配線２－１と絶縁体（絶縁層）３－１とに覆われていない第２電極（透明電極）８上に、調光層５６７と、第１電極（透明電極）４とをこの順で形成する。調光層５６７と透明第１電極４とは、絶縁体（絶縁層）３－１をも覆うように形成されてよい。調光層５６７は、第１電極（透明電極）４側から順に、還元着色層５と、電解質層６と、酸化着色層７とから構成されている。

　さらに、形成された第１電極（透明電極）４の全周囲に、第２金属電極配線（下金属配線）２－１と絶縁体（絶縁層）３－１とを介して上下方向（図５Ａの上下方向）で重なる、又は水平方向（図５Ａの左右方向）で近接した位置に、第１金属電極配線（上金属配線）１－１を形成する（図５Ｄ）。

　このように、不透明な第１金属電極配線（上金属配線）１－１と、第２金属電極配線（下金属配線）２－１とを、調光装置１０５の上側（第１電極４側）から見て重ねる、又は近接させることで、着消色動作に寄与しない額縁部の最小化ができる。第１金属電極配線（上金属配線）１－１に対しても、外部からの電圧を印加できるように、第２電極パッド部（第２電極引き出し部）２－１ａと重ならない位置に、第１電極パッド部（第１電極引き出し部）１－１ａの形成を行う(図５Ｂ)。カバー基板等の形成等は公知の方法を用いて作製され得る。

　作製された調光装置１０５は、第１電極パッド部（第１電極引き出し部）１－１ａと第２電極パッド部（第２電極引き出し部）２－１ａとの間に電圧を印加することで，動作させることができる。調光装置１０５は、着色（遮光）および消色（透明化）動作時に、電流が流れるデバイスである。調光装置１０５では、抵抗の高い第１電極（透明電極）４の全周囲を抵抗の低い第１金属電極配線（上金属配線）１－１で囲み、抵抗の高い第２電極（透明電極）８の全周囲を抵抗の低い第２金属電極配線（上金属配線）２－１で囲むことで、見かけ上の抵抗が下がり、着消色動作時の電圧降下が少なく、高速に着消色動作ができる。

　以上、本技術に係る第１の実施形態（調光装置の例１）の調光装置について説明した内容は、特に技術的な矛盾がない限り、後述する本技術に係る第２～第４の実施形態の調光装置に適用することができる。

＜３．第２の実施形態（調光装置の例２）＞
　本技術に係る第２の実施形態（調光装置の例２）の調光装置は、第１電極と、第１電極と対向する第２電極と、第１電極と第２電極との間に配されている調光層と、第１電極に接して、第１電極の周囲の一部に形成されている第１金属電極配線と、第２電極に接して、第２電極の周囲の一部に形成されている第２金属電極配線と、第１金属電極配線と第２金属電極配線との間に形成されている絶縁体と、を少なくとも備える。

　第１金属電極配線は、第１電極に接して第１電極の周囲の一部に形成されていればよく、第１金属電極配線の少なくとも一部が、第１電極の上面に形成されてもよいし、第１電極の側面に形成されてもよいし、第１電極の上面及び側面の両方に形成されてもよい。

　第２金属電極配線は、第２電極に接して第２電極の周囲の一部に形成されていればよく、第２金属電極配線の少なくとも一部が、第２電極の上面に形成されてもよいし、第２電極の側面に形成されてもよいし、第２電極の上面及び側面の両方に形成されてもよい。

　本技術に係る第２の実施形態の調光装置は、例えば、平面視での第１電極の大きさ（エリア面積）と、平面視での第２電極の大きさ（エリア面積）とが互いに異なって、断面視で段差構造を有してもよいし、例えば、平面視での第１電極の大きさ（エリア面積）と、平面視での第２電極の大きさ（エリア面積）とが互いに略同一で、断面視で段差構造を有していなくてもよい。

　以下、本技術に係る第２の実施形態（調光装置の例２）の調光装置について、図６を用いて説明をする。図６は、本技術に係る第２の実施形態の調光装置の構成例を示す図であり、より詳しくは、図６Ｄは、本技術に係る第２の実施形態の調光装置である調光装置１０６の上面図であり、図６Ａは、図６Ｄに示されるＡ６１－Ｂ６１に従った調光装置１０６の断面図であり、図６Ｂは、図６Ｄに示されるＡ６２－Ｂ６２に従った調光装置１０６の断面図であり、図６Ｃは、図６Ｄに示されるＡ６３－Ｂ６３に従った調光装置１０６の断面図である。

　調光装置１０６は、第１電極４と、第１電極４と対向する第２電極８と、第１電極４と第２電極８との間に配されている調光層５６７と、第１電極４に接して、第１電極４の周囲の一部に形成されている第１金属電極配線１－２と、第２電極８に接して、第２電極８の周囲の一部に形成されている第２金属電極配線２－２と、第１金属電極配線１－２と第２金属電極配線２－２との間に形成されている絶縁体３－２と、を備える。

　第１電極パッド部（第１電極引き出し部）１－２ａ及び第２電極パッド部（第２電極引き出し部）２－２ａからの電圧印加した際、電圧降下を抑制すことが目的であるため、調光装置１０６においては、第１電極パッド部（第１電極引き出し部）１－２ａと第２電極パッド部（第２電極引き出し部）２－２ａ電極取り出し部とから遠い位置で、第１金属電極配線（上金属配線）１－２及び／又は第２金属電極配線（上金属配線）２－２が途切れていても（形成されていなくても）問題ない（図６Ｄに示されるＰ６領域。）。抵抗が高い第１電極（透明電極）４及び／又は第２電極（透明電極）８における導電距離を短くすることが効果的であり、調光装置に長辺、短辺が存在して、第１金属電極配線（上金属配線）及び／又は第２金属電極配線（上金属配線）で、第１電極及び／又は第２電極の周囲の一部を囲まないとき、調光装置１０６のように、長辺側に第１金属電極配線（上金属配線）１－２及び／又は第２金属電極配線（上金属配線）２－２を形成して、短辺側に、金属電極配線（上金属配線）１－２及び／又は第２金属電極配線（上金属配線）２－２を形成しない構造とした方が好適である。

　以上、本技術に係る第２の実施形態（調光装置の例２）の調光装置について説明した内容は、特に技術的な矛盾がない限り、前述した本技術に係る第１の実施形態の調光装置、及び後述する本技術に係る第３～第４の実施形態の調光装置に適用することができる。

＜４．第３の実施形態（調光装置の例３）＞
　本技術に係る第３の実施形態（調光装置の例３）の調光装置は、第１電極と、第１電極と対向する第２電極と、第１電極と第２電極との間に配されている調光層と、第１電極に接して、第１電極の周囲の少なくとも一部に形成されている第１金属電極配線と、第２電極に接して、第２電極の周囲の少なくとも一部に形成されている第２金属電極配線と、第１金属電極配線と第２金属電極配線との間に形成されている絶縁体と、を備える。そして、本技術に係る第３の実施形態（調光装置の例３）の調光装置は、３次元の曲面構造を有する。

　第１金属電極配線は、第１電極に接して第１電極の周囲の少なくとも一部に形成されていればよく、第１金属電極配線の少なくとも一部が、第１電極の上面に形成されてもよいし、第１電極の側面に形成されてもよいし、第１電極の上面及び側面の両方に形成されてもよい。

　第２金属電極配線は、第２電極に接して第２電極の周囲の少なくとも一部に形成されていればよく、第２金属電極配線の少なくとも一部が、第２電極の上面に形成されてもよいし、第２電極の側面に形成されてもよいし、第２電極の上面及び側面の両方に形成されてもよい。

　本技術に係る第３の実施形態の調光装置は、断面視で段差構造を有してもよいし、断面視で段差構造を有していなくてもよい。

　以下、本技術に係る第３の実施形態（調光装置の例３）の調光装置について、図７を用いて説明をする。図７は、本技術に係る第３の実施形態の調光装置の構成例を示す図であり、より詳しくは、図７Ａは、本技術に係る第３の実施形態の調光装置である調光装置１０７－１の断面図であり、図７Ｂは、本技術に係る第３の実施形態の調光装置である調光装置１０７－２の断面図である。

　調光装置１０７－１は、第１電極４－３Ａと、第１電極４－３Ａと対向する第２電極８－３Ａと、第１電極４－３Ａと第２電極８－３Ａとの間に配されている調光層５６７－３Ａと、第１電極４－３Ａに接して、第１電極４－３Ａの周囲の少なくとも一部に形成されている第１金属電極配線１－３Ａと、第２電極８－３Ａに接して、第２電極８－３Ａの周囲の少なくとも一部に形成されている第２金属電極配線２－３Ａと、第１金属電極配線１－３Ａと第２金属電極配線２－３Ａとの間に形成されている絶縁体３－３Ａと、を少なくとも備える。調光装置１０７－１は、３次元の曲面構造を有する。すなわち、図７Ａに示されるように、調光装置１０７－１は、略半球状の、領域Ｓ－１（調光装置１０７－１の略中心部）が凸状の３次元曲面である構造を有する。

　調光装置１０７－２は、第１電極４－３Ｂと、第１電極４－３Ｂと対向する第２電極８－３Ｂと、第１電極４－３Ｂと第２電極８－３Ｂとの間に配されている調光層５６７－３Ｂと、第１電極４－３Ｂに接して、第１電極４－３Ｂの周囲の少なくとも一部に形成されている第１金属電極配線１－３Ｂと、第２電極８－３Ｂに接して、第２電極８－３Ｂの周囲の少なくとも一部に形成されている第２金属電極配線２－３Ｂと、第１金属電極配線１－３Ｂと第２金属電極配線２－３Ｂとの間に形成されている絶縁体３－３Ｂと、を少なくとも備える。調光装置１０７－１は、３次元の曲面構造を有する。すなわち、図７Ｂに示されるように、調光装置１０７－２は、略半球状の、領域Ｓ－２（調光装置１０７－２の略中心部）が凹状の３次元曲面である構造を有する。

　表示装置の一例である頭部装着型ディスプレイ（ＨＭＤ）への使用や、透過率をコントロールできるサングラスへの使用を考慮すると、調光装置１０７－１及び１０７－２のように、平面ではなく、レンズのような３Ｄ曲面を有する調光装置が求められている。

　例えば、３Ｄ曲面の基板９－３Ａ又は９－３Ｂに対し、スパッタ等により第２電極８－３Ａ又８－３Ｂを形成した後、導電性ペーストのディスペンサ、印刷等の３Ｄ曲面に塗布形成できる技術により、第２金属電極配線２－３Ａ又は２０３Ｂ及び第２電極パッド部（第２電極引き出し部）（不図示）を形成し、その後、塗布型の絶縁層（樹脂絶縁体等）３－３Ａ又は３－３Ｂを、ディスペンサ、印刷等の技術により形成する。その後、調光層５６７－３Ａ又は５６７－３Ｂと、上第１電極４－３Ａ又は４－３Ｂをスパッタにより形成し、第１金属電極配線１－３Ａ又は１－３Ｂの形成を行うことにより、調光装置１０７－１又は１０７－２を作製することができる。以上より、３Ｄ曲面に対しても容易に調光装置を作製することができる。

　以上、本技術に係る第３の実施形態（調光装置の例３）の調光装置について説明した内容は、特に技術的な矛盾がない限り、前述した本技術に係る第１～第２の実施形態の調光装置、及び後述する本技術に係る第４の実施形態の調光装置に適用することができる。

＜５．第４の実施形態（調光装置の例４）＞
　本技術に係る第４の実施形態（調光装置の例４）の調光装置は、第１電極と、第１電極と対向する第２電極と、第１電極と第２電極との間に配されている調光層と、第１電極に接して、第１電極の周囲の少なくとも一部に形成されている第１金属電極配線と、第２電極に接して、第２電極の周囲の少なくとも一部に形成されている第２金属電極配線と、第１金属電極配線と第２金属電極配線との間に形成されている絶縁体と、を備える。本技術に係る第４の実施形態の調光装置においては、第２金属電極配線は、第２電極の前記調光層が配されている側とは反対側に形成されて、貫通電極を含む。貫通電極は、第２電極に接している。

　本技術に係る第４の実施形態の調光装置は、例えば、平面視での第１電極の大きさ（エリア面積）と、平面視での第２電極の大きさ（エリア面積）とが互いに異なって、断面視で段差構造を有してもよいし、例えば、平面視での第１電極の大きさ（エリア面積）と、平面視での第２電極の大きさ（エリア面積）とが互いに略同一で、断面視で段差構造を有していなくてもよい。

　以下、本技術に係る第４の実施形態（調光装置の例４）の調光装置について、図８を用いて説明をする。図８は、本技術に係る第４の実施形態の調光装置の構成例を示す図であり、より詳しくは、図８Ｂは、本技術に係る第４の実施形態の調光装置である調光装置１０８の上面図であり、図８Ａは、図８Ｂに示されるＡ８１－Ｂ８１に従った調光装置１０８の断面図である。

　調光装置１０８は、第１電極４と、第１電極４と対向する第２電極８と、第１電極４と第２電極８との間に配されている調光層５６７と、第１電極４に接して、第１電極４の全周囲に形成されている第１金属電極配線１－４と、第２電極８に接して、第２電極８の全周囲に形成されている第２金属電極配線２－４と、第１金属電極配線１－４と第２金属電極配線２－４との間に形成されている絶縁体３－４と、を少なくとも備える。

　調光装置１０８においては、図８Ａに示されるように、第２金属電極配線２－４は、第２電極（透明電極）８の調光層５６７が配されている側とは反対側に形成され、貫通電極２－４－１と配線２－４－２とから構成されている。そして、貫通電極２－４－１が、第２電極（透明電極）８に接している。

　例えば、基板９に対して、レーザでビア形成加工を行い、メッキ法や、導電性接着剤から構成されたビアを埋める方法等で貫通電極２－４－１の形成を行う。その後、第２電極（透明電極）８、絶縁体（絶縁層）３－４、調光層５６７、第１電極（透明電極）４及び第１金属電極配線１－４の順で形成する。

　このように形成することで、図８Ａに示されるよう、第１金属電極配線１－４と第２金属電極配線２－４とを上下方向（図８Ａ中の上下方向）に重ねることできる。そして、第１金属電極配線１－４に接続される第１電極パッド部（第１電極取り出し部）と第２金属電極配線１－２に接続される第２電極パッド部（第２電極取り出し部）とを設ける場合は、第１電極パッド部（第１電極取り出し部）と第２電極パッド部（第２電極取り出し部）とを、ずらして形成する必要がなく（例えば、図８Ｂにおいては、調光装置１０８の左側の短辺において、縦方向（上下方向）にずらして形成する必要がなく）、上下方向（図８Ａ中の上下方向）に重ねて形成することができる。また、第１金属電極配線１－４に接続される第１電極パッド部（第１電極取り出し部）と第２金属電極配線１－２に接続される第２電極パッド部（第２電極取り出し部）とを設けない場合は、第１金属電極配線１－４と第２金属電極配線２－４とを外部電源との電気接点とすることができ、調光しない箇所の最小化ができる。例えば、外部電源との電気接点としては、図８Ａに示されるように、上辺部１－４－１と下辺部１－４－２とを有する台形形状である第１金属電極配線１－４においては、上辺部１－４－１の長さより長さが大きい下辺部１－４－２を電気接点とすることができ、貫通電極２－４－１と配線２－４－２とから構成される第２金属電極配線２－４においては、水平方向（図８Ａの左右方向）に延在している配線２－４－２を電気接点とすることができる。

　以上、本技術に係る第４の実施形態（調光装置の例４）の調光装置について説明した内容は、特に技術的な矛盾がない限り、前述した本技術に係る第１～第３の実施形態の調光装置に適用することができる。

＜６．第５の実施形態（表示装置の例１）＞
　本技術に係る第８の実施形態（表示装置の例１）の表示装置は、観察者の頭部に装着されるフレームと、フレームに取り付けられた画像表示装置と、を備える。本技術に係る第８の実施形態（表示装置の例１）の表示装置としては、例えば、頭部装着型ディスプレイ（ＨＭＤ）が挙げられる。

　画像表示装置は、画像形成装置と、画像形成装置から出射された光に基づき虚像が形成される虚像形成領域を有する光学装置と、少なくとも虚像形成領域に対向して配され、外部から入射する外光の光量を調整する調光装置と、を含む。調光装置は、本技術に係る第１の実施形態～第４の実施形態の調光装置のうち、いずれか１つの実施形態の調光装置である。

　以下、本技術に係る第５の実施形態（表示装置の例１）の表示装置について、図１２～図１５を用いて説明をする。

　図１２は、本技術に係る第５の実施形態の表示装置が備える画像表示装置の概念図であり、図１３は、本技術に係る第５の実施形態の表示装置が備える画像表示装置の変形例の概念図である。図１４は、本技術に係る第５の実施形態の表示装置を上方から眺めた模式図であり、図１５は、本技術に係る第５の実施形態の表示装置を正面から眺めた模式図である。

　本技術に係る第５の実施形態の表示装置は、観察者２０Ｍの頭部に装着されるフレーム１０Ｍ、及び、フレーム１０Ｍに取り付けられた画像表示装置１００Ｍを備えている。

　そして、画像表示装置１００Ｍは、画像形成装置１１１Ｍ、画像形成装置１１１Ｍから出射された光に基づき虚像が形成される虚像形成領域を有する光学装置１２０Ｍ及び、少なくとも虚像形成領域に対向して配置され、外部から入射する外光の光量を調整する調光装置７００Ｍ、を備えている。調光装置７００Ｍは、例えば、上述した本技術に係る第１の実施形態～第４の実施形態の調光装置のうち、いずれか１つの実施形態の調光装置が挙げられる。調光装置７００Ｍは、調光装置７００Ｍが備える調光層（調光層は例えば、上述した調光層５６７である。）に電流を流すことで生じる調光層を構成する物質の電気化学的酸化還元反応に基づく色変化を応用して光の透過率を所定の時間内で好適に変化させることができる。なお、本技術に係る第５の実施形態の表示装置は、具体的には、２つの画像表示装置を備えた両眼型としたが、１つ備えた片眼型としてもよい。また、画像形成装置１１１Ｍは、単色の画像を表示してもよいし、複数色の画像を表示してもよい。

　さらに、画像表示装置１００Ｍにあっては、画像形成装置１１１Ｍから出射された光を平行光とする光学系（平行光出射光学系）１１２Ｍを備えており、光学系１１２Ｍにて平行光とされた光束が光学装置１２０Ｍに入射され、導光され、出射される。

　光学装置１２０Ｍは、画像形成装置１１１Ｍから入射された光が内部を全反射により伝播した後、観察者２０に向けて出射される導光板１２１Ｍ、導光板１２１Ｍに入射された光が導光板１２１Ｍの内部で全反射されるように、導光板１２１Ｍに入射された光を偏向させる第１偏向手段１３０Ｍ、及び、導光板１２１Ｍの内部を全反射により伝播した光を導光板１２１Ｍから出射させるために、導光板１２１Ｍの内部を全反射により伝播した光を偏向させる第２偏向手段１４０Ｍを備えている。そして、第２偏向手段１４０Ｍによって光学装置の虚像形成領域が構成される。また、調光装置７００Ｍの射影像内に第２偏向手段（虚像形成領域）１４０Ｍが位置する。さらには、調光装置７００Ｍを構成する基板の一方によって、第２偏向手段１４０Ｍは被覆されている。光学装置１２０Ｍは、シースルー型（半透過型）である。

　ここで、第１偏向手段１３０Ｍ及び第２偏向手段１４０Ｍは導光板１２１Ｍの内部に配設されている。そして、第１偏向手段１３０Ｍは、導光板１２１Ｍに入射された光を反射し、第２偏向手段１４０Ｍは、導光板１２１Ｍの内部を全反射により伝播した光を、複数回に亙り、透過、反射する。すなわち、第１偏向手段１３０Ｍは反射鏡として機能し、第２偏向手段１４０Ｍは半透過鏡として機能する。より具体的には、導光板１２１Ｍの内部に設けられた第１偏向手段１３０Ｍは、アルミニウム（Ａｌ）から成り、導光板１２１Ｍに入射された光を反射させる光反射膜（一種のミラー）から構成されている。一方、導光板１２１Ｍの内部に設けられた第２偏向手段１４０Ｍは、誘電体積層膜が多数積層された多層積層構造体から構成されている。誘電体積層膜は、例えば、高誘電率材料としてのＴｉＯ_２膜、及び、低誘電率材料としてのＳｉＯ_２膜から構成されている。誘電体積層膜が多数積層された多層積層構造体に関しては、例えば、特表２００５－５２１０９９に開示されている。誘電体積層膜と誘電体積層膜との間には、導光板１２１Ｍを構成する材料と同じ材料から成る薄片が挟まれている。尚、第１偏向手段１３０Ｍにおいては、導光板１２１Ｍに入射された平行光が導光板１２１Ｍの内部で全反射されるように、導光板１２１Ｍに入射された平行光が反射（又は回折）される。一方、第２偏向手段１４０Ｍにおいては、導光板１２１Ｍの内部を全反射により伝播した平行光が複数回に亙り反射（又は回折）され、導光板１２１Ｍから平行光の状態で、観察者２０Ｍの瞳２１Ｍに向かって出射される。

　第１偏向手段１３０Ｍは、導光板１２１の第１偏向手段１３０Ｍを設ける部分１２４Ｍを切り出すことで、導光板１２１Ｍに第１偏向手段１３０Ｍを形成すべき斜面を設け、係る斜面に光反射膜を真空蒸着した後、導光板１２１Ｍの切り出した部分１２４Ｍを第１偏向手段１３０Ｍに接着すればよい。また、第２偏向手段１４０Ｍは、導光板１２１Ｍを構成する材料と同じ材料（例えば、ガラス）と誘電体積層膜（例えば、真空蒸着法にて成膜することができる）とが多数積層された多層積層構造体を作製し、導光板１２１Ｍの第２偏向手段１４０Ｍを設ける部分１２５Ｍを切り出して斜面を形成し、係る斜面に多層積層構造体を接着し、研磨等を行って、外形を整えればよい。こうして、導光板１２１Ｍの内部に第１偏向手段１３０Ｍ及び第２偏向手段１４０Ｍが設けられた光学装置１２０Ｍを得ることができる。

　ここで、光学ガラスやプラスチック材料から成る導光板１２１Ｍは、導光板１２１Ｍの内部全反射による光伝播方向（Ｘ方向）と平行に延びる２つの平行面（第１面１２２Ｍ及び第２面１２３Ｍ）を有している。第１面１２２Ｍと第２面１２３Ｍとは対向している。そして、光入射面に相当する第１面１２２Ｍから平行光が入射され、内部を全反射により伝播した後、光出射面に相当する第１面１２２Ｍから出射される。但し、これに限定するものではなく、第２面１２３Ｍによって光入射面が構成され、第１面１２２Ｍによって光出射面が構成されていてもよい。

　画像表示装置１００Ｍを構成する画像形成装置１１１Ｍは、２次元マトリクス状に配列された複数の画素を有してよい。例えば、図１２に示されるように、画像形成装置１１１Ｍは、反射型空間光変調装置１５０Ｍ、及び、白色光を出射する発光ダイオードから成る光源１５３Ｍから構成されている。画像形成装置１１１Ｍ全体は、筐体１１３Ｍ（図１２では、一点鎖線で示す）内に納められており、係る筐体１１３Ｍには開口部（図示せず）が設けられており、開口部を介して光学系（平行光出射光学系，コリメート光学系）１１２Ｍから光が出射される。反射型空間光変調装置１５０Ｍは、ライト・バルブとしてのＬＣＯＳから成る液晶表示装置（ＬＣＤ）１５１Ｍ、及び、光源１５３Ｍからの光の一部を反射して液晶表示装置１５１Ｍへと導き、かつ、液晶表示装置１５１Ｍによって反射された光の一部を通過させて光学系１１２Ｍへと導く偏光ビームスプリッター１５２Ｍから構成されている。液晶表示装置１５１Ｍは、２次元マトリクス状に配列された複数（例えば、６４０×４８０個）の画素（液晶セル）を備えている。偏光ビームスプリッター１５２Ｍは、周知の構成、構造を有する。光源１５３Ｍから出射された無偏光の光は、偏光ビームスプリッター１５２Ｍに衝突する。偏光ビームスプリッター１５２Ｍにおいて、Ｐ偏光成分は通過し、系外に出射される。一方、Ｓ偏光成分は、偏光ビームスプリッター１５２Ｍにおいて反射され、液晶表示装置１５１Ｍに入射し、液晶表示装置１５１Ｍの内部で反射され、液晶表示装置１５１Ｍから出射される。ここで、液晶表示装置１５１Ｍから出射した光の内、「白」を表示する画素から出射した光にはＰ偏光成分が多く含まれ、「黒」を表示する画素から出射した光にはＳ偏光成分が多く含まれる。従って、液晶表示装置１５１Ｍから出射され、偏光ビームスプリッター１５２に衝突する光の内、Ｐ偏光成分は、偏光ビームスプリッター１５２Ｍを通過し、光学系１１２Ｍへと導かれる。一方、Ｓ偏光成分は、偏光ビームスプリッター１５２Ｍにおいて反射され、光源１５３Ｍに戻される。光学系１１２Ｍは、例えば、凸レンズから構成され、平行光を生成させるために、光学系１１２Ｍにおける焦点距離の所（位置）に画像形成装置１１１Ｍ（より具体的には、液晶表示装置１５１Ｍ）が配置されている。

　あるいは又、図１３に示されるように、画像形成装置１１１’Ｍは、有機ＥＬ表示装置１５０’Ｍから構成されている。有機ＥＬ表示装置１５０’Ｍから出射され画像は、凸レンズ１１２Ｍを通過し、平行光となって、導光板１２１Ｍへと向かう。有機ＥＬ表示装置１５０’Ｍは、２次元マトリクス状に配列された複数（例えば、６４０×４８０個）の画素（有機ＥＬ素子）を備えている。

　図１４に示されるように、フレーム１０Ｍは、観察者２０Ｍの正面に配置されるフロント部１１Ｍと、フロント部１１Ｍの両端に蝶番１２Ｍを介して回動自在に取り付けられた２つのテンプル部１３Ｍと、各テンプル部１３Ｍの先端部に取り付けられたモダン部（先セル、耳あて、イヤーパッドとも呼ばれる）１４Ｍから成る。また、図１５に示さるように、ノーズパッド部１０’Ｍが取り付けられている。すなわち、フレーム１０Ｍ及びノーズパッド部１０’Ｍの組立体は、基本的には、通常の眼鏡と略同じ構造を有する。更には、各筐体１１３Ｍが、取付け部材１９Ｍによって、着脱自在にテンプル部１３Ｍに取り付けられている。フレーム１０Ｍは、金属又はプラスチックから作製されている。尚、各筐体１１３Ｍは、取付け部材１９Ｍによってテンプル部１３Ｍに着脱できないように取り付けられていてもよい。また、各筐体１１３Ｍを、テンプル部１３Ｍの内側に取り付けた状態を示しているが、テンプル部１３Ｍの外側に取り付けてもよい。

　さらには、画像形成装置１１１Ｍから延びる配線（信号線や電源線等）１５Ｍが、テンプル部１３Ｍ、及び、モダン部１４Ｍの内部を介して、モダン部１４Ｍの先端部から外部に延び、制御装置（制御部３０Ｍを含む）１８Ｍに接続されている。さらには、各画像形成装置１１１ＡＭ，１１１ＢＭはヘッドホン部１６Ｍを備えており、各画像形成装置１１１ＡＭ，１１１ＢＭから延びるヘッドホン部用配線１６’Ｍが、テンプル部１３Ｍ、及び、モダン部１４Ｍの内部を介して、モダン部１４Ｍの先端部からヘッドホン部１６Ｍへと延びている。ヘッドホン部用配線１６’Ｍは、より具体的には、モダン部１４Ｍの先端部から、耳介（耳殻）の後ろ側を回り込むようにしてヘッドホン部１６Ｍへと延びている。このような構成にすることで、ヘッドホン部１６Ｍやヘッドホン部用配線１６’Ｍが乱雑に配置されているといった印象を与えることがなく、すっきりとした表示装置とすることができる。

　フロント部１１Ｍの中央部分に、必要に応じて、ＣＣＤあるいはＣＭＯＳセンサから成る固体撮像素子とレンズ（これらは図示せず）とから構成されたカメラ１７Ｍが、適切な取付け部材（図示せず）によって取り付けられている。カメラ１７Ｍからの信号は、カメラ１７Ｍから延びる配線（図示せず）を介して制御装置１８Ｍに送出される。

　ここで、本技術に係る第５の実施形態の表示装置において、調光装置７００Ｍはフロント部１１Ｍに配設されている。そして、光学装置１２０Ｍは調光装置７００Ｍに取り付けられている。フロント部１１Ｍはリム１１’Ｍを有し、調光装置７００はリム１１’Ｍに嵌め込まれている。観察者側から、光学装置１２０Ｍ、調光装置７００Ｍの順に配されているが、調光装置７００Ｍ、光学装置１２０Ｍの順に配してもよい。

　なお、本技術に係る実施形態は、上述した各実施形態及に限定されるものではなく、本技術の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能である。

　また、本明細書に記載された効果はあくまでも例示であって限定されるものではなく、また他の効果があってもよい。

　また、本技術は、以下のような構成を取ることもできる。
［１］
　第１電極と、
　該第１電極と対向する第２電極と、
　該第１電極と該第２電極との間に配されている調光層と、
　該第１電極に接して、該第１電極の周囲の少なくとも一部に形成されている第１金属電極配線と、
　該第２電極に接して、該第２電極の周囲の少なくとも一部に形成されている第２金属電極配線と、を備える、調光装置。
［２］
　絶縁体を更に備え、
　該絶縁体が、前記第１金属電極配線と前記第２金属電極配線との間に形成されている、［１］に記載の調光装置。
［３］
　前記第１金属電極配線が、前記第１電極の全周囲に形成されている、［１］又は［２］に記載の調光装置。
［４］
　前記第２金属電極配線が、前記第２電極の全周囲に形成されている、［１］から［３］のいずれか１つに記載の調光装置。
［５］
　前記第１金属電極配線が、前記第１電極の周囲の一部に形成されている、［１］又は［２］に記載の調光装置。
［６］
　前記第２金属電極配線が、前記第２電極の周囲の一部に形成されている、［１］から［２］及び［５］のいずれか１つに記載の調光装置。
［７］
　前記第１金属電極配線が、前記第１電極の前記調光層が配されている側とは反対側に形成されている、［１］から［６］のいずれか１つに記載の調光装置。
［８］
　前記第２金属電極配線が、前記第２電極の前記調光層が配されている側に形成されている、［１］から［７］のいずれか１つに記載の調光装置。
［９］
　前記第２金属電極配線が、前記第２電極の前記調光層が配されている側とは反対側に形成され、
　前記第２金属電極配線が、貫通電極を含み、
　該貫通電極が、前記第２電極に接している、［１］から［８］のいずれか１つに記載の調光装置。
［１０］
　前記第１金属電極配線と前記第２金属電極配線とが、立体的に交差して形成されている、［１］から［９］のいずれか１つに記載の調光装置。
［１１］
　外部電源からの電圧を印加するために設けられた第１電極パッド部を更に備え、
　該第１電極パッド部が、前記第１金属電極配線に接続されている、［１］から［１０］のいずれか１つに記載の調光装置。
［１２］
　外部電源からの電圧を印加するために設けられた第２電極パッド部を更に備え、
　該第２電極パッド部が、前記第２金属電極配線に接続されている、［１］から［１１］のいずれか１つに記載の調光装置。
［１３］
　外部電源からの電圧を印加するために設けられた第１電極パッド部及び第２電極パッド部を更に備え、
　該第１電極パッド部が、前記第１金属電極配線に接続され、
　該第２電極パッド部が、前記第２金属電極配線に接続され、
　前記第１金属電極配線と前記第２金属電極配線とが、立体的に交差して形成され、
　該第１電極パッド部と該第２電極パッド部とが平面視で互いに異なる位置に形成されている、［１］から［１０］のいずれか１つに記載の調光装置。
［１４］
　平面視での前記第１電極の大きさと、平面視での前記第２電極の大きさとが互いに異なり、
　断面視で段差構造を有する、［１］から［１３］のいずれか１つに記載の調光装置。
［１５］
　平面視での前記第１電極の大きさと、平面視での前記第２電極の大きさとが互いに略同一であり、
　断面視で段差構造を有さない、［１］から［１３］のいずれか１つに記載の調光装置。［１６］
　３次元の曲面構造を有する、［１］から［１５］のいずれか１つに記載の調光装置。
［１７］
　画像形成装置と、
　該画像形成装置から出射された光に基づき虚像が形成される虚像形成領域を有する光学装置と、
　少なくとも該虚像形成領域に対向して配され、外部から入射する外光の光量を調整する調光装置と、を含み、
　該調光装置が、［１］から［１６］のいずれか１つに記載の調光装置である、画像表示装置。
［１８］
　観察者の頭部に装着されるフレームと、
　該フレームに取り付けられた画像表示装置と、を備え、
　該画像表示装置が、
　画像形成装置と、
　該画像形成装置から出射された光に基づき虚像が形成される虚像形成領域を有する光学装置と、
　少なくとも該虚像形成領域に対向して配され、外部から入射する外光の光量を調整する調光装置と、を含み、
　該調光装置が、［１］から［１６］のいずれか１つに記載の調光装置である、表示装置。

　１、１－１、１－２、１－３Ａ、１－３Ｂ、１－４…第１金属電極配線、
　１ａ、１－１ａ、１－２ａ…第１電極パッド部（第１電極引き出し部）、
　２、２－１、２－２、２－３Ａ、２－３Ｂ、２－４…第２金属電極配線、
　２ａ、２－１ａ、２－２ａ…第２電極パッド部（第２電極引き出し部）、
　２－４－１…貫通電極、
　２－４－２…配線、
　３、３－１、３－２、３－３Ａ、３－３Ｂ、３－４…絶縁体（絶縁層）、
　４、４－３Ａ、４－３Ｂ…第１電極、
　５、５－３Ａ、５－３Ｂ…還元着色層、
　６、６－３Ａ、６－３Ｂ…電解質層、
　７、７－３Ａ、７－３Ｂ…酸化着色層、
　８、８－３Ａ、８－３Ｂ…第２電極、
　９、９－３Ａ、９－３Ｂ…基板、
　１０Ｍ…フレーム、
　１０１－１、１０１－２、１０１－３、１０３－１、１０３－２、１０３－３、１０４－１、１０４－２、１０４－３、１０５、１０６、１０７－１、１０７－２、１０８、１０９－１、１０９－２、１１１－１、１１１－２、１１１－３、７００Ｍ…調光装置、
　１００Ｍ…光学装置、
　１１１Ｍ、１１１’…画像形成装置、
　１２１Ｍ…導光板、
　１３０Ｍ…第１偏向手段、
　１４０Ｍ…第２偏向手段、
　５６７…調光層。

Claims

　第１電極と、
　該第１電極と対向する第２電極と、
　該第１電極と該第２電極との間に配されている調光層と、
　該第１電極に接して、該第１電極の周囲の少なくとも一部に形成されている第１金属電極配線と、
　該第２電極に接して、該第２電極の周囲の少なくとも一部に形成されている第２金属電極配線と、を備える、調光装置。
　絶縁体を更に備え、
　該絶縁体が、前記第１金属電極配線と前記第２金属電極配線との間に形成されている、請求項１に記載の調光装置。
　前記第１金属電極配線が、前記第１電極の全周囲に形成されている、請求項１に記載の調光装置。
　前記第２金属電極配線が、前記第２電極の全周囲に形成されている、請求項１に記載の調光装置。
　前記第１金属電極配線が、前記第１電極の周囲の一部に形成されている、請求項１に記載の調光装置。
　前記第２金属電極配線が、前記第２電極の周囲の一部に形成されている、請求項１に記載の調光装置。
　前記第１金属電極配線が、前記第１電極の前記調光層が配されている側とは反対側に形成されている、請求項１に記載の調光装置。
　前記第２金属電極配線が、前記第２電極の前記調光層が配されている側に形成されている、請求項１に記載の調光装置。
　前記第２金属電極配線が、前記第２電極の前記調光層が配されている側とは反対側に形成され、
　前記第２金属電極配線が、貫通電極を含み、
　該貫通電極が、前記第２電極に接している、請求項１に記載の調光装置。
　前記第１金属電極配線と前記第２金属電極配線とが、立体的に交差して形成されている、請求項１に記載の調光装置。
　外部電源からの電圧を印加するために設けられた第１電極パッド部を更に備え、
　該第１電極パッド部が、前記第１金属電極配線に接続されている、請求項１に記載の調光装置。
　外部電源からの電圧を印加するために設けられた第２電極パッド部を更に備え、
　該第２電極パッド部が、前記第２金属電極配線に接続されている、請求項１に記載の調光装置。
　外部電源からの電圧を印加するために設けられた第１電極パッド部及び第２電極パッド部を更に備え、
　該第１電極パッド部が、前記第１金属電極配線に接続され、
　該第２電極パッド部が、前記第２金属電極配線に接続され、
　前記第１金属電極配線と前記第２金属電極配線とが、立体的に交差して形成され、
　該第１電極パッド部と該第２電極パッド部とが平面視で互いに異なる位置に形成されている、請求項１に記載の調光装置。
　平面視での前記第１電極の大きさと、平面視での前記第２電極の大きさとが互いに異なり、
　断面視で段差構造を有する、請求項１に記載の調光装置。
　平面視での前記第１電極の大きさと、平面視での前記第２電極の大きさとが互いに略同一であり、
　断面視で段差構造を有さない、請求項１に記載の調光装置。
　３次元の曲面構造を有する、請求項１に記載の調光装置。
　画像形成装置と、
　該画像形成装置から出射された光に基づき虚像が形成される虚像形成領域を有する光学装置と、
　少なくとも該虚像形成領域に対向して配され、外部から入射する外光の光量を調整する調光装置と、を含み、
　該調光装置が、請求項１に記載の調光装置である、画像表示装置。
　観察者の頭部に装着されるフレームと、
　該フレームに取り付けられた画像表示装置と、を備え、
　該画像表示装置が、
　画像形成装置と、
　該画像形成装置から出射された光に基づき虚像が形成される虚像形成領域を有する光学装置と、
　少なくとも該虚像形成領域に対向して配され、外部から入射する外光の光量を調整する調光装置と、を含み、
　該調光装置が、請求項１に記載の調光装置である、表示装置。