WO2022071030A1 - 粉体搬送装置、ガス供給装置及び粉体除去方法 - Google Patents

粉体搬送装置、ガス供給装置及び粉体除去方法 Download PDF

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purge gas
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栄一 小森
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東京エレクトロン株式会社
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Definitions

  • the present disclosure relates to a powder transfer device, a gas supply device, and a powder removal method.
  • a substrate processing system that vaporizes a solid raw material and supplies a raw material gas to a film forming processing apparatus is known.
  • Patent Document 1 includes a powdery source supply system and a film forming processing apparatus, and the powdery source supply system includes an ample for accommodating the powdery source and a carrier gas for supplying carrier gas into the ampol. It has a powder source introduction pipe for connecting a supply device, an ampol and a film forming processing device, a purge pipe branching from the powder source introduction pipe, and an on-off valve for opening and closing the powder source introduction pipe. When the on-off valve is closed and the inside of the purge pipe is exhausted prior to the film forming process, the carrier gas supply device makes the viscous force of the carrier gas larger than the viscous force of the carrier gas during the film forming process.
  • a substrate processing system that supplies carrier gas to the vehicle is disclosed.
  • the present disclosure provides a powder transfer device, a gas supply device, and a powder removal method for suppressing internal leaks.
  • a powder transfer pipe connecting the powder raw material supply source to the vaporizer and a first valve provided on the side of the powder transfer pipe on the powder raw material supply source side.
  • a first purge gas supply pipe that supplies purge gas from the buffer tank to the second valve, a first purge gas valve provided in the first purge gas supply pipe, a first valve, the second valve, and the first purge gas valve.
  • a powder transfer device including a control unit for controlling opening and closing is provided.
  • FIG. 1 An example of a configuration diagram of a substrate processing system including the powder transfer device according to the first embodiment.
  • the flowchart explaining an example of operation of a powder transfer apparatus.
  • the figure explaining the opening and closing of a valve and the formation of a flow path at the time of supplying a purge gas to a 2nd valve An example of a configuration diagram of a substrate processing system including a powder transfer device according to a second embodiment.
  • FIG. 1 is an example of a configuration diagram of a substrate processing system including the powder transfer device 2 according to the first embodiment.
  • the substrate processing system includes a powder raw material supply source 1, a powder transfer device 2, a purge gas supply source 3, a vaporizer 4, a processing container 5, and an exhaust device 6.
  • the substrate processing system supplies the powder raw material from the powder raw material supply source 1 to the vaporizer 4 via the powder transfer device 2.
  • the substrate processing system vaporizes the powder raw material with the vaporizer 4 and supplies the vaporized raw material gas to the processing container 5, so that the substrate W in the processing container 5 is subjected to a desired treatment (for example, film formation treatment).
  • a desired treatment for example, film formation treatment.
  • the powder raw material supply source 1, the powder transfer device 2, and the vaporizer 4 function as gas supply devices for supplying the raw material gas to the processing container 5.
  • the powder raw material supply source 1 stores the powder raw material. Further, the powder raw material supply source 1 sends (extrudes) the powder raw material to the powder transport pipe 11 of the powder transport device 2.
  • the powder transfer device 2 includes a powder transfer pipe 11, a first valve 21, a second valve 22, a third valve 23, a buffer tank 30, a first purge gas supply pipe 41, and a second purge gas supply pipe.
  • a 42, a first purge gas valve 51, a second purge gas valve 52, and a control device 60 are provided.
  • One end of the powder transfer pipe 11 is connected to the powder raw material supply source 1, and the other end is connected to the vaporizer 4.
  • the powder raw material sent from the powder raw material supply source 1 to the powder transfer pipe 11 is conveyed to the powder transfer pipe 11 by the gravity acting on the powder raw material and is supplied to the vaporizer 4.
  • the powder transport pipe 11 functions as a powder raw material transport path for transporting the powder raw material from the powder raw material supply source 1 to the vaporizer 4.
  • the powder transfer pipe 11 is provided with a first valve 21 and a second valve 22 for opening and closing the flow path of the powder transfer pipe 11.
  • the first valve 21 is provided in the powder transfer pipe 11 which is the secondary side pipe of the powder raw material supply source 1.
  • the second valve 22 is provided in the powder transfer pipe 11 which is the primary side pipe of the vaporizer 4. Further, the first valve 21 is provided on the upstream side (the side of the powder raw material supply source 1) of the second valve 22.
  • the second valve 22 is provided on the downstream side (the side of the vaporizer 4) of the first valve 21.
  • the first valve 21 is provided in the powder transfer pipe 11 on the side of the powder raw material supply source 1 from the branch point (first branch point) between the powder transfer pipe 11 and the first purge gas supply pipe 41.
  • the second valve 22 is provided in the powder transfer pipe 11 on the side of the vaporizer 4 with respect to the branch point (first branch point) between the powder transfer pipe 11 and the first purge gas supply pipe 41.
  • the first valve 21 is provided in the powder transfer pipe 11 on the side of the powder raw material supply source 1 from the branch point (second branch point) between the powder transfer pipe 11 and the second purge gas supply pipe 42.
  • the second valve 22 is provided in the powder transfer pipe 11 on the side of the vaporizer 4 with respect to the branch point (second branch point) between the powder transfer pipe 11 and the second purge gas supply pipe 42.
  • the powder transfer pipe 11 is provided with a third valve 23 that opens and closes the flow path of the powder transfer pipe 11.
  • the third valve 23 is provided between the first valve 21 and the second valve 22.
  • the third valve 23 is a branch point (second branch point) between the powder transfer pipe 11 and the second purge gas supply pipe 42 and a branch point (first) between the powder transfer pipe 11 and the first purge gas supply pipe 41. It is provided between the branch points).
  • valves 21 to 23 arranged in the powder transfer pipe 11 have a valve body (not shown) and a valve seat (not shown).
  • the valve body When the valve body is separated from the valve seat, the flow path is opened and the valves 21 to 23 are opened.
  • the valve body is in close contact with the valve seat, the flow path is blocked and the valves 21 to 23 are closed.
  • the purge gas supply source 3 supplies the purge gas to the buffer tank 30.
  • the buffer tank 30 is supplied with purge gas from the purge gas supply source 3 and is filled with high pressure (for example, 0.1 MPa to 0.3 MPa) purge gas.
  • the purge gas for example, N 2 gas can be used.
  • the first purge gas supply pipe 41 is connected to the powder transfer pipe 11 at one end at a branch point (first branch point) upstream of the second valve 22 (between the third valve 23 and the second valve 22). The other end is connected to the buffer tank 30.
  • the first purge gas supply pipe 41 functions as a first purge gas supply path for supplying the purge gas from the buffer tank 30 to the powder transfer pipe 11.
  • the first purge gas supply pipe 41 is provided with a first purge gas valve 51 that opens and closes the flow path of the first purge gas supply pipe 41.
  • the second purge gas supply pipe 42 is connected to the powder transfer pipe 11 at one end at a branch point (second branch point) upstream of the third valve 23 (between the first valve 21 and the third valve 23). The other end is connected to the buffer tank 30.
  • the second purge gas supply pipe 42 functions as a second purge gas supply path for supplying the purge gas from the buffer tank 30 to the powder transfer pipe 11.
  • the second purge gas supply pipe 42 is provided with a second purge gas valve 52 that opens and closes the flow path of the second purge gas supply pipe 42.
  • the control device 60 controls the opening and closing of the valves 21 to 23 and the purge gas valves 51 to 52.
  • the powder raw material is supplied from the powder transfer pipe 11 as the primary side pipe.
  • the vaporizer 4 has a heating unit (not shown) such as a heater for heating the powder raw material.
  • the vaporizer 4 heats and vaporizes the powder raw material to obtain a raw material gas.
  • the vaporizer 4 has a filter (not shown) for collecting the powder raw material. This prevents the powder raw material from flowing into the processing container 5 through the secondary side pipe of the vaporizer 4.
  • the secondary side pipe of the vaporizer 4 is connected to the processing container 5 via the valve 71.
  • the raw material gas is supplied from the vaporizer 4 to the processing container 5 by opening the valve 71, and the supply of the raw material gas to the processing container 5 is cut off by closing the valve 71.
  • the secondary side pipe of the vaporizer 4 is connected to the exhaust device 6 via the valve 72.
  • the gas is exhausted from the vaporizer 4 to the exhaust device 6 by opening the valve 72, and the exhaust gas to the exhaust device 6 is shut off by closing the valve 72.
  • the processing container 5 has a mounting portion 5a on which the substrate W is mounted.
  • the inside of the processing container 5 can be depressurized by the exhaust device 6. Further, by supplying the raw material gas from the vaporizer 4 into the processing container 5, the substrate W mounted on the mounting portion 5a is subjected to a desired treatment.
  • the exhaust device 6 is connected to the processing container 5 to reduce the pressure inside the processing container 5. Further, the exhaust device 6 is connected to the vaporizer 4 to reduce the pressure inside the vaporizer 4.
  • FIG. 2 is a flowchart illustrating an example of the operation of the powder transfer device 2.
  • 3 to 7 are diagrams illustrating opening / closing of valves 21 to 23, 51 to 52 and formation of a flow path in each step.
  • the valve in the open state is shown in white
  • the valve in the closed state is shown in black
  • the flow path formed by opening and closing the valve is shown by a thick line.
  • step S101 the control device 60 transfers the powder raw material from the powder raw material supply source 1 to the vaporizer 4.
  • FIG. 3 is a diagram illustrating opening and closing of a valve and formation of a flow path during transportation of a powder raw material.
  • the control device 60 opens the first valve 21, the third valve 23, and the second valve 22.
  • the control device 60 opens the first purge gas valve 51 and the second purge gas valve 52.
  • the powder transfer pipe 11 of the powder transfer device 2 communicates the powder raw material supply source 1 and the vaporizer 4. Further, the first purge gas supply pipe 41 and the second purge gas supply pipe 42 are closed.
  • the powder raw material sent out from the powder raw material supply source 1 is conveyed to the vaporizer 4 through the powder transfer pipe 11. At this time, a part of the powder raw material adheres to the inner wall surface of the powder transfer pipe 11, the valve body of the valves 21 to 23, the surface of the valve seat, and the like.
  • step S102 the control device 60 fills the buffer tank 30 with purge gas.
  • FIG. 4 is a diagram illustrating opening and closing of a valve and formation of a flow path during filling of purge gas.
  • the buffer tank 30 is filled with purge gas before the purge step shown in step S103 described later.
  • the control device 60 closes the first purge gas valve 51 and the second purge gas valve 52.
  • the first purge gas supply pipe 41 and the second purge gas supply pipe 42 are closed. Therefore, the purge gas supplied from the purge gas supply source 3 is filled in the buffer tank 30.
  • step S103 which will be described later, the control device 60 closes the first valve 21 and opens the third valve 23 and the second valve 22.
  • the buffer tank 30 may be filled with the purge gas at the same time as step S101.
  • the process of the control device 60 may skip step S102 and proceed to step S103.
  • step S103 the control device 60 supplies purge gas to the third valve 23.
  • FIG. 5 is a diagram illustrating opening and closing of a valve and formation of a flow path when supplying purge gas to the third valve 23.
  • the control device 60 closes the first valve 21, the first purge gas valve 51, and the second purge gas valve 52, and opens the third valve 23 and the second valve 22 (see FIG. 4).
  • the valve 52 is opened.
  • the second purge gas supply pipe 42 communicates with the powder transfer pipe 11.
  • the high-pressure purge gas filled in the buffer tank 30 is supplied to the third valve 23 through the second purge gas supply pipe 42.
  • the purge gas blows off the powder raw material remaining on the valve body, valve seat, and the like of the third valve 23. Further, the purge gas is supplied from the third valve 23 to the second valve 22.
  • the purge gas blows off the powder raw material remaining on the valve body, valve seat, and the like of the second valve 22.
  • the purge gas and the powder raw material blown off by the purge gas flow into the vaporizer 4.
  • the powder raw material is collected by the filter (not shown) of the vaporizer 4.
  • the purge gas passes through the valve 72 and is exhausted to the exhaust device 6.
  • the first valve 21 is closed to prevent the purge gas from flowing into the powder raw material supply source 1.
  • step S104 the control device 60 fills the buffer tank 30 with purge gas.
  • FIG. 6 is a diagram illustrating opening and closing of a valve and formation of a flow path during filling of purge gas.
  • the buffer tank 30 is filled with purge gas before the purge step shown in step S105 described later.
  • the control device 60 closes the first purge gas valve 51 and the second purge gas valve 52.
  • the first purge gas supply pipe 41 and the second purge gas supply pipe 42 are closed. Therefore, the purge gas supplied from the purge gas supply source 3 is filled in the buffer tank 30.
  • step S105 which will be described later, the control device 60 closes the first valve 21 and the third valve 23, and opens the second valve 22.
  • step S105 the control device 60 supplies purge gas to the second valve 22.
  • FIG. 7 is a diagram illustrating opening and closing of a valve and formation of a flow path when supplying purge gas to the second valve 22.
  • the control device 60 closes the first valve 21, the third valve 23, the first purge gas valve 51, and the second purge gas valve 52, and opens the second valve 22 (see FIG. 6).
  • the valve 51 is opened.
  • the first purge gas supply pipe 41 communicates with the powder transfer pipe 11.
  • the high-pressure purge gas filled in the buffer tank 30 is supplied to the second valve 22 through the first purge gas supply pipe 41.
  • the purge gas blows off the powder raw material remaining on the valve body, valve seat, and the like of the second valve 22.
  • the purge gas and the powder raw material blown off by the purge gas flow into the vaporizer 4.
  • the powder raw material is collected by the filter (not shown) of the vaporizer 4.
  • the purge gas passes through the valve 72 and is exhausted to the exhaust device 6.
  • the first valve 21, the third valve 23, and the second purge gas valve 52 are closed to prevent the purge gas from flowing into the powder raw material supply source 1.
  • step S106 the control device 60 determines whether or not the purge of the second valve 22 has reached a predetermined number of repetitions.
  • the predetermined number of repetitions has not been reached (S106, NO)
  • the process of the control device 60 returns to step S104, and the buffer tank 30 is filled with the purge gas (S104) and the second valve 22 is purged (S105). repeat.
  • the control device 60 closes the valves 21 to 23 and the purge gas valves 51 to 52, and ends the process.
  • the third valve 23 is purged (S102, S103) and the second valve 22 is purged (S104 to S106). Then, before the powder raw material filled in the vaporizer 4 is heated and vaporized, the inside of the vaporizer 4 is exhausted by the exhaust device 6 to obtain a high vacuum.
  • a plurality of valves (first valve 21) provided in the powder transfer pipe 11 connected from the powder raw material supply source 1 to the vaporizer 4. , 3rd valve 23, 2nd valve 22), the powder raw material remaining inside the 2nd valve 22 closest to the vaporizer 4 can be removed, so that the valve body and valve seat of the 2nd valve 22 can be removed. It is possible to improve the adhesion with and prevent the occurrence of internal leaks. As a result, the inside of the vaporizer 4 can be made into a high vacuum.
  • the powder raw material remaining inside the second valve 22 can be removed.
  • the number of repetitions is preferably 3 or more. As a result, the powder raw material remaining inside the second valve 22 can be removed.
  • the powder raw material remaining inside the third valve 23 can be removed, so that the valve body of the third valve 23 and the valve seat are in close contact with each other. It is possible to improve the property and prevent the occurrence of internal leaks. As a result, the powder transfer pipe 11 can be reliably closed by the second valve 22 and the third valve 23, so that the occurrence of internal leaks can be further prevented. As a result, the inside of the vaporizer 4 can be made into a high vacuum.
  • the filling of the buffer tank 30 with the purge gas (S102) and the purging of the third valve 23 (S103) may be repeated.
  • the powder raw material remaining inside the third valve 23 can be removed.
  • the number of repetitions is preferably 3 or more. As a result, the powder raw material remaining inside the third valve 23 can be removed.
  • the airtightness check (leak check) of the second valve 22 and the third valve 23 is performed as a method of confirming whether or not the powder raw material remaining inside the second valve 22 and the third valve 23 has been removed. good.
  • the airtightness check of the second valve 22 and the third valve 23 is performed after the purge (S105) of the second valve 22.
  • the control device 60 opens the first purge gas valve 51 with the second valve 22 and the third valve 23 closed.
  • the purge gas is supplied from the buffer tank 30 to the powder transfer pipe 11 between the second valve 22 and the third valve 23 via the first purge gas valve 51.
  • the control device 60 closes the first purge gas valve 51.
  • the powder transfer pipe 11 between the second valve 22 and the third valve 23 is filled with the purge gas.
  • the control device 60 confirms the pressure fluctuation of the gauge pressure gauge (not shown) installed between the second valve 22 and the third valve 23 of the powder transfer pipe 11. If there is no pressure fluctuation within a predetermined time, or if the pressure fluctuation is within a predetermined range, the control device 60 determines that the powder raw material remaining inside the second valve 22 and the third valve 23 has been removed. , Complete the powder removal process.
  • the airtightness check may be performed every time the second valve 22 and the third valve 23 are purged once, or may be performed after the purging is performed a plurality of times (three times or more). ..
  • FIG. 8 is an example of a configuration diagram of a substrate processing system including the powder transfer device 2 according to the second embodiment.
  • the substrate processing system of the first embodiment (see FIG. 1) and the substrate processing system of the second embodiment (see FIG. 8) are different in that the powder transfer device 2A is provided in place of the powder transfer device 2. There is.
  • the powder transfer device 2A includes a powder transfer pipe 11, a first valve 21, a second valve 22, a buffer tank 30, a first purge gas supply pipe 41, a first purge gas valve 51, and a control device 60. , Equipped with. That is, the powder transfer device 2A differs from the powder transfer device 2 (see FIG. 1) in that the third valve 23, the second purge gas supply pipe 42, and the second purge gas valve 52 are omitted. There is. Other configurations are the same, and duplicate explanations are omitted.
  • FIG. 9 is a flowchart illustrating an example of the operation of the powder transfer device 2.
  • 10 to 12 are diagrams illustrating opening / closing of valves 21 to 23, 51 to 52 and formation of a flow path in each step.
  • step S201 the control device 60 transfers the powder raw material from the powder raw material supply source 1 to the vaporizer 4.
  • FIG. 10 is a diagram illustrating opening and closing of a valve and formation of a flow path during transportation of a powder raw material.
  • the control device 60 opens the first valve 21 and the second valve 22.
  • the control device 60 opens the first purge gas valve 51.
  • the powder transfer pipe 11 of the powder transfer device 2 communicates the powder raw material supply source 1 and the vaporizer 4. Further, the first purge gas supply pipe 41 is closed.
  • the powder raw material sent out from the powder raw material supply source 1 is conveyed to the vaporizer 4 through the powder transfer pipe 11. At this time, a part of the powder raw material adheres to the inner wall surface of the powder transfer pipe 11, the valve body of the valves 21 to 22, the surface of the valve seat, and the like.
  • step S202 the control device 60 fills the buffer tank 30 with purge gas.
  • FIG. 11 is a diagram illustrating opening and closing of a valve and formation of a flow path when filling with purge gas.
  • the buffer tank 30 is filled with purge gas before the purge step shown in step S203 described later.
  • the control device 60 closes the first purge gas valve 51.
  • the first purge gas supply pipe 41 is closed. Therefore, the purge gas supplied from the purge gas supply source 3 is filled in the buffer tank 30.
  • step S203 which will be described later, the control device 60 closes the first valve 21 and opens the second valve 22.
  • step S203 the control device 60 supplies purge gas to the second valve 22.
  • FIG. 12 is a diagram illustrating opening and closing of a valve and formation of a flow path when supplying purge gas to the second valve 22.
  • the control device 60 closes the first valve 21 and the first purge gas valve 51, and opens the first purge gas valve 51 from the state where the second valve 22 is opened (see FIG. 11).
  • the first purge gas supply pipe 41 communicates with the powder transfer pipe 11.
  • the high-pressure purge gas filled in the buffer tank 30 is supplied to the second valve 22 through the first purge gas supply pipe 41.
  • the purge gas blows off the powder raw material remaining on the valve body, valve seat, and the like of the second valve 22.
  • the purge gas and the powder raw material blown off by the purge gas flow into the vaporizer 4.
  • the powder raw material is collected by the filter (not shown) of the vaporizer 4.
  • the purge gas passes through the valve 72 and is exhausted to the exhaust device 6.
  • the first valve 21 is closed to prevent the purge gas from flowing into the powder raw material supply source 1.
  • step S204 the control device 60 determines whether or not the purge of the second valve 22 has reached a predetermined number of repetitions.
  • the process of the control device 60 returns to step S202, and the buffer tank 30 is filled with the purge gas (S202) and the second valve 22 is purged (S203). repeat.
  • the control device 60 closes the valves 21 and 22 and the purge gas valve 51, and ends the process.
  • the second valve 22 is purged (S202 to S204). Then, before the powder raw material filled in the vaporizer 4 is heated and vaporized, the inside of the vaporizer 4 is exhausted by the exhaust device 6 to obtain a high vacuum.
  • a plurality of valves (first valve 21) provided in the powder transfer pipe 11 connected from the powder raw material supply source 1 to the vaporizer 4.
  • the powder raw material remaining inside the second valve 22 closest to the vaporizer 4 can be removed, so that the valve body of the second valve 22 and the valve seat can be in close contact with each other. It can be improved and the occurrence of internal leaks can be prevented. As a result, the inside of the vaporizer 4 can be made into a high vacuum.
  • Powder raw material supply source 2 Powder transfer device 3 Purge gas supply source 4 Vaporizer 5 Processing container 6 Exhaust device 11 Powder transfer piping 21 1st valve 22 2nd valve 23 3rd valve 30 Buffer tank 41 1st purge gas supply piping 42 Second purge gas supply pipe 51 First purge gas valve 52 Second purge gas valve 60 Control device (control unit)

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Abstract

内部リークを抑制する粉体搬送装置、ガス供給装置及び粉体除去方法を提供する。　粉体原料供給源から気化器に接続する粉体搬送配管と、前記粉体搬送配管の前記粉体原料供給源の側に設けられる第１バルブと、前記粉体搬送配管の前記気化器の側に設けられる第２バルブと、パージガスを充填するバッファタンクと、前記第２バルブよりも上流側で前記粉体搬送配管と接続し、前記バッファタンクから前記第２バルブにパージガスを供給する第１パージガス供給配管と、前記第１パージガス供給配管に設けられる第１パージガスバルブと、記第１バルブ、前記第２バルブ及び前記第１パージガスバルブの開閉を制御する制御部と、を備える、粉体搬送装置。

Description

粉体搬送装置、ガス供給装置及び粉体除去方法
　本開示は、粉体搬送装置、ガス供給装置及び粉体除去方法に関する。
　固体原料を気化させて、成膜処理装置に原料ガスを供給する基板処理システムが知られている。
　特許文献１には、粉体状ソース供給系と成膜処理装置とを備え、粉体状ソース供給系は、粉体状ソースを収容するアンプルと、該アンプル内へキャリアガスを供給するキャリアガス供給装置と、アンプル及び成膜処理装置を接続する粉体状ソース導入管と、該粉体状ソース導入管から分岐するパージ管と、粉体状ソース導入管を開閉する開閉弁とを有し、成膜処理に先立って、開閉弁が閉弁し且つパージ管内を排気する際に、キャリアガス供給装置が、キャリアガスによる粘性力が成膜処理時におけるキャリアガスによる粘性力よりも大きくなるようにキャリアガスを供給する基板処理システムが開示されている。
特開２００８－２５１９０５号公報
　一の側面では、本開示は、内部リークを抑制する粉体搬送装置、ガス供給装置及び粉体除去方法を提供する。
　上記課題を解決するために、一の態様によれば、粉体原料供給源から気化器に接続する粉体搬送配管と、前記粉体搬送配管の前記粉体原料供給源の側に設けられる第１バルブと、前記粉体搬送配管の前記気化器の側に設けられる第２バルブと、パージガスを充填するバッファタンクと、前記第２バルブよりも上流側で前記粉体搬送配管と接続し、前記バッファタンクから前記第２バルブにパージガスを供給する第１パージガス供給配管と、前記第１パージガス供給配管に設けられる第１パージガスバルブと、記第１バルブ、前記第２バルブ及び前記第１パージガスバルブの開閉を制御する制御部と、を備える、粉体搬送装置が提供される。
　一の側面によれば、内部リークを抑制する粉体搬送装置、ガス供給装置及び粉体除去方法を提供することができる。
第１実施形態に係る粉体搬送装置を備える基板処理システムの構成図の一例。 粉体搬送装置の動作の一例を説明するフローチャート。 粉体原料の搬送時におけるバルブの開閉と流路の形成を説明する図。 パージガスの充填時におけるバルブの開閉と流路の形成を説明する図。 第３バルブにパージガスを供給する際のバルブの開閉と流路の形成を説明する図。 パージガスの充填時におけるバルブの開閉と流路の形成を説明する図。 第２バルブにパージガスを供給する際のバルブの開閉と流路の形成を説明する図。 第２実施形態に係る粉体搬送装置を備える基板処理システムの構成図の一例。 粉体搬送装置の動作の一例を説明するフローチャート。 粉体原料の搬送時におけるバルブの開閉と流路の形成を説明する図。 パージガスの充填時におけるバルブの開閉と流路の形成を説明する図。 第２バルブにパージガスを供給する際のバルブの開閉と流路の形成を説明する図。
　以下、図面を参照して本開示を実施するための形態について説明する。各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。
＜第１実施形態＞
　第１実施形態に係る粉体搬送装置２を備える基板処理システムについて、図１を用いて説明する。図１は、第１実施形態に係る粉体搬送装置２を備える基板処理システムの構成図の一例である。基板処理システムは、粉体原料供給源１と、粉体搬送装置２と、パージガス供給源３と、気化器４と、処理容器５と、排気装置６と、を備える。基板処理システムは、粉体原料供給源１から粉体搬送装置２を介して気化器４に粉体原料を供給する。また、基板処理システムは、気化器４で粉体原料を気化させて気化した原料ガスを処理容器５に供給することにより、処理容器５内の基板Ｗに所望の処理（例えば、成膜処理）を施す。なお、粉体原料供給源１、粉体搬送装置２及び気化器４は、処理容器５に原料ガスを供給するガス供給装置として機能する。
　粉体原料供給源１は、粉体原料を貯留する。また、粉体原料供給源１は、粉体原料を粉体搬送装置２の粉体搬送配管１１に送り出す（押し出す）。
　粉体搬送装置２は、粉体搬送配管１１と、第１バルブ２１と、第２バルブ２２と、第３バルブ２３と、バッファタンク３０と、第１パージガス供給配管４１と、第２パージガス供給配管４２と、第１パージガスバルブ５１と、第２パージガスバルブ５２と、制御装置６０と、を備える。
　粉体搬送配管１１は、一端が粉体原料供給源１と接続し、他端が気化器４と接続する。粉体原料供給源１から粉体搬送配管１１に送り出された粉体原料は、粉体原料に作用する重力によって粉体搬送配管１１を搬送され、気化器４へと供給される。これにより、粉体搬送配管１１は、粉体原料供給源１から気化器４に粉体原料を搬送する粉体原料搬送路として機能する。
　粉体搬送配管１１には、粉体搬送配管１１の流路を開閉する第１バルブ２１及び第２バルブ２２が設けられている。換言すれば、第１バルブ２１は、粉体原料供給源１の二次側配管である粉体搬送配管１１に設けられる。第２バルブ２２は、気化器４の一次側配管である粉体搬送配管１１に設けられる。また、第１バルブ２１は、第２バルブ２２よりも上流側（粉体原料供給源１の側）に設けられる。第２バルブ２２は、第１バルブ２１よりも下流側（気化器４の側）に設けられる。
　また、第１バルブ２１は、粉体搬送配管１１と第１パージガス供給配管４１との分岐点（第１分岐点）よりも粉体原料供給源１の側の粉体搬送配管１１に設けられる。第２バルブ２２は、粉体搬送配管１１と第１パージガス供給配管４１との分岐点（第１分岐点）よりも気化器４の側の粉体搬送配管１１に設けられる。また、第１バルブ２１は、粉体搬送配管１１と第２パージガス供給配管４２との分岐点（第２分岐点）よりも粉体原料供給源１の側の粉体搬送配管１１に設けられる。第２バルブ２２は、粉体搬送配管１１と第２パージガス供給配管４２との分岐点（第２分岐点）よりも気化器４の側の粉体搬送配管１１に設けられる。
　また、粉体搬送配管１１には、粉体搬送配管１１の流路を開閉する第３バルブ２３が設けられている。第３バルブ２３は、第１バルブ２１と第２バルブ２２との間に設けられる。また、第３バルブ２３は、粉体搬送配管１１と第２パージガス供給配管４２との分岐点（第２分岐点）と粉体搬送配管１１と第１パージガス供給配管４１との分岐点（第１分岐点）の間に設けられる。
　また、粉体搬送配管１１に配置されるバルブ２１～２３は、弁体（図示せず）及び弁座（図示せず）を有する。弁体が弁座から離間することで流路が開放され、バルブ２１～２３が開弁する。弁体が弁座と密着することで流路が閉塞され、バルブ２１～２３が閉弁する。
　パージガス供給源３は、バッファタンク３０にパージガスを供給する。バッファタンク３０は、パージガス供給源３からパージガスが供給され、高圧（例えば、０．１ＭＰａ～０．３ＭＰａ）のパージガスが充填される。パージガスとしては、例えばＮ２ガスを用いることができる。
　第１パージガス供給配管４１は、一端が第２バルブ２２よりも上流側（第３バルブ２３と第２バルブ２２との間）の分岐点（第１分岐点）で粉体搬送配管１１と接続し、他端がバッファタンク３０と接続する。これにより、第１パージガス供給配管４１は、バッファタンク３０から粉体搬送配管１１にパージガスを供給する第１のパージガス供給路として機能する。第１パージガス供給配管４１には、第１パージガス供給配管４１の流路を開閉する第１パージガスバルブ５１が設けられている。
　第２パージガス供給配管４２は、一端が第３バルブ２３よりも上流側（第１バルブ２１と第３バルブ２３との間）の分岐点（第２分岐点）で粉体搬送配管１１と接続し、他端がバッファタンク３０と接続する。これにより、第２パージガス供給配管４２は、バッファタンク３０から粉体搬送配管１１にパージガスを供給する第２のパージガス供給路として機能する。第２パージガス供給配管４２には、第２パージガス供給配管４２の流路を開閉する第２パージガスバルブ５２が設けられている。
　制御装置６０は、バルブ２１～２３及びパージガスバルブ５１～５２の開閉を制御する。
　気化器４は、一次側配管としての粉体搬送配管１１から粉体原料が供給される。気化器４は、粉体原料を加熱するヒータ等の加熱部（図示せず）を有する。気化器４は、粉体原料を加熱し気化させて、原料ガスとする。また、気化器４には、粉体原料を捕集するフィルタ（図示せず）を有する。これにより、粉体原料が気化器４の二次側配管を介して処理容器５へと流入することを防止する。
　気化器４の二次側配管は、バルブ７１を介して処理容器５と接続される。これにより、バルブ７１を開くことで気化器４から処理容器５に原料ガスを供給し、バルブ７１を閉じることで処理容器５への原料ガスの供給を遮断する。
　また、気化器４の二次側配管は、バルブ７２を介して排気装置６と接続される。これにより、バルブ７２を開くことで気化器４から排気装置６にガスを排気し、バルブ７２を閉じることで排気装置６へのガスの排気を遮断する。
　処理容器５は、基板Ｗを載置する載置部５ａを有する。処理容器５内は、排気装置６によって減圧可能となっている。また、気化器４から処理容器５内に原料ガスが供給されることにより、載置部５ａに載置された基板Ｗに所望の処理を施す。
　排気装置６は、処理容器５と接続され、処理容器５内を減圧する。また、排気装置６は、気化器４と接続され、気化器４内を減圧する。
　次に、粉体搬送装置２の動作の一例について、図２から図７を用いて説明する。図２は、粉体搬送装置２の動作の一例を説明するフローチャートである。図３から図７は、各工程におけるバルブ２１～２３，５１～５２の開閉と流路の形成を説明する図である。なお、図３から図７（及び後述する図１０から図１２）において、開弁状態のバルブを白抜きで図示し、閉弁状態のバルブを黒塗りで図示する。また、バルブの開閉により形成される流路を太線で図示する。
　ステップＳ１０１において、制御装置６０は、粉体原料供給源１から気化器４に粉体原料の搬送を行う。図３は、粉体原料の搬送時におけるバルブの開閉と流路の形成を説明する図である。制御装置６０は、第１バルブ２１、第３バルブ２３、第２バルブ２２を開弁する。制御装置６０は、第１パージガスバルブ５１、第２パージガスバルブ５２を開弁する。これにより、粉体搬送装置２の粉体搬送配管１１は粉体原料供給源１と気化器４とを連通する。また、第１パージガス供給配管４１及び第２パージガス供給配管４２は閉塞している。
　粉体原料供給源１から送り出された粉体原料は、粉体搬送配管１１を通り気化器４へと搬送される。この際、粉体原料の一部は、粉体搬送配管１１の内壁面、バルブ２１～２３の弁体や弁座の表面等に付着する。
　ステップＳ１０２において、制御装置６０は、バッファタンク３０にパージガスを充填する。図４は、パージガスの充填時におけるバルブの開閉と流路の形成を説明する図である。ここでは、後述するステップＳ１０３に示すパージ工程の前にバッファタンク３０にパージガスを充填する。制御装置６０は、第１パージガスバルブ５１及び第２パージガスバルブ５２を閉弁する。これにより、第１パージガス供給配管４１及び第２パージガス供給配管４２は閉塞している。よって、パージガス供給源３から供給されたパージガスがバッファタンク３０に充填される。また、後述するステップＳ１０３の準備として、制御装置６０は、第１バルブ２１を閉弁し、第３バルブ２３及び第２バルブ２２を開弁する。
　なお、バッファタンク３０へのパージガスの充填は、ステップＳ１０１と同時に行われていてもよい。バッファタンク３０にパージガスが充填されている場合、制御装置６０の処理は、ステップＳ１０２を省略してステップＳ１０３に進んでもよい。
　ステップＳ１０３において、制御装置６０は、第３バルブ２３にパージガスを供給する。図５は、第３バルブ２３にパージガスを供給する際のバルブの開閉と流路の形成を説明する図である。制御装置６０は、第１バルブ２１、第１パージガスバルブ５１及び第２パージガスバルブ５２を閉弁し、第３バルブ２３及び第２バルブ２２を開弁した状態（図４参照）から、第２パージガスバルブ５２を開弁する。これにより、第２パージガス供給配管４２は粉体搬送配管１１と連通する。
　バッファタンク３０に充填された高圧のパージガスは、第２パージガス供給配管４２を通り第３バルブ２３に供給される。パージガスは、第３バルブ２３の弁体や弁座等に残留した粉体原料を吹き飛ばす。また、パージガスは、第３バルブ２３から第２バルブ２２に供給される。パージガスは、第２バルブ２２の弁体や弁座等に残留した粉体原料を吹き飛ばす。パージガス及びパージガスによって吹き飛ばされた粉体原料は、気化器４へと流入する。気化器４のフィルタ（図示せず）で粉体原料は捕集される。パージガスは、バルブ７２を通り、排気装置６へと排気される。なお、第１バルブ２１は閉弁しており、パージガスが粉体原料供給源１に流入することを防止している。
　ステップＳ１０４において、制御装置６０は、バッファタンク３０にパージガスを充填する。図６は、パージガスの充填時におけるバルブの開閉と流路の形成を説明する図である。ここでは、後述するステップＳ１０５に示すパージ工程の前にバッファタンク３０にパージガスを充填する。制御装置６０は、第１パージガスバルブ５１及び第２パージガスバルブ５２を閉弁する。これにより、第１パージガス供給配管４１及び第２パージガス供給配管４２は閉塞している。よって、パージガス供給源３から供給されたパージガスがバッファタンク３０に充填される。また、後述するステップＳ１０５の準備として、制御装置６０は、第１バルブ２１及び第３バルブ２３を閉弁し、第２バルブ２２を開弁する。
　ステップＳ１０５において、制御装置６０は、第２バルブ２２にパージガスを供給する。図７は、第２バルブ２２にパージガスを供給する際のバルブの開閉と流路の形成を説明する図である。制御装置６０は、第１バルブ２１、第３バルブ２３、第１パージガスバルブ５１及び第２パージガスバルブ５２を閉弁し、第２バルブ２２を開弁した状態（図６参照）から、第１パージガスバルブ５１を開弁する。これにより、第１パージガス供給配管４１は粉体搬送配管１１と連通する。
　バッファタンク３０に充填された高圧のパージガスは、第１パージガス供給配管４１を通り第２バルブ２２に供給される。パージガスは、第２バルブ２２の弁体や弁座等に残留した粉体原料を吹き飛ばす。パージガス及びパージガスによって吹き飛ばされた粉体原料は、気化器４へと流入する。気化器４のフィルタ（図示せず）で粉体原料は捕集される。パージガスは、バルブ７２を通り、排気装置６へと排気される。なお、第１バルブ２１、第３バルブ２３及び第２パージガスバルブ５２は閉弁しており、パージガスが粉体原料供給源１に流入することを防止している。
　ステップＳ１０６において、制御装置６０は、第２バルブ２２のパージが所定の繰り返し回数に到達したか否かを判定する。所定の繰り返し回数に到達していない場合（Ｓ１０６・ＮＯ）、制御装置６０の処理はステップＳ１０４に戻り、バッファタンク３０へのパージガスの充填（Ｓ１０４）と第２バルブ２２のパージ（Ｓ１０５）とを繰り返す。所定の繰り返し回数に到達した場合（Ｓ１０６・ＹＥＳ）、制御装置６０は、バルブ２１～２３及びパージガスバルブ５１～５２を閉じ、処理を終了する。
　このように、気化器４に粉体原料を充填（Ｓ１０１）した後に、第３バルブ２３のパージ（Ｓ１０２，Ｓ１０３）及び第２バルブ２２のパージ（Ｓ１０４～Ｓ１０６）を行う。そして、気化器４に充填した粉体原料を加熱して気化させる前に、気化器４内は、排気装置６によって排気され、高真空となる。
　ここで、第１実施形態に係る粉体搬送装置２によれば、粉体原料供給源１から気化器４へと接続される粉体搬送配管１１に設けられた複数のバルブ（第１バルブ２１、第３バルブ２３、第２バルブ２２）のうち、気化器４に最も近い第２バルブ２２の内部に残留した粉体原料を除去することができるので、第２バルブ２２の弁体と弁座との密着性を向上させ、内部リークの発生を防止することができる。これにより、気化器４内を高真空とすることができる。
　また、バッファタンク３０へのパージガスの充填（Ｓ１０４）と第２バルブ２２のパージ（Ｓ１０５）とを繰り返すことにより、第２バルブ２２の内部に残留した粉体原料を除去することができる。また、繰り返し回数は、３回以上が好ましい。これにより、第２バルブ２２の内部に残留した粉体原料を除去することができる。
　また、第１実施形態に係る粉体搬送装置２によれば、第３バルブ２３の内部に残留した粉体原料を除去することができるので、第３バルブ２３の弁体と弁座との密着性を向上させ、内部リークの発生を防止することができる。これにより、粉体搬送配管１１を第２バルブ２２及び第３バルブ２３で確実に閉塞することができるので、内部リークの発生を更に防止することができる。これにより、気化器４内を高真空とすることができる。
　また、バッファタンク３０へのパージガスの充填（Ｓ１０２）と第３バルブ２３のパージ（Ｓ１０３）とを繰り返してもよい。これにより、第３バルブ２３の内部に残留した粉体原料を除去することができる。また、繰り返し回数は、３回以上が好ましい。これにより、第３バルブ２３の内部に残留した粉体原料を除去することができる。
　なお、第２バルブ２２、第３バルブ２３の内部に残留した粉体原料が除去されたか否かの確認方法として、第２バルブ２２、第３バルブ２３の気密チェック（リークチェック）を行ってもよい。第２バルブ２２、第３バルブ２３の気密チェックは、第２バルブ２２のパージ（Ｓ１０５）の後に実施される。気密チェックの方法として、まず、制御装置６０は、第２バルブ２２及び第３バルブ２３を閉じた状態で第１パージガスバルブ５１を開く。これにより、バッファタンク３０から第１パージガスバルブ５１を介して第２バルブ２２と第３バルブ２３との間の粉体搬送配管１１にパージガスが供給される。次に、制御装置６０は、第１パージガスバルブ５１を閉じる。これにより、第２バルブ２２と第３バルブ２３との間の粉体搬送配管１１にパージガスが充填される。次に、制御装置６０は、粉体搬送配管１１の第２バルブ２２と第３バルブ２３との間に設置されたゲージ圧力計（図示せず）の圧力変動を確認する。所定の時間内で圧力変動が無い、または、圧力変動が所定の範囲内である場合、制御装置６０は第２バルブ２２、第３バルブ２３の内部に残留した粉体原料が除去されたと判断し、粉体除去の処理を完了する。
　なお、気密チェック（リークチェック）は、第２バルブ２２、第３バルブ２３のパージを１回行う毎に実施してもよく、パージを複数回（３回以上）行った後に実施してもよい。
＜第２実施形態＞
　次に、第２実施形態に係る粉体搬送装置２Ａを備える基板処理システムについて、図８を用いて説明する。図８は、第２実施形態に係る粉体搬送装置２を備える基板処理システムの構成図の一例である。第１実施形態の基板処理システム（図１参照）と第２実施形態の基板処理システム（図８参照）とは、粉体搬送装置２に替えて粉体搬送装置２Ａがを備える点で異なっている。
　粉体搬送装置２Ａは、粉体搬送配管１１と、第１バルブ２１と、第２バルブ２２と、バッファタンク３０と、第１パージガス供給配管４１と、第１パージガスバルブ５１と、制御装置６０と、を備える。即ち、粉体搬送装置２Ａは、粉体搬送装置２（図１参照）と比較して、第３バルブ２３、第２パージガス供給配管４２及び第２パージガスバルブ５２が省略されている点で異なっている。その他の構成は同様であり、重複する説明は省略する。
　次に、粉体搬送装置２の動作の一例について、図９から図１２を用いて説明する。図９は、粉体搬送装置２の動作の一例を説明するフローチャートである。図１０から図１２は、各工程におけるバルブ２１～２３，５１～５２の開閉と流路の形成を説明する図である。
　ステップＳ２０１において、制御装置６０は、粉体原料供給源１から気化器４に粉体原料の搬送を行う。図１０は、粉体原料の搬送時におけるバルブの開閉と流路の形成を説明する図である。制御装置６０は、第１バルブ２１、第２バルブ２２を開弁する。制御装置６０は、第１パージガスバルブ５１を開弁する。これにより、粉体搬送装置２の粉体搬送配管１１は粉体原料供給源１と気化器４とを連通する。また、第１パージガス供給配管４１は閉塞している。
　粉体原料供給源１から送り出された粉体原料は、粉体搬送配管１１を通り気化器４へと搬送される。この際、粉体原料の一部は、粉体搬送配管１１の内壁面、バルブ２１～２２の弁体や弁座の表面等に付着する。
　ステップＳ２０２において、制御装置６０は、バッファタンク３０にパージガスを充填する。図１１は、パージガスの充填時におけるバルブの開閉と流路の形成を説明する図である。ここでは、後述するステップＳ２０３に示すパージ工程の前にバッファタンク３０にパージガスを充填する。制御装置６０は、第１パージガスバルブ５１を閉弁する。これにより、第１パージガス供給配管４１は閉塞している。よって、パージガス供給源３から供給されたパージガスがバッファタンク３０に充填される。また、後述するステップＳ２０３の準備として、制御装置６０は、第１バルブ２１を閉弁し、第２バルブ２２を開弁する。
　ステップＳ２０３において、制御装置６０は、第２バルブ２２にパージガスを供給する。図１２は、第２バルブ２２にパージガスを供給する際のバルブの開閉と流路の形成を説明する図である。制御装置６０は、第１バルブ２１及び第１パージガスバルブ５１を閉弁し、第２バルブ２２を開弁した状態（図１１参照）から、第１パージガスバルブ５１を開弁する。これにより、第１パージガス供給配管４１は粉体搬送配管１１と連通する。
　バッファタンク３０に充填された高圧のパージガスは、第１パージガス供給配管４１を通り第２バルブ２２に供給される。パージガスは、第２バルブ２２の弁体や弁座等に残留した粉体原料を吹き飛ばす。パージガス及びパージガスによって吹き飛ばされた粉体原料は、気化器４へと流入する。気化器４のフィルタ（図示せず）で粉体原料は捕集される。パージガスは、バルブ７２を通り、排気装置６へと排気される。なお、第１バルブ２１は閉弁しており、パージガスが粉体原料供給源１に流入することを防止している。
　ステップＳ２０４において、制御装置６０は、第２バルブ２２のパージが所定の繰り返し回数に到達したか否かを判定する。所定の繰り返し回数に到達していない場合（Ｓ２０４・ＮＯ）、制御装置６０の処理はステップＳ２０２に戻り、バッファタンク３０へのパージガスの充填（Ｓ２０２）と第２バルブ２２のパージ（Ｓ２０３）とを繰り返す。所定の繰り返し回数に到達した場合（Ｓ２０４・ＹＥＳ）、制御装置６０は、バルブ２１，２２及びパージガスバルブ５１を閉じ、処理を終了する。
　このように、気化器４に粉体原料を充填（Ｓ２０１）した後に、第２バルブ２２のパージ（Ｓ２０２～Ｓ２０４）を行う。そして、気化器４に充填した粉体原料を加熱して気化させる前に、気化器４内は、排気装置６によって排気され、高真空となる。
　ここで、第２実施形態に係る粉体搬送装置２によれば、粉体原料供給源１から気化器４へと接続される粉体搬送配管１１に設けられた複数のバルブ（第１バルブ２１、第２バルブ２２）のうち、気化器４に最も近い第２バルブ２２の内部に残留した粉体原料を除去することができるので、第２バルブ２２の弁体と弁座との密着性を向上させ、内部リークの発生を防止することができる。これにより、気化器４内を高真空とすることができる。
　以上、第１～第２実施形態に係る粉体搬送装置について説明したが、本開示は上記実施形態等に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本開示の要旨の範囲内において、種々の変形、改良が可能である。
　尚、本願は、２０２０年９月２９日に出願した日本国特許出願２０２０－１６３４７５号に基づく優先権を主張するものであり、これらの日本国特許出願の全内容を本願に参照により援用する。
１　　　　　粉体原料供給源
２　　　　　粉体搬送装置
３　　　　　パージガス供給源
４　　　　　気化器
５　　　　　処理容器
６　　　　　排気装置
１１　　　　粉体搬送配管
２１　　　　第１バルブ
２２　　　　第２バルブ
２３　　　　第３バルブ
３０　　　　バッファタンク
４１　　　　第１パージガス供給配管
４２　　　　第２パージガス供給配管
５１　　　　第１パージガスバルブ
５２　　　　第２パージガスバルブ
６０　　　　制御装置（制御部）

Claims (15)

  1. 　粉体原料供給源を気化器に接続し、前記粉体原料供給源から前記気化器に粉体を供給する粉体搬送配管と、
    　第１分岐点にてバッファタンクを前記粉体搬送配管に接続し、前記バッファタンクから前記粉体搬送配管にパージガスを供給する第１パージガス供給配管と、
    　前記粉体搬送配管の前記第１分岐点よりも前記粉体原料供給源の側に設けられる第１バルブと、
    　前記粉体搬送配管の前記第１分岐点よりも前記気化器の側に設けられる第２バルブと、
    　前記第１パージガス供給配管に設けられる第１パージガスバルブと、
    前記第１バルブ、前記第２バルブ及び前記第１パージガスバルブの開閉を制御する制御部と、を備える、
    粉体搬送装置。
  2. 　前記制御部は、
    　前記第１バルブ及び前記第２バルブを開き、前記第１パージガスバルブを閉じて前記粉体原料供給源から前記気化器に粉体原料を搬送する工程と、
    　前記第１パージガスバルブを閉じて前記バッファタンクにパージガスを充填する工程と、
    　前記第１バルブを閉じ、前記第２バルブ及び前記第１パージガスバルブを開いて、前記第２バルブにパージガスを供給する工程と、を実行する、
    請求項１に記載の粉体搬送装置。
  3. 　前記制御部は、
    　前記バッファタンクにパージガスを充填する工程と前記第２バルブにパージガスを供給する工程とを繰り返して実行する、
    請求項２に記載の粉体搬送装置。
  4. 　前記制御部は、
    　前記バッファタンクにパージガスを充填する工程と前記第２バルブにパージガスを供給する工程とを３回以上繰り返して実行する、
    請求項３に記載の粉体搬送装置。
  5. 　前記第２バルブにパージガスを供給する工程の後に、前記第２バルブの気密チェックを実行する、
    請求項３または請求項４に記載の粉体搬送装置。
  6. 　前記第１バルブと前記第２バルブの間の前記粉体搬送配管に設けられ、前記制御部に開閉が制御される第３バルブと、
    　前記第１バルブと第３バルブとの間の第２分岐点にて前記バッファタンクを前記粉体搬送配管に接続し、前記バッファタンクから前記粉体搬送配管にパージガスを供給する第２パージガス供給配管と、
    　前記第２パージガス供給配管に設けられ、前記制御部に開閉が制御される第２パージガスバルブと、を更に備える、
    請求項１に記載の粉体搬送装置。
  7. 　前記制御部は、
    　前記第１バルブ、前記第２バルブ及び前記第３バルブを開き、前記第１パージガスバルブ及び、前記第２パージガスバルブを閉じて前記粉体原料供給源から前記気化器に粉体原料を搬送する工程と、
    　前記第１パージガスバルブ及び前記第２パージガスバルブを閉じて前記バッファタンクにパージガスを充填する工程と、
    　前記第１バルブ及び前記第１パージガスバルブを閉じ、前記第２バルブ、前記第３バルブ及び前記第２パージガスバルブを開いて、前記第３バルブにパージガスを供給する工程と、
    　前記第１パージガスバルブ及び前記第２パージガスバルブを閉じて前記バッファタンクにパージガスを充填する工程と、
    　前記第１バルブ、前記第３バルブ及び前記第２パージガスバルブを閉じ、前記第２バルブ及び前記第１パージガスバルブを開いて、前記第２バルブにパージガスを供給する工程と、を実行する、
    請求項６に記載の粉体搬送装置。
  8. 　前記制御部は、
    　前記バッファタンクにパージガスを充填する工程と前記第３バルブにパージガスを供給する工程とを３回以上繰り返して実行する、
    請求項７に記載の粉体搬送装置。
  9. 　前記制御部は、
    　前記バッファタンクにパージガスを充填する工程と前記第２バルブにパージガスを供給する工程とを３回以上繰り返して実行する、
    請求項７または請求項８に記載の粉体搬送装置。
  10. 　前記第２バルブにパージガスを供給する工程の後に、前記第２バルブの気密チェックを実行する、
    請求項７乃至請求項９のいずれか１項に記載の粉体搬送装置。
  11. 　請求項１乃至請求項１０のいずれか１項に記載の粉体搬送装置と、
    　前記粉体原料供給源と、
    　前記気化器と、を備える、ガス供給装置。
  12. 　粉体原料供給源から気化器に接続する粉体搬送配管と、前記粉体搬送配管の前記粉体原料供給源の側に設けられる第１バルブと、前記粉体搬送配管の前記気化器の側に設けられる第２バルブと、パージガスを充填するバッファタンクと、前記第２バルブよりも上流側で前記粉体搬送配管と接続し、前記バッファタンクから前記第２バルブにパージガスを供給するパージガス供給配管と、前記パージガス供給配管に設けられるパージガスバルブと、を備える粉体搬送装置の粉体除去方法であって、
    　前記第１バルブ及び前記第２バルブを開き、前記パージガスバルブを閉じて前記粉体原料供給源から前記気化器に粉体原料を搬送する工程と、
    　前記パージガスバルブを閉じて前記バッファタンクにパージガスを充填する工程と、
    　前記第１バルブを閉じ、前記第２バルブ及び前記パージガスバルブを開いて、前記第２バルブにパージガスを供給して、前記第２バルブ内の前記粉体原料を除去する程と、を有する、
    粉体除去方法。
  13. 　前記バッファタンクにパージガスを充填する工程と前記第２バルブにパージガスを供給する工程とを繰り返して実行する、
    請求項１２に記載の粉体除去方法。
  14. 　前記バッファタンクにパージガスを充填する工程と前記第２バルブにパージガスを供給する工程とを３回以上繰り返して実行する、
    請求項１３に記載の粉体除去方法。
  15. 　前記第２バルブにパージガスを供給する工程の後に、前記第２バルブの気密チェックを実行する、
    請求項１３または請求項１４に記載の粉体除去方法。
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