WO2022009554A1 - 電磁波吸収材、電磁波吸収塗料、電子デバイスおよび樹脂部品 - Google Patents
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Abstract
電磁波吸収材は、カーボンナノチューブ由来の粉砕炭素粒子を含む。このような構成により、電磁波吸収材の伸縮性および導電性の両立を図ることができる。
Description
本発明は、電磁波吸収材、電磁波吸収塗料、電子デバイスおよび樹脂部品に関する。
電子デバイス等から発せられる電磁波の漏洩や、外部からの電磁波による電子デバイスの誤作動などを抑制する手段として、電磁波吸収材を利用することが提案されている。特許文献1には、シリコーンゴムにカーボンナノチューブが添加された電磁波吸収材が提案されている。
電磁波吸収材の用途によっては、相当な伸縮性を有することや、様々な形状に仕上げられることが求められる。このため、伸縮を受けた場合や様々な形状となった場合に、電磁波吸収材中において互いに導通するネットワークを維持することが好ましい。一方、電磁波吸収材に含まれるカーボンナノチューブは、比較的良好な導電性を有するものの、一般的に硬質な状態になりやすい。機械的ストレスや熱膨張により電子デバイスの形状が変化すると、電磁波吸収材に亀裂などが生じ、ネットワークが破損し、特性劣化を招来するおそれがある。
本発明は、上記した事情のもとで考え出されたものであって、伸縮性および導電性の両立を図ることが可能な電磁波吸収材、電磁波吸収塗料、電子デバイスおよび樹脂部品を提供することをその課題とする。
本発明の第1の側面によって提供される電磁波吸収材は、カーボンナノチューブ由来の粉砕炭素粒子を含む。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記粉砕炭素粒子は、動的光散乱法によって計測された粒度が0.5μm以上1.5μm以下であり、且つレーザー散乱法によって計測された粒度が15μm以上70μm以下である。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記粉砕炭素粒子は、動的光散乱法によって計測された粒度とレーザー散乱法によって計測された粒度との差が、15μm以上である。
本発明の好ましい実施の形態においては、シート状に形成されている。
本発明の好ましい実施の形態においては、互いに積層された複数層からなるシート状に形成されている。
本発明の好ましい実施の形態においては、他の層よりも粉砕炭素粒子の濃度が高い層を有する。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記他の層よりも粉砕炭素粒子の濃度が高い層とは、吸収する電磁波の周波数帯が異なる層を有する。
本発明の好ましい実施の形態においては、磁性体を含む層および高誘電体を含む層、の少なくともいずれかを有する。
本発明の第2の側面によって提供される電磁波吸塗料は、カーボンナノチューブ由来の粉砕炭素粒子を含む。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記粉砕炭素粒子は、動的光散乱法によって計測された粒度が0.5μm以上1.5μm以下であり、且つレーザー散乱法によって計測された粒度が15μm以上70μm以下である。
本発明の好ましい実施の形態においては、前記粉砕炭素粒子は、動的光散乱法によって計測された粒度とレーザー散乱法によって計測された粒度との差が、15μm以上である。
本発明の第3の側面によって提供される電子デバイスは、本発明の第2の側面によって提供される電磁波吸収塗料が塗布されている。
本発明の第4の側面によって提供される樹脂部品は、本発明の第2の側面によって提供される電磁波吸収塗料が塗布されている。
本発明によれば、伸縮性および導電性の両立を図ることができる。
本発明のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。
以下、本発明の好ましい実施の形態につき、図面を参照して具体的に説明する。
図1は、本発明に係る電磁波吸収材の一例を示している。本実施形態の電磁波吸収材A1は、基材1および粉砕炭素粒子2を有する。
電磁波吸収材A1の用途は特に限定されず、たとえば電磁波の漏洩や進入を抑制するための電磁波遮蔽物体の部材や、電子デバイスの構成部材として用いられる。また、電磁波吸収材A1が吸収する電磁波の周波数帯域は特に限定されない。本実施形態の電磁波吸収材A1は、シート状に形成されている。
基材1は、電磁波吸収材A1のシート状の形状を維持するためのものであり、絶縁性の材質からなる。基材1は、好ましくは、比較的柔軟で伸縮性に富んだ材質からなる。このような基材1の材質を以下に例示する。
基材1の材質の一例は、エラストマーである。エラストマー(ゴム状弾性を有する高分子化合物)のうちのいずれか1種類又は2種類以上を含んでいる。エラストマーの種類は、特に限定されないが、例えば、熱硬化性エラストマー、熱可塑性エラストマー等である。エラストマーの具体例としては、たとえば日本ゼオン社製のQuintac(登録商標)(スチレン イソプレン ブロック共重合体)が挙げられる。
熱硬化性エラストマーの種類は、特に限定されないが、例えば、天然ゴム、合成ゴム、シリコーンゴム系エラストマー、ウレタンゴム系エラストマー及びフッ素ゴム系エラストマー等である。
熱可塑性エラストマーとしては、芳香族ビニル系モノマーと共役ジエン系モノマーとの共重合体が挙げられる。具体的には、例えば芳香族ビニル系モノマーと共役ジエン系モノマーとの共重合体としては、スチレン-ブタジエンブロック共重合体、スチレン-イソプレンブロックポリマー等のジブロック型ブロックポリマー;スチレン-ブタジエン-スチレンブロックポリマー、スチレン-イソプレン-スチレンブロックポリマー(SIS)、スチレン-ブタジエン-イソプレンブロックポリマー、スチレン-イソブチレン-スチレンブロックポリマー(SIBS)等のトリブロック型ブロックポリマー;スチレン-ブタジエン-スチレン-ブタジエンブロックポリマー、スチレン-イソプレン-スチレン-イソプレンブロックポリマー、スチレン-ブタジエン-イソプレン-スチレンブロックポリマー、スチレン-ブタジエン-スチレン-イソプレンブロックポリマー、スチレン-イソブチレン-ブタジエン-スチレンなどのようなマルチブロック型スチレン含有ブロックポリマーおよびこれらの水素添加物または部分水素添加物などが挙げられる。これらの中でも、SISなどのブロックポリマーがより好ましく用いられる。
粉砕炭素粒子2は、基材1に含まれることにより、電磁波吸収材A1に少なくとも局所的な導電性を付与するものであり、電磁波吸収の機能を果たすものである。粉砕炭素粒子2による電磁波吸収は、たとえば粉砕炭素粒子2によって構成される導通ネットワークの抵抗成分によるもの、当該導通ネットワークのRC成分によるもの、および発熱を伴う磁気減衰、が挙げられる。粉砕炭素粒子2は、カーボンチューブを粉砕することによって得られた、カーボンナノチューブ由来の粒子である。なお、電磁波吸収材A1は、粉砕炭素粒子2のみを含むものに限定されない。粉砕炭素粒子2に加えて、たとえばフェライトからなる粒子や高誘電体からなる粒子を含むものであってもよい。高誘電体としては、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸亜鉛、チタン酸ランタン、チタン酸ネオジウム、チタン酸鉛、ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウム、錫酸バリウム、錫酸カルシウム、珪酸マグネシウム等が挙げられ、これらを単独もしくは2種以上を混合して使用できる。
図2は、電磁波吸収材A1の製造方法の一例を示している。本実施形態の製造方法は、粉砕炭素粒子生成工程と、電磁波吸収材生成工程と、を備える。粉砕炭素粒子生成工程は、カーボンナノチューブを粉砕することにより、カーボンナノチューブに由来した粉砕炭素粒子2を生成する工程である。電磁波吸収材生成工程は、基材1および粉砕炭素粒子2からなる電磁波吸収材A1を形成する工程である。電磁波吸収材生成工程は、たとえば、粉砕炭素粒子生成工程によって得られた粉砕炭素粒子2と基材1となるペースト状や液状の絶縁体材料とを用いて、シート形成処理や塗布処理等の従来公知の手法によって行う。
<実施例>
以下に、粉砕炭素粒子生成工程の実施例について述べる。なお、本発明の粉砕炭素粒子生成工程は、何ら限定されず、後述する条件を満たす粉砕炭素粒子を生成可能な様々な手法を採用できる。
以下に、粉砕炭素粒子生成工程の実施例について述べる。なお、本発明の粉砕炭素粒子生成工程は、何ら限定されず、後述する条件を満たす粉砕炭素粒子を生成可能な様々な手法を採用できる。
(前処理)
まず、単層カーボンナノチューブ(以下、SWCNT:たとえば日本ゼオン社製SG101)の含有量が0.35wt%となるように溶媒に混ぜ分散させる。この際の溶媒は、MEK(メチルエチルケトン)を用いた。この溶液を、高圧ホモジナイザーを用いて分散し、SWCNT分散液(第1分散液)を得た。
次に、このSWCNT分散液を液温20~40℃で放置し、溶媒を除去した。その後、ガラス攪拌棒等を用いて、粉末状となるまで撹拌した。
まず、単層カーボンナノチューブ(以下、SWCNT:たとえば日本ゼオン社製SG101)の含有量が0.35wt%となるように溶媒に混ぜ分散させる。この際の溶媒は、MEK(メチルエチルケトン)を用いた。この溶液を、高圧ホモジナイザーを用いて分散し、SWCNT分散液(第1分散液)を得た。
次に、このSWCNT分散液を液温20~40℃で放置し、溶媒を除去した。その後、ガラス攪拌棒等を用いて、粉末状となるまで撹拌した。
(粉砕処理)
粉末状としたSWCNTを遊星型ボールミルによって、粉砕した。粉砕したSWCNTの粉末に溶媒を加え、再度、高圧ホモジナイザーを用いて分散した。この際の溶媒は、CyH(シクロヘキサン)を用いた。また、SWCNT含有量は、0.07~0.15wt%であった。再分散されたSWCNT分散液(第2分散液)をガラス容器等に移し、超音波振動を加えた。その後、24時間放置し、SWCNTが溶媒と分離しないことを確認した。分離が認められる場合、再度、超音波振動を加えた。
粉末状としたSWCNTを遊星型ボールミルによって、粉砕した。粉砕したSWCNTの粉末に溶媒を加え、再度、高圧ホモジナイザーを用いて分散した。この際の溶媒は、CyH(シクロヘキサン)を用いた。また、SWCNT含有量は、0.07~0.15wt%であった。再分散されたSWCNT分散液(第2分散液)をガラス容器等に移し、超音波振動を加えた。その後、24時間放置し、SWCNTが溶媒と分離しないことを確認した。分離が認められる場合、再度、超音波振動を加えた。
(抽出処理)
SWCNTと溶媒との分離が認められないことを確認した後に、さらに超音波振動を加えた。その後、30分程度放置し、SWCNT分散液の液面近くの上部をスポイト等によって吸い上げ、別容器に抽出した。
SWCNTと溶媒との分離が認められないことを確認した後に、さらに超音波振動を加えた。その後、30分程度放置し、SWCNT分散液の液面近くの上部をスポイト等によって吸い上げ、別容器に抽出した。
<比較例>
比較例1は、溶媒としてCyHを用い、未粉砕状態のSWCNTを分散させたSWCNT分散液を用意した。比較例2,3として、一般的なカーボンブラックを用意した。カーボンブラック製造メーカーによって公表された粒子径は、15nm~55nmであった。比較例2は、実施例と同じくCyHを溶媒としたカーボンブラック分散液を用意した。比較例3は、MEKを溶媒としたカーボンブラック分散液を用意した。
比較例1は、溶媒としてCyHを用い、未粉砕状態のSWCNTを分散させたSWCNT分散液を用意した。比較例2,3として、一般的なカーボンブラックを用意した。カーボンブラック製造メーカーによって公表された粒子径は、15nm~55nmであった。比較例2は、実施例と同じくCyHを溶媒としたカーボンブラック分散液を用意した。比較例3は、MEKを溶媒としたカーボンブラック分散液を用意した。
(粒度測定前の予備希釈)
(1-1)ガラス容器に実施例および比較例1~3の分散液をそれぞれ2ml採取し、これにIPA(イソプロピルアルコール:関東化学 鹿1級)を加え予備希釈液を得た。
(1-2)前記容器の予備希釈液をマグネットスターラ等で撹拌した後に、超音波処理を行った。超音波条件は、周波数:39kHz、出力100W、照射時間3分であった。
(1-3)超音波処理後、10分以内に以下の粒度測定を行った。
(1-1)ガラス容器に実施例および比較例1~3の分散液をそれぞれ2ml採取し、これにIPA(イソプロピルアルコール:関東化学 鹿1級)を加え予備希釈液を得た。
(1-2)前記容器の予備希釈液をマグネットスターラ等で撹拌した後に、超音波処理を行った。超音波条件は、周波数:39kHz、出力100W、照射時間3分であった。
(1-3)超音波処理後、10分以内に以下の粒度測定を行った。
<動的光散乱法>
(2-1)動的光散乱法による測定装置に、マルバーン社製:ゼータサイザーナノシリーズを用いた。当該装置は、粒子径標準粒子(LTX3060A,LTX3200A)にて、たとえば測定誤差が2%以下となる程度に予め適切に校正されていた。
(2-2)前記予備希釈液1mlを、12mm角ガラスセル(PCS1115)に入れ、前記装置にセットした。当該ガラスセルにはキャップを付けた。
(2-3)粒子情報は、屈折率=2.0、虚数部0.850に設定した。
(2-4)溶媒情報は、2-Propanol、屈折率=1.3750、粘度=2.038に設定した。
(2-5)測定温度は、25℃に設定した。
(2-6)測定温度到達から測定までの時間は、60秒に設定した。
(2-7)セル設定は、「glass cuvette」にて設定した。
(2-8)測定時のディテクタ角度は、173°とした。
(2-9)1回の測定に充てる時間は、「Automatic」とした。
(2-10)繰り返し回数は、3回とした。
(2-11)「Measurement Position」は、「Seek for measurement position」に設定し、自動とした。
(2-12)粒度分布のスムージングに関するモデルは、「General Purpose」とした。
(2-13)Z-Averageを採用し、測定3回の平均を、測定値とした。
(2-1)動的光散乱法による測定装置に、マルバーン社製:ゼータサイザーナノシリーズを用いた。当該装置は、粒子径標準粒子(LTX3060A,LTX3200A)にて、たとえば測定誤差が2%以下となる程度に予め適切に校正されていた。
(2-2)前記予備希釈液1mlを、12mm角ガラスセル(PCS1115)に入れ、前記装置にセットした。当該ガラスセルにはキャップを付けた。
(2-3)粒子情報は、屈折率=2.0、虚数部0.850に設定した。
(2-4)溶媒情報は、2-Propanol、屈折率=1.3750、粘度=2.038に設定した。
(2-5)測定温度は、25℃に設定した。
(2-6)測定温度到達から測定までの時間は、60秒に設定した。
(2-7)セル設定は、「glass cuvette」にて設定した。
(2-8)測定時のディテクタ角度は、173°とした。
(2-9)1回の測定に充てる時間は、「Automatic」とした。
(2-10)繰り返し回数は、3回とした。
(2-11)「Measurement Position」は、「Seek for measurement position」に設定し、自動とした。
(2-12)粒度分布のスムージングに関するモデルは、「General Purpose」とした。
(2-13)Z-Averageを採用し、測定3回の平均を、測定値とした。
<レーザー散乱法>
(3-1)レーザー散乱法による測定装置に、マルバーン社製:マスターサイザー3000を用いた。
(3-2)粒子情報は、屈折率=2.0、虚数部0.850に設定した。
(3-3)溶媒情報は、エタノール、屈折率=1.3600に設定した。
(3-4)測定に使用する溶媒は、エタノール(関東化学 鹿1級)を用いた。
(3-5)前記エタノールを分散ユニットに規定量充填し、前記装置内を120秒循環させた。
(3-1)レーザー散乱法による測定装置に、マルバーン社製:マスターサイザー3000を用いた。
(3-2)粒子情報は、屈折率=2.0、虚数部0.850に設定した。
(3-3)溶媒情報は、エタノール、屈折率=1.3600に設定した。
(3-4)測定に使用する溶媒は、エタノール(関東化学 鹿1級)を用いた。
(3-5)前記エタノールを分散ユニットに規定量充填し、前記装置内を120秒循環させた。
図3は、動的光散乱法およびレーザー散乱法による粒度測定の結果を示している。図1に示すように、動的光散乱法によって測定された粒度D1は、実施例が、0.5μm以上1.5μm以下の範囲に分布した。比較例1は、1.3μm~5.4μmの範囲に分布した。比較例2,3は、0.1μm~1.5μmの範囲に分布した。一方、レーザー散乱法によって測定された粒度D2は、実施例が15μm以上であり、さらに50μm以下であった。比較例1は、35μm以上であった。比較例2,3は、15μm以下であった。
図4は、動的光散乱法およびレーザー散乱法による粒度測定の結果を以下の手法で整理したグラフである。横軸は、粒度D2と粒度D1との差(D2-D1)である。差(D2-D1)は、実施例が15μm以上であった。比較例1は32μm以上であった。比較例2、3は0.1μm~15μmの範囲に分布した。縦軸は、粒度D2と粒度D1との比(D2/D1)である。比(D2/D1)は、実施例が15以上であった。比較例1は7~63の範囲に分布した。比較例2,3は、0.3~48の範囲に分布した。
実施例と比較例1、比較例2および比較例3とを比較すると、図3について、動的光散乱法によって計測された粒度D1が0.5μm以上1.5μm以下であり、且つレーザー散乱法によって計測された粒度D2が15μm以上であって、さらに50μm以下であるという条件を満たすものは、実施例であり、比較例1~3はいずれもこの条件(以下、条件1)を満たしていない。また、図4から理解されるように、動的光散乱法によって計測された粒度D1とレーザー散乱法によって計測された粒度D2との差(D2-D1)が、15μm以上である条件(以下、条件2)、およびレーザー散乱法によって計測された粒度D2と動的光散乱法によって計測された粒度D1との比(D2/D1)が、15以上である条件(以下、条件3)のいずれかと、条件1とを、ともに満たすものは、実施例のみであった。
<柔軟性の評価例>
本実施形態の電磁波吸収材A1について、伸縮性の評価試験を行った結果例を以下に説明する。
本実施形態の電磁波吸収材A1について、伸縮性の評価試験を行った結果例を以下に説明する。
柔軟性評価例として、粉砕炭素粒子2の混合比率を0.5wt%、10wt%、30wt%に設定した柔軟性評価例1~3を用意した。電磁波吸収材A1は、30mmX15mm、厚さが100μmのシート形状に成形した。。折り曲げテストとして、このシート状の電磁波吸収材A1を360°折り曲げ、亀裂等がの発生状況を確認した。また、伸張テストとして、電磁波吸収材A1の長手方向の両端の各5mmの部分を、ガラスエポキシ樹脂静のチャックによって固定し、固定部を除いた電磁波吸収材A1の部分(長さ20mmの部分)を10%伸張させて、亀裂等が発生状況を確認した。
表1は、評価例1~3の評価試験結果を示している。表1に示すように、柔軟性評価例1~3のすべてが、折り曲げテストおよび伸張テストにおいて亀裂等の発生が認められず、良好な柔軟性を有することが分かった。
<電磁波特性の評価例>
本実施形態の電磁波吸収材A1について、電磁波の吸収および遮蔽(電磁波特性)の評価試験を行った結果を以下に説明する。なお、電磁波吸収材A1の厚さは、400μmとした。
本実施形態の電磁波吸収材A1について、電磁波の吸収および遮蔽(電磁波特性)の評価試験を行った結果を以下に説明する。なお、電磁波吸収材A1の厚さは、400μmとした。
電磁波特性評価例として、粉砕炭素粒子2の混合比率を0.5wt%、10wt%、30wt%に設定した電磁波特性評価例1~3を用意した。これらの電磁波特性評価例1~3を対象として、周波数帯域ごとに異なる、KEC法(0.5MHz~1000MHz)、DFFC(Dual Focus Flat Cavity)法(1GHz~8.5GHz)、FS(フリースペース)法(60GHz~90GHz)の3つの方法を用いて行った。なお、KEC法では、電界(表2)および磁界(表3)のそれぞれの減衰を計測した。DFFC法(表4)およびFS法では、電磁波の遮蔽および透過を計測した。FS法については、吸収特性(表5)と遮蔽特性(表6)との結果を示す。なお、各表においては、減衰量をデシベル表示で示している。
表5のFS法(吸収特性)を除いてほとんどの評価試験においても、混入比率が高い方が、電磁波の吸収および遮蔽の効果が高まる傾向が見られた。このため、混入比率が30wt%程度とすることが、柔軟性を維持しつつ吸収および遮蔽効果を高めるのに好ましい。一方、反射の影響を軽減させて吸収効果を高める場合は、表5に示すように、混入比率を10wt%以下とし、電磁波吸収材A1の厚さを厚くすることや、電磁波吸収材A1を積層させることによって、電磁波吸収効果を増加させることができる。
なお、粉砕炭素粒子2に合わせてフェライトを加えることで、電磁波吸収材A1の磁界の吸収および遮蔽効果を高めることができる。また、フェライトを加えた電磁波吸収材A1を積層させることにより、電磁波吸収効果を増加させてもよい。また、より高い柔軟性が求められる場合は、粉砕炭素粒子2を有する電磁波吸収材A1と、フェライトが混入された別のシートとを、互いに積層させてもよい。また、電磁波吸収効果を高める他の方策として、電磁波吸収材A1にチタン酸バリウム等の高誘電体を加えてもよい。
次に、電磁波吸収材A1の作用について説明する。
図3および図4に示すように、カーボンナノチューブ由来の粉砕炭素粒子(実施例)と、未粉砕のカーボンナノチューブ(比較例1)や一般的なカーボンブラック(比較例2,3)とが、条件1によって明確に区別することができた。これは、カーボンブラックを粉砕することによって得られた粉砕炭素粒子は、未粉砕のカーボンナノチューブ(比較例1)やカーボンブラック(比較例2,3)とは、粒度測定の種類に応じた測定結果の傾向が異なることに起因する。すなわち、カーボンナノチューブは、一般的に硬質な状態となりやすい。また、カーボンナノチューブは、本来細長い筒状をなす形態であるものの、粉砕によって筒状がある程度破壊され塊として大きさが小さくなる。しかし、粉砕後であっても、複数の細かい粒子から構成されるものである。このため、実施例は、粒度D1について比較例2,3との大小は不明確であるものの、粒度D2については比較例2,3よりも明確に大きい。また、実施例は、粒度D1について比較例1よりも小さい傾向であった。この関係を、差(D2-D1)や比(D2/D1)で比較すると、さらに優位な区別が可能であった。
条件1によって区別される粉砕炭素粒子2が用いられた電磁波吸収材A1は、カーボンナノチューブに由来する良好な導電性を有しつつ、粉砕による小粒化(比較例2との粒度D1の差)によって、伸縮性が高められる。これにより、電磁波吸収材A1の伸縮性向上や様々な形状への成形性向上と導電性向上の両立とを図ることができる。したがって、電磁波吸収材A1を様々な条件で用いた場合に、より良好な電磁波吸収効果を得ることができる。条件1に加えて、条件2および条件3を適宜組合せて区別することにより、電磁波吸収材A1の伸縮性向上や様々な形状への成形性向上と導電性向上との両立に適した粉砕炭素粒子2をより確実に選別することができる。
図5は、本発明に係る電磁波吸収材の他の例を示している。本例の電磁波吸収材A2は、複数の単位層Bからなる。各単位層Bは、たとえば上述した電磁波吸収材A1と同様の構成である。これらの単位層Bが互いに積層され、且つ接合等によって互いに固定されている。単位層Bに含まれる粉砕炭素粒子2の濃度は、互いに異なっていてもよい。
このような電磁波吸収材A2によっても、電磁波吸収材A1と同様に伸縮性向上や様々な形状への成形性向上と導電性向上の両立とを図ることができる。また、シート状に形成された電磁波吸収材A2の厚さをより容易に厚くすることが可能である。さらに、厚くなった電磁波吸収材A2の厚さ方向において、粉砕炭素粒子2の濃度分布が偏ってしまうことを抑制することができる。
図6は、本発明に係る電磁波吸収材のさらに他の例を示している。本例の電磁波吸収材A3は、複数の単位層B1,B2,B3からなる。各単位層B1,B2,B3は、互いに積層されており、接合等の手法によって互いに固定されている。単位層B3は、単位層B1,B2よりも粉砕炭素粒子2の濃度が高い。単位層B1は、磁性体粒子28を含む。磁性体粒子28は、たとえばフェライト粒子である。単位層B2は、高誘電体粒子29を含む。単位層B1,B2の粉砕炭素粒子2の濃度は、単位層B3の粉砕炭素粒子2の濃度よりも低く、たとえば0であってもよい。図示された例においては、単位層B1,B2の粉砕炭素粒子2の濃度は、0である。単位層B1は、単位層B3と比べて吸収する電磁波の周波数帯が異なり、より具体的には、より低い周波数帯の電磁波を吸収する。単位層B2は、誘電率の向上に資することにより、構成されるRCネットワークのキャパシタンス成分を増大させることが可能である。これにより、単位層B2は、より低い周波数帯域の電磁波を吸収できる。高誘電体粒子29を構成する高誘電体としては、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸亜鉛、チタン酸ランタン、チタン酸ネオジウム、チタン酸鉛、ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウム、錫酸バリウム、錫酸カルシウム、珪酸マグネシウム等が挙げられ、これらを単独もしくは2種以上を混合して使用できる。
このような電磁波吸収材A3によっても、電磁波吸収材A1,A2と同様に伸縮性向上や様々な形状への成形性向上と導電性向上の両立とを図ることができる。また、本例から理解されるように、本発明に係る電磁波吸収材がシート状に形成される場合、その具体的構成は何ら限定されない。単位層B3に加えて単位層B1を有することにより、より広い周波数帯の電磁波を吸収することができる。
図7は、本発明に係る電磁波吸収材のさらに他の例を示している。本例の電磁波吸収材A31は、上述した電磁波吸収材A3と同様に、複数の単位層B1,B2,B3からなる。電磁波吸収材31は、単位層B2の構成が、電磁波吸収材A3の単位層B2と異なっている。
本例の単位層B2は、高誘電体粒子29および粉砕炭素粒子2の双方を含む。ただし、単位層B2の粉砕炭素粒子2の濃度は、単位層B3の粉砕炭素粒子2の濃度よりも低い。このような電磁波吸収材A31によっても、電磁波吸収材A1,A2と同様に伸縮性向上や様々な形状への成形性向上と導電性向上の両立とを図ることができる。また、本例から理解されるように、本発明に係る電磁波吸収材がシート状に形成される場合、その具体的構成は何ら限定されない。
図8は、本発明に係る電磁波吸収材のさらに他の例を示している。本例の電磁波吸収材A4は、単位層Bからなる。本例の単位層Bは、磁性体粒子28および粉砕炭素粒子2を含む。電磁波吸収材4によれば、1つの単位層Bからなる構成によって、より広い周波数帯域の電磁波を吸収することができる。
図9は、本発明に係る電磁波吸収塗料が塗布された電子デバイスの一例を示している。本実施形態の電子デバイスCは、電子素子51、複数のリード52,53a,53b、ワイヤ54a,54b、樹脂部55および電磁波吸収材A5を備えている。
電子素子51は、たとえば半導体を用いて形成されており、各種の電子的な機能を果たす素子である。リード52,53a,53bは、たとえばCu等の金属からなる導電性部材である。リード52には、電子素子51が搭載されている。リード53aには、ワイヤ54aの一端がボンディングされており、リード53bには、ワイヤ54bの一端がボンディングされている。ワイヤ54a,54bは、たとえばAu等の金属からなり、それぞれの他端が電子素子51にボンディングされている。樹脂部55は、電子素子51、リード52,53a,53bの一部ずつ、およびワイヤ54a,54bを覆っており、たとえばエポキシ樹脂からなる絶縁性の部材である。
電磁波吸収材A5は、電子デバイスCの構成要素を覆っており、図示された例においては、樹脂部55を覆っている。電磁波吸収材A5は、上述した電磁波吸収材A1,A2,A3と同様に、基材1および粉砕炭素粒子2を有する。また、電磁波吸収材A5は、塗布によって形成されている。電磁波吸収材A5は、リード53a,53bから離れた位置に形成されている。これは、リード53aとリード53bとのショートを回避するためである。
電磁波吸収材A5を塗布によって形成する場合、電磁波吸収塗料を塗布することによって形成する。電磁波吸収塗料は、基材1となるペースト材料や液状材料を含み、このようなペースト材料や液状材料に粉砕炭素粒子2が混ぜられている。ペースト材料としては、たとえばシリコーングリースが挙げられ、高粘度のシリコーングリースが好ましい。
電子デバイスCには、電磁波吸収材A5が設けられている。これにより、電子デバイスCからの電磁波の漏洩や、外部からの電磁波ノイズが電子素子51に及ぶことを抑制することが可能である。また、電磁波吸収材A5を塗布によって形成すれば、電子デバイスCの樹脂部55等の形状が複雑であっても、電磁波吸収材A5によって電子デバイスCをより確実に覆うことができる。また、機械的ストレスや熱膨張により電子デバイスCの形状が変化する場合であっても、電磁波吸収材A5に亀裂などが生じることを抑制可能であり、ネットワークの破損を回避し、特性を維持することができる。
さらに、本発明に係る樹脂部品は、樹脂からなる部品本体と、当該部品本体の少なくとも一部を覆う電磁波吸収塗料とを備える。電磁波吸収塗料としては、上述した実施形態における電磁波吸収塗料を適宜用いればよい。部品本体は何ら限定されず、たとえばバンパーに代表される自動車部品、携帯電話機の筐体に代表される電子機器部品等が適宜挙げられる。
部品本体の少なくとも一部を電磁波吸収塗料によって覆うことにより、樹脂部品が適用される機器や装置等に関する電磁波ノイズの遮蔽効果を高めるとともに、たとえば金属部品を用いて電磁波ノイズを遮蔽する構成と比べて、軽量化を図ることができる。
本発明に係る電磁波吸収材、電磁波吸収塗料、電子デバイスおよび樹脂部品は、上述した実施形態に限定されるものではない。本発明に係る電磁波吸収材および電磁波吸収材、電磁波吸収塗料および電子デバイスの具体的な構成は、種々に設計変更自在である。
Claims (13)
- カーボンナノチューブ由来の粉砕炭素粒子を含む、電磁波吸収材。
- 前記粉砕炭素粒子は、動的光散乱法によって計測された粒度が0.5μm以上1.5μm以下であり、且つレーザー散乱法によって計測された粒度が15μm以上70μm以下である、請求項1に記載の電磁波吸収材。
- 前記粉砕炭素粒子は、動的光散乱法によって計測された粒度とレーザー散乱法によって計測された粒度との差が、15μm以上である、請求項2に記載の電磁波吸収材。
- シート状に形成されている、請求項1ないし3のいずれかに記載の電磁波吸収材。
- 互いに積層された複数層からなるシート状に形成されている、請求項4に記載の電磁波吸収材。
- 他の層よりも粉砕炭素粒子の濃度が高い層を有する、請求項5に記載の電磁波吸収材。
- 前記他の層よりも粉砕炭素粒子の濃度が高い層とは、吸収する電磁波の周波数帯が異なる層を有する、請求項6に記載の電磁波吸収材。
- 磁性体を含む層および高誘電体を含む層、の少なくともいずれかを有する、請求項7に記載の電磁波吸収材。
- カーボンナノチューブ由来の粉砕炭素粒子を含む、電磁波吸収塗料。
- 前記粉砕炭素粒子は、動的光散乱法によって計測された粒度が0.5μm以上1.5μm以下であり、且つレーザー散乱法によって計測された粒度が15μm以上70μm以下である、請求項9に記載の電磁波吸収塗料。
- 前記粉砕炭素粒子は、動的光散乱法によって計測された粒度とレーザー散乱法によって計測された粒度との差が、15μm以上である、請求項10に記載の電磁波吸収塗料。
- 請求項9ないし11のいずれかに記載の電磁波吸収塗料が塗布されている、電子デバイス。
- 請求項9ないし11のいずれかに記載の電磁波吸収塗料が塗布されている、樹脂部品。
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