WO2021249216A1 - 镀膜支架、镀膜设备及其镀膜方法 - Google Patents
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Abstract
一镀膜设备及其镀膜方法,其中所述镀膜设备包括:一镀膜腔体,具有一镀膜腔,以供容纳该待镀膜工件;至少一上料支架,其中所述上料支架被设置于所述镀膜腔,以供支撑该待镀膜工件;以及至少一收料转轴,其中所述收料转轴被可转动地设置于所述镀膜腔,其中所述收料转轴与所述上料支架之间具有预设的一镀膜空间,其中所述收料转轴用于卷动被支撑于所述上料支架的该待镀膜工件缠绕于所述收料转轴,以供在卷动过程中,所述镀膜设备在该待镀膜工件被暴露于所述镀膜空间的表面制备膜层。所述镀膜设备能够对长度可以超过3米,甚至达到350米或800米及以上的待镀膜工件进行镀膜,且无需进行裁切。
Description
本发明涉及镀膜领域,进一步涉及一镀膜支架、镀膜设备及其镀膜方法。
镀膜设备一般用于在待镀膜工件的表面制备涂层或薄膜,以增强待镀膜工件的表面物理或化学性能。
镀膜设备具有一用于容纳待镀膜工件的镀膜腔,在镀膜过程中,所述镀膜腔需持续地抽真空,以达到所需的真空度,满足镀膜需求。传统的镀膜设备的所述镀膜腔的长、宽、高基本上均不大于3米,甚至不超过1米,容积有限。对于待镀膜工件为较长的物料,其长度大于所述镀膜腔的长度,如大于3米,甚至超过15米的物料,无法展开地容纳于所述镀膜腔内进行镀膜。较长的待镀膜工件需分成一段一段地在所述镀膜腔内进行镀膜,由于分段后的待镀膜工件的两端是前后连续的,影响该镀膜腔的抽真空,即在镀膜过程中,该镀膜腔必然存在漏气现象,无法保证该镀膜腔达到所需的真空度。
在现有的镀膜方法中,由于所述镀膜腔在镀膜过程中需保持所需的真空度,该待镀膜工件需被切成或裁成适配地容纳于所述镀膜腔内的多个小段的工件,然后才能够展开地放入所述镀膜腔内进行镀膜。
举例地,该待镀膜工件为用于手机等智能设备的听筒透音网,其长度可达300米。在现有的镀膜方法中,该听筒透音网需被切成0.085米长的小段听筒透音网,以分别适配地放入所述镀膜腔内一段一段地进行镀膜。然而,为便于取件,相邻的小段听筒透音网之间需间隔预设的距离,而且为使每个该小段听筒透音网的表面均被镀膜,各该小段听筒透音网之间不能发生重叠,导致在所述镀膜腔内的占用面积明显较高。另外,在镀膜过程中,现有的镀膜方法还需用到离型纸、双面胶等辅助耗材,以辅助各小段听筒透音网完成镀膜,实际上这些辅助耗材并不需要进行镀膜,但是这些辅助耗材的表面也被镀上了薄膜,造成了镀膜材料的浪费,且工艺复杂,镀膜成本增加。
换言之,现在市面上常用的解决方案是先把卷料裁成小块的成品,再放进真 空炉内进行镀膜。例如,手机听筒透音网在镀膜时就是先把3米长的透音网卷料切成0.085米长的小张,再放进真空炉内进行镀膜。但是,在切成小张后,相邻的听筒透音网之间还需要拉开一定的距离才方便取件,这会使需要镀膜的面积成倍地增加,造成了镀膜成本的大幅度增加。此外,切成小张还需要用到离型纸或双面胶等辅助耗材,并且这些不必要镀膜的耗材也会被镀上膜,进而会造成镀膜材料的浪费。
此外,在现有的镀膜方法中,通常采用一治具将该待镀膜工件支撑为多层结构的工件,以适配地容纳于该镀膜腔内进行镀膜。但是,为满足每层的工件表面均被镀上膜层,该治具需支撑相邻层的工件之间保持预设的间距,保证镀膜所需的渗透要求。受该镀膜腔的体积的限制,该待镀膜工件的长度越长,由该治具支撑形成的多层结构的工件的层数就越多,相邻层的工件之间的间距就越小。一般情况下,该待镀膜工件的长度不能超过15米,若该待镀膜工件的长度大于15米或过长时,相邻层的工件之间的间距就达不到所需的距离,从而导致内部层的工件的表面所镀的膜层达不到所需的厚度,无法满足工艺要求。也就是说,现有的镀膜方法中是借助治具在卷材的外层和内层之间垫出足够的缝隙,以满足镀膜的渗透要求。但这种方案也只能对长度在一定范围(如24米)以内的卷料进行镀膜,一但卷料的长度超过该范围,卷料的内部就难以镀到足够的膜厚,无法满足工艺要求。
发明内容
本发明的一个优势在于提供一镀膜支架、镀膜设备及其镀膜方法,其中所述镀膜设备能够对待镀膜工件进行镀膜,其中所述待镀膜工件的长度可以超过3米,甚至达到350米或800米及以上等,可全部容纳于所述镀膜设备的一镀膜腔内进行镀膜,且无需进行裁切,其中所述待镀膜工件的表面能够镀上所需厚度的膜层,满足镀膜需求。
本发明的另一个优势在于提供一镀膜支架、镀膜设备及其镀膜方法,其中所述待镀膜工件被收卷地容纳于所述镀膜腔,在镀膜过程中,所述待镀膜工件被卷动地进行镀膜,使得所述待镀膜工件的表面被镀上所需厚度的膜层。
本发明的另一个优势在于提供一镀膜支架、镀膜设备及其镀膜方法,其中所述镀膜设备能够同时对不同长度的所述待镀膜工件进行镀膜,以满足不同客户的 镀膜需求。
本发明的另一个优势在于提供一镀膜支架、镀膜设备及其镀膜方法,其中所述待镀膜工件的表面所镀的膜层的厚度基本一致,实现了镀膜均匀化,满足终端客户对所述待镀膜工件的品质要求。
本发明的另一个优势在于提供一镀膜支架、镀膜设备及其镀膜方法,其中所述待镀膜工件的卷动速度可以被调控,使得所述待镀膜工件表面所镀的膜层的厚度可以被调控,满足镀膜需求。
本发明的另一个优势在于提供一镀膜支架、镀膜设备及其镀膜方法,其能够避免所述待镀膜工件在卷动过程中发生打滑或松动等现象。
本发明的另一个优势在于提供一镀膜支架、镀膜设备及其镀膜方法,其中所述待镀膜工件在卷动完毕后,电机自动停止,以保证设备的安全。
本发明的另一个优势在于提供一镀膜支架、镀膜设备及其镀膜方法,其能够进一步地提高镀膜均匀性。
本发明的另一个优势在于提供一镀膜支架、镀膜设备及其镀膜方法,其便于实现自动化,方法简单,成本低。
本发明的另一个优势在于提供一镀膜支架、镀膜设备及其镀膜方法,其中所述镀膜支架能够在不裁剪卷材的前提下,有效地避免卷料对镀膜设备抽真空的影响。
本发明的另一个优势在于提供一镀膜支架、镀膜设备及其镀膜方法,其中所述镀膜支架能够使卷材在卷动的过程中被连续地镀膜,以便采用自动化机器来贴辅料,顺应自动化发展的趋势,具有广阔的推广前景。
本发明的另一个优势在于提供一镀膜支架、镀膜设备及其镀膜方法,其中所述镀膜支架能够提高镀膜厚度的均匀性,使得卷材的内层和外层松紧度一致,可以满足客户对诸如纳米防水等功能的品质要求。
本发明的另一个优势在于提供一镀膜支架、镀膜设备及其镀膜方法,其中所述镀膜支架能够使卷材的源头就实现纳米防水,以避免材料的浪费,大幅解决了纳米镀膜的成本。
本发明的另一个优势在于提供一镀膜支架、镀膜设备及其镀膜方法,其中所述镀膜支架能够使大批量的卷料进行长时间的镀膜作业,不需要频繁地更换卷料,有助于减少人为干预,提高设备的利用率,以便在诸如透音网和无纺布等卷料行 业内都可以大规模地使用。
本发明的另一个优势在于提供一镀膜支架、镀膜设备及其镀膜方法,其中所述镀膜支架能够解决现有的卷料镀膜难以实现的难题,开拓了纳米镀膜的新领域和新市场。
本发明的另一个优势在于提供一镀膜支架、镀膜设备及其镀膜方法,其中所述镀膜支架能够使所述卷料中具有相同长度的任意段卷料的镀膜时间保持一致,以便确保所述卷料的镀膜厚度保持一致。
本发明的另一个优势在于提供一镀膜支架、镀膜设备及其镀膜方法,其中所述镀膜支架能够使卷料始终保持在拉伸状态,以便避免所述卷料在卷动过程中出现外层和内层松紧度不一致的现象。
本发明的另一个优势在于提供一镀膜支架、镀膜设备及其镀膜方法,其中所述镀膜支架能够自动地停止卷动已镀完膜的卷料,以防镀完膜的卷料继续卷动,有助于降低镀膜设备的能耗。
本发明的另一个优势在于提供一镀膜支架、镀膜设备及其镀膜方法,其中所述镀膜支架具有较强的普适性,能够适用于旋转镀膜和静置镀膜。
本发明的另一个优势在于提供一镀膜支架、镀膜设备及其镀膜方法,其中所述镀膜支架不需要采用昂贵的材料或复杂的结构。因此,本发明成功和有效地提供一解决方案,不只提供简单的镀膜支架,同时还增加了所述镀膜支架的实用性和可靠性。
依本发明的一个方面,本发明进一步提供一镀膜设备,以供在待镀膜工件表面制备膜层,所述镀膜设备包括:
一镀膜腔体,具有一镀膜腔,以供容纳该待镀膜工件;
至少一上料支架,其中所述上料支架被设置于所述镀膜腔,以供支撑该待镀膜工件;以及
至少一收料转轴,其中所述收料转轴被可转动地设置于所述镀膜腔,其中所述收料转轴与所述上料支架之间具有预设的一镀膜空间,其中所述收料转轴用于卷动被支撑于所述上料支架的该待镀膜工件缠绕于所述收料转轴,以供在卷动过程中,所述镀膜设备在该待镀膜工件被暴露于所述镀膜空间的表面制备膜层。
在一实施例中,其中所述上料支架包括至少一上料转轴,其中所述上料转轴被可转动地设置于所述镀膜腔,以供该待镀膜工件被卷置于所述上料转轴,其中 所述上料转轴和所述收料转轴沿水平或竖直方向地布置于所述镀膜腔体内。
在一实施例中,被收卷于所述收料转轴的该待镀膜工件形成一收料柱,在镀膜过程中,所述收料柱的直径逐渐增大,所述收料转轴的转速逐渐减慢。
在一实施例中,所述收料转轴为二个,分别为第一收料转轴和第二收料转轴,所述上料转轴用于重叠地卷置第一待镀膜工件和第二待镀膜工件,其中所述第一收料转轴与所述上料转轴之间具有预设的第一镀膜空间,其中所述第二收料转轴与所述上料转轴之间具有预设的第二镀膜空间,其中所述第一收料转轴用于卷动该第一待镀膜工件缠绕于所述第一收料转轴,其中所述第二收料转轴用于卷动该第二待镀膜工件缠绕于所述第二收料转轴。
在一实施例中,所述收料转轴为二个,分别为第一收料转轴和第二收料转轴,所述上料转轴为二个,分别为用于卷置第一待镀膜工件的第一上料转轴和用于卷置第二待镀膜工件的第二上料转轴,其中所述第一收料转轴与所述第一上料转轴之间具有预设的第一镀膜空间,其中所述第二收料转轴与所述第二上料转轴之间具有预设的第二镀膜空间,其中所述第一收料转轴用于卷动该第一待镀膜工件缠绕于所述第一收料转轴,其中所述第二收料转轴用于卷动该第二待镀膜工件缠绕于所述第二收料转轴。
在一实施例中,其中该第一待镀膜工件的长度短于该第二待镀膜工件的长度。
在一实施例中,其中所述第一收料转轴与所述第二上料转轴相邻,且所述第一收料转轴与所述第二上料转轴之间具有第一预设间距,其中所述第二收料转轴与所述第一上料转轴相邻,且所述第二收料转轴与所述第一上料转轴之间具有第二预设间距。
在一实施例中,进一步包括至少一阻尼装置,其中所述阻尼装置被安装于所述上料转轴。
在一实施例中,进一步包括至少一驱动电机,其中所述驱动电机被设置于驱动所述收料转轴转动的位置。
在一实施例中,进一步包括至少一检测电路,其中所述检测电路被电连接于所述驱动电机,当该待镀膜工件被卷动地缠绕于所述收料转轴至末端时,该待镀膜工件的末端在所述上料支架和所述收料转轴之间阻止所述收料转轴继续转动,所述驱动电机受到阻力而产生过载,所述检测电路用于检测所述驱动电机产生过载时停止所述驱动电机。
在一实施例中,进一步包括至少一阻力传感器,所述阻力传感器被设置于检测所述收料转轴受到的阻力的位置,其中所述阻力传感器被电连接于所述驱动电机,当该待镀膜工件被卷动地缠绕于所述收料转轴至末端时,该待镀膜工件的末端在所述上料支架和所述收料转轴之间阻止所述收料转轴继续转动,所述阻力传感器用于检测所述收料转轴受到的阻力大于预设阈值,停止所述驱动电机。
在一实施例中,进一步包括一旋转支架,其中所述旋转支架被可旋转地设置于所述镀膜腔,其中所述上料支架和所述收料转轴被安装于所述旋转支架,其中所述旋转支架用于同步地带动所述上料支架和所述收料转轴在所述镀膜腔内旋转。
在一实施例中,其中所述旋转支架包括一旋转轴和至少一底支撑件,其中所述旋转轴被可转动地设置于所述镀膜腔,其中所述底支撑件被设置于所述旋转轴的底端并随着所述旋转轴一起旋转,其中所述上料支架和所述收料转轴被安装于所述底支撑件并随着所述底支撑件在所述镀膜腔内旋转。
在一实施例中,其中所述旋转支架进一步包括一顶支撑件,其中所述顶支撑件被设置于所述旋转轴的顶端,在所述顶支撑件与所述底支撑件之间界定一容纳空间,以供容纳该待镀膜工件。
在一实施例中,其中所述旋转支架进一步包括至少二工件支撑件,其中各所述工件支撑件被分别设置于所述上料支架和所述收料转轴,其中所述工件支撑件靠近所述底支撑件,以供支撑该待镀膜工件。
在一实施例中,进一步包括一电极装置,其中所述电极装置被设置于在所述镀膜腔内放电的位置。
在一实施例中,其中所述电极装置具有至少一电极元件,其中所述电极元件被安装于所述旋转支架。
依本发明的另一个方面,本发明进一步提供一镀膜方法,包括:
A、在一镀膜腔内卷动被支撑于一上料支架的待镀膜工件于一收料转轴,其中所述收料转轴与所述上料支架之间具有预设的一镀膜空间;和
B、在卷动过程中,在该待镀膜工件被暴露于所述镀膜空间的表面制备膜层。
在一实施例中,在所述镀膜方法中,其中所述上料支架包括至少一上料转轴,其中所述上料转轴被可转动地设置于所述镀膜腔,以供该待镀膜工件被卷置于所述上料转轴。
在一实施例中,在所述镀膜方法中,其中所述步骤A中,所述收料转轴作为主动轮,所述上料转轴作为从动轮,通过转动所述收料转轴卷动该待镀膜工件缠绕于所述收料转轴,并带动所述上料转轴转动。
在一实施例中,在所述镀膜方法中,随着被收卷于所述收料转轴的该待镀膜工件形成的一收料柱的直径逐渐增大,所述收料转轴的转速逐渐减慢。
在一实施例中,在所述镀膜方法中,通过一阻尼装置保持该待镀膜工件处于拉伸状态。
在一实施例中,在所述镀膜方法中,当该待镀膜工件被卷动地缠绕于所述收料转轴至末端时,停止转动所述收料转轴。
在一实施例中,在所述镀膜方法中,检测所述收料转轴受到的阻力大于预设阈值,停止转动所述收料转轴。
在一实施例中,在所述镀膜方法中,检测驱动所述收料转轴的驱动电机产生过载,停止转动所述收料转轴。
在一实施例中,在所述镀膜方法中,进一步包括,同步地带动所述上料支架和所述收料转轴在所述镀膜腔内旋转。
依本发明的一个方面,本发明进一步提供一镀膜支架,用于使卷料在镀膜舱内被镀膜,包括:
一支架主体,其中所述支架主体适于被容纳在该镀膜舱内;和
至少一卷动装置,其中每所述卷动装置包括:
一上料元件,其中所述上料元件被设置于所述支架主体,用于可散开地收纳该卷料;和
一收料元件,其中所述收料元件被设置于所述支架主体,并且所述收料元件和所述上料元件被间隔地布置,用于通过所述收料元件卷动该卷料以将该卷料从所述上料元件移动至所述收料元件,使得该卷料在被卷动的过程中被分段地镀膜。
在本发明的一实施例中,每所述卷动装置的所述收料元件为一收料转轴,其中所述收料转轴被可旋转地安装于所述支架主体,并且所述收料转轴能被驱动以相对于所述支架主体旋转,用于通过所述收料转轴缠绕镀完膜的该卷料来卷动地收纳该卷料。
在本发明的一实施例中,每所述卷动装置进一步包括一驱动装置,其中所述 驱动装置被设置用于驱动所述收料转轴旋转以连续地卷动该卷料。
在本发明的一实施例中,所述驱动装置为一电机,用于通过所述电机直接驱动所述收料转轴相对于所述支架主体旋转。
在本发明的一实施例中,所述电机采用多相位变频技术进行控制,用于驱动所述收料转轴相对于所述支架主体由快变慢地旋转。
在本发明的一实施例中,所述驱动装置为一传动机构,其中所述传动机构适于将所述收料转轴与一电机可传动地连接,用于使该电机间接地驱动所述收料转轴相对于所述支架主体旋转。
在本发明的一实施例中,所述驱动装置为一卷簧,其中所述卷簧被设置于所述收料转轴和所述支架主体之间,用于对所述收料转轴施加弹性回旋力以驱动所述收料转轴相对于所述支架主体旋转。
在本发明的一实施例中,所述上料元件为一上料转轴,其中所述上料转轴被可旋转地安装于所述支架主体,用于可散开地收纳未镀膜的该卷料。
在本发明的一实施例中,同一所述卷动装置中的所述上料转轴和所述收料转轴基本保持平行。
在本发明的一实施例中,每所述卷动装置进一步包括一阻尼装置,其中所述阻尼装置被设置用于增加该卷料的卷动阻尼,使得该卷料在被卷动的过程中始终保持在拉伸状态。
在本发明的一实施例中,所述阻尼装置为一阻尼盘、一偏压机构或一对偏压轮。
在本发明的一实施例中,所述上料元件包括具有开口的一上料舱,其中所述上料舱适于可散开地容纳该卷料,并且所述上料舱的所述开口用于使该卷料的端部穿过以分段地散开该卷料。
在本发明的一实施例中,所述上料元件进一步包括一旋转台,其中所述旋转台被可旋转地设置于所述上料舱内,用于放置被容纳于所述上料舱内的该卷料。
在本发明的一实施例中,所述上料舱的所述开口适于对穿过的该卷料施加挤压力,以使该卷料在所述上料元件和所述收料元件之间始终保持拉伸状态。
在本发明的一实施例中,所述支架主体包括适于被可旋转地安装于该镀膜舱的一转架,并且所述转架具有一旋转轴,其中所述卷动装置被安装于所述转架,当所述转架被驱动以绕着所述旋转轴转动时,所述转架将带动所述卷动装置绕着 所述旋转轴转动。
在本发明的一实施例中,所述支架主体包括适于被可旋转地安装于该镀膜舱的一转架,并且所述转架具有一旋转轴,其中所述卷动装置被安装于所述转架,当所述转架被驱动以绕着所述旋转轴转动时,所述转架将带动所述卷动装置绕着所述旋转轴转动。
在本发明的一实施例中,所述转架包括一基座和一顶盖,其中所述转架的所述旋转轴自所述基座延伸至所述顶盖,并在所述基座和所述顶盖之间形成一卷动空间,其中所述卷动装置被可拆卸地设置于所述转架的所述卷动空间内。
在本发明的一实施例中,所述转架进一步包括至少一对承托件,其中所述至少一对承托件分别被对应地设置于所述卷动装置的所述收料转轴和/或所述上料转轴的两端部。
在本发明的一实施例中,所述至少一卷动装置包括两个或两个以上的所述卷动装置,其中两个或两个以上的所述卷动装置被间隔地布置,并且一个所述卷动装置的所述上料元件远离相邻的所述卷动装置的所述上料元件。
在本发明的一实施例中,所述的镀膜支架进一步包括一识别控制装置,其中所述识别控制装置被设置用于识别通过每所述卷动装置卷动的该卷料是否被镀完膜,并且在该卷料被镀完膜后控制对应的所述卷动装置的所述驱动装置停止驱动所述收料元件。
在本发明的一实施例中,所述的镀膜支架进一步包括一联动机构,用于将不同的所述卷动装置的所述收料元件可传动地联结在一起,使得当其中一个所述收料元件被驱动以卷动对应的该卷料时,所述联动机构能够带动其他的所述收料元件来卷动对应的其他卷料。
在本发明的一实施例中,所述的镀膜支架进一步包括一公自互转机构,其中所述公自互转机构被设置于所述卷动装置的所述收料转轴,用于将所述收料转轴的自转与所述收料转轴的公转进行互相转换。
在本发明的一实施例中,所述上料转轴和所述收料转轴均平行于所述转架的所述旋转轴。
在本发明的一实施例中,所述上料元件和所述收料元件均被横向地布置。
在本发明的一实施例中,所述上料转轴和所述收料转轴均垂直于所述转架的所述旋转轴。
在本发明的一实施例中,所述支架主体包括一基座、一顶盖以及至少一对支撑架,其中所述至少一对支撑架被间隔地设置于所述基座和所述顶盖之间,以在所述基座和所述顶盖之间形成一卷动空间,其中所述上料转轴和所述收料转轴被水平地设置于所述至少一对支撑架。
在本发明的一实施例中,所述支架主体包括一基座、其中所述上料转轴和所述收料转轴沿竖直方向地被支撑于所述基座。
通过对随后的描述和附图的理解,本发明进一步的目的和优势将得以充分体现。
本发明的这些和其它目的、特点和优势,通过下述的详细说明,附图和权利要求得以充分体现。
图1是根据本发明的一第一优选实施例的一镀膜设备的平面示意图。
图2A是根据本发明的上述优选实施例的所述镀膜设备的第一变形实施例的在镀膜之前的平面示意图。
图2B是根据本发明的上述优选实施例的所述镀膜设备的第一变形实施例的在镀膜过程中的平面示意图。
图2C是根据本发明的上述优选实施例的所述镀膜设备的第一变形实施例的在镀膜结束时的平面示意图。
图3A是根据本发明的上述优选实施例的所述镀膜设备的第二变形实施例的在镀膜之前的平面示意图。
图3B是根据本发明的上述优选实施例的所述镀膜设备的第二变形实施例的在镀膜过程中的平面示意图。
图3C是根据本发明的上述优选实施例的所述镀膜设备的第二变形实施例的在镀膜结束时的平面示意图。
图4是根据本发明的上述优选实施例的所述镀膜设备的旋转支架的结构示意图。
图5是根据本发明的上述优选实施例的所述镀膜设备的旋转支架的立体示意图。
图6是根据本发明的上述优选实施例的所述镀膜设备的旋转支架的部分立体 示意图。
图7是根据本发明的上述优选实施例的所述镀膜设备的旋转支架的俯视示意图。
图8A是根据本发明的上述优选实施例的所述镀膜设备的第四变形实施例的在镀膜之前的平面示意图。
图8B是根据本发明的上述优选实施例的所述镀膜设备的第四变形实施例的在镀膜过程中的平面示意图。
图8C是根据本发明的上述优选实施例的所述镀膜设备的第四变形实施例的在镀膜结束时的平面示意图。
图9A是根据本发明的上述优选实施例的所述镀膜设备的第五变形实施例的在镀膜之前的平面示意图。
图9B是根据本发明的上述优选实施例的所述镀膜设备的第五变形实施例的在镀膜过程中的平面示意图。
图9C是根据本发明的上述优选实施例的所述镀膜设备的第五变形实施例的在镀膜结束时的平面示意图。
图10是根据本发明的上述优选实施例的所述镀膜设备的驱动电机的结构框图。
图11是根据本发明的上述优选实施例的所述镀膜设备的电极装置的结构框图。
图12是根据本发明的一第二实施例的镀膜支架的立体示意图。
图13示出了根据本发明的上述第二实施例的所述镀膜支架的剖视示意图。
图14示出了根据本发明的上述第二实施例的所述镀膜支架的分解示意图。
图15示出了根据本发明的上述第二实施例的所述镀膜支架的卷动装置的状态示意图。
图16示出了根据本发明的上述第二实施例的所述镀膜支架的所述卷动装置的第一变形实施方式。
图17示出了根据本发明的上述第二实施例的所述镀膜支架的所述卷动装置的第二变形实施方式。
图18示出了根据本发明的上述第二实施例的所述镀膜支架的一个变形实施方式。
图19是根据本发明的一第三实施例的镀膜支架的立体示意图。
图20示出了根据本发明的上述第三实施例的所述镀膜支架的一个变形实施方式。
图21示出了根据本发明的另一示例的镀膜支架的卷动装置的状态示意图。
图22示出了根据本发明的又一示例的镀膜支架的卷动装置的状态示意图。
图23是根据本发明的一第四实施例的镀膜支架的立体示意图。
图24示出了根据本发明的上述第四实施例的所述镀膜支架的状态示意图。
图25示出了根据本发明的上述第四实施例的所述镀膜支架的剖视示意图。
以下描述用于揭露本发明以使本领域技术人员能够实现本发明。以下描述中的优选实施例只作为举例,本领域技术人员可以想到其他显而易见的变型。在以下描述中界定的本发明的基本原理可以应用于其他实施方案、变形方案、改进方案、等同方案以及没有背离本发明的精神和范围的其他技术方案。
本领域技术人员应理解的是,在本发明的揭露中,术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系是基于附图所示的方位或位置关系,其仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此上述术语不能理解为对本发明的限制。
可以理解的是,术语“一”应理解为“至少一”或“一个或多个”,即在一个实施例中,一个元件的数量可以为一个,而在另外的实施例中,该元件的数量可以为多个,术语“一”不能理解为对数量的限制。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
如图1所示为本申请的第一优选实施例的镀膜设备的示意图。所述镀膜设备 能够对待镀膜工件600进行镀膜,其中所述待镀膜工件的长度可以超过3米,甚至达到350米或800米等,甚至更长,可全部容纳于所述镀膜设备的一镀膜腔101内进行镀膜,且无需进行裁切,其中所述待镀膜工件600的表面能够镀上所需厚度的膜层,满足镀膜需求。
如图1所示,所述镀膜设备包括一镀膜腔体10、至少一上料支架201以及至少一收料转轴30,其中所述镀膜腔体10具有所述镀膜腔101,其中所述上料支架201被设置于所述镀膜腔101以供支撑待镀膜工件600,其中所述收料转轴30被可转动地设置于所述镀膜腔101,其中所述收料转轴30与所述上料支架201之间具有预设的一镀膜空间102,其中所述收料转轴30用于卷动被支撑于所述上料支架201的所述待镀膜工件600缠绕于所述收料转轴30,以供在卷动过程中,所述镀膜设备在所述待镀膜工件600被暴露于所述镀膜空间102的表面制备膜层。
举例地,所述待镀膜工件600可以为卷料,为柔性材料,可被收卷于所述收料转轴30,其中所述待镀膜工件600连接于所述收料转轴30与所述上料支架201之间,其中所述待镀膜工件600的长度大于所述收料转轴30与所述上料支架201之间的间距,并且在所述收料转轴30与所述上料支架201之间的部分所述待镀膜工件600暴露于所述镀膜空间102。或者说,所述待镀膜工件600的两端分别可缠绕地设置于所述收料转轴30和所述上料支架201。举例地,所述待镀膜工件600为用于手机等智能设备的听筒透音网或无纺布等柔性材料,其中所述待镀膜工件600无需被裁切为小段,可整体地安装于所述上料支架201。在镀膜结束后,所述待镀膜工件600仍保持完整状态,且全部表面均可制备所需厚度的膜层,从而不需要在镀膜过程中更换物料,减少了人为干预,设备利用率较高,可实现大规模工业化镀膜,有利于降低成本。
举例地,所述镀膜腔体10可以为直径1米,高度0.9米的圆柱形结构,所述镀膜腔体10的所述镀膜腔101适于被充入镀膜所需的反应原料,或者等离子体源气体等,其中所述镀膜腔101可以由抽气装置持续地抽真空,以达到镀膜所需的真空度。所述膜层可以为纳米薄膜,或者防水膜层等,在此不受限制。
优选地,所述上料支架201包括至少一上料转轴20,即所述上料转轴20为转轴结构,其中所述上料转轴20可转动地设置于所述镀膜腔101,以供所述待镀膜工件被卷置于所述上料转轴20。也就是说,在镀膜之前,所述待镀膜工件 600可以被缠绕地支撑于所述上料转轴20,所述上料转轴20为满卷状态,所述收料转轴30为空卷状态,即除连接于所述上料转轴20与所述收料转轴30之间的部分所述待镀膜工件600之外,其余部分的所述待镀膜工件600全部缠绕于所述上料转轴20。在镀膜过程中,所述收料转轴30逐渐地卷动所述待镀膜工件缠绕于所述收料转轴30,其中被缠绕于所述上料转轴20的所述待镀膜工件600逐渐离开所述上料转轴20,直至所述上料转轴20为空卷状态,其中所述收料转轴30为满卷状态,即除连接于所述上料转轴20与所述收料转轴30之间的部分所述待镀膜工件600之外,其余部分的所述待镀膜工件600全部缠绕于所述收料转轴30。换句话说,在镀膜过程中,被缠绕于所述上料转轴20的所述待镀膜工件600逐渐减少,其中减少的所述待镀膜工件600被收卷于所述收料转轴30,即被缠绕于所述收料转轴30的所述待镀膜工件600逐渐增加。
可以理解的是,所述上料支架201并不为转轴结构,所述待镀膜工件600本身为卷料,并被支撑于所述上料支架201,其中所述收料转轴30可带动所述待镀膜工件600在所述上料支架201上转动,以收卷所述待镀膜工件600。
在镀膜过程中,所述收料转轴30作为主动轮,所述上料转轴20作为从动轮,所述收料转轴30通过收卷所述待镀膜工件600来带动所述上料转轴20,其中被卷置于所述收料转轴20的所述待镀膜工件逐渐地缠绕于所述收料转轴30。在所述收料转轴30与所述上料转轴20之间的所述待镀膜工件600暴露于所述镀膜空间102,以供在暴露部分的所述待镀膜工件600的表面制备膜层,并且随着所述收料转轴30的转动,所述待镀膜工件600的全部表面依次暴露于所述镀膜空间102,从而在镀膜结束后,所述待镀膜工件600的全部表面均制备有膜层。
进一步地,被卷置于所述上料转轴20的所述待镀膜工件600形成一上料柱601,被收卷于所述收料转轴30的所述待镀膜工件600形成一收料柱602。在镀膜前,所述上料柱601的直径最大,所述收料柱602的直径最小,优选地为零,即为空卷状态。在镀膜过程中,随着所述收料转轴30的转动,所述待镀膜工件600逐渐收卷于所述收料转轴30,所述上料柱601的直径逐渐减小,所述收料柱602的直径逐渐增大。在镀膜结束后,所述上料柱601的直径最小,优选地为零,即为空卷状态,所述收料柱602的直径最大。
如图10所示,优选地,所述镀膜设备进一步地包括至少一驱动电机40,其中所述驱动电机40被设置于驱动所述收料转轴30转动的位置,其中所述驱动电 机40用于驱动所述收料转轴30转动。所述收料转轴30可以为多个,分别收卷多个不同长度的所述待镀膜工件600。所述驱动电机40可以控制所述收料转轴30的转速。
进一步地,在镀膜过程中,所述驱动电机40驱动所述收料转轴30的转速逐渐减慢,即所述收料柱60的直径逐渐增大,所述收料转轴30的转速逐渐减慢,以保证暴露于所述镀膜空间102的所述待镀膜工件600的线速度基本保持一致,使其暴露于所述镀膜空间102的时间基本保持一致,有利于使待镀膜工件600的表面所镀的膜层的厚度基本一致,实现了镀膜均匀化,满足终端客户对所述待镀膜工件的品质要求。
在本实施例中,所述驱动电机40采用多相位变频技术实现驱动所述收料转轴30的转速逐渐减慢。可以理解的是,所述驱动电机40驱动所述收料转轴30的转速可以按照时间逐渐减慢。
值得一提的是,所述驱动电机40能够控制所述收料转轴30的转速,使得所述待镀膜工件600的卷动速度可以被调控,使得所述待镀膜工件600表面所镀的膜层的厚度可以被调控,满足镀膜需求。
进一步地,所述镀膜设备还包括一阻尼装置50,其中所述阻尼装置50被安装于所述上料转轴20,其中所述阻尼装置50用于使所述待镀膜工件600在卷动过程中始终处于拉伸状态,防止所述待镀膜工件600发生松弛甚至起皱的现象,有利于镀膜均匀性。
换句话说,在镀膜过程中,所述收料转轴30的转速在开始时比较快,可能会造成所述上料转轴20发生打滑的现象,从而造成缠绕于所述上料转轴20的所述待镀膜工件600发生松弛甚至起皱的现象。为避免这种现象的发生,所述阻尼装置50能够阻止所述上料转轴20发生打滑,使在所述上料转轴20与所述收料转轴30之间的所述待镀膜工件600始终保持拉伸状态,也可以使外层的所述待镀膜工件600与内层的所述待镀膜工件600之间的松紧度保持相近或一致,有利于实现镀膜。
在本第一优选实施例的第一变形实施例中,如图2A、2B以及2C所示,所述收料转轴30为二个,分别为第一收料转轴31和第二收料转轴32,所述待镀膜工件600为二个,分别为不同长度的第一待镀膜工件610和第二待镀膜工件620。所述上料转轴20用于重叠地卷置第一待镀膜工件610和第二待镀膜工件 620,其中所述第一收料转轴31与所述上料转轴20之间具有预设的第一镀膜空间111,其中所述第二收料转轴32与所述上料转轴20之间具有预设的第二镀膜空间112,其中所述第一收料转轴31用于卷动所述第一待镀膜工件610缠绕于所述第一收料转轴31,其中所述第二收料转轴32用于卷动所述第二待镀膜工件620缠绕于所述第二收料转轴32。
也就是说,在所述第一变形实施例中,多个所述待镀膜工件可以共同卷置于同一所述上料转轴20,并分别被收卷于不同的所述收料转轴30。为避免相邻的所述待镀膜工件600之间产生干扰,各所述收料转轴30之间具有一定的避让空间。由于二个所述待镀膜工件600重叠地卷置于所述上料转轴20,所述第一收料转轴31与所述第二收料转轴32应当同步转动,以保持二个所述待镀膜工件均处于拉伸状态,有利于实现镀膜均匀性。熟知本领域的技术人员可以理解,在所述第一变形实施例中,所述收料转轴30为二个仅作为举例,在其他的变形实施例中,所述收料转轴30的数量可以为更多个,在此不受限制。
在本第一优选实施例的第二变形实施例中,如图3A、3B以及3C所示,所述收料转轴30为二个,分别为第一收料转轴31和第二收料转轴32,所述上料转轴20为二个,分别为用于卷置第一待镀膜工件610的第一上料转轴21和用于卷置第二待镀膜工件620的第二上料转轴22,其中所述第一收料转轴31与所述第一上料转轴21之间具有预设的第一镀膜空间111,其中所述第二收料转轴32与所述第二上料转轴22之间具有预设的第二镀膜空间112,其中所述第一收料转轴31用于卷动所述第一待镀膜工件610缠绕于所述第一收料转轴31,其中所述第二收料转轴32用于卷动所述第二待镀膜工件620缠绕于所述第二收料转轴32。
在所述第二变形实施例中,所述第一待镀膜工件610的长度短于所述第二待镀膜工件620的长度,所述镀膜设备能够同时对不同长度的所述第一待镀膜工件610和所述第二待镀膜工件620进行镀膜,以满足不同客户的镀膜需求。为避免相邻的所述待镀膜工件600之间产生干扰,各所述收料转轴30之间具有一定的避让空间,各所述上料转轴20之间也具有一定的避让空间。熟知本领域的技术人员可以理解,在所述第二变形实施例中,所述上料转轴20和所述收料转轴30为二个仅作为举例,在其他的变形实施例中,所述上料转轴20和所述收料转轴30的数量可以为更多个,在此不受限制。
进一步地,所述驱动电机40的数量对应于所述收料转轴30的数量,各所述驱动电机40分别独立地驱动相应的所述收料转轴30的转动,以使各所述收料转轴30分别独立地转动。也就是说,各所述收料转轴30之间互不干扰,各所述上料转轴20之间也互不干扰。更进一步地,不同的所述驱动电机40可以控制不同的所述收料转轴30具有不同的转速,即所述第一收料转轴31的转速与所述第二收料转轴32的转速不一致,以分别对不同长度的所述待镀膜工件600进行镀膜,满足客户需求。
具体地,被缠绕于所述第一上料转轴21的所述第一待镀膜工件610形成第一上料柱601,其中被缠绕于所述第一收料转轴31的所述第一待镀膜工件610形成第一收料柱6021。被缠绕于所述第二上料转轴22的所述第二待镀膜工件620形成第二上料柱6012,其中被缠绕于所述第二收料转轴32的所述第二待镀膜工件620形成第二收料柱6022。
值得一提的是,所述第二收料转轴32与所述第一上料转轴21相邻,即所述第一上料柱6011位于所述第一上料转轴21与所述第二收料转轴32之间,且所述第二收料转轴32与所述第一上料转轴21之间具有第一预设间距D1。所述第一收料转轴31与所述第二上料转轴22相邻,即所述第二上料柱6012位于所述第二上料转轴22与所述第一收料转轴31之间,且所述第一收料转轴31与所述第二上料转轴22之间具有第二预设间距D2。可以理解的是,通过这样的设置,所述镀膜设备提供了相邻的所述待镀膜工件600的避让空间,同时提高了空间利用率。
更具体地,在镀膜前,所述第一上料转轴21和所述第二上料转轴22均为满卷状态,所述第一收料转轴31和所述第二收料转轴32均为空卷状态,所述第一预设间距D1略大于所述第一上料柱6011的半径R1,所述第二预设间距D2略大于所述第二上料柱6012的半径R2。在镀膜结束后,所述第一上料转轴21和所述第二上料转轴22均为空卷状态,所述第一收料转轴31和所述第二收料转轴32均为满卷状态,所述第一收料柱6021的半径R1等于所述第一上料柱6011的半径R1且略小于所述第二预设间距D2,所述第二收料柱6022的半径R2等于所述第二上料柱6012的半径R2且略小于所述第一预设间距D1。换句话说,所述第一预设间距D1和所述第二预设间距D2中的最小值略大于所述半径R1和所述半径R2中的最大值。
在本第一优选实施例中,所述镀膜设备进一步包括至少一检测电路60,其中所述检测电路60被电连接于所述驱动电机40,当所述待镀膜工件600被卷动地缠绕于所述收料转轴30至末端603时,所述待镀膜工件600的末端603在所述上料支架201和所述收料转轴30之间阻止所述收料转轴30继续转动,所述驱动电机40受到阻力而产生过载,所述检测电路60用于检测所述驱动电机40产生过载时停止所述驱动电机40。
进一步地,所述检测电路60可以用于检测所述驱动电机40的电流,当所述驱动电机40无法继续转动所述收料转轴30时,所述驱动电机40的电流会发生过载,若所述检测电路60检测所述驱动电机40的电流超过预设阈值时,所述驱动电机40停止转动。当然,所述检测电路60也可以用于检测所述驱动电机40的电压是否过载,若电压过载,则停止所述驱动电机40,以保证安全性。
换句话说,在镀膜开始时,所述待镀膜工件600的首端604连接于所述上料转轴20与所述收料转轴30之间,即所述待镀膜工件600的首端604暴露于所述镀膜空间102。随着所述收料转轴30的转动,所述待镀膜工件600逐渐地收卷于所述收料转轴30,直至所述待镀膜工件600的末端603暴露于所述镀膜空间102,即所述待镀膜工件600的末端603连接于所述上料转轴20与所述收料转轴30之间,所述末端603会阻止所述收料转轴30继续转动,所述驱动电机40受到阻力而产生过载,此时所述检测电路60检测所述驱动电机49产生过载,而停止所述驱动电机40转动,从而停止转动所述收料转轴30。
可以理解的是,所述待镀膜工件600的首端604可以采用胶带、胶水或固态胶粘接于所述收料转轴30,其中所述待镀膜工件600的末端603也可以采用胶带、胶水或固态胶粘接于所述上料转轴20。当然,所述待镀膜工件600与所述上料转轴20和所述收料转轴30之间的连接方式还可以为卡接、钉接、可拆卸连接等,在此不受限制。
可选地,在本第一优选实施例的第三变形实施例中,所述镀膜设备进一步包括至少一阻力传感器70,所述阻力传感器70被设置于检测所述收料转轴30受到的阻力的位置,其中所述阻力传感器70被电连接于所述驱动电机40,当所述待镀膜工件600被卷动地缠绕于所述收料转轴30至末端603时,所述待镀膜工件600的末端603在所述上料支架201和所述收料转轴30之间阻止所述收料转轴30继续转动,所述阻力传感器70用于检测所述收料转轴30受到的阻力大于 预设阈值,停止所述驱动电机40,以保证安全性。
当所述镀膜设备对多个不同长度的所述待镀膜工件600进行镀膜时,不同长度的所述待镀膜工件600可能并不一致地收卷完毕,当其中一所述待镀膜工件600被卷动地缠绕于所述收料转轴30至末端603时,对应的所述驱动电机40和对应的所述收料转轴30停止转动,并不影响其他的所述收料转轴30继续收卷对应的所述待镀膜工件600。当所有的所述待镀膜工件600均被收卷至末端603时,所有的所述驱动电机40和所述收料转轴30停止转动,镀膜结束。在镀膜结束后,所述镀膜设备可以释放所述镀膜腔101内的压力,排气,然后开启所述镀膜腔体10的舱门,便于取出所述镀膜腔101内的所述待镀膜工件600。
在本第一优选实施例中,如图4所示,所述镀膜设备进一步包括一旋转支架80,其中所述旋转支架80被可旋转地设置于所述镀膜腔101,其中所述上料支架201和所述收料转轴30被安装于所述旋转支架80,其中所述旋转支架80用于同步地带动所述上料支架201和所述收料转轴30在所述镀膜腔101内旋转,从而带动所述待镀膜工件600在所述镀膜腔101内旋转,进一步地提高镀膜均匀性。
进一步地,如图5、图6以及图7所示,所述旋转支架80包括一旋转轴81和至少一底支撑件82,其中所述旋转轴81被可转动地设置于所述镀膜腔101,其中所述底支撑件82被设置于所述旋转轴81的底端并随着所述旋转轴81一起旋转,其中所述上料支架201和所述收料转轴30被安装于所述底支撑件82并随着所述底支撑件82在所述镀膜腔101内旋转。
进一步地,所述旋转支架80包括一顶支撑件83,其中所述顶支撑件83被设置于所述旋转轴81的顶端,在所述顶支撑件83与所述底支撑件82之间界定一容纳空间801,以供容纳所述待镀膜工件600。也就是说,所述上料转轴20和所述收料转轴30被设置于所述顶支撑件83与所述底支撑件82之间,并在所述容纳空间801内转动,其中所述待镀膜工件600被缠绕于所述上料转轴20或所述收料转轴30。
可以理解的是,所述底支撑件82和所述顶支撑件83为圆盘形结构,其中所述旋转轴81被可转动地连接于所述底支撑件82和所述顶支撑件83的中心位置,以使所述旋转支架80在所述镀膜腔101内对称地旋转,提高空间利用率。
当然,熟知本领域的技术人员可知,所述旋转支架80可以被替换为固定支 架,所述固定支架在所述镀膜腔101内不会旋转,在此不受限制。
所述旋转支架80进一步包括至少二工件支撑件84,其中各所述工件支撑件84被分别设置于所述上料支架201和所述收料转轴30,其中所述工件支撑件84靠近所述底支撑件82,以供支撑所述待镀膜工件600。换句话说,所述工件支撑件84在所述底支撑件82和所述待镀膜工件600之间并支撑所述待镀膜工件600,所述工件支撑件84可以为圆盘形结构,且尺寸小于所述底支撑件82的尺寸。更进一步地,所述工件支撑件84的尺寸略大于满卷时所述待镀膜工件600的尺寸,以提供稳定地支撑。
在本第一优选实施例中,如图11所示,所述镀膜设备还包括一电极装置90,其中所述电极装置90被设置于在所述镀膜腔101内放电的位置,以提供镀膜所需的电压,有利于在所述镀膜腔101内形成等离子体环境,使反应原料放电,以供在所述待镀膜工件600的表面制备膜层。
进一步地,所述电极装置90具有至少一电极元件91,其中所述电极元件91被安装于所述旋转支架80,以在所述镀膜腔101内旋转地放电。所述电极元件91可以接入射频电源的负极,以供在所述镀膜腔101内提供射频电压。所述射频电源的正极可以接地,或接入所述镀膜腔体10并接地,以使整个所述镀膜腔体10为正极,在此不受限制。
在本第一优选实施例的第四变形实施例中,如图8A、8B以及8C所示,所述镀膜设备包括三个所述收料转轴30A、30B、30C和三个所述上料转轴20A、20B、20C,其中三个所述待镀膜工件600A、600B、600C分别被卷置于三个所述收料转轴30A、30B、30C和三个所述上料转轴20A、20B、20C之间。具体地,所述待镀膜工件600A被卷置于所述收料转轴30A和所述上料转轴20A之间,所述收料转轴30A与所述上料转轴20A之间具有预设的镀膜空间102A,以用于对暴露于所述镀膜空间102A的所述待镀膜工件600A的表面进行镀膜。所述待镀膜工件600B被卷置于所述收料转轴30B和所述上料转轴20B之间,所述收料转轴30B与所述上料转轴20B之间具有预设的镀膜空间102B,以用于对暴露于所述镀膜空间102B的所述待镀膜工件600B的表面进行镀膜。所述待镀膜工件600C被卷置于所述收料转轴30C和所述上料转轴20C之间,所述收料转轴30C与所述上料转轴20C之间具有预设的镀膜空间102C,以用于对暴露于所述镀膜空间102C的所述待镀膜工件600C的表面进行镀膜。
在所述第四变形实施例中,各所述待镀膜工件600A、600B、600C的长度不相等,所述镀膜设备能够同时对不同长度的各所述待镀膜工件600A、600B、600C进行镀膜,以满足不同客户的镀膜需求。为避免相邻的所述待镀膜工件600A、600B、600C之间产生干扰,各所述收料转轴30A、30B、30C之间具有一定的避让空间,各所述上料转轴20A、20B、20C之间也具有一定的避让空间。
在本第一优选实施例的第五变形实施例中,如图9A、9B以及9C所示,所述镀膜设备包括四个所述收料转轴30A、30B、30C、30D和四个所述上料转轴20A、20B、20C、20D,其中四个所述待镀膜工件600A、600B、600C、600D分别被卷置于四个所述收料转轴30A、30B、30C、30D和四个所述上料转轴20A、20B、20C、20D之间。具体地,所述待镀膜工件600A被卷置于所述收料转轴30A和所述上料转轴20A之间,所述收料转轴30A与所述上料转轴20A之间具有预设的镀膜空间102A,以用于对暴露于所述镀膜空间102A的所述待镀膜工件600A的表面进行镀膜。所述待镀膜工件600B被卷置于所述收料转轴30B和所述上料转轴20B之间,所述收料转轴30B与所述上料转轴20B之间具有预设的镀膜空间102B,以用于对暴露于所述镀膜空间102B的所述待镀膜工件600B的表面进行镀膜。所述待镀膜工件600C被卷置于所述收料转轴30C和所述上料转轴20C之间,所述收料转轴30C与所述上料转轴20C之间具有预设的镀膜空间102C,以用于对暴露于所述镀膜空间102C的所述待镀膜工件600C的表面进行镀膜。所述待镀膜工件600D被卷置于所述收料转轴30D和所述上料转轴20D之间,所述收料转轴30D与所述上料转轴20D之间具有预设的镀膜空间102D,以用于对暴露于所述镀膜空间102D的所述待镀膜工件600D的表面进行镀膜。
在所述第五变形实施例中,各所述待镀膜工件600A、600B、600C、600D的长度不相等,所述镀膜设备能够同时对不同长度的各所述待镀膜工件600A、600B、600C、600D进行镀膜,以满足不同客户的镀膜需求。为避免相邻的所述待镀膜工件600A、600B、600C、600D之间产生干扰,各所述收料转轴30A、30B、30C、30D之间具有一定的避让空间,各所述上料转轴20A、20B、20C、20D之间也具有一定的避让空间。
进一步地,本第一优选实施例还提供了所述镀膜设备的镀膜方法,包括:
S10、在所述镀膜腔101内卷动被支撑于所述上料支架201的待镀膜工件600于所述收料转轴30,其中所述收料转轴30与所述上料支架201之间具有预设的 所述镀膜空间102;和
S20、在卷动过程中,在所述待镀膜工件600被暴露于所述镀膜空间102的表面制备膜层。
在一可选实施例中,在所述镀膜方法中,其中所述上料支架201包括至少一所述上料转轴20,其可转动地设置于所述镀膜腔101,以供所述待镀膜工件600被卷置于所述上料转轴20。
在一可选实施例中,在所述镀膜方法中,所述收料转轴30作为主动轮,所述上料转轴20作为从动轮,通过转动所述收料转轴30卷动所述待镀膜工件600缠绕于所述收料转轴30,并带动所述上料转轴20转动。
在一可选实施例中,在所述镀膜方法中,随着被收卷于所述收料转轴30的所述待镀膜工件600形成的所述收料柱602的直径逐渐增大,所述收料转轴30的转速逐渐减慢。
在一可选实施例中,在所述镀膜方法中,通过所述阻尼装置50保持所述待镀膜工件600处于拉伸状态。
在一可选实施例中,在所述镀膜方法中,当所述待镀膜工件600被卷动地缠绕于所述收料转轴30至末端时,停止转动所述收料转轴30。
在一可选实施例中,在所述镀膜方法中,检测所述收料转轴30受到的阻力大于预设阈值,停止转动所述收料转轴30。
在一可选实施例中,在所述镀膜方法中,检测驱动所述收料转轴30的驱动电机40产生过载,停止转动所述收料转轴30。
在一可选实施例中,在所述镀膜方法中,进一步包括,同步地带动所述上料支架201和所述收料转轴30在所述镀膜腔101内旋转。
另外,参考说明书附图之图12至图15所示,根据本发明的一第二实施例的镀膜支架被阐明。具体地,如图12和图13所示,所述镀膜支架901用于使卷料92在镀膜舱93内被镀膜,并且所述镀膜支架901可以包括一支架主体910和至少一卷动装置920,其中每所述卷动装置920包括一上料元件921和一收料元件922。所述支架主体910适于被容纳在该镀膜舱93内。所述上料元件921被设置于所述支架主体910,用于可散开地收纳该卷料92。所述收料元件922被设置于所述支架主体910,用于可卷动地收纳该卷料92,其中所述收料元件922和所述上料元件921被间隔地布置,用于通过所述收料元件922卷动该卷料92以将该 卷料92从所述上料元件921移动至所述收料元件922,使得该卷料92在被卷动的过程中被分段地镀膜。
值得注意的是,如图13所示,由于所述镀膜支架901能够被容纳在所述镀膜舱93内,并且所述卷动装置920的所述上料元件921和所述收料元件922也被容纳在所述镀膜舱93内,使得该卷料92在被卷动以从所述上料元件921移动至所述收料元件922的过程中始终处于所述镀膜舱93内,并不需要伸展出所述镀膜舱93,因此本发明的所述镀膜支架901能够使较长卷料在整个镀膜过程中均位于所述镀膜舱93内,不会影响镀膜舱93的抽真空作业,避免了现有的分段镀膜无法抽真空的问题。
换言之,如图15所示,在所述收料元件922卷动该卷料92从所述上料元件921移动至所述收料元件922的过程中,该卷料92中位于所述上料元件921和所述收料元件922之间的部分将被伸展开,以便被镀上膜。这样,随着所述收料元件922的旋转,该卷料92中镀上膜的部分将被收纳在所述收料元件922上,并且所述收料元件922同时拉拽该卷料92以将该卷料92中未镀膜的部分从所述上料元件921处散开以拉向所述收料元件922,使得该卷料92中未镀膜的部分分段地在所述上料元件921和所述收料元件922之间伸展以被分段地镀上膜,从而实现该卷料92在被卷动的过程中被连续地分段镀膜。也就是说,该卷料92中未镀膜的部分被可散开地收纳在所述上料元件921,而该卷料92中镀上膜的部分被卷动以收纳在所述收料元件922,与此同时,该卷料92中在所述上料元件921和所述收料元件922之间散开的部分将被镀上膜;这样,随着该卷料92中未镀膜的部分从所述上料元件921处被分段地散开以伸展在所述上料元件921和所述收料元件922之间被镀上膜,使得长度较长的该卷料92能够在不伸展出所述镀膜舱93的情况下被连续地分段镀膜。
更具体地,在本发明的上述第二实施例中,如图13所示,所述镀膜支架901的所述卷动装置920的所述收料元件922优选地被实施为一收料转轴9221,其中所述收料转轴9221被可旋转地安装于所述支架主体910,并且所述收料转轴9221被驱动以相对于所述支架主体910旋转,用于通过所述收料转轴9221缠绕该卷料92来卷动地收纳该卷料92,使得该卷料92在从所述上料元件921移动至所述收料元件922的过程中被分段镀上膜。可以理解的是,本发明的所述镀膜支架901能够使该卷料92在源头(即该卷料92的端部)就实现镀膜(如纳米防 水膜等等),避免了材料的浪费,大幅地节约了纳米镀膜的成本。
特别地,如图12和图13所示,所述镀膜支架901的所述卷动装置920可以进一步包括一驱动装置923,其中所述驱动装置923被设置用于驱动所述收料转轴9221旋转以连续地卷动该卷料92,使得该卷料92在从所述上料元件921移动至所述收料元件922的过程中被连续地分段镀上膜。
优选地,在本发明的一示例中,如图13所示,所述驱动装置923可以被实施为一电机9231,其中所述电机9231可驱动地连接于所述收料转轴9221,用于在启动状态下直接驱动所述收料转轴9221相对于所述支架主体910旋转,以卷动该卷料92在所述镀膜舱93内被连续地分段镀膜。
根据本发明的上述第二实施例,如图13和图14所示,所述镀膜支架901的所述卷动装置920的所述上料元件921可以被实施为一上料转轴9211,其中所述上料转轴9211被可旋转地安装于所述支架主体910,用于可散开地收纳未镀膜的该卷料92。换言之,当所述收料转轴9221旋转以卷动该卷料92时,该卷料92将带动所述上料转轴9211相对于所述支架主体910旋转,以将所述上料转轴9211处的该卷料92连续地分段散开而被镀上膜。可以理解的是,在本发明的这个实施例中,所述镀膜支架901的所述收料转轴9221被实施为一主动轮,而所述镀膜支架901的所述上料转轴9211被实施为一被动轮;也就是说,所述收料转轴9221主动地旋转以缠绕该卷料92中镀完膜的部分,并拉拽该卷料92中剩余的部分,使得该上料转轴9211被动地旋转以散开该卷料92中未镀膜的部分。
优选地,如图13和图15所示,所述卷动装置920的所述上料转轴9211基本平行于所述卷动装置920的所述收料转轴9221,以防所述卷动装置920在卷动该卷料92过程中因所述上料转轴9211不平行于所述收料转轴9221而造成该卷料2无法均匀地缠绕在所述收料转轴9221上。
更优选地,所述卷动装置920中的所述上料转轴9211的端部和所述收料转轴9221的端部分别对应地处于同一平面,以便将从所述上料转轴9211上散开的该卷料92整齐地缠绕至所述收料转轴9221。
值得注意的是,为了使该卷料92上的镀膜厚度保持均匀,该卷料92中每一段的镀膜时间需要保持基本一致(即每段的镀膜时间基本保持相同),即该卷料92被所述收料转轴9221缠绕的速度应保持基本一致(即该卷料92被卷动的线速度基本保持恒定不变)。而由于在镀膜的过程中,所述收料转轴9221上缠绕的 卷料直径会由小逐渐变大,如果所述收料转轴9221的转速(角速度)保持不变的话,所述收料转轴9221缠绕该卷料92的速度将逐渐变大,因此本发明的所述镀膜支架901的所述收料转轴9221的旋转速度需要由快变慢,以保证该卷料92被所述收料转轴9221缠绕的速度基本保持一致,进而确保该卷料92上的镀膜厚度保持均匀。
示例性地,本发明的所述镀膜支架901中所述电机9231可以采用多相位变频技术进行控制,以驱动所述收料转轴9221相对于所述支架主体910由快变慢地旋转,使得所述收料转轴9221的转速在镀膜刚开始时最快,并随着镀膜的过程逐渐变慢,直至镀膜快结束时最慢,以便确保所述卷料92被卷动的速度保持基本恒定,进而保证所述卷料92上的镀膜厚度具有较高的均匀性,满足终端客户对镀膜(如纳米防水等)的品质要求。
值得一提的是,在本发明的另一示例中,所述驱动装置923还可以被实施为一传动机构(图中未示出),其中所述传动机构适于将所述收料转轴9221与一电机可传动地连接,用于将来自所述电机的动能传递至所述收料转轴9221,以驱动所述收料转轴9221相对于所述支架主体910旋转。可以理解的是,所述传动机构可以但不限于被实施为传动链条、传动皮带、传动齿轮组或传动轴等等之类的传动设备,本发明对此不再赘述。
当然,在本发明的又一示例中,所述驱动装置923也可以被实施为一卷簧(图中未示出),其中所述卷簧被设置于所述收料转轴9221和所述支架主体910之间,用于对所述收料转轴9221施加弹性回旋力以驱动所述收料转轴9221相对于所述支架主体910旋转。可以理解的是,所述卷簧在开始释放时,其施加的弹性回旋力最大,使得该收料转轴9221在镀膜刚开始时的转速最大;而随着所述卷簧的释放,其施加的弹性回旋力将逐渐变小,使得所述收料转轴9221在镀膜的过程中的转速逐渐变小;直至所述卷簧对所述收料转轴9221施加的弹性回旋力变小至不足以使所述收料转轴9221旋转为止,从而本发明的所述镀膜支架901的所述卷动装置920能够借助所述卷簧来实现所述收料转轴9221的转速由快到慢的变化。
值得注意的是,由于在镀膜的刚开始时所述收料转轴9221的转速较快,如果此时所述上料转轴9211因打滑而向前冲的话,则在所述收料转轴9221上缠绕的该卷料92就比较松,甚至出现起皱的问题,因此为了解决这一问题,如图14 所示,本发明的所述镀膜支架901的所述卷动装置920可以进一步包括一阻尼装置924,其中所述阻尼装置924被设置用于增加该卷料92的卷动阻尼,使得该卷料92在被卷动的过程中始终保持在拉伸状态(即该卷料92在所述上料转轴9211和所述收料转轴9221之间始终保持自然拉紧状态)。
具体地,在本发明的上述第二实施例中,如图14所示,所述阻尼装置924可以被设置于所述上料转轴9211和所述支架主体910之间,以增加所述上料转轴9211的旋转阻尼,进而使得该卷料92的卷动阻尼得以增加,以防所述上料转轴9211发生打滑,从而确保在所述收料转轴9221上缠绕的该卷料92松紧度比较均匀。
优选地,在本发明的一些示例中,如图14所示,所述阻尼装置924可以被实施为设置在所述上料转轴9211和所述支架主体910之间的一阻尼盘9241(或一弹性垫),用于增加所述上料转轴9211与所述支架主体910之间的摩擦力,以防所述上料转轴9211因被拉拽而发生打滑前冲的现象。
值得注意的是,在本发明的所述卷动装置920的第一变形实施方式中,如图16所示,所述阻尼装置924也可以被实施为一偏压机构9242,其中所述偏压机构9242用于对所述上料转轴9211施加偏压力,以增加所述上料转轴9211的旋转阻尼,以防所述上料转轴9211发生打滑前冲的现象。示例性地,所述偏压机构9242可以被实施为被设置于所述支架主体910的一偏压轮(或一偏压片),用于偏压于所述上料转轴9211的侧面,以防所述上料转轴9211发生打滑前冲的现象。当然,本发明的所述偏压轮(或一偏压片)也可以沿着所述上料转轴9211的径向方向偏压于该卷料92,以通过该卷料92将该偏压力传递至所述上料转轴9211,从而通过所述偏压轮(或一偏压片)仍能够增加所述上料转轴9211的旋转阻尼,同样实现避免所述上料转轴9211因被拉拽而发生打滑前冲的现象。
而在本发明的所述卷动装置920的第二变形实施方式中,如图17所示,所述阻尼装置924还可以被实施为一对偏压轮9243(或一对偏压轴),其中所述一对偏压轮9243被相互偏压地设置于所述支架主体910,用于对该卷料92施加挤压力,以增加该卷料2的卷动阻尼,从而避免因所述上料转轴9211打滑前冲而造成该卷料92在所述收料转轴9221上缠绕较松的问题。优选地,所述一对偏压轮9243被设置于靠近所述上料转轴9211的位置,以通过所述一对偏压轮243在邻近所述上料转轴9211的位置处对该卷料92施加挤压力,使得该卷料92在所 述收料转轴9221和所述偏压轮9243之间始终处于拉伸状态,有助于该卷料92的分段镀膜。当然,所述一对偏压轮9243也可以被设置于靠近所述收料转轴9221的位置,以确保该卷料92在镀完膜后被松紧合适地缠绕于所述收料转轴9221(即在所述收料转轴9221上缠绕的该卷料92的外层和内层的松紧度保持基本一致)。
根据本发明的所述镀膜支架901可以包括一个或多个所述卷动装置920,当所述镀膜支架901仅包括一个所述卷动装置920时,在保证所述镀膜支架901能够被容纳于所述镀膜舱93内的前提下,所述卷动装置920中的所述上料元件921和所述收料元件922之间的间距得以增大,以便通过所述卷动装置920卷动长度较长(例如800米长)的卷料,使得所述镀膜支架901能够方便客户采用自动化机器来贴辅料,顺应了社会的发展趋势,具有广阔的推广前景;而当所述镀膜支架901包括两个或两个以上的所述卷动装置920时,为了确保所述镀膜支架901能够被容纳于所述镀膜舱93,则每个所述卷动装置920中的所述上料元件921和所述收料元件922之间的间距需要减小,使得所述卷动装置920只能卷动长度稍短的卷料,例如,当所述镀膜支架901包括两个所述卷动装置920时,每个所述卷动装置920最大仅能够卷动350米长的卷料。这样,本发明的所述镀膜支架901能够对大批量的卷料进行镀膜,并且卷料镀膜时间跨度长,不需要频繁地更换物料,有助于减少人为干预,提高设备利用率,能够在透音网和无纺布等卷料行业进行大规模使用。
可以理解的是,所述镀膜支架901中的所述卷动装置920数量不仅与所述卷动装置920中所述上料元件921和所述收料元件922之间的间距有关,而且还与所述镀膜舱93的直径有关,也就是说,所述上料元件921和所述收料元件922之间的间距越小,则所述镀膜支架901能够设置越多数量的所述卷动装置920;并且所述镀膜舱93的直径越大,则所述镀膜支架901也能够设置越多数量的所述卷动装置920。此外,所述镀膜支架901中所述卷动装置920所能卷动的最大长度可以根据不同客户的镀膜需要进行布置或设计。
优选地,如图15、图21和图22所示,多个所述卷动装置920被间隔地布置于所述支架主体910,并且每个所述卷动装置920中的所述上料元件921靠近另一相邻的所述卷动装置920中的所述收料元件922,并远离另一相邻的所述卷动装置920中的所述上料元件921。这样,在镀膜开始时,所述上料元件921处未镀膜的该卷料92处于满卷,所述收料元件922处镀完膜的该卷料92处于空卷; 而在镀膜结束时,所述上料元件921处未镀膜的该卷料92处于空卷,所述收料元件922处镀完膜的该卷料92处于满卷;因此本发明的所述镀膜支架901的这种布置能够避免相邻的所述卷动装置920在卷动该卷料92时,不同的所述上料元件9921处的该卷料92在镀膜开始时或不同的所述收料元件922处的该卷料92在镀膜完成时发生相互干涉,以最大限度地增加通过所述镀膜支架901的所述卷动装置920完成镀膜的该卷料92的最大长度。
示例性地,如图13和图15所示,当所述镀膜支架901包括两个所述卷动装置920时,两个所述卷动装置920中的两个所述上料元件921被对称地设置于所述支架主体910的左右两侧,并且两个所述卷动装置920中的两个所述收料元件922被对称地设置于所述支架主体910的前后两侧,使得两个上料元件921之间的间距最大,并且两个收料元件922之间的间距也最大,从而能够有效地避免两个所述上料元件921处的该卷料92在镀膜开始时和两个所述收料元件922处的该卷料92在镀膜完成时发生相互干涉。
值得一提的是,在本发明的另一示例中,如图21所示,所述镀膜支架901可以包括三个所述卷动装置920,其中三个所述卷动装置920在所述支架主体910上呈三角分布,并且一个所述卷动装置920中的所述上料元件921靠近相邻的所述卷动装置920的所述收料元件922,而远离相邻的所述卷动装置920的所述上料元件921,从而能够有效地避免三个所述上料元件921处的该卷料92在镀膜开始时和三个所述收料元件922处的该卷料92在镀膜完成时发生相互干涉。
当然,在本发明的又一示例中,如图22所示,所述镀膜支架901也可以包括四个所述卷动装置920,其中四个所述卷动装置920在所述支架主体910上呈周向分布,并且一个所述卷动装置920中的所述上料元件921靠近相邻的所述卷动装置920的所述收料元件922,而远离相邻的所述卷动装置920的所述上料元件921,以便有效地避免四个所述上料元件921处的该卷料92在镀膜开始时和四个所述收料元件922处的该卷料92在镀膜完成时发生相互干涉。可以理解的是,在本发明的其他示例中,所述镀膜支架901也可以包括一个或多于四个的所述卷动装置920,只要合理排布所述卷动装置920的位置,以避免不同的所述卷动装置920之间发生相互干涉即可。
值得注意的是,当所述镀膜支架901包括两个或两个以上的所述卷动装置920时,不同的所述卷动装置920可能会卷动不同长度的卷料,这就容易出现当 其中一个所述卷动装置920所卷动的该卷料92被镀完膜时,其他的所述卷动装置920所卷动的该卷料92仍然在继续镀膜,也就是说,不同的所述卷动装置920所卷动的卷料即使同时开始镀膜,也会因卷料的长度不同或卷动装置的卷动速度不同而无法同时完成镀膜。而由于所述镀膜舱93在镀膜过程中通常处于抽真空状态,因此不得不等所有的所述卷动装置920所卷动的卷料均完成镀膜后,所述镀膜舱93才可以释放压力、排气、开舱门,以便人工或机器取料。
这样,当其中一个所述卷动装置920所卷动的该卷料92先被镀完膜时,如果所述卷动装置920的所述收料转轴9221仍被驱动以旋转的话,不仅会浪费能源、提高能耗,而且还会干扰其他的所述卷动装置920所卷动的卷料的镀膜过程。因此,如图12所示,本发明的所述镀膜支架901可以进一步包括一识别控制装置930,其中所述识别控制装置930被设置,用于识别通过所述卷动装置920卷动的该卷料92是否被镀完膜,并且在该卷料被镀完膜后控制所述卷动装置920的所述驱动装置923停止驱动所述收料元件922,以等待其他的所述卷动装置920所卷动的卷料完成镀膜。
示例性地,所述卷动装置920的所述上料转轴9211适于与该卷料92的末端固定地连接,这样当该卷料92镀完膜时,该卷料92的末端因与所述上料转轴9211固定地连接而无法脱离所述上料转轴9211,使得被镀完膜的该卷料92将拉扯所述收料转轴9221,以组织所述收料转轴9221继续旋转收料。此时,所述识别控制装置930通过检测到所述收料转轴9221无法继续旋转,来识别出该卷料92被镀完膜;并且响应于识别出该卷料92被镀完膜,所述识别控制装置930控制以关停所述卷动装置920的所述驱动装置923的所述电机9231,使得所述卷动装置920停止卷动,以等待其他所述卷动装置920所卷动的卷料均镀完膜。
值得一提的是,本发明的所述镀膜支架901可以被静置地容纳于所述镀膜舱93内,以进行静置镀膜;也可以被可旋转地容纳于所述镀膜舱93内,以进行旋转镀膜;还可以被平移地容纳于所述镀膜舱93,以进行平移镀膜。
示例性地,在本发明的上述第二实施例中,如图12和图13所示,所述镀膜支架901的所述支架主体910可以包括适于被可旋转地安装于所述镀膜舱93的一转架911,并且所述卷动装置920被安装于所述转架911,其中所述转架911具有一旋转轴9110,并且所述转架911能够被驱动以绕着所述旋转轴9110转动,进而带动所述卷动装置920绕着所述旋转轴9110转动,使得所述卷动装置920 在卷动该卷料92的同时,也绕着所述旋转轴9110转动,从而在所述镀膜舱93内实现旋转镀膜。可以理解的是,所述转架911可以但不限于通过电机驱动以绕着所述旋转轴9110转动,只要能够使所述转架911在所述镀膜舱93内旋转即可,本发明对此不再赘述。
优选地,如图13所示,所述卷动装置920的所述收料转轴9221和所述上料转轴9211均平行于所述转架911的所述旋转轴9110,使得所述收料转轴9221和所述上料转轴9211在绕各自的轴线旋转(即自转)的同时,还同时绕着所述旋转轴9110旋转(即公转),以对该卷料92进行旋转镀膜。
更优选地,所述转架911的所述旋转轴9110贯穿于所述转架911的中心线,以作为所述转架911的中心轴,使得所述转架911在旋转时保持稳定。
例如,如图13和图14所示,所述转架911包括一基座9111和一顶盖9112,其中所述旋转轴9110自所述基座9111延伸至所述顶盖9112,并在所述基座9111和所述顶盖9112之间形成一卷动空间9100,其中所述卷动装置920被可拆卸地设置于所述转架911的所述卷动空间9100内,以便在所述卷动装置920所卷动的该卷料92被镀完膜后,将所述卷动装置920从所述转架911的所述卷动空间9100拆卸下来并取出,进而将镀完膜的该卷料92取出,以更换新的未镀膜的卷料。更具体地,所述基座9111和所述顶盖9112优选地被实施为圆形基座和圆形顶盖,以降低所述转架911的惯性动量,有助于保证所述转架911能够稳定地绕着所述旋转轴9110转动。
优选地,所述转架911的所述顶盖9112被可拆卸地安装于所述旋转轴9110的端部,以便在拆卸下所述顶盖9112的情况下,便于取放所述卷动装置920和该卷料92,并在安装上所述顶盖9112的情况下,所述卷动装置920和该卷料92被稳定地保持于所述顶盖9112和所述基座9111之间的所述卷动空间9100内。
值得注意的是,在本发明的上述示例中,如图14和图15所示,所述转架911的所述旋转轴9110可以被实施为一实轴,以通过所述旋转轴9110连接所述基座9111和所述顶盖9112,进而在所述基座9111和所述顶盖9112之间形成稳定的所述卷动空间9100。当然,在本发明的其他示例中,所述转架911的所述旋转轴9110也可以被实施为一虚轴,以通过所述卷动装置920的所述收料转轴9221和/或所述上料转轴9211来连接所述基座9111和所述顶盖9112,进而在所述基座9111和所述顶盖9112之间形成稳定的所述卷动空间9100。再或者,所 述转架911的所述基座9111和所述顶盖9112还可以通过杆件进行连接,进而在所述旋转轴9110被实施为虚轴的同时,仍能够在所述基座9111和所述顶盖9112之间形成稳定的所述卷动空间9100。
优选地,如图13和图14所示,所述转架911进一步包括至少一对承托件9113,其中所述至少一对承托件9113分别被对应地设置于所述卷动装置920的所述收料转轴9221的两端部,以承托被缠绕在所述收料转轴9221的该卷料92的两侧边,防止该卷料92在被卷动过程中因倾斜而导致该卷料92的侧边无法对齐。
更优选地,所述承托件9113随着所述收料转轴9221同步地旋转,以防所述承托件9113与被缠绕在所述收料转轴9221上的该卷料92产生摩擦而磨损该卷料92的侧边。当然,所述承托件9113还可以分别被对应地设置于所述卷动装置920的所述上料转轴9211的两端,并且所述承托件9113随着所述上料转轴9211同步地旋转,以避免被缠绕在所述上料转轴9211上的该卷料92在所述上料转轴9211旋转时与所述转架911的所述基座9111和所述顶盖9112产生摩擦而磨损该卷料92的侧边。
示例性地,所述承托件9113可以但不限于被实施为一承托盘或一承托架,以通过所述承托盘或所述承托架来承托该卷料92的两侧边,防止该卷料92的两侧边因接触所述基座9111和所述顶盖9112而被磨损。
附图18示出了根据本发明的上述第二实施例的所述镀膜支架901的一个变形实施方式:其中所述卷动装置920的所述上料元件921可以包括具有开口92121的上料舱9212,其中所述上料舱9212适于可散开地容纳该卷料92,并且所述上料舱9212的所述开口92121用于该卷料92的端部穿过以分段地散开该卷料92。这样,当所述卷动装置920的所述收料元件922被驱动以缠绕该卷料92中镀完膜的部分时,所述收料元件922将拖拽该卷料92中未镀膜的部分,以使位于所述上料舱9212内的该卷料92被散开以从所述上料舱9212的所述开口92121分段地伸出而被镀上膜。
优选地,在这个变形实施方式中,所述卷动装置920的所述上料元件921进一步包括一旋转台(图中未示出),其中所述旋转台被可旋转地设置于所述上料舱9212内,用于放置被容纳于所述上料舱9212内的该卷料92,以便当所述收料元件922卷动该卷料92时,所述旋转台随着位于所述上料舱9212内的该卷料 92的旋转而旋转,以在确保该卷料92被容易地旋转以散开的同时,避免该卷料92因旋转而发生侧边磨损,有助于保护该卷料92的侧边完好无损。
更优选地,在本发明的这个变形实施方式中,所述上料舱9212在所述开口92121能够对穿过的该卷料92施加挤压力,以确保该卷料92在所述上料元件921和所述收料元件922之间始终保持拉伸状态。可以理解的是,本发明的所述上料舱9212的所述开口92121的宽度可以稍小于该卷料92的厚度,并且所述上料舱9212在所述开口92121处采用弹性材料制成,以在所述开口92121处对该卷料92施加挤压力。当然,本发明也可以在所述上料舱9212的所述开口92121处设置偏压轮,以通过所述偏压轮在所述开口92121处对该卷料92施加挤压力。
值得注意的是,在本发明的上述第二实施例中,如果所述卷动装置920中的所述驱动装置923被实施为所述电机9231时,则所述镀膜支架901中设置几个所述卷动装置920,就需要配置对应数量的所述电机9231,这不仅会造成所述镀膜支架901的成本大幅地提升,而且也会增加所述镀膜支架901的重量和结构的复杂程度,不利于通过所述镀膜支架901对卷料进行镀膜。
因此,为了解决上述问题,本发明的一第三实施例进一步提供一种镀膜支架901,其能够仅利用一台电机就能够对两个或两个以上的所述卷动装置920进行驱动。具体地,如图19所示,相比于根据本发明的上述第二实施例,根据本发明的所述第三实施例的所述镀膜支架901的不同之处在于:所述镀膜支架901进一步包括一联动机构940,其中所述联动机构940用于将不同的所述卷动装置920的所述收料元件922可传动地联结在一起,使得当其中一个所述收料元件922被驱动以卷动对应的卷料时,所述联动机构940能够带动其他的所述收料元件922来卷动对应的其他卷料,从而实现仅通过一台电机就能够同时驱动所有的所述卷动装置920的所述收料元件922,以分别卷动对应的卷料。
示例性地,如图19所示,所述联动机构940可以被实施为联动皮带941,其中所述联动皮带941用于可传动地联结两个或两个以上的所述收料转轴9221,以在其中一个所述收料转轴9221被驱动以自转时,所述联动皮带941将被带动其他的所述收料转轴9221进行自转,从而实现一台电机同时为两个或两个以上的所述收料转轴9221提供旋转动力的效果。当然,在本发明的其他示例中,所述联动机构940也可以被实施为联动齿轮组或联动链条等等其他的联动装置。
值得注意的时,当利用所述镀膜支架901对卷料进行旋转镀膜时,就需要额 外再设置一台电机来驱动所述转架911旋转,仍会造成所述镀膜支架901的成本提升和结构复杂。因此,为了解决这一问题,如图20所示,根据本发明的上述第三实施例的所述镀膜支架901的一个变形实施方式被阐明,其中所述镀膜支架901可以进一步包括一公自互转机构950,其中所述公自互转机构950被设置于所述卷动装置920的所述收料转轴9221,用于将所述收料转轴9221的自转(即所述收料转轴221绕自身轴线的转动)与所述收料转轴9221的公转(即所述收料转轴9221绕所述转架911的所述旋转轴9110的转动)进行互相转换。换言之,当所述卷动装置920的所述收料转轴9221被驱动以旋转(即所述收料转轴9221作为主动元件)时,所述公自互转机构950能够将所述收料转轴9221的自转动力传递至所述转架911,以使所述转架911绕着所述旋转轴9110转动,进而通过所述转架911带动所述收料转轴9221进行公转;或者,当所述转架911被驱动以旋转(即所述转架911作为主动元件)时,所述公自互转机构950也可以将所述转架911的转动动力(即所述收料转轴9221的公转动力)传递至所述收料转轴9221,以使所述收料转轴9221进行自转。这样,本发明的所述镀膜支架901就能够只利用一台电机就能够驱动所述收料转轴9221在自转(或公转)的同时也能够公转(或自转),也就是说,所述镀膜支架901仅利用一台电机就能够实现该卷料92的旋转镀膜。
示例性地,如图20所示,本发明的所述镀膜支架901的所述公自互转机构950优选地被实施为相互啮合的一母轮951和二子轮952,其中所述母轮951与所述转架911的所述旋转轴9110同轴地设置,并且所述转架911与所述母轮951异步地转动(即所述转架911相对于所述母轮951处于转动状态),其中所述子轮952被同轴地设置于所述卷料装置920的所述收料转轴9221,并且所述收料转轴9221与所述子轮952同步地转动(即所述收料转轴9221相对于所述子轮952处于静止状态)。
值得注意的时,由于所述转架911与所述母轮951异步地转动(即非同步地转动),而所述收料转轴9221与所述子轮952同步地转动,并且所述母轮951与所述子轮952相互啮合,使得所述子轮952能够沿着所述母轮951的外周缘进行啮合地滚动;因此,当所述收料转轴9221被驱动以进行自转时,所述子轮952将随着所述收料转轴9221进行同步地转动,此时所述子轮952将沿着所述母轮951的外周缘进行啮合地滚动,以带动所述转架911相对于所述母轮951进行转 动,使得所述收料转轴9221绕着所述转架911的所述中心轴9110旋转(即公转);同理地,当所述转架911被驱动以带动所述收料转轴9221进行公转时,所述子轮952将沿着所述母轮951的外周缘进行啮合地滚动,以带动所述收料转轴9211进行同步地转动,使得所述收料转轴9211进行自转,从而通过所述镀膜支架901实现该卷料92旋转镀膜。
优选地,所述母轮951相对静止于所述转架911的旋转轴线,使得当所述转架911绕着所述旋转轴线转动时,所述母轮951不仅不随着所述转架911转动,而且相对于所述转架911的所述旋转轴线保持不动。可以理解的是,本发明的所述转架911的所述旋转轴9110可能会随着所述转架911的转动而转动,但所述转架911的所述旋转轴线并不随着所述转架911的转动而转动。
示例性地,所述母轮951适于被固定地设置于该镀膜舱93,以使所述母轮951相对于静止于该镀膜舱93,进而保证所述母轮951相对静止于所述转架911的所述旋转轴线。此外,所述子轮952被固定地设置于所述收料转轴9221,以确保所述子轮52相对静止于所述收料转轴9221。
更优选地,所述母轮951的直径大于所述子轮952的直径,以使所述收料转轴9221的自转角速度大于所述收料转轴9221的公转角速度,有助于加快所述卷动装置920对该卷料92的卷动速度,提高镀膜效率。当然,在本发明的其他示例中,所述母轮951的直径也可以小于所述子轮952的直径,以使所述收料转轴221的自转角速度小于所述收料转轴9221的公转角速度,以在增强所述镀膜仓93内镀膜剂的扰动的同时,所述卷动装置920对该卷料92的卷动速度得以减缓,以确保该卷料92的每一分段部分均有足够的镀膜时间,进而获得较好的镀膜质量。
值得注意的是,在本发明的其他示例中,所述母轮951和所述子轮952之间也可以不直接啮合地连接,而是通过诸如传动皮带、传动链条或传动齿轮组等等传动机构进行间接地连接,只要能够确保所述子轮952在自转的同时,也能够绕着所述母轮951的中心轴进行公转(或者所述子轮952在绕着所述母轮951的中心轴进行公转的同时,也能够进行自转)即可,本发明对此不再赘述。
此外,在本发明的这个变形实施方式中,所述镀膜支架901可以不额外设置所述联动机构940,而只需使所述镀膜支架901的所述公自互转机构950中的所述子轮952的数量与镀膜支架901中所述卷动装置20的数量保持一致即可,此 时每个所述卷动装置920的所述收料转轴9221上均固定地设置一个所述子轮952,以使所述公自互转机构950在实现同一个所述收料转轴9221的公转和自转的互相转换的同时,还能够实现不同的所述收料转轴9221之间的传动(即所述公自互转机构950也能够作为不同的所述卷动装置920之间的联动机构),本发明对此不再赘述。
如图23至25所示,相比于根据本申请的上述第二实施例,根据本申请的所述第四实施例的所述镀膜支架901的不同之处在于:所述卷动装置920中的所述上料元件921和所述收料元件922均被横向地布置,使得所述卷料92在被卷动镀膜的过程中始终保持横放,以克服竖放所述卷料92因自身重量而带来的偏位。换言之,在所述卷动装置920卷动所述卷料92以镀膜的过程中,横放的所述卷料92不会像竖放的所述卷料92那样因重力全部下坠到卷轴的下端,而造成所述卷料92的堆积和褶皱,即横放的所述卷料92没有重力偏位的问题,使得镀完膜后的所述卷料92依然能保持平整。
更具体地,所述卷动装置920中的所述收料转轴9221和所述上料转轴9211均被水平地布置,使得所述卷料92在被卷动过程中不会因自身重量而带来偏位。
优选地,如图23至图25所示,所述卷动装置920的所述收料转轴9221和所述上料转轴9211均垂直于所述转架911的所述旋转轴9110,使得所述收料转轴9221和所述上料转轴9211在绕水平轴旋转的同时,还同时绕着竖直轴旋转,以便对该卷料92进行均匀镀膜。
更优选地,如图23至图25所示,如图所述转架911进一步包括至少一对支撑架9114,其中所述至少一对支撑架9114被间隔地设置于所述基座9111和所述顶盖9112之间,以在所述基座9111和所述顶盖9112之间形成稳定的所述卷动空间9100的同时,使得所述转架911的所述旋转轴9110被实施为虚轴。此时,所述上料转轴9211和所述收料转轴9221被水平地设置于所述至少一对支撑架9114,以组装成所述卷动装置920。
可以理解的是,所述上料转轴9211可以位于所述收料转轴9221的下方,也可以位于所述收料转轴9221的上方,具体可根据需要进行配置。此外,在本申请的其他示例中,所述卷动装置920的所述上料元件921同样也可以被实施为横放的所述上料舱9212,本申请对此不再赘述。
本领域的技术人员应理解,上述描述及附图中所示的本发明的实施例只作为 举例而并不限制本发明。本发明的目的已经完整并有效地实现。本发明的功能及结构原理已在实施例中展示和说明,在没有背离所述原理下,本发明的实施方式可以有任何变形或修改。
Claims (52)
- 一镀膜设备,以供在待镀膜工件表面制备膜层,其特征在于,所述镀膜设备包括:一镀膜腔体,具有一镀膜腔,以供容纳该待镀膜工件;至少一上料支架,其中所述上料支架被设置于所述镀膜腔,以供支撑该待镀膜工件;以及至少一收料转轴,其中所述收料转轴被可转动地设置于所述镀膜腔,其中所述收料转轴与所述上料支架之间具有预设的一镀膜空间,其中所述收料转轴用于卷动被支撑于所述上料支架的该待镀膜工件缠绕于所述收料转轴,以供在卷动过程中,所述镀膜设备在该待镀膜工件被暴露于所述镀膜空间的表面制备膜层。
- 根据权利要求1所述的镀膜设备,其中所述上料支架包括至少一上料转轴,其中所述上料转轴被可转动地设置于所述镀膜腔,以供该待镀膜工件被卷置于所述上料转轴,其中所述上料转轴和所述收料转轴沿水平或竖直方向地布置于所述镀膜腔体内。
- 根据权利要求2所述的镀膜设备,其中被收卷于所述收料转轴的该待镀膜工件形成一收料柱,在镀膜过程中,所述收料柱的直径逐渐增大,所述收料转轴的转速逐渐减慢。
- 根据权利要求2所述的镀膜设备,其中所述收料转轴为二个,分别为第一收料转轴和第二收料转轴,所述上料转轴用于重叠地卷置第一待镀膜工件和第二待镀膜工件,其中所述第一收料转轴与所述上料转轴之间具有预设的第一镀膜空间,其中所述第二收料转轴与所述上料转轴之间具有预设的第二镀膜空间,其中所述第一收料转轴用于卷动该第一待镀膜工件缠绕于所述第一收料转轴,其中所述第二收料转轴用于卷动该第二待镀膜工件缠绕于所述第二收料转轴。
- 根据权利要求2所述的镀膜设备,其中所述收料转轴为二个,分别为第一收料转轴和第二收料转轴,所述上料转轴为二个,分别为用于卷置第一待镀膜工件的第一上料转轴和用于卷置第二待镀膜工件的第二上料转轴,其中所述第一收料转轴与所述第一上料转轴之间具有预设的第一镀膜空间,其中所述第二收料转轴与所述第二上料转轴之间具有预设的第二镀膜空间,其中所述第一收料转轴用于卷动该第一待镀膜工件缠绕于所述第一收料转轴,其中所述第二收料转轴用于卷动该第二待镀膜工件缠绕于所述第二收料转轴。
- 根据权利要求5所述的镀膜设备,其中该第一待镀膜工件的长度短于该第二待镀膜工件的长度。
- 根据权利要求5所述的镀膜设备,其中所述第一收料转轴与所述第二上料转轴相邻,且所述第一收料转轴与所述第二上料转轴之间具有第一预设间距,其中所述第二收料转轴与所述第一上料转轴相邻,且所述第二收料转轴与所述第一上料转轴之间具有第二预设间距。
- 根据权利要求2至7任一所述的镀膜设备,进一步包括至少一阻尼装置,其中所述阻尼装置被安装于所述上料转轴。
- 根据权利要求1至7任一所述的镀膜设备,进一步包括至少一驱动电机,其中所述驱动电机被设置于驱动所述收料转轴转动的位置。
- 根据权利要求9所述的镀膜设备,进一步包括至少一检测电路,其中所述检测电路被电连接于所述驱动电机,当该待镀膜工件被卷动地缠绕于所述收料转轴至末端时,该待镀膜工件的末端在所述上料支架和所述收料转轴之间阻止所述收料转轴继续转动,所述驱动电机受到阻力而产生过载,所述检测电路用于检测所述驱动电机产生过载时停止所述驱动电机。
- 根据权利要求9所述的镀膜设备,进一步包括至少一阻力传感器,所述阻力传感器被设置于检测所述收料转轴受到的阻力的位置,其中所述阻力传感器被电连接于所述驱动电机,当该待镀膜工件被卷动地缠绕于所述收料转轴至末端时,该待镀膜工件的末端在所述上料支架和所述收料转轴之间阻止所述收料转轴继续转动,所述阻力传感器用于检测所述收料转轴受到的阻力大于预设阈值,停止所述驱动电机。
- 根据权利要求1至7任一所述的镀膜设备,进一步包括一旋转支架,其中所述旋转支架被可旋转地设置于所述镀膜腔,其中所述上料支架和所述收料转轴被安装于所述旋转支架,其中所述旋转支架用于同步地带动所述上料支架和所述收料转轴在所述镀膜腔内旋转。
- 根据权利要求12所述的镀膜设备,其中所述旋转支架包括一旋转轴和至少一底支撑件,其中所述旋转轴被可转动地设置于所述镀膜腔,其中所述底支撑件被设置于所述旋转轴的底端并随着所述旋转轴一起旋转,其中所述上料支架和所述收料转轴被安装于所述底支撑件并随着所述底支撑件在所述镀膜腔内旋转。
- 根据权利要求13所述的镀膜设备,其中所述旋转支架进一步包括一顶支撑件,其中所述顶支撑件被设置于所述旋转轴的顶端,在所述顶支撑件与所述底支撑件之间界定一容纳空间,以供容纳该待镀膜工件。
- 根据权利要求13所述的镀膜设备,其中所述旋转支架进一步包括至少二工件支撑件,其中各所述工件支撑件被分别设置于所述上料支架和所述收料转轴,其中所述工件支撑件靠近所述底支撑件,以供支撑该待镀膜工件。
- 根据权利要求12所述的镀膜设备,进一步包括一电极装置,其中所述电极装置被设置于在所述镀膜腔内放电的位置。
- 根据权利要求16所述的镀膜设备,其中所述电极装置具有至少一电极元件,其中所述电极元件被安装于所述旋转支架。
- 一镀膜方法,其特征在于,包括:A、在一镀膜腔内卷动被支撑于一上料支架的待镀膜工件于一收料转轴,其中所述收料转轴与所述上料支架之间具有预设的一镀膜空间;和B、在卷动过程中,在该待镀膜工件被暴露于所述镀膜空间的表面制备膜层。
- 根据权利要求18所述的镀膜方法,其中所述上料支架包括至少一上料转轴,其中所述上料转轴被可转动地设置于所述镀膜腔,以供该待镀膜工件被卷置于所述上料转轴。
- 根据权利要求19所述的镀膜方法,其中所述步骤A中,所述收料转轴作为主动轮,所述上料转轴作为从动轮,通过转动所述收料转轴卷动该待镀膜工件缠绕于所述收料转 轴,并带动所述上料转轴转动。
- 根据权利要求20所述的镀膜方法,随着被收卷于所述收料转轴的该待镀膜工件形成的一收料柱的直径逐渐增大,所述收料转轴的转速逐渐减慢。
- 根据权利要求18至21任一所述的镀膜方法,通过一阻尼装置保持该待镀膜工件处于拉伸状态。
- 根据权利要求18至21任一所述的镀膜方法,当该待镀膜工件被卷动地缠绕于所述收料转轴至末端时,停止转动所述收料转轴。
- 根据权利要求23所述的镀膜方法,检测所述收料转轴受到的阻力大于预设阈值,停止转动所述收料转轴。
- 根据权利要求23所述的镀膜方法,检测驱动所述收料转轴的驱动电机产生过载,停止转动所述收料转轴。
- 根据权利要求18至21任一所述的镀膜方法,进一步包括,同步地带动所述上料支架和所述收料转轴在所述镀膜腔内旋转。
- 一镀膜支架,用于使卷料在镀膜舱内被镀膜,其特征在于,包括:一支架主体,其中所述支架主体适于被容纳在该镀膜舱内;和至少一卷动装置,其中每所述卷动装置包括:一上料元件,其中所述上料元件被设置于所述支架主体,用于可散开地收纳该卷料;和一收料元件,其中所述收料元件被设置于所述支架主体,并且所述收料元件和所述上料元件被间隔地布置,用于通过所述收料元件卷动该卷料以将该卷料从所述上料元件移动至所述收料元件,使得该卷料在被卷动的过程中被分段地镀膜。
- 如权利要求27所述的镀膜支架,其中每所述卷动装置的所述收料元件为一收料转轴, 其中所述收料转轴被可旋转地安装于所述支架主体,并且所述收料转轴能被驱动以相对于所述支架主体旋转,用于通过所述收料转轴缠绕镀完膜的该卷料来卷动地收纳该卷料。
- 如权利要求28所述的镀膜支架,其中每所述卷动装置进一步包括一驱动装置,其中所述驱动装置被设置用于驱动所述收料转轴旋转以连续地卷动该卷料。
- 如权利要求29所述的镀膜支架,其中所述驱动装置为一电机,用于通过所述电机直接驱动所述收料转轴相对于所述支架主体旋转。
- 如权利要求30所述的镀膜支架,其中所述电机采用多相位变频技术进行控制,用于驱动所述收料转轴相对于所述支架主体由快变慢地旋转。
- 如权利要求29所述的镀膜支架,其中所述驱动装置为一传动机构,其中所述传动机构适于将所述收料转轴与一电机可传动地连接,用于使该电机间接地驱动所述收料转轴相对于所述支架主体旋转。
- 如权利要求29所述的镀膜支架,其中所述驱动装置为一卷簧,其中所述卷簧被设置于所述收料转轴和所述支架主体之间,用于对所述收料转轴施加弹性回旋力以驱动所述收料转轴相对于所述支架主体旋转。
- 如权利要求28至33中任一所述的镀膜支架,其中所述上料元件为一上料转轴,其中所述上料转轴被可旋转地安装于所述支架主体,用于可散开地收纳未镀膜的该卷料。
- 如权利要求34所述的镀膜支架,其中同一所述卷动装置中的所述上料转轴和所述收料转轴基本保持平行。
- 如权利要求35所述的镀膜支架,其中每所述卷动装置进一步包括一阻尼装置,其中所述阻尼装置被设置用于增加该卷料的卷动阻尼,使得该卷料在被卷动的过程中始终保持在拉伸状态。
- 如权利要求36所述的镀膜支架,其中所述阻尼装置为一阻尼盘、一偏压机构或一对偏压轮。
- 如权利要求28至33中任一所述的镀膜支架,其中所述上料元件包括具有开口的一上料舱,其中所述上料舱适于可散开地容纳该卷料,并且所述上料舱的所述开口用于使该卷料的端部穿过以分段地散开该卷料。
- 如权利要求38所述的镀膜支架,其中所述上料元件进一步包括一旋转台,其中所述旋转台被可旋转地设置于所述上料舱内,用于放置被容纳于所述上料舱内的该卷料。
- 如权利要求39所述的镀膜支架,其中所述上料舱的所述开口适于对穿过的该卷料施加挤压力,以使该卷料在所述上料元件和所述收料元件之间始终保持拉伸状态。
- 如权利要求27至33中任一所述的镀膜支架,其中所述支架主体包括适于被可旋转地安装于该镀膜舱的一转架,并且所述转架具有一旋转轴,其中所述卷动装置被安装于所述转架,当所述转架被驱动以绕着所述旋转轴转动时,所述转架将带动所述卷动装置绕着所述旋转轴转动。
- 如权利要求34所述的镀膜支架,其中所述支架主体包括适于被可旋转地安装于该镀膜舱的一转架,并且所述转架具有一旋转轴,其中所述卷动装置被安装于所述转架,当所述转架被驱动以绕着所述旋转轴转动时,所述转架将带动所述卷动装置绕着所述旋转轴转动。
- 如权利要求42所述的镀膜支架,其中所述转架包括一基座和一顶盖,其中所述转架的所述旋转轴自所述基座延伸至所述顶盖,并在所述基座和所述顶盖之间形成一卷动空间,其中所述卷动装置被可拆卸地设置于所述转架的所述卷动空间内。
- 如权利要求43所述的镀膜支架,其中所述转架进一步包括至少一对承托件,其中所述至少一对承托件分别被对应地设置于所述卷动装置的所述收料转轴和/或所述上料转轴的两端部。
- 如权利要求42所述的镀膜支架,其中所述至少一卷动装置包括两个或两个以上的所述卷动装置,其中两个或两个以上的所述卷动装置被间隔地布置,并且一个所述卷动装置的所述上料元件远离相邻的所述卷动装置的所述上料元件。
- 如权利要求45所述的镀膜支架,其进一步包括一识别控制装置,其中所述识别控制装置被设置用于识别通过每所述卷动装置卷动的该卷料是否被镀完膜,并且在该卷料被镀完膜后控制对应的所述卷动装置的所述驱动装置停止驱动所述收料元件。
- 如权利要求45所述的镀膜支架,其进一步包括一联动机构,用于将不同的所述卷动装置的所述收料元件可传动地联结在一起,使得当其中一个所述收料元件被驱动以卷动对应的该卷料时,所述联动机构能够带动其他的所述收料元件来卷动对应的其他卷料。
- 如权利要求34所述的镀膜支架,其进一步包括一公自互转机构,其中所述公自互转机构被设置于所述卷动装置的所述收料转轴,用于将所述收料转轴的自转与所述收料转轴的公转进行互相转换。
- 如权利要求42所述的镀膜支架,其中所述上料转轴和所述收料转轴均平行于所述转架的所述旋转轴。
- 如权利要求42所述的镀膜支架,其中所述上料转轴和所述收料转轴均垂直于所述转架的所述旋转轴。
- 如权利要求34所述的镀膜支架,其中所述支架主体包括一基座、一顶盖以及至少一对支撑架,其中所述至少一对支撑架被间隔地设置于所述基座和所述顶盖之间,以在所述基座和所述顶盖之间形成一卷动空间,其中所述上料转轴和所述收料转轴被水平地设置于所述至少一对支撑架。
- 如权利要求34所述的镀膜支架,其中所述支架主体包括一基座、其中所述上料转轴和所述收料转轴沿竖直方向地被支撑于所述基座。
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