TWI818269B - 鍍膜支架、鍍膜設備及其鍍膜方法 - Google Patents
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Abstract
一鍍膜設備及其鍍膜方法，其中所述鍍膜設備包括：一鍍膜腔體，具有一鍍膜腔，以供容納該待鍍膜工件；至少一上料支架，其中所述上料支架被設置於所述鍍膜腔，以供支撐該待鍍膜工件；以及至少一收料轉軸，其中所述收料轉軸被可轉動地設置於所述鍍膜腔，其中所述收料轉軸與所述上料支架之間具有預設的一鍍膜空間，其中所述收料轉軸用於捲動被支撐於所述上料支架的該待鍍膜工件纏繞於所述收料轉軸，以供在捲動過程中，所述鍍膜設備在該待鍍膜工件被暴露於所述鍍膜空間的表面製備膜層。所述鍍膜設備能夠對長度可以超過3米，甚至達到350米或800米及以上的待鍍膜工件進行鍍膜，且無需進行裁切。
Description
本發明涉及鍍膜領域，進一步涉及一鍍膜支架、鍍膜設備及其鍍膜方法。
鍍膜設備一般用於在待鍍膜工件的表面製備塗層或薄膜，以增強待鍍膜工件的表面物理或化學性能。
鍍膜設備具有一用於容納待鍍膜工件的鍍膜腔，在鍍膜過程中，所述鍍膜腔需持續地抽真空，以達到所需的真空度，滿足鍍膜需求。傳統的鍍膜設備的所述鍍膜腔的長、寬、高基本上均不大於3米，甚至不超過1米，容積有限。對於待鍍膜工件為較長的物料，其長度大於所述鍍膜腔的長度，如大於3米，甚至超過15米的物料，無法展開地容納於所述鍍膜腔內進行鍍膜。較長的待鍍膜工件需分成一段一段地在所述鍍膜腔內進行鍍膜，由於分段後的待鍍膜工件的兩端是前後連續的，影響該鍍膜腔的抽真空，即在鍍膜過程中，該鍍膜腔必然存在漏氣現象，無法保證該鍍膜腔達到所需的真空度。
在現有的鍍膜方法中，由於所述鍍膜腔在鍍膜過程中需保持所需的真空度，該待鍍膜工件需被切成或裁成適配地容納於所述鍍膜腔內的多個小段的工件，然後才能夠展開地放入所述鍍膜腔內進行鍍膜。
舉例地，該待鍍膜工件為用於手機等智能設備的聽筒透音網，其長度可達300米。在現有的鍍膜方法中，該聽筒透音網需被切成0.085米長的小段聽筒透音網，以分別適配地放入所述鍍膜腔內一段一段地進行鍍膜。然而，為便於取件，相鄰的小段聽筒透音網之間需間隔預設的距離，而且為使每個該小段聽筒透音網的表面均被鍍膜，各該小段聽筒透音網之間不能發生重疊，導致在所述鍍膜腔內的佔用面積明顯較高。另外，在鍍膜過程中，現有的鍍膜方法還需用到離型紙、雙面膠等輔助耗材，以輔助各小段聽筒透音網完成鍍膜，實際上這些輔助耗材並不需要進行鍍膜，但是這些輔助耗材的表面也被鍍上了薄膜，造成了鍍膜材料的浪費，且工藝複雜，鍍膜成本增加。
換言之，現在市面上常用的解決方案是先把卷料裁成小塊的成品，再放進真空爐內進行鍍膜。例如，手機聽筒透音網在鍍膜時就是先把3米長的透音網卷料切成0.085米長的小張，再放進真空爐內進行鍍膜。但是，在切成小張後，相鄰的聽筒透音網之間還需要拉開一定的距離才方便取件，這會使需要鍍膜的面積成倍地增加，造成了鍍膜成本的大幅度增加。此外，切成小張還需要用到離型紙或雙面膠等輔助耗材，並且這些不必要鍍膜的耗材也會被鍍上膜，進而會造成鍍膜材料的浪費。
此外，在現有的鍍膜方法中，通常採用一治具將該待鍍膜工件支撐為多層結構的工件，以適配地容納於該鍍膜腔內進行鍍膜。但是，為滿足每層的工件表面均被鍍上膜層，該治具需支撐相鄰層的工件之間保持預設的間距，保證鍍膜所需的滲透要求。受該鍍膜腔的體積的限制，該待鍍膜工件的長
度越長，由該治具支撐形成的多層結構的工件的層數就越多，相鄰層的工件之間的間距就越小。一般情況下，該待鍍膜工件的長度不能超過15米，若該待鍍膜工件的長度大於15米或過長時，相鄰層的工件之間的間距就達不到所需的距離，從而導致內部層的工件的表面所鍍的膜層達不到所需的厚度，無法滿足工藝要求。也就是說，現有的鍍膜方法中是借助治具在卷材的外層和內層之間墊出足夠的縫隙，以滿足鍍膜的滲透要求。但這種方案也只能對長度在一定範圍(如24米)以內的卷料進行鍍膜，一但卷料的長度超過該範圍，卷料的內部就難以鍍到足夠的膜厚，無法滿足工藝要求。
本發明的一個優勢在於提供一鍍膜支架、鍍膜設備及其鍍膜方法，其中所述鍍膜設備能夠對待鍍膜工件進行鍍膜，其中所述待鍍膜工件的長度可以超過3米，甚至達到350米或800米及以上等，可全部容納於所述鍍膜設備的一鍍膜腔內進行鍍膜，且無需進行裁切，其中所述待鍍膜工件的表面能夠鍍上所需厚度的膜層，滿足鍍膜需求。
本發明的另一個優勢在於提供一鍍膜支架、鍍膜設備及其鍍膜方法，其中所述待鍍膜工件被收卷地容納於所述鍍膜腔，在鍍膜過程中，所述待鍍膜工件被捲動地進行鍍膜，使得所述待鍍膜工件的表面被鍍上所需厚度的膜層。
本發明的另一個優勢在於提供一鍍膜支架、鍍膜設備及其鍍膜方法，其中所述鍍膜設備能夠同時對不同長度的所述待鍍膜工件進行鍍膜，以
滿足不同客戶的鍍膜需求。
本發明的另一個優勢在於提供一鍍膜支架、鍍膜設備及其鍍膜方法，其中所述待鍍膜工件的表面所鍍的膜層的厚度基本一致，實現了鍍膜均勻化，滿足終端客戶對所述待鍍膜工件的品質要求。
本發明的另一個優勢在於提供一鍍膜支架、鍍膜設備及其鍍膜方法，其中所述待鍍膜工件的捲動速度可以被調控，使得所述待鍍膜工件表面所鍍的膜層的厚度可以被調控，滿足鍍膜需求。
本發明的另一個優勢在於提供一鍍膜支架、鍍膜設備及其鍍膜方法，其能夠避免所述待鍍膜工件在捲動過程中發生打滑或鬆動等現象。
本發明的另一個優勢在於提供一鍍膜支架、鍍膜設備及其鍍膜方法，其中所述待鍍膜工件在捲動完畢後，電機自動停止，以保證設備的安全。
本發明的另一個優勢在於提供一鍍膜支架、鍍膜設備及其鍍膜方法，其能夠進一步地提高鍍膜均勻性。
本發明的另一個優勢在於提供一鍍膜支架、鍍膜設備及其鍍膜方法，其便於實現自動化，方法簡單，成本低。
本發明的另一個優勢在於提供一鍍膜支架、鍍膜設備及其鍍膜方法，其中所述鍍膜支架能夠在不裁剪卷材的前提下，有效地避免卷料對鍍膜設備抽真空的影響。
本發明的另一個優勢在於提供一鍍膜支架、鍍膜設備及其鍍膜方法，其中所述鍍膜支架能夠使卷材在捲動的過程中被連續地鍍膜，以便採用
自動化機器來貼輔料，順應自動化發展的趨勢，具有廣闊的推廣前景。
本發明的另一個優勢在於提供一鍍膜支架、鍍膜設備及其鍍膜方法，其中所述鍍膜支架能夠提高鍍膜厚度的均勻性，使得卷材的內層和外層鬆緊度一致，可以滿足客戶對諸如納米防水等功能的品質要求。
本發明的另一個優勢在於提供一鍍膜支架、鍍膜設備及其鍍膜方法，其中所述鍍膜支架能夠使卷材的源頭就實現納米防水，以避免材料的浪費，大幅解決了納米鍍膜的成本。
本發明的另一個優勢在於提供一鍍膜支架、鍍膜設備及其鍍膜方法，其中所述鍍膜支架能夠使大批量的卷料進行長時間的鍍膜作業，不需要頻繁地更換卷料，有助於減少人為幹預，提高設備的利用率，以便在諸如透音網和無紡布等卷料行業內都可以大規模地使用。
本發明的另一個優勢在於提供一鍍膜支架、鍍膜設備及其鍍膜方法，其中所述鍍膜支架能夠解決現有的卷料鍍膜難以實現的難題，開拓了納米鍍膜的新領域和新市場。
本發明的另一個優勢在於提供一鍍膜支架、鍍膜設備及其鍍膜方法，其中所述鍍膜支架能夠使所述卷料中具有相同長度的任意段卷料的鍍膜時間保持一致，以便確保所述卷料的鍍膜厚度保持一致。
本發明的另一個優勢在於提供一鍍膜支架、鍍膜設備及其鍍膜方法，其中所述鍍膜支架能夠使卷料始終保持在拉伸狀態，以便避免所述卷料在捲動過程中出現外層和內層鬆緊度不一致的現象。
本發明的另一個優勢在於提供一鍍膜支架、鍍膜設備及其鍍膜方法，其中所述鍍膜支架能夠自動地停止捲動已鍍完膜的卷料，以防鍍完膜的卷料繼續捲動，有助於降低鍍膜設備的能耗。
本發明的另一個優勢在於提供一鍍膜支架、鍍膜設備及其鍍膜方法，其中所述鍍膜支架具有較強的普適性，能夠適用於旋轉鍍膜和靜置鍍膜。
本發明的另一個優勢在於提供一鍍膜支架、鍍膜設備及其鍍膜方法，其中所述鍍膜支架不需要採用昂貴的材料或複雜的結構。因此，本發明成功和有效地提供一解決方案，不只提供簡單的鍍膜支架，同時還增加了所述鍍膜支架的實用性和可靠性。
依本發明的一個方面，本發明進一步提供一鍍膜設備，以供在待鍍膜工件表面製備膜層，所述鍍膜設備包括：
一鍍膜腔體，具有一鍍膜腔，以供容納該待鍍膜工件；
至少一上料支架，其中所述上料支架被設置於所述鍍膜腔，以供支撐該待鍍膜工件；以及
至少一收料轉軸，其中所述收料轉軸被可轉動地設置於所述鍍膜腔，其中所述收料轉軸與所述上料支架之間具有預設的一鍍膜空間，其中所述收料轉軸用於捲動被支撐於所述上料支架的該待鍍膜工件纏繞於所述收料轉軸，以供在捲動過程中，所述鍍膜設備在該待鍍膜工件被暴露於所述鍍膜空間的表面製備膜層。
在一實施例中，其中所述上料支架包括至少一上料轉軸，其中
所述上料轉軸被可轉動地設置於所述鍍膜腔，以供該待鍍膜工件被卷置於所述上料轉軸，其中所述上料轉軸和所述收料轉軸沿水準或豎直方向地佈置於所述鍍膜腔體內。
在一實施例中，被收卷於所述收料轉軸的該待鍍膜工件形成一收料柱，在鍍膜過程中，所述收料柱的直徑逐漸增大，所述收料轉軸的轉速逐漸減慢。
在一實施例中，所述收料轉軸為二個，分別為第一收料轉軸和第二收料轉軸，所述上料轉軸用於重疊地卷置第一待鍍膜工件和第二待鍍膜工件，其中所述第一收料轉軸與所述上料轉軸之間具有預設的第一鍍膜空間，其中所述第二收料轉軸與所述上料轉軸之間具有預設的第二鍍膜空間，其中所述第一收料轉軸用於捲動該第一待鍍膜工件纏繞於所述第一收料轉軸，其中所述第二收料轉軸用於捲動該第二待鍍膜工件纏繞於所述第二收料轉軸。
在一實施例中，所述收料轉軸為二個，分別為第一收料轉軸和第二收料轉軸，所述上料轉軸為二個，分別為用於卷置第一待鍍膜工件的第一上料轉軸和用於卷置第二待鍍膜工件的第二上料轉軸，其中所述第一收料轉軸與所述第一上料轉軸之間具有預設的第一鍍膜空間，其中所述第二收料轉軸與所述第二上料轉軸之間具有預設的第二鍍膜空間，其中所述第一收料轉軸用於捲動該第一待鍍膜工件纏繞於所述第一收料轉軸，其中所述第二收料轉軸用於捲動該第二待鍍膜工件纏繞於所述第二收料轉軸。
在一實施例中，其中該第一待鍍膜工件的長度短於該第二待鍍
膜工件的長度。
在一實施例中，其中所述第一收料轉軸與所述第二上料轉軸相鄰，且所述第一收料轉軸與所述第二上料轉軸之間具有第一預設間距，其中所述第二收料轉軸與所述第一上料轉軸相鄰，且所述第二收料轉軸與所述第一上料轉軸之間具有第二預設間距。
在一實施例中，進一步包括至少一阻尼裝置，其中所述阻尼裝置被安裝於所述上料轉軸。
在一實施例中，進一步包括至少一驅動電機，其中所述驅動電機被設置於驅動所述收料轉軸轉動的位置。
在一實施例中，進一步包括至少一檢測電路，其中所述檢測電路被電連接於所述驅動電機，當該待鍍膜工件被捲動地纏繞於所述收料轉軸至末端時，該待鍍膜工件的末端在所述上料支架和所述收料轉軸之間阻止所述收料轉軸繼續轉動，所述驅動電機受到阻力而產生過載，所述檢測電路用於檢測所述驅動電機產生過載時停止所述驅動電機。
在一實施例中，進一步包括至少一阻力傳感器，所述阻力傳感器被設置於檢測所述收料轉軸受到的阻力的位置，其中所述阻力傳感器被電連接於所述驅動電機，當該待鍍膜工件被捲動地纏繞於所述收料轉軸至末端時，該待鍍膜工件的末端在所述上料支架和所述收料轉軸之間阻止所述收料轉軸繼續轉動，所述阻力傳感器用於檢測所述收料轉軸受到的阻力大於預設閾值，停止所述驅動電機。
在一實施例中，進一步包括一旋轉支架，其中所述旋轉支架被可旋轉地設置於所述鍍膜腔，其中所述上料支架和所述收料轉軸被安裝於所述旋轉支架，其中所述旋轉支架用於同步地帶動所述上料支架和所述收料轉軸在所述鍍膜腔內旋轉。
在一實施例中，其中所述旋轉支架包括一旋轉軸和至少一底支撐件，其中所述旋轉軸被可轉動地設置於所述鍍膜腔，其中所述底支撐件被設置於所述旋轉軸的底端並隨著所述旋轉軸一起旋轉，其中所述上料支架和所述收料轉軸被安裝於所述底支撐件並隨著所述底支撐件在所述鍍膜腔內旋轉。
在一實施例中，其中所述旋轉支架進一步包括一頂支撐件，其中所述頂支撐件被設置於所述旋轉軸的頂端，在所述頂支撐件與所述底支撐件之間界定一容納空間，以供容納該待鍍膜工件。
在一實施例中，其中所述旋轉支架進一步包括至少二工件支撐件，其中各所述工件支撐件被分別設置於所述上料支架和所述收料轉軸，其中所述工件支撐件靠近所述底支撐件，以供支撐該待鍍膜工件。
在一實施例中，進一步包括一電極裝置，其中所述電極裝置被設置於在所述鍍膜腔內放電的位置。
在一實施例中，其中所述電極裝置具有至少一電極元件，其中所述電極元件被安裝於所述旋轉支架。
依本發明的另一個方面，本發明進一步提供一鍍膜方法，包括：
A、在一鍍膜腔內捲動被支撐於一上料支架的待鍍膜工件於一
收料轉軸，其中所述收料轉軸與所述上料支架之間具有預設的一鍍膜空間；和
B、在捲動過程中，在該待鍍膜工件被暴露於所述鍍膜空間的表面製備膜層。
在一實施例中，在所述鍍膜方法中，其中所述上料支架包括至少一上料轉軸，其中所述上料轉軸被可轉動地設置於所述鍍膜腔，以供該待鍍膜工件被卷置於所述上料轉軸。
在一實施例中，在所述鍍膜方法中，其中所述步驟A中，所述收料轉軸作為主動輪，所述上料轉軸作為從動輪，通過轉動所述收料轉軸捲動該待鍍膜工件纏繞於所述收料轉軸，並帶動所述上料轉軸轉動。
在一實施例中，在所述鍍膜方法中，隨著被收卷於所述收料轉軸的該待鍍膜工件形成的一收料柱的直徑逐漸增大，所述收料轉軸的轉速逐漸減慢。
在一實施例中，在所述鍍膜方法中，通過一阻尼裝置保持該待鍍膜工件處於拉伸狀態。
在一實施例中，在所述鍍膜方法中，當該待鍍膜工件被捲動地纏繞於所述收料轉軸至末端時，停止轉動所述收料轉軸。
在一實施例中，在所述鍍膜方法中，檢測所述收料轉軸受到的阻力大於預設閾值，停止轉動所述收料轉軸。
在一實施例中，在所述鍍膜方法中，檢測驅動所述收料轉軸的驅動電機產生過載，停止轉動所述收料轉軸。
在一實施例中，在所述鍍膜方法中，進一步包括，同步地帶動所述上料支架和所述收料轉軸在所述鍍膜腔內旋轉。
依本發明的一個方面，本發明進一步提供一鍍膜支架，用於使卷料在鍍膜艙內被鍍膜，包括：
一支架主體，其中所述支架主體適於被容納在該鍍膜艙內；和
至少一捲動裝置，其中每所述捲動裝置包括：
一上料元件，其中所述上料元件被設置於所述支架主體，用於可散開地收納該卷料；和
一收料元件，其中所述收料元件被設置於所述支架主體，並且所述收料元件和所述上料元件被間隔地佈置，用於通過所述收料元件捲動該卷料以將該卷料從所述上料元件移動至所述收料元件，使得該卷料在被捲動的過程中被分段地鍍膜。
在本發明的一實施例中，每所述捲動裝置的所述收料元件為一收料轉軸，其中所述收料轉軸被可旋轉地安裝於所述支架主體，並且所述收料轉軸能被驅動以相對於所述支架主體旋轉，用於通過所述收料轉軸纏繞鍍完膜的該卷料來捲動地收納該卷料。
在本發明的一實施例中，每所述捲動裝置進一步包括一驅動裝置，其中所述驅動裝置被設置用於驅動所述收料轉軸旋轉以連續地捲動該卷料。
在本發明的一實施例中，所述驅動裝置為一電機，用於通過所
述電機直接驅動所述收料轉軸相對於所述支架主體旋轉。
在本發明的一實施例中，所述電機採用多相位變頻技術進行控制，用於驅動所述收料轉軸相對於所述支架主體由快變慢地旋轉。
在本發明的一實施例中，所述驅動裝置為一傳動機構，其中所述傳動機構適於將所述收料轉軸與一電機可傳動地連接，用於使該電機間接地驅動所述收料轉軸相對於所述支架主體旋轉。
在本發明的一實施例中，所述驅動裝置為一卷簧，其中所述卷簧被設置於所述收料轉軸和所述支架主體之間，用於對所述收料轉軸施加彈性迴旋力以驅動所述收料轉軸相對於所述支架主體旋轉。
在本發明的一實施例中，所述上料元件為一上料轉軸，其中所述上料轉軸被可旋轉地安裝於所述支架主體，用於可散開地收納未鍍膜的該卷料。
在本發明的一實施例中，同一所述捲動裝置中的所述上料轉軸和所述收料轉軸基本保持平行。
在本發明的一實施例中，每所述捲動裝置進一步包括一阻尼裝置，其中所述阻尼裝置被設置用於增加該卷料的捲動阻尼，使得該卷料在被捲動的過程中始終保持在拉伸狀態。
在本發明的一實施例中，所述阻尼裝置為一阻尼盤、一偏壓機構或一對偏壓輪。
在本發明的一實施例中，所述上料元件包括具有開口的一上料
艙，其中所述上料艙適於可散開地容納該卷料，並且所述上料艙的所述開口用於使該卷料的端部穿過以分段地散開該卷料。
在本發明的一實施例中，所述上料元件進一步包括一旋轉台，其中所述旋轉台被可旋轉地設置於所述上料艙內，用於放置被容納於所述上料艙內的該卷料。
在本發明的一實施例中，所述上料艙的所述開口適於對穿過的該卷料施加擠壓力，以使該卷料在所述上料元件和所述收料元件之間始終保持拉伸狀態。
在本發明的一實施例中，所述支架主體包括適於被可旋轉地安裝於該鍍膜艙的一轉架，並且所述轉架具有一旋轉軸，其中所述捲動裝置被安裝於所述轉架，當所述轉架被驅動以繞著所述旋轉軸轉動時，所述轉架將帶動所述捲動裝置繞著所述旋轉軸轉動。
在本發明的一實施例中，所述支架主體包括適於被可旋轉地安裝於該鍍膜艙的一轉架，並且所述轉架具有一旋轉軸，其中所述捲動裝置被安裝於所述轉架，當所述轉架被驅動以繞著所述旋轉軸轉動時，所述轉架將帶動所述捲動裝置繞著所述旋轉軸轉動。
在本發明的一實施例中，所述轉架包括一基座和一頂蓋，其中所述轉架的所述旋轉軸自所述基座延伸至所述頂蓋，並在所述基座和所述頂蓋之間形成一捲動空間，其中所述捲動裝置被可拆卸地設置於所述轉架的所述捲動空間內。
在本發明的一實施例中，所述轉架進一步包括至少一對承托件，其中所述至少一對承托件分別被對應地設置於所述捲動裝置的所述收料轉軸和/或所述上料轉軸的兩端部。
在本發明的一實施例中，所述至少一捲動裝置包括兩個或兩個以上的所述捲動裝置，其中兩個或兩個以上的所述捲動裝置被間隔地佈置，並且一個所述捲動裝置的所述上料元件遠離相鄰的所述捲動裝置的所述上料元件。
在本發明的一實施例中，所述的鍍膜支架進一步包括一識別控制裝置，其中所述識別控制裝置被設置用於識別通過每所述捲動裝置捲動的該卷料是否被鍍完膜，並且在該卷料被鍍完膜後控制對應的所述捲動裝置的所述驅動裝置停止驅動所述收料元件。
在本發明的一實施例中，所述的鍍膜支架進一步包括一聯動機構，用於將不同的所述捲動裝置的所述收料元件可傳動地聯結在一起，使得當其中一個所述收料元件被驅動以捲動對應的該卷料時，所述聯動機構能夠帶動其他的所述收料元件來捲動對應的其他卷料。
在本發明的一實施例中，所述的鍍膜支架進一步包括一公自互轉機構，其中所述公自互轉機構被設置於所述捲動裝置的所述收料轉軸，用於將所述收料轉軸的自轉與所述收料轉軸的公轉進行互相轉換。
在本發明的一實施例中，所述上料轉軸和所述收料轉軸均平行於所述轉架的所述旋轉軸。
在本發明的一實施例中，所述上料元件和所述收料元件均被橫向地佈置。
在本發明的一實施例中，所述上料轉軸和所述收料轉軸均垂直於所述轉架的所述旋轉軸。
在本發明的一實施例中，所述支架主體包括一基座、一頂蓋以及至少一對支撐架，其中所述至少一對支撐架被間隔地設置於所述基座和所述頂蓋之間，以在所述基座和所述頂蓋之間形成一捲動空間，所述上料轉軸和所述收料轉軸被水準地設置於所述至少一對支撐架。
在本發明的一實施例中，所述支架主體包括一基座、其中所述上料轉軸和所述收料轉軸沿豎直方向地被支撐於所述基座。
通過對隨後的描述和附圖的理解，本發明進一步的目的和優勢將得以充分體現。
本發明的這些和其它目的、特點和優勢，通過下述的詳細說明，附圖和權利要求得以充分體現。
600、600A、600B、600C、600D:鍍膜工件
610:第一待鍍膜工件
620:第二待鍍膜工件
601:上料柱
6011:第一上料柱
6012:第二上料柱
602:收料柱
6021:第一收料柱
6022:第二收料柱
603:末端
04:首端6
101:鍍膜腔
102、102A、102B、102C、102D:鍍膜空間
111:第一鍍膜空間
112:第二鍍膜空間
10:鍍膜腔體
201:上料支架
20、20A、20B、20C、20D:上料轉軸
21:第一上料轉軸
22:第二上料轉軸
30、30A、30B、30C、30D:收料轉軸
31:第一收料轉軸
32:第二收料轉軸
40:驅動電機
50:阻尼裝置
D1:第一預設間距
D2:第二預設間距
60:檢測電路
70:阻力傳感器
80:旋轉支架
81:旋轉軸
82:底支撐件
83:頂支撐件
84:工件支撐件
90:電極裝置
91:電極元件
901:鍍膜支架
9100:捲動空間
910:支架主體
911:轉架
9110:旋轉軸
9111:基座
9112:頂蓋
9113:對承托件
9114:支撐架
920:捲動裝置
921:上料元件
9211:上料轉軸
9212:上料艙
92121:開口
922:收料元件
9221:收料轉軸
923:驅動裝置
9231:電機
924:阻尼裝置
9241:阻尼盤
9242:偏壓機構
9243:對偏壓輪
92:卷料
93:鍍膜艙
930:控制裝置
940:聯動機構
941:聯動皮帶
950:公自互轉機構
951:母輪
952:子輪
圖1是根據本發明的一第一優選實施例的一鍍膜設備的平面示意圖。
圖2A是根據本發明的上述優選實施例的所述鍍膜設備的第一變形實施例的在鍍膜之前的平面示意圖。
圖2B是根據本發明的上述優選實施例的所述鍍膜設備的第一
變形實施例的在鍍膜過程中的平面示意圖。
圖2C是根據本發明的上述優選實施例的所述鍍膜設備的第一變形實施例的在鍍膜結束時的平面示意圖。
圖3A是根據本發明的上述優選實施例的所述鍍膜設備的第二變形實施例的在鍍膜之前的平面示意圖。
圖3B是根據本發明的上述優選實施例的所述鍍膜設備的第二變形實施例的在鍍膜過程中的平面示意圖。
圖3C是根據本發明的上述優選實施例的所述鍍膜設備的第二變形實施例的在鍍膜結束時的平面示意圖。
圖4是根據本發明的上述優選實施例的所述鍍膜設備的旋轉支架的結構示意圖。
圖5是根據本發明的上述優選實施例的所述鍍膜設備的旋轉支架的立體示意圖。
圖6是根據本發明的上述優選實施例的所述鍍膜設備的旋轉支架的部分立體示意圖。
圖7是根據本發明的上述優選實施例的所述鍍膜設備的旋轉支架的俯視示意圖。
圖8A是根據本發明的上述優選實施例的所述鍍膜設備的第四變形實施例的在鍍膜之前的平面示意圖。
圖8B是根據本發明的上述優選實施例的所述鍍膜設備的第四變
形實施例的在鍍膜過程中的平面示意圖。
圖8C是根據本發明的上述優選實施例的所述鍍膜設備的第四變形實施例的在鍍膜結束時的平面示意圖。
圖9A是根據本發明的上述優選實施例的所述鍍膜設備的第五變形實施例的在鍍膜之前的平面示意圖。
圖9B是根據本發明的上述優選實施例的所述鍍膜設備的第五變形實施例的在鍍膜過程中的平面示意圖。
圖9C是根據本發明的上述優選實施例的所述鍍膜設備的第五變形實施例的在鍍膜結束時的平面示意圖。
圖10是根據本發明的上述優選實施例的所述鍍膜設備的驅動電機的結構框圖。
圖11是根據本發明的上述優選實施例的所述鍍膜設備的電極裝置的結構框圖。
圖12是根據本發明的一第二實施例的鍍膜支架的立體示意圖。
圖13示出了根據本發明的上述第二實施例的所述鍍膜支架的剖視示意圖。
圖14示出了根據本發明的上述第二實施例的所述鍍膜支架的分解示意圖。
圖15示出了根據本發明的上述第二實施例的所述鍍膜支架的捲動裝置的狀態示意圖。
圖16示出了根據本發明的上述第二實施例的所述鍍膜支架的所述捲動裝置的第一變形實施方式。
圖17示出了根據本發明的上述第二實施例的所述鍍膜支架的所述捲動裝置的第二變形實施方式。
圖18示出了根據本發明的上述第二實施例的所述鍍膜支架的一個變形實施方式。
圖19是根據本發明的一第三實施例的鍍膜支架的立體示意圖。
圖20示出了根據本發明的上述第三實施例的所述鍍膜支架的一個變形實施方式。
圖21示出了根據本發明的另一示例的鍍膜支架的捲動裝置的狀態示意圖。
圖22示出了根據本發明的又一示例的鍍膜支架的捲動裝置的狀態示意圖。
圖23是根據本發明的一第四實施例的鍍膜支架的立體示意圖。
圖24示出了根據本發明的上述第四實施例的所述鍍膜支架的狀態示意圖。
圖25示出了根據本發明的上述第四實施例的所述鍍膜支架的剖視示意圖。
以下描述用於揭露本發明以使本領域技術人員能夠實現本發
明。以下描述中的優選實施例只作為舉例，本領域技術人員可以想到其他顯而易見的變型。在以下描述中界定的本發明的基本原理可以應用於其他實施方案、變形方案、改進方案、等同方案以及沒有背離本發明的精神和範圍的其他技術方案。
本領域技術人員應理解的是，在本發明的揭露中，術語“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、“前”、“後”、“左”、“右”、“豎直”、“水準”、“頂”、“底”、“內”、“外”等指示的方位或位置關係是基於附圖所示的方位或位置關係，其僅是為了便於描述本發明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此上述術語不能理解為對本發明的限制。
可以理解的是，術語“一”應理解為“至少一”或“一個或多個”即在一個實施例中，一個元件的數量可以為一個，而在另外的實施例中，該元件的數量可以為多個，術語“一”不能理解為對數量的限制。
在本說明書的描述中，參考術語“一個實施例”、“一些實施例”、“示例”、“具體示例”、或“一些示例”等的描述意指結合該實施例或示例描述的具體特徵、結構、材料或者特點包含於本發明的至少一個實施例或示例中。在本說明書中，對上述術語的示意性表述不必須針對的是相同的實施例或示例。而且，描述的具體特徵、結構、材料或者特點可以在任一個或多個實施例或示例中以合適的方式結合。此外，在不相互矛盾的情況下，本領域的技術人員可以將本說明書中描述的不同實施例或示例以及不同實施例或示
例的特徵進行結合和組合。
如圖1所示為本申請的第一優選實施例的鍍膜設備的示意圖。所述鍍膜設備能夠對待鍍膜工件600進行鍍膜，其中所述待鍍膜工件的長度可以超過3米，甚至達到350米或800米等，甚至更長，可全部容納於所述鍍膜設備的一鍍膜腔101內進行鍍膜，且無需進行裁切，其中所述待鍍膜工件600的表面能夠鍍上所需厚度的膜層，滿足鍍膜需求。
如圖1所示，所述鍍膜設備包括一鍍膜腔體10、至少一上料支架201以及至少一收料轉軸30，其中所述鍍膜腔體10具有所述鍍膜腔101，其中所述上料支架201被設置於所述鍍膜腔101以供支撐待鍍膜工件600，其中所述收料轉軸30被可轉動地設置於所述鍍膜腔101，其中所述收料轉軸30與所述上料支架201之間具有預設的一鍍膜空間102，其中所述收料轉軸30用於捲動被支撐於所述上料支架201的所述待鍍膜工件600纏繞於所述收料轉軸30，以供在捲動過程中，所述鍍膜設備在所述待鍍膜工件600被暴露於所述鍍膜空間102的表面製備膜層。
舉例地，所述待鍍膜工件600可以為卷料，為柔性材料，可被收卷於所述收料轉軸30，其中所述待鍍膜工件600連接於所述收料轉軸30與所述上料支架201之間，其中所述待鍍膜工件600的長度大於所述收料轉軸30與所述上料支架201之間的間距，並且在所述收料轉軸30與所述上料支架201之間的部分所述待鍍膜工件600暴露於所述鍍膜空間102。或者說，所述待鍍膜工件600的兩端分別可纏繞地設置於所述收料轉軸30和所述上料支架201。舉例地，所
述待鍍膜工件600為用於手機等智慧設備的聽筒透音網或無紡布等柔性材料，其中所述待鍍膜工件600無需被裁切為小段，可整體地安裝於所述上料支架201。在鍍膜結束後，所述待鍍膜工件600仍保持完整狀態，且全部表面均可製備所需厚度的膜層，從而不需要在鍍膜過程中更換物料，減少了人為幹預，設備利用率較高，可實現大規模工業化鍍膜，有利於降低成本。
舉例地，所述鍍膜腔體10可以為直徑1米，高度0.9米的圓柱形結構，所述鍍膜腔體10的所述鍍膜腔101適於被充入鍍膜所需的反應原料，或者等離子體源氣體等，其中所述鍍膜腔101可以由抽氣裝置持續地抽真空，以達到鍍膜所需的真空度。所述膜層可以為納米薄膜，或者防水膜層等，在此不受限制。
優選地，所述上料支架201包括至少一上料轉軸20，即所述上料轉軸20為轉軸結構，其中所述上料轉軸20可轉動地設置於所述鍍膜腔101，以供所述待鍍膜工件被卷置於所述上料轉軸20。也就是說，在鍍膜之前，所述待鍍膜工件600可以被纏繞地支撐於所述上料轉軸20，所述上料轉軸20為滿卷狀態，所述收料轉軸30為空卷狀態，即除連接於所述上料轉軸20與所述收料轉軸30之間的部分所述待鍍膜工件600之外，其餘部分的所述待鍍膜工件600全部纏繞於所述上料轉軸20。在鍍膜過程中，所述收料轉軸30逐漸地捲動所述待鍍膜工件纏繞於所述收料轉軸30，其中被纏繞於所述上料轉軸20的所述待鍍膜工件600逐漸離開所述上料轉軸20，直至所述上料轉軸20為空卷狀態，其中所述收料轉軸30為滿卷狀態，即除連接於所述上料轉軸20與所述收料轉軸30之間的
部分所述待鍍膜工件600之外，其餘部分的所述待鍍膜工件600全部纏繞於所述收料轉軸30。換句話說，在鍍膜過程中，被纏繞於所述上料轉軸20的所述待鍍膜工件600逐漸減少，其中減少的所述待鍍膜工件600被收卷於所述收料轉軸30，即被纏繞於所述收料轉軸30的所述待鍍膜工件600逐漸增加。
可以理解的是，所述上料支架201並不為轉軸結構，所述待鍍膜工件600本身為卷料，並被支撐於所述上料支架201，其中所述收料轉軸30可帶動所述待鍍膜工件600在所述上料支架201上轉動，以收卷所述待鍍膜工件600。
在鍍膜過程中，所述收料轉軸30作為主動輪，所述上料轉軸20作為從動輪，所述收料轉軸30通過收卷所述待鍍膜工件600來帶動所述上料轉軸20，其中被卷置於所述收料轉軸20的所述待鍍膜工件逐漸地纏繞於所述收料轉軸30。在所述收料轉軸30與所述上料轉軸20之間的所述待鍍膜工件600暴露於所述鍍膜空間102，以供在暴露部分的所述待鍍膜工件600的表面製備膜層，並且隨著所述收料轉軸30的轉動，所述待鍍膜工件600的全部表面依次暴露於所述鍍膜空間102，從而在鍍膜結束後，所述待鍍膜工件600的全部表面均製備有膜層。
進一步地，被卷置於所述上料轉軸20的所述待鍍膜工件600形成一上料柱601，被收卷於所述收料轉軸30的所述待鍍膜工件600形成一收料柱602。在鍍膜前，所述上料柱601的直徑最大，所述收料柱602的直徑最小，優選地為零，即為空卷狀態。在鍍膜過程中，隨著所述收料轉軸30的轉動，所
述待鍍膜工件600逐漸收卷於所述收料轉軸30，所述上料柱601的直徑逐漸減小，所述收料柱602的直徑逐漸增大。在鍍膜結束後，所述上料柱601的直徑最小，優選地為零，即為空卷狀態，所述收料柱602的直徑最大。
如圖10所示，優選地，所述鍍膜設備進一步地包括至少一驅動電機40，其中所述驅動電機40被設置於驅動所述收料轉軸30轉動的位置，其中所述驅動電機40用於驅動所述收料轉軸30轉動。所述收料轉軸30可以為多個，分別收卷多個不同長度的所述待鍍膜工件600。所述驅動電機40可以控制所述收料轉軸30的轉速。
進一步地，在鍍膜過程中，所述驅動電機40驅動所述收料轉軸30的轉速逐漸減慢，即所述收料柱60的直徑逐漸增大，所述收料轉軸30的轉速逐漸減慢，以保證暴露於所述鍍膜空間102的所述待鍍膜工件600的線速度基本保持一致，使其暴露於所述鍍膜空間102的時間基本保持一致，有利於使待鍍膜工件600的表面所鍍的膜層的厚度基本一致，實現了鍍膜均勻化，滿足終端客戶對所述待鍍膜工件的品質要求。
在本實施例中，所述驅動電機40採用多相位變頻技術實現驅動所述收料轉軸30的轉速逐漸減慢。可以理解的是，所述驅動電機40驅動所述收料轉軸30的轉速可以按照時間逐漸減慢。
值得一提的是，所述驅動電機40能夠控制所述收料轉軸30的轉速，使得所述待鍍膜工件600的捲動速度可以被調控，使得所述待鍍膜工件600表面所鍍的膜層的厚度可以被調控，滿足鍍膜需求。
進一步地，所述鍍膜設備還包括一阻尼裝置50，其中所述阻尼裝置50被安裝於所述上料轉軸20，其中所述阻尼裝置50用於使所述待鍍膜工件600在捲動過程中始終處於拉伸狀態，防止所述待鍍膜工件600發生鬆弛甚至起皺的現象，有利於鍍膜均勻性。
換句話說，在鍍膜過程中，所述收料轉軸30的轉速在開始時比較快，可能會造成所述上料轉軸20發生打滑的現象，從而造成纏繞於所述上料轉軸20的所述待鍍膜工件600發生鬆弛甚至起皺的現象。為避免這種現象的發生，所述阻尼裝置50能夠阻止所述上料轉軸20發生打滑，使在所述上料轉軸20與所述收料轉軸30之間的所述待鍍膜工件600始終保持拉伸狀態，也可以使外層的所述待鍍膜工件600與內層的所述待鍍膜工件600之間的鬆緊度保持相近或一致，有利於實現鍍膜。
在本第一優選實施例的第一變形實施例中，如圖2A、2B以及2C所示，所述收料轉軸30為二個，分別為第一收料轉軸31和第二收料轉軸32，所述待鍍膜工件600為二個，分別為不同長度的第一待鍍膜工件610和第二待鍍膜工件620。所述上料轉軸20用於重疊地卷置第一待鍍膜工件610和第二待鍍膜工件620，其中所述第一收料轉軸31與所述上料轉軸20之間具有預設的第一鍍膜空間111，其中所述第二收料轉軸32與所述上料轉軸20之間具有預設的第二鍍膜空間112，其中所述第一收料轉軸31用於捲動所述第一待鍍膜工件610纏繞於所述第一收料轉軸31，其中所述第二收料轉軸32用於捲動所述第二待鍍膜工件620纏繞於所述第二收料轉軸32。
也就是說，在所述第一變形實施例中，多個所述待鍍膜工件可以共同卷置於同一所述上料轉軸20，並分別被收卷於不同的所述收料轉軸30。為避免相鄰的所述待鍍膜工件600之間產生幹擾，各所述收料轉軸30之間具有一定的避讓空間。由於二個所述待鍍膜工件600重疊地卷置於所述上料轉軸20，所述第一收料轉軸31與所述第二收料轉軸32應當同步轉動，以保持二個所述待鍍膜工件均處於拉伸狀態，有利於實現鍍膜均勻性。熟知本領域的技術人員可以理解，在所述第一變形實施例中，所述收料轉軸30為二個僅作為舉例，在其他的變形實施例中，所述收料轉軸30的數量可以為更多個，在此不受限制。
在本第一優選實施例的第二變形實施例中，如圖3A、3B以及3C所示，所述收料轉軸30為二個，分別為第一收料轉軸31和第二收料轉軸32，所述上料轉軸20為二個，分別為用於卷置第一待鍍膜工件610的第一上料轉軸21和用於卷置第二待鍍膜工件620的第二上料轉軸22，其中所述第一收料轉軸31與所述第一上料轉軸21之間具有預設的第一鍍膜空間111，其中所述第二收料轉軸32與所述第二上料轉軸22之間具有預設的第二鍍膜空間112，其中所述第一收料轉軸31用於捲動所述第一待鍍膜工件610纏繞於所述第一收料轉軸31，其中所述第二收料轉軸32用於捲動所述第二待鍍膜工件620纏繞於所述第二收料轉軸32。
在所述第二變形實施例中，所述第一待鍍膜工件610的長度短於所述第二待鍍膜工件620的長度，所述鍍膜設備能夠同時對不同長度的所述第一待鍍膜工件610和所述第二待鍍膜工件620進行鍍膜，以滿足不同客戶的鍍膜
需求。為避免相鄰的所述待鍍膜工件600之間產生幹擾，各所述收料轉軸30之間具有一定的避讓空間，各所述上料轉軸20之間也具有一定的避讓空間。熟知本領域的技術人員可以理解，在所述第二變形實施例中，所述上料轉軸20和所述收料轉軸30為二個僅作為舉例，在其他的變形實施例中，所述上料轉軸20和所述收料轉軸30的數量可以為更多個，在此不受限制。
進一步地，所述驅動電機40的數量對應於所述收料轉軸30的數量，各所述驅動電機40分別獨立地驅動相應的所述收料轉軸30的轉動，以使各所述收料轉軸30分別獨立地轉動。也就是說，各所述收料轉軸30之間互不幹擾，各所述上料轉軸20之間也互不幹擾。更進一步地，不同的所述驅動電機40可以控制不同的所述收料轉軸30具有不同的轉速，即所述第一收料轉軸31的轉速與所述第二收料轉軸32的轉速不一致，以分別對不同長度的所述待鍍膜工件600進行鍍膜，滿足客戶需求。
具體地，被纏繞於所述第一上料轉軸21的所述第一待鍍膜工件610形成第一上料柱601，其中被纏繞於所述第一收料轉軸31的所述第一待鍍膜工件610形成第一收料柱6021。被纏繞於所述第二上料轉軸22的所述第二待鍍膜工件620形成第二上料柱6012，其中被纏繞於所述第二收料轉軸32的所述第二待鍍膜工件620形成第二收料柱6022。
值得一提的是，所述第二收料轉軸32與所述第一上料轉軸21相鄰，即所述第一上料柱6011位於所述第一上料轉軸21與所述第二收料轉軸32之間，且所述第二收料轉軸32與所述第一上料轉軸21之間具有第一預設間距D1。
所述第一收料轉軸31與所述第二上料轉軸22相鄰，即所述第二上料柱6012位於所述第二上料轉軸22與所述第一收料轉軸31之間，且所述第一收料轉軸31與所述第二上料轉軸22之間具有第二預設間距D2。可以理解的是，通過這樣的設置，所述鍍膜設備提供了相鄰的所述待鍍膜工件600的避讓空間，同時提高了空間利用率。
更具體地，在鍍膜前，所述第一上料轉軸21和所述第二上料轉軸22均為滿卷狀態，所述第一收料轉軸31和所述第二收料轉軸32均為空卷狀態，所述第一預設間距D1略大於所述第一上料柱6011的半徑R1，所述第二預設間距D2略大於所述第二上料柱6012的半徑R2。在鍍膜結束後，所述第一上料轉軸21和所述第二上料轉軸22均為空卷狀態，所述第一收料轉軸31和所述第二收料轉軸32均為滿卷狀態，所述第一收料柱6021的半徑R1等於所述第一上料柱6011的半徑R1且略小於所述第二預設間距D2，所述第二收料柱6022的半徑R2等於所述第二上料柱6012的半徑R2且略小於所述第一預設間距D1。換句話說，所述第一預設間距D1和所述第二預設間距D2中的最小值略大於所述半徑R1和所述半徑R2中的最大值。
在本第一優選實施例中，所述鍍膜設備進一步包括至少一檢測電路60，其中所述檢測電路60被電連接於所述驅動電機40，當所述待鍍膜工件600被捲動地纏繞於所述收料轉軸30至末端603時，所述待鍍膜工件600的末端603在所述上料支架201和所述收料轉軸30之間阻止所述收料轉軸30繼續轉動，
所述驅動電機40受到阻力而產生超載，所述檢測電路60用於檢測所述驅動電機40產生超載時停止所述驅動電機40。
進一步地，所述檢測電路60可以用於檢測所述驅動電機40的電流，當所述驅動電機40無法繼續轉動所述收料轉軸30時，所述驅動電機40的電流會發生超載，若所述檢測電路60檢測所述驅動電機40的電流超過預設閾值時，所述驅動電機40停止轉動。當然，所述檢測電路60也可以用於檢測所述驅動電機40的電壓是否超載，若電壓超載，則停止所述驅動電機40，以保證安全性。
換句話說，在鍍膜開始時，所述待鍍膜工件600的首端604連接於所述上料轉軸20與所述收料轉軸30之間，即所述待鍍膜工件600的首端604暴露於所述鍍膜空間102。隨著所述收料轉軸30的轉動，所述待鍍膜工件600逐漸地收卷於所述收料轉軸30，直至所述待鍍膜工件600的末端603暴露於所述鍍膜空間102，即所述待鍍膜工件600的末端603連接於所述上料轉軸20與所述收料轉軸30之間，所述末端603會阻止所述收料轉軸30繼續轉動，所述驅動電機40受到阻力而產生超載，此時所述檢測電路60檢測所述驅動電機49產生超載，而停止所述驅動電機40轉動，從而停止轉動所述收料轉軸30。
可以理解的是，所述待鍍膜工件600的首端604可以採用膠帶、膠水或固態膠粘接於所述收料轉軸30，其中所述待鍍膜工件600的末端603也可以採用膠帶、膠水或固態膠粘接於所述上料轉軸20。當然，所述待鍍膜工件600
與所述上料轉軸20和所述收料轉軸30之間的連接方式還可以為卡接、釘接、可拆卸連接等，在此不受限制。
可選地，在本第一優選實施例的第三變形實施例中，所述鍍膜設備進一步包括至少一阻力感測器70，所述阻力感測器70被設置於檢測所述收料轉軸30受到的阻力的位置，其中所述阻力感測器70被電連接於所述驅動電機40，當所述待鍍膜工件600被捲動地纏繞於所述收料轉軸30至末端603時，所述待鍍膜工件600的末端603在所述上料支架201和所述收料轉軸30之間阻止所述收料轉軸30繼續轉動，所述阻力感測器70用於檢測所述收料轉軸30受到的阻力大於預設閾值，停止所述驅動電機40，以保證安全性。
當所述鍍膜設備對多個不同長度的所述待鍍膜工件600進行鍍膜時，不同長度的所述待鍍膜工件600可能並不一致地收卷完畢，當其中一所述待鍍膜工件600被捲動地纏繞於所述收料轉軸30至末端603時，對應的所述驅動電機40和對應的所述收料轉軸30停止轉動，並不影響其他的所述收料轉軸30繼續收卷對應的所述待鍍膜工件600。當所有的所述待鍍膜工件600均被收卷至末端603時，所有的所述驅動電機40和所述收料轉軸30停止轉動，鍍膜結束。在鍍膜結束後，所述鍍膜設備可以釋放所述鍍膜腔101內的壓力，排氣，然後開啟所述鍍膜腔體10的艙門，便於取出所述鍍膜腔101內的所述待鍍膜工件600。
在本第一優選實施例中，如圖4所示，所述鍍膜設備進一步包括一旋轉支架80，其中所述旋轉支架80被可旋轉地設置於所述鍍膜腔101，其中所述上料支架201和所述收料轉軸30被安裝於所述旋轉支架80，其中所述旋轉
支架80用於同步地帶動所述上料支架201和所述收料轉軸30在所述鍍膜腔101內旋轉，從而帶動所述待鍍膜工件600在所述鍍膜腔101內旋轉，進一步地提高鍍膜均勻性。
進一步地，如圖5、圖6以及圖7所示，所述旋轉支架80包括一旋轉軸81和至少一底支撐件82，其中所述旋轉軸81被可轉動地設置於所述鍍膜腔101，其中所述底支撐件82被設置於所述旋轉軸81的底端並隨著所述旋轉軸81一起旋轉，其中所述上料支架201和所述收料轉軸30被安裝於所述底支撐件82並隨著所述底支撐件82在所述鍍膜腔101內旋轉。
進一步地，所述旋轉支架80包括一頂支撐件83，其中所述頂支撐件83被設置於所述旋轉軸81的頂端，在所述頂支撐件83與所述底支撐件82之間界定一容納空間801，以供容納所述待鍍膜工件600。也就是說，所述上料轉軸20和所述收料轉軸30被設置於所述頂支撐件83與所述底支撐件82之間，並在所述容納空間801內轉動，其中所述待鍍膜工件600被纏繞於所述上料轉軸20或所述收料轉軸30。
可以理解的是，所述底支撐件82和所述頂支撐件83為圓盤形結構，其中所述旋轉軸81被可轉動地連接於所述底支撐件82和所述頂支撐件83的中心位置，以使所述旋轉支架80在所述鍍膜腔101內對稱地旋轉，提高空間利用率。
當然，熟知本領域的技術人員可知，所述旋轉支架80可以被替換為固定支架，所述固定支架在所述鍍膜腔101內不會旋轉，在此不受限制。
所述旋轉支架80進一步包括至少二工件支撐件84，其中各所述工件支撐件84被分別設置於所述上料支架201和所述收料轉軸30，其中所述工件支撐件84靠近所述底支撐件82，以供支撐所述待鍍膜工件600。換句話說，所述工件支撐件84在所述底支撐件82和所述待鍍膜工件600之間並支撐所述待鍍膜工件600，所述工件支撐件84可以為圓盤形結構，且尺寸小於所述底支撐件82的尺寸。更進一步地，所述工件支撐件84的尺寸略大於滿卷時所述待鍍膜工件600的尺寸，以提供穩定地支撐。
在本第一優選實施例中，如圖11所示，所述鍍膜設備還包括一電極裝置90，其中所述電極裝置90被設置於在所述鍍膜腔101內放電的位置，以提供鍍膜所需的電壓，有利於在所述鍍膜腔101內形成等離子體環境，使反應原料放電，以供在所述待鍍膜工件600的表面製備膜層。
進一步地，所述電極裝置90具有至少一電極元件91，其中所述電極元件91被安裝於所述旋轉支架80，以在所述鍍膜腔101內旋轉地放電。所述電極元件91可以接入射頻電源的負極，以供在所述鍍膜腔101內提供射頻電壓。所述射頻電源的正極可以接地，或接入所述鍍膜腔體10並接地，以使整個所述鍍膜腔體10為正極，在此不受限制。
在本第一優選實施例的第四變形實施例中，如圖8A、8B以及8C所示，所述鍍膜設備包括三個所述收料轉軸30A、30B、30C和三個所述上料轉軸20A、20B、20C，其中三個所述待鍍膜工件600A、600B、600C分別被卷置於三個所述收料轉軸30A、30B、30C和三個所述上料轉軸20A、20B、20C之間。
具體地，所述待鍍膜工件600A被卷置於所述收料轉軸30A和所述上料轉軸20A之間，所述收料轉軸30A與所述上料轉軸20A之間具有預設的鍍膜空間102A，以用於對暴露於所述鍍膜空間102A的所述待鍍膜工件600A的表面進行鍍膜。所述待鍍膜工件600B被卷置於所述收料轉軸30B和所述上料轉軸20B之間，所述收料轉軸30B與所述上料轉軸20B之間具有預設的鍍膜空間102B，以用於對暴露於所述鍍膜空間102B的所述待鍍膜工件600B的表面進行鍍膜。所述待鍍膜工件600C被卷置於所述收料轉軸30C和所述上料轉軸20C之間，所述收料轉軸30C與所述上料轉軸20C之間具有預設的鍍膜空間102C，以用於對暴露於所述鍍膜空間102C的所述待鍍膜工件600C的表面進行鍍膜。
在所述第四變形實施例中，各所述待鍍膜工件600A、600B、600C的長度不相等，所述鍍膜設備能夠同時對不同長度的各所述待鍍膜工件600A、600B、600C進行鍍膜，以滿足不同客戶的鍍膜需求。為避免相鄰的所述待鍍膜工件600A、600B、600C之間產生幹擾，各所述收料轉軸30A、30B、30C之間具有一定的避讓空間，各所述上料轉軸20A、20B、20C之間也具有一定的避讓空間。
在本第一優選實施例的第五變形實施例中，如圖9A、9B以及9C所示，所述鍍膜設備包括四個所述收料轉軸30A、30B、30C、30D和四個所述上料轉軸20A、20B、20C、20D，其中四個所述待鍍膜工件600A、600B、600C、600D分別被卷置於四個所述收料轉軸30A、30B、30C、30D和四個所述上料轉軸20A、20B、20C、20D之間。具體地，所述待鍍膜工件600A被卷置於所述收
料轉軸30A和所述上料轉軸20A之間，所述收料轉軸30A與所述上料轉軸20A之間具有預設的鍍膜空間102A，以用於對暴露於所述鍍膜空間102A的所述待鍍膜工件600A的表面進行鍍膜。所述待鍍膜工件600B被卷置於所述收料轉軸30B和所述上料轉軸20B之間，所述收料轉軸30B與所述上料轉軸20B之間具有預設的鍍膜空間102B，以用於對暴露於所述鍍膜空間102B的所述待鍍膜工件600B的表面進行鍍膜。所述待鍍膜工件600C被卷置於所述收料轉軸30C和所述上料轉軸20C之間，所述收料轉軸30C與所述上料轉軸20C之間具有預設的鍍膜空間102C，以用於對暴露於所述鍍膜空間102C的所述待鍍膜工件600C的表面進行鍍膜。所述待鍍膜工件600D被卷置於所述收料轉軸30D和所述上料轉軸20D之間，所述收料轉軸30D與所述上料轉軸20D之間具有預設的鍍膜空間102D，以用於對暴露於所述鍍膜空間102D的所述待鍍膜工件600D的表面進行鍍膜。
在所述第五變形實施例中，各所述待鍍膜工件600A、600B、600C、600D的長度不相等，所述鍍膜設備能夠同時對不同長度的各所述待鍍膜工件600A、600B、600C、600D進行鍍膜，以滿足不同客戶的鍍膜需求。為避免相鄰的所述待鍍膜工件600A、600B、600C、600D之間產生幹擾，各所述收料轉軸30A、30B、30C、30D之間具有一定的避讓空間，各所述上料轉軸20A、20B、20C、20D之間也具有一定的避讓空間。
進一步地，本第一優選實施例還提供了所述鍍膜設備的鍍膜方法，包括：
S10、在所述鍍膜腔101內捲動被支撐於所述上料支架201的待鍍膜工件600於所述收料轉軸30，其中所述收料轉軸30與所述上料支架201之間具有預設的所述鍍膜空間102；和
S20、在捲動過程中，在所述待鍍膜工件600被暴露於所述鍍膜空間102的表面製備膜層。
在一可選實施例中，在所述鍍膜方法中，其中所述上料支架201包括至少一所述上料轉軸20，其可轉動地設置於所述鍍膜腔101，以供所述待鍍膜工件600被卷置於所述上料轉軸20。
在一可選實施例中，在所述鍍膜方法中，所述收料轉軸30作為主動輪，所述上料轉軸20作為從動輪，通過轉動所述收料轉軸30捲動所述待鍍膜工件600纏繞於所述收料轉軸30，並帶動所述上料轉軸20轉動。
在一可選實施例中，在所述鍍膜方法中，隨著被收卷於所述收料轉軸30的所述待鍍膜工件600形成的所述收料柱602的直徑逐漸增大，所述收料轉軸30的轉速逐漸減優。
在一可選實施例中，在所述鍍膜方法中，通過所述阻尼裝置50保持所述待鍍膜工件600處於拉伸狀態。
在一可選實施例中，在所述鍍膜方法中，當所述待鍍膜工件600被捲動地纏繞於所述收料轉軸30至末端時，停止轉動所述收料轉軸30。
在一可選實施例中，在所述鍍膜方法中，檢測所述收料轉軸30受到的阻力大於預設閾值，停止轉動所述收料轉軸30。
在一可選實施例中，在所述鍍膜方法中，檢測驅動所述收料轉軸30的驅動電機40產生超載，停止轉動所述收料轉軸30。
在一可選實施例中，在所述鍍膜方法中，進一步包括，同步地帶動所述上料支架201和所述收料轉軸30在所述鍍膜腔101內旋轉。
另外，參考說明書附圖之圖12至圖15所示，根據本發明的一第二實施例的鍍膜支架被闡明。具體地，如圖12和圖13所示，所述鍍膜支架901用於使卷料92在鍍膜艙93內被鍍膜，並且所述鍍膜支架901可以包括一支架主體910和至少一捲動裝置920，其中每所述捲動裝置920包括一上料元件921和一收料元件922。所述支架主體910適於被容納在該鍍膜艙93內。所述上料元件921被設置於所述支架主體910，用於可散開地收納該卷料92。所述收料元件922被設置於所述支架主體910，用於可捲動地收納該卷料92，其中所述收料元件922和所述上料元件921被間隔地佈置，用於通過所述收料元件922捲動該卷料92以將該卷料92從所述上料元件921移動至所述收料元件922，使得該卷料92在被捲動的過程中被分段地鍍膜。
值得注意的是，如圖13所示，由於所述鍍膜支架901能夠被容納在所述鍍膜艙93內，並且所述捲動裝置920的所述上料元件921和所述收料元件922也被容納在所述鍍膜艙93內，使得該卷料92在被捲動以從所述上料元件921移動至所述收料元件922的過程中始終處於所述鍍膜艙93內，並不需要伸展出所述鍍膜艙93，因此本發明的所述鍍膜支架901能夠使較長卷料在整個鍍膜過
程中均位於所述鍍膜艙93內，不會影響鍍膜艙93的抽真空作業，避免了現有的分段鍍膜無法抽真空的問題。
換言之，如圖15所示，在所述收料元件922捲動該卷料92從所述上料元件921移動至所述收料元件922的過程中，該卷料92中位於所述上料元件921和所述收料元件922之間的部分將被伸展開，以便被鍍上膜。這樣，隨著所述收料元件922的旋轉，該卷料92中鍍上膜的部分將被收納在所述收料元件922上，並且所述收料元件922同時拉拽該卷料92以將該卷料92中未鍍膜的部分從所述上料元件921處散開以拉向所述收料元件922，使得該卷料92中未鍍膜的部分分段地在所述上料元件921和所述收料元件922之間伸展以被分段地鍍上膜，從而實現該卷料92在被捲動的過程中被連續地分段鍍膜。也就是說，該卷料92中未鍍膜的部分被可散開地收納在所述上料元件921，而該卷料92中鍍上膜的部分被捲動以收納在所述收料元件922，與此同時，該卷料92中在所述上料元件921和所述收料元件922之間散開的部分將被鍍上膜；這樣，隨著該卷料92中未鍍膜的部分從所述上料元件921處被分段地散開以伸展在所述上料元件921和所述收料元件922之間被鍍上膜，使得長度較長的該卷料92能夠在不伸展出所述鍍膜艙93的情況下被連續地分段鍍膜。
更具體地，在本發明的上述第二實施例中，如圖13所示，所述鍍膜支架901的所述捲動裝置920的所述收料元件922優選地被實施為一收料轉軸9221，其中所述收料轉軸9221被可旋轉地安裝於所述支架主體910，並且所述收料轉軸9221被驅動以相對於所述支架主體910旋轉，用於通過所述收料轉
軸9221纏繞該卷料92來捲動地收納該卷料92，使得該卷料92在從所述上料元件921移動至所述收料元件922的過程中被分段鍍上膜。可以理解的是，本發明的所述鍍膜支架901能夠使該卷料92在源頭(即該卷料92的端部)就實現鍍膜(如納米防水膜等等)，避免了材料的浪費，大幅地節約了納米鍍膜的成本。
特別地，如圖12和圖13所示，所述鍍膜支架901的所述捲動裝置920可以進一步包括一驅動裝置923，其中所述驅動裝置923被設置用於驅動所述收料轉軸9221旋轉以連續地捲動該卷料92，使得該卷料92在從所述上料元件921移動至所述收料元件922的過程中被連續地分段鍍上膜。
優選地，在本發明的一示例中，如圖13所示，所述驅動裝置923可以被實施為一電機9231，其中所述電機9231可驅動地連接於所述收料轉軸9221，用於在啟動狀態下直接驅動所述收料轉軸9221相對於所述支架主體910旋轉，以捲動該卷料92在所述鍍膜艙93內被連續地分段鍍膜。
根據本發明的上述第二實施例，如圖13和圖14所示，所述鍍膜支架901的所述捲動裝置920的所述上料元件921可以被實施為一上料轉軸9211，其中所述上料轉軸9211被可旋轉地安裝於所述支架主體910，用於可散開地收納未鍍膜的該卷料92。換言之，當所述收料轉軸9221旋轉以捲動該卷料92時，該卷料92將帶動所述上料轉軸9211相對於所述支架主體910旋轉，以將所述上料轉軸9211處的該卷料92連續地分段散開而被鍍上膜。可以理解的是，在本發明的這個實施例中，所述鍍膜支架901的所述收料轉軸9221被實施為一主動輪，而所述鍍膜支架901的所述上料轉軸9211被實施為一被動輪；也就是
說，所述收料轉軸9221主動地旋轉以纏繞該卷料92中鍍完膜的部分，並拉拽該卷料92中剩餘的部分，使得該上料轉軸9211被動地旋轉以散開該卷料92中未鍍膜的部分。
優選地，如圖13和圖15所示，所述捲動裝置920的所述上料轉軸9211基本平行於所述捲動裝置920的所述收料轉軸9221，以防所述捲動裝置920在捲動該卷料92過程中因所述上料轉軸9211不平行於所述收料轉軸9221而造成該卷料2無法均勻地纏繞在所述收料轉軸9221上。
更優選地，所述捲動裝置920中的所述上料轉軸9211的端部和所述收料轉軸9221的端部分別對應地處於同一平面，以便將從所述上料轉軸9211上散開的該卷料92整齊地纏繞至所述收料轉軸9221。
值得注意的是，為了使該卷料92上的鍍膜厚度保持均勻，該卷料92中每一段的鍍膜時間需要保持基本一致(即每段的鍍膜時間基本保持相同)，即該卷料92被所述收料轉軸9221纏繞的速度應保持基本一致(即該卷料92被捲動的線速度基本保持恒定不變)。而由於在鍍膜的過程中，所述收料轉軸9221上纏繞的卷料直徑會由小逐漸變大，如果所述收料轉軸9221的轉速(角速度)保持不變的話，所述收料轉軸9221纏繞該卷料92的速度將逐漸變大，因此本發明的所述鍍膜支架901的所述收料轉軸9221的旋轉速度需要由快變慢，以保證該卷料92被所述收料轉軸9221纏繞的速度基本保持一致，進而確保該卷料92上的鍍膜厚度保持均勻。
示例性地，本發明的所述鍍膜支架901中所述電機9231可以採用多相位變頻技術進行控制，以驅動所述收料轉軸9221相對於所述支架主體910由快變慢地旋轉，使得所述收料轉軸9221的轉速在鍍膜剛開始時最快，並隨著鍍膜的過程逐漸變慢，直至鍍膜快結束時最慢，以便確保所述卷料92被捲動的速度保持基本恒定，進而保證所述卷料92上的鍍膜厚度具有較高的均勻性，滿足終端客戶對鍍膜(如納米防水等)的品質要求。
值得一提的是，在本發明的另一示例中，所述驅動裝置923還可以被實施為一傳動機構(圖中未示出)，其中所述傳動機構適於將所述收料轉軸9221與一電機可傳動地連接，用於將來自所述電機的動能傳遞至所述收料轉軸9221，以驅動所述收料轉軸9221相對於所述支架主體910旋轉。可以理解的是，所述傳動機構可以但不限於被實施為傳動鏈條、傳動皮帶、傳動齒輪組或傳動軸等等之類的傳動設備，本發明對此不再贅述。
當然，在本發明的又一示例中，所述驅動裝置923也可以被實施為一卷簧(圖中未示出)，其中所述卷簧被設置於所述收料轉軸9221和所述支架主體910之間，用於對所述收料轉軸9221施加彈性迴旋力以驅動所述收料轉軸9221相對於所述支架主體910旋轉。可以理解的是，所述卷簧在開始釋放時，其施加的彈性迴旋力最大，使得該收料轉軸9221在鍍膜剛開始時的轉速最大；而隨著所述卷簧的釋放，其施加的彈性迴旋力將逐漸變小，使得所述收料轉軸9221在鍍膜的過程中的轉速逐漸變小；直至所述卷簧對所述收料轉軸9221施加的彈性迴旋力變小至不足以使所述收料轉軸9221旋轉為止，從而本發明的所述
鍍膜支架901的所述捲動裝置920能夠借助所述卷簧來實現所述收料轉軸9221的轉速由快到慢的變化。
值得注意的是，由於在鍍膜的剛開始時所述收料轉軸9221的轉速較快，如果此時所述上料轉軸9211因打滑而向前沖的話，則在所述收料轉軸9221上纏繞的該卷料92就比較松，甚至出現起皺的問題，因此為瞭解決這一問題，如圖14所示，本發明的所述鍍膜支架901的所述捲動裝置920可以進一步包括一阻尼裝置924，其中所述阻尼裝置924被設置用於增加該卷料92的捲動阻尼，使得該卷料92在被捲動的過程中始終保持在拉伸狀態(即該卷料92在所述上料轉軸9211和所述收料轉軸9221之間始終保持自然拉緊狀態)。
具體地，在本發明的上述第二實施例中，如圖14所示，所述阻尼裝置924可以被設置於所述上料轉軸9211和所述支架主體910之間，以增加所述上料轉軸9211的旋轉阻尼，進而使得該卷料92的捲動阻尼得以增加，以防所述上料轉軸9211發生打滑，從而確保在所述收料轉軸9221上纏繞的該卷料92鬆緊度比較均勻。
優選地，在本發明的一些示例中，如圖14所示，所述阻尼裝置924可以被實施為設置在所述上料轉軸9211和所述支架主體910之間的一阻尼盤9241(或一彈性墊)，用於增加所述上料轉軸9211與所述支架主體910之間的摩擦力，以防所述上料轉軸9211因被拉拽而發生打滑前沖的現象。
值得注意的是，在本發明的所述捲動裝置920的第一變形實施方式中，如圖16所示，所述阻尼裝置924也可以被實施為一偏壓機構9242，其中
所述偏壓機構9242用於對所述上料轉軸9211施加偏壓力，以增加所述上料轉軸9211的旋轉阻尼，以防所述上料轉軸9211發生打滑前沖的現象。示例性地，所述偏壓機構9242可以被實施為被設置於所述支架主體910的一偏壓輪(或一偏壓片)，用於偏壓於所述上料轉軸9211的側面，以防所述上料轉軸9211發生打滑前沖的現象。當然，本發明的所述偏壓輪(或一偏壓片)也可以沿著所述上料轉軸9211的徑向方向偏壓於該卷料92，以通過該卷料92將該偏壓力傳遞至所述上料轉軸9211，從而通過所述偏壓輪(或一偏壓片)仍能夠增加所述上料轉軸9211的旋轉阻尼，同樣實現避免所述上料轉軸9211因被拉拽而發生打滑前沖的現象。
而在本發明的所述捲動裝置920的第二變形實施方式中，如圖17所示，所述阻尼裝置924還可以被實施為一對偏壓輪9243(或一對偏壓軸)，其中所述一對偏壓輪9243被相互偏壓地設置於所述支架主體910，用於對該卷料92施加擠壓力，以增加該卷料2的捲動阻尼，從而避免因所述上料轉軸9211打滑前沖而造成該卷料92在所述收料轉軸9221上纏繞較松的問題。優選地，所述一對偏壓輪9243被設置於靠近所述上料轉軸9211的位置，以通過所述一對偏壓輪243在鄰近所述上料轉軸9211的位置處對該卷料92施加擠壓力，使得該卷料92在所述收料轉軸9221和所述偏壓輪9243之間始終處於拉伸狀態，有助於該卷料92的分段鍍膜。當然，所述一對偏壓輪9243也可以被設置於靠近所述收料轉軸9221的位置，以確保該卷料92在鍍完膜後被鬆緊合適地纏繞於所述收料轉軸
9221(即在所述收料轉軸9221上纏繞的該卷料92的外層和內層的鬆緊度保持基本一致)。
根據本發明的所述鍍膜支架901可以包括一個或多個所述捲動裝置920，當所述鍍膜支架901僅包括一個所述捲動裝置920時，在保證所述鍍膜支架901能夠被容納於所述鍍膜艙93內的前提下，所述捲動裝置920中的所述上料元件921和所述收料元件922之間的間距得以增大，以便通過所述捲動裝置920捲動長度較長(例如800米長)的卷料，使得所述鍍膜支架901能夠方便客戶採用自動化機器來貼輔料，順應了社會的發展趨勢，具有廣闊的推廣前景；而當所述鍍膜支架901包括兩個或兩個以上的所述捲動裝置920時，為了確保所述鍍膜支架901能夠被容納於所述鍍膜艙93，則每個所述捲動裝置920中的所述上料元件921和所述收料元件922之間的間距需要減小，使得所述捲動裝置920只能捲動長度稍短的卷料，例如，當所述鍍膜支架901包括兩個所述捲動裝置920時，每個所述捲動裝置920最大僅能夠捲動350米長的卷料。這樣，本發明的所述鍍膜支架901能夠對大批量的卷料進行鍍膜，並且卷料鍍膜時間跨度長，不需要頻繁地更換物料，有助於減少人為幹預，提高設備利用率，能夠在透音網和無紡布等卷料行業進行大規模使用。
可以理解的是，所述鍍膜支架901中的所述捲動裝置920數量不僅與所述捲動裝置920中所述上料元件921和所述收料元件922之間的間距有關，而且還與所述鍍膜艙93的直徑有關，也就是說，所述上料元件921和所述收料元件922之間的間距越小，則所述鍍膜支架901能夠設置越多數量的所述捲
動裝置920；並且所述鍍膜艙93的直徑越大，則所述鍍膜支架901也能夠設置越多數量的所述捲動裝置920。此外，所述鍍膜支架901中所述捲動裝置920所能捲動的最大長度可以根據不同客戶的鍍膜需要進行佈置或設計。
優選地，如圖15、圖21和圖22所示，多個所述捲動裝置920被間隔地佈置於所述支架主體910，並且每個所述捲動裝置920中的所述上料元件921靠近另一相鄰的所述捲動裝置920中的所述收料元件922，並遠離另一相鄰的所述捲動裝置920中的所述上料元件921。這樣，在鍍膜開始時，所述上料元件921處未鍍膜的該卷料92處於滿卷，所述收料元件922處鍍完膜的該卷料92處於空卷；而在鍍膜結束時，所述上料元件921處未鍍膜的該卷料92處於空卷，所述收料元件922處鍍完膜的該卷料92處於滿卷；因此本發明的所述鍍膜支架901的這種佈置能夠避免相鄰的所述捲動裝置920在捲動該卷料92時，不同的所述上料元件9921處的該卷料92在鍍膜開始時或不同的所述收料元件922處的該卷料92在鍍膜完成時發生相互干涉，以最大限度地增加通過所述鍍膜支架901的所述捲動裝置920完成鍍膜的該卷料92的最大長度。
示例性地，如圖13和圖15所示，當所述鍍膜支架901包括兩個所述捲動裝置920時，兩個所述捲動裝置920中的兩個所述上料元件921被對稱地設置於所述支架主體910的左右兩側，並且兩個所述捲動裝置920中的兩個所述收料元件922被對稱地設置於所述支架主體910的前後兩側，使得兩個上料元件921之間的間距最大，並且兩個收料元件922之間的間距也最大，從而能夠有效
地避免兩個所述上料元件921處的該卷料92在鍍膜開始時和兩個所述收料元件922處的該卷料92在鍍膜完成時發生相互干涉。
值得一提的是，在本發明的另一示例中，如圖21所示，所述鍍膜支架901可以包括三個所述捲動裝置920，其中三個所述捲動裝置920在所述支架主體910上呈三角分佈，並且一個所述捲動裝置920中的所述上料元件921靠近相鄰的所述捲動裝置920的所述收料元件922，而遠離相鄰的所述捲動裝置920的所述上料元件921，從而能夠有效地避免三個所述上料元件921處的該卷料92在鍍膜開始時和三個所述收料元件922處的該卷料92在鍍膜完成時發生相互干涉。
當然，在本發明的又一示例中，如圖22所示，所述鍍膜支架901也可以包括四個所述捲動裝置920，其中四個所述捲動裝置920在所述支架主體910上呈周向分佈，並且一個所述捲動裝置920中的所述上料元件921靠近相鄰的所述捲動裝置920的所述收料元件922，而遠離相鄰的所述捲動裝置920的所述上料元件921，以便有效地避免四個所述上料元件921處的該卷料92在鍍膜開始時和四個所述收料元件922處的該卷料92在鍍膜完成時發生相互干涉。可以理解的是，在本發明的其他示例中，所述鍍膜支架901也可以包括一個或多於四個的所述捲動裝置920，只要合理排布所述捲動裝置920的位置，以避免不同的所述捲動裝置920之間發生相互干涉即可。
值得注意的是，當所述鍍膜支架901包括兩個或兩個以上的所述捲動裝置920時，不同的所述捲動裝置920可能會捲動不同長度的卷料，這就容
易出現當其中一個所述捲動裝置920所捲動的該卷料92被鍍完膜時，其他的所述捲動裝置920所捲動的該卷料92仍然在繼續鍍膜，也就是說，不同的所述捲動裝置920所捲動的卷料即使同時開始鍍膜，也會因卷料的長度不同或捲動裝置的捲動速度不同而無法同時完成鍍膜。而由於所述鍍膜艙93在鍍膜過程中通常處於抽真空狀態，因此不得不等所有的所述捲動裝置920所捲動的卷料均完成鍍膜後，所述鍍膜艙93才可以釋放壓力、排氣、開艙門，以便人工或機器取料。
這樣，當其中一個所述捲動裝置920所捲動的該卷料92先被鍍完膜時，如果所述捲動裝置920的所述收料轉軸9221仍被驅動以旋轉的話，不僅會浪費能源、提高能耗，而且還會幹擾其他的所述捲動裝置920所捲動的卷料的鍍膜過程。因此，如圖12所示，本發明的所述鍍膜支架901可以進一步包括一識別控制裝置930，其中所述識別控制裝置930被設置，用於識別通過所述捲動裝置920捲動的該卷料92是否被鍍完膜，並且在該卷料被鍍完膜後控制所述捲動裝置920的所述驅動裝置923停止驅動所述收料元件922，以等待其他的所述捲動裝置920所捲動的卷料完成鍍膜。
示例性地，所述捲動裝置920的所述上料轉軸9211適於與該卷料92的末端固定地連接，這樣當該卷料92鍍完膜時，該卷料92的末端因與所述上料轉軸9211固定地連接而無法脫離所述上料轉軸9211，使得被鍍完膜的該卷料92將拉扯所述收料轉軸9221，以組織所述收料轉軸9221繼續旋轉收料。此時，所述識別控制裝置930通過檢測到所述收料轉軸9221無法繼續旋轉，來識別出
該卷料92被鍍完膜；並且回應於識別出該卷料92被鍍完膜，所述識別控制裝置930控制以關停所述捲動裝置920的所述驅動裝置923的所述電機9231，使得所述捲動裝置920停止捲動，以等待其他所述捲動裝置920所捲動的卷料均鍍完膜。
值得一提的是，本發明的所述鍍膜支架901可以被靜置地容納於所述鍍膜艙93內，以進行靜置鍍膜；也可以被可旋轉地容納於所述鍍膜艙93內，以進行旋轉鍍膜；還可以被平移地容納於所述鍍膜艙93，以進行平移鍍膜。
示例性地，在本發明的上述第二實施例中，如圖12和圖13所示，所述鍍膜支架901的所述支架主體910可以包括適於被可旋轉地安裝於所述鍍膜艙93的一轉架911，並且所述捲動裝置920被安裝於所述轉架911，其中所述轉架911具有一旋轉軸9110，並且所述轉架911能夠被驅動以繞著所述旋轉軸9110轉動，進而帶動所述捲動裝置920繞著所述旋轉軸9110轉動，使得所述捲動裝置920在捲動該卷料92的同時，也繞著所述旋轉軸9110轉動，從而在所述鍍膜艙93內實現旋轉鍍膜。可以理解的是，所述轉架911可以但不限於通過電機驅動以繞著所述旋轉軸9110轉動，只要能夠使所述轉架911在所述鍍膜艙93內旋轉即可，本發明對此不再贅述。
優選地，如圖13所示，所述捲動裝置920的所述收料轉軸9221和所述上料轉軸9211均平行於所述轉架911的所述旋轉軸9110，使得所述收料轉軸9221和所述上料轉軸9211在繞各自的軸線旋轉(即自轉)的同時，還同時繞著所述旋轉軸9110旋轉(即公轉)，以對該卷料92進行旋轉鍍膜。
更優選地，所述轉架911的所述旋轉軸9110貫穿於所述轉架911的中心線，以作為所述轉架911的中心軸，使得所述轉架911在旋轉時保持穩定。
例如，如圖13和圖14所示，所述轉架911包括一基座9111和一頂蓋9112，其中所述旋轉軸9110自所述基座9111延伸至所述頂蓋9112，並在所述基座9111和所述頂蓋9112之間形成一捲動空間9100，其中所述捲動裝置920被可拆卸地設置於所述轉架911的所述捲動空間9100內，以便在所述捲動裝置920所捲動的該卷料92被鍍完膜後，將所述捲動裝置920從所述轉架911的所述捲動空間9100拆卸下來並取出，進而將鍍完膜的該卷料92取出，以更換新的未鍍膜的卷料。更具體地，所述基座9111和所述頂蓋9112優選地被實施為圓形基座和圓形頂蓋，以降低所述轉架911的慣性動量，有助於保證所述轉架911能夠穩定地繞著所述旋轉軸9110轉動。
優選地，所述轉架911的所述頂蓋9112被可拆卸地安裝於所述旋轉軸9110的端部，以便在拆卸下所述頂蓋9112的情況下，便於取放所述捲動裝置920和該卷料92，並在安裝上所述頂蓋9112的情況下，所述捲動裝置920和該卷料92被穩定地保持於所述頂蓋9112和所述基座9111之間的所述捲動空間9100內。
值得注意的是，在本發明的上述示例中，如圖14和圖15所示，所述轉架911的所述旋轉軸9110可以被實施為一實軸，以通過所述旋轉軸9110連接所述基座9111和所述頂蓋9112，進而在所述基座9111和所述頂蓋9112之間形成穩定的所述捲動空間9100。當然，在本發明的其他示例中，所述轉架911
的所述旋轉軸9110也可以被實施為一虛軸，以通過所述捲動裝置920的所述收料轉軸9221和/或所述上料轉軸9211來連接所述基座9111和所述頂蓋9112，進而在所述基座9111和所述頂蓋9112之間形成穩定的所述捲動空間9100。再或者，所述轉架911的所述基座9111和所述頂蓋9112還可以通過杆件進行連接，進而在所述旋轉軸9110被實施為虛軸的同時，仍能夠在所述基座9111和所述頂蓋9112之間形成穩定的所述捲動空間9100。
優選地，如圖13和圖14所示，所述轉架911進一步包括至少一對承托件9113，其中所述至少一對承托件9113分別被對應地設置於所述捲動裝置920的所述收料轉軸9221的兩端部，以承托被纏繞在所述收料轉軸9221的該卷料92的兩側邊，防止該卷料92在被捲動過程中因傾斜而導致該卷料92的側邊無法對齊。
更優選地，所述承托件9113隨著所述收料轉軸9221同步地旋轉，以防所述承托件9113與被纏繞在所述收料轉軸9221上的該卷料92產生摩擦而磨損該卷料92的側邊。當然，所述承托件9113還可以分別被對應地設置於所述捲動裝置920的所述上料轉軸9211的兩端，並且所述承托件9113隨著所述上料轉軸9211同步地旋轉，以避免被纏繞在所述上料轉軸9211上的該卷料92在所述上料轉軸9211旋轉時與所述轉架911的所述基座9111和所述頂蓋9112產生摩擦而磨損該卷料92的側邊。
示例性地，所述承托件9113可以但不限於被實施為一承託盤或一承托架，以通過所述承託盤或所述承托架來承托該卷料92的兩側邊，防止該卷料92的兩側邊因接觸所述基座9111和所述頂蓋9112而被磨損。
附圖18示出了根據本發明的上述第二實施例的所述鍍膜支架901的一個變形實施方式：其中所述捲動裝置920的所述上料元件921可以包括具有開口92121的上料艙9212，其中所述上料艙9212適於可散開地容納該卷料92，並且所述上料艙9212的所述開口92121用於該卷料92的端部穿過以分段地散開該卷料92。這樣，當所述捲動裝置920的所述收料元件922被驅動以纏繞該卷料92中鍍完膜的部分時，所述收料元件922將拖拽該卷料92中未鍍膜的部分，以使位元元元元於所述上料艙9212內的該卷料92被散開以從所述上料艙9212的所述開口92121分段地伸出而被鍍上膜。
優選地，在這個變形實施方式中，所述捲動裝置920的所述上料元件921進一步包括一旋轉台(圖中未示出)，其中所述旋轉台被可旋轉地設置於所述上料艙9212內，用於放置被容納於所述上料艙9212內的該卷料92，以便當所述收料元件922捲動該卷料92時，所述旋轉台隨著位於所述上料艙9212內的該卷料92的旋轉而旋轉，以在確保該卷料92被容易地旋轉以散開的同時，避免該卷料92因旋轉而發生側邊磨損，有助於保護該卷料92的側邊完好無損。
更優選地，在本發明的這個變形實施方式中，所述上料艙9212在所述開口92121能夠對穿過的該卷料92施加擠壓力，以確保該卷料92在所述上料元件921和所述收料元件922之間始終保持拉伸狀態。可以理解的是，本發
明的所述上料艙9212的所述開口92121的寬度可以稍小於該卷料92的厚度，並且所述上料艙9212在所述開口92121處採用彈性材料製成，以在所述開口92121處對該卷料92施加擠壓力。當然，本發明也可以在所述上料艙9212的所述開口92121處設置偏壓輪，以通過所述偏壓輪在所述開口92121處對該卷料92施加擠壓力。
值得注意的是，在本發明的上述第二實施例中，如果所述捲動裝置920中的所述驅動裝置923被實施為所述電機9231時，則所述鍍膜支架901中設置幾個所述捲動裝置920，就需要配置對應數量的所述電機9231，這不僅會造成所述鍍膜支架901的成本大幅地提升，而且也會增加所述鍍膜支架901的重量和結構的複雜程度，不利於通過所述鍍膜支架901對卷料進行鍍膜。
因此，為瞭解決上述問題，本發明的一第三實施例進一步提供一種鍍膜支架901，其能夠僅利用一台電機就能夠對兩個或兩個以上的所述捲動裝置920進行驅動。具體地，如圖19所示，相比於根據本發明的上述第二實施例，根據本發明的所述第三實施例的所述鍍膜支架901的不同之處在於：所述鍍膜支架901進一步包括一聯動機構940，其中所述聯動機構940用於將不同的所述捲動裝置920的所述收料元件922可傳動地聯結在一起，使得當其中一個所述收料元件922被驅動以捲動對應的卷料時，所述聯動機構940能夠帶動其他的所述收料元件922來捲動對應的其他卷料，從而實現僅通過一台電機就能夠同時驅動所有的所述捲動裝置920的所述收料元件922，以分別捲動對應的卷料。
示例性地，如圖19所示，所述聯動機構940可以被實施為聯動皮帶941，其中所述聯動皮帶941用於可傳動地聯結兩個或兩個以上的所述收料轉軸9221，以在其中一個所述收料轉軸9221被驅動以自轉時，所述聯動皮帶941將被帶動其他的所述收料轉軸9221進行自轉，從而實現一台電機同時為兩個或兩個以上的所述收料轉軸9221提供旋轉動力的效果。當然，在本發明的其他示例中，所述聯動機構940也可以被實施為聯動齒輪組或聯動鏈條等等其他的聯動裝置。
值得注意的時，當利用所述鍍膜支架901對卷料進行旋轉鍍膜時，就需要額外再設置一台電機來驅動所述轉架911旋轉，仍會造成所述鍍膜支架901的成本提升和結構複雜。因此，為瞭解決這一問題，如圖20所示，根據本發明的上述第三實施例的所述鍍膜支架901的一個變形實施方式被闡明，其中所述鍍膜支架901可以進一步包括一公自互轉機構950，其中所述公自互轉機構950被設置於所述捲動裝置920的所述收料轉軸9221，用於將所述收料轉軸9221的自轉(即所述收料轉軸221繞自身軸線的轉動)與所述收料轉軸9221的公轉(即所述收料轉軸9221繞所述轉架911的所述旋轉軸9110的轉動)進行互相轉換。換言之，當所述捲動裝置920的所述收料轉軸9221被驅動以旋轉(即所述收料轉軸9221作為主動元件)時，所述公自互轉機構950能夠將所述收料轉軸9221的自轉動力傳遞至所述轉架911，以使所述轉架911繞著所述旋轉軸9110轉動，進而通過所述轉架911帶動所述收料轉軸9221進行公轉；或者，當所述轉架911被驅動以旋轉(即所述轉架911作為主動元件)時，所述公自互轉
機構950也可以將所述轉架911的轉動動力(即所述收料轉軸9221的公轉動力)傳遞至所述收料轉軸9221，以使所述收料轉軸9221進行自轉。這樣，本發明的所述鍍膜支架901就能夠只利用一台電機就能夠驅動所述收料轉軸9221在自轉(或公轉)的同時也能夠公轉(或自轉)，也就是說，所述鍍膜支架901僅利用一台電機就能夠實現該卷料92的旋轉鍍膜。
示例性地，如圖20所示，本發明的所述鍍膜支架901的所述公自互轉機構950優選地被實施為相互嚙合的一母輪951和二子輪952，其中所述母輪951與所述轉架911的所述旋轉軸9110同軸地設置，並且所述轉架911與所述母輪951非同步地轉動(即所述轉架911相對於所述母輪951處於轉動狀態)，其中所述子輪952被同軸地設置於所述卷料裝置920的所述收料轉軸9221，並且所述收料轉軸9221與所述子輪952同步地轉動(即所述收料轉軸9221相對於所述子輪952處於靜止狀態)。
值得注意的時，由於所述轉架911與所述母輪951非同步地轉動(即非同步地轉動)，而所述收料轉軸9221與所述子輪952同步地轉動，並且所述母輪951與所述子輪952相互嚙合，使得所述子輪952能夠沿著所述母輪951的外周緣進行嚙合地滾動；因此，當所述收料轉軸9221被驅動以進行自轉時，所述子輪952將隨著所述收料轉軸9221進行同步地轉動，此時所述子輪952將沿著所述母輪951的外周緣進行嚙合地滾動，以帶動所述轉架911相對於所述母輪951進行轉動，使得所述收料轉軸9221繞著所述轉架911的所述中心軸9110旋轉(即公轉)；同理地，當所述轉架911被驅動以帶動所述收料轉軸9221進行公轉
時，所述子輪952將沿著所述母輪951的外周緣進行嚙合地滾動，以帶動所述收料轉軸9211進行同步地轉動，使得所述收料轉軸9211進行自轉，從而通過所述鍍膜支架901實現該卷料92旋轉鍍膜。
優選地，所述母輪951相對靜止於所述轉架911的旋轉軸線，使得當所述轉架911繞著所述旋轉軸線轉動時，所述母輪951不僅不隨著所述轉架911轉動，而且相對於所述轉架911的所述旋轉軸線保持不動。可以理解的是，本發明的所述轉架911的所述旋轉軸9110可能會隨著所述轉架911的轉動而轉動，但所述轉架911的所述旋轉軸線並不隨著所述轉架911的轉動而轉動。
示例性地，所述母輪951適於被固定地設置於該鍍膜艙93，以使所述母輪951相對於靜止於該鍍膜艙93，進而保證所述母輪951相對靜止於所述轉架911的所述旋轉軸線。此外，所述子輪952被固定地設置於所述收料轉軸9221，以確保所述子輪52相對靜止於所述收料轉軸9221。
更優選地，所述母輪951的直徑大於所述子輪952的直徑，以使所述收料轉軸9221的自轉角速度大於所述收料轉軸9221的公轉角速度，有助於加快所述捲動裝置920對該卷料92的捲動速度，提高鍍膜效率。當然，在本發明的其他示例中，所述母輪951的直徑也可以小於所述子輪952的直徑，以使所述收料轉軸221的自轉角速度小於所述收料轉軸9221的公轉角速度，以在增強所述鍍膜倉93內鍍膜劑的擾動的同時，所述捲動裝置920對該卷料92的捲動速度得以減緩，以確保該卷料92的每一分段部分均有足夠的鍍膜時間，進而獲得較好的鍍膜品質。
值得注意的是，在本發明的其他示例中，所述母輪951和所述子輪952之間也可以不直接嚙合地連接，而是通過諸如傳動皮帶、傳動鏈條或傳動齒輪組等等傳動機構進行間接地連接，只要能夠確保所述子輪952在自轉的同時，也能夠繞著所述母輪951的中心軸進行公轉(或者所述子輪952在繞著所述母輪951的中心軸進行公轉的同時，也能夠進行自轉)即可，本發明對此不再贅述。
此外，在本發明的這個變形實施方式中，所述鍍膜支架901可以不額外設置所述聯動機構940，而只需使所述鍍膜支架901的所述公自互轉機構950中的所述子輪952的數量與鍍膜支架901中所述捲動裝置20的數量保持一致即可，此時每個所述捲動裝置920的所述收料轉軸9221上均固定地設置一個所述子輪952，以使所述公自互轉機構950在實現同一個所述收料轉軸9221的公轉和自轉的互相轉換的同時，還能夠實現不同的所述收料轉軸9221之間的傳動(即所述公自互轉機構950也能夠作為不同的所述捲動裝置920之間的聯動機構)，本發明對此不再贅述。
如圖23至25所示，相比於根據本申請的上述第二實施例，根據本申請的所述第四實施例的所述鍍膜支架901的不同之處在於：所述捲動裝置920中的所述上料元件921和所述收料元件922均被橫向地佈置，使得所述卷料92在被捲動鍍膜的過程中始終保持橫放，以克服豎放所述卷料92因自身重量而帶來的偏位。換言之，在所述捲動裝置920捲動所述卷料92以鍍膜的過程中，橫放的所述卷料92不會像豎放的所述卷料92那樣因重力全部下墜到卷軸的下
端，而造成所述卷料92的堆積和褶皺，即橫放的所述卷料92沒有重力偏位的問題，使得鍍完膜後的所述卷料92依然能保持平整。
更具體地，所述捲動裝置920中的所述收料轉軸9221和所述上料轉軸9211均被水準地佈置，使得所述卷料92在被捲動過程中不會因自身重量而帶來偏位。
優選地，如圖23至圖25所示，所述捲動裝置920的所述收料轉軸9221和所述上料轉軸9211均垂直於所述轉架911的所述旋轉軸9110，使得所述收料轉軸9221和所述上料轉軸9211在繞水準軸旋轉的同時，還同時繞著豎直軸旋轉，以便對該卷料92進行均勻鍍膜。
更優選地，如圖23至圖25所示，如圖所述轉架911進一步包括至少一對支撐架9114，其中所述至少一對支撐架9114被間隔地設置於所述基座9111和所述頂蓋9112之間，以在所述基座9111和所述頂蓋9112之間形成穩定的所述捲動空間9100的同時，使得所述轉架911的所述旋轉軸9110被實施為虛軸。此時，所述上料轉軸9211和所述收料轉軸9221被水準地設置於所述至少一對支撐架9114，以組裝成所述捲動裝置920。
可以理解的是，所述上料轉軸9211可以位於所述收料轉軸9221的下方，也可以位於所述收料轉軸9221的上方，具體可根據需要進行配置。此外，在本申請的其他示例中，所述捲動裝置920的所述上料元件921同樣也可以被實施為橫放的所述上料艙9212，本申請對此不再贅述。
本領域的技術人員應理解，上述描述及附圖中所示的本發明的實施例只作為舉例而並不限制本發明。本發明的目的已經完整並有效地實現。本發明的功能及結構原理已在實施例中展示和說明，在沒有背離所述原理下，本發明的實施方式可以有任何變形或修改。
600:鍍膜工件
610:第一待鍍膜工件
620:第二待鍍膜工件
601:上料柱
6011:第一上料柱
6012:第二上料柱
604:首端
101:鍍膜腔
102:鍍膜空間
111:第一鍍膜空間
112:第二鍍膜空間
10:鍍膜腔體
201:上料支架
20:上料轉軸
21:第一上料轉軸
22:第二上料轉軸
30:收料轉軸
31:第一收料轉軸
32:第二收料轉軸
80:旋轉支架
81:旋轉軸
82:底支撐件
84:工件支撐件
Claims (26)
- 一鍍膜設備，以供在待鍍膜工件表面製備膜層，其特徵在於，所述鍍膜設備包括：一鍍膜腔體，具有一鍍膜腔，以供容納該待鍍膜工件；至少一上料支架，其中所述上料支架被設置於所述鍍膜腔，以供支撐該待鍍膜工件；以及至少一收料轉軸，其中所述收料轉軸被可轉動地設置於所述鍍膜腔，其中所述收料轉軸與所述上料支架之間具有預設的一鍍膜空間，其中所述收料轉軸用於捲動被支撐於所述上料支架的該待鍍膜工件纏繞於所述收料轉軸，以供在捲動過程中，所述鍍膜設備在該待鍍膜工件被暴露於所述鍍膜空間的表面製備膜層；一旋轉支架，其中所述旋轉支架被可旋轉地設置於所述鍍膜腔，其中所述上料支架和所述收料轉軸被安裝於所述旋轉支架，其中所述旋轉支架用於同步地帶動所述上料支架和所述收料轉軸在所述鍍膜腔內旋轉。
- 根據申請專利範圍第1項所述的鍍膜設備，其中所述上料支架包括至少一上料轉軸，其中所述上料轉軸被可轉動地設置於所述鍍膜腔，以供該待鍍膜工件被卷置於所述上料轉軸，其中所述上料轉軸和所述收料轉軸沿水準或豎直方向地佈置於所述鍍膜腔體內。
- 根據申請專利範圍第2項所述的鍍膜設備，其中被收卷於所述收料轉軸的該待鍍膜工件形成一收料柱，在鍍膜過程中，所述收料柱的直徑逐漸增大，所述收料轉軸的轉速逐漸減慢。
- 根據申請專利範圍第2項所述的鍍膜設備，其中所述收料轉軸為二個，分別為第一收料轉軸和第二收料轉軸，所述上料轉軸用於重疊地卷置第一待鍍膜工件和第二待鍍膜工件，其中所述第一收料轉軸與所述上料轉軸之間具有預設的第一鍍膜空間，其中所述第二收料轉軸與所述上料轉軸之間具有預設的第二鍍膜空間，其中所述第一收料轉軸用於捲動該第一待鍍膜工件纏繞於所述第一收料轉軸，其中所述第二收料轉軸用於捲動該第二待鍍膜工件纏繞於所述第二收料轉軸。
- 根據申請專利範圍第2項所述的鍍膜設備，其中所述收料轉軸為二個，分別為第一收料轉軸和第二收料轉軸，所述上料轉軸為二個，分別為用於卷置第一待鍍膜工件的第一上料轉軸和用於卷置第二待鍍膜工件的第二上料轉軸，其中所述第一收料轉軸與所述第一上料轉軸之間具有預設的第一鍍膜空間，其中所述第二收料轉軸與所述第二上料轉軸之間具有預設的第二鍍膜空間，其中所述第一收料轉軸用於捲動該第一待鍍膜工件纏繞於所述第一收料轉軸，其中所述第二收料轉軸用於捲動該第二待鍍膜工件纏繞於所述第二收料轉軸。
- 根據申請專利範圍第5項所述的鍍膜設備，其中該第一待鍍膜工件的長度短於該第二待鍍膜工件的長度。
- 根據申請專利範圍第5項所述的鍍膜設備，其中所述第一收料轉軸與所述第二上料轉軸相鄰，且所述第一收料轉軸與所述第二上料轉軸之間具有第一預設間距，其中所述第二收料轉軸與所述第一上料轉軸相鄰，且所述第二收料轉軸與所述第一上料轉軸之間具有第二預設間距。
- 根據申請專利範圍第2至7項中任一所述的鍍膜設備，進一步包括至少一阻尼裝置，其中所述阻尼裝置被安裝於所述上料轉軸。
- 根據申請專利範圍第1至7項中任一所述的鍍膜設備，進一步包括至少一驅動電機，其中所述驅動電機被設置於驅動所述收料轉軸轉動的位置。
- 根據申請專利範圍第9項所述的鍍膜設備，進一步包括至少一檢測電路，其中所述檢測電路被電連接於所述驅動電機，當該待鍍膜工件被捲動地纏繞於所述收料轉軸至末端時，該待鍍膜工件的末端在所述上料支架和所述收料轉軸之間阻止所述收料轉軸繼續轉動，所述驅動電機受到阻力而產生過載，所述檢測電路用於檢測所述驅動電機產生過載時停止所述驅動電機。
- 根據申請專利範圍第9項所述的鍍膜設備，進一步包括至少一阻力傳感器，所述阻力傳感器被設置於檢測所述收料轉軸受到的阻力的位置，其中所述阻力傳感器被電連接於所述驅動電機，當該待鍍膜工件被捲動地纏繞於所述收料轉軸至末端時，該待鍍膜工件的末端在所述上料支架和所述收料轉軸之間阻止所述收料轉軸繼續轉動，所述阻力傳感器用於檢測所述收料轉軸受到的阻力大於預設閾值，停止所述驅動電機。
- 根據申請專利範圍第11項所述的鍍膜設備，其中所述旋轉支架包括一旋轉軸和至少一底支撐件，其中所述旋轉軸被可轉動地設置於所述鍍膜腔，其中所述底支撐件被設置於所述旋轉軸的底端並隨著所述旋 轉軸一起旋轉，其中所述上料支架和所述收料轉軸被安裝於所述底支撐件並隨著所述底支撐件在所述鍍膜腔內旋轉。
- 根據申請專利範圍第12項所述的鍍膜設備，其中所述旋轉支架進一步包括一頂支撐件，其中所述頂支撐件被設置於所述旋轉軸的頂端，在所述頂支撐件與所述底支撐件之間界定一容納空間，以供容納該待鍍膜工件。
- 根據申請專利範圍第12項所述的鍍膜設備，其中所述旋轉支架進一步包括至少二工件支撐件，其中各所述工件支撐件被分別設置於所述上料支架和所述收料轉軸，其中所述工件支撐件靠近所述底支撐件，以供支撐該待鍍膜工件。
- 根據申請專利範圍第1項所述的鍍膜設備，進一步包括一電極裝置，其中所述電極裝置被設置於在所述鍍膜腔內放電的位置。
- 根據申請專利範圍第15項所述的鍍膜設備，其中所述電極裝置具有至少一電極元件，其中所述電極元件被安裝於所述旋轉支架。
- 一鍍膜方法，其特徵在於，包括：A、在一鍍膜腔內捲動被支撐於一上料支架的待鍍膜工件於一收料轉軸，其中所述收料轉軸與所述上料支架之間具有預設的一鍍膜空間；和B、在捲動過程中，在該待鍍膜工件被暴露於所述鍍膜空間的表面製備膜層；其中所述鍍膜方法進一步包括，同步地帶動所述上料支架和所述收料轉軸在所述鍍膜腔內旋轉。
- 根據申請專利範圍第17項所述的鍍膜方法，其中所述上料支架包括至少一上料轉軸，其中所述上料轉軸被可轉動地設置於所述鍍膜腔，以供該待鍍膜工件被卷置於所述上料轉軸。
- 根據申請專利範圍第18項所述的鍍膜方法，其中所述步驟A中，所述收料轉軸作為主動輪，所述上料轉軸作為從動輪，通過轉動所述收料轉軸捲動該待鍍膜工件纏繞於所述收料轉軸，並帶動所述上料轉軸轉動。
- 根據申請專利範圍第19項所述的鍍膜方法，隨著被收卷於所述收料轉軸的該待鍍膜工件形成的一收料柱的直徑逐漸增大，所述收料轉軸的轉速逐漸減慢。
- 根據申請專利範圍第17至20項中任一所述的鍍膜方法，通過一阻尼裝置保持該待鍍膜工件處於拉伸狀態。
- 根據申請專利範圍第17至20項中任一所述的鍍膜方法，當該待鍍膜工件被捲動地纏繞於所述收料轉軸至末端時，停止轉動所述收料轉軸。
- 根據申請專利範圍第22項所述的鍍膜方法，檢測所述收料轉軸受到的阻力大於預設閾值，停止轉動所述收料轉軸。
- 根據申請專利範圍第22項所述的鍍膜方法，檢測驅動所述收料轉軸的驅動電機產生過載，停止轉動所述收料轉軸。
- 一鍍膜支架，用於使卷料在鍍膜艙內被鍍膜，其特徵在於，包括： 一支架主體，其中所述支架主體適於被容納在該鍍膜艙內；和至少一捲動裝置，其中每所述捲動裝置包括：一上料元件，其中所述上料元件被設置於所述支架主體，用於可散開地收納該卷料；和一收料元件，其中所述收料元件被設置於所述支架主體，並且所述收料元件和所述上料元件被間隔地佈置，用於通過所述收料元件捲動該卷料以將該卷料從所述上料元件移動至所述收料元件，使得該卷料在被捲動的過程中被分段地鍍膜；其中所述支架主體可旋轉地設置於所述鍍膜艙內，所述支架主體用於同步地帶動所述上料元件和所述收料元件在所述鍍膜艙內旋轉。
- 根據申請專利範圍第25項所述的鍍膜支架，其中每所述捲動裝置的所述收料元件為一收料轉軸，其中所述收料轉軸被可旋轉地安裝於所述支架主體，並且所述收料轉軸能被驅動以相對於所述支架主體旋轉，用於通過所述收料轉軸纏繞鍍完膜的該卷料來捲動地收納該卷料。
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