CN104674181B - 一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，属于镀膜设备领域。本发明包括真空室、开卷机构、冷却辊、收卷机构、阴极小室、纠偏装置和回转换靶装置，开卷机构和收卷机构处各设有一组纠偏装置；冷却辊、阴极小室和回转换靶装置处于同一轴线上；回转换靶装置包括机座、回转盘、回转机构、轴向伸缩机构、两个或两个以上的伸缩轴套、极靶座板和径向伸缩机构，当轴向伸缩机构收缩后，径向伸缩机构刚好位于一个伸缩轴套的下方；开卷机构和收卷机构带动基带实现往复运动。本发明在不打开真空室的情况下即可快速更换阴极靶，并利用基材往复运动实现多层膜层的连续镀制，每层膜均能单独镀制，便于膜层参数的控制；设备结构紧凑。

Description

一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机

技术领域

本发明涉及一种真空镀膜机，更具体地说，涉及一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机。

背景技术

真空卷绕镀膜技术就是在真空室内通过热蒸发或者磁控溅射等方法在卷料基材表面制备一层或者多层具有一定功能的薄膜的技术。真空卷绕镀膜设备主要有以下特点：其一、被镀基材为柔性基材，即具有可卷绕性；其二、镀膜过程具有连续性，即在一个工作周期内镀膜是连续进行的；其三、镀膜过程在高真空环境中进行。卷绕镀膜机在放卷和收卷过程中，基材表面被镀上薄膜，镀膜的结构就是真空卷绕镀膜设备的工作部，它位于基材的收放卷之间，工作部的工作原理可以是电阻蒸发、感应蒸发、电子束蒸发、磁控溅射或者是其它真空镀膜方法中的任意一种。磁控溅射的工作过程是电子在电场的作用下加速飞向基材薄膜的过程中与溅射气体氩气碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基材薄膜，在此过程中不断地与氩原子碰撞，产生更多的氩原子和电子；氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶材原子(或分子)沉积在基材薄膜表面成膜。

柔性基材广泛用于有机半导体工艺、透明电极以及触摸屏当中。近年来随着对柔性基底镀膜材料的广泛需求和柔性基材上磁控溅射技术本身的飞速发展，各种高性能光学膜在大面积柔性基底上镀制成功。由于柔性基材具有连续生产简单、容易运输、可方便裁切成任意形状、可弯曲包裹等优势一直是磁控溅射技术发展的一个重要方向。因此，在塑料薄膜上镀功能膜多采用卷绕镀膜方式，而要在塑料薄膜上镀功能较好的功能膜，如在聚酯膜上镀功能较好的低反射膜(low-E膜)，最少的双银结构膜也需要镀9层以上的膜层，若镀可见光透过率大于85％、电阻小于1Ω/m²的电磁屏蔽膜(EMI膜)，则要镀四银结构膜，即17层膜层。镀每一层都要配置一套阴极及靶芯，而传统的卷绕镀膜机采用单滚整体式镀膜，即在一个镀膜真空室内安放一个冷辊，2～3个阴极、靶芯及卷材放卷机构、收卷机构，由于结构限制原因，不能在圆周排布多至4组以上的阴极，不能适应一个镀层就可以镀4层以上不同功能的膜层，即使在一个镀膜室内安放两个冷辊，4～6个阴极及靶芯，也排布不下17个阴极及靶位。为达到镀完17层膜的目的，按传统方式设计，需要至少3个冷辊，通水、通电的管线多，产生的气体放气量大，不利于真空泵经济运行，因此传统的镀膜机不能适应一个镀层就可以镀4层以上的镀膜，生产不出膜层多、功能好的功能性塑料膜层。一般情况下多个极靶布置的状态下在加工状态各阴极小室之间还存在相互之间的工艺气体的渗漏(5％～20％)，使加工得到的镀膜达不到工艺的要求。

在对阴极溅射成膜装置中，卷绕式真空镀膜设备以其可以连续生产而明显的提高了成膜的效率，然而，现有的卷绕式真空镀膜设备中对于各个用来溅射成膜阴极小室的安装数量有限，各个阴极小室的溅射时间和溅射气氛难以准确控制，成膜的稳定性差，大都只能生产一层或两层介质膜，而无法连续溅射三层介质膜，因为三层介质膜中间的介质膜的溅射成膜时间较长，成膜气氛与上下两层介质膜的气氛均不同，现有的卷绕式真空镀膜设备同步转动，单一的阴极小室的溅射成膜时间明显不够，各个阴极小室的气氛也容易相互干涉；另外，现有的卷绕式真空镀膜设备往往需要和清洁装置、加热装置、放卷和收卷机构配套使用形成生产线，这样会造成设备多、占用产地大的问题。

此外，现有的镀膜机在一次镀膜完成后，需要重新更换阴极靶，而换靶都是将真空室打开进行的，这样在继续镀膜之前，又需要重新营造真空等工艺条件，不仅延长了加工周期，而且电力等资源使用较多，不利于实现镀膜的高效率低成本。有鉴于此，如何设计一种仅用单一的真空镀膜设备就能连续溅射多层功能膜成为有待解决的技术问题。

发明内容

1.发明要解决的技术问题

本发明的目的在于克服现有镀膜机的上述不足，提供一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，采用本发明的技术方案，在不打开镀膜真空室的情况下即可根据需要及时快速更换阴极靶，并利用基材往复运动实现多层膜层的连续镀制，简化了电气控制装置及程序，每层膜均能单独镀制，便于膜层参数的控制，提高了镀膜精度；换靶装置结构简单，控制方便，换靶动作灵活；同时，设备结构紧凑，占地空间小，尤其适合于高校实验室或小批量生产。

2.技术方案

为达到上述目的，本发明提供的技术方案为：

本发明的一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，包括真空室、依次设于真空室内的开卷机构、冷却辊和收卷机构，以及设于冷却辊下方的阴极小室，还包括纠偏装置和设于阴极小室下方的回转换靶装置，所述的开卷机构和收卷机构之间的基带经过换向辊换向后包覆在冷却辊上，所述的开卷机构和收卷机构处各设有一组纠偏装置；所述的阴极小室上下两面开口，所述的冷却辊、阴极小室和回转换靶装置处于同一轴线上；所述的回转换靶装置包括机座、回转盘、驱动回转盘转动的回转机构、驱动回转盘沿轴向伸缩的轴向伸缩机构、安装于回转盘上的两个或两个以上的伸缩轴套、安装于伸缩轴套上的用于安装靶芯的极靶座板和安装于机座上且位于阴极小室正下方的径向伸缩机构，所述的回转盘为设有内腔的桶状结构，所述的伸缩轴套安装于回转盘的侧壁上，当轴向伸缩机构收缩后，所述的径向伸缩机构刚好位于一个伸缩轴套的下方，用于将极靶座板向外顶出并嵌入阴极小室内；所述的开卷机构和收卷机构带动基带实现往复运动。

更进一步地，所述的伸缩轴套包括内轴、中间轴套和外轴套，所述的内轴设于中间轴套内，且内轴与中间轴套之间设有第一压缩弹簧，所述的中间轴套设于外轴套内，且中间轴套与外轴套之间设有第二压缩弹簧，所述的外轴套固定安装于回转盘上。

更进一步地，所述的轴向伸缩机构上还设置有三节筒式导轨。

更进一步地，所述的轴向伸缩机构和径向伸缩机构均为电动推杆，所述的回转机构为步进电机。

更进一步地，所述的纠偏装置为超声波纠偏系统或光电纠偏系统。

更进一步地，所述的开卷机构与冷却辊之间还设有前处理装置，所述的前处理装置包括离子源预处理机构，所述的离子源预处理机构设置于开卷机构和冷却辊之间，用于清洗基带表面的污物。

更进一步地，还包括冷井盘管深冷机构，所述的冷井盘管深冷机构设于前处理装置附近，用于冷凝对基带前处理过程中释放的大量水汽。

3.有益效果

采用本发明提供的技术方案，与已有的公知技术相比，具有如下显著效果：

(1)本发明的一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其开卷机构和收卷机构处各设有一组纠偏装置，可以实现基带的往复连续运动，使基带的收卷边缘整齐，达到镀多层膜的加工目的；同时在上下两面开口的阴极小室下方设置安装多个靶极的回转换靶装置，在不打开镀膜真空室的情况下即可根据需要及时快速更换阴极靶，实现多层功能膜的连续镀制，提高了镀膜效率，简化了电气控制装置及程序，且每层功能膜均能单独镀制，便于功能膜层的参数控制，提高了镀膜精度；其次，回转换靶装置结构简单，控制方便，换靶动作灵活；相对于多靶极的镀膜机而言，设备结构更加紧凑，真空室空间进一步缩小，不仅减少了空间占用，也节省了抽真空等工艺环境所需的时间和能源，提高了加工效率；

(2)本发明的一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其回转换靶装置具有轴向伸缩机构，用于将使用后的阴极靶移至真空室外部，在一次镀膜完成后即可在真空室外部进行换靶，操作简单方便；

(3)本发明的一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其伸缩轴套包括内轴、中间轴套和外轴套，内轴设于中间轴套内，且内轴与中间轴套之间设有第一压缩弹簧，中间轴套设于外轴套内，且中间轴套与外轴套之间设有第二压缩弹簧，外轴套固定安装于回转盘上，伸缩轴套结构简单、设计巧妙，仅需利用一组径向伸缩机构即可实现多个极靶的伸出，且径向伸缩机构收缩后，靶芯可自动退出阴极小室，方便转动换靶，同时采用两级伸出结构，保证了靶芯具有足够的运动行程；

(4)本发明的一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其轴向伸缩机构上还设置有三节筒式导轨，确保了轴向伸缩机构具有足够的刚性，确保可以伸出较远的距离；

(5)本发明的一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其轴向伸缩机构和径向伸缩机构均为电动推杆，回转机构为步进电机，控制方便，对真空室内的加工环境不会造成影响；

(6)本发明的一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其纠偏装置为超声波纠偏系统或光电纠偏系统，纠偏控制精准，误差小。

附图说明

图1为本发明的一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机的结构原理图；

图2为本发明中的回转换靶装置的结构示意图；

图3为图2的局部放大图；

图4为本发明中的回转换靶装置顶出极靶座板的原理示意图。

示意图中的标号说明：

1、真空室；2、开卷机构；3、纠偏装置；4、前处理装置；5、换向辊；6、冷却辊；7、收卷机构；8、回转换靶装置；9、阴极小室；10、靶芯；11、进气电磁阀；12、抽气电磁阀；13、粗抽泵机组；14、深冷泵；15、分子泵抽气阀；16、分子泵；17、前级泵抽气电磁阀；18、前级泵；19、张紧辊；801、机座；802、轴向伸缩机构；803、三节筒式导轨；804、回转盘；805、伸缩轴套；806、极靶座板；807、径向伸缩机构；808、内轴；809、中间轴套；810、外轴套；811、第一压缩弹簧；812、第二压缩弹簧。

具体实施方式

为进一步了解本发明的内容，结合附图对本发明作详细描述。

结合图1所示，本发明的一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，包括真空室1和设于真空室1内的工作部件，以及设于真空室1外部的用于提供镀膜工艺条件的外设泵组、检测和控制镀膜加工状态的检测控制系统；其中，真空室1内设置有开卷机构2、冷却辊6、收卷机构7、阴极小室9、回转换靶装置8和纠偏装置3，开卷机构2和收卷机构7之间的基带经过换向辊5换向后包覆在冷却辊6上，且基带上还设有张紧辊19，开卷机构2和收卷机构7处各设有一组纠偏装置3；阴极小室9上下两面开口，冷却辊6、阴极小室9和回转换靶装置8处于同一轴线上；开卷机构2与冷却辊6之间还设有前处理装置4。外设泵组包括粗抽泵机组13、深冷泵14和分子泵组，粗抽泵机组13上如图1所示连接有用于向工艺室供气的进气电磁阀11和用于控制将真空室1内的气体快速抽出的抽气电磁阀12；深冷泵14主要用于快速对真空室1内前处理过程中产生的水汽进行冷却，配合粗抽泵机组13和分子泵组使真空室1内达到极限真空状态；分子泵组包括分子泵抽气阀15、分子泵16、前级泵抽气电磁阀17和前级泵18，前级泵18、前级泵抽气电磁阀17、分子泵16和分子泵抽气阀15依次连接后与真空室1相连，主要用于实现快速达到极限真空状态。检测控制系统包括气体分析仪、真空计、气体流量计、光纤感应探头、张力控制系统及计算机，气体分析仪设于阴极小室9内，用于分析阴极小室9内的气体成分和含量；真空计设于真空室1内，用于测量真空室1内的气压；气体流量计设于阴极小室9的进气管道上，用于控制阴极小室9的进气量；光纤感应探头伸入阴极小室9中，用于对靶材溅射出来的金属氧化物气体进行在线收集分析；张力控制系统设于开卷机构2、冷却辊6、收卷机构7以及张紧辊19上，用于控制柔性基带的平稳运行；气体分析仪、真空计、气体流量计和光纤感应探头分别于计算机相连，用于对各个工艺参数进行计算和控制。

本发明的一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，通过对执行镀膜工作的真空室1内部结构进行改进，利用两组纠偏装置3和回转换靶装置8，在不打开镀膜真空室的情况下即可根据需要及时更换阴极靶，并利用收卷和放卷两组纠偏装置3实现基带往复运动，从而实现多层膜层的连续镀制，简化了电气控制装置及程序，每层功能膜均单独镀制，便于镀膜工艺参数的控制，提高了镀膜精度。

下面结合实施例对本发明作进一步的描述。

实施例

如图1所示，本实施例的一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，包括真空室1、依次设于真空室1内的开卷机构2、冷却辊6和收卷机构7，以及设于冷却辊6下方的阴极小室9，还包括纠偏装置3和设于阴极小室9下方的回转换靶装置8，开卷机构2和收卷机构7之间的基带经过换向辊5换向后包覆在冷却辊6上，且基带上还设有张紧辊19，该张紧辊19与力矩电机相连，用于实时调整基带的张力，开卷机构2、收卷机构7和冷却辊6三者同步联动，在镀膜加工时，冷却辊6中通入-15～-20℃的冷却液，用于降低镀膜所产生的高温，保证镀膜质量，在镀膜结束后，能够使冷却辊6快速回到室温状态；开卷机构2和收卷机构7处各设有一组纠偏装置3，开卷机构2和收卷机构7均具有收卷和放卷功能，开卷机构2和收卷机构7带动基带实现往复运动，在基带的往复收卷与放卷过程中，两组纠偏装置3和开卷机构2、收卷机构7组成闭链加工系统，可以确保基带收卷边缘整齐，从而确保了基带往复运动的稳定性；阴极小室9上下两面开口，且阴极小室9固定于与冷却辊6圆周表面相对应的圆柱形腔体的侧壁上，阴极小室9上还设有冷却板、补气机构和气氛隔离板，气氛隔离板设置于阴极小室9的两侧，冷却板设置于阴极小室9的外壁上，且冷却板上分布有冷却水管，补气机构设于阴极小室9内，且与外部的补气单元相连通，阴极小室9内还设有抽真空机构，且该抽真空机构与外部的分子泵相连通；冷却辊6、阴极小室9和回转换靶装置8处于同一轴线上，回转换靶装置8上设有多个靶芯10，通过回转的方式实现靶芯10的及时快速更换，无需打开真空室1即可实现靶芯的更换，实现了在基带上连续镀多层膜的功能，克服了现有镀膜机在真空室1外部换靶时需要再次抽真空，浪费大量时间和能源的不足。

如图2所示，本实施例中的回转换靶装置8包括安装于真空室1内的机座801、回转盘804、驱动回转盘804转动的回转机构、驱动回转盘804沿轴向伸缩的轴向伸缩机构802、安装于回转盘804上的两个或两个以上的伸缩轴套805、安装于伸缩轴套805上的用于安装靶芯10的极靶座板806和安装于机座801上且位于阴极小室9正下方的径向伸缩机构807，回转盘804为设有内腔的桶状结构，轴向伸缩机构802与回转盘804的底部相连，且保证轴向伸缩机构802与回转盘804同轴，伸缩轴套805安装于回转盘804的侧壁上，可在径向伸缩机构807的推顶作用下向外伸出；具体在本实施例中，回转盘804上均匀设置有4个靶芯10，一次换靶后可至少连续镀4层以上的功能膜，且极靶座板806上的靶芯10采用法兰连接方式，方便靶芯10的拆装更换；如图4所示，当轴向伸缩机构802收缩后，径向伸缩机构807位于回转盘804的内腔中，且径向伸缩机构807刚好位于一个伸缩轴套805的下方，用于将极靶座板806向外顶出并嵌入阴极小室9内。采用轴向伸缩机构802实现了将靶芯10推出真空室1，无需在真空室1内部进行靶芯10的更换，操作简单方便；另外，为了使轴向伸缩机构802具有足够的刚性，使回转盘804可以伸出较远的距离，本实施例中，轴向伸缩机构802上设置有三节筒式导轨803。在本实施例中，上述的轴向伸缩机构802和径向伸缩机构807均为电动推杆，回转机构为步进电机，电动推杆及步进电机的控制方便、定位准确，对真空室内的加工环境不会造成影响。如图3所示，本实施例中的伸缩轴套805包括内轴808、中间轴套809和外轴套810，内轴808设于中间轴套809内，且内轴808与中间轴套809之间设有第一压缩弹簧811，中间轴套809设于外轴套810内，且中间轴套809与外轴套810之间设有第二压缩弹簧812，外轴套810固定安装于回转盘804上，伸缩轴套805结构简单、设计巧妙，仅需利用一组径向伸缩机构807即可实现多个极靶的伸出，且径向伸缩机构807收缩后，靶芯10可自动退出阴极小室9，方便转动换靶，同时采用两级伸出结构，保证了靶芯10具有足够的运动行程。

本实施例的一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，纠偏装置3为超声波纠偏系统或光电纠偏系统，纠偏控制精准，误差小，具体地，对于透明的基带而言，如聚酯膜等，采用超声波纠偏系统，对于不透明的基带而言，如金属薄膜等，采用光电纠偏系统或超声波纠偏系统。上述的超声波纠偏系统或光电纠偏系统的纠偏原理为现有技术，在此就不再赘述。此外，本实施例的一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，在开卷机构2与冷却辊6之间还设置有前处理装置4，该前处理装置4包括离子源预处理机构，离子源预处理机构设置于开卷机构2与冷却辊6之间，用于清洗基带表面的污物；前处理装置4附近还设有冷井盘管深冷机构，冷井盘管深冷机构设于靠近开卷机构2下侧的真空室1内壁上，利用液氮作为制冷剂，可以在3～5分钟内使周围温度降到零下120℃左右，用于冷凝对基带前处理过程中释放的大量水汽，并配合抽真空系统提高真空度。另外，为了便于观察真空室1内的工作状态，在真空室1上还开设有观察窗口。

本实施例的一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，加工时，将成卷的基带套装于开卷机构2上，引出基带的一端分别如图1所示绕过换向辊5、张紧辊19和冷却辊6，并固定于收卷机构7上；将镀制膜层所需的靶芯10安装于对应的极靶座板806上；封闭真空室1，利用外设泵组对真空室1进行抽真空，实现镀膜所需工艺条件；镀膜时，开卷机构2和收卷机构8同步放卷和收卷，同时冷却辊6同步联动，实现卷绕镀膜；当开卷机构2放卷完成后(即一层膜层已经镀完)，径向伸缩机构807收缩，极靶座板806从阴极小室9内退出，回转机构根据预先设好的程序控制回转盘804转动一定角度，更换另一个靶芯10，并利用径向伸缩机构807将固定该靶芯10的极靶座板806顶出嵌入阴极小室9内，完成一次换靶；换靶完成后，开卷机构2和收卷机构7开始反向转动，即开卷机构2和收卷机构7的功能互换，冷却辊6也同步联动，实现第二层膜的镀制；重复上述步骤，以具有四组靶芯10的回转换靶装置8为例，至少可以在基带的单面上连续镀制4层膜层；当回转换靶装置8上的靶材全部镀制完成后，停机，利用轴向伸缩机构802将回转盘804推出真空室1，在真空室1外部进行更换靶芯10。由于开卷机构2和收卷机构7处各设有一组纠偏装置3，因此可以实现基带的往复连续运动，达到镀多层膜的加工目的；利用回转换靶装置8实现在真空室1内快速换靶，节省了换靶时间和省去了反复换靶所需的重复抽真空操作，省时节能；由于本发明中的基带上的膜层每层均为单独镀制，因此针对每层镀膜的工艺参数均可单独控制，每层膜的厚度可以精确控制，且不会出现传统多个阴极靶同时镀膜所产生的工艺气体渗漏干涉，镀膜的精度高；此外，采用本发明的结构，磁控溅射卷绕镀膜机的结构得到明显简化，无需复杂的电气控制系统和程序，相对于多靶极的镀膜机而言，设备结构更加紧凑，真空室空间进一步缩小，不仅减少了空间占用，也节省了抽真空等工艺环境所需的时间和能源，提高了加工效率，尤其适合于高校实验室或小批量生产。

以上示意性地对本发明及其实施方式进行了描述，该描述没有限制性，附图中所示的也只是本发明的实施方式之一，实际的结构并不局限于此。所以，如果本领域的普通技术人员受其启示，在不脱离本发明创造宗旨的情况下，不经创造性地设计出与该技术方案相似的结构方式及实施例，均应属于本发明的保护范围。

Claims (7)

1.一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，包括真空室（1）、依次设于真空室（1）内的开卷机构（2）、冷却辊（6）和收卷机构（7），以及设于冷却辊（6）下方的阴极小室（9），其特征在于：还包括纠偏装置（3）和设于阴极小室（9）下方的回转换靶装置（8），所述的开卷机构（2）和收卷机构（7）之间的基带经过换向辊（5）换向后包覆在冷却辊（6）上，所述的开卷机构（2）和收卷机构（7）处各设有一组纠偏装置（3）；所述的阴极小室（9）上下两面开口，所述的冷却辊（6）、阴极小室（9）和回转换靶装置（8）处于同一轴线上；所述的回转换靶装置（8）包括机座（801）、回转盘（804）、驱动回转盘（804）转动的回转机构、驱动回转盘（804）沿轴向伸缩的轴向伸缩机构（802）、安装于回转盘（804）上的两个以上的伸缩轴套（805）、安装于伸缩轴套（805）上的用于安装靶芯（10）的极靶座板（806）和安装于机座（801）上且位于阴极小室（9）正下方的径向伸缩机构（807），所述的回转盘（804）为设有内腔的桶状结构，所述的伸缩轴套（805）安装于回转盘（804）的侧壁上，当轴向伸缩机构（802）收缩后，所述的径向伸缩机构（807）刚好位于一个伸缩轴套（805）的下方，用于将极靶座板（806）向外顶出并嵌入阴极小室（9）内；所述的开卷机构（2）和收卷机构（7）带动基带实现往复运动。

2.根据权利要求1所述的一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：所述的伸缩轴套（805）包括内轴（808）、中间轴套（809）和外轴套（810），所述的内轴（808）设于中间轴套（809）内，且内轴（808）与中间轴套（809）之间设有第一压缩弹簧（811），所述的中间轴套（809）设于外轴套（810）内，且中间轴套（809）与外轴套（810）之间设有第二压缩弹簧（812），所述的外轴套（810）固定安装于回转盘（804）上。

3.根据权利要求2所述的一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：所述的轴向伸缩机构（802）上还设置有三节筒式导轨（803）。

4.根据权利要求3所述的一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：所述的轴向伸缩机构（802）和径向伸缩机构（807）均为电动推杆，所述的回转机构为步进电机。

5.根据权利要求1至4任意一项所述的一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：所述的纠偏装置（3）为超声波纠偏系统或光电纠偏系统。

6.根据权利要求5所述的一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：所述的开卷机构（2）与冷却辊（6）之间还设有前处理装置（4），所述的前处理装置（4）包括离子源预处理机构，所述的离子源预处理机构设置于开卷机构（2）和冷却辊（6）之间，用于清洗基带表面的污物。

7.根据权利要求6所述的一种快速换靶单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于：还包括冷井盘管深冷机构，所述的冷井盘管深冷机构设于前处理装置（4）附近，用于冷凝对基带前处理过程中释放的大量水汽。