WO2021235116A1 - フィルタ - Google Patents

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WO2021235116A1
WO2021235116A1 PCT/JP2021/014325 JP2021014325W WO2021235116A1 WO 2021235116 A1 WO2021235116 A1 WO 2021235116A1 JP 2021014325 W JP2021014325 W JP 2021014325W WO 2021235116 A1 WO2021235116 A1 WO 2021235116A1
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WO
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filter
main surface
base portion
wall
opening
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PCT/JP2021/014325
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優 萬壽
秀輔 横田
孝志 近藤
Original Assignee
株式会社村田製作所
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Publication date
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Priority to EP21808633.8A priority patent/EP4122579A4/en
Priority to JP2022524316A priority patent/JP7400963B2/ja
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    • B01D2265/00—Casings, housings or mounting for filters specially adapted for separating dispersed particles from gases or vapours
    • B01D2265/06—Details of supporting structures for filtering material, e.g. cores

Definitions

  • the present invention relates to a filter.
  • Patent Document 1 discloses a mesh member including a mesh having a recess for capturing particles and a hole formed in the recess, and an outer frame for fixing the outer periphery of the mesh.
  • the mesh member of Patent Document 1 is provided with a band-shaped support frame embedded across a recess and a hole connected to the recess across the opposite frame sides of the outer frame.
  • An object of the present invention is to provide a filter capable of improving the strength.
  • the filter of one aspect of the present invention is A filter base portion having a first main surface and a second main surface opposite to the first main surface, and having a plurality of through holes communicating the first main surface and the second main surface.
  • a support portion having a plurality of protrusions located in the plurality of through holes and arranged on the second main surface of the filter base portion, and a support portion. Equipped with The filter substrate portion has an inner wall extending from the second main surface toward the first main surface and defining the plurality of through holes.
  • the plurality of protrusions have an outer wall in contact with the inner wall of the filter substrate portion.
  • the first opening on the first main surface side of the filter base portion is larger than the second opening on the second main surface side of the filter base portion.
  • a gap is formed between the filter base portion and the support portion.
  • FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of the filter portion of FIG. 3 cut in the Y direction. It is an enlarged sectional view of an example of a support part. It is an enlarged sectional view of the part where the support part is arranged in the filter part. It is an enlarged view which magnified Z1 part of the filter part of FIG.
  • the filter bends in the thickness direction to release the stress applied to the filter. That is, when an external force is applied to the filter, the filter is deformed to relieve the stress applied to the filter.
  • the portion of the filter provided with the support portion is unlikely to be deformed when an external force is applied. Therefore, it is difficult to relieve the stress applied to the filter in the portion where the support portion is provided.
  • the present inventors have found a filter having a gap between the filter base portion and the support portion in which a plurality of through holes are formed, and have reached the present invention. As a result, when a force is applied from the outside, the filter is deformed in the gap, and the stress applied to the filter can be relieved.
  • the filter of one aspect of the present invention is A filter base portion having a first main surface and a second main surface opposite to the first main surface, and having a plurality of through holes communicating the first main surface and the second main surface.
  • a support portion having a plurality of protrusions located in the plurality of through holes and arranged on the second main surface of the filter base portion, and a support portion. Equipped with The filter substrate portion has an inner wall extending from the second main surface toward the first main surface and defining the plurality of through holes.
  • the plurality of protrusions have an outer wall in contact with the inner wall of the filter substrate portion.
  • the first opening on the first main surface side of the filter base portion is larger than the second opening on the second main surface side of the filter base portion.
  • a gap is formed between the filter base portion and the support portion.
  • the strength of the filter can be improved.
  • the gap may be formed between the inner wall of the filter base portion and the outer wall of the plurality of protruding portions.
  • the strength of the filter can be further improved.
  • the gap may be located at least on the first main surface of the filter substrate portion.
  • the strength of the filter can be further improved.
  • the inner wall is formed of a flat surface extending inclined from the second main surface of the filter base portion toward the first main surface.
  • the outer wall may be formed of a flat surface extending inclined from the second main surface of the filter substrate portion toward the first main surface.
  • the strength of the filter can be further improved.
  • Each of the plurality of protrusions has a protrusion located on the first main surface.
  • the external dimensions of the protruding surface may be 0.5 times or more and less than 1.0 times the dimensions of the first opening.
  • the strength of the filter can be further improved.
  • the support portion may have a plurality of first support members extending in the first direction and a plurality of second support members extending in the second direction intersecting the first direction.
  • the strength of the filter can be further improved.
  • the coefficient of thermal expansion of the filter base portion and the coefficient of thermal expansion of the support portion may be substantially equal.
  • the filter base portion and the support portion may contain at least one of a metal and a metal oxide as a main component.
  • the strength of the filter can be further improved.
  • FIG. 1 is a schematic view of an example of the filter 1 of the first embodiment according to the present invention as viewed from the first main surface PS1 side.
  • FIG. 2 is a schematic view of an example of the filter 1 of the first embodiment according to the present invention as viewed from the second main surface PS2 side.
  • the X, Y, and Z directions indicate the vertical direction, the horizontal direction, and the thickness direction of the filter 1, respectively.
  • the filter 1 is a filter that filters a fluid containing an object to be filtered.
  • the "object to be filtered” means an object to be filtered among the objects contained in the fluid.
  • the object to be filtered may be a biological substance contained in the fluid.
  • the "biological substance” means a substance derived from an organism such as a cell (eukaryote), a bacterium (a eubacteria), or a virus.
  • cells eukaryotic organisms
  • examples of cells include artificial pluripotent stem cells (iPS cells), ES cells, stem cells, mesenchymal stem cells, mononuclear bulb cells, single cells, cell clusters, floating cells, adhesive cells, and nerves.
  • Bacteria include, for example, Escherichia coli and Mycobacterium tuberculosis.
  • Examples of the fluid include liquids and gases.
  • Examples of the liquid include cell suspensions.
  • Filter 1 is a metal filter.
  • the material constituting the filter 1 contains at least one of a metal and a metal oxide as a main component.
  • the material constituting the filter 1 may be, for example, gold, silver, copper, platinum, nickel, palladium, titanium, alloys thereof and oxides thereof. In particular, by using titanium or a nickel-palladium alloy, the elution of metal is small and the influence on the object to be filtered can be reduced.
  • the filter 1 has a filter unit 10 and a frame unit 20 provided on the outer periphery of the filter unit 10. Further, the filter 1 has a first main surface PS1 and a second main surface PS2 on the opposite side of the first main surface PS1. In the first embodiment, the filter portion 10 and the frame portion 20 are integrally formed.
  • the filter unit 10 is a portion that filters a fluid containing an object to be filtered.
  • the filter unit 10 is composed of a filter base unit 12 in which a plurality of through holes 11 that communicate the first main surface PS1 and the second main surface PS2 are formed. Further, in the filter unit 10, a plurality of support units 13 are arranged on the second main surface PS2 of the filter base unit 12.
  • the shape of the filter unit 10 is, for example, circular, polygonal, or elliptical when viewed from the thickness direction (Z direction) of the filter 1.
  • the shape of the filter portion 10 is substantially circular.
  • substantially circular means that the ratio of the length of a major axis to the length of a minor axis is 1.0 or more and 1.2 or less.
  • the frame portion 20 is provided on the outer periphery of the filter portion 10, and is a portion in which the number of through holes 11 per unit area is smaller than that of the filter portion 10.
  • the number of through holes 11 in the frame portion 20 is 1% or less of the number of through holes 11 in the filter portion 10.
  • the thickness of the frame portion 20 may be thicker than the thickness of the filter portion 10. With such a configuration, the mechanical strength of the filter 1 can be increased.
  • the frame portion 20 may function as a connection portion for connecting the filter 1 and the device. Further, information on the filter 1 (dimensions of the through hole 11 and the like) may be displayed on the frame portion 20.
  • the frame portion 20 is formed in a ring shape when viewed from the first main surface PS1 side of the filter portion 10.
  • the center of the frame portion 20 coincides with the center of the filter portion 10. That is, the frame portion 20 is formed on a concentric circle with the filter 1.
  • FIG. 3 is an enlarged perspective view of a part of the filter unit 10.
  • FIG. 3 shows an enlarged part of the filter base portion 12 in which the plurality of through holes 11 are formed.
  • FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of the filter portion 10 of FIG. 3 cut in the Y direction.
  • a plurality of through holes 11 are periodically arranged on the first main surface PS1 and the second main surface PS2 of the filter unit 10. Specifically, the plurality of through holes 11 are provided in the filter unit 10 in a matrix at equal intervals.
  • the plurality of through holes 11 are arranged in two arrangement directions parallel to each side of the square when viewed from the first main surface PS1 side (Z direction) of the filter unit 10, that is, the X direction in FIG. It is provided along the Y direction. It should be noted that a plurality of through holes 11 may be provided in the filter portion 10, and the arrangement direction is not limited.
  • the filter base portion 12 is formed in a grid pattern. Specifically, the filter base unit 12 is arranged in the filter unit 10 at equal intervals and is arranged at equal intervals with a plurality of first substrate members 12aa extending in the first direction, and intersects the first direction. It has a plurality of second substrate members 12ba extending in the direction.
  • the plurality of first substrate members 12aa and the plurality of second substrate members 12ba are formed of plate-shaped members.
  • a plurality of through holes 11 are defined by the intersection of the plurality of first substrate members 12aa and the plurality of second substrate members 12ba.
  • the first direction in which the plurality of first base members 12aa extend is the X direction
  • the second direction in which the plurality of second base members 12ba extend is the Y direction. That is, in the first embodiment, the first direction and the second direction are orthogonal to each other.
  • the plurality of first base members 12aa and the plurality of second base members 12ba are integrally formed.
  • the filter substrate portion 12 has an inner wall 12a extending from the second main surface PS2 toward the first main surface PS1 and defining a plurality of through holes 11.
  • the inner wall 12a is formed of a flat surface extending inclined from the second main surface PS2 of the filter substrate portion 12 toward the first main surface PS1.
  • the filter base portion 12 has a trapezoidal cross-sectional shape. That is, the filter substrate portion 12 has a tapered shape.
  • the through hole 11 has a trapezoidal shape in the cross section obtained by cutting the filter portion 10 in the Y direction.
  • the thickness T1 of the filter base portion 12 in the filter portion 10 is 0.5 ⁇ m or more and 20 ⁇ m or less. It has mechanical strength and can reduce the pressure loss of the fluid passing through the filter. Preferably, the thickness T1 of the filter base portion 12 in the filter portion 10 is 1.0 ⁇ m or more and 3 ⁇ m or less. The pressure loss of the fluid passing through the filter can be further reduced.
  • the first opening 11a of the through hole 11 is formed on the PS1 side of the first main surface of the filter portion 10. Further, a second opening 11b of the through hole 11 is formed on the PS2 side of the second main surface of the filter portion 10.
  • the first opening 11a and the second opening 11b have a square shape when viewed from the first main surface PS1 side.
  • the first opening 11a is larger than the second opening 11b.
  • the dimension C1 of the first opening 11a is larger than the dimension C2 of the second opening 11b.
  • the dimension C1 of the first opening 11a and the dimension C2 of the second opening 11b are dimensions that determine the shape of the opening.
  • the dimensions C1 and C2 may be one side of a square shape.
  • the dimensions C1 and C2 may be diameters.
  • the dimension C1 of the first opening 11a is 0.5 ⁇ m or more and 400 ⁇ m or less.
  • the dimension C1 of the first opening 11a is 1 ⁇ m or more and 30 ⁇ m or less.
  • the dimension C2 of the second opening 11b is 0.5 ⁇ m or more and 380 ⁇ m or less.
  • the dimension C2 of the second opening 11b is 0.8 ⁇ m or more and 29 ⁇ m or less.
  • the opening area of the first opening 11a is larger than the opening area of the second opening 11b.
  • the opening area of the first opening 11a is an area defined by the first opening 11a when viewed from the first main surface PS1 side of the filter unit 10.
  • the opening area of the second opening 11b is an area defined by the second opening 11b when viewed from the second main surface PS2 side of the filter unit 10.
  • the shapes of the first opening 11a and the second opening 11b are not limited to the square shape.
  • the shapes of the first opening 11a and the second opening 11b may be a circular shape, an elliptical shape, a rectangular shape, a polygonal shape, or the like.
  • the surface roughness of the first main surface PS1 and the second main surface PS2 is preferably small.
  • the surface roughness means the average value of the difference between the maximum value and the minimum value measured by the stylus type step meter at any five points.
  • the surface roughness is preferably smaller than the size of the object to be filtered, and more preferably smaller than half the size of the object to be filtered. This is because the adhesion of the filter target is reduced and the filter target can be recovered with high efficiency after being captured by the filter.
  • the support portion 13 is arranged on the second main surface PS2 of the filter portion 10. In other words, the support portion 13 is arranged on the second main surface PS2 of the filter base portion 12.
  • the support portion 13 is formed in a grid pattern. Specifically, the support portion 13 has a plurality of first support members 13a extending in the first direction and a plurality of second support members 13b extending in the second direction intersecting the first direction.
  • the first direction is the X direction and the second direction is the Y direction. That is, the plurality of first support members 13a and the plurality of second support members 13b are orthogonal to each other.
  • the plurality of first support members 13a and the plurality of second support members 13b are formed of plate-shaped members.
  • the plurality of first support members 13a and the plurality of second support members 13b are integrally formed.
  • the plurality of first support members 13a and the plurality of second support members 13b are arranged at equal intervals.
  • the distance A1 between the plurality of first support members 13a and the plurality of second support members 13b is 200 ⁇ m or more and 500 ⁇ m or less.
  • the interval A1 is 250 ⁇ m or more and 350 ⁇ m or less.
  • the number of through holes 11 blocked by the support portion 13 can be reduced, and mechanical strength can be obtained.
  • the widths B1 of the plurality of first support members 13a and the plurality of second support members 13b are the plurality of first plate-shaped members and the plurality of first plates of the filter base portion 12. 2 Larger than the width of the plate-shaped member.
  • the width B1 of the plurality of first support members 13a and the plurality of second support members 13b is 5 ⁇ m or more and 40 ⁇ m.
  • the width B1 is 10 ⁇ m or more and 25 ⁇ m. The number of through holes 11 blocked by the support portion 13 can be reduced, and mechanical strength can be obtained.
  • FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of an example of the support portion 13. As shown in FIG. 5, the support portion 13 has a plurality of protrusions 14.
  • the support portion 13 is a plate-shaped member having a third main surface and PS3, and a fourth main surface PS4 on the opposite side of the third main surface PS3.
  • the third main surface PS3 of the support portion 13 comes into contact with the second main surface PS2 of the filter base portion 12.
  • the plurality of projecting portions 14 project from the fourth main surface PS4 toward the third main surface PS3 in the third main surface PS3 of the support portion 13.
  • Each of the plurality of projecting portions 14 is formed in a convex shape having a projecting surface 14aa and an outer wall 14a connecting the projecting surface 14aa and the third main surface PS3 of the support portion 13.
  • each of the plurality of protrusions 14 has a quadrangular pyramid shape.
  • the protruding surface 14aa is a surface protruding from the third main surface PS3 of the support portion 13, and is formed flat.
  • the height T2 of the protrusion 14 is equal to the depth of the through hole 11.
  • the height T2 of the protruding portion 14 is the distance from the third main surface PS3 of the supporting portion 13 to the protruding surface 14aa.
  • the height T2 of the protruding portion 14 is 0.5 ⁇ m or more and 20 ⁇ m or less.
  • the height T2 of the protrusion 14 is 1.0 ⁇ m or more and 3 ⁇ m or less.
  • the thickness T3 of the support portion 13 is, for example, 5 ⁇ m or more and 40 ⁇ m or less. Preferably, the thickness T3 of the support portion 13 is 10 ⁇ m or more and 25 ⁇ m or less.
  • the outer wall 14a comes into contact with the inner wall 12a of the filter base portion 12.
  • the outer wall 14a is inclined and extends toward the protrusion direction of the protrusion 14.
  • the protruding direction of the protruding portion 14 is a direction from the fourth main surface PS4 of the support portion 13 toward the third main surface PS3.
  • the outer wall 14a is inclined so that the outer shape of the protruding portion 14 becomes larger toward the protruding direction.
  • the outer wall 14a is formed of a flat surface. That is, the protruding portion 14 has a reverse taper shape.
  • the outer shape of the protruding portion 14 becomes larger toward the protruding direction of the protruding portion 14.
  • the external dimension D1 of the protruding surface 14aa of the protruding portion 14 is larger than the external dimension D2 of the protruding portion 14 located on the third main surface PS3.
  • the external dimensions D1 and D2 are dimensions that determine the shape of the protruding portion 14.
  • the external dimensions D1 and D2 may be one side of a square shape.
  • the external dimensions D1 and D2 may be diameters.
  • the external dimension D1 of the protruding surface 14aa of the protruding portion 14 is smaller than the dimension C1 of the first opening 11a.
  • the external dimension D1 is 0.5 times or more and less than 1.0 times the dimension C1 of the first opening 11a.
  • the area of the protruding surface 14aa of the protruding portion 14 is smaller than the opening area of the first opening 11a.
  • the external dimension D2 of the protruding portion 14 located on the third main surface PS3 of the support portion 13 is substantially equal to the dimension C2 of the second opening 11b.
  • the fact that the external dimension D2 is substantially equal to the dimension C2 of the second opening 11b means that the external dimension D2 is 0.9 times or more and 1.0 times or less the dimension C2.
  • the cross-sectional area of the protruding portion 14 located on the third main surface PS3 of the support portion 13 cut in the Y direction is substantially equal to the opening area of the second opening 11b. ..
  • the plurality of protrusions 14 are provided corresponding to the positions of the plurality of through holes 11. Specifically, the plurality of protrusions 14 are periodically arranged on the third main surface PS3 of the support portion 13. For example, the plurality of protrusions 14 are provided at equal intervals in a matrix on the third main surface PS3 of the support portion 13. That is, the plurality of projecting portions 14 are provided along the X direction and the Y direction.
  • FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view of a portion of the filter portion 10 in which the support portion 13 is arranged.
  • FIG. 7 is an enlarged view of the Z1 portion of the filter portion 10 of FIG.
  • the support portion 13 is arranged on the second main surface PS2 of the filter base portion 12.
  • the plurality of protrusions 14 of the support portion 13 are located in the plurality of through holes 11.
  • the protruding surface 14aa of the protruding portion 14 is located at the same height as the first main surface PS1 of the filter base portion 12.
  • the inner wall 12a of the filter substrate portion 12 and the outer wall 14a of the plurality of protruding portions 14 are in contact with each other. That is, the plurality of projecting portions 14 are in contact with the inner wall 12a of the filter substrate portion 12 in the through hole 11. Further, the third main surface P3 of the support portion 13 and the second main surface PS2 of the filter base portion 12 are in contact with each other. As a result, it is possible to prevent the protruding portion 14 from coming off from the filter base portion 12. As a result, the support portion 13 is held on the second main surface PS2 side of the filter base portion 12.
  • a gap 21 is formed between the filter base portion 12 and the support portion 13.
  • a gap 21 is formed between the inner wall 12a of the filter substrate portion 12 and the outer wall 14a of the plurality of protruding portions 14.
  • the gap 21 is located at least on the first main surface PS1 of the filter base portion 12.
  • the gap 21 is open to the PS1 side of the first main surface of the filter base portion 12.
  • the gap 21 communicates with the space outside the first main surface PS1 of the filter base portion 12.
  • the size (length in the Y direction) of the gap 21 seen from the first main surface PS1 side is 0.05 ⁇ m or more and 3.0 ⁇ m or less.
  • the external dimension D1 of the protruding surface 14aa is formed smaller than the dimension C1 of the first opening 11a of the through hole 11.
  • a gap 21 is formed between the outer wall 14a of the protruding portion 14 and the inner wall 12a of the filter base portion 12.
  • the filter 1 By forming the gap 21 between the filter base portion 12 and the support portion 13, for example, when the filter 1 is bent, the filter 1 can be deformed in the gap 21. In this way, it is possible to secure a space in which the filter 1 is deformed by the gap 21.
  • the coefficient of thermal expansion of the material forming the filter substrate portion 12 and the coefficient of thermal expansion of the material forming the support portion 13 are substantially equal to each other.
  • substantially equal includes an error of 15% or less.
  • the filter base portion 12 and the support portion 13 may be made of a material of Ni or PdNi (Pd ratio: 50% to 95%).
  • the filter substrate portion 12 may be formed of Ni
  • the support portion 13 may be formed of PdNi.
  • the combination of materials for the filter substrate portion 12 and the support portion 13 is not limited to this.
  • FIGS. 8A to 8H are schematic views showing an example of a manufacturing process of the filter 1 of the first embodiment according to the present invention.
  • a Cu film 31 is formed on the substrate 30.
  • the Cu film 31 is formed by sputtering with a sputtering film forming apparatus.
  • the Cu film 31 may be formed by vapor deposition with a thin film deposition apparatus.
  • a Ti film may be formed between the substrate 30 and the Cu film 31.
  • the thickness of the Cu film 31 is 500 nm
  • the thickness of the Ti film is 50 nm.
  • a resist film 32 is formed by applying a resist on the Cu film 31 and drying it.
  • a photosensitive positive liquid resist manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd .: Pfi-3A
  • the conditions of the spin coater are, for example, 1140 rpm and 20 sec.
  • the resist is heated and dried using a hot plate to form a resist film 32 having a thickness of 1.95 ⁇ m.
  • the baking conditions (heating temperature-heating time) of the hot plate are, for example, 90 ° C-60 sec, 60 ° C-60 sec, and 23 ° C-60 sec.
  • the resist film 32 is exposed and developed to remove the resist film 32 at the portion corresponding to the filter substrate portion 12.
  • an i-line stepper Pfi-37A manufactured by Canon
  • the exposure machine By setting the focus to the plus side of the appropriate value under the exposure conditions, the cross-sectional shape of the resist film 32 becomes a trapezoidal shape.
  • the exposure conditions are a dose amount of 2800 mJ / cm 2 and a focus of ⁇ 0.2 ⁇ m.
  • TMAH Tetramethylammonium hydroxyide
  • the development conditions are, for example, TMAH 2.38%, paddle development: 43 seconds x 2 times.
  • electrolytic plating is performed using an electrolytic plating apparatus.
  • the plating film 33 is formed on the portion from which the resist film 32 has been removed.
  • the conditions for electrolytic plating are, for example, a current density of 2.0 A / dm 2 , an electric quantity of 4.0 AM, a plating solution pH of 7.5, and a plating thickness of 1.6 ⁇ m.
  • the resist film 32 is peeled off with a stripping liquid NMP (N-methyl-2-pyrrolidone) using a resist stripping device capable of high-pressure spray treatment. Then, the plating film 33 is washed with IPA (isopropanol alcohol) and washed with water, and dried. As a result, the filter base portion 12 in which the plurality of through holes 11 are formed is formed.
  • NMP N-methyl-2-pyrrolidone
  • the resist film 34 is formed on the filter substrate portion 12 except for the portion corresponding to the support portion 13.
  • a resist film 34 is formed by applying a resist to the filter substrate portion 12 and drying it. The resist film 34 is exposed and developed to remove the resist film 34 at a portion corresponding to the support portion 13.
  • electrolytic plating is performed using an electrolytic plating apparatus.
  • the plating film 35 is formed at the portion corresponding to the support portion 13, that is, the portion where the resist film 34 is not formed.
  • the conditions for electrolytic plating are, for example, a current density of 1.0 A / dm 2 , an electric quantity of 20 AM, a plating solution pH of 7.5, and a plating thickness of 18 ⁇ m.
  • a gap 21 can be formed between the filter base portion 12 and the support portion 13.
  • the resist film 34 is peeled off and the Cu film 31 is removed by etching.
  • the filter 1 can be manufactured.
  • FIG. 9 is a schematic view showing an example of a filter device 50 including the filter 1 of the first embodiment of the present invention.
  • 10A and 10B are schematic views illustrating an example of modification of the filter 1 of the first embodiment according to the present invention. Note that FIG. 9 shows the modified filter 1.
  • FIG. 10A shows an enlarged view of the filter 1 before the deformation
  • FIG. 10B shows an enlarged view of the filter 1 after the deformation.
  • the filter device 50 includes a filter 1 and a housing 51 that holds the filter 1.
  • the filter 1 is mounted inside the housing 51.
  • the housing 51 is formed in a cylindrical shape and sandwiches the frame portion 20 of the filter 1.
  • a liquid containing an object to be filtered flows inside the housing 51.
  • the fluid containing the object to be filtered passes through the filter 1 to perform filtration.
  • the filter 1 is bent in a concave shape by applying a force in the direction in which the fluid flows due to the fluid.
  • a gap 21 is formed between the filter base portion 12 and the support portion 13. Specifically, a gap 21 is formed between the inner wall 12a of the filter substrate portion 12 and the outer wall 14a of the protruding portion 14.
  • the filter 1 when the filter 1 bends and deforms, the filter 1 deforms in the gap 21. Specifically, when the filter 1 is bent in the direction from the first main surface PS1 to the second main surface PS2, the filter 1 is compressed so that the filter base portion 12 is compressed by the protruding portion 14 of the support portion 13. Deform. At this time, if the gap 21 is formed between the filter base portion 12 and the protruding portion 14, the filter 1 is deformed in the gap 21 and the stress applied to the filter 1 can be relaxed. As a result, damage due to deformation of the filter 1 can be suppressed.
  • FIGS. 11 and 12A are photographs showing a cross section of the filter 1 of the first embodiment according to the present invention.
  • FIG. 12B is a photograph of the filter 1 taken from the first main surface PS1 side of the filter 1 of the first embodiment according to the present invention.
  • 11 and 12A-12B are photographs taken by SEM (scanning electron microscope) Hitachi High-Tech SU-8040. The shooting was performed after the flat milling process. As shown in FIGS. 11 and 12A-12B, it can be observed that the protrusion 14 of the support portion 13 is located in the through hole 11 and a gap 21 is formed between the filter base portion 12 and the protrusion 14. rice field.
  • the filter 1 includes a filter base portion 12 and a support portion 13.
  • the filter substrate portion 12 has a first main surface PS1 and a second main surface PS2 on the opposite side of the first main surface PS1.
  • the filter substrate portion 12 is formed with a plurality of through holes 11 that communicate the first main surface PS1 and the second main surface PS2.
  • the support portion 13 has a plurality of protrusions 14 located in the plurality of through holes 11 and is arranged on the second main surface PS2 of the filter base portion 12.
  • the filter substrate portion 12 has an inner wall 12a extending from the second main surface PS2 toward the first main surface PS1 and defining a plurality of through holes 11.
  • the plurality of protrusions 14 have an outer wall 14a that contacts the inner wall 12a of the filter base portion 12.
  • the first opening 11a on the first main surface PS1 side of the filter base portion 12 is from the second opening 11b on the second main surface PS2 side of the filter base portion 12. big.
  • a gap 21 is formed between the filter substrate portion 12 and the support portion 13.
  • the strength of the filter 1 can be improved. For example, when an external force is applied to the filter 1, the filter 1 can be deformed into the gap 21. As a result, the stress applied to the filter 1 can be relaxed, and the filter 1 can be prevented from being damaged.
  • the gap 21 is formed between the inner wall 12a of the filter base portion 12 and the outer wall 14a of the plurality of protruding portions 14.
  • the gap 21 is open to the PS1 side of the first main surface of the filter base portion 12.
  • the inner wall 12a is formed of a flat surface extending inclined from the second main surface PS2 of the filter base portion 12 toward the first main surface PS1.
  • the outer wall 14a is formed of a flat surface extending inclined from the second main surface PS2 of the filter base portion 12 toward the first main surface PS1.
  • Each of the plurality of projecting portions 14 has a projecting surface 14aa located on the first main surface PS1.
  • the external dimension D1 of the protruding surface 14aa is 0.5 times or more and less than 1.0 times the dimension C1 of the first opening 11a.
  • a gap 21 can be formed between the filter base portion 12 and the support portion 13. Further, the gap 21 can provide a space in which the filter 1 can be deformed when the filter 1 is deformed. Further, the gap 21 has a size such that the support portion 13 does not easily come off from the filter base portion 12 when the filter 1 is not deformed.
  • the support portion 13 has a plurality of first support members 13a extending in the first direction (X direction) and a plurality of second support members 13b extending in the second direction (Y direction) intersecting the first direction. .. With such a configuration, the strength of the filter 1 can be further improved.
  • the coefficient of thermal expansion of the filter base portion 12 and the coefficient of thermal expansion of the support portion 13 are substantially equal. With such a configuration, it is possible to prevent the filter 1 from being deformed and / or damaged due to a temperature change.
  • the filter base portion 12 and the support portion 13 contain at least one of a metal and a metal oxide as a main component. With such a configuration, the strength of the filter 1 can be further improved.
  • the cross-sectional shape of the plurality of through holes 11 when the filter 1 is cut in the Y direction is a trapezoidal shape
  • the present invention is not limited to this.
  • the cross-sectional shape of the filter base portion 12 is a trapezoidal shape (tapered shape)
  • the present invention is not limited to this.
  • the first opening 11a on the first main surface PS1 side may be larger than the second opening 11b on the second main surface PS2 side.
  • the inner wall 12b of the filter substrate portion 12B may be formed in a curved shape.
  • the inner wall 12b may be curved in a U shape.
  • the outer wall 14b of the protrusion 14B of the support portion 13B may be formed so as to be curved along the shape of the inner wall 12b.
  • the outer wall 14b may be curved in a gently convex shape.
  • the dimension C11 of the first opening 11ab on the first main surface PS1 side is larger than the dimension C12 of the second opening 11bb on the second main surface PS2 side.
  • a gap 21B is formed between the inner wall 12b of the filter substrate portion 12B and the protruding portion 14B.
  • the inner wall 12c of the filter base portion 12C may be formed in a curved shape.
  • the inner wall 12c may be formed so that the opening area of the through hole 11C gradually increases from the second main surface PS2 toward the first main surface PS1.
  • the outer wall 14c of the protrusion 14C of the support portion 13C may be formed so as to be curved along the shape of the inner wall 12c.
  • the dimension C21 of the first opening 11ac on the first main surface PS1 side is larger than the dimension C22 of the second opening 11bc on the second main surface PS2 side.
  • a gap 21C is formed between the inner wall 12c of the filter substrate portion 12C and the protruding portion 14C.
  • the inner wall 12d of the filter base portion 12D may be formed in a curved shape.
  • the inner wall 12d may be formed in a gently convex shape.
  • the outer wall 14d of the protrusion 14D of the support portion 13D may be formed so as to be curved along the shape of the inner wall 12d.
  • the outer wall 14d may be curved in a U shape.
  • the dimension C31 of the first opening 11ad on the first main surface PS1 side is larger than the dimension C32 of the second opening 11bd on the second main surface PS2 side.
  • a gap 21D is formed between the inner wall 12d of the filter substrate portion 12D and the protruding portion 14D.
  • the dimension C1 of the first opening 11a is larger than the dimension C2 of the second opening 11b in all the through holes 11
  • the present invention is not limited thereto.
  • the dimension C1 of the first opening 11a may be larger than the dimension C2 of the second opening 11b.
  • the first opening 11a on the first main surface PS1 side of the filter base portion 12 is the second opening on the second main surface PS2 side of the filter base portion 12. It may be larger than 11b.
  • the first opening 11a and the second opening 11b may have the same size.
  • the through holes 11 may be formed by a flat inner wall 12a extending orthogonally to the first main surface PS1 and the second main surface PS2. ..
  • the support portion 13 may have a shape capable of supporting the filter base portion 12 from the second main surface PS2 side.
  • FIG. 14A and 14B are enlarged cross-sectional views of the filter of the modified example of the first embodiment according to the present invention.
  • the support portion 13E may be provided with a recess 15 in the fourth main surface PS4. With such a configuration, it is possible to reduce the amount of material forming the support portion 13E while realizing the reinforcement of the filter base portion 12 by the support portion 13E. Therefore, the cost can be reduced as compared with the filter 1 of the first embodiment.
  • the support portion 13F may be provided with a convex portion 16 on the fourth main surface PS4.
  • the convex portion 16 has a hemispherically protruding shape.
  • a notch 17 may be provided on the side wall of the support portion 13F.
  • the gap 21 is formed between the inner wall 12a of the filter base portion 12 and the outer wall 14a of the protruding portion 14
  • the gap 21 may be formed between the filter base portion 12 and the support portion 13.
  • the gap may be formed between the second main surface PS2 of the filter base portion 12 and the third main surface PS3 of the support portion 13.
  • FIG. 15A and 15B are schematic views illustrating an example of modification of the filter of the modification of the first embodiment according to the present invention.
  • FIG. 15A shows an enlarged view of the filter before deformation
  • FIG. 15B shows an enlarged view of the filter after deformation.
  • FIG. 15A before deformation.
  • a gap 22 is formed between the second main surface PS2 of the filter substrate portion 12 and the third main surface PS3 of the support portion 13.
  • FIG. 15B when the filter bends and deforms, the filter deforms within the gap 22.
  • the filter bends in the direction from the first main surface PS1 to the second main surface PS2
  • the filter 1 is deformed so that the filter base portion 12 is compressed by the protruding portion 14 of the support portion 13. do.
  • the filter is deformed in the gap 22, and the stress applied to the filter can be relaxed. As a result, damage due to deformation of the filter can be suppressed.
  • the filter of the present invention can improve the strength, it is useful for filtering a fluid containing an object to be filtered.

Landscapes

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Abstract

本発明のフィルタは、第１主面と前記第１主面と反対側の第２主面とを有し、前記第１主面と前記第２主面とを連通する複数の貫通孔が形成されたフィルタ基体部と、前記複数の貫通孔に位置する複数の突出部を有し、前記フィルタ基体部の前記第２主面に配置される支持部と、を備え、前記フィルタ基体部は、前記第２主面から前記第１主面に向かって延び、前記複数の貫通孔を画定する内壁を有し、前記複数の突出部は、前記フィルタ基体部の前記内壁に接触する外壁を有し、前記複数の突出部が位置する複数の貫通孔において、前記フィルタ基体部の前記第１主面側の第１開口は、前記フィルタ基体部の前記第２主面側の第２開口より大きく、前記フィルタ基体部と前記支持部との間には、隙間が形成されている。

Description

フィルタ
　本発明は、フィルタに関する。
　特許文献１には、粒子を捕捉する窪みと窪みに形成された孔とを有するメッシュと、メッシュの外周を固定する外枠と、を備えるメッシュ部材が開示されている。特許文献１のメッシュ部材は、窪みと窪みに連なる孔とに跨って埋設される帯状の支持枠を外枠の対向する枠辺に跨って設けている。
特開２０１９－１８１３５２号公報
　しかしながら、特許文献１のメッシュ部材では、強度の向上といった点で、未だ改善の余地がある。
　本発明は、強度を向上させることができるフィルタを提供することを目的とする。
　本発明の一態様のフィルタは、
　第１主面と前記第１主面と反対側の第２主面とを有し、前記第１主面と前記第２主面とを連通する複数の貫通孔が形成されたフィルタ基体部と、
　前記複数の貫通孔に位置する複数の突出部を有し、前記フィルタ基体部の前記第２主面に配置される支持部と、
を備え、
　前記フィルタ基体部は、前記第２主面から前記第１主面に向かって延び、前記複数の貫通孔を画定する内壁を有し、
　前記複数の突出部は、前記フィルタ基体部の前記内壁に接触する外壁を有し、
　前記複数の突出部が位置する複数の貫通孔において、前記フィルタ基体部の前記第１主面側の第１開口は、前記フィルタ基体部の前記第２主面側の第２開口より大きく、
　前記フィルタ基体部と前記支持部との間には、隙間が形成されている。
　本発明によれば、強度を向上させることができるフィルタを提供することができる。
本発明に係る実施の形態１のフィルタの一例を第１主面側から見た概略図である。 本発明に係る実施の形態１のフィルタの一例を第２主面側から見た概略図である。 フィルタ部の一部の拡大斜視図である。 図３のフィルタ部をＹ方向に切断した拡大断面図である。 支持部の一例の拡大断面図である。 フィルタ部において支持部が配置された部分の拡大断面図である。 図６のフィルタ部のＺ１部分を拡大した拡大図である。 本発明に係る実施の形態１のフィルタの製造工程の一例を示す概略図である。 本発明に係る実施の形態１のフィルタの製造工程の一例を示す概略図である。 本発明に係る実施の形態１のフィルタの製造工程の一例を示す概略図である。 本発明に係る実施の形態１のフィルタの製造工程の一例を示す概略図である。 本発明に係る実施の形態１のフィルタの製造工程の一例を示す概略図である。 本発明に係る実施の形態１のフィルタの製造工程の一例を示す概略図である。 本発明に係る実施の形態１のフィルタの製造工程の一例を示す概略図である。 本発明に係る実施の形態１のフィルタの製造工程の一例を示す概略図である。 本発明に係る実施の形態１のフィルタを備えるフィルタデバイスの一例を示す概略図である。 本発明に係る実施の形態１のフィルタの変形の一例を説明する概略図である。 本発明に係る実施の形態１のフィルタの変形の一例を説明する概略図である。 本発明に係る実施の形態１のフィルタの断面を示す写真である。 本発明に係る実施の形態１のフィルタの断面を示す写真である。 本発明に係る実施の形態１のフィルタの第１主面から撮影した写真である。 本発明に係る実施の形態１の変形例のフィルタの拡大断面図である。 本発明に係る実施の形態１の変形例のフィルタの拡大断面図である。 本発明に係る実施の形態１の変形例のフィルタの拡大断面図である。 本発明に係る実施の形態１の変形例のフィルタの拡大断面図である。 本発明に係る実施の形態１の変形例のフィルタの拡大断面図である。 本発明に係る実施の形態１の変形例のフィルタの変形の一例を説明する概略図である。 本発明に係る実施の形態１の変形例のフィルタの変形の一例を説明する概略図である。
（本発明に至った経緯）
　特許文献１に記載のメッシュ部材のように、複数の貫通孔が形成されたフィルタ部に支持部を設けることによって、強度を向上させるフィルタが知られている。
　しかしながら、このようなフィルタにおいては、強度を向上させるという点で未だ改善の余地がある。例えば、フィルタにおいて支持部が設けられた部分で、曲げに対する強度の向上が困難になる。
　例えば、濾過対象物を含む液体を濾過する場合、フィルタが厚み方向に撓むことによって、フィルタにかかる応力を逃がしている。即ち、フィルタに外部からの力が加わると、フィルタが変形し、フィルタにかかる応力を緩和している。しかしながら、フィルタにおいて支持部が設けられている部分は、外部からの力が加わったときに変形しにくい。このため、支持部が設けられている部分において、フィルタにかかる応力を緩和することが困難である。
　そこで、本発明者らは、上記課題を解決すべく、複数の貫通孔が形成されたフィルタ基体部と支持部との間に隙間を設けたフィルタを見出し、本発明に至った。これにより、外部から力が加わったときに、隙間においてフィルタが変形し、フィルタにかかる応力を緩和することができる。
　本発明の一態様のフィルタは、
　第１主面と前記第１主面と反対側の第２主面とを有し、前記第１主面と前記第２主面とを連通する複数の貫通孔が形成されたフィルタ基体部と、
　前記複数の貫通孔に位置する複数の突出部を有し、前記フィルタ基体部の前記第２主面に配置される支持部と、
を備え、
　前記フィルタ基体部は、前記第２主面から前記第１主面に向かって延び、前記複数の貫通孔を画定する内壁を有し、
　前記複数の突出部は、前記フィルタ基体部の前記内壁に接触する外壁を有し、
　前記複数の突出部が位置する複数の貫通孔において、前記フィルタ基体部の前記第１主面側の第１開口は、前記フィルタ基体部の前記第２主面側の第２開口より大きく、
　前記フィルタ基体部と前記支持部との間には、隙間が形成されている。
　このような構成により、フィルタの強度を向上させることができる。
　前記隙間は、前記フィルタ基体部の前記内壁と、前記複数の突出部の外壁との間に形成されていてもよい。
　このような構成により、フィルタの強度を更に向上させることができる。
　前記隙間は、少なくとも前記フィルタ基体部の前記第１主面に位置していてもよい。
　このような構成により、フィルタの強度を更に向上させることができる。
　前記内壁は、前記フィルタ基体部の前記第２主面から前記第１主面に向かって傾斜して延びるフラット面で形成されており、
　前記外壁は、前記フィルタ基体部の前記第２主面から前記第１主面に向かって傾斜して延びるフラット面で形成されていてもよい。
　このような構成により、フィルタの強度を更に向上させることができる。
　前記複数の突出部のそれぞれは、前記第１主面に位置する突出面を有し、
　前記フィルタ基体部を前記第１主面から見たとき、前記突出面の外形寸法は、前記第１開口の寸法の０．５倍以上１．０倍未満であってもよい。
　このような構成により、フィルタの強度を更に向上させることができる。
　前記支持部は、第１方向に延びる複数の第１支持部材と、前記第１方向と交差する第２方向に延びる複数の第２支持部材と、を有していてもよい。
　このような構成により、フィルタの強度を更に向上させることができる。
　前記フィルタ基体部の熱膨張係数と前記支持部の熱膨張係数は、略等しくてもよい。
　このような構成により、温度変化によるフィルタの破損を抑制することができ、フィルタの強度を更に向上させることができる。
　前記フィルタ基体部及び前記支持部は、金属及び金属酸化物のうち少なくともいずれかを主成分としてもよい。
　このような構成により、フィルタの強度を更に向上させることができる。
　以下、本発明に係る実施の形態１について、添付の図面を参照しながら説明する。また、各図においては、説明を容易なものとするため、各要素を誇張して示している。
（実施の形態１）
［全体構成］
　図１は、本発明に係る実施の形態１のフィルタ１の一例を第１主面ＰＳ１側から見た概略図である。図２は、本発明に係る実施の形態１のフィルタ１の一例を第２主面ＰＳ２側から見た概略図である。図中において、Ｘ、Ｙ、Ｚ方向は、それぞれフィルタ１の縦方向、横方向、厚み方向を示している。
　例えば、フィルタ１は、濾過対象物を含む流体を濾過するフィルタである。
　本明細書において、「濾過対象物」とは、流体に含まれる対象物のうち濾過されるべき対象物を意味している。例えば、濾過対象物は、流体に含まれる生物由来物質であってもよい。「生物由来物質」とは、細胞（真核生物）、細菌（真性細菌）、ウィルス等の生物に由来する物質を意味する。細胞（真核生物）としては、例えば、人工多能性幹細胞（ｉＰＳ細胞）、ＥＳ細胞、幹細胞、間葉系幹細胞、単核球細胞、単細胞、細胞塊、浮遊性細胞、接着性細胞、神経細胞、白血球、再生医療用細胞、自己細胞、がん細胞、血中循環がん細胞（ＣＴＣ）、ＨＬ－６０、ＨＥＬＡ、菌類を含む。細菌（真性細菌）としては、例えば、大腸菌、結核菌を含む。
　流体としては、例えば、液体又は気体が挙げられる。液体としては、例えば、細胞懸濁液が挙げられる。
　フィルタ１は、金属製フィルタである。フィルタ１を構成する材料は、金属及び金属酸化物のうち少なくともいずれかを主成分とする。フィルタ１を構成する材料は、例えば、金、銀、銅、白金、ニッケル、パラジウム、チタン、これらの合金及びこれらの酸化物であってもよい。特に、チタンや、ニッケル－パラジウム合金を使用することにより、金属の溶出が少なく、濾過対象物への影響を低減することができる。
　図１及び図２に示すように、フィルタ１は、フィルタ部１０と、フィルタ部１０の外周に設けられた枠部２０と、を有する。また、フィルタ１は、第１主面ＰＳ１と第１主面ＰＳ１と反対側の第２主面ＰＳ２とを有する。実施の形態１では、フィルタ部１０と枠部２０とは一体で形成されている。
＜フィルタ部＞
　フィルタ部１０は、濾過対象物を含む流体を濾過する部分である。フィルタ部１０は、第１主面ＰＳ１と第２主面ＰＳ２とを連通する複数の貫通孔１１が形成されたフィルタ基体部１２で構成されている。また、フィルタ部１０においては、フィルタ基体部１２の第２主面ＰＳ２に複数の支持部１３が配置されている。
　フィルタ部１０の形状は、フィルタ１の厚み方向（Ｚ方向）から見て、例えば、円形、多角形、楕円形である。実施の形態１では、フィルタ部１０の形状は、略円形である。なお、本明細書において、「略円形」とは、短径の長さに対する長径の長さの比が１．０以上１．２以下であることをいう。
＜枠部＞
　枠部２０は、フィルタ部１０の外周に設けられており、フィルタ部１０に比べて単位面積当たりの貫通孔１１の数が少ない部分である。枠部２０における貫通孔１１の数は、フィルタ部１０における貫通孔１１の数の１％以下である。枠部２０の厚みは、フィルタ部１０の厚みよりも厚くてもよい。このような構成により、フィルタ１の機械強度を高めることができる。
　フィルタ１を装置に接続して使用する場合、枠部２０は、フィルタ１と装置とを接続する接続部として機能してもよい。また、枠部２０には、フィルタ１の情報（貫通孔１１の寸法など）を表示してもよい。
　枠部２０は、フィルタ部１０の第１主面ＰＳ１側から見て、リング状に形成されている。フィルタ１を第１主面ＰＳ１側から見て、枠部２０の中心は、フィルタ部１０の中心と一致する。即ち、枠部２０は、フィルタ１と同心円上に形成されている。
　以下、フィルタ部１０について詳細に説明する。
　図３は、フィルタ部１０の一部の拡大斜視図である。図３は、複数の貫通孔１１が形成されているフィルタ基体部１２の一部を拡大して示している。図４は、図３のフィルタ部１０をＹ方向に切断した拡大断面図である。
　図３及び図４に示すように、複数の貫通孔１１は、フィルタ部１０の第１主面ＰＳ１及び第２主面ＰＳ２上に周期的に配置されている。具体的には、複数の貫通孔１１は、フィルタ部１０においてマトリクス状に等間隔で設けられている。
　実施の形態１では、複数の貫通孔１１は、フィルタ部１０の第１主面ＰＳ１側（Ｚ方向）から見て正方形の各辺と平行な２つの配列方向、即ち図３中のＸ方向とＹ方向に沿って設けられている。なお、貫通孔１１は、フィルタ部１０に複数設けられていればよく、配列方向は限定されない。
　フィルタ部１０において、貫通孔１１が形成されていない部分は、フィルタ基体部１２によって形成されている。図３に示すように、フィルタ基体部１２は、格子状に形成されている。具体的には、フィルタ基体部１２は、フィルタ部１０において、等間隔で配置され、且つ第１方向に延びる複数の第１基体部材１２ａａと、等間隔で配置され、且つ第１方向と交差する方向に延びる複数の第２基体部材１２ｂａと、を有する。
　複数の第１基体部材１２ａａ及び複数の第２基体部材１２ｂａは、板状の部材で形成されている。複数の第１基体部材１２ａａと複数の第２基体部材１２ｂａとが交差することによって、複数の貫通孔１１が画定される。実施の形態１では、複数の第１基体部材１２ａａが延びる第１方向はＸ方向であり、複数の第２基体部材１２ｂａが延びる第２方向はＹ方向である。即ち、実施の形態１では、第１方向と第２方向とは直交する。
　実施の形態１では、複数の第１基体部材１２ａａ及び複数の第２基体部材１２ｂａは、一体で形成されている。
　フィルタ基体部１２は、第２主面ＰＳ２から第１主面ＰＳ１に向かって延び、複数の貫通孔１１を画定する内壁１２ａを有する。実施の形態１では、内壁１２ａは、フィルタ基体部１２の第２主面ＰＳ２から第１主面ＰＳ１に向かって傾斜して延びるフラット面で形成されている。これにより、図４に示すように、フィルタ基体部１２は、台形の断面形状を有している。即ち、フィルタ基体部１２は、テーパ形状を有している。これにより、フィルタ部１０をＹ方向に切断した断面において、貫通孔１１は台形形状を有する。
　フィルタ部１０におけるフィルタ基体部１２の厚みＴ１は、０．５μｍ以上２０μｍ以下である。機械強度を備えた上で、フィルタを通過する流体の圧力損失を低減することができる。好ましくは、フィルタ部１０におけるフィルタ基体部１２の厚みＴ１は、１．０μｍ以上３μｍ以下である。フィルタを通過する流体の圧力損失をさらに低減することができる。
　フィルタ部１０の第１主面ＰＳ１側には、貫通孔１１の第１開口１１ａが形成されている。また、フィルタ部１０の第２主面ＰＳ２側には、貫通孔１１の第２開口１１ｂが形成されている。実施の形態１では、第１開口１１ａ及び第２開口１１ｂは、第１主面ＰＳ１側から見て正方形状を有している。
　フィルタ基体部１２を第１主面ＰＳ１から見たとき、第１開口１１ａは、第２開口１１ｂより大きい。言い換えると、第１開口１１ａの寸法Ｃ１は、第２開口１１ｂの寸法Ｃ２より大きい。第１開口１１ａの寸法Ｃ１及び第２開口１１ｂの寸法Ｃ２は、開口の形状を決定する寸法である。実施の形態１では、寸法Ｃ１，Ｃ２は、正方形状の一辺であってもよい。あるいは、例えば、第１開口１１ａ及び第２開口１１ｂの形状が円形状である場合、寸法Ｃ１，Ｃ２は、直径であってもよい。
　例えば、第１開口１１ａの寸法Ｃ１は、０．５μｍ以上４００μ以下である。好ましくは、第１開口１１ａの寸法Ｃ１は、１μｍ以上３０μｍ以下である。
　例えば、第２開口１１ｂの寸法Ｃ２は、０．５μｍ以上３８０μｍ以下である。好ましくは、第２開口１１ｂの寸法Ｃ２は、０．８μｍ以上２９μｍ以下である。
　フィルタ基体部１２を第１主面ＰＳ１から見たとき、第１開口１１ａの開口面積は、第２開口１１ｂの開口面積より大きい。第１開口１１ａの開口面積とは、フィルタ部１０の第１主面ＰＳ１側から見たときに第１開口１１ａで画定される面積である。第２開口１１ｂの開口面積とは、フィルタ部１０の第２主面ＰＳ２側からみたときに第２開口１１ｂで画定される面積である。
　なお、第１開口１１ａ及び第２開口１１ｂの形状は、正方形状に限定されない。例えば、第１開口１１ａ及び第２開口１１ｂの形状は、円形形状、楕円形状、矩形形状、多角形状などであってもよい。
　フィルタ部１０において、第１主面ＰＳ１及び第２主面ＰＳ２の表面粗さは、小さいことが好ましい。ここで、表面粗さとは、任意の５箇所において触針式段差計で測定された最大値と最小値の差の平均値を意味する。実施の形態１では、表面粗さは、濾過対象物の大きさより小さいことが好ましく、濾過対象物の大きさの半分より小さいことがより好ましい。濾過対象物の付着を低減し、濾過対象物をフィルタで捕捉後に高効率で回収できるためである。
　図２に戻って、フィルタ部１０の第２主面ＰＳ２には、支持部１３が配置されている。言い換えると、支持部１３は、フィルタ基体部１２の第２主面ＰＳ２に配置されている。
　支持部１３は、格子状に形成されている。具体的には、支持部１３は、第１方向に延びる複数の第１支持部材１３ａと、第１方向と交差する第２方向に延びる複数の第２支持部材１３ｂと、を有する。実施の形態１では、第１方向はＸ方向であり、第２方向はＹ方向である。即ち、複数の第１支持部材１３ａと複数の第２支持部材１３ｂとは、直交する。
　複数の第１支持部材１３ａ及び複数の第２支持部材１３ｂは、板状の部材で形成されている。複数の第１支持部材１３ａ及び複数の第２支持部材１３ｂは、一体で形成されている。
　複数の第１支持部材１３ａ及び複数の第２支持部材１３ｂは、等間隔で配置されている。例えば、複数の第１支持部材１３ａ及び複数の第２支持部材１３ｂの間隔Ａ１は、２００μｍ以上５００μｍ以下である。好ましくは、間隔Ａ１は２５０μｍ以上３５０μｍ以下である。支持部１３によって塞がれる貫通孔１１の数を低減し、且つ、機械強度が得られる。
　フィルタ部１０を第２主面ＰＳ２側から見て、複数の第１支持部材１３ａ及び複数の第２支持部材１３ｂの幅Ｂ１は、フィルタ基体部１２の複数の第１板状部材及び複数の第２板状部材の幅より大きい。例えば、複数の第１支持部材１３ａ及び複数の第２支持部材１３ｂの幅Ｂ１は、５μｍ以上４０μｍである。好ましくは、幅Ｂ１は１０μｍ以上２５μｍである。支持部１３によって塞がれる貫通孔１１の数を低減し、且つ、機械強度が得られる。
　図５は、支持部１３の一例の拡大断面図である。図５に示すように、支持部１３は、複数の突出部１４を有する。
　具体的には、支持部１３は、第３主面とＰＳ３と、第３主面ＰＳ３と反対側の第４主面ＰＳ４とを有する板状の部材である。支持部１３の第３主面ＰＳ３は、フィルタ基体部１２の第２主面ＰＳ２と接触する。
　複数の突出部１４は、支持部１３の第３主面ＰＳ３において、第４主面ＰＳ４から第３主面ＰＳ３に向かう方向に突出している。複数の突出部１４は、それぞれ、突出面１４ａａと、突出面１４ａａと支持部１３の第３主面ＰＳ３とを接続する外壁１４ａと、を有する凸状に形成されている。実施の形態１では、複数の突出部１４は、それぞれ、四角錐台形状を有している。
　突出面１４ａａは、支持部１３の第３主面ＰＳ３から突出した面であり、フラットに形成されている。
　突出部１４の高さＴ２は、貫通孔１１の深さと等しい。突出部１４の高さＴ２とは、支持部１３の第３主面ＰＳ３から突出面１４ａａまでの距離である。例えば、突出部１４の高さＴ２は、０．５μｍ以上２０μｍ以下である。好ましくは、突出部１４の高さＴ２は、１．０μｍ以上３μｍ以下である。
　なお、支持部１３の厚みＴ３は、例えば、５μｍ以上４０μｍ以下である。好ましくは、支持部１３の厚みＴ３は、１０μｍ以上２５μｍ以下である。
　外壁１４ａは、フィルタ基体部１２の内壁１２ａに接触する。外壁１４ａは、突出部１４の突出方向に向かって傾斜して延びる。突出部１４の突出方向とは、支持部１３の第４主面ＰＳ４から第３主面ＰＳ３に向かう方向である。外壁１４ａは、突出方向に向かうにつれて突出部１４の外形が大きくなるように傾斜している。実施の形態１では、外壁１４ａは、フラット面で形成されている。即ち、突出部１４は、逆テーパ形状を有する。
　突出部１４の外形は、突出部１４の突出方向に向かうにつれて大きくなっている。具体的には、突出部１４の突出面１４ａａの外形寸法Ｄ１は、第３主面ＰＳ３に位置する突出部１４の外形寸法Ｄ２よりも大きい。外形寸法Ｄ１，Ｄ２は、突出部１４の形状を決定する寸法である。実施の形態１では、外形寸法Ｄ１，Ｄ２は、正方形状の一辺であってもよい。あるいは、突出部１４が円錐台形状を有している場合、外形寸法Ｄ１，Ｄ２は、直径であってもよい。
　フィルタ基体部１２を第１主面ＰＳ１から見たとき、突出部１４の突出面１４ａａの外形寸法Ｄ１は、第１開口１１ａの寸法Ｃ１より小さい。例えば、外形寸法Ｄ１は、第１開口１１ａの寸法Ｃ１の０．５倍以上１．０倍未満である。
　フィルタ基体部１２を第１主面ＰＳ１から見たとき、突出部１４の突出面１４ａａの面積は、第１開口１１ａの開口面積より小さい。
　フィルタ基体部１２を第１主面ＰＳ１から見たとき、支持部１３の第３主面ＰＳ３に位置する突出部１４の外形寸法Ｄ２は、第２開口１１ｂの寸法Ｃ２と略等しい。外形寸法Ｄ２が第２開口１１ｂの寸法Ｃ２と略等しいとは、外形寸法Ｄ２が寸法Ｃ２の０．９倍以上１．０倍以下であることを意味する。
　フィルタ基体部１２を第１主面ＰＳ１から見たとき、支持部１３の第３主面ＰＳ３に位置する突出部１４のＹ方向に切断した断面積は、第２開口１１ｂの開口面積と略等しい。
　複数の突出部１４は、複数の貫通孔１１の位置と対応して設けられている。具体的には、複数の突出部１４は、支持部１３の第３主面ＰＳ３上に周期的に配置されている。例えば、複数の突出部１４は、支持部１３の第３主面ＰＳ３においてマトリクス状に等間隔で設けられている。即ち、複数の突出部１４は、Ｘ方向とＹ方向に沿って設けられている。
　図６は、フィルタ部１０において支持部１３が配置された部分の拡大断面図である。図７は、図６のフィルタ部１０のＺ１部分を拡大した拡大図である。図６及び図７に示すように、支持部１３は、フィルタ基体部１２の第２主面ＰＳ２に配置されている。支持部１３の複数の突出部１４は、複数の貫通孔１１に位置している。突出部１４の突出面１４ａａは、フィルタ基体部１２の第１主面ＰＳ１と同じ高さに位置している。
　フィルタ基体部１２の内壁１２ａと複数の突出部１４の外壁１４ａとは、接触している。即ち、複数の突出部１４は、貫通孔１１内において、フィルタ基体部１２の内壁１２ａと接触している。また、支持部１３の第３主面Ｐ３とフィルタ基体部１２の第２主面ＰＳ２とが接触している。これにより、フィルタ基体部１２から突出部１４が外れることを抑制することができる。その結果、支持部１３がフィルタ基体部１２の第２主面ＰＳ２側に保持される。
　図７に示すように、フィルタ基体部１２と支持部１３との間には、隙間２１が形成されている。実施の形態１では、フィルタ基体部１２の内壁１２ａと複数の突出部１４の外壁１４ａとの間に隙間２１が形成されている。隙間２１は、少なくともフィルタ基体部１２の第１主面ＰＳ１に位置している。具体的には、隙間２１は、フィルタ基体部１２の第１主面ＰＳ１側に開放されている。言い換えると、隙間２１は、フィルタ基体部１２の第１主面ＰＳ１の外側の空間と連通している。例えば、第１主面ＰＳ１側から見た隙間２１の大きさ（Ｙ方向の長さ）は、０．０５μｍ以上３．０μｍ以下である。
　実施の形態１では、フィルタ基体部１２を第１主面ＰＳ１側から見たとき、突出面１４ａａの外形寸法Ｄ１が、貫通孔１１の第１開口１１ａの寸法Ｃ１より小さく形成されている。これにより、突出部１４の外壁１４ａとフィルタ基体部１２の内壁１２ａとの間に隙間２１が形成される。
　フィルタ基体部１２と支持部１３との間に隙間２１を形成することによって、例えば、フィルタ１が曲げられたときに、フィルタ１が隙間２１内で変形することができる。このように、隙間２１によってフィルタ１が変形するスペースを確保することができる。
　フィルタ基体部１２を形成する材料の熱膨張係数と支持部１３を形成する材料の熱膨張係数は、略等しいことが好ましい。ここで、「略等しい」とは、１５％以内の誤差を含む。
　例えば、フィルタ基体部１２及び支持部１３は、Ｎｉ又はＰｄＮｉ（Ｐｄ比：５０％～９５％）の材料で形成されていてもよい。例えば、フィルタ基体部１２がＮｉで形成されており、支持部１３がＰｄＮｉで形成されていてもよい。なお、フィルタ基体部１２と支持部１３との材料の組み合わせは、これに限定されない。
［フィルタの製造方法］
　フィルタ１の製造方法の一例について、図８Ａ～８Ｈを用いて説明する。図８Ａ～８Ｈは、本発明に係る実施の形態１のフィルタ１の製造工程の一例を示す概略図である。
　図８Ａに示すように、基板３０上にＣｕ膜３１を形成する。例えば、Ｃｕ膜３１は、スパッタ成膜装置によりスパッタリングすることによって形成される。あるいは、Ｃｕ膜３１は、蒸着装置により蒸着することによって形成されてもよい。このとき、基板３０とＣｕ膜３１との接着性を向上させるために、基板３０とＣｕ膜３１との間にＴｉ膜を形成してもよい。例えば、Ｃｕ膜３１の厚さは５００ｎｍであり、Ｔｉ膜の厚さは厚さ５０ｎｍである。
　図８Ｂに示すように、Ｃｕ膜３１上にレジストを塗布し、乾燥させることでレジスト膜３２を形成する。例えば、Ｃｕ膜３１上にスピンコーターを用いて感光性ポジ型液体レジスト（住友化学株式会社製：Ｐｆｉ－３Ａ）を塗布する。なお、スピンコーターの条件は、例えば、１１４０ｒｐｍ、２０ｓｅｃである。次に、ホットプレートを用いてレジストを加熱乾燥して、厚さ１．９５μｍのレジスト膜３２を形成する。なお、ホットプレートのベーク条件（加熱温度－加熱時間）は、例えば、９０℃－６０ｓｅｃ、６０℃－６０ｓｅｃ、２３℃－６０ｓｅｃである。
　図８Ｃに示すように、レジスト膜３２を露光および現像処理し、フィルタ基体部１２に相当する箇所のレジスト膜３２を除去する。例えば、露光機にはｉ線ステッパー（Ｃａｎｏｎ製Ｐｆｉ－３７Ａ）を使用する。露光条件において、フォーカスを適正値よりプラス側に設定することによって、レジスト膜３２の断面形状が台形形状となる。例えば、露光条件としては、ドーズ量：２８００ｍＪ／ｃｍ２、フォーカス：－０．２μｍである。
　現像はパドル現像装置を使用して行われる。現像液はＴＭＡＨ（Ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ　ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ）を使用する。現像の条件としては、例えば、ＴＭＡＨ２．３８％、パドル現像：４３秒×２回である。
　露光および現像処理した後、水洗及び乾燥処理を行う。
　図８Ｄに示すように、電解めっき装置を用いて電解めっきを行う。これにより、レジスト膜３２を除去した部分にめっき膜３３を形成する。電解めっきの条件は、例えば、電流密度は２．０Ａ／ｄｍ２、電気量は４．０ＡＭ、めっき液のｐＨは７．５、めっき厚みは１．６μｍである。
　図８Ｅに示すように、高圧スプレー処理が可能なレジスト剥離装置を用い、剥離液ＮＭＰ（Ｎ－ｍｅｔｈｙｌ－２－ｐｙｒｒｏｌｉｄｏｎｅ）でレジスト膜３２を剥離する。その後、めっき膜３３をＩＰＡ（Ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ　ａｌｃｏｈｏｌ）洗浄及び水洗処理し、乾燥させる。これにより、複数の貫通孔１１が形成されたフィルタ基体部１２を形成する。
　図８Ｆに示すように、支持部１３に相当する箇所を除いて、フィルタ基体部１２にレジスト膜３４を形成する。例えば、フィルタ基体部１２にレジストを塗布し、乾燥させることでレジスト膜３４を形成する。レジスト膜３４を露光および現像処理し、支持部１３に相当する箇所のレジスト膜３４を除去する。
　図８Ｇに示すように、電解めっき装置を用いて電解めっきを行う。これにより、支持部１３に相当する箇所、即ち、レジスト膜３４が形成されていない部分にめっき膜３５を形成する。電解めっきの条件は、例えば、電流密度は１．０Ａ／ｄｍ２、電気量は２０ＡＭ、めっき液のｐＨは７．５、めっき厚みは１８μｍである。この電解めっきの条件によって、フィルタ基体部１２と支持部１３との間に隙間２１を形成することができる。
　図８Ｈに示すように、レジスト膜３４を剥離し、Ｃｕ膜３１をエッチング除去する。
　このようにして、フィルタ１を作製することができる。
［動作］
　フィルタ１の動作の一例について図９、図１０Ａ及び図１０Ｂを用いて説明する。図９は、本発明に係る実施の形態１のフィルタ１を備えるフィルタデバイス５０の一例を示す概略図である。図１０Ａ及び図１０Ｂは、本発明に係る実施の形態１のフィルタ１の変形の一例を説明する概略図である。なお、図９は、変形後のフィルタ１を示す。図１０Ａは変形前のフィルタ１の拡大図を示し、図１０Ｂは変形後のフィルタ１の拡大図を示す。
　図９に示すように、フィルタデバイス５０は、フィルタ１と、フィルタ１を保持するハウジング５１と、を備える。フィルタ１は、ハウジング５１の内部に取り付けられている。ハウジング５１は、筒状に形成されており、フィルタ１の枠部２０を挟持している。
　フィルタデバイス５０においては、ハウジング５１の内部を、濾過対象物を含む液体が流れる。これにより、濾過対象物を含む流体がフィルタ１を通過することによって、濾過が行われる。このとき、フィルタ１は、流体によって、流体が流れる方向に力が加わり、凹状に撓む。
　図１０Ａに示すように、変形前のフィルタ１においては、フィルタ基体部１２と支持部１３との間に隙間２１が形成されている。具体的には、フィルタ基体部１２の内壁１２ａと突出部１４の外壁１４ａとの間に隙間２１が形成されている。
　図１０Ｂに示すように、フィルタ１が撓んで変形する場合、フィルタ１は隙間２１内で変形する。具体的には、フィルタ１が第１主面ＰＳ１から第２主面ＰＳ２に向かう方向に撓んだ場合、支持部１３の突出部１４によってフィルタ基体部１２が圧縮されるように、フィルタ１が変形する。このとき、フィルタ基体部１２と突出部１４との間に隙間２１が形成されていると、隙間２１内でフィルタ１が変形し、フィルタ１にかかる応力を緩和することができる。これにより、フィルタ１の変形による破損を抑制することができる。
　図１１及び図１２Ａは、本発明に係る実施の形態１のフィルタ１の断面を示す写真である。図１２Ｂは、本発明に係る実施の形態１のフィルタ１の第１主面ＰＳ１側から撮影したフィルタ１の写真である。図１１及び図１２Ａ－１２Ｂは、ＳＥＭ（走査電子顕微鏡）日立ハイテク製ＳＵ－８０４０により撮影を行った写真である。なお、撮影は、フラットミリング処理後に行った。図１１及び図１２Ａ－１２Ｂに示すように、貫通孔１１に支持部１３の突出部１４が位置し、フィルタ基体部１２と突出部１４との間に隙間２１が形成されていることが観察できた。
［効果］
　実施の形態１に係るフィルタ１によれば、以下の効果を奏することができる。
　フィルタ１は、フィルタ基体部１２と、支持部１３と、を備える。フィルタ基体部１２は、第１主面ＰＳ１と第１主面ＰＳ１と反対側の第２主面ＰＳ２とを有する。フィルタ基体部１２には、第１主面ＰＳ１と第２主面ＰＳ２とを連通する複数の貫通孔１１が形成されている。支持部１３は、複数の貫通孔１１に位置する複数の突出部１４を有し、フィルタ基体部１２の第２主面ＰＳ２に配置される。フィルタ基体部１２は、第２主面ＰＳ２から第１主面ＰＳ１に向かって延び、複数の貫通孔１１を画定する内壁１２ａを有する。複数の突出部１４は、フィルタ基体部１２の内壁１２ａに接触する外壁１４ａを有する。複数の突出部１４が位置する複数の貫通孔１１において、フィルタ基体部１２の第１主面ＰＳ１側の第１開口１１ａは、フィルタ基体部１２の第２主面ＰＳ２側の第２開口１１ｂより大きい。フィルタ基体部１２と支持部１３との間には、隙間２１が形成されている。
　このような構成により、フィルタ１の強度を向上させることができる。例えば、フィルタ１に外部からの力が加わっときに、フィルタ１が隙間２１内部に変形することができる。これにより、フィルタ１にかかる応力を緩和することができ、フィルタ１が破損することを抑制することができる。
　隙間２１は、フィルタ基体部１２の内壁１２ａと、複数の突出部１４の外壁１４ａとの間に形成されている。このような構成により、フィルタ１がフィルタ基体部１２を圧縮する方向に変形するときのスペースを隙間２１によって確保することができる。これにより、フィルタ１にかかる応力を緩和することができ、フィルタ１が破損することを抑制することができる。
　隙間２１は、フィルタ基体部１２の第１主面ＰＳ１側に開放されている。このような構成により、フィルタ１が第１主面ＰＳ１から第２主面ＰＳ２に向かう方向に凹状に撓んだとき、隙間２１によって変形するスペースを確保しやすい。このため、フィルタ１にかかる応力を緩和することができ、フィルタ１が破損することを更に抑制することができる。
　内壁１２ａは、フィルタ基体部１２の第２主面ＰＳ２から第１主面ＰＳ１に向かって傾斜して延びるフラット面で形成されている。外壁１４ａは、フィルタ基体部１２の第２主面ＰＳ２から第１主面ＰＳ１に向かって傾斜して延びるフラット面で形成されている。このような構成により、支持部１３がフィルタ基体部１２に容易に保持され、且つ支持部１３がフィルタ基体部１２から外れにくくなる。
　複数の突出部１４のそれぞれは、第１主面ＰＳ１に位置する突出面１４ａａを有する。フィルタ基体部１２を第１主面ＰＳ１側から見たとき、突出面１４ａａの外形寸法Ｄ１は、第１開口１１ａの寸法Ｃ１の０．５倍以上１．０倍未満である。このような構成により、フィルタ基体部１２と支持部１３との間に隙間２１を形成することができる。また、隙間２１は、フィルタ１の変形時にフィルタ１が変形可能なスペースを提供することができる。また、隙間２１は、フィルタ１が変形していないとき、支持部１３がフィルタ基体部１２から外れにくい大きさとなる。
　支持部１３とは、第１方向（Ｘ方向）に延びる複数の第１支持部材１３ａと、第１方向と交差する第２方向（Ｙ方向）に延びる複数の第２支持部材１３ｂと、を有する。このような構成により、フィルタ１の強度を更に向上させることができる。
　フィルタ基体部１２の熱膨張係数と支持部１３の熱膨張係数は、略等しい。このような構成により、温度変化によってフィルタ１が変形すること、及び／又は破損することを抑制することができる。
　フィルタ基体部１２及び支持部１３は、金属及び金属酸化物のうち少なくともいずれかを主成分とする。このような構成により、フィルタ１の強度を更に向上させることができる。
　なお、実施の形態１では、フィルタ１をＹ方向に切断したときの複数の貫通孔１１の断面形状が台形形状である例について説明したが、これに限定されない。言い換えると、フィルタ基体部１２の断面形状が台形形状（テーパ形状）である例について説明したが、これに限定されない。貫通孔１１において、第１主面ＰＳ１側の第１開口１１ａが第２主面ＰＳ２側の第２開口１１ｂより大きければよい。
　実施の形態１では、フィルタ基体部１２の内壁１２ａがフラット面である例について説明したが、これに限定されない。また、支持部１３の突出部１４の外壁１４ａがフラット面である例について説明したが、これに限定されない。
　図１３Ａ－１３Ｃは、本発明に係る実施の形態１の変形例のフィルタの拡大断面図である。図１３Ａに示すように、フィルタ基体部１２Ｂの内壁１２ｂは湾曲して形成されていてもよい。例えば、内壁１２ｂは、Ｕ字状に湾曲していてもよい。支持部１３Ｂの突出部１４Ｂの外壁１４ｂは、内壁１２ｂの形状に沿って湾曲して形成されていてもよい。例えば、外壁１４ｂは、緩やかな凸状に湾曲していてもよい。貫通孔１１Ｂにおいて、第１主面ＰＳ１側の第１開口１１ａｂの寸法Ｃ１１は、第２主面ＰＳ２側の第２開口１１ｂｂの寸法Ｃ１２より大きい。フィルタ基体部１２Ｂの内壁１２ｂと突出部１４Ｂとの間には、隙間２１Ｂが形成されている。
　図１３Ｂに示すように、フィルタ基体部１２Ｃの内壁１２ｃは湾曲して形成されていてもよい。例えば、内壁１２ｃは、第２主面ＰＳ２から第１主面ＰＳ１に向かって緩やかに貫通孔１１Ｃの開口面積が大きくなるように形成されていてもよい。支持部１３Ｃの突出部１４Ｃの外壁１４ｃは、内壁１２ｃの形状に沿って湾曲して形成されていてもよい。貫通孔１１Ｃにおいて、第１主面ＰＳ１側の第１開口１１ａｃの寸法Ｃ２１は、第２主面ＰＳ２側の第２開口１１ｂｃの寸法Ｃ２２より大きい。フィルタ基体部１２Ｃの内壁１２ｃと突出部１４Ｃとの間には、隙間２１Ｃが形成されている。
　図１３Ｃに示すように、フィルタ基体部１２Ｄの内壁１２ｄは湾曲して形成されていてもよい。例えば、内壁１２ｄは、緩やかな凸状に形成されていてもよい。支持部１３Ｄの突出部１４Ｄの外壁１４ｄは、内壁１２ｄの形状に沿って湾曲して形成されていてもよい。例えば、外壁１４ｄは、Ｕ字状に湾曲していてもよい。貫通孔１１Ｄにおいて、第１主面ＰＳ１側の第１開口１１ａｄの寸法Ｃ３１は、第２主面ＰＳ２側の第２開口１１ｂｄの寸法Ｃ３２より大きい。フィルタ基体部１２Ｄの内壁１２ｄと突出部１４Ｄとの間には、隙間２１Ｄが形成されている。
　図１３Ａ～１３Ｃに示すような構成においても、実施の形態１と同様に、フィルタ１の強度を向上させる効果を奏する。
　実施の形態１では、すべての貫通孔１１において、第１開口１１ａの寸法Ｃ１が第２開口１１ｂの寸法Ｃ２より大きい例について説明したが、これに限定されない。フィルタ基体部１２において支持部１３が配置される部分において、第１開口１１ａの寸法Ｃ１が第２開口１１ｂの寸法Ｃ２より大きければよい。言い換えると、複数の突出部１４が位置する複数の貫通孔１１において、フィルタ基体部１２の第１主面ＰＳ１側の第１開口１１ａがフィルタ基体部１２の第２主面ＰＳ２側の第２開口１１ｂより大きければよい。複数の突出部１４が位置しない複数の貫通孔１１においては、第１開口１１ａと第２開口１１ｂとは同じ大きさであってもよい。例えば、複数の突出部１４が位置しない複数の貫通孔１１においては、第１主面ＰＳ１と第２主面ＰＳ２とに直交して延びる平坦な内壁１２ａによって貫通孔１１が形成されていてもよい。
　実施の形態１では、支持部１３は板状の部材で形成される例について説明したが、これに限定されない。支持部１３はフィルタ基体部１２を第２主面ＰＳ２側から支持できる形状を有していればよい。
　図１４Ａ及び図１４Ｂは、本発明に係る実施の形態１の変形例のフィルタの拡大断面図である。図１４Ａに示すように、支持部１３Ｅは、第４主面ＰＳ４に凹部１５を設けていてもよい。このような構成により、支持部１３Ｅによるフィルタ基体部１２の補強を実現しつつ、支持部１３Ｅを形成する材料を減らすことができる。このため、実施の形態１のフィルタ１に比べてコストを低減することができる。
　図１４Ｂに示すように、支持部１３Ｆは、第４主面ＰＳ４に凸部１６を設けていてもよい。凸部１６は、半球状に突出した形状を有する。また、支持部１３Ｆの側壁には、切り欠け１７が設けられていてもよい。このような構成により、支持部１３Ｆによるフィルタ基体部１２の補強を実現しつつ、突出部１４によって塞がれる貫通孔１１の数を減らすことができる。
　実施の形態１では、隙間２１がフィルタ基体部１２の内壁１２ａと突出部１４の外壁１４ａとの間に形成される例について説明したが、これに限定されない。隙間２１は、フィルタ基体部１２と支持部１３との間に形成されていればよい。例えば、隙間は、フィルタ基体部１２の第２主面ＰＳ２と支持部１３の第３主面ＰＳ３との間に形成されていてもよい。
　図１５Ａ及び図１５Ｂは、本発明に係る実施の形態１の変形例のフィルタの変形の一例を説明する概略図である。図１５Ａは変形前のフィルタの拡大図を示し、図１５Ｂは変形後のフィルタの拡大図を示す。図１５Ａに示すように、変形前において。フィルタ基体部１２の第２主面ＰＳ２と支持部１３の第３主面ＰＳ３との間に隙間２２が形成されている。図１５Ｂに示すように、フィルタが撓んで変形する場合、フィルタは隙間２２内で変形する。具体的には、フィルタが第１主面ＰＳ１から第２主面ＰＳ２に向かう方向に撓んだ場合、支持部１３の突出部１４によってフィルタ基体部１２が圧縮されるように、フィルタ１が変形する。このとき、隙間２２内でフィルタが変形し、フィルタにかかる応力を緩和することができる。これにより、フィルタの変形による破損を抑制することができる。
　本発明は、添付図面を参照しながら好ましい実施形態に関連して充分に記載されているが、この技術の熟練した人々にとっては種々の変形や修正は明白である。そのような変形や修正は、添付した特許請求の範囲による本発明の範囲から外れない限りにおいて、その中に含まれると理解されるべきである。
　本発明のフィルタは、強度を向上させることができるため、濾過対象物を含む流体の濾過用途に有用である。
　１　　フィルタ
　１０　フィルタ部
　１１，１１Ｂ，１１Ｃ，１１Ｄ　貫通孔
　１１ａ，１１ａｂ，１１ａｃ，１１ａｄ　第１開口
　１１ｂ，１１ｂｂ，１１ｂｃ，１１ｂｄ　第２開口
　１２，１２Ｂ，１２Ｃ，１２Ｄ　フィルタ基体部
　１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ　内壁
　１２ａａ　第１基体部材
　１２ｂａ　第２基体部材
　１３，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄ，１３Ｅ，１３Ｆ　支持部
　１３ａ　第１支持部材
　１３ｂ　第２支持部材
　１４，１４Ｂ，１４Ｃ，１４Ｄ　突出部
　１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄ　外壁
　１４ａａ　突出面
　１５　凹部
　１６　凸部
　１７　切り欠け
　２０　枠部
　２１，２１Ｂ，２１Ｃ，２１Ｄ，２２　隙間
　３０　基板
　３１　Ｃｕ膜
　３２　レジスト膜
　３３　めっき膜
　３４　レジスト膜
　３５　めっき膜
　５０　フィルタデバイス
　５１　ハウジング
　ＰＳ１　第１主面
　ＰＳ２　第２主面
　ＰＳ３　第３主面
　ＰＳ４　第４主面

Claims (8)

  1. 　第１主面と前記第１主面と反対側の第２主面とを有し、前記第１主面と前記第２主面とを連通する複数の貫通孔が形成されたフィルタ基体部と、
    　前記複数の貫通孔に位置する複数の突出部を有し、前記フィルタ基体部の前記第２主面に配置される支持部と、
    を備え、
    　前記フィルタ基体部は、前記第２主面から前記第１主面に向かって延び、前記複数の貫通孔を画定する内壁を有し、
    　前記複数の突出部は、前記フィルタ基体部の前記内壁に接触する外壁を有し、
    　前記複数の突出部が位置する複数の貫通孔において、前記フィルタ基体部の前記第１主面側の第１開口は、前記フィルタ基体部の前記第２主面側の第２開口より大きく、
    　前記フィルタ基体部と前記支持部との間には、隙間が形成されている、
    フィルタ。
  2. 　前記隙間は、前記フィルタ基体部の前記内壁と、前記複数の突出部の外壁との間に形成されている、
    請求項１に記載のフィルタ。
  3. 　前記隙間は、少なくとも前記フィルタ基体部の前記第１主面に位置する、
    請求項２に記載のフィルタ。
  4. 　前記内壁は、前記フィルタ基体部の前記第２主面から前記第１主面に向かって傾斜して延びるフラット面で形成されており、
    　前記外壁は、前記フィルタ基体部の前記第２主面から前記第１主面に向かって傾斜して延びるフラット面で形成されている、
    請求項２又は３に記載のフィルタ。
  5. 　前記複数の突出部のそれぞれは、前記第１主面に位置する突出面を有し、
    　前記フィルタ基体部を前記第１主面から見たとき、前記突出面の外形寸法は、前記第１開口の寸法の０．５倍以上１．０倍未満である、
    請求項１～４のいずれか一項に記載のフィルタ。
  6. 　前記支持部とは、第１方向に延びる複数の第１支持部材と、前記第１方向と交差する第２方向に延びる複数の第２支持部材と、を有する、
    請求項１～５のいずれか一項に記載のフィルタ。
  7. 　前記フィルタ基体部の熱膨張係数と前記支持部の熱膨張係数は、略等しい、
    請求項１～６のいずれか一項に記載のフィルタ。
  8. 　前記フィルタ基体部及び前記支持部は、金属及び金属酸化物のうち少なくともいずれかを主成分とする、
    請求項１～７のいずれか一項に記載のフィルタ。
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