WO2021220334A1 - 表示装置、及び、その製造方法 - Google Patents

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WO2021220334A1
WO2021220334A1 PCT/JP2020/017944 JP2020017944W WO2021220334A1 WO 2021220334 A1 WO2021220334 A1 WO 2021220334A1 JP 2020017944 W JP2020017944 W JP 2020017944W WO 2021220334 A1 WO2021220334 A1 WO 2021220334A1
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display device
layer
touch panel
segment
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PCT/JP2020/017944
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ジョン ムジラネザ
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シャープ株式会社
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    • G06F2203/04112—Electrode mesh in capacitive digitiser: electrode for touch sensing is formed of a mesh of very fine, normally metallic, interconnected lines that are almost invisible to see. This provides a quite large but transparent electrode surface, without need for ITO or similar transparent conductive material

Definitions

  • the present invention relates to a display device in which a touch panel is provided on a display panel.
  • Patent Document 1 a display device in which a touch panel is formed on a display panel equipped with an active matrix type OLED (organic light emitting diode, Organic Light Emitting Diode) is known (Patent Document 1).
  • OLED organic light emitting diode, Organic Light Emitting Diode
  • the display device described in Patent Document 1 detects a change in capacitance at a portion where the touch electrode extending in the row direction and the touch electrode extending in the column direction intersect in a plan view.
  • the touch electrode is close to the anode electrode of the OLED, the parasitic capacitance increases. Therefore, there is a problem that the time constant deteriorates and the sensitivity to a small change in capacitance decreases.
  • the display device includes a display panel and a touch panel provided on the display panel, and the touch panel includes a plurality of detection electrodes extending along a first direction in a plan view, and the plurality of detection electrodes.
  • Each of the plurality of driving electrodes is arranged between the detection electrodes of the above and has a plurality of driving electrodes extending along the first direction, and each of the plurality of driving electrodes is arranged along the first direction.
  • the display device provides a display device that is highly sensitive to small changes in capacitance by preventing an increase in parasitic capacitance and deterioration of the time constant even when a touch panel is formed on the display panel. can do.
  • FIG. It is a top view of the display device which concerns on Embodiment 1.
  • FIG. It is an enlarged view of the part A shown in FIG. It is a top view of the 1st electrode layer provided in the touch panel of the said display device. It is a top view of the 2nd electrode layer provided in the touch panel of the display device. It is sectional drawing of the said display device. It is a top view of the display device which concerns on Embodiment 2.
  • FIG. It is a top view of the 1st electrode layer provided in the touch panel of the said display device. It is a top view of the 2nd electrode layer provided in the touch panel of the display device. It is a top view of the display device which concerns on Embodiment 3.
  • FIG. 1 is a plan view of the display device 1 according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is an enlarged view of part A shown in FIG.
  • FIG. 3 is a plan view of the first electrode layer 7 provided on the touch panel 100 of the display device 1.
  • FIG. 4 is a plan view of the second electrode layer 8 provided on the touch panel 100 of the display device 1.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view of the display device 1.
  • the display device 1 includes a display panel 2 and a touch panel 100 provided on the display panel 2.
  • the touch panel 100 is not an out-cell type configured separately from the display panel 2, but a semi-in-cell type formed directly on the display panel 2. That is, as will be described later, the second electrode layer 8 and the wiring 6 which are the components of the touch panel 100 are directly formed on the second inorganic sealing film 223 which is the component of the display panel 2.
  • the touch panel 100 includes a plurality of detection electrodes 3 extending in parallel with each other along the X direction (first direction) in a plan view, and a plurality of detection electrodes 3 arranged between the plurality of detection electrodes 3 and extending along the X direction. It has a driving electrode 4 of the above.
  • Each of the plurality of drive electrodes 4 includes a plurality of electrode segments 5 arranged along the X direction and two wirings 6 connected to the plurality of electrode segments 5 and extended along the X direction.
  • the touch panel 100 is arranged between the first electrode layer 7, the second electrode layer 8 arranged between the first electrode layer 7 and the display panel 2, and between the first electrode layer 7 and the second electrode layer 8. It further has an insulating layer 9 to be formed.
  • the detection electrode 3 and the electrode segment 5 of the drive electrode 4 are formed in the first electrode layer 7.
  • the wiring 6 of the drive electrode 4 is formed on the second electrode layer 8.
  • Each of the plurality of detection electrodes 3 has a plurality of rhombic portions 10 extending in the Y direction in a plan view.
  • the electrode segment 5 is formed in a rhombus shape arranged at a corresponding position between the rhombus portions 10 adjacent to each other in the X direction.
  • the insulating layer 9 has a contact hole 11 for connecting the electrode segment 5 arranged in the first electrode layer 7 and the wiring 6 arranged in the second electrode layer 8.
  • the display panel 2 has a plurality of self-luminous display elements arranged in a matrix, and a plurality of pixel regions 12 arranged in a matrix corresponding to the plurality of self-luminous display elements.
  • the self-luminous display element has a configuration in which the first electrode 201 (anode), the EL (electroluminescence) layer 203, and the second electrode 21 (cathode) 21 are laminated in this order, and red light is emitted.
  • a self-luminous display element Xr that emits light
  • a self-luminous display element Xg that emits green light
  • a self-luminous display element Xb that emits blue light.
  • the detection electrode 3 and the drive electrode 4 are formed along a light-shielding region 13 arranged between a plurality of pixel regions 12.
  • the light-shielding region 13 is composed of, for example, an edge cover 202.
  • the light-shielding region 13 is formed in a grid pattern between the plurality of pixel regions 12.
  • the detection electrode 3 is formed in a lattice shape including a first stretched portion 14 extending along the X direction and a second stretched portion 15 extending along the Y direction on the light-shielding region 13.
  • the electrode segment 5 has a substantially diamond-shaped outer shape, and has a plurality of segment extending portions 16 extending along the light-shielding region 13 at predetermined intervals along the X direction, and each other. It is formed in a striped shape including a plurality of connecting portions 26 extending along the X direction from one end of the adjacent segment extending portion 16 in order to connect the adjacent segment extending portions 16.
  • the touch panel 100 supplies the drive signals TX1 and TX2 to the wiring 6 of the drive electrode 4, and transmits the charge signals RX1, RX2, and RX3 based on the charge between the electrode segment 5 of the drive electrode 4 and the detection electrode 3 from the detection electrode 3.
  • a control circuit 18 for reading out and detecting the mutual capacitance between the detection electrode 3 and the electrode segment 5 of the drive electrode 4 is further provided.
  • the display panel 2 is an active matrix (AM) type OLED (organic light emitting diode, Organic Light Emitting Diode) panel.
  • AM active matrix
  • OLED organic light emitting diode, Organic Light Emitting Diode
  • the display panel 2 is formed on a base material 190, a TFT (Thin Film Transistor) layer 19 containing a transistor TRp, a light emitting element layer 20 formed on the TFT layer 19, and a light emitting element layer 20. Includes the sealed sealing layer 22.
  • the TFT layer 19 includes a barrier layer (undercoat layer) 191 and a semiconductor layer PS above the barrier layer 191, a first inorganic layer 192 above the semiconductor layer PS, and a first layer above the first inorganic layer 192. 1 metal layer (including gate electrode GE, gate wire GE1, emission control wiring), a second inorganic layer 193 above the first metal layer, and a second metal layer above the second inorganic layer 193 (capacitive wiring).
  • the third inorganic layer 194 above the second metal layer, and the third metal layer above the third inorganic layer 194 (conductive layer DE, data signal line DL, high voltage power supply line (shown)). (Including), the main line of the high-voltage power supply line (not shown), the main line of the low-voltage power supply line (not shown)), and the flattening film 195 above the third metal layer.
  • the light emitting element layer 20 includes a first electrode 201 above the flattening film 195, an insulating edge cover 202 covering the first electrode 201, an EL (electroluminescence) layer 203 above the edge cover 202, and an EL. It includes a second electrode 21 (cathode) above the layer 203.
  • the sealing layer 22 can be composed of two layers of inorganic sealing films 221 and 223 and an organic sealing film 222 formed between them.
  • a touch panel 100 is formed on the display panel 2.
  • a flattening layer 23 and a circularly polarizing plate 24 are formed on the touch panel 100 in this order.
  • the detection electrode 3 and the drive electrode 4 of the touch panel 100 are placed on the sealing layer 22 of the display panel 2 so as not to have a negative influence on the image displayed on the display panel 2 in the pixel region 12. It is arranged along the light-shielding region 13 between them.
  • the detection electrode 3 and the drive electrode 4 of the touch panel 100 are stretched along the same X direction in order to reduce the cross coupling capacitance.
  • the first electrode layer 7 and the second electrode layer 8 are separated by an insulating layer 9.
  • the electrode segment 5 of the drive electrode 4 is connected to the wiring 6 through the contact hole 11 of the insulating layer 9.
  • the first electrode layer 7 includes a detection electrode 3 having a plurality of rhombic portions 10 extending along the X direction and extending along the Y direction.
  • the detection electrode 3 is formed in a lattice shape including a first stretching portion 14 extending along the X direction and a second stretching portion 15 extending along the Y direction on the light-shielding region 13.
  • the first electrode layer 7 further includes an electrode segment 5 of the drive electrode 4.
  • the electrode segment 5 has a plurality of segment stretched portions 16 extending along the Y direction on the light-shielding region 13 and one end of the adjacent segment stretched portions 16 in order to connect the segment stretched portions 16 adjacent to each other. It is formed in a striped shape including a plurality of connecting portions 26 extending from the X direction.
  • the second electrode layer 8 includes a plurality of wirings 6 connected to a plurality of electrode segments 5 of the drive electrode 4, respectively.
  • the wiring 6 extends in the same X direction as the detection electrode 3. Therefore, the detection electrode 3 and the drive electrode 4 do not intersect in a plan view. Therefore, the cross-coupling capacitance is reduced.
  • the drive electrode 4 and the detection electrode 3 of the touch panel 100 provided on the display panel 2 extend in a direction parallel to each other, so that they do not intersect with each other. Therefore, even if the drive electrode 4 and the detection electrode 3 are close to the first electrode 201 (anode) of the display panel 2, the parasitic capacitance related to the drive electrode 4 and the detection electrode 3 does not increase, and the time constant deteriorates. Be prevented. As a result, even if the touch panel 100 is formed on the display panel 2, it is possible to provide the display device 1 having high sensitivity to a small change in capacitance.
  • FIG. 6 is a plan view of the display device 1A according to the second embodiment.
  • FIG. 7 is a plan view of the first electrode layer 7 provided on the touch panel 100A of the display device 1A.
  • FIG. 8 is a plan view of the second electrode layer 8 provided on the touch panel 100A of the display device 1A. Similar reference numerals are given to the same components as those described above. Therefore, the detailed description of these components will not be repeated.
  • the difference between the display device 1A and the display device 1 of the first embodiment is that the shield electrode 17 is formed on the second electrode layer 8 of the touch panel 100A.
  • the display device 1A includes a display panel 2 and a touch panel 100A provided on the display panel 2.
  • the touch panel 100A has a plurality of detection electrodes 3 formed on the first electrode layer 7 and extending along the X direction, and a plurality of drive electrodes 4.
  • Each of the plurality of drive electrodes 4 is formed on the plurality of electrode segments 5 formed on the first electrode layer 7 and the second electrode layer 8, connected to the plurality of electrode segments 5, and stretched along the X direction. Includes two wires 6 and
  • the second electrode layer 8 further includes a plurality of shield electrodes 17 extending along the same X direction as the wiring 6 of the drive electrode 4.
  • Each shield electrode 17 is formed in a basic stretched portion 29 extending along the X direction so as to penetrate the plurality of electrode segments 5 in a plan view, and a second electrode layer 8 corresponding to each electrode segment 5.
  • a plurality of partially stretched portions 27 extending along the X direction on the light-shielding region 13 at predetermined intervals along the Y direction, and a partially stretched portion 27 or a partially stretched portion 27 adjacent to each other.
  • a plurality of connecting portions 28 extending from both ends of the partially stretched portion 27 along the Y direction are included.
  • the shield electrode 17 shields noise from the display panel 2 or reduces the virtual capacitance loaded on the detection electrode 3. Specifically, it shields the electric field between the electrodes and / or wiring of the display panel 2 and the electrode segment 5. A signal similar to the drive signals TX1 and TX2 supplied to the wiring 6 is supplied to the shield electrode 17.
  • the drive electrode 4 and the detection electrode 3 extend in parallel directions, so that they do not intersect with each other. Therefore, even if the drive electrode 4 and the detection electrode 3 are close to the first electrode 201 (anode) of the display panel 2, the parasitic capacitance related to the drive electrode 4 and the detection electrode 3 does not increase, and the deterioration of the time constant is prevented. Will be done. As a result, even if the touch panel 100A is formed on the display panel 2, it is possible to provide the display device 1A having high sensitivity to a small change in capacitance.
  • the touch panel 100A further has a shield electrode 17 formed on the second electrode layer 8 and extending along the wiring 6, noise from the display panel 2 to the touch panel 100A is shielded or a load is applied to the detection electrode 3.
  • the virtual capacity to be generated can be reduced.
  • FIG. 9 is a plan view of the display device 1B according to the third embodiment.
  • FIG. 10 is a plan view of the first electrode layer 7 provided on the touch panel 100B of the display device 1B.
  • FIG. 11 is a plan view of the second electrode layer 8 provided on the touch panel 100B of the display device 1B. Similar reference numerals are given to the same components as those described above. Therefore, the detailed description of these components will not be repeated.
  • This display device 1B differs from the display device 1 of the first embodiment described above in that the drive electrode 4 of the touch panel 100B includes the electrode segment 5B and that three wirings 6 are provided.
  • the display device 1B includes a display panel 2 and a touch panel 100B provided on the display panel 2.
  • the touch panel 100B has a plurality of detection electrodes 3 formed on the first electrode layer 7 and extending along the X direction, and a plurality of drive electrodes 4.
  • Each of the plurality of drive electrodes 4 is formed on the plurality of electrode segments 5B formed on the first electrode layer 7 and the second electrode layer 8, connected to the plurality of electrode segments 5B, and stretched along the X direction.
  • Drive signals TX1, TX2, and TX3 are supplied to the three wires 6, respectively.
  • the electrode segment 5B is formed so as to have an outer shape including a hyperbolic side side facing the rhombic portions 10 of the detection electrodes 3 on both sides in a plan view. Then, the electrode segment 5B connects a plurality of segment extending portions 16B extending along the Y direction over the light-shielding region 13 at predetermined intervals along the X direction and segment extending portions 16B adjacent to each other. Therefore, it is formed in a striped shape including a plurality of connecting portions 26 extending along the X direction from one end of the adjacent segment extending portion 16B.
  • the drive electrode 4 and the detection electrode 3 extend in parallel directions, so that they do not intersect with each other. Therefore, even if the drive electrode 4 and the detection electrode 3 are close to the first electrode 201 (anode) of the display panel 2, the parasitic capacitance related to the drive electrode 4 and the detection electrode 3 does not increase, and the deterioration of the time constant is prevented. Will be done. As a result, even if the touch panel 100B is formed on the display panel 2, it is possible to provide the display device 1B having high sensitivity to a small change in capacitance.
  • FIG. 12 is a cross-sectional view according to a modified example of the display device 1. Similar reference numerals are given to the same components as those described above in FIG. Therefore, the detailed description of these components will not be repeated.
  • the wiring 6 of the drive electrode 4 may be arranged in the second electrode layer 8 as shown in FIG. 5, or may be arranged in the first electrode layer 7 as shown in FIG. When the wiring 6 of the drive electrode 4 is arranged in the first electrode layer 7, the detection electrode 3 and the electrode segment 5 of the drive electrode 4 are arranged in the second electrode layer 8.
  • FIG. 13 is a plan view for explaining the arrangement of the touch panel wiring 6 according to the comparative example.
  • FIG. 14 is a plan view for explaining the arrangement of the wiring 6 of the touch panel 100 according to the first embodiment.
  • the display panel 2 has a display area DA in which a plurality of self-luminous display elements are arranged in a matrix, and a frame area GA surrounding the display area DA.
  • the wiring 6 is connected to a plurality of electrode segments 5 arranged along the Y direction, the display area DA is extended along the Y direction, and then the frame area GA is X. It was stretched in the direction. Therefore, the frame region GA needs to have a width for a plurality of wirings 6 to extend in parallel with each other along the X direction, and therefore it is difficult to narrow the frame region.
  • the frame region GA of the touch panel 100 according to the first embodiment can be made narrower than that of the comparative example.
  • FIG. 15 is a diagram for explaining the time constant of the touch panel wiring 6 according to the comparative example.
  • FIG. 16 is a diagram for explaining the time constant of the wiring 6 of the touch panel 100 according to the first embodiment.
  • the detection electrode 3 extending in the X direction and the driving electrode 4 extending in the Y direction intersect in a plan view. Then, since the change in the capacitance of the intersecting portion A is detected, the parasitic capacitance increases when the detection electrode 3 and the drive electrode 4 are close to the cathode electrode or the anode electrode of the OLED. Therefore, there is a problem that the time constant RC deteriorates and the sensitivity to a small change in capacitance decreases.
  • this time constant RC extends the frame region GA along the X direction of the wiring 6 of the drive electrode 4 and reaches a control IC (Integrated Circuit) (not shown). It depends on the resistance RT of the portion where the display region DA is extended and the resistance RE of the portion where the display region DA is extended along the Y direction of the wiring 6 of the drive electrode 4.
  • Both the cathode electrode coupling capacity and the electrode cross-coupling capacity increase the load capacity. Since the lengths of the wirings 6 of the different electrode segments 5 of the drive electrodes 4 are significantly different, the charge signals based on the charges at the intersections A between the detection electrodes 3 and the drive electrodes 4 are not uniform.
  • the time constant RC at the location B is the display region DA along the X direction of the wiring 6 of the drive electrode 4, as shown in (Equation 2) of FIG.
  • the time constant RC is reduced as compared with the comparative example.
  • the cross-coupling capacitance is not formed. Therefore, the entire load capacity is reduced. Further, since the lengths of the wirings 6 of the different electrode segments 5 of the drive electrodes 4 are not significantly different as in the comparative example, the charge signal based on the charge between the detection electrode 3 and the drive electrode 4 becomes uniform. ..
  • the display panel 2 may be a QLED (quantum dot light emitting diode, Quantum dot Light Emitting Diode) panel, or a liquid crystal panel.
  • QLED quantum dot light emitting diode, Quantum dot Light Emitting Diode
  • FIG. 17 is a flowchart showing a manufacturing method of the display device 1 of the first embodiment.
  • step S1 the display panel 2 is formed by coating a resin on a support substrate (not shown) by a coating method to form a base material 190 (step S1).
  • a barrier layer (undercoat layer) 191 is formed on the base material 190 by a CVD (chemical vapor deposition) method (step S2a).
  • an amorphous semiconductor layer is formed by a CVD method, dehydrogenated, and a semiconductor layer PS formed into a crystalline semiconductor layer is formed by laser annealing (step S2b).
  • the semiconductor layer PS is composed of, for example, low temperature polysilicon (LTPS) or an oxide semiconductor.
  • the first inorganic layer (gate insulating film) 192 is formed on the semiconductor layer PS and the barrier layer 191 by the CVD method (step S2c).
  • the first metal layer is formed by the sputtering method, and the gate electrode GE, the gate wire GE1, and the emission control wiring (not shown) are patterned by the photolithography method (step S2d).
  • the gate electrode GE, gate wire GE1, and emission control wiring are made of, for example, aluminum (Al), tungsten (W), molybdenum (Mo), tantalum (Ta), chromium (Cr), titanium (Ti), and copper (Cu). It is composed of a single-layer film or a laminated film of a metal containing at least one.
  • the second inorganic layer 193 is formed by the CVD method (step S2e).
  • the second metal layer is formed by the sputtering method, and the capacitive wiring CW is formed by the photolithography method (step S2f).
  • the capacitive wiring CW is a single-layer film of a metal containing at least one of aluminum (Al), tungsten (W), molybdenum (Mo), tantalum (Ta), chromium (Cr), titanium (Ti), and copper (Cu). Alternatively, it is composed of a laminated film.
  • the third inorganic layer 194 is formed by the CVD method (step S2g).
  • the first inorganic layer 192, the second inorganic layer 193, and the third inorganic layer 194 can be composed of a silicon oxide film, a silicon nitride film, a silicon nitride film, or a laminated film thereof.
  • a contact hole CH is formed in the first inorganic layer 192, the second inorganic layer 193, and the third inorganic layer 194 on the conductive region of the semiconductor layer PS by an etching method (step S21g).
  • a third metal layer is formed by a sputtering method, and a conductive layer DE, a data signal line DL, a high voltage power supply line (not shown), a trunk line of a high voltage power supply line (not shown), and a low voltage by a photolithography method.
  • the main line (not shown) of the power supply line is patterned (step S2h).
  • the conductive layer DE, the data signal line DL, the high voltage power supply line (not shown), the trunk line of the high voltage power supply line (not shown), and the trunk line of the low voltage power supply line (not shown) are made of aluminum (Al). ), Tungsten (W), molybdenum (Mo), tantalum (Ta), chromium (Cr), titanium (Ti), and copper (Cu).
  • the flattening film 195 is formed by the coating method (step S2i).
  • a fourth metal layer is formed by a sputtering method, and a first electrode (pixel electrode) 201 is formed by a photolithography method (step 4Sa).
  • the first electrode 201 is composed of, for example, a laminate of ITO (Indium Tin Oxide) and an alloy containing Ag, and has light reflectivity (detailed later).
  • the resin layer is formed by the coating method, and the edge cover 202 is formed by the photolithography method (step S4b).
  • the edge cover 202 can be made of a coatable photosensitive organic material such as polyimide or acrylic.
  • the light emitting layer (organic EL layer) 203 is formed by a vapor deposition method (step S4c).
  • the light emitting layer 203 is composed of, for example, laminating a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer in this order from the lower layer side.
  • the second electrode 21 is formed by the vapor deposition method (step S4d).
  • the second electrode 21 (cathode) can be made of a translucent conductive material such as ITO or IZO (Indium Zinc Oxide).
  • step S5a the inorganic sealing film 221 is formed by the CVD method. Further, the organic sealing film 222 is formed by the coating method (step S5b). Next, the second inorganic sealing film 223 is formed by the CVD method (step S5c).
  • the display panel 2 is formed by the above steps.
  • step S6 the wiring 6 of the drive electrode 4 and the shield electrode 17 are formed on the sealing layer 22 of the display panel 2 by a vapor deposition method using a metal mask.
  • step S7 the insulating layer 9 covering the wiring 6 and the shield electrode 17 is formed by the coating method (step S7).
  • the contact hole 11 is formed by the photolithography method (step S8).
  • a first electrode layer 7 including the electrode segment 5 of the drive electrode 4 and the detection electrode 3 is formed on the insulating layer 9 by a vapor deposition method using a metal mask (step S9).
  • the wiring 6 and the electrode segment 5 are made of silver (Ag), aluminum (Al), titanium (Ti), molybdenum (Mo), copper (Cu), or ITO, IZO, ZnO, and polystyrene sulfonate (PEDOT:). It can be constructed of a translucent material such as PSS).
  • the flattening layer 23 is formed by the coating method (step S10).
  • the flattening layer 23 and the insulating layer 9 can be made of an acrylic resin or an epoxy resin.
  • the circularly polarizing plate 24 is attached via the adhesive layer (step S11).
  • a top film (not shown) is attached via the adhesive layer (step S12).
  • laser irradiation is performed from the non-formed surface side of the TFT layer 19 of the support substrate to peel off the support substrate from the base material 190 (step S13).
  • a lower surface film (not shown) is attached to the non-formed surface side of the TFT layer 19 of the base material 190 (step S14).
  • the display device 1 of the first embodiment is formed.
  • FIG. 18 is a schematic view of the display device 1C according to the fourth embodiment.
  • FIG. 19 is a schematic view of a display device according to a comparative example. The same components as those described above are designated by the same reference numerals, and the detailed description thereof will not be repeated.
  • the display device 1C includes a foldable display panel 2C that can be folded.
  • the touch panel 100C can be formed on the display panel 2C.
  • the configuration of the touch panel 100C is the same as that of the touch panel 100 described above in the first embodiment.
  • the foldable display panel 2C is prone to cracks especially at the end 25 of the hinge portion when the folding operation is repeated. Therefore, as in the comparative example, when the wiring 6 connected to each electrode segment 5 extends the frame region GA, the wiring 6 may be damaged by the crack generated at the end portion 25 of the hinge portion, and the performance of the touch panel. There is a problem of affecting.
  • the wiring 6 connected to each electrode segment 5 extends the display area DA, and does not extend the frame area GA as in the comparative example. Therefore, even if a crack occurs at the end 25 of the hinge portion, the risk of damage to the wiring 6 is reduced as compared with the comparative example, and the performance of the touch panel 100C is not affected. As a result, the robustness of the foldable display panel 2C can be improved.
  • Display device 2 Display panel 3 Detection electrode 4 Drive electrode 5 Electrode segment 6 Wiring 7 First electrode layer (electrode layer) 8 Second electrode layer 9 Insulation layer 10 Rhombus part 11 Contact hole 12 Pixel area 13 Light-shielding area 14 First extension part 15 Second extension part 16 Segment extension part 17 Shield electrode 18 Control circuit 26 Connection part 100 Touch panel TX1, TX2, TX3 Drive signal RX1, RX2, RX3 Charge signal

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Abstract

表示装置（１）は、表示パネル（２）上に設けられるタッチパネル（１００）を備え、タッチパネル（１００）が、Ｘ方向に延伸する複数の検出電極（３）と、検出電極（３）の間にそれぞれ配置されてＸ方向に延伸する複数の駆動電極（４）とを有し、駆動電極（４）のそれぞれが、Ｘ方向に配列される複数の電極セグメント（５）と、電極セグメント（５）にそれぞれ接続されてＸ方向に延伸する複数の配線（６）とを含む。

Description

表示装置、及び、その製造方法
　本発明は、表示パネルの上にタッチパネルを設けた表示装置に関する。
　従来、アクティブマトリックス型のＯＬＥＤ（有機発光ダイオード、Organic Light Emitting Diode）を備えた表示パネルの上にタッチパネルを形成した表示装置が知られている（特許文献１）。
米国特許出願公開第2015/0049030号明細書（2015年2月19日公開）
　しかしながら、特許文献１に記載の表示装置は、行方向に延伸するタッチ電極と列方向に延伸するタッチ電極とが平面視で交差している箇所の静電容量の変化を検出しているため、タッチ電極がＯＬＥＤのアノード電極と近接していると寄生容量が大きくなる。このため、時定数が悪化して小さな容量の変化に対する感度が減少するという課題が存在する。
　本発明の一態様に係る表示装置は、表示パネルと、前記表示パネル上に設けられるタッチパネルとを備え、前記タッチパネルが、平面視で第１方向に沿って延伸する複数の検出電極と、前記複数の検出電極の間にそれぞれ配置されて前記第１方向に沿って延伸する複数の駆動電極とを有し、前記複数の駆動電極のそれぞれが、前記第１方向に沿って配列される複数の電極セグメントと、前記複数の電極セグメントにそれぞれ接続されて前記第１方向に沿って延伸する複数の配線とを含む。
　本発明の一態様に係る表示装置は、表示パネルの上にタッチパネルが形成されても寄生容量の増大と時定数の悪化が防止され、小さな容量の変化に対して高い感度を有する表示装置を提供することができる。
実施形態１に係る表示装置の平面図である。 図１に示されるＡ部の拡大図である。 上記表示装置のタッチパネルに設けられた第１電極層の平面図である。 上記表示装置のタッチパネルに設けられた第２電極層の平面図である。 上記表示装置の断面図である。 実施形態２に係る表示装置の平面図である。 上記表示装置のタッチパネルに設けられた第１電極層の平面図である。 上記表示装置のタッチパネルに設けられた第２電極層の平面図である。 実施形態３に係る表示装置の平面図である。 上記表示装置のタッチパネルに設けられた第１電極層の平面図である。 上記表示装置のタッチパネルに設けられた第２電極層の平面図である。 上記表示装置の変形例に係る断面図である。 比較例に係る表示装置の配線の配置を説明するための平面図である。 実施形態１～３に係る表示装置の配線の配置を説明するための平面図である。 比較例に係る表示装置の配線の時定数を説明するための図である。 実施形態１～３に係る表示装置の配線の時定数を説明するための図である。 実施形態１に係る表示装置の製造方法を示すフローチャートである。 実施形態４に係る表示装置の模式図である。 比較例に係る表示装置の模式図である。
　（実施形態１）
　図１は実施形態１に係る表示装置１の平面図である。図２は図１に示されるＡ部の拡大図である。図３は表示装置１のタッチパネル１００に設けられた第１電極層７の平面図である。図４は表示装置１のタッチパネル１００に設けられた第２電極層８の平面図である。図５は上記表示装置１の断面図である。
　表示装置１は、表示パネル２と、表示パネル２の上に設けられるタッチパネル１００とを備える。このタッチパネル１００は、表示パネル２と分離して構成されるアウトセル型ではなく、表示パネル２の上に直接形成されるセミインセル型である。即ち、後に説明するように、タッチパネル１００の構成要素である第２電極層８および配線６などが、表示パネル２の構成要素である第２無機封止膜２２３上に直接形成されている。
　タッチパネル１００は、平面視でＸ方向（第１方向）に沿って互いに平行に延伸する複数の検出電極３と、この複数の検出電極３の間にそれぞれ配置されてＸ方向に沿って延伸する複数の駆動電極４とを有する。
　複数の駆動電極４のそれぞれは、Ｘ方向に沿って配列される複数の電極セグメント５と、複数の電極セグメント５にそれぞれ接続されてＸ方向に沿って延伸する２本の配線６とを含む。
　タッチパネル１００は、第１電極層７と、第１電極層７と表示パネル２との間に配置される第２電極層８と、第１電極層７と第２電極層８との間に配置される絶縁層９とをさらに有する。検出電極３と駆動電極４の電極セグメント５とは第１電極層７に形成される。駆動電極４の配線６は第２電極層８に形成される。
　複数の検出電極３のそれぞれは、平面視でＹ方向に向かって広がる複数の菱形部１０を有する。電極セグメント５は、Ｘ方向に隣接する菱形部１０の間に対応する位置に配置される菱形形状に形成される。
　絶縁層９は、第１電極層７に配置される電極セグメント５と第２電極層８に配置される配線６とを接続するためのコンタクトホール１１を有する。
　表示パネル２は、マトリックス状に配置された複数の自発光型表示素子と、この複数の自発光型表示素子に対応してマトリックス状に配置された複数の画素領域１２とを有する。ここで、自発光型表示素子は、第１電極２０１(アノード)と、ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）層２０３と、第２電極２１（カソード）２１が、この順に積層された構成であり、赤色の光を発光する自発光型表示素子Ｘｒと、緑色の光を発光する自発光型表示素子Ｘｇと、青色の光を発光する自発光型表示素子Ｘｂを含む。
　検出電極３と駆動電極４とは、複数の画素領域１２の間に配置された遮光領域１３に沿って形成される。遮光領域１３は、例えばエッジカバー２０２により構成される。
　この遮光領域１３は、複数の画素領域１２の間に格子状に形成される。検出電極３は、遮光領域１３の上をＸ方向に沿って延伸する第１延伸部１４とＹ方向に沿って延伸する第２延伸部１５とを含む格子形状に形成される。電極セグメント５は、概略菱形状の外形を有しており、Ｘ方向に沿って所定の間隔を空けて遮光領域１３の上をＹ方向に沿ってそれぞれ延伸する複数のセグメント延伸部１６と、互いに隣接するセグメント延伸部１６を接続するために当該隣接するセグメント延伸部１６の一方の両端からＸ方向に沿って延伸する複数の接続部２６とを含むストライプ形状に形成される。
　タッチパネル１００は、駆動電極４の配線６に駆動信号ＴＸ１・ＴＸ２を供給し、駆動電極４の電極セグメント５と検出電極３との間の電荷に基づく電荷信号ＲＸ１・ＲＸ２・ＲＸ３を検出電極３から読み出して検出電極３と前記駆動電極４の電極セグメント５との間の相互容量を検出するための制御回路１８をさらに備える。
　表示パネル２は、アクティブマトリックス（ＡＭ）型ＯＬＥＤ（有機発光ダイオード、Organic Light Emitting Diode）パネルである。
　表示パネル２は、基材１９０上に、トランジスタＴＲｐを含むＴＦＴ（Thin Film Transistor，薄膜トランジスタ）層１９と、ＴＦＴ層１９の上に形成された発光素子層２０と、発光素子層２０の上に形成された封止層２２とを含む。ＴＦＴ層１９は、バリア層（アンダーコート層）１９１と、バリア層１９１よりも上層の半導体層ＰＳと、半導体層ＰＳよりも上層の第１無機層１９２と、第１無機層１９２より上層の第１金属層（ゲート電極ＧＥ、ゲート線ＧＥ１、エミッション制御配線を含む）と、第１金属層よりも上層の第２無機層１９３と、第２無機層１９３より上層の第２金属層（容量配線ＣＷを含む）と、第２金属層より上層の第３無機層１９４と、第３無機層１９４よりも上層の第３金属層（導電層ＤＥ、データ信号線ＤＬ、高電圧電源線（図示せず）、高電圧電源線の幹線（図示せず）、低電圧電源線の幹線（図示せず）を含む）と、第３金属層より上層の平坦化膜１９５とで構成される。
　発光素子層２０は、平坦化膜１９５より上層の第１電極２０１と、第１電極２０１を覆う絶縁性のエッジカバー２０２と、エッジカバー２０２よりも上層のＥＬ（エレクトロルミネッセンス）層２０３と、ＥＬ層２０３よりも上層の第２電極２１（カソード）とを含む。
　封止層２２は、２層の無機封止膜２２１、２２３と、これらの間に形成される有機封止膜２２２とで構成することができる。
　この表示パネル２の上にタッチパネル１００が形成される。タッチパネル１００の上には、平坦化層２３と円偏光板２４とがこの順番に形成される。
　このように、タッチパネル１００の検出電極３及び駆動電極４は、表示パネル２の封止層２２の上で、表示パネル２に表示される画像にネガティブな影響を与えないように、画素領域１２の間の遮光領域１３に沿って配置される。
　そして、タッチパネル１００の検出電極３及び駆動電極４は、クロス結合容量を低減するために、同じＸ方向に沿って延伸する。第１電極層７と第２電極層８とは絶縁層９によって分離される。
　駆動電極４の電極セグメント５は、絶縁層９のコンタクトホール１１を通って配線６と接続される。
　図３に示すように、第１電極層７は、Ｘ方向に沿って延伸し、Ｙ方向に沿って広がる複数の菱形部１０を有する検出電極３を含む。この検出電極３は、遮光領域１３の上をＸ方向に沿って延伸する第１延伸部１４とＹ方向に沿って延伸する第２延伸部１５とを含む格子形状に形成される。
　第１電極層７は、駆動電極４の電極セグメント５をさらに含む。この電極セグメント５は、遮光領域１３の上をＹ方向に沿って延伸する複数のセグメント延伸部１６と、互いに隣接するセグメント延伸部１６を接続するために当該隣接するセグメント延伸部１６の一方の両端からＸ方向に沿って延伸する複数の接続部２６とを含むストライプ形状に形成される。
　図４に示すように、第２電極層８は、駆動電極４の複数の電極セグメント５にそれぞれ接続された複数の配線６を含む。配線６は、検出電極３と同じＸ方向に延伸する。このため、検出電極３と駆動電極４とは平面視で交差しない。従って、クロス結合容量が低減される。
　このように実施形態１によれば、表示パネル２上に設けられるタッチパネル１００の駆動電極４と検出電極３とが、互いに平行な方向に延伸するので互いに交差しない。このため、駆動電極４と検出電極３とが表示パネル２の第１電極２０１(アノード)と近接しても駆動電極４と検出電極３とに係る寄生容量が大きくならず、時定数の悪化が防止される。この結果、表示パネル２の上にタッチパネル１００が形成されても小さな容量の変化に対して高い感度を有する表示装置１を提供することができる。
　（実施形態２）
　図６は実施形態２に係る表示装置１Ａの平面図である。図７は表示装置１Ａのタッチパネル１００Ａに設けられた第１電極層７の平面図である。図８は表示装置１Ａのタッチパネル１００Ａに設けられた第２電極層８の平面図である。前述した構成要素と同様の構成要素には同様の参照符号を付している。従って、これらの構成要素の詳細な説明は繰り返さない。
　この表示装置１Ａが前述した実施形態１の表示装置１と異なる点は、タッチパネル１００Ａの第２電極層８に、シールド電極１７が形成されている点である。
　表示装置１Ａは、表示パネル２と、表示パネル２の上に設けられるタッチパネル１００Ａとを備える。タッチパネル１００Ａは、第１電極層７に形成されてＸ方向に沿って延伸する複数の検出電極３と、複数の駆動電極４とを有する。複数の駆動電極４のそれぞれは、第１電極層７に形成される複数の電極セグメント５と、第２電極層８に形成され、複数の電極セグメント５にそれぞれ接続されてＸ方向に沿って延伸する２本の配線６とを含む。
　図８に示すように、第２電極層８は、駆動電極４の配線６と同じＸ方向に沿って延伸する複数のシールド電極１７をさらに含む。各シールド電極１７は、平面視で複数の電極セグメント５を貫通するようにＸ方向に沿って延伸する基本延伸部２９と、各電極セグメント５に対応するように第２電極層８に形成されて、Ｙ方向に沿って所定の間隔を空けて遮光領域１３の上をＸ方向に沿ってそれぞれ延伸する複数の部分延伸部２７と、互いに隣接する部分延伸部２７、又は、部分延伸部２７と基本延伸部２９とを接続するために、部分延伸部２７の両端からＹ方向に沿って延伸する複数の接続部２８とを含む。
　シールド電極１７は、表示パネル２からのノイズをシールドし、又は、検出電極３に負荷される仮想容量を低減する。詳細には、表示パネル２の電極および／または配線と電極セグメント５の間の電界を遮蔽する。シールド電極１７には、配線６に供給される駆動信号ＴＸ１・ＴＸ２と同様の信号が供給される。
　実施形態２も、実施形態１と同様に、駆動電極４と検出電極３とが、互いに平行な方向に延伸するので互いに交差しない。従って、駆動電極４と検出電極３とが表示パネル２の第１電極２０１(アノード)と近接しても駆動電極４と検出電極３とに係る寄生容量が大きくならず、時定数の悪化が防止される。この結果、表示パネル２の上にタッチパネル１００Ａが形成されても小さな容量の変化に対して高い感度を有する表示装置１Ａを提供することができる。
　また、タッチパネル１００Ａが、第２電極層８に形成されて配線６に沿って延伸するシールド電極１７をさらに有するので、表示パネル２からタッチパネル１００Ａへのノイズをシールドし、又は、検出電極３に負荷される仮想容量を低減することができる。
　（実施形態３）
　図９は実施形態３に係る表示装置１Ｂの平面図である。図１０は表示装置１Ｂのタッチパネル１００Ｂに設けられた第１電極層７の平面図である。図１１は表示装置１Ｂのタッチパネル１００Ｂに設けられた第２電極層８の平面図である。前述した構成要素と同様の構成要素には同様の参照符号を付している。従って、これらの構成要素の詳細な説明は繰り返さない。
　この表示装置１Ｂが前述した実施形態１の表示装置１と異なる点は、タッチパネル１００Ｂの駆動電極４が電極セグメント５Ｂを含む点、及び配線６が３本設けられている点である。
　表示装置１Ｂは、表示パネル２と、表示パネル２の上に設けられるタッチパネル１００Ｂとを備える。タッチパネル１００Ｂは、第１電極層７に形成されてＸ方向に沿って延伸する複数の検出電極３と、複数の駆動電極４とを有する。複数の駆動電極４のそれぞれは、第１電極層７に形成される複数の電極セグメント５Ｂと、第２電極層８に形成され、複数の電極セグメント５Ｂにそれぞれ接続されてＸ方向に沿って延伸する３本の配線６とを含む。３本の配線６には駆動信号ＴＸ１・ＴＸ２・ＴＸ３がそれぞれ供給される。
　電極セグメント５Ｂは、平面視で両隣の検出電極３の菱形部１０に対向する双曲線状の側辺を含む外形を有するように形成される。そして、電極セグメント５Ｂは、Ｘ方向に沿って所定の間隔を空けて遮光領域１３の上をＹ方向に沿ってそれぞれ延伸する複数のセグメント延伸部１６Ｂと、互いに隣接するセグメント延伸部１６Ｂを接続するために当該隣接するセグメント延伸部１６Ｂの一方の両端からＸ方向に沿って延伸する複数の接続部２６とを含むストライプ形状に形成される。
　実施形態３も、実施形態１と同様に、駆動電極４と検出電極３とが、互いに平行な方向に延伸するので互いに交差しない。従って、駆動電極４と検出電極３とが表示パネル２の第１電極２０１(アノード)と近接しても駆動電極４と検出電極３とに係る寄生容量が大きくならず、時定数の悪化が防止される。この結果、表示パネル２の上にタッチパネル１００Ｂが形成されても小さな容量の変化に対して高い感度を有する表示装置１Ｂを提供することができる。
　図１２は表示装置１の変形例に係る断面図である。図５で前述した構成要素と同様の構成要素には同様の参照符号を付している。従って、これらの構成要素の詳細な説明は繰り返さない。
　駆動電極４の配線６は、図５に示すように第２電極層８に配置されても良いし、図１２に示すように第１電極層７に配置されてもよい。駆動電極４の配線６が第１電極層７に配置される場合、検出電極３及び駆動電極４の電極セグメント５は第２電極層８に配置される。
　図１３は比較例に係るタッチパネルの配線６の配置を説明するための平面図である。図１４は実施形態１に係るタッチパネル１００の配線６の配置を説明するための平面図である。表示パネル２は、複数の自発光型表示素子がマトリックス状に配置された表示領域ＤＡと、表示領域ＤＡを囲む額縁領域ＧＡとを有する。
　比較例では、配線６は、図１３に示すように、Ｙ方向に沿って配列された複数の電極セグメント５に接続されて表示領域ＤＡをＹ方向に沿って延伸した後、額縁領域ＧＡをＸ方向に延伸していた。このため、額縁領域ＧＡは、複数本の配線６がＸ方向に沿って互いに平行に延伸することができるための幅が必要であり、従って、狭額縁化が困難であった。
　これに対して、実施形態１に係るタッチパネル１００では、配線６は、複数の電極セグメント５から直接Ｘ方向に沿って表示領域ＤＡを延伸するので、比較例のように、額縁領域ＧＡをＸ方向に延伸する必要が消滅する。従って、実施形態１に係るタッチパネル１００の額縁領域ＧＡは、比較例よりも狭額縁化することが可能となる。
　図１５は比較例に係るタッチパネルの配線６の時定数を説明するための図である。図１６は実施形態１に係るタッチパネル１００の配線６の時定数を説明するための図である。
　比較例に係るタッチパネルでは、Ｘ方向に延伸する検出電極３とＹ方向に延伸する駆動電極４とが平面視で交差している。そして、この交差している箇所Ａの静電容量の変化を検出しているため、検出電極３、駆動電極４がＯＬＥＤのカソード電極又はアノード電極と近接していると寄生容量が大きくなる。このため、時定数ＲＣが悪化して小さな容量の変化に対する感度が減少するという課題が存在する。
　この時定数ＲＣは、図１５の（式１）に示すように、駆動電極４の配線６のＸ方向に沿って額縁領域ＧＡを延伸して図示しない制御ＩＣ（Integrated Circuit、集積回路）まで到達する箇所の抵抗ＲＴと、駆動電極４の配線６のＹ方向に沿って表示領域ＤＡを延伸する箇所の抵抗ＲＥとに依存する。
　カソード電極結合容量と電極交差結合容量との双方が負荷容量を増大させる。そして、駆動電極４の異なる電極セグメント５の配線６の長さが大きく異なるので、検出電極３と駆動電極４との交差箇所Ａの電荷に基づく電荷信号が一様にならなくなる。
　これに対して、実施形態１に係るタッチパネル１００では、例えば箇所Ｂの時定数ＲＣは、図１６の（式２）に示すように、駆動電極４の配線６のＸ方向に沿って表示領域ＤＡを延伸して図示しない制御ＩＣまで到達する箇所の抵抗ＲＴ＊のみに依存し、Ｙ方向に沿って表示領域ＤＡを延伸する箇所は消滅する。従って、時定数ＲＣが比較例よりも低減される。
　実施形態１に係るタッチパネル１００では、検出電極３と駆動電極４との交差箇所が存在しないので、交差結合容量が形成されない。このため、負荷容量全体が低減される。また、駆動電極４の異なる電極セグメント５の配線６の長さが比較例のように大きく異なることがないので、検出電極３と駆動電極４との間の電荷に基づく電荷信号が一様になる。
　なお、表示パネル２がＯＬＥＤパネルである例を示したが、本発明はこれに限定されない。表示パネル２は、ＱＬＥＤ（量子ドット発光ダイオード、Quantum dot Light Emitting Diode）パネルであってもよいし、液晶パネルでもよい。
　次に、実施形態１に係る表示装置１の製造方法について、図１７、図５を用いて以下に説明する。図１７は、実施形態１の表示装置１の製造方法を示すフローチャートである。
　まず、表示パネル２は、ステップＳ１において、支持基板（図示せず）上に塗布法により樹脂を塗布して基材１９０を形成する（ステップＳ１）。次いで、基材１９０上にＣＶＤ（ＣＶＤ:chemical vapor deposition）法によりバリア層（アンダーコート層）１９１が形成される（ステップＳ２ａ）。
　次いで、ＣＶＤ法により非晶質半導体層を形成し、脱水素化処理し、レーザーアニールにより結晶性半導体層とした半導体層ＰＳを形成する（ステップＳ２ｂ）。半導体層ＰＳは、例えば低温ポリシリコン（ＬＴＰＳ）あるいは酸化物半導体で構成される。
　次に、半導体層ＰＳおよびバリア層１９１上に、ＣＶＤ法により第１無機層（ゲート絶縁膜）１９２の形成を形成する（ステップＳ２ｃ）。次に、スパッタリング法により第１金属層を形成し、フォトリソグラフィー法によりゲート電極ＧＥ、ゲート線ＧＥ１、エミッション制御配線（図示せず）をパターンニングする（ステップＳ２ｄ）。ゲート電極ＧＥ、ゲート線ＧＥ１、エミッション制御配線は、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、銅（Ｃｕ）の少なくとも１つを含む金属の単層膜あるいは積層膜によって構成される。
　次に、ＣＶＤ法により、第２無機層１９３を形成する（ステップＳ２ｅ）。次に、スパッタリング法により第２金属層を形成し、フォトリソグラフィー法により容量配線ＣＷを形成する（ステップＳ２ｆ）。容量配線ＣＷは、アルミニウム（Ａｌ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、銅（Ｃｕ）の少なくとも１つを含む金属の単層膜あるいは積層膜によって構成される。
　次に、ＣＶＤ法により、第３無機層１９４を形成する（ステップＳ２ｇ）。ここで、第１無機層１９２、第２無機層１９３、および、第３無機層１９４は、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、あるいは酸窒化シリコン膜、またはこれらの積層膜で構成することができる。
　次に、エッチング法により、半導体層ＰＳの導電領域上の第１無機層１９２、第２無機層１９３、および、第３無機層１９４に、コンタクトホールＣＨを形成する（ステップＳ２１ｇ）。
　次いで、スパッタリング法により第３金属層を形成し、フォトリソグラフィー法により導電層ＤＥ、データ信号線ＤＬ、高電圧電源線（図示せず）、高電圧電源線の幹線（図示せず）、低電圧電源線の幹線（図示せず）をパターニングする（ステップＳ２ｈ）。
　ここで、導電層ＤＥ、データ信号線ＤＬ、高電圧電源線（図示せず）、高電圧電源線の幹線（図示せず）、低電圧電源線の幹線（図示せず）は、アルミニウム（Ａｌ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、銅（Ｃｕ）の少なくとも１つを含む金属の単層膜あるいは積層膜によって構成される。
　次に、塗布法により平坦化膜１９５を形成する（ステップＳ２ｉ）。次に、スパッタリング法により、第４金属層を成膜し、フォトリソグラフィー法により第１電極（画素電極）２０１を形成する（ステップ４Ｓａ）。第１電極２０１は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）とＡｇを含む合金との積層によって構成され、光反射性を有する（後に詳述）。
　次に、塗布法により樹脂層を形成し、フォトリソグラフィー法によりエッジカバー２０２を形成する（ステップＳ４ｂ）。エッジカバー２０２は、例えば、ポリイミド、アクリル等の塗布可能な感光性有機材料によって構成することができる。
　次に、蒸着法により発光層（有機ＥＬ層）２０３を形成する（ステップＳ４ｃ）。発光層２０３は、例えば、下層側から順に、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層を積層することで構成される。
　次に、蒸着法により第２電極２１を形成する（ステップＳ４ｄ）。第２電極２１（カソード）は、ＩＴＯ、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）等の透光性の導電材で構成することができる。
　次に、ＣＶＤ法により無機封止膜２２１を形成する（ステップＳ５ａ）。更に、塗布法により有機封止膜２２２を形成する（ステップＳ５ｂ）。次に、ＣＶＤ法により第２無機封止膜２２３を形成する（ステップＳ５ｃ）。
　以上の工程により表示パネル２が形成される。
　次に、表示パネル２の封止層２２上に、金属マスクを使った蒸着法により駆動電極４の配線６、及び、シールド電極１７を形成する（ステップＳ６）。次に、配線６、シールド電極１７を覆う絶縁層９を塗布法により形成する（ステップＳ７）。
　次に、フォトリソグラフィー法によりコンタクトホール１１を形成する（ステップＳ８）。次に、金属マスクを使った蒸着法により駆動電極４の電極セグメント５、検出電極３を含む第１電極層７を絶縁層９の上に形成する（ステップＳ９）。
　配線６、及び、電極セグメント５は、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、モリブデン（Ｍｏ）、銅（Ｃｕ）、または、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、及び、ポリスチレンスルホネート （ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）のような透光性の材料によって構成できる。
　次に、塗布法により平坦化層２３を形成する（ステップＳ１０）。平坦化層２３、及び、絶縁層９は、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂によって構成できる。
　次に、接着材層を介して円偏光板２４を貼り付ける（ステップＳ１１）。次に、接着材層を介して上面フィルム（図示せず）を貼り付ける（ステップＳ１２）。次に、支持基板のＴＦＴ層１９の非形成面側からレーザー照射を行って支持基板を基材１９０から剥離する（ステップＳ１３）。次に、基材１９０のＴＦＴ層１９の非形成面側に、下面フィルム（図示せず）を貼り付ける（ステップＳ１４）。
　以上の工程により表示パネル２上にタッチパネル１００が形成されることによって、実施形態１の表示装置１が形成される。
　（実施形態４）
　図１８は実施形態４に係る表示装置１Ｃの模式図である。図１９は比較例に係る表示装置の模式図である。前述した構成要素と同様の構成要素には同様の参照符号を付し、その詳細な説明は繰り返さない。
　表示装置１Ｃは、折り畳むことができるフォルダブル表示パネル２Ｃを備える。表示パネル２Ｃの上にタッチパネル１００Ｃを形成することができる。タッチパネル１００Ｃの構成は実施形態１で前述したタッチパネル１００と同様である。
　フォルダブル表示パネル２Ｃは折り畳み動作を繰り返すと特にヒンジ部の端部２５で亀裂が発生しやすい。このため、比較例のように、各電極セグメント５に接続された配線６が額縁領域ＧＡを延伸すると、ヒンジ部の端部２５で発生した亀裂により配線６が損傷するおそれがあり、タッチパネルの性能に影響を及ぼすという課題が存在する。
　これに対して、実施形態４に係るタッチパネル１００Ｃでは、各電極セグメント５に接続された配線６が表示領域ＤＡを延伸し、比較例のように額縁領域ＧＡを延伸しない。このため、ヒンジ部の端部２５で亀裂が発生しても、配線６が損傷するおそれが比較例よりも低減され、タッチパネル１００Ｃの性能に影響を及ぼさない。この結果、フォルダブル表示パネル２Ｃのロバスト性を向上させることができる。
　本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。
　１　表示装置
　２　表示パネル
　３　検出電極
　４　駆動電極
　５　電極セグメント
　６　配線
　７　第１電極層（電極層）
　８　第２電極層
　９　絶縁層
１０　菱形部
１１　コンタクトホール
１２　画素領域
１３　遮光領域
１４　第１延伸部
１５　第２延伸部
１６　セグメント延伸部
１７　シールド電極
１８　制御回路
２６　接続部
１００　タッチパネル
ＴＸ１、ＴＸ２、ＴＸ３　駆動信号
ＲＸ１、ＲＸ２、ＲＸ３　電荷信号

Claims (11)

  1. 　表示パネルと、
    　前記表示パネル上に設けられるタッチパネルとを備え、
    　前記タッチパネルが、平面視で第１方向に沿って延伸する複数の検出電極と、
    　前記複数の検出電極の間にそれぞれ配置されて前記第１方向に沿って延伸する複数の駆動電極とを有し、
    　前記複数の駆動電極のそれぞれが、前記第１方向に沿って配列される複数の電極セグメントと、
    　前記複数の電極セグメントにそれぞれ接続されて前記第１方向に沿って延伸する複数の配線とを含むことを特徴とする表示装置。
  2. 　前記タッチパネルが、第１電極層と、
    　前記第１電極層と前記表示パネルとの間に配置される第２電極層と、
    　前記第１電極層と前記第２電極層との間に配置される絶縁層とをさらに有し、
    　前記検出電極と前記駆動電極の電極セグメントとが前記第１電極層に形成され、
    　前記駆動電極の配線が前記第２電極層に形成されることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
  3. 　前記タッチパネルの前記複数の検出電極のそれぞれは、平面視で前記第１方向に垂直な第２方向に向かって広がる複数の菱形部を有することを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
  4. 　前記タッチパネルの前記電極セグメントが、前記第１方向に隣接する前記菱形部の間に対応する位置に配置される菱形形状に形成されることを特徴とする請求項３に記載の表示装置。
  5. 　前記タッチパネルの前記絶縁層が、前記電極セグメントと前記配線とを接続するためのコンタクトホールを有することを特徴とする請求項２に記載の表示装置。
  6. 　前記表示パネルが複数の画素領域を有し、
    　前記タッチパネルの前記検出電極と前記駆動電極とが、前記複数の画素領域の間に配置された遮光領域に沿って形成されることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
  7. 　前記遮光領域が、前記画素領域の間に格子状に形成され、
    　前記タッチパネルの前記検出電極が、前記遮光領域の上を前記第１方向に沿って延伸する第１延伸部と前記第１方向に垂直な第２方向に沿って延伸する第２延伸部とを含む格子形状に形成され、
    　前記電極セグメントが、前記第１方向に沿って間隔を空けて前記遮光領域の上を前記第２方向に沿って延伸する複数のセグメント延伸部と、互いに隣接するセグメント延伸部を接続するために当該隣接するセグメント延伸部の一方の両端から前記第１方向に沿って延伸する複数の接続部とを含むストライプ形状に形成されることを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
  8. 　前記タッチパネルが、前記第２電極層に形成されて前記配線に沿って延伸するシールド電極をさらに有することを特徴とする請求項２に記載の表示装置。
  9. 　前記タッチパネルの前記駆動電極の配線に駆動信号を供給し、前記駆動電極の電極セグメントと前記検出電極との間の電荷に基づく電荷信号を前記検出電極から読み出して前記検出電極と前記駆動電極の電極セグメントとの間の相互容量を検出するための制御回路をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
  10. 　前記表示パネルが、自発光型表示素子を含むことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
  11. 　表示パネルを形成する工程と、
    　平面視で第１方向に沿って延伸する複数の配線を前記表示パネルの上に形成する工程と、
    　前記複数の配線を覆う絶縁層を前記表示パネルの上に形成する工程と、
    　平面視で前記第１方向に沿って延伸する複数の検出電極と、前記複数の検出電極の間にそれぞれ配置されて前記複数の配線にそれぞれ接続され前記第１方向に沿って延伸する複数の電極セグメントとを含む電極層を前記絶縁層の上に形成する工程とを包含することを特徴とする表示装置の製造方法。
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