WO2021198355A2 - Substrate holder having an elastic substrate support - Google Patents

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WO2021198355A2
WO2021198355A2 PCT/EP2021/058475 EP2021058475W WO2021198355A2 WO 2021198355 A2 WO2021198355 A2 WO 2021198355A2 EP 2021058475 W EP2021058475 W EP 2021058475W WO 2021198355 A2 WO2021198355 A2 WO 2021198355A2
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gas
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Dietmar Keiper
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Apeva Se
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    • C23C16/463Cooling of the substrate
    • C23C16/466Cooling of the substrate using thermal contact gas

Definitions

  • the invention relates to a substrate holder for use in a substrate treating V or therapies, comprising a heatable by heat supply or heat dissipation top which carries a substrate at a substrate treatment, which itself has in a plane parallel to the top extending back to the top surface, wherein the surface the rear side has at least one uneven zone or zone bulging out of a plane.
  • the invention also relates to a substrate treatment process in which a substrate is arranged on an upper side of a substrate holder and is tempered by the substrate holder.
  • the substrate can be cooled or heated.
  • a layer sequence or an individual layer can be deposited on a surface of the substrate facing a process chamber. This can be done by feeding a steam or a gas into the process chamber, for which purpose a gas inlet element is provided. Layers or areas of the surface of the substrate can also be removed, for example by feeding an etching gas into the process chamber.
  • the substrate treatment process is in particular a method for producing the layers required for OLEDs on a substrate, in particular a glass substrate.
  • the layer deposition is also a polymerisation process.
  • the invention also relates to a substrate treatment device in which a substrate is arranged on an upper side of a substrate holder.
  • the substrate holder can have a temperature control device, for example a heating device or a cooling device, around which the sub- strat supporting top of the substrate holder to heat or cool.
  • a process chamber extends into which a steam or a gas can be fed by means of the gas inlet member.
  • the gas inlet element can have the shape of a showerhead.
  • a carrier gas can convey the steam or a reactive gas into the process chamber through a multiplicity of gas outlet channels arranged in a gas outlet surface of the gas inlet element.
  • the substrate treatment device can also have a gas outlet element through which at least the carrier gas can exit the process chamber.
  • DE 102011078673 A1 discloses a method and a device for vacuum treatment of substrates in which lamellae originate from a substrate and carry the substrate.
  • US Pat. No. 5,605,574 A describes a substrate holder on which bellows-like spacer elements are arranged which carry a substrate.
  • JP 2003-239070 A describes a substrate holder which is supported on elastic structural elements.
  • a device with a holding device for holding the substrate on a substrate carrier is described in JP 2006-190805.
  • a device for holding a substrate, with which the substrate is cooled, is known from US Pat. No. 5,199,483.
  • WO 2006/036992 A1 describes a method with which a substrate lying on an upper side of a substrate holder can be cooled.
  • a device for holding a substrate on a cooled substrate holder is also known from WO 2006 / 061784A1 and US 2010 / 0247804A1.
  • US 2016 / 0376697A1 also belongs to the prior art.
  • a device for depositing OLEDs using a shower head and a cooled substrate holder is described in DE 102015118765 A1.
  • a substrate to be treated which can be a glass substrate or a plastic substrate, lies with its back on an upper side of a cooled one Substrate holder.
  • a vapor previously generated for example, by evaporation of a provided aerosol, is fed into the process chamber of the treatment device.
  • the temperature of the gas inlet element is greater than the condensation temperature of the steam.
  • a cooling device arranged in the substrate holder, the upper side, which carries the substrate, is cooled to a temperature which is far below the condensation temperature of the vapor.
  • Constant heat dissipation through the joint between the back of the substrate and the top of the substrate holder brings the front side of the substrate facing the process chamber to a temperature at which the steam condenses on the front side in order to deposit a layer, in particular an organic layer.
  • Several layers can be deposited one behind the other which have different layer compositions. This can be done in a structured manner using a mask.
  • the back of the substrate lying on the top of the substrate holder extends essentially in one plane. The surface of the back deviates from at least in some areas an exact mathematical level. These deviations are due, on the one hand, to a natural roughness of the surface of the rear side, but also to manufacturing tolerances on the other.
  • the invention is based on the object of specifying means with which the lateral temperature profile of the front side of the substrate is evened out.
  • the invention is based in particular on the object of specifying a device and a method for depositing OLEDs in which the layer quality has the greatest possible lateral homogeneity.
  • the object is achieved by the invention specified in the claims.
  • the subclaims not only represent advantageous developments of the invention specified in the independent claims, but also independent solutions to the problem.
  • the substrate does not lie directly on the top of the substrate holder.
  • a substrate support is provided between the top of the substrate holder and the back of the substrate.
  • the substrate support is designed in such a way that it comes into contact with the surface of the rear side due to an elastic deformation.
  • the substrate support can thus be formed by one, but also by several bodies that allow heat to flow between the substrate holder and substrate, the substrate holder preferably being a heat sink to which heat flows from the substrate through a spacing area, the substrate support being provided in the spacing area .
  • the substrate support has one or more structural elements.
  • the structural elements can be elastic bodies that can bend and / or that can be compressed.
  • the structure elements can be arranged over the entire surface on the upper side.
  • the structure elements can, however, also be arranged only in certain areas on the upper side. Gaps filled with a gas can exist between individual structural elements. However, a gas can also be fed into the interstices. It can further be provided that the structural elements are arranged only on one edge of a region of the upper side that is covered by the substrate. It can thus be provided that the structural elements only carry the edge of the substrate. If there are spaces or gaps between the structure elements or if the structure elements are only arranged at the edge of the substrate, a temperature control gas can be fed into the gap from the substrate holder. The heat transfer from the substrate to the substrate holder then takes place in particular in the area of the gap via heat conduction through the fed gas. Gas feed lines can be provided which open into the intermediate space from the substrate holder.
  • a tempering gas can be fed through this feed line into the space between the rear side of the substrate, the upper side of the substrate holder and the side walls of the structural elements.
  • the temperature control gas can flow through the intermediate space or several intermediate spaces.
  • Structural elements that are arranged along the edge of the substrate can form a labyrinth seal with their interstices. They seal off an inner area from the surroundings.
  • the temperature control gas can be nitrogen, argon, neon, krypton, xenon, hydrogen or helium.
  • the temperature control gas can also be a mixture, it being provided in particular that the mixture consists of at least 90 percent of one or more of the aforementioned gases.
  • the structural elements can, however, also be arranged distributed uniformly over the entire surface of the upper side of the substrate holder.
  • the structural elements can be geometrically regularly or statistically evenly distributed over the top.
  • the structural elements can have a uniform size. They can also have a uniform shape. For example, they can form elongated strips, ribs or cubic blocks.
  • the structural elements can have side walls that run parallel to one another.
  • the structural elements can, however, also have side walls that are undercut, so that a foot area of the structural element, with which the structural element is attached to the top of the substrate holder, has a smaller floor plan than a head area, which forms a support surface on which the rear side is located of the substrate.
  • the temperature control gas can be fed into the spaces between the structural elements.
  • the temperature control gas can be fed into the intermediate space with an overpressure of, for example, 2 mbar, 5 mbar above the process chamber pressure.
  • the overpressure is preferably less than 1 mbar. But it can also be less than 5 mbar.
  • the process chamber pressure can be in the range between 1 mbar and 5 mbar. However, it can also be in the range between 0.5 mbar or 1 mbar. In particular, it can be less than 1 mbar or 0.5 mbar.
  • holding means are provided in order to prevent the higher pressure in the intermediate area from causing the substrate to lift.
  • Such holding means can act mechanically, for example a mask can rest on the substrate, the weight of which provides the force. However, it is also provided that magnetic or electrostatic forces are used to hold the substrate.
  • the substrate support can also be formed by one or more bodies having a plurality of projections that are applied to the top of the substrate holder .
  • a body is a mat which has projections facing away from the upper side.
  • the substrate support is formed from one or more foam bodies or other compressible bodies. Such a body has two surfaces pointing away from one another, which can cling to either the surface of the upper side of the substrate holder or the surface of the rear side of the substrate over the entire area.
  • the substrate can be an open-cell foam. Glass, silicon, but also A1203 or aluminum, copper, titanium or another metal is used as the substrate.
  • the substrate can also be a plastic, polyamide, in particular a transparent plastic.
  • the substrate can have a surface area of more than 0.15 m 2 . However, the substrate can also be larger than 1 m 2 or larger than 2 m 2 .
  • the structural elements can also be fibers or thin columns that can bend. Such structural elements, such as hairs or bristles, protrude from the top of the substrate holder. Such flexible structural elements can bend when a force is applied in such a way that they carry the substrate with their side walls.
  • the height of the structural elements is preferably only slightly larger than the extent of the greatest unevenness of the back of the substrate.
  • the height of the structural elements can, however, also be greater.
  • the height of the structural elements can be greater than 5 gm, greater than 10 gm, greater than 50 gm, greater than 100 gm or greater than 1 mm.
  • the height of the structural elements should, however, be less than 5 mm.
  • the height of the structural elements is between 50 ⁇ m and 1 mm.
  • the height is preferably around 50 gm to 100 gm.
  • the lateral extension of a structural element can be smaller than its height.
  • the structural elements are designed as columns or fibers, such as hair or bristles, the diameter of their cross-sectional area equivalent to a circle is at least a factor of 10 smaller than their height.
  • a typical lateral dimension of a structural element is less than 5 cm or less than 1 mm. However, a lateral dimension can also be greater than 5 cm.
  • a structural element can, for example, have a length that is greater than 0.2 mm, greater than 0.5 mm, greater than 1 mm, greater than 2 mm or greater than 5 mm. It is especially provided that the maximum length of a structural element is 20 mm.
  • the area that a structural element takes up can be smaller than 50 mm 2 .
  • the width of a structural element can be greater than 5 mm or less than 1 mm.
  • the structural elements can also have a cavity.
  • the structural elements can in particular be designed as cushions. Such a structural element has an elastic shell.
  • a gas can be fed into the volume surrounded by the envelope, which gives the cushion elasticity.
  • the gas fed into the volume can also be a temperature control gas, which gives the cushion a thermal conductivity. It can be provided that a temperature control gas flows through a cushion during a treatment process.
  • the volume then has a supply line and a discharge line.
  • a heat transfer liquid can also be fed into the volume. It is also envisaged that the volume will be completed.
  • the cushion can be a gel cushion with a thermally conductive gel in its volume.
  • the substrate is on a single cushion, for example gel cushion lies.
  • the substrate support is formed by a gel cushion.
  • the substrate support is formed by several cushions, in particular gel cushions.
  • the top of the substrate holder is completely, ie 100 percent, provided with the substrate support and in particular with the structural elements formed by the substrate support.
  • the temperature control gas fed into the volume of the cushion or the temperature control gas fed into the spaces between the structural elements preferably has such a high thermal conductivity that it dominates the heat transport between the substrate and the substrate holder.
  • the structural elements according to the invention it can be achieved that the heat transport does not take place for the most part via the contact areas of the rear surface of the substrate with the structural elements, but that the heat transport takes place essentially via the temperature control gas filling the gap.
  • the structural elements and the temperature control gas have heat conducting properties such that a greater heat flow flows through the temperature control gas than through all the structural elements as a whole.
  • the cross-sectional area of the structural elements and the cross-sectional area of the interspaces preferably have a ratio such that the cross-sectional area of the sum of all structural elements is significantly less than the cross-sectional area of the sum of all interspaces.
  • FIG. 2 enlarges the detail II in FIG. 1,
  • FIG. 3 shows the detail according to FIG. 2, but in a constellation according to the prior art
  • Fig. 4 shows the section along the line IV-IV in Figure 1, in the form of a
  • FIG. 5 shows a plan view of the substrate holder 2 similar to FIG. 4, but with the substrate 7 of a first exemplary embodiment removed,
  • Fig. 7 shows a representation according to Figure 5 of a second gamehimsbei
  • FIG. 8 is a perspective view of a detail of an upper side 2 'of a substrate holder 2 with structural elements 11 of a third exemplary embodiment
  • Fig. 9 is a section similar to Figure 6 of a fourth gameitessbei,
  • FIG. 10 shows a perspective illustration similar to FIG. 8 of a fifth exemplary embodiment, 11 various structural elements 15a to 15f of the fifth exemplary embodiment,
  • FIG. 12 shows a representation similar to FIG. 9 of a sixth embodiment, in which the structural elements 13 are in the form of threads, fibers or hairs,
  • FIG. 13 shows an illustration according to FIG. 12, but with a substrate 7 carried by the structural elements 13,
  • FIG. 14 shows a seventh embodiment of the invention in a representation similar to FIG. 9, in which the structural elements 14 are formed by protrusions of a mat 25,
  • FIG. 15 shows an eighth exemplary embodiment in a sectional illustration similar to FIG. 9, in which the substrate support 10 is formed by a foam body 26 and
  • the substrate support 10 is a gel body 27 in which a gel 29 is located in a volume of an envelope 28.
  • FIG. 1 shows an OVPD reactor, as it is basically known from the prior art.
  • the OVPD reactor has a housing 1 which is gas-tight to the outside.
  • a gas inlet element 3 which has the shape of a shower head.
  • the gas inlet element 3 has an essentially rectangular outline and a large number of gas outlet openings on a gas outlet surface facing a process chamber 5.
  • gen 3 ' A vapor of an organic starting material can be fed into a volume of the gas inlet element 3 through a gas feed line 4. This is done by means of a carrier gas.
  • the vapor is generated beforehand in an evaporator (not shown), for example in that an organic powder brought to an evaporator as an aerosol is converted into vapor form by the supply of heat in the evaporator.
  • the gas outlet surface of the gas inlet organ 3 is heated. It is heated to a temperature that is greater than the condensation temperature of the steam.
  • the bottom of the process chamber 5 is formed by an upper side 2 ′ of a substrate holder 2.
  • the substrate holder 2 is essentially formed by a heat sink.
  • the heat sink has a cooling device 6, which can be cooling channels through which a liquid cooling medium can flow.
  • the substrate to be coated is located on the upper side 2 'of the substrate holder 2.
  • the substrate has a front side 9 which faces the process chamber 5 and which is coated with the organic vapor in that the steam condenses on the front side 9. For this purpose, heat must be withdrawn from the substrate 7. This is done by means of the substrate holder 2.
  • a substrate support designated by the reference number 10 in FIG. The inventive effect of the substrate support 10 is explained with reference to FIG. 3, which shows a device according to FIG.
  • the back 8 extends essentially Chen in one plane. But it has bumps, for example bulges 8 '. These unevenness lead to the fact that the rear side only touches the top side 2 ', which is also not an ideal plane, only at certain points.
  • the heat is transported from the substrate 7 to the substrate holder 2 only at the contact points via a solid contact. In the intermediate areas, the heat is transported from the substrate to the substrate holder 2 essentially via heat conduction through a gas located in the intermediate space.
  • the reference numeral 30 denotes holding means, for example electrostatic or electromagnetic holding means, with which a force is applied to the substrate 7, which acts in the direction of the surface normal of the top 2 'and which acts on the substrate 7 in the direction of the substrate holder 2 so that the substrate support 10 can deform.
  • the holding device 30 also has the function of holding the sub strate 7 against the pressure of a temperature gas fed into a space below the substrate 7.
  • Reference numeral 31 denotes a mask, for example made of metal, which rests on the substrate in order to structure the sub strate. The mask 31 is only indicated in FIG.
  • the mask 31 also provides a mass with which the substrate is acted upon in the direction of the upper side 2 ', so that a weight force is established which can deform the substrate support 10, but which the substrate 7 can also against the pressure of a space between the upper side 2 'and back 8 holds the fed temperature gas.
  • Figures 4, 5 and 6 show a first embodiment of the inven tion, in which only along one edge of an area of the top 2 ' of the substrate holder, which is covered by the substrate 7, structural elements 11 are arranged on.
  • the structural elements can be elongated, elastic bodies, for example made of plastic, but also made of metal or another suitable material.
  • the structural elements 11 are arranged along the edge in such a way that intermediate spaces 20 remain between adjacent structural elements 11.
  • the structural elements 11 are arranged in such a way that they form a labyrinth seal with respect to an interior space surrounding the structural elements 11. If the substrate 7 rests on the structural elements, a cavity 17 is formed between the rear side 8 and the upper side 2 '. A temperature gas can be fed into this cavity 17.
  • gas feed lines 16 are provided which open into the top 2 '.
  • the temperature control gas causes heat to be conducted from the substrate 7 to the substrate holder 2.
  • the distance between the rear side 8 and the upper side 2 ' can be in the range between 5 ⁇ m and 1 mm.
  • the elongated structural elements 11, the length of which can be up to 5 cm and the width of which can be up to 1 mm, can be arranged evenly distributed over the entire top 2 '.
  • Gas feed lines 16 can open into spaces between the individual structural elements 11.
  • the holding means 30 described above can be used.
  • the overpressure of the tem periergases can be 0.5 mbar to 1 mbar.
  • the structural elements 11 have an essentially square outline and are arranged uniformly over at least the area of the upper side 2 ′ of the substrate holder 2 covered by the substrate 7.
  • the structural elements 11 are evenly distributed over the top 2 'in a regular arrangement. she but can also be distributed irregularly. But they can also be distributed irregularly and statistically evenly over the top 2 '.
  • Your floor plan can also be round, oval or rectangular.
  • the outline contour can also run as desired.
  • the third embodiment shown in Figure 8 shows gas supply lines 16 which open directly at the edge of a central open area which is delimited by the structural elements 11 in a multi-row arrangement.
  • the structural elements 11 here have side walls 21, 22 running parallel to one another and a width B which is in the range between 1 mm and 5 mm. They have a length L which is in a range between 1 mm and 50 mm.
  • the distance A between two adjacent structural elements 11 can correspond to the dimension of the height H.
  • the distance A can, however, also be greater or smaller than the height H.
  • the dimension of a support surface 23 on which the rear side 8 of the substrate 7 is supported can be less than 50 mm 2 .
  • the structure elements 11 can be formed here by elastic solids that are made of rubber, plastic or another elastic material. Its volume is completely filled by the material.
  • FIG. 9 shows a fourth exemplary embodiment of the invention, in which the structural elements 12 have a cavity 19.
  • the structural elements 12 are designed as cushions and have a flexible cover 18.
  • the cover 18 forms the side walls 21, 22 and the support surface 23.
  • the cushion 12 is open to the top 2 '.
  • the shell is connected to the top 2 'by an edge, for example by an adhesive connection.
  • a gas feed line 16 opens into the volume 19 of the envelope 18 in order to feed a temperature control gas into the envelope.
  • not only a gas supply line 16 but also a gas discharge line opens into the cavity 19 of the structural element 12, so that the height treatment 19 a temperature gas can flow.
  • the width B, the height H and the distance between adjacent structural elements 12 can have the above values.
  • the structural elements 12 can also, as shown in FIGS. 5 to 8, be arranged and / or designed.
  • the shell of the cushion 12, which can also extend over the top 2 ', can consist of plastic, rubber or a thin metal foil.
  • Figures 10 and 11 show a fifth embodiment of the invention, in which the structural elements 15 have undercut side walls 21, 22.
  • the surface 24 with which the structural element 15 is attached to the upper side 2 ' is smaller than the bearing surface 23 on which the substrate 7 with its rear side 8 rests.
  • the structural elements 15 can be installedbil det as ribs that have a length that is greater than the width.
  • the width of the structural element 15 can be less than the height of the structural element 15. In particular, it is provided that the width of the foot region 24 is less than the height of the structural element 15.
  • the structural elements 15a, 15b, 15c, 15d, 15e and 15f shown in Figure 11 have bearing surfaces 23 which do not run parallel to the top 2 'ver.
  • the structural elements 15a to 15f can tilt ver due to their elasticity, so that the bearing surfaces 23 can nestle against the back 8 in surface contact.
  • the structural elements 15 s can also be compressible. The deformation of the structural elements 15 takes place elastically, so that they can deform back into their original shape after the substrate 7 has been removed.
  • the sixth embodiment shown in Figures 12 and 13 shows structural elements 13 in the form of threads, columns, bristles or hair.
  • the structural elements 13 have an elongated shape. Their diameter is small shorter than their length.
  • the length of the structural element, which defines the height H, is preferably at least ten times greater than a circle-equivalent diameter of a cross-section of the structural element 13.
  • the structural elements 13 preferably have a constant cross-section over their entire length. Similar to the structural elements shown in FIG. 11, the bristle-like or hair-like structural elements 13 can bend. The bending takes place against an elastic restoring force.
  • FIG. 12 shows the structural elements 13 in the unloaded state in that they essentially extend in a straight line parallel to the surface normal of the upper side 2 '. If a substrate 7 is placed on these thread-like structural elements 13, the structural elements 13 react like spring bars and bend so that the surface areas of the structural elements 13 adjoining the free ends nestle against the underside 8.
  • the columnar structural elements 13 can also from the outset, d. H. in a state not acted upon by the substrate 7 have an inclination with respect to the surface normal of the upper side 2 '.
  • the structural elements 13 can thus be bars extending obliquely to the surface normal. These bars can run parallel to one another. But you can also be at an angle to each other, for example, be designed in pairs V-shaped. They can be connected to the upper side 2 'via adhesives. But you can also protrude from a fastening film that is connected to the top 2 '. It can also be provided that these structural elements 13 extend over the entire extension surface of the upper side 2 '.
  • the structural elements 13 can, however, also extend only over one edge of an area which carries the substrate 7.
  • FIG. 14 shows The seventh exemplary embodiment shown in FIG. 14 is a variant.
  • the structural elements can also protrude from a base film.
  • the structural elements can thus protrude as projections 14 from a base film and be connected to the base film in a uniform manner.
  • the structural elements 14 are formed by knob-like projections, the dimensions of which correspond to those of the structural elements described above.
  • the underside of a mat 25, of which the projections 14 are formed from the same material, is suitably connected, for example glued, to the upper side 2 'over its entire surface.
  • An electrostatic connection can also be provided.
  • a gas feed line 16 can open into spaces 20 between two projections 14 in order to feed a temperature gas into the spaces 20.
  • the rear side 8 of the substrate 7 is acted upon at points by the support surfaces 23 of structural elements 11, 13, 14, 15 which are spaced apart from one another.
  • the structural elements 11, 13, 14, 15 act on the rear side 8, in particular also at the bulged zones 8 ', so that there is solid body contact for heat conduction there as well.
  • the heat is transported by conduction through the gas, which can be fed in through the gas supply line 16 or which is already in the process chamber.
  • a continuous surface of the substrate support 10 rests on the rear side 8 and in particular on the bulged zones 8 '.
  • the substrate support 10 is here by a foam body 26, in particular by an open thin line foam body 26 formed.
  • the foam body 26 can be made of an elastic material, for example a rubber or a plastic. It can consist of the same material as the structural elements 11, 13, 14, 15 described above, for example PET or PE. Unlike there, however, the foam body 26 has cavities which are preferably open to the environment so that a gas exchange can take place.
  • a continuous surface of the substrate support 10 also rests flat against the rear side 8 of the substrate 7 and in particular against the surface of the bulged zone 8 '.
  • the substrate support 10 is formed here by a gel body 27, which is essentially a cushion.
  • a substrate holder which is characterized by an elastically deformable substrate support 10 which is arranged on the upper side 2 'and which comes into contact with the surface of the rear side 8, 8' due to an elastic deformation.
  • a substrate holder which is characterized in that the substrate support 10 has structural elements 11, 12, 13, 14, 15 and / or that of the Structural elements 11, 12, 13, 14, 15 formed by substrate support 10 are arranged only on the edge of the area of top 2 'covered by substrate 7 and / or that structural elements 11, 12, formed by substrate support 10,
  • the substrate support 10 is a one-part or multi-part body 25 extending over the entire surface of the upper side 2 ′ covered by the substrate 7 , 27 and / or that the substrate support 10 is formed by a mat 25 forming projections 14 or a foam body 26.
  • a substrate holder which is characterized in that the structural elements 11, 12, 13, 14, 15 are spaced from one another and / or that a temperature gas passes through the intermediate spaces 20 between the structural elements 11, 12, 13, 14, 15 can and / or that at least one gas line 16 opens into at least one intermediate space 20 between structural elements 11, 12, 13, 14, 15 or in an area of the upper side 2 ′ surrounding by structural elements 11, 12, 13, 14, 15 and / or that the structural elements 11,
  • 12. 13. 14. 15 are designed as columns, fibers 13 or webs 14, 15, which can bend due to their elasticity and / or due to their cross-sectional area and their height H measured in the direction of the surface normal of the substrate support surface, and / or the have a length L that is greater than 0.2 mm, greater than 0.5 mm, greater than 1 mm, greater than 2 mm, greater than 5 mm and less than 20 mm and / or that the length L of the structural elements
  • a substrate holder which is characterized in that at least some, preferably all of the structural elements 11, 12, 13, 14, 15 are designed as a cushion 12, the cushion 12 having a cover 18, 28 which has a volume 19, 27, which is filled with a liquid or gaseous medium and / or into which a liquid or gaseous medium can flow and / or through which a liquid or gaseous medium can flow.
  • a substrate holder which is characterized in that holding means 30 are provided with which the substrate 7 is held mechanically, electrostatically, pneumatically and / or magnetically on the substrate holder 2 and / or that for holding the substrate 7 at least one on the
  • the mask 31 resting on the edge of the substrate 7 is used and / or that the substrate holder 2 is a heat sink, wherein a cooling device 6 is provided which removes the heat carried away from the substrate 7.
  • a substrate holder which is characterized in that the height H of the structural elements 11, 12, 13, 14, 15 measured in the direction of the surface normal to the upper side 2 'is greater than 5 ⁇ m, greater than 10 ⁇ m, greater than 50 gm, greater than 100 gm, greater than 1 mm but smaller than 5 mm and / or that the height H of the structural elements 11, 12, 13, 14, 15 is between 50 gm and 1 mm.
  • a substrate holder which is characterized in that the structural elements 11, 12, 13, 14, 15 have a length L or width B measured in the direction of the surface extension of the upper side 2 ', which is greater than 50 mm, smaller than 5 mm or less than 1 mm and / or that the area of the structural elements 11, 12, 13, 14, 15 measured in the area extension of the upper side 2 'is less than 50 mm 2 and / or that at least one extends in the direction of the Area normal to the top 2 'extending side wall 21, 22 of a structure element 15 is undercut and / or that the structural elements 15 in egg nem foot area 24, where they adjoin the top 2 ', have a smaller cross-sectional area than in a head area 23, where they rest on the rear side 8 of the substrate 7.
  • a substrate treatment process which is characterized in that a substrate holder 2 is used, which is designed according to one of the preceding claims.
  • a substrate treatment process which is characterized in that a temperature control gas is fed into the spaces 20 between the structural elements 11, 12, 13, 14, 15 and / or that in the volumes 19, 27 of the structural elements 11, 12 , 13, 14, 15 a gaseous or liquid medium is fed in and / or that a into the volume 12,
  • a substrate treatment process which is characterized in that the gas fed into the spaces 20 or into the volume of the cushions 12, 27 is nitrogen, argon, neon, krypton, xenon, hydrogen or helium or at least 90 percent of one or consists of several of these gases and / or that the substrate 7 is made of glass, silicon, polyamide or plastic and the treatment process is an OVPD process and / or that the substrates 7 have an area greater than 0.15 m 2 , greater than 1 m 2 or greater than 2 m 2 .
  • a device which is characterized by a substrate holder 2 according to one of Claims 1 to 6. All the features disclosed are essential to the invention (individually, but also in combination with one another).
  • the disclosure content of the associated / attached priority documents (copy of the previous application) is hereby fully included, also for the purpose of including features of these documents in the claims of the present application.
  • the subclaims characterize, even without the features of a referenced claim, with their features independent inventive developments of the prior art, in particular in order to make divisional applications on the basis of these claims.
  • the invention specified in each claim can additionally have one or more of the features provided in the above description, in particular provided with reference numbers and / or specified in the list of reference numbers.
  • the invention also relates to design forms in which some of the features mentioned in the above description are not implemented, in particular if they are recognizable for the respective purpose or can be replaced by other technically equivalent means.

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Abstract

The invention relates to a substrate holder (2) for use in a substrate handling apparatus (1), having a top side (2') which can be temperature-controlled by the supply or discharge of heat, which top side carries a substrate (7) during substrate handling, the rear side (8) of which substrate extends in a plane parallel to the top side (2') and points toward the top side (2'), wherein the surface of the rear side (8) has at least one zone (8') which is uneven or which bulges out of a plane, and an apparatus for carrying out a substrate handling process by means of such a substrate holder (2). In order to ensure uniform heating of the substrate (7), a resiliently deformable substrate support (10) arranged on the top side (2') is provided which, as a result of a resilient deformation, comes into contact with the surface of the rear side (8, 8'). The substrate support (10) can be formed by a plurality of resilient structural elements (11, 12, 13, 14, 15).

Description

Beschreibung description
Substrathalter mit einer elastischen Substratauflage Substrate holder with an elastic substrate support
Gebiet der Technik Field of technology
[0001] Die Erfindung betrifft einen Substrathalter zur Verwendung in einer Substratbehandlungs Vorrichtung, aufweisend eine durch Wärmezufuhr oder Wärmeabfuhr temperierbare Oberseite, die bei einer Substratbehandlung ein Substrat trägt, dessen sich in einer Ebene parallel zur Oberseite erstreckende Rückseite zur Oberseite weist, wobei die Oberfläche der Rückseite zumindest eine unebene oder aus einer Ebene herausgewölbte Zone aufweist. [0001] The invention relates to a substrate holder for use in a substrate treating V orrichtung, comprising a heatable by heat supply or heat dissipation top which carries a substrate at a substrate treatment, which itself has in a plane parallel to the top extending back to the top surface, wherein the surface the rear side has at least one uneven zone or zone bulging out of a plane.
[0002] Die Erfindung betrifft darüber hinaus einen Substratbehandlungspro zess, bei dem ein Substrat auf einer Oberseite eines Substrathalters angeordnet ist und vom Substrathalter temperiert wird. Das Substrat kann gekühlt oder erwärmt werden. Bei dem Behandlungsprozess kann auf einer zu einer Pro zesskammer weisenden Oberfläche des Substrates eine Schichtenfolge oder eine einzelne Schicht abgeschieden werden. Dies kann durch Einspeisen eines Dampfs oder eines Gases in die Prozesskammer erfolgen, wozu ein Gaseinlass- organ vorgesehen ist. Es können auch Schichten oder Bereiche der Oberfläche des Substrates abgetragen werden, beispielsweise durch Einspeisen eines ät zenden Gases in die Prozesskammer. Der Substratbehandlungsprozess ist ins besondere ein Verfahren zum Herstellen der für OLEDs erforderlichen Schich ten auf einem Substrat, insbesondere Glassubstrat. Bei der Schichtabscheidung handelt es sich auch um einen Polymerisations-Prozess. The invention also relates to a substrate treatment process in which a substrate is arranged on an upper side of a substrate holder and is tempered by the substrate holder. The substrate can be cooled or heated. During the treatment process, a layer sequence or an individual layer can be deposited on a surface of the substrate facing a process chamber. This can be done by feeding a steam or a gas into the process chamber, for which purpose a gas inlet element is provided. Layers or areas of the surface of the substrate can also be removed, for example by feeding an etching gas into the process chamber. The substrate treatment process is in particular a method for producing the layers required for OLEDs on a substrate, in particular a glass substrate. The layer deposition is also a polymerisation process.
[0003] Die Erfindung betrifft darüber hinaus eine Substratbehandlungsvor richtung, bei dem ein Substrat auf einer Oberseite eine Substrathalters ange ordnet ist. Der Substrathalter kann eine Temperiereinrichtung aufweisen, bei spielsweise eine Heizeinrichtung oder eine Kühleinrichtung, um die das Sub- strat tragende Oberseite des Substrathalters zu erwärmen oder zu kühlen. Zwi schen der Oberseite des Substrathalters und einem Gaseinlassorgan erstreckt sich eine Prozesskammer, in die ein Dampf oder ein Gas mittels des Gaseinlass organes eingespeist werden kann. Das Gaseinlassorgan kann die Form eines Showerheads aufweisen. Durch eine Vielzahl von in einer Gasaustrittsfläche des Gaseinlassorganes angeordneten Gasaustrittskanäle kann ein Trägergas den Dampf oder ein reaktives Gas in die Prozesskammer fördern. Die Substratbe handlungsvorrichtung kann auch ein Gasauslassorgan aufweisen, durch das zumindest das Trägergas aus der Prozesskammer heraustreten kann. The invention also relates to a substrate treatment device in which a substrate is arranged on an upper side of a substrate holder. The substrate holder can have a temperature control device, for example a heating device or a cooling device, around which the sub- strat supporting top of the substrate holder to heat or cool. Between the top of the substrate holder and a gas inlet member, a process chamber extends into which a steam or a gas can be fed by means of the gas inlet member. The gas inlet element can have the shape of a showerhead. A carrier gas can convey the steam or a reactive gas into the process chamber through a multiplicity of gas outlet channels arranged in a gas outlet surface of the gas inlet element. The substrate treatment device can also have a gas outlet element through which at least the carrier gas can exit the process chamber.
Stand der Technik [0004] Aus der DE 102011078673 Al ist ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Vakuumbehandlung von Substraten bekannt, bei dem von einem Substrat Lamellen entspringen, die das Substrat tragen. PRIOR ART [0004] DE 102011078673 A1 discloses a method and a device for vacuum treatment of substrates in which lamellae originate from a substrate and carry the substrate.
[0005] Die US 5,605,574 A beschreibt einen Substrathalter, auf dem balgenarti ge Distanzelemente angeordnet sind, die ein Substrat tragen. [0006] Die JP 2003-239070 A beschreibt einen Substrathalter, der sich auf elas tischen Strukturelementen abstützt. US Pat. No. 5,605,574 A describes a substrate holder on which bellows-like spacer elements are arranged which carry a substrate. JP 2003-239070 A describes a substrate holder which is supported on elastic structural elements.
[0007] Eine Vorrichtung mit einer Halteeinrichtung zur Halterung des Sub strates auf einem Substratträger wird in der JP 2006-190805 beschrieben. Eine Vorrichtung zur Halterung eines Substrates, mit der das Substrat gekühlt wird ist aus der US 5,199,483 vorbekannt. A device with a holding device for holding the substrate on a substrate carrier is described in JP 2006-190805. A device for holding a substrate, with which the substrate is cooled, is known from US Pat. No. 5,199,483.
[0008] Die WO 2006/ 036992 Al beschreibt ein Verfahren, mit dem ein auf einer Oberseite eines Substrathalters aufliegendes Substrat gekühlt werden kann. [0009] Eine Vorrichtung zur Halterung eines Substrates auf einem gekühlten Substrathalter ist auch bekannt aus der WO 2006/061784A1 und der US 2010/0247804A1. [0008] WO 2006/036992 A1 describes a method with which a substrate lying on an upper side of a substrate holder can be cooled. A device for holding a substrate on a cooled substrate holder is also known from WO 2006 / 061784A1 and US 2010 / 0247804A1.
[0010] Zum Stand der Technik gehören ferner die US 2016/0376697A1. Eine Vorrichtung zum Abscheiden von OLEDs unter Verwendung eines Shower- head und eines gekühlten Substrathalters wird in der DE 102015118765 Al beschrieben. US 2016 / 0376697A1 also belongs to the prior art. A device for depositing OLEDs using a shower head and a cooled substrate holder is described in DE 102015118765 A1.
[0011] Bei einem bekannten Substratbehandlungsverfahren, wie es beispiels weise in der zuletzt genannten DE 102015118765 Al beschrieben wird, liegt ein zu behandelndes Substrat, bei dem es sich um ein Glassubstrat oder um ein Kunststoffsubstrat handeln kann, mit seiner Rückseite auf einer Oberseite eines gekühlten Substrathalters auf. Durch das beheizte Gaseinlassorgan wird ein zuvor beispielsweise durch Verdampfen eines bereitgestellten Aerosols erzeug ter Dampf in die Prozesskammer der Behandlungsvorrichtung eingespeist. Die Temperatur des Gaseinlassorganes ist größer als die Kondensationstemperatur des Dampfes. Mittels einer im Substrathalter angeordneten Kühleinrichtung wird die Oberseite, die das Substrat trägt, auf eine Temperatur gekühlt, die weit unterhalb der Kondensationstemperatur des Dampfes ist. Durch stetige Wär meabfuhr durch die Fuge zwischen Rückseite des Substrates und Oberseite des Substrathalters wird die zur Prozesskammer weisende Frontseite des Substrates auf eine Temperatur gebracht, bei der der Dampf auf der Frontseite konden siert, um so eine Schicht, insbesondere eine organische Schicht abzuscheiden. Es können mehrere Schichten hintereinander abgeschieden werden, die von ei nander verschiedene Schichtzusammensetzungen aufweisen. Dies kann durch eine Maske strukturiert erfolgen. Die auf der Oberseite des Substrathalters auf liegende Rückseite des Substrates erstreckt sich im Wesentlichen in einer Ebene. Die Oberfläche der Rückseite weicht aber zumindest in einigen Bereichen von einer exakten mathematischen Ebene ab. Diese Abweichungen sind einerseits auf eine natürliche Rauigkeit der Oberfläche der Rückseite, andererseits aber auch durch Fertigungstoleranzen zurückzuführen. Diese Unebenheiten der Oberfläche der Rückseite können auch aus der Ebene heraus gewölbte Zonen sein. Liegt ein derartiges Substrat auf einer ebenfalls nur im Wesentlichen ebe nen Oberseite des Substrathalters auf, so kommt es nur zu einer punktuellen Berührung zwischen Rückseite des Substrates und Oberseite des Substrathal ters. Nur an den Berührungspunkten erfolgt ein Wärmeleit-Transport unmittel bar über den Kontakt zweier fester Körper. In den Bereichen zwischen den Be- rührungspunkten erfolgt der Wärmetransport entweder über Strahlung oder über Wärmeleitung durch ein im Zwischenraum zwischen Rückseite des Sub strates und Oberseite des Substrathalters vorhandenes Gas. Der Wärmefluss durch diesen Zwischenraum wird durch den Druck des Gases und die Spalthö he, aber auch durch die Molmasse des Gases beeinflusst. Ein relevanter Para- meter ist dabei die mittlere freie Weglänge der Gasmoleküle beziehungsweise die Knudsen Zahl. Aufgrund des lokal unterschiedlichen Wärmeflusses vom Substrat zum Substrathalter besitzt die zu beschichtende Frontseite des Substra tes kein gleichmäßiges laterales Temperaturprofil. In a known substrate treatment process, as it is described for example in the last-mentioned DE 102015118765 A1, a substrate to be treated, which can be a glass substrate or a plastic substrate, lies with its back on an upper side of a cooled one Substrate holder. Through the heated gas inlet member, a vapor previously generated, for example, by evaporation of a provided aerosol, is fed into the process chamber of the treatment device. The temperature of the gas inlet element is greater than the condensation temperature of the steam. By means of a cooling device arranged in the substrate holder, the upper side, which carries the substrate, is cooled to a temperature which is far below the condensation temperature of the vapor. Constant heat dissipation through the joint between the back of the substrate and the top of the substrate holder brings the front side of the substrate facing the process chamber to a temperature at which the steam condenses on the front side in order to deposit a layer, in particular an organic layer. Several layers can be deposited one behind the other which have different layer compositions. This can be done in a structured manner using a mask. The back of the substrate lying on the top of the substrate holder extends essentially in one plane. The surface of the back deviates from at least in some areas an exact mathematical level. These deviations are due, on the one hand, to a natural roughness of the surface of the rear side, but also to manufacturing tolerances on the other. These unevenness of the surface of the rear side can also be zones curved out of the plane. If such a substrate rests on a likewise only essentially level top of the substrate holder, then there is only point contact between the back of the substrate and the top of the substrate holder. Only at the points of contact does heat conduction occur directly via the contact between two solid bodies. In the areas between the contact points, the heat is transported either via radiation or via heat conduction through a gas present in the space between the back of the substrate and the top of the substrate holder. The heat flow through this space is influenced by the pressure of the gas and the gap height, but also by the molar mass of the gas. A relevant parameter is the mean free path of the gas molecules or the Knudsen number. Due to the locally different heat flow from the substrate to the substrate holder, the front side of the substrate to be coated does not have a uniform lateral temperature profile.
Zusammenfassung der Erfindung Summary of the invention
[0012] Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, Mittel anzugeben, mit de- nen das laterale Temper aturprofil der Frontseite des Substrates vergleichmäßigt wird. The invention is based on the object of specifying means with which the lateral temperature profile of the front side of the substrate is evened out.
[0013] Der Erfindung liegt insbesondere die Aufgabe zugrunde, eine Vorrich tung und ein Verfahren zum Abscheiden von OLEDs anzugeben, bei dem die Schichtqualität eine größtmögliche laterale Homogenität besitzt. [0014] Gelöst wird die Aufgabe durch die in den Ansprüchen angegebene Er findung. Die Unteransprüche stellen nicht nur vorteilhafte Weiterbildungen der in den nebengeordneten Ansprüchen angegebenen Erfindung, sondern auch eigenständige Lösungen der Aufgabe dar. The invention is based in particular on the object of specifying a device and a method for depositing OLEDs in which the layer quality has the greatest possible lateral homogeneity. The object is achieved by the invention specified in the claims. The subclaims not only represent advantageous developments of the invention specified in the independent claims, but also independent solutions to the problem.
[0015] Es ist vorgesehen, dass das Substrat nicht unmittelbar auf der Oberseite des Substrathalters liegt. Zwischen Oberseite des Substrathalters und Rückseite des Substrates ist eine Substratauflage vorgesehen. Die Substratauflage ist so ausgebildet, dass sie aufgrund einer elastischen Verformung in berührende An lage an die Oberfläche der Rückseite tritt. Die Substratauflage kann somit von einem, aber auch von mehreren Körpern gebildet sein, die einen Wärmefluss zwischen Substrathalter und Substrat ermöglichen, wobei der Substrathalter bevorzugt ein Kühlkörper ist, zu dem Wärme vom Substrat durch einen Ab standsbereich fließt, wobei die Substratauflage im Abstandsbereich vorgesehen ist. Es kann vorgesehen sein, dass die Substratauflage ein oder mehrere Struk turelemente aufweist. Die Strukturelemente können elastische Körper sein, die sich verbiegen können und/ oder die sich komprimieren lassen. Die Struktu relemente können vollflächig auf der Oberseite angeordnet sein. Die Struktu relemente können aber auch nur bereichsweise auf der Oberseite angeordnet sein. Zwischen einzelnen Strukturelementen können Zwischenräume bestehen, die mit einem Gas gefüllt sind. In die Zwischenräume kann aber auch ein Gas eingespeist werden. Es kann ferner vorgesehen sein, dass die Strukturelemente nur an einem Rand eines Bereichs der Oberseite angeordnet sind, der vom Sub strat abgedeckt wird. Es kann somit vorgesehen sein, dass die Strukturelemente lediglich den Rand des Substrates tragen. Befinden sich zwischen den Struktu relementen Freiräume oder Zwischenräume oder sind die Strukturelemente lediglich am Rand des Substrates angeordnet, so kann vom Substrathalter her in den Zwischenraum ein Temperiergas eingespeist werden. Der Wärmetrans port vom Substrat zum Substrathalter erfolgt dann insbesondere im Bereich des Zwischenraumes über Wärmeleitung durch das in den Zwischenraum einge- speiste Gas. Es können Gaszuleitungen vorgesehen sein, die vom Substrathalter her in den Zwischenraum münden. Durch diese Zuleitung kann ein Temperier gas in den Zwischenraum zwischen Rückseite des Substrates, Oberseite des Substrathalters und Seitenwänden der Strukturelemente eingespeist werden. Das Temperiergas kann den Zwischenraum oder kann mehrere Zwischenräu me durchströmen. Strukturelemente, die entlang des Randes des Substrates an geordnet sind, können mit ihren Zwischenräumen eine Labyrinthdichtung aus bilden. Sie dichten damit einem inneren Bereich gegenüber die Umgebung ab. Bei dem Temperiergas kann es sich um Stickstoff, Argon, Neon, Krypton, Xe non, Wasserstoff oder Helium handeln. Das Temperiergas kann auch eine Mi schung sein, wobei insbesondere vorgesehen ist, dass die Mischung zumindest 90 Prozent aus einem oder mehreren der vorher genannten Gase besteht. Die Strukturelemente können aber auch gleichmäßig über die gesamte Fläche der Oberseite des Substrathalters verteilt angeordnet sein. Sie können geometrisch regelmäßig oder statistisch gleichmäßig über die Oberseite verteilt sein. Die Strukturelemente können eine einheitliche Größe aufweisen. Sie können auch eine einheitliche Gestalt besitzen. Beispielsweise können sie längliche Leisten, Rippen oder kubische Blöcke ausbilden. Die Strukturelemente können Seiten wände aufweisen, die parallel zueinander verlaufen. Die Strukturelemente können aber auch Seitenwände aufweisen, die hinterschnitten sind, sodass ein Fußbereich des Strukturelementes, mit dem das Strukturelement an der Ober seite des Substrathalters befestigt ist, einen geringeren Grundriss aufweist, als ein Kopfbereich, der eine Auflagefläche ausbildet, auf der sich die Rückseite des Substrates abstützt. In die Zwischenräume zwischen den Strukturelementen kann das Temperiergas eingespeist werden. It is provided that the substrate does not lie directly on the top of the substrate holder. A substrate support is provided between the top of the substrate holder and the back of the substrate. The substrate support is designed in such a way that it comes into contact with the surface of the rear side due to an elastic deformation. The substrate support can thus be formed by one, but also by several bodies that allow heat to flow between the substrate holder and substrate, the substrate holder preferably being a heat sink to which heat flows from the substrate through a spacing area, the substrate support being provided in the spacing area . It can be provided that the substrate support has one or more structural elements. The structural elements can be elastic bodies that can bend and / or that can be compressed. The structure elements can be arranged over the entire surface on the upper side. The structure elements can, however, also be arranged only in certain areas on the upper side. Gaps filled with a gas can exist between individual structural elements. However, a gas can also be fed into the interstices. It can further be provided that the structural elements are arranged only on one edge of a region of the upper side that is covered by the substrate. It can thus be provided that the structural elements only carry the edge of the substrate. If there are spaces or gaps between the structure elements or if the structure elements are only arranged at the edge of the substrate, a temperature control gas can be fed into the gap from the substrate holder. The heat transfer from the substrate to the substrate holder then takes place in particular in the area of the gap via heat conduction through the fed gas. Gas feed lines can be provided which open into the intermediate space from the substrate holder. A tempering gas can be fed through this feed line into the space between the rear side of the substrate, the upper side of the substrate holder and the side walls of the structural elements. The temperature control gas can flow through the intermediate space or several intermediate spaces. Structural elements that are arranged along the edge of the substrate can form a labyrinth seal with their interstices. They seal off an inner area from the surroundings. The temperature control gas can be nitrogen, argon, neon, krypton, xenon, hydrogen or helium. The temperature control gas can also be a mixture, it being provided in particular that the mixture consists of at least 90 percent of one or more of the aforementioned gases. The structural elements can, however, also be arranged distributed uniformly over the entire surface of the upper side of the substrate holder. They can be geometrically regularly or statistically evenly distributed over the top. The structural elements can have a uniform size. They can also have a uniform shape. For example, they can form elongated strips, ribs or cubic blocks. The structural elements can have side walls that run parallel to one another. The structural elements can, however, also have side walls that are undercut, so that a foot area of the structural element, with which the structural element is attached to the top of the substrate holder, has a smaller floor plan than a head area, which forms a support surface on which the rear side is located of the substrate. The temperature control gas can be fed into the spaces between the structural elements.
[0016] Das Temperiergas kann mit einem Überdruck von zum Beispiel 2 mbar, 5 mbar über dem Prozesskammerdruck in den Zwischenraum eingespeist wer den. Der Überdruck ist bevorzugt kleiner als 1 mbar. Er kann aber auch kleiner als 5 mbar sein. Der Prozesskammerdruck kann im Bereich zwischen 1 mbar und 5 mbar liegen. Er kann aber auch im Bereich zwischen 0,5 mbar oder 1 mbar liegen. Er kann insbesondere kleiner als 1 mbar oder 0,5 mbar sein. Um zu vermeiden, dass der höhere Druck im Zwischenbereich ein Anheben des Substrates verursacht, sind Haltemittel vorgesehen. Derartige Haltemittel kön nen mechanisch wirken, beispielsweise kann auf dem Substrat eine Maske auf liegen, deren Gewicht die Kraft liefert. Es ist aber auch vorgesehen, dass mag netische oder elektrostatische Kräfte zu Halterung des Substrates verwendet werden. Anstelle von einzelnen Strukturelementen, die beispielsweise unmit telbar auf eine Oberfläche, insbesondere metallische Oberfläche des Substrat halters aufgebracht, beispielsweise aufgeklebt sind, kann die Substratauflage aber auch von ein oder mehreren, mehrere Vorsprünge aufweisenden Körpern ausgebildet sein, die auf der Oberseite des Substrathalters aufgebracht sind. Es ist insbesondere vorgesehen, dass ein derartiger Körper eine Matte ist, die in Richtung weg von der Oberseite aufweisende Vorsprünge aufweist. Diese Vor sprünge sind elastisch verformbar, beispielsweise biegbar und/ oder kompri mierbar. Es ist aber auch vorgesehen, dass die Substratauflage aus einem oder mehreren Schaumkörpern oder anderweitig komprimierbaren Körpern gebildet ist. Ein derartiger Körper besitzt zwei voneinander wegweisende Oberflächen, die sich an entweder die Oberfläche der Oberseite des Substrathalters oder die Oberfläche der Rückseite des Substrates vollflächig anschmiegen können. Es kann sich um einen offenzelligen Schaumstoff handeln. Als Substrat wird Glas, Silizium, aber auch A1203 oder Aluminium, Kupfer, Titan oder ein anderes Me tall verwendet. Das Substrat kann auch ein Kunststoff, Polyamid, insbesondere ein transparenter Kunststoff sein. Das Substrat kann eine Flächenerstreckung von mehr als 0,15 m2 besitzen. Das Substrat kann aber auch größer als 1 m2 oder größer als 2 m2 sein. Die Strukturelemente können auch Fasern oder dünne Säu len sein, die sich verbiegen können. Derartige Strukturelemente ragen wie Haa re oder Borsten von der Oberseite des Substrathalters ab. Derart flexible Struk turelemente können sich bei einer Krafteinwirkung derart verbiegen, dass sie mit ihren Seitenwänden das Substrat tragen. Die Höhe der Strukturelemente ist bevorzugt nur geringfügig größer, als das Maß der größten Unebenheit der Rückseite des Substrates. Die Höhe der Strukturelemente kann aber auch grö ßer sein. Die Höhe der Strukturelemente kann größer als 5 gm, größer als 10 gm, größer als 50 gm, größer als 100 gm oder größer als 1 mm sein. Die Höhe der Strukturelemente soll aber kleiner als 5 mm sein. Gemäß einer bevorzugten Ausgestaltung liegt die Höhe der Strukturelemente zwischen 50 gm und 1 mm. Bevorzugt liegt die Höhe bei etwa 50 gm bis 100 gm. Die laterale Erstreckung eines Strukturelementes kann kleiner sein, als ihre Höhe. Insbesondere wenn die Strukturelemente als Säulen oder Fasern, wie Haare oder Borsten, ausgebil det sind, ist der kreisäquivalente Durchmesser ihrer Querschnittsfläche um mindestens einen Faktor 10 kleiner als ihre Höhe. Eine typische laterale Dimen sion eines Strukturelementes ist kleiner als 5 cm oder kleiner als 1 mm. Eine laterale Dimension kann aber auch größer als 5 cm sein. Ein Strukturelement kann beispielsweise eine Länge besitzen, die größer als 0,2 mm, größer als 0,5 mm, größer als 1 mm, größer als 2 mm oder größer als 5 mm ist. Es ist insbe sondere vorgesehen, dass die maximale Länge eines Strukturelementes 20 mm beträgt. Die Fläche, die ein Strukturelement einnimmt, kann kleiner als 50 mm2 sein. Die Breite eines Strukturelementes kann größer als 5 mm oder kleiner als 1 mm sein. Die Strukturelemente können auch eine Höhlung aufweisen. Die Strukturelemente können insbesondere als Kissen ausgebildet sein. Ein derarti ges Strukturelement besitzt eine elastische Hülle. In das von der Hülle umge bene Volumen kann ein Gas eingespeist werden, das dem Kissen eine Elastizität verleiht. Das in das Volumen eingespeiste Gas kann auch ein Temperiergas sein, welches dem Kissen eine Wärmeleitfähigkeit verleiht. Es kann vorgesehen sein, dass ein Temperiergas während eines Behandlungsprozesses durch ein Kissen hindurchfließt. Das Volumen besitzt dann eine Zuleitung und eine Ab leitung. In das Volumen kann aber auch eine Temperierflüssigkeit eingespeist werden. Es ist auch vorgesehen, dass das Volumen abgeschlossen ist. Das Kis sen kann ein Gelkissen sein, in dessen Volumen sich ein wärmeleitendes Gel befindet. Es kann vorgesehen sein, dass das Substrat auf einem einzigen Kissen, beispielsweise Gelkissen liegt. Die Substratauflage wird in diesem Fall von ei nem Gelkissen gebildet. Es ist aber auch vorgesehen, dass die Substratauflage von mehreren Kissen, insbesondere Gelkissen, gebildet wird. Es kann insbe sondere vorgesehen sein, dass die Oberseite des Substrathalters vollständig, d. h. zu 100 Prozent mit der Substratauflage und insbesondere mit den von der Substratauflage ausgebildeten Strukturelementen versehen ist. Es kann aber auch vorgesehen sein, dass zumindest ein Anteil von 90 Prozent, 10 Prozent,The temperature control gas can be fed into the intermediate space with an overpressure of, for example, 2 mbar, 5 mbar above the process chamber pressure. The overpressure is preferably less than 1 mbar. But it can also be less than 5 mbar. The process chamber pressure can be in the range between 1 mbar and 5 mbar. However, it can also be in the range between 0.5 mbar or 1 mbar. In particular, it can be less than 1 mbar or 0.5 mbar. In order to prevent the higher pressure in the intermediate area from causing the substrate to lift, holding means are provided. Such holding means can act mechanically, for example a mask can rest on the substrate, the weight of which provides the force. However, it is also provided that magnetic or electrostatic forces are used to hold the substrate. Instead of individual structural elements that are, for example, directly applied, for example glued, to a surface, in particular a metallic surface, of the substrate holder, the substrate support can also be formed by one or more bodies having a plurality of projections that are applied to the top of the substrate holder . In particular, it is provided that such a body is a mat which has projections facing away from the upper side. Before these jumps are elastically deformable, for example bendable and / or compressible. However, it is also provided that the substrate support is formed from one or more foam bodies or other compressible bodies. Such a body has two surfaces pointing away from one another, which can cling to either the surface of the upper side of the substrate holder or the surface of the rear side of the substrate over the entire area. It can be an open-cell foam. Glass, silicon, but also A1203 or aluminum, copper, titanium or another metal is used as the substrate. The substrate can also be a plastic, polyamide, in particular a transparent plastic. The substrate can have a surface area of more than 0.15 m 2 . However, the substrate can also be larger than 1 m 2 or larger than 2 m 2 . The structural elements can also be fibers or thin columns that can bend. Such structural elements, such as hairs or bristles, protrude from the top of the substrate holder. Such flexible structural elements can bend when a force is applied in such a way that they carry the substrate with their side walls. The height of the structural elements is preferably only slightly larger than the extent of the greatest unevenness of the back of the substrate. The height of the structural elements can, however, also be greater. The height of the structural elements can be greater than 5 gm, greater than 10 gm, greater than 50 gm, greater than 100 gm or greater than 1 mm. The height of the structural elements should, however, be less than 5 mm. According to a preferred embodiment, the height of the structural elements is between 50 μm and 1 mm. The height is preferably around 50 gm to 100 gm. The lateral extension of a structural element can be smaller than its height. In particular, if the structural elements are designed as columns or fibers, such as hair or bristles, the diameter of their cross-sectional area equivalent to a circle is at least a factor of 10 smaller than their height. A typical lateral dimension of a structural element is less than 5 cm or less than 1 mm. However, a lateral dimension can also be greater than 5 cm. A structural element can, for example, have a length that is greater than 0.2 mm, greater than 0.5 mm, greater than 1 mm, greater than 2 mm or greater than 5 mm. It is especially provided that the maximum length of a structural element is 20 mm. The area that a structural element takes up can be smaller than 50 mm 2 . The width of a structural element can be greater than 5 mm or less than 1 mm. The structural elements can also have a cavity. The structural elements can in particular be designed as cushions. Such a structural element has an elastic shell. A gas can be fed into the volume surrounded by the envelope, which gives the cushion elasticity. The gas fed into the volume can also be a temperature control gas, which gives the cushion a thermal conductivity. It can be provided that a temperature control gas flows through a cushion during a treatment process. The volume then has a supply line and a discharge line. However, a heat transfer liquid can also be fed into the volume. It is also envisaged that the volume will be completed. The cushion can be a gel cushion with a thermally conductive gel in its volume. It can be provided that the substrate is on a single cushion, for example gel cushion lies. In this case, the substrate support is formed by a gel cushion. However, it is also provided that the substrate support is formed by several cushions, in particular gel cushions. In particular, it can be provided that the top of the substrate holder is completely, ie 100 percent, provided with the substrate support and in particular with the structural elements formed by the substrate support. However, it can also be provided that at least a proportion of 90 percent, 10 percent,
3 Prozent oder 1 Prozent mit Strukturelementen versehen ist. 3 percent or 1 percent is provided with structural elements.
[0017] Das in das Volumen des Kissens eingespeiste Temperiergas oder das in die Zwischenräume zwischen den Strukturelementen eingespeiste Temperiergas hat bevorzugt eine derart hohe Wärmeleitfähigkeit, das es den Wärmetransport zwischen Substrat und Substrathalter dominiert. Mit erfindungsgemäßen Struk turelementen kann erreicht werden, dass der Wärmetransport nicht zum größten Teil über die Kontaktflächen der Rückseitenoberfläche des Substrates mit den Strukturelementen erfolgt, sondern dass der Wärmetransport im Wesentlichen über das den Zwischenraum ausfüllende Temperiergas erfolgt. Es kann somit vorgesehen sein, dass die Strukturelemente und das Temperiergas derartige Wärmeleiteigenschaften aufweisen, dass über das Temperiergas ein größerer Wärmefluss als durch alle Strukturelemente insgesamt fließt. Die Querschnitts fläche der Strukturelemente und die Querschnittsfläche der Zwischenräume ha ben bevorzugt ein derartiges Verhältnis, dass die Querschnittsfläche der Summe aller Strukturelemente wesentlich geringer ist, als die Querschnittsfläche der Summe aller Zwischenräume. The temperature control gas fed into the volume of the cushion or the temperature control gas fed into the spaces between the structural elements preferably has such a high thermal conductivity that it dominates the heat transport between the substrate and the substrate holder. With the structural elements according to the invention, it can be achieved that the heat transport does not take place for the most part via the contact areas of the rear surface of the substrate with the structural elements, but that the heat transport takes place essentially via the temperature control gas filling the gap. It can thus be provided that the structural elements and the temperature control gas have heat conducting properties such that a greater heat flow flows through the temperature control gas than through all the structural elements as a whole. The cross-sectional area of the structural elements and the cross-sectional area of the interspaces preferably have a ratio such that the cross-sectional area of the sum of all structural elements is significantly less than the cross-sectional area of the sum of all interspaces.
Kurze Beschreibung der Zeichnungen Brief description of the drawings
[0018] Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend anhand bei gefügter Zeichnungen im Detail erläutert. Es zeigen: Fig. 1 schematisch einen Schnitt durch eine Substratbehandlungsvor- richtung, Embodiments of the invention are explained in detail below with the aid of attached drawings. Show it: 1 schematically shows a section through a substrate treatment device,
Fig. 2 vergrößert den Ausschnitt II in Figur 1, FIG. 2 enlarges the detail II in FIG. 1,
Fig. 3 den Ausschnitt gemäß Figur 2, jedoch in einer Konstellation gemäß Stand der Technik, 3 shows the detail according to FIG. 2, but in a constellation according to the prior art,
Fig. 4 den Schnitt gemäß der Linie IV-IV in Figur 1, in Form einerFig. 4 shows the section along the line IV-IV in Figure 1, in the form of a
Draufsicht auf das auf einem Substrathalter 2 aufliegende Sub strat 7, Top view of the substrate 7 resting on a substrate holder 2,
Fig. 5 eine Draufsicht auf den Substiathalter 2 ähnlich Figur 4, jedoch mit entferntem Substrat 7 eines ersten Ausführungsbeispiels, 5 shows a plan view of the substrate holder 2 similar to FIG. 4, but with the substrate 7 of a first exemplary embodiment removed,
Fig. 6 den Schnitt gemäß der Linie VI-VI in Figur 4, 6 shows the section along the line VI-VI in FIG. 4,
Fig. 7 eine Darstellung gemäß Figur 5 eines zweiten Ausführungsbei spiels, Fig. 7 shows a representation according to Figure 5 of a second game Ausführungsbei,
Fig. 8 perspektivisch einen Ausschnitt einer Oberseite 2' eines Sub- stiathalters 2 mit Stiukturelementen 11 eines dritten Ausfüh rungsbeispiels, 8 is a perspective view of a detail of an upper side 2 'of a substrate holder 2 with structural elements 11 of a third exemplary embodiment,
Fig. 9 einen Schnitt ähnlich Figur 6 eines vierten Ausführungsbei spiels, Fig. 9 is a section similar to Figure 6 of a fourth game Ausführungsbei,
Fig. 10 eine perspektivische Darstellung ähnlich der Figur 8 eines fünf ten Ausführungsbeispiels, Fig. 11 verschiedene Strukturelemente 15a bis 15f des fünften Ausfüh rungsbeispiels, 10 shows a perspective illustration similar to FIG. 8 of a fifth exemplary embodiment, 11 various structural elements 15a to 15f of the fifth exemplary embodiment,
Fig. 12 eine Darstellung ähnlich Figur 9 eines sechsten Ausführungs beispiels, bei dem die Strukturelemente 13 die Form von Fäden, Fasern oder Haaren haben, 12 shows a representation similar to FIG. 9 of a sixth embodiment, in which the structural elements 13 are in the form of threads, fibers or hairs,
Fig. 13 eine Darstellung gemäß Figur 12, jedoch mit einem von den Strukturelementen 13 getragenen Substrat 7, 13 shows an illustration according to FIG. 12, but with a substrate 7 carried by the structural elements 13,
Fig. 14 ein siebtes Ausführungsbeispiel der Erfindung in einer Darstel lung ähnlich Figur 9, bei dem die Strukturelemente 14 von Vor sprüngen einer Matte 25 gebildet sind, 14 shows a seventh embodiment of the invention in a representation similar to FIG. 9, in which the structural elements 14 are formed by protrusions of a mat 25,
Fig. 15 in einer Schnittdarstellung ähnlich Figur 9 ein achtes Ausfüh rungsbeispiel, bei dem die Substratauflage 10 von einem Schaumkörper 26 gebildet ist und 15 shows an eighth exemplary embodiment in a sectional illustration similar to FIG. 9, in which the substrate support 10 is formed by a foam body 26 and
Fig. 16 eine Darstellung gemäß Figur 15, bei dem die Substratauflage 10 ein Gelkörper 27 ist, bei dem sich ein Gel 29 in einem Volu men einer Hülle 28 befindet. 16 shows an illustration according to FIG. 15, in which the substrate support 10 is a gel body 27 in which a gel 29 is located in a volume of an envelope 28.
Beschreibung der Ausführungsformen Description of the embodiments
[0019] Die Figur 1 zeigt einen OVPD-Reaktor, wie er aus dem Stand der Tech nik grundsätzlich vorbekannt ist. Der OVPD-Reaktor besitzt ein nach außen gasdichtes Gehäuse 1. In dem Gehäuse 1 befindet sich ein Gaseinlassorgan 3, welches die Form eines Duschkopfes aufweist. Das Gaseinlassorgan 3 besitzt einen im Wesentlichen rechteckigen Grundriss und auf einer zu einer Prozess kammer 5 weisenden Gasaustrittsfläche eine Vielzahl von Gasaustrittsöffnun- gen 3'. In ein Volumen des Gaseinlassorganes 3 kann durch eine Gaszuleitung 4 ein Dampf eines organischen Ausgangsstoffs eingespeist werden. Dies erfolgt mittels eines Trägergases. Der Dampf wird zuvor in einem nicht dargestellten Verdampfer erzeugt, beispielsweise dadurch, dass ein als Aerosol zu einem Verdampfer gebrachtes organisches Pulver durch Wärmezufuhr im Verdamp fer in die Dampfform gebracht wird. Die Gasaustrittsfläche des Gaseinlassorga nes 3 ist beheizt. Sie wird auf eine Temperatur beheizt, die größer ist, als die Kondensationstemperatur des Dampfes. Figure 1 shows an OVPD reactor, as it is basically known from the prior art. The OVPD reactor has a housing 1 which is gas-tight to the outside. In the housing 1 there is a gas inlet element 3 which has the shape of a shower head. The gas inlet element 3 has an essentially rectangular outline and a large number of gas outlet openings on a gas outlet surface facing a process chamber 5. gen 3 '. A vapor of an organic starting material can be fed into a volume of the gas inlet element 3 through a gas feed line 4. This is done by means of a carrier gas. The vapor is generated beforehand in an evaporator (not shown), for example in that an organic powder brought to an evaporator as an aerosol is converted into vapor form by the supply of heat in the evaporator. The gas outlet surface of the gas inlet organ 3 is heated. It is heated to a temperature that is greater than the condensation temperature of the steam.
[0020] Der Boden der Prozesskammer 5 wird von einer Oberseite 2' eines Sub- strathalters 2 gebildet. Der Substrathalter 2 wird im Wesentlichen von einem Kühlkörper gebildet. Der Kühlkörper besitzt eine Kühleinrichtung 6, bei der es sich um Kühlkanäle handeln kann, durch die ein flüssiges Kühlmedium hin durchfließen kann. Auf der Oberseite 2' des Substrathalters 2 befindet sich das zu beschichtende Substrat. Das Substrat besitzt eine Frontseite 9, die zur Pro zesskammer 5 weist und die mit dem organischen Dampf dadurch beschichtet wird, dass der Dampf auf der Frontseite 9 kondensiert. Hierzu muss dem Sub strat 7 Wärme entzogen werden. Dies erfolgt mittels des Substrathalters 2. The bottom of the process chamber 5 is formed by an upper side 2 ′ of a substrate holder 2. The substrate holder 2 is essentially formed by a heat sink. The heat sink has a cooling device 6, which can be cooling channels through which a liquid cooling medium can flow. The substrate to be coated is located on the upper side 2 'of the substrate holder 2. The substrate has a front side 9 which faces the process chamber 5 and which is coated with the organic vapor in that the steam condenses on the front side 9. For this purpose, heat must be withdrawn from the substrate 7. This is done by means of the substrate holder 2.
[0021] Erfindungsgemäß liegt zwischen der Rückseite 8 des Substrates 7 und der Oberseite 2' des Substrathalters 2 eine in der Figur 2 mit der Bezugsziffer 10 bezeichnete Substratauflage. Die erfindungsgemäße Wirkung der Substratauf lage 10 wird anhand der Figur 3 erläutert, die eine Vorrichtung gemäß Figur 1 zeigt, bei der die Rückseite 8 des Substrates 7 unmittelbar auf der Oberseite 2' des Substrathalters 2 aufliegt. Die Rückseite 8 erstreckt sich zwar im Wesentli chen in einer Ebene. Sie besitzt aber Unebenheiten, beispielsweise Auswölbun gen 8'. Diese Unebenheiten führen dazu, dass die Rückseite die Oberseite 2', die ebenso wenig eine ideale Ebene ist, nur punktuell berührt. Nur an den Berüh rungspunkten erfolgt der Wärmetransport vom Substrat 7 zum Substrathalter 2 über einen Festkörper kontakt. In den Zwischenbereichen erfolgt der Wär metransport vom Substrat zum Substrathalter 2 im Wesentlichen über Wärme leitung durch ein sich im Zwischenraum befindendes Gas. According to the invention, a substrate support designated by the reference number 10 in FIG. The inventive effect of the substrate support 10 is explained with reference to FIG. 3, which shows a device according to FIG. The back 8 extends essentially Chen in one plane. But it has bumps, for example bulges 8 '. These unevenness lead to the fact that the rear side only touches the top side 2 ', which is also not an ideal plane, only at certain points. The heat is transported from the substrate 7 to the substrate holder 2 only at the contact points via a solid contact. In the intermediate areas, the heat is transported from the substrate to the substrate holder 2 essentially via heat conduction through a gas located in the intermediate space.
[0022] Im Unterschied zu der in der Figur 3 dargestellten Situation beim Stand der Technik befindet sich erfindungsgemäß zwischen Rückseite 8 des Substra tes 7 und Oberseite 2' ein elastisches Medium in Form der Substratauflage 10. Mit diesem elastischen Medium werden die Unebenheiten 8' ausgeglichen. Dies führt zu einem vergleichmäßigten Wärmetransport vom Substrat 7 zum Sub strathalter 2. In contrast to the situation in the prior art shown in Figure 3, according to the invention between the back 8 of the substrate 7 and the top 2 'is an elastic medium in the form of the substrate support 10. With this elastic medium, the unevenness 8' are compensated . This leads to a more uniform heat transport from the substrate 7 to the substrate holder 2.
[0023] Mit der Bezugsziffer 30 sind Haltemittel bezeichnet, beispielsweise elektrostatische oder elektromagnetische Haltemittel, mit denen eine Kraft auf das Substrat 7 aufgebracht wird, die in Richtung der Flächennormalen der Oberseite 2' wirkt und die das Substrat 7 in Richtung auf den Substrathalter 2 beaufschlagt, sodass sich die Substratauflage 10 verformen kann. In anderen Ausführungsbeispielen hat die Halteeinrichtung 30 auch die Funktion, das Sub strat 7 gegen den Druck eines in einen Raum unterhalb des Substrates 7 einge speistes Temperiergas zu halten. Mit der Bezugsziffer 31 ist eine Maske, bei spielsweise aus Metall bezeichnet, die auf dem Substrat aufliegt, um das Sub strat zu strukturieren. Die Maske 31 ist in der Figur 1 lediglich angedeutet. Die Maske 31 liefert darüber hinaus eine Masse, mit der das Substrat in Richtung der Oberseite 2' beaufschlagt wird, sodass sich eine Gewichtskraft einstellt, die die Substratauflage 10 verformen kann, die das Substrat 7 aber auch gegen den Druck eines in einem Zwischenraum zwischen Oberseite 2' und Rückseite 8 eingespeistes Temperiergas hält. The reference numeral 30 denotes holding means, for example electrostatic or electromagnetic holding means, with which a force is applied to the substrate 7, which acts in the direction of the surface normal of the top 2 'and which acts on the substrate 7 in the direction of the substrate holder 2 so that the substrate support 10 can deform. In other exemplary embodiments, the holding device 30 also has the function of holding the sub strate 7 against the pressure of a temperature gas fed into a space below the substrate 7. Reference numeral 31 denotes a mask, for example made of metal, which rests on the substrate in order to structure the sub strate. The mask 31 is only indicated in FIG. The mask 31 also provides a mass with which the substrate is acted upon in the direction of the upper side 2 ', so that a weight force is established which can deform the substrate support 10, but which the substrate 7 can also against the pressure of a space between the upper side 2 'and back 8 holds the fed temperature gas.
[0024] Die Figuren 4, 5 und 6 zeigen ein erstes Ausführungsbeispiel der Erfin dung, bei dem lediglich entlang eines Randes eines Bereichs der Oberseite 2' des Substrathalters, der vom Substrat 7 bedeckt wird, Strukturelemente 11 an geordnet sind. Bei den Strukturelementen kann es sich um längliche, elastische Körper, beispielsweise aus Kunststoff, aber auch aus Metall oder einem anderen geeigneten Werkstoff handeln. Die Strukturelemente 11 sind derart entlang des Randes angeordnet, dass zwischen benachbarten Strukturelementen 11 Zwi schenräume 20 verbleiben. Die Strukturelemente 11 sind derart auf Lücke ver setzt zueinander angeordnet, dass sie eine Labyrinthdichtung gegenüber einem von den Strukturelementen 11 umgebenden Innenraum ausbilden. Liegt das Substrat 7 auf den Strukturelementen auf, so bildet sich ein Hohlraum 17 zwi schen der Rückseite 8 und der Oberseite 2' aus. In diesen Hohlraum 17 kann ein Temperiergas eingespeist werden. Hierzu sind Gaszuleitungen 16 vorgesehen, die in die Oberseite 2' münden. Das Temperiergas bewirkt eine Wärmeleitung vom Substrat 7 zum Substrathalter 2. Der Abstand der Rückseite 8 von der Oberseite 2' kann im Bereich zwischen 5 gm und 1 mm liegen. Figures 4, 5 and 6 show a first embodiment of the inven tion, in which only along one edge of an area of the top 2 ' of the substrate holder, which is covered by the substrate 7, structural elements 11 are arranged on. The structural elements can be elongated, elastic bodies, for example made of plastic, but also made of metal or another suitable material. The structural elements 11 are arranged along the edge in such a way that intermediate spaces 20 remain between adjacent structural elements 11. The structural elements 11 are arranged in such a way that they form a labyrinth seal with respect to an interior space surrounding the structural elements 11. If the substrate 7 rests on the structural elements, a cavity 17 is formed between the rear side 8 and the upper side 2 '. A temperature gas can be fed into this cavity 17. For this purpose, gas feed lines 16 are provided which open into the top 2 '. The temperature control gas causes heat to be conducted from the substrate 7 to the substrate holder 2. The distance between the rear side 8 and the upper side 2 'can be in the range between 5 μm and 1 mm.
[0025] In einem nicht dargestellten Ausführungsbeispiel können die längli chen Strukturelemente 11, deren Länge bis 5 cm betragen kann und deren Brei te bis 1 mm betragen kann, über die gesamte Oberseite 2' gleichmäßig verteilt angeordnet sein. In Zwischenräume zwischen den einzelnen Strukturelementen 11 können Gaszuleitungen 16 münden. Um das Substrat gegen einen gegenüber dem Umgebungsdruck höheren Temperiergasdruck zu halten, können die zu vor beschriebenen Haltemittel 30 verwendet werden. Der Überdruck des Tem periergases kann 0,5 mbar bis 1 mbar betragen. In an exemplary embodiment not shown, the elongated structural elements 11, the length of which can be up to 5 cm and the width of which can be up to 1 mm, can be arranged evenly distributed over the entire top 2 '. Gas feed lines 16 can open into spaces between the individual structural elements 11. In order to hold the substrate against a temperature gas pressure which is higher than the ambient pressure, the holding means 30 described above can be used. The overpressure of the tem periergases can be 0.5 mbar to 1 mbar.
[0026] Bei dem in der Figur 7 dargestellten zweiten Ausführungsbeispiel ha ben die Strukturelemente 11 einen im Wesentlichen quadratischen Grundriss und sind gleichmäßig über zumindest den vom Substrat 7 bedeckten Bereich der Oberseite 2' des Substrathalters 2 angeordnet. Die Strukturelemente 11 sind in einer regelmäßigen Anordnung gleichmäßig über die Oberseite 2' verteilt. Sie können aber auch unregelmäßig verteilt sein. Sie können aber auch unregelmä ßig und statistisch gleichmäßig über die Oberseite 2' verteilt sein. Ihr Grundriss kann auch rund, oval oder rechteckig sein. Die Umrisskontur kann auch belie big verlaufen. In the second exemplary embodiment shown in FIG. 7, the structural elements 11 have an essentially square outline and are arranged uniformly over at least the area of the upper side 2 ′ of the substrate holder 2 covered by the substrate 7. The structural elements 11 are evenly distributed over the top 2 'in a regular arrangement. she but can also be distributed irregularly. But they can also be distributed irregularly and statistically evenly over the top 2 '. Your floor plan can also be round, oval or rectangular. The outline contour can also run as desired.
[0027] Das in der Figur 8 dargestellte dritte Ausführungsbeispiel zeigt Gaszu leitungen 16, die unmittelbar am Rand einer zentralen Freifläche münden, die von den Strukturelementen 11 in mehrreihiger Anordnung begrenzt wird. Die Strukturelemente 11 haben hier parallel zueinander verlaufende Seitenwände 21, 22 und eine Breite B, die im Bereich zwischen 1 mm und 5 mm liegt. Sie ha ben eine Länge L, die in einem Bereich zwischen 1 mm und 50 mm liegt. Der Abstand A zwischen zwei benachbarten Strukturelementen 11 kann dem Maß der Höhe H entsprechen. Der Abstand A kann aber auch größer sein oder klei ner sein als die Höhe H. Das Maß einer Auflagefläche 23, auf welcher sich die Rückseite 8 des Substrates 7 abstützt, kann kleiner als 50 mm2 sein. Die Struktu relemente 11 können hier von elastischen Festkörpern ausgebildet sein, die aus Gummi, Kunststoff oder einem anderen elastischen Material gefertigt sind. Ihr Volumen wird vollständig vom Werkstoff ausgefüllt. The third embodiment shown in Figure 8 shows gas supply lines 16 which open directly at the edge of a central open area which is delimited by the structural elements 11 in a multi-row arrangement. The structural elements 11 here have side walls 21, 22 running parallel to one another and a width B which is in the range between 1 mm and 5 mm. They have a length L which is in a range between 1 mm and 50 mm. The distance A between two adjacent structural elements 11 can correspond to the dimension of the height H. The distance A can, however, also be greater or smaller than the height H. The dimension of a support surface 23 on which the rear side 8 of the substrate 7 is supported can be less than 50 mm 2 . The structure elements 11 can be formed here by elastic solids that are made of rubber, plastic or another elastic material. Its volume is completely filled by the material.
[0028] Die Figur 9 zeigt ein viertes Ausführungsbeispiel der Erfindung, bei dem die Strukturelemente 12 eine Höhlung 19 aufweisen. Die Strukturelemente 12 sind als Kissen ausgebildet und besitzen eine flexible Hülle 18. Die Hülle 18 bildet die Seitenwände 21, 22 und die Auflagefläche 23 aus. Beim Ausfüh rungsbeispiel ist das Kissen 12 zur Oberseite 2' offen. Die Hülle ist mit einem Rand mit der Oberseite 2', beispielsweise durch eine Klebeverbindung, verbun den. In das Volumen 19 der Hülle 18 mündet eine Gaszuleitung 16, um in die Hülle ein Temperiergas einzuspeisen. In einem nicht dargestellten Ausfüh rungsbeispiel mündet in die Höhlung 19 des Strukturelementes 12 nicht nur eine Gaszuleitung 16, sondern auch eine Gasableitung, sodass durch die Höh- lung 19 ein Temperiergas fließen kann. Die Breite B, die Höhe H und der Ab stand benachbarter Strukturelemente 12 können die oben genannten Werte be sitzen. Die Strukturelemente 12 können auch, wie in den Figuren 5 bis 8 darge stellt, angeordnet und/ oder gestaltet sein. Die Hülle des Kissens 12, die sich auch über die Oberseite 2' erstrecken kann, kann aus Kunststoff, Gummi oder einer dünnen Metallfolie bestehen. FIG. 9 shows a fourth exemplary embodiment of the invention, in which the structural elements 12 have a cavity 19. The structural elements 12 are designed as cushions and have a flexible cover 18. The cover 18 forms the side walls 21, 22 and the support surface 23. In the exemplary embodiment, the cushion 12 is open to the top 2 '. The shell is connected to the top 2 'by an edge, for example by an adhesive connection. A gas feed line 16 opens into the volume 19 of the envelope 18 in order to feed a temperature control gas into the envelope. In an exemplary embodiment, not shown, not only a gas supply line 16 but also a gas discharge line opens into the cavity 19 of the structural element 12, so that the height treatment 19 a temperature gas can flow. The width B, the height H and the distance between adjacent structural elements 12 can have the above values. The structural elements 12 can also, as shown in FIGS. 5 to 8, be arranged and / or designed. The shell of the cushion 12, which can also extend over the top 2 ', can consist of plastic, rubber or a thin metal foil.
[0029] Die Figuren 10 und 11 zeigen ein fünftes Ausführungsbeispiel der Er findung, bei dem die Strukturelemente 15 hinterschnittene Seitenwände 21, 22 aufweisen. Die Fläche 24, mit der das Strukturelement 15 mit der Oberseite 2' befestigt ist, ist kleiner, als die Auflagefläche 23, auf der das Substrat 7 mit sei ner Rückseite 8 aufliegt. Die Strukturelemente 15 können als Rippen ausgebil det sein, die eine Länge aufweisen, die größer ist, als die Breite. Die Breite des Strukturelementes 15 kann geringer sein, als die Höhe des Strukturelementes 15. Es ist insbesondere vorgesehen, dass die Breite des Fußbereiches 24 kleiner ist, als die Höhe des Strukturelementes 15. Figures 10 and 11 show a fifth embodiment of the invention, in which the structural elements 15 have undercut side walls 21, 22. The surface 24 with which the structural element 15 is attached to the upper side 2 'is smaller than the bearing surface 23 on which the substrate 7 with its rear side 8 rests. The structural elements 15 can be ausgebil det as ribs that have a length that is greater than the width. The width of the structural element 15 can be less than the height of the structural element 15. In particular, it is provided that the width of the foot region 24 is less than the height of the structural element 15.
[0030] Die in der Figur 11 dargestellten Strukturelemente 15a, 15b, 15c, 15d, 15e und 15f besitzen Auflageflächen 23, die nicht parallel zur Oberseite 2' ver laufen. Die Strukturelemente 15a bis 15f können aufgrund ihrer Elastizität ver kippen, sodass sich die Auflageflächen 23 in Flächenkontakt an die Rückseite 8 an schmiegen können. Die Strukturelemente 15 s können darüber hinaus auch komprimierbar sein. Die Verformung der Strukturelemente 15 erfolgt elastisch, sodass sie sich nach Entnehmen des Substrates 7 wieder in eine Ursprungsform zurückverformen können. The structural elements 15a, 15b, 15c, 15d, 15e and 15f shown in Figure 11 have bearing surfaces 23 which do not run parallel to the top 2 'ver. The structural elements 15a to 15f can tilt ver due to their elasticity, so that the bearing surfaces 23 can nestle against the back 8 in surface contact. The structural elements 15 s can also be compressible. The deformation of the structural elements 15 takes place elastically, so that they can deform back into their original shape after the substrate 7 has been removed.
[0031] Das in den Figuren 12 und 13 dargestellte sechste Ausführungsbeispiel zeigt Strukturelemente 13 in Form von Fäden, Säulen, Borsten oder Haaren. Die Strukturelemente 13 besitzen eine längliche Gestalt. Ihr Durchmesser ist gerin- ger, als ihre Länge. Die Länge des Strukturelementes, die die Höhe H definiert, ist bevorzugt mindestens zehnmal größer, als ein kreisäquivalenter Durchmes ser eines Querschnittes des Strukturelementes 13. Die Strukturelemente 13 ha ben bevorzugt über ihre gesamte Längenerstreckung einen gleich bleibenden Querschnitt. Ähnlich, wie die in der Figur 11 dargestellten Strukturelemente, können sich die borsten- oder haarartigen Strukturelemente 13 verbiegen. Die Verbiegung erfolgt gegen eine elastische Rückstellkraft. Die Figur 12 zeigt die Strukturelemente 13 im unbeaufschlagten Zustand, indem sie sich im Wesentli chen geradlinig parallel zur Flächennormalen der Oberseite 2' erstrecken. Wird ein Substrat 7 auf diese fadenartigen Strukturelemente 13 aufgelegt, so reagie ren die Strukturelemente 13 wie Federstäbe und verbiegen sich, sodass die sich an die freien Enden angrenzenden Oberflächenbereiche der Strukturelemente 13 an die Unterseite 8 anschmiegen. The sixth embodiment shown in Figures 12 and 13 shows structural elements 13 in the form of threads, columns, bristles or hair. The structural elements 13 have an elongated shape. Their diameter is small shorter than their length. The length of the structural element, which defines the height H, is preferably at least ten times greater than a circle-equivalent diameter of a cross-section of the structural element 13. The structural elements 13 preferably have a constant cross-section over their entire length. Similar to the structural elements shown in FIG. 11, the bristle-like or hair-like structural elements 13 can bend. The bending takes place against an elastic restoring force. FIG. 12 shows the structural elements 13 in the unloaded state in that they essentially extend in a straight line parallel to the surface normal of the upper side 2 '. If a substrate 7 is placed on these thread-like structural elements 13, the structural elements 13 react like spring bars and bend so that the surface areas of the structural elements 13 adjoining the free ends nestle against the underside 8.
[0032] In nicht dargestellten Ausführungsbeispielen können die säulenartigen Strukturelemente 13 aber auch von vorneherein, d. h. in einem vom Substrat 7 nicht beaufschlagten Zustand eine Neigung gegenüber der Flächennormalen der Oberseite 2' besitzen. Die Strukturelemente 13 können somit schräg zur Flä chennormalen verlaufende Stäbe sein. Diese Stäbe können parallel zueinander verlaufen. Sie können aber auch in einem Winkel zueinander stehen, beispiels weise paarweise V-förmig ausgebildet sein. Sie können über Adhäsionsmittel mit der Oberseite 2' verbunden sein. Sie können aber auch von einer Befesti gungsfolie abragen, die mit der Oberseite 2' verbunden ist. Es kann auch vorge sehen sein, dass sich diese Strukturelemente 13 über die gesamte Erstreckungs fläche der Oberseite 2' erstrecken. Die Strukturelemente 13 können sich aber auch nur über einen Rand eines Bereichs erstrecken, der das Substrat 7 trägt. In embodiments not shown, the columnar structural elements 13 can also from the outset, d. H. in a state not acted upon by the substrate 7 have an inclination with respect to the surface normal of the upper side 2 '. The structural elements 13 can thus be bars extending obliquely to the surface normal. These bars can run parallel to one another. But you can also be at an angle to each other, for example, be designed in pairs V-shaped. They can be connected to the upper side 2 'via adhesives. But you can also protrude from a fastening film that is connected to the top 2 '. It can also be provided that these structural elements 13 extend over the entire extension surface of the upper side 2 '. The structural elements 13 can, however, also extend only over one edge of an area which carries the substrate 7.
[0033] Während die zuvor beschriebenen Strukturelemente 11, 13, 15 unmit telbar und voneinander beabstandet an der Oberseite 2' befestigt sind, zeigt das in der Figur 14 dargestellte siebte Ausführungsbeispiel eine Variante. Die Struk turelemente können auch von einer Basisfolie abragen. Die Strukturelemente können somit als Vorsprünge 14 von einer Basisfolie abragen und materialein heitlich mit der Basisfolie verbunden sein. While the structural elements 11, 13, 15 described above are attached directly and at a distance from one another on the top 2 ', this shows The seventh exemplary embodiment shown in FIG. 14 is a variant. The structural elements can also protrude from a base film. The structural elements can thus protrude as projections 14 from a base film and be connected to the base film in a uniform manner.
[0034] Bei dem in der Figur 14 dargestellten Ausführungsbeispiel werden die Strukturelemente 14 von noppenartigen Vorsprüngen ausgebildet, deren Maße denjenigen der zuvor beschriebenen Strukturelemente entspricht. Die Untersei te einer Matte 25, von denen die Vorsprünge 14 materialeinheitlich gebildet werden, ist in geeigneterweise mit der Oberseite 2' über ihre gesamte Fläche verbunden, beispielsweise verklebt. Es kann auch eine elektrostatische Verbin dung vorgesehen sein. In Zwischenräumen 20 zwischen zwei Vorsprüngen 14 kann eine Gaszuleitung 16 münden, um in die Zwischenräume 20 ein Tempe riergas einzuspeisen. In the embodiment shown in Figure 14, the structural elements 14 are formed by knob-like projections, the dimensions of which correspond to those of the structural elements described above. The underside of a mat 25, of which the projections 14 are formed from the same material, is suitably connected, for example glued, to the upper side 2 'over its entire surface. An electrostatic connection can also be provided. A gas feed line 16 can open into spaces 20 between two projections 14 in order to feed a temperature gas into the spaces 20.
[0035] Bei den zuvor beschriebenen Ausführungsbeispielen wird die Rückseite 8 des Substrates 7 punktuell von den Auflageflächen 23 voneinander beabstan- deter Strukturelemente 11, 13, 14, 15 beaufschlagt. Die Strukturelemente 11, 13, 14, 15 beaufschlagen die Rückseite 8 insbesondere auch an den ausgewölbten Zonen 8', sodass auch dort ein Festkörperkontakt zur Wärmeleitung besteht. In den Zwischenräumen 20 zwischen den Strukturelementen 11, 13, 14, 15 erfolgt der Wärmetransport über Wärmeleitung durch das Gas, welches durch die Gaszuleitung 16 eingespeist werden kann oder welche sich ohnehin in der Pro zesskammer befindet. In the exemplary embodiments described above, the rear side 8 of the substrate 7 is acted upon at points by the support surfaces 23 of structural elements 11, 13, 14, 15 which are spaced apart from one another. The structural elements 11, 13, 14, 15 act on the rear side 8, in particular also at the bulged zones 8 ', so that there is solid body contact for heat conduction there as well. In the spaces 20 between the structural elements 11, 13, 14, 15, the heat is transported by conduction through the gas, which can be fed in through the gas supply line 16 or which is already in the process chamber.
[0036] Bei dem in der Figur 15 dargestellten achten Ausführungsbeispiel der Erfindung liegt eine kontinuierliche Oberfläche der Substratauflage 10 an der Rückseite 8 und insbesondere an den ausgewölbten Zonen 8' an. Die Substrat auflage 10 wird hier von einem Schaumkörper 26, insbesondere von einem of- fenzeiligen Schaumkörper 26, ausgebildet. Der Schaumkörper 26 kann aus ei nem elastischen Material, beispielsweise einem Gummi oder einem Kunststoff, bestehen. Er kann aus demselben Material wie die zuvor beschriebenen Struk turelemente 11, 13, 14, 15 bestehen, beispielsweise aus PET oder aus PE. Anders als dort, weist der Schaumkörper 26 aber Hohlräume auf, die bevorzugt zur Umgebung offen sind, sodass ein Gasaustausch stattfinden kann. In the eighth exemplary embodiment of the invention shown in FIG. 15, a continuous surface of the substrate support 10 rests on the rear side 8 and in particular on the bulged zones 8 '. The substrate support 10 is here by a foam body 26, in particular by an open thin line foam body 26 formed. The foam body 26 can be made of an elastic material, for example a rubber or a plastic. It can consist of the same material as the structural elements 11, 13, 14, 15 described above, for example PET or PE. Unlike there, however, the foam body 26 has cavities which are preferably open to the environment so that a gas exchange can take place.
[0037] Bei dem in der Figur 16 dargestellten neunten Ausführungsbeispiel der Erfindung liegt ebenfalls eine kontinuierliche Oberfläche der Substratauflage 10 an der Rückseite 8 des Substrates 7 und insbesondere an der Oberfläche der ausgewölbten Zone 8' flächig an. Die Substratauflage 10 wird hier von einem Gelkörper 27 ausgebildet, bei dem es sich im Wesentlichen um ein Kissen han delt. Eine Hülle 28 aus einem flexiblen Werkstoff, beispielsweise einem Kunst stoff oder Gummi oder aber auch einer Metallfolie, umgibt einen Hohlraum, der mit einem Gel 29 gefüllt ist. In the ninth embodiment of the invention shown in FIG. 16, a continuous surface of the substrate support 10 also rests flat against the rear side 8 of the substrate 7 and in particular against the surface of the bulged zone 8 '. The substrate support 10 is formed here by a gel body 27, which is essentially a cushion. A sleeve 28 made of a flexible material, for example a synthetic material or rubber or else a metal foil, surrounds a cavity which is filled with a gel 29.
[0038] Die vorstehenden Ausführungen dienen der Erläuterung der von der Anmeldung insgesamt erfassten Erfindungen, die den Stand der Technik zu mindest durch die folgenden Merkmalskombinationen jeweils auch eigenstän dig weiterbilden, wobei zwei, mehrere oder alle dieser Merkmalskombinatio nen auch kombiniert sein können, nämlich: The above explanations serve to explain the inventions covered by the application as a whole, which also develop the state of the art independently at least through the following combinations of features, whereby two, more or all of these combinations of features can also be combined, namely:
[0039] Ein Substrathalter, der gekennzeichnet ist durch eine auf der Oberseite 2' angeordnete, elastisch verformbare Substratauflage 10, die aufgrund einer elastischen Verformung in berührende Anlage an die Oberfläche der Rückseite 8, 8' tritt. A substrate holder, which is characterized by an elastically deformable substrate support 10 which is arranged on the upper side 2 'and which comes into contact with the surface of the rear side 8, 8' due to an elastic deformation.
[0040] Ein Substrathalter, der dadurch gekennzeichnet ist, dass die Substrat auflage 10 Strukturelemente 11, 12, 13, 14, 15 aufweist und/ oder dass von der Substratauflage 10 gebildete Strukturelemente 11, 12, 13, 14, 15 lediglich am Rand des vom Substrat 7 bedeckten Bereichs der Oberseite 2' angeordnet sind und/ oder dass von der Substratauflage 10 gebildete Strukturelemente 11, 12,A substrate holder, which is characterized in that the substrate support 10 has structural elements 11, 12, 13, 14, 15 and / or that of the Structural elements 11, 12, 13, 14, 15 formed by substrate support 10 are arranged only on the edge of the area of top 2 'covered by substrate 7 and / or that structural elements 11, 12, formed by substrate support 10,
13. 14. 15 regelmäßig und in gleichmäßiger Anordnung über die Oberseite 2' verteilt sind, sodass die Strukturelemente 11, 12, 13, 14, 15 im Wesentlichen auf der gesamten Rückseite 8, 8' des Substrates 7 gleichmäßig anliegen und/ oder dass die Strukturelemente 11 bis 15 aus Kunststoff, PET, PE oder aus Metall, Metallfäden oder dünnen Metallfolien bestehen und/ oder dass die Substratauf lage 10 ein sich über die gesamte vom Substrat 7 abgedeckte Fläche der Ober seite 2' erstreckender, ein- oder mehrteiliger Körper 25, 27 ist und/ oder dass die Substratauflage 10 von einer Vorsprünge 14 ausbildenden Matte 25 oder einem Schaumkörper 26 gebildet ist. 13, 14, 15 are distributed regularly and in a uniform arrangement over the upper side 2 ', so that the structural elements 11, 12, 13, 14, 15 essentially rest evenly on the entire rear side 8, 8' of the substrate 7 and / or that the Structural elements 11 to 15 are made of plastic, PET, PE or of metal, metal threads or thin metal foils and / or that the substrate support 10 is a one-part or multi-part body 25 extending over the entire surface of the upper side 2 ′ covered by the substrate 7 , 27 and / or that the substrate support 10 is formed by a mat 25 forming projections 14 or a foam body 26.
[0041] Ein Substrathalter, der dadurch gekennzeichnet ist, dass die Struktu relemente 11, 12, 13, 14, 15 voneinander beabstandet sind und/ oder dass durch zwischen den Strukturelementen 11, 12, 13, 14, 15 angeordnete Zwischenräume 20 ein Temperiergas hindurchtreten kann und/ oder dass in zumindest einen Zwischenraum 20 zwischen Strukturelementen 11, 12, 13, 14, 15 oder in einen von Strukturelementen 11, 12, 13, 14, 15 umgebenden Bereich der Oberseite 2' zumindest eine Gasleitung 16 mündet und/ oder dass die Strukturelemente 11,A substrate holder, which is characterized in that the structural elements 11, 12, 13, 14, 15 are spaced from one another and / or that a temperature gas passes through the intermediate spaces 20 between the structural elements 11, 12, 13, 14, 15 can and / or that at least one gas line 16 opens into at least one intermediate space 20 between structural elements 11, 12, 13, 14, 15 or in an area of the upper side 2 ′ surrounding by structural elements 11, 12, 13, 14, 15 and / or that the structural elements 11,
12. 13. 14. 15 als Säulen, Fasern 13 oder Stege 14, 15 ausgebildet sind, die sich aufgrund ihrer Elastizität und/ oder aufgrund ihrer Querschnittsfläche und ih rer in Richtung der Flächennormalen der Substratauflagefläche gemessenen Höhe H verbiegen können, und/ oder die eine Länge L besitzen, die größer als 0,2 mm, größer als 0,5 mm, größer als 1 mm, größer als 2 mm, größer als 5 mm und kleiner als 20 mm sind und/ oder dass die Länge L der Strukturelemente12. 13. 14. 15 are designed as columns, fibers 13 or webs 14, 15, which can bend due to their elasticity and / or due to their cross-sectional area and their height H measured in the direction of the surface normal of the substrate support surface, and / or the have a length L that is greater than 0.2 mm, greater than 0.5 mm, greater than 1 mm, greater than 2 mm, greater than 5 mm and less than 20 mm and / or that the length L of the structural elements
11. 12. 13. 14. 15 im Bereich zwischen 0,5 mm und 2 mm liegt. [0042] Ein Substrathalter, der dadurch gekennzeichnet ist, dass zumindest ei nige, bevorzugt alle Strukturelemente 11, 12, 13, 14, 15 als Kissen 12 ausgebildet sind, wobei das Kissen 12 eine Hülle 18, 28 aufweist, das ein Volumen 19, 27 umgrenzt, das mit einem flüssigen oder gasförmigen Medium gefüllt ist und/ oder in das ein flüssiges oder gasförmiges Medium einströmen kann und/ oder durch das ein flüssiges oder gasförmiges Medium hindurchströmen kann. 11. 12. 13. 14. 15 is in the range between 0.5 mm and 2 mm. A substrate holder, which is characterized in that at least some, preferably all of the structural elements 11, 12, 13, 14, 15 are designed as a cushion 12, the cushion 12 having a cover 18, 28 which has a volume 19, 27, which is filled with a liquid or gaseous medium and / or into which a liquid or gaseous medium can flow and / or through which a liquid or gaseous medium can flow.
[0043] Ein Substrathalter, der dadurch gekennzeichnet ist, dass Haltemittel 30 vorgesehen sind, mit denen das Substrat 7 mechanisch, elektrostatisch, pneu matisch und/ oder magnetisch am Substrathalter 2 gehalten ist und/ oder dass zur Halterung des Substrates 7 eine zumindest auf dem Rand des Substrates 7 aufliegende Maske 31 verwendet wird und/ oder dass der Substrathalter 2 eine Kühlkörper ist, wobei Kühleinrichtung 6 vorgesehen ist, die vom Substrat 7 ab geführte Wärme abtransportiert. A substrate holder, which is characterized in that holding means 30 are provided with which the substrate 7 is held mechanically, electrostatically, pneumatically and / or magnetically on the substrate holder 2 and / or that for holding the substrate 7 at least one on the The mask 31 resting on the edge of the substrate 7 is used and / or that the substrate holder 2 is a heat sink, wherein a cooling device 6 is provided which removes the heat carried away from the substrate 7.
[0044] Ein Substrathalter, der dadurch gekennzeichnet ist, dass die in Rich tung der Flächennormalen zur Oberseite 2' gemessene Höhe H der Struktu relemente 11, 12, 13, 14, 15 größer als 5 gm, größer als 10 gm, größer als 50 gm, größer als 100 gm, größer als 1 mm, aber kleiner als 5 mm ist und/ oder dass die Höhe H der Strukturelemente 11, 12, 13, 14, 15 zwischen 50 gm und 1 mm liegt. A substrate holder, which is characterized in that the height H of the structural elements 11, 12, 13, 14, 15 measured in the direction of the surface normal to the upper side 2 'is greater than 5 μm, greater than 10 μm, greater than 50 gm, greater than 100 gm, greater than 1 mm but smaller than 5 mm and / or that the height H of the structural elements 11, 12, 13, 14, 15 is between 50 gm and 1 mm.
[0045] Ein Substrathalter, der dadurch gekennzeichnet ist, dass die Struktu relemente 11, 12, 13, 14, 15 eine in Richtung der Flächenerstreckung der Ober seite 2' gemessene Länge L oder Breite B aufweist, die größer als 50 mm, kleiner als 5 mm oder kleiner als 1 mm beträgt und/ oder dass die in der Flächenerstre ckung der Oberseite 2' gemessene Fläche der Strukturelemente 11, 12, 13, 14, 15 kleiner als 50 mm2 ist und/ oder dass zumindest eine sich in Richtung der Flä chennormalen der Oberseite 2' erstreckende Seitenwand 21, 22 eines Struktur- elementes 15 hinterschnitten ist und/ oder dass die Strukturelemente 15 in ei nem Fußbereich 24, wo sie an die Oberseite 2' angrenzen, eine geringere Quer schnittsfläche aufweisen, als in einem Kopfbereich 23, wo sie an der Rückseite 8 des Substrates 7 anliegen. A substrate holder, which is characterized in that the structural elements 11, 12, 13, 14, 15 have a length L or width B measured in the direction of the surface extension of the upper side 2 ', which is greater than 50 mm, smaller than 5 mm or less than 1 mm and / or that the area of the structural elements 11, 12, 13, 14, 15 measured in the area extension of the upper side 2 'is less than 50 mm 2 and / or that at least one extends in the direction of the Area normal to the top 2 'extending side wall 21, 22 of a structure element 15 is undercut and / or that the structural elements 15 in egg nem foot area 24, where they adjoin the top 2 ', have a smaller cross-sectional area than in a head area 23, where they rest on the rear side 8 of the substrate 7.
[0046] Ein Substratbehandlungsprozess, der dadurch gekennzeichnet ist, dass ein Substrathalter 2 verwendet wird, der gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche ausgebildet ist. A substrate treatment process, which is characterized in that a substrate holder 2 is used, which is designed according to one of the preceding claims.
[0047] Ein Substratbehandlungsprozess, der dadurch gekennzeichnet ist, dass in zwischen den Strukturelementen 11, 12, 13, 14, 15 liegende Zwischenräume 20 ein Temperiergas eingespeist wird und/ oder dass in die Volumen 19, 27 der als Kissen ausgebildeten Strukturelemente 11, 12, 13, 14, 15 ein gasförmiges o- der flüssiges Medium eingespeist wird und/ oder dass ein in die Volumen 12,A substrate treatment process, which is characterized in that a temperature control gas is fed into the spaces 20 between the structural elements 11, 12, 13, 14, 15 and / or that in the volumes 19, 27 of the structural elements 11, 12 , 13, 14, 15 a gaseous or liquid medium is fed in and / or that a into the volume 12,
29 der Kissen oder die Zwischenräume 20 eingespeistes Temperiergas einen höheren Druck aufweist, als der Gasdruck in einer Prozesskammer 5 über der Frontseite 9 des Substrates 7. 29 of the cushions or the intermediate spaces 20 has temperature control gas fed in at a higher pressure than the gas pressure in a process chamber 5 above the front side 9 of the substrate 7.
[0048] Ein Substratbehandlungsprozess, der dadurch gekennzeichnet ist, dass das in die Zwischenräume 20 oder in das Volumen der Kissen 12, 27 eingespeis te Gas Stickstoff, Argon, Neon, Krypton, Xenon, Wasserstoff oder Helium oder zumindest aus 90 Prozent aus einem oder mehreren dieser Gase besteht und/ oder dass das Substrat 7 aus Glas, Silizium, Polyamid oder Kunststoff be steht und der Behandlungsprozess ein OVPD-Prozess ist und/ oder dass die Substrate 7 eine Fläche von größer als 0,15 m2, größer als 1 m2 oder größer als 2 m2 aufweist. A substrate treatment process, which is characterized in that the gas fed into the spaces 20 or into the volume of the cushions 12, 27 is nitrogen, argon, neon, krypton, xenon, hydrogen or helium or at least 90 percent of one or consists of several of these gases and / or that the substrate 7 is made of glass, silicon, polyamide or plastic and the treatment process is an OVPD process and / or that the substrates 7 have an area greater than 0.15 m 2 , greater than 1 m 2 or greater than 2 m 2 .
[0049] Eine Vorrichtung, die gekennzeichnet ist durch einen Substrathalter 2 nach einem der Ansprüche 1 bis 6. [0050] Alle offenbarten Merkmale sind (für sich, aber auch in Kombination untereinander) erfindungswesentlich. In die Offenbarung der Anmeldung wird hiermit auch der Offenbarungsinhalt der zugehörigen/ beigefügten Prioritäts unterlagen (Abschrift der Voranmeldung) vollinhaltlich mit einbezogen, auch zu dem Zweck, Merkmale dieser Unterlagen in Ansprüche vorliegender An meldung mit aufzunehmen. Die Unteransprüche charakterisieren, auch ohne die Merkmale eines in Bezug genommenen Anspruchs, mit ihren Merkmalen eigenständige erfinderische Weiterbildungen des Standes der Technik, insbe sondere um auf Basis dieser Ansprüche Teilanmeldungen vorzunehmen. Die in jedem Anspruch angegebene Erfindung kann zusätzlich ein oder mehrere der in der vorstehenden Beschreibung, insbesondere mit Bezugsziffern versehene und/ oder in der Bezugsziffernliste angegebene Merkmale aufweisen. Die Er findung betrifft auch Gestaltungsformen, bei denen einzelne der in der vorste henden Beschreibung genannten Merkmale nicht verwirklicht sind, insbeson- dere soweit sie erkennbar für den jeweiligen Verwendungszweck entbehrlich sind oder durch andere technisch gleichwirkende Mittel ersetzt werden kön- nen. A device which is characterized by a substrate holder 2 according to one of Claims 1 to 6. All the features disclosed are essential to the invention (individually, but also in combination with one another). In the disclosure of the application, the disclosure content of the associated / attached priority documents (copy of the previous application) is hereby fully included, also for the purpose of including features of these documents in the claims of the present application. The subclaims characterize, even without the features of a referenced claim, with their features independent inventive developments of the prior art, in particular in order to make divisional applications on the basis of these claims. The invention specified in each claim can additionally have one or more of the features provided in the above description, in particular provided with reference numbers and / or specified in the list of reference numbers. The invention also relates to design forms in which some of the features mentioned in the above description are not implemented, in particular if they are recognizable for the respective purpose or can be replaced by other technically equivalent means.
Liste der Bezugszeichen List of reference signs
1 Substratbehandlungsvorrich- 17 Hohlraum tung, Reaktor 18 Hülle 1 substrate treatment device 17 cavity device, reactor 18 shell
2 Substrathalter 19 Volumen 2 substrate holders 19 volumes
2' Oberseite 20 Zwischenraum2 'top 20 gap
3 Gaseinlassorgan 21 Seitenwand 3 gas inlet element 21 side wall
3' Gasaustrittsöffnung 22 Seitenwand 3 'gas outlet opening 22 side wall
4 Gaszuleitung 23 Auflagefläche4 gas supply line 23 support surface
5 Prozesskammer 24 Fuß, Fußbereich5 process chamber 24 feet, foot area
6 Kühleinrichtung 25 Matte 6 cooling device 25 mat
7 Substrat 26 Schaumkörper7 substrate 26 foam body
8 Rückseite 27 Volumen, Gelkörper8 back 27 volume, gel body
8' ausgewölbte Zone 28 Hülle 8 'bulged zone 28 envelope
9 Frontseite 29 Gel 9 front 29 gel
10 Substratauflage 30 Haltemittel 10 substrate support 30 holding means
11 Strukturelement, elastischer 31 Maske 11 structural element, elastic 31 mask
Körper body
12 Strukturelement, Kissen 12 structural element, cushion
13 Strukturelement, Faser, Säule 13 Structural element, fiber, column
14 Strukturelement, Vorsprung 14 structural element, protrusion
15 Strukturelement, Rippe B Breite 15 structural element, rib B width
15a Strukturelement H Höhe 15a structural element H height
15b Strukturelement L Länge 15b structural element L length
15c Strukturelement 15c structural element
15d Strukturelement 15d structural element
15e Strukturelement 15e structural element
15f Strukturelement 15f structural element
16 Gaszuleitung 16 gas supply line

Claims

Ansprüche Expectations
Verfahren zum Behandeln eines Substrates (1) auf einer durch Wärmezu fuhr oder Wärmeabfuhr temperierbaren Oberseite ( 2 '), wobei eine zur Oberseite (2') weisende Rückseitenoberfläche (8) des Substrates (1) zu mindest eine unebene oder aus einer Ebene herausgewölbte Zone (8') aufweist und sich die Rückseitenoberfläche (8) auf elastisch verformbaren Strukturelementen (11, 12, 13, 14, 15), die der Oberseite (2') entspringen, zwischen denen Zwischenräume (20) liegen und die berührend an der Rückseitenoberfläche (8) anliegen, abstützt, dadurch gekennzeichnet, dass in die Zwischenräume (20) ein Temperiergas eingespeist wird, welches zwischen Oberseite (2') und Rückseitenoberfläche (8) durch die Zwischen räume (20) strömt und Wärme zwischen Rückseitenoberfläche (8) und Oberseite (2') transportiert. A method for treating a substrate (1) on a top side (2 ') that can be tempered by heat supply or heat dissipation, with a back surface (8) of the substrate (1) facing the top side (2') having at least one uneven or curved zone (8 ') and the rear surface (8) rests on elastically deformable structural elements (11, 12, 13, 14, 15) which arise from the upper side (2'), between which spaces (20) lie and which are in contact with the rear surface (8) rest, is supported, characterized in that a temperature control gas is fed into the spaces (20), which flows between the top (2 ') and the back surface (8) through the spaces (20) and heat between the back surface (8) and Top (2 ') transported.
Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das in die Zwischenräume (20) eingespeiste Gas Stickstoff, Argon, Neon, Krypton, Xenon, Wasserstoff oder Helium oder zumindest aus 90% aus einem die ser Gase besteht und/ oder dass das in die Zwischenräume (20) einge speiste Gas den Wärmetransport zwischen Rückseitenoberfläche (8) und Oberseite (2') dominiert. A method according to claim 1, characterized in that the gas fed into the spaces (20) consists of nitrogen, argon, neon, krypton, xenon, hydrogen or helium or at least 90% of one of these gases and / or that this into the spaces (20) fed gas dominates the heat transport between the rear surface (8) and the upper side (2 ').
Substrathalter (2) zur Verwendung in einer Substratbehandlungsvorrich- tung (1), zur Durchführung des in den Ansprüchen 1 und 2 angegebenen Verfahrens, mit einer durch Wärmezufuhr oder Wärmeabfuhr temperier bare Oberseite (2'), der elastisch verformbare Strukturelemente (11, 12, 13, 14, 15) entspringen, zwischen denen Zwischenräume (20) liegen, und auf denen sich das Substrat (1) mit seiner Rückseitenoberfläche (8) abstützen kann, dadurch gekennzeichnet, dass in die Zwischenräume (20) zumin dest eine Gasleitung (16) mündet, mit der ein Temperiergas derart in die Zwischenräume (20) einspeisbar ist, dass das Temperiergas durch die Zwischenräume (20) hindurchströmt, um Wärme zwischen Rückseiten oberfläche (8) und Oberseite (2') zu transportieren. Substrate holder (2) for use in a substrate treatment device (1), for carrying out the method specified in claims 1 and 2, with an upper side (2 ') which can be tempered by supplying or dissipating heat, the elastically deformable structural elements (11, 12, 13, 14, 15), between which there are spaces (20) and on which the substrate (1) can be supported with its rear surface (8), characterized in that at least one gas line (16 ) opens, with which a temperature gas in such a way in the Interstices (20) can be fed in such that the temperature control gas flows through the interstices (20) in order to transport heat between the rear surface (8) and the upper side (2 ').
Substrathalter (2) mit einer durch Wärmezufuhr oder Wärmeabfuhr tem perierbaren Oberseite (2'), auf der eine elastisch verformbare Substratauf lage (10) angeordnet ist, die aufgrund einer elastischen Verformung in be rührende Anlage an eine nicht ebene Rückseitenoberfläche eines Substra tes (1) treten kann, dadurch gekennzeichnet, dass die Substratauflage (10) von einer Strukturelemente (14) ausbildenden Matte (25) oder einem Schaumstoffkörper (26) gebildet ist, wobei die Strukturelemente (14) das Substrat tragende Vorsprünge sind, oder dass die Substratauflage (10) als Kissen (12) ausgebildet ist, das eine Hülle (18, 28) aufweist, die ein Volu men (19, 27) umgrenzt, das mit einem flüssigen oder gasförmigen Medium gefüllt ist oder in das flüssiges oder gasförmiges Medium einströmen kann und/ oder durch das ein flüssiges oder gasförmiges Medium hin durchströmen kann. Substrate holder (2) with an upper side (2 ') which can be tem perated by heat supply or heat removal, on which an elastically deformable substrate support (10) is arranged, which due to an elastic deformation in touching contact with a non-planar rear surface of a substrate (1 ), characterized in that the substrate support (10) is formed by a mat (25) forming structural elements (14) or a foam body (26), the structural elements (14) being projections carrying the substrate, or that the substrate support ( 10) is designed as a cushion (12) which has a cover (18, 28) which defines a volume (19, 27) which is filled with a liquid or gaseous medium or can flow into the liquid or gaseous medium and / or through which a liquid or gaseous medium can flow.
Substrathalter nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch ge kennzeichnet, dass die Strukturelemente (11, 12, 13, 14, 15) lediglich am Rand des vom Substrat (7) bedeckten Bereichs der Oberseite (2') angeord net sind. Substrate holder according to one of the preceding claims, characterized in that the structural elements (11, 12, 13, 14, 15) are arranged only on the edge of the area of the upper side (2 ') covered by the substrate (7).
Substrathalter nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch ge kennzeichnet, dass von der Substratauflage (10) gebildete Strukturelemen te (11, 12, 13, 14, 15) regelmäßig und in gleichmäßiger Anordnung über die Oberseite (2') verteilt sind, sodass die Strukturelemente (11, 12, 13, 14, 15) im Wesentlichen auf der gesamten Rückseite (8, 8') des Substrates (7) gleichmäßig anliegen. Substrate holder according to one of the preceding claims, characterized in that structure elements (11, 12, 13, 14, 15) formed by the substrate support (10) are distributed regularly and in a uniform arrangement over the upper side (2 '), so that the structure elements (11, 12, 13, 14, 15) essentially rest evenly on the entire rear side (8, 8 ') of the substrate (7).
7. Substrathalter nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch ge kennzeichnet, dass die Strukturelemente (11 bis 15) aus Kunststoff, PET, PE oder aus Metall, Metallfäden oder dünnen Metallfolien bestehen. 7. Substrate holder according to one of the preceding claims, characterized in that the structural elements (11 to 15) are made of plastic, PET, PE or of metal, metal threads or thin metal foils.
8. Substrathalter nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch ge- kennzeichnet, dass die Strukturelemente (11, 12, 13, 14, 15) als Säulen, Fa sern (13) oder Stege (14, 15) ausgebildet sind, die sich aufgrund ihrer Elas tizität und/ oder aufgrund ihrer Querschnittsfläche und ihrer in Richtung der Flächennormalen der Substratauflagefläche gemessenen Höhe (H) verbiegen können. 9. Substrathalter nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch ge kennzeichnet, dass die Strukturelemente (11, 12, 13, 14, 15) eine Länge (L) besitzen, die größer als 0,2 mm, größer als 0,5 mm, größer als 1 mm, grö ßer als 2 mm, größer als 5 mm und kleiner als 20 mm sind und/ oder dass die Länge (L) der Strukturelemente (11, 12, 13, 14, 15) im Bereich zwischen 0,5 mm und 2 mm liegt. 8. Substrate holder according to one of the preceding claims, characterized in that the structural elements (11, 12, 13, 14, 15) are designed as columns, fibers (13) or webs (14, 15), which are due to their Elasticity and / or can bend due to their cross-sectional area and their height (H) measured in the direction of the surface normal of the substrate support surface. 9. Substrate holder according to one of the preceding claims, characterized in that the structural elements (11, 12, 13, 14, 15) have a length (L) which is greater than 0.2 mm, greater than 0.5 mm, greater than 1 mm, larger than 2 mm, larger than 5 mm and smaller than 20 mm and / or that the length (L) of the structural elements (11, 12, 13, 14, 15) in the range between 0.5 mm and 2 mm.
10. Substrathalter nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch ge kennzeichnet, dass Haltemittel (30) vorgesehen sind, mit denen das Sub strat (7) mechanisch, elektrostatisch, pneumatisch und/ oder magnetisch am Substrathalter (2) gehalten ist. 11. Substrathalter nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch ge kennzeichnet, dass zur Halterung des Substrates (7) eine zumindest auf dem Rand des Substrates (7) aufliegende Maske (31) verwendet wird. 10. Substrate holder according to one of the preceding claims, characterized in that holding means (30) are provided with which the sub strate (7) is held mechanically, electrostatically, pneumatically and / or magnetically on the substrate holder (2). 11. Substrate holder according to one of the preceding claims, characterized in that a mask (31) resting at least on the edge of the substrate (7) is used to hold the substrate (7).
12. Substrathalter nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch ge kennzeichnet, dass der Substrathalter (2) eine Kühlkörper ist, wobei Kühl- einrichtung (6) vorgesehen ist, die vom Substrat (7) abgeführte Wärme ab transportiert. 12. Substrate holder according to one of the preceding claims, characterized in that the substrate holder (2) is a heat sink, wherein cooling device (6) is provided which transports the heat dissipated from the substrate (7).
13. Substrathalter nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch ge kennzeichnet, dass die in Richtung der Flächennormalen zur Oberseite (2') gemessene Höhe (H) der Strukturelemente (11, 12, 13, 14, 15) größer als13. Substrate holder according to one of the preceding claims, characterized in that the height (H) of the structural elements (11, 12, 13, 14, 15) measured in the direction of the surface normal to the upper side (2 ') is greater than
5 gm, größer als 10 gm, größer als 50 gm, größer als 100 gm, größer als 1 mm, aber kleiner als 5 mm ist und/ oder dass die Höhe (H) der Struktu relemente (11, 12, 13, 14, 15) zwischen 50 gm und 1 mm liegt. 5 gm, greater than 10 gm, greater than 50 gm, greater than 100 gm, greater than 1 mm but less than 5 mm and / or that the height (H) of the structural elements (11, 12, 13, 14, 15) is between 50 gm and 1 mm.
14. Substrathalter nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch ge- kennzeichnet, dass die Strukturelemente (11, 12, 13, 14, 15) eine in Rich tung der Flächenerstreckung der Oberseite ( 2' ) gemessene Fänge (F) oder Breite (B) aufweist, die größer als 50 mm, kleiner als 5 mm oder kleiner als 1 mm beträgt und/ oder dass die in der Flächenerstreckung der Obersei te (2') gemessene Fläche der Strukturelemente (11, 12, 13, 14, 15) kleiner als 50 mm2 ist und/ oder dass zumindest eine sich in Richtung der Flächen normalen der Oberseite ( 2' ) erstreckende Seitenwand (21, 22) eines Struk turelementes (15) hinterschnitten ist und/ oder dass die Strukturelemen te (15) in einem Fußbereich (24), wo sie an die Oberseite ( 2' ) angrenzen, eine geringere Querschnittsfläche aufweisen, als in einem Kopfbe- reich (23), wo sie an der Rückseite (8) des Substrates (7) anliegen. 14. Substrate holder according to one of the preceding claims, characterized in that the structural elements (11, 12, 13, 14, 15) have a catch (F) or width (B) measured in the direction of the surface extension of the upper side (2 ') which is larger than 50 mm, smaller than 5 mm or smaller than 1 mm and / or that the area of the structural elements (11, 12, 13, 14, 15) measured in the surface extension of the top (2 ') is smaller than 50 mm 2 and / or that at least one side wall (21, 22) of a structural element (15) extending in the direction of the surfaces normal to the upper side (2 ') is undercut and / or that the structural elements (15) are in a foot area (24), where they adjoin the upper side (2 '), have a smaller cross-sectional area than in a head region (23), where they lie against the rear side (8) of the substrate (7).
15. Verfahren zum Behandeln eines Substrates (1), bei dem eine Oberseite (2') eines Substrathalters (2), die ein Substrat (7) trägt, welches behandelt wird, durch Wärmezufuhr oder Wärmeabfuhr derart temperiert wird, dass ein Wärmeaustausch zwischen Substrat und Substrathalter (2) stattfindet, wobei die Oberfläche der zur Oberseite (2') weisenden, sich in einer Ebene erstreckenden Rückseite (8) des Substrates (7) zumindest eine unebene oder aus der Ebene herausgewölbte Zone (8') aufweist, dadurch gekenn zeichnet, dass ein Substrathalter (2) verwendet wird, der gemäß einem der Ansprüche 3 bis 15 ausgebildet ist. 15. A method for treating a substrate (1), in which an upper side (2 ') of a substrate holder (2), which carries a substrate (7) which is being treated, is tempered by supplying or dissipating heat in such a way that heat is exchanged between the substrate and substrate holder (2) takes place, the surface of the rear side (8) of the substrate (7) facing the upper side (2 ') and extending in a plane at least one uneven surface or has a zone (8 ') bulging out of the plane, characterized in that a substrate holder (2) is used which is designed according to one of claims 3 to 15.
16. Verfahren zur Fertigung von OLEDs gemäß Anspruch 1 oder 15, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat größer als 1 m2 ist und die Höhe der16. The method for manufacturing OLEDs according to claim 1 or 15, characterized in that the substrate is larger than 1 m 2 and the height of the
Strukturelemente zwischen 50 gm und 1 mm liegt oder dass die Höhe der Strukturelemente in einem Bereich zwischen 50 gm und 100 gm liegt. Structural elements between 50 gm and 1 mm or that the height of the structural elements is in a range between 50 gm and 100 gm.
17. Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass in die Volu men (19, 27) der als Kissen ausgebildeten Strukturelemente (11, 12, 13, 14, 15) ein gasförmiges oder flüssiges Medium eingespeist wird und/ oder dass ein in die Volumen (12, 29) der Kissen oder die Zwischenräume (20) eingespeistes Temperiergas einen höheren Druck aufweist, als der Gas druck in einer Prozesskammer (5) über der Frontseite (9) des Substra tes (7). 18. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 15 bis 17, dadurch gekenn zeichnet, dass das in die Zwischenräume (20) oder in das Volumen der Kissen (12, 27) eingespeiste Gas Stickstoff, Argon, Neon, Krypton, Xenon, Wasserstoff oder Helium oder zumindest aus 90 Prozent aus einem oder mehreren dieser Gase besteht und/ oder dass das Substrat (7) aus Glas, Si lizium, Polyamid oder Kunststoff besteht und der Behandlungsprozess ein OVPD-Prozess ist und/ oder dass die Substrate (7) eine Fläche von größer als 0,15 m2, größer als 1 m2 oder größer als 2 m2 aufweist. 17. The method according to claim 16, characterized in that a gaseous or liquid medium is fed into the volume (19, 27) of the structural elements (11, 12, 13, 14, 15) designed as cushions and / or that a into the Volume (12, 29) of the cushions or the spaces (20) fed temperature gas has a higher pressure than the gas pressure in a process chamber (5) on the front side (9) of the Substra tes (7). 18. The method according to any one of claims 1 or 15 to 17, characterized in that the in the spaces (20) or in the volume of the cushions (12, 27) fed gas nitrogen, argon, neon, krypton, xenon, hydrogen or Helium or at least 90 percent of one or more of these gases and / or that the substrate (7) consists of glass, silicon, polyamide or plastic and the treatment process is an OVPD process and / or that the substrates (7) are Has an area of greater than 0.15 m 2 , greater than 1 m 2 or greater than 2 m 2 .
19. Vorrichtung oder Verfahren, gekennzeichnet durch eines oder mehrere der kennzeichnenden Merkmale eines der vorhergehenden Ansprüche. 19. Device or method, characterized by one or more of the characterizing features of one of the preceding claims.
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