WO2021079598A1

WO2021079598A1 - 粒子測定モジュール及びそれの使用方法、並びに粒子測定モジュールの製造方法

Info

Publication number: WO2021079598A1
Application number: PCT/JP2020/031138
Authority: WO
Inventors: 高野　努; 和起行田; 拓也湯澤
Original assignee: 株式会社朝日Ｆｒ研究所
Priority date: 2019-10-25
Filing date: 2020-08-18
Publication date: 2021-04-29
Also published as: JPWO2021079598A1

Abstract

コールター法を用いた粒子測定モジュールにおける細孔に気泡を滞留させずに排出できることにより、速やかに微粒子の形、粒径、及び粒径分布の測定を開始できる粒子測定モジュールを提供する。　粒子測定モジュール１は、第１流路２３とこれに少なくとも一部で重なった第２流路７３とが、ポアチップに開けられた細孔でのみ連通しており、第１流路２３の底部２３_bottomと第２流路７３の天井部７３_ceilingとの少なくとも一方が、ＵＶ処理部、エキシマＵＶ処理部、コロナ放電処理部、プラズマ処理部、電子線処理部、及びγ線処理部から選ばれる少なくとも一つの乾式処理部である。

Description

粒子測定モジュール及びそれの使用方法、並びに粒子測定モジュールの製造方法

　本発明は、微粒子の形、粒径、及び粒径分布を測定するための粒子測定モジュール及びそれの使用方法、並びに粒子測定モジュールの製造方法に関する。

　ウィルスや細菌、及び磁性塗料に含まれる磁性粒子のような微粒子の形、粒径、及び粒径分布を測定するのに、コールター法、画像解析法、遠心沈降法、及びレーザー回折散乱法のような方法が知られている。なかでもコールター法は、他の測定方法に比較して簡素で小型の測定モジュールを用いることから低コストであり、かつ高精度の測定を迅速に行うことができるという利点を有している。

　そのため、コールター法を用いた微粒子測定は、インフルエンザウィルスのような病原体や口腔内細菌の検知；赤血球、白血球、及び血小板を測定することによる血液診断；顔料、高分子ビーズ、及び磁性粒子のような工業品の生産工程における品質管理；酵母菌、乳酸菌、及び麹菌のような食品生産に用いられる菌の管理のように、多岐にわたる分野に広く用いられている。

　コールター法は、細孔で繋がっており夫々に電極を設置した二つの流路に微粒子を含有する電解溶液を収容し、この電極間に電圧を印加して電位差を生じさせ、微粒子が細孔を通過する際に発生するイオン電流の変化を電気抵抗により捉え、球形とみなした微粒子の体積からそれの径、及び径の分布を求めるというものである。

　コールター法を用いて粒子を測定するための分子分析システムが特許文献１に開示されている。この分子分析システムは、ナノポア（細孔）を含む構造体と、細孔を介して接続された二つのリザーバ（流路）と、細孔を通じて二つの流路間を移動する分子種のような微粒子を検出する検出器と、微粒子の再移動させる制御信号を生成するように接続されたコントローラとを、有している。この分子分析システムによれば、ヌクレオチド断片のような微粒子の大きさを検出できる。

　コールター法を用いた粒子測定モジュールにおいて、被測定物である微粒子を通過させる細孔が不可欠である。細孔の形は、測定の精度及び再現性を担保する観点から、平面視で真円であることが好ましい。また細孔の直径は、被測定物である微粒子の大きさに合わせて適宜選択される。特許文献１によれば、具体的に１００ｎｍ以下である。

　このように、細孔は極めて小さい上、この細孔が開けられたポアチップや流路は水との濡れ性に乏しい樹脂で成形されていることが多い。それにより、測定を開始するにあたり電解溶液を測定モジュールに注入しても、電解溶液の表面張力や電解溶液の注入圧力が細孔に集中しないことの所為で細孔及びその周囲の空気が完全に排出され難く、気泡となって滞留し易い。微粒子の粒径を測定するには、電極間の抵抗値を正確に求めることを要する。気泡が細孔に残存していると抵抗値が一定の値で安定せず、微粒子の粒径を測定できないため、この気泡を除去して細孔を電解溶液で満たさなければならない。そのため、電解溶液を注入してから測定モジュールに振動を与えたり、予め水を高圧で注入して細孔を水で満たした後にこの水と電解溶液とを置換したりすることが行われている。このように気泡を除去するためだけに行われる工程は、微粒子の径や粒径分布の速やかな測定を妨げている。

特表２０１１－５０１８０６号公報

　本発明は前記の課題を解決するためになされたもので、コールター法を用いた粒子測定モジュールにおける細孔に気泡を滞留させないことにより、速やかに微粒子の形、粒径、及び粒径分布の測定を開始できる粒子測定モジュール及びそれの使用方法、並びに粒子測定モジュールの製造方法を提供することを目的とする。

　前記の目的を達成するためになされた粒子測定モジュールは、第１流路とこれに少なくとも一部で重なった第２流路とが、ポアチップに開けられた細孔でのみ連通しており、前記第１流路の底部と前記第２流路の天井部との少なくとも一方が、ＵＶ処理部、エキシマＵＶ処理部、コロナ放電処理部、プラズマ処理部、電子線処理部、及びγ線処理部から選ばれる少なくとも一つの乾式処理部である。

　粒子測定モジュールは、前記第１流路及び／又は前記第２流路が、親水性を有していてもよい。

　粒子測定モジュールは、例えば、前記第１流路及び前記第２流路を夫々有している第１流路シート及び第２流路シートと、前記ポアチップを嵌め込んで支持しているポアチップ支持シートと、前記第１流路シートと前記ポアチップ支持シートとに挟まれていることによって前記底部を形成している第１親水性シートと、前記第２流路シートと前記ポアチップ支持シートとに挟まれていることによって前記天井部を形成している第２親水性シートとを、有しているものが挙げられる。

　粒子測定モジュールは、前記底部及び前記天井部の少なくとも一方で親水性基含有化合物が露出しており、前記親水性基含有化合物が、親水性基含有シリコーン系化合物及び親水性基含有アクリル系化合物から選ばれる少なくとも一つであってもよい。

　粒子測定モジュールは、例えば、前記第１親水性シート及び／又は前記第２親水性シートが前記親水性基含有化合物を含んでいることにより前記親水性基含有化合物が露出しているものが挙げられる。

　粒子測定モジュールは、前記第１親水性シート及び前記第２親水性シートがシリコーンゴム製であり、前記シリコーンゴム１００質量部に対して、前記親水性基含有化合物０．１～３０質量部が、配合されていてもよい。

　粒子測定モジュールは、前記底部及び前記天井部の少なくとも一方に、前記親水性基含有化合物が付されていることにより前記親水性基含有化合物が露出していてもよい。

　粒子測定モジュールは、例えば、前記第１流路及び／又は前記第２流路に液体が充填されているものが挙げられる。

　粒子測定モジュールは、前記液体が、水、電解溶液、界面活性剤含有溶液、親水性基含有シリコーン系化合物含有溶液、及び親水性基含有アクリル系化合物含有溶液から選ばれる少なくとも一つであってもよい。

　粒子測定モジュールは、例えば、前記底部及び前記天井部における水との接触角が、最大で５０°であるものが挙げられる。

　粒子測定モジュールは、前記第１流路の末端及び前記第２流路の末端が、液体注排出用及び／又は電極挿脱用の第１開口及び第２開口に夫々繋がっていてもよい。

　粒子測定モジュールは、例えば、前記ポアチップが、截頭錐形に窪んだファンネルを有するブロック部及び前記截頭錐形と同軸上に開けられた前記細孔を、有しているものが挙げられる。

　粒子測定モジュールの使用方法は、前記第１流路及び／又は前記第２流路に、測定対象粒子を含む液体試料を充填するというである。

　粒子測定モジュールの製造方法は、ＵＶ処理、エキシマＵＶ処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線処理、及びγ線処理から選ばれる少なくとも一つの乾式処理を、第１流路の底部と第２流路の天井部との少なくとも一方に施してこれらの表面に反応性活性基を生成する乾式処理工程と、前記第１流路と前記第２流路とを、ポアチップに開けられた細孔でのみ連通させつつ、少なくとも一部で重ねて接合する接合工程とを、有している。

　粒子測定モジュールの製造方法は、前記乾式処理工程によって及び／又は前記乾式処理工程の前、後、若しくは途中で親水化処理を施すことによって、前記第１流路及び／又は前記第２流路に親水性を付与する操作工程を有していてもよい。

　粒子測定モジュールの製造方法は、例えば、第１流路シートを貫通して及び／又は凹ませて前記第１流路を形成し、第２流路シートを貫通して及び／又は凹ませて前記第２流路を形成する流路形成工程と、ポアチップ支持シートに、貫通した細孔を有するポアチップを嵌め込んで支持するポアチップ支持穴を開けるポアチップ支持穴形成工程と、前記第１流路の底部を形成する第１親水性シート、及び前記第２流路の天井部を形成する第２親水性シートの夫々に、前記細孔に対応する貫通孔を開ける貫通孔形成工程と、前記乾式処理を、前記第１流路シート、前記第２流路シート、前記ポアチップ支持シート、前記第１親水性シート、及び前記第２親水性シートに施す前記乾式処理工程と、前記ポアチップ支持穴に前記ポアチップを嵌め込みつつ、前記第１流路シート、前記第２流路シート、前記ポアチップ支持シート、前記第１親水性シート、及び前記第２親水性シートを重ねて、前記反応性活性基を介した分子接合により一体化することを特徴とする前記接合工程とを、
有しているものが挙げられる。

　粒子測定モジュールの製造方法は、シート原料樹脂に、親水性基含有シリコーン系化合物及び親水性基含有アクリル系化合物から選ばれる少なくとも一つの親水性基含有化合物を含ませて、前記第１親水性シート及び／又は前記第２親水性シートを形成する工程を有していてもよい。

　粒子測定モジュールの製造方法は、例えば、前記底部及び／又は前記天井部に、親水性基含有シリコーン系化合物及び親水性基含有アクリル系化合物から選ばれる少なくとも一つの親水性基含有化合物を付す工程を、前記接合工程の前に有しているものが挙げられる。

　粒子測定モジュールの製造方法は、前記第１流路及び／又は前記第２流路に液体を充填する工程を有していてもよい。

　粒子測定モジュールの製造方法は、例えば、前記液体が、水、電解溶液、界面活性剤含有溶液、親水性基含有シリコーン系化合物含有溶液、及び親水性基含有アクリル系化合物含有溶液から選ばれる少なくとも一つであるものが挙げられる。

　粒子測定モジュールの製造方法は、前記液体を除去する工程を、前記液体を充填する工程の後に有していてもよい。

　本発明の粒子測定モジュールによれば、細孔の周囲に配置される第１流路の底部と第２流路の天井部との少なくとも一方が乾式処理部であることによって親水性が向上しているので、電解溶液が第１流路の底部や第２流路の天井部をスムーズに流れてポアチップに滞りなく流れ込む結果、乱流の発生を防止して気泡を生じず、また細孔に元々存在する空気をも残すことなく押し出して排出できる。そのため、気泡を除去するためだけに行われる工程が不要であるので、未使用の粒子測定モジュールを開梱した後に、速やかに微粒子の径や粒径分布の測定を開始することができる。

　粒子測定モジュールにおいて、第１流路の底部と第２流路の天井部とが親水性基含有化合物を含んでいるシリコーンゴムで形成されていたり、それらの表面に親水性基含有化合物が付されたりして、親水性基含有化合物がそれらの表面で露出していると、第１流路の底部及び第２流路の天井部の親水性がより一層強化されるので、細孔及びその周囲への気泡の残留を確実に防止できる。

　粒子測定モジュールにおいて、第１流路及び／又は第２流路に液体が充填されていると、乾式処理部に存在し親水性を発現する反応性活性基が経時によって消失し難くなったり、第１流路の底部及び第２流路の天井部の親水性をさらに向上させたりすることができ、そこでの親水性を長期間維持でき、ポアチップの細孔に気泡を滞留させない。

　本発明の粒子測定モジュールの使用方法によれば、粒子測定モジュールにおける第１流路の底部と第２流路の天井部との少なくともいずれかが親水性を有しているので、測定対象粒子を含む液体試料を充填することによってポアチップの細孔から気泡を速やかに排出でき、そこに気泡を滞留させない。

　本発明の粒子測定モジュールの製造方法によれば、各シートやポアチップに乾式処理を施すという簡素な工程を行うだけで、各シートを強固に接合したり、第１流路の底部及び第２流路の天井部に親水性を付与したりすることができる。

本発明を適用する粒子測定モジュールの模式分解斜視図及びポアチップの拡大模式斜視図である。図１に示す粒子測定モジュールのＡ－Ａ線矢視模式部分断面図である。本発明を適用する粒子測定モジュールに好適に用いられる親水性シートと、その他のゴムシートとにおける、水との接触状態を示す写真である。本発明を適用する粒子測定モジュールに好適に用いられる親水性シートと、その他のゴムシートとにおける、水との接触角の経時変化をグラフにして示す図である。本発明を適用する粒子測定モジュール及び本発明を適用外である粒子測定モジュールの夫々に、電解溶液を満たした後に撮影されたポアチップのファンネルの様子を示す写真である。

　以下、本発明を実施するための形態を詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらの形態に限定されるものではない。

　本発明を適用する粒子測定モジュールの模式分解斜視図を、図１に示す。同図に示す通り粒子測定モジュール１は、カバーシート１０と、第１流路シート２０と、第１親水性シート３０と、ポアチップ４０と、このポアチップ４０を支持するポアチップ支持シート５０と、第２親水性シート６０と、第２流路シート７０と、基板シート８０とが、この順で重ね合わされて、かつ各シート１０，２０，３０，５０，６０，７０，８０が、それらの間で接合して一体化しているものである。各シート１０，２０，３０，５０，６０，７０，８０の外形は、平面視において矩形であることが好ましく、中でも正方形であることが好ましい。

　ポリカーボネート製のカバーシート１０に、第１電極挿脱口１１ａ、電解溶液を注入するための第１注入孔１１ｂ、第２電極挿脱口１２ａ、及び電解溶液を注入するための第２注入孔１２ｂが、カバーシート１０を貫通して夫々開いている。第１電極挿脱口１１ａ及び第１注入孔１１ｂは、後述する第１流路２３に繋がった第１開口１１であり、第２電極挿脱口１２ａ及び第２注入孔１２ｂは、後述する第２流路７３に繋がった第２開口１２である。

　シリコーンゴム製の第１流路シート２０は、カバーシート１０と第１親水性シート３０とに挟まれてこれらに接合している。第１流路シート２０に、第１電極挿脱口１１ａに対応している第１電極配置部２１ａ、第２電極挿脱口１２ａに対応している貫通孔２２ａ、第２注入孔１２ｂに対応している貫通孔２２ｂ、第１流路シート２０の対角線上で細長形をなしている第１流路２３が、第１流路シート２０を貫通して開いている。第１流路２３の一端は、第１電極配置部２１ａに接続しさらに第１電極挿脱口１１ａに繋がっている。第１流路２３の他端は第１流路末端部２１ｂであり、これが第１注入孔１１ｂに繋がっている。それにより、第１流路２３は、一端で第１電極配置部２１ａ及び第１電極挿脱口１１ａを介し、他端で第１注入孔１１ｂを介して外界に連通している。

　第１親水性シート３０は、第１流路シート２０とポアチップ支持シート５０とに挟まれてこれらに接合している。第１親水性シート３０に、第２電極挿脱口１２ａ及び貫通孔２２ａに対応している貫通孔３２ａ、第２注入孔１２ｂ及び貫通孔２２ｂに対応している貫通孔３２ｂ、並びに第１流路２３に対応している貫通孔３３が、第１親水性シート３０を貫通して夫々開いている。第１親水性シート３０が第１流路シート２０の直下に配置されてこれと接合している。第１親水性シート３０の上面３０ａのうち、第１電極配置部２１ａ及び第１流路２３に対応する部分は、第１電極配置部２１ａの底部及び第１流路２３の底部２３_bottomである。それにより第１親水性シート３０は、第１流路の底部を形成しているシートとなっている。なお、第１電極配置部２１ａ及び第１流路２３の天井部は、第１流路シート２０の直上に配置されてこれと接続しているカバーシート１０の一部によって形成されている。

　ポアチップ４０は、単結晶シリコン製のブロック部４１と、窒化シリコン製の薄膜部４２とが積層されたものである。ブロック部４１は、第２親水性シート６０に向かって截頭四角錐形に漸次窄まるように窪んだファンネル４１ａを有している。ファンネル４１ａの截頭四角錐形の中心軸を延長した軸上に中心を有する円形をなした細孔４２ａが、薄膜部４２に開いている。

　ファンネル４１ａの截頭四角錐形は、ケイ素の結晶異方性ウェットエッチングによって、ケイ素結晶の（１１１）面が露出するように削られているため、四つの面は仰角で４５～５５°の傾斜を有している。用いられるエッチング液はアルカリ性を呈しているものが選択され、具体的に例えば、水酸化カリウム溶液、テトラメチルアンモニアハイドロオキサイド溶液、エチレンジアミンピロカテコール溶液、及び水和ヒドラジン（N₂H₄・H₂O）溶液から選ばれる少なくとも一種が挙げられる。

　なお、ファンネル４１ａは、截頭四角錐形に限られず、截頭円錐形であってもよく、截頭三角錐形、截頭五角錐形、截頭六角錐形、截頭八角錐形、及び截頭十二角錐形のような截頭多角錐形であってもよい。ファンネル４１ａがこれらの形をなしていることにより、そこへ流れ込んだ電解溶液の圧力が、細孔４２ａに集中し易くなる。それにより細孔４２ａ内に存在する空気を確実に排除することができる。

　ポアチップ支持シート５０はシリコーンゴム製であり、第１親水性シート３０と第２親水性シート６０とに挟まれてこれらに接合している。ポアチップ支持シート５０の中央部に、四角柱をなしたポアチップ支持穴５３がポアチップ支持シート５０を貫通して開いている。ポアチップ４０は、このポアチップ支持穴５３に嵌め込まれ、かつ第１及び第２親水性シート３０，６０に挟まれて支持される（図２参照）。ポアチップ支持シート５０とポアチップ４０との間で段差を生じないように、ポアチップ支持シート５０の厚さとポアチップ４０の高さとは同一であることが好ましい。またポアチップ支持シート５０に、第２電極挿脱口１２ａ及び貫通孔２２ａ，３２ａに対応している貫通孔５２ａ、並びに第２注入孔１２ｂ及び貫通孔２２ｂ，３２ｂに対応している貫通孔５２ｂがポアチップ支持シート５０を貫通して夫々開いている。

　第２親水性シート６０は、ポアチップ支持シート５０と第２流路シート７０とに挟まれてこれらに接合している。第２親水性シート６０に、第２電極挿脱口１２ａ及び貫通孔２２ａに対応している貫通孔３２ａ、第２注入孔１２ｂ及び貫通孔２２ｂに対応している貫通孔３２ｂ、並びに第１流路２３に対応している貫通孔３３が、第１親水性シート３０を貫通して夫々開いている。

　ポアチップ４０は、側面を全周にわたってポアチップ支持シート５０に囲まれ、かつ上面の外周縁を第１親水性シート３０に、下面の外周縁を第２親水性シート６０に、夫々接触させている。それによりポアチップ４０は、ポアチップ支持シート５０並びに第１及び第２親水性シート３０，６０に支持されている。各シート３０，５０，６０は、後述する分子接合によって、ポアチップ４０に液密に接合している。その結果、各シート３０，５０，６０とポアチップ４０との間で、電解溶液や液体試料が遺漏しない。また、シリコーンゴム製の各シート３０，５０，６０が、衝撃を吸収する緩衝材として作用するので、粒子測定モジュール１に振動や衝撃が加えられても、ポアチップ４０は割れたり脱落したりしない。

　シリコーンゴム製の第２流路シート７０は、第２親水性シート６０と基板シート８０とに挟まれてこれらに接合している。第２流路シート７０に、第２電極挿脱口１２ａ及び貫通孔２２ａ，３２ａ，５２ａ，６２ａに対応している第２電極配置部７２ａ、及び第２流路シート２０の対角線上で細長形をなしている第２流路７３が、第２流路シート７０を貫通して夫々開いている。第２流路７３は、第１流路２３と段違いでかつ斜交いに伸びている。それにより第１流路２３と第２流路７３とは、それらの一部で交差している。この交差した箇所で、第１及び第２流路２３，７３は鉛直に重なっている（図２参照）。

　第２流路シート７０の直上に配置されこれと接合している第２親水性シート６０の下面６０ｂのうち第２流路７３に対応する部分は、第２流路７３の天井部７３_ceilingである。それにより第２親水性シート６０は、第２流路の天井部を形成しているシートとなっている。第２流路７３の一端は、第２電極配置部７２ａに接続し、さらに貫通孔６２ａ，５２ａ，３２ａ，２２ａを経て第２電極挿脱口１２ａに繋がっている。第２流路７３の他端は第２流路末端部７２ｂであり、これが貫通孔６２ｂ，５２ｂ，３２ｂ，２２ｂを経て第２注入孔１２ｂに繋がっている。それにより第２流路７３は、一端で第２電極配置部７２ａ、貫通孔６２ａ，５２ａ，３２ａ，２２ａ、及び第２電極挿脱口１２ａを介し、他端で貫通孔６２ｂ，５２ｂ，３２ｂ，２２ｂ、及び第２注入孔１２ｂを介して外界に連通している。

　第１及び第２親水性シート３０，６０は、親水性基含有化合物を含む添加剤が配合されたシリコーンゴム製である。第１及び第２親水性シート３０，６０は、親水性基含有化合物を含む添加剤を含有し、かつ乾式処理されていることにより、それらのすべての面で親水性基含有化合物の親水性基が露出している。それによって第１及び第２親水性シート３０，６０のすべての面は、親水化されて親水性を有しており、さらにエキシマＵＶ照射処理によって親水性を有する反応性活性基（例えば、水酸基、カルボキシ基、カルボニル基、及びヒドロキシシリル基から選ばれる少なくとも一つ）が存在する乾式処理面となっている結果、親水性が強化されている。

　それにより、第１親水性シート３０の上面３０ａの一部によって形成されている底部２３_bottomも、第２親水性シート６０の下面６０ｂの一部によって形成されている天井部７３_ceilingも、上記の乾式処理面の一部である乾式処理部となっていて、親水性が強化されている。底部２３_bottom及び天井部７３_ceilingの面と水との接触角は５０°以下、好ましくは３０°以下、より好ましくは２０°以下、より一層好ましくは１０°以下である。このような低い接触角は、長期間、例えば数箇月乃至約１年、又は１年を超える保存期間中、安定して維持される。その結果、底部２３_bottom及び天井部７３_ceilingにおける親水性は、強化されたまま、長期にわたって維持される。

　なお、親水性基含有化合物を非含有であり、かつ乾式処理面でないシリコーンゴムの面における水との接触角は、４０～１０８°である。また、親水性基含有化合物を含有するが、乾式処理面でないシリコーンゴムの面の水との接触角は、約６０～７０°以上場合によっては約９０°以上である。さらに、親水性基含有化合物を非含有であり、かつ乾式処理面（例えばエキシマＵＶ処理面）を有するシリコーンゴムの乾式処理における水との接触角は、乾式処理の直後で約１０～５０°、２０～５０°、２０～４０°、乃至２０～３０°である。この場合、数日乃至１箇月経過すると乾式処理効果の喪失により接触角が上昇することがあるため、粒子測定モジュール１を製造後速やかに使用することが好ましい。

　ポリカーボネート製の基板シート８０は、第２流路シート７０の直下に配置されており、これに接合している。第２電極配置部７２ａ及び第２流路７３の底部は、基板シート８０の一部によって形成されている。基板シート８０は、粒子測定モジュール１の最下層をなしている。

　粒子測定モジュール１を用いて微粒子の測定を開始する場合、その直前に、次の準備操作を行う。第１電極挿脱口１１ａに、例えば第１電極としての陽極（不図示）を挿し込んで、その先端を第１電極配置部２１ａに到達させる。また第２電極挿脱口１２ａに、例えば第２電極としての陰極（不図示）を挿し込んでその先端を第２電極配置部７２ａに到達させる。続いてバックグラウンドを測定するのに、第１流路２３、細孔４２ａ、及び第２流路７３を、微粒子を分散させるための電解溶液１００で満たす必要がある。なお、第１電極が陰極、第２電極が陽極であってもよい。

　図１に示した粒子測定モジュール１のＡ－Ａ線矢視模式断面図を、図２に示す。図２は、第１注入孔１１ｂ（図１参照）から電解溶液１００の注入を開始した直後の様子を模式的に示している。

　第１注入孔１１ｂから注入された電解溶液１００は、第１流路末端部２１ｂに流入して第１流路２３を流れる。ファンネル４１ａの第１流路２３側開口の周縁に、強力に親水化された底部２３_bottomが配置されているため、この開口周縁で電解溶液との濡れ性が著しく高い。それにより第１流路２３に達した電解溶液１００の表面張力は、第１流路２３の底部２３_bottom（第１親水性シート３０の親水化した上面３０ａ）で低下しているので、電解溶液１００はそこを速やかに流れて貫通孔３３を経てポアチップ４０のファンネル４１ａに流れ込む。

　さらに、細孔４２ａに繋がったファンネル４１ａが、截頭四角錐形に窪んでいることにより第１流路２３側から第２流路７３側に向かって漸次窄まるような傾斜を有する壁面を有している。ポアチップ４０において、ファンネル４１ａの第２流路７３側に細孔４２ａが配置されている。電解溶液１００はファンネル４１ａの傾斜壁面に沿いつつ細孔４２ａに向かって流れるので、その圧力が高められて、ファンネル４１ａ内に存在する空気とともに細孔４２ａへ流れ込む。それによりファンネル４１ａ内の空気と細孔４２ａ内に存在する空気とを、第２流路７３へ向かって押し出して、ファンネル４１ａ及び細孔４２ａを電解溶液１００で満たすことができる。

　また、第２流路７３の天井部７３_ceilingは、強力に親水化されて電解溶液１００との濡れ性に富む第２親水性シート６０の下面６０ｂの一部で形成されている。細孔４２ａの第２流路側開口の周縁に、この天井部７３_ceilingが配置されている。そのため、電解溶液１００がファンネル４１ａ内及び細孔４２ａ内に存在していた空気とともに第２流路７３に流れ込んでも、天井部７３_ceilingの高い親水性によってそれの全体が電解溶液１００で濡れるので、流れ込んだ空気が気泡としてそこに滞留しない。

　このように、本発明の粒子測定モジュール１によれば、電解溶液１００を注入するだけで細孔４２ａや各流路２３，７３の空気を排出できて気泡を滞留させないので、従来の粒子測定モジュールのように、気泡排出のためにのみ行う工程を要さず、速やかに粒子測定モジュール１内を電解溶液１００で満たすことができる。

　その後、第１電極・第２電極間に電圧を印加して電解溶液１００に電流を通じ、バックグラウンドを測定した後、微粒子を分散させた電解溶液を粒子測定モジュール１に注入して測定を開始する。

　乾式処理として、エキシマＵＶ照射処理を挙げたが、これに限定されない。例えばＵＶ（通常の紫外線）照射処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、及びγ線照射処理が挙げられる。中でも、エキシマＵＶ照射処理又はプラズマ処理が好ましい。これらの乾式処理によって、少なくとも第１及び第２親水性シート３０，６０における上面３０ａ及び下面６０ｂを、コロナ放電処理面、ＵＶ処理面、エキシマＵＶ処理面、プラズマ処理面、電子線処理面、及びγ線処理面とすることができ、底部２３_bottom及び天井部７３_ceilingの面を、これら処理部とすることができる。

　また乾式処理の対象は、第１及び第２親水性シート３０，６０に限られず、カバーシート１０、第１流路シート２０、ポアチップ４０、ポアチップ支持シート５０、第２流路シート７０、及び／又は基板シート８０に施されることによって、これらの表面が乾式処理面となっていてもよい。この場合、粒子測定モジュール１の組み立て前に、各シート１０，２０，３０，５０，６０，７０，８０及びポアチップ４０に乾式処理を施してもよく、粒子測定モジュール１の組み立て後に真空条件下で乾式処理を施してもよい。

　第１及び第２親水性シート３０，６０を形成しているシリコーンゴムに含まれている添加剤を構成する親水性基含有化合物として、例えば親水性基含有シリコーン系化合物が挙げられる。このような親水性基含有シリコーン系化合物は、主鎖にポリシロキサン骨格を、側鎖に親水性基として水酸基末端ポリエーテル基を、夫々有している共重合体である。側鎖は主鎖を構成するモノマーの繰返に応じて繰返されている。親水性基含有シリコーン系化合物として、具体的に、下記化学式（１）

で表される親水性基含有シリコーン系化合物（化学式（１）中、ｘ及びｙはその化合物のシロキシ構造の繰返単位数であり、ｘ又はｙが示す繰返単位はブロック共重合体単位であってもよくランダム共重合体単位であってもよい。ｎはポリエーテル基中のエーテル構造繰返単位数、より具体的には平均で１２程度の数である。Ｒの夫々はメチル基又はフェニル基である。）が挙げられる。

　上記のような親水性基含有シリコーン系化合物を含む添加剤は、ポリエーテル変性シリコーンオイルとして市販されている。具体的に、ＴＩ－２０１１（東レ・ダウコーニング社製；商品名。化学式（１）参照）、ＴＩ－６０２１（東レ・ダウコーニング社製；商品名）、ＴＳＦ－４４４５（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製；商品名）、ＴＳＦ－４４４６（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製；商品名）、ＫＦ－６０１１（信越化学工業社製；商品名）、ＫＦ－６０１１Ｐ（信越化学工業社製；商品名）、ＫＦ－６０１２（信越化学工業社製；商品名）、ＫＦ－６０１５（信越化学工業社製；商品名）、ＫＦ－６００４（信越化学工業社製；商品名）、ＫＦ－６０４３（信越化学工業社製；商品名）が挙げられる。

　このような親水性基含有シリコーン系化合物を含む添加剤は、ＨＬＢ値（Hydrophilic-Lipophilic Balance；親水油バランス）を３．５～１４．５とするものであると、十分な親水性を発現することができる。ＨＬＢ値は、この範囲よりも小さいと第１及び第２親水性シート３０，６０の表面における親水性が不十分となり、この範囲よりも大きいと疎水性材料への分散性が大幅に低下してしまう。ＨＬＢ値は、エステル系の界面活性剤について、鹸化価をＳ、界面活性剤を構成する脂肪酸の酸価をＡとし、ＨＬＢ値を２０（１－Ｓ／Ａ）で定義するものや、ＨＬＢ値を２０×親水部の式量の総和／分子量で定義するものや、官能基によって決まる基数を規定し（例えばメチル基やメチレン鎖は親油基で０．４７５、水酸基は親水基で１．９など）、ＨＬＢ値を７＋親水基の基数の総和－親油基の基数の総和で定義するものや、ＨＬＢ値を７＋１１．７×ｌｏｇ（親水部の式量の総和／親油部の式量の総和）で定義するものが知られている。

　親水性基含有シリコーン系化合物を含む添加剤の含有量は、シリコーンゴム１００質量部に対して０．１～３０質量部、好ましくは３～５質量部が、配合されていることが好ましい。この添加剤の含有量がこの範囲であると、底部２３_bottom及び天井部７３_ceilingで親水性基含有シリコーン系化合物が露出し易くなったり、露出した親水性基含有シリコーン系化合物がブリードアウトして第１流路２３及び第２流路７３に充填された電解溶液に混入することにより、底部２３_bottom及び天井部７３_ceilingのみならず電解溶液を介してポアチップ４０の表面の親水性をも向上させたりすることができる。

　なお、親水性基含有シリコーン系化合物が第１及び第２親水性シート３０，６０を形成しているシリコーンゴムに配合されている例を示したが、これとともに又はこれに代えて、親水性基含有シリコーン系化合物がこのシリコーンゴムの表面、具体的に上面３０ａ及び下面６０ｂに付されてそれの表面で露出していてもよい。この場合、第１親水性シート３０を第１流路シート２０とポアチップ支持シート５０とに挟む前（すなわちこれらのシートを重ねる前）、及び第２親水性シート６０をポアチップ支持シート５０と第２流路シート６０とに挟む前（すなわちこれらのシートを重ねる前）に、噴霧、塗布、及び／又は浸漬の方法で上面３０ａ及び下面６０ｂに付すことが好ましい。

　第１及び第２親水性シート３０，６０を形成しているシリコーンゴムとして、具体的に、付加型シリコーンゴム、縮合型シリコーンゴム、過酸化物架橋型シリコーンゴム、紫外線硬化型シリコーンゴム、及び／又は放射線架橋型シリコーンゴムが挙げられ、それらの中でも付加型シリコーンゴムである熱硬化性液状シリコーンゴムが好ましい。

　第１流路シート２０、ポアチップ支持シート５０、及び第２流路シート７０は、シリコーンゴム製であることが好ましい。このシリコーンゴムとして上記のシリコーンゴムを採用することができる。第１流路シート２０、ポアチップ支持シート５０、及び第２流路シート７０を形成するシリコーンゴムは、親水性基含有化合物を含有していてもよく、これを非含有であってもよい。また第１流路シート２０、ポアチップ支持シート５０、及び第２流路シート７０は、第１及び第２親水性シート３０，６０と同様の乾式処理が施されていることにより乾式処理面を有していてもよい。

　カバーシート１０及び基板シート８０は、ポリカーボネート製であることが好ましい。カバーシート１０及び基板シート８０は、ポリカーボネート以外の樹脂で形成されていてもよい。このような樹脂として例えば、シクロオレフィン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブテレンテレフタレート樹脂、セルロース及びその誘導体、ヒドロキシエチルセルロース、デンプン、二酢酸セルロース、表面ケン化酢酸ビニル樹脂、低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ｉ－ポリプロピレン、石油樹脂、ポリスチレン、ｓ‐ポリスチレン、クマロン・インデン樹脂、テルペン樹脂、スチレン・ジビニルベンゼン共重合体、ＡＢＳ樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリルニトリル、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリシアノアクリレート、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル・エチレン共重合体、ポリフッ化ビニリデン、フッ化ビニリデン・エチレン共重合体、フッ化ビニリデン・プロピレン共重合体、１，４－トランスポリブタジエン、ポリオキシメチレン、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、フェノール・ホルマリン樹脂、クレゾール・フォルマリン樹脂、レゾルシン樹脂、メラミン樹脂、キシレン樹脂、トルエン樹脂、グリプタル樹脂、変性グリプタル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アリルエステル樹脂、６－ナイロン、６，６－ナイロン、６，１０－ナイロン、ポリイミド、ポリアミド、ポリベンズイミダゾール、ポリアミドイミド、ケイ素樹脂、シリコーンゴム、シリコーン樹脂、フラン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリフェニレンオキサイド、ポリジメチルフェニレンオキサイド、ポリフェニレンオキサイドまたはポリジメチルフェニレンオキサイドとトリアリルイソシアヌルブレンド物、（ポリフェニレンオキサイドまたはポリジメチルフェニレンオキサイド、トリアリルイソシアヌル、パーオキサイド）ブレンド物、ポリキシレン、ポリフェニレンスルファイド（ＰＰＳ）、ポリスルホン（ＰＳＦ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリイミド（ＰＰＩ、カプトン）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、及び液晶樹脂が挙げられる。また、これらの樹脂がポリアミド繊維、炭素繊維、又はガラス繊維により強化されていてもよい。なお、第１流路シート２０、第１親水性シート３０、ポアチップ支持シート５０、第２親水性シート６０、及び第２流路シート７０がこれらの樹脂で形成されてもよい。

　カバーシート１０及び基板シート８０の材料は、これらの樹脂に限定されず、上記で挙げたシリコーンゴムであってもよい。この場合、カバーシート１０及び基板シート８０の材料は、第１及び第２親水性シート３０，６０、並びに第１流路シート２０、ポアチップ支持シート５０、及び第２流路シート７０を形成しているシリコーンゴムと同種であっても、異種であってもよい。また、カバーシート１０及び基板シート８０の材料は、互いに同一であっても異なっていてもよい。

　なお、各シート１０，２０，３０，５０，６０，７０，８０は、夫々独立した部材であっても、複数が一体化した部材であってもよい。例えば、カバーシート１０と第１流路シート２０とが一体化した部材、第１親水性シート３０とポアチップ支持シート５０とが一体化した部材、ポアチップ支持シート５０と第２親水性シート６０とが一体化した部材、及び第２流路シート７０と基板シート８０とが一体化した部材を挙げることができる。これら一体化した部材は、一種のみを用いても複数種を組み合わせて用いてもよい。それによれば、粒子測定モジュール１を作製するのに要する部品点数を削減して組み立ての工数を減じることができる。この場合一体化した部材を作製するのに、予め所望の形に作製された金型に樹脂組成物やゴム組成物を投入して成型する方法や、一枚の板に穴を開けたりフライスを用いて板の表面を削ることによりそこで凹んだ流路を形成したりする方法が挙げられる。

　各シート１０，２０，３０，５０，６０，７０，８０の厚さは特に限定されず、０．１～３ｍｍの範囲であることが好ましい。具体的に、第１及び第２流路シート２０，７０は０．０５～１ｍｍ厚、好ましくは０．０５～０．６ｍｍ厚、より好ましくは０．０５～０．４ｍｍ厚であり、第１及び第２親水性シート３０，６０は０．０１～１ｍｍ厚、好ましくは０．０１～０．２ｍｍ厚、より好ましくは０．０１～０．１５ｍｍ厚である。またポアチップ支持シート５０の厚さは、ポアチップ４０の厚さに応じて選択される。さらに、カバーシート１０は０．５～５ｍｍ厚、好ましくは０．５～３ｍｍ厚、より好ましくは１～２ｍｍ厚であると、粒子測定モジュール１を撓み難くすることができる。それによれば粒子測定モジュール１を補強でき、これを反らせたり捻ったりする外力が作用しても容易に撓まず、シリコン及び窒化シリコン製のポアチップ４０に割れを生じたり、亀裂を生じたりすることを防止できる。

　各シート１０，２０，３０，５０，６０，７０，８０、及びポアチップ４０は、コロナ処理、プラズマ処理又は紫外線照射処理（一般的なＵＶ処理やエキシマＵＶ処理）されてこれらの表面で生じた反応性活性基、例えば水酸基（－ＯＨ）やヒドロキシシリル基（－ＳｉＯＨ）のような反応性活性基同士が、共有結合により直接、化学結合して、強固に接合することにより、剥離不能に一体化している。このような接合を分子接合と呼ぶ。分子接合におけるエーテル結合は、ＯＨ基同士の脱水によるエーテル結合であることが好ましい。

　各シート１０，２０，３０，５０，６０，７０，８０、及びポアチップ４０が、コロナ処理、プラズマ処理又は紫外線照射処理（一般的なＵＶ処理やエキシマＵＶ処理）のような乾式処理されて生じた反応性活性基同士で、共有結合し易くなるように、各シート１０，２０，３０，５０，６０，７０，８０のうち少なくとも一つが、白金触媒、例えば１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン白金（０）触媒（Ｐｔ（ｄｖｓ））２．１－２．４％キシレン溶液（Ｇｅｌｅｓｔ社製品）のような白金錯体を、白金換算で１０～１０００ｐｐｍの濃度で含んでいることが好ましい。なお、各シート１０，２０，３０，５０，６０，７０，８０、及びポアチップ４０に施す乾式処理は、上述した第１及び第２親水性シート３０，６０に施す乾式処理と同じであってもよい。これらの乾式処理により、各シート１０，２０，３０，５０，６０，７０，８０、及びポアチップ４０の表面で元来存在する水酸基のような反応性活性基の他にさらに反応性活性基が生成する。元来存在する反応性活性基や活性化されて生成した反応性活性基が、対峙し合う表面で互いに共有結合、具体的には脱水して強固な共有結合であるエーテル結合を生じることで、各シート１０，２０，３０，５０，６０，７０，８０、及びポアチップ４０が互いに化学的に直接、接合する。

　粒子測定モジュール１は、次のようにして作製することができる。

　まず、必要に応じて架橋剤や硬化剤を含有しているシート原料樹脂であるシリコーンゴム原料成分に、親水性基含有化合物を含有する添加剤であるポリエーテル変性シリコーンオイルを、所定量配合する。このとき、ポリエーテル変性シリコーンオイルがシリコーンゴム原料成分へ均一に分散するように、例えばポリシロキサン骨格の末端に水酸基を有するシリコーン化合物のような、主鎖が疎水性、末端が親水性を示す化合物を配合してもよい。次いでこの混合物を混練・撹拌し、必要に応じて脱泡する。この混錬物を例えば０．１ｍｍ厚のシートに成型し、加熱によって架橋させてシリコーンゴムへと硬化させて親水性基含有化合物を含んだシリコーンゴムシートを作製する。

　レーザーカッターを用いて、親水性基含有化合物を含んだシリコーンゴムシートに貫通孔３２ａ，３２ｂ，３３を開ける工程である貫通孔形成工程を施してから縦×横＝２５×２５ｍｍの正方形に切り出して第１親水性シートを作製する。同様にして、貫通孔６２ａ，６２ｂ，６３を開けてから２５×２５ｍｍの正方形に切り出して第２親水性シートを作製する。第１及び第２親水性シート３０，６０は、夫々の上面３０ａ及び下面６０ｂは勿論、表面に露出したすべての面で親水性を有している。

　次いで、第１及び第２親水性シート３０，６０の表面に、乾式処理、例えばエキシマＵＶ照射処理、ＵＶ照射処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、及び／又はγ線照射処理である乾式処理工程を施し、それらの表面を、水酸基（－ＯＨ）やヒドロキシシリル基（－ＳｉＯＨ）のような反応性活性基が露出した乾式処理面とする。それによって、底部２３_bottom及び天井部７３_ceilingの面を乾式処理部とすることができる。この反応性活性基が存在することにより、水との接触角が小さくなって親水性が高くなり、その高い親水性が長期間維持される。この乾式処理を施した後、クリーンルーム環境下や常温、常圧、常湿度下で長期間例えば１年以上にわたり、高い親水性を維持し、水との接触角を低いまま維持でき例えば通常の接触角測定条件例えば水液滴の滴下後１０秒～４分後に測定しても５０°以下、好ましくは３０°以下、より好ましくは２０°以下、より一層好ましくは１０°以下に維持できていることを確認できる。

　なお、第１及び第２親水性シート３０，６０は、親水性基含有化合物を非含有のシリコーンゴム原料成分で形成されていてもよい。この場合、それらの表面に乾式処理を施すことにより、底部２３_bottom及び天井部７３_ceilingを乾式処理部とすることができる。

　レーザーカッターを用いて、例えば０．２ｍｍ厚のシリコーンゴムシートに第１電極配置部２１ａ、貫通孔２２ａ，２２ｂ、及び第１流路２３を所定位置に開けるという流路形成工程を施してから、２５×２５ｍｍの正方形に切り出して第１流路シート２０を作製する。また０．２ｍｍ厚のシリコーンゴムシートに第２電極配置部７２ａ、及び第２流路７３を所定位置に開けるという流路形成工程を施してから２５×２５ｍｍの正方形に切り出して第２流路シート７０を作製する。さらに０．８ｍｍ厚のシリコーンゴムシートに貫通孔５２ａ，５２ｂ及びポアチップ支持穴５３を所定位置に開けるというポアチップ支持穴形成工程を施してから、２５×２５ｍｍの正方形に切り出してポアチップ支持シート５０を作製する。

　次いで同じくレーザーカッターを用いて、例えば２ｍｍ厚のポリカーボネート板に第１開口１１及び第２開口を所定位置に開けてから、２５×２５ｍｍの正方形に切り出してカバーシート１０を作製する。０．１ｍｍ厚のポリカーボネートシートを２５×２５ｍｍの正方形に切り出して基板シート８０を作製する。

　各シート１０，２０，３０，５０，６０，７０，８０、及びポアチップ４０の表面に乾式処理を施してそれらの表面に反応性活性基を生成させた後、接合工程を行う。具体的には図１に示すように、基板シート８０の上に第２流路シート７０を重ねる。次いでこの上に第２親水性シート６０を、第２電極配置部７２ａと貫通孔６２ａとが、第２流路７３と貫通孔６３とが、第２流路末端部７２ｂと貫通孔６２ｂとが、夫々対応するように重ねる。続いてこの上に、ポアチップ支持シート５０を、貫通孔６２ａ，５２ａ同士が、貫通孔６３とポアチップ支持穴５３とが、貫通孔６２ｂ，５２ｂ同士が、夫々対応するように重ねる。さらにポアチップ支持シート５０のポアチップ支持穴５３にポアチップ４０を嵌め込む。

　ポアチップ４０を嵌め込んだポアチップ支持シート５０の上に、第１親水性シート３０を、貫通孔５２ａ，３２ａ同士が、貫通孔６３とポアチップ４０とが、貫通孔５２ｂ，３２ｂ同士が、夫々対応するように、かつ第１流路と第２流路とが鉛直に重なって交差しつつポアチップ４０の細孔４２ａでのみ連通するように重ねる。続いてこの上に、第１流路シート２０を、貫通孔３２ａ，２２ａ同士が、貫通孔３３と第１流路２３とが、貫通孔３２ｂ，２２ｂ同士が、それぞれ対応するように重ねる。最後にこの上に、カバーシート１０を、貫通孔２２ａと第２電極挿脱口１２ａとが、第１電極配置部２１ａと第１電極挿脱口１１ａとが、第１流路末端部２１ｂと第１注入孔１１ｂとが、貫通孔２２ｂと第２注入孔１２ｂとが、それぞれ対応するように重ねる。このようにして、各シート１０，２０，３０，５０，６０，７０，８０が重なり、かつポアチップ４０を支持している積層体を形成する。

　各シート１０，２０，３０，５０，６０，７０，８０、及びポアチップ４０の表面に生成した反応性活性基をそれら表面間で、例えば８０℃で１０分間加熱することにより、共有結合させる。それにより、各シート１０，２０，３０，５０，６０，７０，８０、及びポアチップ４０を分子接合によって接合・一体化し、粒子測定モジュール１が得られる。このように接合された各シート１０，２０，３０，５０，６０，７０，８０は、それの間で引き剥がす力が作用しても界面剥離できず、シートが破断するほど強固に接合している。

　なお、この分子接合による接合工程を、常圧下で行ってもよく、減圧下又は加圧下で行ってもよい。各表面間における反応性活性基同士の接近は、減圧乃至真空条件下、例えば５０ｔｏｒｒ以下、より具体的には５０～１０ｔｏｒｒの減圧条件、又は１０ｔｏｒｒ未満、より具体的には、１０ｔｏｒｒ未満～１×１０^－３ｔｏｒｒ、好ましくは１０ｔｏｒｒ未満～１×１０^－２ｔｏｒｒの真空条件下で、その接触界面の気体媒体を除去することによって、又はその接触界面に応力（荷重）、例えば１０～２００ｋｇｆを加えることによって、さらに接触界面を加熱することによって、促進される。減圧又は加圧条件で、積層体を構成する各シート１０，２０，３０，５０，６０，７０，８０、及びポアチップ４０に、均一に圧力が掛かることが好ましい。

　また接合工程において、乾式処理を施すだけで各シート１０，２０，３０，５０，６０，７０，８０、及びポアチップ４０の表面に十分に反応性活性基が発現するのでそれら反応性活性基のみによる分子接合を形成してもよい一方で、シランカップリング剤のような分子接着剤を用いて、分子接合を形成してもよい。この場合、前記シランカップリング剤のような分子接着剤の０．０５～１重量％のアルコール溶液例えばメタノール溶液へ各シート１０，２０，３０，５０，６０，７０，８０、及びポアチップ４０を浸漬して乾燥した後、それらが重ね合わされることが好ましい。

　分子接合の形成において、乾式処理と分子接着剤処理との何れかのみを施してもよく、それらを連続的に交互に施してもよい。分子接合は、例えば、乾式処理のみで形成されていてもよく、乾式処理に引き続く分子接着剤処理で形成されていてもよく、乾式処理に引き続く分子接着処理とさらに乾式処理とで形成されていてもよく、分子接着剤処理のみで接合で形成されていてもよく、分子接着剤処理に引き続く乾式処理で形成されていてもよく、分子接着処理に引き続く乾式処理とさらに分子接着処理とで形成されていてもよい。

　このように、乾式処理により生成した反応性活性基は、シートに親水性を付与するだけでなく、シランカップリング剤や別なシートの表面に存在する反応性活性基と共有結合を形成することにより、シート同士を強固に接合し得る分子接合を形成する。

　必要に応じて粒子測定モジュール１に真空条件下で乾式処理を施してもよい。それにより第１及び第２流路２３，７３及びポアチップ４０における全ての露出面の親水性を向上させることができる。

　第１及び第２親水性シート３０，６０を形成しているシリコーンゴムに、親水性基含有化合物としての親水性基含有シリコーン系化合物が配合により含まれている例を挙げたが、これに代えて又はこれとともに、別な親水性基含有化合物である親水性基含有アクリル系化合物が、このシリコーンゴムに含まれていてもよい。また、親水性基含有シリコーン系化合物に代えて又はこれとともに別な親水性基含有化合物である親水性基含有アクリル系化合物が、このシリコーンゴムの表面（少なくとも上面３０ａ及び下面６０ｂ）に付されていてもよい。この場合少なくとも、上面３０ａの一部である底面２３_bottom及び下面６０ｂの一部である天井部７３_ceilingにこれらの親水性基含有化合物が付されている。

　この親水性基含有アクリル系化合物は、ポリ（メタ）アクリル骨格の主鎖と、親水性基としてベタイン構造を有する側鎖及び活性官能基を有する側鎖とを有している共重合体である。ベタイン構造を有する側鎖及び活性官能基を有する側鎖は主鎖を構成するモノマーの繰返に応じて繰返されている。

　側鎖の繰返単位を繰り返している繰返主鎖は、例えばポリ(メタ)アクリル骨格である。ポリ(メタ)アクリル骨格には、ポリアクリル骨格とポリメタクリル骨格とを包含する。より具体的には、ポリ(メタ)アクリル骨格が、ポリ(メタ)アクリルアミド共重合骨格、ポリ(メタ)アクリレート共重合骨格、又はポリ(メタ)アクリルアミド及びポリ(メタ)アクリレート共重合骨格である。なかでも、共重合体は、ポリ(メタ)アクリルアミド共重合骨格を有するものであると特に好ましい。

　親水性基含有アクリル系化合物において、共重合体の繰返形式に制限はなく、例えばランダム共重合体、ブロック共重合体、交互共重合体、及びグラフト共重合体の何れでもよい。またベタイン構造を側鎖に有する繰返単位と、活性官能基を側鎖に有する繰返単位とのモル比に制限はないが、モル比で１：１が好ましい。

　ベタイン構造を有する側鎖は、アニオン基とカチオン基との何れか一方を側鎖末端に有し、他方を側鎖中に有していてもよい

　ベタイン構造中、アニオン基は、側鎖末端にある場合、カルボン酸基（－ＣＯＯ^－基）、スルホン酸基（-ＳＯ_３ ^－基）、リン酸基（－Ｒ^ａ１－ＰＯ－(ＯＲ^ａ２)(ＯＲ^ａ３)；－Ｒ^ａ１－は側鎖の末端までの基、ＯＲ^ａ２及びＯＲ^ａ３は炭素数１～６のアルコキシ基又はフェノキシ基又はＯ^－アニオンであって少なくとも何れかがＯ^－アニオン）から選ばれるアニオン基が挙げられ、側鎖中程にある場合、側鎖から分岐した置換カルボン酸基（－ＣＯＯ^－基）、側鎖から分岐した置換スルホン酸基（-ＳＯ_３ ^－基）、リン酸基（－Ｒ^ｂ１－ＰＯ－(ＯＲ^ｂ２)(ＯＲ^ａ３)；　Ｒ^ｂ１は側鎖の途中までの基、ＯＲ^ｂ２は側鎖の途中から末端までの基又はＯ^－アニオン、ＯＲ^ｂ３はＯ^－アニオン）から選ばれるアニオン基が挙げられる。

　ベタイン構造中、カチオン基は、側鎖末端にある場合、１級乃至４級アンモニウム基のような有機アンモニウム基（(－ＮＨ_３)^＋、(－Ｎ(Ｒ^ｃ１)Ｈ₂)^＋、(－Ｎ(Ｒ^ｃ２)_２Ｈ)^＋、(－Ｎ(Ｒ^ｃ３)_３)^＋；Ｒ^ｃ２～Ｒ^ｃ３は炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基）、スルホニウム基好ましくは有機スルホニウム基（(－Ｓ(Ｒ^ｃ４)_２)^＋；Ｒ^ｃ４は炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基）、ホスホニウム基好ましくは四級ホスホニウム基（(－Ｐ(Ｒ^ｃ５)_３)^＋；Ｒ^ｃ５は炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基）から選ばれるカチオン基が挙げられ、側鎖中程にある場合、４級アンモニウム基のような有機アンモニウム基（(－Ｒ^ｄ１－Ｎ(Ｒ^ｄ２)_２(Ｒ^ｄ３))^＋；Ｒ^ｄ２は側鎖の途中までの基、Ｒ^ｄ２炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基、Ｒ^ｄ３は側鎖の途中から末端までの基）、スルホニウム基（－Ｒ^ｄ４－Ｓ^＋(Ｒ^ｄ５)－Ｒ^ｄ６)；Ｒ^ｃ４は側鎖の途中までの基、Ｒ^ｄ５炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基、Ｒ^ｄ６は側鎖の途中から末端までの基）、ホスホニウム基（－Ｒ^ｄ７－Ｐ^＋(Ｒ^ｄ８)_２－Ｒ^ｄ９)；Ｒ^ｄ７は側鎖の途中までの基、Ｒ^ｄ８は炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基、Ｒ^ｄ９は側鎖の途中から末端までの基）から選ばれるカチオン基が挙げられる。

　ベタイン構造中、アニオン基とカチオン基とが乾式処理面である上面３０ａ及び下面６０ｂに存在する親水性の反応性活性基と、反応、結合、又は吸着、とりわけ反応性活性基とベタイン構造との互いの静電引力又はイオン引力によって物理吸着乃至化学吸着のような吸着をして、上面３０ａ及び下面６０ｂに、夫々強く相互作用している。

　このような親水性基含有アクリル系化合物は、例えば下記化学式（２）又は（３）

（化学式（２）及び（３）中、Ｒ^１及びＲ^２は水素原子又はメチル基であり、ｎ１～ｎ４は２～６の数である）で表されるベタイン構造を有する繰返単位と、下記化学式（４）

（化学式（４）中、Ｒ^３は水素原子又はメチル基であり、ｎ５は２～６の数であり、ｎ６は０～１の数であり、Ｒ^４は前記活性官能基である）で表されるもので活性官能基を有する繰返単位とのランダム共重合体、ブロック共重合体、交互共重合体、又はグラフト共重合体である。

　ベタイン構造を有する側鎖の繰返単位は、より具体的に、下記化学式（５）～（８）

で表されるものが挙げられる。

　一方活性官能基として、アジド基（－Ｎ_３）、スルホ基（－ＳＯ_３）、トリアルコキシシリル基（－Ｓｉ(ＯＲ^ｅ１)_３；ＯＲ^ｅ１は炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基）、水酸基（－ＯＨ）又は水酸基を生成する水酸基ブロック基例えば炭素数１～６のアルコキシ基のような水酸基前駆基から選ばれる少なくとも何れかの官能基が挙げられる。

　活性官能基のうち、アジド基（－Ｎ_３）は、例えば、紫外線又は光による分解によって又は熱分解によって窒素分子を放出してナイトレン基（－Ｎ:基）を生成し、上面３０ａ及び下面６０ｂ上の反応性活性基、又はシリコーンゴムが有する、例えば不飽和基、アルキル基、フェニル基、及び／又はアミノ基と反応して及び／又は環拡大して、反応又は結合することにより、共有結合を形成する。活性官能基のうち、トリアルコキシシリル基は、上面３０ａ及び下面６０ｂ上の反応性活性基、例えば水酸基と縮合反応することにより、シリルエーテル結合である共有結合を形成する。活性官能基のうち、水酸基又は水酸基ブロック基は、シリコーンゴム中の、例えばシラノール基（－Ｓｉ－ＯＨ）又はシロキシ基（－Ｓｉ－ＯＲ^ｆ１基；Ｒ^ｆ１は炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基）と縮合反応することにより、エーテル結合である共有結合を形成する。これらは、イオン結合を介して結合しているものであってもよい。

　また、活性官能基を有する側鎖の繰返単位中、この側鎖は、フェニル、ナフチルのような炭化水素芳香環基、ピペラジニル、ピレリジニル、ピロゾキジニル、モルフォリニルのような非芳香族複素環基、ピリジル、ピラゾリル、イミダゾリル、トリアゾリル、ピラジニル、トリアゾニルのような芳香族複素環基、メチル、エチル、ビニル、プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、シクロブチル、ｎ－ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、シクロペンチル、ｎ－へキシル、シクロヘキシルのような、若しくはベンジル又はフェネチルのような直鎖状、分岐鎖状及び／又は環状で飽和又は不飽和の炭化水素基、アミド基（－ＣＯ－Ｎ(Ｒ^ｇ１)－；Ｒ^ｇ１は炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基）、エステル基（－ＣＯ－Ｏ－）から選ばれる何れかの単一スペーサ基、またはそれらの少なくとも何れかを組み合わせた複合スペーサ基が、前記活性官能基を有しているものであってもよい。

　活性官能基は、乾式処理表面に存在する水酸基、カルボキシ基、及びカルボニル基のような反応性活性基、又はシリコーンゴムが有するアミノ基、アルコキシ基、及び／又はアルコキシシリル基と反応、結合、又は吸着、とりわけ反応性活性基と化学反応して共有結合を形成している。それによって上面３０ａ及び下面６０ｂに、親水性基含有アクリル系化合物の分子が付されている。

　なかでも、親水性基含有アクリル系化合物は、下記化学式（９）又は（１０）

（化学式（９）及び（１０）中、Ｒ^５～Ｒ^８は水素原子又はメチル基、ｍ１及びｍ２並びにｍ３及びｍ４は、前記分子量と繰返単位の比を形成する任意の正数）で表されるものであることが好ましい。

　このような親水性基含有アクリル系化合物、例えば化学式（９）又は（１０）で表される親水性基含有アクリル系化合物は、以下のようにして合成される。

　ジメチルアミノプロピルメタクリルアミドにプロパンサルトンを反応させ、化学式（２）で表されるような繰返単位を形成するためのベタイン構造含有コモノマーを合成する。

　４－アミノ安息香酸のアミノ基をジアゾ化後にアジド化し酸クロライドにしてから、ピぺリジンのアミノ基の一方を保護基で保護したモノ保護ピぺリジンと反応させてアミド化し、その後、保護基を外し、モノ－ｐ－アジ化安息香酸ピペラジンアミドを得る。メタクリル酸クロライドと６－アミノカプロン酸とをアミド化し、さらに前記モノ－ｐ－アジ化安息香酸ピペラジンアミドの遊離アミノ基とアミド化して、化学式（３）で表されるような繰返単位を形成するための活性官能基含有コモノマーを合成する。

　あるいは、メタクリル酸クロライドと前記モノ－ｐ－アジ化安息香酸ピペラジンアミドの遊離アミノ基とアミド化して、化学式（３）で表されるような繰返単位を形成するための別な活性官能基含有コモノマーを合成する。

　化学式（２）で表されるような繰返単位となるベタイン構造含有コモノマーと、化学式（４）で表されるような繰返単位となる活性官能基含有コモノマーとを、共重合させると、前記化学式（９）又は（１０）で表される親水性基含有アクリル系化合物が得られる。

　なお、炭素数等が異なる別なコモノマー、例えば化学式（２）又は（３）で表される繰返単位を形成するためのベタイン構造含有コモノマー若しくは化学式（４）で表されるような繰返単位となる活性官能基含有コモノマーは、始発物質を調整すれば同様にして合成できる。

　このようにして得られた親水性基含有アクリル系化合物を、水、アルコールやアセトンのような水溶性有機媒体、塩化メチレンやクロロホルムやエーテルのような水不溶性有機媒体などの各種媒体に溶解又は懸濁させることによって、希釈した溶液として使用できる。親水性基含有アクリル系化合物の濃度が０．００１～１０質量％であると高い親水性が得られ、０．０１～１．０質量％であるとより好ましい。

　第１及び第２親水性シート３０，６０を形成しているシリコーンゴムに乾式処理を施して、そこに元々存するものの他に新たに反応性活性基を生成させる。

　その後、親水性基含有アクリル系化合物含有溶液を、噴霧、塗布、及び／又は浸漬の方法で乾式処理を経て乾式処理面となったシリコーンゴムの表面に付す。このとき必要に応じて、上記の媒体を揮発などの方法で除去し、親水性基含有アクリル系化合物が付されたシリコーンゴム製の第１及び第２親水性シート３０，６０を得る。この段階では、第１及び第２親水性シート３０，６０表面の反応性活性基に、親水性基含有アクリル系化合物のベタイン構造が静電的な相互作用をして、共重合体が、物理吸着乃至化学吸着のような吸着されていることによって、強固に付されつつ、親水性を発現している。

　次いでこの第１及び第２親水性シート３０，６０に、好ましくは波長２２０～４１０ｎｍ、積算光量は任意の紫外線又は光照射処理を施す。それにより、アジド基が分解してナイトレン基を生じ、これが第１及び第２親水性シート３０，６０上の反応性活性基と反応して共有結合する。その結果、親水性基含有アクリル系化合物が第１及び第２親水性シート３０，６０に強固に付されて、親水性が発現する。

　なお、活性官能基がアジド基である例を示したが、活性官能基がスルホ基、トリアルコキシシリル基、若しくは水酸基又は水酸基ブロック基である場合、これが第１及び第２親水性シート３０，６０上の反応性活性基であるシラノール基やシロキシ基と縮合反応して、エーテル結合である共有結合を形成することにより、親水性基含有アクリル系化合物がそこへ強固に付されて、親水性が発現していてもよい。

　一方粒子測定モジュール１を組み立てた後、粒子測定モジュール１における電解溶液１００の通液箇所の一部又は全部を予め液体、例えば水を充填する工程を設けてもよい。この場合、水が遺漏しないように第１及び第２開口１１，１２を塞いでおいてもよい。この通液箇所とは、例えば、第１電極配置部２１ａ、第１流路２３、貫通孔３３、ファンネル４１ａ、細孔４２ａ、貫通孔６３、第２電極配置部７２ａ、及び第２流路７３である。少なくとも第１及び第２流路２３，７３に水を充填しておくことが好ましい。それによれば、乾式処理部の親水性が水を充填しない場合に比してより長期にわたって維持される。

　通液箇所を水で充填するのに、例えば、樹脂製の袋に水及び粒子測定モジュール１を入れて袋内を減圧したり、第１開口１１及び第２開口１２から１０～６００ｋＰａ、好ましくは１００～３００ｋＰａの高圧水を注入したりすることにより、通液箇所へ強制的に水を導入してもよい。

　これによれば、底部２３_bottom及び天井部７３_ceilingを水に接触させておくことができるので、それらの面における親水性を長期にわたって維持することができる。また、細孔４２ａに水を充填しておくと、粒子測定モジュール１を製造した後に初めて電解溶液１００の注入する際における細孔４２ａへの空気（気泡）の滞留を、より確実に防止できる。この場合、水は注入された電解溶液１００に置換される。

　なお通液箇所は、水の他、メタノール、エタノール、１－プロパノール、及び２－プロパノールのような低級アルコール；１～１０倍リン酸緩衝液（リン酸－リン酸ナトリウム）、クエン酸－リン酸水素二ナトリウム（マッキルベイン緩衝液）、クエン酸緩衝液（クエン酸－クエン酸ナトリウム)、クエン酸リン酸緩衝液（クエン酸－リン酸ナトリウム)、ホウ酸緩衝液、酒石酸緩衝液、Ｔｒｉｓ緩衝液（tris(hydroxymethyl)aminomethane）、ＨＥＰＥＳ緩衝液（2-[4-(2-Hydroxyethyl)-1-piperazinyl]ethanesulfonic acid）、及びリン酸緩衝生理食塩水のような混合電解溶液；脂肪酸ナトリウム、脂肪酸カリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、及びジオクチルソジウムスルホサクシネートのようなアニオン界面活性剤を含有する溶液；第１～第３脂肪族アミン塩、テトラアルキルアンモニウム塩、トリアルキルベンジンアンモニウム塩、アルキルアミン塩、ポリエチレンポリアミン脂肪酸アミド塩の第４級アンモニウム塩、メタクリル酸４級アンモニウム塩ポリマー、及びポリエチレンイミン第４級アンモニウム塩のようなカチオン界面活性剤を含有する溶液；ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、グリセリンエステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、及びポリオキシエチレンアルキルエーテルのようなノニオン界面活性剤を含有する溶液；上記の親水性基含有シリコーン系化合物を含有する溶液及び親水性基含有アクリル系化合物を含有する溶液のような親水性基含有化合物含有溶液；これらの混合液から選ばれる少なくとも一種の液体で満たされていてもよい。

　特に液体が親水性基含有化合物含有溶液であると、粒子測定モジュール１を構成する各シート１０，２０，３０，５０，６０，７０やポアチップ４０に元々存在していたり、乾式処理によって生じたりした水酸基、カルボキシ基、及びカルボニル基のような反応性活性基と、親水性基含有化合物の親水性基とが、反応して結合したり、互いに吸着したりして親水性基含有化合物が通液箇所の表面に留まる。それにより、通液箇所が有する親水性をより一層向上させることができる。通液箇所に液体を充填することによって、そこに親水性を付与する操作を行う工程を、前述した粒子測定モジュール１に施す乾式処理の前に行っても、その後に行っても、乾式処理の最中に行ってもよい。

　これらの液体は、通液箇所に一旦充填された後、これを除去する工程を経ることによって除去されてもよい。特に液体が親水性基含有化合物含有溶液である場合、これが除去された後であっても、底部２３_bottom及び天井部７３_ceilingのみならず、通液箇所すべての面で親水性含有化合物が露出している。その結果、さらに一層通液箇所の親水性を向上させることができる。なお液体を除去する方法として、熱を用いた乾燥によって液体を蒸発又は揮発させる方法、通液箇所から液体を吸引除去する方法、及び液体を加圧して排出する方法が挙げられる。

　粒子測定モジュール１は、次のように使用される。まず、第１注入孔１１ｂからマイクロピペットを用いて、第１流路２３へ電解溶液１００を第１注入孔１１ｂの開口擦り切りまで注入する。この注入時の流速を最大でも１μＬ／秒とすることが好ましい。また第１注入孔１２ｂから第２流路７３へ電解溶液１００を第２注入孔１２ｂの開口擦り切りまで注入する。この注入時の流速を最大でも５μＬ／秒とすることが好ましい。

　第１及び第２流路２３，７３で、極めて高親水性である第１親水性シート３０の上面３０ａ及び第２親水性シート６０の下面６０ｂが露出しているので、電解溶液１００は第１流路２３から第２流路７３へ、ポアチップ４０のファンネル４１ａ及び細孔４２ａの空気を押し流しながら流入する。その結果それらが電解溶液１００で満たされる。

　次いで第１電極としての陽極を第１電極挿脱口１１ａから第１電極配置部２１ａに到達するまで挿し込む。同様にして、第２電極としての陰極を第２電極挿脱口１２ａから第２電極配置部７２ａに到達するまで挿し込む。両電極間に電圧を印加して電解溶液１００に電流を通じ、ＬＣＲメーターによって第１流路２３と第２流路７３との間におけるバックグラウンドのインピーダンスを測定する。

　液体試料として、測定対象物である微粒子を含有する電解溶液を調製する。このとき、上記の親水性基含有化合物をこの電解溶液に添加してもよく、親水性基含有化合物に電解溶液を添加してもよい。また、粒子測定モジュール１の通液箇所に電解溶液を注入した後に親水性含有化合物含有溶液を注入してもよい。それにより液体試料が親水性基含有化合物を含むという混合溶液が調製される。この場合、親水性基含有化合物は、電解溶液中に０．０１～３質量％、好ましくは０．０５～０．５質量％含まれていることが好ましい。それによれば、通液箇所の表面と電解溶液との濡れ性が向上する。

　マイクロピペットを用いて、第２注入孔１２ｂから液体試料を、第２注入孔１２ｂ開口擦り切りまで注入する。粒子測定モジュール１専用のケースに粒子測定モジュール１をセットし、第１電極及び第２電極間に再び電圧を印加して液体試料に電流を通じる。電気泳動により、第２電極が配置された第２流路７３から第１電極が配置された第１流路２３へ、微粒子が細孔を通過して移動する。その時に生じるそのインピーダンスを測定し、記録する。この記録からバックグラウンドのインピーダンス分を差し引いて微粒子の粒径分布を求める。必要に応じて、粒子測定モジュール１内を電解溶液１００にて洗浄した後、液体試料の測定を繰り返す。

　以下、本発明を適用する粒子測定モジュールの実施例を示す。

（親水性シートの親水特性確認）
　まず、本発明の粒子測定モジュールにおいて第１及び第２流路２３，７３の底部２３_bottom及び天井部７３_ceilingを夫々形成する親水性シートの親水性を確認した。そのために調製した親水性シートの予備実施例、及びそれと対比するための予備比較例を示す。

（予備実施例１－１）
　熱硬化性液状シリコーンゴム原材料の１００質量部に、親水性基含有化合物として親水性基含有シリコーン系化合物を含有する添加剤としてポリエーテル変性シリコーンオイルの５質量部を配合し、撹拌・脱泡機で混練して撹拌し、親水性基含有シリコーン系化合物を含むシリコーンゴム原料成分組成物を調製した。これを樹脂型に充填し、１２０℃で加熱処理して熱硬化させることにより、０．５ｍｍ厚で白色半透明のシートを得た。これを縦３ｃｍで横１ｃｍに裁断した後、エキシマＵＶ処理を施すことによって、表面を親水性強化した予備実施例１の親水性シートを得た。

（予備実施例１－２）
　熱硬化性液状シリコーンゴムのみからなる組成物を樹脂型に充填し、１２０℃で加熱処理して熱硬化させることにより、０．５ｍｍ厚の透明のゴムシートを得た。これを縦３ｃｍで横１ｃｍに裁断した。このゴムシートにエキシマＵＶ処理することによって、表面を乾式処理面とした予備実施例１－２の親水性シートを得た。

（予備比較例１－１）
　予備実施例１－１で調製したものと同じシリコーンゴム原料成分組成物を用いてシートを作製した。このシートにエキシマＵＶ処理を施すことなく、予備比較例１－２の親水性基含有シリコーン系化合物含有ゴムシートとした。

（予備比較例１－２）
　熱硬化性液状シリコーンゴムのみからなる組成物を樹脂型に充填し、１２０℃で加熱処理して熱硬化させることにより、０．５ｍｍ厚の透明のゴムシートを得た。これを縦３ｃｍで横１ｃｍに裁断し、予備比較例１－１のゴムシートを得た。

（経時前の水との接触角観察）
　予備実施例１－１の親水性シート、並びに予備比較例１－１のゴムシート及び予備比較例１－２の親水性基含有シリコーン系化合物含有ゴムシートに、夫々水１滴を滴下した。接触角測定器自動接触角計（協和界面科学株式会社製、商品名：ＤＭ－５０１）を用いて水と各ゴムシートとの接触角を測定した。結果を表１に示す。また、各ゴムシート上の水滴を側方向から撮影した。予備実施例１－１、並びに予備比較例１－１及び１－２における写真を、図３（ａ）～（ｃ）に夫々示す。なお、同図（ａ）及び（ｂ）は水の滴下から１０秒後に撮影されたものであり、同図（ｃ）は同５分後に撮影されたものである。

　表１及び図３（ａ）から分かるように、予備実施例１－１の親水性シートにおける水の接触角は１０°以下と極めて小さく、高い親水性を示した。一方、予備比較例１－１の親水性基含有シリコーン系化合物含有ゴムシートにおいて、水滴と５分間接触させても接触角が約６０～９０°と大きく、これは同図（ｂ）からも見て取れる。また同図（ｃ）から分かるように、予備比較例１－１のゴムシートは、約１０８°という極めて大きい接触角を示したことから、水との濡れ性に極めて乏しいことが分かった。

（経時後の水との接触角測定試験）
　予備実施例１－１の親水性シリコーンゴムと、予備比較例１－１及び１－２の各ゴムシートとを、温度２１℃程度で相対湿度６０ＲＨ％程度のクリーンルーム環境下で、所定日数保管した。所定日数経過後に、水１滴を滴下して１０秒後に、上記の接触角測定器自動接触角計を用いて水との接触角を、一試験片につき５～７点測定し、その平均値を求めた。それらの結果を、図４（ａ）に纏めて示す。

　図４（ａ）から明らかな通り、予備比較例１－１のゴムシート及び予備比較例１－２の親水性基含有シリコーン系化合物含有ゴムシートによれば、作製直後における接触角が夫々約１０８°及び約９０°と非常に高い。また、予備実施例１－２の親水性シートの接触角は、作製から７日目までは約４５～５０°程度であったが、以後は上昇した。一方、予備実施例１の親水性シートによれば、作製直後における接触角は約５°程度と低く、３００日経過後でも約１０°と誤差範囲程度にしか僅かに大きくなっているに過ぎず、殆ど変化していなかった。

（予備実施例２－１）
　熱硬化性液状シリコーンゴム原材料の１００質量部に、親水性基含有シリコーン系化合物を含有する添加剤としてポリエーテル変性シリコーンオイルの３質量部を配合し、撹拌・脱泡機で混練して撹拌し、親水性基含有シリコーン系化合物を含むシリコーンゴム原料成分組成物を調製した。これを樹脂フィルム状に成形して熱硬化させることにより、０．１ｍｍ厚の白色半透明のシートを得た。これを縦３ｃｍで横１ｃｍに裁断した後、エキシマＵＶ処理を施すことによって、表面を親水性強化した予備実施例２の親水性シートを得た。

（予備実施例２－２）
　熱硬化性液状シリコーンゴムのみからなる組成物を樹脂型に充填し、１２０℃で加熱処理して熱硬化させることにより、０．５ｍｍ厚の透明のゴムシートを得た。これを縦３ｃｍで横１ｃｍに裁断した。このゴムシートにエキシマＵＶ処理することによって、表面を乾式処理面とした予備実施例２－２の親水性シートを得た。

（予備比較例２－１）
　エキシマＵＶ処理を行わなかったこと以外は、予備実施例２－２と同様に操作して、予備比較例２－１のゴムシートを得た。

（予備比較例２－２）
　予備実施例２で作製したものと同じシリコーンゴム原料成分組成物を用いてシートを作製した。このシートにエキシマＵＶ処理を施すことなく、予備比較例２－３の親水性基含有シリコーン系化合物含有ゴムシートとした。

（経時後の水との接触角測定試験）
　予備実施例２－１の親水性シートと、予備比較例２－１及び２－２の各ゴムシートとを、温度２１℃程度で相対湿度６０ＲＨ％程度のクリーンルーム環境下で、所定日数保管した。所定日数経過後に水１滴を滴下し、１０秒後に上記の接触角測定器自動接触角計を用いて水との接触角を一試験片につき５～７点測定し、その平均値を求めた。それらの結果を図４（ｂ）に纏めて示す。

　図４（ｂ）から明らかな通り、予備比較例２－１のゴムシート及び予備比較例２－２の親水性基含有シリコーン系化合物含有ゴムシートによれば、作製直後における接触角が夫々約１０３°及び約９７°と非常に高い。また、予備実施例２－２の乾式処理ゴムシートの接触角は作製直後において約３０°であったが、その後上昇した。一方、予備実施例２－１の親水性シートによれば、作製直後における接触角は約５°程度と低く、１２０日経過後でも約１４°と誤差範囲程度にしか僅かに大きくなっているに過ぎず、殆ど変化していない。

（予備実施例３）
　予備実施例２－１で得た親水性シートを、１２０℃で２０分間、熱処理しても、高い親水性を示した。その中で、８０℃で熱処理したサンプルは、予備実施例２－１と同等の接触角を示した。

（予備実施例４）
　熱硬化性液状シリコーンゴムの１００質量部に、親水性基含有シリコーン系化合物を含有する添加剤としてポリエーテル変性シリコーンオイルの３質量部、両末端シラノール基含有ポリマーを１０質量部配合したこと以外は、予備実施例１と同様にして得たシートにエキシマＵＶ処理して予備実施例４の親水性シートを得た。この親水性シートは、予備実施例１－１と同じ親水性を発現した。

（予備実施例５）
　予備実施例１－１で得た親水性シート（シート１）の乾式処理面（エキシマＵＶ照射処理面）に、親水性基含有化合物を非含有であるシリコーンゴムシート（シート２）を重ねて、８０℃雰囲気で１０分間、１０ｋｇｆの荷重を印加することによって分子接合を介して接合させ、予備実施例６の積層体を作製した。予備実施例５の積層体について、ＪＩＳ　Ｋ６８５４－２（１９９９）における「接着剤－はく離接着強さ試験方法－第２部：１８０度はく離」に準拠した剥離試験を実施した。結果を表２に示す。

（予備実施例６）
　シリコーンゴムシートに代えて、予備実施例１－１の親水性シート（シート２）を用いたこと以外は、予備実施例５と同様にして予備実施例６の積層体を作製し、剥離試験を行った。結果を表２に示す。

（予備実施例７）
　シリコーンゴムシートに代えて、ポリカーボネートシート（シート２）を用いたこと以外は、予備実施例５と同様にして予備実施例７の積層体を作製し、剥離試験を行った。結果を表２に示す。

　表２から明らかな通り、予備実施例５～７のすべての積層体はゴム破断した。このことから、親水性シートはこれと同種及び異種の材料から形成されたシートと、シランカップリング剤を介した分子接合によって強固に接合することが分かった。

（予備実施例８）
（親水性基含有アクリル系化合物の合成）
　まず、親水性基含有化合物として親水性基含有アクリル系化合物を合成した。

(1-1)　メタクリルアミドプロピルスルホベタインの合成

　三口フラスコ（３００ｍｌ）にジメチルアミノプロピルメタクリルアミド１．７０ｇ（１０ｍｍｏｌ）と脱水アセトン１２０ｍｌを入れ、室温で撹拌した。１，３－プロパンサルトン１．８３ｇ（１５ｍｍｏｌ）の脱水アセトン溶液２０ｍｌを滴下し、室温で４８時間撹拌した。アセトンを留去し、得られた固体にアセトン２０ｍｌを加えて洗浄した。得られた固体をメタノールに溶かし、ヒドロキノンを加えて溶媒を留去し、固体を取り出して減圧乾燥したところ、収率９８％で無色固体のメタクリルアミドプロピルスルホベタインが得られ、ｍ／ｚ：２９３（Ｍ＋Ｈ^＋）であり、その構造が支持された。

(1-2)　メタクリルアミドピペラジンフェニルアジドモノマーの合成
(1-2(i))　モノＢｏｃピペラジンの合成

　三口フラスコ（３００ｍｌ）にピペラジン１２．９ｇ（１５０ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム１．２０ｇ（３０ｍｍｏｌ）、ジオキサン７５ｍｌ、水７５ｍｌを入れ、０℃で撹拌した。ジ－ｔ－ブチルジカーボネート６．５４ｇ（３０ｍｍｏｌ）のジオキサン溶液５０ｍｌを滴下し、さらに室温で１２時間撹拌した。反応液を５ｗｔ％炭酸ナトリウム水溶液２００ｍｌに注ぎ、クロロホルム２００ｍｌで抽出した。クロロホルム、ジオキサン、及び未反応ピペラジンを留去し、減圧乾燥したところ、無色固体のモノＢｏｃピペラジンを粗収率８０％で得ることができ、そのまま次の反応に用いた。

(1-2(ii))　ｐ－アジ化安息香酸の合成

　三口フラスコ（１Ｌ）に４－アミノ安息香酸６．８６ｇ（５０ｍｍｏｌ）、エタノール５００ｍｌ、濃塩酸２５０ｍｌを入れ、０℃で撹拌した。亜硝酸ナトリウム５．１８ｇ（７５ｍｍｏｌ）の水溶液１００ｍｌを滴下し、０℃で１時間撹拌してジアゾニウム塩溶液を調整した。三口フラスコ（２Ｌ）にアジ化ナトリウム３２．５ｇ（５００ｍｍｏｌ）、エタノール２５０ｍｌ、水２５０ｍｌを入れ、０℃で撹拌した。この溶液に調整したジアゾニウム塩溶液を滴下し、室温で２４時間撹拌した。エタノールを留去した反応液をクロロホルム５００ｍｌで二回抽出した。クロロホルム、エタノールを留去し、減圧乾燥したところ、淡黄色固体のｐ－アジ化安息香酸を粗収率１００％で得ることができ、そのまま次の反応に用いた。

(1-2(iii))　ｐ－アジ化安息香酸クロライドの合成

　ナスフラスコ（５００ｍｌ）に粗アジ化安息香酸３．２６ｇ（２０ｍｍｏｌ）、オキザリルクロライド５．０８ｇ（４０ｍｍｏｌ）、ベンゼン３００ｍｌを入れ、室温で撹拌した。ＤＭＦ４滴を加え、室温で６時間撹拌した。ベンゼン、オキザリルクロライドを留去し、減圧乾燥したところ、褐色液体のｐ－アジ化安息香酸クロライドを粗収率１００％で得ることができ、そのまま次の反応に用いた。

(1-2(iv))　ｐ－アジ化安息香酸Ｂｏｃピペラジンアミドの合成

　三口フラスコ（５００ｍｌ）に粗モノＢｏｃピペラジン４．９５ｇ（９０％、２４ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン６．０６ｇ（６０ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ３００ｍｌを入れ、０℃で撹拌した。粗アジ化安息香酸クロライド３．６３ｇ（２０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液５０ｍｌを滴下し、さらに室温で１２時間撹拌した。ＴＨＦを留去し、得られた残渣を５ｗｔ％塩酸２００ｍｌに注ぎ、クロロホルム２００ｍｌで抽出した。クロロホルムを留去し、残渣をゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）にて精製したところ、淡褐色固体のｐ－アジ化安息香酸Ｂｏｃピペラジンアミドを収率９７％で得た。

(1-2(v))　モノ－ｐ－アジ化安息香酸ピペラジンアミドの合成

　ナスフラスコ（２００ｍｌ）にアジ化安息香酸Ｂｏｃピペラジンアミド３．３１ｇ（１０ｍｍｏｌ）を入れ、０℃で撹拌した。トリフルオロ酢酸２０ｍｌを加え、室温で３０分撹拌した。トリフルオロ酢酸を留去し、得られた残渣に５ｗｔ％炭酸ナトリウム水溶液１００ｍｌを注ぎ、クロロホルム１００ｍｌで二回抽出した。クロロホルムと副成したピペラジンとを留去し、減圧乾燥したところ、褐色固体のモノ－ｐ－アジ化安息香酸ピペラジンアミドを粗収率９０％で得ることができ、そのまま次の反応に用いた。

(1-2(vi))　メタクリルアミドピペラジン－ｐ－フェニルアジドアミドモノマーの合成

　三口フラスコ（１００ｍｌ）にメタクリルアミドプロピルスルホベタイン１．４６ｇ（５ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン１．０１ｇ（１０ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ６０ｍｌを入れ、０℃で撹拌した。メタクリル酸クロライド６２７ｍｇ（６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液１５ｍｌを滴下し、さらに室温で１２時間撹拌した。ＴＨＦを留去し、得られた残渣を５ｗｔ％炭酸ナトリウム水溶液１００ｍｌに注ぎ、クロロホルム１００ｍｌで抽出した。クロロホルムを留去し、再結晶（ヘキサン：クロロホルム＝２５：５ｍｌ）すると、タール状不純物が除去でき、淡褐色固体のメタクリルアミドピペラジン－ｐ－フェニルアジドアミドモノマーが、収率５４％で得られた。

(1-3)　化学式（１０）で表される親水性基含有アクリル系化合物への共重合

　ナスフラスコ（１００ｍｌ）にメタクリルアミドプロピルスルホベタイン１．４６ｇ（５ｍｍｏｌ）、メタクリルアミドピペラジン－ｐ－フェニルアジドアミドモノマー１５．０ｍｇ（０．０５ｍｍｏｌ）、過硫酸アンモニウム１１．４ｍｇ、水５ｍｌを入れ、アルミホイルで蓋をして均一溶液にした。７０℃のウォーターバスにナスフラスコを１時間浸けて重合させた。反応液に水５ｍｌを加えて撹拌し、溶液をメタノール５０ｍｌに注いだ。生成した沈殿物を集め、メタノールで洗浄し、減圧乾燥したところ、淡黄色固体のランダム共重合体である化学式（１０）で表される親水性基含有アクリル系化合物が、収率９２％で得られ、ＧＰＣで測定したところ数平均分子量９２０００であり、その構造が支持された。

　熱硬化性液状シリコーンゴムのみからなる組成物を樹脂型に充填し、１２０℃で加熱処理して熱硬化させることにより、０．５ｍｍ厚の透明のゴムシートを得た。これにプラズマ処理又はエキシマ処理して表面を乾式処理面とした後、上記で合成した親水性基含有アクリル系化合物の０．１ｗｔ％水溶液に室温で１０分間浸漬し、親水性基含有アクリル系化合物をゴムシートの表面に付した。その後、ゴムシートを取り出し、そこに紫外線を照射して予備実施例８の親水性ゴムシートを得た。

　予備実施例８のゴムシートに対し、予備実施例１－１と同様に操作して水とゴムシートとの接触角を測定したところ、１１°であった。このことから、親水性基含有化合物として親水性基含有アクリル系化合物をゴムシートに付すことによって親水性シートが得られることが分かった。

（実施例１）
　図１に示すポリカーボネート樹脂製のカバーシート１０及び基板シート８０と、シリコーンゴム製の第１流路シート２０、ポアチップ支持シート５０、及び第２流路シート７０と、予備実施例１で調製したシリコーンゴム原料成分組成物を用いた第１親水性シート３０及び第２親水性シート６０とを、作製した。これらはすべて透明であった。

　カバーシート１０及び基板シート８０をエタノールで洗浄した。カバーシート１０のうち第１流路シート２０に対向することとなる面と、基板シート８０のうち第２流路シート７０に対向することとなる面とに、コロナ放電表面改質装置（信光電気計装株式会社製、製品名；コロナスキャナー）を用いて、ギャップ長１ｍｍ、電圧１３．５ｋＶ、７０ｍｍ／秒の条件で３回のコロナ放電処理を施し、その表面を活性化した。両シート１０，８０を、シランカップリング剤（東レ・ダウコーニング株式会社製、製品名；ＸＩＡＭＥＴＥＲＯＦＳ－６０２０ＳＩＬＡＮＥ）の０．１質量％エタノール溶液に浸漬し、エアーガンで風乾により乾燥させた。さらに、庫内を８０℃としたオーブンに入れ、３０分間加熱した。次いで第１流路シート２０、第１親水性シート３０、ポアチップ４０、ポアチップ支持シート５０、第２親水性シート６０、及び第２流路シート７０に、エキシマＵＶ処理（照射強度：６００ｍＪ／ｃｍ^２）を施した。

　基材シート８０、第２流路シート７０、第２親水性シート６０、及びポアチップ支持シート５０を、下から上へこの順に重ねた。ポアチップ支持シート５０に開けられたポアチップ支持穴５３にポアチップ４０を嵌めた。次いで、ポアチップ支持シート５０の上に、第１親水性シート３０、第１流路シート２０、及びカバーシート１０をこの順に重ねた。積層した全シート１０，２０，３０，５０，６０，７０，８０を８０℃雰囲気で１０分間、１０ｋｇｆの荷重を印加して加熱圧着した。それにより実施例１の粒子測定モジュール１を得た。実施例１の粒子測定モジュール１における第１流路２３の底部２３_bottom及び第２流路７３の天井部７３_ceilingは、親水性基含有シリコーン系化合物を含んでいるシリコーンゴム製の第１及び第２親水性シートで形成されていることによりそれが露出しており、かつ乾式処理が施された乾式処理部となっていた。

　粒子測定モジュール１を、温度２１℃程度で相対湿度６０ＲＨ％程度のクリーンルーム環境下で、９０日間放置した。第１電極配置部２１ａに達するように、陽極を第１電極挿脱口１１ａから粒子測定モジュール１へ挿入した。また第２電極配置部７２ａに達するように、陰極を第２電極挿脱口１２ａから粒子測定モジュール１へ挿入した。１倍濃度リン酸緩衝電解溶液（１×ＰＢＳ溶液）を、０．１μＬ／秒の流速で第１注入孔１１ｂから第１流路２３へ、０．５μＬ／秒の流速で第２注入孔１２ｂから第２流路７３へ、夫々注入した。この注入に、マイクロピペットを用いた。リン酸緩衝電解溶液が第１及び第２注入孔１１ｂ，１２ｂの開口に達するまで注入を継続した。このときのポアチップ４０のファンネル４１ａの様子を、これの直上からカバーシート１０を介して撮影した。撮影された写真を図５（ａ）に示す。同図から分かるように、写真の中心部で白く視認される細孔４２ａから、截頭四角錐をなしたファンネル４１ａの四辺が放射状に観察された。泡のような気泡を観察できなかった。

　次いで陽極・陰極間に電圧を印加し、ＬＣＲメーターによって両電極間におけるバックグラウンドのインピーダンスを測定したところ、ほぼ一定の値を安定して示した。このことから、図５（ａ）の写真の通り、ポアチップ４０のファンネル４１ａ及び細孔４２ａに気泡が残存していないことが確認できた。

（実施例２）
　実施例１の第１及び第２親水性シート３０，６０として、親水性基含有化合物を非含有のシリコーンゴムを用いたこと、並びに加熱圧着条件を４０℃雰囲気で１５分間、１０ｋｇｆの荷重としたこと以外は、実施例１と同様に操作して実施例２の粒子測定モジュール１を作製した。この実施例２の粒子測定モジュール１において、底部２３_bottom及び天井部７３_ceilingは、乾式処理が施された乾式処理部となっていた。

　粒子測定モジュール１を放置せず、作製後1時間以内に、実施例１と同様に操作して電極の挿入、リン酸緩衝電解溶液の注入を行ってからインピーダンスを測定したところ、ほぼ一定の値を安定して示した。このことから、ポアチップ４０のファンネル４１ａ及び細孔４２ａに気泡が残存していないことが分かった。

（実施例３）
　実施例２と同様に操作して実施例３の粒子測定モジュール１を作製した。この粒子測定モジュール１を作製後１時間以内に、イオン交換水を０．１μＬ／秒の流速で第１注入孔１１ｂから第１流路２３へ、０．５μＬ／秒の流速で第２注入孔１２ｂから第２流路７３へ、夫々注入した。それによって、第１電極配置部２１ａ、第１流路２３、貫通孔３３、ファンネル４１ａ、細孔４２ａ、貫通孔６３、第２電極配置部７２ａ、及び第２流路７３をイオン交換水で満たした。次いで、粘着テープで第１及び第２開口１１，１２のすべてを塞ぎ、温度２１℃程度かつ相対湿度６０ＲＨ％程度のクリーンルーム環境下で、３０日間放置した。その後、第１電極配置部２１ａ、第１流路２３、貫通孔３３、ファンネル４１ａ、細孔４２ａ、貫通孔６３、第２電極配置部７２ａ、及び第２流路７３内のイオン交換水をリン酸緩衝電解溶液に置換し、実施例１と同様に操作して電極の挿入、リン酸緩衝電解溶液の注入を行ってからインピーダンスを測定したところ、ほぼ一定の値を安定して示した。このことから、ポアチップ４０のファンネル４１ａ及び細孔４２ａに気泡が残存していないことが分かった。

（比較例１）
　実施例２と同様に操作して比較例１の粒子測定モジュールを作製した。この粒子測定モジュールを、温度２１℃程度で相対湿度６０ＲＨ％程度のクリーンルーム環境下で、１４日間放置した。その後、実施例１と同様に操作して電極の挿入、リン酸緩衝電解溶液の注入を行ってから、ファンネル４１ａの様子を、撮影した。撮影された写真を図５（ｂ）に示す。同図から分かるように、写真の中心部で白く視認される細孔４２ａを取り囲んだ、透明に光った気泡を観察できた。次いで、インピーダンスを測定したところ値は無限大となり、インピーダンスを測定できなかった。これは、細孔４２ａに気泡が残存していることの所為で、電極間で導通されていなかったことが原因であった。

（実施例４）
　図１に示すポリカーボネート樹脂製のカバーシート１０及び基板シート８０と、シリコーンゴム製の第１流路シート２０、ポアチップ支持シート５０、及び第２流路シート７０とを、作製した。また第１親水性シート３０及び第２親水性シート６０となる第１シリコーンゴムシート３１及び第２シリコーンゴムシート６１を夫々作製した。

　まず、第１シリコーンゴムシート３１のうちポアチップ支持シート５０に対向することとなる面、直径３００ｎｍの細孔４２ａを有するＳｉポアチップ４０の両面、ポアチップ支持シート５０の両面、及び第２シリコーンゴムシート６１のうちポアチップ支持シート５０に対向することとなる面に、実施例１と同様に操作してコロナ放電処理を施し、その表面を活性化した。それにより第１シリコーンゴムシート３１及び第２シリコーンゴムシート６１の表面を親水化し、第１シリコーンゴムシート３１及び第２シリコーンゴムシート６１を夫々第１親水性シート３０及び第２親水性シート６０とした。ポアチップ支持シート５０に開けられたポアチップ支持穴５３にポアチップ４０を嵌め、各シート３０，５０，６０をこの順に重ねた。これに１０ｋｇｆの荷重を印加して、８０℃雰囲気で１０分間加熱圧着し、シート３０，５０，６０積層品を得た。

　次に、カバーシート１０及び基板シート８０をエタノールで洗浄した。カバーシート１０のうち第１流路シート２０に対向することとなる面と、基板シート８０のうち第２流路シート７０に対向することとなる面とに、実施例１と同様に操作してコロナ放電処理を施し、その表面を活性化した。両シート１０，８０を、シランカップリング剤（東レ・ダウコーニング株式会社製、製品名；ＸＩＡＭＥＴＥＲＯＦＳ－６０２０ＳＩＬＡＮＥ）の０．１質量％エタノール溶液に浸漬し、エアーガンで風乾により乾燥させた。さらに、庫内を８０℃としたオーブンに入れ、３０分間加熱した。

　さらに、第１流路シート２０のうちカバーシート１０に対向することとなる面、及び第２流路シート７０のうち基板シート８０に対向することとなる面に、実施例１と同様に操作してコロナ放電処理を施し、それらの表面を活性化した。第１流路シート２０及びカバーシート１０、並びに第２流路シート７０及び基板シート８０を夫々重ね合わせ、それらに１０ｋｇｆの荷重を印加して、８０℃雰囲気で１０分間加熱圧着し、シート１０，２０積層品と、シート７０，８０積層品とを、夫々得た。

　シート３０，４０，５０，６０積層品のうち、第１流路シート２０に対向することとなる面及び第２流路シート７０に対向することとなる面とに、実施例１と同様に操作してコロナ放電処理を施し、その表面を活性化した。これらの面に、第１流路２３及び第２流路７３の外形にくり抜いたＰＥＴフィルムを密着させてマスキングを施した。そこへ、親水性基含有シリコーン化合物（東レ・ダウコーニング社製、商品名；ＴＩ－２０１１）の０．０５質量％エタノール溶液を噴霧してこれを付した後、乾燥した。それにより第１親水性シート３０及び第２親水性シート６０のうち、底部２３_bottom及び天井部７３_ceilingをさらに親水化した。マスキング用ＰＥＴフィルムを除去し、シート３０，５０，６０積層品のうち第１親水性シート３０の上面及び第２親水性シート６０の下面に、シート１０，２０の積層品及びシート７０，８０の積層品を夫々重ね、これらに１０ｋｇｆの荷重を印加して、８０℃雰囲気で１０分間加熱圧着した。それにより実施例４の粒子測定モジュール１を得た。

　実施例４の粒子測定モジュール１を、温度２１℃程度で相対湿度６０ＲＨ％程度のクリーンルーム環境下で、７日間放置した。実施例１と同様に操作して、陽極及び陰極を粒子測定モジュール１へ挿入し、ＰＢＳ溶液を第１流路２３及び第２流路７３へ注入した。注入後のポアチップ４０の様子を実施例１と同様にして観察した。細孔４２ａから、截頭四角錐をなしたファンネル４１ａの四辺が放射状に観察された。泡のような気泡を観察できなかった。

　次いで陽極・陰極間に電圧を印加し、ＬＣＲメーターによって両電極間におけるバックグラウンドのインピーダンスを測定したところ、２．８ＭΩの一定の値を安定して示した。このことから、ポアチップ４０のファンネル４１ａ及び細孔４２ａに気泡が残存していないことが確認できた。

　（実施例５）
　図１に示すポリカーボネート樹脂製のカバーシート１０及び基板シート８０と、シリコーンゴム製の第１流路シート２０、ポアチップ支持シート５０、及び第２流路シート７０とを、作製した。また第１親水性シート３０及び第２親水性シート６０となる第１シリコーンゴムシート３１及び第２シリコーンゴムシート６１を夫々作製した。

　カバーシート１０及び基板シート８０をエタノールで洗浄した。カバーシート１０のうち第１流路シート２０に対向することとなる面と、基板シート８０のうち第２流路シート７０に対向することとなる面とに、コロナ放電表面改質装置（信光電気計装株式会社製、製品名；コロナスキャナー）を用いて、ギャップ長１ｍｍ、電圧１３．５ｋＶ、７０ｍｍ／秒の条件で３回のコロナ放電処理を施し、その表面を活性化した。両シート１０，８０を、シランカップリング剤（東レ・ダウコーニング株式会社製、製品名；ＸＩＡＭＥＴＥＲＯＦＳ－６０２０ＳＩＬＡＮＥ）の０．１質量％エタノール溶液に浸漬し、エアーガンで風乾により乾燥させた。さらに、庫内を８０℃としたオーブンに入れ、３０分間加熱した。次いで第１流路シート２０、第１シリコーンゴムシート３１、ポアチップ支持シート５０、第２シリコーンゴムシート６１、及び第２流路シート７０、直径３００ｎｍの細孔４２ａを有するＳｉポアチップ４０に、コロナ放電表面改質装置（信光電気計装株式会社製、製品名；コロナスキャナー）を用いて、ギャップ長１ｍｍ、電圧１３．５ｋＶ、７０ｍｍ／秒の条件で３回のコロナ放電処理を施し、その表面を活性化した。それにより第１シリコーンゴムシート３１及び第２シリコーンゴムシート６１の表面を親水化し、第１シリコーンゴムシート３１及び第２シリコーンゴムシート６１を夫々第１親水性シート３０及び第２親水性シート６０とした。

　基材シート８０、第２流路シート７０、第２親水性シート６０、及びポアチップ支持シート５０を、下から上へこの順に重ねた。ポアチップ支持シート５０に開けられたポアチップ支持穴５３にポアチップ４０を嵌めた。次いで、ポアチップ支持シート５０の上に、第１親水性シート３０、第１流路シート２０、及びカバーシート１０をこの順に重ねた。積層した全シート１０，２０，３０，５０，６０，７０，８０を８０℃雰囲気で１０分間、１０ｋｇｆの荷重を印加して加熱圧着した。それにより実施例５の粒子測定モジュール１を得た。

　実施例５の粒子測定モジュール１を、温度２１℃程度で相対湿度６０ＲＨ％程度のクリーンルーム環境下で、７日間放置した。実施例１と同様に操作して、陽極及び陰極を粒子測定モジュール１へ挿入し、界面活性剤として０．１質量％のＴｗｅｅｎ２０（ポリソルベート２０、関東化学株式会社製）を添加したＰＢＳ溶液を第１流路２３及び第２流路７３へ注入した。注入後のポアチップ４０の様子を実施例１と同様にして観察した。細孔４２ａから、截頭四角錐をなしたファンネル４１ａの四辺が放射状に観察された。泡のような気泡を観察できなかった。次いで陽極・陰極間に電圧を印加し、ＬＣＲメーターによって両電極間におけるバックグラウンドのインピーダンスを測定したところ、２．８ＭΩの一定の値を安定して示した。このことから、ポアチップ４０のファンネル４１ａ及び細孔４２ａに気泡が残存していないことが確認できた。

（実施例６）
　実施例５と同様に操作して実施例６の粒子測定モジュールを得た。界面活性剤であるＴｗｅｅｎ２０の０．１質量％エタノール溶液を調製し、界面活性剤含有溶液を得た。この界面活性剤含有溶液を第１注入孔１１ｂから注入して、第１流路２３をこれで満たした。その後第１注入孔１１ｂから空気を導入してこの溶液を排出した。温度２１℃程度で相対湿度６０ＲＨ％程度のクリーンルーム環境下で、７日間放置した。実施例１と同様に操作して、陽極及び陰極を粒子測定モジュール１へ挿入し、ＰＢＳ溶液を第１流路２３及び第２流路７３へ注入した。注入後のポアチップ４０の様子を実施例１と同様にして観察した。細孔４２ａから、截頭四角錐をなしたファンネル４１ａの四辺が放射状に観察された。泡のような気泡を観察できなかった。

　本発明の粒子測定モジュールは、微粒子の形、粒径、及び粒径分布を測定するのに用いられる。

　１は粒子測定モジュール、１０はカバーシート、１１は第１開口、１１ａは第１電極挿脱口、１１ｂは第１注入孔、１２は第２開口、１２ａは第２電極挿脱口、１２ｂは第２注入孔、２０は第１流路シート、２１ａは第１電極配置部、２１ｂは第１流路末端部、２２ａ，２２ｂは貫通孔、２３は第１流路、２３_bottomは底部、３０は第１親水性シート、３０ａは上面、３１は第１シリコーンゴムシート、３２ａ，３２ｂ，３３は貫通孔、４０はポアチップ、４１はブロック部、４１ａはファンネル、４２は薄膜部、４２ａは細孔、５０はポアチップ支持シート、５２ａ，５２ｂは貫通孔、５３はポアチップ支持穴、６０は第２親水性シート、６０ｂは下面、６１は第２シリコーンゴムシート、６２ａ，６２ｂ，６３は貫通孔、７０は第２流路シート、７２ａは第２電極配置部、７２ｂは第２流路末端部、７３は第２流路、７３_ceilingは天井部、８０は基板シート、１００は電解溶液である。

Claims

　第１流路とこれに少なくとも一部で重なった第２流路とが、ポアチップに開けられた細孔でのみ連通しており、
　前記第１流路の底部と前記第２流路の天井部との少なくとも一方が、ＵＶ処理部、エキシマＵＶ処理部、コロナ放電処理部、プラズマ処理部、電子線処理部、及びγ線処理部から選ばれる少なくとも一つの乾式処理部であることを特徴とする粒子測定モジュール。
　前記第１流路及び／又は前記第２流路が、親水性を有していることを特徴とする請求項１に記載の粒子測定モジュール。
　前記第１流路及び前記第２流路を夫々有している第１流路シート及び第２流路シートと、
　前記ポアチップを嵌め込んで支持しているポアチップ支持シートと、
　前記第１流路シートと前記ポアチップ支持シートとに挟まれていることによって前記底部を形成している第１親水性シートと、
　前記第２流路シートと前記ポアチップ支持シートとに挟まれていることによって前記天井部を形成している第２親水性シートとを、
有していることを特徴とする請求項１に記載の粒子測定モジュール。
　前記底部及び前記天井部の少なくとも一方で親水性基含有化合物が露出しており、前記親水性基含有化合物が、親水性基含有シリコーン系化合物及び親水性基含有アクリル系化合物から選ばれる少なくとも一つであることを特徴とする請求項３に記載の粒子測定モジュール。
　前記第１親水性シート及び／又は前記第２親水性シートが前記親水性基含有化合物を含んでいることにより前記親水性基含有化合物が露出していることを特徴とする請求項４に記載の粒子測定モジュール。
　前記第１親水性シート及び前記第２親水性シートがシリコーンゴム製であり、前記シリコーンゴム１００質量部に対して、前記親水性基含有化合物０．１～３０質量部が、配合されていることを特徴とする請求項５に記載の粒子測定モジュール。
　前記底部及び前記天井部の少なくとも一方に、前記親水性基含有化合物が付されていることにより前記親水性基含有化合物が露出していることを特徴とする請求項４に記載の粒子測定モジュール。
　前記第１流路及び／又は前記第２流路に液体が充填されていることを特徴とする請求項１に記載の粒子測定モジュール。
　前記液体が、水、電解溶液、界面活性剤含有溶液、親水性基含有シリコーン系化合物含有溶液、及び親水性基含有アクリル系化合物含有溶液から選ばれる少なくとも一つであることを特徴とする請求項８に記載の粒子測定モジュール。
　前記底部及び前記天井部における水との接触角が、最大で５０°であることを特徴とする請求項１に記載の粒子測定モジュール。
　前記第１流路の末端及び前記第２流路の末端が、液体注排出用及び／又は電極挿脱用の第１開口及び第２開口に夫々繋がっていることを特徴とする請求項１に記載の粒子測定モジュール。
　前記ポアチップが、截頭錐形に窪んだファンネルを有するブロック部及び前記截頭錐形と同軸上に開けられた前記細孔を、有していることを特徴とする請求項１に記載の粒子測定モジュール。
　請求項１に記載の粒子測定モジュールの使用方法であって、前記第１流路及び／又は前記第２流路に、測定対象粒子を含む液体試料を充填することを特徴とする粒子測定モジュールの使用方法。
　ＵＶ処理、エキシマＵＶ処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線処理、及びγ線処理から選ばれる少なくとも一つの乾式処理を、第１流路の底部と第２流路の天井部との少なくとも一方に施してこれらの表面に反応性活性基を生成する乾式処理工程と、
　前記第１流路と前記第２流路とを、ポアチップに開けられた細孔でのみ連通させつつ、少なくとも一部で重ねて接合する接合工程とを、
有していることを特徴とする粒子測定モジュールの製造方法。
　前記乾式処理工程によって及び／又は前記乾式処理工程の前、後、若しくは途中で親水化処理を施すことによって、前記第１流路及び／又は前記第２流路に親水性を付与する操作工程を有していることを特徴とする請求項１４に記載の粒子測定モジュールの製造方法。
　第１流路シートを貫通して及び／又は凹ませて前記第１流路を形成し、第２流路シートを貫通して及び／又は凹ませて前記第２流路を形成する流路形成工程と、
　ポアチップ支持シートに、貫通した細孔を有するポアチップを嵌め込んで支持するポアチップ支持穴を開けるポアチップ支持穴形成工程と、
　前記第１流路の底部を形成する第１親水性シート、及び前記第２流路の天井部を形成する第２親水性シートの夫々に、前記細孔に対応する貫通孔を開ける貫通孔形成工程と、
　前記乾式処理を、前記第１流路シート、前記第２流路シート、前記ポアチップ支持シート、前記第１親水性シート、及び前記第２親水性シートに施す前記乾式処理工程と、
　前記ポアチップ支持穴に前記ポアチップを嵌め込みつつ、前記第１流路シート、前記第２流路シート、前記ポアチップ支持シート、前記第１親水性シート、及び前記第２親水性シートを重ねて、前記反応性活性基を介した分子接合により一体化することを特徴とする前記接合工程とを、
有していることを特徴とする請求項１４に記載の粒子測定モジュールの製造方法。
　シート原料樹脂に、親水性基含有シリコーン系化合物及び親水性基含有アクリル系化合物から選ばれる少なくとも一つの親水性基含有化合物を含ませて、前記第１親水性シート及び／又は前記第２親水性シートを形成する工程を有していることを特徴とする請求項１６に記載の粒子測定モジュールの製造方法。
　前記底部及び／又は前記天井部に、親水性基含有シリコーン系化合物及び親水性基含有アクリル系化合物から選ばれる少なくとも一つの親水性基含有化合物を付す工程を、前記接合工程の前に有していることを特徴とする請求項１４に記載の粒子測定モジュールの製造方法。
　前記第１流路及び／又は前記第２流路に液体を充填する工程を有していることを特徴とする請求項１４に記載の粒子測定モジュールの製造方法。
　前記液体が、水、電解溶液、界面活性剤含有溶液、親水性基含有シリコーン系化合物含有溶液、及び親水性基含有アクリル系化合物含有溶液から選ばれる少なくとも一つであることを特徴とする請求項１９に記載の粒子測定モジュールの製造方法。
　前記液体を除去する工程を、前記液体を充填する工程の後に有していることを特徴とする請求項１９に記載の粒子測定モジュールの製造方法。