WO2021029249A1 - 電波吸収性組成物および電波吸収体 - Google Patents

電波吸収性組成物および電波吸収体 Download PDF

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WO2021029249A1
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radio wave
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中井 義博
橋本 浩一
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富士フイルム株式会社
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    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01GCOMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G49/00Compounds of iron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K9/00Use of pretreated ingredients
    • C08K9/04Ingredients treated with organic substances
    • C08K9/06Ingredients treated with organic substances with silicon-containing compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L101/00Compositions of unspecified macromolecular compounds
    • C08L101/12Compositions of unspecified macromolecular compounds characterised by physical features, e.g. anisotropy, viscosity or electrical conductivity
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
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    • H01F1/37Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials non-metallic substances, e.g. ferrites in the form of particles in a bonding agent
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K9/00Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields

Definitions

  • the present invention relates to a radio wave absorbing composition and a radio wave absorber.
  • radio wave absorber a material containing magnetic powder is known as a radio wave absorbing material. Further, examples of the radio wave absorber containing the magnetic powder include a radio wave absorber in which the magnetic powder and the binder are mixed (see Patent Documents 1 to 3).
  • JP-A-2002-280207 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-260766 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-9977
  • an in-vehicle radar transmits radio waves and recognizes the existence of the object, the distance to the object, etc. by receiving the radio waves reflected by the object (pedestrian, vehicle, etc.). be able to.
  • the automatic driving control system of the car automatically applies the brakes to stop the car or to stop the car based on the result of the radar recognizing the object, if necessary. The speed can be controlled automatically to keep the distance.
  • the radio wave absorber In order to improve the reliability of the system that performs various controls based on the results recognized by the radar as described above, it is desirable to improve the performance of the radar. Therefore, in recent years, it has begun to be studied to install a radio wave absorber on the front side (the incident side of the radio wave incident from the outside) of the radio wave transmission / reception unit of the radar to improve the recognition accuracy. In order to improve the recognition accuracy, the radio wave absorber is required to have excellent radio wave absorption performance. Further, it is desirable that the radio wave absorber has excellent wear resistance from the viewpoint of suppressing deterioration of the article in which the radio wave absorber is incorporated due to wear.
  • the radio wave absorber may be incorporated into the article using an adhesive (for example, laminated with an adhesive layer). Therefore, it is desirable that the radio wave absorber has excellent adhesiveness in order to prevent the radio wave absorber from peeling off from the article.
  • one aspect of the present invention is to provide a radio wave absorber having excellent radio wave absorption performance, abrasion resistance and adhesiveness.
  • the present inventors surface-treated the radio wave absorber containing the magnetic powder and the binder as the magnetic powder with the surface treatment agent described in detail below. It has been newly found that a radio wave absorber having excellent radio wave absorption performance, abrasion resistance and adhesiveness can be obtained by using the substituted hexagonal ferrite powder.
  • a radio wave absorbing composition containing a magnetic powder and a binder.
  • the magnetic powder is a substituted hexagonal ferrite powder surface-treated with a surface treatment agent, and the surface treatment agent is a silicon-based compound represented by the following general formula 2 and represented by the following general formula 3.
  • a radio wave absorbing composition which is one or more compounds selected from the group consisting of a zirconium-based compound and an aluminum-based compound represented by the following general formula 4. Regarding.
  • one aspect of the present invention is A radio wave absorber containing magnetic powder and a binder
  • the magnetic powder is a substituted hexagonal ferrite powder surface-treated with a surface treatment agent
  • the surface treatment agent is a silicon-based compound represented by the following general formula 2 and represented by the following general formula 3.
  • a radio wave absorber which is one or more compounds selected from the group consisting of a zirconium-based compound and an aluminum-based compound represented by the following general formula 4. Regarding.
  • X is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an alicyclic group, a heterocyclic group, an amino group, a mercapto group, a hydroxy group, an acrylamide group, a sulfanyl group, an isocyanate group, a thiocyanate group, a ureido group, a cyano group, Represents an acid anhydride group, an azide group, a carboxy group, an acyl group, a thiocarbamoyl group, a phosphoric acid group, a phosphanyl group, a sulfonic acid group or a sulfamoyl group.
  • L is 2 of one selected from the group consisting of a single bond, an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, an arylene group, -O-, -S-, -NR c- , a carbonyl bond, a thiocarbonyl bond and a sulfonyl group.
  • R c represents a hydrogen atom or a substituent and represents Z represents a hydroxy group, an alkoxy group or an alkyl group.
  • m is an integer in the range of 1 to 3.
  • R 31 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an acyl group, an aryl group or an unsaturated aliphatic group.
  • R 32 represents ⁇ OR 33 , an acetonato structure or an acetylate structure.
  • R 33 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an acyl group, an alkenyl group, an aryl group, a phosphonate group or -SO 2 RS3
  • R S3 represents a substituent.
  • n3 is an integer in the range 0-3;
  • R 41 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an acyl group, an aryl group or an unsaturated aliphatic group.
  • R 42 represents ⁇ OR 43 , acetonate or acetylate structure
  • R 43 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an acyl group, an alkenyl group, an aryl group, a phosphonate group or -SO 2 R S4
  • R S4 represents a substituent.
  • n4 is an integer in the range 0-2.
  • the radio wave absorber can be a molded product obtained by molding the radio wave absorbing composition.
  • the substituted hexagonal ferrite can have a composition represented by the following general formula 1.
  • General formula 1 AFe (12-x) Al x O 19
  • A represents one or more kinds of atoms selected from the group consisting of Sr, Ba, Ca and Pb, and x satisfies 1.50 or more ⁇ x ⁇ 8.00.
  • the substituted hexagonal ferrite can be a substituted hexagonal strontium ferrite.
  • the surface treatment agent can contain a silicon-based compound represented by the general formula 2, and in the general formula 2, XL has an amino group, a mercapto group, a hydroxy group, an ether group, and a thioether group. , One or more groups selected from the group consisting of a carbonate group, an isocyanate group, a carboxy group and an acid anhydride group can be contained.
  • XL contains one or more groups selected from the group consisting of a hydroxy group, an ether group, a thioether group, a carbonate group, an isocyanate group, a carboxy group and an acid anhydride group. Can be done.
  • X can represent an isocyanate group, a carboxy group or an acid anhydride group.
  • the surface treatment agent can include a zirconium-based compound represented by the general formula 3, in which n3 is 3 and R 32 represents an acetonate structure, or n3 is. It is an integer in the range of 0 to 2, and one or more of R 32 contained in a plurality of in the general formula 3 can represent an acetonato structure.
  • the surface treatment agent can include a zirconium-based compound represented by the general formula 3, in which n3 is 3 and R 32 represents an integer structure, or n3 is. It is an integer in the range of 0 to 2, and one or more of a plurality of R 32 included in the general formula 3 can represent an acetato structure.
  • the surface treatment agent can include an aluminum compound represented by the general formula 4, in which n4 is 2 and R 42 represents an acetonate structure, or n4 is.
  • R 42 which is 0 or 1 and is included in a plurality of in the general formula 4, can represent an acetonato structure.
  • the surface treatment agent may contain an aluminum compound represented by the general formula 4, in which n4 is 2 and R 42 represents an acetato structure, or n4 is.
  • R 42 which is 0 or 1 and is included in a plurality of in the general formula 4, can represent an acetato structure.
  • the binder can be one or more resins selected from the group consisting of polyurethane resin, ethylene-vinyl alcohol resin, ionomer resin, polyacetal resin, polybutadiene resin and polyphenylene ether resin.
  • the binder can be one or more resins selected from the group consisting of polyurethane resins, ionomer resins, polybutadiene resins and polyphenylene ether resins.
  • the binder may contain one or more polyurethane resins selected from the group consisting of caprolactone-based polyurethane resins, polyether-based polyurethane resins, and polycarbonate-based polyurethane resins.
  • a radio wave absorber having excellent radio wave absorbing performance, abrasion resistance and adhesiveness, and a radio wave absorbing composition that can be used for manufacturing the radio wave absorber.
  • Radio-absorbing composition, radio wave absorber One aspect of the present invention relates to a radio wave absorbing composition containing a magnetic powder and a binder.
  • the magnetic powder is a substituted hexagonal ferrite powder surface-treated with a surface treatment agent described in detail below.
  • one aspect of the present invention relates to a radio wave absorber containing a magnetic powder and a binder.
  • the magnetic powder is a substituted hexagonal ferrite powder surface-treated with a surface treatment agent described in detail below.
  • radio wave means an electromagnetic wave having a frequency of 3 terahertz (THz) or less.
  • the radio wave absorber and the composition used in the production of the radio wave absorber have radio wave absorbing properties.
  • the radio wave absorption can be evaluated by, for example, the transmission attenuation and / or the reflection attenuation, and the higher the transmission attenuation value, the higher the reflection attenuation value, or the transmission attenuation value and the reflection attenuation. It can be said that the higher the amount value, the better the radio wave absorption.
  • binder means an aggregate of a plurality of particles.
  • the “aggregation” is not limited to the mode in which the particles constituting the set are in direct contact with each other, and also includes a mode in which a binder or the like is interposed between the particles.
  • the radio wave absorbing composition and the radio wave absorber include, as magnetic powder, a powder of a substituted hexagonal ferrite surface-treated with a surface treatment agent described in detail below.
  • the substituted hexagonal ferrite powder surface-treated with the surface treatment agent can also be said to be the substituted hexagonal ferrite powder coated with the surface treatment agent.
  • the substituted hexagonal ferrite powder surface-treated with a surface treatment agent at least a part of the surface of at least a part of the particles constituting the powder is coated with the surface treatment agent.
  • the radio wave absorber contains the magnetic powder surface-treated with the surface treatment agent by analyzing the section sample cut out from the radio wave absorber by a known method.
  • the magnetic powder is collected from the radio wave absorber or the radio wave absorbing composition by a known method, and the collected magnetic powder is analyzed by a known method such as mass spectrometry or gas chromatography for confirmation. Can be done.
  • the magnetic powder is a substituted hexagonal ferrite powder surface-treated with a surface treatment agent described in detail below.
  • the "hexagonal ferrite powder” refers to a magnetic powder in which a hexagonal ferrite type crystal structure is detected as the main phase by X-ray diffraction analysis.
  • the main phase refers to a structure to which the highest intensity diffraction peak belongs in the X-ray diffraction spectrum obtained by X-ray diffraction analysis.
  • the hexagonal ferrite type crystal structure contains at least iron atoms, divalent metal atoms and oxygen atoms as constituent atoms. In the unsubstituted hexagonal ferrite, the only atoms constituting the crystal structure of the hexagonal ferrite are iron atom, divalent metal atom and oxygen atom.
  • the substituted hexagonal ferrite contains one or more other atoms together with an iron atom, a divalent metal atom and an oxygen atom as atoms constituting the crystal structure of the hexagonal ferrite.
  • This one or more other atoms are usually atoms that replace a part of iron in the crystal structure of hexagonal ferrite.
  • the divalent metal atom is a metal atom that can be a divalent cation as an ion, and examples thereof include an alkaline earth metal atom such as a strontium atom, a barium atom, and a calcium atom, and a lead atom.
  • the "powder of hexagonal strontium ferrite” means that the main divalent metal atom contained in the crystal structure of hexagonal ferrite is a strontium atom.
  • the main divalent metal atom refers to the divalent metal atom that occupies the largest amount on an atomic% basis among the divalent metal atoms contained in the crystal structure of hexagonal ferrite.
  • rare earth atoms are not included in the above divalent metal atoms.
  • the "rare earth atom” in the present invention and the present specification is selected from the group consisting of a scandium atom (Sc), a yttrium atom (Y), and a lanthanoid atom.
  • the lanthanoid atoms are lanthanum atom (La), cerium atom (Ce), placeodium atom (Pr), neodymium atom (Nd), promethium atom (Pm), samarium atom (Sm), uropyum atom (Eu), gadolinium atom (Gd) ), Terbium atom (Tb), dysprosium atom (Dy), formium atom (Ho), elbium atom (Er), thulium atom (Tm), ytterbium atom (Yb), and lutetium atom (Lu).
  • La lanthanum atom
  • Ce cerium atom
  • Pr placeodium atom
  • Nd neodymium atom
  • promethium atom Pm
  • Sm samarium atom
  • Eu gadolinium atom
  • Tb Terbium atom
  • Dy dysprosium atom
  • Ho formium atom
  • Substitution type hexagonal ferrite contains one or more other atoms as well as iron atom, divalent metal atom and oxygen atom as atoms constituting the crystal structure of hexagonal ferrite.
  • Such atoms include one or more trivalent metal atoms selected from the group consisting of Al, Ga and In, and combinations of divalent and tetravalent metal atoms such as Mn and Ti, Co and Ti, Zn and Ti. be able to.
  • the substituted hexagonal ferrite can preferably be a substituted hexagonal strontium ferrite.
  • the magnetic powder may be a magnetoplumbite-type (generally referred to as "M-type") substituted hexagonal ferrite powder surface-treated with a surface treatment agent described in detail below. it can.
  • the magnetoplumbite-type hexagonal ferrite has a composition represented by the composition formula: AFe 12 O 19 when it does not contain an atom that replaces iron.
  • A can represent at least one atom selected from the group consisting of Sr, Ba, Ca and Pb, and includes an embodiment in which two or more of these atoms are contained in an arbitrary ratio.
  • a substituted magnetoplumbite-type hexagonal ferrite in which a part of iron atoms of the magnetoplumbite-type hexagonal ferrite is replaced with an aluminum atom can be mentioned.
  • a substituted hexagonal ferrite having a composition represented by the following general formula 1 can be mentioned.
  • A represents one or more kinds of atoms (hereinafter, also referred to as “A atom”) selected from the group consisting of Sr, Ba, Ca and Pb, and may be only one kind. Two or more kinds may be contained in an arbitrary ratio, and it is preferable that only one kind is contained from the viewpoint of improving the uniformity of the composition between the particles constituting the powder. From the viewpoint of radio wave absorption performance in the high frequency band, A in the formula 1 is preferably one or more atoms selected from the group consisting of Sr, Ba and Ca, and more preferably Sr.
  • x satisfies 1.50 ⁇ x ⁇ 8.00.
  • x is 1.50 or more, more preferably 1.50 or more, further preferably 2.00 or more, and more than 2.00. Is more preferable.
  • x is 8.00 or less, preferably less than 8.00, more preferably 6.00 or less, and more preferably less than 6.00.
  • magnetoplumbite-type substituted hexagonal ferrite represented by the formula 1 include SrFe (9.58) Al (2.42) O 19 , SrFe (9.37) Al (2.63) O. 19 , SrFe (9.27) Al (2.73) O 19 , SrFe (9.85) Al (2.15) O 19 , SrFe (10.00) Al (2.00) O 19 , SrFe (9) .74) Al (2.26) O 19 , SrFe (10.44) Al (1.56) O 19 , SrFe (9.79) Al (2.21) O 19 , SrFe (9.33) Al ( 2.67) O 19 , SrFe (7.88) Al (4.12) O 19 , SrFe (7.04) Al (4.96) O 19 , SrFe (7.37) Al (4.63) O 19 , SrFe (6.25) Al (5.75) O 19 , SrFe (7.71) Al (4.29) O 19 , Sr (0.80) Ba
  • a substituted hexagonal strontium ferrite having the composition shown in Table 1 described later can also be mentioned.
  • the composition of hexagonal ferrite can be confirmed by high frequency inductively coupled plasma emission spectroscopy.
  • Specific examples of the confirmation method include the methods described in Examples described later.
  • the composition of the magnetic powder contained in the radio wave absorber can be confirmed by performing, for example, energy dispersive X-ray analysis on the exposed cross section. You can also.
  • the substituted hexagonal ferrite powder can have a single phase crystal phase and can include a plurality of crystal phases, preferably the crystal phase is a single phase, and the crystal phase is It is more preferable that the powder is a single-phase magnetoplumbite-type substituted hexagonal ferrite powder.
  • the crystal phase is a single phase
  • the case where "the crystal phase is a single phase” means that only one type of diffraction pattern showing an arbitrary crystal structure is observed in the X-ray diffraction analysis.
  • the X-ray diffraction analysis can be performed, for example, by the method described in Examples described later.
  • a plurality of crystal phases are included, two or more types of diffraction patterns showing an arbitrary crystal structure are observed in the X-ray diffraction analysis.
  • a database of the International Center for Diffraction Data can be referred to.
  • ICDD International Center for Diffraction Data
  • a magnetoplumbite-type hexagonal ferrite containing Sr refers to "00-033-1340" of the International Center for Diffraction Data (ICDD).
  • ICDD International Center for Diffraction Data
  • Examples of the method for producing the powder of the substituted hexagonal ferrite include a solid phase method and a liquid phase method.
  • the solid-phase method is a method for producing hexagonal ferrite powder by calcining a mixture obtained by mixing a plurality of solid raw materials in a dry manner.
  • the liquid phase method includes a step of using a solution.
  • the production method described below is an example, and the production method of the magnetic powder contained in the radio wave absorbing composition and the radio wave absorber is not limited to the following examples.
  • Step 1 of obtaining a precipitate from a solution containing an iron atom, at least one atom selected from the group consisting of Sr, Ba, Ca and Pb, and one or more substitution atoms that replace the iron atom.
  • Step 2 to obtain a calcined body by calcining the precipitate obtained in step 1 and Can be included.
  • each step will be described in detail.
  • a precursor of hexagonal ferrite can be obtained as a precipitate.
  • a hexagonal ferrite powder containing an aluminum atom as a substitution atom that replaces a part of an iron atom an iron atom, an A atom and an aluminum atom can be mixed in a solution.
  • the precipitate obtained in step 1 is iron hydroxide, aluminum hydroxide, a composite hydroxide of an iron atom, an aluminum atom, and an A atom, and the like.
  • the solution for obtaining the precipitate in step 1 is preferably a solution containing at least water, and more preferably an aqueous solution.
  • a precipitate can be produced by mixing an aqueous solution containing various atoms (hereinafter, also referred to as “raw material aqueous solution”) and an alkaline aqueous solution.
  • step 1 can include a step of solid-liquid separation of the precipitate.
  • the raw material aqueous solution can be, for example, an aqueous solution containing an Fe salt, an Al salt and a salt of an A atom.
  • These salts can be, for example, water-soluble inorganic acid salts such as nitrates, sulfates and chlorides.
  • Specific examples of the Fe salts, iron (III) chloride hexahydrate [FeCl 3 ⁇ 6H 2 O], iron (III) nitrate nonahydrate [Fe (NO 3) 3 ⁇ 9H 2 O ] and the like can be mentioned Be done.
  • Al salt aluminum hexahydrate [AlCl 3 ⁇ 6H 2 O] chloride, aluminum nitrate nonahydrate [Al (NO 3) 3 ⁇ 9H 2 O ] and the like.
  • the salt of the A atom can be one or more selected from the group consisting of Sr salt, Ba salt, Ca salt and Pb salt.
  • Sr salt strontium chloride hexahydrate [SrCl 2 ⁇ 6H 2 O], strontium nitrate [Sr (NO 3) 2], strontium acetate hemihydrate [Sr (CH 3 COO) 2 -0.5H 2 O] and the like.
  • Ba salt barium chloride dihydrate [BaCl 2 ⁇ 2H 2 O], barium nitrate [Ba (NO 3) 2], barium acetate [(CH 3 COO) 2 Ba] and the like.
  • Ca salt is calcium chloride dihydrate [CaCl 2 ⁇ 2H 2 O], calcium nitrate tetrahydrate [Ca (NO 3) 2 ⁇ 4H 2 O ], calcium acetate monohydrate [( CH 3 COO) 2 Ca ⁇ H 2 O] and the like.
  • Pb salt include lead (II) chloride [PbCl 2 ], lead (II) nitrate [Pb (NO 3 ) 2 ] and the like.
  • Pb salt include lead (II) chloride [PbCl 2 ], lead (II) nitrate [Pb (NO 3 ) 2 ] and the like.
  • Pb salt include lead (II) chloride [PbCl 2 ], lead (II) nitrate [Pb (NO
  • the alkaline aqueous solution examples include a sodium hydroxide aqueous solution and a potassium hydroxide aqueous solution.
  • the concentration of the alkaline aqueous solution can be, for example, 0.1 mol / L to 10 mol / L.
  • the type and concentration of the alkaline aqueous solution are not limited to the above examples as long as a precipitate can be produced.
  • the raw material aqueous solution and the alkaline aqueous solution may be simply mixed.
  • the total amount of the raw material aqueous solution and the alkaline aqueous solution may be mixed at once, or the raw material aqueous solution and the alkaline aqueous solution may be gradually mixed. Further, it may be mixed while gradually adding the other to either the raw material aqueous solution or the alkaline aqueous solution.
  • the method of mixing the raw material aqueous solution and the alkaline aqueous solution is not particularly limited, and examples thereof include a method of mixing by stirring.
  • the stirring means is not particularly limited, and general stirring means can be used.
  • the stirring time may be set to a time during which a precipitate can be formed, and can be appropriately set according to the composition of the raw material aqueous solution, the type of stirring means used, and the like.
  • the temperature (liquid temperature) when the raw material aqueous solution and the alkaline aqueous solution are mixed is preferably 100 ° C. or lower from the viewpoint of preventing bumping, and 95 ° C. from the viewpoint of satisfactorily advancing the precipitation reaction.
  • the temperature is more preferably 15 ° C. or higher and 92 ° C. or lower.
  • a general heating device, cooling device, or the like can be used as a means for adjusting the temperature.
  • the pH of the aqueous solution obtained by mixing the raw material aqueous solution and the alkaline aqueous solution at a liquid temperature of 25 ° C. is preferably in the range of 5 to 13, preferably in the range of 6 to 12, from the viewpoint of making it easier to obtain a precipitate, for example. Is more preferable.
  • the content of the substituted atom can be controlled by adjusting the pH.
  • the method is not particularly limited, and examples thereof include decantation, centrifugation, and filtration (suction filtration, pressure filtration, etc.).
  • the conditions for centrifugation are not particularly limited, and for example, centrifugation can be performed for 3 to 30 minutes at a rotation speed of 2000 rpm (revolutions per minute) or higher. Further, the centrifugation may be performed a plurality of times.
  • Step 2 is a step of calcining the precipitate obtained in Step 1.
  • the precursor of hexagonal ferrite can be converted to hexagonal ferrite by calcining the precipitate obtained in step 1.
  • Firing can be performed using a heating device.
  • the heating device is not particularly limited, and a known heating device such as an electric furnace, a firing device manufactured according to a production line, or the like can be used. Firing can be performed, for example, in an atmospheric atmosphere.
  • the firing temperature and firing time may be set within a range in which the precursor of hexagonal ferrite can be converted to hexagonal ferrite.
  • the firing temperature is, for example, preferably 900 ° C. or higher, more preferably 900 ° C.
  • the firing time is, for example, preferably in the range of 1 hour to 10 hours, and more preferably in the range of 2 hours to 6 hours.
  • the precipitate obtained in step 1 can be dried before firing.
  • the drying means is not particularly limited, and examples thereof include a dryer such as an oven.
  • the drying temperature is, for example, preferably in the range of 50 ° C. to 200 ° C., and more preferably in the range of 70 ° C. to 150 ° C.
  • the drying time is preferably in the range of, for example, 2 hours to 50 hours, and more preferably in the range of 5 hours to 30 hours.
  • the above firing temperature and drying temperature can be the internal ambient temperature of the apparatus for firing or drying.
  • the fired body obtained in the above step 2 can be a massive fired body or a powder-shaped fired body in which the precursor of hexagonal ferrite is converted to show the crystal structure of hexagonal ferrite.
  • a step of crushing the fired body can also be carried out.
  • the crushing can be performed by a known crushing means such as a mortar and pestle, a crusher (cutter mill, ball mill, bead mill, roller mill, jet mill, hammer mill, attritor, etc.).
  • the particle size of the medium is preferably in the range of 0.1 mm to 5.0 mm, and preferably in the range of 0.5 mm to 3.0 mm. More preferred.
  • media diameter is meant, in the case of spherical media, the arithmetic mean of the diameters of a plurality of randomly selected media (eg, beads).
  • a plurality of randomly selected images obtained from observation images of a transmission electron microscope (TEM; Transmission Electron Microscope) or a scanning electron microscope (SEM). It means the arithmetic average of the circle equivalent diameter of the media.
  • the material of the media include glass, alumina, steel, zirconia, and ceramics.
  • the substituted hexagonal ferrite powder is surface-treated with a surface treatment agent.
  • the surface treatment agent is one or more compounds selected from the group consisting of silicon-based compounds, zirconium-based compounds, and aluminum-based compounds described in detail below.
  • the magnetic powder is obtained by using the substituted hexagonal ferrite powder surface-treated with the surface treatment agent described in detail below as the magnetic powder contained in the radio wave absorber together with the binder. It is possible to increase the compatibility and bonding strength between the constituent particles and the binder, and to prevent the magnetic powder particles from falling off or partially scraping from the radio wave absorber even when subjected to frictional force. It is inferred that it will be. It is considered that this makes it possible to improve the wear resistance of the radio wave absorber.
  • the adhesiveness it is considered that the functional group of the surface treatment agent or the excess surface treatment agent covering the surface of the magnetic powder can chemically bond with the adhesive, which leads to the improvement of the adhesiveness. Be done. However, the above is a speculation and does not limit the present invention.
  • a reactive group is a group that can react with another group or bond and has a structure different from that before the reaction after the reaction.
  • the reactive group may be present in the post-reaction form in a state of being coated with the powder of the substituted hexagonal ferrite after the surface treatment, and such an embodiment is also included in the present invention. ..
  • Silicon-based compound which is a form of the surface treatment agent for the magnetic powder, is a silicon-based compound represented by the following general formula 2.
  • X is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an alicyclic group, a heterocyclic group, an amino group, a mercapto group, a hydroxy group, an acrylamide group, a sulfanyl group, an isocyanate group, a thiocianate group and a ureido.
  • L is 2 of one selected from the group consisting of a single bond, an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, an arylene group, -O-, -S-, -NR c- , a carbonyl bond, a thiocarbonyl bond and a sulfonyl group.
  • R c represents a hydrogen atom or a substituent.
  • Z represents a hydroxy group, an alkoxy group or an alkyl group.
  • m is an integer in the range of 1 to 3.
  • the group represented by X and the group and bond represented by L may have a substituent or may not have (that is, be unsubstituted).
  • substituents include a hydroxy group, a sulfanyl group, a thiocianate group, a ureido group, an acid anhydride group, a carboxy group, an acyl group, a carbamoyl group and the like.
  • the carbon number means the carbon number of a portion other than the substituent.
  • XL- if there is a part that can be understood as both a part contained in X and a part contained in L, such a part is interpreted as a part contained in X. It shall be.
  • the plurality of Xs contained in the general formula 2 can be the same in one form and can be different in the other form. This point is the same for L. The same applies to Z when "4-m" is 2 or 3.
  • the silicon-based compound represented by the general formula 2 also includes the salt form of the compound represented by the general formula 2.
  • the salt form include alkali metal salts such as sodium salt and potassium salt, alkaline earth metal salts such as magnesium salt, and ammonium salts.
  • X is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an alicyclic group, a heterocyclic group, an amino group, a mercapto group, a hydroxy group, an acrylamide group, a sulfanyl group, an isocyanate group, a thiocianate group and a ureido.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group, the alkenyl group, and the aryl group that can be taken as X is preferably in the range of 1 to 30, more preferably in the range of 1 to 25, and in the range of 1 to 20. It is more preferably in the range of 1 to 15.
  • the "alkyl group” shall not include a cycloalkyl group.
  • Alkyl groups include linear alkyl groups and branched alkyl groups.
  • the alicyclic group that can be taken as X may be any of a cycloalkyl group, a cycloalkenyl group and a cycloalkynyl group.
  • the number of carbon atoms of the cycloalkyl group is preferably in the range of 3 to 20, more preferably in the range of 4 to 15, and even more preferably in the range of 5 to 10.
  • the carbon number of each of the cycloalkenyl group and the cycloalkynyl group is preferably in the range of 6 to 20, more preferably in the range of 6 to 15, and further preferably in the range of 6 to 10. , 6 is more preferable.
  • the heterocycle constituting the heterocyclic group that can be taken as X may be a saturated or unsaturated aliphatic heterocycle or an aromatic heterocycle, and may be a monocyclic ring or a condensed ring. It may also be a bridge ring.
  • Examples of the hetero atom contained in the heterocycle include an oxygen atom, a nitrogen atom and a sulfur atom.
  • the number of heteroatoms contained in one heterocycle is not particularly limited, and is preferably 1 to 3, more preferably 1 or 2, for example.
  • the number of carbon atoms in the heterocycle is preferably in the range of 2 to 10, and more preferably 4 or 5.
  • the heterocycle is preferably a 3- to 7-membered ring, more preferably a 3- to 6-membered ring, and even more preferably a 3- to 5-membered ring.
  • Specific examples of the heterocycle include an epoxy ring, a 3,4-epoxycyclohexane ring, a furan ring and a thiophene ring.
  • the amino group that can be taken as X can be a primary amino group, a secondary amino group or a tertiary amino group, and a primary amino group is preferable.
  • the mercapto group is a group consisting of a combination of a hydrogen atom and a sulfide bond (-S-), that is, -SH.
  • a monovalent group having a structure of a carboxylic acid anhydride is preferable, and for example, a maleic anhydride group such as 3,4-dihydro-2,5-frangionyl and a succinic anhydride group. , Glutaric anhydride group, adipic anhydride group and citraconic anhydride group.
  • the number of carbon atoms of the acyl group that can be taken as X is preferably in the range of 1 to 40, more preferably in the range of 1 to 30, further preferably in the range of 1 to 20, and in the range of 2 to 15. Is more preferable.
  • the "acyl group” includes a formyl group, a carbamoyl group, an alkylcarbonyl group, an alkenylcarbonyl group and an arylcarbonyl group.
  • the alkenylcarbonyl group preferably includes a (meth) acryloyl group.
  • the "(meth) acryloyl group” includes an acryloyl group and a methacryloyl group.
  • the alkylene group that can be taken as L may be either a linear alkylene group or a branched alkylene group.
  • the carbon number of the alkylene group is preferably in the range of 1 to 30, more preferably in the range of 1 to 25, further preferably in the range of 1 to 20, and in the range of 1 to 15. Is more preferable.
  • Specific examples of the alkylene group include a methylene group, an ethylene group, an isopropylene group, a butylene group, a pentylene group, a cyclohexylene group, a heptylene group, an octylene group, a nonylene group, a decylene group and an undecylene group.
  • the alkenylene group that can be taken as L may be either a linear alkenylene group or a branched alkenylene group.
  • the carbon number of the alkenylene group is preferably in the range of 2 to 20, more preferably in the range of 2 to 15, further preferably in the range of 2 to 10, and in the range of 2 to 6. Is more preferable.
  • Specific examples of the alkenylene group include an ethenylene group and a propenylene group.
  • the alkynylene group that can be taken as L may be either a linear alkynylene group or a branched alkynylene group.
  • the carbon number of the alkynylene group is preferably in the range of 2 to 20, more preferably in the range of 2 to 15, further preferably in the range of 2 to 10, and in the range of 2 to 6. Is more preferable.
  • Specific examples of the alkynylene group include an ethynylene group and a propynylene group.
  • the carbon number of the arylene group that can be taken as L is preferably in the range of 6 to 20, more preferably in the range of 6 to 15, further preferably in the range of 6 to 12, and in the range of 6 to 10. Is more preferable.
  • Specific examples of the arylene group include a phenylene group and a naphthylene group.
  • R c of ⁇ NR c ⁇ which can be taken as L, an alkyl group (preferably 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms) and an alkenyl group (preferably 2 to 12 carbon atoms) Preferred 2 to 8 carbon atoms), alkynyl group (preferably 2 to 12 carbon atoms, more preferably 2 to 8 carbon atoms), aryl group (preferably 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 10 carbon atoms). And heterocyclic groups.
  • alkyl group preferably 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms
  • an alkenyl group preferably 2 to 12 carbon atoms
  • alkynyl group preferably 2 to 12 carbon atoms, more preferably 2 to 8 carbon atoms
  • aryl group preferably 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 10 carbon atoms.
  • heterocyclic groups preferably 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 10 carbon atoms.
  • Examples of the heterocycle constituting the heterocyclic group that can be adopted as R c include the heterocycle shown above as the heterocycle constituting the heterocyclic group that can be adopted as X, and a preferable heterocyclic group can also be adopted as X. As described for the heterocyclic group.
  • Examples of -NR c- include -NH-.
  • L is two or more selected from the group consisting of a single bond, an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, an arylene group, -O-, -S-, -NR c- , a carbonyl bond, a thiocarbonyl bond and a sulfonyl group.
  • the number of the above-mentioned groups and bonds constituting the combined groups that can be taken as L is It is preferably in the range of 2 to 8, more preferably in the range of 2 to 6, and even more preferably in the range of 2 to 4.
  • the molecular weight of the combined group that can be taken as L is preferably in the range of 20 to 1000, more preferably in the range of 30 to 500, and even more preferably in the range of 40 to 200.
  • Examples of the combined group that can be taken as L include an ester bond, a thioester bond, a carbonate bond, a thiocarbonate bond, an amide bond, a thioamide bond, a urea bond, a thiourea bond, a carbamate group, a sulfonamide bond, and an arylene group-alkylene.
  • the "alkyl group” also includes a cycloalkyl group.
  • the alkyl group constituting the alkoxy group that can be taken as Z may be any of a linear alkyl group, a branched alkyl group and a cycloalkyl group, and may have a combination of these forms.
  • the alkyl group that can be taken as Z is preferably a linear alkyl group.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group constituting the alkoxy group that can be taken as Z is preferably in the range of 1 to 15, more preferably 1 to 10, further preferably 1 to 5, and 1 or 2. Is more preferable.
  • Specific examples of the alkyl group constituting the alkoxy group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a t-butyl group, a pentyl group and a cyclohexyl group.
  • Examples of the alkyl group that can be taken as Z include an alkyl group that constitutes an alkoxy group that can be taken as Z, and the preferred alkyl group is as described for the alkyl group that constitutes an alkoxy group that can be taken as Z.
  • X or L and at least one of Z may be connected to each other to form a ring.
  • the number of ring-constituting atoms in this ring is preferably in the range of 3 to 10, more preferably in the range of 4 to 8, and even more preferably in the range of 5 or 6.
  • one or more groups selected from the group consisting of an amino group, a mercapto group, a hydroxy group, an ether group, a thioether group, a carbonate group, an isocyanate group, a carboxy group and an acid anhydride group are added to XL in the general formula 2. It is preferable to include it.
  • An "ether group” is a group that contains an ether bond (-O-).
  • a “thioether group” is a group containing a sulfide bond (-S-).
  • XL contains one or more groups selected from the group consisting of a hydroxy group, an ether group, a thioether group, a carbonate group, an isocyanate group, a carboxy group and an acid anhydride group. Is preferable.
  • X in the general formula 2 represents an isocyanate group, a carboxy group or an acid anhydride group.
  • L represents an alkylene group, —O—, an ester bond or an amide bond, or a combination of two or more selected from the group consisting of an alkylene group, —O—, an ester bond and an amide bond. More preferably, it is a divalent group or bond.
  • At least two of Z are preferably selected from the group consisting of an alkoxy group and a hydroxy group, and more preferably all Z is selected from the group consisting of an alkoxy group and a hydroxy group.
  • zirconium-based compound which is a form of the surface treatment agent for the magnetic powder, is a zirconium-based compound represented by the following general formula 3.
  • R 31 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an acyl group, an aryl group or an unsaturated aliphatic group.
  • R 32 represents ⁇ OR 33 , an acetonato structure or an acetylate structure.
  • R 33 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an acyl group, an alkenyl group, an aryl group, a phosphonate group or -SO 2 R S3 , and R S3 represents a substituent.
  • n3 is an integer in the range 0-3.
  • n3 is 2 or 3
  • the plurality of R 31s included in the general formula 3 can be the same in one form and can be different in the other form. This point is the same for R 32 when "4-n3" is 2, 3 or 4.
  • the zirconium-based compound represented by the general formula 3 also includes the salt form of the compound represented by the general formula 3.
  • the salt form include alkali metal salts such as ammonium salt, sodium salt and potassium salt, and alkaline earth metal salts such as calcium salt.
  • the alkyl group that can be taken as R 31 can be a linear alkyl group or a branched alkyl group.
  • the number of carbon atoms of this alkyl group is preferably in the range of 1 to 20, more preferably in the range of 1 to 15, further preferably in the range of 1 to 10, and in the range of 1 to 8. Is even more preferable.
  • the alkyl group may be an unsubstituted alkyl group or a substituted alkyl group. Examples of the substituted alkyl group include an aralkyl group.
  • the carbon number of the aralkyl group is preferably in the range of 7 to 30 as the carbon number of the portion containing the substituent.
  • alkyl groups which can be taken as R 31, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, n- butyl group, s- butyl, isobutyl, t- butyl group, n- pentyl group, Examples thereof include an n-hexyl group, an n-heptyl group, an n-octyl group, an n-decyl group, an n-tridecyl group, an n-octadecyl group, a benzyl group and a phenethyl group.
  • the carbon number of the cycloalkyl group that can be taken as R 31 is preferably in the range of 3 to 20, more preferably in the range of 3 to 15, further preferably in the range of 3 to 10, and 3 to 10. It is more preferably in the range of 8.
  • Preferred specific examples of this cycloalkyl group include, for example, a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group and the like.
  • the number of carbon atoms of the acyl group that can be obtained as R 31 is preferably in the range of 2 to 40, more preferably in the range of 2 to 30, further preferably in the range of 2 to 20, and 2 to 18 It is more preferable that the range is.
  • the number of carbon atoms of the aryl group that can be taken as R 31 is preferably in the range of 6 to 20, more preferably in the range of 6 to 15, further preferably in the range of 6 to 12, and 6 to 10 It is more preferable that the range is.
  • Preferred specific examples of this aryl group include, for example, a phenyl group, naphthyl and the like, and a phenyl group is more preferable.
  • the unsaturated aliphatic group that can be obtained as R 31 preferably has a carbon-carbon unsaturated bond in the range of 1 to 5, more preferably in the range of 1 to 3, and is 1 or 2. Is more preferable, and 1 is even more preferable.
  • the unsaturated aliphatic group may contain a heteroatom and is preferably a hydrocarbon group. When the unsaturated aliphatic group is a hydrocarbon group, the number of carbon atoms is preferably in the range of 2 to 20, more preferably in the range of 2 to 15, further preferably in the range of 2 to 10. It is more preferably in the range of 2-8.
  • the unsaturated aliphatic group is more preferably an alkenyl group or an alkynyl group.
  • R 31 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, and more preferably an alkyl group or a cycloalkyl group.
  • the two R 31s may be connected to each other to form a ring.
  • R 32 represents ⁇ OR 33 , an acetonato structure or an acetato structure
  • R 33 is a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an acyl group, an alkenyl group, an aryl group or a phosphonate group (phosphonic acid group). Also called.) Or -SO 2 R S3 .
  • RS3 represents a substituent.
  • the alkyl group, cycloalkyl group, acyl group and aryl group that can be taken as R 33 are synonymous with the alkyl group, cycloalkyl group, acyl group and aryl group that can be taken as R 31 , respectively, and the preferred forms of each group are also the same. Is. Further, the alkyl group that can be taken as R 33 preferably has an amino group (primary amino group, secondary amino group or tertiary amino group) as a substituent.
  • the alkenyl group that can be taken as R 33 can be a linear alkenyl group or a branched alkenyl group.
  • the carbon number of this alkenyl group is preferably in the range of 2 to 18, more preferably in the range of 2 to 7, and even more preferably in the range of 2 to 5.
  • Preferred specific examples of this alkenyl group include, for example, a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group and the like.
  • the alkenyl group that can be taken as R 33 is preferably a substituted alkenyl group.
  • RP31 and RP32 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and the substituent is preferably an alkyl group or a phosphonate group.
  • the alkyl group that can be taken as R P31 and R P32 is synonymous with the alkyl group that can be taken as R 31 , and the preferred form of the alkyl group is also the same.
  • Phosphonate group, which may take as R P31 or R P32 are the same as phosphonate group, which may take as R 32, preferred forms are also similar.
  • R P31 and / or R P32 is a phosphonate group
  • R P31 and / or R P32 constituting the phosphonate group is an alkyl group.
  • the phosphonate group that can be taken as R 33 it is preferable that RP31 and RP32 are independently alkyl groups, or RP31 is a hydrogen atom and RP32 is a phosphonate group. Since a phosphonate group is tautomeric with a phosphite group (also referred to as a phosphite group), the phosphonate group is used in the present invention and the present specification to include a phosphite group.
  • R S3 which can be taken as R 33
  • the substituent R S3 is preferably an alkyl group or an aryl group.
  • Preferred forms of alkyl groups and aryl groups which can be taken as R S3, respectively, may be mentioned preferred form of the alkyl and aryl radicals which can be taken as R 31.
  • R S3 is preferably a phenyl group having an alkyl group as a substituent (alkyl-substituted phenyl group).
  • the preferred form of the alkyl group as the substituent is the same as the preferred form of the alkyl group that can be taken as R 31 .
  • the "acetonato structure” means a structure in which one hydrogen ion is removed from a compound having a structure in which acetone or acetone has a substituent and is coordinated with a Zr atom.
  • the coordination atom coordinated to this Zr atom is usually an oxygen atom.
  • a structure in which the Zr atom is coordinated as the coordinating atom is preferable.
  • the above-mentioned "having an acetylacetone structure as a basic structure” means that, in addition to the above-mentioned acetylacetone structure, a structure in which a hydrogen atom of the above-mentioned acetylacetone structure is substituted with a substituent is included.
  • Specific examples in which at least one R 32 represents an acetonato structure include surface treatment agents SZ-3 and SZ-6, which will be described later in Examples. In one form, it is preferred that at least one of R 32 in General Formula 3 represents an acetonato structure.
  • the "acetato structure” refers to a structure in which one hydrogen ion is removed from a compound having an acetate or an acetate having a substituent (including an alkyl group) and coordinated with a Zr atom. means.
  • the coordination atom coordinated to this Zr atom is usually an oxygen atom.
  • the above-mentioned "having an alkylacetacetate structure as a basic structure” means that, in addition to the above-mentioned alkylacetate-acetate structure, a structure in which a hydrogen atom of the above-mentioned acetylacetone structure is substituted with a substituent is included.
  • a structure in which a hydrogen atom of the above-mentioned acetylacetone structure is substituted with a substituent is included.
  • Specific examples in which at least one R 32 represents an acetato structure include, for example, the surface treatment agent SZ-7, which will be described later in the examples. Further, in one form, it is preferable that at least one of R 32 represents an acetato structure in the general formula 3.
  • the two R 32s may be connected to each other to form a ring.
  • N3 is an integer in the range of 0 to 3, preferably 0 or 1, and more preferably 0.
  • zirconium-based compound represented by the general formula 3 Specific examples of the zirconium-based compound represented by the general formula 3 are shown below. However, the present invention is not limited to the following specific examples. Tetra-n-propoxyzirconium (also known as zirconium tetra n-propoxide), Tetra-n-butoxyzirconium (also known as zirconium tetran-butoxyd), Zirconium tetraacetylacetone, Zirconium tributoxymonoacetylacetone, Zirconium dibutoxybis (acetylacetoneate), Zirconium dibutoxybis (ethylacetate acetate), Zirconium tributoxyethyl acetoacetate, Zirconium Monobutoxy Acetylacetone Bis (Ethylacetone Acetate), Zirconium tributoxy monostearate (also known as zirconium stearate n-butoxide), Zirconium stearate, Zirconium
  • Aluminum-based compound which is a form of the surface treatment agent for the magnetic powder, is an aluminum-based compound represented by the following general formula 4.
  • R 41 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an acyl group, an aryl group or an unsaturated aliphatic group.
  • R 42 represents ⁇ OR 43 , acetonate or acetylate structure
  • R 43 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an acyl group, an alkenyl group, an aryl group, a phosphonate group or -SO 2 R S4
  • R S4 represents a substituent.
  • n4 is an integer in the range 0-2.
  • the plurality of R 41s included in the general formula 4 can be the same in one form and can be different in the other form. This point is the same for R 42 when "3-n4" is 2 or 3.
  • the aluminum-based compound represented by the general formula 4 also includes the salt form of the compound represented by the general formula 4.
  • the salt form include alkali metal salts such as sodium salt and potassium salt, alkaline earth metal salts such as calcium salt, and ammonium salts.
  • the alkyl group that can be taken as R 41 can be a linear alkyl group or a branched alkyl group.
  • the number of carbon atoms of this alkyl group is preferably in the range of 1 to 20, more preferably in the range of 1 to 15, further preferably in the range of 1 to 10, and in the range of 1 to 8. Is even more preferable.
  • the alkyl group may be an unsubstituted alkyl group or a substituted alkyl group. Examples of the substituted alkyl group include an aralkyl group.
  • the carbon number of the aralkyl group is preferably in the range of 7 to 30 as the carbon number of the portion containing the substituent.
  • alkyl groups which can be taken as R 31, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, n- butyl group, s- butyl, isobutyl, t- butyl group, n- pentyl group, Examples thereof include an n-hexyl group, an n-heptyl group, an n-octyl group, an n-decyl group, an n-tridecyl group, an n-octadecyl group, a benzyl group and a phenethyl group.
  • the number of carbon atoms of the cycloalkyl group that can be taken as R 41 is preferably in the range of 3 to 20, more preferably in the range of 3 to 15, further preferably in the range of 3 to 10, and 3 to 10. It is more preferably in the range of 8.
  • Preferred specific examples of this cycloalkyl group include, for example, a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group and the like.
  • the number of carbon atoms of the acyl group that can be obtained as R 41 is preferably in the range of 2 to 40, more preferably in the range of 2 to 30, further preferably in the range of 2 to 20, and 2 to 18 It is more preferable that the range is.
  • the number of carbon atoms of the aryl group that can be obtained as R 41 is preferably in the range of 6 to 20, more preferably in the range of 6 to 15, further preferably in the range of 6 to 12, and 6 to 10 It is more preferable that the range is.
  • Preferred specific examples of this aryl group include, for example, a phenyl group, naphthyl and the like, and a phenyl group is more preferable.
  • the unsaturated aliphatic group that can be taken as R 41 preferably has a number of carbon-carbon unsaturated bonds in the range of 1 to 5, more preferably in the range of 1 to 3, and is 1 or 2. Is more preferable, and 1 is even more preferable.
  • the unsaturated aliphatic group may contain a heteroatom and is preferably a hydrocarbon group. When the unsaturated aliphatic group is a hydrocarbon group, the number of carbon atoms is preferably in the range of 2 to 20, more preferably in the range of 2 to 15, further preferably in the range of 2 to 10. It is more preferably in the range of 2-8.
  • the unsaturated aliphatic group is more preferably an alkenyl group or an alkynyl group.
  • R 41 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, and more preferably an alkyl group or a cycloalkyl group.
  • the two R 41s may be connected to each other to form a ring.
  • R 42 represents ⁇ OR 43 , an acetnat structure or an acetato structure
  • R 43 is a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an acyl group, an alkenyl group, an aryl group, or a phosphonate group (phosphonic acid group). Also called.) Or -SO 2 R S4 .
  • RS4 represents a substituent.
  • the alkyl group, cycloalkyl group, acyl group and aryl group that can be taken as R 43 are synonymous with the alkyl group, cycloalkyl group, acyl group and aryl group that can be taken as R 41 , respectively, and the preferred forms of each group are also the same. Is. Further, the alkyl group that can be taken as R 43 preferably has an amino group (primary amino group, secondary amino group or tertiary amino group) as a substituent.
  • the alkenyl group that can be taken as R 43 can be a linear alkenyl group or a branched alkenyl group.
  • the carbon number of this alkenyl group is preferably in the range of 2 to 18, more preferably in the range of 2 to 7, and even more preferably in the range of 2 to 5.
  • Preferred specific examples of this alkenyl group include, for example, a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group and the like.
  • the alkenyl group that can be taken as R 43 is preferably a substituted alkenyl group.
  • R P41 and R P42 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and the substituent is preferably an alkyl group or a phosphonate group.
  • the alkyl group that can be taken as R P41 and R P42 is synonymous with the alkyl group that can be taken as R 41 , and so is the preferred form of the alkyl group.
  • the phosphonate group that can be taken as R P41 or R P42 is synonymous with the phosphonate group that can be taken as R 43, as is the preferred form.
  • R P41 and / or R P42 is a phosphonate group
  • R P41 and / or R P42 constituting the phosphonate group is an alkyl group.
  • the phosphonate group that can be taken as R 43 it is preferable that RP 41 and RP 42 are independently alkyl groups, or RP 41 is a hydrogen atom and RP 42 is a phosphonate group.
  • R S4 is preferably an alkyl group or an aryl group.
  • Preferred forms of alkyl groups and aryl groups which can be taken as R S4, respectively, may be mentioned preferred form of the alkyl and aryl radicals which can be taken as R 41.
  • R S4 is preferably a phenyl group having an alkyl group as a substituent (alkyl-substituted phenyl group).
  • the preferred form of the alkyl group as the substituent is the same as the preferred form of the alkyl group that can be taken as R 41 .
  • the "acetonato structure” means a structure in which one hydrogen ion is removed from a compound having a structure in which acetone or acetone has a substituent and is coordinated with an Al atom.
  • the coordination atom that coordinates with this Al atom is usually an oxygen atom.
  • a structure in which the Al atom is coordinated as the coordination atom is preferable.
  • the above-mentioned "having an acetylacetone structure as a basic structure” means that, in addition to the above-mentioned acetylacetone structure, a structure in which a hydrogen atom of the above-mentioned acetylacetone structure is substituted with a substituent is included.
  • Specific examples in which at least one R 42 represents an acetonato structure include, for example, the surface treatment agents SL-2 and SL-3, which will be described later in Examples. In one form, it is preferred that at least one of R 42 in General Formula 4 represents an acetonato structure.
  • the "acetato structure” refers to a structure in which one hydrogen ion is removed from a compound having an acetate or an acetate having a substituent (including an alkyl group) and coordinated with an Al atom. means.
  • the coordination atom that coordinates with this Al atom is usually an oxygen atom.
  • the above-mentioned "having an alkylacetacetate structure as a basic structure” means that, in addition to the above-mentioned alkylacetate-acetate structure, a structure in which a hydrogen atom of the above-mentioned acetylacetone structure is substituted with a substituent is included.
  • a structure in which a hydrogen atom of the above-mentioned acetylacetone structure is substituted with a substituent is included.
  • Specific examples in which at least one R 42 represents an acetato structure include surface treatment agents SL-3, SL-4 and SL-5, which will be described later in Examples. Further, in one form, it is preferable that at least one of R 42 represents an acetato structure in the general formula 4.
  • the two R 42s may be connected to each other to form a ring.
  • N4 is an integer in the range of 0 to 2, preferably 0 or 1, and more preferably 0.
  • the surface treatment agent described above may be used alone or in combination of two or more at any ratio.
  • surface-treating the substituted hexagonal ferrite powder by dry-mixing or wet-mixing the surface treatment agent with the substituted hexagonal ferrite powder, at least a part of the surface of at least a part of the particles constituting the powder is surface-treated. Can be coated.
  • a known technique for surface treatment using a surface treatment agent can be adopted.
  • the amount of the surface treatment agent used in the surface treatment is preferably in the range of 0.1 to 100 parts by mass, preferably in the range of 0.5 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the powder of the substituted hexagonal ferrite. Is more preferable.
  • the radio wave absorbing composition and the radio wave absorber include, as magnetic powder, a powder of a substituted hexagonal ferrite surface-treated with the surface treatment agent described above.
  • the filling rate of the powder of the substituted hexagonal ferrite surface-treated with the surface treatment agent is not particularly limited.
  • the filling rate can be 35% by volume or less as the volume filling rate, and can also be in the range of 15 to 35% by volume.
  • the volume filling rate can be 35% by volume or more.
  • the volume filling factor can be, for example, in the range of 35 to 60% by volume, preferably in the range of 35 to 50% by volume.
  • the volume filling rate means the volume-based content of the radio wave absorber with respect to 100% by volume of the total volume of the radio wave absorber.
  • the volume filling factor means the volume-based content of the solid content (that is, the component excluding the solvent) with respect to 100% by volume of the total volume.
  • the powder of the substituted hexagonal ferrite surface-treated with the surface treatment agent is a mixture of this powder and a resin described later. It is preferably contained in an amount of 10% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, and further preferably 50% by mass or more based on the total mass (100% by mass).
  • the powder of the substituted hexagonal ferrite surface-treated with the surface treatment agent is the sum of this powder and the resin described later. It is preferably contained in an amount of 90% by mass or less, more preferably 80% by mass or less, and further preferably 75% by mass or less with respect to the mass (100% by mass).
  • the radio wave absorbing composition and the radio wave absorber include the magnetic powder and the binder.
  • the binder is a resin.
  • the resin can be a homopolymer or a copolymer.
  • thermoplastic resins preferably one or more kinds can be used.
  • Suitable resins for the binder include one or more resins selected from the group consisting of polyurethane resins, ethylene-vinyl alcohol resins, ionomer resins, polyacetal resins, polybutadiene resins and polyphenylene ether resins.
  • Polyurethane resin examples include various polyurethane resins such as caprolactone-based polyurethane resin, polyether-based polyurethane resin, polycarbonate-based polyurethane resin, and polyester-based polyurethane resin, and caprolactone-based polyurethane resin, polyether-based polyurethane resin, and polycarbonate.
  • Polyurethane resin is preferable.
  • Polyurethane elastomer is also preferable.
  • the polyurethane elastomer can be, for example, a polyurethane resin containing a structural unit of a hard segment composed of a low molecular weight glycol and a diisocyanate and a soft segment composed of a high molecular weight diol (long chain diol) and a diisocyanate.
  • the diisocyanate may be any one selected from the group consisting of aliphatic diisocyanates and aromatic diisocyanates. Specific examples of the aliphatic diisocyanate include hexamethylene diisocyanate and dicyclohexylmethane 4,4'-diisocyanate.
  • aromatic diisocyanate examples include m-xylylene diisocyanate and 4,4'-diphenylmethane diisocyanate.
  • High molecular weight diols (long chain diols) include polyalkylene glycol, poly (1,4-butylene adipate), poly (ethylene 1,4-butylene adipate), polycaprolactone, and poly (1,6-hexylene carbonate). , Poly (1,6-hexylene, neopentylene adipate) and the like.
  • the number average molecular weight of the high molecular weight diol (long chain diol) is preferably in the range of 500 to 10,000.
  • short chain diols such as ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol and bisphenol A can be used.
  • the number average molecular weight of the short chain diol is preferably in the range of 48 to 500.
  • the polyurethane resin preferably contains a component derived from an aliphatic diisocyanate in a repeating unit in order to further improve the mechanical properties of the radio wave absorber. Further, the polyurethane resin preferably contains a component derived from polyalkylene glycol in a repeating unit in order to further improve the abrasion resistance and adhesiveness of the radio wave absorber.
  • the alkylene group of the component derived from polyalkylene glycol preferably has 2 or more carbon atoms, more preferably 4 or more carbon atoms, and further preferably 6 or more carbon atoms.
  • the carbon number of the alkylene group of the component derived from polyalkylene glycol is preferably 12 or less, and more preferably 10 or less.
  • polyurethane resins include caprolactone-based polyurethane resin (Milactran manufactured by Nippon Miractran Co., Ltd. E598), polyether-based polyurethane resin (BASF Co., Ltd. Elastolan 1164D), and polycarbonate-based polyurethane resin (DIC Cobestropolymer).
  • the ethylene-vinyl alcohol resin is a copolymer containing ethylene units (-CH 2 CH 2- ) and vinyl alcohol units (-CH 2- CH (OH)-).
  • the ethylene-vinyl alcohol resin may contain other constituent units in addition to the ethylene unit and the vinyl alcohol unit.
  • the ethylene unit content of the ethylene-vinyl alcohol resin that is, the ethylene composition ratio can be, for example, in the range of 32 to 48 mol%, and can also be in the range of 38 to 48 mol%.
  • the ethylene-vinyl alcohol resin can be a saponified product of a copolymer of ethylene and vinyl acetate, and the degree of saponification can be, for example, 90% or more, or 98% or more. ..
  • ethylene-vinyl alcohol resins include Eval (registered trademark) manufactured by Kuraray Co., Ltd. and Soanol (registered trademark) manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.
  • Eval registered trademark
  • Soanol registered trademark
  • Examples of the ethylene-vinyl alcohol resin having an ethylene composition ratio of 32 to 48 mol% and a saponification degree of 90% or more include EVAL (registered trademark) H171B manufactured by Kuraray Co., Ltd. (ethylene composition ratio of 38 mol%, saponification degree of 99% or more).
  • E171B ethylene composition ratio 44 mol%, saponification degree 99% or more
  • Soanol registered trademark
  • the ionomer resin is a metal salt of an ethylene-unsaturated carboxylic acid copolymer in which the carboxy group in the resin is neutralized by metal ions (metal ion neutralized product).
  • the ionomer resin is an ionomer resin which is a metal ion neutralized product of a binary copolymer of an olefin and an ⁇ , ⁇ -unsaturated carboxylic acid having 3 to 8 carbon atoms; an olefin and an ionomer resin having 3 to 8 carbon atoms.
  • Ionomer resin which is a metal ion neutralized product of a ternary copolymer of ⁇ , ⁇ -unsaturated carboxylic acid in the range of ⁇ , ⁇ -unsaturated carboxylic acid ester; or a mixture thereof. .. Regarding the ⁇ , ⁇ -unsaturated carboxylic acid ester, the unsaturated carboxylic acid moiety preferably has a carbon number of 3 to 8, and the ester moiety preferably has a carbon number of 1 to 20. It is more preferably in the range of ⁇ 12.
  • the ionomer resin is preferably a thermoplastic resin.
  • ionomer resin which is a metal ion neutralized product of a binary copolymer of an olefin and an ⁇ , ⁇ -unsaturated carboxylic acid having an number of carbon atoms in the range of 3 to 8 is simply referred to as "two.
  • bin ionomer resin "metal ion neutralization of a ternary copolymer of an olefin, an ⁇ , ⁇ -unsaturated carboxylic acid having 3 to 8 carbon atoms, and an ⁇ , ⁇ -unsaturated carboxylic acid ester".
  • the "ionomer resin, which is a product” may be simply referred to as a “ternary ionomer resin.”
  • an olefin having a carbon number in the range of 2 to 8 is preferable, and examples thereof include ethylene, propylene, butene, pentene, hexene, heptene, and octene, and ethylene is preferable.
  • the ⁇ , ⁇ -unsaturated carboxylic acid in the range of 3 to 8 carbon atoms include acrylic acid, methacrylic acid, fumaric acid, maleic acid, crotonic acid and the like, and acrylic acid or methacrylic acid is preferable.
  • ⁇ , ⁇ -unsaturated carboxylic acid ester for example, methyl esters such as acrylic acid, methacrylic acid, fumaric acid and maleic acid, ethyl esters, propyl esters, n-butyl esters, isobutyl esters and the like are used. Acrylic acid esters or methacrylic acid esters are preferred.
  • a metal ion neutralized product of an ethylene- (meth) acrylic acid binary copolymer is preferable.
  • (Meta) acrylic acid is used in the sense of including acrylic acid and methacrylic acid.
  • ternary ionomer resin a metal ion neutralized product of a ternary copolymer of ethylene, (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester is preferable.
  • the content of the ⁇ , ⁇ -unsaturated carboxylic acid moiety having a carbon number in the range of 3 to 8 in the binary ionomer resin and the ternary ionomer resin is preferably 15% by mass or more, preferably 16% by mass.
  • the above is more preferable, 17% by mass or more is further preferable, 30% by mass or less is preferable, and 25% by mass or less is more preferable.
  • the degree of neutralization of the carboxy group of the binary ionomer resin and the ternary ionomer resin is preferably 15 mol% or more, preferably 20 mol% or more, and preferably 100 mol% or less. ..
  • the degree of neutralization of the carboxy group of the ternary ionomer resin and the ternary ionomer resin can be calculated by the following formula.
  • a metal component may be contained so that the degree of neutralization of the carboxy group in the theoretical ionomer resin exceeds 100 mol%.
  • Metal ions that neutralize at least a part of the carboxy groups of the binary ionomer resin and the ternomer ionomer resin include monovalent metal ions such as sodium, potassium, and lithium; magnesium, calcium, zinc, barium, and cadmium. Divalent metal ions such as; trivalent metal ions such as aluminum; other ions such as tin and zirconium.
  • ionomer resins include, for example, as the above-mentioned dual ionomer resins, Hymilan (registered trademark) 1555 (Na), 1557 (Zn), 1605 (Na), 1706 (Zn), 1707 (Na). ), AM7311 (Mg), AM7329 (Zn) (manufactured by Mitsui DuPont Polychemical); Sarlin (registered trademark) 8945 (Na), 9945 (Zn), 8140 (Na), 8150 (Na), 9120 (Zn).
  • ternary ionomer resin examples include Hymilan AM7327 (Zn), 1855 (Zn), 1856 (Na), AM7331 (Na) (manufactured by Mitsui, DuPont, Polychemical); Sarlin 6320 (Mg), 8120 (Na).
  • Examples of the binary copolymer include Nucrel (registered trademark) N1050H, N2050H, N1110H, N0200H, N1560, N2060 (manufactured by Mitsui DuPont Polychemical); Primacole (registered trademark) 5980I (Dow Chemical). Made) and the like.
  • Examples of the ternary copolymer include Nuclel AN4318, AN4319 (manufactured by Mitsui-DuPont Polychemical), Primacor AT310, AT320 (manufactured by Dow Chemical) and the like.
  • the polyacetal resin As the polyacetal resin, a homopolymer or a copolymer can be used, and a copolymer is preferable from the viewpoint of thermal stability of the resin.
  • the homopolymer can be, for example, a homopolymer polymerized using a monomer such as formalin (formaldehyde aqueous solution), anhydrous formaldehyde gas, or trioxane.
  • the copolymer can be, for example, a copolymer polymerized using trioxane and a comonomer (ethylene oxide, 1,3-dioxolane, 1,4-butanediol formal, diethylene glycol formal, etc.).
  • the homopolymer is usually represented by a structure of " ⁇ -O- (CH 2 O) n- ⁇ ". “ ⁇ ” means the ⁇ end, and “ ⁇ ” means the ⁇ end. This point is the same for the following copolymers.
  • the ⁇ -terminal and ⁇ -terminal are CH 3 CO- or CH 3- , respectively.
  • Polyacetal resins that are copolymers are, for example, " ⁇ -O-[(CH 2 O) -ran- (CH 2 CH 2 O)]- ⁇ ", “ ⁇ -O-[(CH 2 O) -ran- ( CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 O)]- ⁇ ”,“ ⁇ -O-[(CH 2 O) -ran- (CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 O)]- ⁇ ”, etc.
  • the ⁇ -terminal and ⁇ -terminal are independently CH 3- , CH 3 CH 2 CH 2 CH 2- , HCO-, HOCH 2 CH 2- , HOCH 2 CH 2 CH 2- CH 2-, and the like.
  • polyacetal resins include, for example, Tenac 5050, Tenac 7010 (all manufactured by Asahi Kasei Chemicals), Delrin 500P (manufactured by DuPont) as polyacetal homopolymers, and Amiras S731 as polyacetal copolymers. , Amiras S761 (all manufactured by Toray Co., Ltd.), Duracon M140S, Duracon HP90X (manufactured by Polyplastics Co., Ltd.), Tenac 7520 (manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.) and the like.
  • polybutadiene resin examples include 1,4-polybutadiene, 1,2-polybutadiene, terminal acrylate-modified polybutadiene, and terminal urethane methacrylate-modified polybutadiene. Above all, from the viewpoint of mechanical properties, the content of 1,2-vinyl bond is preferably 80 mol% or more. Specific examples of commercially available polybutadiene resins include RB820 manufactured by JSR Corporation.
  • the polyphenylene ether resin is a resin having a structural unit represented by the following formula in the main chain, and may be a homopolymer or a copolymer.
  • two R a independently, a hydrogen atom, a halogen atom, a primary or secondary alkyl group, an aryl group, an aminoalkyl group, halogenated alkyl group, a hydrocarbon oxy group, or a halogenated
  • the two R bs are independently hydrogen atom, halogen atom, primary or secondary alkyl group, aryl group, alkyl halide group, oxy hydrocarbon group, or halogenated carbide. Represents a hydrocarbon oxy group.
  • no two R a are both hydrogen atoms.
  • R a and R b are preferably hydrogen atoms, primary or secondary alkyl groups or aryl groups, respectively.
  • the primary alkyl group are methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-amyl group, isoamyl group, 2-methylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 2 -, 3-Or 4-methylpentyl group or heptyl group can be mentioned.
  • Preferable examples of the secondary alkyl group include, for example, an isopropyl group, a sec-butyl group or a 1-ethylpropyl group.
  • Ra is preferably a primary or secondary alkyl group or phenyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • R b is preferably a hydrogen atom.
  • Suitable homopolymers of the polyphenylene ether resin include, for example, poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-diethyl-1,4-phenylene) ether, and poly (2,6). -Dipropyl-1,4-phenylene) ether, poly (2-ethyl-6-methyl-1,4-phenylene) ether, poly (2-methyl-6-propyl-1,4-phenylene) ether and the like 2, A polymer of 6-dialkylphenylene ether can be mentioned.
  • copolymer 2,6-dimethylphenol / 2,3,6-trimethylphenol copolymer, 2,6-dimethylphenol / 2,3,6-triethylphenol copolymer, 2,6-diethylphenol / 2 2,6-Dialkylphenol / 2,3,6-trialkylphenol copolymer, such as 3,6-trimethylphenol copolymer, 2,6-dipropylphenol / 2,3,6-trimethylphenol copolymer, etc.
  • polyphenylene ether resin poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) ether or 2,6-dimethylphenol / 2,3,6-trimethylphenol random copolymer is preferable.
  • a polyphenylene ether resin having a specified number of terminal groups and a copper content as described in JP-A-2005-340406 can also be preferably used.
  • paragraphs 0011 to 0017 of JP-A-2005-3404065 can be referred to.
  • polyphenylene ether resins examples include Zylon 500H manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd., which is a modified polyphenylene ether resin.
  • the "molecular weight” means the weight average molecular weight (Mw) of the polymer component.
  • the weight average molecular weight of the above resin is not particularly limited.
  • the lower limit of the weight average molecular weight (Mw) is preferably 5,000 or more, and more preferably 10,000 or more, from the viewpoint that abrasion resistance and adhesiveness tend to be easily developed. It is preferable, and more preferably 20,000 or more.
  • the upper limit is preferably 1,000,000 or less, and more preferably 500,000 or less.
  • the "weight average molecular weight” in the present invention and the present specification means the molecular weight relative to the molecular weight of standard polystyrene analyzed by the gel permeation chromatography method using tetrahydrofuran as a mobile phase.
  • the radio wave absorbing composition and the radio wave absorber may contain only one kind of resin as a binder, or may contain two or more kinds of resins in an arbitrary ratio.
  • the filling rate of the binder in the radio wave absorbing composition and the radio wave absorber is not particularly limited, and for example, the volume filling rate is preferably 65% by volume or more, and 65% by volume or more and 92% by volume or less. More preferably, it is more preferably 65% by volume or more and 85% by volume or less.
  • the filling rate means the total filling rate of the two or more kinds of resins. This point is the same for the filling rate for other components.
  • the radio wave absorbing composition and the radio wave absorber include a powder and a binder of a substituted hexagonal ferrite surface-treated with the surface treatment agent, and may optionally contain one or more additives.
  • the additive include a dispersant, a dispersion aid, a fungicide, an antistatic agent, an antioxidant and the like.
  • the additive may have one component having two or more functions.
  • the radio wave absorbing composition and the radio wave absorber may contain a commercially available product or a product manufactured by a known method as an additive at an arbitrary filling rate.
  • the method for producing the radio wave absorbing composition and the radio wave absorber is not particularly limited.
  • the radio wave absorbing composition can be produced by a known method using the magnetic powder, a binder, and if necessary, a solvent, an additive, or the like.
  • the radio wave absorber can be a molded product obtained by molding the radio wave absorbing composition.
  • the radio wave absorbing composition can be prepared as a kneaded product by, for example, kneading a mixture of the magnetic powder, the binder, and, if necessary, a solvent, additives, and the like while heating.
  • the kneaded product can be obtained as pellets, for example.
  • a radio wave absorber (molded product) can be obtained by molding the kneaded product into a desired shape by a known molding method such as extrusion molding, press molding, injection molding, or in-mold molding.
  • the shape of the radio wave absorber is not particularly limited, and may be any shape such as a plate shape or a linear shape.
  • Platinum-shaped includes sheet-shaped and film-shaped.
  • the plate-shaped radio wave absorber can also be called a radio wave absorbing plate, a radio wave absorbing sheet, a radio wave absorbing film, or the like.
  • the radio wave absorber may be a radio wave absorber having a single composition (for example, a single-layer radio wave absorber), or may be a combination of two or more parts having different compositions (for example, a laminated body). Further, the radio wave absorber may have a planar shape, may have a three-dimensional shape, or may be a combination of a portion having a planar shape and a portion having a three-dimensional shape. Examples of the planar shape include a sheet shape and a film shape. Examples of the three-dimensional shape include a tubular shape (cylindrical shape, square tubular shape, etc.), a horn shape, a box shape (for example, at least one of the surfaces is open) and the like.
  • the thickness of the radio wave absorber is preferably 20.0 mm or less, more preferably 10.0 mm or less, and further preferably 5.0 mm or less, from the viewpoint of ease of handling. From the viewpoint of mechanical properties, the thickness is preferably 1.0 mm or more, and more preferably 2.0 mm or more.
  • the thickness means the total thickness of the radio wave absorbers constituting the laminated body.
  • the thickness of the radio wave absorber is a value measured using a digital length measuring device, and specifically, is an arithmetic mean of the measured values measured at nine randomly selected points.
  • the radio wave absorbing composition may or may not contain a solvent.
  • the solvent is not particularly limited, and examples thereof include water, an organic solvent, and a mixed solvent of water and an organic solvent.
  • the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, i-propanol and methoxypropanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone, tetrahydrofuran, acetonitrile, ethyl acetate and toluene.
  • the solvent ketones are preferable, and cyclohexanone is more preferable, from the viewpoint of drying speed.
  • the content of the solvent in the composition is not particularly limited and may be determined according to the method for producing the radio wave absorber.
  • the radio wave absorbing composition can be prepared by mixing the above components.
  • the mixing method is not particularly limited, and examples thereof include a method of mixing by stirring.
  • a known stirring device can be used.
  • examples of the stirring device include mixers such as a paddle mixer and an impeller mixer.
  • the stirring time may be set according to the type of stirring device, the composition of the radio wave absorbing composition, and the like.
  • the method for producing the radio wave absorber a method of molding the radio wave absorbing composition into a desired shape by a known molding method as exemplified above can be mentioned. Further, as another form of the method for manufacturing the radio wave absorber, a method of applying the radio wave absorbing composition to the support and manufacturing the radio wave absorber as the radio wave absorbing layer can be mentioned.
  • the support used here may be removed before the radio wave absorber is incorporated into the article to which the radio wave absorber should be imparted, or may be incorporated into the article together with the radio wave absorber without being removed.
  • the support is not particularly limited, and a known support can be used.
  • the support include metal plates (metal plates such as aluminum, zinc, and copper), glass plates, plastic sheets [polyester (polyester terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, etc.), polyethylene (linear low density).
  • the plastic sheet is preferably biaxially stretched.
  • the shape, structure, size, etc. of the support can be appropriately selected. Examples of the shape of the support include a plate shape.
  • the structure of the support may be a single-layer structure or a laminated structure of two or more layers.
  • the size of the support can be appropriately selected according to the size of the radio wave absorber and the like.
  • the thickness of the support is usually about 0.01 mm to 10 mm, for example, from the viewpoint of handleability, it is preferably 0.02 mm to 3 mm, and more preferably 0.05 mm to 1 mm.
  • the method of applying the radio wave absorbing composition on the support is not particularly limited, and examples thereof include a method using a die coater, a knife coater, an applicator, and the like.
  • the method for drying the coating film formed by applying the radio wave absorbing composition is not particularly limited, and examples thereof include a method using a known heating device such as an oven.
  • the drying temperature and drying time are not particularly limited. As an example, the drying temperature can be in the range of 70 ° C. to 90 ° C. and the drying time can be in the range of 1 hour to 3 hours.
  • the radio wave absorber can be incorporated into various articles for which it is desired to impart radio wave absorption.
  • the plate-shaped radio wave absorber can be incorporated into an article in any form as it is or by bending it at an arbitrary portion. Further, it can be adjusted to a desired shape by injection molding or the like and incorporated into the article, or it can be incorporated into the article by using an adhesive.
  • a radio wave absorber having excellent radio wave absorption performance is useful for improving the recognition accuracy of radar.
  • the transmission attenuation amount can be mentioned.
  • the transmission attenuation of the radio wave absorber can be 6.0 dB or more.
  • the transmission attenuation of the radio wave absorber is preferably 8.0 dB or more, more preferably 8.5 dB or more, and 9.0 dB or more. More preferably, it is more preferably 10.0 dB or more.
  • the transmission attenuation of the radio wave absorber is, for example, 15.0 dB or less, 14.5 dB or less, 14.0 dB or less, 13.5 dB or less, 13.0 dB or less, 12.5 dB or less, or 12.0 dB or less. be able to.
  • the transmission attenuation of the radio wave absorber is high. Therefore, the transmission attenuation of the radio wave absorber may exceed the value exemplified above.
  • the amount of reflection attenuation of the radio wave absorber can be, for example, 6.0 dB or more.
  • the amount of reflection attenuation of the radio wave absorber is preferably 8.0 dB or more, more preferably 8.5 dB or more, further preferably 9.0 dB or more, and 10.0 dB or more. Is more preferable.
  • the amount of reflection attenuation of the radio wave absorber is, for example, 18.0 dB or less, 17.5 dB or less, 17.0 dB or less, 16.5 dB or less, 16.0 dB or less, 15.5 dB or less, or 15.0 dB or less. be able to. However, from the viewpoint of removing or reducing unnecessary radio wave components, it is preferable that the amount of reflection attenuation of the radio wave absorber is high. Therefore, the amount of reflection attenuation of the radio wave absorber may exceed the value exemplified above.
  • the in-vehicle radar which has been attracting attention in recent years, is a radar that uses radio waves in the millimeter wave frequency band.
  • Millimeter waves are electromagnetic waves with a frequency of 30 GHz to 300 GHz.
  • the radio wave absorber preferably exhibits a transmission attenuation amount and a reflection attenuation amount in the above range with respect to the frequency of the radio wave, that is, one or more frequencies in the frequency band of 3 terahertz (THz) or less.
  • the frequency at which the radio wave absorber indicates the transmission attenuation amount and the reflection attenuation amount in the above range is a millimeter wave frequency band, that is, a frequency band of 30 GHz to 300 GHz from the viewpoint of usefulness for improving the recognition accuracy of the in-vehicle radar. It is preferably one or more frequencies in the above, more preferably one or more frequencies in the frequency band of 60 GHz to 90 GHz, and more preferably one or more frequencies in the frequency band of 75 GHz to 85 GHz. More preferred.
  • the radio wave absorber can be a radio wave absorber having a transmission attenuation amount at a frequency of 76.5 GHz and a reflection attenuation amount at a frequency of 76.5 GHz in the above range.
  • Such a radio wave absorber is suitable as a radio wave absorber to be incorporated in the front side (incoming side of radio waves incident from the outside) of the radio wave transmitting / receiving unit in the in-vehicle radar in order to reduce the side lobe of the in-vehicle millimeter-wave radar. ..
  • the "permeation attenuation" in the present invention and the present specification is defined as S-parameter S21 by measuring the S-parameters in a measurement environment with an ambient temperature of 15 to 35 ° C. with an incident angle of 0 ° by the free space method. This is the required value.
  • the "reflection attenuation amount” is a value obtained as S11 of the S parameter by the same measurement.
  • the measurement can be performed using a known vector network analyzer and horn antenna. Specific examples of the measurement method include the methods described in Examples described later.
  • the radio wave absorber a metal layer may be laminated on a surface (so-called back surface) opposite to the surface on which the radio wave is incident on the radio wave absorber.
  • a radio wave absorber is called a matched radio wave absorber.
  • the reflection attenuation characteristic can be enhanced by providing a metal layer and utilizing the phase difference absorption.
  • the radio wave absorber itself can have excellent reflection attenuation characteristics. Specifically, in one form, the radio wave absorber can exhibit a high amount of reflection attenuation regardless of the metal layer.
  • a radio wave absorber used without laminating a metal layer on the back surface is generally called a transmission type radio wave absorber.
  • the reflection attenuation tends to decrease when the transmission attenuation is increased.
  • the radio wave absorber can exhibit a high reflection attenuation amount and a high transmission attenuation amount regardless of the metal layer.
  • the term "metal layer” means a layer that contains metal and that substantially reflects radio waves. However, when the radio wave absorber containing the magnetic powder and the binder contains a metal, such a radio wave absorber does not correspond to the metal layer.
  • substantially reflecting radio waves means, for example, that 90% or more of the incident radio waves are reflected when the radio waves are incident on the radio wave absorber in a state where a metal layer is laminated on the back surface of the radio wave absorber.
  • the form of the metal layer include a metal plate and a metal foil.
  • a metal layer formed by vapor deposition on the back surface of the radio wave absorber can be mentioned.
  • the radio wave absorber can be used without providing a metal layer on the back surface. It is preferable that it can be used without a metal layer from the viewpoint of recycling the radio wave absorber and from the viewpoint of cost.
  • the quality of the radio wave absorber used by laminating a metal layer on the back surface may deteriorate due to deterioration of the metal layer, peeling of the metal layer and the radio wave absorber, and the like. It is preferable that it can be used without providing a metal layer on the back surface from the viewpoint that such quality deterioration does not occur.
  • the precursor-containing liquid was subjected to a centrifugation treatment [rotation speed: 3000 rpm, rotation time: 10 minutes] three times, and the obtained precipitate was recovered. Then, the recovered precipitate was dried in an oven having an internal ambient temperature of 80 ° C. for 12 hours to obtain a precursor powder. Next, the powder of the precursor was placed in a muffle furnace, the temperature in the furnace was set to 1100 ° C. in an air atmosphere, and the mixture was fired for 4 hours to obtain a fired product.
  • the obtained fired body was used as a crusher using a cutter mill crusher (Wonder Crusher WC-3 manufactured by Osaka Chemical Co., Ltd.), and the variable speed dial of this crusher was set to "5" (rotation speed: about 10,000 to 15,000 rpm). ) And crushed for 90 seconds. From the above, magnetic powder A-1 was obtained.
  • ⁇ Preparation of magnetic powder A-8 (unsubstituted hexagonal strontium ferrite powder)> 15.02 g of strontium carbonate [SrCO 3 ] and 90.24 g of iron oxide [Fe 2 O 3 ] were mixed and pulverized in a Menou mortar to obtain a powder of a precursor of a magnetoplumbite-type hexagonal ferrite. Next, the precursor powder was placed in a muffle furnace, the temperature inside the furnace was set to 1200 ° C. in an air atmosphere, and the mixture was fired for 4 hours to obtain a fired product.
  • the obtained fired body was used as a crusher using a cutter mill crusher (Wonder Crusher WC-3 manufactured by Osaka Chemical Co., Ltd.), and the variable speed dial of this crusher was set to "5" (rotation speed: about 10,000 to 15,000 rpm). ) And crushed for 90 seconds. From the above, powder A-8 was obtained.
  • the magnetic powders A-1 to A-8 have a magnetoplumbite-type crystal structure and do not contain a crystal structure other than the magnetoplumbite-type single-phase magnetoplumbite. It was confirmed that it was a powder of type hexagonal ferrite.
  • composition of the magnetic material constituting each of the above magnetic powders was confirmed by high-frequency inductively coupled plasma emission spectroscopy. Specifically, it was confirmed by the following method.
  • a container beaker containing 12 mg of magnetic powder and 10 mL of a hydrochloric acid aqueous solution having a concentration of 4 mol / L was held on a hot plate at a set temperature of 120 ° C. for 3 hours to obtain a solution. After adding 30 mL of pure water to the obtained solution, the mixture was filtered using a membrane filter having a filter pore size of 0.1 ⁇ m.
  • Elemental analysis of the filtrate thus obtained was performed using a high-frequency inductively coupled plasma emission spectroscopic analyzer [ICPS-8100 manufactured by Shimadzu Corporation]. Based on the results of the obtained elemental analysis, the content of each atom with respect to 100 atomic% of iron atoms was determined. Then, the composition of the magnetic material was confirmed based on the obtained content. As a result, it was confirmed that the compositions of the magnetic powders A-1 to A-7 were such that A in the general formula 1 was Sr and x was the value shown in Table 1. Further, it was confirmed that the magnetic powder A-8 had the composition of SrFe 12 O 19 (that is, it was an unsubstituted strontium ferrite).
  • the resonance frequencies of the magnetic powders A-1 to A-7 were measured by the following methods. The measurement results are shown in Table 1. (Measurement method of resonance frequency) Using each magnetic powder, a sheet sample for resonance frequency measurement was prepared by the following method. 9.0 g of magnetic powder, 1.05 g of acrylonitrile butadiene rubber (NBR) [JSR N215SL manufactured by JSR], and 6.1 g of cyclohexanone (solvent) were used with a stirrer [Awatori Rentaro ARE-310 manufactured by Shinky]. , Stirred at a rotation speed of 2000 rpm for 5 minutes and mixed to prepare a composition for preparing a sheet sample.
  • NBR acrylonitrile butadiene rubber
  • solvent a stirrer
  • the prepared composition was applied onto a glass plate (support) using an applicator to form a coating film of the above composition.
  • the formed coating film was dried in an oven having an internal atmospheric temperature of 80 ° C. for 2 hours, and then the sheet sample (thickness: 0.3 mm) was peeled off from the glass plate.
  • a vector network analyzer product name: N5225B
  • a horn antenna product name: RH12S23
  • the incident angle was set to 0 ° by the free space method.
  • the S parameter was measured with the sweep frequency set to 60 GHz to 90 GHz.
  • the peak frequency of the magnetic permeability ⁇ ′′ of the imaginary part was calculated from this S parameter using the Nicholson loss model method, and this peak frequency was used as the resonance frequency. The results are shown in Table 1.
  • ⁇ Preparation of magnetic powder R-1 surface-treated with a surface treatment agent 20 g of the magnetic powder A-1 obtained above and 0.2 g of the surface treatment agent SI-3 (tris (3-trimethoxysilylpropyl) isocyanurate) were added to a cutter mill crusher (manufactured by Osaka Chemical Co., Ltd.). Using Wonder Crusher WC-3), the variable speed dial of this crusher was set to "3" and mixed for 60 seconds. Next, the mixed powder was placed in an oven at a set temperature of 90 ° C. and dried by heating for 3 hours to obtain a magnetic powder R-1 surface-treated with a surface treatment agent.
  • SI-3 tris (3-trimethoxysilylpropyl) isocyanurate
  • the surface treatment agents in Table 2 are the following surface treatment agents.
  • SA-1 3-Aminopropyltrimethoxysilane (SIA0611.0 manufactured by Gelest)
  • SA-2 N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane (SIA0591.0 manufactured by Gelest)
  • SA-3 (3-Trimethoxysilylpropyl) diethylenetriamine (SIT8398.0 manufactured by Gelest)
  • SM-1 Mercaptomethylmethyldiethoxysilane (SIM6473.0 manufactured by Gelest)
  • SM-2 3-mercaptopropyltrimethoxysilane (SIM6476.0 manufactured by Gelest)
  • SM-3 11-Mercaptoundecyltrimethoxysilane (Gerest's SIM6480.0)
  • SH-1 Hydroxymethyltriethoxysilane (SIH6175.0 manufactured by Gelest)
  • SH-2 N- (3-triethoxysilylpropyl) -4-hydroxybutylamide
  • the obtained lumpy kneaded product was press-molded using a heating press machine (heating temperature: 210 ° C., press time: 1 minute, pressure: 20 MPa), length 10.0 cm ⁇ width 10.0 cm ⁇ thickness 2.0 mm.
  • a radio wave absorber (radio wave absorption sheet) was prepared.
  • Examples 2-55> The magnetic powder shown in Table 3 was used as the magnetic powder surface-treated with the surface treatment agent, and the same operation as in Example 1 was performed except that the binder shown in Table 3 was used. Sheet) was prepared.
  • Examples 56 to 59 The contents of the magnetic powder and the binder in the mixture for preparing the kneaded product of Example 1 were 60% by mass of the magnetic powder and 40% by mass of the binder with respect to the total mass of the magnetic powder and the binder. is there.
  • Examples 56 to 59 the same operations as in Example 1 were performed except that the contents of the magnetic powder and the binder were changed as shown in Table 3, to prepare a radio wave absorber (radio wave absorber sheet).
  • Radio wave absorber (radio wave absorbing sheet) was produced by performing the same operation as in Example 1 except that the magnetic powder shown in Table 3 (without surface treatment) was used as the magnetic powder.
  • Example 4 The same operation as in Example 1 was performed except that the magnetic powder shown in Table 3 (unsubstituted hexagonal ferrite powder surface-treated with a surface treatment agent) was used as the magnetic powder. Radio wave absorption sheet) was prepared.
  • Radio Absorption Performance The transmission attenuation (unit: dB) and reflection attenuation (unit: dB) of each sheet of Examples and Comparative Examples were measured by the following methods. Using a keysight vector network analyzer (product name: N5225B) and a keycom horn antenna (product name: RH12S23) as measuring devices, the incident angle is set to 0 ° and the sweep frequency is set to 60 GHz to 90 GHz by the free space method. , One plane of each of the above sheets is directed to the incident side, the S parameter is measured, S21 of the S parameter at the frequency of 76.5 GHz is used as the transmission attenuation amount, and S11 of the S parameter at the frequency of 76.5 GHz is used.
  • the amount of reflection attenuation was used. From the measured values, the radio wave absorption performance was evaluated according to the following criteria. (Evaluation criteria) A: Transmission attenuation and reflection attenuation are both 10.0 dB or more B: Transmission attenuation and reflection attenuation are both 8.0 dB or more and less than 10.0 dB C: Transmission attenuation and reflection attenuation are both 6. 0 dB or more and less than 8.0 dB D: Both the transmission attenuation and the reflection attenuation are less than 6.0 dB.
  • a test piece having a length of 10.0 cm and a width of 1.0 cm was cut out from the laminate of each sheet and the epoxy resin layer thus obtained, and used as the peel strength at the interface between each sheet of the test piece and the epoxy resin layer.
  • the 90 ° peel strength was measured according to JIS K6864-1 (1999) using a tensile tester (3340 type manufactured by Instron). It can be said that the larger the value of the peel strength, the better the adhesiveness. Adhesion was evaluated according to the following criteria.
  • Peeling strength is 20N / cm or more
  • the binder in Table 3 is the following resin.
  • B-1 Caprolactone polyurethane resin (Miractran E598 manufactured by Japan Miractran)
  • B-2 Polyester polyurethane resin (BASF Elastran 1164D)
  • B-3 Polycarbonate polyurethane resin (Pandex T-9280 manufactured by DIC Covestro Polymer)
  • B-4 Ethylene-vinyl alcohol resin (Sorelite M manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.)
  • B-5 Ionomer resin (Himilan 1555 manufactured by Mitsui / DuPont Polychemical)
  • B-6 Polyacetal resin (Duracon HP90X manufactured by Polyplastics)
  • B-7 Polybutadiene resin (RB820 manufactured by JSR Corporation)
  • B-8 Modified polyphenylene ether resin (Zylon 500H manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.)
  • the radio wave absorbers of Examples 1 to 59 include a substituted hexagonal ferrite powder surface-treated with the surface treatment agent described in detail above as a magnetic powder.
  • the radio wave absorber of Comparative Example 2 was a substituted hexagonal ferrite powder without surface treatment
  • the radio wave absorber of Comparative Example 3 was an unsubstituted hexagonal ferrite powder without surface treatment, Comparative Example.
  • the radio wave absorber of No. 4 contains an unsubstituted hexagonal ferrite powder surface-treated with the same silicon-based compound as in Example 1. From the comparison between Examples 1 to 59 and Comparative Examples 2 to 4 in Table 3, the substituted hexagonal ferrite powder surface-treated with the surface treatment agent described in detail above as a magnetic powder is combined with the binder. As a result, it can be confirmed that a radio wave absorber having excellent radio wave absorption performance, abrasion resistance and adhesiveness can be obtained.
  • One aspect of the present invention is useful in the technical field of performing various automatic driving controls such as automatic driving control of automobiles.

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Abstract

磁性粉体およびバインダーを含む電波吸収性組成物。磁性粉体およびバインダーを含む電波吸収体。上記磁性粉体は、表面処理剤で表面処理された置換型六方晶フェライトの粉体であり、かつ上記表面処理剤は、一般式2:(X-L)-Si-Z4-mで表されるケイ素系化合物、一般式3:R31 n3-Zr-(R324-n3で表されるジルコニウム系化合物および一般式4:R41 n4-Al-(R423-n4で表されるアルミニウム系化合物からなる群から選択される1種以上の化合物である。

Description

電波吸収性組成物および電波吸収体
 本発明は、電波吸収性組成物および電波吸収体に関する、
 電波吸収体としては、電波吸収材料として磁性粉体を含むものが知られている。また、磁性粉体を含む電波吸収体としては、磁性粉体とバインダーとを混合した電波吸収体が挙げられる(特許文献1~3参照)。
特開2002-280207号公報 特開2010-260766号公報 特開2012-9797号公報
 近年、電波を利用する電子機器として、電波を送受信することによって対象物を認識するためのレーダーが注目されている。例えば、車載用レーダーは、電波を送信し、送信した電波が対象物(歩行者、車両等)により反射された電波を受信することによって、対象物の存在、対象物との距離等を認識することができる。自動車の自動運転制御システムは、対象物との衝突を防止するために、レーダーが対象物を認識した結果に基づき、必要に応じて、自動でブレーキを掛けて自動車を停止させたり、対象物との距離を保つために自動で速度を制御することができる。
 上記のようにレーダーが認識した結果に基づき各種制御を行うシステムの信頼性を高めるためには、レーダーの性能向上が望まれる。そのために、近年、レーダーの電波送受信ユニットの正面側(外部から入射する電波の入射側)に電波吸収体を設置し、認識精度を向上させることが検討され始めている。認識精度の向上のためには、電波吸収体には、優れた電波吸収性能を有することが求められる。更に、電波吸収体が耐摩耗性に優れることは、電波吸収体が組み込まれた物品が摩耗により劣化することを抑制する観点から望ましい。
 また、電波吸収体は、接着剤を使用して(例えば接着剤層と積層して)物品に組み込まれることがある。したがって、電波吸収体が接着性に優れることは、電波吸収体が物品から剥離することを抑制するうえで望ましい。
 以上に鑑み、本発明の一態様は、電波吸収性能、耐摩耗性および接着性に優れる電波吸収体を提供することを目的とする。
 本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、磁性粉体とバインダーとを含む電波吸収体において、磁性粉体として、以下に詳述する表面処理剤によって表面処理された置換型六方晶フェライトの粉体を使用することにより、電波吸収性能、耐摩耗性および接着性に優れる電波吸収体を得ることが可能になることを新たに見出した。
 即ち、本発明の一態様は、
 磁性粉体およびバインダーを含む電波吸収性組成物であって、
 上記磁性粉体は、表面処理剤で表面処理された置換型六方晶フェライトの粉体であり、かつ
 上記表面処理剤は、下記一般式2で表されるケイ素系化合物、下記一般式3で表されるジルコニウム系化合物および下記一般式4で表されるアルミニウム系化合物からなる群から選択される1種以上の化合物である電波吸収性組成物、
 に関する。
 また、本発明の一態様は、
 磁性粉体およびバインダーを含む電波吸収体であって、
 上記磁性粉体は、表面処理剤で表面処理された置換型六方晶フェライトの粉体であり、かつ
 上記表面処理剤は、下記一般式2で表されるケイ素系化合物、下記一般式3で表されるジルコニウム系化合物および下記一般式4で表されるアルミニウム系化合物からなる群から選択される1種以上の化合物である電波吸収体、
 に関する。
        一般式2:(X-L)-Si-Z4-m
 一般式2中、
 Xは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、脂環基、複素環基、アミノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、アクリルアミド基、スルファニル基、イソシアネート基、チオシアネート基、ウレイド基、シアノ基、酸無水物基、アジド基、カルボキシ基、アシル基、チオカルバモイル基、リン酸基、ホスファニル基、スルホン酸基またはスルファモイル基を表し、
Lは、単結合、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、-O-、-S-、-NR-、カルボニル結合、チオカルボニル結合およびスルホニル基からなる群から選ばれる1種の2価の基もしくは結合、またはこれらの2種以上を組合せてなる2価の基もしくは結合を表し、
 Rは、水素原子または置換基を表し、
 Zは、ヒドロキシ基、アルコキシ基またはアルキル基を表し、
 mは、1~3の範囲の整数である。
      一般式3: R31 n3-Zr-(R324-n3
 一般式3中、
 R31は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アシル基、アリール基または不飽和脂肪族基を表し、
 R32は、-OR33、アセトナト構造またはアセタト構造を表し、
 R33は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アシル基、アルケニル基、アリール基、ホスホネート基または-SOS3を表し、RS3は置換基を表し、
 n3は、0~3の範囲の整数である;
      一般式4:R41 n4-Al-(R423-n4
 一般式4中、R41は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アシル基、アリール基または不飽和脂肪族基を表し、
 R42は、-OR43、アセトナト構造またはアセタト構造を表し、
 R43は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アシル基、アルケニル基、アリール基、ホスホネート基または-SOS4を表し、RS4は置換基を表し、
 n4は、0~2の範囲の整数である。
 一形態では、上記電波吸収体は、上記電波吸収性組成物を成形した成形品であることができる。 
 一形態では、上記置換型六方晶フェライトは、下記一般式1で表される組成を有することができる。
        一般式1:AFe(12-x)Al19
一般式1中、Aは、Sr、Ba、CaおよびPbからなる群から選ばれる1種以上の原子を表し、xは、1.50以上≦x≦8.00を満たす。
 一形態では、上記置換型六方晶フェライトは、置換型六方晶ストロンチウムフェライトであることができる。
 一形態では、上記表面処理剤は、一般式2で表されるケイ素系化合物を含むことができ、一般式2中、X-Lに、アミノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、エーテル基、チオエーテル基、カーボネート基、イソシアネート基、カルボキシ基および酸無水物基からなる群から選ばれる1種以上の基を含むことができる。
 一形態では、一般式2中、X-Lに、ヒドロキシ基、エーテル基、チオエーテル基、カーボネート基、イソシアネート基、カルボキシ基および酸無水物基からなる群から選ばれる1種以上の基を含むことができる。
 一形態では、一般式2中、Xは、イソシアネート基、カルボキシ基または酸無水物基を表すことができる。
 一形態では、上記表面処理剤は、一般式3で表されるジルコニウム系化合物を含むことができ、一般式3中、n3が3であり、R32がアセトナト構造を表すか、または、n3が0~2の範囲の整数であり、一般式3中に複数含まれるR32の1つ以上がアセトナト構造を表すことができる。
 一形態では、上記表面処理剤は、一般式3で表されるジルコニウム系化合物を含むことができ、一般式3中、n3が3であり、R32がアセタト構造を表すか、または、n3が0~2の範囲の整数であり、一般式3中に複数含まれるR32の1つ以上がアセタト構造を表すことができる。
 一形態では、上記表面処理剤は、一般式4で表されるアルミニウム系化合物を含むことができ、一般式4中、n4が2であり、R42がアセトナト構造を表すか、または、n4が0または1であり、一般式4中に複数含まれるR42の1つ以上がアセトナト構造を表すことができる。
 一形態では、上記表面処理剤は、一般式4で表されるアルミニウム系化合物を含むことができ、一般式4中、n4が2であり、R42がアセタト構造を表すか、または、n4が0または1であり、一般式4中に複数含まれるR42の1つ以上がアセタト構造を表すことができる。
 一形態では、上記バインダーは、ポリウレタン樹脂、エチレン-ビニルアルコール樹脂、アイオノマー樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂およびポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選ばれる1種以上の樹脂であることができる。
 一形態では、上記バインダーは、ポリウレタン樹脂、アイオノマー樹脂、ポリブタジエン樹脂およびポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選択される1種以上の樹脂であることができる。
 一形態では、上記バインダーは、カプロラクトン系ポリウレタン樹脂、ポリエーテル系ポリウレタン樹脂およびポリカーボネート系ポリウレタン樹脂からなる群から選ばれる1種以上のポリウレタン樹脂を含むことができる。
 本発明の一態様によれば、電波吸収性能、耐摩耗性および接着性に優れる電波吸収体、ならびにこの電波吸収体の製造のために使用可能な電波吸収性組成物を提供することができる。
[電波吸収性組成物、電波吸収体]
 本発明の一態様は、磁性粉体およびバインダーを含む電波吸収性組成物に関する。上記電波吸収性組成物において、上記磁性粉体は、以下に詳述する表面処理剤で表面処理された置換型六方晶フェライトの粉体である。
 また、本発明の一態様は、磁性粉体およびバインダーを含む電波吸収体に関する。上記電波吸収体において、上記磁性粉体は、以下に詳述する表面処理剤で表面処理された置換型六方晶フェライトの粉体である。
 本発明および本明細書において、「電波」とは、3テラヘルツ(THz)以下の周波数の電磁波をいうものとする。電波吸収体および電波吸収体の製造に使用される組成物は、電波吸収性を有する。電波吸収性は、例えば、透過減衰量および/または反射減衰量によって評価することができ、透過減衰量の値が高いほど、反射減衰量の値が高いほど、または透過減衰量の値および反射減衰量の値が高いほど、より優れた電波吸収性を有するということができる。
 本発明および本明細書において、「粉体」とは、複数の粒子の集合を意味する。「集合」とは、集合を構成する粒子が直接接触している態様に限定されず、バインダー等が粒子同士の間に介在している態様も包含される。
 以下、上記電波吸収性組成物および上記電波吸収体について、更に詳細に説明する。
<磁性粉体>
 上記電波吸収性組成物および上記電波吸収体は、磁性粉体として、以下に詳述する表面処理剤で表面処理された置換型六方晶フェライトの粉体を含む。表面処理剤で表面処理された置換型六方晶フェライトの粉体は、表面処理剤で被覆された置換型六方晶フェライトの粉体ということもできる。表面処理剤で表面処理された置換型六方晶フェライトの粉体は、粉体を構成する少なくとも一部の粒子の少なくとも一部の表面が、表面処理剤によって被覆されている。例えば、電波吸収体に表面処理剤で表面処理された磁性粉体が含まれていることは、電波吸収体から切り出した切片試料を公知の方法によって分析することにより確認することができる。または、電波吸収体もしくは電波吸収性組成物から公知の方法によって磁性粉体を採取し、採取された磁性粉体を、質量分析、ガスクロマトグラフィー等の公知の方法によって分析することによって確認することができる。
(置換型六方晶フェライトの粉体)
 上記磁性粉体は、以下に詳述する表面処理剤で表面処理された置換型六方晶フェライトの粉体である。本発明および本明細書において、「六方晶フェライトの粉体」とは、X線回折分析によって、主相として六方晶フェライト型の結晶構造が検出される磁性粉体をいうものとする。主相とは、X線回折分析によって得られるX線回折スペクトルにおいて最も高強度の回折ピークが帰属する構造をいう。例えば、X線回折分析によって得られるX線回折スペクトルにおいて最も高強度の回折ピークが六方晶フェライト型の結晶構造に帰属される場合、六方晶フェライト型の結晶構造が主相として検出されたと判断するものとする。X線回折分析によって単一の構造のみが検出された場合には、この検出された構造を主相とする。六方晶フェライト型の結晶構造は、構成原子として、少なくとも鉄原子、二価金属原子および酸素原子を含む。無置換型六方晶フェライトにおいては、六方晶フェライトの結晶構造を構成する原子が、鉄原子、二価金属原子および酸素原子のみである。これに対し、置換型六方晶フェライトは、六方晶フェライトの結晶構造を構成する原子として、鉄原子、二価金属原子および酸素原子とともに、1種以上の他の原子を含む。この1種以上の他の原子は、通常、六方晶フェライトの結晶構造において鉄の一部を置換する原子である。二価金属原子とは、イオンとして二価のカチオンになり得る金属原子であり、ストロンチウム原子、バリウム原子、カルシウム原子等のアルカリ土類金属原子、鉛原子等を挙げることができる。本発明および本明細書において、「六方晶ストロンチウムフェライトの粉体」とは、六方晶フェライトの結晶構造に含まれる主な二価金属原子がストロンチウム原子であるものをいう。主な二価金属原子とは、六方晶フェライトの結晶構造に含まれる二価金属原子の中で、原子%基準で最も多くを占める二価金属原子をいうものとする。ただし、上記の二価金属原子には、希土類原子は包含されないものとする。本発明および本明細書における「希土類原子」は、スカンジウム原子(Sc)、イットリウム原子(Y)、およびランタノイド原子からなる群から選択される。ランタノイド原子は、ランタン原子(La)、セリウム原子(Ce)、プラセオジム原子(Pr)、ネオジム原子(Nd)、プロメチウム原子(Pm)、サマリウム原子(Sm)、ユウロピウム原子(Eu)、ガドリニウム原子(Gd)、テルビウム原子(Tb)、ジスプロシウム原子(Dy)、ホルミウム原子(Ho)、エルビウム原子(Er)、ツリウム原子(Tm)、イッテルビウム原子(Yb)、およびルテチウム原子(Lu)からなる群から選択される。
 置換型六方晶フェライトは、六方晶フェライトの結晶構造を構成する原子として、鉄原子、二価金属原子および酸素原子とともに、1種以上の他の原子を含む。かかる原子としては、Al、GaおよびInからなる群から選ばれる1種以上の三価金属原子、MnとTi、CoとTi、ZnとTi等の二価と四価の金属原子の組み合わせを挙げることができる。置換型六方晶フェライトは、好ましくは置換型六方晶ストロンチウムフェライトであることができる。
 一形態では、上記磁性粉体は、以下に詳述する表面処理剤で表面処理されたマグネトプランバイト型(一般に「M型」と呼ばれる。)の置換型六方晶フェライトの粉体であることができる。マグネトプランバイト型の六方晶フェライトは、鉄を置換する原子を含まない場合、組成式:AFe1219により表される組成を有する。ここでAは、Sr、Ba、CaおよびPbからなる群から選ばれる少なくとも1種の原子を表すことができ、これらの2種以上が任意の割合で含まれる態様も包含される。
 電波吸収性能の観点から好ましい六方晶フェライトとしては、マグネトプランバイト型の六方晶フェライトの鉄原子の一部がアルミニウム原子に置換された置換型のマグネトプランバイト型六方晶フェライトを挙げることができる。そのような六方晶フェライトの一態様としては、下記一般式1で表される組成を有する置換型六方晶フェライトを挙げることができる。
        一般式1:AFe(12-x)Al19
 一般式1中、Aは、Sr、Ba、CaおよびPbからなる群から選ばれる1種以上の原子(以下、「A原子」とも記載する。)を表し、1種のみであってもよく、2種以上が任意の割合で含まれていてもよく、粉体を構成する粒子間の組成の均一性向上の観点からは1種のみであることが好ましい。
 高周波数帯域での電波吸収性能の観点からは、式1におけるAは、Sr、BaおよびCaからなる群から選ばれる1種以上の原子であることが好ましく、Srであることがより好ましい。
 式1中、xは、1.50≦x≦8.00を満たす。高周波数帯域での電波吸収性能の観点から、xは1.50以上であり、1.50超であることがより好ましく、2.00以上であることが更に好ましく、2.00超であることが一層好ましい。また、磁気特性の観点から、xは8.00以下であり、8.00未満であることが好ましく、6.00以下であることがより好ましく、6.00未満であることがより好ましい。
 式1で表されるマグネトプランバイト型の置換型六方晶フェライトの具体例としては、SrFe(9.58)Al(2.42)19、SrFe(9.37)Al(2.63)19、SrFe(9.27)Al(2.73)19、SrFe(9.85)Al(2.15)19、SrFe(10.00)Al(2.00)19、SrFe(9.74)Al(2.26)19、SrFe(10.44)Al(1.56)19、SrFe(9.79)Al(2.21)19、SrFe(9.33)Al(2.67)19、SrFe(7.88)Al(4.12)19、SrFe(7.04)Al(4.96)19、SrFe(7.37)Al(4.63)19、SrFe(6.25)Al(5.75)19、SrFe(7.71)Al(4.29)19、Sr(0.80)Ba(0.10)Ca(0.10)Fe(9.83)Al(2.17)19、BaFe(9.50)Al(2.50)19、CaFe(10.00)Al(2.00)19、PbFe(9.00)Al(3.00)19等が挙げられる。また、具体例としては、後述の表1に示されている組成を有する置換型六方晶ストロンチウムフェライトも挙げられる。六方晶フェライトの組成は、高周波誘導結合プラズマ発光分光分析によって確認することができる。確認方法の具体例としては、後述の実施例に記載の方法を挙げることができる。または、電波吸収体を切断する等して断面を露出させた後、露出した断面について、例えばエネルギー分散型X線分析を行うことによって、電波吸収体に含まれる磁性粉体の組成を確認することもできる。
 一形態では、置換型六方晶フェライトの粉体は、結晶相が単相であることができ、複数の結晶相を含むものであることもでき、結晶相が単相であることが好ましく、結晶相が単相であるマグネトプランバイト型の置換型六方晶フェライトの粉体であることがより好ましい。
 「結晶相が単相である」場合とは、X線回折分析において、任意の結晶構造を示す回折パターンが1種類のみ観察される場合をいう。X線回折分析は、例えば、後述の実施例に記載の方法によって行うことができる。複数の結晶相が含まれる場合、X線回折分析において、任意の結晶構造を示す回折パターンが2種類以上観察される。回折パターンの帰属には、例えば、国際回折データセンター(ICDD:International Centre for Diffraction Data(登録商標))のデータベースを参照できる。例えば、Srを含むマグネトプランバイト型の六方晶フェライトの回折パターンについては、国際回折データセンター(ICDD)の「00-033-1340」を参照できる。ただし、鉄原子の一部がアルミニウム原子等の置換原子により置換されていると、ピーク位置は、置換原子を含まない場合のピーク位置からシフトする。
(置換型六方晶フェライトの粉体の製造方法)
 置換型六方晶フェライトの粉体の製造方法としては、固相法および液相法が挙げられる。固相法は、複数の固体原料を乾式で混合して得られた混合物を焼成することによって六方晶フェライトの粉体を製造する方法である。これに対し、液相法は、溶液を使用する工程を含む。以下に、液相法での置換型六方晶フェライトの粉体の製造方法の一形態について説明する。ただし、以下に記載する製造方法は例示であって、上記電波吸収性組成物および上記電波吸収体に含まれる磁性粉体の製造方法は、下記の例示に限定されるものではない。
 液相法の一態様は、
 鉄原子と、Sr、Ba、CaおよびPbからなる群から選ばれる少なくとも1種の原子と、鉄原子を置換する置換原子の1種以上とを含む溶液から沈殿物を得る工程1と、
 工程1により得られた沈殿物を焼成して焼成体を得る工程2と、
 を含むことができる。以下、各工程について詳細に説明する。
工程1
 工程1では、六方晶フェライトの前駆体を沈殿物として得ることができる。例えば、鉄原子の一部を置換する置換原子としてアルミニウム原子を含む六方晶フェライトの粉体を得るためには、鉄原子とA原子とアルミニウム原子とを溶液中で混合することができる。この場合、工程1により得られる沈殿物は、水酸化鉄、水酸化アルミニウム、鉄原子とアルミニウム原子とA原子との複合水酸化物等であると推測される。
 工程1において沈殿物を得るための溶液は、少なくとも水を含む溶液であることが好ましく、水溶液であることがより好ましい。例えば、各種原子を含む水溶液(以下、「原料水溶液」とも記載する。)とアルカリ水溶液とを混合することにより、沈殿物を生成することができる。また、工程1は、沈殿物を固液分離する工程を含むことができる。
 原料水溶液は、例えば、Fe塩、Al塩およびA原子の塩を含む水溶液であることができる。これら塩は、例えば、硝酸塩、硫酸塩、塩化物等の水溶性の無機酸塩であることができる。
 Fe塩の具体例としては、塩化鉄(III)六水和物〔FeCl・6HO〕、硝酸鉄(III)九水和物〔Fe(NO・9HO〕等が挙げられる。
 Al塩の具体例としては、塩化アルミニウム六水和物〔AlCl・6HO〕、硝酸アルミニウム九水和物〔Al(NO・9HO〕等が挙げられる。
 A原子の塩は、Sr塩、Ba塩、Ca塩およびPb塩からなる群から選ばれる1種以上であることができる。
 Sr塩の具体例としては、塩化ストロンチウム六水和物〔SrCl・6HO〕、硝酸ストロンチウム〔Sr(NO〕、酢酸ストロンチウム0.5水和物〔Sr(CHCOO)・0.5HO〕等が挙げられる。
 Ba塩の具体例としては、塩化バリウム二水和物〔BaCl・2HO〕、硝酸バリウム〔Ba(NO〕、酢酸バリウム〔(CHCOO)Ba〕等が挙げられる。
 Ca塩の具体例としては、塩化カルシウム二水和物〔CaCl・2HO〕、硝酸カルシウム四水和物〔Ca(NO・4HO〕、酢酸カルシウム一水和物〔(CHCOO)Ca・HO〕等が挙げられる。
 Pb塩の具体例としては、塩化鉛(II)〔PbCl〕、硝酸鉛(II)〔Pb(NO〕等が挙げられる。
 ただし上記は例示であって、他の塩も使用可能である。原料水溶液を調製するための各種塩の混合比は、所望の六方晶フェライト組成に応じて決定すればよい。
 アルカリ水溶液としては、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液等が挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は、例えば、0.1mol/L~10mol/Lとすることができる。ただし、沈殿物を生成できればよく、アルカリ水溶液の種類および濃度は上記例示に限定されない。
 原料水溶液とアルカリ水溶液とは、単に混合すればよい。原料水溶液とアルカリ水溶液とは、全量を一度に混合してもよく、原料水溶液とアルカリ水溶液とを徐々に混合してもよい。また、原料水溶液およびアルカリ水溶液のいずれか一方に、他方を徐々に添加しながら混合してもよい。原料水溶液とアルカリ水溶液とを混合する方法は、特に限定されず、例えば、撹拌により混合する方法が挙げられる。撹拌手段も特に限定されず、一般的な撹拌手段を用いることができる。撹拌時間は、沈殿物が生成できる時間に設定すればよく、原料水溶液の組成、使用する撹拌手段の種類等に応じて適宜設定できる。
 原料水溶液とアルカリ水溶液とを混合する際の温度(液温)は、例えば、突沸を防ぐ観点から、100℃以下であることが好ましく、沈殿物の生成反応を良好に進行させる観点から、95℃以下であることがより好ましく、15℃以上92℃以下であることが更に好ましい。温度を調整する手段としては、一般的な加熱装置、冷却装置等を用いることができる。原料水溶液とアルカリ水溶液との混合により得られる水溶液の液温25℃におけるpHは、例えば、沈殿物をより得やすいとの観点から、5~13の範囲であることが好ましく、6~12の範囲であることがより好ましい。pHを調整することによって置換原子の含有率を制御することができる。
 沈殿物の生成後、得られた沈殿物を固液分離する場合、その方法は特に限定されず、デカンテーション、遠心分離、ろ過(吸引ろ過、加圧ろ過等)等の方法が挙げられる。例えば、固液分離を遠心分離により行う場合、遠心分離の条件は、特に限定されず、例えば、回転数2000rpm(revolutions per minute)以上で、3分間~30分間遠心分離することができる。また、遠心分離は、複数回行ってもよい。
工程2
 工程2は、工程1により得られた沈殿物を焼成する工程である。
 工程2では、工程1により得られた沈殿物を焼成することによって、六方晶フェライトの前駆体を六方晶フェライトに転換することができる。焼成は、加熱装置を用いて行うことができる。加熱装置は、特に限定されるものではなく、電気炉等の公知の加熱装置、製造ラインに合わせて作製した焼成装置等を用いることができる。焼成は、例えば大気雰囲気下で行うことができる。焼成温度および焼成時間は、六方晶フェライトの前駆体を六方晶フェライトに転換可能な範囲に設定すればよい。焼成温度は、例えば、900℃以上であることが好ましく、900℃~1400℃の範囲であることがより好ましく、1000℃~1200℃の範囲であることが更に好ましい。焼成時間は、例えば、1時間~10時間の範囲であることが好ましく、2時間~6時間の範囲であることがより好ましい。また、工程1により得られた沈殿物を、焼成前に乾燥させることもできる。乾燥手段は、特に限定されず、例えば、オーブン等の乾燥機が挙げられる。乾燥温度は、例えば、50℃~200℃の範囲であることが好ましく、70℃~150℃の範囲であることがより好ましい。乾燥時間は、例えば、2時間~50時間の範囲であることが好ましく、5時間~30時間の範囲であることがより好ましい。なお上記の焼成温度および乾燥温度は、焼成または乾燥を行う装置の内部雰囲気温度であることができる。
 上記工程2によって得られる焼成体は、六方晶フェライトの前駆体が転換して六方晶フェライトの結晶構造を示す塊状の焼成体または粉体状の焼成体であることができる。更に、この焼成体を粉砕する工程を実施することもできる。粉砕は、乳鉢および乳棒、粉砕機(カッターミル、ボールミル、ビーズミル、ローラーミル、ジェットミル、ハンマーミル、アトライター等)等の公知の粉砕手段によって行うことができる。例えば、メディアを用いる粉砕の場合、メディアの粒径(所謂メディア径)は、例えば、0.1mm~5.0mmの範囲であることが好ましく、0.5mm~3.0mmの範囲であることがより好ましい。「メディア径」とは、球状メディアの場合、無作為に選択した複数個のメディア(例えば、ビーズ)の直径の算術平均を意味する。非球状メディア(例えば、非球状ビーズ)の場合、透過型電子顕微鏡(TEM;Transmission Electron Microscope)または走査型電子顕微鏡(SEM;Scanning Electron Microscope)の観察像から求められる、無作為に選択した複数個のメディアの円相当径の算術平均を意味する。メディアの材質としては、例えば、ガラス、アルミナ、スチール、ジルコニア、セラミック等を挙げることができる。また、カッターミルにより粉砕を行う場合には、粉砕する焼成体の量、使用するカッターミルのスケール等に応じて粉砕条件を決定することができる。例えば、一態様では、カッターミルの回転数は、5000~25000rpm程度とすることができる。
(表面処理剤)
 上記置換型六方晶フェライトの粉体は、表面処理剤で表面処理されている。ここで表面処理剤は、以下に詳述するケイ素系化合物、ジルコニウム系化合物およびアルミニウム系化合物からなる群から選択される1種以上の化合物である。磁性粉体として、かかる表面処理剤で表面処理された置換型六方晶フェライトの粉体を使用することにより、電波吸収体の電波吸収性能、耐摩耗性および接着性の向上が可能になることが、本発明者らの鋭意検討の結果、新たに見出された。
 耐摩耗性に関しては、バインダーとともに電波吸収体に含まれる磁性粉体として、以下に詳述する表面処理剤で表面処理された置換型六方晶フェライトの粉体を使用することにより、磁性粉体を構成する粒子とバインダーとの相溶性および接合強度を高めることができ、摩擦力を受けても電波吸収体から磁性粉体の粒子が脱落することまたは部分的に削れることを抑制することが可能になると推察される。これにより、電波吸収体の耐摩耗性の向上が可能になると考えられる。
 また、接着性に関しては、磁性粉体の表面を被覆している表面処理剤または余剰の表面処理剤の官能基が、接着剤と化学的に結合し得ることが、接着性向上につながると考えられる。
 ただし、以上は推察であって、本発明を限定するものではない。
 以下に記載する表面処理剤として使用可能な各種化合物に含まれる基の少なくとも一部は、反応性を有する基であり得る。反応性を有する基とは、他の基または結合と反応することができ、反応後に反応前とは異なる構造を取る基をいうものとする。表面処理剤は、表面処理後、置換型六方晶フェライトの粉末を被覆している状態で、反応性基が反応後の形態で存在することもあり、そのような態様も本発明に包含される。
ケイ素系化合物
 上記磁性粉体の表面処理剤の一形態であるケイ素系化合物は、下記一般式2で表されるケイ素系化合物である。
        一般式2:(X-L)-Si-Z4-m
 一般式2中、Xは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、脂環基、複素環基、アミノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、アクリルアミド基、スルファニル基、イソシアネート基、チオシアネート基、ウレイド基、シアノ基、酸無水物基、アジド基、カルボキシ基、アシル基、チオカルバモイル基、リン酸基、ホスファニル基、スルホン酸基またはスルファモイル基を表す。
 Lは、単結合、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、-O-、-S-、-NR-、カルボニル結合、チオカルボニル結合およびスルホニル基からなる群から選ばれる1種の2価の基もしくは結合、またはこれらの2種以上を組合せてなる2価の基を表し、
 Rは、水素原子または置換基を表す。
 Zは、ヒドロキシ基、アルコキシ基またはアルキル基を表す。
 mは、1~3の範囲の整数である。
 Xで表される基ならびにLで表される基および結合は、置換基を有することもでき、有さないこと(即ち無置換であること)もできる。置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、スルファニル基、チオシアネート基、ウレイド基、酸無水物基、カルボキシ基、アシル基、カルバモイル基等を挙げることができる。置換基を有する基および結合について、炭素数とは、置換基以外の部分の炭素数をいうものとする。「X-L-」で表される構造において、Xに含まれる部分ともLに含まれる部分とも解することができる部分が存在する場合には、かかる部分は、Xに含まれる部分として解するものとする。
 mが2または3である場合、一般式2に含まれる複数のXは、一形態では同一であることができ、他の一形態では異なることもできる。この点は、Lについても同様である。また、「4-m」が2または3である場合のZについても、同様である。
 本発明および本明細書において、一般式2で表されるケイ素系化合物には、一般式2で表される化合物の塩の形態も包含されるものとする。塩の形態としては、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩等を挙げることができる。
 以下、一般式2について、更に詳細に説明する。
 一般式2中、Xは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、脂環基、複素環基、アミノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、アクリルアミド基、スルファニル基、イソシアネート基、チオシアネート基、ウレイド基、シアノ基、酸無水物基、アジド基、カルボキシ基、アシル基、チオカルバモイル基、リン酸基、ホスファニル基、スルホン酸基またはスルファモイル基を表す。
 Xとして採り得るアルキル基、アルケニル基およびアリール基の炭素数は、それぞれ独立に、1~30の範囲であることが好ましく、1~25の範囲であることがより好ましく、1~20の範囲であることが更に好ましく、1~15の範囲であることが一層好ましい。本発明および本明細書において、特記しない限り、「アルキル基」には、シクロアルキル基は包含されないものとする。アルキル基に、直鎖アルキル基および分岐アルキル基が包含される。
 Xとして採り得る脂環基は、シクロアルキル基、シクロアルケニル基およびシクロアルキニル基のいずれでもよい。シクロアルキル基の炭素数は、3~20の範囲であることが好ましく、4~15の範囲であることがより好ましく、5~10の範囲であることが更に好ましい。シクロアルケニル基およびシクロアルキニル基の炭素数は、それぞれ独立に、6~20の範囲であることが好ましく、6~15の範囲であることがより好ましく、6~10の範囲であることが更に好ましく、6であることが一層好ましい。
 Xとして採り得る複素環基を構成する複素環は、飽和または不飽和の脂肪族複素環でも芳香族複素環でもよく、単環でも縮合環でもよい。また、橋かけ環でもよい。複素環が有するヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子および硫黄原子が挙げられる。1つの複素環に含まれるヘテロ原子の数は、特に制限されず、例えば、1~3個であることが好ましく、1個または2個であることがより好ましい。複素環の炭素数は2~10の範囲であることが好ましく、4または5であることがより好ましい。複素環は3~7員環であることが好ましく、3~6員環であることがより好ましく、3~5員環であることが更に好ましい。複素環の具体例として、エポキシ環、3,4-エポキシシクロヘキサン環、フラン環およびチオフェン環が挙げられる。
 Xとして採り得るアミノ基は、1級アミノ基、2級アミノ基または3級アミノ基であることができ、1級アミノ基が好ましい。メルカプト基は、水素原子とスルフィド結合(-S-)との組み合わせからなる基、即ち-SHである。
 Xとして採り得る酸無水物基としては、カルボン酸無水物の構造を有する1価の基が好ましく、例えば、3,4-ジヒドロ-2,5-フランジオニル等の無水マレイン酸基、無水コハク酸基、無水グルタル酸基、無水アジピン酸基および無水シトラコン酸基が挙げられる。
 Xとして採り得るアシル基の炭素数は1~40の範囲であることが好ましく、1~30の範囲であることがより好ましく、1~20の範囲であることが更に好ましく、2~15の範囲であることが一層好ましい。本発明および本明細書において、「アシル基」には、ホルミル基、カルバモイル基、アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基およびアリールカルボニル基が包含される。アルケニルカルボニル基としては、好ましくは、(メタ)アクリロイル基を挙げることができる。本発明および本明細書において、「(メタ)アクリロイル基」には、アクリロイル基とメタクリロイル基とが包含される。
 Lとして採り得るアルキレン基は、直鎖アルキレン基および分岐アルキレン基のいずれでもよい。アルキレン基の炭素数は、1~30の範囲であることが好ましく、1~25の範囲であることがより好ましく、1~20の範囲であることが更に好ましく、1~15の範囲であることが一層好ましい。アルキレン基の具体例として、メチレン基、エチレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、シクロへキシレン基、へプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基およびウンデシレン基が挙げられる。
 Lとして採り得るアルケニレン基は、直鎖アルケニレン基および分岐アルケニレン基のいずれでもよい。アルケニレン基の炭素数は、2~20の範囲であることが好ましく、2~15の範囲であることがより好ましく、2~10の範囲であることが更に好ましく、2~6の範囲であることが一層好ましい。アルケニレン基の具体例として、エテニレン基およびプロぺニレン基が挙げられる。
 Lとして採り得るアルキニレン基は、直鎖アルキニレン基および分岐アルキニレン基のいずれでもよい。アルキニレン基の炭素数は、2~20の範囲であることが好ましく、2~15の範囲であることがより好ましく、2~10の範囲であることが更に好ましく、2~6の範囲であることが一層好ましい。アルキニレン基の具体例として、エチニレン基およびプロピニレン基が挙げられる。
 Lとして採り得るアリーレン基の炭素数は6~20の範囲であることが好ましく、6~15の範囲であることがより好ましく、6~12の範囲であることが更に好ましく、6~10の範囲であることが一層好ましい。アリーレン基の具体例として、例えば、フェニレン基およびナフチレン基を挙げることができる。
 Lとして採り得る-NR-のRにおける置換基としては、アルキル基(好ましくは炭素数1~12、より好ましくは炭素数1~8)、アルケニル基(好ましくは炭素数2~12、より好ましくは炭素数2~8)、アルキニル基(好ましくは炭素数2~12、より好ましくは炭素数2~8)、アリール基(好ましくは炭素数6~20、より好ましくは炭素数6~10)および複素環基が挙げられる。Rとして採り得る複素環基を構成する複素環としては、Xとして採り得る複素環基を構成する複素環として先に示した複素環を挙げることができ、好ましい複素環基もXとして採り得る複素環基について記載した通りである。-NR-としては、例えば、-NH-が挙げられる。
 Lが、単結合、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、-O-、-S-、-NR-、カルボニル結合、チオカルボニル結合およびスルホニル基からなる群から選ばれる2種以上を組合せてなる2価の基(以下、「Lとして採り得る組合わせてなる基」とも記載する。)を表す場合、Lとして採り得る組合わせてなる基を構成する上記の基および結合の数は、2~8の範囲であることが好ましく、2~6の範囲であることがより好ましく、2~4の範囲であることが更に好ましい。
 また、Lとして採り得る組合わせてなる基の分子量は、20~1000の範囲であることが好ましく、30~500の範囲であることがより好ましく、40~200の範囲であることが更に好ましい。
 Lとして採り得る組合わせてなる基としては、例えば、エステル結合、チオエステル結合、カーボネート結合、チオカーボネート結合、アミド結合、チオアミド結合、ウレア結合、チオウレア結合、カルバメート基、スルホンアミド結合、アリーレン基-アルキレン基、-O-アルキレン基、アミド結合-アルキレン基、-S-アルキレン基、アルキレン基-O-アミド結合-アルキレン基、アルキレン基-アミド結合-アルキレン基、アルケニレン基-アミド結合-アルキレン基、アルキレン基-エステル結合-アルキレン基、アリーレン基-エステル結合-アルキレン基、-(アルキレン基-O)-、アルキレン基-O-(アルキレン基-O)-アルキレン基(「(アルキレン基-O)」はいずれも繰り返し単位)、アリーレン基-スルホニル基-O-アルキレン基およびエステル結合-アルキレン基が挙げられる。
 Zとして採り得るアルコキシ基を構成するアルキル基に関しては、「アルキル基」には、シクロアルキル基も包含される。Zとして採り得るアルコキシ基を構成するアルキル基は、直鎖アルキル基、分岐アルキル基およびシクロアルキル基のいずれでもよく、これらの形態を組合わせて有してもよい。Zとして取り得るアルキル基は、直鎖アルキル基であることが好ましい。
 Zとして採り得るアルコキシ基を構成するアルキル基の炭素数は、1~15の範囲であることが好ましく、1~10であることがより好ましく、1~5であることが更に好ましく、1または2であることが一層好ましい。アルコキシ基を構成するアルキル基の具体例として、メチル基、エチル基、プロピル基、t-ブチル基、ペンチル基およびシクロヘキシル基が挙げられる。
 Zとして採り得るアルキル基としては、Zとして採り得るアルコキシ基を構成するアルキル基を挙げることができ、好ましいアルキル基についてもZとして採り得るアルコキシ基を構成するアルキル基について記載した通りである。
 一般式2中、XまたはLと、Zの少なくともいずれか1つとは、互いに連結して環を形成してもよい。この環の環構成原子数は3~10の範囲であることが好ましく、4~8の範囲であることがより好ましく、5または6であることが更に好ましい。
 一般式2中、X-Lに、アミノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、エーテル基、チオエーテル基、カーボネート基、イソシアネート基、カルボキシ基および酸無水物基からなる群から選ばれる1種以上の基を含むことが好ましい。「エーテル基」は、エーテル結合(-O-)を含む基である。「チオエーテル基」は、スルフィド結合(-S-)を含む基である。「カーボネート基」は、エーテル結合(-O-)とエステル結合との組み合わせからなる基、即ち-O-(C=O)-O-である。
 一形態では、一般式2中、X-Lに、ヒドロキシ基、エーテル基、チオエーテル基、カーボネート基、イソシアネート基、カルボキシ基および酸無水物基からなる群から選ばれる1種以上の基を含むことが好ましい。
 また、一形態では、一般式2中、Xが、イソシアネート基、カルボキシ基または酸無水物基を表すことが好ましい。更に、Lが、一般式2中、アルキレン基、-O-、エステル結合もしくはアミド結合を表すか、またはアルキレン基、-O-、エステル結合およびアミド結合からなる群から選ばれる2種以上を組み合わせてなる2価の基もしくは結合であることがより好ましい。
 一形態では、一般式2中、Zの少なくとも2つがアルコキシ基およびヒドロキシ基からなる群から選ばれることが好ましく、Zのすべてがアルコキシ基およびヒドロキシ基からなる群から選ばれることがより好ましい。
 一般式2で表される化合物の具体例としては、後述の実施例で使用されている各種化合物を挙げることができる。また、一般式2で表される化合物の具体例としては、下記化合物を挙げることもできる。ただし、本発明は、これら具体例に限定されるものではない。
 メチルトリアセトキシシラン、
 エチルトリエトキシシラン、
 メチルトリエトキシシラン、
 メチルトリメトキシシラン、
 n-プロピルトリメトキシシラン、
 イソプロピルトリメトキシシラン、
 n-ヘキシルトリメトキシシラン、
 n-ドデシルトリエトキシシラン、
 n-オクチルトリエトキシシラン、
 n-オクタデシルトリエトキシシラン、
 ペンチルトリエトキシシラン、
 ジアセトキシジメチルシラン、
 ジエトキシジメチルシラン、
 ジメトキシジメチルシラン、
 ジメトキシジフェニルシラン、
 ジメトキシメチルフェニルシラン、
 アリルトリエトキシシラン、
 ビニルジエトキシメチルシラン、
 ビニルトリエトキシシラン、
 ビニルトリス(2-メトキシエトキシ)シラン、
 フェニルトリメトキシシラン、
 フェニルトリエトキシシラン、
 p-スチリルトリエトキシシラン、
 ナフチルトリメトキシシラン、
 アントリルトリメトキシシラン、
 ベンジルトリメトキシシラン、
 3-グリシジルオキシプロピル(ジメトキシ)メチルシラン、
 3-グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、
 ジエトキシ(3-グリシジルオキシプロピル)メチルシラン、
 3-(2-アミノエチルアミノ)プロピルジメトキシメチルシラン、
 3-(2-アミノエチルアミノ)プロピルトリエトキシシラン、
 3-(2-アミノエチルアミノ)プロピルトリメトキシシラン、
 3-アミノプロピルジエトキシメチルシラン、
 3-アミノプロピルトリエトキシシラン、
 3-アミノプロピルトリメトキシシラン、
 (3-メルカプトプロピル)トリエトキシシラン、
 (3-メルカプトプロピル)トリメトキシシラン、
 2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、
 3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、
 3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン
 3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
 トリエトキシ-1H,1H,2H,2H-トリデカフルオロ-n-オクチルシラン、
 2-シアノエチルトリエトキシシラン、
 チエニルトリメトキシシラン、
 ピリジルトリメトキシシラン、
 フリルトリエトキシシラン、
 N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、
 3-アミノプロピルトリメトキシシラン、
 3-アミノプロピルトリエトキシシラン、
 N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン。
ジルコニウム系化合物
 上記磁性粉体の表面処理剤の一形態であるジルコニウム系化合物は、下記一般式3で表されるジルコニウム系化合物である。
      一般式3: R31 n3-Zr-(R324-n3
 一般式3中、R31は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アシル基、アリール基または不飽和脂肪族基を表す。
 R32は、-OR33、アセトナト構造またはアセタト構造を表し、
 R33は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アシル基、アルケニル基、アリール基、ホスホネート基または-SOS3を表し、RS3は置換基を表す。
 n3は、0~3の範囲の整数である。
 n3が2または3である場合、一般式3に含まれる複数のR31は、一形態では同一であることができ、他の一形態では異なることもできる。この点は、「4-n3」が2、3または4である場合のR32についても、同様である。
 本発明および本明細書において、一般式3で表されるジルコニウム系化合物には、一般式3で表される化合物の塩の形態も包含されるものとする。塩の形態としては、アンモニウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩等を挙げることができる。
 一般式3中、R31として採り得るアルキル基は、直鎖アルキル基または分岐アルキル基であることができる。このアルキル基の炭素数は、1~20の範囲であることが好ましく、1~15の範囲であることがより好ましく、1~10の範囲であることが更に好ましく、1~8の範囲であることが一層好ましい。上記アルキル基は、無置換アルキル基であってもよく、置換アルキル基であることもできる。置換アルキル基としては、アラルキル基を挙げることができる。アラルキル基の炭素数は、置換基を含む部分の炭素数として、7~30の範囲であることが好ましい。R31として採り得るアルキル基の好ましい具体例として、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-デシル基、n-トリデシル基、n-オクタデシル基、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。
 R31として採り得るシクロアルキル基の炭素数は、3~20の範囲であることが好ましく、3~15の範囲であることがより好ましく、3~10の範囲であることが更に好ましく、3~8の範囲であることが一層好ましい。このシクロアルキル基の好ましい具体例としては、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
 R31として採り得るアシル基の炭素数は、2~40の範囲であることが好ましく、2~30の範囲であることがより好ましく、2~20の範囲であることが更に好ましく、2~18の範囲であることが一層好ましい。
 R31として採り得るアリール基の炭素数は、6~20の範囲であることが好ましく、6~15の範囲であることがより好ましく、6~12の範囲であることが更に好ましく、6~10の範囲であることが一層好ましい。このアリール基の好ましい具体例としては、例えば、フェニル基、ナフチル等が挙げられ、フェニル基がより好ましい。
 R31として採り得る不飽和脂肪族基は、炭素-炭素不飽和結合の数が1~5の範囲であることが好ましく、1~3の範囲であることがより好ましく、1または2であることが更に好ましく、1であることが一層好ましい。不飽和脂肪族基はヘテロ原子を含んでもよく、炭化水素基であることも好ましい。不飽和脂肪族基が炭化水素基の場合、炭素数は2~20の範囲であることが好ましく、2~15の範囲であることがより好ましく、2~10の範囲であることが更に好ましく、2~8の範囲であることが一層好ましい。不飽和脂肪族基は、アルケニル基またはアルキニル基であることがより好ましい。
 R31は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であることが好ましく、アルキル基またはシクロアルキル基であることがより好ましい。
 一般式3中、R31が2つ以上含まれる場合、2つのR31が互いに連結して環を形成していてもよい。
 一般式3中、R32は、-OR33、アセトナト構造またはアセタト構造を表し、R33は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アシル基、アルケニル基、アリール基、ホスホネート基(ホスホン酸基とも呼ばれる。)または-SOS3を表す。RS3は置換基を表す。
 R33として採り得るアルキル基、シクロアルキル基、アシル基およびアリール基は、それぞれ、R31として採り得るアルキル基、シクロアルキル基、アシル基およびアリール基と同義であり、各基の好ましい形態も同様である。また、R33として採り得るアルキル基は、置換基としてアミノ基(1級アミノ基、2級アミノ基または3級アミノ基)を有することも好ましい。
 R33として採り得るアルケニル基は、直鎖アルケニル基または分岐アルケニル基であることができる。このアルケニル基の炭素数は、好ましくは2~18の範囲であり、より好ましくは2~7の範囲であり、更に好ましくは2~5の範囲である。このアルケニル基の好ましい具体例として、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等が挙げられる。R33として採り得るアルケニル基は、置換アルケニル基であることが好ましい。置換アルケニル基が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、水酸基、オキソ基(=O)、アリール基、アルコキシアルキルオキシ基、アルコキシカルボニルアルキルオキシ基等を挙げることができる。
 R33として採り得るホスホネート基は、-P(=O)(-ORP31)ORP32で表される基である。RP31およびRP32は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、この置換基は、アルキル基またはホスホネート基であることが好ましい。RP31及びRP32として採り得るアルキル基は、R31として採り得るアルキル基と同義であり、アルキル基の好ましい形態も同様である。RP31またはRP32として採り得るホスホネート基は、R32として採り得るホスホネート基と同義であり、好ましい形態も同様である。RP31および/またはRP32がホスホネート基の場合、このホスホネート基を構成するRP31および/またはRP32はアルキル基であることが好ましい。
 R33として採り得るホスホネート基は、RP31およびRP32がそれぞれ独立にアルキル基であるか、または、RP31が水素原子で、RP32がホスホネート基であることが好ましい。
 ホスホネート基はホスファイト基(亜リン酸基とも呼ばれる。)と互変異性であるため、本発明および本明細書において、ホスホネート基は、ホスファイト基を包含する意味で用いられる。
 R33として採り得る-SOS3において、置換基RS3としては、アルキル基またはアリール基が好ましい。RS3として採り得るアルキル基およびアリール基の好ましい形態としては、それぞれ、R31として採り得るアルキル基およびアリール基の好ましい形態を挙げることができる。RS3は、アルキル基を置換基として有するフェニル基(アルキル置換フェニル基)であることが好ましい。この置換基としてのアルキル基の好ましい形態は、R31として採り得るアルキル基の好ましい形態と同様である。
 一般式3について、「アセトナト構造」とは、アセトンまたはアセトンが置換基を有する構造の化合物から水素イオンが1つ除かれてZr原子に配位している構造を意味する。このZr原子に配位する配位原子は、通常は酸素原子である。このアセトナト構造は、アセチルアセトン構造(「CH-C(=O)-CH-C(=O)-CH」)を基本構造とし、そこから水素イオンが1つ除かれて、酸素原子を配位原子としてZr原子に配位している構造が好ましい。上記の「アセチルアセトン構造を基本構造とする」とは、上記アセチルアセトン構造の他、上記アセチルアセトン構造の水素原子が置換基で置換された構造を含む意味である。少なくとも1つのR32がアセトナト構造を表す具体例として、例えば、実施例について後述する表面処理剤SZ-3およびSZ-6が挙げられる。一形態では、一般式3において、R32の少なくとも1つがアセトナト構造を表すことが好ましい。
 一般式3について、「アセタト構造」とは、酢酸エステルまたは酢酸エステルが置換基(アルキル基を含む)を有する構造の化合物から水素イオンが1つ除かれてZr原子に配位している構造を意味する。このZr原子に配位する配位原子は、通常は酸素原子である。このアセタト構造は、アルキルアセトアセタート構造(「CH-C(=O)-CH-C(=O)-O-Ralk(Ralkはアルキル基を表す。)」)を基本構造とし、そこから水素イオンが1つ除かれて、酸素原子を配位原子としてZr原子に配位している構造が好ましい。上記の「アルキルアセトアセタート構造を基本構造とする」とは、上記アルキルアセトアセタート構造の他、上記アセチルアセトン構造の水素原子が置換基で置換された構造を含む意味である。少なくとも1つのR32がアセタト構造を表す具体例として、例えば、実施例について後述する表面処理剤SZ-7が挙げられる。また、一形態では、一般式3において、R32の少なくとも1つがアセタト構造を表すことが好ましい。
 一般式3中、R32が2つ以上含まれる場合、2つのR32は互いに連結して環を形成していてもよい。
 n3は、0~3の範囲の整数であり、0または1であることが好ましく、より好ましくは0である。
 一般式3で表されるジルコニウム系化合物の具体例を以下に示す。ただし、本発明は下記具体例に限定されるものではない。
 テトラ-n-プロポキシジルコニウム(別名 ジルコニウムテトラn-プロポキシド)、
 テトラ-n-ブトキシジルコニウム(別名 ジルコニウムテトラn-ブトキシド)、
 ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、
 ジルコニウムトリブトキシモノアセチルアセトネート、
 ジルコニウムジブトキシビス(アセチルアセトネート)、
 ジルコニウムジブトキシビス(エチルアセトアセテート)、
 ジルコニウムトリブトキシエチルアセトアセテート、
 ジルコニウムモノブトキシアセチルアセトネートビス(エチルアセトアセテート)、
 ジルコニウムトリブトキシモノステアレート(別名 ステアリン酸ジルコニウムトリn-ブトキシド)、
 ステアリン酸ジルコニウム、
 ジルコニウムラクテートアンモニウム塩、
 ジルコニウムモノアセチルアセトネート。
アルミニウム系化合物
 上記磁性粉体の表面処理剤の一形態であるアルミニウム系化合物は、下記一般式4で表されるアルミニウム系化合物である。
      一般式4:R41 n4-Al-(R423-n4
 一般式4中、R41は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アシル基、アリール基または不飽和脂肪族基を表す。
 R42は、-OR43、アセトナト構造またはアセタト構造を表し、
 R43は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アシル基、アルケニル基、アリール基、ホスホネート基または-SOS4を表し、RS4は置換基を表す。
 n4は、0~2の範囲の整数である。
 n4が2である場合、一般式4に含まれる複数のR41は、一形態では同一であることができ、他の一形態では異なることもできる。この点は、「3-n4」が2または3である場合のR42についても、同様である。
 本発明および本明細書において、一般式4で表されるアルミニウム系化合物には、一般式4で表される化合物の塩の形態も包含されるものとする。塩の形態としては、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩等を挙げることができる。
 一般式4中、R41として採り得るアルキル基は、直鎖アルキル基または分岐アルキル基であることができる。このアルキル基の炭素数は、1~20の範囲であることが好ましく、1~15の範囲であることがより好ましく、1~10の範囲であることが更に好ましく、1~8の範囲であることが一層好ましい。上記アルキル基は、無置換アルキル基であってもよく、置換アルキル基であることもできる。置換アルキル基としては、アラルキル基を挙げることができる。アラルキル基の炭素数は、置換基を含む部分の炭素数として、7~30の範囲であることが好ましい。R31として採り得るアルキル基の好ましい具体例として、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、n-デシル基、n-トリデシル基、n-オクタデシル基、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。
 R41として採り得るシクロアルキル基の炭素数は、3~20の範囲であることが好ましく、3~15の範囲であることがより好ましく、3~10の範囲であることが更に好ましく、3~8の範囲であることが一層好ましい。このシクロアルキル基の好ましい具体例としては、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
 R41として採り得るアシル基の炭素数は、2~40の範囲であることが好ましく、2~30の範囲であることがより好ましく、2~20の範囲であることが更に好ましく、2~18の範囲であることが一層好ましい。
 R41として採り得るアリール基の炭素数は、6~20の範囲であることが好ましく、6~15の範囲であることがより好ましく、6~12の範囲であることが更に好ましく、6~10の範囲であることが一層好ましい。このアリール基の好ましい具体例としては、例えば、フェニル基、ナフチル等が挙げられ、フェニル基がより好ましい。
 R41として採り得る不飽和脂肪族基は、炭素-炭素不飽和結合の数が1~5の範囲であることが好ましく、1~3の範囲であることがより好ましく、1または2であることが更に好ましく、1であることが一層好ましい。不飽和脂肪族基はヘテロ原子を含んでもよく、炭化水素基であることも好ましい。不飽和脂肪族基が炭化水素基の場合、炭素数は2~20の範囲であることが好ましく、2~15の範囲であることがより好ましく、2~10の範囲であることが更に好ましく、2~8の範囲であることが一層好ましい。不飽和脂肪族基は、アルケニル基またはアルキニル基であることがより好ましい。
 R41は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であることが好ましく、アルキル基またはシクロアルキル基であることがより好ましい。
 一般式4中、R41が2つ以上含まれる場合、2つのR41が互いに連結して環を形成していてもよい。
 一般式4中、R42は、-OR43、アセトナト構造またはアセタト構造を表し、R43は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アシル基、アルケニル基、アリール基、ホスホネート基(ホスホン酸基とも呼ばれる。)または-SOS4を表す。RS4は置換基を表す。
 R43として採り得るアルキル基、シクロアルキル基、アシル基およびアリール基は、それぞれ、R41として採り得るアルキル基、シクロアルキル基、アシル基およびアリール基と同義であり、各基の好ましい形態も同様である。また、R43として採り得るアルキル基は、置換基としてアミノ基(1級アミノ基、2級アミノ基または3級アミノ基)を有することも好ましい。
 R43として採り得るアルケニル基は、直鎖アルケニル基または分岐アルケニル基であることができる。このアルケニル基の炭素数は、好ましくは2~18の範囲であり、より好ましくは2~7の範囲であり、更に好ましくは2~5の範囲である。このアルケニル基の好ましい具体例として、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等が挙げられる。R43として採り得るアルケニル基は、置換アルケニル基であることが好ましい。置換アルケニル基が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、水酸基、オキソ基(=O)、アリール基、アルコキシアルキルオキシ基、アルコキシカルボニルアルキルオキシ基等を挙げることができる。
 R43として採り得るホスホネート基は、-P(=O)(-ORP41)ORP42で表される基である。RP41およびRP42は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、この置換基は、アルキル基またはホスホネート基であることが好ましい。RP41及びRP42として採り得るアルキル基は、R41として採り得るアルキル基と同義であり、アルキル基の好ましい形態も同様である。RP41またはRP42として採り得るホスホネート基は、R43として採り得るホスホネート基と同義であり、好ましい形態も同様である。RP41および/またはRP42がホスホネート基の場合、このホスホネート基を構成するRP41および/またはRP42はアルキル基であることが好ましい。
 R43として採り得るホスホネート基は、RP41およびRP42がそれぞれ独立にアルキル基であるか、または、RP41が水素原子で、RP42がホスホネート基であることが好ましい。
 R43として採り得る-SOS4において、置換基RS4としては、アルキル基またはアリール基が好ましい。RS4として採り得るアルキル基およびアリール基の好ましい形態としては、それぞれ、R41として採り得るアルキル基およびアリール基の好ましい形態を挙げることができる。RS4は、アルキル基を置換基として有するフェニル基(アルキル置換フェニル基)であることが好ましい。この置換基としてのアルキル基の好ましい形態は、R41として採り得るアルキル基の好ましい形態と同様である。
 一般式4について、「アセトナト構造」とは、アセトンまたはアセトンが置換基を有する構造の化合物から水素イオンが1つ除かれてAl原子に配位している構造を意味する。このAl原子に配位する配位原子は、通常は酸素原子である。このアセトナト構造は、アセチルアセトン構造(「CH-C(=O)-CH-C(=O)-CH」)を基本構造とし、そこから水素イオンが1つ除かれて、酸素原子を配位原子としてAl原子に配位している構造が好ましい。上記の「アセチルアセトン構造を基本構造とする」とは、上記アセチルアセトン構造の他、上記アセチルアセトン構造の水素原子が置換基で置換された構造を含む意味である。少なくとも1つのR42がアセトナト構造を表す具体例としては、例えば、実施例について後述する表面処理剤SL-2およびSL-3が挙げられる。一形態では、一般式4において、R42の少なくとも1つがアセトナト構造を表すことが好ましい。
 一般式4について、「アセタト構造」とは、酢酸エステルまたは酢酸エステルが置換基(アルキル基を含む)を有する構造の化合物から水素イオンが1つ除かれてAl原子に配位している構造を意味する。このAl原子に配位する配位原子は、通常は酸素原子である。このアセタト構造は、アルキルアセトアセタート構造(「CH-C(=O)-CH-C(=O)-O-Ralk(Ralkはアルキル基を表す。)」)を基本構造とし、そこから水素イオンが1つ除かれて、酸素原子を配位原子としてAl原子に配位している構造が好ましい。上記の「アルキルアセトアセタート構造を基本構造とする」とは、上記アルキルアセトアセタート構造の他、上記アセチルアセトン構造の水素原子が置換基で置換された構造を含む意味である。少なくともの1つのR42がアセタト構造を表す具体例として、例えば、実施例について後述する表面処理剤SL-3、SL-4およびSL-5が挙げられる。また、一形態では、一般式4において、R42の少なくとも1つがアセタト構造を表すことが好ましい。
 一般式4中、R42が2つ以上含まれる場合、2つのR42は互いに連結して環を形成していてもよい。
 n4は、0~2の範囲の整数であり、0または1であることが好ましく、より好ましくは0である。
 一般式4で表されるアルミニウム系化合物の具体例を以下に示す。ただし、本発明は下記具体例に限定されるものではない。
 アルミニウムトリエチレート、
 アルミニウムトリイソプロピレート、 
 アルミニウムトリsec-ブチレート、
 アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、
 エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、
 アルミニウムモノアセチルアセトネートビス(エチルアセトアセテート)、
 アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)
 ジイソプロポキシアルミニウム-9-オクタデセニルアセトアセテート、
 アルミニウムジイソプロボキシモノエチルアセトアセテート、
 アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、
 アルミニウムトリスアセチルアセトネート、
 モノsec-ブトキシアルミニウムジイソプロピレート、
 エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、
 ジエチルアセトアセテートアルミニウムイソプロピレート、
 アルミニウムビスエチルアセトアセテートモノアセチルアセトネート、
 アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、
 アルミニウムオクタデシルアセトアセテートジイソプロピレート。
 以上説明した表面処理剤は、1種単独で使用してもよく、2種以上を任意の割合で組み合わせて使用することもできる。表面処理剤を置換型六方晶フェライトの粉末と乾式混合または湿式混合することによって、置換型六方晶フェライトの粉体を表面処理し、粉体を構成する少なくとも一部の粒子の少なくとも一部の表面を被覆することができる。表面処理方法については、表面処理剤を用いる表面処理に関する公知技術を採用できる。表面処理における表面処理剤の使用量は、置換型六方晶フェライトの粉体100質量部に対して、0.1~100質量部の範囲であることが好ましく、0.5~20質量部の範囲であることがより好ましい。
 上記電波吸収性組成物および上記電波吸収体は、磁性粉体として、以上説明した表面処理剤で表面処理された置換型六方晶フェライトの粉体を含む。上記電波吸収性組成物および上記電波吸収体において、表面処理剤で表面処理された置換型六方晶フェライトの粉体の充填率は、特に限定されるものではない。例えば、上記充填率は、体積充填率として、35体積%以下であることができ、15~35体積%の範囲であることもできる。また、一態様では、上記体積充填率は、35体積%以上であることもできる。この場合、体積充填率は、例えば35~60体積%の範囲であることができ、35~50体積%の範囲であることが好ましい。体積充填率とは、電波吸収体については、電波吸収体の総体積100体積%に対する体積基準の含有量を意味する。電波吸収性組成物については、体積充填率とは、固形分(即ち溶剤を除く成分)の総体積100体積%に対する体積基準の含有量を意味する。
 また、電波吸収性能の観点からは、上記電波吸収性組成物および上記電波吸収体において、表面処理剤で表面処理された置換型六方晶フェライトの粉体は、この粉体と後述する樹脂との合計質量(100質量%)に対して、10質量%以上含まれることが好ましく、30質量%以上含まれることがより好ましく、50質量%以上含まれることが更に好ましい。一方、接着性の観点からは、上記電波吸収性組成物および上記電波吸収体において、表面処理剤で表面処理された置換型六方晶フェライトの粉体は、この粉体と後述する樹脂との合計質量(100質量%)に対して、90質量%以下含まれることが好ましく、80質量%以下含まれることがより好ましく、75質量%以下含まれることが更に好ましい。
<バインダー>
 上記電波吸収性組成物および上記電波吸収体は、上記磁性粉体とバインダーとを含む。バインダーとは樹脂である。樹脂は、ホモポリマーであることができ、コポリマー(共重合体)であることもできる。
 バインダーとしては、好ましくは熱可塑性樹脂の1種以上を用いることができる。バインダーとして好適な樹脂としては、ポリウレタン樹脂、エチレン-ビニルアルコール樹脂、アイオノマー樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂およびポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選ばれる1種以上の樹脂を挙げることができる。
(ポリウレタン樹脂)
 ポリウレタン樹脂としては、例えば、カプロラクトン系ポリウレタン樹脂、ポリエーテル系ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート系ポリウレタン樹脂、ポリエステル系ポリウレタン樹脂等の各種ポリウレタン樹脂を挙げることができ、カプロラクトン系ポリウレタン樹脂、ポリエーテル系ポリウレタン樹脂およびポリカーボネート系ポリウレタン樹脂が好ましい。また、ポリウレタンエラストマーも好ましい。ポリウレタンエラストマーとは、例えば、低分子のグリコールおよびジイソシアネートからなるハードセグメントと、高分子ジオール(長鎖ジオール)およびジイソシアネートからなるソフトセグメントとの構造単位を含むポリウレタン樹脂であることができる。ジイソシアネートは、脂肪族ジイソシアネートおよび芳香族ジイソシアネートからなる群から選ばれるもののいずれでもよい。脂肪族ジイソシアネートの具体例として、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン4,4'-ジイソシアネート等が挙げられる。芳香族ジイソシアネートの具体例としては、m-キシリレンジイソシアネート、4,4'-ジフェニルメタンジイソシアネート等が挙げられる。高分子ジオール(長鎖ジオール)としては、ポリアルキレングリコール、ポリ(1,4-ブチレンアジペート)、ポリ(エチレン・1,4-ブチレンアジペート)、ポリカプロラクトン、ポリ(1,6-ヘキシレンカーボネート)、ポリ(1,6-ヘキシレン・ネオペンチレンアジペート)等が挙げられる。高分子ジオール(長鎖ジオール)の数平均分子量は、500~10,000の範囲であることが好ましい。低分子のグリコールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4-ブタンジオール、ビスフェノールA等の短鎖ジオールを用いることができる。短鎖ジオールの数平均分子量は、48~500の範囲であることが好ましい。
 上記ポリウレタン樹脂は、電波吸収体の機械的特性をより向上させるために、脂肪族ジイソシアネート由来の成分を繰り返し単位中に有することが好ましい。また、上記ポリウレタン樹脂は、電波吸収体の耐摩耗性および接着性をより向上させるために、ポリアルキレングリコール由来の成分を繰り返し単位中に有することが好ましい。ポリアルキレングリコール由来の成分のアルキレン基の炭素数は2以上であることが好ましく、4以上であることがより好ましく、6以上であることが更に好ましい。ポリアルキレングリコール由来の成分のアルキレン基の炭素数は、12以下であることが好ましく、10以下であることがより好ましい。
 ポリウレタン樹脂の市販品の具体例としては、例えば、カプロラクトン系ポリウレタン樹脂(日本ミラクトラン社製ミラクトラン E598)、ポリエーテル系ポリウレタン樹脂(BASF社製エラストラン 1164D)、ポリカーボネート系ポリウレタン樹脂(ディアイシーコベストロポリマー社製パンデックス T-9280)、脂肪族エーテル系ポリウレタン樹脂(ルーブリゾール社製テコフレックスEG-72D)脂肪族カーボネート系ポリウレタン樹脂(ルーブリゾール社製カーボタンPC-3572D)、芳香族エーテル系ポリウレタン樹脂(東ソー社製ミラクトランE574PNAT)、芳香族エーテル系ポリウレタン樹脂(ルーブリゾール社製アイソプラスト2510)等を挙げることができる。
(エチレン-ビニルアルコール樹脂)
 エチレン-ビニルアルコール樹脂は、エチレン単位(-CHCH-)とビニルアルコール単位(-CH-CH(OH)-)とを含むコポリマーである。エチレン-ビニルアルコール樹脂は、エチレン単位およびビニルアルコール単位に加えて、他の構成単位を含有していてもよい。エチレン-ビニルアルコール樹脂のエチレン単位の含有量、即ちエチレン組成比は、例えば32~48モル%の範囲であることができ、38~48モル%の範囲であることもできる。エチレン-ビニルアルコール樹脂は、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体のケン化物であることができ、そのケン化度は、例えば90%以上であることができ、または98%以上であることもできる。
 エチレン-ビニルアルコール樹脂の市販品の具体例としては、例えば、クラレ社製エバール(登録商標)、日本合成化学工業社製ソアノール(登録商標)等を挙げることができる。エチレン組成比32~48モル%でケン化度90%以上であるエチレン-ビニルアルコール樹脂としては、クラレ社製エバール(登録商標)H171B(エチレン組成比38モル%、ケン化度99%以上)、E171B(エチレン組成比44モル%、ケン化度99%以上)、日本合成化学工業社製ソアノール(登録商標)H4815B(エチレン組成比48モル%、ケン化度99%以上)、A4412B(エチレン組成比42モル%、ケン化度99%以上)、DC3212B(エチレン組成比32モル%、ケン化度99%以上)、ソアライト(登録商標)M(エチレン組成比29モル%、ケン化度99%以上)が挙げられる。
(アイオノマー樹脂)
 アイオノマー樹脂とは、エチレン-不飽和カルボン酸共重合体の金属塩であって、樹脂中のカルボキシ基が金属イオンにより中和されているもの(金属イオン中和物)である。アイオノマー樹脂としては、オレフィンと、炭素数3~8個のα,β-不飽和カルボン酸との二元共重合体の金属イオン中和物であるアイオノマー樹脂;オレフィンと、炭素数が3~8の範囲のα,β-不飽和カルボン酸と、α,β-不飽和カルボン酸エステルとの三元共重合体の金属イオン中和物であるアイオノマー樹脂;または、これらの混合物を挙げることができる。上記α,β-不飽和カルボン酸エステルについて、不飽和カルボン酸部分の炭素数は3~8の範囲であることが好ましく、エステル部分の炭素数は1~20の範囲であることが好ましく、1~12の範囲であることがより好ましい。アイオノマー樹脂は、熱可塑性樹脂であることが好ましい。本発明および本明細書において、「オレフィンと炭素数が3~8の範囲のα,β-不飽和カルボン酸との二元共重合体の金属イオン中和物であるアイオノマー樹脂」を単に「二元系アイオノマー樹脂」と称し、「オレフィンと、炭素数3~8個のα,β-不飽和カルボン酸と、α,β-不飽和カルボン酸エステルとの三元共重合体の金属イオン中和物であるアイオノマー樹脂」を単に「三元系アイオノマー樹脂」と称する場合がある。
 上記オレフィンとしては、炭素数が2~8の範囲のオレフィンが好ましく、例えば、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、ヘプテン、オクテン等を挙げることができ、エチレンが好ましい。上記炭素数3~8の範囲のα,β-不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、マレイン酸、クロトン酸等が挙げられ、アクリル酸またはメタクリル酸が好ましい。また、α,β-不飽和カルボン酸エステルとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、マレイン酸等のメチルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、n-ブチルエステル、イソブチルエステル等が用いられ、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルが好ましい。
 上記二元系アイオノマー樹脂としては、エチレン-(メタ)アクリル酸二元共重合体の金属イオン中和物が好ましい。「(メタ)アクリル酸」とは、アクリル酸とメタクリル酸とを包含する意味で用いられる。
 上記三元系アイオノマー樹脂としては、エチレンと(メタ)アクリル酸と(メタ)アクリル酸エステルとの三元共重合体の金属イオン中和物が好ましい。
 上記二元系アイオノマー樹脂および三元系アイオノマー樹脂中の炭素数が3~8の範囲のα,β-不飽和カルボン酸部分の含有率は、15質量%以上であることが好ましく、16質量%以上であることがより好ましく、17質量%以上であることが更に好ましく、30質量%以下であることが好ましく、25質量%以下であることがより好ましい。
 上記二元系アイオノマー樹脂および三元系アイオノマー樹脂のカルボキシ基の中和度は、15モル%以上であることが好ましく、20モル%以上であることが好ましく、100モル%以下であることが好ましい。上記二元系アイオノマー樹脂および三元系アイオノマー樹脂のカルボキシ基の中和度は、下記式で求めることができる。また、理論上のアイオノマー樹脂中のカルボキシ基の中和度が100モル%を超えるように金属成分が含有される場合がある。
 二元系または三元系アイオノマー樹脂の中和度(モル%)=100×二元系または三元系アイオノマー樹脂中の中和されているカルボキシ基のモル数/二元系または三元系アイオノマー樹脂中のカルボキシ基の総モル数
 上記二元系アイオノマー樹脂および三元系アイオノマー樹脂のカルボキシ基の少なくとも一部を中和する金属イオンとしては、ナトリウム、カリウム、リチウム等の1価の金属イオン;マグネシウム、カルシウム、亜鉛、バリウム、カドミウム等の2価の金属イオン;アルミニウム等の3価の金属イオン;錫、ジルコニウム等のその他のイオンが挙げられる。
 アイオノマー樹脂の市販品の具体例としては、例えば、上記二元系アイオノマー樹脂としては、ハイミラン(登録商標)1555(Na)、1557(Zn)、1605(Na)、1706(Zn)、1707(Na)、AM7311(Mg)、AM7329(Zn)(三井・デュポン・ポリケミカル社製);サーリン(登録商標)8945(Na)、9945(Zn)、8140(Na)、8150(Na)、9120(Zn)、9150(Zn)、6910(Mg)、6120(Mg)、7930(Li)、7940(Li)、AD8546(Li)(デュポン社製);アイオテック(登録商標)8000(Na)、8030(Na)、7010(Zn)、7030(Zn)(エクソンモービル化学社製)等が挙げられる。上記三元系アイオノマー樹脂としては、ハイミランAM7327(Zn)、1855(Zn)、1856(Na)、AM7331(Na)(三井・デュポン・ポリケミカル社製);サーリン6320(Mg)、8120(Na)、8320(Na)、9320(Zn)、9320W(Zn)、HPF1000(Mg)、HPF2000(Mg)(デュポン社製);アイオテック7510(Zn)、7520(Zn)(エクソンモービル化学社製)等が挙げられる。上記の商品名中の括弧内に記載されているNa、Zn、Li、Mg等は、アイオノマー樹脂中の中和金属イオンの金属種を示している。また、上記二元共重合体としては、ニュクレル(登録商標)N1050H、N2050H、N1110H、N0200H、N1560、N2060(三井・デュポン・ポリケミカル社製);プリマコール(登録商標)5980I(ダウ・ケミカル社製)等が挙げられる。上記三元共重合体としては、ニュクレルAN4318、AN4319(三井・デュポン・ポリケミカル社製)、プリマコールAT310、AT320(ダウ・ケミカル社製)等が挙げられる。
(ポリアセタール樹脂)
 ポリアセタール樹脂としては、ホモポリマーまたはコポリマーが使用でき、樹脂の熱安定性の観点から、コポリマーが好ましい。ホモポリマーは、例えば、ホルマリン(ホルムアルデヒド水溶液)、無水ホルムアルデヒドガス、トリオキサン等のモノマーを使用して重合されたホモポリマーであることができる。コポリマーは、例えば、トリオキサンとコモノマー(エチレンオキサイド、1,3-ジオキソラン、1,4-ブタンジオールホルマール、ジエチレングリコールホルマール等)を使用して重合されたコポリマーであることができる。
 ポリアセタール樹脂がホモポリマーである場合、ホモポリマーは、通常、「α-O-(CHO)n-ω」の構造で表される。「α」はα末端を意味し、「ω」はω末端を意味する。この点は、下記のコポリマーについても同様である。α末端およびω末端は、それぞれ独立にCHCO-またはCH-である。
 コポリマーであるポリアセタール樹脂は、例えば、「α-O-[(CHO)-ran-(CHCHO)]-ω」、「α-O-[(CHO)-ran-(CHCHCHCHO)]-ω」、「α-O-[(CHO)-ran-(CHCHOCHCHO)]-ω」等の構造で表される。α末端およびω末端は、それぞれ独立に、CH-,CHCHCHCH-,HCO-,HOCHCH-,HOCHCHCHCH-等である。
 ポリアセタール樹脂の市販品の具体例としては、ポリアセタールホモポリマーとしては、例えば、テナック5050、テナック7010(いずれも旭化成ケミカルズ社製),デルリン500P(デュポン社製)、ポリアセタールコポリマーとしては,例えば、アミラスS731,アミラスS761(いずれも東レ社製)、ジュラコン M140S、ジュラコン HP90X(ポリプラスチック社製)、テナック7520(旭化成ケミカルズ社製)等が挙げられる。
(ポリブタジエン樹脂)
 ポリブタジエン樹脂としては、例えば、1,4-ポリブタジエン、1,2-ポリブタジエン、末端アクリレート変性ポリブタジエン、末端ウレタンメタクリレート変性ポリブタジエン等が挙げられる。中でも、機械的特性の観点から、1,2-ビニル結合の含有率が80mol%以上であることが好ましい。ポリブタジエン樹脂の市販品の具体例としては、例えば、JSR社製RB820等を挙げることができる。
(ポリフェニレンエーテル樹脂)
 ポリフェニレンエーテル樹脂とは、下記式で表される構成単位を主鎖に有する樹脂であって、ホモポリマーであってもよく、コポリマーであってもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 上記式中、2つのRは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、第1級もしくは第2級アルキル基、アリール基、アミノアルキル基、ハロゲン化アルキル基、炭化水素オキシ基、またはハロゲン化炭化水素オキシ基を表し、2つのRは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、第1級もしくは第2級アルキル基、アリール基、ハロゲン化アルキル基、炭化水素オキシ基、またはハロゲン化炭化水素オキシ基を表す。ただし、2つのRがともに水素原子であることはない。
 RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子、第1級もしくは第2級アルキル基またはアリール基であることが好ましい。第1級アルキル基の好適な例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-アミル基、イソアミル基、2-メチルブチル基、2,3-ジメチルブチル基、2-、3-もしくは4-メチルペンチル基またはヘプチル基が挙げられる。第2級アルキル基の好適な例としては、例えば、イソプロピル基、sec-ブチル基または1-エチルプロピル基が挙げられる。特に、Rは第1級もしくは第2級の炭素数1~4のアルキル基またはフェニル基であることが好ましい。Rは水素原子であることが好ましい。
 好適なポリフェニレンエーテル樹脂のホモポリマーとしては、例えば、ポリ(2,6-ジメチル-1,4-フェニレン)エーテル、ポリ(2,6-ジエチル-1,4-フェニレン)エーテル、ポリ(2,6-ジプロピル-1,4-フェニレン)エーテル、ポリ(2-エチル-6-メチル-1,4-フェニレン)エーテル、ポリ(2-メチル-6-プロピル-1,4-フェニレン)エーテル等の2,6-ジアルキルフェニレンエーテルの重合体が挙げられる。コポリマーとしては、2,6-ジメチルフェノール/2,3,6-トリメチルフェノール共重合体、2,6-ジメチルフェノール/2,3,6-トリエチルフェノール共重合体、2,6-ジエチルフェノール/2,3,6-トリメチルフェノール共重合体、2,6-ジプロピルフェノール/2,3,6-トリメチルフェノール共重合体等の2,6-ジアルキルフェノール/2,3,6-トリアルキルフェノール共重合体、ポリ(2,6-ジメチル-1,4-フェニレン)エーテルにスチレンをグラフト重合させたグラフト共重合体、2,6-ジメチルフェノール/2,3,6-トリメチルフェノール共重合体にスチレンをグラフト重合させたグラフト共重合体等が挙げられる。
 一形態では、ポリフェニレンエーテル樹脂としては、ポリ(2,6-ジメチル-1,4-フェニレン)エーテル、または2,6-ジメチルフェノール/2,3,6-トリメチルフェノールランダム共重合体が好ましい。また、特開2005-344065号公報に記載されているような末端基数と銅含有率を規定したポリフェニレンエーテル樹脂も好適に使用できる。かかるポリフェニレンエーテル樹脂については、特開2005-344065号公報の段落0011~0017等を参照できる。
 ポリフェニレンエーテル樹脂の市販品の具体例としては、例えば変性ポリフェニレンエーテル樹脂である旭化成ケミカルズ社製ザイロン 500H等が挙げられる。
 本発明および本明細書において、「分子量」とは、ポリマー成分については、重量平均分子量(Mw)をいうものとする。上記の樹脂の重量平均分子量は、特に制限はない。一形態では、耐摩耗性および接着性が発現しやすい傾向にあるという観点から、その重量平均分子量(Mw)の下限は5,000以上であることが好ましく、10,000以上であることがより好ましく、20,000以上であることが更に好ましい。また、一形態では、上記と同様の観点から、上限としては1,000,000以下であることが好ましく、500,000以下であることがより好ましい。本発明および本明細書における「重量平均分子量」は、テトラヒドロフランを移動相とするゲルパーミエーションクロマトグラフィー法で分析される、標準ポリスチレンの分子量に対する相対的な分子量を意味する。
 上記電波吸収性組成物および上記電波吸収体は、バインダーとして樹脂を1種のみ含んでいてもよく、2種以上の樹脂を任意の割合で含んでいてもよい。上記電波吸収性組成物および上記電波吸収体におけるバインダーの充填率は、特に限定されず、例えば、体積充填率として、65体積%以上であることが好ましく、65体積%以上92体積%以下であることがより好ましく、65体積%以上85体積%以下であることが更に好ましい。上記電波吸収性組成物および上記電波吸収体がバインダーとして樹脂を2種以上含む場合、充填率とは、2種以上の樹脂の合計充填率をいうものとする。この点は、他の成分に関する充填率についても同様である。
<添加剤>
 上記電波吸収性組成物および上記電波吸収体は、上記表面処理剤で表面処理された置換型六方晶フェライトの粉体およびバインダーを含み、任意に1種以上の添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、分散剤、分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤等が挙げられる。添加剤は、1つの成分が2つ以上の機能を担うものであってもよい。上記電波吸収性組成物および上記電波吸収体は、添加剤として、市販品または公知の方法で製造されるものを任意の充填率で含むことができる。
<電波吸収性組成物および電波吸収体の製造方法>
 上記電波吸収性組成物および上記電波吸収体の製造方法は、特に限定されない。上記電波吸収性組成物は、上記磁性粉体と、バインダーと、必要に応じて、溶剤、添加剤等とを用いて、公知の方法により製造できる。例えば、上記電波吸収体は、上記電波吸収性組成物を成形した成形品であることができる。上記電波吸収性組成物は、例えば、上記磁性粉体およびバインダー、更に必要に応じて、溶剤、添加剤等を混合した混合物を、加熱しながら混練して混練物として調製することができる。混練物は、例えばペレットとして得ることができる。混練物を、押し出し成形、プレス成形、射出成形、インモールド成形等の公知の成形方法によって所望の形状に成形することにより、電波吸収体(成形品)を得ることができる。電波吸収体の形状は特に限定されず、板状、線形状等の任意の形状であることができる。「板状」には、シート状およびフィルム状が包含される。板状の電波吸収体は、電波吸収板、電波吸収シート、電波吸収フィルム等と呼ぶこともできる。上記電波吸収体は、単一組成の電波吸収体(例えば、単層の電波吸収板)であってもよく、組成が異なる2種以上の部分の組み合わせ(例えば積層体)であってもよい。また、上記電波吸収体は、平面形状を有するものであってもよく、立体形状を有するものであってもよく、平面形状を有する部分と立体形状を有する部分との組み合わせであってもよい。平面形状は、例えば、シート状、フィルム状等の形状が挙げられる。立体形状としては、例えば、筒状(円筒状、角筒状等)、ホーン状、箱状(例えば、面の少なくとも1つが開放されている)等が挙げられる。
 例えば、電波吸収体の厚みは、取扱いの容易性の観点からは、20.0mm以下であることが好ましく、10.0mm以下であることがより好ましく、5.0mm以下であることが更に好ましい。機械的特性の観点からは、厚みは1.0mm以上であることが好ましく、2.0mm以上であることがより好ましい。電波吸収体の厚みを調整することにより、例えば後述の透過減衰量を制御することができる。なお電波吸収体が積層体である場合、厚みとは、積層体を構成する電波吸収体の合計厚みをいうものとする。電波吸収体の厚みは、デジタル測長機を用いて測定される値であり、具体的には、無作為に選択した9箇所において測定された測定値の算術平均である。
 電波吸収性組成物は、溶剤を含んでもよく、含まなくてもよい。電波吸収性組成物が溶剤を含む場合、溶剤としては、特に限定されず、例えば、水、有機溶剤、または水と有機溶剤との混合溶剤が挙げられる。
 有機溶剤としては、メタノール、エタノール、n-プロパノール、i-プロパノール、メトキシプロパノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、酢酸エチル、トルエン等が挙げられる。これらの中でも、溶剤としては、乾燥速度の観点から、ケトン類が好ましく、シクロヘキサノンがより好ましい。電波吸収性組成物が溶剤を含む場合、組成物における溶剤の含有量は、特に限定されず、電波吸収体の製造方法に応じて決定すればよい。
 上記電波吸収性組成物は、上記成分を混合することにより調製できる。混合方法は特に限定されず、例えば、撹拌により混合する方法が挙げられる。撹拌手段としては、公知の撹拌装置を用いることができる。例えば、撹拌装置としては、パドルミキサー、インペラーミキサー等のミキサーが挙げられる。撹拌時間は、撹拌装置の種類、電波吸収性組成物の組成等に応じて設定すればよい。
 上記電波吸収体の製造方法の一形態としては、先に例示したような公知の成形方法によって上記電波吸収性組成物を所望の形状に成形する方法を挙げることができる。 
 また、上記電波吸収体の製造方法の他の一形態としては、上記電波吸収性組成物を支持体に塗布し、電波吸収層として電波吸収体を製造する方法を挙げることができる。ここで使用される支持体は、電波吸収体が電波吸収性を付与すべき物品に組み込まれる前に除去されてもよく、除去せずに電波吸収体とともに物品に組み込まれてもよい。
 支持体としては、特に限定されず、公知の支持体を用いることができる。支持体としては、例えば、金属板(アルミニウム、亜鉛、銅等の金属の板)、ガラス板、プラスチックシート〔ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等)、ポリエチレン(直鎖状低密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン等)、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリスルホン、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリビニルアセタール、アクリル樹脂等のシート〕、上記で金属板について例示した金属がラミネートされまたは蒸着されたプラスチックシート等が挙げられる。プラスチックシートは、二軸延伸されていることが好ましい。支持体の形状、構造、サイズ等は、適宜選択できる。
 支持体の形状としては、例えば、板状が挙げられる。支持体の構造は、単層構造であってもよいし、2層以上の積層構造であってもよい。支持体のサイズは、電波吸収体のサイズ等に応じて適宜選択できる。支持体の厚みは、通常、0.01mm~10mm程度であり、例えば、取り扱い性の観点から、0.02mm~3mmであることが好ましく、0.05mm~1mmであることがより好ましい。
 支持体上に上記電波吸収性組成物を塗布する方法は、特に限定されず、例えば、ダイコーター、ナイフコーター、アプリケーター等を用いる方法が挙げられる。上記電波吸収性組成物を塗布して形成された塗布膜を乾燥させる方法は、特に限定されず、例えば、オーブン等の公知の加熱装置を用いる方法が挙げられる。乾燥温度および乾燥時間は、特に限定されない。一例としては、乾燥温度は70℃~90℃の範囲であることができ、乾燥時間は1時間~3時間の範囲であることができる。
 上記電波吸収体は、電波吸収性を付与することが望まれる各種物品に組み込むことができる。例えば、板状の電波吸収体は、そのまま、または任意の部分で湾曲させる等して任意の形態で物品に組み込むことができる。また、射出成形等により所望の形状に調整して物品に組み込むこともでき、接着剤を使用して物品に組み込むこともできる。
 優れた電波吸収性能を有する電波吸収体は、レーダーの認識精度向上のために有用である。電波吸収性能の指標の一例としては、透過減衰量を挙げることができる。例えば、上記電波吸収体の透過減衰量は、6.0dB以上であることができる。レーダーの認識精度向上のためには、レーダーの指向性を高めることが望ましい。透過減衰量が高いことは、レーダーの指向性向上に寄与し得る。レーダーの指向性の更なる向上の観点からは、上記電波吸収体の透過減衰量は、8.0dB以上であることが好ましく、8.5dB以上であることがより好ましく、9.0dB以上であることが更に好ましく、10.0dB以上であることが一層好ましい。また、上記電波吸収体の透過減衰量は、例えば、15.0dB以下、14.5dB以下、14.0dB以下、13.5dB以下、13.0dB以下、12.5dB以下または12.0dB以下であることができる。ただしレーダーの指向性向上の観点からは、電波吸収体の透過減衰量が高いことは好ましい。したがって、上記電波吸収体の透過減衰量は、上記で例示した値を上回ってもよい。
 更に、上記電波吸収体の反射減衰量は、例えば、6.0dB以上であることができる。レーダーの認識精度向上のためには、不要な電波成分を電波吸収体によって除去または低減することにより、対象物からの電波をレーダーが選択的に受信する選択性を高めることが望ましい。反射減衰量が高いことは、不要な電波成分を除去または低減することに寄与し得る。この点から、上記電波吸収体の反射減衰量は、8.0dB以上であることが好ましく、8.5dB以上であることがより好ましく、9.0dB以上であることが更に好ましく、10.0dB以上であることが一層好ましい。また、上記電波吸収体の反射減衰量は、例えば、18.0dB以下、17.5dB以下、17.0dB以下、16.5dB以下、16.0dB以下、15.5dB以下または15.0dB以下であることができる。ただし不要な電波成分を除去または低減する観点からは、電波吸収体の反射減衰量が高いことは好ましい。したがって、上記電波吸収体の反射減衰量は、上記で例示した値を上回ってもよい。
 ところで、近年注目されているレーダーである車載用レーダーは、ミリ波の周波数帯域の電波を利用するレーダーである。ミリ波とは、30GHz~300GHzの周波数の電磁波である。上記電波吸収体は、電波の周波数、即ち3テラヘルツ(THz)以下の周波数帯域にある1つ以上の周波数について、上記範囲の透過減衰量および反射減衰量を示すことが好ましい。上記電波吸収体が上記範囲の透過減衰量および反射減衰量を示す周波数は、車載用レーダーの認識精度向上のための有用性の観点からは、ミリ波の周波数帯域、即ち30GHz~300GHzの周波数帯域にある1つ以上の周波数であることが好ましく、60GHz~90GHzの周波数帯域にある1つ以上の周波数であることがより好ましく、75GHz~85GHzの周波数帯域にある1つ以上の周波数であることが更に好ましい。一例として、上記電波吸収体は、周波数76.5GHzにおける透過減衰量および周波数76.5GHzにおける反射減衰量が上記範囲の電波吸収体であることができる。かかる電波吸収体は、車載用のミリ波レーダーのサイドローブ低減のために、車載用レーダーにおいて、電波送受信ユニットの正面側(外部から入射する電波の入射側)に組み込む電波吸収体として好適である。
 本発明および本明細書における「透過減衰量」とは、自由空間法により、入射角度を0°として、雰囲気温度15~35℃の測定環境下においてSパラメータの測定を行い、SパラメータのS21として求められる値である。「反射減衰量」とは、同様の測定により、SパラメータのS11として求められる値である。測定は、公知のベクトルネットワークアナライザおよびホーンアンテナを使用して行うことができる。測定方法の具体例としては、後述の実施例に記載の方法を挙げることができる。
 ところで、電波吸収体については、電波吸収体に電波が入射する面とは反対の面(いわゆる裏面)に金属層を積層することが行われることがある。このような電波吸収体は、整合型電波吸収体と呼ばれる。整合型電波吸収体は、金属層を設けて位相差吸収を利用することにより反射減衰特性を高めることができる。これに対し、上記電波吸収体は、一形態では、電波吸収体そのものが優れた反射減衰特性を有することができる。詳しくは、上記電波吸収体は、一形態では、金属層に依らずに高い反射減衰量を示すことができる。裏面に金属層を積層せず使用される電波吸収体は、一般に透過型電波吸収体と呼ばれる。磁性粉体とバインダーとを含む従来の透過型電波吸収体では、一般に、透過減衰量を高めようとすると反射減衰量が低下する傾向があった。これに対し、上記電波吸収体は、一形態では、金属層に依らずに高い反射減衰量を示すことができ、かつ高い透過減衰量を示すことができる。
 本明細書に記載の「金属層」は、金属を含む層であって、電波を実質的に反射する層を意味する。ただし、磁性粉体およびバインダーを含む上記電波吸収体が金属を含む場合、そのような電波吸収体は、上記の金属層には該当しないものとする。ここで、「電波を実質的に反射する」とは、例えば、電波吸収体の裏面に金属層を積層した状態で電波吸収体に電波を入射させたときに入射した電波の90%以上を反射することを意味する。金属層の形態としては、金属板、金属箔等が挙げられる。例えば、電波吸収体の裏面に蒸着によって形成された金属層が挙げられる。上記電波吸収体は、一形態では、裏面に金属層を設けずに使用することができる。金属層なしで使用できることは、電波吸収体のリサイクルの観点およびコスト面から好ましい。また、裏面に金属層を積層して使用される電波吸収体は、金属層の劣化、金属層と電波吸収体との剥離等により品質が低下する場合がある。裏面に金属層を設けずに使用できることは、そのような品質低下を生じることがない点でも好ましい。
 以下に、本発明を実施例に基づき説明する。ただし本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。以下に記載の工程および評価は、特記しない限り、雰囲気温度23℃±1℃の環境において行った。
[磁性粉体の作製]
<磁性粉体A-1(置換型六方晶ストロンチウムフェライトの粉体)の作製>
 液温35℃に保温した蒸留水400.0gを撹拌し、撹拌中の水に、塩化鉄(III)六水和物〔FeCl・6HO〕57.0g、塩化ストロンチウム六水和物〔SrCl・6HO〕27.8gおよび塩化アルミニウム六水和物〔AlCl・6HO〕10.7gを水216.0gに溶解して調製した原料水溶液と、濃度5mol/Lの水酸化ナトリウム水溶液181.3gに水113.0gを加えて調製した溶液と、をそれぞれ10mL/minの流速にて、添加のタイミングを同じにして全量添加し、第1の液を得た。
 次いで、第1の液の液温を25℃に変更した後、この液温を保持した状態で、濃度1mol/Lの水酸化ナトリウム水溶液24.7gを添加し、第2の液を得た。得られた第2の液のpHは、9.0であった。第2の液のpHは、卓上型pHメーター(堀場製作所社製F-71)を用いて測定した。
 次いで、第2の液を15分間撹拌し、マグネトプランバイト型六方晶フェライトの前駆体となる反応生成物を含む液(前駆体含有液)を得た。
 次いで、前駆体含有液に対し、遠心分離処理〔回転数:3000rpm、回転時間:10分間〕を3回行い、得られた沈殿物を回収した。
 次いで、回収した沈殿物を内部雰囲気温度80℃のオーブン内で12時間乾燥させて、前駆体の粉体を得た。
 次いで、前駆体の粉体をマッフル炉の中に入れ、大気雰囲気下において、炉内の温度を1100℃に設定し、4時間焼成することにより焼成体を得た。
 次いで、得られた焼成体を、粉砕機としてカッターミル粉砕機(大阪ケミカル社製ワンダークラッシャー WC-3)を使用し、この粉砕機の可変速度ダイアルを「5」(回転数:約10000~15000rpm)に設定して90秒間粉砕した。
 以上により、磁性粉体A-1を得た。
<磁性粉体A-2~A-7(置換型六方晶ストロンチウムフェライトの粉体)の作製>
 第2の液のpHを、後述の表1に示すpHに調整した点以外、磁性粉体A1の作製と同様の操作を行い、磁性粉体A-2~A-7を得た。
<磁性粉体A-8(無置換型六方晶ストロンチウムフェライトの粉体)の作製>
 炭酸ストロンチウム[SrCO]15.02g、酸化鉄[Fe]90.24gをメノウ乳鉢で混合および粉砕し、マグネトプランバイト型六方晶フェライトの前駆体の粉体を得た。
 次いで、前駆体の粉体をマッフル炉の中に入れ、大気雰囲気下において、炉内の温度を1200℃に設定し、4時間焼成することにより、焼成体を得た。
 次いで、得られた焼成体を、粉砕機としてカッターミル粉砕機(大阪ケミカル社製ワンダークラッシャー WC-3)を使用し、この粉砕機の可変速度ダイアルを「5」(回転数:約10000~15000rpm)に設定して90秒間粉砕した。
 以上により、粉体A-8を得た。
<結晶構造の確認>
 上記の各磁性粉体を構成する磁性体の結晶構造を、X線回折分析により確認した。測定装置としては、粉末X線回折装置であるPANalytical社のX’Pert Proを使用した。測定条件を以下に示す。
-測定条件-
 X線源:CuKα線
〔波長:1.54Å(0.154nm)、出力:40mA、45kV〕
 スキャン範囲:20°<2θ<70°
 スキャン間隔:0.05°
 スキャンスピード:0.75°/min
 上記X線回折分析の結果、磁性粉体A-1~A-8は、マグネトプランバイト型の結晶構造を有しており、マグネトプランバイト型以外の結晶構造を含まない単相のマグネトプランバイト型六方晶フェライトの粉体であることが確認された。
<組成の確認>
 上記の各磁性粉体を構成する磁性体の組成を、高周波誘導結合プラズマ発光分光分析により確認した。具体的には、以下の方法により確認した。
 磁性粉体12mgと濃度4mol/Lの塩酸水溶液10mLとを入れた容器ビーカーを、設定温度120℃のホットプレート上に3時間保持し、溶解液を得た。得られた溶解液に純水30mLを加えた後、フィルタ孔径0.1μmのメンブレンフィルタを用いてろ過した。このようにして得られたろ液の元素分析を、高周波誘導結合プラズマ発光分光分析装置〔島津製作所社製ICPS-8100〕を用いて行った。得られた元素分析の結果に基づき、鉄原子100原子%に対する各原子の含有率を求めた。そして、得られた含有率に基づき、磁性体の組成を確認した。その結果、磁性粉体A-1~A-7の組成が、一般式1中のAがSrであり、xが表1に示す値であることが確認された。また、磁性粉体A-8については、SrFe1219の組成を有すること(即ち無置換型ストロンチウムフェライトであること)が確認された。
 磁性粉体A-1~A-7について、以下の方法によって共鳴周波数を測定した。測定結果を表1に示す。
(共鳴周波数の測定方法)
 各磁性粉体を使用し、以下の方法によって共鳴周波数測定用のシート試料を作製した。
 磁性粉体9.0g、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)〔JSR社製JSR N215SL〕1.05g、およびシクロヘキサノン(溶剤)6.1gを、撹拌装置〔シンキー社製あわとり練太郎 ARE-310〕を用い、回転数2000rpmにて5分間撹拌し、混合することにより、シート試料作製のための組成物を調製した。
 次いで、ガラス板(支持体)上に、調製した組成物を、アプリケーターを用いて塗布して上記組成物の塗布膜を形成した。
 次いで、形成した塗布膜を、内部雰囲気温度80℃のオーブン内で2時間乾燥させた後、ガラス板からシート試料(厚み:0.3mm)を剥離した。
 以上により得られたシート試料を用いて、keysight社のベクトルネットワークアナライザ(製品名:N5225B)およびキーコム社のホーンアンテナ(製品名:RH12S23)を用い、自由空間法により、入射角度を0°とし、掃引周波数を60GHz~90GHzとして、Sパラメータを測定した。このSパラメータからニコルソンロスモデル法を用いて、虚部の透磁率μ’’のピーク周波数を算出し、このピーク周波数を共鳴周波数とした。結果を表1に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 表1に示す結果から、第2の液のpHを調整することによって、一般式1中のxの値(即ちAl含有率)を制御できることが確認できる。更に、Al含有率を制御することによって磁性粉体の共鳴周波数を制御できることも確認できる。磁性粉体は、共鳴周波数が高いほど、高周波数帯域での電波吸収性能が良好であるということができる。
<表面処理剤で表面処理された磁性粉体R-1の作製>
 上記で得られた磁性粉体A-1の20gと、表面処理剤SI-3(トリス(3-トリメトキシシリルプロピル)イソシアヌレート)の0.2gとを、カッターミル粉砕機(大阪ケミカル社製ワンダークラッシャー WC-3)を用いて、この粉砕機の可変速度ダイアルを「3」に設定し60秒間混合した。
 次いで、上記混合後の粉体を設定温度90℃のオーブンに入れ、3時間加熱乾燥させることにより、表面処理剤で表面処理された磁性粉体R-1を得た。
<表面処理剤で表面処理された磁性粉体R-2~R-49の作製>
 表2に示す磁性粉体を使用し、表2に示す表面処理剤を表2に示す使用量で使用した点以外、磁性粉体R-1の作製と同様の操作を行い、表面処理剤で表面処理された磁性粉体R-2~R-49を得た。
 上記磁性粉体R-1~R-49の詳細を、表2(表2-1~2-5)に示す。下記表に示す表面処理剤の使用量は、表面処理される磁性粉体100質量部に対する量である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
 表2中の表面処理剤は、下記表面処理剤である。
[表面処理剤]
<ケイ素系化合物>
 SA-1:3-アミノプロピルトリメトキシシラン(Gelest社製SIA0611.0)
 SA-2:N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン(Gelest社製SIA0591.0)
 SA-3:(3-トリメトキシシリルプロピル)ジエチレントリアミン(Gelest社製SIT8398.0)
 SM-1:メルカプトメチルメチルジエトキシシラン(Gelest社製SIM6473.0)
 SM-2:3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン(Gelest社製SIM6476.0)
 SM-3:11-メルカプトウンデシルトリメトキシシラン(Gelest社製SIM6480.0)
 SH-1:ヒドロキシメチルトリエトキシシラン(Gelest社製SIH6175.0)
 SH-2:N-(3-トリエトキシシリルプロピル)-4-ヒドロキシブチルアミド(Gelest社製SIT8189.5)
 SH-3:ビス(2-ヒドロキシエチル)-3-アミノプロピルトリエトキシシラン(Gelest社製SIB1140.0)
 SS-1:3-アセトキシプロピルトリメトキシシラン(Gelest社製SIA0100.0)
 SS-2:ベンゾイロキシプロピルトリメトキシシラン(Gelest社製SIB0959.0)
 SS-3:2-(カルボメトキシ)エチルトリメトキシシラン(Gelest社製SIC2072.0)
 SS-4:ビス(3-トリメトキシシリルプロピル)フマレート(Gelest社製SIB1834.5)
 SS-5:ビス(3-トリエトキシシリルプロピル)カーボネート(Gelest社製SIB1824.56)
 SE-1:ビス[(3-メチルジメトキシシリル)プロピル]ポリプロピレンオキシド(Gelest社製、重量平均分子量700)
 SE-2:トリエトキシシシルチオプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業社製X-12-1056ES)
 SE-3:ビス[3-(トリエトキシシリル)プロピル]ジスルフィド(Gelest社SIB1824.6)
 SE-4:トリメトキシシリルプロポキシポリエチレンオキシドメチルエーテル(Gelest社製SIT8408.0)
 SI-1:3-イソシアナトプロピルトリメトキシシラン(Gelest社製SII6456.0)
 SI-2:イソシアナトメチルトリメトキシシラン(Gelest社製SII6453.8)
 SI-3:トリス(3-トリメトキシシリルプロピル)イソシアヌレート(Gelest社製SIT8717.0)
 SK-1:カルボキシエチルシラントリオール・2ナトリウム塩(Gelest社製SIC2263.0)
 SK-2:トリエトキシシリルプロピルマレアミド酸(Gelest社製SIT8189.8)
 SK-3:(3-トリメトキシシリル)プロピルコハク酸無水物(信越化学工業社製X-12-967C)
<ジルコニウム系化合物>
 SZ-1:ジルコニウムテトラn-プロポキシド(マツモトファインケミカル社製オルガチックスZA-45)
 SZ-2:ジルコニウムテトラn-ブトキシド(マツモトファインケミカル社製オルガチックスZA-65)
 SZ-3:ジルコニウムテトラアセチルアセトネート(マツモトファインケミカル社製オルガチックスZC-150)
 SZ-4:ジルコニウムラクテートアンモニウム塩(マツモトファインケミカル社製オルガチックスZC-300)
 SZ-5:ステアリン酸ジルコニウムトリn-ブトキシド(マツモトファインケミカル社製オルガチックスZC-320)
 SZ-6:ジルコニウムトリn-ブトキシモノアセチルアセトネート(マツモトファインケミカル社製オルガチックスZC-540)
 SZ-7:ジルコニウムジn-ブトキシビス(エチルアセトアセテート)(マツモトファインケミカル社製オルガチックスZC-580)
<アルミニウム系化合物>
 SL-1:アルミニウムsec-ブトキシド(川研ファインケミカル社製ASBD)
 SL-2:アルミニウムトリスアセチルアセトネート(マツモトファインケミカル社製オルガチックスAL-3100)
 SL-3:アルミニウムビスエチルアセトアセテートモノアセチルアセトネート(マツモトファインケミカル社製オルガチックスAL-3200)
 SL-4:アルミニウムトリスエチルアセトアセテート(マツモトファインケミカル社商品名「オルガチックスAL-3215)
 SL-5:アルミニウムオクタデシルアセトアセテートジイソプロピレート(味の素ファインテクノ社製プレンアクトAL-M)
[電波吸収体の作製]
<実施例1>
 磁性粉体R-1を3.0g、表3に示すバインダー2.0g、および酸化防止剤としてヒンダードフェノール化合物(BASF社製イルガノックス1330)0.05gを、設定温度を220℃とした混練機(東洋精機社製ラボプラストミル・マイクロ)に導入して混合し、ローター回転数100rpmで5分間混練を行い、塊状の混錬物を得た。
 得られた塊状の混練物を加熱プレス機を用いてプレス成形し(加熱温度:210℃、プレス時間:1分間、圧力:20MPa)、長さ10.0cm×幅10.0cm×厚み2.0mmの電波吸収体(電波吸収シート)を作製した。
<実施例2~55>
 表面処理剤によって表面処理された磁性粉体として表3に示す磁性粉体を使用し、表3に示すバインダーを使用した点以外、実施例1と同様の操作を行い、電波吸収体(電波吸収シート)を作製した。
<実施例56~59>
 実施例1の混錬物調製のための混合物における磁性粉体およびバインダーの含有量は、磁性粉体とバインダーとの合計質量に対して、磁性粉体が60質量%、バインダーが40質量%である。実施例56~59では、表3に示すように磁性粉体およびバインダーの含有量を変更した点以外、実施例1と同様の操作を行い、電波吸収体(電波吸収シート)を作製した。
<比較例1>
 磁性粉体R-1を使用しなかった点以外、実施例1と同様の操作を行い、ポリエステル製シートを作製した。
<比較例2、3>
 磁性粉体として表3に示す磁性粉体(表面処理なし)を使用した点以外、実施例1と同様の操作を行い、電波吸収体(電波吸収シート)を作製した。
<比較例4>
 磁性粉体として表3に示す磁性粉体(表面処理剤で表面処理された無置換型六方晶フェライトの粉体)を使用した点以外、実施例1と同様の操作を行い、電波吸収体(電波吸収シート)を作製した。
 上記の実施例および比較例ではそれぞれ複数のシートを作製し、各シートを下記の各評価に使用した。
[評価方法]
(1)電波吸収性能
 以下の方法により、実施例および比較例の各シートの透過減衰量(単位:dB)および反射減衰量(単位:dB)を測定した。
 測定装置として、keysight社のベクトルネットワークアナライザ(製品名:N5225B)およびキーコム社のホーンアンテナ(製品名:RH12S23)を用い、自由空間法により、入射角度を0°とし、掃引周波数を60GHz~90GHzとして、上記の各シートの一方の平面を入射側に向けて、Sパラメータの測定を行い、76.5GHzの周波数におけるSパラメータのS21を透過減衰量とし、76.5GHzの周波数におけるSパラメータのS11を反射減衰量とした。
 測定された値から、以下の基準によって電波吸収性能を評価した。
(評価基準)
 A:透過減衰量および反射減衰量がいずれも10.0dB以上
 B:透過減衰量および反射減衰量がいずれも8.0dB以上10.0dB未満
 C:透過減衰量および反射減衰量がいずれも6.0dB以上8.0dB未満
 D:透過減衰量および反射減衰量がいずれも6.0dB未満
(2)耐摩耗性
 実施例および比較例の各シートについて、耐摩耗性試験を、JIS K7218(1986)に記載のA法に従い、回転摺動型摩擦摩耗試験機(高千穂精機社製IIIT-2000型)を用いて、比摩耗量を求めた。測定条件は、測定方式:スラスト式、対炭素鋼/評価材側/面圧:0.98MPa、測定速度:300mm/sとした。比摩耗量の値が小さいほど、耐摩耗性に優れるということができる。以下の基準によって耐摩耗性を評価した。
(評価基準)
 A:比摩耗量が、0.5x10-3mm/(N・km)未満
 B:比摩耗量が、0.5x10-3mm/(N・km)以上1.5x10-3mm/(N・km)未満
 C:比摩耗量が、1.5x10-3mm/(N・km)以上5.0x10-3mm/(N・km)未満
 D:比摩耗量が、5.0x10-3mm/(N・km)以上
(3)接着性
 実施例および比較例の各シート上に、エポキシ樹脂(ビスフェノールAジグリシジルエーテル(三菱ケミカル社製jER828、エポキシ当量189g/eq(「eq」は当量を表す)67質量部、アミン系硬化剤(三菱ケミカル社製jERキュア ST12、アミン価365KOHmg/g)33質量部を混合したものを、厚み2.0mmとなるように配置し、雰囲気温度80℃で12時間熱処理してエポキシ樹脂を硬化させて接着剤層(エポキシ樹脂層)を形成した。
 こうして得られた各シートとエポキシ樹脂層との積層体から、長さ10.0cm×幅1.0cmの試験片を切り出し、この試験片の各シートとエポキシ樹脂層との界面の剥離強度として、引張試験機(インストロン社製3340型)を用い、JIS K6864-1(1999)に従って、90°剥離強度を測定した。剥離強度の値が大きいほど、接着性に優れるということができる。以下の基準によって接着性を評価した。
(評価基準)
 A:剥離強度が、20N/cm以上
 B:剥離強度が、15N/cm以上20N/cm未満
 C:剥離強度が、10N/cm以上15N/cm未満
 D:剥離強度が、10N/cm未満
 以上の結果を、表3(表3-1~3-7)に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000013
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000014
 表3中のバインダーは、下記の樹脂である。
[バインダー]
 B-1:カプロラクトン系ポリウレタン樹脂(日本ミラクトラン社製ミラクトラン E598)
 B-2:ポリエーテル系ポリウレタン樹脂(BASF社製エラストラン 1164D)
 B-3:ポリカーボネート系ポリウレタン樹脂(ディアイシーコベストロポリマー社製パンデックス T-9280)
 B-4:エチレン-ビニルアルコール樹脂(日本合成化学工業社製ソアライト M)
 B-5:アイオノマー樹脂(三井・デュポンポリケミカル社製ハイミラン 1555)
 B-6:ポリアセタール樹脂(ポリプラスチックス社製ジュラコン HP90X)
 B-7:ポリブタジエン樹脂(JSR社製RB820)
 B-8:変性ポリフェニレンエーテル樹脂(旭化成ケミカルズ社製ザイロン 500H)
 実施例1~59の電波吸収体は、磁性粉体として先に詳述した表面処理剤で表面処理された置換型六方晶フェライトの粉体を含む。
 これに対し、比較例2の電波吸収体は、表面処理なしの置換型六方晶フェライトの粉体、比較例3の電波吸収体は表面処理なしの無置換型六方晶フェライトの粉体、比較例4の電波吸収体は実施例1等と同じケイ素系化合物で表面処理された無置換型六方晶フェライトの粉体を含む。
 表3中の実施例1~59と比較例2~4との対比から、磁性粉体として先に詳述した表面処理剤で表面処理された置換型六方晶フェライトの粉体とバインダーとを組み合わせることにより、電波吸収性能、耐摩耗性および接着性に優れる電波吸収体が得られることが確認できる。
 本発明の一態様は、自動車の自動運転制御等の各種自動運転制御を行う技術分野において有用である。

Claims (26)

  1. 磁性粉体およびバインダーを含む電波吸収性組成物であって、
    前記磁性粉体は、表面処理剤で表面処理された置換型六方晶フェライトの粉体であり、かつ
    前記表面処理剤は、下記一般式2で表されるケイ素系化合物、下記一般式3で表されるジルコニウム系化合物および下記一般式4で表されるアルミニウム系化合物からなる群から選択される1種以上の化合物である電波吸収性組成物;
            一般式2:(X-L)-Si-Z4-m
    一般式2中、
    Xは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、脂環基、複素環基、アミノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、アクリルアミド基、スルファニル基、イソシアネート基、チオシアネート基、ウレイド基、シアノ基、酸無水物基、アジド基、カルボキシ基、アシル基、チオカルバモイル基、リン酸基、ホスファニル基、スルホン酸基またはスルファモイル基を表し、
    Lは、単結合、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、-O-、-S-、-NR-、カルボニル結合、チオカルボニル結合およびスルホニル基からなる群から選ばれる1種の2価の基もしくは結合、またはこれらの2種以上を組合せてなる2価の基もしくは結合を表し、
    は、水素原子または置換基を表し、
    Zは、ヒドロキシ基、アルコキシ基またはアルキル基を表し、
    mは、1~3の範囲の整数である;
          一般式3: R31 n3-Zr-(R324-n3
    一般式3中、
    31は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アシル基、アリール基または不飽和脂肪族基を表し、
    32は、-OR33、アセトナト構造またはアセタト構造を表し、
    33は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アシル基、アルケニル基、アリール基、ホスホネート基または-SOS3を表し、RS3は置換基を表し、
    n3は、0~3の範囲の整数である;
          一般式4:R41 n4-Al-(R423-n4
    一般式4中、R41は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アシル基、アリール基または不飽和脂肪族基を表し、
    42は、-OR43、アセトナト構造またはアセタト構造を表し、
    43は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アシル基、アルケニル基、アリール基、ホスホネート基または-SOS4を表し、RS4は置換基を表し、
    n4は、0~2の範囲の整数である。
  2. 前記置換型六方晶フェライトは、下記一般式1で表される組成を有する、請求項1に記載の電波吸収性組成物;
            一般式1:AFe(12-x)Al19
    一般式1中、Aは、Sr、Ba、CaおよびPbからなる群から選ばれる1種以上の原子を表し、xは、1.50以上≦x≦8.00を満たす。
  3. 前記置換型六方晶フェライトは、置換型六方晶ストロンチウムフェライトである、請求項1または2に記載の電波吸収性組成物。
  4. 前記表面処理剤は、一般式2で表されるケイ素系化合物を含み、
    一般式2中、X-Lに、アミノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、エーテル基、チオエーテル基、カーボネート基、イソシアネート基、カルボキシ基および酸無水物基からなる群から選ばれる1種以上の基を含む、請求項1~3のいずれか1項に記載の電波吸収性組成物。
  5. 一般式2中、X-Lに、ヒドロキシ基、エーテル基、チオエーテル基、カーボネート基、イソシアネート基、カルボキシ基および酸無水物基からなる群から選ばれる1種以上の基を含む、請求項4に記載の電波吸収性組成物。
  6. 一般式2中、Xが、イソシアネート基、カルボキシ基または酸無水物基を表す、請求項5に記載の電波吸収性組成物。
  7. 前記表面処理剤は、一般式3で表されるジルコニウム系化合物を含み、
    一般式3中、n3が3であり、R32がアセトナト構造を表すか、または、n3が0~2の範囲の整数であり、一般式3中に複数含まれるR32の1つ以上がアセトナト構造を表す、請求項1~3のいずれか1項に記載の電波吸収性組成物。
  8. 前記表面処理剤は、一般式3で表されるジルコニウム系化合物を含み、
    一般式3中、n3が3であり、R32がアセタト構造を表すか、または、n3が0~2の範囲の整数であり、一般式3中に複数含まれるR32の1つ以上がアセタト構造を表す、請求項1~3のいずれか1項に記載の電波吸収性組成物。
  9. 前記表面処理剤は、一般式4で表されるアルミニウム系化合物を含み、
    一般式4中、n4が2であり、R42がアセトナト構造を表すか、または、n4が0または1であり、一般式4中に複数含まれるR42の1つ以上がアセトナト構造を表す、請求項1~3のいずれか1項に記載の電波吸収性組成物。
  10. 前記表面処理剤は、一般式4で表されるアルミニウム系化合物を含み、
    一般式4中、n4が2であり、R42がアセタト構造を表すか、または、n4が0または1であり、一般式4中に複数含まれるR42の1つ以上がアセタト構造を表す、請求項1~3のいずれか1項に記載の電波吸収性組成物。
  11. 前記バインダーは、ポリウレタン樹脂、エチレン-ビニルアルコール樹脂、アイオノマー樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂およびポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選ばれる1種以上の樹脂である、請求項1~10のいずれか1項に記載の電波吸収性組成物。
  12. 前記バインダーは、ポリウレタン樹脂、アイオノマー樹脂、ポリブタジエン樹脂およびポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選択される1種以上の樹脂である、請求項11に記載の電波吸収性組成物。
  13. 前記バインダーは、カプロラクトン系ポリウレタン樹脂、ポリエーテル系ポリウレタン樹脂およびポリカーボネート系ポリウレタン樹脂からなる群から選ばれる1種以上のポリウレタン樹脂を含む、請求項12に記載の電波吸収性組成物。
  14. 磁性粉体およびバインダーを含む電波吸収体であって、
    前記磁性粉体は、表面処理剤で表面処理された置換型六方晶フェライトの粉体であり、かつ
    前記表面処理剤は、下記一般式2で表されるケイ素系化合物、下記一般式3で表されるジルコニウム系化合物および下記一般式4で表されるアルミニウム系化合物からなる群から選択される1種以上の化合物である電波吸収体;
            一般式2:(X-L)-Si-Z4-m
    一般式2中、
    Xは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、脂環基、複素環基、アミノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、アクリルアミド基、スルファニル基、イソシアネート基、チオシアネート基、ウレイド基、シアノ基、酸無水物基、アジド基、カルボキシ基、アシル基、チオカルバモイル基、リン酸基、ホスファニル基、スルホン酸基またはスルファモイル基を表し、
    Lは、単結合、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、-O-、-S-、-NR-、カルボニル結合、チオカルボニル結合およびスルホニル基からなる群から選ばれる1種の2価の基もしくは結合、またはこれらの2種以上を組合せてなる2価の基もしくは結合を表し、
    は、水素原子または置換基を表し、
    Zは、ヒドロキシ基、アルコキシ基またはアルキル基を表し、
    mは、1~3の範囲の整数である;
          一般式3: R31 n3-Zr-(R324-n3
    一般式3中、
    31は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アシル基、アリール基または不飽和脂肪族基を表し、
    32は、-OR33、アセトナト構造またはアセタト構造を表し、
    33は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アシル基、アルケニル基、アリール基、ホスホネート基または-SOS3を表し、RS3は置換基を表し、
    n3は、0~3の範囲の整数である;
          一般式4:R41 n4-Al-(R423-n4
    一般式4中、R41は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アシル基、アリール基または不飽和脂肪族基を表し、
    42は、-OR43、アセトナト構造またはアセタト構造を表し、
    43は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アシル基、アルケニル基、アリール基、ホスホネート基または-SOS4を表し、RS4は置換基を表し、
    n4は、0~2の範囲の整数である。
  15. 前記置換型六方晶フェライトは、下記一般式1で表される組成を有する、請求項14に記載の電波吸収体;
            一般式1:AFe(12-x)Al19
    一般式1中、Aは、Sr、Ba、CaおよびPbからなる群から選ばれる1種以上の原子を表し、xは、1.50以上≦x≦8.00を満たす。
  16. 前記置換型六方晶フェライトは、置換型六方晶ストロンチウムフェライトである、請求項14または15に記載の電波吸収体。
  17. 前記表面処理剤は、一般式2で表されるケイ素系化合物を含み、
    一般式2中、X-Lに、アミノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、エーテル基、チオエーテル基、カーボネート基、イソシアネート基、カルボキシ基および酸無水物基からなる群から選ばれる1種以上の基を含む、請求項14~16のいずれか1項に記載の電波吸収体。
  18. 一般式2中、X-Lに、ヒドロキシ基、エーテル基、チオエーテル基、カーボネート基、イソシアネート基、カルボキシ基および酸無水物基からなる群から選ばれる1種以上の基を含む、請求項17に記載の電波吸収体。
  19. 一般式2中、Xが、イソシアネート基、カルボキシ基または酸無水物基を表す、請求項18に記載の電波吸収体。
  20. 前記表面処理剤は、一般式3で表されるジルコニウム系化合物を含み、
    一般式3中、n3が3であり、R32がアセトナト構造を表すか、または、n3が0~2の範囲の整数であり、一般式3中に複数含まれるR32の1つ以上がアセトナト構造を表す、請求項14~16のいずれか1項に記載の電波吸収体。
  21. 前記表面処理剤は、一般式3で表されるジルコニウム系化合物を含み、
    一般式3中、n3が3であり、R32がアセタト構造を表すか、または、n3が0~2の範囲の整数であり、一般式3中に複数含まれるR32の1つ以上がアセタト構造を表す、請求項14~16のいずれか1項に記載の電波吸収体。
  22. 前記表面処理剤は、一般式4で表されるアルミニウム系化合物を含み、
    一般式4中、n4が2であり、R42がアセトナト構造を表すか、または、n4が0または1であり、一般式4中に複数含まれるR42の1つ以上がアセトナト構造を表す、請求項14~16のいずれか1項に記載の電波吸収体。
  23. 前記表面処理剤は、一般式4で表されるアルミニウム系化合物を含み、
    一般式4中、n4が2であり、R42がアセタト構造を表すか、または、n4が0または1であり、一般式4中に複数含まれるR42の1つ以上がアセタト構造を表す、請求項14~16のいずれか1項に記載の電波吸収体。
  24. 前記バインダーは、ポリウレタン樹脂、エチレン-ビニルアルコール樹脂、アイオノマー樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂およびポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選ばれる1種以上の樹脂である、請求項14~23のいずれか1項に記載の電波吸収体。
  25. 前記バインダーは、ポリウレタン樹脂、アイオノマー樹脂、ポリブタジエン樹脂およびポリフェニレンエーテル樹脂からなる群から選択される1種以上の樹脂である、請求項24に記載の電波吸収体。
  26. 前記バインダーは、カプロラクトン系ポリウレタン樹脂、ポリエーテル系ポリウレタン樹脂およびポリカーボネート系ポリウレタン樹脂からなる群から選ばれる1種以上のポリウレタン樹脂を含む、請求項25に記載の電波吸収体。
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