WO2021024808A1 - ラインジェネレータ用光学系及びラインジェネレータ - Google Patents

ラインジェネレータ用光学系及びラインジェネレータ Download PDF

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Definitions

  • the shape of the toroidal lens surface in the first direction does not affect the light intensity distribution in the second direction. Therefore, by giving a small curvature to the first direction of the toroidal lens surface as compared with the second direction, the residual aberration of the optical element having a curvature only in the first direction is corrected, and the light in the width direction of the line is corrected. It is possible to improve the uniformity of the intensity distribution and the light-collecting property of the lens.
  • the first and second lens array surfaces are provided on different lenses.
  • the shapes of the lens surfaces 1100 and 1200 that determine the spread of the light flux line in the longitudinal direction will be described.
  • the straight line connecting the vertices of the lens surfaces 1100 and 1200 is defined as the z-axis
  • the direction in which the lens surfaces 1100 and 1200 have a relatively large curvature is defined as the y-axis
  • the x-axis orthogonal to the y-axis and the z-axis is defined.
  • the change in the z-coordinate of the lens surfaces 1100 and 1200 with respect to the x-coordinate can be expressed by the following equation with reference to the apex of the lens surface.
  • the curvature c x is expressed as follows using the radius of curvature R x .
  • FIG. 6 is a diagram showing a light path of the xz cross section of the line generator of the second embodiment.
  • FIG. 8 is a diagram showing the intensity distribution of the luminous flux passing through the line generator of the second embodiment in the x-axis direction.
  • the horizontal axis of FIG. 8 indicates the angle of the light ray with respect to the z-axis in the xz cross section of the light ray. The unit of angle is degrees.
  • the vertical axis of FIG. 8 shows the intensity of light. The unit of light intensity is watts / steradians.

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Abstract

調整が容易であり、ラインの光の強度の均一性が高く、ラインの光の強度を容易に変更することのできるラインジェネレータ用の光学系を提供する。ラインを光束によって生成するラインジェネレータ用光学系であって、第１の方向にのみ曲率を有する光学素子と、第１及び第２のレンズアレイ面と、を備える。該第１及び第２のレンズアレイ面は、それぞれ、該第１の方向と直交する第２の方向に配列された複数のレンズ面を備え、該複数のレンズ面は主に該第２の方向に曲率を有し、該第１及び第２のレンズアレイ面の一方の任意のレンズ面は他方のレンズ面の一つと対応し、互いに対応する２個のレンズ面の頂点を結ぶ第１の直線の方向は該第２の方向と直交し、該第１の直線及び該第１の直線と直交する該第２の方向の第２の直線を含む断面において、該２個のレンズ面の一方が他方の無限遠物点に対する結像面となるように構成されている。

Description

ラインジェネレータ用光学系及びラインジェネレータ
　本発明は、ラインジェネレータ用光学系及びラインジェネレータに関する。
　物体の寸法測定、物体表面の傷や欠陥の検査などの目的で、光束によってラインを生成するラインジェネレータが広く使用されている。
　従来のラインジェネレータには、パウエルレンズなどの光学素子を使用しているものがある（たとえば特許文献１及び２）。しかし、これらのラインジェネレータによって生成されるラインの長手方向の光の強度の均一性は高くない。また、これらのラインジェネレータの光学系の調整には手間がかかる。
　また、従来のラインジェネレータには、シリンドリカルレンズを使用してラインの長手方向の光の強度分布を定めるものがある（たとえば特許文献３）。しかし、これらのラインジェネレータにおいて、生成されるラインの光の強度を変更するには、光源を含めた光学系を設計しなおす必要があり変更が容易ではい。
　このように、光学系の調整が容易であり、生成されるラインの長手方向の光の強度の均一性が高く、ラインの光の強度を容易に変更することのできるラインジェネレータ用の光学系及びラインジェネレータはこれまで開発されてない。
　そこで、光学系の調整が容易であり、生成されるラインの長手方向の光の強度の均一性が高く、ラインの光の強度を容易に変更することのできるラインジェネレータ用の光学系及びラインジェネレータに対するニーズがある。
特開2009-259711 特開2008-58295 特開2007-179823
　本発明の技術的課題は、光学系の調整が容易であり、生成されるラインの長手方向の光の強度の均一性が高く、ラインの光の強度を容易に変更することのできるラインジェネレータ用の光学系及びラインジェネレータを提供することである。
　本発明の第１の態様のラインジェネレータ用光学系は、ラインを光束によって生成するラインジェネレータ用光学系であって、第１の方向にのみ曲率を有する光学素子と、第１及び第２のレンズアレイ面と、を備える。該第１及び第２のレンズアレイ面は、それぞれ、該第１の方向と直交する第２の方向に配列された複数のトロイダルレンズ面を備え、該複数のトロイダルレンズ面は主に該第２の方向に曲率を有し、該第１及び第２のレンズアレイ面の一方の任意のトロイダルレンズ面は他方のトロイダルレンズ面の一つと対応し、互いに対応する２個のトロイダルレンズ面の頂点を結ぶ第１の直線の方向は該第２の方向と直交し、該第１の直線及び該第１の直線と直交する該第２の方向の第２の直線を含む断面において、該２個のトロイダルレンズ面の一方が他方の無限遠物点に対する結像面となるように構成されている。
　本態様のラインジェネレータ用光学系は、一対の対応するトロイダルレンズ面の頂点を結ぶ第１の直線及び該第１の直線と直交する該第２の方向の第２の直線を含む断面において、一対の対応するトロイダルレンズ面の一方は他方の無限遠物点に対する結像面となるように構成されており、ケラー照明を形成する。したがって、本態様の光学系は以下の特徴を有する。
　本態様の光学系において、第１及び第２のレンズアレイ面に入射する光束を第２の方向にコリメートする必要がない。
　本態様の光学系に必要な調整は、光源と第１の方向にのみ曲率を有する光学素子との位置関係の調整のみであり、従来の光学系と比較して容易である。
　本発明の光学系は第２の方向においてケラー照明を形成するように構成されているので、第２の方向における光の強度の均一性が高い。
　本発明の第１の態様の第１の実施形態のラインジェネレータ用光学系において、それぞれのトロイダルレンズ面の該第１の方向の曲率が０であるかまたは該第２の方向の曲率の０．１倍より小さい。
　一対の対応するトロイダルレンズ面は、第２の方向の曲率によって光束の、ラインの長手方向の拡がりを定める。他方、光束の幅は光学素子の第１の方向の曲率によって第２の方向と直交する第１の方向の曲率は０であるかまたは第２の方向の曲率と比較して小さい。
　本発明の第１の態様の第２の実施形態のラインジェネレータ用光学系において、それぞれのトロイダルレンズ面の該第１の方向の曲率が、該シリンドリカルレンズの収差を補正するように定められている。
　本発明の光学系において、トロイダルレンズ面の第１の方向の形状は、第２の方向の光の強度分布に影響を与えない。したがって、トロイダルレンズ面の第１の方向に第２の方向と比較して小さな曲率を与えることによって、第１の方向にのみ曲率を有する光学素子の残留収差を補正し、ラインの幅方向の光の強度分布の均一性や集光性を高めることができる。
　本発明の第１の態様の第３の実施形態のラインジェネレータ用光学系において、該第１及び第２のレンズアレイ面が１個のレンズに備わる。
　本発明の第１の態様の第４の実施形態のラインジェネレータ用光学系において、該第１及び第２のレンズアレイ面がそれぞれ異なるレンズに備わる。
　本発明の第１の態様の第５の実施形態のラインジェネレータ用光学系において、該光学素子がシリンドリカルレンズである。
　本発明の第１の態様の第６の実施形態のラインジェネレータ用光学系において、該光学素子がシリンドリカルミラーである。
　本発明の第２の態様のラインジェネレータは、上記のいずれかのラインジェネレータ用光学系と光源とを備えている。
　本発明の第２の態様の第１の実施形態のラインジェネレータにおいて、該光源の該第２の方向の長さが該第１の方向の長さよりも大きい。
　本発明の第２の態様の第２の実施形態のラインジェネレータにおいて、該光源が該第２の方向に配列された複数の光源からなる。
　本発明の光学系は第２の方向においてケラー照明を形成するように構成されているので、ラインの長手方向の光の強度の相対値の分布は、光源の第２の方向の強度分布の影響を受けない。したがって、光源のサイズを第２の方向に延長し、または第２の方向に複数個配置することにより光の強度の相対値の分布を一様としたまま光の強度の絶対値を増加させることができる。
本発明の一実施形態によるラインジェネレータの第１及び第２のレンズアレイ面のトロイダルレンズ面を説明するための図である。 実施例１のラインジェネレータのｘｚ断面の光線経路を示す図である。 実施例１のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。 実施例１のラインジェネレータを通過した光束のｘ軸方向の強度分布を示す図である。 実施例１のラインジェネレータを通過した光束のｙ軸方向の強度分布を示す図である。 実施例２のラインジェネレータのｘｚ断面の光線経路を示す図である。 実施例２のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。 実施例２のラインジェネレータを通過した光束のｘ軸方向の強度分布を示す図である。 実施例２のラインジェネレータを通過した光束のｙ軸方向の強度分布を示す図である。 実施例３のラインジェネレータのｘｚ断面の光線経路を示す図である。 実施例３のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。 実施例３のラインジェネレータを通過した光束のｘ軸方向の強度分布を示す図である。 実施例３のラインジェネレータを通過した光束のｙ軸方向の強度分布を示す図である。 実施例４のラインジェネレータのｘｚ断面の光線経路を示す図である。 実施例４のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。 実施例４のラインジェネレータを通過した光束のｘ軸方向の強度分布を示す図である。 実施例４のラインジェネレータを通過した光束のｙ軸方向の強度分布を示す図である。 実施例５のラインジェネレータのｘｚ断面の光線経路を示す図である。 実施例５のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。 実施例５のラインジェネレータを通過した光束のｘ軸方向の強度分布を示す図である。 実施例５のラインジェネレータを通過した光束のｙ軸方向の強度分布を示す図である。 実施例６のラインジェネレータのｘｚ断面の光線経路を示す図である。 実施例６のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。 実施例６のラインジェネレータを通過した光束のｘ軸方向の強度分布を示す図である。 実施例６のラインジェネレータを通過した光束のｙ軸方向の強度分布を示す図である。 実施例７のラインジェネレータのｘｚ断面の光線経路を示す図である。 実施例７のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。 実施例７のラインジェネレータを通過した光束のｘ軸方向の強度分布を示す図である。 実施例７のラインジェネレータを通過した光束のｙ軸方向の強度分布を示す図である。 実施例８のラインジェネレータのｘｚ断面の光線経路を示す図である。 実施例８のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。 実施例８のラインジェネレータを通過した光束のｘ軸方向の強度分布を示す図である。 実施例８のラインジェネレータを通過した光束のｙ軸方向の強度分布を示す図である。 実施例９のラインジェネレータのｘｙ断面の光線経路を示す図である。 実施例９のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。 実施例９のラインジェネレータのｚｘ断面の光線経路を示す図である。 実施例９のラインジェネレータを通過した光束のラインの幅方向（ｚ軸方向）の強度分布を示す図である。 実施例９のラインジェネレータを通過した光束のラインの長手方向（ｙ軸方向）の強度分布を示す図である。 実施例１０のラインジェネレータのｘｙ断面の光線経路を示す図である。 実施例１０のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。 実施例１０のラインジェネレータのｚｘ断面の光線経路を示す図である。 実施例１０のラインジェネレータを通過した光束のラインの幅方向（ｚ軸方向）の強度分布を示す図である。 実施例１０のラインジェネレータを通過した光束のラインの長手方向（ｙ軸方向）の強度分布を示す図である。 実施例１１のラインジェネレータのｘｙ断面の光線経路を示す図である。 実施例１１のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。 実施例１１のラインジェネレータのｚｘ断面の光線経路を示す図である。 実施例１１のラインジェネレータを通過した光束のラインの幅方向（ｚ軸方向）の強度分布を示す図である。 実施例１１のラインジェネレータを通過した光束のラインの長手方向（ｙ軸方向）の強度分布を示す図である。 実施例１２のラインジェネレータのｘｙ断面の光線経路を示す図である。 実施例１２のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。 実施例１２のラインジェネレータのｚｘ断面の光線経路を示す図である。 実施例１２のラインジェネレータを通過した光束のラインの幅方向（ｚ軸方向）の強度分布を示す図である。 実施例１２のラインジェネレータを通過した光束のラインの長手方向（ｙ軸方向）の強度分布を示す図である。 実施例１３のラインジェネレータのｘｚ断面の光線経路を示す図である。 実施例１３のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。 実施例１３のラインジェネレータを通過した光束のラインの幅方向（ｘ軸方向）の強度分布を示す図である。 実施例１３のラインジェネレータを通過した光束のラインの長手方向（ｙ軸方向）の強度分布を示す図である。 実施例１４のラインジェネレータのｘｚ断面の光線経路を示す図である。 実施例１４のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。 実施例１４のラインジェネレータを通過した光束のｘ軸方向の強度分布を示す図である。 実施例１４のラインジェネレータを通過した光束のｙ軸方向の強度分布を示す図である。
　本発明のラインジェネレータは、光源２００とラインジェネレータによって生成されるラインの幅を定める光学素子３００と該ラインの長手方向の光束の拡がり角度を定める第１のレンズアレイ面１１０及び第２のレンズアレイ面１２０から構成される。光源２００はレーザ光源または発光ダイオード光源であってもよい。第１のレンズアレイ面１１０及び第２のレンズアレイ面１２０は、それぞれ平面上に１次元に配列された複数のトロイダルレンズ面から構成される。
　図２及び図３は後で説明する本発明の実施例１のラインジェネレータの光線経路を示す図である。実施例１の光学素子３００はシリンドリカルレンズである。シリンドリカルレンズが曲率を有する方向をｘ軸方向とし、曲率を有さない方向をｙ軸方向とし、ｘ軸方向及びｙ軸方向に直交する方向をｚ軸方向とする。図２及び図３は、それぞれｘｚ断面及びｙｚ断面を示す。本実施例において、ｘ軸方向はラインジェネレータによって生成されるラインの幅方向であり、ｙ軸方向はラインジェネレータによって生成されるラインの長手方向である。
　図１は、本発明の一実施形態によるラインジェネレータの第１及び第２のレンズアレイ面のトロイダルレンズ面を説明するための図である。入射側の第１のレンズアレイ面１１０のトロイダルレンズ面を１１００で表し、トロイダルレンズ面１１００に対応する出射側の第２のレンズアレイ面１２０のトロイダルレンズ面を１２００で表す。
　レンズ面１１００及びレンズ面１２００の頂点を結ぶ直線を光軸ＯＰとする。光軸方向は、図２及び図３におけるz軸方向と一致する。図１は、光軸ＯＰ及びラインジェネレータによって生成されるラインの長手方向を含む断面、すなわち図３に示すｙｚ断面を示す。
　図１において光軸ＯＰに平行に進行してレンズ面１１００に入射する平行光束を点線で表し、光軸ＯＰに対する入射角度が最大値θの平行光束を実線で表す。
　他方、レンズ面１１００の屈折力をΦ１、レンズ面１２００の屈折力をΦ２、レンズ面１１００及びレンズ面１２００の屈折力をΦとすると以下の関係が成立する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
 ここで、τはレンズ面間の換算距離であり、レンズ面間の距離をt、レンズの屈折率をｎとして以下の式で表せる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
 レンズ面１１００の曲率半径をＲ１とすると、レンズ面１１００の屈折力Φ１は以下の式で表せる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000003
 レンズ面１２００の曲率半径をＲ２とすると、レンズ面１２００の屈折力Φ２は以下の式で表せる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000004
　本発明において、レンズ面１１００及びレンズ面１２００はケラー照明を形成するように構成される。ケラー照明の条件は以下のとおりである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000005
 したがって、以下の関係が成立する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000006
 上記の関係から以下の関係が得られる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000007
 レンズ面１１００及びレンズ面１２００の合成焦点距離をｆとすると以下の関係が成立する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000008
　このように、ケラー照明を実現するレンズ面１１００及びレンズ面１２００は、一方が他方の無限遠物点に対する結像面となるように構成されているので、レンズ面１１００に入射する平行光束はレンズ面１２００上で結像する。
　図１において、レンズ面１１００及びレンズ面１２００の開口幅をＰとし、レンズ面１１００に入射する光線の光軸に対する角度の最大値及びレンズ面１２００から射出する光線の角度の最大値をθとすると以下の関係が成立する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000009
　このように、レンズ面１１００及びレンズ面１２００によって、光源からの光は光軸に対して±θの範囲に配光される。角度θによってラインジェネレータによって生成される光束のラインの長手方向の拡がりが定まり、照射面におけるラインの長さが定まる。また、レンズ面１１００及びレンズ面１２００はケラー照明を形成するように構成されているのでラインの長手方向の強度分布の均一性が極めて高い。
　また、屈折率と曲率半径について以下の関係が成立する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000010
 さらに以下の関係が成立する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000011
　本発明の光学系はラインを光束によって生成する。本発明の光学系は、第１の方向（ｘ軸方向）にのみ曲率を有する光学素子３００と、第１及び第２のレンズアレイ面１１０及び１２０と、を備え、該第１及び第２のレンズアレイ面１１０及び１２０は、それぞれ、該第１の方向と直交する第２の方向（ｙ軸方向）に配列された複数のトロイダルレンズ面を備え、該複数のトロイダルレンズ面は主に該第２の方向に曲率を有し、該第１及び第２のレンズアレイ面の一方の任意のトロイダルレンズ面は他方のトロイダルレンズ面の一つと対応し、互いに対応する２個のトロイダルレンズ面１１００及び１２００の頂点を結ぶ第１の直線（図１の光軸ＯＰ）の方向は該第２の方向と直交し、該第１の直線及び該第１の直線と直交する該第２の方向の第２の直線を含む断面において、該２個のトロイダルレンズ面の一方１１００または１２００が他方１２００または１１００の無限遠物点に対する結像面となるように構成されている。
　第１の方向（ｘ軸方向）にのみ曲率を有する光学素子３００は、シリンドリカルレンズまたはシリンドリカルミラーである。第１の方向にのみ曲率を有する光学素子３００は、ラインジェネレータによって生成される光束のラインの幅を定める。
　第１のレンズアレイ面１１０及び第２のレンズアレイ面１２０は、ラインジェネレータによって生成される光束のラインの長手方向の拡がりを定める。
　対応する２個のトロイダルレンズ面１１００及び１２００の頂点を結ぶ光軸及び該光軸に直交する第２の方向（ｙ軸方向）の直線を含む平面において、一対の対応するトロイダルレンズ面の一方は他方の無限遠物点に対する結像面となるように構成されており、ケラー照明を形成する。したがって、本発明の光学系は以下の特徴を有する。
　本発明の光学系において、第１及び第２のレンズアレイ面に入射する光束を第２の方向にコリメートする必要がない。
　本発明の光学系に必要な調整は、光源２００と第１の方向にのみ曲率を有する光学素子３００との位置関係の調整のみであり、従来の光学系と比較して容易である。
　本発明の光学系は第２の方向においてケラー照明を形成するように構成されているので、第２の方向における光の強度の均一性が高い。
　本発明の光学系において、トロイダルレンズ面の第１の方向の形状は、第２の方向の光の強度分布に影響を与えない。したがって、トロイダルレンズ面の第１の方向に第２の方向と比較して小さな曲率を与えることによって、第１の方向にのみ曲率を有する光学素子の残留収差を補正し、ラインの幅方向の光の強度分布の均一性や集光性を高めることができる。
　本発明の光学系は第２の方向においてケラー照明を形成するように構成されているので、ラインの長手方向の光の強度の相対値の分布は、光源の第２の方向の強度分布の影響を受けない。したがって、光源のサイズを第２の方向に延長し、または第２の方向に複数個配置することにより光の強度の相対値の分布を一様としたまま光の強度の絶対値を増加させることができる。
　以下において本発明の実施例を説明する。ラインジェネレータは光源２００と、ラインの幅を定める光学素子３００と、光束のラインの長手方向の拡がりを定め、ラインの長さを定める第１及び第２のレンズアレイ面（１１０及び１２０）と、から構成される。
　光源２００は、上述のようにレーザ光源または発光ダイオード光源であってもよい。光源の輝度は、１ｋｗ／ｃｍ２である。
　光束のラインの幅方向の拡がりを定める光学素子３００は、一方向にのみ曲率を有するシリンドリカルレンズまたはシリンドリカルミラーである。光学素子３００が曲率を有する方向にｘ軸を定め、光学素子３００が曲率を有さない方向にｙ軸を定め、ｘ軸及びｙ軸に直交するｚ軸を定める。光学素子３００の面のｚ軸方向の座標Sxはシリンドリカルレンズの頂点または反射鏡の中心を基準として以下の式で表せる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000012
このとき曲率cｘは曲率半径Rｘを用いて以下のようにあらわせる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000013
 ｋはコーニック定数、Aiは非球面係数、iは０または自然数を表す。
　光束のラインの長手方向の拡がりを定めるレンズ面１１００及び１２００の形状について説明する。レンズ面１１００及び１２００の頂点を結ぶ直線をｚ軸とし、レンズ面１１００及び１２００が相対的に大きな曲率を有する方向をｙ軸とし、ｙ軸及びｚ軸に直交するｘ軸を定める。レンズ面１１００及び１２００のｘ座標によるｚ座標の変化はレンズ面の頂点を基準として以下の式で表せる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000014
このとき曲率cｘは曲率半径Rｘを用いて以下のようにあらわせる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000015
 レンズ面１１００及び１２００のｙ座標によるz座標の変化はレンズ面の頂点を基準として以下の式で表せる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000016
このとき曲率cｙは曲率半径Rｙを用いて以下のようにあらわせる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000017
 したがって、レンズ面１１００及び１２００のz座標はレンズ面の頂点を基準として以下の式で表せる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000018
実施例１
　実施例１のラインジェネレータのラインの幅を定める光学素子３００はシリンドリカルレンズである。レンズアレイ面１１０及び１２０は、それぞれ１個のレンズアレイ素子の入射面及び出射面に備わる。
　図２は実施例１のラインジェネレータのｘｚ断面の光線経路を示す図である。
　図３は実施例１のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。
　実施例１の数値データを以下に示す。
光源距離　　　：　　　　77ｍｍ
シリンドリカルレンズ：　入射面　Rx＝infinite
　　　　　　　　　　　　出射面　Rx＝-41.35mm
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　5mm
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.509
素子間距離：　　　　　　2.5ｍｍ
レンズアレイ素子：　　　入射面（レンズ面１１００）Ry＝1.15mm k=-0.49
　　　　　　　　　　　　出射面（レンズ面１２００）Ry＝-1.15mm k=-0.49
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　3.48mm
　　　　　　　　　　　　アレイピッチ　0.8ｍｍ
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.489
光源：　　　　　　　　　サイズ　　　　0.1ｍｍ x  0.1mm
開口サイズ：　　　　　　ｘ軸方向　　　16ｍｍ
　　　　　　　　　　　　ｙ軸方向　　　34ｍｍ
レンズアレイ面１１０のレンズ面１１００及びレンズアレイ面１２０のレンズ面１２００は、それぞれ、ｙ軸方向にのみ曲率を有し、ｙ軸方向に０．８ミリメータのピッチで配置されている。
　図４は、実施例１のラインジェネレータを通過した光束のｘ軸方向の強度分布を示す図である。図４の横軸はｘｚ断面における光線のｚ軸に対する角度を示す。角度の単位は度である。図４の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／ステラジアンである。
　図５は、実施例１のラインジェネレータを通過した光束のｙ軸方向の強度分布を示す図である。図５の横軸は光線のｙｚ断面における光線のｚ軸に対する角度を示す。角度の単位は度である。図５の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／ステラジアンである。
実施例２
　実施例２のラインジェネレータのラインの幅を定める光学素子３００はシリンドリカルレンズである。レンズアレイ面１１０及び１２０は、それぞれ１個のレンズアレイ素子の入射面及び出射面に備わる。
　図６は実施例２のラインジェネレータのｘｚ断面の光線経路を示す図である。
　図７は実施例２のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。
　実施例２の数値データを以下に示す。
光源距離：　　　　　　　77ｍｍ
シリンドリカルレンズ：　入射面　Rx＝infinite
　　　　　　　　　　　　出射面　Rx＝-41.35mm
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　5mm
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.509
素子間距離：　　　　　　2.5ｍｍ
レンズアレイ素子：　　　入射面（レンズ面１１００）Ry＝1.15mm k=-0.49
　　　　　　　　　　　　出射面（レンズ面１２００）Ry＝-1.15mm k=-0.49
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　3.48mm
　　　　　　　　　　　　アレイピッチ　0.8ｍｍ
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.489
光源：　　　　　　　　　サイズ　　　　0.1ｍｍ x  20mm
開口サイズ：　　　　　　ｘ軸方向　　　16ｍｍ
　　　　　　　　　　　　ｙ軸方向　　　34ｍｍ
レンズアレイ面１１０のレンズ面１１００及びレンズアレイ面１２０のレンズ面１２００は、それぞれ、ｙ軸方向にのみ曲率を有し、ｙ軸方向に０．８ミリメータのピッチで配置されている。
　図８は、実施例２のラインジェネレータを通過した光束のｘ軸方向の強度分布を示す図である。図８の横軸は光線のｘｚ断面における光線のｚ軸に対する角度を示す。角度の単位は度である。図８の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／ステラジアンである。
　図９は、実施例２のラインジェネレータを通過した光束のｙ軸方向の強度分布を示す図である。図９の横軸は光線のｙｚ断面における光線のｚ軸に対する角度を示す。角度の単位は度である。図９の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／ステラジアンである。
　実施例２のシリンドリカルレンズ、レンズアレイ面１１０及びレンズアレイ面１２０は実施例１のシリンドリカルレンズ、レンズアレイ面１１０及びレンズアレイ面１２０と同じである。実施例２の光源は、図７に示すように実施例１の光源と比較してｙ軸方向の長さが長い。実施例２のｘ軸及びｙ軸方向の強度分布の形状は実施例１のｘ軸及びｙ軸方向の強度分布の形状と同じであるが、実施例２の光の強度は実施例１の光の強度よりも高い。このように、光源のｙ軸方向の長さを長くすることによって、光の強度分布の形状を変えずに光の強度を増加させることができる。
実施例３
　実施例３のラインジェネレータのラインの幅を定める光学素子３００はシリンドリカルレンズである。レンズアレイ面１１０及び１２０は、それぞれ１個のレンズアレイ素子の入射面及び出射面に備わる。
　図１０は実施例３のラインジェネレータのｘｚ断面の光線経路を示す図である。
　図１１は実施例３のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。
　実施例３の数値データを以下に示す。
光源距離：　　　　　　　77ｍｍ
シリンドリカルレンズ：　入射面　Rx＝infinite
　　　　　　　　　　　　出射面　Rx＝-41.35mm
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　5mm
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.509
素子間距離：　　　　　　2.5ｍｍ
レンズアレイ素子：　　　入射面（レンズ面１１００）Ry＝1.15mm k=-0.49
　　　　　　　　　　　　出射面（レンズ面１２００）Ry＝-1.15mm k=-0.49
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　3.48mm
　　　　　　　　　　　　アレイピッチ　0.8ｍｍ
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.489
光源：　　　　　　　　　サイズ　　　　0.1ｍｍ x  0.1mm
　　　　　　　　　　　　光源ピッチ　　5mm
開口サイズ：　　　　　　ｘ軸方向　　　16ｍｍ
　　　　　　　　　　　　ｙ軸方向　　　100ｍｍ
レンズアレイ面１１０のレンズ面１１００及びレンズアレイ面１２０のレンズ面１２００は、それぞれ、ｙ軸方向にのみ曲率を有し、ｙ軸方向に０．８ミリメータのピッチで配置されている。
　図１２は、実施例３のラインジェネレータを通過した光束のｘ軸方向の強度分布を示す図である。図１２の横軸は光線のｘｚ断面における光線のｚ軸に対する角度を示す。角度の単位は度である。図１２の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／ステラジアンである。
　図１３は、実施例３のラインジェネレータを通過した光束のｙ軸方向の強度分布を示す図である。図１３の横軸は光線のｙｚ断面における光線のｚ軸に対する角度を示す。角度の単位は度である。図１３の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／ステラジアンである。
　実施例３のシリンドリカルレンズ、レンズアレイ面１１０及びレンズアレイ面１２０は実施例１のシリンドリカルレンズ、レンズアレイ面１１０及びレンズアレイ面１２０と同じである。実施例３においては、それぞれが実施例１の光源と同じ複数の光源が、図１１に示すようにｙ軸方向に５ミリメータピッチで配列されている。実施例３のｘ軸及びｙ軸方向の強度分布の形状は実施例１のｘ軸及びｙ軸方向の強度分布の形状と同じであるが、実施例２の光の強度は実施例１の光の強度よりも高い。このように、ｙ軸方向に複数の光源を配列することによって、光の強度分布の形状を変えずに光の強度を増加させることができる。
実施例４
　実施例４のラインジェネレータのラインの幅を定める光学素子３００はシリンドリカルレンズである。レンズアレイ面１１０及び１２０は、それぞれ１個のレンズアレイ素子の入射面及び出射面に備わる。
　図１４は実施例４のラインジェネレータのｘｚ断面の光線経路を示す図である。
　図１５は実施例４のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。
　実施例４の数値データを以下に示す。
光源距離：　　　　　　　77ｍｍ
シリンドリカルレンズ：　入射面　　　　infinite
　　　　　　　　　　　　出射面　　　　Rx＝-40.83mm k=-1.2
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　5mm
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.508
素子間距離：　　　　　　2.5ｍｍ
レンズアレイ素子：　　　入射面（レンズ面１１００）Ry＝1.18mm k=-0.4
　　　　　　　　　　　　出射面（レンズ面１２００）Ry＝-1.18mm k=-0.4
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　3.26mm
　　　　　　　　　　　　アレイピッチ　0.8ｍｍ
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.567
光源：　　　　　　　　　サイズ　　　　0.1ｍｍ x  0.1mm
開口サイズ：　　　　　　ｘ軸方向　　　16ｍｍ
　　　　　　　　　　　　ｙ軸方向　　　34ｍｍ
レンズアレイ面１１０のレンズ面１１００及びレンズアレイ面１２０のレンズ面１２００は、それぞれ、ｙ軸方向にのみ曲率を有し、ｙ軸方向に０．８ミリメータのピッチで配置されている。
　図１６は、実施例４のラインジェネレータを通過した光束のｘ軸方向の強度分布を示す図である。図１６の横軸は光線のｘｚ断面におけるｚ軸に対する角度を示す。角度の単位は度である。図１６の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／ステラジアンである。
　図１７は、実施例４のラインジェネレータを通過した光束のｙ軸方向の強度分布を示す図である。図１７の横軸は光線のｙｚ断面におけるｚ軸に対する角度を示す。角度の単位は度である。図１７の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／ステラジアンである。
　本実施例のシリンドリカルレンズの出射面は非球面である。シリンドリカルレンズの出射面を非球面とすることによって、ｘ軸方向（ラインの幅方向）の光の強度をより均一にすることができる。
実施例５
　実施例５のラインジェネレータのラインの幅を定める光学素子３００はシリンドリカルレンズである。レンズアレイ面１１０及び１２０は、それぞれ１個のレンズアレイ素子の入射面及び出射面に備わる。
　図１８は実施例５のラインジェネレータのｘｚ断面の光線経路を示す図である。
　図１９は実施例５のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。
　実施例５の数値データを以下に示す。
光源距離：　　　　　　　77ｍｍ
シリンドリカルレンズ：　入射面　infinite
　　　　　　　　　　　　出射面　　　　Rx＝-40.83mm k=-1.2
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　5mm
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.508
素子間距離：　　　　　　2.5ｍｍ
レンズアレイ素子：　　　入射面（レンズ面１１００）Ry＝1.18mm k=-0.4
　　　　　　　　　　　　出射面（レンズ面１２００）Ry＝-1.18mm k=-0.4
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　3.26mm
　　　　　　　　　　　　アレイピッチ　0.8ｍｍ
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.567
光源：　　　　　　　　　サイズ　　　　0.4ｍｍ x  0.4mm
開口サイズ：　　　　　　ｘ軸方向　　　16ｍｍ
　　　　　　　　　　　　ｙ軸方向　　　34ｍｍ
レンズアレイ面１１０のレンズ面１１００及びレンズアレイ面１２０のレンズ面１２００は、それぞれ、ｙ軸方向にのみ曲率を有し、ｙ軸方向に０．８ミリメータのピッチで配置されている。
　図２０は、実施例５のラインジェネレータを通過した光束のｘ軸方向の強度分布を示す図である。図２０の横軸は光線のｘｚ断面におけるｚ軸に対する角度を示す。角度の単位は度である。図２０の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／ステラジアンである。
　図２１は、実施例５のラインジェネレータを通過した光束のｙ軸方向の強度分布を示す図である。図２１の横軸は光線のｙｚ断面におけるｚ軸に対する角度を示す。角度の単位は度である。図２１の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／ステラジアンである。
　実施例５のシリンドリカルレンズ、レンズアレイ面１１０及びレンズアレイ面１２０は実施例４のシリンドリカルレンズ、レンズアレイ面１１０及びレンズアレイ面１２０と同じである。実施例５の光源は、実施例４の光源と比較してｘ軸方向及びy軸方向の長さが長い。光源のｘ軸方向の長さを長くすることによって、ラインの幅を大きくすることができる。
実施例６
　実施例６のラインジェネレータのラインの幅を定める光学素子３００はシリンドリカルレンズである。レンズアレイ面１１０及び１２０は、それぞれ１個のレンズアレイ素子の入射面及び出射面に備わる。レンズアレイ面１１０及び１２０は、それぞれ１個のレンズアレイ素子の入射面及び出射面に備わる。
　図２２は実施例６のラインジェネレータのｘｚ断面の光線経路を示す図である。
　図２３は実施例６のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。
　実施例６の数値データを以下に示す。
光源距離：　　　　　　　77ｍｍ
シリンドリカルレンズ：　入射面　　　　infinite
　　　　　　　　　　　　出射面　　　　Rx＝-60.159mm
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　5mm
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.707
素子間距離：　　　　　　2.5ｍｍ
レンズアレイ素子：　　　入射面（レンズ面１１００）Ry＝1.00mm k=-0.4
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　A2＝5.9749E-004
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　A4＝-4.2385E-007
　　　　　　　　　　　　出射面（レンズ面１２００）Ry＝-1.00mm k=-0.4
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　2.58mm
　　　　　　　　　　　　アレイピッチ　0.8ｍｍ
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.636
光源：　　　　　　　　　サイズ　　　　0.1ｍｍ x  0.1mm
開口サイズ：　　　　　　x軸方向　　　 16ｍｍ
　　　　　　　　　　　　y軸方向　　　 34ｍｍ
レンズ面１１００及びレンズ面１２００は、それぞれ、ｙ軸方向に０．８ミリメータのピッチで配置されている。
　図２４は、実施例６のラインジェネレータを通過した光束のｘ軸方向の強度分布を示す図である。図２４の横軸は光線のｘｚ断面におけるｚ軸に対する角度を示す。角度の単位は度である。図２４の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／ステラジアンである。
　図２５は、実施例６のラインジェネレータを通過した光束のｙ軸方向の強度分布を示す図である。図２５の横軸は光線のｙｚ断面におけるｚ軸に対する角度を示す。角度の単位は度である。図２５の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／ステラジアンである。
　実施例６においては、シリンドリカルレンズの残量収差を補正するように、レンズ面１１００のx軸方向にも曲率を与えている。この結果、ｘ軸方向（ラインの幅方向）の光の強度をより均一にすることができる。
実施例７
　実施例７のラインジェネレータのラインの幅を定める光学素子３００はシリンドリカルレンズである。本実施例において、レンズアレイ面１１０及びレンズアレイ面１２０は、それぞれ別の光学素子レンズアレイ素子１及びレンズアレイ素子２に備わる。レンズアレイ面１１０はレンズアレイ素子１の入射面を形成し、レンズアレイ面１２０はレンズアレイ素子２の出射面を形成する。
　図２６は実施例７のラインジェネレータのｘｚ断面の光線経路を示す図である。
　図２７は実施例７のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。
　実施例７の数値データを以下に示す。
光源距離：　　　　　　　77ｍｍ
シリンドリカルレンズ：　入射面　　　　infinite
　　　　　　　　　　　　出射面　　　　Rx＝-45.84mm
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　5mm
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.509
素子間距離：　　　　　　2ｍｍ
レンズアレイ素子１：　　入射面（レンズ面１１００）Ry＝1.27mm k=-0.5
　　　　　　　　　　　　出射面　　　　　　　　　　Rx＝-914.09mm 
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　A2＝2.7664E-07
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　A4＝7.7915E-11
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　1.25mm
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.614
　　　　　　　　　　　　アレイピッチ　0.8ｍｍ
素子間距離：　　　　　　0.5ｍｍ
レンズアレイ素子２：　　入射面　　　　　　　　　　Rx＝914.09mm 
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　A2＝-2.7664E-07
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　A4＝-7.7915E-11
　　　　　　　　　　　　出射面（レンズ面１２００）Ry＝-1.27mm k=-0.5
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　1.25mm
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.614
　　　　　　　　　　　　アレイピッチ　0.8ｍｍ
光源：　　　　　　　　　サイズ　　　　0.1ｍｍ x  0.1mm 
開口サイズ：　　　　　　x軸方向　　　 16ｍｍ
　　　　　　　　　　　　y軸方向　　　 34ｍｍ
レンズ面１１００及びレンズ面１２００は、それぞれ、ｙ軸方向に０．８ミリメータのピッチで配置されている。
　図２８は、実施例７のラインジェネレータを通過した光束のｘ軸方向の強度分布を示す図である。図２８の横軸は光線のｘｚ断面におけるｚ軸に対する角度を示す。角度の単位は度である。図２８の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／ステラジアンである。
　図２９は、実施例７のラインジェネレータを通過した光束のｙ軸方向の強度分布を示す図である。図２９の横軸は光線のｙｚ断面におけるｚ軸に対する角度を示す。角度の単位は度である。図２９の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／ステラジアンである。
実施例８
　実施例８のラインジェネレータのラインの幅を定める光学素子３００はシリンドリカルレンズである。本実施例において、レンズアレイ面１１０及びレンズアレイ面１２０は、それぞれ別の光学素子レンズアレイ素子１及びレンズアレイ素子２に備わる。レンズアレイ面１１０はレンズアレイ素子１の入射面を形成し、レンズアレイ面１２０は別のレンズアレイ素子２の出射面を形成する。また、シリンドリカルレンズはレンズアレイ素子１及びレンズアレイ素子２の間に配置されている。
　図３０は実施例８のラインジェネレータのｘｚ断面の光線経路を示す図である。
　図３１は実施例８のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。
　実施例８の数値データを以下に示す。
光源距離：　　　　　　　77ｍｍ
レンズアレイ素子１：　　入射面（レンズ面１１００）　Ry＝3.32mm k=-0.5
　　　　　　　　　　　　出射面　　　　　　　　　　　Rx＝-964.03mm 
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　A2＝-5.9643E-07
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　A4＝2.3729E-08
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　1.30mm
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.567
　　　　　　　　　　　　アレイピッチ　2ｍｍ
素子間距離：　　　　　　0.75ｍｍ
シリンドリカルレンズ：　入射面　　　　Rx＝infinite
　　　　　　　　　　　　出射面　　　　Rx＝-45.96mm
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　4mm
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.509
素子間距離：　　　　　　0.75ｍｍ
レンズアレイ素子２：　　入射面　　　　　　　　　　Rx＝964.03mm 
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　A2＝5.9643E-07
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　A4＝-2.3729E-08
　　　　　　　　　　　　出射面（レンズ面１２００）Ry＝3.32mm k=-0.5
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　1.30mm
　　　　　　　　　　　　アレイピッチ　2ｍｍ
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.567
光源：　　　　　　　　　サイズ　　　　0.1ｍｍ x  0.1mm
開口サイズ：　　　　　　ｘ軸方向　　　16ｍｍ
　　　　　　　　　　　　ｙ軸方向　　　34ｍｍ
レンズ面１１００及びレンズ面１２００は、それぞれ、ｙ軸方向に２ミリメータのピッチで配置されている。
　図３２は、実施例８のラインジェネレータを通過した光束のｘ軸方向の強度分布を示す図である。図３２の横軸は光線のｘｚ断面におけるｚ軸に対する角度を示す。図３２の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／ステラジアンである。
　図３３は、実施例８のラインジェネレータを通過した光束のｙ軸方向の強度分布を示す図である。図３３の横軸は光線のｙｚ断面におけるｚ軸に対する角度を示す。角度の単位は度である。図３３の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／ステラジアンである。
実施例９
　実施例９のラインジェネレータのラインの幅を定める光学素子３００はｘ軸方向にのみ曲率を有するシリンドリカルミラーである。レンズアレイ面１１０及び１２０は、それぞれ１個のレンズアレイ素子の入射面及び出射面に備わる。
　図３４は実施例９のラインジェネレータのｘｙ断面の光線経路を示す図である。
　図３５は実施例９のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。
　図３６は実施例９のラインジェネレータのｚｘ断面の光線経路を示す図である。
　実施例９の数値データを以下に示す。
光源距離：　　　　　　　68ｍｍ。
シリンドリカルミラー：　入射面　A2= -7.3529E-03
素子間距離：　　　　　　17ｍｍ
レンズアレイ素子：　　　入射面（レンズ面１１００）Ry＝1.18mm k=-0.4 
　　　　　　　　　　　　出射面（レンズ面１２００）Ry＝1.18mm k=-0.4
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　3.26mm
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.567
　　　　　　　　　　　　アレイピッチ　0.8ｍｍ
光源：　　　　　　　　　サイズ　　　　0.1ｍｍ x  0.1mm 
開口サイズ：　　　　　　ラインの幅方向　　16ｍｍ
　　　　　　　　　　　　ラインの長手方向　34ｍｍ
レンズ面１１００及びレンズ面１２００は、それぞれ、ｙ軸方向に０．８ミリメータのピッチで配置されている。
　図３７は、実施例９のラインジェネレータを通過した光束のラインの幅方向の強度分布を示す図である。図３７の横軸は光線のｘｚ断面におけるｚ軸に対する角度を示す。角度の単位は度である。図３７の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／ステラジアンである。
　図３８は、実施例９のラインジェネレータを通過した光束のラインの長手方向（ｙ軸方向）の強度分布を示す図である。図３８の横軸は光線のｘｙ断面における光線のｘ軸に対する角度を示す。角度の単位は度である。図３８の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／ステラジアンである。
実施例１０
　実施例１０のラインジェネレータのラインの幅を定める光学素子３００はｘ軸方向にのみ曲率を有するシリンドリカルミラーである。レンズアレイ面１１０及び１２０は、それぞれ１個のレンズアレイ素子の入射面及び出射面に備わる。
　図３９は実施例１０のラインジェネレータのｘｙ断面の光線経路を示す図である。
　図４０は実施例１０のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。
　図４１は実施例１０のラインジェネレータのｚｘ断面の光線経路を示す図である。
　実施例１０の数値データを以下に示す。
光源距離：　　　　　　　68ｍｍ
シリンドリカルミラー：　入射面　A2= -7.3529E-03
素子間距離：　　　　　　17ｍｍ
レンズアレイ素子：　　　入射面（レンズ面１１００）Ry＝1.18mm k=-0.4 
　　　　　　　　　　　　出射面（レンズ面１２００）Ry＝1.18mm k=-0.4
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　3.26mm
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.567
　　　　　　　　　　　　アレイピッチ　0.8ｍｍ
光源：　　　　　　　　　サイズ　　　　0.1ｍｍ x  100mm
開口サイズ：　　　　　　ラインの幅方向　　　16ｍｍ
　　　　　　　　　　　　ラインの長手方向　　100ｍｍ
レンズ面１１００及びレンズ面１２００は、それぞれ、ｙ軸方向に０．８ミリメータのピッチで配置されている。
　図４２は、実施例１０のラインジェネレータを通過した光束のラインの幅方向（ｚ軸方向）の強度分布を示す図である。図４２の横軸は光線のｘｚ断面におけるｚ軸に対する角度を示す。角度の単位は度である。図４２の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／ステラジアンである。
　図４３は、実施例１０のラインジェネレータを通過した光束のラインの長手方向（ｙ軸方向）の強度分布を示す図である。図４３の横軸は光線のｘｙ断面におけるｘ軸に対する角度を示す。角度の単位は度である。図４３の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／ステラジアンである。
　実施例１０のシリンドリカルミラー、レンズアレイ面１１０及びレンズアレイ面１２０は実施例９のシリンドリカルミラー、レンズアレイ面１１０及びレンズアレイ面１２０と同じである。実施例１０の光源は、図４０に示すように実施例９の光源と比較してｙ軸方向の長さが長い。実施例１０のｘ軸及びｙ軸方向の強度分布の形状は実施例９のｘ軸及びＹ軸方向の強度分布の形状と同じであるが、実施例１０の光の強度は実施例９の光の強度よりも高い。このように、光源のｙ軸方向の長さを長くすることによって、光の強度分布の形状を変えずに光の強度を増加させることができる。
実施例１１
　実施例１１のラインジェネレータのラインの幅を定める光学素子３００はｘ軸方向にのみ曲率を有するシリンドリカルミラーである。レンズアレイ面１１０及び１２０は、それぞれ１個のレンズアレイ素子の入射面及び出射面に備わる。
　図４４は実施例１１のラインジェネレータのｘｙ断面の光線経路を示す図である。
　図４５は実施例１１のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。
　図４６は実施例１１のラインジェネレータのｚｘ断面の光線経路を示す図である。
　実施例１１の数値データを以下に示す。
光源距離：　　　　　　　68ｍｍ
シリンドリカルミラー：　入射面　A2= -7.3529E-03
素子間距離：　　　　　　17ｍｍ
レンズアレイ素子：　　　入射面（レンズ面１１００）Ry＝1.18mm k=-0.4 
　　　　　　　　　　　　出射面（レンズ面１２００）Ry＝1.18mm k=-0.4
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　3.26mm
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.567
　　　　　　　　　　　　アレイピッチ　0.8ｍｍ
光源：　　　　　　　　　サイズ　　　　0.1ｍｍ x  0.1mm
　　　　　　　　　　　　光源ピッチ　　5mm
開口サイズ：　　　　　　ラインの幅方向　　　16ｍｍ
　　　　　　　　　　　　ラインの長手方向　　100ｍｍ
レンズ面１１００及びレンズ面１２００は、それぞれ、ｙ軸方向に０．８ミリメータのピッチで配置されている。
　図４７は、実施例１１のラインジェネレータを通過した光束のラインの幅方向（ｚ軸方向）の強度分布を示す図である。図４７の横軸は光線のｘｚ断面におけるｚ軸に対する角度を示す。角度の単位は度である。図４７の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／ステラジアンである。
　図４８は、実施例１１のラインジェネレータを通過した光束のラインの長手方向（ｙ軸方向）の強度分布を示す図である。図４８の横軸は光線のｘｙ断面におけるｘ軸に対する角度を示す。角度の単位は度である。図４８の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／ステラジアンである。
　実施例１１のシリンドリカルミラー、レンズアレイ面１１０及びレンズアレイ面１２０は実施例９のシリンドリカルミラー、レンズアレイ面１１０及びレンズアレイ面１２０と同じである。実施例１１においては、それぞれが実施例９と同じ複数の光源が、図４５に示すようにｙ軸方向に５ミリメータピッチで配列されている。実施例１１のｘ軸及びｙ軸方向の強度分布の形状は実施例９のｘ軸及びｙ軸方向の強度分布の形状と同じであるが、実施例１１の光の強度は実施例９の光の強度よりも高い。このように、複数の光源をｙ軸方向に配列することによって、光の強度分布の形状を変えずに光の強度を増加させることができる。
実施例１２
　実施例１２のラインジェネレータのラインの幅を定める光学素子３００はｘ軸方向にのみ曲率を有するシリンドリカルミラーである。レンズアレイ面１１０及び１２０は、それぞれ１個のレンズアレイ素子の入射面及び出射面に備わる。
　図４９は実施例１２のラインジェネレータのｘｙ断面の光線経路を示す図である。
　図５０は実施例１２のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。
　図５１は実施例１２のラインジェネレータのｚｘ断面の光線経路を示す図である。
　実施例１２の数値データを以下に示す。
光源距離：　　　　　　　68ｍｍ
シリンドリカルミラー：　入射面　A2= -7.3529E-03
素子間距離：　　　　　　17ｍｍ
レンズアレイ素子：　　　入射面（レンズ面１１００）Ry＝1.18mm k=-0.4 
　　　　　　　　　　　　出射面（レンズ面１２００）Ry＝1.18mm k=-0.4
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　3.26mm
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.567
　　　　　　　　　　　　アレイピッチ　0.8ｍｍ
光源：　　　　　　　　　サイズ　　　　0.4ｍｍ x  0.4mm 
開口サイズ：　　　　　　ラインの幅方向　　　　　　　16ｍｍ
　　　　　　　　　　　　ラインの長手方向　　　　　　34ｍｍ
レンズ面１１００及びレンズ面１２００は、それぞれ、ｙ軸方向に０．８ミリメータのピッチで配置されている。
　図５２は、実施例１２のラインジェネレータを通過した光束のラインの幅方向（ｚ軸方向）の強度分布を示す図である。図５２の横軸は光線のｘｚ断面におけるｚ軸に対する角度を示す。角度の単位は度である。図５２の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／ステラジアンである。
　図５３は、実施例１２のラインジェネレータを通過した光束のラインの長手方向（ｙ軸方向）の強度分布を示す図である。図５３の横軸は光線のｘｙ断面におけるｘ軸に対する角度を示す。角度の単位は度である。図５３の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／ステラジアンである。
　実施例１２のミラー、レンズアレイ面１１０及びレンズアレイ面１２０は実施例９のミラー、レンズアレイ面１１０及びレンズアレイ面１２０と同じである。実施例１２の光源は、実施例９の光源と比較してｘ軸方向及びy軸方向の長さが長い。光源のｘ軸方向の長さを長くすることによって、ラインの幅を大きくすることができる。
実施例１３
　実施例１３のラインジェネレータのラインの幅を定める光学素子３００はシリンドリカルレンズである。レンズアレイ面１１０及び１２０は、それぞれ１個のレンズアレイ素子の入射面及び出射面に備わる。
　図５４は実施例１３のラインジェネレータのｘｚ断面の光線経路を示す図である。
　図５５は実施例１３のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。
　実施例１３の数値データを以下に示す。
光源距離：　　　　　　　77ｍｍ
シリンドリカルレンズ：　入射面　　　　Rx＝82.79mm
　　　　　　　　　　　　出射面　　　　Rx＝-82.79mm
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　5mm
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.509
素子間距離：　　　　　　2.5ｍｍ
レンズアレイ素子：　　　入射面（レンズ面１１００）Ry＝1.15mm k=-0.49
　　　　　　　　　　　　出射面（レンズ面１２００）Ry＝-1.15mm k=-0.49
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　3.48mm
　　　　　　　　　　　　アレイピッチ　0.8ｍｍ
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.489
光源：　　　　　　　　　サイズ　　　　0.1ｍｍ x  0.1mm
　　　　　　　　　　　　光源ピッチ　　5mm 
開口サイズ：　　　　　　ｘ軸方向　　　16ｍｍ
　　　　　　　　　　　　ｙ軸方向　　　100ｍｍ
投影距離：　　　　　　　3000mm
レンズ面１１００及びレンズ面１２００は、それぞれ、ｙ軸方向に０．８ミリメータのピッチで配置されている。
　図５６は、実施例１３のラインジェネレータを通過した光束の、光源から３０００ミリメータの距離の照射面上のラインの幅方向（ｘ軸方向）の強度分布を示す図である。図５６の横軸は光束の中心軸からの距離を示す。距離の単位はミリメータである。図５６の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／平方センチメータである。
　図５７は、実施例１３のラインジェネレータを通過した光束の、光源から３０００ミリメータの距離の照射面上のラインの長手方向（ｙ軸方向）の強度分布を示す図である。図５７の横軸は光束の中心軸からの距離を示す。距離の単位はミリメータである。図５７の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／平方センチメータである。
　実施例１から実施例１２のラインジェネレータは無限共役系で遠方の照射面にラインを投影するが、実施例１３のラインジェネレータにおいては、シリンドリカルレンズが光源から3000mmの位置の照射面にラインを投影するように構成されている。本発明は光源と投影面の共役関係が有限共役系及び無限共役系のいずれの場合にも適用できる。
　実施例１３においては、複数の光源が、図５５に示すようにｙ軸方向に５ミリメータピッチで配列されている。このように、ｙ軸方向に複数の光源を配列することによって、光の強度分布の形状を変えずに光の強度を増加させることができる。
実施例１４
　実施例１４のラインジェネレータのラインの幅を定める光学素子３００は２個のシリンドリカルレンズ３００Ａ及び３００Ｂである。レンズアレイ面１１０及び１２０は、それぞれ１個のレンズアレイ素子の入射面及び出射面に備わる。２個のシリンドリカルレンズ３００Ａ及び３００Ｂは、それぞれ、上記のレンズアレイ素子の光源側と反光源側に配置されている。シリンドリカルレンズ３００Ｂは投影レンズとも呼称される。
　図５８は実施例１４のラインジェネレータのｘｚ断面の光線経路を示す図である。
　図５９は実施例１４のラインジェネレータのｙｚ断面の光線経路を示す図である。
　実施例１４の数値データを以下に示す。
光源距離：　　　　　　　77ｍｍ
シリンドリカルレンズ（３００Ａ）：入射面　　Rx＝infinite
　　　　　　　　　　　　　　　　　出射面　　　　Rx＝-41.35mm
　　　　　　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　5mm
　　　　　　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.509
素子間距離：　　　　　　2.5ｍｍ
レンズアレイ素子：　　　入射面（レンズ面１１００）Ry＝1.15mm k=-0.49
　　　　　　　　　　　　出射面（レンズ面１２００）Ry＝-1.15mm k=-0.49
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　3.48mm
　　　　　　　　　　　　アレイピッチ　0.8ｍｍ
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.489
素子間距離：　　　　　　2ｍｍ
投影レンズ（３００Ｂ）：入射面　　　　Rx＝-30.14mm
　　　　　　　　　　　　出射面　　　　Rx＝-32.37mm
　　　　　　　　　　　　芯厚　　　　　5mm
　　　　　　　　　　　　屈折率　　　　1.509
光源：　　　　　　　　　サイズ　　　　0.1ｍｍ x  0.1mm
　　　　　　　　　　　　光源ピッチ　　5mm 
開口サイズ：　　　　　　ｘ軸方向　　　16ｍｍ
　　　　　　　　　　　　ｙ軸方向　　　100ｍｍ
投影距離：　　　　　　　3000mm
レンズ面１１００及びレンズ面１２００は、それぞれ、ｙ軸方向に０．８ミリメータのピッチで配置されている。
　図６０は、実施例１４のラインジェネレータを通過した光束の、光源から３０００ミリメータの距離の照射面上のｘ軸方向の強度分布を示す図である。図６０の横軸は光束の中心軸からの距離を示す。距離の単位はミリメータである。図６０の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／平方センチメータである。
　図６１は、実施例１４のラインジェネレータを通過した光束の、光源から３０００ミリメータの距離の照射面上のｙ軸方向の強度分布を示す図である。図６１の横軸は光束の中心軸からの距離を示す。距離の単位はミリメータである。図６１の縦軸は光の強度を示す。光の強度の単位はワット／平方センチメータである。
　実施例１４のラインジェネレータの光学系は実施例２の第１及び第２のレンズアレイ面の反光源側（投影側）に投影レンズとしてシリンダレンズを追加した光学系である。このように実施例１から１２の無限共役系で設計された光学系に投影用のレンズを追加して使用することもできる。

Claims (10)

  1. 　ラインを光束によって生成するラインジェネレータ用光学系であって、
    　第１の方向にのみ曲率を有する光学素子と、
    　第１及び第２のレンズアレイ面と、を備え、
    　該第１及び第２のレンズアレイ面は、それぞれ、該第１の方向と直交する第２の方向に配列された複数のトロイダルレンズ面を備え、該複数のトロイダルレンズ面は主に該第２の方向に曲率を有し、該第１及び第２のレンズアレイ面の一方の任意のトロイダルレンズ面は他方のトロイダルレンズ面の一つと対応し、互いに対応する２個のトロイダルレンズ面の頂点を結ぶ第１の直線の方向は該第２の方向と直交し、該第１の直線及び該第１の直線と直交する該第２の方向の第２の直線を含む断面において、該２個のトロイダルレンズ面の一方が他方の無限遠物点に対する結像面となるように構成されたラインジェネレータ用光学系。
  2. 　それぞれのトロイダルレンズ面の該第１の方向の曲率が０であるかまたは該第２の方向の曲率の０．１倍より小さい請求項１に記載のラインジェネレータ用光学系。
  3. 　それぞれのトロイダルレンズ面の該第１の方向の曲率が、該シリンドリカルレンズの収差を補正するように定められた請求項１または２に記載のラインジェネレータ用光学系。
  4. 　該第１及び第２のレンズアレイ面が１個のレンズに備わる請求項１から３のいずれかに記載のラインジェネレータ用光学系。
  5. 　該第１及び第２のレンズアレイ面がそれぞれ異なるレンズに備わる請求項１から３のいずれかに記載のラインジェネレータ用光学系。
  6. 　該光学素子がシリンドリカルレンズである請求項１から５のいずれかに記載のラインジェネレータ用光学系。
  7. 　該光学素子がシリンドリカルミラーである請求項１から５のいずれかに記載のラインジェネレータ用光学系。
  8. 　請求項１から７のいずれかに記載のラインジェネレータ用光学系と光源とを備えたラインジェネレータ。
  9. 　該光源の該第２の方向の長さが該第１の方向の長さよりも大きい請求項８に記載のラインジェネレータ。
  10. 　該光源が該第２の方向に配列された複数の光源からなる請求項８に記載のラインジェネレータ。
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010278437A (ja) * 2009-05-28 2010-12-09 Nalux Co Ltd ラインジェネレータ
WO2012120566A1 (ja) * 2011-03-09 2012-09-13 ナルックス株式会社 レンズ、レンズ用金型及び金型加工方法
JP2014010428A (ja) * 2012-07-03 2014-01-20 U-Technology Co Ltd ライン照明装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4736225A (en) * 1985-07-17 1988-04-05 Minolta Camera Kabushiki Kaisha Slit exposure projection device
TW200307179A (en) * 2002-05-27 2003-12-01 Nikon Corp Lighting device, exposing device and exposing method
KR20040020397A (ko) * 2002-08-30 2004-03-09 삼성전자주식회사 칼라 스크롤링을 위한 실린드리컬 렌즈 어레이 및 이를채용한 프로젝션 시스템
JP5343370B2 (ja) * 2008-03-04 2013-11-13 株式会社リコー 光走査装置及び画像形成装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010278437A (ja) * 2009-05-28 2010-12-09 Nalux Co Ltd ラインジェネレータ
WO2012120566A1 (ja) * 2011-03-09 2012-09-13 ナルックス株式会社 レンズ、レンズ用金型及び金型加工方法
JP2014010428A (ja) * 2012-07-03 2014-01-20 U-Technology Co Ltd ライン照明装置

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