WO2020195219A1 - 銅合金板、通電用電子部品及び放熱用電子部品 - Google Patents

銅合金板、通電用電子部品及び放熱用電子部品 Download PDF

Info

Publication number
WO2020195219A1
WO2020195219A1 PCT/JP2020/004663 JP2020004663W WO2020195219A1 WO 2020195219 A1 WO2020195219 A1 WO 2020195219A1 JP 2020004663 W JP2020004663 W JP 2020004663W WO 2020195219 A1 WO2020195219 A1 WO 2020195219A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
copper alloy
alloy plate
mass
electronic component
less
Prior art date
Application number
PCT/JP2020/004663
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
有輝 武藤
Original Assignee
Ｊｘ金属株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ｊｘ金属株式会社 filed Critical Ｊｘ金属株式会社
Publication of WO2020195219A1 publication Critical patent/WO2020195219A1/ja

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22C—ALLOYS
    • C22C9/00—Alloys based on copper
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/02—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of metals or alloys
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B5/00—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form
    • H01B5/02—Single bars, rods, wires, or strips
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22F—CHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
    • C22F1/00—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22F—CHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
    • C22F1/00—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
    • C22F1/08—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of copper or alloys based thereon

Definitions

  • the present disclosure relates to copper alloy plates, electronic components for energization, and electronic components for heat dissipation. Specifically, the present disclosure describes copper alloy plates used as materials for electronic components such as terminals, connectors, relays, switches, sockets, bus bars, lead frames, and heat dissipation plates mounted on electric / electronic equipment, automobiles, and the like.
  • the present invention also relates to an electronic component for energization and an electronic component for heat dissipation using the copper alloy plate.
  • Patent Document 1 Cr is 0.1 to 0.8% by mass, and one or more of Mg, Ti, Zr, Zn, Fe, Sn, Ag, and Si are 0.005 to 0. It contains 5% by mass, the balance is composed of copper and unavoidable impurities, the average crystal grain size is 15 to 80 ⁇ m, and the coefficient of variation of the crystal grain size (standard deviation of crystal grain size / average crystal grain size) is 0.40 or less.
  • a copper alloy material has been proposed. This copper alloy material has a conductivity of 75% IACS or more, and is said to have good strength and bendability.
  • Patent Document 2 contains 0.1 to 0.6% by mass of Cr, 0.01 to 0.30% by mass of one or two of Zr and Ti in total, and the balance is copper and unavoidable.
  • I (220) / I 0 (220) which is composed of target impurities and was obtained by X-ray diffraction on the surface of the material, satisfies 3 ⁇ I (220) / I 0 (220) ⁇ 13 and I (200) / I 0.
  • a copper alloy plate satisfying 0.2 ⁇ I (200) / I 0 (200) ⁇ 2 has been proposed.
  • This copper alloy plate has a conductivity of 80% IACS or more, and is said to have good strength and bendability.
  • Patent Documents 1 and 2 only determine the bendability based on the presence or absence of cracks, and even when there are no cracks, the bent surface of the bent portion may be poor. Therefore, it is not always possible to obtain a good bent surface by the techniques of Patent Documents 1 and 2.
  • An embodiment of the present invention has been made to solve the above problems, and provides a copper alloy plate having high conductivity and high strength and capable of forming a bent portion having a good bent surface. The task is to do. Further, the embodiment of the present invention provides an electronic component for energization and an electronic component for heat dissipation, which have high conductivity and high strength and can be manufactured by bending without deteriorating the bending surface of the bent portion. The task is to do.
  • the present inventor has found that in a copper alloy plate having a specific composition, the Schmid factor of the copper alloy plate is closely related to the bending surface of the bent portion.
  • the Schmidt factor when tensile stress is applied in the direction parallel to the rolling parallel direction (RD) to a specific range, it was found that the bent surface can form a good bent portion.
  • the present invention has been completed.
  • the embodiment of the present invention contains 0.1 to 0.6% by mass of Cr, 0.01 to 0.30% by mass of one or two of Zr and Ti in total, and the balance is copper and It consists of unavoidable impurities, and the Schmidt factor when a tensile stress is applied in the direction parallel to the RD is 0. It is a copper alloy plate of 40 or more.
  • the embodiment of the present invention is an electronic component for energization or an electronic component for heat dissipation using the copper alloy plate.
  • a copper alloy plate having high conductivity and high strength and capable of forming a bent portion having a good bent surface.
  • an electric component for energization and an electronic component for heat dissipation which have high conductivity and high strength and can be manufactured by bending without deteriorating the bent surface of the bent portion. Can be provided.
  • the copper alloy plate according to the embodiment of the present invention contains 0.1 to 0.6% by mass of Cr, 0.01 to 0.30% by mass in total of one or two of Zr and Ti, and the balance is 0.01 to 0.30% by mass. Consists of copper and unavoidable impurities. In one embodiment, it is preferable that Cr is contained in an amount of 0.15 to 0.3% by mass, and one or two of Zr and Ti are contained in a total amount of 0.05 to 0.20% by mass. If Cr exceeds 0.6% by mass, the bending workability is lowered, and if it is less than 0.1% by mass, it becomes difficult to obtain a 0.2% proof stress of 550 MPa or more.
  • an "unavoidable impurity" means a component which is unavoidably mixed at the stage of melting a raw material.
  • the copper alloy plate according to the embodiment of the present invention includes Ag, Fe, Co, Ni, Mn, Zn, Mg, Si, P, Sn, Al, Ca, Y, Nb, Mo, Hf, W, Pt, It is preferable that one or more selected from the group consisting of Au and B is contained in a total of 1.0% by mass or less. These elements contribute to the increase in strength by strengthening solid solution and strengthening precipitation. If the total amount of these elements exceeds 1.0% by mass, the conductivity may decrease or the elements may be cracked by hot rolling.
  • the individual addition amount is changed depending on the combination of the additive elements to be added.
  • Ag is 1.0% by mass or less
  • Fe is 0.1% by mass or less
  • Co is 0.1% by mass or less
  • Ni is 0.2% by mass or less
  • Mn is 0. .1% by mass or less
  • Zn is 0.5% by mass or less
  • Mg is 0.1% by mass or less
  • Si is 0.1% by mass or less
  • P is 0.05% by mass or less
  • Sn is 0.1% by mass or less.
  • Al is 0.1% by mass or less
  • Ca is 0.1% by mass or less
  • Y is 0.1% by mass or less
  • Nb is 0.1% by mass or less
  • Mo is 0.1% by mass or less
  • Hf is 0. 1% by mass or less
  • W is 0.1% by mass or less
  • Pt is 0.1% by mass or less
  • Au is 0.1% by mass or less
  • B is 0.05% by mass or less, but the conductivity is high.
  • the copper alloy plate of the present invention is not necessarily limited to these upper limits as long as the combination and amount of additive elements are not less than 75% IACS.
  • the thickness of the copper alloy plate according to the embodiment of the present invention is not particularly limited, but may be, for example, 0.03 to 0.6 mm.
  • the Schmidt factor of a copper alloy plate is an index showing the susceptibility to slip deformation, and is closely related to the bending surface of the bent portion formed by the bending process.
  • the inventor of the present invention is G.I. W. : As a result of research focusing on the bending surface of Good Way (the bending axis of the copper alloy plate is perpendicular to the rolling direction), Schmidt when tensile stress is applied in the parallel rolling direction (RD). It was confirmed that when the value of the factor was increased, good bent skin was obtained. This is because the larger the value of the Schmidt factor, the easier it is for the slip surface to slip (the maximum value of the Schmidt factor is 0.5). Therefore, by increasing the Schmidt factor in the above direction, G.I. W. It is considered that this is because the slip deformation is likely to occur when a bending load is applied to the vehicle, and as a result, the yield stress is reduced.
  • FIG. 3 shows a model for simply explaining the tensile decomposition shear stress of a single crystal.
  • FIG. 3 is a model diagram for briefly explaining the Schmid factor, and is a diagram schematically showing the plastic deformation of a single crystal. That is, when the single crystal round bar 10 having the cross-sectional area A is pulled by the uniaxial load F, decomposition shear stress is generated on the slip surface 20 and the slip direction 25 in the crystal grains of the single crystal round bar 10. When this decomposition shear stress ⁇ reaches the critical shear stress ⁇ c peculiar to the material, slip deformation (plastic deformation) occurs.
  • This is Schmidt's law, and cos ⁇ ⁇ cos ⁇ is the Schmidt factor.
  • the above-mentioned Schmid factor was calculated as a value when a tensile stress was applied in the direction parallel to the RD with respect to the peak direction of the accumulated strength in the reverse pole figure in the parallel rolling direction (RD).
  • the reverse pole figure was obtained from XRD (X-ray division) measurement.
  • Good bent skin was obtained when the Schmidt factor obtained by this method showed a value of 0.40 or more.
  • the Schmid factor is 0.40 or more, the dislocation motion becomes relatively easy when a bending load is applied to the copper alloy plate. It is presumed that the cause is that slip deformation occurs due to the movement of dislocations, which enables continuous deformation and makes it difficult for large dents and the like to occur on the material surface.
  • the Schmidt factor was calculated using the following formula.
  • the surface roughness Ra of the bent portion is used for the evaluation of the bent skin.
  • the lower the Ra value the smaller the unevenness on the surface of the bent portion, and the larger the contact area when used in a connector or the like, so that good electrical conductivity is ensured.
  • the Ra of the bent portion is preferably 2.0 ⁇ m or less, more preferably 1.5 ⁇ m or less.
  • the tensile strength (TS) is preferably 550 MPa or more, more preferably 600 MPa or more. By setting the tensile strength to 550 MPa or more, the strength required for the copper alloy plate can be secured.
  • the 0.2% proof stress is preferably 550 MPa or more, more preferably 580 MPa or more. By setting the 0.2% proof stress to 550 MPa or more, the strength required for the copper alloy plate can be secured.
  • the value of the ratio (YS / TS) of 0.2% proof stress (YS) to tensile strength (TS) is preferably 0.95 or more.
  • the value of YS / TS is 0.95 or more, the rolled texture is sufficiently formed and the accumulation strength of the peak becomes large. The higher the accumulation intensity of the peak, the higher the influence of the Schmid factor in the direction indicating the peak on the bent skin.
  • the conductivity is preferably 75% IACS or higher, more preferably 80% IACS or higher.
  • the conductivity (thermal conductivity) required for the copper alloy plate can be secured.
  • the stress relaxation rate is preferably 15% or less, more preferably 14% or less. By setting the stress relaxation rate to 15% or less, the strength required for the copper alloy plate can be ensured.
  • the copper alloy plate according to the embodiment of the present invention can be suitably used for applications of electronic components such as terminals, connectors, relays, switches, sockets, bus bars, lead frames, and heat dissipation plates, and in particular, electric vehicles and hybrids. It is useful for energizing electronic components such as connectors and terminals used in automobiles, and for heat dissipation electronic components such as liquid crystal frames used in smartphones and tablet PCs.
  • the copper alloy plate according to the embodiment of the present invention can be manufactured by the following manufacturing process. First, electrolytic copper or the like is dissolved as a pure copper raw material, the oxygen concentration is reduced by carbon deoxidation or the like, and then Cr, one or two of Zr and Ti, and other alloying elements are added as necessary. , Cast into a copper alloy ingot. Next, after hot rolling this ingot, the first cold rolling, solution treatment, second cold rolling, and aging treatment are performed in this order.
  • the thickness of the copper alloy ingot is not particularly limited, but is preferably 30 to 300 mm.
  • Hot rolling is preferably performed on a plate having a thickness of about 2 to 30 mm at a temperature of 800 to 1000 ° C.
  • the total workability is set to 20% or more, and the strain rate of the final pass is made larger than 30s -1 .
  • dynamic recrystallization is sufficiently developed, and as a result, tension is applied in the direction parallel to RD with respect to the peak direction of the accumulated strength in the reverse pole diagram of the rolling parallel direction (RD).
  • a copper alloy having a Schmid factor of 0.40 or more when the stress of is applied can be used.
  • the total workability is calculated by (thickness before hot rolling-thickness after hot rolling) / thickness before hot rolling x 100%.
  • the thickness is preferably 0.15 to 5 mm, more preferably 0.25 to 1.0 mm.
  • the solution treatment is preferably held at 800 to 1000 ° C. and then water-cooled.
  • the total workability is preferably 75% or more.
  • the value of 0.2% proof stress (MPa) / tensile strength (MPa) after the final aging can be set to 0.95 or more, and a rolled texture can be sufficiently formed.
  • the aging treatment is preferably performed at 300 to 500 ° C. for 5 to 30 hours.
  • Cr is 0.1 to 0.6% by mass, and one or two of Zr and Ti are 0.01 to 0.30% by mass in total.
  • a copper alloy containing a copper alloy ingot containing copper and an unavoidable impurity after hot rolling including a first cold rolling step, a solution treatment step, a second cold rolling step, and an aging treatment step. It is a method of manufacturing a plate In the hot rolling step, the total workability is set to 20% or more, and the strain rate of the final pass is made larger than 30s -1 .
  • TS tensile strength
  • E Young's modulus in the rolling direction
  • t the thickness of the sample.
  • ⁇ Bent skin> In the evaluation of the bent skin, a sample cut out to a width of 1 mm and a length of 20 mm was used as a bending test piece. According to JIS H3130: 2012, G.M. W. A W bending test (the direction in which the bending axis is perpendicular to the rolling direction) was performed, the surface of the bent portion was analyzed with a confocal laser scanning microscope, and Ra ( ⁇ m) defined in JIS B0601: 2013 was calculated.
  • Bent skin is ⁇ if Ra is 1.5 ⁇ m or less, ⁇ if it is larger than 1.5 ⁇ m and 2.0 ⁇ m or less, ⁇ if it is larger than 2.0 ⁇ m and 3.0 ⁇ m or less, and ⁇ if it is larger than 3.0 ⁇ m. Notated.
  • the reverse pole figure was obtained using XRD measurement.
  • XRD measurement RINT-TTR manufactured by Rigaku Co., Ltd. was used to measure the X-ray diffraction in the thickness direction of the surface of the copper alloy plate.
  • the X-ray diffraction of fine powdered copper was measured.
  • the X-ray was K ⁇ ray
  • the tube voltage was 30 KV
  • the tube current was 100 mA.
  • RD normalized rolling parallel direction
  • the copper alloy of this component has a face-centered cubic structure (FCC)
  • its main slip system is ⁇ 111 ⁇ ⁇ 110>.
  • the Schmidt factor was calculated as a value in the main slip system when a tensile load was applied in the direction parallel to the RD with respect to the direction in which the accumulated strength showed a peak when viewed from the rolling parallel direction (RD).
  • RD rolling parallel direction
  • the Schmidt factor can be obtained by using the following formula.
  • Table 1 shows the composition and manufacturing conditions of each test piece and the results obtained for each Example and Comparative Example.
  • the comparative example was manufactured under the same conditions as in the examples except for the manufacturing conditions shown in Table 1.
  • the copper alloy plates of Examples 1 to 21 having a specific composition and having a Schmid factor of 0.40 or more have a TS of 550 MPa or more, an EC of 75% IACS or more, and a stress relaxation rate. It was confirmed that the value was 15% or less, the bent surface was ⁇ or ⁇ , the bending surface had high conductivity and high strength, and the bent surface could form a good bent portion. In Example 19, the YS / TS value was a little low and the bent skin was slightly deteriorated, but the level was sufficiently satisfactory.
  • the copper alloy plates of Comparative Examples 1 and 2 had a low EC and a poor bending surface because the content of Cr or Zr was too high.
  • the copper alloy plates of Comparative Examples 3 to 5 had a low content of Cr, Zr or Ti, so that the TS was low and the stress relaxation rate was high.
  • the copper alloy plates of Comparative Examples 6 and 7 had an excessively high Sn or P content, so that cracks were generated by hot rolling. Since the total degree of processing of the copper alloy plate of Comparative Example 8 was too low in hot rolling, the Schmidt factor decreased and the bent surface became poor. Since the strain rate of the copper alloy plate of Comparative Example 9 was too slow in hot rolling, the Schmidt factor decreased and the bending surface became poor.
  • the strain rate was too slow in hot rolling and the total workability was too low in the second cooling rolling, so that the Schmid factor was lowered and the bending surface was poor.
  • the copper alloy plate of Comparative Example 10 had a low YS / TS, and therefore had the worst bending surface.
  • the embodiment of the present invention it is possible to provide a copper alloy plate having high conductivity and high strength and capable of forming a bent portion having a good bent surface. Further, according to the embodiment of the present invention, an electric component for energization and an electronic component for heat dissipation, which have high conductivity and high strength and can be manufactured by bending without deteriorating the bent surface of the bent portion. Can be provided.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Abstract

Ｃｒを０．１～０．６質量％、Ｚｒ及びＴｉのうちの一種又は二種を合計で０．０１～０．３０質量％含有し、残部が銅及び不可避的不純物からなる銅合金板である。この銅合金板は、ＸＲＤ測定から得られる圧延平行方向（ＲＤ）の逆極点図における集積強度のピーク方位に対して、ＲＤと平行方向に引張の応力が負荷された際のシュミットファクターが０．４０以上である。

Description

銅合金板、通電用電子部品及び放熱用電子部品
　本開示は、銅合金板、通電用電子部品及び放熱用電子部品に関する。詳細には、本開示は、電機・電子機器、自動車などに搭載される端子、コネクタ、リレー、スイッチ、ソケット、バスバー、リードフレーム、放熱板などの電子部品の材料として使用される銅合金板、並びに該銅合金板を用いた通電用電子部品及び放熱用電子部品に関する。
　電機・電子機器、自動車などに搭載される端子、コネクタ、スイッチ、ソケット、リレー、バスバー、リードフレーム、放熱板などの電子部品において、電気又は熱を伝えるための材料として、強度、電気伝導性、熱伝導性などの特性に優れた銅合金板が広く用いられている。
　近年、通電用電子部品、例えば、電子機器のコネクタにおいて高電流化が進んでおり、良好な曲げ性を有し、７５％ＩＡＣＳ以上の導電率、５５０ＭＰａ以上の耐力を有することが必要と考えられている。
　また、例えば、スマートフォンやタブレットＰＣの液晶には液晶フレームと呼ばれる放熱用電子部品が用いられている。このような放熱用途で用いられる銅合金板においても、高熱伝導率化が進んでおり、良好な曲げ性を有し、高強度を有することが必要と考えられている。そのため、放熱用途で用いられる銅合金板においても、７５％ＩＡＣＳ以上の導電率、５５０ＭＰａ以上の耐力を有することが必要と考えられている。ここで、電気伝導性と熱伝導性は比例関係にあるため、導電率を高めることで熱伝導率も向上する。
　しかしながら、７５％ＩＡＣＳ以上の導電率をコルソン合金系銅合金で達成することは難しいため、Ｃｕ－Ｃｒ系やＣｕ－Ｚｒ系の銅合金の開発が進められてきた。
　例えば、特許文献１には、Ｃｒを０．１～０．８質量％、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ａｇ、Ｓｉの一種若しくは二種以上を合計で０．００５～０．５質量％含有し、残部が銅及び不可避不純物からなり、平均結晶粒径が１５～８０μｍで、結晶粒径の変動係数（結晶粒径の標準偏差／平均結晶粒径）が０．４０以下である銅合金材が提案されている。この銅合金材は、７５％ＩＡＣＳ以上の導電率を有し、強度及び曲げ加工性も良好であるとされている。
　また、特許文献２には、Ｃｒを０．１～０．６質量％、Ｚｒ及びＴｉのうちの一種又は二種を合計で０．０１～０．３０質量％含有し、残部が銅及び不可避的不純物からなり、材料表面のＸ線回折で求めたＩ（２２０）／Ｉ0（２２０）について、３≦Ｉ（２２０）／Ｉ0（２２０）≦１３を満たし、Ｉ（２００）／Ｉ0（２００）について、０．２≦Ｉ（２００）／Ｉ0（２００）≦２を満たす銅合金板が提案されている。この銅合金板は、８０％ＩＡＣＳ以上の導電率を有し、強度及び曲げ加工性も良好であるとされている。
特開２０１３－１２９８８９号公報 特開２０１７－１７９５０３号公報
　銅合金板の曲げ加工においては、曲げ部の曲げ肌が良好であることも必要とされる。これは、曲げ部の曲げ肌が良好でない場合、コネクタなどでは曲げ部の接触面積の減少につながり、通電性などが低下する要因となるためである。
　しかしながら、特許文献１及び２は、曲げ性をクラックの有無で判断しているだけであり、クラックがない場合であっても、曲げ部の曲げ肌が不良であることがある。したがって、特許文献１及び２の技術では必ずしも良好な曲げ肌を得られるとは限らない。
　本発明の実施形態は、上記のような問題を解決するためになされたものであり、高導電率及び高強度を有し、且つ曲げ肌が良好な曲げ部を形成し得る銅合金板を提供することを課題とする。
　また、本発明の実施形態は、高導電率及び高強度を有し、且つ曲げ部の曲げ肌を劣化させることなく曲げ加工によって製造することが可能な通電用電子部品及び放熱用電子部品を提供することを課題とする。
　本発明者は、上記の課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、特定の組成を有する銅合金板において、銅合金板のシュミットファクターが、曲げ部の曲げ肌と密接に関係していることに着目し、圧延平行方向（ＲＤ）と平行方向に引張の応力が負荷された際のシュミットファクターを特定の範囲に制御することにより、曲げ肌が良好な曲げ部を形成し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。
　すなわち、本発明の実施形態は、Ｃｒを０．１～０．６質量％、Ｚｒ及びＴｉのうちの一種又は二種を合計で０．０１～０．３０質量％含有し、残部が銅及び不可避的不純物からなり、ＸＲＤ測定から得られる圧延平行方向（ＲＤ）の逆極点図における集積強度のピーク方位に対して、ＲＤと平行方向に引張の応力が負荷された際のシュミットファクターが０．４０以上である銅合金板である。
　また、本発明の実施形態は、前記銅合金板を用いた通電用電子部品又は放熱用電子部品である。
　本発明の実施形態によれば、高導電率及び高強度を有し、且つ曲げ肌が良好な曲げ部を形成し得る銅合金板を提供することができる。
　また、本発明の実施形態によれば、高導電率及び高強度を有し、且つ曲げ部の曲げ肌を劣化させることなく曲げ加工によって製造することが可能な通電用電子部品及び放熱用電子部品を提供することができる。
応力緩和率の測定原理を説明する図である。 応力緩和率の測定原理を説明する図である。 シュミットファクターを説明する図である。
　以下、本発明の好適な実施形態について具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されて解釈されるべきものではなく、本発明の要旨を逸脱しない限りにおいて、当業者の知識に基づいて、種々の変更、改良などを行うことができる。この実施形態に開示されている複数の構成要素は、適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、この実施形態に示される全構成要素からいくつかの構成要素を削除してもよいし、異なる実施形態の構成要素を適宜組み合わせてもよい。
（組成）
　本発明の実施形態に係る銅合金板は、Ｃｒを０．１～０．６質量％、Ｚｒ及びＴｉのうちの一種又は二種を合計で０．０１～０．３０質量％含み、残部が銅及び不可避的不純物からなる。一実施態様においては、Ｃｒを０．１５～０．３質量％含み、Ｚｒ及びＴｉのうちの一種又は二種を合計で０．０５～０．２０質量％含有することが好ましい。Ｃｒが０．６質量％を超えると曲げ加工性が低下し、０．１質量％未満になると５５０ＭＰａ以上の０．２％耐力を得ることが難しくなる。Ｚｒ及びＴｉのうちの一種又は二種の合計が０．３０質量％を超えると曲げ加工性が低下し、０．０１質量％未満になると、５５０ＭＰａ以上の０．２％耐力を得ることが難しくなる。
　なお、本明細書において「不可避的不純物」とは、原料を溶製する段階で不可避的に混入する成分のことを意味する。
　さらに、本発明の実施形態に係る銅合金板は、Ａｇ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｃａ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ｗ、Ｐｔ、Ａｕ及びＢからなる群から選ばれる１種以上を合計で１．０質量％以下含有することが好ましい。これら元素は固溶強化や析出強化などにより強度上昇に寄与する。これら元素の合計量が１．０質量％を超えると導電率が低下するか、或いは、熱間圧延で割れる場合がある。
　なお、高強度及び高導電性を有する銅合金板において、添加する添加元素の組み合わせによって個々の添加量が変更されることは当業者によって理解可能なものである。典型的な一実施態様においては、例えば、Ａｇは１．０質量％以下、Ｆｅは０．１質量％以下、Ｃｏは０．１質量％以下、Ｎｉは０．２質量％以下、Ｍｎは０．１質量％以下、Ｚｎは０．５質量％以下、Ｍｇは０．１質量％以下、Ｓｉは０．１質量％以下、Ｐは０．０５質量％以下、Ｓｎは０．１質量％以下、Ａｌは０．１質量％以下、Ｃａは０．１質量％以下、Ｙは０．１質量％以下、Ｎｂは０．１質量％以下、Ｍｏは０．１質量％以下、Ｈｆは０．１質量％以下、Ｗは０．１質量％以下、Ｐｔは０．１質量％以下、Ａｕは０．１質量％以下、Ｂは０．０５質量％以下添加することができるが、導電率が７５％ＩＡＣＳを下回らない添加元素の組み合わせ及び添加量であれば、本発明の銅合金板は必ずしもこれらの上限値に限定されるものではない。
　本発明の実施形態に係る銅合金板の厚みは特に限定されないが、例えば０．０３～０．６ｍｍとすることができる。
（シュミットファクター）
　銅合金板のシュミットファクターは、すべり変形の生じ易さを表す指標であり、曲げ加工で形成された曲げ部の曲げ肌と密接に関係する。
　本発明者は、Ｇ．Ｗ．：Ｇｏｏｄ　Ｗａｙ（銅合金板の曲げ軸が圧延方向と直角の方向）の曲げ肌に着目して研究を行った結果、圧延平行方向（ＲＤ）に対して引張の応力が負荷された場合のシュミットファクターの値を高くしたところ、良好な曲げ肌が得られることを確認した。これは、シュミットファクターの値が大きいほど、すべり面がすべり易いことから（なお、シュミットファクターの最大値は０．５である）、上記方向のシュミットファクターを高くすることで、Ｇ．Ｗ．に曲げ負荷がかかった際にすべり変形が生じ易くなり、結果として降伏応力が低減されたことに起因していると考えられる。
　図３は、単結晶の引張り分解せん断応力を簡易的に説明するモデルを示す。
　具体的に、図３は、シュミットファクターについて簡易的に説明するためのモデル図であり、単結晶の塑性変形を模式的に示した図である。すなわち、断面積Ａの単結晶丸棒１０を、単軸荷重Ｆで引っ張った場合、単結晶丸棒１０の結晶粒内のすべり面２０、すべり方向２５に分解せん断応力が生じる。この分解せん断応力τがその材料特有の臨界せん断応力τｃに達するとすべり変形（塑性変形）が生じる。分解せん断応力τは、軸応力をσ、負荷軸とすべり面の法線とのなす角をφ、負荷軸とすべり方向とのなす角をλとすると、τ＝（Ｆ／Ａ）・ｃｏｓλ・ｃｏｓφ＝σ・ｃｏｓλ・ｃｏｓφで表される。これがシュミットの法則であり、ｃｏｓλ・ｃｏｓφがシュミットファクターである。シュミットファクターは、λ＝φ＝４５°の時に最大値になる（なお、シュミットファクターについては、塑性加工技術シリーズ２「材料」日本塑性加工学会編，コロナ社，ｐ．１２を参照）。
　上記のシュミットファクターは、圧延平行方向（ＲＤ）の逆極点図における集積強度のピーク方位に対して、ＲＤと平行方向に引張の応力が負荷された場合の値を算出した。逆極点図はＸＲＤ（Ｘ－ｒａｙ　ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）測定から求めた。この方法で求められたシュミットファクターが０．４０以上の値を示した場合に良好な曲げ肌が得られた。シュミットファクターが０．４０以上となることで、銅合金板に曲げ負荷がかかった際に転位運動が比較的容易となる。転位の運動によりすべり変形が生じることで連続的な変形が可能となり、材料表面において大きなくぼみ等が発生し難くなることが要因であると推測される。
　なお、シュミットファクターは以下の式を用いて算出した。
　（シュミットファクター）＝ｃｏｓλ・ｃｏｓφ
ｃｏｓλ＝ｔ・ｎ／｜ｔ｜｜ｎ｜
ｃｏｓφ＝ｔ・ｓ／｜ｔ｜｜ｓ｜
ただし、
　φ：負荷軸とすべり面の法線とのなす角
　λ：負荷軸とすべり方向とのなす角
　ｔ：引張荷重負荷方向に平行な単位ベクトル
　ｎ：すべり面の法線ベクトルに平行な単位ベクトル
　ｓ：すべり方向に平行な単位ベクトル
（曲げ肌）
　曲げ肌の評価には曲げ部の表面粗さＲａを用いる。Ｒａの値が低いほど曲げ部表面の凹凸は少なくなり、コネクタ等で用いる際に接触面積は大きくなるので、良好な通電性が確保される。曲げ部のＲａは、好ましくは２．０μｍ以下、より好ましくは１．５μｍ以下とする。
（引張強度）
　本発明の一実施形態において、引張強度（ＴＳ）は、好ましくは５５０ＭＰａ以上、より好ましくは６００ＭＰａ以上である。引張強度を５５０ＭＰａ以上とすることにより、銅合金板に要求される強度を確保することができる。
（０．２％耐力）
　本発明の一実施形態において、０．２％耐力（ＹＳ）は、好ましくは５５０ＭＰａ以上、より好ましくは５８０ＭＰａ以上である。０．２％耐力を５５０ＭＰａ以上とすることにより、銅合金板に要求される強度を確保することができる。
（０．２％耐力／引張強度）
　本発明の一実施形態において、０．２％耐力（ＹＳ）と引張強度（ＴＳ）との比（ＹＳ／ＴＳ）の値が０．９５以上であることが好ましい。ＹＳ／ＴＳの値が０．９５以上であれば、十分に圧延集合組織が形成されることになりピークの集積強度が大きくなる。ピークの集積強度が高いほど、ピークを示す方位のシュミットファクターが曲げ肌に与える影響が高くなるという利点がある。
（導電率）
　本発明の一実施形態において、導電率は、好ましくは７５％ＩＡＣＳ以上、より好ましくは、８０％ＩＡＣＳ以上である。導電率を７５％ＩＡＣＳ以上とすることにより、銅合金板に要求される導電率（熱伝導率）を確保することができる。
（応力緩和率）
　本発明の一実施形態において、応力緩和率は、好ましくは１５％以下、より好ましくは１４％以下である。応力緩和率を１５％以下とすることにより、銅合金板に要求される強度を確保することができる。
（用途）
　本発明の実施形態に係る銅合金板は、端子、コネクタ、リレー、スイッチ、ソケット、バスバー、リードフレーム、放熱板などの電子部品の用途に好適に使用することができ、特に、電気自動車、ハイブリッド自動車などで用いられるコネクタや端子などの通電用電子部品の用途、又はスマートフォンやタブレットＰＣで用いられる液晶フレームなどの放熱用電子部品の用途に有用である。
（製造方法）
　本発明の実施形態に係る銅合金板は以下の製造工程により製造することができる。まず、純銅原料として電気銅などを溶解し、カーボン脱酸などによって酸素濃度を低減した後、Ｃｒと、Ｚｒ及びＴｉのうちの一種又は二種と、必要に応じて他の合金元素を添加し、銅合金インゴットに鋳造する。次に、このインゴットを熱間圧延した後、第１の冷間圧延、溶体化処理、第２の冷間圧延、時効処理をこの順で行う。
　銅合金インゴットの厚みは、特に限定されないが、好ましくは３０～３００ｍｍである。
　熱間圧延は、８００～１０００℃の温度で厚み２～３０ｍｍ程度の板とすることが好ましい。
　熱間圧延において、その合計加工度を２０％以上とし、最終パスのひずみ速度を３０ｓ-1よりも大きくする。上記条件により熱間圧延を行うことで、十分に動的再結晶を発現させ、その結果として圧延平行方向（ＲＤ）の逆極点図における集積強度のピーク方位に対して、ＲＤと平行方向に引張の応力が負荷された場合のシュミットファクターが０．４０以上の値を有する銅合金とすることができる。
　合計加工度は、（熱間圧延前の厚み－熱間圧延後の厚み）／熱間圧延前の厚み×１００％により計算される。
　最終パスのひずみ速度は、以下の式を用いて計算することができる。
ｄε／ｄｔ＝（２πｎ／６０ｒ1/2）・（Ｒ／Ｈ）1/2・Ｉｎ（１／（１－ｒ））
ここで、
　ｄε／ｄｔ：最終パスのひずみ速度
　ｎ：ロールの回転数（ｒｐｍ）
　ｒ：加工度（％）／１００
　Ｒ：ロール半径（ｍｍ）
　Ｈ：最終パス前の板厚（ｍｍ）
を意味する。
　熱間圧延後、第１の冷間圧延を行う。第１の冷間圧延では、厚みを好ましくは０．１５～５ｍｍ、より好ましくは０．２５～１．０ｍｍとする。
　溶体化処理は、８００～１０００℃で保持後、水冷することが好ましい。
　溶体化処理後、第２の冷間圧延を行う。第２の冷間圧延では、合計加工度を７５％以上とすることが好ましい。これにより最終時効後の０．２％耐力（ＭＰａ）／引張強度（ＭＰａ）の値を０．９５以上とし、十分に圧延集合組織を形成させることができる。
　時効処理は、３００～５００℃で５～３０ｈ行うことが好ましい。
　本発明の一実施形態に係る銅合金板の製造方法は、Ｃｒを０．１～０．６質量％、Ｚｒ及びＴｉのうちの一種又は二種を合計で０．０１～０．３０質量％含有し、残部が銅及び不可避的不純物からなる銅合金インゴットを熱間圧延した後、第１の冷間圧延工程、溶体化処理工程、第２の冷間圧延工程、時効処理工程を含む銅合金板の製造方法であって、
　前記熱間圧延工程において、合計加工度を２０％以上とし、最終パスのひずみ速度を３０ｓ-1よりも大きくする。
　上記の製造方法により高導電率及び高強度を有し、且つ曲げ肌が良好な曲げ部を形成し得る銅合金板を製造することができる。
　以下、本発明の実施形態を実施例によって更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。
　溶銅に合金元素を表１に示す割合で添加した後、厚みが２００ｍｍの銅合金インゴットに鋳造した。銅合金インゴットを９５０℃で３時間加熱し、表１に示す合計加工度の熱間圧延を行った。熱間圧延における最終パスのひずみ速度は表１に示したとおりである。次に、熱間圧延板表面の酸化スケールをグラインダーで研削して除去した後、冷間圧延で１．０ｍｍの厚みの板とした。次に、９００℃で溶体化処理を行った後、表１に示す合計加工度の冷間圧延を行い、板厚を０．２ｍｍとした。その後、５００℃で１０ｈの時効処理を行った。
＜引張強度（ＴＳ）＞
　引張試験機により、ＪＩＳ　Ｚ２２４１：２０１１に従い、圧延方向と平行な方向における引張強度（ＴＳ）を測定した。
＜０．２％耐力（ＹＳ）＞
　引張試験機により、ＪＩＳ　Ｚ２２４１：２０１１に従い、圧延方向と平行な方向における０．２％耐力（ＹＳ）を測定した。
＜導電率（ＥＣ）＞
　試験片の長手方向が圧延方向と平行になるように試験片を採取し、ＪＩＳ　Ｈ０５０５：１９７５に準拠し、四端子法によって２０℃での導電率を測定した。
＜応力緩和率＞
　幅１０ｍｍ、長さ１００ｍｍの短冊形状の試験片を、試験片の長手方向が圧延方向と平行になるように採取した。図１のように、ｌ＝５０ｍｍの位置を作用点として、試験片にｙ0のたわみを与え、圧延方向の０．２％耐力（ＪＩＳ　Ｚ２２４１：２０１１に準拠して測定）の８０％に相当する応力（ｓ）を負荷した。ｙ0は次式により求めた。
ｙ0＝（２／３）・Ｉ2・ｓ／（Ｅ・ｔ）
ここで、Ｅは圧延方向のヤング率であり、ｔは試料の厚みである。１５０℃にて１０００時間加熱後に除荷し、図２のように永久変形量（高さ）ｙを測定し、応力緩和率｛［ｙ（ｍｍ）／ｙ0（ｍｍ）］×１００（％）｝を算出した。
＜曲げ肌＞
　曲げ肌の評価では、幅１ｍｍ、長さ２０ｍｍに切り出した試料を曲げ試験片として用いた。ＪＩＳ　Ｈ３１３０：２０１２に従ってＧ．Ｗ．（曲げ軸が圧延方向と直角の方向）のＷ曲げ試験を行い、曲げ部の表面を共焦点レーザー顕微鏡で解析し、ＪＩＳ　Ｂ０６０１：２０１３に定められたＲａ（μｍ）を算出した。曲げ肌はＲａが１．５μｍ以下であれば◎、１．５μｍより大きく２．０μｍ以下であれば○、２．０μｍより大きく３．０μｍ以下であれば△、３．０μｍより大きければ×と表記した。
＜逆極点図＞
　逆極点図はＸＲＤ測定を用いて求めた。ＸＲＤ測定には株式会社リガク社製ＲＩＮＴ－ＴＴＲを用いて、銅合金板表面の厚み方向のＸ線回折を測定した。さらに、微粉末銅のＸ線回折を測定した。ここでＸ線はＫα線、管電圧３０ＫＶ、管電流１００ｍＡとした。銅合金板の各方位における集積強度を微粉末銅の集積強度で除することで、規格化された圧延平行方向（ＲＤ）の逆極点図を作成した。求めた逆極点図から集積強度がピークを示す方位を決定した。
＜シュミットファクター＞
　当成分の銅合金は面心立方構造（ＦＣＣ）を有するため、その主すべり系は｛１１１｝＜１１０＞である。シュミットファクターは、圧延平行方向（ＲＤ）から見たときの集積強度がピークを示す方位に対して、ＲＤと平行方向に引張荷重を負荷した場合の主すべり系における値を算出した。このとき、ＲＤ方向から見たときの集積強度がピークを示す方位はＲＤ方向と平行であることに留意する必要がある。
　上記の通り具体的には以下の式を用いて、シュミットファクターを求めることができる。
　（シュミットファクター）＝ｃｏｓλ・ｃｏｓφ
ｃｏｓλ＝ｔ・ｎ／｜ｔ｜｜ｎ｜
ｃｏｓφ＝ｔ・ｓ／｜ｔ｜｜ｓ｜
ただし、
　φ：負荷軸とすべり面の法線とのなす角
　λ：負荷軸とすべり方向とのなす角
　ｔ：引張荷重負荷方向に平行な単位ベクトル
　ｎ：すべり面の法線ベクトルに平行な単位ベクトル
　ｓ：すべり方向に平行な単位ベクトル
ＲＤと平行方向に引張荷重を負荷しているため、ｔは集積強度がＲＤから見たときにピークを示す方位に平行である。また、主すべり系の中でも実際に活動するすべり系はシュミットファクターが最大値を取るものであるため、ｎ、ｓは上式で規定されるシュミットファクターが最大値を取るような組み合わせを選択する必要がある。
　各試験片の組成と製造条件及び各実施例及び比較例に対して得られた結果を表１に示す。なお、比較例については、表１に記載の製造条件以外は実施例と同様の条件で製造した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１に示されるように、特定の組成を有すると共に、シュミットファクターが０．４０以上である実施例１～２１の銅合金板は、ＴＳが５５０ＭＰａ以上、ＥＣが７５％ＩＡＣＳ以上、応力緩和率が１５％以下、曲げ肌が◎又は〇であり、高導電率及び高強度を有し、且つ曲げ肌が良好な曲げ部を形成し得ることが確認された。
　なお、実施例１９では、ＹＳ／ＴＳの値が少し低く、曲げ肌が若干劣化したが、十分に満足のいくレベルであった。
　一方、比較例１及び２の銅合金板は、Ｃｒ又はＺｒの含有量が高すぎたため、ＥＣが低く、曲げ肌も不良であった。
　比較例３～５の銅合金板は、Ｃｒ、Ｚｒ又はＴｉの含有量が低すぎたため、ＴＳが低くなり、応力緩和率が高くなった。
　比較例６及び７の銅合金板は、Ｓｎ又はＰの含有量が高すぎたため、熱間圧延で割れが生じてしまった。
　比較例８の銅合金板は、熱間圧延で合計加工度が低すぎたため、シュミットファクターが低下し、曲げ肌が不良となった。
　比較例９の銅合金板は、熱間圧延でひずみ速度が遅すぎたため、シュミットファクターが低下し、曲げ肌が不良となった。
　比較例１０の銅合金板は、熱間圧延でひずみ速度が遅すぎると共に、第２の冷却圧延で合計加工度が低すぎたため、シュミットファクターが低下し、曲げ肌が不良となった。特に、比較例１０の銅合金板は、ＹＳ／ＴＳも低かったため、曲げ肌が最も不良となった。
　以上の結果からわかるように、本発明の実施形態によれば、高導電率及び高強度を有し、且つ曲げ肌が良好な曲げ部を形成し得る銅合金板を提供することができる。また、本発明の実施形態によれば、高導電率及び高強度を有し、且つ曲げ部の曲げ肌を劣化させることなく曲げ加工によって製造することが可能な通電用電子部品及び放熱用電子部品を提供することができる。
１０　単結晶丸棒
２０　単結晶丸棒の結晶粒内のすべり面
２５　単結晶丸棒のすべり方向
３０　すべり面の法線

Claims (6)

  1. 　Ｃｒを０．１～０．６質量％、Ｚｒ及びＴｉのうちの一種又は二種を合計で０．０１～０．３０質量％含有し、残部が銅及び不可避的不純物からなり、
    　ＸＲＤ測定から得られる圧延平行方向（ＲＤ）の逆極点図における集積強度のピーク方位に対して、ＲＤと平行方向に引張の応力が負荷された際のシュミットファクターが０．４０以上である銅合金板。
  2. 　０．２％耐力（ＭＰａ）／引張強度（ＭＰａ）の値が０．９５以上である請求項１に記載の銅合金板。
  3. 　引張強度が５５０ＭＰａ以上、導電率が７５％ＩＡＣＳ以上、及び応力緩和率が１５％以下である請求項１又は２に記載の銅合金板。
  4. 　Ａｇ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｃａ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ｗ、Ｐｔ、Ａｕ及びＢからなる群から選ばれる１種以上を合計で１．０質量％以下含有する請求項１～３のいずれか１項に記載の銅合金板。
  5. 　請求項１～４のいずれか１項に記載の銅合金板を用いた通電用電子部品。
  6. 　請求項１～４のいずれか１項に記載の銅合金板を用いた放熱用電子部品。
PCT/JP2020/004663 2019-03-25 2020-02-06 銅合金板、通電用電子部品及び放熱用電子部品 WO2020195219A1 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019-057466 2019-03-25
JP2019057466 2019-03-25

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2020195219A1 true WO2020195219A1 (ja) 2020-10-01

Family

ID=72608996

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2020/004663 WO2020195219A1 (ja) 2019-03-25 2020-02-06 銅合金板、通電用電子部品及び放熱用電子部品

Country Status (2)

Country Link
TW (1) TW202035723A (ja)
WO (1) WO2020195219A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112877600B (zh) * 2021-01-12 2022-05-20 鞍钢股份有限公司 一种电子电力用铜钢固液复合双金属材料及其制备方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005298948A (ja) * 2004-04-15 2005-10-27 Nikko Metal Manufacturing Co Ltd 電子機器用銅合金及びこの合金からなる銅合金箔
JP2010285664A (ja) * 2009-06-12 2010-12-24 Hitachi Cable Ltd 銅合金材及び銅合金材の製造方法
JP2012012644A (ja) * 2010-06-30 2012-01-19 Hitachi Cable Ltd 銅合金の製造方法、及び銅合金
WO2012026610A1 (ja) * 2010-08-27 2012-03-01 古河電気工業株式会社 銅合金板材およびその製造方法
JP2018154910A (ja) * 2017-03-21 2018-10-04 Ｊｘ金属株式会社 強度及び導電性に優れる銅合金板
JP2018159104A (ja) * 2017-03-22 2018-10-11 Ｊｘ金属株式会社 強度及び導電性に優れる銅合金板
JP2019157258A (ja) * 2018-03-16 2019-09-19 Ｊｘ金属株式会社 銅合金板、通電用電子部品、放熱用電子部品

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005298948A (ja) * 2004-04-15 2005-10-27 Nikko Metal Manufacturing Co Ltd 電子機器用銅合金及びこの合金からなる銅合金箔
JP2010285664A (ja) * 2009-06-12 2010-12-24 Hitachi Cable Ltd 銅合金材及び銅合金材の製造方法
JP2012012644A (ja) * 2010-06-30 2012-01-19 Hitachi Cable Ltd 銅合金の製造方法、及び銅合金
WO2012026610A1 (ja) * 2010-08-27 2012-03-01 古河電気工業株式会社 銅合金板材およびその製造方法
JP2018154910A (ja) * 2017-03-21 2018-10-04 Ｊｘ金属株式会社 強度及び導電性に優れる銅合金板
JP2018159104A (ja) * 2017-03-22 2018-10-11 Ｊｘ金属株式会社 強度及び導電性に優れる銅合金板
JP2019157258A (ja) * 2018-03-16 2019-09-19 Ｊｘ金属株式会社 銅合金板、通電用電子部品、放熱用電子部品

Also Published As

Publication number Publication date
TW202035723A (zh) 2020-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5158910B2 (ja) 銅合金板材およびその製造方法
JP4677505B1 (ja) 電子材料用Ｃｕ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ｃｏ系銅合金及びその製造方法
JP5153949B1 (ja) Ｃｕ−Ｚｎ−Ｓｎ−Ｎｉ−Ｐ系合金
JP5506806B2 (ja) 電子材料用Ｃｕ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ｃｏ系銅合金及びその製造方法
WO2009122869A1 (ja) 電子材料用Ｃｕ－Ｎｉ－Ｓｉ－Ｃｏ系銅合金及びその製造方法
JP5451674B2 (ja) 電子材料用Ｃｕ−Ｓｉ−Ｃｏ系銅合金及びその製造方法
KR20130109161A (ko) 전자 재료용 Cu-Ni-Si-Co 계 구리 합금 및 그 제조 방법
JP6879968B2 (ja) 銅合金板、通電用電子部品、放熱用電子部品
TWI429764B (zh) Cu-Co-Si alloy for electronic materials
JP6835638B2 (ja) 強度及び導電性に優れる銅合金板
JP6749121B2 (ja) 強度及び導電性に優れる銅合金板
JP2012072470A (ja) 電子材料用Ｃｕ−Ｃｏ−Ｓｉ系銅合金及びその製造方法
JP2015098628A (ja) 銅合金板、並びに、それを備える大電流用電子部品及び放熱用電子部品
JP5107093B2 (ja) 高強度および高導電率を兼備した銅合金
JP2014189816A (ja) 銅合金板、それを備える放熱用電子部品および、銅合金板の製造方法
JP6077755B2 (ja) Ｃｕ−Ｚｎ−Ｓｎ−Ｎｉ−Ｐ系合金及びその製造方法
WO2020195219A1 (ja) 銅合金板、通電用電子部品及び放熱用電子部品
WO2020195218A1 (ja) 銅合金板、通電用電子部品及び放熱用電子部品
JP6749122B2 (ja) 強度及び導電性に優れる銅合金板
JP7133327B2 (ja) 強度及び導電性に優れる銅合金板、通電用電子部品、放熱用電子部品
JP2020143376A (ja) 強度及び導電性に優れる銅合金板
JP2020143377A (ja) 強度及び導電性に優れる銅合金板
JP2013117060A (ja) 電子材料用Ｃｕ−Ｃｏ−Ｓｉ系合金
JP5595961B2 (ja) 電子材料用Ｃｕ−Ｎｉ−Ｓｉ系銅合金及びその製造方法
JPWO2020152967A1 (ja) 銅合金板材およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 20778761

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 20778761

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1