WO2020184584A1 - 回路接続用接着剤フィルム及びその製造方法、回路接続構造体の製造方法、並びに、接着剤フィルム収容セット - Google Patents

回路接続用接着剤フィルム及びその製造方法、回路接続構造体の製造方法、並びに、接着剤フィルム収容セット Download PDF

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Definitions

  • the present invention relates to an adhesive film for circuit connection and a method for manufacturing the same, a method for manufacturing a circuit connection structure, and an adhesive film accommodating set.
  • An adhesive film for circuit connection having an anisotropic conductivity in which is dispersed is used.
  • Patent Document 1 proposes a method in which conductive particles are unevenly distributed on one side of an anisotropic conductive adhesive sheet to separate the conductive particles from each other.
  • the adhesive film for circuit connection is peeled off from the circuit member even when the circuit connection structure is used for a long period of time in a high temperature and high humidity environment (for example, 85 ° C., 85% RH) after the circuit member is connected. It is required not to.
  • a high temperature and high humidity environment for example, 85 ° C., 85% RH
  • the present invention uses a circuit member and an adhesive film, which are generated when the circuit connection structure is used in a high temperature and high humidity environment, while suppressing the flow of conductive particles generated during the manufacture of the circuit connection structure.
  • An adhesive film for circuit connection and a method for manufacturing the same which can suppress peeling at the interface between the formed circuit connection portion, a method for manufacturing a circuit connection structure using the adhesive film, and an adhesive provided with the adhesive film. It is an object of the present invention to provide an agent film containing set.
  • the circuit connecting adhesive film on one side of the present invention comprises a first adhesive layer and a second adhesive layer laminated on the first adhesive layer, and the first adhesive.
  • the layer is composed of a cured product of a photocurable composition
  • the second adhesive layer is composed of a thermosetting composition
  • the photocurable composition is composed of a polymerizable compound and a photopolymerization initiator having an oxime ester structure.
  • the content of the photopolymerization initiator is 0.3 to 1.2% by mass based on the total amount of the components other than the conductive particles in the photocurable composition.
  • the connection resistance between the opposing electrodes of the circuit connection structure can be reduced, and further, even in a high temperature and high humidity environment (for example, 85 ° C., 85% RH). Low connection resistance can be maintained. That is, according to this circuit connection adhesive film, the connection reliability of the circuit connection structure can be improved.
  • the method for producing an adhesive film for circuit connection on one aspect of the present invention includes a preparation step of preparing a first adhesive layer and a second adhesive composed of a thermosetting composition on the first adhesive layer.
  • the preparation step includes a laminating step of laminating the layers, and the preparation step is a step of curing the photocurable composition by irradiating the layer made of the photocurable composition with light to obtain a first adhesive layer.
  • the photocurable composition contains a polymerizable compound, a photopolymerization initiator having an oxime ester structure, and conductive particles, and the content of the photopolymerization initiator in the photocurable composition is It is 0.3 to 1.2% by mass based on the total amount of components other than the conductive particles.
  • the interface between the circuit member and the adhesive film which is generated when the circuit connection structure is used in a high temperature and high humidity environment, while suppressing the flow of conductive particles generated during the manufacture of the circuit connection structure. It is possible to obtain an adhesive film for circuit connection that can suppress peeling in.
  • the polymerizable compound may be a radically polymerizable compound having a radically polymerizable group.
  • thermosetting composition may contain a radically polymerizable compound having a radically polymerizable group.
  • the photopolymerization initiator having an oxime ester structure may be a compound having a structure represented by the following formula (VI).
  • R 11 , R 12 and R 13 each independently represent an organic group containing a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group.
  • the thickness of the first adhesive layer may be 0.1 to 0.8 times the average particle size of the conductive particles.
  • the above-mentioned circuit connection bonding is performed between the first circuit member having the first electrode and the second circuit member having the second electrode.
  • a step of electrically connecting the first electrode and the second electrode to each other by heat-pressing the first circuit member and the second circuit member with an agent film interposed therebetween.
  • the adhesive film accommodating set on one side of the present invention includes the above-mentioned adhesive film for circuit connection and an accommodating member accommodating the adhesive film, and the accommodating member can visually recognize the inside of the accommodating member from the outside. It has a visible portion, and the transmittance of light having a wavelength of 365 nm in the visible portion is 10% or less.
  • the environment in which the adhesive film for circuit connection is used is a room called a clean room where the temperature, humidity, and cleanliness of the room are controlled at a certain level, and when shipped from the production site, it is directly exposed to the outside air.
  • the circuit connection adhesive film is housed in a housing member such as a packing bag so as not to be exposed and cause quality deterioration due to dust and moisture.
  • this accommodating member is made of a transparent material so that various information such as the product name, lot number, and expiration date attached to the internal adhesive film can be confirmed from outside the accommodating member. A part is provided.
  • thermosetting composition when the above-mentioned adhesive film for circuit connection is housed in a conventional housing member and used after being stored or transported, the above-mentioned effects of the adhesive film may not be obtained. Revealed by. As a result of further studies by the present inventors based on such study results, when a compound capable of reacting with the photopolymerization initiator in the photocurable composition is used as the polymerizable compound in the thermosetting composition. It has been clarified that the thermosetting composition is cured during storage and transportation of the adhesive film, and the effect of reducing the connection resistance is reduced.
  • the present inventors further investigated based on the speculation that the polymerization of the polymerizable compound in the thermosetting composition is proceeding by the radicals derived from the photopolymerization initiator remaining in the first adhesive layer.
  • the present inventors further investigated based on the speculation that the polymerization of the polymerizable compound in the thermosetting composition is proceeding by the radicals derived from the photopolymerization initiator remaining in the first adhesive layer.
  • an adhesive film accommodating set provided with the above-mentioned specific accommodating member, it is possible to suppress curing of the thermosetting composition during storage or transportation, and reduce the connection resistance of the adhesive film. We found that the effect could be maintained.
  • thermosetting composition when a compound capable of reacting with the photopolymerization initiator in the photocurable composition is used as the polymerizable compound in the thermosetting composition, adhesion is performed. Curing of the thermosetting composition during storage or transportation of the agent film can be suppressed, and the effect of reducing the connection resistance of the adhesive film can be maintained.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an adhesive film for circuit connection according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a circuit connection structure according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a manufacturing process of the circuit connection structure according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a perspective view showing an adhesive film accommodating set according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an adhesive film for circuit connection according to an embodiment.
  • the circuit connection adhesive film 1 (hereinafter, also simply referred to as “adhesive film 1”) is laminated on the first adhesive layer 2 and the first adhesive layer 2.
  • a second adhesive layer 3 is provided.
  • the first adhesive layer 2 is made of a cured product (photo-cured product) of a photocurable composition.
  • the photocurable composition is a (A) polymerizable compound (hereinafter, also referred to as “(A) component”) and (B) a photopolymerization initiator having an oxime ester structure (hereinafter, also referred to as “(B) component”). ) And (C) conductive particles 4 (hereinafter, also referred to as “component (C)”).
  • the photocurable composition includes (D) a thermosetting resin (hereinafter, also referred to as “(D) component”) and / or (E) a thermal polymerization initiator (hereinafter, also referred to as “(E) component”). May be further contained. That is, the photocurable composition may be a light and thermosetting composition.
  • the first adhesive layer 2 is obtained, for example, by irradiating a layer made of a photocurable composition with light energy to polymerize the component (A) and curing the photocurable composition. That is, the first adhesive layer 2 is composed of the conductive particles 4 and the adhesive component 5 obtained by photocuring the photocurable composition.
  • the adhesive component 5 contains at least a polymer of the component (A).
  • the adhesive component 5 may or may not contain the unreacted components (A) and (B).
  • Component (A) Polymerizable compound
  • the component (A) is, for example, a compound polymerized by radicals, cations or anions generated by a photopolymerization initiator by irradiation with light (for example, ultraviolet light).
  • the component (A) may be any of a monomer, an oligomer or a polymer.
  • the component (A) has at least one polymerizable group.
  • the polymerizable group is preferably a radically polymerizable group that reacts with radicals from the viewpoint of further improving the effect of reducing the connection resistance and improving the connection reliability. That is, the component (A) is preferably a radically polymerizable compound.
  • the radically polymerizable group include a vinyl group, an allyl group, a styryl group, an alkenyl group, an alkenylene group, a (meth) acryloyl group, a maleimide group and the like.
  • the number of polymerizable groups contained in the component (A) may be 2 or more from the viewpoint that the physical properties required for reducing the connection resistance and the crosslink density can be easily obtained after the polymerization, and the curing shrinkage during the polymerization is suppressed. From the viewpoint, it may be 10 or less. From these viewpoints, the number of polymerizable groups contained in the component (A) may be 2 to 10. Suppressing the curing shrinkage during polymerization is preferable in that a uniform and stable film (first adhesive layer) can be obtained after light irradiation.
  • a polymerizable compound having a number of polymerizable groups within the above range is used, and then a polymerizable compound having a number of polymerizable groups outside the above range is used. May be used additionally.
  • component (A) examples include (meth) acrylate compound, maleimide compound, vinyl ether compound, allyl compound, styrene derivative, acrylamide derivative, nadiimide derivative, natural rubber, isoprene rubber, butyl rubber, nitrile rubber, butadiene rubber, and styrene-.
  • examples thereof include butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, and carboxylated nitrile rubber.
  • Examples of the (meth) acrylate compound include epoxy (meth) acrylate, (poly) urethane (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, polybutadiene (meth) acrylate, and silicone acrylate.
  • Maleimide compounds include 1-methyl-2,4-bismaleimidebenzene, N, N'-m-phenylene bismaleimide, N, N'-p-phenylene bismaleimide, N, N'-m-toluylene bismaleimide.
  • N, N'-4,4-biphenylene bismaleimide N, N'-4,4- (3,3'-dimethyl-biphenylene) bismaleimide, N, N'-4,4- (3,3' -Dimethyldiphenylmethane) bismaleimide, N, N'-4,4- (3,3'-diethyldiphenylmethane) bismaleimide, N, N'-4,4-diphenylmethane bismaleimide, N, N'-4,4- Diphenylpropane bismaleimide, N, N'-4,4-diphenyl ether bismaleimide, N, N'-3,3-diphenylsulfone bismaleimide, 2,2-bis (4- (4-maleimidephenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (3-s-butyl-4-8 (4-maleimidephenoxy) phenyl) propane, 1,1-bis (4- (4-maleimidephenoxy) phenyl) de
  • vinyl ether compound examples include diethylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol divinyl ether, cyclohexanedimethanol divinyl ether, and trimethylolpropane trivinyl ether.
  • allyl compound examples include 1,3-diallyl phthalate, 1,2-diallyl phthalate, and triallyl isocyanurate.
  • the component (A) is preferably a (meth) acrylate compound from the viewpoint of excellent balance between the curing reaction rate and the physical properties after curing.
  • the component (A) is a (poly) urethane (meth) acrylate compound from the viewpoint of achieving both cohesive force for reducing connection resistance and elongation for improving adhesive force and obtaining better adhesive properties. You can.
  • the component (A) may be a (meth) acrylate compound having a high Tg skeleton such as a dicyclopentadiene skeleton from the viewpoint of improving the cohesive force and further reducing the connection resistance.
  • the component (A) is the terminal or side of a thermoplastic resin such as an acrylic resin, a phenoxy resin, or a polyurethane resin from the viewpoint of balancing the crosslink density and the curing shrinkage, further reducing the connection resistance, and improving the connection reliability.
  • a thermoplastic resin such as an acrylic resin, a phenoxy resin, or a polyurethane resin from the viewpoint of balancing the crosslink density and the curing shrinkage, further reducing the connection resistance, and improving the connection reliability.
  • It may be a compound (for example, polyurethane (meth) acrylate) in which a polymerizable group such as a vinyl group, an allyl group, or a (meth) acryloyl group is introduced into the chain.
  • the weight average molecular weight of the component (A) may be 3000 or more, 5000 or more, or 10,000 or more from the viewpoint of excellent balance between the crosslink density and the curing shrinkage.
  • the weight average molecular weight of the component (A) may be 1 million or less, 500,000 or less, or 250,000 or less from the viewpoint of excellent compatibility with other components. From these viewpoints, the weight average molecular weight of the component (A) may be 30 to 1,000,000, 5,000 to 500,000, or 10,000 to 250,000.
  • the weight average molecular weight refers to a value measured from a gel permeation chromatograph (GPC) using a calibration curve using standard polystyrene according to the conditions described in Examples.
  • the component (A) preferably contains, as the (meth) acrylate compound, a radically polymerizable compound having a phosphoric acid ester structure represented by the following formula (1).
  • the adhesive strength to the surface of the inorganic substance (metal or the like) is improved, it is suitable for adhesion between electrodes (for example, circuit electrodes).
  • n represents an integer of 1 to 3
  • R represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • the radically polymerizable compound having the above phosphoric acid ester structure can be obtained, for example, by reacting anhydrous phosphoric acid with 2-hydroxyethyl (meth) acrylate.
  • Specific examples of the radically polymerizable compound having a phosphoric acid ester structure include mono (2- (meth) acryloyloxyethyl) acid phosphate, di (2- (meth) acryloyloxyethyl) acid phosphate and the like.
  • the content of the component (A) is the total amount of the components other than the conductive particles in the photocurable composition from the viewpoint that the crosslink density required for reducing the connection resistance and improving the connection reliability can be easily obtained. As a reference, it may be 5% by mass or more, 10% by mass or more, and 20% by mass or more.
  • the content of the component (A) may be 90% by mass or less, and may be 80% by mass, based on the total amount of the components other than the conductive particles in the photocurable composition from the viewpoint of suppressing curing shrinkage during polymerization. It may be less than or equal to 70% by mass or less. From these viewpoints, the content of the component (A) may be 5 to 90% by mass, and 10 to 80% by mass, based on the total amount of the components other than the conductive particles in the photocurable composition. It may be 20 to 70% by mass.
  • the photocurable composition contains a photopolymerization initiator having an oxime ester structure as the component (B).
  • the photopolymerization initiator may have a plurality of photopolymerization initiators having an oxime ester structure.
  • the component (B) one kind of compound may be used alone, or a plurality of kinds of compounds may be used in combination.
  • a compound having a structure represented by the following formula (VI) is preferably used.
  • R 11 , R 12 and R 13 each independently represent an organic group containing a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group.
  • the compound having an oxime ester structure examples include 1-phenyl-1,2-butandion-2- (o-methoxycarbonyl) oxime and 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-methoxycarbonyl).
  • Oxime 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-1,2-propanedione-2-o-benzoyloxime, 1,3-diphenylpropanthrion- 2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-3-ethoxypropanetrione-2- (o-benzoyl) oxime, 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio) phenyl-, 2-( o-benzoyloxime)], etanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazole-3-yl]-, 1- (o-acetyloxime) and the like.
  • the content of the photopolymerization initiator having an oxime ester structure is 0.3 mass by mass based on the total amount of components other than the conductive particles in the photocurable composition from the viewpoint of further improving the flow suppressing effect of the conductive particles. % Or more, preferably 0.45% by mass or more, more preferably 0.55% by mass or more, still more preferably 0.85% by mass or more.
  • the content of the photopolymerization initiator having an oxime ester structure is 1.2% by mass or less based on the total amount of components other than the conductive particles in the photocurable composition from the viewpoint of further improving the effect of suppressing peeling. It is preferably 0.9% by mass or less, and more preferably 0.6% by mass or less.
  • the content of the photopolymerization initiator having an oxime ester structure is 0.3 to 1.2% by mass based on the total amount of the components other than the conductive particles in the photocurable composition. It is preferably 0.45 to 0.9% by mass, and more preferably 0.45 to 0.6% by mass.
  • the photocurable composition has an ⁇ -aminoalkylphenone structure, an aminobenzophenone structure, an N-phenylglycine structure, an acylphosphine oxide structure, a benzyl dimethyl ketal structure, and an ⁇ -.
  • a photopolymerization initiator having a structure such as a hydroxyalkylphenone structure may be further contained.
  • the total content of the photopolymerization initiator is 0.3% by mass or more based on the total amount of the components other than the conductive particles in the photocurable composition from the viewpoint of further improving the flow suppressing effect of the conductive particles. Yes, preferably 0.45% by mass or more, more preferably 0.55% by mass or more, still more preferably 0.85% by mass or more.
  • the content of the component (B) is preferably 1.2% by mass or less based on the total amount of the components other than the conductive particles in the photocurable composition from the viewpoint of further improving the effect of suppressing peeling. It is more preferably 0.9% by mass or less, and further preferably 0.6% by mass or less.
  • the content of the component (B) is preferably 0.3 to 1.2% by mass, more preferably, based on the total amount of the components other than the conductive particles in the photocurable composition. It is 0.45 to 0.9% by mass, more preferably 0.45 to 0.6% by mass.
  • the component (C) is not particularly limited as long as it is a conductive particle, and is a metal particle made of a metal such as Au, Ag, Ni, Cu, or solder, a conductive carbon particle made of conductive carbon, or the like. It may be.
  • the component (C) may be a coated conductive particle containing a nucleus containing non-conductive glass, ceramic, plastic (polystyrene, etc.) and the like, and a coating layer containing the metal or conductive carbon and coating the nucleus. Good.
  • coated conductive particles including metal particles formed of a heat-meltable metal or a core containing plastic and a coating layer containing metal or conductive carbon and coating the core are preferably used.
  • the cured product of the photocurable composition can be easily deformed by heating or pressurizing, the contact area between the electrodes and the component (C) is increased when the electrodes are electrically connected to each other. , The conductivity between the electrodes can be further improved.
  • the component (C) may be an insulating coated conductive particle including the above-mentioned metal particles, conductive carbon particles or coated conductive particles, and an insulating material such as a resin and covering the surface of the particles. ..
  • an insulating coated conductive particle including the above-mentioned metal particles, conductive carbon particles or coated conductive particles, and an insulating material such as a resin and covering the surface of the particles. ..
  • the component (C) is an insulating coated conductive particle, even when the content of the component (C) is large, the surface of the particle is coated with a resin, so that a short circuit due to contact between the components (C) occurs. Occurrence can be suppressed, and the insulation between adjacent electrode circuits can be improved.
  • the component (C) one of the various conductive particles described above may be used alone or in combination of two or more.
  • the maximum particle size of the component (C) needs to be smaller than the minimum distance between the electrodes (the shortest distance between adjacent electrodes).
  • the maximum particle size of the component (C) may be 1.0 ⁇ m or more, 2.0 ⁇ m or more, or 2.5 ⁇ m or more from the viewpoint of excellent dispersibility and conductivity.
  • the maximum particle size of the component (C) may be 50 ⁇ m or less, 30 ⁇ m or less, or 20 ⁇ m or less from the viewpoint of excellent dispersibility and conductivity. From these viewpoints, the maximum particle size of the component (C) may be 1.0 to 50 ⁇ m, 2.0 to 30 ⁇ m, or 2.5 to 20 ⁇ m.
  • the particle size of 300 arbitrary conductive particles (pcs) is measured by observation using a scanning electron microscope (SEM), and the largest value obtained is the maximum particle size of the component (C). And.
  • the particle size of the component (C) is the diameter of a circle circumscribing the conductive particles in the SEM image.
  • the average particle size of the component (C) may be 1.0 ⁇ m or more, 2.0 ⁇ m or more, or 2.5 ⁇ m or more from the viewpoint of excellent dispersibility and conductivity.
  • the average particle size of the component (C) may be 50 ⁇ m or less, 30 ⁇ m or less, or 20 ⁇ m or less from the viewpoint of excellent dispersibility and conductivity. From these viewpoints, the average particle size of the component (C) may be 1.0 to 50 ⁇ m, 2.0 to 30 ⁇ m, or 2.5 to 20 ⁇ m.
  • the particle size of 300 arbitrary conductive particles (pcs) is measured by observation using a scanning electron microscope (SEM), and the average value of the obtained particle sizes is taken as the average particle size.
  • the component (C) is preferably uniformly dispersed.
  • Particle density of the component (C) first in the adhesive layer 2 the stable connection resistance is easily obtained standpoint, may be at 100pcs / mm 2 or more, may be at 1000pcs / mm 2 or more, 2000pcs / It may be mm 2 or more.
  • Particle density of the component (C) first in the adhesive layer 2, from the viewpoint of improving the insulating property between adjacent electrodes may be at 100000pcs / mm 2 or less, may be at 50000pcs / mm 2 or less, It may be 10000 pcs / mm 2 or less.
  • the particle density of the component (C) in the first adhesive layer 2 may be 100 to 100,000 pcs / mm 2 , 1000 to 50,000 pcs / mm 2 , and 2,000 to 10,000 pcs / mm 2. It may be.
  • the content of the component (C) may be 0.1% by volume or more based on the total volume in the first adhesive layer from the viewpoint of further improving the conductivity, and is 1% by volume or more. It may be 5% by volume or more.
  • the content of the component (C) may be 50% by volume or less, 30% by volume or less, and 20% by volume based on the total volume in the first adhesive layer from the viewpoint of easily suppressing a short circuit. It may be less than or equal to%. From these viewpoints, the content of the component (C) may be 0.1 to 50% by volume or 1 to 30% by volume based on the total volume in the first adhesive layer. It may be up to 20% by volume.
  • the content of the component (C) based on the total product of the photocurable composition may be the same as the above range.
  • the component (D) is a resin that is cured by heat and has at least one thermosetting group.
  • the component (D) is, for example, a compound that crosslinks by reacting with a curing agent by heat.
  • One kind of compound may be used alone as the component (D), or a plurality of kinds of compounds may be used in combination.
  • thermosetting group may be, for example, an epoxy group, an oxetane group, or the like from the viewpoint of further improving the effect of reducing the connection resistance and improving the connection reliability.
  • component (D) examples include a bisphenol-type epoxy resin which is a reaction product of epichlorohydrin and bisphenols A, F, AD and the like, and an epoxy which is a reaction product of epichlorohydrin and phenol novolac, cresol novolac and the like.
  • examples thereof include novolak resins, naphthalene-based epoxy resins having a skeleton containing a naphthalene ring, and epoxy resins such as various epoxy compounds having two or more glycidyl groups in one molecule such as glycidylamine and glycidyl ether.
  • the content of the component (D) may be 30% by mass or more, 70% by mass or less, and 30 to 70% based on the total amount of the components other than the conductive particles in the first adhesive layer. It may be% by mass.
  • the first adhesive layer may further contain a curing agent used for curing the thermosetting resin.
  • the curing agent is not particularly limited as long as it is a curing agent that generates cationic species by heat, and can be appropriately selected depending on the intended purpose.
  • the curing agent include a sulfonium salt and an iodonium salt.
  • the content of the curing agent may be, for example, 0.1 part by mass or more, 50 parts by mass or less, and 0.1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the thermosetting resin. Good.
  • the component (E) may be a thermal polymerization initiator (thermal radical polymerization initiator, thermal cationic polymerization initiator or thermal anion polymerization initiator) that generates radicals, cations or anions by heat, and has an effect of reducing connection resistance.
  • a thermal radical polymerization initiator is preferable from the viewpoint of further improvement and superior connection reliability.
  • the component (E) one kind of compound may be used alone, or a plurality of kinds of compounds may be used in combination.
  • the thermal radical polymerization initiator decomposes by heat to generate free radicals. That is, the thermal radical polymerization initiator is a compound that generates radicals by applying thermal energy from the outside.
  • the thermal radical polymerization initiator can be arbitrarily selected from conventionally known organic peroxides and azo compounds.
  • an organic peroxide is preferable from the viewpoint of further improving the effect of suppressing the flow of conductive particles and the effect of suppressing peeling, and from the viewpoint of stability, reactivity and compatibility, it is halved for 1 minute. More preferably, an organic peroxide having a period temperature of 90 to 175 ° C. and a weight average molecular weight of 180 to 1000. When the half-life temperature for 1 minute is in this range, the storage stability is further excellent, the radical polymerization property is sufficiently high, and the curing can be performed in a short time.
  • component (E) examples include 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanoate, di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, and di (2-ethylhexyl) peroxy.
  • the content of the component (E) is other than the conductive particles in the first adhesive layer from the viewpoint of excellent quick-curing property, the flow suppressing effect of the conductive particles, and the further improving the peeling suppressing effect. Based on the total amount of the components, it may be 0.1% by mass or more, 0.5% by mass or more, and 1% by mass or more. From the viewpoint of pot life, the content of the component (E) may be 20% by mass or less, and 10% by mass or less, based on the total amount of the components other than the conductive particles in the first adhesive layer. It may be 5% by mass or less.
  • the content of the component (E) may be 0.1 to 20% by mass, and may be 0.5 to 20% by mass, based on the total amount of the components other than the conductive particles in the first adhesive layer. It may be 10% by mass, and may be 1 to 5% by mass.
  • the first adhesive layer 2 does not have to contain the component (E).
  • the content of the component (E) based on the total amount of the components other than the conductive particles in the photocurable composition may be the same as the above range.
  • the photocurable composition may further contain components other than the component (A), the component (B), the component (C), the component (D) and the component (E).
  • Other components include, for example, thermoplastic resins, coupling agents, fillers and the above-mentioned curing agents. These components may be contained in the first adhesive layer 2.
  • thermoplastic resin examples include phenoxy resin, polyester resin, polyamide resin, polyurethane resin, polyester urethane resin, acrylic rubber and the like.
  • the photocurable composition contains a thermoplastic resin
  • the first adhesive layer can be easily formed.
  • the photocurable composition contains a thermoplastic resin
  • the stress of the first adhesive layer generated at the time of curing the photocurable composition can be relieved.
  • the thermoplastic resin has a functional group such as a hydroxyl group, the adhesiveness of the first adhesive layer is likely to be improved.
  • the content of the thermoplastic resin may be, for example, 5% by mass or more, 80% by mass or less, and 5 to 80% based on the total amount of components other than the conductive particles in the photocurable composition. It may be% by mass.
  • the coupling agent examples include a silane coupling agent having an organic functional group such as a (meth) acryloyl group, a mercapto group, an amino group, an imidazole group and an epoxy group, a silane compound such as tetraalkoxysilane, a tetraalkoxy titanate derivative and a polydialkyl. Examples thereof include titanate derivatives.
  • the adhesiveness can be further improved.
  • the content of the coupling agent may be, for example, 0.1% by mass or more, 20% by mass or less, and 0, based on the total amount of components other than the conductive particles in the photocurable composition. It may be 1 to 20% by mass.
  • the filler examples include non-conductive fillers (for example, non-conductive particles).
  • the filler may be either an inorganic filler or an organic filler.
  • the inorganic filler include metal oxide fine particles such as silica fine particles, alumina fine particles, silica-alumina fine particles, titania fine particles, and zirconia fine particles; and inorganic fine particles such as nitride fine particles.
  • the organic filler include organic fine particles such as silicone fine particles, methacrylate-butadiene-styrene fine particles, acrylic-silicone fine particles, polyamide fine particles, and polyimide fine particles.
  • These fine particles may have a uniform structure or may have a core-shell type structure.
  • the maximum diameter of the filler is preferably less than the minimum particle size of the conductive particles 4.
  • the content of the filler may be, for example, 1% by volume or more, 30% by volume or less, and 1 to 30% by volume based on the total volume of the photocurable composition.
  • the photocurable composition may contain other additives such as softeners, accelerators, deterioration inhibitors, colorants, flame retardants, thixotropic agents and the like.
  • the content of these additives may be, for example, 0.1 to 10% by mass based on the total amount of components other than the conductive particles in the photocurable composition.
  • These additives may be contained in the first adhesive layer 2.
  • the first adhesive layer 2 may contain an unreacted component (B).
  • the unreacted component (B) remains in the first adhesive layer 2 during storage and transportation. It is presumed that a part of the thermosetting composition in the second adhesive layer 3 is cured, and the effect of reducing the connection resistance of the adhesive film 1 is reduced. Therefore, when the first adhesive layer 2 contains the component (B), it is possible to prevent a decrease in the effect of reducing the connection resistance by accommodating the adhesive film 1 in the accommodating member described later.
  • the thickness d1 of the first adhesive layer 2 is 0.1 times or more the average particle size of the conductive particles 4 from the viewpoint that the conductive particles 4 are easily captured between the electrodes facing each other and the connection resistance can be further reduced. It may be 0.2 times or more, and may be 0.3 times or more. The thickness d1 of the first adhesive layer 2 is such that the conductive particles are more easily crushed when the conductive particles are sandwiched between the electrodes facing each other during thermocompression bonding, and the connection resistance can be further reduced. It may be 0.8 times or less, and 0.7 times or less, the average particle size of. From these viewpoints, the thickness d1 of the first adhesive layer 2 may be 0.1 to 0.8 times, and 0.2 to 0.8 times, the average particle size of the conductive particles 4. It may be 0.3 to 0.7 times. The thickness d1 of the first adhesive layer 2 refers to the thickness of the first adhesive layer located at the separated portion of the adjacent conductive particles 4 and 4.
  • the conductive particles in the first adhesive layer 2 A part of 4 may protrude from the first adhesive layer 2 toward the second adhesive layer 3.
  • the boundary S between the first adhesive layer 2 and the second adhesive layer 3 is located at the separated portion of the adjacent conductive particles 4 and 4. Due to the presence of the boundary S on the conductive particles along the surface of the conductive particles, the conductive particles 4 in the first adhesive layer 2 are moved from the first adhesive layer 2 to the second adhesive layer 3 side. The above relationship may be satisfied without protruding.
  • the conductive particles 4 may not be exposed on the surface 2a of the first adhesive layer 2 opposite to the side of the second adhesive layer 3, and the surface 2a on the opposite side may be a flat surface.
  • the relationship between the thickness d1 of the first adhesive layer 2 and the maximum particle size of the conductive particles 4 may be the same as described above.
  • the thickness d1 of the first adhesive layer 2 may be 0.1 to 0.8 times, 0.2 to 0.8 times, the maximum particle size of the conductive particles 4, and may be 0. It may be 3 to 0.7 times.
  • the thickness d1 of the first adhesive layer 2 may be appropriately set according to the height of the electrodes of the circuit member to be adhered.
  • the thickness d1 of the first adhesive layer 2 may be, for example, 0.5 ⁇ m or more, 20 ⁇ m or less, and 0.5 to 20 ⁇ m.
  • the length of the exposed portion of the conductive particles 4 may be, for example, 0.1 ⁇ m or more, 20 ⁇ m or less, and 0.1 to 20 ⁇ m.
  • the thickness of the adhesive layer can be measured by the following method. First, the adhesive film is sandwiched between two pieces of glass (thickness: about 1 mm). Next, a resin composition consisting of 100 g of a bisphenol A type epoxy resin (trade name: JER811, manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) and 10 g of a curing agent (trade name: Epomount curing agent, manufactured by Refine Tech Co., Ltd.) is cast. .. Then, the cross section is polished using a polishing machine, and the thickness of each adhesive layer is measured using a scanning electron microscope (SEM, trade name: SE-8020, manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.).
  • SEM scanning electron microscope
  • the second adhesive layer 3 contains, for example, (a) a polymerizable compound (hereinafter, also referred to as (a) component) and (b) a thermal polymerization initiator (hereinafter, also referred to as (b) component). It consists of a thermosetting composition.
  • the thermosetting composition constituting the second adhesive layer 3 is a thermosetting composition that can flow when connected to a circuit, and is, for example, an uncured thermosetting composition.
  • the component (a) is, for example, a compound polymerized by radicals, cations or anions generated by a thermal polymerization initiator by heat.
  • the compound exemplified as the component (A) can be used.
  • the component (a) is a radically polymerizable compound having a radically polymerizable group that reacts with radicals from the viewpoint of facilitating connection at low temperature for a short time, further improving the effect of reducing connection resistance, and improving connection reliability. Is preferable.
  • Examples of the preferred radically polymerizable compound in the component (a) and the combination of the preferred radically polymerizable compound are the same as those in the component (A).
  • the component (a) is a radically polymerizable compound and the component (B) in the first adhesive layer is a photoradical polymerization initiator, it is adhered by accommodating the adhesive film in an accommodating member described later. Curing of the thermosetting composition during storage or transportation of the agent film tends to be significantly suppressed.
  • the component (a) may be any of a monomer, an oligomer or a polymer.
  • the component (a) one kind of compound may be used alone, or a plurality of kinds of compounds may be used in combination.
  • the component (a) may be the same as or different from the component (A).
  • the content of the component (a) is 10% by mass or more based on the total mass of the thermosetting composition from the viewpoint that the crosslink density required for reducing the connection resistance and improving the connection reliability can be easily obtained. It may be 20% by mass or more, and may be 30% by mass or more.
  • the content of the component (a) may be 90% by mass or less based on the total mass of the thermosetting composition from the viewpoint that curing shrinkage during polymerization can be suppressed and good reliability can be obtained. It may be 80% by mass or less, and may be 70% by mass or less. From these viewpoints, the content of the component (a) may be 10 to 90% by mass, 20 to 80% by mass, and 30 to 70% by mass based on the total mass of the thermosetting composition. It may be.
  • Component (b): Thermal polymerization initiator As the component (b), the same thermal polymerization initiator as the component (E) can be used. As the component (b), one kind of compound may be used alone, or a plurality of kinds of compounds may be used in combination.
  • the component (b) is preferably a thermal radical polymerization initiator. Examples of the preferable thermal radical polymerization initiator in the component (b) are the same as those in the component (E).
  • the content of the component (b) may be 0.1% by mass or more based on the total mass of the thermosetting composition, and may be 0, from the viewpoint of further improving the effect of reducing the connection resistance and improving the connection reliability. It may be 5.5% by mass or more, and may be 1% by mass or more.
  • the content of the component (b) may be 30% by mass or less, 20% by mass or less, and 10% by mass or less based on the total mass of the thermosetting composition from the viewpoint of pot life. You can. From these viewpoints, the content of the component (b) may be 0.1 to 30% by mass or 0.5 to 20% by mass based on the total mass of the thermosetting composition. It may be up to 10% by mass.
  • the thermosetting composition may further contain a component (a) and other components other than the component (b).
  • other components include thermoplastic resins, coupling agents, fillers, softeners, accelerators, deterioration inhibitors, colorants, flame retardants, thixotropic agents and the like.
  • the details of the other components are the same as the details of the other components in the first adhesive layer 2.
  • thermosetting composition contains a thermosetting resin similar to the above-mentioned component (D) in place of the components (a) and (b) or in addition to the components (a) and (b). You may be doing it.
  • the thermosetting composition may contain a curing agent used for curing the thermosetting resin described above.
  • the content of the thermosetting resin in the thermosetting composition is, for example, 20 based on the total mass of the thermosetting composition. It may be 0% by mass or more, 80% by mass or less, and 20 to 80% by mass.
  • the content of the thermosetting resin in the thermosetting composition is, for example, 20 based on the total mass of the thermosetting composition. It may be 0% by mass or more, 80% by mass or less, and 20 to 80% by mass.
  • the content of the curing agent may be the same as the range described as the content of the curing agent in the photocurable composition.
  • the content of the conductive particles 4 in the second adhesive layer 3 may be, for example, 1% by mass or less, or 0% by mass, based on the total mass of the second adhesive layer.
  • the second adhesive layer 3 preferably does not contain the conductive particles 4.
  • the thickness d2 of the second adhesive layer 3 may be appropriately set according to the height of the electrodes of the circuit member to be adhered.
  • the thickness d2 of the second adhesive layer 3 may be 5 ⁇ m or more from the viewpoint that the space between the electrodes can be sufficiently filled to seal the electrodes and better connection reliability can be obtained. , 200 ⁇ m or less, and may be 5 to 200 ⁇ m.
  • the first in the second adhesive layer 3 The distance from the surface 3a on the side opposite to the adhesive layer 2 side to the boundary S between the first adhesive layer 2 and the second adhesive layer 3 located at the separated portions of the adjacent conductive particles 4 and 4 ( The distance indicated by d2 in FIG. 1) is the thickness of the second adhesive layer 3.
  • the ratio of the thickness d1 of the first adhesive layer 2 to the thickness d2 of the second adhesive layer 3 (thickness d1 of the first adhesive layer 2 1 / thickness d2 of the second adhesive layer 3) May be 1 or more, and may be 100 or less, from the viewpoint that the space between the electrodes can be sufficiently filled to seal the electrodes and better reliability can be obtained.
  • the thickness of the adhesive film 1 (the sum of the thicknesses of all the layers constituting the adhesive film 1.
  • the thickness d1 of the first adhesive layer 2 and the thickness of the second adhesive layer 3 The sum of d2) may be, for example, 5 ⁇ m or more, 200 ⁇ m or less, and 5 to 200 ⁇ m.
  • the adhesive film 1 is an anisotropically conductive adhesive film having anisotropic conductivity.
  • the adhesive film 1 is interposed between the first circuit member having the first electrode and the second circuit member having the second electrode, and heats the first circuit member and the second circuit member. It is crimped and used to electrically connect the first and second electrodes to each other.
  • the circuit member and the adhesive generated when the circuit connection structure is used in a high temperature and high humidity environment while suppressing the flow of conductive particles generated during the manufacture of the circuit connection structure. It is possible to suppress peeling at the interface between the circuit connection portion formed by the film and the circuit connection portion.
  • circuit connection adhesive film of the present embodiment has been described above, the present invention is not limited to the above embodiment.
  • the adhesive film for circuit connection may be composed of two layers, a first adhesive layer and a second adhesive layer, other than the first adhesive layer and the second adhesive layer. It may be composed of three or more layers including a layer (for example, a third adhesive layer).
  • the third adhesive layer may be a layer having the same composition as that described above for the first adhesive layer or the second adhesive layer, and may be the first adhesive layer or the second adhesive layer. It may be a layer having the same thickness as the above-mentioned thickness.
  • the circuit connection adhesive film may further include, for example, a third adhesive layer on the opposite surface of the second adhesive layer in the first adhesive layer.
  • the circuit connection adhesive film is formed by, for example, laminating a second adhesive layer, a first adhesive layer, and a third adhesive layer in this order.
  • the third adhesive layer is made of, for example, a thermosetting composition like the second adhesive layer.
  • circuit connection adhesive film of the above embodiment is an anisotropically conductive adhesive film having anisotropic conductivity, but the circuit connection adhesive film is conductive and does not have anisotropic conductivity. It may be an adhesive film.
  • the method for manufacturing the circuit connection adhesive film 1 of the present embodiment is, for example, a preparation step for preparing the first adhesive layer 2 described above (first preparation step) and a method for producing the adhesive film 1 for circuit connection on the first adhesive layer 2. It includes a laminating step of laminating the second adhesive layer 3 described above.
  • the method for manufacturing the circuit connection adhesive film 1 may further include a preparation step (second preparation step) for preparing the second adhesive layer 3.
  • the first adhesive layer 2 is prepared by forming the first adhesive layer 2 on the base material to obtain the first adhesive film. Specifically, first, the component (A), the component (B) and the component (C), and other components such as the component (D) and the component (E) added as needed are added to the organic solvent.
  • a varnish composition (a varnish of a photocurable composition) is prepared by dissolving or dispersing by stirring and mixing, kneading, or the like. Then, the varnish composition is applied onto the release-treated substrate using a knife coater, roll coater, applicator, comma coater, die coater, etc., and then the organic solvent is volatilized by heating to form the substrate.
  • the photocurable composition is cured, and the first adhesive layer 2 is formed on the base material (curing step). As a result, the first adhesive film is obtained.
  • the organic solvent used for preparing the varnish composition preferably has the property of uniformly dissolving or dispersing each component, and for example, toluene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate and the like. Can be mentioned. These organic solvents can be used alone or in combination of two or more. Stirring and mixing and kneading in the preparation of the varnish composition can be carried out by using, for example, a stirrer, a raft machine, a triple roll, a ball mill, a bead mill or a homodisper.
  • the base material is not particularly limited as long as it has heat resistance that can withstand the heating conditions when the organic solvent is volatilized.
  • stretched polypropylene OPP
  • PET polyethylene terephthalate
  • PET polyethylene naphthalate
  • polyethylene iso Substrate made of phthalate, polybutylene terephthalate, polyolefin, polyacetate, polycarbonate, polyphenylene sulfide, polyamide, polyimide, cellulose, ethylene / vinyl acetate copolymer, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, synthetic rubber, liquid crystal polymer, etc.
  • film can be used.
  • the heating conditions for volatilizing the organic solvent from the varnish composition applied to the base material are preferably conditions in which the organic solvent volatilizes sufficiently.
  • the heating conditions may be, for example, 40 ° C. or higher and 120 ° C. or lower for 0.1 minute or longer and 10 minutes or shorter.
  • irradiation light for example, ultraviolet light
  • Light irradiation can be performed using, for example, a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, an LED light source, or the like.
  • the irradiation amount of light is not particularly limited, and for example, the integrated light amount of light having a wavelength of 365 nm may be 100 mJ / cm 2 or more, 200 mJ / cm 2 or more, and 300 mJ / cm 2 or more.
  • the dose of light for example, an accumulated light quantity of the wavelength 365nm light, may be at 10000 mJ / cm 2 or less, may be at 5000 mJ / cm 2 or less, may be at 3000 mJ / cm 2 or less.
  • the second adhesive layer 3 is prepared by forming the second adhesive layer 3 on the base material to obtain the second adhesive film.
  • the second adhesive layer 3 may be laminated on the first adhesive layer 2 by laminating the first adhesive film and the second adhesive film, and the first A varnish composition (thermosetting composition varnish) obtained by using the components (a) and (b) and other components added as needed is applied onto the adhesive layer 2 and is organic.
  • the second adhesive layer 3 may be laminated on the first adhesive layer 2 by volatilizing the solvent.
  • the laminating step may be performed in the middle of the first preparation step.
  • a laminating step is performed, and a layer made of the photocurable composition (precursor of the first adhesive layer 2) and a layer made of a thermosetting composition (precursor) A laminated body including the second adhesive layer 3) may be obtained.
  • the layer made of the photocurable composition may be cured by irradiating the obtained laminate with light to complete the first preparation step.
  • Examples of the method of adhering the first adhesive film and the second adhesive film include methods such as heat pressing, roll laminating, and vacuum laminating. Lamination may be performed, for example, under temperature conditions of 0 to 80 ° C.
  • Circuit connection structure and its manufacturing method> a circuit connection structure using the above-mentioned circuit connection adhesive film 1 as a circuit connection material and a method for manufacturing the same will be described.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a circuit connection structure of one embodiment.
  • the circuit connection structure 10 includes a first circuit member 13 having a first electrode 12 formed on the main surface 11a of the first circuit board 11 and the first circuit board 11. , A second circuit member 16 having a second electrode 15 formed on the main surface 14a of the second circuit board 14 and the second circuit board 14, and the first circuit member 13 and the second circuit member.
  • a circuit connecting portion 17 which is arranged between 16 and electrically connects the first electrode 12 and the second electrode 15 to each other is provided.
  • the first circuit member 13 and the second circuit member 16 may be the same or different from each other.
  • the first circuit member 13 and the second circuit member 16 may be a glass substrate or a plastic substrate on which electrodes are formed, a printed wiring board, a ceramic wiring board, a flexible wiring board, a semiconductor silicon IC chip, or the like.
  • the first circuit board 11 and the second circuit board 14 may be formed of an inorganic substance such as semiconductor, glass or ceramic, an organic substance such as polyimide or polycarbonate, or a composite such as glass / epoxy.
  • the first electrode 12 and the second electrode 15 are gold, silver, tin, ruthenium, rhodium, palladium, osmium, iridium, platinum, copper, aluminum, molybdenum, titanium, indium tin oxide (ITO), and indium zinc oxide. It may be made of a substance (IZO), indium gallium zinc oxide (IGZO), or the like.
  • the first electrode 12 and the second electrode 15 may be circuit electrodes or bump electrodes. At least one of the first electrode 12 and the second electrode 15 may be a bump electrode. In FIG. 2, the second electrode 15 is a bump electrode.
  • the circuit connection portion 17 is made of a cured product of the adhesive film 1 described above.
  • the circuit connection portion 17 is located, for example, on the side of the first circuit member 13 in a direction in which the first circuit member 13 and the second circuit member 16 face each other (hereinafter, “opposing direction”), and is photocured as described above. It is located on the side of the first region 18 composed of the cured product of the components (A) and (B) other than the conductive particles 4 of the sex composition and the second circuit member 16 in the opposite direction, and (a).
  • the first region is interposed between the second region 19 made of the cured product of the above-mentioned thermosetting composition containing the component, the component (b), and the like, and at least the first electrode 12 and the second electrode 15.
  • the circuit connection portion does not have to have two regions as in the first region 18 and the second region 19, for example, a cured product of a component other than the conductive particles 4 of the above-mentioned photocurable composition. It may consist of a cured product in which and the cured product of the above-mentioned thermosetting composition are mixed.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a method of manufacturing the circuit connection structure 10.
  • a method of manufacturing the circuit connection structure 10 is, for example, between a first circuit member 13 having a first electrode 12 and a second circuit member 16 having a second electrode 15.
  • the above-mentioned adhesive film 1 is interposed, the first circuit member 13 and the second circuit member 16 are thermocompression bonded, and the first electrode 12 and the second electrode 15 are electrically connected to each other. To be equipped.
  • a first circuit including the first circuit board 11 and the first electrode 12 formed on the main surface 11a of the first circuit board 11.
  • a member 13 and a second circuit member 16 having a second electrode 15 formed on the main surface 14a of the second circuit board 14 and the second circuit board 14 are prepared.
  • the first circuit member 13 and the second circuit member 16 are arranged so that the first electrode 12 and the second electrode 15 face each other, and the first circuit member 13 and the second circuit member 16 are arranged.
  • the adhesive film 1 is arranged between the circuit member 16 and the circuit member 16.
  • the adhesive film 1 is laminated on the first circuit member 13 so that the first adhesive layer 2 side faces the mounting surface 11a of the first circuit member 13.
  • the adhesive film 1 is laminated so that the first electrode 12 on the first circuit board 11 and the second electrode 15 on the second circuit board 14 face each other.
  • the second circuit member 16 is arranged on the circuit member 13.
  • the first circuit member 13 and the second circuit member 16 are heated while heating the first circuit member 13, the adhesive film 1 and the second circuit member 16.
  • the first circuit member 13 and the second circuit member 16 are thermocompression bonded to each other.
  • the second adhesive layer 3 is made of a flowable uncured thermosetting composition, it is between the second electrodes 15 and 15. It flows so as to fill the voids and is cured by the above heating.
  • the first electrode 12 and the second electrode 15 are electrically connected to each other via the conductive particles 4, and the first circuit member 13 and the second circuit member 16 are adhered to each other.
  • the circuit connection structure 10 shown in 2 is obtained.
  • the conductive particles 4 are fixed in the first adhesive layer 2 and also. Since the first adhesive layer 2 hardly flows during the thermocompression bonding and the conductive particles are efficiently captured between the facing electrodes, the connection resistance between the facing electrodes 12 and 15 is reduced. Therefore, a circuit connection structure having excellent connection reliability can be obtained.
  • FIG. 4 is a perspective view showing an adhesive film accommodating set of one embodiment.
  • the adhesive film accommodating set 20 includes an adhesive film 1 for circuit connection, a reel 21 around which the adhesive film 1 is wound, and an accommodating member 22 accommodating the adhesive film 1 and the reel 21. And.
  • the adhesive film 1 is, for example, in the form of a tape.
  • the tape-shaped adhesive film 1 is produced, for example, by cutting a sheet-shaped raw fabric into a long length with a width suitable for the intended use.
  • a base material may be provided on one surface of the adhesive film 1.
  • a base material such as the PET film described above can be used.
  • the reel 21 has a first side plate 24 having a winding core 23 around which the adhesive film 1 is wound, and a second side plate 25 arranged so as to face the first side plate 24 with the winding core 23 interposed therebetween. Be prepared.
  • the first side plate 24 is, for example, a disk made of plastic, and an opening having a circular cross section is provided in the central portion of the first side plate 24.
  • the winding core 23 of the first side plate 24 is a portion around which the adhesive film 1 is wound.
  • the winding core 23 is made of, for example, plastic, and has an annular shape having a thickness similar to the width of the adhesive film 1.
  • the winding core 23 is fixed to the inner side surface of the first side plate 24 so as to surround the opening of the first side plate 24.
  • a shaft hole 26 is provided in which a rotation shaft of a winding device or a feeding device (not shown) is inserted. When the rotating shaft is driven with the rotating shaft of the winding device or the feeding device inserted into the shaft hole 26, the reel 21 rotates without idling.
  • a desiccant container containing a desiccant may be fitted in the shaft hole 26.
  • the second side plate 25 is a disk made of, for example, plastic, and the central portion of the second side plate 25 has a circular cross section having the same diameter as the opening of the first side plate 24. The opening is provided.
  • the accommodating member 22 has a bag shape, for example, and accommodates the adhesive film 1 and the reel 21.
  • the accommodating member 22 has an insertion port 27 for accommodating (inserting) the adhesive film 1 and the reel 21 inside the accommodating member 22.
  • the accommodating member 22 has a visual recognition portion 28 that makes the inside of the accommodating member 22 visible from the outside.
  • the accommodating member 22 shown in FIG. 4 is configured such that the entire accommodating member 22 serves as a visual recognition portion 28.
  • the visual recognition unit 28 has transparency to visible light. For example, when the light transmittance in the visual recognition unit 28 is measured in the wavelength range of 450 to 750 nm, the average value of the light transmittance is 30% or more between the wavelengths of 450 to 750 nm, and the wavelength width is 50 nm. There is at least one region.
  • the light transmittance of the visual recognition unit 28 is obtained by preparing a sample obtained by cutting the visual recognition unit 28 to a predetermined size and measuring the light transmittance of the sample with an ultraviolet-visible spectrophotometer.
  • the accommodating member 22 has such a visual recognition portion 28, various information such as a product name, a lot number, and an expiration date affixed to the reel 21 inside the accommodating member 22 can be confirmed from the outside of the accommodating member 22. be able to. This can be expected to prevent mixing of different products and to improve the efficiency of sorting work.
  • the transmittance of light having a wavelength of 365 nm in the visual recognition unit 28 is 10% or less. Since the transmission of light having a wavelength of 365 nm in the visual recognition unit 28 is 10% or less, it is caused by the light incident from the outside to the inside of the accommodating member 22 and the photopolymerization initiator remaining in the first adhesive layer 2. It is possible to suppress the curing of the thermosetting composition. As a result, the effect of reducing the connection resistance of the adhesive film 1 can be maintained, and when the adhesive film 1 is used for connecting the circuit members, the connection resistance between the opposing electrodes can be reduced.
  • the transmittance of light having a wavelength of 365 nm in the visual recognition unit 28 is preferably 10% or less, more preferably 5% or less, still more preferably 1% or less. Particularly preferably, it is 0.1% or less.
  • the maximum value of the light transmittance in the wavelength region in which the above-mentioned photopolymerization initiator (component (B)) can generate radicals, cations or anions in the visual recognition unit 28 is preferable. It is 10% or less, more preferably 5% or less, still more preferably 1% or less, and particularly preferably 0.1% or less.
  • the maximum value of the light transmittance in the viewing unit 28 at a wavelength of 254 to 405 nm is preferably 10% or less, more preferably 5% or less, still more preferably 1% or less, and particularly preferably 0.1%. It is as follows.
  • the visual recognition portion 28 is formed of, for example, a sheet having a thickness of 10 to 5000 ⁇ m.
  • the sheet is made of a material having a transmittance of light having a wavelength of 365 nm in the visual recognition unit 28 of 10% or less.
  • a material may consist of one type of component or may consist of a plurality of types of components. Examples of the material include low-density polyethylene, linear low-density polyethylene, polycarbonate, polyester, polyacrylate, polyamide, glass and the like. These materials may contain UV absorbers.
  • the visual recognition unit 28 may have a laminated structure formed by laminating a plurality of layers having different light transmission characteristics. In this case, each layer constituting the visual recognition unit 28 may be made of the above-mentioned material.
  • the insertion port 27 may be sealed by, for example, being closed by a sealing machine or the like in order to prevent air from entering from the outside during accommodation. In this case, it is preferable to suck and remove the air in the accommodating member 22 before closing the insertion port 27. It can be expected that the humidity inside the accommodating member 22 will be reduced from the initial stage of accommodating and that air will be prevented from entering from the outside. Further, when the inner surface of the accommodating member 22 and the reel 21 are in close contact with each other, the inner surface of the accommodating member 22 and the surface of the reel 21 rub against each other due to vibration during transportation to generate foreign matter, and the side plate 24 of the reel 21 , 25 can be prevented from being scratched on the outer surface.
  • the accommodating member is configured so that the entire accommodating member serves as a visible portion, but in another embodiment, the accommodating member has a visible portion as a part of the accommodating member. May be good.
  • the accommodating member may have a rectangular visible portion substantially in the center of the side surface of the accommodating member.
  • the portion of the accommodating member other than the visible portion may be black, for example, so as not to transmit ultraviolet light and visible light.
  • the shape of the accommodating member is bag-shaped, but the accommodating member may be, for example, box-shaped.
  • the accommodating member preferably has a notch for opening. In this case, the opening work at the time of use becomes easy.
  • polyurethane acrylate (UA1) was obtained.
  • the weight average molecular weight of the polyurethane acrylate (UA1) was 15,000.
  • the weight average molecular weight was measured by gel permeation chromatography (GPC) using a standard polystyrene calibration curve according to the following conditions.
  • GPC gel permeation chromatography
  • ⁇ Making conductive particles> A layer made of nickel was formed on the surface of the polystyrene particles so that the thickness of the layer was 0.2 ⁇ m. In this way, conductive particles having an average particle size of 4 ⁇ m, a maximum particle size of 4.5 ⁇ m, and a specific gravity of 2.5 were obtained.
  • ⁇ Preparation method of polyester urethane resin 48 parts by mass of isophthalic acid and 37 parts by mass of neopentyl glycol were put into a heated stainless steel autoclave equipped with a stirrer, a thermometer, a condenser, a vacuum generator and a nitrogen gas introduction tube, and tetrabutoxytitanate as a catalyst was added. 0.02 parts by mass was charged. Then, the temperature was raised to 220 ° C. under a nitrogen stream, and the mixture was stirred as it was for 8 hours. Then, the pressure was reduced to atmospheric pressure (760 mmHg), and the mixture was cooled to room temperature. As a result, a white precipitate was precipitated.
  • polyester polyol was sufficiently dried, then dissolved in MEK (methyl ethyl ketone), and placed in a four-necked flask equipped with a stirrer, a dropping funnel, a reflux cooler and a nitrogen gas introduction tube. Further, dibutyltin laurate was added as a catalyst in an amount of 0.05 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyester polyol, and 4,4'-diphenylmethane diisocyanate in an amount of 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyester polyol was added. It was dissolved in MEK, charged with a dropping funnel, and stirred at 80 ° C. for 4 hours to obtain the desired polyester urethane resin.
  • MEK methyl ethyl ketone
  • A1 Dicyclopentadiene type diacrylate (trade name: DCP-A, manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
  • A2 Polyurethane acrylate synthesized as described above (UA1)
  • A3 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate (trade name: Light Ester P-2M, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
  • B1 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio) phenyl-, 2- (O-benzoyloxime)] (trade name: Irgacure (registered trademark) OXE01, manufactured by BASF)
  • B2 Etanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazole-3-yl]-, 1- (o-acetyloxime) (trade name: Irgacure (registered trademark) OXE02
  • thermosetting composition varnish (varnish composition)>
  • Example 1 [Preparation of the first adhesive film]
  • the varnish of the photocurable composition 1 was applied onto a PET film having a thickness of 50 ⁇ m using a coating device. Next, hot air drying was performed at 70 ° C. for 3 minutes to form a layer made of the photocurable composition 1 having a thickness (thickness after drying) of 4 ⁇ m on the PET film.
  • the thickness was measured using a contact type thickness gauge. When a contact type thickness gauge is used, the size of the conductive particles is reflected, and the thickness of the region where the conductive particles are present is measured. Therefore, after laminating the second adhesive layer to prepare an adhesive film for circuit connection having a two-layer structure, the thickness of the first adhesive layer located at the separated portion of the adjacent conductive particles is obtained by the method described later. Was measured.
  • the layer made of the photocurable composition 1 was irradiated with light using a metal halide lamp so that the integrated light amount was 1500 mJ / cm 2 , and the polymerizable compound was polymerized. As a result, the photocurable composition 1 was cured to form a first adhesive layer.
  • a first adhesive film having a first adhesive layer on the PET film thickness of the region where the conductive particles are present: 4 ⁇ m was obtained.
  • the conductive particle density at this time was about 7000 pcs / mm 2 .
  • thermosetting composition 1 The varnish of the thermosetting composition 1 was applied onto a PET film having a thickness of 50 ⁇ m using a coating device. Next, hot air drying was performed at 70 ° C. for 3 minutes to form a second adhesive layer (layer composed of the thermosetting composition 1) having a thickness of 8 ⁇ m on the PET film. By the above operation, a second adhesive film having a second adhesive layer on the PET film was obtained.
  • the first adhesive film and the second adhesive film were arranged so that their respective adhesive layers faced each other, and were laminated with a roll laminator while being heated at 40 ° C. together with a PET film as a base material.
  • a circuit connection adhesive film having a two-layer structure in which the first adhesive layer and the second adhesive layer were laminated was produced.
  • the thickness of the first adhesive layer of the produced adhesive film for circuit connection was measured by the following method. First, an adhesive film for circuit connection is sandwiched between two pieces of glass (thickness: about 1 mm), 100 g of bisphenol A type epoxy resin (trade name: JER811, manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) and a curing agent (trade name: Epomount). It was cast with a resin composition consisting of 10 g of a curing agent (manufactured by Refine Tech Co., Ltd.).
  • the cross section is polished using a polishing machine, and a scanning electron microscope (SEM, trade name: SE-8020, manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.) is used to perform the first first located at a separated portion of adjacent conductive particles.
  • SEM scanning electron microscope
  • the thickness of the adhesive layer was measured.
  • the thickness of the first adhesive layer was 2 ⁇ m.
  • the width of the glass substrate with a glass substrate (manufactured by Geomatec) is heated and pressurized at 170 ° C. and 6 MPa for 4 seconds using a heat crimping device (heating method: constant heat type, manufactured by Taiyo Kikai Co., Ltd.).
  • a circuit connection structure (connection structure) was produced by connecting over 1 mm. At the time of connection, the circuit connection adhesive film was arranged on the glass substrate so that the surface of the circuit connection adhesive film on the first adhesive layer side faced the glass substrate.
  • connection resistance value between the opposing electrodes immediately after the connection and after the high temperature and high humidity test was measured with a multimeter.
  • the high temperature and high humidity test was carried out by leaving it in a constant temperature and humidity chamber at 85 ° C. and 85% RH for 200 hours.
  • the connection resistance value was determined as the average value of 16 resistance points between the opposing electrodes.
  • Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 to 2 An adhesive film for circuit connection and a circuit connection structure were produced in the same manner as in Example 1 except that the photocurable compositions 2 to 8 were used as the photocurable composition, and the same as in Example 1. Then, the circuit connection structure was evaluated. The results are shown in Tables 3 and 4.

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Abstract

第１の接着剤層２と、該第１の接着剤層２上に積層された第２の接着剤層３と、を備え、第１の接着剤層２は光硬化性組成物の硬化物からなり、第２の接着剤層３は熱硬化性組成物からなり、光硬化性組成物は、重合性化合物と、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤と、導電粒子４と、を含有し、光重合開始剤の含有量は、光硬化性組成物中の導電粒子以外の成分の合計量を基準として、０．３～１．２質量％である、回路接続用接着剤フィルム１。

Description

回路接続用接着剤フィルム及びその製造方法、回路接続構造体の製造方法、並びに、接着剤フィルム収容セット
　本発明は、回路接続用接着剤フィルム及びその製造方法、回路接続構造体の製造方法、並びに、接着剤フィルム収容セットに関する。
　従来、回路接続を行うために各種の接着材料が使用されている。例えば、液晶ディスプレイとテープキャリアパッケージ（ＴＣＰ）との接続、フレキシブルプリント配線基板（ＦＰＣ）とＴＣＰとの接続、又はＦＰＣとプリント配線板との接続のための接着材料として、接着剤中に導電粒子が分散された異方導電性を有する回路接続用接着剤フィルムが使用されている。
　異方導電性を有する回路接続用接着剤フィルムが使用される精密電子機器の分野では、回路の高密度化が進んでおり、電極幅及び電極間隔が極めて狭くなっている。このため、微小電極上に効率良く導電粒子を捕捉させ、高い接続信頼性を得ることが必ずしも容易ではなくなっている。
　これに対し、例えば特許文献１では、導電粒子を異方導電性接着シートの片側に偏在させ、導電粒子同士を離間させる手法が提案されている。
国際公開第２００５／５４３８８号
　しかしながら、特許文献１の手法では、回路接続時に導電粒子が流動するため、電極間に導電粒子が凝集し、短絡が発生する可能性がある。また、導電粒子の流動にともなう導電粒子の粗密の分布は、絶縁特性の低下だけでなく、接続抵抗値のばらつきを生じさせる懸念もあり、未だ改良の余地がある。
　さらに、回路接続用接着剤フィルムには、回路部材の接続後、回路接続構造体が高温高湿環境下（例えば８５℃、８５％ＲＨ）で長期間使用された場合にも、回路部材から剥離しないことが求められる。
　そこで、本発明は、回路接続構造体の製造時に発生する導電粒子の流動を抑制しつつ、回路接続構造体を高温高湿環境下で使用した際に発生する、回路部材と、接着剤フィルムにより形成される回路接続部と、の界面における剥離を抑制できる回路接続用接着剤フィルム及びその製造方法、該接着剤フィルムを用いた回路接続構造体の製造方法、並びに、該接着剤フィルムを備える接着剤フィルム収容セットを提供することを目的とする。
　本発明の一側面の回路接続用接着剤フィルムは、第１の接着剤層と、該第１の接着剤層上に積層された第２の接着剤層と、を備え、第１の接着剤層は光硬化性組成物の硬化物からなり、第２の接着剤層は熱硬化性組成物からなり、光硬化性組成物は、重合性化合物と、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤と、導電粒子と、を含有し、光重合開始剤の含有量は、光硬化性組成物中の導電粒子以外の成分の合計量を基準として、０．３～１．２質量％である。
　上記側面の回路接続用接着剤フィルムによれば回路接続構造体の製造時に発生する導電粒子の流動を抑制しつつ、回路接続構造体を高温高湿環境下で使用した際に発生する、回路部材と接着剤フィルムの界面における剥離を抑制できる。このような回路接続用接着剤フィルムによれば、回路接続構造体の対向する電極間の接続抵抗を低減することができ、さらに、高温高湿環境下（例えば８５℃、８５％ＲＨ）においても低い接続抵抗を維持することができる。すなわち、この回路接続用接着剤フィルムによれば、回路接続構造体の接続信頼性を向上させることができる。
　本発明の一側面の回路接続用接着剤フィルムの製造方法は、第１の接着剤層を用意する用意工程と、第１の接着剤層上に熱硬化性組成物からなる第２の接着剤層を積層する積層工程と、を備え、用意工程は、光硬化性組成物からなる層に対して光を照射することにより光硬化性組成物を硬化させ、第１の接着剤層を得る工程を含み、光硬化性組成物は、重合性化合物と、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤と、導電粒子と、を含有し、光重合開始剤の含有量は、光硬化性組成物中の導電粒子以外の成分の合計量を基準として、０．３～１．２質量％である。この方法によれば、回路接続構造体の製造時に発生する導電粒子の流動を抑制しつつ、回路接続構造体を高温高湿環境下で使用した際に発生する、回路部材と接着剤フィルムの界面における剥離を抑制できる回路接続用接着剤フィルムを得ることができる。
　重合性化合物は、ラジカル重合性基を有するラジカル重合性化合物であってよい。
　熱硬化性組成物は、ラジカル重合性基を有するラジカル重合性化合物を含有していてよい。
　オキシムエステル構造を有する光重合開始剤は、下記式（ＶＩ）で示される構造を有する化合物であってよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 ［式（ＶＩ）中、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、又は芳香族系炭化水素基を含む有機基を示す。］
　第１の接着剤層の厚さは、導電粒子の平均粒径の０．１～０．８倍であってよい。
　本発明の一側面の回路接続構造体の製造方法は、第１の電極を有する第１の回路部材と、第２の電極を有する第２の回路部材との間に、上述した回路接続用接着剤フィルムを介在させ、第１の回路部材及び第２の回路部材を熱圧着して、第１の電極及び第２の電極を互いに電気的に接続する工程を備える。
　本発明の一側面の接着剤フィルム収容セットは、上述した回路接続用接着剤フィルムと、該接着剤フィルムを収容する収容部材と、を備え、収容部材は、収容部材の内部を外部から視認可能とする視認部を有し、視認部における波長３６５ｎｍの光の透過率が１０％以下である。
　ところで、一般に、回路接続用接着剤フィルムを使用する環境はクリーンルームと呼ばれる室内の温度、湿度、クリーン度が一定レベルで管理されている部屋であり、生産現場より出荷される際には直接外気にさらされ、塵及び湿気による品質低下を招かないように、回路接続用接着剤フィルムを梱包袋等の収容部材に収容する。通常、この収容部材には、内部の接着剤フィルムに貼り付けてある製品名、ロットナンバー、有効期限等の各種情報が収容部材の外からでも確認できるように、透明な材料で形成された視認部が設けられている。
　しかしながら、上述した回路接続用接着剤フィルムを従来の収容部材に収容して保管又は運搬した後に使用する場合、接着剤フィルムの上述した効果が得られない場合があることが本発明者らの検討により明らかになった。このような検討結果に基づき本発明者らが更に検討を行った結果、熱硬化性組成物中の重合性化合物として光硬化性組成物における光重合開始剤と反応し得る化合物を用いた場合に、接着剤フィルムの保管中及び運搬中に熱硬化性組成物が硬化し、接続抵抗の低減効果が減少することが明らかになった。そこで、本発明者らは、第１の接着剤層中に残留した光重合開始剤由来のラジカルによって熱硬化性組成物中の重合性化合物の重合が進行しているとの推察に基づき更に検討を行ったところ、上記特定の収容部材を備える接着剤フィルム収容セットとすることで、保管時又は運搬時における熱硬化性組成物の硬化を抑制することができ、接着剤フィルムの接続抵抗の低減効果を維持することができることを見出した。
　すなわち、本発明の一側面の接着剤フィルム収容セットによれば、熱硬化性組成物中の重合性化合物として光硬化性組成物中の光重合開始剤と反応し得る化合物を用いる場合において、接着剤フィルムの保管時又は運搬時における該熱硬化性組成物の硬化を抑制することができ、接着剤フィルムの接続抵抗の低減効果を維持することができる。
　本発明によれば、回路接続構造体の製造時に発生する導電粒子の流動を抑制しつつ、回路接続構造体を高温高湿環境下で使用した際に発生する、回路部材と接着剤フィルムの界面における剥離を抑制できる回路接続用接着剤フィルム及びその製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、このような接着剤フィルムを用いた回路接続構造体の製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、このような接着剤フィルムを備える接着剤フィルム収容セットを提供することができる。
図１は、本発明の一実施形態の回路接続用接着剤フィルムを示す模式断面図である。 図２は、本発明の一実施形態の回路接続構造体を示す模式断面図である。 図３は、本発明の一実施形態の回路接続構造体の製造工程を示す模式断面図である。 図４は、本発明の一実施形態の接着剤フィルム収容セットを示す斜視図である。
　以下、場合により図面を参照しつつ本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、本明細書中、「～」を用いて示された数値範囲は、「～」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。また、個別に記載した上限値及び下限値は任意に組み合わせ可能である。また、本明細書中、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート、及び、それに対応するメタクリレートの少なくとも一方を意味する。「（メタ）アクリロイル」等の他の類似の表現においても同様である。また、「（ポリ）」とは「ポリ」の接頭語がある場合とない場合の双方を意味する。
＜回路接続用接着剤フィルム＞
　図１は、一実施形態の回路接続用接着剤フィルムを示す模式断面図である。図１に示すように、回路接続用接着剤フィルム１（以下、単に「接着剤フィルム１」ともいう。）は、第１の接着剤層２と、第１の接着剤層２上に積層された第２の接着剤層３と、を備える。
（第１の接着剤層）
　第１の接着剤層２は、光硬化性組成物の硬化物（光硬化物）からなる。光硬化性組成物は、（Ａ）重合性化合物（以下、「（Ａ）成分」ともいう。）、（Ｂ）オキシムエステル構造を有する光重合開始剤（以下、「（Ｂ）成分」ともいう。）、及び（Ｃ）導電粒子４（以下、「（Ｃ）成分」ともいう。）を含有する。光硬化性組成物は、（Ｄ）熱硬化性樹脂（以下、「（Ｄ）成分」ともいう。）及び／又は（Ｅ）熱重合開始剤（以下、「（Ｅ）成分」ともいう。）を更に含有していてもよい。すなわち、光硬化性組成物は、光及び熱硬化性組成物であってよい。
　第１の接着剤層２は、例えば、光硬化性組成物からなる層に対して光エネルギーを照射することで（Ａ）成分を重合させ、光硬化性組成物を硬化させることで得られる。つまり、第１の接着剤層２は、導電粒子４と、光硬化性組成物を光硬化させてなる接着剤成分５と、からなる。接着剤成分５には、少なくとも（Ａ）成分の重合体が含まれる。接着剤成分５は、未反応の（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を含有していてもよく、含有していなくてもよい。
［（Ａ）成分：重合性化合物］
　（Ａ）成分は、例えば、光（例えば紫外光）の照射によって光重合開始剤が発生させたラジカル、カチオン又はアニオンにより重合する化合物である。（Ａ）成分は、モノマー、オリゴマー又はポリマーのいずれであってもよい。（Ａ）成分として、一種の化合物を単独で用いてよく、複数種の化合物を組み合わせて用いてもよい。
　（Ａ）成分は、少なくとも一つの重合性基を有する。重合性基は、接続抵抗の低減効果が更に向上し、接続信頼性により優れる観点から、ラジカルにより反応するラジカル重合性基であることが好ましい。すなわち、（Ａ）成分は、ラジカル重合性化合物であることが好ましい。ラジカル重合性基としては、例えば、ビニル基、アリル基、スチリル基、アルケニル基、アルケニレン基、（メタ）アクリロイル基、マレイミド基等が挙げられる。（Ａ）成分が有する重合性基の数は、重合後、接続抵抗を低減するために必要な物性及び架橋密度が得られやすい観点から、２以上であってよく、重合時の硬化収縮を抑える観点から、１０以下であってよい。これらの観点から、（Ａ）成分が有する重合性基の数は、２～１０であってよい。重合時の硬化収縮を抑えることは、光照射後に、均一で安定した膜（第１の接着剤層）が得られる点で好ましい。本実施形態では、架橋密度と硬化収縮とのバランスをとるために、重合性基の数が上記範囲内の重合性化合物を使用した上で、重合性基の数が上記範囲外の重合性化合物を追加で使用してもよい。
　（Ａ）成分の具体例としては、（メタ）アクリレート化合物、マレイミド化合物、ビニルエーテル化合物、アリル化合物、スチレン誘導体、アクリルアミド誘導体、ナジイミド誘導体、天然ゴム、イソプレンゴム、ブチルゴム、ニトリルゴム、ブタジエンゴム、スチレン－ブタジエンゴム、アクリロニトリル－ブタジエンゴム、カルボキシル化ニトリルゴム等が挙げられる。
　（メタ）アクリレート化合物としては、エポキシ（メタ）アクリレート、（ポリ）ウレタン（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリブタジエン（メタ）アクリレート、シリコーンアクリレート、エチル（メタ）アクリレート、２－シアノエチル（メタ）アクリレート、２－（２－エトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、２－エトキシエチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ－ヘキシル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ｎ－ラウリル（メタ）アクリレート、２－メトキシエチル（メタ）アクリレート、２－フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリール（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイロキシエチルフォスフェート、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性２官能（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性３官能（メタ）アクリレート、トリシクロデカニルアクリレート、ジメチロール－トリシクロデカンジアクリレート、２－ヒドロキシ－１，３－ジアクリロキシプロパン、２，２－ビス［４－（アクリロキシメトキシ）フェニル］プロパン、２，２－ビス［４－（アクリロキシポリエトキシ）フェニル］プロパン、２，２－ジ（メタ）アクリロイロキシジエチルフォスフェート、２－（メタ）アクリロイロキシエチルアシッドフォスフェート等が挙げられる。
　マレイミド化合物としては、１－メチル－２，４－ビスマレイミドベンゼン、Ｎ，Ｎ’－ｍ－フェニレンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’－ｐ－フェニレンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’－ｍ－トルイレンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’－４，４－ビフェニレンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’－４，４－（３，３’－ジメチル－ビフェニレン）ビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’－４，４－（３，３’－ジメチルジフェニルメタン）ビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’－４，４－（３，３’－ジエチルジフェニルメタン）ビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’－４，４－ジフェニルメタンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’－４，４－ジフェニルプロパンビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’－４，４－ジフェニルエーテルビスマレイミド、Ｎ，Ｎ’－３，３－ジフェニルスルホンビスマレイミド、２，２－ビス（４－（４－マレイミドフェノキシ）フェニル）プロパン、２，２－ビス（３－ｓ－ブチル－４－８（４－マレイミドフェノキシ）フェニル）プロパン、１，１－ビス（４－（４－マレイミドフェノキシ）フェニル）デカン、４，４’－シクロヘキシリデン－ビス（１－（４マレイミドフェノキシ）－２－シクロヘキシル）ベンゼン、２，２’－ビス（４－（４－マレイミドフェノキシ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン等が挙げられる。
　ビニルエーテル化合物としては、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等が挙げられる。
　アリル化合物としては、１，３－ジアリルフタレート、１，２－ジアリルフタレート、トリアリルイソシアヌレート等が挙げられる。
　（Ａ）成分は、硬化反応速度と硬化後の物性とのバランスに優れる観点から、（メタ）アクリレート化合物であることが好ましい。（Ａ）成分は、接続抵抗を低減させるための凝集力と、接着力を向上させるための伸びを両立し、より優れた接着特性を得る観点から、（ポリ）ウレタン（メタ）アクリレート化合物であってよい。また、（Ａ）成分は、凝集力を向上させ、接続抵抗をより低減させる観点から、ジシクロペンタジエン骨格等の高Ｔｇ骨格を有する（メタ）アクリレート化合物であってよい。
　（Ａ）成分は、架橋密度と硬化収縮とのバランスをとり、接続抵抗をより低減させ、接続信頼性を向上させる観点から、アクリル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の熱可塑性樹脂の末端又は側鎖にビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基等の重合性基を導入した化合物（例えば、ポリウレタン（メタ）アクリレート）であってよい。この場合、（Ａ）成分の重量平均分子量は、架橋密度と硬化収縮とのバランスに優れる観点から、３０００以上であってよく、５０００以上であってよく、１万以上であってよい。また、（Ａ）成分の重量平均分子量は、他成分との相溶性に優れる観点から、１００万以下であってよく、５０万以下であってよく、２５万以下であってよい。これらの観点から、（Ａ）成分の重量平均分子量は、３０００～１００万であってよく、５０００～５０万であってよく、１万～２５万であってよい。なお、重量平均分子量は、実施例に記載の条件に従って、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）より標準ポリスチレンによる検量線を用いて測定した値をいう。
　（Ａ）成分は、（メタ）アクリレート化合物として、下記式（１）で示されるリン酸エステル構造を有するラジカル重合性化合物を含むことが好ましい。この場合、無機物（金属等）の表面に対する接着強度が向上するため、電極同士（例えば回路電極同士）の接着に好適である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　式（１）中、ｎは１～３の整数を示し、Ｒは、水素原子又はメチル基を示す。
　上記リン酸エステル構造を有するラジカル重合性化合物は、例えば、無水リン酸と２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとを反応させることにより得られる。リン酸エステル構造を有するラジカル重合性化合物の具体例としては、モノ（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）アシッドフォスフェート、ジ（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）アシッドフォスフェート等が挙げられる。
　（Ａ）成分の含有量は、接続抵抗を低減し、接続信頼性を向上させるために必要な架橋密度が得られやすい観点から、光硬化性組成物中の導電粒子以外の成分の合計量を基準として、５質量％以上であってよく、１０質量％以上であってよく、２０質量％以上であってよい。（Ａ）成分の含有量は、重合時の硬化収縮を抑える観点から、光硬化性組成物中の導電粒子以外の成分の合計量を基準として、９０質量％以下であってよく、８０質量％以下であってよく、７０質量％以下であってよい。これらの観点から、（Ａ）成分の含有量は、光硬化性組成物中の導電粒子以外の成分の合計量を基準として、５～９０質量％であってよく、１０～８０質量％であってよく、２０～７０質量％であってよい。
［（Ｂ）成分：光重合開始剤］
　光硬化性組成物は、（Ｂ）成分として、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤を含有する。
　光重合開始剤は、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤を複数有していてよい。（Ｂ）成分として、一種の化合物を単独で用いてよく、複数種の化合物を組み合わせて用いてもよい。
　オキシムエステル構造を有する化合物としては、下記式（ＶＩ）で示される構造を有する化合物が好ましく用いられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　式（ＶＩ）中、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、又は芳香族系炭化水素基を含む有機基を示す。
　オキシムエステル構造を有する化合物の具体例としては、１－フェニル－１，２－ブタンジオン－２－（ｏ－メトキシカルボニル）オキシム、１－フェニル－１，２－プロパンジオン－２－（ｏ－メトキシカルボニル）オキシム、１－フェニル－１，２－プロパンジオン－２－（ｏ－エトキシカルボニル）オキシム、１－フェニル－１，２－プロパンジオン－２－ｏ－ベンゾイルオキシム、１，３－ジフェニルプロパントリオン－２－（ｏ－エトキシカルボニル）オキシム、１－フェニル－３－エトキシプロパントリオン－２－（ｏ－ベンゾイル）オキシム、１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）フェニル－，２－（ｏ－ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（ｏ－アセチルオキシム）等が挙げられる。
　オキシムエステル構造を有する光重合開始剤の含有量は、導電粒子の流動抑制効果が更に向上する観点から、光硬化性組成物中の導電粒子以外の成分の合計量を基準として、０．３質量％以上であり、好ましくは０．４５質量％以上であり、より好ましくは０．５５質量％以上であり、更に好ましくは０．８５質量％以上である。オキシムエステル構造を有する光重合開始剤の含有量は、剥離の抑制効果が更に向上する観点から、光硬化性組成物中の導電粒子以外の成分の合計量を基準として、１．２質量％以下であり、好ましくは０．９質量％以下であり、より好ましくは０．６質量％以下である。これらの観点から、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤の含有量は、光硬化性組成物中の導電粒子以外の成分の合計量を基準として、０．３～１．２質量％であり、好ましくは０．４５～０．９質量％であり、より好ましくは０．４５～０．６質量％である。
　光硬化性組成物は、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤に加えて、α－アミノアルキルフェノン構造、アミノベンゾフェノン構造、Ｎ－フェニルグリシン構造、アシルフォスフィンオキサイド構造、ベンジルジメチルケタール構造、α－ヒドロキシアルキルフェノン構造等の構造を有する光重合開始剤を更に含有していてもよい。
　光重合開始剤の含有量の合計は、導電粒子の流動抑制効果が更に向上する観点から、光硬化性組成物中の導電粒子以外の成分の合計量を基準として、０．３質量％以上であり、好ましくは０．４５質量％以上であり、より好ましくは０．５５質量％以上であり、更に好ましくは０．８５質量％以上である。（Ｂ）成分の含有量は、剥離の抑制効果が更に向上する観点から、光硬化性組成物中の導電粒子以外の成分の合計量を基準として、好ましくは１．２質量％以下であり、より好ましくは０．９質量％以下であり、更に好ましくは０．６質量％以下である。これらの観点から、（Ｂ）成分の含有量は、光硬化性組成物中の導電粒子以外の成分の合計量を基準として、好ましくは０．３～１．２質量％であり、より好ましくは０．４５～０．９質量％であり、更に好ましくは０．４５～０．６質量％である。
［（Ｃ）成分：導電粒子］
　（Ｃ）成分は、導電性を有する粒子であれば特に制限されず、Ａｕ、Ａｇ、Ｎｉ、Ｃｕ、はんだ等の金属で構成された金属粒子、導電性カーボンで構成された導電性カーボン粒子などであってよい。（Ｃ）成分は、非導電性のガラス、セラミック、プラスチック（ポリスチレン等）などを含む核と、上記金属又は導電性カーボンを含み、核を被覆する被覆層とを備える被覆導電粒子であってもよい。これらの中でも、熱溶融性の金属で形成された金属粒子、又はプラスチックを含む核と、金属又は導電性カーボンを含み、核を被覆する被覆層とを備える被覆導電粒子が好ましく用いられる。この場合、光硬化性組成物の硬化物を加熱又は加圧により変形させることが容易であるため、電極同士を電気的に接続する際に、電極と（Ｃ）成分との接触面積を増加させ、電極間の導電性をより向上させることができる。
　（Ｃ）成分は、上記の金属粒子、導電性カーボン粒子又は被覆導電粒子と、樹脂等の絶縁材料を含み、該粒子の表面を被覆する絶縁層とを備える絶縁被覆導電粒子であってもよい。（Ｃ）成分が絶縁被覆導電粒子であると、（Ｃ）成分の含有量が多い場合であっても、粒子の表面が樹脂で被覆されているため、（Ｃ）成分同士の接触による短絡の発生を抑制でき、また、隣り合う電極回路間の絶縁性を向上させることもできる。（Ｃ）成分は、上述した各種導電粒子の１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
　（Ｃ）成分の最大粒径は、電極の最小間隔（隣り合う電極間の最短距離）よりも小さいことが必要である。（Ｃ）成分の最大粒径は、分散性及び導電性に優れる観点から、１．０μｍ以上であってよく、２．０μｍ以上であってよく、２．５μｍ以上であってよい。（Ｃ）成分の最大粒径は、分散性及び導電性に優れる観点から、５０μｍ以下であってよく、３０μｍ以下であってよく、２０μｍ以下であってよい。これらの観点から、（Ｃ）成分の最大粒径は、１．０～５０μｍであってよく、２．０～３０μｍであってよく、２．５～２０μｍであってよい。本明細書では、任意の導電粒子３００個（ｐｃｓ）について、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いた観察により粒径の測定を行い、得られた最も大きい値を（Ｃ）成分の最大粒径とする。なお、（Ｃ）成分が突起を有するなどの球形ではない場合、（Ｃ）成分の粒径は、ＳＥＭの画像における導電粒子に外接する円の直径とする。
　（Ｃ）成分の平均粒径は、分散性及び導電性に優れる観点から、１．０μｍ以上であってよく、２．０μｍ以上であってよく、２．５μｍ以上であってよい。（Ｃ）成分の平均粒径は、分散性及び導電性に優れる観点から、５０μｍ以下であってよく、３０μｍ以下であってよく、２０μｍ以下であってよい。これらの観点から、（Ｃ）成分の平均粒径は、１．０～５０μｍであってよく、２．０～３０μｍであってよく、２．５～２０μｍであってよい。本明細書では、任意の導電粒子３００個（ｐｃｓ）について、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いた観察により粒径の測定を行い、得られた粒径の平均値を平均粒径とする。
　第１の接着剤層２において、（Ｃ）成分は均一に分散されていることが好ましい。第１の接着剤層２における（Ｃ）成分の粒子密度は、安定した接続抵抗が得られやすい観点から、１００ｐｃｓ／ｍｍ２以上であってよく、１０００ｐｃｓ／ｍｍ２以上であってよく、２０００ｐｃｓ／ｍｍ２以上であってよい。第１の接着剤層２における（Ｃ）成分の粒子密度は、隣り合う電極間の絶縁性を向上させる観点から、１０００００ｐｃｓ／ｍｍ２以下であってよく、５００００ｐｃｓ／ｍｍ２以下であってよく、１００００ｐｃｓ／ｍｍ２以下であってよい。これらの観点から、第１の接着剤層２における（Ｃ）成分の粒子密度は、１００～１０００００ｐｃｓ／ｍｍ２であってよく、１０００～５００００ｐｃｓ／ｍｍ２であってよく、２０００～１００００ｐｃｓ／ｍｍ２であってよい。
　（Ｃ）成分の含有量は、導電性をより向上させることができる観点から、第１の接着剤層中の全体積基準で、０．１体積％以上であってよく、１体積％以上であってよく、５体積％以上であってよい。（Ｃ）成分の含有量は、短絡を抑制しやすい観点から、第１の接着剤層中の全体積基準で、５０体積％以下であってよく、３０体積％以下であってよく、２０体積％以下であってよい。これらの観点から、（Ｃ）成分の含有量は、第１の接着剤層中の全体積基準で、０．１～５０体積％であってよく、１～３０体積％であってよく、５～２０体積％であってよい。なお、光硬化性組成物の全体積を基準とした（Ｃ）成分の含有量は上記範囲と同じであってよい。
［（Ｄ）成分：熱硬化性樹脂］
　（Ｄ）成分は、熱により硬化する樹脂であり、少なくとも一つの熱硬化性基を有する。（Ｄ）成分は、例えば、熱によって硬化剤と反応することにより架橋する化合物である。（Ｄ）成分として一種の化合物を単独で用いてよく、複数種の化合物を組み合わせて用いてもよい。
　熱硬化性基は、接続抵抗の低減効果が更に向上し、接続信頼性により優れる観点から、例えば、エポキシ基、オキセタン基等であってよい。
　（Ｄ）成分の具体例としては、エピクロルヒドリンと、ビスフェノールＡ、Ｆ、ＡＤ等と、の反応生成物であるビスフェノール型エポキシ樹脂、エピクロルヒドリンと、フェノールノボラック、クレゾールノボラック等との反応生成物であるエポキシノボラック樹脂、ナフタレン環を含んだ骨格を有するナフタレン系エポキシ樹脂、グリシジルアミン、グリシジルエーテル等の１分子内に２個以上のグリシジル基を有する各種のエポキシ化合物などのエポキシ樹脂が挙げられる。
　（Ｄ）成分の含有量は、第１の接着剤層中の導電粒子以外の成分の合計量を基準として、３０質量％以上であってよく、７０質量％以下であってよく、３０～７０質量％であってよい。
　第１の接着剤層が熱硬化性樹脂を含む場合、第１の接着剤層は、熱硬化性樹脂を硬化させるために用いられる硬化剤を更に含有していてよい。硬化剤としては、熱によりカチオン種を発生する硬化剤であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。硬化剤としては、例えば、スルホニウム塩、ヨードニウム塩等が挙げられる。硬化剤の含有量は、例えば、熱硬化性樹脂１００質量部に対して、０．１質量部以上であってよく、５０質量部以下であってよく、０．１～５０質量部であってよい。
［（Ｅ）成分：熱重合開始剤］
　（Ｅ）成分は、熱によりラジカル、カチオン又はアニオンを発生する熱重合開始剤（熱ラジカル重合開始剤、熱カチオン重合開始剤又は熱アニオン重合開始剤）であってよく、接続抵抗の低減効果が更に向上し、接続信頼性により優れる観点から、熱ラジカル重合開始剤であることが好ましい。（Ｅ）成分として、一種の化合物を単独で用いてよく、複数種の化合物を組み合わせて用いてもよい。
　熱ラジカル重合開始剤は、熱により分解して遊離ラジカルを発生する。つまり、熱ラジカル重合開始剤は、外部からの熱エネルギーの付与によりラジカルを発生する化合物である。熱ラジカル重合開始剤としては、従来から知られている有機過酸化物及びアゾ化合物から任意に選択することができる。熱ラジカル重合開始剤としては、導電粒子の流動抑制効果、及び、剥離の抑制効果が更に向上する観点から、有機過酸化物が好ましく、安定性、反応性及び相溶性の観点から、１分間半減期温度が９０～１７５℃であり、且つ、重量平均分子量が１８０～１０００の有機過酸化物がより好ましい。１分間半減期温度がこの範囲にあることで、貯蔵安定性に更に優れ、ラジカル重合性も充分に高く、短時間で硬化できる。
　（Ｅ）成分の具体例としては、１，１，３，３－テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、ジ（４－ｔ－ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ（２－エチルヘキシル）パーオキシジカーボネート、クミルパーオキシネオデカノエート、ジラウロイルパーオキサイド、１－シクロヘキシル－１－メチルエチルパーオキシネオデカノエート、ｔ－ヘキシルパーオキシネオデカノエート、ｔ－ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ－ブチルパーオキシピバレート、１，１，３，３－テトラメチルブチルパーオキシ－２－エチルヘキサノエート、２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ－ヘキシルパーオキシ－２－エチルヘキサノエート、ｔ－ブチルパーオキシ－２－エチルヘキサノエート、ｔ－ブチルパーオキシネオヘプタノエート、ｔ－アミルパーオキシ－２－エチルヘキサノエート、ジ－ｔ－ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、ｔ－アミルパーオキシ－３，５，５－トリメチルヘキサノエート、３－ヒドロキシ－１，１－ジメチルブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ－アミルパーオキシネオデカノエート、ジ（３－メチルベンゾイル）パーオキサイド、ジベンゾイルパーオキサイド、ジ（４－メチルベンゾイル）パーオキサイド、ｔ－ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ－ブチルパーオキシマレイン酸、ｔ－ブチルパーオキシ－３，５，５－トリメチルヘキサノエート、ｔ－ブチルパーオキシラウレート、２，５－ジメチル－２，５－ジ（３－メチルベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ－ブチルパーオキシ－２－エチルヘキシルモノカーボネート、ｔ－ヘキシルパーオキシベンゾエート、２，５－ジメチル－２，５－ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ－ブチルパーオキシベンゾエート、ジブチルパーオキシトリメチルアジペート、ｔ－アミルパーオキシノルマルオクトエート、ｔ－アミルパーオキシイソノナノエート、ｔ－アミルパーオキシベンゾエート等の有機過酸化物；２，２’－アゾビス－２，４－ジメチルバレロニトリル、１，１’－アゾビス（１－アセトキシ－１－フェニルエタン）、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル、２，２’－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）、４，４’－アゾビス（４－シアノバレリン酸）、１，１’－アゾビス（１－シクロヘキサンカルボニトリル）等のアゾ化合物などが挙げられる。
　（Ｅ）成分の含有量は、速硬化性に優れる観点、並びに、導電粒子の流動抑制効果、及び、剥離の抑制効果が更に向上する観点から、第１の接着剤層中の導電粒子以外の成分の合計量を基準として、０．１質量％以上であってよく、０．５質量％以上であってよく、１質量％以上であってよい。（Ｅ）成分の含有量は、ポットライフの観点から、第１の接着剤層中の導電粒子以外の成分の合計量を基準として、２０質量％以下であってよく、１０質量％以下であってよく、５質量％以下であってよい。これらの観点から、（Ｅ）成分の含有量は、第１の接着剤層中の導電粒子以外の成分の合計量を基準として、０．１～２０質量％であってよく、０．５～１０質量％であってよく、１～５質量％であってよい。第１の接着剤層２は、（Ｅ）成分を含有していなくてもよい。なお、光硬化性組成物中の導電粒子以外の成分の合計量を基準とした（Ｅ）成分の含有量は上記範囲と同じであってよい。
［その他の成分］
　光硬化性組成物は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、（Ｄ）成分及び（Ｅ）成分以外のその他の成分を更に含有していてよい。その他の成分としては、例えば、熱可塑性樹脂、カップリング剤、充填材及び上述した硬化剤が挙げられる。これらの成分は、第１の接着剤層２に含有されていてもよい。
　熱可塑性樹脂としては、例えば、フェノキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステルウレタン樹脂、アクリルゴム等が挙げられる。光硬化性組成物が熱可塑性樹脂を含有する場合、第１の接着剤層を容易に形成することができる。また、光硬化性組成物が熱可塑性樹脂を含有する場合、光硬化性組成物の硬化時に発生する、第１の接着剤層の応力を緩和することができる。また、熱可塑性樹脂が水酸基等の官能基を有する場合、第１の接着剤層の接着性が向上しやすい。熱可塑性樹脂の含有量は、例えば、光硬化性組成物中の導電粒子以外の成分の合計量を基準として、５質量％以上であってよく、８０質量％以下であってよく、５～８０質量％であってよい。
　カップリング剤としては、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、アミノ基、イミダゾール基、エポキシ基等の有機官能基を有するシランカップリング剤、テトラアルコキシシラン等のシラン化合物、テトラアルコキシチタネート誘導体、ポリジアルキルチタネート誘導体などが挙げられる。光硬化性組成物がカップリング剤を含有する場合、接着性を更に向上することができる。カップリング剤の含有量は、例えば、光硬化性組成物中の導電粒子以外の成分の合計量を基準として、０．１質量％以上であってよく、２０質量％以下であってよく、０．１～２０質量％であってよい。
　充填材としては、例えば、非導電性のフィラー（例えば、非導電粒子）が挙げられる。光硬化性組成物が充填材を含有する場合、接続信頼性の向上が更に期待できる。充填材は、無機フィラー及び有機フィラーのいずれであってもよい。無機フィラーとしては、例えば、シリカ微粒子、アルミナ微粒子、シリカ－アルミナ微粒子、チタニア微粒子、ジルコニア微粒子等の金属酸化物微粒子；窒化物微粒子などの無機微粒子が挙げられる。有機フィラーとしては、例えば、シリコーン微粒子、メタクリレート－ブタジエン－スチレン微粒子、アクリル－シリコーン微粒子、ポリアミド微粒子、ポリイミド微粒子などの有機微粒子が挙げられる。これらの微粒子は、均一な構造を有していてもよく、コア－シェル型構造を有していてもよい。充填材の最大径は、導電粒子４の最小粒径未満であることが好ましい。充填材の含有量は、例えば、光硬化性組成物の全体積を基準として、１体積％以上であってよく、３０体積％以下であってよく、１～３０体積％であってよい。
　光硬化性組成物は、軟化剤、促進剤、劣化防止剤、着色剤、難燃化剤、チキソトロピック剤等のその他の添加剤を含有していてもよい。これらの添加剤の含有量は、光硬化性組成物中の導電粒子以外の成分の合計量を基準として、例えば０．１～１０質量％であってよい。これらの添加剤は、第１の接着剤層２に含有されていてもよい。
　第１の接着剤層２は、未反応の（Ｂ）成分を含んでいてもよい。本実施形態の接着剤フィルム１を従来の収容部材に収容して保管及び運搬を行った場合、第１の接着剤層２に未反応の（Ｂ）成分が残留することにより、保管中及び運搬中において、第２の接着剤層３における熱硬化性組成物の一部が硬化し、接着剤フィルム１の接続抵抗の低減効果が減少すると推察される。そのため、第１の接着剤層２が（Ｂ）成分を含む場合、後述の収容部材に接着剤フィルム１を収容することで、接続抵抗の低減効果の減少を防止し得る。
　第１の接着剤層２の厚さｄ１は、導電粒子４が対向する電極間で捕捉されやすくなり、接続抵抗を一層低減できる観点から、導電粒子４の平均粒径の０．１倍以上であってよく、０．２倍以上であってよく、０．３倍以上であってよい。第１の接着剤層２の厚さｄ１は、熱圧着時に導電粒子が対向する電極間ではさまれた際に、より導電粒子が潰れやすくなり、接続抵抗を一層低減できる観点から、導電粒子４の平均粒径の０．８倍以下であってよく、０．７倍以下であってよい。これらの観点から、第１の接着剤層２の厚さｄ１は、導電粒子４の平均粒径の０．１～０．８倍であってよく、０．２～０．８倍であってよく、０．３～０．７倍であってよい。なお、第１の接着剤層２の厚さｄ１は、隣り合う導電粒子４，４の離間部分に位置する第１の接着剤層の厚さをいう。
　第１の接着剤層２の厚さｄ１と導電粒子４の平均粒径とが上記のような関係を満たす場合、例えば、図１に示すように、第１の接着剤層２中の導電粒子４の一部が、第１の接着剤層２から第２の接着剤層３側に突出していてよい。この場合、隣り合う導電粒子４，４の離間部分には、第１の接着剤層２と第２の接着剤層３との境界Ｓが位置している。導電粒子の表面を沿うように導電粒子上に境界Ｓが存在することにより、第１の接着剤層２中の導電粒子４が第１の接着剤層２から第２の接着剤層３側に突出することなく、上記の関係を満たしていてもよい。導電粒子４は、第１の接着剤層２における第２の接着剤層３側とは反対側の面２ａには露出しておらず、反対側の面２ａは平坦面となっていてよい。第１の接着剤層２の厚さｄ１と導電粒子４の最大粒径との関係は、上記と同様であってよい。例えば、第１の接着剤層２の厚さｄ１は、導電粒子４の最大粒径の０．１～０．８倍であってよく、０．２～０．８倍であってよく、０．３～０．７倍であってよい。
　第１の接着剤層２の厚さｄ１は、接着する回路部材の電極の高さ等に応じて適宜設定してよい。第１の接着剤層２の厚さｄ１は、例えば、０．５μｍ以上であってよく、２０μｍ以下であってよく、０．５～２０μｍであってよい。なお、導電粒子４の一部が第１の接着剤層２の表面から露出（例えば、第２の接着剤層３側に突出）している場合、第１の接着剤層２における第２の接着剤層３側とは反対側の面２ａから、隣り合う導電粒子４，４の離間部分に位置する第１の接着剤層２と第２の接着剤層３との境界Ｓまでの最短距離（図１においてｄ１で示す距離）が第１の接着剤層２の厚さであり、導電粒子４の露出部分は第１の接着剤層２の厚さには含まれない。導電粒子４の露出部分の長さは、例えば、０．１μｍ以上であってよく、２０μｍ以下であってよく、０．１～２０μｍであってよい。
　接着剤層の厚さは、以下の方法により測定することができる。まず、接着剤フィルムを２枚のガラス（厚み：１ｍｍ程度）で挟み込む。次いで、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（商品名：ＪＥＲ８１１、三菱ケミカル株式会社製）１００ｇと、硬化剤（商品名：エポマウント硬化剤、リファインテック株式会社製）１０ｇとからなる樹脂組成物で注型する。その後、研磨機を用いて断面研磨を行い、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ、商品名：ＳＥ－８０２０、株式会社日立ハイテクサイエンス製）を用いて各接着剤層の厚さを測定する。
（第２の接着剤層）
　第２の接着剤層３は、例えば、（ａ）重合性化合物（以下、（ａ）成分ともいう。）及び（ｂ）熱重合開始剤（以下、（ｂ）成分ともいう。）を含有する熱硬化性組成物からなる。第２の接着剤層３を構成する熱硬化性組成物は、回路接続時に流動可能な熱硬化性組成物であり、例えば、未硬化の熱硬化性組成物である。
［（ａ）成分：重合性化合物］
　（ａ）成分は、例えば、熱によって熱重合開始剤が発生させたラジカル、カチオン又はアニオンにより重合する化合物である。（ａ）成分としては、（Ａ）成分として例示した化合物を用いることができる。（ａ）成分は、低温短時間での接続が容易となり、接続抵抗の低減効果が更に向上し、接続信頼性により優れる観点から、ラジカルにより反応するラジカル重合性基を有するラジカル重合性化合物であることが好ましい。（ａ）成分における好ましいラジカル重合性化合物の例及び好ましいラジカル重合性化合物の組み合わせは、（Ａ）成分と同様である。（ａ）成分がラジカル重合性化合物であり、且つ、第１の接着剤層における（Ｂ）成分が光ラジカル重合開始剤である場合、接着剤フィルムを後述する収容部材に収容することで、接着剤フィルムの保管時又は運搬時における熱硬化性組成物の硬化が顕著に抑制される傾向がある。
　（ａ）成分はモノマー、オリゴマー又はポリマーのいずれであってもよい。（ａ）成分として、一種の化合物を単独で用いてよく、複数種の化合物を組み合わせて用いてもよい。（ａ）成分は、（Ａ）成分と同一であっても異なっていてもよい。
　（ａ）成分の含有量は、接続抵抗を低減し、接続信頼性を向上させるために必要な架橋密度が得られやすい観点から、熱硬化性組成物の全質量基準で、１０質量％以上であってよく、２０質量％以上であってよく、３０質量％以上であってよい。（ａ）成分の含有量は、重合時の硬化収縮を抑えることができ、良好な信頼性が得られる観点から、熱硬化性組成物の全質量基準で、９０質量％以下であってよく、８０質量％以下であってよく、７０質量％以下であってよい。これらの観点から、（ａ）成分の含有量は、熱硬化性組成物の全質量基準で、１０～９０質量％であってよく、２０～８０質量％であってよく、３０～７０質量％であってよい。
［（ｂ）成分：熱重合開始剤］
　（ｂ）成分としては、（Ｅ）成分と同様の熱重合開始剤を用いることができる。（ｂ）成分として、一種の化合物を単独で用いてよく、複数種の化合物を組み合わせて用いてもよい。（ｂ）成分は、熱ラジカル重合開始剤であることが好ましい。（ｂ）成分における好ましい熱ラジカル重合開始剤の例は、（Ｅ）成分と同様である。
　（ｂ）成分の含有量は、接続抵抗の低減効果が更に向上し、接続信頼性により優れる観点から、熱硬化性組成物の全質量基準で、０．１質量％以上であってよく、０．５質量％以上であってよく、１質量％以上であってよい。（ｂ）成分の含有量は、ポットライフの観点から、熱硬化性組成物の全質量基準で、３０質量％以下であってよく、２０質量％以下であってよく、１０質量％以下であってよい。これらの観点から、（ｂ）成分の含有量は、熱硬化性組成物の全質量基準で、０．１～３０質量％であってよく、０．５～２０質量％であってよく、１～１０質量％であってよい。
［その他の成分］
　熱硬化性組成物は、（ａ）成分及び（ｂ）成分以外のその他の成分を更に含有していてよい。その他の成分としては、例えば、熱可塑性樹脂、カップリング剤、充填材、軟化剤、促進剤、劣化防止剤、着色剤、難燃化剤、チキソトロピック剤等が挙げられる。その他の成分の詳細は、第１の接着剤層２におけるその他の成分の詳細と同じである。
　熱硬化性組成物は、（ａ）成分及び（ｂ）成分に代えて、又は、（ａ）成分及び（ｂ）成分に加えて、上述した（Ｄ）成分と同様の熱硬化性樹脂を含有していてもよい。この場合、熱硬化性組成物は、上述した熱硬化性樹脂を硬化するために用いられる硬化剤を含有していてもよい。（ａ）成分及び（ｂ）成分に代えて熱硬化性樹脂を用いる場合、熱硬化性組成物における熱硬化性樹脂の含有量は、例えば、熱硬化性組成物の全質量を基準として、２０質量％以上であってよく、８０質量％以下であってよく、２０～８０質量％であってよい。（ａ）成分及び（ｂ）成分に加えて熱硬化性樹脂を用いる場合、熱硬化性組成物における熱硬化性樹脂の含有量は、例えば、熱硬化性組成物の全質量を基準として、２０質量％以上であってよく、８０質量％以下であってよく、２０～８０質量％であってよい。硬化剤の含有量は、光硬化性組成物における硬化剤の含有量として記載した範囲と同じであってよい。
　第２の接着剤層３における導電粒子４の含有量は、例えば、第２の接着剤層の全質量基準で、１質量％以下であってよく、０質量％であってもよい。第２の接着剤層３は、導電粒子４を含まないことが好ましい。
　第２の接着剤層３の厚さｄ２は、接着する回路部材の電極の高さ等に応じて適宜設定してよい。第２の接着剤層３の厚さｄ２は、電極間のスペースを充分に充填して電極を封止することができ、より良好な接続信頼性が得られる観点から、５μｍ以上であってよく、２００μｍ以下であってよく、５～２００μｍであってよい。なお、導電粒子４の一部が第１の接着剤層２の表面から露出（例えば、第２の接着剤層３側に突出）している場合、第２の接着剤層３における第１の接着剤層２側とは反対側の面３ａから、隣り合う導電粒子４，４の離間部分に位置する第１の接着剤層２と第２の接着剤層３との境界Ｓまでの距離（図１においてｄ２で示す距離）が第２の接着剤層３の厚さである。
　第２の接着剤層３の厚さｄ２に対する第１の接着剤層２の厚さｄ１の比（第１の接着剤層２の厚さｄ１／第２の接着剤層３の厚さｄ２）は、電極間のスペースを充分に充填して電極を封止することができ、より良好な信頼性が得られる観点から、１以上であってよく、１００以下であってよい。
　接着剤フィルム１の厚さ（接着剤フィルム１を構成するすべての層の厚さの合計。図１においては、第１の接着剤層２の厚さｄ１及び第２の接着剤層３の厚さｄ２の合計。）は、例えば５μｍ以上であってよく、２００μｍ以下であってよく、５～２００μｍであってよい。
　接着剤フィルム１では、導電粒子４が第１の接着剤層２中に分散されている。そのため、接着剤フィルム１は、異方導電性を有する異方導電性接着剤フィルムである。接着剤フィルム１は、第１の電極を有する第１の回路部材と、第２の電極を有する第２の回路部材との間に介在させ、第１の回路部材及び第２の回路部材を熱圧着して、第１の電極及び第２の電極を互いに電気的に接続するために用いられる。
　接着剤フィルム１によれば、回路接続構造体の製造時に発生する導電粒子の流動を抑制しつつ、回路接続構造体を高温高湿環境下で使用した際に発生する、回路部材と、接着剤フィルムにより形成される回路接続部と、の界面における剥離を抑制できる。
　以上、本実施形態の回路接続用接着剤フィルムについて説明したが、本発明は上記実施形態に限定されない。
　例えば、回路接続用接着剤フィルムは、第１の接着剤層及び第２の接着剤層の二層から構成されるものであってよく、第１の接着剤層及び第２の接着剤層以外の層（例えば第３の接着剤層）を備える、三層以上の層から構成されるものであってもよい。第３の接着剤層は、第１の接着剤層又は第２の接着剤層について上述した組成と同様の組成を有する層であってよく、第１の接着剤層又は第２の接着剤層について上述した厚さと同様の厚さを有する層であってよい。回路接続用接着剤フィルムは、例えば、第１の接着剤層における第２の接着剤層の反対側の面上に第３の接着剤層を更に備えていてよい。すなわち、回路接続用接着剤フィルムは、例えば、第２の接着剤層、第１の接着剤層及び第３の接着剤層がこの順で積層されてなる。この場合、第３の接着剤層は、例えば、第２の接着剤層と同様に熱硬化性組成物からなる。
　また、上記実施形態の回路接続用接着剤フィルムは、異方導電性を有する異方導電性接着剤フィルムであるが、回路接続用接着剤フィルムは、異方導電性を有していない導電性接着剤フィルムであってもよい。
＜回路接続用接着剤フィルムの製造方法＞
　本実施形態の回路接続用接着剤フィルム１の製造方法は、例えば、上述した第１の接着剤層２を用意する用意工程（第１の用意工程）と、第１の接着剤層２上に上述した第２の接着剤層３を積層する積層工程と、を備える。回路接続用接着剤フィルム１の製造方法は、第２の接着剤層３を用意する用意工程（第２の用意工程）を更に備えていてもよい。
　第１の用意工程では、例えば、基材上に第１の接着剤層２を形成して第１の接着剤フィルムを得ることにより、第１の接着剤層２を用意する。具体的には、まず、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分、並びに必要に応じて添加される（Ｄ）成分及び（Ｅ）成分等の他の成分を、有機溶媒中に加え、攪拌混合、混錬等により、溶解又は分散させて、ワニス組成物（光硬化性組成物のワニス）を調製する。その後、離型処理を施した基材上に、ワニス組成物をナイフコーター、ロールコーター、アプリケーター、コンマコーター、ダイコーター等を用いて塗布した後、加熱により有機溶媒を揮発させて、基材上に光硬化性組成物からなる層を形成する。続いて、光硬化性組成物からなる層に対して光を照射することにより、光硬化性組成物を硬化させ、基材上に第１の接着剤層２を形成する（硬化工程）。これにより、第１の接着剤フィルムが得られる。
　ワニス組成物の調製に用いる有機溶媒としては、各成分を均一に溶解又は分散し得る特性を有するものが好ましく、例えば、トルエン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等が挙げられる。これらの有機溶媒は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。ワニス組成物の調製の際の攪拌混合及び混錬は、例えば、攪拌機、らいかい機、３本ロール、ボールミル、ビーズミル又はホモディスパーを用いて行うことができる。
　基材としては、有機溶媒を揮発させる際の加熱条件に耐え得る耐熱性を有するものであれば特に制限はなく、例えば、延伸ポリプロピレン（ＯＰＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリオレフィン、ポリアセテート、ポリカーボネート、ポリフェニレンサルファイド、ポリアミド、ポリイミド、セルロース、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、合成ゴム系、液晶ポリマー等からなる基材（例えばフィルム）を用いることができる。
　基材へ塗布したワニス組成物から有機溶媒を揮発させる際の加熱条件は、有機溶媒が充分に揮発する条件とすることが好ましい。加熱条件は、例えば、４０℃以上１２０℃以下で０．１分間以上１０分間以下であってよい。
　硬化工程における光の照射には、波長１５０～７５０ｎｍの範囲内の照射光（例えば紫外光）を用いることが好ましい。光の照射は、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、ＬＥＤ光源等を使用して行うことができる。光の照射量は、特に限定されず、例えば、波長３６５ｎｍの光の積算光量で、１００ｍＪ／ｃｍ２以上であってよく、２００ｍＪ／ｃｍ２以上であってよく、３００ｍＪ／ｃｍ２以上であってよい。光の照射量は、例えば、波長３６５ｎｍの光の積算光量で、１００００ｍＪ／ｃｍ２以下であってよく、５０００ｍＪ／ｃｍ２以下であってよく、３０００ｍＪ／ｃｍ２以下であってよい。
　第２の用意工程では、（ａ）成分及び（ｂ）成分、並びに必要に応じて添加される他の成分を用いること及び光照射を行わないこと以外は、第１の用意工程と同様に、基材上に第２の接着剤層３を形成して第２の接着剤フィルムを得ることにより、第２の接着剤層３を用意する。
　積層工程では、第１の接着剤フィルムと、第２の接着剤フィルムとを貼り合わせることにより、第１の接着剤層２上に第２の接着剤層３を積層してよく、第１の接着剤層２上に、（ａ）成分及び（ｂ）成分、並びに必要に応じて添加される他の成分を用いて得られるワニス組成物（熱硬化性組成物のワニス）を塗布し、有機溶媒を揮発させることにより、第１の接着剤層２上に第２の接着剤層３を積層してもよい。積層工程は、第１の用意工程の途中で行ってもよい。例えば、光硬化性組成物からなる層を形成した後、積層工程を行い、光硬化性組成物からなる層（第１の接着剤層２の前駆体）と熱硬化性組成物からなる層（第２の接着剤層３）とを備える積層体を得てもよい。この場合、得られた積層体に対して光を照射することで光硬化性組成物からなる層を硬化させ、第１の用意工程を完了させてよい。
　第１の接着剤フィルムと、第２の接着剤フィルムとを貼り合わせる方法としては、例えば、加熱プレス、ロールラミネート、真空ラミネート等の方法が挙げられる。ラミネートは、例えば、０～８０℃の温度条件下で行ってよい。
＜回路接続構造体及びその製造方法＞
　以下、回路接続材料として上述した回路接続用接着剤フィルム１を用いた回路接続構造体及びその製造方法について説明する。
　図２は、一実施形態の回路接続構造体を示す模式断面図である。図２に示すように、回路接続構造体１０は、第１の回路基板１１及び第１の回路基板１１の主面１１ａ上に形成された第１の電極１２を有する第１の回路部材１３と、第２の回路基板１４及び第２の回路基板１４の主面１４ａ上に形成された第２の電極１５を有する第２の回路部材１６と、第１の回路部材１３及び第２の回路部材１６の間に配置され、第１の電極１２及び第２の電極１５を互いに電気的に接続する回路接続部１７と、を備えている。
　第１の回路部材１３及び第２の回路部材１６は、互いに同じであっても異なっていてもよい。第１の回路部材１３及び第２の回路部材１６は、電極が形成されているガラス基板又はプラスチック基板、プリント配線板、セラミック配線板、フレキシブル配線板、半導体シリコンＩＣチップ等であってよい。第１の回路基板１１及び第２の回路基板１４は、半導体、ガラス、セラミック等の無機物、ポリイミド、ポリカーボネート等の有機物、ガラス／エポキシ等の複合物などで形成されていてよい。第１の電極１２及び第２の電極１５は、金、銀、錫、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金、銅、アルミ、モリブデン、チタン、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、インジウムガリウム亜鉛酸化物（ＩＧＺＯ）等で形成されていてよい。第１の電極１２及び第２の電極１５は回路電極であってよく、バンプ電極であってもよい。第１の電極１２及び第２の電極１５の少なくとも一方は、バンプ電極であってよい。図２では、第２の電極１５がバンプ電極である。
　回路接続部１７は、上述した接着剤フィルム１の硬化物からなる。回路接続部１７は、例えば、第１の回路部材１３と第２の回路部材１６とが互いに対向する方向（以下「対向方向」）における第１の回路部材１３側に位置し、上述の光硬化性組成物の導電粒子４以外の（Ａ）成分、（Ｂ）成分等の成分の硬化物からなる第１の領域１８と、対向方向における第２の回路部材１６側に位置し、（ａ）成分、（ｂ）成分等を含有する上述の熱硬化性組成物の硬化物からなる第２の領域１９と、少なくとも第１の電極１２及び第２の電極１５の間に介在して第１の電極１２及び第２の電極１５を互いに電気的に接続する導電粒子４と、を有する。回路接続部は、第１の領域１８及び第２の領域１９のように２つの領域を有していなくてもよく、例えば、上述の光硬化性組成物の導電粒子４以外の成分の硬化物と上述の熱硬化性組成物の硬化物とが混在した硬化物からなっていてもよい。
　図３は、回路接続構造体１０の製造方法を示す模式断面図である。図３に示すように、回路接続構造体１０の製造方法は、例えば、第１の電極１２を有する第１の回路部材１３と、第２の電極１５を有する第２の回路部材１６との間に、上述した接着剤フィルム１を介在させ、第１の回路部材１３及び第２の回路部材１６を熱圧着して、第１の電極１２及び第２の電極１５を互いに電気的に接続する工程を備える。
　具体的には、図３（ａ）に示すように、まず、第１の回路基板１１及び第１の回路基板１１の主面１１ａ上に形成された第１の電極１２を備える第１の回路部材１３と、第２の回路基板１４及び第２の回路基板１４の主面１４ａ上に形成された第２の電極１５を備える第２の回路部材１６と、を用意する。
　次に、第１の回路部材１３と第２の回路部材１６とを、第１の電極１２と第２の電極１５とが互いに対向するように配置し、第１の回路部材１３と第２の回路部材１６との間に接着剤フィルム１を配置する。例えば、図３（ａ）に示すように、第１の接着剤層２側が第１の回路部材１３の実装面１１ａと対向するようにして接着剤フィルム１を第１の回路部材１３上にラミネートする。次に、第１の回路基板１１上の第１の電極１２と、第２の回路基板１４上の第２の電極１５とが互いに対向するように、接着剤フィルム１がラミネートされた第１の回路部材１３上に第２の回路部材１６を配置する。
　そして、図３（ｂ）に示すように、第１の回路部材１３、接着剤フィルム１及び第２の回路部材１６を加熱しながら、第１の回路部材１３と第２の回路部材１６とを厚み方向に加圧することで、第１の回路部材１３と第２の回路部材１６とを互いに熱圧着する。この際、図３（ｂ）において矢印で示すように、第２の接着剤層３は、流動可能な未硬化の熱硬化性組成物からなっているため、第２の電極１５，１５間の空隙を埋めるように流動すると共に、上記加熱によって硬化する。これにより、第１の電極１２及び第２の電極１５が導電粒子４を介して互いに電気的に接続され、また、第１の回路部材１３及び第２の回路部材１６が互いに接着されて、図２に示す回路接続構造体１０が得られる。本実施形態の回路接続構造体１０の製造方法では、第１の接着剤層２が予め硬化された層であるため、導電粒子４が第１の接着剤層２中に固定されており、また、第１の接着剤層２が上記熱圧着時にほとんど流動せず、導電粒子が効率的に対向する電極間で捕捉されるため、対向する電極１２及び１５間の接続抵抗が低減される。そのため、接続信頼性に優れる回路接続構造体が得られる。
＜接着剤フィルム収容セット＞
　図４は、一実施形態の接着剤フィルム収容セットを示す斜視図である。図４に示すように、接着剤フィルム収容セット２０は、回路接続用接着剤フィルム１と、該接着剤フィルム１が巻き付けられたリール２１と、接着剤フィルム１及びリール２１を収容する収容部材２２と、を備える。
　図４に示すように、接着剤フィルム１は、例えばテープ状である。テープ状の接着剤フィルム１は、例えば、シート状の原反を用途に応じた幅で長尺に切り出すことによって作製される。接着剤フィルム１の一方面上には基材が設けられていてよい。基材としては、上述したＰＥＴフィルム等の基材を用いることができる。
　リール２１は、接着剤フィルム１が巻き付けられる巻芯２３を有する第１の側板２４と、巻芯２３を挟んで第１の側板２４と対向するように配置された第２の側板２５と、を備える。
　第１の側板２４は、例えばプラスチックからなる円板であり、第１の側板２４の中央部分には、断面円形の開口部が設けられている。
　第１の側板２４が有する巻芯２３は、接着剤フィルム１を巻き付ける部分である。巻芯２３は、例えばプラスチックからなり、接着剤フィルム１の幅と同様の厚みの円環状をなしている。巻芯２３は、第１の側板２４の開口部を囲うように、第１の側板２４の内側面に固定されている。また、リール２１の中央部には、巻付装置又は繰出装置（不図示）の回転軸が挿入される部分である軸穴２６が設けられている。この軸穴２６に巻付装置又は繰出装置の回転軸を差し込んだ状態で回転軸を駆動した場合に、空回りすることなくリール２１が回転するようになっている。軸穴２６には、乾燥剤が収容された乾燥剤収容容器が嵌め込まれていてもよい。
　第２の側板２５は、第１の側板２４と同様に、例えばプラスチックからなる円板であり、第２の側板２５の中央部分には、第１の側板２４の開口部と同径の断面円形の開口部が設けられている。
　収容部材２２は、例えば袋状をなしており、接着剤フィルム１及びリール２１を収容している。収容部材２２は、収容部材２２の内部に接着剤フィルム１及びリール２１を収容（挿入）するための、挿入口２７を有している。
　収容部材２２は、収容部材２２の内部を外部から視認可能とする視認部２８を有する。図４に示す収容部材２２は、収容部材２２の全体が視認部２８となるように構成されている。
　視認部２８は、可視光に対する透過性を有している。例えば、視認部２８における光の透過率を波長４５０～７５０ｎｍの範囲で測定した場合、波長４５０～７５０ｎｍの間に、光の透過率の平均値が３０％以上となる、波長幅が５０ｎｍである領域が少なくとも１つ存在する。視認部２８の光の透過率は、視認部２８を所定の大きさに切り取った試料を作製し、試料の光の透過率を紫外可視分光光度計で測定することにより得られる。収容部材２２がこのような視認部２８を有するため、収容部材２２の内部の例えばリール２１に貼り付けてある製品名、ロットナンバー、有効期限等の各種情報を収容部材２２の外部からでも確認することができる。これにより、違う製品の混入を防止すること、及び、仕分け作業が効率よくなることが期待できる。
　視認部２８における波長３６５ｎｍの光の透過率は、１０％以下である。視認部２８における波長３６５ｎｍの光の透過が１０％以下であるため、収容部材２２の外部から内部へ入射する光と、第１の接着剤層２中に残留した光重合開始剤と、に起因する熱硬化性組成物の硬化を抑制することができる。その結果、接着剤フィルム１の接続抵抗の低減効果を維持することができ、接着剤フィルム１を回路部材同士の接続に用いた際に、対向する電極間の接続抵抗を低減できる。光重合開始剤からのラジカルの発生が一層抑制される観点から、視認部２８における波長３６５ｎｍの光の透過率は、好ましくは１０％以下、より好ましくは５％以下、更に好ましくは１％以下、特に好ましくは０．１％以下である。
　同様の観点から、視認部２８における、上述の光重合開始剤（（Ｂ）成分）からラジカル、カチオン又はアニオンを発生させることが可能な波長領域での光の透過率の最大値は、好ましくは１０％以下、より好ましくは５％以下、更に好ましくは１％以下、特に好ましくは０．１％以下である。具体的には、視認部２８における波長２５４～４０５ｎｍにおける光の透過率の最大値は、好ましくは１０％以下、より好ましくは５％以下、更に好ましくは１％以下、特に好ましくは０．１％以下である。
　視認部２８（収容部材２２）は、例えば厚さ１０～５０００μｍのシートで形成されている。当該シートは、視認部２８における波長３６５ｎｍの光の透過率が１０％以下となる材料によって構成されている。このような材料は、一種の成分からなっていてよく、複数種の成分からなっていてもよい。当該材料としては、例えば、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアクリレート、ポリアミド、ガラス等が挙げられる。これらの材料は、紫外線吸収剤を含んでいてもよい。視認部２８は、光透過性の異なる複数の層を積層することにより形成される積層構造を有していてもよい。この場合、視認部２８を構成する各層は、上述した材料からなっていてよい。
　挿入口２７は、収容に際し、外部からの空気の侵入を防ぐために、例えばシール機などにより閉じられることによって、密閉されていてよい。この場合、挿入口２７を閉じる前に収容部材２２内の空気を吸引除去しておくことが好ましい。収容した初期の段階から収容部材２２内の湿気が少なくなり、かつ外部からの空気の進入を防ぐことが期待できる。また、収容部材２２の内面とリール２１とが密着することにより、運搬時の振動で収容部材２２の内面とリール２１の表面とがこすれあって異物が発生すること、及び、リール２１の側板２４，２５の外側面への傷つきを防止できる。
　上記実施形態では、収容部材は、収容部材の全体が視認部となるように構成されていたが、他の一実施形態では、収容部材は、収容部材の一部に視認部を有していてもよい。例えば、収容部材は、収容部材の側面の略中央に矩形状の視認部を有していてよい。この場合、収容部材の視認部以外の部分は、例えば紫外光及び可視光を透過させないように黒色を呈していてよい。
　また、上記実施形態では、収容部材の形状は袋状であったが、収容部材は、例えば箱状であってもよい。収容部材には、開封のための切り込みがついていることが好ましい。この場合、使用時の開封作業が容易になる。
　以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
＜ポリウレタンアクリレート（ＵＡ１）の合成＞
　攪拌機、温度計、塩化カルシウム乾燥管を有する還流冷却管、及び、窒素ガス導入管を備えた反応容器に、ポリ（１，６－ヘキサンジオールカーボネート）（商品名：デュラノール　Ｔ５６５２、旭化成ケミカルズ株式会社製、数平均分子量１０００）２５００質量部（２．５０ｍｏｌ）と、イソホロンジイソシアネート（シグマアルドリッチ社製）６６６質量部（３．００ｍｏｌ）とを３時間かけて均一に滴下した。次いで、反応容器に充分に窒素ガスを導入した後、反応容器内を７０～７５℃に加熱して反応させた。次に、反応容器に、ハイドロキノンモノメチルエーテル（シグマアルドリッチ社製）０．５３質量部（４．３ｍｍｏｌ）と、ジブチルスズジラウレート（シグマアルドリッチ社製）５．５３質量部（８．８ｍｍｏｌ）とを添加した後、２－ヒドロキシエチルアクリレート（シグマアルドリッチ社製）２３８質量部（２．０５ｍｏｌ）を加え、空気雰囲気下７０℃で６時間反応させた。これにより、ポリウレタンアクリレート（ＵＡ１）を得た。ポリウレタンアクリレート（ＵＡ１）の重量平均分子量は１５０００であった。なお、重量平均分子量は、下記の条件に従って、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）より標準ポリスチレンによる検量線を用いて測定した。
（測定条件）
　装置：東ソー株式会社製　ＧＰＣ－８０２０
　検出器：東ソー株式会社製　ＲＩ－８０２０
　カラム：日立化成株式会社製　Ｇｅｌｐａｃｋ　ＧＬＡ１６０Ｓ＋ＧＬＡ１５０Ｓ
　試料濃度：１２０ｍｇ／３ｍＬ
　溶媒：テトラヒドロフラン
　注入量：６０μＬ
　圧力：２．９４×１０６Ｐａ（３０ｋｇｆ／ｃｍ２）
　流量：１．００ｍＬ／ｍｉｎ
＜導電粒子の作製＞
　ポリスチレン粒子の表面上に、層の厚さが０．２μｍとなるようにニッケルからなる層を形成した。このようにして、平均粒径４μｍ、最大粒径４．５μｍ、比重２．５の導電粒子を得た。
＜ポリエステルウレタン樹脂の調製方法＞
　攪拌機、温度計、コンデンサー、真空発生装置及び窒素ガス導入管が備え付けられたヒーター付きステンレス製オートクレーブに、イソフタル酸４８質量部及びネオペンチルグリコール３７質量部を投入し、更に、触媒としてのテトラブトキシチタネート０．０２質量部を投入した。次いで、窒素気流下２２０℃まで昇温し、そのまま８時間攪拌した。その後、大気圧（７６０ｍｍＨｇ）まで減圧し、室温まで冷却した。これにより、白色の沈殿物を析出させた。次いで、白色の沈殿物を取り出し、水洗した後、真空乾燥することでポリエステルポリオールを得た。得られたポリエステルポリオールを充分に乾燥した後、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）に溶解し、攪拌機、滴下漏斗、還流冷却機及び窒素ガス導入管を取り付けた四つ口フラスコに投入した。また、触媒としてジブチル錫ラウレートをポリエステルポリオール１００質量部に対して０．０５質量部となる量投入し、ポリエステルポリオール１００質量部に対して５０質量部となる量の４，４’－ジフェニルメタンジイソシアネートをＭＥＫに溶解して滴下漏斗で投入し、８０℃で４時間攪拌することで目的とするポリエステルウレタン樹脂を得た。
＜光硬化性組成物のワニス（ワニス組成物）の調製＞
　以下に示す成分を表１に示す配合量（質量部）で混合し、光硬化性組成物１～８のワニスを調製した。
（重合性化合物）
　Ａ１：ジシクロペンタジエン型ジアクリレート（商品名：ＤＣＰ－Ａ、東亞合成株式会社製）
　Ａ２：上述のとおり合成したポリウレタンアクリレート（ＵＡ１）
　Ａ３：２－メタクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート（商品名：ライトエステルＰ－２Ｍ、共栄社化学株式会社製）
（光重合開始剤）
　Ｂ１：１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）フェニル－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］（商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）ＯＸＥ０１、ＢＡＳＦ社製）
　Ｂ２：エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（ｏ－アセチルオキシム）（商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）ＯＸＥ０２、ＢＡＳＦ社製）
（導電粒子）
　Ｃ１：上述のとおり作製した導電粒子
（熱重合開始剤）
　Ｅ１：ベンゾイルパーオキサイド（商品名：ナイパーＢＭＴ－Ｋ４０、日油株式会社製）
（熱可塑性樹脂）
　Ｆ１：上述のとおり合成したポリエステルウレタン樹脂
（カップリング剤）
　Ｇ１：３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（商品名：ＫＢＭ５０３、信越化学工業株式会社製）
（充填材）
　Ｈ１：シリカ微粒子（商品名：Ｒ１０４、日本アエロジル株式会社製、平均粒径（一次粒径）：１２ｎｍ）
（溶剤）
　Ｉ１：メチルエチルケトン
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
＜熱硬化性組成物のワニス（ワニス組成物）の調製＞
　重合性化合物ａ１～ａ３、熱重合開始剤ｂ１、カップリング剤ｇ１、充填材ｈ１及び溶剤ｉ１として、光硬化性組成物における重合性化合物Ａ１～Ａ３、熱重合開始剤Ｅ１、カップリング剤Ｇ１、充填材Ｈ１及び溶剤Ｉ１と同じものを用い、熱可塑性樹脂ｆ１は以下に示す成分を用い、これらの成分を表２に示す配合量（質量部）で混合し、熱硬化性組成物１のワニスを調製した。
（熱可塑性樹脂）
　ｆ１：フェノキシ樹脂（商品名：ＰＫＨＣ、ユニオンカーバイド社製）
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
（実施例１）
［第１の接着剤フィルムの作製］
　光硬化性組成物１のワニスを、厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム上に塗工装置を用いて塗布した。次いで、７０℃、３分間の熱風乾燥を行い、ＰＥＴフィルム上に厚さ（乾燥後の厚さ）が４μｍの光硬化性組成物１からなる層を形成した。ここでの厚さは接触式厚み計を用いて測定した。なお、接触式厚み計を用いると導電粒子の大きさが反映され、導電粒子が存在する領域の厚みが測定される。そのため、第２の接着剤層を積層し、二層構成の回路接続用接着剤フィルムを作製した後に、後述の方法により、隣り合う導電粒子の離間部分に位置する第１の接着剤層の厚さを測定した。
　次に、光硬化性組成物１からなる層に対し、メタルハライドランプを用いて積算光量が１５００ｍＪ／ｃｍ２となるように光照射を行い、重合性化合物を重合させた。これにより、光硬化性組成物１を硬化させ、第１の接着剤層を形成した。以上の操作により、ＰＥＴフィルム上に第１の接着剤層を備える第１の接着剤フィルム（導電粒子が存在する領域の厚さ：４μｍ）を得た。このときの導電粒子密度は約７０００ｐｃｓ／ｍｍ２であった。
［第２の接着剤フィルムの作製］
　熱硬化性組成物１のワニスを、厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム上に塗工装置を用いて塗布した。次いで、７０℃、３分間の熱風乾燥を行い、ＰＥＴフィルム上に厚さが８μｍの第２の接着剤層（熱硬化性組成物１からなる層）を形成した。以上の操作により、ＰＥＴフィルム上に第２の接着剤層を備える第２の接着剤フィルムを得た。
［回路接続用接着剤フィルムの作製］
　第１の接着剤フィルムと第２の接着剤フィルムとを、それぞれの接着剤層が対向するように配置し、基材であるＰＥＴフィルムと共に４０℃で加熱しながら、ロールラミネータでラミネートした。これにより、第１の接着剤層と第２の接着剤層とが積層された二層構成の回路接続用接着剤フィルムを作製した。
　作製した回路接続用接着剤フィルムの第１の接着剤層の厚さを以下の方法で測定した。まず、回路接続用接着剤フィルムを２枚のガラス（厚み：１ｍｍ程度）で挟み込み、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（商品名：ＪＥＲ８１１、三菱ケミカル株式会社製）１００ｇと、硬化剤（商品名：エポマウント硬化剤、リファインテック株式会社製）１０ｇとからなる樹脂組成物で注型した。その後、研磨機を用いて断面研磨を行い、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ、商品名：ＳＥ－８０２０、株式会社日立ハイテクサイエンス製）を用いて、隣り合う導電粒子の離間部分に位置する第１の接着剤層の厚さを測定した。第１の接着剤層の厚さは２μｍであった。
［回路接続構造体の作製］
　作製した回路接続用接着剤フィルムを介して、ピッチ２５μｍのＣＯＦ（ＦＬＥＸＳＥＥＤ社製）と、ガラス基板上に非結晶酸化インジウム錫（ＩＴＯ）からなる薄膜電極（高さ：１２００Å）を備える、薄膜電極付きガラス基板（ジオマテック社製）とを、熱圧着装置（加熱方式：コンスタントヒート型、株式会社太陽機械製作所製）を用いて、１７０℃、６ＭＰａで４秒間の条件で加熱加圧を行って幅１ｍｍにわたり接続し、回路接続構造体（接続構造体）を作製した。なお、接続の際には、回路接続用接着剤フィルムにおける第１の接着剤層側の面がガラス基板と対向するように、回路接続用接着剤フィルムをガラス基板上に配置した。
＜回路接続構造体の評価＞
［粒子流動性評価］
　得られた回路接続構造体について、回路接続用接着剤フィルムの樹脂染み出し部分の粒子流動状態を顕微鏡（商品名：ＥＣＬＩＰＳＥ　Ｌ２００、株式会社ニコン製）を用いて評価した。具体的には、作製した回路接続構造体をガラス基板側から、顕微鏡にて観察し、回路接続用接着剤フィルムの幅よりも外側に染み出した部分の粒子状態を３段階で評価した。粒子がほとんど動かず、染み出し部分に粒子がない状態を１、多少粒子が動いているが、粒子同士の連結がみられない状態を２、粒子が流動し、粒子同士の連結が見られる状態を３とした。
［接続抵抗値評価］
　得られた回路接続構造体について、接続直後、及び、高温高湿試験後の対向する電極間の接続抵抗値を、マルチメーターで測定した。高温高湿試験は、８５℃、８５％ＲＨの恒温恒湿槽に２００ｈ放置することにより行った。接続抵抗値は、対向する電極間の抵抗１６点の平均値として求めた。
［剥離評価］
　高温高湿試験後の回路接続構造体の回路接続部における剥離の有無を顕微鏡（商品名：ＥＣＬＩＰＳＥ　Ｌ２００、株式会社ニコン製）を用いて評価した。具体的には、上述のとおり作製した回路接続構造体をガラス基板側から、顕微鏡にて観察し、ガラス基板と回路接続用接着剤フィルムとの剥離状態を３段階で評価した。回路接続用接着剤フィルム全体の面積のうち、ガラス基板から剥離している割合を求め、剥離がほとんど生じていない（剥離部分の割合が全体の５％未満以下）ものをＡ、剥離が少量生じている（剥離部分の割合が全体の５％以上２０％未満）ものをＢ、剥離が生じている（剥離部分の割合が全体の２０％以上）ものをＣとした。
（実施例２～６及び比較例１～２）
　光硬化性組成物として、光硬化性組成物２～８を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、回路接続用接着剤フィルム及び回路接続構造体を作製し、実施例１と同様にして、回路接続構造体の評価を行った。結果を表３及び表４に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
　１…回路接続用接着剤フィルム、２…第１の接着剤層、３…第２の接着剤層、４…導電粒子、１０…回路接続構造体、１２…回路電極（第１の電極）、１３…第１の回路部材、１５…バンプ電極（第２の電極）、１６…第２の回路部材、２０…接着剤フィルム収容セット、２２…収容部材、２８…視認部。

Claims (11)

  1. 　第１の接着剤層と、該第１の接着剤層上に積層された第２の接着剤層と、を備え、
    　前記第１の接着剤層は光硬化性組成物の硬化物からなり、
    　前記第２の接着剤層は熱硬化性組成物からなり、
    　前記光硬化性組成物は、重合性化合物と、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤と、導電粒子と、を含有し、
    　前記光重合開始剤の含有量は、前記光硬化性組成物中の導電粒子以外の成分の合計量を基準として、０．３～１．２質量％である、回路接続用接着剤フィルム。
  2. 　前記重合性化合物は、ラジカル重合性基を有するラジカル重合性化合物である、請求項１に記載の回路接続用接着剤フィルム。
  3. 　前記熱硬化性組成物は、ラジカル重合性基を有するラジカル重合性化合物を含有する、請求項１又は２に記載の回路接続用接着剤フィルム。
  4. 　前記第１の接着剤層の厚さは、前記導電粒子の平均粒径の０．１～０．８倍である、請求項１～３のいずれか一項に記載の回路接続用接着剤フィルム。
  5. 　前記オキシムエステル構造を有する光重合開始剤は、下記式（ＶＩ）で示される構造を有する化合物である、請求項１～４のいずれか一項に記載の回路接続用接着剤フィルム。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     ［式（ＶＩ）中、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、又は芳香族系炭化水素基を含む有機基を示す。］
  6. 　第１の接着剤層を用意する用意工程と、
    　前記第１の接着剤層上に熱硬化性組成物からなる第２の接着剤層を積層する積層工程と、を備え、
    　前記用意工程は、光硬化性組成物からなる層に対して光を照射することにより前記光硬化性組成物を硬化させ、前記第１の接着剤層を得る工程を含み、
    　前記光硬化性組成物は、重合性化合物と、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤と、導電粒子と、を含有し、
    　前記光重合開始剤の含有量は、前記光硬化性組成物中の導電粒子以外の成分の合計量を基準として、０．３～１．２質量％である、回路接続用接着剤フィルムの製造方法。
  7. 　前記重合性化合物は、ラジカル重合性基を有するラジカル重合性化合物である、請求項６に記載の回路接続用接着剤フィルムの製造方法。
  8. 　前記熱硬化性組成物は、ラジカル重合性基を有するラジカル重合性化合物を含有する、請求項６又は７に記載の回路接続用接着剤フィルムの製造方法。
  9. 　前記第１の接着剤層の厚さは、前記導電粒子の平均粒径の０．１～０．８倍である、請求項６～８のいずれか一項に記載の回路接続用接着剤フィルムの製造方法。
  10. 　第１の電極を有する第１の回路部材と、第２の電極を有する第２の回路部材との間に、請求項１～５のいずれか一項に記載の回路接続用接着剤フィルムを介在させ、前記第１の回路部材及び前記第２の回路部材を熱圧着して、前記第１の電極及び前記第２の電極を互いに電気的に接続する工程を備える、回路接続構造体の製造方法。
  11. 　請求項１～５のいずれか一項に記載の回路接続用接着剤フィルムと、該接着剤フィルムを収容する収容部材と、を備え、
    　前記収容部材は、前記収容部材の内部を外部から視認可能とする視認部を有し、
    　前記視認部における波長３６５ｎｍの光の透過率は１０％以下である、接着剤フィルム収容セット。
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