WO2020087858A1 - 显示面板、显示终端和掩模板 - Google Patents

显示面板、显示终端和掩模板 Download PDF

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WO2020087858A1
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楼均辉
申丽萍
宋艳芹
张露
李高敏
安乐平
唐静
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Kunshan Govisionox Optoelectronics Co Ltd
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    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks

Definitions

  • the second mask mesh unit is fixedly arranged on the frame and used for preparing the organic light-emitting layer of the second display unit;
  • FIG. 2 is a front view of the display panel shown in FIG. 1.
  • FIG. 3 is a schematic diagram of a cross-sectional structure of a display panel in another embodiment.
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional structure diagram of a mask plate in an embodiment.
  • FIG. 3 shows a schematic cross-sectional structure of a display panel in another embodiment.
  • the material of the first isolation pillar 13 may be a negative photoresist.
  • a negative photoresist layer may be coated on the substrate 10 first, and then developed by exposure to form the first trapezoidal spacer 13 having an inverted trapezoid shape.
  • the second display unit 12 in the second display area A2 can effectively improve the diffraction phenomenon caused by external light transmitting through the second display area A2, the light transmittance in the second display area A2 can be effectively improved. It is advantageous for the following photosensitive device (for example, a camera) to collect light through the second display area, to avoid distortion of the captured image due to diffraction, and also to improve the accuracy and sensitivity of the light sensor to sense external light.
  • a photosensitive device for example, a camera

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Abstract

一种显示面板、掩模板和显示终端。其中，显示面板包括：包括相邻的第一显示区域及第二显示区域，所述第二显示区域下方用于设置感光器件；第一显示单元，设置于所述第一显示区域，所述第一显示单元包括第一有机发光层及设于所述第一有机发光层相对两侧的两个第一电极层；第二显示单元，设置于所述第二显示区域，所述第二显示单元包括第二有机发光层及设于所述第二有机发光层相对两侧的两个第二电极层；以及第一隔离柱，设置于所述第一显示区域与所述第二显示区域的连接处，所述第一隔离柱将远离所述基板的一个第一电极层和远离所述基板的一个第二电极层间隔并绝缘。

Description

显示面板、显示终端和掩模板
相关申请交叉引用
本申请要求于2018年10月31日提交中国专利局，申请号为201811290624.6，申请名称为“显示面板、掩模版和显示终端”的中国专利申请的优先权，其全部内容通过引用结合在本申请中。
技术领域
本申请涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板、使用该显示面板的显示终端及制造该显示面板的掩模板。
背景技术
随着电子设备的快速发展，用户对屏占比的要求越来越高，使得电子设备的“全面屏”显示受到业界越来越多的关注。
对于传统的电子设备如手机、平板电脑等，由于需要集成诸如前置摄像头、听筒和红外感应元件等的器件，所以需要在显示屏上开槽(notch)或在显示屏上开孔，以在开槽区域或开孔区域设置这些器件。但是，开槽区域或开孔区域均不用于显示画面。
因此，传统的电子设备均不是真正意义上的“全面屏”，并不能在整个屏幕的各个区域均进行显示，如在开槽区域或开孔区域不能显示画面。
发明内容
根据各种实施例，提供一种显示面板、使用该显示面板的显示终端及制造该显示面板的掩模板。
一种显示面板，包括：
基板，包括相邻的第一显示区域及第二显示区域，所述第二显示区域下方用于设置感光器件；
第一显示单元，设置于所述第一显示区域，所述第一显示单元包括第一有机发光层及设于所述第一有机发光层相对两侧的两个第一电极层；
第二显示单元，设置于所述第二显示区域，所述第二显示单元包括第二有机发光层及设于所述第二有机发光层相对两侧的两个第二电极层；以及
第一隔离柱，设置于所述第一显示区域与所述第二显示区域的连接处，所述第一隔离柱将远离所述基板的一个第一电极层和远离所述基板的一个第二电极层间隔并绝缘。
一种显示终端，包括：
设备本体，具有器件区；
如上所述的显示面板，覆盖在所述设备本体上；
其中，所述器件区位于所述第二显示区域下方，且所述设备本体包括设置于所述器件区的透过所述第二显示区域进行光线采集的感光器件。
一种掩模板，用于制备如上所述的显示面板，所述第一显示单元的支撑柱与所述第二显示单元的第二隔离柱相对所述基板的高度之差为第一高度差，所述掩模板包括：
框架；
第一掩膜网单元，固定设置于所述框架上，用于制备所述第一显示单元的有机发光层；以及
第二掩膜网单元，固定设置于所述框架上，用于制备所述第二显示单元的有机发光层；
其中，所述第一掩膜网单元与所述第二掩膜网单元之间相对具有第二高度差，所述第一高度差与所述第二高度差相等。本申请的一个或多个实施例的细节在下面的附图和描述中提出。本申请的其它特征、目的和优点将根据说明书、附图以及权利要求书的描述变得明显。
附图说明
为了更好地描述和说明本申请的实施例和/或示例，可以参考一幅或多幅 附图。用于描述附图的附加细节或示例不应当被认为是对所公开的申请、目前描述的实施例和示例以及目前理解的这些申请的最佳模式中的任何一者的范围的限制。
图1为一实施例中的显示面板的截面结构示意图。
图2为图1所示的显示面板的主视图。
图3为另一实施例中的显示面板的截面结构示意图。
图4为一实施例中的掩模板的截面结构示意图。
图5为图4所示的掩模板的主视图。
图6为一实施例中的显示终端的截面结构示意图。
图7为图5所示的显示终端的主视图。
具体实施例
为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚，以下结合附图及实施例，对本申请进行详细说明。此处所描述的具体实施例仅用以解释本申请，不应当被认为是对本申请的限制。
在描述位置关系时，除非另有规定，否则当一元件例如层、膜或基板被指为在另一膜层“上”时，其能直接在其他膜层上或亦可存在中间膜层。进一步说，当层被指为在另一层“下”时，其可直接在下方，亦可存在一或多个中间层。亦可以理解的是，当层被指为在两层“之间”时，其可为两层之间的唯一层，或亦可存在一或多个中间层。
电子设备如手机、平板电脑等，由于需要集成诸如前置摄像头、听筒以及红外感应元件等，故而可通过在显示屏上开槽(Notch)，在开槽区域设置摄像头、听筒以及红外感应元件等。但开槽区域并不用来显示画面，如现有技术中的“刘海屏”。另一种方案是在屏幕上开孔。对于具有摄像功能的电子设备来说，外界光线可通过屏幕上的开孔处进入位于屏幕下方的感光元件。但是这些电子设备均不是真正意义上的全面屏，并不能在整个屏幕的各个区域均进行显示，如在摄像头区域不能显示画面。
针对上述问题，本申请提供一种显示面板，其通过在在开槽区域设置透明显示面板的方式来实现电子设备的全面屏显示。根据驱动方式的不同，OLED可以分为PMOLED(Passive Matrix OLED，被动式驱动有机发光二极管)和AMOLED(Active Matrix OLED，主动式驱动有机发光二极管)两种。以PMOLED为例，PMOLED显示阵列的同一行显示单元的同一性质电极是共用的，并且同一列显示单元同一性质电极也是共用的。具体而言，PMOLED显示面板是以阴极、阳极构成矩阵，以扫描方式点亮阵列中的像素，每个像素都是操作在短脉冲模式下，为瞬间高亮度发光。研究发现，由于PMOLED显示面板无TFT背板和金属走线，使得光线透过率高，而可以被应用于前述的透明显示面板。
由于设置于开槽区域的显示单元与设置于非开槽区域的显示单元相邻，而在溅射形成两区域的显示单元的阴极层时，由金属原子的移动方向不定，导致二者的阴极层会容易相互电导通，不利于正常显示。
为解决上述问题，本实施例提供了一种显示面板。图1示出了一实施例中的显示面板的截面示意图。图2为图1所示的显示面板的主视图。为便于描述，附图仅示出了与本实施例相关的结构。
参见图1及图2，本申请一实施例中提供的显示面板，包括基板10、第一显示单元11、第二显示单元12及第一隔离柱13。基板10设有相邻的第一显示区域A1及第二显示区域A2，第一显示区域A1和第二显示区域A2均用于显示动态或者静态画面，且第二显示区域A2下方用于设置感光器件。
第一显示单元11设置于第一显示区域A1。第一显示单元11包括第一有机发光层111及设于第一有机发光层111相对两侧的两个第一电极层113。第二显示单元12设置于第二显示区域A2。第二显示单元12包括第二有机发光层121及设于第二有机发光层121相对两侧的两个第二电极层123。第一隔离柱13设置于第一显示区域A1与第二显示区域A2的连接处。第一隔离柱13用于将两个第一电极层113中远离基板的一第一电极层113与两个第二电极层123中远离基板的一第二电极层123间隔并绝缘。
上述显示面板具有均进行显示动态或者静态画面的第一显示区域A1和第二显示区域A2，可以真正实现全面屏显示。并且，在第一显示区域A1和第二显示区域A2之间设置第一隔离柱13，以将第一显示单元11的两个第一电极层113中远离基板10的一第一电极层113与第二显示单元12的两个第二电极层123中远离基板10的一第二电极层123间隔并绝缘，从而避免了第一显示单元11和第二显示单元12相互干扰，有利于实现全面屏显示。
需要指出的是，第一显示单元11和第二显示单元12可以分别形成，也可以同时形成，在此不作限定。
在一些实施例中，基板10可以为刚性基板10，如玻璃基板、石英基板或者塑料基板等透明基板；基板10也可为柔性基板，如PI薄膜等，以提高器件的透光率。
在一些实施例中，第一显示单元11为AMOLED显示单元或类AMOLED显示单元，第二显示单元12为PMOLED显示单元，从而使得显示面板形成由PMOLED显示单元和AMOLED显示单元构成的全面屏。需要说明的是，类AMOLED显示单元是指其像素电路仅包含一个开关元件(即驱动TFT)，而无电容结构。类AMOLED显示面板的其他结构与AMOLED显示面板相同。
具体地，两个第一电极层113中远离基板10的一第一电极层113为第一显示单元11的阴极层，两个第二电极层123中远离基板10的一第二电极层123为第二显示单元12的阴极层。如此，第一隔离柱13能够防止第一显示单元11的阴极层和第二显示单元123的阴极层相互导通，从而相互影响，不利于正常显示。
在一实施例中，第一显示单元11还包括第一像素定义层(图未示)，第二显示单元12还包括第二像素定义层(图未示)。第一、第二像素定义层则采用高透光材料。这样，可进一步地提高第二显示单元12的光透过性。第一隔离柱13设置于第一像素定义层和/或第二像素定义层上。如此，将第一像素定义层和第二像素定义层采用同一工艺步骤制备，简化了显示面板的制备工艺和加快了生产效率。
两个第一电极层113中的位于下方的第一电极层113形成于基板10，且该第一电极层113包括多个第一电极，用于形成行电极或列电极。第一像素定义层形成于基板10，且覆盖每个第一电极的至少部分边缘，形成暴露第一电极表面的多个像素定义开口(图未示)。第一有机发光层111形成于像素定义开口之内。位于上方的第一电极层113形成于第一有机发光层111远离基板10的一侧，且覆盖于第一有机发光层111。
在一些实施例中，第二显示单元12可以为透明或者半透半反式的显示单元。例如，在一实施例中，第二显示单元12为无源有机电致发光二极管(也称被动式有机电致发光二极管，PMOLED)显示单元。由于PMOLED显示单元无TFT背板和金属走线，使得光线透过率高，而满足较高的光透过性。
进一步地，第二显示单元12具有较高的光透过性还可以通过采用透光率较好的各层材料来实现。例如，各层均采用透光率大于90％的材料，从而使得整个显示面板的透光率可以在70％以上。进一步地，各结构膜层均采用透光率大于95％的材料，进一步提高显示单元的透光率，甚至使得整个显示单元的透光率在80％以上。
进一步地，第二显示单元12的两个第二电极层123(即阴极层和阳极层)可采用ITO、IZO、Ag+ITO或者Ag+IZO等材料制成。需要说明的是第二电极层123可为单层结构，也可为多层结构，即由多层导电材料叠加形成。绝缘层的材料可以是iO 2，SiN x以及Al 2O 3等。
第二显示单元12的透明还可以采用其他技术手段实现。透明或者半透半反式的显示单元处于工作状态时能够正常显示画面，而当显示单元处于其他功能需求状态时，外部光线可以透过该显示单元照射到位于该显示显示单元之下的感光器件等。两个第二电极层123中远离基板10的一第二电极层123包括多个第二电极，多个第二电极形成行电极或列电极。第二显示单元12还包括用于间隔多个第二电极的第二隔离柱124，防止第二电极的行电极或列电极间相互导通。在一个实施例中，上述显示面板的第一隔离柱13与第二显示单元12的第二隔离柱124采用同一构图工艺制备，如此，简化了显示面板 的制备工序和节约了材料。
第二像素定义层形成于基板10，且覆盖该第二电极层123的每个第二电极的至少部分边缘，形成暴露第二电极表面的多个像素定义开口。第二显示单元12还包括形成于该像素定义开口(图未示)的第二有机发光层121。位于上方的第二电极层123形成于第二有机发光层121远离基板10的一侧。
在一些实施例中，两个第一电极层113中远离基板10的一第一电极层113与两个第二电极层123中远离基板10的一第二电极层123采用同一工艺步骤制备，如此简化了显示面板的制备工艺和提升了生产效率。并且，第一显示单元11与第二显示单元12之间的第一隔离柱13的设置使得第一电极层113与第二电极层123能够采用同一工艺步骤制备，不会出现第一电极层113与第二电极层123连通的情况，有利于实现全面屏显示。
在一些实施例中，第一隔离柱13呈倒梯形，如此能够更好地起到隔离第一电极层113和第二电极层123的作用。
图3示出了另一实施例中的显示面板的截面结构示意图。
请参见图3，在本实施例中，第一隔离柱13包括堆叠设置的多个隔离层132。例如，一些实施例中，每一隔离层132具有底表面及与底表面相对设置的顶表面，位于上层的隔离层132的底表面相对位于下层的隔离层132的顶表面凸伸出而可形成台阶131。
需要说明的是，显示面板的制作工艺中，膜层是一层一层逐一交叠形成，则在后形成的膜层被认为是位于在先形成的膜层的“上方/上层”；对应地，在先形成的膜层被认为是位于在后形成的膜层的“下方/下层”。因此，当层被指为在另一层“上方/上层”或“下方/下层”时，是以膜层的交叠时的上下为基准。对应地，前述的位于下层的隔离层132的顶表面，即是指位于下层的隔离层132背离基板10一侧的表面。
在垂直于第一隔离柱13的延伸方向上，形成台阶131且位于上层的隔离层132的底表面的宽度D，大于形成台阶131且位于下层的隔离层132的顶表面的宽度d。第一隔离柱13的延伸方向为平行于基板10的方向，也即为 第一隔离柱13的纵长方向，其宽度方向则是垂直于纵长方向的方向，所述宽度即是指第一隔离柱13在基板10上形成的投影在垂直于延伸方向的尺寸。
可以理解，由于第一隔离柱13为立体结构，在其垂直于基板10的截面上(也即纵截面)，不同高度位置处可能具有不同的宽度。但是隔离层132的顶表面或底表面在基板10上的投影在垂直于延伸方向的尺寸是唯一的。当形成台阶且位于上层的隔离层132的底表面的宽度，大于形成台阶且位于下层的隔离层132的顶表面的宽度时，可形成开口朝下的台阶131。
这样，在自上而下溅射形成第一电极113和第二电极123的过程中，在隔离层132形成的台阶131上难以形成第一电极113和第二电极123，从而有效地将第一电极113和第二电极123隔断，避免了第一显示单元11与第二显示单元12相互干扰，有利于实现全面屏正常显示。
作为一个实施例，第一隔离柱13的材料可为负光刻胶。呈倒梯形的第一隔离柱13的具体制作过程中，可以首先在基板10上涂覆负光刻胶层，然后通过曝光显影，以形成呈倒梯形的第一隔离柱13。
第一隔离柱13包括多层堆叠设置的隔离层132时的具体制作过程中，可以首先在基板10上涂覆负光刻胶层，然后进行曝光显影，同时保证下层小线宽，从而形成位于下层的呈倒梯形的隔离层132。然后在基板10上整面涂覆同种材料的负光刻胶，并界定出第一隔离柱13的高度，最后相比第一次曝光增大曝光范围，使发生交联反应的负光刻胶比位于其下层的隔离层132“大”。
这样，形成双倒梯形第一隔离柱13，进一步地提高了阴极隔断的几率，且相比均为正梯形的制作工艺更为简单，成本更低。
可以理解，多个隔离层132的组合方式不限于此，例如，在又一些实施例中，相邻的两个隔离层132亦可为正梯形、倒梯形或矩形等形状的各种组合，能实现形成可阻断阴极的台阶的目的即可。
还可以理解的是，隔离层132还包括连接于顶表面和低表面之间的侧表面，在垂直于基板10且垂直于第一隔离柱13延伸方向，隔离层132的侧表面的轮廓线可以为直线，亦可为曲线在此不作限定。例如，隔离层132的至 少一个侧表面的轮廓线为非直线形，所述非直线形状包括折线段、弧形、半圆形及波浪形中的至少一种。
在一实施例中，为了提高透光率，在第二显示区域A2可以不设置偏光片或设置厚度较薄的偏光片，也即第二显示区域A2的第二显示单元12中不设置偏光片或设置厚度较薄的偏光片。
由于第二显示区域A2中的第二显示单元12能够有效改善外部光线透射该第二显示区域A2所产生的衍射现象，从而可有效提升位于第二显示区域A2的透光率。有利如下方感光器件(例如，摄像头)透过第二显示区域采集光线，避免因衍射而导致所拍摄的图像失真，同时也能提升光传感器感测外部光线的精准度和敏感度。
上述显示面板包括第一显示单元11及第二显示单元12，由于第一显示单元11与第二显示单元12的具体构造不同，使得第一显示单元11的第一像素定义层上的支撑柱(未图示)相对基板的高度与第二显示单元的第二像素定义层上的第二隔离柱124相对基板的高度之差为第一高度差，在同时蒸镀第一显示单元11和第二显示单元12的有机发光层时容易出现较大的阴影效应，导致蒸镀混色。例如，PMOLED显示单元的像素定义层上的第一隔离柱一般采用负性光刻胶，呈倒梯形，在满足锥角规格以及蒸镀有机发光层的工艺条件的情况下，第一隔离柱高度一般在3μm以上，而AMOLED显示单元的像素定义层的支撑柱一般采用正性光刻胶，呈正梯形，在满足锥角规格以及蒸镀有机发光层的工艺条件的情况下，支撑柱的高度一般在1.5μm左右。因此，需要提供一种掩模板解决上述容易导致蒸镀混色的问题。
请参见图4及图5，本申请还提供一种制备上述显示面板的掩模板。该掩模板包括框架100、第一掩膜网单元102及第二掩膜网单元104。第一掩膜网单元102固定设置于框架100上，用于制备第一显示单元11的有机发光层。第二掩膜网单元104固定设置于框架100上，用于制备第二显示单元12的有机发光层。并且，第一掩膜网单元102与第二掩膜网单元104之间具有第二高度差，第一高度差与第二高度差相等。
如此，通过设置具有相应高度差的第一掩膜网单元102和第二掩膜网单元104，使得在使用掩模板同时蒸镀第一显示单元11的有机发光层和第二显示单元12的有机发光层时，可以使得第一掩膜网单元102距离第一显示单元11的阳极层(两个第一电极层靠近基板的一第一电极层)的距离，与第二掩膜网单元104距离第二显示单元12的阳极层(即两个第二电极层靠近基板的一第二电极层)的距离相等，从而减小阴影效应，避免蒸镀混色。
在一实施例中，第一高度差为0微米到1.5微米。通过控制第一显示单元11与第二显示单元12之间的高度差，可以进一步控制减少在使用掩模板进行蒸镀过程中可能发生的阴影效应。可选地，第一高度差为0微米到0.5微米。如此，通过控制第一显示单元11与第二显示单元12之间的高度差为0微米到0.5微米，使得能够确保在使用掩模板进行蒸镀过程中阴影效应较小，避免蒸镀混色。
图6示出了一实施例中的显示终端的结构示意图。图7示出了一实施例中的设备本体62的结构示意图。为便于描述，附图仅示出了与本实施例相关的结构。
请参见图6及图7，基于上述的显示面板，本实施例还提供一种显示终端60。
该显示终端60包括设备本体62和显示面板64。显示面板64设置在设备本体62上，且与该设备本体62相互连接。其中，显示面板64可以采用前述任一实施例中的显示面板64，用以显示静态或者动态画面。设备本体具有器件区。器件区位于第二显示区域A2下方，且器件区中设置有用于采集透过第二显示区域A2的光线的感光器件40。
在本实施例中，设备本体62上可设有开槽区622和非开槽区624。在开槽区622中设置有诸如摄像头以及光传感器等感光器件40。此时，显示面板64的第二显示区域A2对应于开槽区贴合在一起，以使得上述的诸如摄像头及光传感器等感光器件40能够透过该第二显示区域A2对外部光线进行采集等操作。由于第二显示区域A2中的显示单元能够有效改善外部光线透射该 第二显示区域A2所产生的衍射现象，从而可有效提升显示设备上摄像头所拍摄图像的质量，避免因衍射而导致所拍摄的图像失真，同时也能提升光传感器感测外部光线的精准度和敏感度。
上述显示终端可以为手机、平板、掌上电脑、ipod等数码设备。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

Claims (16)

  1. 一种显示面板，包括：
    基板，包括相邻的第一显示区域及第二显示区域，所述第二显示区域下方用于设置感光器件；
    第一显示单元，设置于所述第一显示区域，所述第一显示单元包括第一有机发光层及设于所述第一有机发光层相对两侧的两个第一电极层；
    第二显示单元，设置于所述第二显示区域，所述第二显示单元包括第二有机发光层及设于所述第二有机发光层相对两侧的两个第二电极层；以及
    第一隔离柱，设置于所述第一显示区域与所述第二显示区域的连接处，所述第一隔离柱将远离所述基板的一个第一电极层和远离所述基板的一个第二电极层间隔并绝缘。
  2. 根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述第一显示单元为AMOLED显示单元或者类AMOLED显示单元，所述第二显示单元为PMOLED显示单元。
  3. 根据权利要求2所述的显示面板，其中，所述两个第一电极层中远离所述基板的一个第一电极层为所述第一显示单元的阴极层，所述两个第二电极层中远离所述基板的一个述第二电极层为所述第二显示单元的阴极层。
  4. 根据权利要求2所述的显示面板，其中，远离所述基板的所述第二电极层包括多个第二电极，所述第二显示单元还包括第二隔离柱，用于间隔绝缘所述多个第二电极。
  5. 根据权利要求4所述的显示面板，其中，所述第一显示单元还包括第一像素定义层，所述第二显示单元还包括第二像素定义层，所述第一隔离柱设置于所述第一像素定义层或所述第二像素定义层上。
  6. 根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述第一隔离柱呈倒梯形。
  7. 根据权利要求6所述的显示面板，其中，所述第一隔离柱包括堆叠设置的多个隔离层，位于上层的所述隔离层的宽度大于位于下层的所述隔离层的宽度。
  8. 根据权利要求5所述的显示面板，其中，靠近所述基板的所述第一电极层形成于所述基板，所述第一电极层包括多个第一电极，所述多个第一电极形成行电极或列电极。
  9. 根据权利要求8所述的显示面板，其中，所述第一像素定义层形成于所述基板，且覆盖每个第一电极的至少部分边缘，形成暴露所述第一电极表面的多个像素定义开口。
  10. 根据权利要求9所述的显示面板，其中，所述第一显示单元还包括形成于所述像素定义开口的第一有机发光层，远离所述基板的所述第一电极层位于所述第一有机发光层远离基板的一侧，且整面覆盖于所述第一有机发光层。
  11. 根据权利要求5所述的显示面板，其中，所述第二像素定义层形成于所述基板，且覆盖每个第二电极的至少部分边缘，形成暴露第二电极表面的多个像素定义开口。
  12. 根据权利要求11所述的显示面板，其中，所述第二显示单元还包括形成于所述像素定义开口的第二有机发光层，远离所述基板的所述第二电极层位于所述第二有机发光层远离基板的一侧。
  13. 根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述第二显示单元采用透光率大于90％的材料制成。
  14. 一种显示终端，包括：
    设备本体，具有器件区；
    如权利要求1所述的显示面板，覆盖在所述设备本体上；
    其中，所述器件区位于所述第二显示区域下方，且所述设备本体包括设置于所述器件区的透过所述第二显示区域进行光线采集的感光器件。
  15. 一种掩膜板，用于制备如权利要求1所述的显示面板，所述第一显示单元的支撑柱与所述第二显示单元的第二隔离柱相对所述基板的高度之差为第一高度差，所述掩膜板包括：
    框架；
    第一掩膜网单元，固定设置于所述框架上，用于制备所述第一显示单元的有机发光层；以及
    第二掩膜网单元，固定设置于所述框架上，用于制备所述第二显示单元的有机发光层；
    其中，所述第一掩膜网单元与所述第二掩膜网单元之间相对具有第二高度差，所述第一高度差与所述第二高度差相等。
  16. 根据权利要求15所述的掩模板，其中，所述第一高度差为0微米到1.5微米。
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