WO2020052048A1 - 一种掩膜板组及显示面板 - Google Patents

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林根靖
丘柏钧
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友达光电(昆山)有限公司
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Definitions

  • the present invention relates to the field of display panel production, and in particular, to a mask plate group for producing a display panel.
  • AHVA liquid crystal display panels have various resolutions.
  • the color resistance of the color film substrate is a Stripe Pattern, and the color resistance of the color film substrate is different for different resolution products.
  • the width of the color-resistance pattern is usually 20-50 ⁇ m according to the product resolution type (such as 4K / 2K, FHD, QHD, etc.).
  • a proximity exposure machine used in the color film substrate manufacturing process has an illuminance of about 40 to 60 mw / cm 2 .
  • the color resist pattern width of color film substrates is getting narrower and narrower. It is necessary to improve the alignment accuracy in the process of color film substrates.
  • the illuminance is about 700mw / cm 2.
  • the projection type exposure machine shortens the exposure time and improves the accuracy, thereby improving the production efficiency and yield rate.
  • an embodiment of the present invention discloses a display panel including: a first substrate; a second substrate including a color resistance layer, the color resistance layer including a first color resistance, a second color resistance, and a third color resistance;
  • the first color resist, the second color resist, and the third color resist are arranged in order along the first direction;
  • a display molecular layer is disposed between the first substrate and the second substrate; and from a direction perpendicular to the first direction Seen from the second direction, the first color resist includes a plurality of first color resist stripes, the second color resist includes at least one second color resist stripes, and the third color resist includes at least one third color resist
  • the volume of the first color resistance strip is smaller than the volume of the second color resistance strip and smaller than the volume of the third color resistance strip, wherein the first color resistance is a green color resistance.
  • the second color resist when viewed along the second direction, includes a plurality of the second color resist stripes, and the third color resist includes a plurality of the third color resist stripes.
  • the number of the first color resistive stripes is greater than the number of the second color resistive stripes, and the number of the first color resistive stripes is greater than the number of the third color resistive stripes.
  • the third color resist is a red color resist, and the volume of the third color resist is less than or equal to 310000 ⁇ m 3 .
  • An embodiment of the present invention also discloses a mask plate group for manufacturing a display panel.
  • the display panel includes a first substrate, a second substrate, and display molecules disposed between the first substrate and the second substrate.
  • Layer wherein the second substrate includes a color resist layer including a first color resist, a second color resist, and a third color resist, the first color resist, the second color resist, and the third color resist edge
  • the first direction is uniformly arranged in sequence
  • the first color resist includes a plurality of first color resist stripes
  • the second color resist includes at least one second color resist stripes
  • the third color resist includes at least one third color resist Striping
  • the first color resist is a green color resist
  • the mask group includes a first mask, a second mask, and a third mask
  • the first mask includes a first mask pattern For patterning and forming the first color resist stripe
  • the second mask includes a second mask pattern for patterning and forming the second color resist strip
  • the third mask includes a third mask A film pattern for patterning the third
  • the mask plate group disclosed in the embodiment of the present invention wherein the area of the first mask pattern is less than or equal to 98000 ⁇ m 2 .
  • FIG. 2A is a schematic cross-sectional view taken along the X-direction in FIG. 1.
  • FIG. 2B is a schematic cross-sectional view of the first color resist along the Y direction in FIG. 1.
  • FIG. 4A is a schematic cross-sectional view of a first color resist along the Y direction in FIG. 3.
  • FIG. 6B is a schematic cross-sectional view of the second color resistance along the Y direction in FIG. 5.

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Abstract

一种显示面板,包括:第一基板;第二基板(10),包括色阻层(100),该色阻层(100)包括第一色阻(101)、第二色阻(102)和第三色阻(103),该第一色阻(101)、该第二色阻(102)和该第三色阻(103)沿第一方向(X)依次排列;显示分子层,设置于该第一基板和该第二基板(10)之间;其中从垂直于该第一方向(X)的第二方向(Y)上看,该第一色阻(101)包含多个第一色阻分条(111),该第二色阻(102)包含至少一个第二色阻分条(112),该第三色阻(103)包含至少一个第三色阻分条(113),且该第一色阻分条(111)的体积小于该第二色阻分条(112)的体积,且小于该第三色阻分条(113)的体积,其中该第一色阻(101)为绿色色阻。

Description

一种掩膜板组及显示面板 技术领域
本发明涉及显示面板生产领域,特别是涉及一种用于生产显示面板的掩膜板组。
背景技术
目前采用AHVA(Advanced Hyper-ViewingAngle)技术的产品较为普遍。在AHVA显示面板的设计中,彩膜基板采用了条纹图案的色阻,并通过设计色阻条纹图案的不同宽度,达到不同分辨率的目的。
AHVA液晶显示面板有多种分辨率,在AHVA液晶显示面板产品的设计中,彩膜基板的色阻为条纹(Stripe Type)图案(Pattern),不同分辨率产品其彩膜基板的色阻有着不同的宽度,通常按产品分辨率类型(如4K/2K、FHD、QHD等),色阻图案的宽度为20~50μm。一般AHVA液晶显示面板生产线中,所采用的临近式(Proximity)曝光机在彩膜基板的制程中照度约为40~60mw/cm 2。随着产品分辨率的提高,彩膜基板的色阻图案宽度越来越窄,需要提高彩膜基板的制程中对位精度,所以有些生产线采用了投射式(Projection)曝光机,投射式曝光机在彩膜基板的制程中照度约为700mw/cm 2,一方面投射式曝光机缩短了曝光时间,提高了精度,从而提高生产效率和良品率,但另一方面,由于投射式曝光机相较临近式曝光机的输出能量要大,紫外光(UV RAY)照射时间短,光刻胶(Color Resist)所形成的色阻膜面上下底面交联反应不一致,色阻膜面上底的交联程度高,膜质硬,色阻膜面下底的交联程度底,膜质软,进入烘烤(Oven)制程后色阻的热收缩量不一致,容易造成导致色阻膜面隆起产生大于允许误差的褶皱,从而增加彩膜基板制程的不稳定性。
发明公开
针对上述问题,本发明实施例公开了一种显示面板,包括:第一基板;第二基板,包括色阻层,该色阻层包括第一色阻、第二色阻和第三色阻,该第一色阻、该第二色阻和该第三色阻沿第一方向依次排列;显示分子层,设置于该 第一基板和该第二基板之间;其中从垂直于该第一方向的第二方向上看,该第一色阻包含多个第一色阻分条,该第二色阻包含至少一个第二色阻分条,该第三色阻包含至少一个第三色阻分条,且该第一色阻分条的体积小于该第二色阻分条的体积,且小于该第三色阻分条的体积,其中该第一色阻为绿色色阻。
本发明实施例公开的显示面板,其中该第一色阻分条的体积小于或等于270000μm 3
本发明实施例公开的显示面板,其中沿着该第二方向来看,该第二色阻包含多个该第二色阻分条,该第三色阻包含多个该第三色阻分条,其中,该第一色阻分条的数量大于该第二色阻分条的数量,该第一色阻分条的数量大于该第三色阻分条的数量。
本发明实施例公开的显示面板,其中该第一色组分条的面积小于或等于98000μm 2
本发明实施例公开的显示面板,其中该第二色阻分条的体积小于或等于该第三色阻分条的体积,且该第二色阻为蓝色色阻,该第三色阻为红色色阻。
本发明实施例公开的显示面板,其中该第二色阻为蓝色色阻,且该第二色阻的体积小于或等于290000μm 3
本发明实施例公开的显示面板,其中该第三色阻为红色色阻,且该第三色阻的体积处小于或等于310000μm 3
本发明实施例公开的显示面板,其中还包括设置于该第二基板的遮光层,且该遮光层包括多个第一遮光条与多个第二遮光条,该第一遮光条分别沿着该第一方向延伸,该第二遮光条分别沿着该第二方向延伸,该第一遮光条分别与该第二遮光条交错设置,其中该第二遮光条分别位于该第一色阻与该第二色阻之间、该第二色阻与该第三色阻之间以及该第三色阻与该第一色阻之间。
本发明实施例公开的显示面板,其中其一之该些第一遮光条被该第一色阻层完全覆盖,且其一之该些第一遮光条被该第一色阻层部分覆盖或不覆盖。
本发明实施例还公开了一种掩膜板组,用于制作一种显示面板,该显示面板包括第一基板、第二基板和设置于该第一基板和该第二基板之间的显示分子层,其中该第二基板包括色阻层,该色阻层包括第一色阻、第二色阻和第三色阻,该第一色阻、该第二色阻和该第三色阻沿第一方向依次均匀排列,且该第一色阻包含多个第一色阻分条,该第二色阻包含至少一个第二色阻分条,该第 三色阻包含至少一个第三色阻分条,该第一色阻为绿色色阻;该掩膜板组包括第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板,且该第一掩膜板包含第一掩膜图案,用以图案化形成该第一色阻分条,该第二掩膜板包含第二掩膜图案,用以图案化形成该第二色阻分条,该第三掩膜板包含第三掩膜图案,用以图案化形成该第三色阻分条;其中该第一掩膜图案的面积小于该第二掩膜图案的面积,该第一掩膜图案的面积小于该第三掩膜图案的面积。
本发明实施例公开的掩膜板组,其中该第一掩膜图案的面积小于或等于98000μm 2
本发明实施例公开的掩膜板组,其中该第一掩膜图案、该第二掩膜图案和该第三掩膜图案沿该第一方向的宽度处于20~60μm之间。
本发明实施例公开的掩膜板组,其中该第二掩膜图案的面积小于或等于该第三掩膜图案的面积,且该第二色阻为蓝色色阻。
本发明实施例公开的掩膜板组,其中通过该第一掩膜图案所形成的第一色阻的面积处于93000±5000μm 2之间,通过该第二掩膜图案所形成的第二色阻的面积处于95000±5000μm 2之间,通过该第三掩膜图案所形成的第三色阻的面积处于97000±5000μm 2之间。
本发明实施例公开的掩膜板组,其中通过该第一掩膜图案所形成的该第一色阻分条的体积处于260000±10000μm 3之间,通过该第二掩膜图案所形成的该第二色阻分条的体积处于280000±10000μm 3之间,通过该第三掩膜图案所形成的第三色阻分条的体积处于300000±10000μm 3之间。
附图简要说明
图1是本发明第一实施例的一种显示面板的彩膜基板俯视图。
图2A是沿图1中X方向的剖面示意图。
图2B是沿图1中Y方向的第一色阻剖面示意图。
图2C是沿图1中Y方向的第二色阻剖面示意图。
图2D是沿图1中Y方向的第三色阻剖面示意图。
图3是本发明第二实施例的一种显示面板的彩膜基板俯视图。
图4A是沿图3中Y方向的第一色阻剖面示意图。
图4B是沿图3中Y方向的第二色阻剖面示意图。
图4C是沿图3中Y方向的第三色阻剖面示意图。
图5是本发明第三实施例的一种显示面板的彩膜基板俯视图。
图6A是沿图5中Y方向的第一色阻剖面示意图。
图6B是沿图5中Y方向的第二色阻剖面示意图。
图6C是沿图5中Y方向的第三色阻剖面示意图。
图7是本发明第四实施例的一种显示面板的彩膜基板俯视图。
图8A是沿图7中Y方向的第一色阻剖面示意图。
图8B是沿图7中Y方向的第二色阻剖面示意图。
图8C是沿图7中Y方向的第三色阻剖面示意图。
其中,附图标记为:
10:第二基板          100:色阻层            120:遮光层
121:第一遮光条       122:第二遮光条        130:基板
101:第一色阻         102:第二色阻          103:第三色阻
111:第一色阻分条     112:第二色阻分条      113:第三色阻分条
X:第一方向           Y:第二方向
实现本发明的最佳方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进,因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。
于本发明之实施例中,通过降低色阻内的热应力以减小色阻膜面隆起,使色阻膜面褶皱处于允许误差范围内。具体而言,色阻的体积越大面积越大,其内部累积的热应力越大,通过减小色阻体积,使色阻累积的热应力控制在某个范围内,可以降低色阻膜面的皱褶程度,使色阻分条平坦度满足允许误差要求。此外,由于色阻材料特性差异使不同颜色色阻上下底膜面的交联程度差异不相同,烘烤制程中不同颜色色阻累积的热应力也不一样,如相同体积色阻在相同原始曝光量的情况下,蓝色色阻内部所累积的热应力要大于红色色阻内部所累积的热应力,并小于绿色色阻内部所累积的热应力,因此绿色色阻可能出现的 褶皱问题要比蓝色色阻和红色色阻都要严重。如此一来,不同色阻材料所面临的内部热应力亦不相同,而需有各自对应的解决条件来降低色阻膜面的皱褶程度。
图1是本发明第一实施例的一种显示面板的彩膜基板俯视图。如图1所示,显示面板包括第一基板(如TFT基板)、第二基板(如彩膜基板)10和显示分子层,其中显示分子层设置于第一基板和第二基板10之间,为图示能够清楚表达,将第一基板和显示分子层而予以省略。第二基板10包括色阻层100、遮光层120和基板130,其中色阻层100包括第一色阻(如绿色色阻)101、第二色阻(如蓝色色阻)102和第三色阻(如红色色阻)103,但本发明不以此为限,于另一变形例中,色阻层100可为单一颜色或多种颜色的色阻材料所形成。
于本实施例中,从第一方向X上看,第一色阻101、第二色阻102和第三色阻103依次顺序排列,从第二方向Y上看,第一色阻101分为多个第一色阻分条111,第二色阻102分为多个第二色阻分条112,第三色阻103分为多个第三色阻分条113,且第一色阻分条111、第二色阻分条112与第三色阻分条113的数量不相等,第一色阻分条111的数量大于第二色阻分条112的数量,且第二色阻分条112的数量大于第三色阻分条113的数量,适用于各种色彩饱和度(NTSC)的产品。于本实施例中,为使色阻的褶皱断差控制在允许误差范围内,当第一色阻101为绿色色阻、第二色阻102为蓝色色阻且第三色阻103为红色色阻时,根据不同色阻材料特性差异,则第一色阻分条111的体积小于或等于270000μm 3
图2A是沿图1中X方向的剖面示意图,图2B是沿图1中Y方向的第一色阻剖面示意图,图2C是沿图1中Y方向的第二色阻剖面示意图,图2D是沿图1中Y方向的第三色阻剖面示意图。请同时参阅图1至图2D,本实施例的遮光层120包含多条第一遮光条121与多条第二遮光条122,且第一遮光条121分别与第二遮光条122彼此相交。具体而言,第一遮光条121为沿着第二方向Y所延伸,而第二遮光条122则为沿着第一方向X延伸。如图2A所示,在X方向上,第一遮光条121将第一色阻101(第一色阻分条111)、第二色阻102(第二色阻分条112)和第三色阻103(第三色阻分条113)相互之间隔开,第一遮光条121分别被第一色阻分条111、第二色阻分条112或第三色阻 分条113覆盖。具体而言,于本实施例中,第一遮光条121设置于基板130,之后,第一色阻101、第二色阻102与第三色阻103可依序或同时形成于基板130。如此一来,第一色阻101、第二色阻102与第三色阻103分别覆盖于遮光条121,使得从各色阻之间可被遮光条121分隔而不受干扰。图2B是沿图1中Y方向的第一色阻剖面示意图,请继续参阅图2B,第一色阻101是以图案化多个第一色阻分条111而形成于基板103上,使得在Y方向上有部分第二遮光条122被第一色阻分条111完全覆盖,而另一部分第二遮光条122则被第一色阻分条111部分覆盖,或者,没有被第一条111覆盖。换言之,部分第二遮光条122(没有被第一色阻分条111完全覆盖的第二遮光条122)则位于两两相邻的第一色阻分条111之间,用以分隔两两相邻的第一色阻分条111。如此一来,图案化的第一色阻101的制程步骤中,通过将第一色阻101以多个第一色阻分条111来形成于基板130时,使得每一个第一色阻分条111的体积小于以往以单一长条的第一色阻101。因此,当每一色阻分条111在进行曝光制程中,第一色阻分条111内部所累积的内热应力较小,而不会在其表面有褶皱现象发生。
同样地,如图2C所示,第二色阻102是以图案化多个第二色阻分条112而形成于基板103上。具体而言,图案化的第二色阻102的制程步骤中,通过将第二色阻102以多个第二色阻分条112来形成于基板130时,使得每一个第二色阻分条112的体积小于以往以单一长条的第二色阻102。因此,当每一个第二色阻分条112在进行曝光制程中,第二色阻分条112内部所累积的内热应力较小,而不会在其表面有褶皱现象发生。此外,如图2D所示,第三色阻103是以图案化多个第三色阻分条113而形成于基板130上。因此,图案化的第三色阻103的制程步骤中,通过将第三色阻103以多个第三色阻分条113来形成于基板130时,使得每一个第三色阻分条113的体积小于以往以单一长条的第三色阻103。因此,当每一个第三色阻分条113在进行曝光制程中,第三色阻分条内部所累积的内热应力较小,而不会在其表面有褶皱现象发生。
请同时参阅图1、图2B至图2D,于本实施例中,在Y方向上第一色阻分条111的长度小于第二色阻分条112的长度,且第二色阻分条112的长度小于与第三色阻分条113的长度。举例而言,第一色阻分条111为绿色色阻,第二色阻分条112为蓝色色阻,而第三色阻分条113为红色色阻。详言之,由于不 同材料所能承受或形成的内热应力不相同,于本实施例中,绿色色阻、蓝色色阻与红色色阻在相同的曝光条件下,绿色色阻对于内热应力的反应而在材料表面形成褶皱现象的是比较敏感的,换言之,为避免褶皱现象的发生,其绿色色阻的体积相较于蓝色色阻与红色色阻的体积是较小的,其次为蓝色色阻。因此,如图1所示,第一色阻分条111的体积小于第二色阻分条112的体积,而第二色阻分条112的体积又小于第三色阻分条113的体积。当各色阻分条的厚度皆实质上相同,且各色阻分条的宽度亦实质上相同时,则第一色阻分条111的长度小于第二色阻分条112的长度,且第二色阻分条的长度小于第三色阻分条113的长度。于本实施例中所描述的长度为各色阻分条于Y方向的延伸长度。
请再次参阅图1,于本发明的第一实施例中,为使色阻的褶皱断差控制在允许误差范围内,根据不同色阻材料特性差异,当第一色阻101为绿色色阻、第二色阻102为蓝色色阻、第三色阻103为红色色阻,则第一色阻分条111的体积小于或等于270000μm 3,且色阻层厚度为2.85μm时,第一色阻分条111的面积小于等于98000μm 2
在显示面板制程中,第一色阻101、第二色阻102与第三色阻103是分别通过第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板而图形化地设置于第二基板10。详细而言,第一掩膜板包含第一掩膜图案,用以图案化形成第一色阻分条111,第二掩膜板包含第二掩膜图案,用以图案化形成第二色阻分条112,第三掩膜板包含第三掩膜图案,用以图案化形成第三色阻分条113。于本实施例中,第一色阻101为绿色色阻,第二色阻102为蓝色色阻,而第三色阻103则为红色色阻。根据色阻材料特性的差异,使得第一色阻分条111的体积(或面积)将分别小于第二色阻分条112的体积(或面积)以及第三色阻分条113的体积(或面积)。如此一来,与各色阻相匹配的掩膜板的掩膜图案则会有相对应的面积设计,使得第一掩膜图案的面积较小。于本实施例中根据对应显示面板的分辨率,第一掩膜图案、第二掩膜图案和第三掩膜图案沿第一方向X的宽度处于20~60μm之间。于本实施例中,第一掩膜图案、第二掩膜图案与第三掩膜图案皆为一开口设计,但本发明不以此为限。
图3是本发明第二实施例的一种显示面板的彩膜基板俯视图。如图3所示,于本发明的第二实施例,延续第一实施例,与第一实施例的区别在于,从第二方向Y上看,第一色阻101分为多个第一色阻分条111,第二色阻102为多个 第二色阻分条112,第三色阻103为多个第三色阻分条113,第一色阻分条111的数量大于第二色阻分条112的数量,且第二色阻分条112的数量等于第三色阻分条113的数量,为使色阻的褶皱断差控制在允许误差范围内,当第一色阻101为绿色色阻时,第一色阻分条111的体积小于或等于270000μm 3。具体而言,绿色色阻对于内热应力而产生表面褶皱现象的是比较敏感的,因此,当绿色色阻的分条体积满足小于或等于270000μm 3,即可减少表面褶皱问题。蓝色或红色色阻的分条体积可实质上相同,满足小于或等于290000μm 3,即可使得蓝色或红色色阻减少表面褶皱问题,且可使用同一掩膜来分别图案化形成蓝色与红色色阻,减少制造成本。
图4A是沿图3中Y方向的第一色阻剖面示意图,图4B是沿图3中Y方向的第二色阻剖面示意图,图4C是沿图3中Y方向的第三色阻剖面示意图。由于第一实施例与第二实施例在沿着X方向的剖面示意图相同,在此不重复赘述。延续第一实施例,如图4A所示,第一色阻101是以图案化多个第一色阻分条111而形成于基板130上;如图4B所示,第二色阻102以图案化多个第二色阻分条112而形成于基板130;如图4C所示,第三色阻103以图案化多个第三色阻分条113而形成于基板130。如此一来,每个第一色阻分条111、第二色阻分条112与第三色阻分条113的体积小于以往以单一长条的色阻,进而减少色阻因内热应力而形成表面皱摺现象。其中,从图4B与图4C中可看到,第二色阻分条112与第三色阻分条113的长度实质相同,不仅降低表面皱摺现象,亦可共享掩膜而降低成本。
请同时参阅图3、图4A至图4C,于本实施例中,在Y方向上第一色阻分条111的长度小于第二色阻分条112的长度,且第二色阻分条112的长度等于与第三色阻分条113的长度。举例而言,第一色阻分条111为绿色色阻,第二色阻分条112为蓝色色阻,而第三色阻分条113为红色色阻。详言之,由于不同材料所能承受或形成的内热应力不相同,于本实施例中,为避免褶皱现象的发生,其绿色色阻的体积相较于蓝色色阻与红色色阻的体积是较小的,其次为蓝色色阻和红色色阻。因此,如图3所示,第一色阻分条111的体积小于第二色阻分条112的体积,而第二色阻分条112的体积等于第三色阻分条113的体积。当各色阻分条的厚度皆实质上相同,且各色阻分条的宽度亦实质上相同时,则第一色阻分条111的长度小于第二色阻分条112的长度,且第二色阻分条的 长度等于第三色阻分条113的长度。
图5是本发明第三实施例的一种显示面板的彩膜基板俯视图。如图5所示,于本发明的第三实施例,延续第二实施例,与第二实施例的区别在于,从第二方向Y上看,第一色阻101分为多个第一色阻分条111,第二色阻102为一个第二色阻分条112,第三色阻103为一个第三色阻分条113,适用于一些绿色色彩饱和度(NTSC)为100%,红色和蓝色色彩饱和度为72%的产品。于本实施例中,为使色阻的褶皱断差控制在允许误差范围内,当第一色阻101为绿色色阻、第二色阻102为蓝色色阻且第三色阻103为红色色阻时,根据不同色阻材料特性差异,则第一色阻分条111的体积小于或等于270000μm 3
图6A是沿图5中Y方向的第一色阻剖面示意图,图6B是沿图5中Y方向的第二色阻剖面示意图,图6C是沿图5中Y方向的第三色阻剖面示意图。延续第一实施例,图6A所示,第一色阻101是以图案化多个第一色阻分条111而形成于基板130上;图6B所示为第二色阻102以图案化一个第二色阻分条112而形成于基板130,使得每个第二色阻分条112的体积等于单一长条的第二色阻102;图6C所示亦为第三色阻103以图案化一个第三色阻分条113而形成于基板130,每个第三色阻分条113的体积等于单一长条的第三色阻103。
请再次参阅图5,于本发明的第三实施例中,为使色阻的褶皱断差控制在允许误差范围内,根据不同色阻材料特性差异,当第一色阻101为绿色色阻、第二色阻102为蓝色色阻、第三色阻103为红色色阻,则第一色阻分条111的体积小于或等于270000μm 3,且色阻层厚度为2.85μm时,第一色阻分条111的面积小于等于98000μm 2。于本实施例中,绿色色阻对于内热应力而产生表面褶皱现象的是比较敏感的,因此,当绿色色阻之分条体积满足小于或等于270000μm 3,即可减少表面褶皱问题。蓝色与红色色阻则可使用同一掩膜来分别图案化形成蓝色与红色色阻,减少制造成本。
图7是本发明第四实施例的一种显示面板的彩膜基板俯视图。如图7所示,于本发明的第四实施例,延续第一实施例,与第一实施例的区别在于,从第二方向Y上看,第一色阻101分为多个第一色阻分条111,第二色阻102分为多个第二色阻分条112,第三色阻103分为多个第三色阻分条113,且第一色阻分条111、第二色阻分条112与第三色阻分条113的数量相等,适用于所有色彩饱和度(NTSC)产品且制程的成品率较高。具体而言,于本实施例中,第 一色阻分条111、第二色阻分条112与第三色阻分条113的体积实质相同,且在相同厚度下,其第一色阻分条111、第二色阻分条112与第三色阻分条113的面积亦实质相同。依此类推,在相同宽度之下,其第一色阻分条111、第二色阻分条112与第三色阻分条113的长度亦实质相同,换言之,第一色阻分条111、第二色阻分条112与第三色阻分条113的个数亦相同。
于本实施例中,当显示面板的色阻分别为绿色、红色与蓝色色阻所组成时,其中绿色色阻对于内热应力而产生表面褶皱现象的是比较敏感的,因此,当每一色阻形成之色阻分条的体积皆能满足小于或等于270000μm 3,即可减少表面褶皱问题。因此,于本实施例中,每一色阻皆包含多个色阻分条,且每一色阻分条(如第一色阻分条111、第二色阻分条112、第三色阻分条113)的体积皆实质相同,且满足小于或等于270000μm 3。举例而言,当每一色阻分条的体积需满足小于或等于270000μm 3,且其应用于色阻厚度为2.85μm时,则使得每一色阻分条的面积为小于或等于98000μm 2
图8A是沿图7中Y方向的第一色阻剖面示意图,图8B是沿图7中Y方向的第二色阻剖面示意图,图8C是沿图7中Y方向的第三色阻剖面示意图。延续第一实施例,图8A说明第一色阻101是以图案化多个第一色阻分条111而形成于基板130上,同样地,从图8B可以看见第二色阻102以图案化多个第二色阻分条112而形成于基板130;而图8C亦可了解到第三色阻103亦以图案化多个第三色阻分条113而形成于基板130。如此一来,从图8A~图8C可以看到,第一色阻分条111、第二色阻分条112与第三色阻分条113的长度实质相同,因此,第一色阻101、第二色阻102与第三色阻103可共享同一道掩膜来分别图案化形成各色阻分条,不仅能增加良率外,亦能减少制程成本。
通过针对NTSC 100%的产品进行的色阻(Color Resist)模拟测试可以发现,色阻膜面未出现褶皱或出现轻微褶皱,其中轻微褶皱的色阻分条平坦度仍处于允许误差范围内(如轻微褶皱表面的高低起伏断差小于0.05μm)。具体来说,以绿色色阻,且色阻分条的宽度为20μm为例,若色阻分条的长度为312μm,则色阻分条不会产生褶皱,当若色阻分条的长度为4732μm,则色阻分条仅产生符合允许误差的轻微褶皱,而当色阻分条的长度为等于或大于39052μm时,则色阻分条会形成严重的表面褶皱现象,影响影像质量。具体模拟测试数据如表1所示,其中色阻分条宽度分别以20μm、30μm、40μm、50μm、 60μm为例,足以应用于不同分辨率之显示面板的应用:
Figure PCTCN2018115230-appb-000001
表1:模拟测试数据表
通过表1可以看出,在模拟测试中,满足彩膜基板制程要求的情况下,不同色阻分条宽度所对应不同色阻分条长度,可以定义当色阻分条的面积小于93000μm 2,色阻分条的体积(色阻层厚度为2.85μm)小于260000μm 3时,就可以严重褶皱的产生。同时,考虑实际制程中,即使使用相同掩膜的情况下,图案化形成之色阻分条的体积或面积亦会有特定的误差范围。因此,将表1的模拟数据搭配制程误差后,建议色阻分条的体积需满足小于或等于260000μm 3±10000μm 3(此为体积误差值),使得色阻分条的体积需满足小于或等于270000μm 3,如上述各实施例所说明的范围。同样地,将表1的模拟数据搭配制程误差后,建议色阻分条的体积需满足小于或等于93000μm 2±5000μm 2(此为面积误差值),使得色阻分条的面积需满足小于或等于98000μm 2,如上述各实施例所说明的范围。
于本实施例中,表1为以绿色色阻为例来说明,且于实际情况中,绿色色阻对于内热应力而形成的表面褶皱现象,相较于蓝色色阻与红色色阻而言,是较为敏感的,其次为蓝色色阻,换言之,红色色阻是相对较为低敏感的。因此,不同色阻对应其色阻分条的体积(面积)范围亦不相同。举例说明,以蓝色色阻而言,其蓝色色阻分条需满足小于或等于280000μm 3±10000μm 3(此为体积误差值),使得蓝色色阻分条的体积需满足小于或等于290000μm 3。以红色色阻而言,其红色色阻分条需满足小于或等于300000μm 3±10000μm 3(此为体积误差值),使得红色色阻分条的体积需满足小于或等于310000μm 3
在产品的实际生产中,绿色色阻出现褶皱情况最严重,蓝色色阻和红色色 阻的褶皱情况较为轻微,同时考虑曝光精度,针对不同色阻材料特性,可以对绿色色阻、蓝色色阻和红色色阻分别限制色阻分条的面积和体积,也可以仅对绿色色阻限制色阻分条的面积和体积。
虽然本发明已以实施例公开如上,而并非用以限定本发明,任何本技术领域的技术人员,在未脱离本发明的精神与范围内,可对其进行等效修改或变更,均应包含于本发明的权利要求书保护范围中。
工业应用性
本发明通过设置掩膜板组的掩膜图案面积,在彩膜基板制程中改变彩膜基板上色阻的面积和体积,以减小使用投射式曝光机导致的色阻膜面上下底交联不一致的问题,从而减小色阻膜面隆起产生大于允许误差而导致的褶皱问题的发生,提高产品的良率。掩膜图案根据不同色阻而分别设置,可适用于不同色彩饱和度的显示面板的制程,增加彩膜基板制程的稳定性。

Claims (15)

  1. 一种显示面板,包括:
    一第一基板;
    一第二基板,包括一色阻层,该色阻层包括一第一色阻、一第二色阻和一第三色阻,该第一色阻、该第二色阻和该第三色阻沿一第一方向依次排列;
    一显示分子层,设置于该第一基板和该第二基板之间;
    其特征在于,从垂直于该第一方向的一第二方向上看,该第一色阻包含多个第一色阻分条,该第二色阻包含至少一个第二色阻分条,该第三色阻包含至少一个第三色阻分条,且该第一色阻分条的体积小于该第二色阻分条的体积,且小于该第三色阻分条的体积,其中该第一色阻为绿色色阻。
  2. 如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,该第一色阻分条的体积小于或等于270000μm 3
  3. 如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,沿着该第二方向来看,该第二色阻包含多个该第二色阻分条,该第三色阻包含多个该第三色阻分条,其中,该第一色阻分条的数量大于该第二色阻分条的数量,该第一色阻分条的数量大于该第三色阻分条的数量。
  4. 如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,该第一色组分条的面积小于或等于98000μm 2
  5. 如权利要求1或3所述的显示面板,其特征在于,该第二色阻分条的体积小于或等于该第三色阻分条的体积,且该第二色阻为蓝色色阻,该第三色阻为红色色阻。
  6. 如权利要求2所述的显示面板,其特征在于,该第二色阻为蓝色色阻,且该第二色阻的体积小于或等于290000μm 3
  7. 如权利要求6所述的显示面板,其特征在于,该第三色阻为红色色阻,且该第三色阻的体积处小于或等于310000μm 3
  8. 如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,还包括设置于该第二基板的一遮光层,且该遮光层包括多个第一遮光条与多个第二遮光条,该第一遮光条分别沿着该第一方向延伸,该第二遮光条分别沿着该第二方向延伸,该第一遮光条分别与该第二遮光条交错设置,其中该第二遮光条分别位于该第一色阻与该第二色阻之间、该第二色阻与该第三色阻之间以及该第三色阻与该第一 色阻之间。
  9. 如权利要求8所述的显示面板,其特征在于,部分该第一遮光条被该第一色阻完全覆盖,且其余部分该第一遮光条位于两两相邻之该第一色阻分条之间。
  10. 一种掩膜板组,用于制作一种显示面板,该显示面板包括第一基板、第二基板和设置于该第一基板和该第二基板之间的显示分子层,其中该第二基板包括一色阻层,该色阻层包括一第一色阻、一第二色阻和一第三色阻,该第一色阻、该第二色阻和该第三色阻沿一第一方向依次均匀排列,且该第一色阻包含多个第一色阻分条,该第二色阻包含至少一个第二色阻分条,该第三色阻包含至少一个第三色阻分条,该第一色阻为绿色色阻;
    该掩膜板组包括一第一掩膜板、一第二掩膜板和一第三掩膜板,且该第一掩膜板包含一第一掩膜图案,用以图案化形成该第一色阻分条,该第二掩膜板包含一第二掩膜图案,用以图案化形成该第二色阻分条,该第三掩膜板包含一第三掩膜图案,用以图案化形成该第三色阻分条;
    其特征在于,该第一掩膜图案的面积小于该第二掩膜图案的面积,该第一掩膜图案的面积小于该第三掩膜图案的面积。
  11. 如权利要求10所述的掩膜板组,其特征在于,该第一掩膜图案的面积小于或等于98000μm 2
  12. 如权利要求10所述的掩膜板组,其特征在于,该第一掩膜图案、该第二掩膜图案和该第三掩膜图案沿该第一方向的宽度处于20~60μm之间。
  13. 如权利要求10所述的掩膜板组,其特征在于,该第二掩膜图案的面积小于或等于该第三掩膜图案的面积,且该第二色阻为蓝色色阻。
  14. 如权利要求10所述的掩膜板组,其特征在于,通过该第一掩膜图案所形成的第一色阻的面积处于93000±5000μm 2之间,通过该第二掩膜图案所形成的第二色阻的面积处于95000±5000μm 2之间,通过该第三掩膜图案所形成的第三色阻的面积处于97000±5000μm 2之间。
  15. 如权利要求10所述的掩膜板组,其特征在于,通过该第一掩膜图案所形成的该第一色阻分条的体积处于260000±10000μm 3之间,通过该第二掩膜图案所形成的该第二色阻分条的体积处于280000±10000μm 3之间,通过该第三掩膜图案所形成的第三色阻分条的体积处于300000±10000μm 3之间。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113690385B (zh) * 2021-08-11 2022-09-09 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示面板

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103149733A (zh) * 2013-03-29 2013-06-12 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板、显示面板及显示装置
CN104730760A (zh) * 2015-04-08 2015-06-24 武汉华星光电技术有限公司 彩膜基板、液晶屏及彩色液晶显示装置
CN107402469A (zh) * 2017-08-18 2017-11-28 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示面板及显示装置
CN207216211U (zh) * 2017-08-31 2018-04-10 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板、显示面板及显示装置
CN108319066A (zh) * 2018-02-11 2018-07-24 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制造方法、显示装置

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5399450A (en) * 1989-04-28 1995-03-21 Seiko Epson Corporation Method of preparation of a color filter by electrolytic deposition of a polymer material on a previously deposited pigment
KR100728520B1 (ko) * 1999-08-27 2007-06-14 도요 잉키 세이조 가부시끼가이샤 컬러필터 및 컬러 액정 디스플레이 디바이스
TW581918B (en) * 2001-03-07 2004-04-01 Sharp Kk Transmission/reflection type color liquid crystal display device
JP4345263B2 (ja) * 2002-06-28 2009-10-14 セイコーエプソン株式会社 液晶装置用基板、液晶装置用基板の製造方法、液晶装置、および電子機器
JP3942590B2 (ja) * 2003-12-25 2007-07-11 シャープ株式会社 カラーフィルタ基板の製造方法
JP4866011B2 (ja) * 2005-03-22 2012-02-01 シャープ株式会社 液晶表示装置及びその製造方法
TWI363196B (en) * 2007-03-22 2012-05-01 Au Optronics Corp Color filter and manufacturing method thereof
JP5245443B2 (ja) * 2008-02-12 2013-07-24 凸版印刷株式会社 カラーフィルタ、及びそれを用いた液晶表示装置
JP5569772B2 (ja) 2009-12-16 2014-08-13 凸版印刷株式会社 カラーフィルタの製造方法
US8778576B2 (en) 2009-12-24 2014-07-15 Toppan Printing Co., Ltd. Exposure method and exposure device
CN103018950B (zh) 2012-12-10 2015-02-11 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板及其制造方法、显示装置
EP2950121B1 (en) * 2013-01-25 2018-11-21 Toppan Printing Co., Ltd. Color filter substrate, liquid-crystal display device, and method for manufacturing color filter substrate
CN103268037B (zh) * 2013-05-15 2015-07-29 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板、制备方法以及显示装置
WO2016117031A1 (ja) * 2015-01-20 2016-07-28 堺ディスプレイプロダクト株式会社 液晶表示装置の製造方法及び露光マスク
KR102323178B1 (ko) * 2015-05-29 2021-11-05 동우 화인켐 주식회사 컬러 필터 및 이의 제조 방법
CN105223722A (zh) * 2015-11-02 2016-01-06 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板、液晶显示面板、液晶显示装置及制造方法
CN105487333B (zh) 2016-01-04 2019-09-17 重庆京东方光电科技有限公司 掩膜板组、彩膜基板及其制作方法、检测装置、显示装置
CN110062900A (zh) * 2016-12-28 2019-07-26 Dnp精细化工股份有限公司 滤色器用着色剂分散液、滤色器用着色树脂组合物、滤色器及显示装置
CN106908985B (zh) * 2017-03-31 2020-02-07 厦门天马微电子有限公司 一种显示装置
CN107024796A (zh) * 2017-06-21 2017-08-08 上海天马微电子有限公司 一种显示面板和显示装置
CN107229154A (zh) * 2017-07-31 2017-10-03 厦门天马微电子有限公司 一种彩膜基板、显示面板和显示装置
CN108508695B (zh) * 2018-03-09 2020-10-02 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 掩膜板、阵列基板、显示器及阵列基板的制备方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103149733A (zh) * 2013-03-29 2013-06-12 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板、显示面板及显示装置
CN104730760A (zh) * 2015-04-08 2015-06-24 武汉华星光电技术有限公司 彩膜基板、液晶屏及彩色液晶显示装置
CN107402469A (zh) * 2017-08-18 2017-11-28 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示面板及显示装置
CN207216211U (zh) * 2017-08-31 2018-04-10 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板、显示面板及显示装置
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