WO2020013189A1 - 硬化膜、配向材および位相差材 - Google Patents

硬化膜、配向材および位相差材 Download PDF

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WO2020013189A1
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cured film
alignment
liquid crystal
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直也 西村
伊藤　潤
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日産化学株式会社
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    • H10K59/80—Constructional details
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Definitions

  • the present invention relates to a cured film, an alignment material, and a retardation material for forming an alignment material for aligning liquid crystal molecules.
  • the present invention is useful for producing a phase difference material used for a circularly polarized glasses type 3D display and a phase difference material used for a circularly polarizing plate used as an antireflection film of an organic EL display.
  • the present invention relates to a cured film, an alignment material, and a retardation material.
  • a retardation material is usually arranged on a display element for forming an image such as a liquid crystal panel.
  • a phase difference material a plurality of two types of phase difference regions having different phase difference characteristics are regularly arranged, respectively, to form a patterned phase difference material.
  • a retardation material patterned to arrange a plurality of retardation regions having different retardation characteristics is referred to as a patterned retardation material.
  • the patterned retardation material can be manufactured by optically patterning a retardation material composed of a polymerizable liquid crystal as disclosed in Patent Document 1, for example.
  • Optical patterning of a retardation material composed of a polymerizable liquid crystal utilizes an optical alignment technique known for forming an alignment material of a liquid crystal panel. That is, a coating film made of a photo-alignable material is provided on a substrate, and two types of polarized lights having different polarization directions are irradiated to the coating film. Then, an optical alignment film is obtained as an alignment material in which two types of liquid crystal alignment regions having different alignment control directions of the liquid crystal are formed.
  • a solution phase retardation material containing a polymerizable liquid crystal is applied on the photo-alignment film to realize the alignment of the polymerizable liquid crystal. Thereafter, the oriented polymerizable liquid crystal is cured to form a patterned retardation material.
  • the anti-reflection film of the organic EL display is composed of a linear polarizing plate and a quarter-wave retardation plate, and converts the external light traveling toward the panel surface of the image display panel into linearly polarized light by the linear polarizing plate.
  • the light is converted into circularly polarized light by a phase difference plate.
  • the external light due to the circularly polarized light is reflected on the surface of the image display panel or the like, but the direction of rotation of the polarization plane is reversed at the time of the reflection.
  • the reflected light is converted from the 1 / wavelength phase difference plate into linearly polarized light in a direction in which light is shielded by the linear polarizer, and then is shielded by the subsequent linear polarizer.
  • emission to the outside is significantly suppressed.
  • Patent Document 2 discloses that a quarter-wave retardation plate is formed by combining a half-wave plate and a quarter-wave plate, thereby making the optical film have an inverse dispersion characteristic.
  • an optical film can be formed by using a liquid crystal material having a positive dispersion characteristic and by using a reverse dispersion characteristic.
  • Patent Documents 3 and 4 As a liquid crystal material applicable to the retardation layer, a material having an inverse dispersion characteristic has been proposed (Patent Documents 3 and 4). According to the liquid crystal material having such an inverse dispersion characteristic, instead of forming a quarter-wave retardation plate with two retardation layers obtained by combining a half-wave plate and a quarter-wave plate, a retardation layer is formed. Is constituted by a single layer, and the inverse dispersion characteristics can be secured, whereby an optical film capable of securing a desired retardation in a wide wavelength band can be realized with a simple structure.
  • An alignment layer is used to align the liquid crystal.
  • a method for forming the alignment layer for example, a rubbing method or a photo-alignment method is known.
  • the photo-alignment method does not generate static electricity or dust, which is a problem of the rubbing method, and can quantitatively control the alignment process.
  • an acrylic resin or a polyimide resin having a photodimerization site such as a cinnamoyl group or a chalcone group in a side chain is known as a usable photo-alignment material. It has been reported that these resins exhibit the ability to control the orientation of liquid crystal (hereinafter also referred to as liquid crystal orientation) by irradiation with polarized UV (see Patent Documents 5 to 7).
  • the alignment layer is required to have solvent resistance in addition to liquid crystal alignment ability.
  • the alignment layer may be exposed to heat or a solvent during the manufacturing process of the retardation material. When the alignment layer is exposed to a solvent, the liquid crystal alignment ability may be significantly reduced.
  • Patent Document 8 discloses that in order to obtain a stable liquid crystal alignment ability, a liquid crystal alignment agent containing a polymer component having a structure capable of crosslinking by light and a structure capable of being crosslinked by heat, and Liquid crystal aligning agents containing a polymer component having a structure capable of undergoing a crosslinking reaction and a compound having a structure capable of being crosslinked by heat have been proposed.
  • the retardation material is formed by laminating a cured polymerizable liquid crystal layer on the photo-alignment film as the alignment material. Therefore, there is a need to develop an alignment material that can achieve both excellent liquid crystal alignment and solvent resistance.
  • an acrylic resin having a photodimerization site such as a cinnamoyl group or a chalcone group in a side chain cannot obtain sufficient properties when applied to the formation of a retardation material. ing.
  • a large amount of polarized UV exposure is required.
  • the polarized UV exposure amount is much larger than the polarized UV exposure amount (for example, about 30 mJ / cm 2 ) which is sufficient to align the liquid crystal for a normal liquid crystal panel.
  • the orientation material is made to exhibit solvent resistance using the above-mentioned conventional materials such as the acrylic resin, it is necessary to cause the reaction to reach the inside of the orientation material, which requires a larger amount of exposure. As a result, there has been a problem that the orientation sensitivity of the conventional material is extremely reduced.
  • liquid crystal ink various organic solvents are used in the liquid crystal ink, and a film having low resistance to the organic solvent in terms of optical characteristics is sometimes used.
  • an alignment film having a thickness of 3 ⁇ m or more is used. Is required.
  • a good solvent such as N-methylpyrrolidone
  • solvent resistance to such a good solvent is required.
  • a photo-alignment technique capable of improving the alignment sensitivity of the alignment material, reducing the amount of polarized UV exposure, and imparting resistance to a good solvent, and a liquid crystal for photo-alignment used for forming the alignment material
  • an aligning agent There is a need for an aligning agent.
  • an object of the present invention is to have excellent alignment sensitivity, pattern formability and transparency even when the film thickness is 3 ⁇ m or more, and also have a good solvent resistance and alignment uniformity.
  • Another object of the present invention is to provide a cured film for providing an excellent alignment material.
  • a first aspect of the present invention provides: (A) a compound having a photo-alignable group and any one substituent selected from a hydroxy group, a carboxyl group, and an amino group; (B) a dried and fired film formed from an applied product of a cured film-forming composition, characterized by containing a polyester polyol having an aromatic ring, and (C) a crosslinking agent, wherein the film thickness is 3 ⁇ m or more
  • the present invention relates to a cured film having a photo-alignment group of 20 ⁇ m or less.
  • the photo-alignment group of the component (A) is a functional group having a structure that undergoes photodimerization or photoisomerization.
  • the photo-alignment group of the component (A) is a cinnamoyl group.
  • the photo-alignment group of the component (A) is a group having an azobenzene structure.
  • the component (A) has two or more hydroxy groups.
  • a crosslinking catalyst is further contained as the component (D).
  • the ratio of the component (A) to the component (B) is preferably from 5:95 to 60:40 by mass ratio.
  • the first aspect of the present invention it is preferable to contain 5 parts by mass to 500 parts by mass of the component (C) based on 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B).
  • the component (D) 0.01 to 20 parts by mass of the component (D) is contained based on 100 parts by mass of the total of the compound of the component (A) and the polymer of the component (B). Is preferred.
  • 2A second aspect of the present invention relates to an alignment material obtained by using the cured film of the first aspect of the present invention.
  • 3A third aspect of the present invention relates to a retardation material formed by using the cured film of the first aspect of the present invention.
  • an alignment material having excellent alignment sensitivity, pattern forming property and transparency, and having excellent alignment uniformity even when the film thickness is 3 ⁇ m or more.
  • a cured film for providing can be provided.
  • the film thickness is 3 ⁇ m or more, it has excellent alignment sensitivity, pattern formability and transparency, has resistance to a good solvent, and has good alignment.
  • An alignment material having excellent uniformity can be provided.
  • the third aspect of the present invention it is possible to provide a retardation material that can be formed on alkali glass with high efficiency and can be optically patterned.
  • the cured film forming composition (hereinafter, also simply referred to as a cured film forming composition) used in the present invention comprises a low molecular weight photo-alignment component (A) and an aromatic ring-containing polyester (B). It contains a polyol and a crosslinking agent as the component (C).
  • the cured film-forming composition used in the present invention comprises, in addition to the component (A), the component (B) and the component (C), a crosslinking catalyst as the component (D) and an adhesive property of the cured film as the component (E). Can also be included. And other additives can be contained as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • the component (A) contained in the cured film forming composition of the present embodiment is the above-described low molecular photo-alignment component.
  • the low molecular weight photo-alignment component as the component (A) can be a compound having a photo-alignment group and any one substituent selected from a hydroxy group, a carboxyl group, and an amino group.
  • the photo-reactive group constitutes a hydrophobic photo-reactive portion in the photo-reactive component, Constitute a hydrophilic thermal reaction section.
  • the photo-alignable group refers to a functional group at a structural site that undergoes photodimerization or photoisomerization.
  • the photo-dimerized structural site is a site where a dimer is formed by light irradiation, and specific examples thereof include a cinnamoyl group, a chalcone group, a coumarin group, and an anthracene group. Of these, a cinnamoyl group having high transparency in the visible light region and photodimerization reactivity is preferable.
  • the photoisomerized structural site is a site in which the cis-form and the trans-form are changed by light irradiation, and specific examples thereof include a site having an azobenzene structure, a stilbene structure and the like. Of these, the azobenzene structure is preferred because of its high reactivity.
  • the compound having a photo-alignment group and a hydroxy group is represented, for example, by the following formulas [A1] to [A5].
  • a 1 and A 2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group
  • X 1 represents a single bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a urethane bond, an amino bond or Represents a structure in which 1 to 3 units selected from alkylene having 1 to 18 carbon atoms, phenylene, biphenylene or a combination thereof are bonded via one or more bonds selected from those combinations;
  • X 2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group, a biphenyl group or a cyclohexyl group.
  • an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group, a biphenyl group and a cyclohexyl group may be bonded via a covalent bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond or a urea bond.
  • X 5 represents a hydroxy group, a carboxyl group, an amino group or alkoxysilyl group.
  • X 6 represents a hydroxy group, a mercapto group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms or a phenyl group.
  • X 7 represents a single bond, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic ring group, or an aliphatic ring group. Among them, the alkylene group having 1 to 20 carbon atoms may be branched or linear.
  • X 8 represents a single bond, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • phenylene, phenyl group, biphenylene and biphenyl group are each formed from an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, a trifluoromethyl group, and a cyano group. It may be substituted by one or more selected same or different substituents.
  • R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and a carbon atom having 1 carbon atom. To 4 alkoxy groups, halogen atoms, trifluoromethyl groups or cyano groups.
  • the compound having a photo-alignable group and a hydroxy group as the component (A) include, for example, methyl 4- (8-hydroxyoctyloxy) cinnamate and 4- (6-hydroxyhexyloxy) silicone Methyl cinnamate, methyl 4- (4-hydroxybutyloxy) cinnamate, methyl 4- (3-hydroxypropyloxy) cinnamate, methyl 4- (2-hydroxyethyloxy) cinnamate, Methyl 4-hydroxymethyloxycinnamate, methyl 4-hydroxycinnamate, ethyl 4- (8-hydroxyoctyloxy) cinnamate, ethyl 4- (6-hydroxyhexyloxy) cinnamate, 4- (4-hydroxybutyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4- (3-hydroxy Ethyl propyloxycinnamate, 4- (2-hydroxyethyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4-
  • the compound having a photo-alignment group and a carboxyl group include cinnamic acid, ferulic acid, 4-nitrocinnamic acid, 4-methoxycinnamic acid, 3,4-dimethoxycinnamic acid, coumarin-3- Carboxylic acid and 4- (N, N-dimethylamino) cinnamic acid.
  • the compound having a photo-alignable group and an amino group include methyl-4-aminocinnamic acid, ethyl-4-aminocinnamic acid, methyl-3-aminocinnamic acid, and ethyl-3-aminocinnamic acid Acids and the like.
  • the low molecular weight photo-alignment component (A) include the above specific examples, but are not limited thereto.
  • the photo-alignment component (A) is a compound having a photo-alignment group and a hydroxy group
  • two or more photo-alignment groups and / or hydroxy Compounds having two or more groups can be used.
  • a compound having two or more photo-alignable groups and two or more hydroxy groups in the molecule can be used as a compound having two or more photo-alignable groups and two or more hydroxy groups in a molecule.
  • a compound represented by the following formula can be exemplified.
  • the molecular weight of the photo-alignment component which is the component (A)
  • the polymer as the component (A) and the polymer as the component (B) thermally react with the crosslinking agent as the component (C)
  • the photo alignment component as the component (A) is thermally reacted.
  • Sublimation of the components can be suppressed.
  • the cured film forming composition of the present embodiment can form an alignment material having high photoreaction efficiency as a cured film.
  • the compound of the component (A) in the cured film forming composition is a mixture of a plurality of compounds having a photo-alignment group and any one of substituents selected from a hydroxy group, a carboxyl group and an amino group. There may be.
  • the component (B) contained in the cured film forming composition of the present embodiment is a polyester polyol having an aromatic ring.
  • polyester polyol which is a preferred example of the specific polymer of the component (B), phthalic acid, isophthalic acid, aromatic polycarboxylic acids such as terephthalic acid, and ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, What reacted the diols, such as triethylene glycol, tripropylene glycol, polyethylene glycol, and polypropylene glycol, is mentioned.
  • Specific examples of the polyester polyol having an aromatic ring include RX-4800 manufactured by DIC, polyols P-520, P-1020, P-2020, P-1012, P-2012 manufactured by Kuraray, and Nipporan 121E, 134 manufactured by Tosoh.
  • the preferred molecular weight of the specific polymer as the component (B) is preferably from 100 to 20,000 in terms of weight average molecular weight, preferably from 100 to 10,000, and more preferably from 100 to 5,000 from the viewpoint of increasing the degree of crosslinking. .
  • the specific polymer of component (B) preferably has a hydroxyl value of 50 to 1,000, and more preferably 100 to 600 from the viewpoint of increasing the degree of crosslinking.
  • the preferred aromatic ring concentration of the specific polymer as the component (B) is preferably 5 mol% to 50 mol%, and more preferably 5 mol% to 30 mol% from the viewpoint of solubility.
  • the polymer as the component (B) may be used in the form of a powder or a solution in which a purified powder is redissolved in a solvent described below.
  • the polymer of the component (B) may be a mixture of a plurality of types of the polymer of the component (B).
  • the cured film forming composition of the present embodiment contains a crosslinking agent as the component (C). More specifically, the component (C) is a crosslinking agent that reacts with the components (A) and (B) described above. The component (C) bonds to the thermally crosslinkable group of the compound (A) and the hydroxy group contained in the component (B). And the cured film forming composition of the present embodiment can form an alignment material having high photoreaction efficiency as a cured film.
  • the crosslinking agent as the component (C) examples include compounds such as an epoxy compound, a methylol compound, and an isocyanate compound, and preferably include a methylol compound.
  • the crosslinking agent as the component (C) a compound having two or more groups capable of forming a crosslink with the thermally crosslinkable functional group of the component (A) is preferable.
  • two compounds having two methylol groups or two alkoxymethyl groups are preferable.
  • the crosslinking agent has the above. Examples of compounds having these groups include methylol compounds such as alkoxymethylated glycoluril, alkoxymethylated benzoguanamine, and alkoxymethylated melamine.
  • methylol compound examples include, for example, compounds such as alkoxymethylated glycoluril, alkoxymethylated benzoguanamine, alkoxymethylated melamine, tetra (alkoxymethyl) bisphenol and tetra (hydroxymethyl) bisphenol.
  • alkoxymethylated glycoluril examples include, for example, 1,3,4,6-tetrakis (methoxymethyl) glycoluril, 1,3,4,6-tetrakis (butoxymethyl) glycoluril, 1,3,4 1,6-tetrakis (hydroxymethyl) glycoluril, 1,3-bis (hydroxymethyl) urea, 1,1,3,3-tetrakis (butoxymethyl) urea, 1,1,3,3-tetrakis (methoxymethyl) Examples include urea, 1,3-bis (hydroxymethyl) -4,5-dihydroxy-2-imidazolinone, and 1,3-bis (methoxymethyl) -4,5-dimethoxy-2-imidazolinone.
  • glycoluril compounds (trade names: Cymel (registered trademark) 1170, Powder Link (registered trademark) 1174) manufactured by Ornex Japan Co., Ltd. (formerly Mitsui Cytec Co., Ltd.), methylated urea resin ( Trade name: UFR (registered trademark) 65), butylated urea resin (trade name: UFR (registered trademark) 300, U-VAN10S60, U-VAN10R, U-VAN11HV), DIC (former Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) Co., Ltd.) urea / formaldehyde resin (high condensation type, trade name: Becamine (registered trademark) J-300S, P-955, N).
  • alkoxymethylated benzoguanamine examples include, for example, tetramethoxymethylbenzoguanamine.
  • Commercial products include Ornex Japan Co., Ltd. (former Mitsui Cytec Co., Ltd.) (trade name: Cymel (registered trademark) 1123), and Sanwa Chemical Co., Ltd. (trade name: Niclac (registered trademark) BX-4000). BX-37, BL-60, and BX-55H).
  • alkoxymethylated melamine examples include, for example, hexamethoxymethylmelamine.
  • Commercially available products include methoxymethyl-type melamine compounds (trade names: Cymel (registered trademark) 300, 301, 303, and 350) manufactured by Ornex Japan Ltd. (former Mitsui Cytec Co., Ltd.), butoxymethyl-type melamine compounds (Trade name: Mycoat (registered trademark) 506, 508), methoxymethyl type melamine compound manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.
  • tetra (alkoxymethyl) bisphenol and tetra (hydroxymethyl) bisphenol examples include tetra (alkoxymethyl) bisphenol A, tetra (hydroxymethyl) bisphenol A, and the like.
  • the crosslinking agent as the component (C) is obtained by condensing a melamine compound, a urea compound, a glycoluril compound and a benzoguanamine compound in which the hydrogen atom of the amino group is substituted with a methylol group or an alkoxymethyl group. It may be a compound.
  • a high molecular weight compound produced from a melamine compound and a benzoguanamine compound described in US Pat. No. 6,323,310 can be mentioned.
  • Commercial products of the melamine compound include Cymel (registered trademark) 303 (Ornex Japan Co., Ltd.
  • the crosslinking agent as the component (C) includes a hydroxymethyl group (that is, a methylol group) such as N-hydroxymethylacrylamide, N-methoxymethylmethacrylamide, N-ethoxymethylacrylamide, N-butoxymethylmethacrylamide, or an alkoxy group.
  • a hydroxymethyl group that is, a methylol group
  • a polymer produced using an acrylamide compound or a methacrylamide compound substituted with a methyl group can also be used.
  • Examples of such a polymer include poly (N-butoxymethylacrylamide), a copolymer of N-butoxymethylacrylamide and styrene, a copolymer of N-hydroxymethylmethacrylamide and methyl methacrylate, and N-ethoxymethyl.
  • Examples include a copolymer of methacrylamide and benzyl methacrylate, and a copolymer of N-butoxymethylacrylamide, benzyl methacrylate and 2-hydroxypropyl methacrylate.
  • the weight average molecular weight (in terms of polystyrene) of such a polymer is from 1,000 to 500,000, preferably from 2,000 to 200,000, more preferably from 3,000 to 150,000. And more preferably 3,000 to 50,000.
  • cross-linking agents can be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the crosslinking agent of the component (C) in the cured film forming composition of the present embodiment is 5 parts by mass to 500 parts by mass based on 100 parts by mass of the total of the components (A) and (B).
  • the amount is 10 parts by mass to 400 parts by mass.
  • the composition for forming a cured film of the present embodiment can further contain a crosslinking catalyst as a component (D) in addition to the components (A), (B) and (C).
  • a crosslinking catalyst as a component (D)
  • an acid or a thermal acid generator can be used as the crosslinking catalyst as the component (D).
  • This component (D) is effective in accelerating the thermosetting reaction of the cured film forming composition of the present embodiment.
  • a sulfonic acid group-containing compound, hydrochloric acid or a salt thereof, and a compound capable of thermally decomposing during pre-baking or post-baking to generate an acid that is, generating an acid by thermally decomposing at a temperature of 80 ° C. to 250 ° C. It is not particularly limited as long as it is a compound.
  • Such compounds include, for example, hydrochloric acid, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, propanesulfonic acid, butanesulfonic acid, pentanesulfonic acid, octanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, camphorsulfonic acid, trifluorosulfonic acid Romethanesulfonic acid, p-phenolsulfonic acid, 2-naphthalenesulfonic acid, mesitylenesulfonic acid, p-xylene-2-sulfonic acid, m-xylene-2-sulfonic acid, 4-ethylbenzenesulfonic acid, 1H, 1H, 2H, Sulfonic acids such as 2H-perfluorooctanesulfonic acid, perfluoro (2-ethoxyethane) sulfonic acid, pentafluoroethanesul
  • Compounds that generate an acid by heat include, for example, bis (tosyloxy) ethane, bis (tosyloxy) propane, bis (tosyloxy) butane, p-nitrobenzyl tosylate, o-nitrobenzyl tosylate, 1,2,2 3-phenylentris (methylsulfonate), pyridinium p-toluenesulfonate, morphonium p-toluenesulfonate, ethyl p-toluenesulfonate, propyl p-toluenesulfonate, butyl p-toluenesulfonate, p-toluenesulfonic acid isobutyl ester, p-toluenesulfonic acid methyl ester, p-toluenesulfonic acid phenethyl ester, cyanomethyl p-toluenes
  • the content of the component (D) in the cured film-forming composition of the present embodiment is preferably 0.01 mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the compound of the component (A) and the polymer of the component (B). To 20 parts by mass, more preferably 0.1 to 18 parts by mass, still more preferably 0.5 to 15 parts by mass.
  • the cured film-forming composition of the present embodiment can be given sufficient thermosetting properties and solvent resistance, and has high sensitivity to light irradiation. Can also be given.
  • the cured film forming composition of the present embodiment is mainly used in a solution state dissolved in a solvent.
  • the solvent used at this time is only required to be able to dissolve the component (A), the component (B) and the component (C), and if necessary, the component (D) and / or other additives described below. Is not particularly limited.
  • the solvent include, for example, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate Propylene glycol propyl ether acetate, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-butanone, 3-methyl-2-pentanone, 2-pentanone, 2-heptanone, ⁇ -butyrolactone, ethyl 2-hydroxypropionate, Ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethoxyacetic acid Tyl, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, methyl 3-methoxypropionate,
  • solvents can be used alone or in combination of two or more.
  • the cured film-forming composition of the present embodiment may be, if necessary, a sensitizer, a silane coupling agent, a surfactant, a rheology modifier, a pigment, a dye, and a storage medium, as long as the effects of the invention are not impaired. It may contain stabilizers, defoamers, antioxidants and the like.
  • a sensitizer is effective in promoting a photoreaction after forming a thermosetting film using the cured film forming composition of the present embodiment.
  • Sensitizers which are examples of other additives, include benzophenone, anthracene, anthraquinone, thioxanthone, and derivatives thereof, and nitrophenyl compounds. Of these, benzophenone derivatives and nitrophenyl compounds are preferred. Specific examples of preferred compounds include N, N-diethylaminobenzophenone, 2-nitrofluorene, 2-nitrofluorenone, 5-nitroacenaphthene, 4-nitrobiphenyl, 4-nitrocinnamic acid, 4-nitrostilbene, 4-nitrobenzophenone , 5-nitroindole and the like. Particularly, N, N-diethylaminobenzophenone which is a derivative of benzophenone is preferable.
  • sensitizers are not limited to those described above.
  • the sensitizers can be used alone or in combination of two or more compounds.
  • the ratio of the sensitizer used in the cured film forming composition of the present embodiment is 0.1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the total mass of the compound of the component (A) and the polyester polyol having an aromatic ring of the component (B). It is preferably from 1 to 20 parts by mass, more preferably from 0.2 to 10 parts by mass.
  • the cured film forming composition of the present embodiment contains a low molecular weight photo-alignment component as the component (A), a polyester polyol having an aromatic ring as the component (B), and a crosslinking agent as the component (C). I do. And other additives can be contained as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • the mixing ratio of the component (A) to the component (B) is preferably from 5:95 to 60:40 by mass ratio.
  • Preferred examples of the cured film are as follows. [1]: The compounding ratio of the component (A) and the component (B) is 5:95 to 60:40 by mass ratio, and based on 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B). A photo-alignable group formed from a coating of a cured film-forming composition containing 5 parts by mass to 500 parts by mass of a component (C), the film having a thickness of 3 ⁇ m or more and 20 ⁇ m or less. A cured film having:
  • a cured film having a photo-alignable group which is a dried and fired film formed from a coating of a cured film-forming composition containing a component and a solvent, and has a thickness of 3 ⁇ m or more and 20 ⁇ m or less.
  • the mixing ratio, preparation method, and the like when the cured film forming composition of the present embodiment is used as a solution will be described in detail below.
  • the solid content ratio in the cured film forming composition of the present embodiment is not particularly limited as long as each component is uniformly dissolved in the solvent, but is preferably 1% by mass to 80% by mass, and is preferably It is 3% by mass to 60% by mass, more preferably 5% by mass to 40% by mass.
  • the solid content refers to one obtained by removing the solvent from all components of the cured film forming composition.
  • the method for preparing the cured film forming composition of the present embodiment is not particularly limited.
  • a preparation method for example, a method of mixing a component (A), a component (C) and, if necessary, a component (D) at a predetermined ratio with a solution of the component (B) dissolved in a solvent to form a uniform solution.
  • a method may be mentioned in which, if necessary, other additives are further added and mixed.
  • the prepared solution of the cured film-forming composition is used after being filtered using a filter having a pore size of about 0.2 ⁇ m.
  • a solution of the cured film forming composition of the present embodiment is applied to a substrate (for example, a silicon / silicon dioxide coated substrate, a silicon nitride substrate, a substrate coated with a metal such as aluminum, molybdenum, chromium, etc., a glass substrate, a quartz substrate, Bar coating, spin coating, flow coating, roll coating, and the like on an ITO substrate or the like or a film (for example, a resin film such as a triacetyl cellulose (TAC) film, a cycloolefin polymer film, a polyethylene terephthalate film, or an acrylic film).
  • a cured film can be formed by applying a coating by slit coating, spin coating subsequent to the slit, inkjet coating, printing, or the like to form a coating film, and then drying by heating with a hot plate or an oven.
  • the conditions for the heating and drying may be such that the curing reaction proceeds to such an extent that the components of the alignment material formed from the cured film do not elute into the polymerizable liquid crystal solution applied thereon.
  • the heating temperature and the heating time appropriately selected from the range of 0.4 to 60 minutes are used.
  • the heating temperature and the heating time are preferably from 70 ° C. to 160 ° C. for 0.5 minute to 10 minutes.
  • the thickness of the cured film formed using the cured film forming composition of the present embodiment is, for example, 3 ⁇ m or more and 20 ⁇ m or less, and may be appropriately selected in consideration of the step, optical, and electrical properties of the substrate used. Can be.
  • the cured film thus formed can function as a member for orienting an alignment material, that is, a compound having liquid crystallinity such as a polymerizable liquid crystal, by performing polarized UV irradiation.
  • an alignment material that is, a compound having liquid crystallinity such as a polymerizable liquid crystal
  • ultraviolet light or visible light having a wavelength of 150 nm to 450 nm is usually used, and irradiation is performed by irradiating linearly polarized light in a vertical or oblique direction at room temperature or in a heated state.
  • the alignment material formed from the cured film of the present embodiment has solvent resistance and heat resistance, after applying a retardation material composed of a polymerizable liquid crystal solution on this alignment material, the liquid crystal undergoes a phase transition. By heating to a temperature, the retardation material is brought into a liquid crystal state and is aligned on the alignment material. Then, the retardation material in the aligned state is cured as it is, and the retardation material can be formed as a layer having optical anisotropy.
  • the retardation material for example, a liquid crystal monomer having a polymerizable group and a composition containing the same are used. Then, when the substrate on which the alignment material is formed is a film, the film having the retardation material of the present embodiment is useful as a retardation film.
  • the retardation material forming such a retardation material is in a liquid crystal state, and on the alignment material, there is an alignment state such as a horizontal alignment, a cholesteric alignment, a vertical alignment, or a hybrid alignment. Can be properly used depending on the phase difference.
  • a cured film formed from the cured film composition of the present embodiment by the method described above is applied to a predetermined film via a line and space pattern mask.
  • polarized UV exposure is performed in the direction of +45 degrees
  • polarized UV is exposed in the direction of -45 degrees to form two types of liquid crystal alignment regions having different liquid crystal alignment control directions.
  • an oriented material After applying a retardation material made of a polymerizable liquid crystal solution, the material is heated to the phase transition temperature of the liquid crystal to bring the retardation material into a liquid crystal state and oriented on the alignment material. Then, the retardation material in the aligned state is cured as it is, and a patterned retardation material in which a plurality of two types of retardation regions having different retardation characteristics are regularly arranged can be obtained.
  • two substrates having the alignment material of the present embodiment formed as described above are used, and after the alignment materials on both substrates are bonded to each other via a spacer, the substrates are bonded together.
  • a liquid crystal display element in which liquid crystal is aligned can be obtained by injecting liquid crystal therebetween. Therefore, the cured film of the present embodiment can be suitably used for manufacturing various retardation materials (retardation films) and liquid crystal display elements.
  • BMAA N-butoxymethylacrylamide
  • AIBN ⁇ , ⁇ '-azobisisobutyronitrile
  • APEPO Aromatic polyester polyol (liquid ester oligomer obtained from polyhydric carboxylic acid and polyhydric alcohol having the following structural units) (In the above formula, R 11 represents a C 1 to C 8 alkylene, and R 12 represents an aromatic ring.)
  • ⁇ C component> PC-1 represented by the following structural formula (n is the number of repeating units).
  • Each of the resin compositions of Examples and Comparative Examples contains a solvent, such as propylene glycol monomethyl ether (PM), butyl acetate (BA), ethyl acetate (EA), N-methylpyrrolidone (NMP), and cyclopentane.
  • a solvent such as propylene glycol monomethyl ether (PM), butyl acetate (BA), ethyl acetate (EA), N-methylpyrrolidone (NMP), and cyclopentane.
  • CPN propylene glycol monomethyl ether
  • BA butyl acetate
  • EA ethyl acetate
  • NMP N-methylpyrrolidone
  • MEK methyl ethyl ketone
  • the molecular weight of the acrylic copolymer in the polymerization examples was determined as follows using a room temperature gel permeation chromatography (GPC) apparatus (GPC-101) manufactured by Shodex Co., Ltd., and columns (KD-803, KD-805) manufactured by Shodex Corporation. Was measured.
  • the following number average molecular weight (hereinafter, referred to as Mn) and weight average molecular weight (hereinafter, referred to as Mw) are expressed in terms of polystyrene.
  • Acrylic polymer solution was obtained by dissolving 100.0 g of BMAA and 1.0 g of AIBN as a polymerization catalyst in 193.5 g of PM and reacting at 80 ° C. for 20 hours. Mn of the obtained acrylic polymer was 10,000 and Mw was 23,000. The acrylic polymer solution was gradually dropped into 2000.0 g of hexane to precipitate a solid, which was filtered and dried under reduced pressure to obtain a polymer (PC-1).
  • ⁇ Preparation of liquid crystal alignment agent> ⁇ Example 1> 0.047 g of MCA as the component (A), 0.065 g of APEPO-1 as the component (B) (RDK-133 manufactured by Kawasaki Kasei Kogyo KK), and the polymer (PC-) obtained in the polymerization example as the component (C) 0.248 g of 1) and 0.012 g of PTSA as the component (D) were mixed, and 0.764 g of PM as a solvent and 0.984 g of BA were added thereto.
  • the obtained solution was filtered through a filter having a pore size of 0.2 ⁇ m to prepare a liquid crystal aligning agent (A-1).
  • the liquid crystal alignment agent is synonymous with the cured film forming composition.
  • Example 2 to 4 Each liquid crystal aligning agent (A-2) to (A-4) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the components and the amounts of the components shown in Table 1 below were used.
  • Each of the liquid crystal aligning agents (B) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the component (B) used was PEPO (polyester polyol) containing no aromatic ring, and the components and the amounts shown in Table 1 below were used. -1) to (B-2) were prepared.
  • PEPO-1 Polylite 8651 (manufactured by DIC Corporation)
  • PEPO-2 PLACCEL410 (manufactured by Daicel Corporation)
  • Example 6 The same operation as in Example 5 was performed, except that the solvent was changed from N-methylpyrrolidone to cyclopentanone, to obtain a polymerizable liquid crystal solution LC-2.
  • Example 7 The same operation as in Example 5 was performed, except that the solvent was changed from N-methylpyrrolidone to MEK, to obtain a polymerizable liquid crystal solution LC-3.
  • Example 8> The liquid crystal aligning agent (A-1) prepared in Example 1 was applied on a TAC film as a substrate with a wet coat thickness of 30 ⁇ m using a bar coater. Heat drying was performed at 120 ° C. for 1 minute in a heat circulation oven to form a cured film on the film. Then, the surface of the cured film was irradiated with 313 nm linearly polarized light at an exposure amount of 10 mJ / cm 2 vertically to form a liquid crystal alignment film. The polymerizable liquid crystal solution for horizontal alignment LC-1 was applied onto the liquid crystal alignment film with a bar coater at a wet film thickness of 6 ⁇ m.
  • non-polarized light of 365 nm is irradiated vertically with an exposure amount of 300 mJ / cm 2 to cure the polymerizable liquid crystal and to form a retardation film.
  • Example 9 to 11 Using (A-2) to (A-4) as the liquid crystal aligning agent, the same operations as in Example 8 were carried out to produce the retardation films of Examples 9 to 11.
  • Examples 12 to 15 Using (A-1) to (A-4) as the liquid crystal aligning agent and the polymerizable liquid crystal solution LC-2 for horizontal alignment, the same operation as in Example 8 was carried out, and the retardation films of Examples 12 to 15 were used. Produced.
  • Examples 16 to 19 Using (A-1) to (A-4) as the liquid crystal aligning agent and the polymerizable liquid crystal solution LC-3 for horizontal alignment, the same operation as in Example 8 was carried out, and each retardation film of Examples 16 to 19 was used. Produced.
  • the cured film according to the present invention is very useful as a liquid crystal alignment film of a liquid crystal display element, or a film that can form an alignment material for forming an optically anisotropic film provided inside or outside the liquid crystal display element, In particular, it is suitable as a material for forming a patterned retardation material of a 3D display.
  • a protective film in various displays such as a thin film transistor (TFT) type liquid crystal display element and an organic EL element, a cured film such as a flattening film and an insulating film, particularly, an interlayer insulating film of a TFT type liquid crystal element, a protective film of a color filter or It is also suitable as an insulating film of an organic EL element.

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Abstract

【課題】液晶可溶な種々の溶媒への溶剤耐性が得られ、良好な配向性を得ることができるとともに、膜厚が３μｍ以上の厚膜であっても透明性に優れ、良溶媒への耐性を有する硬化膜を提供し、光配向用の配向材およびその配向材を使用して形成された位相差材を提供すること。 【解決手段】（Ａ）光配向性基とヒドロキシ基、カルボキシル基およびアミノ基から選ばれるいずれか１つの置換基とを有する化合物、　（Ｂ）芳香族環を有するポリエステルポリオール、並びに　（Ｃ）架橋剤 を含有することを特徴とする硬化膜形成組成物を含有することを特徴とする硬化膜形成組成物の塗布物から形成される乾燥焼成膜であって、その膜厚が３μｍ以上２０μｍ以下である、光配向性基を有する硬化膜、配向材、位相差材。

Description

硬化膜、配向材および位相差材
　本発明は液晶分子を配向させる配向材を形成するための硬化膜、配向材および位相差材に関する。特に本発明は、円偏光メガネ方式の３Ｄディスプレイに用いられるパターニングされた位相差材や、有機ＥＬディスプレイの反射防止膜として使用される円偏光板に用いられる位相差材を作製するのに有用な硬化膜、配向材および位相差材に関する。
　円偏光メガネ方式の３Ｄディスプレイの場合、液晶パネル等の画像を形成する表示素子の上に位相差材が配置されるのが通常である。この位相差材は、位相差特性の異なる２種類の位相差領域がそれぞれ複数、規則的に配置されており、パターニングされた位相差材を構成している。尚、以下、本明細書においては、このような位相差特性の異なる複数の位相差領域を配置するようにパターン化された位相差材をパターン化位相差材と称する。
　パターン化位相差材は、例えば、特許文献１に開示されるように、重合性液晶からなる位相差材料を光学パターニングすることで作製することができる。重合性液晶からなる位相差材料の光学パターニングは、液晶パネルの配向材形成で知られた光配向技術を利用する。すなわち、基板上に光配向性の材料からなる塗膜を設け、これに偏光方向が異なる２種類の偏光を照射する。そして、液晶の配向制御方向の異なる２種類の液晶配向領域が形成された配向材として光配向膜を得る。この光配向膜の上に重合性液晶を含む溶液状の位相差材料を塗布し、重合性液晶の配向を実現する。その後、配向された重合性液晶を硬化してパターン化位相差材を形成する。
　有機ＥＬディスプレイの反射防止膜は、直線偏光板、１／４波長位相差板により構成され、画像表示パネルのパネル面に向かう外来光を直線偏光板により直線偏光に変換し、続く１／４波長位相差板により円偏光に変換する。ここでこの円偏光による外来光は、画像表示パネルの表面等で反射するものの、この反射の際に偏光面の回転方向が逆転する。その結果、この反射光は、到来時とは逆に、１／４波長位相差板より、直線偏光板により遮光される方向の直線偏光に変換された後、続く直線偏光板により遮光され、その結果、外部への出射が著しく抑制される。
　この１／４波長位相差板に関して、特許文献２には、１／２波長板、１／４波長板を組み合わせて１／４波長位相差板を構成することにより、この光学フィルムを逆分散特性により構成する方法が提案されている。この方法の場合、カラー画像の表示に供する広い波長帯域において、正の分散特性による液晶材料を使用して逆分散特性により光学フィルムを構成することができる。
　また近年、この位相差層に適用可能な液晶材料として、逆分散特性を備えるものが提案されている（特許文献３、４）。このような逆分散特性の液晶材料によれば、１／２波長板、１／４波長板を組み合わせた２層の位相差層により１／４波長位相差板を構成する代わりに、位相差層を単層により構成して逆分散特性を確保することができ、これにより広い波長帯域において所望の位相差を確保することが可能な光学フィルムを簡易な構成により実現することができる。
　液晶を配向させるためには配向層が用いられる。配向層の形成方法としては、例えばラビング法や光配向法が知られており、光配向法はラビング法の問題点である静電気や塵の発生がなく、定量的な配向処理の制御ができる点で有用である。
　光配向法を用いた配向材形成では、利用可能な光配向性の材料として、側鎖にシンナモイル基およびカルコン基等の光二量化部位を有するアクリル樹脂やポリイミド樹脂等が知られている。これらの樹脂は、偏光ＵＶ照射することにより、液晶の配向を制御する性能（以下、液晶配向性とも言う。）を示すことが報告されている（特許文献５乃至特許文献７を参照。）。
　また、配向層には、液晶配向能の他、耐溶剤性が要求される。例えば、配向層が、位相差材の製造過程にて熱や溶剤にさらされる場合がある。配向層が溶剤にさらされると、液晶配向能が著しく低下するおそれがある。
　そこで、例えば特許文献８には、安定した液晶配向能を得るために、光により架橋反応の可能な構造と熱によって架橋する構造とを有する重合体成分を含有する液晶配向剤、および、光により架橋反応の可能な構造を有する重合体成分と熱によって架橋する構造を有する化合物とを含有する液晶配向剤が提案されている。
特開２００５－４９８６５号公報 特開平１０－６８８１６号公報 米国特許第８１１９０２６号明細書 特開２００９－１７９５６３号公報 特許第３６１１３４２号公報 特開２００９－０５８５８４号公報 特表２００１－５１７７１９号公報 特許第４２０７４３０号公報
　以上のように、位相差材は、配向材である光配向膜の上に、硬化された重合性液晶の層を積層して構成される。そのため、優れた液晶配向性と耐溶剤性を両立することができる配向材の開発が必要とされている。
　しかしながら、本発明者の検討によれば、側鎖にシンナモイル基やカルコン基等の光二量化部位を有するアクリル樹脂は、位相差材の形成に適用した場合に充分な特性が得られないことが分かっている。特に、これらの樹脂に偏光ＵＶを照射して配向材を形成し、その配向材を用いて重合性液晶からなる位相差材を作製するためには、大きな偏光ＵＶ露光量が必要となる。その偏光ＵＶ露光量は、通常の液晶パネル用の液晶を配向させるのに十分な偏光ＵＶ露光量（例えば、３０ｍＪ／ｃｍ２程度。）より格段に多くなる。
　偏光ＵＶ露光量が多くなる理由としては、位相差材形成の場合、液晶パネル用の液晶と異なり、重合性液晶が溶液の状態で用いられ、配向材の上に塗布されることが挙げられている。
　側鎖にシンナモイル基等の光二量化部位を有するアクリル樹脂等を用いて配向材を形成し、重合性液晶を配向させようとする場合、そのアクリル樹脂等においては、光二量化反応による光架橋を行う。そして、重合性液晶溶液に対する耐性が発現するまで、大きな露光量の偏光照射を行う必要がある。液晶パネルの液晶を配向させるためには、通常、光配向性の配向材の表面のみを二量化反応すればよい。しかし、上述のアクリル樹脂等の従来材料を用いて配向材に溶剤耐性を発現させようとすると、配向材の内部まで反応をさせる必要があり、より多くの露光量が必要となる。その結果、従来材料の配向感度は非常に小さくなってしまうという問題があった。
　また、上述の従来材料である樹脂にこのような溶剤耐性を発現させるため、架橋剤を添加する技術が知られている。しかし、架橋剤による熱硬化反応を行った後、形成される塗膜の内部には３次元構造が形成され、光反応性は低下することがわかっている。すなわち、配向感度が大きく低下してしまい、従来材料に架橋剤を添加して使用しても、所望とする効果は得られていない。
　さらに、液晶インキには様々な有機溶媒が使用され、光学特性の点で有機溶媒に対して耐性の低いフィルムが使用されることがあり、フィルムの保護という理由で、膜厚３μｍ以上の配向膜が求められている。特に、液晶として逆分散液晶を用いる場合は、その溶解性を担保するためにＮ－メチルピロリドン等の良溶媒を用いる必要があるため、そのような良溶媒への溶剤耐性が求められている。
　以上より、配向材の配向感度を向上させ、偏光ＵＶ露光量を低減できるとともに、良溶媒への耐性を付与することが可能な光配向技術と、その配向材の形成に用いられる光配向用液晶配向剤が求められている。そして、高効率に位相差材を提供することができる技術が求められている。
　本発明の目的は、以上の知見や検討結果に基づいてなされたものである。すなわち、本発明の目的は、膜厚が３μｍ以上の厚さであっても優れた配向感度、パターン形成性および透明性を有し、なおかつ、良溶媒への耐性を有し、配向均一性にも優れた配向材を提供するための硬化膜を提供することである。
　本発明の他の目的および利点は、以下の記載から明らかとなるであろう。
　本発明の第１の態様は、
　（Ａ）光配向性基とヒドロキシ基、カルボキシル基およびアミノ基から選ばれるいずれか１つの置換基とを有する化合物、
　（Ｂ）芳香族環を有するポリエステルポリオール、並びに
　（Ｃ）架橋剤
を含有することを特徴とする硬化膜形成組成物の塗布物から形成される乾燥焼成膜であって、その膜厚が３μｍ以上２０μｍ以下である、光配向性基を有する硬化膜に関する。
　本発明の第１の態様において、（Ａ）成分の光配向性基が光二量化または光異性化する構造の官能基であることが好ましい。
　本発明の第１の態様において、（Ａ）成分の光配向性基がシンナモイル基であることが好ましい。
　本発明の第１の態様において、（Ａ）成分の光配向性基がアゾベンゼン構造の基であることが好ましい。
　本発明の第１の態様において、（Ａ）成分が２個以上のヒドロキシ基を有することが好ましい。
　本発明の第１の態様において、（Ｄ）成分として架橋触媒をさらに含有することが好ましい。
　本発明の第１の態様において、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の比率が質量比で５：９５乃至６０：４０であることが好ましい。
　本発明の第１の態様において、（Ａ）成分と（Ｂ）成分合計量の１００質量部に基づいて、５質量部乃至５００質量部の（Ｃ）成分を含有することが好ましい。
　本発明の第１の態様において、（Ａ）成分の化合物と（Ｂ）成分のポリマーとの合計量の１００質量部に対して０．０１質量部乃至２０質量部の（Ｄ）成分を含有することが好ましい。
　本発明の第２の態様は、本発明の第１の態様の硬化膜を用いて得られることを特徴とする配向材に関する。
　本発明の第３の態様は、本発明の第１の態様の硬化膜を使用して形成されることを特徴とする位相差材に関する。
　本発明の第１の態様によれば、膜厚が３μｍ以上の厚さであっても優れた配向感度、パターン形成性および透明性を有し、なおかつ、配向均一性にも優れた配向材を提供するための硬化膜を提供することができる。
　本発明の第２の態様によれば、膜厚が３μｍ以上の厚さであっても優れた配向感度、パターン形成性および透明性を有し、良溶媒への耐性を有し、なおかつ、配向均一性にも優れた配向材を提供することができる。
　本発明の第３の態様によれば、アルカリガラス上でも高い効率で形成できて光学パターニングの可能な位相差材を提供することができる。
＜硬化膜形成組成物＞
　本発明に用いられる硬化膜形成組成物（以下、単に硬化膜形成組成物ともいう）は、（Ａ）成分である低分子の光配向成分と、（Ｂ）成分である芳香族環を有するポリエステルポリオールと、（Ｃ）成分である架橋剤を含有する。本発明に用いられる硬化膜形成組成物は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分に加えて、さらに、（Ｄ）成分として架橋触媒、（Ｅ）成分として硬化膜の接着性を向上させる成分をも含有することができる。そして、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の添加剤を含有することができる。
　以下、各成分の詳細を説明する。
＜（Ａ）成分＞
　本実施形態の硬化膜形成組成物に含有される（Ａ）成分は、上述した、低分子の光配向成分である。
　そして、（Ａ）成分である低分子の光配向成分は、光配向性基とヒドロキシ基、カルボキシル基およびアミノ基から選ばれるいずれか１つの置換基とを有する化合物とすることができる。光配向性基とヒドロキシ基、カルボキシル基およびアミノ基から選ばれるいずれか１つの置換基とを有する化合物においては、光反応性基が光反応成分における疎水性の光反応部を構成し、ヒドロキシ基等が親水性の熱反応部を構成する。
　尚、本発明において、光配向性基としては光二量化または光異性化する構造部位の官能基を言う。
　光二量化する構造部位とは、光照射により二量体を形成する部位であり、その具体例としてはシンナモイル基、カルコン基、クマリン基、アントラセン基等が挙げられる。これらのうち可視光領域での高い透明性および光二量化反応性を有するシンナモイル基が好ましい。
　また、光異性化する構造部位とは、光照射によりシス体とトランス体が変化する部位であり、その具体例としてはアゾベンゼン構造、スチルベン構造等からなる部位が挙げられる。これらのうち反応性の高さからアゾベンゼン構造が好ましい。光配向性基とヒドロキシ基とを有する化合物は、例えば、下記式［Ａ１］乃至［Ａ５］で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　前記式［Ａ１］乃至［Ａ５］中、Ａ１とＡ２はそれぞれ独立に、水素原子またはメチル基を表し、Ｘ１は単結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、アミノ結合またはそれらの組み合わせから選ばれる１種又は２種以上の結合を介して、炭素原子数１乃至１８のアルキレン、フェニレン、ビフェニレンまたはそれらの組み合わせから選ばれる１乃至３の単位が結合してなる構造を表す。Ｘ２は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１乃至１８のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基又はシクロヘキシル基を表す。中でも炭素原子数１乃至１８のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基及びシクロヘキシル基は、共有結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合又は尿素結合を介して結合してもよい。Ｘ５はヒドロキシ基、カルボキシル基、アミノ基またはアルコキシシリル基を表す。Ｘ６はヒドロキシ基、メルカプト基、炭素原子数１乃至１０のアルコキシ基、炭素原子数１乃至１０のアルキルチオ基またはフェニル基を表す。Ｘ７は単結合、炭素原子数１乃至２０のアルキレン基、芳香族環基、又は、脂肪族環基を表す。中でも炭素原子数１乃至２０のアルキレン基は分岐状でも直鎖状でもよい。Ｘ８は単結合、酸素原子又は硫黄原子を表す。
　なお、これらの置換基において、フェニレン、フェニル基、ビフェニレンとビフェニル基は、炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数１乃至４のアルコキシ基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基およびシアノ基から選ばれる同一又は相異なる１または複数の置換基によって置換されていてもよい。
　上記式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立して水素原子、炭素原子数１乃至４のアルキル基、炭素原子数１乃至４のアルコキシ基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基またはシアノ基を表す。
　（Ａ）成分である光配向性基とヒドロキシ基とを有する化合物の具体例としては、例えば、４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）けい皮酸メチルエステル、４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）けい皮酸メチルエステル、４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）けい皮酸メチルエステル、４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）けい皮酸メチルエステル、４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）けい皮酸メチルエステル、４－ヒドロキシメチルオキシけい皮酸メチルエステル、４－ヒドロキシけい皮酸メチルエステル、４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）けい皮酸エチルエステル、４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）けい皮酸エチルエステル、４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）けい皮酸エチルエステル、４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）けい皮酸エチルエステル、４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）けい皮酸エチルエステル、４－ヒドロキシメチルオキシけい皮酸エチルエステル、４－ヒドロキシけい皮酸エチルエステル、４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）けい皮酸フェニルエステル、４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）けい皮酸フェニルエステル、４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）けい皮酸フェニルエステル、４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）けい皮酸フェニルエステル、４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）けい皮酸フェニルエステル、４－ヒドロキシメチルオキシけい皮酸フェニルエステル、４－ヒドロキシけい皮酸フェニルエステル、４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）けい皮酸ビフェニルエステル、４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）けい皮酸ビフェニルエステル、４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）けい皮酸ビフェニルエステル、４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）けい皮酸ビフェニルエステル、４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）けい皮酸ビフェニルエステル、４－ヒドロキシメチルオキシけい皮酸ビフェニルエステル、４－ヒドロキシけい皮酸ビフェニルエステル、けい皮酸８－ヒドロキシオクチルエステル、けい皮酸６－ヒドロキシヘキシルエステル、けい皮酸４－ヒドロキシブチルエステル、けい皮酸３－ヒドロキシプロピルエステル、けい皮酸２－ヒドロキシエチルエステル、けい皮酸ヒドロキシメチルエステル、４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）アゾベンゼン、４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）アゾベンゼン、４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）アゾベンゼン、４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）アゾベンゼン、４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）アゾベンゼン、４－ヒドロキシメチルオキシアゾベンゼン、４－ヒドロキシアゾベンゼン、４－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）カルコン、４－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）カルコン、４－（４－ヒドロキシブチルオキシ）カルコン、４－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）カルコン、４－（２－ヒドロキシエチルオキシ）カルコン、４－ヒドロキシメチルオキシカルコン、４－ヒドロキシカルコン、４’－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）カルコン、４’－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）カルコン、４’－（４－ヒドロキシブチルオキシ）カルコン、４’－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）カルコン、４’－（２－ヒドロキシエチルオキシ）カルコン、４’－ヒドロキシメチルオキシカルコン、４’－ヒドロキシカルコン、７－（８－ヒドロキシオクチルオキシ）クマリン、７－（６－ヒドロキシヘキシルオキシ）クマリン、７－（４－ヒドロキシブチルオキシ）クマリン、７－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）クマリン、７－（２－ヒドロキシエチルオキシ）クマリン、７－ヒドロキシメチルオキシクマリン、７－ヒドロキシクマリン、６－ヒドロキシオクチルオキシクマリン、６－ヒドロキシヘキシルオキシクマリン、６－（４－ヒドロキシブチルオキシ）クマリン、６－（３－ヒドロキシプロピルオキシ）クマリン、６－（２－ヒドロキシエチルオキシ）クマリン、６－ヒドロキシメチルオキシクマリン、６－ヒドロキシクマリン等が挙げられる。
　光配向性基とカルボキシル基とを有する化合物の具体例としてはけい皮酸、フェルラ酸、４－ニトロけい皮酸、４－メトキシけい皮酸、３，４－ジメトキシけい皮酸、クマリン－３－カルボン酸、４－（Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノ）けい皮酸等が挙げられる。
　光配向性基とアミノ基とを有する化合物の具体例としてはメチル－４－アミノけい皮酸、エチル－４－アミノけい皮酸、メチル－３－アミノけい皮酸、エチル－３－アミノけい皮酸等が挙げられる。
　（Ａ）成分である低分子の光配向成分は、以上の具体例を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
　また、（Ａ）成分である光配向成分が、光配向性基とヒドロキシ基とを有する化合物である場合、（Ａ）成分として、分子内に、光配向性基を２個以上および／またはヒドロキシ基を２個以上有する化合物を用いることが可能である。具体的には、（Ａ）成分として、分子内に１個のヒドロキシ基とともに２個以上の光配向性基を有する化合物や、分子内に１個の光配向性基とともに２個以上のヒドロキシ基を有する化合物や、分子内に光配向性基とヒドロキシ基をそれぞれ２個以上有する化合物を用いることが可能である。例えば、分子内に光配向性基とヒドロキシ基をそれぞれ２個以上有する化合物については、その一例として、下記式で表される化合物を例示することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　このような化合物を適宜選択することにより、（Ａ）成分である光配向成分の分子量を所望範囲の値に制御することが可能となる。その結果、後述するように、（Ａ）成分である光配向成分および（Ｂ）成分であるポリマーと（Ｃ）成分である架橋剤とが熱反応する際に、（Ａ）成分である光配向成分が昇華するのを抑制することができる。そして、本実施の形態の硬化膜形成組成物は、硬化膜として、光反応効率の高い配向材を形成することができる。
　また、硬化膜形成組成物における（Ａ）成分の化合物としては、光配向性基とヒドロキシ基、カルボキシル基およびアミノ基から選ばれるいずれか１つの置換基とを有する、複数種の化合物の混合物であってもよい。
＜（Ｂ）成分＞
　本実施形態の硬化膜形成組成物に含有される（Ｂ）成分は、芳香族環を有するポリエステルポリオールである。
　（Ｂ）成分の特定重合体の好ましい一例であるポリエステルポリオールとしては、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の芳香族多価カルボン酸にエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジオールを反応させたものが挙げられる。芳香族環を有するポリエステルポリオールの具体例としてはＤＩＣ社製ＲＸ－４８００、クラレ社製ポリオールＰ－５２０、Ｐ－１０２０、Ｐ－２０２０、Ｐ－１０１２、Ｐ－２０１２、東ソー社製ニッポラン１２１Ｅ、１３４、１７９Ｐ、１３１、８００、１１００、川崎化成工業社製マキシモールＲＤＫ－１２１、ＲＤＫ－１３３、ＲＤＫ－１４２、ＲＭＫ－３４２、ＲＦＫ－５０５、ＲＦＫ－５０６、ＲＦＫ－５０９、ＲＬＫ－０８７、ＲＬＫ－０３５等が挙げられる。
　（Ｂ）成分の特定重合体の好ましい分子量は重量平均分子量で１００乃至２０，０００が好ましく、架橋度を上げる点で好ましくは１００乃至１０，０００であり、さらに好ましくは１００乃至５，０００である。
　　（Ｂ）成分の特定重合体の好ましい水酸基価は５０乃至１，０００、架橋度を上げる点で好ましくは１００乃至６００である。
　（Ｂ）成分の特定重合体の好ましい芳香環濃度は５モル％乃至５０モル％が好ましく、溶解性の点で５モル％乃至３０モル％が好ましい。
　本実施形態の硬化膜形成組成物において、（Ｂ）成分のポリマーは、粉体形態で、または精製した粉末を後述する溶剤に再溶解した溶液形態で用いてもよい。
　また、本実施形態の硬化膜形成組成物において、（Ｂ）成分のポリマーは、（Ｂ）成分のポリマーの複数種の混合物であってもよい。
＜（Ｃ）成分＞
　本実施形態の硬化膜形成組成物は、（Ｃ）成分として架橋剤を含有する。より詳しくは、（Ｃ）成分は、上述の（Ａ）成分および（Ｂ）成分と反応する架橋剤である。（Ｃ）成分は、（Ａ）成分である化合物の熱架橋性基、及び（Ｂ）成分に含まれるヒドロキシ基と結合する。そして、本実施の形態の硬化膜形成組成物は、硬化膜として、光反応効率の高い配向材を形成することができる。
　（Ｃ）成分である架橋剤としては、エポキシ化合物、メチロール化合物およびイソシアナート化合物等の化合物が挙げられるが、好ましくはメチロール化合物が挙げられる。中でも、（Ｃ）成分である架橋剤としては、前記（Ａ）成分の熱架橋可能な官能基と架橋を形成する基を２個以上有する化合物が好ましく、例えばメチロール基またはアルコキシメチル基を２個以上有する架橋剤であることが好ましい。これらの基を有する化合物としては、例えば、アルコキシメチル化グリコールウリル、アルコキシメチル化ベンゾグアナミンおよびアルコキシメチル化メラミン等のメチロール化合物が挙げられる。
　上述したメチロール化合物の具体例としては、例えば、アルコキシメチル化グリコールウリル、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化メラミン、テトラ（アルコキシメチル）ビスフェノール及びテトラ（ヒドロキシメチル）ビスフェノール等の化合物が挙げられる。
　アルコキシメチル化グリコールウリルの具体例としては、例えば、１，３，４，６－テトラキス（メトキシメチル）グリコールウリル、１，３，４，６－テトラキス（ブトキシメチル）グリコールウリル、１，３，４，６－テトラキス（ヒドロキシメチル）グリコールウリル、１，３－ビス（ヒドロキシメチル）尿素、１，１，３，３－テトラキス（ブトキシメチル）尿素、１，１，３，３－テトラキス（メトキシメチル）尿素、１，３－ビス（ヒドロキシメチル）－４，５－ジヒドロキシ－２－イミダゾリノン、および１，３－ビス（メトキシメチル）－４，５－ジメトキシ－２－イミダゾリノン等が挙げられる。市販品として、オルネクスジャパン(株)（旧三井サイテック（株））製グリコールウリル化合物（商品名：サイメル（登録商標）１１７０、パウダーリンク（登録商標）１１７４）等の化合物、メチル化尿素樹脂（商品名：ＵＦＲ（登録商標）６５）、ブチル化尿素樹脂（商品名：ＵＦＲ（登録商標）３００、Ｕ－ＶＡＮ１０Ｓ６０、Ｕ－ＶＡＮ１０Ｒ、Ｕ－ＶＡＮ１１ＨＶ）、ＤＩＣ（株）（旧大日本インキ化学工業（株））製尿素／ホルムアルデヒド系樹脂（高縮合型、商品名：ベッカミン（登録商標）Ｊ－３００Ｓ、同Ｐ－９５５、同Ｎ）等が挙げられる。
　アルコキシメチル化ベンゾグアナミンの具体例としては、例えば、テトラメトキシメチルベンゾグアナミン等が挙げられる。市販品として、オルネクスジャパン(株)（旧三井サイテック（株））製（商品名：サイメル（登録商標）１１２３）、（株）三和ケミカル製（商品名：ニカラック（登録商標）ＢＸ－４０００、同ＢＸ－３７、同ＢＬ－６０、同ＢＸ－５５Ｈ）等が挙げられる。
　アルコキシメチル化メラミンの具体例としては、例えば、ヘキサメトキシメチルメラミン等が挙げられる。市販品として、オルネクスジャパン(株)（旧三井サイテック（株））製メトキシメチルタイプメラミン化合物（商品名：サイメル（登録商標）３００、同３０１、同３０３、同３５０）、ブトキシメチルタイプメラミン化合物（商品名：マイコート（登録商標）５０６、同５０８）、三和ケミカル社製メトキシメチルタイプメラミン化合物（商品名：ニカラック（登録商標）ＭＷ－３０、同ＭＷ－２２、同ＭＷ－１１、同ＭＷ－１００ＬＭ、同ＭＳ－００１、同ＭＸ－００２、同ＭＸ－７３０、同ＭＸ－７５０、同ＭＸ－０３５）、ブトキシメチルタイプメラミン化合物（商品名：ニカラック（登録商標）ＭＸ－４５、同ＭＸ－４１０、同ＭＸ－３０２）等が挙げられる。
テトラ（アルコキシメチル）ビスフェノール及びテトラ（ヒドロキシメチル）ビスフェノールの例としては、テトラ（アルコキシメチル）ビスフェノールＡ、テトラ（ヒドロキシメチル）ビスフェノールＡ等が挙げられる。
　また、（Ｃ）成分である架橋剤としては、このようなアミノ基の水素原子がメチロール基またはアルコキシメチル基で置換されたメラミン化合物、尿素化合物、グリコールウリル化合物およびベンゾグアナミン化合物を縮合させて得られる化合物であってもよい。例えば、米国特許第６３２３３１０号に記載されているメラミン化合物およびベンゾグアナミン化合物から製造される高分子量の化合物が挙げられる。前記メラミン化合物の市販品としては、商品名：サイメル（登録商標）３０３（オルネクスジャパン(株)（旧三井サイテック（株））等が挙げられ、前記ベンゾグアナミン化合物の市販品としては、商品名：サイメル（登録商標）１１２３（オルネクスジャパン(株)（旧三井サイテック（株））等が挙げられる。
　さらに、（Ｃ）成分である架橋剤としては、Ｎ－ヒドロキシメチルアクリルアミド、Ｎ－メトキシメチルメタクリルアミド、Ｎ－エトキシメチルアクリルアミド、Ｎ－ブトキシメチルメタクリルアミド等のヒドロキシメチル基（すなわちメチロール基）またはアルコキシメチル基で置換されたアクリルアミド化合物またはメタクリルアミド化合物を使用して製造されるポリマーも用いることができる。
　そのようなポリマーとしては、例えば、ポリ（Ｎ－ブトキシメチルアクリルアミド）、Ｎ－ブトキシメチルアクリルアミドとスチレンとの共重合体、Ｎ－ヒドロキシメチルメタクリルアミドとメチルメタクリレートとの共重合体、Ｎ－エトキシメチルメタクリルアミドとベンジルメタクリレートとの共重合体、及びＮ－ブトキシメチルアクリルアミドとベンジルメタクリレートと２－ヒドロキシプロピルメタクリレートとの共重合体等が挙げられる。
このようなポリマーの重量平均分子量（ポリスチレン換算値）は、１，０００乃至５００，０００であり、好ましくは、２，０００乃至２００，０００であり、より好ましくは３，０００乃至１５０，０００であり、更に好ましくは３，０００乃至５０，０００である。
　これらの架橋剤は、単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
　本実施形態の硬化膜形成組成物における（Ｃ）成分の架橋剤の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に基づいて、５質量部乃至５００質量部であることが好ましく、より好ましくは１０質量部乃至４００質量部である。
＜（Ｄ）成分＞
　本実施形態の硬化膜形成組成物は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分に加えて、さらに、（Ｄ）成分として架橋触媒を含有することができる。
　（Ｄ）成分である架橋触媒としては、例えば、酸または熱酸発生剤とすることができる。この（Ｄ）成分は、本実施形態の硬化膜形成組成物の熱硬化反応を促進させることにおいて有効である。
　（Ｄ）成分としては、スルホン酸基含有化合物、塩酸またはその塩、およびプリベークまたはポストベーク時に熱分解して酸を発生する化合物、すなわち温度８０℃から２５０℃で熱分解して酸を発生する化合物であれば特に限定されるものではない。
　そのような化合物としては、例えば、塩酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、ブタンスルホン酸、ペンタンスルホン酸、オクタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、カンファスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ｐ－フェノールスルホン酸、２－ナフタレンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、ｐ－キシレン－２－スルホン酸、ｍ－キシレン－２－スルホン酸、４－エチルベンゼンスルホン酸、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ－パーフルオロオクタンスルホン酸、パーフルオロ（２－エトキシエタン）スルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ノナフルオロブタン－１－スルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等のスルホン酸またはその水和物や塩等が挙げられる。
　また、熱により酸を発生する化合物としては、例えば、ビス（トシルオキシ）エタン、ビス（トシルオキシ）プロパン、ビス（トシルオキシ）ブタン、ｐ－ニトロベンジルトシレート、ｏ－ニトロベンジルトシレート、１，２，３－フェニレントリス（メチルスルホネート）、ｐ－トルエンスルホン酸ピリジニウム塩、ｐ－トルエンスルホン酸モルフォニウム塩、ｐ－トルエンスルホン酸エチルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸プロピルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸ブチルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸イソブチルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸メチルエステル、ｐ－トルエンスルホン酸フェネチルエステル、シアノメチルｐ－トルエンスルホネート、２，２，２－トリフルオロエチルｐ－トルエンスルホネート、２－ヒドロキシブチルｐ－トルエンスルホネート、Ｎ－エチル－ｐ－トルエンスルホンアミド、及び下記式で表される化合物等が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　本実施形態の硬化膜形成組成物における（Ｄ）成分の含有量は、（Ａ）成分の化合物と（Ｂ）成分のポリマーとの合計量の１００質量部に対して、好ましくは０．０１質量部乃至２０質量部、より好ましくは０．１質量部乃至１８質量部、更に好ましくは０．５質量部乃至１５質量部である。（Ｄ）成分の含有量を０．０１質量部以上とすることで、本実施形態の硬化膜形成組成物に充分な熱硬化性および溶剤耐性を付与することができ、さらに光照射に対する高い感度をも付与することができる。
＜溶剤＞
　本実施形態の硬化膜形成組成物は、主として溶剤に溶解した溶液状態で用いられる。その際に使用する溶剤は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分および（Ｃ）成分、必要に応じて（Ｄ）成分、および／または、後述するその他添加剤を溶解できればよく、その種類および構造などは特に限定されるものでない。
　溶剤の具体例としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２－ブタノン、３－メチル－２－ペンタノン、２－ペンタノン、２－ヘプタノン、γ－ブチロラクトン、２－ヒドロキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２－ヒドロキシ－３－メチルブタン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、およびＮ－メチルピロリドン等が挙げられる。
　これらの溶剤は、１種単独でまたは２種以上の組合せで使用することができる。
＜その他添加剤＞
　さらに、本実施形態の硬化膜形成組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、増感剤、シランカップリング剤、界面活性剤、レオロジー調整剤、顔料、染料、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤等を含有することができる。
　例えば、増感剤は、本実施形態の硬化膜形成組成物を用いて熱硬化膜を形成した後、光反応を促進することにおいて有効である。
　その他添加剤の一例である増感剤としては、ベンゾフェノン、アントラセン、アントラキノン、チオキサントン等およびその誘導体、並びにニトロフェニル化合物等が挙げられる。これらのうち、ベンゾフェノン誘導体およびニトロフェニル化合物が好ましい。
　好ましい化合物の具体例としてＮ，Ｎ－ジエチルアミノベンゾフェノン、２－ニトロフルオレン、２－ニトロフルオレノン、５－ニトロアセナフテン、４－ニトロビフェニル、４－ニトロけい皮酸、４－ニトロスチルベン、４－ニトロベンゾフェノン、５－ニトロインドール等が挙げられる。特に、ベンゾフェノンの誘導体であるＮ，Ｎ－ジエチルアミノベンゾフェノンが好ましい。
　これらの増感剤は上記のものに限定されるものではない。また、増感剤は単独でまたは２種以上の化合物を組み合わせて併用することが可能である。
　本実施形態の硬化膜形成組成物における増感剤の使用割合は、（Ａ）成分の化合物と（Ｂ）成分の芳香族環を有するポリエステルポリオールとの合計質量の１００質量部に対して０．１質量部乃至２０質量部であることが好ましく、より好ましくは０．２質量部乃至１０質量部である。
＜硬化膜形成組成物の調製＞
　本実施形態の硬化膜形成組成物は、（Ａ）成分である低分子の光配向成分と、（Ｂ）成分である芳香族環を有するポリエステルポリオールと、（Ｃ）成分である架橋剤を含有する。そして、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の添加剤を含有することができる。
　（Ａ）成分と（Ｂ）成分の配合比は、質量比で５：９５乃至６０：４０が好ましい。
　硬化膜の好ましい例は、以下のとおりである。
　［１］：（Ａ）成分と（Ｂ）成分の配合比が質量比で５：９５乃至６０：４０であり、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計量の１００質量部に基づいて、５質量部乃至５００質量部の（Ｃ）成分を含有する硬化膜形成組成物の塗布物から形成される乾燥焼成膜であって、その膜厚が３μｍ以上２０μｍ以下である、光配向性基を有する硬化膜。
　［２］：（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計量の１００質量部に基づいて、５質量部乃至５００質量部の（Ｃ）成分、溶剤を含有する硬化膜形成組成物の塗布物から形成される乾燥焼成膜であって、その膜厚が３μｍ以上２０μｍ以下である、光配向性基を有する硬化膜。
　［３］：（Ａ）成分と（Ｂ）成分との合計量の１００質量部に基づいて、５質量部乃至５００質量部の（Ｃ）成分、０．０１質量部乃至２０質量部の（Ｄ）成分、溶剤を含有する硬化膜形成組成物の塗布物から形成される乾燥焼成膜であって、その膜厚が３μｍ以上２０μｍ以下である、光配向性基を有する硬化膜。
　本実施形態の硬化膜形成組成物を溶液として用いる場合の配合割合、調製方法等を以下に詳述する。
　本実施形態の硬化膜形成組成物における固形分の割合は、各成分が均一に溶剤に溶解している限り、特に限定されるものではないが、１質量％乃至８０質量％であり、好ましくは３質量％乃至６０質量％であり、より好ましくは５質量％乃至４０質量％である。ここで、固形分とは、硬化膜形成組成物の全成分から溶剤を除いたものをいう。
　本実施形態の硬化膜形成組成物の調製方法は、特に限定されない。調製法としては、例えば、溶剤に溶解した（Ｂ）成分の溶液に（Ａ）成分、（Ｃ）成分および必要に応じて（Ｄ）成分を所定の割合で混合し、均一な溶液とする方法、或いは、この調製法の適当な段階において、必要に応じてその他添加剤をさらに添加して混合する方法が挙げられる。
　また、調製された硬化膜形成組成物の溶液は、孔径が０．２μｍ程度のフィルタなどを用いて濾過した後、使用することが好ましい。
＜硬化膜、配向材および位相差材＞
　本実施形態の硬化膜形成組成物の溶液を基板（例えば、シリコン／二酸化シリコン被覆基板、シリコンナイトライド基板、金属、例えば、アルミニウム、モリブデン、クロムなどが被覆された基板、ガラス基板、石英基板、ＩＴＯ基板等）やフィルム（例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、アクリルフィルム等の樹脂フィルム）等の上に、バーコート、回転塗布、流し塗布、ロール塗布、スリット塗布、スリットに続いた回転塗布、インクジェット塗布、印刷などによって塗布して塗膜を形成し、その後、ホットプレートまたはオーブン等で加熱乾燥することにより、硬化膜を形成することができる。
　加熱乾燥の条件としては、硬化膜から形成される配向材の成分が、その上に塗布される重合性液晶溶液に溶出しない程度に、硬化反応が進行すればよく、例えば、温度６０℃乃至２００℃、時間０．４分間乃至６０分間の範囲の中から適宜選択された加熱温度および加熱時間が採用される。加熱温度および加熱時間は、好ましくは７０℃乃至１６０℃、０．５分間乃至１０分間である。
　本実施形態の硬化膜形成組成物を用いて形成される硬化膜の膜厚は、例えば、３μｍ以上２０μｍ以下であり、使用する基板の段差や光学的、電気的性質を考慮し適宜選択することができる。
　このようにして形成された硬化膜は、偏光ＵＶ照射を行うことで配向材、すなわち、重合性液晶等の液晶性を有する化合物を配向させる部材として機能させることができる。
　偏光ＵＶの照射方法としては、通常１５０ｎｍ乃至４５０ｎｍの波長の紫外光乃至可視光が用いられ、室温または加熱した状態で垂直または斜め方向から直線偏光を照射することによって行われる。
　本実施形態の硬化膜から形成された配向材は耐溶剤性および耐熱性を有しているため、この配向材上に、重合性液晶溶液からなる位相差材料を塗布した後、液晶の相転移温度まで加熱することで位相差材料を液晶状態とし、配向材上で配向させる。そして、配向状態となった位相差材料をそのまま硬化させ、光学異方性を有する層として位相差材を形成することができる。
　位相差材料としては、例えば、重合性基を有する液晶モノマーおよびそれを含有する組成物等が用いられる。そして、配向材を形成する基板がフィルムである場合には、本実施の形態の位相差材を有するフィルムは、位相差フィルムとして有用である。このような位相差材を形成する位相差材料は、液晶状態となって、配向材上で、水平配向、コレステリック配向、垂直配向、ハイブリッド配向等の配向状態をとるものがあり、それぞれ必要とされる位相差に応じて使い分けることが出来る。
　また、３Ｄディスプレイに用いられるパターン化位相差材を製造する場合には、本実施形態の硬化膜組成物から上記した方法で形成された硬化膜に、ラインアンドスペースパターンのマスクを介して所定の基準から、例えば、＋４５度の向きで偏光ＵＶ露光し、次いで、マスクを外してから－４５度の向きで偏光ＵＶを露光し、液晶の配向制御方向の異なる２種類の液晶配向領域が形成された配向材を得る。その後、重合性液晶溶液からなる位相差材料を塗布した後、液晶の相転移温度まで加熱することで位相差材料を液晶状態とし、配向材上で配向させる。そして、配向状態となった位相差材料をそのまま硬化させ、位相差特性の異なる２種類の位相差領域がそれぞれ複数、規則的に配置された、パターン化位相差材を得ることができる。
　また、上記のようにして形成された、本実施の形態の配向材を有する２枚の基板を用い、スペーサを介して両基板上の配向材が互いに向かい合うように張り合わせた後、それらの基板の間に液晶を注入して、液晶が配向した液晶表示素子とすることもできる。
　そのため、本実施の形態の硬化膜は、各種位相差材（位相差フィルム）や液晶表示素子等の製造に好適に用いることができる。
　　以下、本発明の実施例を挙げて、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定して解釈されるものではない。
［実施例で用いる略記号］
　以下の実施例で用いる略記号の意味は、次のとおりである。
＜原料＞
ＢＭＡＡ：Ｎ－ブトキシメチルアクリルアミド
ＡＩＢＮ：α，α’－アゾビスイソブチロニトリル
＜Ａ成分＞
ＭＣＡ：４－メトキシけい皮酸
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
＜Ｂ成分＞
ＡＰＥＰＯ：芳香族ポリエステルポリオール（下記構造単位を有する多価カルボン酸と多価アルコールで得られる液状エステルオリゴマー）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 （上記式中、Ｒ１１は、Ｃ１乃至Ｃ８のアルキレン、Ｒ１２は芳香環を表す。）
＜Ｃ成分＞
ＰＣ－１：下記の構造式で表される（ｎは繰り返し単位の数）。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
＜Ｄ成分＞
ＰＴＳＡ：ｐ－トルエンスルホン酸・一水和物
＜溶剤＞
　実施例及び比較例の各樹脂組成物は溶剤を含有し、その溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＭ）、酢酸ブチル（ＢＡ）、酢酸エチル（ＥＡ）、Ｎ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）、シクロペンタノン（ＣＰＮ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）を用いた。
＜重合体の分子量の測定＞
　重合例におけるアクリル共重合体の分子量は、（株）Ｓｈｏｄｅｘ社製常温ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（ＧＰＣ－１０１）、Ｓｈｏｄｅｘ社製カラム（ＫＤ―８０３、ＫＤ－８０５）を用い以下のようにして測定した。
　なお、下記の数平均分子量（以下、Ｍｎと称す。）及び重量平均分子量（以下、Ｍｗと称す。）は、ポリスチレン換算値にて表した。
カラム温度：４０℃
溶離液：テトラヒドロフラン
流速：１．０ｍＬ／分
検量線作成用標準サンプル：昭和電工社製　標準ポリスチレン（分子量　約１９７，０００、５５，１００、１２，８００、３，９５０、１，２６０、５８０）。
＜Ｃ成分の合成＞
＜重合例＞
　ＢＭＡＡ　１００．０ｇ、重合触媒としてＡＩＢＮ　１．０ｇをＰＭ　１９３．５ｇに溶解し、８０℃にて２０時間反応させることによりアクリル重合体溶液を得た。得られたアクリル重合体のＭｎは１０，０００、Ｍｗは２３，０００であった。アクリル重合体溶液をヘキサン２０００．０ｇに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することで、重合体（ＰＣ－１）を得た。
＜液晶配向剤の調製＞
＜実施例１＞
　（Ａ）成分としてＭＣＡ　０．０４７ｇ、（Ｂ）成分としてＡＰＥＰＯ－１　０．０６５ｇ（川崎化成工業（株）社製　ＲＤＫ－１３３）、（Ｃ）成分として重合例で得た重合体（ＰＣ－１）を０．２４８ｇ、（Ｄ）成分としてＰＴＳＡ　０．０１２ｇを混合し、これに溶媒としてのＰＭ　０．７６４ｇ、ＢＡ　０．９８４ｇを加えて目視で溶解したことを確認し溶液を得た。次いで、この得られた溶液を孔径０．２μｍのフィルターでろ過することにより、液晶配向剤（Ａ－１）を調製した。なお、ここで液晶配向剤は、硬化膜形成組成物と同義である。
＜実施例２乃至実施例４＞
　下記表１に示す種類及び配合量の各成分を用いた以外は、実施例１と同様に操作し、各液晶配向剤（Ａ－２）乃至（Ａ－４）を調製した。
ＡＰＥＰＯ－２：ＲＦＫ－５０５（川崎化成工業株式会社製）
ＡＰＥＰＯ－３：ＲＦＫ－５０９（川崎化成工業株式会社製）
ＡＰＥＰＯ－４：ＲＭＫ－３４２（川崎化成工業株式会社製）
＜比較例１乃至比較例２＞
　（Ｂ）成分に芳香環を含まないＰＥＰＯ（ポリエステルポリオール）を用い、下記表１に示す種類及び配合量の各成分を用いた以外は実施例１と同様に操作し、各液晶配向剤（Ｂ－１）乃至（Ｂ－２）を調製した。
ＰＥＰＯ－１：ポリライト８６５１（ＤＩＣ株式会社社製）
ＰＥＰＯ－２：ＰＬＡＣＣＥＬ４１０（株式会社ダイセル社製）
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000012
＜水平配向用重合性液晶溶液の作製＞
＜実施例５＞
　水平配向用重合性液晶であるＬＣ－２４２　１．４６３ｇ（ＢＡＳＦ社製）、光ラジカル開始剤であるＩｒｇａｃｕｒｅ９０７　０．０２９ｇ（ＢＡＳＦ社製）、レベリング材であるＢＹＫ－３６１Ｎ　０．０７５ｇを加え、さらに溶媒としてＮ－メチルピロリドン　２．７７６ｇを加え、２時間攪拌し目視で溶解していることを確認し、３０質量％の重合性液晶溶液ＬＣ－１を得た。
＜実施例６＞
　実施例５と同様に操作を行い、溶媒をＮ－メチルピロリドンからシクロペンタノンに変更し、重合性液晶溶液ＬＣ－２を得た。
＜実施例７＞
　実施例５と同様に操作を行い、溶媒をＮ－メチルピロリドンからＭＥＫに変更し、重合性液晶溶液ＬＣ－３を得た。
＜液晶配向膜の形成及び位相差フィルムの作製＞
＜実施例８＞
　実施例１で調製した液晶配向剤（Ａ－１）を、基板としてのＴＡＣフィルム上にバーコーターを用いてＷｅｔ膜厚３０μｍにて塗布した。熱循環式オーブン内にて１２０℃で１分間の加熱乾燥を行い、フィルム上に硬化膜を形成した。次いで、この硬化膜表面に３１３ｎｍの直線偏光を１０ｍＪ／ｃｍ２の露光量で垂直に照射し、液晶配向膜を形成した。水平配向用重合性液晶溶液ＬＣ－１を、バーコーターを用いて上記液晶配向膜上にＷｅｔ膜厚６μｍにて塗布した。次いで、ホットプレート上にて９０℃で１分間の加熱乾燥を行った後、３６５ｎｍの非偏光を３００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で垂直に照射することで重合性液晶を硬化させ、位相差フィルムを作製した。
＜実施例９乃至実施例１１＞
　液晶配向剤として（Ａ－２）乃至（Ａ－４）を用い、実施例８と同様に操作し、実施例９乃至実施例１１の各位相差フィルムを作製した。
＜比較例３及び比較例４＞
　液晶配向剤として（Ｂ－１）、（Ｂ－２）、実施例８と同様に操作し、比較例３及び比較例４の各位相差フィルムを作製した。
＜実施例１２乃至実施例１５＞
　液晶配向剤として（Ａ－１）乃至（Ａ－４）、水平配向用重合性液晶溶液ＬＣ－２を用い、実施例８と同様に操作し、実施例１２乃至実施例１５の各位相差フィルムを作製した。
＜比較例５及び比較例６＞
　液晶配向剤として（Ｂ－１）、（Ｂ－２）、水平配向用重合性液晶溶液ＬＣ－２を用い、実施例８と同様に操作し、比較例３及び比較例４の各位相差フィルムを作製した。
＜実施例１６乃至実施例１９＞
　液晶配向剤として（Ａ－１）乃至（Ａ－４）、水平配向用重合性液晶溶液ＬＣ－３を用い、実施例８と同様に操作し、実施例１６乃至実施例１９の各位相差フィルムを作製した。
＜比較例７及び比較例８＞
　液晶配向剤として（Ｂ－１）、（Ｂ－２）、水平配向用重合性液晶溶液ＬＣ－３を用い、実施例８と同様に操作し、比較例７及び比較例８の各位相差フィルムを作製した。
　上記で作製した各位相差フィルムについて、下記方法により評価を行った。その評価結果を表２に示す。
＜配向性の評価＞
　作製した基板上の位相差フィルムを一対の偏光板で挟み込み、目視によりクロスニコル下での位相差特性の発現状況を観察した。位相差が欠陥なく発現しているものを○、位相差が発現していないものを×として「配向性」の欄に記載した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000013
　表２の結果から明らかなように、芳香環含有ポリエステルポリオールを使用することにより、液晶可溶な種々の溶媒への溶剤耐性が得られ、良溶媒であるＮＭＰへの耐性を有し、良好な配向性を得ることができるとともに、膜厚が３μｍ以上の厚膜であっても透明性に優れる。一方、比較例では、ＮＭＰへの耐性が得られなかった。
　本発明による硬化膜は、液晶表示素子の液晶配向膜や、液晶表示素子に内部や外部に設けられる光学異方性フィルムを形成するための配向材を形成しうる膜として非常に有用であり、特に、３Ｄディスプレイのパターン化位相差材の形成材料として好適である。さらに、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）型液晶表示素子や有機ＥＬ素子などの各種ディスプレイにおける保護膜、平坦化膜および絶縁膜などの硬化膜、特に、ＴＦＴ型液晶素子の層間絶縁膜、カラーフィルタの保護膜または有機ＥＬ素子の絶縁膜としても好適である。

Claims (11)

  1. 　（Ａ）光配向性基とヒドロキシ基、カルボキシル基およびアミノ基から選ばれるいずれか１つの置換基とを有する化合物、
    　（Ｂ）芳香族環を有するポリエステルポリオール、並びに
    　（Ｃ）架橋剤
    を含有することを特徴とする硬化膜形成組成物の塗布物から形成される乾燥焼成膜であって、その膜厚が３μｍ以上２０μｍ以下である、光配向性基を有する硬化膜。
  2. 　（Ａ）成分の光配向性基が光二量化または光異性化する構造の官能基であることを特徴とする請求項１に記載の硬化膜。
  3. 　（Ａ）成分の光配向性基がシンナモイル基であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の硬化膜。
  4. 　（Ａ）成分の光配向性基がアゾベンゼン構造の基であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の硬化膜。
  5. 　（Ａ）成分が２個以上のヒドロキシ基を有することを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の硬化膜。
  6. 　（Ｄ）成分として架橋触媒をさらに含有することを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の硬化膜。
  7. 　（Ａ）成分と（Ｂ）成分の比率が質量比で５：９５乃至６０：４０であることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の硬化膜。
  8. 　（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計量の１００質量部に基づいて、５質量部乃至５００質量部の（Ｃ）成分を含有することを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の硬化膜。
  9. （Ａ）成分の化合物と（Ｂ）成分のポリマーとの合計量の１００質量部に対して０．０１質量部乃至２０質量部の（Ｄ）成分を含有する請求項６に記載の硬化膜。
  10. 　請求項１乃至請求項９のいずれか１項に記載の硬化膜を用いて得られることを特徴とする配向材。
  11. 　請求項１乃至請求項９のいずれか１項に記載の硬化膜を使用して形成されることを特徴とする位相差材。
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