WO2019206014A1 - 承载装置和曝光机 - Google Patents

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胡森文
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Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716—Stages
    • G—PHYSICS
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask

Definitions

  • the present invention relates to the field of display technologies, and in particular, to a carrying device and an exposure machine.
  • an exposure machine is required in a photolithography process, and a substrate to be exposed is exposed through a patterned mask.
  • the exposure machine includes a plurality of loading platforms arranged from top to bottom for holding the mask. Assuming that the exposure machine includes five stages, it is necessary to use a reticle trolley to pass the reticle to the corresponding stage. In this process, the mask version of the trolley is required to accurately align the mask and the carrier, otherwise the mask may be scratched.
  • the embodiment of the invention provides a carrying device applied to an exposure machine, comprising:
  • a loading platform disposed in the first preset height range, a plurality of loading platforms disposed in the second predetermined height range, a sensor, and a transposition structure
  • the sensors are respectively electrically connected to the carrying platform disposed in the first preset height range, and the plurality of carrying platforms disposed in the second preset height range; the sensors are used before the mask is placed Detecting, in the first preset height range, the carrying platform, and the plurality of loading platforms disposed in the second preset height range, whether to carry the mask;
  • the transposition structure is configured to: when the sensor detects that the loading platform disposed in the first preset height range carries a mask, and the sensor detects that the target carrier does not carry a mask version And performing positional swapping on the carrying platform disposed in the first preset height range and the target carrying platform to insert the mask into the carrying platform disposed in the first preset height range;
  • the transposition structure includes a mechanical arm, and the mechanical arm is configured to pick up and receive the loading platform disposed in a first preset height range, and the target loading platform.
  • the transposition structure further includes a locator
  • the positioner is configured to define a height range of the mechanical arm, so that the mechanical arm picks up the carrying platform disposed in a first preset height range, and the target carrying platform.
  • the locator includes a screw lifter.
  • the transposition structure further includes a buffer area
  • the buffer area is configured to store the loading platform disposed in the first preset height range when the mechanical arm takes out the loading platform disposed in the first preset height range, or the target loading platform Or the target carrier.
  • the embodiment of the invention provides a carrying device, which is applied to an exposure machine, comprising: a carrying platform disposed in a first preset height range, a plurality of carrying platforms disposed in a second preset height range, and a transposition structure ;
  • the transposition structure is configured to determine, before the mask is placed, whether the carrier set in the first preset height range carries a mask, such as carrying a mask, from the plurality of Positioning in a second preset height range of the carrying platform, acquiring a target carrying platform that does not carry the mask version, and performing position swapping on the carrying platform and the target carrying platform disposed in the first preset height range,
  • the mask is placed in a carrier set at a first preset height range.
  • the transposition structure comprises a mechanical arm
  • the mechanical arm is configured to pick up and place the carrying platform disposed in a first preset height range, and the target carrying platform.
  • the transposition structure further includes a locator
  • the positioner is configured to define a height range of the mechanical arm, so that the mechanical arm picks up the carrying platform disposed in a first preset height range, and the target carrying platform.
  • the locator includes a screw lifter.
  • the transposition structure further includes a buffer area
  • the buffer area is configured to store the loading platform disposed in the first preset height range when the mechanical arm takes out the loading platform disposed in the first preset height range, or the target loading platform Or the target carrier.
  • the carrying device further includes a sensor, and the sensor is electrically connected to the carrying platform disposed in the first preset height range, and the plurality of carrying platforms disposed in the second preset height range ;
  • the sensor is configured to detect the loading platform disposed in a first preset height range before the mask is placed, and the plurality of loading platforms disposed in the second preset height range, whether to carry the mask Version;
  • the transposition structure is configured to: when the sensor detects that the loading platform disposed in the first preset height range carries a mask, and the sensor detects that the target carrier does not carry a mask version Then, the position of the carrying platform disposed in the first preset height range and the target carrying platform are interchanged to place the mask into the carrying platform disposed in the first preset height range.
  • the embodiment of the invention further provides an exposure machine, comprising a carrying device, the carrying device comprises a carrying platform disposed in a first preset height range, a plurality of carrying platforms disposed in a second preset height range, and a loading platform Transposition structure
  • the transposition structure is configured to determine, before the mask is placed, whether the carrier set in the first preset height range carries a mask, such as carrying a mask, from the plurality of Positioning in a second preset height range of the carrying platform, acquiring a target carrying platform that does not carry the mask version, and performing position swapping on the carrying platform and the target carrying platform disposed in the first preset height range,
  • the mask is placed in a carrier set at a first preset height range.
  • the transposition structure comprises a mechanical arm
  • the mechanical arm is configured to pick up and place the carrying platform disposed in a first preset height range, and the target carrying platform.
  • the transposition structure further includes a locator
  • the positioner is configured to define a height range of the mechanical arm, so that the mechanical arm picks up the carrying platform disposed in a first preset height range, and the target carrying platform.
  • the locator includes a screw lifter.
  • the transposition structure further includes a buffer area
  • the buffer area is configured to store the loading platform disposed in the first preset height range when the mechanical arm takes out the loading platform disposed in the first preset height range, or the target loading platform Or the target carrier.
  • the carrying device further includes a sensor, and the sensor is electrically connected to the carrying platform disposed in the first preset height range, and the plurality of carrying platforms disposed in the second preset height range ;
  • the sensor is configured to detect the loading platform disposed in a first preset height range before the mask is placed, and the plurality of loading platforms disposed in the second preset height range, whether to carry the mask Version;
  • the transposition structure is configured to: when the sensor detects that the loading platform disposed in the first preset height range carries a mask, and the sensor detects that the target carrier does not carry a mask version Then, the position of the carrying platform disposed in the first preset height range and the target carrying platform are interchanged to place the mask into the carrying platform disposed in the first preset height range.
  • the position is exchanged with the target carrier table to place the mask plate in the set
  • the first preset height of the carrying platform reduces the damage rate of the mask.
  • FIG. 1 is a schematic structural diagram of a carrier device according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic structural view of a conventional carrier device.
  • FIG. 3 is a schematic diagram of a scenario in which a carrier device is placed in a mask according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a schematic structural diagram of a transposition structure according to an embodiment of the present invention.
  • references to "an embodiment” herein mean that a particular feature, structure, or characteristic described in connection with the embodiments can be included in at least one embodiment of the invention.
  • the appearances of the phrases in various places in the specification are not necessarily referring to the same embodiments, and are not exclusive or alternative embodiments that are mutually exclusive. Those skilled in the art will understand and implicitly understand that the embodiments described herein can be combined with other embodiments.
  • FIG. 1 is a schematic structural diagram of a carrier device according to an embodiment of the present invention.
  • the carrying device 10 includes a loading platform 100 disposed at a first preset height range, a plurality of loading platforms 101 disposed at a second predetermined height range, and a transposition structure 102.
  • the carrying platform 100 disposed in the first preset height range and the plurality of carrying platforms 101 disposed in the second preset height range are used to carry the mask.
  • the conventional carrier device 20 in the conventional carrier device 20, five stages 201 arranged in order from top to bottom are included.
  • the carrier 201 is in a higher position, which may cause scratching of the mask.
  • the height range of the convenient manual alignment may be pre-selected and set to the first preset height range.
  • the height range of the two loading stations 201 at the lower position may be set. It is the first preset height range.
  • the remaining height range corresponding to the inconvenient manual is set to the second preset height range.
  • the transposition structure 102 is configured to determine whether the carrier 100 disposed in the first preset height range carries a mask before the mask is placed, and if the mask is carried, Positioned in the second preset height range of the carrying platform 101, acquiring the target carrying platform that does not carry the mask version, and performing positional swapping on the carrying platform 100 and the target carrying platform disposed in the first preset height range.
  • the mask can be stored. If the mask is not carried, the mask is directly placed in the carrier set at the first preset height range.
  • the first preset height range h1 is 40-50 meters
  • the second preset height range h2 is 10-39 meters, and 51-80 meters.
  • the carrying platform disposed at 40-50 meters in the carrying device is the carrying platform a
  • the carrying platforms disposed at 10-39 meters and 51-80 meters are b, c, d, and e.
  • the masks are carried in the carrying stations a, b, c and e in the carrying device, and only the carrying platform d does not carry the mask.
  • the indexing structure 102 determines that the deck a set at 40-50 meters carries the mask, so it is set at 10-39 meters, and 51-80 meters.
  • the carrying platform d that does not carry the mask is selected as the target carrying platform, and the carrying platform d and the carrying platform a are positionally interchanged.
  • the carrying table d is set at 40-50 meters, so the transposition structure 102 puts a new mask into the carrying table d set at 40-50 meters. In this way, the mask can be placed in the carrying platform set in a height range convenient for manual alignment, thereby preventing the mask from being scratched and reducing the damage rate of the mask.
  • the transposition structure 102 includes a robotic arm 1021.
  • the robot arm 1021 is configured to pick up and drop a carrier 100 disposed at a first preset height range, and a target carrier.
  • the transposition structure 102 further includes a locator 1022 for defining a height range of the robot arm 1021 to enable the robot arm 1021 to be placed in a first preset height range.
  • the positioner 1022 includes a screw lifter.
  • the transposition structure 102 further includes a buffer area for temporarily storing the temporary storage unit 100 when the robot arm 1021 takes out the loading platform 100 disposed at the first preset height range or the target loading platform.
  • the carrier device 10 further includes a sensor 103, and the sensor 103 is respectively disposed on the loading platform 100 disposed in the first preset height range, and the plurality of loading platforms disposed in the second preset height range. 101 electrical connection.
  • the sensor 103 is configured to detect the carrier 100 disposed in the first preset height range, and whether the plurality of carriers 101 disposed in the second preset height range carry the mask.
  • the transposition structure 102 will be set at the first preset height. The positions of the range of the carrier 100 and the target carrier are interchanged.
  • the position is exchanged with the target carrier table to place the mask plate in the set
  • the first preset height of the carrying platform reduces the damage rate of the mask.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
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Abstract

一种承载装置 (10)和曝光机，承载装置 (10)包括设置在第一预设高度范围的承载台 (100)、多个设置在第二预设高度范围的承载台 (101)和换位结构 (102)；换位结构 (102)用于在设置在第一预设高度范围的承载台 (100)承载了掩膜版后，从设置在第二预设高度范围的承载台 (101)中获取未承载掩膜版的目标承载台，交换设置在第一预设高度范围的承载台 (100)和目标承载台的位置。

Description

承载装置和曝光机 技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种承载装置和曝光机。
 背景技术
在液晶显示技术领域，光刻工艺过程中需要曝光机，通过带有图形的掩膜版对待曝光的基板进行曝光。
曝光机中包括多个从上至下设置的承载台，用于盛放掩膜版。假设曝光机包括5个承载台，则需要使用掩膜版台车通过螺旋升降装置，将掩膜版放至相应的承载台。此过程中，需要掩膜版台车对掩膜版以及承载台进行精确对位，否则易发生掩膜版被划伤的情况。
 技术问题
本发明的目的在于提供一种承载装置和曝光机，可以降低掩膜版放置过程中，掩膜版的损坏率。
 技术解决方案
本发明实施例提供了一种承载装置，应用于曝光机，包括：
一设置在第一预设高度范围的承载台、多个设置在第二预设高度范围的承载台、传感器以及一换位结构；
所述设置在第一预设高度范围的承载台，以及所述多个设置在第二预设高度范围的承载台，用于承载掩膜版；
所述传感器分别与所述设置在第一预设高度范围的承载台、所述多个设置在第二预设高度范围的承载台电性连接；所述传感器，用于在掩膜版放入之前，检测所述设置在第一预设高度范围的承载台，以及所述多个设置在第二预设高度范围的承载台，是否承载掩膜版；
所述换位结构，用于在所述传感器检测到所述设置在第一预设高度范围的承载台承载了掩膜版，且在所述传感器检测到所述目标承载台未承载掩膜版后，对所述设置在第一预设高度范围的承载台和所述目标承载台，进行位置互换，以将掩膜版放入设置在第一预设高度范围的承载台；
其中，所述换位结构包括机械臂；所述机械臂，用于取放所述设置在第一预设高度范围的承载台，以及所述目标承载台。
在一些实施例中，所述换位结构还包括定位器；
所述定位器，用于限定所述机械臂的高度范围，以使所述机械臂取放所述设置在第一预设高度范围的承载台，以及所述目标承载台。
在一些实施例中，所述定位器包括螺旋升降器。
在一些实施例中，所述换位结构还包括缓存区；
所述缓存区，用于在所述机械臂取出所述设置在第一预设高度范围的承载台，或所述目标承载台时，存放所述设置在第一预设高度范围的承载台，或所述目标承载台。
本发明实施例提供了一种承载装置，应用于曝光机，包括：一设置在第一预设高度范围的承载台、多个设置在第二预设高度范围的承载台，以及一换位结构；
所述设置在第一预设高度范围的承载台，以及所述多个设置在第二预设高度范围的承载台，用于承载掩膜版；
所述换位结构，用于在掩膜版放入之前，判断所述设置在第一预设高度范围的承载台是否承载了掩膜版，如承载了掩膜版，则从所述多个设置在第二预设高度范围的承载台中，获取未承载掩膜版的目标承载台，并对所述设置在第一预设高度范围的承载台和所述目标承载台，进行位置互换，以将掩膜版放入设置在第一预设高度范围的承载台。
在一些实施例中，所述换位结构包括机械臂；
所述机械臂，用于取放所述设置在第一预设高度范围的承载台，以及所述目标承载台。
在一些实施例中，所述换位结构还包括定位器；
所述定位器，用于限定所述机械臂的高度范围，以使所述机械臂取放所述设置在第一预设高度范围的承载台，以及所述目标承载台。
在一些实施例中，所述定位器包括螺旋升降器。
在一些实施例中，所述换位结构还包括缓存区；
所述缓存区，用于在所述机械臂取出所述设置在第一预设高度范围的承载台，或所述目标承载台时，存放所述设置在第一预设高度范围的承载台，或所述目标承载台。
在一些实施例中，所述承载装置还包括传感器，所述传感器分别与所述设置在第一预设高度范围的承载台、所述多个设置在第二预设高度范围的承载台电性连接；
所述传感器，用于在掩膜版放入之前，检测所述设置在第一预设高度范围的承载台，以及所述多个设置在第二预设高度范围的承载台，是否承载掩膜版；
所述换位结构，用于在所述传感器检测到所述设置在第一预设高度范围的承载台承载了掩膜版，且在所述传感器检测到所述目标承载台未承载掩膜版后，对所述设置在第一预设高度范围的承载台和所述目标承载台，进行位置互换，以将掩膜版放入设置在第一预设高度范围的承载台。
本发明实施例还提供了一种曝光机，包括承载装置，所述承载装置包括一设置在第一预设高度范围的承载台、多个设置在第二预设高度范围的承载台，以及一换位结构；
所述设置在第一预设高度范围的承载台，以及所述多个设置在第二预设高度范围的承载台，用于承载掩膜版；
所述换位结构，用于在掩膜版放入之前，判断所述设置在第一预设高度范围的承载台是否承载了掩膜版，如承载了掩膜版，则从所述多个设置在第二预设高度范围的承载台中，获取未承载掩膜版的目标承载台，并对所述设置在第一预设高度范围的承载台和所述目标承载台，进行位置互换，以将掩膜版放入设置在第一预设高度范围的承载台。
在一些实施例中，所述换位结构包括机械臂；
所述机械臂，用于取放所述设置在第一预设高度范围的承载台，以及所述目标承载台。
在一些实施例中，所述换位结构还包括定位器；
所述定位器，用于限定所述机械臂的高度范围，以使所述机械臂取放所述设置在第一预设高度范围的承载台，以及所述目标承载台。
在一些实施例中，所述定位器包括螺旋升降器。
在一些实施例中，所述换位结构还包括缓存区；
所述缓存区，用于在所述机械臂取出所述设置在第一预设高度范围的承载台，或所述目标承载台时，存放所述设置在第一预设高度范围的承载台，或所述目标承载台。
在一些实施例中，所述承载装置还包括传感器，所述传感器分别与所述设置在第一预设高度范围的承载台、所述多个设置在第二预设高度范围的承载台电性连接；
所述传感器，用于在掩膜版放入之前，检测所述设置在第一预设高度范围的承载台，以及所述多个设置在第二预设高度范围的承载台，是否承载掩膜版；
所述换位结构，用于在所述传感器检测到所述设置在第一预设高度范围的承载台承载了掩膜版，且在所述传感器检测到所述目标承载台未承载掩膜版后，对所述设置在第一预设高度范围的承载台和所述目标承载台，进行位置互换，以将掩膜版放入设置在第一预设高度范围的承载台。
 有益效果
本发明实施例的承载装置和曝光机，在设置在第一预设高度范围的承载台承载了掩膜版后，将其与目标承载台进行位置互换，以将掩膜版放入设置在第一预设高度的承载台，从而降低了掩膜版的损坏率。
 附图说明
为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下：
图1为本发明实施例提供的承载装置的结构示意图。
图2为现有的承载装置的结构示意图。
图3为本发明实施例提供的承载装置放入掩膜版的场景示意图。
图4为本发明实施例提供的换位结构的结构示意图。
 本发明的实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。
在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。
在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本发明的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。
本发明实施例提供了一种曝光机，该曝光机包括承载装置。请参照图1，图1为本发明实施例提供的承载装置的结构示意图。如图1所示，承载装置10包括一设置在第一预设高度范围的承载台100、多个设置在第二预设高度范围的承载台101，以及一换位结构102。
其中，该设置在第一预设高度范围的承载台100，以及该多个设置在第二预设高度范围的承载台101，均用于承载掩膜版。如图2所示，在现有的承载装置20中，包括从上至下依次排列的五个承载台201。当通过人工操作台车，将掩膜版放入两个处于较高位置的承载台201时，由于受承载台201宽度以及高度的限制，凭借肉眼难以将掩膜版，准确对位放入两个处于较高位置的承载台201，故可能造成掩膜版划伤。在本发明实施例中，可以预先选取方便人工对位的高度范围，设置为第一预设高度范围，比如图2中，可以将较低位置的两个承载台201所处的高度范围，设置为第一预设高度范围。剩余不方便人工对应的高度范围，设置为第二预设高度范围。
如图1所示，换位结构102用于在掩膜版放入之前，判断设置在第一预设高度范围的承载台100是否承载了掩膜版，如果承载了掩膜版，则从多个设置在第二预设高度范围的承载台101中，获取未承载掩膜版的目标承载台，并对设置在第一预设高度范围的承载台100和目标承载台，进行位置互换，以使设置在第一预设高度范围的承载台100具有空间，可以存放掩膜版。如果没有承载掩膜版，则直接将掩膜版放入设置在第一预设高度范围的承载台。
具体的，假设第一预设高度范围h1为40-50米，第二预设高度范围h2为10-39米，以及51-80米。则如图3所示，承载装置中设置在40-50米的承载台为承载台a，设置在10-39米，以及51-80米的承载台为b、c、d以及e。初始时，承载装置中的承载台a、b、c以及e中均承载了掩膜版，只有承载台d未承载掩膜版。当有新的掩膜版需要放入承载装置10时，换位结构102确定设置在40-50米的承载台a承载了掩膜版，因此从设置在10-39米，以及51-80米的承载台b、c、d以及e中，选取未承载掩膜版的承载台d作为目标承载台，将承载台d和承载台a进行位置互换。此时，承载台d设置在40-50米，故换位结构102将新的掩膜版放入设置在40-50米的承载台d。这样即可以保证将掩膜版，放入设置在方便人工对位的高度范围的承载台，从而避免了掩膜版被划伤，降低了掩膜版的损害率。
在一些实施例中，如图4所示，换位结构102包括机械臂1021。该机械臂1021用于取放设置在第一预设高度范围的承载台100，以及目标承载台。
在一些实施例中，如图4所示，换位结构102还包括定位器1022，定位器1022用于限定机械臂1021的高度范围，以使机械臂1021取放设置在第一预设高度范围的承载台100，以及目标承载台。结合图3和图4所示，当使用机械表1021取承载台e时，定位器1022可以将机械臂1021，抬高至与承载台e持平的高度，以便于机械臂1021取出承载台e。具体的，如图4所示，定位器1022包括螺旋升降器。
在一些实施例中，换位结构102还包括缓存区，该缓存区用于在机械臂1021取出设置在第一预设高度范围的承载台100，或目标承载台时，暂时存放设置在第一预设高度范围的承载台100，或目标承载台。
在一些实施例中，如图1所示，承载装置10还包括传感器103，传感器103分别与设置在第一预设高度范围的承载台100、多个设置在第二预设高度范围的承载台101电性连接。
具体的，传感器103用于检测设置在第一预设高度范围的承载台100，以及多个设置在第二预设高度范围的承载台101是否承载掩膜版。当传感器103检测到设置在第一预设高度范围的承载台100承载了掩膜版，且传感器103检测到目标承载台未承载掩膜版后，换位结构102将设置在第一预设高度范围的承载台100和目标承载台的位置互换。
本发明实施例的承载装置和曝光机,在设置在第一预设高度范围的承载台承载了掩膜版后，将其与目标承载台进行位置互换，以将掩膜版放入设置在第一预设高度的承载台，从而降低了掩膜版的损坏率。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (16)

  1. 一种承载装置，应用于曝光机，其包括一设置在第一预设高度范围的承载台、多个设置在第二预设高度范围的承载台、传感器以及一换位结构；
    所述设置在第一预设高度范围的承载台，以及所述多个设置在第二预设高度范围的承载台，用于承载掩膜版；
    所述传感器分别与所述设置在第一预设高度范围的承载台、所述多个设置在第二预设高度范围的承载台电性连接；所述传感器，用于在掩膜版放入之前，检测所述设置在第一预设高度范围的承载台，以及所述多个设置在第二预设高度范围的承载台，是否承载掩膜版；
    所述换位结构，用于在所述传感器检测到所述设置在第一预设高度范围的承载台承载了掩膜版，且在所述传感器检测到所述目标承载台未承载掩膜版后，对所述设置在第一预设高度范围的承载台和所述目标承载台，进行位置互换，以将掩膜版放入设置在第一预设高度范围的承载台；
    其中，所述换位结构包括机械臂；所述机械臂，用于取放所述设置在第一预设高度范围的承载台，以及所述目标承载台。
  2. 根据权利要求1所述的承载装置，其中，所述换位结构还包括定位器；
    所述定位器，用于限定所述机械臂的高度范围，以使所述机械臂取放所述设置在第一预设高度范围的承载台，以及所述目标承载台。
  3. 根据权利要求2所述的承载装置，其中，所述定位器包括螺旋升降器。
  4. 根据权利要求1所述的承载装置，其中，所述换位结构还包括缓存区；
    所述缓存区，用于在所述机械臂取出所述设置在第一预设高度范围的承载台，或所述目标承载台时，存放所述设置在第一预设高度范围的承载台，或所述目标承载台。
  5. 一种承载装置，应用于曝光机，其包括一设置在第一预设高度范围的承载台、多个设置在第二预设高度范围的承载台，以及一换位结构；
    所述设置在第一预设高度范围的承载台，以及所述多个设置在第二预设高度范围的承载台，用于承载掩膜版；
    所述换位结构，用于在掩膜版放入之前，判断所述设置在第一预设高度范围的承载台是否承载了掩膜版，如承载了掩膜版，则从所述多个设置在第二预设高度范围的承载台中，获取未承载掩膜版的目标承载台，并对所述设置在第一预设高度范围的承载台和所述目标承载台，进行位置互换，以将掩膜版放入设置在第一预设高度范围的承载台。
  6. 根据权利要求5所述的承载装置，其中，所述换位结构包括机械臂；
    所述机械臂，用于取放所述设置在第一预设高度范围的承载台，以及所述目标承载台。
  7. 根据权利要求6所述的承载装置，其中，所述换位结构还包括定位器；
    所述定位器，用于限定所述机械臂的高度范围，以使所述机械臂取放所述设置在第一预设高度范围的承载台，以及所述目标承载台。
  8. 根据权利要求7所述的承载装置，其中，所述定位器包括螺旋升降器。
  9. 根据权利要求6所述的承载装置，其中，所述换位结构还包括缓存区；
    所述缓存区，用于在所述机械臂取出所述设置在第一预设高度范围的承载台，或所述目标承载台时，存放所述设置在第一预设高度范围的承载台，或所述目标承载台。
  10. 根据权利要求5所述的承载装置，其中，所述承载装置还包括传感器，所述传感器分别与所述设置在第一预设高度范围的承载台、所述多个设置在第二预设高度范围的承载台电性连接；
    所述传感器，用于在掩膜版放入之前，检测所述设置在第一预设高度范围的承载台，以及所述多个设置在第二预设高度范围的承载台，是否承载掩膜版；
    所述换位结构，用于在所述传感器检测到所述设置在第一预设高度范围的承载台承载了掩膜版，且在所述传感器检测到所述目标承载台未承载掩膜版后，对所述设置在第一预设高度范围的承载台和所述目标承载台，进行位置互换，以将掩膜版放入设置在第一预设高度范围的承载台。
  11. 一种曝光机，其包括承载装置，所述承载装置包括一设置在第一预设高度范围的承载台、多个设置在第二预设高度范围的承载台，以及一换位结构；
    所述设置在第一预设高度范围的承载台，以及所述多个设置在第二预设高度范围的承载台，用于承载掩膜版；
    所述换位结构，用于在掩膜版放入之前，判断所述设置在第一预设高度范围的承载台是否承载了掩膜版，如承载了掩膜版，则从所述多个设置在第二预设高度范围的承载台中，获取未承载掩膜版的目标承载台，并对所述设置在第一预设高度范围的承载台和所述目标承载台，进行位置互换，以将掩膜版放入设置在第一预设高度范围的承载台。
  12. 根据权利要求11所述的曝光机，其中，所述换位结构包括机械臂；
    所述机械臂，用于取放所述设置在第一预设高度范围的承载台，以及所述目标承载台。
  13. 根据权利要求12所述的曝光机，其中，所述换位结构还包括定位器；
    所述定位器，用于限定所述机械臂的高度范围，以使所述机械臂取放所述设置在第一预设高度范围的承载台，以及所述目标承载台。
  14. 根据权利要求13所述的曝光机，其中，所述定位器包括螺旋升降器。
  15. 根据权利要求12所述的曝光机，其中，所述换位结构还包括缓存区；
    所述缓存区，用于在所述机械臂取出所述设置在第一预设高度范围的承载台，或所述目标承载台时，存放所述设置在第一预设高度范围的承载台，或所述目标承载台。
  16. 根据权利要求11所述的曝光机，其中，所述承载装置还包括传感器，所述传感器分别与所述设置在第一预设高度范围的承载台、所述多个设置在第二预设高度范围的承载台电性连接；
    所述传感器，用于在掩膜版放入之前，检测所述设置在第一预设高度范围的承载台，以及所述多个设置在第二预设高度范围的承载台，是否承载掩膜版；
    所述换位结构，用于在所述传感器检测到所述设置在第一预设高度范围的承载台承载了掩膜版，且在所述传感器检测到所述目标承载台未承载掩膜版后，对所述设置在第一预设高度范围的承载台和所述目标承载台，进行位置互换，以将掩膜版放入设置在第一预设高度范围的承载台。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108628108A (zh) * 2018-04-25 2018-10-09 武汉华星光电技术有限公司 承载装置和曝光机

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6473157B2 (en) * 1992-02-07 2002-10-29 Nikon Corporation Method of manufacturing exposure apparatus and method for exposing a pattern on a mask onto a substrate
CN1424627A (zh) * 2001-12-06 2003-06-18 株式会社尼康 曝光方法和曝光装置
CN1493921A (zh) * 2002-07-29 2004-05-05 ASML�عɹɷ����޹�˾ 具有与真空室连通的真空掩模版库的光刻设备
CN1261334C (zh) * 2001-08-10 2006-06-28 Asml美国公司 光刻用的标线片转移系统和方法，基片转移盒及转移方法
CN102004398A (zh) * 2009-08-28 2011-04-06 优志旺电机株式会社 两面曝光装置
CN107243878A (zh) * 2017-07-28 2017-10-13 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板存储装置
CN108628108A (zh) * 2018-04-25 2018-10-09 武汉华星光电技术有限公司 承载装置和曝光机

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07302748A (ja) * 1994-05-02 1995-11-14 Canon Inc 半導体露光装置
CN102697299B (zh) * 2012-06-05 2014-06-04 浙江工业大学 智能型整理鞋柜
CN102854756B (zh) * 2012-08-06 2014-10-22 京东方科技集团股份有限公司 曝光方法及曝光装置
CN105807574B (zh) * 2014-12-30 2018-03-02 上海微电子装备（集团）股份有限公司 掩模传输装置、曝光装置及掩模传输方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6473157B2 (en) * 1992-02-07 2002-10-29 Nikon Corporation Method of manufacturing exposure apparatus and method for exposing a pattern on a mask onto a substrate
CN1261334C (zh) * 2001-08-10 2006-06-28 Asml美国公司 光刻用的标线片转移系统和方法，基片转移盒及转移方法
CN1424627A (zh) * 2001-12-06 2003-06-18 株式会社尼康 曝光方法和曝光装置
CN1493921A (zh) * 2002-07-29 2004-05-05 ASML�عɹɷ����޹�˾ 具有与真空室连通的真空掩模版库的光刻设备
CN102004398A (zh) * 2009-08-28 2011-04-06 优志旺电机株式会社 两面曝光装置
CN107243878A (zh) * 2017-07-28 2017-10-13 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板存储装置
CN108628108A (zh) * 2018-04-25 2018-10-09 武汉华星光电技术有限公司 承载装置和曝光机

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