WO2019159623A1 - ガラス基板群及びその製造方法 - Google Patents

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WO2019159623A1
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glass
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大和 岡本
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日本電気硝子株式会社
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    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B17/00—Forming molten glass by flowing-out, pushing-out, extruding or drawing downwardly or laterally from forming slits or by overflowing over lips
    • C03B17/06—Forming glass sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B18/00—Shaping glass in contact with the surface of a liquid
    • C03B18/02—Forming sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B25/00—Annealing glass products
    • C03B25/04—Annealing glass products in a continuous way
    • C03B25/10—Annealing glass products in a continuous way with vertical displacement of the glass products
    • C03B25/12—Annealing glass products in a continuous way with vertical displacement of the glass products of glass sheets

Definitions

  • the present invention relates to a glass substrate group including a plurality of glass substrates and a manufacturing method thereof.
  • the manufacturing process of a flat panel display (FPD) such as a liquid crystal display includes a film forming process in which a plurality of thin film patterns are formed on a glass substrate (mother glass) by using a photolithography technique.
  • FPD flat panel display
  • These thin film patterns have become more complicated and dense with the increasing definition of FPD. Therefore, when forming a thin film pattern on a glass substrate, high pattern formation accuracy has been required (see, for example, Patent Documents 1 and 2).
  • JP 2016-74582 A International Publication No. 2017/150266
  • the formation accuracy of a thin film pattern may be evaluated by the total pitch of a thin film pattern (for example, a gate electrode pattern) formed on a glass substrate.
  • the total pitch is an index as to whether or not the thin film pattern is formed as designed.
  • the total pitch is managed by the difference between the design distance and the measured distance between two predetermined points with a management mark or the like. .
  • the measurement result of the total pitch may be fed back to the exposure apparatus to correct the exposure error.
  • the total pitch varies greatly for each glass substrate included in the glass substrate group, it becomes difficult to correct the exposure error. If the exposure error cannot be corrected, there is a possibility that the display quality of the FPD is significantly deteriorated due to a decrease in the aperture ratio of the pixels, light leakage between the pixels, and the like.
  • An object of the present invention is to reduce the fluctuation of the total pitch in a glass substrate group including a plurality of glass substrates.
  • the inventor of the present application finds that the fact that the front and back deflection difference varies locally for each glass substrate included in the glass substrate group is one of the causes of the total pitch variation. It came.
  • the glass substrate is generally formed by a downdraw method such as an overflow downdraw method or a float method, but the shape in the direction orthogonal to the drawing direction changes during a long-time forming process.
  • Cheap when the glass substrates included in the glass substrate group are divided into a plurality of regions in a direction orthogonal to the drawing direction, and the front and back deflection differences of each region are compared for each glass substrate, the front and back deflection differences fluctuate in the same corresponding region. It's easy to do.
  • the microscopic shape on the surface plate is not different for each glass substrate when the difference in front and back deflection varies. It changes to a rule and causes the total pitch to change. Therefore, from the viewpoint of reducing the fluctuation of the total pitch of the glass substrate group, it is desirable to reduce the fluctuation (variation) of the front-back deflection difference for each glass substrate in the glass substrate group.
  • the present invention created to solve the above problems is a glass substrate group including a plurality of glass substrates, each of the plurality of glass substrates includes a first side along the drawing direction, A rectangular shape having a second side along a direction perpendicular to the drawing direction, and each of the first side and the second side has a length of 1000 mm or more and a plate thickness of 2.0 mm or less.
  • a glass substrate group including a plurality of glass substrates, each of the plurality of glass substrates includes a first side along the drawing direction, A rectangular shape having a second side along a direction perpendicular to the drawing direction, and each of the first side and the second side has a length of 1000 mm or more and a plate thickness of 2.0 mm or less.
  • the amount of change in the front-back deflection difference between the plurality of glass substrates is 0.4 mm or less.
  • the change amount of the front-back deflection difference (maximum value and minimum value of the front-back deflection difference within the glass substrate group) in any of the seven evaluation regions whose positions in the direction of the second side are equally spaced. (Difference in value) is 0.4 mm or less, so that the fluctuation of the front-back deflection difference for each glass substrate can be suppressed to a small value. Therefore, the fluctuation of the total pitch can be reduced in the glass substrate group including a plurality of glass substrates.
  • the equipment is repaired in order to improve the deterioration of the deflection difference due to the consumption of manufacturing equipment such as a molded product.
  • Increasing the frequency of manufacturing increases the manufacturing cost.
  • the deflection (front / back deflection difference) in the glass base can be allowed to some extent, and the manufacturing cost can be allowed. Can be suppressed.
  • the “drawing direction” means a direction in which the glass substrate is drawn.
  • first side along the drawing direction is meant to include not only a case where the drawing direction is geometrically parallel to the drawing direction but also a direction which can be regarded as being substantially parallel.
  • second side along the direction orthogonal to the drawing direction means not only a direction geometrically orthogonal to the drawing direction but also a direction that can be considered to be substantially orthogonal.
  • Glass substrate group means, in a narrow sense, a collection of products manufactured under the same conditions, but is not limited to this, and in a broad sense, a collection of similar products whose quality is controlled by the same manager. Means.
  • the maximum value among the average values of the seven evaluation regions and the seven The difference from the minimum value in the average value of the evaluation region is preferably 0.4 mm or more.
  • the absolute value of each of the maximum value and the minimum value is preferably 0.4 mm or less. That is, even if the value of the front / back deflection difference itself becomes too large, it may be difficult to correct the exposure error due to the glass substrate being separated from the surface plate during exposure in the film forming process. Therefore, in any of the seven evaluation regions, the absolute value of the front / back deflection difference is preferably within the above numerical range.
  • the present invention devised to solve the above problems is a method for manufacturing a glass substrate group including a plurality of glass substrates, each of the plurality of glass substrates including a first side along the drawing direction. , A rectangular shape having a second side along a direction perpendicular to the drawing direction, and the length of each of the first side and the second side is 1000 mm or more, and the plate thickness is 2.0 mm or less. And setting a plurality of evaluation regions having different positions in the direction of the second side for a plurality of glass substrates, measuring a front and back deflection difference of each of the plurality of evaluation regions, and a plurality of evaluation regions.
  • the pass / fail of the plurality of glass substrates is determined based on the amount of change in the front / back deflection difference between the plurality of glass substrates, for each of the plurality of glass substrates determined to be acceptable, Variations in the difference between the front and back deflections are kept small. Therefore, the variation of the total pitch can be reduced in the glass substrate group including the plurality of glass substrates determined to be acceptable.
  • the fluctuation of the total pitch can be reduced in a glass substrate group including a plurality of glass substrates.
  • the glass substrate group Gg according to the first embodiment preferably has a vertical posture (an inclined posture of 45 ° to 80 ° with respect to the horizontal direction) on one vertical pallet 1. 60 ° to 75 ° is more preferable).
  • the pallet 1 includes a bottom surface support portion 1a that supports the bottom surface of the glass substrate group Gg made of a laminated body of glass substrates Gs in a vertical posture, and a back surface support portion 1b that supports the back surface of the glass substrate group Gg.
  • a surface on the back support portion 1b side is a guarantee surface on which a thin film pattern is formed in the film forming process. This is to prevent the suction pad from coming into direct contact with the guarantee surface when the glass substrate Gs is taken out from the pallet 1.
  • a presser plate is disposed on the forefront of the glass substrate group Gg, and the presser bar protrudes on both sides in the width direction (for example, horizontal direction) of the glass substrate group Gg on the presser plate.
  • the glass substrate group Gg is fixed to the pallet 1 by tightening both ends of the presser bar so as to be pulled toward the back support portion 1b by the fastening member.
  • a pressing member that presses the side surface of the glass substrate group Gg may be disposed.
  • the fixing method of the glass substrate group Gg and the pallet 1 is not specifically limited, Arbitrary fixing methods, such as a belt stop, can be employ
  • the glass substrate group Gg according to the second embodiment has a horizontal posture (0 ° (horizontal posture) to 30 ° is preferable, preferably 0 ° on one horizontal pallet 2. It is composed of a plurality of glass substrates Gs laminated at a preferred angle of ⁇ 15 °.
  • the pallet 2 includes a bottom surface support portion 2a that supports the bottom surface of the glass substrate group Gg made of a laminated body of glass substrates Gs in a horizontal posture.
  • the surface (lower surface) on the bottom surface supporting portion 2a side is a guarantee surface on which a thin film pattern is formed in the film forming process. This is to prevent the suction pad from coming into direct contact with the guarantee surface when the glass substrate Gs is taken out from the pallet 1.
  • a presser plate is arranged on the foremost surface (uppermost surface) of the glass substrate group Gg, and a presser bar that protrudes on both sides of the glass substrate group Gg is arranged on the presser plate.
  • the glass substrate group Gg is fixed to the pallet 2 by tightening both end portions of the bar so as to be pulled toward the bottom surface support portion 2a side by a fastening member.
  • a pressing member that presses the side surface of the glass substrate group Gg may be disposed.
  • a plurality of pressing members are arranged in a scattered manner so as to surround four sides of the glass substrate group Gg.
  • the fixing method of the glass substrate group Gg and the pallet 2 is not specifically limited, Arbitrary fixing methods, such as a belt stop, can be employ
  • the glass substrate group Gg since the plurality of glass substrates Gs are in a laminated state, paper (interleaf), a foamed resin sheet, and the like are provided between the glass substrates Gs. It is preferable to sandwich a protective sheet (not shown).
  • Each of the plurality of glass substrates Gs included in the glass substrate group Gg is manufactured by a known forming method such as a down draw method such as an overflow down draw method or a slot down draw method, or a float method. In this embodiment, it is manufactured by the overflow downdraw method.
  • Each of the plurality of glass substrates Gs included in the glass substrate group Gg includes a first side Ga along the plate drawing direction X resulting from the molding method and a first side along the direction Y perpendicular to the plate drawing direction X. It has a rectangular shape having two sides Gb and is used, for example, as a glass substrate for FPD.
  • the length of the first side Ga and the second side Gb is 1000 mm or more, and preferably 1500 mm or more.
  • the lengths of the first side Ga and the second side Gb are preferably 4000 mm or less.
  • the plate thickness is 2.0 mm or less, and preferably 0.7 mm or less.
  • the plate thickness is preferably 0.3 mm or more.
  • the change amount of the front-back deflection difference in the plurality of glass substrates Gs is 0.4 mm or less. If the seven evaluation areas A to G include an area where the change amount of the front and back deflection difference of the plurality of glass substrates Gs exceeds 0.4 mm, the variation of the total pitch increases, resulting in poor exposure in the film forming process. It is easy for film formation failure to occur.
  • the amount of change in the front / back deflection difference of the plurality of glass substrates Gs is 0.4 mm or less, the fluctuation of the total pitch is reduced, and exposure failure occurs in the film forming process. It is difficult to occur and an appropriate thin film pattern can be formed.
  • the amount of change in the front / back deflection difference is preferably 0.3 mm or less, and more preferably 0.2 mm or less.
  • the average value of the front and back deflection differences is calculated for each of the seven evaluation areas, the average value of the front and back deflection differences among the seven evaluation areas A to G and the seven evaluation areas A to G are calculated.
  • the difference from the value at which the average value of the front and back deflection difference is minimum is 0.4 mm or more.
  • the difference between the maximum value and the minimum value is more preferably 0.5 mm or more.
  • the absolute value of the maximum value and the absolute value of the minimum value are each 0.3 mm or less.
  • the amount of change in the front / back deflection difference of the plurality of glass substrates Gs is measured by the following procedure.
  • any five glass substrates Gs are collected from the glass substrate group Gg.
  • Seven evaluation areas A to G are set on each collected glass substrate Gs.
  • Each of the evaluation areas A to G is set in an effective zone where a thin film pattern is formed in the film forming process.
  • Each of the evaluation regions A to G is a rectangle having a length of 370 mm in the width direction perpendicular to the drawing direction and a length of 470 mm in the drawing direction.
  • Each evaluation region A to G is provided at equal intervals (interval ⁇ I) in the width direction.
  • glass pieces Gp having the same size as the evaluation region are collected in each of the evaluation regions A to G, and seven glass pieces Gp are prepared for each glass substrate Gs.
  • the front and back deflection difference of each glass piece (total 35 glass pieces) Gp is measured. As shown in FIG. 4, the difference between the front and back deflections is the first deflection W1 when one main surface (for example, a guarantee surface) of the glass piece Gp is set on the upper side and the other main surface (for example, the guarantee surface) of the glass piece Gp.
  • the second deflection W2 is measured when the non-guaranteed surface on the opposite side) is on the upper side, and is determined by the difference (W1 ⁇ W2) between the first deflection W1 and the second deflection W2.
  • both end portions in the short side direction forming 370 mm of the glass piece Gp are supported by the support span L of 350 mm.
  • the minimum value and the maximum value of the front / back deflection difference are obtained, and the difference is used as the change amount of the front / back deflection difference.
  • the difference between the maximum value among the average values of the seven evaluation areas A to G and the minimum value among the average values of the seven evaluation areas A to G is the above (1) to (3).
  • the average value is calculated for each of the seven evaluation areas A to G from the front and back deflection differences measured in the above procedure, the maximum value and the minimum value of the average value are obtained, and the difference is calculated.
  • the drawing direction of the glass substrate Gs is, for example, a streak by irradiating light from a light source (for example, xenon light) while adjusting the angle of the glass substrate Gs in a dark room, and projecting the transmitted light on a screen. It can be observed as a striped pattern. Therefore, even in the state of the glass substrate Gs after forming, the drawing direction at the time of forming can be specified.
  • a light source for example, xenon light
  • a glass substrate group manufacturing apparatus 10 is used.
  • the manufacturing apparatus 10 is an apparatus for continuously forming a glass ribbon Gr, a forming furnace 11 for forming the glass ribbon Gr, a slow cooling furnace 12 for gradually cooling (annealing) the glass ribbon Gr, and the glass ribbon Gr to near room temperature.
  • a cooling zone 13 for cooling, and a pair of rollers 14 provided in upper and lower stages in each of the forming furnace 11, the slow cooling furnace 12, and the cooling zone 13 are provided.
  • a molded body 15 for molding the glass ribbon Gr from the molten glass Gm by the overflow down draw method is disposed.
  • the molten glass Gm supplied to the molded body 15 overflows from a groove formed in the top portion 15 a of the molded body 15, and the overflowed molten glass Gm has both side surfaces 15 b exhibiting a cross-sectional wedge shape of the molded body 15.
  • the plate-like glass ribbon Gr is continuously formed by merging at the lower end.
  • the glass ribbon Gr to be molded is in a vertical posture (preferably a vertical posture), and the X direction is the drawing direction.
  • the internal space of the slow cooling furnace 12 has a predetermined temperature gradient downward. As the glass ribbon Gr in the vertical posture moves downward in the internal space of the slow cooling furnace 12, the glass ribbon Gr is gradually cooled so that the temperature decreases. The internal distortion of the glass ribbon Gr is reduced by slow cooling.
  • the temperature gradient in the inner space of the slow cooling furnace 12 can be adjusted by a temperature adjusting device such as a heating device provided on the inner surface of the slow cooling furnace 12, for example.
  • the plurality of roller pairs 14 sandwich the side end portions on both sides of the vertically oriented glass ribbon Gr from both the front and back sides.
  • the plurality of roller pairs 14 may include one that does not sandwich the side end portion of the glass ribbon Gr.
  • the opposing distance between the pair of rollers 14 may be larger than the thickness of the side end portion of the glass ribbon Gr so that the glass ribbon Gr passes between the pair of rollers 14.
  • each roller constituting the pair of rollers 14 facing each other with the glass ribbon Gr interposed therebetween is constituted by a doubly supported roller having a rotating shaft extending outside the furnace.
  • the outer side of the wall portion X1 that partitions the forming furnace 11, the slow cooling furnace 12, and the cooling zone 13 is surrounded by an outer enclosure (for example, a building disclosed in Patent Document 2).
  • an outer enclosure for example, a building disclosed in Patent Document 2.
  • a partition portion for example, each floor of the building
  • the space between the outer enclosure X2 and the wall X1 is divided into a room R1 surrounding the slow cooling furnace 12 and a room R2 surrounding the cooling zone 13.
  • the manufacturing apparatus 10 includes a cutting device 16 at a position below the cooling zone 13.
  • the cutting device 16 is configured to sequentially cut the glass substrate Gs from the glass ribbon Gr by cutting the glass ribbon Gr in a vertical posture in the width direction for each predetermined length.
  • the width direction is a direction orthogonal to the longitudinal direction (plate drawing direction) of the glass ribbon Gr, and substantially coincides with the horizontal direction in the present embodiment.
  • the cutting device 16 is a wheel cutter (not shown) that forms a scribe line S along the width direction of the glass ribbon Gr by running on one main surface of the glass ribbon Gr in a vertical posture descending from the cooling zone 13. ), The contact portion 17 supported from the other main surface side in the region where the scribe line S is formed, and the portion of the glass ribbon Gr corresponding to the glass substrate Gs to be cut out, and the scribe line S and its And a holding portion 18 that performs an operation (operation in the A direction) for applying a bending stress in the vicinity.
  • the wheel cutter is configured to form a scribe line S in the entire or part of the width direction of the glass ribbon Gr while descending following the falling glass ribbon Gr.
  • the scribe line S is formed at the side end portion including the ear portion having a relatively large thickness, but the scribe line S may not be formed at the side end portion.
  • the scribe line S may be formed by laser irradiation or the like.
  • edge part is cut and removed by a post process, there is no ear
  • the contact portion 17 is composed of a plate-like body (surface plate) having a flat surface that comes into contact with the whole area or a part of the glass ribbon Gr in the width direction while descending and following the glass ribbon Gr that is descending.
  • the contact surface of the contact portion 17 may be a curved surface curved in the width direction.
  • the holding part 18 is configured by a chuck that sandwiches side edges on both sides in the width direction of the glass ribbon Gr from both front and back sides.
  • a plurality of holding portions 18 are provided at intervals in the longitudinal direction of the glass ribbon Gr at each of the side end portions on both sides in the width direction of the glass ribbon Gr. All of the plurality of holding portions 18 provided on the side end portion on one side are held by the same arm (not shown). Similarly, the plurality of holding portions 18 provided on the other side end portion are all held by the same arm (not shown).
  • the plurality of holding portions 18 follow and descend the glass ribbon Gr that is descending, and perform an operation for bending the glass ribbon Gr (operation in the A direction) with the contact portion 17 as a fulcrum.
  • the holding part 18 is not limited to the holding
  • the manufactured glass substrate Gs is a glass original plate (mother glass) from which one or a plurality of product glass substrates are collected, and a thin film is formed at a position corresponding to each product glass substrate in a film forming process including an exposure process.
  • a plurality of FPDs are manufactured from a single glass original plate by collectively forming a pattern.
  • the glass ribbon Gr and the glass substrate Gs collected from the glass ribbon Gr are appropriately cooled in the slow cooling step performed in the slow cooling furnace 12 to obtain a predetermined shape and quality. be able to.
  • the temperature in the slow cooling furnace 12 was kept constant by suppressing the differential pressure fluctuation between the room R1 surrounding the slow cooling furnace 12 and the cooling zone 13 (the internal space of the cooling zone 13 partitioned by the wall portion X1). As a result, it has become possible to greatly reduce the amount of change in the front / back deflection difference of the glass substrate group Gg.
  • the change amount of the front-back deflection difference of the glass substrate group Gg is 0.4 mm in the seven regions A to G. The super region was included.
  • the fluctuation range of the differential pressure between the room R1 surrounding the slow cooling furnace 12 and the cooling zone 13 varied between 3 Pa and 5 Pa.
  • the temperature control in the slow cooling furnace 12 is sufficiently performed while suppressing the differential pressure fluctuation between the room R1 surrounding the slow cooling furnace 12 and the cooling zone 13, as shown in FIG.
  • the amount of change in the difference in front and back deflection of the glass substrate group Gg was reduced to 0.4 mm or less.
  • the fluctuation range of the differential pressure between the room R1 surrounding the slow cooling furnace 12 and the cooling zone 13 varied between 0.5 Pa and 2 Pa.
  • the fluctuation range of the differential pressure means the difference between the maximum value and the minimum value of the differential pressure between the room R1 surrounding the slow cooling furnace 12 and the cooling zone 13 during the production period of the glass substrate group Gg.
  • the amount of change in the front-back deflection difference of the glass substrate group Gg is 0.1 mm or less (region A: 0.1 mm, region B: 0.1 mm, Region C: 0.1 mm, Region D: 0.1 mm, Region E: 0.0 mm, Region F: 0.0 mm, Region G: 0.1 mm).
  • the maximum value among the average values of the front and back deflection differences in the seven evaluation areas A to G is 0.23 mm
  • the minimum value among the average values of the front and back deflection differences in the seven evaluation areas A to G is ⁇ 0. 0.2 mm, and the difference between these maximum and minimum values is 0.43 mm.
  • the result of FIG. 7 is an example to the last, and is not limited to this result.
  • the manufacturing method of this embodiment sets the several evaluation area
  • the front and back deflection differences in the plurality of evaluation regions can be respectively measured, and the amount of change in the front and back deflection differences between the plurality of glass substrates can be obtained.
  • the number of glass substrates Gs collected from the glass substrate group Gg in the above (1) may be 3 to 10, for example.
  • the glass substrate Gs cut by the cleaving may be collected at a constant time interval (for example, every 0.5 to 12 hours).
  • the number of evaluation areas A to G is not limited to seven, and may be three to ten, for example.
  • the length in the width direction of each evaluation region is not limited to 370 mm, and may be, for example, 300 to 600 mm.
  • the length in the drawing direction is not limited to 470 mm, and may be, for example, 300 to 700 mm.
  • the support span L is not limited to 350 mm, and may be, for example, 200 to 500 mm.
  • the pass / fail judgment is preferably accepted when the amount of change in the front / back deflection difference is 0.4 mm or less, more preferably passed when it is 0.3 mm or less, and is 0.2 mm or less. It is most preferable to pass in some cases. However, as the support span L becomes longer, the first deflection W1 and the second deflection W2 increase. For this reason, when the support span L is not 350 mm, the pass / fail determination may be made based on the front-back deflection difference ((W1-W2) ⁇ 350 / L) where the support span L is 350 mm.
  • the change amount of the front and back deflection difference is (0.4 ⁇ L / 350) mm or less, and (0.3 ⁇ L / 350) mm.

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Abstract

複数のガラス基板Ｇｓを含むガラス基板群であって、複数のガラス基板Ｇｓのそれぞれは、板引き方向Ｘに沿った第１の辺Ｇａと、板引き方向Ｘと直交する方向Ｙに沿った第２の辺Ｇｂとを有する矩形状であり、第１の辺Ｇａおよび第２の辺Ｇｂの長さが１０００ｍｍ以上で、板厚が２．０ｍｍ以下であり、複数のガラス基板Ｇｓについて、第２の辺Ｇｂの方向の位置が等間隔で同じ大きさの７つの評価領域Ａ～Ｇを設定し、７つの評価領域Ａ～Ｇの表裏撓み差をそれぞれ測定した場合に、７つの評価領域Ａ～Ｇのいずれでも、表裏撓み差の変化量が０．４ｍｍ以下である。

Description

ガラス基板群及びその製造方法
　本発明は、複数枚のガラス基板を含むガラス基板群及びその製造方法に関する。
　液晶ディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）の製造工程では、ガラス基板（マザーガラス）の上に、フォトリソグラフィ技術を用いて、複数層の薄膜パターンを重ね合せて形成する成膜工程が含まれる。これらの薄膜パターンは、ＦＰＤの高精細化に伴って、より複雑で緻密なものとなっている。従って、ガラス基板上に薄膜パターンを形成する際に、高いパターン形成精度が要求されるに至っている（例えば、特許文献１、２を参照）。
特開２０１６－７４５８２号公報 国際公開第２０１７／１５０２６６号
　薄膜パターンの形成精度は、ガラス基板上に形成された薄膜パターン（例えば、ゲート電極のパターン）のトータルピッチで評価される場合がある。トータルピッチは、設計通りに薄膜パターンが形成されているかどうかの指標であり、例えば管理マーク等が付された、予め決められた２点間における設計距離と実測距離の差の値で管理される。
　トータルピッチの測定結果は、露光装置にフィードバックされ露光誤差が補正される場合がある。この場合、ガラス基板群に含まれるガラス基板毎にトータルピッチが大きく変動すると露光誤差の補正が困難になる。そして、露光誤差の補正ができない場合、画素の開口率低下や画素間の光漏れ等が生じてＦＰＤの表示品質が著しく劣化するおそれがある。
　本発明は、複数のガラス基板を含むガラス基板群においてトータルピッチの変動を小さくすることを課題とする。
　本願発明者は、鋭意研究を重ねた結果、ガラス基板群に含まれるガラス基板毎に、表裏撓み差が局所的に変動することが、トータルピッチの変動原因の１つであることを知見するに至った。詳細には、ガラス基板は、一般的にオーバーフローダウンドロー法等のダウンドロー法やフロート法によって成形されるが、長時間に亘る成形過程の中で板引き方向と直交する方向の形状が変化しやすい。そのため、ガラス基板群に含まれるガラス基板を板引き方向と直交する方向で複数の領域に分割し、ガラス基板毎に各領域の表裏撓み差を比較すると、対応する同じ領域において表裏撓み差が変動しやすい。成膜工程では、ガラス基板を定盤（平面）に載置した状態で露光を行うため、このように表裏撓み差が変動すると、ガラス基板毎に定盤上での微視的な形状が不規則に変化し、トータルピッチの変動原因となる。従って、ガラス基板群のトータルピッチの変動を小さくする観点からは、ガラス基板群内でガラス基板毎の表裏撓み差の変動（ばらつき）を小さくすることが望ましい。
　すなわち、上記の課題を解決するために創案された本発明は、複数のガラス基板を含むガラス基板群であって、複数のガラス基板のそれぞれは、板引き方向に沿った第１の辺と、板引き方向と直交する方向に沿った第２の辺とを有する矩形状であり、かつ、第１の辺および第２の辺のそれぞれの長さが１０００ｍｍ以上、板厚が２．０ｍｍ以下であり、複数のガラス基板について、第２の辺の方向の位置が等間隔で同じ大きさの７つの評価領域を設定し、７つの評価領域の表裏撓み差をそれぞれ測定した場合に、７つの評価領域のいずれでも、複数のガラス基板間での表裏撓み差の変化量が、０．４ｍｍ以下であることを特徴とする。このような構成によれば、第２の辺の方向の位置が等間隔である７つの評価領域のいずれでも、表裏撓み差の変化量（ガラス基板群内での表裏撓み差の最大値と最小値の差）が０．４ｍｍ以下となるため、ガラス基板毎の表裏撓み差の変動が小さく抑えられる。従って、複数のガラス基板を含むガラス基板群においてトータルピッチの変動を小さくできる。また、ガラス基板の撓み（表裏撓み差）を小さくすることによってガラス基板群でのトータルピッチの変動を小さくする場合、成形体といった製造設備の消耗による撓み差の悪化を改善するために設備を修理する頻度が増えることによって製造コストが増大する。本発明は、表裏撓み差の変化量を０．４ｍｍ以下とすることによってガラス基板群でのトータルピッチの変動を小さくするので、ガラス基での撓み（表裏撓み差）をある程度許容でき、製造コストの増大を抑制できる。ここで、「板引き方向」とは、ガラス基板を成形する際に板引きした方向を意味する。「板引き方向に沿った第１の辺」とは、板引き方向と幾何学的に平行な場合のみならず、実質的に平行とみなせる方向も含む意味である。「板引き方向と直交する方向に沿った第２の辺」とは、板引き方向と幾何学的に直交する方向のみならず、実質的に直交するとみなせる方向も含む意味である。「ガラス基板群」とは、狭義には、同一条件で製造された製品の集まりを意味するが、これに限定されず、広義には、同一の管理者により品質管理された同種の製品の集まりを意味する。
　上記の構成において、７つの評価領域の表裏撓み差から、７つの評価領域毎に表裏撓み差の平均値を算出した場合に、７つの評価領域の平均値の中での最大値と、７つの評価領域の平均値の中での最小値との差が、０．４ｍｍ以上であることが好ましい。このようにすれば、ガラス基板群に含まれる、個々のガラス基板が適度な撓みを有するので、成膜工程における定盤との密着状態が緩和される。従って、成膜工程が終了した後に、ガラス基板を定盤から分離する際に、薄膜パターンの破損原因となり得る剥離帯電が生じにくくなる。
　上記の構成において、最大値および最小値のそれぞれの絶対値が、０．４ｍｍ以下であることが好ましい。すなわち、表裏撓み差の値自体が大きくなりすぎても、成膜工程における露光時に定盤からガラス基板が乖離することにより露光誤差を補正するのが難しくなる場合がある。従って、７つの評価領域のいずれでも、表裏撓み差の絶対値が、上記数値範囲内であることが好ましい。
　上記の課題を解決するために創案された本発明は、複数のガラス基板を含むガラス基板群の製造方法であって、複数のガラス基板のそれぞれは、板引き方向に沿った第１の辺と、板引き方向と直交する方向に沿った第２の辺とを有する矩形状であり、かつ、第１の辺および第２の辺のそれぞれの長さが１０００ｍｍ以上、板厚が２．０ｍｍ以下であり、複数のガラス基板について、第２の辺の方向の位置が異なる複数の評価領域を設定し、複数の評価領域の表裏撓み差をそれぞれ測定する工程と、複数の評価領域について、複数のガラス基板間での表裏撓み差の変化量をそれぞれ求める工程と、複数のガラス基板間での表裏撓み差の変化量に基づいて複数のガラス基板の合否を判定する工程とを備えることを特徴とする。このような構成によれば、複数のガラス基板間での表裏撓み差の変化量に基づいて複数のガラス基板の合否が判定されるため、合格と判定された複数のガラス基板については基板毎の表裏撓み差の変動は小さく抑えられる。従って、合格と判定された複数のガラス基板を含むガラス基板群においてトータルピッチの変動を小さくできる。
　本発明によれば、複数のガラス基板を含むガラス基板群においてトータルピッチの変動を小さくできる。
第１の実施形態に係るガラス基板群を示す側面図である。 第２の実施形態に係るガラス基板群を示す側面図である。 ７つの評価領域が設定された、ガラス基板群に含まれるガラス基板を示す平面図である。 表裏撓み差の測定方法を説明するための側面図である。 ガラス基板群の製造方法を説明するための側面図である。 比較例に係るガラス基板群の７つの評価領域における表裏撓み差の測定結果を示すグラフである。 実施例に係るガラス基板群の７つの評価領域における表裏撓み差の測定結果を示すグラフである。
　以下、ガラス基板群の実施形態を添付図面に基づいて説明する。
　図１に示すように、第１の実施形態に係るガラス基板群Ｇｇは、１つの縦置き用パレット１の上に、縦姿勢（水平方向に対して４５°～８０°の傾斜姿勢が好ましく、６０°～７５°がより好ましい）で積層された複数のガラス基板Ｇｓからなる。
　パレット１は、縦姿勢のガラス基板Ｇｓの積層体からなるガラス基板群Ｇｇの底面を支持する底面支持部１ａと、ガラス基板群Ｇｇの背面を支持する背面支持部１ｂとを備えている。
　ガラス基板群Ｇｇに含まれる各ガラス基板Ｇｓのうち、背面支持部１ｂ側の面（背面側の面）が、成膜工程で薄膜パターンが形成される保証面とされている。パレット１からガラス基板Ｇｓを取り出す際に、吸着パッドが保証面と直接接触しないようにするためである。
　図示は省略するが、例えば、ガラス基板群Ｇｇの最前面に押え板を配置すると共に、この押え板の上にガラス基板群Ｇｇの幅方向（例えば、水平方向）の両側に食み出す押えバーを配置し、押えバーの両端部を締結部材によって背面支持部１ｂ側に引き込むように締め付けることで、ガラス基板群Ｇｇがパレット１に固定される。ガラス基板群Ｇｇの幅方向の移動を規制するために、ガラス基板群Ｇｇの側面を押圧する押え部材を配置してもよい。なお、ガラス基板群Ｇｇとパレット１の固定方法は、特に限定されず、ベルト止め等の任意の固定方法を採用することができる。
　また、図２に示すように、第２の実施形態に係るガラス基板群Ｇｇは、１つの横置き用パレット２の上に、横姿勢（０°（水平姿勢）～３０°が好ましく、０°～１５°がより好ましい）で積層された複数のガラス基板Ｇｓからなる。
　パレット２は、横姿勢のガラス基板Ｇｓの積層体からなるガラス基板群Ｇｇの底面を支持する底面支持部２ａを備えている。
　ガラス基板群Ｇｇに含まれる各ガラス基板Ｇｓのうち、底面支持部２ａ側の面（下面）が、成膜工程で薄膜パターンが形成される保証面とされている。パレット１からガラス基板Ｇｓを取り出す際に、吸着パッドが保証面と直接接触しないようにするためである。
　図示は省略するが、例えば、ガラス基板群Ｇｇの最前面（最上面）に押え板を配置すると共に、この押え板の上にガラス基板群Ｇｇの両側に食み出す押えバーを配置し、押えバーの両端部を締結部材によって底面支持部２ａ側に引き込むように締め付けることで、ガラス基板群Ｇｇがパレット２に固定される。ガラス基板群Ｇｇの横ずれを規制するために、ガラス基板群Ｇｇの側面を押圧する押え部材を配置してもよい。押え部材は、例えば、ガラス基板群Ｇｇの四方を取り囲むように点在して複数配置される。なお、ガラス基板群Ｇｇとパレット２の固定方法は、特に限定されず、ベルト止め等の任意の固定方法を採用することができる。
　ここで、第１及び第２の実施形態に係るガラス基板群Ｇｇの場合、複数のガラス基板Ｇｓが積層状態であるため、ガラス基板Ｇｓの各相互間に紙（合紙）や発泡樹脂シートなどの保護シート（図示省略）を挟むことが好ましい。
　ガラス基板群Ｇｇに含まれる複数のガラス基板Ｇｓのそれぞれは、オーバーフローダウンドロー法、スロットダウンドロー法などのダウンドロー法や、フロート法などの公知の成形方法によって製造される。本実施形態では、オーバーフローダウンドロー法によって製造される。
　ガラス基板群Ｇｇに含まれる複数のガラス基板Ｇｓのそれぞれは、上記の成形方法に起因する板引き方向Ｘに沿った第１の辺Ｇａと、板引き方向Ｘと直交する方向Ｙに沿った第２の辺Ｇｂとを有する矩形状であり、例えばＦＰＤ用のガラス基板として利用される。第１の辺Ｇａおよび第２の辺Ｇｂの長さは１０００ｍｍ以上であり、１５００ｍｍ以上であることが好ましい。第１の辺Ｇａおよび第２の辺Ｇｂの長さは４０００ｍｍ以下であることが好ましい。板厚は２．０ｍｍ以下であり、０．７ｍｍ以下であることが好ましい。板厚は０．３ｍｍ以上であることが好ましい。
　図３に示すように、複数のガラス基板Ｇｓのそれぞれにつき、第２の辺Ｇｂの方向の位置が等間隔である７つの評価領域Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅ，Ｆ，Ｇを設定した場合に、７つの評価領域Ａ～Ｇのいずれでも、複数のガラス基板Ｇｓ（ガラス基板群Ｇｇ）での表裏撓み差の変化量が、０．４ｍｍ以下となる。７つの評価領域Ａ～Ｇの中に、複数のガラス基板Ｇｓの表裏撓み差の変化量が０．４ｍｍ超となる領域が含まれると、トータルピッチの変動が大きくなり、成膜工程で露光不良による成膜不良が生じやすくなる。これに対し、７つの評価領域Ａ～Ｇのいずれでも、複数のガラス基板Ｇｓの表裏撓み差の変化量が０．４ｍｍ以下となると、トータルピッチの変動が小さくなり、成膜工程で露光不良が生じにくく、適正な薄膜パターンを形成することが可能となる。表裏撓み差の変化量は、０．３ｍｍ以下であることが好ましく、０．２ｍｍ以下であることがより好ましい。
　また、７つの評価領域毎に表裏撓み差の平均値を算出した場合に、７つの評価領域Ａ～Ｇの中で表裏撓み差の平均値が最大となる値と、７つの評価領域Ａ～Ｇの中で表裏撓み差の平均値が最小となる値との差が、０．４ｍｍ以上となることが好ましい。この最大値と最小値の差は、０．５ｍｍ以上であることがより好ましい。なお、最大値の絶対値と最小値の絶対値は、それぞれ０．３ｍｍ以下であることが好ましい。
　ここで、複数のガラス基板Ｇｓの表裏撓み差の変化量は、次の手順で測定する。
（１）まず、ガラス基板群Ｇｇから任意の５枚のガラス基板Ｇｓを採取する。
（２）採取した各ガラス基板Ｇｓに７つの評価領域Ａ～Ｇを設定する。各評価領域Ａ～Ｇは、成膜工程で薄膜パターンが形成される有効ゾーン内に設定される。各評価領域Ａ～Ｇは、板引き方向と直交する幅方向の長さが３７０ｍｍ、板引き方向長さが４７０ｍｍの大きさの長方形とする。各評価領域Ａ～Ｇは、幅方向に等間隔（間隔ΔＩ）に設けられる。そして、各評価領域Ａ～Ｇで評価領域と同じ大きさのガラス片Ｇｐを採取し、各ガラス基板Ｇｓに対し７枚のガラス片Ｇｐを用意する。なお、有効ゾーンの幅が小さく、７つの評価領域Ａ～Ｇを幅方向に沿って一列で設けられない場合は、図３に示すように、幅方向に沿って二列になるように、７つの評価領域Ａ～Ｇをジグザグに設ける。
（３）各ガラス片（計３５枚のガラス片）Ｇｐの表裏撓み差を測定する。図４に示すように、表裏撓み差は、ガラス片Ｇｐの一方の主表面（例えば保証面）を上側にした場合の第１の撓みＷ１と、ガラス片Ｇｐの他方の主表面（例えば保証面と反対側の非保証面）を上側にした場合の第２の撓みＷ２とを測定し、第１の撓みＷ１と第２の撓みＷ２の差（Ｗ１－Ｗ２）により求める。ガラス片Ｇｐの撓みの測定では、ガラス片Ｇｐの３７０ｍｍをなす短辺方向両端部を３５０ｍｍの支持スパンＬで支持する。
（４）幅方向の各評価領域Ａ～Ｇで、表裏撓み差の最小値と最大値とを求め、その差を表裏撓み差の変化量とする。
　また、７つの評価領域Ａ～Ｇの平均値の中での最大値と、７つの評価領域Ａ～Ｇの平均値の中での最小値との差は、上記の（１）～（３）の手順で測定した表裏撓み差から７つの評価領域Ａ～Ｇ毎に平均値を算出し、平均値の最大値と最小値とをそれぞれ求め、その差により算出される。
　ここで、ガラス基板Ｇｓの板引き方向は、例えば、暗室でガラス基板Ｇｓの角度を調整しながら光源（例えばキセノンライト）から光を照射し、その透過光をスクリーンに投影することで、筋状の縞模様として観測できる。従って、成形後のガラス基板Ｇｓの状態であっても、成形時の板引き方向を特定できる。
　次に、以上の構成を備えたガラス基板群Ｇｇの製造方法を説明する。
　図５に示すように、本製造方法では、ガラス基板群の製造装置１０が用いられる。製造装置１０は、ガラスリボンＧｒを連続成形する装置であって、ガラスリボンＧｒを成形する成形炉１１と、ガラスリボンＧｒを徐冷（アニール処理）する徐冷炉１２と、ガラスリボンＧｒを室温付近まで冷却する冷却ゾーン１３と、成形炉１１、徐冷炉１２及び冷却ゾーン１３のそれぞれに上下複数段に設けられたローラ対１４とを備えている。
　成形炉１１の内部空間には、オーバーフローダウンドロー法により溶融ガラスＧｍからガラスリボンＧｒを成形する成形体１５が配置されている。成形体１５に供給された溶融ガラスＧｍは成形体１５の頂部１５ａに形成された溝部から溢れ出るようになっており、その溢れ出た溶融ガラスＧｍが成形体１５の断面楔状を呈する両側面１５ｂを伝って下端で合流することで、板状のガラスリボンＧｒが連続成形される。成形されるガラスリボンＧｒは、縦姿勢（好ましくは鉛直姿勢）であり、Ｘ方向が板引き方向となる。
　徐冷炉１２の内部空間は、下方に向かって所定の温度勾配を有している。縦姿勢のガラスリボンＧｒは、徐冷炉１２の内部空間を下方に向かって移動するに連れて、温度が低くなるように徐冷される。徐冷により、ガラスリボンＧｒの内部歪を低減する。徐冷炉１２の内部空間の温度勾配は、例えば、徐冷炉１２の内面に設けた加熱装置などの温度調整装置により調整することができる。
　複数のローラ対１４は、縦姿勢のガラスリボンＧｒの両側の側端部を表裏両側から挟持するようになっている。なお、徐冷炉１２の内部空間などでは、複数のローラ対１４の中に、ガラスリボンＧｒの側端部を挟持しないものが含まれていてもよい。換言すれば、ローラ対１４の対向間隔をガラスリボンＧｒの側端部の厚みよりも大きくし、ローラ対１４の間をガラスリボンＧｒが通過するようにしてもよい。本実施形態では、ガラスリボンＧｒを挟んで対向するローラ対１４を構成する個々のローラは、炉外に延びた回転軸を有する両持ちローラによって構成されている。
　なお、本実施形態では、成形炉１１、徐冷炉１２及び冷却ゾーン１３を区画する壁部Ｘ１の外側が、外包囲体（例えば、特許文献２に開示の建屋）Ｘ２で取り囲まれている。外包囲体Ｘ２と壁部Ｘ１との間の空間には、冷却ゾーン１３の上端部に対応する位置と、冷却ゾーン１３の下端部に対応する位置とに、それぞれ仕切り部（例えば、建屋の各階のフロア面）Ｘ３，Ｘ４が設けられている。これら仕切り部Ｘ３，Ｘ４によって、外包囲体Ｘ２と壁部Ｘ１との間の空間は、徐冷炉１２を囲む部屋Ｒ１と、冷却ゾーン１３を囲む部屋Ｒ２とに分割されている。
　図５に示すように、製造装置１０は、冷却ゾーン１３の下方位置に、切断装置１６を備えている。切断装置１６は、縦姿勢のガラスリボンＧｒを所定の長さ毎に幅方向に切断することにより、ガラスリボンＧｒからガラス基板Ｇｓを順次切り出すように構成されている。ここで、幅方向は、ガラスリボンＧｒの長手方向（板引き方向）と直交する方向であり、本実施形態では実質的に水平方向と一致する。
　切断装置１６は、冷却ゾーン１３から降下してきた縦姿勢のガラスリボンＧｒの一方の主表面上を走行することで、ガラスリボンＧｒの幅方向に沿ってスクライブ線Ｓを形成するホイールカッター（図示省略）と、スクライブ線Ｓが形成された領域に他方の主表面側から支持する接触部１７と、切り出し対象のガラス基板Ｇｓに対応する部分のガラスリボンＧｒを保持した状態で、スクライブ線Ｓ及びその近傍に曲げ応力を作用させるための動作（Ａ方向の動作）を行う保持部１８とを備えている。
　ホイールカッターは、降下中のガラスリボンＧｒに追従降下しつつ、ガラスリボンＧｒの幅方向の全域又は一部にスクライブ線Ｓを形成する構成となっている。本実施形態では、相対的に厚みが大きい耳部を含む側端部にもスクライブ線Ｓが形成されるが、側端部にスクライブ線Ｓを形成しなくてもよい。なお、スクライブ線Ｓはレーザーの照射等によって形成してもよい。また、耳部を含む側端部は後工程で切断除去されるため、ガラス基板Ｇｓの状態では耳部はない。
　接触部１７は、降下中のガラスリボンＧｒに追従降下しつつ、ガラスリボンＧｒの幅方向の全域又は一部と接触する平面を有する板状体（定盤）から構成されている。接触部１７の接触面は、幅方向に湾曲した曲面であってもよい。
　保持部１８は、ガラスリボンＧｒの幅方向両側の側端部を表裏両側から挟持するチャックにより構成されている。保持部１８は、ガラスリボンＧｒの幅方向両側の側端部のそれぞれにおいて、ガラスリボンＧｒの長手方向に間隔を置いて複数設けられている。一方側の側端部に設けられた複数の保持部１８は、これら全てが同一のアーム（図示省略）によって保持されている。また同様に、他方側の側端部に設けられた複数の保持部１８も、これら全てが同一のアーム（図示省略）によって保持されている。各々のアームの動作により、複数の保持部１８が降下中のガラスリボンＧｒに追従降下しつつ、接触部１７を支点としてガラスリボンＧｒを湾曲させるための動作（Ａ方向の動作）を行う。これにより、スクライブ線Ｓ及びその近傍に曲げ応力を付与し、ガラスリボンＧｒをスクライブ線Ｓに沿って幅方向に割断する。この割断の結果、ガラスリボンＧｒからガラス基板Ｇｓに対応する部分が切り出される。そして、このような割断（切断）動作を繰り返すことで、ガラス基板群Ｇｇに含まれる複数のガラス基板Ｇｓが製造される。なお、保持部１８は、挟持する保持形態に限定されるものではなく、例えば、ガラスリボンＧｒのいずれか一方の主表面を吸着保持するものであってもよい。
　製造されたガラス基板Ｇｓは、１枚又は複数枚の製品ガラス基板が採取されるガラス原板（マザーガラス）であり、露光工程を含む成膜工程にて、各製品ガラス基板に対応する位置に薄膜パターンを一括形成することで、一枚のガラス原板から複数のＦＰＤが製造される。
　ここで、上記の徐冷炉１２で実施される徐冷工程でガラスリボンＧｒを適切に徐冷することで、ガラスリボンＧｒ及びこのガラスリボンＧｒから採取されるガラス基板Ｇｓにおいて、所定の形状品位を得ることができる。このとき、徐冷工程の温度域内でガラスリボンＧｒの周囲温度が経時変化すると、ガラスリボンＧｒ（ガラス基板Ｇｓ）の形状品位に影響を与える。従って、徐冷炉１２を囲む部屋Ｒ１と冷却ゾーン１３（壁部Ｘ１で区画される冷却ゾーン１３の内部空間）の差圧変動を抑制することで、徐冷炉１２内の温度を一定に保った。その結果、ガラス基板群Ｇｇの表裏撓み差の変化量を大幅に低減することが可能となった。
　詳細には、徐冷炉１２内の温度制御が不十分であった比較例では、図６に示すように、７つの領域Ａ～Ｇにおいて、ガラス基板群Ｇｇの表裏撓み差の変化量が０．４ｍｍ超となる領域が含まれた。この際、徐冷炉１２を囲む部屋Ｒ１と冷却ゾーン１３の差圧の変動幅は、３Ｐａ～５Ｐａで変化した。これに対し、上述のように、徐冷炉１２を囲む部屋Ｒ１と冷却ゾーン１３の差圧変動を抑制して徐冷炉１２内の温度制御を十分に行った実施例では、図７に示すように、７つの評価領域Ａ～Ｇのいずれにおいても、ガラス基板群Ｇｇの表裏撓み差の変化量が０．４ｍｍ以下まで低減した。この際、徐冷炉１２を囲む部屋Ｒ１と冷却ゾーン１３の差圧の変動幅は、０．５Ｐａ～２Ｐａで変化した。なお、差圧の変動幅とは、ガラス基板群Ｇｇを生産する期間における徐冷炉１２を囲む部屋Ｒ１と冷却ゾーン１３の差圧の最大値と最小値の差を意味する。
　図７の例の場合、７つの評価領域Ａ～Ｇのいずれにおいても、ガラス基板群Ｇｇの表裏撓み差の変化量は０．１ｍｍ以下（領域Ａ：０．１ｍｍ，領域Ｂ：０．１ｍｍ，領域Ｃ：０．１ｍｍ，領域Ｄ：０．１ｍｍ，領域Ｅ：０．０ｍｍ，領域Ｆ：０．０ｍｍ，領域Ｇ：０．１ｍｍ）である。また、７つの評価領域Ａ～Ｇの表裏撓み差の平均値の中で最大値は０．２３ｍｍであり、７つの評価領域Ａ～Ｇの表裏撓み差の平均値の中で最小値は－０．２ｍｍであり、これら最大値と最小値の差は０．４３ｍｍである。もちろん、図７の結果はあくまで一例であり、この結果に限定されるものではない。
　本実施形態の製造方法は、複数のガラス基板について、第２の辺の方向の位置が異なる複数の評価領域を設定し、複数の評価領域の表裏撓み差をそれぞれ測定する工程と、複数の評価領域について、複数のガラス基板間での表裏撓み差の変化量をそれぞれ求める工程と、複数のガラス基板間での表裏撓み差の変化量に基づいて複数のガラス基板（ガラス基板群）の合否を判定する工程とを備えることが好ましい。前述の（１）～（５）の手順により、複数の評価領域の表裏撓み差をそれぞれ測定し、複数のガラス基板間での表裏撓み差の変化量を求めることができる。この場合、前述の（１）でガラス基板群Ｇｇから任意のガラス基板Ｇｓを採取する枚数は、例えば３～１０枚とすればよい。その際、割断によって切り出されたガラス基板Ｇｓを一定の時間間隔（例えば０．５～１２時間毎）で採取してもよい。また、評価領域Ａ～Ｇは、７つに限らず、例えば３～１０つとしてもよい。各評価領域の幅方向の長さは３７０ｍｍに限らず、例えば３００～６００ｍｍとしてもよく、板引き方向長さは４７０ｍｍに限らず、例えば３００～７００ｍｍとしてもよい。さらに、支持スパンＬは３５０ｍｍに限らず、例えば２００～５００ｍｍとしてもよい。
　合否の判定は、表裏撓み差の変化量が０．４ｍｍ以下である場合に合格とすることが好ましく、０．３ｍｍ以下である場合に合格とすることがさらにより好ましく、０．２ｍｍ以下である場合に合格とすることが最も好ましい。ただし、支持スパンＬが長くなるのに従って第１の撓みＷ１及び第２の撓みＷ２が増加する。このため、支持スパンＬが３５０ｍｍでない場合は、支持スパンＬが３５０ｍｍである表裏撓み差（（Ｗ１－Ｗ２）×３５０／Ｌ）に基づいて合否を判定すればよい。あるいは、支持スパンＬが３５０ｍｍでない場合は、表裏撓み差の変化量が（０．４×Ｌ／３５０）ｍｍ以下である場合に合格とすることが好ましく、（０．３×Ｌ／３５０）ｍｍ以下である場合に合格とすることがさらにより好ましく、（０．２×Ｌ／３５０）ｍｍ以下である場合に合格とすることが最も好ましい。
　なお、本発明は、上記の実施形態に限定されるものではなく、上記した作用効果に限定されるものでもない。本発明は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
　上記の実施形態では、ガラスリボンＧｒをスクライブ割断する場合を説明したが、ガラスリボンＧｒ及び／又はガラス基板Ｇｓの切断には、レーザー割断やレーザー溶断等の他の切断方法を用いてもよい。
１，２　パレット
１０　　ガラス基板群の製造装置
１１　　成形炉
１２　　徐冷炉
１３　　冷却ゾーン
１４　　ローラ対
１５　　成形体
１６　　切断装置
１７　　接触部
１８　　保持部
Ａ～Ｇ　評価領域
Ｇｇ　　ガラス基板群
Ｇｓ　　ガラス基板
Ｇａ　　第１の辺（板引き方向に沿った辺）
Ｇｂ　　第２の辺（板引き方向と直交する方向に沿った辺）
Ｇｐ　　ガラス片
Ｇｍ　　溶融ガラス
Ｇｒ　　ガラスリボン

Claims (4)

  1. 　複数のガラス基板を含むガラス基板群であって、
    　前記複数のガラス基板のそれぞれは、板引き方向に沿った第１の辺と、前記板引き方向と直交する方向に沿った第２の辺とを有する矩形状であり、かつ、前記第１の辺および前記第２の辺のそれぞれの長さが１０００ｍｍ以上、板厚が２．０ｍｍ以下であり、
    　前記複数のガラス基板について、前記第２の辺の方向の位置が等間隔で同じ大きさの７つの評価領域を設定し、前記７つの評価領域の表裏撓み差をそれぞれ測定した場合に、前記７つの評価領域のいずれでも、前記複数のガラス基板間での表裏撓み差の変化量が、０．４ｍｍ以下であることを特徴とするガラス基板群。
  2. 　前記７つの評価領域の表裏撓み差から、前記７つの評価領域毎に表裏撓み差の平均値を算出した場合に、前記７つの評価領域の前記平均値の中での最大値と、前記７つの評価領域の前記平均値の中での最小値との差が、０．４ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１に記載のガラス基板群。
  3. 　前記最大値および前記最小値のそれぞれの絶対値が、０．３ｍｍ以下であることを特徴とする請求項２に記載のガラス基板群。
  4. 　複数のガラス基板を含むガラス基板群の製造方法であって、
    　前記複数のガラス基板のそれぞれは、板引き方向に沿った第１の辺と、前記板引き方向と直交する方向に沿った第２の辺とを有する矩形状であり、かつ、前記第１の辺および前記第２の辺のそれぞれの長さが１０００ｍｍ以上、板厚が２．０ｍｍ以下であり、
    　前記複数のガラス基板について、前記第２の辺の方向の位置が異なる複数の評価領域を設定し、前記複数の評価領域の表裏撓み差をそれぞれ測定する工程と、
    　前記複数の評価領域について、前記複数のガラス基板間での表裏撓み差の変化量をそれぞれ求める工程と、
    　前記複数のガラス基板間での表裏撓み差の変化量に基づいて前記複数のガラス基板の合否を判定する工程とを備えることを特徴とするガラス基板群の製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022065169A1 (ja) * 2020-09-24 2022-03-31 日本電気硝子株式会社 ガラス基板、及びガラス基板の製造方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230098818A (ko) * 2020-11-04 2023-07-04 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 유리 기판 및 전자 디바이스의 제조 방법
JPWO2022107559A1 (ja) * 2020-11-20 2022-05-27

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007230817A (ja) * 2006-02-28 2007-09-13 Nippon Sheet Glass Co Ltd フロートガラス及びその製造方法並びにそのフロートガラスを用いたディスプレイ用パネル
JP2015134692A (ja) * 2014-01-16 2015-07-27 日本電気硝子株式会社 ガラス基板群及びガラス基板製造方法
WO2015125943A1 (ja) * 2014-02-21 2015-08-27 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ガラス板の製造方法、及び、ガラス板の製造装置

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3170237B2 (ja) * 1997-10-21 2001-05-28 タバイエスペック株式会社 平板状ワークの一面を無風加熱できる熱処理装置
JP4526406B2 (ja) * 2005-02-07 2010-08-18 大日本印刷株式会社 基準位置指示装置及びメタルマスク位置アラインメント装置
US20070062219A1 (en) * 2005-09-22 2007-03-22 Blevins John D Methods of fabricating flat glass with low levels of warp
JP2008184670A (ja) * 2007-01-31 2008-08-14 Canon Inc 有機ｅｌ素子の製造方法および成膜用マスク
JP4930336B2 (ja) * 2007-11-09 2012-05-16 日本電気硝子株式会社 ガラス基板の反り検査方法および製造方法
JP5333984B2 (ja) * 2008-06-27 2013-11-06 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス
TWI680110B (zh) * 2009-05-07 2019-12-21 日本電氣硝子股份有限公司 玻璃基板及其製造方法
JP2012137758A (ja) * 2011-12-19 2012-07-19 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス基板
JP5887953B2 (ja) * 2012-01-25 2016-03-16 大日本印刷株式会社 タッチパネルの製造方法
US9187365B2 (en) * 2013-02-25 2015-11-17 Corning Incorporated Methods for measuring the asymmetry of a glass-sheet manufacturing process
WO2016052306A1 (ja) 2014-10-03 2016-04-07 日本電気硝子株式会社 膜付きガラス板、タッチセンサ、膜及び膜付きガラス板の製造方法
KR101972254B1 (ko) * 2015-03-30 2019-04-24 아반스트레이트 가부시키가이샤 유리 기판의 제조 방법
JP6623836B2 (ja) 2016-02-29 2019-12-25 日本電気硝子株式会社 ガラス板製造設備およびガラス板の製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007230817A (ja) * 2006-02-28 2007-09-13 Nippon Sheet Glass Co Ltd フロートガラス及びその製造方法並びにそのフロートガラスを用いたディスプレイ用パネル
JP2015134692A (ja) * 2014-01-16 2015-07-27 日本電気硝子株式会社 ガラス基板群及びガラス基板製造方法
WO2015125943A1 (ja) * 2014-02-21 2015-08-27 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ガラス板の製造方法、及び、ガラス板の製造装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022065169A1 (ja) * 2020-09-24 2022-03-31 日本電気硝子株式会社 ガラス基板、及びガラス基板の製造方法

Also Published As

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