WO2019073881A1 - 撮像装置及び画像処理装置 - Google Patents

撮像装置及び画像処理装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2019073881A1
WO2019073881A1 PCT/JP2018/037052 JP2018037052W WO2019073881A1 WO 2019073881 A1 WO2019073881 A1 WO 2019073881A1 JP 2018037052 W JP2018037052 W JP 2018037052W WO 2019073881 A1 WO2019073881 A1 WO 2019073881A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
optical filter
image
light
optical system
optical
Prior art date
Application number
PCT/JP2018/037052
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
小野 修司
Original Assignee
富士フイルム株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 富士フイルム株式会社 filed Critical 富士フイルム株式会社
Priority to EP18865407.3A priority Critical patent/EP3697075B1/en
Priority to CN201880062838.XA priority patent/CN111149347B/zh
Priority to JP2019548154A priority patent/JP6931401B2/ja
Publication of WO2019073881A1 publication Critical patent/WO2019073881A1/ja
Priority to US16/840,444 priority patent/US11460617B2/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/201Filters in the form of arrays
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/28Interference filters
    • G02B5/285Interference filters comprising deposited thin solid films
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/16Optical objectives specially designed for the purposes specified below for use in conjunction with image converters or intensifiers, or for use with projectors, e.g. objectives for projection TV
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N23/00Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
    • H04N23/45Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof for generating image signals from two or more image sensors being of different type or operating in different modes, e.g. with a CMOS sensor for moving images in combination with a charge-coupled device [CCD] for still images
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N23/00Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
    • H04N23/50Constructional details
    • H04N23/54Mounting of pick-up tubes, electronic image sensors, deviation or focusing coils
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N23/00Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
    • H04N23/50Constructional details
    • H04N23/55Optical parts specially adapted for electronic image sensors; Mounting thereof
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/12Generating the spectrum; Monochromators
    • G01J2003/1213Filters in general, e.g. dichroic, band
    • G01J2003/1221Mounting; Adjustment
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/12Generating the spectrum; Monochromators
    • G01J2003/1226Interference filters
    • G01J2003/123Indexed discrete filters
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/12Generating the spectrum; Monochromators
    • G01J2003/1226Interference filters
    • G01J2003/1239Interference filters and separate detectors

Definitions

  • the present invention relates to an imaging device that acquires an image at a specific wavelength, and an image processing device that measures a subject based on the acquired image.
  • the present invention has been made in view of such circumstances, and it is an imaging device capable of acquiring an image with a small transmission wavelength shift at a plurality of wavelengths, and measurement of an object based on an image with a small transmission wavelength shift acquired with a plurality of wavelengths. It is an object of the present invention to provide an image processing apparatus capable of accurately performing
  • an imaging device is an optical filter including a first optical system, a first optical filter, and a second optical filter, An optical filter comprising a first optical filter for transmitting light in one wavelength band and a second optical filter for transmitting light in a second wavelength band different from the first wavelength band, and a second optical system
  • An optical filter comprising a first optical filter for transmitting light in one wavelength band and a second optical filter for transmitting light in a second wavelength band different from the first wavelength band, and a second optical system
  • a directional sensor having a plurality of pixels formed by an imaging optical system in which a plurality of pixels are arranged in order from an object side and a photoelectric conversion element arranged in a two-dimensional manner, A directional image for pupil division and selective reception, and a first image received from the directional sensor via the first optical filter and a second image received via the second optical filter
  • each And the first optical filter and the second optical filter are disposed in different regions in a plane perpendicular to the optical axis of the imaging optical system at the
  • the first optical system is disposed in each of the first optical system in a state in which the upper ray and the lower ray of the high image height light beam are parallel to each other for the high image height light beam formed at a position where the image height is high on the imaging surface of the directivity sensor.
  • the light is incident on the first optical filter and the second optical filter.
  • the high image high luminous flux formed at the position where the image height is high is incident at a large angle with respect to the optical axis, so the transmission wavelength shift becomes large.
  • the first optical system causes the high image height light flux to be incident on the first optical filter and the second optical filter in a state where the upper ray and the lower ray are parallel. Therefore, in the first and second optical filters, the transmission wavelength shift due to the incident angle difference of the high image height light flux is suppressed, and an image with a small transmission wavelength shift can be acquired at a plurality of wavelengths.
  • transmitted light of optical filters having different transmission wavelength bands is pupil-divided and received by the directivity sensor, a plurality of images having different wavelengths can be simultaneously obtained.
  • the upper and lower rays are not necessarily completely parallel but may be angularly different as far as the influence of the shift of the transmission wavelength can be tolerated.
  • the “position where the image height is high” may be, for example, a position where the image height is 70%, but may be defined by another image height (80%, 100%, etc.).
  • the first optical filter is disposed in a first region centered on the optical axis, and the second optical filter is a second one outside the first region.
  • the first optical system causes the high image height light flux to be incident on the second optical filter in a state in which the upper ray and the lower light ray of the high image high light flux are parallel to each other.
  • the first optical filter is disposed in the area centered on the optical axis and the second optical filter is disposed in the area outside the first optical filter, the high image height luminous flux incident on the second optical filter
  • the influence of the incident angle difference between the upper ray and the lower ray (the amount and difference of the transmission wavelength shift) is increased.
  • the first optical system causes the high image height light flux to be incident on the second optical filter in a state in which the upper ray and the lower light ray of the high image high luminous flux are parallel. It is effective to suppress
  • the first optical system includes the high image high luminous flux and the central luminous flux formed at the center of the imaging surface, the upper ray of the high image high luminous flux and the central light
  • the angle between the upper ray of the luminous flux and the lower ray of the high image height luminous flux is smaller than the first threshold and the angle between the lower ray of the high image height luminous flux and the lower ray of the central luminous flux is smaller than the second threshold.
  • the influence of the difference in incident angle between the upper ray and the lower ray of the high image height light beam incident on the second optical filter (the amount and the difference of the transmission wavelength shift) is increased.
  • the influence of the incident angle difference is suppressed by defining the angle formed by the light beams entering the second optical filter.
  • the first and second threshold values can be set in accordance with the permissible transmission wavelength shift.
  • the first optical system includes a high image height beam and a central light beam formed at the center of the imaging surface on the high image height beam.
  • the state in which the angle between the light ray and the upper ray of the central ray is less than the third threshold and the angle between the lower ray of the high image height ray and the lower ray of the central ray is less than the fourth threshold
  • the light is incident on the first optical filter.
  • the influence of the incident angle difference can be suppressed by defining the angle formed by the light beams incident on the first optical filter.
  • the third and fourth threshold values can be set according to the permissible transmission wavelength shift.
  • the first optical system constitutes an afocal optical system.
  • the afocal optical system is a non-focus optical system in which a collimated beam is incident on a lens and the collimated beam is emitted similarly.
  • the first optical system disposed on the object side of the optical filter is an afocal optical system, parallel light beams are emitted from the first optical system, and upper and lower rays of high image height light are Is incident parallel to the optical filter, and the difference in transmission wavelength shift is reduced.
  • the configuration of the first optical system may be different from that of the afocal optical system in a range where the transmission angle and the influence of the transmission wavelength shift resulting therefrom can be tolerated.
  • the afocal magnification of the afocal optical system is less than 1 in the fifth aspect.
  • the afocal magnification is a numerical value representing the collimated light beam entering the afocal optical system and the collimated light beam emitted by the ratio of the pupil diameter.
  • the diameter of the emitted light flux is larger than the diameter of the incident light flux.
  • the directivity sensor includes a light shielding mask or a microlens array that functions as a pupil division unit.
  • the seventh aspect shows one aspect of a specific configuration for selective light reception.
  • the first optical filter and the second optical filter have wavelength bands which do not overlap each other in a wavelength band of 650 nm or more and 740 nm or less.
  • the light is transmitted as light of the first wavelength band and light of the second wavelength band, respectively.
  • an image can be acquired at two wavelengths in the visible red wavelength band.
  • an image processing apparatus is an imaging apparatus according to any one of the first to ninth aspects, and an object from a first image and a second image.
  • a measurement unit for performing measurement of since the first and second images acquired by the imaging device according to any one of the first to ninth aspects are used, it is based on the image having a small transmission wavelength shift acquired at the wavelength Thus, it is possible to accurately measure the subject.
  • an image with less transmission wavelength shift can be obtained at a plurality of wavelengths, and according to the image processing device of the present invention, the transmission wavelength shift obtained at a plurality of wavelengths is The measurement of the subject can be accurately performed based on the small number of images.
  • FIG. 1 is a view showing the arrangement of an image processing apparatus according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a diagram showing the lens arrangement of the imaging optical system.
  • FIG. 3 is a view showing lens data of the imaging optical system.
  • FIG. 4 is a diagram showing the arrangement of optical filters.
  • FIG. 5 is a view showing a state of selective light reception by the light shielding mask.
  • FIG. 6 is a view showing how light rays are transmitted in the embodiment.
  • FIG. 7 is a view showing how light rays are transmitted in the comparative example.
  • FIG. 8 is a table showing incident angles and transmission wavelengths in the example and the comparative example.
  • FIG. 9 is a graph showing transmission wavelengths in the example and the comparative example.
  • FIG. 10 is a diagram schematically showing the relationship of transmission wavelengths.
  • FIG. 10 is a diagram schematically showing the relationship of transmission wavelengths.
  • FIG. 11 is another table showing incident angles and transmission wavelengths in the example and the comparative example.
  • FIG. 12 is another graph showing transmission wavelengths in the example and the comparative example.
  • FIG. 13 is a view showing a modification of the arrangement of the optical filters.
  • FIG. 14 is a diagram showing the spectral reflectance of nutrient-rich water.
  • FIG. 1 is a view showing the configuration of an image processing apparatus 10 (image processing apparatus) according to the first embodiment.
  • the image processing apparatus 10 includes an imaging device 20 (imaging device) and an analysis device 30 (measurement unit), inputs an image acquired by the imaging device 20 to the analysis device 30, and analyzes the image. Measure the subject with.
  • the imaging device 20 and the analysis device 30 may be housed in one housing, or may be housed in another housing.
  • the imaging device 20 includes an imaging optical system 50 (imaging optical system), a light receiving unit 22 (directivity sensor), an image acquiring unit 24 (image acquiring unit), and an image recording unit 26.
  • imaging optical system 50 imaging optical system
  • light receiving unit 22 directivity sensor
  • image acquiring unit 24 image acquiring unit
  • image recording unit 26 Has a function of capturing an image of In FIG. 1, the configuration (the number of lenses, the shape, the arrangement, and the like) of the imaging optical system 50 is illustrated in a simplified manner. The detailed configuration is described below.
  • FIG. 2 shows the lens arrangement of the imaging optical system 50.
  • the first optical system 51 is an afocal optical system composed of lenses L1 and L2.
  • the second optical system 52 includes lenses L3 to L8, and focuses the light beam transmitted through the first optical system 51 and the optical filter 53 on the imaging surface 22A of the light receiving unit 22.
  • the optical filter 53 is disposed in front of the flat plate 54 (subject side) at the position of the entrance pupil of the imaging optical system 50.
  • the optical filter 53 is disposed at the position of the entrance pupil of the imaging optical system 50, and the light transmitted through the first optical system 51 is incident on the optical filter 53.
  • the axial space at the stop space that is, the position of the entrance pupil where the optical filter 53 is disposed can be as close to the optical axis as possible. It is desirable to be parallel. Therefore, it is desirable for the first optical system 51 to form an afocal optical system (the fidelity to the afocal optical system may be considered within the allowable range of the angle between the optical axis and the light beam). Furthermore, it is desirable that the off-axis luminous flux be as parallel as possible to the optical axis as well.
  • the afocal magnification ⁇ ⁇ It needs to be 1.
  • Ax is obtained by dividing the thickness of the incident light beam in the afocal optical system by the thickness of the emitted light beam, and at the same time, the angular magnification and the difference in the angle when the afocal off-axis light enters and exits.
  • the axial light flux is thick in the stop space (pupil position) (that is, the afocal magnification is less than 1).
  • the focal length of the entire system of the imaging optical system 50 is obtained by multiplying this afocal magnification by the focal length of the optical system after the stop (on the image pickup device side from the entrance pupil position).
  • FIG. 3 is a view showing lens data of the imaging optical system 50, and a portion surrounded by a rectangle shows a surface on which the optical filter 53 is disposed.
  • the afocal magnification (angular magnification) of the first optical system 51 is 0.668.
  • the optical filter 53 includes a first optical filter 53A (first optical filter) and a second optical filter 53B (second optical filter), and is perpendicular to the optical axis AX1 at the pupil position of the imaging optical system 50. They are respectively disposed in different areas in the plane (the front of the flat plate 54) (see FIG. 2). As shown in FIG. 4, the first optical filter 53A is disposed in a circular area (first area) centered on the optical axis AX1, and the second optical filter 53B is around (outside) the first area Are arranged in an annular area (second area) of The first optical filter 53A and the second optical filter 53B can be formed of a dielectric multilayer film.
  • the light passing through the first optical filter 53A (first pupil region) has a first wavelength band, and a second optical filter 53B.
  • the light having passed through the (second pupil region) becomes light having a second wavelength band.
  • the subject light having passed through the imaging optical system 50 is incident on the light receiving unit 22.
  • the light receiving unit 22 has a plurality of pixels constituted by photoelectric conversion elements arranged in a two-dimensional manner, and performs pupil division of a light flux incident through the first optical filter 53A and the second optical filter 53B. Selectively receive light.
  • one micro lens 152 is disposed for one light receiving element.
  • the microlenses 152 are regularly arranged in a plane perpendicular to the optical axis AX 1, and the light receiving element 162 is arranged in each of the microlenses 152.
  • a MOS Metal Oxide Semiconductor
  • CMOS complementary metal oxide semiconductor
  • a solid-state imaging element such as a CCD type imaging element (CCD: Charge Coupled Device) may be used.
  • CCD Charge Coupled Device
  • FIG. 5 is a cross-sectional view of the light receiving unit 22 in a plane including the optical axis AX1.
  • the light ray 122A and the light ray 122B schematically show the light ray that has passed through the first optical filter 53A and the second optical filter 53B, respectively.
  • a light shielding mask 162A (pupil dividing portion) or a light shielding mask 162B (pupil dividing portion) is arranged corresponding to the arrangement of the optical filter.
  • the light receiving element 162 separates the light beam 122A and the light beam 122B and receives the light.
  • the light receiving unit 22 supplies a signal of the light separated and received as an image signal to the image acquiring unit 24.
  • the image acquisition unit 24 acquires an image i1 (first image) received through the first optical filter 53A and an image i2 (second image) received through the second optical filter 53B. . That is, the image acquisition unit 24 acquires two images with different wavelengths from the image signal.
  • the image recording unit 26 records the images i1 and i2 acquired by the image acquiring unit 24.
  • the image recording unit 26 may record an image in a non-volatile memory.
  • the non-volatile memory may be included in the image recording unit 26. Further, the non-volatile memory may be an external memory provided detachably to the imaging device 20.
  • the image recording unit 26 can output an image to the outside of the imaging device 20 (for example, the analysis device 30).
  • the analysis device 30 includes a processing unit 100 (measurement unit), a storage unit 200, a display unit 300, and an operation unit 400, which are connected to each other to transmit and receive necessary information.
  • a processing unit 100 measurement unit
  • a storage unit 200 storage unit
  • a display unit 300 display unit
  • an operation unit 400 which are connected to each other to transmit and receive necessary information.
  • Various arrangement forms can be adopted for these components, and each component may be arranged in one place (in one case, in one room, etc.), or arranged in a distant place via a network. May be connected.
  • the processing unit 100 includes an image input unit 110 and a measurement unit 120 (measurement unit).
  • the image input unit 110 includes a recording medium interface (not shown), a control circuit thereof, and a communication control unit that controls communication (wireless and wired) with the imaging device 20, and inputs an image acquired by the imaging device 20.
  • the measurement unit 120 measures a subject based on the image input by the image input unit 110 (described later).
  • the functions of the control circuit, the communication control unit, and the measurement unit 120 described above can be realized using various processors.
  • the various processors include, for example, a central processing unit (CPU) that is a general-purpose processor that executes software (programs) to realize various functions.
  • the various processors described above also include a programmable logic device (PLD) which is a processor whose circuit configuration can be changed after manufacturing an FPGA (Field Programmable Gate Array) or the like.
  • PLD programmable logic device
  • FPGA Field Programmable Gate Array
  • dedicated electric circuits and the like which are processors having a circuit configuration specially designed to execute specific processing such as application specific integrated circuits (ASICs) are also included in the various processors described above.
  • ASICs application specific integrated circuits
  • each unit may be realized by one processor or may be realized by combining a plurality of processors.
  • multiple functions may be realized by one processor.
  • a plurality of functions are configured by one processor
  • one processor or more is configured by a combination of one or more CPUs and software, as represented by computers such as clients and servers; Is realized as a plurality of functions.
  • SoC system on chip
  • IC integrated circuit
  • various functions are configured using one or more of the various processors described above as a hardware-like structure.
  • the hardware-like structure of these various processors is, more specifically, an electrical circuit (circuitry) combining circuit elements such as semiconductor elements.
  • the processor or the electric circuit described above executes software (program)
  • the processor (computer) readable code of the software to be executed is stored in a non-transitory recording medium such as ROM (Read Only Memory).
  • ROM Read Only Memory
  • the software stored in the non-temporary recording medium includes a program for performing image input and object measurement.
  • the code may be recorded on a non-temporary recording medium such as various magneto-optical recording devices and semiconductor memories instead of the ROM.
  • a RAM Random Access Memory
  • EEPROM Electrically Erasable and Programmable Read Only Memory
  • the storage unit 200 includes a non-temporary recording medium such as a magneto-optical disk and a semiconductor memory, and a control unit thereof, and the input image, the measurement result, and the like are associated and stored.
  • a non-temporary recording medium such as a magneto-optical disk and a semiconductor memory
  • the display unit 300 includes a monitor 310 (display device), and can display an input image, an image and information stored in the storage unit 200, a result of processing by the processing unit 100, and the like.
  • the operation unit 400 includes a keyboard 410 and a mouse 420 as an input device and / or a pointing device, and the user can perform an operation necessary for measuring an object via the screen of the device and the monitor 310.
  • the first optical filter 53A and the second optical filter 53B transmit light of two non-overlapping wavelengths in the visible red wavelength band. Specifically, wavelength bands that do not overlap with each other in the wavelength band of 650 nm or more and 740 nm or less are the first wavelength band (transmission wavelength of the first optical filter 53A at vertical incidence: 670 nm), the second wavelength band (vertical The transmission wavelength of the second optical filter 53B at the time of incidence is 710 nm).
  • FIG. 6 is a view showing how light rays are incident on the optical filter 53. As shown in FIG. Part (a) of FIG.
  • FIG. 6 shows the incidence of a high image height luminous flux (image height 70%) to the first optical filter 53A and the central luminous flux, and the part (b) shows the high image height luminous flux (the image of the second optical filter 53B) The image height is 70%), showing the incidence of the central luminous flux.
  • image height 70% the image height luminous flux
  • the thickness is emphasized.
  • the refractive index of the flat plate 54 (substrate) in the embodiment is 1.5, and the effective refractive indexes of the first optical filter 53A and the second optical filter 53B are 1.83 and 2.04, respectively.
  • the imaging optical system 60 is a double Gaussian type optical system, and is configured by a first optical system 61 and a second optical system 62 as shown in FIG.
  • the optical filter 63 is disposed at the position of the entrance pupil of the imaging optical system 60, and a first optical filter 63A disposed in a circular area centered on the optical axis AX2 and a second optical filter disposed outside the first optical filter 63A. And 63B.
  • each light receiving element of the image pickup device (not shown) corresponding to the image pickup optical system 60 light shielding of a different shape corresponding to the arrangement of the first optical filter 63A and the second optical filter 63B A mask (not shown) is provided.
  • the first optical filter 63A transmits light having a wavelength of 670 nm
  • the second optical filter 63B transmits light having a wavelength of 710 nm.
  • Part (a) of FIG. 7 shows the high image height luminous flux (image height 70%) incident on the first optical filter 63A and the incidence of the central luminous flux
  • (b) part shows the high image height luminous flux for the second optical filter 63B ( The image height is 70%), and shows the incidence of the central luminous flux.
  • the thickness is emphasized.
  • the refractive index of the substrate on which the optical filter 63 is disposed is 1.5, and the effective refractive indexes of the first optical filter 63A and the second optical filter 63B are 1.83 and 2.2, respectively. It is 04.
  • the transmission wavelength ⁇ (transmission center wavelength at the incident angle ⁇ ) of the optical filter is ⁇ 0 where the transmission center wavelength at the time of vertical incidence is Ne, the refractive index of the substrate is Ne, and N * is the effective refractive index of the optical filter In some cases, it can be represented by the following formula (1).
  • the difference in transmission angle between the high image height luminous flux transmitted through the first optical filter 63A and the central luminous flux is as large as 16.8 deg, and the obtained image has transmission wavelengths greatly different between the periphery and the center (transmission wavelength (19.1 nm) is not suitable for measurement using a specific wavelength.
  • the difference in transmission angle between the upper ray and the lower ray of the high image height light beam transmitted through the second optical filter 53B is 1.58 deg (substantially parallel). Since the difference in transmission wavelength is as small as 2.1 nm, it is suitable for measurement using a narrow band wavelength. The difference in transmission wavelength is small because the first optical system 51, which is an afocal optical system, causes the high image height light flux and the central light flux to be incident on the second optical filter 53B in a substantially parallel state. is there.
  • the difference in transmission angle between the high image height luminous flux transmitted through the first optical filter 53A and the central luminous flux is 11.04 deg, which is smaller than that in the comparative example, and the obtained image is the difference in transmission wavelength between the periphery and the center. Is small (8.2 nm), it is suitable for measurement using a narrow band (for example, 10 nm or less) wavelength.
  • the difference in transmission wavelength is small because the first optical system 51, which is an afocal optical system, not only the second optical filter 53B but also the first optical filter 53A has a high image height and a central light flux. It is for making it inject in a substantially parallel state.
  • the upper light ray of the high image height luminous flux and the high image height luminous flux incident on the second optical filter 53B in order to suppress the shift of the transmission wavelength and acquire an image suitable for the narrow band wavelength, the upper light ray of the high image height luminous flux and the high image height luminous flux incident on the second optical filter 53B.
  • the difference with the lower ray is preferably 5 deg or less (first threshold or less), and more preferably 2 deg or less.
  • the difference between the angle formed by the lower ray of the high image height luminous flux incident on the second optical filter 53B and the lower ray of the central luminous flux is preferably 15 deg or less (less than the second threshold), and 10 deg. It is more preferable that it is the following.
  • the difference between the angle formed by the upper ray of the high image height light beam incident on the first optical filter 53A and the upper ray of the central light beam is preferably 15 deg or less (less than the third threshold), Preferably, the difference between the angle formed by the lower ray of the high image height light beam incident on the first optical filter 53A and the lower ray of the central light beam is 15 deg or less (fourth threshold value or less).
  • the first to fourth threshold values described above can be set so that the transmission wavelength difference between light beams is equal to or less than the threshold value (for example, 10 nm, 5 nm, etc.).
  • Example of transmission wavelength shift (case 2)>
  • An optical filter may be used.
  • the transmission wavelength in the case of using the optical filter of such an arrangement is shown in FIG. 11 (the incident angle is the same as the portion (a) of FIG. 8).
  • the table of FIG. 11 is graphed and shown in FIG.
  • the transmission wavelength difference is smaller than in the comparative example, and an image suitable for measurement using a narrow band wavelength and a specific wavelength can be acquired.
  • the transmission wavelength of the second optical filter (peripheral annular filter) for high image height luminous flux has a difference of 45.3 nm between the upper ray and the lower ray, but in the example, it is 4.9 nm I can not tell.
  • there is a difference of 62.5 nm in the transmission wavelength between the lower ray of the high image height luminous flux and the lower ray of the central luminous flux for the second optical filter but in the example, it differs by 15.0 nm.
  • the lens configuration and arrangement of the optical system in case 2 are the same as in case 1 described above, and the optical filter is disposed at the position of the entrance pupil of the optical system.
  • the incident angle to the optical filter in case 2 is the same as in case 1, but since the transmission wavelength of the optical filter is different from that in case 1, the amount of wavelength shift is different even if the incident angle difference is the same. Therefore, in Case 2, the threshold value of the incident angle may be changed to Case 1 or a threshold value for wavelength shift may be set.
  • the threshold of the transmission wavelength difference between the upper and lower rays of the high image height luminous flux for the second optical filter is 10 nm (preferably 5 nm), and the lower image ray of the high image height luminous flux for the second optical filter
  • the threshold value of the difference in transmission wavelength with the lower ray of the central luminous flux can be 20 nm.
  • the first optical system 51 which is an afocal optical system, performs the second operation in a state in which the high image height luminous flux and the central luminous flux are substantially parallel.
  • the light is made incident on the optical filter 53B, and the high image height light beam and the central light beam are made to enter the first optical filter 53A in a substantially parallel state.
  • the difference in transmission angle and the wavelength shift can be suppressed, and an image suitable for measurement using a narrow band wavelength and measurement using a specific wavelength can be acquired at a plurality of wavelengths.
  • the first optical filter 56A and the second optical filter 56B are vertically (horizontally, diagonally) in a plane perpendicular to the optical axis. Or the optical filter 56 disposed in different regions. In the case of the arrangement shown in part (a) of FIG. 13, the first optical filter 56A and the second optical filter 56B are vertically (horizontally, diagonally) in a plane perpendicular to the optical axis. Or the optical filter 56 disposed in different regions. In the case of the arrangement shown in part (a) of FIG.
  • the spread of each optical filter is halved in the dividing direction (vertical direction in the drawing) but extends over the entire diameter in the direction orthogonal to the dividing direction (horizontal direction in the drawing)
  • the variation of the transmission wavelength due to the difference in angle of the light rays incident from the left and right direction of the drawing becomes large.
  • the optical system (imaging optical system 50) configured as in the above-described embodiment it is possible to suppress the fluctuation of the transmission wavelength due to the angle difference of the incident light rays. This is because the first optical system 51 causes the high image height light beam to be incident on the first optical filter 56A and the second optical filter 56B in a state in which the upper ray and the lower ray are parallel to each other.
  • the first optical filter 57A and the second optical filter 57B are in a fan-shaped area facing each other in a plane perpendicular to the optical axis. It is also possible to use an optical filter 57 which is separately disposed in different regions. Even in such an arrangement, in the optical system having the configuration as in the comparative example described above, the fluctuation of the transmission wavelength due to the angle difference of the incident light rays becomes large, but in the case of the arrangement shown in FIG. Similarly, in the optical system (imaging optical system 50) configured as in the above-described embodiment, it is possible to suppress the fluctuation of the transmission wavelength due to the angle difference of the incident light beam. Further, in the case of the arrangement shown in part (b) of FIG. 13, the light amount balance can be maintained and the light amount unevenness (shading) can be made inconspicuous as compared with the arrangement shown in part (a) of FIG.
  • optical filters 56 and 57 described above are also disposed at the position of the entrance pupil of the imaging optical system 50, as with the optical filter 53 in the first embodiment. Also in the case where the optical filters 56 and 57 are used, by providing a light shielding mask in an arrangement corresponding to the arrangement of the optical filters on the light receiving surface of the light receiving element 162, the light beams transmitted through the first and second optical filters are separated respectively To receive light.
  • optical filters 53, 56, 57 a plurality of optical filters having different transmission wavelength characteristics may be switched and used.
  • a plurality of optical filters may be provided on a member that rotates like a turret, and a desired filter may be inserted into the optical path of the imaging optical system (the position of the entrance pupil).
  • a plurality of optical filters may be provided on the plate-like member, and the desired optical filter may be inserted into the optical path of the imaging optical system (the position of the entrance pupil) by translating the plate-like member.
  • the light shielding masks 162A and 162B functioning as the pupil division unit are provided on the light receiving element 162, but a microlens array may be used as the pupil division unit.
  • one micro lens is provided for a plurality of light receiving elements (for example, two) separated from each other, and each light receiving element receives light which has passed through different pupil regions (optical filters having different transmission wavelengths) It is also good.
  • the image acquired by the imaging apparatus 20 can be input to the analysis apparatus 30 (image input unit 110), and the measurement unit 120 can measure the subject. An example of such measurement will be described.
  • chlorophyll a Chhl. A (Chlorophyll-a)
  • DOM Dissolved organic matter
  • SS suspended suspended matter
  • the concentration in water of these substances When estimating the concentration in water of these substances, it is carried out by measuring the spectral reflectance on the surface of the water to be tested, and the substance whose concentration is to be estimated, the concentration of the estimated substance, and the water quality
  • the wavelength band for measuring the optimal spectral reflectance changes depending on the place where it is used (in the open ocean, coast, lake, or estuary).
  • representative substances to be detected when a water quality test is performed and wavelength bands used for the detection will be described.
  • Chlorophyll a is one of the representative substances whose concentration in water is estimated in water quality testing.
  • FIG. 14 is a diagram showing the spectral reflectance of a typical nutrient-rich water.
  • the wavelength is shown on the X axis and the reflectance is shown on the Y axis, and a graph of the spectral reflectance of a typical nutrient-rich water is shown.
  • the characteristic of the spectral reflectance of typical rich nutrient water has a maximum at a wavelength of around 570 nm.
  • the local minimum near the wavelength of 670 nm is due to the absorption of light by chlorophyll a. It is known that the ratio or difference between the minimum value and the maximum value of reflectance at wavelengths from 650 nm to 720 nm is highly correlated with the concentration of chlorophyll a in water, especially in the water quality examination of lakes and coasts of eutrophic water. It is done. Therefore, the concentration of chlorophyll a is estimated using the minimum value and the maximum value of the reflectance in this wavelength band.
  • the first optical filter and the second optical filter described above are mutually different in the wavelength band of 650 nm to 740 nm.
  • An optical filter that transmits light of the first wavelength band and light of the second wavelength band that do not overlap each other is used.
  • an optical filter that transmits light of 670 nm (first wavelength band) is used as the first optical filter
  • the second optical filter is 710 nm (second wavelength band).
  • An optical filter that transmits light is used.
  • the normalization index is defined by [R ( ⁇ 1) ⁇ R ( ⁇ 2)] / [R ( ⁇ 1) + R ( ⁇ 2)] as the reflectance at two wavelengths ⁇ 1 and ⁇ 2 as R ( ⁇ 1) and R ( ⁇ 2).
  • the normalized difference soil moisture index (NDSMI) defined by [R (1696 nm) -R (1426 nm)] / [R (1696 nm) + R (1426 nm)] is in the range of 0% to 60% of the soil water ratio.
  • the image capturing apparatus 20 acquires an image with a small wavelength shift, and the analyzer 30 (measuring unit 120) acquires soil moisture The ratio can be measured accurately.
  • DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 image processing apparatus 20 imaging apparatus 22 light reception unit 22A imaging surface 24 image acquisition part 26 image recording part 30 analysis apparatus 50 imaging optical system 51 1st optical system 52 2nd optical system 53 optical filter 53A 1st optical filter 53B Second optical filter 54 Flat plate 56 Optical filter 56A First optical filter 56B Second optical filter 57 Optical filter 57A First optical filter 57B Second optical filter 60 Imaging optical system 61 First optical system 62 Second Optical system 63 optical filter 63A first optical filter 63B second optical filter 100 processing unit 110 image input unit 120 measuring unit 122A light beam 122B light beam 152 micro lens 162 light receiving element 162A light shielding mask 162B light shielding mask 200 storage unit 300 display 310 monitor 400 operation unit 410 keyboard 420 mouse AX1 optical axis AX2 optical axis L1 lens L2 lens L3 lens L4 lens L5 lens L6 lens L7 lens L8 lens i1 image i2 image w

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Studio Devices (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Spectrometry And Color Measurement (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

透過波長シフトが少ない画像を複数の波長で取得できる撮像装置、及び複数の波長で取得した透過波長シフトが少ない画像に基づいて被写体の計測を行うことができる画像処理装置を提供する。像高が高い位置に結像される高像高光束は光軸に対し大きな角度で入射するので透過波長シフトが大きくなるが、第1の態様に係る撮像装置では、第1の光学系が、高像高光束を上光線と下光線とが平行な状態で第1の光学フィルタ及び第2の光学フィルタに入射させる。したがって第1,第2の光学フィルタにおいて高像高光束の入射角度差による透過波長シフトが抑制され、透過波長シフトが少ない画像を複数の波長で同時に取得することができる。

Description

撮像装置及び画像処理装置
 本発明は特定の波長で画像を取得する撮像装置、及び取得した画像に基づいて被写体の計測を行う画像処理装置に関する。
 撮像装置の分野では、特定の波長に対して画像を取得する技術が知られている。このような撮像装置では、所望の画像を取得するために、特定の波長を透過させる光学フィルタが用いられる。しかしながらこのような光学フィルタを用いると、光学フィルタの領域(例えば画角の中央と周辺)によって光線の入射角度が大きく異なり、その結果として透過波長がシフトする場合がある。このため、入射角度の差による透過波長のシフトを抑制する技術が知られている。例えば特許文献1では、光の入射角度が平面の場合よりも小さくなるように湾曲された光学フィルタを用いることにより、領域による透過特性の変化を抑制しようとしている。
特開2006-254135号公報
 しかしながら上述した特許文献1では、光学フィルタを湾曲させるので加工に手間が掛かる。特に、複数の波長で画像を取得する場合にこの問題が顕著となる。具体的には、特許文献1の技術ではそれぞれの波長に対応して湾曲度合いの異なる複数の光学フィルタを設けなければならず、加工に手間が掛かる上に光学系の構成が複雑になってしまう。
 このように、従来の技術では複数の波長(特に、複数の狭帯域波長)で画像を取得し、取得した画像に基づいて被写体の計測を行うことが困難であった。
 本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、透過波長シフトが少ない画像を複数の波長で取得できる撮像装置、及び複数の波長で取得した透過波長シフトが少ない画像に基づいて被写体の計測を精度良く行うことができる画像処理装置を提供することを目的とする。
 上述した目的を達成するため、本発明の第1の態様に係る撮像装置は、第1の光学系と、第1の光学フィルタ及び第2の光学フィルタから構成される光学フィルタであって、第1の波長帯域の光を透過させる第1の光学フィルタ及び第1の波長帯域と異なる第2の波長帯域の光を透過させる第2の光学フィルタから構成される光学フィルタと、第2の光学系と、が被写体側から順に配列された撮像光学系と、2次元状に配列された光電変換素子により構成された複数の画素を有する指向性センサであって、光学フィルタを介して入射する光束をそれぞれ瞳分割して選択的に受光する指向性センサと、指向性センサから、第1の光学フィルタを介して受光した第1の画像と、第2の光学フィルタを介して受光した第2の画像と、をそれぞれ取得する画像取得部と、を有する撮像装置であって、第1の光学フィルタ及び第2の光学フィルタは撮像光学系の入射瞳の位置において撮像光学系の光軸に垂直な面内の異なる領域にそれぞれ配置され、第1の光学系は、指向性センサの撮像面において像高が高い位置に結像される高像高光束を、高像高光束の上光線と下光線とが平行な状態で第1の光学フィルタ及び第2の光学フィルタに入射させる。
 像高が高い位置に結像される高像高光束は光軸に対し大きな角度で入射するので透過波長シフトが大きくなる。しかしながら第1の態様に係る撮像装置では、第1の光学系が、高像高光束を上光線と下光線とが平行な状態で第1の光学フィルタ及び第2の光学フィルタに入射させる。したがって第1,第2の光学フィルタにおいて高像高光束の入射角度差による透過波長シフトが抑制され、透過波長シフトが少ない画像を複数の波長で取得することができる。また第1の態様では、透過波長帯域が異なる光学フィルタの透過光を指向性センサにより瞳分割して受光するので、波長が異なる複数の画像を同時に取得することができる。
 なお第1の態様において、上光線と下光線とが「平行」とは完全な平行に限らず、透過波長のシフトの影響が許容できる範囲で角度差があってもよい。また「像高が高い位置」は例えば像高が7割の位置とすることができるが、他の像高(8割、10割等)で規定してもよい。
 第2の態様に係る撮像装置は第1の態様において、第1の光学フィルタが光軸を中心とする第1の領域に配置され、第2の光学フィルタが第1の領域の外側の第2の領域に配置され、第1の光学系は、高像高光束を、高像高光束の上光線と下光線とが平行な状態で第2の光学フィルタに入射させる。第1の光学フィルタが光軸を中心とする領域に配置され、第2の光学フィルタが第1の光学フィルタの外側の領域に配置される場合、第2の光学フィルタに入射する高像高光束の上光線と下光線との入射角度差による影響(透過波長シフトの量及び差)が大きくなる。したがって第2の態様のように、第1の光学系が、高像高光束を、高像高光束の上光線と下光線とが平行な状態で第2の光学フィルタに入射させることが波長シフトを抑制するために効果的である。
 第3の態様に係る撮像装置は第2の態様において、第1の光学系は、高像高光束と撮像面の中心に結像される中心光束とを、高像高光束の上光線と中心光束の上光線との成す角度が第1のしきい値以下であり、かつ高像高光束の下光線と中心光束の下光線との成す角度が第2のしきい値以下の状態で第2の光学フィルタに入射させる。第2の態様について上述したように、第2の光学フィルタに入射する高像高光束の上光線と下光線との入射角度差による影響(透過波長シフトの量及び差)が大きくなる。このため第3の態様では、第2の光学フィルタに入射する光束どうしの成す角度を規定することにより、入射角度差による影響を抑制している。なお、第1,第2のしきい値は許容される透過波長シフトに応じて設定することができる。
 第4の態様に係る撮像装置は第2または第3の態様において、第1の光学系は、高像高光束と撮像面の中心に結像される中心光束とを、高像高光束の上光線と中心光束の上光線との成す角度が第3のしきい値以下であり、かつ高像高光束の下光線と中心光束の下光線との成す角度が第4のしきい値以下の状態で第1の光学フィルタに入射させる。第4の態様によれば、第1の光学フィルタに入射する光束どうしの成す角度を規定することにより、入射角度差による影響を抑制することができる。なお、第3,第4のしきい値は許容される透過波長シフトに応じて設定することができる。
 第5の態様に係る撮像装置は第1から第4の態様のいずれか1つにおいて、第1の光学系はアフォーカル光学系を構成する。アフォーカル光学系とは、平行光束がレンズに入射し同じく平行光束が射出する非焦点光学系である。第5の態様では光学フィルタよりも被写体側に配置される第1の光学系がアフォーカル光学系なので、第1の光学系から平行光束が射出し、高像高光束の上光線と下光線とが光学フィルタに対し平行に入射して、透過波長シフトの差が少なくなる。なお第5の態様において、第1の光学系の構成が、透過角度及びこれに起因する透過波長シフトの影響が許容できる範囲でアフォーカル光学系と異なっていてもよい。
 第6の態様に係る撮像装置は第5の態様において、アフォーカル光学系のアフォーカル倍率は1未満である。アフォーカル倍率とは、アフォーカル光学系に入射する平行光束と出射する平行光束とを瞳径の比率で表した数値である。第6の態様ではアフォーカル倍率が1未満なので、出射する光束の径は入射する光束の径より大きくなる。
 第7の態様に係る撮像装置は第1から第6の態様のいずれか1つにおいて、指向性センサは、瞳分割部として機能する遮光マスクまたはマイクロレンズアレイを有する。第7の態様は、選択的受光のための具体的構成の一態様を示すものである。
 第8の態様に係る撮像装置は第1から第7の態様のいずれか1つにおいて、第1の光学フィルタ及び第2の光学フィルタは、650nm以上740nm以下の波長帯域における互いに重複しない波長帯域の光を第1の波長帯域の光及び第2の波長帯域の光としてそれぞれ透過させる。第8の態様によれば、可視域赤色の波長帯域における2波長で画像を取得することができる。
 上述した目的を達成するため、本発明の第9の態様に係る画像処理装置は第1から第9の態様のいずれか1つに係る撮像装置と、第1の画像及び第2の画像から被写体の計測を行う計測部と、を備える。第10の態様によれば、第1から第9の態様のいずれか1つに係る撮像装置で取得した第1,第2の画像を用いるので、波長で取得した透過波長シフトが少ない画像に基づいて被写体の計測を精度良く行うことができる。
 以上説明したように、本発明の撮像装置によれば透過波長シフトが少ない画像を複数の波長で取得することができ、本発明の画像処理装置によれば複数の波長で取得した透過波長シフトが少ない画像に基づいて被写体の計測を精度良く行うことができる。
図1は、第1の実施形態に係る画像処理装置の構成を示す図である。 図2は、撮像光学系のレンズ配置を示す図である。 図3は、撮像光学系のレンズデータを示す図である。 図4は、光学フィルタの配置を示す図である。 図5は、遮光マスクによる選択的受光の様子を示す図である。 図6は、実施例における光線透過の様子を示す図である。 図7は、比較例における光線透過の様子を示す図である。 図8は、実施例及び比較例における入射角度及び透過波長を示す表である。 図9は、実施例及び比較例における透過波長を示すグラフである。 図10は、透過波長の関係を模式的に示す図である。 図11は、実施例及び比較例における入射角度及び透過波長を示す他の表である。 図12は、実施例及び比較例における透過波長を示す他のグラフである。 図13は、光学フィルタの配置の変形例を示す図である。 図14は、富栄養水の分光反射率を示す図である。
 以下、添付図面を参照しつつ、本発明に係る撮像装置及び画像処理装置の実施形態について、詳細に説明する。
 <第1の実施形態>
 <画像処理装置の全体構成>
 図1は第1の実施形態に係る画像処理装置10(画像処理装置)の構成を示す図である。図1に示すように、画像処理装置10は撮像装置20(撮像装置)と解析装置30(計測部)とを備え、撮像装置20で取得した画像を解析装置30に入力して、解析装置30で被写体の計測を行う。撮像装置20と解析装置30とを1つの筐体に収納してもよいし、別の筐体に収納してもよい。
 <撮像装置の構成>
 撮像装置20は撮像光学系50(撮像光学系)、受光ユニット22(指向性センサ)、画像取得部24(画像取得部)、及び画像記録部26を備え、波長が異なる光を受光して複数の画像を撮像する機能を有する。なお、図1では撮像光学系50の構成(レンズ枚数、形状、配置等)を簡略化して記載している。詳細な構成は以下で説明する。
 <撮像光学系の構成>
 撮像光学系50は、第1の光学系51、光学フィルタ53、及び第2の光学系52が、被写体側から順に共通の光軸AX1を中心として配置されており、光学フィルタ53(光学フィルタ)により、光が透過する領域ごとに異なる透過波長特性を持つ。図2は撮像光学系50のレンズ配置を示す図である。第1の光学系51はレンズL1,L2から構成されるアフォーカル光学系である。第2の光学系52はレンズL3~L8から構成され、第1の光学系51及び光学フィルタ53を透過した光束を受光ユニット22の撮像面22Aに結像させる。光学フィルタ53は撮像光学系50の入射瞳の位置において、平板54の前面(被写体側)に配置される。
 <第1の光学系の構成>
 第1の実施形態に係る撮像装置20では、撮像光学系50の入射瞳の位置に光学フィルタ53が配置され、第1の光学系51を透過した光が光学フィルタ53に入射する。光学フィルタ53での透過波長シフトを抑制するためには、撮影倍率無限倍で考えた場合、まず絞り空間、すなわち光学フィルタ53が配置される入射瞳の位置での軸上光束が光軸とできるだけ平行になっていることが望ましい。したがって第1の光学系51はアフォーカル光学系を形成することが望ましい(アフォーカル光学系に対する忠実度は、光軸と光線の角度の許容範囲で考えればよい)。さらに、軸外光束もできるだけ光軸と平行であることが望ましい。
 つまり、軸外光束は撮像光学系50の絞り空間(入射瞳の位置)において入射角度よりかなり緩い角度であることが望まれるので、アフォーカル光学系の成立を前提とすればアフォーカル倍率Υ<1である必要がある。Υはアフォーカル光学系においての入射光束の太さを射出光束の太さで割ったもので、同時に角倍率、アフォーカル軸外光の入射時と射出時の角度の差でもある。図6等に示すように、第1の実施形態に係る撮像装置20では軸上光束が絞り空間(瞳位置)において太くなっている(すなわち、アフォーカル倍率が1未満)。なお、撮像光学系50の全系の焦点距離は、このアフォーカル倍率と絞り以降(入射瞳位置より撮像素子側)の光学系の焦点距離を掛けたものになる。
 したがって、撮像光学系50の絞り空間(入射瞳の位置)に光学フィルタを配置する場合、撮影画角を広くしようとすると、アフォーカル倍率(角倍率)が1未満のアフォーカル系(あるいは、透過角度及び/または透過波長シフトが許容される範囲内でアフォーカル系的に挙動する光学系)を絞り(入射瞳)より前の光学系で構成することが必要である。図3は撮像光学系50のレンズデータを示す図であり、矩形で囲んだ箇所が光学フィルタ53が配置された面を示す。第1の光学系51のアフォーカル倍率(角倍率)は0.668である。
 <光学フィルタの構成>
 光学フィルタ53は第1の光学フィルタ53A(第1の光学フィルタ)及び第2の光学フィルタ53B(第2の光学フィルタ)により構成され、撮像光学系50の瞳位置において、光軸AX1と垂直な面内の異なる領域(平板54の前面)にそれぞれ配置される(図2参照)。図4に示すように、第1の光学フィルタ53Aは光軸AX1を中心とする円形の領域(第1の領域)に配置され、第2の光学フィルタ53Bは第1の領域の周辺(外側)の環状の領域(第2の領域)に配置される。第1の光学フィルタ53A及び第2の光学フィルタ53Bは、誘電多層膜により形成することができる。
 このような光学フィルタ53により、撮像光学系50を通過した被写体光のうち、第1の光学フィルタ53A(第1の瞳領域)を通過した光は第1の波長帯域、第2の光学フィルタ53B(第2の瞳領域)を通過した光は第2の波長帯域を有する光となる。第1の光学フィルタ53A及び第2の光学フィルタ53Bの透過波長の具体的な値については、後述する実施例により説明する。
 <受光ユニットの構成>
 撮像光学系50を通過した被写体光は、受光ユニット22に入射する。受光ユニット22は2次元状に配列された光電変換素子により構成された複数の画素を有し、第1の光学フィルタ53A及び第2の光学フィルタ53Bを介して入射する光束をそれぞれ瞳分割して選択的に受光する。また、マイクロレンズ152が1つの受光素子に対して1つ配設されている。マイクロレンズ152は光軸AX1に垂直な面内において規則的に配置され、それぞれのマイクロレンズ152には受光素子162が配置されている。受光素子162は、MOS(Metal Oxide Semiconductor)またはCMOS型撮像素子が用いられる。受光素子162としては、この他に、CCD型撮像素子(CCD:Charge Coupled Device)などの固体撮像素子を用いてもよい。
 図5は、光軸AX1を含む面における受光ユニット22の断面図である。図5において、光線122A及び光線122Bは、それぞれ第1の光学フィルタ53A,第2の光学フィルタ53Bを通過した光線を模式的に示す。受光素子162の受光面には光学フィルタの配置に対応して遮光マスク162A(瞳分割部)または遮光マスク162B(瞳分割部)が配置されている。第1の光学フィルタ53A(円形)に対応した円環状の遮光マスク162Aは光線122Bを遮光し、第2の光学フィルタ53B(円環状)に対応した円形の遮光マスク162Bは光線122Aを遮光する。これにより受光素子162は光線122Aと光線122Bとを分離して受光する。受光ユニット22は、それぞれ分離して受光した光による信号を、画像信号として画像取得部24に供給する。
 <画像取得部及び画像記録部の構成>
 画像取得部24は、第1の光学フィルタ53Aを介して受光した画像i1(第1の画像)と第2の光学フィルタ53Bを介して受光した画像i2(第2の画像)とをそれぞれ取得する。すなわち画像取得部24は、画像信号から、それぞれ波長の異なる2つの画像を取得する。画像記録部26は、画像取得部24が取得した画像i1,i2を記録する。画像記録部26は不揮発性メモリに画像を記録してもよい。不揮発性メモリは画像記録部26が有してもよい。また、不揮発性メモリは、撮像装置20に対して着脱可能に設けられた外部メモリであってもよい。画像記録部26は、撮像装置20の外部(例えば解析装置30)に画像を出力することができる。
 <解析装置の構成>
 解析装置30は処理部100(計測部)、記憶部200、表示部300、及び操作部400を備え、互いに接続されて必要な情報が送受信される。これらの構成要素については各種の配置形態を採用することができ、各構成要素が1箇所(1筐体内、1室内等)に配置されていてもよいし、離れた場所に配置されネットワークを介して接続されていてもよい。
 <処理部の構成>
 処理部100は画像入力部110及び計測部120(計測部)を備える。画像入力部110は図示せぬ記録媒体インタフェース、その制御回路、及び撮像装置20との通信(無線、有線)を制御する通信制御部等により構成され、撮像装置20で取得した画像を入力する。計測部120は、画像入力部110が入力した画像に基づいて被写体の計測を行う(後述)。
 上述した制御回路、通信制御部、及び計測部120の機能は、各種のプロセッサ(processor)を用いて実現できる。各種のプロセッサには、例えばソフトウェア(プログラム)を実行して各種の機能を実現する汎用的なプロセッサであるCPU(Central Processing Unit)が含まれる。また、上述した各種のプロセッサには、FPGA(Field Programmable Gate Array)などの製造後に回路構成を変更可能なプロセッサであるプログラマブルロジックデバイス(Programmable Logic Device:PLD)も含まれる。さらに、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)などの特定の処理を実行させるために専用に設計された回路構成を有するプロセッサである専用電気回路なども上述した各種のプロセッサに含まれる。
 各部の機能は1つのプロセッサにより実現されてもよいし、複数のプロセッサを組み合わせて実現されてもよい。また、複数の機能を1つのプロセッサで実現してもよい。複数の機能を1つのプロセッサで構成する例としては、第1に、クライアント、サーバなどのコンピュータに代表されるように、1つ以上のCPUとソフトウェアの組合せで1つのプロセッサを構成し、このプロセッサが複数の機能として実現する形態がある。第2に、システムオンチップ(System On Chip:SoC)などに代表されるように、システム全体の機能を1つのIC(Integrated Circuit)チップで実現するプロセッサを使用する形態がある。このように、各種の機能は、ハードウェア的な構造として、上述した各種のプロセッサを1つ以上用いて構成される。さらに、これらの各種のプロセッサのハードウェア的な構造は、より具体的には、半導体素子などの回路素子を組み合わせた電気回路(circuitry)である。
 上述したプロセッサあるいは電気回路がソフトウェア(プログラム)を実行する際は、実行するソフトウェアのプロセッサ(コンピュータ)読み取り可能なコードをROM(Read Only Memory)等の非一時的記録媒体に記憶しておき、プロセッサがそのソフトウェアを参照する。非一時的記録媒体に記憶しておくソフトウェアは、画像の入力及び被写体の計測を実行するためのプログラムを含む。ROMではなく各種光磁気記録装置、半導体メモリ等の非一時的記録媒体にコードを記録してもよい。ソフトウェアを用いた処理の際には例えばRAM(Random Access Memory)が一時的記憶領域として用いられ、また例えば不図示のEEPROM(Electronically Erasable and Programmable Read Only Memory)に記憶されたデータを参照することもできる。
 <記憶部の構成>
 記憶部200は光磁気ディスク、半導体メモリ等の非一時的記録媒体及びその制御部により構成され、入力した画像、計測結果等が関連付けて記憶される。
 <表示部及び操作部の構成>
 表示部300はモニタ310(表示装置)を備えており、入力した画像、記憶部200に記憶された画像及び情報、処理部100による処理の結果等を表示することができる。操作部400は入力デバイス及び/またはポインティングデバイスとしてのキーボード410及びマウス420を含んでおり、ユーザはこれらのデバイス及びモニタ310の画面を介して、被写体の計測に必要な操作を行うことができる。
 <透過波長シフトの例(ケース1)>
 上述した構成の撮像装置20における透過波長シフトの実施例について、比較例を参照しつつ説明する。
 <実施例の構成>
 本実施例において、第1の光学フィルタ53A、及び第2の光学フィルタ53Bは可視域赤色の波長帯域における重複しない2波長の光をそれぞれ透過させる。具体的には、650nm以上740nm以下の波長帯域における互いに重複しない波長帯域をそれぞれ第1の波長帯域(垂直入射時の第1の光学フィルタ53Aの透過波長:670nm)、第2の波長帯域(垂直入射時の第2の光学フィルタ53Bの透過波長:710nm)としている。図6は光学フィルタ53に対する光線の入射の様子を示す図である。図6の(a)部分は第1の光学フィルタ53Aに対する高像高光束(像高7割)、中心光束の入射を示し、(b)部分は第2の光学フィルタ53Bに対する高像高光束(像高7割)、中心光束の入射を示す。図6では、光学フィルタ53の配置を明示するため、厚みを強調して記載している。
 なお、実施例における平板54(基板)の屈折率は1.5であり、第1の光学フィルタ53A,第2の光学フィルタ53Bの実効的屈折率はそれぞれ1.83,2.04である。
 <比較例の構成>
 比較例において、撮像光学系60はダブルガウス型の光学系であり、図7に示すように第1の光学系61及び第2の光学系62により構成される。光学フィルタ63は撮像光学系60の入射瞳の位置に配置され、光軸AX2を中心とした円形の領域に配置された第1の光学フィルタ63Aと、その外側に配置された第2の光学フィルタ63Bとにより構成される。また、実施例と同様に、撮像光学系60に対応する撮像素子(不図示)の各受光素子には第1の光学フィルタ63A,第2の光学フィルタ63Bの配置に対応して異なる形状の遮光マスク(不図示)が設けられる。
 比較例においても、実施例と同様に第1の光学フィルタ63Aは波長が670nmの光を透過させ、第2の光学フィルタ63Bは波長が710nmの光を透過させる。図7の(a)部分は第1の光学フィルタ63Aに対する高像高光束(像高7割)、中心光束の入射を示し、(b)部分は第2の光学フィルタ63Bに対する高像高光束(像高7割)、中心光束の入射を示す。なお図7では、光学フィルタ53の配置を明示するため、厚みを強調して記載している。
 なお比較例においても、光学フィルタ63が配置される基板の屈折率は1.5であり、第1の光学フィルタ63A,第2の光学フィルタ63Bの実効的屈折率はそれぞれ1.83,2.04である。
 <実施例及び比較例における光線の透過角度及び透過波長>
 上述した構成の実施例及び比較例について、光学フィルタへの入射角度を図8の(a)部分に、光学フィルタの透過波長を図8の(b)部分に示す。また、図9の(a)部分は比較例についての透過波長のグラフであり、(b)部分は実施例についての透過波長のグラフである。なお、図9に示す透過波長のグラフを概念的にまとめた様子を図10に示す。
 光学フィルタの透過波長λθ(入射角θの時の透過中心波長)は、垂直入射時の透過中心波長をλ0とし、基板の屈折率をNeとし、N*を光学フィルタの実効的屈折率とした場合に、以下の式(1)で表すことができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
 <比較例の評価>
 図8,9から分かるように、比較例においては第2の光学フィルタ63Bを透過する高像高光束の上光線と下光線とで透過角度の差が9.8deg(=22.1deg-12.3deg)と大きく、これにより透過波長の差が18.9nmとなっている。このため、取得される画像は画面の周辺部分(像高が高い位置)において広い波長帯域の透過光で構成されてしまい、狭帯域波長を用いる計測に適さない。また比較例では、第1の光学フィルタ63Aを透過する高像高光束と中心光束とで透過角度の差が16.8degと大きく、得られる画像は周辺と中心とで大きく異なる透過波長(透過波長の差が19.1nm)で構成された画像になってしまうので、特定波長を用いる計測に適さない。
 <実施例の評価>
 上述した比較例に対し実施例では、第2の光学フィルタ53Bを透過する高像高光束の上光線と下光線とで透過角度の差が1.58deg(実質的に平行)であり、これにより透過波長の差が2.1nmと小さくなっているので、狭帯域波長を用いる計測に適している。透過波長の差が小さいのは、アフォーカル光学系である第1の光学系51が、高像高光束と中心光束とを実質的に平行な状態で第2の光学フィルタ53Bに入射させるためである。
 また実施例では、第1の光学フィルタ53Aを透過する高像高光束と中心光束とで透過角度の差が11.04degと比較例より小さく、得られる画像は周辺と中心とで透過波長の差が小さい(8.2nm)ので、狭帯域(例えば10nm以下)の波長を用いる計測に適している。透過波長の差が小さいのは、アフォーカル光学系である第1の光学系51が、第2の光学フィルタ53Bだけでなく第1の光学フィルタ53Aについても、高像高光束と中心光束とを実質的に平行な状態で入射させるためである。
 <入射角度に対するしきい値>
 実施例の結果より、透過波長のシフトを抑制して狭帯域波長に適した画像を取得するためには、第2の光学フィルタ53Bに入射する高像高光束の上光線と高像高光束の下光線との成す角度との差は5deg以下(第1のしきい値以下)であることが好ましく、2deg以下であることがさらに好ましい。また、第2の光学フィルタ53Bに入射する高像高光束の下光線と中心光束の下光線との成す角度との差は15deg以下(第2のしきい値以下)であることが好ましく、10deg以下であることがさらに好ましい。
 また、第1の光学フィルタ53Aに入射する高像高光束の上光線と中心光束の上光線との成す角度との差は15deg以下(第3のしきい値以下)であることが好ましく、同様に第1の光学フィルタ53Aに入射する高像高光束の下光線と中心光束の下光線との成す角度との差は15deg以下(第4のしきい値以下)であることが好ましい。
 なお、上述した第1~第4のしきい値は、光線どうしの透過波長差がしきい値(例えば、10nm、5nm等)以下となるように設定することができる。
 <透過波長シフトの例(ケース2)>
 上述した実施例では第1の光学フィルタ53A,第2の光学フィルタ53Bがそれぞれ610nm、710nmの波長の光(可視域赤色)を透過する場合について説明したが、これと異なる波長の光を透過する光学フィルタを用いてもよい。例えば、光軸を中心とする円形の領域に配置された第1の光学フィルタが1696nmの光を透過させ,第1の光学フィルタの周辺の環状の領域に配置された第2の光学フィルタが1426nmの光を透過させてもよい。このような配置の光学フィルタを用いた場合の透過波長を図11に示す(入射角度は図8の(a)部分と同じである)。また、図11の表をグラフ化して図12に示す。
 図11,12から分かるように、実施例では比較例に対して透過波長差が小さく、狭帯域波長、特定波長を用いる計測に適した画像を取得することができる。例えば、比較例においては、高像高光束に対する第2の光学フィルタ(周辺環状フィルタ)の透過波長は上光線と下光線とで45.3nmの差があるが、実施例においては4.9nmの差しかない。また、比較例においては、第2の光学フィルタに対する高像高光束の下光線と中心光束の下光線とで透過波長に62.5nmの差があるが、実施例においては15.0nmの差しかない。なお、ケース2において光学系のレンズ構成及び配置は上述したケース1と同じであり、また光学フィルタは光学系の入射瞳の位置に配置される。
 ケース2における光学フィルタへの入射角度はケース1と同じであるが、光学フィルタの透過波長がケース1と異なるため、入射角度差が同じでも波長シフト量が異なる。このためケース2では入射角度のしきい値をケース1と変えてもよいし、波長シフトに対するしきい値を設定してもよい。例えば、第2の光学フィルタに対する高像高光束の上光線と下光線との透過波長差のしきい値を10nm(好ましくは5nm)とし、第2の光学フィルタに対する高像高光束の下光線と中心光束の下光線とで透過波長の差のしきい値が20nmとすることができる。
 <第1の実施形態の効果>
 以上説明したように、第1の実施形態に係る撮像装置20では、アフォーカル光学系である第1の光学系51が高像高光束と中心光束とを実質的に平行な状態で第2の光学フィルタ53Bに入射させ、また第1の光学フィルタ53Aについても高像高光束と中心光束とを実質的に平行な状態で入射させる。これにより透過角度の差及び波長シフトを抑制することができ、複数の波長において、狭帯域波長を使う計測、特定波長を使う計測に適した画像を取得することができる。
 <光学フィルタの配置の他の例>
 本発明に係る撮像装置では、図13の(a)部分に示すように、第1の光学フィルタ56A及び第2の光学フィルタ56Bを光軸と垂直な面内において上下方向(左右方向、斜め方向でもよい)に分離して異なる領域に配置した光学フィルタ56を用いてもよい。図13の(a)部分に示す配置の場合、各光学フィルタの広がりは分割方向(図の上下方向)には半分になるが分割方向と直交する方向(図の左右方向)では全直径に渡って広がるので、上述した比較例のような構成の光学系では図の左右方向から入射する光線の角度差による透過波長の変動が大きくなってしまう。しかしながら上述した実施例のような構成の光学系(撮像光学系50)では、入射する光線の角度差による透過波長の変動を抑制することができる。なぜならば第1の光学系51が、第1の光学フィルタ56A及び第2の光学フィルタ56Bに対して、高像高光束をその上光線と下光線とが平行な状態で入射させるからである。
 また本発明に係る撮像装置では、図13の(b)部分に示すように、第1の光学フィルタ57A及び第2の光学フィルタ57Bを光軸と垂直な面内において対向する扇型の領域に分離して異なる領域に配置した光学フィルタ57を用いてもよい。このような配置においても、上述した比較例のような構成の光学系では入射する光線の角度差による透過波長の変動が大きくなってしまうが、図13の(b)部分に示す配置の場合と同様に、上述した実施例のような構成の光学系(撮像光学系50)では、入射する光線の角度差による透過波長の変動を抑制することができる。また、図13の(b)部分に示す配置の場合、図13の(a)部分に示す配置の場合と比較して光量バランスがとれ光量ムラ(シェーディング)を目立たなくすることができる。
 なお、上述した光学フィルタ56,57も、第1の実施形態における光学フィルタ53と同様に撮像光学系50の入射瞳の位置に配置する。また光学フィルタ56,57を用いる場合も、受光素子162の受光面上に光学フィルタの配置に対応した配置の遮光マスクを設けることにより、第1,第2の光学フィルタを透過した光束をそれぞれ分離して受光することができる。
 なお、上述した例では単一の光学フィルタ(光学フィルタ53,56,57)を用いる場合について説明したが、透過波長特性の異なる複数の光学フィルタを切り替えて用いてもよい。例えば、ターレットのように回転する部材に複数の光学フィルタを設け、所望のフィルタを撮像光学系の光路(入射瞳の位置)に挿入してもよい。また、板状部材に複数の光学フィルタを設け、その板状部材を並進移動させることにより所望の光学フィルタを撮像光学系の光路(入射瞳の位置)に挿入してもよい。
 <マイクロレンズによる瞳分割>
 第1の実施形態に係る画像処理装置10では瞳分割部として機能する遮光マスク162A,162Bを受光素子162上に設けているが、瞳分割部としてマイクロレンズアレイを用いてもよい。具体的には互いに分離した複数の受光素子(例えば2つ)に対して1つのマイクロレンズを設け、個々の受光素子が異なる瞳領域(透過波長が異なる光学フィルタ)を通過した光を受光してもよい。
 <画像処理装置による計測>
 第1の実施形態に係る画像処理装置10では、撮像装置20で取得した画像を解析装置30(画像入力部110)に入力し、計測部120により被写体の計測を行うことができる。このような計測の例を説明する。
 <水質検査への適用>
 一般に、海洋及び湖沼の水質をリモートセンシングにより検査する場合には、クロロフィルa(Chl.a(Chlorophyll-a))、溶存有機物(DOM:Dissolved organic matter)、または浮遊懸濁物質(SS:suspended solids)の水中の濃度を推定することにより行われる。溶存有機物としては、例えば有色溶存有機物(CDOM:Colored dissolved organic matter)が使われる。これらの物質の水中の濃度を推定する場合には、水質検査対象の水面での分光反射率を測定することにより行われ、濃度を推定する物質、その推定される物質の濃度、及び水質検査を行う場所(外洋、沿岸、湖沼、または河口付近)によって、最適な分光反射率を測定するための波長帯域が変化する。以下に、水質検査を行う場合に検出される代表的な物質とその検出に使用される波長帯域に関して説明する。
 [クロロフィルa]
 クロロフィルaは、水質検査において水中の濃度が推定される代表的な物質の一つである。
 図14は、典型的な富栄養水の分光反射率に関して示す図である。同図では、X軸に波長が示されY軸に反射率が示されており、典型的な富栄養水の分光反射率のグラフが示されている。
 典型的な富栄養水の分光反射率の特性は、波長が570nm付近に極大値を持つ。また、波長670nm付近の極小はクロロフィルaによる光の吸収が起因するものである。特に富栄養水の湖沼及び沿岸における水質検査においては、650nmから720nmまでの波長での反射率の最小値と最大値との比または差が、水中のクロロフィルaの濃度と相関が高いことが知られている。そこで、この波長帯域の反射率の最小値と最大値とを使用して、クロロフィルaの濃度の推定が行われる。なお、クロロフィルaの濃度の増加に伴い、最大値は高波長側へシフトしていくことが知られているが、撮像装置20において第1の光学フィルタ及び第2の光学フィルタでの透過させる波長帯域を変化させることにより、この高波長側へのシフトにも対応することができる。
 基本的なクロロフィルaの推定モデルとして、「Chl.a」をクロロフィルaの濃度とし、R(λ)を波長λの反射率とした場合に以下の式(2)で表される2波長のバンド比によるモデルが知られている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
 上述の推定モデルにおいて使われる2波長は水域によって異なることが知られている。そこで、画像処理装置10を使用してクロロフィルaの濃度に基づいて水質検査を行う場合には、例えば上述した第1の光学フィルタ及び第2の光学フィルタが650nm以上740nm以下の波長帯域内の互いに重複しない第1の波長帯域の光及び第2の波長帯域の光をそれぞれ透過させる光学フィルタを用いる。例えば、ケース1の実施例のように、第1の光学フィルタとして670nm(第1の波長帯域)の光を透過させる光学フィルタを用い、第2の光学フィルタが710nm(第2の波長帯域)の光を透過させる光学フィルタを用いる。これにより、第1の実施形態に係る撮像装置20で波長シフトの少ない画像を取得して、解析装置30(計測部120)でクロロフィルaの濃度を正確に計測することができる。
 <土壌検査への適用>
 2波長を用いた計測では、さまざまな対象物の性質を抽出する正規化指標を用いることが知られている。正規化指標は2つの波長λ1,λ2における反射率をR(λ1),R(λ2)として[R(λ1)-R(λ2)]/[R(λ1)+R(λ2)]により定義することができ、例えば土壌水分比(単位重量の乾燥度に含まれる水分重量)の推定に適用することができる。[R(1696nm)-R(1426nm)]/[R(1696nm)+R(1426nm)]で定義される正規化指標NDSMI(Normalized Difference Soil Moisture Index)は、土壌水分比0%~60%の範囲において、良い近似を得ることができる。すなわちλ1=1696nm,λ2=1426nmであり、ケース2について上述したように、第1の実施形態に係る撮像装置20により波長シフトの少ない画像を取得して解析装置30(計測部120)で土壌水分比を正確に計測することができる。
 <その他の計測例>
 本発明に係る画像処理装置10(計測部120)では、透過波長が異なる光学フィルタを用いることで、上述した指標以外の指標を算出することができる。例えばλ1=1070nm,λ2=1550nmとして人肌を検出する、λ1=1460nm,λ2=1280nmとしてナラ枯れを検出する、等が可能である。また上述した指標に限らず、他の計測を行うことも可能である。
 以上で本発明の実施形態に関して説明してきたが、本発明は上述した態様に限定されず、本発明の精神を逸脱しない範囲で種々の変形が可能である。
10   画像処理装置
20   撮像装置
22   受光ユニット
22A  撮像面
24   画像取得部
26   画像記録部
30   解析装置
50   撮像光学系
51   第1の光学系
52   第2の光学系
53   光学フィルタ
53A  第1の光学フィルタ
53B  第2の光学フィルタ
54   平板
56   光学フィルタ
56A  第1の光学フィルタ
56B  第2の光学フィルタ
57   光学フィルタ
57A  第1の光学フィルタ
57B  第2の光学フィルタ
60   撮像光学系
61   第1の光学系
62   第2の光学系
63   光学フィルタ
63A  第1の光学フィルタ
63B  第2の光学フィルタ
100  処理部
110  画像入力部
120  計測部
122A 光線
122B 光線
152  マイクロレンズ
162  受光素子
162A 遮光マスク
162B 遮光マスク
200  記憶部
300  表示部
310  モニタ
400  操作部
410  キーボード
420  マウス
AX1  光軸
AX2  光軸
L1   レンズ
L2   レンズ
L3   レンズ
L4   レンズ
L5   レンズ
L6   レンズ
L7   レンズ
L8   レンズ
i1   画像
i2   画像w

Claims (9)

  1.  第1の光学系と、第1の光学フィルタ及び第2の光学フィルタから構成される光学フィルタであって、第1の波長帯域の光を透過させる前記第1の光学フィルタ及び前記第1の波長帯域と異なる第2の波長帯域の光を透過させる前記第2の光学フィルタから構成される前記光学フィルタと、第2の光学系と、が被写体側から順に配列された撮像光学系と、
     2次元状に配列された光電変換素子により構成された複数の画素を有する指向性センサであって、前記光学フィルタを介して入射する光束をそれぞれ瞳分割して選択的に受光する指向性センサと、
     前記指向性センサから、前記第1の光学フィルタを介して受光した第1の画像と、前記第2の光学フィルタを介して受光した第2の画像と、をそれぞれ取得する画像取得部と、
     を有する撮像装置であって、
     前記第1の光学フィルタ及び前記第2の光学フィルタは前記撮像光学系の入射瞳の位置において前記撮像光学系の光軸に垂直な面内の異なる領域にそれぞれ配置され、
     前記第1の光学系は、前記指向性センサの撮像面において像高が高い位置に結像される高像高光束を、前記高像高光束の上光線と下光線とが平行な状態で前記第1の光学フィルタ及び前記第2の光学フィルタに入射させる撮像装置。
  2.  前記第1の光学フィルタが前記光軸を中心とする第1の領域に配置され、
     前記第2の光学フィルタが前記第1の領域の外側の第2の領域に配置され、
     前記第1の光学系は、前記高像高光束を、前記高像高光束の前記上光線と前記下光線とが平行な状態で前記第2の光学フィルタに入射させる請求項1に記載の撮像装置。
  3.  前記第1の光学系は、前記高像高光束と前記撮像面の中心に結像される中心光束とを、前記高像高光束の前記上光線と前記高像高光束の前記下光線との成す角度が第1のしきい値以下であり、かつ前記高像高光束の前記下光線と前記中心光束の下光線との成す角度が第2のしきい値以下の状態で前記第2の光学フィルタに入射させる請求項2に記載の撮像装置。
  4.  前記第1の光学系は、前記高像高光束と前記撮像面の中心に結像される中心光束とを、前記高像高光束の前記上光線と前記中心光束の上光線との成す角度が第3のしきい値以下であり、かつ前記高像高光束の前記下光線と前記中心光束の下光線との成す角度が第4のしきい値以下の状態で前記第1の光学フィルタに入射させる請求項2または3に記載の撮像装置。
  5.  前記第1の光学系はアフォーカル光学系を構成する請求項1から4のいずれか1項に記載の撮像装置。
  6.  前記アフォーカル光学系のアフォーカル倍率は1未満である請求項5に記載の撮像装置。
  7.  前記指向性センサは、瞳分割部として機能する遮光マスクまたはマイクロレンズアレイを有する請求項1から6のいずれか1項に記載の撮像装置。
  8.  前記第1の光学フィルタ及び前記第2の光学フィルタは、650nm以上740nm以下の波長帯域における互いに重複しない波長帯域の光を前記第1の波長帯域の光及び前記第2の波長帯域の光としてそれぞれ透過させる請求項1から7のいずれか1項に記載の撮像装置。
  9.  請求項1から8のいずれか1項に記載の撮像装置と、
     前記第1の画像及び前記第2の画像から被写体の計測を行う計測部と、
     を備える画像処理装置。
PCT/JP2018/037052 2017-10-11 2018-10-03 撮像装置及び画像処理装置 WO2019073881A1 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP18865407.3A EP3697075B1 (en) 2017-10-11 2018-10-03 Imaging device and image processing device
CN201880062838.XA CN111149347B (zh) 2017-10-11 2018-10-03 摄像装置及图像处理装置
JP2019548154A JP6931401B2 (ja) 2017-10-11 2018-10-03 撮像装置及び画像処理装置
US16/840,444 US11460617B2 (en) 2017-10-11 2020-04-05 Imaging apparatus and image processing apparatus

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017197860 2017-10-11
JP2017-197860 2017-10-11

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US16/840,444 Continuation US11460617B2 (en) 2017-10-11 2020-04-05 Imaging apparatus and image processing apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2019073881A1 true WO2019073881A1 (ja) 2019-04-18

Family

ID=66100838

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2018/037052 WO2019073881A1 (ja) 2017-10-11 2018-10-03 撮像装置及び画像処理装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US11460617B2 (ja)
EP (1) EP3697075B1 (ja)
JP (1) JP6931401B2 (ja)
CN (1) CN111149347B (ja)
WO (1) WO2019073881A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022023758A (ja) * 2020-07-27 2022-02-08 ジョウシュウシ レイテック オプトロニクス カンパニーリミテッド 撮像光学レンズ
CN114631057A (zh) * 2019-10-30 2022-06-14 富士胶片株式会社 摄像装置、摄像光学系统及摄像方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006254135A (ja) 2005-03-11 2006-09-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 撮像装置および携帯端末装置
JP2014206494A (ja) * 2013-04-15 2014-10-30 株式会社リコー 撮像装置及び撮像システム
JP2015200640A (ja) * 2014-03-31 2015-11-12 パナソニックIpマネジメント株式会社 撮像装置、およびそれを用いた分析装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07191310A (ja) * 1993-12-27 1995-07-28 Sharp Corp 投影型カラー液晶表示装置
JP3739879B2 (ja) * 1996-12-17 2006-01-25 カシオ計算機株式会社 撮像装置
JP2004163573A (ja) * 2002-11-12 2004-06-10 Fuji Xerox Co Ltd 光パルス信号認識方法、光パルス信号認識装置、及び光分配器
US7030991B1 (en) * 2003-08-01 2006-04-18 Ball Aerospace & Technologies Corp. Field condensing imaging system for remote sensing of atmospheric trace gases
EP3267677B1 (en) * 2011-08-24 2019-08-28 Fujifilm Corporation Imaging device
JP6173065B2 (ja) * 2013-06-21 2017-08-02 オリンパス株式会社 撮像装置、画像処理装置、撮像方法及び画像処理方法
WO2015116756A1 (en) * 2014-01-31 2015-08-06 Jds Uniphase Corporation An optical filter and spectrometer
JP6598473B2 (ja) * 2015-02-27 2019-10-30 キヤノン株式会社 撮像装置および画像処理装置
WO2019202984A1 (ja) * 2018-04-17 2019-10-24 富士フイルム株式会社 撮像装置並びに距離計測方法、距離計測プログラム及び記録媒体
WO2020250774A1 (ja) * 2019-06-11 2020-12-17 富士フイルム株式会社 撮像装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006254135A (ja) 2005-03-11 2006-09-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 撮像装置および携帯端末装置
JP2014206494A (ja) * 2013-04-15 2014-10-30 株式会社リコー 撮像装置及び撮像システム
JP2015200640A (ja) * 2014-03-31 2015-11-12 パナソニックIpマネジメント株式会社 撮像装置、およびそれを用いた分析装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP3697075A4

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114631057A (zh) * 2019-10-30 2022-06-14 富士胶片株式会社 摄像装置、摄像光学系统及摄像方法
US11930256B2 (en) 2019-10-30 2024-03-12 Fujifilm Corporation Imaging device, imaging optical system, and imaging method
JP2022023758A (ja) * 2020-07-27 2022-02-08 ジョウシュウシ レイテック オプトロニクス カンパニーリミテッド 撮像光学レンズ
JP7072630B2 (ja) 2020-07-27 2022-05-20 ジョウシュウシ レイテック オプトロニクス カンパニーリミテッド 撮像光学レンズ

Also Published As

Publication number Publication date
EP3697075A1 (en) 2020-08-19
JP6931401B2 (ja) 2021-09-01
EP3697075A4 (en) 2020-09-02
JPWO2019073881A1 (ja) 2020-12-03
EP3697075B1 (en) 2021-09-22
CN111149347B (zh) 2021-08-06
US11460617B2 (en) 2022-10-04
US20200233127A1 (en) 2020-07-23
CN111149347A (zh) 2020-05-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10051159B2 (en) Imaging apparatus and imaging system
US9638575B2 (en) Measuring apparatus, measuring system, and measuring method
Brydegaard et al. Versatile multispectral microscope based on light emitting diodes
US11054304B2 (en) Imaging device and method
US9691802B2 (en) Image-acquisition device
DE202018006695U1 (de) Optischer Bildübertrager mit Helligkeitsverbesserung
WO2016059946A1 (ja) 分光測定方法及び分光測定装置
US20120013760A1 (en) Characterization of image sensors
CN105635533B (zh) 一种具有高动态响应范围的快照式高光谱相机
US10438365B2 (en) Imaging device, subject information acquisition method, and computer program
CN110520768B (zh) 高光谱光场成像方法和系统
US11460617B2 (en) Imaging apparatus and image processing apparatus
WO2016203990A1 (ja) 撮像素子、電子機器
WO2018163771A1 (ja) 水質検査システム及び水質検査方法
WO2022163671A1 (ja) データ処理装置、方法及びプログラム並びに光学素子、撮影光学系及び撮影装置
JP2022033250A (ja) 光学スペクトル測定システムおよび光学スペクトル測定方法
JP6256345B2 (ja) 集光ユニット、集光方法及び光検出システム
CN110661940A (zh) 具有深度检测的成像系统及操作该成像系统的方法
JP6225519B2 (ja) 測定装置及び測定方法
DE102011079484A1 (de) Verfahren und System zur Emissivitätsbestimmung
US20190273877A1 (en) Imaging apparatus and imaging method
Meng et al. Evaluation of multispectral plenoptic camera
WO2017026296A1 (ja) 試料測定装置
US20210307612A1 (en) Apertureless confocal microscopy devices and methods
WO2024047944A1 (ja) 校正用部材、筐体装置、校正装置、校正方法、及びプログラム

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 18865407

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2019548154

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2018865407

Country of ref document: EP

Effective date: 20200511