JP6931401B2 - 撮像装置及び画像処理装置 - Google Patents
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Description
<画像処理装置の全体構成>
図1は第1の実施形態に係る画像処理装置10(画像処理装置)の構成を示す図である。図1に示すように、画像処理装置10は撮像装置20(撮像装置)と解析装置30(計測部)とを備え、撮像装置20で取得した画像を解析装置30に入力して、解析装置30で被写体の計測を行う。撮像装置20と解析装置30とを1つの筐体に収納してもよいし、別の筐体に収納してもよい。
撮像装置20は撮像光学系50(撮像光学系)、受光ユニット22(指向性センサ)、画像取得部24(画像取得部)、及び画像記録部26を備え、波長が異なる光を受光して複数の画像を撮像する機能を有する。なお、図1では撮像光学系50の構成(レンズ枚数、形状、配置等)を簡略化して記載している。詳細な構成は以下で説明する。
撮像光学系50は、第1の光学系51、光学フィルタ53、及び第2の光学系52が、被写体側から順に共通の光軸AX1を中心として配置されており、光学フィルタ53(光学フィルタ)により、光が透過する領域ごとに異なる透過波長特性を持つ。図2は撮像光学系50のレンズ配置を示す図である。第1の光学系51はレンズL1,L2から構成されるアフォーカル光学系である。第2の光学系52はレンズL3〜L8から構成され、第1の光学系51及び光学フィルタ53を透過した光束を受光ユニット22の撮像面22Aに結像させる。光学フィルタ53は撮像光学系50の入射瞳の位置において、平板54の前面(被写体側)に配置される。
第1の実施形態に係る撮像装置20では、撮像光学系50の入射瞳の位置に光学フィルタ53が配置され、第1の光学系51を透過した光が光学フィルタ53に入射する。光学フィルタ53での透過波長シフトを抑制するためには、撮影倍率無限倍で考えた場合、まず絞り空間、すなわち光学フィルタ53が配置される入射瞳の位置での軸上光束が光軸とできるだけ平行になっていることが望ましい。したがって第1の光学系51はアフォーカル光学系を形成することが望ましい(アフォーカル光学系に対する忠実度は、光軸と光線の角度の許容範囲で考えればよい)。さらに、軸外光束もできるだけ光軸と平行であることが望ましい。
光学フィルタ53は第1の光学フィルタ53A(第1の光学フィルタ)及び第2の光学フィルタ53B(第2の光学フィルタ)により構成され、撮像光学系50の瞳位置において、光軸AX1と垂直な面内の異なる領域(平板54の前面)にそれぞれ配置される(図2参照)。図4に示すように、第1の光学フィルタ53Aは光軸AX1を中心とする円形の領域(第1の領域)に配置され、第2の光学フィルタ53Bは第1の領域の周辺(外側)の環状の領域(第2の領域)に配置される。第1の光学フィルタ53A及び第2の光学フィルタ53Bは、誘電多層膜により形成することができる。
撮像光学系50を通過した被写体光は、受光ユニット22に入射する。受光ユニット22は2次元状に配列された光電変換素子により構成された複数の画素を有し、第1の光学フィルタ53A及び第2の光学フィルタ53Bを介して入射する光束をそれぞれ瞳分割して選択的に受光する。また、マイクロレンズ152が1つの受光素子に対して1つ配設されている。マイクロレンズ152は光軸AX1に垂直な面内において規則的に配置され、それぞれのマイクロレンズ152には受光素子162が配置されている。受光素子162は、MOS(Metal Oxide Semiconductor)またはCMOS型撮像素子が用いられる。受光素子162としては、この他に、CCD型撮像素子(CCD:Charge Coupled Device)などの固体撮像素子を用いてもよい。
画像取得部24は、第1の光学フィルタ53Aを介して受光した画像i1(第1の画像)と第2の光学フィルタ53Bを介して受光した画像i2(第2の画像)とをそれぞれ取得する。すなわち画像取得部24は、画像信号から、それぞれ波長の異なる2つの画像を取得する。画像記録部26は、画像取得部24が取得した画像i1,i2を記録する。画像記録部26は不揮発性メモリに画像を記録してもよい。不揮発性メモリは画像記録部26が有してもよい。また、不揮発性メモリは、撮像装置20に対して着脱可能に設けられた外部メモリであってもよい。画像記録部26は、撮像装置20の外部(例えば解析装置30)に画像を出力することができる。
解析装置30は処理部100(計測部)、記憶部200、表示部300、及び操作部400を備え、互いに接続されて必要な情報が送受信される。これらの構成要素については各種の配置形態を採用することができ、各構成要素が1箇所(1筐体内、1室内等)に配置されていてもよいし、離れた場所に配置されネットワークを介して接続されていてもよい。
処理部100は画像入力部110及び計測部120(計測部)を備える。画像入力部110は図示せぬ記録媒体インタフェース、その制御回路、及び撮像装置20との通信(無線、有線)を制御する通信制御部等により構成され、撮像装置20で取得した画像を入力する。計測部120は、画像入力部110が入力した画像に基づいて被写体の計測を行う(後述)。
記憶部200は光磁気ディスク、半導体メモリ等の非一時的記録媒体及びその制御部により構成され、入力した画像、計測結果等が関連付けて記憶される。
表示部300はモニタ310(表示装置)を備えており、入力した画像、記憶部200に記憶された画像及び情報、処理部100による処理の結果等を表示することができる。操作部400は入力デバイス及び/またはポインティングデバイスとしてのキーボード410及びマウス420を含んでおり、ユーザはこれらのデバイス及びモニタ310の画面を介して、被写体の計測に必要な操作を行うことができる。
上述した構成の撮像装置20における透過波長シフトの実施例について、比較例を参照しつつ説明する。
本実施例において、第1の光学フィルタ53A、及び第2の光学フィルタ53Bは可視域赤色の波長帯域における重複しない2波長の光をそれぞれ透過させる。具体的には、650nm以上740nm以下の波長帯域における互いに重複しない波長帯域をそれぞれ第1の波長帯域(垂直入射時の第1の光学フィルタ53Aの透過波長:670nm)、第2の波長帯域(垂直入射時の第2の光学フィルタ53Bの透過波長:710nm)としている。図6は光学フィルタ53に対する光線の入射の様子を示す図である。図6の(a)部分は第1の光学フィルタ53Aに対する高像高光束(像高7割)、中心光束の入射を示し、(b)部分は第2の光学フィルタ53Bに対する高像高光束(像高7割)、中心光束の入射を示す。図6では、光学フィルタ53の配置を明示するため、厚みを強調して記載している。
比較例において、撮像光学系60はダブルガウス型の光学系であり、図7に示すように第1の光学系61及び第2の光学系62により構成される。光学フィルタ63は撮像光学系60の入射瞳の位置に配置され、光軸AX2を中心とした円形の領域に配置された第1の光学フィルタ63Aと、その外側に配置された第2の光学フィルタ63Bとにより構成される。また、実施例と同様に、撮像光学系60に対応する撮像素子(不図示)の各受光素子には第1の光学フィルタ63A,第2の光学フィルタ63Bの配置に対応して異なる形状の遮光マスク(不図示)が設けられる。
上述した構成の実施例及び比較例について、光学フィルタへの入射角度を図8の(a)部分に、光学フィルタの透過波長を図8の(b)部分に示す。また、図9の(a)部分は比較例についての透過波長のグラフであり、(b)部分は実施例についての透過波長のグラフである。なお、図9に示す透過波長のグラフを概念的にまとめた様子を図10に示す。
図8,9から分かるように、比較例においては第2の光学フィルタ63Bを透過する高像高光束の上光線と下光線とで透過角度の差が9.8deg(=22.1deg−12.3deg)と大きく、これにより透過波長の差が18.9nmとなっている。このため、取得される画像は画面の周辺部分(像高が高い位置)において広い波長帯域の透過光で構成されてしまい、狭帯域波長を用いる計測に適さない。また比較例では、第1の光学フィルタ63Aを透過する高像高光束と中心光束とで透過角度の差が16.8degと大きく、得られる画像は周辺と中心とで大きく異なる透過波長(透過波長の差が19.1nm)で構成された画像になってしまうので、特定波長を用いる計測に適さない。
上述した比較例に対し実施例では、第2の光学フィルタ53Bを透過する高像高光束の上光線と下光線とで透過角度の差が1.58deg(実質的に平行)であり、これにより透過波長の差が2.1nmと小さくなっているので、狭帯域波長を用いる計測に適している。透過波長の差が小さいのは、アフォーカル光学系である第1の光学系51が、高像高光束と中心光束とを実質的に平行な状態で第2の光学フィルタ53Bに入射させるためである。
実施例の結果より、透過波長のシフトを抑制して狭帯域波長に適した画像を取得するためには、第2の光学フィルタ53Bに入射する高像高光束の上光線と高像高光束の下光線との成す角度との差は5deg以下(第1のしきい値以下)であることが好ましく、2deg以下であることがさらに好ましい。また、第2の光学フィルタ53Bに入射する高像高光束の下光線と中心光束の下光線との成す角度との差は15deg以下(第2のしきい値以下)であることが好ましく、10deg以下であることがさらに好ましい。
上述した実施例では第1の光学フィルタ53A,第2の光学フィルタ53Bがそれぞれ610nm、710nmの波長の光(可視域赤色)を透過する場合について説明したが、これと異なる波長の光を透過する光学フィルタを用いてもよい。例えば、光軸を中心とする円形の領域に配置された第1の光学フィルタが1696nmの光を透過させ,第1の光学フィルタの周辺の環状の領域に配置された第2の光学フィルタが1426nmの光を透過させてもよい。このような配置の光学フィルタを用いた場合の透過波長を図11に示す(入射角度は図8の(a)部分と同じである)。また、図11の表をグラフ化して図12に示す。
以上説明したように、第1の実施形態に係る撮像装置20では、アフォーカル光学系である第1の光学系51が高像高光束と中心光束とを実質的に平行な状態で第2の光学フィルタ53Bに入射させ、また第1の光学フィルタ53Aについても高像高光束と中心光束とを実質的に平行な状態で入射させる。これにより透過角度の差及び波長シフトを抑制することができ、複数の波長において、狭帯域波長を使う計測、特定波長を使う計測に適した画像を取得することができる。
本発明に係る撮像装置では、図13の(a)部分に示すように、第1の光学フィルタ56A及び第2の光学フィルタ56Bを光軸と垂直な面内において上下方向(左右方向、斜め方向でもよい)に分離して異なる領域に配置した光学フィルタ56を用いてもよい。図13の(a)部分に示す配置の場合、各光学フィルタの広がりは分割方向(図の上下方向)には半分になるが分割方向と直交する方向(図の左右方向)では全直径に渡って広がるので、上述した比較例のような構成の光学系では図の左右方向から入射する光線の角度差による透過波長の変動が大きくなってしまう。しかしながら上述した実施例のような構成の光学系(撮像光学系50)では、入射する光線の角度差による透過波長の変動を抑制することができる。なぜならば第1の光学系51が、第1の光学フィルタ56A及び第2の光学フィルタ56Bに対して、高像高光束をその上光線と下光線とが平行な状態で入射させるからである。
第1の実施形態に係る画像処理装置10では瞳分割部として機能する遮光マスク162A,162Bを受光素子162上に設けているが、瞳分割部としてマイクロレンズアレイを用いてもよい。具体的には互いに分離した複数の受光素子(例えば2つ)に対して1つのマイクロレンズを設け、個々の受光素子が異なる瞳領域(透過波長が異なる光学フィルタ)を通過した光を受光してもよい。
第1の実施形態に係る画像処理装置10では、撮像装置20で取得した画像を解析装置30(画像入力部110)に入力し、計測部120により被写体の計測を行うことができる。このような計測の例を説明する。
一般に、海洋及び湖沼の水質をリモートセンシングにより検査する場合には、クロロフィルa(Chl.a(Chlorophyll-a))、溶存有機物(DOM:Dissolved organic matter)、または浮遊懸濁物質(SS:suspended solids)の水中の濃度を推定することにより行われる。溶存有機物としては、例えば有色溶存有機物(CDOM:Colored dissolved organic matter)が使われる。これらの物質の水中の濃度を推定する場合には、水質検査対象の水面での分光反射率を測定することにより行われ、濃度を推定する物質、その推定される物質の濃度、及び水質検査を行う場所(外洋、沿岸、湖沼、または河口付近)によって、最適な分光反射率を測定するための波長帯域が変化する。以下に、水質検査を行う場合に検出される代表的な物質とその検出に使用される波長帯域に関して説明する。
クロロフィルaは、水質検査において水中の濃度が推定される代表的な物質の一つである。
2波長を用いた計測では、さまざまな対象物の性質を抽出する正規化指標を用いることが知られている。正規化指標は2つの波長λ1,λ2における反射率をR(λ1),R(λ2)として[R(λ1)−R(λ2)]/[R(λ1)+R(λ2)]により定義することができ、例えば土壌水分比(単位重量の乾燥度に含まれる水分重量)の推定に適用することができる。[R(1696nm)−R(1426nm)]/[R(1696nm)+R(1426nm)]で定義される正規化指標NDSMI(Normalized Difference Soil Moisture Index)は、土壌水分比0%〜60%の範囲において、良い近似を得ることができる。すなわちλ1=1696nm,λ2=1426nmであり、ケース2について上述したように、第1の実施形態に係る撮像装置20により波長シフトの少ない画像を取得して解析装置30(計測部120)で土壌水分比を正確に計測することができる。
本発明に係る画像処理装置10(計測部120)では、透過波長が異なる光学フィルタを用いることで、上述した指標以外の指標を算出することができる。例えばλ1=1070nm,λ2=1550nmとして人肌を検出する、λ1=1460nm,λ2=1280nmとしてナラ枯れを検出する、等が可能である。また上述した指標に限らず、他の計測を行うことも可能である。
20 撮像装置
22 受光ユニット
22A 撮像面
24 画像取得部
26 画像記録部
30 解析装置
50 撮像光学系
51 第1の光学系
52 第2の光学系
53 光学フィルタ
53A 第1の光学フィルタ
53B 第2の光学フィルタ
54 平板
56 光学フィルタ
56A 第1の光学フィルタ
56B 第2の光学フィルタ
57 光学フィルタ
57A 第1の光学フィルタ
57B 第2の光学フィルタ
60 撮像光学系
61 第1の光学系
62 第2の光学系
63 光学フィルタ
63A 第1の光学フィルタ
63B 第2の光学フィルタ
100 処理部
110 画像入力部
120 計測部
122A 光線
122B 光線
152 マイクロレンズ
162 受光素子
162A 遮光マスク
162B 遮光マスク
200 記憶部
300 表示部
310 モニタ
400 操作部
410 キーボード
420 マウス
AX1 光軸
AX2 光軸
L1 レンズ
L2 レンズ
L3 レンズ
L4 レンズ
L5 レンズ
L6 レンズ
L7 レンズ
L8 レンズ
i1 画像
i2 画像
Claims (9)
- 第1の光学系と、第1の光学フィルタ及び第2の光学フィルタから構成される光学フィルタであって、第1の波長帯域の光を透過させる前記第1の光学フィルタ及び前記第1の波長帯域と異なる第2の波長帯域の光を透過させる前記第2の光学フィルタから構成される前記光学フィルタと、第2の光学系と、が被写体側から順に配列された撮像光学系と、
2次元状に配列された光電変換素子により構成された複数の画素を有する指向性センサであって、前記光学フィルタを介して入射する光束をそれぞれ瞳分割して選択的に受光する指向性センサと、
前記指向性センサから、前記第1の光学フィルタを介して受光した第1の画像と、前記第2の光学フィルタを介して受光した第2の画像と、をそれぞれ取得する画像取得部と、
を有する撮像装置であって、
前記第1の光学フィルタ及び前記第2の光学フィルタは前記撮像光学系の入射瞳の位置において前記撮像光学系の光軸に垂直な面内の異なる領域にそれぞれ配置され、
前記第1の光学系は、前記指向性センサの撮像面において像高が高い位置に結像される高像高光束を、前記高像高光束の上光線と下光線とが平行な状態で前記第1の光学フィルタ及び前記第2の光学フィルタに入射させる撮像装置。 - 前記第1の光学フィルタが前記光軸を中心とする第1の領域に配置され、
前記第2の光学フィルタが前記第1の領域の外側の第2の領域に配置され、
前記第1の光学系は、前記高像高光束を、前記高像高光束の前記上光線と前記下光線とが平行な状態で前記第2の光学フィルタに入射させる請求項1に記載の撮像装置。 - 前記第1の光学系は、前記高像高光束と前記撮像面の中心に結像される中心光束とを、前記高像高光束の前記上光線と前記高像高光束の前記下光線との成す角度が第1のしきい値以下であり、かつ前記高像高光束の前記下光線と前記中心光束の下光線との成す角度が第2のしきい値以下の状態で前記第2の光学フィルタに入射させる請求項2に記載の撮像装置。
- 前記第1の光学系は、前記高像高光束と前記撮像面の中心に結像される中心光束とを、前記高像高光束の前記上光線と前記中心光束の上光線との成す角度が第3のしきい値以下であり、かつ前記高像高光束の前記下光線と前記中心光束の下光線との成す角度が第4のしきい値以下の状態で前記第1の光学フィルタに入射させる請求項2または3に記載の撮像装置。
- 前記第1の光学系はアフォーカル光学系を構成する請求項1から4のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 前記アフォーカル光学系のアフォーカル倍率は1未満である請求項5に記載の撮像装置。
- 前記指向性センサは、瞳分割部として機能する遮光マスクまたはマイクロレンズアレイを有する請求項1から6のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 前記第1の光学フィルタ及び前記第2の光学フィルタは、650nm以上740nm以下の波長帯域における互いに重複しない波長帯域の光を前記第1の波長帯域の光及び前記第2の波長帯域の光としてそれぞれ透過させる請求項1から7のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 請求項1から8のいずれか1項に記載の撮像装置と、
前記第1の画像及び前記第2の画像から被写体の計測を行う計測部と、
を備える画像処理装置。
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