WO2019065253A1 - 乾式回転バレル研磨装置、乾式回転バレル研磨システム及び乾式回転バレル研磨方法 - Google Patents

乾式回転バレル研磨装置、乾式回転バレル研磨システム及び乾式回転バレル研磨方法 Download PDF

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WO2019065253A1
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WO
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compound
barrel
dry rotary
barrel tank
tank
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PCT/JP2018/033866
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English (en)
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Inventor
文亮 粂野
Original Assignee
新東工業株式会社
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Publication date
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B31/00Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor
    • B24B31/02Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor involving rotary barrels
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B31/00Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor
    • B24B31/12Accessories; Protective equipment or safety devices; Installations for exhaustion of dust or for sound absorption specially adapted for machines covered by group B24B31/00
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B31/00Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor
    • B24B31/12Accessories; Protective equipment or safety devices; Installations for exhaustion of dust or for sound absorption specially adapted for machines covered by group B24B31/00
    • B24B31/14Abrading-bodies specially designed for tumbling apparatus, e.g. abrading-balls

Definitions

  • the present disclosure relates to a dry rotary barrel polishing apparatus, a dry rotary barrel polishing system, and a dry rotary barrel polishing method.
  • a barrel polishing method in which the surface of a workpiece is polished by a medium by loading the workpiece and media in a polishing tank of the barrel polishing apparatus and mixing and fluidizing the mixture (for example, Patent Document 1) ).
  • a barrel polishing method there are a wet barrel polishing method in which water is put in a polishing tank, and a dry barrel polishing method in which water is not put in a polishing tank.
  • the wet barrel polishing method is widely used for the purpose of gloss finish of a workpiece or smooth finish of a workpiece, there is a problem that waste water treatment is required after polishing. For this reason, a dry barrel polishing method may be employed.
  • the first step of forming a coated portion to impart lubricity to the surface of the media by coating a lubricity imparting material on the surface of the media used in barrel polishing, the media and the processed A dry barrel polishing method which has a second step of mixing a substance with a substance in a polishing tank, and a third step of abrading a workpiece by flowing media and a workpiece in the grinding tank.
  • Patent Document 2 the fluidity (sliding performance) of the media is improved by the lubricity imparting material, so that the media is prevented from polishing the surface of the workpiece more roughly than necessary, and the surface of the workpiece is smoothed. Can be processed to a polished surface.
  • rotary barrel polishing is a batch type, and is often used in wet polishing in which water and a compound are added.
  • Patent Document 2 By applying the technique of Patent Document 2 to dry rotary barrel polishing, the same finishing performance as wet rotary barrel polishing can be obtained, but the coating formed on the surface of the media in the process of barrel polishing is scraped off As a result, the properties of the media may be degraded and the polishing power may be reduced.
  • the present disclosure aims to improve the finishing performance of dry rotary barrel polishing.
  • a dry rotary barrel polishing apparatus is a barrel tank for containing a workpiece, media, and a compound, wherein the barrel tank is rotatable about a rotation axis;
  • the apparatus includes a driving device for rotationally driving the tank about the rotation axis, and a dust collector for sucking dust from the inside of the barrel tank, the barrel tank having a first surface and a second surface facing each other in the direction of the rotation axis And a side surface connected to the first surface and the second surface, and the barrel tank is formed with a first opening and a second opening that communicate the inside and the outside of the barrel tank, The second opening is formed at a position closer to the first surface than the first surface or the second surface of the side surface, and the dust collector is configured to collect dust from the inside of the barrel through the second opening. Aspirate.
  • the first opening may be formed in the second surface.
  • the outside air supplied into the barrel tank from the first opening formed in the second surface is closer to the first surface than the first surface or the second surface of the side surface. Because the air is collected through the second opening provided in, the air flow can be generated to traverse the inside of the barrel tank. By generating such an air flow, the uniformity of the compound floating in the barrel tank can be improved.
  • a first rotation axis and a second rotation axis extending along the rotation axis are respectively connected to the first surface and the second surface, and the first rotation axis is tubular.
  • the second opening is formed in the first surface, and the dust collector sucks dust from the inside of the barrel tank through a suction pipe inserted to the first rotation shaft and the second opening.
  • a dry rotary barrel polishing system comprising the dry rotary barrel polishing apparatus and a compound supply apparatus for supplying a compound into the interior of the barrel vessel through the first opening.
  • the compound supply device includes a hopper for storing the compound, a supply amount adjustment unit for adjusting the amount of compound supplied from the hopper, and a chute for guiding the compound supplied from the supply amount adjustment unit toward the barrel tank; A vent for introducing external air into the chute, and a flange provided between the chute and the first opening.
  • the compound in the above-mentioned dry rotary barrel polishing system, can be conveyed and supplied into the barrel tank by the air flow generated by the operation of the dust collector, so the required amount of compound can be obtained while performing dry rotary barrel polishing without stopping the barrel tank. Can be supplied to the barrel tank. This allows the surface of the media to be kept coated with the compound. As a result, it is possible to improve the finishing performance of the workpiece.
  • a particle size adjusting unit may be further provided to adjust the particle size of the compound introduced into the barrel tank.
  • the compound since the variation in the particle size of the compound can be reduced, the compound can be uniformly dispersed to the contents of the barrel tank.
  • the particle size adjusting unit is provided in the barrel tank so as to cover the first opening, and the pulverizing device for applying external force to the compound for crushing, and passes the compound having a size smaller than a predetermined size. And a filter member.
  • the compound can be crushed by the crushing means and the compound having a predetermined size or less can be passed by the filter member, it is suitable for coating the media surface without adjusting the particle size of the compound in advance.
  • Compounds of different sizes can be fed into the barrel tank.
  • this "crushing" is crushing in a broad sense and includes crushing and crushing.
  • the comminution device is a comminution member that rotates relative to the filter and comprises a comminution member that applies external force to the compound between the comminution member and the filter member to crush the compound. It is also good.
  • rotation of a barrel tank can be used to rotate a crushing member relatively with respect to a filter member, an external force can be given to a compound between filter members, and it can grind
  • the compound can be crushed with a simple configuration without providing a driving source in the crushing apparatus.
  • a dry rotary barrel polishing method for polishing a workpiece using the dry rotary barrel polishing system. This method comprises the steps of: charging the workpiece and media into the barrel tank, rotating the barrel tank about the center of rotation, suctioning dust from the inside of the barrel tank with a dust collector, and Supplying the inside of the barrel tank from the opening of 1.
  • the compound can be transported and supplied into the barrel tank by the air flow generated by the operation of the dust collector, it is necessary while performing dry rotary barrel polishing without stopping the barrel tank. Amount of compound can be supplied to the barrel tank. This allows the surface of the media to be kept coated with the compound. As a result, it is possible to improve the finishing performance of the workpiece.
  • the medium is mainly made of ceramics and may be porous.
  • media made of ceramics as the main component and formed in a porous state have a large polishing power, and even if the surface is scraped during polishing, new abrasives appear, so in the process of polishing Regardless, the polishing force can be sustained. Further, since the impact force at the time of collision with the work is buffered by the pores on the surface, it is possible to suppress the application of an excessive polishing force to the work. For this reason, it is suppressed that a medium makes the surface of a workpiece
  • the compound can be held on the surface of the medium for a long time without wetting the medium, so that the effect of suppressing the surface being roughened more than necessary can be maintained for a longer time. Furthermore, since the occurrence of clogging due to dust or the like can be improved during barrel polishing, the polishing force can be maintained for a long time.
  • the medium is a sintered body in which abrasive grains are bonded by a vitrified bond, and the particles constituting the bond are mainly composed of aluminum oxide or silicon dioxide, and the average of the particles is The particle size may be 0.1 ⁇ m to 20 ⁇ m.
  • the crush strength of the medium is high, there is little damage even if polishing is performed for a long time, and the properties of the medium can be maintained.
  • the compound may be a compound containing a fatty acid or a salt thereof.
  • Compounds containing a fatty acid or a salt thereof can provide the coating effect at low cost.
  • the finishing performance of a workpiece can be improved.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically illustrating a dry rotary barrel polishing system according to one embodiment.
  • 2 (A) is a view on arrow AA in FIG. 1
  • FIG. 2 (B) is a view on arrow BB in FIG.
  • FIG. 3 (A) is a schematic view of the crushing member inside the flange as viewed from the side
  • FIG. 3 (B) is a view taken in the direction of arrows CC in FIG.
  • It is a flow chart which shows a dry rotary barrel grinding method concerning one embodiment. It is a figure which shows typically the supply state of the compound to a barrel tank. It is a figure which shows the modification of a crushing apparatus typically.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically illustrating a dry rotary barrel polishing system according to one embodiment.
  • 2 (A) is a view on arrow AA in FIG. 1
  • FIG. 2 (B) is a view on arrow BB in FIG.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view schematically illustrating a dry rotary barrel polishing system according to another embodiment. It is a graph which shows the relation between processing time and accumulated grinding power. It is a graph which shows the relationship between processing time and surface roughness (Ra).
  • the dry rotary barrel polishing system 100 comprises a dry rotary barrel polishing apparatus 1 for dry rotary barrel polishing a workpiece W to be processed, and a dry rotary barrel for compound C for imparting slipperiness to the medium M.
  • the apparatus includes a compound supply device 2 that supplies the polishing device 1 and a particle size adjustment unit 3 that adjusts the particle size of the compound C introduced into the barrel tank 10.
  • the dry rotary barrel polishing apparatus 1 includes a barrel tank 10 for containing a work W, a medium M and a compound C, a drive device 11 for rotating the barrel tank 10, and a dust collector 12 for suctioning the inside of the barrel tank 10. Is equipped.
  • a barrel tank 10 for containing a work W, a medium M and a compound C
  • a drive device 11 for rotating the barrel tank 10
  • a dust collector 12 for suctioning the inside of the barrel tank 10. Is equipped.
  • FIG. 1 only the main configuration of the dry rotary barrel polishing apparatus 1 is illustrated, and a pedestal and the like are omitted.
  • the barrel tank 10 includes a first surface 40a, a second surface 40b, and a side surface 40c, and is configured to be rotatable about a rotation axis RA.
  • the first surface 40a and the second surface 40b face each other in the direction of the rotation axis RA.
  • the side surface 40c has a cylindrical shape centered on the rotation axis RA.
  • the first surface 40a and the second surface 40b are connected to both ends of the side surface 40c, and the inner space 40s of the barrel tank 10 is defined by the first surface 40a, the second surface 40b and the side surface 40c. It is made.
  • the vertical cross section of the inner space 40s may be formed in a polygonal shape (for example, a hexagonal shape).
  • the upper surface of the barrel tank 10 may be opened and closed, and may be opened to insert the work W, the medium M, and the compound C.
  • suction holes (second openings) 10p are formed in the first surface 40a.
  • the suction hole 10 p penetrates the first surface 40 a at a position overlapping with the rotation axis RA of the barrel tank 10.
  • a pair of rotation shafts 10a and 10b (a first rotation shaft and a second rotation shaft) rotatably supporting the barrel tank 10 are provided. It may be attached.
  • the pair of rotation shafts 10a and 10b extend along the rotation axis RA.
  • the rotating shafts 10a and 10b are supported by bearings 10c and 10d, respectively.
  • the rotating shaft 10a of the pair of rotating shafts 10a and 10b has a tubular shape.
  • the suction pipe 10g is inserted in the rotating shaft 10a.
  • the suction pipe 10g communicates with the internal space 40s of the barrel tank 10 by inserting one end thereof into the suction hole 10p.
  • a hose 12a is connected to the other end of the suction pipe 10g. That is, the dust collector 12 is connected to the barrel tank 10 via the suction pipe 10g communicating with the internal space 40s of the barrel tank 10 and the hose 12a.
  • One end of the suction pipe 10g exposed to the internal space 40s of the barrel tank 10 is covered by a filter 10i for preventing the work W and the medium M from being suctioned.
  • the dust collector 12 is a device for sucking dust from the internal space 40s of the barrel tank 10 through the suction hole 10p.
  • a well-known dust collector that exhausts and removes dust generated by barrel polishing can be employed.
  • An opening (first opening) 10 f for communicating the inside and the outside of the barrel tank 10 is formed on the side opposite to the dust collector 12, that is, the second surface 40 b on which the rotating shaft 10 b is provided. .
  • the openings 10 f are formed at six places so as to surround the rotation shaft 10 b. The openings 10 f penetrate the second surface 40 b.
  • a filter 10 h is provided on the inner surface of the second surface 40 b.
  • the filter 10 h is for preventing the work W and the medium M from being discharged from the opening 10 f to the outside of the barrel tank 10, and is provided to cover the opening 10 f from the inside of the barrel tank 10.
  • the driving device 11 is a mechanism that rotationally drives the barrel tank 10 about the rotation axis RA, and a known driving device can be used.
  • the drive device 11 is stretched over the motor 11a, the pulley 11b connected to the rotation shaft of the motor 11a, the pulley 11c attached to the rotation shaft 10a, the pulley 11b and the pulley 11c, and the rotation of the motor 11a And a belt 11d for transmitting the By driving the motor 11a, the driving force is transmitted to the barrel tank 10 via the pulley 11b, the pulley 11c and the belt 11d, and the barrel tank 10 is rotationally driven.
  • the motor 11a is connected to a control device CNT described later, and can be controlled by a control signal from the control device CNT.
  • the dry rotary barrel polishing apparatus 1 has the above-described configuration, so that dust generated by the dry rotary barrel polishing can be collected by the dust collector 12 while taking in the outside air from the opening 10 f.
  • the compound supply device 2 includes a hopper 20, a supply amount adjustment unit 21, a chute 22, and a flange 23.
  • the hopper 20 stores the compound C.
  • the supply amount adjustment unit 21 adjusts the amount of the compound C supplied from the hopper 20.
  • the chute 22 guides the compound C supplied from the supply amount adjustment unit 21 toward the barrel tank 10.
  • the flange 23 is provided between the chute 22 and the barrel tank 10, and connects the chute 22 and the opening 10f.
  • a known supply amount adjustment unit can be employed as the supply amount adjustment unit 21.
  • the supply amount adjustment unit 21 includes a gear. The amount of compound C supplied is adjusted by controlling the rotation speed, timing, and the like of the gear.
  • the supply amount adjustment unit 21 is connected to the control device CNT, and the supply amount of the compound C can be controlled by a control signal from the control device CNT.
  • the chute 22 is provided below the supply amount adjustment unit 21.
  • the chute 22 has an inclined surface which descends as it approaches the second surface 40 b of the barrel tank 10.
  • the chute 22 receives the compound C falling from the supply amount adjustment unit 21 and guides it toward the barrel tank 10.
  • the chute 22 may be formed with a vent 22a communicating with the outside and capable of taking in external air.
  • a flange 23 is provided between the chute 22 and the barrel tank 10. The flange 23 has a function of receiving the compound C from the chute 22 and guiding the compound C to the opening 10 f.
  • the particle size adjustment unit 3 includes a filter member 30 and a disc 32.
  • the filter member 30 is a mesh-like member, and is attached to the second surface 40b so as to cover the opening 10f from the outside of the second surface 40b.
  • the size of the mesh (opening) of the filter member 30 is set such that only the compound C crushed (ground) to a size smaller than a predetermined size (grain size) can pass.
  • the end of the chute 22 is connected to the disc 32.
  • the disc 32 is formed with an opening 32a which penetrates in the thickness direction of the disc 32 and through which the compound C can pass.
  • Compound C supplied from the hopper 20 and guided by the chute 22 is introduced into the flange 23 through the opening 32a.
  • a blade-like crushing member 31 is provided on the disk 32.
  • the crushing member 31 extends from the disc 32 toward the second surface 40b. Between the tip of the crushing member 31 and the filter member 30, there is provided a gap (for example, 1 mm) which allows the compound C introduced from the opening 32a to move in the flange 23 and be broken into desired dimensions. It is done.
  • a through hole is formed at the center of the disc 32.
  • the rotating shaft 10 b is inserted into the through hole.
  • the disc 32 is provided with a plurality of crushing members 31 so as to surround the rotation axis 10 b along the circumferential direction of the disc 32.
  • the crushing members 31 extend from the disc 32 toward the second surface 40b. Between the end on the second surface 40 b side of the grinding member 31 and the filter member 30, a gap for crushing the compound C to a desired size is formed.
  • the compound C introduced from the opening 32 a of the disc 32 is guided by the crushing member 31 and moved to the filter member 30 side.
  • the filter member 30 is fixed to the barrel tank 10 and rotates with the barrel tank 10, but since the crushing member 31 does not move, the crushing member 31 rotates relative to the filter member 30. Therefore, the compound C is crushed between the crushing member 31 and the filter member 30 by applying an external force.
  • the filter member 30 and the pulverizing member 31 function as a pulverizing device that applies external force to the compound C to be crushed.
  • the grinding members 31 can be arranged to be inclined towards the tip and towards the relative rotational direction in order to efficiently break up the compound C.
  • the dry rotary barrel polishing system 100 further comprises a controller CNT.
  • the control device CNT is a computer including a processor, a storage unit, an input device, a display device, and the like, and controls each unit of the dry rotary barrel polishing system 100.
  • the control device CNT is connected to the dry rotary barrel polishing device 1, the compound supply device 2, and the particle size adjustment unit 3. For example, the rotation speed of the barrel tank 10, the supply amount of the compound C from the hopper 20, etc. Control.
  • FIG. 4 is a flowchart showing a barrel polishing method MT according to an embodiment.
  • step ST1 the work W, the medium M, and the compound C are loaded into the internal space 40s of the barrel tank 10. After these are charged, the lid of the barrel tank 10 is closed and sealed.
  • processing conditions such as polishing time, compound input time, and operating conditions such as compound input amount are set, and the dry rotary barrel polishing system 100 is operated.
  • step ST2 the drive device 11 is operated, and the barrel tank 10 is rotated about the rotation axis RA. Thereby, the work W, the medium M, and the compound C flow in the barrel tank 10, and the work M is polished by the medium M.
  • the dust collector 12 is operated.
  • the dust collector 12 When the dust collector 12 is operated, its suction force causes the inside of the barrel tank 10 to have a negative pressure.
  • outside air is introduced into the barrel tank 10 from the ventilation part 22a of the chute 22 through the opening 10f of the barrel tank 10, and an air flow toward the dust collector 12 is generated. .
  • a part of the flowing compound C floats in the barrel tank 10, but the air flow generated in the barrel tank 10 causes the compound C floating in the barrel tank 10 to be inside the barrel tank 10. Is diffused. The diffusion of the compound C in the barrel tank 10 in this manner suppresses the partial retention of the compound C.
  • the diffused compound C contacts the media M in the barrel tank 10 and forms a coating on the media M with high uniformity. Therefore, the uniformity of the coating of Compound C can be enhanced, and as a result, the finishing performance of dry rotary barrel polishing can be improved.
  • step ST3 cutting powder and excess compound generated by barrel polishing are removed by suction from the inside of the barrel tank 10.
  • Process ST3 may be performed simultaneously with process ST1 or process ST2.
  • step ST4 may be performed.
  • the compound C is supplied from the compound supply device 2 into the barrel tank 10.
  • the compound supply device 2 controls the supply amount of the compound C and the timing of compound injection, and supplies a predetermined amount of the compound C from the hopper 20 to the chute 22.
  • the compound C having reached the chute 22 is transported toward the barrel tank 10 by the air flow generated by the dust collector 12.
  • the compound C carried by the air flow is introduced into the inside of the flange 23 through the opening 32 a.
  • the filter member 30 is rotated along with the rotation of the barrel tank 10. That is, the crushing member 31 is rotating relative to the filter member 30. Accordingly, the compound C is guided by the crushing member 31 and, as shown in FIG. 5, a force is applied by the relative rotational movement between the crushing member 31 and the filter member 30 to be crushed. Thereby, the compound C can be crushed with a simple configuration without separately providing a drive source for driving the crushing member 31.
  • the dust collector 12 generates an air flow across the inside of the barrel tank 10 in order to suck the inside of the barrel tank 10 from the area away from the opening 10 f through the suction pipe 10 g installed inside the rotating shaft 10 a. it can.
  • the compound C which has been crushed and sized to pass through the filter member 30 (particle size) is introduced into the barrel tank 10 through the filter member 30.
  • particle size is introduced into the barrel tank 10 through the filter member 30.
  • the suction speed of the dust collector 12 may be controlled so that the necessary and sufficient amount of the compound C is transported into the barrel tank 10 and retained.
  • the compound C is stirred together with the work W and the medium M in the barrel tank 10. Thereby, the surface of the media M is coated in a non-wet state by the compound C, and the surface of the media M is provided with slipperiness.
  • the flowability (slip performance) of the medium M is improved, so that the medium M contacts the work W so as to slide.
  • the application of an excessive polishing load to the workpiece W is suppressed.
  • the surface of the workpiece W can be processed into a smooth polished surface similar to wet polishing.
  • the supply of the compound C may be repeated within the processing time depending on the degree of peeling of the compound C generated on the medium M as the polishing progresses.
  • step ST5 is performed.
  • step ST5 the operation of the drive device 11 and the compound supply device 2 is stopped. Since dust and the like generated by polishing stay in the barrel tank 10 after barrel polishing, the operation of the dust collector 12 is continued for a predetermined time even after the drive device 11 and the compound supply device 2 are stopped. After the dust and the like are sufficiently sucked and removed, the dust collector 12 is stopped, the barrel tank 10 is opened, and the contents such as the work W and the medium M are taken out. The contents are separated to collect the work W, and the method MT is ended.
  • a medium which is mainly composed of a ceramic and has pores and is formed to be porous.
  • the form of the pores may be either a closed cell structure or an open cell structure.
  • the polishing force can be maintained regardless of the progress of the polishing.
  • the impact force at the time of colliding with the work W is buffered by the pores of the surface, it is possible to suppress the application of an excessive polishing force to the work W. For this reason, it is suppressed that the medium M roughens the surface of the workpiece
  • the porous media M have pores on the entire surface, the retention of the compound C can be increased. Thereby, the compound C can be held on the surface for a long time.
  • porous medium M a sintered body in which abrasive grains made of ceramics are bonded with a vitrified binder can be used.
  • this sintered body has dispersed voids (hereinafter referred to as "vitrified porous media").
  • the vitrified porous media can be obtained as follows.
  • Abrasive grains and particles constituting a combined body hereinafter referred to as “combined body particles” and particles burned down by heating (hereinafter referred to as “disappeared particles”) are weighed so as to have a predetermined composition ratio Do.
  • These are kneaded while adjusting the water content by addition of water to obtain a mixed material.
  • the mixed material is molded into a predetermined shape by molding means to obtain a molded article.
  • molding includes granulation by a granulator such as a pelletizer as well as extrusion molding and cast molding. The molding may be appropriately selected from other known methods.
  • the molded product is dried to a predetermined moisture content.
  • the dried molded or granulated product is fired in a heating furnace.
  • the lost particles disappear and the binder particles are melted or semi-melted, and the binder particles are bonded to each other to obtain a binder. It becomes.
  • Abrasive grains are bonded through the bonding body to form a sintered body.
  • cooling is performed with a predetermined heat pattern.
  • they are put into a rotating container or barrel grinder to carry out a skew. In addition, this process is performed as needed and may be omitted.
  • the binder particles are vitrified, but can in particular be based on aluminum oxide or silicon dioxide. And, the average particle diameter can be set to 0.1 ⁇ m to 20 ⁇ m. Such bonded particles can bond abrasive grains more firmly when melted or semi-melted. As a result, since the crush strength of the medium itself is higher than that of the medium in which clay and porcelain are combined, even if polishing is performed for a long time, damage such as chipping and cracks is reduced and the properties of the medium can be maintained .
  • the lost particles are not particularly limited as long as at least a part of the lost particles is burned away in the process of firing.
  • aluminum hydroxide powder can be used as the extinguishing particles.
  • Aluminum hydroxide is decomposed into aluminum oxide and water vapor in the process of firing. The residual aluminum oxide is reduced in volume because the water vapor evaporates.
  • Aluminum hydroxide is dispersed throughout the molded article, resulting in the formation of pores in the entire media M.
  • alumina abrasive grains alundum
  • silicon carbide abrasive grains carbborundum
  • zirconia alumina abrasive grains diamond abrasive grains, CBN abrasive grains, or the like
  • CBN abrasive grains CBN abrasive grains, or the like
  • a compound containing a fatty acid or a salt thereof can be used as the compound C.
  • the cost can be reduced by using such a compound.
  • the fatty acid or the salt thereof contains sodium fatty acid, good slidability can be imparted at low cost.
  • the compound C contains sodium fatty acid as the main component of the slip imparting material, since the oil hardly adheres to the work W, the cleaning process can be made unnecessary or simplified.
  • the compound C those of various shapes such as powdery, indeterminate, and pellets can be used as the compound C.
  • the supply amount adjustment unit 21 may have a crushing function. For example, when the compound C passes through the hopper 20, the compound C may be crushed by applying a force by the gap between the hopper 20 and the supply amount adjusting unit 21 which is formed in a gear shape and rotates.
  • the compound supply device 2 may include two gears as the supply amount adjustment unit 21, and the gears may be provided to mesh with each other. By rotating the two gears in the opposite direction so that the compound C is biased downward, a force is applied to the compound C as it passes between the supply amount adjusting units 21 and 21 and is crushed. Ru.
  • the compound supply device 2 may include three or more supply amount adjustment units 21.
  • the compound C can be further crushed by the filter member 30 and the crushing member 31 after the compound C is previously crushed by the crushing means. Therefore, the compound C can be crushed more efficiently and surely. Therefore, the compound C can be reliably crushed even when using a compound in which particles are relatively firmly bonded, such as when the compound C is supplied in the form of pellets.
  • the particle size adjustment unit 3 only needs to have a desired particle diameter when the compound C is supplied to the barrel tank 10, and, for example, the compound C may have a desired particle diameter by the supply amount adjustment unit 21 as described above. If it is possible, the filter member 30 and the crushing member 31 can be omitted.
  • a driving device may be provided on the crushing member 31 so as to rotationally drive the crushing member 31 in the opposite direction to the rotation direction of the barrel tank 10. According to such a configuration, the compound C can be crushed faster, and since the compound C flows in the flange 23, the compound C can be crushed more reliably.
  • the filter member 30 may have a crushing function such as a protrusion.
  • a configuration may be employed in which external air is introduced from the opening at the top of the hopper 20.
  • the opening of the hopper 20 has a function equivalent to a vent for introducing the outside air into the chute 22.
  • the suction pipe 10g is connected to the first surface 40a of the barrel tank 10, the inside of the barrel tank 10 is sucked at a position where the dust collector 12 is separated from the opening 10f.
  • the suction pipe 10g can be connected to the barrel tank 10 at any position as long as an air flow can be generated across the interior.
  • the suction pipe 10g may be connected to the side surface 40c of the barrel 10 at a position closer to the first surface 40a than the second surface 40b.
  • the dry rotary barrel polishing system 200 includes a non-rotatable container 13 for housing the barrel tank 10 in isolation from the outside.
  • a through hole 13 a is formed in the container 13.
  • a space SP is formed between the container 13 and the barrel tank 10, and the dust collector 12 is connected via the through hole 13a and the suction pipe 10g so as to communicate with the space SP.
  • a suction hole (second opening) 14 is formed at a position closer to the first surface 40 a than the second surface 40 b of the side surface 40 c of the barrel tank 10.
  • the suction hole 14 is covered by the filter 15 so that the work W and the medium M do not protrude into the space SP.
  • a flange and an opening having the same configuration as the flange 23 and the opening 10 f are provided on the first surface 40 a side of the barrel tank 10, and the flange and the dust collector 12 are connected to suction the inside of the barrel tank 10. You may do so.
  • the arrangement and shape of the opening 10 f can be appropriately set according to the shape of the barrel tank 10, the performance of the dust collector 12, and the like.
  • the surface of the medium M is coated with the newly supplied compound C.
  • the effect of the compound C can be maintained for a long time, it can suppress that the surface of the workpiece
  • by continuously supplying the compound it is possible to suppress the deterioration of the property of the medium M and to prevent the reduction of the polishing force.
  • the medium M is maintained in the state of being coated with the compound C for a long time, and the finishing performance equivalent to the wet barrel polishing method is ensured. Can.
  • the compound C is crushed by the crushing member 31 and the compound C having a size equal to or less than a predetermined size is allowed to pass by the filter member 30. It is possible to reduce the variation in the particle size of C. Therefore, the compound C of a size suitable for coating the surface of the media M can be supplied into the barrel tank 10, and the compound can be evenly dispersed to the contents of the barrel tank 10.
  • the vitrified porous medium is used as the medium M, it is possible to suppress the medium M from making the surface of the work W rougher than necessary, and it is possible to perform polishing to reduce the surface roughness. . Moreover, since the vitrified porous media have pores on the entire surface, the retention of the compound C can be increased. Furthermore, clogging due to dust and the like during barrel polishing can be improved.
  • Example 2 The conventional dry rotary barrel polishing method (Comparative Example 1) and the wet rotary barrel polishing method (Comparative Example 2) were compared with the dry rotary barrel polishing method (Example) according to the above embodiment.
  • the evaluation items were the cumulative polishing amount and surface roughness of the work.
  • the test conditions are shown in Table 1 below.
  • the cumulative polishing amount was evaluated as the cumulative decrease of the weight of the work relative to the processing time, and the surface roughness was evaluated as the arithmetic average roughness Ra of the surface of the work (evaluation piece) relative to the processing time (JIS (Japanese Industrial Standards) B0601: 2001) .
  • SS400 is a rolled steel material for general structure (JIS-G3101)
  • S45C is a carbon steel steel material for machine structure (JIS-G4051).
  • the medium M can be maintained in the coated state with the compound C for a long time, and the finishing performance comparable to the wet rotary barrel polishing method can be secured.
  • Filter member 31 crushing member
  • 32 disk
  • 32a opening
  • 40s internal space
  • 40a first surface
  • 40b second surface
  • 40c side surface
  • 100 dry rotary barrel polishing system
  • 200 dry type Rotating barrel polishing system
  • C compound
  • CNT control device
  • M media
  • RA rotation axis
  • W work.

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Abstract

本発明の乾式回転バレル研磨装置は、被加工物、メディア(M)及びコンパウンド(C)を収容するためのバレル槽(10)であり、回転軸線を中心に回転可能な該バレル槽(10)と、バレル槽(10)を回転軸線を中心に回転駆動させる駆動装置(11)と、バレル槽(10)の内部から粉塵を吸引する集塵機(12)と、を備え、バレル槽(10)は、回転軸線の方向において互いに対面する第1の面(40a)及び第2の面(40b)と、第1の面(40a)及び第2の面(40b)に接続する側面(40c)とを含み、バレル槽(10)には、該バレル槽(10)の内部と外部とを連通する第1の開口部(10f)及び第2の開口部(10p)が形成され、第2の開口部(10p)は、第1の面(40a)、又は、側面(40c)の第2の面(40b)よりも第1の面(40a)に近い位置に形成され、集塵機(12)は、第2の開口部(10p)を介してバレル槽(10)の内部から粉塵を吸引する。

Description

乾式回転バレル研磨装置、乾式回転バレル研磨システム及び乾式回転バレル研磨方法
 本開示は、乾式回転バレル研磨装置、乾式回転バレル研磨システム及び乾式回転バレル研磨方法に関する。
 バレル研磨装置の研磨槽内に、被加工物及びメディアを装入して混合流動化させることで、被加工物の表面をメディアによって研磨するバレル研磨方法が知られている(例えば、特許文献1)。このようなバレル研磨方法には、研磨槽内に水を入れる湿式バレル研磨方法、及び、研磨槽内に水を入れない乾式バレル研磨方法がある。ここで、湿式バレル研磨方法は、被加工物の光沢仕上げ又は被加工物の平滑仕上げといった目的で広く用いられているものの、研磨後に廃水処理が必要となるという課題がある。このため、乾式バレル研磨方法が採用される場合がある。
 しかし、乾式バレル研磨方法では、湿式バレル研磨方法と同程度の仕上げ性能を確保することが難しい。
 上記課題を解決すべく、バレル研磨で用いられるメディアの表面に潤滑性付与材料をコーティングすることで、コーティング部を形成してメディアの表面に潤滑性を付与する第一工程と、メディアと被加工物とを研磨槽内で混合する第二工程と、メディアと被加工物とを研磨槽内で流動させることで被加工物を研磨する第三工程と、を有する乾式バレル研磨方法が知られている(特許文献2)。この方法では、潤滑性付与材料によってメディアの流動性(滑り性能)が向上しているので、メディアが被加工物の表面を必要以上に粗く研磨することが抑えられ、被加工物の表面を平滑な研磨面に加工することができる。
特公昭44-23873号公報 国際公開第2015/156033号公報
 バレル研磨のうち、回転バレル研磨は、バッチ式であり、水とコンパウンドとを添加した湿式研磨で利用されることが多い。乾式の回転バレル研磨に特許文献2の技術を適用することにより、湿式の回転バレル研磨と同程度の仕上げ性能を得ることができるが、バレル研磨の過程においてメディアの表面に形成されたコーティングが削り取られることによってメディアの性状が悪化し、研磨力が低下することがある。
 そこで、本開示は、乾式回転バレル研磨の仕上げ性能を向上することを目的とする。
 上記目的を達成するために、一側面に係る乾式回転バレル研磨装置は、被加工物、メディア及びコンパウンドを収容するためのバレル槽であり、回転軸線を中心に回転可能な該バレル槽と、バレル槽を回転軸線を中心に回転駆動させる駆動装置と、バレル槽の内部から粉塵を吸引する集塵機と、を備え、バレル槽は、回転軸線の方向において互いに対面する第1の面及び第2の面と、第1の面及び第2の面に接続する側面とを含み、バレル槽には、該バレル槽の内部と外部とを連通する第1の開口部及び第2の開口部が形成され、第2の開口部は、第1の面、又は、側面の第2の面よりも第1の面に近い位置に形成され、集塵機は、第2の開口部を介してバレル槽の内部から粉塵を吸引する。
 上記側面に係る乾式回転バレル研磨装置では、集塵機によってバレル槽の内部から粉塵が吸引されているので、バレル槽内には第1の開口部から第2の開口部に向かう気流が生成される。このような気流がバレル槽内に生成されることによって、バレル研磨中にバレル槽内に浮遊するコンパウンドがバレル槽の内部で拡散される。拡散されたコンパウンドは、バレル槽内のメディアと接触してコーティングを形成する。これにより、メディアに高い均一性でコーティングが形成されるので、乾式回転バレル研磨の仕上げ性能を向上させることができる。
 一実施形態では、第1の開口部は第2の面に形成されていてもよい。
 上記実施形態では、第2の面に形成された第1の開口部からバレル槽内に供給された外気が第1の面、又は、側面の第2の面よりも第1の面に近い位置に設けられた第2の開口部を介して回収されるので、バレル槽の内部を横断するような気流を発生させることができる。このような気流を発生させることによって、バレル槽内に浮遊するコンパウンドの均一性を向上させることができる。
 一実施形態では、第1の面及び第2の面には、回転軸線に沿って延びる第1の回転軸及び第2の回転軸がそれぞれ接続され、第1の回転軸は管状をなし、第2の開口部は、第1の面に形成されており、集塵機は、第1の回転軸及び第2の開口部に対して挿入された吸引管を介してバレル槽の内部から粉塵を吸引してもよい。
 一側面では、上記乾式回転バレル研磨装置と、コンパウンドを第1の開口部を介してバレル槽の内部に供給するコンパウンド供給装置と、を備える乾式回転バレル研磨システムが提供される。このコンパウンド供給装置は、コンパウンドを貯留するホッパと、ホッパから供給されるコンパウンドの量を調整する供給量調整部と、供給量調整部から供給されるコンパウンドをバレル槽に向けて案内するシュートと、シュートに外気を導入するための通気部と、シュートと第1の開口部との間に設けられるフランジと、を含む。
 上記乾式回転バレル研磨システムでは、集塵機の作動により生じる気流によりコンパウンドをバレル槽内に搬送して供給することができるので、バレル槽を停止することなく、乾式回転バレル研磨を行いながら必要量のコンパウンドをバレル槽に供給することができる。これにより、メディアの表面がコンパウンドでコーティングされた状態を維持することができる。その結果、被加工物の仕上げ性能を向上させることが可能となる。
 一実施形態では、バレル槽に導入されるコンパウンドの粒度を調整する粒度調整部を更に備えていてもよい。
 上記実施形態によれば、コンパウンドの粒度のばらつきを小さくすることができるので、バレル槽の内容物に対してコンパウンドを均等に分散させることができる。
 一実施形態では、粒度調整部は、コンパウンドに外力を付与して粉砕する粉砕装置と、第1の開口部を覆うようにバレル槽に設けられ、所定の寸法よりも小さな寸法のコンパウンドを通過させるフィルタ部材と、を備えていてもよい。
 上記実施形態によれば、粉砕手段によりコンパウンドを粉砕し、フィルタ部材により所定の寸法以下のコンパウンドを通過させることができるので、あらかじめコンパウンドの粒度を調整しておくことなく、メディア表面のコーティングに適した大きさのコンパウンドをバレル槽内に供給することができる。なお、この「粉砕」とは広義の粉砕であり、破砕や解砕も含まれる。
 一実施形態では、粉砕装置は、フィルタに対して相対的に回転する粉砕部材であり、粉砕部材とフィルタ部材との間でコンパウンドに外力を付与してコンパウンドを粉砕する該粉砕部材を備えていてもよい。
 上記実施形態では、バレル槽の回転を利用して、粉砕部材をフィルタ部材に対して相対的に回転させて、フィルタ部材との間でコンパウンドに外力を付与して粉砕することができる。これにより、粉砕装置に駆動源を設けることなく、簡単な構成でコンパウンドを粉砕することができる。
 一側面では、上記乾式回転バレル研磨システムを用いて被加工物を研磨する乾式回転バレル研磨方法が提供される。この方法は、被加工物及びメディアをバレル槽内に装入する工程と、バレル槽を回転中心を中心に回転させる工程と、集塵機によってバレル槽の内部から粉塵を吸引する工程と、コンパウンドを第1の開口部からバレル槽の内部に供給する工程と、を含む。
 上記側面に係る乾式回転バレル研磨方法では、集塵機の作動により生じる気流によりコンパウンドをバレル槽内に搬送して供給することができるので、バレル槽を停止することなく、乾式回転バレル研磨を行いながら必要量のコンパウンドをバレル槽に供給することができる。これにより、メディアの表面がコンパウンドでコーティングされた状態を維持することができる。その結果、被加工物の仕上げ性能を向上させることが可能となる。
 一実施形態では、メディアは、セラミックスを主成分とし、多孔質に形成されていてもよい。
 上記実施形態のように、セラミックスを主成分とし、多孔質に形成されているメディアは、研磨力が大きく、研磨中に表面が削れても、新たな砥材が出現するので、研磨の経過にかかわらず研磨力を持続することができる。また、表面の細孔によりワークと衝突する際の衝撃力が緩衝されるので、ワークに過度な研磨力が付与されることを抑制することができる。このため、メディアがワークの表面を必要以上に粗くすることが抑えられ、表面粗さを小さくすることができる。また、多孔質のメディアは、表面全体に細孔を有しているため、コンパウンドの保持力を大きくすることができる。これにより、メディアを湿潤させることなくコンパウンドをメディアの表面に長時間保持することができるので、ワークの表面が必要以上に粗らされることを抑制する効果をより長く持続することができる。更に、バレル研磨中において粉塵などによる目詰まりが生じるのを改善することができるので、研磨力を長時間にわたって維持することができる。
 一実施形態では、メディアは、砥粒同士がビトリファイド系の結合体で結合した焼結体であって、結合体を構成する粒子は、酸化アルミニウム若しくは二酸化珪素が主成分であり、該粒子の平均粒子径が0.1μm~20μmであってもよい。
 上記実施形態によれば、メディアの圧潰強度が高いので、長時間研磨を行っても破損が少なく、メディアの性状を維持することができる。
 一実施形態では、前記コンパウンドが、脂肪酸又はその塩を含んだコンパウンドであってもよい。
 脂肪酸又はその塩を含んだコンパウンドは、低コストでコーティングの効果を得ることができる。
 本発明の一側面及び種々の実施形態によれば、被加工物の仕上げ性能を向上させることができる。
一実施形態に係る乾式回転バレル研磨システムを概略的に示す断面図である。 図2(A)は図1のA-A矢視図であり、図2(B)は図1のB-B矢視図である。 図3(A)はフランジ内部の粉砕部材を側面から見た模式図であり、図3(B)は、図1のC-C矢視図である。 一実施形態に係る乾式回転バレル研磨方法を示すフローチャートである。 バレル槽へのコンパウンドの供給状態を模式的に示す図である。 粉砕装置の変更例を模式的に示す図である。 別の実施形態に係る乾式回転バレル研磨システムを概略的に示す断面図である。 加工時間と累積研磨力との関係を示すグラフである。 加工時間と表面粗さ(Ra)との関係を示すグラフである。
 一実施形態の乾式回転バレル研磨システム100について、図を参照して説明する。以下の説明では、コンパウンドCは粒子状であってその一部が凝集しているものとして説明する。
 図1に示すように、乾式回転バレル研磨システム100は、被加工物であるワークWを乾式回転バレル研磨する乾式回転バレル研磨装置1と、メディアMに滑り性を付与するコンパウンドCを乾式回転バレル研磨装置1に供給するコンパウンド供給装置2と、バレル槽10に導入されるコンパウンドCの粒度を調整する粒度調整部3と、を備えている。
 乾式回転バレル研磨装置1は、ワークW、メディアM及びコンパウンドCを収容するためのバレル槽10と、バレル槽10を回転駆動する駆動装置11と、バレル槽10の内部を吸引する集塵機12と、を備えている。なお、説明の便宜上、図1では、乾式回転バレル研磨装置1の主要構成のみを図示しており、台座などは省略している。
 バレル槽10は、第1の面40a、第2の面40b及び側面40cを含んでおり、回転軸線RAを中心に回転可能に構成されている。第1の面40a及び第2の面40bは、回転軸線RAの方向において互いに対面している。側面40cは、回転軸線RAを中心とする筒状をなしている。側面40cの両端部には、第1の面40a及び第2の面40bが接続されており、これら第1の面40a、第2の面40b及び側面40cによってバレル槽10の内部空間40sが画成されている。一実施形態では、内部空間40sの縦断面は多角形状(例えば六角形状)に形成されていてもよい。バレル槽10の上面は開閉可能となっており、開蓋してワークW、メディアM及びコンパウンドCを挿入できるようになっていてもよい。一実施形態では、第1の面40aには吸引孔(第2の開口部)10pが形成されている。吸引孔10pは、バレル槽10の回転軸線RAと重なる位置において第1の面40aを貫通している。
 一実施形態では、第1の面40a及び第2の面40bには、バレル槽10を回転可能に支持する一対の回転軸10a、10b(第1の回転軸、第2の回転軸)がそれぞれ取り付けられていてもよい。一対の回転軸10a、10bは、回転軸線RAに沿って延在している。回転軸10a、10bは、それぞれベアリング10c、10dにより軸支されている。
 一実施形態では、一対の回転軸10a、10bのうち回転軸10aは管状をなしている。回転軸10aには、吸引管10gが挿入されている。吸引管10gは、その一端が吸引孔10pに挿入されることによって、バレル槽10の内部空間40sに連通している。吸引管10gの他端には、ホース12aが接続されている。すなわち、集塵機12は、バレル槽10の内部空間40sに連通する吸引管10g及びホース12aを介してバレル槽10に接続されている。バレル槽10の内部空間40sに露出する吸引管10gの一端は、ワークW及びメディアMが吸引されないようにするためのフィルタ10iによって覆われている。
 集塵機12は、吸引孔10pを介してバレル槽10の内部空間40sから粉塵を吸引する装置である。集塵機12としては、バレル研磨により生じた粉塵を排気除去する公知の集塵機を採用することができる。
 集塵機12と反対側、つまり、回転軸10bが設けられている第2の面40bには、バレル槽10の内部と外部とを連通する開口部(第1の開口部)10fが形成されている。本実施形態では、開口部10fは、回転軸10bを取り囲むように6箇所に形成されている。これらの開口部10fは、第2の面40bを貫通している。
 また、第2の面40bの内面には、フィルタ10hが設けられている。フィルタ10hは、ワークW及びメディアMが開口部10fからバレル槽10の外部に排出されないようにするためのものであり、開口部10fをバレル槽10の内側から覆うように設けられている。
 駆動装置11は、バレル槽10を回転軸線RAを中心に回転駆動する機構であり、公知の駆動装置を用いることができる。本実施形態では、駆動装置11は、モータ11a、モータ11aの回転軸に接続されるプーリ11b、回転軸10aに取り付けられたプーリ11c及びプーリ11bとプーリ11cとに張り渡され、モータ11aの回転を伝達するベルト11dを備えている。モータ11aが駆動することによって、駆動力が、プーリ11b、プーリ11c及びベルト11dを介してバレル槽10に伝達され、バレル槽10が回転駆動される。一実施形態では、モータ11aは、後述する制御装置CNTに接続されており、制御装置CNTからの制御信号によって制御され得る。
 乾式回転バレル研磨装置1は、上記の構成を備えているので、開口部10fから外気を取り込みながら、乾式回転バレル研磨によって発生した粉塵を集塵機12により回収することができる。
 コンパウンド供給装置2は、ホッパ20と、供給量調整部21と、シュート22と、フランジ23を備えている。ホッパ20は、コンパウンドCを貯留する。供給量調整部21は、ホッパ20から供給されるコンパウンドCの量を調整する。シュート22は、供給量調整部21から供給されるコンパウンドCをバレル槽10に向けて案内する。フランジ23は、シュート22とバレル槽10との間に設けられ、シュート22と開口部10fとを接続する。
 供給量調整部21としては、公知の供給量調整部を採用することができるが、本実施形態では、供給量調整部21が歯車を備えている。この歯車の回転速度、タイミングなどが制御されることによりコンパウンドCの供給量が調整される。一実施形態では、供給量調整部21は、制御装置CNTに接続されており、制御装置CNTからの制御信号によってコンパウンドCの供給量が制御され得る。
 シュート22は、供給量調整部21の下方に設けられている。シュート22は、バレル槽10の第2の面40bに近づくにつれて下降する傾斜面を有している。シュート22は、供給量調整部21から落下するコンパウンドCを受け、バレル槽10に向けて案内する。一実施形態では、シュート22には、外部と連通し、外気を取り入れ可能な通気部22aが形成されていてもよい。シュート22とバレル槽10との間には、フランジ23が設けられている。フランジ23は、シュート22からのコンパウンドCを受け、そのコンパウンドCを開口部10fに案内する機能を有している。
 フランジ23の内部には、粒度調整部3が設けられている。図2及び図3に示すように、粒度調整部3は、フィルタ部材30及び円板32を備えている。
 図2に示すように、フィルタ部材30は、網目状の部材であり、開口部10fを第2の面40bの外側から覆うように第2の面40bに取り付けられている。フィルタ部材30の網目の目(開口)の大きさは、所定の寸法(粒度)よりも小さな寸法に解砕(粉砕)されたコンパウンドCのみが通過することができる大きさに設定されている。
 円板32には、シュート22の端部が接続されている。図3(A)及び(B)に示すように、円板32には、その板厚方向に貫通し、コンパウンドCが通過可能な開口部32aが形成されている。ホッパ20から供給され、シュート22によって案内されたコンパウンドCは開口部32aを介してフランジ23内に導入される。
 また、円板32には、羽根状の粉砕部材31が設けられている。粉砕部材31は、円板32から第2の面40bに向けて延びている。粉砕部材31の先端とフィルタ部材30との間には、開口部32aから導入されたコンパウンドCがフランジ23内で移動し、所望の寸法に解砕可能なような隙間(例えば、1mm)が設けられている。
 一実施形態では、円板32の中心には貫通孔が形成されている。この貫通孔には、回転軸10bが挿入されている。一実施形態では、円板32には、当該円板32の周方向に沿って回転軸10bを囲むように複数の粉砕部材31が設けられている。これらの粉砕部材31は、円板32から第2の面40bに向けて延びている。粉砕部材31の第2の面40b側の端部とフィルタ部材30との間には、コンパウンドCを所望の寸法に解砕するための隙間が形成されている。円板32の開口部32aから導入されたコンパウンドCは、粉砕部材31によって案内されてフィルタ部材30側に移動される。ここで、フィルタ部材30はバレル槽10に固定され、バレル槽10とともに回転するが、粉砕部材31は動かないので、粉砕部材31は、フィルタ部材30に対して相対的に回転することとなる。したがって、コンパウンドCは、粉砕部材31とフィルタ部材30との間で外力が付与され解砕されることとなる。上述のように、フィルタ部材30及び粉砕部材31はコンパウンドCに外力を付与して解砕する粉砕装置として機能する。
 一実施形態では、粉砕部材31は、コンパウンドCを効率的に解砕するために、先端に向けて、相対的な回転方向に向かって傾斜するように配置することができる。
 一実施形態では、乾式回転バレル研磨システム100は、制御装置CNTを更に備えている。この制御装置CNTは、プロセッサ、記憶部、入力装置、表示装置等を備えるコンピュータであり、乾式回転バレル研磨システム100の各部を制御する。具体的には、制御装置CNTは、乾式回転バレル研磨装置1、コンパウンド供給装置2及び粒度調整部3に接続されており、例えばバレル槽10の回転速度、ホッパ20からのコンパウンドCの供給量等を制御し得る。
 (バレル研磨方法)
 以下、乾式回転バレル研磨システム100を用いたバレル研磨方法について図4を参照して説明する。図4は、一実施形態に係るバレル研磨方法MTを示すフローチャートである。
 方法MTでは、まず工程ST1において、バレル槽10の内部空間40sに、ワークW、メディアM及びコンパウンドCが装入される。これらが装入された後、バレル槽10の蓋が閉じられ密閉される。
 次いで、研磨時間などの加工条件、コンパウンドの投入時間、コンパウンドの投入量などの運転条件を設定し、乾式回転バレル研磨システム100を作動させる。
 次いで、工程ST2において、駆動装置11が作動され、回転軸線RAを中心にバレル槽10が回転される。これにより、ワークW、メディアM及びコンパウンドCがバレル槽10内で流動し、メディアMによりワークWが研磨される。
 続く工程ST3では、集塵機12が作動される。集塵機12が作動されると、その吸引力によってバレル槽10内が負圧となる。その結果、図1及び図5の矢印で示すように、シュート22の通気部22aからバレル槽10の開口部10fを介してバレル槽10内部に外気が導入され、集塵機12に向かう気流が発生する。バレル研磨中には流動するコンパウンドCの一部がバレル槽10内で浮遊することとなるが、バレル槽10内に発生する気流によって、バレル槽10内に浮遊するコンパウンドCがバレル槽10の内部で拡散される。このようにコンパウンドCがバレル槽10内で拡散されることによって、コンパウンドCが一部に偏って滞留することが抑制される。拡散されたコンパウンドCは、バレル槽10内のメディアMと接触し、高い均一性でメディアMにコーティングを形成する。したがって、コンパウンドCのコーティングの均一性を高めることができ、その結果、乾式回転バレル研磨の仕上げ性能を向上させることができる。
 また、工程ST3では、バレル研磨により生じた切削粉や過剰なコンパウンドがバレル槽10内から吸引除去される。なお、工程ST3は、工程ST1又は工程ST2と同時に行われてもよい。
 バレル研磨が進むにつれて、メディアMのコーティングに剥離が生じる場合には、次いで工程ST4が行われてもよい。工程ST4では、コンパウンド供給装置2からバレル槽10内にコンパウンドCが供給される。具体的に、コンパウンド供給装置2は、コンパウンドCの供給量やコンパウンドの投入のタイミングの制御が行われて、所定量のコンパウンドCをホッパ20からシュート22に供給する。シュート22に到達したコンパウンドCは、集塵機12により生じた気流によりバレル槽10に向かって搬送される。
 そして、気流に乗って搬送されたコンパウンドCは、開口部32aからフランジ23の内部に導入される。
 ここで、粉砕部材31が固定されているのに対して、フィルタ部材30はバレル槽10の回転に伴い回転している。つまり、粉砕部材31はフィルタ部材30に対して相対的に回転している。したがって、コンパウンドCは、この粉砕部材31に案内され、図5に示すように、粉砕部材31とフィルタ部材30との間で相対的な回転運動により力が付加されて解砕される。これにより、粉砕部材31を駆動するための駆動源を別途設けることなく、簡単な構成でコンパウンドCを解砕することができる。
 集塵機12は、回転軸10aに内装された吸引管10gを介して、開口部10fから離れた領域からバレル槽10の内部を吸引するため、バレル槽10の内部を横断する気流を発生させることができる。
 解砕されてフィルタ部材30を通過可能な寸法(粒度)になったコンパウンドCは、フィルタ部材30を通過してバレル槽10内に導入される。これにより、あらかじめコンパウンドCの粒度を調整しておくことなく、コンパウンドCの粒度のばらつきを小さくすることが可能となる。これにより、メディアM表面のコーティングに適した大きさのコンパウンドCをバレル槽10内に供給し、バレル槽10の内容物に対してコンパウンドを均等に分散させることができる。
 ここで、集塵機12は、必要十分な量のコンパウンドCがバレル槽10内に搬送されるとともに、滞留するように、吸引速度が制御されていてもよい。
 コンパウンドCは、バレル槽10内でワークW及びメディアMとともに攪拌される。これにより、コンパウンドCによりメディアM表面が非湿潤の状態でコーティングされて、メディアMの表面に滑り性が付与される。
 表面に滑り性が付与されたメディアMを用いてワークWを研磨した場合には、メディアMの流動性(滑り性能)が向上しているので、ワークWに対してメディアMが滑るように接触することとなり、ワークWに対して過度の研磨荷重が付加されることが抑制される。これにより、ワークWの表面を湿式研磨と同様の平滑な研磨面に加工することができる。
 なお、研磨の進行によってメディアMに生じるコンパウンドCの剥離の具合に応じて、加工時間内にコンパウンドCの供給を繰り返してもよい。
 これにより、ワークWとの衝突によってメディアMからコンパウンドCが徐々に削り落とされても、メディアMの表面は新たに供給されたコンパウンドCによりコーティングされる。これにより、コンパウンドCの効果を維持することができるので、ワークWの表面が必要以上に粗くなることを抑制することができる。
 バレル研磨が終了すると、工程ST5が行われる。工程ST5では、駆動装置11及びコンパウンド供給装置2の作動が停止される。バレル研磨後のバレル槽10内には、研磨により発生した粉塵などが滞留しているので、駆動装置11及びコンパウンド供給装置2の停止後も所定の時間にわたって集塵機12の作動が継続される。粉塵などが十分に吸引除去された後に、集塵機12が停止され、バレル槽10を開蓋してワークW、メディアM等の内容物を取り出される。この内容物を分別してワークWを回収し、方法MTが終了される。
 一実施形態では、メディアMとして、セラミックスを主成分とし、細孔を有し多孔質に形成されているメディアを用いてもよい。ここで、細孔の形態は、独立気泡構造でも連続気泡構造のどちらであってもよい。
 このようなメディアMによれば、研磨力が大きく、研磨中に表面が削れても、新たな砥材が出現するので、研磨の経過にかかわらず研磨力を維持することができる。また、表面の細孔によりワークWと衝突する際の衝撃力が緩衝されるので、ワークWに過度の研磨力が付与されることを抑制することができる。このため、メディアMがワークWの表面を必要以上に粗くすることが抑えられ、表面粗さを小さくすることができる。
 また、多孔質のメディアMは、表面全体に細孔を有しているため、コンパウンドCの保持力を大きくすることができる。これにより、コンパウンドCを表面に長時間保持することができる。
 多孔質構造を持たないメディアを用いると、バレル研磨中に研磨により発生した粉塵などがメディア表面に堆積して目詰まりを起こし、研磨能力が低下することがあるが、多孔質のメディアMを用いると、バレル研磨中における粉塵などによる目詰まりを改善することができるので、研磨力を維持することができる。
 多孔質のメディアMとして、セラミックスからなる砥粒同士をビトリファイド系の結合体で結合した焼結体を用いることができる。また、この焼結体は、分散された空隙を有している(以降、「ビトリファイド系多孔質メディア」と記す)。
 ビトリファイド系多孔質メディアは、具体的には以下のようにして得られる。(1)砥粒と結合体を構成する粒子(以降、「結合体粒子」と記す)と加熱により焼失する粒子(以降、「消失粒子」と記す)とが所定の配合比となるように秤量する。(2)加水等で含水率を調整しながらこれらを混練し、混合材料を得る。(3)混合材料を成形手段により所定の形状に成形して成形品を得る。なお、成形は押し出し成形や鋳込み成形などの他ペレタイザー等の造粒機による造粒も含む。成形は、その他公知の方法からも適宜選択してもよい。(4)成形品を所定の水分率となるよう乾燥させる。(5)乾燥させた成形品または造粒品を加熱炉にて焼成する。所定のヒートパターンとなるように温度及び時間を制御しながら焼成することで、消失粒子が消失すると共に、結合体粒子が溶融または半溶融の状態になり、結合体粒子同士が結合して結合体となる。砥粒同士は結合体を介して結合し、焼結体となる。(6)焼成後、所定のヒートパターンで冷却する。(7)冷却後、これらを回転容器またはバレル研磨機に投入し、共ずりを行う。なお、この工程は必要に応じて行うものであり、省略してもよい。
 結合体粒子は、ビトリファイド系であるが、特に酸化アルミニウム若しくは二酸化珪素を主成分とすることができる。そして、平均粒子径を0.1μm~20μmとすることができる。このような結合体粒子は、溶融または半溶融となった際に砥粒同士をより強固に結合することができる。その結果、粘土や陶料を結合体としたメディアに比べてメディア自体の圧潰強度が高くなるので、長時間研磨を行ってもチッピングやクラックといった破損が少なく、メディアの性状を維持することができる。
 消失粒子は、焼成の過程で少なくともその一部が焼失する材料であれば特に限定されない。例えば、水酸化アルミニウムの粉末を消失粒子として用いることができる。水酸化アルミニウムは、焼成の過程で酸化アルミニウムと水蒸気に分解される。水蒸気は蒸発するので、残留した酸化アルミニウムは体積が減少している。水酸化アルミニウムは成形品の全体に分散されているので、結果としてメディアMの全体的に細孔が形成される。
 砥粒としては、アルミナ系砥粒(アランダム)、炭化珪素系砥粒(カーボランダム)、ジルコニアアルミナ砥粒、ダイヤモンド砥粒、又はCBN砥粒、等を用いることができる。
 一実施形態では、コンパウンドCとしては、脂肪酸又はその塩を含むコンパウンドを用いることができる。このようなコンパウンドを用いると、コストを低減することができる。特に、脂肪酸又はその塩が脂肪酸ナトリウムを含む場合には、低コストで良好な滑り性を付与することができる。また、コンパウンドCが脂肪酸ナトリウムを滑り性付与材料の主成分とする場合には、ワークWに油脂がほとんど付着しないので、洗浄工程を不要又は簡略化することができる。また、コンパウンドCとして、粉体状、不定形、ペレットなど各種形状のものを用いることができる。
 (変更例)
 一実施形態では、供給量調整部21が解砕機能を有していてもよい。例えば、コンパウンドCがホッパ20を通過する際に、歯車状に形成され回転する供給量調整部21とホッパ20との隙間により力を付与することでコンパウドCを解砕してもよい。
 別の実施形態では、例えば、図6に示すように、コンパウンド供給装置2が供給量調整部21として2つの歯車を含んでおり、これらの歯車が互いに噛み合うように設けられていてもよい。2つの歯車が、コンパウンドCが下方に付勢されるように反対方向に回転することで、コンパウンドCは、供給量調整部21、21の間を通過するときに力が付与されて解砕される。なお、コンパウンド供給装置2は、3個以上の供給量調整部21を備えていてもよい。
 これらの解砕手段をフィルタ部材30及び粉砕部材31と併用すると、上記解砕手段によりコンパウンドCをあらかじめ解砕したのちに、更にフィルタ部材30及び粉砕部材31によりコンパウンドCを解砕することができるので、より効率的に確実にコンパウンドCを解砕することができる。したがって、コンパウンドCをペレット状で供給する場合など、粒子同士が比較的強固に結合しているコンパウンドを使用する場合にも確実にコンパウンドCを解砕することができる。
 粒度調整部3は、コンパウンドCがバレル槽10に供給される際に所望の粒子径にすることができればよく、例えば上述のような供給量調整部21によりコンパウンドCが所望の粒子径とすることができれば、フィルタ部材30及び粉砕部材31を省略することもできる。
 また、粉砕部材31に駆動装置を設けて、バレル槽10の回転方向に対して反対方向に粉砕部材31を回転駆動するようにしてもよい。このような構成によれば、コンパウンドCをより早く解砕することができるとともに、コンパウンドCがフランジ23内で流動するので、より確実にコンパウンドCを解砕することができる。
 さらに、フィルタ部材30は、突起部を備えるなど解砕機能を有していてもよい。
 バレル槽10内に気流を発生させるために、ホッパ20の上部の開口部から外気を導入する構成を採用することもできる。この場合には、ホッパ20の開口部がシュート22に外気を導入するための通気部に相当する機能を有することとなる。
 上記実施形態では、吸引管10gがバレル槽10の第1の面40aに接続されているが、集塵機12が開口部10fから離れた位置でバレル槽10の内部を吸引して、バレル槽10の内部を横断する気流を発生させることができれば、吸引管10gは任意の位置でバレル槽10に接続することができる。例えば、吸引管10gが、第2の面40bよりも第1の面40aに近い位置でバレル槽10の側面40cに接続されるようにしてもよい。
 以下、図7を参照して別の変形例に係る乾式回転バレル研磨システム200について説明する。乾式回転バレル研磨システム200は、図7に示すように、バレル槽10を外部から隔離して収容する回転しない容器13を備えている。容器13には、貫通孔13aが形成されている。容器13とバレル槽10との間には空間SPが形成され、この空間SPに連通するように貫通孔13a及び吸引管10gを介して集塵機12が接続されている。バレル槽10の側面40cの第2の面40bよりも第1の面40aに近い位置には、吸引孔(第2の開口部)14が形成されている。吸引孔14はワークW及びメディアMが空間SPに飛び出さないようにフィルタ15に覆われている。この乾式回転バレル研磨システム200では、集塵機12が作動されることによって、吸引孔14、貫通孔13a及び吸引管10gを介してバレル槽10の内部から粉塵が吸引される。この構成によれば、バレル槽10内部を開口部10fから離れた領域から吸引することができるので、バレル槽10の内部を横断する気流を発生させることができる。
 また、フランジ23及び開口部10fと同様の構成のフランジ及び開口部を、バレル槽10の第1の面40a側に設けて、このフランジと集塵機12とを接続し、バレル槽10内部を吸引するようにしてもよい。
 開口部10fの配置、形状は、バレル槽10の形状、集塵機12の性能などに応じて、適宜設定することができる。
 以上、種々の実施形態に係る乾式回転バレル研磨システム及び乾式回転バレル研磨方法について説明してきたが、上述した実施形態に限定されることなく発明の要旨を変更しない範囲で種々の変形態様を構成可能である。上述した種々の実施形態及び変形例は、矛盾のない範囲で組み合わせることができる。
 (実施形態の効果)
 上記実施形態の乾式回転バレル研磨システム100及び乾式回転バレル研磨方法によれば、集塵機12の作動により生じる気流によりコンパウンドCをバレル槽10内に供給することができるので、バレル槽10を停止することなく、乾式回転バレル研磨を行いながら必要量のコンパウンドCをバレル槽10内に供給することができる。これにより、メディアMの表面がコンパウンドCでコーティングされて流動性が向上させることができるので、メディアMの衝突によってワークWに過度の研磨荷重が付加されることが抑制される。したがって、被加工物の仕上げ性能を向上させることができ、ワークWの表面を湿式研磨と同様の平滑な研磨面に加工することができる。また、ワークWとの衝突によってメディアMからコンパウンドが徐々に削り落とされても、メディアMの表面は新たに供給されたコンパウンドCによりコーティングされる。これにより、コンパウンドCの効果を長時間維持することができるので、ワークWの表面が必要以上に粗くなることを抑制することができる。このように、上記実施形態によれば、連続的にコンパウンドを供給することにより、メディアMの性状が低下することを抑制し、研磨力の低下を防止することができる。上述のとおり、乾式回転バレル研磨システム100及び乾式回転バレル研磨方法によれば、メディアMがコンパウンドCによりコーティングされた状態を長時間維持し、湿式バレル研磨方法と同程度の仕上げ性能を確保することができる。
 また、上記実施形態では、粉砕部材31によりコンパウンドCを解砕し、フィルタ部材30により所定の寸法以下のコンパウンドCを通過させているので、あらかじめコンパウンドCの粒度を調整しておくことなく、コンパウンドCの粒度のばらつきを小さくすることが可能となる。したがって、メディアM表面のコーティングに適した大きさのコンパウンドCをバレル槽10内に供給し、バレル槽10の内容物に対してコンパウンドを均等に分散させることができる。
 上記実施形態では、メディアMとして、ビトリファイド系多孔質メディアを用いているので、メディアMがワークWの表面を必要以上に粗くすることが抑えられ、表面粗さを小さくする研磨を行うことができる。また、ビトリファイド系多孔質メディアは、表面全体に細孔を有しているため、コンパウンドCの保持力を大きくすることができる。更に、バレル研磨中における粉塵などによる目詰まりを改善することができる。
(実施例)
 従来の乾式回転バレル研磨方法(比較例1)及び湿式回転バレル研磨方法(比較例2)と、上記実施形態に係る乾式回転バレル研磨方法(実施例)とを比較した。評価項目は、ワークの累積研磨量及び表面粗さとした。
 試験条件を下記表1に示す。累積研磨量は加工時間に対するワークの重量の累積減少量として、表面粗さは加工時間に対するワーク(評価片)表面の算術平均粗さRa(JIS(Japanese Industrial Standards) B0601:2001)として、評価した。SS400は一般構造用圧延鋼材(JIS-G3101)、S45Cは機械構造用炭素鋼鋼材(JIS-G4051)である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 実験結果を図8及び図9に示す。図8に示すように、累積研磨量に関しては、比較例2は比較例1よりも研磨力が大きく、累積研磨量が大きくなる傾向が認められた。実施例は、比較例2と同程度の傾向を示し、長時間にわたり同程度の研磨力を維持していた。
 図9に示すように、表面粗さに関しては、比較例1、2及び実施例それぞれの場合において、加工開始後1時間までは増大し、その後ほぼ一定となる傾向が認められた。また、一定値に到達した表面粗さは、比較例2では比較例1よりも大きく、研磨力が大きくなった。実施例は、比較例2と同程度の傾向を示し、同程度の研磨力を維持していた。
 以上より、上記実施形態に係る乾式回転バレル研磨では、メディアMがコンパウンドCによりコーティングされた状態を長時間維持し、湿式回転バレル研磨方法と同程度の仕上げ性能を確保することができることが確認された。
 1…乾式回転バレル研磨装置、2…コンパウンド供給装置、3…粒度調整部、10…バレル槽、10a,10b…回転軸、10f…開口部、10g…吸引管、10h…フィルタ、10i…フィルタ、11…駆動装置、12…集塵機、12a…ホース、13…容器、14…吸引孔、20…ホッパ、21…供給量調整部、22…シュート、22a…通気部、23…フランジ、30…フィルタ部材、31…粉砕部材、32…円板、32a…開口部、40s…内部空間、40a…第1の面、40b…第2の面、40c…側面、100…乾式回転バレル研磨システム、200…乾式回転バレル研磨システム、C…コンパウンド、CNT…制御装置、M…メディア、RA…回転軸線、W…ワーク。

Claims (11)

  1.  被加工物、メディア及びコンパウンドを収容するためのバレル槽であり、回転軸線を中心に回転可能な該バレル槽と、
     前記バレル槽を前記回転軸線を中心に回転駆動させる駆動装置と、
     前記バレル槽の内部から粉塵を吸引する集塵機と、
    を備え、
     前記バレル槽は、前記回転軸線の方向において互いに対面する第1の面及び第2の面と、前記第1の面及び第2の面に接続する側面とを含み、
     前記バレル槽には、該バレル槽の内部と外部とを連通する第1の開口部及び第2の開口部が形成され、前記第2の開口部は、前記第1の面、又は、前記側面の前記第2の面よりも前記第1の面に近い位置に形成され、
     前記集塵機は、前記第2の開口部を介して前記バレル槽の内部から粉塵を吸引する、乾式回転バレル研磨装置。
  2.  前記第1の開口部は前記第2の面に形成されている、請求項1に記載の乾式回転バレル研磨装置。
  3.  前記第1の面及び前記第2の面には、前記回転軸線に沿って延びる第1の回転軸及び第2の回転軸がそれぞれ接続され、前記第1の回転軸は管状をなし、
     前記第2の開口部は、前記第1の面に形成されており、
     前記集塵機は、前記第1の回転軸及び前記第2の開口部に対して挿入された吸引管を介して前記バレル槽の内部から粉塵を吸引する、請求項1又は2に記載の乾式回転バレル研磨装置。
  4.  請求項1~3の何れか一項に記載の乾式回転バレル研磨装置と、
     前記コンパウンドを前記第1の開口部を介して前記バレル槽の内部に供給するコンパウンド供給装置と、
    を備え、
     前記コンパウンド供給装置は、
      前記コンパウンドを貯留するホッパと、
      前記ホッパから供給される前記コンパウンドの量を調整する供給量調整部と、
      前記供給量調整部から供給される前記コンパウンドを前記バレル槽に向けて案内するシュートと、
      前記シュートに外気を導入するための通気部と、
      前記シュートと前記第1の開口部との間に設けられるフランジと、
     を含む、乾式回転バレル研磨システム。
  5.  前記バレル槽に導入されるコンパウンドの粒度を調整する粒度調整部を更に備える、請求項4に記載の乾式回転バレル研磨システム。
  6.  前記粒度調整部は、
      前記コンパウンドに外力を付与して粉砕する粉砕装置と、
      前記第1の開口部を覆うように前記バレル槽に設けられ、所定の寸法よりも小さな寸法のコンパウンドを通過させるフィルタ部材と、
     を備える、請求項5に記載の乾式回転バレル研磨システム。
  7.  前記粉砕装置は、前記フィルタに対して相対的に回転する粉砕部材であり、前記粉砕部材と前記フィルタ部材との間で前記コンパウンドに外力を付与して前記コンパウンドを粉砕する該粉砕部材を備える、請求項6に記載の乾式回転バレル研磨システム。
  8.  請求項4~7の何れか一項に記載の乾式回転バレル研磨システムを用いて被加工物を研磨する乾式回転バレル研磨方法であって、
     前記被加工物及び前記メディアを前記バレル槽内に装入する工程と、
     前記バレル槽を前記回転軸線を中心に回転させる工程と、
     前記集塵機によって前記バレル槽の内部から粉塵を吸引する工程と、
     前記コンパウンドを前記第1の開口部から前記バレル槽の内部に供給する工程と、
    を含む、乾式回転バレル研磨方法。
  9.  前記メディアは、セラミックスを主成分とし、多孔質に形成されている、請求項8に記載の乾式回転バレル研磨方法。
  10.  前記メディアは、砥粒同士がビトリファイド系の結合体で結合した焼結体であって、前記結合体を構成する粒子は、酸化アルミニウム若しくは二酸化珪素が主成分であり、該粒子の平均粒子径が0.1μm~20μmである、請求項9に記載の乾式回転バレル研磨方法。
  11.  前記コンパウンドが、脂肪酸又はその塩を含んだコンパウンドである、請求項8~10の何れか一項に記載の乾式回転バレル研磨方法。
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