WO2019054135A1 - 硬化性組成物、硬化膜、積層体、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ - Google Patents

硬化性組成物、硬化膜、積層体、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ Download PDF

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WO2019054135A1
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group
compound
curable composition
polymerization initiator
radical polymerization
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PCT/JP2018/030721
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峻輔 北島
季彦 松村
Original Assignee
富士フイルム株式会社
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/44—Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors

Definitions

  • the present invention relates to a curable composition, a cured film, a laminate, a near infrared cut filter, a solid-state imaging device, an image display device, and an infrared sensor.
  • CCDs charge coupled devices
  • CMOS complementary metal oxide semiconductors
  • CCDs charge coupled devices
  • CMOS complementary metal oxide semiconductors
  • These solid-state imaging devices use silicon photodiodes sensitive to infrared light in their light receiving portions.
  • a near infrared cut filter may be used to perform luminosity correction.
  • the near infrared cut filter is manufactured using, for example, a curable composition including a near infrared absorber such as a near infrared absorbing dye.
  • Patent Document 1 discloses that a composition for a near-infrared absorber, in which a dimerized thiourea derivative and a copper compound are mixed at a molar ratio of 8: 2 to 1: 2, is contained in 100 parts by mass of a polymerizable raw material. It is described that, after adding and mixing 1 to 1.5 parts by mass, heat polymerization is carried out in the presence of an azo radical polymerization initiator to produce a near infrared absorptive molded article. Further, in Patent Document 1, 2,2'-azobisisobutyronitrile is used as an azo radical polymerization initiator.
  • a cured film is produced using a curable composition immediately after preparation, or a curable composition stored for a long time after preparation In some cases, a cured film is produced using a material.
  • the curable composition containing an azo radical polymerization initiator described in Patent Document 1 is inferior in storage stability, and a curable composition immediately after production is used, and It was found that the spectral characteristics of the cured film obtained tended to vary depending on when the curable composition after storage was used.
  • the near infrared absorbing dye when a cured film is produced using a curable composition containing a near infrared absorbing dye which is a dye compound as a near infrared absorber, the near infrared absorbing dye is aggregated during film formation. It turned out that it tends to be easy. In particular, when heat is applied at the time of film formation, the near infrared absorbing dye tends to aggregate. When the size of the aggregate derived from the near-infrared absorbing dye in the film is increased, the spectral characteristics may vary or the smoothness of the film surface may be reduced.
  • composition for near-infrared absorbers which mixed the dimerization thiourea derivative and copper compound which were described in patent document 1 by the ratio of molar ratio 8: 2 to 1: 2 is a compound different from a pigment compound, It is a type of copper complex compound having a dimerized thiourea derivative as a ligand.
  • an object of the present invention is to provide a curable composition capable of producing a cured film which is excellent in storage stability and in which the generation of an aggregate derived from a near infrared absorbing dye is suppressed.
  • Another object of the present invention is to provide a cured film, a laminate, a near infrared cut filter, a solid-state imaging device, an image display device and an infrared sensor.
  • the present invention provides the following.
  • a curable composition comprising a near infrared absorbing dye, a radically polymerizable compound, and a radical polymerization initiator A, wherein the radical polymerization initiator A is a pinacol compound.
  • ⁇ 2> A near infrared absorbing dye, a radically polymerizable compound, and a radical polymerization initiator A, wherein the radical polymerization initiator A has a thermal decomposition temperature of 120 to 270 ° C. and a thermal decomposition rate of 33 to Curable composition which is a compound which is 60 W / degreeC * mol.
  • the curable composition as described in ⁇ 2> whose ⁇ 3> radical polymerization initiator A is a pinacol compound.
  • ⁇ 4> The curing according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>, wherein the content of the radical polymerization initiator A is 0.1 to 20% by mass with respect to the total solid content of the curable composition. Sex composition.
  • ⁇ 5> The curable composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, which contains 1 to 100 parts by mass of the radical polymerization initiator A with respect to 100 parts by mass of the radically polymerizable compound.
  • ⁇ 6> The curable composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, further including a radical polymerization initiator B different from the radical polymerization initiator A.
  • ⁇ 7> The curable composition according to ⁇ 6>, wherein the radical polymerization initiator B is at least one selected from an ⁇ -hydroxyacetophenone compound and a benzyldimethyl ketal.
  • the curable composition as described in ⁇ 6> or ⁇ 7> whose thermal decomposition temperature of ⁇ 8> radical polymerization initiator B is 100-270 degreeC. ⁇ 9> The curable composition according to any one of ⁇ 6> to ⁇ 8>, wherein the thermal decomposition rate of the radical polymerization initiator B is 3 to 10 W / ° C. ⁇ mol.
  • the curable composition as described in any one of ⁇ 6>- ⁇ 9> which contains 0.1-2000 mass parts of radical polymerization initiators B with respect to 100 mass parts of ⁇ 10> radical polymerization initiator A. . ⁇ 11> A cured film obtained from the curable composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 10>.
  • the laminated body which has a cured film as described in ⁇ 11> on a ⁇ 12> support body The laminated body as described in ⁇ 12> which has a film
  • the near-infrared cut off filter which has a cured film as described in ⁇ 17> ⁇ 11>.
  • the solid-state image sensor which has a cured film as described in ⁇ 18> ⁇ 11>.
  • the image display apparatus which has a cured film as described in ⁇ 19> ⁇ 11>.
  • the infrared sensor which has a cured film as described in ⁇ 20> ⁇ 11>.
  • this invention it is possible to provide a curable composition capable of forming a cured film having good storage stability and having few aggregates derived from the near infrared absorbing dye. Moreover, this invention can provide a cured film, a laminated body, a near-infrared cut off filter, a solid-state image sensor, an image display apparatus, and an infrared sensor.
  • a numerical range represented using “to” means a range including the numerical values described before and after “to” as the lower limit and the upper limit.
  • the notation not describing substitution and non-substitution includes a group (atomic group) having a substituent as well as a group (atomic group) having no substituent.
  • the "alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
  • exposure includes not only exposure using light but also drawing using particle beams such as electron beams and ion beams.
  • particle beams such as electron beams and ion beams.
  • active ray or radiation such as a bright line spectrum of a mercury lamp, far ultraviolet rays represented by an excimer laser, extreme ultraviolet rays (EUV light), X-rays, electron beams and the like can be mentioned.
  • (meth) acrylate represents both or either of acrylate and methacrylate
  • (meth) acryl represents both or either of acrylic and methacryl
  • Allyl represents both or any of allyl and methallyl
  • (meth) acryloyl represents both or any of acryloyl and methacryloyl.
  • the weight average molecular weight and the number average molecular weight are defined as polystyrene equivalent values in gel permeation chromatography (GPC) measurement.
  • the weight-average molecular weight (Mw) and number-average molecular weight (Mn) are, for example, HLC-8220 (manufactured by Tosoh Corp.), and TSKgel Super AWM-H (manufactured by Tosoh Corp.), 6 as a column. It can be determined by using a solution of 10 mmol / L of lithium bromide NMP (N-methyl pyrrolidinone) as an eluent, using a .0 mm ID (inner diameter) ⁇ 15.0 cm).
  • near-infrared light refers to light having a wavelength of 700 to 2,500 nm.
  • total solids refers to the total mass of all components of the composition excluding the solvent.
  • process not only refers to an independent process, but also to the term “process” if the intended function of the process is achieved even if it can not be distinguished clearly from other processes. include.
  • the first aspect of the curable composition of the present invention is characterized by containing a near infrared absorbing dye, a radically polymerizable compound, and a radical polymerization initiator A, and the radical polymerization initiator A is a pinacol compound.
  • the second aspect of the curable composition of the present invention comprises a near infrared absorbing dye, a radically polymerizable compound, and a radical polymerization initiator A, and the radical polymerization initiator A has a thermal decomposition temperature of 120 to It is characterized in that it is a compound which is at 270 ° C. and has a thermal decomposition rate of 33 to 60 W / ° C. ⁇ mol.
  • the curable composition of the present invention has good storage stability, and can produce a cured film with few aggregates derived from the near-infrared absorbing dye.
  • the reason why such an effect can be obtained is presumed to be as follows. That is, since the curable composition of the present invention contains the radical polymerizable compound and the above-mentioned radical polymerization initiator A, the radical generated from the radical polymerization initiator A by heating such a curable composition. Thus, the polymerization reaction of the radically polymerizable compound proceeds rapidly, and the film can be rapidly cured. Therefore, it is presumed that the near infrared absorbing dye is rapidly incorporated into the crosslinked network in the membrane.
  • the curable composition of the present invention was able to effectively suppress the aggregation of the near infrared absorbing dye at the time of heating, and was able to produce a cured film with few aggregates derived from the near infrared absorbing dye.
  • Ru when the stability of the radical polymerization initiator is low, the radical polymerization initiator is decomposed during storage of the curable composition to generate radicals, and the radical causes the polymerization reaction of the radically polymerizable compound to proceed.
  • the viscosity of the curable composition increases with time, the near infrared absorbing dye is agglutinated in the composition, or the near infrared absorbing dye is denatured by radicals, the above-mentioned radical polymerization initiation It is believed that agent A can be stably present in the curable composition. For this reason, the curable composition of the present invention can suppress the increase in viscosity during storage, the aggregation of the near infrared absorbing dye, the modification of the near infrared absorbing dye by radicals, and the like, and is excellent in storage stability.
  • each component of the curable composition of this invention is demonstrated.
  • the curable composition of the present invention contains a near infrared absorbing dye.
  • the near infrared absorbing dye may be a pigment (also referred to as a near infrared absorbing pigment), or may be a dye (also referred to as a near infrared absorbing dye). It is also preferable to use a near infrared absorbing dye and a near infrared absorbing pigment in combination.
  • the ratio is preferably 1: 99.9, more preferably 99.9: 0.1 to 10:90, and still more preferably 99.9: 0.1 to 20:80.
  • the near infrared absorbing dye preferably has a solubility of 1 g or more, preferably 2 g or more, in 100 g of at least one solvent selected from cyclopentanone, cyclohexanone and dipropylene glycol monomethyl ether at 23 ° C.
  • the content is more preferably 5 g or more.
  • the near infrared absorbing pigment preferably has a solubility of 100 g of each of cyclopentanone, cyclohexanone and dipropylene glycol monomethyl ether at 23 ° C. of preferably less than 1 g, and more preferably 0.1 g or less Preferably, it is more preferably 0.01 g or less.
  • the near infrared absorbing dye is preferably a compound having a ⁇ conjugated plane including a single ring or a fused aromatic ring. Due to the interaction between aromatic rings in the ⁇ conjugated plane of the near infrared absorbing dye, the J aggregate of the near infrared absorbing dye is easily formed during the production of the cured film, and a cured film having excellent spectral characteristics in the near infrared region is produced. it can.
  • the number of atoms other than hydrogen constituting the ⁇ conjugated plane possessed by the near infrared absorbing dye is preferably 6 or more, more preferably 14 or more, still more preferably 20 or more, and 25 It is more preferable that it is the above, and it is especially preferable that it is 30 or more.
  • the upper limit is, for example, preferably 80 or less, and more preferably 50 or less.
  • the ⁇ conjugated plane possessed by the near infrared absorbing dye preferably contains two or more, more preferably three or more, and still more preferably four or more, of a single ring or a fused ring aromatic ring. It is particularly preferred to include.
  • the upper limit is preferably 100 or less, more preferably 50 or less, and still more preferably 30 or less.
  • the above-mentioned aromatic ring includes benzene ring, naphthalene ring, indene ring, azulene ring, heptalene ring, indacene ring, perylene ring, pentacene ring, quaterylene ring, acenaphthene ring, phenanthrene ring, anthracene ring, naphthacene ring, chrysene ring, Triphenylene ring, fluorene ring, pyridine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, imidazole ring, benzoimidazole ring, pyrazole ring, thiazole ring, benzothiazole ring, triazole ring, benzotriazole ring, oxazole ring, benzooxazole ring, imidazoline ring, pyrazine And rings, quinoxaline rings, pyrimidine rings, quin
  • the near infrared absorbing dye is preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the range of 700 to 1,300 nm, and more preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the range of 700 to 1,000 nm.
  • “having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 700 to 1,300 nm” means that the wavelength showing the maximum absorbance in the absorption spectrum of the near-infrared absorbing dye in the solution is 700 to It means that it exists in the range of 1,300 nm.
  • a measurement solvent used for the measurement of the absorption spectrum in the solution of a near-infrared absorption pigment chloroform, methanol, dimethyl sulfoxide, ethyl acetate, tetrahydrofuran are mentioned.
  • the near infrared absorbing dye is a compound that dissolves in chloroform
  • chloroform is used as a measurement solvent. If it is a compound which does not dissolve in chloroform, methanol is used.
  • dimethyl sulfoxide is used when it does not dissolve in either chloroform or methanol.
  • Near infrared absorbing dye has an absorption maximum wavelength in a wavelength range of 700 ⁇ 1,000 nm, and the ratio A 1 / A 2 between the absorbance A 2 in the absorbance A 1 and the maximum absorption wavelength in the wavelength 500 nm, 0. It is preferably 08 or less, more preferably 0.04 or less. According to this aspect, it is easy to produce a cured film excellent in visible transparency and near infrared ray shielding properties.
  • the waveform of the absorption spectrum of the obtained cured film is wider than in the case of using one type of near-infrared absorbing dye, and it is possible to shield near-infrared rays in a wide wavelength range.
  • the first near-infrared absorbing dye having the maximum absorption wavelength in the wavelength range of 700 to 1,000 nm and the maximum absorption wavelength of the first near-infrared absorbing dye At least a second near infrared absorbing dye having a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 700 to 1,000 nm on the short wavelength side, the maximum absorption wavelength of the first near infrared absorbing dye, and the second near infrared absorption dye;
  • the difference from the maximum absorption wavelength of the infrared absorbing dye is preferably 1 to 150 nm.
  • near infrared absorbing dyes include pyrrolopyrrole compounds, cyanine compounds, squarylium compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, quaterylene compounds, merocyanine compounds, croconium compounds, oxonol compounds, diimonium compounds, dithiol compounds, triarylmethane compounds, At least one selected from a pyrromethene compound, an azomethine compound, an anthraquinone compound and a dibenzofuranone compound is preferable, and at least one selected from a pyrrolopyrrole compound, a cyanine compound, a squalilium compound, a phthalocyanine compound, a naphthalocyanine compound and a quaterrylene compound is more preferable.
  • diimmonium compounds include the compounds described in JP-A-2008-528706, the contents of which are incorporated herein.
  • the phthalocyanine compound for example, a compound described in paragraph 0093 of JP-A-2012-77153, an oxytitanium phthalocyanine described in JP-A-2006-343631, a paragraph number 0013 to 0029 of JP-A-2013-195480.
  • vanadium phthalocyanine described in Japanese Patent No. 6081771 the contents of which are incorporated herein.
  • naphthalocyanine compound the compound as described in stage number 0093 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-77153 is mentioned, for example, This content is integrated in this specification.
  • the cyanine compound the phthalocyanine compound, the naphthalocyanine compound, the dimonium compound and the squarylium compound, the compounds described in paragraphs [0010] to [0081] of JP-A-2010-111750 may be used, and the contents thereof are described in the present specification. Be incorporated.
  • cyanine compounds can be referred to, for example, "functional dyes, Shin Ookawara / Ken Matsuoka / Keijiro Kitao / Tsunehiro Hiraiso, Kodansha Scientific", the contents of which are incorporated herein. .
  • the near infrared absorbing dye a compound described in JP-A-2016-146619 can also be used, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the pyrrolopyrrole compound is preferably a compound represented by the formula (PP).
  • R 1a and R 1b each independently represent an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group
  • R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • R 2 and R 3 represent R 4 may be combined with each other to form a ring
  • each R 4 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, -BR 4A R 4B , or a metal atom
  • R 4 is an R R 4A and R 4B may each independently represent a substituent, which may be covalently bonded or coordinated with at least one selected from 1 a 1 , R 1 b and R 3 .
  • R 4A and R 4B may be bonded to each other to form a ring.
  • Formula (PP) Paragraph No. 0017 of the Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-263614, Paragraph No. 0011 of the Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-68731, Paragraph No. 0010 of the international publication WO2015 / 166873 The contents of which are incorporated herein by reference.
  • R 1a and R 1b are each independently preferably an aryl group or a heteroaryl group, and more preferably an aryl group.
  • the alkyl group, the aryl group and the heteroaryl group represented by R 1a and R 1b may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the substituents described in Paragraph Nos. 0020 to 0022 of JP 2009-263614 A, and the following substituent T.
  • An alkyl group preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms
  • an alkenyl group preferably an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms
  • an alkynyl group preferably an alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms
  • an aryl group preferably An aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an amino group (preferably an amino group having 0 to 30 carbon atoms), an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms), an aryloxy group (preferably 6 to carbon atoms 30) aryloxy group), heteroaryloxy group
  • acyl group preferably having 1 to 30 carbon atoms
  • alkoxycarbonyl group preferably having 2 to 30 carbon atoms
  • aryloxycarbonyl group preferably having 2 to 30 carbon atoms
  • an acyloxy group preferably an acylo group having 2 to 30
  • an acylamino group (preferably an acylamino group having 2 to 30 carbon atoms), an alkoxycarbonylamino group (preferably an alkoxycarbonylamino group having 2 to 30 carbon atoms), an aryloxycarbonylamino group (preferably 7 to carbon atoms) 30) aryloxycarbonylamino group), sulfamoyl group (preferably sulfamoyl group having 0 to 30 carbon atoms), carbamoyl group (preferably carbamoyl group having 1 to 30 carbon atoms), alkylthio group (preferably having 1 to 30 carbon atoms) Alkylthio group), arylthio group (preferably arylthio group having 6 to 30 carbon atoms), heteroarylthio group (preferably 1 to 30 carbon atoms), alkylsulfonyl group (preferably 1 to 30 carbon atoms), arylsulfonyl group (preferably 1 to 30 carbon atoms) Preferably having 6 to 30 carbon
  • R 1a and R 1b include an aryl group having an alkoxy group as a substituent, an aryl group having a hydroxyl group as a substituent, an aryl group having an acyloxy group as a substituent and the like.
  • R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • the substituent include the above-mentioned substituent T.
  • At least one of R 2 and R 3 is preferably an electron-withdrawing group.
  • a substituent having a positive Hammett's substituent constant ⁇ value acts as an electron-withdrawing group.
  • the substituent constants determined by the Hammett rule include ⁇ p values and ⁇ m values. These values can be found in many general books.
  • a substituent having a Hammett's substituent constant ⁇ value of 0.2 or more can be exemplified as the electron-withdrawing group.
  • the ⁇ value is preferably 0.25 or more, more preferably 0.3 or more, and still more preferably 0.35 or more.
  • the upper limit is not particularly limited, but is preferably 0.80 or less.
  • a cyano group is preferable.
  • Me represents a methyl group
  • Ph represents a phenyl group.
  • the Hammett's substituent constant ⁇ value can be referred to, for example, paragraph Nos. 0017 to 0018 of JP-A-2011-68731, the contents of which are incorporated herein.
  • R 2 preferably represents an electron-withdrawing group (preferably a cyano group), and R 3 preferably represents a heteroaryl group.
  • the heteroaryl group is preferably a 5- or 6-membered ring.
  • the heteroaryl group is preferably a single ring or a fused ring, preferably a single ring or a fused ring having 2 to 8 condensations, and more preferably a single ring or a fused ring having 2 to 4 condensations.
  • the number of heteroatoms constituting the heteroaryl group is preferably 1 to 3, and more preferably 1 to 2.
  • a hetero atom a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom are illustrated, for example.
  • the heteroaryl group preferably has one or more nitrogen atoms.
  • Two R 2 s in Formula (PP) may be identical to or different from each other.
  • two R 3 's in Formula (PP) may be the same or different.
  • R 4 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group or a group represented by —BR 4A R 4B , and a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or —BR
  • the group represented by 4A R 4B is more preferably a group represented by -BR 4A R 4B .
  • the substituent represented by R 4A and R 4B is preferably a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group or a heteroaryl group, more preferably an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group, and an aryl group Particularly preferred. These groups may further have a substituent.
  • Two R 4 's in the formula (PP) may be the same or different.
  • R 4A and R 4B may be bonded to each other to form a ring.
  • Ph represents a phenyl group.
  • pyrrolopyrrole compounds compounds described in paragraphs 0016 to 0058 of JP 2009-263614 A, compounds described in paragraphs 0037 to 0052 of JP 2011-68731 A, WO 2015/166873 And the compounds described in Paragraph No. 0010 to 0033 of the publication, the contents of which are incorporated herein.
  • each of A 1 and A 2 independently represents an aryl group, a heteroaryl group or a group represented by formula (A-1);
  • Z 1 represents a nonmetal atomic group forming a nitrogen-containing heterocyclic ring
  • R 2 represents an alkyl group, an alkenyl group or an aralkyl group
  • d represents 0 or 1.
  • the wavy line represents a connecting hand.
  • the squarylium compound is preferably a compound represented by the following formula (SQ-1).
  • Ring A and ring B each independently represent an aromatic ring
  • X A and X B each independently represent a substituent
  • G A and G B each independently represent a substituent
  • kA represents an integer of 0 to n A
  • k B represents an integer of 0 to n B
  • n A and n B respectively represent the largest integers which can be substituted on ring A or ring B
  • X A and G A , X B and G B , and X A and X B may bond to each other to form a ring, and when there are a plurality of G A and G B respectively, they may be bonded to each other to form a ring structure May be formed.
  • the substituent represented by G A and G B include the substituent T described by the formula (PP) as described above.
  • Examples of the substituent represented by X A and X B preferably a group having an active hydrogen, -OH, -SH, -COOH, -SO 3 H, -NR X1 R X2, -NHCOR X1, -CONR X1 R X2, -NHCONR X1 R X2 , -NHCOOR X1 , -NHSO 2 R X1 , -B (OH) 2 and -PO (OH) 2 are more preferable, and -OH, -SH and -NR X1 R X2 are more preferable.
  • Each of R X1 and R X1 independently represents a hydrogen atom or a substituent.
  • a substituent which X A and X B represent an alkyl group, an aryl group, or heteroaryl group is mentioned, An alkyl group is preferable.
  • Ring A and ring B each independently represent an aromatic ring.
  • the aromatic ring may be a single ring or a fused ring.
  • Specific examples of the aromatic ring include benzene ring, naphthalene ring, indene ring, azulene ring, heptalene ring, indacene ring, perylene ring, pentacene ring, acenaphthene ring, phenanthrene ring, anthracene ring, naphthacene ring, chrysene ring, triphenylene ring , Fluorene ring, biphenyl ring, pyrrole ring, furan ring, thiophene ring, imidazole ring, oxazole ring, thiazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, indolizine ring, in
  • X A and G A , X B and G B , and X A and X B may bond to each other to form a ring, and when there are a plurality of G A and G B respectively, they may be bonded to each other to form a ring You may form.
  • the ring is preferably a 5- or 6-membered ring.
  • the ring may be a single ring or may be a fused ring.
  • X A and G A , X B and G B , X A and X B , G A or B B bond together to form a ring, these may be directly bonded to form a ring;
  • the ring may be formed through a divalent linking group consisting of the groups -CO-, -O-, -NH-, -BR- and combinations thereof.
  • R represents a hydrogen atom or a substituent.
  • the substituent T demonstrated by Formula (PP) mentioned above is mentioned, An alkyl group or an aryl group is preferable.
  • kA represents an integer of 0 to nA
  • kB represents an integer of 0 to nB
  • n A represents a maximum integer replaceable to ring A
  • n B represents a maximum integer replaceable to ring B Represent.
  • Each of kA and kB is preferably independently 0 to 4, more preferably 0 to 2, and particularly preferably 0 to 1.
  • the squarylium compound is also preferably a compound represented by the following formula (SQ-10), formula (SQ-11) or formula (SQ-12).
  • Formula (SQ-10) Formula (SQ-11) Formula (SQ-12)
  • each X is a group of one or more hydrogen atoms optionally substituted with a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group.
  • n1 is 2 or 3.
  • n2 and n3 are each independently an integer of 0 to 2
  • n2 + n3 is 1 or 2.
  • Each of R 1 and R 2 independently represents an alkyl group or an aryl group.
  • the alkyl group and the aryl group may have a substituent or may be unsubstituted.
  • the substituent T demonstrated by the formula (PP) mentioned above is mentioned.
  • R 3 to R 6 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or an alkoxy group.
  • n is 2 or 3.
  • the cyanine compound is preferably a compound represented by the formula (C).
  • Formula (C) In the formula, each of Z 1 and Z 2 independently represents a nonmetallic atomic group forming a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring which may be condensed.
  • R 101 and R 102 each independently represent an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an aryl group
  • L 1 represents a methine chain having an odd number of methine groups
  • a and b are each independently 0 or 1;
  • a is 0, a carbon atom and a nitrogen atom are bonded by a double bond
  • b is 0, a carbon atom and a nitrogen atom are bonded by a single bond
  • X 1 represents an anion
  • c represents the number necessary to balance the charge
  • the site represented by Cy in the formula is an anion moiety
  • X 1 represents a cation
  • c represents the number necessary to balance the charge
  • c is a molecule in which the charge at the site represented by Cy in the formula is neutralized within the molecule It is 0.
  • the following compounds may be mentioned. Further, as the cyanine compound, compounds described in paragraphs 0044 to 0045 of JP 2009-108267 A, compounds described in paragraphs 0026 to 0030 of JP 2002-194040 A, JP 2015-172004 A Compounds described in JP-A-2015-172102, compounds described in JP-A-2008-88426, and compounds described in JP-A-2017-031394, the contents of which are incorporated herein by reference. It is incorporated in the specification.
  • the content of the near infrared absorbing dye is preferably 3 to 50% by mass with respect to the total solid content of the curable composition. 40 mass% or less is preferable, and, as for the upper limit, 35 mass% or less is more preferable. 4 mass% or more is preferable, and, as for a lower limit, 5 mass% or more is more preferable.
  • the near infrared absorbing dye may be used alone or in combination of two or more. In the case of 2 or more types, it is preferable that the total amount of them becomes the said range.
  • the curable composition of the present invention may further contain a near infrared absorber (also referred to as another near infrared absorber) other than the above-described near infrared absorbing dye.
  • a near infrared absorber also referred to as another near infrared absorber
  • Other near-infrared absorbers include inorganic pigments (inorganic particles).
  • the shape of the inorganic pigment is not particularly limited, and may be spherical, non-spherical, sheet-like, wire-like or tube-like.
  • metal oxide particles or metal particles are preferable.
  • metal oxide particles examples include indium tin oxide (ITO) particles, antimony tin oxide (ATO) particles, zinc oxide (ZnO) particles, Al-doped zinc oxide (Al-doped ZnO) particles, fluorine-doped tin dioxide (F-doped) SnO 2 ) particles, niobium-doped titanium dioxide (Nb-doped TiO 2 ) particles, etc. may be mentioned.
  • the metal particles include silver (Ag) particles, gold (Au) particles, copper (Cu) particles, nickel (Ni) particles, and the like.
  • a tungsten oxide type compound can also be used as an inorganic pigment.
  • the tungsten oxide based compound is preferably cesium tungsten oxide. For details of the tungsten oxide based compound, paragraph 0080 of JP-A-2016-006476 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the content of the other near infrared absorber is 0.01 to 50% by mass based on the total solid content of the curable composition.
  • 0.1 mass% or more is preferable, and, as for a lower limit, 0.5 mass% or more is more preferable. 30 mass% or less is preferable, and, as for the upper limit, 15 mass% or less is more preferable.
  • the content of the other near infrared absorber in the total mass of the above-mentioned near infrared absorbing dye and the other near infrared absorber is preferably 1 to 99% by mass.
  • the curable composition of this invention does not contain another near-infrared absorber substantially.
  • the content of the other near-infrared absorber in the total mass of the above-mentioned near-infrared absorbing dye and the other near-infrared absorber is 0.5% by mass or less as substantially free of the other near-infrared absorber It is more preferable that it is 0.1 mass% or less, and it is still more preferable that it does not contain other near-infrared absorbers.
  • the curable composition of the present invention contains a radically polymerizable compound.
  • the radically polymerizable compound is preferably a compound having one or more groups having an ethylenically unsaturated bond, more preferably a compound having two or more groups having an ethylenically unsaturated bond, and ethylenic More preferably, it is a compound having three or more groups having unsaturated bonds.
  • the upper limit of the number of groups having an ethylenically unsaturated bond in the radically polymerizable compound is, for example, preferably 15 or less, more preferably 6 or less.
  • the radically polymerizable compound is preferably a 3 to 15 functional (meth) acrylate compound, and more preferably a 3 to 6 functional (meth) acrylate compound.
  • the radically polymerizable compound may be in the form of a monomer or a polymer, but a monomer is preferred.
  • the monomer type radically polymerizable compound preferably has a molecular weight of 100 to 3,000.
  • the upper limit is more preferably 2,000 or less, further preferably 1,500 or less.
  • the lower limit is more preferably 150 or more, and still more preferably 250 or more.
  • a radically polymerizable compound is a compound which does not have molecular weight distribution substantially.
  • a compound having a degree of dispersion (weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)) of 1.0 to 1.5 is preferable, 1.0 to 1.3 is more preferable.
  • ethyleneoxy modified pentaerythritol tetraacrylate (as a commercial product, NK ester ATM-35E; Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. product), dipentaerythritol triacrylate (as a commercial product, KAYARAD D- 330; Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • dipentaerythritol tetraacrylate (as a commercial product, KAYARAD D-320; Nippon Kayaku Co., Ltd. product), dipentaerythritol penta (meth) acrylate (as a commercial product, KAYARAD D-310; Nippon Kayaku Co., Ltd. product, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate (as a commercial product, KAYARAD DPHA; Nippon Kayaku Co., Ltd. product, A-DPH-12E; Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.
  • diglycerin EO ethylene oxide modified (meth) acrylate
  • pentaerythritol tetraacrylate manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., A-TMMT
  • 1, 6 -Hexanediol diacrylate manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD HDDA
  • RP-1040 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • RP-1040 can be mentioned.
  • the radically polymerizable compound may have an acid group such as a carboxyl group, a sulfo group or a phosphoric acid group.
  • Examples of commercially available products of radically polymerizable compounds having an acid group include Alonics M-305, M-510, M-520 (all manufactured by Toagosei Co., Ltd.).
  • the acid value of the radically polymerizable compound is preferably 0.1 to 40 mg KOH / g.
  • the lower limit is more preferably 5 mg KOH / g or more.
  • the upper limit is more preferably 30 mg KOH / g or less.
  • a compound having a caprolactone structure is also a preferred embodiment.
  • examples of radically polymerizable compounds having a caprolactone structure are commercially available from Nippon Kayaku Co., Ltd. as the KAYARAD DPCA series, and include DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120 and the like.
  • the description of paragraphs 0042 to 0045 in JP 2013-253224 A can be referred to for a radically polymerizable compound having a caprolactone structure, the contents of which are incorporated herein.
  • the radically polymerizable compound can also be a compound having an alkyleneoxy group.
  • the radically polymerizable compound having an alkyleneoxy group is preferably a compound having an ethyleneoxy group and / or a propyleneoxy group, more preferably a compound having an ethyleneoxy group, and 4 to 20 ethyleneoxy groups. More preferably, they are 3- to 6-functional (meth) acrylate compounds.
  • Commercially available products of radically polymerizable compounds having an alkyleneoxy group include, for example, SR-494 which is a tetrafunctional (meth) acrylate having four ethyleneoxy groups manufactured by Sartomer, a trifunctional (meth) resin having three isobutylene oxy groups. And the like) and KAYARAD TPA-330 which is an acrylate.
  • JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable as urethane compounds having an ethylene oxide skeleton.
  • radically polymerizable compound compounds described in JP-A-2017-48367, JP-A-6057891, and JP-A-6031807 can also be used.
  • commercial products UA-7200 (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. product), DPHA-40H (Nippon Kayaku Co., Ltd. product), UA-306H, UA-306T, UA-306I, AH-600, T- 600, AI-600 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), and the like.
  • 8UH-1006 8UH-1012 (all manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.), light acrylate POB-A0 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), etc.
  • the radically polymerizable compound compounds described in JP-A-2017-48367, JP-A-6057891, and JP-A-6031807 can also be used.
  • the content of the radically polymerizable compound is preferably 0.1 to 40% by mass with respect to the total solid content of the curable composition. 0.5 mass% or more is preferable, and, as for a lower limit, 1 mass% or more is more preferable. 30 mass% or less is preferable, and, as for the upper limit, 20 mass% or less is more preferable.
  • the content of the radically polymerizable compound is preferably 20 to 300 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the near-infrared absorbing dye.
  • the upper limit is preferably 200 parts by mass or less, more preferably 150 parts by mass or less, and still more preferably 120 parts by mass or less.
  • the lower limit is preferably 30 parts by mass or more, more preferably 40 parts by mass or more, and still more preferably 60 parts by mass or more. If the ratio of the radically polymerizable compound and the near infrared absorbing dye is in the above range, it is easy to form a cured film in which the generation of aggregates derived from the near infrared absorbing dye is further suppressed.
  • the curable composition of the present invention may contain only one type of radically polymerizable compound, or may contain two or more types. When two or more radically polymerizable compounds are contained, the total amount thereof is preferably in the above range.
  • the curable composition of the present invention contains a radical polymerization initiator A.
  • the radical polymerization initiator A is a compound which generates radicals by the action of light or heat to initiate or accelerate the polymerization reaction of a radically polymerizable compound.
  • the radical polymerization initiator A is preferably a compound that generates a radical by the action of at least heat.
  • a pinacol compound is used as the radical polymerization initiator A (first aspect), Or A compound having a thermal decomposition temperature of 120 to 270 ° C. and a thermal decomposition rate of 33 to 60 W / ° C.mol is used (second embodiment).
  • the thermal decomposition temperature of the radical polymerization initiator A used in the first embodiment is preferably 270 ° C. or less, more preferably 240 ° C. or less, and still more preferably 220 ° C. or less.
  • the lower limit of the thermal decomposition temperature is preferably 100 ° C. or more, more preferably 110 ° C. or more, still more preferably 120 ° C. or more, still more preferably 140 ° C. or more, 150 ° C. or more Is particularly preferred.
  • the thermal decomposition rate of the radical polymerization initiator A used in the first embodiment is preferably 33 W / ° C. ⁇ mol or more, more preferably 35 W / ° C. ⁇ mol or more, 37 W / ° C.
  • the upper limit of the thermal decomposition rate is preferably 66 W / ° C.mol or less, more preferably 65 W / ° C.mol or less, and still more preferably 64 W / ° C.mol or less.
  • the thermal decomposition temperature of the radical polymerization initiator A used in the second embodiment is 120 to 270.degree.
  • the upper limit is more preferably 240 ° C. or less, still more preferably 220 ° C. or less.
  • the lower limit is preferably 140 ° C. or more, more preferably 150 ° C. or more.
  • the thermal decomposition rate of the radical polymerization initiator A used in the second embodiment is 33 to 66 W / ° C. ⁇ mol.
  • the lower limit is preferably 35 W / ° C. ⁇ mol or more, and more preferably 37 W / ° C. ⁇ mol or more.
  • the upper limit is preferably 65 W / ° C. ⁇ mol or less, more preferably 64 W / ° C.
  • the radical polymerization initiator A used in the second embodiment is not particularly limited as long as it is a compound having the above-mentioned characteristics, and pinacol compounds etc. may be mentioned, and it is possible to obtain pinacol because the effect of the present invention is more remarkably obtained. It is more preferable that it is a compound.
  • the thermal decomposition temperature of the radical polymerization initiator is a value measured by thermogravimetry / differential heat (TG-DTA) measurement. More specifically, the temperature of the radical polymerization initiator was increased from the state of 23 ° C. at a temperature rising rate of 10 ° C./minute to measure the temperature at which the weight loss of the radical polymerization initiator starts.
  • the thermal decomposition rate of the radical polymerization initiator is a value measured by differential scanning calorimetry (DSC) measurement. More specifically, the temperature of the radical polymerization initiator is raised from a state of 23 ° C. at a temperature rising rate of 10 ° C./min to connect the rising temperature of the exothermic peak and the maximum temperature of the exothermic peak at 100 ° C. or later. The thermal decomposition rate was calculated from the slope of the line.
  • the 1% weight temperature of the radical polymerization initiator A used in the first aspect and the second aspect is preferably 90 to 220.degree.
  • the upper limit of the weight 1% temperature is preferably 215 ° C. or less, more preferably 210 ° C. or less, and still more preferably 200 ° C. or less.
  • the lower limit of the weight 1% temperature is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 120 ° C. or higher, and still more preferably 150 ° C. or higher. If the temperature by weight of the radical polymerization initiator A is in the above range, it is easy to achieve both low temperature curability and storage stability of the composition.
  • the 1% temperature by weight of the radical polymerization initiator is a temperature at which the weight of the radical polymerization initiator decreases by 1% when TG-DTA measurement is performed on the radical polymerization initiator alone.
  • the molar absorption coefficient at a wavelength of 365 nm of the radical polymerization initiator A used in the first aspect and the second aspect is preferably 100 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or less, and 50 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ It is more preferably 1 or less, and still more preferably 10 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or less. If the molar absorptivity of the radical polymerization initiator A at a wavelength of 365 nm is 100 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or less, generation of radicals from the radical polymerization initiator A effectively during storage of the curable composition It can be suppressed, and the storage stability of the curable composition is good.
  • the molar absorption coefficient of the radical polymerization initiator at a wavelength of 365 nm is prepared by dissolving the radical polymerization initiator in a solvent to prepare a 5 mol% solution (measurement solution) of the radical polymerization initiator. It was calculated by measuring the absorbance. Specifically, the measurement solution described above is placed in a 1 cm wide glass cell, the absorbance is measured using a UV-Vis-NIR spectrometer (Cary 5000) manufactured by Agilent Technologies, and the molar ratio at a wavelength of 365 nm is applied according to the following equation. The extinction coefficient (L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 ) was calculated.
  • ⁇ is the molar absorption coefficient (L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 )
  • A is the absorbance
  • c is the concentration of the measurement solution (mol / L)
  • l is the optical path length (cm).
  • examples of the solvent used for preparation of the measurement solution include acetonitrile and chloroform.
  • the radical polymerization initiator A is a compound that dissolves in acetonitrile, acetonitrile is used to prepare a measurement solution.
  • the radical polymerization initiator A is a compound which is insoluble in acetonitrile but soluble in chloroform, chloroform is used to prepare a measurement solution.
  • the radical polymerization initiator A is a compound which is insoluble in acetonitrile and chloroform but soluble in dimethyl sulfoxide, dimethyl sulfoxide is used to prepare a measurement solution.
  • the radical polymerization initiator A used in the present invention is preferably a pinacol compound.
  • the pinacol compound is preferably a benzopinacol compound.
  • Examples of pinacol compounds include compounds represented by the following formulas (T-1) to (T-3).
  • Rt 1 to Rt 4 each independently represent a substituent
  • m 1 to m 4 each independently represent an integer of 0 to 4.
  • m1 pieces of Rt 1 may be identical to or different from each other.
  • m1 pieces two of the Rt 1 of Rt 1 each other may bond to each other to form a ring.
  • m2 amino Rt 2 respectively may be the same or may be different.
  • m2 amino bonded to each other two Rt 2 together of Rt 2 may form a ring.
  • m3 amino Rt 3 may each be the same or may be different.
  • m3 or two Rt 3 out of Rt 3 together may be bonded to each other to form a ring.
  • m4 Rt 4 may be identical to or different from each other.
  • two Rt 4 of m4 Rt 4 may be bonded to each other to form a ring.
  • Rt 1 and Rt 2 , Rt 1 and Rt 3 , Rt 1 and Rt 4 , Rt 2 and Rt 3 , Rt 2 and Rt 4 , and Rt 3 and Rt 4 may form a ring.
  • Rt 5 and Rt 6 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, Ti (R M1 ) (R M2 ) (R M3 ), Zr (R M1 ) (R M2 ) ( RM3 ), Si ( RM1 ) ( RM2 ) ( RM3 ) or B ( RM1 ) ( RM2 ) is represented, and RM1 to RM3 each independently represent a substituent.
  • M 1 represents Ti ( RM 4 ) ( RM 5 ), Zr ( RM 4 ) ( RM 5 ), Si ( RM 4 ) ( RM 5 ) or B ( RM 4 ), Each of R M4 and R M5 independently represents a substituent.
  • M 2 represents Ti ( RM 6 ), Zr ( RM 6 ), Si ( RM 6 ) or B, RM 6 represents a substituent, and L 1 represents a divalent linking group Represents
  • the substituent represented by Rt 1 to Rt 4 and R M1 to R M6 is an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a nitro group, a cyano group, a halogen atom, -OR X1 , -SR X1 , -COR X1 ,- COOR X1 , -OCOR X1 , -NR X1 R X2 , -NHCOR X1 , -CONR X1 R X2 , -NHCONR X1 R X2 , -NHCOOR X1 , -SO 2 R X1 , -SO 2 OR X1 , -NHSO 2 R X1 Etc.
  • Each of R X1 and R X2 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group.
  • the halogen atom may, for example, be a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.
  • the carbon number of the alkyl group as a substituent, the alkyl group represented by R X1 and R X2, and the alkyl group represented by Rt 5 and Rt 6 in the formula (T-1) is preferably 1 to 20.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, but is preferably linear or branched.
  • the carbon number of the aryl group as a substituent, the aryl group represented by R X1 and R X2, and the aryl group represented by Rt 5 and Rt 6 in the formula (T-1) is preferably 6 to 20, and more preferably 6 to 15 And 6 to 10 are more preferable.
  • the aryl group may be a single ring or a fused ring.
  • the heterocyclic group as a substituent and the heterocyclic group represented by R X1 and R X2 are preferably a 5- or 6-membered ring.
  • the heterocyclic group may be a single ring or may be a fused ring.
  • the number of carbon atoms constituting the heterocyclic group is preferably 3 to 30, more preferably 3 to 18, and still more preferably 3 to 12.
  • the number of hetero atoms constituting the heterocyclic group is preferably 1 to 3.
  • the hetero atom constituting the heterocyclic group is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • part or all of hydrogen atoms may be substituted by the above-mentioned substituent.
  • M1 to m4 each independently represent an integer of 0 to 4, preferably 0 to 3, more preferably 0 to 2, still more preferably 0 or 1, and particularly preferably 0.
  • a preferable aryl group is represented, preferably a hydrogen atom), -SO 2- , -CO-, -COO-, -OCO-, -O-, -S- and a combination thereof.
  • Rt 5 and Rt 6 are a hydrogen atom, and more preferably both Rt 5 and Rt 6 is a hydrogen atom.
  • pinacol compounds include benzopinacol, 1,2-dimethoxy-1,1,2,2-tetraphenylethane, 1,2-diethoxy-1,1,2,2-tetraphenylethane, 1,2 -Diphenoxy-1,1,2,2-tetraphenylethane, 1,2-dimethoxy-1,1,2,2-tetra (4-methylphenyl) ethane, 1,2-diphenoxy-1,1,2, 2-tetra (4-methoxyphenyl) ethane, 1,2-bis (trimethylsiloxy) -1,1,2,2-tetraphenylethane, 1,2-bis (triethylsiloxy) -1,1,2,2 -Tetraphenylethane, 1,2-bis (t-butyldimethylsiloxy) -1,1,2,2-tetraphenylethane, 1-hydroxy-2-trimethylsiloxy-1,1,2,2-tetra Laphenylethane, 1-hydroxy-2-triethylsiloxy-1,1,2,2-te
  • JP-A-2014-521772, JP-A-2014-523939, and JP-A-2014-521772 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the content of the radical polymerization initiator A is preferably 0.1 to 20% by mass with respect to the total solid content of the curable composition.
  • the upper limit is preferably 15% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1% by mass or more.
  • the curable composition preferably contains 1 to 200 parts by mass of the radical polymerization initiator A with respect to 100 parts by mass of the radically polymerizable compound. 5 mass parts or more are preferable, 10 mass parts or more are more preferable, and 20 mass parts or more are still more preferable. 150 mass parts or less are preferable, 120 mass parts or less are more preferable, and 100 mass parts or less are still more preferable.
  • the ratio of the radical polymerization initiator A and the radically polymerizable compound is in the above-mentioned range, it is easy to form a cured film in which the generation of aggregates derived from the near infrared absorbing dye is further suppressed.
  • the curable composition of this invention contains the radical polymerization initiator B different from the radical polymerization initiator A mentioned above as a radical polymerization initiator. According to this aspect, the effects of the present invention tend to be obtained more significantly. Furthermore, it is possible to further improve the spectral characteristics (for example, near infrared ray shielding properties) of the obtained cured film. It is speculated that the combined use of the radical polymerization initiator A and the radical polymerization initiator B can improve the association and the like of the near infrared absorbing dye at the time of film formation.
  • the curability of the curable composition can be appropriately adjusted, and as a result, near infrared absorption It is easy to form the cured film in which generation
  • radical polymerization initiator B used by this invention, the compound which generate
  • the radical polymerization initiator B is preferably a compound that generates a radical by the action of at least heat.
  • the thermal decomposition temperature of the radical polymerization initiator B is preferably 100 to 270.degree.
  • the upper limit is more preferably 240 ° C. or less, still more preferably 220 ° C. or less.
  • the lower limit is more preferably 120 ° C. or more, and still more preferably 140 ° C. or more. If the thermal decomposition temperature of the radical polymerization initiator B is in the above range, the storage stability of the curable composition is good.
  • the absolute value of the difference between the thermal decomposition temperature of the radical polymerization initiator A and the thermal decomposition temperature of the radical polymerization initiator B is preferably 12 ° C. or more, more preferably 13 ° C. or more.
  • the upper limit is preferably 35 ° C. or less, more preferably 34 ° C. or less. If the difference between the two thermal decomposition temperatures is in the above range, the effect of achieving both thermosetting and storage stability can be obtained.
  • the thermal decomposition rate of the radical polymerization initiator B is preferably 3 to 30 W / ° C. ⁇ mol.
  • the upper limit is preferably 20 W / ° C. ⁇ mol or less, more preferably 10 W / ° C. ⁇ mol or less, and still more preferably 7 W / ° C. ⁇ mol or less. If the thermal decomposition rate of the radical polymerization initiator B is in the above range, the curability of the curable composition can be appropriately adjusted, and a cured film is formed in which the generation of aggregates derived from the near infrared absorbing dye is further suppressed. easy.
  • the absolute value of the difference between the thermal decomposition rate of the radical polymerization initiator A and the thermal decomposition rate of the radical polymerization initiator B is preferably 27 W / ° C. ⁇ mol or more, and more preferably 30 W / ° C. ⁇ mol or more preferable.
  • the upper limit is preferably 55 W / ° C. ⁇ mol or less, more preferably 53 W / ° C. ⁇ mol or less. If the difference between the two thermal decomposition rates is in the above range, the curability of the curable composition can be appropriately adjusted, and a cured film can be easily formed in which the generation of aggregates derived from the near-infrared absorbing dye is further suppressed.
  • radical polymerization initiator B examples include ⁇ -hydroxyacetophenone compounds, ⁇ -aminoacetophenone compounds, benzyl dimethyl ketal compounds, oxime compounds, organic peroxides, azo compounds and the like, and generation of aggregates derived from near infrared absorbing dyes ⁇ -hydroxyacetophenone compounds, ⁇ -aminoacetophenone compounds, benzyl dimethyl ketal compounds and oxime compounds are preferred, since ⁇ -hydroxyacetophenone compounds, ⁇ -aminoacetophenone compounds, benzyl dimethyl ketal compounds and ⁇ -hydroxy compounds are preferred, because Acetophenone compounds and benzyldimethyl ketal compounds are more preferred, and ⁇ -hydroxyacetophenone compounds are even more preferred.
  • Examples of the ⁇ -hydroxyacetophenone compound include compounds represented by the following formula (T-11).
  • Formula (T-11) Wherein Rt 11 represents a substituent, Rt 12 and Rt 13 are each independently, represent a hydrogen atom or a substituent, may form a ring Rt 12 and Rt 13 are mutually, m represents an integer of 0 to 4;
  • the substituent Rt 11 represents, and a substituted group mentioned above, an alkyl group, an alkoxy group are preferred.
  • the alkyl group and the alkoxy group may be unsubstituted or may have a substituent.
  • a substituent a hydroxy group etc. are mentioned.
  • Rt 12 and Rt 13 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • substituents include the above-mentioned substituents, and an alkyl group and an aryl group are preferable.
  • Rt 12 and Rt 13 ring bonded to each other rings preferably 4 to 8 carbon atoms, more preferably an aliphatic ring having 4 to 8 carbon atoms may form.
  • ⁇ -hydroxyacetophenone compound examples include 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone and 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propane-1-l. On etc. are mentioned.
  • ⁇ -hydroxyacetophenone compounds examples include IRGACURE-184, IRGACURE-2959 (manufactured by BASF AG), and the like.
  • ⁇ -aminoacetophenone compound 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl)- Examples include 1-butanone, 2-dimethylamino-2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone and the like.
  • Examples of commercially available ⁇ -aminoacetophenone compounds include IRGACURE-907, IRGACURE-369, and IRGACURE-379 (manufactured by BASF Corporation).
  • Examples of the benzyl dimethyl ketal compound include 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and the like.
  • Examples of commercially available products include IRGACURE-651 (manufactured by BASF).
  • azo compound 2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), dimethyl-2,2'-azobis ( 2-Methylpropionate), 2,2'-azobis (2-methylbutyronitrile), 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2'-azobis [N- (2- Propenyl) 2-methylpropionamide], 1-[(1-cyano-1-methylethyl) azo] formamide, 2,2'-azobis (N-butyl-2-methylpropionamide), 2,2'-azobis (N-cyclohexyl-2-methylpropionamide) and the like.
  • azo compound Commercial products of the azo compound include V-70, V-65, V-60, V-59, V-40, V-30, V-501, V-601, VE-073, VA-080, VA- 086, VF-096, VAm-110, VAm-111, VA-044, VA-046B, VA-060, VA-061, V-50, VA-057, VA-067, VR-110 (more, Wako Pure) Pharmaceutical Industries Ltd. make) etc. are mentioned.
  • organic peroxide methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, 3,3,5-trimethylcyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3, 3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tert-butylperoxy) cyclohexane, 2,2-bis (tert-butylperoxy) butane, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide Peroxide, paramethan hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide Tert-Butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide, bis (tert-butylperoxyisopropyl
  • Examples of oxime compounds include compounds described in JP-A-2001-233842, compounds described in JP-A-2000-80068, compounds described in JP-A-2006-342166, and JP-A-2000-66385.
  • oxime compound examples include 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one, 3-propionyloxyiminobutan-2-one, 2-acetoxyiminopentan-3-one, 2-Acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3- (4-toluenesulfonyloxy) iminobutan-2-one, and 2-ethoxycarbonyloxy And imino-1-phenylpropan-1-one and the like.
  • oxime compounds include IRGACURE-OXE01, IRGACURE-OXE02, IRGACURE-OXE03, IRGACURE-OXE04 (all manufactured by BASF Corporation), TR-PBG-304 (manufactured by Changzhou Strong Electronic New Materials Co., Ltd.), Adeka Optomer And N-1919 (photopolymerization initiator 2 described in ADEKA Co., Ltd., JP-A-2012-14052). Further, as the oxime compound, it is also preferable to use a compound having no coloring property or a compound having high transparency and being hard to discolor. Examples of commercially available products include Adeka ARKules NCI-730, NCI-831, NCI-930 (all manufactured by ADEKA Corporation).
  • the oxime compound which has a fluorene ring can also be used as an oxime compound.
  • the oxime compound having a fluorene ring compounds described in JP-A-2014-137466 can be mentioned. This content is incorporated herein.
  • An oxime compound having a benzofuran skeleton can also be used as the oxime compound. Specific examples thereof include the compounds OE-01 to OE-75 described in International Publication WO 2015/036910.
  • the oxime compound which has a fluorine atom can also be used as an oxime compound.
  • the oxime compound having a fluorine atom examples include the compounds described in JP-A-2010-262028, the compounds 24 and 36 to 40 described in JP-A-2014-500852, and JP-A-2013-164471. And the like (C-3) and the like. The contents of these are incorporated herein.
  • the oxime compound which has a nitro group can be used as an oxime compound.
  • the oxime compound having a nitro group is also preferably a dimer.
  • oxime compound having a nitro group compounds described in paragraphs 0031 to 0047 of JP 2013-114249 A, paragraphs 0008 to 0012 and 0070 to 0079 of JP 2014-137466 A, and patent 4223071 Compounds described in Paragraph Nos. 0007 to 0025 of the gazette, Adeka Arkles NCI-831 (manufactured by ADEKA Co., Ltd.), and the like.
  • oxime compounds preferably used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
  • the content of the radical polymerization initiator B is preferably 0.1 to 20% by mass with respect to the total solid content of the curable composition.
  • the upper limit is preferably 15% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1% by mass or more.
  • the content of the radical polymerization initiator B is preferably 1 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the radically polymerizable compound. 5 mass parts or more are preferable, 10 mass parts or more are more preferable, and 20 mass parts or more are still more preferable. 150 mass parts or less are preferable, 120 mass parts or less are more preferable, and 100 mass parts or less are still more preferable.
  • the ratio of the radical polymerization initiator B to the radically polymerizable compound is in the above range, a cured film can be easily formed in which the generation of aggregates derived from the near infrared absorbing dye is further suppressed.
  • the lower limit is preferably 0.5 parts by mass or more, more preferably 1 part by mass or more, and still more preferably 10 parts by mass or more. 1500 mass parts or less are preferable, 1000 mass parts or less are more preferable, and 500 mass parts or less are still more preferable.
  • the ratio of the radical polymerization initiator A and the radical polymerization initiator B is in the above range, the spectral characteristics are good, and it is easy to form a cured film in which the generation of aggregates derived from the near infrared absorbing dye is further suppressed.
  • the curable composition of the present invention may contain a compound having a cyclic ether group.
  • a cyclic ether group an epoxy group and oxetanyl group are mentioned, and an epoxy group is preferable.
  • the compound having a cyclic ether group is preferably a compound having two or more cyclic ether groups in one molecule.
  • the upper limit of the number of cyclic ether groups in the compound having cyclic ether groups is preferably 100 or less, more preferably 10 or less, and still more preferably 5 or less.
  • the cyclic ether group equivalent of the compound having a cyclic ether group (molecular weight of the compound having a cyclic ether group / the number of cyclic ether groups in the compound having a cyclic ether group) is preferably 50 to 400 g / equivalent.
  • the lower limit of the cyclic ether group equivalent is preferably 100 g / equivalent or more, and more preferably 150 g / equivalent or more.
  • the upper limit is preferably 350 g / equivalent or less, more preferably 300 g / equivalent or less.
  • the epoxy group equivalent (molecular weight of the compound having an epoxy group / number of epoxy groups in the compound having an epoxy group) is 50 to 400 g / equivalent Is preferred.
  • the lower limit of the epoxy group equivalent is preferably 100 g / equivalent or more, and more preferably 150 g / equivalent or more.
  • the upper limit is preferably 350 g / equivalent or less, more preferably 300 g / equivalent or less.
  • the compound having a cyclic ether group may be a low molecular weight compound (for example, a molecular weight of less than 1000) or a macromolecular compound (for example, a molecular weight of 1000 or more, and in the case of a polymer, a weight average molecular weight of 1000 or more) It is also good.
  • the molecular weight (weight average molecular weight in the case of a polymer) of the compound having a cyclic ether group is preferably 200 to 100,000, and more preferably 500 to 50,000. 3000 or less is preferable, as for the upper limit of molecular weight (in the case of a polymer, weight average molecular weight), 2000 or less is more preferable, and 1500 or less is still more preferable.
  • the compound having a cyclic ether group is preferably a compound having a repeating unit.
  • the cyclic ether group may be on the side chain of the repeating unit or may be on the main chain terminal.
  • compounds having a cyclic ether group in a side chain are preferable because they are surface-adsorbed to a support to easily obtain more excellent water adhesion.
  • the compound having a cyclic ether group is preferably a compound having a structure having an aromatic ring and / or an aliphatic ring, and more preferably a compound having a structure having an aromatic ring.
  • a compound having an aromatic ring is used as the compound having a cyclic ether group, the compound easily interacts with a near infrared absorbing dye and easily forms a cured film having more excellent water resistance.
  • the aromatic ring is preferably an aromatic hydrocarbon ring.
  • the aromatic ring may be a single ring or a fused ring.
  • Specific examples of the aromatic ring include a benzene ring, a naphthalene ring and the like, and it is preferable to include at least a naphthalene ring because the compatibility with the near infrared absorbing dye is enhanced and the excellent water adhesion is easily obtained .
  • the number of aromatic rings is preferably one or more, and the compatibility with the near infrared absorbing dye is enhanced, and excellent water-resistant adhesion is obtained. It is more preferable that it is 2 or more from the reason of being easy.
  • the upper limit is preferably 5 or less, more preferably 4 or less.
  • the number of aromatic rings in one repeating unit is preferably 1 to 10. Seven or less are preferable and, as for the upper limit, five or less are more preferable.
  • the lower limit is preferably 2 or more.
  • the number of aromatic rings in the compound having a cyclic ether group is a total value of the number of monocyclic aromatic rings and the number of rings constituting a fused ring. For example, in the case of a compound having a naphthalene ring as an aromatic ring in a compound having a cyclic ether group, the number of aromatic rings of the compound having this cyclic ether group is two.
  • the number of aromatic rings of the compound having a cyclic ether group is three.
  • the cyclic ether group When the compound having a cyclic ether group is a compound having a structure having an aromatic ring and / or an aliphatic ring, the cyclic ether group may be bonded to an aromatic ring and / or an aliphatic ring via a single bond or a linking group. It is preferred that they be linked.
  • an alkylene group an arylene group, -NR'- (R 'represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, hydrogen Atoms are preferable), -SO 2- , -CO-, -COO-, -OCO-, -O-, -S- and a group formed by combining these.
  • EPICLON N-660, EPICLON N-665, EPICLON N-670, EPICLON N-673, EPICLON N-680, EPICLON N-690, EPICLON N-695 (all manufactured by DIC Corporation) as cresol novolac epoxy resins And EOCN-1020 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and the like.
  • ADEKA RESIN EP-4080S, EP-4085S, EP-4088S (all, made by ADEKA), Celoxide 2021 P, Celoxide 2081, Celoxide 2083, Celoxide 2085, EHPE 3150, EPOLEAD PB 3600, EPOLEAD PB 4700 (all manufactured by Daicel Co., Ltd.), Denacol EX-212L, EX-214L, EX-216L, EX-321L, EX-850L (all manufactured by Nagase ChemteX Co., Ltd.), and the like.
  • OXT-101, OXT-121, OXT-212, OXT-221 (all manufactured by Toagosei Co., Ltd.), OXE-10, OXE-30 (all, Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) and the like.
  • the content of the compound having a cyclic ether group is preferably 1 to 45% by mass based on the total solid content of the curable composition. 2 mass% or more is preferable, and, as for a lower limit, 3 mass% or more is more preferable. 40 mass% or less is preferable, and, as for the upper limit, 30 mass% or less is more preferable. Moreover, it is also preferable that the curable composition of this invention does not contain the compound which has a cyclic ether group substantially.
  • Having substantially no compound having a cyclic ether group means that the content of the compound having a cyclic ether group is 0.1% by mass or less based on the total solid content of the curable composition, The content is preferably 0.05% by mass or less, more preferably 0.01% by mass or less, and even more preferably not contained.
  • the curable composition of the present invention can contain a resin.
  • the resin is blended, for example, in applications of dispersing particles such as pigments in a composition and applications of a binder.
  • grains, such as a pigment is also called a dispersing agent.
  • such application of the resin is an example, and the resin can also be used for purposes other than such application.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the resin is preferably 2,000 to 2,000,000.
  • the upper limit is preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less.
  • 3,000 or more are preferable and, as for a minimum, 5,000 or more are more preferable.
  • One of these resins may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used.
  • cyclic olefin resin norbornene resin can be preferably used from a viewpoint of heat resistance improvement.
  • Examples of commercially available products of norbornene resin include ARTON series (for example, ARTON F 4520) manufactured by JSR Corporation.
  • ARTON series for example, ARTON F 4520
  • JSR Corporation examples of commercially available products of norbornene resin
  • a resin described in an example of International Publication WO 2016/088645, a resin described in JP-A-2017-57265, a resin described in JP-A-2017-32685, JP-A-2017 It is also possible to use the resin described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 0-75248 and the resin described in JP-A-2017-066240, the contents of which are incorporated herein.
  • the resin used in the present invention may have an acid group.
  • an acid group a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfo group, a phenolic hydroxyl group etc. are mentioned, for example, A carboxyl group is preferable.
  • These acid groups may be of only one type, or of two or more types.
  • the resin having an acid group can also be used as an alkali-soluble resin.
  • a polymer having a carboxyl group in a side chain is preferable.
  • alkali-soluble polymers such as methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partially esterified maleic acid copolymer, novolac resin, etc.
  • a phenolic resin, an acidic cellulose derivative having a carboxyl group in a side chain, and a resin obtained by adding an acid anhydride to a polymer having a hydroxy group are mentioned.
  • copolymers of (meth) acrylic acid and other monomers copolymerizable therewith are suitable as the alkali-soluble resin.
  • Other monomers copolymerizable with (meth) acrylic acid include alkyl (meth) acrylates, aryl (meth) acrylates, vinyl compounds and the like.
  • alkyl (meth) acrylate and aryl (meth) acrylate methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, Hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, tolyl (meth) acrylate, naphthyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, etc., vinyl compounds such as styrene, ⁇ -methylstyrene, vinyl toluene, glycidyl methacrylate, acrylonitrile, vinyl acetate, N-vinyl pyrrolidone, tetrahydrofurfur
  • N-substituted maleimide monomers described in JP-A-10-300922 such as N-phenyl maleimide, N-cyclohexyl maleimide and the like can also be used.
  • These other monomers copolymerizable with (meth) acrylic acid may be only one type, or two or more types.
  • the resin having an acid group may further have a polymerizable group.
  • the polymerizable group include (meth) allyl group and (meth) acryloyl group.
  • Commercially available products include Dianal NR series (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Photomer 6173 (Carboxyl group-containing polyurethane acrylate oligomer, manufactured by Diamond Shamrock Co., Ltd.), Biscoat R-264, KS Resist 106 (all are Osaka organic) Chemical Industry Co., Ltd.
  • Cyclomer P series for example, ACA 230 AA
  • Plaxel CF 200 series all from Daicel Co., Ltd.
  • Ebecryl 3800 Daicel UBC Co., Ltd.
  • Acrycure RD-F8 And the like manufactured by Nippon Shokuhin Co., Ltd.
  • Resin having an acid group is benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymer, benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate copolymer, benzyl (meth)
  • a multicomponent copolymer consisting of acrylate / (meth) acrylic acid / other monomers can be preferably used. Further, those obtained by copolymerizing 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer described in JP-A No.
  • the resin having an acid group is a monomer containing a compound represented by the following formula (ED1) and / or a compound represented by the following formula (ED2) (hereinafter, these compounds may be referred to as "ether dimer”). It is also preferable that it is a polymer containing a repeating unit derived from a component.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent.
  • R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms.
  • the description in JP-A-2010-168539 can be referred to.
  • ether dimer for example, paragraph “0317” of JP-A-2013-29760 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the ether dimer may be only one type, or two or more types.
  • the resin having an acid group may contain a repeating unit derived from a compound represented by the following formula (X).
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 2 represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms
  • R 3 has a hydrogen atom or 1 to 20 carbon atoms which may contain a benzene ring.
  • Represents an alkyl group of n represents an integer of 1 to 15.
  • the resin having an acid group is described in JP-A-2012-208494, paragraphs 0558 to 0571 (corresponding US patent application publication No. 2012/0235099, paragraphs 0685 to 0700), JP-A-2012-198408.
  • No. 0076-0099 can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
  • the resin which has an acidic radical can also use a commercial item.
  • Acrybase FF-426 manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.
  • the like can be mentioned.
  • the acid value of the resin having an acid group is preferably 30 to 200 mg KOH / g.
  • the lower limit is preferably 50 mg KOH / g or more, and more preferably 70 mg KOH / g or more.
  • 150 mgKOH / g or less is preferable and 120 mgKOH / g or less of an upper limit is more preferable.
  • resin which has an acidic radical resin of the following structure etc. are mentioned, for example.
  • resin of the following structural formulae Me represents a methyl group.
  • a resin having repeating units represented by formulas (A3-1) to (A3-7).
  • R 5 represents a hydrogen atom or an alkyl group
  • L 4 to L 7 each independently represent a single bond or a divalent linking group
  • R 10 to R 13 each independently represent an alkyl group or an aryl group .
  • Each of R 14 and R 15 independently represents a hydrogen atom or a substituent.
  • R 5 represents a hydrogen atom or an alkyl group.
  • the carbon number of the alkyl group is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 3, and particularly preferably 1.
  • R 5 is preferably a hydrogen atom or a methyl group.
  • L 4 to L 7 each independently represent a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group include an alkylene group, an arylene group, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -SO 2- , -NR 10- (R 10 is a hydrogen atom or Represents an alkyl group, preferably a hydrogen atom) Or a group consisting of a combination of these.
  • the carbon number of the alkylene group is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 15, and still more preferably 1 to 10.
  • the alkylene group may have a substituent, but is preferably unsubstituted.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic.
  • the cyclic alkylene group may be either monocyclic or polycyclic.
  • the carbon number of the arylene group is preferably 6 to 18, more preferably 6 to 14, and still more preferably 6 to 10.
  • the alkyl group represented by R 10 to R 13 may be linear, branched or cyclic, preferably cyclic.
  • the alkyl group may have a substituent or may be unsubstituted.
  • the carbon number of the alkyl group is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, and still more preferably 1 to 10.
  • the carbon number of the aryl group represented by R 10 to R 13 is preferably 6 to 18, more preferably 6 to 12, and still more preferably 6.
  • R 10 is preferably a cyclic alkyl group or an aryl group.
  • R 11 and R 12 are preferably linear or branched alkyl groups.
  • R 13 is preferably a linear alkyl group, a branched alkyl group or an aryl group.
  • the substituent represented by R 14 and R 15 is a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heteroaryloxy group, an alkylthio group , Arylthio group, heteroarylthio group, -NR a1 R a2 , -COR a3 , -COOR a4 , -OCOR a5 , -NHCOR a6 , -CONR a7 R a8 , -NHCONR a9 R a10 , -NHCOOR a11 , -SO 2 R a12 , -SO 2 OR a13 , -NHSO 2 R a14 or -SO 2 NR a15 R a16 may be mentioned.
  • Each of R a1 to R a16 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heteroaryl group.
  • at least one of R 14 and R 15 preferably represents a cyano group or -COOR a4 .
  • R a4 preferably represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
  • Examples of commercially available resins having a repeating unit represented by the formula (A3-7) include ARTON F 4520 (manufactured by JSR Corporation).
  • ARTON F 4520 manufactured by JSR Corporation
  • the descriptions in paragraphs “0053” to “0075” and “0127 to 0130” of JP 2011-100084 A can be referred to, and the contents thereof are described in this specification. Incorporated into the book.
  • the curable composition of the present invention can also contain a resin as a dispersant.
  • a dispersant includes an acidic dispersant (acidic resin) and a basic dispersant (basic resin).
  • the acidic dispersant (acidic resin) represents a resin in which the amount of acid groups is larger than the amount of basic groups.
  • the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a resin in which the amount of acid groups accounts for 70 mol% or more when the total amount of the amount of acid groups and the amount of basic groups is 100 mol%. Resins consisting only of groups are more preferred.
  • the acid group of the acidic dispersant is preferably a carboxyl group.
  • the acid value of the acidic dispersant (acidic resin) is preferably 40 to 105 mg KOH / g, more preferably 50 to 105 mg KOH / g, and still more preferably 60 to 105 mg KOH / g.
  • a basic dispersing agent (basic resin) represents resin whose quantity of a basic group is larger than the quantity of an acidic radical.
  • the basic dispersant (basic resin) is preferably a resin in which the amount of basic groups exceeds 50% by mole, where the total amount of the amount of acid groups and the amount of basic groups is 100% by mole.
  • the basic group possessed by the basic dispersant is preferably an amino group.
  • the resin used as the dispersant preferably contains a repeating unit having an acid group.
  • the resin used as the dispersing agent contains a repeating unit having an acid group, it is possible to further reduce the residue generated on the base of the pixel when forming a pattern by photolithography.
  • the resin used as the dispersant is a graft copolymer.
  • the graft copolymer is excellent in the dispersibility of the pigment and the dispersion stability after aging since it has an affinity to a solvent by the graft chain.
  • the details of the graft copolymer can be referred to the description of Paragraph Nos. 0025 to 0094 of JP-A-2012-255128, the contents of which are incorporated herein.
  • the following resin is mentioned as a specific example of a graft copolymer.
  • the following resin is also a resin having an acid group (alkali soluble resin).
  • examples of the graft copolymer include the resins described in Paragraph Nos. 0072 to 0094 of JP 2012-255128 A, the contents of which are incorporated herein.
  • an oligoimine dispersant containing a nitrogen atom in at least one of the main chain and the side chain comprises a structural unit having a partial structure X having a functional group having a pKa of 14 or less and a side chain containing a side chain Y having an atom number of 40 to 10,000, and having a main chain and a side chain
  • the resin which has a basic nitrogen atom in at least one side is preferable.
  • the basic nitrogen atom is not particularly limited as long as it is a nitrogen atom exhibiting basicity.
  • oligoimine dispersant With regard to the oligoimine dispersant, the description in paragraphs [0102] to [0166] of JP 2012-255128 A can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein. Specific examples of the oligoimine dispersant include the following.
  • the following resin is also a resin having an acid group (alkali soluble resin). Further, as the oligoimine dispersant, the resins described in paragraph Nos. 0168 to 0174 of JP 2012-255128 A can be used.
  • the dispersant is also available as a commercial product, and as such specific examples, Disperbyk-111 (manufactured by BYK Chemie), Solsparse 76500 (manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd.) and the like can be mentioned.
  • pigment dispersants described in paragraphs 0041 to 0130 of JP-A-2014-130338 can also be used, the contents of which are incorporated herein.
  • the resin etc. which have an acidic radical mentioned above can also be used as a dispersing agent.
  • the content of the resin is preferably 1 to 60% by mass with respect to the total solid content of the curable composition. 5 mass% or more is preferable, and, as for a lower limit, 7 mass% or more is more preferable. 50 mass% or less is preferable, and, as for the upper limit, 30 mass% or less is more preferable.
  • the content of the dispersant is preferably 0.1 to 40% by mass with respect to the total solid content of the curable composition.
  • the upper limit is preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less. 0.5 mass% or more is preferable, and, as for a minimum, 1 mass% or more is more preferable.
  • the content of the dispersant is preferably 1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment.
  • the upper limit is preferably 80 parts by mass or less, and more preferably 60 parts by mass or less. 2.5 mass parts or more are preferable, and 5 mass parts or more are more preferable for a minimum.
  • the curable composition of the present invention can contain a chromatic coloring agent.
  • a chromatic coloring agent means a coloring agent other than a white coloring agent and a black coloring agent.
  • the chromatic coloring agent is preferably a coloring agent having absorption in the wavelength range of 400 nm to less than 650 nm.
  • the chromatic coloring agent may be a pigment or a dye.
  • the pigment is preferably an organic pigment.
  • Examples of the organic pigment include the following. Color Index (CI) Pigment Yellow 1,2,3,4,5,6,10,11,12,13,14,15,16,17,18,20,24,31,32,34, 35, 35: 1, 36, 36: 1, 37, 37: 1, 40, 42, 43, 35, 53, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 86, 93, 94, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 125, 126, 127, 128, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167
  • the dye is not particularly limited, and known dyes can be used.
  • the chemical structure includes pyrazole azo, anilinoazo, triarylmethane, anthraquinone, anthrapyridone, benzylidene, oxonol, pyrazolotriazole azo, pyridone azo, cyanine, phenothiazine, pyrrolopyrazole azomethine, Dyes such as xanthene dyes, phthalocyanine dyes, benzopyran dyes, indigo dyes, and pyromethene dyes can be used. In addition, multimers of these dyes may be used. Further, dyes described in JP-A-2015-028144 and JP-A-2015-34966 can also be used.
  • the content of the chromatic colorant is preferably 0.1 to 70% by mass with respect to the total solid content of the curable composition.
  • 0.5 mass% or more is preferable, and, as for a lower limit, 1.0 mass% or more is more preferable.
  • 60 mass% or less is preferable, and, as for the upper limit, 50 mass% or less is more preferable.
  • the total amount of the chromatic coloring agent and the near infrared absorbing dye is preferably 1 to 80% by mass with respect to the total solid content of the curable composition. 5 mass% or more is preferable, and, as for a lower limit, 10 mass% or more is more preferable.
  • the curable composition of the present invention contains two or more types of chromatic coloring agents, the total amount thereof is preferably within the above range. It is also preferable that the curable composition of the present invention contains substantially no chromatic coloring agent.
  • the phrase "containing substantially no chromatic colorant" means that the content of the chromatic colorant is preferably 0.05% by mass or less, based on the total solid content of the curable composition, 0.01% by mass It is more preferable that it is the following and it is still more preferable that it does not contain a chromatic coloring agent.
  • the curable composition of the present invention can also contain a coloring material that transmits infrared rays and blocks visible light (hereinafter, also referred to as a coloring material that blocks visible light).
  • the color material that blocks visible light is preferably a color material that absorbs light in the violet to red wavelength range.
  • the coloring material for blocking visible light is preferably a coloring material for blocking light in a wavelength range of 450 to 650 nm.
  • the coloring material that blocks visible light is a coloring material that transmits light with a wavelength of 900 to 1300 nm.
  • the coloring material that blocks visible light satisfy at least one of the following requirements (A) and (B).
  • a black color is formed by a combination of two or more chromatic colorants, including two or more chromatic colorants.
  • the organic black colorant examples include bisbenzofuranone compounds, azomethine compounds, perylene compounds, azo compounds and the like, with bisbenzofuranone compounds and perylene compounds being preferred.
  • the bisbenzofuranone compounds those described in JP-A-2010-534726, JP-A-2012-515233, JP-A-2012-515234, International Publication WO 2014/208348, JP-A-2015-525260, etc.
  • the compound is mentioned, for example, it is available as "Irgaphor Black” made by BASF.
  • perylene compounds C.I. I. Pigment Black 31, 32 and the like.
  • the azomethine compound examples include compounds described in JP-A-1-170601, JP-A-2-32664 and the like, and can be obtained, for example, as "Chromofine Black A1103" manufactured by Dainichiseika.
  • Examples of combinations of chromatic colorants in the case of forming a black color by the combination of two or more chromatic colorants include the following. (1) An embodiment containing a yellow colorant, a blue colorant, a purple colorant and a red colorant. (2) An embodiment containing a yellow colorant, a blue colorant and a red colorant. (3) An embodiment containing a yellow colorant, a purple colorant and a red colorant. (4) An embodiment containing a yellow colorant and a purple colorant. (5) An embodiment containing a green coloring agent, a blue coloring agent, a purple coloring agent and a red coloring agent. (6) An embodiment containing a purple colorant and an orange colorant. (7) An embodiment containing a green colorant, a purple colorant and a red colorant. (8) An embodiment containing a green colorant and a red colorant.
  • the content of the coloring material that blocks visible light is preferably 60% by mass or less based on the total solid content of the curable composition. 50 mass% or less is more preferable, 30 mass% or less is more preferable, 20 mass% or less is still more preferable, and 15 mass% or less is especially preferable.
  • the lower limit may be, for example, 0.1% by mass or more and may be 0.5% by mass or more.
  • the curable composition of this invention does not contain the coloring material which shades visible light substantially.
  • the content of the coloring material for blocking visible light is preferably 0.05% by mass or less based on the total solid content of the curable composition that substantially no coloring material for blocking visible light is contained. It is more preferable that it is 0.01 mass% or less, and it is further more preferable not to contain the coloring material which shields visible light.
  • the curable composition of the present invention can further contain a pigment derivative.
  • the pigment derivative includes a compound in which at least one group selected from an acid group and a basic group is bonded to a dye skeleton.
  • the compound represented by Formula (B1) is preferable.
  • P represents a dye skeleton
  • L represents a single bond or a linking group
  • X represents an acid group or a basic group
  • m represents an integer of 1 or more
  • n represents an integer of 1 or more
  • the plurality of L and X may be different from each other, and when n is 2 or more, the plurality of X may be different from each other.
  • the dye skeleton represented by P includes pyrrolopyrrole dye skeleton, diketopyrrolopyrrole dye skeleton, quinacridone dye skeleton, anthraquinone dye skeleton, dianthraquinone dye skeleton, benzoisoindole dye skeleton, thiazine indigo dye skeleton, azo dye skeleton, quinophthalone Dye skeleton, phthalocyanine dye skeleton, naphthalocyanine dye skeleton, dioxazine dye skeleton, perylene dye skeleton, perinone dye skeleton, benzimidazolone dye skeleton, benzothiazole dye skeleton, benzoimidazole dye skeleton, and at least one selected from benzoimidazole dye skeleton And at least one selected from pyrrolopyrrole dye skeleton, diketopyrrolopyrrole dye skeleton, quinacridone dye skeleton and
  • the linking group represented by L includes a group consisting of a hydrocarbon group, a heterocyclic group, -NR-, -SO 2- , -S-, -O-, -CO- or a combination thereof.
  • R represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
  • Examples of the acid group represented by X include a carboxyl group, a sulfo group, a carboxylic acid amide group, a sulfonic acid amide group, and an imidic acid group.
  • a group represented by -NHCOR X1 is preferable.
  • the sulfonic acid amide group is preferably a group represented by —NHSO 2 R X2 .
  • the imide group is preferably a group represented by —SO 2 NHSO 2 R X3 , —CONHSO 2 R X4 , —CONHCOR X5 or —SO 2 NHCOR X6 .
  • Each of R X1 to R X6 independently represents a hydrocarbon group or a heterocyclic group.
  • the hydrocarbon group and the heterocyclic group which R X1 to R X6 represent may further have a substituent.
  • the substituent T described in the above-mentioned formula (PP) can be mentioned, and a halogen atom is preferable, and a fluorine atom is more preferable.
  • An amino group is mentioned as a basic group which X represents.
  • a salt structure which X represents the salt of the acid group or basic group mentioned above is mentioned.
  • Hei 3-45662 Hei 4-285669, Hei 6-145546, Hei 6-212088, Hei 6-240158, Hei 10-30063, Compounds described in JP-A-10-195326, International Publication WO 2011/024896, paragraphs 0086 to 0098, International Publication WO 2012/102399, paragraphs 0063 to 0094, etc., Patent 5299151 Can also be used, the contents of which are incorporated herein.
  • the content of the pigment derivative is preferably 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment. 3 mass parts or more are preferable, and 5 mass parts or more of a lower limit are more preferable. 40 mass parts or less are preferable, and 30 mass parts or less are more preferable.
  • a pigment derivative may use only 1 type and may use 2 or more types. When using 2 or more types, it is preferable that a total amount becomes said range.
  • the curable composition of the present invention preferably contains a solvent.
  • the solvent include organic solvents.
  • the type of solvent is not particularly limited as long as the solubility of each component and the coating property of the composition are satisfied.
  • the organic solvent include, for example, esters, ethers, ketones, aromatic hydrocarbons and the like. For details of these, reference can be made to paragraph No. 0223 of International Publication WO 2015/166779, the content of which is incorporated herein. Further, ester solvents substituted with a cyclic alkyl group and ketone solvents substituted with a cyclic alkyl group can also be preferably used.
  • organic solvent examples include dichloromethane, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2-heptanone, cyclohexanone, Examples include cyclohexyl acetate, cyclopentanone, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether, and propylene glycol monomethyl ether acetate.
  • the organic solvent may be used singly or in combination of two or more. However, it may be better to reduce aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, ethylbenzene etc.) as a solvent due to environmental reasons etc. (For example, 50 mass ppm (parts per part of the total amount of organic solvent) or less, or 10 mass ppm or less, or 1 mass ppm or less).
  • a solvent having a low metal content it is preferable to use a solvent having a low metal content.
  • the metal content of the solvent is preferably, for example, 10 parts by weight (pps) or less. If necessary, a solvent having a mass ppt (parts per trillion) level may be used, and such a high purity solvent is provided by, for example, Toyo Gosei Co., Ltd. (Chemical Industry Daily, November 13, 2015).
  • a method of removing impurities such as metal from the solvent for example, distillation (molecular distillation, thin film distillation, etc.) and filtration using a filter can be mentioned.
  • distillation molecular distillation, thin film distillation, etc.
  • filtration using a filter As a filter hole diameter of a filter used for filtration, 10 micrometers or less are preferred, 5 micrometers or less are more preferred, and 3 micrometers or less are still more preferred.
  • the material of the filter is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene or nylon.
  • the solvent may contain isomers (compounds having the same number of atoms but different structures). Moreover, only one type of isomer may be contained, or two or more types may be contained.
  • the organic solvent preferably has a peroxide content of 0.8 mmol / L or less, and more preferably contains substantially no peroxide.
  • the content of the solvent is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, and still more preferably 25 to 75% by mass, with respect to the total amount of the curable composition.
  • the total amount thereof is preferably in the above range.
  • the curable composition does not contain aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc.) as a solvent because of environmental reasons and the like.
  • the content of the solvent is preferably 10 to 97% by mass with respect to the total amount of the curable composition.
  • the lower limit is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, still more preferably 50% by mass or more, still more preferably 60% by mass or more, and 70% by mass It is particularly preferable to be the above.
  • the upper limit is preferably 96% by mass or less, and more preferably 95% by mass or less.
  • the curable composition of the present invention can contain a polymerization inhibitor.
  • a polymerization inhibitor hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, tert-butyl catechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), Examples include 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) and N-nitrosophenylhydroxyamine salts (ammonium salts, cerous salts and the like). Among them, p-methoxyphenol is preferred.
  • the content of the polymerization inhibitor is preferably 0.001 to 5% by mass with respect to the total solid content of the curable composition.
  • the curable composition of the present invention can contain a silane coupling agent.
  • the silane coupling agent means a silane compound having a hydrolyzable group and other functional groups.
  • the hydrolyzable group is a substituent which is directly bonded to a silicon atom and can form a siloxane bond by at least one of a hydrolysis reaction and a condensation reaction.
  • a hydrolysable group a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group etc. are mentioned, for example, An alkoxy group is preferable. That is, the silane coupling agent is preferably a compound having an alkoxysilyl group.
  • silane coupling agent examples include compounds described in paragraphs 0018 to 0036 of JP 2009-288703, and compounds described in paragraphs 0056 to 0066 of JP 2009-242604, the contents of which are It is incorporated in the specification.
  • the silane coupling agent is preferably a silane coupling agent having a urea group.
  • the content of the silane coupling agent is preferably 0.01 to 15.0% by mass, and more preferably 0.05 to 10.0% by mass, with respect to the total solid content of the curable composition. Only one type of silane coupling agent may be used, or two or more types may be used. In the case of two or more types, the total amount is preferably in the above range.
  • the curable composition of the present invention can contain a surfactant.
  • a surfactant various surfactants such as a fluorine-based surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicone surfactant can be used.
  • the surfactant can be referred to in paragraphs [0238 to 0245] of International Publication WO 2015/166779, the content of which is incorporated herein.
  • the surfactant is preferably a fluorine-based surfactant.
  • the liquid properties in particular, the fluidity
  • the liquid saving property can be further improved.
  • a film with small thickness unevenness can also be formed.
  • the fluorine content in the fluorine-based surfactant is preferably 3 to 40% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and particularly preferably 7 to 25% by mass.
  • the fluorine-based surfactant having a fluorine content in this range is effective in terms of the uniformity of the thickness of the coating film and the liquid saving property, and the solubility in the composition is also good.
  • fluorine-based surfactant examples include the surfactants described in paragraph Nos. 0060 to 0064 of JP-A-2014-41318 (paragraph Nos. 0060 to 0064 of corresponding international publication 2014/17669) and the like, and the like. Examples thereof include the surfactants described in paragraphs 0117 to 0132 of JP2011-132503A, the contents of which are incorporated herein.
  • the fluorine-based surfactant is a molecular structure having a functional group containing a fluorine atom, and an acrylic compound in which a portion of the functional group containing a fluorine atom is cleaved when heat is applied to volatilize the fluorine atom is also preferable. It can be used.
  • a fluorochemical surfactant Megafuck DS series (Chemical Chemical Daily, February 22, 2016) manufactured by DIC Corporation (Nikkei Sangyo Shimbun, February 23, 2016), for example, Megafuck DS -21 can be mentioned.
  • the fluorine-based surfactant a block polymer can also be used.
  • the fluorine-based surfactant has a repeating unit derived from a (meth) acrylate compound having a fluorine atom and two or more (preferably five or more) alkyleneoxy groups (preferably ethyleneoxy and propyleneoxy) (meth)
  • a fluorine-containing polymer compound containing a repeating unit derived from an acrylate compound can also be preferably used.
  • the following compounds are also exemplified as the fluorinated surfactant used in the present invention.
  • the weight average molecular weight of the above-mentioned compounds is preferably 3,000 to 50,000, for example, 14,000. In the above compounds,% indicating the proportion of repeating units is mol%.
  • the fluorine-based surfactant it is preferable to use a compound having a fluorine atom and a curable group (hereinafter, also referred to as a fluorine-containing curable compound).
  • a fluorine-containing curable compound By using such a surfactant, the solvent resistance of the obtained cured film can be improved. It is speculated that the reason why excellent solvent resistance can be obtained by using a fluorine-containing curable compound is as follows. Since a fluorine-containing curable compound has a low surface free energy, for example, in a coating film formed by applying a composition on a support such as a substrate, the fluorine-containing compound is present in the vicinity of the coating film surface opposite to the support The curable compound is likely to be unevenly distributed.
  • the curable composition of the present invention By curing the curable composition of the present invention in such a state where the fluorine-containing curable compound is unevenly distributed, a region having a large proportion of the cured product of the fluorine-containing curable compound is formed on the surface far from the substrate. . Due to the presence of such a region, even if the film is immersed in a solvent, the near infrared absorbing dye is unlikely to leak from the film surface, and excellent solvent resistance can be obtained.
  • a (meth) acryloyl group is preferable.
  • the fluorine-containing curable compound preferably has at least one selected from the group consisting of a fluorine atom-substituted alkylene group, a fluorine atom-substituted alkyl group, and a fluorine atom-substituted aryl group.
  • the fluorine atom-substituted alkylene group is preferably a linear, branched or cyclic alkylene group in which at least one hydrogen atom is substituted with a fluorine atom.
  • the fluorine atom-substituted alkyl group is preferably a linear, branched or cyclic alkyl group in which at least one hydrogen atom is substituted with a fluorine atom.
  • the carbon number in the fluorine atom-substituted alkylene group and the fluorine atom-substituted alkyl group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10, and still more preferably 1 to 5. preferable.
  • the aryl group substituted with a fluorine atom is preferably such that the aryl group is directly substituted with a fluorine atom or substituted with a trifluoromethyl group.
  • the fluorine atom-substituted alkylene group, the fluorine atom-substituted alkyl group, and the fluorine atom-substituted aryl group may further have a substituent other than a fluorine atom.
  • paragraphs 0266 to 0272 of JP-A-2011-100089 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the fluorine-containing curable compound is preferably a compound containing a fluoroether group and a curable group.
  • group X group represented by Formula (X)
  • the fluoroether group is preferably a perfluoroalkylene ether group.
  • the perfluoroalkylene ether groups which means that L A in formula (X) is a perfluoroalkylene group.
  • the perfluoroalkylene group means a group in which all hydrogen atoms in the alkylene group are substituted with a fluorine atom.
  • L A represents an alkylene group substituted by a fluorine atom.
  • the carbon number of the fluorine atom-substituted alkylene group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10, and still more preferably 1 to 5.
  • the fluorine atom-substituted alkylene group may be linear or branched.
  • n represents an integer of 1 or more, preferably 1 to 50, and more preferably 1 to 20. When n is 2 or more, a plurality of - (L A -O) - L A medium may be the same or different.
  • the fluorine-containing curable compound may be a monomer or a polymer, but is preferably a polymer.
  • the polymer is preferably a polymer having a repeating unit having a fluoroether group and a repeating unit having a curable group.
  • the polymer is preferably a polymer having a repeating unit represented by the following formula (B1), at least one of a repeating unit represented by the following formula (B2) and a repeating unit represented by the formula (B3), It is more preferable that it is a polymer which has a repeating unit represented by a following formula (B1), and a repeating unit represented by a following formula (B3).
  • R 1 to R 11 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or a halogen atom.
  • L 1 to L 4 each independently represent a single bond or a divalent linking group.
  • X 1 represents a (meth) acryloyl group, an epoxy group, or an oxetanyl group
  • X 2 represents a fluorine atom-substituted alkyl group or a fluorine atom-substituted aryl group
  • X 3 represents a group of formula (X) Represents a group to be represented.
  • R 1 to R 11 are preferably each independently a hydrogen atom or an alkyl group.
  • R 1 to R 11 represent an alkyl group, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms is preferable.
  • R 1 to R 11 represent a halogen atom, a fluorine atom is preferred.
  • L 1 to L 4 represent a divalent linking group
  • an alkylene group which may be substituted by a halogen atom, or a halogen atom is substituted which may be an arylene group, -NR 12 -, - CONR 12 -, - CO -, - CO 2 -, - SO 2 NR 12 -, - O -, - S -, - SO 2 -, or, of A combination is mentioned.
  • the above R 12 represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • the content of the repeating unit represented by the above formula (B1) is preferably 30 to 95 mol%, more preferably 45 to 90 mol%, based on all repeating units in the fluorine-containing curable compound. More preferable.
  • the total content of the repeating unit represented by the above formula (B2) and the repeating unit represented by the formula (B3) is 5 to 70 mol% with respect to all the repeating units in the fluorine-containing curable compound. Is preferable, and 10 to 60 mol% is more preferable.
  • content of the repeating unit represented by Formula (B2) is 0 mol%.
  • the content of the repeating unit represented by the formula (B3) is preferably in the above range.
  • the fluorine-containing curable compound may have another repeating unit other than the repeating units represented by the above formulas (B1) to (B3).
  • the content of the other repeating units is preferably 10 mol% or less, and more preferably 1 mol% or less, based on all the repeating units in the fluorine-containing curable compound.
  • the weight average molecular weight is preferably 5,000 to 100,000, and more preferably 7,000 to 50,000.
  • the degree of dispersion is preferably 1.80 to 3.00, and more preferably 2.00 to 2.90.
  • the fluorine-containing curable compound for example, Megafuck RS-72-K, Megafuck RS-75, Megafuck RS-76-E, Megafuck RS-76-NS, Megafuck RS manufactured by DIC Corporation. -77 mag can be used.
  • the fluorine-containing curable compound compounds described in paragraph Nos. 0050 to 0090 and paragraphs 0289 to 0295 of JP-A-2010-164965 and compounds described in paragraph Nos. 0015 to 0158 of JP-A-2015-117327 can be used. It can also be used.
  • a polymer having a repeating unit represented by (B1-1) and a repeating unit represented by formula (B3-1) can also be used as the fluorine-containing curable compound.
  • X represents a fluoromethylene group or a fluoroethylene group
  • r represents the number of repeating units.
  • nonionic surfactants glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane and ethoxylates and propoxylates thereof (eg, glycerol propoxylate, glycerol ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, Polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester, pluronic L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2 (BASF Company), Tetronics 304, 701, 704, 901, 904, 150R1 (BA).
  • BA nonionic surfactants
  • the content of the surfactant is preferably 0.001% by mass to 5.0% by mass, and more preferably 0.005% to 3.0% by mass, with respect to the total solid content of the curable composition.
  • the surfactant may be only one type, or two or more types. In the case of two or more types, the total amount is preferably in the above range.
  • the curable composition of the present invention can contain an ultraviolet absorber.
  • an ultraviolet absorber conjugated diene compounds, aminobutadiene compounds, methyldibenzoyl compounds, coumarin compounds, salicylate compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, acrylonitrile compounds, hydroxyphenyl triazine compounds and the like can be used. The details of these can be referred to the descriptions of paragraphs 0052 to 0072 of JP 2012-208374 A and paragraphs 0317 to 0334 of JP 2013-68814 A, the contents of which are incorporated herein.
  • Examples of commercially available conjugated diene compounds include UV-503 (manufactured by Daito Kagaku Co., Ltd.).
  • the benzotriazole compound MYUA series (Chemical Industry Daily, February 1, 2016) made by Miyoshi Yushi may be used.
  • the content of the UV absorber is preferably 0.01 to 10% by mass, and more preferably 0.01 to 5% by mass, with respect to the total solid content of the curable composition.
  • the ultraviolet absorber may be used alone or in combination of two or more. When 2 or more types are used, it is preferable that the total amount of them becomes the said range.
  • the curable composition of the present invention may contain, if necessary, a sensitizer, a curing accelerator, a filler, a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer, an adhesion promoter and other auxiliary agents (eg, conductive particles, fillers) Defoamer, flame retardant, leveling agent, peeling accelerator, antioxidant, latent antioxidant, perfume, surface tension regulator, chain transfer agent, etc.).
  • auxiliary agents eg, conductive particles, fillers
  • Defoamer e.g, flame retardant, leveling agent, peeling accelerator, antioxidant, latent antioxidant, perfume, surface tension regulator, chain transfer agent, etc.
  • a phenol compound, a phosphorous acid ester compound, a thioether compound etc. are mentioned as antioxidant.
  • a phenolic compound having a molecular weight of 500 or more, a phosphite compound having a molecular weight of 500 or more, or a thioether compound having a molecular weight of 500 or more is more preferable. You may mix and use these 2 or more types.
  • the phenolic compound any phenolic compound known as a phenolic antioxidant can be used.
  • a preferable phenol compound a hindered phenol compound is mentioned. In particular, compounds having a substituent at a site (ortho position) adjacent to the phenolic hydroxyl group are preferred.
  • the antioxidant is also preferably a compound having a phenol group and a phosphite group in the same molecule.
  • a phosphorus antioxidant can also be used conveniently for antioxidant.
  • a phosphorus antioxidant tris [2-[[2,4,8,10-tetrakis (1,1-dimethylethyl) dibenzo [d, f] [1,3,2] dioxaphosphepin-6 -Yl] oxy] ethyl] amine, tris [2-[(4,6,9,11-tetra-tert-butyldibenzo [d, f] [1,3,2] dioxaphosphepin-2-yl And at least one compound selected from the group consisting of oxy] ethyl] amine and ethyl phosphite bis (2,4-di-tert-butyl-6-methylphenyl).
  • the polyfunctional hindered amine antioxidant described in international publication WO 2017/006600 can also be used as antioxidant.
  • the content of the antioxidant is preferably 0.01 to 20% by mass, and more preferably 0.3 to 15% by mass, with respect to the total solid content of the curable composition.
  • One type of antioxidant may be sufficient, and 2 or more types may be sufficient as it.
  • a latent antioxidant is a compound in which the site that functions as an antioxidant is protected by a protecting group, and is heated at 100 to 250 ° C., or heated at 80 to 200 ° C. in the presence of an acid / base catalyst. Compounds in which the protective group is eliminated thereby to function as an antioxidant are preferred.
  • Examples of the latent antioxidant include compounds described in International Publication WO 2014/021023, International Publication WO 2017/030005, and Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-008219.
  • Examples of commercially available products include Adeka ARKRUZ GPA-5001 (manufactured by ADEKA Co., Ltd.) and the like.
  • the viscosity (23 ° C.) of the curable composition of the present invention is preferably, for example, 1 to 100 mPa ⁇ s when a film is formed by coating.
  • the lower limit is preferably 2 mPa ⁇ s or more, more preferably 3 mPa ⁇ s or more.
  • the upper limit is more preferably 50 mPa ⁇ s or less, still more preferably 30 mPa ⁇ s or less, and particularly preferably 15 mPa ⁇ s or less.
  • a storage container of the curable composition of this invention A well-known storage container can be used.
  • a container for the purpose of suppressing the mixing of impurities into the raw materials and the composition, a multilayer bottle in which the inner wall of the container is composed of six types and six layers of resin or a bottle in which six types of resin are seven layers It is also preferred to use.
  • a container for example, the container described in JP-A-2015-123351 can be mentioned.
  • the application of the curable composition of the present invention is not particularly limited. For example, it can be preferably used for forming a near infrared cut filter or the like. Moreover, when the curable composition of this invention contains the color material which shields visible light, the infrared rays permeable filter which can permeate
  • the curable composition of the present invention can be prepared by mixing the above-mentioned components. In the preparation of the curable composition, all the components may be simultaneously dissolved or dispersed in a solvent to prepare a curable composition, and if necessary, two or more solutions containing each component as appropriate The dispersion may be prepared in advance and mixed at the time of use (at the time of application) to prepare a curable composition.
  • the curable composition of the present invention contains particles such as pigments
  • mechanical force used to disperse the particles includes compression, squeezing, impact, shearing, cavitation and the like.
  • Specific examples of these processes include bead mills, sand mills, roll mills, ball mills, paint shakers, microfluidizers, high speed impellers, sand grinders, flow jet mixers, high pressure wet atomization, ultrasonic dispersion and the like.
  • a bead having a small diameter, treatment under conditions in which the pulverizing efficiency is enhanced by increasing the packing ratio of beads, or the like.
  • the process of dispersing particles and the dispersing machine are the dispersion technology and industrial application centering on "Dispersion Technology Complete, Information Technology Co., Ltd. issued July 15, 2005" and "suspension (solid / liquid dispersion system)" The process and the dispersing machine described in Paragraph No.
  • JP-A-2015-157893 published on October 10, 1978, can be preferably used.
  • the particles may be subjected to a refinement process in a salt milling step.
  • the materials, equipment, processing conditions and the like used in the salt milling step can be referred to, for example, the descriptions of JP-A-2015-194521 and JP-A-2012-04629.
  • a filter for the purpose of removing foreign substances and reducing defects.
  • a filter if it is a filter conventionally used for filtration applications etc., it can be used, without being limited in particular.
  • a fluorocarbon resin such as polytetrafluoroethylene (PTFE), a polyamide-based resin such as nylon (for example, nylon-6, nylon-6, 6), or a polyolefin resin such as polyethylene or polypropylene (PP)
  • Filters made of materials such as polyolefin resins of Among these materials, polypropylene (including high density polypropylene) and nylon are preferable.
  • the pore diameter of the filter is suitably about 0.01 to 7.0 ⁇ m, preferably about 0.01 to 3.0 ⁇ m, and more preferably about 0.05 to 0.5 ⁇ m. If the pore diameter of the filter is in the above range, fine foreign particles can be reliably removed. It is also preferable to use a fibrous filter medium.
  • the fibrous filter medium include polypropylene fiber, nylon fiber, glass fiber and the like. Specifically, filter cartridges of SBP type series (SBP 008 and the like), TPR type series (TPR 002, TPR 005 and the like), and SHPX type series (SHPX 003 and the like) manufactured by Loki Techno, Inc. can be mentioned.
  • filters different filters (eg, a first filter, a second filter, etc.) may be combined. In that case, filtration with each filter may be performed only once or may be performed twice or more. Moreover, you may combine the filter of a different hole diameter within the range mentioned above.
  • the pore size here can refer to the nominal value of the filter manufacturer.
  • the second filter can be made of the same material as the first filter.
  • the filtration with the first filter may be performed only on the dispersion liquid, and after mixing other components, the filtration may be performed with the second filter.
  • the cured film of the present invention is obtained from the above-mentioned curable composition of the present invention.
  • the cured film of the present invention can be preferably used as a near infrared cut filter. Moreover, it can also be used as a heat ray blocking filter or an infrared rays transmission filter.
  • the cured film of the present invention may have a pattern or may be a film having no pattern (flat film).
  • the cured film of the present invention may be used by being laminated on a support, or may be used by peeling it from the support.
  • semiconductor base materials such as a silicon
  • the transparent substrate used as the support is not particularly limited as long as it is made of a material capable of transmitting at least visible light.
  • the base material comprised with materials, such as glass and resin is mentioned.
  • the resin include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene and ethylene vinyl acetate copolymer, acrylic resins such as norbornene resin, polyacrylate and polymethyl methacrylate, urethane resin and vinyl chloride resin And fluorine resins, polycarbonate resins, polyvinyl butyral resins, polyvinyl alcohol resins and the like.
  • the glass examples include soda lime glass, borosilicate glass, alkali-free glass, quartz glass, and glass containing copper.
  • copper-containing glass examples include copper-containing phosphate glass and copper-containing fluorophosphate glass.
  • the content of copper in the glass containing copper is preferably 0.1 to 20% by mass, more preferably 0.3 to 17% by mass, and 0.5 to 15% by mass Is more preferred.
  • the copper-containing glass preferably has a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 700 to 1100 nm.
  • the lower limit is preferably 800 nm or more, and more preferably 900 nm or more.
  • the upper limit is preferably 1050 nm or less, more preferably 1000 nm or less.
  • a commercial product can also be used for the glass containing copper.
  • Commercially available products of copper-containing glass include NF-50 (manufactured by AGC Techno Glass Co., Ltd.) and the like.
  • the thickness of the cured film of the present invention can be appropriately adjusted according to the purpose. 20 micrometers or less are preferable, as for the thickness of a cured film, 10 micrometers or less are more preferable, and 5 micrometers or less are more preferable.
  • the lower limit of the film thickness is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more, and still more preferably 0.3 ⁇ m or more.
  • the cured film of the present invention When the cured film of the present invention is used as a near infrared cut filter, the cured film of the present invention preferably has a maximum absorption wavelength in the range of 700 to 1300 nm, and has a maximum absorption wavelength in the range of 700 to 1000 nm. It is more preferable that the maximum absorption wavelength be in the range of 720 to 980 nm, and it is particularly preferable that the maximum absorption wavelength be in the range of 740 to 960 nm.
  • the cured film of the present invention When the cured film of the present invention is used as a near infrared cut filter, the cured film of the present invention preferably satisfies at least one of the following (1) to (4), and (1) to (4) It is further preferred that all the conditions of (1)
  • the transmittance at a wavelength of 400 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, still more preferably 85% or more, and particularly preferably 90% or more.
  • the transmittance at a wavelength of 500 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, still more preferably 90% or more, and particularly preferably 95% or more.
  • the transmittance at a wavelength of 600 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, still more preferably 90% or more, and particularly preferably 95% or more.
  • the transmittance at a wavelength of 650 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, still more preferably 90% or more, and particularly preferably 95% or more.
  • the cured film of the present invention When the cured film of the present invention is used as a near infrared cut filter, the cured film of the present invention preferably has an average transmittance of 70% or more, more preferably 80% or more, and 85% or more at a wavelength of 400 to 550 nm. Is more preferable, and 90% or more is particularly preferable.
  • the transmittance in the entire range of wavelengths of 400 to 550 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, and still more preferably 90% or more.
  • the transmittance at at least one point in the wavelength range of 700 to 1300 nm is preferably 20% or less, more preferably 15% or less, and still more preferably 10% or less.
  • the cured film of the present invention can also be used in combination with a color filter containing a chromatic coloring agent.
  • a color filter can be manufactured using a coloring composition containing a chromatic coloring agent.
  • the chromatic coloring agents include the chromatic coloring agents mentioned as those which may be contained in the curable composition of the present invention.
  • the cured film of the present invention may contain a chromatic coloring agent to provide a near infrared cut filter and a filter having a function as a color filter.
  • the cured film of the present invention When the cured film of the present invention is used as a near infrared cut filter and used in combination with the cured film of the present invention and a color filter, it is preferable that a color filter be disposed on the light path of the cured film of the present invention.
  • the cured film of the present invention and a color filter can be laminated and used as a laminate.
  • the cured film of the present invention and the color filter may or may not be adjacent in the thickness direction.
  • the cured film of the present invention When the cured film of the present invention and the color filter are not adjacent in the thickness direction, the cured film of the present invention may be formed on a support other than the support on which the color filter is formed.
  • another member for example, a microlens, a planarizing layer, etc.
  • the near-infrared cut filter means a filter that transmits light in the visible region (visible light) and blocks at least part of light in the near-infrared region (near infrared).
  • the near infrared cut filter may transmit all light of wavelengths in the visible region, and among light of wavelengths in the visible region, transmits light of a specific wavelength region and blocks light of a specific wavelength region
  • the color filter means a filter that transmits light in a specific wavelength range and blocks light in a specific wavelength range, out of light of wavelengths in the visible range.
  • the infrared transmission filter means a filter that shields visible light and transmits at least a part of near infrared light.
  • the laminate of the present invention has the cured film of the present invention on a support.
  • a transparent base material is mentioned, It is preferable that it is a glass base material, and it is more preferable that it is a glass base material containing copper.
  • the cured film of the present invention is used as a near infrared cut filter, a wide range of near infrared rays is blocked by laminating the cured film of the present invention on a copper-containing glass substrate to form a laminate be able to.
  • the laminate of the present invention may have a composition in which the cured film of the present invention may be directly laminated on the surface of a support, but a composition containing a compound having a cyclic ether group between the support and the cured film of the present invention It is preferable to have a film obtained using a substance (hereinafter referred to as composition A).
  • composition A a substance obtained using a substance
  • the laminate of the present invention has a film (hereinafter also referred to as a film A) obtained using the composition A between the cured film of the present invention and a support, one side of the film A is It is preferable that the other surface is in contact with the cured film of the present invention.
  • the adhesion of the cured film of the present invention to the support is good. In particular, in the case of using a glass base containing copper as a support, the adhesion can be remarkably improved.
  • An epoxy group and an oxetanyl group are mentioned as a cyclic ether group which the compound which has a cyclic ether group has, An epoxy group is preferable.
  • the materials described in the section of the compound having a cyclic ether group of the curable composition described above can be mentioned.
  • the content of the compound having a cyclic ether group is not particularly limited, but is preferably 1% by mass or more, and 2% by mass or more based on the total solid content of the composition A.
  • the content is more preferably 3% by mass or more, and still more preferably 5% by mass or more.
  • the upper limit can be 100% by mass.
  • the composition A may further contain a radically polymerizable compound, a radical polymerization initiator, a solvent, a surfactant, and the like. For these details, the materials mentioned above can be mentioned.
  • the thickness of the film A is not particularly limited. For example, 1 micrometer or less is preferable, 0.5 micrometer or less is more preferable, and 0.2 micrometer or less is more preferable.
  • the lower limit of the film thickness is preferably 0.01 ⁇ m or more, more preferably 0.03 ⁇ m or more, and still more preferably 0.05 ⁇ m or more.
  • the laminate of the present invention has an inorganic film on the cured film of the present invention.
  • an inorganic film a dielectric multilayer film etc. are mentioned.
  • the dielectric multilayer film is a film that shields infrared rays by utilizing the effect of light interference. Specifically, it is a film formed by alternately laminating two or more dielectric layers (high refractive index material layers and low refractive index material layers) having different refractive indexes. As a material forming the high refractive index material layer, it is preferable to use a material having a refractive index of 1.7 or more (preferably 1.7 to 2.5).
  • titanium oxide, tin oxide and / or cerium oxide, etc. containing titanium oxide, zirconium oxide, tantalum pentoxide, niobium pentoxide, lanthanum oxide, yttrium oxide, zinc oxide, zinc sulfide or indium oxide as a main component
  • a material forming the low refractive index material layer it is preferable to use a material having a refractive index of 1.6 or less (preferably 1.2 to 1.6).
  • silica, alumina, lanthanum fluoride, magnesium fluoride and sodium aluminum hexafluoride can be mentioned.
  • each of the high refractive index material layer and the low refractive index material layer is preferably a thickness of 0.1 ⁇ to 0.5 ⁇ of the wavelength ⁇ (nm) of infrared light to be blocked.
  • the total number of laminations of the high refractive index material layer and the low refractive index material layer in the dielectric multilayer film is preferably 2 to 100, more preferably 2 to 60, and still more preferably 2 to 40.
  • the details of the dielectric multilayer film can be referred to the description in paragraph Nos. 0255 to 0259 of JP-A-2014-41318, the contents of which are incorporated herein.
  • the inorganic film may be directly laminated on the surface of the cured film of the present invention. It is preferable to further have a planarizing layer between the cured film of the present invention and the inorganic film from the viewpoint of adhesion.
  • the planarization layer can be formed using a resin composition or the like. Examples of the resin include the materials described above.
  • the resin composition may further contain a radically polymerizable compound, a radical polymerization initiator, a solvent, a surfactant, and the like. For these details, the materials mentioned above can be mentioned.
  • the thickness of the planarization layer is not particularly limited. For example, 5 micrometers or less are preferable, 3 micrometers or less are more preferable, and 1 micrometer or less is further more preferable. 0.1 micrometer or more is preferable, 0.3 micrometer or more is more preferable, and 0.5 micrometer or more of a film thickness is more preferable.
  • the laminate of the present invention can be used in various devices such as near infrared cut filters, solid-state imaging devices such as CCDs (charge coupled devices) and CMOSs (complementary metal oxide semiconductors), infrared sensors, and image display devices.
  • CCDs charge coupled devices
  • CMOSs complementary metal oxide semiconductors
  • the method for producing a cured film of the present invention includes the steps of applying the curable composition of the present invention described above to form a curable composition layer, and heat curing the curable composition layer.
  • the curable composition is preferably applied on a support.
  • the support includes the support described above.
  • known methods can be used. For example, dropping method (drop casting); slit coating method; spraying method; roll coating method; spin coating method (spin coating); cast coating method; slit and spin method; pre-wet method (for example, JP 2009-145395A) Methods described in the publication); Ink jet (for example, on-demand method, piezo method, thermal method), discharge system printing such as nozzle jet, flexographic printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, metal mask printing method, etc.
  • the application method in the inkjet is not particularly limited, and for example, the method (in particular, page 115-) disclosed in "Spread and usable inkjet-unlimited possibilities in patents-published in February 2005, resident Betechno Research" Methods described in JP-A-2003-262716, JP-A-2003-185831, JP-A-2003-261827, JP-A-2012-126830, JP-A-2006-169325, etc. It can be mentioned.
  • the description of international publication WO 2017/030174 and international publication WO 2017/018419 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the curable composition applied to the support may be dried (prebaked).
  • the prebaking temperature is preferably 150 ° C. or less, more preferably 120 ° C. or less, and still more preferably 110 ° C. or less.
  • the lower limit may be, for example, 50 ° C. or more, and may be 80 ° C. or more.
  • the pre-bake time is preferably 10 seconds to 3000 seconds, more preferably 40 to 2500 seconds, and still more preferably 80 to 220 seconds. Drying can be performed on a hot plate, an oven or the like.
  • the heating temperature is preferably, for example, 100 to 240.degree. From the viewpoint of film curing, 180 to 230 ° C. is more preferable.
  • the heating time is preferably 2 to 10 minutes, more preferably 4 to 8 minutes.
  • the heat curing treatment can be performed with a hot plate, an oven or the like.
  • the method for producing a cured film of the present invention may further include the step of forming a pattern.
  • the pattern formation method include a pattern formation method using a photolithography method and a pattern formation method using a dry etching method.
  • a pattern formation method using a photolithography method
  • a pattern formation method using a dry etching method When forming a pattern by the photolithographic method, it is preferable to heat-harden a curable composition layer, after forming a pattern.
  • the dry etching method it is preferable to form a pattern, after heat-hardening a curable composition layer.
  • the process of forming a pattern will be described in detail.
  • the pattern formation method in the photolithography method comprises a step of exposing the curable composition layer formed by applying the curable composition of the present invention in a pattern (exposure step), and a curable composition of the unexposed area It is preferable to include the step of developing by removing the layer to form a pattern (developing step). If necessary, a step (post-baking step) may be provided to bake the developed pattern.
  • the patterning by the dry etching method heat-cures the curable composition layer to form a cured product layer, and then forms a patterned resist layer on the cured product layer, and then the patterned resist layer It can carry out by methods, such as dry-etching using etching gas with respect to a hardened
  • dry-etching using etching gas with respect to a hardened
  • the near infrared cut filter of the present invention includes the cured film of the present invention.
  • the near infrared cut filter of the present invention preferably has the cured film of the present invention on a support.
  • the support includes the above-mentioned support, which is preferably a transparent substrate, more preferably a glass substrate, and still more preferably a copper-containing glass substrate. According to this aspect, a wide range of near infrared rays can be blocked.
  • the near infrared cut filter of the present invention may further have an inorganic film such as a dielectric multilayer film, an ultraviolet absorbing layer, etc. in addition to the cured film of the present invention.
  • an inorganic film such as a dielectric multilayer film, an ultraviolet absorbing layer, etc.
  • the near infrared cut filter further includes the dielectric multilayer film, the near infrared cut filter having a wide viewing angle and further excellent near infrared shielding properties can be easily obtained.
  • the near infrared cut filter further has an ultraviolet absorbing layer, whereby the near infrared cut filter having excellent ultraviolet shielding properties can be obtained.
  • the ultraviolet absorbing layer for example, the absorbing layers described in paragraphs 0040 to 0070 and 0119 to 0145 of International Publication WO 2015/099060 can be referred to, the contents of which are incorporated herein.
  • the dielectric multilayer film the description in paragraphs “0255 to 0259” of JP-A-2014-41318 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the near infrared cut filter of the present invention further includes an inorganic film such as a dielectric multilayer film in addition to the cured film of the present invention, even if the inorganic film is laminated on the surface of the cured film of the present invention
  • a planarizing layer may be provided between the cured film of the present invention and the inorganic film. It is preferable that a planarizing layer is provided between the cured film of the present invention and the inorganic film from the viewpoint of film forming property of the inorganic film and adhesion of the inorganic film.
  • the near-infrared cut filter of the present invention can be used for various devices such as solid-state imaging devices such as CCD (charge coupled device) and CMOS (complementary metal oxide semiconductor), infrared sensors, and image display devices.
  • solid-state imaging devices such as CCD (charge coupled device) and CMOS (complementary metal oxide semiconductor)
  • CMOS complementary metal oxide semiconductor
  • infrared sensors and image display devices.
  • the solid-state imaging device of the present invention has the cured film of the present invention described above.
  • the configuration of the solid-state imaging device of the present invention is a configuration having the cured film of the present invention, and is not particularly limited as long as it functions as a solid-state imaging device. For example, the following configuration may be mentioned.
  • a light shield comprising a plurality of photodiodes constituting the light receiving area of the solid-state imaging device and transfer electrodes made of polysilicon and the like on the support, light shielding made of tungsten or the like in which only the light receiving portion of the photodiode and the transfer electrodes are opened.
  • a device protection film made of silicon nitride or the like which has a film and is formed on the light shielding film so as to cover the entire surface of the light shielding film and the light receiving portion of the photodiode and has the cured film of the present invention on the device protection film It is. Furthermore, on the device protective film, a configuration having a condensing means (for example, a micro lens etc.
  • the color filter may have a structure in which a film forming each pixel is embedded in a space partitioned into, for example, a grid shape by partition walls.
  • the partition walls in this case preferably have a lower refractive index than each pixel.
  • the image display apparatus of the present invention includes the cured film of the present invention.
  • the image display device include a liquid crystal display device and an organic electroluminescence (organic EL) display device.
  • organic EL organic electroluminescence
  • the image display device for example, “Electronic display device (authored by Akio Sasaki, published by Industry Research Association, 1990)", “Display device (authored by Ibuki Jun, industrial book, Ltd.) Etc.).
  • the liquid crystal display device is described, for example, in “Next-generation liquid crystal display technology (edited by Tatsuo Uchida, published by Industry Research Association, 1994)”.
  • the image display device may have a white organic EL element. It is preferable that it is a tandem structure as a white organic EL element.
  • JP-A-2003-45676 supervised by Akiyoshi Mikami, "The forefront of organic EL technology development-High luminance, high accuracy, long life, know-how collection", about the tandem structure of organic EL elements, Technical Information Association, It is described on pages 326-328, 2008, etc.
  • the spectrum of the white light emitted by the organic EL element is preferably one having strong maximum emission peaks in the blue region (430 nm-485 nm), the green region (530 nm-580 nm) and the yellow region (580 nm-620 nm). In addition to these emission peaks, those having a maximum emission peak in the red region (650 nm-700 nm) are more preferable.
  • the infrared sensor of the present invention includes the cured film of the present invention described above.
  • the configuration of the infrared sensor is not particularly limited as long as it functions as an infrared sensor.
  • an embodiment of the infrared sensor of the present invention will be described using the drawings.
  • reference numeral 110 denotes a solid-state imaging device.
  • An imaging region provided on the solid-state imaging device 110 includes a near infrared cut filter 111 and an infrared transmission filter 114. Further, on the near infrared cut filter 111, a color filter 112 is laminated. A microlens 115 is disposed on the incident light h ⁇ side of the color filter 112 and the infrared transmission filter 114. A planarization layer 116 is formed to cover the microlenses 115.
  • the near infrared cut filter 111 can be formed using the curable composition of the present invention.
  • the spectral characteristics of the near infrared cut filter 111 are selected according to the emission wavelength of the infrared light emitting diode (infrared LED) to be used.
  • the color filter 112 is a color filter in which a pixel for transmitting and absorbing light of a specific wavelength in the visible region is formed, and is not particularly limited, and a conventionally known color filter for forming a pixel can be used.
  • a color filter in which red (R), green (G), and blue (B) pixels are formed is used.
  • R red
  • G green
  • B blue
  • the description in paragraph Nos. 0214 to 0263 of JP-A-2014-043556 can be referred to, the contents of which are incorporated herein.
  • the characteristic of the infrared transmission filter 114 is selected according to the emission wavelength of the infrared LED to be used.
  • a near infrared cut filter (another near infrared cut filter) different from the near infrared cut filter 111 may be further disposed on the planarization layer 116.
  • Other near infrared cut filters include those having a copper-containing layer and / or a dielectric multilayer film. The details of these may be mentioned above.
  • a dual band pass filter may be used as another near infrared cut filter.
  • the positions of the near infrared cut filter 111 and the color filter 112 may be interchanged.
  • another layer may be disposed between the solid-state imaging device 110 and the near-infrared cut filter 111 and / or between the solid-state imaging device 110 and the infrared-transmissive filter 114.
  • the organic substance layer etc. which were formed using the composition containing a polymeric compound, resin, and a photoinitiator are mentioned.
  • a planarization layer may be formed on the color filter 112.
  • the thermal decomposition temperature of the radical polymerization initiator was measured by differential thermal (TG-DTA) measurement. Specifically, the temperature of the radical polymerization initiator was raised from the state of 23 ° C. under the condition of a temperature rising rate of 10 ° C./min to measure the temperature at which the weight loss of the radical polymerization initiator starts.
  • TG-DTA differential thermal
  • the thermal decomposition rate of the radical polymerization initiator was measured by differential scanning calorimetry (DSC) measurement. Specifically, the temperature of the radical polymerization initiator is raised from a state of 23 ° C. at a temperature rising rate of 10 ° C./min, and a line connecting the rising temperature of the exothermic peak and the maximum temperature of the exothermic peak at 100 ° C. The thermal decomposition rate was calculated by the slope of.
  • ⁇ Preparation of a curable composition The raw materials shown in the following table are mixed and stirred in the proportions (parts by mass) shown in the following table, and then filtered through a nylon filter (made by Nippon Pall Co., Ltd.) having a pore diameter of 0.45 ⁇ m to obtain a curable composition. Prepared.
  • A1 to A18, A20 to A22 compounds of the following structures.
  • (resin) -Resin 1 30 mass% solution of cyclopentanone of resin (The weight average molecular weight 41,400, the numerical value attached to the repeating unit is the number of moles) of the following structure.
  • Resin 2 A 30% by mass solution of cyclopentanone in a resin of the following structure (weight-average molecular weight: 33,100, numerical value added to repeating unit is number of moles).
  • Organic solvent 1 Cyclopentanone
  • Organic solvent 2 3-methoxy-N, N-dimethylpropanamide
  • Organic solvent 3 3-butoxy-N, N-dimethylpropanamide
  • Radical polymerizable compound 1 mixture of the following compounds (mixture in which the molar ratio of the left compound and the right compound is 7: 3)
  • Radical polymerizable compound 2 mixture of the following compounds (height ratio in high performance liquid chromatography: 46.15: 49.39 :: 4.46)
  • Radical polymerizable compound 3 the following compounds
  • Radical polymerizable compound 4 the following compounds
  • Radical polymerization initiator A Radical polymerization initiator A1: compound of the following structure (pinacol compound, thermal decomposition temperature 182 ° C., thermal decomposition rate 56 W / ° C. ⁇ mol)
  • Radical polymerization initiator A2 Compound of the following structure (pinacol compound, thermal decomposition temperature 178 ° C., thermal decomposition rate 54 W / ° C. ⁇ mol. In the following structural formula, Ph represents a phenyl group and Bu represents a butyl group. ) Radical polymerization initiator A3: compound of the following structure (pinacol compound, thermal decomposition temperature 178 ° C., thermal decomposition rate 54 W / ° C.
  • Radical polymerization initiator A4 a compound of the following structure (pinacol compound, thermal decomposition temperature 172 ° C., thermal decomposition rate 50 W / ° C. ⁇ mol. In the following structural formula, Ph represents a phenyl group)
  • Radical polymerization initiator B Radical polymerization initiator B1: IRGACURE-184 (manufactured by BASF, ⁇ -hydroxyacetophenone compound, thermal decomposition temperature 151 ° C., thermal decomposition rate 4 W / ° C.
  • Radical polymerization initiator B2 IRGACURE-2959 (manufactured by BASF, ⁇ -hydroxyacetophenone compound, thermal decomposition temperature 165 ° C, thermal decomposition rate 8 W / ° C ⁇ mol)
  • Radical polymerization initiator B3 IRGACURE-651 (manufactured by BASF, benzyl dimethyl ketal compound, thermal decomposition temperature 170 ° C., thermal decomposition rate 5 W / ° C.
  • Radical polymerization initiator B4 IRGACURE-OXE01 (manufactured by BASF, an oxime compound, thermal decomposition temperature 170 ° C., thermal decomposition rate 30 W / ° C. ⁇ mol)
  • Silane coupling agent ureidopropyltrimethoxysilane
  • B3-1 X represents a perfluoromethylene group or a perfluoroethylene group, and r represents the number of repeating units.
  • UV (ultraviolet) absorber compound of the following structure
  • Dispersion liquid 1 The raw material of the following composition is dispersed for 2 hours with a bead mill (high pressure disperser NANO-3000-10 (manufactured by Nippon Bei E.)) using zirconia beads of 0.3 mm diameter, and dispersed for 2 hours Liquid 1 was prepared. -Composition of dispersion 1-.
  • Near infrared absorbing dye of the following structure (average primary particle diameter: 200 nm): 11.6 parts by mass ⁇ Pigment derivative of the following structure ⁇ 3.5 mass parts ⁇ Dispersant (The resin of the following structure, weight average molecular weight 22, 900, the numerical value attached to the repeating unit of the main chain is the number of moles, and the numerical value written together with the repeating unit of the side chain indicates the repeating number of the repeating unit ) ... 7.2 parts by mass ⁇ Cyclohexanone ... 77. 77 parts by mass
  • Dispersion liquid 2 C. I. Pigment Black 32 60 parts by mass, C.I. I. Pigment Blue 15: 6, 20 parts by mass, C.I. I. Mix 20 parts by mass of Pigment Yellow 139, 80 parts by mass of Solsparse 76500 (manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd., solid content concentration 50% by mass), and 700 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate and mix them with a paint shaker 8 Dispersion was carried out for a time to obtain dispersion liquid 2.
  • Each curable composition is spin-coated on a glass substrate (EAGLE XG, manufactured by Corning, alkaline earth boroaluminosilicate) using a mica coater so that the film thickness after film formation is 2.5 ⁇ m. It was dried at 100 ° C. for 120 seconds using a hot plate and then heated at 220 ° C. for 5 minutes to produce a cured film. About the obtained cured film, the transmittance
  • the near infrared shielding properties were evaluated based on the following criteria using the transmittance value (T) at. 5: T ⁇ 1% 4: 1% ⁇ T ⁇ 3% 3: 3% ⁇ T ⁇ 5% 2: 5% ⁇ T ⁇ 10% 1: 10% ⁇ T
  • Each curable composition is spin-coated on a glass substrate with a Mikasa coater so that the film thickness after film formation is 2.5 ⁇ m, dried at 100 ° C. for 120 seconds using a hot plate, and then 220 C. for 5 minutes to produce a cured film.
  • the glass substrate on which the cured film is formed is immersed in acetone at 23 ° C. for 5 minutes, and then, using an ultra-high resolution scanning electron microscope (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation), acceleration voltage 2.0 kV, observation magnification
  • the image of the film cross section was observed at 50,000 times. In the image, the lengths in the long axis direction of three arbitrary perforated portions (portions observed as if holes were formed in the membrane) were measured, and the average value was calculated as the aggregation size.
  • a cured film is manufactured in the same manner as above using each curable composition after storage, and a wavelength of 400
  • the light transmittance in the range of ⁇ 1,300 nm was measured.
  • the spectrum of the cured film produced using the curable composition after storage is taken as spectrum 2.
  • the curable composition of Example 1 contains a fluorophosphate glass substrate (product name: NF-50, manufactured by AGC Techno Glass, size 50 mm ⁇ 50 mm, thickness 0.05 mm, copper) from a glass substrate When it was changed to a glass substrate) and the above-mentioned near infrared light shielding property was evaluated, the same effect was obtained.
  • NF-50 fluorophosphate glass substrate
  • AGC Techno Glass size 50 mm ⁇ 50 mm, thickness 0.05 mm, copper
  • 110 solid-state imaging device
  • 111 near infrared cut filter
  • 112 color filter
  • 114 infrared transmission filter
  • 115 microlens
  • 116 flattening layer

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Abstract

保存安定性が良好で、近赤外線吸収色素に由来する凝集物が少ない硬化膜を形成できる硬化性組成物を提供する。また、硬化膜、積層体、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサを提供する。硬化性組成物は、近赤外線吸収色素と、ラジカル重合性化合物と、ラジカル重合開始剤Ａとを含み、ラジカル重合開始剤Ａは、ピナコール化合物であるか、または、熱分解温度が１２０～２７０℃であり、かつ、熱分解速度が３３～６０Ｗ／℃・ｍｏｌである化合物である。

Description

硬化性組成物、硬化膜、積層体、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
　本発明は、硬化性組成物、硬化膜、積層体、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサに関する。
　ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などには、カラー画像の固体撮像素子である、ＣＣＤ（電荷結合素子）や、ＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）が用いられている。これら固体撮像素子は、その受光部において赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードを使用している。このために、近赤外線カットフィルタを使用して視感度補正を行うことがある。近赤外線カットフィルタは、例えば、近赤外線吸収色素などの近赤外線吸収剤を含む硬化性組成物を用いて製造されている。
　また、特許文献１には、二量化チオ尿素誘導体と銅化合物をモル比８：２～１：２の割合で混合した近赤外線吸収剤用組成物を、重合性原料１００質量部中に、０．１～１．５質量部添加混合後、アゾ系ラジカル重合開始剤の存在下で加熱重合して近赤外線吸収性成形体を製造することが記載されている。また、特許文献１では、アゾ系ラジカル重合開始剤として、２，２’－アゾビスイソブチロニトリルが用いられている。
特開平６－２９９１３９号公報
　近赤外線吸収色素を含む硬化性組成物を用いて硬化膜を製造する場合、調製直後の硬化性組成物を用いて硬化膜を製造する場合もあれば、調製後長期間保管された硬化性組成物を用いて硬化膜を製造することもある。しかしながら、本発明者の検討によれば、特許文献１に記載されたアゾ系ラジカル重合開始剤を含む硬化性組成物は保存安定性が劣り、製造直後の硬化性組成物を用いた場合と、保管後の硬化性組成物を用いた場合とで得られる硬化膜の分光特性にばらつきが生じやすいことが分かった。
　また、本発明者の検討によれば、近赤外線吸収剤として色素化合物である近赤外線吸収色素を含む硬化性組成物を用いて硬化膜を製造した場合、製膜時に近赤外線吸収色素が凝集しやすい傾向にあることが分かった。特に、製膜時に熱が加えられると、近赤外線吸収色素が凝集しやすい傾向にあった。膜中における、近赤外線吸収色素に由来する凝集物のサイズが大きくなると、分光特性にばらつきが生じたり、膜面の平滑性が低下することがある。更には、凝集物のサイズが大きくなると、膜から凝集物が剥落し易くなり、凝集物が存在していた箇所に、凝集物のサイズの孔が生じる恐れがある。なお、特許文献１に記載された二量化チオ尿素誘導体と銅化合物をモル比８：２～１：２の割合で混合した近赤外線吸収剤用組成物は、色素化合物とは異なる化合物であり、二量化チオ尿素誘導体を配位子とする銅錯体化合物の一種である。
　よって、本発明の目的は、保存安定性が良好で、近赤外線吸収色素に由来する凝集物の発生が抑制された硬化膜を製造できる硬化性組成物を提供することにある。また、本発明は、硬化膜、積層体、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサを提供することにある。
　本発明者の検討によれば、近赤外線吸収色素と、ラジカル重合性化合物と、ラジカル重合開始剤を含む硬化性組成物において、所定のラジカル重合開始剤を用いることにより、保存安定性が良好で、近赤外線吸収色素に由来する凝集物が少ない硬化膜を形成できることを見出し、本発明を完成するに至った。よって、本発明は以下を提供する。
　＜１＞　近赤外線吸収色素と、ラジカル重合性化合物と、ラジカル重合開始剤Ａとを含み、ラジカル重合開始剤Ａがピナコール化合物である、硬化性組成物。
　＜２＞　近赤外線吸収色素と、ラジカル重合性化合物と、ラジカル重合開始剤Ａとを含み、ラジカル重合開始剤Ａは、熱分解温度が１２０～２７０℃であり、かつ、熱分解速度が３３～６０Ｗ／℃・ｍｏｌである化合物である、硬化性組成物。
　＜３＞　ラジカル重合開始剤Ａがピナコール化合物である、＜２＞に記載の硬化性組成物。
　＜４＞　ラジカル重合開始剤Ａの含有量が、硬化性組成物の全固形分に対して０．１～２０質量％である、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の硬化性組成物。
　＜５＞　ラジカル重合性化合物の１００質量部に対してラジカル重合開始剤Ａを１～１００質量部含有する、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の硬化性組成物。
　＜６＞　さらに、ラジカル重合開始剤Ａとは異なるラジカル重合開始剤Ｂを含む、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の硬化性組成物。
　＜７＞　ラジカル重合開始剤Ｂが、α－ヒドロキシアセトフェノン化合物およびベンジルジメチルケタールから選ばれる少なくとも１種である、＜６＞に記載の硬化性組成物。
　＜８＞　ラジカル重合開始剤Ｂの熱分解温度が１００～２７０℃である、＜６＞または＜７＞に記載の硬化性組成物。
　＜９＞　ラジカル重合開始剤Ｂの熱分解速度が３～１０Ｗ／℃・ｍｏｌである、＜６＞～＜８＞のいずれか１つに記載の硬化性組成物。
　＜１０＞　ラジカル重合開始剤Ａの１００質量部に対してラジカル重合開始剤Ｂを０．１～２０００質量部含有する、＜６＞～＜９＞のいずれか１つに記載の硬化性組成物。
　＜１１＞　＜１＞～＜１０＞のいずれか１つに記載の硬化性組成物から得られる硬化膜。
　＜１２＞　支持体上に＜１１＞に記載の硬化膜を有する積層体。
　＜１３＞　支持体と硬化膜との間に、環状エーテル基を有する化合物を含む組成物を用いて得られる膜を有する、＜１２＞に記載の積層体。
　＜１４＞　支持体が銅を含有するガラス基材である、＜１２＞または＜１３＞に記載の積層体。
　＜１５＞　硬化膜上に無機膜を有する、＜１２＞～＜１４＞のいずれか１つに記載の積層体。
　＜１６＞　硬化膜と無機膜との間に平坦化層を有する、＜１５＞に記載の積層体。
　＜１７＞　＜１１＞に記載の硬化膜を有する近赤外線カットフィルタ。
　＜１８＞　＜１１＞に記載の硬化膜を有する固体撮像素子。
　＜１９＞　＜１１＞に記載の硬化膜を有する画像表示装置。
　＜２０＞　＜１１＞に記載の硬化膜を有する赤外線センサ。
　本発明によれば、保存安定性が良好で、近赤外線吸収色素に由来する凝集物が少ない硬化膜を形成できる硬化性組成物を提供することができる。また、本発明は、硬化膜、積層体、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサを提供することができる。
赤外線センサの一実施形態を示す概略図である。
　以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
　本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
　本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
　本明細書において、「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も含む。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
　本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アリル」は、アリルおよびメタリルの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
　本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）測定でのポリスチレン換算値として定義される。本明細書において、重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）は、例えば、ＨＬＣ－８２２０（東ソー（株）製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ　Ｓｕｐｅｒ　ＡＷＭ―Ｈ（東ソー（株）製、６．０ｍｍＩＤ（内径）×１５．０ｃｍ）を用い、溶離液として１０ｍｍｏｌ／ＬのリチウムブロミドＮＭＰ（Ｎ－メチルピロリジノン）溶液を用いることによって求めることができる。
　本明細書において、近赤外線とは、波長７００～２，５００ｎｍの光をいう。
　本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
　本明細書において、「工程」との語は、独立した工程を表すだけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
＜硬化性組成物＞
　本発明の硬化性組成物の第１の態様は、近赤外線吸収色素と、ラジカル重合性化合物と、ラジカル重合開始剤Ａとを含み、ラジカル重合開始剤Ａがピナコール化合物であることを特徴とする。
　また、本発明の硬化性組成物の第２の態様は、近赤外線吸収色素と、ラジカル重合性化合物と、ラジカル重合開始剤Ａとを含み、ラジカル重合開始剤Ａは、熱分解温度が１２０～２７０℃であり、かつ、熱分解速度が３３～６０Ｗ／℃・ｍｏｌである化合物であることを特徴とする。
　上記本発明の硬化性組成物は保存安定性が良好で、近赤外線吸収色素に由来する凝集物が少ない硬化膜を製造することができる。このような効果が得られる理由としては以下によるものであると推測される。すなわち、本発明の硬化性組成物は、ラジカル重合性化合物と上述したラジカル重合開始剤Ａとを含むので、このような硬化性組成物を加熱することで、ラジカル重合開始剤Ａから発生したラジカルによってラジカル重合性化合物の重合反応が速やかに進行し、膜を速やかに硬化させることができる。このため、近赤外線吸収色素が膜中の架橋ネットワークなどに速やかに取りこまれると推測される。このため、本発明の硬化性組成物は、加熱時における近赤外線吸収色素の凝集を効果的に抑制でき、近赤外線吸収色素に由来する凝集物が少ない硬化膜を製造することができたと推測される。また、ラジカル重合開始剤の安定性が低いと、硬化性組成物の保管中にラジカル重合開始剤が分解するなどしてラジカルが発生し、このラジカルによってラジカル重合性化合物の重合反応が進行して、硬化性組成物の粘度などが経時的に増加したり、組成物中で近赤外線吸収色素が凝集したり、近赤外線吸収色素がラジカルによって変性したりする傾向にあるが、上記のラジカル重合開始剤Ａは、硬化性組成物中で安定して存在できると考えられる。このため、本発明の硬化性組成物は、保管時における粘度の上昇や近赤外線吸収色素の凝集や、ラジカルによる近赤外線吸収色素の変性などを抑制でき、保存安定性に優れている。以下、本発明の硬化性組成物の各成分について説明する。
＜＜近赤外線吸収色素＞＞
　本発明の硬化性組成物は、近赤外線吸収色素を含有する。近赤外線吸収色素は、顔料（近赤外線吸収顔料ともいう）であってもよく、染料（近赤外線吸収染料ともいう）であってもよい。また、近赤外線吸収染料と近赤外線吸収顔料とを併用することも好ましい。近赤外線吸収染料と近赤外線吸収顔料とを併用する場合、近赤外線吸収染料と近赤外線吸収顔料との質量比は、近赤外線吸収染料：近赤外線吸収顔料＝９９．９：０．１～０．１：９９．９であることが好ましく、９９．９：０．１～１０：９０であることがより好ましく、９９．９：０．１～２０：８０であることがさらに好ましい。
　本発明において、近赤外線吸収染料は、２３℃のシクロペンタノン、シクロヘキサノン、および、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルから選ばれる少なくとも１種の溶剤１００ｇに対する溶解度が、１ｇ以上であることが好ましく、２ｇ以上であることがより好ましく、５ｇ以上であることがさらに好ましい。また、近赤外線吸収顔料は、２３℃のシクロペンタノン、シクロヘキサノン、および、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルのそれぞれの溶剤１００ｇに対する溶解度が、１ｇ未満であることが好ましく、０．１ｇ以下であることがより好ましく、０．０１ｇ以下であることがさらに好ましい。
　近赤外線吸収色素は、単環または縮合環の芳香族環を含むπ共役平面を有する化合物であることが好ましい。近赤外線吸収色素のπ共役平面における芳香族環同士の相互作用により、硬化膜の製造時に近赤外線吸収色素のＪ会合体が形成されやすく、近赤外領域の分光特性に優れた硬化膜を製造できる。
　近赤外線吸収色素が有するπ共役平面を構成する水素以外の原子数は、６個以上であることが好ましく、１４個以上であることがより好ましく、２０個以上であることがさらに好ましく、２５個以上であることが一層好ましく、３０個以上であることが特に好ましい。上限は、例えば、８０個以下であることが好ましく、５０個以下であることがより好ましい。
　近赤外線吸収色素が有するπ共役平面は、単環または縮合環の芳香族環を２個以上含むことが好ましく、３個以上含むことがより好ましく、４個以上含むことがさらに好ましく、５個以上含むことが特に好ましい。上限は、１００個以下が好ましく、５０個以下がより好ましく、３０個以下がさらに好ましい。前述の芳香族環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、インデン環、アズレン環、ヘプタレン環、インダセン環、ペリレン環、ペンタセン環、クアテリレン環、アセナフテン環、フェナントレン環、アントラセン環、ナフタセン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオレン環、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、トリアゾール環、ベンゾトリアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、イミダゾリン環、ピラジン環、キノキサリン環、ピリミジン環、キナゾリン環、ピリダジン環、トリアジン環、ピロール環、インドール環、イソインドール環、カルバゾール環、および、これらの環を有する縮合環が挙げられる。
　近赤外線吸収色素は、波長７００～１，３００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物であることが好ましく、波長７００～１，０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物であることがより好ましい。なお、本明細書において、「波長７００～１，３００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する」とは、近赤外線吸収色素の溶液中での吸収スペクトルにおいて、最大の吸光度を示す波長が、波長７００～１，３００ｎｍの範囲内に有ることを意味する。近赤外線吸収色素の溶液中での吸収スペクトルの測定に用いる測定溶媒としては、クロロホルム、メタノール、ジメチルスルホキシド、酢酸エチル、テトラヒドロフランが挙げられる。近赤外線吸収色素がクロロホルムに溶解する化合物である場合は、クロロホルムを測定溶媒として用いる。クロロホルムに溶解しない化合物である場合は、メタノールを用いる。また、クロロホルムおよびメタノールのいずれにも溶解しない場合はジメチルスルホキシドを用いる。
　近赤外線吸収色素は、波長７００～１，０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有し、かつ、波長５００ｎｍにおける吸光度Ａ1と極大吸収波長における吸光度Ａ2との比率Ａ1／Ａ2が、０．０８以下であることが好ましく、０．０４以下であることがより好ましい。この態様によれば、可視透明性と近赤外線遮蔽性に優れた硬化膜を製造しやすい。
　本発明において、近赤外線吸収色素として、極大吸収波長の異なる少なくとも２種の化合物を用いることも好ましい。この態様によれば、得られる硬化膜の吸収スペクトルの波形が、１種類の近赤外線吸収色素を使用した場合に比べて広がり、幅広い波長範囲の近赤外線を遮蔽することができる。極大吸収波長の異なる少なくとも２種の化合物を用いる場合、波長７００～１，０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する第１の近赤外線吸収色素と、第１の近赤外線吸収色素の極大吸収波長よりも短波長側であって、波長７００～１，０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する第２の近赤外線吸収色素とを少なくとも含み、第１の近赤外線吸収色素の極大吸収波長と、第２の近赤外線吸収色素の極大吸収波長との差が１～１５０ｎｍであることが好ましい。
　本発明において、近赤外線吸収色素は、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、クアテリレン化合物、メロシアニン化合物、クロコニウム化合物、オキソノール化合物、ジイモニウム化合物、ジチオール化合物、トリアリールメタン化合物、ピロメテン化合物、アゾメチン化合物、アントラキノン化合物およびジベンゾフラノン化合物から選ばれる少なくとも１種が好ましく、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物およびクアテリレン化合物から選ばれる少なくとも１種がより好ましく、ピロロピロール化合物、シアニン化合物およびスクアリリウム化合物から選ばれる少なくとも１種が更に好ましく、ピロロピロール化合物が特に好ましい。ジイモニウム化合物としては、例えば、特表２００８－５２８７０６号公報に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。フタロシアニン化合物としては、例えば、特開２０１２－７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物、特開２００６－３４３６３１号公報に記載のオキシチタニウムフタロシアニン、特開２０１３－１９５４８０号公報の段落番号００１３～００２９に記載の化合物、特許第６０８１７７１号公報に記載のバナジウムフタロシアニンが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。ナフタロシアニン化合物としては、例えば、特開２０１２－７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、ジイモニウム化合物およびスクアリリウム化合物は、特開２０１０－１１１７５０号公報の段落番号００１０～００８１に記載の化合物を使用してもよく、この内容は本明細書に組み込まれる。また、シアニン化合物は、例えば、「機能性色素、大河原信／松岡賢／北尾悌次郎／平嶋恒亮・著、講談社サイエンティフィック」を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、近赤外線吸収色素としては、特開２０１６－１４６６１９号公報に記載された化合物を用いることもでき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、近赤外線吸収色素は、下記構造の化合物を用いることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　ピロロピロール化合物としては、式（ＰＰ）で表される化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　式中、Ｒ1aおよびＲ1bは、各々独立にアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、Ｒ2およびＲ3は、各々独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ2およびＲ3は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ4は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲ4AＲ4B、または金属原子を表し、Ｒ4は、Ｒ1a、Ｒ1bおよびＲ3から選ばれる少なくとも一つと共有結合もしくは配位結合していてもよく、Ｒ4AおよびＲ4Bは、各々独立に置換基を表す。Ｒ4AおよびＲ4Bは互いに結合して環を形成していてもよい。式（ＰＰ）の詳細については、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００１７～００４７、特開２０１１－６８７３１号公報の段落番号００１１～００３６、国際公開ＷＯ２０１５／１６６８７３号公報の段落番号００１０～００２４の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　式（ＰＰ）において、Ｒ1aおよびＲ1bは、各々独立に、アリール基またはヘテロアリール基が好ましく、アリール基がより好ましい。また、Ｒ1aおよびＲ1bが表すアルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００２０～００２２に記載された置換基や、以下の置換基Ｔが挙げられる。
（置換基Ｔ）
　アルキル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキル基）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルケニル基）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルキニル基）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０のアリール基）、アミノ基（好ましくは炭素数０～３０のアミノ基）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～３０のアルコキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールオキシ基）、ヘテロアリールオキシ基、アシル基（好ましくは炭素数１～３０のアシル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニル基）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルオキシ基）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニルアミノ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～３０のスルファモイル基）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～３０のカルバモイル基）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールチオ基）、ヘテロアリールチオ基（好ましくは炭素数１～３０）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１～３０）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６～３０）、ヘテロアリールスルホニル基（好ましくは炭素数１～３０）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０）、アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６～３０）、ヘテロアリールスルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～３０）、水酸基、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基、カルボン酸アミド基、スルホン酸アミド基、イミド酸基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、アルキルスルフィノ基、アリールスルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロアリール基（好ましくは炭素数１～３０）。これらの基は、さらに置換可能な基である場合、さらに置換基を有してもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔで説明した基が挙げられる。
　Ｒ1a、Ｒ1bで表される基の具体例としては、アルコキシ基を置換基として有するアリール基、水酸基を置換基として有するアリール基、アシルオキシ基を置換基として有するアリール基などが挙げられる。
　式（ＰＰ）において、Ｒ2およびＲ3は、各々独立に水素原子または置換基を表す。置換基としては上述した置換基Ｔが挙げられる。Ｒ2およびＲ3の少なくとも一方は電子求引性基が好ましい。ハメットの置換基定数σ値（シグマ値）が正の置換基は、電子求引性基として作用する。ここで、ハメット則で求められた置換基定数にはσｐ値とσｍ値がある。これらの値は多くの一般的な成書に見出すことができる。本発明においては、ハメットの置換基定数σ値が０．２以上の置換基を電子求引性基として例示することができる。σ値は、０．２５以上が好ましく、０．３以上がより好ましく、０．３５以上が更に好ましい。上限は特に制限はないが、好ましくは０．８０以下である。電子求引性基の具体例としては、シアノ基（σｐ値＝０．６６）、カルボキシル基（－ＣＯＯＨ：σｐ値＝０．４５）、アルコキシカルボニル基（例えば、－ＣＯＯＭｅ：σｐ値＝０．４５）、アリールオキシカルボニル基（例えば、－ＣＯＯＰｈ：σｐ値＝０．４４）、カルバモイル基（例えば、－ＣＯＮＨ2：σｐ値＝０．３６）、アルキルカルボニル基（例えば、－ＣＯＭｅ：σｐ値＝０．５０）、アリールカルボニル基（例えば、－ＣＯＰｈ：σｐ値＝０．４３）、アルキルスルホニル基（例えば、－ＳＯ2Ｍｅ：σｐ値＝０．７２）、アリールスルホニル基（例えば、－ＳＯ2Ｐｈ：σｐ値＝０．６８）などが挙げられ、シアノ基が好ましい。ここで、Ｍｅはメチル基を、Ｐｈはフェニル基を表す。なお、ハメットの置換基定数σ値については、例えば、特開２０１１－６８７３１号公報の段落番号００１７～００１８を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　式（ＰＰ）において、Ｒ2は電子求引性基（好ましくはシアノ基）を表し、Ｒ3はヘテロアリール基を表すことが好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。また、ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～８の縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～４の縮合環がより好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は、１～３が好ましく、１～２がより好ましい。ヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が例示される。ヘテロアリール基は、窒素原子を１個以上有することが好ましい。式（ＰＰ）における２個のＲ2同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。また、式（ＰＰ）における２個のＲ3同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。
　式（ＰＰ）において、Ｒ4は、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基または－ＢＲ4AＲ4Bで表される基であることが好ましく、水素原子、アルキル基、アリール基または－ＢＲ4AＲ4Bで表される基であることがより好ましく、－ＢＲ4AＲ4Bで表される基であることが更に好ましい。Ｒ4AおよびＲ4Bが表す置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、または、ヘテロアリール基が好ましく、アルキル基、アリール基、または、ヘテロアリール基がより好ましく、アリール基が特に好ましい。これらの基はさらに置換基を有していてもよい。式（ＰＰ）における２個のＲ4同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｒ4AおよびＲ4Bは互いに結合して環を形成していてもよい。
　式（ＰＰ）で表される化合物の具体例としては、下記化合物が挙げられる。以下の構造式中、Ｐｈはフェニル基を表す。また、ピロロピロール化合物としては、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００１６～００５８に記載の化合物、特開２０１１－６８７３１号公報の段落番号００３７～００５２に記載の化合物、国際公開ＷＯ２０１５／１６６８７３号公報の段落番号００１０～００３３に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　スクアリリウム化合物としては、下記式（ＳＱ）で表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　式（ＳＱ）中、Ａ1およびＡ2は、それぞれ独立に、アリール基、ヘテロアリール基または式（Ａ－１）で表される基を表す；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　式（Ａ－１）中、Ｚ1は、含窒素複素環を形成する非金属原子団を表し、Ｒ2は、アルキル基、アルケニル基またはアラルキル基を表し、ｄは、０または１を表し、波線は連結手を表す。式（ＳＱ）の詳細については、特開２０１１－２０８１０１号公報の段落番号００２０～００４９、特許第６０６５１６９号公報の段落番号００４３～００６２、国際公開ＷＯ２０１６／１８１９８７号公報の段落番号００２４～００４０の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　なお、式（ＳＱ）においてカチオンは、以下のように非局在化して存在している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　スクアリリウム化合物は、下記式（ＳＱ－１）で表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　環Ａおよび環Ｂは、それぞれ独立に芳香族環を表し、
　ＸAおよびＸBはそれぞれ独立に置換基を表し、
　ＧAおよびＧBはそれぞれ独立に置換基を表し、
　ｋＡは０～ｎAの整数を表し、ｋＢは０～ｎBの整数を表し、
　ｎAおよびｎBはそれぞれ環Ａまたは環Ｂに置換可能な最大の整数を表し、
　ＸAとＧA、ＸBとＧB、ＸAとＸBは、互いに結合して環を形成しても良く、ＧAおよびＧBがそれぞれ複数存在する場合は、互いに結合して環構造を形成していても良い。
　ＧAおよびＧBが表す置換基としては、上述した式（ＰＰ）で説明した置換基Ｔが挙げられる。
　ＸAおよびＸBが表す置換基としては、活性水素を有する基が好ましく、－ＯＨ、－ＳＨ、－ＣＯＯＨ、－ＳＯ3Ｈ、－ＮＲX1ＲX2、－ＮＨＣＯＲX1、－ＣＯＮＲX1ＲX2、－ＮＨＣＯＮＲX1ＲX2、－ＮＨＣＯＯＲX1、－ＮＨＳＯ2ＲX1、－Ｂ（ＯＨ）2および－ＰＯ（ＯＨ）2がより好ましく、－ＯＨ、－ＳＨおよび－ＮＲX1ＲX2が更に好ましい。ＲX1およびＲX1は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表す。ＸAおよびＸBが表す置換基としてはアルキル基、アリール基、または、ヘテロアリール基が挙げられ、アルキル基が好ましい。
　環Ａおよび環Ｂは、それぞれ独立に、芳香族環を表す。芳香族環は単環であってもよく、縮合環であってもよい。芳香族環の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、インデン環、アズレン環、ヘプタレン環、インダセン環、ペリレン環、ペンタセン環、アセナフテン環、フェナントレン環、アントラセン環、ナフタセン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオレン環、ビフェニル環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、インドリジン環、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、イソベンゾフラン環、キノリジン環、キノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キノキサゾリン環、イソキノリン環、カルバゾール環、フェナントリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、チアントレン環、クロメン環、キサンテン環、フェノキサチイン環、フェノチアジン環、および、フェナジン環が挙げられ、ベンゼン環またはナフタレン環が好ましい。芳香族環は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した式（ＰＰ）で説明した置換基Ｔが挙げられる。
　ＸAとＧA、ＸBとＧB、ＸAとＸBは、互いに結合して環を形成しても良く、ＧAおよびＧBがそれぞれ複数存在する場合は、互いに結合して環を形成していても良い。環としては、５員環または６員環が好ましい。環は単環であってもよく、縮合環であってもよい。ＸAとＧA、ＸBとＧB、ＸAとＸB、ＧA同士またはＧB同士が結合して環を形成する場合、これらが直接結合して環を形成してもよく、アルキレン基、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＢＲ－およびそれらの組み合わせからなる２価の連結基を介して結合して環を形成してもよい。Ｒは、水素原子または置換基を表す。置換基としては、上述した式（ＰＰ）で説明した置換基Ｔが挙げられ、アルキル基またはアリール基が好ましい。
　ｋＡは０～ｎＡの整数を表し、ｋＢは０～ｎＢの整数を表し、ｎAは、環Ａに置換可能な最大の整数を表し、ｎBは、環Ｂに置換可能な最大の整数を表す。ｋＡおよびｋＢは、それぞれ独立に０～４が好ましく、０～２がより好ましく、０～１が特に好ましい。
　スクアリリウム化合物は、下記式（ＳＱ－１０）、式（ＳＱ－１１）または式（ＳＱ－１２）で表される化合物であることも好ましい。
式（ＳＱ－１０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
式（ＳＱ－１１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
式（ＳＱ－１２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　式（ＳＱ－１０）～（ＳＱ－１２）中、Ｘは、独立して、１つ以上の水素原子がハロゲン原子、炭素数１～１２のアルキル基またはアルコキシ基で置換されていてもよい式（１）または式（２）で示される２価の有機基である。
　－（ＣＨ2）n1－　　　・・・（１）
　式（１）中、ｎ１は２または３である。
　－（ＣＨ2）n2－Ｏ－（ＣＨ2）n3－　　　・・・（２）
　式（２）中、ｎ２とｎ３はそれぞれ独立して０～２の整数であり、ｎ２＋ｎ３は１または２である。
　Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して、アルキル基またはアリール基を表す。アルキル基およびアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述した式（ＰＰ）で説明した置換基Ｔが挙げられる。
　Ｒ3～Ｒ6は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表す。
　ｎは２または３である。
　スクアリリウム化合物としては、下記構造の化合物が挙げられる。また、特開２０１１－２０８１０１号公報の段落番号００４４～００４９に記載の化合物、特許第６０６５１６９号公報の段落番号００６０～００６１に記載の化合物、国際公開ＷＯ２０１６／１８１９８７号公報の段落番号００４０に記載の化合物、国際公開ＷＯ２０１３／１３３０９９号公報に記載の化合物、国際公開ＷＯ２０１４／０８８０６３号公報に記載の化合物、特開２０１４－１２６６４２号公報に記載の化合物、特開２０１６－１４６６１９号公報に記載の化合物、特開２０１５－１７６０４６号公報に記載の化合物、特開２０１７－２５３１１号公報に記載の化合物、国際公開ＷＯ２０１６／１５４７８２号公報に記載の化合物、特許５８８４９５３号公報に記載の化合物、特許６０３６６８９号公報に記載の化合物、特許５８１０６０４号公報に記載の化合物、特開２０１７－０６８１２０号公報に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　シアニン化合物は、式（Ｃ）で表される化合物が好ましい。
式（Ｃ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　式中、Ｚ1およびＺ2は、それぞれ独立に、縮環してもよい５員または６員の含窒素複素環を形成する非金属原子団であり、
　Ｒ101およびＲ102は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、またはアリール基を表し、
　Ｌ1は、奇数個のメチン基を有するメチン鎖を表し、
　ａおよびｂは、それぞれ独立に、０または１であり、
　ａが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが二重結合で結合し、ｂが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが単結合で結合し、
　式中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ1はアニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ1はカチオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、ｃは０である。
　シアニン化合物の具体例としては、以下に示す化合物が挙げられる。また、シアニン化合物としては、特開２００９－１０８２６７号公報の段落番号００４４～００４５に記載の化合物、特開２００２－１９４０４０号公報の段落番号００２６～００３０に記載の化合物、特開２０１５－１７２００４号公報に記載の化合物、特開２０１５－１７２１０２号公報に記載の化合物、特開２００８－８８４２６号公報に記載の化合物、特開２０１７－０３１３９４号公報に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　本発明において、近赤外線吸収色素としては、市販品を用いることもできる。例えば、ＳＤＯ－Ｃ３３（有本化学工業（株）製）、イーエクスカラーＩＲ－１４、イーエクスカラーＩＲ－１０Ａ、イーエクスカラーＴＸ－ＥＸ－８０１Ｂ、イーエクスカラーＴＸ－ＥＸ－８０５Ｋ（（株）日本触媒製）、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ－８０４１、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ－８０４２、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ－８１４、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ－８２０、ＳｈｉｇｅｎｏｘＮＩＡ－８３９（ハッコーケミカル社製）、ＥｐｏｌｉｔｅＶ－６３、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ３８０１、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ３０３６（ＥＰＯＬＩＮ社製）、ＰＲＯ－ＪＥＴ８２５ＬＤＩ（富士フイルム（株）製）、ＮＫ－３０２７、ＮＫ－５０６０（（株）林原製）、ＹＫＲ－３０７０（三井化学（株）製）などが挙げられる。
　近赤外線吸収色素の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して３～５０質量％であることが好ましい。上限は、４０質量％以下が好ましく、３５質量％以下がより好ましい。下限は、４質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましい。近赤外線吸収色素は１種のみでもよく、２種以上でもよい。２種以上の場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜他の近赤外線吸収剤＞＞
　本発明の硬化性組成物は、上述した近赤外線吸収色素以外の近赤外線吸収剤（他の近赤外線吸収剤ともいう）をさらに含んでもよい。他の近赤外線吸収剤としては、無機顔料（無機粒子）が挙げられる。無機顔料の形状は特に制限されず、球状、非球状を問わず、シート状、ワイヤー状、チューブ状であってもよい。無機顔料としては、金属酸化物粒子または金属粒子が好ましい。金属酸化物粒子としては、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）粒子、酸化アンチモンスズ（ＡＴＯ）粒子、酸化亜鉛（ＺｎＯ）粒子、Ａｌドープ酸化亜鉛（ＡｌドープＺｎＯ）粒子、フッ素ドープ二酸化スズ（ＦドープＳｎＯ2）粒子、ニオブドープ二酸化チタン（ＮｂドープＴｉＯ2）粒子などが挙げられる。金属粒子としては、例えば、銀（Ａｇ）粒子、金（Ａｕ）粒子、銅（Ｃｕ）粒子、ニッケル（Ｎｉ）粒子などが挙げられる。また、無機顔料としては酸化タングステン系化合物を用いることもできる。酸化タングステン系化合物は、セシウム酸化タングステンであることが好ましい。酸化タングステン系化合物の詳細については、特開２０１６－００６４７６号公報の段落番号００８０を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　本発明の硬化性組成物が他の近赤外線吸収剤を含有する場合、他の近赤外線吸収剤の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、０．０１～５０質量％が好ましい。下限は、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましい。上限は、３０質量％以下が好ましく、１５質量％以下がより好ましい。
　また、上述した近赤外線吸収色素と他の近赤外線吸収剤との合計質量中における他の近赤外線吸収剤の含有量は、１～９９質量％が好ましい。上限は、８０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましく、３０質量％以下がさらに好ましい。
　また、本発明の硬化性組成物は他の近赤外線吸収剤を実質的に含有しないことも好ましい。他の近赤外線吸収剤を実質的に含有しないとは、上述した近赤外線吸収色素と他の近赤外線吸収剤との合計質量中における他の近赤外線吸収剤の含有量が０．５質量％以下であることが好ましく、０．１質量％以下であることがより好ましく、他の近赤外線吸収剤を含有しないことがさらに好ましい。
＜＜ラジカル重合性化合物＞＞
　本発明の硬化性組成物は、ラジカル重合性化合物を含有する。ラジカル重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有する基を１個以上有する化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和結合を有する基を２個以上有する化合物であることがより好ましく、エチレン性不飽和結合を有する基を３個以上有する化合物であることがさらに好ましい。ラジカル重合性化合物におけるエチレン性不飽和結合を有する基の個数の上限は、たとえば、１５個以下が好ましく、６個以下がより好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基が好ましい。ラジカル重合性化合物は、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。
　ラジカル重合性化合物は、モノマー、ポリマーのいずれの形態であってもよいがモノマーが好ましい。モノマータイプのラジカル重合性化合物は、分子量が１００～３，０００であることが好ましい。上限は、２，０００以下がより好ましく、１，５００以下がさらに好ましい。下限は、１５０以上がより好ましく、２５０以上がさらに好ましい。また、ラジカル重合性化合物は、分子量分布を実質的に有さない化合物であることも好ましい。ここで、分子量分布を実質的に有さない化合物としては、化合物の分散度（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））が、１．０～１．５である化合物が好ましく、１．０～１．３がより好ましい。
　ラジカル重合性化合物の例としては、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３３～００３４の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。ラジカル重合性化合物としては、エチレンオキシ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＮＫエステルＡＴＭ－３５Ｅ；新中村化学工業（株）製）、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、Ａ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、およびこれらの（メタ）アクリロイル基が、エチレングリコール残基および／またはプロピレングリコール残基を介して結合している構造の化合物が好ましい。またこれらのオリゴマータイプも使用できる。また、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３４～００３８の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０４７７（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０５８５）に記載の重合性モノマー等が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としては、Ｍ－４６０；東亞合成製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、Ａ－ＴＭＭＴ）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＨＤＤＡ）も好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。例えば、ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　ラジカル重合性化合物は、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。酸基を有するラジカル重合性化合物の市販品としては、例えば、アロニックスＭ－３０５、Ｍ－５１０、Ｍ－５２０（以上、東亞合成（株）製）などが挙げられる。ラジカル重合性化合物の酸価は、０．１～４０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。
　ラジカル重合性化合物は、カプロラクトン構造を有する化合物も好ましい態様である。カプロラクトン構造を有するラジカル重合性化合物は、例えば、日本化薬（株）からＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡシリーズとして市販されており、ＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０、ＤＰＣＡ－１２０等が挙げられる。カプロラクトン構造を有するラジカル重合性化合物については、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００４２～００４５の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　ラジカル重合性化合物は、アルキレンオキシ基を有する化合物を用いることもできる。アルキレンオキシ基を有するラジカル重合性化合物は、エチレンオキシ基および／またはプロピレンオキシ基を有する化合物であることが好ましく、エチレンオキシ基を有する化合物であることがより好ましく、エチレンオキシ基を４～２０個有する３～６官能（メタ）アクリレート化合物であることがさらに好ましい。アルキレンオキシ基を有するラジカル重合性化合物の市販品としては、例えばサートマー社製のエチレンオキシ基を４個有する４官能（メタ）アクリレートであるＳＲ－４９４、イソブチレンオキシ基を３個有する３官能（メタ）アクリレートであるＫＡＹＡＲＡＤ　ＴＰＡ－３３０などが挙げられる。
　ラジカル重合性化合物としては、特公昭４８－４１７０８号公報、特開昭５１－３７１９３号公報、特公平２－３２２９３号公報、特公平２－１６７６５号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８－４９８６０号公報、特公昭５６－１７６５４号公報、特公昭６２－３９４１７号公報、特公昭６２－３９４１８号公報に記載されたエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物も好適である。また、特開昭６３－２７７６５３号公報、特開昭６３－２６０９０９号公報、特開平１－１０５２３８号公報に記載された分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有するラジカル重合性化合物を用いることも好ましい。また、ラジカル重合性化合物としては、特開２０１７－４８３６７号公報、特許第６０５７８９１号公報、特許第６０３１８０７号公報に記載されている化合物を用いることもできる。市販品としては、ＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、ＤＰＨＡ－４０Ｈ（日本化薬（株）製）、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＡＨ－６００、Ｔ－６００、ＡＩ－６００（共栄社化学（株）製）などが挙げられる。
　また、ラジカル重合性化合物としては、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（以上、大成ファインケミカル（株）製）、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ０（共栄社化学（株）製）などを用いることも好ましい。
　また、ラジカル重合性化合物としては、特開２０１７－４８３６７号公報、特許第６０５７８９１号公報、特許第６０３１８０７号公報に記載されている化合物を用いることもできる。
　ラジカル重合性化合物の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、０．１～４０質量％が好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。上限は、３０質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましい。
　ラジカル重合性化合物の含有量は、近赤外線吸収色素の１００質量部に対して、２０～３００質量部であることが好ましい。上限は、２００質量部以下であることが好ましく１５０質量部以下であることがより好ましく、１２０質量部以下であることが更に好ましい。下限は、３０質量部以上であることが好ましく、４０質量部以上であることがより好ましく、６０質量部以上であることが更に好ましい。ラジカル重合性化合物と近赤外線吸収色素との割合が上記範囲であれば、近赤外線吸収色素に由来する凝集物の発生がより抑制された硬化膜を形成し易い。
　本発明の硬化性組成物は、ラジカル重合性化合物を、１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。ラジカル重合性化合物を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜ラジカル重合開始剤Ａ＞＞
　本発明の硬化性組成物はラジカル重合開始剤Ａを含有する。ラジカル重合開始剤Ａは、光または熱の作用によってラジカルを発生させてラジカル重合性化合物の重合反応を開始または促進させる化合物である。ラジカル重合開始剤Ａは、少なくとも熱の作用によってラジカルを発生する化合物であることが好ましい。
　本発明の硬化性組成物は、ラジカル重合開始剤Ａとして、ピナコール化合物を用いるか（第１の態様）、
　または、
　熱分解温度が１２０～２７０℃であり、かつ、熱分解速度が３３～６０Ｗ／℃・ｍｏｌである化合物を用いる（第２の態様）。
　第１の態様において用いられるラジカル重合開始剤Ａの熱分解温度は２７０℃以下であることが好ましく、２４０℃以下であることがより好ましく、２２０℃以下であることが更に好ましい。熱分解温度の下限は、１００℃以上であることが好ましく、１１０℃以上であることがより好ましく、１２０℃以上であることがさらに好ましく、１４０℃以上であることがより一層好ましく、１５０℃以上であることが特に好ましい。また、第１の態様において用いられるラジカル重合開始剤Ａの熱分解速度は、３３Ｗ／℃・ｍｏｌ以上であることが好ましく、３５Ｗ／℃・ｍｏｌ以上であることがより好ましく、３７Ｗ／℃・ｍｏｌ以上であることが更に好ましい。熱分解速度の上限は６６Ｗ／℃・ｍｏｌ以下であることが好ましく、６５Ｗ／℃・ｍｏｌ以下であることがより好ましく、６４Ｗ／℃・ｍｏｌ以下であることが更に好ましい。
　第２の態様において用いられるラジカル重合開始剤Ａの熱分解温度は１２０～２７０℃である。上限は、２４０℃以下であることがより好ましく、２２０℃以下であることが更に好ましい。下限は１４０℃以上であることが好ましく、１５０℃以上であることがより好ましい。また、第２の態様において用いられるラジカル重合開始剤Ａの熱分解速度は、３３～６６Ｗ／℃・ｍｏｌである。下限は、３５Ｗ／℃・ｍｏｌ以上であることが好ましく、３７Ｗ／℃・ｍｏｌ以上であることがより好ましい。上限は６５Ｗ／℃・ｍｏｌ以下であることが好ましく、６４Ｗ／℃・ｍｏｌ以下であることがより好ましい。第２の態様において用いられるラジカル重合開始剤Ａとしては、上述した特性を有する化合物であれば特に限定は無く、ピナコール化合物などが挙げられ、本発明の効果がより顕著に得られるという理由からピナコール化合物であることがより好ましい。
　なお、本発明において、ラジカル重合開始剤の熱分解温度は熱重量・示差熱（ＴＧ－ＤＴＡ）測定により測定した値である。より具体的にはラジカル重合開始剤を２３℃の状態から昇温速度１０℃／分の条件で昇温して、ラジカル重合開始剤の重量減少が始まる温度を測定した。
　また、ラジカル重合開始剤の熱分解速度は、示差走査熱量（ＤＳＣ）測定により測定した値である。より具体的には、ラジカル重合開始剤を２３℃の状態から昇温速度１０℃／分の条件で昇温して、１００℃以降で発熱ピークの立ち上がり温度と、発熱ピークの極大温度とを結ぶ線の傾きにより熱分解速度を算出した。
　第１の態様および第２の態様で用いられるラジカル重合開始剤Ａの重量１％温度は、９０～２２０℃であることが好ましい。重量１％温度の上限は、２１５℃以下であることが好ましく、２１０℃以下であることがより好ましく、２００℃以下であることがさらに好ましい。重量１％温度の下限は、１００℃以上であることが好ましく、１２０℃以上であることがより好ましく、１５０℃以上であることがさらに好ましい。ラジカル重合開始剤Ａの重量１％温度が上記範囲であれば、低温硬化性と組成物の保存安定性を両立させやすい。なお、本発明においてラジカル重合開始剤の重量１％温度とは、ラジカル重合開始剤単体についてＴＧ－ＤＴＡ測定を行ったときの、ラジカル重合開始剤の重量が１％減少する温度である。
　第１の態様および第２の態様で用いられるラジカル重合開始剤Ａの波長３６５ｎｍにおけるモル吸光係数は、１００Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1以下であることが好ましく、５０Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1以下であることがより好ましく、１０Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1以下であることが更に好ましい。ラジカル重合開始剤Ａの波長３６５ｎｍにおけるモル吸光係数が１００Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1以下であれば、硬化性組成物の保管中において、ラジカル重合開始剤Ａからのラジカルの発生を効果的に抑制でき、硬化性組成物の保存安定性が良好である。
　なお、本発明において、ラジカル重合開始剤の波長３６５ｎｍにおけるモル吸光係数は、ラジカル重合開始剤を溶剤に溶解させて、ラジカル重合開始剤の５ｍｏｌ％溶液（測定溶液）を調製し、この測定溶液の吸光度を測定することで算出した。具体的には、前述の測定溶液を幅１ｃｍのガラスセルに入れ、Ａｇｉｌｅｎｔ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製ＵＶ－Ｖｉｓ－ＮＩＲスペクトルメーター（Ｃａｒｙ５０００）を用いて吸光度を測定し、下記式に当てはめて、波長３６５ｎｍにおけるモル吸光係数（Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1）を算出した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000015
　上記式においてεはモル吸光係数（Ｌ・ｍｏｌ-1・ｃｍ-1）、Ａは吸光度、ｃは測定溶液の濃度（ｍｏｌ／Ｌ）、ｌは光路長（ｃｍ）を表す。
　ラジカル重合開始剤Ａのモル吸光係数の測定において、測定溶液の調製に用いる溶剤としては、アセトニトリル、クロロホルムが挙げられる。ラジカル重合開始剤Ａがアセトニトリルに溶解する化合物である場合は、アセトニトリルを用いて測定溶液を調製する。ラジカル重合開始剤Ａがアセトニトリルに溶解しないが、クロロホルムに溶解する化合物である場合は、クロロホルムを用いて測定溶液を調製する。また、ラジカル重合開始剤Ａがアセトニトリルおよびクロロホルムに溶解しないが、ジメチルスルホキシドに溶解する化合物である場合は、ジメチルスルホキシドを用いて測定溶液を調製する。
　本発明で用いられるラジカル重合開始剤Ａとしては、ピナコール化合物であることが好ましい。ピナコール化合物としては、ベンゾピナコール化合物であることが好ましい。ピナコール化合物としては、下記式（Ｔ－１）～（Ｔ－３）で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
　式（Ｔ－１）～（Ｔ－３）中、Ｒｔ1～Ｒｔ4は、それぞれ独立して置換基を表し、ｍ１～ｍ４は、それぞれ独立して０～４の整数を表す。ｍ１が２～４の場合、ｍ１個のＲｔ1は、それぞれ同一であってもよく、異なってもよい。また、ｍ１個のＲｔ1のうち２個のＲｔ1同士が互いに結合して環を形成していてもよい。ｍ２が２～４の場合、ｍ２個のＲｔ2は、それぞれ同一であってもよく、異なってもよい。また、ｍ２個のＲｔ2のうち２個のＲｔ2同士が互いに結合して環を形成していてもよい。ｍ３が２～４の場合、ｍ３個のＲｔ3は、それぞれ同一であってもよく、異なってもよい。また、ｍ３個のＲｔ3のうち２個のＲｔ3同士が互いに結合して環を形成していてもよい。ｍ４が２～４の場合、ｍ４個のＲｔ4は、それぞれ同一であってもよく、異なってもよい。また、ｍ４個のＲｔ4のうち２個のＲｔ4同士が互いに結合して環を形成していてもよい。また、Ｒｔ1とＲｔ2、Ｒｔ1とＲｔ3、Ｒｔ1とＲｔ4、Ｒｔ2とＲｔ3、Ｒｔ2とＲｔ4、Ｒｔ3とＲｔ4は結合して環を形成していてもよい。
　式（Ｔ－１）中、Ｒｔ5およびＲｔ6は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、Ｔｉ（ＲM1）（ＲM2）（ＲM3）、Ｚｒ（ＲM1）（ＲM2）（ＲM3）、Ｓｉ（ＲM1）（ＲM2）（ＲM3）またはＢ（ＲM1）（ＲM2）を表し、ＲM1～ＲM3は、それぞれ独立して置換基を表す。
　式（Ｔ－２）中、Ｍ1は、Ｔｉ（ＲM4）（ＲM5）、Ｚｒ（ＲM4）（ＲM5）、Ｓｉ（ＲM4）（ＲM5）またはＢ（ＲM4）を表し、ＲM4およびＲM5はそれぞれ独立して置換基を表す。
　式（Ｔ－３）中、Ｍ2は、Ｔｉ（ＲM6）、Ｚｒ（ＲM6）、Ｓｉ（ＲM6）またはＢを表し、ＲM6は置換基を表し、Ｌ1は２価の連結基を表す。
　Ｒｔ1～Ｒｔ4、ＲM1～ＲM6が表す置換基としては、アルキル基、アリール基、複素環基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、－ＯＲX1、－ＳＲX1、－ＣＯＲX1、－ＣＯＯＲX1、－ＯＣＯＲX1、－ＮＲX1ＲX2、－ＮＨＣＯＲX1、－ＣＯＮＲX1ＲX2、－ＮＨＣＯＮＲX1ＲX2、－ＮＨＣＯＯＲX1、－ＳＯ2ＲX1、－ＳＯ2ＯＲX1、－ＮＨＳＯ2ＲX1などが挙げられる。ＲX1およびＲX2は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す。
　ハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
　置換基としてのアルキル基、ＲX1およびＲX2が表すアルキル基、式（Ｔ－１）におけるＲｔ5およびＲｔ6が表すアルキル基の炭素数は、１～２０が好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましい。
　置換基としてのアリール基、ＲX1およびＲX2が表すアリール基、式（Ｔ－１）におけるＲｔ5およびＲｔ6が表すアリール基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１５がより好ましく、６～１０が更に好ましい。アリール基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。
　置換基としての複素環基、ならびに、ＲX1およびＲX2が表す複素環基は、５員環または６員環が好ましい。複素環基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。複素環基を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がより好ましい。複素環基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。複素環基を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。また、複素環基は、水素原子の一部または全部が、上記置換基で置換されていてもよい。
　ｍ１～ｍ４は、それぞれ独立して０～４の整数を表し、０～３が好ましく、０～２がより好ましく、０または１が更に好ましく、０が特に好ましい。
　Ｌ1が表す２価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、－ＮＲ’－（Ｒ’は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を表し、水素原子が好ましい）、－ＳＯ2－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｏ－、－Ｓ－およびこれらを組み合わせてなる基が挙げられる。
　式（Ｔ－１）において、Ｒｔ5およびＲｔ6の少なくとも一方は水素原子であることが好ましく、Ｒｔ5およびＲｔ6の両方が水素原子であることがより好ましい。
　ピナコール化合物の具体例としては、ベンゾピナコール、１，２－ジメトキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１，２－ジエトキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１，２－ジフェノキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１，２－ジメトキシ－１，１，２，２－テトラ（４－メチルフェニル）エタン、１，２－ジフェノキシ－１，１，２，２－テトラ（４－メトキシフェニル）エタン、１，２－ビス（トリメチルシロキシ）－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１，２－ビス（トリエチルシロキシ）－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１，２－ビス（ｔ－ブチルジメチルシロキシ）－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１－ヒドロキシ－２－トリメチルシロキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１－ヒドロキシ－２－トリエチルシロキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１－ヒドロキシ－２－ｔ－ブチルジメチルシロキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタンなどが挙げられる。また、ピナコール化合物については、特表２０１４－５２１７７２号公報、特表２０１４－５２３９３９号公報、および、特表２０１４－５２１７７２号公報の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　ラジカル重合開始剤Ａの含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して０．１～２０質量％であることが好ましい。上限は１５質量％以下であることが好ましく、１０質量％以下であることがより好ましい。下限は０．５質量％以上であることが好ましく、１質量％以上であることがより好ましい。
　また、硬化性組成物は、ラジカル重合性化合物の１００質量部に対してラジカル重合開始剤Ａを１～２００質量部含有することが好ましい。下限は、５質量部以上が好ましく、１０質量部以上がより好ましく、２０質量部以上が更に好ましい。上限は、１５０質量部以下が好ましく、１２０質量部以下がより好ましく、１００質量部以下が更に好ましい。ラジカル重合開始剤Ａとラジカル重合性化合物との割合が上記範囲であれば、近赤外線吸収色素に由来する凝集物の発生がより抑制された硬化膜を形成し易い。
＜＜ラジカル重合開始剤Ｂ＞＞
　本発明の硬化性組成物は、ラジカル重合開始剤として、上述したラジカル重合開始剤Ａとは異なるラジカル重合開始剤Ｂを含むことが好ましい。この態様によれば、本発明の効果がより顕著に得られる傾向にある。更には、得られる硬化膜の分光特性（例えば近赤外線遮蔽性など）をより向上させることができる。ラジカル重合開始剤Ａとラジカル重合開始剤Ｂとを併用することにより、製膜時における近赤外線吸収色素の会合性などを向上させることができるためであると推測される。また、例えば、ラジカル重合開始剤Ｂとして、ラジカル重合開始剤Ａよりも熱分解速度が遅い化合物を用いた場合においては、硬化性組成物の硬化性を適度に調整でき、その結果、近赤外線吸収色素に由来する凝集物の発生がより抑制された硬化膜を形成し易い。
　本発明で用いられるラジカル重合開始剤Ｂとしては、光または熱の作用によってラジカルを発生させてラジカル重合性化合物の重合反応を開始または促進させる化合物が挙げられる。ラジカル重合開始剤Ｂは、少なくとも熱の作用によってラジカルを発生する化合物であることが好ましい。
　ラジカル重合開始剤Ｂの熱分解温度は１００～２７０℃であることが好ましい。上限は、２４０℃以下であることがより好ましく、２２０℃以下であることが更に好ましい。下限は１２０℃以上であることがより好ましく、１４０℃以上であることがさらに好ましい。ラジカル重合開始剤Ｂの熱分解温度が上記範囲であれば、硬化性組成物の保存安定性が良好である。
　また、ラジカル重合開始剤Ａの熱分解温度とラジカル重合開始剤Ｂの熱分解温度の差の絶対値は１２℃以上であることが好ましく、１３℃以上であることがより好ましい。上限は３５℃以下であることが好ましく、３４℃以下であることがより好ましい。両者の熱分解温度の差が上記範囲であれば、熱硬化性と保存安定性を両立するという効果が得られる。
　ラジカル重合開始剤Ｂの熱分解速度は、３～３０Ｗ／℃・ｍｏｌであることが好ましい。上限は２０Ｗ／℃・ｍｏｌ以下であることが好ましく、１０Ｗ／℃・ｍｏｌ以下であることがより好ましく、７Ｗ／℃・ｍｏｌ以下であることが更に好ましい。ラジカル重合開始剤Ｂの熱分解速度が上記範囲であれば、硬化性組成物の硬化性を適度に調整でき、近赤外線吸収色素に由来する凝集物の発生がより抑制された硬化膜を形成し易い。
　また、ラジカル重合開始剤Ａの熱分解速度とラジカル重合開始剤Ｂの熱分解速度の差の絶対値は２７Ｗ／℃・ｍｏｌ以上であることが好ましく、３０Ｗ／℃・ｍｏｌ以上であることがより好ましい。上限は５５Ｗ／℃・ｍｏｌ以下であることが好ましく、５３Ｗ／℃・ｍｏｌ以下であることがより好ましい。両者の熱分解速度の差が上記範囲であれば、硬化性組成物の硬化性を適度に調整でき、近赤外線吸収色素に由来する凝集物の発生がより抑制された硬化膜を形成し易い。
　ラジカル重合開始剤Ｂとしては、α－ヒドロキシアセトフェノン化合物、α－アミノアセトフェノン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、オキシム化合物、有機過酸化物、アゾ化合物などが挙げられ、近赤外線吸収色素由来の凝集物の発生を効果的に抑制でき、更には、分光特性に優れた硬化膜が得られやすいという理由から、α－ヒドロキシアセトフェノン化合物、α－アミノアセトフェノン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物およびオキシム化合物が好ましく、α－ヒドロキシアセトフェノン化合物およびベンジルジメチルケタール化合物がより好ましく、α－ヒドロキシアセトフェノン化合物が更に好ましい。
　α－ヒドロキシアセトフェノン化合物としては、下記式（Ｔ－１１）で表される化合物が挙げられる。
式（Ｔ－１１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
　式中Ｒｔ11は、置換基を表し、Ｒｔ12およびＲｔ13は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を表し、Ｒｔ12とＲｔ13が互いに結合して環を形成していてもよく、ｍは０～４の整数を表す。
　Ｒｔ11が表す置換基としては、上述した置換基が挙げられ、アルキル基、アルコキシ基が好ましい。アルキル基およびアルコキシ基は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、ヒドロキシ基などが挙げられる。
　Ｒｔ12およびＲｔ13は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を表す。置換基としては、上述した置換基が挙げられ、アルキル基、アリール基が好ましい。また、Ｒｔ12とＲｔ13は互いに結合して環（好ましくは炭素数４～８の環、より好ましくは、炭素数４～８の脂肪族環）を形成していてもよい。
　α－ヒドロキシアセトフェノン化合物の具体例としては、１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オンなどが挙げられる。α－ヒドロキシアセトフェノン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－１８４、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－２９５９（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
　α－アミノアセトフェノン化合物としては、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－１－ブタノン、２－ジメチルアミノ－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノンなどが挙げられる。α－アミノアセトフェノン化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３６９、および、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３７９（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
　ベンジルジメチルケタール化合物としては、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノンなどが挙げられる。市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－６５１（ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
　アゾ化合物としては、２，２’－アゾビス（４－メトキシ－２，４－ジメチルバレロニトリル）、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）、ジメチル－２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）、２，２’－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）、１，１’－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）、２，２’－アゾビス［Ｎ－（２－プロペニル）２－メチルプロピオンアミド］、１－［（１－シアノ－１－メチルエチル）アゾ］ホルムアミド、２，２’－アゾビス（Ｎ－ブチル－２－メチルプロピオンアミド）、２，２’－アゾビス（Ｎ－シクロヘキシル－２－メチルプロピオンアミド）等が挙げられる。アゾ化合物の市販品としては、Ｖ－７０、Ｖ－６５、Ｖ－６０、Ｖ－５９、Ｖ－４０、Ｖ－３０、Ｖ－５０１、Ｖ－６０１、ＶＥ－０７３、ＶＡ－０８０、ＶＡ－０８６、ＶＦ－０９６、ＶＡｍ－１１０、ＶＡｍ－１１１、ＶＡ－０４４、ＶＡ－０４６Ｂ、ＶＡ－０６０、ＶＡ－０６１、Ｖ－５０、ＶＡ－０５７、ＶＡ－０６７、ＶＲ－１１０（以上、和光純薬工業（株）製）等が挙げられる。
　有機過酸化物としては、メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、３，３，５－トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、１，１－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、１，１－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）ブタン、ｔｅｒｔ－ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、パラメタンハイドロパーオキサイド、２，５－ジメチルヘキサン－２，５－ジハイドロパーオキサイド、１，１，３，３－テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ｔｅｒｔ－ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ビス（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、２，５－ジメチル－２，５－ジ（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５－キサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、２，４－ジクロロベンゾイルパーオキサイド、メタ－トルオイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ－２－エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ－２－エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ（３－メチル－３－メトキシブチル）パーオキシジカーボネート、ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシピバレート、ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシオクタノエート、ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ－３，５，５－トリメチルヘキサノエート、ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシラウレート、３，３’４，４’－テトラ－（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’４，４’－テトラ－（ｔ－アミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’４，４’－テトラ－（ｔｅｒｔ－ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’４，４’－テトラ－（ｔｅｒｔ－オクチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’４，４’－テトラ－（クミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’４，４’－テトラ－（ｐ－イソプロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、カルボニルジ（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ二水素二フタレート）、カルボニルジ（ｔｅｒｔ－ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート）等が挙げられる。有機過酸化物の市販品としては、パーブチルＯ、パーブチルＺ、パーヘキサ２５Ｂ（以上、日油（株）製）等が挙げられる。
　オキシム化合物としては、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、特開２０００－６６３８５号公報に記載の化合物、特開２０００－８００６８号公報に記載の化合物、特表２００４－５３４７９７号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、特開２０１７－１９７６６号公報に記載の化合物、特許第６０６５５９６号公報に記載の化合物、国際公開ＷＯ２０１５／１５２１５３号公報に記載の化合物、国際公開ＷＯ２０１７／０５１６８０公報に記載の化合物などが挙げられる。オキシム化合物の具体例としては、３－ベンゾイルオキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、及び２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オンなどが挙げられる。オキシム化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０２、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカオプトマーＮ－１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２－１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）が挙げられる。また、オキシム化合物としては、着色性が無い化合物や、透明性が高く変色し難い化合物を用いることも好ましい。市販品としては、アデカアークルズＮＣＩ－７３０、ＮＣＩ－８３１、ＮＣＩ－９３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。
　また、オキシム化合物として、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４－１３７４６６号公報に記載の化合物が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。オキシム化合物として、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。具体例としては、国際公開ＷＯ２０１５／０３６９１０号公報に記載の化合物ＯＥ－０１～ＯＥ－７５が挙げられる。また、オキシム化合物として、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられる。これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、オキシム化合物として、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３－１１４２４９号公報の段落番号００３１～００４７、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落番号０００８～００１２、００７０～００７９に記載の化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７～００２５に記載の化合物、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。
　本発明において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
　ラジカル重合開始剤Ｂの含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して０．１～２０質量％であることが好ましい。上限は１５質量％以下であることが好ましく、１０質量％以下であることがより好ましい。下限は０．５質量％以上であることが好ましく、１質量％以上であることがより好ましい。
　また、ラジカル重合性化合物の１００質量部に対してラジカル重合開始剤Ｂを１～２００質量部含有することが好ましい。下限は、５質量部以上が好ましく、１０質量部以上がより好ましく、２０質量部以上が更に好ましい。上限は、１５０質量部以下が好ましく、１２０質量部以下がより好ましく、１００質量部以下が更に好ましい。ラジカル重合開始剤Ｂとラジカル重合性化合物との割合が上記範囲であれば、近赤外線吸収色素に由来する凝集物の発生がより抑制された硬化膜を形成し易い。
　また、ラジカル重合開始剤Ａの１００質量部に対してラジカル重合開始剤Ｂを０．１～２０００質量部含有することが好ましい。下限は、０．５質量部以上が好ましく、１質量部以上がより好ましく、１０質量部以上が更に好ましい。上限は、１５００質量部以下が好ましく、１０００質量部以下がより好ましく、５００質量部以下が更に好ましい。ラジカル重合開始剤Ａとラジカル重合開始剤Ｂとの割合が上記範囲であれば、分光特性が良好で、近赤外線吸収色素に由来する凝集物の発生がより抑制された硬化膜を形成し易い。
＜＜環状エーテル基を有する化合物＞＞
　本発明の硬化性組成物は、環状エーテル基を有する化合物を含有させてもよい。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基が挙げられ、エポキシ基が好ましい。環状エーテル基を有する化合物は、１分子内に環状エーテル基を２個以上有する化合物であることが好ましい。環状エーテル基を有する化合物における環状エーテル基の数の上限は、１００個以下であることが好ましく、１０個以下であることがより好ましく、５個以下であることが更に好ましい。
　環状エーテル基を有する化合物の環状エーテル基当量（環状エーテル基を有する化合物の分子量／環状エーテル基を有する化合物中の環状エーテル基の数）は、５０～４００ｇ／当量であることが好ましい。環状エーテル基当量の下限は、１００ｇ／当量以上であることが好ましく、１５０ｇ／当量以上であることがより好ましい。上限は、３５０ｇ／当量以下であることが好ましく、３００ｇ／当量以下であることがより好ましい。また、環状エーテル基を有する化合物がエポキシ基を有する化合物である場合、エポキシ基当量（エポキシ基を有する化合物の分子量／エポキシ基を有する化合物中のエポキシ基の数）は、５０～４００ｇ／当量であることが好ましい。エポキシ基当量の下限は、１００ｇ／当量以上であることが好ましく、１５０ｇ／当量以上であることがより好ましい。上限は、３５０ｇ／当量以下であることが好ましく、３００ｇ／当量以下であることがより好ましい。
　環状エーテル基を有する化合物は、低分子化合物（例えば、分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）であってもよい。環状エーテル基を有する化合物の分子量（ポリマーの場合は、重量平均分子量）は、２００～１０００００が好ましく、５００～５００００がより好ましい。分子量（ポリマーの場合は、重量平均分子量）の上限は、３０００以下が好ましく、２０００以下がより好ましく、１５００以下が更に好ましい。
　環状エーテル基を有する化合物は、繰り返し単位を有する化合物であることが好ましい。環状エーテル基を有する化合物は、繰り返し単位を有する化合物である場合、環状エーテル基は繰り返し単位の側鎖に有していてもよく、主鎖末端に有していてもよい。なかでも、支持体に対して面吸着して、より優れた耐水密着性が得られやすいという理由から側鎖に環状エーテル基を有する化合物であることが好ましい。
　環状エーテル基を有する化合物は、芳香族環および／または脂肪族環を有する構造の化合物であることが好ましく、芳香族環を有する構造の化合物であることが更に好ましい。環状エーテル基を有する化合物として芳香族環を有する化合物を用いた場合、近赤外線吸収色素と相互作用し易く、耐水密着性のより優れた硬化膜を形成し易い。
　芳香族環としては、芳香族炭化水素環であることが好ましい。また、芳香族環は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。芳香族環の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられ、近赤外線吸収色素との相溶性が高まり、優れた耐水密着性が得られやすいという理由からナフタレン環を少なくとも含むことが好ましい。
　環状エーテル基を有する化合物が芳香族環を含む場合、芳香族環の数としては、１個以上であることが好ましく、近赤外線吸収色素との相溶性が高まり、優れた耐水密着性が得られやすいという理由から２個以上であることがより好ましい。上限は、５個以下が好ましく、４個以下がより好ましい。また、環状エーテル基を有する化合物が繰り返し単位を有する化合物である場合、一つの繰り返し単位における芳香族環の数は、１～１０個が好ましい。上限は、７個以下が好ましく、５個以下がより好ましい。下限は、２個以上が好ましい。なお、環状エーテル基を有する化合物における芳香族環の数とは、単環の芳香族環の数と、縮合環を構成する環の数の合計値である。例えば、環状エーテル基を有する化合物における芳香族環としてナフタレン環を有する化合物の場合、この環状エーテル基を有する化合物の芳香族環の数は２個である。環状エーテル基を有する化合物における芳香族環としてベンゼン環とナフタレン環を有する化合物の場合、この環状エーテル基を有する化合物の芳香族環の数は３個である。
　環状エーテル基を有する化合物が、芳香族環および／または脂肪族環を有する構造の化合物である場合、環状エーテル基は、単結合または連結基を介して、芳香族環および／または脂肪族環に結合していることが好ましい。連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、－ＮＲ’－（Ｒ’は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基または置換基を有していてもよいアリール基を表し、水素原子が好ましい）、－ＳＯ2－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｏ－、－Ｓ－およびこれらを組み合わせてなる基が挙げられる。
　環状エーテル基を有する化合物は、特開２０１３－０１１８６９号公報の段落番号００３４～００３６、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０１４７～０１５６、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落番号００８５～００９２に記載された化合物を用いることもできる。これらの内容は、本明細書に組み込まれる。環状エーテル基を有する化合物の市販品としては、例えば、ナフタレン変性エポキシ樹脂として、ＥＰＩＣＬＯＮ　ＨＰ５０００、ＥＰＩＣＬＯＮ　ＨＰ４０３２Ｄ（以上、ＤＩＣ（株）製）などが挙げられる。アルキルジフェノール型エポキシ樹脂として、ＥＰＩＣＬＯＮ　８２０（ＤＩＣ（株）製）などが挙げられる。ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂として、ｊＥＲ８２５、ｊＥＲ８２７、ｊＥＲ８２８、ｊＥＲ８３４、ｊＥＲ１００１、ｊＥＲ１００２、ｊＥＲ１００３、ｊＥＲ１０５５、ｊＥＲ１００７、ｊＥＲ１００９、ｊＥＲ１０１０（以上、三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８６０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５１、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５５（以上、ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂として、ｊＥＲ８０６、ｊＥＲ８０７、ｊＥＲ４００４、ｊＥＲ４００５、ｊＥＲ４００７、ｊＥＲ４０１０（以上、三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８３０、ＥＰＩＣＬＯＮ８３５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＬＣＥ－２１、ＲＥ－６０２Ｓ（以上、日本化薬（株）製）等が挙げられる。フェノールノボラック型エポキシ樹脂として、ｊＥＲ１５２、ｊＥＲ１５４、ｊＥＲ１５７Ｓ７０、ｊＥＲ１５７Ｓ６５（以上、三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７４０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７７０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７７５（以上、ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。クレゾールノボラック型エポキシ樹脂として、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６６０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６６５、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６７０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６７３、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６８０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＥＯＣＮ－１０２０（日本化薬（株）製）等が挙げられる。脂肪族エポキシ樹脂として、ＡＤＥＫＡ　ＲＥＳＩＮ　ＥＰ－４０８０Ｓ、同ＥＰ－４０８５Ｓ、同ＥＰ－４０８８Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、ＥＨＰＥ３１５０、ＥＰＯＬＥＡＤ　ＰＢ　３６００、ＥＰＯＬＥＡＤ　ＰＢ　４７００（以上、（株）ダイセル製）、デナコール　ＥＸ－２１２Ｌ、ＥＸ－２１４Ｌ、ＥＸ－２１６Ｌ、ＥＸ－３２１Ｌ、ＥＸ－８５０Ｌ（以上、ナガセケムテックス（株）製）等が挙げられる。また、オキセタニル基を有する化合物として、ＯＸＴ－１０１、ＯＸＴ－１２１、ＯＸＴ－２１２、ＯＸＴ－２２１（以上、東亞合成（株）製）、ＯＸＥ－１０、ＯＸＥ－３０（以上、大阪有機化学工業（株）製）などが挙げられる。
　本発明の硬化性組成物が環状エーテル基を有する化合物を含有する場合、環状エーテル基を有する化合物の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対し、１～４５質量％が好ましい。下限は、２質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましい。上限は、４０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましい。
　また、本発明の硬化性組成物は、環状エーテル基を有する化合物を実質的に含有しないことも好ましい。環状エーテル基を有する化合物を実質的に含有しないとは、環状エーテル基を有する化合物の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対し、０．１質量％以下であることを意味し、０．０５質量％以下であることが好ましく、０．０１質量％以下であることが更に好ましく、含有しないことが一層好ましい。
＜＜樹脂＞＞
　本発明の硬化性組成物は、樹脂を含有することができる。樹脂は、例えば、顔料などの粒子を組成物中で分散させる用途やバインダーの用途で配合される。なお、主に顔料などの粒子を分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外の目的で樹脂を使用することもできる。
　樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２,０００～２,０００,０００が好ましい。上限は、１,０００,０００以下が好ましく、５００,０００以下がより好ましい。下限は、３,０００以上が好ましく、５,０００以上がより好ましい。
　樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂などが挙げられる。これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。環状オレフィン樹脂としては、耐熱性向上の観点からノルボルネン樹脂が好ましく用いることができる。ノルボルネン樹脂の市販品としては、例えば、ＪＳＲ（株）製のＡＲＴＯＮシリーズ（例えば、ＡＲＴＯＮ　Ｆ４５２０）などが挙げられる。また、樹脂は、国際公開ＷＯ２０１６／０８８６４５号公報の実施例に記載された樹脂、特開２０１７－５７２６５号公報に記載された樹脂、特開２０１７－３２６８５号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０７５２４８号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０６６２４０号公報に記載された樹脂を用いることもでき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　本発明で用いる樹脂は、酸基を有していてもよい。酸基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられ、カルボキシル基が好ましい。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。酸基を有する樹脂はアルカリ可溶性樹脂として用いることもできる。
　酸基を有する樹脂としては、側鎖にカルボキシル基を有するポリマーが好ましい。具体例としては、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、ノボラック樹脂などのアルカリ可溶性フェノール樹脂、側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース誘導体、ヒドロキシ基を有するポリマーに酸無水物を付加させた樹脂が挙げられる。特に、（メタ）アクリル酸と、これと共重合可能な他のモノマーとの共重合体が、アルカリ可溶性樹脂として好適である。（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーとしては、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。アルキル（メタ）アクリレートおよびアリール（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等、ビニル化合物としては、スチレン、α－メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ－ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー等が挙げられる。また他のモノマーは、特開平１０－３００９２２号公報に記載のＮ位置換マレイミドモノマー、例えば、Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド等を用いることもできる。なお、これらの（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーは１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
　酸基を有する樹脂は、さらに重合性基を有していてもよい。重合性基としては、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基等が挙げられる。市販品としては、ダイヤナールＮＲシリーズ（三菱レイヨン（株）製）、Ｐｈｏｔｏｍｅｒ６１７３（カルボキシル基含有ポリウレタンアクリレートオリゴマー、Ｄｉａｍｏｎｄ　Ｓｈａｍｒｏｃｋ　Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）、ビスコートＲ－２６４、ＫＳレジスト１０６（いずれも大阪有機化学工業（株）製）、サイクロマーＰシリーズ（例えば、ＡＣＡ２３０ＡＡ）、プラクセル　ＣＦ２００シリーズ（いずれも（株）ダイセル製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００（ダイセルユーシービー（株）製）、アクリキュアーＲＤ－Ｆ８(（株）日本触媒製)などが挙げられる。
　酸基を有する樹脂は、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーからなる多元共重合体が好ましく用いることができる。また、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを共重合したもの、特開平７－１４０６５４号公報に記載の、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体なども好ましく用いることができる。
　酸基を有する樹脂は、下記式（ＥＤ１）で示される化合物および／または下記式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）を含むモノマー成分に由来する繰り返し単位を含むポリマーであることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
　式（ＥＤ１）中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
　式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１～３０の有機基を表す。式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０－１６８５３９号公報の記載を参酌できる。
　エーテルダイマーの具体例としては、例えば、特開２０１３－２９７６０号公報の段落番号０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。エーテルダイマーは、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
　酸基を有する樹脂は、下記式（Ｘ）で示される化合物に由来する繰り返し単位を含んでいてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
　式（Ｘ）において、Ｒ1は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ2は炭素数２～１０のアルキレン基を表し、Ｒ3は、水素原子またはベンゼン環を含んでもよい炭素数１～２０のアルキル基を表す。ｎは１～１５の整数を表す。
　酸基を有する樹脂については、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０５５８～０５７１（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０６８５～０７００）の記載、特開２０１２－１９８４０８号公報の段落番号００７６～００９９の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、酸基を有する樹脂は市販品を用いることもできる。例えば、アクリベースＦＦ－４２６（藤倉化成（株）製）などが挙げられる。
　酸基を有する樹脂の酸価は、３０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。
　酸基を有する樹脂としては、例えば下記構造の樹脂などが挙げられる。以下の構造式中、Ｍｅはメチル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
　本発明の硬化性組成物は、樹脂として、式（Ａ３－１）～（Ａ３－７）で表される繰り返し単位を有する樹脂を用いることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
　式中、Ｒ5は水素原子またはアルキル基を表し、Ｌ4～Ｌ7は各々独立に単結合または２価の連結基を表し、Ｒ10～Ｒ13は各々独立にアルキル基またはアリール基を表す。Ｒ14およびＲ15は、各々独立に水素原子または置換基を表す。
　Ｒ5は、水素原子またはアルキル基を表す。アルキル基の炭素数は、１～５が好ましく、１～３がさらに好ましく、１が特に好ましい。Ｒ5は、水素原子またはメチル基が好ましい。
　Ｌ4～Ｌ7は、各々独立に単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＳＯ2－、－ＮＲ10－（Ｒ10は水素原子またはアルキル基を表し、水素原子が好ましい）
、または、これらの組み合わせからなる基が挙げられる。アルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましい。アルキレン基は、置換基を有していてもよいが、無置換が好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。また、環状のアルキレン基は、単環、多環のいずれであってもよい。アリーレン基の炭素数は、６～１８が好ましく、６～１４がより好ましく、６～１０がさらに好ましい。
　Ｒ10～Ｒ13が表すアルキル基は、直鎖状、分岐状または環状のいずれでもよく、環状が好ましい。アルキル基は置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。アルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１０がさらに好ましい。Ｒ10～Ｒ13が表すアリール基の炭素数は６～１８が好ましく、６～１２がより好ましく、６がさらに好ましい。Ｒ10は、環状のアルキル基またはアリール基が好ましい。Ｒ11、Ｒ12は、直鎖状または分岐状のアルキル基が好ましい。Ｒ13は、直鎖状のアルキル基、分岐状のアルキル基、または、アリール基が好ましい。
　Ｒ14およびＲ15が表す置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、－ＮＲa1Ｒa2、－ＣＯＲa3、－ＣＯＯＲa4、－ＯＣＯＲa5、－ＮＨＣＯＲa6、－ＣＯＮＲa7Ｒa8、－ＮＨＣＯＮＲa9Ｒa10、－ＮＨＣＯＯＲa11、－ＳＯ2Ｒa12、－ＳＯ2ＯＲa13、－ＮＨＳＯ2Ｒa14または－ＳＯ2ＮＲa15Ｒa16が挙げられる。Ｒa1～Ｒa16は、各々独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または、ヘテロアリール基を表す。なかでも、Ｒ14およびＲ15の少なくとも一方は、シアノ基または－ＣＯＯＲa4を表すことが好ましい。Ｒa4は、水素原子、アルキル基またはアリール基を表すことが好ましい。
　式（Ａ３－７）で表される繰り返し単位を有する樹脂の市販品としては、ＡＲＴＯＮ　Ｆ４５２０（ＪＳＲ（株）製）などが挙げられる。また、式（Ａ３－７）で表される繰り返し単位を有する樹脂の詳細については、特開２０１１－１０００８４号公報の段落番号００５３～００７５、０１２７～０１３０の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　本発明の硬化性組成物は、分散剤としての樹脂を含むこともできる。特に、顔料を用いた場合、分散剤を含むことが好ましい。分散剤は、酸性分散剤（酸性樹脂）、塩基性分散剤（塩基性樹脂）が挙げられる。ここで、酸性分散剤（酸性樹脂）とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性分散剤（酸性樹脂）は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、酸基の量が７０モル％以上を占める樹脂が好ましく、実質的に酸基のみからなる樹脂がより好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）が有する酸基は、カルボキシル基が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）の酸価は、４０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、６０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇがさらに好ましい。また、塩基性分散剤（塩基性樹脂）とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基性分散剤（塩基性樹脂）は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、塩基性基の量が５０モル％を超える樹脂が好ましい。塩基性分散剤が有する塩基性基は、アミノ基であることが好ましい。
　分散剤として用いる樹脂は、酸基を有する繰り返し単位を含むことが好ましい。分散剤として用いる樹脂が酸基を有する繰り返し単位を含むことにより、フォトリソグラフィ法によりパターン形成する際、画素の下地に発生する残渣をより低減することができる。
　分散剤として用いる樹脂は、グラフト共重合体であることも好ましい。グラフト共重合体は、グラフト鎖によって溶剤との親和性を有するために、顔料の分散性、および、経時後の分散安定性に優れる。グラフト共重合体の詳細は、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号００２５～００９４の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、グラフト共重合体の具体例は、下記の樹脂が挙げられる。以下の樹脂は酸基を有する樹脂（アルカリ可溶性樹脂）でもある。また、グラフト共重合体としては特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号００７２～００９４に記載の樹脂が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
　また、本発明において、樹脂（分散剤）は、主鎖および側鎖の少なくとも一方に窒素原子を含むオリゴイミン系分散剤を用いることも好ましい。オリゴイミン系分散剤としては、ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造Ｘを有する構造単位と、原子数４０～１０，０００の側鎖Ｙを含む側鎖とを有し、かつ主鎖および側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂が好ましい。塩基性窒素原子とは、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はない。オリゴイミン系分散剤については、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号０１０２～０１６６の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。オリゴイミン系分散剤の具体例としては、例えば、以下が挙げられる。以下の樹脂は酸基を有する樹脂（アルカリ可溶性樹脂）でもある。また、オリゴイミン系分散剤としては、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号０１６８～０１７４に記載の樹脂を用いることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
　分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ－１１１（ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）、ソルスパース７６５００（日本ルーブリゾール（株）製）などが挙げられる。また、特開２０１４－１３０３３８号公報の段落番号００４１～０１３０に記載された顔料分散剤を用いることもでき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、上述した酸基を有する樹脂などを分散剤として用いることもできる。
　本発明の硬化性組成物において、樹脂の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対し、１～６０質量％が好ましい。下限は、５質量％以上が好ましく、７質量％以上がより好ましい。上限は、５０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましい。
　また、樹脂として分散剤を含有する場合、分散剤の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、０．１～４０質量％が好ましい。上限は、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がさらに好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がさらに好ましい。また、分散剤の含有量は、顔料１００質量部に対して、１～１００質量部が好ましい。上限は、８０質量部以下が好ましく、６０質量部以下がより好ましい。下限は、２．５質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。
＜＜有彩色着色剤＞＞
　本発明の硬化性組成物は、有彩色着色剤を含有することができる。本発明において、有彩色着色剤とは、白色着色剤および黒色着色剤以外の着色剤を意味する。有彩色着色剤は、波長４００ｎｍ以上６５０ｎｍ未満の範囲に吸収を有する着色剤が好ましい。
　有彩色着色剤は、顔料であってもよく、染料であってもよい。顔料は、有機顔料であることが好ましい。有機顔料としては、以下に示すものが挙られる。
　カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１，２，３，４，５，６，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２０，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，８６，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２５，１２６，１２７，１２８，１２９，１３７，１３８，１３９，１４７，１４８，１５０，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９３，１９４，１９９，２１３，２１４等（以上、黄色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｏｒａｎｇｅ　２，５，１３，１６，１７：１，３１，３４，３６，３８，４３，４６，４８，４９，５１，５２，５５，５９，６０，６１，６２，６４，７１，７３等（以上、オレンジ色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　１，２，３，４，５，６，７，９，１０，１４，１７，２２，２３，３１，３８，４１，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５２：１，５２：２，５３：１，５７：１，６０：１，６３：１，６６，６７，８１：１，８１：２，８１：３，８３，８８，９０，１０５，１１２，１１９，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１５０，１５５，１６６，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１６，２２０，２２４，２２６，２４２，２４６，２５４，２５５，２６４，２７０，２７２，２７９等（以上、赤色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　７，１０，３６，３７，５８，５９等（以上、緑色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　１，１９，２３，２７，３２，３７，４２等（以上、紫色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１，２，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，２２，６０，６４，６６，７９，８０等（以上、青色顔料）、
　これら有機顔料は、単独若しくは種々組合せて用いることができる。
　染料としては特に制限はなく、公知の染料が使用できる。化学構造としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリアリールメタン系、アントラキノン系、アントラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系、ピロメテン系等の染料が使用できる。また、これらの染料の多量体を用いてもよい。また、特開２０１５－０２８１４４号公報、特開２０１５－３４９６６号公報に記載の染料を用いることもできる。
　本発明の硬化性組成物が、有彩色着色剤を含有する場合、有彩色着色剤の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して０．１～７０質量％が好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１．０質量％以上がより好ましい。上限は、６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。また、有彩色着色剤と近赤外線吸収色素との合計量は、硬化性組成物の全固形分に対して１～８０質量％が好ましい。下限は、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましい。上限は、７０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましい。本発明の硬化性組成物が、有彩色着色剤を２種以上含む場合、それらの合計量が上記範囲内であることが好ましい。
　また、本発明の硬化性組成物は、有彩色着色剤を実質的に含有しないことも好ましい。有彩色着色剤を実質的に含有しないとは、有彩色着色剤の含有量が、硬化性組成物の全固形分に対して０．０５質量％以下であることが好ましく、０．０１質量％以下であることがより好ましく、有彩色着色剤を含有しないことがさらに好ましい。
＜＜赤外線を透過させて可視光を遮光する色材＞＞
　本発明の硬化性組成物は、赤外線を透過させて可視光を遮光する色材（以下、可視光を遮光する色材ともいう）を含有することもできる。
　本発明において、可視光を遮光する色材は、紫色から赤色の波長領域の光を吸収する色材であることが好ましい。また、本発明において、可視光を遮光する色材は、波長４５０～６５０ｎｍの波長領域の光を遮光する色材であることが好ましい。また、可視光を遮光する色材は、波長９００～１３００ｎｍの光を透過する色材であることが好ましい。
　本発明において、可視光を遮光する色材は、以下の（Ａ）および（Ｂ）の少なくとも一方の要件を満たすことが好ましい。
（Ａ）：２種類以上の有彩色着色剤を含み、２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成している。
（Ｂ）：有機系黒色着色剤を含む。
　有彩色着色剤としては、上述したものが挙げられる。有機系黒色着色剤としては、例えば、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、アゾ化合物などが挙げられ、ビスベンゾフラノン化合物、ペリレン化合物が好ましい。ビスベンゾフラノン化合物としては、特表２０１０－５３４７２６号公報、特表２０１２－５１５２３３号公報、特表２０１２－５１５２３４号公報、国際公開ＷＯ２０１４／２０８３４８号公報、特表２０１５－５２５２６０号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、ＢＡＳＦ社製の「Ｉｒｇａｐｈｏｒ　Ｂｌａｃｋ」として入手可能である。ペリレン化合物としては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌａｃｋ　３１、３２などが挙げられる。アゾメチン化合物としては、特開平１－１７０６０１号公報、特開平２－３４６６４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、大日精化社製の「クロモファインブラックＡ１１０３」として入手できる。
　２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成する場合の、有彩色着色剤の組み合わせとしては、例えば以下が挙げられる。
（１）黄色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（２）黄色着色剤、青色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（３）黄色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（４）黄色着色剤および紫色着色剤を含有する態様。
（５）緑色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（６）紫色着色剤およびオレンジ色着色剤を含有する態様。
（７）緑色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（８）緑色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
　本発明の硬化性組成物が、可視光を遮光する色材を含有する場合、可視光を遮光する色材の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましく、３０質量％以下がさらに好ましく、２０質量％以下がより一層好ましく、１５質量％以下が特に好ましい。下限は、例えば、０．１質量％以上とすることができ、０．５質量％以上とすることもできる。
　また、本発明の硬化性組成物は、可視光を遮光する色材を実質的に含有しないことも好ましい。可視光を遮光する色材を実質的に含有しないとは、可視光を遮光する色材の含有量が、硬化性組成物の全固形分に対して０．０５質量％以下であることが好ましく、０．０１質量％以下であることがより好ましく、可視光を遮光する色材を含有しないことがさらに好ましい。
＜＜顔料誘導体＞＞
　本発明の硬化性組成物は、さらに顔料誘導体を含有することができる。顔料誘導体としては、色素骨格に、酸基および塩基性基から選ばれる少なくとも１種の基が結合した化合物が挙げられる。顔料誘導体としては、式（Ｂ１）で表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
　式（Ｂ１）中、Ｐは色素骨格を表し、Ｌは単結合または連結基を表し、Ｘは酸基または塩基性基を表し、ｍは１以上の整数を表し、ｎは１以上の整数を表し、ｍが２以上の場合は複数のＬおよびＸは互いに異なっていてもよく、ｎが２以上の場合は複数のＸは互いに異なっていてもよい。
　Ｐが表す色素骨格としては、ピロロピロール色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、キナクリドン色素骨格、アントラキノン色素骨格、ジアントラキノン色素骨格、ベンゾイソインドール色素骨格、チアジンインジゴ色素骨格、アゾ色素骨格、キノフタロン色素骨格、フタロシアニン色素骨格、ナフタロシアニン色素骨格、ジオキサジン色素骨格、ペリレン色素骨格、ペリノン色素骨格、ベンゾイミダゾロン色素骨格、ベンゾチアゾール色素骨格、ベンゾイミダゾール色素骨格およびベンゾオキサゾール色素骨格から選ばれる少なくとも１種が好ましく、ピロロピロール色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、キナクリドン色素骨格およびベンゾイミダゾロン色素骨格から選ばれる少なくとも１種が更に好ましく、ピロロピロール色素骨格が特に好ましい。
　Ｌが表す連結基としては、炭化水素基、複素環基、－ＮＲ－、－ＳＯ2－、－Ｓ－、－Ｏ－、－ＣＯ－もしくはこれらの組み合わせからなる基が挙げられる。Ｒは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。
　Ｘが表す酸基としては、カルボキシル基、スルホ基、カルボン酸アミド基、スルホン酸アミド基、イミド酸基等が挙げられる。カルボン酸アミド基としては、－ＮＨＣＯＲX1で表される基が好ましい。スルホン酸アミド基としては、－ＮＨＳＯ2ＲX2で表される基が好ましい。イミド酸基としては、－ＳＯ2ＮＨＳＯ2ＲX3、－ＣＯＮＨＳＯ2ＲX4、－ＣＯＮＨＣＯＲX5または－ＳＯ2ＮＨＣＯＲX6で表される基が好ましい。ＲX1～ＲX6は、それぞれ独立に、炭化水素基または複素環基を表す。ＲX1～ＲX6が表す、炭化水素基および複素環基は、さらに置換基を有してもよい。さらなる置換基としては、上述した式（ＰＰ）で説明した置換基Ｔが挙げられ、ハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。Ｘが表す塩基性基としてはアミノ基が挙げられる。Ｘが表す塩構造としては、上述した酸基または塩基性基の塩が挙げられる。
　顔料誘導体としては、下記構造の化合物が挙げられる。また、特開昭５６－１１８４６２号公報、特開昭６３－２６４６７４号公報、特開平１－２１７０７７号公報、特開平３－９９６１号公報、特開平３－２６７６７号公報、特開平３－１５３７８０号公報、特開平３－４５６６２号公報、特開平４－２８５６６９号公報、特開平６－１４５５４６号公報、特開平６－２１２０８８号公報、特開平６－２４０１５８号公報、特開平１０－３００６３号公報、特開平１０－１９５３２６号公報、国際公開ＷＯ２０１１／０２４８９６号公報の段落番号００８６～００９８、国際公開ＷＯ２０１２／１０２３９９号公報の段落番号００６３～００９４等に記載の化合物、特許第５２９９１５１号公報に記載の化合物を用いることもでき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
　本発明の硬化性組成物が顔料誘導体を含有する場合、顔料誘導体の含有量は、顔料１００質量部に対し、１～５０質量部が好ましい。下限値は、３質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。上限値は、４０質量部以下が好ましく、３０質量部以下がより好ましい。顔料誘導体の含有量が上記範囲であれば、顔料の分散性を高めて、顔料の凝集を効率よく抑制できる。顔料誘導体は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜溶剤＞＞
　本発明の硬化性組成物は、溶剤を含有することが好ましい。溶剤としては、有機溶剤が挙げられる。溶剤の種類は、各成分の溶解性や組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はない。有機溶剤の例としては、例えば、エステル類、エーテル類、ケトン類、芳香族炭化水素類などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開ＷＯ２０１５／１６６７７９号公報の段落番号０２２３を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤を好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、ジクロロメタン、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、シクロヘキサノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどが挙げられる。また、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミドも溶解性向上の観点から好ましい。本発明において有機溶剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。ただし溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、有機溶剤全量に対して、５０質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｍｉｌｌｉｏｎ）以下とすることもでき、１０質量ｐｐｍ以下とすることもでき、１質量ｐｐｍ以下とすることもできる）。
　本発明においては、金属含有量の少ない溶剤を用いることが好ましい。溶剤の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの溶剤を用いてもよく、そのような高純度溶剤は例えば東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。
　溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンまたはナイロンが好ましい。
　溶剤には、異性体（原子数が同じであるが構造が異なる化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
　本発明において、有機溶剤は、過酸化物の含有率が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
　溶剤の含有量は、硬化性組成物の全量に対し、１０～９０質量％であることが好ましく、２０～８０質量％であることがより好ましく、２５～７５質量％であることが更に好ましい。溶剤を２種類以上用いる場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。また、環境面等の理由により、硬化性組成物は、溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）を含有しないことが好ましい場合もある。
　溶剤の含有量は、硬化性組成物の全量に対し、１０～９７質量％であることが好ましい。下限は、３０質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、５０質量％以上であることがさらに好ましく、６０質量％以上であることがより一層好ましく、７０質量％以上であることが特に好ましい。上限は、９６質量％以下であることが好ましく、９５質量％以下であることがより好ましい。
＜＜重合禁止剤＞＞
　本発明の硬化性組成物は、重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）が挙げられる。中でも、ｐ－メトキシフェノールが好ましい。重合禁止剤の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、０．００１～５質量％が好ましい。
＜＜シランカップリング剤＞＞
　本発明の硬化性組成物は、シランカップリング剤を含有することができる。本発明において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応および縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、フェニル基などが挙げられる。シランカップリング剤は、特開２００９－２８８７０３号公報の段落番号００１８～００３６に記載の化合物、特開２００９－２４２６０４号公報の段落番号００５６～００６６に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。シランカップリング剤は、ウレア基を有するシランカップリング剤が好ましい。
　シランカップリング剤の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、０．０１～１５．０質量％が好ましく、０．０５～１０．０質量％がより好ましい。シランカップリング剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜界面活性剤＞＞
　本発明の硬化性組成物は、界面活性剤を含有することができる。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用することができる。界面活性剤は、国際公開ＷＯ２０１５／１６６７７９号公報の段落番号０２３８～０２４５を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　本発明において、界面活性剤は、フッ素系界面活性剤であることが好ましい。本発明の硬化性組成物にフッ素系界面活性剤を含有させることで液特性（特に、流動性）がより向上し、省液性をより改善することができる。また、厚みムラの小さい膜を形成することもできる。
　フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３～４０質量％が好適であり、より好ましくは５～３０質量％であり、特に好ましくは７～２５質量％である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。
　フッ素系界面活性剤として具体的には、特開２０１４－４１３１８号公報の段落番号００６０～００６４（対応する国際公開２０１４／１７６６９号公報の段落番号００６０～００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１－１３２５０３号公報の段落番号０１１７～０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ１７１、Ｆ１７２、Ｆ１７３、Ｆ１７６、Ｆ１７７、Ｆ１４１、Ｆ１４２、Ｆ１４３、Ｆ１４４、Ｒ３０、Ｆ４３７、Ｆ４７５、Ｆ４７９、Ｆ４８２、Ｆ５５４、Ｆ７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、旭硝子（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ　ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造で、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月２２日）（日経産業新聞、２０１６年２月２３日）、例えばメガファックＤＳ－２１が挙げられる。
　フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。例えば特開２０１１－８９０９０号公報に記載された化合物が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
　上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３，０００～５０，０００であり、例えば、１４，０００である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。
　本発明においてフッ素系界面活性剤としては、フッ素原子および硬化性基を有する化合物（以下、含フッ素硬化性化合物ともいう）を用いることが好ましい。このような界面活性剤を用いることで、得られる硬化膜の耐溶剤性を向上させることができる。含フッ素硬化性化合物を用いることで優れた耐溶剤性が得られる理由としては次によるものであると推測する。含フッ素硬化性化合物は表面自由エネルギーが低いため、例えば、基板などの支持体上に組成物を塗布して形成される塗膜においては、支持体とは反対側の塗膜表面近傍に含フッ素硬化性化合物が偏在しやすい。含フッ素硬化性化合物がこのように偏在した状態で本発明の硬化性組成物を硬化することで、基板から遠い側の表面に含フッ素硬化性化合物の硬化物の割合が多い領域が形成される。このような領域が存在することにより、膜を溶剤に浸漬させても、近赤外線吸収色素が膜表面から浸み出しにくくなり、優れた耐溶剤性が得られる。
　含フッ素硬化性化合物が有する硬化性基としては、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基およびオキセタニル基が挙げられ、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
　含フッ素硬化性化合物は、フッ素原子で置換されたアルキレン基、フッ素原子で置換されたアルキル基、及び、フッ素原子で置換されたアリール基からなる群から選択される少なくとも１つを有することが好ましい。
　フッ素原子で置換されたアルキレン基としては、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基であることが好ましい。
　フッ素原子で置換されたアルキル基としては、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基であることが好ましい。
　フッ素原子で置換されたアルキレン基及びフッ素原子で置換されたアルキル基中の炭素数は、１～２０であることが好ましく、１～１０であることがより好ましく、１～５であることがさらに好ましい。
　フッ素原子で置換されたアリール基は、アリール基がフッ素原子で直接に置換されているか、トリフルオロメチル基で置換されていることが好ましい。
　フッ素原子で置換されたアルキレン基、フッ素原子で置換されたアルキル基、及び、フッ素原子で置換されたアリール基は、フッ素原子以外の置換基をさらに有していてもよい。これらの具体例としては、例えば、特開２０１１－１０００８９号公報の段落０２６６～０２７２を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　含フッ素硬化性化合物は、フルオロエーテル基と硬化性基とを含む化合物であることが好ましい。フルオロエーテル基としては、フッ素原子で置換されたアルキレン基と酸素原子とが連結した基Ｘ（式（Ｘ）で表される基）が挙げられる。フルオロエーテル基は、パーフルオロアルキレンエーテル基であることが好ましい。なお、パーフルオロアルキレンエーテル基とは、下記式（Ｘ）におけるＬAがパーフルオロアルキレン基であることを意味する。パーフルオロアルキレン基とは、アルキレン基中の水素原子がすべてフッ素原子で置換された基を意味する。
　式（Ｘ）　　－（ＬA－Ｏ）ｎ－　上記ＬAは、フッ素原子で置換されたアルキレン基を表す。フッ素原子で置換されたアルキレン基の炭素数は、１～２０であることが好ましく、１～１０であることがより好ましく、１～５であることがさらに好ましい。フッ素原子で置換されたアルキレン基は直鎖状であっても、分岐状であってもよい。ｎは１以上の整数を表し、１～５０が好ましく、１～２０がより好ましい。なお、ｎが２以上の場合、複数の－（ＬA－Ｏ）－中のＬAは同一であってもよく、異なっていてもよい。
　含フッ素硬化性化合物は、モノマーであってもよく、ポリマーであってもよいが、ポリマーであることが好ましい。
　含フッ素硬化性化合物がポリマーである場合、ポリマーは、フルオロエーテル基を有する繰り返し単位と、硬化性基を有する繰り返し単位とを有するポリマーであることが好ましい。また、下記式（Ｂ１）で表される繰り返し単位と、下記式（Ｂ２）で表される繰り返し単位及び式（Ｂ３）で表される繰り返し単位の少なくとも一方とを有するポリマーであることが好ましく、下記式（Ｂ１）で表される繰り返し単位と、下記式（Ｂ３）で表される繰り返し単位とを有するポリマーであることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
　式（Ｂ１）～（Ｂ３）中、Ｒ1～Ｒ11は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又は、ハロゲン原子を表す。Ｌ1～Ｌ4は、それぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表す。Ｘ1は、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、又はオキセタニル基を表し、Ｘ2はフッ素原子で置換されたアルキル基またはフッ素原子で置換されたアリール基を表し、Ｘ3は式（Ｘ）で表される基を表す。
　式（Ｂ１）～（Ｂ３）中、Ｒ1～Ｒ11は、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基であることが好ましい。Ｒ1～Ｒ11がアルキル基を表す場合、炭素数１～３のアルキル基が好ましい。Ｒ1～Ｒ11がハロゲン原子を表す場合、フッ素原子が好ましい。
　式（Ｂ１）～（Ｂ３）中、Ｌ1～Ｌ4が２価の連結基を表す場合、２価の連結基としては、ハロゲン原子が置換していてもよいアルキレン基、ハロゲン原子が置換していてもよいアリーレン基、－ＮＲ12－、－ＣＯＮＲ12－、－ＣＯ－、－ＣＯ2－、－ＳＯ2ＮＲ12－、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ2－、又は、これらの組み合わせが挙げられる。なかでも、炭素数２～１０のハロゲン原子が置換していてもよいアルキレン基及び炭素数６～１２のハロゲン原子が置換していてもよいアリーレン基からなる群から選択される少なくとも１種、又は、これらの基と－ＮＲ12－、－ＣＯＮＲ12－、－ＣＯ－、－ＣＯ2－、－ＳＯ2ＮＲ12－、－Ｏ－、－Ｓ－、及び－ＳＯ2－からなる群から選択される少なくとも１種の基との組み合わせからなる基が好ましく、炭素数２～１０のハロゲン原子が置換していてもよいアルキレン基、－ＣＯ2－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＮＲ12－、又は、これらの基の組み合わせからなる基がより好ましい。ここで、上記Ｒ12は、水素原子又はメチル基を表す。
　上記式（Ｂ１）で表される繰り返し単位の含有量は、含フッ素硬化性化合物中の全繰り返し単位に対して、３０～９５モル％であることが好ましく、４５～９０モル％であることがより好ましい。
　上記式（Ｂ２）で表される繰り返し単位及び式（Ｂ３）で表される繰り返し単位の合計含有量は、含フッ素硬化性化合物中の全繰り返し単位に対して、５～７０モル％であることが好ましく、１０～６０モル％であることがより好ましい。なお、式（Ｂ２）で表される繰り返し単位が含まれず、式（Ｂ３）で表される繰り返し単位が含まれる場合は、式（Ｂ２）で表される繰り返し単位の含有量は０モル％として、式（Ｂ３）で表される繰り返し単位の含有量が上記範囲であることが好ましい。
　また、含フッ素硬化性化合物は、上記式（Ｂ１）～（Ｂ３）で表される繰り返し単位以外の他の繰り返し単位を有していてもよい。他の繰り返し単位の含有量は、含フッ素硬化性化合物中の全繰り返し単位に対して、１０モル％以下であることが好ましく、１モル％以下であることがより好ましい。
　含フッ素硬化性化合物がポリマーである場合、重量平均分子量が５，０００～１００，０００であることが好ましく、７，０００～５０，０００であることがより好ましい。また、分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は、１．８０～３．００であることが好ましく、２．００～２．９０であることがより好ましい。
　含フッ素硬化性化合物の市販品としては、例えば、ＤＩＣ社製のメガファックＲＳ－７２－Ｋ、メガファックＲＳ－７５、メガファックＲＳ－７６－Ｅ、メガファックＲＳ－７６－ＮＳ、メガファックＲＳ－７７等を利用することができる。含フッ素硬化性化合物は、特開２０１０－１６４９６５号公報の段落番号００５０～００９０および段落番号０２８９～０２９５に記載された化合物、特開２０１５－１１７３２７号公報の段落番号００１５～０１５８に記載の化合物を用いることもできる。また、含フッ素硬化性化合物として（Ｂ１－１）で表される繰り返し単位と、式（Ｂ３－１）で表される繰り返し単位とを有するポリマーを用いることもできる。式（Ｂ３－１）中、Ｘは、フルオロメチレン基またはフルオロエチレン基を表し、ｒは繰り返し単位数を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
　ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレートおよびプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（ＢＡＳＦ社製）、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（和光純薬工業（株）製）、パイオニンＤ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（日信化学工業（株）製）などが挙げられる。
　界面活性剤の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して０．００１質量％～５．０質量％が好ましく、０．００５～３．０質量％がより好ましい。界面活性剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜紫外線吸収剤＞＞
　本発明の硬化性組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、共役ジエン化合物、アミノブタジエン化合物、メチルジベンゾイル化合物、クマリン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物などを用いることができる。これらの詳細については、特開２０１２－２０８３７４号公報の段落番号００５２～００７２、特開２０１３－６８８１４号公報の段落番号０３１７～０３３４の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。共役ジエン化合物の市販品としては、例えば、ＵＶ－５０３（大東化学（株）製）などが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としてはミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）を用いてもよい。
　紫外線吸収剤の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、０．０１～１０質量％が好ましく、０．０１～５質量％がより好ましい。本発明において、紫外線吸収剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜その他成分＞＞
　本発明の硬化性組成物は、必要に応じて、増感剤、硬化促進剤、フィラー、熱重合禁止剤、可塑剤、密着促進剤およびその他の助剤類（例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、潜在酸化防止剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を含有してもよい。これらの成分は、特開２００８－２５００７４号公報の段落番号０１０１～０１０４、０１０７～０１０９等の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物などが挙げられる。酸化防止剤としては、分子量５００以上のフェノール化合物、分子量５００以上の亜リン酸エステル化合物または分子量５００以上のチオエーテル化合物がより好ましい。これらは２種以上を混合して使用してもよい。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。特に、フェノール性水酸基に隣接する部位（オルト位）に置換基を有する化合物が好ましい。また、酸化防止剤は、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。また、酸化防止剤は、リン系酸化防止剤も好適に使用することができる。リン系酸化防止剤としてはトリス［２－［［２，４，８，１０－テトラキス（１，１－ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－６－イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２－［（４，６，９，１１－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－２－イル）オキシ］エチル］アミン、および亜リン酸エチルビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－６－メチルフェニル）からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物が挙げられる。これらは、市販品として入手できる。例えば、アデカスタブ　ＡＯ－２０、アデカスタブ　ＡＯ－３０、アデカスタブ　ＡＯ－４０、アデカスタブ　ＡＯ－５０、アデカスタブ　ＡＯ－５０Ｆ、アデカスタブ　ＡＯ－６０、アデカスタブ　ＡＯ－６０Ｇ、アデカスタブ　ＡＯ－８０、アデカスタブ　ＡＯ－３３０（（株）ＡＤＥＫＡ）などが挙げられる。また、酸化防止剤として、国際公開ＷＯ２０１７／００６６００号公報に記載された多官能ヒンダードアミン酸化防止剤を用いることもできる。酸化防止剤の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、０．０１～２０質量％であることが好ましく、０．３～１５質量％であることがより好ましい。酸化防止剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
　潜在酸化防止剤とは、酸化防止剤として機能する部位が保護基で保護された化合物であって、１００～２５０℃で加熱するか、又は酸／塩基触媒存在下で８０～２００℃で加熱することにより保護基が脱離して酸化防止剤として機能する化合物が好ましい。潜在酸化防止剤としては国際公開ＷＯ２０１４／０２１０２３号公報、国際公開ＷＯ２０１７／０３０００５号公報、特開２０１７－００８２１９号公報に記載された化合物が挙げられる。市販品としては、アデカアークルズＧＰＡ－５００１（（株）ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。
　本発明の硬化性組成物の粘度（２３℃）は、例えば、塗布により膜を形成する場合、１～１００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。下限は、２ｍＰａ・ｓ以上がより好ましく、３ｍＰａ・ｓ以上がさらに好ましい。上限は、５０ｍＰａ・ｓ以下がより好ましく、３０ｍＰａ・ｓ以下がさらに好ましく、１５ｍＰａ・ｓ以下が特に好ましい。
　本発明の硬化性組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収容容器として、原材料や組成物中への不純物混入を抑制することを目的に、容器内壁を６種６層の樹脂で構成する多層ボトルや６種の樹脂を７層構造にしたボトルを使用することも好ましい。このような容器としては例えば特開２０１５－１２３３５１号公報に記載の容器が挙げられる。
　本発明の硬化性組成物の用途は、特に限定されない。例えば、近赤外線カットフィルタなどの形成に好ましく用いることができる。また、本発明の硬化性組成物が可視光を遮光する色材を含有する場合においては、特定の波長以上の近赤外線のみを透過可能な赤外線透過フィルタを形成することもできる。
＜硬化性組成物の調製方法＞
　本発明の硬化性組成物は、前述の成分を混合して調製できる。硬化性組成物の調製に際しては、全成分を同時に溶剤に溶解または分散して硬化性組成物を調製してもよいし、必要に応じては、各成分を適宜配合した２つ以上の溶液または分散液をあらかじめ調製し、使用時（塗布時）にこれらを混合して硬化性組成物として調製してもよい。
　また、本発明の硬化性組成物が顔料などの粒子を含む場合は、粒子を分散させるプロセスを含むことが好ましい。粒子を分散させるプロセスにおいて、粒子の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、キャビテーションなどが挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、超音波分散などが挙げられる。またサンドミル（ビーズミル）における粒子の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくする事等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。また、粉砕処理後にろ過、遠心分離などで粗粒子を除去することが好ましい。また、粒子を分散させるプロセスおよび分散機は、「分散技術大全、株式会社情報機構発行、２００５年７月１５日」や「サスペンション（固／液分散系）を中心とした分散技術と工業的応用の実際　総合資料集、経営開発センター出版部発行、１９７８年１０月１０日」、特開２０１５－１５７８９３号公報の段落番号００２２に記載のプロセスおよび分散機を好適に使用出来る。また粒子を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて粒子の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、処理条件等は、例えば特開２０１５－１９４５２１号公報、特開２０１２－０４６６２９号公報の記載を参酌できる。
　硬化性組成物の調製にあたり、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、硬化性組成物をフィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルタであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン－６、ナイロン－６，６）等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）およびナイロンが好ましい。
　フィルタの孔径は、０．０１～７．０μｍ程度が適しており、好ましくは０．０１～３．０μｍ程度であり、さらに好ましくは０．０５～０．５μｍ程度である。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物を確実に除去できる。また、ファイバ状のろ材を用いることも好ましい。ファイバ状のろ材としては、例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられる。具体的には、ロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）のフィルタカートリッジが挙げられる。
　フィルタを使用する際、異なるフィルタ（例えば、第１のフィルタと第２のフィルタなど）を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。
　また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社（ＤＦＡ４２０１ＮＩＥＹなど）、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）または株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。
　第２のフィルタは、第１のフィルタと同様の素材等で形成されたものを使用することができる。
　また、第１のフィルタでのろ過は、分散液のみに対して行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタでろ過を行ってもよい。
＜硬化膜＞
　本発明の硬化膜は、上述した本発明の硬化性組成物から得られるものである。本発明の硬化膜は、近赤外線カットフィルタとして好ましく用いることができる。また、熱線遮蔽フィルタや赤外線透過フィルタとして用いることもできる。本発明の硬化膜は、パターンを有していてもよく、パターンを有さない膜（平坦膜）であってもよい。
　本発明の硬化膜は、支持体上に積層して用いてもよく、支持体から剥離して用いてもよい。支持体としては、シリコンなどの半導体基材や、透明基材が挙げられる。
　支持体として用いられる透明基材は、少なくとも可視光を透過できる材料で構成されたものであれば特に限定されない。例えば、ガラス、樹脂などの材質で構成された基材が挙げられる。樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂等が挙げられる。ガラスとしては、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、銅を含有するガラスなどが挙げられる。銅を含有するガラスとしては、銅を含有する燐酸塩ガラス、銅を含有する弗燐酸塩ガラスなどが挙げられる。銅を含有するガラスにおける銅の含有量としては、０．１～２０質量％であることが好ましく、０．３～１７質量％であることがより好ましく、０．５～１５質量％であることが更に好ましい。銅を含有するガラスは、波長７００～１１００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有することが好ましい。下限は８００ｎｍ以上であることが好ましく、９００ｎｍ以上であることがより好ましい。上限は１０５０ｎｍ以下であることが好ましく、１０００ｎｍ以下であることがより好ましい。
　銅を含有するガラスの具体例としては、以下が挙げられる。
　（１）質量％で、Ｐ2Ｏ5　４６～７０％、ＡｌＦ3　０．２～２０％、ΣＲＦ（Ｒ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）０～２５％、ΣＲ’Ｆ2（Ｒ’＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｐｂ）　１～５０％からなり、Ｆ　０．５～３２％、Ｏ　２６～５４％を含む基礎ガラス１００質量部に対し、外掛け表示でＣｕＯ　０．５～７質量部を含むガラス。
　（２）質量％で、Ｐ2Ｏ5　２５～６０％、Ａｌ2Ｏ3　１～１３％、ＭｇＯ　１～１０％、ＣａＯ　１～１６％、ＢａＯ　１～２６％、ＳｒＯ　０～１６％、ＺｎＯ　０～１６％、Ｌｉ2Ｏ　０～１３％、Ｎａ2Ｏ　０～１０％、Ｋ2Ｏ　０～１１％、ＣｕＯ　１～７％、ΣＲＯ（Ｒ＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）　１５～４０％、ΣＲ’2Ｏ（Ｒ’＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）　３～１８％（ただし、３９％モル量までのＯ2-イオンがＦで置換されている）からなるガラス。
　（３）質量％で、Ｐ2Ｏ5　５～４５％、ＡｌＦ3　１～３５％、ΣＲＦ（Ｒ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）　０～４０％、ΣＲ’Ｆ2（Ｒ’＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｐｂ、Ｚｎ）　１０～７５％、Ｒ”Ｆm（Ｒ”＝Ｌａ、Ｙ、Ｃｄ、Ｓｉ、Ｂ、Ｚｒ、Ｔａ、ｍはＲ”の原子価に相当する数）　０～１５％（ただし、弗化物総合計量の７０％までを酸化物に置換可能）、およびＣｕＯ　０．２～１５％を含むガラス。
　（４）カチオン％で、Ｐ5+　１１～４３％、Ａｌ3+　１～２９％、ΣＲカチオン（Ｒ＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｐｂ、Ｚｎ）　１４～５０％、ΣＲ’カチオン（Ｒ’＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）　０～４３％、ΣＲ’’カチオン（Ｒ’’＝Ｌａ、Ｙ、Ｇｄ、Ｓｉ、Ｂ、Ｚｒ、Ｔａ）　０～８％、およびＣｕ2+　０．５～１３％を含み、さらにアニオン％でＦ-　１７～８０％含有するガラス。
　（５）カチオン％で、Ｐ5+　２３～４１％、Ａｌ3+　４～１６％、Ｌｉ+　１１～４０％、Ｎａ+　３～１３％、ΣＲカチオン（Ｒ＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ）　１２～５３％、およびＣｕ2+　２．６～４．７％を含み、さらにアニオン％でＦ-　２５～４８％、およびＯ2-　５２～７５％を含むガラス。
　（６）質量％で、Ｐ2Ｏ5　７０～８５％、Ａｌ2Ｏ3　８～１７％、Ｂ2Ｏ3　１～１０％、Ｌｉ2Ｏ　０～３％、Ｎａ2Ｏ　０～５％、Ｋ2Ｏ　０～５％、ただし、ΣＲ2Ｏ（Ｒ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）　０．１～５％、ＳｉＯ2　０～３％からなる基礎ガラス１００質量部に対し、外割でＣｕＯを０．１～５質量部含むガラス。
　銅を含有するガラスは、市販品を用いることもできる。銅を含有するガラスの市販品としては、ＮＦ－５０（ＡＧＣテクノグラス（株）製）等が挙げられる。
　本発明の硬化膜の厚さは、目的に応じて適宜調整できる。硬化膜の厚さは、２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましい。膜厚の下限は、０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましく、０．３μｍ以上がさらに好ましい。
　本発明の硬化膜を近赤外線カットフィルタとして用いる場合、本発明の硬化膜は、波長７００～１３００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有することが好ましく、波長７００～１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有することがより好ましく、波長７２０～９８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有することがさらに好ましく、波長７４０～９６０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有することが特に好ましい。
　本発明の硬化膜を近赤外線カットフィルタとして用いる場合は、本発明の硬化膜は以下の（１）～（４）のうちの少なくとも１つの条件を満たすことが好ましく、（１）～（４）のすべての条件を満たすことがさらに好ましい。
（１）波長４００ｎｍでの透過率は７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、８５％以上がさらに好ましく、９０％以上が特に好ましい。
（２）波長５００ｎｍでの透過率は７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、９０％以上がさらに好ましく、９５％以上が特に好ましい。
（３）波長６００ｎｍでの透過率は７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、９０％以上がさらに好ましく、９５％以上が特に好ましい。
（４）波長６５０ｎｍでの透過率は７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、９０％以上がさらに好ましく、９５％以上が特に好ましい。
　本発明の硬化膜を近赤外線カットフィルタとして用いる場合は、本発明の硬化膜は、波長４００～５５０ｎｍの平均透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上がより好ましく、８５％以上がさらに好ましく、９０％以上が特に好ましい。また、波長４００～５５０ｎｍの全ての範囲での透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましい。また、波長７００～１３００ｎｍの範囲の少なくとも１点での透過率が２０％以下であることが好ましく、１５％以下がより好ましく、１０％以下がさらに好ましい。
　本発明の硬化膜は、有彩色着色剤を含むカラーフィルタと組み合わせて用いることもできる。カラーフィルタは、有彩色着色剤を含む着色組成物を用いて製造できる。有彩色着色剤としては、本発明の硬化性組成物に含んでもよいものとして挙げた有彩色着色剤が挙げられる。また、本発明の硬化膜に有彩色着色剤を含有させて、近赤外線カットフィルタとカラーフィルタとしての機能を備えたフィルタとしてもよい。
　本発明の硬化膜を近赤外線カットフィルタとして用い、かつ、本発明の硬化膜とカラーフィルタと組み合わせて用いる場合、本発明の硬化膜の光路上にカラーフィルタが配置されていることが好ましい。例えば、本発明の硬化膜とカラーフィルタとを積層して積層体として用いることができる。積層体においては、本発明の硬化膜とカラーフィルタとは、両者が厚み方向で隣接していてもよく、隣接していなくてもよい。本発明の硬化膜とカラーフィルタとが厚み方向で隣接していない場合は、カラーフィルタが形成された支持体とは別の支持体に、本発明の硬化膜が形成されていてもよく、本発明の硬化膜とカラーフィルタとの間に、固体撮像素子を構成する他の部材（例えば、マイクロレンズ、平坦化層など）が介在していてもよい。
　なお、本発明において、近赤外線カットフィルタとは、可視領域の波長の光（可視光）を透過させ、近赤外領域の波長の光（近赤外線）の少なくとも一部を遮光するフィルタを意味する。近赤外線カットフィルタは、可視領域の波長の光をすべて透過するものであってもよく、可視領域の波長の光のうち、特定の波長領域の光を透過させ、特定の波長領域の光を遮光するものであってもよい。また、本発明において、カラーフィルタとは、可視領域の波長の光のうち、特定の波長領域の光を透過させ、特定の波長領域の光を遮光するフィルタを意味する。また、本発明において、赤外線透過フィルタとは、可視光を遮光し、近赤外線の少なくとも一部を透過させるフィルタを意味する。
＜積層体＞
　本発明の積層体は、支持体上に本発明の硬化膜を有する。支持体としては、透明基材が挙げられ、ガラス基材であることが好ましく、銅を含有するガラス基材であることがより好ましい。特に本発明の硬化膜を近赤外線カットフィルタとして用いる場合、本発明の硬化膜を、銅を含有するガラス基材に上に積層して積層体とすることで、幅広い範囲の近赤外線を遮光することができる。
　本発明の積層体は、支持体の表面に本発明の硬化膜が直接積層されていてもよいが、支持体と、本発明の硬化膜との間に、環状エーテル基を有する化合物を含む組成物（以下、組成物Ａという）を用いて得られる膜を有することが好ましい。また、本発明の積層体が本発明の硬化膜と支持体との間に、上記組成物Ａを用いて得られる膜（以下、膜Ａともいう）を有する場合、膜Ａの一方の面が支持体と接し、他方の面が本発明の硬化膜と接していることが好ましい。この態様によれば、本発明の硬化膜の支持体への密着性が良好である。特に、支持体として銅を含有するガラス基材を用いた場合においては、密着性を顕著に向上させることができる。
　環状エーテル基を有する化合物が有する環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基が挙げられ、エポキシ基が好ましい。環状エーテル基を有する化合物の詳細については上述した硬化性組成物の環状エーテル基を有する化合物の項で説明した材料が挙げられる。
　組成物Ａにおいて、環状エーテル基を有する化合物の含有量としては特に限定はないが、組成物Ａの全固形分に対して１質量％以上であることが好ましく、２質量％以上であることがより好ましく、３質量％以上であることが更に好ましく、５質量％以上であることがより一層好ましい。上限は１００質量％とすることができる。また、上記組成物Ａは、環状エーテル基を有する化合物の他に、更に、ラジカル重合性化合物、ラジカル重合開始剤、溶剤、界面活性剤などを含んでいてもよい。これらの詳細については、上述した材料が挙げられる。
　上記膜Ａの厚さは、特に限定は無い。例えば、１μｍ以下が好ましく、０．５μｍ以下がより好ましく、０．２μｍ以下がさらに好ましい。膜厚の下限は、０．０１μｍ以上が好ましく、０．０３μｍ以上がより好ましく、０．０５μｍ以上がさらに好ましい。
　また、本発明の硬化膜の厚さｔ１と、上記膜Ａの厚さｔ２との比は、ｔ１：ｔ２＝１：０．００２～０．２であることが好ましく、１：０．００６～０．１であることがより好ましく、１：０．０１～０．０４であることが更に好ましい。
　本発明の積層体は、本発明の硬化膜上に無機膜を有することも好ましい態様である。無機膜としては、誘電体多層膜などが挙げられる。
　誘電体多層膜とは、光の干渉の効果を利用して赤外線を遮光する膜である。具体的には、屈折率の異なる誘電体層（高屈折率材料層と低屈折率材料層）を、交互に２層以上積層してなる膜である。高屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．７以上（好ましくは１．７～２.５）の材料を用いることが好ましい。例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛または酸化インジウムを主成分とし酸化チタン、酸化錫および／または酸化セリウムなどを少量含有させたものが挙げられる。低屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．６以下（好ましくは１．２～１．６）の材料を用いることが好ましい。例えば、シリカ、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウムおよび六フッ化アルミニウムナトリウムが挙げられる。高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚みは、遮断しようとする赤外線の波長λ（ｎｍ）の０．１λ～０．５λの厚みであることが好ましい。また、誘電体多層膜における高屈折率材料層と低屈折率材料層の合計の積層数は、２～１００層が好ましく、２～６０層がより好ましく、２～４０層が更に好ましい。誘電体多層膜の詳細については、特開２０１４－４１３１８号公報の段落番号０２５５～０２５９の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　本発明の積層体は、本発明の硬化膜上に無機膜を有する場合、本発明の硬化膜の表面に無機膜が直接積層されていてもよいが、無機膜の製膜性や無機膜の密着性の観点から本発明の硬化膜と無機膜との間に平坦化層を更に有することが好ましい。平坦化層は、樹脂組成物などを用いて形成することができる。樹脂としては上述した材料が挙げられる。また、樹脂組成物は、更に、ラジカル重合性化合物、ラジカル重合開始剤、溶剤、界面活性剤などを含んでいてもよい。これらの詳細については、上述した材料が挙げられる。
　平坦化層の厚さは、特に限定は無い。例えば、５μｍ以下が好ましく、３μｍ以下がより好ましく、１μｍ以下がさらに好ましい。膜厚の下限は、０．１μｍ以上が好ましく、０．３μｍ以上がより好ましく、０．５μｍ以上がさらに好ましい。
　本発明の積層体は、近赤外線カットフィルタ、ＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）などの固体撮像素子、赤外線センサ、画像表示装置などの各種装置に用いることができる。
＜硬化膜の製造方法＞
　次に、本発明の硬化膜の製造方法について説明する。本発明の硬化膜の製造方法は、上述した本発明の硬化性組成物を適用して硬化性組成物層を形成する工程と、硬化性組成物層を加熱硬化する工程と、を含む。
　硬化膜の製造方法において、硬化性組成物は支持体上に適用することが好ましい。支持体としては、上述した支持体が挙げられる。支持体への硬化性組成物の適用方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９－１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット－特許に見る無限の可能性－、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法（特に１１５ページ～１３３ページ）や、特開２００３－２６２７１６号公報、特開２００３－１８５８３１号公報、特開２００３－２６１８２７号公報、特開２０１２－１２６８３０号公報、特開２００６－１６９３２５号公報などに記載の方法が挙げられる。また、硬化性組成物の適用方法については、国際公開ＷＯ２０１７／０３０１７４号公報、国際公開ＷＯ２０１７／０１８４１９号公報の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　支持体に適用した硬化性組成物に対し、乾燥（プリベーク）を行ってもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１１０℃以下がさらに好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができ、８０℃以上とすることもできる。プリベーク時間は、１０秒～３０００秒が好ましく、４０～２５００秒がより好ましく、８０～２２０秒がさらに好ましい。乾燥は、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。
　硬化性組成物層を加熱硬化する工程において、加熱温度としては、例えば１００～２４０℃が好ましい。膜硬化の観点から、１８０～２３０℃がより好ましい。加熱時間としては、２～１０分が好ましく、４～８分がより好ましい。加熱硬化処理は、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。
　本発明の硬化膜の製造方法においては、さらにパターンを形成する工程を含んでいてもよい。パターン形成方法としては、フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成方法や、ドライエッチング法を用いたパターン形成方法が挙げられる。フォトリソグラフィ法でパターンを形成する場合、パターンを形成した後、硬化性組成物層の加熱硬化を行うことが好ましい。また、ドライエッチング法でパターンを形成する場合、硬化性組成物層の加熱硬化を行った後、パターンを形成することが好ましい。なお、本発明の硬化膜を平坦膜として用いる場合には、パターンを形成する工程を行わなくてもよい。以下、パターンを形成する工程について詳細に説明する。
（フォトリソグラフィ法でパターン形成する場合）
　フォトリソグラフィ法でのパターン形成方法は、本発明の硬化性組成物を適用して形成した硬化性組成物層に対しパターン状に露光する工程（露光工程）と、未露光部の硬化性組成物層を除去することにより現像してパターンを形成する工程（現像工程）と、を含むことが好ましい。必要に応じて、現像されたパターンをベークする工程（ポストベーク工程）を設けてもよい。
（ドライエッチング法でパターン形成する場合）
　ドライエッチング法でのパターン形成は、硬化性組成物層を加熱硬化して硬化物層を形成し、次いで、この硬化物層上にパターニングされたレジスト層を形成し、次いで、パターニングされたレジスト層をマスクとして硬化物層に対してエッチングガスを用いてドライエッチングするなどの方法で行うことができる。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開２０１３－０６４９９３号公報の段落番号００１０～００６７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
＜近赤外線カットフィルタ＞
　次に、本発明の近赤外線カットフィルタについて説明する。本発明の近赤外線カットフィルタは、本発明の硬化膜を含む。本発明の近赤外線カットフィルタは、支持体上に本発明の硬化膜を有することが好ましい。支持体としては、上述した支持体が挙げられ、透明基材であることが好ましく、ガラス基材であることがより好ましく、銅を含有するガラス基材であることが更に好ましい。この態様によれば、幅広い範囲の近赤外線を遮光することができる。
　本発明の近赤外線カットフィルタは、本発明の硬化膜の他に、さらに、誘電体多層膜等の無機膜や、紫外線吸収層などを有していてもよい。近赤外線カットフィルタが、さらに、誘電体多層膜を有することで、視野角が広く、より近赤外線遮蔽性に優れた近赤外線カットフィルタが得られやすい。また、近赤外線カットフィルタが、さらに、紫外線吸収層を有することで、紫外線遮蔽性に優れた近赤外線カットフィルタとすることができる。紫外線吸収層としては、例えば、国際公開ＷＯ２０１５／０９９０６０号公報の段落番号００４０～００７０、０１１９～０１４５に記載の吸収層を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。誘電体多層膜としては、特開２０１４－４１３１８号公報の段落番号０２５５～０２５９の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　また、本発明の近赤外線カットフィルタが、本発明の硬化膜の他に、さらに、誘電体多層膜等の無機膜を有する場合、本発明の硬化膜の表面に無機膜が積層されていてもよく、本発明の硬化膜と無機膜との間に平坦化層が設けられていてもよい。無機膜の製膜性や無機膜の密着性の観点から本発明の硬化膜と無機膜との間に平坦化層が設けられていることが好ましい。
　本発明の近赤外線カットフィルタは、ＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）などの固体撮像素子や、赤外線センサ、画像表示装置などの各種装置に用いることができる。
＜固体撮像素子＞
　本発明の固体撮像素子は、上述した本発明の硬化膜を有する。本発明の固体撮像素子の構成としては、本発明の硬化膜を有する構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はない。例えば、以下のような構成が挙げられる。
　支持体上に、固体撮像素子の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本発明の硬化膜を有する構成である。さらに、デバイス保護膜上であって、本発明の硬化膜の下（支持体に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、本発明の硬化膜上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、カラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各画素を形成する膜が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は各画素よりも低屈折率であることが好ましい。このような構造を有する撮像装置の例としては、特開２０１２－２２７４７８号公報、特開２０１４－１７９５７７号公報に記載の装置が挙げられる。
＜画像表示装置＞
　本発明の画像表示装置は、本発明の硬化膜を含む。画像表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木　昭夫著、（株）工業調査会　１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹　順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田　龍男編集、（株）工業調査会　１９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。画像表示装置は、白色有機ＥＬ素子を有するものであってもよい。白色有機ＥＬ素子としては、タンデム構造であることが好ましい。有機ＥＬ素子のタンデム構造については、特開２００３－４５６７６号公報、三上明義監修、「有機ＥＬ技術開発の最前線－高輝度・高精度・長寿命化・ノウハウ集－」、技術情報協会、３２６－３２８ページ、２００８年などに記載されている。有機ＥＬ素子が発光する白色光のスペクトルは、青色領域（４３０ｎｍ－４８５ｎｍ）、緑色領域（５３０ｎｍ－５８０ｎｍ）および黄色領域（５８０ｎｍ－６２０ｎｍ）に強い極大発光ピークを有するものが好ましい。これらの発光ピークに加えさらに赤色領域（６５０ｎｍ－７００ｎｍ）に極大発光ピークを有するものがより好ましい。
＜赤外線センサ＞
　本発明の赤外線センサは、上述した本発明の硬化膜を含む。赤外線センサの構成としては、赤外線センサとして機能する構成であれば特に限定はない。以下、本発明の赤外線センサの一実施形態について、図面を用いて説明する。
　図１において、符号１１０は、固体撮像素子である。固体撮像素子１１０上に設けられている撮像領域は、近赤外線カットフィルタ１１１と、赤外線透過フィルタ１１４とを有する。また、近赤外線カットフィルタ１１１上には、カラーフィルタ１１２が積層している。カラーフィルタ１１２および赤外線透過フィルタ１１４の入射光ｈν側には、マイクロレンズ１１５が配置されている。マイクロレンズ１１５を覆うように平坦化層１１６が形成されている。
　近赤外線カットフィルタ１１１は本発明の硬化性組成物を用いて形成することができる。近赤外線カットフィルタ１１１の分光特性は、使用する赤外発光ダイオード（赤外ＬＥＤ）の発光波長に応じて選択される。
　カラーフィルタ１１２は、可視領域における特定波長の光を透過および吸収する画素が形成されたカラーフィルタであって、特に限定はなく、従来公知の画素形成用のカラーフィルタを用いることができる。例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の画素が形成されたカラーフィルタなどが用いられる。例えば、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０２１４～０２６３の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　赤外線透過フィルタ１１４は、使用する赤外ＬＥＤの発光波長に応じてその特性が選択される。
　図１に示す赤外線センサにおいて、平坦化層１１６上には、近赤外線カットフィルタ１１１とは別の近赤外線カットフィルタ（他の近赤外線カットフィルタ）がさらに配置されていてもよい。他の近赤外線カットフィルタとしては、銅を含有する層および／または誘電体多層膜を有するものなどが挙げられる。これらの詳細については、上述したものが挙げられる。また、他の近赤外線カットフィルタとしては、デュアルバンドパスフィルタを用いてもよい。また、図１に示す赤外線センサにおいて、近赤外線カットフィルタ１１１とカラーフィルタ１１２の位置が入れ替わっても良い。また、固体撮像素子１１０と近赤外線カットフィルタ１１１との間、および／または、固体撮像素子１１０と赤外線透過フィルタ１１４との間に他の層が配置されていてもよい。他の層としては、重合性化合物、樹脂および光重合開始剤とを含む組成物を用いて形成された有機物層などが挙げられる。また、カラーフィルタ１１２上に平坦化層が形成されていてもよい。
　以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」および「％」は、質量基準である。また、構造式中におけるＭｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｂｕはブチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
＜ラジカル重合開始剤の熱分解温度の測定方法＞
　ラジカル重合開始剤の熱分解温度は、示差熱（ＴＧ－ＤＴＡ）測定により測定した。具体的にはラジカル重合開始剤を２３℃の状態から昇温速度１０℃／分の条件で昇温して、ラジカル重合開始剤の重量減少が始まる温度を測定した。
＜ラジカル重合開始剤の熱分解速度の測定方法＞
　ラジカル重合開始剤の熱分解速度は、示差走査熱量（ＤＳＣ）測定により測定した。具体的には、ラジカル重合開始剤を２３℃の状態から昇温速度１０℃／分の条件で昇温して、１００℃以降で発熱ピークの立ち上がり温度と、発熱ピークの極大温度とを結ぶ線の傾きにより熱分解速度を算出した。
＜硬化性組成物の調製＞
　下記の表に示す原料を、下記の表に示す割合（質量部）で混合および撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して硬化性組成物を調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000032
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000033
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000037
　上記表に記載の原料は以下の通りである。
　（近赤外線吸収色素）
　Ａ１～Ａ１８、Ａ２０～Ａ２２：下記構造の化合物。
　Ａ１９：ＮＫ－５０６０（（株）林原製、シアニン化合物）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
　（樹脂）
・樹脂１：下記構造の樹脂（重量平均分子量４１，４００、繰り返し単位に付記した数値はモル数である）のシクロペンタノン３０質量％溶液。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
・樹脂２：下記構造の樹脂（重量平均分子量３３１００、繰り返し単位に付記した数値はモル数である）のシクロペンタノン３０質量％溶液。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
　（有機溶剤）
・有機溶剤１：シクロペンタノン
・有機溶剤２：３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド
・有機溶剤３：３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド
　（ラジカル重合性化合物）
・ラジカル重合性化合物１：下記化合物の混合物（左側化合物と右側化合物とのモル比が７：３の混合物）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
・ラジカル重合性化合物２：下記化合物の混合物（高速液体クロマトグラフィーでの高さ比：４６．１５：４９．３９：：４．４６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
・ラジカル重合性化合物３：下記化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
・ラジカル重合性化合物４：下記化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
　（ラジカル重合開始剤Ａ）
・ラジカル重合開始剤Ａ１：下記構造の化合物（ピナコール化合物、熱分解温度１８２℃、熱分解速度５６Ｗ／℃・ｍｏｌ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
・ラジカル重合開始剤Ａ２：下記構造の化合物（ピナコール化合物、熱分解温度１７８℃、熱分解速度５４Ｗ／℃・ｍｏｌ。以下の構造式中、Ｐｈはフェニル基を表し、Ｂｕはブチル基を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
・ラジカル重合開始剤Ａ３：下記構造の化合物（ピナコール化合物、熱分解温度１７８℃、熱分解速度５４Ｗ／℃・ｍｏｌ。以下の構造式中、Ｐｈはフェニル基を表し、ｉＰｒはイソプロピル基を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
・ラジカル重合開始剤Ａ４：下記構造の化合物（ピナコール化合物、熱分解温度１７２℃、熱分解速度５０Ｗ／℃・ｍｏｌ。以下の構造式中、Ｐｈはフェニル基を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
　（ラジカル重合開始剤Ｂ）
・ラジカル重合開始剤Ｂ１：ＩＲＧＡＣＵＲＥ－１８４（ＢＡＳＦ社製、α－ヒドロキシアセトフェノン化合物、熱分解温度１５１℃、熱分解速度４Ｗ／℃・ｍｏｌ）
・ラジカル重合開始剤Ｂ２：ＩＲＧＡＣＵＲＥ－２９５９（ＢＡＳＦ社製、α－ヒドロキシアセトフェノン化合物、熱分解温度１６５℃、熱分解速度８Ｗ／℃・ｍｏｌ）
・ラジカル重合開始剤Ｂ３：ＩＲＧＡＣＵＲＥ－６５１（ＢＡＳＦ社製、ベンジルジメチルケタール化合物、熱分解温度１７０℃、熱分解速度５Ｗ／℃・ｍｏｌ）
・ラジカル重合開始剤Ｂ４：ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製、オキシム化合物、熱分解温度１７０℃、熱分解速度３０Ｗ／℃・ｍｏｌ）
・シランカップリング剤：ウレイドプロピルトリメトキシシラン
・界面活性剤：下記式（Ｂ１－１）で表される繰り返し単位と、下記式（Ｂ３－１）で表される繰り返し単位とを有するポリマー（重量平均分子量＝７，４００、Ｂ１－１：Ｂ３－１＝９２．５：７．５（モル比））のプロピレングリコールモノメチルエーテル アセテート（ＰＧＭＥＡ）３０質量％溶液。下記式（Ｂ３－１）中、Ｘは、パーフルオロメチレン基またはパーフルオロエチレン基を表し、ｒは繰り返し単位数を表す。Ｘについては、－ＣＦ2－ＣＦ2－と、－ＣＦ2－と、－ＣＨ2－ＣＦ2－との個数の割合が、－ＣＦ2－ＣＦ2－：－ＣＦ2－：－ＣＨ2－ＣＦ2－＝４．２：１．９：１．０である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
・ＵＶ（紫外線）吸収剤：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
・重合禁止剤：ｐ－メトキシフェノール
（分散液１）
　下記組成の原料を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ－３０００－１０（日本ビーイーイー（株）製））で、２時間かけて分散し、分散液１を調製した。
　－分散液１の組成－・下記構造の近赤外線吸収色素（平均一次粒子径２００ｎｍ）・・・１１．６質量部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
・下記構造の顔料誘導体・・・・３．５質量部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
・分散剤（下記構造の樹脂、重量平均分子量２２，９００、主鎖の繰り返し単位に付記した数値はモル数であり、側鎖の繰り返し単位に併記される数値は、繰り返し単位の繰り返し数を示す。）・・・７．２質量部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
・シクロヘキサノン　　・・・７７．７７質量部
（分散液２）
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌａｃｋ３２の６０質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ１５：６の２０質量部、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ１３９の２０質量部、ソルスパース７６５００（日本ルーブリゾール（株）製、固形分濃度５０質量％）の８０質量部、およびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの７００質量部を混合し、ペイントシェーカーを用いて８時間分散して、分散液２を得た。
＜近赤外線遮蔽性の評価＞
　各硬化性組成物を、ガラス基材（ＥＡＧＬＥ　ＸＧ、Ｃｏｒｎｉｎｇ社製、アルカリ土類ボロアルミノシリケート）上に製膜後の膜厚が２．５μｍとなるようにミカサコーターにてスピンコート塗布し、ホットプレートを用いて１００℃で１２０秒間乾燥し、次いで、２２０℃で５分間加熱して硬化膜を製造した。得られた硬化膜について、紫外可視近赤外分光光度計Ｕ－４１００（（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、波長７００～１３００ｎｍの範囲の透過率を測定し、硬化膜の極大吸収波長での透過率の値（Ｔ）を用いて以下の基準で近赤外線遮蔽性を評価した。
　５：Ｔ≦１％
　４：１％＜Ｔ≦３％
　３：３％＜Ｔ≦５％
　２：５％＜Ｔ≦１０％
　１：１０％＜Ｔ
＜凝集サイズの評価＞
　各硬化性組成物をガラス基材上に製膜後の膜厚が２．５μｍとなるようにミカサコーターにてスピンコート塗布し、ホットプレートを用いて１００℃で１２０秒間乾燥し、次いで、２２０℃で５分間加熱して硬化膜を製造した。
　硬化膜が形成されたガラス基材を、２３℃のアセトン中に５分間浸漬した後に、超高分解能走査型電子顕微鏡（（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用い、加速電圧２．０ｋＶ、観測倍率５００００倍にて膜断面の画像を観察した。画像中、任意の３か所の穴空き部分（膜中に穴が空いたように観察される部分）の長軸方向の長さを測定し、その平均値を凝集サイズとして算出した。
＜保存安定性の評価＞
　各硬化性組成物の調製後、ただちにガラス基材上に製膜後の膜の厚さが１．０μｍとなるようにＡｃｔ８(東京エレクトロン（株）製）を用いてスピンコート塗布し、次にホットプレートを用いて２２０℃で５分間加熱し、硬化膜を製造した。得られた硬化膜について、紫外可視近赤外分光光度計Ｕ－４１００（（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、波長４００～１，３００ｎｍの範囲における光透過率を測定した。調製直後の硬化性組成物を用いて製造した硬化膜の分光を分光１とする。
　次に、調製直後の各硬化性組成物を、温度２３℃のクリーンルームにて２カ月保管した後、保管後の各硬化性組成物を用いて上記と同様にして硬化膜を製造し、波長４００～１，３００ｎｍの範囲における光透過率を測定した。保管後の硬化性組成物を用いて製造した硬化膜の分光を分光２とする。
　上記の分光１と分光２を用いて、各波長における調製直後の硬化性組成物を用いて製造した硬化膜と、保管後の硬化性組成物を用いて製造した硬化膜の透過率との差を算出し、波長４００～１，３００ｎｍの範囲における上記透過率の差の最大値（ΔＴ％）を求めて、以下の基準で保存安定性を評価した。
　３：ΔＴ％＜１
　２：１≦ΔＴ％＜５
　１：５≦ΔＴ％
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000055
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000056
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000057
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000058
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000059
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000060
　上記表に示す通り、実施例はいずれも保存安定性が良好で、凝集サイズの小さい硬化膜を製造することができた。
　実施例１の硬化性組成物を、ガラス基材から弗燐酸塩ガラス基材（製品名：ＮＦ－５０、ＡＧＣテクノグラス社製、大きさ５０ｍｍ×５０ｍｍ、厚さ０．０５ｍｍ、銅を含有するガラス基材である）に変更し、上記近赤外遮光性を評価したところ、同様な効果が得られた。
１１０：固体撮像素子、１１１：近赤外線カットフィルタ、１１２：カラーフィルタ、１１４：赤外線透過フィルタ、１１５：マイクロレンズ、１１６：平坦化層
 

Claims (20)

  1. 　近赤外線吸収色素と、ラジカル重合性化合物と、ラジカル重合開始剤Ａとを含み、
    　前記ラジカル重合開始剤Ａがピナコール化合物である、硬化性組成物。
  2. 　近赤外線吸収色素と、ラジカル重合性化合物と、ラジカル重合開始剤Ａとを含み、
    　前記ラジカル重合開始剤Ａは、熱分解温度が１２０～２７０℃であり、かつ、熱分解速度が３３～６０Ｗ／℃・ｍｏｌである化合物である、硬化性組成物。
  3. 　前記ラジカル重合開始剤Ａがピナコール化合物である、請求項２に記載の硬化性組成物。
  4. 　前記ラジカル重合開始剤Ａの含有量が、前記硬化性組成物の全固形分に対して０．１～２０質量％である、請求項１～３のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
  5. 　前記ラジカル重合性化合物の１００質量部に対して前記ラジカル重合開始剤Ａを１～１００質量部含有する、請求項１～４のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
  6. 　さらに、前記ラジカル重合開始剤Ａとは異なるラジカル重合開始剤Ｂを含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
  7. 　前記ラジカル重合開始剤Ｂが、α－ヒドロキシアセトフェノン化合物およびベンジルジメチルケタールから選ばれる少なくとも１種である、請求項６に記載の硬化性組成物。
  8. 　前記ラジカル重合開始剤Ｂの熱分解温度が１００～２７０℃である、請求項６または７に記載の硬化性組成物。
  9. 　前記ラジカル重合開始剤Ｂの熱分解速度が３～１０Ｗ／℃・ｍｏｌである、請求項６～８のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
  10. 　前記ラジカル重合開始剤Ａの１００質量部に対して前記ラジカル重合開始剤Ｂを０．１～２０００質量部含有する、請求項６～９のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
  11. 　請求項１～１０のいずれか１項に記載の硬化性組成物から得られる硬化膜。
  12. 　支持体上に請求項１１に記載の硬化膜を有する積層体。
  13. 　前記支持体と前記硬化膜との間に、環状エーテル基を有する化合物を含む組成物を用いて得られる膜を有する、請求項１２に記載の積層体。
  14. 　前記支持体が銅を含有するガラス基材である、請求項１２または１３に記載の積層体。
  15. 　前記硬化膜上に無機膜を有する、請求項１２～１４のいずれか１項に記載の積層体。
  16. 　前記硬化膜と前記無機膜との間に平坦化層を有する、請求項１５に記載の積層体。
  17. 　請求項１１に記載の硬化膜を有する近赤外線カットフィルタ。
  18. 　請求項１１に記載の硬化膜を有する固体撮像素子。
  19. 　請求項１１に記載の硬化膜を有する画像表示装置。
  20. 　請求項１１に記載の硬化膜を有する赤外線センサ。
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