WO2019013108A1 - 組成物、膜、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ - Google Patents

組成物、膜、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ Download PDF

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Definitions

  • the present invention relates to a composition, a film, an infrared transmission filter, a solid-state imaging device, an image display device, and an infrared sensor.
  • Solid-state imaging devices are used as light sensors in various applications. For example, since infrared rays have a longer wavelength than visible rays, they are difficult to scatter, and they can be used for distance measurement, three-dimensional measurement, and the like. In addition, since infrared rays are invisible to humans, animals, etc., even if the subject is illuminated with an infrared light source at night, the subject is not noticed and the nocturnal wild animals are used for shooting, and as a crime prevention use, the other party is not stimulated. It can also be used to take pictures. Thus, an optical sensor (infrared sensor) that senses infrared light can be developed for various applications, and development of an infrared transmission filter is desired in recent years.
  • an optical sensor infrared sensor
  • the spectral characteristics required for the infrared transmission filter it is desired that the light shielding property of visible light be high, and that the spectral characteristics can selectively transmit infrared light in a specific wavelength range.
  • the composition for forming a film having such spectral characteristics has been studied.
  • Patent Document 1 when a film having a thickness of 1 ⁇ m is formed, the maximum value of the light transmittance in the thickness direction of the film in the wavelength range of 400 to 750 nm is 20% or less, and light transmission in the film thickness direction Compositions are described wherein the minimum value of the ratio in the wavelength range of 900-1300 nm is greater than or equal to 90%.
  • Patent Document 2 shows a curable composition containing a colorant, a binder resin, and a polymerizable compound, and when a cured film having a thickness of 1.2 ⁇ m is formed, the following conditions (1) to (3) The curable composition which meets is described.
  • Condition (1) The maximum transmittance of light at a wavelength of 400 to 600 nm is 5% or less.
  • Condition (2) The light transmittance at a wavelength of 700 nm is 10% or less.
  • Condition (3) The minimum transmittance of light at a wavelength of 850 to 1000 nm is 80% or more.
  • the composition used for producing the infrared ray transmission filter tends to have low permeability to light used for exposure, and thus tends to have poor adhesion to the support. Therefore, conventionally, a method has been employed in which the sensitivity of the composition is increased using a polymerizable compound having four or more functional groups, and the lower portion of the film is sufficiently cured. Also in the examples of Patent Documents 1 and 2, a compound having four or more ethylenically unsaturated groups is used as the polymerizable compound.
  • an object of the present invention is to provide a composition capable of forming a pattern excellent in adhesion even when a fine pattern is formed.
  • Another object of the present invention is to provide a film, an infrared transmission filter, a solid-state imaging device, an image display device, and an infrared sensor.
  • a composition comprising a coloring material, a resin, a polymerizable compound, and a photopolymerization initiator
  • the polymerizable compound includes a compound A having an alkyleneoxy group and having three ethylenically unsaturated groups,
  • a composition wherein A / B which is a ratio of the minimum value A of the absorbance in the wavelength range of 400 to 750 nm to the maximum value B of the absorbance in the range of wavelength 1100 to 1300 nm is 4.5 or more.
  • composition according to ⁇ 1> wherein Compound A has 2 to 6 alkyleneoxy groups.
  • ⁇ 3> The composition according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein the carbon number of the alkyleneoxy group is 1 to 3.
  • ⁇ 4> The composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>, wherein the average number of alkyleneoxy groups in the compound A is 3 to 5.
  • ⁇ 5> The compound A according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, including a compound having 3 alkyleneoxy groups and a compound having 4 to 6 alkyleneoxy groups. Composition.
  • the compound A includes 20 to 500 parts by mass of a compound having 4 to 6 alkyleneoxy groups per 100 parts by mass of the compound having 3 alkyleneoxy groups, described in ⁇ 5>.
  • Composition of The composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>, wherein the ⁇ 7> polymerizable compound further comprises a compound having 4 or more ethylenically unsaturated groups.
  • ⁇ 8> The composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>, wherein the content of the compound A in the total amount of the polymerizable compound is 50 to 100% by mass.
  • ⁇ 9> molar absorption coefficient at a wavelength of 365nm of the photopolymerization initiator is is 5000L ⁇ mol -1 ⁇ cm -1 or more, ⁇ 1> to A composition according to any one of ⁇ 8>.
  • the resin comprises a resin having a fluorene skeleton.
  • ⁇ 13> A film obtained from the composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 12>.
  • the infrared rays permeable filter which has a film
  • the solid-state image sensor which has a film
  • the image display apparatus which has a film
  • the infrared sensor which has a film
  • the composition which can form the pattern excellent in adhesiveness can be provided.
  • membrane, an infrared rays permeable filter, a solid-state image sensor, an image display apparatus, and an infrared sensor can be provided.
  • the notation not describing substitution and non-substitution includes a group (atomic group) having a substituent as well as a group (atomic group) having no substituent.
  • the "alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
  • exposure includes not only exposure using light but also drawing using particle beams such as electron beams and ion beams, unless otherwise specified.
  • active ray or radiation such as a bright line spectrum of a mercury lamp, far ultraviolet rays represented by an excimer laser, extreme ultraviolet rays (EUV light), X-rays, electron beams and the like can be mentioned.
  • (meth) acrylate represents both or either of acrylate and methacrylate
  • (meth) acryl” represents both or either of acrylic and methacryl
  • Acryloyl represents either or both of acryloyl and methacryloyl.
  • the weight average molecular weight and the number average molecular weight are defined as polystyrene equivalent values in gel permeation chromatography (GPC) measurement.
  • the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) may be, for example, HLC-8220GPC (manufactured by Tosoh Corp.), and TOSOH TSKgel Super HZM-H and TOSOH TSKgel Super HZ4000 as columns. It can be determined by using tetrahydrofuran as a developing solvent using a column linked to TOSOH TSKgel Super HZ2000.
  • Me in the chemical formula represents a methyl group
  • Et represents an ethyl group
  • Bu represents a butyl group
  • Ph represents a phenyl group.
  • near-infrared light refers to light (electromagnetic wave) having a wavelength of 700 to 2500 nm.
  • total solids refers to the total mass of all components of the composition excluding the solvent.
  • process is included in the term if the intended function of the process is achieved, even if it can not be clearly distinguished from other processes, not only the independent process. .
  • the composition of the present invention is a composition containing a colorant, a resin, a polymerizable compound, and a photopolymerization initiator,
  • the polymerizable compound includes a compound A having an alkyleneoxy group and having three ethylenically unsaturated groups, It is characterized in that A / B which is a ratio of the minimum value A of the absorbance in the wavelength range of 400 to 750 nm and the maximum value B of the absorbance in the range of the wavelength range of 1100 to 1300 nm is 4.5 or more.
  • the composition of the present invention has an A / B ratio of 4.5 or more, which is the ratio of the minimum value A of the absorbance in the wavelength range of 400 to 750 nm to the maximum value B of the absorbance in the range of the wavelength 1100 to 1300 nm. It is possible to form a film that blocks visible light and transmits infrared light in a specific wavelength range.
  • the composition of the present invention is a composition having the above-described spectral characteristics, but the composition having such spectral characteristics tends to have low transparency to light used for exposure, and a fine pattern It was considered difficult to form with good adhesion.
  • a fine pattern can be formed with good adhesion.
  • an unnecessary polymerization reaction proceeds due to the start species diffused in the film also in the mask peripheral portion, and the line width is likely to be thicker than the design dimension of the mask.
  • this compound A is a compound having three ethylenic unsaturated groups, the reactivity is slow, and as a result, the unnecessary polymerization reaction at the mask peripheral portion is sufficiently suppressed to the lower part of the film. It is speculated that it can be cured. And, since this compound A further has an alkyleneoxy group, it is presumed that the developability of the film can be enhanced. For this reason, even if there is a region which gently reacts beyond the target line width due to the diffusion of the initiating species, it can be removed by development, and it becomes possible to form a fine pattern with good adhesion. It is guessed.
  • the pattern with a low refractive index can be formed by including the compound A mentioned above. Therefore, for example, when a pixel (for example, a colored pixel) of a color filter is formed adjacent to a pattern (pixel) formed using the composition of the present invention, the composition of the present invention is formed from the adjacent pixel It is difficult for leaked light to enter a pixel formed using the above, and noise due to visible light can also be reduced.
  • the condition of the absorbance can suitably achieve the condition of the absorbance, for example, by adjusting the type of the light shielding material and the content thereof.
  • the value of A / B described above is preferably 7.5 or more, more preferably 15 or more, and still more preferably 30 or more.
  • the absorbance A ⁇ at a certain wavelength ⁇ is defined by the following equation (1).
  • a ⁇ -log (T ⁇ / 100) (1)
  • a ⁇ is the absorbance at wavelength ⁇
  • T ⁇ is the transmittance (%) at wavelength ⁇ .
  • the value of absorbance may be a value measured in the state of a solution, or may be a value of a film formed using a composition.
  • the composition is coated on a glass substrate by a method such as spin coating so that the thickness of the film after drying becomes a predetermined thickness, and 100 ° C. using a hot plate. It is preferable to measure using a membrane prepared by drying for 120 seconds.
  • the thickness of the film can be measured on a substrate having a film using a stylus profilometer (DEKTAK150 manufactured by ULVAC, Inc.).
  • the absorbance can be measured using a conventionally known spectrophotometer.
  • the measurement conditions of the absorbance are not particularly limited, under the conditions adjusted so that the minimum value A of the absorbance in the wavelength range of 400 to 750 nm is 0.1 to 3.0, the absorbance in the wavelength range of 1100 to 1300 nm It is preferable to measure the maximum value B. The measurement error can be further reduced by measuring the absorbance under such conditions.
  • the method of adjusting the minimum value A of the absorbance in the wavelength range of 400 to 750 nm to be 0.1 to 3.0 is not particularly limited. For example, in the case of measuring the absorbance in the state of the composition, there is a method of adjusting the optical path length of the sample cell. Moreover, when measuring a light absorbency in the state of a film
  • the composition of the present invention is applied onto a glass substrate by a method such as spin coating so that the thickness of the dried film becomes a predetermined thickness, and dried using a hot plate at 100 ° C. for 120 seconds.
  • the thickness of the film is measured using a stylus surface profiler (DEKTAK150 manufactured by ULVAC, Inc.) after drying the film having the film.
  • the transmittance of the dried substrate having this film is measured in the wavelength range of 300 to 1300 nm using an ultraviolet visible near infrared spectrophotometer (U-4100 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation).
  • composition of the present invention transmits infrared light, it can be said to be an infrared transmitting composition. Below, each component which can comprise the composition of this invention is demonstrated.
  • the composition of the present invention contains a colorant.
  • the coloring material is preferably a material which transmits at least a part of light in the near infrared region and shields light in the visible region.
  • the colorant is preferably a material that absorbs light in the violet to red wavelength range.
  • the colorant is preferably a colorant that blocks light in a wavelength range of 400 to 750 nm.
  • the coloring material is preferably a material that transmits light of a wavelength of 1100 to 1300 nm.
  • the colorant preferably satisfies at least one of the following requirements (A) and (B).
  • a black color is formed by a combination of two or more chromatic colorants, including two or more chromatic colorants.
  • a chromatic coloring agent means coloring agents other than a white coloring agent and a black coloring agent.
  • the organic black colorant means a material which absorbs visible light but transmits at least a part of infrared light.
  • the organic black colorant does not include a black colorant that absorbs both visible light and infrared radiation, such as carbon black and titanium black.
  • the organic black colorant is preferably a colorant having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 400 nm to 700 nm.
  • the coloring material is, for example, a material having an A / B ratio of 4.5 or more, which is a ratio of the minimum value A of absorbance in the wavelength range of 400 to 750 nm and the minimum value B of absorbance in the range of wavelength 1100 to 1300 nm.
  • the above characteristics may be satisfied by one kind of material, or may be satisfied by a combination of plural materials.
  • the organic type black coloring agent may satisfy
  • the above-mentioned spectral characteristics may be satisfied by a combination of an organic black colorant and a chromatic colorant.
  • the chromatic colorant is preferably a colorant selected from red colorants, green colorants, blue colorants, yellow colorants, purple colorants and orange colorants.
  • the chromatic coloring agent may be a pigment or a dye. Preferably it is a pigment.
  • the pigment preferably has an average particle size (r) of 20 nm ⁇ r ⁇ 300 nm, more preferably 25 nm ⁇ r ⁇ 250 nm, and still more preferably 30 nm ⁇ r ⁇ 200 nm.
  • the "average particle size" as used herein means the average particle size of secondary particles in which primary particles of the pigment are collected.
  • the particle size distribution of secondary particles of the usable pigment (hereinafter, also simply referred to as “particle size distribution”) is 70% by mass or more of secondary particles included in the range of average particle size ⁇ 100 nm. Is preferable, and 80% by mass or more is more preferable.
  • the particle size distribution of the secondary particles can be measured using the scattering intensity distribution.
  • the pigment is preferably an organic pigment.
  • organic pigment include the following. Color Index (CI) Pigment Yellow 1,2,3,4,5,6,10,11,12,13,14,15,16,17,18,20,24,31,32,34, 35, 35: 1, 36, 36: 1, 37, 37: 1, 40, 42, 43, 35, 53, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 86, 93, 94, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 125, 126, 127, 128, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170 171,172,173,174,175,176,
  • the pigment is a metal azo containing at least one kind of anion selected from an azo compound represented by the following formula (I) and an azo compound having a tautomeric structure thereof, two or more kinds of metal ions, and a melamine compound. Pigments can also be used.
  • R 1 and R 2 are each independently OH or NR 5 R 6
  • R 5 to R 7 are each Independently, it is a hydrogen atom or an alkyl group.
  • the carbon number of the alkyl group represented by R 5 to R 7 is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, and still more preferably 1 to 4.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, and more preferably linear.
  • the alkyl group may have a substituent.
  • substituent T the below-mentioned substituent T is mentioned, A halogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, a cyano group, and an amino group are preferable.
  • the melamine compound in the metal azo pigment is preferably a compound represented by the following formula (II).
  • R 11 to R 13 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group.
  • the carbon number of the alkyl group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, and still more preferably 1 to 4.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, and more preferably linear.
  • the alkyl group may have a substituent.
  • the below-mentioned substituent T is mentioned and a hydroxyl group is preferable.
  • at least one of R 11 ⁇ R 13 is a hydrogen atom, more preferably all of R 11 ⁇ R 13 is a hydrogen atom.
  • the metal azo pigment is preferably a melamine compound (preferably represented by the formula (II) per mole of at least one anion selected from the azo compound represented by the formula (I) and the azo compound of the tautomeric structure thereof.
  • the compound is preferably contained in 0.05 to 4 mol, more preferably 0.5 to 2.5 mol, and still more preferably 1.0 to 2.0 mol.
  • a metal complex is formed by the metal ion and at least one anion selected from the azo compound represented by the formula (I) and the azo compound of the tautomeric structure thereof.
  • a metal complex having a structure represented by the following formula (Ia) can be formed by the above anion and the metal ion Me.
  • the metal ion Me may also be bonded via the nitrogen atom in the tautomeric notation of formula (Ia).
  • Preferred embodiments of the metal azo pigment used in the present invention include the metal azo pigments of the following embodiments (1) to (4), and the metal azo pigment of the embodiment (1) is preferable.
  • Zn 2+ and Cu 2+ are preferably contained in a total amount of 95 to 100 mol%, more preferably 98 to 100 mol%, based on 1 mol of the total metal ions of the metal azo pigment. It is more preferable to contain 99.9 to 100 mol%, and it is particularly preferable to be 100 mol%.
  • the metal azo pigment may further contain a divalent or trivalent metal ion other than Zn 2+ and Cu 2+ (hereinafter also referred to as a metal ion Me1).
  • metal ion Me1 is, Ni 2+, Al 3+, Fe 2+, Fe 3+, Co 2+, Co 3+, La 3+, Ce 3+, Pr 3+, Nd 2+, Nd 3+, Sm 2+, Sm 3+, Eu 2+, Eu 3+ , Gd3 + , Tb3 + , Dy3 + , Ho3 + , Yb2 + , Yb3 + , Er3 + , Tm3 + , Mg2 + , Ca2 + , Sr2 + , Mn2 + , Y3 + , Sc3 + , Ti2 + , Ti3 + , Nb 3+, Mo 2+, Mo 3+, V 2+, V 3+, Zr 2+, Zr 3+, Cd 2+, Cr 3+, Pb 2+, Ba 2+ are mentioned, Al 3+, Fe 2+, Fe 3+, Co 2+, Co 3+, la 3+, Ce 3+, Pr 3+ , Nd 3+,
  • the content of the metal ion Me1 is preferably 5 mol% or less, more preferably 2 mol% or less, and more preferably 0.1 mol% or less based on 1 mol of all metal ions of the metal azo pigment. It is further preferred that
  • the metal ion comprises at least one anion selected from the azo compound represented by the formula (I) and the azo compound of the tautomeric structure described above, a metal ion, and a melamine compound, and the metal ion is Ni 2+ , Zn 2+ and at least one further metal ion Me 2, wherein the metal ion Me 2 is La 3+ , Ce 3+ , Pr 3+ , Nd 2+ , Nd 3+ , Sm 2+ , Sm 3+ , Eu 2+ , Eu 3+ , Gd 3+ , Tb3 + , Dy3 + , Ho3 + , Er3 + , Tm3 + , Yb2 + , Yb3 + , Mg2 + , Ca2 + , Sr2 + , Ba2 + , Sc3 + , Y3 + , Ti2 + , Ti3 + , Zr2 + , Zr3 + , V 2+, V 3+, Nb 3+
  • the metal ion Me2 is La3 + , Ce3 + , Pr3 + , Nd3 + , Sm3 + , Eu3 + , Gd3 + , Tb3 + , Dy3 + , Ho3 + , Er3 + , Tm3 + , Yb3 + , Mg2 + , Ca2 + , Ca2 + , Ca2 + , Ca2 + , It is preferably at least one selected from Sr 2+ , Y 3+ , and Mn 2+ , and at least one selected from La 3+ , Ce 3+ , Pr 3+ , Nd 3+ , Sm 3+ , Tb 3+ , Ho 3+ , and Sr 2+ More preferably, it is a species.
  • the metal azo pigment contains 75 to 99.5 mole% in total of Zn 2+ and Ni 2+ and 0.5 to 25 mole% of metal ion Me 2 preferably it contains, contains 78 to 95 mol% of Zn 2+ and Ni 2+ in total, and more preferably containing metal ions Me2 5 - 22 mol%, 82 to the Zn 2+ and Ni 2+ in total It is more preferable to contain 90 mol% and to contain 10 to 18 mol% of metal ion Me2.
  • the metal ion contains at least one anion selected from the azo compound represented by the formula (I) and the azo compound of the tautomeric structure described above, a metal ion, and a melamine compound, and the metal ion is Ni 2+ , Cu 2+ and at least one further metal ion Me 3 , wherein the metal ion Me 3 is La 3+ , Ce 3+ , Pr 3+ , Nd 2+ , Nd 3+ , Sm 2+ , Sm 3+ , Eu 2+ , Eu 3+ , Gd 3+ , Tb 3 3+ , Dy3 + , Ho3 + , Yb2 + , Yb3 + , Er3 + , Tm3 + , Mg2 + , Ca2 + , Ca2 + , Sr2 + , Mn2 + , Y3 + , Sc3 + , Ti2 + , Ti3 + , Nb3 + , Mo2 + , Mo 3+, V
  • the metal ion Me3 is La3 + , Ce3 + , Pr3 + , Nd3 + , Sm3 + , Eu3 + , Gd3 + , Tb3 + , Dy3 + , Ho3 + , Yb3 + , Er3 + , Tm3 + , Mg2 + , Ca2 + , Ca2 + , Ca2 + , It is preferably at least one selected from Sr 2+ , Mn 2+ , and Y 3+ , and at least one selected from La 3+ , Ce 3+ , Pr 3+ , Nd 3+ , Sm 3+ , Tb 3+ , Ho 3+ , and Sr 2+. More preferably, it is a species.
  • the total content of Cu 2+ and Ni 2+ is 70 to 99.5 mol%, and 0.5 to 30 mol% of metal ion Me3. preferably contains contains 75-95 mol% of Cu 2+ and Ni 2+ in total, and more preferably containing metal ions Me3 5 - 25 mol%, 80 to the Cu 2+ and Ni 2+ in total It is more preferable to contain 90 mol% and to contain 10 to 20 mol% of metal ion Me3.
  • the metal ion contains at least one anion selected from the azo compound represented by the formula (I) and the azo compound of the tautomeric structure described above, a metal ion, and a melamine compound, and the metal ion is Ni 2+ and comprises a metal ion Me4a, metal ions Me4a is La 3+, Ce 3+, Pr 3+ , Nd 2+, Nd 3+, Sm 2+, Sm 3+, Eu 2+, Eu 3+, Gd 3+, Tb 3+, Dy 3+, Ho 3+,
  • the metal azo pigment of the aspect which is an at least 1 sort (s) chosen from Er ⁇ 3 +> , Tm ⁇ 3 + > , Yb ⁇ 2+> and Yb ⁇ 3+ >.
  • Metal ions Me4a is, La 3+, Ce 3+, Pr 3+, Nd 3+, Sm 3+, Eu 3+, Gd 3+, Tb 3+, Dy 3+, Ho 3+, Er 3+, at least one selected from the Tm 3+ and Yb 3+ It is preferably at least one selected from La 3+ , Ce 3+ , Pr 3+ , Nd 3+ , Sm 3+ , Tb 3+ and Ho 3+ .
  • the total content of Ni 2+ and metal ion Me 4 a is preferably 95 to 100 mol%, more preferably 98 to 100 mol%, based on 1 mol of the total metal ions of the metal azo pigment.
  • the metal azo pigment may further contain metal ions other than Ni 2+ and metal ion Me4a (hereinafter also referred to as metal ion Me4b).
  • the metal ions Me4b is, Mg 2+, Ca 2+, Sr 2+, Ba 2+, Sc 3+, Y 3+, Ti 2+, Ti 3+, Zr 2+, Zr 3+, V 2+, V 3+, Nb 3+, Cr 3+, Mo 2+ , Mo 3+ , Mn 2+ , Fe 2+ , Fe 3+ , Co 2+ , Co 3+ , Cu 2+ , Zn 2+ , Cd 2+ , Al 3+ and Pb 2+ , and Mg 2+ , Ca 2+ , Sr 2+ , Y 3+ , Mn It is preferably at least one selected from 2+ , Fe 2+ , Fe 3+ , Co 2+ , Co 3+ , Cu 2+ , Zn 2+ and Al 3+ , and Sr 2+ , Fe 2+ , Fe 3+ , Co 2+ , Co 3+ , Cu More preferably, it is at least one selected from 2+ , Zn 2
  • the content of the metal ion Me4b is preferably 5 mol% or less, more preferably 2 mol% or less, based on 1 mol of the total metal ions of the metal azo pigment, more preferably 0.1 mol% It is more preferable that it is the following.
  • the metal azo pigment comprises a metal azo compound composed of at least one anion selected from the azo compound represented by the above-mentioned formula (I) and an azo compound of the tautomeric structure thereof and a metal ion, and a melamine compound
  • an adduct is formed with the compound represented by the above formula (II).
  • An adduct is understood to mean a molecular assembly. The bond between these molecules may be, for example, an intermolecular interaction, a Lewis acid-base interaction, or a coordinate bond or a chain bond.
  • the adduct may also have a structure such as a clathrate in which a guest molecule is incorporated in a lattice constituting a host molecule.
  • the adduct may also have a structure such as a complex intercalated crystal (including an interstitial compound).
  • Composite intercalated crystals are chemically non-stoichiometric crystalline compounds consisting of at least two components.
  • the adduct may be a mixed substituted crystal in which two substances form a co-crystal and the atom of the second component is located at the regular lattice position of the first component.
  • the metal azo pigment may be a physical mixture or a chemically complex compound. Preferably, it is a physical mixture.
  • paragraphs 0011 to 0062 and 0139 to 0190 of the gazettes and paragraphs 0010 to 0065 and 0142 to 2222 of JP-A-2017-171915 can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
  • the dye is not particularly limited, and known dyes can be used.
  • the chemical structure includes pyrazole azo, anilinoazo, triarylmethane, anthraquinone, anthrapyridone, benzylidene, oxonol, pyrazolotriazole azo, pyridone azo, cyanine, phenothiazine, pyrrolopyrazole azomethine, Dyes such as xanthene dyes, phthalocyanine dyes, benzopyran dyes, indigo dyes, and pyromethene dyes can be used. In addition, multimers of these dyes may be used. Further, dyes described in JP-A-2015-028144 and JP-A-2015-34966 can also be used.
  • the coloring material preferably contains two or more selected from a red coloring agent, a blue coloring agent, a yellow coloring agent, a purple coloring agent and a green coloring agent.
  • a preferable combination the following is mentioned, for example, (2), (3) or (4) is preferable, and (3) is more preferable.
  • An embodiment containing a red coloring agent, a blue coloring agent, a yellow coloring agent, a purple coloring agent and a green coloring agent An embodiment containing a red coloring agent, a blue coloring agent, a yellow coloring agent, a purple coloring agent and a green coloring agent.
  • An embodiment containing a red colorant, a blue colorant, a yellow colorant and a green colorant An embodiment containing a red colorant, a blue colorant and a green colorant. (7) An embodiment containing a yellow colorant and a purple colorant.
  • the mass ratio of red colorant, blue colorant, yellow colorant, purple colorant and green colorant is red colorant: blue colorant: yellow colorant: purple colorant: green colorant
  • the agent is 10 to 80: 20 to 80: 5 to 40: 5 to 40, and it is 10 to 60:30 to 80: 5 to 30: 5 to 30: 5 to 30. More preferably, it is 10 to 40:40 to 80: 5 to 20: 5 to 20: 5 to 20.
  • the ratio is preferably 80: 5 to 40: 5 to 40, more preferably 10 to 60:30 to 80: 5 to 30: 5 to 30, and further preferably 10 to 40:40 to 80: 5 to 20: 5. It is more preferable that the value is 20.
  • C.I. I. Pigment Yellow 139, 150, 185 are preferable, and C.I. I. Pigment Yellow 139, 150 is more preferable, C.I. I. Pigment Yellow 139 is more preferable.
  • a blue coloring agent C.I. I. Pigment Blue 15: 6 is preferred.
  • a purple coloring agent C.I. I. Pigment Violet 23 is preferred.
  • a red coloring agent Pigment Red 122, 177, 224, 254 is preferable, Pigment Red 122, 177254 is more preferable, and Pigment Red 254 is still more preferable.
  • a green coloring agent C.I. I. Pigment Green 7, 36, 58, 59 are preferred.
  • organic black colorant examples include bisbenzofuranone compounds, azomethine compounds, perylene compounds, azo compounds and the like, and bisbenzofuranone compounds and perylene compounds are preferable.
  • bisbenzofuranone compounds those described in JP-A-2010-534726, JP-A-2012-515233, JP-A-2012-515234, International Publication WO 2014/208348, JP-A-2015-525260, etc.
  • the compound is mentioned, for example, it is available as "Irgaphor Black” made by BASF.
  • perylene compounds C.I. I. Pigment Black 31, 32 and the like.
  • the azomethine compound examples include those described in JP-A-1-170601, JP-A-2-32664 and the like, and can be obtained, for example, as "Chromo fine black A1103" manufactured by Dainichiseika.
  • the bisbenzofuranone compound is preferably a compound represented by the following formula and a mixture thereof.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • R 3 and R 4 each independently represent a substituent
  • a and b each independently represent an integer of 0 to 4
  • a is 2 or more
  • plural R 3 s may be the same or different
  • plural R 3 s may combine to form a ring
  • b is 2 or more
  • the plurality of R 4 may be identical or different, and the plurality of R 4 may be combined to form a ring.
  • the substituent represented by R 1 to R 4 is a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, -OR 301 , -COR 302 , -COOR 303 , -OCOR 304 , -NR 305 R 306 , -NHCOR 307 , -CONR 308 R 309 , -NHCONR 310 R 311 , -NHCOOR 312 , -SR 313 , -SO 2 R 314 , -SO 2 OR 315 , -NHSO 2 R 316 or -SO 2 NR 317 R 318 is represented, and R 301 to R 318 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heteroaryl group
  • an organic black colorant when used as a colorant, it is preferable to use it in combination with a chromatic colorant.
  • a chromatic colorant By using an organic black colorant and a chromatic colorant in combination, excellent spectral characteristics are easily obtained.
  • the chromatic colorant used in combination with the organic black colorant include red colorants, blue colorants, purple colorants and the like, and red colorants and blue colorants are preferable. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the mixing ratio of the chromatic coloring agent to the organic black coloring agent is preferably 10 to 200 parts by mass, more preferably 15 to 150 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the organic black coloring agent. preferable.
  • the content of the pigment in the coloring material is preferably 95% by mass or more, more preferably 97% by mass or more, and further preferably 99% by mass or more based on the total amount of the coloring material. preferable.
  • the content of the colorant is preferably 10 to 70% by mass with respect to the total solid content of the composition. 30 mass% or more is preferable, and, as for a lower limit, 40 mass% or more is more preferable.
  • the composition of the present invention can contain a near infrared absorber.
  • the near infrared ray absorbing agent has a role of limiting the transmitted light (infrared ray) to a longer wavelength side.
  • a compound having a maximum absorption wavelength in a near infrared region preferably, a wavelength of more than 700 nm and at most 1300 nm
  • the near infrared absorber may be a pigment or a dye.
  • a near infrared absorber a near infrared absorbing compound having a ⁇ conjugated plane including an aromatic ring of a single ring or a condensed ring can be preferably used. It is preferable that the number of atoms other than hydrogen which comprises the pi conjugation plane which a near-infrared absorption compound has is 14 or more, It is more preferable that it is 20 or more, It is still more preferable that it is 25 or more, 30 It is particularly preferable to be the above.
  • the upper limit is, for example, preferably 80 or less, and more preferably 50 or less.
  • the ⁇ conjugated plane of the near infrared absorbing compound preferably contains two or more single rings or two or more aromatic rings of a fused ring, more preferably three or more of the aforementioned aromatic rings, and the aforementioned aromatic rings It is further preferable to include four or more, and it is particularly preferable to include five or more of the aforementioned aromatic rings.
  • the upper limit is preferably 100 or less, more preferably 50 or less, and still more preferably 30 or less.
  • the above-mentioned aromatic ring includes benzene ring, naphthalene ring, indene ring, azulene ring, heptalene ring, indacene ring, perylene ring, pentacene ring, quaterylene ring, acenaphthene ring, phenanthrene ring, anthracene ring, naphthacene ring, chrysene ring, Triphenylene ring, fluorene ring, pyridine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, imidazole ring, benzoimidazole ring, pyrazole ring, thiazole ring, benzothiazole ring, triazole ring, benzotriazole ring, oxazole ring, benzooxazole ring, imidazoline ring, pyrazine And rings, quinoxaline rings, pyrimidine rings, quin
  • the near infrared absorbing compound is preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the range of 700 to 1000 nm.
  • “having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 700 to 1000 nm” refers to a wavelength showing the maximum absorbance in the wavelength range of 700 to 1000 nm in the absorption spectrum of the near infrared absorption compound solution. It means to have.
  • the measuring solvent used for measurement of the absorption spectrum in the solution of a near-infrared absorption compound includes chloroform, methanol, dimethyl sulfoxide, ethyl acetate and tetrahydrofuran. In the case of a compound which is dissolved in chloroform, chloroform is used as a measurement solvent. In the case of a compound which does not dissolve in chloroform, methanol is used. In addition, dimethyl sulfoxide is used when it does not dissolve in either chloroform or methanol.
  • the near infrared absorbing compound is a pyrrolopyrrole compound, a cyanine compound, a squarylium compound, a phthalocyanine compound, a naphthalocyanine compound, a quaterylene compound, a merocyanine compound, a croconium compound, an oxonol compound, a diimmonium compound, a dithiol compound, a triarylmethane compound, At least one selected from a pyrromethene compound, an azomethine compound, an anthraquinone compound and a dibenzofuranone compound is preferable, and at least one selected from a pyrrolopyrrole compound, a cyanine compound, a squalilium compound, a phthalocyanine compound, a naphthalocyanine compound and a diimmonium compound is more preferable.
  • diimmonium compounds include the compounds described in JP-A-2008-528706, the contents of which are incorporated herein.
  • the phthalocyanine compound for example, a compound described in paragraph 0093 of JP-A-2012-77153, an oxytitanium phthalocyanine described in JP-A-2006-343631, a paragraph number 0013 to 0029 of JP-A-2013-195480.
  • vanadium phthalocyanine described in Japanese Patent No. 6081771 the contents of which are incorporated herein.
  • the compound of the following structure can also be used as a phthalocyanine compound.
  • a naphthalocyanine compound the compound as described in stage number 0093 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-77153 is mentioned, for example, This content is integrated in this specification.
  • the cyanine compound the phthalocyanine compound, the naphthalocyanine compound, the dimonium compound and the squarylium compound, the compounds described in paragraphs [0010] to [0081] of JP-A-2010-111750 may be used, and the contents thereof are described in the present specification. Be incorporated.
  • cyanine compounds can be referred to, for example, "functional dyes, Shin Ookawara / Ken Matsuoka / Keijiro Kitao / Tsunehiro Hiraiso, Kodansha Scientific", the contents of which are incorporated herein. .
  • the near infrared absorbing compound a compound described in JP-A-2016-146619 can also be used, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the pyrrolopyrrole compound is preferably a compound represented by the formula (PP).
  • R 1a and R 1b each independently represent an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group
  • R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • R 2 and R 3 represent R 4 may be combined with each other to form a ring
  • each R 4 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, -BR 4A R 4B , or a metal atom
  • R 4 is an R R 4A and R 4B may each independently represent a substituent, which may be covalently bonded or coordinated with at least one selected from 1 a 1 , R 1 b and R 3 .
  • R 1a and R 1b are each independently preferably an aryl group or a heteroaryl group, and more preferably an aryl group.
  • the alkyl group, the aryl group and the heteroaryl group represented by R 1a and R 1b may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the substituents described in Paragraph Nos. 0020 to 0022 of JP 2009-263614 A, and the following substituent T.
  • the alkyl group, aryl group and heteroaryl group represented by R 1a and R 1b have two or more substituents, the substituents may be combined to form a ring.
  • An alkyl group preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms
  • an alkenyl group preferably an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms
  • an alkynyl group preferably an alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms
  • an aryl group preferably An aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an amino group (preferably an amino group having 0 to 30 carbon atoms), an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms), an aryloxy group (preferably 6 to carbon atoms 30) aryloxy group), heteroaryloxy group
  • acyl group preferably having 1 to 30 carbon atoms
  • alkoxycarbonyl group preferably having 2 to 30 carbon atoms
  • aryloxycarbonyl group preferably having 2 to 30 carbon atoms
  • an acyloxy group preferably an acylo group having 2 to 30
  • an acylamino group (preferably an acylamino group having 2 to 30 carbon atoms), an alkoxycarbonylamino group (preferably an alkoxycarbonylamino group having 2 to 30 carbon atoms), an aryloxycarbonylamino group (preferably 7 to carbon atoms) 30) aryloxycarbonylamino group), sulfamoyl group (preferably sulfamoyl group having 0 to 30 carbon atoms), carbamoyl group (preferably carbamoyl group having 1 to 30 carbon atoms), alkylthio group (preferably having 1 to 30 carbon atoms) Alkylthio group), arylthio group (preferably arylthio group having 6 to 30 carbon atoms), heteroarylthio group (preferably 1 to 30 carbon atoms), alkylsulfonyl group (preferably 1 to 30 carbon atoms), arylsulfonyl group (preferably 1 to 30 carbon atoms) Preferably having 6 to 30 carbon
  • sulfonic acid amide groups (preferably a group represented by -NHSO 2 R A2 .R A2 represents a hydrocarbon group or a heterocyclic group. hydrocarbon group and The heterocyclic group may further have a substituent.
  • the substituent is preferably a halogen atom, and more preferably a fluorine atom.
  • R A3 to R A6 are each independently And a hydrocarbon group or a heterocyclic group which may further have a substituent), a mercapto group, a halogen atom, a cyano group, an alkylsulfino group, an arylsulfino group , Hydrazino group, imino group, heteroaryl group (preferably having a carbon number of 1 to 30).
  • these groups are further substitutable groups, they may further have a substituent.
  • the group demonstrated by the substituent T mentioned above is mentioned.
  • R 1a and R 1b include an aryl group having an alkoxy group as a substituent, an aryl group having a hydroxyl group as a substituent, an aryl group having an acyloxy group as a substituent and the like.
  • R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • the substituent include the above-mentioned substituent T.
  • At least one of R 2 and R 3 is preferably an electron-withdrawing group.
  • a substituent having a positive Hammett's substituent constant ⁇ value acts as an electron-withdrawing group.
  • the substituent constants determined by the Hammett rule include ⁇ p values and ⁇ m values. These values can be found in many general books.
  • a substituent having a Hammett's substituent constant ⁇ value of 0.2 or more can be exemplified as the electron-withdrawing group.
  • the ⁇ value is preferably 0.25 or more, more preferably 0.3 or more, and still more preferably 0.35 or more.
  • the upper limit is not particularly limited, but is preferably 0.80 or less.
  • a cyano group is preferable.
  • Me represents a methyl group
  • Ph represents a phenyl group.
  • the Hammett's substituent constant ⁇ value can be referred to, for example, paragraph Nos. 0017 to 0018 of JP-A-2011-68731, the contents of which are incorporated herein.
  • R 2 preferably represents an electron-withdrawing group (preferably a cyano group), and R 3 preferably represents a heteroaryl group.
  • the heteroaryl group is preferably a 5- or 6-membered ring.
  • the heteroaryl group is preferably a single ring or a fused ring, preferably a single ring or a fused ring having 2 to 8 condensations, and more preferably a single ring or a fused ring having 2 to 4 condensations.
  • the number of heteroatoms constituting the heteroaryl group is preferably 1 to 3, and more preferably 1 to 2.
  • a hetero atom a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom are illustrated, for example.
  • the heteroaryl group preferably has one or more nitrogen atoms.
  • Two R 2 s in Formula (PP) may be identical to or different from each other.
  • two R 3 's in Formula (PP) may be the same or different.
  • R 4 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group or a group represented by —BR 4A R 4B , and a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or —BR
  • the group represented by 4A R 4B is more preferably a group represented by -BR 4A R 4B .
  • the substituent represented by R 4A and R 4B is preferably a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group or a heteroaryl group, more preferably an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group, and an aryl group Particularly preferred. These groups may further have a substituent.
  • Two R 4 's in the formula (PP) may be the same or different.
  • R 4A and R 4B may be bonded to each other to form a ring.
  • each of A 1 and A 2 independently represents an aryl group, a heteroaryl group or a group represented by formula (A-1);
  • Z 1 represents a nonmetal atomic group forming a nitrogen-containing heterocyclic ring
  • R 2 represents an alkyl group, an alkenyl group or an aralkyl group
  • d represents 0 or 1.
  • the wavy line represents a connecting hand.
  • the cyanine compound is preferably a compound represented by the formula (C).
  • Formula (C) In the formula, each of Z 1 and Z 2 independently represents a nonmetallic atomic group forming a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring which may be condensed.
  • R 101 and R 102 each independently represent an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group or an aryl group
  • L 1 represents a methine chain having an odd number of methine groups
  • a and b are each independently 0 or 1;
  • X 1 represents an anion
  • c represents the number necessary to balance the charge
  • the site represented by Cy in the formula is an anion moiety
  • X 1 represents a cation
  • c represents the number necessary to balance the charge
  • c is a molecule in which the charge at the site represented by Cy in the formula is neutralized within the molecule It is 0.
  • inorganic particles can also be used as a near infrared absorber.
  • the shape of the inorganic particles is not particularly limited, and may be spherical, non-spherical, sheet-like, wire-like or tube-like.
  • metal oxide particles or metal particles are preferable.
  • metal oxide particles examples include indium tin oxide (ITO) particles, antimony tin oxide (ATO) particles, zinc oxide (ZnO) particles, Al-doped zinc oxide (Al-doped ZnO) particles, fluorine-doped tin dioxide (F-doped) SnO 2 ) particles, niobium-doped titanium dioxide (Nb-doped TiO 2 ) particles, etc. may be mentioned.
  • metal particles include silver (Ag) particles, gold (Au) particles, copper (Cu) particles, nickel (Ni) particles, and the like.
  • a tungsten oxide type compound can also be used as an inorganic particle.
  • the tungsten oxide based compound is preferably cesium tungsten oxide. For details of the tungsten oxide based compound, paragraph 0080 of JP-A-2016-006476 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the content of the near-infrared absorber is preferably 1 to 30% by mass with respect to the total solid content of the composition. 20 mass% or less is preferable, and, as for the upper limit, 10 mass% or less is more preferable. 3 mass% or more is preferable, and, as for a lower limit, 5 mass% or more is more preferable.
  • the total amount of the near-infrared absorber and the colorant is preferably 10 to 70% by mass of the total solid content of the composition. 20 mass% or more is preferable, and, as for a lower limit, 25 mass% or more is more preferable.
  • the content of the near-infrared absorber in the total amount of the near-infrared absorber and the colorant is preferably 5 to 40% by mass. 30 mass% or less is preferable, and, as for the upper limit, 25 mass% or less is more preferable. 10 mass% or more is preferable, and, as for a lower limit, 15 mass% or more is more preferable.
  • the near-infrared absorber may be used alone or in combination of two or more. When two or more near infrared absorbers are used in combination, the total is preferably in the above range.
  • the composition of the present invention contains a polymerizable compound.
  • the polymerizable compound compounds which can be polymerized by the action of a radical are preferable. That is, the polymerizable compound is preferably a radically polymerizable compound.
  • the polymerizable compound is preferably a compound having two or more ethylenic unsaturated groups, and more preferably a compound having three or more ethylenic unsaturated groups.
  • the upper limit of the number of ethylenically unsaturated groups is, for example, preferably 15 or less, more preferably 6 or less.
  • Examples of the ethylenically unsaturated group include a vinyl group, a styrene group, a (meth) allyl group, a (meth) acryloyl group and a (meth) acryloyloxy group.
  • the polymerizable compound may be in the form of a monomer or a polymer, but a monomer is preferred.
  • the polymerizable compound of monomer type preferably has a molecular weight of 100 to 3,000.
  • the upper limit is preferably 2000 or less, more preferably 1500 or less.
  • the lower limit is preferably 150 or more, more preferably 250 or more.
  • a polymeric compound is a compound which does not have molecular weight distribution substantially.
  • the degree of dispersion of the compound is preferably 1.0 to 1.5, and 1 0 to 1.3 is more preferable.
  • the polymerizable compound used in the present invention includes a compound A having an alkyleneoxy group and having three ethylenically unsaturated groups (hereinafter, also simply referred to as a compound A).
  • the content of the compound A in the total amount of the polymerizable compound used in the present invention is preferably 50 to 100% by mass. 55 mass% or more is preferable, and, as for a minimum, 60 mass% or more is still more preferable. When the content of the compound A is 50% by mass or more, the effect of the present invention is more significantly exhibited.
  • the molecular weight of the compound A is preferably 380 to 600.
  • the upper limit is preferably 560 or less, more preferably 516 or less.
  • the lower limit is preferably 384 or more, more preferably 400 or more.
  • Compound A is preferably a monomer.
  • the upper limit is preferably 10.0 mmol / g or less.
  • the compound A is preferably a compound having 2 to 6 alkyleneoxy groups, and more preferably a compound having 3 to 6 alkyleneoxy groups.
  • the carbon number of the alkyleneoxy group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, still more preferably 1 to 3, particularly preferably 2 or 3, and most preferably 2.
  • the compound A is preferably a compound represented by the following formula (A-1).
  • Formula (A-1) In the formula, A 1 to A 3 each independently represent an ethylenically unsaturated group, L 1 to L 3 each independently represent a single bond or a divalent linking group, and R 1 to R 3 each represent each independently represents an alkylene group, the m1 ⁇ m3, independently represent an integer of 0 ⁇ 10, L 10 represents a trivalent linking group, the sum of m1 and m2 and m3 is 1 or more.
  • Examples of the ethylenically unsaturated group represented by A 1 to A 3 include a vinyl group, a (meth) allyl group, a (meth) acryloyl group and a (meth) acryloyloxy group.
  • Examples of the divalent linking group represented by L 1 to L 3 include an alkylene group, an arylene group, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH- and a combination of two or more of these. Can be mentioned.
  • the carbon number of the alkylene group is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, and still more preferably 1 to 15.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic.
  • the carbon number of the arylene group is preferably 6 to 30, more preferably 6 to 20, and still more preferably 6 to 10.
  • the carbon number of the alkylene group represented by R 1 to R 3 is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, still more preferably 1 to 3, particularly preferably 2 or 3, and most preferably 2.
  • the alkylene group represented by R 1 is preferably linear or branched, and more preferably linear. Specific examples of the alkylene represented by R 1 include ethylene group, linear or branched propylene group and the like, and ethylene group is preferable.
  • M1 to m3 each independently represent 0 to 10, preferably 0 to 5, more preferably 0 to 7, and still more preferably 0 to 3.
  • the total of m1, m2 and m3 is 1 or more, preferably 2 or more, and more preferably 3 or more.
  • the upper limit is preferably 20 or less, more preferably 10 or less, and still more preferably 6 or less.
  • the total of m1, m2 and m3 is preferably 2 to 6, and more preferably 3 to 6.
  • Examples of the trivalent linking group represented by L 10 include a group consisting of an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, a heterocyclic group and a combination thereof, an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group and a complex Aliphatic hydrocarbon groups include groups comprising a combination of at least one selected from a cyclic group and at least one selected from -O-, -CO-, -COO-, -OCO- and -NH- Is preferred.
  • the carbon number of the aliphatic hydrocarbon group is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, and still more preferably 1 to 15.
  • the aliphatic hydrocarbon group represented by L 10 may be linear, branched or cyclic, and is preferably branched.
  • the carbon number of the aromatic hydrocarbon group is preferably 6 to 30, more preferably 6 to 20, and still more preferably 6 to 10.
  • the heterocyclic group may be a non-aromatic heterocyclic group or may be an aromatic heterocyclic group.
  • the heterocyclic group is preferably a 5- or 6-membered ring. Types of hetero atoms constituting the heterocyclic group include nitrogen atom, oxygen atom, sulfur atom and the like.
  • the number of hetero atoms constituting the heterocyclic group is preferably 1 to 3.
  • the heterocyclic group may be a single ring or may be a fused ring.
  • the aliphatic hydrocarbon group, the aromatic hydrocarbon group and the heterocyclic group may have a substituent. As a substituent, the group mentioned by the substituent T mentioned above is mentioned.
  • the compound A is more preferably a compound represented by the following formula (A-2).
  • Formula (A-2) In the formula, R 11 to R 13 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, R 1 to R 3 each independently represent an alkylene group, and m 1 to m 3 each independently represent 0 to 10 L 10 represents an integer, and L 10 represents a trivalent linking group, and the sum of m 1, m 2 and m 3 is 1 or more.
  • R 11 ⁇ R 13, L 10 , m1 ⁇ m3 of formula (A-2) has the same meaning as R 11 ⁇ R 13, L 10 , m1 ⁇ m3 of formula (A-1), the preferred range is also the same is there.
  • the compound A may be used alone or in combination of two or more. Moreover, when using together 2 or more types of the compound A, it is preferable to use together the compound in which the number of the alkylene oxy groups differs. When two or more kinds of compounds having different numbers of alkyleneoxy groups are used in combination, a finer pattern can be formed with good adhesion.
  • the average value of the number of alkyleneoxy groups in compound A is preferably 2 to 10, more preferably 3 to 10, and 3 to 6 More preferably, the number is 3 to 5.
  • the compound A preferably contains a compound having 3 alkyleneoxy groups and a compound having 4 to 6 alkyleneoxy groups, and 100 mass of the compound having 3 alkyleneoxy groups. It is more preferable that 20 to 500 parts by mass of the compound having 4 to 6 alkyleneoxy groups be contained with respect to 1 part, and the alkyleneoxy group be contained with respect to 100 parts by mass of the compound having 3 alkyleneoxy groups. More preferably, the compound contains 20 to 300 parts by mass of a compound having 4 to 6 in number, and particularly preferably 20 to 200 parts by mass of a compound having 4 to 6 alkyleneoxy groups. According to this aspect, a finer pattern can be formed with good adhesion.
  • composition of the present invention may further contain, as the polymerizable compound, a compound having four or more ethylenically unsaturated groups (hereinafter also referred to as compound B) in addition to the above-described compound A.
  • the compound B is preferably a compound having 4 to 15 ethylenically unsaturated groups, more preferably a compound having 4 to 10 ethylenically unsaturated groups, and 4 to 6 ethylenically unsaturated groups. It is more preferable that it is a compound having one.
  • the compound B is preferably a tetrafunctional or higher functional (meth) acrylate.
  • Compound B is dipentaerythritol tetraacrylate (commercially available as KAYARAD D-320; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol penta (meth) acrylate (commercially available as KAYARAD D-310; Nippon Kayaku ( Co., Ltd.), dipentaerythritol hexa (meth) acrylate (commercially available as KAYARAD DPHA; Nippon Kayaku Co., Ltd., A-DPH-12E; Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), and these (meta) 2.) Compounds having a structure in which an acryloyl group is linked via an ethylene glycol or propylene glycol residue (for example, SR454, SR499 commercially available from Sartomer) are preferred.
  • oligomer types can also be used.
  • KAYARAD RP-1040 and DPCA-20 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • Alonics M-402, Alonics TO-1382, and Alonics TO-2349 can be used.
  • the compound B may further have an acid group such as a carboxyl group, a sulfo group or a phosphoric acid group.
  • an acid group such as a carboxyl group, a sulfo group or a phosphoric acid group.
  • Commercially available products include ALONIX M-305, M-510, and M-520 (all manufactured by Toagosei Co., Ltd.).
  • the acid value of the compound B is preferably 0.1 to 40 mg KOH / g.
  • the lower limit is preferably 5 mg KOH / g or more.
  • the upper limit is preferably 30 mg KOH / g or less.
  • the compound B is a compound having a caprolactone structure.
  • the description in paragraphs [0042] to [0045] of JP-A-2013-253224 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the compound B is also preferably a compound having an alkyleneoxy group.
  • alkyleneoxy group examples include ethyleneoxy group and propyleneoxy group, and ethyleneoxy group is preferable.
  • Compound B includes urethane acrylates described in JP-B-48-41708, JP-A-51-37193, JP-B-2-32293 and JP-B-2-16765, and JP-B-58-
  • the urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-A-49860, JP-B-56-17654, JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable.
  • use of addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238. Can.
  • JP-A-2017-48367, JP-A-6057891, and JP-A-6031807 can also be used.
  • the content of the polymerizable compound is preferably 0.1 to 50% by mass with respect to the total solid content of the composition.
  • the lower limit is, for example, more preferably 0.5% by mass or more, and still more preferably 1% by mass or more.
  • the upper limit is, for example, more preferably 45% by mass or less and still more preferably 40% by mass or less.
  • the content of the compound A is preferably 0.1 to 50% by mass with respect to the total solid content of the composition.
  • the lower limit is, for example, more preferably 0.5% by mass or more, and still more preferably 1% by mass or more.
  • the upper limit is, for example, more preferably 45% by mass or less and still more preferably 40% by mass or less.
  • the composition of the present invention contains a photopolymerization initiator.
  • a photoinitiator There is no restriction
  • the photopolymerization initiator is preferably a photoradical polymerization initiator.
  • a halogenated hydrocarbon derivative for example, a compound having a triazine skeleton, a compound having an oxadiazole skeleton, etc.
  • an acylphosphine compound for example, a hexaarylbiimidazole, an oxime compound, an organic peroxide, Thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ⁇ -hydroxy ketone compounds, ⁇ -amino ketone compounds and the like
  • an organic peroxide for example, a compound having a triazine skeleton, a compound having an oxadiazole skeleton, etc.
  • an acylphosphine compound for example, a compound having a triazine skeleton, a compound having an oxadiazole skeleton, etc.
  • an acylphosphine compound for example, a compound having a triazine skeleton, a compound having an oxadiazole skeleton, etc.
  • the photopolymerization initiator is a trihalomethyl triazine compound, a benzyl dimethyl ketal compound, an ⁇ -hydroxy ketone compound, an ⁇ -amino ketone compound, an acyl phosphine compound, a phosphine oxide compound, a metallocene compound, an oxime compound, a triaryl imidazole from the viewpoint of exposure sensitivity.
  • Dimers, onium compounds, benzothiazole compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds, cyclopentadiene-benzene-iron complexes, halomethyl oxadiazole compounds and 3-aryl substituted coumarin compounds are preferred, and oxime compounds, ⁇ -hydroxy ketone compounds, ⁇ -hydroxy ketone compounds More preferred are compounds selected from amino ketone compounds and acyl phosphine compounds, and more preferred are oxime compounds.
  • the description in paragraphs 0065 to 0111 of JP-A-2014-130173 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • Examples of commercially available ⁇ -hydroxy ketone compounds include IRGACURE-184, DAROCUR-1173, IRGACURE-500, IRGACURE-2959, IRGACURE-127 (manufactured by BASF Corporation) and the like.
  • Examples of commercially available ⁇ -amino ketone compounds include IRGACURE-907, IRGACURE-369, IRGACURE-379, and IRGACURE-379EG (manufactured by BASF Corporation).
  • Examples of commercially available products of acyl phosphine compounds include IRGACURE-819, DAROCUR-TPO (all manufactured by BASF Corp.) and the like.
  • Examples of oxime compounds include compounds described in JP-A-2001-233842, compounds described in JP-A-2000-80068, compounds described in JP-A-2006-342166, and JP-A-2016-21012. Etc. can be used.
  • Examples of oxime compounds that can be suitably used in the present invention include 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one, 3-propionyloxyiminobutan-2-one, 2- Acetoxyiminopentan-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3- (4-toluenesulfonyloxy) iminobutane-2- And 2-ethoxycarbonyloxyimino-1-phenylpropan-1-one and the like.
  • JP-A-5343797 and JP-A-2006-342166 can also be mentioned.
  • IRGACURE-OXE01, IRGACURE-OXE02, IRGACURE-OXE03 and IRGACURE-OXE04 are also suitably used.
  • TR-PBG-304 made by Changzhou Strong Electronic New Material Co., Ltd.
  • Adeka Optomer N-1919 made by ADEKA Co., Ltd., Photopolymerization initiator 2 described in JP-A-2012-14052
  • the oxime compound it is also preferable to use a compound having no coloring property or a compound having high transparency and being hard to discolor. Examples of commercially available products include Adeka ARKules NCI-730, NCI-831, NCI-930 (all manufactured by ADEKA Corporation).
  • an oxime compound having a fluorene ring can also be used as a photopolymerization initiator.
  • the oxime compound having a fluorene ring compounds described in JP-A-2014-137466 can be mentioned. This content is incorporated herein.
  • an oxime compound having a fluorine atom can also be used as a photopolymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorine atom include the compounds described in JP-A-2010-262028, the compounds 24 and 36 to 40 described in JP-A-2014-500852, and JP-A-2013-164471. And the like (C-3) and the like. This content is incorporated herein.
  • an oxime compound having a nitro group can be used as a photopolymerization initiator.
  • the oxime compound having a nitro group is also preferably a dimer.
  • specific examples of the oxime compound having a nitro group compounds described in paragraphs 0031 to 0047 of JP2013-114249A and paragraphs 0008 to 0012 and 0070 to 0079 of JP2014-137466A, The compounds described in Paragraph Nos. 0007 to 0025 of Patent No. 4223071, Adeka ARKLS NCI-831 (manufactured by ADEKA Co., Ltd.) can be mentioned.
  • an oxime compound having a benzofuran skeleton can also be used as a photopolymerization initiator.
  • Specific examples include OE-01 to OE-75 described in International Publication WO 2015/036910.
  • a bifunctional or trifunctional or higher functional photopolymerization initiator may be used as the photopolymerization initiator.
  • a photopolymerization initiator two or more radicals are generated from one molecule of the photopolymerization initiator, so that good sensitivity can be obtained.
  • crystallinity is reduced and solubility in a solvent or the like is improved, so that it becomes difficult to precipitate with time, and the stability with time of the composition can be improved.
  • paragraphs of JP-A-2010-527339, JP-A-2011-524436, International Publication WO2015 / 004565, and JP-A-2016-532675 can be used.
  • oxime compounds preferably used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
  • the photopolymerization initiator is preferably a compound having a molar absorption coefficient of 2000 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or more at a wavelength of 365 nm, and the above-mentioned compound having a molar absorption coefficient of 5000 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm 1 or more in more preferred that there, more preferably the molar extinction coefficient of the above is a 7000L ⁇ mol -1 ⁇ cm -1 or more compounds, the molar extinction coefficient 10000L ⁇ mol -1 ⁇ cm -1 or more compounds of the above Being particularly preferred.
  • the molar absorption coefficient of the photopolymerization initiator at a wavelength of 365 nm is prepared by dissolving the photopolymerization initiator in a solvent to prepare a 5 mol% solution (measurement solution) of the photopolymerization initiator. It was calculated by measuring the absorbance of Specifically, the measurement solution described above is placed in a 1 cm wide glass cell, the absorbance is measured using a UV-Vis-NIR spectrometer (Cary 5000) manufactured by Agilent Technologies, and the molar ratio at a wavelength of 365 nm is applied according to the following equation. The extinction coefficient (L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 ) was calculated.
  • is the molar absorption coefficient (L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 )
  • A is the absorbance
  • c is the concentration of the measurement solution (mol / L)
  • l is the optical path length (cm).
  • Acetonitrile and chloroform are mentioned as a solvent used for preparation of a measurement solution in the measurement of the molar absorption coefficient of a photoinitiator.
  • the photopolymerization initiator is a compound that dissolves in acetonitrile
  • acetonitrile is used to prepare a measurement solution.
  • the photopolymerization initiator is a compound which is insoluble in acetonitrile but soluble in chloroform
  • chloroform is used to prepare a measurement solution.
  • dimethyl sulfoxide is used to prepare a measurement solution.
  • Preferred examples of the photopolymerization initiator having a molar absorption coefficient of 5,000 L ⁇ mol ⁇ 1 ⁇ cm ⁇ 1 or more at a wavelength of 365 nm include an oxime compound having a fluorine atom, an oxime compound having a nitro group, an oxime compound having a benzofuran skeleton Be Specific examples thereof include the compounds (C-13), (C-15) and (C-16) mentioned as specific examples of the above-mentioned oxime compound, Adeka ARKLS NCI-831 (manufactured by ADEKA), etc. Be
  • the photopolymerization initiator contains an oxime compound and an ⁇ -amino ketone compound.
  • the ⁇ -amino ketone compound is preferably 50 to 600 parts by mass, and more preferably 150 to 400 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the oxime compound.
  • the content of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass, and still more preferably 1 to 20% by mass, with respect to the total solid content of the composition.
  • the composition of the present invention may contain only one type of photopolymerization initiator, or may contain two or more types. When two or more photopolymerization initiators are contained, the total amount thereof is preferably in the above range.
  • the composition of the present invention can contain a resin.
  • the resin is blended, for example, for the purpose of dispersing particles such as a pigment in the composition or for the use of a binder.
  • grains, such as a pigment is also called a dispersing agent.
  • such application of the resin is an example, and the resin can also be used for purposes other than such application.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the resin is preferably 2,000 to 2,000,000.
  • the upper limit is preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less.
  • 3,000 or more are preferable and, as for a minimum, 5,000 or more are more preferable.
  • (meth) acrylic resin, epoxy resin, ene / thiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyether sulfone resin, polyphenylene resin, polyarylene ether phosphine oxide resin, polyimide resin, Polyamide imide resin, polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyester resin, styrene resin etc. are mentioned.
  • One of these resins may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used.
  • cyclic olefin resin norbornene resin can be preferably used from a viewpoint of heat resistance improvement.
  • Examples of commercially available products of norbornene resin include ARTON series (for example, ARTON F 4520) manufactured by JSR Corporation.
  • Examples of the epoxy resin include epoxy resins which are glycidyl ethers of phenol compounds, epoxy resins which are glycidyl ethers of various novolak resins, alicyclic epoxy resins, aliphatic epoxy resins, heterocyclic epoxy resins, glycidyl ester resins
  • Epoxy resin, glycidyl amine epoxy resin, epoxy resin obtained by glycidylating halogenated phenols, condensate of silicon compound having an epoxy group and silicon compound other than the above, polymerizable unsaturated compound having an epoxy group, and others Copolymers with other polymerizable unsaturated compounds may, for example, be mentioned.
  • G- 0150M, G-0105SA, G-0130SP, G-0250SP, G-1005S, G-1005SA, G-1010S, G-2050M, G-01100, G- 01758 (manufactured by NOF Corporation) And epoxy group-containing polymers) can also be used.
  • the resin a resin described in an example of International Publication WO 2016/088645, a resin described in JP-A-2017-57265, a resin described in JP-A-2017-32685, JP-A-2017 It is also possible to use the resin described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 0-75248 and the resin described in JP-A-2017-066240, the contents of which are incorporated herein.
  • a resin having a fluorene skeleton can also be preferably used.
  • resin which has fluorene frame resin of the following structure is mentioned.
  • A represents the residue of a carboxylic acid dianhydride selected from pyromellitic dianhydride, benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, biphenyl tetracarboxylic acid dianhydride and diphenyl ether tetracarboxylic acid dianhydride
  • M is a phenyl or benzyl group.
  • the resin having a fluorene skeleton can be referred to the description of US Patent Application Publication No. 2017/0102610, the contents of which are incorporated herein.
  • the resin used in the present invention may have an acid group.
  • an acid group a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfo group, a phenolic hydroxyl group etc. are mentioned, for example, A carboxyl group is preferable.
  • These acid groups may be of only one type, or of two or more types.
  • the resin having an acid group can also be used as an alkali-soluble resin.
  • a polymer having a carboxyl group in a side chain is preferable.
  • alkali-soluble polymers such as methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partially esterified maleic acid copolymer, novolac resin, etc.
  • a phenol resin, an acidic cellulose derivative having a carboxyl group in a side chain, and a resin obtained by adding an acid anhydride to a polymer having a hydroxyl group are mentioned.
  • copolymers of (meth) acrylic acid and other monomers copolymerizable therewith are suitable as the alkali-soluble resin.
  • Other monomers copolymerizable with (meth) acrylic acid include alkyl (meth) acrylates, aryl (meth) acrylates, vinyl compounds and the like.
  • alkyl (meth) acrylate and aryl (meth) acrylate methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, Hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, tolyl (meth) acrylate, naphthyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, etc., vinyl compounds such as styrene, ⁇ -methylstyrene, vinyl toluene, glycidyl methacrylate, acrylonitrile, vinyl acetate, N-vinyl pyrrolidone, tetrahydrofurfur
  • N-substituted maleimide monomers described in JP-A-10-300922 such as N-phenyl maleimide, N-cyclohexyl maleimide and the like can also be used.
  • These other monomers copolymerizable with (meth) acrylic acid may be only one type, or two or more types.
  • the resin having an acid group may further have a polymerizable group.
  • the polymerizable group include allyl group, methallyl group, (meth) acryloyl group and the like.
  • Commercially available products include Dianal NR series (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Photomer 6173 (Carboxyl group-containing polyurethane acrylate oligomer, manufactured by Diamond Shamrock Co., Ltd.), Biscoat R-264, KS Resist 106 (all are Osaka organic) Chemical Industry Co., Ltd., Cyclomer P series (for example, ACA 230 AA), Plaxcel CF 200 series (all from Daicel Co., Ltd.), Ebecryl 3800 (Daicel UBC Co., Ltd.), Acrycure RD-F8 (Co., Ltd.) Nippon Catalyst Co., Ltd. and the like.
  • Resin having an acid group is benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymer, benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate copolymer, benzyl (meth)
  • a multicomponent copolymer consisting of acrylate / (meth) acrylic acid / other monomers can be preferably used. Further, those obtained by copolymerizing 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer described in JP-A No.
  • the resin having an acid group is a monomer containing a compound represented by the following formula (ED1) and / or a compound represented by the following formula (ED2) (hereinafter, these compounds may be referred to as "ether dimer”). It is also preferable that it is a polymer containing a repeating unit derived from a component.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent.
  • R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms.
  • the description in JP-A-2010-168539 can be referred to for details of the formula (ED2).
  • ether dimer for example, paragraph “0317” of JP-A-2013-29760 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the ether dimer may be only one type, or two or more types.
  • the resin having an acid group may contain a repeating unit derived from a compound represented by the following formula (X).
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 2 represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms
  • R 3 has a hydrogen atom or 1 to 20 carbon atoms which may contain a benzene ring.
  • Represents an alkyl group of n represents an integer of 1 to 15.
  • the resin having an acid group is described in JP-A-2012-208494, paragraphs 0558 to 0571 (corresponding US patent application publication No. 2012/0235099, paragraphs 0685 to 0700), JP-A-2012-198408.
  • No. 0076-0099 can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
  • the resin which has an acidic radical can also use a commercial item.
  • Acrybase FF-426 manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.
  • the like can be mentioned.
  • the acid value of the resin having an acid group is preferably 30 to 200 mg KOH / g.
  • the lower limit is preferably 50 mg KOH / g or more, and more preferably 70 mg KOH / g or more.
  • 150 mgKOH / g or less is preferable and 120 mgKOH / g or less of an upper limit is more preferable.
  • resin which has an acidic radical resin of the following structure etc. are mentioned, for example.
  • resin of the following structural formulae Me represents a methyl group.
  • the composition of the present invention can also contain a resin as a dispersant.
  • the dispersant includes an acidic dispersant (acidic resin) and a basic dispersant (basic resin).
  • the acidic dispersant (acidic resin) represents a resin in which the amount of acid groups is larger than the amount of basic groups.
  • the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a resin in which the amount of acid groups accounts for 70 mol% or more when the total amount of the amount of acid groups and the amount of basic groups is 100 mol%. Resins consisting only of groups are more preferred.
  • the acid group of the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a carboxyl group.
  • the acid value of the acidic dispersant is preferably 40 to 105 mg KOH / g, more preferably 50 to 105 mg KOH / g, and still more preferably 60 to 105 mg KOH / g.
  • a basic dispersing agent represents resin whose quantity of a basic group is larger than the quantity of an acidic radical.
  • the basic dispersant is preferably a resin in which the amount of basic groups exceeds 50% by mole, where the total amount of the amount of acid groups and the amount of basic groups is 100% by mole.
  • the basic group possessed by the basic dispersant is preferably an amino group.
  • the resin used as the dispersant preferably contains a repeating unit having an acid group.
  • the resin used as the dispersing agent contains a repeating unit having an acid group, it is possible to further reduce the residue generated on the base of the pixel when forming a pattern by photolithography.
  • the resin used as the dispersant is a graft copolymer.
  • the graft copolymer is excellent in the dispersibility of the pigment and the dispersion stability after aging since the graft copolymer has affinity with the solvent by the graft chain.
  • the details of the graft copolymer can be referred to the description of Paragraph Nos. 0025 to 0094 of JP-A-2012-255128, the contents of which are incorporated herein.
  • the following resin is mentioned as a specific example of a graft copolymer.
  • the following resin is also a resin having an acid group (alkali soluble resin).
  • examples of the graft copolymer include the resins described in Paragraph Nos. 0072 to 0094 of JP 2012-255128 A, the contents of which are incorporated herein.
  • an oligoimine dispersant containing a nitrogen atom in at least one of the main chain and the side chain as the resin (dispersant).
  • the oligoimine dispersant comprises a structural unit having a partial structure X having a functional group having a pKa of 14 or less and a side chain containing a side chain Y having an atom number of 40 to 10,000, and having a main chain and a side chain
  • the resin which has a basic nitrogen atom in at least one side is preferable.
  • the basic nitrogen atom is not particularly limited as long as it is a nitrogen atom exhibiting basicity.
  • oligoimine dispersant With regard to the oligoimine dispersant, the description in paragraphs [0102] to [0166] of JP 2012-255128 A can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
  • a resin having the following structure or a resin described in paragraph Nos. 0168 to 0174 of JP 2012-255128 A can be used.
  • the dispersant is also available as a commercial product, and as such specific examples, Disperbyk-111 (manufactured by BYK Chemie), Solsparse 76500 (manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd.) and the like can be mentioned.
  • pigment dispersants described in paragraphs 0041 to 0130 of JP-A-2014-130338 can also be used, the contents of which are incorporated herein.
  • the resin etc. which have an acidic radical mentioned above can also be used as a dispersing agent.
  • the content of the resin is preferably 1 to 50% by mass with respect to the total solid content of the composition of the present invention.
  • the lower limit is preferably 2% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, still more preferably 5% by mass or more, and particularly preferably 10% by mass or more.
  • the upper limit is more preferably 40% by mass or less and still more preferably 30% by mass or less.
  • the content of the resin having an acid group is preferably 1 to 50% by mass with respect to the total solid content of the composition of the present invention.
  • the lower limit is preferably 2% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, still more preferably 5% by mass or more, and particularly preferably 10% by mass or more.
  • the upper limit is more preferably 40% by mass or less and still more preferably 30% by mass or less.
  • the composition of the present invention may contain only one type of resin, or may contain two or more types. When 2 or more types are included, it is preferable that the total amount of them becomes the said range.
  • the composition of the present invention may further contain a pigment derivative.
  • the pigment derivative include a compound having a structure in which a part of the pigment is substituted with an acid group, a basic group, a group having a salt structure, or a phthalimidomethyl group.
  • the compound represented by Formula (B1) is preferable.
  • P represents a dye structure
  • L represents a single bond or a linking group
  • X represents an acid group, a basic group, a group having a salt structure or a phthalimidomethyl group
  • m is an integer of 1 or more
  • N represents an integer of 1 or more, and when m is 2 or more, the plurality of L and X may be different from each other, and when n is 2 or more, the plurality of X may be different from each other.
  • pyrrolopyrrole pigment structure As the pigment structure represented by P, pyrrolopyrrole pigment structure, diketopyrrolopyrrole pigment structure, quinacridone pigment structure, anthraquinone pigment structure, dianthraquinone pigment structure, benzoisoindole pigment structure, thiazine indigo pigment structure, azo pigment structure, quinophthalone Dye structure, Phthalocyanine dye structure, Naphthalocyanine dye structure, Dioxazine dye structure, Perylene dye structure, Perinone dye structure, Benzoimidazolone dye structure, Benzothiazole dye structure, Benzoimidazole dye structure, and at least one selected from Benzoimidazole dye structure And at least one selected from pyrrolopyrrole dye structure, diketopyrrolopyrrole dye structure, quinacridone dye structure and benzimidazolone dye structure is more preferable, and pyrrolopyrrole is more preferable. Containing structure is
  • the linking group represented by L includes a group consisting of a hydrocarbon group, a heterocyclic group, -NR-, -SO 2- , -S-, -O-, -CO- or a combination thereof.
  • R represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
  • Examples of the acid group represented by X include a carboxyl group, a sulfo group, a carboxylic acid amide group, a sulfonic acid amide group, and an imidic acid group.
  • a group represented by -NHCOR X1 is preferable.
  • the sulfonic acid amide group is preferably a group represented by —NHSO 2 R X2 .
  • the imide group is preferably a group represented by —SO 2 NHSO 2 R X3 , —CONHSO 2 R X4 , —CONHCOR X5 or —SO 2 NHCOR X6 .
  • Each of R X1 to R X6 independently represents a hydrocarbon group or a heterocyclic group.
  • the hydrocarbon group and the heterocyclic group which R X1 to R X6 represent may further have a substituent.
  • the substituent T described in the above-mentioned formula (PP) can be mentioned, and a halogen atom is preferable, and a fluorine atom is more preferable.
  • An amino group is mentioned as a basic group which X represents.
  • a salt structure which X represents the salt of the acid group or basic group mentioned above is mentioned.
  • the content of the pigment derivative is preferably 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment. 3 mass parts or more are preferable, and 5 mass parts or more of a lower limit are more preferable. 40 mass parts or less are preferable, and 30 mass parts or less are more preferable.
  • a pigment derivative may use only 1 type and may use 2 or more types. When using 2 or more types, it is preferable that a total amount becomes said range.
  • the composition of the present invention can contain a solvent.
  • the solvent include organic solvents.
  • the solvent is basically not particularly limited as long as the solubility of each component and the coating property of the composition are satisfied.
  • the organic solvent include, for example, esters, ethers, ketones, aromatic hydrocarbons and the like. For details of these, reference can be made to paragraph No. 0223 of International Publication WO 2015/166779, the content of which is incorporated herein. Further, ester solvents substituted with a cyclic alkyl group and ketone solvents substituted with a cyclic alkyl group can also be preferably used.
  • the organic solvent examples include dichloromethane, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2-heptanone, cyclohexanone, Examples include cyclohexyl acetate, cyclopentanone, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether, and propylene glycol monomethyl ether acetate.
  • the organic solvent may be used singly or in combination of two or more.
  • 3-methoxy-N, N-dimethylpropanamide and 3-butoxy-N, N-dimethylpropanamide are also preferable from the viewpoint of solubility improvement.
  • aromatic hydrocarbons benzene, toluene, xylene, ethylbenzene etc.
  • a solvent having a low metal content it is preferable to use a solvent having a low metal content, and the metal content of the solvent is preferably, for example, 10 parts per billion or less. If necessary, a solvent having a mass ppt (parts per trillion) level may be used, and such a high purity solvent is provided by, for example, Toyo Gosei Co., Ltd. (Chemical Industry Daily, November 13, 2015).
  • a method of removing impurities such as metal from the solvent for example, distillation (molecular distillation, thin film distillation, etc.) and filtration using a filter can be mentioned.
  • distillation molecular distillation, thin film distillation, etc.
  • filtration using a filter As a filter hole diameter of a filter used for filtration, 10 micrometers or less are preferred, 5 micrometers or less are more preferred, and 3 micrometers or less are still more preferred.
  • the material of the filter is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene or nylon.
  • the solvent may contain isomers (compounds having the same number of atoms but different structures). Moreover, only one type of isomer may be contained, or two or more types may be contained.
  • the organic solvent preferably has a peroxide content of 0.8 mmol / L or less, and more preferably contains substantially no peroxide.
  • the content of the solvent is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, and still more preferably 25 to 75% by mass, with respect to the total amount of the composition. Further, in some cases, it is preferable that the curable composition does not contain aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc.) as a solvent because of environmental reasons and the like.
  • aromatic hydrocarbons benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc.
  • the composition of the present invention can contain a polymerization inhibitor.
  • a polymerization inhibitor hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, tert-butyl catechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), Examples include 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) and N-nitrosophenylhydroxyamine salts (ammonium salts, cerous salts and the like). Among them, p-methoxyphenol is preferred.
  • the content of the polymerization inhibitor is preferably 0.001 to 5% by mass with respect to the total solid content of the composition.
  • the composition of the present invention can contain a silane coupling agent.
  • the silane coupling agent means a silane compound having a hydrolyzable group and other functional groups.
  • the hydrolyzable group is a substituent which is directly bonded to a silicon atom and can form a siloxane bond by at least one of a hydrolysis reaction and a condensation reaction.
  • a hydrolysable group a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group etc. are mentioned, for example, An alkoxy group is preferable. That is, the silane coupling agent is preferably a compound having an alkoxysilyl group.
  • a vinyl group, a styrene group, a (meth) acryloyl group, a mercapto group, an epoxy group, an oxetanyl group, an amino group, a ureido group, a sulfide group, an isocyanate group, a phenyl group is mentioned, for example.
  • (meth) acryloyl group and epoxy group are preferable.
  • the silane coupling agent include compounds described in paragraphs 0018 to 0036 of JP 2009-288703, and compounds described in paragraphs 0056 to 0066 of JP 2009-242604, the contents of which are It is incorporated in the specification.
  • the content of the silane coupling agent is preferably 0.01 to 15.0% by mass, and more preferably 0.05 to 10.0% by mass, with respect to the total solid content of the composition. Only one type of silane coupling agent may be used, or two or more types may be used. In the case of two or more types, the total amount is preferably in the above range.
  • the composition of the present invention may contain a surfactant.
  • a surfactant various surfactants such as a fluorine-based surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicone surfactant can be used.
  • the surfactant can be referred to in paragraphs [0238 to 0245] of International Publication WO 2015/166779, the content of which is incorporated herein.
  • the surfactant is preferably a fluorine-based surfactant.
  • a fluorine-based surfactant in the composition of the present invention, liquid properties (in particular, fluidity) can be further improved, and liquid saving can be further improved.
  • a film with small thickness unevenness can also be formed.
  • the fluorine content in the fluorine-based surfactant is preferably 3 to 40% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and particularly preferably 7 to 25% by mass.
  • the fluorine-based surfactant having a fluorine content in this range is effective in terms of the uniformity of the thickness of the coating film and the liquid saving property, and the solubility in the composition is also good.
  • fluorine-based surfactant examples include the surfactants described in paragraph Nos. 0060 to 0064 of JP-A-2014-41318 (paragraph Nos. 0060 to 0064 of corresponding international publication 2014/17669) and the like, and the like. Examples thereof include the surfactants described in paragraphs 0117 to 0132 of JP2011-132503A, the contents of which are incorporated herein.
  • the fluorine-based surfactant is a molecular structure having a functional group containing a fluorine atom, and an acrylic compound in which a portion of the functional group containing a fluorine atom is cleaved when heat is applied to volatilize the fluorine atom is also preferable. It can be used.
  • a fluorochemical surfactant Megafuck DS series (Chemical Chemical Daily, February 22, 2016) manufactured by DIC Corporation (Nikkei Sangyo Shimbun, February 23, 2016), for example, Megafuck DS -21 can be mentioned.
  • fluorinated surfactant it is also preferable to use a polymer of a fluorine atom-containing vinyl ether compound having a fluorinated alkyl group or a fluorinated alkylene ether group and a hydrophilic vinyl ether compound as the fluorinated surfactant.
  • fluorine-based surfactants can be referred to the description of JP-A-2016-216602, the contents of which are incorporated herein.
  • the fluorine-based surfactant a block polymer can also be used.
  • the fluorine-based surfactant has a repeating unit derived from a (meth) acrylate compound having a fluorine atom and two or more (preferably five or more) alkyleneoxy groups (preferably ethyleneoxy and propyleneoxy) (meth)
  • a fluorine-containing polymer compound containing a repeating unit derived from an acrylate compound can also be preferably used.
  • the following compounds are also exemplified as the fluorinated surfactant used in the present invention.
  • the weight average molecular weight of the above-mentioned compounds is preferably 3,000 to 50,000, for example, 14,000. In the above compounds,% indicating the proportion of repeating units is mol%.
  • a fluorine-based surfactant a fluorine-containing polymer having an ethylenically unsaturated group in the side chain can also be used.
  • compounds described in paragraph Nos. 0050 to 0090 and paragraphs 0289 to 0295 of JP-A-2010-164965 for example, Megaface RS-101, RS-102, RS-718K manufactured by DIC Corporation. , RS-72-K and the like.
  • the fluorine-based surfactant compounds described in Paragraph Nos. 0015 to 0158 of JP-A-2015-117327 can also be used.
  • nonionic surfactants include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane and ethoxylates and propoxylates thereof (eg, glycerol propoxylate, glycerol ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, Polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester, pluronic L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2 (BASF Company company), Tetronics 304, 701, 704, 901, 904, 150R1 (BAS).
  • glycerol trimethylolpropane
  • the content of the surfactant is preferably 0.001% by mass to 5.0% by mass, and more preferably 0.005% to 3.0% by mass, with respect to the total solid content of the composition of the present invention.
  • the surfactant may be only one type, or two or more types. In the case of two or more types, the total amount is preferably in the above range.
  • the composition of the present invention can contain an ultraviolet absorber.
  • an ultraviolet absorber conjugated diene compounds, aminobutadiene compounds, methyldibenzoyl compounds, coumarin compounds, salicylate compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, acrylonitrile compounds, hydroxyphenyl triazine compounds and the like can be used. The details of these can be referred to the descriptions of paragraphs 0052 to 0072 of JP 2012-208374 A and paragraphs 0317 to 0334 of JP 2013-68814 A, the contents of which are incorporated herein.
  • Examples of commercially available conjugated diene compounds include UV-503 (manufactured by Daito Kagaku Co., Ltd.).
  • UV-1-Formula (UV-3) the compound represented by Formula (UV-1) or Formula (UV-3) is more preferable, and a formula The compound represented by (UV-1) is more preferable.
  • R 101 and R 102 each independently represent a substituent
  • m1 and m2 each independently represent 0 to 4.
  • R 201 and R 202 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group
  • R 203 and R 204 each independently represent a substituent.
  • each of R 301 to R 303 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group
  • R 304 and R 305 each independently represent a substituent.
  • the content of the ultraviolet light absorber is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 5% by mass, with respect to the total solid content of the composition.
  • the ultraviolet absorber may be used alone or in combination of two or more. When using 2 or more types, it is preferable that a total amount becomes said range.
  • the composition of the present invention can contain an antioxidant.
  • an antioxidant a phenol compound, a phosphite compound, a thioether compound etc. are mentioned.
  • the phenolic compound any phenolic compound known as a phenolic antioxidant can be used.
  • a preferable phenol compound a hindered phenol compound is mentioned.
  • part (ortho position) adjacent to phenolic hydroxyl group is preferable.
  • the aforementioned substituent is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms.
  • the antioxidant is also preferably a compound having a phenol group and a phosphite group in the same molecule.
  • a phosphorus antioxidant can also be used conveniently for antioxidant.
  • a phosphorus antioxidant tris [2-[[2,4,8,10-tetrakis (1,1-dimethylethyl) dibenzo [d, f] [1,3,2] dioxaphosphepin-6 -Yl] oxy] ethyl] amine, tris [2-[(4,6,9,11-tetra-tert-butyldibenzo [d, f] [1,3,2] dioxaphosphepin-2-yl And the like]) oxy] ethyl] amine, ethyl phosphite bis (2,4-di-tert-butyl-6-methylphenyl) and the like.
  • antioxidants examples include Adekastab AO-20, Adekastab AO-30, Adekastab AO-40, Adekastab AO-50, Adekastab AO-50F, Adekastab AO-60, Adekastab AO-60G, Adekastab AO-80. And Adekastab AO-330 (above, ADEKA Co., Ltd.) and the like.
  • the polyfunctional hindered amine antioxidant described in International Publication WO17 / 006600 can also be used as an antioxidant.
  • the content of the antioxidant is preferably 0.01 to 20% by mass, and more preferably 0.3 to 15% by mass, with respect to the total solid content of the composition.
  • One type of antioxidant may be used or two or more types may be used. When using 2 or more types, it is preferable that a total amount becomes said range.
  • the composition of the present invention may contain, if necessary, sensitizers, curing accelerators, fillers, heat curing accelerators, plasticizers and other auxiliary agents (eg, conductive particles, fillers, antifoaming agents, A flame retardant, a leveling agent, a peeling accelerator, a fragrance, a surface tension regulator, a chain transfer agent, etc. may be contained.
  • auxiliary agents eg, conductive particles, fillers, antifoaming agents, A flame retardant, a leveling agent, a peeling accelerator, a fragrance, a surface tension regulator, a chain transfer agent, etc.
  • composition of the present invention may optionally contain a latent antioxidant.
  • a latent antioxidant is a compound in which the site that functions as an antioxidant is protected by a protecting group, and is heated at 100 to 250 ° C., or heated at 80 to 200 ° C. in the presence of an acid / base catalyst.
  • the compound is a compound which functions as an antioxidant by eliminating the protective group.
  • Examples of the latent antioxidant include compounds described in International Publication WO 2014/021023, International Publication WO 2017/030005, and Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-008219.
  • Examples of commercially available products include Adeka ARKRUZ GPA-5001 (manufactured by ADEKA Co., Ltd.) and the like.
  • the viscosity (23 ° C.) of the composition of the present invention is preferably, for example, 1 to 100 mPa ⁇ s when a film is formed by coating.
  • the lower limit is preferably 2 mPa ⁇ s or more, and more preferably 3 mPa ⁇ s or more.
  • the upper limit is more preferably 50 mPa ⁇ s or less, still more preferably 30 mPa ⁇ s or less, and particularly preferably 15 mPa ⁇ s or less.
  • the solid content concentration of the composition of the present invention is preferably 12 to 28% by mass, and more preferably 15 to 25% by mass. If the solid content concentration of the composition is in the above-mentioned range, the coatability is good.
  • the composition of the present invention satisfies any of the following spectral characteristics (1) to (3).
  • A1 / B1 which is a ratio of the minimum value A1 of the absorbance in the wavelength range of 400 to 750 nm to the maximum value B1 of the absorbance in the range of wavelength 900 to 1300 nm is 5 or more and 7.5 or more Is preferably 15 or more, more preferably 30 or more. According to this aspect, it is possible to block light in the wavelength range of 400 to 750 nm to form a film capable of transmitting infrared rays exceeding the wavelength of 850 nm.
  • A2 / B2 which is a ratio of the minimum value A2 of the absorbance in the wavelength range of 400 to 830 nm to the maximum value B2 of the absorbance in the range of wavelength 1000 to 1300 nm is 5 or more and 7.5 or more Is preferably 15 or more, more preferably 30 or more. According to this aspect, it is possible to block light in the wavelength range of 400 to 830 nm to form a film capable of transmitting infrared rays exceeding the wavelength of 940 nm.
  • A3 / B3 which is the ratio of the minimum value A3 of the absorbance in the wavelength range of 400 to 950 nm to the maximum value B3 of the absorbance in the range of wavelength 1100 to 1300 nm is 5 or more and 7.5 or more Is preferably 15 or more, more preferably 30 or more. According to this aspect, it is possible to block light in the wavelength range of 400 to 950 nm and form a film capable of transmitting infrared rays exceeding the wavelength of 1040 nm.
  • the composition of the present invention is a film having a film thickness of 1 ⁇ m, 2 ⁇ m, 3 ⁇ m, 4 ⁇ m or 5 ⁇ m after drying, and the maximum light transmittance in the film thickness direction in the wavelength range of 400 to 750 nm
  • the spectral characteristics have a value of 20% or less
  • the light transmittance in the thickness direction of the film has a minimum value of 70% or more in the wavelength range of 1100 to 1300 nm.
  • the maximum value in the wavelength range of 400 to 750 nm is more preferably 15% or less and more preferably 10% or less.
  • the minimum value in the wavelength range of 1100 to 1300 nm is more preferably 75% or more, and more preferably 80% or more.
  • the composition of the present invention more preferably satisfies the spectral characteristics of any of the following (1) to (3).
  • the maximum value of light transmittance in the thickness direction of the film in the range of 400 to 830 nm is 20 % Or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less)
  • the minimum value of light transmittance in the thickness direction of the film in the wavelength range of 1000 to 1300 nm is 70% or more (preferably 75% or more) The embodiment which is more preferably 80% or more).
  • the maximum value of light transmittance in the thickness direction of the film in the range of 400 to 950 nm is 20 % Or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less)
  • the minimum value of the light transmittance in the thickness direction of the film in the wavelength range of 1100 to 1300 nm is 70% or more (preferably 75% or more)
  • the embodiment which is more preferably 80% or more).
  • a storage container of the composition of this invention A well-known storage container can be used.
  • a container for the purpose of suppressing the mixing of impurities into the raw materials and the composition, a multilayer bottle in which the inner wall of the container is composed of six types and six layers of resin or a bottle in which six types of resin are seven layers It is also preferred to use.
  • a container for example, the container described in JP-A-2015-123351 can be mentioned.
  • composition of the present invention is not particularly limited.
  • it can be preferably used for forming an infrared ray transmission filter or the like.
  • the composition of the present invention can be prepared by mixing the aforementioned components. At the time of preparation of the composition, all the components may be simultaneously dissolved or dispersed in a solvent to prepare the composition, or, if necessary, two or more solutions or dispersions in which the respective components are appropriately blended in advance.
  • the composition may be prepared by mixing it at the time of use (at the time of application).
  • composition of the present invention contains particles such as pigments
  • mechanical force used to disperse the particles includes compression, squeezing, impact, shearing, cavitation and the like.
  • Specific examples of these processes include bead mills, sand mills, roll mills, ball mills, paint shakers, microfluidizers, high speed impellers, sand grinders, flow jet mixers, high pressure wet atomization, ultrasonic dispersion and the like.
  • a bead having a small diameter, treatment under conditions in which the pulverizing efficiency is enhanced by increasing the packing ratio of beads, or the like.
  • the process of dispersing particles and the dispersing machine are the dispersion technology and industrial application centering on "Dispersion Technology Complete, Information Technology Co., Ltd. issued July 15, 2005" and "suspension (solid / liquid dispersion system)" The process and the dispersing machine described in Paragraph No.
  • JP-A-2015-157893 published on October 10, 1978
  • the particles may be subjected to a refinement process in a salt milling step.
  • the materials, equipment, processing conditions and the like used in the salt milling step can be referred to, for example, the descriptions of JP-A-2015-194521 and JP-A-2012-04629.
  • the composition is preferably filtered with a filter for the purpose of removing foreign matter and reducing defects.
  • a filter if it is a filter conventionally used for filtration applications etc., it can be used, without being limited in particular.
  • a fluorocarbon resin such as polytetrafluoroethylene (PTFE), a polyamide-based resin such as nylon (for example, nylon-6, nylon-6, 6), or a polyolefin resin such as polyethylene or polypropylene (PP)
  • Filters made of materials such as polyolefin resins of Among these materials, polypropylene (including high density polypropylene) and nylon are preferable.
  • the pore diameter of the filter is suitably about 0.01 to 7.0 ⁇ m, preferably about 0.01 to 3.0 ⁇ m, and more preferably about 0.05 to 0.5 ⁇ m. If the pore diameter of the filter is in the above range, fine foreign particles can be reliably removed. It is also preferable to use a fibrous filter medium.
  • the fibrous filter medium include polypropylene fiber, nylon fiber, glass fiber and the like. Specifically, filter cartridges of SBP type series (SBP 008 and the like), TPR type series (TPR 002, TPR 005 and the like), and SHPX type series (SHPX 003 and the like) manufactured by Loki Techno, Inc. can be mentioned.
  • filters different filters (eg, a first filter, a second filter, etc.) may be combined. In that case, filtration with each filter may be performed only once or may be performed twice or more. Moreover, you may combine the filter of a different hole diameter within the range mentioned above.
  • the pore size here can refer to the nominal value of the filter manufacturer. As a commercially available filter, for example, it is selected from various filters provided by Nippon Pall Co., Ltd. (DFA4201 NXEY, etc.), Advantech Toyo Co., Ltd., Nippon Entegris Co., Ltd. (old Japan Microlith Co., Ltd.) can do.
  • the second filter can be made of the same material as the first filter.
  • the filtration with the first filter may be performed only on the dispersion liquid, and after mixing other components, the filtration may be performed with the second filter.
  • the membrane of the present invention is obtained from the composition of the present invention described above.
  • the film of the present invention can be preferably used as an infrared ray transmission filter.
  • the film of the present invention has a maximum value of 20% or less in the wavelength range of 400 to 750 nm of light transmittance in the film thickness direction, and a wavelength range of 1100 to 1300 nm of light transmittance in the film thickness direction. It is preferable to satisfy the spectral characteristic that the minimum value in the above is 70% or more.
  • the maximum value in the wavelength range of 400 to 750 nm is more preferably 15% or less and more preferably 10% or less.
  • the minimum value in the wavelength range of 1100 to 1300 nm is more preferably 75% or more, and more preferably 80% or more.
  • the film of the present invention satisfies any of the following spectral characteristics (1) to (3).
  • the maximum value of light transmittance in the thickness direction of the film in the wavelength range of 400 to 750 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and in the film thickness direction
  • the embodiment in which the minimum value of light transmittance in the wavelength range of 900 to 1300 nm is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more). According to this aspect, it is possible to shield the light in the wavelength range of 400 to 750 nm to make it possible to transmit an infrared ray exceeding the wavelength of 850 nm.
  • the maximum value of light transmittance in the thickness direction of the film in the wavelength range of 400 to 830 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and in the film thickness direction
  • the embodiment in which the minimum value of light transmittance in the wavelength range of 1000 to 1300 nm is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more). According to this aspect, it is possible to shield the light in the wavelength range of 400 to 830 nm to make it possible to transmit an infrared ray exceeding the wavelength of 940 nm.
  • the maximum value of light transmittance in the thickness direction of the film in the wavelength range of 400 to 950 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and in the film thickness direction
  • the embodiment in which the minimum value of light transmittance in the wavelength range of 1100 to 1300 nm is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more). According to this aspect, it is possible to shield the light in the wavelength range of 400 to 950 nm to make it possible to transmit an infrared ray exceeding the wavelength of 1040 nm.
  • the film thickness of the film of the present invention can be appropriately adjusted according to the purpose. 100 micrometers or less are preferable, 15 micrometers or less are more preferable, 5 micrometers or less are more preferable, and 1 micrometer or less is especially preferable.
  • the lower limit of the film thickness is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more, and still more preferably 0.3 ⁇ m or more.
  • the film of the present invention can be used in various devices such as solid-state imaging devices such as CCD (charge coupled device) and CMOS (complementary metal oxide semiconductor), infrared sensors, and image display devices.
  • solid-state imaging devices such as CCD (charge coupled device) and CMOS (complementary metal oxide semiconductor)
  • infrared sensors and image display devices.
  • the film of the present invention can be produced through the process of applying the composition of the present invention.
  • the composition is preferably coated on a support.
  • the support include a substrate made of a material such as silicon, non-alkali glass, soda glass, Pyrex (registered trademark) glass, quartz glass and the like.
  • An organic film, an inorganic film, or the like may be formed on these substrates.
  • the material of the organic film include the resins described in the section of the composition described above.
  • a substrate made of a resin can also be used as the support.
  • a charge coupled device (CCD), a complementary metal oxide semiconductor (CMOS), a transparent conductive film, or the like may be formed on the support.
  • a black matrix may be formed on the support to separate each pixel.
  • the support may be provided with a subbing layer for the purpose of improving the adhesion with the upper layer, preventing the diffusion of substances or flattening the surface of the substrate.
  • a subbing layer for the purpose of improving the adhesion with the upper layer, preventing the diffusion of substances or flattening the surface of the substrate.
  • dropping method drop casting
  • slit coating method spraying method
  • roll coating method spin coating method
  • cast coating method slit and spin method
  • pre-wet method for example, JP 2009-145395
  • inkjet for example, on-demand method, piezo method, thermal method
  • ejection system printing such as nozzle jet, flexo printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, metal mask printing method, etc.
  • Printing methods transfer methods using a mold or the like; nanoimprint methods and the like.
  • the application method in the inkjet is not particularly limited, and for example, the method (in particular, page 115-) disclosed in "Spread and usable inkjet-unlimited possibilities in patents-published in February 2005, resident Betechno Research" Methods described in JP-A-2003-262716, JP-A-2003-185831, JP-A-2003-261827, JP-A-2012-126830, JP-A-2006-169325, etc. It can be mentioned.
  • coating by spin coating is preferably performed at a rotational speed of 1000 to 2000 rpm.
  • the rotational speed may be increased during coating. good.
  • the spin coat process described in "Advanced Color Filter Process Technology and Chemicals", Jan. 31, 2006, published by CMC can be suitably used.
  • the composition layer formed by applying the composition may be dried (prebaked). In the case of forming a pattern by a low temperature process, the prebaking may not be performed.
  • the prebaking temperature is preferably 150 ° C. or less, more preferably 120 ° C. or less, and still more preferably 110 ° C. or less.
  • the lower limit may be, for example, 50 ° C. or more, and may be 80 ° C. or more.
  • the pre-bake time is preferably 10 seconds to 3000 seconds, more preferably 40 to 2500 seconds, and still more preferably 80 to 220 seconds. Drying can be performed on a hot plate, an oven or the like.
  • the method for producing a film of the present invention further includes the step of forming a pattern.
  • a pattern formation method a pattern formation method using a photolithography method is preferable.
  • the pattern formation method by the photolithography method is a step of exposing the composition layer formed by applying the composition of the present invention in a pattern (exposure step) and developing and removing the composition layer in the unexposed area. It is preferable to include the step of forming a pattern (development step). If necessary, a step (post-baking step) may be provided to bake the developed pattern. Each step will be described below.
  • the composition layer is exposed in a pattern.
  • the composition layer can be pattern-exposed by exposing the composition layer through a mask having a predetermined mask pattern using an exposure apparatus such as a stepper. Thereby, the exposed portion can be cured.
  • radiation which can be used at the time of exposure, ultraviolet rays such as g-line and i-line are preferable, and i-line is more preferable.
  • Irradiation dose exposure dose
  • exposure dose for example, preferably 0.03 ⁇ 2.5J / cm 2, more preferably 0.05 ⁇ 1.0J / cm 2, most preferably 0.08 ⁇ 0.5J / cm 2 .
  • the oxygen concentration at the time of exposure can be appropriately selected, and in addition to being performed under the atmosphere, for example, under a low oxygen atmosphere having an oxygen concentration of 19% by volume or less (eg, 15% by volume, 5% by volume, substantially oxygen free , And may be exposed in a high oxygen atmosphere (for example, 22% by volume, 30% by volume, 50% by volume) in which the oxygen concentration exceeds 21% by volume.
  • the exposure illuminance can be set appropriately, and can usually be selected from the range of 1000 W / m 2 to 100000 W / m 2 (for example, 5000 W / m 2 , 15000 W / m 2 , 35000 W / m 2 ) .
  • Oxygen concentration and exposure illuminance may appropriately combined conditions, for example, illuminance 10000 W / m 2 at an oxygen concentration of 10 vol%, oxygen concentration of 35 vol% can be such illuminance 20000W / m 2.
  • the composition layer in the unexposed area of the composition layer after exposure is developed and removed to form a pattern.
  • the development removal of the composition layer in the unexposed area can be carried out using a developer.
  • the composition layer in the unexposed area in the exposure step is eluted into the developer, and only the photocured area remains on the support.
  • a developing solution an alkaline developing solution which does not damage the solid-state imaging device or circuit of the base is desirable.
  • the temperature of the developing solution is preferably, for example, 20 to 30.degree.
  • the development time is preferably 20 to 180 seconds.
  • the process of shaking off the developer every 60 seconds and further supplying the developer anew may be repeated several times.
  • alkaline agent used for a developing solution for example, ammonia water, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, diglycolamine, diethanolamine, hydroxyamine, ethylenediamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, Tetrabutylammonium hydroxide, ethyltrimethylammonium hydroxide, benzyltrimethylammonium hydroxide, dimethylbis (2-hydroxyethyl) ammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7 -Organic alkaline compounds such as undecene, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate Um, sodium silicate, and inorganic alkaline compound such as sodium metasilicate.
  • the alkaline agent is preferably a compound having a large molecular weight in terms of the environment and safety.
  • an alkaline aqueous solution obtained by diluting such an alkaline agent with pure water is preferably used.
  • the concentration of the alkaline agent in the alkaline aqueous solution is preferably 0.001 to 10% by mass, and more preferably 0.01 to 1% by mass.
  • a surfactant may be contained in the developer and used.
  • surfactant the surfactant mentioned above is mentioned and nonionic surfactant is preferable.
  • the developer may be prepared once as a concentrate and diluted to a concentration required for use, from the viewpoint of transportation and storage convenience.
  • the dilution ratio is not particularly limited, but can be set, for example, in the range of 1.5 to 100 times.
  • post-baking is a post-development heat treatment to complete film curing.
  • the post-baking temperature is preferably 100 to 240 ° C., for example. From the viewpoint of film curing, 200 to 230 ° C. is more preferable.
  • the post-baking temperature is preferably 150 ° C. or less, more preferably 120 ° C. or less Preferably, 100 ° C. or less is more preferable, and 90 ° C. or less is particularly preferable.
  • the lower limit can be, for example, 50 ° C. or higher.
  • Post-baking should be performed continuously or batchwise on the film after development, using heating means such as a hot plate, convection oven (hot air circulation dryer), high frequency heater, etc., so as to satisfy the above conditions. Can. Moreover, when forming a pattern by a low temperature process, it is not necessary to perform post-baking.
  • the infrared transmission filter of the present invention has the above-described film of the present invention.
  • the infrared transmission filter of the present invention can also be used in combination with a color filter containing a chromatic coloring agent.
  • a color filter can be manufactured using a coloring composition containing a chromatic coloring agent.
  • the chromatic colorants include the chromatic colorants described in the composition of the present invention.
  • the coloring composition can further contain a resin, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, a surfactant, a solvent, a polymerization inhibitor, an ultraviolet light absorber, and the like. These details include the materials described in the compositions of the present invention, which can be used.
  • the infrared ray transmitting filter of the present invention has pixels of the film of the present invention and pixels selected from red, green, blue, magenta, yellow, cyan, black and colorless is also a preferable embodiment.
  • the solid-state imaging device of the present invention includes the film of the present invention described above.
  • a structure of a solid-state image sensor it is a structure which has a film
  • a light shield comprising a plurality of photodiodes constituting the light receiving area of the solid-state imaging device and transfer electrodes made of polysilicon and the like on the support, light shielding made of tungsten or the like in which only the light receiving portion of the photodiode and the transfer electrodes are opened. It has a film, has a device protection film made of silicon nitride or the like formed on the light shielding film so as to cover the entire light shielding film and the photodiode light receiving part, and has the film of the present invention on the device protection film. is there. Furthermore, a configuration having a condensing means (for example, a micro lens etc.
  • the image display apparatus of the present invention includes the film of the present invention.
  • the image display device include a liquid crystal display device and an organic electroluminescence (organic EL) display device.
  • organic EL organic electroluminescence
  • the image display device for example, “Electronic display device (authored by Akio Sasaki, published by Industry Research Association, 1990)", “Display device (authored by Ibuki Jun, industrial book, Ltd.) Etc.).
  • the liquid crystal display device is described, for example, in “Next-generation liquid crystal display technology (edited by Tatsuo Uchida, published by Industry Research Association, 1994)”.
  • the image display device may have a white organic EL element. It is preferable that it is a tandem structure as a white organic EL element.
  • JP-A-2003-45676 supervised by Akiyoshi Mikami, "The forefront of organic EL technology development-High luminance, high accuracy, long life, know-how collection", about the tandem structure of organic EL elements, Technical Information Association, It is described on pages 326-328, 2008, etc.
  • the spectrum of white light emitted by the organic EL element is preferably one having a strong maximum emission peak in the blue region (430 nm-485 nm), the green region (530 nm-580 nm) and the yellow region (580 nm-620 nm). In addition to these emission peaks, those having a maximum emission peak in the red region (650 nm-700 nm) are more preferable.
  • An infrared sensor of the present invention includes the above-described film of the present invention.
  • the configuration of the infrared sensor is not particularly limited as long as it functions as an infrared sensor.
  • an embodiment of the infrared sensor of the present invention will be described using the drawings.
  • reference numeral 110 denotes a solid-state imaging device.
  • An imaging region provided on the solid-state imaging device 110 includes a near infrared cut filter 111 and an infrared transmission filter 114. Further, on the near infrared cut filter 111, a color filter 112 is laminated. A microlens 115 is disposed on the incident light h ⁇ side of the color filter 112 and the infrared transmission filter 114. A planarization layer 116 is formed to cover the microlenses 115.
  • the spectral characteristics of the near infrared cut filter 111 are selected according to the emission wavelength of the infrared light emitting diode (infrared LED) to be used.
  • the color filter 112 is a color filter in which a pixel for transmitting and absorbing light of a specific wavelength in the visible region is formed, and is not particularly limited, and a conventionally known color filter for pixel formation can be used.
  • a color filter in which red (R), green (G), and blue (B) pixels are formed is used.
  • the description in paragraph Nos. 0214 to 0263 of JP-A-2014-043556 can be referred to, the contents of which are incorporated herein.
  • the characteristic of the infrared transmission filter 114 is selected according to the emission wavelength of the infrared LED to be used.
  • a near infrared cut filter (another near infrared cut filter) different from the near infrared cut filter 111 may be further disposed on the planarization layer 116.
  • Other near infrared cut filters include those having a copper-containing layer and / or a dielectric multilayer film. The details of these may be mentioned above.
  • a dual band pass filter may be used as another near infrared cut filter.
  • composition (curable composition) was prepared by mixing the raw materials described in the following table.
  • the numerical values described in the following table are parts by mass.
  • K1 and K2 compounds of the following structures.
  • Me represents a methyl group
  • Ph represents a phenyl group.
  • an aqueous potassium hydroxide solution was added to this solution to adjust the pH to about 5, and the mixture was stirred for 90 minutes to produce an azobarbituric acid precursor.
  • 1500 g of distilled water at 82 ° C. was added to the azobarbituric acid precursor produced according to the method described above.
  • 10 g of 30% hydrochloric acid were added dropwise.
  • 79.4 g of melamine was added.
  • a mixture of 0.282 mol of about 25% zinc chloride solution and 0.0015 mol of about 30% copper (II) chloride solution was added dropwise.
  • the solutions to which they were added were then held at a temperature of 82 ° C.
  • (Pigment derivative) B1, K3 and K4 compounds of the following structures.
  • Ph represents a phenyl group and Me represents a methyl group.
  • (Dispersant) C1 Resin of the following structure.
  • the numerical value appended to the main chain is the molar ratio, and the numerical value appended to the side chain is the number of repeating units.
  • Mw 20,000.
  • C2 Resin of the following structure.
  • the numerical value appended to the main chain is the molar ratio, and the numerical value appended to the side chain is the number of repeating units.
  • Mw 24,000.
  • C3 Resin of the following structure.
  • the numerical value appended to the main chain is the molar ratio, and the numerical value appended to the side chain is the number of repeating units.
  • Mw 20,000.
  • I6 Compound No.
  • J4 3-butoxy-N, N-dimethylpropanamide
  • Each composition is spin-coated on a glass substrate, coated so that the film thickness after post-baking becomes the film thickness described in the following table, dried at 100 ° C. for 120 seconds on a hot plate, and further 200 ° C. Heat treatment (post bake) was performed for 300 seconds using a hot plate to form a film.
  • the maximum value B of was measured.
  • a coated film is formed by uniformly applying CT-4000L (manufactured by Fujifilm Electronics Materials Co., Ltd.) by spin coating on an 8 inch (20.32 cm) silicon wafer, and forming the coated film at 220 ° C.
  • the coated film was cured to form an undercoat layer.
  • coating rotation speed of spin coat was adjusted so that the film thickness of the coating film after heat processing might be about 0.1 micrometer.
  • each composition obtained above is coated on the undercoat layer of the silicon wafer using a spin coater so that the film thickness after drying becomes the film thickness described in the following table, and a hot plate is used. It dried at 100 degreeC for 120 second.
  • an i-line stepper exposure apparatus FPA-i5 + (Canon Co., Ltd.) is used to pass light having a wavelength of 365 nm through the coated film and a mask having an island pattern of 1.0 ⁇ m square or 1.1 ⁇ m square. Irradiated at an exposure dose of 50 to 1700 mJ / cm 2 . After exposure, development was carried out using an alkaline developer (CD-2000, manufactured by Fujifilm Electronics Materials Co., Ltd.) under conditions of 25 ° C. for 40 seconds. After that, it was rinsed with running water for 30 seconds and then spray-dried to obtain a pattern.
  • an alkaline developer CD-2000, manufactured by Fujifilm Electronics Materials Co., Ltd.
  • the obtained pattern was observed from above the pattern using a scanning electron microscope (S-9220 manufactured by Hitachi, Ltd.), and the pattern size was measured.
  • the adhesion was evaluated according to the following criteria using an optical microscope. 5: The minimum size of the intimately attached pixels is 90% or less of the design size of the mask 4: The minimum size of the intimately attached pixels is more than 90% and 99% or less of the design size of the mask There is 3: The minimum size of the intimately attached pixels is over 99% and 105% or less of the design size of the mask 2: The minimum size of the intimately attached pixels is 105% of the design size of the mask Exceeding 110% or less 1: A portion of the pattern exceeding 110% was not in contact with the design dimension of the mask.
  • the compositions of the examples were able to form a pattern with excellent adhesion.
  • a film formed using the composition of the example was incorporated into a solid-state imaging device according to a known method.
  • the obtained solid-state imaging device was irradiated with light from an infrared light emitting diode (infrared LED) light source under a low illuminance environment (0.001 Lux), an image was captured, and the image performance was evaluated. The subject was clearly recognized on the image. In addition, the incident angle dependency was good.
  • a 2 ⁇ m square Bayer pattern (near infrared cut filter) was formed by heating at 200 ° C. for 5 minutes using a hot plate.
  • the red composition was applied by spin coating so that the film thickness after film formation was 1.0 ⁇ m. Subsequently, it heated at 100 degreeC for 2 minutes using the hotplate.
  • FPA-3000i5 + (Canon Co., Ltd.) exposure was performed at a dose of 1000 mJ / cm 2 through a mask having a 2 ⁇ m square Bayer pattern. Subsequently, paddle development was performed at 23 ° C.
  • TMAH tetramethylammonium hydroxide
  • the red composition was patterned on the Bayer pattern of the near infrared cut filter by heating at 200 ° C. for 5 minutes using a hot plate.
  • the Green composition and the Blue composition were sequentially patterned to form colored patterns of red, green and blue.
  • the compositions of Examples 1 to 12 were applied onto the patterned film by spin coating so that the film thickness after film formation was 2.0 ⁇ m. Subsequently, it heated at 100 degreeC for 2 minutes using the hotplate.
  • the obtained solid-state imaging device was irradiated with light from an infrared light emitting diode (infrared LED) light source under a low illuminance environment (0.001 Lux), an image was captured, and the image performance was evaluated. The subject was clearly recognized on the image. In addition, the incident angle dependency was good.
  • infrared LED infrared LED
  • the Red composition, the Green composition, the Blue composition, and the composition for near infrared cut filter formation used in Test Example 2 are as follows.
  • Red composition The following components were mixed and stirred, and then filtered through a nylon filter with a pore size of 0.45 ⁇ m (manufactured by Nippon Pall Co., Ltd.) to prepare a red composition.
  • Red pigment dispersion liquid 51.7 parts by mass
  • Resin 104 0.6 parts by mass
  • Polymerizable compound 104 0.6 parts by mass
  • Photopolymerization initiator 101 0.4 parts by mass Surfactant 101 ... 4.2 parts by mass UV absorber (UV-503, manufactured by Daito Kagaku Co., Ltd.) ... 0.3 parts by mass PGMEA ... 42.6 parts by mass
  • Green composition The following components were mixed and stirred, followed by filtration using a nylon filter with a pore size of 0.45 ⁇ m (manufactured by Nippon Pall Co., Ltd.) to prepare a Green composition.
  • Green pigment dispersion ⁇ 73.7 parts by mass Resin 104 ⁇ ⁇ ⁇ 0.3 parts by mass Polymerizable compound 101 ⁇ ⁇ ⁇ 1.2 parts by mass Photopolymerization initiator 101 ⁇ ⁇ ⁇ 0.6 parts by mass Surfactant 101 ⁇ 4.2 parts by mass UV absorber (UV-503, manufactured by Daito Kagaku Co., Ltd.) ⁇ ⁇ ⁇ 0.5 parts by mass PGMEA ⁇ ⁇ 19.5 parts by mass
  • Blue composition The following components were mixed and stirred, and then filtered through a nylon filter with a pore size of 0.45 ⁇ m (manufactured by Nippon Pall Co., Ltd.) to prepare a Blue composition.
  • the raw materials used for the Red composition, the Green composition, the Blue composition, and the composition for forming a near infrared cut filter are as follows.
  • Red pigment dispersion C.I. I. Pigment Red 254, 9.6 parts by mass
  • C.I. I. A mixed solution of 4.3 parts by mass of Pigment Yellow 139, 6.8 parts by mass of a dispersant (Disperbyk-161, manufactured by BYK Chemie), and 79.3 parts by mass of PGMEA is bead milled (zirconia beads 0.3 mm in diameter) The mixture was dispersed and mixed for 3 hours to prepare a pigment dispersion.
  • dispersion treatment was carried out at a flow rate of 500 g / min under a pressure of 2000 kg / cm 3 using a high pressure disperser NANO-3000-10 (manufactured by Nippon Bei Co., Ltd.) with a pressure reducing mechanism. This dispersion process was repeated 10 times to obtain a red pigment dispersion.
  • Blue pigment dispersion C.I. I. Pigment Blue 15: 6, 9.7 parts by mass, C.I. I.
  • the mixture was dispersed and mixed for 3 hours to prepare a pigment dispersion. Thereafter, dispersion treatment was carried out at a flow rate of 500 g / min under a pressure of 2000 kg / cm 3 using a high pressure disperser NANO-3000-10 (manufactured by Nippon Bei Co., Ltd.) with a pressure reducing mechanism. This dispersion process was repeated 10 times to obtain a blue pigment dispersion.
  • Near infrared absorber dispersion liquid 2.5 parts by mass of near infrared absorber K1, 0.5 parts by mass of pigment derivative K3, and 1.8 parts by mass of dispersant C2 and 79.3 parts by mass of PGMEA 230 parts by mass of zirconia beads with a diameter of 0.3 mm were added to the mixed solution, dispersion treatment was performed for 5 hours using a paint shaker, and the beads were separated by filtration to produce a near infrared absorber dispersion.
  • Polymerizable compound 101 KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
  • Polymerizable compound 104 compound of the following structure
  • Resin 101 Cyclomer P (ACA) 230 AA (manufactured by Daicel Corporation)
  • Photopolymerization initiator 101 IRGACURE-OXE01 (manufactured by BASF)
  • 110 solid-state imaging device
  • 111 near infrared cut filter
  • 112 color filter
  • 114 infrared transmission filter
  • 115 microlens
  • 116 flattening layer

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Abstract

密着性に優れたパターンを形成できる組成物を提供する。また、膜、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサを提供する。この組成物は、色材と、樹脂と、重合性化合物と、光重合開始剤と、を含む。重合性化合物は、アルキレンオキシ基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を3個有する化合物Aを含む、組成物の波長400~750nmの範囲における吸光度の最小値Aと、波長1100~1300nmの範囲における吸光度の最大値Bとの比であるA/Bが4.5以上である。

Description

組成物、膜、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
 本発明は、組成物、膜、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサに関する。
 固体撮像素子は、様々な用途で光センサとして活用されている。例えば、赤外線は可視光線に比べて波長が長いので散乱しにくく、距離計測や、3次元計測などにも活用可能である。また、赤外線は人間、動物などの目に見えないので、夜間に被写体を赤外線光源で照らしても被写体に気付かれることなく、夜行性の野生動物を撮影する用途、防犯用途として相手を刺激せずに撮影することにも使用可能である。このように、赤外線に感知する光センサ(赤外線センサ)は、様々な用途に展開が可能であり、赤外線透過フィルタの開発が近年望まれている。
 赤外線透過フィルタに求められる分光特性としては、可視光の遮光性が高く、かつ、特定の波長領域の赤外線を選択的に透過できる分光特性を有することが望まれている。このような分光特性を有する膜を形成するための組成物についての検討がなされている。
 特許文献1には、膜厚1μmの膜を形成した際に、膜の厚み方向の光透過率の、波長400~750nmの範囲における最大値が20%以下であり、膜の厚み方向の光透過率の、波長900~1300nmの範囲における最小値が90%以上である組成物が記載されている。
 特許文献2には、着色剤、バインダー樹脂、及び重合性化合物を含有する硬化性組成物であって、膜厚1.2μmの硬化膜を形成したときに下記の条件(1)~(3)を満たす、硬化性組成物が記載されている。
 条件(1):波長400~600nmにおける光の最大透過率が5%以下である。
 条件(2):波長700nmにおける光の透過率が10%以下である。
 条件(3):波長850~1000nmにおける光の最小透過率が80%以上である。
特開2014-130338号公報 特開2016-177079号公報
 赤外線透過フィルタの製造に用いられる組成物は、露光に用いられる光に対する透過性が低い傾向にあるので、支持体との密着性が不足する傾向にある。そこで、従来より、4官能以上の重合性化合物を用いて組成物の感度を高め、膜の下部まで十分に硬化させる手法がなされていた。特許文献1、2の実施例においても、重合性化合物としてエチレン性不飽和基を4個以上有する化合物が用いられている。
 一方、近年では、赤外線透過フィルタにおいても画素サイズの微細化が求められている。
 よって、本発明の目的は、微細なパターンを形成した場合であっても、密着性に優れたパターンを形成できる組成物を提供することにある。また、膜、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサを提供することにある。
 かかる状況のもと、本発明者が鋭意検討を行った結果、後述する構成の組成物とすることにより上記目的を達成できることを見出し本発明を完成するに至った。よって、本発明は以下を提供する。
 <1> 色材と、樹脂と、重合性化合物と、光重合開始剤と、を含む組成物であって、
 重合性化合物は、アルキレンオキシ基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を3個有する化合物Aを含み、
 組成物の波長400~750nmの範囲における吸光度の最小値Aと、波長1100~1300nmの範囲における吸光度の最大値Bとの比であるA/Bが4.5以上である、組成物。
 <2> 化合物Aは、アルキレンオキシ基を2~6個有する、<1>に記載の組成物。
 <3> アルキレンオキシ基の炭素数が1~3である、<1>または<2>に記載の組成物。
 <4> 化合物Aにおけるアルキレンオキシ基の数の平均個数が3~5個である、<1>~<3>のいずれか1つに記載の組成物。
 <5> 化合物Aは、アルキレンオキシ基の数が3個の化合物と、アルキレンオキシ基の数が4~6個の化合物とを含む、<1>~<4>のいずれか1つに記載の組成物。
 <6> 化合物Aは、アルキレンオキシ基の数が3個の化合物の100質量部に対して、アルキレンオキシ基の数が4~6個の化合物を20~500質量部含む、<5>に記載の組成物。 
 <7> 重合性化合物は、更に、エチレン性不飽和基を4個以上有する化合物を含む、<1>~<6>のいずれか1つに記載の組成物。
 <8> 重合性化合物の全量中における化合物Aの含有量が50~100質量%である、<1>~<7>のいずれか1つに記載の組成物。
 <9> 光重合開始剤の波長365nmにおけるモル吸光係数が5000L・mol-1・cm-1以上である、<1>~<8>のいずれか1つに記載の組成物。
 <10> 光重合開始剤は、オキシム化合物を含む、<1>~<9>のいずれか1つに記載の組成物。
 <11> 樹脂は、フルオレン骨格を有する樹脂を含む、<1>~<10>のいずれか1つに記載の組成物。
 <12> 更に、近赤外線吸収剤を含む、<1>~<11>のいずれか1つに記載の組成物。
 <13> <1>~<12>のいずれか1つに記載の組成物から得られる膜。
 <14> <13>に記載の膜を有する赤外線透過フィルタ。
 <15> <13>に記載の膜を有する固体撮像素子。
 <16> <13>に記載の膜を有する画像表示装置。
 <17> <13>に記載の膜を有する赤外線センサ。
 本発明によれば、密着性に優れたパターンを形成できる組成物を提供できる。また、膜、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサを提供できる。
赤外線センサの一実施形態を示す概略図である。
 以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
 本明細書において、「~」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
 本明細書における基(原子団)の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基(原子団)と共に置換基を有する基(原子団)をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含する。
 本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線(EUV光)、X線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
 本明細書において、「(メタ)アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「(メタ)アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「(メタ)アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
 本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)測定でのポリスチレン換算値として定義される。
本明細書において、重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、例えば、HLC-8220GPC(東ソー(株)製)を用い、カラムとして、TOSOH TSKgel Super HZM-HとTOSOH TSKgel Super HZ4000とTOSOH TSKgel Super HZ2000とを連結したカラムを用い、展開溶媒としてテトラヒドロフランを用いることによって求めることができる。
 本明細書において、化学式中のMeはメチル基を表し、Etはエチル基を表し、Buはブチル基を表し、Phはフェニル基を表す。
 本明細書において、近赤外線とは、波長700~2500nmの光(電磁波)をいう。
 本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
 本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
<組成物>
 本発明の組成物は、色材と、樹脂と、重合性化合物と、光重合開始剤と、を含む組成物であって、
 重合性化合物は、アルキレンオキシ基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を3個有する化合物Aを含み、
 組成物の波長400~750nmの範囲における吸光度の最小値Aと、波長1100~1300nmの範囲における吸光度の最大値Bとの比であるA/Bが4.5以上であることを特徴とする。
 本発明の組成物は、波長400~750nmの範囲における吸光度の最小値Aと、波長1100~1300nmの範囲における吸光度の最大値Bとの比であるA/Bが4.5以上であるので、可視光を遮光し、特定の波長領域の赤外線を透過する膜を形成できる。
 また、本発明の組成物は、上述した分光特性を有する組成物であるが、このような分光特性を有する組成物は、露光に用いられる光に対する透過性が低い傾向にあり、微細なパターンを密着性良く形成することは困難であるとされていた。しかしながら、本発明によれば、上述した化合物Aを含むことにより、微細なパターンを密着性良く形成できる。このような効果が得られる理由としては以下によるものであると推測される。この化合物Aは、エチレン性不飽和基を3個有するので、露光により光重合開始剤から発生したラジカル等の開始種による化合物Aの重合反応が適度に進行し、膜表面の線太りを抑制しつつ膜の下部まで十分に硬化させることができると推測される。すなわち、露光により光重合開始剤から発生したラジカルなどの開始種は、膜中を拡散することがあるが、重合性化合物におけるエチレン性不飽和基の数が多くなるに伴い反応性が高い傾向にあり、膜中を拡散した微少の開始種であっても重合反応が十分に進行してしまうことがある。このため、例えば、マスク周縁部においても膜中を拡散した開始種により不要な重合反応が進行して、マスクの設計寸法よりも線幅が太りやすい。しかしながら、この化合物Aは、エチレン性不飽和基を3個有する化合物であるので、反応性が緩やかであり、その結果、マスク周縁部における不要な重合反応を抑制しつつ、膜の下部まで十分に硬化させることができると推測される。そして、この化合物Aは、更にアルキレンオキシ基を有するので、膜の現像性を高めることができると推測される。このため、開始種の拡散により目的の線幅を超えて緩やかに反応した領域が生じても現像により除去することができ、このため、微細なパターンを密着性良く形成することが可能になったと推測される。
 また、本発明の組成物によれば、上述した化合物Aを含むことにより、屈折率が低いパターンを形成できる。このため、例えば、本発明の組成物を用いて形成したパターン(画素)に隣接して、カラーフィルタの画素(例えば、着色画素など)などを形成した場合、隣接した画素から本発明の組成物を用いて形成した画素へ漏れ光が入りにくくなり、可視光によるノイズを低減することもできる。
 本発明の組成物において、上記吸光度の条件は、例えば、遮光材の種類およびその含有量を調整することにより、上記吸光度の条件を好適に達成できる。
 本発明の組成物が有する分光特性については、上述したA/Bの値は、7.5以上であることが好ましく、15以上であることがより好ましく、30以上であることが更に好ましい。
 ある波長λにおける吸光度Aλは、以下の式(1)により定義される。
Aλ=-log(Tλ/100)   ・・・(1)
Aλは、波長λにおける吸光度であり、Tλは、波長λにおける透過率(%)である。
 本発明において、吸光度の値は、溶液の状態で測定した値であってもよく、組成物を用いて製膜した膜での値であってもよい。膜の状態で吸光度を測定する場合は、ガラス基板上にスピンコート等の方法により、乾燥後の膜の厚さが所定の厚さとなるように組成物を塗布し、ホットプレートを用いて100℃、120秒間乾燥して調製した膜を用いて測定することが好ましい。膜の厚さは、膜を有する基板について、触針式表面形状測定器(ULVAC社製 DEKTAK150)を用いて測定することができる。
 また、吸光度は、従来公知の分光光度計を用いて測定できる。吸光度の測定条件は特に限定はないが、波長400~750nmの範囲における吸光度の最小値Aが、0.1~3.0になるように調整した条件で、波長1100~1300nmの範囲における吸光度の最大値Bを測定することが好ましい。このような条件で吸光度を測定することで、測定誤差をより小さくできる。波長400~750nmの範囲における吸光度の最小値Aが、0.1~3.0になるように調整する方法としては、特に限定はない。例えば、組成物の状態で吸光度を測定する場合は、試料セルの光路長を調整する方法が挙げられる。また、膜の状態で吸光度を測定する場合は、膜厚を調整する方法などが挙げられる。
 本発明の組成物により形成される膜の分光特性、膜厚等の測定方法の具体例を以下に示す。
 本発明の組成物を、ガラス基板上にスピンコート等の方法により、乾燥後の膜の厚さが所定の厚さとなるように塗布し、ホットプレートを用いて100℃、120秒間乾燥する。膜の厚さは、膜を有する乾燥後の基板を、触針式表面形状測定器(ULVAC社製 DEKTAK150)を用いて測定する。この膜を有する乾燥後の基板を、紫外可視近赤外分光光度計(日立ハイテクノロジーズ社製 U-4100)を用いて、波長300~1300nmの範囲において透過率を測定する。
 本発明の組成物は、赤外線を透過することから、赤外線透過性組成物とも言える。以下に、本発明の組成物を構成し得る各成分について説明する。
<<色材>>
 本発明の組成物は、色材を含有する。本発明において、色材は、近赤外領域の光の少なくとも一部を透過し、かつ、可視領域の光を遮光する材料であることが好ましい。本発明において、色材は、紫色から赤色の波長領域の光を吸収する材料であることが好ましい。また、本発明において、色材は、波長400~750nmの波長領域の光を遮光する色材であることが好ましい。また、色材は、波長1100~1300nmの光を透過する材料であることが好ましい。本発明において、色材は、以下の(A)および(B)の少なくとも一方の要件を満たすことが好ましい。
(1):2種類以上の有彩色着色剤を含み、2種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成している。
(2):有機系黒色着色剤を含む。(2)の態様において、更に有彩色着色剤を含有することも好ましい。
 なお、本発明において、有彩色着色剤とは、白色着色剤および黒色着色剤以外の着色剤を意味する。また、本発明において、有機系黒色着色剤は、可視光を吸収するが、赤外線の少なくとも一部は透過する材料を意味する。したがって、本発明において、有機系黒色着色剤は、可視光および赤外線の両方を吸収する黒色着色剤、例えば、カーボンブラックやチタンブラックは含まない。有機系黒色着色剤は、波長400nm以上700nm以下の範囲に極大吸収波長を有する着色剤であることが好ましい。
 色材は、例えば、波長400~750nmの範囲における吸光度の最小値Aと、波長1100~1300nmの範囲における吸光度の最小値Bとの比であるA/Bが4.5以上である材料であることが好ましい。
 上記の特性は、1種類の素材で満たしていてもよく、複数の素材の組み合わせで満たしていてもよい。例えば、上記(1)の態様の場合、複数の有彩色着色剤を組み合わせて上記分光特性を満たしていることが好ましい。また、上記(2)の態様の場合、有機系黒色着色剤が上記分光特性を満たしていてもよい。また、有機系黒色着色剤と有彩色着色剤との組み合わせで上記の分光特性を満たしていてもよい。
(有彩色着色剤)
 本発明において、有彩色着色剤は、赤色着色剤、緑色着色剤、青色着色剤、黄色着色剤、紫色着色剤およびオレンジ色着色剤から選ばれる着色剤であることが好ましい。本発明において、有彩色着色剤は、顔料であってもよく、染料であってもよい。好ましくは顔料である。顔料は、平均粒径(r)が、20nm≦r≦300nmであることが好ましく、25nm≦r≦250nmであることがより好ましく、30nm≦r≦200nmであることが更に好ましい。ここでいう「平均粒径」とは、顔料の一次粒子が集合した二次粒子についての平均粒径を意味する。また、使用しうる顔料の二次粒子の粒径分布(以下、単に「粒径分布」ともいう。)は、平均粒径±100nmの範囲に含まれる二次粒子が全体の70質量%以上であることが好ましく、80質量%以上であることがより好ましい。なお、二次粒子の粒径分布は、散乱強度分布を用いて測定することができる。
 顔料は、有機顔料であることが好ましい。有機顔料としては以下のものが挙げられる。
 カラーインデックス(C.I.)Pigment Yellow 1,2,3,4,5,6,10,11,12,13,14,15,16,17,18,20,24,31,32,34,35,35:1,36,36:1,37,37:1,40,42,43,53,55,60,61,62,63,65,73,74,77,81,83,86,93,94,95,97,98,100,101,104,106,108,109,110,113,114,115,116,117,118,119,120,123,125,126,127,128,129,137,138,139,147,148,150,151,152,153,154,155,156,161,162,164,166,167,168,169,170,171,172,173,174,175,176,177,179,180,181,182,185,187,188,193,194,199,213,214等(以上、黄色顔料)、
 C.I.Pigment Orange 2,5,13,16,17:1,31,34,36,38,43,46,48,49,51,52,55,59,60,61,62,64,71,73等(以上、オレンジ色顔料)、
 C.I.Pigment Red 1,2,3,4,5,6,7,9,10,14,17,22,23,31,38,41,48:1,48:2,48:3,48:4,49,49:1,49:2,52:1,52:2,53:1,57:1,60:1,63:1,66,67,81:1,81:2,81:3,83,88,90,105,112,119,122,123,144,146,149,150,155,166,168,169,170,171,172,175,176,177,178,179,184,185,187,188,190,200,202,206,207,208,209,210,216,220,224,226,242,246,254,255,264,270,272,279等(以上、赤色顔料)、
 C.I.Pigment Green 7,10,36,37,58,59等(以上、緑色顔料)、
 C.I.Pigment Violet 1,19,23,27,32,37,42等(以上、紫色顔料)、
 C.I.Pigment Blue 1,2,15,15:1,15:2,15:3,15:4,15:6,16,22,60,64,66,79,80等(以上、青色顔料)、
 これら有機顔料は、単独若しくは種々組合せて用いることができる。
 また、顔料は、下記式(I)で表されるアゾ化合物およびその互変異性構造のアゾ化合物から選ばれる少なくとも1種のアニオンと、2種類以上の金属イオンと、メラミン化合物とを含む金属アゾ顔料を用いることもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 式中、RおよびRはそれぞれ独立して、OHまたはNRであり、RおよびRはそれぞれ独立して、=Oまたは=NRであり、R~Rはそれぞれ独立して、水素原子またはアルキル基である。R~Rが表すアルキル基の炭素数は1~10が好ましく、1~6がより好ましく、1~4が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐および環状のいずれであってもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アルキル基は置換基を有していてもよい。置換基としては、後述の置換基Tが挙げられ、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、シアノ基およびアミノ基が好ましい。
 式(I)において、RおよびRはOHであることが好ましい。また、RおよびRは=Oであることが好ましい。
 金属アゾ顔料におけるメラミン化合物は、下記式(II)で表される化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 式中R11~R13は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基である。アルキル基の炭素数は1~10が好ましく、1~6がより好ましく、1~4が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐および環状のいずれであってもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アルキル基は置換基を有していてもよい。置換基としては、後述の置換基Tが挙げられ、ヒドロキシ基が好ましい。R11~R13の少なくとも一つは水素原子であることが好ましく、R11~R13の全てが水素原子であることがより好ましい。
 金属アゾ顔料は、式(I)で表されるアゾ化合物およびその互変異性構造のアゾ化合物から選ばれる少なくとも1種のアニオンの1モル当たり、メラミン化合物(好ましくは式(II)で表される化合物)を0.05~4モル含有することが好ましく、0.5~2.5モル含有することがより好ましく、1.0~2.0モル含有することが更に好ましい。
 金属アゾ顔料においては、式(I)で表されるアゾ化合物およびその互変異性構造のアゾ化合物から選ばれる少なくとも1種のアニオンと金属イオンとで金属錯体が形成されていることが好ましい。例えば、2価の金属イオンMeの場合は、上記のアニオンと金属イオンMeとで下記式(Ia)で表される構造の金属錯体を形成することができる。また、金属イオンMeは、式(Ia)の互変異性表記における窒素原子を介して結合していてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 本発明で用いられる金属アゾ顔料の好ましい態様としては、以下の(1)~(4)の態様の金属アゾ顔料が挙げられ、(1)の態様の金属アゾ顔料であることが好ましい。
 (1) 上述した式(I)で表されるアゾ化合物およびその互変異性構造のアゾ化合物から選ばれる少なくとも1種のアニオンと、Zn2+およびCu2+を少なくとも含む金属イオンと、メラミン化合物とを含む態様の金属アゾ顔料。この態様においては、金属アゾ顔料の全金属イオンの1モルを基準として、Zn2+およびCu2+を合計で95~100モル%含有することが好ましく、98~100モル%含有することがより好ましく、99.9~100モル%含有することが更に好ましく、100モル%であることが特に好ましい。また、金属アゾ顔料中のZn2+とCu2+とのモル比は、Zn2+:Cu2+=199:1~1:15であることが好ましく、19:1~1:1であることがより好ましく、9:1~2:1であることが更に好ましい。また、この態様において、金属アゾ顔料は、更にZn2+およびCu2+以外の二価もしくは三価の金属イオン(以下、金属イオンMe1ともいう)を含んでいてもよい。金属イオンMe1としては、Ni2+、Al3+、Fe2+、Fe3+、Co2+、Co3+、La3+、Ce3+、Pr3+、Nd2+、Nd3+、Sm2+、Sm3+、Eu2+、Eu3+、Gd3+、Tb3+、Dy3+、Ho3+、Yb2+、Yb3+、Er3+、Tm3+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Mn2+、Y3+、Sc3+、Ti2+、Ti3+、Nb3+、Mo2+、Mo3+、V2+、V3+、Zr2+、Zr3+、Cd2+、Cr3+、Pb2+、Ba2+が挙げられ、Al3+、Fe2+、Fe3+、Co2+、Co3+、La3+、Ce3+、Pr3+、Nd3+、Sm3+、Eu3+、Gd3+、Tb3+、Dy3+、Ho3+、Yb3+、Er3+、Tm3+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Mn2+およびY3+から選ばれる少なくとも1種であることが好ましく、Al3+、Fe2+、Fe3+、Co2+、Co3+、La3+、Ce3+、Pr3+、Nd3+、Sm3+、Tb3+、Ho3+およびSr2+から選ばれる少なくとも1種であることが更に好ましく、Al3+、Fe2+、Fe3+、Co2+およびCo3+から選ばれる少なくとも1種であることが特に好ましい。金属イオンMe1の含有量は、金属アゾ顔料の全金属イオンの1モルを基準として、5モル%以下であることが好ましく、2モル%以下であることがより好ましく、0.1モル%以下であることが更に好ましい。
 (2) 上述した式(I)で表されるアゾ化合物およびその互変異性構造のアゾ化合物から選ばれる少なくとも1種のアニオンと、金属イオンと、メラミン化合物とを含み、金属イオンは、Ni2+、Zn2+および少なくとも1種のさらなる金属イオンMe2を含み、金属イオンMe2は、La3+、Ce3+、Pr3+、Nd2+、Nd3+、Sm2+、Sm3+、Eu2+、Eu3+、Gd3+、Tb3+、Dy3+、Ho3+、Er3+、Tm3+、Yb2+、Yb3+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Sc3+、Y3+、Ti2+、Ti3+、Zr2+、Zr3+、V2+、V3+、Nb3+、Cr3+、Mo2+、Mo3+、Mn2+、Cd2+、およびPb2+から選ばれる少なくとも1種である態様の金属アゾ顔料。金属イオンMe2は、La3+、Ce3+、Pr3+、Nd3+、Sm3+、Eu3+、Gd3+、Tb3+、Dy3+、Ho3+、Er3+、Tm3+、Yb3+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Y3+、およびMn2+から選ばれる少なくとも1種であることが好ましく、La3+、Ce3+、Pr3+、Nd3+、Sm3+、Tb3+、Ho3+、およびSr2+から選ばれる少なくとも1種であることがより好ましい。この態様においては、金属アゾ顔料の全金属イオンの1モルを基準として、Zn2+およびNi2+を合計で75~99.5モル%含有し、かつ、金属イオンMe2を0.5~25モル%含有することが好ましく、Zn2+およびNi2+を合計で78~95モル%含有し、かつ、金属イオンMe2を5~22モル%含有することがより好ましく、Zn2+およびNi2+を合計で82~90モル%含有し、かつ、金属イオンMe2を10~18モル%含有することが更に好ましい。また、金属アゾ顔料中のZn2+とNi2+とのモル比は、Zn2+:Ni2+=90:3~3:90であることが好ましく、80:5~5:80であることがより好ましく、60:33~33:60であることが更に好ましい。
 (3) 上述した式(I)で表されるアゾ化合物およびその互変異性構造のアゾ化合物から選ばれる少なくとも1種のアニオンと、金属イオンと、メラミン化合物とを含み、金属イオンは、Ni2+、Cu2+および少なくとも1種のさらなる金属イオンMe3を含み、金属イオンMe3がLa3+、Ce3+、Pr3+、Nd2+、Nd3+、Sm2+、Sm3+、Eu2+、Eu3+、Gd3+、Tb3+、Dy3+、Ho3+、Yb2+、Yb3+、Er3+、Tm3+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Mn2+、Y3+、Sc3+、Ti2+、Ti3+、Nb3+、Mo2+、Mo3+、V2+、V3+、Zr2+、Zr3+、Cd2+、Cr3+、Pb2+およびBa2+から選ばれる少なくとも1種である態様の金属アゾ顔料。金属イオンMe3は、La3+、Ce3+、Pr3+、Nd3+、Sm3+、Eu3+、Gd3+、Tb3+、Dy3+、Ho3+、Yb3+、Er3+、Tm3+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Mn2+、およびY3+から選ばれる少なくとも1種であることが好ましく、La3+、Ce3+、Pr3+、Nd3+、Sm3+、Tb3+、Ho3+、およびSr2+から選ばれる少なくとも1種であることがより好ましい。この態様においては、金属アゾ顔料の全金属イオンの1モルを基準として、Cu2+およびNi2+を合計で70~99.5モル%含有し、かつ、金属イオンMe3を0.5~30モル%含有することが好ましく、Cu2+およびNi2+を合計で75~95モル%含有し、かつ、金属イオンMe3を5~25モル%含有することがより好ましく、Cu2+およびNi2+を合計で80~90モル%含有し、かつ、金属イオンMe3を10~20モル%含有することが更に好ましい。また、金属アゾ顔料中のCu2+とNi2+とのモル比は、Cu2+:Ni2+=42:1~1:42であることが好ましく、10:1~1:10であることがより好ましく、3:1~1:3であることが更に好ましい。
 (4) 上述した式(I)で表されるアゾ化合物およびその互変異性構造のアゾ化合物から選ばれる少なくとも1種のアニオンと、金属イオンと、メラミン化合物とを含み、金属イオンは、Ni2+と金属イオンMe4aを含み、金属イオンMe4aがLa3+、Ce3+、Pr3+、Nd2+、Nd3+、Sm2+、Sm3+、Eu2+、Eu3+、Gd3+、Tb3+、Dy3+、Ho3+、Er3+、Tm3+、Yb2+およびYb3+から選ばれる少なくとも1種である態様の金属アゾ顔料。金属イオンMe4aは、La3+、Ce3+、Pr3+、Nd3+、Sm3+、Eu3+、Gd3+、Tb3+、Dy3+、Ho3+、Er3+、Tm3+およびYb3+から選ばれる少なくとも1種であることが好ましく、La3+、Ce3+、Pr3+、Nd3+、Sm3+、Tb3+およびHo3+から選ばれる少なくとも1種であることがより好ましい。この態様においては、金属アゾ顔料の全金属イオンの1モルを基準として、Ni2+および金属イオンMe4aを合計で95~100モル%含有することが好ましく、98~100モル%含有することがより好ましく、99.9~100モル%含有することが更に好ましく、100モル%であることが特に好ましい。また、金属アゾ顔料中のNi2+と金属イオンMe4aとのモル比は、Ni2+:金属イオンMe4a=1:1~19:1であることが好ましく、2:1~4:1であることがより好ましく、2.3:1~3:1であることが更に好ましい。また、この態様において、金属アゾ顔料は、更にNi2+および金属イオンMe4a以外の金属イオン(以下、金属イオンMe4bともいう)を含んでいてもよい。金属イオンMe4bとしては、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Sc3+、Y3+、Ti2+、Ti3+、Zr2+、Zr3+、V2+、V3+、Nb3+、Cr3+、Mo2+、Mo3+、Mn2+、Fe2+、Fe3+、Co2+、Co3+、Cu2+、Zn2+、Cd2+、Al3+およびPb2+が挙げられ、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Y3+、Mn2+、Fe2+、Fe3+、Co2+、Co3+、Cu2+、Zn2+およびAl3+から選ばれる少なくとも1種であることが好ましく、Sr2+、Fe2+、Fe3+、Co2+、Co3+、Cu2+、Zn2+およびAl3+から選ばれる少なくとも1種であることがより好ましい。また、金属イオンMe4bの含有量は、金属アゾ顔料の全金属イオンの1モルを基準として、5モル%以下であることが好ましく、2モル%以下であることがより好ましく、0.1モル%以下であることが更に好ましい。
 金属アゾ顔料は、上述した式(I)で表されるアゾ化合物およびその互変異性構造のアゾ化合物から選ばれる少なくとも1種のアニオンと金属イオンとで構成される金属アゾ化合物と、メラミン化合物(好ましくは上記式(II)で表される化合物)とで付加体が形成されていることが好ましい。付加体とは、分子集合体を意味すると理解される。これらの分子間の結合は、例えば、分子間相互作用によるものであってもよく、ルイス酸-塩基相互作用によるものであってもよく、配位結合または鎖結合によるものであってもよい。また、付加体は、ゲスト分子がホスト分子を構成する格子に組み込まれている包接化合物(クラスレート)のような構造であっても良い。また、付加体は、複合層間結晶(格子間化合物を含む)のような構造であってもよい。複合層間結晶とは、少なくとも2つの要素からなる化学的な非化学量論的結晶化合物のことである。また、付加体は、2つの物質が共同結晶を形成し、第一の成分の規則的な格子の位置に第二の成分の原子が位置しているような混合置換結晶であってもよい。
 金属アゾ顔料は、物理的混合物であってもよく、化学的複合化合物であってもよい。好ましくは、物理的混合物である。
 上記の金属アゾ顔料については、特開2017-171912号公報の段落番号0011~0062、0137~0276、特開2017-171913号公報の段落番号0010~0062、0138~0295、特開2017-171914号公報の段落番号0011~0062、0139~0190、特開2017-171915号公報の段落番号0010~0065、0142~0222の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
 染料としては特に制限はなく、公知の染料が使用できる。化学構造としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリアリールメタン系、アントラキノン系、アントラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系、ピロメテン系等の染料が使用できる。また、これらの染料の多量体を用いてもよい。また、特開2015-028144号公報、特開2015-34966号公報に記載の染料を用いることもできる。
 色材は、赤色着色剤、青色着色剤、黄色着色剤、紫色着色剤および緑色着色剤から選ばれる2種以上を含むことが好ましい。好ましい組み合わせとしては、例えば以下が挙げられ、(2)、(3)または(4)が好ましく、(3)がより好ましい。
(1)赤色着色剤と青色着色剤とを含有する態様。
(2)赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤とを含有する態様。
(3)赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤と紫色着色剤とを含有する態様。
(4)赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤と紫色着色剤と緑色着色剤とを含有する態様。
(5)赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤と緑色着色剤とを含有する態様。
(6)赤色着色剤と青色着色剤と緑色着色剤とを含有する態様。
(7)黄色着色剤と紫色着色剤とを含有する態様。
 上記(1)の態様において、赤色着色剤と青色着色剤との質量比は、赤色着色剤:青色着色剤=20~80:20~80であることが好ましく、20~60:40~80であることがより好ましく、20~50:50~80であることが更に好ましい。
 上記(2)の態様において、赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤の質量比は、赤色着色剤:青色着色剤:黄色着色剤=10~80:20~80:10~40であることが好ましく、10~60:30~80:10~30であることがより好ましく、10~40:40~80:10~20であることが更に好ましい。
 上記(3)の態様において、赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤と紫色着色剤との質量比は、赤色着色剤:青色着色剤:黄色着色剤:紫色着色剤=10~80:20~80:5~40:5~40であることが好ましく、10~60:25~80:5~30:5~30であることがより好ましく、10~40:25~50:10~30:10~30であることが更に好ましい。
 上記(4)の態様において、赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤と紫色着色剤と緑色着色剤の質量比は、赤色着色剤:青色着色剤:黄色着色剤:紫色着色剤:緑色着色剤=10~80:20~80:5~40:5~40:5~40であることが好ましく、10~60:30~80:5~30:5~30:5~30であることがより好ましく、10~40:40~80:5~20:5~20:5~20であることが更に好ましい。
 上記(5)の態様において、赤色着色剤と青色着色剤と黄色着色剤と緑色着色剤の質量比は、赤色着色剤:青色着色剤:黄色着色剤:緑色着色剤=10~80:20~80:5~40:5~40であることが好ましく、10~60:30~80:5~30:5~30であることがより好ましく、10~40:40~80:5~20:5~20であることが更に好ましい。
 上記(6)の態様において、赤色着色剤と青色着色剤と緑色着色剤の質量比は、赤色着色剤:青色着色剤:緑色着色剤=10~80:20~80:10~40であることが好ましく、10~60:30~80:10~30であることがより好ましく、10~40:40~80:10~20であることが更に好ましい。
 上記(7)の態様において、黄色着色剤と紫色着色剤の質量比は、黄色着色剤:紫色着色剤=10~50:40~80であることが好ましく、20~40:50~70であることがより好ましく、30~40:60~70であることが更に好ましい。
 黄色着色剤としては、C.I.Pigment Yellow 139,150,185が好ましく、C.I.Pigment Yellow 139,150がより好ましく、C.I.Pigment Yellow 139が更に好ましい。青色着色剤としては、C.I.Pigment Blue 15:6が好ましい。紫色着色剤としては、C.I.Pigment Violet 23が好ましい。赤色着色剤としては、Pigment Red 122,177,224,254が好ましく、Pigment Red 122,177254がより好ましく、Pigment Red 254が更に好ましい。緑色着色剤としては、C.I.Pigment Green 7、36、58、59が好ましい。
(有機系黒色着色剤)
 本発明において、有機系黒色着色剤としては、例えば、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、アゾ系化合物などが挙げられ、ビスベンゾフラノン化合物、ペリレン化合物が好ましい。ビスベンゾフラノン化合物としては、特表2010-534726号公報、特表2012-515233号公報、特表2012-515234号公報、国際公開WO2014/208348号公報、特表2015-525260号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、BASF社製の「Irgaphor Black」として入手可能である。ペリレン化合物としては、C.I.Pigment Black 31、32などが挙げられる。アゾメチン化合物としては、特開平1-170601号公報、特開平2-34664号公報などに記載のものが挙げられ、例えば、大日精化社製の「クロモファインブラックA1103」として入手できる。
 本発明において、ビスベンゾフラノン化合物は、下記式で表される化合物およびこれらの混合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 式中、RおよびRはそれぞれ独立して水素原子又は置換基を表し、RおよびRはそれぞれ独立して置換基を表し、aおよびbはそれぞれ独立して0~4の整数を表し、aが2以上の場合、複数のRは、同一であってもよく、異なってもよく、複数のRは結合して環を形成していてもよく、bが2以上の場合、複数のRは、同一であってもよく、異なってもよく、複数のRは結合して環を形成していてもよい。
 R~Rが表す置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、-OR301、-COR302、-COOR303、-OCOR304、-NR305306、-NHCOR307、-CONR308309、-NHCONR310311、-NHCOOR312、-SR313、-SO314、-SOOR315、-NHSO316または-SONR317318を表し、R301~R318は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。
 ビスベンゾフラノン化合物の詳細については、特表2010-534726号公報の段落番号0014~0037の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
 本発明において、色材として有機系黒色着色剤を用いる場合、有彩色着色剤と組み合わせて使用することが好ましい。有機系黒色着色剤と有彩色着色剤とを併用することで、優れた分光特性が得られ易い。有機系黒色着色剤と組み合わせて用いる有彩色着色剤としては、例えば、赤色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤などが挙げられ、赤色着色剤および青色着色剤が好ましい。これらは単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。また、有彩色着色剤と有機系黒色着色剤との混合割合は、有機系黒色着色剤100質量部に対して、有彩色着色剤が10~200質量部が好ましく、15~150質量部がより好ましい。
 本発明において、色材における顔料の含有量は、色材の全量に対して95質量%以上であることが好ましく、97質量%以上であることがより好ましく、99質量%以上であることが更に好ましい。
 本発明の組成物において、色材の含有量は、組成物の全固形分に対して10~70質量%であることが好ましい。下限は、30質量%以上が好ましく、40質量%以上がより好ましい。
<<近赤外線吸収剤>>
 本発明の組成物は、近赤外線吸収剤を含有することができる。赤外線透過フィルタにおいて、近赤外線吸収剤は、透過する光(赤外線)をより長波長側に限定する役割を有している。
 本発明において、近赤外線吸収剤としては、近赤外領域(好ましくは、波長700nmを超え1300nm以下)の波長領域に極大吸収波長を有する化合物を好ましく用いることができる。近赤外線吸収剤は、顔料であってもよく、染料であってもよい。
 本発明において、近赤外線吸収剤としては、単環または縮合環の芳香族環を含むπ共役平面を有する近赤外線吸収化合物を好ましく用いることができる。近赤外線吸収化合物が有するπ共役平面を構成する水素以外の原子数は、14個以上であることが好ましく、20個以上であることがより好ましく、25個以上であることが更に好ましく、30個以上であることが特に好ましい。上限は、例えば、80個以下であることが好ましく、50個以下であることがより好ましい。
 近赤外線吸収化合物が有するπ共役平面は、単環または縮合環の芳香族環を2個以上含むことが好ましく、前述の芳香族環を3個以上含むことがより好ましく、前述の芳香族環を4個以上含むことが更に好ましく、前述の芳香族環を5個以上含むことが特に好ましい。上限は、100個以下が好ましく、50個以下がより好ましく、30個以下が更に好ましい。前述の芳香族環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、インデン環、アズレン環、ヘプタレン環、インダセン環、ペリレン環、ペンタセン環、クアテリレン環、アセナフテン環、フェナントレン環、アントラセン環、ナフタセン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオレン環、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、トリアゾール環、ベンゾトリアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、イミダゾリン環、ピラジン環、キノキサリン環、ピリミジン環、キナゾリン環、ピリダジン環、トリアジン環、ピロール環、インドール環、イソインドール環、カルバゾール環、および、これらの環を有する縮合環が挙げられる。
 近赤外線吸収化合物は、波長700~1000nmの範囲に極大吸収波長を有する化合物であることが好ましい。なお、本明細書において、「波長700~1000nmの範囲に極大吸収波長を有する」とは、近赤外線吸収化合物の溶液での吸収スペクトルにおいて、波長700~1000nmの範囲に最大の吸光度を示す波長を有することを意味する。近赤外線吸収化合物の溶液中での吸収スペクトルの測定に用いる測定溶媒は、クロロホルム、メタノール、ジメチルスルホキシド、酢酸エチル、テトラヒドロフランが挙げられる。クロロホルムで溶解する化合物の場合は、クロロホルムを測定溶媒として用いる。クロロホルムで溶解しない化合物の場合は、メタノールを用いる。また、クロロホルムおよびメタノールのいずれにも溶解しない場合はジメチルスルホキシドを用いる。
 本発明において、近赤外線吸収化合物は、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、クアテリレン化合物、メロシアニン化合物、クロコニウム化合物、オキソノール化合物、ジイモニウム化合物、ジチオール化合物、トリアリールメタン化合物、ピロメテン化合物、アゾメチン化合物、アントラキノン化合物及びジベンゾフラノン化合物から選ばれる少なくとも1種が好ましく、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物およびジイモニウム化合物から選ばれる少なくとも1種がより好ましく、ピロロピロール化合物、シアニン化合物およびスクアリリウム化合物から選ばれる少なくとも1種が更に好ましく、ピロロピロール化合物が特に好ましい。ジイモニウム化合物としては、例えば、特表2008-528706号公報に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。フタロシアニン化合物としては、例えば、特開2012-77153号公報の段落番号0093に記載の化合物、特開2006-343631号公報に記載のオキシチタニウムフタロシアニン、特開2013-195480号公報の段落番号0013~0029に記載の化合物、特許第6081771号公報に記載のバナジウムフタロシアニンが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、フタロシアニン化合物として、下記構造の化合物を用いることもできる。ナフタロシアニン化合物としては、例えば、特開2012-77153号公報の段落番号0093に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、ジイモニウム化合物およびスクアリリウム化合物は、特開2010-111750号公報の段落番号0010~0081に記載の化合物を使用してもよく、この内容は本明細書に組み込まれる。また、シアニン化合物は、例えば、「機能性色素、大河原信/松岡賢/北尾悌次郎/平嶋恒亮・著、講談社サイエンティフィック」を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、近赤外線吸収化合物としては、特開2016-146619号公報に記載された化合物を用いることもでき、この内容は本明細書に組み込まれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 ピロロピロール化合物としては、式(PP)で表される化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 式中、R1aおよびR1bは、各々独立にアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、RおよびRは、各々独立に水素原子または置換基を表し、RおよびRは、互いに結合して環を形成してもよく、Rは、各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、-BR4A4B、または金属原子を表し、Rは、R1a、R1bおよびRから選ばれる少なくとも一つと共有結合もしくは配位結合していてもよく、R4AおよびR4Bは、各々独立に置換基を表す。式(PP)の詳細については、特開2009-263614号公報の段落番号0017~0047、特開2011-68731号公報の段落番号0011~0036、国際公開WO2015/166873号公報の段落番号0010~0024の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
 式(PP)において、R1aおよびR1bは、各々独立に、アリール基またはヘテロアリール基が好ましく、アリール基がより好ましい。また、R1aおよびR1bが表すアルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、特開2009-263614号公報の段落番号0020~0022に記載された置換基や、以下の置換基Tが挙げられる。また、R1aおよびR1bが表すアルキル基、アリール基およびヘテロアリール基が2個以上の置換基を有している場合、置換基同士が結合して環を形成していてもよい。
(置換基T)
 アルキル基(好ましくは炭素数1~30のアルキル基)、アルケニル基(好ましくは炭素数2~30のアルケニル基)、アルキニル基(好ましくは炭素数2~30のアルキニル基)、アリール基(好ましくは炭素数6~30のアリール基)、アミノ基(好ましくは炭素数0~30のアミノ基)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1~30のアルコキシ基)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6~30のアリールオキシ基)、ヘテロアリールオキシ基、アシル基(好ましくは炭素数1~30のアシル基)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2~30のアルコキシカルボニル基)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7~30のアリールオキシカルボニル基)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2~30のアシルオキシ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2~30のアシルアミノ基)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2~30のアルコキシカルボニルアミノ基)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7~30のアリールオキシカルボニルアミノ基)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0~30のスルファモイル基)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1~30のカルバモイル基)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1~30のアルキルチオ基)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6~30のアリールチオ基)、ヘテロアリールチオ基(好ましくは炭素数1~30)、アルキルスルホニル基(好ましくは炭素数1~30)、アリールスルホニル基(好ましくは炭素数6~30)、ヘテロアリールスルホニル基(好ましくは炭素数1~30)、アルキルスルフィニル基(好ましくは炭素数1~30)、アリールスルフィニル基(好ましくは炭素数6~30)、ヘテロアリールスルフィニル基(好ましくは炭素数1~30)、ウレイド基(好ましくは炭素数1~30)、水酸基、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基、カルボン酸アミド基(好ましくは-NHCORA1で表される基であり、RA1は、炭化水素基または複素環基を表す。炭化水素基および複素環基は、さらに置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。)、スルホン酸アミド基(好ましくは-NHSOA2で表される基である。RA2は、炭化水素基または複素環基を表す。炭化水素基および複素環基は、さらに置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。)、イミド酸基(好ましくは、-SONHSOA3、-CONHSOA4、-CONHCORA5または-SONHCORA6で表される基である。RA3~RA6は、それぞれ独立して炭化水素基または複素環基を表す。炭化水素基および複素環基は、さらに置換基を有してもよい。)、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、アルキルスルフィノ基、アリールスルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロアリール基(好ましくは炭素数1~30)。
 これらの基は、さらに置換可能な基である場合、さらに置換基を有してもよい。置換基としては、上述した置換基Tで説明した基が挙げられる。
 R1a、R1bで表される基の具体例としては、アルコキシ基を置換基として有するアリール基、水酸基を置換基として有するアリール基、アシルオキシ基を置換基として有するアリール基などが挙げられる。
 式(PP)において、RおよびRは、各々独立に水素原子または置換基を表す。置換基としては上述した置換基Tが挙げられる。RおよびRの少なくとも一方は電子求引性基が好ましい。ハメットの置換基定数σ値(シグマ値)が正の置換基は、電子求引性基として作用する。ここで、ハメット則で求められた置換基定数にはσp値とσm値がある。これらの値は多くの一般的な成書に見出すことができる。本発明においては、ハメットの置換基定数σ値が0.2以上の置換基を電子求引性基として例示することができる。σ値は、0.25以上が好ましく、0.3以上がより好ましく、0.35以上が更に好ましい。上限は特に制限はないが、好ましくは0.80以下である。電子求引性基の具体例としては、シアノ基(σp値=0.66)、カルボキシル基(-COOH:σp値=0.45)、アルコキシカルボニル基(例えば、-COOMe:σp値=0.45)、アリールオキシカルボニル基(例えば、-COOPh:σp値=0.44)、カルバモイル基(例えば、-CONH:σp値=0.36)、アルキルカルボニル基(例えば、-COMe:σp値=0.50)、アリールカルボニル基(例えば、-COPh:σp値=0.43)、アルキルスルホニル基(例えば、-SOMe:σp値=0.72)、アリールスルホニル基(例えば、-SOPh:σp値=0.68)などが挙げられ、シアノ基が好ましい。ここで、Meはメチル基を、Phはフェニル基を表す。なお、ハメットの置換基定数σ値については、例えば、特開2011-68731号公報の段落番号0017~0018を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
 式(PP)において、Rは電子求引性基(好ましくはシアノ基)を表し、Rはヘテロアリール基を表すことが好ましい。ヘテロアリール基は、5員環または6員環が好ましい。また、ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が2~8の縮合環が好ましく、単環または縮合数が2~4の縮合環がより好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は、1~3が好ましく、1~2がより好ましい。ヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が例示される。ヘテロアリール基は、窒素原子を1個以上有することが好ましい。式(PP)における2個のR同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。また、式(PP)における2個のR同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。
 式(PP)において、Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基または-BR4A4Bで表される基であることが好ましく、水素原子、アルキル基、アリール基または-BR4A4Bで表される基であることがより好ましく、-BR4A4Bで表される基であることが更に好ましい。R4AおよびR4Bが表す置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、または、ヘテロアリール基が好ましく、アルキル基、アリール基、または、ヘテロアリール基がより好ましく、アリール基が特に好ましい。これらの基はさらに置換基を有していてもよい。式(PP)における2個のR同士は同一であってもよく、異なっていてもよい。R4AおよびR4Bは互いに結合して環を形成していてもよい。
 式(PP)で表される化合物の具体例としては、下記化合物が挙げられる。以下の構造式中、Meはメチル基を表し、Phはフェニル基を表す。また、ピロロピロール化合物としては、特開2009-263614号公報の段落番号0016~0058に記載の化合物、特開2011-68731号公報の段落番号0037~0052に記載の化合物、国際公開WO2015/166873号公報の段落番号0010~0033に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 スクアリリウム化合物としては、下記式(SQ)で表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 式(SQ)中、AおよびAは、それぞれ独立に、アリール基、ヘテロアリール基または式(A-1)で表される基を表す;
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 式(A-1)中、Zは、含窒素複素環を形成する非金属原子団を表し、Rは、アルキル基、アルケニル基またはアラルキル基を表し、dは、0または1を表し、波線は連結手を表す。式(SQ)の詳細については、特開2011-208101号公報の段落番号0020~0049、特許第6065169号公報の段落番号0043~0062、国際公開WO2016/181987号公報の段落番号0024~0040の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
 なお、式(SQ)においてカチオンは、以下のように非局在化して存在している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 スクアリリウム化合物としては、下記構造の化合物が挙げられる。また、特開2011-208101号公報の段落番号0044~0049に記載の化合物、特許第6065169号公報の段落番号0060~0061に記載の化合物、国際公開WO2016/181987号公報の段落番号0040に記載の化合物、国際公開WO2013/133099号公報に記載の化合物、国際公開WO2014/088063号公報に記載の化合物、特開2014-126642号公報に記載の化合物、特開2016-146619号公報に記載の化合物、特開2015-176046号公報に記載の化合物、特開2017-25311号公報に記載の化合物、国際公開WO2016/154782号公報に記載の化合物、特許5884953号公報に記載の化合物、特許6036689号公報に記載の化合物、特許5810604号公報に記載の化合物、特開2017-068120号公報に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 シアニン化合物は、式(C)で表される化合物が好ましい。
式(C)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 式中、ZおよびZは、それぞれ独立に、縮環してもよい5員または6員の含窒素複素環を形成する非金属原子団であり、
 R101およびR102は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基またはアリール基を表し、
 Lは、奇数個のメチン基を有するメチン鎖を表し、
 aおよびbは、それぞれ独立に、0または1であり、
 aが0の場合は、炭素原子と窒素原子とが二重結合で結合し、bが0の場合は、炭素原子と窒素原子とが単結合で結合し、
 式中のCyで表される部位がカチオン部である場合、Xはアニオンを表し、cは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のCyで表される部位がアニオン部である場合、Xはカチオンを表し、cは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のCyで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、cは0である。
 シアニン化合物としては、特開2009-108267号公報の段落番号0044~0045に記載の化合物、特開2002-194040号公報の段落番号0026~0030に記載の化合物、特開2015-172004号公報に記載の化合物、特開2015-172102号公報に記載の化合物、特開2008-88426号公報に記載の化合物、特開2017-031394号公報に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
 本発明において、近赤外線吸収化合物としては、市販品を用いることもできる。例えば、SDO-C33(有本化学工業(株)製)、イーエクスカラーIR-14、イーエクスカラーIR-10A、イーエクスカラーTX-EX-801B、イーエクスカラーTX-EX-805K((株)日本触媒製)、ShigenoxNIA-8041、ShigenoxNIA-8042、ShigenoxNIA-814、ShigenoxNIA-820、ShigenoxNIA-839(ハッコーケミカル社製)、EpoliteV-63、Epolight3801、Epolight3036(EPOLIN社製)、PRO-JET825LDI(富士フイルム(株)製)、NK-3027、NK-5060((株)林原製)、YKR-3070(三井化学(株)製)などが挙げられる。
 本発明の組成物において、近赤外線吸収剤として、無機粒子を用いることもできる。無機粒子の形状は特に制限されず、球状、非球状を問わず、シート状、ワイヤー状、チューブ状であってもよい。無機粒子としては、金属酸化物粒子または金属粒子が好ましい。金属酸化物粒子としては、例えば、酸化インジウムスズ(ITO)粒子、酸化アンチモンスズ(ATO)粒子、酸化亜鉛(ZnO)粒子、Alドープ酸化亜鉛(AlドープZnO)粒子、フッ素ドープ二酸化スズ(FドープSnO)粒子、ニオブドープ二酸化チタン(NbドープTiO)粒子などが挙げられる。金属粒子としては、例えば、銀(Ag)粒子、金(Au)粒子、銅(Cu)粒子、ニッケル(Ni)粒子など挙げられる。また、無機粒子としては酸化タングステン系化合物を用いることもできる。酸化タングステン系化合物は、セシウム酸化タングステンであることが好ましい。酸化タングステン系化合物の詳細については、特開2016-006476号公報の段落番号0080を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
 本発明の組成物において、近赤外線吸収剤の含有量は、組成物の全固形分に対して1~30質量%であることが好ましい。上限は、20質量%以下が好ましく、10質量%以下がより好ましい。下限は、3質量%以上が好ましく、5質量%以上がより好ましい。
 また、近赤外線吸収剤と色材との合計量は、組成物の全固形分の10~70質量%であることが好ましい。下限は、20質量%以上が好ましく、25質量%以上がより好ましい。
 また、近赤外線吸収剤と色材との合計量中における、近赤外線吸収剤の含有量は、5~40質量%であることが好ましい。上限は、30質量%以下が好ましく、25質量%以下がより好ましい。下限は、10質量%以上が好ましく、15質量%以上がより好ましい。
 本発明の組成物においては、近赤外線吸収剤は1種単独で用いてもよく、2種以上併用してもよい。近赤外線吸収剤を2種以上併用する場合は、その合計が上記範囲であることが好ましい。
<<重合性化合物>>
 本発明の組成物は、重合性化合物を含有する。重合性化合物としては、ラジカルの作用により重合可能な化合物が好ましい。すなわち、重合性化合物は、ラジカル重合性化合物であることが好ましい。重合性化合物は、エチレン性不飽和基を2個以上有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和基を3個以上有する化合物が更に好ましい。エチレン性不飽和基の個数の上限は、たとえば、15個以下が好ましく、6個以下がより好ましい。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、スチレン基、(メタ)アリル基、(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリロイルオキシ基などが挙げられる。
 重合性化合物は、モノマー、ポリマーのいずれの形態であってもよいがモノマーが好ましい。モノマータイプの重合性化合物は、分子量が100~3000であることが好ましい。上限は、2000以下が好ましく、1500以下が更に好ましい。下限は、150以上が好ましく、250以上が更に好ましい。また、重合性化合物は、分子量分布を実質的に有さない化合物であることも好ましい。ここで、分子量分布を実質的に有さないとは、化合物の分散度(重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn))が、1.0~1.5であることが好ましく、1.0~1.3がより好ましい。
 本発明に用いられる重合性化合物は、アルキレンオキシ基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を3個有する化合物A(以下、単に化合物Aともいう)を含む。
 本発明に用いられる重合性化合物の全量中における化合物Aの含有量は50~100質量%であることが好ましい。下限は、55質量%以上が好ましく、60質量%以上が更に好ましい。化合物Aの含有量が50質量%以上であれば、本発明の効果がより顕著に発揮される。
 化合物Aの分子量としては、380~600が好ましい。上限は、560以下が好ましく、516以下が更に好ましい。下限は、384以上が好ましく、400以上が更に好ましい。化合物Aはモノマーであることが好ましい。
 化合物AのC=C価は、5.0~10.7mmol/gであることが好ましい。下限は、5.5mmol/g以上であることが好ましく、6.0mmol/g以上であることがより好ましく、6.5mmol/g以上であることが更に好ましい。化合物AのC=C価が上記範囲であれば、微細なパターンを密着性良く形成し易い。上限は10.0mmol/g以下であることが好ましい。化合物AのC=C価は、化合物Aの1分子中に含まれるエチレン性不飽和基の数を化合物Aの分子量で割ることで算出した。
 化合物Aは、アルキレンオキシ基を2~6個有する化合物であることが好ましく、アルキレンオキシ基を3~6個有する化合物であることがより好ましい。また、アルキレンオキシ基の炭素数としては、1~10が好ましく、1~5がより好ましく、1~3が更に好ましく、2または3が特に好ましく、2が最も好ましい。
 化合物Aとしては、下記式(A-1)で表される化合物であることが好ましい。
式(A-1)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 式中A~Aは、それぞれ独立してエチレン性不飽和基を表し、L~Lは、それぞれ独立して単結合または2価の連結基を表し、R~Rは、それぞれ独立してアルキレン基を表し、m1~m3は、それぞれ独立して0~10の整数を表し、L10は3価の連結基を表し、m1とm2とm3の合計は1以上である。
 A~Aが表すエチレン性不飽和基としては、ビニル基、(メタ)アリル基、(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリロイルオキシ基が挙げられる。
 L~Lが表す2価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NH-およびこれらの2種以上を組み合わせた基が挙げられる。アルキレン基の炭素数は、1~30が好ましく、1~20がより好ましく、1~15が更に好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アリーレン基の炭素数は、6~30が好ましく、6~20がより好ましく、6~10が更に好ましい。
 R~Rが表すアルキレン基の炭素数は、1~10が好ましく、1~5がより好ましく、1~3が更に好ましく、2または3が特に好ましく、2が最も好ましい。Rが表すアルキレン基は、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。Rが表すアルキレンの具体例は、エチレン基、直鎖または分岐のプロピレン基などが挙げられ、エチレン基が好ましい。
 m1~m3は、それぞれ独立して0~10を表し、0~5が好ましく、0~7がより好ましく、0~3が更に好ましい。また、m1とm2とm3の合計は1以上であり、2以上であることが好ましく、3以上であることがより好ましい。上限は、20以下であることが好ましく、10以下であることがより好ましく、6以下であることが更に好ましい。また、m1とm2とm3の合計は、2~6であることが好ましく、3~6であることがより好ましい。
 L10が表す3価の連結基としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、複素環基およびこれらの組み合わせからなる基、ならびに、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基および複素環基から選ばれる少なくとも1種と、-O-、-CO-、-COO-、-OCO-および-NH-から選ばれる少なくとも1種とを組み合わせてなる基が挙げられ、脂肪族炭化水素基が好ましい。脂肪族炭化水素基の炭素数は、1~30が好ましく、1~20がより好ましく、1~15が更に好ましい。L10が表す脂肪族炭化水素基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、分岐が好ましい。芳香族炭化水素基の炭素数は、6~30が好ましく、6~20がより好ましく、6~10が更に好ましい。複素環基は、非芳香族の複素環基であってもよく、芳香族複素環基であってもよい。複素環基は、5員環または6員環が好ましい。複素環基を構成するヘテロ原子の種類は窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。複素環基を構成するヘテロ原子の数は1~3が好ましい。複素環基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、複素環基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Tで挙げた基が挙げられる。
 化合物Aとしては、下記式(A-2)で表される化合物がより好ましい。
式(A-2)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 式中R11~R13は、それぞれ独立して水素原子またはメチル基を表し、R~Rは、それぞれ独立してアルキレン基を表し、m1~m3は、それぞれ独立して0~10の整数を表し、L10は3価の連結基を表し、m1とm2とm3の合計は1以上である。式(A-2)のR11~R13、L10、m1~m3は、式(A-1)のR11~R13、L10、m1~m3と同義であり、好ましい範囲も同様である。
 本発明において、化合物Aは、1種単独であってもよいし、2種以上を併用してもよい。また、化合物Aを2種以上併用する場合、アルキレンオキシ基の数の異なる化合物を併用することが好ましい。アルキレンオキシ基の数の異なる化合物を2種以上併用した場合、より微細なパターンを密着性良く形成することができる。
 また、化合物Aを2種以上併用する場合、化合物Aにおけるアルキレンオキシ基の数の平均値は、2~10個であることが好ましく、3~10個であることがより好ましく、3~6個であることが更に好ましく、3~5個であることが特に好ましい。
 また、化合物Aは、アルキレンオキシ基の数が3個の化合物と、アルキレンオキシ基の数が4~6個の化合物とを含むことが好ましく、アルキレンオキシ基の数が3個の化合物の100質量部に対して、アルキレンオキシ基の数が4~6個の化合物を20~500質量部含むことがより好ましく、アルキレンオキシ基の数が3個の化合物の100質量部に対して、アルキレンオキシ基の数が4~6個の化合物を20~300質量部含むことが更に好ましく、アルキレンオキシ基の数が4~6個の化合物を20~200質量部含むことが特に好ましい。この態様によれば、より微細なパターンを密着性良く形成することができる。
 本発明の組成物は、重合性化合物として、上述した化合物Aの他に、更に、エチレン性不飽和基を4個以上有する化合物(以下、化合物Bともいう)を含有してもよい。化合物Bは、エチレン性不飽和基を4~15個有する化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和基を4~10個有する化合物であることがより好ましく、エチレン性不飽和基を4~6個有する化合物であることが更に好ましい。化合物Bは、4官能以上の(メタ)アクリレートであることが好ましい。
 化合物Bとしては、特開2009-288705号公報の段落番号0095~0108、特開2013-29760号公報の段落番号0227、特開2008-292970号公報の段落番号0254~0257に記載の化合物を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
 化合物Bは、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート(市販品としてはKAYARAD D-320;日本化薬(株)製)、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート(市販品としてはKAYARAD D-310;日本化薬(株)製)、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート(市販品としてはKAYARAD DPHA;日本化薬(株)製、A-DPH-12E;新中村化学工業(株)製)、およびこれらの(メタ)アクリロイル基がエチレングリコールまたはプロピレングリコール残基を介して結合している構造の化合物(例えば、サートマー社から市販されている、SR454、SR499)が好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。また、KAYARAD RP-1040、DPCA-20(日本化薬(株)製)を使用することもできる。また、アロニックスM-402、アロニックスTO-1382、アロニックスTO-2349(全て商品名;以上、東亞合成(株)製)を使用することもできる。
 化合物Bは、更に、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。市販品としては、アロニックスM-305、M-510、M-520(以上、東亞合成(株)製)などが挙げられる。化合物Bの酸価としては、0.1~40mgKOH/gが好ましい。下限は5mgKOH/g以上が好ましい。上限は、30mgKOH/g以下が好ましい。
 化合物Bは、カプロラクトン構造を有する化合物であることも好ましい態様である。カプロラクトン構造を有する重合性化合物としては、特開2013-253224号公報の段落番号0042~0045の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
 化合物Bは、アルキレンオキシ基を有する化合物であることも好ましい。アルキレンオキシ基としては、エチレンオキシ基、プロピレンオキシ基が挙げられ、エチレンオキシ基が好ましい。
 化合物Bは、特公昭48-41708号公報、特開昭51-37193号公報、特公平2-32293号公報、特公平2-16765号公報に記載されているウレタンアクリレート類や、特公昭58-49860号公報、特公昭56-17654号公報、特公昭62-39417号公報、特公昭62-39418号公報に記載されているエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。また、特開昭63-277653号公報、特開昭63-260909号公報、特開平1-105238号公報に記載されている分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることができる。また、特開2017-48367号公報、特許第6057891号公報、特許第6031807号公報に記載されている化合物を用いることもできる。市販品としては、ウレタンオリゴマーUAS-10、UAB-140(山陽国策パルプ社製)、UA-7200(新中村化学工業(株)製)、DPHA-40H(日本化薬(株)製)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(共栄社化学(株)製)などが挙げられる。
 本発明の組成物において、重合性化合物の含有量は、組成物の全固形分に対し、0.1~50質量%が好ましい。下限は、例えば0.5質量%以上がより好ましく、1質量%以上が更に好ましい。上限は、例えば、45質量%以下がより好ましく、40質量%以下が更に好ましい。
 また、本発明の組成物において、化合物Aの含有量は、組成物の全固形分に対し、0.1~50質量%が好ましい。下限は、例えば0.5質量%以上がより好ましく、1質量%以上が更に好ましい。上限は、例えば、45質量%以下がより好ましく、40質量%以下が更に好ましい。
<<光重合開始剤>>
 本発明の組成物は、光重合開始剤を含有する。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
 光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体(例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など)、アシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α-ヒドロキシケトン化合物、α-アミノケトン化合物などが挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α-ヒドロキシケトン化合物、α-アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン-ベンゼン-鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物および3-アリール置換クマリン化合物が好ましく、オキシム化合物、α-ヒドロキシケトン化合物、α-アミノケトン化合物、および、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物がより好ましく、オキシム化合物が更に好ましい。光重合開始剤としては、特開2014-130173号公報の段落0065~0111の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
 α-ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、IRGACURE-184、DAROCUR-1173、IRGACURE-500、IRGACURE-2959、IRGACURE-127(以上、BASF社製)などが挙げられる。α-アミノケトン化合物の市販品としては、IRGACURE-907、IRGACURE-369、IRGACURE-379、及び、IRGACURE-379EG(以上、BASF社製)などが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、IRGACURE-819、DAROCUR-TPO(以上、BASF社製)などが挙げられる。
 オキシム化合物としては、特開2001-233842号公報に記載の化合物、特開2000-80068号公報に記載の化合物、特開2006-342166号公報に記載の化合物、特開2016-21012号公報に記載などを用いることができる。本発明において好適に用いることができるオキシム化合物としては、例えば、3-ベンゾイルオキシイミノブタン-2-オン、3-アセトキシイミノブタン-2-オン、3-プロピオニルオキシイミノブタン-2-オン、2-アセトキシイミノペンタン-3-オン、2-アセトキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン、2-ベンゾイルオキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オン、3-(4-トルエンスルホニルオキシ)イミノブタン-2-オン、及び2-エトキシカルボニルオキシイミノ-1-フェニルプロパン-1-オンなどが挙げられる。また、J.C.S.Perkin II(1979年、pp.1653-1660)、J.C.S.Perkin II(1979年、pp.156-162)、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995年、pp.202-232)、特開2000-66385号公報、特開2000-80068号公報、特表2004-534797号公報、特開2006-342166号公報に記載の化合物等も挙げられる。市販品としては、IRGACURE-OXE01、IRGACURE-OXE02、IRGACURE-OXE03、IRGACURE-OXE04(以上、BASF社製)も好適に用いられる。また、TR-PBG-304(常州強力電子新材料有限公司製)、アデカオプトマーN-1919((株)ADEKA製、特開2012-14052号公報に記載の光重合開始剤2)も用いることができる。また、オキシム化合物としては、着色性が無い化合物や、透明性が高く変色し難い化合物を用いることも好ましい。市販品としては、アデカアークルズNCI-730、NCI-831、NCI-930(以上、(株)ADEKA製)などが挙げられる。
 本発明において、光重合開始剤として、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開2014-137466号公報に記載の化合物が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。
 本発明において、光重合開始剤として、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開2010-262028号公報に記載の化合物、特表2014-500852号公報に記載の化合物24、36~40、特開2013-164471号公報に記載の化合物(C-3)などが挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。
 本発明において、光重合開始剤として、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開2013-114249号公報の段落番号0031~0047、特開2014-137466号公報の段落番号0008~0012、0070~0079に記載されている化合物、特許4223071号公報の段落番号0007~0025に記載されている化合物、アデカアークルズNCI-831((株)ADEKA製)が挙げられる。
 本発明において、光重合開始剤として、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。具体例としては、国際公開WO2015/036910号公報に記載されるOE-01~OE-75が挙げられる。
 本発明は、光重合開始剤として、2官能あるいは3官能以上の光重合開始剤を用いてもよい。このような光重合開始剤を用いることにより、光重合開始剤の1分子から2つ以上のラジカルが発生するため、良好な感度が得られる。また、非対称構造の化合物を用いた場合においては、結晶性が低下して溶剤などへの溶解性が向上して、経時で析出しにくくなり、組成物の経時安定性を向上させることができる。2官能あるいは3官能以上の光重合開始剤の具体例としては、特表2010-527339号公報、特表2011-524436号公報、国際公開WO2015/004565号公報、特表2016-532675号公報の段落番号0417~0412、国際公開WO2017/033680号公報の段落番号0039~0055に記載されているオキシム化合物の2量体、特表2013-522445号公報に記載されている化合物(E)および化合物(G)、国際公開WO2016/034963号公報に記載されているCmpd1~7、特表2017-523465号公報の段落番号0007に記載されているオキシムエステル類光開始剤、特開2017-167399号公報の段落番号0020~0033に記載されている光開始剤、特開2017-151342号公報の段落番号0017~0026に記載されている光重合開始剤(A)などが挙げられる。
 本発明において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 光重合開始剤は、波長365nmにおけるモル吸光係数が2000L・mol-1・cm-1以上の化合物であることが好ましく、前述のモル吸光係数が5000L・mol-1・cm-1以上の化合物であることがより好ましく、前述のモル吸光係数が7000L・mol-1・cm-1以上の化合物であることが更に好ましく、前述のモル吸光係数が10000L・mol-1・cm-1以上の化合物であることが特に好ましい。
 なお、本発明において、光重合開始剤の波長365nmにおけるモル吸光係数は、光重合開始剤を溶剤に溶解させて、光重合開始剤の5mol%溶液(測定溶液)を調製し、前述の測定溶液の吸光度を測定することで算出した。具体的には、前述の測定溶液を幅1cmのガラスセルに入れ、Agilent Technologies社製UV-Vis-NIRスペクトルメーター(Cary5000)を用いて吸光度を測定し、下記式に当てはめて、波長365nmにおけるモル吸光係数(L・mol-1・cm-1)を算出した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000017

 上記式においてεはモル吸光係数(L・mol-1・cm-1)、Aは吸光度、cは測定溶液の濃度(mol/L)、lは光路長(cm)を表す。
 光重合開始剤のモル吸光係数の測定において、測定溶液の調製に用いる溶剤としては、アセトニトリル、クロロホルムが挙げられる。光重合開始剤がアセトニトリルに溶解する化合物である場合は、アセトニトリルを用いて測定溶液を調製する。光重合開始剤がアセトニトリルに溶解しないが、クロロホルムに溶解する化合物である場合は、クロロホルムを用いて測定溶液を調製する。また、光重合開始剤がアセトニトリルおよびクロロホルムに溶解しないが、ジメチルスルホキシドに溶解する化合物である場合は、ジメチルスルホキシドを用いて測定溶液を調製する。
 波長365nmにおけるモル吸光係数が5000L・mol-1・cm-1以上の光重合開始剤の好ましい例として、フッ素原子を有するオキシム化合物、ニトロ基を有するオキシム化合物、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物などが挙げられる。具体例としては、上記オキシム化合物の具体例に挙げた(C-13)、(C-15)、(C-16)の化合物、アデカアークルズNCI-831((株)ADEKA製)などが挙げられる。
 光重合開始剤は、オキシム化合物とα-アミノケトン化合物とを含むことも好ましい。両者を併用することで、現像性が向上し、矩形性に優れたパターンを形成しやすい。オキシム化合物とα-アミノケトン化合物とを併用する場合、オキシム化合物100質量部に対して、α-アミノケトン化合物が50~600質量部が好ましく、150~400質量部がより好ましい。
 光重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分に対し0.1~50質量%が好ましく、0.5~30質量%がより好ましく、1~20質量%が更に好ましい。光重合開始剤の含有量が上記範囲であれば、現像性が良好である。本発明の組成物は、光重合開始剤を1種類のみ含んでいてもよいし、2種類以上含んでいてもよい。光重合開始剤を2種類以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<樹脂>>
 本発明の組成物は、樹脂を含有することができる。本発明において樹脂は、例えば、顔料などの粒子を組成物中で分散させる用途やバインダーの用途で配合される。なお、主に顔料などの粒子を分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外の目的で樹脂を使用することもできる。
 樹脂の重量平均分子量(Mw)は、2,000~2,000,000が好ましい。上限は、1,000,000以下が好ましく、500,000以下がより好ましい。下限は、3,000以上が好ましく、5,000以上がより好ましい。
 樹脂としては、(メタ)アクリル樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂などが挙げられる。これらの樹脂から1種を単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。環状オレフィン樹脂としては、耐熱性向上の観点からノルボルネン樹脂が好ましく用いることができる。ノルボルネン樹脂の市販品としては、例えば、JSR(株)製のARTONシリーズ(例えば、ARTON F4520)などが挙げられる。エポキシ樹脂としては、例えばフェノール化合物のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族系エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂、エポキシ基をもつケイ素化合物とそれ以外のケイ素化合物との縮合物、エポキシ基を持つ重合性不飽和化合物とそれ以外の他の重合性不飽和化合物との共重合体等が挙げられる。また、マープルーフG-0150M、G-0105SA、G-0130SP、G-0250SP、G-1005S、G-1005SA、G-1010S、G-2050M、G-01100、G-01758(日油(株)製、エポキシ基含有ポリマー)などを用いることもできる。また、樹脂は、国際公開WO2016/088645号公報の実施例に記載された樹脂、特開2017-57265号公報に記載された樹脂、特開2017-32685号公報に記載された樹脂、特開2017-075248号公報に記載された樹脂、特開2017-066240号公報に記載された樹脂を用いることもでき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、フルオレン骨格を有する樹脂を好ましく用いることもできる。フルオレン骨格を有する樹脂としては、下記構造の樹脂が挙げられる。以下の構造式中、Aは、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物およびジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物から選択されるカルボン酸二無水物の残基であり、Mはフェニル基またはベンジル基である。フルオレン骨格を有する樹脂については、米国特許出願公開第2017/0102610号公報の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 本発明で用いる樹脂は、酸基を有していてもよい。酸基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられ、カルボキシル基が好ましい。これら酸基は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。酸基を有する樹脂はアルカリ可溶性樹脂として用いることもできる。
 酸基を有する樹脂としては、側鎖にカルボキシル基を有するポリマーが好ましい。具体例としては、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、ノボラック樹脂などのアルカリ可溶性フェノール樹脂、側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース誘導体、ヒドロキシル基を有するポリマーに酸無水物を付加させた樹脂が挙げられる。特に、(メタ)アクリル酸と、これと共重合可能な他のモノマーとの共重合体が、アルカリ可溶性樹脂として好適である。(メタ)アクリル酸と共重合可能な他のモノマーとしては、アルキル(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。アルキル(メタ)アクリレートおよびアリール(メタ)アクリレートとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、トリル(メタ)アクリレート、ナフチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート等、ビニル化合物としては、スチレン、α-メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、N-ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー等が挙げられる。また他のモノマーは、特開平10-300922号公報に記載のN位置換マレイミドモノマー、例えば、N-フェニルマレイミド、N-シクロヘキシルマレイミド等を用いることもできる。なお、これらの(メタ)アクリル酸と共重合可能な他のモノマーは1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。
 酸基を有する樹脂は、更に重合性基を有していてもよい。重合性基としては、アリル基、メタリル基、(メタ)アクリロイル基等が挙げられる。市販品としては、ダイヤナールNRシリーズ(三菱レイヨン(株)製)、Photomer6173(カルボキシル基含有ポリウレタンアクリレートオリゴマー、Diamond Shamrock Co.,Ltd.製)、ビスコートR-264、KSレジスト106(いずれも大阪有機化学工業株式会社製)、サイクロマーPシリーズ(例えば、ACA230AA)、プラクセル CF200シリーズ(いずれも(株)ダイセル製)、Ebecryl3800(ダイセルユーシービー(株)製)、アクリキュアーRD-F8((株)日本触媒製)などが挙げられる。
 酸基を有する樹脂は、ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重合体、ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート共重合体、ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/他のモノマーからなる多元共重合体が好ましく用いることができる。また、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートを共重合したもの、特開平7-140654号公報に記載の、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2-ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/メチルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2-ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体なども好ましく用いることができる。
 酸基を有する樹脂は、下記式(ED1)で示される化合物および/または下記式(ED2)で表される化合物(以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。)を含むモノマー成分に由来する繰り返し単位を含むポリマーであることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 式(ED1)中、RおよびRは、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数1~25の炭化水素基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 式(ED2)中、Rは、水素原子または炭素数1~30の有機基を表す。式(ED2)の詳細については、特開2010-168539号公報の記載を参酌できる。
 エーテルダイマーの具体例としては、例えば、特開2013-29760号公報の段落番号0317を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。エーテルダイマーは、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。
 酸基を有する樹脂は、下記式(X)で示される化合物に由来する繰り返し単位を含んでいてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 式(X)において、Rは、水素原子またはメチル基を表し、Rは炭素数2~10のアルキレン基を表し、Rは、水素原子またはベンゼン環を含んでもよい炭素数1~20のアルキル基を表す。nは1~15の整数を表す。
 酸基を有する樹脂については、特開2012-208494号公報の段落番号0558~0571(対応する米国特許出願公開第2012/0235099号明細書の段落番号0685~0700)の記載、特開2012-198408号公報の段落番号0076~0099の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、酸基を有する樹脂は市販品を用いることもできる。例えば、アクリベースFF-426(藤倉化成(株)製)などが挙げられる。
 酸基を有する樹脂の酸価は、30~200mgKOH/gが好ましい。下限は、50mgKOH/g以上が好ましく、70mgKOH/g以上がより好ましい。上限は、150mgKOH/g以下が好ましく、120mgKOH/g以下がより好ましい。
 酸基を有する樹脂としては、例えば下記構造の樹脂などが挙げられる。以下の構造式中、Meはメチル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 本発明の組成物は、分散剤としての樹脂を含むこともできる。分散剤は、酸性分散剤(酸性樹脂)、塩基性分散剤(塩基性樹脂)が挙げられる。ここで、酸性分散剤(酸性樹脂)とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性分散剤(酸性樹脂)は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を100モル%としたときに、酸基の量が70モル%以上を占める樹脂が好ましく、実質的に酸基のみからなる樹脂がより好ましい。酸性分散剤(酸性樹脂)が有する酸基は、カルボキシル基が好ましい。酸性分散剤(酸性樹脂)の酸価は、40~105mgKOH/gが好ましく、50~105mgKOH/gがより好ましく、60~105mgKOH/gがさらに好ましい。また、塩基性分散剤(塩基性樹脂)とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基性分散剤(塩基性樹脂)は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を100モル%としたときに、塩基性基の量が50モル%を超える樹脂が好ましい。塩基性分散剤が有する塩基性基は、アミノ基であることが好ましい。
 分散剤として用いる樹脂は、酸基を有する繰り返し単位を含むことが好ましい。分散剤として用いる樹脂が酸基を有する繰り返し単位を含むことにより、フォトリソグラフィ法によりパターン形成する際、画素の下地に発生する残渣をより低減することができる。
 分散剤として用いる樹脂は、グラフト共重合体であることも好ましい。グラフト共重合体は、グラフト鎖によって溶剤との親和性を有するために、顔料の分散性、及び、経時後の分散安定性に優れる。グラフト共重合体の詳細は、特開2012-255128号公報の段落番号0025~0094の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、グラフト共重合体の具体例は、下記の樹脂が挙げられる。以下の樹脂は酸基を有する樹脂(アルカリ可溶性樹脂)でもある。また、グラフト共重合体としては特開2012-255128号公報の段落番号0072~0094に記載の樹脂が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 また、本発明において、樹脂(分散剤)は、主鎖及び側鎖の少なくとも一方に窒素原子を含むオリゴイミン系分散剤を用いることも好ましい。オリゴイミン系分散剤としては、pKa14以下の官能基を有する部分構造Xを有する構造単位と、原子数40~10,000の側鎖Yを含む側鎖とを有し、かつ主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂が好ましい。塩基性窒素原子とは、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はない。オリゴイミン系分散剤については、特開2012-255128号公報の段落番号0102~0166の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。オリゴイミン系分散剤としては、下記構造の樹脂や、特開2012-255128号公報の段落番号0168~0174に記載の樹脂を用いることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、Disperbyk-111(BYKChemie社製)、ソルスパース76500(日本ルーブリゾール(株)製)などが挙げられる。また、特開2014-130338号公報の段落番号0041~0130に記載された顔料分散剤を用いることもでき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、上述した酸基を有する樹脂などを分散剤として用いることもできる。
 樹脂の含有量は、本発明の組成物の全固形分に対し、1~50質量%が好ましい。下限は、2質量%以上が好ましく、3質量%以上がより好ましく、5質量%以上が更に好ましく、10質量%以上が特に好ましい。上限は、40質量%以下がより好ましく、30質量%以下が更に好ましい。また、酸基を有する樹脂の含有量は、本発明の組成物の全固形分に対し、1~50質量%が好ましい。下限は、2質量%以上が好ましく、3質量%以上がより好ましく、5質量%以上が更に好ましく、10質量%以上が特に好ましい。上限は、40質量%以下がより好ましく、30質量%以下が更に好ましい。本発明の組成物は、樹脂を、1種のみを含んでいてもよいし、2種以上含んでいてもよい。2種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<顔料誘導体>>
 本発明の組成物は、更に顔料誘導体を含有することができる。顔料誘導体としては、顔料の一部を、酸基、塩基性基、塩構造を有する基又はフタルイミドメチル基で置換した構造を有する化合物が挙げられる。顔料誘導体としては、式(B1)で表される化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 式(B1)中、Pは色素構造を表し、Lは単結合または連結基を表し、Xは酸基、塩基性基、塩構造を有する基またはフタルイミドメチル基を表し、mは1以上の整数を表し、nは1以上の整数を表し、mが2以上の場合は複数のLおよびXは互いに異なっていてもよく、nが2以上の場合は複数のXは互いに異なっていてもよい。
 Pが表す色素構造としては、ピロロピロール色素構造、ジケトピロロピロール色素構造、キナクリドン色素構造、アントラキノン色素構造、ジアントラキノン色素構造、ベンゾイソインドール色素構造、チアジンインジゴ色素構造、アゾ色素構造、キノフタロン色素構造、フタロシアニン色素構造、ナフタロシアニン色素構造、ジオキサジン色素構造、ペリレン色素構造、ペリノン色素構造、ベンゾイミダゾロン色素構造、ベンゾチアゾール色素構造、ベンゾイミダゾール色素構造およびベンゾオキサゾール色素構造から選ばれる少なくとも1種が好ましく、ピロロピロール色素構造、ジケトピロロピロール色素構造、キナクリドン色素構造およびベンゾイミダゾロン色素構造から選ばれる少なくとも1種が更に好ましく、ピロロピロール色素構造が特に好ましい。
 Lが表す連結基としては、炭化水素基、複素環基、-NR-、-SO2-、-S-、-O-、-CO-もしくはこれらの組み合わせからなる基が挙げられる。Rは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。
 Xが表す酸基としては、カルボキシル基、スルホ基、カルボン酸アミド基、スルホン酸アミド基、イミド酸基等が挙げられる。カルボン酸アミド基としては、-NHCORX1で表される基が好ましい。スルホン酸アミド基としては、-NHSOX2で表される基が好ましい。イミド酸基としては、-SONHSOX3、-CONHSOX4、-CONHCORX5または-SONHCORX6で表される基が好ましい。RX1~RX6は、それぞれ独立に、炭化水素基または複素環基を表す。RX1~RX6が表す、炭化水素基および複素環基は、さらに置換基を有してもよい。さらなる置換基としては、上述した式(PP)で説明した置換基Tが挙げられ、ハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。Xが表す塩基性基としてはアミノ基が挙げられる。Xが表す塩構造としては、上述した酸基または塩基性基の塩が挙げられる。
 顔料誘導体としては、下記構造の化合物が挙げられる。また、特開昭56-118462号公報、特開昭63-264674号公報、特開平1-217077号公報、特開平3-9961号公報、特開平3-26767号公報、特開平3-153780号公報、特開平3-45662号公報、特開平4-285669号公報、特開平6-145546号公報、特開平6-212088号公報、特開平6-240158号公報、特開平10-30063号公報、特開平10-195326号公報、国際公開WO2011/024896号公報の段落番号0086~0098、国際公開WO2012/102399号公報の段落番号0063~0094、国際公開WO2017/038252号公報の段落番号0082等に記載の化合物、特許第5299151号公報に記載の化合物を用いることもでき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
 本発明の組成物が顔料誘導体を含有する場合、顔料誘導体の含有量は、顔料100質量部に対し、1~50質量部が好ましい。下限値は、3質量部以上が好ましく、5質量部以上がより好ましい。上限値は、40質量部以下が好ましく、30質量部以下がより好ましい。顔料誘導体の含有量が上記範囲であれば、顔料の分散性を高めて、顔料の凝集を効率よく抑制できる。顔料誘導体は1種のみを用いてもよく、2種以上を用いてもよい。2種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<溶剤>>
 本発明の組成物は、溶剤を含有することができる。溶剤としては、有機溶剤が挙げられる。溶剤は、各成分の溶解性や組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はない。有機溶剤の例としては、例えば、エステル類、エーテル類、ケトン類、芳香族炭化水素類などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開WO2015/166779号公報の段落番号0223を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤を好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、ジクロロメタン、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、2-ヘプタノン、シクロヘキサノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどが挙げられる。本発明において有機溶剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、3-メトキシ-N,N-ジメチルプロパンアミド、3-ブトキシ-N,N-ジメチルプロパンアミドも溶解性向上の観点から好ましい。ただし溶剤としての芳香族炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等)は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある(例えば、有機溶剤全量に対して、50質量ppm(parts per million)以下とすることもでき、10質量ppm以下とすることもでき、1質量ppm以下とすることもできる)。
 本発明においては、金属含有量の少ない溶剤を用いることが好ましく、溶剤の金属含有量は、例えば10質量ppb(parts per billion)以下であることが好ましい。必要に応じて質量ppt(parts per trillion)レベルの溶剤を用いてもよく、そのような高純度溶剤は例えば東洋合成社が提供している(化学工業日報、2015年11月13日)。
 溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留(分子蒸留や薄膜蒸留等)やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、10μm以下が好ましく、5μm以下がより好ましく、3μm以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフロロエチレン、ポリエチレンまたはナイロンが好ましい。
 溶剤は、異性体(原子数が同じであるが構造が異なる化合物)が含まれていてもよい。また、異性体は、1種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
 本発明において、有機溶剤は、過酸化物の含有率が0.8mmol/L以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
 溶剤の含有量は、組成物の全量に対し、10~90質量%であることが好ましく、20~80質量%であることがより好ましく、25~75質量%であることが更に好ましい。また、環境面等の理由により、硬化性組成物は、溶剤としての芳香族炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等)を含有しないことが好ましい場合もある。
<<重合禁止剤>>
 本発明の組成物は、重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、p-メトキシフェノール、ジ-tert-ブチル-p-クレゾール、ピロガロール、tert-ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’-チオビス(3-メチル-6-tert-ブチルフェノール)、2,2’-メチレンビス(4-メチル-6-t-ブチルフェノール)、N-ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩(アンモニウム塩、第一セリウム塩等)が挙げられる。中でも、p-メトキシフェノールが好ましい。重合禁止剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、0.001~5質量%が好ましい。
<<シランカップリング剤>>
 本発明の組成物は、シランカップリング剤を含有することができる。本発明において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応及び縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基としては、例えば、ビニル基、スチレン基、(メタ)アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、フェニル基などが挙げられ、(メタ)アクリロイル基およびエポキシ基が好ましい。シランカップリング剤は、特開2009-288703号公報の段落番号0018~0036に記載の化合物、特開2009-242604号公報の段落番号0056~0066に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
 シランカップリング剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、0.01~15.0質量%が好ましく、0.05~10.0質量%がより好ましい。シランカップリング剤は、1種類のみでもよく、2種類以上でもよい。2種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<界面活性剤>>
 本発明の組成物は、界面活性剤を含有させてもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用することができる。界面活性剤は、国際公開WO2015/166779号公報の段落番号0238~0245を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
 本発明において、界面活性剤は、フッ素系界面活性剤であることが好ましい。本発明の組成物にフッ素系界面活性剤を含有させることで液特性(特に、流動性)がより向上し、省液性をより改善することができる。また、厚みムラの小さい膜を形成することもできる。
 フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、3~40質量%が好適であり、より好ましくは5~30質量%であり、特に好ましくは7~25質量%である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。
 フッ素系界面活性剤として具体的には、特開2014-41318号公報の段落番号0060~0064(対応する国際公開2014/17669号公報の段落番号0060~0064)等に記載の界面活性剤、特開2011-132503号公報の段落番号0117~0132に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックF171、F172、F173、F176、F177、F141、F142、F143、F144、R30、F437、F475、F479、F482、F554、F780、EXP、MFS-330(以上、DIC(株)製)、フロラードFC430、FC431、FC171(以上、住友スリーエム(株)製)、サーフロンS-382、SC-101、SC-103、SC-104、SC-105、SC-1068、SC-381、SC-383、S-393、KH-40(以上、旭硝子(株)製)、PolyFox PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(以上、OMNOVA社製)等が挙げられる。
 また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造で、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、DIC(株)製のメガファックDSシリーズ(化学工業日報、2016年2月22日)(日経産業新聞、2016年2月23日)、例えばメガファックDS-21が挙げられる。
 また、フッ素系界面活性剤は、フッ素化アルキル基またはフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。このようなフッ素系界面活性剤は、特開2016-216602号公報の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
 フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。例えば特開2011-89090号公報に記載された化合物が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する(メタ)アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基(好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基)を2以上(好ましくは5以上)有する(メタ)アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは3,000~50,000であり、例えば、14,000である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す%はモル%である。
 また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開2010-164965号公報の段落番号0050~0090および段落番号0289~0295に記載された化合物、例えばDIC(株)製のメガファックRS-101、RS-102、RS-718K、RS-72-K等が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、特開2015-117327号公報の段落番号0015~0158に記載の化合物を用いることもできる。
 ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート(例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等)、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックL10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2(BASF社製)、テトロニック304、701、704、901、904、150R1(BASF社製)、ソルスパース20000(日本ルーブリゾール(株)製)、NCW-101、NCW-1001、NCW-1002(和光純薬工業(株)製)、パイオニンD-6112、D-6112-W、D-6315(竹本油脂(株)製)、オルフィンE1010、サーフィノール104、400、440(日信化学工業(株)製)などが挙げられる。
 界面活性剤の含有量は、本発明の組成物の全固形分に対して、0.001質量%~5.0質量%が好ましく、0.005~3.0質量%がより好ましい。界面活性剤は、1種類のみでもよく、2種類以上でもよい。2種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<紫外線吸収剤>>
 本発明の組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、共役ジエン化合物、アミノブタジエン化合物、メチルジベンゾイル化合物、クマリン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物などを用いることができる。これらの詳細については、特開2012-208374号公報の段落番号0052~0072、特開2013-68814号公報の段落番号0317~0334の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。共役ジエン化合物の市販品としては、例えば、UV-503(大東化学(株)製)などが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としてはミヨシ油脂製のMYUAシリーズ(化学工業日報、2016年2月1日)を用いてもよい。紫外線吸収剤としては、式(UV-1)~式(UV-3)で表される化合物が好ましく、式(UV-1)または式(UV-3)で表される化合物がより好ましく、式(UV-1)で表される化合物が更に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
 式(UV-1)において、R101及びR102は、各々独立に、置換基を表し、m1およびm2は、それぞれ独立して0~4を表す。式(UV-2)において、R201及びR202は、各々独立に、水素原子またはアルキル基を表し、R203及びR204は、各々独立に、置換基を表す。式(UV-3)において、R301~R303は、各々独立に、水素原子またはアルキル基を表し、R304及びR305は、各々独立に、置換基を表す。
 式(UV-1)~式(UV-3)で表される化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 本発明の組成物において、紫外線吸収剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、0.01~10質量%が好ましく、0.01~5質量%がより好ましい。本発明において、紫外線吸収剤は1種のみを用いてもよく、2種以上を用いてもよい。2種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<酸化防止剤>>
 本発明の組成物は、酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物などが挙げられる。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。フェノール性水酸基に隣接する部位(オルト位)に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数1~22の置換又は無置換のアルキル基が好ましい。また、酸化防止剤は、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。また、酸化防止剤は、リン系酸化防止剤も好適に使用することができる。リン系酸化防止剤としてはトリス[2-[[2,4,8,10-テトラキス(1,1-ジメチルエチル)ジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン-6-イル]オキシ]エチル]アミン、トリス[2-[(4,6,9,11-テトラ-tert-ブチルジベンゾ[d,f][1,3,2]ジオキサホスフェピン-2-イル)オキシ]エチル]アミン、亜リン酸エチルビス(2,4-ジ-tert-ブチル-6-メチルフェニル)などが挙げられる。酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブ AO-20、アデカスタブ AO-30、アデカスタブ AO-40、アデカスタブ AO-50、アデカスタブ AO-50F、アデカスタブ AO-60、アデカスタブ AO-60G、アデカスタブ AO-80、アデカスタブ AO-330(以上、(株)ADEKA)などが挙げられる。また、酸化防止剤として、国際公開WO17/006600号公報に記載された多官能ヒンダードアミン酸化防止剤を用いることもできる。
 本発明の組成物において、酸化防止剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、0.01~20質量%であることが好ましく、0.3~15質量%であることがより好ましい。酸化防止剤は1種のみを用いてもよく、2種以上を用いてもよい。2種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<その他成分>>
 本発明の組成物は、必要に応じて、増感剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、可塑剤及びその他の助剤類(例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など)を含有してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、膜物性などの性質を調整することができる。これらの成分は、例えば、特開2012-003225号公報の段落番号0183以降(対応する米国特許出願公開第2013/0034812号明細書の段落番号0237)の記載、特開2008-250074号公報の段落番号0101~0104、0107~0109等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
 また、本発明の組成物は、必要に応じて、潜在酸化防止剤を含有してもよい。潜在酸化防止剤とは、酸化防止剤として機能する部位が保護基で保護された化合物であって、100~250℃で加熱するか、又は酸/塩基触媒存在下で80~200℃で加熱することにより保護基が脱離して酸化防止剤として機能する化合物である。潜在酸化防止剤としては国際公開WO2014/021023号公報、国際公開WO2017/030005号公報、特開2017-008219号公報に記載された化合物が挙げられる。市販品としては、アデカアークルズGPA-5001((株)ADEKA製)等が挙げられる。
 本発明の組成物の粘度(23℃)は、例えば、塗布により膜を形成する場合、1~100mPa・sであることが好ましい。下限は、2mPa・s以上がより好ましく、3mPa・s以上が更に好ましい。上限は、50mPa・s以下がより好ましく、30mPa・s以下が更に好ましく、15mPa・s以下が特に好ましい。
 本発明の組成物の固形分濃度は、12~28質量%であることが好ましく、15~25質量%であることがより好ましい。組成物の固形分濃度が上記範囲であれば、塗布性が良好である。
 本発明の組成物は、以下の(1)~(3)のいずれかの分光特性を満たしていることがより好ましい。
 (1):波長400~750nmの範囲における吸光度の最小値A1と、波長900~1300nmの範囲における吸光度の最大値B1との比であるA1/B1が5以上であり、7.5以上であることが好ましく、15以上であることがより好ましく、30以上であることが更に好ましい。この態様によれば、波長400~750nmの範囲の光を遮光して、波長850nmを超える赤外線を透過可能な膜を形成することができる。
 (2):波長400~830nmの範囲における吸光度の最小値A2と、波長1000~1300nmの範囲における吸光度の最大値B2との比であるA2/B2が5以上であり、7.5以上であることが好ましく、15以上であることがより好ましく、30以上であることが更に好ましい。この態様によれば、波長400~830nmの範囲の光を遮光して、波長940nmを超える赤外線を透過可能な膜を形成することができる。
 (3):波長400~950nmの範囲における吸光度の最小値A3と、波長1100~1300nmの範囲における吸光度の最大値B3との比であるA3/B3が5以上であり、7.5以上であることが好ましく、15以上であることがより好ましく、30以上であることが更に好ましい。この態様によれば、波長400~950nmの範囲の光を遮光して、波長1040nmを超える赤外線を透過可能な膜を形成することができる。
 本発明の組成物は、乾燥後の膜厚が1μm、2μm、3μm、4μmまたは5μmの膜を製膜した際に、膜の厚み方向における光の透過率の、波長400~750nmの範囲における最大値が20%以下であり、膜の厚み方向における光の透過率の、波長1100~1300nmの範囲における最小値が70%以上である分光特性を満たしていることが好ましい。波長400~750nmの範囲における最大値は、15%以下がより好ましく、10%以下がより好ましい。波長1100~1300nmの範囲における最小値は、75%以上がより好ましく、80%以上がより好ましい。
 また、本発明の組成物は、以下の(1)~(3)のいずれかの分光特性を満たしていることがより好ましい。
 (1):乾燥後の膜厚が1μm、2μm、3μm、4μmまたは5μmの膜を製膜した際に、膜の厚み方向における光の透過率の、波長400~750nmの範囲における最大値が20%以下(好ましくは15%以下、より好ましくは10%以下)であり、膜の厚み方向における光の透過率の、波長900~1300nmの範囲における最小値が70%以上(好ましくは75%以上、より好ましくは80%以上)である態様。
 (2):乾燥後の膜厚が1μm、2μm、3μm、4μmまたは5μmの膜を製膜した際に、膜の厚み方向における光の透過率の、波長400~830nmの範囲における最大値が20%以下(好ましくは15%以下、より好ましくは10%以下)であり、膜の厚み方向における光の透過率の、波長1000~1300nmの範囲における最小値が70%以上(好ましくは75%以上、より好ましくは80%以上)である態様。
 (3):乾燥後の膜厚が1μm、2μm、3μm、4μmまたは5μmの膜を製膜した際に、膜の厚み方向における光の透過率の、波長400~950nmの範囲における最大値が20%以下(好ましくは15%以下、より好ましくは10%以下)であり、膜の厚み方向における光の透過率の、波長1100~1300nmの範囲における最小値が70%以上(好ましくは75%以上、より好ましくは80%以上)である態様。
 本発明の組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収容容器として、原材料や組成物中への不純物混入を抑制することを目的に、容器内壁を6種6層の樹脂で構成する多層ボトルや6種の樹脂を7層構造にしたボトルを使用することも好ましい。このような容器としては例えば特開2015-123351号公報に記載の容器が挙げられる。
 本発明の組成物の用途は、特に限定されない。例えば、赤外線透過フィルタなどの形成に好ましく用いることができる。
<組成物の調製方法>
 本発明の組成物は、前述の成分を混合して調製できる。組成物の調製に際しては、全成分を同時に溶剤に溶解または分散して組成物を調製してもよいし、必要に応じては、各成分を適宜配合した2つ以上の溶液または分散液をあらかじめ調製し、使用時(塗布時)にこれらを混合して組成物として調製してもよい。
 また、本発明の組成物が顔料などの粒子を含む場合は、粒子を分散させるプロセスを含むことが好ましい。粒子を分散させるプロセスにおいて、粒子の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、キャビテーションなどが挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、超音波分散などが挙げられる。またサンドミル(ビーズミル)における粒子の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくする事等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。また、粉砕処理後にろ過、遠心分離などで粗粒子を除去することが好ましい。また、粒子を分散させるプロセスおよび分散機は、「分散技術大全、株式会社情報機構発行、2005年7月15日」や「サスペンション(固/液分散系)を中心とした分散技術と工業的応用の実際 総合資料集、経営開発センター出版部発行、1978年10月10日」、特開2015-157893号公報の段落番号0022に記載のプロセス及び分散機を好適に使用出来る。また粒子を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて粒子の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、処理条件等は、例えば特開2015-194521号公報、特開2012-046629号公報の記載を参酌できる。
 組成物の調製にあたり、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、組成物をフィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルタであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)等のフッ素樹脂、ナイロン(例えばナイロン-6、ナイロン-6,6)等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン(PP)等のポリオレフィン樹脂(高密度、超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む)等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン(高密度ポリプロピレンを含む)およびナイロンが好ましい。
 フィルタの孔径は、0.01~7.0μm程度が適しており、好ましくは0.01~3.0μm程度であり、更に好ましくは0.05~0.5μm程度である。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物を確実に除去できる。また、ファイバ状のろ材を用いることも好ましい。ファイバ状のろ材としては、例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられる。具体的には、ロキテクノ社製のSBPタイプシリーズ(SBP008など)、TPRタイプシリーズ(TPR002、TPR005など)、SHPXタイプシリーズ(SHPX003など)のフィルタカートリッジが挙げられる。
 フィルタを使用する際、異なるフィルタ(例えば、第1のフィルタと第2のフィルタなど)を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、1回のみでもよいし、2回以上行ってもよい。
 また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社(DFA4201NXEYなど)、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社(旧日本マイクロリス株式会社)又は株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。
 第2のフィルタは、第1のフィルタと同様の素材等で形成されたものを使用することができる。
 また、第1のフィルタでのろ過は、分散液のみに対して行い、他の成分を混合した後で、第2のフィルタでろ過を行ってもよい。
<膜>
 次に、本発明の膜について説明する。本発明の膜は、上述した本発明の組成物から得られるものである。本発明の膜は、赤外線透過フィルタとして好ましく用いることができる。
 本発明の膜は、膜の厚み方向における光の透過率の、波長400~750nmの範囲における最大値が20%以下であり、膜の厚み方向における光の透過率の、波長1100~1300nmの範囲における最小値が70%以上である分光特性を満たしていることが好ましい。波長400~750nmの範囲における最大値は、15%以下がより好ましく、10%以下がより好ましい。波長1100~1300nmの範囲における最小値は、75%以上がより好ましく、80%以上がより好ましい。
 本発明の膜は、以下の(1)~(3)のいずれかの分光特性を満たしていることがより好ましい。
 (1):膜の厚み方向における光の透過率の、波長400~750nmの範囲における最大値が20%以下(好ましくは15%以下、より好ましくは10%以下)であり、膜の厚み方向における光の透過率の、波長900~1300nmの範囲における最小値が70%以上(好ましくは75%以上、より好ましくは80%以上)である態様。この態様によれば、波長400~750nmの範囲の光を遮光して、波長850nmを超える赤外線を透過可能な膜とすることができる。
 (2):膜の厚み方向における光の透過率の、波長400~830nmの範囲における最大値が20%以下(好ましくは15%以下、より好ましくは10%以下)であり、膜の厚み方向における光の透過率の、波長1000~1300nmの範囲における最小値が70%以上(好ましくは75%以上、より好ましくは80%以上)である態様。この態様によれば、波長400~830nmの範囲の光を遮光して、波長940nmを超える赤外線を透過可能な膜とすることができる。
 (3):膜の厚み方向における光の透過率の、波長400~950nmの範囲における最大値が20%以下(好ましくは15%以下、より好ましくは10%以下)であり、膜の厚み方向における光の透過率の、波長1100~1300nmの範囲における最小値が70%以上(好ましくは75%以上、より好ましくは80%以上)である態様。この態様によれば、波長400~950nmの範囲の光を遮光して、波長1040nmを超える赤外線を透過可能な膜とすることができる。
 本発明の膜の膜厚は、目的に応じて適宜調整できる。100μm以下が好ましく、15μm以下がより好ましく、5μm以下がさらに好ましく、1μm以下が特に好ましい。膜厚の下限は、0.1μm以上が好ましく、0.2μm以上がより好ましく、0.3μm以上が更に好ましい。
 本発明の膜は、CCD(電荷結合素子)やCMOS(相補型金属酸化膜半導体)などの固体撮像素子や、赤外線センサ、画像表示装置などの各種装置に用いることができる。
<膜の製造方法>
 次に、本発明の膜の製造方法について説明する。本発明の膜は、本発明の組成物を塗布する工程を経て製造できる。
 本発明の膜の製造方法において、組成物は支持体上に塗布することが好ましい。支持体としては、例えば、シリコン、無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、石英ガラスなどの材質で構成された基板が挙げられる。これらの基板には、有機膜や無機膜など形成されていてもよい。有機膜の材料としては、例えば上述した組成物の欄で説明した樹脂が挙げられる。また、支持体としては、樹脂で構成された基板を用いることもできる。また、支持体には、電荷結合素子(CCD)、相補型金属酸化膜半導体(CMOS)、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、支持体には、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されている場合もある。また、支持体には、必要により、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。また、支持体としてガラス基板を用いる場合においては、ガラス基板上に無機膜を形成したり、ガラス基板を脱アルカリ処理して用いることが好ましい。
 組成物の塗布方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法(ドロップキャスト);スリットコート法;スプレー法;ロールコート法;回転塗布法(スピンコート法);流延塗布法;スリットアンドスピン法;プリウェット法(たとえば、特開2009-145395号公報に記載されている方法);インクジェット(例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式)、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法;金型等を用いた転写法;ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット-特許に見る無限の可能性-、2005年2月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法(特に115ページ~133ページ)や、特開2003-262716号公報、特開2003-185831号公報、特開2003-261827号公報、特開2012-126830号公報、特開2006-169325号公報などに記載の方法が挙げられる。また、スピンコート法での塗布は、1000~2000rpmの回転数で行うことが好ましい。また、スピンコート法での塗布は、特開平10-142603号公報、特開平11-302413号公報、特開2000-157922号公報に記載されているように、回転速度を塗布中に高めても良い。また「最先端カラーフィルターのプロセス技術とケミカルス」2006年1月31日、シーエムシー出版記載のスピンコートプロセスも好適に使用することができる。
 組成物を塗布して形成した組成物層は、乾燥(プリベーク)してもよい。低温プロセスによりパターンを形成する場合は、プリベークを行わなくてもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、150℃以下が好ましく、120℃以下がより好ましく、110℃以下が更に好ましい。下限は、例えば、50℃以上とすることができ、80℃以上とすることもできる。プリベーク温度を150℃以下で行うことにより、例えば、イメージセンサの光電変換膜を有機素材で構成した場合において、これらの特性をより効果的に維持することができる。
 プリベーク時間は、10秒~3000秒が好ましく、40~2500秒がより好ましく、80~220秒がさらに好ましい。乾燥は、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。
 本発明の膜の製造方法においては、更にパターンを形成する工程を含むことが好ましい。パターン形成方法としては、フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成方法が好ましい。フォトリソグラフィ法でのパターン形成方法は、本発明の組成物を塗布して形成した組成物層に対しパターン状に露光する工程(露光工程)と、未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する工程(現像工程)と、を含むことが好ましい。必要に応じて、現像されたパターンをベークする工程(ポストベーク工程)を設けてもよい。以下、各工程について説明する。
 露光工程では組成物層をパターン状に露光する。例えば、組成物層に対し、ステッパー等の露光装置を用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、組成物層をパターン露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。露光に際して用いることができる放射線(光)としては、g線、i線等の紫外線が好ましく、i線がより好ましい。照射量(露光量)は、例えば、0.03~2.5J/cmが好ましく、0.05~1.0J/cmがより好ましく、0.08~0.5J/cmが最も好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が19体積%以下の低酸素雰囲気下(例えば、15体積%、5体積%、実質的に無酸素)で露光してもよく、酸素濃度が21体積%を超える高酸素雰囲気下(例えば、22体積%、30体積%、50体積%)で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常1000W/m~100000W/m(例えば、5000W/m、15000W/m、35000W/m)の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度10体積%で照度10000W/m、酸素濃度35体積%で照度20000W/mなどとすることができる。
 次に、露光後の組成物層における未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する。未露光部の組成物層の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが支持体上に残る。現像液としては、下地の固体撮像素子や回路などにダメージを与えない、アルカリ現像液が望ましい。現像液の温度は、例えば、20~30℃が好ましい。現像時間は、20~180秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を60秒ごとに振り切り、更に新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。
 現像液に用いるアルカリ剤としては、例えば、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス(2-ヒドロキシエチル)アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。アルカリ剤は、分子量が大きい化合物の方が環境面および安全面で好ましい。現像液は、これらのアルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液が好ましく使用される。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、0.001~10質量%が好ましく、0.01~1質量%がより好ましい。また、現像液には、界面活性剤を含有させて用いてもよい。界面活性剤の例としては、上述した界面活性剤が挙げられ、ノニオン系界面活性剤が好ましい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば1.5~100倍の範囲に設定することができる。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、現像後純水で洗浄(リンス)することが好ましい。
 現像後、乾燥を施した後に加熱処理(ポストベーク)を行うこともできる。ポストベークは、膜の硬化を完全なものとするための現像後の加熱処理である。ポストベークを行う場合、ポストベーク温度は、例えば100~240℃が好ましい。膜硬化の観点から、200~230℃がより好ましい。また、発光光源として有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)素子を用いた場合や、イメージセンサの光電変換膜を有機素材で構成した場合は、ポストベーク温度は、150℃以下が好ましく、120℃以下がより好ましく、100℃以下が更に好ましく、90℃以下が特に好ましい。下限は、例えば、50℃以上とすることができる。ポストベークは、現像後の膜に対して、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン(熱風循環式乾燥機)、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。また、低温プロセスによりパターンを形成する場合は、ポストベークは行わなくてもよい。
<赤外線透過フィルタ>
 次に、本発明の赤外線透過フィルタについて説明する。本発明の赤外線透過フィルタは、上述した本発明の膜を有する。
 本発明の赤外線透過フィルタは、有彩色着色剤を含むカラーフィルタと組み合わせて用いることもできる。カラーフィルタは、有彩色着色剤を含む着色組成物を用いて製造できる。有彩色着色剤としては、本発明の組成物で説明した有彩色着色剤が挙げられる。着色組成物は、樹脂、重合性化合物、光重合開始剤、界面活性剤、溶剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤などを更に含有することができる。これらの詳細については、本発明の組成物で説明した材料が挙げられ、それらを用いることができる。
 また、本発明の赤外線透過フィルタは、本発明の膜の画素と、赤、緑、青、マゼンタ、黄、シアン、黒および無色から選ばれる画素とを有する態様も好ましい態様である。
<固体撮像素子>
 本発明の固体撮像素子は、上述した本発明の膜を含む。固体撮像素子の構成としては、本発明の膜を有する構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はない。例えば、以下のような構成が挙げられる。
 支持体上に、固体撮像素子の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本発明における膜を有する構成である。さらに、デバイス保護膜上であって、本発明における膜の下(支持体に近い側)に集光手段(例えば、マイクロレンズ等。以下同じ)を有する構成や、本発明における膜上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、カラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各画素を形成する膜が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は各画素よりも低屈折率であることが好ましい。このような構造を有する撮像装置の例としては、特開2012-227478号公報、特開2014-179577号公報に記載の装置が挙げられる。
<画像表示装置>
 本発明の画像表示装置は、本発明の膜を含む。画像表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス(佐々木 昭夫著、(株)工業調査会 1990年発行)」、「ディスプレイデバイス(伊吹 順章著、産業図書(株)平成元年発行)」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術(内田 龍男編集、(株)工業調査会 1994年発行)」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。画像表示装置は、白色有機EL素子を有するものであってもよい。白色有機EL素子としては、タンデム構造であることが好ましい。有機EL素子のタンデム構造については、特開2003-45676号公報、三上明義監修、「有機EL技術開発の最前線-高輝度・高精度・長寿命化・ノウハウ集-」、技術情報協会、326-328ページ、2008年などに記載されている。有機EL素子が発光する白色光のスペクトルは、青色領域(430nm-485nm)、緑色領域(530nm-580nm)及び黄色領域(580nm-620nm)に強い極大発光ピークを有するものが好ましい。これらの発光ピークに加え更に赤色領域(650nm-700nm)に極大発光ピークを有するものがより好ましい。
<赤外線センサ>
 本発明の赤外線センサは、上述した本発明の膜を含む。赤外線センサの構成としては、赤外線センサとして機能する構成であれば特に限定はない。以下、本発明の赤外線センサの一実施形態について、図面を用いて説明する。
 図1において、符号110は、固体撮像素子である。固体撮像素子110上に設けられている撮像領域は、近赤外線カットフィルタ111と、赤外線透過フィルタ114とを有する。また、近赤外線カットフィルタ111上には、カラーフィルタ112が積層している。カラーフィルタ112および赤外線透過フィルタ114の入射光hν側には、マイクロレンズ115が配置されている。マイクロレンズ115を覆うように平坦化層116が形成されている。
 近赤外線カットフィルタ111の分光特性は、使用する赤外発光ダイオード(赤外LED)の発光波長に応じて選択される。カラーフィルタ112は、可視領域における特定波長の光を透過及び吸収する画素が形成されたカラーフィルタであって、特に限定はなく、従来公知の画素形成用のカラーフィルタを用いることができる。例えば、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の画素が形成されたカラーフィルタなどが用いられる。例えば、特開2014-043556号公報の段落番号0214~0263の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。赤外線透過フィルタ114は、使用する赤外LEDの発光波長に応じてその特性が選択される。
 図1に示す赤外線センサにおいて、平坦化層116上には、近赤外線カットフィルタ111とは別の近赤外線カットフィルタ(他の近赤外線カットフィルタ)がさらに配置されていてもよい。他の近赤外線カットフィルタとしては、銅を含有する層および/または誘電体多層膜を有するものなどが挙げられる。これらの詳細については、上述したものが挙げられる。また、他の近赤外線カットフィルタとしては、デュアルバンドパスフィルタを用いてもよい。
 以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「%」は、質量基準である。
[試験例1]
<分散液の調製>
 下記の表に記載の原料を混合したのち、直径0.3mmのジルコニアビーズ230質量部を加えて、ペイントシェーカーを用いて5時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して分散液を製造した。下記の表に記載の数値は質量部である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000030
<組成物の調製>
 下記の表に記載の原料を混合して、組成物(硬化性組成物)を調製した。下記の表に記載の数値は質量部である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000032
 上記表に記載の原料は以下の通りである。
(近赤外線吸収剤)
K1、K2:下記構造の化合物。以下の式中、Meはメチル基を表し、Phはフェニル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
(着色剤)
 PR254 : C.I.Pigment Red 254
 PY139 : C.I.Pigment Yellow 139
 PY150 : C.I.Pigment Yellow 150
 PB15:6 : C.I.Pigment Blue 15:6
 PV23 : C.I.Pigment Violet 23
 PBk32: C.I.Pigment Black 32
 IB: Irgaphor Black(BASF社製、下記構造の化合物)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 金属アゾ顔料A1:以下の方法で製造した金属アゾ顔料A1
 46.2gのジアゾバルビツール酸および38.4gのバルビツール酸を、85℃の蒸留水の1100g中に添加した。次いで、この溶液に水酸化カリウム水溶液を添加してpHを約5とした後、90分間攪拌してアゾバルビツール酸前駆体を製造した。次いで、上記の方法に従って製造されたアゾバルビツール酸前駆体に、82℃の蒸留水の1500gを添加した。次いで、10gの30%塩酸を滴下により添加した。次いで、79.4gのメラミンを添加した。次いで、0.282モルの約25%塩化亜鉛溶液と、0.0015モルの約30%塩化銅(II)溶液との混合物を滴下により添加した。次いで、これらを添加した溶液を82℃の温度で3時間保持した後、KOHを添加してpHを約5.5とした。次いで、この溶液の温度を90℃に昇温し、90℃の温度を維持しつつ、100gの蒸留水を添加して希釈した。次いで、この溶液に21gの30%塩酸を滴下により添加した後、90℃の温度で12時間加熱処理した。次いで、加熱処理後の溶液に水酸化カリウム水溶液を添加してpHを約5とした。次いで、この溶液から顔料を吸引フィルタ上で単離し、洗浄し、80℃での真空乾燥キャビネット中で乾燥させた後、標準実験室ミルで約2分間すり潰して金属アゾ顔料A1を製造した。
(顔料誘導体)
 B1、K3、K4:下記構造の化合物。以下の構造式中、Phはフェニル基を表し、Meはメチル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
(分散剤)
 C1:下記構造の樹脂。主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Mw=20,000。
 C2:下記構造の樹脂。主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Mw=24,000。
 C3:下記構造の樹脂。主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。Mw=20,000。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
(樹脂)
 P1:下記構造の樹脂(Mw=11,000、主鎖に付記した数値はモル比である。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
 P2:下記構造の樹脂。(Mw=4400、酸価=95mgKOH/g、以下の構造式中、Mはフェニル基であり、Aはビフェニルテトラカルボン酸無水物残基である。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
(重合性化合物)
 D1:下記構造の化合物(a+b+c=3)
 D2:下記構造の化合物(a+b+c=4)
 D3:下記構造の化合物の混合物(a+b+c=5の化合物:a+b+c=6の化合物=3:1(モル比))
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
 D4:下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
 D5:下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
 D6:下記構造の化合物(左側化合物と右側化合物とのモル比が7:3の混合物)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
 D7:下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
D8:下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
D9:下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
(光重合開始剤)
 I1:下記構造の化合物(波長365nmにおけるモル吸光係数=4800L・mol-1・cm-1
 I2:下記構造の化合物(波長365nmにおけるモル吸光係数=18900L・mol-1・cm-1
 I3:下記構造の化合物(波長365nmにおけるモル吸光係数=5000L・mol-1・cm-1以上)
 I4:下記構造の化合物(波長365nmにおけるモル吸光係数=3000Lmol-1・cm-1
 I5:下記構造の化合物(波長365nmにおけるモル吸光係数=5000L・mol-1・cm-1以上)
 I6:特表2017-523465の段落番号0007に記載の化合物NO.12(波長365nmにおけるモル吸光係数=5000L・mol-1・cm-1以上)
 I7:特表2017-523465の段落番号0007に記載の化合物NO.14(波長365nmにおけるモル吸光係数=5000L・mol-1・cm-1以上)
 I8:特表2017-523465の段落番号0007に記載の化合物NO.24(波長365nmにおけるモル吸光係数=5000L・mol-1・cm-1以上)
 I9:特表2017-523465の段落番号0007に記載の化合物NO.31(波長365nmにおけるモル吸光係数=5000L・mol-1・cm-1以上)
 I10:特表2017-523465の段落番号0007に記載の化合物NO.49(波長365nmにおけるモル吸光係数=5000L・mol-1・cm-1以上)
 I11:特開2017-151342の段落番号0025に記載の式(2)の化合物(波長365nmにおけるモル吸光係数=5000L・mol-1・cm-1以上)
 I12:特開2017-167399の段落番号0030に記載の化合物6(波長365nmにおけるモル吸光係数=5000L・mol-1・cm-1以上)
 I13:特表2016-532675の段落番号0407の化65に式(I)の化合物(波長365nmにおけるモル吸光係数=5000L・mol-1・cm-1以上)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
(界面活性剤)
 F1:下記混合物(Mw=14000)。下記の式中、繰り返し単位の割合を示す%はモル%である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
(重合禁止剤)
 G1:p-メトキシフェノール
(溶剤)
 J1:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)
 J2:シクロヘキサノン
 J3:3-メトキシ-N,N-ジメチルプロパンアミド
 J4:3-ブトキシ-N,N-ジメチルプロパンアミド
<吸光度および分光特性>
 各組成物をガラス基板上にスピンコートし、ポストベーク後の膜厚が下記表に記載の膜厚となるように塗布し、100℃、120秒間ホットプレートで乾燥した後、さらに、200℃のホットプレートを用いて300秒間加熱処理(ポストベーク)を行い、膜を形成した。膜が形成されたガラス基板を、紫外可視近赤外分光光度計U-4100(日立ハイテク製)を用いて、波長400~750nmの範囲における吸光度の最小値A、波長1100~1300nmの範囲における吸光度の最大値Bを測定した。
<密着性の評価>
 8インチ(20.32cm)のシリコンウエハ上に、CT-4000L(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)をスピンコートで均一に塗布して塗布膜を形成し、形成された塗布膜を220℃のオーブンで1時間処理し、塗布膜を硬化させ、下塗り層を形成した。なお、スピンコートの塗布回転数は、加熱処理後の塗布膜の膜厚が約0.1μmとなるように調整した。
 次に、上記で得た各組成物を、上記シリコンウエハの下塗り層上に、乾燥後膜厚が下記表に記載の膜厚となるようにスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレートを用いて100℃で120秒間乾燥した。
 次に、i線ステッパー露光装置FPA-i5+(キヤノン(株)製)を使用して、塗布膜に365nmの波長の光を、1.0μm四方または1.1μm四方のアイランドパターンを有するマスクを通し、50~1700mJ/cmの露光量で照射した。露光後、アルカリ現像液(CD-2000、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)を使用して、25℃40秒間の条件で現像した。その後、流水で30秒間リンスした後、スプレー乾燥し、パターンを得た。
 得られたパターンについて、走査型電子顕微鏡((株)日立製作所製S-9220)を用いてパターン上方から観察し、パターンサイズ計測を行った。また光学顕微鏡を用いて以下の基準で密着性の評価を行った。
 5:密着している画素の最小サイズがマスクの設計寸法に対して90%以下である
 4:密着している画素の最小サイズがマスクの設計寸法に対して90%を超え、99%以下である
 3:密着している画素の最小サイズがマスクの設計寸法に対して99%を超え、105%以下である
 2:密着している画素の最小サイズがマスクの設計寸法に対して105%を超え、110%以下である
 1:マスクの設計寸法に対して110%を超えるパターンの一部が密着していなかった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000049
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000050
 上記表に示すように、実施例の組成物は密着性に優れたパターンを形成することができた。また、実施例の組成物を用いて形成した膜を公知の方法に従い固体撮像素子に組み込んだ。得られた固体撮像素子について、低照度の環境下(0.001Lux)で赤外発光ダイオード(赤外LED)光源から光を照射し、画像の取り込みを行い、画像性能を評価した。画像上で被写体をはっきりと認識できた。また、入射角依存性が良好であった。
[試験例2]
 近赤外線カットフィルタ形成用組成物を、製膜後の膜厚が1.0μmになるように、シリコンウエハ上にスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて、100℃で2分間加熱した。次いで、i線ステッパー露光装置FPA-3000i5+(Canon(株)製)を用い、1000mJ/cmの露光量にて、2μm四方のベイヤーパターンを有するマスクを介して露光した。
 次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)0.3質量%水溶液を用い、23℃で60秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、さらに純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用いて、200℃で5分間加熱することで2μm四方のベイヤーパターン(近赤外線カットフィルタ)を形成した。
 次に、近赤外線カットフィルタのベイヤーパターン上に、Red組成物を製膜後の膜厚が1.0μmになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用い、100℃で2分間加熱した。次いで、i線ステッパー露光装置FPA-3000i5+(Canon(株)製)を用い、1000mJ/cmの露光量にて、2μm四方のベイヤーパターンを有するマスクを介して露光した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)0.3質量%水溶液を用い、23℃で60秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、さらに純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用い、200℃で5分間加熱することで、近赤外線カットフィルタのベイヤーパターン上にRed組成物をパターニングした。同様にGreen組成物、Blue組成物を順次パターニングし、赤、緑および青の着色パターンを形成した。
 次に、上記パターン形成した膜上に、実施例1~12の組成物を、製膜後の膜厚が2.0μmになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて100℃で2分間加熱した。次いで、i線ステッパー露光装置FPA-3000i5+(Canon(株)製)を用い、1000mJ/cmの露光量にて、2μm四方のベイヤーパターンを有するマスクを介して露光した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)0.3質量%水溶液を用い、23℃で60秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、さらに純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用いて、200℃で5分間加熱することで、近赤外線カットフィルタのベイヤーパターンの抜け部分に、赤外線透過フィルタのパターニングを行った。これを公知の方法に従い固体撮像素子に組み込んだ。
 得られた固体撮像素子について、低照度の環境下(0.001Lux)で赤外発光ダイオード(赤外LED)光源から光を照射し、画像の取り込みを行い、画像性能を評価した。画像上で被写体をはっきりと認識できた。また、入射角依存性が良好であった。
 試験例2で使用したRed組成物、Green組成物、Blue組成物および近赤外線カットフィルタ形成用組成物は以下の通りである。
(Red組成物)
 下記成分を混合し、撹拌した後、孔径0.45μmのナイロン製フィルタ(日本ポール(株)製)でろ過して、Red組成物を調製した。
 Red顔料分散液  ・・51.7質量部
 樹脂104  ・・・0.6質量部
 重合性化合物104  ・・・0.6質量部
 光重合開始剤101  ・・・0.4質量部
 界面活性剤101  ・・・4.2質量部
 紫外線吸収剤(UV-503、大東化学(株)製)  ・・・0.3質量部
 PGMEA  ・・・42.6質量部
(Green組成物)
 下記成分を混合し、撹拌した後、孔径0.45μmのナイロン製フィルタ(日本ポール(株)製)でろ過して、Green組成物を調製した。
 Green顔料分散液  ・・・73.7質量部
 樹脂104  ・・・0.3質量部
 重合性化合物101  ・・・1.2質量部
 光重合開始剤101  ・・・0.6質量部
 界面活性剤101  ・・・4.2質量部
 紫外線吸収剤(UV-503、大東化学(株)製)  ・・・0.5質量部
 PGMEA  ・・・19.5質量部
(Blue組成物)
 下記成分を混合し、撹拌した後、孔径0.45μmのナイロン製フィルタ(日本ポール(株)製)でろ過して、Blue組成物を調製した。
 Blue顔料分散液  44.9質量部
 樹脂104  ・・・2.1質量部
 重合性化合物101  ・・・1.5質量部
 重合性化合物104  ・・・0.7質量部
 光重合開始剤101  ・・・0.8質量部
 界面活性剤101  ・・・4.2質量部
 紫外線吸収剤(UV-503、大東化学(株)製)  ・・・0.3質量部
 PGMEA  ・・・45.8質量部
(近赤外線カットフィルタ形成用組成物)
 近赤外線吸収剤分散液  ・・・60質量部
 重合性化合物101  ・・・6質量部
 樹脂101  ・・・4.45質量部
 光重合開始剤101  ・・・1.99質量部
 界面活性剤101  ・・・4.17質量部
 重合禁止剤1(p-メトキシフェノール)  ・・・0.003質量部
 PGMEA  ・・・23.39質量部
 Red組成物、Green組成物、Blue組成物および近赤外線カットフィルタ形成用組成物に使用した原料は以下の通りである。
・Red顔料分散液
 C.I.Pigment Red 254の9.6質量部、C.I.Pigment Yellow 139の4.3質量部、分散剤(Disperbyk-161、BYKChemie社製)の6.8質量部、PGMEAの79.3質量部を混合した混合液を、ビーズミル(ジルコニアビーズ0.3mm径)により3時間混合および分散して、顔料分散液を調製した。その後さらに、減圧機構付き高圧分散機NANO-3000-10(日本ビーイーイー(株)製)を用いて、2000kg/cmの圧力下で流量500g/minとして分散処理を行なった。この分散処理を10回繰り返し、Red顔料分散液を得た。
・Green顔料分散液
 C.I.Pigment Green 36の6.4質量部、C.I.Pigment Yellow 150の5.3質量部、分散剤(Disperbyk-161、BYKChemie社製)の5.2質量部、PGMEAの83.1質量部を混合した混合液を、ビーズミル(ジルコニアビーズ0.3mm径)により3時間混合および分散して、顔料分散液を調製した。その後さらに、減圧機構付き高圧分散機NANO-3000-10(日本ビーイーイー(株)製)を用いて、2000kg/cmの圧力下で流量500g/minとして分散処理を行なった。この分散処理を10回繰り返し、Green顔料分散液を得た。
・Blue顔料分散液
 C.I.Pigment Blue 15:6の9.7質量部、C.I.Pigment Violet 23の2.4質量部、分散剤(Disperbyk-161、BYKChemie社製)の5.5質量部、PGMEAの82.4質量部を混合した混合液を、ビーズミル(ジルコニアビーズ0.3mm径)により3時間混合および分散して、顔料分散液を調製した。その後さらに、減圧機構付き高圧分散機NANO-3000-10(日本ビーイーイー(株)製)を用いて、2000kg/cmの圧力下で流量500g/minとして分散処理を行なった。この分散処理を10回繰り返し、Blue顔料分散液を得た。
・近赤外線吸収剤分散液
 近赤外線吸収剤K1の2.5質量部、顔料誘導体K3の0.5質量部と、分散剤C2の1.8質量部、PGMEAの79.3質量部を混合した混合液に、直径0.3mmのジルコニアビーズ230質量部を加えて、ペイントシェーカーを用いて5時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して近赤外線吸収剤分散液を製造した。
・重合性化合物101:KAYARAD DPHA(日本化薬(株)製)
・重合性化合物104:下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
・樹脂101:サイクロマーP(ACA)230AA ((株)ダイセル製)
・樹脂104:下記構造の樹脂(酸価:70mgKOH/g、Mw=11000、構造単位における比はモル比である)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
・光重合開始剤101:IRGACURE-OXE01(BASF社製)
・界面活性剤101:下記混合物(Mw=14000)の1質量%PGMEA溶液。下記の式中、繰り返し単位の割合を示す%はモル%である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
110:固体撮像素子、111:近赤外線カットフィルタ、112:カラーフィルタ、114:赤外線透過フィルタ、115:マイクロレンズ、116:平坦化層

Claims (17)

  1.  色材と、樹脂と、重合性化合物と、光重合開始剤と、を含む組成物であって、
     前記重合性化合物は、アルキレンオキシ基を有し、かつ、エチレン性不飽和基を3個有する化合物Aを含み、
     前記組成物の波長400~750nmの範囲における吸光度の最小値Aと、波長1100~1300nmの範囲における吸光度の最大値Bとの比であるA/Bが4.5以上である、組成物。
  2.  前記化合物Aは、アルキレンオキシ基を2~6個有する、請求項1に記載の組成物。
  3.  前記アルキレンオキシ基の炭素数が1~3である、請求項1または2に記載の組成物。
  4.  前記化合物Aにおけるアルキレンオキシ基の数の平均個数が3~5個である、請求項1~3のいずれか1項に記載の組成物。
  5.  前記化合物Aは、アルキレンオキシ基の数が3個の化合物と、アルキレンオキシ基の数が4~6個の化合物とを含む、請求項1~4のいずれか1項に記載の組成物。
  6.  前記化合物Aは、前記アルキレンオキシ基の数が3個の化合物の100質量部に対して、前記アルキレンオキシ基の数が4~6個の化合物を20~500質量部含む、請求項5に記載の組成物。 
  7.  前記重合性化合物は、更に、エチレン性不飽和基を4個以上有する化合物を含む、請求項1~6のいずれか1項に記載の組成物。
  8.  前記重合性化合物の全量中における前記化合物Aの含有量が50~100質量%である、請求項1~7のいずれか1項に記載の組成物。
  9.  前記光重合開始剤の波長365nmにおけるモル吸光係数が5000L・mol-1・cm-1以上である、請求項1~8のいずれか1項に記載の組成物。
  10.  前記光重合開始剤は、オキシム化合物を含む、請求項1~9のいずれか1項に記載の組成物。
  11.  前記樹脂は、フルオレン骨格を有する樹脂を含む、請求項1~10のいずれか1項に記載の組成物。
  12.  更に、近赤外線吸収剤を含む、請求項1~11のいずれか1項に記載の組成物。
  13.  請求項1~12のいずれか1項に記載の組成物から得られる膜。
  14.  請求項13に記載の膜を有する赤外線透過フィルタ。
  15.  請求項13に記載の膜を有する固体撮像素子。
  16.  請求項13に記載の膜を有する画像表示装置。
  17.  請求項13に記載の膜を有する赤外線センサ。
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