WO2018117152A1 - 7H-ピロロ[2,3-d]ピリミジン誘導体の製造方法及びその合成中間体 - Google Patents

7H-ピロロ[2,3-d]ピリミジン誘導体の製造方法及びその合成中間体 Download PDF

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Abstract

本発明は、ヤヌスキナーゼ(JAK)阻害剤として有用な7H-ピロロ[2,3-d]ピリミジン誘導体の製造方法、その中間体及びその中間体の製造方法を提供する。本発明は、(3S,4R)-1-ベンジル-3-メチル-1,6-ジアザスピロ[3.4]オクタンの有機酸との塩を用いた3-[(3S,4R)-3-メチル-6-(7H-ピロロ[2,3-d]ピリミジン-4-イル)-1,6-ジアザスピロ[3.4]オクタン-1-イル]-3-オキソプロパンニトリルの製造方法を提供する。

Description

7H-ピロロ[2,3-d]ピリミジン誘導体の製造方法及びその合成中間体
 本発明は、ヤヌスキナーゼ(JAK)阻害剤として有用な7H-ピロロ[2,3-d]ピリミジン誘導体の製造方法、その合成中間体及びその合成中間体の製造方法に関する。
 JAKは、細胞質タンパク質チロシンキナーゼ族に属し、JAK1、JAK2、JAK3及びTYK2などが含まれる。
 特許文献1には、JAK阻害剤として有用な化合物A(化合物[17]:3-[(3S,4R)-3-メチル-6-(7H-ピロロ[2,3-d]ピリミジン-4-イル)-1,6-ジアザスピロ[3.4]オクタン-1-イル]-3-オキソプロパンニトリル)が開示されている。
国際公開公報第WO2011/013785号
STACY, DM et al. Synthesis and biological evaluation of triazole-containing N-acyl homoserine lactones as quorum sensing modulators. Org Biomol Chem. Feb 14 2013, Vol.11, No.6, pages 938-954.
 本発明は、JAK阻害剤として有用な7H-ピロロ[2,3-d]ピリミジン誘導体の製造方法、その合成中間体及びその合成中間体の製造方法を提供する。
 本発明は、以下の態様を含む:
 式[13]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
の化合物又はその塩を用いて、
 式[17]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
の化合物又はその塩を製造する方法であって、以下の工程を含む方法:
(1)式[13]の化合物又はその塩からベンジルを除去することにより式[14]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
の化合物またはその塩を得る工程、及び
(2)式[14]の化合物又はその塩を式[18]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
の化合物と反応させることにより式[17]の化合物又はその塩を得る工程。
図1は、BABL-HC[3]の粉末X線回折パターンの多重記録を示す。縦軸に回折強度(cps:counts per second)、横軸に回折角2θ(°)を示す。 図2は、RR-MDDO[9]の粉末X線回折パターンの多重記録を示す。縦軸に回折強度(cps:counts per second)、横軸に回折角2θ(°)を示す。 図3は、実施例3における粗RR-MDDO[9]のHPLCによる分析の結果を示す。縦軸に吸光度(AU)、横軸に保持時間(分)を示す。 図4は、実施例3の結晶化工程を経たRR-MDDO[9]のHPLCによる分析の結果を示す。縦軸に吸光度(AU)、横軸に保持時間(分)を示す。 図5は、SR-MDBN-DSU[11-1]の粉末X線回折パターンの多重記録を示す。縦軸に回折強度(cps:counts per second)、横軸に回折角2θ(°)を示す。 図6は、実施例8の工程1における粗SR-MDBN[10]から得られた化合物[21]のHPLCによる分析の結果を示す。縦軸に吸光度(AU)、横軸に保持時間(分)を示す。 図7は、実施例8の工程2の結晶化工程を経たSR-MDBN-DSU[11-1]から得られた化合物[21]のHPLCによる分析の結果を示す。縦軸に吸光度(AU)、横軸に保持時間(分)を示す。 図8は、実施例8-2におけるSR-MDBNの一コハク酸塩の示差走査熱量測定(DSC)曲線を示す。 図9は、実施例9における粗SR-MDBN-DSU[11-1]のHPLCによる分析の結果を示す。縦軸に吸光度(AU)、横軸に保持時間(分)を示す。 図10は、実施例9における精製工程を経たSR-MDBN-DSU[11-1]のHPLCによる分析の結果を示す。縦軸に吸光度(AU)、横軸に保持時間(分)を示す。 図11は、化合物A(化合物[17])の1-エタノール和物の粉末X線回折パターンの多重記録を示す。縦軸に回折強度(cps:counts per second)、横軸に回折角2θ(°)を示す。 図12は、化合物A(化合物[17])の3,5-ジメチルピラゾールとの共結晶(モル比2:1)(化合物[33])種晶の示差走査熱量測定(DSC)曲線を示す。 図13は、化合物A(化合物[17])の3,5-ジメチルピラゾールとの共結晶(モル比2:1)(化合物[33])種晶の粉末X線回折パターンの多重記録を示す。縦軸に回折強度(cps:counts per second)、横軸に回折角2θ(°)を示す。 図14は、化合物A(化合物[17])の3,5-ジメチルピラゾールとの共結晶(モル比2:1)(化合物[33])の示差走査熱量測定(DSC)曲線を示す。 図15は、化合物A(化合物[17])の3,5-ジメチルピラゾールとの共結晶(モル比2:1)(化合物[33])の粉末X線回折パターンの多重記録を示す。縦軸に回折強度(cps:counts per second)、横軸に回折角2θ(°)を示す。
 本明細書における用語の定義は以下の通りである。
 本明細書中において、例えば式[17]の化合物を化合物[17]と記載することもある。
 ハロゲンの例として、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素が挙げられる。
 C1-4アルキルとは、炭素数1から4の直鎖又は分枝鎖状のアルキルを意味する。例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル等が挙げられる。
 化合物の塩は、本発明に係る化合物と形成する塩であればいかなる塩でもよく、例えば無機酸との塩、有機酸との塩、無機塩基との塩、有機塩基との塩、アミノ酸との塩等が含まれる。
 無機酸としては、例えば塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸等が挙げられる。好ましい無機酸は塩酸である。
 有機酸としては、例えばシュウ酸、マロン酸、マレイン酸、クエン酸、フマル酸、テレフタル酸、乳酸、リンゴ酸、コハク酸、酒石酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、グルコン酸、アスコルビン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、10-カンファースルホン酸等が挙げられる。好ましい有機酸は、シュウ酸、L-酒石酸、D-酒石酸、コハク酸、(+)-10-カンファースルホン酸及び(-)-10-カンファースルホン酸である。より好ましい有機酸は、シュウ酸、コハク酸、L-酒石酸、D-酒石酸及び(+)-10-カンファースルホン酸である。
 無機塩基との塩としては、例えばナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、アンモニウム塩等が挙げられる。
 有機塩基としては、例えばメチルアミン、ジエチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、トリス(ヒドロキシメチル)メチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、N,N-ジベンジルエチレンジアミン、グアニジン、ピリジン、ピコリン、コリン、シンコニン、メグルミン等が挙げられる。
 アミノ酸としては、例えばリジン、アルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸等が挙げられる。
 公知の方法に従って、本発明に係る化合物と、無機塩基、有機塩基、無機酸、有機酸又はアミノ酸とを反応させることにより、本発明の化合物の塩を得ることができる。
 クロロ化剤としては、例えば塩化チオニル、塩化オキサリル、塩化ホスホリル等が挙げられる。好ましいクロロ化剤は塩化チオニルである。
 本発明に係る化合物又はその塩は、その溶媒和物として存在する場合がある。
 溶媒和物とは、本発明に係る化合物又はその塩に、溶媒の分子が配位したものであり、水和物も包含される。溶媒和物は、製薬上許容される溶媒和物が好ましく、例えば本発明に係る化合物又はその塩の水和物、エタノール和物、DMSO和物、1-プロパノール和物、2-プロパノール和物、クロロホルム和物、ジオキサン和物、アニソール和物、アセトン和物、エチレングリコール和物、ジメチルアセトアミド和物等が挙げられる。
 公知の方法に従って、本発明に係る化合物又はその塩の溶媒和物を得ることができる。
 本発明に係る化合物は、互変異性体として存在する場合がある。その場合、本発明に係る化合物は、個々の互変異性体又は異なる互変異性体の混合物として存在し得る。
 本発明に係る化合物は、炭素-炭素二重結合を有する場合がある。その場合、本発明に係る化合物は、E体、Z体、又はE体とZ体の混合物として存在し得る。
 本発明に係る化合物は、シス/トランス異性体として認識すべき立体異性体として存在する場合がある。その場合、本発明に係る化合物は、シス体、トランス体、又はシス体とトランス体の混合物として存在し得る。
 本発明に係る化合物は、1又はそれ以上の不斉炭素原子を有する場合がある。その場合、本発明に係る化合物は、単一のエナンチオマー、単一のジアステレオマー、エナンチオマーの混合物又はジアステレオマーの混合物として存在する場合がある。
 本発明に係る化合物は、アトロプ異性体として存在する場合がある。その場合、本発明に係る化合物は、個々のアトロプ異性体又は異なるアトロプ異性体の混合物として存在し得る。
 本発明に係る化合物は、上記の異性体を生じさせる構造上の特徴を同時に複数含み得る。また、本発明に係る化合物は、上記の異性体をあらゆる比率で含み得る。
 立体化学を特定せずに表記した式、化学構造又は化合物名は、他に注釈等の言及がない限り、存在しうる上記の異性体のすべてを含み得る。
 波線で記載された化学結合は、当該化合物が立体異性体の混合物又はいずれか一方の異性体であることを示す。例えば式[6]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
の化合物は、式[6-1]と式[6-2]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
の混合物又はいずれか一方の化合物であることを意味する。
 ジアステレオマー混合物は、クロマトグラフィーや結晶化などの慣用されている方法によって、それぞれのジアステレオマーに分離することができる。また、立体化学的に純粋な出発物質を用いることにより、又は立体選択的な反応を用いる合成方法によりそれぞれのジアステレオマーを得ることもできる。
 エナンチオマー混合物からのそれぞれの単一なエナンチオマーへの分離は、当分野でよく知られた方法で行うことができる。
 例えば、エナンチオマー混合物と、実質的に純粋なエナンチオマーであってキラル補助剤(chiral auxiliary)として知られている化合物とを反応させて形成させたジアステレオマー混合物から、分別結晶化やクロマトグラフィーのような標準的な方法により、異性体比率を高めた又は実質的に純粋な単一のジアステレオマーを分離することができる。この分離されたジアステレオマーを、付加されたキラル補助剤を開裂反応にて除去することにより、目的のエナンチオマーに変換することができる。
 また、当分野でよく知られた、キラル固定相を使用するクロマトグラフィー法によって、エナンチオマー混合物を直接分離して目的のエナンチオマーを得ることもできる。
 あるいは、目的のエナンチオマーを、実質的に純粋な光学活性出発原料を用いることにより、又は、プロキラル(prochiral)な合成中間体に対しキラル補助剤や不斉触媒を用いた立体選択的合成(すなわち、不斉誘導)を行うことによっても得ることができる。
 絶対立体配置は結晶性の最終生成物又は合成中間体のX線結晶構造解析により決定することができる。その際、必要によっては立体配置が既知である不斉中心を持つ試薬で誘導化された結晶性の最終生成物又は合成中間体を用いて絶対立体配置を決定してもよい。本明細書における立体配置は、化合物[17]のクロロホルム和物の結晶のX線結晶構造解析に基づいて特定した。
 本発明に係る化合物は、結晶又は非晶質(アモルファス)であってもよい。
 本発明に係る化合物は、同位体元素(H,14C,35S等)で標識されていてもよい。
 本発明に係る化合物又はその塩、又はそれらの溶媒和物を製造する方法を以下に例示する。
 各工程において、反応は溶媒中で行ってもよい。
 各工程で得られる化合物は、必要に応じて、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の公知の方法で単離及び精製することができるが、場合によっては、単離又は精製せず次の工程に進むことができる。
 本明細書において、室温とは温度を制御していない状態を示し、一つの態様として1℃から40℃を意味する。反応温度は、記載された温度±5℃、好ましくは±2℃を含むことができる。
 本発明に係る化合物又はその塩、又はそれらの溶媒和物を製造する方法を以下のスキーム1に例示する。具体的には化合物[8a]を経由するスキームを示す。
[スキーム中、Xは塩素または臭素である。RはC1-4アルキル又はベンジルである。Xはハロゲンである。Yは酸である。nは0.5から2の任意の数字である。mは0.4から0.5の任意の数字である。]
スキーム1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
 本発明に係る化合物又はその塩、又はそれらの溶媒和物を製造する別の方法を以下のスキーム2に例示する。具体的には化合物[16a]を経由するスキームを示す。
[スキーム中、Xは塩素または臭素である。RはC1-4アルキル又はベンジルである。Xはハロゲンである。Yは酸である。nは0.5から2の任意の数字である。mは0.4から0.5の任意の数字である。]
スキーム2
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
 本発明に係る化合物又はその塩、又はそれらの溶媒和物を製造する別の方法を以下のスキーム3-1及びスキーム3-2に例示する。具体的には化合物[26a]を経由するスキームを示す。
[スキーム中、Rはメチル、エチル又はベンジルである。Rはメチル、エチル又はベンジルである。Yは酸である。nは0.5から2の任意の数字である。]
スキーム3-1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
スキーム3-2
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050

Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
 本発明に係る化合物又はその塩、又はそれらの溶媒和物を製造する別の方法を以下のスキーム4-1から6-2に例示する。具体的には化合物[30a]を経由するスキームを示す。
[スキーム中、Yは酸である。nは0.5から2の任意の数字である。]
スキーム4-1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
スキーム4-2
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
スキーム5-1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
スキーム5-2
スキーム6-1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
スキーム6-2
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
 以下、上に示されたスキーム1から6-2に記載された製造方法について、説明する。
[製造方法1]式[2]の化合物又はその塩の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
[式中、Xは塩素または臭素である。]
 式[2]の化合物は、式[1a]の化合物とベンジルアミンを、塩基存在下、反応させることにより製造することができる。ここで、ベンジルアミンに換えて、4-クロロベンジルアミン、3-クロロベンジルアミン、4-メトキシベンジルアミン、3-メトキシベンジルアミン、4-メチルベンジルアミン、3-メチルベンジルアミン、ベンズヒドリルアミン、トリフェニルメチルアミン等を用いることができる。
 式[1a]の化合物としては、BBL、3-クロロジヒドロフラン-2-オンが例示される。好ましい式[1a]の化合物はBBLである。
 溶媒としては、例えばTHF、アセトニトリル、DMF、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、DMSOが例示される。好ましい溶媒はアセトニトリルである。
 塩基としては、例えばリン酸三カリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムが例示される。好ましい塩基はリン酸三カリウムである。塩基は、例えば式[1a]の化合物に対して2.0当量から5.0当量の量にて用いることができ、好ましくは3.0当量±0.5当量である。
 反応温度は、例えば室温から60℃であり、好ましくは45℃±5℃である。別の好ましい態様は、50℃±5℃である。
 反応時間は、例えば5時間から48時間であり、好ましくは5時間から30時間である。
 式[2]の化合物は酸と塩を形成することができる。
 酸としては、例えば有機酸又は無機酸が含まれる。
 有機酸としては、例えばシュウ酸、マロン酸、マレイン酸、クエン酸、フマル酸、テレフタル酸、乳酸、リンゴ酸、コハク酸、酒石酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、グルコン酸、アスコルビン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸等が含まれる。
 無機酸としては、例えば塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸等が例示される。好ましい無機酸は、塩酸である。
 式[2]の化合物の塩としては、好ましくは、一塩酸塩である。
 式[2]の化合物は無機酸と塩を形成させることにより結晶として得ることができる。
 式[2]の化合物の塩は、例えば一塩酸塩であって、CuKα放射を使用して測定した回折角(2θ)が8.5°±0.2°、18.9°±0.2°、21.0°±0.2°、21.4°±0.2°又は24.4°±0.2°に少なくとも一個(例えば、少なくとも1、2、3、4、または5個)のピークを有する粉末X線回折パターンを示す結晶である。
 好ましくは、式[2]の化合物の塩は、一塩酸塩であって、CuKα放射を使用して測定した回折角(2θ)が8.5°±0.1°、18.9°±0.1°、21.0°±0.1°、21.4°±0.1°又は24.4°±0.1°に少なくとも一個(例えば、少なくとも1、2、3、4、または5個)のピークを有する粉末X線回折パターンを示す結晶である。
 より好ましくは、式[2]の化合物の塩は、一塩酸塩であって、CuKα放射を使用して測定した回折角(2θ)が8.5°±0.06°、18.9°±0.06°、21.0°±0.06°、21.4°±0.06°又は24.4°±0.06°に少なくとも一個(例えば、少なくとも1、2、3、4、または5個)のピークを有する粉末X線回折パターンを示す結晶である。
[製造方法2]式[2-2]の化合物又はその塩の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
 式[2-2]の化合物は、非特許文献1に記載された方法に従いL-メチオニンから合成され得る式[15]の化合物をベンズアルデヒドと酸性条件下で反応させた後、還元することにより製造することができる。ここで、ベンズアルデヒドに換えて、4-メトキシベンズアルデヒド等を用いることができる。
 溶媒としては、例えばDMSO、DMF、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、クロロホルム、THFが例示される。好ましい溶媒はDMFである。
 酸の例としては、酢酸が挙げられる。
 還元剤としては、例えば水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウムが例示される。好ましい還元剤は水素化トリアセトキシホウ素ナトリウムである。還元剤は、例えば式[15]の化合物に対して1.0当量から3.0当量の量にて用いることができ、好ましくは1.2当量±0.2当量である。
 反応温度は、例えば0℃から60℃であり、好ましくは室温である。
 反応時間は、例えば0.5時間から24時間であり、好ましくは1時間から5時間である。
[製造方法3]式[6]の化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
工程1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
 式[5]の化合物は、式[4]の化合物とクロロ化剤を反応させることにより製造することができる。
 溶媒としては、例えばトルエン、THF、DMF、アセトニトリル、アセトニトリルとDMFとの混合溶媒、及びトルエンとDMFとの混合溶媒が例示される。好ましい溶媒はトルエン、アセトニトリル、アセトニトリルとDMFとの混合溶媒、又はトルエンとDMFとの混合溶媒である。式[5]の化合物は、無溶媒で製造してもよい。
 クロロ化剤としては、例えば塩化チオニル、塩化オキサリル、塩化ホスホリルが例示される。好ましいクロロ化剤は塩化チオニルである。クロロ化剤は、例えば式[4]の化合物に対して0.9当量から1.5当量の量にて用いることができ、好ましくは0.95当量から1.15当量である。
 反応温度は、通常の知識に基づき適宜調節しうる。クロロ化剤として塩化オキサリルを用いた場合、反応温度は例えば-20℃から10℃であり、好ましくは-10℃から0℃である。クロロ化剤として塩化チオニルを用いた場合、反応温度は45℃から75℃であり、好ましくは65℃±5℃である。クロロ化剤として塩化チオニルを用いた場合の別の好ましい反応温度は、-20℃から10℃であり、より好ましくは-20℃から0℃である。
 反応時間は、例えば0.5時間から5時間であり、好ましくは0.5時間から3時間であり、より好ましくは1時間から2時間である。
 式[5]の化合物は、例えば減圧下又は常圧下における蒸留により精製し得、好ましくは常圧下である。
工程2
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
 式[6]の化合物は、式[2]の化合物又はその塩と式[5]の化合物を、塩基存在下、反応させることにより製造することができる。本工程においては、化合物[2]又はその塩に換えて化合物[2-2]又はその塩を用いてもよい。その場合、化合物[6-2]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
を製造することができる。
 溶媒としては、例えばトルエン、酢酸エチル、THF、これらの混合溶媒が例示される。好ましい溶媒はトルエンと酢酸エチルとの混合溶媒である。
 塩基としては、例えば2,6-ルチジン、N,N-ジイソプロピルエチルアミンが例示される。好ましい塩基は2,6-ルチジンである。塩基は、例えば式[2]の化合物に対して1.0当量から5.0当量の量にて用いることができ、好ましくは3.0当量±0.5当量である。また、例えば式[2]の化合物の塩に対して2.0当量から5.0当量の量にて用いることができ、好ましくは4.0当量±0.5当量である。
 反応温度は、例えば-20℃から20℃であり、好ましくは-10℃から10℃である。
 反応時間は、例えば1時間から5時間であり、好ましくは2時間から3時間である。
 式[6]の化合物は結晶として得ることができる。結晶化に用いる溶媒としては、トルエン;2-プロパノール;CPME;酢酸エチル;トルエン、2-プロパノール、CPME及び酢酸エチルから選択される二以上の溶媒の組合せ;2-プロパノールと水の混合溶媒;トルエン、2-プロパノール、CPME又は酢酸エチルとヘプタンとの混合溶媒が例示される。好ましい溶媒は、トルエンとヘプタンの混合溶媒、2-プロパノールとヘプタンの混合溶媒である。
[製造方法4]式[7]の化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
 式[7]の化合物は、式[6]の化合物を、塩基存在下、環化反応させることにより製造することができる。本製造方法においては、化合物[7]を製造するために、化合物[6]に換えて化合物[6-2]を用いてもよい。
 溶媒としては、例えばTHF、アセトニトリル、トルエン、DMSO、DMF、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、これらの混合溶媒が例示される。好ましい溶媒はDMSO、THF又はトルエンとTHFの混合溶媒である。
 塩基としては、例えば1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン、リチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシラジド、リチウムジイソプロピルアミド、リン酸三カリウム、炭酸セシウム、tert-ブチルイミノ-トリ(ピロリジノ)ホスホランが例示される。好ましい塩基は、リチウムヘキサメチルジシラジド、炭酸セシウム又はリン酸三カリウムである。より好ましい塩基は、リチウムヘキサメチルジシラジドである。
 塩基としてリチウムヘキサメチルジシラジドを使用する方法においては、塩基は、例えば式[6]の化合物に対して0.9当量から1.2当量の量にて用いることができ、好ましくは1.0当量±0.05当量である。反応温度は、例えば-20℃から5℃であり、好ましくは-15℃から0℃である。反応時間は、例えば0.5時間から5時間であり、好ましくは1時間から3時間である。
 塩基として炭酸セシウム又はリン酸三カリウムを使用する方法においては、塩基は、例えば式[6]の化合物に対して2.0当量から5.0当量の量にて用いることができ、好ましくは3.0当量±0.5当量である。反応温度は、例えば室温から60℃であり、好ましくは室温である。反応時間は、例えば10時間から30時間であり、好ましくは10時間から24時間である。
[製造方法5]式[9]の化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
工程1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
[式中、RはC1-4アルキル又はベンジルである。Xはハロゲンである。]
 式[8a]の化合物は、式[7]の化合物とフタルイミドカリウムを反応させた後、式[19a]の化合物でエステル化することにより製造することができる。フタルイミドカリウムは、例えば式[7]の化合物に対して1.0当量から2.0当量の量にて用いることができ、好ましくは1.1当量±0.05当量である。
 式[19a]の化合物としては、例えばヨウ化メチル、ヨウ化エチル、臭化ベンジルが例示される。好ましい式[19a]の化合物はヨウ化エチルである。式[19a]の化合物は、例えば式[7]の化合物に対して1.0当量から2.0当量の量にて用いることができ、好ましくは1.3当量±0.05当量である。
 溶媒としては、例えばDMF、ジメチルアセトアミド、DMSO、N-メチルピロリドン、トルエン、これらの混合溶媒が例示される。好ましい溶媒はDMF、DMSO又はDMSOとトルエンの混合溶媒である。
 反応温度は、フタルイミドカリウムとの反応においては、例えば80℃から150℃であり、好ましくは90℃から115℃である。エステル化においては、例えば室温から80℃であり、好ましくは室温から60℃である。
 反応時間は、フタルイミドカリウムとの反応においては、例えば10時間から30時間であり、好ましくは10時間から24時間である。エステル化においては、例えば1時間から6時間であり、好ましくは4時間から5時間である。エステル化における別の好ましい反応時間は、1時間から2時間である。
 式[8a]の化合物は、式[22]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
の化合物またはその塩を単離した後に、エステル化することによっても製造することができる。エステル化は公知の方法を用いて行えばよい。
工程2
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
[式中、RはC1-4アルキル又はベンジルである。]
 式[9]の化合物は、式[8a]の化合物のフタロイルを除去することにより製造することができる。フタロイルを除去する方法は公知の方法を用いればよく、例えば、式[8a]の化合物とエチレンジアミン又はジエチレントリアミンを反応させることにより、式[9]の化合物を製造することができる。
 エチレンジアミン及びジエチレントリアミンは、例えば式[8a]の化合物に対して1.0当量から10当量の量にて用いることができ、好ましくは5.0当量±0.5当量である。
 溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、2-メチル-2-プロパノールが例示される。好ましい溶媒は2-ブタノールである。
 反応温度は、例えば60℃から105℃であり、好ましくは80℃から95℃である。
 反応時間は、例えば1時間から6時間であり、好ましくは2時間から5時間である。
 式[9]の化合物は、再結晶により結晶として得ることができる。例えば、加熱下で、CPMEに溶解させた後、ジイソプロピルエーテルを加える方法又はトルエンに溶解させた後、ヘプタンを加える方法により、式[9]の化合物の結晶を得ることができる。
 化合物[9]を再結晶溶媒に溶解させる温度は、例えば40℃から80℃である。好ましい温度は、CPMEを用いる場合は50℃から60℃であり、トルエンを用いる場合は65℃から75℃である。
 再結晶化時間は、例えば3時間から10時間であり、好ましくは3時間から5時間である。
 式[9]の化合物は、例えばCuKα放射を使用して測定した回折角(2θ)が10.6°±0.2°、16.0°±0.2°、17.5°±0.2°、18.3°±0.2°又は19.2°±0.2°に少なくとも一個(例えば、少なくとも1、2、3、4、または5個)のピークを有する粉末X線回折パターンを示す結晶である。
 好ましくは、式[9]の化合物は、CuKα放射を使用して測定した回折角(2θ)が10.6°±0.1°、16.0°±0.1°、17.5°±0.1°、18.3°±0.1°又は19.2°±0.1°に少なくとも一個(例えば、少なくとも1、2、3、4、または5個)のピークを有する粉末X線回折パターンを示す結晶である。
 より好ましくは、式[9]の化合物は、CuKα放射を使用して測定した回折角(2θ)が10.6°±0.06°、16.0°±0.06°、17.5°±0.06°、18.3°±0.06°又は19.2°±0.06°に少なくとも一個(例えば、少なくとも1、2、3、4、または5個)のピークを有する粉末X線回折パターンを示す結晶である。
[製造方法6]式[9]の化合物の製造の別法
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
工程1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
[式中、RはC1-4アルキル又はベンジルである。Xはハロゲンである。]
 式[16a]の化合物は、式[7]の化合物とジホルミルアミドナトリウムを反応させた後、式[19a]の化合物でエステル化することにより製造することができる。ジホルミルアミドナトリウムは、例えば式[7]の化合物に対して2.0当量から5.0当量の量にて用いることができ、好ましくは3.0当量±0.5当量である。
 式[19a]の化合物としては、例えばヨウ化メチル、ヨウ化エチル、臭化ベンジルが例示される。好ましい式[19a]の化合物はヨウ化エチルである。式[19a]の化合物は、例えば式[7]の化合物に対して2.0当量から5.0当量の量にて用いることができ、好ましくは3.0当量±0.5当量である。
 溶媒としては、例えばDMSO、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドンが例示される。好ましい溶媒はDMSOである。
 反応温度は、ジホルミルアミドナトリウムとの反応においては、例えば80℃から150℃であり、好ましくは100℃±5℃である。エステル化においては、例えば室温から80℃であり、好ましくは室温から50℃である。
 反応時間は、ジホルミルアミドナトリウムとの反応においては、例えば10時間から30時間であり、好ましくは10時間から24時間である。エステル化においては、例えば3時間から6時間であり、好ましくは4時間から5時間である。
工程2
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
[式中、RはC1-4アルキル又はベンジルである。]
 式[9]の化合物は、塩基存在下、式[16a]の化合物のホルミルを除去することにより製造することができる。
 溶媒としては、例えばアセトニトリル、THF、DMF、DMSO、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドンが例示される。好ましい溶媒はアセトニトリルである。
 塩基としては、例えばリチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシラジド、リチウムジイソプロピルアミド、炭酸セシウム、リン酸三カリウム、tert-ブチルイミノ-トリ(ピロリジノ)ホスホランが例示される。好ましい塩基は炭酸セシウムである。塩基は、例えば式[16a]の化合物に対して1.0当量から2.0当量の量にて用いることができ、好ましくは1.5当量±0.05当量である。
 反応温度は、例えば0℃から50℃であり、好ましくは室温である。
 反応時間は、例えば3時間から6時間であり、好ましくは4時間から5時間である。
[製造方法7]式[10]の化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
 式[10]の化合物は、式[9]の化合物を還元することにより製造することができる。
 溶媒としては、例えばトルエン、CPME、THF及び2-メチルテトラヒドロフランが例示される。好ましい溶媒はトルエン、THF又はこれらの混合溶媒である。
 還元剤としては、例えば、ドデカカルボニル3ルテニウム触媒又はトリフルオロメタンスルホン酸亜鉛触媒の存在下使用されるTMDS、及び酸の存在下使用される水素化アルミニウムリチウムが例示される。酸としては、硫酸、塩化アルミニウム、塩化亜鉛、クロロトリメチルシランが例示される。好ましい還元剤はドデカカルボニル3ルテニウム触媒存在下使用されるTMDS、又はクロロトリメチルシランもしくは塩化アルミニウムの存在下使用される水素化アルミニウムリチウムである。
[製造方法7-1]触媒の存在下TMDSを使用する場合
 還元剤は、例えば式[9]の化合物に対して3.0当量から15.0当量の量にて用いることができ、好ましくは10.0当量±0.5当量である。
 触媒は、例えば式[9]の化合物に対して0.05当量から0.5当量の量にて用いることができ、好ましくは0.1当量から0.3当量である。
 ドデカカルボニル3ルテニウム触媒を使用する場合、さらに添加剤を加えてもよい。添加剤としては、例えばTMEDA、N,N,N’,N’-テトラメチル-1,3-ジアミノプロパンが例示される。好ましい添加剤はTMEDAである。添加剤は、例えば式[9]の化合物に対して0.05当量から0.5当量の量にて用いることができ、好ましくは0.1当量から0.3当量である。
 反応温度は、例えば40℃から100℃であり、好ましくは60℃から80℃である。
 反応時間は、例えば10時間から50時間であり、好ましくは35時間から45時間である。
[製造方法7-2]酸の存在下水素化アルミニウムリチウムを使用する場合
 還元剤は一度に添加してもよく、又は、2回以上に分けて添加してもよい。好ましい方法は、2回以上に分けて添加する方法である。
(1)一度に添加する方法においては、還元剤は、酸存在下、例えば式[9]の化合物に対して1.0当量から5.0当量の量にて用いることができ、好ましくは3.0当量±0.5当量である。この場合の好ましい酸は、塩化アルミニウム又はクロロトリメチルシランである。塩化アルミニウム又はクロロトリメチルシランは、例えば式[9]の化合物に対して1.0当量から5.0当量の量にて用いることができ、好ましくは3.0当量±0.5当量である。
 反応温度は、例えば室温から60℃であり、好ましくは40℃から50℃である。反応時間は、例えば10時間から30時間であり、好ましくは15時間から24時間である。
(2)2回以上に分けて添加する方法において、1段階目の還元剤は、酸存在下、例えば式[9]の化合物に対して1.0当量から5.0当量の量にて用いることができ、好ましくは2.5当量±0.5当量である。この場合の好ましい酸は、クロロトリメチルシランである。クロロトリメチルシランは、例えば式[9]の化合物に対して1.0当量から5.0当量の量にて用いることができ、好ましくは2.5当量±0.5当量である。2段階目の還元剤は、例えば式[9]の化合物に対して0.3当量から3.0当量の量にて用いることができ、好ましくは0.5当量±0.1当量である。
 反応温度は、1段階目は、例えば-20℃から10℃であり、好ましくは-20℃から5℃である。2段階目は、例えば室温から60℃であり、好ましくは40℃から50℃である。2段階目の別の好ましい反応温度は、45℃から55℃である。
 反応時間は、1段階目は、例えば0.5時間から3時間であり、好ましくは1時間から2時間である。2段階目は、例えば5時間から30時間であり、好ましくは5時間から24時間である。
[製造方法8]式[11a]の化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
[式中、Yは酸であり、nは0.5から2の任意の数字であって、例えば0.5、1、2である]
 式[11a]の化合物は、式[10]の化合物を酸を用いて塩を形成させることにより製造することができる。
 溶媒としては、例えば水、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、THF、これらの混合溶媒が例示される。好ましい溶媒は2-プロパノールである。
 酸としては、例えば有機酸又は無機酸が含まれる。
 有機酸としては、例えばシュウ酸、マロン酸、マレイン酸、クエン酸、フマル酸、テレフタル酸、乳酸、リンゴ酸、コハク酸、酒石酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、グルコン酸、アスコルビン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、10-カンファースルホン酸等が含まれる。好ましい有機酸は、シュウ酸、L-酒石酸、D-酒石酸、コハク酸、(+)-10-カンファースルホン酸又は(-)-10-カンファースルホン酸である。より好ましい有機酸は、シュウ酸、コハク酸、L-酒石酸、D-酒石酸又は(+)-10-カンファースルホン酸である。
 無機酸としては、例えば塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸等が例示される。
 反応温度は、例えば室温から80℃であり、好ましくは室温から70℃である。
 反応時間は、例えば6時間から15時間であり、好ましくは8時間から12時間である。
 式[11a]の化合物の例としては、好ましくは式[10]の化合物の二コハク酸塩である。
 式[11a]の化合物は、例えば式[10]の化合物の二コハク酸塩であって、CuKα放射を使用して測定した回折角(2θ)が4.8°±0.2°、11.2°±0.2°、16.2°±0.2°、18.1°±0.2°又は20.1°±0.2°に少なくとも一個(例えば、少なくとも1、2、3、4、または5個)のピークを有する粉末X線回折パターンを示す結晶である。
 好ましくは、式[11a]の化合物は、式[10]の化合物の二コハク酸塩であって、CuKα放射を使用して測定した回折角(2θ)が4.8°±0.1°、11.2°±0.1°、16.2°±0.1°、18.1°±0.1°又は20.1°±0.1°に少なくとも一個(例えば、少なくとも1、2、3、4、または5個)のピークを有する粉末X線回折パターンを示す結晶である。
 より好ましくは、式[11a]の化合物は、式[10]の化合物の二コハク酸塩であって、CuKα放射を使用して測定した回折角(2θ)が4.8°±0.06°、11.2°±0.06°、16.2°±0.06°、18.1°±0.06°又は20.1°±0.06°に少なくとも一個(例えば、少なくとも1、2、3、4、または5個)のピークを有する粉末X線回折パターンを示す結晶である。
 式[11a]の化合物の別の例は、好ましくは式[10]の化合物のヘミシュウ酸塩である。
 式[11a]の化合物は、再結晶又は溶媒に式[11a]の化合物を懸濁させた混合液を撹拌すること(以下、「スラリー撹拌」という。)で精製することができる。あるいは、式[11a]の化合物は再結晶及びスラリー撹拌の両方により精製してもよく、その順番は問わない。好ましい精製方法は、スラリー撹拌である。
 再結晶及びスラリー撹拌に用いる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、THF、トルエン、これらの混合溶媒が例示される。再結晶に好ましい溶媒は、メタノールとトルエンの混合溶媒である。スラリー撹拌に好ましい溶媒は、2-プロパノールである。
 スラリー撹拌の温度は、例えば0℃から60℃であり、好ましくは30℃から35℃である。別の好ましいスラリー撹拌の温度は、35℃から40℃である。
 スラリー撹拌の時間は、例えば1時間から15時間であり、好ましくは2時間から12時間である。
[製造方法9]式[13]の化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
 式[13]の化合物は、式[11a]の化合物と4-クロロ-7H-ピロロ[2,3-d]ピリミジン(CPPY)[12]又はその塩を、塩基存在下、縮合させることにより製造することができる。式[11a]の化合物に換えて、式[10]の化合物を用いることもできる。式[13]の化合物は、その塩であってもよく、フリー体から塩、塩からフリー体の形成は、公知の方法に従って行えばよい。
 溶媒としては、例えばtert-ブタノール、水、エタノール、メタノール、2-プロパノール、及びこれらの混合溶媒が例示される。好ましい溶媒はtert-ブタノール又は2-プロパノールと水との混合溶媒である。
 塩基としては、例えばリン酸三カリウムなどのアルカリ金属リン酸塩、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物又はこれらの混合物が例示される。好ましい塩基はリン酸三カリウム、又はリン酸三カリウムと水酸化カリウムとの混合物である。塩基は、例えば式[11a]の化合物に対して4.0当量から10.0当量の量にて用いることができ、好ましくは5.0当量から8.0当量である。
 CPPY[12]は、例えば式[11a]の化合物に対して0.95当量から1.10当量の量にて用いることができ、好ましくは1.02当量±0.02当量である。
 反応温度は、例えば室温から85℃であり、好ましくは80℃±5℃である。別の好ましい反応温度は、75℃±5℃である。
 反応時間は、例えば1時間から10時間であり、好ましくは2時間から8時間である。
[製造方法10]式[14]の化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
 式[14]の化合物は、式[13]の化合物から保護基(ベンジル)を除去することにより製造することができる。脱保護は公知の方法を用いればよく、例えば、触媒存在下、酸性条件で式[13]の化合物に水素を添加することにより、式[14]の化合物を製造することができる。式[13]の化合物及び式[14]の化合物は、それらの塩であってもよく、フリー体から塩、塩からフリー体の形成は、公知の方法に従って行えばよい。
 溶媒としては、例えばtert-ブタノール、水、エタノール、2-プロパノール、及びこれらの混合溶媒が例示される。好ましい溶媒はtert-ブタノールと水との混合溶媒、又は2-プロパノールと水との混合溶媒である。
 触媒としては、例えば5%パラジウム炭素(50%含水品)、10%パラジウム炭素(50%含水品)、パラジウム炭素、水酸化パラジウム炭素、パラジウム黒又はパラジウムシリカゲルが例示される。好ましい触媒は、5%パラジウム炭素(50%含水品)又は10%パラジウム炭素(50%含水品)である。触媒は、例えば式[13]の化合物の重量に対して0.01倍量から0.5倍量用いることができ、好ましくは0.05倍量から0.2倍量である。
 酸の例としては、酢酸が挙げられる。
 水素ガス圧は、好ましくは常圧である。0.1MPa程度加圧してもよい。
 反応温度は、例えば室温から80℃であり、好ましくは55℃±5℃である。別の好ましい態様は、50℃±5℃である。
 反応時間は、例えば2時間から10時間であり、好ましくは3時間から8時間である。
[製造方法11]式[17]の化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
 式[17]の化合物は、式[14]の化合物と1-シアノアセチル-3,5-ジメチル-1H-ピラゾール(DPCN)[18]を、塩基存在下、縮合させることにより製造することができる。式[14]の化合物及び式[17]の化合物は、それらの塩であってもよく、フリー体から塩、塩からフリー体の形成は、公知の方法に従って行えばよい。
 溶媒としては、例えばアセトニトリル、THFが例示される。好ましい溶媒はアセトニトリルである。
 塩基としては、例えばトリエチルアミン、N,N-ジイソプロピルエチルアミンが例示される。好ましい塩基はトリエチルアミンである。
 DPCN[18]は、例えば式[17]の化合物に対して0.95当量から1.2当量用いることができ、好ましくは1.05当量±0.10当量である。
 反応温度は、例えば室温から80℃であり、好ましくは40℃から50℃である。
 反応時間は、例えば1時間から12時間であり、好ましくは2時間から6時間である。
 本反応においては、式[17]の化合物はまた、塩基を使用しなくとも、式[14]の化合物と1-シアノアセチル-3,5-ジメチル-1H-ピラゾール(DPCN)[18]を縮合させることにより製造することができる。式[14]の化合物及び式[17]の化合物は、それらの塩であってもよく、フリー体から塩、塩からフリー体の形成は、公知の方法に従って行えばよい。
 溶媒としては、例えばアセトニトリル、テトラヒドロフランが例示される。好ましい溶媒はアセトニトリルである。
 DPCNは、例えば式[14]の化合物に対して0.95当量から1.2当量用いることができ、好ましくは1.05当量±0.05当量である。
 反応温度は、例えば室温から80℃であり、好ましくは70℃から80℃である。
 反応時間は、例えば0.5時間から12時間であり、好ましくは0.5時間から6時間である。
 式[17]の化合物は、1-シアノアセチル-3,5-ジメチル-1H-ピラゾール(DPCN)[18]に換えて、式[35a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
[式中、Rは水素、メチル又はエチルである。]
の化合物又はその塩と式[14]の化合物を反応させることにより製造することができる。式[14]の化合物及び式[17]の化合物は、それらの塩であってもよく、フリー体から塩、塩からフリー体の形成は、公知の方法に従って行えばよい。
 Rが水素の場合、式[17]の化合物は、式[35a]の化合物又はその塩と式[14]の化合物を、塩基及び縮合剤存在下、反応させることにより製造することができる。
 縮合剤としては、1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(WSC・HCl)と1-ヒドロキシベンゾトリアゾール(HOBt)の組み合わせ、ヘキサフルオロリン酸(ベンゾトリアゾール-1-イルオキシ)トリスピロリジノホスホニウム(PyBOP)等が例示される。好ましい縮合剤はPyBOPである。
 Rがメチル又はエチルの場合、式[17]の化合物は、式[35a]の化合物と式[14]の化合物を縮合させることにより製造することができる。本反応は、3,5-ジメチル-1H-ピラゾールと触媒量のジアザビシクロウンデセン(DBU)の存在下、行うことが好ましい。
[製造方法12]式[20]の化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
 式[20]の化合物は、式[17]の化合物を溶媒を用いて結晶化することにより製造することができる。式[20]の化合物におけるエタノールに換えて、1-プロパノール、2-プロパノール、クロロホルム、ジオキサン、アニソール、アセトン、エチレングリコール、ジメチルアセトアミド又は水を用いることもできる。
 溶媒としては、例えばエタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、クロロホルム、ジオキサン、アニソール、アセトン、エチレングリコール、ジメチルアセトアミド、水が例示される。好ましい溶媒はエタノールである。
 本工程は、化合物[17]の製造に必ずしも必要ではないが、化合物[17]の純度を向上させるために、実施してもよい。
 式[20]の化合物は、例えばCuKα放射を使用して測定した回折角(2θ)が8.3°±0.2°、12.7°±0.2°、13.0°±0.2°、20.0°±0.2°又は24.1°±0.2°に少なくとも一個(例えば、少なくとも1、2、3、4、または5個)のピークを有する粉末X線回折パターンを示す結晶である。
 好ましくは、式[20]の化合物は、CuKα放射を使用して測定した回折角(2θ)が8.3°±0.1°、12.7°±0.1°、13.0°±0.1°、20.0°±0.1°又は24.1°±0.1°に少なくとも一個(例えば、少なくとも1、2、3、4、または5個)のピークを有する粉末X線回折パターンを示す結晶である。
 より好ましくは、式[20]の化合物は、CuKα放射を使用して測定した回折角(2θ)が8.3°±0.06°、12.7°±0.06°、13.0°±0.06°、20.0°±0.06°又は24.1°±0.06°に少なくとも一個(例えば、少なくとも1、2、3、4、または5個)のピークを有する粉末X線回折パターンを示す結晶である。
[製造方法13]式[17]の化合物の精製
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
 式[17]の化合物は、式[20]の化合物を溶解後、結晶化させることにより精製することができる。
 結晶化に用いる溶媒としては、例えば1-ブタノール、1-プロパノール又は2-メチル-2-ブタノールが例示される。好ましい溶媒は1-ブタノールである。溶媒は、例えば式[20]の化合物の重量に対して8.0倍量から20倍量用いることができ、好ましくは8.5倍量±0.5倍量である。
 化合物[20]を結晶化溶媒に溶解させる温度は、例えば100℃から117℃であり、好ましくは110℃±5℃である。
 結晶化時間は、例えば15時間から48時間であり、好ましくは18時間から24時間である。
 式[17]の化合物は、式[17]の化合物を再結晶化させることによっても精製することができる。
 溶媒としては、例えば1-ブタノール、1-プロパノール又は2-メチル-2-ブタノールが例示される。好ましい溶媒は1-ブタノールである。溶媒は、例えば式[17]の化合物の重量に対して18倍量から22倍量用いることができ、好ましくは20倍量±0.5倍量である。
 結晶溶解温度は、例えば85℃から100℃であり、好ましくは90℃から100℃である。
 再結晶化時間は、例えば10時間から48時間であり、好ましくは10時間から24時間である。
[製造方法14]式[34a]の化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
[式中、mは0.4から0.5の任意の数字である。]
 式[34a]の化合物は、式[14]の化合物と1-シアノアセチル-3,5-ジメチル-1H-ピラゾール(DPCN)[18]を縮合させることにより製造することができる。式[14]の化合物は、それらの塩であってもよく、フリー体から塩、塩からフリー体の形成は、公知の方法に従って行えばよい。
 好ましい溶媒はアセトニトリルである。
 DPCN[18]は、例えば式[14]の化合物に対して0.95当量から1.2当量用いることができ、好ましくは1.1当量±0.05当量である。別の好ましい態様は、1.05当量±0.05当量である。
 反応温度は、例えば室温から80℃であり、好ましくは70℃から80℃である。
 反応時間は、例えば0.5時間から12時間であり、好ましくは0.5時間から6時間である。
 本工程は、化合物[17]の製造に必ずしも必要ではないが、化合物[17]の純度を向上させるために、実施してもよい。
 式[34a]の化合物は、例えばCuKα放射を使用して測定した回折角(2θ)が4.6°±0.2°、18.6°±0.2°又は20.9°±0.2°に少なくとも一個(例えば、少なくとも1、2または3個)のピークを有する粉末X線回折パターンを示す結晶である。
 好ましくは、式[34a]の化合物は、CuKα放射を使用して測定した回折角(2θ)が4.6°±0.1°、18.6°±0.1°又は20.9°±0.1°に少なくとも一個(例えば、少なくとも1、2または3個)のピークを有する粉末X線回折パターンを示す結晶である。
 より好ましくは、式[34a]の化合物は、CuKα放射を使用して測定した回折角(2θ)が4.6°±0.06°、18.6°±0.06°又は20.9°±0.06°に少なくとも一個(例えば、少なくとも1、2または3個)のピークを有する粉末X線回折パターンを示す結晶である。
 さらに、式[34a]の化合物はまた、例えばCuKα放射を使用して測定した回折角(2θ)が4.6°±0.2°、12.6°±0.2°、16.1°±0.2°、18.6°±0.2°又は20.9°±0.2°に少なくとも一個(例えば、少なくとも1、2、3、4または5個)のピークを有する粉末X線回折パターンを示す結晶であってもよい。
 好ましくは、式[34a]の化合物はまた、CuKα放射を使用して測定した回折角(2θ)が4.6°±0.1°、12.6°±0.1°、16.1°±0.1°、18.6°±0.1°又は20.9°±0.1°に少なくとも一個(例えば、少なくとも1、2、3、4または5個)のピークを有する粉末X線回折パターンを示す結晶であり得る。
 より好ましくは、式[34a]の化合物はまた、CuKα放射を使用して測定した回折角(2θ)が4.6°±0.06°、12.6°±0.06°、16.1°±0.06°、18.6°±0.06°又は20.9°±0.06°に少なくとも一個(例えば、少なくとも1、2、3、4または5個)のピークを有する粉末X線回折パターンを示す結晶であり得る。
[製造方法15]式[17]の化合物の精製
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
[式中、mは前記と同義である。]
 式[17]の化合物は、式[34a]の化合物を溶解後、結晶化させることにより精製することができる。結晶化において2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノール(BHT)を加えて、精製を実施してもよい。
 結晶化に用いる溶媒としては、例えば1-ブタノール、1-プロパノール又は2-メチル-2-ブタノールが例示される。好ましい溶媒は1-ブタノールである。溶媒は、例えば式[34a]の化合物の重量に対して8.0倍量から20倍量用いることができ、好ましくは8.5倍量±0.5倍量である。
 化合物[34a]を結晶化溶媒に溶解させる温度は、例えば100℃から117℃であり、好ましくは110℃±5℃である。
 結晶化時間は、例えば15時間から48時間であり、好ましくは18時間から24時間である。
[製造方法16]式[24a]の化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
[式中、Rはメチル、エチル又はベンジルである。]
 式[24a]の化合物は、式[23]の化合物をメタノール、エタノール又はベンジルアルコール及び酸化剤と反応させることにより製造することができる。式[23]の化合物及び式[24a]の化合物は、それらの塩であってもよく、フリー体から塩、塩からフリー体の形成は、公知の方法に従って行えばよい。
 溶媒としては、例えばメタノール、エタノール又はベンジルアルコール、及びメタノールと水、THF又はトルエンとの混合溶媒が例示される。好ましい溶媒はメタノールである。
 酸化剤としては、例えば臭素、次亜塩素酸ナトリウム、オキソン及び(ジアセトキシヨード)ベンゼンが例示される。好ましい酸化剤は次亜塩素酸ナトリウム又は臭素である。酸化剤は、例えば式[23]の化合物に対して0.9から2.0当量、好ましくは1.1±0.05当量用いることができる。
 反応温度は、例えば0℃から60℃、好ましくは40℃から50℃である。
 反応時間は、例えば1時間から5時間、好ましくは2時間である。
[製造方法17]式[25a]の化合物又はその塩の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
[式中、Rは前記と同義であり、Rはメチル、エチル又はベンジルである。]
 式[25a]の化合物又はその塩は、式[24a]の化合物を、メタノール、エタノール又はベンジルアルコール及び酸と反応させることにより製造することができる。式[24a]の化合物は、それらの塩であってもよく、フリー体から塩、塩からフリー体の形成は、公知の方法に従って行えばよい。
 溶媒としては、例えばメタノール、エタノール又はベンジルアルコール、及びメタノールと水、THF又はトルエンとの混合溶媒が例示される。好ましい溶媒はメタノールである。
 酸又は酸前駆体としては、例えば塩酸、塩化アセチル、塩化チオニル、塩化ホスホリル、塩化オキサリルが例示される。好ましい酸又は酸前駆体は、それぞれ塩酸又は塩化チオニルである。より好ましい酸又は酸前駆体は塩化チオニルである。酸又は酸前駆体は、例えば式[24a]の化合物に対して1.0から20.0当量、好ましくは2.0当量用いることができる。
 反応温度は、0℃から50℃、好ましくは15℃から25℃である。
 反応時間は、例えば2時間から21時間、好ましくは2時間である。
[製造方法18]式[26a]の化合物又はその塩の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
[式中、R及びRはそれぞれ前記と同義である。]
 式[26a]の化合物又はその塩は、式[25a]の化合物又はその塩をベンズアルデヒド及び塩基と反応させた後、得られた化合物を還元することにより製造することができる。式[25a]の化合物及び式[26a]の化合物は、それらの塩で用いても製造してもよく、フリー体から塩、塩からフリー体の形成は、公知の方法に従って行えばよい。
 溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、2-プロパノール、アセトニトリル及び1,2-ジクロロエタンが例示される。好ましい溶媒はメタノールである。
 塩基としては、例えばトリエチルアミン及びN,N-ジイソプロピルエチルアミンが例示される。好ましい塩基はトリエチルアミンである。
 還元剤としては、例えば水素化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム及び水素ガスが例示される。好ましい還元剤は水素化ホウ素ナトリウムである。還元剤は、例えば式[25a]の化合物に対して0.95から1.2当量、好ましくは1.1±0.05当量用いることができる。
 反応物であるベンズアルデヒドは、例えば式[25a]の化合物に対して0.95から2.0当量、好ましくは1.1±0.05当量用いることができる。
 水素化ホウ素ナトリウムを添加する間の反応温度は、例えば-30から-5℃、好ましくは-20℃から-15℃である。水素化ホウ素ナトリウムの添加後、反応温度は0℃から25℃、好ましくは20℃から25℃である。
 反応時間は、例えば2時間から21時間、好ましくは3時間から6時間である。
 式[26a]の化合物の塩としては、塩酸塩が例示される。
 塩酸塩を形成させるための溶媒としては、例えばメチルtert-ブチルエーテル、2-プロパノール、酢酸エチル及び酢酸2-プロピルが例示される。好ましい溶媒は酢酸エチル又は酢酸2-プロピルである。より好ましい溶媒は酢酸2-プロピルである。
 塩酸塩の形成に用いる酸、塩酸は、例えば式[26a]の化合物に対して0.95から5.0当量、好ましくは1.5から2.5当量用いることができる。
 反応温度は、例えば-10℃から50℃、好ましくは0℃から10℃である。
 反応時間は、例えば30分から3時間、好ましくは1時間から2時間である。
 式[26a]の化合物の塩酸塩は、加熱しながらスラリー撹拌することにより精製することができる。
 精製用溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、2-プロパノール、1-ブタノール及び酢酸2-プロピルが例示される。好ましい溶媒は酢酸2-プロピルである。
 精製温度は、例えば室温から60℃、好ましくは40℃から50℃である。
 精製時間は、例えば2時間から12時間、好ましくは3時間から6時間である。
[製造方法19]式[27a]の化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
[式中、R及びRはそれぞれ前記と同義である。]
工程1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
 式[5]の化合物は、製造方法3工程1と同様に製造することができる。
工程2
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000087
[式中、R及びRはそれぞれ前記と同義である。]
 式[27a]の化合物は、式[26a]の化合物又はその塩を、塩基存在下、式[5]の化合物と反応させることにより製造することができる。本工程において、式[26a]の化合物又はその塩に換えて式[26b]の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000088
又はその塩を用いてもよい。本工程において式[26b]の化合物を用いる場合、式[27b]の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000089
を製造することができる。
 溶媒としては、例えばトルエン、酢酸エチル、THF、メチルtert-ブチルエーテル、アセトニトリル、これらの混合溶媒及びトルエンと水との混合溶媒が例示される。好ましい溶媒はアセトニトリル、トルエン、又はトルエンと水との混合溶媒である。
 塩基としては、例えば2,6-ルチジン、N,N-ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、リン酸三カリウム及び炭酸カリウムが例示される。好ましい塩基は、炭酸カリウム、又は2,6-ルチジンとN,N-ジイソプロピルエチルアミンとの組合せである。塩基は、例えば式[26a]の化合物に対して1.0から5.0当量、好ましくは3.0から4.0当量用いることができる。
 反応温度は、-20℃から20℃、好ましくは-10℃から5℃である。
 反応時間は、例えば1時間から5時間、好ましくは1時間から3時間である。
[製造方法20]式[9]の化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000090
[式中、R及びRはそれぞれ前記と同義である。]
 式[9]の化合物は、式[27a]の化合物を塩基存在下、二重環化反応させることにより製造することができる。あるいは、式[27a]の化合物の立体異性体混合物から、式[9]の化合物を含む鏡像異性体混合物を得、次いでキラル技術により分離することで、式[9]の化合物を製造することもできる。
 溶媒としては、例えばTHF、アセトニトリル、トルエン、DMSO、DMF、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、炭酸ジメチル及びこれらの任意の混合溶媒が例示される。好ましい溶媒は、アセトニトリル又はDMSOである。
 塩基としては、例えばリチウムヘキサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、カリウムヘキサメチルジシラジド、リチウムジイソプロピルアミド、リン酸三カリウム、炭酸セシウム、tert-ブチルイミノ-トリ(ピロリジノ)ホスホラン、カリウムtert-ブトキシド及びリチウム2-メチル-2-ブトキシドが例示される。好ましい塩基は、リチウムヘキサメチルジシラジド、炭酸セシウム又はリチウム2-メチル-2-ブトキシドである。より好ましい塩基は、リチウム2-メチル-2-ブトキシドである。
 リチウム2-メチル-2-ブトキシドを塩基として用いる場合、塩基は、例えば式[27a]の化合物に対し、1.0から3.0当量、好ましくは3.0当量用いることができる。この場合、反応温度は、例えば-20℃から5℃、好ましくは-10℃から0℃であり、反応時間は、例えば1時間から5時間である。
 炭酸セシウムを塩基として用いる場合、塩基は、例えば式[27a]の化合物に対し、2.0から5.0当量、好ましくは2.5当量用いることができる。この場合、反応温度は、例えば15℃から50℃、好ましくは20℃から25℃であり、反応時間は、例えば10時間から30時間、好ましくは15時間から20時間である。
[製造方法21]式[29a]の化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000091
[式中、Yは酸であり、nは0.5から1の任意の数字、例えば0.5又は1である。]
 式[29a]の化合物は、酸を用いて式[28]の化合物の塩を形成させることにより製造することができる。
 溶媒としては、限定されるものではないが、水、メタノール、エタノール、1-プロパノール、イソプロパノール、アセトニトリル、アセトン、トルエン、メチルtert-ブチルエーテル、テトラヒドロフラン及びこれらの任意の混合溶媒が例示される。好ましい溶媒は、テトラヒドロフランとトルエンとの混合溶媒である。
 酸としては、例えば有機酸又は無機酸が例示される。
 有機酸としては、例えばシュウ酸、マロン酸、マレイン酸、クエン酸、フマル酸、テレフタル酸、乳酸、リンゴ酸、コハク酸、酒石酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、グルコン酸、アスコルビン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、10-カンファースルホン酸等が例示される。好ましい有機酸はシュウ酸である。
 無機酸としては、例えば塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸等が例示される。
 反応温度は、例えば0℃から80℃、好ましくは30℃から60℃である。反応時間は、例えば30分から24時間、好ましくは1時間から3時間である。
 式[29a]の化合物の例としては、好ましくは式[28]の化合物のシュウ酸塩である。
[製造方法22]式[30a]の化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000092
[式中、Yは酸であり、nは0.5から2の任意の数字、例えば0.5、1又は2である。]
 式[30a]の化合物は、式[29a]の化合物から保護基(すなわち、ベンジルオキシカルボニル及びベンジル)を除去することにより製造することができる。脱保護は公知の方法を用いてもよく、例えば式[30a]の化合物は、中性、塩基性又は酸性条件下、触媒存在下にて式[29a]の化合物に水素ガスを添加することにより製造することができる。式[29a]の化合物及び式[30a]の化合物は、それらのフリー体で用いても製造してもよく、フリー体から塩、塩からフリー体の形成は、公知の方法に従って行えばよい。
 溶媒としては、例えばtert-ブタノール、水、イソプロパノール、1-プロパノール、エタノール及びこれらの任意の混合溶媒が例示される。
 触媒としては、例えば5%パラジウム炭素(50%含水品)、10%パラジウム炭素(50%含水品)、パラジウム炭素、水酸化パラジウム炭素又はパラジウム黒が例示される。好ましい触媒は、5%パラジウム炭素(50%含水品)又は10%パラジウム炭素(50%含水品)である。触媒は、例えば式[29a]の化合物の重量に対して0.01倍量から0.5倍量用いることができ、好ましくは0.05倍量から0.2倍量である。
 水素ガス圧は、1から5barである。好ましい水素ガス圧は2から4barである。
 反応温度は、例えば室温から80℃、好ましくは40℃±20℃である。
 反応時間は、例えば2時間から24時間、好ましくは12時間から24時間である。
 塩形成のための有機酸としては、シュウ酸、マロン酸、マレイン酸、クエン酸、フマル酸、テレフタル酸、乳酸、リンゴ酸、コハク酸、酒石酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、グルコン酸、アスコルビン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、10-カンファースルホン酸等が例示される。好ましい有機酸は、シュウ酸及びコハク酸である。
[製造方法23]式[14]の化合物又はその塩の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000093
[式中、Yは酸であり、nは0.5から2の任意の数字、例えば0.5、1又は2である。]
 式[14]の化合物は、塩基存在下、式[30a]の化合物を4-クロロ-7H-ピロロ[2,3-d]ピリミジン(CPPY)[12]又はその塩と縮合させることにより製造することができる。式[30a]の化合物はまた、そのフリー体で用いてもよい。式[14]の化合物は、その塩として製造してもよく、フリー体から塩、塩からフリー体の形成は、公知の方法に従って行えばよい。
 溶媒としては、例えばエタノール、2-プロパノール、1-プロパノール、2-プロパノール、tert-ブタノール、アセトニトリル、THF及びこれらと水との混合溶媒が例示される。好ましい溶媒は、tert-ブタノールと水との混合溶媒である。
 塩基としては、例えばリン酸カリウム、炭酸カリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン及びN,N-ジイソプロピルエチルアミンが例示される。好ましい塩基は、リン酸カリウムのみ又はこれと水酸化カリウムとの組合せである。
 反応物であるCPPY[12]は、例えば式[30a]の化合物に対して0.95から1.05当量、好ましくは1.0±0.02当量用いてもよい。
 反応温度は、例えば室温から80℃、好ましくは40℃から50℃である。
 反応時間は、例えば2時間から48時間、好ましくは12時間から24時間である。
[製造方法24]式[31]の化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000094
 式[31]の化合物は、製造方法22と同様に製造することができる。
[製造方法25]式[30a]の化合物の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000095
[式中、Yは酸であり、nは0.5から2の任意の数字、例えば0.5、1又は2である。]
 式[30a]の化合物は、製造方法21と同様に製造することができる。
 本方法で用いる好ましい有機溶媒はコハク酸である。
 本発明に係る化合物又はその塩、又はそれらの溶媒和物を製造する方法は、特許文献1の製造例6に比較して、以下の利点を有しうる。
(1)少ない工程数で化合物A(化合物[17])を製造することが可能な方法であること。
(2)大量合成には不向きな超低温反応及びオゾン酸化反応を使用しない製造方法であること。
(3)製造方法1において、ラクトン環の開裂が抑えられることによりBABL[2]が主生成物として得られ、化合物A(化合物[17])の収率向上につながること。
(4)BABL[2]の塩を利用した単離工程でビスベンジル付加体及び未反応のベンジルアミン等を除去することにより、製造方法3の工程2における副反応を低減することが可能であり、化合物A(化合物[17])の収率向上につながること。
(5)RR-AOBL[7]を経由することにより、特殊な設備や試薬等を用いることなく、立体選択的にβ-ラクタム環を構築することが可能な製造方法であること。
(6)RR-MDDO[9]の製造において、窒素源としてフタルイミドカリウム又はジホルミルアミドナトリウムを用いることで、RR-AOBL[7]の7位で環が開裂するため、RR-AOPE[8a]、化合物[16a]をそれぞれ得ることが可能であり、工程数の削減及び化合物A(化合物[17])の収率向上につながること。
(7)RR-MDDO[9]を利用した単離工程を経由することにより、化学純度及び光学純度の高い化合物A(化合物[17])の製造が可能であること。
(8)SR-MDBN[10]の塩を利用した単離工程を経由することにより、光学純度の高い化合物A(化合物[17])の製造が可能であること。
(9)反応混合液から直接単離することのできる、安定性の高い化合物[34a]を利用することにより、抽出及びシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる単離精製工程を省くことが可能であり、さらに、化学純度の高い化合物A(化合物[17])の製造が可能であること。
 本発明は、以下の態様を含む:
項1: 式[13]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000096
の化合物又はその塩を用いて、
 式[17]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000097
の化合物又はその塩を製造する方法であって、以下の工程を含む方法:
(1)式[13]の化合物又はその塩からベンジルを除去することにより式[14]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000098
の化合物又はその塩を得る工程、及び
(2)式[14]の化合物又はその塩をシアノアセチル化することにより式[17]の化合物又はその塩を得る工程。
項2: 式[10]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000099
の化合物又はその有機酸との塩と式[12]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000100
の化合物又はその塩を反応させることにより式[13]の化合物又はその塩を得る工程をさらに含む、項1に記載の方法。
項3: 式[10]の化合物に有機酸を添加することにより式[10]の化合物の有機酸との塩を得る工程をさらに含む、項2に記載の方法。
項4: 式[10]の化合物の有機酸との塩が二コハク酸塩、シュウ酸塩又はヘミシュウ酸塩である、項2又は3に記載の方法。
項5: 式[10]の化合物の有機酸との塩がヘミシュウ酸塩である、項2又は3に記載の方法。
項6: 式[9]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000101
の化合物を還元することにより式[10]の化合物又はその有機酸との塩を得る工程をさらに含む、項2から5のいずれかに記載の方法。
項7: 還元が酸及び水素化アルミニウムリチウムの存在下で行われる、項6に記載の方法。
項8: 式[8a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000102
(式中、RはC1-4アルキル又はベンジルである。)
の化合物からフタロイルを除去することにより式[9]の化合物を得る工程をさらに含む、項6又は7に記載の方法。
項9: 式[16a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000103
(式中、RはC1-4アルキル又はベンジルである。)
の化合物からホルミルを除去することにより式[9]の化合物を得る工程をさらに含む、項6又は7に記載の方法。
項10: 式[7]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000104
の化合物とフタルイミドカリウムを反応させた後、エステル化することにより式[8a]の化合物を得る工程をさらに含む、項8に記載の方法。
項11: 式[7]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000105
の化合物とジホルミルアミドナトリウムを反応させた後、エステル化することにより式[16a]の化合物を得る工程をさらに含む、項9に記載の方法。
項12: 式[6]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000106
の化合物と塩基を反応させることにより式[7]の化合物を得る工程をさらに含む、項10又は11に記載の方法。
項13: 塩基がリチウムヘキサメチルジシラジドである、項12に記載の方法。
項14: 式[10]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000107
の化合物の有機酸との塩を製造する方法であって、式[10]の化合物に有機酸を添加することにより式[10]の化合物の有機酸との塩を得る工程を含む方法。
項15: 有機酸との塩が二コハク酸塩、シュウ酸塩又はヘミシュウ酸塩である、項14に記載の方法。
項16: 有機酸との塩がヘミシュウ酸塩である、項14に記載の方法。
項17: 式[9]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000108
の化合物を還元することにより式[10]の化合物又はその有機酸との塩を得る工程をさらに含む、項14から16のいずれかに記載の方法。
項18: 還元が酸及び水素化アルミニウムリチウムの存在下で行われる、項17に記載の方法。
項19: 式[8a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000109
(式中、RはC1-4アルキル又はベンジルである。)
の化合物からフタロイルを除去することにより式[9]の化合物を得る工程をさらに含む、項17又は18に記載の方法。
項20: 式[16a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000110
(式中、RはC1-4アルキル又はベンジルである。)
の化合物からホルミルを除去することにより式[9]の化合物を得る工程をさらに含む、項17又は18に記載の方法。
項21: 式[7]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000111
の化合物とフタルイミドカリウムを反応させた後、エステル化することにより式[8a]の化合物を得る工程をさらに含む、項19に記載の方法。
項22: 式[7]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000112
の化合物とジホルミルアミドナトリウムを反応させた後、エステル化することにより式[16a]の化合物を得る工程をさらに含む、項19に記載の方法。
項23: 式[6]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000113
の化合物と塩基を反応させることにより式[7]の化合物を得る工程をさらに含む、項21又は22に記載の方法。
項24: 塩基がリチウムヘキサメチルジシラジドである、項23に記載の方法。
項25: 式[2]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000114
の化合物又はその塩と式[5]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000115
の化合物を塩基の存在下で反応させることによりに式[6]の化合物を得る工程をさらに含む、項23又は24に記載の方法。
項26: 塩基が2,6-ルチジンである、項25に記載の方法。
項27: 式[2]の化合物に無機酸を添加することにより式[2]の化合物の無機酸との塩を得る工程をさらに含む、項25又は26に記載の方法。
項28: 式[4]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000116
の化合物とクロロ化剤を反応させることにより式[5]の化合物を得る工程をさらに含む、項25、26又は27のいずれかに記載の方法。
項29: 式[1a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000117
(式中、Xは塩素又は臭素である。)
の化合物とベンジルアミンを塩基の存在下で反応させることにより式[2]の化合物又はその塩を得る工程をさらに含む、項28に記載の方法。
項30: 塩基がリン酸三カリウムである、項29に記載の方法。
項31: 式[9]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000118
の化合物を製造する方法であって、式[8a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000119
(式中、RはC1-4アルキル又はベンジルである。)
の化合物からフタロイルを除去することにより式[9]の化合物を得る工程を含む方法。
項32: 式[9]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000120
の化合物を製造する方法であって、式[16a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000121
(式中、RはC1-4アルキル又はベンジルである。)
の化合物からホルミルを除去することにより式[9]の化合物を得る工程を含む方法。
項33: 式[7]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000122
の化合物とフタルイミドカリウムを反応させた後、エステル化することにより式[8a]の化合物を得る工程をさらに含む、項31に記載の方法。
項34: 式[7]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000123
の化合物とジホルミルアミドナトリウムを反応させた後、エステル化することにより式[16a]の化合物を得る工程をさらに含む、項32に記載の方法。
項35: 式[6]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000124
の化合物と塩基を反応させることにより式[7]の化合物を得る工程をさらに含む、項33又は34に記載の方法。
項36: 塩基がリチウムヘキサメチルジシラジドである、項35に記載の方法。
項37: 式[2]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000125
の化合物又はその塩と式[5]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000126
の化合物を塩基の存在下で反応させることによりに式[6]の化合物を得る工程をさらに含む、項35又は36に記載の方法。
項38: 塩基が2,6-ルチジンである、項37に記載の方法。
項39: 式[2]の化合物に無機酸を添加することにより式[2]の化合物の無機酸との塩を得る工程をさらに含む、項37又は38に記載の方法。
項40: 式[4]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000127
の化合物とクロロ化剤を反応させることにより式[5]の化合物を得る工程をさらに含む、項37、38又は39のいずれかに記載の方法。
項41: 式[1a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000128
(式中、Xは塩素又は臭素である。)
の化合物とベンジルアミンを塩基の存在下で反応させることにより式[2]の化合物又はその塩を得る工程をさらに含む、項40に記載の方法。
項42: 塩基がリン酸三カリウムである、項41に記載の方法。
項43: 式[7]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000129
の化合物を製造する方法であって、式[6]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000130
の化合物と塩基を反応させることにより式[7]の化合物を得る工程を含む方法。
項44: 塩基がリチウムヘキサメチルジシラジドである、項43に記載の方法。
項45: 式[2]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000131
の化合物又はその塩と式[5]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000132
の化合物を塩基の存在下で反応させることにより式[6]の化合物を得る工程をさらに含む、項43又は44に記載の方法。
項46: 塩基が2,6-ルチジンである、項45に記載の方法。
項47: 式[2]の化合物に無機酸を添加することにより式[2]の化合物の無機酸との塩を得る工程をさらに含む、項45又は46に記載の方法。
項48: 式[4]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000133
の化合物とクロロ化剤を反応させることにより式[5]の化合物を得る工程をさらに含む、項45、46又は47のいずれかに記載の方法。
項49: 式[1a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000134
(式中、Xは塩素又は臭素である。)
の化合物とベンジルアミンを塩基の存在下で反応させることにより式[2]の化合物又はその塩を得る工程をさらに含む、項48に記載の方法。
項50: 塩基がリン酸三カリウムである、項49に記載の方法。
項51: 式[27a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000135
(式中、RおよびRはそれぞれ独立してメチル、エチル又はベンジルである。)
の化合物を環化させることにより式[9]の化合物を得る工程をさらに含む、項6又は17に記載の方法。
項52: 式[26a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000136
(式中、RおよびRは前記と同義である。)
の化合物又はその塩と式[5]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000137
の化合物を塩基の存在下で反応させることにより式[27a]の化合物を得る工程をさらに含む、項51に記載の方法。
項53: 式[4]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000138
の化合物とクロロ化剤を反応させることにより式[5]の化合物を得る工程をさらに含む、項52に記載の方法。
項54: 式[25a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000139
(式中、RおよびRは前記と同義である。)
の化合物又はその塩とベンズアルデヒドを反応させることにより式[26a]の化合物又はその塩を得る工程をさらに含む、項52又は53に記載の方法。
項55: 式[24a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000140
(式中、Rは前記と同義である。)
の化合物又はその塩をエステル化することにより式[25a]の化合物又はその塩を得る工程をさらに含む、項54に記載の方法。
項56: 式[23]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000141
の化合物又はその塩から式[24a]の化合物又はその塩を得る工程をさらに含む、項55に記載の方法。
項57: 式[9]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000142
の化合物を製造する方法であって、式[27a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000143
(式中、RおよびRはそれぞれ独立してメチル、エチル又はベンジルである。)
の化合物を環化させることにより式[9]の化合物を得る工程を含む方法。
項58: 式[26a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000144
(式中、RおよびRは前記と同義である。)
の化合物又はその塩と式[5]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000145
の化合物を塩基の存在下で反応させることにより式[27a]の化合物を得る工程をさらに含む、項57に記載の方法。
項59: 式[4]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000146
の化合物とクロロ化剤を反応させることにより式[5]の化合物を得る工程をさらに含む、項58に記載の方法。
項60: 式[25a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000147
(式中、RおよびRは前記と同義である。)
の化合物又はその塩とベンズアルデヒドを反応させることにより式[26a]の化合物又はその塩を得る工程をさらに含む、項59に記載の方法。
項61: 式[24a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000148
(式中、Rは前記と同義である。)
の化合物又はその塩をエステル化することにより式[25a]の化合物又はその塩を得る工程をさらに含む、項60に記載の方法。
項62: 式[23]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000149
の化合物又はその塩から式[24a]の化合物又はその塩を得る工程をさらに含む、項61に記載の方法。
項63: 式[26a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000150
(式中、RおよびRは前記と同義である。)
の化合物又はその塩を製造する方法であって、式[25a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000151
(式中、RおよびRは前記と同義である。)
の化合物又はその塩とベンズアルデヒドを反応させることにより式[26a]の化合物又はその塩を得る工程を含む方法。
項64: 式[24a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000152
(式中、Rは前記と同義である。)
の化合物又はその塩をエステル化することにより式[25a]の化合物又はその塩を得る工程をさらに含む、項63に記載の方法。
項65: 式[23]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000153
の化合物又はその塩から式[24a]の化合物又はその塩を得る工程をさらに含む、項64に記載の方法。
項66: 式[31]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000154
の化合物又はその有機酸との塩を用いて、式[17]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000155
の化合物又はその塩を製造する方法であって、以下の工程を含む方法:
(1)式[31]の化合物又はその有機酸との塩と式[12]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000156
の化合物又はその塩を反応させることにより式[14]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000157
の化合物又はその塩を得る工程、及び
(2)式[14]の化合物又はその塩をシアノアセチル化することにより式[17]の化合物又はその塩を得る工程。
項67: 式[31]の化合物に有機酸を添加することにより式[31]の化合物の有機酸との塩を得る工程をさらに含む、項66に記載の方法。
項68: 有機酸との塩が二コハク酸塩又はシュウ酸塩である、項66又は67に記載の方法。
項69: 式[28]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000158
の化合物又はその有機酸との塩から式[31]の化合物又はその有機酸との塩を得る工程をさらに含む、項66、67又は68のいずれかに記載の方法。
項70: 式[28]の化合物に有機酸を添加することにより式[28]の化合物の有機酸との塩を得る工程をさらに含む、項69に記載の方法。
項71: 式[28]の化合物の有機酸との塩がシュウ酸塩である、項69又は70に記載の方法。
項72: 式[31]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000159
の化合物の有機酸との塩を製造する方法であって、式[31]の化合物に有機酸を添加することにより式[31]の化合物の有機酸との塩を得る工程を含む方法。
項73: 式[31]の化合物の有機酸との塩が二コハク酸塩又はシュウ酸塩である、項72に記載の方法。
項74: 式[28]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000160
の化合物又はその有機酸との塩から式[31]の化合物又はその有機酸との塩を得る工程をさらに含む、項72又は73に記載の方法。
項75: 式[28]の化合物に有機酸を添加することにより式[28]の化合物の有機酸との塩を得る工程をさらに含む、項74に記載の方法。
項76: 式[28]の化合物の有機酸との塩がシュウ酸塩である、項74又は75に記載の方法。
項77: 式[13]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000161
の化合物又はその塩。
項78: 式[10]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000162
の化合物又はその有機酸との塩。
項79: 有機酸との塩が二コハク酸塩、シュウ酸塩又はヘミシュウ酸塩である、項78に記載の塩。
項80: 有機酸との塩がヘミシュウ酸塩である、項78に記載の塩。
項81: 式[10]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000163
の化合物の二コハク酸塩の結晶であって、CuKα放射を使用して測定した回折角(2θ)が4.8°±0.2°、11.2°±0.2°、16.2°±0.2°、18.1°±0.2°又は20.1°±0.2°に少なくとも一個のピークを有する粉末X線回折パターンを示す結晶。
項82: 式[9]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000164
の化合物。
項83: 式[9]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000165
の化合物の結晶であって、CuKα放射を使用して測定した回折角(2θ)が10.6°±0.2°、16.0°±0.2°、17.5°±0.2°、18.3°±0.2°又は19.2°±0.2°に少なくとも一個のピークを有する粉末X線回折パターンを示す結晶。
項84: 式[8a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000166
(式中、RはC1-4アルキル又はベンジルである。)
の化合物。
項85: 式[16a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000167
(式中、RはC1-4アルキル又はベンジルである。)
の化合物。
項86: 式[7]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000168
の化合物。
項87: 式[6]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000169
の化合物。
項88: 式[27a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000170
(式中、RおよびRは前記と同義である。)
の化合物。
項89: 式[26a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000171
(式中、RおよびRは前記と同義である。)
の化合物又はその塩。
項90: 式[25a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000172
(式中、RおよびRは前記と同義である。)
の化合物又はその塩。
項91: 式[24a]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000173
(式中、Rは前記と同義である。)
の化合物又はその塩。
項92: 式[31]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000174
の化合物又はその有機酸との塩。
項93: 有機酸との塩が二コハク酸塩又はシュウ酸塩である、項92に記載の塩。
項94: 式[28]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000175
の化合物の有機酸との塩。
項95: 有機酸との塩がシュウ酸塩である、項94に記載の塩。
 本発明に係る化合物又はその塩、又はそれらの溶媒和物を製造する方法を実施例によって具体的に説明する。しかしながら、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。
 化合物[9]の製造(実施例4及び30)、化合物[11-3]の製造(実施例33)、化合物[20]の製造(実施例13)、化合物[29]の製造(実施例36)、化合物[30-2]の製造(実施例39)及び化合物A(化合物[17])の製造(実施例15及び41)並びに化合物A(化合物[17])の精製(実施例14、16及び20)の結晶化過程において、結晶化促進のために、種晶を用いた。この化合物の結晶は、種晶を用いなくても、実施例に記載の方法に準じた方法で得ることができる。
 ここで、本明細書で用いられる略号の意味を以下に示す。
 BBL:3-ブロモジヒドロフラン-2-オン
 BABL:3-ベンジルアミノジヒドロフラン-2-オン
 BABL-HC:3-ベンジルアミノジヒドロフラン-2-オン一塩酸塩
 BHT:2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノール
 R-CPRA:(R)-2-クロロプロピオン酸
 R-CPRC:(R)-2-クロロプロピオン酸クロリド
 R-CPBL:(R)-N-ベンジル-2-クロロ-N-(2-オキソテトラヒドロフラン-3-イル)-プロピオン酸アミド)
 RR-AOBL:(3R,4R)-1-ベンジル-3-メチル-6-オキサ-1-アザスピロ[3.4]オクタン-2,5-ジオン
 RR-AOPE:(2R,3R)-1-ベンジル-2-[2-(1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロイソインドール-2-イル)-エチル]-3-メチル-4-オキソアゼチジン-2-カルボン酸エチルエステル
 RR-AOPA:(2R,3R)-1-ベンジル-2-[2-(1,3-ジオキソ-1,3-ジヒドロイソインドール-2-イル)-エチル]-3-メチル-4-オキソアゼチジン-2-カルボン酸
 RR-MDDO:(3R,4R)-1-ベンジル-3-メチル-1,6-ジアザスピロ[3.4]オクタン-2,5-ジオン)
 SR-MDBN:(3S,4R)-1-ベンジル-3-メチル-1,6-ジアザスピロ[3.4]オクタン
 SR-MDBN-DSU:(3S,4R)-1-ベンジル-3-メチル-1,6-ジアザスピロ[3.4]オクタン二コハク酸塩
 SR-MDBP:4-[(3S,4R)-1-ベンジル-3-メチル-1,6-ジアザスピロ[3.4]オクト-6-イル]-7H-ピロロ[2,3-d]ピリミジン
 SR-MDOP:4-[(3S,4R)-3-メチル-1,6-ジアザスピロ[3.4]-オクタン-6-イル]-7H-ピロロ[2,3-d]ピリミジン
 化合物A(化合物[17]):3-[(3S,4R)-3-メチル-6-(7H-ピロロ[2,3-d]ピリミジン-4-イル)-1,6-ジアザスピロ[3.4]オクタン-1-イル]-3-オキソプロパンニトリル
 CPPY:4-クロロ-7H-ピロロ[2,3-d]ピリミジン
 DPCN:1-シアノアセチル-3,5-ジメチル-1H-ピラゾール
 THF:テトラヒドロフラン
 CPME:シクロペンチルメチルエーテル
 DMF:ジメチルホルムアミド
 DMSO:ジメチルスルホキシド
 TMDS:1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン
 TMEDA:N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン
 TMSCl:クロロトリメチルシラン
 LHMDS:リチウムヘキサメチルジシラジド
 TBBA:ブロモ酢酸tert-ブチルエステル
 Boc-Gln-OH:(tert-ブトキシカルボニル)-L-グルタミン
 Boc-Dab(MeOCO)-OH:(S)-2-((tert-ブトキシカルボニル)アミノ)-4-((メトキシカルボニル)アミノ)ブタン酸
 SR-ZMDB:(3S,4R)-6-ベンジル-3-メチル-1,6-ジアザスピロ[3.4]オクタン-1-カルボン酸ベンジル
 SR-ZMDB-OX:(3S,4R)-6-ベンジル-3-メチル-1,6-ジアザスピロ[3.4]オクタン-1-カルボン酸ベンジルシュウ酸塩
 S-BAPO:(S)-2-(ベンジルアミノ)プロパン-1-オール
 S-BBMO:(S)-N-ベンジル-N-(1-ヒドロキシプロパン-2-イル)グリシン酸tert-ブチル
 R-BCAB:(R)-N-ベンジル-N-(2-クロロプロピル)グリシン酸tert-ブチル
 S-MABB:(3S)-1-ベンジル-3-メチルアゼチジン-2-カルボン酸tert-ブチル
 S-MABB-HC:(3S)-1-ベンジル-3-メチルアゼチジン-2-カルボン酸tert-ブチル塩酸塩
 S-MACB-HC:(3S)-3-メチルアゼチジン-2-カルボン酸tert-ブチル塩酸塩
 S-ZMAB:2-(tert-ブチル)(3S)-3-メチルアゼチジン-1,2-ジカルボン酸1-ベンジル
 RS-ZMBB:2-(tert-ブチル)(2R,3S)-2-(2-(tert-ブトキシ)-2-オキソエチル)-3-メチルアゼチジン-1,2-ジカルボン酸1-ベンジル
 RS-ZMAA:(2R,3S)-1-((ベンジルオキシ)カルボニル)-2-(カルボキシメチル)-3-メチルアゼチジン-2-カルボン酸
 RS-ZMAA-DN・2HO:(2R,3S)-1-((ベンジルオキシ)カルボニル)-2-(カルボキシメチル)-3-メチルアゼチジン-2-カルボン酸二ナトリウム塩二水和物
 RS-ZMOO:(2R,3S)-2-(2-ヒドロキシエチル)-2-(ヒドロキシメチル)-3-メチルアゼチジン-1-カルボン酸ベンジル
 RS-ZMSS:(2R,3S)-3-メチル-2-(2-((メチルスルホニル)オキシ)エチル)-2-(((メチルスルホニル)オキシ)メチル)アゼチジン-1-カルボン酸ベンジル
 本実施例で用いた測定装置及び測定条件を以下に示す。
 H-NMRスペクトルはCDCl、DMSO-d又は重水中、テトラメチルシランを内部標準として測定し、全δ値をppmで示す。なお、特に記述のない限り、400MHzのNMR装置で測定した。
 実施例中の記号は次のような意味である。
s:シングレット(singlet)
d:ダブレット(doublet)
t:トリプレット(triplet)
q:カルテット(quartet)
dd:ダブルダブレット(double doublet)
dq:ダブルカルテット(double quartet)
ddd:ダブルダブルダブレット(double double doublet)
brs:ブロードシングレット(broad singlet)
m:マルチプレット(multiplet)
J:カップリング定数(coupling constant)
 粉末X線回折法により、試料のX線回折パターンを測定した。
測定機器:X’Pert Pro(スペクトリス社)
測定条件:対陰極            :銅
     X線管球の管電流と管電圧   :45kV、40mA
     試料の回転速度        :毎回1秒
     入射側のソーラースリット   :0.02rad
     入射側の縦発散スリット    :15mm
     入射側の発散スリット     :自動、照射幅15mm
     入射側の散乱スリット     :1°
     受光側のフィルタ       :ニッケルフィルタ
     受光側のソーラースリット   :0.02rad
     受光側の発散スリット     :自動、照射幅15mm
     検出器            :X’Celerator
     検出器のモード        :スキャニング
     検出器の有効幅        :2.122°
     走査軸            :ゴニオ
     走査モード          :連続
     走査範囲           :3°から60°
     単位ステップあたりの時間   :10秒
 元素分析により、試料中の炭素、水素及び窒素の重量%を求めた。
 サンプル溶液に対し三回測定した平均値をサンプル中のイオン含量とした。
測定機器:イオンクロマトグラフLC-20系(島津製作所)
測定条件:電気伝導度検出器SHIMADZU CDD-10A VP
     アニオン分析用カラムSHIMADZU SHIM-PAC IC-A3
     カチオン分析用カラムSHIMADZU SHIM-PAC IC-C1
 サンプル中の水分含量はカール・フィッシャー滴定により測定した。
測定機器:水分含量測定用電量滴定装置CA-06(三菱化学株式会社)
測定条件:サンプル量:約20mg
     試薬:陽極液Aquamicron AX(APIコーポレーション)
        陰極液Aquamicron CXU(APIコーポレーション)
[実施例1]BABL-HC(化合物[3])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000176
工程1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000177

 窒素雰囲気下、リン酸三カリウム(1466.7g,6.9mol)、アセトニトリル(3.8L)、ベンジルアミン(246.8g,2.30mol)及びBBL[1](380g,2.30mol)を室温で順次添加した。この反応混合液を40℃から45℃にて21時間撹拌後、室温に冷却した。反応混合液中の不溶物をろ去し、アセトニトリル(760mL)で洗浄した。ろ液と洗液を合わせて減圧下にて濃縮した。この濃縮残渣にトルエン(3.8L)、20%食塩水(1.14L)、酢酸(20.75g)を加え撹拌した後、有機層を分取した。得られた有機層を20%食塩水(760mL)と5%重曹水(380mL)の混合液で洗浄後、減圧下にて有機層の溶媒を留去した。濃縮残渣にトルエン(380mL)を加えて、不溶物をろ去し、トルエン(380mL)で洗浄した。ろ液と洗液を合わせて減圧下にて濃縮した。濃縮残渣に酢酸エチル(1.52L)を加え濃縮する操作を2回繰り返した後、酢酸エチル(760mL)を加え、BABL[2]の酢酸エチル溶液(440g,2.30mol相当)を得た。得られたBABL[2]の酢酸エチル溶液を収率100%として次工程に用いた。
 同じ方法で合成した粗BABL[2]を濃縮乾固し、MSを測定した。
MS: m/z = 192 [M+H]+
工程2
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000178

 窒素雰囲気下、BABL[2]の酢酸エチル溶液(440g,2.30mol相当)に室温にてメタノール(380mL)を添加した。この混合液に4N塩酸-酢酸エチル溶液(575mL,2.30mol)を0℃にて加え、反応混合液を0℃にて1.5時間撹拌した。析出した固体をろ取し、得られた固体を酢酸エチル(760mL)で2回洗浄した。得られた湿固体を減圧下にて乾燥することでBABL-HC[3](385.1g,1.69mol)を収率73.4%で得た。
 同じ方法で合成したBABL-HC[3]について、NMR及び融点を測定し、元素分析を行った。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 10.11 (1H, brs), 7.55-7.41 (5H, m), 4.47 (1H, t, J = 8.8 Hz), 4.36-4.22 (4H, m), 3.31 (1H, brs), 2.61-2.54 (1H, m), 2.49-2.41 (1H, m).
融点:206℃から208℃
元素分析:C 58.1wt%, H 6.2wt%, N 6.1wt% (理論値 C 58.0wt%, H 6.2wt%, N 6.2wt%)
 同じ方法で合成したBABL-HC[3]について、粉末X線回折法で回折角2θと回折強度を測定した。得られたスペクトルを図1に示す。
 図1の各ピークは以下の表のとおりである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000179
[実施例2]BABL(化合物[2-2])の製造
工程1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000180

 非特許文献1に記載された方法に従い合成したアミノラクトン臭素酸塩[15](1.0g,5.49mmol)、DMF(15mL)、酢酸(0.1mL)及びベンズアルデヒド(0.62mL,6.04mmol)を順次添加し、0℃に冷却した。この反応混合液に水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム(1.39g,6.59mmol)を加え、室温で1時間撹拌した。反応混合液に1M塩酸を加え、トルエンで洗浄した。得られた水層に飽和重曹水を加え、生成物を酢酸エチルで3回抽出した。有機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄後、減圧下にて濃縮し、BABL[2-2](976mg,5.11mmol相当)を得た。
 同じ方法で合成した粗BABL[2-2]を濃縮乾固し、MSを測定した。
MS: m/z = 192 [M+H]+
[実施例3]RR-MDDO(化合物[9])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000181
工程1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000182

Figure JPOXMLDOC01-appb-I000183

 窒素雰囲気下、DMF(260mL)に0℃にて塩化チオニル(107.8mL,1.48mol)を加え、同温度で30分間撹拌した。この溶液に0℃にてR-CPRA[4](148.7g,1.37mol)のトルエン(260mL)溶液を滴下し、同温度で1時間撹拌し、R-CPRC[5](1.37mol相当)のトルエン溶液を得た。
 窒素雰囲気下、BABL-HC[3](260g,1.14mol)、酢酸エチル(2L)及び2,6-ルチジン(489.4g,4.57mol)を順次添加し、室温で20分間撹拌した。この混合液を0℃に冷却し、先に得たR-CPRC[5](1.37mol相当)のトルエン溶液を5℃以下にて滴下し、同温度にて2時間撹拌した。この反応混合液に1M塩酸(1.3L)を加えて撹拌した後、有機層を分取し、次いで5%重曹水(1.3L)で2回、水(1.3L)で順次洗浄した。得られた有機層を減圧下で濃縮し、濃縮残渣にトルエン(780mL)を加え再度減圧下濃縮した。この操作を再度行い、濃縮残渣にDMSO(750mL)を加え、粗R-CPBL[6]のDMSO溶液(1187.94g,1.14mol相当)を得た。得られたR-CPBL[6]を収率100%として次工程に用いた。
 同じ方法で合成した粗R-CPBL[6]のトルエン溶液の一部を濃縮乾固し、NMR、MS及び融点を測定し、元素分析を行った。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: (3:2のジアステレオマー混合物)5.03と4.99 (1H, q, J = 6.5 Hz, 塩素の付け根のプロトン), 1.51と1.47 (3H, d, J = 6.5 Hz, メチルのプロトン).
MS: m/z = 282 [M+H]+
融点:101℃から104℃
元素分析:C 59.8wt%, H 5.7wt%, N 4.9wt% (理論値 C 59.7wt%, H 5.7wt%, N 5.0wt%)
工程2
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000184

 窒素雰囲気下、先に得た粗R-CPBL[6]のDMSO溶液(1161.8g,1.12mol相当)に、室温にてDMSO(250mL)及び炭酸セシウム(728.1g,2.23mol)を順次添加し、室温で一晩撹拌した。20℃以下にした2M塩酸(1.78L)にこの反応混合液を滴下し、酢酸エチル(2.5L)で生成物を抽出した。得られた有機層を5%重曹水(1.3L)で洗浄し、次いで20%食塩水(1.3L)で2回洗浄した後、減圧下で濃縮し、粗RR-AOBL[7](353.9g,1.12mol相当、ジアステレオマー比97:3)を得た。得られた粗RR-AOBL[7]を収率100%として次工程に用いた。
 同じ方法で合成した粗RR-AOBL[7]を濃縮乾固し、NMRとMSを測定した。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.37-7.27 (5H, m), 4.86 (1H, d, J = 15.3 Hz), 4.21 (1H, ddd, J = 9.9, 5.2, 4.0 Hz), 4.13-4.06 (1H, m), 4.02 (1H, d, J = 15.3 Hz), 3.36 (1H, q, J = 7.5 Hz), 2.13-2.10 (2H, m), 1.31 (3H, d, J = 7.3 Hz).
MS: m/z = 246 [M+H]+
工程3
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000185

 窒素雰囲気下、室温にて粗RR-AOBL[7](220.15g,0.97mol相当)、DMF(1.5L)及びフタルイミドカリウム(232.81g,1.26mol)を順次添加し、80℃から100℃で一晩撹拌した。この反応混合液を50℃付近まで冷却した後、ヨウ化エチル(226.21g,1.45mol)を滴下し、40℃から50℃で4時間撹拌した。反応混合液を0℃付近まで冷却した後、20%食塩水(1.1L)を加え、トルエン(1.1L)で生成物を抽出した。得られた有機層を20%食塩水(1.1L)、水(1.1L)で順次洗浄後、減圧下で濃縮した。濃縮残渣に2-ブタノール(1.1L)を加え、減圧下濃縮した。この操作を再度繰り返し、粗RR-AOPE[8]の2-ブタノール溶液(809.67g,0.97mol相当)を得た。得られたRR-AOPE[8]の2-ブタノール溶液を収率100%として次工程に用いた。
 同じ方法で合成した粗RR-AOPE[8]を濃縮乾固し、NMRとMSを測定した。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.83-7.80 (2H, m), 7.73-7.69 (2H, m), 7.37-7.32 (4H, m), 7.29-7.25 (1H, m), 4.79 (1H, d, J = 15.7 Hz), 4.40 (1H, d, J = 15.7 Hz), 4.15-4.06 (2H, m), 3.68-3.61 (1H, m), 3.52-3.44 (1H, m), 3.37 (1H, q, J = 7.5 Hz), 2.27-2.12 (2H, m), 1.26-1.22 (6H, m).
MS: m/z = 421 [M+H]+
工程4
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000186

 窒素雰囲気下、室温にてRR-AOPE[8]の2-ブタノール溶液(36.78g,43.9mmol相当)にエチレンジアミン(10.56g,175.6mmol)を添加し、80℃から90℃で4時間撹拌した。この反応混合液を50℃付近まで冷却した後、THF(120mL)を加え、40℃から50℃で1時間、室温で一晩撹拌した。不溶物をろ去した後、ろ液に25%硫酸水素カリウム水溶液(170mL)を加え、分液した。得られた有機層を7.5%重曹水と飽和食塩水の混合液(1/4,50mL)で洗浄し、減圧下濃縮した。濃縮残渣に酢酸エチル(200mL)及びカルボラフィン20(0.5g,日本エンバイロケミカルズ製)を加え、室温で30分間撹拌した。この混合液中の不溶物をろ去後、ろ液を濃縮し、濃縮残渣にCPME(50mL)を加えて濃縮した(粗RR-MDDO[9])。得られた濃縮残渣にCPME(40mL)を加え、50℃から60℃に加熱した。この溶液にジイソプロピルエーテル(40mL)を滴下し、同温度で1時間、室温に冷却して2時間撹拌した。析出した固体をろ取し、得られた固体をCPME/ジイソプロピルエーテルの混液(1:1,20mL)で洗浄後、減圧下50℃にて乾燥することで、RR-MDDO[9](6.70g,27.4mmol)をBABL-HC[3]より収率62.5%で得た。
 同じ方法で合成したRR-MDDO[9]について、NMR、MS及び融点を測定し、元素分析を行った。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.33-7.26 (5H, m), 5.92 (1H, brs), 4.85 (1H, d, J = 15.5 Hz), 3.99 (1H, d, J = 15.5 Hz), 3.27-3.18 (2H,m), 3.16-3.10 (1H, m), 2.07-1.99 (2H, m), 1.28 (3H, d, J = 7.6 Hz).
MS: m/z = 245 [M+H]+
融点:125℃から127℃
元素分析:C 68.9wt%, H 6.6wt%, N 11.4wt% (理論値 C 68.8wt%, H 6.6wt%, N 11.5wt%)
 同じ方法で合成したRR-MDDO[9]について、粉末X線回折法で回折角2θと回折強度を測定した。得られたスペクトルを図2に示す。
 図2の各ピークは以下の表のとおりである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000187
 実施例3において得られた、粗RR-MDDO[9]および結晶化工程を経たRR-MDDO[9]についてHPLC分析を行った。
HPLCの測定機器及び条件を以下に示す。
測定機器:Nexeraシステム(島津製作所)
測定条件:
カラム:CHIRAL PAK IF-3:3um,250mm×4.6mm(ダイセル)
カラム温度:40℃
流速:1.0mL/min.
分析時間:35min.
検出波長:UV(220nm)
移動相:ヘキサン/2-プロパノール=80/20
 上記HPLC測定条件におけるRR-MDDO[9]の保持時間は、は約14.6分であった。立体異性体の保持時間は、SS体が約10.9分、RS体が約16.5分、SR体が約18.6分であった。
 実施例3における粗RR-MDDO[9]のHPLC分析の結果を図3および以下の表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000188
 結晶化工程を経たRR-MDDO[9]のHPLC分析の結果を図4および以下の表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000189
 RR-MDDO[9]の結晶化工程は、そのジアステレオマー体であるRS-MDDOの除去に対して効果的である。粗RR-MDDO[9]のジアステレオマー体生成比[RR-MDDO/RS-MDDO=88.25%/1.45%(HPLC面積百分率)]に対して、結晶化工程を経たRR-MDDO[9]のジアステレオマー体混入比は、[RR-MDDO/RS-MDDO=99.83%/0.04%(HPLC面積百分率)]であった。
[実施例4]RR-MDDO(化合物[9])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000190
 窒素雰囲気下、室温にてRR-AOPE[8]の2-ブタノール溶液(177.5mmol相当)にジエチレントリアミン(91.72g,889.0mmol)を添加し、85℃から95℃で2時間撹拌した。この反応混合液を10℃以下まで冷却した後、濃塩酸(160mL)、25%食塩水(150mL)を滴下し、酢酸エチル(500mL)を加え、生成物を抽出した。得られた有機層を7.5%重曹水と飽和食塩水の混合液(1/3,200mL)で洗浄し、減圧下濃縮した。濃縮残渣にトルエンを加えて全体量を200mLに調整し、酢酸エチル(400mL)及びカルボラフィン20(3.0g,日本エンバイロケミカルズ製)を加え、室温で終夜撹拌した。この混合液中の不溶物をろ去後、ろ液を濃縮した。濃縮残渣にトルエン(250mL)を加えて濃縮する操作を2回繰り返した。得られた濃縮残渣にトルエンを加えて全体量を250mLに調整し、55℃から65℃に加熱し溶解した。この溶液にRR-MDDO[9]の種晶(51mg)を添加し、同温度で1時間撹拌した後、n-ヘプタン(125mL)を滴下し、同温度で1時間、室温に冷却して終夜撹拌した。析出した固体をろ取し、得られた固体をトルエン/n-ヘプタンの混液(2/1,150mL)で洗浄後、減圧下50℃にて乾燥することで、RR-MDDO[9](31.07g,127.2mmol)をR-CPBL[6]より収率71.6%で得た。
 得られたRR-MDDO[9]について、NMRとMSを測定した。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 8.10 (1H, brs), 7.35-7.24 (5H, m), 4.55 (1H, d, J = 16.0 Hz), 3.95 (1H, d, J = 16.0 Hz), 3.35 (1H, q, J = 7.6 Hz), 3.15-3.05 (2H, m), 2.17-2.12 (1H, m), 2.07-1.99 (1H, m), 1.07 (3H, d, J = 7.4 Hz).
MS: m/z = 245 [M+H]+
[実施例5]R-CPBL(化合物[6])の結晶単離
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000191

Figure JPOXMLDOC01-appb-I000192
 窒素雰囲気下、DMF(1.4mL)に0℃にて塩化チオニル(0.57mL,7.88mmol)を加え、同温度で30分間撹拌した。この溶液に0℃にてR-CPRA[4](789mg,7.27mmol)のトルエン(1.4mL)溶液を滴下し、同温度で1時間撹拌し、R-CPRC[5](923mg,7.88mmol相当)のトルエン溶液を得た。
 窒素雰囲気下、BABL[2](1.16g,6.06mmol)、酢酸エチル(9mL)及び2,6-ルチジン(1.95g,18.18mmol)を順次添加し、室温で20分間撹拌した。この混合液を0℃に冷却し、先に得たR-CPRC[5](923mg,7.88mmol相当)のトルエン溶液を5℃以下にて滴下し、同温度にて2時間撹拌した。この反応混合液に1M塩酸(5mL)を加えて撹拌した後、有機層を分取し、次いで7.5%重曹水(6mL)で2回、水(6mL)で順次洗浄した。得られた有機層にカルボラフィン20(0.2g,日本エンバイロケミカルズ製)を加え、室温にて一晩撹拌した。不溶物をろ去し、酢酸エチルで洗浄後、ろ液と洗液を合わせて減圧下で濃縮した。得られた濃縮残渣をトルエン(6mL)及びヘプタン(6mL)で結晶化することにより、R-CPBL[6](1.19g,4.22mmol)を収率98.2%で得た。
 同じ方法で合成したR-CPBL[6]について、NMR、MS及び融点を測定し、元素分析を行った。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: (3:2のジアステレオマー混合物)5.03と4.99 (1H, q, J = 6.5 Hz, 塩素の付け根のプロトン), 1.51と1.47 (3H, d, J = 6.5 Hz, メチルのプロトン).
MS: m/z = 282 [M+H]+
融点:101℃から104℃
元素分析:C 59.8wt%, H 5.7wt%, N 4.9wt% (理論値 C 59.7wt%, H 5.7wt%, N 5.0wt%)
[実施例6]RR-AOBL(化合物[7])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000193

 窒素雰囲気下、室温にてR-CPBL[6](5.58g,24.5mmol相当)、DMSO(22mL)及びリン酸三カリウム(15.6g,73.5mmol)を順次添加し、30℃から40℃で24時間撹拌した。3M塩酸(33.5mL)に、室温まで冷却した反応混合液を滴下し、酢酸エチルで生成物を抽出した。得られた有機層を7.5%重曹水で1回、20%食塩水で2回、順次洗浄した後、減圧下で濃縮した。濃縮残渣にトルエン(400mL)を加え濃縮し、RR-AOBL[7]のトルエン溶液(6.44g,24.5mmol相当)を得た。得られたRR-AOBL[7]のトルエン溶液を収率100%として次工程に用いた。
 同じ方法で合成した粗RR-AOBL[7]を濃縮乾固し、NMRとMSを測定した。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.37-7.27 (5H, m), 4.86 (1H, d, J = 15.3 Hz), 4.21 (1H, ddd, J = 9.9, 5.2, 4.0 Hz), 4.13-4.06 (1H, m), 4.02 (1H, d, J = 15.3 Hz), 3.36 (1H, q, J = 7.5 Hz), 2.13-2.10 (2H, m), 1.31 (3H, d, J = 7.3 Hz).
MS: m/z = 246 [M+H]+
[実施例7]RR-MDDO(化合物[9])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000194
工程1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000195

 窒素雰囲気下、室温にてRR-AOBL[7](3.0g,12.2mmol)、DMSO(20mL)、及びジホルミルアミドナトリウム(3.48g,36.6mmol)を順次添加し、100℃で18時間撹拌した。この反応混合液を45℃付近まで冷却した後、ヨウ化エチル(3.0mL,37.8mmol)を滴下し、45℃で5時間撹拌した。反応混合液を室温まで冷却した後、5%炭酸カリウム水溶液を加え、生成物をトルエンで抽出した。得られた有機層を5%炭酸カリウム水溶液、20%食塩水で順次洗浄後、減圧下で濃縮した。得られた粗化合物[16]を収率100%として次工程に用いた。
 同じ方法で合成した粗化合物[16]を濃縮乾固し、NMRとMSを測定した。
1H-NMR (CDCl3) δ: 8.82 (1H, s), 7.98 (1H, s), 7.37-7.14 (5H, m), 4.85 (1H, d, J = 15.7 Hz), 4.23 (2H, q, J = 7.1 Hz), 4.20 (1H, d, J =15.7 Hz), 3.71 (1H, q, J = 7.1 Hz), 3.27-3.17 (1H, m), 3.11-3.02 (1H, m), 2.06-1.98 (1H, m), 1.95-1.85 (1H, m), 1.30 (3H, t, J = 7.1 Hz), 1.21 (3H, d, J = 7.1 Hz).
MS: m/z = 319 [M+H]+
工程2
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000196

 窒素雰囲気下、室温にて粗化合物[16](3.05mmol相当)、アセトニトリル(5mL)、炭酸セシウム(1.49g,4.58mmol)を添加し、室温で4時間撹拌した。この反応混合液に25%硫酸水素カリウム水溶液(5mL)を加え、生成物をクロロホルム(5mL)で3回抽出した。得られた有機層を合わせて、飽和重曹水(5mL)で洗浄後、減圧下濃縮した。濃縮残渣を薄層シリカゲルクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル)にて精製し、RR-MDDO[9](638mg,2.61mmol)を収率85.6%で得た。
 同じ方法で合成したRR-MDDO[9]について、NMRとMSを測定した。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.33-7.26 (5H, m), 5.92 (1H, brs), 4.85 (1H, d, J = 15.5 Hz), 3.99 (1H, d, J = 15.5 Hz), 3.27-3.18 (2H,m), 3.16-3.10 (1H, m), 2.07-1.99 (2H, m), 1.28 (3H, d, J = 7.6 Hz).
MS: m/z = 245 [M+H]+
[実施例8]SR-MDBN-DSU(化合物[11-1])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000197
工程1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000198

 窒素雰囲気下、RR-MDDO[9](1.0g,4.09mmol)、トルエン(10mL)、ドデカカルボニル3ルテニウム(261mg,0.41mmol)、TMDS(5.49g,40.9mmol)及びTMEDA(0.061mL,0.41mmol)を順次加え、70℃で40時間撹拌した。この反応混合液を室温まで冷却し減圧下濃縮した後、得られた濃縮残渣に2M塩酸(10mL)及びTHF(10mL)を加え分液した。得られた水層にCPME(10mL)及び25%水酸化ナトリウム水溶液(5mL)を加え、分液した。得られた有機層を飽和食塩水(5mL)で洗浄し、減圧下濃縮した。この濃縮残渣に2-プロパノール(10mL)を加え、粗SR-MDBN[10]の2-プロパノール溶液(4.09mmol相当)を得た。得られたSR-MDBN[10]の2-プロパノール溶液を収率100%として次工程に用いた。
 同じ方法で合成した粗SR-MDBN[10]を濃縮乾固し、NMRとMSを測定した。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.34-7.20 (5H, m), 3.62 (1H, d, J = 12.9 Hz), 3.59 (1H, d, J = 12.9 Hz), 3.21 (1H, dd, J = 7.5, 6.6 Hz), 2.99 (1H, d, J = 12.1 Hz), 2.95 (1H, d, J = 12.1 Hz), 2.84 (2H, t, J = 7.3 Hz), 2.68 (1H, t, J = 5.8 Hz), 2.43-2.35 (1H, m), 2.22-2.15 (1H, m), 1.81-1.74 (2H, m), 1.13 (3H, d, J = 6.9 Hz).
MS: m/z = 217 [M+H]+
工程2
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000199

 窒素雰囲気下、コハク酸(966mg,8.18mmol)及び2-プロパノール(5mL)を添加し、70℃に加熱した。この懸濁液に粗SR-MDBN[10]の2-プロパノール溶液(4.09mmol相当)を70℃にて滴下した後、室温まで冷却し、8時間撹拌した。析出した固体をろ取し、得られた固体を2-プロパノール(3mL)で2回洗浄後、減圧下40℃にて乾燥することで、SR-MDBN-DSU[11-1](1.25g,2.77mmol)を収率67.7%で得た。
 同じ方法で合成したSR-MDBN-DSU[11-1]について、NMR及び融点を測定し、元素分析を行った。
1H-NMR (D2O) δ: 7.43-7.38 (5H, m), 4.30 (1H, d, J = 12.1 Hz), 4.24 (1H, d, J = 12.1 Hz), 3.96 (1H, dd, J = 10.1, 8.9 Hz), 3.85 (1H, d, J = 14.5 Hz), 3.77 (1H, d, J = 14.5 Hz), 3.45-3.33 (3H, m), 2.99-2.91 (1H, m), 2.89-2.81 (1H, m), 2.53-2.47 (1H, m), 1.17 (3H, d, J = 7.3 Hz).
融点:126℃から128℃
元素分析:C 58.4wt%, H 7.1wt%, N 6.1wt% (理論値 C 58.4wt%, H 7.1wt%, N 6.2wt%)
 同じ方法で合成したSR-MDBN-DSU[11-1]について、粉末X線回折法で回折角2θと回折強度を測定した。得られたスペクトルを図5に示す。
 図5の各ピークは以下の表のとおりである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000200
 以下のようにSR-MDBN[10]及びSR-MDBN-DSU[11-1]それぞれのジベンジル誘導体(化合物[21])を調製し、それぞれのジベンジル誘導体(化合物[21])についてHPLCを測定した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000201
 窒素雰囲気下、SR-MDBN-DSU[11-1](72mg,0.16mmol)又は粗SR-MDBN[10](34mg,0.16mmol相当)及びベンズアルデヒド(0.024mL,0.24mmol)のDMF(1mL)溶液に、室温で水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム(67mg,0.32mmol)を加え、同温度で1時間撹拌した。反応混合液に2M塩酸(1mL)を加え、トルエン(2mL)で洗浄した。得られた水層に2M水酸化ナトリウム水溶液(2mL)を加え、生成物を酢酸エチル(2mL)で3回抽出した。得られた有機層を合わせ、飽和食塩水(3mL)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧下濃縮した。得られた濃縮残渣の一部をHPLCで測定した。
 HPLCの測定機器及び条件を以下に示す。
測定機器:Nexeraシステム(島津製作所)
測定条件:
カラム:CHIRALCEL OJ-RH:3um,4.6mm×150mm(ダイセル)
カラム温度:25℃
流速:0.8mL/min.
分析時間:15min.
検出波長:UV(210nm)
移動相:メタノール/ジエチルアミン=100/0.1(v/v)
 上記HPLC測定条件における化合物[21]の保持時間は、約5.2分であった。立体異性体の保持時間は、RR体が約4.4分、SS体が約7.2分、RS体が8.6分であった。
 実施例8の工程1における粗SR-MDBN[10]から得られた化合物[21]のHPLC分析の結果を図6および以下の表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000202
 実施例8の工程2の結晶化工程を経たSR-MDBN-DSU[11-1]から得られた化合物[21]のHPLC分析の結果を図7および以下の表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000203
 SR-MDBN-DSU[11-1]の結晶化工程は、そのエナンチオマー体であるRS-MDBNの除去に対して効果的である。粗SR-MDBN[10]のエナンチオマー体生成比[SR-MDBN/RS-MDBN=95.81%/2.59%(HPLC面積百分率)]に対して、結晶化工程を経たSR-MDBN[11-1]のエナンチオマー体混入比は、[SR-MDBN/RS-MDBN=98.48%/0.86%(HPLC面積百分率)]であった。
[実施例8-2]SR-MDBNの一コハク酸塩の製造
 SR-MDBN(446mg,2.06mmol)の2-プロパノール(2.9mL)溶液に、室温にてコハク酸(243mg,2.06mmol)を加えた。室温にて撹拌した後、超音波下で結晶を析出させた。析出した結晶をろ取して2-プロパノール(2mL)で洗浄した後、室温にて減圧乾燥した。SR-MDBNの一コハク酸塩(467mg,1.39mmol)を収率67.8%で得た。
 得られたSR-MDBNの一コハク酸塩について、示差走査熱量を測定し、元素分析を実施した。
示差走査熱量測定:
 示差走査熱量測定装置DSC-60A(島津製作所社製)を用いて、昇温速度5℃/分(アルミニウム製密閉パン)で測定した。測定により得られたDSC曲線を図8に示した。DSC曲線上の吸熱ピークのエンタルピーは、97.56J/gであり、吸熱温度は、118.53℃であり、補外開始温度は、117.25℃であった。
元素分析:C 64.69 wt%, H 7.78 wt%, N 8.34 wt% (理論値 C 64.65 wt%, H 7.84 wt%, N 8.38 wt%)
[実施例9]SR-MDBN-DSU(化合物[11-1])の精製
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000204
 窒素雰囲気下、粗SR-MDBN-DSU[11-1](3.00g,6.63mmol)及び2-プロパノール(18mL)を添加し、室温で2.5時間撹拌した。固体をろ取し、得られた固体を2-プロパノール(9mL)で洗浄後、減圧下50℃にて乾燥することで、SR-MDBN-DSU[11-1](2.74g,6.06mmol)を収率91.3%で得た。
 得られたSR-MDBN-DSU[11-1]について、NMRを測定した。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 11.99 (4H, brs), 7.33-7.21 (5H, m), 3.69 (1H, d, J = 12.9 Hz), 3.48 (1H, d, J = 12.9 Hz), 3.24 (1H, d, J = 12.7 Hz), 3.23-3.17 (1H, m), 3.11-3.05 (2H, m), 2.93 (1H, d, J = 12.7 Hz), 2.64 (1H, dd, J = 6.9, 3.7 Hz), 2.33 (8H, s), 2.31-2.23 (2H, m), 2.02-1.95 (1H, m), 1.15 (3H, d, J = 6.9 Hz).
 実施例9で得られたSR-MDBN-DSU[11-1]についてHPLC分析を行った。
 HPLCの測定機器及び条件を以下に示す。
測定機器:LC-10システム(島津製作所)
測定条件:
カラム:CHIRALPAK IE-3:3um,4.6mm×250mm(ダイセル)
カラム温度:40℃
流速:1.0mL/min.
分析時間:30min.
検出波長:UV(220nm)
移動相:n-ヘキサン/エタノール/イソプロピルアミン=95/5/0.1(体積比)
 上記HPLC測定条件における化合物[11-1]の保持時間は、約16.4分であった。エナンチオマー体であるRS-MDBN-DSUの保持時間は、約21.9分であった。
 SR-MDBN-DSU[11-1]の精製工程は、そのエナンチオマー体であるRS-MDBN-DSUの除去に対して効果的である。粗SR-MDBN-DSU[11-1]のエナンチオマー体生成比[SR-MDBN-DSU/RS-MDBN-DSU=98.2%/1.8%(HPLC面積百分率)]に対して、精製工程を経たSR-MDBN[11-1]のエナンチオマー体混入比は、[SR-MDBN-DSU/RS-MDBN-DSU=>99.9%/<0.1%(HPLC面積百分率)]であった。
 実施例9における粗SR-MDBN-DSU[11-1]のHPLC分析の結果を図9および以下の表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000205
 実施例9の精製工程を経たSR-MDBN-DSU[11-1]のHPLC分析の結果を図10および以下の表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000206
[実施例10]SR-MDBN(化合物[10])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000207
 窒素雰囲気下、塩化アルミニウム(820mg,6.15mmol)及びTHF(1mL)を0℃にて添加し、次いで水素化アルミニウムリチウムの1M THF溶液(6.1mL,6.15mmol)を10℃以下で滴下し、室温にて1時間撹拌した。この反応混合液にRR-MDDO[9](500mg,2.05mmol)のTHF溶液(2mL)を-15℃から-10℃にて滴下し、-10℃で1時間、40℃で一晩撹拌した。反応混合液を0℃まで冷却後、酒石酸カリウムナトリウムの飽和水溶液(10mL)滴下し、次いで25%水酸化ナトリウム水溶液(5mL)を加え、生成物をCPME(5mL)で2回抽出した。得られた有機層を合わせて、飽和食塩水(5mL)で洗浄し、減圧下にて濃縮した。この濃縮残渣に2-プロパノール(5mL)を加え、粗SR-MDBN[10]の2-プロパノール溶液(2.05mmol相当)を得た。
 同じ方法で合成した粗SR-MDBN[10]を濃縮乾固し、NMRとMSを測定した。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.34-7.20 (5H, m), 3.62 (1H, d, J = 12.9 Hz), 3.59 (1H, d, J = 12.9 Hz), 3.21 (1H, dd, J = 7.5, 6.6 Hz), 2.99 (1H, d, J = 12.1 Hz), 2.95 (1H, d, J = 12.1 Hz), 2.84 (2H, t, J = 7.3 Hz), 2.68 (1H, t, J = 5.8 Hz), 2.43-2.35 (1H, m), 2.22-2.15 (1H, m), 1.81-1.74 (2H, m), 1.13 (3H, d, J = 6.9 Hz).
MS: m/z = 217 [M+H]+
[実施例11]
(A)SR-MDBN(化合物[10])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000208
 窒素雰囲気下、クロロトリメチルシラン(22.2g,205mmol)及びトルエン(60mL)を室温にて添加し、次いで水素化アルミニウムリチウムの10%THF溶液(83.0mL,205mmol)を-10℃から0℃で滴下し、同温度にて0.5時間撹拌した。この反応混合液にRR-MDDO[9](20.0g,81.9mmol)のTHF(100mL)溶液を-10℃から0℃にて滴下し、同温度で1時間撹拌した。反応混合液に水素化アルミニウムリチウムの10%THF溶液(19.9mL,49.1mmol)を-5℃から0℃で滴下した後、50℃にて20時間撹拌した。反応混合液を0℃まで冷却後、2-プロパノール(40mL)を滴下し、2.5時間撹拌した。この混合液を、酒石酸カリウムナトリウムの50%水溶液(300mL)と8N水酸化カリウム水溶液(40mL)の混合液に滴下し、室温にて一晩撹拌した。分層して得られた有機層を酒石酸カリウムナトリウムの50%水溶液(100mL)で洗浄し、減圧下にて濃縮した。この濃縮残渣に2-プロパノール(60mL)を加え濃縮する操作を2回繰り返し、粗SR-MDBN[10]の2-プロパノール溶液(81.9mmol相当)を得た。
 同じ方法で合成した粗SR-MDBN[10]の2-プロパノール溶液の一部を濃縮乾固し、NMRとMSを測定した。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 7.28-7.17 (5H, m), 3.56 (1H, d, J = 13.9 Hz), 3.52 (1H, d, J = 13.2 Hz), 3.20 (1H, brs), 3.09-3.05 (1H, m), 2.80 (1H, d, J = 11.3 Hz), 2.73-2.67 (3H, m), 2.56-2.53 (1H, m), 2.28-2.20 (1H, m), 2.09-2.02 (1H, m), 1.69-1.63 (1H, m), 1.06 (3H, d, J = 6.9 Hz).
MS: m/z = 217 [M+H]+
(B)SR-MDBN(化合物[10])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000209
 SR-MDBN[10]を以下の別法で製造した。窒素雰囲気下、THF(535mL)を0から5℃に冷却した後、水素化リチウムアルミニウムのトルエン/THF中の15%溶液(374mL,1.314mol)を滴加した。混合物を0から5℃にて10分間撹拌した後、クロロトリメチルシラン(142.8g,1.314mol)を滴加し、混合物を0から5℃にて10分間撹拌した。RR-MDDO[9](107.0g,0.438mol)のTHF(535mL)溶液を滴加した。30分後、冷却を止め、混合物を40から50℃まで加熱した。混合物を同温にて1時間撹拌した。次いで、混合物を加熱還流し、その温度で14時間撹拌した。反応混合物を0から5℃まで冷却した後、これにtert-ブチルメチルエーテル(2140mL,最初に400mLを滴加)を滴加した。次いで、ロッシェル塩(1740mL,温度を0から5℃に保ちながら最初に150mLを滴加)の飽和水溶液及び水(670mL)を加えた。添加後、反応混合物を15から20℃まで昇温させ、次いで20℃にて1時間撹拌した。分離して得られた有機層を減圧濃縮した。2-プロパノールを濃縮残渣に添加し、混合物を濃縮し、これを二回繰り返して粗製のSR-MDBN[10]の2-プロパノール溶液を得た(0.417mmolに相当)。
[実施例12]SR-MDOP(化合物[14])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000210
工程1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000211

 窒素雰囲気下、リン酸三カリウム(14.1g,66.3mmol)に精製水(30mL)を添加した。この溶液に30℃から40℃にてSR-MDBN-DSU[11-1](5.0g,11.0mmol)、CPPY[12](1.73g,11.3mmol)及びにtert-ブタノール(15mL)を順次添加した。反応混合液を75℃から85℃にて2.5時間撹拌した後、室温まで冷却した。この反応混合液を分液することで、粗SR-MDBP[13]の含水tert-ブタノール溶液(43.16g,11.0mmol相当)を得た。得られた粗SR-MDBP[13]の含水tert-ブタノール溶液を収率100%として次工程に用いた。
 同じ方法で合成した粗SR-MDBP[13]を濃縮乾固し、NMRとMSを測定した。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 11.57 (1H, s), 8.09 (1H, s), 7.29-7.15 (5H, m), 7.10 (1H, t, J = 2.8 Hz), 6.57 (1H, brs), 3.75-3.53 (6H, m), 3.23 (1H, dd, J = 7.4, 6.5 Hz), 2.70 (1H, t, J = 5.8 Hz), 2.36 (1H, dt, J = 19.5, 7.2 Hz), 2.29-2.22 (1H, m), 2.14-2.07 (1H, m), 1.07 (3H, d, J = 7.2 Hz).
MS: m/z = 344 [M+H]+
工程2
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000212

 粗SR-MDBP[13]の含水tert-ブタノール溶液(43.16g,11.0mmol相当)に精製水(3.7mL)、酢酸(1.32g,22.0mmol)及び10%パラジウム炭素(川研ファインケミカル社製 Mタイプ,52.6%含水,370mg)を順次添加した。この混合液を水素で置換し、常圧水素存在下で55℃にて7時間撹拌した。反応液を室温まで冷却後、窒素で置換し、トルエン(17mL)及び8M水酸化ナトリウム水溶液(15.5mL,44.0mmol)を加え、45℃で6時間撹拌した。反応混合液を室温まで冷却した後、10%パラジウム炭素を濾過で除去した。反応容器と10%パラジウム炭素をtert-ブタノールとトルエン混合液(1:1,7mL)で洗浄し、ろ液と洗浄液を合わせた後、分液した。得られた有機層を10%食塩水(7mL)で洗浄し、減圧下にて濃縮した。濃縮残渣にトルエン(17mL)を添加し濃縮する操作を3回繰り返した後、濃縮残渣に再度トルエン(20mL)を加え、15℃から30℃にて1時間、次いで0℃から10℃にて1時間撹拌した。析出した固体を濾取し、得られた固体をトルエン(5mL)で洗浄した。得られた湿固体を減圧下にて乾燥することで、SR-MDOP[14](2.45g,10.07mmol)を収率91.5%で得た。
 同じ方法で合成したSR-MDOP[14]について、NMR、MSを測定した。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 11.57 (brs, 1H), 8.07 (s, 1H), 7.10 (d, 1H, J = 3.2 Hz), 6.58 (d, 1H, J = 3.2 Hz), 3.92-3.59 (m, 4H), 3.49 (dd, 1H, J = 8.3, 7.2 Hz), 2.93 (dd, 1H, J = 7.2, 6.1 Hz), 2.61-2.53 (m, 2H), 2.12-2.01 (m, 2H), 1.10 (d, 3H, J = 6.9 Hz).
MS: m/z = 244 [M+H]+
[実施例13]化合物A(化合物[17])の1-エタノール和物(化合物[20])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000213

 窒素雰囲気下、SR-MDOP[14](5.00g,20.5mmol)にアセトニトリル(60mL)及びトリエチルアミン(416mg,4.11mmol)を添加した後、DPCN[18](3.69g,22.6mmol)のアセトニトリル(35mL)溶液を45℃にて滴下し、使用した滴下ロートをアセトニトリル(5.0mL)で洗浄し、洗浄液を反応混合液に添加した。反応混合液を45℃にて3時間撹拌した後、室温まで冷却した。反応後混合液に5%重曹水(25mL)、10%食塩水(25mL)及び酢酸エチル(50mL)を加えて撹拌した後、有機層を分取した。減圧下にて有機層の溶媒を留去した。濃縮残渣にTHF(50mL)を加えて濃縮する操作を4回繰り返した。濃縮残渣にTHF(50mL)を加え、溶液の水分含量が5.5重量%になるように水を添加し、析出した不溶物を濾過で除去した。反応容器と濾過残渣をTHF(15mL)で洗浄し、洗浄液を濾液に添加した後、減圧下にて濾液の溶媒を留去した。濃縮残渣にエタノール(50mL)及び下記実施例11の方法で予め調整した化合物A(化合物[17])の結晶(5.1mg)を添加し、室温にて1時間撹拌した後、減圧下にて溶媒を留去し、エタノール(50mL)を加え再度濃縮した。濃縮残渣にエタノール(15mL)を加え、室温にて1時間撹拌した。析出した固体を濾取し、得られた固体をエタノール(20mL)で洗浄した。得られた湿固体を減圧下にて乾燥することで、化合物A(化合物[17])の1-エタノール和物[20](6.26g,17.6mmol)を収率85.5%で得た。
 同じ方法で合成した化合物A(化合物[17])の1-エタノール和物のNMRとMSを測定した。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 11.59 (brs, 1H), 8.08 (s, 1H), 7.11 (dd, 1H, J = 3.5, 2.3 Hz), 6.58 (dd, 1H, J = 3.5, 1.8 Hz), 4.34 (t, 1H, J = 5.1 Hz), 4.16 (t, 1H, J = 8.3 Hz), 4.09-3.92 (m, 3H), 3.84-3.73 (m, 1H), 3.71 (d, 1H, J = 19.0 Hz), 3.65 (d, 1H, J = 19.0 Hz), 3.58 (dd, 1H, J = 8.2, 5.9 Hz), 3.44 (dq, 2H, J = 6.7, 5.1 Hz), 2.69-2.60 (m, 2H), 2.23-2.13 (m, 1H), 1.12 (d, 3H, J = 7.1 Hz), 1.06 (t, 3H, J = 6.7 Hz).
MS: m/z = 311 [M+H]+
 同じ方法で合成した化合物A(化合物[17])の1-エタノール和物について、粉末X線回折法で回折角2θと回折強度を測定した。得られたスペクトルを図11に示す。
 図11の各ピークは以下の表のとおりである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000214
[実施例14]化合物A(化合物[17])の精製
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000215

 窒素雰囲気下、化合物A(化合物[17])の1-エタノール和物[20](4.00g,11.2mmol)及び1-ブタノール(32mL)を混合し、110℃にて溶解させた。85℃に冷却後、本法と同じ方法で予め調製した化合物A(化合物[17])の結晶(4.0mg)を添加し、85℃にて2時間、75℃にて1時間、室温にて16時間撹拌した。析出した固体を濾取し、得られた固体を1-ブタノール(8.0mL)及び酢酸エチル(8.0mL)で順次洗浄した。得られた湿固体を減圧下にて乾燥することで、化合物A(化合物[17])(3.18g,10.2mmol)を収率91.3%で得た。
 同じ方法で合成した化合物A(化合物[17])のNMRとMSを測定した。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 11.59 (brs, 1H), 8.08 (s, 1H), 7.11 (dd, 1H, J = 3.5, 2.5 Hz), 6.58 (dd, 1H, J = 3.5, 1.8 Hz), 4.16 (t, 1H, J = 8.3 Hz), 4.09-3.93 (m, 3H), 3.84-3.73 (m, 1H), 3.71 (d, 1H, J = 19.0 Hz), 3.65 (d, 1H, J = 19.0 Hz), 3.58 (dd, 1H, J = 8.2, 5.9 Hz), 2.69-2.59 (m, 2H), 2.23-2.13 (m, 1H), 1.12 (d, 3H, J = 7.2 Hz).
MS: m/z = 311 [M+H]+
 同じ方法で合成した化合物A(化合物[17])について、単結晶X線構造解析を行った。
(1)単結晶作製方法
 LaPhaロボバイアル2.0mL広口バイアルに、10mgの化合物A(化合物[17])を入れ、クロロホルム0.5mLを加えて蓋をし、化合物A(化合物[17])を完溶させた。溶媒をゆっくりと蒸発させるため、テルモシリンジ針で、蓋に取り付けられたセプタムに穴を開け、バイアルを室温静置した。得られた単結晶を構造解析に使用した。
(2)測定器
ビームライン:SPring-8 BL32B2
検出器:Rigaku R-AXIS V diffractometer
(3)測定方法
 0.71068Åの放射光を単結晶に当て、X線回折データを測定した。
(4)分析方法
 得られた化合物A(化合物[17])のクロロホルム和物が有する塩素原子のX線異常散乱効果を利用する方法により、化合物A(化合物[17])の絶対立体配置を(3S,4R)と決定した。化合物A(化合物[17])の絶対立体配置より化合物A(化合物[17])の各製造中間体の立体構造を特定した。
[実施例15]化合物A(化合物[17])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000216
 窒素雰囲気下、SR-MDOP[14](90.0g,370mmol)にアセトニトリル(900mL)を添加した後、DPCN[18](63.5g,389mmol)のアセトニトリル(540mL)溶液を70℃から80℃にて滴下した。使用した滴下ロートをアセトニトリル(90mL)で洗浄し、洗浄液を反応混合液に添加した。反応混合液を70℃から80℃にて1.5時間撹拌した後、1-ブタノール(900mL)を加え、減圧下にて溶媒を留去した。濃縮残渣に1-ブタノール(900mL)を加え再度濃縮した。濃縮残渣に1-ブタノールを加えて全量を2.1Lとし、90℃から100℃にて溶解させた。この溶液を60℃から70℃に冷却した後、本法と同じ方法で予め調製した化合物Aの結晶(90mg)を添加した。この混合液を60℃から70℃にて2時間撹拌した後、30℃まで4時間かけて冷却した。20℃から30℃にて1時間撹拌した後、0℃から5℃にて4時間撹拌した。析出した固体を濾取し、得られた固体を1-ブタノール(180mL)及び酢酸エチル(180mL)で順次洗浄した。得られた湿固体を減圧下にて乾燥することで、化合物A[17](104g,335mmol)を収率90.5%で得た。
 同じ方法で合成した化合物AのNMRとMSを測定した。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 11.60 (s, 1H), 8.09 (s, 1H), 7.12 (dd, 1H, J = 3.0, 2.7 Hz), 6.58 (brs, 1H), 4.16 (t, 1H, J = 8.4 Hz), 4.11-3.91 (m, 3H), 3.88-3.72 (m, 1H), 3.68 (d, 2H, J = 2.1 Hz), 3.57 (dd, 1H, J = 8.4, 6.0 Hz), 2.70-2.56 (m, 2H), 2.24-2.10 (m, 1H), 1.12 (d, 3H, J = 7.2 Hz).
MS: m/z = 311 [M+H]+
[実施例16]化合物A(化合物[17])の精製
 窒素雰囲気下、上記実施例15で製造した化合物A(化合物[17])(100g,322mmol)及び1-ブタノール(1.8L)を混合し、90℃から100℃にて溶解させた。この溶液を85℃から100℃にて濾過し、溶解容器と濾過残渣を1-ブタノール(200mL)で洗浄し、洗浄液を濾液に添加した。濾液を60℃から70℃に冷却した後、本法と同じ方法で予め調製した化合物Aの結晶(100mg)を添加した。この混合液を60℃から70℃にて2時間撹拌した後、30℃まで3時間かけて冷却した。20℃から30℃にて1時間撹拌した後、0℃から5℃にて4時間撹拌した。析出した固体を濾取し、得られた固体を1-ブタノール(200mL)及び酢酸エチル(200mL)で順次洗浄した。得られた湿固体を減圧下にて乾燥することで、化合物A(化合物[17])(91.7g,295mmol)を収率91.7%で得た。得られた化合物は粉末X線回折等で分析し、化合物Aであることを確認した。
 同じ方法で合成した化合物AのNMRとMSを測定した。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 11.60 (s, 1H), 8.09 (s, 1H), 7.12 (dd, 1H, J = 2.7, 2.4 Hz), 6.59 (brs, 1H), 4.16 (t, 1H, J = 8.2 Hz), 4.11-3.91 (m, 3H), 3.86-3.72 (m, 1H), 3.68 (d, 2H, J = 2.1 Hz), 3.58 (dd, 1H, J = 8.1, 6.0 Hz), 2.71-2.56 (m, 2H), 2.27-2.09 (m, 1H), 1.12 (d, 3H, J = 6.9 Hz).
MS: m/z = 311 [M+H]+
[実施例17]RR-AOPA(化合物[22])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000217
工程1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000218
 窒素雰囲気下、R-CPBL[6](25.0g,88.7mmol)のTHF(100mL)溶液に、-10℃から0℃で24%リチウムヘキサメチルジシラジドのTHF溶液(66.3g,93.2mmol)を滴下し、同温にて1時間撹拌した。この反応混合液を2M塩酸(100mL)に滴下し、トルエン(200mL)で生成物を抽出した。得られた有機層を5%重曹水(125mL)、水(125mL)で、順次洗浄した後、減圧下で濃縮した。濃縮残渣にトルエン(125mL)を加え濃縮操作を2回繰り返し、RR-AOBL[7]のトルエン溶液(69.1g,88.7mol相当)を得た。得られたRR-AOBL[7]のトルエン溶液を収率100%として次工程に用いた。
 同じ方法で合成した粗RR-AOBL[7]のトルエン溶液の一部を濃縮乾固し、NMRとMSを測定した。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 7.36-7.25 (5H, m), 4.54 (1H, d, J = 15.7 Hz), 4.35-4.30 (1H, m), 4.24-4.18 (1H, m), 4.13 (1H, d, J = 15.7 Hz), 3.60 (1H, q, J = 7.4 Hz), 2.46-2.35 (2H, m), 1.10 (3H, d, J = 7.4 Hz).
MS: m/z = 246 [M+H]+
工程2
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000219
 窒素雰囲気下、室温にて粗RR-AOBL[7]のトルエン溶液(69.1g,88.7mmol相当)、DMSO(100mL)及びフタルイミドカリウム(18.1g,97.6mmol)を順次添加し、90℃から110℃で一晩撹拌した。反応混合液を室温付近まで冷却した後、水(100mL)及びトルエン(100mL)を加え、生成物を抽出した。得られた水層に5%硫酸水素カリウム水溶液(500mL)を加え、酢酸エチル(150mL)で2回抽出した後、減圧下で濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=9:1)で精製し、RR-AOPA[22](25.5g,65.0mol)をR-CPBL[6]より収率63.7%で得た。
 得られたRR-AOPA[22]について、NMRとMSを測定した。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 13.45 (1H, brs), 7.84-7.81 (4H, m), 7.39-7.31 (4H, m), 7.24 (1H, t, J = 7.2 Hz), 4.63 (1H, d, J = 16.1 Hz), 4.33 (1H, d, J = 16.1 Hz), 3.64-3.57 (1H, m), 3.52-3.44 (1H, m), 3.36 (1H, q, J = 7.5 Hz), 2.30-2.15 (2H, m), 1.09 (3H, d, J = 7.5 Hz).
MS: m/z = 393 [M+H]+
[実施例18]化合物A(化合物[17])の3,5-ジメチルピラゾールとの共結晶(モル比2:1)(化合物[33])の製造(種晶)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000220
 窒素雰囲気下、化合物A(化合物[17])(70.0g,226mmol)、3,5-ジメチルピラゾール[32](21.7g,226mmol)にアセトニトリル(490mL)を加え、80℃に加熱し溶解した。65℃で2時間撹拌し、結晶の析出を確認した後、徐々に室温まで冷却した。氷冷下で2時間撹拌した後、析出した固体を濾取し、得られた固体を氷冷したアセトニトリル(140mL)で洗浄した。得られた湿固体を減圧下にて乾燥することで、化合物A(化合物[17])の3,5-ジメチルピラゾールとの共結晶(モル比2:1)(化合物[33])(75.3g,210mmol)を収率93.1%で得た。
 合成した化合物A(化合物[17])の3,5-ジメチルピラゾールとの共結晶(モル比2:1)のNMR、元素分析と示差走査熱量を測定した。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 11.98 (br s, 0.5H), 11.59 (br s, 1H), 8.08 (s, 1H), 7.11 (dd, 1H,  J = 3.5, 2.2 Hz), 6.58 (dd, 1H, J = 3.5, 1.4 Hz), 5.73 (s, 0.5H), 4.16 (t, 1H, J = 8.3 Hz), 4.09-3.93 (m, 3H), 3.84-3.74 (m, 1H), 3.70 (d, 1H, J = 19.0 Hz), 3.65 (d, 1H, J = 19.0 Hz), 3.58 (dd, 1H, J = 8.2, 5.9 Hz), 2.70-2.58 (m, 2H), 2.22-2.12 (m, 1H), 2.12 (s, 3H), 1.12 (d, 3H, J = 7.2 Hz).
元素分析:C 61.9wt%, H 6.1wt%, N 27.2wt% (理論値 C 62.0wt%, H 6.2wt%, N 27.4wt%)
示差走査熱量測定:
 示差走査熱量測定装置DSC-60A(島津製作所社製)を用いて、昇温速度5℃/分(アルミニウム製密閉パン)で測定した。測定により得られたDSC曲線を図12に示した。DSC曲線上の吸熱ピークのエンタルピーは、100.26J/gであり、吸熱温度は、173.66℃であり、補外開始温度は、172.36℃であった。得られたスペクトルを図12に示す。
 合成した化合物A(化合物[17])の3,5-ジメチルピラゾールとの共結晶(モル比2:1)について、粉末X線回折法で回折角2θと回折強度を測定した。得られたスペクトルを図13に示す。
 図13の各ピークは以下の表のとおりである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000221
[実施例19]化合物A(化合物[17])の3,5-ジメチルピラゾールとの共結晶(モル比2:1)(化合物[33])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000222
 窒素雰囲気下、SR-MDOP[14](800g,3.29mol)にアセトニトリル(8.0L)を添加した後、DPCN[18](563g,3.45mol)のアセトニトリル(4.8L)溶液を75℃にて滴下した。使用した滴下ロートをアセトニトリル(0.8L)で洗浄し、洗浄液を反応混合液に添加した。反応混合液を75℃にて1.5時間撹拌した後、反応混合液を8.0Lまで減圧濃縮した。65℃にて実施例18で合成した化合物A(化合物[17])の3,5-ジメチルピラゾールとの共結晶(モル比2:1)(化合物[33])(80mg)を添加し、65℃で2時間撹拌した後、氷冷下2時間撹拌した。析出した固体を濾取し、得られた固体を氷冷したアセトニトリル(2.4L)で洗浄した。得られた湿固体を減圧下にて乾燥することで、化合物A(化合物[17])の3,5-ジメチルピラゾールとの共結晶(モル比2:1)(化合物[33])(1070g,2.99mol)を収率90.8%で得た。
 合成した化合物A(化合物[17])の3,5-ジメチルピラゾールとの共結晶(モル比2:1)のNMR、元素分析と示差走査熱量を測定した。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 11.99 (br s, 0.5H), 11.59 (br s, 1H), 8.11 (s, 1H), 7.11 (s, 1H), 6.58 (d, 1H, J = 3.0 Hz), 5.73 (s, 0.5H), 4.16 (t, 1H, J = 8.4 Hz), 4.10-3.92 (m, 3H), 3.85-3.74 (m, 1H), 3.70 (d, 1H, J = 19.1 Hz), 3.65 (d, 1H, J = 19.1 Hz), 3.57 (dd, 1H, J = 7.9, 6.1 Hz), 2.70-2.58 (m, 2H), 2.22-2.14 (m, 1H), 2.12 (s, 3H), 1.12 (d, 3H, J = 6.9 Hz).
元素分析:C 62.0wt%, H 6.2wt%, N 27.2wt% (理論値 C 62.0wt%, H 6.2wt%, N 27.4wt%)
示差走査熱量測定:
 示差走査熱量測定装置DSC-60A(島津製作所社製)を用いて、昇温速度5℃/分(アルミニウム製密閉パン)で測定した。測定により得られたDSC曲線を図14に示した。DSC曲線上の吸熱ピークのエンタルピーは、78.02J/gであり、吸熱温度は、173.81℃であり、補外開始温度は、172.02℃であった。得られたスペクトルを図14に示す。
 合成した化合物A(化合物[17])の3,5-ジメチルピラゾールとの共結晶(モル比2:1)について、粉末X線回折法で回折角2θと回折強度を測定した。得られたスペクトルを図15に示す。
 図15の各ピークは以下の表のとおりである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000223
[実施例20]
(A)化合物A(化合物[17])の製造(精製)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000224
 窒素雰囲気下、化合物A(化合物[17])の3,5-ジメチルピラゾールとの共結晶(モル比2:1)(化合物[33])(2.00kg,5.88mol)、BHT(60g)及び1-ブタノール(16L)を混合し、110℃にて溶解させた。85℃に冷却後、予め調製した化合物A(化合物[17])の結晶(200mg)を添加し、85℃にて2時間撹拌した後、徐々に室温まで冷却し、室温にて3時間撹拌した。析出した固体を濾取し、得られた固体を1-ブタノール(4L)及び酢酸エチル(4L)で順次洗浄した。得られた湿固体を減圧下にて乾燥することで、化合物A(化合物[17])(1.63kg,5.27mol)を収率94.4%で得た。
 同じ方法で合成した化合物A(化合物[17])のNMRとMSを測定した。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 11.58 (br s, 1H), 8.08 (s, 1H), 7.11 (dd, 1H, J = 3.5, 2.3 Hz), 6.58 (dd, 1H, J = 3.5, 1.6 Hz), 4.16 (t, 1H, J = 8.4 Hz), 4.10-3.94 (m, 3H), 3.84-3.74 (m, 1H), 3.70 (d, 1H, J = 19.0 Hz), 3.65 (d, 1H, J = 18.7 Hz), 3.58 (dd, 1H, J = 8.2, 5.9 Hz), 2.70-2.59 (m, 2H), 2.23-2.12 (m, 1H), 1.12 (d, 3H, J = 7.2 Hz).
MS: m/z = 311 [M+H]+
(B)化合物A(化合物[17])の製造(精製)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000225
 化合物Aを以下の別法で精製した。
 窒素雰囲気下、式[33]の化合物(10.0g,27.9mmol)を2-メチル-2-ブタノール(150mL)に110℃で溶解した。75℃にて化合物[17]の種晶を溶液に加えた。溶液を0から5℃に冷却した。固体を2-メチル-2-ブタノール(20mL)、次いで酢酸エチル(20mL)で洗浄した。析出した固体をフィルターで集め、得られた固体を2-メチル-2-ブタノール(20mL)、次いで酢酸エチル(20mL)で洗浄した。得られた湿固体を減圧乾燥し、化合物[17](7.6g,24mmol)を得た。
[実施例21]Boc-Dab(MeOCO)-OH(化合物[24])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000226
 水酸化ナトリウム(60.0g,1.5mmol)をメタノール(600mL)に添加した。すべての固体が溶解するまで、混合物を40℃まで45分間加熱した。得られた溶液にBoc-Gln-OH(化合物[23])(62.82g,250mmol)をメタノール(30mL)を用いて少しずつ添加した。得られた溶液を40℃にて30分間撹拌した。臭素(15.4mL,300mmol)を滴下した。90分撹拌後、臭素(10.2mL,200mmol)をさらに滴下した。反応混合物を30分間撹拌し、次いで室温まで冷却した。
 溶媒を留去して固体を得、これを水(250mL)に溶解した後、酢酸エチル(315mL)を添加した。混合物を激しく撹拌し、水相のpHが~2となるように塩酸水溶液(2M,290mL)を滴下した。相を分離し、水相を酢酸エチル(315mL)で抽出した。集めた有機相を濃縮し、~95%純度の粗生成物[24](71.31g)を得た。
 化合物はさらなる精製なしで次の工程に用いた。
[実施例22]Boc-Dab(MeOCO)-OH(化合物[24])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000227
 固体水酸化ナトリウム(194.9g,4.87mol)を10-20℃にてメタノール(6L)に少しずつ添加した。溶液にBoc-Gln-OH[23](600g,2.44mol)を20-25℃にて添加した。反応混合物を40℃から45℃に加熱した。反応混合物に次亜塩素酸ナトリウム水溶液(158.4g/L,1.26L,199.6g,2.68mol)を40℃から45℃にて1時間かけて添加した。混合物を40℃から45℃にて1時間から3時間撹拌した。
 反応混合物を20℃から25℃に冷却し、亜硫酸ナトリウム(61.4g,0.49mol)の水溶液(300mL)を添加した。混合物を10分間撹拌した後、濃縮した。酢酸2-プロピル(1.8L)を少しずつ濃縮残渣に加え、混合物を濃縮乾固した。濃縮残渣に水(300mL)及び酢酸2-プロピル(3L)を加えた。20℃から25℃にて塩酸水溶液(2M,2.75L;pH2.56)でpHを2から3に調節した。相を分離し、水相を酢酸2-プロピル(2×1.5L)で抽出した。有機相を集め、水(1.2L)で洗浄した。相を分離し、有機相を濃縮してBoc-Dab(MeOCO)-OH[24](669.4g,2.42mol)を96.3面積%のHPLC純度で得た。
 化合物はさらなる精製なしで次の工程に用いた。
1H NMR (600 MHz, DMSO-d6) δ 12.47 (brs, 1H), 7.15-7.05 (m, 2H), 3.88 (td, J = 9.1, 4.7 Hz, 1H), 3.50 (s, 3H), 3.06-2.96 (m, 2H), 1.87-1.78 (m, 1H), 1.70-1.60 (m, 1H), 1.38 (s, 9H). 化合物は少量の回転異性体を示す:6.81-6.68 (m), 3.82-3.75 (m), 1.34 (s).
LC-MS: m/z = 275 [M-H]-
[実施例23](S)-2-アミノ-4-((メトキシカルボニル)アミノ)ブタン酸メチル塩酸塩(化合物[25])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000228
 メタノール(3.5L)を化合物[24](669g,2.42mol)濃縮物に10℃から20℃にて添加した。混合物を15℃から20℃まで冷却した。塩酸メタノール溶液(42.19重量%,864g,9.99mol)を15℃から20℃の温度を維持しながら添加した。反応混合物を15℃から20℃にて撹拌した。
 窒素ガスを反応混合物に30分間バブリングし、塩化水素を除去した。反応混合物を濃縮して乾燥した。メタノール(1L)を残渣に添加し、濃縮乾固し、化合物[25](555.9g,2.42mol)を89.7面積%のHPLC純度で得た。
[実施例24](S)-2-アミノ-4-((メトキシカルボニル)アミノ)ブタン酸メチル塩酸塩(化合物[25])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000229
 メタノール(285mL)を-10℃まで冷却し、塩化アセチル(174mL)を30分かけて滴下した。得られた塩酸メタノール溶液を0℃にて撹拌し、メタノール(143mL)に溶解した化合物[24](純度~95%,71.31g,245mmol)を添加した。1時間撹拌した後、混合物を20℃とした。混合物を2時間撹拌した後、LC-MS分析により化合物[24]が完全に消失したことを確認した。
 反応混合物を濃縮した。トルエン(200mL)を添加し、溶液を濃縮した。これをさらなるトルエン(200mL)で繰り返し、化合物[25]を得た。化合物をさらなる精製なしで次の工程に用いた。
[実施例25](S)-2-アミノ-4-((メトキシカルボニル)アミノ)ブタン酸メチル塩酸塩(化合物[25])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000230
 化合物[24](12.4g,40.6mmol)をMeOH(60mL)に溶解した。塩化チオニル(5.9mL,81mmol)を15℃から20℃の温度を保ちながら混合物に添加した。反応物を15℃から20℃にて21時間撹拌した後、窒素ガスを混合物に30分間バブリングした。得られた混合物を濃縮し、乾燥した。メタノール(40mL)を添加し、溶液を濃縮乾固した。残渣をトルエン(2×50mL)で共沸して化合物[25]を得、これをさらなる精製なしで次の工程に用いた。
1H NMR (600 MHz, DMSO-d6) δ 8.62 (brs, 3H), 7.26 (t, J = 5.8 Hz, 1H), 4.02 (t, J = 6.6 Hz, 1H), 3.74 (s, 3H), 3.52 (s, 3H), 3.17-3.08 (m, 2H), 2.01-1.88 (m, 2H).
[実施例26](S)-2-(ベンジルアミノ)-4-((メトキシカルボニル)アミノ)ブタン酸メチル塩酸塩(化合物[26-2])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000231
工程1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000232
 メタノール(1.853L)を化合物[25](185.3g,817.5mmol)に添加した後、トリエチルアミン(136.7mL,981.0mmol)及びベンズアルデヒド(91.4mL,899mmol)を添加した。混合物を20℃から25℃にて90分間撹拌し、-20℃から-15℃まで冷却した。混合物に水素化ホウ素ナトリウム(46.35g,122.6mmol)を少しずつ添加した。混合物を20℃から25℃に加熱し、反応を21時間継続した。
 反応混合物を水(1.85L)でクエンチし、15分間撹拌した。メタノールを40℃にて留去し、酢酸2-プロピル(1.85L)を残渣に添加した。相を分離した後、水性乳濁層を酢酸2-プロピル(1.85L)で抽出した。乳濁液をろ過した。集めた有機相を炭酸水素ナトリウム水溶液(20%,1.85L)及びブライン(1.85L)で洗浄した。有機溶液を濃縮し、粗アミン[26-1]((S)-2-(ベンジルアミノ)-4-((メトキシカルボニル)アミノ)ブタン酸メチル)(197.3g,703.8mmol)を92.7面積%の純度で得た。
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 7.35-7.29 (m, 4H), 7.28-7.25 (m, 1H), 5.49 (brs, 1H), 3.82 (d, J = 12.9 Hz, 1H), 3.73 (s, 3H), 3.65 (s, 3H), 3.61 (d, J = 12.9 Hz, 1H), 3.43-3.36 (m, 1H), 3.30 (dd, J = 9.0, 4.5 Hz, 1H), 3.28-3.23 (m, 1H), 1.95-1.87 (m, 1H), 1.75-1.65 (m, 1H).
13C NMR (151 MHz, CDCl3) δ 175.4, 157.1, 139.6, 128.6, 128.5, 127.4, 59.4, 52.4, 52.1 (2C), 39.1, 32.8.
工程2
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000233
 粗アミン[26-1](590.4g,2.11mol)に酢酸2-プロピル(5.9L)を添加した。混合物を50℃に加熱し、塩化水素の酢酸2-プロピル溶液(17.3重量%,1,066g,184.5g,5.06mol)を滴下した。得られた懸濁液を50℃にて15分間撹拌し、0℃から5℃に冷却し、1時間撹拌した。
 懸濁液をろ過し、ろ過ケーキを冷却した酢酸2-プロピル(2×500mL)で洗浄し、45℃から50℃、減圧下にて乾燥し、粗化合物[26-2](520.6g,1.64mol)を97.5面積%の純度で得た。
1H NMR (600 MHz, DMSO-d6) δ 10.37 (brs, 1H), 9.85 (brs, 1H), 7.63-7.53 (m, 2H), 7.46-7.37 (m, 3H), 7.26 (t, J = 5.9 Hz, 1H), 4.20 (d, J = 13.0 Hz, 1H), 4.13 (d, J = 13.1 Hz, 1H), 4.06-4.00 (m, 1H), 3.72 (s, 3H), 3.52 (s, 3H), 3.16 (dq, J = 13.6, 5.9 Hz, 1H), 3.07 (dq, J = 13.7, 6.9 Hz, 1H), 2.18 (dq, J = 13.5, 7.3 Hz, 1H), 2.05 (dq, J = 14.0, 7.8 Hz, 1H).
13C NMR (151 MHz, DMSO-d6) δ 168.9, 156.7, 131.5, 130.5 (2C), 129.1, 128.6 (2C), 56.4, 52.9, 51.4, 49.1, 36.5, 29.0.
LC-MS: m/z = 281 [M+H]+
工程3
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000234
 粗塩酸塩[26-2](1.100kg)を2-プロパノール(14L)に添加した。混合物を還流し、15分間撹拌した後、0℃から5℃に冷却し、1時間撹拌した。
 固体をろ去し、冷却した酢酸2-プロピル(2×500mL)で洗浄した後、45℃から50℃、減圧下、乾燥し、化合物[26-2](1.063kg)を99.5面積%のHPLC純度で得た。
[実施例27](S)-2-((R)-N-ベンジル-2-クロロプロパンアミド)-4-((メトキシカルボニル)アミノ)ブタン酸メチル(化合物[27])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000235
工程1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000236
 (2R)-2-クロロプロピオン酸[4](162g,1.49mol)に塩化チオニル(119.2mL,195.3g,1.642mol)を60-65℃にて45分かけて添加した。混合物を85℃に加熱し、2時間撹拌した後、100℃に3時間加熱した。
 反応混合物を常圧にて窒素ガス気流下、蒸留した。主なフラクションを105℃から110℃にて集め、化合物[5](118.24g,931.3mmol)を液体として、99面積%のHPLC純度及びキラルHPLCによる96.5面積%のエナンチオマー純度で得た。
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 4.66 (q, J = 7.0 Hz, 1H), 1.82 (d, J = 7.1 Hz, 3H).
工程2
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000237
 化合物[26-2](250.0g,789.2mmol)のトルエン懸濁液(1.25L)に炭酸カリウム(327.1g,2.367mol)の水溶液(300mL)を添加した。すべての固体が溶解するまで、混合物を20℃から25℃にて撹拌した。混合物を-5℃から0℃に冷却し、化合物[5](110g,868mmol)のトルエン溶液(220mL)を反応混合物の温度を0℃以下に維持しながら滴下した。反応混合物を-5℃から0℃にて3時間撹拌した後、さらに化合物[5](20.04g,157.8mmol)のトルエン溶液(40mL)を反応混合物の温度を0℃以下に維持しながら添加した。
 水(1.25L)を反応混合物に添加した。15分撹拌後、相を分離し、水相をトルエン(2×500mL)で抽出した。集めた有機相をろ過し、溶媒を減圧留去し、化合物[27](312.79g,843.46mmol)を97.90面積%のHPLC純度で得た。
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 7.59-7.13 (m, 5H), 4.92-4.26* [m, 5H; 4.86 (d, J = 17.0 Hz), 4.80-4.62 (m), 4.58-4.53 (d, J = 16.9 Hz), 4.52 (q, J = 6.6 Hz), 4.49-4.44 (m), 4.30 (t, J = 6.8 Hz)], 3.70* (s, 2.3H), 3.64 (s, 3H), 3.55* (s, 0.7H), 3.28-3.01 (m, 2H), 2.28 (dq, J = 13.9, 6.8 Hz, 1H), 2.01-1.84 (m, 1H), 1.76* (d, J = 6.4 Hz, 0.7H), 1.64* (d, J = 6.5 Hz, 2.3H). *は回転異性体ピークを示す。
LC-MS: m/z = 371 [M+H]+
[実施例28](S)-2-((R)-N-ベンジル-2-クロロプロパンアミド)-4-((メトキシカルボニル)アミノ)ブタン酸メチル(化合物[27])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000238
工程1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000239
 -10℃から0℃の温度を維持しながら、塩化オキサリル(13.0mL,150mmol)をN,N-ジメチルホルムアミド(23.2mL,300mmol)のアセトニトリル溶液(300mL)に15分かけて滴下した。0℃にて45分撹拌後、(2R)-2-クロロプロピオン酸[4](11.0mL,125mmol)を滴下した。混合物を30分間撹拌した後、-10℃に冷却した。
工程2
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000240
 N,N-ジイソプロピルエチルアミン(17.4mL,100mmol)及び2,6-ルチジン(34.8mL,300mmol)を化合物[26-2](33.35g,100mmol)のアセトニトリル懸濁液(85mL)に0℃にて添加した。内部温度を0℃以下に維持しながら、得られた溶液を工程1で得られた酸塩化物[5]を含む反応混合物に10分から15分かけて滴下した。混合物を30分間撹拌した。
 反応混合物を塩酸水溶液(2M,200mL)を滴下してクエンチした後、トルエン(165mL)及び酢酸エチル(165mL)を添加した。二相混合物を10分間激しく撹拌した。有機相を酸性水相から分離し、硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過濃縮して粗生成物(39.5g)を得た。アセトニトリル(100mL)を添加し、混合物を濃縮した。HPLC分析により生成物[27]が97:3のジアステレオ異性体比で形成されたことが示された。
[実施例29]RR-MDDO(化合物[9])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000241
 アセトニトリル(240mL)を化合物[27](24.07g,63.1mmol,アシル化工程からの理論収率を100%として算出)に添加した。炭酸セシウム(61.7g,189.3mmol)を添加した。得られた懸濁液を20℃から25℃にて15時間激しく撹拌した。MeOH(48mL)を添加した。
 懸濁液を半分の容積まで濃縮した。セシウム塩をろ去し、トルエン(3×40mL)で洗浄し、ろ液を~25mLに濃縮した。Tonsil(登録商標)(3g)フィルターエイドを添加して溶液を透明化した後、ろ去した。得られた溶液を2℃から6℃で終夜結晶化させた。析出物をろ去し、トルエン(3×4mL)で洗浄した。生成物を30℃にて減圧乾燥し、化合物[9](9.31g,38.1mmol)を98.85面積%のHPLC純度及びキラルHPLCによる99.55面積%のエナンチオマー純度で得た。
[実施例30]RR-MDDO(化合物[9])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000242
 ヘプタン中のリチウム2-メチル-2-ブトキシド(40重量%,401.33mL,1.245mol)を-10℃から-5℃の温度を維持しながら、20分かけてアセトニトリル(535mL)に添加した。化合物[27](167.5g,415.2mmol)のアセトニトリル溶液(230mL)を60分かけて滴下した。混合物を0℃から5℃にて5時間撹拌した。
 混合物を0℃以下に冷却し、塩化ナトリウム水溶液(飽和,330mL)及び酢酸2-プロピル(790mL)を混合物に添加した。次いで、クエン酸水溶液(50重量%,159g)を添加してpH5から6に調節した。20分撹拌後、相を分離し、水相を酢酸2-プロピル(2×263mL)で抽出した。集めた有機相を減圧下、半分の容積まで濃縮し、塩化ナトリウム水溶液(飽和,263mL)で洗浄した。有機相を濃縮し、トルエン(800mL)を添加した。溶液を、100%の理論収率に基づき、生成物グラムあたり6mLまで濃縮した。
 得られた溶液を60℃に加熱した後、冷却した。40℃にて種晶を添加し、20℃から25℃に冷却した。次いで、ヘプタン(304mL,3mL/グラム)を撹拌混合物に滴下した。添加完了後、混合物を20℃にて1時間撹拌した。析出した固体をろ取した。固体をトルエン及びヘプタン(1:2)混合液(202mL)で洗浄し、40℃にて減圧乾燥し、化合物[9](70.39g,288.1mmol)を98.53面積%のHPLC純度及びキラルHPLCによる97.93面積%のエナンチオマー純度で得た。
 生成物をトルエン(1.5mL/生成物グラム)中、50℃にて1時間撹拌した。固体を20℃にてろ取し、トルエン(2×15mL)ですすぎ、40℃にて減圧下乾燥した。生成物[9](64.79g,265.2mmol)を99.78面積%のHPLC純度及びキラルHPLCによる99.56面積%のエナンチオマー純度で得た。
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 7.34-7.26 (m, 5H), 6.51 (brs, 1H), 4.86 (d, J = 15.5 Hz, 1H), 3.99 (d, J = 15.5 Hz, 1H), 3.27 (q, J = 7.5 Hz, 1H), 3.24-3.20 (m, 1H), 3.15 (ddt, J = 10.0, 8.1, 2.3 Hz, 1H), 2.05 (ddd, J = 13.3, 6.8, 2.5 Hz, 1H), 2.01 (dt, J = 13.3, 8.6 Hz, 1H), 1.29 (d, J = 7.5 Hz, 3H).
13C NMR (151 MHz, CDCl3) δ 174.2, 169.8, 136.4, 128.8 (2C), 128.3 (2C), 127.8, 65.8, 55.8, 44.5, 38.3, 30.7, 9.8.
LC-MS: m/z = 245 [M+H]+
[実施例31]SR-MDBN(化合物[10])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000243
 水素化アルミニウムリチウムのテトラヒドロフラン/トルエン(2.4:1)溶液(15重量%,217.5mL,193.55g,765mmol)を乾燥テトラヒドロフラン(374mL)に-5℃から0℃の温度で滴下した。10分撹拌後、塩化トリメチルシリル(83.11g,97.1mL,765mmol)を滴下し、混合物を-5℃から0℃の温度を維持しながら10分間撹拌した。次いで、化合物[9](74.8g,306.2mmol)の乾燥テトラヒドロフラン溶液(748mL)を滴下した。30分後、冷却を止め、反応混合物を45℃から50℃に加熱した。反応混合物を2時間撹拌した後、さらに水素化アルミニウムリチウムのテトラヒドロフラン/トルエン(2.4:1)溶液(15重量%,87mL,77.4g,306.2mmol)を45℃から50℃にて滴下した。18時間撹拌した後、さらに水素化アルミニウムリチウムのテトラヒドロフラン/トルエン(2.4:1)溶液(15重量%,43.5mL,38.7g,153mmol)を45℃から50℃にて滴下し、得られた混合物を同温にて19時間撹拌した。
 反応混合物を0℃に冷却した後、水(46.5mL)を滴下した。テトラヒドロフラン(500mL)を得られたスラリーに添加した。次いで、水酸化ナトリウム水溶液(15重量%,46.5mL,6.98g,174mmol)を添加し、さらに水(139.5mL)を懸濁液に添加した。混合物を室温とした後、セライト(登録商標)フィルターエイド及び硫酸ナトリウム(60g)を添加した。撹拌を15分間継続した。固体をセライト(登録商標)フィルターエイドのベッドを通してろ去した。ろ過ケーキをテトラヒドロフラン(4×250mL)で洗浄し、ろ液を減圧濃縮し、生成物[10](64.71g,299.1mmol)を、92.37面積%のHPLC純度及びキラルGCによる99.45面積%のエナンチオマー純度で得た。
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 7.33-7.27 (m, 4H), 7.23-7.19 (m, 1H), 3.62 (d, J = 13.1 Hz, 1H), 3.58 (d, J = 13.0 Hz, 1H), 3.20 (dd, J = 7.5, 6.5 Hz, 1H), 2.95 (s, 2H), 2.82 (dd, J = 7.7, 6.7 Hz, 2H), 2.66 (dd, J = 6.5, 5.5 Hz, 1H), 2.39 (pd, J = 7.1, 5.4 Hz, 1H), 2.17 (dt, J = 13.1, 7.5 Hz, 1H), 1.76 (dt, J = 13.4, 6.8 Hz, 1H), 1.12 (d, J = 7.0 Hz, 3H), 1.68 (brs, 1H).
13C NMR (151 MHz, CDCl3) δ 139.2, 128.7, 128.4, 126.9, 75.7, 57.8, 55.7, 48.9, 45.6, 35.9, 35.8, 15.6.
LC-MS: m/z = 217 [M+H]+
[実施例32](3S,4R)-1-ベンジル-3-メチル-1,6-ジアザスピロ[3.4]オクタンシュウ酸塩(化合物[11-2])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000244
 シュウ酸(0.082g)のテトラヒドロフラン(1.5mL)溶液を化合物[10](0.180g)のテトラヒドロフラン(2.0mL)溶液に滴下した。
 形成された析出物をろ取し、減圧乾燥して化合物[11-2](0.204g)を得た。
1H NMR (600 MHz, DMSO-d6) δ 7.33-7.27 (m, 4H), 7.26-7.21 (m, 1H), 3.74 (d, J = 13.0 Hz, 1H), 3.52 (d, J = 13.0 Hz, 1H), 3.29 (d, J = 12.7 Hz, 1H), 3.24 (ddd, J = 11.4, 7.8, 5.5 Hz, 1H), 3.16-3.09 (m, 2H), 3.02 (d, J = 12.7 Hz, 1H), 2.68 (dd, J = 6.7, 3.8 Hz, 1H), 2.36-2.27 (m, 1H), 2.03 (ddd, J = 12.9, 7.2, 5.5 Hz, 1H), 1.16 (d, J = 7.1 Hz, 3H).
13C NMR (151 MHz, DMSO-d6) δ 164.2, 137.8, 128.4, 128.2, 126.9, 73.6, 56.2, 53.7, 46.1, 43.5, 34.6, 30.2, 15.9.
[実施例33](3S,4R)-1-ベンジル-3-メチル-1,6-ジアザスピロ[3.4]オクタンヘミシュウ酸塩(化合物[11-3])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000245
工程1
 化合物[10](52.47g,218.3mmol)を2-プロパノール(367mL)に溶解し、混合物を60℃に加熱した。温度を60℃に維持しながら、シュウ酸(9.83g,109.1mmol)の2-プロパノール(157mL)溶液を2時間かけて滴下した。滴下終了後、混合物を60℃にて25分間撹拌した後、化合物[11-3]の結晶を種晶として添加した。
 60℃にてさらに35分間撹拌した後、形成された懸濁液を同温にてろ過し、固体を20℃から25℃にて2-プロパノール(2×25mL)で洗浄した。生成物を減圧下、40℃にて乾燥し、化合物[11-3](48.65g,186.14mmol)を99.12面積%のHPLC純度及びキラルHPLCによる99.6面積%のエナンチオマー純度で得た。
1H NMR (600 MHz, D2O) δ 7.45-7.36 (m, 5H), 3.76 (d, J = 12.2 Hz, 1H), 3.71 (d, J = 12.2 Hz, 1H), 3.52 (d, J = 13.2 Hz, 1H), 3.42 (t, J = 7.9 Hz, 1H), 3.33 (ddd, J = 12.5, 7.8, 5.0 Hz, 1H), 3.27-3.20 (m, 2H), 2.86 (dd, J = 7.7, 4.9 Hz, 1H), 2.48 (ddt, J = 11.7, 9.4, 7.9 Hz, 2H), 2.24 (ddd, J = 13.5, 6.9, 5.0 Hz, 1H), 1.17 (d, J = 7.2 Hz, 3H).
13C NMR (151 MHz, D2O) δ 176.25, 138.73, 132.28 (2C), 131.62 (2C), 130.73, 76.91, 58.99, 57.34, 48.48, 46.69, 37.54, 34.33, 17.38.
工程2A
(3S,4R)-1-ベンジル-3-メチル-1,6-ジアザスピロ[3.4]オクタンヘミシュウ酸塩(化合物[11-3])のスラリー撹拌
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000246
 ヘミシュウ酸塩[11-3](48.5g,185.6mmol)を水及び2-プロパノールの混合液(1:24,303mL)中、20℃から25℃にて5時間撹拌した。混合物を-5℃から0℃に冷却し、1時間撹拌した。
 懸濁液を0℃にてろ過し、冷却した2-プロパノール(2×8mL)で洗浄した。固体を40℃にて減圧乾燥し、生成物[11-3](45.95g,175.8mmol)を99.50面積%のHPLC純度及びキラルGCによる99.93面積%のエナンチオマー純度で得た。
工程2B
(3S,4R)-1-ベンジル-3-メチル-1,6-ジアザスピロ[3.4]オクタンヘミシュウ酸塩(化合物[11-3])の再結晶
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000247
 ヘミシュウ酸塩[11-3](5g,19.1mmol)を2-プロパノール(34mL)及び水(0.75mL)の混合物中に還流温度にて溶解させた。完全に溶解した後、半分の容積まで溶媒留去した。2-プロパノール(20mL)を添加した後、溶媒留去した。これを二回繰り返し、混合物を2-プロパノール(15mL)中0から5℃にて1時間撹拌した。生成物をろ過し、2-プロパノール(1.5mL)で二回洗浄した。固体を40℃にて減圧乾燥し、再結晶生成物[11-3](4.755g,18.2mmol)を得た。
[実施例34]
(A)SR-MDBP(化合物[13])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000248
 リン酸カリウム(8.12g,38.3mmol)を化合物[11-3](5.00g,19.1mmol)、CPPY[12](2.95g,19.2mmol)、水(20mL)及び2-プロパノール(25mL)の混合物に添加した。反応混合物を75℃にて4.5時間撹拌し、30℃に冷却した。
 水層を除去し、得られた粗SR-MDBP[13]の2-プロパノール水溶液を100%収率として次の工程に用いた。
(B)SR-MDBP(化合物[13])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000249
 化合物[13]を以下の別法で製造した。リン酸カリウム(8.12g,38.3mmol)及び水酸化カリウム(5.01g,40.2mmol)の45%水溶液を化合物[11-3](10.0g,38.3mmol)、CPPY[12](5.91g,38.5mmol)、水(40mL)及び2-プロパノール(50mL)の混合物に加えた。反応混合物を75℃にて18時間撹拌し、40℃まで冷却した。
 水層を除去し、得られた粗製SR-MDBP[13]の水性2-プロパノール溶液を収率100%と仮定して次の工程に用いた。
[実施例35]
(A)SR-MDOP(化合物[14])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000250
 粗SR-MDBP[13](19.1mmol)の2-プロパノール水溶液に、精製水(15mL),ギ酸(3.61mL,95.7mmol)及び5%パラジウム炭素(0.67g,水分含量53重量%)を続けて添加した。反応混合物を55℃にて15時間撹拌した。
 反応混合物を室温に冷却し、パラジウム炭素をろ去し、2-プロパノール及び水の混合液(9:1,12mL)ですすいだ。集めたろ液に、水酸化ナトリウム水溶液(8M,15mL),塩化ナトリウム(7.5g)、2-プロパノール(15mL)及びトルエン(55mL)を添加した。層を分離し、有機層をブライン(20重量%,10mL)で洗浄して濃縮した。残渣(25g)をトルエン及び2-プロパノールの混合液(1:1,35mL)で希釈し、ろ過した。得られた溶液を50℃にて濃縮し、残渣(~25g)を得た。トルエン(35mL)を添加後50℃にて濃縮することで残渣(~25g)を得る操作を2回繰り返し、固体が形成された。
 トルエンを濃縮スラリー(~25g)に添加して、スラリーの総重量を48gとした。スラリーを4℃にて16時間維持した後、0℃にて30分間撹拌した。スラリーをろ過し、ろ過ケーキをトルエン(14mL)で洗浄した。固体を50℃にて減圧乾燥し、SR-MDOP[14](4.21g,17.3mmol)を得た。
(B)SR-MDOP(化合物[14])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000251
 化合物[14]を以下の別法で製造した。粗製SR-MDBP[13](76.5mmol)の水性2-プロパノール溶液に精製水(77mL)、ギ酸(11.5mL,306mmol)、次いでパラジウムシリカゲル(Pd含量0.20mmol/g,3.8g,0.765mmol)を加えた。反応混合物を55℃にて22時間撹拌した。
 反応混合物を室温まで冷却し、パラジウムシリカゲルをろ過し、2-プロパノール及び水の混合液(9:1,60mL)ですすいだ。集めたろ液に水性水酸化ナトリウム(8M,57mL)、塩化ナトリウム(29.1g)及びトルエン(199mL)を加えた。層を分離し、有機層を飽和食塩水(20重量%,38mL)で洗浄し、濃縮した。残渣(70g)をトルエンと2-プロパノールの混合液(1:1,140mL)で希釈し、濃縮した。残渣(100g)をトルエンと2-プロパノールの混合液(1:1,140mL)で希釈し、ろ過した。得られた溶液を濃縮した。残渣(80g)をトルエン(140mL)で希釈し、析出が見られるまで濃縮した。混合物を50℃にて1時間撹拌し、残渣120gまで濃縮した。残渣をトルエン(140mL)で希釈し、残渣120gまで濃縮し、トルエン(92mL)で希釈した。スラリーを4℃にて4日間保持した後、0℃にて90分間撹拌した。スラリーをろ過し、ろ過ケーキをトルエン(50mL)で洗浄した。固体を減圧下50℃にて乾燥し、SR-MDOP[14](17.3g,71.1mmol)を得た。
[実施例36]SR-ZMDB-OX(化合物[29])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000252
 SR-ZMDB[28](10.0g,28.5mmol)(化合物[28]は実施例42から50の方法により合成した)のテトラヒドロフラン(40mL)及びトルエン(10mL)の溶液をシュウ酸(2.84g,31.4mmol)のテトラヒドロフラン(50mL)撹拌溶液に窒素雰囲気下50℃にて滴下した。およそ50%のSR-ZMDB[28]を添加したとき、反応混合物に化合物[29](5mg)を種晶として添加し、残りの添加を完了した。得られた混合物を30分間50℃にて撹拌し、テトラヒドロフラン(20mL)で希釈し、20℃に冷却した。さらにテトラヒドロフラン(20mL)を添加した。撹拌を20℃にて11時間続けた。
 結晶化混合物を0℃にて1時間撹拌し、析出した固体をろ取した。得られた固体を冷却したテトラヒドロフラン(40mL)で洗浄した。固体を30℃にて減圧乾燥し、化合物[29](11.1g,25.2mmol)を得た。
1H-NMR (D2O, 内部標準d4-TMSP) δ 7.71-7.05 (m, 10H), 5.30-4.98 (m, 2H), 4.56-1.98 (m, 11H), 1.28-0.98 (m, 3H).
13C NMR (151 MHz, DMSO-d6) δ 164.2, 154.2, 153.9, 136.6, 136.5, 133.2, 132.7, 130.0, 129.8, 128.8, 128.7, 128.5, 128.4, 128.2, 127.9, 127.6, 73.6, 73.4, 66.1, 65.6, 57.6, 55.5, 55.1, 52.6, 52.4, 51.7, 51.2, 37.3, 36.5, 35.5, 34.6, 15.2, 15.0.
元素分析:C 65.5重量%, H 6.3重量%及びN 6.3重量%
理論値:C 65.4重量%, H 6.4重量%及びN 6.4重量%
[実施例37](3S,4R)-3-メチル-1,6-ジアザスピロ[3.4]オクタンシュウ酸塩(化合物[30-1])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000253
 SR-ZMDB-OX[29](50mg,0.11mmol)及び10%パラジウム炭素(5mg,水分含量53.4重量%)の水(1mL)及び2-メチルプロパン-2-オール(1mL)スラリーを水素(3bar)で30℃にて2時間処理した。
 水素雰囲気をアルゴン雰囲気に置換し、混合物を水(0.5mL)を用いてセライト(登録商標)ろ過した。集めたろ液を濃縮し、減圧乾燥して化合物[30-1](24mg,0.11mmol)を得た。
1H NMR (600 MHz, D2O, 内部標準d4-TMSP) δ 4.17 (dd, J = 10.7, 8.8 Hz, 1H), 3.99 (dd, J = 14.2, 1.4 Hz, 1H), 3.73 (d, J = 14.2 Hz, 1H), 3.65 (dd, J = 10.7, 6.9 Hz, 1H), 3.58 (ddd, J = 12.7, 8.7, 4.2 Hz, 1H), 3.48 (ddd, J = 12.2, 9.8, 7.1 Hz, 1H), 3.17 (dqd, J = 8.8, 7.3 Hz, 6.9 Hz, 1H), 2.84 (dddd, J = 15.1, 7.2, 4.2, 1.4 Hz, 1H), 2.50 (dt, J = 15.0, 9.3 Hz, 1H), 1.29 (d, J = 7.3 Hz, 3H).
13C NMR (151 MHz, D2O) δ 175.9, 78.0, 51.6, 51.1, 46.7, 37.8, 37.4, 16.6.
[実施例38](3S,4R)-3-メチル-1,6-ジアザスピロ[3.4]オクタンシュウ酸塩(化合物[30-1])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000254
工程1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000255
 SR-ZMDB[28](350mg,1.00mmol)及び10%パラジウム炭素(35mg,水分含量53.4重量%)のエタノール(3mL)中の混合物を水素(3bar)で50℃にて2時間処理した。
工程2
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000256
 水素雰囲気をアルゴン雰囲気に置換した。工程1からの反応混合物をエタノール(0.75mL)を用いて0.2μm PTFEシリンジフィルターでろ過し、撹拌下、シュウ酸(100mg,1.10mmol)のエタノール(0.75mL)溶液に滴下した。得られた混合物を50℃から60℃に5分間昇温し、20℃にて20時間撹拌した。
 混合物をろ過し、集めた固体をエタノール(0.30mL)で洗浄し、50℃にて減圧乾燥して化合物[30-1](205mg,0.947mmol)を得た。
1H NMR (600 MHz, D2O, 内部標準d4-TMSP) δ 4.17 (dd, J = 10.7, 8.8 Hz, 1H), 3.99 (dd, J = 14.2, 1.4 Hz, 1H), 3.73 (d, J = 14.2 Hz, 1H), 3.65 (dd, J = 10.7, 6.9 Hz, 1H), 3.58 (ddd, J = 12.7, 8.7, 4.2 Hz, 1H), 3.48 (ddd, J = 12.2, 9.8, 7.1 Hz, 1H), 3.17 (dqd, J = 8.8, 7.3 Hz, 6.9 Hz, 1H), 2.84 (dddd, J = 15.1, 7.2, 4.2, 1.4 Hz, 1H), 2.50 (dt, J = 15.0, 9.3 Hz, 1H), 1.29 (d, J = 7.3 Hz, 3H).
13C NMR (151 MHz, D2O) δ 175.9, 78.0, 51.6, 51.1, 46.7, 37.8, 37.4, 16.6.
[実施例39](3S,4R)-3-メチル-1,6-ジアザスピロ[3.4]オクタン二コハク酸塩(化合物[30-2])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000257
工程1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000258
 SR-ZMDB[28](5.38kg,15.4mol)を無水エタノール(31.6kg)に溶解した。10%パラジウム炭素(0.248kg)を、次いで氷酢酸(2.29kg,38.1mol)及び水(0.284kg)を添加した。排出-窒素パージを何回か行って反応装置系を不活性化した後、水素ガス(2.8から3.1bar)を18時間適用した。
 圧を開放し、反応容器を窒素でパージした。触媒をエタノールで飽和させたセライト(登録商標)フィルターエイドでろ別した。ろ過ケーキをエタノール(10kg)で洗浄した。ろ液を30Lから35Lまで減圧濃縮し、粗生成物[31]を得た。
工程2
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000259
 コハク酸(4.261kg,36.08mol)を無水エタノール(49.7kg)に溶解した。工程1からの粗生成物[31]をおよそ5%添加した。生成物の析出が始まったとき(種晶ありまたはなし)、残りの濃縮物を添加した。混合物を20℃から25℃にて1時間撹拌した後、-2℃から2℃にて2時間撹拌した。
 生成物をろ取し、冷却したエタノール(2×13.7kg)で洗浄した。生成物を減圧乾燥して化合物[30-2](5.143kg,14.19mol)を99.3面積%のHPLC純度で得た。
1H NMR (600 MHz, D2O, 内部標準d4-TMSP) δ 4.18 (dd, J = 10.7, 8.9 Hz, 1H), 3.97 (dd, J = 14.3, 1.4 Hz, 1H), 3.74 (d, J = 14.3 Hz, 1H), 3.64 (dd, J = 10.8, 6.8 Hz, 1H), 3.58 (ddd, J = 12.6, 8.6, 4.2 Hz, 1H), 3.47 (ddd, J = 12.3, 9.9, 7.1 Hz, 1H), 3.15 (ddd, J =8.9, 7.3, 6.8 Hz, 1H), 2.84 (dddd, J = 15.1, 7.1, 4.3, 1.4 Hz, 1H), 2.56 - 2.47 (m, 9H), 1.28 (d, J = 7.3 Hz, 3H).
13C NMR (151 MHz, D2O) δ 182.8, 78.0, 51.6, 51.1, 46.8, 37.8, 37.6, 34.3, 16.6.
[実施例40]SR-MDOP(化合物[14])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000260
 CPPY[12](1.697kg,11.05mol)及び化合物[30-2](4.000kg,11.04mol)を混合し、溶融した2-メチルプロパン-2-オール(13.0kg)を添加した。得られたスラリーを28℃に昇温した。リン酸カリウム(4.92kg,23.2mol)の水(13.0kg)溶液を、次いで水酸化カリウム水溶液(45重量%,5.5kg,44mol)を添加した。反応混合物を40℃から50℃にて22時間撹拌した。
 トルエン(16L)を添加し、反応混合物の温度を20℃から30℃に下げた。有機層をブライン(飽和,12.2kg)及び水(4.1kg)の混合物で洗浄した。有機層を16L以下の容積に減圧濃縮した。2-メチルプロパン-2-オール(7.42kg)及びトルエン(8L)を反応容器に添加し、混合物を16L以下の容積に減圧濃縮した。2-メチルプロパン-2-オール(9.04kg)及びトルエン(10L)を残渣に添加した。混合物を35℃から40℃にてろ過し、溶液を16L以下の容積に減圧濃縮した。残渣を45℃から50℃に加熱し、トルエン(16L)を添加した。混合物を45℃から50℃にて1時間撹拌した後、16L以下の容積に減圧濃縮した。トルエン(16L)をスラリーに添加し、0℃から5℃にて1時間以上撹拌した。
 形成された析出物をろ取し、ろ過ケーキをトルエン(8L)及びヘプタン(8L)で洗浄した。固体を50℃にて20時間減圧乾燥し、SR-MDOP[14](2.445kg,10.05mol)を95.25%のHPLC純度で得た。
[実施例41]化合物[17]の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000261
 化合物[14](2.38kg,9.78mol)をアセトニトリル(22.4kg)で懸濁させた。トリエチルアミン(98.8g,0.976mol)を添加し、スラリーを45℃から55℃に加熱した。DPCN[18](1.68kg,10.3mol)のアセトニトリル(13.4kg)溶液をさらなるアセトニトリル(2.2kg)を用いて1時間かけて添加した。反応混合物を45℃から55℃にて2.5時間撹拌した。
 エタノール(2L)を反応混合物に充填し、24L以下の容積に減圧濃縮した。エタノール(24L)を残渣に添加し、溶液を35℃から40℃に加熱した。得られた溶液をエタノール(2L)を用いて細かいフィルターに通して除塵ろ過した。得られた透明溶液を24L以下の容積に減圧濃縮した。エタノール(24L)を得られたスラリーに添加した。スラリーを24L以下の容積に減圧濃縮した。エタノール(4L)をスラリーに添加した。スラリーを19Lの容積に減圧濃縮した。結晶化混合物を0℃から10℃にて2時間撹拌した。
 形成された析出物をろ取し、ろ過ケーキをエタノール(10L)で洗浄した。生成物を20時間減圧乾燥し、化合物[17](3.11kg,8.73mol)のエタノール和物を99.85%のHPLC純度で得た。
 ブタン-1-オール(43.7kg)を化合物[17](3.10kg)のエタノール和物に添加した。混合物を90℃から95℃に昇温し、2時間撹拌撹拌した。溶液を70℃から72℃に1時間で冷却し、化合物[17](14.6g,47.0mmol)を種晶として添加し、12時間かけて8℃に冷却した。
 形成された析出物をろ取し、ろ過ケーキをブタン-1-オール(5.2kg)及び酢酸エチル(6L)で洗浄した。固体を55℃から65℃にて22時間減圧乾燥し、化合物[17](2.46kg,7.93mol)を99.91面積%のHPLC純度で得た。
[実施例42]S-MABB-HC(化合物[36])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000262
工程1
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000263
 窒素雰囲気下、水(175mL)にS-BAPO[37](35.0g,212mmol)を室温で添加した。この懸濁液にトルエン(53mL)および炭酸カリウム(32.2g,233mmol)を室温にて添加した。この溶液にTBBA(434.4g,223mmol)を室温にて滴下し、使用した滴下ロートをトルエン(17mL)で洗浄し、洗浄液を反応混合液に添加した。反応混合液を65℃にて21時間撹拌後、室温に冷却した。反応混合液にトルエン(105mL)を加え撹拌した後、有機層を分取した。得られた有機層を水(175mL)で洗浄後、水層を排出し、減圧下にて有機層の溶媒を留去した。この濃縮残渣にトルエン(105mL)を加えて濃縮する操作を3回繰り返した後、S-BBMO[38]のトルエン溶液(74.0g,212mmol相当)を得た。得られたS-BBMOのトルエン溶液を収率100%として次工程に用いた。
 同じ方法で合成したS-BBMO[38]粗生成物を濃縮乾固し、NMRとMSを測定した。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 7.36-7.13 (5H, m), 4.26 (1H, dd, J = 6.8, 3.9 Hz), 3.72 (2H, dd, J = 14.2, 6.8 Hz), 3.47-3.38 (1H, m), 3.30-3.08 (3H, m), 2.79 (1H, sext, J = 6.8 Hz), 1.35 (9H, s), 0.96 (3H, d, J = 6.8 Hz).
MS: m/z = 280 [M+H]+
工程2
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000264
 窒素雰囲気下、S-BBMO[38]のトルエン溶液(74.0g,212mmol)にトルエン(200mL)、テトラヒドロフラン(35mL)およびトリエチルアミン(25.7g,254mmol)を室温にて順次添加した。この混合液にメタンスルホニルクロリド(26.7g,233mmol)を0℃にて滴下し、使用した滴下ロートをトルエン(10mL)で洗浄し、洗浄液を反応混合液に添加した。反応混合液を室温にて2時間撹拌し、更に65℃にて22時間撹拌した後に室温まで冷却した。反応混合液に重曹水(105mL)を加えて撹拌した後、有機層を分取した。得られた有機層を水(105mL)で洗浄後、水層を排出し、減圧下にて有機層の溶媒を留去した。この濃縮残渣にトルエン(105mL)を加え濃縮する操作を3回繰り返した後、R-BCAB[39]のトルエン溶液(75.3g,212mmol相当)を得た。得られたR-BCABのトルエン溶液を収率100%として次工程に用いた。
 同じ方法で合成したR-BCAB粗生成物を濃縮乾固し、NMRとMSを測定した。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 7.28-7.11 (5H, m), 4.24-4.11 (1H, m), 3.80 (2H, d, J = 3.6 Hz), 3.24 (2H, d, J = 3.6 Hz), 2.98-2.78 (2H, m), 1.46-1.37 (12H, m).
MS: m/z = 298 [M+H]+
工程3
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000265
 窒素雰囲気下、R-BCAB[39]のトルエン溶液(75.3g,212mmol)にテトラヒドロフラン(88.0mL)および1,3-ジメチル-3,4,5,6-テトラヒドロ-2(1H)-ピリミジノン(42.0mL)を室温にて添加した。この溶液にリチウムビス(トリメチルシリル)アミド/テトラヒドロフラン溶液(195mL,233mmol)を0℃にて滴下し、使用した滴下ロートをテトラヒドロフラン(17.0mL)で洗浄し、洗浄液を反応混合液に添加した。反応混合液を0℃にて1時間撹拌した後、室温まで加温した。反応混合液に水(175mL)及びトルエン(175mL)を加えて撹拌した後、有機層を分取した。得られた有機層を塩化アンモニウム水溶液(175mL)および水(175mL)で順次洗浄後、減圧下にて有機層の溶媒を留去した。この濃縮残渣に酢酸エチル(175mL)を加えて濃縮する操作を3回繰り返し、S-MABB[40]の酢酸エチル溶液(66.5g,212mmol相当)を得た。得られたS-MABBの酢酸エチル溶液を収率100%として次工程に用いた。
 同じ方法で合成したS-MABB[40]粗生成物を濃縮乾固し、NMRとMSを測定した。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 7.28-7.25 (10H, m), 3.75 (1H, d, J = 12.7 Hz), 3.68 (1H, d, J = 1.4 Hz), 3.66 (1H, d, J = 6.7 Hz), 3.46 (2H, d, J = 12.7 Hz), 3.30-3.17 (2H, m), 2.95 (1H, dd, J = 6.2, 1.2 Hz), 2.77 (1H, dd, J = 6.1, 2.2 Hz), 2.65-2.55 (1H, m), 2.48-2.40 (2H, m), 1.35 (9H, s), 1.35 (9H, s), 1.12 (3H, d, J = 7.2 Hz), 1.09 (3H, d, J = 6.2 Hz).
MS: m/z = 262 [M+H]+
工程4
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000266
 窒素雰囲気下、S-MABB[40]の酢酸エチル溶液(66.5g,212mmol相当)に酢酸エチル(175mL)及び活性炭(3.5g)を加え、室温にて2時間撹拌した。活性炭を濾過にて除き、濾過残渣を酢酸エチル(175mL)で洗浄し、洗浄液を濾液に添加した。この溶液に本法と同じ方法で予め調製したS-MABB-HCの結晶(17.5mg)を0℃にて添加した後、0℃にて4M塩酸/酢酸エチル溶液(53.0mL,212mmol)を滴下した。反応混合液を0℃にて17時間撹拌した後、析出した固体を濾取し、得られた固体を酢酸エチル(70mL)で洗浄した。得られた湿固体を減圧下にて乾燥することでS-MABB-HC[36](48.3g,162mmol)を収率76.4%で得た。
 同じ方法で合成したS-MABB-HC[36]のNMR、MS及びCl含量を測定した。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 11.08 (1H, br s), 10.94 (1H, br s), 7.52-7.42 (10H, m), 5.34 (1H, t, J = 8.4 Hz), 4.90 (1H, br s), 4.45-4.10 (5H, m), 3.92-3.49 (3H, br m), 3.10-2.73 (2H, br m), 1.35 (9H, s), 1.29 (9H, s), 1.24 (3H, d, J = 6.7 Hz), 1.17 (3H, d, J = 7.4 Hz).
MS: m/z = 262 [M+H-HCl]+
Cl含量(イオンクロマトグラフィー):11.9%(理論値:11.9%)
[実施例43]S-MACB-HC(化合物[41])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000267
 窒素雰囲気下、S-MABB-HC[36](5.0g,16.8mmol)のメタノール(15.0mL)溶液に5%パラジウム炭素(川研ファインケミカル社製PHタイプ,54.1%含水,1.0g)を室温で添加した。反応容器を水素で置換し、水素ガス圧0.4MPaで室温にて12時間撹拌した後、反応容器を窒素で置換し、5%パラジウム炭素を濾過で除去した。反応容器と5%パラジウム炭素をメタノール(10mL)で洗浄した。洗浄液を濾液に添加し、S-MACB-HC[41]のメタノール溶液(24.8g,16.8mmol相当)を得た。得られたS-MACB-HC[41]のメタノール溶液を収率100%として次工程に用いた。
 同じ方法で合成したS-MACB-HC[41]粗生成物を濃縮乾固し、NMRとMSを測定した。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 9.60 (br s, 1H), 4.97 (d, 1H, J = 9.2 Hz), 4.61 (d, 1H, J = 8.4 Hz), 4.01 (dd, 1H, J = 10.0, 8.4 Hz), 3.78-3.74 (m, 1H), 3.54 (dd, 1H, J = 9.6, 8.4 Hz), 3.35 (dd, 1H, J = 10.0, 6.0 Hz), 3.15-3.03 (m, 1H), 3.00-2.88 (m, 1H), 1.49 (s, 9H), 1.47 (s, 9H), 1.22 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 1.14 (d, 3H, J = 7.2 Hz).
MS: m/z = 172 [M+H]+ (フリー体)
[実施例44]S-ZMAB(化合物[42])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000268
 窒素雰囲気下、S-MACB-HC[41]のメタノール溶液(24.8g,16.8mmol相当)にN,N-ジイソプロピルエチルアミン(4.8g,36.9mmol)を室温にて滴下し、使用した滴下ロートをテトラヒドロフラン(2.5mL)で洗浄し、洗浄液を反応混合液に添加した。この反応混合液にクロロギ酸ベンジルエステル(3.0g,17.6mmol)を0℃にて滴下し、使用した滴下ロートをテトラヒドロフラン(2.5mL)で洗浄し、洗浄液を反応混合液に添加した。反応混合液を0℃にて1時間撹拌した後、減圧下にて溶媒を留去した。得られた濃縮残渣にトルエン(25.0mL)及びクエン酸水(25.0mL)を加えて撹拌した後、有機層を分取した。得られた有機層を重曹水(25.0mL)及び水(25.0mL)で順次洗浄し、減圧下にて有機層の溶媒を留去した。この濃縮残渣にトルエン(15.0mL)を加えて濃縮する操作を2回繰り返した。濃縮終了後、S-ZMAB[42]のトルエン溶液(6.9g,16.8mmol相当)を得た。得られたS-ZMAB[42]のトルエン溶液を収率100%として次工程に用いた。
 同じ方法で合成したS-ZMAB[42]粗生成物を濃縮乾固し、NMRとMSを測定した。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.38-7.28 (m, 10H), 5.16-5.04 (m, 4H), 4.60 (d, 1H, J = 9.2 Hz), 4.18-4.12 (m, 2H), 4.04 (t, 1H, J = 8.6 Hz), 3.66 (dd, 1H, J = 7.6, 7.2 Hz), 3.50 (dd, 1H, J = 8.0, 5.2 Hz), 3.05-2.94 (m, 1H), 2.60-2.50 (m, 1H), 1.43 (br s, 18H), 1.33 (d, 3H, J = 6.5 Hz), 1.15 (d, 3H, J = 7.2 Hz).
MS: m/z = 328 [M+Na]+
[実施例45]RS-ZMBB(化合物[43])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000269
 窒素雰囲気下、S-ZMAB[42]のトルエン溶液(6.9g,16.8mmol)にテトラヒドロフラン(15.0mL)を室温にて添加した。この溶液にリチウムビス(トリメチルシリル)アミド/テトラヒドロフラン溶液(14.7mL,17.6mmol)を-70℃にて滴下した。使用した滴下ロートをテトラヒドロフラン(2.5mL)で洗浄し、洗浄液を反応混合液に添加した。反応混合液を-70℃にて6時間撹拌した後、テトラヒドロフラン(2.5mL)で希釈したTBBA(3.4g,17.6mmol)を-70℃にて滴下した。使用した滴下ロートをテトラヒドロフラン(2.5mL)で洗浄し、洗浄液を反応混合液に添加した。反応混合液を-70℃にて1時間撹拌した後、室温に加温し、塩化アンモニウム水(25mL)及びトルエン(25mL)を添加して撹拌した後、有機層を分取した。得られた有機層をクエン酸水(25mL)で2回、重曹水(25mL)、水(25mL)で順次洗浄した後、減圧下にて有機層の溶媒を留去した。この濃縮残渣にアセトニトリル(15mL)を加え、再度濃縮する操作を3回繰り返した。この濃縮残渣にアセトニトリル(15mL)及び活性炭(0.25g)を加え、室温にて2時間撹拌した。活性炭を濾過にて除き、反応容器と濾過残渣をアセトニトリル(10mL)で洗浄した。濾液と洗浄液を合わせて減圧下にて溶媒を留去し、RS-ZMBB[43]のアセトニトリル溶液(13.2g,16.8mmol相当)を得た。得られたRS-ZMBB[43]のアセトニトリル溶液を収率100%として次工程に用いた。
 同じ方法で合成したRS-ZMBB[43]粗生成物を濃縮乾固し、NMRとMSを測定した。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 7.38-7.29 (m, 5H), 5.09-4.96 (m, 2H), 3.91 (t, 0.4H, J = 8.0 Hz), 3.79 (t, 0.6H, J = 8.0 Hz), 3.55 (t, 0.4H, J = 7.2 Hz), 3.46 (t, 0.6H, J = 7.5 Hz), 3.14-3.04 (m, 1H), 2.83-2.72 (m, 2H), 1.38 (br s, 9H), 1.37 (br s, 3.6H), 1.34 (br s, 5.4H), 1.12-1.09 (m, 3H).
MS: m/z = 420 [M+H]+
[実施例46]RS-ZMAA-DN・2HO(化合物[44])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000270
 窒素雰囲気下、RS-ZMBB[43]のアセトニトリル溶液(13.2g,16.8mmol相当)にアセトニトリル(15mL)を室温にて添加した。この溶液にp-トルエンスルホン酸一水和物(6.4g,33.6mmol)を室温にて添加した。反応混合液を50℃にて12時間撹拌した後、室温まで冷却し、水(7.5mL)を滴下した。この反応混合液を0℃まで冷却した後、4mol/L水酸化ナトリウム水溶液(17.6mL,70.5mmol)を滴下した。室温にて1時間撹拌した後、アセトニトリル(75mL)を室温にて滴下し、3時間撹拌した。析出した固体を濾取し、得られた固体をアセトニトリル:水=4:1混合溶液(10mL)及びアセトニトリル(10mL)で順次洗浄した。得られた湿固体を減圧下にて乾燥することでRS-ZMAA-DN・2HO[44](5.2g,13.4mmol)を収率85.4%で得た。
 同じ方法で合成したRS-ZMAA-DN・2HO[44]のNMR、MS、Na含量及び水分含量を測定した。
1H-NMR (DMSO-d6) δ: 7.32-7.22 (m, 5H), 4.97 (d, 1H, J = 12.7 Hz), 4.84 (d, 1H, J = 12.7 Hz), 3.79 (t, 1H, J = 8.0 Hz), 3.29 (d, 1H, J = 14.8 Hz), 3.16-3.12 (m, 1H), 2.17-2.09 (m, 2H), 1.07 (d, 3H, J = 6.9 Hz).
MS: m/z = 352 [M+H]+ (無水物)
Na含量(イオンクロマトグラフィー):13.3%(水分含量補正後)(理論値;13.1%)
水分含量(カール・フィッシャー法):9.8%(理論値;9.3%)
[実施例47]RS-ZMAA(化合物[45])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000271
 1mol/L塩酸(180mL)にRS-ZMAA-DN・2HO[44](30g,77.5mmol)及びアセトニトリル(60mL)を加え、室温にて約15分撹拌した。この反応混合液に酢酸エチル(240mL)を添加し更に撹拌した後、有機層を分取した。有機層を10%食塩水(60mL)で2回洗浄した。有機層に硫酸マグネシウム(6g)を添加し撹拌した後、硫酸マグネシウムを濾過し、濾過残渣を酢酸エチル(60mL)で洗浄した。濾液及び洗浄液を合わせて、減圧下にて溶媒を留去した。この濃縮残渣にテトラヒドロフラン(240mL)を加え、減圧濃縮する操作を3回繰り返した。この濃縮残渣にテトラヒドロフラン(60mL)を加え、RS-ZMAA[45]のテトラヒドロフラン溶液を得た。得られたRS-ZMAA[45]のテトラヒドロフラン溶液を収率100%として次工程に用いた。
 同じ方法で合成したRS-ZMAA[45]を濃縮し、NMRとMSを測定した。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 7.35-7.28 (m, 5H), 5.06-4.94 (m, 2H), 3.86 (dt, 1H, J = 48.4, 7.9 Hz), 3.50 (dt, 1H, J = 37.9, 7.4 Hz), 3.16-3.02 (br m, 1H), 2.91-2.77 (br m, 2H), 1.08 (d, 3H, J = 6.9 Hz)
MS: m/z = 308 [M+H]+
[実施例48]RS-ZMOO(化合物[46])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000272
 窒素雰囲気下、RS-ZMAA[45]のテトラヒドロフラン溶液(25.8mmol相当)にテトラヒドロフラン(50mL)を加え、0℃から5℃でボロントリフルオリドジエチルエーテル錯体(4.40g)を滴下した。テトラヒドロフラン(5mL)で滴下ロートを洗浄し、洗浄液を反応混合液に添加した。反応混合液に、0℃から5℃で1.2mol/Lボラン-テトラヒドロフラン錯体(43.0mL)を滴下し、0℃から5℃で約30分間撹拌した後、室温にて更に終夜撹拌した。反応混合液に1.2mol/Lボラン-テトラヒドロフラン錯体(21.1mL)を0℃から5℃で滴下し、室温にて終夜撹拌した。撹拌後、反応混合液に0℃から15℃で水(40mL)を滴下した。反応混合液に0℃から15℃にて重曹(5.42g)を添加し、容器に付着した重曹を水(10mL)で洗浄し、洗浄液を反応混合液に添加した。反応混合液を室温で2時間撹拌した後、トルエン(50mL)を加えて更に撹拌した。有機層を分取した。得られた有機層を10%食塩水20mLで1回、5%重曹水(20mL)と10%食塩水(20mL)の混合溶液で3回、5%硫酸水素カリウム水溶液(10mL)と10%食塩水(10mL)の混合溶液で1回、10%食塩水(20mL)で2回、順次洗浄した。有機層に硫酸マグネシウム(8.9g)を添加し撹拌した後、硫酸マグネシウムを濾過し、濾過残渣をトルエン(20mL)で洗浄した。この洗浄液を濾液に添加した後、減圧下にて濾液の溶媒を留去した。濃縮残渣にトルエン(80mL)を加え、減圧濃縮し、トルエン(15mL)を加え、RS-ZMOO[46]のトルエン溶液を得た。得られたRS-ZMOO[46]のトルエン溶液を収率100%として次工程に用いた。
 同じ方法で合成したRS-ZMOO[46]を濃縮し、NMRとMSを測定した。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.39-7.30 (m, 5H), 5.10 (s, 2H), 4.15-4.01 (br m, 2H), 3.83-3.73 (br m, 3H), 3.48 (dd, 1H, J = 8.3, 6.4 Hz), 2.59-2.50 (br m, 1H), 2.46-2.40 (br m, 1H), 2.07-1.99 (m, 1H), 1.14 (d, 3H, J = 7.2 Hz)
MS: m/z = 280 [M+H]+
[実施例49]RS-ZMSS(化合物[47])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000273
 窒素雰囲気下、RS-ZMOO[46]のトルエン溶液(23.7mmol相当)にトルエン(55mL)を加え、トリエチルアミン(5.27g)を-10℃から10℃で滴下し、滴下ロートをトルエン(1.8mL)で洗浄し、洗浄液を反応混合液に添加した。この反応混合液に、メタンスルホニルクロリド(5.69g)を-10℃から10℃で滴下し、滴下ロートをトルエン(1.8mL)にて洗浄し、洗浄液を反応混合液に合わせた。反応混合液を0℃から10℃で約2時間撹拌後、0℃から20℃で水(28mL)を滴下した。反応混合液を0℃から20℃で約30分間撹拌した後、有機層を分取した。得られた有機層を10%食塩水(18mL)で2回洗浄した。得られた有機層に硫酸マグネシウム(2.75g)を添加し撹拌した後、硫酸マグネシウムを濾過し、濾過残渣をトルエン(18mL)で洗浄した。洗浄液を濾液に添加した後、減圧下にて濾液の溶媒を留去した。この濃縮残渣に、約18mLになるようにトルエンを添加し、RS-ZMSS[47]のトルエン溶液を得た。得られたRS-ZMSS[47]のトルエン溶液を収率100%として次工程に用いた。
 同じ方法で合成したRS-ZMSS[47]を濃縮乾固し、NMRとMSを測定した。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 7.37-7.27 (br m, 5H), 5.10-4.98 (m, 2H), 4.58-4.22 (br m, 4H), 3.84 (dt, 1H, J = 45.6, 8.1 Hz), 3.48-3.33 (br m, 1H), 3.17-3.10 (m, 6H), 2.81-2.74 (br m, 1H), 2.22-2.12 (m, 2H)
MS: m/z = 436 [M+H]+
[実施例50]SR-ZMDB(化合物[28])の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000274
 窒素雰囲気下、RS-ZMSS[47]のトルエン溶液(23.7mmol相当)にトルエン(55mL)を加え、室温でベンジルアミン(17.8g)を滴下し、滴下ロートをトルエン(9.2mL)で洗浄し、洗浄液を反応混合液に添加した。この反応混合液を、室温で約1時間、55℃から65℃で約3時間、次いで70℃から80℃で約6時間撹拌した。反応混合液を室温まで冷却した後、10%NaCl(28mL)を滴下し、室温で約30分間撹拌した。反応混合液にトルエン(37mL)を添加した後撹拌し、有機層を分取した。得られた有機層を10%食塩水(18mL)と酢酸(2.84g)の溶液で2回、10%食塩水(11mL)で1回、順次洗浄した。減圧下にて残渣が半量になるまで有機層の溶媒を留去した後、濃縮残渣に室温で無水酢酸(1.45g)を加えて約3時間撹拌した。反応混合液に硫酸水素カリウム(3.87g)と水(92mL)の溶液を室温で滴下し、撹拌した後、水層を分取した。得られた水層をトルエン(18mL)で洗浄した後、室温にてトルエン(73mL)と重曹(6.56g)を順次添加し撹拌した。有機層を分取し、得られた有機層を10%食塩水(11mL)で洗浄した。有機層に硫酸マグネシウム(2.75g)を添加して撹拌した後、硫酸マグネシウムを濾過した。濾過残渣をトルエン(18mL)にて洗浄し、濾液と洗浄液を合わせて減圧下にて溶媒を留去した。濃縮残渣にトルエン(44mL)を加え、SR-ZMDB[28]のトルエン溶液を得た。SR-ZMDB[28]のトルエン溶液を収率100%として次工程へ用いた。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.35-7.20 (m, 10H), 5.08 (d, 2H, J = 23.6 Hz), 3.94 (q, 1H, J = 7.9 Hz), 3.73-3.42 (br m, 2H), 3.30-3.23 (m, 1H), 3.05 (dd, 1H, J = 19.7, 9.5 Hz), 2.79 (dt, 1H, J = 69.6, 6.1 Hz), 2.57-2.32 (br m, 4H), 1.96-1.89 (m, 1H), 1.09 (d, 3H, J = 6.9 Hz)
MS: m/z = 351 [M+H]+
 本発明に係る化合物は、化合物A(化合物[17])を製造するための合成中間体として有用である。また、本発明に係る製造方法は、化合物A(化合物[17])を良好な化学純度および光学純度で安定的に製造する方法を提供する。さらに、本発明に係る製造方法は、化合物A(化合物[17])を良好な収率で安定的に製造することができることから工業的な大量合成法として有用である。本発明に係る化合物A(化合物[17])の合成中間体の製造方法は、化合物A(化合物[17])の合成中間体であるRR-MDDO及びSR-MDBN-DSUを良好な化学純度及び光学純度で安定的に製造する方法を提供する。

Claims (43)

  1.  式[13]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    の化合物又はその塩を用いて、式[17]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    の化合物又はその塩を製造する方法であって、以下の工程を含む方法:
    (1)式[13]の化合物又はその塩からベンジルを除去することにより式[14]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
    の化合物又はその塩を得る工程、及び
    (2)式[14]の化合物又はその塩をシアノアセチル化することにより式[17]の化合物又はその塩を得る工程。
  2.  式[10]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
    の化合物又はその有機酸との塩と式[12]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
    の化合物を反応させることにより式[13]の化合物又はその塩を得る工程をさらに含む、請求項1に記載の方法。
  3.  式[10]の化合物に有機酸を添加することにより式[10]の化合物の有機酸との塩を得る工程をさらに含む、請求項2に記載の方法。
  4.  有機酸との塩が二コハク酸塩、シュウ酸塩又はヘミシュウ酸塩である、請求項2又は3に記載の方法。
  5.  有機酸との塩がヘミシュウ酸塩である、請求項2又は3に記載の方法。
  6.  式[9]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
    の化合物を還元することにより式[10]の化合物又はその有機酸との塩を得る工程をさらに含む、請求項2から5のいずれかに記載の方法。
  7.  還元が酸及び水素化アルミニウムリチウムの存在下で行われる、請求項6に記載の方法。
  8.  式[8a]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
    (式中、RはC1-4アルキル又はベンジルである。)
    の化合物からフタロイルを除去することにより式[9]の化合物を得る工程をさらに含む、請求項6又は7に記載の方法。
  9.  式[16a]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
    (式中、RはC1-4アルキル又はベンジルである。)
    の化合物からホルミルを除去することにより式[9]の化合物を得る工程をさらに含む、請求項6又は7に記載の方法。
  10.  式[7]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
    の化合物とフタルイミドカリウムを反応させた後、エステル化することにより式[8a]の化合物を得る工程をさらに含む、請求項8に記載の方法。
  11.  式[7]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
    の化合物とジホルミルアミドナトリウムを反応させた後、エステル化することにより式[16a]の化合物を得る工程をさらに含む、請求項9に記載の方法。
  12.  式[6]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
    の化合物と塩基を反応させることにより式[7]の化合物を得る工程をさらに含む、請求項10又は11に記載の方法。
  13.  塩基がリチウムヘキサメチルジシラジドである、請求項12に記載の方法。
  14.  式[27a]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
    (式中、RおよびRはそれぞれ独立してメチル、エチル又はベンジルである。)
    の化合物を環化させることにより式[9]の化合物を得る工程をさらに含む、請求項6に記載の方法。
  15.  式[26a]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
    (式中、RおよびRは前記と同義である。)
    の化合物又はその塩と式[5]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
    の化合物を塩基の存在下で反応させることによりに式[27a]の化合物を得る工程をさらに含む、請求項14に記載の方法。
  16.  式[4]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
    の化合物とクロロ化剤を反応させることにより式[5]の化合物を得る工程をさらに含む、請求項15に記載の方法。
  17.  式[25a]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
    (式中、RおよびRは前記と同義である。)
    の化合物又はその塩とベンズアルデヒドを反応させることにより式[26a]の化合物又はその塩を得る工程をさらに含む、請求項15又は16に記載の方法。
  18.  式[24a]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
    (式中、Rは前記と同義である。)
    の化合物又はその塩をエステル化することにより式[25a]の化合物又はその塩を得る工程をさらに含む、請求項17に記載の方法。
  19.  式[31]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
    の化合物又はその有機酸との塩を用いて、式[17]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
    の化合物又はその塩を製造する方法であって、以下の工程を含む方法:
    (1)式[31]の化合物又はその有機酸との塩と式[12]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
    の化合物又はその塩を反応させることにより式[14]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
    の化合物又はその塩を得る工程、及び
    (2)式[14]の化合物又はその塩をシアノアセチル化することにより式[17]の化合物又はその塩を得る工程。
  20.  式[31]の化合物に有機酸を添加することにより式[31]の化合物の有機酸との塩を得る工程をさらに含む、請求項19に記載の方法。
  21.  有機酸との塩が二コハク酸塩又はシュウ酸塩である、請求項19又は20に記載の方法。
  22.  式[28]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
    の化合物又はその有機酸との塩から式[31]の化合物又はその有機酸との塩を得る工程をさらに含む、請求項19、20又は21のいずれかに記載の方法。
  23.  式[28]の化合物に有機酸を添加することにより式[28]の化合物の有機酸との塩を得る工程をさらに含む、請求項22に記載の方法。
  24.  式[28]の化合物の有機酸との塩がシュウ酸塩である、請求項22又は23に記載の方法。
  25.  式[13]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
    の化合物又はその塩。
  26.  式[10]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
    の化合物又はその有機酸との塩。
  27.  有機酸との塩が二コハク酸塩、シュウ酸塩又はヘミシュウ酸塩である、請求項26に記載の塩。
  28.  有機酸との塩がヘミシュウ酸塩である、請求項26に記載の塩。
  29.  式[10]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
    の化合物の二コハク酸塩の結晶であって、CuKα放射を使用して測定した回折角(2θ)が4.8°±0.2°、11.2°±0.2°、16.2°±0.2°、18.1°±0.2°又は20.1°±0.2°に少なくとも一個のピークを有する粉末X線回折パターンを示す結晶。
  30.  式[9]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
    の化合物。
  31.  式[9]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
    の化合物の結晶であって、CuKα放射を使用して測定した回折角(2θ)が10.6°±0.2°、16.0°±0.2°、17.5°±0.2°、18.3°±0.2°又は19.2°±0.2°に少なくとも一個のピークを有する粉末X線回折パターンを示す結晶。
  32.  式[8a]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
    (式中、RはC1-4アルキル又はベンジルである。)
    の化合物。
  33.  式[16a]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
    (式中、RはC1-4アルキル又はベンジルである。)
    の化合物。
  34.  式[7]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
    の化合物。
  35.  式[6]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
    の化合物。
  36.  式[27a]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
    (式中、RおよびRは前記と同義である。)
    の化合物。
  37.  式[26a]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
    (式中、RおよびRは前記と同義である。)
    の化合物又はその塩。
  38.  式[25a]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
    (式中、RおよびRは前記と同義である。)
    の化合物又はその塩。
  39.  式[24a]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
    (式中、Rは前記と同義である。)
    の化合物又はその塩。
  40.  式[31]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
    の化合物又はその有機酸塩との塩。
  41.  有機酸との塩が二コハク酸塩又はシュウ酸塩である、請求項40に記載の塩。
  42.  式[28]
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
    の化合物の有機酸との塩。
  43.  有機酸との塩がシュウ酸塩である、請求項42に記載の塩。
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