WO2017169506A1

WO2017169506A1 - 遠赤外線透過性組成物、形成体、積層体、遠赤外線透過フィルタ、固体撮像素子および赤外線カメラ

Info

Publication number: WO2017169506A1
Application number: PCT/JP2017/008419
Authority: WO
Inventors: 大貴瀧下; 秀知高橋; 嶋田　和人
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2016-03-28
Filing date: 2017-03-03
Publication date: 2017-10-05
Anticipated expiration: 2018-09-28
Also published as: TWI712680B; JPWO2017169506A1; US20180356572A1; TW201807148A; JP6717930B2

Abstract

遠赤外線透過性を有する形成体を製造可能な遠赤外線透過性組成物、形成体、積層体、遠赤外線透過フィルタ、固体撮像素子および赤外線カメラを提供する。遠赤外線透過性組成物は、波長１０μｍにおける屈折率が１．３～５．０である粒子と、媒質とを含む。

Description

遠赤外線透過性組成物、形成体、積層体、遠赤外線透過フィルタ、固体撮像素子および赤外線カメラ

　本発明は、遠赤外線透過性組成物、形成体、積層体、遠赤外線透過フィルタ、固体撮像素子および赤外線カメラに関する。

　近年、遠赤外線を利用した光学機器や光学素子の開発が進められている。これらの光学機器や光学素子に用いられる赤外線透過材料として、ゲルマニウム（Ｇｅ）、シリコン（Ｓｉ）などが知られている。例えば、特許文献１には、遠赤外線を集光するレンズとして、ＧｅやＳｉなどで形成されたレンズを用いることが記載されている。

特開２０１４－４８１０９号公報

　従来では、ＧｅやＳｉでレンズを形成する場合、ＧｅやＳｉのインゴットを切削加工してレンズ状に形成している。しかしならが、ＧｅやＳｉは、硬度が高いため、加工に手間や時間を要する問題があった。

　よって、本発明の目的は、従来とは異なる方法で、遠赤外線透過性を有する形成体を製造可能な遠赤外線透過性組成物、形成体、積層体、遠赤外線透過フィルタ、固体撮像素子および赤外線カメラを提供することにある。

　かかる状況のもと、本発明者らが鋭意検討を行った結果、以下の構成とすることにより上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成させるに至った。よって、本発明は以下を提供する。
＜１＞　波長１０μｍにおける屈折率が１．３～５．０である粒子と、媒質と、を含む遠赤外線透過性組成物。
＜２＞　粒子を、遠赤外線透過性組成物の全固形分に対して１５質量％以上含有する、＜１＞に記載の遠赤外線透過性組成物。
＜３＞　媒質が、樹脂、硬化性化合物、および溶剤から選ばれる少なくとも１種類を含む、＜１＞または＜２＞に記載の遠赤外線透過性組成物。
＜４＞　粒子は、Ｇｅ、Ｚｎ、ＳｉおよびＦから選ばれる少なくとも１種類の原子を含む無機粒子である、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の遠赤外線透過性組成物。
＜５＞　波長１０μｍにおける屈折率が１．３～５．０である粒子を含む形成体。
＜６＞　波長８～１４μｍの範囲における平均屈折率が１．３～５．０である、＜５＞に記載の形成体。
＜７＞　形成体の形状が、膜状、平板状またはレンズ状である、＜５＞または＜６＞に記載の形成体。
＜８＞　粒子は、Ｇｅ、Ｚｎ、ＳｉおよびＦから選ばれる少なくとも１種類の原子を含む無機粒子である、＜５＞～＜７＞のいずれか１つに記載の形成体。
＜９＞　遠赤外線透過フィルタ用である、＜５＞～＜８＞のいずれか１つに記載の形成体。
＜１０＞　基板と、
　基板上に設けられた、＜５＞～＜９＞のいずれか１つに記載の形成体と、
　を有する積層体。
＜１１＞　形成体の波長１０μｍにおける屈折率ｎ１と、形成体に対して形成体の厚み方向で接する層の波長１０μｍにおける屈折率ｎ２は、以下の関係を満たす、＜１０＞に記載の積層体。
　　（ｎ２）^0.5－１≦ｎ１≦（ｎ２）^0.5＋１
＜１２＞　形成体の波長１０μｍにおける屈折率ｎ１と、形成体の厚みＴとの積が、以下の関係を満たす、＜１０＞または＜１１＞に記載の積層体；
　１．５＜Ｔ・ｎ１＜３．５
　Ｔの単位は、μｍである。
＜１３＞　遠赤外線透過フィルタ用である、＜１０＞～＜１２＞のいずれか１つに記載の積層体。
＜１４＞　＜５＞～＜９＞のいずれか１つに記載の形成体、または、＜１０＞～＜１３＞のいずれか１つに記載の積層体を有する遠赤外線透過フィルタ。
＜１５＞　＜１４＞に記載の遠赤外線透過フィルタを有する固体撮像素子。
＜１６＞　＜１４＞に記載の遠赤外線透過フィルタを有する赤外線カメラ。

　本発明によれば、遠赤外線透過性を有する形成体を製造可能な遠赤外線透過性組成物、形成体、積層体、遠赤外線透過フィルタ、固体撮像素子および赤外線カメラを提供することが可能になった。

　以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
　以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されない。
　本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
　本明細書において、「全固形分」とは、組成物の全組成から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
　本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
　本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルを表す。
　本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、一般的に、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
　本明細書において、「遠赤外線」とは、波長０．７～１０００μｍの光（電磁波）を意味する。
　本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値として定義される。

＜遠赤外線透過性組成物＞
　本発明の遠赤外線透過性組成物（以下、本発明の組成物ともいう）は、波長１０μｍにおける屈折率が１．３～５．０である粒子と、媒質とを含む。

　本発明の組成物を用いることで、遠赤外線透過性に優れた形成体を製造することができる。また、本発明の組成物によれば、形成体は、基板に本発明の組成物を適用して製造したり、本発明の組成物を用いて、射出、プレスおよび押出しなどの各種成形方法を用いて製造することができるので、容易に遠赤外線透過性に優れた形成体を製造することができる。このため、低コストで、遠赤外線透過性を有する形成体を製造することができる。

　本発明の組成物において、媒質は、２５℃で液体または固体であることが好ましい。
　本発明の組成物において、粒子は、媒質中に分散していることが好ましい。すなわち、本発明の遠赤外線透過性組成物において、媒質は、粒子を分散させる成分であることが好ましい。媒質は、有機材料であることが好ましい。また、媒質は、樹脂、硬化性化合物および溶剤から選ばれる少なくとも１種類を含むことが好ましい。

　本発明において、遠赤外線透過性組成物は、Ｇｅ、Ｚｎ、ＳｉおよびＦから選ばれる少なくとも１種類の原子を含む無機粒子と、媒質とを含むことが好ましい。Ｇｅ、Ｚｎ、ＳｉおよびＦから選ばれる少なくとも１種類の原子を含む無機粒子は、波長１０μｍにおける屈折率が高い。このような無機粒子を含むことで、遠赤外線透過性に優れた形成体を製造することができる。

　以下、本発明の組成物について詳細に説明する。

＜波長１０μｍにおける屈折率が１．３～５．０である粒子＞
　本発明の組成物は、波長１０μｍにおける屈折率が１．３～５．０である粒子（以下、高屈折率粒子ともいう）を含有する。高屈折率粒子の波長１０μｍにおける屈折率の下限は、１．３５以上が好ましく、１．４以上がより好ましい。上限は、４．５以下が好ましく、４．０以下がより好ましい。本発明において、粒子の屈折率は、バルク結晶の数値が既知の材料については、公知の数値を用い、バルク結晶の値が知られていない材料については、測定対象粒子を構成する化合物の蒸着膜を形成し、Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製ＩＲ－ＶＡＳＥで測定した値を用いた。

　高屈折率粒子の平均一次粒子径は、１００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましい。下限は、たとえは、１ｎｍ以上とすることができ、１０ｎｍ以上とすることもできる。高屈折率粒子の平均一次粒子径が１００ｎｍ以下であれば、赤外光の散乱を抑制し、透過率を高めるという効果が期待できる。なお、本発明において、高屈折率粒子の平均一次粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察し、粒子が凝集していない部分を観測することで求めることができる。本発明において、粒子の粒度分布は、一次粒子である粒子を、透過型電子顕微鏡を用いて透過型電子顕微鏡写真を撮影した後、その写真を用いて画像処理装置で粒度分布を測定して求める。本発明において、粒子の平均一次粒子径は、粒度分布から算出された数平均径をもって平均一次粒子径とした。本明細書では、透過型電子顕微鏡として（株）日立製作所製電子顕微鏡（Ｈ－７０００）を用い、画像処理装置として（株）ニレコ製ルーゼックスＡＰを用いる。

　高屈折率粒子は、波長１０μｍにおける屈折率が１．３～５．０である粒子であればいずれも好ましく用いることができ、Ｇｅ、Ｚｎ、ＳｉおよびＦから選ばれる少なくとも１種類の原子を含む無機粒子、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、カルコゲナイドガラス、ダイヤモンド、サファイヤがより好ましく、Ｇｅ、Ｚｎ、ＳｉおよびＦから選ばれる少なくとも１種類の原子を含む無機粒子が更に好ましい。高屈折率粒子の具体例としては、Ｇｅ粒子、Ｓｉ粒子、ＧｅＯ₂粒子、ＺｎＳｅ粒子、ＺｎＳ粒子、ＣａＦ₂粒子、ＭｇＦ₂粒子、ＢａＦ₂粒子、カルコゲナイドガラスなどが挙げられ、Ｇｅ粒子、Ｓｉ粒子が好ましく、Ｇｅ粒子がより好ましい。これらの粒子を用いることで、遠赤外線透過性に優れた形成体を製造しやすい。ＩＴＯ粒子の市販品としては、Ｐ４－ＩＴＯ（三菱マテリアル（株）製）などが挙げられる。Ｓｉ粒子の市販品としては、ＳＯ－Ｃ１（アドマテックス製）や、アエロジル５０、ＭＯＸ１７０、２００（日本アエロジル社製）等が挙げられる。ＭｇＦ₂粒子、ＢａＦ₂粒子、ＣａＦ粒子の市販品としては、森田化学工業品、ステラケミファ品等が挙げられる。Ｇｅ粒子の市販品としては、ＨＷＮＡＮＯＭａｔｅｒｉａｌｓ品、Ａｍｅｒｉｃａｎｅｌｅｍｅｎｔｓ品等が挙げられる。また、高屈折率粒子は市販の材料や結晶を破砕後、ラボプラストミル等を用いて微細化したものを用いてもよい。

　高屈折率粒子の形状は、例えば、等方性形状（例えば、球状、多面体状等）、異方性形状（例えば、針状、棒状、板状等）、不定形状等などの形状が挙げられる。

　高屈折率粒子は、表面処理剤により表面処理されたものであってもよい。表面処理に用いる表面処理剤の例には、ポリオール、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、シリカ（酸化ケイ素）、含水シリカ、アルカノールアミン、ステアリン酸、オルガノシロキサン、酸化ジルコニウム、ハイドロゲンジメチコン、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤などが挙げられる。表面処理は、１種類単独の表面処理剤を用いて行ってもよく、２種類以上の表面処理剤を組み合わせて行ってもよい。

　高屈折率粒子の含有量は、形成体の遠赤外線透過性と剛直性の観点から高い方が好ましく、組成物中の全固形分に対して１５質量％以上がより好ましく、３０質量％以上が更に好ましく、４５質量％以上が特に好ましい。上限は、９９．９質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましい。

＜＜樹脂＞＞
　本発明の組成物は、樹脂を含むことが好ましい。樹脂は、例えば、高屈折率粒子を組成物中で分散させる用途、バインダーの用途で配合される。なお、主に高屈折率粒子を組成物中で分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外を目的として樹脂を使用することもできる。

　樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２,０００～２,０００,０００が好ましい。上限は、１,０００,０００以下が好ましく、５００,０００以下がより好ましい。下限は、３,０００以上が好ましく、５,０００以上がより好ましい。

　樹脂の含有量は、組成物の全固形分に対して０．１～８０質量％であることが好ましい。下限は、０．０１質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。上限は、８０質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましい。樹脂を、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。

（バインダー）
　本発明の組成物は、樹脂としてバインダーを含有することが好ましい。バインダーとしては、例えば、（メタ）アクリル樹脂、（メタ）アクリルアミド樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルフォスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、シロキサン樹脂などが挙げられる。これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。

　また、樹脂は、酸基を有する樹脂を用いることもできる。酸基としては、例えば、カルボキシ基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられる。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。酸基を有する樹脂はアルカリ可溶性樹脂として用いることもできる。また、分散剤として用いることもできる。

　酸基を有する樹脂としては、側鎖にカルボキシ基を有するラジカル重合体、例えば特開昭５９－４４６１５号公報、特公昭５４－３４３２７号公報、特公昭５８－１２５７７号公報、特公昭５４－２５９５７号公報、特開昭５４－９２７２３号公報、特開昭５９－５３８３６号公報、特開昭５９－７１０４８号公報に記載されているポリマー、すなわち、カルボキシ基を有するモノマーを単独あるいは共重合させた樹脂、酸無水物を有するモノマーを単独あるいは共重合させ酸無水物ユニットを加水分解若しくはハーフエステル化若しくはハーフアミド化させた樹脂、エポキシ樹脂を不飽和モノカルボン酸及び酸無水物で変性させたエポキシアクリレート等が挙げられる。カルボキシ基を有するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、４－カルボキシスチレン等があげられ、酸無水物を有するモノマーとしては、無水マレイン酸等が挙げられる。また、側鎖にカルボキシ基を有する酸性セルロース誘導体を用いることもできる。

　酸基を有する樹脂の分子量は、特に定めるものではなく、重量平均分子量（Ｍｗ）が５０００～２００，０００であることが好ましい。上限は、１００，０００以下が好ましく、２０，０００以下がより好ましい。また、数平均分子量（Ｍｎ）は、１０００～２０，０００であることが好ましい。

　酸基を有する樹脂の酸価は、３０～５００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が更に好ましい。上限は、４００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がさらに好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が特に好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が最も好ましい。

　酸基を有する樹脂としては、側鎖にカルボキシ基を有するポリマーが好ましく、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、ノボラック型樹脂などのアルカリ可溶性フェノール樹脂等、並びに側鎖にカルボキシ基を有する酸性セルロース誘導体、ヒドロキシ基を有するポリマーに酸無水物を付加させたものが挙げられる。特に、（メタ）アクリル酸と、（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーとの共重合体が好適である。（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーとしては、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、ビニル化合物、Ｎ位置換マレイミドモノマーなどが挙げられる。アルキル（メタ）アクリレートおよびアリール（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等、ビニル化合物としては、スチレン、α－メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ－ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー等が挙げられる。他のモノマーは、特開平１０－３００９２２号公報に記載のＮ位置換マレイミドモノマーとして、Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド等を用いることもできる。これらの（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーは１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。

　酸基を有する樹脂は、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーからなる多元共重合体も好ましく用いることができる。また、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを共重合したもの、特開平７－１４０６５４号公報に記載の、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体なども好ましく用いることができる。

　酸基を有する樹脂は、下記式（ＥＤ１）で示される化合物および下記式（ＥＤ２）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）を含むモノマー成分を重合してなるポリマーを含むことも好ましい。

　式（ＥＤ１）中、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基を表す。

　式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１～３０の有機基を表す。式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０－１６８５３９号公報の記載を参酌できる。

　エーテルダイマーの具体例としては、例えば、特開２０１３－２９７６０号公報の段落番号０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。エーテルダイマーは、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。

　酸基を有する樹脂は、式（Ｘ）で示される化合物に由来する構造単位を含んでいてもよい。

　式（Ｘ）において、Ｒ₁は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ₂は炭素数２～１０のアルキレン基を表し、Ｒ₃は、水素原子またはベンゼン環を含んでもよい炭素数１～２０のアルキル基を表す。ｎは１～１５の整数を表す。

　上記式（Ｘ）において、Ｒ₂のアルキレン基の炭素数は、２～３が好ましい。また、Ｒ₃のアルキル基の炭素数は１～２０であり、より好ましくは１～１０であり、Ｒ₃のアルキル基はベンゼン環を含んでもよい。Ｒ₃で表されるベンゼン環を含むアルキル基としては、ベンジル基、２－フェニル（イソ）プロピル基等を挙げることができる。

　酸基を有する樹脂は、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０５５８～０５７１（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０６８５～０７００）の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、特開２０１２－３２７６７号公報の段落番号００２９～００６３に記載の共重合体（Ｂ）および実施例で用いられているアルカリ可溶性樹脂、特開２０１２－２０８４７４号公報の段落番号００８８～００９８に記載のバインダー樹脂および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開２０１２－１３７５３１号公報の段落番号００２２～００３２に記載のバインダー樹脂および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開２０１３－０２４９３４号公報の段落番号０１３２～０１４３に記載のバインダー樹脂および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開２０１１－２４２７５２号公報の段落番号００９２～００９８および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開２０１２－０３２７７０号公報の段落番号００３０～００７２に記載のバインダー樹脂を用いることもできる。これらの内容は本明細書に組み込まれる。酸基を有する樹脂の具体例としては、以下の樹脂が挙げられる。

　樹脂は、硬化性基を有していてもよい。硬化性基としては、エチレン性不飽和結合を有する基、エポキシ基、メチロール基、アルコキシシリル基等が挙げられる。エチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基などが挙げられる。アルコキシシリル基としては、モノアルコキシシリル基、ジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基が挙げられる。なお、硬化性基を有する樹脂は、硬化性化合物でもある。

　硬化性基を含有する樹脂としては、ダイヤナ－ルＮＲシリーズ（三菱レイヨン株式会社製）、Ｐｈｏｔｏｍｅｒ６１７３（ＣＯＯＨ含有　ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ　ａｃｒｙｌｉｃ　ｏｌｉｇｏｍｅｒ、Ｄｉａｍｏｎｄ　Ｓｈａｍｒｏｃｋ　Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）、ビスコートＲ－２６４、ＫＳレジスト１０６（いずれも大阪有機化学工業株式会社製）、サイクロマーＰシリーズ（例えば、ＡＣＡ２３０ＡＡ）、プラクセル　ＣＦ２００シリーズ（いずれも（株）ダイセル製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００（ダイセルユーシービー株式会社製）、アクリキュアＲＤ－Ｆ８（日本触媒（株）製）などが挙げられる。

　本発明において、樹脂は、マープルーフＧ－０１５０Ｍ、Ｇ－０１０５ＳＡ、Ｇ－０１３０ＳＰ、Ｇ－０２５０ＳＰ、Ｇ－１００５Ｓ、Ｇ－１００５ＳＡ、Ｇ－１０１０Ｓ、Ｇ－２０５０Ｍ、Ｇ－０１１００、Ｇ－０１７５８（日油（株）製、エポキシ基含有ポリマー）や、ＡＲＴＯＮ　Ｆ４５２０（ＪＳＲ（株）製）などを使用することも好ましい。

　バインダーの含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１～８０質量％であることが好ましい。下限は、０．１質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。上限は、８０質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましい。バインダーを、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。

（分散剤）
　本発明の組成物は、樹脂として分散剤を含有することができる。分散剤としては、高分子分散剤〔例えば、アミン基を有する樹脂（ポリアミドアミンとその塩など）、オリゴイミン系樹脂、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物〕等を挙げることができる。高分子分散剤は、その構造から更に直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。

　分散剤は、高屈折率粒子に対する吸着能を有する部位を有することが好ましい（以下、「吸着部位」と総称する）。吸着部位としては、酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、複素環基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボキシ基、スルホンアミド基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及びヒドロキシ基よりなる群から選択される基を少なくとも１種類有する１価の置換基等が挙げられる。吸着部位は、酸系吸着部位であることが好ましい。酸系吸着部位としては酸基等が挙げられる。なかでも、酸系吸着部位がリン原子含有基およびカルボキシ基の少なくとも一方であることが好ましい。リン原子含有基としては、リン酸エステル基、ポリリン酸エステル基、リン酸基等が挙げられる。吸着部位の詳細については、特開２０１５－３４９６１号公報の段落番号００７３～００８０を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

　本発明において、樹脂（分散剤）は、下記式（１００）で表される樹脂が好ましい。

　上記式（１００）中、Ｒ¹は、（ｍ＋ｎ）価の連結基を表し、Ｒ²は単結合又は２価の連結基を表す。Ａ¹は、酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、フェノール基、アルキル基、アリール基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、複素環基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及びヒドロキシ基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基を表す。ｎ個のＡ¹及びＲ²は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。ｍは８以下の正の数を表し、ｎは１～９を表し、ｍ＋ｎは３～１０を満たす。Ｐ¹は１価のポリマー鎖を表す。ｍ個のＰ¹は、同一であっても、異なっていてもよい。

　上記式（１００）において、Ａ¹は、酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、フェノール基、アルキル基、アリール基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、複素環基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及びヒドロキシ基よりなる群から選択される基（以下、吸着部位ともいう）を少なくとも１種有する１価の置換基を表す。吸着部位は、１つのＡ¹の中に、少なくとも１個含まれていればよく、２個以上を含んでいてもよい。１つのＡ¹の中に、２個以上の吸着部位が含まれる態様としては、鎖状飽和炭化水素基（直鎖状でも分岐状であってもよく、炭素数１～１０であることが好ましい）、環状飽和炭化水素基（炭素数３～１０であることが好ましい）、芳香族基（炭素数５～１０であることが好ましく、例えば、フェニレン基）等を介して２個以上の吸着部位が結合し１価の置換基を形成する態様等が挙げられ、鎖状飽和炭化水素基を介して２個以上の吸着部位が結合し１価の置換基を形成する態様が好ましい。なお、吸着部位自体が１価の置換基を構成する場合には、吸着部位そのものがＡ¹で表される１価の置換基であってもよい。まず、Ａ¹を構成する吸着部位について以下に説明する

　Ａ¹における酸基としては、例えば、カルボキシ基、スルホ基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、ホウ酸基が挙げられ、カルボキシ基、スルホ基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基が好ましく、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基がより好ましく、カルボキシ基が更に好ましい。

　Ａ¹におけるウレア基としては、例えば、－ＮＲ¹⁵ＣＯＮＲ¹⁶Ｒ¹⁷（ここで、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、及びＲ¹⁷は各々独立に、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６以上のアリール基、又は炭素数７以上のアラルキル基を表す。）が挙げられ、－ＮＲ¹⁵ＣＯＮＨＲ¹⁷が好ましく、－ＮＨＣＯＮＨＲ¹⁷がより好ましい。

　Ａ¹におけるウレタン基として、例えば、－ＮＨＣＯＯＲ¹⁸、－ＮＲ¹⁹ＣＯＯＲ²⁰、－ＯＣＯＮＨＲ²¹、－ＯＣＯＮＲ²²Ｒ²³（ここで、Ｒ¹⁸、Ｒ¹⁹、Ｒ²⁰、Ｒ²¹、Ｒ²²及びＲ²³は各々独立に、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）が挙げられ、－ＮＨＣＯＯＲ¹⁸、－ＯＣＯＮＨＲ²¹が好ましい。

　Ａ¹における配位性酸素原子を有する基としては、例えば、アセチルアセトナト基、クラウンエーテルなどが挙げられる。

　Ａ¹における塩基性窒素原子を有する基としては、例えば、アミノ基（－ＮＨ₂）、置換イミノ基（－ＮＨＲ⁸、－ＮＲ⁹Ｒ¹⁰、ここで、Ｒ⁸、Ｒ⁹、及びＲ¹⁰は各々独立に、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）、下記式（ａ１）で表されるグアニジル基、下記式（ａ２）で表されるアミジニル基が挙げられる。

　式（ａ１）中、Ｒ¹¹及びＲ¹²は各々独立に、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。
　式（ａ２）中、Ｒ¹³及びＲ¹⁴は各々独立に、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。

　塩基性窒素原子を有する基は、アミノ基（－ＮＨ₂）、置換イミノ基、上記式（ａ１）で表されるグアニジル基〔式（ａ１）中、Ｒ¹¹及びＲ¹²は各々独立に、炭素数１から１０までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。〕、式（ａ２）で表されるアミジニル基〔式（ａ２）中、Ｒ¹³及びＲ¹⁴は各々独立に、炭素数１～１０のアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。〕が好ましい。特に、アミノ基（－ＮＨ₂）、置換イミノ基（－ＮＨＲ⁸、－ＮＲ⁹Ｒ¹⁰、ここで、Ｒ⁸、Ｒ⁹、及びＲ¹⁰は各々独立に、炭素数１～５のアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。）、式（ａ１）で表されるグアニジル基〔式（ａ１）中、Ｒ¹¹及びＲ¹²は各々独立に、炭素数１～５のアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。〕、式（ａ２）で表されるアミジニル基〔式（ａ２）中、Ｒ¹³及びＲ¹⁴は各々独立に、炭素数１～５のアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。〕が好ましい。

　Ａ¹におけるアルキル基としては、直鎖状であっても、分岐状であってもよく、炭素数１～４０のアルキル基であることが好ましく、４～３０のアルキル基であることがより好ましく、炭素数１０～１８のアルキル基であることが更に好ましい。
　Ａ¹におけるアリール基としては、炭素数６～１０のアリール基であることが好ましい。

　Ａ¹におけるアルキレンオキシ鎖を有する基としては、末端がアルキルオキシ基を形成している基が好ましく、炭素数１～２０のアルキルオキシ基を形成している基がより好ましい。また、アルキレンオキシ鎖としては、少なくとも１つのアルキレンオキシ基を有する限り特に制限はなく、１～６のアルキレンオキシ基からなるであることが好ましい。アルキレンオキシ基としては、例えば、－ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ－、－ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ－等が挙げられる。

　Ａ¹におけるアルキルオキシカルボニル基におけるアルキル基部分としては、炭素数１～２０のアルキル基であることが好ましい。
　Ａ¹におけるアルキルアミノカルボニル基におけるアルキル基部分としては、炭素数１～２０のアルキル基であることが好ましい。
　Ａ¹におけるカルボン酸塩基としては、カルボン酸のアンモニウム塩からなる基などが挙げられる。
　Ａ¹におけるスルホンアミド基としては、スルホンアミド基の窒素原子に結合する水素原子がアルキル基（メチル基等）、アシル基（アセチル基、トリフルオロアセチル基など）等で置換されていてもよい。

　Ａ¹における複素環基としては、例えば、チオフェン環基、フラン環基、キサンテン環基、ピロール環基、ピロリン環基、ピロリジン環基、ジオキソラン環基、ピラゾール環基、ピラゾリン環基、ピラゾリジン環基、イミダゾール環基、オキサゾール環基、チアゾール環基、オキサジアゾール環基、トリアゾール環基、チアジアゾール環基、ピラン環基、ピリジン環基、ピペリジン環基、ジオキサン環基、モルホリン環基、ピリダジン環基、ピリミジン環基、ピペラジン環基、トリアジン環基、トリチアン環基、イソインドリン環基、イソインドリノン環基、ベンズイミダゾロン環基、ベンゾチアゾール環基、ヒダントイン環基、インドール環基、キノリン環基、カルバゾール環基、アクリジン環基、アクリドン環基、アントラキノン環基が挙げられる。

　Ａ¹におけるイミド基としては、コハクイミド基、フタルイミド基、ナフタルイミド基等が挙げられる。

　上記の複素環基及びイミド基は、更に置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１～２０のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６～１６のアリール基、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ－スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１～６のアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１～２０のアルコキシ基、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ－ブチルカーボネート等の炭酸エステル基等が挙げられる。

　Ａ¹におけるアルコキシシリル基としては、モノアルコキシシリル基、ジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基のいずれでもよく、トリアルコキシシリル基であることが好ましく、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基などが挙げられる。
　Ａ¹におけるエポキシ基としては、置換又は無置換のオキシラン基（エチレンオキシド基）が挙げられる。

　式（１００）において、Ｒ¹は、（ｍ＋ｎ）価の連結基を表す。（ｍ＋ｎ）価の連結基としては、１～１００個の炭素原子、０～１０個の窒素原子、０～５０個の酸素原子、１～２００個の水素原子、および０～２０個の硫黄原子から成り立つ基が挙げられる。

　（ｍ＋ｎ）価の連結基は、下記式のいずれかで表される基であることが好ましい。

　Ｌ₃は３価の基を表す。Ｔ₃は単結合又は２価の連結基を表し、３個存在するＴ₃は互いに同一であっても異なっていてもよい。
　Ｌ₄は４価の基を表す。Ｔ₄は単結合又は２価の連結基を表し、４個存在するＴ₄は互いに同一であっても異なっていてもよい。
　Ｌ₅は５価の基を表す。Ｔ₅は単結合又は２価の連結基を表し、５個存在するＴ₅は互いに同一であっても異なっていてもよい。
　Ｌ₆は６価の基を表す。Ｔ₆は単結合又は２価の連結基を表し、６個存在するＴ₆は互いに同一であっても異なっていてもよい。

　（ｍ＋ｎ）価の連結基は、具体例として、下記の構造単位または以下の構造単位が２以上組み合わさって構成される基（環構造を形成していてもよい）を挙げることができる。（ｍ＋ｎ）価の連結基の詳細については、特開２０１４－１７７６１３号公報の段落番号００４３～００５５を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

　式（１００）において、Ｐ¹は、１価のポリマー鎖を表す。１価のポリマー鎖は、ビニル系ポリマー、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、アミド系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコーン系ポリマー、及びこれらの変性物、又は共重合体〔例えば、ポリエーテル／ポリウレタン共重合体、ポリエーテル／ビニルモノマーの重合体の共重合体など（ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよい。）を含む。〕からなる群より選択される少なくとも一種が好ましく、ビニル系ポリマー、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、及びこれらの変性物又は共重合体からなる群より選択される少なくとも一種がより好ましい。

　Ｐ¹が表す１価のポリマー鎖は、式（Ｌ）、（Ｍ）、（Ｎ）で表される構造を有するポリマー鎖であることが好ましい。

　式中、Ｘ¹は水素原子または１価の有機基を表す。Ｘ¹は水素原子または炭素数１～１２のアルキル基が好ましく、水素原子またはメチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。
　Ｒ¹⁰は水素原子又は１価の有機基を表し、水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基が好ましく、水素原子またはアルキル基がより好ましい。Ｒ¹⁰がアルキル基である場合、アルキル基としては、炭素数１～２０の直鎖状アルキル基、炭素数３～２０の分岐状アルキル基、又は炭素数５～２０の環状アルキル基が好ましく、炭素数１～２０の直鎖状アルキル基がより好ましく、炭素数１～６の直鎖状アルキル基が特に好ましい。式（Ｌ）中に構造の異なるＲ¹⁰を２種以上有していても良い。
　Ｒ¹¹及びＲ¹²は、分岐若しくは直鎖のアルキレン基（炭素数は１～１０が好ましく、２～８であることがより好ましく、３～６であることが更に好ましい。）を表す。各一般式中に構造の異なるＲ¹¹又はＲ¹²を２種以上有していても良い。
　ｋ１、ｋ２、ｋ３は、それぞれ独立に、５～１４０の数を表す。

　Ｐ¹は、少なくとも１種の繰り返し単位を含有することが好ましい。Ｐ¹における、前述の繰り返し単位の繰り返し数ｋ１～ｋ３は、立体反発力を発揮し分散性を向上する観点から、５以上であることがより好ましい。また、膜中に高屈折率粒子を密に存在させる観点から、前述の繰り返し単位の繰り返し数ｋ１～ｋ３は、５０以下であることが好ましく、４０以下であることがより好ましく、３０以下であることが更に好ましい。

　Ｐ¹が表す１価のポリマー鎖は、有機溶剤に可溶であることが好ましい。有機溶剤に可溶であれば、有機溶剤との親和性が良好であり、高屈折粒子の分散安定化を向上できる。

　式（１００）において、Ｒ²は単結合又は２価の連結基を表す。２価の連結基としては、１～１００個の炭素原子、０～１０個の窒素原子、０～５０個の酸素原子、１～２００個の水素原子、および０～２０個の硫黄原子から成り立つ基が挙げられる。上述の基は、無置換であってもよく、置換基を更に有していてもよい。２価の連結基は、具体的な例として、下記の構造単位または以下の構造単位が２以上組み合わさって構成される基を挙げることができる。２価の連結基の詳細については、特開２００７－２７７５１４号公報の段落番号００７１～００７５を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

　式（１００）中、ｍは８以下の正の数を表す。ｍは、０．５～５が好ましく、１～４がより好ましく、１～３が特に好ましい。
　式（１００）中、ｎは１～９を表す。ｎは、２～８が好ましく、２～７がより好ましく、３～６が特に好ましい。

　式（１００）で表される樹脂は、式（１００ａ）で表される樹脂が好ましい。

　式（１００ａ）において、Ａ²は、酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、フェノール基、アルキル基、アリール基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、複素環基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及びヒドロキシ基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基を表す。Ｒ³は、（ｍ＋ｎ）価の連結基を表す。Ｒ⁴及びＲ⁵は単結合又は２価の連結基を表す。Ｐ²は１価のポリマー鎖を表す。ｍは８以下の正の数を表し、ｎは１～９を表し、ｍ＋ｎは３～１０を満たす。ｎ個のＡ²及びＲ⁴は、それぞれ、同一であっても、ｍ個のＰ²及びＲ⁵は、同一であっても、異なっていてもよい。

　式（１００ａ）のＡ²は、式（１００）のＡ¹と同義であり、好ましい態様も同様である。

　式（１００ａ）において、Ｒ⁴、Ｒ⁵で表される２価の連結基としては、式（１００）のＲ²で表される２価の連結基として挙げられたものと同様のものが用いられ、好ましい態様も同様である。

　式（１００ａ）において、Ｒ³が表す（ｍ＋ｎ）価の連結基としては、１～１００個の炭素原子、０～１０個の窒素原子、０～５０個の酸素原子、１～２００個の水素原子、および０～２０個の硫黄原子から成り立つ基が挙げられる。（ｍ＋ｎ）価の連結基の詳細については、式（１００）のＲ¹で説明した（ｍ＋ｎ）価の連結基が挙げられ、好ましい態様も同様である。

　式（１００ａ）中、ｍ、ｎは、それぞれ、式（１００）におけるｍ、ｎと同義であり、好ましい態様も同様である。

　式（１００）において、Ｐ²が表す１価のポリマー鎖は、（１００）のＰ¹と同義であり、好ましい態様も同様である。

　式（１００）で表される樹脂は、式（１００ｂ）で表される樹脂であることも好ましい。

　式（１００ｂ）において、Ｒ⁶は、（ｍ＋ｎ１＋ｎ２）価の連結基を表す。Ｒ⁷～Ｒ⁹は各々独立に単結合又は２価の連結基を表す。Ａ³は酸基を少なくとも１種有する１価の置換基を表す。Ａ⁴は、Ａ³とは異なる１価の置換基を表す。Ｐ^３は１価のポリマー鎖を表す。ｍは８以下の正の数を表し、ｎ１は１～８を表し、ｎ２は１～８を表し、ｍ＋ｎ１＋ｎ２は３～１０を満たす。ｎ１個のＡ³及びＲ⁷は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。ｎ２個のＡ⁴及びＲ⁸は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。

　式（１００ｂ）におけるｍは、式（１００）におけるｍと同義であり、好ましい態様も同様である。
　式（１００ｂ）におけるＰ³は、式（１００）におけるＰ¹と同義であり、好ましい態様も同様である。
　式（１００ｂ）におけるＲ⁶が表す（ｍ＋ｎ１＋ｎ２）価の連結基は、１～１００個の炭素原子、０～１０個の窒素原子、０～５０個の酸素原子、１～２００個の水素原子、および０～２０個の硫黄原子から成り立つ基が挙げられる。（ｍ＋ｎ１＋ｎ２）価の連結基の詳細については、式（１００）のＲ¹で説明した（ｍ＋ｎ）価の連結基が挙げられ、好ましい態様も同様である。

　式（１００ｂ）におけるＲ⁷～Ｒ⁹が表す２価の連結基としては、式（１００）のＲ²で表される２価の連結基として挙げられたものと同様のものが用いられ、好ましい態様も同様である。

　式（１００ｂ）におけるＡ³が有する酸基は、カルボキシ基、スルホ基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、ホウ酸基が好ましい例として挙げられ、カルボキシ基、スルホ基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基が好ましく、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基がより好ましく、カルボキシ基が更に好ましい。

　式（１００ｂ）におけるＡ⁴が表す１価の置換基としては、式（１００）のＡ¹で説明した１価の置換基（ただし、酸基を除く）が挙げられる。なかでも、ｐＫａ５以上の官能基を少なくとも１種有する１価の置換基であることが好ましく、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、フェノール基、ウレア基、ウレタン基、アルキル基、アリール基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、ヒドロキシ基及び複素環基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基であることがより好ましく、アルキル基、アリール基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、ウレア基又はウレタン基であることが更に好ましい。

　Ａ³とＡ⁴との組合せとしては、Ａ³がｐＫａが５より小さい官能基を少なくとも１種有する１価の置換基であり、Ａ⁴がｐＫａ５以上の官能基を少なくとも１種有する１価の置換基である組み合わせが好ましい。

　Ａ³が、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基、ホスホン酸基及びホスフィン酸基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基であり、かつＡ⁴が配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、フェノール基、ウレア基、ウレタン基、アルキル基、アリール基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、ヒドロキシ基及び複素環基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基であることがより好ましい。Ａ³が、カルボキシル基を有する１価の置換基であり、Ａ⁴が、アルキル基、アリール基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、ウレア基又はウレタン基であることが更に好ましい。

　式（１００）で表される樹脂の重量平均分子量は、１０００～５００００が好ましく、３０００～３００００がより好ましく、３０００～２００００が更に好ましい。上記範囲であれば、高屈折粒子の分散性が良好である。

　式（１００）で表される樹脂は、特開２００７－２７７５１４号公報の段落番号００３９（対応する米国特許出願公開第２０１０／０２３３５９５号明細書の＜００５３＞）の記載、および、特開２０１５－３４９６１号公報の段落番号００８１～０１１７の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。式（１００）で表される樹脂の具体例としては、下記の樹脂が挙げられる。また、特開２０１４－１７７６１３号公報の段落番号０２２３～０２９１、特開２０１４－０６２２２１号公報の段落番号０２２９～０２９５、特開２０１４－１７７６１４号公報の段落番号０２５１～０３３７に記載された樹脂が挙げられ、この内容は本発明に組み込まれる。

　式（１００）で表される樹脂の合成方法は特に制限されず、複数の吸着部位を有するメルカプタン化合物存在下で、ビニルモノマーをラジカル重合して製造する方法が挙げられる。式（１００）で表される樹脂の合成方法の詳細については、特開２００７－２７７５１４号公報の段落番号０１１４～０１４０、０２６６～０３４８、特開２０１４－１７７６１４号公報の段落番号００７７～０１０８に記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

　本発明において、樹脂（分散剤）は、下記式（１１１）～式（１１４）のいずれかで表される繰り返し単位を含むグラフト共重合体を用いることもできる。

　式（１１１）～式（１１４）において、Ｗ¹、Ｗ²、Ｗ³、及びＷ⁴はそれぞれ独立に酸素原子、または、ＮＨを表し、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴、及びＸ⁵はそれぞれ独立に水素原子又は１価の基を表し、Ｙ¹、Ｙ²、Ｙ³、及びＹ⁴はそれぞれ独立に２価の連結基を表し、Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³、及びＺ⁴はそれぞれ独立に１価の基を表し、Ｒ³はアルキレン基を表し、Ｒ⁴は水素原子又は１価の基を表し、ｎ、ｍ、ｐ、及びｑはそれぞれ独立に１～５００の整数を表し、ｊ及びｋはそれぞれ独立に２～８の整数を表し、式（１１３）において、ｐが２～５００のとき、複数存在するＲ³は互いに同じであっても異なっていてもよく、式（１１４）において、ｑが２～５００のとき、複数存在するＸ⁵及びＲ⁴は互いに同じであっても異なっていてもよい。

　Ｗ¹、Ｗ²、Ｗ³、及びＷ⁴は酸素原子であることが好ましい。Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴、及びＸ⁵は、水素原子又は炭素数１～１２のアルキル基であることが好ましく、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、メチル基が特に好ましい。Ｙ¹、Ｙ²、Ｙ³、及びＹ⁴は、それぞれ独立に、２価の連結基を表し、連結基は特に構造上制約されない。Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³、及びＺ⁴が表す１価の基の構造は、特に限定されず、具体的には、アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオエーテル基、アリールチオエーテル基、ヘテロアリールチオエーテル基、及びアミノ基などが挙げられる。これらの中でも、Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³、及びＺ⁴で表される１価の基としては、特に分散性向上の観点から、立体反発効果を有するものが好ましく、各々独立に炭素数５～２４のアルキル基又はアルコキシ基が好ましく、その中でも、特に各々独立に炭素数５～２４の分岐アルキル基、炭素数５～２４の環状アルキル基、又は、炭素数５～２４のアルコキシ基が好ましい。なお、アルコキシ基中に含まれるアルキル基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。

　式（１１１）～式（１１４）において、ｎ、ｍ、ｐ、及びｑは、それぞれ独立に、１～５００の整数である。また、式（１１１）及び式（１１２）において、ｊ及びｋは、それぞれ独立に、２～８の整数を表す。式（１１１）及び式（１１２）におけるｊ及びｋは、分散安定性、現像性の観点から、４～６の整数が好ましく、５が最も好ましい。

　式（１１３）中、Ｒ³はアルキレン基を表し、炭素数１～１０のアルキレン基が好ましく、炭素数２又は３のアルキレン基がより好ましい。ｐが２～５００のとき、複数存在するＲ³は互いに同じであっても異なっていてもよい。

　式（１１４）中、Ｒ⁴は水素原子又は１価の基を表す。１価の基としては特に構造上限定はされない。Ｒ⁴として好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、及びヘテロアリール基が挙げられ、更に好ましくは、水素原子、又はアルキル基である。Ｒ⁴がアルキル基である場合、炭素数１～２０の直鎖状アルキル基、炭素数３～２０の分岐状アルキル基、又は炭素数５～２０の環状アルキル基が好ましく、炭素数１～２０の直鎖状アルキル基がより好ましく、炭素数１～６の直鎖状アルキル基が特に好ましい。式（１１４）において、ｑが２～５００のとき、グラフト共重合体中に複数存在するＸ⁵及びＲ⁴は互いに同じであっても異なっていてもよい。

　上記グラフト共重合体については、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号００２５～００９４の記載を参酌でき、本明細書には上記内容が組み込まれる。また、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号００７２～００９４に記載の樹脂が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。

　樹脂（分散剤）は、主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を含むオリゴイミン系分散剤も好ましい。オリゴイミン系分散剤としては、ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造Ｘを有する繰り返し単位と、原子数４０～１０，０００のオリゴマー鎖又はポリマー鎖Ｙを含む側鎖とを有し、かつ主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂が好ましい。この樹脂は、窒素原子と、構造Ｘが有するｐＫａ１４以下の官能基との双方で、高屈折率粒子と相互作用し、さらに樹脂が原子数４０～１０，０００のオリゴマー鎖又はポリマー鎖Ｙを有するために、例えば、オリゴマー鎖又はポリマー鎖Ｙが立体反発基として機能することにより、良好な分散性を発揮して、高屈折率粒子を均一に分散することができる。また、オリゴマー鎖又はポリマー鎖Ｙと溶剤とが相互作用を行うことにより、高屈折率粒子の沈降を長期間抑制することができる。さらに、オリゴマー鎖又はポリマー鎖Ｙが立体反発基として機能することで高屈折率粒子の凝集が防止されるため、高屈折率粒子の含有量を高くしても、優れた分散性が得られる。

　ここで、「塩基性窒素原子」とは、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はなく、樹脂がｐＫｂ１４以下の窒素原子を有する構造を含有することが好ましく、ｐＫｂ１０以下の窒素原子を有する構造を含有することがより好ましい。本発明において「ｐＫｂ（塩基強度）」とは、水温２５℃でのｐＫｂを言い、塩基の強さを定量的に表すための指標のひとつであり、塩基性度定数と同義である。塩基強度ｐＫｂと、酸強度ｐＫａとは、ｐＫｂ＝１４－ｐＫａの関係にある。

　部分構造Ｘが有するｐＫａ１４以下の官能基は、特に限定はなく、物性がこの条件を満たすものであれば、その構造などは特に限定されない。特にｐＫａが１２以下の官能基が好ましく、ｐＫａが１１以下の官能基が最も好ましい。具体的には、例えば、カルボキシ基（ｐＫａ　３～５程度）、スルホ基（ｐＫａ　－３～－２程度）、－ＣＯＣＨ₂ＣＯ－基（ｐＫａ　８～１０程度）、－ＣＯＣＨ₂ＣＮ基（ｐＫａ　８～１１程度）、－ＣＯＮＨＣＯ－基、フェノール性ヒドロキシ基、－Ｒ_FＣＨ₂ＯＨ基又は－（Ｒ_F）₂ＣＨＯＨ基（Ｒ_Fはペルフルオロアルキル基を表す。ｐＫａ　９～１１程度）、スルホンアミド基（ｐＫａ　９～１１程度）等が挙げられる。ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造Ｘは、窒素原子を含有する繰り返し単位における塩基性窒素原子に直接結合することが好ましく、塩基性窒素原子を含有する繰り返し単位の塩基性窒素原子と部分構造Ｘとは、共有結合のみならず、イオン結合して塩を形成する態様で連結していてもよい。

　オリゴイミン系分散剤は、ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造Ｘが結合する塩基性窒素原子を含有する繰り返し単位と、側鎖に原子数４０～１０，０００のオリゴマー鎖又はポリマー鎖Ｙとを有する樹脂であることが好ましい。
　また、オリゴイミン系分散剤は、（ｉ）ポリ（低級アルキレンイミン）系繰り返し単位、ポリアリルアミン系繰り返し単位、ポリジアリルアミン系繰り返し単位、メタキシレンジアミン－エピクロルヒドリン重縮合物系繰り返し単位、及びポリビニルアミン系繰り返し単位から選択される少なくとも１種類の、塩基性窒素原子を含有する繰り返し単位であって、塩基性窒素原子に結合し、かつ、ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造Ｘを有する繰り返し単位と、側鎖に（ｉｉ）原子数４０～１０，０００のオリゴマー鎖又はポリマー鎖Ｙとを有する樹脂が好ましい。なお、本発明において、ポリ（低級アルキレンイミン）における「低級」とは炭素数が１～５であることを示し、「低級アルキレンイミン」とは炭素数１～５のアルキレンイミンを表す。

　原子数４０～１０，０００のオリゴマー鎖又はポリマー鎖Ｙとしては、樹脂の主鎖部と連結できるポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリ（メタ）アクリル酸エステル等の公知のポリマー鎖が挙げられる。オリゴマー鎖又はポリマー鎖Ｙの樹脂との結合部位は、オリゴマー鎖又はポリマー鎖Ｙの末端であることが好ましい。

　オリゴマー鎖又はポリマー鎖Ｙは、ポリ（低級アルキレンイミン）系繰り返し単位、ポリアリルアミン系繰り返し単位、ポリジアリルアミン系繰り返し単位、メタキシレンジアミン－エピクロルヒドリン重縮合物系繰り返し単位、及びポリビニルアミン系繰り返し単位から選択される少なくとも１種類の窒素原子を含有する繰り返し単位の窒素原子と結合していることが好ましい。ポリ（低級アルキレンイミン）系繰り返し単位、ポリアリルアミン系繰り返し単位、ポリジアリルアミン系繰り返し単位、メタキシレンジアミン－エピクロルヒドリン重縮合物系繰り返し単位、及びポリビニルアミン系繰り返し単位から選択される少なくとも１種類の窒素原子を含有する繰り返し単位などの主鎖部とＹとの結合様式は、共有結合、イオン結合、又は、共有結合及びイオン結合の混合である。Ｙと主鎖部の結合様式の比率は、共有結合：イオン結合＝１００：０～０：１００であり、９５：５～５：９５が好ましい。Ｙは、窒素原子を含有する繰り返し単位の窒素原子とアミド結合、又はカルボン酸塩としてイオン結合していることが好ましい。

　オリゴマー鎖又はポリマー鎖Ｙの原子数としては、分散性、分散安定性および現像性の観点から、５０～５，０００が好ましく、６０～３，０００がより好ましい。また、Ｙの数平均分子量はＧＰＣ法でのポリスチレン換算値により測定することができる。Ｙの数平均分子量は、１，０００～５０，０００が好ましく、１，０００～３０，０００がより好ましい。

　オリゴイミン系分散剤は、例えば、式（Ｉ－１）で表される繰り返し単位と、式（Ｉ－２）で表される繰り返し単位、および／または、式（Ｉ－２ａ）で表される繰り返し単位を含む樹脂などが挙げられる。

　Ｒ¹及びＲ²は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基（炭素数１～６が好ましい）を表す。
　ａは、各々独立に、１～５の整数を表す。＊は繰り返し単位間の連結部を表す。
　Ｒ⁸及びＲ⁹はＲ¹と同義の基である。
　Ｌは単結合、アルキレン基（炭素数１～６が好ましい）、アルケニレン基（炭素数２～６が好ましい）、アリーレン基（炭素数６～２４が好ましい）、ヘテロアリーレン基（炭素数１～６が好ましい）、イミノ基（炭素数０～６が好ましい）、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、またはこれらの組合せに係る連結基である。なかでも、単結合もしくは－ＣＲ⁵Ｒ⁶－ＮＲ⁷－（イミノ基がＸもしくはＹの方になる）であることが好ましい。ここで、Ｒ⁵およびＲ⁶は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基（炭素数１～６が好ましい）を表す。Ｒ⁷は水素原子または炭素数１～６のアルキル基である。
　Ｌ^aはＣＲ⁸ＣＲ⁹とＮとともに環構造形成する構造部位であり、ＣＲ⁸ＣＲ⁹の炭素原子と合わせて炭素数３～７の非芳香族複素環を形成する構造部位であることが好ましい。さらに好ましくは、ＣＲ⁸ＣＲ⁹の炭素原子及びＮ（窒素原子）を合わせて５～７員の非芳香族複素環を形成する構造部位であり、より好ましくは５員の非芳香族複素環を形成する構造部位であり、ピロリジンを形成する構造部位であることが特に好ましい。この構造部位はさらにアルキル基等の置換基を有していてもよい。ＸはｐＫａ１４以下の官能基を有する基を表す。Ｙは原子数４０～１０，０００のオリゴマー鎖又はポリマー鎖を表す。

　上記分散剤（オリゴイミン系分散剤）は、さらに式（Ｉ－３）、式（Ｉ－４）、および、式（Ｉ－５）で表される繰り返し単位から選ばれる１種類以上を共重合成分として含有していてもよい。上記分散剤が、このような繰り返し単位を含むことで、高屈折率粒子の分散性能を更に向上させることができる。

　Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｌ、Ｌ^ａ、ａ及び＊は式（Ｉ－１）、（Ｉ－２）、（Ｉ－２ａ）における規定と同義である。Ｙａはアニオン基を有する原子数４０～１０，０００のオリゴマー鎖又はポリマー鎖を表す。

　オリゴイミン系分散剤については、特開２０１５－３４９６１号公報の段落番号０１１８～０１９０の記載を参酌でき、本明細書には上記内容が組み込まれる。オリゴイミン系分散剤の具体例としては、例えば、下記の樹脂や、特開２０１５－３４９６１号公報の段落番号０１６９～０１９０に記載の樹脂を用いることができる。

　分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、ＢＹＫ　Ｃｈｅｍｉｅ（株）製「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ　１０１、１０３、１０７、１１０、１８０、１３０、１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１７０」、ＢＹＫ　Ｃｈｅｍｉｅ（株）製「ＢＹＫ－Ｐ１０４、Ｐ１０５（高分子量不飽和ポリカルボン酸）」、ＥＦＫＡ（株）製「ＥＦＫＡ４０４７、４０５０、４０１０、４１６５（ポリウレタン系）、ＥＦＫＡ４３３０、４３４０（ブロック共重合体）、４４００、４４０２（変性ポリアクリレート）、５０１０（ポリエステルアミド）、５７６５（高分子量ポリカルボン酸塩）、６２２０（脂肪酸ポリエステル）、６７４５（フタロシアニン誘導体）、６７５０（アゾ顔料誘導体）」、味の素ファインテクノ（株）製「アジスパーＰＢ８２１、ＰＢ８２２」、共栄社化学（株）製「フローレンＴＧ－７１０（ウレタンオリゴマー）」、共栄社化学（株）製「ポリフローＮｏ．５０Ｅ、Ｎｏ．３００（アクリル系共重合体）」、楠本化成（株）製「ディスパロンＫＳ－８６０、８７３ＳＮ、８７４、＃２１５０（脂肪族多価カルボン酸）、＃７００４（ポリエーテルエステル）、ＤＡ－７０３－５０、ＤＡ－７０５、ＤＡ－７２５」、花王（株）製「デモールＲＮ、Ｎ（ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物）、ＭＳ、Ｃ、ＳＮ－Ｂ（芳香族スルホン酸ホルマリン重縮合物）」、花王（株）製「ホモゲノールＬ－１８（高分子ポリカルボン酸）」、花王（株）製「エマルゲン９２０、９３０、９３５、９８５（ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル）」、「アセタミン８６（ステアリルアミンアセテート）」、Ｌｕｂｒｉｚｏｌ（株）製「ソルスパース５０００（Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ　５０００）（フタロシアニン誘導体）、２２０００（アゾ顔料誘導体）、１３２４０（ポリエステルアミン）、３０００、１７０００、２７０００（末端部に機能部を有する高分子）、２４０００、２６０００、２８０００、３２０００、３６０００、３８５００（グラフト型高分子）、４１０００」、日光ケミカルズ（株）製「ニッコールＴ１０６（ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート）、ＭＹＳ－ＩＥＸ（ポリオキシエチレンモノステアレート）」等が挙げられる。また、酸系吸着部位としてリン原子含有基（例えば、リン酸基等）を有する分散剤の市販品として、Ｌｕｂｒｉｚｏｌ（株）製「ソルスパース２６０００（Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ　２６０００）、３６０００、４１０００」が挙げられる。これらを好適に用いることができる。
　分散剤は、１種類単独で、あるいは２種類以上を組み合わせて用いることができる。

　分散剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１～４０質量％が好ましい。上限は、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がさらに好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がさらに好ましい。
　また、分散剤の含有量は、高屈折率粒子１００質量部に対して、１～１００質量部が好ましい。上限は、８０質量部以下が好ましく、６０質量部以下がさらに好ましい。下限は、２．５質量部以上が好ましく、５質量部以上がさらに好ましい。

＜＜溶剤＞＞
　本発明の組成物は溶剤を含有することが好ましい。溶剤は種々の有機溶剤を用いて構成することができる。有機溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、３－メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ－ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどが挙げられる。これらの有機溶剤は、単独あるいは混合して使用することができる。

　本発明において、溶剤は、金属含有量が少ない溶剤を用いることが好ましい。溶剤の金属含有量は、例えば、１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルのものを用いてもよく、そのような高純度溶剤は、例えば、東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。
　溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いた濾過を挙げることができる。濾過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、ポアサイズ１０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がより好ましく、３ｎｍ以下が更に好ましい。フィルタとしては、ポリテトラフロロエチレン製、ポリエチレン製、または、ナイロン製のフィルタが好ましい。
　溶剤には、異性体（同じ原子数で異なる構造の化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種類のみが含まれていてもよいし、複数種類含まれていてもよい。

　溶剤の含有量は、組成物の固形分濃度が、５～９９質量％となる量が好ましい。上限は、９０質量％以下がより好ましい。下限は、１０質量％以上がより好ましい。

＜＜硬化性化合物＞＞
　本発明の組成物は、硬化性化合物を含有することが好ましい。硬化性化合物としては、ラジカル、酸、熱により硬化可能な公知の化合物を用いることができる。例えば、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物、エポキシ基を有する化合物、メチロール基を有する化合物等が挙げられる。エチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基が好ましい。硬化性化合物は、重合性化合物であることが好ましく、ラジカル重合性化合物であることがより好ましい。重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物などが挙げられる。

（エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物（重合性化合物））
　本発明において、硬化性化合物として、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物（以下、重合性化合物ともいう）を用いることができる。重合性化合物は、モノマーであることが好ましい。重合性化合物の分子量は、１００～３０００が好ましい。上限は、２０００以下が好ましく、１５００以下が更に好ましい。下限は、１５０以上が好ましく、２５０以上が更に好ましい。重合性化合物は、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。

　重合性化合物は、エチレン性不飽和結合を有する基を１個以上有する、常圧下で１００℃以上の沸点を持つ化合物も好ましい。具体例としては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の単官能のアクリレートやメタアクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート及びこれらの混合物を挙げることができ、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートであることが好ましい。

　重合性化合物は、下記式（ＭＯ－１）～（ＭＯ－５）で表される、重合性化合物も好適に用いることができる。なお、式中、Ｔがオキシアルキレン基の場合には、炭素原子側の末端がＲに結合する。

　上記の式において、ｎは０～１４の整数であり、ｍは１～８の整数である。一分子内に複数存在するＲ、Ｔ、は、各々同一であっても、異なっていてもよい。
　上記式（ＭＯ－１）～（ＭＯ－５）で表される重合性化合物の各々において、複数のＲの内の少なくとも１つは、－ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂、又は、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂で表される基を表す。
　上記式（ＭＯ－１）～（ＭＯ－５）で表される、重合性化合物の具体例としては、特開２００７－２６９７７９号公報の段落番号０２４８～０２５１に記載されている化合物が挙げられる。
　また、特開平１０－６２９８６号公報に記載の、多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後に（メタ）アクリレート化した化合物も、重合性化合物として用いることができる。

　重合性化合物は、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、Ａ－ＴＭＭＴ；新中村化学工業（株）製）、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬（株）製）ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製）が好ましく、ペンタエリスリトールテトラアクリレートがより好ましい。

　重合性化合物は、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。酸基を有する重合性化合物は、多官能アルコールの一部のヒドロキシ基を（メタ）アクリレート化し、残ったヒドロキシ基に酸無水物を付加反応させてカルボキシ基とするなどの方法で得られる。酸基を有する重合性化合物としては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルなどが挙げられる。酸基を有する重合性化合物は、脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応のヒドロキシ基に、非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を持たせた化合物が好ましく、特に好ましくは、このエステルにおいて、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトールおよび／またはジペンタエリスリトールであるものである。市販品としては、例えば、東亞合成（株）製の多塩基酸変性アクリルオリゴマーとして、アロニックスシリーズのＭ－３０５、Ｍ－５１０、Ｍ－５２０などが挙げられる。酸基を有する重合性化合物の酸価は、０．１～４０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましい。上限は、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましい。

　また、重合性化合物は、カプロラクトン構造を有する重合性化合物も好ましい態様である。カプロラクトン構造を有する重合性化合物としては、分子内にカプロラクトン構造を有する限り特に限定されず、例えば、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセロール、トリメチロールメラミン等の多価アルコールと、（メタ）アクリル酸及びε－カプロラクトンをエステル化することにより得られる、ε－カプロラクトン変性多官能（メタ）アクリレートを挙げることができる。カプロラクトン構造を有する重合性化合物は、下記式（Ｚ－１）で表される化合物が好ましい。

　式（Ｚ－１）中、６個のＲは全てが式（Ｚ－２）で表される基であるか、又は６個のＲのうち１～５個が式（Ｚ－２）で表される基であり、残余が式（Ｚ－３）で表される基である。

　式（Ｚ－２）中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し、ｍは１又は２の数を示し、「＊」は結合手であることを示す。

　式（Ｚ－３）中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し、「＊」は結合手であることを示す。

　カプロラクトン構造を有する重合性化合物は、例えば、日本化薬（株）からＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡシリーズとして市販されており、ＤＰＣＡ－２０（上記式（Ｚ－１）～（Ｚ－３）においてｍ＝１、式（Ｚ－２）で表される基の数＝２、Ｒ¹が全て水素原子である化合物）、ＤＰＣＡ－３０（同式、ｍ＝１、式（Ｚ－２）で表される基の数＝３、Ｒ¹が全て水素原子である化合物）、ＤＰＣＡ－６０（同式、ｍ＝１、式（Ｚ－２）で表される基の数＝６、Ｒ¹が全て水素原子である化合物）、ＤＰＣＡ－１２０（同式においてｍ＝２、式（Ｚ－２）で表される基の数＝６、Ｒ¹が全て水素原子である化合物）等が挙げられる。

　重合性化合物は、式（Ｚ－４）又は（Ｚ－５）で表される化合物を用いることもできる。

　式（Ｚ－４）及び（Ｚ－５）中、Ｅは、各々独立に、－（（ＣＨ₂）_yＣＨ₂Ｏ）－、又は－（（ＣＨ₂）_yＣＨ（ＣＨ₃）Ｏ）－を表し、ｙは、各々独立に０～１０の整数を表し、Ｘは、各々独立に、（メタ）アクリロイル基、水素原子、又はカルボキシ基を表す。
　式（Ｚ－４）中、（メタ）アクリロイル基の合計は３個又は４個であり、ｍは各々独立に０～１０の整数を表し、各ｍの合計は０～４０の整数である。
　式（Ｚ－５）中、（メタ）アクリロイル基の合計は５個又は６個であり、ｎは各々独立に０～１０の整数を表し、各ｎの合計は０～６０の整数である。

　式（Ｚ－４）中、ｍは、０～６の整数が好ましく、０～４の整数がより好ましい。
　また、各ｍの合計は、２～４０の整数が好ましく、２～１６の整数がより好ましく、４～８の整数が特に好ましい。
　式（Ｚ－５）中、ｎは、０～６の整数が好ましく、０～４の整数がより好ましい。
　また、各ｎの合計は、３～６０の整数が好ましく、３～２４の整数がより好ましく、６～１２の整数が特に好ましい。
　また、式（Ｚ－４）又は式（Ｚ－５）中の－（（ＣＨ₂）_yＣＨ₂Ｏ）－又は－（（ＣＨ₂）_yＣＨ（ＣＨ₃）Ｏ）－は、酸素原子側の末端がＸに結合する形態が好ましい。

　式（Ｚ－４）又は式（Ｚ－５）で表される化合物は１種類単独で用いてもよいし、２種類以上併用してもよい。特に、式（Ｚ－５）において、６個のＸ全てがアクリロイル基である形態が好ましい。

　また、式（Ｚ－４）又は式（Ｚ－５）で表される化合物の重合性化合物中における全含有量としては、２０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましい。

　式（Ｚ－４）又は式（Ｚ－５）で表される化合物は、従来公知の工程である、ペンタエリスリト－ル又はジペンタエリスリト－ルにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを開環付加反応により開環骨格を結合する工程と、開環骨格の末端ヒドロキシ基に、例えば（メタ）アクリロイルクロライドを反応させて（メタ）アクリロイル基を導入する工程と、から合成することができる。各工程は良く知られた工程であり、当業者は容易に式（Ｚ－４）又は式（Ｚ－５）で表される化合物を合成することができる。

　式（Ｚ－４）又は式（Ｚ－５）で表される化合物の中でも、ペンタエリスリトール誘導体及び／又はジペンタエリスリトール誘導体がより好ましい。
　具体的には、下記式（ａ）～（ｆ）で表される化合物（以下、「例示化合物（ａ）～（ｆ）」とも称する。）が挙げられ、中でも、例示化合物（ａ）、（ｂ）、（ｅ）、（ｆ）が好ましい。

　式（Ｚ－４）、（Ｚ－５）で表される重合性化合物の市販品としては、例えばサートマー（株）製のエチレンオキシ鎖を４個有する４官能アクリレートであるＳＲ－４９４、日本化薬（株）製のペンチレンオキシ鎖を６個有する６官能アクリレートであるＤＰＣＡ－６０、イソブチレンオキシ鎖を３個有する３官能アクリレートであるＴＰＡ－３３０などが挙げられる。

　重合性化合物は、特公昭４８－４１７０８号公報、特開昭５１－３７１９３号公報、特公平２－３２２９３号公報、特公平２－１６７６５号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８－４９８６０号公報、特公昭５６－１７６５４号公報、特公昭６２－３９４１７号公報、特公昭６２－３９４１８号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。また、特開昭６３－２７７６５３号公報、特開昭６３－２６０９０９号公報、特開平１－１０５２３８号公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類も好ましい。
　重合性化合物の市販品としては、ウレタンオリゴマーＵＡＳ－１０、ＵＡＢ－１４０（山陽国策パルプ（株）製）、Ｕ－４ＨＡ、Ｕ－６ＬＰＡ、ＵＡ－３２Ｐ、Ｕ－１０ＨＡ、Ｕ－１０ＰＡ、ＵＡ－１２２Ｐ、ＵＡ－１１００Ｈ、ＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、ＤＰＨＡ－４０Ｈ（日本化薬（株）製）、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＡＨ－６００、Ｔ－６００、ＡＩ－６００（共栄社化学（株）製）、ＵＡ－９０５０、ＵＡ－９０４８（ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。

　これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、組成物の最終的な性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、感度の観点では、１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合は２官能以上が好ましい。また、形成体の強度を高める観点では、３官能以上の重合性化合物が好ましい。また、官能数および種類の異なる化合物を併用することも好ましい。さらに、３官能以上の重合性化合物であって、エチレンオキサイド鎖長の異なる重合性化合物を併用することも好ましい。また、組成物に含まれる他の成分（例えば、光重合開始剤、樹脂等）との相溶性や分散性に対しても、重合性化合物の選択および／または使用法は好ましい要因であり、例えば、低純度化合物の使用や２種類以上の併用により、相溶性などを向上することができる。

　重合性化合物の含有量は、組成物の全固形分に対して、１～８０質量％が好ましい。下限は、３質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましい。上限は、７０質量％以下がより好ましく、６０質量％以下が更に好ましい。

（エポキシ基を有する化合物）
　本発明では、硬化性化合物として、エポキシ基を有する化合物を用いることもできる。エポキシ基を有する化合物は、１分子内にエポキシ基を１つ以上有する化合物が挙げられ、２つ以上有する化合物が好ましい。エポキシ基は、１分子内に１～１００個有することが好ましい。上限は、例えば、１０個以下とすることもでき、５個以下とすることもできる。下限は、２個以上が好ましい。

　エポキシ基を有する化合物は、エポキシ当量（＝エポキシ基を有する化合物の分子量／エポキシ基の数）が５００ｇ／当量以下であることが好ましく、１００～４００ｇ／当量であることがより好ましく、１００～３００ｇ／当量であることがさらに好ましい。

　エポキシ基を有する化合物は、低分子化合物（例えば、分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）のいずれでもよい。エポキシ基を有する化合物の重量平均分子量は、２００～１０００００が好ましく、５００～５００００がより好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００以下が好ましく、５０００以下がより好ましく、３０００以下が更に好ましい。

　エポキシ基を有する化合物は、特開２０１３－０１１８６９号公報の段落番号００３４～００３６、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０１４７～０１５６、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落番号００８５～００９２に記載された化合物を用いることもできる。これらの内容は、本明細書に組み込まれる。市販品としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としては、ｊＥＲ８２５、ｊＥＲ８２７、ｊＥＲ８２８、ｊＥＲ８３４、ｊＥＲ１００１、ｊＥＲ１００２、ｊＥＲ１００３、ｊＥＲ１０５５、ｊＥＲ１００７、ｊＥＲ１００９、ｊＥＲ１０１０（以上、三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８６０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５１、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５５（以上、ＤＩＣ（株）製）等であり、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂としては、ｊＥＲ８０６、ｊＥＲ８０７、ｊＥＲ４００４、ｊＥＲ４００５、ｊＥＲ４００７、ｊＥＲ４０１０（以上、三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８３０、ＥＰＩＣＬＯＮ８３５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＬＣＥ－２１、ＲＥ－６０２Ｓ（以上、日本化薬（株）製）等であり、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、ｊＥＲ１５２、ｊＥＲ１５４、ｊＥＲ１５７Ｓ７０、ｊＥＲ１５７Ｓ６５（以上、三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７４０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７７０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７７５（以上、ＤＩＣ（株）製）等であり、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６６０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６６５、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６７０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６７３、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６８０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＥＯＣＮ－１０２０（日本化薬（株）製）等であり、脂肪族エポキシ樹脂としては、ＡＤＥＫＡ　ＲＥＳＩＮ　ＥＰ－４０８０Ｓ、同ＥＰ－４０８５Ｓ、同ＥＰ－４０８８Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、ＥＨＰＥ３１５０、ＥＰＯＬＥＡＤ　ＰＢ　３６００、同ＰＢ　４７００（以上、（株）ダイセル製）、デナコール　ＥＸ－２１２Ｌ、ＥＸ－２１４Ｌ、ＥＸ－２１６Ｌ、ＥＸ－３２１Ｌ、ＥＸ－８５０Ｌ（以上、ナガセケムテックス（株）製）等である。その他にも、ＡＤＥＫＡ　ＲＥＳＩＮ　ＥＰ－４０００Ｓ、同ＥＰ－４００３Ｓ、同ＥＰ－４０１０Ｓ、同ＥＰ－４０１１Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＮＣ－２０００、ＮＣ－３０００、ＮＣ－７３００、ＸＤ－１０００、ＥＰＰＮ－５０１、ＥＰＰＮ－５０２（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ｊＥＲ１０３１Ｓ（三菱化学（株）製）等が挙げられる。

　エポキシ基を有する化合物は、特開２００９－２６５５１８号公報の段落番号００４５等に記載の化合物を用いることもできる。これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　エポキシ基を有する化合物の含有量は、組成物の全固形分に対して、１～８０質量％が好ましい。下限は、３質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましい。上限は、７０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましい。エポキシ基を有する化合物は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜光重合開始剤＞＞
　本発明の組成物は、光重合開始剤を含有することができる。特に、組成物が、重合性化合物を含む場合、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有するものが好ましい。光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤が好ましい。また、光重合開始剤は、約３００ｎｍ～８００ｎｍ（３３０ｎｍ～５００ｎｍがより好ましい。）の範囲内に少なくとも約５０のモル吸光係数を有する化合物を、少なくとも１種類含有していることが好ましい。

　光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するものなど）、アシルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体等のオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル、アミノアセトフェノン化合物、ヒドロキシアセトフェノンなどが挙げられる。トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素化合物としては、例えば、若林ら著、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，４２、２９２４（１９６９）記載の化合物、英国特許１３８８４９２号明細書記載の化合物、特開昭５３－１３３４２８号公報記載の化合物、独国特許３３３７０２４号明細書記載の化合物、Ｆ．Ｃ．Ｓｃｈａｅｆｅｒら著のＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．；２９、１５２７（１９６４）記載の化合物、特開昭６２－５８２４１号公報記載の化合物、特開平５－２８１７２８号公報記載の化合物、特開平５－３４９２０号公報記載の化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載されている化合物、などが挙げられる。

　また、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、フォスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物及びその誘導体、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体及びその塩、ハロメチルオキサジアゾール化合物、３－アリール置換クマリン化合物からなる群より選択される化合物が好ましい。

　光重合開始剤としては、ヒドロキシアセトフェノン化合物、アミノアセトフェノン化合物、及び、アシルホスフィン化合物も好適に用いることができる。より具体的には、例えば、特開平１０－２９１９６９号公報に記載のアミノアセトフェノン系開始剤、特許第４２２５８９８号公報に記載のアシルホスフィン系開始剤も用いることができる。ヒドロキシアセトフェノン系開始剤としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４、ＤＡＲＯＣＵＲ　１１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　２９５９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１２７（商品名：いずれもＢＡＳＦ社製）を用いることができる。アミノアセトフェノン系開始剤としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ　９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　３６９、及び、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　３７９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　３７９ＥＧ（商品名：いずれもＢＡＳＦ社製）を用いることができる。アミノアセトフェノン系開始剤は、３６５ｎｍ又は４０５ｎｍ等の長波光源に吸収波長がマッチングされた特開２００９－１９１１７９号公報に記載の化合物も用いることができる。
　アシルホスフィン系開始剤としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ　８１９やＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＴＰＯ（商品名：いずれもＢＡＳＦ社製）を用いることができる。
　露光後の着色防止の観点からアシルホスフィン系開始剤が好ましい。

　光重合開始剤は、オキシム化合物を好ましく用いることもできる。オキシム化合物の具体例としては、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－８００６８号公報記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、特開２０１６－２１０１２号公報記載の化合物を用いることができる。

　本発明において、好適に用いることのできるオキシム化合物としては、例えば、３－ベンゾイルオキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、及び２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オンなどが挙げられる。また、Ｊ．Ｃ．Ｓ．ＰｅｒｋｉｎＩＩ（１９７９年）ｐｐ．１６５３－１６６０、Ｊ．Ｃ．Ｓ．ＰｅｒｋｉｎＩＩ（１９７９年）ｐｐ.１５６－１６２、ＪｏｕｒｎａｌｏｆＰｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年）ｐｐ．２０２－２３２、特開２０００－６６３８５号公報記載の化合物、特開２０００－８００６８号公報、特表２００４－５３４７９７号公報、特開２００６－３４２１６６号公報の各公報に記載の化合物等も挙げられる。市販品ではＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ０２、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ０３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）も好適に用いられる。また、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司社製）、アデカアークルズＮＣＩ－９３０、アデカオプトマー　Ｎ－１９１９（特開２０１２－１４０５２号公報の光重合開始剤２）（（株）ＡＤＥＫＡ製）も用いることができる。

　また上記記載以外のオキシム化合物として、カルバゾールＮ位にオキシムが連結した特表２００９－５１９９０４号公報に記載の化合物、ベンゾフェノン部位にヘテロ置換基が導入された米国特許第７６２６９５７号公報に記載の化合物、色素部位にニトロ基が導入された特開２０１０－１５０２５号公報及び米国特許公開２００９－２９２０３９号記載の化合物、国際公開２００９／１３１１８９号公報に記載のケトオキシム化合物、トリアジン骨格とオキシム骨格を同一分子内に含有する米国特許７５５６９１０号公報に記載の化合物、４０５ｎｍに吸収極大を有しｇ線光源に対して良好な感度を有する特開２００９－２２１１１４号公報記載の化合物、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落番号００７６～００７９に記載された化合物などを用いてもよい。
　好ましくは、例えば、特開２０１３－２９７６０号公報の段落番号０２７４～０２７５を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　具体的には、オキシム化合物としては、下記式（ＯＸ－１）で表される化合物が好ましい。オキシム化合物は、オキシムのＮ－Ｏ結合が（Ｅ）体のオキシム化合物であっても、オキシムのＮ－Ｏ結合が（Ｚ）体のオキシム化合物であってもよく、（Ｅ）体と（Ｚ）体との混合物であってもよい。

　式（ＯＸ－１）中、ＲおよびＢは各々独立に一価の置換基を表し、Ａは二価の有機基を表し、Ａｒはアリール基を表す。
　式（ＯＸ－１）中、Ｒで表される一価の置換基としては、一価の非金属原子団であることが好ましい。
　一価の非金属原子団としては、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環基、アルキルチオカルボニル基、アリールチオカルボニル基等が挙げられる。また、これらの基は、１以上の置換基を有していてもよい。また、前述した置換基は、さらに他の置換基で置換されていてもよい。
　置換基としてはハロゲン原子、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基またはアリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル基、アルキル基、アリール基等が挙げられる。
　式（ＯＸ－１）中、Ｂで表される一価の置換基としては、アリール基、複素環基、アリールカルボニル基、又は、複素環カルボニル基が好ましい。これらの基は１以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。
　式（ＯＸ－１）中、Ａで表される二価の有機基としては、炭素数１～１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アルキニレン基が好ましい。これらの基は１以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。

　本発明は、光重合開始剤として、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４－１３７４６６号公報記載の化合物が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。

　本発明は、光重合開始剤として、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。

　本発明は、光重合開始剤として、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３－１１４２４９号公報の段落番号００３１～００４７、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落番号０００８～００１２、００７０～００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７～００２５に記載されている化合物、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。

　本発明において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。

　オキシム化合物は、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、３６０ｎｍ～４８０ｎｍの波長領域に吸収波長を有する化合物がより好ましく、３６５ｎｍ及び４０５ｎｍの吸光度が高い化合物が特に好ましい。

　オキシム化合物は、３６５ｎｍ又は４０５ｎｍにおけるモル吸光係数が、感度の観点から、１，０００～３００，０００であることが好ましく、２，０００～３００，０００であることがより好ましく、５，０００～２００，０００であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数の測定は、公知の方法を用いることができるが、具体的には、例えば、紫外可視分光光度計（Ｖａｒｉａｎ（株）製、Ｃａｒｙ－５　ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。

　光重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分に対し０．１～５０質量％が好ましく、より好ましくは０．５～３０質量％であり、さらに好ましくは１～２０質量％である。この範囲で、より良好な感度とパターン形成性が得られる。組成物は、光重合開始剤を、１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜酸化防止剤＞＞
　本発明の組成物は、酸化防止剤を含有することが好ましい。酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物などが挙げられ、分子量５００以上のフェノール化合物、分子量５００以上の亜リン酸エステル化合物又は分子量５００以上のチオエーテル化合物が好ましい。また、酸化防止剤は、フェノール化合物が好ましく、分子量５００以上のフェノール化合物がより好ましい。なお、酸化防止剤は、重合禁止剤として機能しうることもある。

　フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。特に、フェノール性ヒドロキシ基に隣接する部位（オルト位）に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数１～２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ｔ－ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、イソオクチル基、２－エチルへキシル基がより好ましい。また、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。

　フェノール化合物は、多置換フェノール系化合物が好ましい。多置換フェノール系化合物は、大きく分けてその置換位置および構造の違う３種類（（Ａ）ヒンダードタイプ、（Ｂ）セミヒンダードタイプ、（Ｃ）レスヒンダードタイプ）がある。

　式（Ａ）～（Ｃ）において、Ｒは置換基であり、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアミノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも置換基を有してもよいアミノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基が好ましい。

　フェノール化合物は、上記式（Ａ）～（Ｃ）で表される構造が同一分子内に複数存在する化合物が好ましく、上記式（Ａ）～（Ｃ）で表される構造が同一分子内に２～４個存在する化合物がより好ましい。

　フェノール化合物としては、例えばｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、４，４－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２'－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、フェノール樹脂類、及びクレゾール樹脂類からなる群より選択される化合物などが挙げられる。
　市販品として入手できる代表例には、（Ａ）としてはＳｕｍｉｌｉｚｅｒ　ＢＨＴ　（住友化学製）、Ｉｒｇａｎｏｘ　１０１０、１２２２（ＢＡＳＦ社製）、アデカスタブＡＯ－２０、ＡＯ－５０、ＡＯ－５０Ｆ、ＡＯ－６０、ＡＯ－６０Ｇ、ＡＯ－３３０（（株）ＡＤＥＫＡ製）などがあり、（Ｂ）としてはＳｕｍｉｌｉｚｅｒ　ＢＢＭ－Ｓ（住友化学（株）製）、Ｉｒｇａｎｏｘ　２４５（ＢＡＳＦ社製）、アデカスタブＡＯ－８０（（株）ＡＤＥＫＡ製）などがあり、（Ｃ）としてはアデカスタブＡＯ－３０、ＡＯ－４０（（株）ＡＤＥＫＡ製）などがある。

　亜リン酸エステル化合物としては、トリス［２－［［２，４，８，１０－テトラキス（１，１－ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－６－イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２－［（４，６，９，１１－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－２－イル）オキシ］エチル］アミン、および亜りん酸エチルビス（２，４－ジｔｅｒｔ－ブチル－６－メチルフェニル）からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物が挙げられる。

　酸化防止剤は、上述したもののほか、アデカスタブ　ＰＥＰ－３６Ａ、アデカスタブ　ＡＯ－４１２Ｓ（（株）ＡＤＥＫＡ）などを用いることもできる。

　酸化防止剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．３～１５質量％がより好ましい。酸化防止剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜シランカップリング剤＞＞
　本発明の組成物は、シランカップリング剤を含有することができる。本発明において、「シランカップリング剤」は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、「加水分解性基」とは、珪素原子に直結し、加水分解反応及び／又は縮合反応によってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基は、樹脂との間で相互作用もしくは結合形成して親和性を示す基を有することが好ましい。例えば、（メタ）アクリロイル基、フェニル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基が挙げられ、（メタ）アクリロイル基およびエポキシ基が好ましい。即ち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基と、（メタ）アクリロイル基および／またはエポキシ基と、を有する化合物が好ましい。

　シランカップリング剤の具体例としては、例えば、１，６－ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ｐ－スチリルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノメチルエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチル－ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（ビニルベンジル）－２－アミノエチル－３－アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩、トリス（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。また、上記以外にアルコキシオリゴマーを用いることができる。また、下記化合物を用いることもできる。

　市販品としては、信越シリコーン（株）製のＫＢＭ－１３、ＫＢＭ－２２、ＫＢＭ－１０３、ＫＢＥ－１３、ＫＢＥ－２２、ＫＢＥ－１０３、ＫＢＭ－３０３３、ＫＢＥ－３０３３、ＫＢＭ－３０６３、ＫＢＭ－３０６６、ＫＢＭ－３０８６、ＫＢＥ－３０６３、ＫＢＥ－３０８３、ＫＢＭ－３１０３、ＫＢＭ－３０６６、ＫＢＭ－７１０３、ＳＺ－３１、ＫＰＮ－３５０４、ＫＢＭ－１００３、ＫＢＥ－１００３、ＫＢＭ－３０３、ＫＢＭ－４０２、ＫＢＭ－４０３、ＫＢＥ－４０２、ＫＢＥ－４０３、ＫＢＭ－１４０３、ＫＢＭ－５０２、ＫＢＭ－５０３、ＫＢＥ－５０２、ＫＢＥ－５０３、ＫＢＭ－５１０３、ＫＢＭ－６０２、ＫＢＭ－６０３、ＫＢＭ－９０３、ＫＢＥ－９０３、ＫＢＥ－９１０３、ＫＢＭ－５７３、ＫＢＭ－５７５、ＫＢＭ－９６５９、ＫＢＥ－５８５、ＫＢＭ－８０２、ＫＢＭ－８０３、ＫＢＥ－８４６、ＫＢＥ－９００７、Ｘ－４０－１０５３、Ｘ－４１－１０５９Ａ、Ｘ－４１－１０５６、Ｘ－４１－１８０５、Ｘ－４１－１８１８、Ｘ－４１－１８１０、Ｘ－４０－２６５１、Ｘ－４０－２６５５Ａ、ＫＲ－５１３、ＫＣ－８９Ｓ、ＫＲ－５００、ＫＲ－５１６、ＫＲ－５１７、Ｘ－４０－９２９６、Ｘ－４０－９２２５、Ｘ－４０－９２４６、Ｘ－４０－９２５０、ＫＲ－４０１Ｎ、Ｘ－４０－９２２７、Ｘ－４０－９２４７、ＫＲ－５１０、ＫＲ－９２１８、ＫＲ－２１３、Ｘ－４０－２３０８、Ｘ－４０－９２３８などが挙げられる。また、シランカップリング剤は、特開２００９－２８８７０３号公報の段落番号００１８～００３６に記載の化合物、特開２００９－２４２６０４号公報の段落番号００５６～００６６に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。

　シランカップリング剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１～１５．０質量％が好ましく、０．０５～１０．０質量％がより好ましい。シランカップリング剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜増感剤＞＞
　本発明の組成物は、光重合開始剤のラジカル発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、増感剤を含有していてもよい。増感剤としては、光重合開始剤に対し、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものが好ましい。増感剤は、３００ｎｍ～４５０ｎｍの波長領域に吸収波長を有するものが挙げられる。具体的には、特開２０１０－１０６２６８号公報の段落番号０２３１～０２５３（対応する米国特許出願公開第２０１１／０１２４８２４号明細書の＜０２５６＞～＜０２７３＞）の説明を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　増感剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１～２０質量％が好ましく、０．５～１５質量％がより好ましい。増感剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜共増感剤＞＞
　本発明の組成物は、更に共増感剤を含有することも好ましい。共増感剤は、光重合開始剤や増感剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、あるいは、重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。共増感剤としては、具体的には、特開２０１０－１０６２６８号公報の段落番号０２５４～０２５７（対応する米国特許出願公開第２０１１／０１２４８２４号明細書の＜０２７７＞～＜０２７９＞）の説明を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　共増感剤の含有量は、重合成長速度と、硬化速度の向上の観点から、組成物の全固形分に対して、０．１～３０質量％が好ましく、１～２５質量％がより好ましく、１．５～２０質量％が更に好ましい。共増感剤は１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜重合禁止剤＞＞
　本発明の組成物は、組成物の製造中あるいは保存中において、エチレン性不飽和結合を有する基を有する化合物（例えば、重合性化合物など）の不要な重合を阻止するために、重合禁止剤を添加することが好ましい。重合禁止剤は、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４'－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２'－メチレンビス（４－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）が挙げられる。中でも、ｐ－メトキシフェノールが好ましい。なお、重合禁止剤は、酸化防止剤として機能しうることもある。

　重合禁止剤の含有量は、光重合開始剤１００質量部に対して、０．０１質量部～１０質量部が好ましく、０．０１～８質量部がより好ましく、０．０１～５質量部が最も好ましい。

＜＜界面活性剤＞＞
　本発明の組成物は、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。

　特に、本発明の組成物が、フッ素系界面活性剤を含有することで、塗布液として調製したときの液特性（特に、流動性）がより向上することから、塗布厚の均一性や省液性をより改善することができる。
　即ち、フッ素系界面活性剤を含有する組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力を低下させることにより、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、少量の液量で数μｍ程度の薄膜を形成した場合であっても、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行える点で有効である。

　フッ素系界面活性剤のフッ素含有率は、３～４０質量％が好ましい。下限は、５質量％以上が好ましく、７質量％以上が更に好ましい。上限は、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下が更に好ましい。フッ素含有率が上述した範囲内である場合は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、溶解性も良好である。
　フッ素系界面活性剤として具体的には、特開２０１４－４１３１８号公報の段落番号００６０～００６４（対応する国際公開２０１４／１７６６９号公報の段落番号００６０～００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１－１３２５０３号公報の段落番号０１１７～０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファック　Ｆ－１７１、同Ｆ－１７２、同Ｆ－１７３、同Ｆ－１７６、同Ｆ－１７７、同Ｆ－１４１、同Ｆ－１４２、同Ｆ－１４３、同Ｆ－１４４、同Ｒ３０、同Ｆ－４３７、同Ｆ－４７５、同Ｆ－４７９、同Ｆ－４８２、同Ｆ－５５４、同Ｆ－７８０（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、同ＳＣ－１０１、同ＳＣ－１０３、同ＳＣ－１０４、同ＳＣ－１０５、同ＳＣ－１０６８、同ＳＣ－３８１、同ＳＣ－３８３、同Ｓ－３９３、同ＫＨ－４０（以上、旭硝子（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ　ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、特開２０１５－１１７３２７号公報の段落番号００１５～０１５８に記載の化合物を用いることもできる。また、下記化合物をフッ素系界面活性剤として用いることもできる。

　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造で、熱を加えると官能基の部分が切れてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。フッ素原子の官能基を持つ分子構造で、熱を加えると官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物としてはＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月２２日）（日経産業新聞、２０１６年２月２３日）、例えばメガファックＤＳ－２１を用いてもよい。

　フッ素系界面活性剤として、ブロックポリマーを用いることもできる。例えば特開２０１１－８９０９０号公報に記載された化合物が挙げられる。フッ素系界面活性剤としては、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位とを含む、含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。

　上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３，０００～５０，０００であり、例えば、１４，０００である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％は質量％である。

　また、フッ素系界面活性剤として、エチレン性不飽和結合を有する基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０－１６４９６５号公報の段落番号００５０～００９０および０２８９～０２９５に記載された化合物、例えばＤＩＣ（株）製のメガファックＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ等が挙げられる。フッ素系界面活性剤として、特開２０１５－１１７３２７号公報の段落番号００１５～０１５８に記載の化合物を用いることもできる。

　ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセリンエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル（ＢＡＳＦ社製のプルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１）、パイオニンＤ－６５１２、Ｄ－６４１４、Ｄ－６１１２、Ｄ－６１１５、Ｄ－６１２０、Ｄ－６１３１、Ｄ－６１０８－Ｗ、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６１１５－Ｗ、Ｄ－６１１５－Ｘ、Ｄ－６１２０－Ｘ（竹本油脂（株）製）等が挙げられる。
　カチオン系界面活性剤としては、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、（メタ）アクリル酸系（共）重合体ポリフローＮｏ．７５、Ｎｏ．９０、Ｎｏ．９５（共栄社化学（株）製）、Ｗ００１（裕商（株）製）等が挙げられる。
　アニオン系界面活性剤としては、Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７（裕商（株）製）等が挙げられる。
　シリコーン系界面活性剤としては、例えば、東レ・ダウコーニング（株）製「トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ」、「トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ８４００」、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ（株）製「ＴＳＦ－４４４０」、「ＴＳＦ－４３００」、「ＴＳＦ－４４４５」、「ＴＳＦ－４４６０」、「ＴＳＦ－４４５２」、信越シリコーン（株）製「ＫＰ３４１」、「ＫＦ６００１」、「ＫＦ６００２」、ビックケミー（株）製「ＢＹＫ３０７」、「ＢＹＫ３２３」、「ＢＹＫ３３０」等が挙げられる。

　界面活性剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．００１質量％～５．０質量％が好ましく、０．００５～３．０質量％がより好ましい。界面活性剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜紫外線吸収剤＞＞
　本発明の組成物は、紫外線吸収剤を含有してもよい。紫外線吸収剤は、共役ジエン系化合物が好ましく、下記式（ＵＶ）で表される化合物がより好ましい。

　式（ＵＶ）において、Ｒ¹及びＲ²は、各々独立に、水素原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、又は炭素原子数６～２０のアリール基を表し、Ｒ¹とＲ²とは互いに同一でも異なっていてもよいが、同時に水素原子を表すことはない。
　Ｒ¹及びＲ²は、Ｒ¹及びＲ²が結合する窒素原子と共に、環状アミノ基を形成してもよい。環状アミノ基としては、例えば、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基、ヘキサヒドロアゼピノ基、ピペラジノ基等が挙げられる。
　Ｒ¹及びＲ²は、各々独立に、炭素原子数１～２０のアルキル基が好ましく、炭素原子数１～１０のアルキル基がより好ましく、炭素原子数１～５のアルキル基がさらに好ましい。
　Ｒ³及びＲ⁴は、電子求引基を表す。ここで電子求引基は、ハメットの置換基定数σ_p値（以下、単に「σ_p値」という。）が、０．２０以上１．０以下の電子求引基である。好ましくは、σ_p値が０．３０以上０．８以下の電子求引基である。Ｒ³及びＲ⁴は互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ³及びＲ⁴は、アシル基、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホニルオキシ基、スルファモイル基が好ましく、アシル基、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホニルオキシ基、スルファモイル基がより好ましい。
　上記のＲ¹、Ｒ²、Ｒ³、及びＲ⁴の少なくとも１つは、連結基を介して、ビニル基と結合したモノマーより導かれるポリマーの形になっていてもよい。他のモノマーとの共重合体であっても良い。

　式（ＵＶ）で示される紫外線吸収剤の具体例としては、下記化合物が挙げられる。式（ＵＶ）で示される紫外線吸収剤の置換基の説明は、ＷＯ２００９／１２３１０９Ａの段落番号００２４～００３３（対応する米国特許出願公開第２０１１／００３９１９５号明細書の＜００４０＞～＜００５９＞）の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。式（Ｉ）で表される化合物の好ましい具体例は、ＷＯ２００９／１２３１０９Ａの段落番号００３４～００３７（対応する米国特許出願公開第２０１１／００３９１９５号明細書の＜００６０＞）の例示化合物（１）～（１４）の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、ＵＶ５０３（大東化学（株）製）などが挙げられる。また、紫外線吸収剤は、アミノジエン系化合物、サリシレート系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、アクリロニトリル系化合物、トリアジン系化合物等の紫外線吸収剤を用いることができる。具体例としては特開２０１３－６８８１４号に記載の化合物が挙げられる。ベンゾトリアゾール系化合物としてはミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）を用いてもよい。
　紫外線吸収剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１～１０質量％が好ましく、０．１～５質量％がより好ましく、０．１～３質量％が特に好ましい。また、本発明においては、紫外線吸収剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜その他の添加剤＞＞
　本発明の組成物は、更に、可塑剤や感脂化剤等の公知の添加剤を含有することができる。可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等が挙げられる。可塑剤の含有量は、硬化性化合物と樹脂との合計質量に対し１０質量％以下が好ましい。

　また、本発明の組成物は、着色剤を含有することができる。着色剤は、顔料であってもよく、染料であってもよい。着色剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１～７０質量％が好ましく、１～５０質量％がより好ましく、１０～４０質量％がさらに好ましい。着色剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。本発明の組成物は、着色剤を実質的に含有しないこともできる。着色剤を実質的に含有しないとは、組成物の全固形分に対して、０．１質量％以下が好ましく、０．０５質量％以下がより好ましく、含有しないことがさらに好ましい。

＜＜遠赤外線透過性組成物の調製方法＞＞
　本発明の遠赤外線透過性組成物は、前述の成分を混合して調製できる。
　遠赤外線透過性組成物の調製に際しては、各成分を一括配合してもよいし、各成分を溶剤に溶解または分散した後に逐次配合してもよい。また、配合する際の投入順序や作業条件は特に制約を受けない。
　例えば、高屈折率粒子を媒質（好ましくは溶剤および樹脂）中で分散させて分散液を調製し、得られた分散液と他の成分（例えば、バインダー、硬化性化合物など）とを混合して遠赤外線透過性組成物を調製することもできる。

　また、高屈折率粒子を分散させるプロセスとしては、高屈折率粒子の分散に用いる機械力として圧縮、圧搾、衝撃、剪断、キャビテーションなどを使用するプロセスが挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、超音波分散などが挙げられる。また、サンドミル（ビーズミル）における高屈折率粒子の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくする事等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。粉砕処理後にろ過、遠心分離などで粗粒子を除去することも好ましい。「分散技術大全、株式会社情報機構発行、２００５年７月１５日」や「サスペンション（固／液分散系）を中心とした分散技術と工業的応用の実際　総合資料集、経営開発センター出版部発行、１９７８年１０月１０日」、特開２０１５－１５７８９３号公報の段落番号００２２に記載のプロセス及び分散機を好適に使用することが出来る。また、高屈折率粒子を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程での微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、処理条件等は例えば特開２０１５－１９４５２１号公報、特開２０１２－０４６６２９号公報に記載のものを使用することができる。

　遠赤外線透過性組成物の調製にあたり、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、各成分を混合後の組成物をフィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているものであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン－６、ナイロン－６，６）等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量を含む）等を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）およびナイロンが好ましい。
　フィルタの孔径は、０．０１～７．０μｍ程度が適しており、好ましくは０．０１～３．０μｍ程度、さらに好ましくは０．０５～０．５μｍ程度である。この範囲とすることにより、微細な異物を確実に除去することが可能となる。また、ファイバ状のろ材を用いることも好ましく、ろ材としては例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられ、具体的にはロキテクノ（株）製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）のフィルタカートリッジを用いることができる。

　フィルタを使用する際、異なるフィルタを組み合わせてもよい。その際、第１のフィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。
　また、上述した範囲内で異なる孔径の第１のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社（ＤＦＡ４２０１ＮＸＥＹなど）、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）又は株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。
　第２のフィルタは、上述した第１のフィルタと同様の材料等で形成されたものを使用することができる。
　例えば、第１のフィルタでのろ過は、分散液のみで行い、他の成分を混合した後で、第２のろ過を行ってもよい。

＜＜遠赤外線透過性組成物の用途＞＞
　本発明の遠赤外線透過性組成物は、遠赤外線透過フィルタなどに好ましく用いることができる。具体的には、波長１～１４μｍの範囲（好ましくは、波長３～５または８～１２μｍの範囲）における遠赤外線を透過させる遠赤外線透過フィルタなどに好ましく用いることができる。より具体的には、遠赤外線を利用した検査機器やセンサなどに用いる遠赤外線透過フィルタ、集電センサなどの遠赤外線を利用したセンサなどに用いる遠赤外線透過フィルタ、遠赤外線透過率を測定する際の基板材料などに好ましく用いることができる。また、本発明の遠赤外線透過性組成物は、反射防止膜として用いることもできる。

　本発明の遠赤外線透過性組成物は、基板に塗布などの方法で適用したり、射出、プレスおよび押出しなどの各種成形方法を用いて、遠赤外線透過性に優れた形成体を製造することができる。また、形成体は、公知のセラミックの製造法を用いて製造することもできる。具体的には金型プレス成形法、ラバープレス法、射出成形法、スリップキャスト法、押出成形法などが挙げられる。

　本発明の遠赤外線透過性組成物は、波長１～１４μｍの範囲（好ましくは、波長３～５または８～１２μｍの範囲）における遠赤外線を透過させる遠赤外線透過フィルタなどに好ましく用いることができる。また、赤外線カメラや、固体撮像素子に組み込んで用いることもできる。
　遠赤外線透過フィルタは、本発明の遠赤外線透過性組成物のみで形成することもできる。また、本発明の遠赤外線透過性組成物と、他の基板とを組み合わせて遠赤外線透過フィルタとすることもできる。例えば、基板（例えば、Ｇｅ基板やＳｉ基板など）に、本発明の遠赤外線透過性組成物を適用して形成した積層体を、遠赤外線透過フィルタとして用いることも好ましい。

＜形成体＞
　次に、本発明の形成体について説明する。本発明の形成体は、波長１０μｍにおける屈折率が１．３～５．０である粒子（高屈折率粒子）を含む。高屈折率粒子の波長１０μｍにおける屈折率の下限は、１．３５以上が好ましく、１．４以上がより好ましい。上限は、４．５以下が好ましく、４．０以下がより好ましい。本発明の形成体は、上述した本発明の遠赤外線透過性組成物を用いて得られたものであることが好ましい。

　本発明の形成体に含まれる高屈折率粒子の平均一次粒子径は、１００μｍ以下が好ましく、５０μｍ以下がより好ましい。下限は、たとえは、０．００１μｍ以上とすることができ、０．０１μｍ以上とすることもできる。高屈折率粒子の詳細については、上述した遠赤外線透過性組成物で説明した範囲と同様であり、好ましい範囲も同様である。

　本発明の形成体は、上述した粒子のほか、更に有機材料を含んでいてもよい。有機材料としては、上述した遠赤外線透過性組成物で説明した材料が挙げられる。例えば、硬化性化合物に由来する有機材料（例えば、硬化性化合物の硬化物）、樹脂などが挙げられる。

　本発明の形成体は、波長８～１４μｍの範囲における平均屈折率が１．３～５．０であることが好ましい。下限は、１．３５以上が好ましく、１．４以上がより好ましい。上限は、４．５以下が好ましく、４．０以下がより好ましい。
　本発明の形成体は、波長１０μｍにおける屈折率が１．３～５．０であることが好ましい。下限は、１．３５以上が好ましく、１．４以上がより好ましい。上限は、４．５以下が好ましく、４．０以下がより好ましい。
　本発明の形成体は、波長８～１４μｍのすべての範囲において、屈折率が１．３～５．０であることが好ましい。下限は、１．３５以上が好ましく、１．４以上がより好ましい。上限は、４．５以下が好ましく、４．０以下がより好ましい。
　なお、形成体の屈折率および平均屈折率は、Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製ＩＲ－ＶＡＳＥを用いて測定した値である。また、測定サンプルの波長８～１４μｍの範囲における屈折率の平均値を、上記平均屈折率とした。

　本発明の形成体は、波長８～１４μｍの範囲における平均透過率が、４０～９９％であることが好ましい。下限は、４５％以上が好ましく、５０％以上がより好ましい。上限は、９７％以下が好ましく、９５％以下がより好ましい。
　本発明の形成体の波長１０μｍにおける透過率は、４０～９９％であることが好ましい。下限は、４５％以上が好ましく、５０％以上がより好ましい。上限は、９７％以下が好ましく、９５％以下がより好ましい。
　本発明の形成体は、波長８～１４μｍのすべての範囲において、平均透過率が、４０～９９％であることが好ましい。下限は、４５％以上が好ましく、５０％以上がより好ましい。上限は、９７％以下が好ましく、９５％以下がより好ましい。
　なお、形成体の透過率および平均透過率は、ＮＩＣＯＬＥＴ６７００ＦＴ－ＩＲ（Ｔｈｅｒｍｏ　Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ製）を用いて測定した値である。また、測定サンプルの波長８～１４μｍの範囲における透過率の平均値を上記平均透過率とした。

　本発明の形成体の形状は、特に限定はない。用途に応じて適宜調整できる。例えば、膜状、板状またはレンズ状が挙げられる。膜状の形成体の場合、厚みは、０．１～５．０μｍが好ましく、０．２～４．０μｍがより好ましく、０．３～３．０μｍがさらに好ましい。板状の形成体の場合、厚みは、１００～１００００μｍが好ましく、２００～８０００μｍがより好ましく、５００～５０００μｍがさらに好ましい。レンズ状の形成体は、凹レンズであってもよく、凸レンズであってもよい。レンズの厚みは適宜調整することができる。

　膜状の形成体は、波長１０μｍにおける屈折率が１．３～５．０である粒子（高屈折率粒子）と媒質とを含む組成物（好ましくは、本発明の遠赤外線透過性組成物）を、基板に適用して組成物層を形成する工程を経て製造できる。また、必要に応じて、組成物層を乾燥する工程、組成物層を硬化する工程、組成物層に対してパターンを形成する工程などを行ってもよい。本発明においては、組成物層を乾燥する工程および組成物層を硬化する工程の少なくとも一方の工程を有することが好ましい。
　形成体は、基板から剥離して用いてもよく、基板に積層された状態で用いてもよい。

　組成物層を形成する工程において、基板への組成物の適用方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９－１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット－特許に見る無限の可能性－、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された特許公報に記載の方法（特に１１５ページ～１３３ページ）や、特開２００３－２６２７１６号公報、特開２００３－１８５８３１号公報、特開２００３－２６１８２７号公報、特開２０１２－１２６８３０号公報、特開２００６－１６９３２５号公報などに記載の方法が挙げられる。

　組成物層を乾燥する工程において、乾燥条件としては、組成物層に含まれる媒質の種類や含有量によって適宜調整することができる。例えば、６０～１５０℃の温度で、３０秒間～１５分間が好ましい。

　組成物層を硬化する工程において、硬化処理としては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、露光処理、加熱処理などが好適に挙げられる。

　露光処理に用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等の紫外線が好ましく（特に好ましくはｉ線）用いられる。照射量（露光量）は、例えば、０．０３～２．５Ｊ／ｃｍ²が好ましく、０．０５～１．０Ｊ／ｃｍ²がより好ましい。
　露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、好ましくは１５体積％以下、より好ましくは５体積％以下、さらに好ましくは実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、好ましくは２２体積％以上、より好ましくは３０体積％以上、さらに好ましくは５０体積％以上）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常１０００Ｗ／ｍ²～１０００００Ｗ／ｍ²（例えば、好ましくは５０００Ｗ／ｍ²以上、より好ましくは１５０００Ｗ／ｍ²以上、更に好ましくは３５０００Ｗ／ｍ²）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１００００Ｗ／ｍ²、酸素濃度３５体積％で照度２００００Ｗ／ｍ²などとすることができる。

　加熱処理における加熱温度は、１００～２６０℃が好ましい。下限は１２０℃以上が好ましく、１６０℃以上がより好ましい。上限は２４０℃以下が好ましく、２２０℃以下がより好ましい。加熱時間は、１～１８０分が好ましい。下限は３分以上が好ましい。上限は１２０分以下が好ましい。加熱装置としては、特に制限はなく、公知の装置の中から、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ドライオーブン、ホットプレート、赤外線ヒーターなどが挙げられる。

　パターンを形成する工程は、フォトリソグラフィ法で組成物層にパターンを形成してもよいし、ドライエッチング法で組成物層にパターンを形成してもよい。

　フォトリソグラフィ法で組成物層にパターンを形成する場合、波長１０μｍにおける屈折率が１．３～５．０である粒子（高屈折率粒子）と媒質とを含む組成物（好ましくは、本発明の遠赤外線透過性組成物）を、基板に適用して組成物層を形成する工程と、組成物層をパターン状に露光する工程と、未露光部を現像除去してパターンを形成する工程とを含む方法などが挙げられる。フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成の場合、上述の組成物は、重合性化合物と、光重合開始剤と、アルカリ可溶性樹脂とを含むことが好ましい。

　組成物層を形成する工程は、上述した方法を用いて行うことができる。
　組成物層をパターン状に露光する工程では、基板上の組成物層に対し、ステッパー等の露光装置を用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光する方法が挙げられる。これにより、露光部分を硬化することができる。

　未露光部を現像除去する工程において、未露光部の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、未露光部の組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが残る。現像液としては、下地の回路などにダメージを起さない、アルカリ現像液が望ましい。現像液の温度は、例えば、２０～３０℃が好ましい。現像時間は、２０～１８０秒が好ましく、２０～９０秒がより好ましい。

　アルカリ現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水等の無機アルカリ類、エチルアミン、ｎ－プロピルアミン等の第一級アミン類、ジエチルアミン、ジ－ｎ－ブチルアミン等の第二級アミン類、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン等の第三級アミン類、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルコールアミン類、ジメチルビス（２－ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラペンチルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘキシルアンモニウムヒドロキシド、テトラオクチルアンモニウムヒドロキシド、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ブチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、メチルトリアミルアンモニウムヒドロキシド、ジブチルジペンチルアンモニウムヒドロキシド等のテトラアルキルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルフェニルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド、トリエチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等の第四級アンモニウム塩、ピロール、ピペリジン等の環状アミン類等のアルカリ剤を含むアルカリ性水溶液を使用することができる。更に、上記アルカリ性水溶液にアルコール類、界面活性剤を適当量添加して使用することもできる。アルカリ現像液のアルカリ剤の濃度は、０．００１～２０質量％が好ましく、０．０１～１０質量％がより好ましく、０．１～１質量％がさらに好ましい。アルカリ現像液のｐＨは、１０．０～１４．０が好ましい。アルカリ現像液のアルカリ剤濃度及びｐＨは、適宜調整して用いることができる。アルカリ現像液は、例えばメタノール、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤等を適量添加して用いてもよい。

　現像後に、更に、加熱や露光を行ってもよい。この態様によれば、膜の硬化をさらに進行して、より強固に硬化した膜を製造できる。

　板状またはレンズ状の形成体は、波長１０μｍにおける屈折率が１．３～５．０である粒子（高屈折率粒子）と媒質とを含む組成物（好ましくは、本発明の遠赤外線透過性組成物）を、公知のセラミックの製造法を用いて製造するができる。具体的には金型プレス成形法、ラバープレス法、射出成形法、スリップキャスト法、押出成形法などが挙げられる。成形条件は、媒質の種類や、用途に応じて適宜調整できる。

　本発明の形成体は、遠赤外線透過フィルタ用の形成体として好ましく用いることができる。具体的には、遠赤外線を利用した検査機器やセンサなどに用いる遠赤外線透過フィルタ、集電センサなどの遠赤外線を利用したセンサなどに用いる遠赤外線透過フィルタ、遠赤外線透過率を測定する際の基板材料などに好ましく用いることができる。また、赤外線カメラや、固体撮像素子に組み込んで用いることもできる。

＜積層体＞
　次に、本発明の積層体について説明する。本発明の積層体は、基板と、基板上に設けられた、上述した本発明の形成体とを有する。

　積層体に用いる基板としては、Ｇｅ基板、Ｓｉ基板、ＺｎＳｅ基板、ＺｎＳ基板、ＣａＦ₂基板、ＩＴＯ基板、Ａｌ₂Ｏ₃基板、ＢａＦ₂基板、カルコゲナイドガラス基板、ダイヤモンド基板、石英基板、ＭｇＦ₂基板、ＬｉＦ基板が好ましく、Ｇｅ基板、Ｓｉ基板、カルコゲナイドガラス基板、ＺｎＳ基板、ＺｎＳｅ基板がより好ましく、Ｇｅ基板が更に好ましい。これらの基板を用いることで、遠赤外線透過性に優れた積層体が得られやすい。積層体に用いる基板は、反射防止層、ハードコート層、バリア層などの機能層が形成されていてもよい。

　本発明の積層体は、形成体の波長１０μｍにおける屈折率ｎ１と、形成体に対して形成体の厚み方向で接する層（以下、他の層ともいう）の波長１０μｍにおける屈折率ｎ２は、以下の関係を満たすことが好ましい。
　（ｎ２）^0.5－１≦ｎ１≦（ｎ２）^0.5＋１
　上記屈折率ｎ１と上記屈折率ｎ２は、以下の関係を満たすことがより好ましい。
　（ｎ２）^0.5－０．５≦ｎ１≦（ｎ２）^0.5＋０．５
　上記屈折率ｎ１と上記屈折率ｎ２は、以下の関係を満たすことがさらに好ましい。
（ｎ２）^0.5－０．１≦ｎ１≦（ｎ２）^0.5＋０．１

　上記屈折率ｎ１と上記屈折率ｎ２が上述の関係を満たすことで、遠赤外線透過性に優れつつ、反射防止性に優れた積層体とすることができる。
　なお、機能層が形成されていない基板上に、直接本発明の形成体が積層されている場合は、基板が他の層に該当する。また、機能層が形成された基板上に本発明の形成体が積層されている場合（すなわち、基板と本発明の形成体との間に機能層が介在している場合は）、本発明の形成体と接する機能層（本発明の形成体直下の機能層）が、他の層に該当する。

　本発明の積層体は、波長１０μｍにおける屈折率ｎ１と、形成体の厚みＴ（単位は、μｍである）との積が、以下の関係を満たすことが好ましい。
　１．５＜Ｔ・ｎ１＜３．５
　上記屈折率ｎ１と上記形成体の厚みＴとの積は、以下の関係を満たすことがより好ましい。
　２．０＜Ｔ・ｎ１＜３．０
　上記屈折率ｎ１と上記形成体の厚みＴとの積は、以下の関係を満たすことがさらに好ましい。
　２．２＜Ｔ・ｎ１＜２．７

　上記屈折率ｎ１と上記形成体の厚みＴとの積が上述の関係を満たすことで、遠赤外線透過性に優れつつ、反射防止性に優れた積層体とすることができる。

　本発明の積層体は、波長１～１４μｍの範囲（好ましくは、波長３～５μｍまたは８～１４μｍの範囲）における遠赤外線を透過させる遠赤外線透過フィルタなどに好ましく用いることができる。具体的には、遠赤外線を利用した検査機器やセンサなどに用いる遠赤外線透過フィルタ、集電センサなどの遠赤外線を利用したセンサなどに用いる遠赤外線透過フィルタ、遠赤外線透過率を測定する際の基板材料などに好ましく用いることができる。また、赤外線カメラや、固体撮像素子に組み込んで用いることもできる。

＜遠赤外線透過フィルタ＞
　本発明の遠赤外線透過フィルタは、本発明の形成体、または、本発明の積層体を有する。
　本発明の遠赤外線透過フィルタは、波長８～１４μｍの範囲における平均屈折率が１．３～５．０であることが好ましい。下限は、１．３５以上が好ましく、１．４以上がより好ましい。上限は、４．５以下が好ましく、４．０以下がより好ましい。
　本発明の遠赤外線透過フィルタは、波長１０μｍにおける屈折率が１．３～５．０であることが好ましい。下限は、１．３５以上が好ましく、１．４以上がより好ましい。上限は、４．５以下が好ましく、４．０以下がより好ましい。
　本発明の遠赤外線透過フィルタは、波長８～１４μｍのすべての範囲において、屈折率が１．３～５．０であることが好ましい。下限は、１．３５以上が好ましく、１．４以上がより好ましい。上限は、４．５以下が好ましく、４．０以下がより好ましい。

　本発明の遠赤外線透過フィルタは、波長８～１４μｍの範囲における平均透過率が、４０～９９％であることが好ましい。下限は、４５％以上が好ましく、５０％以上がより好ましい。上限は、９７％以下が好ましく９５％以下がより好ましい。
　本発明の遠赤外線透過フィルタの波長１０μｍにおける透過率は、４０～９９％であることが好ましい。下限は、４５％以上が好ましく、５０％以上がより好ましい。上限は、９７％以下が好ましく、９５％以下がより好ましい。
　本発明の遠赤外線透過フィルタの波長８～１４μｍのすべての範囲において、平均透過率が、４０～９９％であることが好ましい。下限は、４５％以上が好ましく、５０％以上がより好ましい。上限は、９７％以下が好ましく、９５％以下がより好ましい。

　本発明の遠赤外線透過フィルタは、遠赤外線を利用した検査機器やセンサなどに好ましく用いることができる。例えば、ガス検知センサ、人体検知センサ、非破壊検査センサ、距離測定センサ、生体認証センサ、モーションキャプチャセンサ、温度測定センサ、成分分析センサ、車載用センサなどが挙げられる。

＜固体撮像素子、赤外線カメラ＞
　本発明の固体撮像素子は、本発明の遠赤外線透過フィルタを有する。また、本発明の赤外線カメラは、本発明の遠赤外線透過フィルタを有する。固体撮像素子および赤外線カメラの構成としては、本発明の遠赤外線透過フィルタを有する構成であり、固体撮像素子および赤外線カメラとして機能する構成であれば特に限定はない。
　例えば、固体撮像素子としては、以下の構成が挙げられる。

　基材上に、固体撮像素子の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本発明の硬化膜を有する構成である。また、固体撮像素子において、カラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各色画素を形成する硬化膜が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は各色画素に対して低屈折率であることが好ましい。このような構造を有する撮像装置の例としては、特開２０１２－２２７４７８号公報、特開２０１４－１７９５７７号公報に記載の装置が挙げられる。

　以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されない。なお、特に断りのない限り、「％」および「部」は質量基準である。

＜酸価の測定方法＞
　測定サンプルをテトラヒドロフラン／水＝９／１（質量比）混合溶媒に溶解し、電位差滴定装置（商品名：ＡＴ－５１０、京都電子工業製）を用いて、得られた溶液を、２５℃にて、０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液で中和滴定した。滴定ｐＨ曲線の変曲点を滴定終点として、次式により酸価を算出した。
　Ａ＝５６．１１×Ｖｓ×０．５×ｆ／ｗ
　Ａ：酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
　Ｖｓ：滴定に要した０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液の使用量（ｍＬ）
　ｆ：０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液の力価
　ｗ：測定サンプル質量（ｇ）（固形分換算）

＜重量平均分子量の測定方法＞
　重量平均分子量の測定は、測定装置としてＨＰＣ－８２２０ＧＰＣ（東ソー製）、ガードカラムとしてＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ　ＳｕｐｅｒＨＺ－Ｌ、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺＭ－Ｍ、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ３０００、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ２０００を直結したカラムを用い、カラム温度を４０℃にして、試料濃度０．１質量％のテトラヒドロフラン溶液を１０μＬ注入し、溶出溶媒としてテトラヒドロフランを毎分０．３５ｍＬの流量でフローさせ、ＲＩ（示差屈折率）検出装置にて試料ピークを検出し、標準ポリスチレンを用いて作製した検量線を用いて計算した。

＜粒子の屈折率＞
　粒子の屈折率は、バルク結晶の数値が既知の材料については、公知の数値を用い、バルク結晶の値が知られていない材料については、測定対象粒子を構成する化合物の蒸着膜を形成し、Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製ＩＲ－ＶＡＳＥで測定した値を用いた。

［試験例１］
＜分散液１の調製＞
　循環型分散装置（ビーズミル）として、寿工業株式会社製ウルトラアペックスミルを用い、以下の組成の混合液を分散処理して分散液１を得た。
　（混合液の組成）
　粒子：酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）粒子（三菱マテリアル（株）製、Ｐ４－ＩＴＯ、波長１０μｍにおける屈折率２．８、平均一次粒子径２０ｎｍ）・・・１８部
　樹脂：樹脂Ａ（固形分３０％、溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテル）・・・６．７部
・有機溶剤：シクロヘキサノン・・・７５．３部

　また分散装置は以下の条件で運転した。
・ビーズ径：直径０．０５ｍｍ
・ビーズ充填率：７５体積％
・周速：１０ｍ／秒
・ポンプ供給量：１０ｋｇ／時間
・冷却水：水道水
・ビーズミル環状通路内容積：０．１５Ｌ
・分散処理する混合液量：０．７ｋｇ

　樹脂Ａ：下記構造の樹脂（式中、ｎは１４であり、重量平均分子量は６４００であり、酸価は８０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。樹脂Ａは、特開２００７－２７７５１４号公報の段落０１１４～０１４０および０２６６～０３４８に記載の合成方法に準じて合成した。）

＜分散液２の調製＞
　以下に示す混合液を用いた以外は、分散液１と同様の方法で、分散液２を調製した。
（混合液の組成）
　粒子：Ｇｅ粒子（波長１０μｍにおける屈折率４．０、平均一次粒子径５０ｎｍ）・・・１８部
　樹脂：樹脂Ｂ（固形分３０％、溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテル）・・・６．７部
　有機溶剤：プロピレングリコールメチルエーテルアセテート・・・７５．３部

　樹脂Ｂ：下記構造の樹脂（重量平均分子量２４０００、酸価５３ｍｇＫＯＨ／ｇ）

＜分散液３～１３の調製＞
　粒子および樹脂の種類を以下に変更した以外は、分散液１と同様にして分散液を調製した。

　なお、表に記載の粒子の屈折率の値は、波長１０μｍにおける屈折率の値である。
　ＩＴＯ粒子の平均一次粒子径は２０ｎｍである。
　ＧｅＯ₂粒子の平均一次粒子径は５０ｎｍである。
　Ｓｉ粒子の平均一次粒子径は５０ｎｍである。
　ＺｎＳｅ粒子の平均一次粒子径は５０ｎｍである。
　ＺｎＳ粒子の平均一次粒子径は５０ｎｍである。
　ＣａＦ₂粒子の平均一次粒子径は５０ｎｍである。
　ＭｇＦ₂粒子の平均一次粒子径は５０ｎｍである。
　樹脂Ｃは、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ　１０３（ＢＹＫ　Ｃｈｅｍｉｅ（株）製）を用いた。
　樹脂Ｄは、下記構造の樹脂の３０質量％プロピレングリコールメチルエーテルアセテート溶液を用いた。下記構造の樹脂の重量平均分子量は２３０００である。繰り返し単位に付記した数値はモル比である。

　樹脂Ｅは、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ　１１１（ＢＹＫ　Ｃｈｅｍｉｅ（株）製）を用いた。
　樹脂Ｆには、下記構造の樹脂の４４質量％プロピレングリコールメチルエーテルアセテート溶液を用いた。下記構造の樹脂の重量平均分子量は４００００である。繰り返し単位に付記した数値はモル比である。

＜組成物の調製＞
（実施例１）
　下記の成分を混合して、実施例１の組成物を調製した。
・分散液１・・・２２．５部
・アルカリ可溶性樹脂１（下記構造の樹脂の４４質量％プロピレングリコールメチルエーテルアセテート溶液。下記構造の樹脂の重量平均分子量は５０００である。繰り返し単位に付記した数値はモル比である。）・・・３４．３部

・重合性化合物（アロニックスＭ－５１０、東亞合成（株）製）・・・１０．９部
・光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ０１、ＢＡＳＦ社製）・・・３．２部
・下記界面活性剤１（下記混合物、重量平均分子量＝１４０００、繰り返し単位の割合を示す％は質量％である。）・・・０．０４部

・重合禁止剤（ｐ－メトキシフェノール）・・・０．００５部
・紫外線吸収剤（ＵＶ－５０３、大東化学（株）製）・・・０．４部
・シランカップリング剤（ＫＢＭ－５０２、信越シリコーン（株）製）・・・０．２部
・有機溶剤１（ＰＧＭＥＡ）・・・２８．４部

（実施例２～１３）
　実施例１において、分散液１を、分散液２～１３に変えた以外は実施例１と同様にして組成物を調製した。

（実施例１４）
　実施例１において、分散液１の２２．５部の代わりに、分散液１の１１．２５部と、分散液２の１１．２５部とを使用した以外は実施例１と同様にして組成物を調製した。

（実施例１５）
　実施例２において、アルカリ可溶性樹脂１の１７．１５部を、上記樹脂Ｆの１７．１５部に変えた以外は実施例２と同様にして組成物を調製した。

（実施例１６）
　実施例２において、重合性化合物をアロニックスＭ－５１０（東亞合成（株）製）５．４５部とＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）５．４５部に変えた以外は実施例２と同様にして組成物を調製した。

（実施例１７）
　実施例２において、光重合開始剤をＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）１．２部、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ０３（ＢＡＳＦ社製）１．０部、ＩＲＧＡＣＵＲＥ　３６９（ＢＡＳＦ社製）１．０部に変えた以外は実施例２と同様にして組成物を調製した。

（実施例１８）
　実施例２において、アルカリ可溶性樹脂をアルカリ可溶性樹脂１の１０．１５部と、上記樹脂Ｆの７．０部に変えた以外は実施例２と同様にして組成物を調製した。

＜形成体の作製＞
　各組成物を、加熱処理後の膜厚が１．３５μｍとなるようにＳｉウエハ上にスピンコートし、ホットプレートを用いて、１００℃、１２０秒間で乾燥した後、さらに、２００℃で３００秒間加熱処理を行って、形成体を作製した。

＜形成体の屈折率の測定＞
　測定対象の組成物を、Ｓｉウエハ上に塗布し、２００℃で５分間加熱処理を行い、形成体を形成して測定サンプルを作製した。作製した測定サンプルを、Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製ＩＲ－ＶＡＳＥを用いて波長１．７～３０μｍの屈折率を測定した。

＜形成体の遠赤外線透過率の測定＞
　上述の方法で作製した形成体の遠赤外線透過率を、ＮＩＣＯＬＥＴ６７００ＦＴ－ＩＲ（Ｔｈｅｒｍｏ　Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ製）を使用して測定した。リファレンスとして、基板として用いたＳｉウエハを用いた。結果を表１にまとめて示す。
　波長１０μｍの光の透過率が９０％以上を５、波長１０μｍの光の透過率が９０％未満８０％以上を４、波長１０μｍの光の透過率が８０％未満７０％以上を３、波長１０μｍの光の透過率が７０％未満６０％以上を２、波長１０μｍの光の透過率が６０％未満を１と評価した。

　上記表に示す通り、実施例は、遠赤外線透過率の高い形成体を製造することができた。

［試験例２］
＜実施例１０１＞
　上記実施例１の組成物を、加熱処理後の膜厚が１．３５μｍとなるようにＳｉウエハ上にスピンコートし、ホットプレートを用いて、１００℃、１２０秒間で乾燥した後、さらに、２００℃で３００秒間加熱処理を行って、形成体を作製した。形成体の波長１０μｍにおける屈折率は、１．８５で、Ｓｉウエハの波長１０μｍにおける屈折率は、３．４２であった。
　上記形成体が積層したＳｉウエハについて、ＳｉウエハをＮＩＣＯＬＥＴ６７００ＦＴ－ＩＲ（Ｔｈｅｒｍｏ　Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ製）を使用して、波長１０μｍの光の透過率を測定した。リファレンス測定をＳｉウエハ無しの状態で行うことで、Ｓｉウエハを含めた積層体としての透過率を測定した。

＜実施例１０２＞
　上記実施例２の組成物を、加熱処理後の膜厚が１．２５μｍとなるようにＧｅウエハ上にスピンコートし、ホットプレートを用いて、１００℃、１２０秒間で乾燥した後、さらに、２００℃で３００秒間加熱処理を行って、形成体を作製した。形成体の波長１０μｍにおける屈折率は、２．０８で、Ｇｅウエハの波長１０μｍにおける屈折率は、４．０であった。
　上記形成体が積層したＧｅウエハについて、ＮＩＣＯＬＥＴ６７００ＦＴ－ＩＲ（Ｔｈｅｒｍｏ　Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ製）を使用して、波長１０μｍの光の透過率を測定した。リファレンス測定をＧｅ基板無しの状態で行うことで、Ｇｅ基板を含めた基板としての透過率を測定した。

＜比較例１０１＞
　Ｓｉウエハの波長１０μｍの光の透過率を、ＮＩＣＯＬＥＴ６７００ＦＴ－ＩＲ（Ｔｈｅｒｍｏ　Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ製）を使用して測定した。リファレンス測定を基板無しの状態で行うことで、基板自体の透過率を測定した。

＜比較例１０２＞
Ｇｅウエハの波長１０μｍの光の透過率を、ＮＩＣＯＬＥＴ６７００ＦＴ－ＩＲ（Ｔｈｅｒｍｏ　Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ製）を使用して測定した。リファレンス測定を基板無しの状態で行うことで、基板自体の透過率を測定した。

　上記結果より、実施例は、比較例よりも、波長１０μｍの光の透過率が高く、遠赤外線透過性に優れていた。

［試験例３］
＜実施例２０１＞
　分散液２を射出成型により平板の形成体を製造した。形成体の波長１０μｍにおける屈折率は３．８であった。波長１０μｍの光の透過率は６０％であった。

＜実施例２０２＞
　使用する液を実施例２の組成物に変えた以外は、実施例２０１と同様にして平板の形成体を作製した。形成体の波長１０μｍにおける屈折率は２．１であった。波長１０μｍの光の透過率は７０％であった。

Claims

　波長１０μｍにおける屈折率が１．３～５．０である粒子と、媒質と、を含む遠赤外線透過性組成物。
　前記粒子を、前記遠赤外線透過性組成物の全固形分に対して１５質量％以上含有する、請求項１に記載の遠赤外線透過性組成物。
　前記媒質が、樹脂、硬化性化合物、および溶剤から選ばれる少なくとも１種類を含む、請求項１または２に記載の遠赤外線透過性組成物。
　前記粒子は、Ｇｅ、Ｚｎ、ＳｉおよびＦから選ばれる少なくとも１種類の原子を含む無機粒子である、請求項１～３のいずれか１項に記載の遠赤外線透過性組成物。
　波長１０μｍにおける屈折率が１．３～５．０である粒子を含む形成体。
　波長８～１４μｍの範囲における平均屈折率が１．３～５．０である、請求項５に記載の形成体。
　前記形成体の形状が、膜状、平板状またはレンズ状である、請求項５または６に記載の形成体。
　前記粒子は、Ｇｅ、Ｚｎ、ＳｉおよびＦから選ばれる少なくとも１種類の原子を含む無機粒子である、請求項５～７のいずれか１項に記載の形成体。
　遠赤外線透過フィルタ用である、請求項５～８のいずれか１項に記載の形成体。
　基板と、
　前記基板上に設けられた、請求項５～９のいずれか１項に記載の形成体と、
　を有する積層体。
　前記形成体の波長１０μｍにおける屈折率ｎ１と、前記形成体に対して前記形成体の厚み方向で接する層の波長１０μｍにおける屈折率ｎ２は、以下の関係を満たす、請求項１０に記載の積層体。
　　（ｎ２）^0.5－１≦ｎ１≦（ｎ２）^0.5＋１
　前記形成体の波長１０μｍにおける屈折率ｎ１と、前記形成体の厚みＴとの積が、以下の関係を満たす、請求項１０または１１に記載の積層体；
　１．５＜Ｔ・ｎ１＜３．５
　Ｔの単位は、μｍである。
　遠赤外線透過フィルタ用である、請求項１０～１２のいずれか１項に記載の積層体。
　請求項５～９のいずれか１項に記載の形成体、または、請求項１０～１３のいずれか１項に記載の積層体を有する遠赤外線透過フィルタ。
　請求項１４に記載の遠赤外線透過フィルタを有する固体撮像素子。
　請求項１４に記載の遠赤外線透過フィルタを有する赤外線カメラ。