WO2017163841A1 - ガス濃度計測装置 - Google Patents

ガス濃度計測装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2017163841A1
WO2017163841A1 PCT/JP2017/008798 JP2017008798W WO2017163841A1 WO 2017163841 A1 WO2017163841 A1 WO 2017163841A1 JP 2017008798 W JP2017008798 W JP 2017008798W WO 2017163841 A1 WO2017163841 A1 WO 2017163841A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
gas
measurement
light
measuring device
purge
Prior art date
Application number
PCT/JP2017/008798
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
義典 福井
亮太 小林
横山 哲也
井上 剛
祐介 小田
充泰 岡田
幸造 赤尾
亮一 東
Original Assignee
ヤンマー株式会社
富士電機株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ヤンマー株式会社, 富士電機株式会社 filed Critical ヤンマー株式会社
Priority to KR1020187011588A priority Critical patent/KR102196822B1/ko
Priority to CN201780014818.0A priority patent/CN108780039A/zh
Priority to EP17769886.7A priority patent/EP3435068A1/en
Priority to US16/087,461 priority patent/US10598601B2/en
Publication of WO2017163841A1 publication Critical patent/WO2017163841A1/ja

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/01Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
    • G01N21/03Cuvette constructions
    • G01N21/05Flow-through cuvettes
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/85Investigating moving fluids or granular solids
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/01Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
    • G01N21/03Cuvette constructions
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/01Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
    • G01N21/15Preventing contamination of the components of the optical system or obstruction of the light path
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/31Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
    • G01N21/35Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
    • G01N21/3504Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light for analysing gases, e.g. multi-gas analysis
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/01Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
    • G01N21/03Cuvette constructions
    • G01N21/05Flow-through cuvettes
    • G01N2021/052Tubular type; cavity type; multireflective
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/01Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
    • G01N21/15Preventing contamination of the components of the optical system or obstruction of the light path
    • G01N2021/151Gas blown
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/85Investigating moving fluids or granular solids
    • G01N2021/8578Gaseous flow

Definitions

  • the present invention relates to a gas concentration measuring device for measuring a component concentration in a gas flowing in a pipeline, and particularly to a gas concentration measuring device by light irradiation.
  • a gas concentration measurement device using light has been used to measure various gas components in exhaust gas from combustion engines such as internal combustion engines and incinerators and fuel gas to gas engines such as gas engines and fuel cells. It has been adopted.
  • FTIR Fourier transform infrared spectroscopy
  • FTIR Fourier transform infrared spectrometer
  • TDLAS tunable semiconductor laser light absorption spectroscopy
  • a gas concentration measurement apparatus using the TDLAS method measures the concentration of a measurement target gas by irradiating laser light having a wavelength that matches the absorption spectrum of the measurement target gas and measuring the attenuation of the laser light after transmission. (See Patent Document 1).
  • the gas concentration measuring apparatus based on the TDLAS method prevents contamination and dew condensation of the optical system by blowing a purge gas such as instrument air or nitrogen gas to the measuring optical system.
  • the gas concentration of the measurement target gas is measured based on the following equation (1) based on Lambert-Beer's law. That is, in the measurement of the gas concentration by the TDLAS method, the optical path length (transmitted optical path length) of the laser light that passes through the measurement target is included as a parameter. In order to analyze the gas concentration with high accuracy, it is preferable that the optical path length of the laser light transmitted through the sample gas (region) does not vary. Therefore, it is necessary to make the measurement width through which the measurement target gas flows constant.
  • I1 I0 ⁇ exp ( ⁇ ⁇ N ⁇ L) (1) (I0: laser light intensity before transmission, I1: laser light intensity before transmission, ⁇ : molar extinction coefficient, N: molar concentration of measurement object, L: transmission optical path length)
  • An object of the present invention is to provide a gas concentration measuring device that has been improved by examining the current situation as described above.
  • a light emitting part and a light receiving part are arranged to face each other with a cylindrical measurement pipe interposed therebetween, and irradiation light from the light emitting part is transmitted through the measurement pipe and the light receiving part
  • the measurement pipe is connected to the side wall of the measurement pipe and is arranged at a position facing each other and orthogonal to the flow direction of the measurement target gas, and the measurement pipe extends from the gas supply port to the downstream side in the measurement target gas flow direction. It has a tapered gas inlet that spreads out.
  • the measurement pipe is configured such that the gas outlet provided on the downstream side of the measuring unit has a tapered shape that narrows toward the gas outlet at the downstream end of the measurement target gas flow direction. Also good.
  • the exhaust outlet may be provided on the main path side, or the exhaust outlet may be provided on the bypass path side.
  • the flow rate of the purge gas supplied to the purge gas guide tube is such that the ratio of the cross-sectional area of the measuring portion that becomes the long diameter portion to the cross-sectional area of the gas inlet that becomes the short diameter portion and the measuring pipe It is good also as what is calculated based on the gas flow velocity which flows into a path.
  • a change in the flow rate of the gas flowing into the measurement pipe line may be detected and adjusted to a purge gas flow rate corresponding to the change in the flow rate.
  • inflow of the sample gas into the connecting portion between the purge gas guide pipe and the measurement pipe can be suppressed in the measurement pipe. Therefore, the optical path length when the sample gas in the measurement pipe is irradiated with the laser light can be kept constant, and the reliability of the measured value of the gas concentration can be improved. Moreover, the supply flow rate of the purge gas to the purge gas guide tube can be suppressed. Accordingly, not only can each purge gas supply device be downsized, but also the power and fuel costs for supplying the purge gas can be reduced.
  • the larger the ratio of the cross-sectional area of the long diameter portion to the cross-sectional area of the short diameter portion in the measurement pipe line the more the sample gas can be prevented from entering the purge gas guide pipe.
  • the purge gas flow rate can be easily calculated, and the necessary purge gas flow rate can be set according to the flow rate of the sample gas.
  • FIG. 1 It is a perspective view which shows the structure of the gas concentration measuring apparatus containing a measurement pipe line. It is the schematic which shows the system configuration
  • FIG. 1 is a schematic perspective view showing a configuration of a gas concentration measuring apparatus in the present embodiment
  • FIG. 2 is a schematic view showing a system configuration of a gas concentration measuring apparatus in the present embodiment
  • FIG. It is sectional drawing which shows the structure of the gas concentration measuring apparatus in a form.
  • the gas concentration measuring apparatus 1 of the present embodiment irradiates a measurement pipe (measurement cell) 2 through which a sample gas containing a measurement target gas flows, and the measurement pipe 2 with laser light.
  • a light emitting unit 3 and a light receiving unit 4 that receives the laser light transmitted through the measurement pipe 2 are provided.
  • the measurement pipe line 2 is installed between a gas supply pipe line 5 through which the sample gas flows out into the measurement pipe line 2 and a gas discharge pipe line 6 through which the sample gas flows in from the measurement pipe line 2. That is, the gas supply pipeline 5 is connected to the exhaust gas inlet side of the measurement pipeline 2, while the gas discharge pipeline 6 is connected to the exhaust gas outlet side of the measurement pipeline 2.
  • sample gas for example, exhaust gas from the combustion engine or fuel gas to the gas engine is supplied, and as the measurement target gas, ammonia, hydrogen halide, nitrogen oxide, sulfur oxide, carbon monoxide, carbon dioxide
  • concentration of a gas having the characteristic of absorbing light in the infrared region, such as oxygen, water, hydrocarbons, and hydrogen sulfide is measured.
  • the light emitting unit 3 and the light receiving unit 4 are provided at positions symmetrical with respect to the measurement pipe 2, and the optical axis from the light emitting unit 3 to the light receiving unit 4 flows in the flow direction of the sample gas flowing through the measurement pipe 2.
  • Orthogonal to The measurement pipe line 2 includes a main pipe 7 through which sample gas flows.
  • An incident tube (branch tube) 8 that guides the laser light from the light emitting unit 3 into the main tube 7 of the measurement pipe 2 is provided on the side wall of the main tube 7 so as to face the installation position of the light emitting unit 3.
  • an emission tube (branch tube) 9 that guides the laser light transmitted through the main tube 7 to the light receiving unit 4 is provided so as to face the installation position of the light emitting unit 3. That is, each of the incident tube 8 and the emission tube 9 is provided at a position where the longitudinal direction is the radial direction of the main tube 7 and is symmetric about the axis of the main tube 7.
  • the light emitting unit 3 includes a laser diode (not shown) that emits laser light, and is incident on an optical axis adjusting unit 10 that includes an optical system that adjusts the optical axis of the emitted laser light on the laser light emitting side.
  • the sides are connected.
  • the exit side of the optical axis adjustment unit 10 is connected to the incident tube 8 of the measurement pipe line 2 via a purge gas guide tube 11 for flowing a purge gas sprayed onto the optical axis adjustment unit 10. That is, the light emitting unit 3 is connected to the incident tube 8 of the measurement line 2 through the optical axis adjusting unit 10 and the purge gas guide tube 11.
  • the light receiving unit 4 includes a photodiode (not shown) that receives laser light and performs photoelectric conversion, and an optical axis that includes an optical system that adjusts the optical axis of the incident laser light on the laser light incident side.
  • the exit side of the adjustment unit 12 is connected.
  • the incident side of the optical axis adjustment unit 12 is connected to the emission pipe 9 of the measurement pipe line 2 via a purge gas guide pipe 13 for flowing a purge gas sprayed onto the optical axis adjustment unit 12. That is, the light receiving unit 4 is connected to the emission pipe 9 of the measurement pipe line 2 through the optical axis adjustment unit 12 and the purge gas guide pipe 13.
  • a purge gas such as instrument air or nitrogen gas is adjusted in flow rate by a purge flow rate adjusting unit 16 connected to a purge gas source 15 and is purged from a gas inlet port 19 or 20 through a branched gas pipe line 17 or 18. 11 and 13. That is, the gas introduction ports 19 and 20 of the purge gas guide pipes 11 and 13 and the purge flow rate adjusting unit 16 are connected by the gas pipe lines 17 and 18.
  • Gas flow meters 30 and 31 are provided on the gas pipelines 17 and 18, respectively.
  • the gas flow meters 30 and 31 measure the supply flow rate of the purge gas to the purge gas guide tubes 11 and 13, and output the measurement signal to the measurement control unit 32. Further, the purge flow rate adjustment unit 16 determines the purge gas supply flow rate based on a command signal from the measurement control unit 32.
  • the measurement control unit 32 sets the purge gas supply flow rate based on the flow rate of the sample gas flowing in the main pipe 7 of the measurement pipeline 2 and outputs a command signal to the purge flow rate adjustment unit 16 to notify the set flow rate. To do.
  • the measurement control unit 32 gives a command signal to the light emitting unit 3 to irradiate laser light having a wavelength that matches the absorption spectrum of the measurement target gas (laser light in the near infrared wavelength region). The amount of received laser light is received as a measurement signal.
  • the measurement control unit 32 When the measurement control unit 32 receives the measurement signal from the light receiving unit 4, the measurement control unit 32 confirms the amount of transmitted light confirmed from the measurement signal, and based on the above equation (1) by the TDLAS method, the measurement target gas in the sample gas Calculate the concentration.
  • the measurement control unit 32 detects a change in the flow rate of the sample gas and adjusts the purge gas flow rate according to the change in the flow rate.
  • the measurement pipe line 2 includes a gas inlet portion 21 having an inlet through which sample gas flows, a gas outlet portion 22 having a discharge port for discharging the sample gas, and the gas inlet portion 21 and the gas outlet portion 22. And a cylindrical measuring unit 23 provided. That is, the main pipe 7 is constituted by the gas inlet part 21, the gas outlet part 22 and the measuring part 23, and the incident pipe 8 and the outgoing pipe 9 are projected from the side wall of the measuring part 23.
  • the gas inlet 21 is connected to the gas supply pipe 5 and has a tapered shape in which the inner diameter increases toward the measuring unit 23.
  • the gas outlet portion 22 is connected to the gas discharge pipe 6 and has a tapered shape in which the inner diameter increases toward the measuring portion 23.
  • the inner diameter at the measuring section 23 is larger than the inner diameter of each of the inlet of the gas inlet section 21 and the outlet of the gas outlet section 22, and the main pipe 7 is connected to the gas supply pipe 5 and the gas. It has a bottle shape with narrowed both ends connected to each of the discharge pipes 6.
  • the inner diameter of the measurement unit 23 serving as the measurement position of the measurement pipe line 2 is larger than the inner diameters of the gas supply pipe line 5 and the gas discharge pipe line 6.
  • the measurement pipe line 2 has a tapered shape (conical shape) that reduces the cross-sectional area of the gas inlet 21 toward the upstream side of the sample gas flow. 8 and the exit tube 9 are prevented from flowing in.
  • the sample gas tends to flow through the central part of the measuring unit 23, and is downstream of the gas inlet 21.
  • the distribution range of the sample gas is widened toward.
  • the entrance tube 8 and the exit tube 9 are installed upstream of the position where the distribution width of the sample gas reaches the inner wall of the measurement unit 23. Thereby, the amount of sample gas flowing into the entrance tube 8 and the exit tube 9 can be reduced, and the distribution width of the sample gas at the installation positions of the entrance tube 8 and the exit tube 9 can be made constant.
  • the measurement control unit 32 receives the measurement signal of the flow rate Sf of the sample gas flowing through the gas supply pipe 5 and sets the purge gas supply flow rate Pf based on the following equation (2).
  • Pf (K1 ⁇ Sf) / (R2 2 / R1 2 ) 2 (2) (K1: Constant)
  • the light emitting unit 3 and the light receiving unit 4 are arranged to face each other with the cylindrical measuring pipe 2 interposed therebetween, and the irradiation light from the light emitting unit 3 is measured by the measuring tube.
  • the concentration of the measurement target gas passing through the measurement pipe 2 is measured by being transmitted through the path 2 and received by the light receiving unit 4.
  • Purge gas guide tubes 11 and 13 for introducing purge gas into the optical system in the light emitting unit 3 and the light receiving unit 4 are connected to the side wall of the measurement pipe 2.
  • the measurement pipe line 2 has a tapered gas inlet 21 that extends from the gas supply port toward the downstream side.
  • the purge gas guide pipes 11 and 13 are arranged at a position downstream of the gas inlet 21 and facing each other and orthogonal to the flow direction of the sample gas (longitudinal direction of the measurement pipe line 2).
  • the inflow of the sample gas to the connecting portion between the purge gas guide pipes 11 and 13 and the measurement pipe line 2 can be suppressed in the measurement pipe line 2. Therefore, the optical path length when the sample gas in the measurement pipe line 2 is irradiated with laser light can be kept constant, and the reliability of the measured value of the gas concentration can be improved. Further, the supply flow rate of the purge gas to the purge gas guide tubes 11 and 13 can be suppressed. Accordingly, not only can each apparatus for supplying purge gas be miniaturized, but also the power or fuel cost for driving the apparatus can be reduced.
  • the measurement section 23 connected to the purge gas guide pipes 11 and 13 has a cylindrical shape having an inner diameter that is the same as the maximum inner diameter of the gas inlet section 21.
  • the measurement pipe line 2 has a gas outlet portion 22 at the downstream end that is tapered from the gas discharge port toward the upstream side.
  • the gas outlet portion 22 provided on the downstream side of the measuring portion 23 has a tapered shape that narrows toward the gas outlet at the downstream end. That is, the measurement pipe line 2 has a bottle shape in which both ends are tapered and narrowed.
  • the flow rate of the purge gas supplied to the purge gas guide pipes 11 and 13 is the ratio of the cross-sectional area of the measuring portion 23 that is the long diameter portion to the cross-sectional area of the gas inlet that is the short diameter portion, and the flow rate of the sample gas that flows through the measuring portion 23 Is calculated based on At this time, the larger the ratio of the cross-sectional area of the long diameter portion to the cross-sectional area of the short diameter portion in the measurement pipeline 2, the more the sample gas can be prevented from entering the purge gas guide tubes 11 and 13. Thereby, the purge gas flow rate can be easily calculated, and the necessary purge gas flow rate can be set according to the flow rate of the sample gas.
  • each part is not limited to the illustrated embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
  • the purge gas guide pipes 11 and 13 may be omitted as the purge gas is supplied to the incident pipe 8 and the outgoing pipe 9 of the measurement pipe 2.
  • the measurement part 23 of the measurement pipe line 2 was made into the cylindrical shape, it is not restricted to a cylindrical shape, For example, it is good also as a polygonal cylinder shape.
  • Gas concentration measuring device Measurement pipeline (measurement cell) 3 Light Emitting Unit 4 Light Receiving Unit 5 Gas Supply Pipe Line 6 Gas Discharge Pipe Line 7 Main Pipe 8 Incident Pipe (Branch Pipe) 9 Outlet tube (branch tube) DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Optical axis adjustment part 11 Purge gas guide pipe 12 Optical axis adjustment part 13 Purge gas guide pipe 15 Purge gas source 16 Purge flow rate adjustment part 17 Gas pipe line 18 Gas pipe line 19 Gas inlet 20 Gas inlet 21 Gas inlet 22 Gas outlet 23 Measurement unit 30 Gas flow meter 31 Gas flow meter 32 Measurement control unit

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

本願発明に係るガス濃度計測装置1は、筒型の計測管路2を挟んで発光部3及び受光部4が対向して配置され、発光部3からの照射光が計測管路2内を透過して受光部4で受光されることで、計測管路2内を通過する計測対象ガスの濃度を測定する。発光部3及び受光部4における光学系にパージガスを導入させるパージガスガイド管11,13が計測管路2の側壁に連結される。計測管路2は、ガス供給口から下流側に向かって広がるテーパー状のガス入口部21を有している。

Description

ガス濃度計測装置
 本願発明は、管路内を流れるガス中における成分濃度を計測するためのガス濃度計測装置に関するもので、特に、光照射によるガス濃度計測装置に関する。
 従来より、内燃機関や焼却炉などの燃焼機関からの排気ガスや、ガスエンジンや燃料電池などのガス機関への燃料ガスにおける各種ガス成分を測定するために、光を利用するガス濃度計測装置が採用されている。そして、光照射によるガス濃度計測装置による測定方式として、干渉させた赤外光の強度分布を利用したフーリエ変換赤外分光方式(FTIR:Fourier transform infrared spectrometer)や、照射したレーザ光の光吸収を利用した波長可変半導体レーザ光吸収分光法(TDLAS:(tunable diode laserabsorption spectroscopy)などが知られている。
 TDLAS法を用いたガス濃度計測装置は、計測対象ガスの吸収スペクトルに一致した波長のレーザ光を照射し、透過後のレーザ光の減衰量を測定することで、計測対象ガスの濃度を計測する(特許文献1参照)。TDLAS法によるガス濃度計測装置は、測定用光学系に対して、計装空気や窒素ガスなどのパージガスを吹き付けることにより、光学系の汚れや結露を防いでいる。
特許第5606056号公報
 TDLAS法では、Lambert-Beerの法則に基づく、以下の(1)式に基づいて、計測対象ガスのガス濃度を測定する。すなわち、TDLAS法によるガス濃度の測定においては、測定対象を透過するレーザ光の光路長(透過光路長)をパラメータとして含む。ガス濃度を精度よく分析するには、サンプルガス(領域)中を透過するレーザ光の光路長が変動しないことが好ましい。そのため、計測対象ガスが流れる測定幅を一定にする必要がある。
 I1=I0×exp(-ε×N×L) … (1)
(I0:透過前のレーザ光強度、I1:透過前のレーザ光強度、ε:モル吸光係数、N:測定対象のモル濃度、L:透過光路長)
 しかしながら、従来では、計測対象ガスが流れる管路(測定セル)を挟むようにして、ガス濃度計測装置の受発光部それぞれを設置させた場合、管路を流れるサンプルガスがガス濃度計測装置側に侵入する。ガス濃度計測装置の受発光部の光学系が汚損しないように、パージガスを導入するガイド管を設け、パージガスを流してサンプルガスの侵入を防いでいるが、パージガス流量が適切でない場合は、上述した測定幅(透過光路長L)が不安定な値となり、測定値の信頼性が低くなる。
 本願発明は、上記のような現状を検討して改善を施したガス濃度計測装置を提供することを目的としている。
 本願発明のガス濃度計測装置は、筒型の計測管路を挟んで発光部及び受光部が対向して配置され、前記発光部からの照射光が前記計測管路内を透過して前記受光部で受光されることで、前記計測管路内を通過する計測対象ガスの濃度を測定するガス濃度計測装置であって、前記発光部及び前記受光部における光学系にパージガスを導入させるパージガスガイド管が、前記計測管路の側壁に連結して、互いに対向する位置で計測対象ガスの流れ方向に直交させて配置されており、前記計測管路がガス供給口から計測対象ガス流れ方向下流側に向かって広がるテーパー状のガス入口部を有しているというものである。
 上記ガス濃度計測装置において、前記計測管路は、前記計測部の下流側に設けたガス出口部を、計測対象ガス流れ方向下流側端部のガス排出口に向かって狭まるテーパー状としているものとしてもよい。
 また、上記ガス濃度計測装置において、前記排気流出口がメイン経路側に設けられているものとしてもよいし、前記排気流出口がバイパス経路側に設けられているものとしてもよい。
 また、上記ガス濃度計測装置において、前記パージガスガイド管に供給されるパージガスの流量は、短径部分となるガス流入口の断面積に対する長径部分となる前記計測部の断面積の比率と前記計測管路に流入するガス流速とに基づいて算出されるものとしてもよい。
 また、上記ガス濃度計測装置において、前記計測管路に流入するガスの流速変化を検出し、この流速変化に応じたパージガス流量に調整するものとしてもよい。
 本願発明によると、計測管路内において、パージガスガイド管と計測管路との連結部へのサンプルガスの流入を抑制できる。従って、計測管路中のサンプルガスにレーザ光を照射した際の光路長を一定に維持し、ガス濃度の計測値の信頼性を向上できる。また、パージガスガイド管へのパージガスの供給流量を抑制できる。従って、パージガス供給用の各装置を小型化できるだけでなく、パージガス供給の為の電力、燃料コストを低減できる。
 また、本願発明によると、計測管路における短径部分の断面積に対する長径部分の断面積の比率が大きいほど、パージガスガイド管へのサンプルガスの侵入を抑制できる。これにより、パージガス流量を容易に算出でき、サンプルガスの流速に応じて必要なパージガス流量を設定できる。
計測管路を含むガス濃度計測装置の構成を示す斜視図である。 ガス濃度計測装置のシステム構成を示す概略図である。 ガス濃度計測装置の断面図である。 計測管路の拡大断面図である。
 以下に、本願発明におけるガス濃度計測装置について、図面を参照して説明する。図1は、本実施形態におけるガス濃度計測装置の構成を示す概略斜視図であり、図2は、本実施形態におけるガス濃度計測装置のシステム構成を示す概略図であり、図3は、本実施形態におけるガス濃度計測装置の構成を示す断面図である。
 図1~図3に示すように、本実施形態のガス濃度計測装置1は、計測対象ガスを含むサンプルガスが流れる計測管路(計測セル)2と、計測管路2にレーザ光を照射する発光部3と、計測管路2を透過したレーザ光を受光する受光部4とを備える。計測管路2は、サンプルガスを計測管路2に流出するガス供給管路5と、計測管路2からサンプルガスが流入するガス排出管路6との間に設置される。すなわち、計測管路2の排気ガス入口側にガス供給管路5が連結される一方、計測管路2の排気ガス出口側にガス排出管路6が連結される。なお、サンプルガスとして、例えば、燃焼機関からの排気ガスやガス機関への燃料ガスが供給され、計測対象ガスとして、アンモニア、ハロゲン化水素、窒素酸化物、硫黄酸化物、一酸化炭素、二酸化炭素、酸素、水、炭化水素、硫化水素など赤外領域の光を吸収する特性を有する気体の濃度が測定される。
 発光部3及び受光部4は、計測管路2を挟んで対称となる位置に設けられており、発光部3から受光部4への光軸が、計測管路2を流れるサンプルガスの流れ方向に対して直交する。計測管路2は、サンプルガスが流れる主管7を備えている。そして、主管7側壁には、発光部3からのレーザ光を計測管路2の主管7内に誘導する入射管(枝管)8が、発光部3の設置位置に相対するようにして設けられるとともに、主管7内を透過したレーザ光を受光部4に誘導する出射管(枝管)9が、発光部3の設置位置に相対するようにして設けられる。即ち、入射管8及び出射管9はそれぞれ、その長手方向を主管7の径方向とするとともに、主管7の軸心を中心として対称となる位置に設けられている。
 発光部3は、レーザ光を出射するレーザダイオード(不図示)を具備しており、レーザ光出射側に、出射したレーザ光の光軸を調整する光学系を備えた光軸調整部10の入射側が連結されている。そして、光軸調整部10の出射側が、光軸調整部10に吹き付けるパージガスを流すパージガスガイド管11を介して、計測管路2の入射管8と連結している。すなわち、発光部3は、光軸調整部10及びパージガスガイド管11を介して、計測管路2の入射管8と連結している。
 受光部4は、レーザ光を受光して光電変換するフォトダイオード(不図示)を具備しており、レーザ光入射側に、入射されるレーザ光の光軸を調整する光学系を備えた光軸調整部12の出射側が連結されている。そして、光軸調整部12の入射側が、光軸調整部12に吹き付けるパージガスを流すパージガスガイド管13を介して、計測管路2の出射管9と連結している。すなわち、受光部4は、光軸調整部12及びパージガスガイド管13を介して、計測管路2の出射管9と連結している。
 計装空気や窒素ガスなどのパージガスは、パージガス源15と接続されたパージ流量調整部16で流量が調整され、分岐されたガス管路17,18を通じて、ガス導入口19,20よりパージガスガイド管11,13内に供給される。すなわち、パージガスガイド管11,13のガス導入口19,20それぞれとパージ流量調整部16とをガス管路17,18で接続している。
 ガス管路17,18上にはそれぞれ、ガス流量計30,31が設けられている。ガス流量計30,31が、パージガスガイド管11,13へのパージガスの供給流量を測定して、その測定信号を計測制御部32に出力する。また、パージ流量調整部16は、計測制御部32からの指令信号に基づいて、パージガスの供給流量を決定する。
 計測制御部32は、計測管路2の主管7内を流れるサンプルガスの流速に基づいて、パージガスの供給流量を設定し、設定した流速を通知するべく、パージ流量調整部16に指令信号を出力する。また、計測制御部32は、発光部3に指令信号を与えて、計測対象ガスの吸収スペクトルに一致した波長のレーザ光(近赤外の波長域のレーザ光)を照射させ、受光部4で受光したレーザ光の光量を測定信号として受ける。計測制御部32は、受光部4からの測定信号を受けると、測定信号より確認された透過光量を確認し、TDLAS法による上述の(1)式に基づいて、サンプルガス中における計測対象ガスの濃度を算出する。また、計測制御部32は、サンプルガスの流速変化を検出し、この流速変化に応じたパージガス流量に調整する。
 計測管路2は、サンプルガスが流入する流入口を備えたガス入口部21と、サンプルガスを排出する排出口を備えたガス出口部22と、ガス入口部21及びガス出口部22の間に設けられた筒状の計測部23とを備える。すなわち、主管7が、ガス入口部21、ガス出口部22及び計測部23によって構成されており、入射管8及び出射管9を計測部23の側壁から突設させている。
 ガス入口部21は、ガス供給管路5と連結しており、計測部23に向かって内径が広がるテーパー状に構成されている。一方、ガス出口部22は、ガス排出管路6と連結しており、計測部23に向かって内径が広がるテーパー状に構成されている。計測管路2の主管7において、計測部23での内径が、ガス入口部21の流入口及びガス出口部22の排出口それぞれの内径よりも大きく、主管7は、ガス供給管路5及びガス排出管路6それぞれと連結する両端を狭めた徳利形状を有する。すなわち、計測管路2の計測位置となる計測部23の内径が、ガス供給管路5及びガス排出管路6それぞれの内径よりも大きい。計測管路2は、ガス入口部21をサンプルガス流れ上流側に向かうに連れて断面積を縮小するような先窄まりのテーパー状(錐形状)とすることで、計測部23において、入射管8及び出射管9へのサンプルガスの流入を抑制する。
 図3に示すように、計測部23の内径R2がガス入口部21の流入口の内径R1より大きいことから、計測部23の中心部をサンプルガスが流れようとし、ガス入口部21より下流側に向かって、サンプルガスの分布幅が広がる。このとき、サンプルガスの分布幅が計測部23の内壁に達する位置よりも上流側に、入射管8及び出射管9を設置している。これにより、サンプルガスの入射管8及び出射管9への流入量を低減でき、入射管8及び出射管9の設置位置におけるサンプルガスの分布幅を一定とできる。
 また、入射管8及び出射管9へのサンプルガスの流入を抑制できることから、パージガスガイド管11,13へのパージガスの供給流量を少量に低減できる。計測制御部32は、ガス供給管路5を流れるサンプルガスの流速Sfの測定信号を受けて、以下の(2)式に基づいて、パージガスの供給流量Pfを設定する。
Pf=(K1×Sf)/(R2/R1 …(2)
(K1:定数)
 上述したように、本実施形態のガス濃度計測装置1は、筒型の計測管路2を挟んで発光部3及び受光部4が対向して配置され、発光部3からの照射光が計測管路2内を透過して受光部4で受光されることで、計測管路2内を通過する計測対象ガスの濃度を測定する。発光部3及び受光部4における光学系にパージガスを導入させるパージガスガイド管11,13が計測管路2の側壁に連結される。計測管路2は、ガス供給口から下流側に向かって広がるテーパー状のガス入口部21を有している。パージガスガイド管11,13は、ガス入口部21より下流側であって互いに対向する位置で、サンプルガスの流れ方向(計測管路2の長手方向)に直交させて配置される。
 これにより、計測管路2内において、パージガスガイド管11,13と計測管路2との連結部へのサンプルガスの流入を抑制できる。従って、計測管路2中のサンプルガスにレーザ光を照射した際の光路長を一定に維持し、ガス濃度の計測値の信頼性を向上できる。また、パージガスガイド管11,13へのパージガスの供給流量を抑制できる。従って、パージガス供給用の各装置を小型化できるだけでなく、装置駆動のための電力又は燃料コストを低減できる。
 計測管路2において、パージガスガイド管11,13と連結される計測部23が、ガス入口部21内径の最大値と同一径の内径で構成された筒形状を有する。また、計測管路2は、下流側端部のガス出口部22を、ガス排出口から上流側に向かって広がるテーパー状としている。換言すると、計測部23の下流側に設けたガス出口部22を、下流側端部のガス排出口に向かって狭まるテーパー状としている。すなわち、計測管路2は、両端をテーパー状で狭めた徳利形状を有する。
 パージガスガイド管11,13に供給されるパージガスの流量は、短径部分となるガス流入口の断面積に対する長径部分となる計測部23の断面積の比率と、計測部23を流れるサンプルガスの流速に基づいて算出される。このとき、計測管路2における短径部分の断面積に対する長径部分の断面積の比率が大きいほど、パージガスガイド管11,13へのサンプルガスの侵入を抑制できる。これにより、パージガス流量を容易に算出でき、サンプルガスの流速に応じて必要なパージガス流量を設定できる。
 なお、各部の構成は図示の実施形態に限定されるものではなく、本願発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変更が可能である。例えば、計測管路2の入射管8及び出射管9それぞれにパージガスを供給するものとして、パージガスガイド管11,13を省略した構成としても構わない。また、計測管路2の計測部23を円筒形状としたが、円筒形状に限らず、例えば、多角筒形状としても構わない。
1 ガス濃度計測装置
2 計測管路(計測セル)
3 発光部
4 受光部
5 ガス供給管路
6 ガス排出管路
7 主管
8 入射管(枝管)
9 出射管(枝管)
10 光軸調整部
11 パージガスガイド管
12 光軸調整部
13 パージガスガイド管
15 パージガス源
16 パージ流量調整部
17 ガス管路
18 ガス管路
19 ガス導入口
20 ガス導入口
21 ガス入口部
22 ガス出口部
23 計測部
30 ガス流量計
31 ガス流量計
32 計測制御部

Claims (5)

  1.  筒型の計測管路を挟んで発光部及び受光部が対向して配置され、前記発光部からの照射光が前記計測管路内を透過して前記受光部で受光されることで、前記計測管路内を通過する計測対象ガスの濃度を測定するガス濃度計測装置であって、
     前記発光部及び前記受光部における光学系にパージガスを導入させるパージガスガイド管が、前記計測管路の側壁に連結して、互いに対向する位置で計測対象ガスの流れ方向に直交させて配置されており、
     前記計測管路がガス供給口から計測対象ガス流れ方向下流側に向かって広がるテーパー状のガス入口部を有していることを特徴とするガス濃度計測装置。
  2.  前記計測管路は、前記ガス入口部より計測対象ガス流れ方向下流側に、内径を一定として筒状の計測部を備えており、該計測部に前記パージガスガイド管が設置されることを特徴とする請求項1に記載のガス濃度計測装置。
  3.  前記計測管路は、前記計測部の下流側に設けたガス出口部を、計測対象ガス流れ方向下流側端部のガス排出口に向かって狭まるテーパー状としていることを特徴とする請求項2に記載のガス濃度計測装置。
  4.  前記パージガスガイド管に供給されるパージガスの流量は、短径部分となるガス流入口の断面積に対する長径部分となる前記計測部の断面積の比率と前記計測管路に流入するガス流速とに基づいて算出されることを特徴とする請求項2に記載のガス濃度計測装置。
  5.  前記計測管路に流入するガスの流速変化を検出し、この流速変化に応じたパージガス流量に調整する請求項4に記載のガス濃度計測装置。
PCT/JP2017/008798 2016-03-24 2017-03-06 ガス濃度計測装置 WO2017163841A1 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020187011588A KR102196822B1 (ko) 2016-03-24 2017-03-06 가스 농도 계측 장치
CN201780014818.0A CN108780039A (zh) 2016-03-24 2017-03-06 气体浓度测量装置
EP17769886.7A EP3435068A1 (en) 2016-03-24 2017-03-06 Gas concentration measurement device
US16/087,461 US10598601B2 (en) 2016-03-24 2017-03-06 Gas concentration measuring device

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016060038A JP6947471B2 (ja) 2016-03-24 2016-03-24 ガス濃度計測装置
JP2016-060038 2016-03-24

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2017163841A1 true WO2017163841A1 (ja) 2017-09-28

Family

ID=59900169

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2017/008798 WO2017163841A1 (ja) 2016-03-24 2017-03-06 ガス濃度計測装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10598601B2 (ja)
EP (1) EP3435068A1 (ja)
JP (1) JP6947471B2 (ja)
KR (1) KR102196822B1 (ja)
CN (1) CN108780039A (ja)
WO (1) WO2017163841A1 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6924665B2 (ja) * 2017-10-04 2021-08-25 東邦チタニウム株式会社 ガス濃度測定システム
KR102074727B1 (ko) * 2017-12-18 2020-02-07 주식회사 포스코 가스 농도 측정 장치
KR102113028B1 (ko) * 2018-10-05 2020-05-20 재단법인 포항산업과학연구원 가스 분석 장치
KR102222298B1 (ko) * 2019-01-03 2021-03-04 주식회사 리트코 미립자 측정이 가능한 시스템
CN114963003A (zh) * 2021-02-19 2022-08-30 中国科学院微电子研究所 一种用于半导体制造的供气系统及供气方法
CN113654757B (zh) * 2021-08-27 2022-10-28 中国科学技术大学 一种模拟喷管中高超声速凝结过程的装置及诊断方法
KR102530591B1 (ko) * 2022-12-06 2023-05-09 주식회사 사람과안전건설화재에너지연구원 화재 시험 장치

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS566056B2 (ja) 1973-02-12 1981-02-09
JPS63111654U (ja) * 1987-01-12 1988-07-18
JPH03154852A (ja) * 1989-11-13 1991-07-02 Nippon Soken Inc スモーク濃度測定装置
JPH053988U (ja) * 1991-06-26 1993-01-22 株式会社堀場製作所 ガス分析計用試料セル
JP2001083075A (ja) * 1999-07-15 2001-03-30 Nippon Steel Corp 流通性に優れる赤外線吸収分析計用測定セル及び赤外線吸収分析装置
JP2007285721A (ja) * 2006-04-12 2007-11-01 Toyota Motor Corp 校正装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0370248A1 (de) * 1988-11-22 1990-05-30 Robert Bosch Gmbh Vorrichtung zur Messung der Partikelbelastung im Rauch- oder Abgas eines Verbrennungsprozesses
GB2396023A (en) * 2002-10-05 2004-06-09 Oxford Lasers Ltd Imaging system with purging device to prevent adhesion of particles
DE10309604A1 (de) * 2003-03-05 2004-09-23 Siemens Ag Absorptionsgas-Sensor
DE102004028420B3 (de) * 2004-06-04 2006-02-09 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung und Verfahren zur optischen Detektion von in Abgasen chemischer Prozesse enthaltenen Stoffen
US7803338B2 (en) * 2005-06-21 2010-09-28 Exonmobil Research And Engineering Company Method and apparatus for combination catalyst for reduction of NOx in combustion products
CN102062726B (zh) * 2009-11-11 2012-04-11 中国科学院半导体研究所 汽车尾气氮氧化物监测光纤传感器
JP5606056B2 (ja) * 2009-12-17 2014-10-15 三菱重工業株式会社 ガス計測セル及びこれを用いたガス濃度計測装置
JP5523908B2 (ja) * 2010-04-13 2014-06-18 三菱重工業株式会社 流量測定装置及び流速測定装置
CN201697876U (zh) * 2010-07-03 2011-01-05 聚光科技(杭州)股份有限公司 气体的在位测量装置
EP2610607B1 (en) * 2011-12-27 2019-10-30 HORIBA, Ltd. Gas analyzing apparatus
JP6210195B2 (ja) * 2013-06-12 2017-10-11 富士電機株式会社 レーザ式酸素ガス分析計

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS566056B2 (ja) 1973-02-12 1981-02-09
JPS63111654U (ja) * 1987-01-12 1988-07-18
JPH03154852A (ja) * 1989-11-13 1991-07-02 Nippon Soken Inc スモーク濃度測定装置
JPH053988U (ja) * 1991-06-26 1993-01-22 株式会社堀場製作所 ガス分析計用試料セル
JP2001083075A (ja) * 1999-07-15 2001-03-30 Nippon Steel Corp 流通性に優れる赤外線吸収分析計用測定セル及び赤外線吸収分析装置
JP2007285721A (ja) * 2006-04-12 2007-11-01 Toyota Motor Corp 校正装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP3435068A4 *

Also Published As

Publication number Publication date
KR20180059513A (ko) 2018-06-04
JP2017173152A (ja) 2017-09-28
EP3435068A4 (en) 2019-01-30
US20190094148A1 (en) 2019-03-28
JP6947471B2 (ja) 2021-10-13
CN108780039A (zh) 2018-11-09
KR102196822B1 (ko) 2020-12-30
EP3435068A1 (en) 2019-01-30
US10598601B2 (en) 2020-03-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2017163841A1 (ja) ガス濃度計測装置
JP5606056B2 (ja) ガス計測セル及びこれを用いたガス濃度計測装置
US9243939B2 (en) Flow volume measurement device and flow velocity measurement device
US7936460B2 (en) Sensor unit in exhaust gas analyzer
WO2011161839A1 (ja) アンモニア化合物濃度計測装置及びアンモニア化合物濃度計測方法
US20160348561A1 (en) Analyzing apparatus and exhaust gas treating system
US20120236323A1 (en) Method for Determining the Optical Measurement Path Length in a Duct Gas Monitoring System
US9121793B2 (en) Semi-open-path gas analysis systems and methods
JP2009270917A (ja) レーザ式ガス分析計の取付構造
KR101760259B1 (ko) 추출 암모니아 연속 모니터링 시스템
JP2012137429A (ja) レーザ計測装置
JP2013101067A (ja) ガス濃度測定装置
JP5422493B2 (ja) ガス発熱量計測装置及びガス発熱量計測方法
JP5038923B2 (ja) 排ガス分析装置
US20150077754A1 (en) Process interface of a process gas analyzer operating by the transmitted light method
JP2003207448A (ja) ガス分析装置
WO2013005332A1 (ja) 水素濃度計測装置及び水素濃度計測方法
JP5709408B2 (ja) 水素濃度計測装置及び水素濃度計測方法
JP2022520557A (ja) バイオガス中の気体種の濃度を測定する方法
JP2006337068A (ja) 排ガス分析方法および排ガス分析装置
WO2023112597A1 (ja) ガス分析装置、排ガス分析システム及びガス分析方法
JP2014115200A (ja) レーザ計測によるガス中のガス組成計測装置
KR102074727B1 (ko) 가스 농도 측정 장치
JP4878981B2 (ja) ガス分析装置
CN116046507A (zh) 一种气体检测报警系统及方法

Legal Events

Date Code Title Description
ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20187011588

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2017769886

Country of ref document: EP

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2017769886

Country of ref document: EP

Effective date: 20181024

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 17769886

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1