WO2017052134A1 - 적층체 - Google Patents

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WO2017052134A1
WO2017052134A1 PCT/KR2016/010326 KR2016010326W WO2017052134A1 WO 2017052134 A1 WO2017052134 A1 WO 2017052134A1 KR 2016010326 W KR2016010326 W KR 2016010326W WO 2017052134 A1 WO2017052134 A1 WO 2017052134A1
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refractive index
laminate
germanium
thickness
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PCT/KR2016/010326
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Inventor
김훈래
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김훈래
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B60—VEHICLES IN GENERAL
    • B60R—VEHICLES, VEHICLE FITTINGS, OR VEHICLE PARTS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B60R19/00—Wheel guards; Radiator guards, e.g. grilles; Obstruction removers; Fittings damping bouncing force in collisions
    • B60R19/52—Radiator or grille guards ; Radiator grilles
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01Q—ANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q1/00—Details of, or arrangements associated with, antennas
    • H01Q1/42—Housings not intimately mechanically associated with radiating elements, e.g. radome

Definitions

  • the present invention relates to a laminate, and more particularly, to a laminate having a germanium layer, an organic layer, a zinc compound layer, etc., exhibiting a specific color and gloss, transmitting radio waves, and having excellent water resistance.
  • the present invention corresponds to B32B 5 on International Patent Classification (IPC).
  • the sensor cover is a portion that covers the antenna of the sensor, and is usually installed to protect the antenna from collision, debris, and strong wind pressure. Therefore, the sensor cover requires strength, weather resistance, light weight, excellent radio wave transmittance and the like that can withstand wind pressure, friction with air, and hail.
  • An auto cruise control system is a device in which a computer remembers the speed of a vehicle so that the driver can drive without depressing the accelerator pedal when the driver operates the switch at a desired speed.
  • the auto cruise control system controls not only the vehicle speed but also the distance between vehicles, and sensors installed in the system can detect the distance between vehicles.
  • the sensor for detecting the distance between the vehicles can only be installed in front of the vehicle, and a sensor cover capable of covering the antenna of the aesthetic view is required. And the vehicle sensor cover needs to be in harmony with its surroundings.
  • FIG. 1 is a perspective view illustrating an example of a vehicle in which a sensor is installed inside the front side.
  • the vehicle sensor cover may be installed on the front grille, installed on the back of the emblem, or the emblem itself.
  • 2 and 3 are perspective views showing an example of the front grill is installed with a vehicle sensor cover.
  • the vehicle sensor cover is provided at the center of the front grill.
  • the vehicle sensor cover is itself an emblem.
  • the front grille is black and / or silver. Emblems also often show black and / or silver. Therefore, when manufacturing a vehicle sensor cover made of a transparent material in order to secure radio wave transmittance, the vehicle sensor cover is difficult to blend with its surroundings. In addition, it is not good to see the inside of the vehicle through the transparent sensor cover.
  • the vehicle sensor cover is manufactured from a material which shows black or silver, it is problematic to ensure radio wave transmission apart from the fact that the vehicle sensor cover is continuous with the front grille and / or the emblem around it.
  • Prior Art 1 indium (In) or tin (Sn), which is a material capable of transmitting radio waves while exhibiting metallic color and gloss, has been used as a sensor cover material.
  • Prior Art 1 Japanese Patent No. 3366299 (hereinafter referred to as Prior Art 1).
  • the technical problem to be achieved by the present invention is to solve the problem that the indium used in the prior art 1 exhibits a metallic color and luster, but is easily oxidized and peeled off, and thus lacks reliability.
  • the present invention includes a substrate and a deposition layer formed on the substrate, wherein the deposition layer is deposited on an organic material layer made of an organic material, an upper surface of the organic material layer, A first zinc compound layer made of zinc sulfide (ZnS) or zinc selenide (ZnSe), a germanium layer made of germanium (Ge) or a germanium alloy deposited on an upper surface of the first zinc compound layer, and an upper surface of the germanium layer Provided is a laminate, and comprising a second zinc compound layer made of zinc sulfide or zinc selenide.
  • the laminate has an effect of excellent reliability and excellent radio wave transmittance.
  • the present invention has a first effect of excellent water resistance and moisture resistance, and thus excellent reliability, a second effect of better matching with the surroundings of a vehicle sensor cover in terms of color and gloss than indium or tin, a third effect of excellent radio wave permeability, and thinness. It has a fourth effect of light and a fifth effect of high competitiveness in manufacturing price since it does not use indium or an indium alloy, which is a rare metal.
  • the effects of the present invention are not limited to the above-described effects, but should be understood to include all the effects deduced from the configuration of the invention described in the detailed description or claims of the present invention.
  • FIG. 1 is a perspective view illustrating an example of a vehicle in which a sensor is installed.
  • FIG. 2 is a perspective view illustrating an example of a front grille to which a sensor cover for a vehicle is installed;
  • FIG. 3 is a perspective view illustrating an example of a front grille to which a sensor cover for a vehicle is installed;
  • FIG. 4 is a schematic diagram showing an example of a laminate according to the present invention.
  • FIG. 5 is a conceptual diagram showing a state in which radio waves are transmitted through the present inventors laminate.
  • FIG. 6 is a schematic diagram illustrating an example of a deposition layer including a germanium layer and a ceramic layer.
  • FIG. 7 is a schematic diagram showing an example of a deposition layer including an organic material layer, a zinc compound layer, a germanium layer, and a chromium oxide layer.
  • FIG. 8 is a schematic diagram illustrating an example of a deposition layer including a ceramic layer, an organic material layer, a zinc compound layer, a germanium layer, and a chromium oxide layer.
  • FIG. 9 is a graph showing reflectance measurement results for the laminate prepared in Example 1.
  • FIG. 10 is a graph showing reflectance measurement results for the laminate prepared in Example 2.
  • FIG. 13 is a graph showing reflectance measurement results after a water resistance test of the laminate produced in Example 1.
  • FIG. 14 is a graph showing the reflectance measurement results after the water resistance test for the laminate produced in Example 2.
  • ZnS zinc sulfide
  • ZnSe zinc selenide
  • the deposition layer may be characterized in that it further comprises a chromium oxide layer made of chromium oxide (CrOx) is deposited on the upper surface of the second zinc compound layer.
  • a chromium oxide layer made of chromium oxide (CrOx) is deposited on the upper surface of the second zinc compound layer.
  • the thickness of the organic material layer may be characterized in that 50 to 400 ⁇ .
  • the first zinc compound layer may be characterized in that the thickness of 100 to 600 ⁇ .
  • the germanium layer may have a thickness of 150 to 800 kPa.
  • the thickness of the second zinc compound layer may be characterized in that 100 to 600 ⁇ .
  • the thickness of the chromium oxide layer may be characterized in that 50 to 400 ⁇ .
  • the germanium alloy may be made of 50 to 99 wt% of the germanium and 1 to 50 wt% of at least one element belonging to groups 3B to 5A of the periodic table. .
  • the substrate polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyimide (PI), Cycloolefin polymer (COP), polyether sulfone (PES), polyether ether ketone (PEEK), polyarylate (PAR), ABS (ABS) resin, and silicone resin It may be characterized by.
  • it may be characterized in that it further comprises a primer coating layer located between the substrate and the deposition layer.
  • it may be characterized in that it further comprises a black shielding coating layer formed on the upper surface of the deposition layer.
  • this invention provides the vapor deposition layer which further contains the ceramic layer which consists of ceramics in the lowest layer, and the laminated body which consists of the said board
  • the ceramic layer may include one or more high refractive index layers having a refractive index of 1.7 to 2.6, and one or more low refractive index layers having a refractive index of 1.4 or more and less than 1.7, wherein the high refractive index layer and The low refractive index layer may be characterized in that the deposition alternately.
  • the ceramic layer is formed by depositing a first high refractive index layer, a first low refractive index layer, a second high refractive index layer, a second low refractive index layer in order Can be.
  • the high refractive index layer and the low refractive index layer may be characterized in that made of one or more materials selected from the group consisting of oxides, carbides, and nitrides.
  • the high refractive index layer may be made of Ti 3 O 5
  • the low refractive index layer may be characterized in that made of silicon dioxide (SiO 2 ).
  • the thickness of the first high refractive index layer is 50 to 400 ⁇
  • the thickness of the first low refractive index layer is 150 to 800 ⁇
  • the thickness of the second high refractive index layer is 175 to 900 kPa
  • the thickness of the second low refractive index layer is 225 to 1100 kPa
  • the thickness of the organic material layer is 50 to 400 kPa
  • the thickness of the first zinc compound layer is 100 to 600 kPa
  • the thickness of the germanium layer is 150 to 800 kPa.
  • the thickness of the second zinc compound layer is 100 to 600 kPa
  • the thickness of the chromium oxide layer may be 50 to 400 kPa.
  • the laminate 1 of the present invention includes a substrate 10 and a deposition layer 30 formed on the substrate 10.
  • the laminate 1 may further include a primer coating layer 20 formed on the top surface of the substrate 10 and positioned on the bottom surface of the deposition layer 30.
  • the laminate 1 may further include a black shielding coating layer 40 formed on the upper surface of the deposition layer 30. 4, the schematic diagram which shows the example of the laminated body 1 is shown.
  • the laminate 1 can transmit radio waves while exhibiting a specific color and gloss. Therefore, the laminated body 1 can be used as a vehicle sensor cover.
  • FIG. 5 is a conceptual diagram illustrating a state in which the radio wave L1 from the sensor reaches the object, and the radio wave L2 reflected from the object reaches the sensor.
  • the laminated body 1 is explained for each component which comprises it.
  • the substrate 10 may be a transparent substrate 10. This is to cause the color of the light reflected by the deposition layer 30 or the deposition layer 30 and the black shielding coating layer 40 to appear to the outside of the laminate 1 as it is. In addition, this is to make the gloss which the vapor deposition layer 30 shows to the outside of the laminated body 1 as it is.
  • FIG. 5 when a person looks at the stack 1 from the object side, the stack 1 looks in a specific color. This is because a part of the light irradiated from the object side and reaching the stack 1 is reflected back toward the object and exhibits a specific color.
  • the substrate 10 is made of polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyimide (PI), cycloolefin polymer (COP), Polyethersulfone (PES), polyether ether ketone (PEEK), polyarylate (PAR), ABS (ABS) resin, and silicone resins, but may be made of one or more materials selected from the group consisting of, but is not limited thereto. no.
  • the primer coating layer 20 may be made of a material in which an acrylic resin (main component), a solvent, and other additives are mixed, but is not limited thereto.
  • the primer coating layer 20 may be formed by a painting, dipping, or spray process, but is not limited thereto.
  • the primer coating layer 20 is transparent or translucent. This is to cause the color of the light reflected by the deposition layer 30, the deposition layer 30, and the black shielding coating layer 40 to appear outside of the laminate 1 as it is, as in the case of the substrate 10. In addition, this is to cause the gloss of the vapor deposition layer 30 to appear outside of the laminate 1 as it is, as in the case of the substrate 10.
  • the primer coating layer 20 has an adhesive force to help adhesion of the substrate 10 and the deposition layer 30.
  • the black shielding coating layer 40 may be made of a material in which an acrylic resin (main component), a black pigment, a solvent, and other additives are mixed, but is not limited thereto.
  • the black shielding coating layer 40 may be formed by a painting, dipping, or spray process, but is not limited thereto.
  • the black shielding coating layer 40 is black. This is because when the laminated body 1 is used as a vehicle sensor cover, it is preferable that components inside the vehicle are not visible from the outside.
  • the color of the black shielding coating layer 40 is also related to the color of the laminate 1 seen from the outside. The color of the black shielding coating layer 40 may appear outside as it is, so that the laminate 1 may be black.
  • the materials of the deposition layer 30, the thickness of the deposition layer 30, and the like may be changed, such that the laminate 1 may have a bright color.
  • the deposition layer 30 is formed by depositing one or more layers by a predetermined deposition method.
  • Deposition methods include thermal evaporation, electron beam evaporation, sputtering, thermal chemical vapor deposition (CVD), plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD), metal organic chemical vapor (MOCVD) Deposition), and electroless plating, but is not limited thereto.
  • the deposition layer 30 includes a germanium (Ge) layer 320.
  • the germanium layer 320 is made of germanium or a germanium alloy. Germanium is glossy and can transmit radio waves. Germanium alloys also exhibit gloss and can transmit radio waves.
  • the germanium alloy includes at least one element in addition to germanium.
  • the one or more elements may be elements belonging to groups 3B to 5A of the periodic table. More specifically, the one or more elements are gold (Au), silver (Ag), boron (B), aluminum (Al), gallium (Ga), indium (In), tin (Sn), and thallium (Tl). It may be an element selected from the group consisting of.
  • the content of germanium suggests 50 to 99 wt% and the content of the remaining components suggests 1 to 50 wt%. If the germanium content is less than 50 wt% or the remaining component content is more than 50 wt%, the gloss and metal texture exhibited by the germanium layer 320 may be lower than desired. If the germanium content exceeds 99 wt% or the content of the remaining components is less than 1 wt%, the target performance (eg, strength) of the germanium layer 320 may not be properly exhibited.
  • the deposition layer 30 may include various layers in addition to the germanium layer 320.
  • the deposition layer 30 may include a germanium layer 320 and a ceramic layer 310 (see FIG. 6).
  • the ceramic layer 310 is made of ceramic.
  • the ceramic layer 310 has a first function of adjusting the color and brightness of the laminate 1, a second function of protecting the germanium layer 320 from external impact, the substrate 10 (or the primer coating layer 20). And a third function for improving the bonding force between the germanium layer 320 and the like.
  • the ceramic layer 310 may include one or more high refractive index layers 311 and one or more low refractive index layers 312.
  • the high refractive index layer 311 may have a refractive index of 1.7 to 2.6, and may be formed of one or more materials selected from the group consisting of oxides, carbides, and nitrides.
  • the low refractive index layer 312 may have a refractive index of 1.4 or more and less than 1.7, and may be formed of one or more materials selected from the group consisting of oxides, carbides, and nitrides. More specifically, the high refractive index layer 311 may be made of titanium dioxide (TiO 2 ), and the low refractive index layer 312 may be made of silicon dioxide (SiO 2 ).
  • the criteria for dividing the refractive index of the high refractive index layer 311 and the refractive index of the low refractive index layer 312 are determined to easily control the color and brightness of the laminate 1.
  • the number of layers of the ceramic layer 310, the thickness of the ceramic layer 310, the thickness of the germanium layer 320, and the like are determined.
  • the color and brightness of the laminate 1 can be adjusted.
  • FIG. 6 is a schematic diagram illustrating an example of the deposition layer 30 including the germanium layer 320 and the ceramic layer 310.
  • the deposition layer 30 is formed by depositing the first high refractive index layer 311a, the germanium layer 320, the low refractive index layer 312, and the second high refractive index layer 311b in this order.
  • the germanium layer 320 since the germanium layer 320 is positioned between the first high refractive index layer 311 a and the low refractive index layer 312, the first high refractive index layer 311 a and the low refractive index layer 312 may serve as the second function. It can be said to exert.
  • the adhesion force acts between the first high refractive index layer 311a and the germanium layer 320, the first high refractive index layer 311a may have the third function.
  • the deposition layer 30 may include an organic layer 330, a zinc compound layer 340, and a germanium layer 320 (see FIG. 7).
  • the organic layer 330 is made of an organic substance.
  • the organic material layer 330 may be formed of Glipoxan TM .
  • the germanium layer 320 is easily oxidized when contacted with moisture. This means that the water resistance and moisture resistance of the laminated body 1 are not good.
  • the organic material layer 330 may improve the water resistance and moisture resistance of the laminate 1.
  • the zinc compound layer 340 is made of zinc sulfide (ZnS) or zinc selenide (ZnSe).
  • the zinc compound layer 340 also functions to improve the water resistance and moisture resistance of the laminate 1.
  • the zinc compound layer 340 is composed of two layers (the first zinc compound layer 340a and the second zinc compound layer 340b), and the germanium layer 320 is positioned between the two layers, the zinc compound layer 340 is While protecting the germanium layer 320 from external impact, the water resistance and moisture resistance of the laminate 1 can be improved.
  • the deposition layer 30 is formed by depositing the organic material layer 330, the first zinc compound layer 340a, the germanium layer 320, and the second zinc compound layer 340b in this order. Can be formed.
  • the deposition layer 30 may include an organic material layer 330, a zinc compound layer 340, a germanium layer 320, and a chromium oxide (CrOx) layer 350 (see FIG. 7).
  • the details of the organic material layer 330 and the zinc compound layer 340 are as described above.
  • the chromium oxide layer 350 is made of chromium oxide.
  • the chromium oxide layer 350 is deposited on the top layer of the deposition layer 30 to protect the entire deposition layer 30.
  • the chromium oxide layer 350 may prevent moisture from penetrating into the germanium layer 320.
  • an adhesive force acts between the chromium oxide layer 350 and the black shielding coating layer 40.
  • FIG. 7 is a schematic diagram illustrating an example of a deposition layer 30 including an organic material layer 330, a zinc compound layer 340, a germanium layer 320, and a chromium oxide layer 350.
  • the deposition layer 30 is formed by depositing the organic material layer 330, the first zinc compound layer 340a, the germanium layer 320, the second zinc compound layer 340b, and the chromium oxide layer 350 in this order. do.
  • the thickness of the organic material layer 330 is preferably 50 to 400 mm.
  • the thickness of the first zinc compound layer 340a is preferably 100 to 600 kPa.
  • the thickness of the first zinc compound layer 340a is less than 100 GPa, the water resistance and moisture resistance improving function of the first zinc compound layer 340a may not be properly exhibited. In this case, the first zinc compound layer 340a may not properly protect the germanium layer 320 from external impact.
  • the radio wave transmittance of the laminate 1 may be low.
  • the germanium layer 320 preferably has a thickness of 150 to 800 kPa. When the thickness of the germanium layer 320 is less than 150 mm 3, the germanium layer 320 may be easily peeled off due to various environmental factors. When the thickness of the germanium layer 320 exceeds 800 GPa, the radio wave transmittance of the laminate 1 may be low. In FIG. 7, the thickness of the second zinc compound layer 340b is preferably 100 to 600 mm 3.
  • the thickness of the second zinc compound layer 340b is less than 100 GPa, the water resistance and moisture resistance improving function of the second zinc compound layer 340b may not be properly exhibited. In this case, the second zinc compound layer 340b may not properly protect the germanium layer 320 from external shock.
  • the radio wave transmittance of the laminate 1 may be low.
  • the thickness of the chromium oxide layer 350 is preferably 50 to 400 kPa. If the thickness of the chromium oxide layer 350 is less than 50 GPa, the overall protection function of the deposition layer 30 of the chromium oxide layer 350 may be weak.
  • the radio wave transmittance of the laminate 1 may be low.
  • the laminated body 1 manufactured by forming the vapor deposition layer 30 (deposition layer 30 shown in FIG. 7) which satisfy
  • the black laminate 1 can be combined with the front grille and / or emblem.
  • the deposition layer 30 may include a ceramic layer 310, an organic material layer 330, a zinc compound layer 340, a germanium layer 320, and a chromium oxide layer 350 (see FIG. 8). .
  • the organic layer 330, the zinc compound layer 340, and the chromium oxide layer 350 have been described above.
  • the ceramic layer 310 is made of ceramic.
  • the ceramic layer 310 is deposited on the lowermost layer of the deposition layer 30 to adjust the color and brightness of the laminate 1.
  • the ceramic layer 310 may include at least one high refractive index layer 311 and at least one low refractive index layer 312, the high refractive index layer 311 and the low refractive index layer 312 Can be deposited alternately.
  • the high refractive index layer 311 may have a refractive index of 1.7 to 2.6, and may be formed of one or more materials selected from the group consisting of oxides, carbides, and nitrides.
  • the low refractive index layer 312 may have a refractive index of 1.4 or more and less than 1.7, and may be formed of one or more materials selected from the group consisting of oxides, carbides, and nitrides. More specifically, the high refractive index layer 311 may be made of Ti 3 O 5 , and the low refractive index layer 312 may be made of silicon dioxide.
  • the criteria for dividing the refractive index of the high refractive index layer 311 and the refractive index of the low refractive index layer 312 are determined to easily control the color and brightness of the laminate 1.
  • the number of layers of the ceramic layer 310, the thickness of the ceramic layer 310, the thickness of the germanium layer 320, and the like are determined.
  • the deposition layer 30 includes a first high refractive index layer 311a, a first low refractive index layer 312a, a second high refractive index layer 311b, a second low refractive index layer 312b, and an organic material layer 330.
  • the first zinc compound layer 340a, the germanium layer 320, the second zinc compound layer 340b, and the chromium oxide layer 350 are sequentially formed.
  • FIG. 8 is a schematic diagram illustrating an example of a deposition layer 30 including a ceramic layer 310, an organic material layer 330, a zinc compound layer 340, a germanium layer 320, and a chromium oxide layer 350.
  • the thickness of the first high refractive index layer 311a is 50 to 400 GPa
  • the thickness of the first low refractive index layer 312a is 150 to 800 GPa
  • the thickness of the second high refractive index layer 311b is 175 to 900 GPa.
  • the thickness of the second low refractive index layer 312b is preferably 225 to 1100 kPa.
  • the color of the laminate 1 is changed from black to silver by adding the ceramic layer 310 to the deposition layer 30 shown in FIG. 7.
  • the silver stack 1 can be combined with the front grille and / or emblem.
  • the primer coating layer 20 was formed by coating the upper surface of the board
  • the substrate 10 is formed of primer coating 20 to the bottom of the vacuum chamber, and the degree of vacuum in the vacuum chamber 7 ⁇ 10 - was evacuated so that the 6 Torr.
  • Glipoxan TM in monomer state was supplied at 120 sccm into the vacuum chamber through a Mass Flow Controller (MFC) installed in the vacuum chamber. And 3000W of power was applied to the electrode plate of the plasma generating apparatus installed in the vacuum chamber. As a result, Glipoxan TM in a polymer state was deposited on the upper surface of the primer coating layer 20, whereby the organic material layer 330 was deposited.
  • MFC Mass Flow Controller
  • Glipoxan TM in a monomer state becomes a plasma state, and a plasma polymerization mainly occurs in which plasma materials are polymerized to become Glipoxan TM in a polymer state.
  • the substrate 10 on which the primer coating layer 20 and the organic material layer 330 were formed was mounted on the upper portion of the vacuum chamber, and zinc sulfide chemical was injected into the crucible installed in the vacuum chamber.
  • the degree of vacuum in the vacuum chamber 1 ⁇ 10 - was evacuated so that the 5 Torr.
  • a 7.5 kV voltage (current of 50 to 450 mA) was supplied to an electron beam gun installed in the vacuum chamber, and the electron beam was irradiated to the zinc sulfide chemical agent.
  • zinc sulfide was deposited on the upper surface of the organic material layer 330, thereby depositing the first zinc compound layer 340a.
  • the laminate 1 deposited up to the chromium oxide layer 350 was taken out from the vacuum chamber, and then coated with a slurry containing an acrylic resin as a main component and a black pigment added thereto, thereby forming a black shielding coating layer 40.
  • the laminated body 1 which consists of 40 was manufactured (refer FIG. 4 and FIG. 7).
  • the thickness of the organic layer 330 was 150 kPa.
  • the thickness of the first zinc compound layer 340a was 250 mm 3.
  • the germanium layer 320 had a thickness of 350 kPa.
  • the thickness of the second zinc compound layer 340b was 250 mm 3.
  • the thickness of the chromium oxide layer 350 was 150 kPa.
  • the primer coating layer 20 was formed by coating the upper surface of the board
  • the substrate 10 on which the primer coating layer 20 was formed was mounted on the upper part in the vacuum chamber, and the Ti 3 O 5 chemical was injected into the crucible installed in the vacuum chamber.
  • the degree of vacuum in the vacuum chamber 1 ⁇ 10 - was evacuated so that the 5 Torr.
  • a 7.5 kV voltage (current of 50 to 450 mA) was supplied to the electron gun installed in the vacuum chamber, and the electron beam was irradiated to the Ti 3 O 5 drug.
  • the first high refractive index layer 311a was deposited.
  • the first low refractive index layer 312a, the second high refractive index layer 311b, and the second low refractive index layer 312b are sequentially deposited on the upper surface of the first high refractive index layer 311a. It was. Silicon dioxide was used for the first low refractive index layer 312a and the second low refractive index layer 312b. Ti 3 O 5 was used for the second high refractive index layer 311b.
  • the substrate is formed (10) on the bottom of the vacuum chamber, and the degree of vacuum in the vacuum chamber 7 ⁇ 10 - was evacuated so that the 6 Torr.
  • the monomeric Glipoxan TM was supplied at 120 sccm into the vacuum chamber through the MFC installed in the vacuum chamber. And 3000W electric power was applied to the electrode plate of the plasma generation apparatus provided in the vacuum chamber. As a result, Glipoxan TM in a polymer state was deposited on the upper surface of the second low refractive index layer 312b, whereby the organic material layer 330 was deposited. This is mainly due to the plasma polymerization inside the vacuum chamber.
  • Example 1 Thereafter, the same layers as those in Example 1 were formed in the same manner as in Example 1. That is, the substrate 10-the primer coating layer 20-the first high refractive index layer 311a-the first low refractive index layer 312a-the second high refractive index layer 311b-the second low refractive index layer 312b-the organic layer
  • a laminate (1) consisting of (330) -first zinc compound layer (340a) -germanium layer (320) -second zinc compound layer (340b) -chromium oxide layer (350) -black shielding coating layer (40) was prepared ( 4 and 8).
  • the thickness of the first high refractive index layer 311a was 150 GPa.
  • the thickness of the first low refractive index layer 312a was 350 GPa.
  • the thickness of the second high refractive index layer 311b was 400 GPa.
  • the thickness of the second low refractive index layer 312b was 500 GPa.
  • the thicknesses of the remaining layers were the same as the thicknesses of the layers in Example 1, corresponding thereto.
  • the primer coating layer 20 was formed by coating the upper surface of the board
  • the substrate 10 on which the primer coating layer 20 was formed was mounted on the upper part in the vacuum chamber, and the germanium specimen was placed in a crucible installed in the vacuum chamber.
  • the degree of vacuum in the vacuum chamber 1 ⁇ 10 - was evacuated so that the 5 Torr.
  • 7.5 kV voltage (current of 50 to 450 mA) was supplied to the electron gun installed in the vacuum chamber, and the electron beam was irradiated onto the germanium specimen.
  • germanium is deposited on the upper surface of the primer coating layer 20, thereby depositing the germanium layer 320. This is because germanium is evaporated by the energy of the electron beam, and germanium is deposited on the upper surface of the primer coating layer 20.
  • the laminate 1 deposited up to the germanium layer 320 was taken out from the vacuum chamber, and then coated with a slurry containing an acrylic resin as a main component and a black pigment added thereto, thereby forming a black shielding coating layer 40.
  • the laminated body 1 which consists of the board
  • the germanium layer 320 had a thickness of 350 kPa.
  • the primer coating layer 20 was formed by coating the upper surface of the board
  • the substrate 10 on which the primer coating layer 20 was formed was mounted on the upper part in the vacuum chamber, and zinc sulfide chemicals were injected into the crucible installed in the vacuum chamber.
  • the degree of vacuum in the vacuum chamber 1 ⁇ 10 - was evacuated so that the 5 Torr.
  • a voltage of 7.5 kV (current of 50 to 450 mA) was supplied to the electron gun installed in the vacuum chamber, and the electron beam was irradiated to the zinc sulfide chemical agent.
  • zinc sulfide was deposited on the upper surface of the primer coating layer 20, thereby depositing the first zinc compound layer 340a.
  • the germanium layer 320 and the second zinc compound layer 340b were sequentially deposited on the upper surface of the first zinc compound layer 340a.
  • Germanium was used for the germanium layer 320.
  • Zinc sulfide was used for the second zinc compound layer 340b.
  • the black shield coating layer 40 was formed by taking out the laminated body 1 deposited up to the 2nd zinc compound layer 340b from the vacuum chamber, and coating it with the slurry which made an acrylic resin the main component, and added the black pigment.
  • the laminated body 1 which consists of the board
  • the thickness of the first zinc compound layer 340a was 250 mm 3.
  • the germanium layer 320 had a thickness of 350 kPa.
  • the thickness of the second zinc compound layer 340b was 250 mm 3.
  • the primer coating layer 20 was formed by coating the upper surface of the board
  • the substrate 10 is formed of primer coating 20 to the bottom of the vacuum chamber, and the degree of vacuum in the vacuum chamber 7 ⁇ 10 - was evacuated so that the 6 Torr.
  • the monomeric Glipoxan TM was supplied at 120 sccm into the vacuum chamber through the MFC installed in the vacuum chamber. And 3000W of power was applied to the electrode plate of the plasma generation apparatus installed in the vacuum chamber. As a result, the Glipoxan TM in the polymer state was deposited on the upper surface of the primer coating layer 20, thereby depositing the organic material layer 330. This is mainly due to the plasma polymerization inside the vacuum chamber.
  • the substrate 10 on which the primer coating layer 20 and the organic material layer 330 were formed was mounted on the upper portion of the vacuum chamber, and zinc sulfide chemical was injected into the crucible installed in the vacuum chamber.
  • the degree of vacuum in the vacuum chamber 1 ⁇ 10 - was evacuated so that the 5 Torr.
  • a voltage of 7.5 kV (current of 50 to 450 mA) was supplied to the electron gun installed in the vacuum chamber, and the electron beam was irradiated to the zinc sulfide chemical agent.
  • zinc sulfide was deposited on the upper surface of the organic material layer 330, thereby depositing the first zinc compound layer 340a.
  • the black shield coating layer 40 was formed by taking out the laminated body 1 deposited up to the 2nd zinc compound layer 340b from the vacuum chamber, and coating it with the slurry which made an acrylic resin the main component, and added the black pigment.
  • a laminate comprising a substrate 10, a primer coating layer 20, an organic layer 330, a first zinc compound layer 340a, a germanium layer 320, a second zinc compound layer 340b and a black shielding coating layer 40 (1) was prepared.
  • the thickness of the organic layer 330 was 150 kPa.
  • the thickness of the first zinc compound layer 340a was 250 mm 3.
  • the germanium layer 320 had a thickness of 350 kPa.
  • the thickness of the second zinc compound layer 340b was 250 mm 3.
  • a laminate comprising a substrate 10-a primer coating layer 20-a first high refractive index layer 311a-a first low refractive index layer 312a-a second high refractive index layer 311b-a second low refractive index layer 312b (1) was prepared.
  • this laminate the same materials as those in Example 2 and the same methods as those in Example 2 were used.
  • the substrate 10 having the primer coating layer 20 and the ceramic layer 310 formed thereon was mounted on top of the vacuum chamber, and the germanium specimen was placed in a crucible installed in the vacuum chamber.
  • the degree of vacuum in the vacuum chamber 1 ⁇ 10 - was evacuated so that the 5 Torr.
  • 7.5 kV voltage (current of 50 to 450 mA) was supplied to the electron gun installed in the vacuum chamber, and the electron beam was irradiated onto the germanium specimen.
  • germanium was deposited on the upper surface of the second low refractive index layer 312b, thereby depositing the germanium layer 320. This is because germanium is evaporated by the energy of the electron beam, and germanium is deposited on the upper surface of the second low refractive index layer 312b.
  • the laminate 1 deposited up to the germanium layer 320 was taken out from the vacuum chamber, and then coated with a slurry containing an acrylic resin as a main component and a black pigment added thereto, thereby forming a black shielding coating layer 40.
  • the substrate 10-the primer coating layer 20-the first high refractive index layer 311a-the first low refractive index layer 312a-the second high refractive index layer 311b-the second low refractive index layer 312b-low edge A laminate 1 consisting of an aluminum layer 320-a black shielding coating layer 40 was prepared.
  • the germanium layer 320 had a thickness of 350 kPa.
  • a laminate comprising a substrate 10-a primer coating layer 20-a first high refractive index layer 311a-a first low refractive index layer 312a-a second high refractive index layer 311b-a second low refractive index layer 312b (1) was prepared.
  • this laminate the same materials as those in Example 2 and the same methods as those in Example 2 were used.
  • the substrate 10 having the primer coating layer 20 and the ceramic layer 310 formed thereon was mounted on top of the vacuum chamber, and zinc sulfide chemicals were injected into the crucible installed in the vacuum chamber.
  • the degree of vacuum in the vacuum chamber 1 ⁇ 10 - was evacuated so that the 5 Torr.
  • a voltage of 7.5 kV (current of 50 to 450 mA) was supplied to the electron gun installed in the vacuum chamber, and the electron beam was irradiated to the zinc sulfide chemical agent.
  • zinc sulfide was deposited on the upper surface of the second low refractive index layer 312b to deposit the first zinc compound layer 340a.
  • the germanium layer 320 and the second zinc compound layer 340b were sequentially deposited on the upper surface of the first zinc compound layer 340a.
  • Germanium was used for the germanium layer 320.
  • Zinc sulfide was used for the second zinc compound layer 340b.
  • the black shield coating layer 40 was formed by taking out the laminated body 1 deposited up to the 2nd zinc compound layer 340b from the vacuum chamber, and coating it with the slurry which made an acrylic resin the main component, and added the black pigment.
  • a laminate 1 comprising a first zinc compound layer 340a, a germanium layer 320, a second zinc compound layer 340b, and a black shielding coating layer 40 was prepared.
  • the thickness of the first zinc compound layer 340a was 250 mm 3.
  • the germanium layer 320 had a thickness of 350 kPa.
  • the thickness of the second zinc compound layer 340b was 250 mm 3.
  • a laminate comprising a substrate 10-a primer coating layer 20-a first high refractive index layer 311a-a first low refractive index layer 312a-a second high refractive index layer 311b-a second low refractive index layer 312b (1) was prepared.
  • this laminate the same materials as those in Example 2 and the same methods as those in Example 2 were used.
  • the substrate is formed (10) on the bottom of the vacuum chamber, and the degree of vacuum in the vacuum chamber 7 ⁇ 10 - was evacuated so that the 6 Torr.
  • the monomeric Glipoxan TM was supplied at 120 sccm into the vacuum chamber through the MFC installed in the vacuum chamber. And 3000W of power was applied to the electrode plate of the plasma generation apparatus installed in the vacuum chamber. As a result, Glipoxan TM in a polymer state was deposited on the upper surface of the second low refractive index layer 312b, whereby the organic material layer 330 was deposited. This is mainly due to the plasma polymerization inside the vacuum chamber.
  • the substrate 10 having the primer coating layer 20, the ceramic layer 310, and the organic layer 330 formed thereon was mounted on top of the vacuum chamber, and zinc sulfide chemicals were injected into a crucible installed in the vacuum chamber.
  • the degree of vacuum in the vacuum chamber 1 ⁇ 10 - was evacuated so that the 5 Torr.
  • a voltage of 7.5 kV (current of 50 to 450 mA) was supplied to the electron gun installed in the vacuum chamber, and the electron beam was irradiated to the zinc sulfide chemical agent.
  • zinc sulfide was deposited on the upper surface of the organic material layer 330, thereby depositing the first zinc compound layer 340a.
  • the black shield coating layer 40 was formed by taking out the laminated body 1 deposited up to the 2nd zinc compound layer 340b from the vacuum chamber, and coating it with the slurry which made an acrylic resin the main component, and added the black pigment.
  • a laminate 1 comprising a (330) -first zinc compound layer 340a-germanium layer 320-second zinc compound layer 340b-black shielding coating layer 40 was prepared.
  • the thickness of the organic layer 330 was 150 kPa.
  • the thickness of the first zinc compound layer 340a was 250 mm 3.
  • the germanium layer 320 had a thickness of 350 kPa.
  • the thickness of the second zinc compound layer 340b was 250 mm 3.
  • the reflectance graph Ge Black of the laminate 1 appears similar to the black reference graph, it can be seen that the laminate 1 manufactured in Example 1 is black.
  • the reflectance graph of the laminated body 1 shows higher reflectance than the laminated body 1 in which indium (In) or tin (Sn) other than germanium was conventionally used. This means that the laminate 1 produced in Example 1 is glossy and exhibits excellent metal texture.
  • the reflectance graph Ge Silver of the laminate 1 is similar to the silver reference graph, it can be seen that the laminate 1 manufactured in Example 2 is silver. 10 the reflectance graph of the laminated body 1 shows higher reflectance than the laminated body 1 in which indium (In) or tin (Sn) other than germanium was conventionally used. This means that the laminate 1 produced in Example 2 is glossy and exhibits excellent metal texture.
  • Example 1 exhibited black color and gloss
  • Example 2 exhibited silver color and gloss
  • the radio wave transmitted through the laminate 1 prepared in Example 1 was changed by -0.62 dB, and the radio wave transmitted through the laminate 1 prepared in Example 2 was -0.66 dB. Changed. That is, the radio waves transmitted through the laminate 1 produced in Example 1 and the radio waves transmitted through the laminate 1 produced in Example 2 were both attenuated to less than 10%. It was confirmed that the radio wave transmittance of the laminates 1 prepared in 2 was satisfactory.
  • Example 2 Water resistance tests were performed on the laminates 1 prepared in Example 1, Example 2, and Comparative Examples 1 to 6. After the laminates 1 were immersed in water at 40 ° C. for 240 hours, the laminates 1 were removed from the water. After spraying air to the laminates 1 to remove moisture, it was allowed to stand at room temperature for 1 hour. Thereafter, the laminates 1 were visually confirmed, and the results are shown in Table 2 below.
  • the oxidation of the laminate 1 produced in Comparative Example 2 occurred more severely than the laminate 1 produced in Comparative Example 3.
  • the oxidation of the laminate 1 produced in Comparative Example 1 occurred more severely than the laminate 1 produced in Comparative Example 2.
  • the water resistance test result image of the laminate 1 prepared in Comparative Example 2 is shown in FIG. 11, and the water resistance test result image of the laminate 1 prepared in Comparative Example 1 is shown in FIG. 12. It is.
  • the oxidation of the laminate 1 produced in Comparative Example 5 occurred more severely than the laminate 1 produced in Comparative Example 6.
  • the reflectance graph (After Test) after the water resistance test of the laminate 1 prepared in Example 1 is almost the same as the reflectance graph (Before Test) before the water resistance test.
  • the reflectance graph (After Test) after the water resistance test of the laminate 1 manufactured in Example 2 is almost the same as the reflectance graph (Before Test) before the water resistance test. This means that even after the laminates 1 produced in Examples 1 and 2 come in contact with moisture, their color or gloss hardly changes.
  • the laminates 1 prepared in Examples 1 and 2 were (i) capable of transmitting radio waves and (iii) having excellent water resistance while exhibiting a specific color and gloss.

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Abstract

본 발명은, 저마늄층, 유기물층, 아연화합물층 등을 구비하여 특정한 색상 및 광택을 나타내고, 전파를 투과시킬 수 있으며, 내수성이 우수한 적층체에 관한 것으로, 기판 및 상기 기판의 상부에 형성되는 증착층을 포함하여 이루어지고, 상기 증착층은, 유기물로 이루어지는 상기 유기물층, 황화 아연(ZnS) 또는 셀레늄화 아연(ZnSe)으로 이루어지는 상기 아연화합물층, 및 저마늄(Ge) 또는 저마늄 합금으로 이루어지는 상기 저마늄층을 포함하는 것을 특징으로 하는 적층체를 제공한다.

Description

적층체
본 발명은, 적층체에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 저마늄층, 유기물층, 아연화합물층 등을 구비하여 특정한 색상 및 광택을 나타내고, 전파를 투과시킬 수 있으며, 내수성이 우수한 적층체에 관한 것이다. 본 발명은 국제특허분류(International Patent Classification, IPC)상 B32B 5에 해당된다.
센서 커버(Sensor cover)는 센서(Sensor)의 안테나를 덮는 부분으로, 통상 안테나를 충돌, 파편, 및 강한 풍압으로부터 보호하기 위해 설치된다. 따라서 센서 커버에는 풍압, 공기와의 마찰, 우박 등에 견딜 수 있는 강도, 내후성, 경량성, 우수한 전파 투과율 등이 요구된다.
그런데 센서 커버를 설계하는데 디자인 측면에서 제약을 받는 경우가 있다. 오토 크루즈 컨트롤 시스템(auto cruise control system)은, 운전자가 희망하는 속도로 스위치를 조작하면, 컴퓨터가 차속을 기억하여 운전자가 엑셀 페달을 밟지 않고도 차량이 주행할 수 있게 하는 장치를 말한다. 오토 크루즈 컨트롤 시스템은 차속뿐만 아니라 차량 간 거리도 제어하는데, 시스템에 설치된 센서가 차량 간 거리를 감지할 수 있다. 차량 간 거리를 감지하기 위한 센서는 차량의 앞쪽에 설치될 수 밖에 없고, 미관상 센서의 안테나를 덮을 수 있는 센서 커버가 요구된다. 그리고 차량용 센서 커버는 그 주변과 어우러질 필요가 있다.
도 1에는 앞쪽 내부에 센서가 설치된 차량의 예시를 나타내는 사시도가 도시되어 있다. 차량용 센서 커버는 프론트 그릴(Front grille)에 설치되거나, 엠블럼(Emblem) 뒷면에 설치되거나, 또는 엠블럼 그 자체가 될 수 있다. 도 2 및 도 3에는 차량용 센서 커버가 설치된 프론트 그릴의 예시를 나타내는 사시도가 도시되어 있다. 도 2에서, 차량용 센서 커버는 프론트 그릴의 중앙에 설치되어 있다. 그리고 도 3에서는, 차량용 센서 커버가 그 자체로 엠블럼이 되어 있다. 통상적으로, 프론트 그릴은 흑색 및/또는 은색을 나타낸다. 엠블럼도 흑색 및/또는 은색을 나타내는 경우가 대부분이다. 따라서 전파 투과성을 확보하기 위해 투명한 소재로 차량용 센서 커버를 제조할 경우, 그 차량용 센서 커버는 그 주변과 어우러지기 어렵다. 게다가 차량의 내부가 투명한 센서 커버를 통해 보여지는 것은 미관상 좋지 않다. 그러나 흑색 또는 은색을 나타내는 소재로 차량용 센서 커버를 제조할 경우, 그 차량용 센서 커버가 그 주변의 프론트 그릴 및/또는 엠블럼과 연속성이 있는 것은 별론, 전파 투과성을 확보하는 것이 문제된다.
종래에는, 금속 색상 및 광택을 나타내면서도 전파를 투과시킬 수 있는 소재인, 인듐(In) 또는 주석(Sn)이 센서 커버 소재로 이용되었다. 이와 관련된 선행문헌으로, 일본 등록특허 제3366299호(이하 종래기술 1이라 한다.)가 있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 종래기술 1에 이용된 인듐은 금속 색상 및 광택을 나타내지만 산화 및 박리되기 쉬워 신뢰성이 부족하다는 문제점을 해결하려 하는 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기와 같은 기술적 과제를 달성하기 위하여 안출된 본 발명은, 기판 및 상기 기판의 상부에 형성되는 증착층을 포함하여 이루어지고, 상기 증착층은, 유기물로 이루어지는 유기물층, 상기 유기물층의 상면에 증착되고, 황화 아연(ZnS) 또는 셀레늄화 아연(ZnSe)으로 이루어지는 제1아연화합물층, 상기 제1아연화합물층의 상면에 증착되고, 저마늄(Ge) 또는 저마늄 합금으로 이루어지는 저마늄층, 및 상기 저마늄층의 상면에 증착되고, 상기 황화 아연 또는 상기 셀레늄화 아연으로 이루어지는 제2아연화합물층을 포함하는 것을 특징으로 하는 적층체를 제공한다. 상기 적층체는 신뢰성이 우수하고, 전파 투과성이 우수하다는 효과가 있다.
본 발명은 내수성 및 내습성이 우수하여 결국 신뢰성이 우수하다는 제1효과, 인듐이나 주석보다 색상 및 광택 측면에서 차량용 센서 커버 주변과 잘 어우러진다는 제2효과, 전파 투과성이 우수하다는 제3효과, 얇고 가볍다는 제4효과, 및 희귀금속인 인듐이나 인듐 합금을 이용하지 않으므로 제조가격 경쟁력이 높다는 제5효과를 갖는다.
본 발명의 실시예에 따르면 본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 특허청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
도 1은 센서가 설치된 차량의 예시를 나타내는 사시도.
도 2는 차량용 센서 커버가 설치된 프론트 그릴의 예시를 나타내는 사시도.
도 3은 차량용 센서 커버가 설치된 프론트 그릴의 예시를 나타내는 사시도.
도 4는 본 발명인 적층체의 예시를 나타내는 모식도.
도 5는 본 발명인 적층체를 통하여 전파가 투과되는 모습을 나타내는 개념도.
도 6은 저마늄층 및 세라믹층을 포함하는 증착층의 예시를 나타내는 모식도.
도 7은 유기물층, 아연화합물층, 저마늄층, 및 산화크로뮴층을 포함하는 증착층의 예시를 나타내는 모식도.
도 8은 세라믹층, 유기물층, 아연화합물층, 저마늄층, 및 산화크로뮴층을 포함하는 증착층의 예시를 나타내는 모식도.
도 9는 실시예 1에서 제조된 적층체에 대한 반사율 측정 결과를 나타내는 그래프.
도 10은 실시예 2에서 제조된 적층체에 대한 반사율 측정 결과를 나타내는 그래프.
도 11은 비교예 2에서 제조된 적층체에 대한 내수성 실험 결과 이미지.
도 12는 비교예 1에서 제조된 적층체에 대한 내수성 실험 결과 이미지.
도 13은, 실시예 1에서 제조된 적층체에 대하여, 내수성 실험 후 반사율 측정 결과를 나타내는 그래프.
도 14는, 실시예 2에서 제조된 적층체에 대하여, 내수성 실험 후 반사율 측정 결과를 나타내는 그래프.
상기 문제점을 해결하기 위해 안출되는 본 발명은, 기판 및 상기 기판의 상부에 형성되는 증착층을 포함하여 이루어지고, 상기 증착층은, 유기물로 이루어지는 유기물층, 상기 유기물층의 상면에 증착되고, 황화 아연(ZnS) 또는 셀레늄화 아연(ZnSe)으로 이루어지는 제1아연화합물층, 상기 제1아연화합물층의 상면에 증착되고, 저마늄(Ge) 또는 저마늄 합금으로 이루어지는 저마늄층, 및 상기 저마늄층의 상면에 증착되고, 상기 황화 아연 또는 상기 셀레늄화 아연으로 이루어지는 제2아연화합물층을 포함하는 것을 특징으로 하는 적층체를 제공한다.
또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 증착층은, 상기 제2아연화합물층의 상면에 증착되고, 산화크로뮴(CrOx)으로 이루어지는 산화크로뮴층을 더 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 유기물층의 두께는 50 내지 400Å인 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 제1아연화합물층의 두께는 100 내지 600Å인 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 저마늄층의 두께는 150 내지 800Å인 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 제2아연화합물층의 두께는 100 내지 600Å인 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 산화크로뮴층의 두께는 50 내지 400Å인 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 저마늄 합금은, 상기 저마늄 50 내지 99wt% 및 주기율표의 3B족 내지 5A족에 속하는 1개 이상의 원소 1 내지 50wt%로 이루어지는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 기판은, 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리이미드(PI), 사이클로올레핀폴리머(COP), 폴리에테르술폰(PES), 폴리에테르에테르케톤(PEEK), 폴리아릴레이트(PAR), 에이비에스(ABS) 수지, 및 실리콘 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 재질로 이루어지는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 기판과 상기 증착층 사이에 위치되는 프라이머 코팅층을 더 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 증착층의 상면에 형성되는 블랙 차폐 코팅층을 더 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명은, 최하층에 세라믹으로 이루어지는 세라믹층을 더 포함하는 증착층 및 상기 기판을 포함하여 이루어지는 적층체를 제공한다.
또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 세라믹층은, 굴절률이 1.7 내지 2.6인 1개 이상의 고굴절률층 및 굴절률이 1.4 이상 1.7 미만인 1개 이상의 저굴절률층을 포함하고, 상기 고굴절률층 및 상기 저굴절률층은 교번적으로 증착되는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 세라믹층은, 제1고굴절률층, 제1저굴절률층, 제2고굴절률층, 제2저굴절률층이 순서대로 증착되어 형성되는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 고굴절률층 및 상기 저굴절률층은, 산화물, 탄화물, 및 질화물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개 이상의 물질로 이루어지는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 고굴절률층은 Ti3O5로 이루어지고, 상기 저굴절률층은 이산화 규소(SiO2)로 이루어지는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 제1고굴절률층의 두께는 50 내지 400Å이고, 상기 제1저굴절률층의 두께는 150 내지 800Å이고, 상기 제2고굴절률층의 두께는 175 내지 900Å이고, 상기 제2저굴절률층의 두께는 225 내지 1100Å이고, 상기 유기물층의 두께는 50 내지 400Å이고, 상기 제1아연화합물층의 두께는 100 내지 600Å이고, 상기 저마늄층의 두께는 150 내지 800Å이고, 상기 제2아연화합물층의 두께는 100 내지 600Å이며, 상기 산화크로뮴층의 두께는 50 내지 400Å인 것을 특징으로 할 수 있다.
이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시예로 한정되는 것은 아니다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.
명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.
본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다"의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품, 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품, 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
본 발명의 적층체(1)는 기판(10) 및 기판(10)의 상부에 형성되는 증착층(30)을 포함하여 이루어진다. 그리고 적층체(1)는 기판(10)의 상면에 형성되어 증착층(30)의 하면에 위치되는 프라이머 코팅층(20)을 더 포함할 수 있다. 또한 적층체(1)는 증착층(30)의 상면에 형성되는 블랙 차폐 코팅층(40)을 더 포함할 수 있다. 도 4에는 적층체(1)의 예시를 나타내는 모식도가 도시되어 있다.
적층체(1)는 특정한 색상 및 광택을 나타내면서, 전파를 투과시킬 수 있다. 따라서 적층체(1)는 차량용 센서 커버로 이용될 수 있다. 도 5에는 센서에서 나오는 전파(L1)가 대상(Object)에 도달하고, 대상으로부터 반사되는 전파(L2)가 센서에 도달하는 모습을 나타내는 개념도가 도시되어 있다. 이하, 적층체(1)에 대하여 그것을 이루는 각 구성요소별로 상술한다.
기판(10)은 투명 기판(10)일 수 있다. 이는 증착층(30)이나, 증착층(30) 및 블랙 차폐 코팅층(40)에 반사되는 광의 색상이 그대로 적층체(1)의 외부로 나타나게 하기 위함이다. 또한 이는 증착층(30)이 나타내는 광택을 그대로 적층체(1)의 외부로 나타나게 하기 위함이다. 도 5에서, 사람이 대상 쪽에서 적층체(1)를 바라볼 때, 적층체(1)는 특정한 색상으로 보인다. 이는 대상 쪽에서 조사되어 적층체(1)에 도달하는 광의 일부가, 다시 대상 쪽으로 반사되면서 특정한 색상을 나타내는 것이다. 이는 증착층(30)이나, 증착층(30) 및 블랙 차폐 코팅층(40)에 반사되는 광의 특정한 색상이 그대로 투명 기판(10)을 투과하여 외부로 나타난 것일 수 있다. 구체적으로, 기판(10)은 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리이미드(PI), 사이클로올레핀폴리머(COP), 폴리에테르술폰(PES), 폴리에테르에테르케톤(PEEK), 폴리아릴레이트(PAR), 에이비에스(ABS) 수지, 및 실리콘 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 재질로 이루어질 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.
프라이머 코팅층(20)은 아크릴 계열의 수지(주성분), 용제, 및 기타 첨가제가 혼합된 물질로 이루어질 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다. 그리고 프라이머 코팅층(20)은 도장(painting), 디핑(dipping), 또는 스프레이(spray) 공정으로 형성될 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다. 또한 프라이머 코팅층(20)은 투명하거나 반투명하다. 이는, 기판(10)의 경우와 마찬가지로, 증착층(30)이나, 증착층(30) 및 블랙 차폐 코팅층(40)에 반사되는 광의 색상이 그대로 적층체(1)의 외부로 나타나게 하기 위함이다. 또한 이는, 기판(10)의 경우와 마찬가지로, 증착층(30)이 나타내는 광택을 그대로 적층체(1)의 외부로 나타나게 하기 위함이다. 또한 프라이머 코팅층(20)은 접착력이 있어, 기판(10) 및 증착층(30)의 접착을 돕는다.
블랙 차폐 코팅층(40)은 아크릴 계열의 수지(주성분), 흑색 안료, 용제, 및 기타 첨가제가 혼합된 물질로 이루어질 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다. 그리고 블랙 차폐 코팅층(40)은 도장(painting), 디핑(dipping), 또는 스프레이(spray) 공정으로 형성될 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다. 또한 블랙 차폐 코팅층(40)은 흑색이다. 이는, 적층체(1)가 차량용 센서 커버로 이용되는 경우, 차량 내부의 부품들이 외부에서 보이지 않는 것이 바람직하기 때문이다. 또한 블랙 차폐 코팅층(40)의 색상은 외부에 보여지는 적층체(1)의 색상과도 관련이 있다. 블랙 차폐 코팅층(40)의 색상이 그대로 외부에 나타나, 적층체(1)가 흑색을 나타낼 수도 있다. 그러나 증착층(30)을 이루는 물질들, 증착층(30)의 두께 등이 변화되어 적층체(1)가 밝은 색상을 나타낼 수도 있다.
증착층(30)은 1개 이상의 층이 소정의 증착 방법에 의해 증착되어 형성된다. 증착 방법은 열 증착(thermal evaporation), 전자빔 증착(electron beam evaporation), 스퍼터링(sputtering), 열 CVD(thermal Chemical Vapor Deposition), 플라즈마 CVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD), MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition), 및 무전해 도금 중 하나 이상의 방법일 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.
증착층(30)은 저마늄(Ge)층(320)을 포함한다. 저마늄층(320)은 저마늄 또는 저마늄 합금으로 이루어진다. 저마늄은 광택을 나타내고, 전파를 투과시킬 수 있다. 저마늄 합금도 광택을 나타내고, 전파를 투과시킬 수 있다. 저마늄 합금은 저마늄 외에 1개 이상의 원소를 포함하여 이루어진다. 1개 이상의 원소는 주기율표의 3B족 내지 5A족에 속하는 원소일 수 있다. 더욱 구체적으로, 1개 이상의 원소는 금(Au), 은(Ag), 붕소(B), 알루미늄(Al), 갈륨(Ga), 인듐(In), 주석(Sn), 및 탈륨(Tl)으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 원소일 수 있다. 저마늄 합금에 있어, 저마늄의 함량은 50 내지 99wt%를 제안하고, 나머지 성분의 함량은 1 내지 50wt%를 제안한다. 저마늄 함량이 50wt% 미만이거나, 나머지 성분 함량이 50wt%를 초과하면, 저마늄층(320)에 의해 나타나는 광택과 금속 질감이 원하는 정도보다 떨어질 수 있다. 저마늄 함량이 99wt%를 초과하거나, 나머지 성분의 함량이 1wt% 미만이면, 저마늄층(320)의 목표 성능(예를 들어, 강도)이 제대로 발휘되지 않을 수 있다.
증착층(30)은 저마늄층(320) 외에 다양한 층들을 포함할 수 있다. 예를 들어, 증착층(30)은 저마늄층(320) 및 세라믹층(310)을 포함할 수 있다(도 6 참조). 세라믹층(310)은 세라믹으로 이루어진다. 세라믹층(310)은 적층체(1)의 색상 및 밝기를 조절하는 제1기능, 저마늄층(320)을 외부의 충격으로부터 보호하는 제2기능, 기판(10)(또는 프라이머 코팅층(20))과 저마늄층(320)의 결합력을 향상하는 제3기능 등을 구비할 수 있다. 제1기능을 발휘하기 위해, 세라믹층(310)은 1개 이상의 고굴절률층(311) 및 1개 이상의 저굴절률층(312)을 포함할 수 있다. 고굴절률층(311)은 굴절률이 1.7 내지 2.6일 수 있고, 산화물, 탄화물, 및 질화물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개 이상의 물질로 이루어질 수 있다. 저굴절률층(312)은 굴절률이 1.4 이상 1.7 미만일 수 있고, 산화물, 탄화물, 및 질화물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개 이상의 물질로 이루어질 수 있다. 더욱 구체적으로, 고굴절률층(311)은 이산화 타이타늄(TiO2)으로 이루어지고, 저굴절률층(312)은 이산화 규소(SiO2)로 이루어질 수 있다. 고굴절률층(311)의 굴절률과 저굴절률층(312)의 굴절률의 구분 기준은 적층체(1)의 색상 및 밝기를 용이하게 조절하기 위해 정해진 것이다. 다시 말해, 일단 고굴절률층(311)의 굴절률 및 저굴절률층(312)의 굴절률이 정해지면, 세라믹층(310)의 층 수, 세라믹층(310)의 두께, 저마늄층(320)의 두께 등이 조절됨으로써, 적층체(1)의 색상 및 밝기가 조절될 수 있다. 도 6에는 저마늄층(320) 및 세라믹층(310)을 포함하는 증착층(30)의 예시를 나타내는 모식도가 도시되어 있다. 도 6에서, 증착층(30)은 제1고굴절률층(311a), 저마늄층(320), 저굴절률층(312), 및 제2고굴절률층(311b)이 순서대로 증착되어 형성된다. 도 6에서, 제1고굴절률층(311a) 및 저굴절률층(312) 사이에 저마늄층(320)이 위치되므로, 제1고굴절률층(311a) 및 저굴절률층(312)은 상기 제2기능을 발휘한다고 할 수 있다. 또한 도 6에서, 제1고굴절률층(311a) 및 저마늄층(320) 간에는 부착력이 작용하므로, 제1고굴절률층(311a)은 상기 제3기능을 발휘한다고 할 수 있다.
또 다른 예로, 증착층(30)은 유기물층(330), 아연화합물층(340), 및 저마늄층(320)을 포함할 수 있다(도 7 참조). 유기물층(330)은 유기물로 이루어진다. 구체적으로, 유기물층(330)은 GlipoxanTM으로 이루어질 수 있다. 한편 저마늄층(320)은 수분에 접촉될 경우 산화되기 쉽다. 이는 적층체(1)의 내수성 및 내습성이 좋지 않다는 의미이다. 그러나 적층체(1)가 유기물층(330)을 포함할 경우, 유기물층(330)이 적층체(1)의 내수성 및 내습성을 향상할 수 있다. 아연화합물층(340)은 황화 아연(ZnS) 또는 셀레늄화 아연(ZnSe)으로 이루어진다. 아연화합물층(340)도 적층체(1)의 내수성 및 내습성을 향상하는 기능을 한다. 특히 아연화합물층(340)이 두 층(제1아연화합물층(340a) 및 제2아연화합물층(340b))으로 이루어지고, 두 층 사이에 저마늄층(320)이 위치될 경우, 아연화합물층(340)은 저마늄층(320)을 외부의 충격으로부터 보호하면서 적층체(1)의 내수성 및 내습성을 향상할 수 있다. 또한 아연화합물층(340)이 두 층으로 이루어질 경우, 증착층(30)은 유기물층(330), 제1아연화합물층(340a), 저마늄층(320), 및 제2아연화합물층(340b)이 순서대로 증착되어 형성될 수 있다.
또 다른 예로, 증착층(30)은 유기물층(330), 아연화합물층(340), 저마늄층(320), 및 산화크로뮴(CrOx)층(350)을 포함할 수 있다(도 7 참조). 유기물층(330) 및 아연화합물층(340)에 대한 내용은 전술한 바와 같다. 산화크로뮴층(350)은 산화크로뮴으로 이루어진다. 산화크로뮴층(350)은 증착층(30)의 최상층에 증착되어 증착층(30) 전체를 보호한다. 특히 산화크로뮴층(350)이 저마늄층(320)에 수분이 침투하는 것을 방지할 수 있다. 또한 적층체(1)가 블랙 차폐 코팅층(40)을 포함할 경우, 산화크로뮴층(350) 및 블랙 차폐 코팅층(40) 간에는 부착력이 작용한다. 따라서 산화크로뮴층(350)은 증착층(30)과 블랙 차폐 코팅층(40)의 결합력을 향상하는 기능도 한다. 도 7에는 유기물층(330), 아연화합물층(340), 저마늄층(320), 및 산화크로뮴층(350)을 포함하는 증착층(30)의 예시를 나타내는 모식도가 도시되어 있다. 도 7에서, 증착층(30)은 유기물층(330), 제1아연화합물층(340a), 저마늄층(320), 제2아연화합물층(340b), 및 산화크로뮴층(350)이 순서대로 증착되어 형성된다. 도 7에서, 유기물층(330)의 두께는 50 내지 400Å인 것이 바람직하다. 유기물층(330)의 두께가 50Å 미만이면, 유기물층(330)의 내수성 및 내습성 향상 기능이 제대로 발휘되지 않을 수 있다. 유기물층(330)의 두께가 400Å을 초과하면, 저마늄층(320)에 의해 나타나는 광택과 금속 질감이 손상될 수 있다. 또한 이 경우, 적층체(1)의 전파 투과율이 낮을 수도 있다. 도 7에서, 제1아연화합물층(340a)의 두께는 100 내지 600Å인 것이 바람직하다. 제1아연화합물층(340a)의 두께가 100Å 미만이면, 제1아연화합물층(340a)의 내수성 및 내습성 향상 기능이 제대로 발휘되지 않을 수 있다. 또한 이 경우, 제1아연화합물층(340a)이 저마늄층(320)을 외부의 충격으로부터 제대로 보호하지 못할 수 있다. 제1아연화합물층(340a)의 두께가 600Å을 초과하면, 적층체(1)의 전파 투과율이 낮을 수 있다. 도 7에서, 저마늄층(320)의 두께는 150 내지 800Å인 것이 바람직하다. 저마늄층(320)의 두께가 150Å 미만이면, 여러 가지 환경적인 요인에 의해 저마늄층(320)의 박리가 쉽게 일어날 수 있다. 저마늄층(320)의 두께가 800Å을 초과하면, 적층체(1)의 전파 투과율이 낮을 수 있다. 도 7에서, 제2아연화합물층(340b)의 두께는 100 내지 600Å인 것이 바람직하다. 제2아연화합물층(340b)의 두께가 100Å 미만이면, 제2아연화합물층(340b)의 내수성 및 내습성 향상 기능이 제대로 발휘되지 않을 수 있다. 또한 이 경우, 제2아연화합물층(340b)이 저마늄층(320)을 외부의 충격으로부터 제대로 보호하지 못할 수 있다. 제2아연화합물층(340b)의 두께가 600Å을 초과하면, 적층체(1)의 전파 투과율이 낮을 수 있다. 도 7에서, 산화크로뮴층(350)의 두께는 50 내지 400Å인 것이 바람직하다. 산화크로뮴층(350)의 두께가 50Å 미만이면, 산화크로뮴층(350)의 증착층(30) 전체 보호 기능이 약할 수 있다. 산화크로뮴층(350)의 두께가 400Å을 초과하면, 적층체(1)의 전파 투과율이 낮을 수 있다. 투명 기판(10) 상에, 지금까지 상술한 두께 조건을 동시에 만족하는 증착층(30)(도 7에 도시된 증착층(30))이 형성됨으로써 제조되는 적층체(1)는, 흑색(black)을 나타낸다. 흑색의 적층체(1)는 프론트 그릴 및/또는 엠블럼과 어우러질 수 있다.
또 다른 예로, 증착층(30)은 세라믹층(310), 유기물층(330), 아연화합물층(340), 저마늄층(320), 및 산화크로뮴층(350)을 포함할 수 있다(도 8 참조). 유기물층(330), 아연화합물층(340), 및 산화크로뮴층(350)에 대한 내용은 전술한 바와 같다. 세라믹층(310)은 세라믹으로 이루어진다. 세라믹층(310)은 증착층(30)의 최하층에 증착되어, 적층체(1)의 색상 및 밝기를 조절한다. 이를 위해, 세라믹층(310)은 1개 이상의 고굴절률층(311) 및 1개 이상의 저굴절률층(312)을 포함할 수 있고, 상기 고굴절률층(311) 및 상기 저굴절률층(312)은 교번적으로 증착될 수 있다. 고굴절률층(311)은 굴절률이 1.7 내지 2.6일 수 있고, 산화물, 탄화물, 및 질화물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개 이상의 물질로 이루어질 수 있다. 저굴절률층(312)은 굴절률이 1.4 이상 1.7 미만일 수 있고, 산화물, 탄화물, 및 질화물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개 이상의 물질로 이루어질 수 있다. 더욱 구체적으로, 고굴절률층(311)은 Ti3O5로 이루어지고, 저굴절률층(312)은 이산화 규소로 이루어질 수 있다. 고굴절률층(311)의 굴절률과 저굴절률층(312)의 굴절률의 구분 기준은 적층체(1)의 색상 및 밝기를 용이하게 조절하기 위해 정해진 것이다. 다시 말해, 일단 고굴절률층(311)의 굴절률 및 저굴절률층(312)의 굴절률이 정해지면, 세라믹층(310)의 층 수, 세라믹층(310)의 두께, 저마늄층(320)의 두께 등이 조절됨으로써, 적층체(1)의 색상 및 밝기가 조절될 수 있다. 도 8에는 세라믹층(310), 유기물층(330), 아연화합물층(340), 저마늄층(320), 및 산화크로뮴층(350)을 포함하는 증착층(30)의 예시를 나타내는 모식도가 도시되어 있다. 도 8에서, 증착층(30)은 제1고굴절률층(311a), 제1저굴절률층(312a), 제2고굴절률층(311b), 제2저굴절률층(312b), 유기물층(330), 제1아연화합물층(340a), 저마늄층(320), 제2아연화합물층(340b), 및 산화크로뮴층(350)이 순서대로 증착되어 형성된다. 도 8에서, 유기물층(330)의 두께, 제1아연화합물층(340a)의 두께, 저마늄층(320)의 두께, 제2아연화합물층(340b)의 두께, 및 산화크로뮴층(350)의 두께에 대한 내용은 전술한 바와 같다. 도 8에서, 제1고굴절률층(311a)의 두께는 50 내지 400Å이고, 제1저굴절률층(312a)의 두께는 150 내지 800Å이고, 제2고굴절률층(311b)의 두께는 175 내지 900Å이며, 제2저굴절률층(312b)의 두께는 225 내지 1100Å인 것이 바람직하다. 투명 기판(10) 상에, 지금까지 상술한 두께 조건을 만족하는 증착층(30)(도 8에 도시된 증착층(30))이 형성됨으로써 제조되는 적층체(1)는, 은색(silver)을 나타낸다. 즉, 도 7에 도시된 증착층(30)에, 도 8에 도시된 바와 같이, 세라믹층(310)이 부가됨으로써 적층체(1)의 색상이 흑색에서 은색으로 바뀐 것이다. 은색의 적층체(1)는 프론트 그릴 및/또는 엠블럼과 어우러질 수 있다.
[실시예 1 - 흑색 적층체(1)의 제조]
사출성형된 폴리카보네이트 기판(10)을 준비하였다. 기판(10)의 상면을 아크릴 수지를 주성분으로 하는 슬러리로 도장함으로써, 프라이머 코팅층(20)을 형성하였다.
프라이머 코팅층(20)이 형성된 기판(10)을 진공 챔버 내의 하부에 장착하고, 진공 챔버 내의 진공도가 7×10- 6Torr가 되도록 배기하였다. 진공 챔버 내에 설치된 MFC(Mass Flow Controller)를 통하여 모노머(Monomer) 상태의 GlipoxanTM을 진공 챔버 내부에 120sccm으로 공급하였다. 그리고 진공 챔버 내에 설치된 플라즈마(Plasma) 발생장치의 전극판에 3000W의 전력(Power)을 인가하였다. 그 결과, 폴리머(Polymer) 상태의 GlipoxanTM이 프라이머 코팅층(20)의 상면에 증착됨으로써, 유기물층(330)이 증착되었다. 이는, 진공 챔버 내부에서, 플라즈마 발생장치에 의한 전기장 내에서 모노머 상태의 GlipoxanTM이 플라즈마 상태로 되었다가, 플라즈마 상태의 물질들이 중합되어 폴리머 상태의 GlipoxanTM이 되는 반응(Plasma polymerization)이 주로 일어난 것이다.
프라이머 코팅층(20) 및 유기물층(330)이 형성된 기판(10)을 진공 챔버 내의 상부에 장착하고, 황화 아연 약품을 진공 챔버 내에 설치된 도가니에 주입하였다. 진공 챔버 내의 진공도가 1×10- 5Torr가 되도록 배기하였다. 그리고 진공 챔버 내에 설치된 전자총(Electron beam gun)에 7.5kV의 전압(50 내지 450mA의 전류)을 공급하여, 전자빔(Electron beam)을 황화 아연 약품에 조사하였다. 그 결과, 유기물층(330)의 상면에 황화 아연이 증착됨으로써, 제1아연화합물층(340a)이 증착되었다. 이는, 전자빔의 에너지에 의해 황화 아연이 증발됨으로써, 황화 아연이 유기물층(330)의 상면에 증착된 것이다. 이와 같은 전자빔 증착 방법으로, 제1아연화합물층(340a)의 상면에, 저마늄층(320), 제2아연화합물층(340b), 및 산화크로뮴층(350)을 순서대로 증착하였다. 저마늄층(320)에는 저마늄이 이용되었다. 제2아연화합물층(340b)에는 황화 아연이 이용되었다. 그리고 산화크로뮴층(350)에는 Cr2O3가 이용되었다.
산화크로뮴층(350)까지 증착된 적층체(1)를 진공 챔버로부터 취출한 다음, 그것을 아크릴 수지를 주성분으로 하고 흑색 안료가 첨가된 슬러리로 도장함으로써, 블랙 차폐 코팅층(40)을 형성하였다.
즉, 기판(10)-프라이머 코팅층(20)-유기물층(330)-제1아연화합물층(340a)-저마늄층(320)-제2아연화합물층(340b)-산화크로뮴층(350)-블랙 차폐 코팅층(40)으로 이루어지는 적층체(1)를 제조하였다(도 4 및 도 7 참조). 유기물층(330)의 두께는 150Å이었다. 제1아연화합물층(340a)의 두께는 250Å이었다. 저마늄층(320)의 두께는 350Å이었다. 제2아연화합물층(340b)의 두께는 250Å이었다. 그리고 산화크로뮴층(350)의 두께는 150Å이었다.
[실시예 2 - 실시예 1의 적층체(1)에 세라믹층(310)을 추가하여 은색 적층체(1) 제조]
사출성형된 폴리카보네이트 기판(10)을 준비하였다. 기판(10)의 상면을 아크릴 수지를 주성분으로 하는 슬러리로 도장함으로써, 프라이머 코팅층(20)을 형성하였다.
프라이머 코팅층(20)이 형성된 기판(10)을 진공 챔버 내의 상부에 장착하고, Ti3O5 약품을 진공 챔버 내에 설치된 도가니에 주입하였다. 진공 챔버 내의 진공도가 1×10- 5Torr로 되도록 배기하였다. 그리고 진공 챔버 내에 설치된 전자총에 7.5kV의 전압(50 내지 450mA의 전류)을 공급하여, 전자빔을 Ti3O5 약품에 조사하였다. 그 결과, 프라이머 코팅층(20)의 상면에 Ti3O5가 증착됨으로써, 제1고굴절률층(311a)이 증착되었다. 이는, 전자빔의 에너지에 의해 Ti3O5가 증발됨으로써, Ti3O5가 프라이머 코팅층(20)의 상면에 증착된 것이다. 이와 같은 전자빔 증착 방법으로, 제1고굴절률층(311a)의 상면에, 제1저굴절률층(312a), 제2고굴절률층(311b), 및 제2저굴절률층(312b)을 순서대로 증착하였다. 제1저굴절률층(312a) 및 제2저굴절률층(312b)에는 이산화 규소가 이용되었다. 그리고 제2고굴절률층(311b)에는 Ti3O5가 이용되었다.
프라이머 코팅층(20) 및 세라믹층(310)이 형성된 기판(10)을 진공 챔버 내의 하부에 장착하고, 진공 챔버 내의 진공도가 7×10- 6Torr가 되도록 배기하였다. 진공 챔버 내에 설치된 MFC를 통하여 모노머 상태의 GlipoxanTM을 진공 챔버 내부에 120sccm으로 공급하였다. 그리고 진공 챔버 내에 설치된 플라즈마 발생장치의 전극판에 3000W의 전력을 인가하였다. 그 결과, 폴리머 상태의 GlipoxanTM이 제2저굴절률층(312b)의 상면에 증착됨으로써, 유기물층(330)이 증착되었다. 이는, 진공 챔버 내부에서, Plasma polymerization이 주로 일어난 것이다.
이후로는, 실시예 1에서의 층들과 동일한 층들을 실시예 1에서의 방법과 동일한 방법으로 형성하였다. 즉, 기판(10)-프라이머 코팅층(20)-제1고굴절률층(311a)-제1저굴절률층(312a)-제2고굴절률층(311b)-제2저굴절률층(312b)-유기물층(330)-제1아연화합물층(340a)-저마늄층(320)-제2아연화합물층(340b)-산화크로뮴층(350)-블랙 차폐 코팅층(40)으로 이루어지는 적층체(1)를 제조하였다(도 4 및 도 8 참조). 제1고굴절률층(311a)의 두께는 150Å이었다. 제1저굴절률층(312a)의 두께는 350Å이었다. 제2고굴절률층(311b)의 두께는 400Å이었다. 제2저굴절률층(312b)의 두께는 500Å이었다. 그리고 나머지 층들의 두께는, 이에 대응되는, 실시예 1에서의 층들의 두께와 동일했다.
[비교예 1 - 실시예 1의 적층체(1)에서 유기물층(330), 아연화합물층(340), 및 산화크로뮴층(350) 제외]
사출성형된 폴리카보네이트 기판(10)을 준비하였다. 기판(10)의 상면을 아크릴 수지를 주성분으로 하는 슬러리로 도장함으로써, 프라이머 코팅층(20)을 형성하였다.
프라이머 코팅층(20)이 형성된 기판(10)을 진공 챔버 내의 상부에 장착하고, 저마늄 시편을 진공 챔버 내에 설치된 도가니에 투입하였다. 진공 챔버 내의 진공도가 1×10- 5Torr로 되도록 배기하였다. 그리고 진공 챔버 내에 설치된 전자총에 7.5kV의 전압(50 내지 450mA의 전류)을 공급하여, 전자빔을 저마늄 시편에 조사하였다. 그 결과, 프라이머 코팅층(20)의 상면에 저마늄이 증착됨으로써, 저마늄층(320)이 증착되었다. 이는, 전자빔의 에너지에 의해 저마늄이 증발됨으로써, 저마늄이 프라이머 코팅층(20)의 상면에 증착된 것이다.
저마늄층(320)까지 증착된 적층체(1)를 진공 챔버로부터 취출한 다음, 그것을 아크릴 수지를 주성분으로 하고 흑색 안료가 첨가된 슬러리로 도장함으로써, 블랙 차폐 코팅층(40)을 형성하였다.
즉, 기판(10)-프라이머 코팅층(20)-저마늄층(320)-블랙 차폐 코팅층(40)으로 이루어지는 적층체(1)를 제조하였다. 저마늄층(320)의 두께는 350Å이었다.
[비교예 2 - 실시예 1의 적층체(1)에서 유기물층(330) 및 산화크로뮴층(350) 제외]
사출성형된 폴리카보네이트 기판(10)을 준비하였다. 기판(10)의 상면을 아크릴 수지를 주성분으로 하는 슬러리로 도장함으로써, 프라이머 코팅층(20)을 형성하였다.
프라이머 코팅층(20)이 형성된 기판(10)을 진공 챔버 내의 상부에 장착하고, 황화 아연 약품을 진공 챔버 내에 설치된 도가니에 주입하였다. 진공 챔버 내의 진공도가 1×10- 5Torr로 되도록 배기하였다. 그리고 진공 챔버 내에 설치된 전자총에 7.5kV의 전압(50 내지 450mA의 전류)을 공급하여, 전자빔을 황화 아연 약품에 조사하였다. 그 결과, 프라이머 코팅층(20)의 상면에 황화 아연이 증착됨으로써, 제1아연화합물층(340a)이 증착되었다. 이와 같은 전자빔 증착의 방법으로, 제1아연화합물층(340a)의 상면에, 저마늄층(320) 및 제2아연화합물층(340b)을 순서대로 증착하였다. 저마늄층(320)에는 저마늄이 이용되었다. 그리고 제2아연화합물층(340b)에는 황화 아연이 이용되었다.
제2아연화합물층(340b)까지 증착된 적층체(1)를 진공 챔버로부터 취출한 다음, 그것을 아크릴 수지를 주성분으로 하고 흑색 안료가 첨가된 슬러리로 도장함으로써, 블랙 차폐 코팅층(40)을 형성하였다.
즉, 기판(10)-프라이머 코팅층(20)-제1아연화합물층(340a)-저마늄층(320)-제2아연화합물층(340b)-블랙 차폐 코팅층(40)으로 이루어지는 적층체(1)를 제조하였다. 제1아연화합물층(340a)의 두께는 250Å이었다. 저마늄층(320)의 두께는 350Å이었다. 그리고 제2아연화합물층(340b)의 두께는 250Å이었다.
[비교예 3 - 실시예 1의 적층체(1)에서 산화크로뮴층(350) 제외]
사출성형된 폴리카보네이트 기판(10)을 준비하였다. 기판(10)의 상면을 아크릴 수지를 주성분으로 하는 슬러리로 도장함으로써, 프라이머 코팅층(20)을 형성하였다.
프라이머 코팅층(20)이 형성된 기판(10)을 진공 챔버 내의 하부에 장착하고, 진공 챔버 내의 진공도가 7×10- 6Torr가 되도록 배기하였다. 진공 챔버 내에 설치된 MFC를 통하여 모노머 상태의 GlipoxanTM을 진공 챔버 내부에 120sccm으로 공급하였다. 그리고 진공 챔버 내에 설치된 플라즈마 발생장치의 전극판에 3000W의 전력(Power)을 인가하였다. 그 결과, 폴리머 상태의 GlipoxanTM이 프라이머 코팅층(20)의 상면에 증착됨으로써, 유기물층(330)이 증착되었다. 이는, 진공 챔버 내부에서, Plasma polymerization이 주로 일어난 것이다.
프라이머 코팅층(20) 및 유기물층(330)이 형성된 기판(10)을 진공 챔버 내의 상부에 장착하고, 황화 아연 약품을 진공 챔버 내에 설치된 도가니에 주입하였다. 진공 챔버 내의 진공도가 1×10- 5Torr가 되도록 배기하였다. 그리고 진공 챔버 내에 설치된 전자총에 7.5kV의 전압(50 내지 450mA의 전류)을 공급하여, 전자빔을 황화 아연 약품에 조사하였다. 그 결과, 유기물층(330)의 상면에 황화 아연이 증착됨으로써, 제1아연화합물층(340a)이 증착되었다. 이는, 전자빔의 에너지에 의해 황화 아연이 증발됨으로써, 황화 아연이 유기물층(330)의 상면에 증착된 것이다. 이와 같은 전자빔 증착 방법으로, 제1아연화합물층(340a)의 상면에, 저마늄층(320) 및 제2아연화합물층(340b)을 순서대로 증착하였다. 저마늄층(320)에는 저마늄이 이용되었다. 그리고 제2아연화합물층(340b)에는 황화 아연이 이용되었다.
제2아연화합물층(340b)까지 증착된 적층체(1)를 진공 챔버로부터 취출한 다음, 그것을 아크릴 수지를 주성분으로 하고 흑색 안료가 첨가된 슬러리로 도장함으로써, 블랙 차폐 코팅층(40)을 형성하였다.
즉, 기판(10)-프라이머 코팅층(20)-유기물층(330)-제1아연화합물층(340a)-저마늄층(320)-제2아연화합물층(340b)-블랙 차폐 코팅층(40)으로 이루어지는 적층체(1)를 제조하였다. 유기물층(330)의 두께는 150Å이었다. 제1아연화합물층(340a)의 두께는 250Å이었다. 저마늄층(320)의 두께는 350Å이었다. 그리고 제2아연화합물층(340b)의 두께는 250Å이었다.
[비교예 4 - 실시예 2의 적층체(1)에서 유기물층(330), 아연화합물층(340), 및 산화크로뮴층(350) 제외]
기판(10)-프라이머 코팅층(20)-제1고굴절률층(311a)-제1저굴절률층(312a)-제2고굴절률층(311b)-제2저굴절률층(312b)으로 이루어지는 적층체(1)를 제조하였다. 이 적층체(1)에는 실시예 2에서의 물질들과 동일한 물질 및 실시예 2에서의 방법과 동일한 방법이 이용되었다.
프라이머 코팅층(20) 및 세라믹층(310)이 형성된 기판(10)을 진공 챔버 내의 상부에 장착하고, 저마늄 시편을 진공 챔버 내에 설치된 도가니에 투입하였다. 진공 챔버 내의 진공도가 1×10- 5Torr로 되도록 배기하였다. 그리고 진공 챔버 내에 설치된 전자총에 7.5kV의 전압(50 내지 450mA의 전류)을 공급하여, 전자빔을 저마늄 시편에 조사하였다. 그 결과, 제2저굴절률층(312b)의 상면에 저마늄이 증착됨으로써, 저마늄층(320)이 증착되었다. 이는, 전자빔의 에너지에 의해 저마늄이 증발됨으로써, 저마늄이 제2저굴절률층(312b)의 상면에 증착된 것이다.
저마늄층(320)까지 증착된 적층체(1)를 진공 챔버로부터 취출한 다음, 그것을 아크릴 수지를 주성분으로 하고 흑색 안료가 첨가된 슬러리로 도장함으로써, 블랙 차폐 코팅층(40)을 형성하였다.
즉, 기판(10)-프라이머 코팅층(20)-제1고굴절률층(311a)-제1저굴절률층(312a)-제2고굴절률층(311b)-제2저굴절률층(312b)-저마늄층(320)-블랙 차폐 코팅층(40)으로 이루어지는 적층체(1)를 제조하였다. 저마늄층(320)의 두께는 350Å이었다.
[비교예 5 - 실시예 2의 적층체(1)에서 유기물층(330) 및 산화크로뮴층(350) 제외]
기판(10)-프라이머 코팅층(20)-제1고굴절률층(311a)-제1저굴절률층(312a)-제2고굴절률층(311b)-제2저굴절률층(312b)으로 이루어지는 적층체(1)를 제조하였다. 이 적층체(1)에는 실시예 2에서의 물질들과 동일한 물질 및 실시예 2에서의 방법과 동일한 방법이 이용되었다.
프라이머 코팅층(20) 및 세라믹층(310)이 형성된 기판(10)을 진공 챔버 내의 상부에 장착하고, 황화 아연 약품을 진공 챔버 내에 설치된 도가니에 주입하였다. 진공 챔버 내의 진공도가 1×10- 5Torr가 되도록 배기하였다. 그리고 진공 챔버 내에 설치된 전자총에 7.5kV의 전압(50 내지 450mA의 전류)을 공급하여, 전자빔을 황화 아연 약품에 조사하였다. 그 결과, 제2저굴절률층(312b)의 상면에 황화 아연이 증착됨으로써, 제1아연화합물층(340a)이 증착되었다. 이와 같은 전자빔 증착 방법으로, 제1아연화합물층(340a)의 상면에, 저마늄층(320) 및 제2아연화합물층(340b)을 순서대로 증착하였다. 저마늄층(320)에는 저마늄이 이용되었다. 그리고 제2아연화합물층(340b)에는 황화 아연이 이용되었다.
제2아연화합물층(340b)까지 증착된 적층체(1)를 진공 챔버로부터 취출한 다음, 그것을 아크릴 수지를 주성분으로 하고 흑색 안료가 첨가된 슬러리로 도장함으로써, 블랙 차폐 코팅층(40)을 형성하였다.
즉, 기판(10)-프라이머 코팅층(20)-제1고굴절률층(311a)-제1저굴절률층(312a)-제2고굴절률층(311b)-제2저굴절률층(312b)-제1아연화합물층(340a)-저마늄층(320)-제2아연화합물층(340b)-블랙 차폐 코팅층(40)으로 이루어지는 적층체(1)를 제조하였다. 제1아연화합물층(340a)의 두께는 250Å이었다. 저마늄층(320)의 두께는 350Å이었다. 그리고 제2아연화합물층(340b)의 두께는 250Å이었다.
[비교예 6 - 실시예 2의 적층체(1)에서 산화크로뮴층(350) 제외]
기판(10)-프라이머 코팅층(20)-제1고굴절률층(311a)-제1저굴절률층(312a)-제2고굴절률층(311b)-제2저굴절률층(312b)으로 이루어지는 적층체(1)를 제조하였다. 이 적층체(1)에는 실시예 2에서의 물질들과 동일한 물질 및 실시예 2에서의 방법과 동일한 방법이 이용되었다.
프라이머 코팅층(20) 및 세라믹층(310)이 형성된 기판(10)을 진공 챔버 내의 하부에 장착하고, 진공 챔버 내의 진공도가 7×10- 6Torr가 되도록 배기하였다. 진공 챔버 내에 설치된 MFC를 통하여 모노머 상태의 GlipoxanTM을 진공 챔버 내부에 120sccm으로 공급하였다. 그리고 진공 챔버 내에 설치된 플라즈마 발생장치의 전극판에 3000W의 전력(Power)을 인가하였다. 그 결과, 폴리머 상태의 GlipoxanTM이 제2저굴절률층(312b)의 상면에 증착됨으로써, 유기물층(330)이 증착되었다. 이는, 진공 챔버 내부에서, Plasma polymerization이 주로 일어난 것이다.
프라이머 코팅층(20), 세라믹층(310), 및 유기물층(330)이 형성된 기판(10)을 진공 챔버 내의 상부에 장착하고, 황화 아연 약품을 진공 챔버 내에 설치된 도가니에 주입하였다. 진공 챔버 내의 진공도가 1×10- 5Torr가 되도록 배기하였다. 그리고 진공 챔버 내에 설치된 전자총에 7.5kV의 전압(50 내지 450mA의 전류)을 공급하여, 전자빔을 황화 아연 약품에 조사하였다. 그 결과, 유기물층(330)의 상면에 황화 아연이 증착됨으로써, 제1아연화합물층(340a)이 증착되었다. 이는, 전자빔의 에너지에 의해 황화 아연이 증발됨으로써, 황화 아연이 유기물층(330)의 상면에 증착된 것이다. 이와 같은 전자빔 증착 방법으로, 제1아연화합물층(340a)의 상면에, 저마늄층(320) 및 제2아연화합물층(340b)을 순서대로 증착하였다. 저마늄층(320)에는 저마늄이 이용되었다. 그리고 제2아연화합물층(340b)에는 황화 아연이 이용되었다.
제2아연화합물층(340b)까지 증착된 적층체(1)를 진공 챔버로부터 취출한 다음, 그것을 아크릴 수지를 주성분으로 하고 흑색 안료가 첨가된 슬러리로 도장함으로써, 블랙 차폐 코팅층(40)을 형성하였다.
즉, 기판(10)-프라이머 코팅층(20)-제1고굴절률층(311a)-제1저굴절률층(312a)-제2고굴절률층(311b)-제2저굴절률층(312b)-유기물층(330)-제1아연화합물층(340a)-저마늄층(320)-제2아연화합물층(340b)-블랙 차폐 코팅층(40)으로 이루어지는 적층체(1)를 제조하였다. 유기물층(330)의 두께는 150Å이었다. 제1아연화합물층(340a)의 두께는 250Å이었다. 저마늄층(320)의 두께는 350Å이었다. 그리고 제2아연화합물층(340b)의 두께는 250Å이었다.
[실험예 1 - 반사율 측정]
실시예 1 및 실시예 2에서 제조된 적층체(1)들에 대하여 반사율을 측정하였다(Hitachi spectrophotometer U-3010). 실시예 1에서 제조된 적층체(1)에 대한 반사율 측정 결과는 도 9에 도시되어 있다. 그리고 실시예 2에서 제조된 적층체(1)에 대한 반사율 측정 결과는 도 10에 도시되어 있다.
도 9에서, 적층체(1)의 반사율 그래프(Ge Black)는 흑색 기준 그래프(Black Reference)와 유사하게 나타나므로, 실시예 1에서 제조된 적층체(1)는 흑색이라는 것을 알 수 있다. 또한 도 9에서, 적층체(1)의 반사율 그래프는, 종래에 저마늄이 아닌 인듐(In) 또는 주석(Sn)이 이용된 적층체(1)보다 높은 반사율을 나타낸다. 이는 실시예 1에서 제조된 적층체(1)가 광택이 있어 우수한 금속 질감을 나타낸다는 것을 의미한다.
도 10에서, 적층체(1)의 반사율 그래프(Ge Silver)는 은색 기준 그래프(Silver Reference)와 유사하게 나타나므로, 실시예 2에서 제조된 적층체(1)는 은색이라는 것을 알 수 있다. 또한 도 10에서, 적층체(1)의 반사율 그래프는, 종래에 저마늄이 아닌 인듐(In) 또는 주석(Sn)이 이용된 적층체(1)보다 높은 반사율을 나타낸다. 이는 실시예 2에서 제조된 적층체(1)가 광택이 있어 우수한 금속 질감을 나타낸다는 것을 의미한다.
즉, 실시예 1에서 제조된 적층체(1)는 흑색 및 광택을 나타내고, 실시예 2에서 제조된 적층체(1)는 은색 및 광택을 나타낸다는 것을 확인하였다. 물론 이러한 결과를 육안으로도 확인하였다.
[실험예 2 - 전파 감쇠율 측정]
실시예 1 및 실시예 2에서 제조된 적층체(1)들에 대하여 전파 감쇠율을 측정하였다(SM5899). 그 결과는 다음 표 1과 같다.
Figure PCTKR2016010326-appb-T000001
표 1에 나타난 바와 같이, 실시예 1에서 제조된 적층체(1)를 투과한 전파는 -0.62dB만큼 변화하였고, 실시예 2에서 제조된 적층체(1)를 투과한 전파는 -0.66dB만큼 변화하였다. 즉, 실시예 1에서 제조된 적층체(1)를 투과한 전파와 실시예 2에서 제조된 적층체(1)를 투과한 전파는, 둘 다 10% 미만으로 감쇠하여, 실시예 1 및 실시예 2에서 제조된 적층체(1)들의 전파 투과율이 만족스러운 수준임을 확인하였다.
[실험예 3 - 내수성 실험]
실시예 1, 실시예 2, 비교예 1 내지 비교예 6에서 제조된 적층체(1)들에 대하여 내수성 실험을 하였다. 상기 적층체(1)들을 40℃의 물에 240시간 동안 침적시킨 후, 상기 적층체(1)들을 물에서 꺼냈다. 상기 적층체(1)들에 공기를 분사하여 수분을 제거한 후, 실온에서 1시간 동안 방치하였다. 그 후, 상기 적층체(1)들을 육안으로 확인하였고, 그 결과는 다음 표 2와 같다.
Figure PCTKR2016010326-appb-T000002
표 2에 나타난 바와 같이, 실시예 1 및 실시예 2를 제외하고, 다른 모든 경우에 산화가 발생하였다. 이는 적층체(1)의 우수한 내수성을 위해, 유기물층(330), 아연화합물층(340), 및 산화크로뮴층(350)이 모두 필요함을 의미한다.
비교예 3에서 제조된 적층체(1)보다 비교예 2에서 제조된 적층체(1)의 산화가 더 심하게 발생했다. 비교예 2에서 제조된 적층체(1)보다 비교예 1에서 제조된 적층체(1)의 산화가 더 심하게 발생했다. 참고로, 비교예 2에서 제조된 적층체(1)에 대한 내수성 실험 결과 이미지는 도 11에 도시되어 있고, 비교예 1에서 제조된 적층체(1)에 대한 내수성 실험 결과 이미지는 도 12에 도시되어 있다. 비교예 6에서 제조된 적층체(1)보다 비교예 5에서 제조된 적층체(1)의 산화가 더 심하게 발생했다. 그리고 비교예 5에서 제조된 적층체(1)보다 비교예 4에서 제조된 적층체(1)의 산화가 더 심하게 발생했다.
실시예 1에서 제조된 적층체(1)에 대한 내수성 실험 후에, 이 적층체(1)에 대하여 반사율을 측정한 결과가 도 13에 도시되어 있다. 그리고 실시예 2에서 제조된 적층체(1)에 대한 내수성 실험 후에, 이 적층체(1)에 대하여 반사율을 측정한 결과가 도 14에 도시되어 있다. 도 13에 도시된 바와 같이, 실시예 1에서 제조된 적층체(1)의 내수성 실험 후 반사율 그래프(After Test)는, 내수성 실험 전 반사율 그래프(Before Test)와 거의 동일하다. 그리고 도 14에 도시된 바와 같이, 실시예 2에서 제조된 적층체(1)의 내수성 실험 후 반사율 그래프(After Test)는, 내수성 실험 전 반사율 그래프(Before Test)와 거의 동일하다. 이는 실시예 1 및 실시예 2에서 제조된 적층체(1)들이 수분에 접촉한 후에도, 그것들의 색상이나 광택이 거의 변하지 않음을 의미한다.
결론적으로, 실시예 1 및 실시예 2에서 제조된 적층체(1)들은 (i) 특정한 색상 및 광택을 나타내면서도, (ii) 전파를 투과시킬 수 있고, (iii) 내수성이 우수함을 확인하였다.
본 발명을 첨부된 도면과 함께 설명하였으나, 이는 본 발명의 요지를 포함하는 다양한 실시 형태 중의 하나의 실시예에 불과하며, 당업계에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 하는 데에 그 목적이 있는 것으로, 본 발명은 상기 설명된 실시예에만 국한되는 것이 아님은 명확하다. 따라서, 본 발명의 보호범위는 하기의 청구범위에 의해 해석되어야 하며, 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서의 변경, 치환, 대체 등에 의해 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함될 것이다. 또한, 도면의 일부 구성은 구성을 보다 명확하게 설명하기 위한 것으로 실제보다 과장되거나 축소되어 제공된 것임을 명확히 한다.
[부호의 설명]
1 : 적층체
10 : 기판
20 : 프라이머 코팅층
30 : 증착층
310 : 세라믹층
311 : 고굴절률층
311a : 제1고굴절률층
311b : 제2고굴절률층
312 : 저굴절률층
312a : 제1저굴절률층
312b : 제2저굴절률층
320 : 저마늄층
330 : 유기물층
340 : 아연화합물층
340a : 제1아연화합물층
340b : 제2아연화합물층
350 : 산화크로뮴층
40 : 블랙 차폐 코팅층

Claims (30)

  1. 기판(10) 및 상기 기판(10)의 상부에 형성되는 증착층(30)을 포함하여 이루어지고,
    상기 증착층(30)은,
    유기물로 이루어지는 유기물층(330),
    상기 유기물층(330)의 상면에 증착되고, 황화 아연(ZnS) 또는 셀레늄화 아연(ZnSe)으로 이루어지는 제1아연화합물층(340a),
    상기 제1아연화합물층(340a)의 상면에 증착되고, 저마늄(Ge) 또는 저마늄 합금으로 이루어지는 저마늄층(320), 및
    상기 저마늄층(320)의 상면에 증착되고, 상기 황화 아연 또는 상기 셀레늄화 아연으로 이루어지는 제2아연화합물층(340b)
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 적층체.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 증착층(30)은,
    상기 제2아연화합물층(340b)의 상면에 증착되고, 산화크로뮴(CrOx)으로 이루어지는 산화크로뮴층(350)
    을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 적층체.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 유기물층(330)의 두께는 50 내지 400Å인 것을 특징으로 하는 적층체.
  4. 청구항 2에 있어서,
    상기 제1아연화합물층(340a)의 두께는 100 내지 600Å인 것을 특징으로 하는 적층체.
  5. 청구항 2에 있어서,
    상기 저마늄층(320)의 두께는 150 내지 800Å인 것을 특징으로 하는 적층체.
  6. 청구항 2에 있어서,
    상기 제2아연화합물층(340b)의 두께는 100 내지 600Å인 것을 특징으로 하는 적층체.
  7. 청구항 2에 있어서,
    상기 산화크로뮴층(350)의 두께는 50 내지 400Å인 것을 특징으로 하는 적층체.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 저마늄 합금은,
    상기 저마늄 50 내지 99wt% 및
    주기율표의 3B족 내지 5A족에 속하는 1개 이상의 원소 1 내지 50wt%
    로 이루어지는 것을 특징으로 하는 적층체.
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 기판(10)은,
    폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리이미드(PI), 사이클로올레핀폴리머(COP), 폴리에테르술폰(PES), 폴리에테르에테르케톤(PEEK), 폴리아릴레이트(PAR), 에이비에스(ABS) 수지, 및 실리콘 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 적층체.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 기판(10)과 상기 증착층(30) 사이에 위치되는 프라이머 코팅층(20)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 적층체.
  11. 청구항 9에 있어서,
    상기 증착층(30)의 상면에 형성되는 블랙 차폐 코팅층(40)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 적층체.
  12. 기판(10) 및 상기 기판(10)의 상부에 형성되는 증착층(30)을 포함하여 이루어지고,
    상기 증착층(30)은,
    세라믹으로 이루어지는 세라믹층(310),
    상기 세라믹층(310)의 상면에 증착되고, 유기물로 이루어지는 유기물층(330),
    상기 유기물층(330)의 상면에 증착되고, 황화 아연 또는 셀레늄화 아연으로 이루어지는 제1아연화합물층(340a),
    상기 제1아연화합물층(340a)의 상면에 증착되고, 저마늄 또는 저마늄 합금으로 이루어지는 저마늄층(320),
    상기 저마늄층(320)의 상면에 증착되고, 상기 황화 아연 또는 상기 셀레늄화 아연으로 이루어지는 제2아연화합물층(340b), 및
    상기 제2아연화합물층(340b)의 상면에 증착되고, 산화크로뮴으로 이루어지는 산화크로뮴층(350)
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 적층체.
  13. 청구항 12에 있어서,
    상기 세라믹층(310)은,
    굴절률이 1.7 내지 2.6인 1개 이상의 고굴절률층(311) 및 굴절률이 1.4 이상 1.7 미만인 1개 이상의 저굴절률층(312)을 포함하고,
    상기 고굴절률층(311) 및 상기 저굴절률층(312)은 교번적으로 증착되는 것을 특징으로 하는 적층체.
  14. 청구항 13에 있어서,
    상기 세라믹층(310)은,
    제1고굴절률층(311a), 제1저굴절률층(312a), 제2고굴절률층(311b), 및 제2저굴절률층(312b)이 순서대로 증착되어 형성되는 것을 특징으로 하는 적층체.
  15. 청구항 13에 있어서,
    상기 고굴절률층(311) 및 상기 저굴절률층(312)은,
    산화물, 탄화물, 및 질화물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개 이상의 물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 적층체.
  16. 청구항 15에 있어서,
    상기 고굴절률층(311)은 Ti3O5로 이루어지고, 상기 저굴절률층(312)은 이산화 규소(SiO2)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 적층체.
  17. 청구항 14에 있어서,
    상기 제1고굴절률층(311a)의 두께는 50 내지 400Å이고,
    상기 제1저굴절률층(312a)의 두께는 150 내지 800Å이고,
    상기 제2고굴절률층(311b)의 두께는 175 내지 900Å이고,
    상기 제2저굴절률층(312b)의 두께는 225 내지 1100Å이고,
    상기 유기물층(330)의 두께는 50 내지 400Å이고,
    상기 제1아연화합물층(340a)의 두께는 100 내지 600Å이고,
    상기 저마늄층(320)의 두께는 150 내지 800Å이고,
    상기 제2아연화합물층(340b)의 두께는 100 내지 600Å이며,
    상기 산화크로뮴층(350)의 두께는 50 내지 400Å인 것을 특징으로 하는 적층체.
  18. 청구항 12에 있어서,
    상기 저마늄 합금은,
    상기 저마늄 50 내지 99wt% 및
    주기율표의 3B족 내지 5A족에 속하는 1개 이상의 원소 1 내지 50wt%
    로 이루어지는 것을 특징으로 하는 적층체.
  19. 청구항 12에 있어서,
    상기 기판(10)은,
    폴리카보네이트, 폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리이미드, 사이클로올레핀폴리머, 폴리에테르술폰, 폴리에테르에테르케톤, 폴리아릴레이트, 에이비에스 수지, 및 실리콘 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 적층체.
  20. 청구항 19에 있어서,
    상기 기판(10)과 상기 증착층(30) 사이에 위치되는 프라이머 코팅층(20)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 적층체.
  21. 청구항 19에 있어서,
    상기 증착층(30)의 상면에 형성되는 블랙 차폐 코팅층(40)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 적층체.
  22. 기판(10) 및 상기 기판(10)의 상부에 형성되는 증착층(30)을 포함하여 이루어지고,
    상기 증착층(30)은,
    저마늄 또는 저마늄 합금으로 이루어지는 저마늄층(320) 및
    세라믹으로 이루어지는 세라믹층(310)
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 적층체.
  23. 청구항 22에 있어서,
    상기 세라믹층(310)은,
    굴절률이 1.7 내지 2.6인 1개 이상의 고굴절률층(311) 및 굴절률이 1.4 이상 1.7 미만인 1개 이상의 저굴절률층(312)을 포함하는 것을 특징으로 하는 적층체.
  24. 청구항 23에 있어서,
    상기 증착층(30)은,
    제1고굴절률층(311a), 상기 저마늄층(320), 상기 저굴절률층(312), 및 제2고굴절률층(311b)이 순서대로 증착되어 형성되는 것을 특징으로 하는 적층체.
  25. 청구항 23에 있어서,
    상기 고굴절률층(311) 및 상기 저굴절률층(312)은
    산화물, 탄화물, 및 질화물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개 이상의 물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 적층체.
  26. 청구항 25에 있어서,
    상기 고굴절률층(311)은 이산화 타이타늄(TiO2)으로 이루어지고, 상기 저굴절률층(312)은 이산화 규소로 이루어지는 것을 특징으로 하는 적층체.
  27. 청구항 22에 있어서,
    상기 저마늄 합금은,
    상기 저마늄 50 내지 99wt% 및
    주기율표의 3B족 내지 5A족에 속하는 1개 이상의 원소 1 내지 50wt%
    로 이루어지는 것을 특징으로 하는 적층체.
  28. 청구항 22에 있어서,
    상기 기판(10)은,
    폴리카보네이트, 폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리이미드, 사이클로올레핀폴리머, 폴리에테르술폰, 폴리에테르에테르케톤, 폴리아릴레이트, 에이비에스 수지, 및 실리콘 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 적층체.
  29. 청구항 28에 있어서,
    상기 기판(10)과 상기 증착층(30) 사이에 위치되는 프라이머 코팅층(20)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 적층체.
  30. 청구항 28에 있어서,
    상기 증착층(30)의 상면에 형성되는 블랙 차폐 코팅층(40)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 적층체.
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