WO2017051454A1 - 極端紫外光生成装置 - Google Patents

極端紫外光生成装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2017051454A1
WO2017051454A1 PCT/JP2015/076912 JP2015076912W WO2017051454A1 WO 2017051454 A1 WO2017051454 A1 WO 2017051454A1 JP 2015076912 W JP2015076912 W JP 2015076912W WO 2017051454 A1 WO2017051454 A1 WO 2017051454A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
noise
droplet
timing
target
compensation unit
Prior art date
Application number
PCT/JP2015/076912
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
隆之 薮
Original Assignee
ギガフォトン株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ギガフォトン株式会社 filed Critical ギガフォトン株式会社
Priority to PCT/JP2015/076912 priority Critical patent/WO2017051454A1/ja
Priority to JP2017541193A priority patent/JP6649957B2/ja
Publication of WO2017051454A1 publication Critical patent/WO2017051454A1/ja
Priority to US15/888,109 priority patent/US10531550B2/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05GX-RAY TECHNIQUE
    • H05G2/00Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
    • H05G2/001X-ray radiation generated from plasma
    • H05G2/003X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas
    • H05G2/006X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas details of the ejection system, e.g. constructional details of the nozzle
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70008Production of exposure light, i.e. light sources
    • G03F7/70025Production of exposure light, i.e. light sources by lasers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70008Production of exposure light, i.e. light sources
    • G03F7/70033Production of exposure light, i.e. light sources by plasma extreme ultraviolet [EUV] sources
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/7055Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05GX-RAY TECHNIQUE
    • H05G2/00Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
    • H05G2/001X-ray radiation generated from plasma
    • H05G2/008X-ray radiation generated from plasma involving a beam of energy, e.g. laser or electron beam in the process of exciting the plasma

Definitions

  • control unit is caused by electromagnetic waves radiated from the plasma. It includes a noise compensation unit that compensates for noise superimposed on the passage timing signal Te, based on a passing timing signal from which noise is compensated by the noise compensation unit may transmit a trigger signal to the laser device.
  • the EUV light generation apparatus 1 may include an EUV light generation control unit 5, a target sensor 4, and the like.
  • the target sensor 4 may have an imaging function and may be configured to detect the presence, trajectory, position, speed, and the like of the target 27.
  • the EUV light generation apparatus 1 may include a connection portion 29 that allows communication between the inside of the chamber 2 and the inside of the exposure apparatus 6.
  • a wall 291 in which an aperture 293 is formed may be provided inside the connection portion 29.
  • the wall 291 may be arranged such that its aperture 293 is located at the second focal position of the EUV collector mirror 23.
  • the EUV light generation apparatus 1 may include a laser beam traveling direction control unit 34, a laser beam collector mirror 22, a target collector 28 for collecting the target 27, and the like.
  • the laser beam traveling direction control unit 34 may include an optical element for defining the traveling direction of the laser beam and an actuator for adjusting the position, posture, and the like of the optical element.
  • the pulsed laser beam 31 output from the laser device 3 may pass through the window 21 as the pulsed laser beam 32 through the laser beam traveling direction control unit 34 and enter the chamber 2.
  • the pulse laser beam 32 may travel through the chamber 2 along at least one laser beam path, be reflected by the laser beam collector mirror 22, and be irradiated to the at least one target 27 as the pulse laser beam 33.
  • the EUV light generation controller 5 may be configured to control the entire EUV light generation system 11.
  • the EUV light generation controller 5 may be configured to process image data of the target 27 imaged by the target sensor 4.
  • the EUV light generation controller 5 may perform at least one of timing control for outputting the target 27 and control of the output direction of the target 27, for example.
  • the EUV light generation controller 5 performs at least one of, for example, control of the output timing of the laser device 3, control of the traveling direction of the pulse laser light 32, and control of the focusing position of the pulse laser light 33. Also good.
  • the various controls described above are merely examples, and other controls may be added as necessary.
  • the “target” is an object to be irradiated with laser light introduced into the chamber.
  • the target irradiated with the laser light is turned into plasma and emits EUV light.
  • a “droplet” is a form of target supplied into the chamber.
  • the “plasma generation region” is a predetermined region in the chamber.
  • the plasma generation region is a region where the target is turned into plasma by irradiating the droplet output to the chamber with laser light.
  • the “droplet trajectory” is a path along which the droplet output in the chamber travels. The droplet trajectory may intersect the optical path of laser light introduced into the chamber in the plasma generation region.
  • the “optical path axis” is an axis passing through the center of the beam cross section of the laser light along the traveling direction of the laser light.
  • the “optical path” is a path through which the laser light passes.
  • the optical path may include an optical path axis.
  • the “Z-axis direction” is a direction in which the EUV light generation apparatus outputs EUV light. That is, the Z-axis direction is a direction in which EUV light is output from the chamber of the EUV light generation apparatus to the exposure apparatus.
  • the “Y-axis direction” is a direction in which the target supply device outputs a target into the chamber.
  • the “X-axis direction” is a direction orthogonal to the Y-axis direction and the Z-axis direction.
  • the EUV light generation apparatus 1 of the comparative example will be described with reference to FIGS.
  • the EUV light generation apparatus 1 of the comparative example may be the EUV light generation apparatus 1 including the droplet detector 41.
  • FIG. 2 is a diagram for explaining the configuration of the EUV light generation apparatus 1 of the comparative example.
  • FIG. 3 is a diagram for explaining the configuration of the target supply device 26 and the droplet detector 41 according to the comparative example.
  • the EUV light generation apparatus 1 of the comparative example may be an apparatus used together with the laser apparatus 3 that outputs the pulse laser beam 31.
  • the EUV light generation apparatus 1 of the comparative example may include a chamber 2, a target supply unit 26, a target recovery unit 28, a droplet detector 41, an EUV light generation control unit 5, and a control unit 8. .
  • the chamber 2 may be a container in which the EUV light 252 is generated by irradiating the pulsed laser light 33 onto the droplet 271 supplied to the inside by the target supplier 26.
  • the chamber 2 may isolate the internal space that is depressurized to generate the EUV light 252 from the outside.
  • the chamber 2 may be formed in a hollow cylindrical shape, for example.
  • the central axis direction of the cylindrical chamber 2 may be substantially parallel to the direction in which the EUV light 252 is output to the exposure apparatus 6.
  • the wall 2a forming the internal space of the chamber 2 may be formed using a conductive material.
  • the chamber 2 may include a target supply path 2 b for supplying the droplet 271 from the outside of the chamber 2 into the chamber 2.
  • the plate 235 may partition the internal space of the chamber 2.
  • the plate 235 may be fixed to the inner surface of the chamber 2.
  • a hole 235a through which the pulse laser beam 33 can pass may be provided in the thickness direction.
  • the opening direction of the hole 235a may be substantially the same direction as an axis passing through the through hole 24 and the plasma generation region 25 in FIG.
  • An EUV condensing optical system 23a may be provided in the internal space of the chamber 2 partitioned from the plate 235 to the connection portion 29 side.
  • a laser beam condensing optical system 22a may be provided in the internal space of the chamber 2 partitioned from the plate 235 to the window 21 side.
  • the EUV collector optical system 23 a may include an EUV collector mirror 23 and a holder 231.
  • the EUV collector mirror 23 may be held by the holder 231.
  • the holder 231 may be fixed to the plate 235.
  • the target recovery device 28 may be a device that recovers the droplets 271 that have not been irradiated with the pulse laser beam 33 among the droplets 271 output into the chamber 2.
  • the target collector 28 may be disposed on an extension line of the droplet trajectory F.
  • the laser beam traveling direction control unit 34 may control the traveling direction of the pulsed laser beam 31 so that the pulsed laser beam 31 output from the laser device 3 enters the window 21 of the chamber 2 as the pulsed laser beam 32.
  • the laser beam traveling direction control unit 34 may include a high reflection mirror 341 and a high reflection mirror 342.
  • the positions and postures of the high reflection mirror 341 and the high reflection mirror 342 may be adjusted by an actuator (not shown).
  • the operation of the actuator may be controlled by the EUV light generation controller 5.
  • the positions and postures of the high reflection mirror 341 and the high reflection mirror 342 can be adjusted as the EUV light generation controller 5 controls the actuator.
  • the adjustment may be performed so that the pulsed laser light 32 that is emitted from the laser light traveling direction control unit 34 passes through the window 21 provided on the bottom surface of the chamber 2.
  • the EUV light generation controller 5 may transmit and receive various signals to and from the exposure apparatus controller 61 provided in the exposure apparatus 6.
  • the EUV light generation controller 5 may receive from the exposure apparatus controller 61 an EUV light output command signal indicating a control command related to the output of the EUV light 252 to the exposure apparatus 6.
  • the EUV light output command signal may include various target values such as target output timing, target repetition frequency, target pulse energy, and the like of the EUV light 252.
  • the EUV light generation controller 5 may comprehensively control the operation of each component of the EUV light generation system 11 based on various signals from the exposure apparatus controller 61.
  • the EUV light generation controller 5 may transmit and receive control signals to and from the laser device 3. Thereby, the EUV light generation controller 5 may control the operation of the laser device 3.
  • the EUV light generation controller 5 may transmit and receive control signals to and from the respective actuators that move the laser beam traveling direction controller 34 and the laser beam focusing optical system 22a. Thereby, the EUV light generation control unit 5 may adjust the traveling direction and the focusing position of the pulse laser beams 31 to 33.
  • the EUV light generation controller 5 may transmit and receive control signals to and from the controller 8. Thereby, the EUV light generation controller 5 may indirectly control the operation of each component included in the target supplier 26 and the droplet detector 41.
  • the target supply device 26 may be a device that melts the target 27 supplied into the chamber 2 and outputs it as a droplet 271 to the plasma generation region 25 in the chamber 2.
  • the target supply device 26 may be a device that outputs the droplet 271 by a so-called continuous jet method.
  • the material of the target 27 supplied by the target supply device 26 may be a metal material.
  • the metal material constituting the target 27 may be a material including tin, terbium, gadolinium, lithium, or a combination of any two or more thereof.
  • the metal material which comprises the target 27 may be tin.
  • the target supply unit 26 may be provided at the end of the target supply path 2 b of the chamber 2.
  • the target supply device 26 may include a tank 261 and a nozzle 262 as shown in FIG. Further, the target supplier 26 may include a heater 263a, a heater power supply 263b, a temperature sensor 263c, a temperature control unit 263d, a pressure regulator 264a, a gas cylinder 264b, a piezoelectric element 265a, and a piezoelectric power supply 265b. Good.
  • the tank 261 may be a container that accommodates the target 27 that is output into the chamber 2.
  • the tank 261 may accommodate the target 27 in a molten state.
  • the tank 261 may be formed in a hollow cylindrical shape.
  • the tank 261 may be formed of a material that does not easily react with the target 27.
  • the material that does not easily react with the target 27 may be, for example, at least one of SiC, SiO 2 , Al 2 O 3 , molybdenum, tungsten, and tantalum.
  • the tank 261 may be disposed outside the end of the target supply path 2 b of the chamber 2.
  • the tank 261 may be arranged such that its central axis substantially coincides with the droplet trajectory F.
  • the chamber 2 including the tank 261, the nozzle 262, and the target supply path 2b may communicate with each other.
  • the temperature control unit 263d may be a control unit that controls the temperature of the tank 261.
  • the temperature control unit 263d may be connected to the control unit 8.
  • the temperature control unit 263d may control the temperature of the tank 261 based on a command from the control unit 8.
  • the pressure adjuster 264 a may adjust the pressure applied to the target 27 in the tank 261.
  • the pressure regulator 264 a may be connected to the tank 261.
  • the pressure regulator 264a may be connected to the gas cylinder 264b.
  • the gas cylinder 264b may be filled with an inert gas such as helium or argon.
  • the pressure regulator 264a may supply the inert gas filled in the gas cylinder 264b into the tank 261.
  • the pressure regulator 264a may include an exhaust port (not shown).
  • the pressure regulator 264a may exhaust the gas in the tank 261 from the exhaust port.
  • the pressure regulator 264 a may adjust the pressure applied to the target 27 in the tank 261 by supplying gas into the tank 261 or exhausting the gas in the tank 261.
  • the operation of the pressure regulator 264a may be controlled by the control unit 8.
  • the piezo element 265 a may apply vibration to the neck portion 261 a of the tank 261.
  • the piezo element 265a may be connected to the outer surface of the neck portion 261a and in the vicinity of the nozzle 262.
  • the piezo element 265a may be connected to a piezo power source 265b.
  • the droplet detector 41 may be a sensor that detects the droplet 271 output into the chamber 2. Specifically, the droplet detector 41 may be a sensor that detects the timing at which the droplet 271 has passed through the detection region R at a predetermined position in the chamber 2. The predetermined position where the detection region R is present may be a position on the droplet trajectory F between the nozzle 262 of the target supply 26 and the plasma generation region 25. As illustrated in FIG. 3, the droplet detector 41 may include a light source unit 410 and a light receiving unit 420.
  • the light source unit 410 and the light receiving unit 420 may be connected to the outside of the wall 2 a of the chamber 2. You may connect to the wall 2a of the target supply path 2b which is a part of the chamber 2.
  • the light source unit 410 and the light receiving unit 420 may be arranged to face each other across the detection region R on the droplet trajectory F.
  • the facing direction of the light source unit 410 and the light receiving unit 420 may be substantially orthogonal to the droplet trajectory F.
  • the light source unit 410 may output illumination light to the detection region R in the chamber 2.
  • the illumination light output from the light source unit 410 may irradiate the droplet 271 that passes through the detection region R.
  • the light source unit 410 may include a light source 411, an illumination optical system 412, and a window 413.
  • the light source 411 may be a light source of illumination light output to the detection region R through the window 413.
  • the light source 411 may be a light source such as a CW (Continuous Wave) laser that outputs continuous laser light having a single wavelength, for example.
  • the light source 411 may be a light source such as a lamp that outputs continuous light having a plurality of wavelengths.
  • the operation of the light source 411 may be controlled by the control unit 8.
  • the illumination optical system 412 may be an optical system including a condenser lens.
  • the condensing lens may be, for example, a cylindrical lens.
  • the illumination optical system 412 may be disposed on the optical path of the illumination light output from the light source 411.
  • the illumination optical system 412 may transmit the illumination light output from the light source 411 and guide it to the window 413.
  • the illumination optical system 412 may focus the illumination light output from the light source 411 on the detection region R via the window 413.
  • the window 413 may be provided on the wall 2 a of the target supply path 2 b that is a part of the chamber 2.
  • the window 413 may be disposed on the optical path of the illumination light that has passed through the illumination optical system 412.
  • the window 413 may transmit the illumination light transmitted through the illumination optical system 412 toward the detection region R.
  • the light receiving unit 420 may receive the illumination light output from the light source unit 410 to the detection region R.
  • the light receiving unit 420 may include an optical sensor 421, a light receiving optical system 422, and a window 423.
  • the light receiving optical system 422 may be an optical system such as a collimator, or may be configured by an optical element such as a lens.
  • the light receiving optical system 422 may be disposed on the optical path of the illumination light output to the detection region R and transmitted through the window 423.
  • the light receiving optical system 422 may transmit the illumination light transmitted through the window 423 and guide it to the optical sensor 421.
  • the control unit 8 may transmit and receive various signals to and from the EUV light generation control unit 5.
  • the control unit 8 may receive a target output signal indicating a control command related to the output of the droplet 271 into the chamber 2 from the EUV light generation control unit 5.
  • the target output signal may be a signal for controlling the operation of the target supplier 26 so that the droplet 271 is output according to various target values included in the EUV light output command signal.
  • the controller 8 may control the operation of each component included in the target supply device 26 based on various signals from the EUV light generation controller 5. Further, the control unit 8 may control the timing at which the laser apparatus 3 outputs the pulsed laser light 31 based on various signals from the EUV light generation control unit 5.
  • the control unit 8 may transmit a signal designating the target temperature of the tank 261 to the temperature control unit 263d.
  • the temperature sensor 263c may transmit a temperature detection signal corresponding to the detected temperature of the tank 261 to the temperature control unit 263d.
  • the temperature control unit 263d may control the operation of the heater power supply 263b that supplies power to the heater 263a so that the detection value indicated by the temperature detection signal approaches the target temperature.
  • the target temperature may be a temperature within a predetermined range equal to or higher than the melting point of the target 27. When the target 27 is tin, the target temperature may be a temperature in the range of 250 ° C. to 290 ° C.
  • the control unit 8 may continuously control the operation of the heater power supply 263b through the temperature control unit 263d so that the temperature in the tank 261 is maintained within a predetermined range equal to or higher than the melting point of the target 27.
  • the control unit 8 may control the operation of the piezo power supply 265b that supplies power to the piezo element 265a so that the piezo element 265a vibrates the neck 261a with a predetermined waveform.
  • the predetermined waveform may be a waveform in which the droplet 271 is generated at a predetermined frequency.
  • the predetermined frequency may be, for example, 50 kHz to 100 kHz.
  • the piezo element 265a can apply vibration to the neck portion 261a with a predetermined waveform according to the electric power of the predetermined waveform supplied from the piezo power supply 265b.
  • the nozzle 262 connected to the neck portion 261a can also vibrate with a predetermined waveform.
  • a standing wave is given to the jet-shaped target 27 ejected from the nozzle hole 262a, and the jet-shaped target 27 can be periodically separated.
  • the separated target 27 can form a free interface by its surface tension to form a droplet 271.
  • a droplet 271 can be generated at a predetermined frequency and output into the chamber 2.
  • the droplet 271 output into the chamber 2 travels on the droplet trajectory F and can pass through the detection region R.
  • the illumination light output from the light source 411 can illuminate the droplet 271 passing through the detection region R and travel toward the optical sensor 421. At this time, part of the illumination light traveling toward the optical sensor 421 can be shielded by the droplet 271. Therefore, when the droplet 271 passes through the detection region R, a part of the image of the illumination light output from the light source 411 in the detection region R becomes a shadow image of the droplet 271 passing through the detection region R.
  • the light sensor 421 can receive light.
  • the light intensity of the illumination light received by the optical sensor 421 can be significantly reduced as compared with the case where the droplet 271 does not pass through the detection region R.
  • the optical sensor 421 can convert the light intensity of the received illumination light into a voltage value, generate a detection signal corresponding to the change in the light intensity, and transmit the detection signal to the control unit 8.
  • the passage timing signal may indicate a predetermined base voltage before the droplet 271 enters the detection region R.
  • the passage timing signal may fall when the droplet 271 enters the detection region R, and may change so as to show a minimum value when the droplet 271 advances to the center of the detection region R.
  • the passing timing signal may rise so that the droplet 271 that has progressed to the center of the detection region R further rises toward the plasma generation region 25 and returns to the base voltage when the droplet 271 leaves the detection region R. That is, the passage timing signal may have a signal waveform including an extreme value within a period from when the droplet 271 enters the detection region R to when the detection region R leaves.
  • the period from when the droplet 271 enters the detection region R until it leaves the detection region R is also referred to as a detection period.
  • a portion where the voltage changes as the droplet 271 passes through the detection region R is also referred to as a droplet passage portion.
  • the droplet passage portion may be a passage timing signal indicated within the detection period.
  • the portion of the base voltage indicated when the droplet 271 does not pass through the detection region R is also referred to as a base portion.
  • the base portion may be a passage timing signal shown outside the detection period.
  • the control unit 8 may receive a passage timing signal from the optical sensor 421.
  • the control unit 8 may determine that the droplet 271 has passed through the detection region R when the passage timing signal exceeds a predetermined threshold and becomes lower than the threshold. That is, the control unit 8 may determine the timing at which the droplet passage portion of the passage timing signal exceeds a predetermined threshold and becomes lower than the threshold as the timing at which the droplet 271 has passed the detection region R.
  • the control unit 8 includes a timing at which the passage timing signal exceeds a predetermined threshold and becomes lower than the threshold, and a timing at which the passage timing signal exceeds the threshold and then becomes higher than the threshold after showing an extreme value. An intermediate value may be calculated.
  • control unit 8 may generate a droplet detection signal at the timing when the droplet 271 passes through the detection region R.
  • the droplet detection signal may be a signal indicating that the droplet 271 that has passed through the detection region R has been detected.
  • the control unit 8 may transmit the trigger signal to the laser device 3 at a timing delayed by a delay time D from the timing at which the droplet detection signal is generated.
  • the trigger signal may be a signal that gives an opportunity for the laser device 3 to output the pulsed laser light 31.
  • the delay time D may be a time for making the timing at which the pulse laser beam 33 reaches the plasma generation region 25 substantially coincide with the timing at which the droplet 271 reaches the plasma generation region 25.
  • the delay time D may be held in the control unit 8 in advance.
  • the laser device 3 may output the pulse laser beam 31 when receiving the trigger signal.
  • the pulsed laser beam 31 output from the laser device 3 can be introduced into the chamber 2 as the pulsed laser beam 32 via the laser beam traveling direction control unit 34 and the window 21.
  • the pulsed laser light 32 introduced into the chamber 2 can be condensed by the laser light condensing optical system 22 a and guided to the plasma generation region 25 as the pulsed laser light 33.
  • the pulse laser beam 33 can be guided to the plasma generation region 25 at a timing when the droplet 271 reaches the plasma generation region 25.
  • the pulsed laser beam 33 guided to the plasma generation region 25 can irradiate the droplet 271 that has reached the plasma generation region 25.
  • the droplets 271 irradiated with the pulsed laser light 33 are turned into plasma, and plasma light including EUV light 251 can be emitted.
  • the droplet detector 41 can detect the timing when the droplet 271 output into the chamber 2 has passed through the detection region R, and can transmit a passage timing signal to the control unit 8. Then, the control unit 8 can transmit a trigger signal to the laser device 3 in synchronization with a change in the passage timing signal from the droplet detector 41. That is, the control unit 8 can control the timing at which the laser device 3 outputs the pulsed laser light 31 by transmitting a trigger signal to the laser device 3 based on the passage timing signal.
  • FIG. 5 is a diagram for explaining the problem of the EUV light generation apparatus 1 of the comparative example.
  • electromagnetic waves including the EUV light 251 can be emitted from the plasma.
  • electromagnetic waves radiated from the plasma may enter the droplet detector 41 and be output as noise by the optical sensor 421.
  • This noise may be noise caused by electromagnetic waves radiated from plasma. As shown in FIG. 5, this noise may be superimposed on the passage timing signal transmitted from the optical sensor 421.
  • the control unit 8 detects the droplet at a timing when the noise superimposed on the passage timing signal exceeds a predetermined threshold as shown in FIG. A detection signal may be generated. That is, the timing at which the droplet detection signal is generated may cause an error due to noise caused by electromagnetic waves radiated from the plasma. For this reason, the trigger signal generated based on the droplet detection signal may be transmitted from the control unit 8 to the laser device 3 at an incorrect timing. As a result, the timing at which the droplets 271 reach the plasma generation region 25 and the timing at which the pulse laser beam 33 reaches the plasma generation region 25 may be misaligned.
  • the pulse energy of the EUV light 252 output from the EUV light generation apparatus 1 may vary greatly from pulse to pulse. Therefore, a technique that can improve the energy stability of the EUV light 252 by generating a droplet detection signal at an appropriate timing even when noise caused by electromagnetic waves radiated from plasma is superimposed on the passage timing signal is desired. ing.
  • noise caused by electromagnetic waves radiated from plasma is also simply referred to as noise.
  • the timing at which noise caused by electromagnetic waves radiated from plasma is superimposed on the passage timing signal is also referred to as noise superimposition timing.
  • the EUV light generation apparatus 1 according to the first embodiment will be described with reference to FIGS.
  • the EUV light generation apparatus 1 of the first embodiment may have a configuration in which a noise compensation unit 81 is added to the control unit 8 with respect to the EUV light generation apparatus 1 of the comparative example.
  • the description of the same configuration as the EUV light generation apparatus 1 of the comparative example is omitted.
  • FIG. 6 is a diagram for explaining the configuration of the EUV light generation apparatus 1 according to the first embodiment.
  • the control unit 8 according to the first embodiment may include a noise compensation unit 81.
  • the noise compensation unit 81 may receive a passage timing signal from the optical sensor 421 included in the droplet detector 41.
  • the noise compensation unit 81 may compensate for noise superimposed on the passage timing signal due to electromagnetic waves radiated from the plasma.
  • the noise compensation unit 81 may include a noise determination function that determines whether or not the noise superimposition timing is included within the detection period.
  • the noise compensation unit 81 may include a noise separation function that separates the noise superimposition timing outside the detection period.
  • noise compensation unit 81 may be configured by hardware or software.
  • various functions of the noise compensation unit 81 are configured by software, information processing by software configuring the various functions of the noise compensation unit 81 can be specifically realized by using hardware resources.
  • FIG. 7 is a diagram for explaining a noise determination function included in the noise compensation unit 81 according to the first embodiment.
  • the noise compensation unit 81 may determine whether or not the noise superimposition timing is included within the detection period based on the signal waveforms of the passage timing signal and the noise. Specifically, the noise compensation unit 81 determines whether or not the noise superimposition timing is included within the detection period by determining whether or not the noise is superimposed on the droplet passage portion of the passage timing signal. May be determined.
  • the noise compensation unit 81 may be configured as follows in order to realize the noise determination function.
  • the noise compensation unit 81 may include a high-speed A / D converter to which a passage timing signal is input and a digital circuit that can perform frequency analysis of the passage timing signal. And the noise compensation part 81 may determine whether the noise has superimposed on the droplet passage part of a passage timing signal based on the result of the frequency analysis of this digital circuit. For example, when the frequency component of 1 MHz or less is dominant among the frequency components of the passage timing signal, the noise compensation unit 81 may determine that the noise is not superimposed on the passage timing signal.
  • the frequency component of 1 MHz or less in the passage timing signal may indicate a frequency component corresponding to the base portion and the droplet passage portion of the passage timing signal.
  • FIG. 8 is a diagram for explaining a noise separation function included in the noise compensation unit 81 according to the first embodiment.
  • FIG. 9 is a diagram for explaining a function for correcting the speed of the droplet 271 as one aspect of the noise separation function.
  • the control unit 8 may generate the droplet detection signal at an incorrect timing. That is, if the noise superimposition timing is not included within the detection period, the noise compensation unit 81 can superimpose the noise on the base portion of the passage timing signal. In this case, the noise compensator 81 can mask the noise superimposed on the base portion of the passage timing signal relatively easily.
  • V (m / s) on the right side may be a correction amount at the speed V of the droplet 271 necessary to secure the shift time d described above.
  • (Vv) on the right side may be the speed of the droplet 271 corrected by the speed correction amount v.
  • the speed correction amount v of the droplet 271 can be described as the following formula (3).
  • FIG. 10 is a diagram for explaining an example in which the speed correction amount v of the droplet 271 is specifically calculated using the function of correcting the speed of the droplet 271 which is an aspect of the noise separation function.
  • the speed V of the droplet 271 is assumed to be 50 m / s.
  • the diameter of the droplet 271 is assumed to be 20 ⁇ m.
  • the width of the detection region R in the direction along the droplet trajectory F is 20 ⁇ m.
  • the repetition frequency of the EUV light 252 is 100 kHz. That is, the repetition period of the EUV light 252 can be 10 ⁇ s.
  • the period in which the droplets 271 are generated can be 10 ⁇ s.
  • the time interval Tr between the droplet passage portion of the passage timing signal for a certain droplet 271 and the droplet passage portion of the passage timing signal for the subsequent droplet 271 may be 10 ⁇ s.
  • the distance L from the detection region R to the plasma generation region 25 is assumed to be 2000 ⁇ m.
  • the noise time width Tn is assumed to be 0.1 ⁇ s. It has been previously known that Tn is 0.1 ⁇ s or less by experiment.
  • the velocity V of the droplet 271 corrected by the velocity correction amount v can be calculated to be 48.9 m / s by subtracting 1.1 m / s from 50 m / s.
  • the noise compensator 81 shifts if the velocity V and diameter of the droplet 271, the width of the detection region R, the distance L from the detection region R to the plasma generation region 25, and the noise time width Tn are known.
  • the time d can be set appropriately, and the speed correction amount v can be calculated.
  • the speed of the droplet 271 can be related to the pressure applied to the target 27 in the tank 261.
  • the speed correction amount v of the droplet 271 can be related to the pressure correction amount p (MPa) of the pressure applied to the target 27 in the tank 261.
  • the noise compensation unit 81 may correct the pressure applied to the target 27 in the tank 261 in order to correct the speed of the droplet 271. That is, the noise compensation unit 81 may include a function of correcting the pressure applied to the target 27 in the tank 261 in order to realize the function of correcting the speed of the droplet 271.
  • the noise compensation unit 81 can correct the speed of the droplet 271 by correcting the pressure applied to the target 27 in the tank 261. And the noise compensation part 81 can ensure the above-mentioned shift time d by correct
  • the noise compensation unit 81 can separate the noise from the droplet passing portion of the passage timing signal and the noise, and can separate the noise superimposition timing outside the detection period.
  • FIG. 13 is a diagram for explaining a noise mask function and a delay time correction function included in the noise compensation unit 81 according to the first embodiment.
  • the noise compensation unit 81 may mask noise superimposed on the passage timing signal at a timing separated outside the detection period. Specifically, the noise compensation unit 81 may separate the noise from the droplet passage portion of the passage timing signal and mask the noise superimposed on the passage timing signal at a timing separated outside the detection period.
  • the noise compensation unit 81 may include a function of setting a mask period in order to realize a noise mask function.
  • the mask period may be a period in which noise superimposed on the passage timing signal is masked within the period.
  • the mask period may be a period in which the droplet detection signal and the trigger signal are not generated.
  • the noise compensation unit 81 may set a period corresponding to a portion not including the droplet passage portion of the passage timing signal as the mask period.
  • the noise compensation unit 81 may set a period outside the detection period as the mask period.
  • the noise compensation unit 81 may set the mask period based on the timing when the droplet 271 passes through the detection region R.
  • the noise compensation unit 81 may set a period from the timing when the droplet 271 passes the detection region R to the timing before the detection of the subsequent droplet 271 is expected as the mask period. For example, when the frequency at which the droplet 271 is generated is 20 kHz, the noise compensation unit 81 may set the mask period between 5 ⁇ s and less than 50 ⁇ s from the timing at which the droplet detection signal is generated. For example, when the frequency at which the droplet 271 is generated is 50 kHz, the noise compensation unit 81 may set the mask period between 2 ⁇ s and less than 20 ⁇ s from the timing at which the droplet detection signal is generated. For example, when the frequency at which the droplets 271 are generated is 100 kHz, the noise compensation unit 81 may set the mask period between 1 ⁇ s and less than 10 ⁇ s from the timing at which the droplet detection signal is generated.
  • the noise compensation unit 81 sets the delay time D that defines the timing at which the trigger signal is transmitted from the control unit 8. You may correct
  • the corrected delay time D is shown as D ′.
  • the noise compensation unit 81 transmits a trigger signal from the control unit 8 so that the pulse laser beam 33 reaches the plasma generation region 25 at the timing when the droplet 271 whose speed is corrected reaches the plasma generation region 25. Timing can be corrected.
  • the above-described shift time d is also referred to as a delay time correction amount d because it can correspond to the correction amount of the delay time D given to the timing at which the trigger signal is transmitted.
  • the noise compensation unit 81 may hold the delay time correction amount d as a constant value in advance.
  • the delay time correction amount d held as a constant value may be 3 ⁇ s, for example.
  • the noise compensator 81 may appropriately modify the delay time correction amount d held as a constant value according to changes in the speed and diameter of the droplet 271 and the like.
  • FIG. 14 is a diagram for explaining processing of the noise compensation unit 81 according to the first embodiment.
  • the noise compensation unit 81 may read a delay time correction amount d held in advance.
  • step S ⁇ b> 2 the noise compensation unit 81 may determine whether a passage timing signal from the droplet detector 41 has been received. If the noise compensation unit 81 has not received the passage timing signal, the noise compensation unit 81 may wait until it is received. On the other hand, if the noise compensation unit 81 has received the passage timing signal, the noise compensation unit 81 may proceed to step S3.
  • step S4 the noise compensation unit 81 may calculate the speed correction amount v.
  • the noise compensation unit 81 may calculate the pressure correction amount p.
  • the noise compensation unit 81 may change the target pressure set in the pressure regulator 264a so that the pressure applied to the target 27 in the tank 261 is corrected by the pressure correction amount p.
  • the control unit 8 may set the target pressure changed according to the pressure correction amount p in the pressure regulator 264a.
  • the pressure regulator 264a can adjust the pressure applied to the target 27 in the tank 261 by the pressure correction amount p, and can bring the pressure applied to the target 27 close to the changed target pressure.
  • the speed of the droplet 271 can be corrected by the speed correction amount v corresponding to the pressure correction amount p.
  • the noise compensation unit 81 may correct a predetermined delay time D.
  • the timing at which the trigger signal is transmitted from the control unit 8 can be corrected by the delay time correction amount d.
  • step S8 the noise compensation unit 81 may determine whether or not the noise superimposition timing is included within the detection period. If the noise superimposition timing is not included within the detection period, the noise compensation unit 81 may end this process. On the other hand, if the noise superimposition timing is included within the detection period, the noise compensation unit 81 may proceed to step S9.
  • the noise compensation unit 81 may correct the delay time correction amount d.
  • the noise compensation unit 81 may correct the delay time correction amount d using the following equation.
  • d d + ⁇ d Equation (6)
  • ⁇ d on the right side may be a correction amount of the delay time correction amount d.
  • the correction amount ⁇ d ( ⁇ s) may be calculated using the following equation.
  • ⁇ d ⁇ Tr ⁇ (Ts + Tn) ⁇ / 10 Equation (7)
  • ⁇ Tr ⁇ (Ts + Tn) ⁇ on the right side can indicate the size of the allowable range of the shift time d shown in Equation (1).
  • the delay time correction amount d can be corrected more accurately.
  • the noise compensation unit 81 may move to step S4 after correcting the delay time correction amount d.
  • the noise compensation unit 81 according to the first embodiment can correct the speed of the droplet 271 by correcting the pressure applied to the target 27 in the tank 261. Thereby, the noise compensation unit 81 according to the first embodiment can separate the noise superimposition timing outside the detection period. And the noise compensation part 81 which concerns on 1st Embodiment can mask the noise superimposed on a passage timing signal at the timing isolate
  • control unit 8 generates a droplet detection signal at an appropriate timing based on the passage timing signal whose noise has been compensated by the noise compensation unit 81, and generates a trigger signal at an appropriate timing. It can be transmitted to the laser device 3.
  • the EUV light generation apparatus 1 of the first embodiment can suppress the pulse energy of the EUV light 252 from varying from pulse to pulse, and improve the energy stability of the EUV light 252.
  • the EUV light generation apparatus 1 according to the second embodiment will be described with reference to FIG.
  • the EUV light generation apparatus 1 of the second embodiment may mainly differ from the EUV light generation apparatus 1 of the first embodiment in the noise separation function included in the noise compensation unit 81.
  • the description of the same configuration as the EUV light generation apparatus 1 of the first embodiment is omitted.
  • FIG. 15 is a diagram for explaining a noise separation function included in the noise compensation unit 81 according to the second embodiment.
  • the noise compensation unit 81 may include a function of correcting the time interval between a plurality of adjacent droplets 271 sequentially output into the chamber 2 as one aspect of the noise separation function.
  • the timing at which the droplets 271 reach the detection region R can also change, so that the temporal position of the droplet passage portion of the passage timing signal can change. That is, when the time interval of the plurality of droplets 271 changes, the start timing of the detection period can change. Therefore, the noise compensation unit 81 can separate the timing at which the noise caused by the electromagnetic wave radiated from the plasma is superimposed on the passage timing signal by correcting the time interval between the plurality of droplets 271 outside the detection period.
  • the time interval between the plurality of droplets 271 may correspond to a period in which the droplets 271 are generated from the target 27 that is jetted from the nozzle 262 into the chamber 2.
  • the period in which the droplets 271 are generated can be related to the frequency of vibration applied to the target 27 ejected from the nozzle 262.
  • the noise compensation unit 81 may correct the frequency of vibration applied to the target 27 ejected from the nozzle 262 in order to correct the time interval between the plurality of droplets 271.
  • the noise compensation unit 81 may correct the frequency of vibration applied by the piezo element 265a to the neck portion 261a of the tank 261 in order to correct the frequency of vibration applied to the target 27 ejected from the nozzle 262. Specifically, the noise compensation unit 81 may correct the frequency of the power supplied from the piezo power supply 265b to the piezo element 265a.
  • the frequency of power before correction supplied from the piezoelectric power source 265b to the piezoelectric element 265a is f (kHz)
  • the frequency of corrected power supplied from the piezoelectric power source 265b to the piezoelectric element 265a is f ′ (kHz).
  • the correction amount of the frequency of the electric power supplied from the piezo power supply 265b to the piezo element 265a may be a correction amount corresponding to the shift time d described above.
  • the frequency correction amount (f′ ⁇ f) may be the reciprocal of the shift time d described above.
  • the target 27 ejected from the nozzle 262 is separated into a plurality of fine droplets once by the vibration of the piezo element 265a at the stage before entering the detection region R.
  • the let 271 may be formed.
  • a plurality of separated fine droplets do not appropriately merge at the stage before entering the detection region R, and sufficient mass is obtained.
  • One droplet 271 having the same may not be formed.
  • the pulse laser beam 33 irradiates the droplet 271 having insufficient mass, and the pulse energy of the EUV light 252 can be lowered.
  • the noise compensator 81 prohibits the frequency of the power supplied to the piezo element 265a and the frequency at which the separated fine droplets are not properly combined before entering the detection region R.
  • the frequency may be held in advance.
  • the forbidden frequency may be determined in advance by experiments or the like.
  • the noise compensation part 81 should just correct
  • the noise compensator 81 is a frequency of power supplied to the piezo element 265a, and a frequency at which the separated fine droplets can be appropriately combined before entering the detection region R. You may hold
  • the noise compensation unit 81 may correct the delay time D using the delay time correction function. Thereby, the noise compensation unit 81 may correct the timing at which the trigger signal is transmitted from the control unit 8.
  • noise compensation unit 81 according to the second embodiment may be the same as those of the noise compensation unit 81 according to the first embodiment.
  • Other configurations of the EUV light generation apparatus 1 of the second embodiment may be the same as those of the EUV light generation apparatus 1 of the first embodiment.
  • the noise compensation unit 81 according to the second embodiment can correct the time interval of the plurality of droplets 271 by correcting the frequency of vibration applied to the target 27 ejected from the nozzle 262. Thereby, the noise compensation unit 81 according to the second embodiment can separate the noise superimposition timing outside the detection period, as in the first embodiment. And the noise compensation part 81 which concerns on 2nd Embodiment can mask the noise superimposed on a passage timing signal at the timing isolate
  • the EUV light generation apparatus 1 according to the third embodiment will be described with reference to FIGS.
  • the EUV light generation apparatus 1 of the third embodiment may have a configuration in which a moving mechanism 45 is added to the EUV light generation apparatus 1 of the first embodiment.
  • the EUV light generation apparatus 1 of the third embodiment may be different from the EUV light generation apparatus 1 of the first embodiment in the noise determination function, the noise separation function, and the noise mask function included in the noise compensation unit 81.
  • the description of the same configuration as the EUV light generation apparatus 1 of the first embodiment is omitted.
  • FIG. 16 is a diagram for explaining the configuration of the EUV light generation apparatus 1 according to the third embodiment.
  • the moving mechanism 45 according to the third embodiment may be a mechanism that moves the position of the detection region R along the droplet trajectory F.
  • the moving mechanism 45 may be a stage that moves the position of the droplet detector 41 along the droplet trajectory F.
  • the moving mechanism 45 may include a stage that moves the position of the light source unit 410 along the droplet trajectory F and a stage that moves the position of the light receiving unit 420 along the droplet trajectory F.
  • the moving mechanism 45 may move the positions of the light source unit 410 and the light receiving unit 420 substantially parallel to the droplet trajectory F.
  • the moving mechanism 45 may move the respective positions of the light source unit 410 and the light receiving unit 420 in the same direction by substantially the same distance from each other.
  • the position of the detection region R on the droplet trajectory F can be moved according to the movement mechanism 45 moving the position of the droplet detector 41.
  • the operation of the moving mechanism 45 may be controlled by the control unit 8.
  • FIG. 17 is a diagram for explaining a noise determination function included in the noise compensation unit 81 according to the third embodiment.
  • the noise compensation unit 81 according to the third embodiment may determine whether or not the noise superimposition timing is included within the noise prohibition period Tf instead of within the detection period. Specifically, the noise compensation unit 81 according to the third embodiment may determine whether or not noise is superimposed on a portion corresponding to the noise inhibition period Tf of the passage timing signal. Thereby, the noise compensation unit 81 according to the third embodiment may determine whether or not the noise superimposition timing is included within the noise inhibition period Tf.
  • the noise prohibition period Tf may be a period including a detection period.
  • the noise inhibition period Tf may be longer than the total time of the time width Ts of the droplet passage portion of the passage timing signal corresponding to the detection period and the noise time width Tn.
  • the noise prohibition period Tf may be the total time of the time width Ts of the droplet passage portion of the passage timing signal corresponding to the detection period, the noise time width Tn, and the margin.
  • the margin may be determined in advance based on the processing capability of the noise compensator 81 and the time resolution of the droplet detector 41.
  • the margin may be determined in advance based on variations in time intervals of the plurality of droplets 271.
  • the noise prohibition period Tf may include a first period Ta and a second period Tb.
  • the first period Ta may be a period from the start timing of the noise inhibition period Tf to the timing indicating the extreme value of the passage timing signal.
  • the second period Tb may be a period from the timing indicating the extreme value of the passage timing signal to the end timing of the noise inhibition period Tf.
  • the first period Ta and the second period Tb of the noise prohibition period Tf may be substantially the same length. That is, the noise prohibition period Tf may be determined for substantially the same time before and after the timing indicated by the extreme value of the passage timing signal.
  • the noise inhibition period Tf may be determined by 1 ⁇ s before and after the timing indicated by the extreme value of the passage timing signal.
  • the noise compensation unit 81 may hold the noise prohibition period Tf in advance.
  • the noise compensation unit 81 may determine that the noise superimposition timing is included within the noise prohibition period Tf when noise is superimposed on a portion corresponding to the noise prohibition period Tf of the passage timing signal.
  • the noise compensation unit 81 may determine that the noise superimposition timing is included outside the noise prohibition period Tf when noise is not superimposed on a portion corresponding to the noise prohibition period Tf of the passage timing signal.
  • FIG. 18 is a diagram for explaining a noise separation function included in the noise compensation unit 81 according to the third embodiment.
  • the noise compensation unit 81 according to the third embodiment may separate the noise superimposition timing outside the noise inhibition period Tf.
  • the noise compensation unit 81 according to the third embodiment separates the noise superimposition timing from the noise inhibition period Tf by separating the noise from the portion corresponding to the noise inhibition period Tf of the passage timing signal. May be.
  • the noise prohibition period Tf may include a detection period.
  • the separation of the noise superimposition timing outside the noise prohibition period Tf may mean that the noise superposition timing is separated outside the detection period.
  • the shift time d described above may be at least equal to or longer than the noise prohibition period Tf.
  • the noise compensation unit 81 may correct the distance from the detection region R on the droplet trajectory F to the plasma generation region 25 in order to ensure the above-described shift time d. That is, the noise compensation unit 81 may include a function of correcting the distance from the detection region R to the plasma generation region 25 as one aspect of the noise separation function. The noise compensation unit 81 may correct the position of the detection region R in order to correct the distance from the detection region R to the plasma generation region 25. The noise compensation unit 81 may move the position of the droplet detector 41 using the moving mechanism 45 in order to correct the position of the detection region R.
  • the position of the detection region R before correction is R1.
  • the position of the detection region R after correction is R2.
  • the correction amount of the distance L from the detection region R to the plasma generation region 25 is defined as a distance correction amount Ls ( ⁇ m).
  • the distance correction amount Ls may be an amount corresponding to the shift time d described above.
  • the noise compensation unit 81 uses the delay time correction function to set the delay time D that defines the timing at which the trigger signal is transmitted from the control unit 8.
  • the shift time d may be corrected.
  • the noise compensation unit 81 may correct the timing at which the trigger signal is transmitted from the control unit 8.
  • the noise compensation unit 81 may mask noise superimposed on the passage timing signal at a timing separated outside the noise inhibition period Tf. Specifically, the noise compensation unit 81 separates noise from a portion corresponding to the noise inhibition period Tf of the passage timing signal, and masks noise superimposed on the passage timing signal at a timing separated outside the noise inhibition period Tf. May be.
  • the noise compensation unit 81 may set a period outside the noise inhibition period Tf as a mask period.
  • noise compensation unit 81 according to the third embodiment may be the same as those of the noise compensation unit 81 according to the first embodiment.
  • Other configurations of the EUV light generation apparatus 1 of the third embodiment may be the same as those of the EUV light generation apparatus 1 of the first embodiment.
  • FIG. 19 is a diagram for explaining processing of the noise compensation unit 81 according to the third embodiment.
  • the noise compensation unit 81 may perform the same processing as in step S1 and step S2 of FIG.
  • the noise compensation unit 81 may determine whether or not the noise superimposition timing is included within the noise inhibition period Tf. If the noise superimposition timing is not included within the noise inhibition period Tf, the noise compensator 81 may end this process because the noise can be masked by the noise mask function. On the other hand, if the noise superimposition timing is included within the noise inhibition period Tf, the noise compensator 81 may proceed to step S14.
  • the noise compensation unit 81 may calculate the distance correction amount Ls of the distance L from the detection region R to the plasma generation region 25.
  • step S15 the noise compensation unit 81 moves the position of the droplet detector 41 using the moving mechanism 45 so that the distance L from the detection region R to the plasma generation region 25 is corrected by the distance correction amount Ls. May be.
  • the moving mechanism 45 can move the position of the droplet detector 41 by the distance correction amount Ls.
  • the distance L from the detection region R to the plasma generation region 25 can be corrected by the distance correction amount Ls.
  • step S16 the noise compensation unit 81 may perform the same processing as in step S7 in FIG.
  • the noise compensation unit 81 may determine whether or not the noise superimposition timing is included within the noise inhibition period Tf. If the noise superimposition timing is not included within the noise inhibition period Tf, the noise compensator 81 may end this process. On the other hand, if the noise superimposition timing is included within the noise inhibition period Tf, the noise compensator 81 may proceed to step S18.
  • step S18 the noise compensation unit 81 may perform the same processing as in step S9 in FIG.
  • the noise compensation unit 81 may move to step S14 after step S18.
  • the noise compensation unit 81 according to the third embodiment can correct the distance from the detection region R to the plasma generation region 25 by correcting the position of the detection region R using the moving mechanism 45. Thereby, the noise compensation unit 81 according to the third embodiment can separate the noise superimposition timing outside the noise inhibition period Tf. At this time, since the noise inhibition period Tf can include a detection period, the noise compensation unit 81 according to the third embodiment can more reliably separate the noise superimposition timing outside the detection period than in the first embodiment. And the noise compensation part 81 which concerns on 3rd Embodiment can mask the noise superimposed on a passage timing signal at the timing isolate
  • the noise compensation unit 81 according to the third embodiment can correct the timing at which the trigger signal is transmitted from the control unit 8. Specifically, the noise compensator 81 according to the third embodiment causes the pulse laser beam 33 to be generated in the plasma generation region at the timing when the droplet 271 passing through the detection region R in which the distance L is corrected reaches the plasma generation region 25. It can be corrected to reach 25. Therefore, the noise compensator 81 according to the third embodiment is more reliable than the first embodiment even when noise caused by electromagnetic waves radiated from plasma is superimposed on the passage timing signal. Can be compensated.
  • the EUV light generation apparatus 1 according to the fourth embodiment will be described with reference to FIGS.
  • the EUV light generation apparatus 1 of the fourth embodiment may be different from the EUV light generation apparatus 1 of the third embodiment in the noise determination function included in the noise compensation unit 81.
  • the description of the same configuration as the EUV light generation apparatus 1 of the third embodiment is omitted.
  • FIG. 20 is a diagram for explaining the noise inhibition period Tf according to the fourth embodiment.
  • the noise compensation unit 81 according to the fourth embodiment may set the noise inhibition period Tf as follows.
  • the first period Ta may be longer than the second period Tb.
  • the first period Ta may be longer than the second period Tb by the noise time width Tn.
  • the first period Ta and the second period Tb according to the fourth embodiment may be described as in the following Expression (9) and Expression (10), respectively.
  • FIG. 21 is a diagram for explaining a noise determination function included in the noise compensation unit 81 according to the fourth embodiment.
  • FIG. 22 is a diagram for explaining the noise determination function included in the noise compensation unit 81 according to the fourth embodiment, and shows the relationship between the noise inhibition period Tf and the spatial interval s between the plurality of droplets 271. Show. 21 and 22 show a case where the position of the detection region R is between a plurality of droplets 271 at the timing when the pulsed laser light 33 is irradiated to the droplet 271 that has reached the plasma generation region 25.
  • the timing at which the pulsed laser light 33 is irradiated onto the droplet 271 that has reached the plasma generation region 25 is also referred to as the irradiation timing of the pulsed laser light 33.
  • the irradiation timing of the pulse laser beam 33 may be regarded as substantially the same as the noise superimposition timing.
  • the noise superimposition timing can be separated at least outside the detection period.
  • the noise compensation unit 81 according to the fourth embodiment may not determine whether or not the noise superimposition timing is included within the noise inhibition period Tf based on the passage timing signal and the noise signal waveform.
  • the noise compensation unit 81 according to the fourth embodiment may determine whether or not the noise superimposition timing is included within the noise prohibition period Tf based on various parameters of the droplet detector 41 and the droplet 271. .
  • Various parameters of the droplet detector 41 and the droplet 271 may be a distance L from the detection region R to the plasma generation region 25, a spatial interval s between the plurality of droplets 271 and their velocity V.
  • the distance between the droplet 271 located immediately above the detection region R and the detection region R is ⁇ s1.
  • a distance between the droplet 271 located immediately below the detection region R and the detection region R is ⁇ s2.
  • the spatial interval s between the plurality of droplets 271 can be the sum of ⁇ s1 and ⁇ s2.
  • N is the number of droplets 271 between the detection region R and the plasma generation region 25.
  • the number N of droplets 271 may be described as in the following formula (11).
  • N int (L / s) (11)
  • the int () on the right side represents an INT function, and may be a function that obtains an integer as a solution by truncating the decimal part of the calculation result in ().
  • ⁇ s1 and ⁇ s2 may be described as in the following equations (12) and (13), respectively.
  • ⁇ s1 (N + 1) s ⁇ L (12)
  • ⁇ s2 L ⁇ Ns (13)
  • the noise compensation unit 81 includes the noise superposition timing within the noise inhibition period Tf if ⁇ s1 or ⁇ s2 satisfies the relationship of the following formula (14) or formula (15). May be determined.
  • Expression (14) may mean that the noise superimposition timing is included within the first period Ta of the noise inhibition period Tf if ⁇ s1 is equal to or less than VTa in the irradiation timing of the pulse laser beam 33.
  • Equation (15) may mean that the noise superimposition timing is included within the second period Tb of the noise inhibition period Tf if ⁇ s2 is equal to or less than VTb in the irradiation timing of the pulse laser beam 33.
  • the noise superimposition timing is the first period Ta. Can be separated out. Then, at the irradiation timing of the pulse laser beam 33, if the detection region R is located at a position separated from the droplet 271 located immediately below the detection region R beyond VTb, the noise superimposition timing is the second period Tb. Can be separated out.
  • the noise superimposition timing is the noise inhibition period. It can be separated out of Tf.
  • the noise compensation unit 81 corrects the distance L from the detection region R to the plasma generation region 25 so that the position of the detection region R becomes such a position at the irradiation timing of the pulsed laser light 33. May be. Specifically, the noise compensation unit 81 moves the position of the droplet detector 41 using the moving mechanism 45 so that the position of the detection region R becomes such a position at the irradiation timing of the pulse laser beam 33. May be. At this time, the noise compensation unit 81 may move the position of the droplet detector 41 so that the distance L from the detection region R to the plasma generation region 25 is, for example, 2 mm or more and 6 mm or less. The noise compensation unit 81 may move the position of the droplet detector 41 so that the distance L from the detection region R to the plasma generation region 25 is at least one of, for example, 2 mm, 4 mm, and 6 mm.
  • noise compensation unit 81 according to the fourth embodiment may be the same as those of the noise compensation unit 81 according to the third embodiment.
  • Other configurations of the EUV light generation apparatus 1 of the fourth embodiment may be the same as those of the EUV light generation apparatus 1 of the third embodiment.
  • the noise compensation unit 81 according to the fourth embodiment can determine whether or not the noise superimposition timing is included within the noise inhibition period Tf based on various parameters of the droplet detector 41 and the droplet 271. Accordingly, the noise compensation unit 81 according to the fourth embodiment determines whether or not the noise superimposition timing is included within the noise prohibition period Tf with a relatively simple configuration without including a signal waveform analysis device. Can do. And the noise compensation part 81 which concerns on 4th Embodiment correct
  • the noise compensation unit 81 according to the fourth embodiment can separate the noise superimposition timing outside the noise inhibition period Tf.
  • the noise compensation part 81 which concerns on 4th Embodiment can mask the noise superimposed on a passage timing signal at the timing isolate
  • the noise compensation unit 81 according to the fourth embodiment can correct the timing at which the trigger signal is transmitted from the control unit 8 as in the third embodiment. Therefore, the noise compensator 81 according to the fourth embodiment, even if noise due to electromagnetic waves radiated from plasma is superimposed on the passage timing signal, the noise superimposed on the passage timing signal is the same as in the third embodiment. Can compensate.
  • the EUV light generation apparatus 1 according to the fifth embodiment will be described with reference to FIG.
  • the EUV light generation apparatus 1 of the fifth embodiment may be different in the configuration of the droplet detector 41 and the moving mechanism 45 from the EUV light generation apparatus 1 of the third embodiment.
  • the description of the same configuration as the EUV light generation apparatus 1 of the third embodiment is omitted.
  • FIG. 23 is a diagram for explaining a droplet detector 41 and a moving mechanism 45 according to the fifth embodiment.
  • a plurality of transmission optical elements may be provided on the optical path of the illumination light output from the light source unit 410 to the detection region R.
  • the plurality of transmission optical elements may be a mirror 414, a mirror 415, a mirror 424, and a mirror 425, for example.
  • the mirror 414 and the mirror 415 may be included in the light source unit 410.
  • the mirror 424 and the mirror 425 may be included in the light receiving unit 420.
  • the mirror 414 may be disposed on the optical path of the illumination light transmitted through the illumination optical system 412.
  • the mirror 414 may be disposed so as to face the illumination optical system 412 and the mirror 415, respectively.
  • the mirror 414 may reflect the illumination light transmitted through the illumination optical system 412 and guide it to the mirror 415.
  • the mirror 415 may be disposed on the optical path of the illumination light reflected by the mirror 414.
  • the mirror 415 may be disposed so as to face the mirror 414 and the window 413, respectively.
  • the mirror 415 may reflect the illumination light reflected by the mirror 414 and guide it to the detection region R via the window 413.
  • the mirror 415 may be placed on the moving mechanism 45.
  • the mirror 425 may be disposed on the optical path of the illumination light transmitted through the window 423.
  • the mirror 425 may be disposed so as to face the window 423 and the mirror 424, respectively.
  • the mirror 425 may reflect the illumination light transmitted through the window 423 and guide it to the mirror 424.
  • the mirror 425 may be placed on the moving mechanism 45.
  • the mirror 425 may be arranged so as to face the mirror 415 across the detection region R on the droplet trajectory F.
  • the mirror 424 may be disposed on the optical path of the illumination light reflected by the mirror 425.
  • the mirror 424 may be disposed so as to face the mirror 425 and the light receiving optical system 422, respectively.
  • the mirror 424 may reflect the illumination light reflected by the mirror 425 and guide it to the light receiving optical system 422.
  • the moving mechanism 45 may include a stage that moves the position of the mirror 415 along the droplet trajectory F and a stage that moves the position of the mirror 425 along the droplet trajectory F. .
  • the moving mechanism 45 may move the positions of the mirror 415 and the mirror 425 substantially parallel to the droplet trajectory F.
  • the moving mechanism 45 may move the respective positions of the mirror 415 and the mirror 425 in the same direction by substantially the same distance from each other.
  • the position of the detection region R on the droplet trajectory F can be moved according to the movement mechanism 45 moving the respective positions of the mirror 415 and the mirror 425.
  • the operation of the moving mechanism 45 may be controlled by the control unit 8.
  • Other configurations of the moving mechanism 45 according to the fifth embodiment may be the same as the moving mechanism 45 according to the third embodiment.
  • Other configurations of the EUV light generation apparatus 1 of the fifth embodiment may be the same as those of the EUV light generation apparatus 1 of the third embodiment.
  • the moving mechanism 45 according to the fifth embodiment is in a state where the light source 411, the illumination optical system 412, the light receiving optical system 422, and the optical sensor 421 are fixed.
  • the position of the detection region R can be moved.
  • the moving mechanism 45 according to the fifth embodiment moves the light source 411 and the illumination optical system 412 and moves the optical sensor 421 and the light receiving optical system 422 as the droplet detector 41 is moved.
  • the moving mechanism 45 according to the fifth embodiment has a distance correction amount calculated by the noise compensator 81 in which the position of the actually moved detection region R is accompanied by the occurrence of errors related to these moving distances. Deviation from the position of the detection region R reflecting Ls can be suppressed. Therefore, the noise compensation unit 81 according to the fifth embodiment is more reliable than the third embodiment even if noise caused by electromagnetic waves radiated from plasma is superimposed on the passage timing signal. Can be compensated.
  • the EUV light generation apparatus 1 according to the sixth embodiment will be described with reference to FIG.
  • the EUV light generation apparatus 1 of the sixth embodiment may be different in the configuration of the droplet detector 41 and the moving mechanism 45 from the EUV light generation apparatus 1 of the third embodiment.
  • the description of the same configuration as the EUV light generation apparatus 1 of the third embodiment is omitted.
  • FIG. 24 is a view for explaining the droplet detector 41 and the moving mechanism 45 according to the sixth embodiment.
  • the light source unit 410 and the light receiving unit 420 may not be arranged so as to face each other across the detection region R on the droplet trajectory F.
  • the light source unit 410 and the light receiving unit 420 may be arranged in one housing 431.
  • the droplet detector 41 includes a light source 411, an illumination optical system 412, an optical sensor 421, a light receiving optical system 422, a housing 431, a partial reflection mirror 432, and a window 433. But you can.
  • Each component included in the droplet detector 41 according to the sixth embodiment includes an optical path axis of illumination light output to the detection region R and an optical path axis of reflected light from the droplet 271 from the partial reflection mirror 432. You may arrange
  • the reflected light from the droplet 271 is illumination light reflected by the droplet 271 passing through the detection region R when the illumination light output to the detection region R irradiates the droplet 271 passing through the detection region R. There may be.
  • the housing 431 may house the light source 411, the illumination optical system 412, the optical sensor 421, the light receiving optical system 422, and the partial reflection mirror 432.
  • the housing 431 may accommodate the light source 411, the illumination optical system 412, the optical sensor 421, the light receiving optical system 422, and the partial reflection mirror 432 in a fixed state.
  • the housing 431 may be placed on the moving mechanism 45.
  • the partial reflection mirror 432 may be disposed on the optical path of the illumination light transmitted through the illumination optical system 412.
  • the partial reflection mirror 432 may be disposed to face the illumination optical system 412 and the window 433, respectively.
  • the partial reflection mirror 432 may be arranged so that the illumination light transmitted through the illumination optical system 412 is incident at an incident angle of approximately 45 °.
  • the partial reflection mirror 432 may reflect a part of the illumination light transmitted through the illumination optical system 412 and incident at an incident angle of about 45 °, and may be guided to the detection region R through the window 433.
  • the partial reflection mirror 432 may be configured to have a reflectivity of approximately 50% with respect to the wavelength of illumination light incident at an incident angle of approximately 45 °.
  • the partial reflection mirror 432 may be disposed on the optical path of the reflected light from the droplet 271 that has passed through the window 433.
  • the partial reflection mirror 432 may be arranged so that the reflected light from the droplet 271 that has passed through the window 433 enters at an incident angle of approximately 45 °.
  • the partial reflection mirror 432 may transmit a part of the reflected light from the droplet 271 that has passed through the window 433, and may guide the light to the light receiving optical system 422.
  • the window 433 may be provided on the wall 2 a of the target supply path 2 b that is a part of the chamber 2.
  • the window 433 may be disposed on the optical path of the illumination light reflected by the partial reflection mirror 432.
  • the window 433 may transmit the illumination light reflected by the partial reflection mirror 432 toward the detection region R.
  • the window 433 may transmit the reflected light from the droplet 271 toward the light receiving optical system 422.
  • the light receiving optical system 422 may be disposed on the optical path of the reflected light from the droplet 271 that has passed through the partial reflection mirror 432.
  • the moving mechanism 45 may include a stage that moves the position of the housing 431 along the droplet trajectory F.
  • the moving mechanism 45 may move the position of the housing 431 substantially parallel to the droplet trajectory F.
  • the position of the detection region R on the droplet trajectory F can be moved according to the movement mechanism 45 moving the position of the housing 431.
  • the operation of the moving mechanism 45 may be controlled by the control unit 8.
  • the moving mechanism 45 according to the sixth embodiment can be composed of one stage that moves the position of the housing 431. That is, in the moving mechanism 45 according to the sixth embodiment, when the distance L from the detection region R to the plasma generation region 25 is corrected, the relative position of the light source 411, the illumination optical system 412, the optical sensor 421, and the light receiving optical system 422.
  • the detection region R can be moved in a state where is fixed to the housing 431. For this reason, the moving mechanism 45 according to the sixth embodiment moves the entire distance of the droplet detector 41 and moves the light source 411 and the illumination optical system 412 and the light sensor 421 and the light receiving optical system 422.
  • the movement mechanism 45 according to the sixth embodiment causes the distance correction amount in which the position of the actually moved detection region R is calculated by the noise compensator 81 due to the occurrence of errors related to these movement distances. Deviation from the position of the detection region R reflecting Ls can be suppressed. Therefore, the noise compensator 81 according to the sixth embodiment is more reliable than the third embodiment even when noise caused by electromagnetic waves radiated from plasma is superimposed on the passage timing signal. Can be compensated.
  • FIG. 25 is a block diagram illustrating an example hardware environment in which various aspects of the disclosed subject matter may be implemented.
  • the exemplary hardware environment 100 of FIG. 25 includes a processing unit 1000, a storage unit 1005, a user interface 1010, a parallel I / O controller 1020, a serial I / O controller 1030, A / D, D / A.
  • the converter 1040 may be included, the configuration of the hardware environment 100 is not limited to this.
  • the processing unit 1000 may include a central processing unit (CPU) 1001, a memory 1002, a timer 1003, and an image processing unit (GPU) 1004.
  • the memory 1002 may include random access memory (RAM) and read only memory (ROM).
  • the CPU 1001 may be any commercially available processor. A dual microprocessor or other multiprocessor architecture may be used as the CPU 1001.
  • FIG. 25 may be interconnected to perform the processes described in this disclosure.
  • the processing unit 1000 may read and execute a program stored in the storage unit 1005, or the processing unit 1000 may read data together with the program from the storage unit 1005.
  • the unit 1000 may write data to the storage unit 1005.
  • the CPU 1001 may execute a program read from the storage unit 1005.
  • the memory 1002 may be a work area for temporarily storing programs executed by the CPU 1001 and data used for the operation of the CPU 1001.
  • the timer 1003 may measure the time interval and output the measurement result to the CPU 1001 according to the execution of the program.
  • the GPU 1004 may process the image data according to a program read from the storage unit 1005 and output the processing result to the CPU 1001.
  • the parallel I / O controller 1020 may be connected to parallel I / O devices that can communicate with the processing unit 1000, such as the exposure apparatus controller 61, the EUV light generation controller 5, the temperature controller 263d, and the controller 8. The communication between the processing unit 1000 and these parallel I / O devices may be controlled.
  • the serial I / O controller 1030 is a serial I that can communicate with the processing unit 1000 such as the laser beam traveling direction control unit 34, the heater 263a, the heater power supply 263b, the pressure regulator 264a, the piezo power supply 265b, the light source 411, and the moving mechanism 45. / O devices may be connected, and communication between the processing unit 1000 and these serial I / O devices may be controlled.
  • the A / D and D / A converter 1040 may be connected to analog devices such as the target sensor 4, the temperature sensor 263c, the piezo element 265a, and the optical sensor 421 via an analog port. Control of communication between the communication contents and A / D and D / A conversion of communication contents may be performed.
  • the user interface 1010 may display the progress of the program executed by the processing unit 1000 to the operator so that the operator can instruct the processing unit 1000 to stop the program or execute the interrupt routine.
  • the exemplary hardware environment 100 may be applied to the configuration of the exposure apparatus control unit 61, the EUV light generation control unit 5, the temperature control unit 263d, the control unit 8, and the like according to the present disclosure.
  • controllers may be implemented in a distributed computing environment, i.e., an environment where tasks are performed by processing units connected via a communications network.
  • the exposure apparatus control unit 61, the EUV light generation control unit 5, the temperature control unit 263d, the control unit 8, and the like may be connected to each other via a communication network such as Ethernet or the Internet.
  • program modules may be stored in both local and remote memory storage devices.
  • Illumination optical system 413 ... Window 414 ... Mirror 415 ... Mirror 420 ... Light receiving part 421 ... Optical sensor 422 ... Light receiving optical system 423 ... Window 424 ... Mirror 425 ... Mirror 431 ... Housing 432 ... Partial reflection mirror 433 ... Window 45 ... Moving mechanism 5 ... EUV light generation control part 6 ... Exposure device 61 ... Exposure device control unit 8 ... Control unit 81 ... Noise compensation unit 100 ... Hardware environment 1000 ... Processing unit 1001 ... CPU 1002 ... Memory 1003 ... Timer 1004 ... GPU DESCRIPTION OF SYMBOLS 1005 ... Storage unit 1010 ... User interface 1020 ... Parallel I / O controller 1030 ... Serial I / O controller 1040 ... A / D, D / A converter F ... Droplet track R ... Detection area

Abstract

極端紫外光生成装置は、レーザ光を出力するレーザ装置と共に用いられる極端紫外光生成装置であって、内部の生成領域でターゲットに前記レーザ光が照射されることで発生するプラズマから極端紫外光が生成されるチャンバと、前記チャンバ内の前記生成領域に向かって前記ターゲットをドロップレットとして出力するターゲット供給器と、前記ターゲット供給器と前記生成領域との間にある検出領域において前記ドロップレットを検出するドロップレット検出器と、前記レーザ光を出力する契機を前記レーザ装置に与えるトリガ信号を前記レーザ装置に送信する制御部と、を備え、前記ドロップレット検出器は、前記ドロップレットが前記検出領域を通過したタイミングを示す通過タイミング信号を前記制御部に送信し、前記制御部は、前記プラズマから放射された電磁波に起因して前記通過タイミング信号に重畳するノイズを補償するノイズ補償部を含み、前記ノイズ補償部によって前記ノイズが補償された前記通過タイミング信号に基づいて、前記トリガ信号を前記レーザ装置に送信してもよい。

Description

極端紫外光生成装置
 本開示は、極端紫外光生成装置に関する。
 近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、20nm以下の微細加工が要求されるようになる。このため、波長13nm程度の極端紫外(EUV)光を生成する極端紫外(EUV)光生成装置と縮小投影反射光学系とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
 EUV光生成装置としては、ターゲットにレーザ光を照射することによって生成されるプラズマが用いられるLPP(Laser Produced Plasma)式の装置と、放電によって生成されるプラズマが用いられるDPP(Discharge Produced Plasma)式の装置と、軌道放射光が用いられるSR(Synchrotron Radiation)式の装置との3種類の装置が提案されている。
特開2011-3887号公報 特表2014-534559号公報 特開2009-95826号公報 特開2013-62146号公報
概要
 本開示の1つの観点に係る極端紫外光生成装置は、レーザ光を出力するレーザ装置と共に用いられる極端紫外光生成装置であって、内部の生成領域でターゲットにレーザ光が照射されることで発生するプラズマから極端紫外光が生成されるチャンバと、チャンバ内の生成領域に向かってターゲットをドロップレットとして出力するターゲット供給器と、ターゲット供給器と生成領域との間にある検出領域においてドロップレットを検出するドロップレット検出器と、レーザ光を出力する契機をレーザ装置に与えるトリガ信号をレーザ装置に送信する制御部と、を備え、ドロップレット検出器は、ドロップレットが検出領域を通過したタイミングを示す通過タイミング信号を制御部に送信し、制御部は、プラズマから放射された電磁波に起因して通過タイミング信号に重畳するノイズを補償するノイズ補償部を含み、ノイズ補償部によってノイズが補償された通過タイミング信号に基づいて、トリガ信号をレーザ装置に送信してもよい。
 本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図1は、例示的なLPP式のEUV光生成システムの構成を概略的に示す。 図2は、比較例のEUV光生成装置の構成を説明するための図を示す。 図3は、比較例に係るターゲット供給器及びドロップレット検出器の構成を説明するための図を示す。 図4は、制御部によって制御されるレーザ装置の出力タイミングを説明するための図である。 図5は、比較例のEUV光生成装置の課題を説明するための図を示す。 図6は、第1実施形態のEUV光生成装置の構成を説明するための図を示す。 図7は、第1実施形態に係るノイズ補償部に含まれるノイズ判定機能を説明するための図を示す。 図8は、第1実施形態に係るノイズ補償部に含まれるノイズ分離機能を説明するための図を示す。 図9は、ノイズ分離機能の一態様としてドロップレットの速度を補正する機能を説明するための図を示す。 図10は、ノイズ分離機能の一態様であるドロップレットの速度を補正する機能を用いて、ドロップレットの速度補正量を具体的に計算した例を説明するための図である。 図11は、ドロップレットの速度補正量と、タンク内のターゲットに加わる圧力の圧力補正量との関係を記述した近似式を説明するための図である。 図12は、ドロップレットの速度補正量と、タンク内のターゲットに加わる圧力の圧力補正量とを対応付けたテーブルを示す図である。 図13は、第1実施形態に係るノイズ補償部に含まれるノイズマスク機能及び遅延時間補正機能を説明するための図を示す。 図14は、第1実施形態に係るノイズ補償部の処理を説明するための図を示す。 図15は、第2実施形態に係るノイズ補償部に含まれるノイズ分離機能を説明するための図を示す。 図16は、第3実施形態のEUV光生成装置の構成を説明するための図を示す。 図17は、第3実施形態に係るノイズ補償部に含まれるノイズ判定機能を説明するための図を示す。 図18は、第3実施形態に係るノイズ補償部に含まれるノイズ分離機能を説明するための図を示す。 図19は、第3実施形態に係るノイズ補償部の処理を説明するための図を示す。 図20は、第4実施形態に係るノイズ禁止期間を説明するための図を示す。 図21は、第4実施形態に係るノイズ補償部に含まれるノイズ判定機能を説明するための図を示す。 図22は、第4実施形態に係るノイズ補償部に含まれるノイズ判定機能を説明するための図であって、ノイズ禁止期間と複数のドロップレットの空間的な間隔との関係を示す。 図23は、第5実施形態に係るドロップレット検出器及び移動機構を説明するための図を示す。 図24は、第6実施形態に係るドロップレット検出器及び移動機構を説明するための図を示す。 図25は、各制御部のハードウェア環境を示すブロック図を示す。
実施形態
<内容>
 1.EUV光生成システムの全体説明
  1.1 構成
  1.2 動作
 2.用語の説明
 3.課題
  3.1 比較例の構成
  3.2 比較例の動作
  3.3 課題
 4.第1実施形態
  4.1 構成
  4.1.1 ノイズ判定機能
  4.1.2 ノイズ分離機能
  4.1.3 ノイズマスク機能
  4.1.4 遅延時間補正機能
  4.2 動作
  4.3 作用効果
 5.第2実施形態
  5.1 構成及び動作
  5.2 作用効果
 6.第3実施形態
  6.1 構成
  6.2 動作
  6.3 作用効果
 7.第4実施形態
  7.1 構成及び動作
  7.2 作用効果
 8.第5実施形態
  8.1 構成及び動作
  8.2 作用効果
 9.第6実施形態
  9.1 構成及び動作
  9.2 作用効果
10.その他
 10.1 各制御部のハードウェア環境
 10.2 その他の変形例等
 以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
[1.EUV光生成システムの全体説明]
 [1.1 構成]
 図1に、例示的なLPP方式のEUV光生成システムの構成を概略的に示す。
 EUV光生成装置1は、少なくとも1つのレーザ装置3と共に用いられてもよい。本願においては、EUV光生成装置1及びレーザ装置3を含むシステムを、EUV光生成システム11と称する。図1に示し、かつ、以下に詳細に説明するように、EUV光生成装置1は、チャンバ2、ターゲット供給器26を含んでもよい。チャンバ2は、密閉可能であってもよい。ターゲット供給器26は、例えば、チャンバ2の壁を貫通するように取り付けられてもよい。ターゲット供給器26から供給されるターゲット27の材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又は、それらの内のいずれか2つ以上の組合せを含んでもよいが、これらに限定されない。
 チャンバ2の壁には、少なくとも1つの貫通孔が設けられてもよい。その貫通孔には、ウインドウ21が設けられてもよく、ウインドウ21をレーザ装置3から出力されるパルスレーザ光32が透過してもよい。チャンバ2の内部には、例えば、回転楕円面形状の反射面を有するEUV集光ミラー23が配置されてもよい。EUV集光ミラー23は、第1及び第2の焦点を有し得る。EUV集光ミラー23の表面には、例えば、モリブデンと、シリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成されてもよい。EUV集光ミラー23は、例えば、その第1の焦点がプラズマ生成領域25に位置し、その第2の焦点が中間集光点(IF)292に位置するように配置されるのが好ましい。EUV集光ミラー23の中央部には貫通孔24が設けられてもよく、貫通孔24をパルスレーザ光33が通過してもよい。
 EUV光生成装置1は、EUV光生成制御部5、ターゲットセンサ4等を含んでもよい。ターゲットセンサ4は、撮像機能を有してもよく、ターゲット27の存在、軌跡、位置、速度等を検出するよう構成されてもよい。
 また、EUV光生成装置1は、チャンバ2の内部と露光装置6の内部とを連通させる接続部29を含んでもよい。接続部29内部には、アパーチャ293が形成された壁291が設けられてもよい。壁291は、そのアパーチャ293がEUV集光ミラー23の第2の焦点位置に位置するように配置されてもよい。
 更に、EUV光生成装置1は、レーザ光進行方向制御部34、レーザ光集光ミラー22、ターゲット27を回収するためのターゲット回収器28等を含んでもよい。レーザ光進行方向制御部34は、レーザ光の進行方向を規定するための光学素子と、この光学素子の位置、姿勢等を調整するためのアクチュエータとを備えてもよい。
 [1.2 動作]
 図1を参照すると、レーザ装置3から出力されたパルスレーザ光31は、レーザ光進行方向制御部34を経て、パルスレーザ光32としてウインドウ21を透過してチャンバ2内に入射してもよい。パルスレーザ光32は、少なくとも1つのレーザ光経路に沿ってチャンバ2内を進み、レーザ光集光ミラー22で反射されて、パルスレーザ光33として少なくとも1つのターゲット27に照射されてもよい。
 ターゲット供給器26は、ターゲット27をチャンバ2内部のプラズマ生成領域25に向けて出力するよう構成されてもよい。ターゲット27には、パルスレーザ光33に含まれる少なくとも1つのパルスが照射されてもよい。パルスレーザ光33が照射されたターゲット27はプラズマ化し、そのプラズマからEUV光251が、他の波長の光の放射に伴って放射され得る。EUV光251は、EUV集光ミラー23によって選択的に反射されてもよい。EUV集光ミラー23によって反射されたEUV光252は、中間集光点292で集光され、露光装置6に出力されてもよい。なお、1つのターゲット27に、パルスレーザ光33に含まれる複数のパルスが照射されてもよい。
 EUV光生成制御部5は、EUV光生成システム11全体の制御を統括するよう構成されてもよい。EUV光生成制御部5は、ターゲットセンサ4によって撮像されたターゲット27のイメージデータ等を処理するよう構成されてもよい。また、EUV光生成制御部5は、例えば、ターゲット27が出力されるタイミング制御及びターゲット27の出力方向等の制御の内の少なくとも1つを行ってもよい。更に、EUV光生成制御部5は、例えば、レーザ装置3の出力タイミングの制御、パルスレーザ光32の進行方向の制御、パルスレーザ光33の集光位置の制御の内の少なくとも1つを行ってもよい。上述の様々な制御は単なる例示に過ぎず、必要に応じて他の制御が追加されてもよい。
[2.用語の説明]
 「ターゲット」は、チャンバ内に導入されたレーザ光の被照射物である。レーザ光が照射されたターゲットは、プラズマ化してEUV光を放射する。
 「ドロップレット」は、チャンバ内へ供給されるターゲットの一形態である。
 「プラズマ生成領域」は、チャンバ内の所定領域である。プラズマ生成領域は、チャンバ内に出力されたドロップレットに対してレーザ光が照射され、ターゲットがプラズマ化される領域である。
 「ドロップレット軌道」は、チャンバ内に出力されたドロップレットが進行する経路である。ドロップレット軌道は、プラズマ生成領域において、チャンバ内に導入されたレーザ光の光路と交差してもよい。
 「光路軸」は、レーザ光の進行方向に沿ってレーザ光のビーム断面の中心を通る軸である。
 「光路」は、レーザ光が通る経路である。光路には、光路軸が含まれてもよい。
 「Z軸方向」は、EUV光生成装置がEUV光を出力する方向である。すなわち、Z軸方向は、EUV光生成装置のチャンバから露光装置へEUV光が出力される方向である。
 「Y軸方向」は、ターゲット供給器がチャンバ内にターゲットを出力する方向である。
 「X軸方向」は、Y軸方向及びZ軸方向に直交する方向である。
[3.課題]
 図2~図5を用いて、比較例のEUV光生成装置1について説明する。
 比較例のEUV光生成装置1は、ドロップレット検出器41を含むEUV光生成装置1であってもよい。
 [3.1 比較例の構成]
 図2は、比較例のEUV光生成装置1の構成を説明するための図を示す。図3は、比較例に係るターゲット供給器26及びドロップレット検出器41の構成を説明するための図を示す。
 比較例のEUV光生成装置1は、パルスレーザ光31を出力するレーザ装置3と共に用いられる装置であってもよい。
 比較例のEUV光生成装置1は、チャンバ2と、ターゲット供給器26と、ターゲット回収器28と、ドロップレット検出器41と、EUV光生成制御部5と、制御部8とを備えてもよい。
 チャンバ2は、上述のように、ターゲット供給器26によって内部に供給されたドロップレット271にパルスレーザ光33が照射されることでEUV光252が生成される容器であってもよい。チャンバ2は、EUV光252を生成するために減圧される内部空間を外界から隔絶してもよい。
 チャンバ2は、例えば、中空の筒形状に形成されてもよい。
 筒形状のチャンバ2の中心軸方向は、EUV光252を露光装置6へ出力する方向に略平行であってもよい。
 チャンバ2の内部空間を形成する壁2aは、導電性を有する材料を用いて形成されてもよい。
 チャンバ2は、チャンバ2外からチャンバ2内へドロップレット271を供給するためのターゲット供給路2bを含んでもよい。
 ターゲット供給路2bは、筒形状のチャンバ2の側面部に設けられてもよい。
 ターゲット供給路2bは、筒形状に形成されてもよい。
 筒形状のターゲット供給路2bの中心軸方向は、EUV光252を露光装置6へ出力する方向に略直交してもよい。
 チャンバ2の内部には、レーザ光集光光学系22aと、EUV集光光学系23aと、ターゲット回収器28と、プレート235と、が設けられてもよい。
 プレート235は、チャンバ2の内部空間を区画分けしてもよい。
 プレート235は、チャンバ2の内側面に固定されてもよい。
 プレート235の中央には、その厚さ方向にパルスレーザ光33が通過可能な孔235aが設けられてよい。孔235aの開口方向は、図1における貫通孔24とプラズマ生成領域25とを通る軸と略同一方向であってもよい。
 プレート235より接続部29側に区画分けされたチャンバ2の内部空間には、EUV集光光学系23aが設けられてもよい。
 プレート235よりウインドウ21側に区画分けされたチャンバ2の内部空間には、レーザ光集光光学系22aが設けられてもよい。
 EUV集光光学系23aは、EUV集光ミラー23と、ホルダ231とを含んでもよい。
 EUV集光ミラー23は、ホルダ231に保持されてもよい。ホルダ231は、プレート235に固定されてもよい。
 レーザ光集光光学系22aは、レーザ光集光ミラー22と、ホルダ223と、ホルダ224とを含んでもよい。
 レーザ光集光ミラー22は、チャンバ2の底面部に設けられたウインドウ21を透過したパルスレーザ光32が入射するように配置されてもよい。
 レーザ光集光ミラー22は、軸外放物面ミラー221と、平面ミラー222とを含んでもよい。
 軸外放物面ミラー221は、チャンバ2の底面部に設けられたウインドウ21及び平面ミラー222とそれぞれ対向して配置されてもよい。軸外放物面ミラー221は、ホルダ223に保持されてもよい。
 平面ミラー222は、孔235a及び軸外放物面ミラー221とそれぞれ対向して配置されてもよい。平面ミラー222は、ホルダ224に保持されてもよい。
 ホルダ223及びホルダ224は、不図示の3軸ステージに固定されてもよい。3軸ステージは、X軸方向、Y軸方向及びZ軸方向の3軸方向にホルダ223及びホルダ224を動かすアクチェータを含んでもよい。3軸ステージのアクチュエータの動作は、EUV光生成制御部5によって制御されてもよい。
 軸外放物面ミラー221及び平面ミラー222の位置及び姿勢は、EUV光生成制御部5が3軸ステージのアクチュエータを制御することに伴って、調整され得る。当該調整は、レーザ光集光ミラー22から出射光であるパルスレーザ光33が、プラズマ生成領域25で集光するように実行され得る。
 ターゲット回収器28は、チャンバ2内に出力されたドロップレット271のうち、パルスレーザ光33が照射されなかったドロップレット271を回収する機器であってもよい。
 ターゲット回収器28は、ドロップレット軌道Fの延長線上に配置されてもよい。
 レーザ光進行方向制御部34は、レーザ装置3から出力されたパルスレーザ光31がパルスレーザ光32としてチャンバ2のウインドウ21に入射するよう、パルスレーザ光31の進行方向を制御してもよい。
 レーザ光進行方向制御部34は、高反射ミラー341と、高反射ミラー342とを含んでもよい。
 高反射ミラー341及び高反射ミラー342は、不図示のアクチュエータによって位置及び姿勢が調整されてもよい。当該アクチュエータの動作は、EUV光生成制御部5によって制御されてもよい。
 高反射ミラー341及び高反射ミラー342の位置及び姿勢は、EUV光生成制御部5が当該アクチュエータを制御することに伴って、調整され得る。当該調整は、レーザ光進行方向制御部34からの出射光であるパルスレーザ光32が、チャンバ2の底面部に設けられたウインドウ21を透過するように実行されてもよい。
 EUV光生成制御部5は、露光装置6に設けられた露光装置制御部61との間で各種信号の送受信を行ってもよい。
 例えば、EUV光生成制御部5は、EUV光252の露光装置6への出力に関する制御指令を示すEUV光出力指令信号を、露光装置制御部61から受信してもよい。EUV光出力指令信号は、EUV光252の目標出力タイミング、目標繰り返し周波数、目標パルスエネルギ等の各種目標値を含んでもよい。
 EUV光生成制御部5は、露光装置制御部61からの各種信号に基づいて、EUV光生成システム11の各構成要素の動作を統括的に制御してもよい。
 EUV光生成制御部5は、レーザ装置3との間で制御信号の送受信を行ってもよい。それにより、EUV光生成制御部5は、レーザ装置3の動作を制御してもよい。
 EUV光生成制御部5は、レーザ光進行方向制御部34及びレーザ光集光光学系22aを動かすそれぞれのアクチェータとの間で各々制御信号の送受信を行ってもよい。それにより、EUV光生成制御部5は、パルスレーザ光31~33の進行方向及び集光位置を調整してもよい。
 EUV光生成制御部5は、制御部8との間で制御信号の送受信を行ってもよい。それにより、EUV光生成制御部5は、ターゲット供給器26及びドロップレット検出器41に含まれる各構成要素の動作を間接的に制御してもよい。
 ターゲット供給器26は、チャンバ2内に供給するターゲット27を溶融させ、ドロップレット271としてチャンバ2内のプラズマ生成領域25に出力する機器であってもよい。ターゲット供給器26は、いわゆるコンティニュアスジェット方式でドロップレット271を出力する機器であってもよい。
 ターゲット供給器26が供給するターゲット27の材料は、金属材料であってもよい。ターゲット27を構成する金属材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム又は、それらの内のいずれか2つ以上の組合せを含む材料であってもよい。好適には、ターゲット27を構成する金属材料は、スズであってもよい。
 ターゲット供給器26は、チャンバ2のターゲット供給路2bの端部に設けられてもよい。
 ターゲット供給器26は、図3に示されるように、タンク261と、ノズル262とを含んでもよい。更に、ターゲット供給器26は、ヒータ263aと、ヒータ電源263bと、温度センサ263cと、温度制御部263dと、圧力調節器264aと、ガスボンベ264bと、ピエゾ素子265aと、ピエゾ電源265bとを含んでもよい。
 タンク261は、チャンバ2内に出力されるターゲット27を収容する容器であってもよい。タンク261は、ターゲット27を溶融状態で内部に収容してもよい。
 タンク261は、中空の筒形状に形成されてもよい。
 タンク261は、ターゲット27と反応し難い材料で形成されてもよい。ターゲット27と反応し難い材料は、例えば、SiC、SiO、Al、モリブデン、タングステン及びタンタルのうちの少なくとも1つであってもよい。
 タンク261は、チャンバ2のターゲット供給路2bの端部外側に配置されてもよい。
 タンク261は、その中心軸がドロップレット軌道Fと略一致するように配置されてもよい。
 ノズル262は、タンク261内に収容されたターゲット27をチャンバ2内に出力するための部材であってもよい。
 ノズル262は、板状に形成されてもよい。
 ノズル262は、ターゲット27と反応し難い材料で形成されてもよい。
 ノズル262は、タンク261に接続されてもよい。ノズル262は、タンク261のプラズマ生成領域25側の端部であるネック部261aの先端に接続されてもよい。
 ノズル262の中央には、ノズル孔262aが形成されてもよい。
 ノズル孔262aは、ノズル262を貫通するように形成されてもよい。ノズル孔262aは、その中心軸がドロップレット軌道Fと略一致するように形成されてもよい。ノズル孔262aは、溶融したターゲット27をチャンバ2内へジェット状に噴出するような形状に形成されてもよい。
 タンク261、ノズル262、ターゲット供給路2bを含むチャンバ2は、それらの内部が互いに連通してもよい。
 ヒータ263aは、タンク261を加熱してもよい。
 ヒータ263aは、タンク261に接続されてもよい。ヒータ263aは、タンク261の外表面を覆うように配置されてもよい。
 ヒータ263aは、ヒータ電源263bに接続されてもよい。
 ヒータ電源263bは、ヒータ263aに電力を供給する電源であってもよい。
 ヒータ電源263bは、温度制御部263dに接続されてもよい。ヒータ電源263bの動作は、温度制御部263dによって制御されてもよい。
 温度センサ263cは、タンク261の温度を検出するセンサであってもよい。
 温度センサ263cは、タンク261の外表面であって、ネック部261a付近に接続されてもよい。
 温度センサ263cは、温度制御部263dに接続されてもよい。温度センサ263cは、検出されたタンク261の温度に応じた温度検出信号を温度制御部263dに送信してもよい。
 温度制御部263dは、タンク261の温度を制御する制御部であってもよい。
 温度制御部263dは、制御部8に接続されてもよい。温度制御部263dは、制御部8からの指令に基づいて、タンク261の温度を制御してもよい。
 圧力調節器264aは、タンク261内のターゲット27に加わる圧力を調節してもよい。
 圧力調節器264aは、タンク261内に連結されてもよい。
 圧力調節器264aは、ガスボンベ264bに連結されてもよい。ガスボンベ264bには、ヘリウム又はアルゴン等の不活性ガスが充填されてもよい。圧力調節器264aは、ガスボンベ264bに充填された不活性ガスを、タンク261内に給気してもよい。
 圧力調節器264aは、不図示の排気口を備えてもよい。圧力調節器264aは、排気口からタンク261内のガスを排気してもよい。
 圧力調節器264aは、タンク261内にガスを給気し又はタンク261内のガスを排気することによって、タンク261内のターゲット27に加わる圧力を調節してもよい。圧力調節器264aの動作は、制御部8によって制御されてもよい。
 ピエゾ素子265aは、タンク261のネック部261aに振動を加えてもよい。
 ピエゾ素子265aは、ネック部261aの外表面であって、ノズル262付近に接続されてもよい。
 ピエゾ素子265aは、ピエゾ電源265bに接続されてもよい。
 ピエゾ電源265bは、ピエゾ素子265aに電力を供給する電源であってもよい。
 ピエゾ電源265bは、制御部8に接続されてもよい。ピエゾ電源265bの動作は、制御部8によって制御されてもよい。
 ドロップレット検出器41は、チャンバ2内に出力されたドロップレット271を検出するセンサであってもよい。
 具体的には、ドロップレット検出器41は、チャンバ2内の所定位置にある検出領域Rをドロップレット271が通過したタイミングを検出するセンサであってもよい。検出領域Rがある所定位置は、ターゲット供給器26のノズル262とプラズマ生成領域25との間にあるドロップレット軌道F上の位置であってもよい。
 ドロップレット検出器41は、図3に示されるように、光源部410と、受光部420とを含んでもよい。
 光源部410と受光部420とは、チャンバ2の壁2aの外側に接続されてもよい。チャンバ2の一部であるターゲット供給路2bの壁2aに接続されてもよい。
 光源部410と受光部420とは、ドロップレット軌道F上の検出領域Rを挟んで互いに対向するように配置されてもよい。
 光源部410と受光部420との対向方向は、ドロップレット軌道Fと略直交してもよい。
 光源部410は、チャンバ2内の検出領域Rに照明光を出力してもよい。光源部410から出力された照明光は、検出領域Rを通過するドロップレット271を照射してもよい。
 光源部410は、光源411と、照明光学系412と、ウインドウ413とを含んでもよい。
 光源411は、ウインドウ413を介して検出領域Rに出力される照明光の光源であってもよい。
 光源411は、例えば、単波長の連続レーザ光を出力するCW(Continuous Wave)レーザ等の光源であってもよい。また、光源411は、複数の波長を有する連続光を出力するランプ等の光源であってもよい。
 光源411の動作は、制御部8によって制御されてもよい。
 照明光学系412は、集光レンズ等を含む光学系であってもよい。当該集光レンズは、例えばシリンドリカルレンズであってもよい。
 照明光学系412は、光源411から出力された照明光の光路上に配置されてもよい。
 照明光学系412は、光源411から出力された照明光を透過させ、ウインドウ413に導いてもよい。照明光学系412は、光源411から出力された照明光を、ウインドウ413を介して検出領域Rに集光してもよい。
 ウインドウ413は、チャンバ2の一部であるターゲット供給路2bの壁2aに設けられてもよい。
 ウインドウ413は、照明光学系412を透過した照明光の光路上に配置されてもよい。
 ウインドウ413は、照明光学系412を透過した照明光を検出領域Rに向けて透過させてもよい。
 受光部420は、光源部410から検出領域Rに出力された照明光を受光してもよい。
 受光部420は、光センサ421と、受光光学系422と、ウインドウ423とを含んでもよい。
 ウインドウ423は、チャンバ2の一部であるターゲット供給路2bの壁2aに設けられてもよい。
 ウインドウ423は、光源部410のウインドウ413と検出領域Rを挟んで対向して配置されてもよい。
 ウインドウ423は、検出領域Rに出力された照明光の光路上に配置されてもよい。
 ウインドウ423は、検出領域Rに出力された照明光を受光光学系422に向けて透過させてもよい。
 受光光学系422は、コリメータ等の光学系であってもよく、レンズ等の光学素子によって構成されてもよい。
 受光光学系422は、検出領域Rに出力されウインドウ423を透過した照明光の光路上に配置されてもよい。
 受光光学系422は、ウインドウ423を透過した照明光を透過させ、光センサ421に導いてもよい。
 光センサ421は、検出領域Rに出力された照明光を受光する受光素子であってもよい。
 光センサ421は、フォトダイオード、フォトダイオードアレイ、アバランシェダイオード、光電子増倍管及びマルチピクセルフォトンカウンタのうちの少なくとも1つの受光素子であってもよい。光センサ421は、これらの受光素子と、イメージインテンシファイア等の高速シャッタとを組み合わせて構成されてもよい。
 光センサ421は、受光光学系422を透過した照明光の光路上に配置されてもよい。
 光センサ421は、受光光学系422を透過した照明光を受光し、その光強度を検出してもよい。
 光センサ421は、制御部8に接続されてもよい。光センサ421は、受光した照明光の光強度に応じた検出信号を制御部8に送信してもよい。
 制御部8は、EUV光生成制御部5との間で各種信号の送受信を行ってもよい。
 例えば、制御部8は、ドロップレット271のチャンバ2内への出力に関する制御指令を示すターゲット出力信号を、EUV光生成制御部5から受信してもよい。ターゲット出力信号は、EUV光出力指令信号に含まれる各種目標値に応じてドロップレット271が出力されるよう、ターゲット供給器26の動作を制御する信号であってもよい。
 制御部8は、EUV光生成制御部5からの各種信号に基づいて、ターゲット供給器26に含まれる各構成要素の動作を制御してもよい。
 また、制御部8は、EUV光生成制御部5からの各種信号に基づいて、レーザ装置3がパルスレーザ光31を出力するタイミングを制御してもよい。
 [3.2 比較例の動作]
 図4を用いて、比較例のEUV光生成装置1の動作の概要について説明する。
 図4は、制御部8によって制御されるレーザ装置3の出力タイミングを説明するための図である。
 制御部8は、EUV光生成制御部5からのターゲット出力信号を受信したか否かを判定してもよい。
 制御部8は、ターゲット出力信号を受信すると、EUV光生成制御部5からターゲット出力停止信号を受信するまで、以下のような処理を行ってもよい。
 ターゲット出力停止信号は、チャンバ2内へのターゲット27の供給をターゲット供給器26に停止させる制御指令を示す信号であってもよい。
 制御部8は、タンク261の目標温度を指定する信号を温度制御部263dに送信してもよい。
 温度センサ263cは、検出されたタンク261の温度に応じた温度検出信号を温度制御部263dに送信してもよい。
 温度制御部263dは、温度検出信号に示される検出値が目標温度に近付くよう、ヒータ263aに電力を供給するヒータ電源263bの動作を制御してもよい。
 目標温度は、ターゲット27の融点以上の所定範囲内にある温度であってもよい。ターゲット27がスズの場合、目標温度は、250℃~290℃の範囲内にある温度であってもよい。
 なお、制御部8は、タンク261内の温度がターゲット27の融点以上の所定範囲内で維持されるよう、温度制御部263dを介してヒータ電源263bの動作を継続的に制御してもよい。
 制御部8は、タンク261内のターゲット27に加わる圧力が目標圧力になるよう、圧力調節器264aの動作を制御してもよい。
 目標圧力は、タンク261内のターゲット27がノズル孔262aから所定速度でジェット状に噴出するような圧力であってもよい。所定速度は、例えば50m/s~100m/sであってもよい。
 制御部8は、ピエゾ素子265aが所定波形でネック部261aに振動を加えるよう、ピエゾ素子265aに電力を供給するピエゾ電源265bの動作を制御してもよい。
 所定波形は、ドロップレット271が所定周波数で生成されるような波形であってもよい。所定周波数は、例えば50kHz~100kHzであってもよい。
 ピエゾ素子265aは、ピエゾ電源265bから供給される所定波形の電力に応じて、所定波形でネック部261aに振動を加え得る。ネック部261aに接続されたノズル262も、所定波形で振動し得る。それにより、ノズル孔262aから噴出したジェット状のターゲット27には定在波が与えられ、ジェット状のターゲット27は周期的に分離され得る。分離されたターゲット27は、自己の表面張力によって自由界面を形成してドロップレット271を形成し得る。その結果、所定周波数でドロップレット271が生成され、チャンバ2内へ出力され得る。
 チャンバ2内へ出力されたドロップレット271は、ドロップレット軌道F上を進行し、検出領域Rを通過し得る。
 ドロップレット検出器41に含まれる光源411は、チャンバ2内の検出領域Rに照明光を出力してもよい。ドロップレット検出器41に含まれる光センサ421は、光源411から出力された照明光を受光してもよい。
 ドロップレット軌道Fを進行するドロップレット271が検出領域Rを通過する場合、光源411から出力された照明光は、検出領域Rを通過するドロップレット271を照明し、光センサ421に向かって進み得る。この際、光センサ421に向かう照明光の一部は、当該ドロップレット271によって遮蔽され得る。
 そのため、ドロップレット271が検出領域Rを通過する場合、光源411から出力された照明光の検出領域Rでの像の一部は、検出領域Rを通過するドロップレット271の影の像となって光センサ421に受光され得る。
 よって、ドロップレット271が検出領域Rを通過する場合、光センサ421が受光する照明光の光強度は、ドロップレット271が検出領域Rを通過していない場合に比べて顕著に低下し得る。
 光センサ421は、受光した照明光の光強度を電圧値に変換して当該光強度の変化に応じた検出信号を生成し、制御部8に送信し得る。
 なお、光センサ421が受光した照明光の光強度を、光センサ421の受光強度ともいう。
 光センサ421によって生成される当該受光強度の変化に応じた検出信号を、通過タイミング信号ともいう。
 通過タイミング信号は、ドロップレット271が検出領域Rに進入する前は、所定のベース電圧を示し得る。通過タイミング信号は、ドロップレット271が検出領域Rに進入すると立ち下がり、ドロップレット271が検出領域Rの中央に進行すると極小値を示すように推移し得る。通過タイミング信号は、検出領域Rの中央に進行したドロップレット271が更にプラズマ生成領域25側に進行すると立ち上がり、ドロップレット271が検出領域Rから退去するとベース電圧に戻るように推移し得る。
 すなわち、通過タイミング信号は、ドロップレット271が検出領域Rに進入してから検出領域Rを退去するまでの期間内に極値を含むような信号波形を有し得る。
 ドロップレット271が検出領域Rに進入してから検出領域Rを退去するまでの期間を、検出期間ともいう。
 通過タイミング信号のうち、ドロップレット271が検出領域Rを通過することに伴って電圧が変化する部分を、ドロップレット通過部分ともいう。ドロップレット通過部分は、検出期間以内において示される通過タイミング信号であり得る。
 通過タイミング信号のうち、ドロップレット271が検出領域Rを通過していない場合に示されるベース電圧の部分を、ベース部分ともいう。ベース部分は、検出期間外において示される通過タイミング信号であり得る。
 制御部8は、光センサ421からの通過タイミング信号を受信してもよい。
 制御部8は、通過タイミング信号が所定の閾値を超えて当該閾値より低くなった場合、ドロップレット271が検出領域Rを通過したと判定してもよい。すなわち、制御部8は、通過タイミング信号のドロップレット通過部分が所定の閾値を超えて当該閾値より低くなるタイミングを、ドロップレット271が検出領域Rを通過したタイミングと判定してもよい。
 或いは、制御部8は、通過タイミング信号が所定の閾値を超えて当該閾値より低くなったタイミングと、通過タイミング信号が極値を示した後に当該閾値を超えて当該閾値より高くなったタイミングとの中間値を計算してもよい。そして、制御部8は、当該中間値のタイミングを、ドロップレット271が検出領域Rを通過したタイミングと判定してもよい。
 何れにしても、ドロップレット271が検出領域Rを通過したタイミングは、少なくとも検出期間以内に含まれ、通過タイミング信号の少なくともドロップレット通過部分の何れかのタイミングとして制御部8に判定され得る。
 所定の閾値は、通過タイミング信号のドロップレット通過部分が取り得る電圧値の範囲に基づいて予め定められてもよい。
 制御部8は、図4に示されるように、ドロップレット271が検出領域Rを通過したタイミングにおいて、ドロップレット検出信号を生成してもよい。
 ドロップレット検出信号は、検出領域Rを通過したドロップレット271が検出されたことを示す信号であってもよい。
 制御部8は、図4に示されるように、ドロップレット検出信号が生成されたタイミングから遅延時間Dだけ遅延したタイミングで、トリガ信号をレーザ装置3に送信してもよい。
 トリガ信号は、レーザ装置3がパルスレーザ光31を出力する契機を与える信号であってもよい。
 遅延時間Dは、パルスレーザ光33がプラズマ生成領域25に到達するタイミングを、ドロップレット271がプラズマ生成領域25に到達するタイミングに略一致させるための時間であってもよい。遅延時間Dは、制御部8に予め保持されてもよい。
 レーザ装置3は、トリガ信号を受信すると、パルスレーザ光31を出力してもよい。レーザ装置3から出力されたパルスレーザ光31は、レーザ光進行方向制御部34及びウインドウ21を介して、パルスレーザ光32としてチャンバ2内に導入され得る。
 チャンバ2内に導入されたパルスレーザ光32は、レーザ光集光光学系22aにて集光され、パルスレーザ光33としてプラズマ生成領域25に導かれ得る。当該パルスレーザ光33は、ドロップレット271がプラズマ生成領域25に到達するタイミングでプラズマ生成領域25に導かれ得る。
 プラズマ生成領域25に導かれたパルスレーザ光33は、プラズマ生成領域25に到達したドロップレット271を照射し得る。パルスレーザ光33が照射されたドロップレット271はプラズマ化し、EUV光251を含むプラズマ光を放射し得る。
 このようにして、ドロップレット検出器41は、チャンバ2内に出力されたドロップレット271が検出領域Rを通過したタイミングを検出し、通過タイミング信号を制御部8に送信し得る。
 そして、制御部8は、ドロップレット検出器41からの通過タイミング信号の変化に同期してレーザ装置3にトリガ信号を送信し得る。すなわち、制御部8は、通過タイミング信号に基づいてトリガ信号をレーザ装置3に送信することで、レーザ装置3がパルスレーザ光31を出力するタイミングを制御し得る。
 [3.3 課題]
 図5は、比較例のEUV光生成装置1の課題を説明するための図を示す。
 プラズマ生成領域25に到達したドロップレット271にパルスレーザ光33が照射されてプラズマが生成されると、当該プラズマからEUV光251を含む電磁波が放射され得る。
 このとき、プラズマから放射された電磁波が、ドロップレット検出器41に入射し、光センサ421によってノイズとして出力されることがあり得る。このノイズは、プラズマから放射された電磁波に起因するノイズであり得る。このノイズは、図5に示されるように、光センサ421から送信される通過タイミング信号に重畳することがあり得る。
 すると、制御部8は、ドロップレット271が検出領域Rを通過していないにもかかわらず、図5に示されるように、通過タイミング信号に重畳したノイズが所定の閾値を超えたタイミングでドロップレット検出信号を生成し得る。すなわち、ドロップレット検出信号が生成されるタイミングには、プラズマから放射された電磁波に起因するノイズによって誤差が生じることがあり得る。
 このため、ドロップレット検出信号に基づいて生成されるトリガ信号が、制御部8からレーザ装置3に誤ったタイミングで送信されることがあり得る。
 それにより、ドロップレット271がプラズマ生成領域25に到達するタイミングと、パルスレーザ光33がプラズマ生成領域25に到達するタイミングとがずれることがあり得る。その結果、EUV光生成装置1から出力されるEUV光252のパルスエネルギは、パルス毎で大きくばらつくことがあり得る。
 したがって、プラズマから放射された電磁波に起因するノイズが通過タイミング信号に重畳しても適切なタイミングでドロップレット検出信号を生成することによって、EUV光252のエネルギ安定性を向上させ得る技術が望まれている。
 なお、プラズマから放射された電磁波に起因するノイズを、単にノイズともいう。
 プラズマから放射された電磁波に起因するノイズが通過タイミング信号に対して重畳するタイミングを、ノイズの重畳タイミングともいう。
[4.第1実施形態]
 図6~図14を用いて、第1実施形態のEUV光生成装置1について説明する。
 第1実施形態のEUV光生成装置1は、比較例のEUV光生成装置1に対して、制御部8にノイズ補償部81が追加された構成を備えてもよい。
 第1実施形態のEUV光生成装置1の構成において、比較例のEUV光生成装置1と同様の構成については説明を省略する。
 [4.1 構成]
 図6は、第1実施形態のEUV光生成装置1の構成を説明するための図を示す。
 第1実施形態に係る制御部8は、ノイズ補償部81を含んでもよい。
 ノイズ補償部81は、ドロップレット検出器41に含まれる光センサ421からの通過タイミング信号を受信してもよい。
 ノイズ補償部81は、プラズマから放射された電磁波に起因して通過タイミング信号に重畳するノイズを補償してもよい。
 具体的には、ノイズ補償部81は、ノイズの重畳タイミングが検出期間以内に含まれるか否かを判定するノイズ判定機能を含んでもよい。
 ノイズ補償部81は、ノイズの重畳タイミングを検出期間外に分離するノイズ分離機能を含んでもよい。
 ノイズ補償部81は、検出期間外に分離されたタイミングで通過タイミング信号に重畳するノイズをマスクするノイズマスク機能を含んでもよい。
 ノイズ補償部81は、トリガ信号が制御部8から送信されるタイミングを規定する遅延時間Dを補正する遅延時間補正機能を含んでもよい。
 ノイズ補償部81の各種機能は、ハードウェアで構成されてもよいし、ソフトウェアで構成されてもよい。このようなノイズ補償部81の各種機能がソフトウェアで構成される場合、ノイズ補償部81の各種機能を構成するソフトウェアによる情報処理は、ハードウェア資源を用いて具体的に実現され得る。
 [4.1.1 ノイズ判定機能]
 図7は、第1実施形態に係るノイズ補償部81に含まれるノイズ判定機能を説明するための図を示す。
 ノイズ補償部81は、通過タイミング信号及びノイズのそれぞれの信号波形に基づいて、ノイズの重畳タイミングが検出期間以内に含まれるか否かを判定してもよい。
 具体的には、ノイズ補償部81は、通過タイミング信号のドロップレット通過部分に対してノイズが重畳しているか否かを判定することによって、ノイズの重畳タイミングが検出期間以内に含まれるか否かを判定してもよい。
 ノイズ補償部81は、ノイズ判定機能を実現するために、例えば次のように構成されてもよい。
 ノイズ補償部81は、通過タイミング信号が入力される高速A/Dコンバータと、通過タイミング信号の周波数解析を実行し得るデジタル回路とを備えてもよい。
 そして、ノイズ補償部81は、このデジタル回路の周波数解析の結果に基づいて、通過タイミング信号のドロップレット通過部分に対して、ノイズが重畳しているか否かを判定してもよい。
 例えば、ノイズ補償部81は、通過タイミング信号の周波数成分のうち1MHz以下の周波数成分が支配的である場合には、ノイズが通過タイミング信号に重畳していないと判定してもよい。通過タイミング信号における1MHz以下の周波数成分は、通過タイミング信号のベース部分及びドロップレット通過部分に応じた周波数成分を示し得る。
 一方、ノイズ補償部81は、通過タイミング信号の周波数成分のうち10~20MHz以下の周波数成分が存在する場合には、ノイズが通過タイミング信号に重畳していると判定してもよい。そして、ノイズ補償部81は、10~20MHz以下の周波数成分が、通過タイミング信号のドロップレット通過部分に対して重畳している場合、ノイズの重畳タイミングが検出期間以内に含まれると判定してもよい。
 或いは、ノイズ補償部81は、図7に示されるように、ノイズ判定閾値を予め保持してもよい。
 ノイズ判定閾値は、通過タイミング信号のドロップレット通過部分の極性とは逆の極性を有する所定値として定められてもよい。
 ノイズ補償部81は、通過タイミング信号がノイズ判定閾値を超えて当該ノイズ判定閾値より高くなる場合、ノイズが通過タイミング信号に重畳していると判定してもよい。そして、ノイズ補償部81は、当該ノイズが通過タイミング信号のドロップレット通過部分に対して重畳している場合、ノイズの重畳タイミングが検出期間以内に含まれると判定してもよい。
 一方、ノイズ補償部81は、通過タイミング信号がノイズ判定閾値を超えない場合、プラズマから放射された電磁波に起因するノイズが通過タイミング信号に重畳していないと判定してもよい。
 [4.1.2 ノイズ分離機能]
 図8は、第1実施形態に係るノイズ補償部81に含まれるノイズ分離機能を説明するための図を示す。図9は、ノイズ分離機能の一態様としてドロップレット271の速度を補正する機能を説明するための図を示す。
 ノイズの重畳タイミングが検出期間以内に含まれる場合、制御部8は、誤ったタイミングでドロップレット検出信号を生成することがあり得る。
 すなわち、ノイズ補償部81は、ノイズの重畳タイミングが検出期間以内に含まれていなければ、ノイズは通過タイミング信号のベース部分に重畳し得る。この場合、ノイズ補償部81は、通過タイミング信号のベース部分に重畳するノイズを比較的に容易にマスクし得る。しかし、ノイズの重畳タイミングが検出期間以内に含まれると、通過タイミング信号のドロップレット通過部分は比較的短時間であるため、このノイズをマスクすることが困難となり得る。すると、制御部8は、通過タイミング信号のドロップレット通過部分に重畳したノイズに基づいて、ドロップレット271が検出領域Rを通過したタイミングを判定する場合があり得る。この場合、制御部8は、誤ったタイミングでドロップレット検出信号を生成することがあり得る。
 よって、ノイズの重畳タイミングは、検出期間外に分離される必要があり得る。
 ノイズ補償部81は、ノイズの重畳タイミングを検出期間外に分離してもよい。
 具体的には、ノイズ補償部81は、ノイズを通過タイミング信号のドロップレット通過部分から分離することによって、ノイズの重畳タイミングを検出期間外に分離してもよい。
 ここで、図8に示されるように、通過タイミング信号のドロップレット通過部分の時間幅をTs(μs)とする。Tsの長さは、上述の検出期間に相当し得る。プラズマから放射された電磁波に起因して通過タイミング信号に重畳するノイズの時間幅をTn(μm)とする。あるドロップレット271についてのドロップレット通過部分と、当該ドロップレット271に後続するドロップレット271についてのドロップレット通過部分との時間間隔をTr(μs)とする。Trの長さは、ドロップレット271が生成される周期に相当し得ると共に、EUV光252の繰り返し周期に相当し得る。
 この場合、通過タイミング信号のドロップレット通過部分が少なくとも(Ts+Tn)時間だけシフトすれば、ノイズは通過タイミング信号のドロップレット通過部分から分離され得る。すなわち、通過タイミング信号のドロップレット通過部分が少なくとも(Ts+Tn)時間だけシフトすれば、ノイズの重畳タイミングは検出期間外に分離され得る。
 また、通過タイミング信号のドロップレット通過部分がTr以上シフトすると、ノイズの重畳タイミングが検出期間以内に含まれる虞れがあり得る。
 すなわち、ノイズの重畳タイミングが検出期間外に分離されるためには、通過タイミング信号のドロップレット通過部分が、少なくとも(Ts+Tn)以上であって、Trより小さい時間d(μs)だけシフトすればよい。
 言い換えると、ノイズの重畳タイミングが検出期間外に分離されるために、通過タイミング信号のドロップレット通過部分がシフトすべき時間dは、次式(1)のように記述されてもよい。
  (Ts+Tn)≦d<Tr               …式(1)
 ノイズの重畳タイミングが検出期間外に分離されるために、通過タイミング信号のドロップレット通過部分がシフトすべき時間dを、シフト時間dともいう。
 ノイズ補償部81は、上述のシフト時間dを確保するために、ドロップレット271の速度を補正してもよい。すなわち、ノイズ補償部81は、ノイズ分離機能の一態様としてドロップレット271の速度を補正する機能を含んでもよい。
 ここで、図9に示されるように、ドロップレット271の速度をV(m/s)とする。検出領域Rからプラズマ生成領域25までの代表的な距離をL(μm)とする。
 ドロップレット271が検出領域Rを通過してからプラズマ生成領域25に到達するまでの時間は、L/V(μs)となり得る。
 この場合、上述のシフト時間dは、次式(2)のように記述されてもよい。
  d={L/(V-v)}-{L/V}          …式(2)
 右辺のv(m/s)は、上述のシフト時間dを確保するために必要なドロップレット271の速度Vにおける補正量であり得る。右辺の(V-v)は、速度補正量vによって補正されたドロップレット271の速度であり得る。
 式(2)をvで展開すると、ドロップレット271の速度補正量vは、次式(3)のように記述され得る。
  v=dV/(dV+L)                …式(3)
 図10は、ノイズ分離機能の一態様であるドロップレット271の速度を補正する機能を用いて、ドロップレット271の速度補正量vを具体的に計算した例を説明するための図である。
 ドロップレット271の速度Vは、50m/sであるとする。
 ドロップレット271の直径は、20μmであるとする。
 ドロップレット軌道Fに沿った方向における検出領域Rの幅は、20μmであるとする。
 EUV光252の繰り返し周波数は、100kHzであるとする。すなわち、EUV光252の繰り返し周期は、10μsであり得る。ドロップレット271が生成される周期は、10μsであり得る。あるドロップレット271についての通過タイミング信号のドロップレット通過部分と、後続するドロップレット271についての通過タイミング信号のドロップレット通過部分との時間間隔Trは、10μsであり得る。
 検出領域Rからプラズマ生成領域25までの距離Lは、2000μmであるとする。
 ノイズの時間幅Tnは、0.1μsであるとする。Tnは、実験によって0.1μs以下であることが予め分かっている。
 この場合、通過タイミング信号のドロップレット通過部分の時間幅Tsは、0.8μsであると計算され得る。すなわち、上述の検出期間は、0.8μsであり得る。
 上述のシフト時間dの下限値は、0.9μsであると計算され得る。
 上述のシフト時間dは、式(1)から、0.9μs≦d<10μsと計算され得る。
 ここで、シフト時間dは、3μsに設定されたとする。
 すると、上述のドロップレット271の速度補正量vは、式(3)から、1.1m/sであると計算され得る。
 よって、速度補正量vによって補正されたドロップレット271の速度Vは、50m/sから1.1m/sを減算することで、48.9m/sであると計算され得る。
 このように、ノイズ補償部81は、ドロップレット271の速度V及び直径、検出領域Rの幅、検出領域Rからプラズマ生成領域25までの距離L並びにノイズの時間幅Tnが分かっていれば、シフト時間dを適切に設定でき、速度補正量vを計算し得る。
 ところで、ドロップレット271の速度は、タンク261内のターゲット27に加わる圧力と関係し得る。そして、ドロップレット271の速度補正量vは、タンク261内のターゲット27に加わる圧力の圧力補正量p(MPa)と関係し得る。
 ノイズ補償部81は、ドロップレット271の速度を補正するために、タンク261内のターゲット27に加わる圧力を補正してもよい。すなわち、ノイズ補償部81は、ドロップレット271の速度を補正する機能を実現するために、タンク261内のターゲット27に加わる圧力を補正する機能を含んでもよい。
 図11は、ドロップレット271の速度補正量vと、タンク261内のターゲット27に加わる圧力の圧力補正量pとの関係を記述した近似式を説明するための図である。
 速度補正量vは、図11に示されるように、圧力補正量pが増加するに従って、増加し得る。速度補正量vと圧力補正量pとの関係は、次式(4)のような近似式で記述されてもよい。
  p=f(v)                     …式(4)
 ノイズ補償部81は、式(4)のような近似式を予め保持してもよい。そして、ノイズ補償部81は、上述の式(3)を用いて計算された速度補正量vを、式(4)に代入することによって、圧力補正量pを計算してもよい。
 なお、速度補正量vと圧力補正量pとの関係を記述した式(4)は、ノズル孔262aの直径及びターゲット27の物性を考慮して導出されてもよいし、実験等によって予め定められていてもよい。
 図12は、ドロップレット271の速度補正量vと、タンク261内のターゲット27に加わる圧力の圧力補正量pとを対応付けたテーブルを示す図である。
 ノイズ補償部81は、式(4)のような近似式の代りに、図12に示されるような、速度補正量vと圧力補正量pとを対応付けたテーブルを予め保持してもよい。そして、ノイズ補償部81は、図12に示されたテーブルを参照し、上述の式(3)を用いて計算された速度補正量vに対応付けられた圧力補正量pを特定してもよい。
 なお、速度補正量vと圧力補正量pとを対応付けたテーブルは、ノズル孔262aの直径及びターゲット27の物性を考慮して定められていてもよいし、実験等によって予め定められていてもよい。
 ノイズ補償部81は、タンク261内のターゲット27に加わる圧力が、求めた圧力補正量pだけ減算されるよう、圧力調節器264aの目標圧力を変更してもよい。
 このように、ノイズ補償部81は、タンク261内のターゲット27に加わる圧力を補正することによって、ドロップレット271の速度を補正し得る。そして、ノイズ補償部81は、ドロップレット271の速度を補正することによって、上述のシフト時間dを確保し得る。
 それにより、ノイズ補償部81は、ノイズと通過タイミング信号のドロップレット通過部分とノイズとを分離し、ノイズの重畳タイミングを検出期間外に分離し得る。
 [4.1.3 ノイズマスク機能]
 図13は、第1実施形態に係るノイズ補償部81に含まれるノイズマスク機能及び遅延時間補正機能を説明するための図を示す。
 ノイズ補償部81は、検出期間外に分離されたタイミングで通過タイミング信号に重畳するノイズをマスクしてもよい。
 具体的には、ノイズ補償部81は、通過タイミング信号のドロップレット通過部分からノイズを分離し、検出期間外に分離されたタイミングで通過タイミング信号に重畳するノイズをマスクしてもよい。
 ノイズ補償部81は、ノイズマスク機能を実現するために、マスク期間を設定する機能を含んでもよい。
 マスク期間は、その期間以内に通過タイミング信号に重畳するノイズがマスクされる期間であってもよい。マスク期間は、ドロップレット検出信号及びトリガ信号が生成されない期間であってもよい。
 ノイズ補償部81は、通過タイミング信号のドロップレット通過部分が含まれない部分に相当する期間をマスク期間に設定してもよい。ノイズ補償部81は、検出期間外の期間をマスク期間に設定してもよい。
 ノイズ補償部81は、ドロップレット271が検出領域Rを通過したタイミングに基づいてマスク期間を設定してもよい。ノイズ補償部81は、ドロップレット271が検出領域Rを通過したタイミングから、後続するドロップレット271の検出が期待されるタイミングより前までの期間を、マスク期間に設定してもよい。
 例えば、ドロップレット271が生成される周波数が20kHzである場合、ノイズ補償部81は、ドロップレット検出信号が生成されたタイミングから5μs以上50μs未満の間をマスク期間に設定してもよい。例えば、ドロップレット271が生成される周波数が50kHzである場合、ノイズ補償部81は、ドロップレット検出信号が生成されたタイミングから2μs以上20μs未満の間をマスク期間に設定してもよい。例えば、ドロップレット271が生成される周波数が100kHzである場合、ノイズ補償部81は、ドロップレット検出信号が生成されたタイミングから1μs以上10μs未満の間をマスク期間に設定してもよい。
 [4.1.4 遅延時間補正機能]
 上述のように、遅延時間Dは、パルスレーザ光33がプラズマ生成領域25に到達するタイミングを、ドロップレット271がプラズマ生成領域25に到達するタイミングに略一致させるための時間であってもよい。
 ドロップレット271の速度が変化すると、ドロップレット271がプラズマ生成領域25に到達するタイミングは変化し得る。ドロップレット271の速度が速度補正量vだけ補正されると、ドロップレット271がプラズマ生成領域25に到達するタイミングは、速度補正量vに対応する上述のシフト時間dだけシフトし得る。
 よって、ノイズ補償部81は、図13に示されるように、ドロップレット271の速度が速度補正量vだけ補正されると、トリガ信号が制御部8から送信されるタイミングを規定する遅延時間Dを上述のシフト時間dだけ補正してもよい。図13では、補正後の遅延時間DはD’として示されている。
 それにより、ノイズ補償部81は、速度が補正されたドロップレット271がプラズマ生成領域25に到達するタイミングにパルスレーザ光33がプラズマ生成領域25に到達するよう、トリガ信号が制御部8から送信されるタイミングを補正し得る。
 なお、上述のシフト時間dは、トリガ信号が送信されるタイミングに与えられる遅延時間Dの補正量に相当し得ることから、遅延時間補正量dともいう。
 ノイズ補償部81は、ドロップレット271の速度及び直径並びに検出領域Rの幅が大きく変化しない場合、遅延時間補正量dを一定値として予め保持してもよい。一定値として保持された遅延時間補正量dは、例えば3μsであってもよい。
 或いは、ノイズ補償部81は、一定値として保持された遅延時間補正量dを、ドロップレット271の速度及び直径の変化等に応じて、適宜修正してもよい。
 第1実施形態のEUV光生成装置1の他の構成については、比較例のEUV光生成装置1と同様であってもよい。
 [4.2 動作]
 第1実施形態のEUV光生成装置1の動作について説明する。具体的には、制御部8に含まれるノイズ補償部81の処理について説明する。
 第1実施形態のEUV光生成装置1の動作において、比較例のEUV光生成装置1と同様の動作については説明を省略する。
 図14は、第1実施形態に係るノイズ補償部81の処理を説明するための図を示す。
 ステップS1において、ノイズ補償部81は、予め保持された遅延時間補正量dを読み込んでもよい。
 ステップS2において、ノイズ補償部81は、ドロップレット検出器41からの通過タイミング信号を受信したか否かを判定してもよい。
 ノイズ補償部81は、通過タイミング信号を受信していなければ、受信するまで待機してもよい。一方、ノイズ補償部81は、通過タイミング信号を受信していれば、ステップS3に移行してもよい。
 ステップS3において、ノイズ補償部81は、ノイズの重畳タイミングが検出期間以内に含まれるか否かを判定してもよい。
 ノイズ補償部81は、ノイズの重畳タイミングが検出期間以内に含まれていなければ、ノイズはノイズマスク機能によってマスクされ得るため、本処理を終了してもよい。
 一方、ノイズ補償部81は、ノイズの重畳タイミングが検出期間以内に含まれていれば、ステップS4に移行してもよい。
 ステップS4において、ノイズ補償部81は、速度補正量vを計算してもよい。
 ノイズ補償部81は、速度補正量vを、上述のように次式を用いて計算してもよい。
  v=dV/(dV+L)                …式(3)
 ステップS5において、ノイズ補償部81は、圧力補正量pを計算してもよい。
 ノイズ補償部81は、圧力補正量pを、上述のように次式を用いて計算してもよい。
  p=f(v)                     …式(4)
 ステップS6において、ノイズ補償部81は、タンク261内のターゲット27に加わる圧力が圧力補正量pだけ補正されるよう、圧力調節器264aに設定される目標圧力を変更してもよい。
 制御部8は、圧力補正量pに応じて変更された目標圧力を圧力調節器264aに設定してもよい。
 圧力調節器264aは、タンク261内のターゲット27に加わる圧力を圧力補正量pだけ調節し、ターゲット27に加わる圧力を変更された目標圧力に近付け得る。
 ドロップレット271の速度は、圧力補正量pに対応する速度補正量vだけ補正され得る。
 ステップS7において、ノイズ補償部81は、予め定められた遅延時間Dを補正してもよい。
 ノイズ補償部81は、遅延時間Dを、次式を用いて補正してもよい。
  D=D-d                      …式(5)
 トリガ信号が制御部8から送信されるタイミングは、遅延時間補正量dだけ補正され得る。
 ステップS8において、ノイズ補償部81は、ノイズの重畳タイミングが検出期間以内に含まれるか否かを判定してもよい。
 ノイズ補償部81は、ノイズの重畳タイミングが検出期間以内に含まれていなければ、本処理を終了してもよい。
 一方、ノイズ補償部81は、ノイズの重畳タイミングが検出期間以内に含まれていれば、ステップS9に移行してもよい。
 ステップS9において、ノイズ補償部81は、遅延時間補正量dを修正してもよい。
 ノイズ補償部81は、遅延時間補正量dを、次式を用いて修正してもよい。
  d=d+Δd                     …式(6)
 右辺のΔdは、遅延時間補正量dの修正量であり得る。修正量Δd(μs)は、次式を用いて計算されてもよい。
  Δd={Tr-(Ts+Tn)}/10         …式(7)
 右辺の{Tr-(Ts+Tn)}は、式(1)に示された上述のシフト時間dの許容範囲の大きさを示し得る。{Tr-(Ts+Tn)}を10で除算した値を修正量Δdとすることで、遅延時間補正量dはより正確に修正され得る。
 ノイズ補償部81は、遅延時間補正量dを修正後、ステップS4に移行してもよい。
 第1実施形態のEUV光生成装置1の他の動作については、比較例のEUV光生成装置1と同様であってもよい。
 [4.3 作用効果]
 第1実施形態に係るノイズ補償部81は、タンク261内のターゲット27に加わる圧力を補正することによってドロップレット271の速度を補正し得る。それにより、第1実施形態に係るノイズ補償部81は、ノイズの重畳タイミングを検出期間外に分離し得る。
 そして、第1実施形態に係るノイズ補償部81は、検出期間外に分離されたタイミングで通過タイミング信号に重畳するノイズをマスクし得る。
 また、第1実施形態に係るノイズ補償部81は、速度が補正されたドロップレット271がプラズマ生成領域25に到達するタイミングにパルスレーザ光33がプラズマ生成領域25に到達するよう、トリガ信号が制御部8から送信されるタイミングを補正し得る。
 よって、第1実施形態に係るノイズ補償部81は、プラズマから放射された電磁波に起因するノイズが通過タイミング信号に重畳しても、通過タイミング信号に重畳したノイズを補償し得る。
 それにより、第1実施形態に係る制御部8は、ノイズ補償部81によってノイズが補償された通過タイミング信号に基づいて、ドロップレット検出信号を適切なタイミングで生成し、適切なタイミングでトリガ信号をレーザ装置3に送信し得る。
 その結果、第1実施形態のEUV光生成装置1は、EUV光252のパルスエネルギがパルス毎でばらつくことを抑制し、EUV光252のエネルギ安定性を向上させ得る。
[5.第2実施形態]
 図15を用いて、第2実施形態のEUV光生成装置1について説明する。
 第2実施形態のEUV光生成装置1は、第1実施形態のEUV光生成装置1に対して、ノイズ補償部81に含まれるノイズ分離機能が主に異なってもよい。
 第2実施形態のEUV光生成装置1の構成において、第1実施形態のEUV光生成装置1と同様の構成については説明を省略する。
 [5.1 構成及び動作]
 図15は、第2実施形態に係るノイズ補償部81に含まれるノイズ分離機能を説明するための図を示す。
 第2実施形態にノイズ補償部81は、ノイズ分離機能の一態様として、チャンバ2内に順次出力された隣接する複数のドロップレット271の時間間隔を補正する機能を含んでもよい。
 複数のドロップレット271の時間間隔が変化すると、ドロップレット271が検出領域Rに到達するタイミングも変化し得るため、通過タイミング信号のドロップレット通過部分の時間的な位置が変化し得る。
 すなわち、複数のドロップレット271の時間間隔が変化すると、検出期間の開始タイミングが変化し得る。
 そのため、ノイズ補償部81は、複数のドロップレット271の時間間隔を補正することによって、プラズマから放射された電磁波に起因するノイズが通過タイミング信号に重畳するタイミングを検出期間外に分離し得る。
 複数のドロップレット271の時間間隔は、ノズル262からチャンバ2内へジェット状に噴出するターゲット27からドロップレット271が生成される周期に相当し得る。ドロップレット271が生成される周期は、このノズル262から噴出するターゲット27に加わる振動の周波数と関係し得る。
 ノイズ補償部81は、複数のドロップレット271の時間間隔を補正するために、ノズル262から噴出するターゲット27に加わる振動の周波数を補正してもよい。
 ノイズ補償部81は、ノズル262から噴出するターゲット27に加わる振動の周波数を補正するために、ピエゾ素子265aがタンク261のネック部261aに加える振動の周波数を補正してもよい。具体的には、ノイズ補償部81は、ピエゾ電源265bからピエゾ素子265aに供給される電力の周波数を補正してもよい。
 図15では、ピエゾ電源265bからピエゾ素子265aに供給される補正前の電力の周波数をf(kHz)とし、ピエゾ電源265bからピエゾ素子265aに供給される補正後の電力の周波数をf’(kHz)として示されている。
 ピエゾ電源265bからピエゾ素子265aに供給される電力の周波数の補正量は、上述のシフト時間dに応じた補正量であればよい。例えば、当該周波数の補正量(f’-f)は、上述のシフト時間dの逆数であってもよい。
 ところで、ノズル262から噴出するターゲット27は、検出領域Rに進入する前の段階で、ピエゾ素子265aの振動で複数の微細な液滴に一旦分離された後にこれらが合体することによって、1つのドロップレット271を形成することがあり得る。
 このとき、ピエゾ素子265aに供給される補正後の電力の周波数によっては、分離された複数の微細な液滴が、検出領域Rに進入する前の段階で適切に合体せず、十分な質量を有する1つのドロップレット271が形成されない場合があり得る。この場合、パルスレーザ光33が不十分な質量のドロップレット271を照射してしまい、EUV光252のパルスエネルギは低下し得る。
 そこで、ノイズ補償部81は、ピエゾ素子265aに供給される電力の周波数であって、分離された複数の微細な液滴が検出領域Rに進入する前の段階で適切に合体しない周波数を、禁止周波数として予め保持してもよい。禁止周波数は、実験等によって予め定められていればよい。そして、ノイズ補償部81は、ピエゾ素子265aに供給される電力の周波数を補正する場合、補正後の当該周波数が禁止周波数とならないよう補正すればよい。
 或いは、ノイズ補償部81は、ピエゾ素子265aに供給される電力の周波数であって、分離された複数の微細な液滴が検出領域Rに進入する前の段階で適切に合体し得る周波数を、利用可能周波数として予め保持してもよい。利用可能周波数は、実験等によって予め定められていればよい。そして、ノイズ補償部81は、ピエゾ素子265aに供給される電力の周波数を補正する場合、補正後の当該周波数が利用可能周波数となるよう補正すればよい。
 また、ノイズ補償部81は、ピエゾ素子265aに供給される電力の周波数を補正することでドロップレット271の速度が変化する場合、遅延時間補正機能を用いて遅延時間Dを補正すればよい。それにより、ノイズ補償部81は、トリガ信号が制御部8から送信されるタイミングを補正してもよい。
 第2実施形態に係るノイズ補償部81の他の構成については、第1実施形態に係るノイズ補償部81と同様であってもよい。
 第2実施形態のEUV光生成装置1の他の構成については、第1実施形態のEUV光生成装置1と同様であってもよい。
 [5.2 作用効果]
 第2実施形態に係るノイズ補償部81は、ノズル262から噴出するターゲット27に加わる振動の周波数を補正することによって、複数のドロップレット271の時間間隔を補正し得る。それにより、第2実施形態に係るノイズ補償部81は、第1実施形態と同様に、ノイズの重畳タイミングを検出期間外に分離し得る。
 そして、第2実施形態に係るノイズ補償部81は、第1実施形態と同様に、検出期間外に分離されたタイミングで通過タイミング信号に重畳するノイズをマスクし得る。
 また、第2実施形態に係るノイズ補償部81は、ドロップレット271の速度が変化する場合、第1実施形態と同様に、トリガ信号が制御部8から送信されるタイミングを補正し得る。
 よって、第2実施形態に係るノイズ補償部81は、プラズマから放射された電磁波に起因するノイズが通過タイミング信号に重畳しても、第1実施形態と同様に、通過タイミング信号に重畳したノイズを補償し得る。
[6.第3実施形態]
 図16~図19を用いて、第3実施形態のEUV光生成装置1について説明する。
 第3実施形態のEUV光生成装置1は、第1実施形態のEUV光生成装置1に対して、移動機構45が追加された構成を備えてもよい。
 第3実施形態のEUV光生成装置1は、第1実施形態のEUV光生成装置1に対して、ノイズ補償部81に含まれるノイズ判定機能、ノイズ分離機能及びノイズマスク機能が異なってもよい。
 第3実施形態のEUV光生成装置1の構成において、第1実施形態のEUV光生成装置1と同様の構成については説明を省略する。
 [6.1 構成]
 図16は、第3実施形態のEUV光生成装置1の構成を説明するための図を示す。
 第3実施形態に係る移動機構45は、検出領域Rの位置をドロップレット軌道Fに沿って移動させる機構であってもよい。
 移動機構45は、ドロップレット検出器41の位置をドロップレット軌道Fに沿って移動させるステージであってもよい。
 移動機構45は、光源部410の位置をドロップレット軌道Fに沿って移動させるステージと、受光部420の位置をドロップレット軌道Fに沿って移動させるステージとから構成されてもよい。
 移動機構45は、光源部410及び受光部420のそれぞれの位置をドロップレット軌道Fと略平行に移動させてもよい。移動機構45は、光源部410及び受光部420のそれぞれの位置を、互いに略同一の距離だけ同一方向に移動させてもよい。
 ドロップレット軌道F上での検出領域Rの位置は、移動機構45がドロップレット検出器41の位置を移動させることに応じて移動し得る。
 移動機構45の動作は、制御部8によって制御されてもよい。
 図17は、第3実施形態に係るノイズ補償部81に含まれるノイズ判定機能を説明するための図を示す。
 第3実施形態に係るノイズ補償部81は、ノイズの重畳タイミングが、検出期間以内ではなくノイズ禁止期間Tf以内に含まれるか否かを判定してもよい。
 具体的には、第3実施形態に係るノイズ補償部81は、通過タイミング信号のノイズ禁止期間Tfに対応する部分に対してノイズが重畳しているか否かを判定してもよい。それにより、第3実施形態に係るノイズ補償部81は、ノイズの重畳タイミングがノイズ禁止期間Tf以内に含まれるか否かを判定してもよい。
 ノイズ禁止期間Tfは、検出期間を含む期間であってもよい。ノイズ禁止期間Tfは、検出期間に相当する通過タイミング信号のドロップレット通過部分の時間幅Tsと、ノイズの時間幅Tnとの合計時間よりも長くてもよい。ノイズ禁止期間Tfは、検出期間に相当する通過タイミング信号のドロップレット通過部分の時間幅Tsと、ノイズの時間幅Tnと、マージンとの合計時間であってもよい。
 マージンは、ノイズ補償部81の処理能力及びドロップレット検出器41の時間分解能に基づいて予め定められてもよい。マージンは、複数のドロップレット271の時間間隔のばらつきに基づいて予め定められてもよい。
 ノイズ禁止期間Tfは、第1期間Taと、第2期間Tbとを含んでもよい。
 第1期間Taは、ノイズ禁止期間Tfの開始タイミングから通過タイミング信号の極値を示すタイミングまでの期間であってもよい。第2期間Tbは、通過タイミング信号の極値を示すタイミングからノイズ禁止期間Tfの終了タイミングまでの期間であってもよい。
 ノイズ禁止期間Tfの第1期間Taと第2期間Tbとは、略同じ長さであってもよい。すなわち、ノイズ禁止期間Tfは、通過タイミング信号の極値が示すタイミングを基準としてその前後に略同じ時間だけ定められてもよい。
 例えば、ノイズ禁止期間Tfは、通過タイミング信号の極値が示すタイミングからその前後に1μsずつ定められてもよい。
 ノイズ補償部81は、ノイズ禁止期間Tfを予め保持してもよい。
 ノイズ補償部81は、通過タイミング信号のノイズ禁止期間Tfに対応する部分に対してノイズが重畳している場合、ノイズの重畳タイミングがノイズ禁止期間Tf以内に含まれると判定してもよい。
 ノイズ補償部81は、通過タイミング信号のノイズ禁止期間Tfに対応する部分に対してノイズが重畳していない場合、ノイズの重畳タイミングがノイズ禁止期間Tf外に含まれると判定してもよい。
 図18は、第3実施形態に係るノイズ補償部81に含まれるノイズ分離機能を説明するための図を示す。
 第3実施形態に係るノイズ補償部81は、ノイズの重畳タイミングをノイズ禁止期間Tf外に分離してもよい。
 具体的には、第3実施形態に係るノイズ補償部81は、通過タイミング信号のノイズ禁止期間Tfに対応する部分からノイズを分離することによって、ノイズの重畳タイミングをノイズ禁止期間Tf外に分離してもよい。
 ノイズ禁止期間Tfは検出期間を含み得る。ノイズの重畳タイミングがノイズ禁止期間Tf外に分離されることは、ノイズの重畳タイミングが検出期間外に分離されることを意味し得る。
 ノイズの重畳タイミングがノイズ禁止期間Tf外に分離されるためには、上述のシフト時間dは、少なくともノイズ禁止期間Tf以上であればよい。
 ノイズ補償部81は、上述のシフト時間dを確保するために、ドロップレット軌道F上の検出領域Rからプラズマ生成領域25までの距離を補正してもよい。すなわち、ノイズ補償部81は、ノイズ分離機能の一態様として、検出領域Rからプラズマ生成領域25までの距離を補正する機能を含んでもよい。
 ノイズ補償部81は、検出領域Rからプラズマ生成領域25までの距離を補正するために、検出領域Rの位置を補正してもよい。ノイズ補償部81は、検出領域Rの位置を補正するために、移動機構45を用いてドロップレット検出器41の位置を移動させてもよい。
 ここで、図18に示されるように、補正前の検出領域Rの位置をR1とする。補正後の検出領域Rの位置をR2とする。検出領域Rからプラズマ生成領域25までの距離Lの補正量を、距離補正量Ls(μm)とする。
 この場合、距離補正量Lsは、上述のシフト時間dに応じた量であってもよい。距離補正量Lsは、上述のシフト時間dとドロップレット271の速度Vとを用いて、次の式(8)のように記述され得る。
  Ls=dV                      …式(8)
 また、検出領域Rからプラズマ生成領域25までの距離Lを変化させた場合、パルスレーザ光33をプラズマ生成領域25に出力する契機となるトリガ信号をレーザ装置3に送信するタイミングも補正が必要となり得る。
 当該距離Lが距離補正量Lsだけ補正されると、トリガ信号をレーザ装置3に送信する適切なタイミングは、距離補正量Lsに対応する上述のシフト時間dだけシフトし得る。
 よって、ノイズ補償部81は、当該距離Lが距離補正量Lsだけ補正されると、遅延時間補正機能を用いて、トリガ信号が制御部8から送信されるタイミングを規定する遅延時間Dを、上述のシフト時間dだけ補正してもよい。
 それにより、ノイズ補償部81は、トリガ信号が制御部8から送信されるタイミングを補正してもよい。
 また、ノイズ補償部81は、ノイズ禁止期間Tf外に分離されたタイミングで通過タイミング信号に重畳するノイズをマスクしてもよい。
 具体的には、ノイズ補償部81は、通過タイミング信号のノイズ禁止期間Tfに対応する部分からノイズを分離し、ノイズ禁止期間Tf外に分離されたタイミングで通過タイミング信号に重畳するノイズをマスクしてもよい。
 ノイズ補償部81は、ノイズ禁止期間Tf外の期間をマスク期間に設定してもよい。
 第3実施形態に係るノイズ補償部81の他の構成については、第1実施形態に係るノイズ補償部81と同様であってもよい。
 第3実施形態のEUV光生成装置1の他の構成については、第1実施形態のEUV光生成装置1と同様であってもよい。
 [6.2 動作]
 第3実施形態のEUV光生成装置1の動作について説明する。具体的には、制御部8に含まれるノイズ補償部81の処理について説明する。
 第3実施形態のEUV光生成装置1の動作において、第1実施形態のEUV光生成装置1と同様の動作については説明を省略する。
 図19は、第3実施形態に係るノイズ補償部81の処理を説明するための図を示す。
 ステップS11及びステップS12において、ノイズ補償部81は、図14のステップS1及びステップS2と同様の処理を行ってもよい。
 ステップS13において、ノイズ補償部81は、ノイズの重畳タイミングがノイズ禁止期間Tf以内に含まれるか否かを判定してもよい。
 ノイズ補償部81は、ノイズの重畳タイミングがノイズ禁止期間Tf以内に含まれていなければ、ノイズはノイズマスク機能によってマスクされ得るため、本処理を終了してもよい。
 一方、ノイズ補償部81は、ノイズの重畳タイミングがノイズ禁止期間Tf以内に含まれていれば、ステップS14に移行してもよい。
 ステップS14において、ノイズ補償部81は、検出領域Rからプラズマ生成領域25までの距離Lの距離補正量Lsを計算してもよい。
 ノイズ補償部81は、距離補正量Lsを、上述のように次式を用いて計算してもよい。
  Ls=dV                      …式(8)
 ステップS15において、ノイズ補償部81は、検出領域Rからプラズマ生成領域25までの距離Lが距離補正量Lsだけ補正されるよう、移動機構45を用いて、ドロップレット検出器41の位置を移動させてもよい。
 移動機構45は、ドロップレット検出器41の位置を距離補正量Lsだけ移動させ得る。
 検出領域Rからプラズマ生成領域25までの距離Lは、距離補正量Lsだけ補正され得る。
 ステップS16において、ノイズ補償部81は、図14のステップS7と同様の処理を行ってもよい。
 ステップS17において、ノイズ補償部81は、ノイズの重畳タイミングがノイズ禁止期間Tf以内に含まれるか否かを判定してもよい。
 ノイズ補償部81は、ノイズの重畳タイミングがノイズ禁止期間Tf以内に含まれていなければ、本処理を終了してもよい。
 一方、ノイズ補償部81は、ノイズの重畳タイミングがノイズ禁止期間Tf以内に含まれていれば、ステップS18に移行してもよい。
 ステップS18において、ノイズ補償部81は、図14のステップS9と同様の処理を行ってもよい。
 ノイズ補償部81は、ステップS18の後、ステップS14に移行してもよい。
 第3実施形態のEUV光生成装置1の他の動作については、第1実施形態のEUV光生成装置1と同様であってもよい。
 [6.3 作用効果]
 第3実施形態に係るノイズ補償部81は、移動機構45を用いて検出領域Rの位置を補正することによって、検出領域Rからプラズマ生成領域25までの距離を補正し得る。それにより、第3実施形態に係るノイズ補償部81は、ノイズの重畳タイミングをノイズ禁止期間Tf外に分離し得る。このとき、ノイズ禁止期間Tfは検出期間を含み得ることから、第3実施形態に係るノイズ補償部81は、ノイズの重畳タイミングを第1実施形態よりも確実に検出期間外に分離し得る。
 そして、第3実施形態に係るノイズ補償部81は、ノイズ禁止期間Tf外に分離されたタイミングで通過タイミング信号に重畳するノイズをマスクし得る。
 また、第3実施形態に係るノイズ補償部81は、トリガ信号が制御部8から送信されるタイミングを補正し得る。具体的には、第3実施形態に係るノイズ補償部81は、距離Lが補正された検出領域Rを通過するドロップレット271がプラズマ生成領域25に到達するタイミングにパルスレーザ光33がプラズマ生成領域25に到達するよう、補正し得る。
 よって、第3実施形態に係るノイズ補償部81は、プラズマから放射された電磁波に起因するノイズが通過タイミング信号に重畳しても、第1実施形態よりも確実に、通過タイミング信号に重畳したノイズを補償し得る。
[7.第4実施形態]
 図20~図22を用いて、第4実施形態のEUV光生成装置1について説明する。
 第4実施形態のEUV光生成装置1は、第3実施形態のEUV光生成装置1に対して、ノイズ補償部81に含まれるノイズ判定機能が異なってもよい。
 第4実施形態のEUV光生成装置1の構成において、第3実施形態のEUV光生成装置1と同様の構成については説明を省略する。
 [7.1 構成及び動作]
 図20は、第4実施形態に係るノイズ禁止期間Tfを説明するための図を示す。
 第4実施形態に係るノイズ補償部81は、ノイズ禁止期間Tfを次のように設定してもよい。
 第4実施形態に係るノイズ禁止期間Tfは、第1期間Taが第2期間Tbより長くてもよい。第4実施形態に係るノイズ禁止期間Tfは、第1期間Taがノイズの時間幅Tnだけ第2期間Tbより長くてもよい。
 第4実施形態に係る第1期間Ta及び第2期間Tbは、次の式(9)及び式(10)のようにそれぞれ記述されてもよい。
  Ta>Tn+Ts/2                 …式(9)
  Tb>Ts/2                   …式(10)
 図21は、第4実施形態に係るノイズ補償部81に含まれるノイズ判定機能を説明するための図を示す。図22は、第4実施形態に係るノイズ補償部81に含まれるノイズ判定機能を説明するための図であって、ノイズ禁止期間Tfと複数のドロップレット271の空間的な間隔sとの関係を示す。
 図21及び図22は、プラズマ生成領域25に到達したドロップレット271にパルスレーザ光33が照射されるタイミングにおいて、検出領域Rの位置が複数のドロップレット271の間にある場合を示している。
 プラズマ生成領域25に到達したドロップレット271にパルスレーザ光33が照射されるタイミングを、パルスレーザ光33の照射タイミングともいう。
 パルスレーザ光33の照射タイミングは、ノイズの重畳タイミングと略同一とみなされてもよい。
 パルスレーザ光33の照射タイミングにおいて検出領域Rの位置が複数のドロップレット271の間にある場合、ノイズの重畳タイミングは、少なくとも検出期間外に分離され得る。
 第4実施形態に係るノイズ補償部81は、通過タイミング信号及びノイズの信号波形に基づいて、ノイズの重畳タイミングがノイズ禁止期間Tf以内に含まれるか否かを判定しなくてもよい。
 第4実施形態に係るノイズ補償部81は、ドロップレット検出器41及びドロップレット271の各種パラメータに基づいて、ノイズの重畳タイミングがノイズ禁止期間Tf以内に含まれるか否かを判定してもよい。
 ドロップレット検出器41及びドロップレット271の各種パラメータは、検出領域Rからプラズマ生成領域25までの距離L、複数のドロップレット271の空間的な間隔s及びこれらの速度Vであってもよい。
 ここで、図21及び図22に示されるように、検出領域Rに対して直上に位置するドロップレット271と、検出領域Rとの距離をΔs1とする。検出領域Rに対して直下に位置するドロップレット271と、検出領域Rとの距離をΔs2とする。複数のドロップレット271の空間的な間隔sは、Δs1とΔs2との合計値になり得る。
 また、検出領域Rからプラズマ生成領域25までの間にあるドロップレット271の個数をNとする。ドロップレット271の個数Nは、次式(11)のように記述されてもよい。
  N=int(L/s)                …式(11)
 右辺のint()は、INT関数を表し、()内の計算結果について小数点以下を切り捨て、整数を解として得る関数であり得る。
 Δs1及びΔs2は、次の式(12)及び式(13)のようにそれぞれ記述されてもよい。
  Δs1=(N+1)s-L              …式(12)
  Δs2=L-Ns                  …式(13)
 この場合、第4実施形態に係るノイズ補償部81は、Δs1又はΔs2が、次の式(14)又は式(15)の関係を満たせば、ノイズの重畳タイミングがノイズ禁止期間Tf以内に含まれると判定してもよい。
  Δs1/V≦Ta                  …式(14)
  Δs2/V≦Tb                  …式(15)
 式(14)は、パルスレーザ光33の照射タイミングにおいて、Δs1がVTa以下であれば、ノイズの重畳タイミングが、ノイズ禁止期間Tfの第1期間Ta以内に含まれることを意味し得る。
 式(15)は、パルスレーザ光33の照射タイミングにおいて、Δs2がVTb以下であれば、ノイズの重畳タイミングが、ノイズ禁止期間Tfの第2期間Tb以内に含まれることを意味し得る。
 すなわち、パルスレーザ光33の照射タイミングにおいて、検出領域Rに対して直上に位置するドロップレット271からVTaを超えて離間した位置に検出領域Rがあれば、ノイズの重畳タイミングは、第1期間Ta外に分離され得る。
 そして、パルスレーザ光33の照射タイミングにおいて、検出領域Rに対して直下に位置するドロップレット271からVTbを超えて離間した位置に検出領域Rがあれば、ノイズの重畳タイミングは、第2期間Tb外に分離され得る。
 よって、パルスレーザ光33の照射タイミングにおいて、検出領域Rの直上及び直下の各ドロップレット271からそれぞれVTa及びVTbを超えて離間する位置に検出領域Rがあれば、ノイズの重畳タイミングはノイズ禁止期間Tf外に分離され得る。
 第4実施形態に係るノイズ補償部81は、パルスレーザ光33の照射タイミングにおいて、検出領域Rの位置がこのような位置になるよう、検出領域Rからプラズマ生成領域25までの距離Lを補正してもよい。具体的には、ノイズ補償部81は、パルスレーザ光33の照射タイミングにおいて、検出領域Rの位置がこのような位置になるよう、移動機構45を用いてドロップレット検出器41の位置を移動させてもよい。
 このとき、ノイズ補償部81は、検出領域Rからプラズマ生成領域25までの距離Lが、例えば2mm以上6mm以下となるよう、ドロップレット検出器41の位置を移動させてもよい。ノイズ補償部81は、検出領域Rからプラズマ生成領域25までの距離Lが、例えば2mm、4mm及び6mmの少なくとも1つになるよう、ドロップレット検出器41の位置を移動させてもよい。
 第4実施形態に係るノイズ補償部81の他の構成については、第3実施形態に係るノイズ補償部81と同様であってもよい。
 第4実施形態のEUV光生成装置1の他の構成については、第3実施形態のEUV光生成装置1と同様であってもよい。
 [7.2 作用効果]
 第4実施形態に係るノイズ補償部81は、ドロップレット検出器41及びドロップレット271の各種パラメータに基づいて、ノイズの重畳タイミングがノイズ禁止期間Tf以内に含まれるか否かを判定し得る。それにより、第4実施形態に係るノイズ補償部81は、信号波形の解析機器を備えなくても比較的簡易な構成で、ノイズの重畳タイミングがノイズ禁止期間Tf以内に含まれるか否かを判定し得る。
 そして、第4実施形態に係るノイズ補償部81は、第3実施形態と同様に、移動機構45を用いて検出領域Rの位置を補正することによって、検出領域Rからプラズマ生成領域25までの距離を補正し得る。それにより、第4実施形態に係るノイズ補償部81は、ノイズの重畳タイミングをノイズ禁止期間Tf外に分離し得る。
 そして、第4実施形態に係るノイズ補償部81は、第3実施形態と同様に、ノイズ禁止期間Tf外に分離されたタイミングで通過タイミング信号に重畳するノイズをマスクし得る。
 また、第4実施形態に係るノイズ補償部81は、第3実施形態と同様に、トリガ信号が制御部8から送信されるタイミングを補正し得る。
 よって、第4実施形態に係るノイズ補償部81は、プラズマから放射された電磁波に起因するノイズが通過タイミング信号に重畳しても、第3実施形態と同様に、通過タイミング信号に重畳したノイズを補償し得る。
[8.第5実施形態]
 図23を用いて、第5実施形態のEUV光生成装置1について説明する。
 第5実施形態のEUV光生成装置1は、第3実施形態のEUV光生成装置1に対して、ドロップレット検出器41及び移動機構45の構成が異なってもよい。
 第5実施形態のEUV光生成装置1の構成において、第3実施形態のEUV光生成装置1と同様の構成については説明を省略する。
 [8.1 構成及び動作]
 図23は、第5実施形態に係るドロップレット検出器41及び移動機構45を説明するための図を示す。
 第5実施形態に係るドロップレット検出器41には、光源部410から検出領域Rに出力される照明光の光路上に、複数の伝送光学素子が設けられてもよい。
 複数の伝送光学素子は、例えば、ミラー414、ミラー415、ミラー424及びミラー425であってもよい。
 ミラー414とミラー415とは、光源部410に含まれてもよい。
 ミラー424とミラー425とは、受光部420に含まれてもよい。
 ミラー414は、照明光学系412を透過した照明光の光路上に配置されてもよい。
 ミラー414は、照明光学系412及びミラー415とそれぞれ対向するように配置されてもよい。
 ミラー414は、照明光学系412を透過した照明光を反射し、ミラー415に導いてもよい。
 ミラー415は、ミラー414によって反射された照明光の光路上に配置されてもよい。
 ミラー415は、ミラー414及びウインドウ413とそれぞれ対向するように配置されてもよい。
 ミラー415は、ミラー414によって反射された照明光を反射し、ウインドウ413を介して検出領域Rに導いてもよい。
 ミラー415は、移動機構45に載置されてもよい。
 ミラー425は、ウインドウ423を透過した照明光の光路上に配置されてもよい。
 ミラー425は、ウインドウ423及びミラー424とそれぞれ対向するように配置されてもよい。
 ミラー425は、ウインドウ423を透過した照明光を反射し、ミラー424に導いてもよい。
 ミラー425は、移動機構45に載置されてもよい。
 ミラー425は、ドロップレット軌道F上の検出領域Rを挟んでミラー415と対向するように配置されてもよい。
 ミラー424は、ミラー425によって反射された照明光の光路上に配置されてもよい。
 ミラー424は、ミラー425及び受光光学系422とそれぞれ対向するように配置されてもよい。
 ミラー424は、ミラー425によって反射された照明光を反射し、受光光学系422に導いてもよい。
 第5実施形態に係るドロップレット検出器41の他の構成については、第3実施形態に係るドロップレット検出器41と同様であってもよい。
 第5実施形態に係る移動機構45は、ミラー415の位置をドロップレット軌道Fに沿って移動させるステージと、ミラー425の位置をドロップレット軌道Fに沿って移動させるステージとから構成されてもよい。
 移動機構45は、ミラー415及びミラー425のそれぞれの位置をドロップレット軌道Fと略平行に移動させてもよい。移動機構45は、ミラー415及びミラー425のそれぞれの位置を、互いに略同一の距離だけ同一方向に移動させてもよい。
 ドロップレット軌道F上での検出領域Rの位置は、移動機構45がミラー415及びミラー425のそれぞれの位置を移動させることに応じて移動し得る。
 移動機構45の動作は、制御部8によって制御されてもよい。
 第5実施形態に係る移動機構45の他の構成については、第3実施形態に係る移動機構45と同様であってもよい。
 第5実施形態のEUV光生成装置1の他の構成については、第3実施形態のEUV光生成装置1と同様であってもよい。
 [8.2 作用効果]
 第5実施形態に係る移動機構45は、検出領域Rからプラズマ生成領域25までの距離Lが補正される場合、光源411、照明光学系412、受光光学系422及び光センサ421を固定した状態で、検出領域Rの位置を移動させ得る。
 このため、第5実施形態に係る移動機構45は、ドロップレット検出器41全体を移動させることに伴って、光源411及び照明光学系412の移動距離と光センサ421及び受光光学系422の移動距離との間で誤差が生じることを抑制し得る。
 それにより、第5実施形態に係る移動機構45は、これらの移動距離に関する誤差が生じることに伴って、実際に移動された検出領域Rの位置が、ノイズ補償部81によって計算された距離補正量Lsを反映した検出領域Rの位置からずれることを抑制し得る。
 よって、第5実施形態に係るノイズ補償部81は、プラズマから放射された電磁波に起因するノイズが通過タイミング信号に重畳しても、第3実施形態よりも確実に、通過タイミング信号に重畳したノイズを補償し得る。
[9.第6実施形態]
 図24を用いて、第6実施形態のEUV光生成装置1について説明する。
 第6実施形態のEUV光生成装置1は、第3実施形態のEUV光生成装置1に対して、ドロップレット検出器41及び移動機構45の構成が異なってもよい。
 第6実施形態のEUV光生成装置1の構成において、第3実施形態のEUV光生成装置1と同様の構成については説明を省略する。
 [9.1 構成及び動作]
 図24は、第6実施形態に係るドロップレット検出器41及び移動機構45を説明するための図を示す。
 第6実施形態に係るドロップレット検出器41は、光源部410及び受光部420が、ドロップレット軌道F上の検出領域Rを挟んで互いに対向するように配置されていなくてもよい。
 第6実施形態に係るドロップレット検出器41は、光源部410及び受光部420が、1つの筐体431内に配置されてもよい。
 第6実施形態に係るドロップレット検出器41は、光源411と、照明光学系412と、光センサ421と、受光光学系422と、筐体431と、部分反射ミラー432と、ウインドウ433とを含んでもよい。
 第6実施形態に係るドロップレット検出器41に含まれる各構成要素は、検出領域Rに出力された照明光の光路軸とドロップレット271からの反射光の光路軸とが、部分反射ミラー432から検出領域Rまでの間で略一致するように配置されてもよい。
 ドロップレット271からの反射光は、検出領域Rに出力された照明光が検出領域Rを通過するドロップレット271を照射した際に、検出領域Rを通過するドロップレット271によって反射された照明光であってもよい。
 筐体431は、光源411、照明光学系412、光センサ421、受光光学系422及び部分反射ミラー432を収容してもよい。筐体431は、光源411、照明光学系412、光センサ421、受光光学系422及び部分反射ミラー432のそれぞれの位置を固定した状態で、これらを収容してもよい。
 筐体431は、移動機構45に載置されてもよい。
 部分反射ミラー432は、照明光学系412を透過した照明光の光路上に配置されてもよい。
 部分反射ミラー432は、照明光学系412及びウインドウ433とそれぞれ対向するように配置されてもよい。部分反射ミラー432は、照明光学系412を透過した照明光が略45°の入射角で入射するように配置されてもよい。
 部分反射ミラー432は、照明光学系412を透過し略45°の入射角で入射した照明光の一部を反射し、ウインドウ433を介して検出領域Rに導いてもよい。部分反射ミラー432は、略45°の入射角で入射した照明光の波長に対して略50%の反射率を有するように構成されてもよい。
 部分反射ミラー432は、ウインドウ433を透過したドロップレット271からの反射光の光路上に配置されてもよい。
 部分反射ミラー432は、ウインドウ433を透過したドロップレット271からの反射光が、略45°の入射角で入射するように配置されてもよい。
 部分反射ミラー432は、ウインドウ433を透過したドロップレット271からの反射光の一部を透過させ、受光光学系422にも導いてもよい。
 ウインドウ433は、チャンバ2の一部であるターゲット供給路2bの壁2aに設けられてもよい。
 ウインドウ433は、部分反射ミラー432によって反射された照明光の光路上に配置されてもよい。
 ウインドウ433は、部分反射ミラー432によって反射された照明光を検出領域Rに向けて透過させてもよい。
 ウインドウ433は、ドロップレット271からの反射光を受光光学系422に向けて透過させてもよい。
 受光光学系422は、部分反射ミラー432を透過したドロップレット271からの反射光の光路上に配置されてもよい。
 第6実施形態に係るドロップレット検出器41の他の構成については、第3実施形態に係るドロップレット検出器41と同様であってもよい。
 第6実施形態に係る移動機構45は、筐体431の位置をドロップレット軌道Fに沿って移動させるステージから構成されてもよい。
 移動機構45は、筐体431の位置をドロップレット軌道Fと略平行に移動させてもよい。
 ドロップレット軌道F上での検出領域Rの位置は、移動機構45が筐体431の位置を移動させることに応じて移動し得る。
 移動機構45の動作は、制御部8によって制御されてもよい。
 第6実施形態に係る移動機構45の他の構成については、第3実施形態に係る移動機構45と同様であってもよい。
 第6実施形態のEUV光生成装置1の他の構成については、第3実施形態のEUV光生成装置1と同様であってもよい。
 [9.2 作用効果]
 第6実施形態に係る移動機構45は、筐体431の位置を移動させる1つのステージから構成され得る。
 すなわち、第6実施形態に係る移動機構45は、検出領域Rからプラズマ生成領域25までの距離Lが補正される場合、光源411、照明光学系412、光センサ421及び受光光学系422の相対位置を筐体431に対して固定した状態で、検出領域Rを移動させ得る。
 このため、第6実施形態に係る移動機構45は、ドロップレット検出器41全体を移動させることに伴って、光源411及び照明光学系412の移動距離と光センサ421及び受光光学系422の移動距離との間で誤差が生じることを抑制し得る。
 それにより、第6実施形態に係る移動機構45は、これらの移動距離に関する誤差が生じることに伴って、実際に移動された検出領域Rの位置が、ノイズ補償部81によって計算された距離補正量Lsを反映した検出領域Rの位置からずれることを抑制し得る。
 よって、第6実施形態に係るノイズ補償部81は、プラズマから放射された電磁波に起因するノイズが通過タイミング信号に重畳しても、第3実施形態よりも確実に、通過タイミング信号に重畳したノイズを補償し得る。
[10.その他]
 [10.1 各制御部のハードウェア環境]
 当業者は、汎用コンピュータまたはプログラマブルコントローラにプログラムモジュールまたはソフトウェアアプリケーションを組み合わせて、ここに述べられる主題が実行されることを理解するだろう。一般的に、プログラムモジュールは、本開示に記載されるプロセスを実行できるルーチン、プログラム、コンポーネント、データストラクチャー等を含む。
 図25は、開示される主題の様々な側面が実行され得る例示的なハードウェア環境を示すブロック図である。図25の例示的なハードウェア環境100は、処理ユニット1000と、ストレージユニット1005と、ユーザインターフェイス1010と、パラレルI/Oコントローラ1020と、シリアルI/Oコントローラ1030と、A/D、D/Aコンバータ1040とを含んでもよいが、ハードウェア環境100の構成は、これに限定されない。
 処理ユニット1000は、中央処理ユニット(CPU)1001と、メモリ1002と、タイマ1003と、画像処理ユニット(GPU)1004とを含んでもよい。メモリ1002は、ランダムアクセスメモリ(RAM)とリードオンリーメモリ(ROM)とを含んでもよい。CPU1001は、市販のプロセッサのいずれでもよい。デュアルマイクロプロセッサや他のマルチプロセッサアーキテクチャが、CPU1001として使用されてもよい。
 図25におけるこれらの構成物は、本開示において記載されるプロセスを実行するために、相互に接続されてもよい。
 動作において、処理ユニット1000は、ストレージユニット1005に保存されたプログラムを読み込んで、実行してもよい、また、処理ユニット1000は、ストレージユニット1005からプログラムと一緒にデータを読み込んでもよい、また、処理ユニット1000は、ストレージユニット1005にデータを書き込んでもよい。CPU1001は、ストレージユニット1005から読み込んだプログラムを実行してもよい。メモリ1002は、CPU1001によって実行されるプログラムおよびCPU1001の動作に使用されるデータを、一時的に保管する作業領域であってもよい。タイマ1003は、時間間隔を計測して、プログラムの実行に従ってCPU1001に計測結果を出力してもよい。GPU1004は、ストレージユニット1005から読み込まれるプログラムに従って、画像データを処理し、処理結果をCPU1001に出力してもよい。
 パラレルI/Oコントローラ1020は、露光装置制御部61、EUV光生成制御部5、温度制御部263d及び制御部8等の、処理ユニット1000と通信可能なパラレルI/Oデバイスに接続されてもよく、処理ユニット1000とそれらパラレルI/Oデバイスとの間の通信を制御してもよい。シリアルI/Oコントローラ1030は、レーザ光進行方向制御部34、ヒータ263a、ヒータ電源263b、圧力調節器264a、ピエゾ電源265b、光源411及び移動機構45等の、処理ユニット1000と通信可能なシリアルI/Oデバイスに接続されてもよく、処理ユニット1000とそれらシリアルI/Oデバイスとの間の通信を制御してもよい。A/D、D/Aコンバータ1040は、アナログポートを介して、ターゲットセンサ4、温度センサ263c、ピエゾ素子265a及び光センサ421等のアナログデバイスに接続されてもよく、処理ユニット1000とそれらアナログデバイスとの間の通信を制御したり、通信内容のA/D、D/A変換を行ってもよい。
 ユーザインターフェイス1010は、操作者が処理ユニット1000にプログラムの停止や、割込みルーチンの実行を指示できるように、処理ユニット1000によって実行されるプログラムの進捗を操作者に表示してもよい。
 例示的なハードウェア環境100は、本開示における露光装置制御部61、EUV光生成制御部5、温度制御部263d及び制御部8等の構成に適用されてもよい。当業者は、それらのコントローラが分散コンピューティング環境、すなわち、通信ネットワークを介して繋がっている処理ユニットによってタスクが実行される環境において実現されてもよいことを理解するだろう。本開示において、露光装置制御部61、EUV光生成制御部5、温度制御部263d及び制御部8等は、イーサネットやインターネットといった通信ネットワークを介して互いに接続されてもよい。分散コンピューティング環境において、プログラムモジュールは、ローカルおよびリモート両方のメモリストレージデバイスに保存されてもよい。
 [10.2 その他の変形例等]
 上記で説明した実施形態は、変形例を含めて各実施形態同士で互いの技術を適用し得ることは、当業者には明らかであろう。
 上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
 本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書、及び添付の特許請求の範囲に記載される修飾語「1つの」は、「少なくとも1つ」又は「1又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。
 1         …EUV光生成装置
 11        …EUV光生成システム
 2         …チャンバ
 2a        …壁
 2b        …ターゲット供給路
 21        …ウインドウ
 22        …レーザ光集光ミラー
 22a       …レーザ光集光光学系
 221       …軸外放物面ミラー
 222       …平面ミラー
 223       …ホルダ
 224       …ホルダ
 23        …EUV集光ミラー
 23a       …EUV集光光学系
 231       …ホルダ
 235       …プレート
 235a      …孔
 24        …貫通孔
 25        …プラズマ生成領域
 251       …EUV光
 252       …EUV光
 26        …ターゲット供給器
 261       …タンク
 261a      …ネック部
 262       …ノズル
 262a      …ノズル孔
 263a      …ヒータ
 263b      …ヒータ電源
 263c      …温度センサ
 263d      …温度制御部
 264a      …圧力調節器
 264b      …ガスボンベ
 265a      …ピエゾ素子
 265b      …ピエゾ電源
 27        …ターゲット
 271       …ドロップレット
 28        …ターゲット回収器
 29        …接続部
 291       …壁
 292       …中間集光点
 293       …アパーチャ
 3         …レーザ装置
 31~33     …パルスレーザ光
 34        …レーザ光進行方向制御部
 341       …高反射ミラー
 342       …高反射ミラー
 343       …ホルダ
 344       …ホルダ
 345       …高反射ミラー
 346       …ホルダ
 4         …ターゲットセンサ
 41        …ドロップレット検出器
 410       …光源部
 411       …光源
 412       …照明光学系
 413       …ウインドウ
 414       …ミラー
 415       …ミラー
 420       …受光部
 421       …光センサ
 422       …受光光学系
 423       …ウインドウ
 424       …ミラー
 425       …ミラー
 431       …筐体
 432       …部分反射ミラー
 433       …ウインドウ
 45        …移動機構
 5         …EUV光生成制御部
 6         …露光装置
 61        …露光装置制御部
 8         …制御部
 81        …ノイズ補償部
 100       …ハードウェア環境
 1000      …処理ユニット
 1001      …CPU
 1002      …メモリ
 1003      …タイマ
 1004      …GPU
 1005      …ストレージユニット
 1010      …ユーザインターフェイス
 1020      …パラレルI/Oコントローラ
 1030      …シリアルI/Oコントローラ
 1040      …A/D、D/Aコンバータ
 F         …ドロップレット軌道
 R         …検出領域

Claims (12)

  1.  レーザ光を出力するレーザ装置と共に用いられる極端紫外光生成装置であって、
     内部の生成領域でターゲットに前記レーザ光が照射されることで発生するプラズマから極端紫外光が生成されるチャンバと、
     前記チャンバ内の前記生成領域に向かって前記ターゲットをドロップレットとして出力するターゲット供給器と、
     前記ターゲット供給器と前記生成領域との間にある検出領域において前記ドロップレットを検出するドロップレット検出器と、
     前記レーザ光を出力する契機を前記レーザ装置に与えるトリガ信号を前記レーザ装置に送信する制御部と、
     を備え、
     前記ドロップレット検出器は、前記ドロップレットが前記検出領域を通過したタイミングを示す通過タイミング信号を前記制御部に送信し、
     前記制御部は、
      前記プラズマから放射された電磁波に起因して前記通過タイミング信号に重畳するノイズを補償するノイズ補償部を含み、
      前記ノイズ補償部によって前記ノイズが補償された前記通過タイミング信号に基づいて、前記トリガ信号を前記レーザ装置に送信する
     極端紫外光生成装置。
  2.  前記ドロップレットが前記検出領域を通過したタイミングは、前記ドロップレットが前記検出領域に進入してから前記検出領域を退去するまでの期間である検出期間以内に含まれ、
     前記ノイズ補償部は、
      前記ノイズが前記通過タイミング信号に重畳するタイミングを前記検出期間外に分離すると共に、
      前記検出期間から分離されたタイミングで前記通過タイミング信号に重畳する前記ノイズをマスクする
     ことによって、前記ノイズを補償する
     請求項1に記載の極端紫外光生成装置。
  3.  前記ノイズ補償部は、前記ドロップレットの速度を補正することによって、前記ノイズが前記通過タイミング信号に重畳する前記タイミングを前記検出期間外に分離する
     請求項2に記載の極端紫外光生成装置。
  4.  前記ターゲット供給器は、溶融状態の前記ターゲットに圧力を加えることによって、前記ターゲットを前記ドロップレットとして前記チャンバ内に出力し、
     前記ノイズ補償部は、前記ターゲット供給器にて前記ターゲットに加わる前記圧力を補正することによって、前記ドロップレットの前記速度を補正する
     請求項3に記載の極端紫外光生成装置。
  5.  前記ノイズ補償部は、前記速度が補正された前記ドロップレットが前記生成領域に到達するタイミングと前記レーザ光が前記生成領域に到達するタイミングとが略一致するよう、前記トリガ信号が前記制御部から送信されるタイミングを補正する
     請求項4に記載の極端紫外光生成装置。
  6.  前記ノイズ補償部は、複数の前記ドロップレットを出力する時間間隔を補正することによって、前記ノイズが前記通過タイミング信号に重畳する前記タイミングを前記検出期間外に分離する
     請求項2に記載の極端紫外光生成装置。
  7.  前記ターゲット供給器は、溶融状態で前記チャンバ内に噴出する前記ターゲットに振動を加えることによって、前記ターゲットから前記複数のドロップレットを生成して前記チャンバ内に出力し、
     前記ノイズ補償部は、前記ターゲット供給器にて前記ターゲットに加わる前記振動の周波数を補正することによって、前記複数のドロップレットの前記時間間隔を補正する
     請求項6に記載の極端紫外光生成装置。
  8.  前記ノイズ補償部は、前記検出領域から前記生成領域までの距離を補正することによって、前記ノイズが前記通過タイミング信号に重畳する前記タイミングを前記検出期間外に分離する
     請求項2に記載の極端紫外光生成装置。
  9.  前記検出領域及び前記生成領域を通る前記ドロップレットの軌道に沿って前記検出領域の位置を移動させる移動機構を更に備え、
     前記ノイズ補償部は、前記移動機構を用いて前記検出領域の前記位置を補正することによって、前記検出領域から前記生成領域までの距離を補正する
     請求項8に記載の極端紫外光生成装置。
  10.  前記ノイズ補償部は、前記距離が補正された前記検出領域を通過する前記ドロップレットが前記生成領域に到達するタイミングに前記レーザ光が前記生成領域に到達するよう、前記トリガ信号が前記制御部から送信されるタイミングを補正する
     請求項9に記載の極端紫外光生成装置。
  11.  前記ノイズ補償部は、
      前記ノイズが前記通過タイミング信号に重畳するタイミングを、前記検出期間を含むノイズ禁止期間外に分離すると共に、
      前記ノイズ禁止期間から分離されたタイミングで前記通過タイミング信号に重畳する前記ノイズをマスクする
     請求項2に記載の極端紫外光生成装置。
  12.  前記ノイズ禁止期間は、前記ノイズの時間幅と前記検出期間との合計時間よりも長い
     請求項11に記載の極端紫外光生成装置。
PCT/JP2015/076912 2015-09-24 2015-09-24 極端紫外光生成装置 WO2017051454A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2015/076912 WO2017051454A1 (ja) 2015-09-24 2015-09-24 極端紫外光生成装置
JP2017541193A JP6649957B2 (ja) 2015-09-24 2015-09-24 極端紫外光生成装置
US15/888,109 US10531550B2 (en) 2015-09-24 2018-02-05 Extreme ultraviolet light generation device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2015/076912 WO2017051454A1 (ja) 2015-09-24 2015-09-24 極端紫外光生成装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US15/888,109 Continuation US10531550B2 (en) 2015-09-24 2018-02-05 Extreme ultraviolet light generation device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2017051454A1 true WO2017051454A1 (ja) 2017-03-30

Family

ID=58386375

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2015/076912 WO2017051454A1 (ja) 2015-09-24 2015-09-24 極端紫外光生成装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US10531550B2 (ja)
JP (1) JP6649957B2 (ja)
WO (1) WO2017051454A1 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11237482B2 (en) * 2018-08-14 2022-02-01 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Process system and operating method thereof
TW202041103A (zh) 2019-01-30 2020-11-01 荷蘭商Asml荷蘭公司 判定在極紫外光光源中之目標之移動性質
WO2020173683A1 (en) * 2019-02-26 2020-09-03 Asml Netherlands B.V. Target supply control apparatus and method in an extreme ultraviolet light source

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS632300A (ja) * 1986-06-23 1988-01-07 Hitachi Ltd プラズマx線露光装置
JP2006505960A (ja) * 2002-07-31 2006-02-16 サイマー インコーポレイテッド 2室放電ガスレーザ用制御システム
JP2007123294A (ja) * 2005-10-24 2007-05-17 Canon Inc 露光装置
JP2011238921A (ja) * 2010-05-06 2011-11-24 Asml Netherlands Bv 放射源、放射源の制御方法、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10339495B4 (de) * 2002-10-08 2007-10-04 Xtreme Technologies Gmbh Anordnung zur optischen Detektion eines bewegten Targetstromes für eine gepulste energiestrahlgepumpte Strahlungserzeugung
US7164144B2 (en) * 2004-03-10 2007-01-16 Cymer Inc. EUV light source
JP2009095826A (ja) 2007-09-25 2009-05-07 Toray Ind Inc 塗布ノズル検査装置および検査方法ならびに塗布ノズルを用いた塗布方法
JP5603135B2 (ja) 2009-05-21 2014-10-08 ギガフォトン株式会社 チャンバ装置におけるターゲット軌道を計測及び制御する装置及び方法
JP5881345B2 (ja) 2011-09-13 2016-03-09 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成装置
CN103843463A (zh) 2011-10-07 2014-06-04 Asml荷兰有限公司 辐射源
JP5932306B2 (ja) * 2011-11-16 2016-06-08 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成装置
WO2014006193A1 (en) * 2012-07-06 2014-01-09 ETH Zürich Method for controlling an interaction between droplet targets and a laser and apparatus for conducting said method
JP2014078394A (ja) * 2012-10-10 2014-05-01 Gigaphoton Inc 極端紫外光生成システム
JP6195474B2 (ja) * 2013-05-31 2017-09-13 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成装置及び極端紫外光生成システムにおけるレーザシステムの制御方法
WO2014203804A1 (ja) 2013-06-20 2014-12-24 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成システム
US8809823B1 (en) * 2013-09-26 2014-08-19 Asml Netherlands B.V. System and method for controlling droplet timing and steering in an LPP EUV light source
US9241395B2 (en) * 2013-09-26 2016-01-19 Asml Netherlands B.V. System and method for controlling droplet timing in an LPP EUV light source
WO2016013114A1 (ja) * 2014-07-25 2016-01-28 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成装置
US9426872B1 (en) * 2015-08-12 2016-08-23 Asml Netherlands B.V. System and method for controlling source laser firing in an LPP EUV light source

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS632300A (ja) * 1986-06-23 1988-01-07 Hitachi Ltd プラズマx線露光装置
JP2006505960A (ja) * 2002-07-31 2006-02-16 サイマー インコーポレイテッド 2室放電ガスレーザ用制御システム
JP2007123294A (ja) * 2005-10-24 2007-05-17 Canon Inc 露光装置
JP2011238921A (ja) * 2010-05-06 2011-11-24 Asml Netherlands Bv 放射源、放射源の制御方法、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP6649957B2 (ja) 2020-02-19
US10531550B2 (en) 2020-01-07
US20180173102A1 (en) 2018-06-21
JPWO2017051454A1 (ja) 2018-07-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10172225B2 (en) Extreme ultraviolet light generation apparatus
WO2017130323A1 (ja) ターゲット供給装置及び極端紫外光生成装置
US9241395B2 (en) System and method for controlling droplet timing in an LPP EUV light source
WO2016013114A1 (ja) 極端紫外光生成装置
US8809823B1 (en) System and method for controlling droplet timing and steering in an LPP EUV light source
JP6763015B2 (ja) 極端紫外光生成装置
WO2017056324A1 (ja) 極端紫外光生成システム
JP6448661B2 (ja) 極端紫外光生成装置
US10531550B2 (en) Extreme ultraviolet light generation device
WO2017130346A1 (ja) 極端紫外光生成装置
US10054861B2 (en) Extreme ultraviolet light generating apparatus and method for generating extreme ultraviolet light
JP6799583B2 (ja) 極端紫外光生成装置及び極端紫外光の重心位置の制御方法
US10111312B2 (en) Extreme ultraviolet light generation device
JP6866471B2 (ja) Euv光生成装置
US11226565B2 (en) Extreme ultraviolet light generating system and electronic device manufacturing method
WO2018138886A1 (ja) レーザ装置及び極端紫外光生成システム
WO2019092831A1 (ja) 極端紫外光生成装置及び電子デバイスの製造方法
WO2017103991A1 (ja) 極端紫外光生成装置
US20220066225A1 (en) Light source and extreme ultraviolet light source system using the same

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 15904711

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2017541193

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 15904711

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1