WO2017026357A1 - 蒸着源および蒸着装置並びに蒸着膜製造方法 - Google Patents

Abstract

蒸着源（１０）における蒸着粒子射出ユニット（３０）は、それぞれ少なくとも１つの蒸着ノズル（３２・５２）を有し、垂直方向に互いに離間して積層された複数段のノズルユニットと、各段の蒸着ノズル間に設けられた、少なくとも１つの空間部（４３）と、を備え、該空間部は、その四方が、該空間部と真空チャンバ内空間（２ａ）とを繋ぐ開口部（４５）が少なくとも１つ設けられた側壁（４４）で囲まれている。

Description

蒸着源および蒸着装置並びに蒸着膜製造方法

　本発明は、蒸着源および該蒸着源を備えた蒸着装置、並びに、該蒸着装置を用いて蒸着膜を製造（つまり、成膜）する蒸着膜製造方法に関する。

　有機材料または無機材料の電界発光（Electro luminescence；以下、「ＥＬ」と記す）を利用したＥＬ素子を備えたＥＬ表示装置は、全固体型で、自発光性を有し、低電圧駆動、高速応答性に優れ、次世代ディスプレイ技術の候補として開発が進められている。

　ＥＬ素子は、一般的に、所定パターンの開口が形成された蒸着マスク（シャドウマスクとも称される）を介して、減圧下（高真空下）で被成膜基板に蒸着粒子（被成膜成分）を蒸着させる真空蒸着法によって成膜される。このとき被成膜基板に大型基板を使用する大型基板成膜技術としては、大型の被成膜基板と同等の大きさの蒸着マスクや蒸着源を必要としないスキャン蒸着法が有望である。スキャン蒸着法では、被成膜基板よりも小さな蒸着源、または、被成膜基板よりも小さな蒸着マスクおよび蒸着源を使用し、被成膜基板を走査しながら成膜を行うスキャン成膜が行われる。

　真空蒸着法による成膜では、内部を減圧状態に保持することができる真空チャンバ内に、加熱部と射出口とを備えた蒸着源を配置し、高真空下で蒸着材料を加熱して蒸着材料を蒸発または昇華させる。加熱部で加熱されて蒸発または昇華した蒸着材料は、蒸着粒子として、射出口から外部に射出され、被成膜基板に被着する。

　しかしながら、加熱部で加熱されて蒸発または昇華した蒸着材料は、蒸着源の内壁（すなわち、加熱部を収容するホルダの内壁）で散乱したり、蒸着粒子同士の衝突を繰り返したりした後、射出口から射出される。

　このような蒸着粒子の散乱により、射出口から射出された蒸着粒子は、様々な方向に射出される。

　真空蒸着法では、被成膜基板に向かって射出された蒸着粒子は成膜に寄与するが、それ以外の蒸着粒子は成膜には寄与しない。このため、真空蒸着法では、被成膜基板上に堆積された蒸着膜以外は全て材料の損失となる。このため、蒸着粒子の指向性が低いほど、材料利用効率が低くなる。

　そこで、近年、蒸着粒子の飛散方向を制限することで蒸着粒子の指向性を高め、これにより蒸着粒子を蒸着領域に適切に導く方法が提案されている（例えば特許文献１等）。

　特許文献１には、蒸着粒子の飛来方向を規制する規制板を用いて蒸着粒子の流れ（蒸着流）を制御することで、蒸着材料の利用効率を向上させるとともに、成膜品質を向上させ、均一な蒸着を行うことが開示されている。

　特許文献１に記載の蒸着装置は、真空チャンバ内に、蒸着対象となる被成膜基板と蒸着源とを配備し、蒸着源から放出した蒸着粒子を被成膜基板に被着させることにより、被成膜基板に、図示しない蒸着膜を成膜する。

　特許文献１に記載の蒸着源は、３つの積層された枠体を備えている。これら枠体の周囲には、加熱用のコイルが巻き付けられている。

　最下層の枠体は、蒸着材料を収容して加熱することにより蒸着粒子を発生させる加熱部（蒸着粒子発生部）である。残りの２つの枠体は、加熱部である最下層の枠体から被成膜基板に向かう蒸着粒子の方向を規制する蒸着流規制層（蒸着流制御部）である。

　蒸着流規制層として用いられる上記２つの枠体には、加熱部として用いられる最下層の枠体から被成膜基板に向かう方向に立設された規制板によって区切られたノズル状の複数の流通区画（蒸着ノズル、射出口）が形成されている。

　これにより、加熱部から各流通区画を介して放出される蒸着粒子の飛散方向は、各流通区画における規制板の側面に沿った方向に規制される。

日本国公開特許公報「特開２００４－１３７５８３号公報（２００４年５月１３日公開）」

　特許文献１では、規制板の配列方向であるＸ軸方向への蒸着粒子の飛散を規制している。しかしながら、特許文献１に記載の蒸着装置では、流通区画内の圧力が高く、真空チャンバ内の圧力は低いため、流通区画内の圧力と真空チャンバ内の圧力との圧力差が大きくなる。

　このため、特許文献１に記載の蒸着装置では、結局、流通区画の出口で粒子散乱が生じ、規制板の配列方向であるＸ軸方向に飛散する不要な蒸着粒子が多くなる。

　この結果、特許文献１に記載の構成では、Ｘ軸方向の蒸着膜の膜厚分布がブロードとなり、材料利用効率が低くなる。

　特に、スキャン蒸着法を用いてスキャン成膜を行う場合、蒸着流を制御するために、好適には蒸着源上に制限板と称される図示しない膜厚分布制限部材を配置し、その上に、図示しない蒸着マスクが固定配置され、さらにその上に被成膜基板２００が配置される。

　特許文献１に記載の構成では、Ｘ軸方向の蒸着膜の膜厚分布がブロードとなることから、この場合、制限部材による蒸着流規制が多くなる。このため、成膜に寄与する材料利用効率がさらに低くなる。

　本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであり、その目的は、従来よりも材料利用効率が高い蒸着源および蒸着装置並びに蒸着膜製造方法を提供することにある。

　上記の課題を解決するために、本発明の一態様にかかる蒸着源は、蒸着材料を加熱して気体状の蒸着粒子を発生させる蒸着粒子発生部と、上記蒸着粒子発生部で発生させた蒸着粒子を射出する蒸着粒子射出部と、を備え、少なくとも上記蒸着粒子射出部は真空チャンバ内に配置されるとともに、上記蒸着粒子射出部は、それぞれ少なくとも１つの蒸着ノズルを有し、垂直方向に互いに離間して積層された複数段の蒸着ノズル部と、上記複数段の蒸着ノズル部における各段の蒸着ノズル間に設けられた、少なくとも１つの空間部と、を備え、上記空間部は、その四方が、上記空間部と上記真空チャンバ内の空間とを繋ぐ開口部が少なくとも１つ設けられた外壁で囲まれている。

　上記の課題を解決するために、本発明の一態様にかかる蒸着装置は、被成膜基板に所定のパターンの蒸着膜を成膜する蒸着装置であって、上記蒸着源を含む蒸着ユニットと、上記蒸着ユニットにおける少なくとも上記蒸着粒子射出部を、内部に減圧雰囲気下で保持する真空チャンバと、を備えている。

　上記の課題を解決するために、本発明の一態様にかかる蒸着膜製造方法は、蒸着材料を加熱して気体状の蒸着粒子を発生させる蒸着粒子発生部と、上記蒸着粒子発生部で発生させた蒸着粒子を射出する蒸着粒子射出部と、を備え、少なくとも上記蒸着粒子射出部は真空チャンバ内に配置されるとともに、上記蒸着粒子射出部は、それぞれ少なくとも１つの蒸着ノズルを有し、垂直方向に互いに離間して積層された複数段の蒸着ノズル部と、上記複数段の蒸着ノズル部における各段の蒸着ノズル間に設けられた、少なくとも１つの空間部と、を備え、上記空間部は、その四方が、上記空間部と上記真空チャンバ内の空間とを繋ぐ開口部が少なくとも１つ設けられた外壁で囲まれている蒸着源を含む蒸着ユニットと、上記蒸着ユニットにおける少なくとも上記蒸着粒子射出部を、内部に減圧雰囲気下で保持する真空チャンバと、を備えた蒸着装置を用いて、被成膜基板に蒸着膜を成膜する蒸着膜製造方法であって、減圧雰囲気下で、上記蒸着源から上記蒸着粒子を射出させる蒸着粒子射出工程と、上記被成膜基板の被成膜領域に上記蒸着粒子を被着させる被着工程と、を含む。

　本発明の一態様によれば、従来よりも材料利用効率が高い蒸着源および蒸着装置並びに蒸着膜製造方法を提供することができる。

本発明の実施形態１にかかる蒸着源の概略構成を示す斜視図である。 図１に示す蒸着源の概略構成を示す平面図である。 本発明の実施形態１にかかる蒸着装置の要部の概略構成を示す斜視図である。 （ａ）～（ｃ）は、ｎ値の導出を説明するための図である。 （ａ）は、１段目ノズル通過後に２段目ノズルを通過した蒸着粒子によって成膜される蒸着膜の膜厚分布を模式的に示すグラフであり、（ｂ）は、１段目ノズルを通過した蒸着粒子によって成膜される蒸着膜の膜厚分布を模式的に示すグラフである。 本発明の実施形態１にかかる蒸着装置の効果を示すグラフである。 本発明の実施形態１の変形例の一例にかかる蒸着装置の要部の概略構成を示す斜視図である。 本発明の実施形態２にかかる蒸着源の概略構成を示す斜視図である。 図８に示す蒸着源の概略構成を示す平面図である。 本発明の実施形態２にかかる蒸着装置の要部の概略構成を示す斜視図である。 （ａ）・（ｂ）は、本発明の実施形態２にかかる蒸着源の効果を示すグラフである。 本発明の実施形態３にかかる蒸着源の概略構成を示す斜視図である。 図１２に示す蒸着源の概略構成を示す平面図である。 （ａ）・（ｂ）は、本発明の実施形態３にかかる蒸着源の効果を示すグラフである。 本発明の実施形態４にかかる蒸着源の概略構成を示す斜視図である。 図１５に示す蒸着源の概略構成を示す平面図である。 本発明の実施形態４にかかる蒸着装置の効果を示すグラフである。 本発明の実施形態５にかかる蒸着源の概略構成を示す斜視図である。 図１８に示す蒸着源の概略構成を示す平面図である。 本発明の実施形態５にかかる蒸着装置の効果を示すグラフである。

　以下、本発明の実施形態の一例について、詳細に説明する。

　〔実施形態１〕
　本発明の一実施形態について図１～図７に基づいて説明すれば以下の通りである。

　図１は、本実施形態にかかる蒸着源１０の概略構成を示す斜視図である。図２は、図１に示す蒸着源１０の概略構成を示す平面図である。図３は、本実施形態にかかる蒸着装置１００の要部の概略構成を示す斜視図である。

　なお、図１～図３では、図示の便宜上、蒸着ノズル３２・５２の数や制限板開口７１の数、マスク開口８１の数等を一部省略するとともに、各構成要素の形状を簡略化して示している。

　本実施形態にかかる蒸着装置１００（成膜装置）および蒸着膜製造方法（成膜方法、蒸着方法）は、特に有機ＥＬ表示装置等のＥＬ表示装置における、ＥＬ素子を構成する発光層等のＥＬ層の蒸着（成膜）に有用である。

　以下では、一例として、例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各色の有機ＥＬ素子がサブ画素として基板上に配列されたＲＧＢフルカラー表示の有機ＥＬ表示装置の製造に本実施形態にかかる蒸着装置１００および蒸着膜製造方法を適用し、ＲＧＢ塗り分け方式にて、有機ＥＬ素子の発光層（有機膜）を蒸着膜３０２として成膜する場合を例に挙げて説明する。

　しかしながら、本実施形態は、これに限定されるものではなく、本実施形態にかかる蒸着装置１００および蒸着膜製造方法は、有機ＥＬ表示装置および無機ＥＬ表示装置の製造をはじめとする、気相成長技術を用いたデバイスの製造全般に適用可能である。

　なお、以下では、被成膜基板２００の基板搬送方向（走査方向）に沿った水平方向軸をＹ軸とし、被成膜基板２００の走査方向に垂直な方向に沿った水平方向軸をＸ軸とし、被成膜基板２００の被成膜面２０１の法線方向であり、Ｘ軸およびＹ軸に垂直な垂直方向軸（上下方向軸）をＺ軸として説明する。また、Ｘ軸方向を行方向（第１方向）、Ｙ軸方向を列方向（第２方向）とし、説明の便宜上、特に言及しない限り、Ｚ軸の上向きの矢印の側を上（側）として説明する。

　＜蒸着装置１００の概略構成＞
　図３に示すように、本実施形態にかかる蒸着装置１００は、蒸着ユニット１、真空チャンバ２、基板搬送装置３（基板移動装置）、真空ポンプ４（真空排気ポンプ）、および、図示しない、防着板、制御装置等を備えている。

　また、上記蒸着ユニット１は、蒸着源１０、シャッタ６０、制限板ユニット７０、蒸着マスク８０、および、これら蒸着源１０、シャッタ６０、制限板ユニット７０、蒸着マスク８０を保持する、図示しない各種保持部材を備えている。

　図１～図３に示すように、蒸着源１０は、蒸着粒子発生ユニット１１と、配管１２と、蒸着源本体１３と、を備え、そのうち、蒸着源本体１３、および配管１２の一部は、基板搬送装置３、シャッタ６０、制限板ユニット７０、蒸着マスク８０、図示しない各種保持部材および防着板とともに、真空チャンバ２内に配されている。

　配管１２の一部、蒸着粒子発生ユニット１１、真空ポンプ４、および図示しない制御装置は、真空チャンバ２の外部に設けられている。

　被成膜基板２００、蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、シャッタ６０、および蒸着源１０は、Ｚ軸方向に沿って、被成膜基板２００側からこの順に、例えば一定距離離間して対向配置されている。そのうち、蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、および蒸着源１０は、互いに、その位置関係（つまり、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸の位置関係）が固定されている。

　被成膜基板２００、蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、シャッタ６０、および蒸着源１０は、必要に応じて、それぞれ図示しない保持部材によって保持されている。なお、蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、シャッタ６０、および蒸着源１０は、上述した位置関係を有していれば、１つの同じ保持部材によって保持されていてもよく、個別の保持部材によってそれぞれ保持されていてもよい。

　なお、以下では、蒸着源１０が被成膜基板２００の下方に配されており、被成膜基板２００の被成膜面２０１が下方を向いている状態で、蒸着粒子を下方から上方に向かって蒸着（アップデポジション）させるとともに、蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、および蒸着源１０が、それぞれ、保持部材により、もしくは直接、真空チャンバ２の内壁の何れかに固定されている場合を例に挙げて説明する。しかしながら、本実施形態は、これに限定されるものではない。

　以下に、上記各構成要素について、詳細に説明する。

　（真空チャンバ２）
　真空チャンバ２は、内部を減圧状態（真空状態）に保持することができる、密閉可能に設けられた成膜室を有する成膜容器である。真空チャンバ２には、蒸着時に該真空チャンバ２内を真空状態（所定の真空度）に保つために、該真空チャンバ２に設けられた図示しない排気口を介して真空チャンバ２内を真空排気する真空ポンプ４が設けられている。上述したように、該真空ポンプ４は、真空チャンバ２の外部に設けられている。

　真空チャンバ２は、高真空状態に保たれていることが好ましく、真空チャンバ２内（つまり、真空チャンバ内空間２ａ）の真空度（到達真空度）は、１×１０^－３Ｐａ以上（言い換えれば、圧力が１．０×１０^－３Ｐａ以下）であることが好ましい。

　蒸着粒子３０１の平均自由行程は、１．０×１０^－３Ｐａ以上の真空度となることで、必要十分な値が得られる。

　真空チャンバ内空間２ａの真空度が１．０×１０^－３Ｐａ未満であると、蒸着粒子３０１の平均自由工程が短くなり、蒸着粒子３０１が散乱されて、被成膜基板２００への到達効率が低下したり、コリメート成分が少なくなったりするおそれがある。この結果、成膜パターンボケを生じるおそれがある。

　このため、本実施の形態では、真空チャンバ内空間２ａの真空到達率を１．０×１０^－３Ｐａ以上（言い換えれば、真空チャンバ内空間２ａの圧力を１．０×１０^－３Ｐａ以下）とした。

　（蒸着源１０）
　蒸着源１０は、真空下で、成膜材料である蒸着材料を加熱して蒸発または昇華させることにより、有機発光材料等の蒸着材料を、蒸着粒子３０１として射出（放出）する。

　前述したように、本実施形態にかかる蒸着源１０は、蒸着粒子発生ユニット１１、配管１２、および蒸着源本体１３を備えている。

　蒸着粒子発生ユニット１１は、蒸着材料を加熱することで蒸着粒子３０１を発生させる蒸着粒子発生部（蒸着粒子発生源）である。

　蒸着粒子発生ユニット１１は、内部に蒸着材料を収容する、坩堝あるいはボートと称される加熱容器と、該加熱容器の周囲に設けられ、加熱容器の温度を調整・制御して加熱容器内の蒸着材料を加熱する加熱装置（ヒータ）とを備えている。

　蒸着粒子発生ユニット１１は、加熱装置により、加熱容器内の蒸着材料を加熱して蒸発（蒸着材料が液体材料である場合）または昇華（蒸着材料が固体材料である場合）させて蒸着材料を気体化させることで、気体状の蒸着粒子３０１（蒸着粒子ガス）を発生させる。このため、上述したように蒸着粒子発生ユニット１１を真空チャンバ２の外部に設けることで、蒸着材料の補充や交換が容易になるというメリットがある。

　配管１２は、蒸着粒子発生ユニット１１と蒸着源本体１３とを連結する、ロードロック式の配管である。

　蒸着源本体１３は、蒸着粒子拡散ユニット２０と、蒸着粒子射出ユニット３０と、を備えている。

　蒸着粒子拡散ユニット２０は、蒸着粒子射出ユニット３０における、蒸着源１０の外部に面した蒸着ノズル５２から蒸着粒子３０１を均一に射出させるために、蒸着粒子射出ユニット３０に供給する蒸着粒子３０１を拡散させる拡散空間を備えた蒸着粒子拡散部である。

　蒸着粒子拡散ユニット２０は、中空の蒸着粒子拡散容器からなり、内部に、蒸着粒子発生ユニット１１から導入された蒸着粒子３０１を拡散する拡散空間として、蒸着粒子拡散室２１を備えている。

　蒸着粒子拡散室２１は、蒸着粒子射出ユニット３０における各蒸着ノズル３２・５２に対して十分大きな空間を有していることが望ましい。これにより、全蒸着ノズル５２からほぼ均一に蒸着粒子３０１を射出することができる。なお、上記蒸着ノズル３２・５２については後で説明する。

　蒸着粒子拡散ユニット２０には、内部（すなわち蒸着粒子拡散室２１内）に蒸着粒子３０１を導入する蒸着粒子導入口２２が設けられている。蒸着粒子導入口２２には配管１２が接続されている。これにより、蒸着粒子拡散ユニット２０に、配管１２を介して、蒸着粒子発生ユニット１１から蒸着材料が供給（搬送）される。

　蒸着粒子導入口２２の位置および数は、蒸着粒子３０１を均一に拡散することができれば、特に限定されるものではないが、例えば、蒸着粒子拡散ユニット２０におけるＸ軸方向両端部（すなわち、Ｘ軸方向における両端面２３）に設けられていることが好ましい。

　蒸着粒子拡散ユニット２０は、例えば、ドラム形状（円筒形状、すなわち、中空の円柱形状）を有している。

　蒸着粒子拡散ユニット２０は、その周面２４（すなわち、図１に一点鎖線で示す円筒軸２５に平行な円筒面）の一部で蒸着粒子射出ユニット３０と連結されている。これにより、蒸着粒子拡散ユニット２０と蒸着粒子射出ユニット３０とは、互いに一体化されている。

　蒸着粒子拡散ユニット２０の周面２４における蒸着粒子射出ユニット３０との連結部には、蒸着粒子３０１を蒸着粒子射出ユニット３０に送出する送出口２６（蒸着粒子拡散ユニット開口部）が設けられている。

　一方、蒸着粒子射出ユニット３０は、複数段のノズル部（蒸着ノズル部）を備えるとともに、各段のノズル部の間に、各段のノズル部を介さずに真空チャンバ２内の空間部（以下、「真空チャンバ内空間」と記す）２ａと接続された空間部を備えている。

　図１～図３に示す蒸着粒子射出ユニット３０は、ノズル部として、第１ノズルユニット３１（第１の蒸着ノズル部）と、第２ノズルユニット５１（第２の蒸着ノズル部）と、を備えている。また、上記蒸着粒子射出ユニット３０は、上記第１ノズルユニット３１と第２ノズルユニット５１との間に、上記空間部として空間部４３を形成する圧力調整ユニット４１を備えている。

　第１ノズルユニット３１、圧力調整ユニット４１、および第２ノズルユニット５１は、それぞれブロック状のユニットであり、蒸着粒子拡散ユニット２０側から、この順に積層されて一体化されている。

　第１ノズルユニット３１および第２ノズルユニット５１は、ＸＹ平面を主面とする板状部材であり、例えば、平面視で、Ｘ軸方向を長軸とする矩形状（長方形状）を有している。

　第１ノズルユニット３１には、上下方向に貫通するノズル状の開口部である蒸着ノズル３２（ノズル開口、第１の蒸着ノズル；以下、「１段目ノズル」と記す場合がある）が、Ｘ軸方向に沿って一定ピッチで複数設けられている。

　各蒸着ノズル３２は、平面視で、Ｙ軸方向を長軸方向とする矩形状を有している。すなわち、各蒸着ノズル３２は、平面視で、Ｙ軸方向に平行な第１辺３２ａが長辺で、Ｘ軸方向に平行な第２辺３２ｂを短辺とする矩形状に形成されている。

　各蒸着ノズル３２は、平面視で、各蒸着ノズル３２の長辺がＹ軸に平行かつ互いに対向するように設けられている。このため、Ｘ軸方向に隣り合う蒸着ノズル３２間には、遮蔽部として、蒸着ノズル３２のノズル壁を形成する規制板３３（非開口部）が、Ｘ軸方向に沿って一定ピッチで複数配列されている。

　また、第２ノズルユニット５１には、上下方向に貫通するノズル状の開口部からなる蒸着ノズル５２（ノズル開口、第２の蒸着ノズル；以下、「２段目ノズル」と記す場合がある）が、Ｘ軸方向に沿って一定ピッチで複数設けられている。

　各蒸着ノズル５２は、蒸着ノズル３２と同じく、平面視で、Ｙ軸方向を長軸方向とする矩形状を有している。このため、各蒸着ノズル５２は、平面視で、Ｙ軸方向に平行な第１辺５２ａが長辺で、Ｘ軸方向に平行な第２辺５２ｂを短辺とする矩形状に形成されている。

　各蒸着ノズル５２は、平面視で、各蒸着ノズル５２の長辺がＹ軸に平行かつ互いに対向するように設けられている。このため、Ｘ軸方向に隣り合う蒸着ノズル５２間には、遮蔽部として、蒸着ノズル５２のノズル壁を形成する規制板５３（非開口部）が、Ｘ軸方向に沿って一定ピッチで複数配列されている。

　各蒸着ノズル３２は、Ｙ軸方向に平行な第１辺３２ａの長さ（Ｙ軸方向の開口幅ｄ１）が、各蒸着ノズル３２のＺ軸方向に平行な第３辺３２ｃの長さ（深さ、ノズル長ｄ３）よりも長くなるように形成されている。

　また、各蒸着ノズル５２は、平面視で、Ｙ軸方向に平行な第１辺５２ａの長さ（Ｙ軸方向の開口幅ｄ１１）が、各蒸着ノズル５２のＺ軸方向に平行な第３辺５２ｃの長さ（深さ、ノズル長ｄ１３）よりも長くなるように形成されている。

　ここで、Ｙ軸方向は、被成膜基板２００の走査方向、言い換えれば、被成膜基板２００の搬送方向を示す。また、Ｚ軸方向は、蒸着粒子射出ユニット３０における蒸着粒子３０１の射出方向を示す。

　上述したように被成膜基板２００を搬送しながら成膜する場合、タクトタイムを早めるためには、蒸着粒子射出ユニット３０における開口領域（すなわち、蒸着ノズル３２・５２上）を被成膜基板２００が通過する時間はできるだけ短いことが望ましい。しかしながら、蒸着源１０における成膜レート（蒸着レート、成膜速度）の上限には限界がある。このため、一定の速度で被成膜基板２００を搬送成膜する場合、被成膜基板２００の搬送方向における蒸着ノズル３２・５２の開口幅（Ｙ軸方向の開口幅ｄ１・ｄ１１）は、長ければ長いほど、より厚い蒸着膜３０２を成膜することが可能となる。このため、蒸着ノズル３２・５２が、各蒸着ノズル３２・５２におけるＹ軸方向の開口幅ｄ１・ｄ１１が各蒸着ノズル３２・５２のＺ軸方向のノズル長ｄ３・ｄ１３よりも長くなるように各蒸着ノズル３２・５２が形成されていることで、タクトタイムを早めることができる。

　蒸着粒子拡散ユニット２０における送出口２６は、蒸着粒子射出ユニット３０の最下段に位置する第１ノズルユニット３１の蒸着ノズル３２に連結されている。送出口２６は、例えば、平面視で、蒸着ノズル３２と同じ形状を有し、送出口２６の開口端と蒸着ノズル３２の開口端とを互いに接続することで、蒸着ノズル３２と連結されている。

　また、蒸着粒子拡散ユニット２０は、蒸着粒子拡散ユニット２０と蒸着粒子射出ユニット３０との間に隙間が形成されることなく蒸着粒子射出ユニット３０と連結されるように形成されている。

　これにより、蒸着粒子拡散ユニット２０で拡散された蒸着粒子３０１は、送出口２６を通じて蒸着粒子射出ユニット３０に供給される。

　一方、蒸着粒子射出ユニット３０の最上段に位置する第２ノズルユニット５１の蒸着ノズル５２は、蒸着粒子３０１を蒸着源１０の外部に射出する射出口として用いられる。

　送出口２６、蒸着ノズル３２、および蒸着ノズル５２は、平面視で、同一形状を有し、それぞれ、中心軸（開口中心）が一致するように互いに重畳して設けられている。なお、図２は、平面視で、蒸着ノズル３２と蒸着ノズル５２とが完全に重なっていることを示している。

　また、圧力調整ユニット４１は、枠状のブロック体であり、蒸着ノズル３２と蒸着ノズル５２とを連結する空間部４３を形成する空間形成用開口部４２を有している。

　圧力調整ユニット４１の外壁である側壁４４の一部には、排気口（通気口）としての開口部４５が形成されている。これにより、圧力調整ユニット４１の一部は、蒸着源１０の外部（すなわち、真空チャンバ内空間２ａ）に面して開口されている。このため、上記圧力調整ユニット４１内の空間部４３は、真空チャンバ内空間２ａとの接続口である開口部４５により真空チャンバ内空間２ａと部分的に接続されることで、真空チャンバ内空間２ａに部分的に開放された閉空間を形成している。

　つまり、上記空間部４３は、第１ノズルユニット３１および第２ノズルユニット５１を底壁および天壁とし、四方が圧力調整ユニット４１の側壁４４で囲まれた構成を有し、蒸着ノズル５２および開口部４５でのみ、蒸着源１０の外部、すなわち、真空チャンバ内空間２ａと繋がっている。このため、開口部４５は、閉じられた空間部４３内の圧力を逃がす圧力調整部として機能する。

　開口部４５は、上記空間部４３における内部圧力が一定となるように設けられていることが望ましい。このため、開口部４５は、少なくとも１つ設けられていればよいが、少なくとも１対設けられていることが望ましく、上記圧力調整ユニット４１のＸ軸方向両端側の側壁４４（短辺側壁面）に、上記圧力調整ユニット４１の中心点（すなわち、上記空間部４３の中心点）を挟んで互いに対向する位置に設けられていることがより望ましい。

　開口部４５は、圧力調整ユニット４１の側壁４４の一部に設けられていればよいが、開口部４５の大きさが大きすぎると、蒸着ノズル５２から放出される蒸着粒子３０１が少なくなる。このため、開口部４５の総開口面積、すなわち、各開口部４５の合計の開口面積は、上記空間部４３の次段（上段、すなわち、上記空間部４３を挟む２つのノズルユニットのうち蒸着粒子射出方向下流側）のノズルユニットである、最上段の第２ノズルユニット５１における蒸着ノズル５２の開口面積に対し、十分小さいことが望ましく、各蒸着ノズル５２の開口面積（言い換えれば、１つの蒸着ノズルの開口面積）の１／１０以下であることが好ましい。

　開口部４５は、真空チャンバ内空間２ａと直接接続されるように、真空チャンバ２に直接面して形成されていてもよいが、図１および図３に示すように、開口部４５の開度（開口面積）を調整することで空間部４３内の圧力を調整する、圧力調整弁４６等の圧力調整器を介して真空チャンバ内空間２ａに接続されていてもよい。

　圧力調整弁４６としては、開口部４５の開度を調整することで空間部４３内の圧力を調整することができれば、特に限定されるものではないが、例えばニードルバルブ等が挙げられる。なお、上記圧力調整弁４６は、上記真空チャンバ２内を減圧雰囲気（真空状態）に保つため、電磁弁であることが望ましい。

　各開口部４５は、上記空間部４３における内部圧力が一定となるように、同じ機構を有していることが望ましい。したがって、上述したように開口部４５に圧力調整弁４６を取り付ける場合、圧力調整弁４６は、各開口部４５に設けられていることが望ましく、各開口部４５には、それぞれ同じ圧力調整弁４６が設けられていることが好ましい。

　開口部４５に圧力調整弁４６を設けることで、成膜レートの調整を行うことができるとともに、蒸着粒子３０１が開口部４５から排出（放出）され過ぎないようにすることができる。

　開口部４５に圧力調整弁４６が設けられている場合、あらかじめ、圧力調整弁４６を閉じて成膜レートを確認し、次に、成膜レートが低下し過ぎないように圧力調整弁４６を開けて、膜厚分布を見ながら成膜レートを調整する。なお、成膜レートの低下は、３０％以下に抑えることが好ましい。

　上記蒸着装置１００では、圧力調整ユニット４１に開口部４５を設けることで、開口部４５から、蒸着粒子３０１が多少なりとも放出される。そこで、開口部４５と真空チャンバ２との間には、開口部４５から放出される蒸着粒子３０１を回収する蒸着粒子回収部材１４が、真空チャンバ内空間２ａを介して設けられていることが好ましい。

　開口部４５に圧力調整弁４６が設けられていない場合、蒸着粒子回収部材１４は、開口部４５に対向して、開口部４５から離間して設けられる。このとき、蒸着粒子回収部材１４は、開口部４５に近接して対向配置されていることが好ましい。

　開口部４５に圧力調整弁４６が設けられている場合、蒸着粒子回収部材１４は、圧力調整弁４６における、開口部４５との連結側の開口端４６ａとは反対側の開口端４６ｂに対向して、該開口端４６ｂから離間して設けられる。このとき、蒸着粒子回収部材１４は、上記開口端４６ｂに対向配置されていることが好ましい。

　蒸着粒子回収部材１４としては、例えば、冷却板等の冷却トラップが挙げられる。

　開口部４５あるいは圧力調整弁４６から蒸着源１０の外部に放出された蒸着粒子３０１は、蒸着粒子回収部材１４に吹き付けられることで、気体となる温度未満の温度となり、蒸着粒子回収部材１４によって回収される。

　蒸着粒子回収部材１４が例えば冷却板である場合、蒸着粒子回収部材１４に吹き付けられた蒸着粒子３０１は、冷却板に固体の蒸着材料として付着することで回収される。冷却板に付着した蒸着材料は、機械的手段で擦り取ることで再利用される。

　一方、蒸着源１０は、蒸着粒子発生ユニット１１で気体にした蒸着粒子３０１を気体のまま外部に射出するとともに、経路内への蒸着材料の付着や詰まりを防ぐため、蒸着材料が気体になる温度（昇華温度または蒸発温度）以上の温度に加熱されていることが望ましく、蒸着源１０全体が、蒸着材料が気体になる温度よりも５０℃以上高い温度に加熱されていることが望ましい。

　このため、蒸着源１０は、蒸着粒子発生ユニット１１だけでなく、配管１２および蒸着源本体１３も、蒸着材料が気体になる温度以上の温度（例えば、蒸着粒子発生ユニット１１内部における、坩堝あるいはボートと称される加熱容器と同じか、もしくは、それ以上の温度）に加熱されていることが望ましい。

　そこで、配管１２および蒸着源本体１３には、これら配管１２および蒸着源本体１３の各部、具体的には、配管１２、蒸着粒子拡散ユニット２０、および、蒸着粒子射出ユニット３０における、第１ノズルユニット３１、圧力調整ユニット４１、第２ノズルユニット５１の温度を調整・制御する図示しない誘導コイル等の加熱体（ヒータ）がそれぞれ設けられている。

　上記加熱体は、これら配管１２、蒸着粒子拡散ユニット２０、第１ノズルユニット３１、圧力調整ユニット４１、および第２ノズルユニット５１の周囲に設けられていてもよく、その内部に設けられていてもよい。前者の場合、例えば、これら配管１２、蒸着粒子拡散ユニット２０、第１ノズルユニット３１、圧力調整ユニット４１、および第２ノズルユニット５１の周囲に上記加熱体を巻き付ける等すればよい。後者の場合、例えば、これら配管１２、蒸着粒子拡散ユニット２０、第１ノズルユニット３１、圧力調整ユニット４１、および第２ノズルユニット５１の壁面を中空にする等して、上記加熱体をこれらの壁面の内部に埋め込む等すればよい。

　蒸着粒子発生ユニット１１における加熱容器（例えば坩堝）の温度は、蒸着材料を気体にできる温度、例えば、２００～４００℃の範囲内であることが好ましく、蒸着材料が例えばアルミキノリノール錯体（Ａｌｑ_３）である場合、２５０℃～２７０℃の範囲内であることが好ましい。

　また、配管１２、蒸着粒子拡散ユニット２０、第１ノズルユニット３１、圧力調整ユニット４１、および第２ノズルユニット５１の温度、具体的には、配管１２、蒸着粒子拡散室２１、各蒸着ノズル３２・５２、および空間部４３の温度は、全て、蒸着材料が付着しないように、好ましくは、蒸着材料が気体になる温度よりも十分高い温度（例えば４００℃）に加熱されていることが好ましい。

　蒸着粒子拡散ユニット２０から蒸着粒子射出ユニット３０に供給された蒸着粒子３０１のうち、開口部４５から外部に放出される蒸着粒子３０１以外の蒸着粒子３０１は、蒸着ノズル３２から空間部４３を経て蒸着ノズル５２を通って蒸着源１０から射出される。

　蒸着粒子射出ユニット３０では、第１ノズルユニット３１および第２ノズルユニット５１の法線方向（すなわち、Ｚ軸方向）における、各蒸着ノズル３２・５２の物理的なノズル長ｄ３・ｄ１３によって、蒸着粒子３０１の直線性を改善する。

　このとき、上記蒸着源１０には、上記蒸着ノズル３２と蒸着ノズル５２との間に空間部４３が設けられているとともに、該空間部４３と、真空空間である真空チャンバ内空間２ａとを繋ぐ接続口となる開口部４５が設けられていることで、上記空間部４３の圧力が自ずと低下する。

　この結果、上記空間部４３内の圧力は、蒸着粒子発生ユニット１１、配管１２、蒸着粒子拡散ユニット２０、および第１ノズルユニット３１内の圧力よりも低いが、真空チャンバ内空間２ａの圧力よりも高い圧力となる。

　したがって、本実施形態によれば、上記蒸着粒子射出ユニット３０では、その物理的な構造から、物理現象的に、蒸着ノズル３２内の圧力＞空間部４３内の圧力＞蒸着ノズル５２内の圧力＞真空チャンバ内空間２ａの圧力となる。

　このため、上記蒸着源１０によれば、上記蒸着粒子射出ユニット３０における蒸着粒子３０１が射出される最終段で、蒸着粒子３０１の外部への出口（射出口）となる蒸着ノズル５２における真空チャンバ内空間２ａとの圧力差（言い換えれば、蒸着粒子３０１の射出前後の圧力差）を小さくすることができ、上記出口での蒸着粒子３０１の散乱を抑制することができる。この結果、所望の射出方向に効率的に蒸着粒子３０１を射出することができる。

　なお、上記空間部４３の圧力は、上記空間部４３の温度を変更することによっても変更が可能である。しかしながら、上記空間部４３の温度を変更するだけでは、圧力制御範囲が小さい。

　本実施形態では、上述したように、上記空間部４３と真空チャンバ内空間２ａとを繋ぐ開口部４５を設けることで、上記開口部４５から直接上記空間部４３内の圧力を逃がすことができる。このため、本実施形態によれば、上記開口部４５を設けることで、直接的かつダイナミックに空間圧力を変えることが可能となる。

　なお、本実施形態では、前述したように、上記蒸着源１０を加熱制御することで、上記蒸着ノズル３２、空間部４３、蒸着ノズル５２を、一定温度（すなわち、同じ温度）とした。

　なお、蒸着粒子拡散ユニット２０内の圧力は、数Ｐａであることが好ましく、上記空間部４３内の圧力は１×１０^－１Ｐａ～１×１０^－３Ｐａであることが好ましく、真空チャンバ内空間２ａの圧力は１×１０^－３Ｐａ以下（但し、空間部４３内の圧力＞真空チャンバ内空間２ａの圧力）であることが好ましい。

　また、各蒸着ノズル３２・５２の出口と入口とで圧力差が大きいと、蒸着粒子３０１の散乱が多くなる傾向がある。このため、蒸着ノズル３２の出口と入口との圧力差は、１０～１０００倍の範囲内であることが好ましく、蒸着ノズル５２の出口と入口との圧力差は、１０～１００倍の範囲内であることが望ましい。

　（基板搬送装置３）
　基板搬送装置３は、被成膜基板２００を保持するとともに、図示しないモータを備え、図示しない制御部におけるモータ駆動制御部からの信号に基づいてモータを駆動させることで、被成膜基板２００を移動させる。

　本実施形態では、図３に示すように、被成膜基板２００を、その被成膜面２０１が蒸着マスク８０のマスク面に面するように保持した状態で、Ｙ軸方向に被成膜基板２００を搬送（インライン搬送）して蒸着マスク８０上を通過させることで、蒸着材料の蒸着を行う。

　基板搬送装置３としては、特に限定されるものではなく、例えばローラ式の移動装置や油圧式の移動装置等、公知の各種移動装置を使用することができる。

　（蒸着マスク８０）
　蒸着マスク８０は、その主面であるマスク面がＸＹ平面と平行な板状物である。本実施形態では、図３に示すように、Ｙ軸方向を走査方向としてスキャン蒸着を行う。このため、被成膜基板２００よりも少なくともＹ軸方向のサイズが小さな蒸着マスク８０を使用する。

　蒸着マスク８０の主面には、複数のマスク開口８１（開口部）が設けられている。マスク開口８１は貫通口であり、蒸着時に蒸着粒子３０１（蒸着材料）を通過させる通過部として機能する。一方、蒸着マスク８０におけるマスク開口８１以外の領域は、非開口部８２であり、蒸着時に蒸着粒子３０１の流れを遮断する遮断部として機能する。

　各マスク開口８１は、被成膜基板２００に成膜すべき各蒸着膜３０２のパターンの一部に対応して設けられている。蒸着膜３０２のパターン成膜として、前述したように有機ＥＬ素子の各色の発光層の塗り分け形成を行う場合、マスク開口８１は、これら各色の発光層のＸ軸方向のサイズおよびピッチに合わせて形成される。

　なお、図３では、スロット状のマスク開口８１が二次元状に複数配列して設けられている場合を例に挙げて図示している。しかしながら、本実施形態はこれに限定されるものではなく、上記蒸着マスク８０には、無数のマスク開口８１が所定の蒸着膜パターンに合わせて形成されていてもよく、例えば、Ｙ軸方向に沿って伸びるスリット状のマスク開口８１が、Ｘ軸方向に複数配列して設けられていてもよい。

　蒸着マスク８０を使用することで、マスク開口８１を通過した蒸着粒子３０１のみが被成膜基板２００に到達し、被成膜基板２００に、マスク開口８１に応じたパターンの蒸着膜３０２が形成される。本実施形態では、上述した蒸着マスク８０を用いて被成膜基板２００をＹ軸方向に走査しながら蒸着を行うことにより、被成膜基板２００に、ストライプ状の蒸着膜３０２が成膜される。

　なお、上記蒸着材料が有機ＥＬ表示装置における発光層の材料である場合、有機ＥＬ蒸着プロセスにおける発光層の蒸着は、発光層の色毎に行われる。

　被成膜基板２００における、蒸着粒子を付着させたくない部分は、シャッタ６０および図示しない防着板等によって覆われる。

　蒸着マスク８０としては、例えば金属製のマスクが好適に用いられるが、これに限定されるものではなく、樹脂製またはセラミック製のマスクであってもよく、これら材料を用いた複合マスクであってもよい。

　また、蒸着マスク８０は、そのまま使用してもよく、自重撓みを抑制するために、張力をかけた状態で図示しないマスクフレームに固定されていてもよい。マスクフレームは、平面視で、その外形が、蒸着マスク８０と同じか、もしくは一回り大きな矩形状に形成される。なお、平面視とは、蒸着マスク８０の主面に垂直な方向（つまり、Ｚ軸に平行な方向）から見たとき、を示す。

　（制限板ユニット７０）
　蒸着粒子射出ユニット３０が、蒸着粒子発生源である蒸着粒子発生ユニット１１と一体的に蒸着源１０に設けられ、蒸着粒子３０１を所定の方向に射出する役割を担っているのに対し、制限板ユニット７０は、蒸着源１０とは離間して設けられ、蒸着粒子発生ユニット１１から放出された後の蒸着粒子３０１の流れを制御し、蒸着粒子３０１の飛散方向を変更する役割を担っている。このため、制限板ユニット７０に、特に圧力条件はない。

　制限板ユニット７０は、平面視で、それぞれＹ軸に平行に延設されており、Ｘ軸方向に互いに離間し、かつ、同一ピッチで互いに平行に複数配列された複数の制限板７２を備えている。これら制限板７２は、それぞれ、同一寸法の板状部材で形成されている。

　また、平面視で、Ｘ軸方向に隣り合う制限板７２間には、それぞれ、上下方向に貫通する制限板開口７１（貫通口）が形成されている。

　各制限板７２を保持する方法は、各制限板７２の相対的位置や姿勢を一定に維持することができれば、特に限定されない。制限板ユニット７０は、これら制限板７２を連結して保持する図示しない保持体部を備え、該保持体部に、各制限板７２が、ネジ留めあるいは溶接等により固定された構成を有していてもよい。また、制限板ユニット７０は、後述する図７に示すように、ＸＹ平面を主面する平面視で矩形状の一枚板に、Ｘ軸方向に沿って複数の制限板開口７１が一定ピッチで設けられ、これにより、隣り合う制限板開口７１間に設けられた制限板７２が、Ｘ軸方向に沿って一定ピッチで配列されたブロック状のユニットであってもよい。

　図３では、保持体部の図示を省略しているが、制限板ユニット７０は、平面視で、蒸着マスク８０と同じか、もしくはそれ以上の大きさの外形を有している。

　制限板開口７１のピッチは、蒸着源１０における蒸着ノズル５２のピッチと同じであり、制限板開口７１と蒸着ノズル５２とは、一対一の関係を有するように配置されている。

　一方、制限板開口７１のピッチは、マスク開口８１のピッチよりも大きく形成されており、平面視で、Ｘ軸方向に隣り合う制限板７２間には、複数のマスク開口８１が配されている。

　制限板ユニット７０は、各制限板７２によって、蒸着マスク８０と蒸着源１０との間の空間を、制限板開口７１からなる複数の蒸着空間に区画することで、蒸着源１０から射出された蒸着粒子３０１の通過角度を制限する。

　蒸着ノズル５２から射出された蒸着粒子３０１は、制限板開口７１およびマスク開口８１を通って被成膜基板２００に達する。

　蒸着ノズル５２から射出された蒸着粒子３０１が制限板開口７１を通ることで、被成膜基板２００に入射される蒸着粒子３０１の角度は、一定の角度以下に制限される。

　制限板ユニット７０を用いてスキャン蒸着を行う場合、制限板７２によって制限された蒸着粒子３０１の広がり角度よりも大きい射出角度を有する蒸着粒子３０１は、制限板７２によってブロック（捕捉）される。

　このため、制限板ユニット７０に入射される蒸着粒子３０１の広がり角が小さいほど、制限板開口７１を通過する蒸着流の量が増え、材料利用効率が向上する。

　本実施形態にかかる蒸着源１０には、蒸着ノズル３２・５２等の蒸着ノズルを有する複数段のノズルユニット（例えば第１ノズルユニット３１および第２ノズルユニット５１）が配置されている。

　このため、蒸着流の指向性が高く、制限板開口７１を通過する蒸着粒子３０１の割合が従来よりも増大する。このため、蒸着材料の材料利用効率が、従来よりも向上する。

　また、制限板開口７１を通過した蒸着粒子３０１のみで被成膜基板２００上に蒸着膜３０２が形成されるので、被成膜基板２００に形成された成膜パターンにおける膜厚分布を改善することができる。このため、被成膜基板２００上に、蒸着膜３０２を、高精度に形成することができる。

　本実施形態では、蒸着ノズル３２・５２と制限板開口７１とは、平面視で、それぞれの開口中心（中心軸）が一致するようにそれぞれ重畳して形成されている。このため、より高精度に蒸着流の広がりを抑制することができる。

　但し、図３に示すように、本実施形態において、蒸着ノズル３２・５２と制限板開口７１とは、平面視での開口サイズが互いに異なっている。

　なお、制限板開口７１の大きさは、被成膜基板２００の大きさや形成する成膜パターンに応じて適宜設定すればよく、特に限定されるものではない。

　制限板ユニット７０は、斜め成分の蒸着粒子３０１を遮蔽するため、加熱しないで室温のままとするか、好適には、図示しない冷却機構（熱交換器）により冷却される。このため、制限板７２は、蒸着ノズル３２・５２よりも低い温度になっている。このように制限板７２を冷却する冷却機構を設けることで、制限板７２に接触した、Ｚ軸に非平行な不要な蒸着粒子３０１を、固化して捕捉することができる。このため、蒸着粒子３０１の進行方向を被成膜基板２００の法線方向にさらに近づけることができる。

　なお、上記冷却機構としては、特に限定されるものではないが、冷却水を循環させて水冷する水冷型の冷却機構であることが望ましい。つまり、上記制限板ユニット７０（制限板７２）は、水冷型の制限板ユニット（水冷型の制限板７２）であることが望ましい。

　（シャッタ６０）
　また、蒸着マスク８０と蒸着源１０との間、本実施形態では、制限板ユニット７０と蒸着源１０との間には、蒸着源１０から射出された蒸着粒子３０１の蒸着マスク８０への到達を制御するために、被成膜基板２００に向けて蒸着粒子３０１を通過させるか否かを決定するシャッタ６０が設けられている。

　シャッタ６０は、蒸着レートを安定化させる時や蒸着が不要な時に、被成膜基板２００に蒸着粒子３０１が到達しないように、蒸着粒子３０１の射出経路を妨げる。

　シャッタ６０は、図示しないシャッタ作動装置により、例えば、蒸着マスク８０と蒸着源１０との間に、進退可能に設けられている。

　シャッタ作動装置は、シャッタ６０を保持するとともに、図示しない制御部からの蒸着ＯＦＦ（オフ）信号／蒸着ＯＮ（オン）信号に基づいてシャッタ６０を作動させる。

　シャッタ作動装置を作動させて、図３に示すように制限板ユニット７０と蒸着源１０との間にシャッタ６０を適宜差し挟むことで、被成膜基板２００における余計な部分（非成膜領域２０３）への蒸着を防止することができる。

　＜蒸着膜製造方法＞
　次に、上記蒸着源１０を用いた蒸着方法として、蒸着膜３０２の製造方法（成膜方法）について説明する。

　本実施形態では、成膜方式として、被成膜基板２００を走査しながら成膜を行うスキャン成膜方式を使用し、蒸着源１０と被成膜基板２００とを、Ｙ軸方向が走査方向となるように相対移動させてスキャン蒸着を行う。

　より具体的には、本実施形態では、被成膜基板２００を搬送しながら成膜を行う基板搬送成膜方式を使用して成膜を行う。つまり、本実施形態では、蒸着装置１００が、上述したように、蒸着源１０と被成膜基板２００との間に、シャッタ６０、制限板ユニット７０、および蒸着マスク８０を備えることで、蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、および蒸着源１０が、それぞれ、真空チャンバ２の内壁の何れかに固定されており、基板搬送装置３を用いて、被成膜基板２００を、蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、および蒸着源１０に対して相対移動させることで、被成膜基板２００を走査しながら蒸着（スキャン蒸着）する。このとき、制限板ユニット７０と蒸着源１０との間にシャッタ６０を適宜差し挟むことで、被成膜基板２００における余計な部分（非成膜領域２０３）への蒸着を防止する。

　このため、本実施形態では、まず、蒸着源１０、シャッタ６０、制限板ユニット７０、蒸着マスク８０、および被成膜基板２００を、一定距離離間して対向配置させる。

　このとき、蒸着マスク８０および被成膜基板２００にそれぞれ設けられた図示しないアライメントマーカを用いて、蒸着マスク８０と被成膜基板２００との相対的な位置合わせ、つまり、アライメント調整、および、蒸着マスク８０と被成膜基板２００との間の隙間の調整（ギャップコントロール）が行われる。

　また、蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、および蒸着源１０にそれぞれ設けられた図示しないアライメントマーカを用いて、蒸着マスク８０と制限板ユニット７０とが対向配置されるとともに、蒸着源１０における蒸着ノズル５２の中心軸（開口中心）が制限板ユニット７０における制限板開口７１の中心軸（開口中心）と一致するように、被成膜基板２００と蒸着ユニット１との相対的な位置合わせが行われる（位置合わせ工程）。

　その後、減圧雰囲気下（真空状態）で、蒸着源１０から蒸着粒子３０１を射出させる（蒸着粒子射出工程）。このとき、開口部４５に圧力調整弁４６が設けられている場合、蒸着粒子射出工程では、まず、圧力調整弁４６を閉じた状態で蒸着源１０から蒸着粒子３０１を射出することにより成膜レートを確認する（成膜レート確認工程）。その後、圧力調整弁４６を開け、上記空間部４３の圧力を、上記空間部４３を挟むノズルユニットのうち蒸着粒子射出方向上流側のノズルユニットである第１ノズルユニット３１における蒸着ノズル３２内の圧力よりも低下させた後、被成膜基板２００に成膜される蒸着膜３０２の膜厚分布（例えば、被成膜基板２００の非成膜領域２０３に成膜される蒸着膜３０２の膜厚分布）を確認しながら蒸着源１０から蒸着粒子３０１を射出することにより成膜レートを調整する（成膜レート調整工程）。

　次いで、被成膜基板２００を、平面視で、走査方向（つまり、蒸着ノズル５２および制限板開口７１の配設方向に垂直なＹ軸方向）に沿って移動させることにより、被成膜基板２００を、蒸着ユニット１に対して相対移動させながら、被成膜基板２００の被成膜領域２０２に蒸着粒子３０１を被着させる（被着工程）。

　このとき、本実施形態では、上記被着工程で、開口部４５によって空間部４３内の圧力を逃がしながら、蒸着ノズル３２から空間部４３を経て、最終的に蒸着ノズル５２により被成膜基板２００に向かって蒸着粒子３０１（蒸着流）を射出する。

　このため、本実施形態では、上記被着工程において、蒸着粒子射出ユニット３０における蒸着ノズル３２と蒸着ノズル５２との間の空間部４３が、上記空間部４３を挟んで蒸着粒子射出方向上流側の蒸着ノズル３２内の圧力よりも低く、上記空間部４３を挟んで蒸着粒子射出方向下流側の蒸着ノズル５２の圧力よりも高くなっている。このため、蒸着粒子射出ユニット３０内の圧力は、蒸着ノズル３２＞空間部４３＞蒸着ノズル５２＞真空チャンバ内空間２ａの関係を有し、蒸着ノズル３２側から次第に圧力が小さくなる。

　このように、本実施形態によれば、蒸着粒子射出ユニット３０内の圧力を、射出経路に沿って次第に真空チャンバ内空間２ａの圧力に近づけることができる。この結果、蒸着粒子３０１の蒸着源１０からの出口近傍の圧力差、すなわち、蒸着源１０の真空チャンバ内空間２ａとの境界部における真空チャンバ内空間２ａとの圧力差を小さくすることができ、上記蒸着ノズル５２の出口での蒸着粒子３０１の散乱を抑制することができる。

　このため、本実施形態によれば、上記散乱による無駄な蒸着粒子３０１が少なくなり、所定の方向に射出される蒸着粒子３０１を多くすることができる。したがって、本実施形態によれば、従来よりも材料利用効率を向上させることができる。

　なお、前述したように、上記被着工程において、被成膜基板２００への蒸着膜３０２の成膜には寄与しない、開口部４５から放射された蒸着粒子３０１は、蒸着粒子回収部材１４によって回収され、再利用される。

　また、本実施形態では、蒸着ノズル５２から射出された蒸着粒子３０１は、制限板ユニット７０でさらに不要成分が遮られ、飛来方向が一定となる。そして、その後、多数のマスク開口８１を有する蒸着マスク８０を通して、被成膜基板２００上に規則正しくパターン成膜される。このため、蒸着粒子３０１の指向性が高く、高精細な蒸着膜３０２を成膜することができる。

　また、上記の方法によれば、上記蒸着装置１００を用いてスキャン蒸着を行うことで、蒸着マスク８０のサイズを小さくすることができるので、高精度にパターン成膜を行うことができる。また、上記の方法によれば、小さな蒸着マスク８０で大型の被成膜基板２００にパターン成膜を行うことができる。

　＜効果＞
　以下に、本実施形態にかかる蒸着源１０の効果について、膜厚分布の測定結果を用いて、具体的に説明する。但し、以下の測定に用いた蒸着源１０における各構成要素の寸法、形状、蒸着材料等は、あくまで一具体例であり、これらの例示によって本発明の範囲が限定解釈されるべきではない。

　（膜厚分布）
　膜厚分布は、一般的に、ｎ値で評価可能であることが知られている。ｎ値は、材料固有の成膜状態（真空チャンバ２内での飛散／拡散状態）を定量的に示す値であり、蒸着ノズルから射出される蒸着粒子３０１の分布（言い換えれば、蒸着ノズルの指向性）を示すパラメータである。以下にｎ値について説明する。

　図４の（ａ）～（ｃ）は、ｎ値の導出を説明するための図である。

　図４の（ａ）・（ｂ）に示すように、平面上の点蒸着源（蒸着ノズル、以下、「蒸着ノズル１０Ａ」と記す）を考える場合、その蒸着流密度の分布Φ（α）は、Lambert余弦則によって、次式（１）
　Φ（α）＝Φ_０×ｃｏｓα　‥（１）
で示される。

　しかしながら、実際には、蒸着表面が平面でなかったり、蒸着ノズル１０Ａのノズル壁等の影響により、分布は制限される。

　図４の（ａ）に示す蒸着ノズル１０Ａの直上方向に対する角度αが極端に大きくなく、蒸着ノズル１０Ａが十分小さい場合には、蒸着ノズル１０Ａからの蒸着流密度の分布Φ(α)は、次式（２）
　Φ（α）＝Φ_０×ｃｏｓ^ｎα　‥（２）
で近似できる。

　従って、例えば半径Ｌ_０の球面上における蒸着速度Ｒsp（α）は、蒸着ノズル１０Ａ直上での蒸着速度をＲ_０とすると、次式（３）
　Ｒsp（α）＝Ｒ_０×ｃｏｓ^ｎα　‥（３）
で示される。

　これを、図４の（ｂ）に示すように被成膜基板２００上のレートに置き換える場合、距離の増大分ｃｏｓ^２αと角度修正分ｃｏｓαとが掛けられることになる。よって、蒸着ノズル１０Ａ直上方向に対する角度αの位置の被成膜基板２００上での、単位面積、単位時間当たりの蒸着量（蒸着速度）Ｒ（α）は、次式（４）
　Ｒ（α）＝Ｒ_０×ｃｏｓ^ｎα×ｃｏｓ^２α×ｃｏｓα＝Ｒ_０×ｃｏｓ^ｎ＋３α　‥（４）
となる。ここで、蒸着ノズル１０Ａそのものの性能がｎ値となる。なお、「＋３」の成分は、幾何成分によるものである。

　したがって、図４の（ｃ）に示すように、蒸着ノズル１０Ａ直上方向に対する角度θの位置の被成膜基板２００上での膜厚をｔとし、蒸着ノズル１０Ａ直上の被成膜基板２００での膜厚をｔ_０とすると、ｎ値は、次式（５）
　ｔ／ｔ_０＝ｃｏｓ^ｎ＋３θ　‥（５）
から導出される。

　上記式（５）から判るように、被成膜基板２００上に蒸着される蒸着膜３０２の厚さは、図４の（ｃ）に示すようにノズル直上で最も大きく、蒸着ノズル１０Ａ直上から離れるにつれて小さくなる。また、上記ｎ値は、上述したように蒸着ノズル１０Ａの指向性を表すため、大きければ大きいほど指向性が高くなることを意味する。このため、ｎ値が大きければ大きいほど、該蒸着ノズル１０Ａから射出された蒸着粒子３０１が形成する蒸着膜３０２の膜厚分布が均一でなくなると言える。

　（膜厚分布の測定条件）
　膜厚分布は、蒸着源１０と被成膜基板２００とを対向配置させ、互いに静止状態で成膜を行い、設定膜厚（蒸着ノズル５２の直上の蒸着膜３０２の膜厚）を２００ｎｍとして１つの蒸着ノズル５２から射出された蒸着粒子３０１によって成膜される蒸着膜３０２の膜厚を、公知のエリプソメトリを使用して、１ｍｍ毎の測定ピッチで光学的に測定することで、測定した。なお、蒸着源１０と被成膜基板２００との間の距離は２００ｍｍとした。

　蒸着材料には、有機材料であるアルミキノリノール錯体（Ａｌｑ_３）を使用し、被成膜基板２００にはガラス基板を使用した。

　また、測定に使用した蒸着源１０における蒸着ノズル３２・５２のＹ軸方向に平行な第１辺３２ａ・５２ａの長さ（Ｙ軸方向の開口幅ｄ１・ｄ１１）は、それぞれ６０ｍｍとした。また、蒸着ノズル３２・５２のＸ軸方向に平行な第２辺３２ｂ・５２ｂの長さ（Ｘ軸方向の開口幅ｄ２・ｄ１２）はそれぞれ３ｍｍとした。これにより、各蒸着ノズル３２・５２の開口面積は、１８０ｍｍ^２とした。蒸着ノズル３２・５２のＺ軸方向に平行な第３辺３２ｃ・５２ｃの長さ（深さ、ノズル長ｄ３・ｄ１３）はそれぞれ６０ｍｍとした。

　また、空間部４３における、Ｚ軸方向の高さ（すなわち、蒸着ノズル３２・５２間の距離）は３０ｍｍとし、Ｘ軸方向の長さは１８０ｍｍとし、Ｙ軸方向の長さは１００ｍｍとした。また、開口部４５の大きさを２ｍｍ×４ｍｍ（Ｚ軸方向に平行な辺の長さ×Ｙ軸方向に平行な辺の長さ）とすることで、各開口部４５の開口面積を８ｍｍ^２、開口部４５の総開口面積を１６ｍｍ^２とした。これにより、空間部４３における開口部４５の総開口面積を、該空間部４３を挟むノズルユニットのうち蒸着粒子射出方向下流側のノズルユニット（すなわち、最上段のノズルユニット）である第２ノズルユニット５１の各蒸着ノズル５２の開口面積（１８０ｍｍ^２）の１／１０以下とした。

　また、蒸着粒子拡散ユニット２０の大きさ（ドラムサイズ）は、直径が２００ｍｍ、Ｘ軸方向（円筒軸方向）の長さが２００ｍｍとした。

　また、蒸着粒子拡散ユニット２０内の圧力は数Ｐａ、上記空間部４３内の圧力は１×１０^－１Ｐａ～１×１０^－３Ｐａ、真空チャンバ内空間２ａの圧力は１×１０^－３Ｐａ以下とした。

　また、蒸着粒子発生ユニット１１における加熱容器（坩堝）の温度は、２５０℃～２７０℃の範囲内とし、各蒸着ノズル３２・５２、空間部４３、蒸着粒子拡散室２１、配管１２は、蒸着材料が気体になる温度よりも十分温度が高くなるように、ヒータで４００℃に加熱し、各蒸着ノズル３２・５２に蒸着材料が付着することが無いようにした。

　（膜厚分布の測定結果）
　図５の（ａ）は、図１中、Ａで示す、蒸着ノズル３２（１段目ノズル）通過後に蒸着ノズル５２（２段目ノズル）を通過した蒸着粒子３０１によって成膜される蒸着膜３０２の膜厚分布を模式的に示すグラフである。また、図５の（ｂ）は、図１中、Ｂで示す、蒸着ノズル３２（１段目ノズル）を通過した蒸着粒子３０１によって成膜される蒸着膜３０２の膜厚分布を模式的に示すグラフである。

　なお、図５の（ａ）・（ｂ）中、Ｘ軸およびＹ軸は、平面視で、蒸着粒子３０１の射出元となる蒸着ノズル５２の中心軸からの位置（単位：ｍｍ）を示し、ゼロ（０）が、上記中心軸の直上の位置を示す。また、Ｚ軸は、蒸着膜３０２の膜厚（単位：μｍ）を示す。

　また、図６は、本実施形態にかかる蒸着源１０の効果を示すグラフである。

　図６中、太線で示すグラフは、本実施形態にかかる蒸着源１０を用いて被成膜基板２００上に蒸着膜３０２を形成した場合における、被成膜基板２００のＸ軸方向断面での、１つの蒸着ノズル５２の膜厚分布性能（すなわち、ｃｏｓ^ｎ＋３値と蒸着源距離との関係）を示す。

　なお、図６では、ｃｏｓ^ｎ＋３値を、被成膜基板２００における、成膜された蒸着膜３０２の最大値（すなわち、１つの蒸着ノズル５２または蒸着ノズル３２の直上位置のｃｏｓ^ｎ＋３値）を１として、Ｘ軸方向における各領域の膜厚を規格化して示している。また、蒸着源距離とは、被成膜基板２００における、１つの蒸着ノズル５２または蒸着ノズル３２の中心軸の直上位置からのＸ軸方向の距離を示す。

　つまり、上記太線で示すグラフは、図１にＡで示す、蒸着ノズル３２（１段目ノズル）通過後に蒸着ノズル５２（２段目ノズル）を通過した蒸着粒子３０１によって成膜される蒸着膜３０２のＸ軸方向の膜厚分布を規格化して示すグラフである。

　また、図６中、点線で示すグラフは、蒸着ノズルが１段のみ（具体的には、蒸着ノズル３２のみ）設けられている蒸着源１０を用いて被成膜基板２００上に蒸着膜３０２を形成した場合における、被成膜基板２００のＸ軸方向断面での、１つの蒸着ノズル３２の膜厚分布性能を示す。すなわち、上記点線で示すグラフは、図１にＢで示す、蒸着ノズル３２（１段目ノズル）を通過した蒸着粒子３０１によって成膜される蒸着膜３０２のＸ軸方向の膜厚分布を規格化して示すグラフである。

　また、図６中、細線で示すグラフは、圧力調整ユニット４１に開口部４５が設けられていない蒸着源１０を用いて被成膜基板２００上に蒸着膜３０２を形成した場合における、被成膜基板２００のＸ軸方向断面での、１つの蒸着ノズル５２の膜厚分布性能を示す。すなわち、上記細線で示すグラフは、特許文献１のように、蒸着ノズル３２（１段目ノズル）と蒸着ノズル５２（２段目ノズル）との間の空間部４３が、蒸着ノズル３２・５２との接続部を除いて閉じられている場合に、蒸着ノズル３２（１段目ノズル）通過後に蒸着ノズル５２（２段目ノズル）を通過した蒸着粒子３０１によって成膜される蒸着膜３０２のＸ軸方向の膜厚分布を規格化して示すグラフである。

　Ｙ軸方向を被成膜基板２００の走査方向としてスキャン蒸着を行う場合、蒸着ノズル５２から射出された蒸着粒子３０１によって成膜される蒸着膜３０２は、Ｙ軸方向に沿って伸びるストライプ状パターンとなる。したがって、Ｙ軸方向は成膜方向となるため、Ｙ軸方向に散乱する蒸着粒子３０１は、成膜に寄与する。このため、Ｙ軸方向の膜厚分布は、ブロードであっても、Ｘ軸方向における膜厚分布ほど問題とはならない。

　一方、Ｘ軸方向は、蒸着材料を塗り分ける方向となる。Ｘ軸方向に散乱した蒸着粒子３０１は、成膜ボケや混色の原因となったり、真空チャンバ内空間２ａに飛散して材料利用効率の低下を招いたりする。このため、Ｘ軸方向には、できるだけ蒸着粒子３０１の拡がりを抑えることが望ましい。

　特に、上述したようにスキャン蒸着法を用いてスキャン成膜を行う場合、蒸着流を制御するために、好適には、図３に示すように、蒸着源１０上に、制限板７２を有する制限板ユニット７０が配置され、その上に、蒸着マスク８０が配置される。このため、Ｘ軸方向の蒸着膜３０２の膜厚分布がブロードとなると、これら制限部材による蒸着流規制が多くなり、成膜に寄与する材料利用効率がさらに低くなる。

　図５の（ａ）・（ｂ）および図６から判るように、蒸着源１０に、複数段の蒸着ノズル３２・５２を設けるとともに、蒸着ノズル３２・５２間の空間部４３を囲む、圧力調整ユニット４１の側壁４４に、上記空間部４３と真空チャンバ内空間２ａとを繋ぐ開口部４５を設けることで、Ｘ軸方向の膜厚分布がシャープになる。

　膜厚分布は、シャープな方が、材料利用効率が向上するとともに、膜厚分布が少なく、均一な膜の蒸着膜３０２が得られる。

　また、図６に細線で示すグラフと点線で示すグラフとを比較した結果から、上記開口部４５が設けられていない場合、つまり、蒸着ノズル３２・５２間の空間部４３が、蒸着ノズル３２・５２との接続部を除いて閉じられている場合、蒸着膜３０２のＸ軸方向の膜厚分布は、蒸着ノズル３２（１段目ノズル）を通過した蒸着粒子３０１によって成膜される蒸着膜３０２のＸ軸方向の膜厚分布と大差ないことが判る。

　つまり、上記開口部４５が設けられていない場合、つまり、蒸着ノズル３２・５２間の空間部４３が、蒸着ノズル３２・５２との接続部を除いて閉じられている場合、上記空間部４３は、配管（ノズル）の途中の部分として機能するにすぎない。このため、上記開口部４５が設けられていない場合、１段目の蒸着ノズル３２から、散乱された蒸着粒子３０１が２段目の蒸着ノズル５２に流入することで、ノズル長が長くなるだけで、結局、射出方向下流に位置する最終段の蒸着ノズル５２の形状が反映された膜厚分布が得られるにすぎない。

　したがって、特許文献１では、蒸着粒子３０１の飛来方向を制限する部材として規制板５０６を有する蒸着流規制層を重ねているが、これら蒸着流規制層間に、外部と通じる空間が存在しないので、蒸着粒子３０１の外部への出口において、真空チャンバ内空間と、規制板５０６によって形成されるノズルとの圧力差が大きくなり、結局粒子散乱を生じてしまう。このため、特許文献１では、蒸着粒子射出方向に対し、斜め方向の蒸着粒子成分が多くなり、材料利用効率が低くなる。

　したがって、本実施形態によれば、本実施形態にかかる蒸着源１０を用いることで、最終段の蒸着ノズル５２の出口での蒸着粒子３０１の散乱を抑制することができ、従来よりも材料利用効率を向上させることができるとともに、蒸着粒子３０１の平行性（コリメート性）を高めることができることが判る。

　また、本実施形態によれば、蒸着粒子３０１の平行性を高めることができるので、蒸着粒子３０１の指向性が高く、高精度な蒸着を行うことができ、高精細な蒸着膜３０２を成膜することができることが判る。

　＜変形例＞
　図７は、本変形例の一例にかかる蒸着装置１００の要部の概略構成を示す斜視図である。なお、図７でも、図示の便宜上、蒸着ノズル３２・５２の数や制限板開口７１の数、マスク開口８１の数等を一部省略するとともに、各構成要素の形状を簡略化して示している。

　以下、図１～図３、および図７を参照して、本実施形態にかかる変形例について説明する。

　（蒸着源１０の配置）
　上述したように、本実施形態では、蒸着源１０が、蒸着源本体１３と、配管１２と、蒸着粒子発生ユニット１１と、を備え、そのうち、配管１２の一部と、蒸着粒子発生ユニット１１とが、真空チャンバ２の外部に設けられている場合を例に挙げて説明した。

　しかしながら、本実施形態は、これに限定されるものではなく、蒸着源本体１３、配管１２、および蒸着粒子発生ユニット１１が、それぞれ真空チャンバ２内に配置されている（つまり、蒸着源１０全体が真空チャンバ２内に配置されている）構成としてもよい。

　（蒸着源１０の構成の変形例１）
　また、本実施形態では、蒸着源本体１３とは別に蒸着粒子発生ユニット１１が設けられており、蒸着源本体１３と蒸着粒子発生ユニット１１とが配管１２で接続されている場合を例に挙げて説明した。しかしながら、蒸着粒子発生ユニット１１は、例えば図７に点線で示すように、蒸着源本体１３内に設けられていてもよい。例えば、蒸着粒子拡散室２１内に、蒸着粒子発生ユニット１１として、内部に蒸着材料３００を収容する坩堝等の加熱容器およびヒータを収容することで、蒸着粒子拡散ユニット２０（蒸着粒子拡散室２１）が、蒸着粒子発生部兼蒸着粒子拡散部として機能しても構わない。なお、蒸着粒子拡散室２１内に蒸着粒子発生ユニット１１が収容されている場合、配管１２および蒸着粒子導入口２２を設ける必要はない。この場合にも、蒸着源１０全体が真空チャンバ２内に配置される。

　（蒸着源１０の構成の変形例２）
　また、本実施形態では、第１ノズルユニット３１、圧力調整ユニット４１、および第２ノズルユニット５１が、それぞれブロック状のユニットであり、蒸着粒子射出ユニット３０として一体化されている場合を例に挙げて説明した。

　しかしながら、上記蒸着粒子射出ユニット３０は、これに限定されるものではなく、例えば、中空の容器の天壁および底壁に蒸着ノズル３２・５２として貫通口を有するとともに、該中空の容器の側壁（外壁）に、蒸着ノズル３２・５２間の空間部４３と真空チャンバ内空間２ａとを繋ぐ開口部４５が設けられた形状を有していても構わない。また、上記蒸着粒子射出ユニット３０は、枠体内部が複数の規制板３３・５３によって区画された構成を有していても構わない。

　（蒸着源１０の構成の変形例３）
　また、本実施形態では、上記蒸着粒子射出ユニット３０が、複数段のノズル部（蒸着ノズル部）として、第１ノズルユニット３１と、第２ノズルユニット５１と、を備えている場合を例に挙げて説明した。しかしながら、上記複数段のノズル部は、３段以上のノズル部（ノズルユニット）を備えていてもよい。この場合、各段のノズル部における蒸着ノズルの間に、それぞれ、各段の蒸着ノズルを介さずに真空チャンバ内空間２ａと接続された空間部が設けられ、該空間部を囲む側壁４４（外壁）の一部に、該空間部と真空チャンバ内空間２ａとを繋ぐ開口部が設けられていることが望ましい。なお、この場合にも、上記空間部と真空チャンバ内空間２ａとを繋ぐ開口部には、圧力調整弁４６が設けられていることが望ましく、上記開口部から直接もしくは圧力調整弁４６を介して外部に放出された蒸着粒子３０１は、蒸着粒子回収部材１４で回収されることが望ましい。

　（蒸着源１０の構成の変形例４）
　また、図１～図３では、蒸着粒子拡散ユニット２０が、ドラム形状（円筒形状）を有している場合を例に挙げて図示した。しかしながら、蒸着粒子拡散ユニット２０の形状は、これに限定されるものではなく、内部に、蒸着粒子３０１を拡散する拡散空間として蒸着粒子拡散室２１を備えていれば、その形状は、特に限定されるものではない。したがって、蒸着粒子拡散ユニット２０は、例えば図７に示すように外形が四角柱状の中空の容器であっても構わない。また、上記四角柱状としては、直方体状であっても立方体状であっても構わない。

　（蒸着源１０の構成の変形例５）
　また、本実施形態では、送出口２６が、蒸着ノズル３２・５２と平面視で、同一形状を有し、それぞれ、中心軸（開口中心）が一致するように互いに重畳して設けられている場合を例に挙げて説明した。しかしながら、送出口２６の形状および大きさは、これに限定されるものではなく、１つの送出口２６が複数の蒸着ノズル３２（例えば全蒸着ノズル３２）と対向するように、形成されていても構わない。したがって、上記送出口２６は、上記蒸着ノズル３２を複数（例えば全て）連結した形状を有していてもよい。

　（蒸着源１０の構成の変形例６）
　また、本実施形態では、各段のノズル部（例えば、第１ノズルユニット３１および第２ノズルユニット５１）に、蒸着ノズル（例えば蒸着ノズル３２・５２）がそれぞれＸ軸方向に複数配列して設けられている場合を例に挙げて説明した。このように各段のノズル部に蒸着ノズルがＸ軸方向に複数配列して設けられている場合、１つの蒸着源１０で被成膜基板２００にＸ軸方向に複数の蒸着膜３０２を形成することができる。このため、大型の被成膜基板２００に対しても、効率良く蒸着膜３０２を成膜することができる。

　しかしながら、本実施形態は、これに限定されるものではなく、各段のノズル部には、蒸着ノズル（例えば蒸着ノズル３２・５２）が少なくとも１つ設けられていればよい。上述したように各蒸着ノズル間の空間部４３に開口部４５を設けることで、蒸着源１０が、たとえ各段のノズル部に蒸着ノズルが１つしか設けられていない構成を有する場合であっても、本実施形態に記載の効果を得ることができることは、静止成膜状態で１つの蒸着ノズル５２から射出された蒸着膜３０２の膜厚分布を測定した、図５および図６に示す結果から明白である。

　（蒸着装置１００の概略構成および蒸着膜製造方法の変形例１）
　また、本実施形態では、蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、および蒸着源１０が、それぞれ、真空チャンバ２の内壁の何れかに固定されており、基板搬送装置３を用いて、被成膜基板２００を、蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、および蒸着源１０に対して相対移動させることで、被成膜基板２００を走査しながら蒸着（スキャン蒸着）する場合を例に挙げて説明した。

　しかしながら、本実施形態は、これに限定されるものではなく、例えば、被成膜基板２００を固定し、例えば、蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、および蒸着源１０を、Ｙ軸方向が走査方向となるように被成膜基板２００に対して相対移動させてもよい。また、例えば、蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、および蒸着源１０と、被成膜基板２００とを、それぞれ、Ｙ軸方向が走査方向となるように、他方に対して相対移動させても構わない。

　これらの場合、蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、および蒸着源１０は、蒸着ユニット１としてユニット化されていてもよい。蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、および蒸着源１０が、１つの蒸着ユニット（蒸着ユニット１）としてユニット化されている場合、これら蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、および蒸着源１０は、例えば、（ｉ）剛直な部材でお互いに固定されていてもよく、（ii）独立した構成を有し、制御動作が一つのユニットとして動作しても構わない。

　すなわち、本実施形態では、蒸着ユニット１と、被成膜基板２００と、のうち少なくとも一方を、Ｙ軸方向が走査方向となるように、他方に対して相対移動させても構わない。

　また、蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、および蒸着源１０を１つの同じ保持部材によって保持するとともに、該保持部材に、シャッタ作動装置（シャッタ移動装置）を取り付けることで、蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、シャッタ６０、および蒸着源１０が、同じ保持部材（ホルダ）によって保持されている構成としてもよい。言い換えれば、上記蒸着ユニット１は、シャッタ６０を備えていてもよい。

　上述したように蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、および蒸着源１０を、被成膜基板２００に対して相対移動させる場合、蒸着装置１００は、これら蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、および蒸着源１０を、被成膜基板２００に対して相対移動させる、図示しない搬送装置（移動装置）をさらに備えていてもよい。

　例えば、上記蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、および蒸着源１０が、個別の保持部材（すなわち、蒸着マスク保持部材、制限板ユニット保持部材、蒸着源保持部材）によって保持されている場合、蒸着装置１００は、これら蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、および蒸着源１０を、被成膜基板２００に対してそれぞれ個別に相対移動させる搬送装置として、例えば、蒸着マスク搬送装置、制限板ユニット搬送装置、蒸着源搬送装置を、さらに備えていてもよい。これら蒸着マスク搬送装置、制限板ユニット搬送装置、蒸着源搬送装置は、図示しない制御部により、蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、および蒸着源１０の位置関係が固定されるように、その動作が制御される。

　また、蒸着装置１００は、上記蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、および蒸着源１０が一つの蒸着ユニットとしてユニット化されている場合、該蒸着ユニットを被成膜基板２００に対して相対移動させる、図示しない蒸着ユニット搬送装置（蒸着ユニット移動装置）をさらに備えていてもよい。

　これら搬送装置としては、例えばローラ式の移動装置や油圧式の移動装置等、公知の各種移動装置を使用することができる。

　なお、被成膜基板２００を固定し、蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、および蒸着源１０を、被成膜基板２００に対して相対移動させる場合、基板搬送装置３が設けられている必要はない。

　（蒸着装置１００の概略構成および蒸着膜製造方法の変形例２）
　また、本実施形態では、Ｙ軸方向における蒸着マスク８０の長さが、Ｙ軸方向における被成膜基板２００の長さよりも短く、蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、および蒸着源１０の位置関係が固定（つまり、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸の全軸方向における互いの位置関係が固定）されている場合を例に挙げて説明した。

　しかしながら、本実施形態は、これに限定されるものではなく、蒸着マスク８０が被成膜基板２００と平面視でほぼ同じ大きさ（例えば同じ大きさ）を有し、被成膜基板２００と蒸着マスク８０とが接触配置されている構成を有していてもよい。この場合、（ｉ）制限板ユニット７０は、図３に示すように、Ｙ軸方向における制限板７２の長さが、Ｙ軸方向における被成膜基板２００の長さよりも短く、制限板ユニット７０と蒸着源１０との位置関係が固定された構成を有していてもよいし、（ii）図示はしないが、蒸着マスク８０および被成膜基板２００と平面視でほぼ同じ大きさ（例えば同じ大きさ）を有していてもよい。

　被成膜基板２００と蒸着マスク８０とが平面視でほぼ同じ大きさを有し、制限板ユニット７０と蒸着源１０との位置関係が固定されている場合、（ｉ）被成膜基板２００および蒸着マスク８０と、（ii）制限板ユニット７０および蒸着源１０と、のうち、少なくとも一方を、他方に対して相対移動させることによりスキャン蒸着を行うことができる。

　また、被成膜基板２００と蒸着マスク８０と制限板ユニット７０とが平面視でほぼ同じ大きさを有している場合、（ｉ）被成膜基板２００、蒸着マスク８０、および制限板ユニット７０と、（ii）蒸着源１０と、のうち、少なくとも一方を、他方に対して相対移動させることによりスキャン蒸着を行うことができる。

　なお、被成膜基板２００と蒸着マスク８０とが平面視でほぼ同じ大きさを有している場合、各マスク開口８１は、被成膜基板２００に成膜すべき各蒸着膜３０２のパターンに対応して設けられる。

　（蒸着装置１００の概略構成および蒸着膜製造方法の変形例３）
　また、図２では、スロット状のマスク開口８１が二次元状に複数配列して設けられている場合を例に挙げて図示した。しかしながら、蒸着マスク８０は、前述したようにＹ軸方向に沿って伸びるスリット状のマスク開口８１がＸ軸方向に複数配列して設けられた例として、図７に示す構成を有していてもよい。また、図２および図７では、蒸着マスク８０が、少なくともＸ軸方向に沿って設けられた複数のマスク開口８１を有している場合を例に挙げて図示しているが、上記蒸着マスク８０は、マスク開口８１が１つのみ設けられたいわゆるオープンマスクであってもよい。この場合にも、蒸着粒子３０１の散乱を抑えることができるので、本実施形態にかかる効果を得ることができる。

　（蒸着膜製造方法の他の変形例）
　本実施形態にかかる蒸着源１０は、上述したように、スキャン蒸着に好適に用いることができる。しかしながら、これに限定されるものではなく、本実施形態にかかる蒸着源１０は、（ｉ）被成膜基板２００、蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、および蒸着源１０の位置関係をそれぞれ固定して蒸着を行う方法、あるいは、（ii）被成膜基板２００に対し、蒸着マスク８０を順次移動させてその都度密着（接触）させることにより成膜するステップ蒸着においても、好適に用いることができる。この場合、本実施形態によれば、従来よりも、少なくともＸ軸方向の膜厚分布を向上させることができる。また、本実施形態によれば、空間部４３に開口部４５を設けることで各蒸着ノズル３２・５２の出口での蒸着粒子３０１の散乱を抑えることができることから、上記開口部４５を設けない場合と比較すれば、Ｙ軸方向においても膜厚分布を改善することができる。

　但し、上記（ｉ）または（ii）に記載の蒸着方式を用いる場合、Ｘ軸方向およびＹ軸方向の指向性がともに向上されるように、例えば後述する実施形態３または４に示すように平面視での蒸着ノズル３２・５２の開口形状を変更することが望ましい。

　（ダウンデポジション）
　また、本実施形態では、蒸着粒子を下方から上方に向かってアップデポジションさせる場合を例に挙げて説明した。しかしながら、本実施の形態はこれに限定されるものではなく、蒸着粒子を上方から下方に向かって被成膜基板２００に蒸着（ダウンデポジション）させても構わない。

　この場合、被成膜基板２００、蒸着マスク８０、制限板ユニット７０、シャッタ６０、蒸着源１０の配置が逆になるようにこれら構成要素を保持する保持部材が設けられるとともに、蒸着粒子拡散ユニット２０の下方に蒸着粒子射出ユニット３０が位置するように蒸着源１０が配置される。

　このようにダウンデポジションにより蒸着を行う場合、自重撓みを抑制するために静電チャック等の手法を使用しなくても、高精細のパターンを、被成膜基板２００の全面に渡って、精度良く形成することができる。

　（蒸着装置１００の概略構成の他の変形例）
　また、本実施形態では、蒸着マスク８０と蒸着源１０との間に、制限板ユニット７０およびシャッタ６０を設けた場合を例に挙げて説明した。しかしながら、制限板ユニット７０およびシャッタ６０は、必ずしも必要ではない。例えば、上述したように被成膜基板２００と蒸着マスク８０とを密着（接触）させて蒸着を行う場合、制限板ユニット７０およびシャッタ６０を省くことができる。

　〔実施形態２〕
　本発明の他の実施形態について主に図８～図１１の（ａ）・（ｂ）に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本実施形態では、実施形態１との相違点について説明するものとし、実施形態１で用いた構成要素と同一の機能を有する構成要素には同一の番号を付し、その説明を省略する。

　＜蒸着源１０の概略構成＞
　図８は、本実施形態にかかる蒸着源１０の概略構成を示す斜視図である。図９は、図８に示す蒸着源１０の概略構成を示す平面図である。図１０は、本実施形態にかかる蒸着装置１００の要部の概略構成を示す斜視図である。

　なお、図８～図１０でも、図示の便宜上、蒸着ノズル３２・５２の数や制限板開口７１の数、マスク開口８１の数等を一部省略するとともに、各構成要素の形状を簡略化して示している。

　本実施形態にかかる蒸着装置１００は、蒸着源１０における第１ノズルユニット３１と第２ノズルユニット５１とで、蒸着ノズル３２の平面視での開口形状と蒸着ノズル５２の平面視での開口形状とが異なっている点を除けば、実施形態１にかかる蒸着装置１００と同じである。但し、本実施形態でも、送出口２６は、実施形態１同様、平面視で、蒸着ノズル３２と同じ形状とし、送出口２６の開口端と蒸着ノズル３２の開口端とを互いに接続することで、蒸着ノズル３２と連結されている。このため、厳密に言えば、本実施形態にかかる蒸着源１０は、送出口２６の平面視での開口形状（言い換えれば、送出口２６の平面視での長軸方向）も、実施形態１にかかる送出口２６の平面視での開口形状（送出口２６の平面視での長軸方向）とは異なっている。

　本実施形態では、蒸着ノズル３２と蒸着ノズル５２とは、配設方向が９０度異なっている。

　各蒸着ノズル３２は、平面視で、Ｙ軸方向を長軸方向とし、隣り合う蒸着ノズル３２が、Ｘ軸方向に沿って一直線上に位置するように、各蒸着ノズル３２の長辺がＸ軸に平行で、かつ、各蒸着ノズル３２の短辺が互いに対向して設けられている。このため、各蒸着ノズル３２は、平面視で、Ｙ軸方向に平行な第１辺３２ａが短辺で、Ｘ軸方向に平行な第２辺３２ｂを長辺とする矩形状に形成されている。

　一方、各蒸着ノズル５２は、平面視で、各蒸着ノズル５２の長辺がＹ軸に平行かつ互いに対向して設けられている。このため、各蒸着ノズル５２は、平面視で、Ｙ軸方向に平行な第１辺５２ａが長辺で、Ｘ軸方向に平行な第２辺５２ｂを短辺とする矩形状に形成されている。

　このように各蒸着ノズル３２・５２の平面視での開口形状が、長辺と短辺とで構成されている矩形状を有している場合、それぞれの蒸着ノズル３２・５２から射出された蒸着粒子３０１によって成膜される蒸着膜３０２の膜厚分布は、長辺方向はブロードな膜厚分布となるが、短辺方向はシャープな膜厚分布を実現できる。

　そこで、各蒸着ノズル３２・５２の配設方向を９０度変えて、空間部４３を介して重ねて積層することで、角状や四角柱状のシャープな膜厚分布を得ることができる。

　このため、本実施形態では、図８および図９に示すように、同じ形状の蒸着ノズル３２・５２を、配設方向を９０度変えて、空間部４３を介して重ねて積層した。このとき、実施形態１で説明したように、Ｘ軸方向は、蒸着材料を塗り分ける方向となる。したがって、Ｘ軸方向への蒸着粒子３０１の拡がりをできるだけ抑えるためには、上述したように、外部への射出口となる蒸着ノズル５２が、平面視で、Ｙ軸方向を長辺とし、Ｘ軸方向を短辺とする矩形状を有していることが望ましい。

　また、実施形態１で説明したように、被成膜基板２００を搬送しながら成膜する場合、タクトタイムを早めるためには、被成膜基板２００の搬送方向における蒸着ノズルの開口幅（Ｙ軸方向の開口幅ｄ１・ｄ１１）は、長ければ長いほど好ましく、Ｙ軸方向の開口幅ｄ１・ｄ１１が、Ｚ軸方向のノズル長ｄ３・ｄ１３よりも長いことが好ましい。

　このため、Ｙ軸方向を長辺とする蒸着ノズル５２の長辺（つまり、Ｙ軸方向に平行な第１辺５２ａ）の長さ（つまり、蒸着ノズル５２のＹ軸方向の開口幅ｄ１１）は、該蒸着ノズル５２のＺ軸方向のノズル長ｄ１３よりも長くなるように形成されていることが好ましい。

　なお、実施形態１で説明したように、スキャン蒸着を行う場合、Ｙ軸方向は成膜方向となるため、Ｙ軸方向に散乱する蒸着粒子３０１は、成膜に寄与する。このため、Ｙ軸方向の膜厚分布は、ブロードであっても、Ｘ軸方向における膜厚分布ほど問題とはならない。

　しかしながら、スキャン蒸着では、まず、蒸着源１０から蒸着粒子３０１を射出し、その後、蒸着粒子３０１を射出しながら被成膜基板２００と蒸着ユニット１とを相対移動させて蒸着を行う。そして、所望の膜厚が得られるように、Ｙ軸方向に沿って、被成膜基板２００の走査方向を反転させて往復走査を行い、同一箇所に複数回蒸着を行う。

　このため、スキャン蒸着を行う場合でも、被成膜基板２００のＹ軸方向両端部では、蒸着粒子３０１の拡がりにより、蒸着材料の無駄が生じる。また、スキャン蒸着を行うか否かに拘らず、被成膜基板２００における被成膜領域２０２に到達しない蒸着粒子３０１は、全て蒸着材料のロスに繋がる。特に、有機ＥＬ素子における有機層（有機ＥＬ層）を構成する有機材料は、電気伝導性、キャリア輸送性、発光特性、熱的および電気的安定性等を有する特殊な機能性材料であり、その材料単価は非常に高価である。

　そこで、Ｘ軸方向およびＹ軸方向とも、蒸着粒子３０１の指向性を向上させ、シャープな膜厚分布とすることが、蒸着材料の利用効率をさらに向上させる観点から、より望ましい。

　＜効果＞
　以下に、本実施形態にかかる蒸着源１０の効果について、膜厚分布の測定結果を用いて、具体的に説明する。

　（膜厚分布の測定条件）
　なお、以下では、上述したように蒸着ノズル３２・５２の配設方向を９０度変更した以外は、実施形態１と同様にして膜厚分布を測定した。

　すなわち、本実施形態では、蒸着ノズル３２・５２の長辺の長さをそれぞれ６０ｍｍとし、蒸着ノズル３２・５２の短辺の長さをそれぞれ３ｍｍとすることで、蒸着ノズル３２のＹ軸方向に平行な第１辺３２ａの長さ（Ｙ軸方向の開口幅ｄ１）を３ｍｍとし、Ｘ軸方向に平行な第２辺３２ｂの長さ（Ｘ軸方向の開口幅ｄ２）を６０ｍｍとした以外は、実施形態１と同じ条件で膜厚分布の測定を行った。したがって、本実施形態でも、各蒸着ノズル３２・５２の開口面積は、１８０ｍｍ^２であり、開口部４５の総開口面積は１６ｍｍ^２であり、空間部４３における開口部４５の総開口面積は、第２ノズルユニット５１の各蒸着ノズル５２の開口面積（１８０ｍｍ^２）の１／１０以下である。

　（膜厚分布の測定結果）
　図１１の（ａ）・（ｂ）は、本実施形態にかかる蒸着源１０の効果を示すグラフであり、図１１の（ａ）は、Ｘ軸方向の蒸着膜３０２の膜厚分布を示し、図１１の（ｂ）はＹ軸方向の蒸着膜３０２の膜厚分布を示す。

　より具体的には、図１１の（ａ）・（ｂ）において太線で示すグラフは、本実施形態にかかる蒸着源１０を用いて被成膜基板２００上に蒸着膜３０２を形成した場合における、被成膜基板２００のＸ軸方向断面またはＹ軸方向断面での、１つの蒸着ノズル５２の膜厚分布性能（すなわち、ｃｏｓ^ｎ＋３値と蒸着源距離との関係）を示す。

　なお、図１１の（ａ）・（ｂ）でも、ｃｏｓ^ｎ＋３値を、被成膜基板２００における、成膜された蒸着膜３０２の最大値（すなわち、１つの蒸着ノズル５２または蒸着ノズル３２の直上位置のｃｏｓ^ｎ＋３値）を１として、Ｘ軸方向またはＹ軸方向における各領域の膜厚を規格化して示している。また、図１１の（ａ）における蒸着源距離とは、被成膜基板２００における、１つの蒸着ノズル５２または蒸着ノズル３２の中心軸の直上位置からのＸ軸方向の距離を示す。また、図１１の（ｂ）における蒸着源距離とは、被成膜基板２００における、１つの蒸着ノズル５２または蒸着ノズル３２の中心軸の直上位置からのＹ軸方向の距離を示す。

　したがって、図１１の（ａ）において上記太線で示すグラフは、図８にＡで示す、蒸着ノズル３２（１段目ノズル）通過後に蒸着ノズル５２（２段目ノズル）を通過した蒸着粒子３０１によって成膜される蒸着膜３０２のＸ軸方向の膜厚分布を規格化して示すグラフである。

　また、図１１の（ｂ）において上記太線で示すグラフは、図８にＡで示す、蒸着ノズル３２（１段目ノズル）通過後に蒸着ノズル５２（２段目ノズル）を通過した蒸着粒子３０１によって成膜される蒸着膜３０２のＹ軸方向の膜厚分布を規格化して示すグラフである。

　また、図１１の（ａ）・（ｂ）中、点線で示すグラフは、蒸着ノズルが１段のみ（具体的には、蒸着ノズル３２のみ）設けられている蒸着源１０を用いて被成膜基板２００上に蒸着膜３０２を形成した場合における、被成膜基板２００のＸ軸方向断面またはＹ軸方向断面での、１つの蒸着ノズル３２の膜厚分布性能を示す。

　すなわち、図１１の（ａ）において上記点線で示すグラフは、図８にＢで示す、蒸着ノズル３２（１段目ノズル）を通過した蒸着粒子３０１によって成膜される蒸着膜３０２のＸ軸方向の膜厚分布を規格化して示すグラフである。

　また、図１１の（ｂ）において上記点線で示すグラフは、図８にＢで示す、蒸着ノズル３２（１段目ノズル）を通過した蒸着粒子３０１によって成膜される蒸着膜３０２のＹ軸方向の膜厚分布を規格化して示すグラフである。

　蒸着ノズル３２（１段目ノズル）を通過した蒸着粒子３０１によって成膜される蒸着膜３０２は、図８および図９に示すように蒸着ノズル３２が、平面視で、Ｘ軸方向を長辺とし、Ｙ軸方向を短辺とする矩形状を有していることから、図１１の（ｂ）に示すようにＹ軸方向にはシャープな膜厚分布が得られるものの、図１１の（ａ）に示すようにＸ軸方向の膜厚分布はブロードとなる。

　しかしながら、本実施形態によれば、上述したように蒸着ノズル３２に対し蒸着ノズル５２の向きが９０度回転しているので、Ｘ軸方向への蒸着粒子３０１の拡がりが抑制される。そして、本実施形態では、上記蒸着ノズル３２・５２間の空間部４３に開口部４５が設けられていることで、蒸着ノズル３２の出口および蒸着ノズル５２の出口で蒸着粒子３０１の散乱が抑制され（もしくは散乱が生じず）、Ｙ軸方向に蒸着粒子３０１が拡がることがない。このため、Ｙ軸方向には、蒸着ノズル３２を通過したときの蒸着粒子３０１の分布をそのまま維持した状態で成膜が行われることから、蒸着ノズル５２通過後も、蒸着ノズル３２を通過した蒸着粒子３０１による膜厚分布が維持される。したがって、本実施形態によれば、図１１の（ａ）・（ｂ）に太線で示すように、Ｘ軸方向およびＹ軸方向ともに、シャープな膜厚分布を実現することができる。

　＜変形例＞
　なお、本実施形態でも、蒸着粒子拡散ユニット２０における送出口２６が、平面視で、蒸着ノズル３２と同じ形状を有する場合を例に挙げて説明した。しかしながら、実施形態１で説明したように、送出口２６の形状および大きさは、これに限定されるものではなく、１つの送出口２６が複数の蒸着ノズル３２（例えば全蒸着ノズル３２）と対向するように、形成されていても構わない。したがって、上記送出口２６は、上記蒸着ノズル３２を複数（例えば全て）連結した形状（本実施形態では、何れの場合にもＸ軸方向を長軸方向とする矩形状）を有していてもよい。

　また、本実施形態でも、実施形態１と同様の変形を行ってもよいことは、言うまでもない。

　〔実施形態３〕
　本発明のさらに他の実施形態について主に図１２～図１４の（ａ）・（ｂ）に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本実施形態では、実施形態１、２との相違点について説明するものとし、実施形態１、２で用いた構成要素と同一の機能を有する構成要素には同一の番号を付し、その説明を省略する。

　＜蒸着源１０の概略構成＞
　図１２は、本実施形態にかかる蒸着源１０の概略構成を示す斜視図である。図１３は、図１２に示す蒸着源１０の概略構成を示す平面図である。なお、図１３および図１４でも、図示の便宜上、蒸着ノズル３２・５２の数等を一部省略するとともに、各構成要素の形状を簡略化して示している。

　本実施形態にかかる蒸着装置１００は、蒸着源１０における第１ノズルユニット３１と第２ノズルユニット５１とで、蒸着ノズル３２の平面視での開口形状と蒸着ノズル５２の平面視での開口形状とが異なっている点を除けば、実施形態１、２にかかる蒸着装置１００と同じである。このため、本実施形態では、蒸着装置１００全体の図示を省略する。

　なお、本実施形態でも、蒸着粒子拡散ユニット２０における送出口２６は、例えば、平面視で、蒸着ノズル３２と同じ形状とし、送出口２６の開口端と蒸着ノズル３２の開口端とを互いに接続することで、蒸着ノズル３２と連結されている。

　図１２および図１３に示す蒸着源１０は、実施形態１、２に示す蒸着源１０において、蒸着ノズル３２のみを平面視で正方形状に形成している。

　各蒸着ノズル５２は、実施形態１、２にかかる蒸着源１０における蒸着ノズル５２と同様に、平面視で、Ｙ軸方向に平行な第１辺３２ａが長辺で、Ｘ軸方向に平行な第２辺３２ｂを短辺とする矩形状に形成されている。

　なお、本実施形態では、蒸着ノズル３２のみを平面視で正方形状に形成したことで、蒸着ノズル３２・５２の開口面積（平面視での面積）が互いに異なっている。このように蒸着ノズル３２・５２の開口面積が互いに異なる場合であっても、開口部４５の総開口面積、すなわち、各開口部４５の合計の開口面積は、上記空間部４３の次段（上段、すなわち、上記空間部４３を挟む２つのノズルユニットのうち蒸着粒子射出方向下流側）に位置する第２ノズルユニット５１における蒸着ノズル５２の開口面積に対し、十分小さいことが望ましい。したがって、開口部４５の総開口面積は、各蒸着ノズル５２の開口面積（言い換えれば、１つの蒸着ノズル５２の開口面積）の１／１０以下であることが好ましい。

　また、本実施形態でも、Ｙ軸方向を長辺とする蒸着ノズル５２の長辺（つまり、Ｙ軸方向に平行な第１辺５２ａ）の長さ（つまり、蒸着ノズル５２のＹ軸方向の開口幅ｄ１１）は、該蒸着ノズル５２のＺ軸方向のノズル長ｄ１３よりも長くなるように形成されていることが好ましい。

　＜効果＞
　以下に、本実施形態にかかる蒸着源１０の効果について、膜厚分布の測定結果を用いて、具体的に説明する。

　（膜厚分布の測定条件）
　なお、以下では、上述したように蒸着ノズル３２を平面視で矩形状に形成した以外は、実施形態１、２と同様にして膜厚分布を測定した。

　すなわち、本実施形態では、蒸着ノズル３２のＹ軸方向に平行な第１辺３２ａの長さ（Ｙ軸方向の開口幅ｄ１）およびＸ軸方向に平行な第２辺３２ｂの長さ（Ｘ軸方向の開口幅ｄ２）をそれぞれ３ｍｍとした以外は、実施形態１、２と同じ条件で膜厚分布の測定を行った。したがって、本実施形態にかかる蒸着ノズル５２の開口面積は、実施形態１、２と同じ１８０ｍｍ^２であり、開口部４５の総開口面積は１６ｍｍ^２であり、空間部４３における開口部４５の総開口面積は、該空間部４３を挟むノズルユニットのうち蒸着粒子射出方向下流側のノズルユニット（すなわち、最上段のノズルユニット）である第２ノズルユニット５１の各蒸着ノズル５２の開口面積の１／１０以下である。

　（膜厚分布の測定結果）
　図１４の（ａ）・（ｂ）は、本実施形態にかかる蒸着源１０の効果を示すグラフであり、図１４の（ａ）は、Ｘ軸方向の蒸着膜３０２の膜厚分布を示し、図１４の（ｂ）はＹ軸方向の蒸着膜３０２の膜厚分布を示す。

　図１４の（ａ）・（ｂ）でも、太線で示すグラフは、図１１の（ａ）・（ｂ）において太線で示すグラフと同様に、本実施形態にかかる蒸着源１０を用いて被成膜基板２００上に蒸着膜３０２を形成した場合における、被成膜基板２００のＸ軸方向断面またはＹ軸方向断面での、１つの蒸着ノズル５２の膜厚分布性能（すなわち、ｃｏｓ^ｎ＋３値と蒸着源距離との関係）を示している。また、ｃｏｓ^ｎ＋３値は、被成膜基板２００における、成膜された蒸着膜３０２の最大値を１として規格化した値である。

　したがって、図１４の（ａ）において上記太線で示すグラフは、図１２にＡで示す、蒸着ノズル３２（１段目ノズル）通過後に蒸着ノズル５２（２段目ノズル）を通過した蒸着粒子３０１によって成膜される蒸着膜３０２のＸ軸方向の膜厚分布を規格化して示すグラフである。

　また、図１４の（ｂ）において上記太線で示すグラフは、図１２にＡで示す、蒸着ノズル３２（１段目ノズル）通過後に蒸着ノズル５２（２段目ノズル）を通過した蒸着粒子３０１によって成膜される蒸着膜３０２のＹ軸方向の膜厚分布を規格化して示すグラフである。

　また、図１４の（ａ）・（ｂ）でも、点線で示すグラフは、図１１の（ａ）・（ｂ）中、点線で示すグラフと同様に、蒸着ノズルが１段のみ（具体的には、蒸着ノズル３２のみ）設けられている蒸着源１０を用いて被成膜基板２００上に蒸着膜３０２を形成した場合における、被成膜基板２００のＸ軸方向断面またはＹ軸方向断面での、１つの蒸着ノズル３２の膜厚分布性能を示している。

　すなわち、図１４の（ａ）において上記点線で示すグラフは、図１２にＢで示す、蒸着ノズル３２（１段目ノズル）を通過した蒸着粒子３０１によって成膜される蒸着膜３０２のＸ軸方向の膜厚分布を規格化して示すグラフである。

　また、図１４の（ｂ）において上記点線で示すグラフは、図１２にＢで示す、蒸着ノズル３２（１段目ノズル）を通過した蒸着粒子３０１によって成膜される蒸着膜３０２のＹ軸方向の膜厚分布を規格化して示すグラフである。

　図１４の（ａ）・（ｂ）に示すように、蒸着ノズル３２のみ平面視で正方形状にした場合、Ｘ軸方向およびＹ軸方向への蒸着粒子３０１の拡がりが抑制され、その後、被成膜基板２００の搬送方向であるＹ軸方向に長い開口形状を有する蒸着ノズル５２を蒸着粒子３０１を通過することで、膜厚分布は、正方形状の蒸着ノズル３２（１段目ノズル）を通過した蒸着粒子３０１によって成膜される蒸着膜３０２よりもＸ軸方向のみ絞られた形状となる。

　このように、蒸着ノズル３２を平面視で正方形状とした場合、蒸着粒子３０１の移動が制限され、逃げ道がないことから、平面視で矩形状の蒸着ノズルを用いたときの短辺方向の膜厚分布よりはＸ軸方向に若干広がった膜厚分布となる。このため、本実施形態にかかる蒸着源１０によって成膜される蒸着膜３０２の膜厚分布は、実施形態１にかかる蒸着源１０を用いた場合の膜厚分布よりはＸ軸方向に若干広がった分布を有するものの、本実施形態でも、上記蒸着ノズル３２・５２間の空間部４３に開口部４５が設けられていることで、蒸着ノズル３２の出口および蒸着ノズル５２の出口での蒸着粒子３０１の散乱が抑制され（もしくは散乱が生じず）、図６に点線および細線で示す膜厚分布および図１４の（ａ）に点線で示す膜厚分布よりもシャープな膜厚分布を実現することができる。

　また、本実施形態でも、上述したように上記空間部４３に開口部４５が設けられていることで、Ｙ軸方向には、蒸着ノズル３２を通過したときの蒸着粒子３０１の分布をそのまま維持した状態で成膜が行われることから、蒸着ノズル５２通過後も、蒸着ノズル３２を通過した蒸着粒子３０１による膜厚分布が維持される。したがって、本実施形態によれば、図１４の（ａ）・（ｂ）に太線で示すように、Ｘ軸方向およびＹ軸方向ともに、シャープな膜厚分布を実現することができる。

　また、本実施形態によれば、上述したように蒸着ノズル３２を平面視で正方形状にすることで、蒸着ノズル３２の出口側で、蒸着ノズル５２の入口側に入射する蒸着粒子３０１の数の割合が高くなり、実施形態１、２に示すように蒸着ノズル３２の平面視での開口形状を矩形状とした場合よりも成膜効率を高めることができる。

　例えば、蒸着粒子発生ユニット１１における加熱容器（坩堝）の加熱温度、配管１２の温度、蒸着源本体１３の温度を一定とした場合、本実施形態のように蒸着ノズル３２が平面視で正方形状を有している場合の方が、実施形態１、２における膜厚分布の測定に用いた蒸着源１０のように蒸着ノズル３２・５２の開口部形状が矩形状で、それぞれの蒸着ノズル３２・５２の長辺と短辺との比率が、長辺：短辺＝２０：１の場合と比較して、成膜レートを２０倍高くすることができる。

　＜変形例＞
　なお、本実施形態では、実施形態１、２に示す蒸着源１０において、蒸着ノズル３２のみを平面視で正方形状とした場合を例に挙げて説明した。しかしながら、本実施形態は、これに限定されるものではなく、実施形態１に示す蒸着源１０において、蒸着ノズル５２のみを平面視で正方形状とした場合でも、同様の結果が得られる。

　なお、この場合、Ｙ軸方向を長辺とする蒸着ノズル３２の長辺（つまり、Ｙ軸方向に平行な第１辺３２ａ）の長さ（つまり、蒸着ノズル３２のＹ軸方向の開口幅ｄ１）は、該蒸着ノズル３２のＺ軸方向のノズル長ｄ３よりも長くなるように形成されていることが好ましい。また、この場合、空間部４３における開口部４５の総開口面積が、第２ノズルユニット５１の各蒸着ノズル５２の開口面積の１／１０以下となるように、開口部４５の総開口面積を小さくする（例えば、蒸着ノズル５２の開口面積が９ｍｍ^２の場合、開口部４５の総開口面積を０．８４ｍｍ^２とする）ことが望ましい。

　なお、説明は省略するが、本実施形態でも、実施形態１、２と同様の変形が可能であることは、言うまでもない。したがって、例えば、実施形態２に示す蒸着源１０において、蒸着ノズル５２のみを平面視で正方形状としてもよい。

　また、上記説明から判るように、本実施形態において、３段以上のノズル部（ノズルユニット）を設ける場合、何れのノズル部における蒸着ノズルの平面視での開口形状を矩形状にしても構わない。

　〔実施形態４〕
　本発明のさらに他の実施形態について主に図１５～図１７に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本実施形態では、実施形態１～３との相違点について説明するものとし、実施形態１～３で用いた構成要素と同一の機能を有する構成要素には同一の番号を付し、その説明を省略する。

　＜蒸着源１０の概略構成＞
　図１５は、本実施形態にかかる蒸着源１０の概略構成を示す斜視図である。図１６は、図１５に示す蒸着源１０の概略構成を示す平面図である。図１６は、平面視で、蒸着ノズル３２と蒸着ノズル５２とが完全に重なっていることを示している。なお、図１５および図１６でも、図示の便宜上、蒸着ノズル３２・５２の数等を一部省略するとともに、各構成要素の形状を簡略化して示している。

　図１５および図１６に示すように、本実施形態にかかる蒸着装置１００は、実施形態１～３に示す蒸着源１０において、蒸着ノズル３２・５２の平面視での開口形状をともに正方形状とした点を除けば、実施形態１～３にかかる蒸着装置１００と同じである。このため、本実施形態でも、蒸着装置１００全体の図示を省略する。

　なお、本実施形態でも、送出口２６は、例えば、平面視で、蒸着ノズル３２と同じ形状とし、送出口２６の開口端と蒸着ノズル３２の開口端とを互いに接続することで、蒸着ノズル３２と連結されている。

　＜効果＞
　以下に、本実施形態にかかる蒸着源１０の効果について、膜厚分布の測定結果を用いて、具体的に説明する。

　（膜厚分布の測定条件）
　なお、以下では、上述したように蒸着ノズル３２・５２を平面視で矩形状に形成した以外は、実施形態１～３と同様にして膜厚分布を測定した。

　すなわち、本実施形態では、蒸着ノズル３２・５２のＹ軸方向に平行な第１辺３２ａ・５２ａの長さ（Ｙ軸方向の開口幅ｄ１・ｄ１１）およびＸ軸方向に平行な第２辺３２ａ・５２ｂの長さ（Ｘ軸方向の開口幅ｄ２・ｄ１２）をそれぞれ３ｍｍとすることで各蒸着ノズル３２・５２の開口面積を、９ｍｍ^２とするとともに、開口部４５の大きさを０．６ｍｍ×０．７ｍｍ（Ｚ軸方向に平行な辺の長さ×Ｙ軸方向に平行な辺の長さ）とすることで各開口部４５の開口面積を０．４２ｍｍ^２、開口部４５の総開口面積を０．８４ｍｍ^２とした以外は、実施形態１～３と同じ条件で膜厚分布の測定を行った。このように、本実施形態でも、空間部４３における開口部４５の総開口面積を、該空間部４３を挟むノズルユニットのうち蒸着粒子射出方向下流側のノズルユニット（すなわち、最上段のノズルユニット）である第２ノズルユニット５１の各蒸着ノズル５２の開口面積（９ｍｍ^２）の１／１０以下とした。

　（膜厚分布の測定結果）
　図１７は、本実施形態にかかる蒸着源１０の効果を示すグラフである。なお、本実施形態では、Ｘ軸方向およびＹ軸方向で、蒸着膜３０２の膜厚分布は同じ形状となったことから、Ｘ軸方向およびＹ軸方向の蒸着膜３０２の膜厚分布を、ともに図１７で示す。

　図１７で、太線で示すグラフは、本実施形態にかかる蒸着源１０を用いて被成膜基板２００上に蒸着膜３０２を形成した場合における、被成膜基板２００のＸ軸方向断面およびＹ軸方向断面での、１つの蒸着ノズル５２の膜厚分布性能（すなわち、ｃｏｓ^ｎ＋３値と蒸着源距離との関係）を示している。また、ｃｏｓ^ｎ＋３値は、被成膜基板２００における、成膜された蒸着膜３０２の最大値を１として規格化した値である。

　したがって、図１７において上記太線で示すグラフは、図１５にＡで示す、蒸着ノズル３２（１段目ノズル）通過後に蒸着ノズル５２（２段目ノズル）を通過した蒸着粒子３０１によって成膜される蒸着膜３０２のＸ軸方向およびＹ軸方向の膜厚分布をそれぞれ規格化したときのグラフである。

　また、図１７で、点線で示すグラフは、蒸着ノズルが１段のみ（具体的には、蒸着ノズル３２のみ）設けられている蒸着源１０を用いて被成膜基板２００上に蒸着膜３０２を形成した場合における、被成膜基板２００のＸ軸方向断面およびＹ軸方向断面での、１つの蒸着ノズル３２の膜厚分布性能を示している。

　すなわち、図１７において上記点線で示すグラフは、図１５にＢで示す、蒸着ノズル３２（１段目ノズル）を通過した蒸着粒子３０１によって成膜される蒸着膜３０２のＸ軸方向およびＹ軸方向の膜厚分布をそれぞれ規格化したときのグラフである。

　本実施形態によれば、図１７に示すように、Ｘ軸方向およびＹ軸方向ともに膜厚分布が絞られた形状となる。

　上記の構成によれば、スキャン蒸着を行う場合、平面視で矩形状の開口形状を有する蒸着ノズルを有する蒸着ノズル部を設ける場合と比較してタクトタイムが遅くなるものの、Ｘ軸方向およびＹ軸方向両方で２回膜厚分布が絞られることになるため、蒸着ノズル３２・５２が平面視でともに矩形状に形成されている場合よりも指向性を向上させることができ、膜厚分布の広がりを抑えることができる。

　＜変形例＞
　なお、説明は省略するが、本実施形態でも、実施形態１～３と同様の変形が可能であることは、言うまでもない。

　特に、本実施形態でも、蒸着粒子射出ユニット３０が、複数段のノズル部（蒸着ノズル部）として、第１ノズルユニット３１と、第２ノズルユニット５１と、を備えている場合を例に挙げて説明しているが、上記複数段のノズル部は、３段以上のノズル部（ノズルユニット）を備えていてもよい。

　〔実施形態５〕
　本発明のさらに他の実施形態について主に図１８～図２０に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本実施形態では、実施形態１～４との相違点について説明するものとし、実施形態１～４で用いた構成要素と同一の機能を有する構成要素には同一の番号を付し、その説明を省略する。

　＜蒸着源１０の概略構成＞
　図１８は、本実施形態にかかる蒸着源１０の概略構成を示す斜視図である。図１９は、図１８に示す蒸着源１０の概略構成を示す平面図である。

　本実施形態にかかる蒸着装置１００は、蒸着粒子射出ユニット３０のノズルユニット（ノズル部）を３段構成とし、各段のノズルユニット間に設けられた、各段のノズルユニットにおける蒸着ノズルを介さずに真空チャンバ内空間２ａと接続された空間部を２つ備えている点を除けば、例えば実施形態１にかかる蒸着装置１００と同じである。このため、本実施形態でも、蒸着装置１００全体の図示を省略する。

　すなわち、本実施形態にかかる蒸着装置１００は、図１８および図１９に示すように、蒸着粒子射出ユニット３０が、ノズルユニットとして、最上段に第３ノズルユニット１２１（第３の蒸着ノズル部）をさらに備えるとともに、上記第２ノズルユニット５１と第３ノズルユニット１２１との間に、空間部１１３を形成する圧力調整ユニット１１１を備えている。

　このため、上記蒸着粒子射出ユニット３０では、第２ノズルユニット５１における蒸着ノズル５２の代わりに、第３ノズルユニット１２１における蒸着ノズル１２２が、蒸着粒子３０１を蒸着源１０の外部に射出する射出口として用いられる。

　なお、図示の便宜上、図１８および図１９では、蒸着ノズル３２・５２・１２２の数等を一部省略するとともに、各構成要素の形状を簡略化して示している。

　図１８に示す圧力調整ユニット１１１および第３ノズルユニット１２１は、第１ノズルユニット３１、圧力調整ユニット４１、第２ノズルユニット５１、圧力調整ユニット１１１、第３ノズルユニット１２１と同じく、ブロック状のユニットであり、第１ノズルユニット３１、圧力調整ユニット４１、第２ノズルユニット５１、圧力調整ユニット１１１、第３ノズルユニット１２１は、蒸着粒子拡散ユニット２０側から、この順に積層されて一体化されている。

　第３ノズルユニット１２１は、第１ノズルユニット３１および第２ノズルユニット５１と同様の構成を有している。したがって、第３ノズルユニット１２１は、ＸＹ平面を主面とする板状部材であり、例えば、平面視で、Ｘ軸方向を長軸とする矩形状（長方形状）を有している。

　このため、第３ノズルユニット１２１には、上下方向に貫通するノズル状の開口部である蒸着ノズル１２２（ノズル開口、第３の蒸着ノズル；以下、「３段目ノズル」と記す場合がある）が、Ｘ軸方向に沿って一定ピッチで複数設けられている。

　また、蒸着ノズル３２・５２と同じく、各蒸着ノズル１２２は、平面視で、Ｙ軸方向を長軸方向とする矩形状を有している。すなわち、各蒸着ノズル１２２は、平面視で、Ｙ軸方向に平行な第１辺１２２ａが長辺で、Ｘ軸方向に平行な第２辺１２２ｂを短辺とする矩形状に形成されている。

　各蒸着ノズル１２２は、平面視で、各蒸着ノズル１２２の長辺がＹ軸に平行かつ互いに対向するように設けられている。このため、Ｘ軸方向に隣り合う蒸着ノズル１２２間には、遮蔽部として、蒸着ノズル１２２のノズル壁を形成する規制板１２３（非開口部）が、Ｘ軸方向に沿って一定ピッチで複数配列されている。

　また、蒸着ノズル３２・５２同様、各蒸着ノズル１２２は、平面視で、Ｙ軸方向に平行な第１辺１２２ａの長さ（Ｙ軸方向の開口幅ｄ２１）が、各蒸着ノズル１２２のＺ軸方向に平行な第３辺１２２ｃの長さ（深さ、ノズル長ｄ２３）よりも長くなるように形成されている。このように各蒸着ノズル３２・５２・１２２、特に、最上段（最終段）の蒸着ノズル１２２が、平面視でＹ軸方向に長い開口形状を有していることで、例えば実施形態１同様、タクトタイムを早めることができる。

　送出口２６、蒸着ノズル３２、蒸着ノズル５２、および蒸着ノズル１２２は、平面視で、同一形状を有し、それぞれ、中心軸（開口中心）が一致するように互いに重畳して設けられている。

　また、圧力調整ユニット１１１は、圧力調整ユニット４１と同様の構成を有している。圧力調整ユニット１１１は、圧力調整ユニット４１と同じく枠状のブロック体である。圧力調整ユニット４１が、蒸着ノズル３２と蒸着ノズル５２とを連結する空間部４３を形成する空間形成用開口部４２を有している一方、圧力調整ユニット１１１は、蒸着ノズル５２と蒸着ノズル１２２とを連結する空間部１１３を形成する空間形成用開口部１１２を有している。

　圧力調整ユニット１１１の外壁である側壁１１４の一部には、排気口（通気口）としての開口部１１５が形成されている。これにより、圧力調整ユニット１１１の一部は、蒸着源１０の外部（すなわち、真空チャンバ内空間２ａ）に面して開口されている。このため、上記圧力調整ユニット１１１内の空間部１１３は、真空チャンバ内空間２ａと部分的に接続されることで、真空チャンバ内空間２ａに部分的に開放された閉空間を形成している。

　つまり、上記空間部１１３は、第２ノズルユニット５１および第３ノズルユニット１２１を底壁および天壁とし、四方が圧力調整ユニット１１１の側壁１１４で囲まれた構成を有し、蒸着ノズル１２２および開口部１１５でのみ、蒸着源１０の外部、すなわち、真空チャンバ内空間２ａと繋がっている。このため、開口部１１５は、閉じられた空間部１１３内の圧力を逃がす圧力調整部として機能する。

　開口部１１５は、開口部４５と同様に設計が可能である。したがって、開口部１１５は、空間部１１３における内部圧力が一定となるように設けられていることが望ましく、少なくとも１つ設けられていればよいが、少なくとも１対設けられていることが望ましい。

　また、開口部１１５は、圧力調整ユニット１１１のＸ軸方向両端側の側壁１１４（短辺側壁面）に、上記圧力調整ユニット１１１の中心点（すなわち、上記空間部１１３の中心点）を挟んで互いに対向する位置に設けられていることがより望ましい。

　なお、図１８および図１９では、開口部４５・１１５が、それぞれ、真空チャンバ内空間２ａと直接接続されるように、真空チャンバ２に直接面して形成されている場合を例に挙げて図示している。

　しかしながら、本実施形態は、これに限定されるものではなく、開口部４５・１１５は、それぞれ、実施形態１で説明したように、圧力調整弁４６（図１～図３参照）等の圧力調整器を介して真空チャンバ内空間２ａに接続されていてもよい。

　このように開口部４５・１１５に圧力調整弁４６を設けて開口部４５・１１５の開度（開口面積）の調整を行うことで、実施形態１で開口部４５に圧力調整弁４６が設けられている場合を例に挙げて説明したように、成膜レートの調整を行うことができるとともに、蒸着粒子３０１が開口部４５から排出（放出）され過ぎないようにすることができる。

　この場合、本実施形態では、成膜レート確認工程において、全ての圧力調整弁４６を閉じた状態で蒸着源１０から蒸着粒子３０１を射出することにより成膜レートを確認する。そして、成膜レート調整工程において、まず、圧力調整弁４６を開けることにより、空間部４３の圧力を、該空間部４３を挟むノズルユニットのうち蒸着粒子射出方向上流側のノズルユニットである第１ノズルユニット３１における蒸着ノズル３２内の圧力よりも低下させるとともに、空間部１１３の圧力を、該空間部１１３を挟むノズルユニットのうち蒸着粒子射出方向上流側のノズルユニットである第２ノズルユニット５１における蒸着ノズル５２内の圧力よりも低下させる。その後、被成膜基板２００に成膜される蒸着膜３０２の膜厚分布を確認しながら蒸着源１０から蒸着粒子３０１を射出することにより成膜レートを調整する。

　なお、開口部４５・１１５あるいは圧力調整弁４６から蒸着源１０の外部に放出された蒸着粒子３０１は、本実施形態でも、蒸着粒子回収部材１４によって回収される。

　また、本実施形態でも、蒸着源１０は、実施形態１同様、蒸着材料が気体になる温度以上の温度に加熱されていることが望ましい。

　このため、圧力調整ユニット１１１および第３ノズルユニット１２１は、配管１２、蒸着粒子拡散ユニット２０、第１ノズルユニット３１、圧力調整ユニット４１、および第２ノズルユニット５１と同じく、図示しない加熱体（ヒータ）により、好ましくは、蒸着材料が気体になる温度よりも５０℃以上高い温度（例えば４００℃）に加熱されていることが望ましい。

　本実施形態では、蒸着粒子拡散ユニット２０から蒸着粒子射出ユニット３０に供給された蒸着粒子３０１のうち、開口部４５・１１５から外部に放出される蒸着粒子３０１以外の蒸着粒子３０１は、蒸着ノズル３２から空間部４３を経て蒸着ノズル５２に入射し、蒸着ノズル５２から空間部１１３を経て蒸着ノズル１２２を通過することで、蒸着源１０から射出される。

　蒸着粒子射出ユニット３０では、第１ノズルユニット３１、第２ノズルユニット５１、および第３ノズルユニット１２１の法線方向（すなわち、Ｚ軸方向）における、各蒸着ノズル３２・５２・１２２の物理的なノズル長ｄ３・ｄ１３・ｄ２３によって、蒸着粒子３０１の直線性を改善する。

　このとき、上記蒸着源１０には、上記蒸着ノズル３２と蒸着ノズル５２との間に空間部４３が設けられ、上記蒸着ノズル５２と蒸着ノズル１２２との間に空間部１１３が設けられているとともに、これら空間部４３・１１３と、真空空間である真空チャンバ内空間２ａとを繋ぐ接続口となる開口部４５・１１５が設けられていることで、上記空間部４３・１１３の圧力が自ずと低下する。

　この結果、蒸着粒子射出ユニット３０内の圧力は、蒸着粒子３０１の入口側となる蒸着粒子発生部側（蒸着源本体１３で言えば蒸着粒子拡散ユニット２０側）ほど高く、蒸着粒子３０１の外部（つまり、真空チャンバ内空間２ａ）への出口（射出口）側ほど低くなる。このため、本実施形態では、蒸着粒子射出ユニット３０の物理的な構造から、物理現象的に、蒸着粒子拡散ユニット２０内の圧力および蒸着ノズル３２内の圧力＞空間部４３内の圧力＞蒸着ノズル５２内の圧力＞空間部１１３内の圧力＞蒸着ノズル１２２内の圧力＞真空チャンバ内空間２ａの圧力となり、この関係は、常に保持される。

　これにより、上記空間部４３では、蒸着粒子３０１の入口側である蒸着ノズル３２内よりも圧力が低く、蒸着粒子３０１の出口側である蒸着ノズル５２内よりも圧力が高くなっているため、蒸着ノズル５２への蒸着粒子３０１の出口部分での蒸着粒子３０１の散乱が抑えられる。

　さらに、上記空間部１１３では、蒸着粒子３０１の入口側である蒸着ノズル５２内よりも圧力が低く、蒸着粒子３０１の出口側である蒸着ノズル１２２内よりも圧力が高くなっているため、蒸着ノズル１２２への蒸着粒子３０１の出口部分での蒸着粒子３０１の散乱が抑えられる。

　この結果、上記蒸着源１０によれば、蒸着粒子３０１の最終的な出口（射出口）での蒸着粒子３０１の散乱が抑制されるため、無駄な蒸着粒子３０１が少なくなり、所定の方向の成膜に寄与する蒸着粒子３０１の成分を多くすることが可能となる。

　なお、本実施形態でも、蒸着粒子拡散ユニット２０内の圧力は、数Ｐａであることが好ましく、空間部４３・１１３内の圧力は１×１０^－１Ｐａ～１×１０^－３Ｐａであることが好ましく、真空チャンバ内空間２ａの圧力は１×１０^－３Ｐａ以下（但し、空間部４３内の圧力＞空間部１１３内の圧力＞真空チャンバ内空間２ａの圧力）であることが好ましい。

　また、蒸着ノズル３２の出口と入口との圧力差は、１０～１０００倍の範囲内であることが好ましく、２段目以降の蒸着ノズルの出口と入口との圧力差、例えば、蒸着ノズル５２の出口と入口との圧力差および蒸着ノズル１２２の出口と入口との圧力差は、１０～１００倍の範囲内であることが望ましい。なお、蒸着粒子射出ユニット３０内の圧力は、上述したように蒸着粒子射出方向上流側ほど高く、蒸着粒子射出口下流側ほど低くなり、ノズルユニットの段数を多くすればするほど、蒸着粒子３０１の真空チャンバ内空間２ａへの出口（射出口）での圧力と真空チャンバ内空間２ａの圧力との差がなくなる。このため、２段目以降の蒸着ノズルの出口と入口との圧力差は、蒸着粒子射出口下流側の蒸着ノズルほど蒸着ノズルの出口と入口との圧力差が小さくなる。

　また、開口部１１５は、圧力調整ユニット１１１の側壁１１４の一部に設けられていればよく、前述したように開口部４５と同様に設計が可能である。

　実施形態１で説明したように、各ノズルユニット間の空間部に設けられた、真空チャンバ内空間２ａとの接続口である開口部の総開口面積は、該空間部の次段（すなわち、該空間部を挟むノズルユニットのうち蒸着粒子射出方向下流側）に位置するノズルユニットにおける各蒸着ノズルの開口面積に対し、十分小さいことが望ましく、上記蒸着ノズルの開口面積の１／１０以下であることが好ましい。なお、上述したように空間部が複数ある場合でも、空間部を挟むノズルユニットとは、該空間部を挟む２つのノズルユニット、つまり、それぞれの空間部を直接挟むノズルユニットを示す。

　このため、本実施形態では、開口部４５の合計の開口面積（総開口面積）は、各蒸着ノズル５２の開口面積に対し、十分小さいことが望ましく、各蒸着ノズル５２（つまり、１つの蒸着ノズル５２）の開口面積の１／１０以下であることが好ましい。

　また、開口部１１５の合計の開口面積（総開口面積）は、各蒸着ノズル１２２の開口面積に対し、十分小さいことが望ましく、各蒸着ノズル１２２（つまり、１つの蒸着ノズル１２２）の開口面積の１／１０以下であることが好ましい。

　このため、開口部４５・１１５は、上記条件を満たす範囲内で、同じ大きさの開口部４５・１１５を同じ数だけ設けてもよいが、蒸着粒子３０１の外部への射出口（粒子放出口）に、より近い（つまり、蒸着粒子射出方向下流側の）開口部１１５を、上記範囲内で、開口部４５よりも大きく形成するか、もしくは、開口部１１５を、開口部４５よりも多く形成してもよい。

　この理由としては、蒸着粒子射出ユニット３０は、蒸着粒子射出口下流側の空間部の圧力の方が蒸着粒子射出口上流側の空間部の圧力よりも低くなるように形成される必要があるとともに、各段の蒸着ノズルにより、蒸着粒子射出口下流側ほど蒸着粒子３０１がコリメート化されるため、蒸着粒子射出口下流側の空間部ほど、該空間部に設けられた開口部から、排気に伴って蒸着粒子３０１が放出される（漏れ出る）割合が少なくなるためである。

　＜効果＞
　以下に、本実施形態にかかる蒸着源１０の効果について、膜厚分布の測定結果を用いて、具体的に説明する。

　（膜厚分布の測定条件）
　なお、以下では、上述したように、蒸着粒子射出ユニット３０における最上段に、第１ノズルユニット３１および第２ノズルユニット５１と同じ構成を有する第３ノズルユニット１２１を設けるとともに、第２ノズルユニット５１と第３ノズルユニット１２１との間に、圧力調整ユニット４１と同じ構成を有する圧力調整ユニット１１１を設けた以外は、実施形態１と同様にして膜厚分布を測定した。

　したがって、本実施形態で測定に使用した蒸着源１０における蒸着ノズル３２・５２・１２２のＹ軸方向に平行な第１辺３２ａ・５２ａ・１２２ａの長さ（Ｙ軸方向の開口幅ｄ１・ｄ１１・ｄ２１）は、それぞれ６０ｍｍとした。また、蒸着ノズル３２・５２・１２２のＸ軸方向に平行な第２辺３２ｂ・５２ｂ・１２２ｂの長さ（Ｘ軸方向の開口幅ｄ２・ｄ１２・ｄ２２）はそれぞれ３ｍｍとした。これにより、各蒸着ノズル３２・５２・１２２の開口面積は、１８０ｍｍ^２とした。蒸着ノズル３２・５２・１２２のＺ軸方向に平行な第３辺３２ｃ・５２ｃ・１２２ｃの長さ（深さ、ノズル長ｄ３・ｄ１３・ｄ２３）はそれぞれ６０ｍｍとした。

　また、空間部４３・１１３における、Ｚ軸方向の高さ（すなわち、蒸着ノズル３２・５２間の距離および蒸着ノズル５２・１２２管の距離）はそれぞれ３０ｍｍとし、Ｘ軸方向の長さはそれぞれ１８０ｍｍとし、Ｙ軸方向の長さはそれぞれ１００ｍｍとした。また、開口部４５の大きさを２ｍｍ×４ｍｍ（Ｚ軸方向に平行な辺の長さ×Ｙ軸方向に平行な辺の長さ）とし、開口部１１５の大きさを２ｍｍ×４ｍｍ（Ｚ軸方向に平行な辺の長さ×Ｙ軸方向に平行な辺の長さ）とすることで、開口部４５の総開口面積（すなわち、各開口部４５の開口面積の合計の開口面積）を１６ｍｍ^２、開口部１１５の総開口面積（すなわち、各開口部１１５の開口面積の合計の開口面積）を１６ｍｍ^２とした。このように、本実施形態でも、空間部４３における開口部４５の総開口面積を、該空間部４３を挟むノズルユニットのうち蒸着粒子射出方向下流側の第２ノズルユニット５１の各蒸着ノズル５２の開口面積（１８０ｍｍ^２）の１／１０以下とした。また、空間部１１３における開口部１１５の総開口面積を、該空間部１１３を挟むノズルユニットのうち蒸着粒子射出方向下流側の第３ノズルユニット１２１の各蒸着ノズル１２２の開口面積（１８０ｍｍ^２）の１／１０以下とした。

　（膜厚分布の測定結果）
　図２０は、本実施形態にかかる蒸着源１０の効果を示すグラフである。

　図２０中、太線で示すグラフは、本実施形態にかかる蒸着源１０を用いて被成膜基板２００上に蒸着膜３０２を形成した場合における、被成膜基板２００のＸ軸方向断面での、１つの蒸着ノズル５２の膜厚分布性能（すなわち、ｃｏｓ^ｎ＋３値と蒸着源距離との関係）を示している。また、ｃｏｓ^ｎ＋３値は、被成膜基板２００における、成膜された蒸着膜３０２の最大値を１として規格化した値である。

　したがって、図２０において上記太線で示すグラフは、図１８にＡで示す、蒸着源１０から外部に射出された蒸着粒子３０１によって成膜される蒸着膜３０２のＸ軸方向の膜厚分布を規格化したときのグラフである。但し、本実施形態では、蒸着源１０から外部に射出された蒸着粒子３０１は、実施形態１～４とは異なり、蒸着ノズル３２（１段目ノズル）および蒸着ノズル５２（２段目ノズル）通過後に蒸着ノズル１２２（３段目ノズル）を通過した蒸着粒子３０１となる。

　また、図２０で、点線で示すグラフは、蒸着ノズルが１段のみ（具体的には、蒸着ノズル３２のみ）設けられている蒸着源１０を用いて被成膜基板２００上に蒸着膜３０２を形成した場合における、被成膜基板２００のＸ軸方向断面での、１つの蒸着ノズル３２の膜厚分布性能を示している。

　すなわち、図２０において上記点線で示すグラフは、図１８にＢで示す、蒸着ノズル３２（１段目ノズル）を通過した蒸着粒子３０１によって成膜される蒸着膜３０２のＸ軸方向の膜厚分布を規格化したときのグラフである。

　本実施形態によれば、実施形態１よりもノズル部の段数を増加させることで、上記蒸着粒子射出ユニット３０における蒸着粒子３０１が射出される最終段での、蒸着ノズル１２２における蒸着粒子３０１の外部への出口（射出口）となる部分と真空チャンバ内空間２ａとの圧力差をより小さくすることができ、蒸着粒子３０１の散乱をより抑制することができる。つまり、蒸着粒子３０１の平行性をより高めながら、蒸着源１０における、蒸着粒子３０１の外部への出口（射出口）部分（出口近傍）の圧力を真空チャンバ内空間２ａの圧力により近づけることができる。

　このため、本実施形態によれば、図２０に示すように、実施形態１において図６に太線で示すよりも、Ｘ軸方向の膜厚分布をよりシャープにすることができる。

　なお、本実施形態でも、各蒸着ノズル３２・５２・１２２が、平面視でＹ軸方向に長い矩形状を有していることで、蒸着ノズル１２２から射出された蒸着粒子３０１によって成膜される蒸着膜３０２の膜厚分布は、実施形態１と同じく、長辺方向はブロードな膜厚分布となる。しかしながら、実施形態１と同じく、Ｙ軸方向は成膜方向となるため、Ｙ軸方向に散乱する蒸着粒子３０１は、成膜に寄与する。このため、Ｙ軸方向の膜厚分布は、ブロードであっても、Ｘ軸方向における膜厚分布ほど問題とはならない。

　Ｙ軸方向の膜厚分布をシャープにするには、実施形態２～４における蒸着源１０を使用すればよく、実施形態２～４における蒸着源１０において、本実施形態のようにノズル部の段数を増加させることで、実施形態２～４において蒸着粒子３０１の平行性をより高めながら、蒸着源１０における、蒸着粒子３０１の外部への出口（射出口）部分（出口近傍）の圧力を真空チャンバ内空間２ａの圧力により近づけることができる。

　なお、本実施形態では、実施形態１において図１～図３に示す蒸着装置１００との相異点を例に挙げて説明したが、本実施形態でも、実施形態１～４と同様の変形を行ってもよいことは、言うまでもない。

　〔まとめ〕
　本発明の態様１にかかる蒸着源１０は、蒸着材料を加熱して気体状の蒸着粒子３０１を発生させる蒸着粒子発生部（蒸着粒子発生ユニット１１）と、上記蒸着粒子発生部で発生させた蒸着粒子３０１を射出する蒸着粒子射出部（蒸着粒子射出ユニット３０）と、を備え、少なくとも上記蒸着粒子射出部は真空チャンバ２内（真空チャンバ内空間２ａ）に配置されるとともに、上記蒸着粒子射出部は、それぞれ少なくとも１つの蒸着ノズル（例えば蒸着ノズル３２・５２・１２２）を有し、垂直方向に互いに離間して積層された複数段の蒸着ノズル部（例えば第１ノズルユニット３１、第２ノズルユニット５１、第３ノズルユニット１２１）と、上記複数段の蒸着ノズル部における各段の蒸着ノズル間に設けられた、少なくとも１つの空間部（例えば空間部４３、空間部１１３）と、を備え、上記空間部は、その四方が、上記空間部と上記真空チャンバ２内の空間（真空チャンバ内空間２ａ）とを繋ぐ開口部（例えば開口部４５、開口部１１５）が少なくとも１つ設けられた外壁（側壁４４、側壁１１４）で囲まれている。

　上記の構成によれば、上記各段の蒸着ノズル間に設けられた、四方が外壁で囲まれた空間部に、該空間部と、真空空間（減圧空間）である、真空チャンバ２内の空間（すなわち、真空チャンバ内空間２ａ）とを繋ぐ開口部が設けられていることで、上記空間部の圧力が自ずと低下する。

　この結果、上記蒸着粒子射出部内の圧力は、蒸着粒子３０１の入口側（上記蒸着粒子発生部側）ほど高く、蒸着粒子３０１の外部（つまり、真空チャンバ内空間２ａ）への出口（射出口）側ほど低くなる。

　このため、上記の構成によれば、蒸着粒子射出方向下流側に位置する蒸着ノズル部における蒸着ノズルの出口における上記真空チャンバ内空間２ａとの圧力差を小さくすることができ、上記出口での蒸着粒子３０１の散乱を抑制することができる。この結果、所望の射出方向に効率的に蒸着粒子３０１を射出することができる。

　したがって、上記蒸着源１０を用いることで、上記蒸着粒子３０１の指向性を向上させることができ、従来よりも材料利用効率を向上させることができる。

　本発明の態様２にかかる蒸着源１０は、上記態様１において、上記各段の蒸着ノズル部における蒸着ノズルは、それぞれ、平面視で一対の長辺および一対の短辺からなる矩形状を有し、それぞれの長辺および短辺の向きが一致するように重畳して設けられていてもよい。

　上記の構成によれば、上記蒸着粒子３０１によって成膜される蒸着膜３０２における、特に上記短辺方向の膜厚分布を絞ることができる。このため、上記短辺方向の膜厚分布がシャープな蒸着膜３０２を成膜することができる。

　したがって、上記長辺方向を走査方向としてスキャン蒸着を行うことで、高精細な蒸着膜３０２を成膜することができる。

　本発明の態様３にかかる蒸着源１０は、上記態様２において、上記各段の蒸着ノズル部における蒸着ノズルの上記長辺は、上記蒸着ノズルの垂直方向のノズル長よりも長くてもよい。

　スキャン蒸着を行う場合、スキャン方向における蒸着ノズルの開口幅を長くすることで、タクトタイムを早めることができる。したがって、上記の構成によれば、上記長辺の方向を走査方向としてスキャン蒸着を行うことで、タクトタイムを早めることができる。

　本発明の態様４にかかる蒸着源１０は、上記態様１において、上記複数段の蒸着ノズル部は、第１の蒸着ノズル部（第１ノズルユニット３１）と、上記空間部を挟んで上記第１の蒸着ノズル部上に積層された第２の蒸着ノズル部（第２ノズルユニット５１）と、を含む少なくとも２段の蒸着ノズル部を備え、上記第１の蒸着ノズル部および上記第２の蒸着ノズル部における蒸着ノズル（蒸着ノズル３２・５２）は、それぞれ、平面視で一対の長辺および一対の短辺からなる矩形状を有し、それぞれの長辺および短辺の向きが直交するように一部重畳して設けられていてもよい。

　矩形状の蒸着ノズルを使用する場合、特に、短辺方向においてシャープな膜厚分布を実現することができる。このため、上述したように上記第１の蒸着ノズル部における蒸着ノズルの配設方向と上記第２の蒸着ノズル部における蒸着ノズルの配設方向とを９０度変えて、上記空間部を介して重ねて積層することで、角状や四角柱状のシャープな膜厚分布を得ることができる。

　本発明の態様５にかかる蒸着源１０は、上記態様４において、上記第２の蒸着ノズル部における蒸着ノズルの上記長辺は、該蒸着ノズルの垂直方向のノズル長よりも長くてもよい。

　スキャン蒸着を行う場合、走査方向に直交する方向への蒸着粒子３０１の拡がりをできるだけ抑えるためには、蒸着粒子射出方向下流側の蒸着ノズル部の蒸着ノズルが、走査方向に長い形状を有していることが望ましい。また、スキャン蒸着を行う場合、スキャン方向における蒸着ノズルの開口幅を長くすることで、タクトタイムを早めることができる。

　したがって、上記の構成によれば、上記第２の蒸着ノズル部における蒸着ノズルの長辺方向を走査方向としてスキャン蒸着を行うことで、走査方向に直交する方向への蒸着粒子３０１の拡がりを抑えることができるとともに、タクトタイムを早めることができる。

　本発明の態様６にかかる蒸着源１０は、上記態様１において、上記複数段の蒸着ノズル部は、平面視で一対の長辺および一対の短辺からなる矩形状の蒸着ノズルを有する蒸着ノズル部と、上記蒸着ノズルに重畳する、平面視で正方形状の蒸着ノズルを有する蒸着ノズル部と、を備えていてもよい。

　上記の構成によれば、上記短辺の方向の膜厚分布が、各段の蒸着ノズル部の蒸着ノズルが何れも平面視で矩形状の開口形状を有する場合における蒸着ノズルの短辺の方向の膜厚分布よりは、若干広がった分布となるものの、上記長辺の方向および上記短辺の方向ともに、シャープな膜厚分布を実現することができる。加えて、上記の構成によれば、各段の蒸着ノズル部の蒸着ノズルが、何れも平面視で矩形状の開口形状を有する場合よりも成膜効率を高めることができる。

　本発明の態様７にかかる蒸着源１０は、上記態様６において、上記平面視で一対の長辺および一対の短辺からなる矩形状の蒸着ノズルの上記長辺は、該蒸着ノズルの垂直方向のノズル長よりも長くてもよい。

　スキャン蒸着を行う場合、スキャン方向における蒸着ノズルの開口幅を長くすることで、タクトタイムを早めることができる。したがって、上記の構成によれば、上記長辺の方向を走査方向としてスキャン蒸着を行うことで、タクトタイムを早めることができる。

　本発明の態様８にかかる蒸着源１０は、上記態様１において、上記各段の蒸着ノズル部における蒸着ノズルは、それぞれ平面視で正方形状を有し、互いに重畳して設けられていてもよい。

　上記の構成によれば、上記各辺の方向で膜厚分布を複数回絞ることができる。このため、上記の構成によれば、平面視で矩形状の開口形状を有する蒸着ノズルを有する蒸着ノズル部を設ける場合と比較してスキャン蒸着を行う場合のタクトタイムが遅くなるものの、平面視で矩形状の開口形状を有する蒸着ノズルを有する蒸着ノズル部を設ける場合よりも指向性を向上させることができ、膜厚分布の広がりを抑えることができる。

　本発明の態様９にかかる蒸着源１０は、上記態様１～８の何れかにおいて、上記各段の蒸着ノズル部には、上記蒸着ノズルが複数、平面視で第１方向に配列して設けられていてもよい。

　上記の構成によれば、１つの蒸着源１０で、上記蒸着源による蒸着対象物（具体的には、被成膜基板２００）に対し、上記第１方向に複数の蒸着膜３０２を形成することができる。このため、上記蒸着対象物が例えば大型である場合でも、効率良く蒸着膜３０２を成膜することができる。

　本発明の態様１０にかかる蒸着源１０は、上記態様１～９の何れかにおいて、上記開口部は、上記外壁における、上記空間部の中心点を挟んで、互いに対向する位置に設けられていてもよい。

　上記の構成によれば、上記空間部における内部圧力を一定とすることができる。

　本発明の態様１１にかかる蒸着源１０は、上記態様１～１０の何れかにおいて、上記１つの空間部における開口部の総開口面積が、該空間部を直接挟む２つの蒸着ノズル部のうち蒸着粒子射出方向下流側の蒸着ノズル部における１つの蒸着ノズル（蒸着ノズル５２あるいは蒸着ノズル１２２）の開口面積の１／１０以下であってもよい。

　上記開口部は、上記空間部を囲む外壁の一部に設けられていればよいが、上記開口部の大きさが大きすぎると、上記空間部の次段（すなわち、該空間部を直接挟む２つの蒸着ノズル部のうち蒸着粒子射出方向下流側）の蒸着ノズル部の蒸着ノズルから放出される蒸着粒子３０１が少なくなる。このため、上記開口部の総開口面積は、上記空間部を直接挟む２つの蒸着ノズル部のうち蒸着粒子射出方向下流側の蒸着ノズル部における１つの蒸着ノズルの開口面積に対し、十分小さいことが望ましく、上記範囲内に設定されていることが望ましい。

　本発明の態様１２にかかる蒸着源１０は、上記態様１～１１の何れかにおいて、上記開口部に圧力調整弁４６が設けられていてもよい。

　上記の構成によれば、成膜レートの調整を行うことができるとともに、蒸着粒子３０１が開口部から放出され過ぎないようにすることができる。

　本発明の態様１３にかかる蒸着源１０は、上記態様１～１２の何れかにおいて、上記蒸着ノズル部は２段設けられており、下段側の蒸着ノズル部における出口と入口との圧力差は、１０～１０００倍の範囲内であり、上段側の蒸着ノズル部における出口と入口との圧力差は、１０～１００倍の範囲内であってもよい。

　各段の蒸着ノズル３２・５２の出口と入口とで圧力差が大きいと、蒸着粒子３０１の散乱が多くなる傾向がある。このため、上記下段側の蒸着ノズル３２の出口と入口との圧力差および上記上段側の蒸着ノズル５２の出口と入口との圧力差は、上記範囲内であることが望ましい。

　本発明の態様１４にかかる蒸着源１０は、上記態様１～１３の何れかにおいて、上記蒸着粒子発生部で発生させた蒸着粒子を拡散して上記蒸着粒子射出部に供給する蒸着粒子拡散部（蒸着粒子拡散ユニット２０）をさらに備えていてもよい。

　上記の構成によれば、上記蒸着粒子射出部における最上段の蒸着ノズル部の蒸着ノズルから蒸着粒子３０１を均一に射出することができる。

　本発明の態様１５にかかる蒸着源１０は、上記態様１～１４の何れかにおいて、上記真空チャンバ２内の圧力は、１．０×１０^－３Ｐａ以下であってもよい。

　真空チャンバ２内の圧力が低すぎる（具体的には、真空チャンバ２内の圧力が１．０×１０^－３Ｐａを越える）と、蒸着粒子３０１の平均自由工程が短くなり、蒸着粒子３０１が散乱されて、被成膜基板２００への到達効率が低下したり、コリメート成分が少なくなったりするおそれがある。このため、真空チャンバ２内の圧力は、１．０×１０^－３Ｐａ以下であることが望ましい。

　本発明の態様１６にかかる蒸着装置１００は、被成膜基板２００に所定のパターンの蒸着膜３０２を成膜する蒸着装置であって、上記態様１～１５の何れかにおける蒸着源を含む蒸着ユニット１と、上記蒸着ユニット１における少なくとも上記蒸着粒子射出部を、内部に減圧雰囲気下で保持する上記真空チャンバ２と、を備えている。

　したがって、上記蒸着装置１００を用いることで、上記態様１と同様の効果を得ることができる。

　本発明の態様１７にかかる蒸着装置１００は、上記態様１６において、上記開口部から上記真空チャンバ２内（真空チャンバ内空間２ａ）に放出された蒸着粒子３０１を回収する蒸着粒子回収部材１４をさらに備えていてもよい。

　上記の構成によれば、上記開口部から放出された、成膜に寄与しない蒸着粒子３０１を回収して再利用することができる。

　本発明の態様１８にかかる蒸着膜製造方法は、蒸着材料を加熱して気体状の蒸着粒子３０１を発生させる蒸着粒子発生部（蒸着粒子発生ユニット１１）と、上記蒸着粒子発生部で発生させた蒸着粒子３０１を射出する蒸着粒子射出部（蒸着粒子射出ユニット３０）と、を備え、少なくとも上記蒸着粒子射出部は真空チャンバ２内（真空チャンバ内空間２ａ）に配置されるとともに、上記蒸着粒子射出部は、それぞれ少なくとも１つの蒸着ノズル（例えば蒸着ノズル３２・５２）を有し、垂直方向に互いに離間して積層された複数段の蒸着ノズル部（例えば第１ノズルユニット３１、第２ノズルユニット５１）と、上記複数段の蒸着ノズル部における各段の蒸着ノズル間に設けられた、少なくとも１つの空間部と、を備え、上記空間部は、その四方が、上記空間部と上記真空チャンバ２内の空間（真空チャンバ内空間２ａ）とを繋ぐ開口部が少なくとも１つ設けられた外壁（側壁４４）で囲まれている蒸着源１０を含む蒸着ユニット１と、上記蒸着ユニット１における少なくとも上記蒸着粒子射出部を、内部に減圧雰囲気下で保持する真空チャンバ２と、を備えた蒸着装置１００を用いて、被成膜基板２００に蒸着膜３０２を成膜する蒸着膜製造方法であって、減圧雰囲気下で、上記蒸着源１０から上記蒸着粒子３０１を射出させる蒸着粒子射出工程と、上記被成膜基板２００の被成膜領域２０２に上記蒸着粒子３０１を被着させる被着工程と、を含んでいてもよい。

　上記蒸着膜製造方法を用いて蒸着膜３０２を成膜することで、上記態様１と同様の効果を得ることができる。

　本発明の態様１９にかかる蒸着膜製造方法は、上記態様１８において、上記開口部には圧力調整弁４６が設けられており、上記蒸着粒子射出工程は、上記圧力調整弁４６を閉じた状態で上記蒸着粒子３０１を射出して成膜レートを確認する成膜レート確認工程と、上記成膜レート確認工程の後で、上記圧力調整弁４６を開き、上記空間部の圧力を、上記空間部を挟む蒸着ノズル部のうち蒸着粒子射出方向上流側の蒸着ノズル部における蒸着ノズル内の圧力よりも低下させた後（例えば、空間部４３の圧力を蒸着ノズル３２内の圧力よりも低下させ、空間部１１３の圧力を蒸着ノズル１２２内の圧力よりも低下させた後）、上記被成膜基板２００に成膜される蒸着膜３０２の膜厚分布を確認しながら上記蒸着粒子３０１を射出して成膜レートを調整する成膜レート調整工程と、を含んでいてもよい。

　上記の方法によれば、膜厚分布を確認しながら成膜レートを調整することができる。したがって、両者のバランスをとることができ、成膜レートの低下を抑制しながら、シャープな膜厚分布を実現することができる。

　本発明の態様２０にかかる蒸着膜製造方法は、上記態様１８または１９において、上記各段の蒸着ノズル部には、上記蒸着ノズルが複数、平面視で第１方向に配列して設けられており、上記被着工程では、上記蒸着ユニット１および上記被成膜基板２００のうち少なくとも一方を、平面視で上記第１方向に直交する第２方向に相対移動させながら蒸着を行ってもよい。

　上記の方法によれば、大型の被成膜基板２００に対しても、効率良く蒸着膜３０２を成膜することができる。

　本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。

　本発明の蒸着源および蒸着装置並びに蒸着膜製造方法は、有機ＥＬ表示装置または無機ＥＬ表示装置等のＥＬ表示装置の製造をはじめとする、蒸着を利用した各種デバイスの製造等に好適に利用することができる。

　　１　　蒸着ユニット
　　２　　真空チャンバ
　　２ａ　真空チャンバ内空間
　　３　　基板搬送装置
　　４　　真空ポンプ
　１０　　蒸着源
　１０Ａ、３２、５２、１２２　　蒸着ノズル
　１１　　蒸着粒子発生ユニット（蒸着粒子発生部）
　１３　　蒸着源本体
　１４　　蒸着粒子回収部材
　２０　　蒸着粒子拡散ユニット（蒸着粒子拡散部）
　２１　　蒸着粒子拡散室
　２２　　蒸着粒子導入口
　２４　　周面
　２５　　円筒軸
　２６　　送出口
　３０　　蒸着粒子射出ユニット（蒸着粒子射出部）
　３１　　第１ノズルユニット（蒸着ノズル部、第１の蒸着ノズル部）
　３２ａ、５２ａ、１２２ａ　　第１辺
　３２ｂ、５２ｂ、１２２ｂ　　第２辺
　３２ｃ、５２ｃ、１２２ｃ　　第３辺
　３３、５３、１２３　　規制板
　４１、１１１　　圧力調整ユニット
　４２、１１２　　空間形成用開口部
　４３、１１３　　空間部
　４４、１１４　　側壁（外壁）
　４５、１１５　　開口部
　４６　　圧力調整弁
　４６ａ、４６ｂ　　開口端
　５１　　第２ノズルユニット（第２の蒸着ノズル部）
　６０　　シャッタ
　７０　　制限板ユニット
　７１　　制限板開口
　７２　　制限板
　８０　　蒸着マスク
　８１　　マスク開口
　８２　　非開口部
１００　　蒸着装置
１２１　　第３ノズルユニット（第３の蒸着ノズル部）
２００　　被成膜基板
２０１　　被成膜面
２０２　　被成膜領域
２０３　　非成膜領域
３００　　蒸着材料
３０１　　蒸着粒子
３０２　　蒸着膜

Claims (18)

1. 　蒸着材料を加熱して気体状の蒸着粒子を発生させる蒸着粒子発生部と、
   　上記蒸着粒子発生部で発生させた蒸着粒子を射出する蒸着粒子射出部と、を備え、
   　少なくとも上記蒸着粒子射出部は真空チャンバ内に配置されるとともに、
   　上記蒸着粒子射出部は、
   　それぞれ少なくとも１つの蒸着ノズルを有し、垂直方向に互いに離間して積層された複数段の蒸着ノズル部と、
   　上記複数段の蒸着ノズル部における各段の蒸着ノズル間に設けられた、少なくとも１つの空間部と、を備え、
   　上記空間部は、その四方が、上記空間部と上記真空チャンバ内の空間とを繋ぐ開口部が少なくとも１つ設けられた外壁で囲まれていることを特徴とする蒸着源。
2. 　上記各段の蒸着ノズル部における蒸着ノズルは、それぞれ、平面視で一対の長辺および一対の短辺からなる矩形状を有し、それぞれの長辺および短辺の向きが一致するように重畳して設けられていることを特徴とする請求項１に記載の蒸着源。
3. 　上記各段の蒸着ノズル部における蒸着ノズルの上記長辺は、上記蒸着ノズルの垂直方向のノズル長よりも長いことを特徴とする請求項２に記載の蒸着源。
4. 　上記複数段の蒸着ノズル部は、第１の蒸着ノズル部と、上記空間部を挟んで上記第１の蒸着ノズル部上に積層された第２の蒸着ノズル部と、を含む少なくとも２段の蒸着ノズル部を備え、
   　上記第１の蒸着ノズル部および上記第２の蒸着ノズル部における蒸着ノズルは、それぞれ、平面視で一対の長辺および一対の短辺からなる矩形状を有し、それぞれの長辺および短辺の向きが直交するように一部重畳して設けられていることを特徴とする請求項１に記載の蒸着源。
5. 　上記第２の蒸着ノズル部における蒸着ノズルの上記長辺は、該蒸着ノズルの垂直方向のノズル長よりも長いことを特徴とする請求項４に記載の蒸着源。
6. 　上記複数段の蒸着ノズル部は、平面視で一対の長辺および一対の短辺からなる矩形状の蒸着ノズルを有する蒸着ノズル部と、上記蒸着ノズルに重畳する、平面視で正方形状の蒸着ノズルを有する蒸着ノズル部と、を備えていることを特徴とする請求項１に記載の蒸着源。
7. 　上記各段の蒸着ノズル部における蒸着ノズルは、それぞれ平面視で正方形状を有し、互いに重畳して設けられていることを特徴とする請求項１に記載の蒸着源。
8. 　上記各段の蒸着ノズル部には、上記蒸着ノズルが複数、平面視で第１方向に配列して設けられていることを特徴とする請求項１～７の何れか１項に記載の蒸着源。
9. 　上記開口部は、上記外壁における、上記空間部の中心点を挟んで、互いに対向する位置に設けられていることを特徴とする請求項１～８の何れか１項に記載の蒸着源。
10. 　上記１つの空間部における開口部の総開口面積が、該空間部を直接挟む２つの蒸着ノズル部のうち蒸着粒子射出方向下流側の蒸着ノズル部における１つの蒸着ノズルの開口面積の１／１０以下であることを特徴とする請求項１～９の何れか１項に記載の蒸着源。
11. 　上記開口部に圧力調整弁が設けられていることを特徴とする請求項１～１０の何れか１項に記載の蒸着源。
12. 　上記蒸着ノズル部は２段設けられており、下段側の蒸着ノズル部における出口と入口との圧力差は、１０～１０００倍の範囲内であり、上段側の蒸着ノズル部における出口と入口との圧力差は、１０～１００倍の範囲内であることを特徴とする請求項１～１１の何れか１項に記載の蒸着源。
13. 　上記蒸着粒子発生部で発生させた蒸着粒子を拡散して上記蒸着粒子射出部に供給する蒸着粒子拡散部をさらに備えていることを特徴とする請求項１～１２の何れか１項に記載の蒸着源。
14. 　被成膜基板に所定のパターンの蒸着膜を成膜する蒸着装置であって、
    　請求項１～１３の何れか１項に記載の蒸着源を含む蒸着ユニットと、
    　上記蒸着ユニットにおける少なくとも上記蒸着粒子射出部を、内部に減圧雰囲気下で保持する上記真空チャンバと、を備えていることを特徴とする蒸着装置。
15. 　上記開口部から上記真空チャンバ内に放出された蒸着粒子を回収する蒸着粒子回収部材をさらに備えていることを特徴とする請求項１４に記載の蒸着装置。
16. 　蒸着材料を加熱して気体状の蒸着粒子を発生させる蒸着粒子発生部と、上記蒸着粒子発生部で発生させた蒸着粒子を射出する蒸着粒子射出部と、を備え、少なくとも上記蒸着粒子射出部は真空チャンバ内に配置されるとともに、上記蒸着粒子射出部は、それぞれ少なくとも１つの蒸着ノズルを有し、垂直方向に互いに離間して積層された複数段の蒸着ノズル部と、上記複数段の蒸着ノズル部における各段の蒸着ノズル間に設けられた、少なくとも１つの空間部と、を備え、上記空間部は、その四方が、上記空間部と上記真空チャンバ内の空間とを繋ぐ開口部が少なくとも１つ設けられた外壁で囲まれている蒸着源を含む蒸着ユニットと、上記蒸着ユニットにおける少なくとも上記蒸着粒子射出部を、内部に減圧雰囲気下で保持する真空チャンバと、を備えた蒸着装置を用いて、被成膜基板に蒸着膜を成膜する蒸着膜製造方法であって、
    　減圧雰囲気下で、上記蒸着源から上記蒸着粒子を射出させる蒸着粒子射出工程と、
    　上記被成膜基板の被成膜領域に上記蒸着粒子を被着させる被着工程と、を含むことを特徴とする蒸着膜製造方法。
17. 　上記開口部には圧力調整弁が設けられており、
    　上記蒸着粒子射出工程は、
    　上記圧力調整弁を閉じた状態で上記蒸着粒子を射出して成膜レートを確認する成膜レート確認工程と、
    　上記成膜レート確認工程の後で、上記圧力調整弁を開き、上記空間部の圧力を、上記空間部を挟む蒸着ノズル部のうち蒸着粒子射出方向上流側の蒸着ノズル部における蒸着ノズル内の圧力よりも低下させた後、上記被成膜基板に成膜される蒸着膜の膜厚分布を確認しながら上記蒸着粒子を射出して成膜レートを調整する成膜レート調整工程と、を含むことを特徴とする請求項１６に記載の蒸着膜製造方法。
18. 　上記各段の蒸着ノズル部には、上記蒸着ノズルが複数、平面視で第１方向に配列して設けられており、
    　上記被着工程では、上記蒸着ユニットおよび上記被成膜基板のうち少なくとも一方を、平面視で上記第１方向に直交する第２方向に相対移動させながら蒸着を行うことを特徴とする請求項１６または１７に記載の蒸着膜製造方法。

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