WO2017023098A1 - Method for manufacturing multilayer printed circuit board for bluetooth - Google Patents

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Abstract

A method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth, according to the present invention, comprises the steps of: performing an inner layer image process in a first copper foil (110) and a first copper plating layer (120) to form a predetermined circuit pattern; performing hole plugging with a plugging ink (230) in a through hole (A), and then performing an outer layer image process in an electroless copper plating layer (210) and an electrolytic copper plating layer (220) to form a predetermined circuit pattern; performing hole plugging with a plugging ink (330) in a through hole (B), and performing an outermost layer image process in an electroless copper plating layer (310) and an electrolytic copper plating layer (320) to form a predetermined circuit pattern; and printing an outermost layer with the plugging ink (330) and a solder resist ink (340) in the region other than the hole of the through hole (B).

Description

블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법Manufacturing method of multilayer printed circuit board for Bluetooth
본 발명은 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 고도의 송수신 및 음질의 기능성과 고품질의 내구성을 갖는 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a multilayered printed circuit board for Bluetooth, and more particularly, to a method for manufacturing a multilayered printed circuit board for Bluetooth having a high level of transmission and reception, sound quality and durability.
일반적으로, 블루투스는 근거리 무선 통신을 위한 표준이다. 블루투스 장치들은 현재 주로 무선 헤드셋 등의 무선 ad-hoc 환경에서 사용되고 있으며, 또한 블루투스 액세스 포인트를 통해 인터넷에 연결할 수도 있다.In general, Bluetooth is a standard for near field communication. Bluetooth devices are currently used primarily in wireless ad-hoc environments, such as wireless headsets, and can also connect to the Internet through Bluetooth access points.
즉, 블루투스(Bluetooth)는 좁은 범위 내에서 저렴한 비용으로 휴대용 PC, 스마트폰을 비롯한 이동 가능한 장치들을 무선으로 연결하여 주는 규격으로서, 무선 주파수를 이용하여 각종 디지털 장비 간의 통신에 물리적인 케이블 없이 음성과 데이터를 주고받게 해준다. 예컨대, 블루투스 무선 기술이 스마트폰과 랩탑 컴퓨터 안에 구현되어 케이블 없이도 연결되어 사용할 수 있으며, PDA(Personal digital assistant), 데스크탑, FAX, 키보드, 조이스틱은 물론 사실상 모든 디지털 장비들이 블루투스 시스템의 일부가 될 수 있다.In other words, Bluetooth is a standard that wirelessly connects portable devices such as portable PCs and smartphones at a low cost within a narrow range, and uses wireless frequencies to communicate with various digital devices without using physical cables. Allows you to send and receive data. For example, Bluetooth wireless technology can be implemented in smartphones and laptop computers to be connected and used without cables, and virtually all digital devices, including personal digital assistants (PDAs), desktops, FAX, keyboards and joysticks, can be part of a Bluetooth system. have.
최근에는, 특히 스마트폰 등의 이동통신단말의 급속한 사용 증가에 따른 이동통신단말 기능에 대한 다변화 요구와, 자동차 등과 같은 교통수단에 의해 이동 중에도 용이하게 통신 접근성이 이루어지도록 고도의 송수신 및 음질의 기능성과 고품질의 내구성을 가지는 블루투스가 요구되고 있다.Recently, in particular, the demand for diversification of mobile communication terminal functions due to the rapid increase in the use of mobile communication terminals such as smart phones, and the high functionality of the transmission and reception and sound quality so that the communication accessibility can be easily made during transportation by means of transportation such as automobiles, etc. Bluetooth with high quality and durability is demanded.
이에 본 발명은 상기한 바와 같은 요구를 해소하기 위해 제안된 것으로서, 그 목적은 각종 디지털 장비 간의 통신뿐만 아니라 스마트폰 등의 이동통신단말의 급속한 사용 증가에 따른 이동통신단말 기능에 대한 다변화 요구와, 자동차 등과 같은 교통수단에 의해 이동 중에도 용이하게 통신 접근성이 이루어지도록 고도의 송수신 및 음질의 기능성과 고품질의 내구성을 갖는 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법을 제공하는 것이다.Accordingly, the present invention has been proposed to solve the above-described demands, and the object thereof is not only communication between various digital devices, but also a diversification request for a function of a mobile communication terminal due to the rapid use of a mobile communication terminal such as a smart phone, The present invention provides a method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth having high transmission / reception, sound quality functionality, and high quality durability so that communication accessibility can be easily performed while moving by a vehicle such as an automobile.
상기 문제점을 해결하기 위해, 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법은, 에폭시층(100)의 양면에 적층된 제 1 동박(110) 상에 제 1 동도금층(120)을 적층하는 제 1 단계(S100)와, 상기 제 1 동박(110) 및 상기 제 1 동도금층(120)에 내층 이미지 공정을 수행하여 소정의 회로 패턴을 형성하는 제 2 단계(S200)와, 양면에 소정의 회로 패턴이 형성된 상기 에폭시층(100) 및 소정의 회로 패턴 상에 제 2 동박(201)이 양 표면에 형성된 제 1 프리프레그층(200)을 각각 적층하되, 상기 제 1 프리프레그층(200)의 일 표면에 형성되는 상기 제 2 동박(201)이 상기 에폭시층(100) 및 소정의 회로 패턴에 각각 접하도록 형성하는 제 3 단계(S300)와, 상면과 하면을 관통하는 관통홀(A)을 형성하는 제 4 단계(S400)와, 상기 관통홀(A)의 내면 및 상기 제 1 프리프레그층(200)의 양표면에 형성된 상기 제 2 동박(201) 상에 무전해 동도금층(210)을 형성하고, 상기 무전해 동도금층(210) 상에 전해 동도금층(220)을 형성하는 제 5 단계(S500)와, 상기 관통홀(A) 내에 플러깅 잉크(plugging ink)(230)로 홀 플러깅(hole plugging)을 수행하는 제 6 단계(S600)와, 상기 제 2 동박(201), 상기 무전해 동도금층(210) 및 상기 전해 동도금층(220)에 외층 이미지 공정을 수행하여 소정의 회로 패턴을 형성하는 제 7 단계(S700)와, 양면에 소정의 회로 패턴이 형성된 상하부의 상기 제 1 프리프레그층(200) 및 소정의 회로 패턴과, 홀랜드 상에 제 3 동박(301)이 양 표면에 형성된 제 2 프리프레그층(300)을 각각 적층하되, 상기 제 2 프리프레그층(300)의 일 표면에 형성되는 제 3 동박(301)이 상기 제 1 프리프레그층(200) 및 소정의 회로 패턴과, 홀랜드 상에 각각 접하도록 형성하는 제 8 단계(S800)와, 상면과 하면을 관통하는 관통홀(B)을 형성하고, 상하부의 상기 제 3 동박을 갖는 제 2 프리프레그층(300)의 소정 영역에 블라인드 비아홀(C)을 각각 형성하는 제 9 단계(S900)와, 상기 관통홀(B)의 내면 및 블라인드 비아홀(C)의 내면과, 상기 제 2 프리프레그층(300)의 타 표면에 형성된 제 3 동박(301) 상에 무전해 동도금층(310)을 형성하고, 상기 무전해 동도금층(310) 상에 전해 동도금층(320)을 형성하는 제 10 단계(S1000)와, 상기 관통홀(B) 내에 플러깅 잉크(330)로 홀 플러깅(hole plugging)을 수행하는 제 11 단계(S1100)와, 상기 제 3 동박(301), 상기 무전해 동도금층(310) 및 상기 전해 동도금층(320)에 최외층 이미지 공정을 수행하여 소정의 회로 패턴을 형성하는 제 12 단계(S1200)와, 상기 플러깅 잉크(330) 및 상기 관통홀(B)의 홀랜드 이외의 영역에 솔더 레지스트 잉크(340)로 최외층을 인쇄하는 제 13 단계(S1300)와, 상기 관통홀(B)의 홀랜드 상에 니켈 도금층(350) 및 금 도금층(360)을 순차적으로 형성하는 제 14 단계(S1400)를 포함한다.In order to solve the above problems, the method of manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention, the first copper plating layer 120 is laminated on the first copper foil 110 laminated on both sides of the epoxy layer 100 A first step (S100), a second step (S200) of forming a predetermined circuit pattern by performing an inner layer imaging process on the first copper foil 110 and the first copper plating layer 120, and a predetermined The first prepreg layer 200 in which the second copper foil 201 is formed on both surfaces of the epoxy layer 100 and the predetermined circuit pattern on which the circuit pattern is formed is laminated, respectively, and the first prepreg layer 200 is stacked. The third step (S300) to form the second copper foil 201 formed on one surface of the contact with the epoxy layer 100 and the predetermined circuit pattern, respectively, and a through hole (A) penetrating the upper and lower surfaces Fourth step (S400) to form a, the inner surface of the through hole (A) and the double mark of the first prepreg layer 200 Forming an electroless copper plating layer 210 on the second copper foil 201 formed therein, and forming an electrolytic copper plating layer 220 on the electroless copper plating layer 210, and the The sixth step S600 of performing hole plugging with plugging ink 230 in the through hole A, the second copper foil 201, the electroless copper plating layer 210, and A seventh step (S700) of forming a predetermined circuit pattern by performing an outer layer image process on the electrolytic copper plating layer 220, and the first prepreg layer 200 and a predetermined upper and lower parts in which predetermined circuit patterns are formed on both surfaces thereof. And a third copper foil formed on one surface of the second prepreg layer 300 by laminating a circuit pattern of the second prepreg layer 300 on which both surfaces of the third copper foil 301 are formed. An eighth step of forming 301 in contact with the first prepreg layer 200 and the predetermined circuit pattern on the S800 and through holes B penetrating the upper and lower surfaces, and the ninth blind via holes C are respectively formed in predetermined regions of the second prepreg layer 300 having the upper and lower third copper foils. In step S900, the inner surface of the through-hole B and the inner surface of the blind via hole C, and an electroless copper plating layer on the third copper foil 301 formed on the other surface of the second prepreg layer 300 Forming a 310 and forming an electrolytic copper plating layer 320 on the electroless copper plating layer 310 and hole plugging with plugging ink 330 in the through hole B; an eleventh step of performing hole plugging (S1100), and an outermost layer imaging process on the third copper foil 301, the electroless copper plating layer 310, and the electrolytic copper plating layer 320. A twelfth step (S1200) of forming a portion, and the solder resist ink 340 in a region other than the holland of the plugging ink 330 and the through hole B. A thirteenth step S1300 of printing the outermost layer, and a fourteenth step S1400 of sequentially forming the nickel plating layer 350 and the gold plating layer 360 on the holes of the through hole B. .
또한, 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법은, 상기 에폭시층(100)은 0.2m/m(1oz)의 CCL(동박적층판)로 열팽창계수가 CTE 45ppm/℃이고, 유리전이온도가 TG 150℃이며, 열분해 온도가 TD 370℃이고, 1/3oz(12㎛)의 제 1 동박(110)을 양면에 포함한다.In addition, according to the present invention, a method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth, wherein the epoxy layer 100 is 0.2m / m (1oz) CCL (copper laminate) of CTE 45ppm / ℃, the glass transition temperature Is TG 150 ° C, pyrolysis temperature is TD 370 ° C, and includes 1/3 oz (12 μm) of first copper foil 110 on both sides.
또한, 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법은, 상기 내층 이미지 공정은, 상기 제 1 동박(110) 상에 포토레지스트(PR)를 적층하고 95℃ ~ 120℃(±5℃)의 롤러 온도와, 0.2 ~ 0.4MPa의 롤러 압력과, 0.9 ~ 1.2m/min의 롤러 속도를 갖는 롤러에 의해, 상기 포토레지스트 상에 소정 형상의 회로 패턴이 형성된 드라이 필름을 적층하는 적층(Lamination) 공정(A1)과, 상기 포토레지스트에 소정 형상의 회로 패턴이 형성되도록 8㎾의 평행광 노광기에 의해 20 ~ 55 mJ/㎠의 광량으로 조사되는 광을 소정 형상의 회로 패턴이 형성된 상기 드라이 필름에 조사하는 노광(Exposure) 공정(B1)과, 25℃ ~ 30℃의 온도인 0.5% ~ 1.0%(VOL)의 탄산나트륨 현상액이 0.10MPa ~ 0.18MPa의 스프레이 압력으로 분사하여 소정 형상의 회로 패턴을 제외한 영역의 포토레지스트를 제거하는 현상(Developing) 공정(C1)과, 48℃ ~ 52℃의 온도와, 1.19±0.02의 비중(20℃)을 갖는 150g/l ~ 220g/l의 구리 금속(copper metal) 에칭액이 1,5kgf/㎝2(±1.0)의 압력으로 분사되어 소정 형상의 회로 패턴을 제외한 영역의 상기 제 1 동박(110)이 제거되는 식각(Etching) 공정(D1)과, 48℃ ~ 58℃의 온도인 2% ~ 4.2%(VOL)의 수산화나트륨 박리액이 0.14MPa ~ 0.16MPa의 스프레이 압력으로 분사되어 소정 형상의 회로 패턴 상에 남아있는 포토레지스트를 제거하는 박리(Stripping) 공정(E1)을 각각 수행하여 소정의 내층 회로 및 홀랜드를 형성한다.In addition, according to the present invention, in the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth, in the inner layer imaging process, a photoresist (PR) is laminated on the first copper foil 110 and 95 ° C to 120 ° C (± 5 ° C). Lamination for laminating a dry film having a circuit pattern having a predetermined shape on the photoresist by a roller having a roller temperature, a roller pressure of 0.2 to 0.4 MPa, and a roller speed of 0.9 to 1.2 m / min. The light irradiated with an amount of light of 20 to 55 mJ / cm 2 by an 8 평행 parallel light exposure machine to form a circuit pattern having a predetermined shape in the step (A1) and the photoresist is applied to the dry film having the circuit pattern having a predetermined shape. An exposure step (B1) to be irradiated and 0.5% to 1.0% (VOL) of sodium carbonate developer, which is a temperature of 25 ° C to 30 ° C, are sprayed at a spray pressure of 0.10 MPa to 0.18 MPa to exclude a circuit pattern having a predetermined shape. Removing Photoresist in a Region 1,5 kgf / cm 2 of copper metal etching solution having a loping process (C1), a temperature of 48 ° C. to 52 ° C., and a specific gravity (20 ° C.) of 1.19 ± 0.02. Etching process (D1) in which the first copper foil 110 in a region excluding a circuit pattern of a predetermined shape is removed by spraying at a pressure of (± 1.0), and a temperature of 48 ° C to 58 ° C is 2% to 4.2 % (VOL) of sodium hydroxide stripper was sprayed at a spray pressure of 0.14 MPa to 0.16 MPa to perform a stripping process (E1) to remove the photoresist remaining on a circuit pattern of a predetermined shape, respectively, to a predetermined inner layer. Form a circuit and a holland.
또한, 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법은, 상기 무전해 동도금층(210)은 77g/l의 황산구리(copper sulfate)와, 145g/l의 에틸렌디아민사아세트산(EDTA)과, 28g/l의 포름알데히드(HCHO)와, 39g/l의 수산화나트륨(NaOH)과, 0.12g/l의 폴리에틸렌글리콜(PEG)과, 78㎎/l의 비피리딜(Bipyridyl)을 포함하는 도금액으로 38℃의 온도에서 35분 동안 수행함으로써 0.8㎛ ~ 1.3㎛의 두께로 형성한다.In addition, according to the present invention, the method for manufacturing a multi-layered printed circuit board for Bluetooth, the electroless copper plating layer 210 is 77g / l copper sulfate (copper sulfate), 145g / l ethylenediamine tetraacetic acid (EDTA), With a plating solution containing 28 g / l formaldehyde (HCHO), 39 g / l sodium hydroxide (NaOH), 0.12 g / l polyethylene glycol (PEG), and 78 mg / l bipyridyl It is formed to a thickness of 0.8 μm to 1.3 μm by performing at a temperature of 38 ° C. for 35 minutes.
또한, 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법은, 상기 전해 동도금층(220)은 178g/l의 반탑식 황산(Surfuric Acid)과, 78g/l의 황산구리(copper sulfate)와, 19mg/l의 첨가제(additive)와, 48㎎/l의 균염제(levelling agent)와, 52㎎/l의 광택제(Brightner)를 포함하는 도금액을 21℃의 온도로 80분 동안 0.85 A/dm2 으로 전기 도금하여 18㎛ ~ 20㎛의 두께로 형성하는 조건으로 수행한다.In addition, according to the present invention, in the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth, the electrolytic copper plating layer 220 includes 178 g / l of semi-sulfuric acid (Surfuric Acid), 78 g / l of copper sulfate, and 19 mg. A plating liquid containing an additive of / l, a 48 mg / l leveling agent, and a 52 mg / l Brightner was transferred to 0.85 A / dm 2 for 80 minutes at a temperature of 21 ° C. Plating is carried out under the conditions of forming a thickness of 18㎛ ~ 20㎛.
또한, 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법은, 상기 제 6 단계(S600)에서, 상기 홀 플러깅은 300P(25℃) ~ 500P(25℃)의 점도를 갖는 잉크를 150℃ ~ 155℃의 경화 조건(box-oven)에서 55분의 경화시간 동안 40CTE(열팽창계수)와, 150℃의 TG(유리전이온도)의 조건으로 수행된다.In addition, in the manufacturing method of the multilayered printed circuit board for Bluetooth according to the present invention, in the sixth step (S600), the hole plugging is an ink having a viscosity of 300P (25 ℃) ~ 500P (25 ℃) 150 ℃ ~ It is carried out under conditions of 40 CTE (coefficient of thermal expansion) and TG (glass transition temperature) of 150 ° C. for a curing time of 55 minutes at a box-oven of 155 ° C.
또한, 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법은, 상기 외층 이미지 공정은, 상기 무전해 동도금층(210), 상기 전해 동도금층(220) 및 상기 플러깅 잉크(230) 상에 포토레지스트(PR)를 적층하고 95℃ ~ 120℃(±5℃)의 롤러 온도와, 0.2 ~ 0.4MPa의 롤러 압력과, 0.9 ~ 2.2m/min의 롤러 속도를 갖는 롤러에 의해, 상기 포토레지스트 상에 소정 형상의 회로 패턴이 형성된 드라이 필름을 적층하는 적층(Lamination) 공정(a1)과, 상기 포토레지스트에 소정 형상의 회로 패턴이 형성되도록 10㎾의 평행광 노광기에 의해 20 ~ 55 mJ/㎠의 광량으로 조사되는 광을 소정 형상의 회로 패턴이 형성된 상기 드라이 필름에 조사하는 노광(Exposure) 공정(b1)과, 25℃ ~ 30℃의 온도인 0.5% ~ 1.0%(VOL)의 탄산나트륨 현상액이 0.10MPa ~ 0.18MPa의 스프레이 압력으로 분사되어 소정 형상의 회로 패턴을 제외한 영역의 포토레지스트를 제거하는 현상(Developing) 공정(c1)과, 48℃ ~ 52℃의 온도와, 1.19±0.02의 비중(20℃)을 갖는 150g/l ~ 210g/l의 구리 금속(copper metal) 에칭액이 1,5kgf/㎝2(±1.0)의 압력으로 분사되어 소정 형상의 회로 패턴을 제외한 영역의 무전해 동도금층(210) 및 전해 동도금층(220)이 제거되는 식각(Etching) 공정(d1)과, 45℃ ~ 58℃의 온도인 2% ~ 4.0%(VOL)의 수산화나트륨 박리액이 0.14MPa ~ 0.17MPa의 스프레이 압력으로 분사되어 소정 형상의 회로 패턴 상에 남아있는 포토레지스트를 제거하는 박리(Stripping) 공정(e1)을 각각 수행하여 소정의 외층 회로 및 홀랜드를 형성한다.In addition, according to the present invention, a method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth, wherein the outer layer image process, the photoresist on the electroless copper plating layer 210, the electrolytic copper plating layer 220 and the plugging ink 230. (PR) was laminated on the photoresist by a roller having a roller temperature of 95 ° C to 120 ° C (± 5 ° C), a roller pressure of 0.2 to 0.4 MPa, and a roller speed of 0.9 to 2.2 m / min. A lamination process (a1) of laminating a dry film having a predetermined circuit pattern and a light quantity of 20 to 55 mJ / cm 2 by a 10 평행 parallel light exposure machine so as to form a circuit pattern of a predetermined shape in the photoresist. The exposure step (b1) of irradiating the light irradiated with the dry film on which the circuit pattern of a predetermined shape was formed, and 0.5% to 1.0% (VOL) of sodium carbonate developer, which is a temperature of 25 ° C to 30 ° C, is 0.10 MPa. Circuit of predetermined shape by spraying at spray pressure of ~ 0.18MPa 150 g / l to 210 g / l copper metal having a developing process (c1) for removing the photoresist except for the pattern (c1), a temperature of 48 ° C. to 52 ° C., and a specific gravity (20 ° C.) of 1.19 ± 0.02. Etching solution is sprayed at a pressure of 1,5 kgf / cm 2 (± 1.0) to remove the electroless copper plating layer 210 and the electrolytic copper plating layer 220 in a region excluding a circuit pattern having a predetermined shape. ) Process (d1) and 2% to 4.0% (VOL) of sodium hydroxide stripping liquid at a temperature of 45 ° C to 58 ° C are sprayed at a spray pressure of 0.14 MPa to 0.17 MPa to remain on a circuit pattern of a predetermined shape. Each of the stripping processes e1 for removing the resist is performed to form a predetermined outer layer circuit and a holland.
또한, 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법은, 상기 외층 이미지 공정 이후, 1.3m/min ~ 1.8m/min의 속도로 이동하는 컨베이어에서, 90ml/l의 95% 황산(H2SO4)과, 58ml/l의 35% 과산화수소(H2O2)와, 소정의 초순수(DI water)가 포함되는 마이크로 세미 에칭액을 이용하되, 상기 마이크로 세미 에칭액이 1.031 ~ 1.041의 비중과, 3.00 이하의 pH와, 28℃(±5℃)의 온도와, 1.8㎛ ~ 2.5㎛의 에칭률을 갖는 조건으로 제 1 마이크로 세미 에칭 공정(micro semi etching)을 수행한다.In addition, the manufacturing method of the multilayered printed circuit board for Bluetooth according to the present invention, after the outer layer image process, in a conveyor moving at a speed of 1.3m / min ~ 1.8m / min, 90ml / l 95% sulfuric acid (H 2 SO 4 ), 58 ml / l of 35% hydrogen peroxide (H 2 O 2 ), and a micro semi-etching solution containing a predetermined ultra-pure water (DI water) is used, the micro semi-etching solution has a specific gravity of 1.031 ~ 1.041, 3.00 A first micro semi etching process is performed under conditions having a pH below, a temperature of 28 ° C. (± 5 ° C.), and an etching rate of 1.8 μm to 2.5 μm.
또한, 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법은, 상기 무전해 동도금층(310)은 77g/l의 황산구리(copper sulfate)와, 145g/l의 에틸렌디아민사아세트산(EDTA)과, 28g/l의 포름알데히드(HCHO)와, 39g/l의 수산화나트륨(NaOH)과, 0.12g/l의 폴리에틸렌글리콜(PEG)과, 78㎎/l의 비피리딜(Bipyridyl)을 포함하는 도금액으로 38℃의 온도에서 35분 동안 수행함으로써 0.8㎛ ~ 1.3㎛의 두께로 형성한다.In addition, according to the present invention, the method for manufacturing a multi-layer printed circuit board for Bluetooth, the electroless copper plating layer 310 is 77g / l copper sulfate (copper sulfate), 145g / l ethylenediamine tetraacetic acid (EDTA), With a plating solution containing 28 g / l formaldehyde (HCHO), 39 g / l sodium hydroxide (NaOH), 0.12 g / l polyethylene glycol (PEG), and 78 mg / l bipyridyl It is formed to a thickness of 0.8 μm to 1.3 μm by performing at a temperature of 38 ° C. for 35 minutes.
또한, 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법은, 상기 전해 동도금층(320)은 178g/l의 반탑식 황산(Surfuric Acid)과, 78g/l의 황산구리(copper sulfate)와, 19mg/l의 첨가제(additive)와, 48㎎/l의 균염제(levelling agent)와, 52㎎/l의 광택제(Brightner)를 포함하는 도금액을 21℃의 온도로 80분 동안 0.85 A/dm2 으로 전기 도금하여 18㎛ ~ 20㎛의 두께로 형성하는 조건으로 수행한다.In addition, according to the present invention, in the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth, the electrolytic copper plating layer 320 includes 178 g / l of semi-sulfuric acid (Surfuric Acid), 78 g / l of copper sulfate, and 19 mg. A plating liquid containing an additive of / l, a 48 mg / l leveling agent, and a 52 mg / l Brightner was transferred to 0.85 A / dm 2 for 80 minutes at a temperature of 21 ° C. Plating is carried out under the conditions of forming a thickness of 18㎛ ~ 20㎛.
또한, 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법은, 상기 제 11 단계(S1100)에서, 상기 홀 플러깅은 300P(25℃) ~ 500P(25℃)의 점도를 갖는 잉크를 150℃ ~ 155℃의 경화 조건(box-oven)에서 55분의 경화시간 동안 40CTE(열팽창계수)와, 150℃의 TG(유리전이온도)의 조건으로 수행된다.In addition, in the manufacturing method of the multilayered printed circuit board for Bluetooth according to the present invention, in the eleventh step (S1100), the hole plugging the ink having a viscosity of 300P (25 ℃) ~ 500P (25 ℃) 150 ℃ ~ It is carried out under conditions of 40 CTE (coefficient of thermal expansion) and TG (glass transition temperature) of 150 ° C. for a curing time of 55 minutes at a box-oven of 155 ° C.
또한, 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법은, 상기 최외층 이미지 공정은, 상기 제 3 동박(301), 상기 무전해 동도금층(310) 및 상기 전해 동도금층(320) 상에 포토레지스트(PR)를 적층하고 95℃ ~ 120℃(±5℃)의 롤러 온도와, 0.2 ~ 0.4MPa의 롤러 압력과, 0.9 ~ 2.2m/min의 롤러 속도를 갖는 롤러에 의해, 상기 포토레지스트 상에 소정 형상의 회로 패턴이 형성된 드라이 필름을 적층하는 적층(Lamination) 공정(1)과, 상기 포토레지스트에 소정 형상의 회로 패턴이 형성되도록 10㎾의 평행광 노광기에 의해 20 ~ 55 mJ/㎠의 광량으로 조사되는 광을 소정 형상의 회로 패턴이 형성된 상기 드라이 필름에 조사하는 노광(Exposure) 공정(2)과, 25℃ ~ 30℃의 온도인 0.5% ~ 1.0%(VOL)의 탄산나트륨 현상액이 0.10MPa ~ 0.18MPa의 스프레이 압력으로 분사되어 소정 형상의 회로 패턴을 제외한 영역의 포토레지스트를 제거하는 현상(Developing) 공정(3)과, 48℃ ~ 52℃의 온도와, 1.19±0.02의 비중(20℃)을 갖는 150g/l ~ 210g/l의 구리 금속(copper metal) 에칭액이 1,5kgf/㎝2(±1.0)의 압력으로 분사되어 소정 형상의 회로 패턴을 제외한 영역의 제 3 동박(301), 무전해 동도금층(310) 및 전해 동도금층(320)이 제거되는 식각(Etching) 공정(4)과, 45℃ ~ 58℃의 온도인 2% ~ 4.0%(VOL)의 수산화나트륨 박리액이 0.14MPa ~ 0.17MPa의 스프레이 압력으로 분사되어 소정 형상의 회로 패턴 상에 남아있는 포토레지스트를 제거하는 박리(Stripping) 공정(5)을 각각 수행하여 소정의 최외층 회로 및 홀랜드를 형성한다.In addition, according to the present invention, in the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth, the outermost layer image process may be performed on the third copper foil 301, the electroless copper plating layer 310, and the electrolytic copper plating layer 320. The photoresist (PR) was laminated, and the photoresist was formed by a roller having a roller temperature of 95 ° C to 120 ° C (± 5 ° C), a roller pressure of 0.2 to 0.4 MPa, and a roller speed of 0.9 to 2.2 m / min. 20 to 55 mJ / cm 2 by a lamination step (1) of laminating a dry film having a circuit pattern of a predetermined shape formed thereon and a 10 kW parallel light exposure machine to form a circuit pattern of a predetermined shape in the photoresist. An exposure step (2) of irradiating the light irradiated with the light quantity to the dry film having a circuit pattern having a predetermined shape, and a 0.5% to 1.0% (VOL) sodium carbonate developer having a temperature of 25 ° C to 30 ° C A circuit of a predetermined shape is injected at a spray pressure of 0.10 MPa to 0.18 MPa 150 g / l to 210 g / l copper metal having a developing process (3) for removing the photoresist except the turn, a temperature of 48 ° C. to 52 ° C., and a specific gravity (20 ° C.) of 1.19 ± 0.02. (copper metal) The etchant is sprayed at a pressure of 1,5 kgf / cm 2 (± 1.0) so that the third copper foil 301, the electroless copper plating layer 310 and the electrolytic copper plating layer 320 in a region excluding a circuit pattern of a predetermined shape ) Etching process (4) and 2% to 4.0% (VOL) of sodium hydroxide stripping liquid, which is a temperature of 45 ° C to 58 ° C, are sprayed at a spray pressure of 0.14 MPa to 0.17 MPa, Each of the stripping processes 5 for removing the photoresist remaining on the circuit pattern is performed to form a predetermined outermost layer circuit and a hole.
또한, 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법은, 상기 최외층 이미지 공정 이후, 1.3m/min ~ 1.8m/min의 속도로 이동하는 컨베이어에서, 90ml/l의 95% 황산(H2SO4)과, 58ml/l의 35% 과산화수소(H2O2)와, 소정의 초순수(DI water)가 포함되는 마이크로 세미 에칭액을 이용하되, 상기 마이크로 세미 에칭액이 1.031 ~ 1.041의 비중과, 3.00 이하의 pH와, 28℃(±5℃)의 온도와, 1.8㎛ ~ 2.5㎛의 에칭률로 갖는 조건으로 제 2 마이크로 세미 에칭 공정을 수행한다.In addition, the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention, after the outermost layer image process, in a conveyor moving at a speed of 1.3m / min ~ 1.8m / min, 90ml / l 95% sulfuric acid (H 2 SO 4 ), 58 ml / l of 35% hydrogen peroxide (H 2 O 2 ), and a micro semi-etching solution containing a predetermined amount of ultrapure water (DI water), wherein the micro semi-etching solution has a specific gravity of 1.031 to 1.041, The second micro semi-etch process is performed under conditions having a pH of 3.00 or less, a temperature of 28 ° C. (± 5 ° C.), and an etching rate of 1.8 μm to 2.5 μm.
또한, 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법은, 상기 솔더 레지스트 잉크로 최외층을 인쇄하는 공정 조건은, 270±10poise의 주제와, 30±10poise의 경화제가 혼합하여 150±10poise의 잉크 점도를 갖고, 1.48 ~ 1.52의 비중을 갖는 110 ~ 120 mesh의 인쇄 실크 스크린을, 78℃에서 15분 ~ 20분 동안 1차 조기경화(pre-curing) 및 78℃에서 15분 ~ 20분 동안 2차 조기경화(pre-curing)를 2회 반복 후, 150℃에서 70분 ~ 75분 동안 후경화(post-curing)를 수행하는 건조와, 420 ~ 550 mJ/㎝2의 광량으로 조사되는 노광과, 30℃ ± 1℃의 온도인 1wt%의 탄산나트륨 현상액이 50 ~ 65분 동안 1.8 ~ 2.5kgf/㎝2의 스프레이 압력으로 분사되는 현상에 의해 수행된다.In addition, according to the present invention, the method for manufacturing a multilayered printed circuit board for Bluetooth is characterized in that the process conditions for printing the outermost layer with the solder resist ink include a 270 ± 10 poise subject and a 30 ± 10 poise curing agent to achieve 150 ± 10 poise. Printed silk screens of 110 to 120 mesh with ink viscosity and specific gravity of 1.48 to 1.52 were subjected to primary pre-curing at 78 ° C. for 15-20 minutes and for 15-20 minutes at 78 ° C. After repeating the second pre-curing twice, drying to perform post-curing at 150 ° C. for 70 minutes to 75 minutes, and exposure irradiated with a light amount of 420 to 550 mJ / cm 2 . And 1 wt% sodium carbonate developer at a temperature of 30 ° C. ± 1 ° C. is sprayed at a spray pressure of 1.8 to 2.5 kgf / cm 2 for 50 to 65 minutes.
또한, 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법은, 상기 솔더 레지스트 잉크로 최외층을 인쇄하는 공정 이후, 200±10poise의 주제와, 150±10poise의 경화제가 혼합하여 170±10poise의 잉크 점도를 갖고, 1.5 ~ 1.6의 비중을 갖는 110 ~ 120 mesh의 인쇄 실크 스크린을, 78℃에서 15분 ~ 20분 동안 1차 조기경화(pre-curing) 및 78℃에서 15분 ~ 20분 동안 2차 조기경화(pre-curing)를 2회 반복 후, 150℃에서 65분 ~ 75분 동안 후경화(post-curing)를 수행하는 건조와, 650 ~ 820 mJ/㎝2의 광량으로 조사되는 노광과, 30℃ ± 1℃의 온도인 1wt%의 탄산나트륨 현상액이 20분 동안 1.8 ~ 2.5kgf/㎝2의 스프레이 압력으로 분사되는 현상에 의해 수행되는 마킹 인쇄 공정을 더 포함한다.In addition, according to the present invention, a method for manufacturing a multilayered printed circuit board for Bluetooth according to the present invention includes an ink of 170 ± 10 poise by mixing 200 ± 10 poise with a 150 ± 10 poise curing agent after the process of printing the outermost layer with the solder resist ink. Printed silk screens of 110 to 120 mesh having a viscosity and specific gravity of 1.5 to 1.6 were subjected to primary pre-curing at 78 ° C. for 15-20 minutes and 2 at 15 ° C. for 15-20 minutes. After the second pre-curing was repeated twice, drying was carried out post-curing at 150 ° C. for 65 minutes to 75 minutes, and exposure to light of 650 to 820 mJ / cm 2 . , 1 wt% sodium carbonate developer at a temperature of 30 ° C. ± 1 ° C., further comprising a marking printing process performed by a phenomenon of spraying at a spray pressure of 1.8 to 2.5 kgf / cm 2 for 20 minutes.
또한, 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법은, 상기 마킹 인쇄 공정 이후, 260℃의 컨베이어 챔버(conveyor chamber)에서 4.3분 동안 리플로우(reflow) 공정을 더 포함한다.In addition, the manufacturing method of the multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention further includes a reflow process for 4.3 minutes in a conveyor chamber at 260 ° C. after the marking printing process.
또한, 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법은, 상기 리플로우 공정 이후, 상기 마킹 인쇄 공정에 의해 형성된 표면에 JET Scrubbing(JET 연마) 및 Ultrasonic cleaning(초음파 세척) 공정을 각각 더 수행하되, 상기 JET Scrubbing 및 Ultrasonic cleaning 공정은 1.8m/min ~ 2.3m/min의 속도로 이동하는 컨베이어에서, 45㎖/l의 H2SO4(95%)와 DI water(초순수물)을 포함하는 산수세(Acid Rinse)와, 1.8 ~ 2.3m/min의 컨베이어 속도에서 1.6 ~ 2.3㎏f/㎝2의 압력으로 산화알루미늄(Al2O3(#360))을 분사하는 JET Scrubbing(JET 연마) 및 1200Watt × 4zone/4㎑에서 시수 5단린스 후에 DI water(3단 린스)로 세척하고 Ultrasonic cleaning(초음파 세척)을 수행 후 80℃ ~ 95℃로 건조함으로써 상기 마킹 인쇄 공정에 의해 형성된 표면에 이물질을 제거하고 조도를 형성한다.In addition, according to the present invention, a method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth further includes performing a JET scrubbing and an ultrasonic cleaning process on the surface formed by the marking printing process after the reflow process. However, the JET Scrubbing and Ultrasonic cleaning process includes 45 ml / l of H 2 SO 4 (95%) and DI water (ultra pure water) in a conveyor moving at a speed of 1.8 m / min to 2.3 m / min. JET Scrubbing spraying aluminum oxide (Al 2 O 3 (# 360)) at a pressure of 1.6 to 2.3 kgf / cm 2 at an acid rinse and a conveyor speed of 1.8 to 2.3 m / min. And foreign matter on the surface formed by the marking printing process by washing with DI water (three stages rinse), performing Ultrasonic cleaning and drying at 80 ° C. to 95 ° C. after 5 stages of rinse at 1200 Watts × 4 zone / 4㎑. Remove and form roughness.
또한, 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법은, 상기 니켈 도금층(350) 및 상기 금 도금층(360)은, 45g/l의 염화 니켈(Nickel Chloride)과, 100g/l의 시클로프로필아민 포스폰산(aminotrimethylen phosphonic acid)과, 100g/l의 황산 니켈(Nickel sulfate)과, 52g/l의 아스코브산(Ascorbic acid)과, 52g/l의 붕산(Boric acid)과, 0.12g/l의 광택제를 포함하는 니켈 도금액을 50℃의 온도에서 0.2 ~ 0.4 A/dm2의 전류 밀도로 10분 ~ 15분 동안 전기 도금하여 3㎛ ~ 4㎛의 두께로 니켈 도금층을 형성하고, 16g/l의 칼륨 금 시안화물(Potassium gold cyanide)과, 116g/l의 구연산칼륨(Tripotassium citrate monohydrate)과, 63g/l의 구연산 무수물(Citric anhydride)과, 0.53g/l의 헥사메틸렌테트라민(Hexamethylene tetramine)과, 0.53g/l의 3-피라딘 카르복시산(3-pyridine carboxylic acid)을 포함하는 금(soft gold) 도금액을 53℃의 온도와, 4.5pH에서 12A/dm2의 전류 밀도로 9분 ~ 12분 동안 전기 도금하여 0.2㎛ ~ 0.4㎛의 두께로 금도금층을 형성한다.In addition, in the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention, the nickel plating layer 350 and the gold plating layer 360 may include 45 g / l nickel chloride and 100 g / l cyclopropyl. Aminotrimethylen phosphonic acid, 100 g / l nickel sulfate, 52 g / l ascorbic acid, 52 g / l boric acid, 0.12 g / l The nickel plating solution containing a polishing agent of electroplated at a temperature of 50 ℃ at a current density of 0.2 ~ 0.4 A / dm 2 for 10 to 15 minutes to form a nickel plating layer with a thickness of 3 ㎛ ~ 4 ㎛, 16g / l Potassium gold cyanide, 116 g / l Tripotassium citrate monohydrate, 63 g / l Citric anhydride, and 0.53 g / l Hexamethylene tetramine And a soft gold plating solution containing 0.53 g / l 3-pyridine carboxylic acid at a temperature of 53 ° C. and 4.5 Electroplating for 9 to 12 minutes at a current density of 12 A / dm 2 at pH to form a gold plated layer with a thickness of 0.2 ㎛ ~ 0.4 ㎛.
본 발명에 의하면, 각종 디지털 장비 간의 통신뿐만 아니라 스마트폰 등의 이동통신단말의 급속한 사용 증가에 따른 이동통신단말 기능에 대한 다변화 요구와, 자동차 등과 같은 교통수단에 의해 이동 중에도 용이하게 통신 접근성이 이루어지도록 고도의 송수신 및 음질의 기능성과 고품질의 내구성을 갖는 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법을 제공하는 효과가 있다.According to the present invention, as well as communication between various digital equipment, the demand for diversification of the function of the mobile communication terminal due to the rapid increase in the use of mobile communication terminals such as smart phones, and communication accessibility is easily made on the move by means of transportation such as automobiles. There is an effect of providing a method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth having a high level of transmission and reception, sound quality and high quality durability.
도 1은 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 전체 흐름을 나타내는 플로어 차트.1 is a floor chart showing the overall flow of a method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 2는 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 1 공정을 나타내는 단면도.Figure 2 is a cross-sectional view showing a first step of the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 3은 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 2 공정을 나타내는 단면도.Figure 3 is a cross-sectional view showing a second step of the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 4는 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 3 공정을 나타내는 단면도.Figure 4 is a cross-sectional view showing a third step of the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 5는 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 4 공정을 나타내는 단면도.5 is a cross-sectional view showing a fourth process of the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 6은 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 5 공정을 나타내는 단면도.6 is a cross-sectional view showing a fifth step of the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 7은 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 6 공정을 나타내는 단면도.7 is a cross-sectional view showing a sixth step of the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 8은 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 7 공정을 나타내는 단면도.8 is a cross-sectional view showing a seventh step of the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 9는 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 8 공정을 나타내는 단면도.9 is a sectional view showing an eighth process of the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 10은 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 9 공정을 나타내는 단면도.10 is a cross-sectional view showing a ninth process of the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 11은 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 10 공정을 나타내는 단면도.11 is a cross-sectional view showing a tenth step of a method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 12는 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 11 공정을 나타내는 단면도.12 is a cross-sectional view showing an eleventh step of a method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 13은 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 12 공정을 나타내는 단면도.13 is a cross-sectional view showing a twelfth process of the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 14는 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 13 공정을 나타내는 단면도.14 is a cross-sectional view showing a thirteenth process of the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 15는 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 14 공정을 나타내는 단면도.15 is a cross-sectional view showing a fourteenth step of the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 16은 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 15 공정을 나타내는 단면도.16 is a cross-sectional view showing a fifteenth process of the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
[규칙 제91조에 의한 정정 24.10.2016] 
[Revision 24.10.2016 under Rule 91]
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.As the invention allows for various changes and numerous embodiments, particular embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the written description. However, this is not intended to limit the present invention to specific embodiments, it should be understood to include all transformations, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In the following description of the present invention, if it is determined that the detailed description of the related known technology may obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.Terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another.
본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. As used herein, the terms "comprise" or "have" are intended to indicate that there is a feature, number, step, action, component, part, or combination thereof described on the specification, and one or more other features. It is to be understood that the present invention does not exclude the possibility of the presence or the addition of numbers, steps, operations, components, components, or a combination thereof.
또한, 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.In addition, in describing the present invention, when it is determined that the detailed description of the related known technology may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.
이하, 본 발명의 실시예에 대해 관련 도면들을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 전체 흐름을 나타내는 플로어 차트이다.1 is a floor chart showing the overall flow of a method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법은, 에폭시층(100)의 양면에 적층된 제 1 동박(110) 상에 제 1 동도금층(120)을 적층하는 제 1 단계(S100)와, 제 1 동박(110) 및 제 1 동도금층(120)에 내층 이미지 공정을 수행하여 소정의 회로 패턴을 형성하는 제 2 단계(S200)와, 양면에 소정의 회로 패턴이 형성된 에폭시층(100)의 양면 상에 제 2 동박을 갖는 제 1 프리프레그층(200)을 각각 적층하는 제 3 단계(S300)와, 상면과 하면을 관통하는 관통홀(A)을 형성하는 제 4 단계(S400)와, 관통홀(A)의 내면 및 제 2 동박을 갖는 제 1 프리프레그층(200) 상에 무전해 동도금층(210)을 형성하고, 무전해 동도금층(210) 상에 전해 동도금층(220)을 형성하는 제 5 단계(S500)와, 관통홀(A) 내에 플러깅 잉크(plugging ink)(230)로 홀 플러깅(hole plugging)을 수행하는 제 6 단계(S600)와, 무전해 동도금층(210) 및 전해 동도금층(220)에 외층 이미지 공정을 수행하여 소정의 회로 패턴을 형성하는 제 7 단계(S700)와, 양면에 소정의 회로 패턴이 형성된 상하부의 제 1 프리프레그층(200) 상에 제 3 동박을 갖는 제 2 프리프레그층(300)을 각각 적층하는 제 8 단계(S800)와, 상면과 하면을 관통하는 관통홀(B)을 형성하고, 상하부의 제 3 동박을 갖는 제 2 프리프레그층(300)의 소정 영역에 블라인드 비아홀(C)을 각각 형성하는 제 9 단계(S900)와, 관통홀(B)의 내면 및 블라인드 비아홀(C)의 내면과, 제 3 동박을 갖는 제 2 프리프레그층(300) 상에 무전해 동도금층(310)을 형성하고, 무전해 동도금층(310) 상에 전해 동도금층(320)을 형성하는 제 10 단계(S1000)와, 관통홀(B) 내에 플러깅 잉크(330)로 홀 플러깅(hole plugging)을 수행하는 제 11 단계(S1100)와, 무전해 동도금층(310) 및 전해 동도금층(320)에 최외층 이미지 공정을 수행하여 소정의 회로 패턴을 형성하는 제 12 단계(S1200)와, 플러깅 잉크(330) 및 관통홀(B)의 홀랜드 이외의 영역에 솔더 레지스트 잉크(340)로 최외층을 인쇄하는 제 13 단계(S1300)와, 관통홀(B)의 홀랜드 상에 니켈 도금층(350) 및 금 도금층(360)을 순차적으로 형성하는 제 14 단계(S1400)를 포함한다.Referring to FIG. 1, in the method of manufacturing a multilayered printed circuit board for Bluetooth according to the present invention, a first copper plating layer 120 is laminated on a first copper foil 110 laminated on both surfaces of an epoxy layer 100. The first step (S100), the second step (S200) of forming a predetermined circuit pattern by performing an inner layer image process on the first copper foil 110 and the first copper plating layer 120, and the predetermined circuit pattern on both surfaces A third step (S300) of respectively stacking the first prepreg layer 200 having the second copper foil on both surfaces of the formed epoxy layer 100, and the agent forming a through hole A penetrating the upper and lower surfaces. An electroless copper plating layer 210 is formed on the first prepreg layer 200 having the fourth step S400, the inner surface of the through hole A, and the second copper foil, and on the electroless copper plating layer 210. A fifth step (S500) of forming the electrolytic copper plating layer 220 and a sixth step of performing hole plugging with plugging ink 230 in the through hole A. FIG. (S600), a seventh step (S700) of forming a predetermined circuit pattern by performing an outer layer image process on the electroless copper plating layer 210 and the electrolytic copper plating layer 220, and upper and lower parts on which the predetermined circuit patterns are formed on both surfaces. Forming an eighth step S800 of stacking the second prepreg layer 300 having the third copper foil on the first prepreg layer 200, and a through hole B penetrating the upper and lower surfaces. And a ninth step S900 of forming blind via holes C in predetermined regions of the second prepreg layer 300 having upper and lower third copper foils, and inner surfaces of the through holes B and blind via holes C. A tenth to form an electroless copper plating layer 310 on the inner surface of the second prepreg layer 300 having the third copper foil and an electrolytic copper plating layer 320 on the electroless copper plating layer 310. Step S1000, an eleventh step S1100 of performing hole plugging with the plugging ink 330 in the through hole B, and electroless copper plating. A twelfth step (S1200) of forming a predetermined circuit pattern by performing an outermost layer image process on the 310 and the electrolytic copper plating layer 320, and the plugging ink 330 and the through hole B in regions other than Holland. The thirteenth step (S1300) of printing the outermost layer with the solder resist ink 340, and the fourteenth step (S1400) of sequentially forming the nickel plating layer 350 and the gold plating layer 360 on the hole of the through-hole B. ).
이에 대해, 도면을 참조하여 좀더 상세히 설명하도록 한다.This will be described in more detail with reference to the drawings.
도 2는 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 1 공정을 나타내는 단면도이다.2 is a cross-sectional view showing a first step of a method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법은, 우선 에폭시층(100)의 양면에 적층된 제 1 동박(110) 상에 제 1 동도금층(120)을 적층한다.Referring to FIG. 2, according to the present invention, a method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention may first include a first copper plating layer 120 on a first copper foil 110 laminated on both surfaces of an epoxy layer 100. Laminated.
여기서, 에폭시층(100)은 0.2m/m(1oz)의 CCL(동박적층판)로 열팽창계수가 CTE 45ppm/℃ 이고, 유리전이온도가 TG 150℃이며, 열분해 온도가 TD 370℃이고, 1/3oz(약 12㎛)의 제 1 동박(110)을 양면에 포함한다.Here, the epoxy layer 100 is 0.2m / m (1oz) CCL (copper laminated sheet) has a thermal expansion coefficient of CTE 45ppm / ℃, glass transition temperature of TG 150 ℃, thermal decomposition temperature of TD 370 ℃, 1 / 3 oz (about 12 micrometers) of 1st copper foil 110 is included in both surfaces.
상기와 같은 특성의 원자재는, 내열성이 이상적이고, 내구성 및 습윤 방지 기능에 최적의 조건이며, 미세 패턴(fine pattern) 구현이 보장되어야 한다. 그런데, 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄 회로 기판을 삽입시 약 260℃의 고온에 대략 4 ~ 5회 정도 노출될 경우, PCB 상에서의 치명적 불량인 디라미네이션(Delamination)이 발생할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 인쇄회로기판의 원자재를 적용시에는 원자재의 수축, 팽창 우려 및 원자재 상의 습윤율을 제거할 목적으로 베이킹(Baking)을 수행하는 별도의 특별 관리가 요구된다. 이러한 베이킹은 150℃의 온도에서 245분간 베이킹 하고 실온으로 냉각시킨 후, 정면(Scrubbing)하고 Imaging 공정이 이루어지게 된다.The raw materials having the above characteristics are ideal for heat resistance, optimum conditions for durability and anti-wetting function, and fine pattern implementation should be ensured. However, when the multilayered printed circuit board for Bluetooth according to the present invention is inserted about 4 to 5 times at a high temperature of about 260 ° C., delamination which is a fatal defect on the PCB may occur. Therefore, when applying the raw material of the printed circuit board according to the present invention, a separate special management is required to perform baking for the purpose of eliminating the shrinkage of the raw material, fear of expansion and wetness of the raw material. This baking is baked for 245 minutes at a temperature of 150 ℃ and cooled to room temperature, scrubbing and the Imaging process is performed.
다음, 도 3은 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 2 공정을 나타내는 단면도이다.3 is a cross-sectional view illustrating a second process of the method of manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 3을 참조하면, 제 1 동박(110) 및 제 1 동도금층(120)에 내층 이미지 공정을 수행하여 소정의 회로 패턴을 형성하게 된다.Referring to FIG. 3, an inner layer image process is performed on the first copper foil 110 and the first copper plating layer 120 to form a predetermined circuit pattern.
즉, 내층 이미지 공정은, 내층 이미지 공정은, 제 1 동박(110) 상에 포토레지스트(PR)를 적층하고 95℃ ~ 120℃(±5℃)의 롤러 온도와, 0.2 ~ 0.4MPa의 롤러 압력과, 0.9 ~ 1.2m/min의 롤러 속도를 갖는 롤러에 의해, 포토레지스트 상에 소정 형상의 회로 패턴이 형성된 드라이 필름을 적층하는 적층(Lamination) 공정(A1)과, 포토레지스트에 소정 형상의 회로 패턴이 형성되도록 8㎾의 평행광 노광기에 의해 20 ~ 55 mJ/㎠의 광량으로 조사되는 광을 소정 형상의 회로 패턴이 형성된 드라이 필름에 조사하는 노광(Exposure) 공정(B1)과, 25℃ ~ 30℃의 온도인 0.5% ~ 1.0%(VOL)의 탄산나트륨 현상액이 0.10MPa ~ 0.18MPa의 스프레이 압력으로 분사하여 소정 형상의 회로 패턴을 제외한 영역의 포토레지스트를 제거하는 현상(Developing) 공정(C1)과, 48℃ ~ 52℃의 온도와, 1.19±0.02의 비중(20℃)을 갖는 150g/l ~ 220g/l의 구리 금속(copper metal) 에칭액이 1,5kgf/㎝2(±1.0)의 압력으로 분사되어 소정 형상의 회로 패턴을 제외한 영역의 제 1 동박(110)이 제거되는 식각(Etching) 공정(D1)과, 48℃ ~ 58℃의 온도인 2% ~ 4.2%(VOL)의 수산화나트륨 박리액이 0.14MPa ~ 0.16MPa의 스프레이 압력으로 분사되어 소정 형상의 회로 패턴 상에 남아있는 포토레지스트를 제거하는 박리(Stripping) 공정(E1)을 각각 수행하게 된다.That is, in the inner layer imaging process, in the inner layer imaging process, the photoresist PR is laminated on the first copper foil 110, and a roller temperature of 95 ° C to 120 ° C (± 5 ° C) and a roller pressure of 0.2 to 0.4 MPa. And a lamination step (A1) of laminating a dry film having a circuit pattern having a predetermined shape on the photoresist by a roller having a roller speed of 0.9 to 1.2 m / min, and a circuit having a predetermined shape on the photoresist. An exposure step (B1) of irradiating a dry film on which a circuit pattern of a predetermined shape is irradiated with light irradiated with an amount of light of 20 to 55 mJ / cm 2 by an 8 평행 parallel light exposure machine so that a pattern is formed; A development process (C1) in which a 0.5% to 1.0% (VOL) sodium carbonate developer at a temperature of 30 ° C. is sprayed at a spray pressure of 0.10 MPa to 0.18 MPa to remove photoresist in a region except for a circuit pattern having a predetermined shape (C1). And 150 g / with a temperature of 48 ° C. to 52 ° C. and a specific gravity (20 ° C.) of 1.19 ± 0.02. Etching is performed in which a copper metal etching solution of 1 to 220 g / l is sprayed at a pressure of 1,5 kgf / cm 2 (± 1.0) to remove the first copper foil 110 in a region excluding a circuit pattern having a predetermined shape. ) Process (D1) and a photoresist that is sprayed at a spray pressure of 0.14 MPa to 0.16 MPa by 2% to 4.2% (VOL) of sodium hydroxide stripping solution at a temperature of 48 ° C to 58 ° C to remain on a circuit pattern of a predetermined shape. Each of the stripping processes E1 for removing the resist is performed.
이후, AOI(신뢰성 검사)를 수행하게 된다.Then, AOI (reliability check) is performed.
그리고, 소정의 내층 회로의 구리 표면을 산화시키는 옥사이드(oxide) 공정을 더 수행하게 된다. 이러한 옥사이드 공정은, 2Cu + ClO2 → Cu2O(산화 제 2 동) + ClO의 옥사이드 반응 구조 화학식에 의해 수행되는 브라운(brown) 옥사이드 공정으로 수행한다.In addition, an oxide process of oxidizing a copper surface of a predetermined inner layer circuit is further performed. This oxide process is carried out in a brown oxide process carried out by the oxide reaction structural formula of 2Cu + ClO 2 → Cu 2 O (copper oxide) + ClO.
좀더 상세히 설명하면, 내층 회로 형성 이후에 Cu 표면을 산화시킴으로써 Cu2O, CuO로 산화층을 형성하여, 내층의 동박(Cu foil)과 Glass fibe나 Epoxy Resin와의 밀착력을 증대시키기 위해 브라운 옥사이드 공정을 수행한다. Oxide 공정이라 함은 회로 형성 이후에 Cu 표면을 산화시킴으로써, CuO2, CuO로 산화층을 형성시킴으로써 내층의 Cu foil과 Prepreg 간의 밀착력 강화와 Peel Strength 값이 우월하기 때문이다.In more detail, after the inner layer circuit is formed, an oxide layer is formed of Cu 2 O and CuO by oxidizing the Cu surface, and a brown oxide process is performed to increase the adhesion between the copper foil of the inner layer and the glass fibe or epoxy resin. do. The oxide process is because the surface of Cu is oxidized after the circuit is formed, and the oxide layer is formed of CuO 2 and CuO, so that the adhesion strength between the Cu foil and the prepreg of the inner layer and the Peel Strength value are superior.
다음, 도 4는 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 3 공정을 나타내는 단면도이다.Next, Figure 4 is a cross-sectional view showing a third process of the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 4를 참조하면, 양면에 소정의 회로 패턴이 형성된 에폭시층(100) 및 소정의 회로 패턴 상에 제 2 동박(201)이 양 표면에 형성된 제 1 프리프레그층(200)을 각각 적층하되, 제 1 프리프레그층(200)의 일 표면에 형성되는 제 2 동박(201)이 에폭시층(100) 및 소정의 회로 패턴에 각각 접하도록 형성된다.Referring to FIG. 4, the epoxy layer 100 having a predetermined circuit pattern formed on both surfaces thereof and the first prepreg layer 200 having the second copper foil 201 formed on both surfaces thereof are respectively stacked on the predetermined circuit pattern. The second copper foil 201 formed on one surface of the first prepreg layer 200 is formed to contact the epoxy layer 100 and a predetermined circuit pattern, respectively.
여기서, 제 2 동박은 1/3oz(12㎛)인 것이 바람직하며, 제 1 프리프레그층(200)은 0.11m/m인 것이 바람직하다.Here, it is preferable that a 2nd copper foil is 1/3 oz (12 micrometers), and it is preferable that the 1st prepreg layer 200 is 0.11 m / m.
다음, 도 5는 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 4 공정을 나타내는 단면도이다.Next, Figure 5 is a cross-sectional view showing a fourth process of the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 5를 참조하면, 상면과 하면을 관통하는 관통홀(A)을 형성한다. 이러한 관통홀(A)은 비 전도체 홀을 전도체 홀로 구성하기 위한 수단이다.Referring to FIG. 5, a through hole A penetrating the upper and lower surfaces is formed. This through hole A is a means for configuring a non-conductor hole as a conductor hole.
또한, 내층의 Cu층과 제 1 프리프레그층(200) 사이의 경계면 또는 드릴 가공된 관통홀(A)의 내벽에 드릴 가공시의 마찰열 등으로 인한 에폭시 수지의 잔유물 또는 부착된 물질 등을 KMnO4의 약품 등으로 제거하는 디스미어(Desmear) 공정을 더 수행하는 것이 바람직하다.In addition, residues of epoxy resin or adhered substances due to frictional heat during drilling, etc., may be added to the interface between the Cu layer of the inner layer and the first prepreg layer 200 or the inner wall of the drilled through-hole A. KMnO 4 It is preferable to perform a further desmear (Desmear) process to remove the drug.
다음, 도 6은 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 5 공정을 나타내는 단면도이다.Next, Figure 6 is a cross-sectional view showing a fifth process of the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 6을 참조하면, 관통홀(A)의 내면 및 제 1 프리프레그층(200)의 양표면에 형성된 제 2 동박(201) 상에 무전해 동도금층(210)을 형성하고, 무전해 동도금층(210) 상에 전해 동도금층(220)을 형성한다.Referring to FIG. 6, an electroless copper plating layer 210 is formed on the second copper foil 201 formed on the inner surface of the through hole A and on both surfaces of the first prepreg layer 200, and an electroless copper plating layer. An electrolytic copper plating layer 220 is formed on the 210.
드릴 가공된 관통홀(A)의 내층의 각층과 외층 사이에 비 전도체로 이루어진 구성층 등을 화학 약품으로 도금을 형성시킴으로써 비 전도체 홀에서 전도체의 홀로 형성하게 되며, 다음과 같은 작업 조건으로 수행한다.Between the inner layer and the outer layer of the drilled through hole (A) to form a layer consisting of a non-conductor with a chemical to form a hole of the conductor in the non-conductor hole, it is carried out under the following working conditions. .
무전해 동도금층(210)은 77g/l의 황산구리(copper sulfate)와, 145g/l의 에틸렌디아민사아세트산(EDTA)과, 28g/l의 포름알데히드(HCHO)와, 39g/l의 수산화나트륨(NaOH)과, 0.12g/l의 폴리에틸렌글리콜(PEG)과, 78㎎/l의 비피리딜(Bipyridyl)을 포함하는 도금액으로 38℃의 온도에서 35분 동안 수행함으로써 0.8㎛ ~ 1.3㎛의 두께로 형성한다. 이와 같이, 0.8㎛ ~ 1.3㎛의 두께로 형성하는 이유는 화학 도금의 밀착력 강화에 최적의 조건이기 때문이다.The electroless copper plating layer 210 includes 77 g / l copper sulfate, 145 g / l ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA), 28 g / l formaldehyde (HCHO), and 39 g / l sodium hydroxide ( NaOH), 0.12 g / l polyethylene glycol (PEG), and 78 mg / l bipyridyl (Bipyridyl) was carried out for 35 minutes at a temperature of 38 ℃ to a thickness of 0.8 ㎛ ~ 1.3 ㎛ Form. Thus, the reason for forming in thickness of 0.8 micrometer-1.3 micrometers is because it is an optimal condition for strengthening the adhesive force of chemical plating.
또한, 전해 동도금층(220)은 178g/l의 반탑식 황산(Surfuric Acid)과, 78g/l의 황산구리(copper sulfate)와, 19mg/l의 첨가제(additive)와, 48㎎/l의 균염제(levelling agent)와, 52㎎/l의 광택제(Brightner)를 포함하는 도금액을 21℃의 온도로 80분 동안 0.85 A/dm2 으로 전기 도금하여 18㎛ ~ 20㎛의 두께로 형성한다.In addition, the electrolytic copper plating layer 220 includes 178 g / l of sulfuric acid, 78 g / l of copper sulfate, 19 mg / l of additive, and 48 mg / l of leveling agent ( A plating solution containing a leveling agent) and 52 mg / l Brightner was electroplated at 0.85 A / dm 2 for 80 minutes at a temperature of 21 ° C. to form a thickness of 18 μm to 20 μm.
전기 동도금층(220)의 도금시, 본 발명은 저전류의 도금 공법으로 수행한다. 이는 도금 두께의 일정한 두께 분포도와 도금 밀착력을 높이기 위한 수단이며, 본 발명의 최대 특징인 디라미네이션(Delamination) 불량 방지를 위해 저전류 도금 공법을 수행한다.In the plating of the electroplated copper layer 220, the present invention is carried out by a low current plating method. This is a means for increasing the uniform thickness distribution and plating adhesion of the plating thickness, and performs a low current plating method to prevent delamination defects, which is a feature of the present invention.
다음, 도 7은 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 6 공정을 나타내는 단면도이다.Next, Figure 7 is a cross-sectional view showing a sixth process of the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 7을 참조하면, 관통홀(A) 내에 플러깅 잉크(plugging ink)(230)로 홀 플러깅(hole plugging)을 수행한다.Referring to FIG. 7, hole plugging is performed with plugging ink 230 in the through hole A. FIG.
홀 플러깅은 0.25m/m 홀 내부에 특수 플러깅 잉크를 채우는 공법으로, 각층 및 회로와, 회로 사이 및 각 홀에 시그널을 연결하고, 홀 속의 도금 두께 보존 신뢰성 및 내구성뿐만 아니라 습윤 방지 효과 등의 목적으로 관통홀(A) 내에 홀 플러깅을 하는 것이다.Hole plugging is a method of filling a special plugging ink inside a 0.25m / m hole, and connects signals between each layer and the circuit, between circuits and in each hole, and preserves the plating thickness in the hole. In this way, hole plugging is performed in the through hole (A).
여기서, 홀 플러깅이 완전 경화된 이후에 홀 포인트(Hole point) 상하면에 돌출되어 있는 잉크를 Belt Sander로 제거한다. 이때에는 GREATE #1,200 sand paper가 가장 이상적이다.Here, after hole plugging is completely hardened, ink protruding from the upper and lower sides of the hole point is removed by a belt sander. In this case, GREATE # 1,200 sand paper is ideal.
홀 플러깅의 조건은 다음과 같다.The hole plugging condition is as follows.
홀 플러깅은 300P(25℃) ~ 500P(25℃)의 점도를 갖는 잉크를 150℃ ~ 155℃의 경화 조건(box-oven)에서 55분의 경화시간 동안 40CTE(열팽창계수)와, 150℃의 TG(유리전이온도)의 조건으로 수행된다.Hole plugging is applied to inks having a viscosity of 300P (25 ° C) to 500P (25 ° C) at 40 CTE (coefficient of thermal expansion) and 150 ° C for a curing time of 55 minutes at 150 ° C to 155 ° C box-oven. It is carried out under the conditions of TG (glass transition temperature).
다음, 도 8은 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 7 공정을 나타내는 단면도이다.Next, Figure 8 is a cross-sectional view showing a seventh process of the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 8을 참조하면, 제 2 동박(201), 무전해 동도금층(210) 및 전해 동도금층(220)에 외층 이미지 공정을 수행하여 소정의 회로 패턴을 형성한다.Referring to FIG. 8, an outer layer image process is performed on the second copper foil 201, the electroless copper plating layer 210, and the electrolytic copper plating layer 220 to form a predetermined circuit pattern.
본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 회로와 회로 사이의 간격 및 홀 랜드 사이의 간격은 각각 100㎛ 이하로, 해상도를 유지하기 위하여 드라이 필름은 20㎛ 두께로 수행한다. 또한, 해상도와 더불어서 회로와 홀 랜드의 밀착성을 고려하여 회로의 하단 면과 상단 면의 각각의 회로 폭의 편차를 최소화시키도록 한다.In the multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention, the distance between the circuits and the circuits and the hole lands is 100 µm or less, respectively, and the dry film is 20 µm thick to maintain the resolution. In addition, in consideration of the adhesion between the circuit and the hole land in addition to the resolution to minimize the variation of the respective circuit width of the bottom surface and the top surface of the circuit.
외층 이미지 공정은 다음과 같이 수행된다.The outer layer imaging process is performed as follows.
외층 이미지 공정은, 무전해 동도금층(210), 전해 동도금층(220) 및 플러깅 잉크(230) 상에 포토레지스트(PR)를 적층하고 95℃ ~ 120℃(±5℃)의 롤러 온도와, 0.2 ~ 0.4MPa의 롤러 압력과, 0.9 ~ 2.2m/min의 롤러 속도를 갖는 롤러에 의해, 포토레지스트 상에 소정 형상의 회로 패턴이 형성된 드라이 필름을 적층하는 적층(Lamination) 공정(a1)과, 포토레지스트에 소정 형상의 회로 패턴이 형성되도록 10㎾의 평행광 노광기에 의해 20 ~ 55 mJ/㎠의 광량으로 조사되는 광을 소정 형상의 회로 패턴이 형성된 드라이 필름에 조사하는 노광(Exposure) 공정(b1)과, 25℃ ~ 30℃의 온도인 0.5% ~ 1.0%(VOL)의 탄산나트륨 현상액이 0.10MPa ~ 0.18MPa의 스프레이 압력으로 분사되어 소정 형상의 회로 패턴을 제외한 영역의 포토레지스트를 제거하는 현상(Developing) 공정(c1)과, 48℃ ~ 52℃의 온도와, 1.19±0.02의 비중(20℃)을 갖는 150g/l ~ 210g/l의 구리 금속(copper metal) 에칭액이 1,5kgf/㎝2(±1.0)의 압력으로 분사되어 소정 형상의 회로 패턴을 제외한 영역의 무전해 동도금층(210) 및 전해 동도금층(220)이 제거되는 식각(Etching) 공정(d1)과, 45℃ ~ 58℃의 온도인 2% ~ 4.0%(VOL)의 수산화나트륨 박리액이 0.14MPa ~ 0.17MPa의 스프레이 압력으로 분사되어 소정 형상의 회로 패턴 상에 남아있는 포토레지스트를 제거하는 박리(Stripping) 공정(e1)을 각각 수행하여 소정의 외층 회로 및 홀랜드를 형성한다.The outer layer imaging process comprises laminating photoresist PR on the electroless copper plating layer 210, the electrolytic copper plating layer 220, and the plugging ink 230, and a roller temperature of 95 ° C to 120 ° C (± 5 ° C), Lamination process (a1) which laminates the dry film in which the circuit pattern of a predetermined shape was formed on the photoresist by the roller which has a roller pressure of 0.2-0.4MPa and a roller speed of 0.9-2.2m / min, An exposure process of irradiating a dry film having a predetermined circuit pattern with light irradiated with a light amount of 20 to 55 mJ / cm 2 by a 10 평행 parallel light exposure machine so that a circuit pattern having a predetermined shape is formed in the photoresist ( b1) and a phenomenon in which 0.5% to 1.0% (VOL) of sodium carbonate developer, which is a temperature of 25 ° C to 30 ° C, is sprayed at a spray pressure of 0.10 MPa to 0.18 MPa to remove photoresist except for a circuit pattern having a predetermined shape. (Developing) step (c1), the temperature of 48 ℃ ~ 52 ℃, 1.19 ± 0.02 150 g / l to 210 g / l copper metal etching solution having a specific gravity (20 ° C.) was sprayed at a pressure of 1,5 kgf / cm 2 (± 1.0) to prevent electroless copper in the region excluding a circuit pattern having a predetermined shape. An etching process (d1) in which the plating layer 210 and the electrolytic copper plating layer 220 are removed, and a sodium hydroxide stripping solution of 2% to 4.0% (VOL) at a temperature of 45 ° C to 58 ° C is 0.14 MPa to 0.17. A stripping process (e1) for spraying at a spray pressure of MPa to remove photoresist remaining on a circuit pattern of a predetermined shape is performed, respectively, to form a predetermined outer layer circuit and a Holland.
다음, AOI 검사를 수행한다.Next, AOI check is performed.
이후, 1.3m/min ~ 1.8m/min의 속도로 이동하는 컨베이어에서, 90ml/l의 95% 황산(H2SO4)과, 58ml/l의 35% 과산화수소(H2O2)와, 소정의 초순수(DI water)가 포함되는 마이크로 세미 에칭액을 이용하되, 마이크로 세미 에칭액이 1.031 ~ 1.041의 비중과, 3.00 이하의 pH와, 28℃(±5℃)의 온도와, 1.8㎛ ~ 2.5㎛의 에칭률을 갖는 조건으로 제 1 마이크로 세미 에칭 공정(micro semi etching)을 수행한다.Then, in a conveyor moving at a speed of 1.3 m / min to 1.8 m / min, 90 ml / l of 95% sulfuric acid (H 2 SO 4 ), 58 ml / l of 35% hydrogen peroxide (H 2 O 2 ), and A micro semi etching solution containing ultra pure water (DI water) is used. The micro semi etching solution has a specific gravity of 1.031 to 1.041, a pH of 3.00 or less, a temperature of 28 ° C. (± 5 ° C.), and a thickness of 1.8 μm to 2.5 μm. A first micro semi etching process is performed under conditions having an etching rate.
마이크로 세미 에칭 공정을 수행하는 이유는, 외층 이미지 공정에서의 유기 물질 또는 무기 물질 등의 불순물을 제거하고, 회로와 회로 사이 또는 홀 주위의 Cu 잔사 등을 제거하며, 회로와 홀 랜드의 상부의 내층의 동박 표면을 균일하게 조도를 형성하고, 미세한 산화피막과 드라이 필름 공정 시에 사용되는 드라이 필름의 잔사 등 레지스트의 잔유물을 제거하기 위함이다. 또한, 본 발명에서는 각층별로의 밀착력은 제품의 신뢰성과 내구성에 중요하므로, 열 충격시 또는 물리적인 충격시에도 밀착력을 향상시키기 위함이다.The reason for performing the micro semi-etching process is to remove impurities such as organic or inorganic materials in the outer layer imaging process, to remove Cu residues between the circuit and the circuits or around the holes, and the inner layer of the circuit and the upper part of the hole land. Roughness is formed uniformly on the copper foil surface, and the residue of a resist, such as the residue of a fine oxide film and the dry film used at the dry film process, is removed. In addition, in the present invention, the adhesion to each layer is important for the reliability and durability of the product, to improve the adhesion even during thermal shock or physical impact.
그리고, 소정의 내층 회로의 구리 표면을 산화시키는 옥사이드(oxide) 공정을 더 수행하게 된다. 이러한 옥사이드 공정은, 2Cu + ClO2 → Cu2O(산화 제 2 동) + ClO의 옥사이드 반응 구조 화학식에 의해 수행되는 브라운(brown) 옥사이드 공정으로 수행한다.In addition, an oxide process of oxidizing a copper surface of a predetermined inner layer circuit is further performed. This oxide process is carried out in a brown oxide process carried out by the oxide reaction structural formula of 2Cu + ClO 2 → Cu 2 O (copper oxide) + ClO.
좀더 상세히 설명하면, 내층 회로 형성 이후에 Cu 표면을 산화시킴으로써 Cu2O, CuO로 산화층을 형성하여, 내층의 동박(Cu foil)과 Glass fibe나 Epoxy Resin와의 밀착력을 증대시키기 위해 브라운 옥사이드 공정을 수행한다. Oxide 공정이라 함은 회로 형성 이후에 Cu 표면을 산화시킴으로써, CuO2, CuO로 산화층을 형성시킴으로써 내층의 Cu foil과 Prepreg 간의 밀착력 강화와 Peel Strength 값이 우월하기 때문이다.In more detail, after the inner layer circuit is formed, an oxide layer is formed of Cu 2 O and CuO by oxidizing the Cu surface, and a brown oxide process is performed to increase the adhesion between the copper foil of the inner layer and the glass fibe or epoxy resin. do. The oxide process is because the surface of Cu is oxidized after the circuit is formed, and the oxide layer is formed of CuO 2 and CuO, so that the adhesion strength between the Cu foil and the prepreg of the inner layer and the Peel Strength value are superior.
다음, 도 9는 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 8 공정을 나타내는 단면도이다.Next, Figure 9 is a cross-sectional view showing an eighth process of the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 9를 참조하면, 양면에 소정의 회로 패턴이 형성된 상하부의 제 1 프리프레그층(200) 및 소정의 회로 패턴과, 홀랜드 상에 제 3 동박(301)이 양 표면에 형성된 제 2 프리프레그층(300)을 각각 적층하되, 제 2 프리프레그층(300)의 일 표면에 형성되는 제 3 동박(301)이 제 1 프리프레그층(200) 및 소정의 회로 패턴과, 홀랜드 상에 각각 접하도록 형성한다.Referring to FIG. 9, a first prepreg layer 200 and a predetermined circuit pattern of upper and lower portions having a predetermined circuit pattern formed on both surfaces thereof, and a second prepreg layer having third copper foil 301 formed on both surfaces of a holland. Stacking (300), respectively, so that the third copper foil 301 formed on one surface of the second prepreg layer 300 is in contact with the first prepreg layer 200 and the predetermined circuit pattern, respectively on the holland Form.
여기서, 제 3 동박은 1/3oz(12㎛)인 것이 바람직하며, 제 2 프리프레그층(300)은 0.06m/m인 것이 바람직하다.Here, it is preferable that a 3rd copper foil is 1/3 oz (12 micrometers), and it is preferable that the 2nd prepreg layer 300 is 0.06 m / m.
도 10은 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 9 공정을 나타내는 단면도이고, 도 11은 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 10 공정을 나타내는 단면도이다.10 is a cross-sectional view showing a ninth process of the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention, and FIG. 11 is a sectional view showing a tenth process of the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 10 및 도 11을 참조하면, 상면과 하면을 관통하는 관통홀(B)을 형성하고, 상하부의 제 3 동박을 갖는 제 2 프리프레그층(300)의 소정 영역에 블라인드 비아홀(C)을 각각 형성한다.10 and 11, through holes B penetrating the upper and lower surfaces are formed, and blind via holes C are formed in predetermined regions of the second prepreg layer 300 having upper and lower third copper foils, respectively. Form.
이러한 관통홀(B)을 형성함으로써, 각각의 층과 각 층의 회로 사이의 시그널이 가능하도록 비 전도체 홀을 전도체 홀로 전환시킬 수 있다.By forming such a through hole B, the non-conductor hole can be converted into a conductor hole so as to enable a signal between each layer and the circuit of each layer.
한편, 블라인드 비아홀(C)은 레이저 드릴 M/C를 이용하여 BVH/copper direct 0.11m/m의 홀로 가공한다.On the other hand, the blind via hole (C) is processed to a hole of BVH / copper direct 0.11m / m using a laser drill M / C.
이후, 드릴 가공시의 마찰열 등으로 인한 에폭시 수지의 잔유물 또는 부착된 물질 등을 KMnO4의 약품 등으로 제거하는 디스미어(Desmear) 공정을 더 수행한다.Thereafter, a desmear process is further performed to remove residues or adhered substances of epoxy resin due to frictional heat during drilling, etc. with KMnO 4 chemicals.
다음, 도 12는 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 11 공정을 나타내는 단면도이다.Next, FIG. 12 is a cross-sectional view showing an eleventh process of manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 12를 참조하면, 관통홀(B)의 내면 및 블라인드 비아홀(C)의 내면과, 제 2 프리프레그층(300)의 타 표면에 형성된 제 3 동박(301) 상에 무전해 동도금층(310)을 형성하고, 무전해 동도금층(310) 상에 전해 동도금층(320)을 형성한다.Referring to FIG. 12, an electroless copper plating layer 310 is formed on the inner surface of the through hole B and the inner surface of the blind via hole C and the third copper foil 301 formed on the other surface of the second prepreg layer 300. ), And the electrolytic copper plating layer 320 is formed on the electroless copper plating layer 310.
이와 같이 드릴 가공된 홀을 내층의 각층과 외층 사이에 비 전도체로된 구성층 등을 화학약품으로 도금 형성함으로써, 비 전도체 홀을 전도체 홀로 형성하게 된다.In this way, the drilled hole is plated with a chemical to form a nonconductive constituent layer or the like between each layer of the inner layer and the outer layer, thereby forming the nonconductor hole as the conductor hole.
그 수행 조건은 다음과 같다.The execution conditions are as follows.
무전해 동도금층(310)은 77g/l의 황산구리(copper sulfate)와, 145g/l의 에틸렌디아민사아세트산(EDTA)과, 28g/l의 포름알데히드(HCHO)와, 39g/l의 수산화나트륨(NaOH)과, 0.12g/l의 폴리에틸렌글리콜(PEG)과, 78㎎/l의 비피리딜(Bipyridyl)을 포함하는 도금액으로 38℃의 온도에서 35분 동안 수행함으로써 0.8㎛ ~ 1.3㎛의 두께로 형성한다. 여기서, 도금 두께는 0.8㎛ ~ 1.3㎛의 두께가 적당하며, 화학 도금의 밀착력 강화에 최적의 조건이다.The electroless copper plating layer 310 comprises 77 g / l copper sulfate, 145 g / l ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA), 28 g / l formaldehyde (HCHO), and 39 g / l sodium hydroxide ( NaOH), 0.12 g / l polyethylene glycol (PEG), and 78 mg / l bipyridyl (Bipyridyl) was carried out for 35 minutes at a temperature of 38 ℃ to a thickness of 0.8 ㎛ ~ 1.3 ㎛ Form. Herein, the thickness of the coating is preferably 0.8 μm to 1.3 μm, which is an optimal condition for enhancing the adhesion of chemical plating.
또한, 전해 동도금층(320)은 178g/l의 반탑식 황산(Surfuric Acid)과, 78g/l의 황산구리(copper sulfate)와, 19mg/l의 첨가제(additive)와, 48㎎/l의 균염제(levelling agent)와, 52㎎/l의 광택제(Brightner)를 포함하는 도금액을 21℃의 온도로 80분 동안 0.85 A/dm2 으로 전기 도금하여 18㎛ ~ 20㎛의 두께로 형성한다.In addition, the electrolytic copper plating layer 320 includes 178 g / l of Sulfuric Acid, 78 g / l of copper sulfate, 19 mg / l of additive, and 48 mg / l of a leveling agent ( A plating solution containing a leveling agent) and 52 mg / l Brightner was electroplated at 0.85 A / dm 2 for 80 minutes at a temperature of 21 ° C. to form a thickness of 18 μm to 20 μm.
이러한 전기 동도금층(320)의 도금시, 본 발명은 저전류의 도금 공법으로 수행한다. 이는 도금 두께의 일정한 두께 분포도와 도금 밀착력을 높이기 위한 수단이며, 본 발명의 최대 특징인 디라미네이션(Delamination) 불량 방지를 위해 저전류 도금 공법을 수행한다.In the plating of the electro-copper plating layer 320, the present invention is carried out by a low current plating method. This is a means for increasing the uniform thickness distribution and plating adhesion of the plating thickness, and performs a low current plating method to prevent delamination defects, which is a feature of the present invention.
다음, 도 13은 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 12 공정을 나타내는 단면도이다.Next, Figure 13 is a cross-sectional view showing a twelfth process of the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 13을 참조하면, 관통홀(B) 내에 플러깅 잉크(330)로 홀 플러깅(hole plugging)을 수행한다.Referring to FIG. 13, hole plugging is performed with the plugging ink 330 in the through hole B. FIG.
홀 플러깅은 홀 내부에 특수 플러깅 잉크를 채우는 공법으로, 각층 및 회로와, 회로 사이 및 각 홀에 시그널을 연결하고, 홀 속의 도금 두께 보존 신뢰성 및 내구성뿐만 아니라 습윤 방지 효과 등의 목적으로 관통홀(B) 내에 홀 플러깅을 하는 것이다.Hole plugging is a method of filling a special plugging ink inside the hole.It connects signals between each layer and circuit, between circuits and each hole, and preserves the plating thickness in the hole. Hole plugging in B).
여기서, 홀 플러깅이 완전 경화된 이후에 홀 포인트(Hole point) 상하면에 돌출되어 있는 잉크를 Belt Sander로 제거한다. 이때에는 GREATE #1,200 sand paper가 가장 이상적이다.Here, after hole plugging is completely hardened, ink protruding from the upper and lower sides of the hole point is removed by a belt sander. In this case, GREATE # 1,200 sand paper is ideal.
홀 플러깅의 조건은 다음과 같다.The hole plugging condition is as follows.
홀 플러깅은 300P(25℃) ~ 500P(25℃)의 점도를 갖는 잉크를 150℃ ~ 155℃의 경화 조건(box-oven)에서 55분의 경화시간 동안 40CTE(열팽창계수)와, 150℃의 TG(유리전이온도)의 조건으로 수행된다.Hole plugging is applied to inks having a viscosity of 300P (25 ° C) to 500P (25 ° C) at 40 CTE (coefficient of thermal expansion) and 150 ° C for a curing time of 55 minutes at 150 ° C to 155 ° C box-oven. It is carried out under the conditions of TG (glass transition temperature).
도 14는 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 13 공정을 나타내는 단면도이다.14 is a cross-sectional view showing a thirteenth process of the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 14를 참조하면, 제 3 동박(301), 무전해 동도금층(310) 및 전해 동도금층(320)에 최외층 이미지 공정을 수행하여 소정의 회로 패턴을 형성한다.Referring to FIG. 14, an outermost layer imaging process is performed on the third copper foil 301, the electroless copper plating layer 310, and the electrolytic copper plating layer 320 to form a predetermined circuit pattern.
본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 회로와 회로 사이의 간격 및 홀 랜드 사이의 간격은 각각 100㎛ 이하로, 해상도를 유지하기 위하여 드라이 필름은 20㎛ 두께로 수행한다. 또한, 해상도와 더불어서 회로와 홀 랜드의 밀착성을 고려하여 회로의 하단 면과 상단 면의 각각의 회로 폭의 편차를 최소화시키도록 한다.In the multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention, the distance between the circuits and the circuits and the hole lands is 100 µm or less, respectively, and the dry film is 20 µm thick to maintain the resolution. In addition, in consideration of the adhesion between the circuit and the hole land in addition to the resolution to minimize the variation of the respective circuit width of the bottom surface and the top surface of the circuit.
최외층 이미지 공정은 다음과 같이 수행된다.The outermost image process is performed as follows.
제 3 동박(301), 무전해 동도금층(310) 및 전해 동도금층(320) 상에 포토레지스트(PR)를 적층하고 95℃ ~ 120℃(±5℃)의 롤러 온도와, 0.2 ~ 0.4MPa의 롤러 압력과, 0.9 ~ 2.2m/min의 롤러 속도를 갖는 롤러에 의해, 포토레지스트 상에 소정 형상의 회로 패턴이 형성된 드라이 필름을 적층하는 적층(Lamination) 공정(1)과, 포토레지스트에 소정 형상의 회로 패턴이 형성되도록 10㎾의 평행광 노광기에 의해 20 ~ 55 mJ/㎠의 광량으로 조사되는 광을 소정 형상의 회로 패턴이 형성된 드라이 필름에 조사하는 노광(Exposure) 공정(2)과, 25℃ ~ 30℃의 온도인 0.5% ~ 1.0%(VOL)의 탄산나트륨 현상액이 0.10MPa ~ 0.18MPa의 스프레이 압력으로 분사되어 소정 형상의 회로 패턴을 제외한 영역의 포토레지스트를 제거하는 현상(Developing) 공정(3)과, 48℃ ~ 52℃의 온도와, 1.19±0.02의 비중(20℃)을 갖는 150g/l ~ 210g/l의 구리 금속(copper metal) 에칭액이 1,5kgf/㎝2(±1.0)의 압력으로 분사되어 소정 형상의 회로 패턴을 제외한 영역의 제 3 동박(301), 무전해 동도금층(310) 및 전해 동도금층(320)이 제거되는 식각(Etching) 공정(4)과, 45℃ ~ 58℃의 온도인 2% ~ 4.0%(VOL)의 수산화나트륨 박리액이 0.14MPa ~ 0.17MPa의 스프레이 압력으로 분사되어 소정 형상의 회로 패턴 상에 남아있는 포토레지스트를 제거하는 박리(Stripping) 공정(5)을 각각 수행하여 소정의 최외층 회로 및 홀랜드를 형성한다.The photoresist PR was laminated on the third copper foil 301, the electroless copper plating layer 310 and the electrolytic copper plating layer 320, and roller temperatures of 95 ° C to 120 ° C (± 5 ° C) and 0.2 to 0.4 MPa. The lamination process (1) which laminates the dry film in which the circuit pattern of the predetermined shape was formed on the photoresist by the roller which has a roller pressure and a roller speed of 0.9-2.2m / min, and predetermined | prescribed to a photoresist An exposure step (2) of irradiating a dry film on which a circuit pattern of a predetermined shape is irradiated with light irradiated with a light quantity of 20 to 55 mJ / cm 2 by a 10 kW parallel light exposure machine so that a circuit pattern of a shape is formed; A development process in which 0.5% to 1.0% (VOL) of sodium carbonate developer, which is a temperature of 25 ° C to 30 ° C, is sprayed at a spray pressure of 0.10 MPa to 0.18 MPa to remove photoresist in an area except for a circuit pattern having a predetermined shape. (3) and 150 g / l to 2 having a temperature of 48 ° C. to 52 ° C. and a specific gravity (20 ° C.) of 1.19 ± 0.02. 10 g / l copper metal etching solution is sprayed at a pressure of 1,5 kgf / cm 2 (± 1.0) to form a third copper foil 301 and an electroless copper plating layer 310 in a region excluding a circuit pattern having a predetermined shape. And an etching process (4) in which the electrolytic copper plating layer 320 is removed, and a sodium hydroxide peeling solution of 2% to 4.0% (VOL) having a temperature of 45 ° C to 58 ° C, and a spray pressure of 0.14 MPa to 0.17 MPa. Each of the stripping processes 5 for removing the photoresist remaining on the circuit pattern having a predetermined shape by spraying on each other is performed to form a predetermined outermost layer circuit and a holland.
다음, AOI 검사를 수행한다.Next, AOI check is performed.
이후, 1.3m/min ~ 1.8m/min의 속도로 이동하는 컨베이어에서, 90ml/l의 95% 황산(H2SO4)과, 58ml/l의 35% 과산화수소(H2O2)와, 소정의 초순수(DI water)가 포함되는 마이크로 세미 에칭액을 이용하되, 마이크로 세미 에칭액이 1.031 ~ 1.041의 비중과, 3.00 이하의 pH와, 28℃(±5℃)의 온도와, 1.8㎛ ~ 2.5㎛의 에칭률로 갖는 조건으로 제 2 마이크로 세미 에칭 공정을 수행한다.Then, in a conveyor moving at a speed of 1.3 m / min to 1.8 m / min, 90 ml / l of 95% sulfuric acid (H 2 SO 4 ), 58 ml / l of 35% hydrogen peroxide (H 2 O 2 ), and A micro semi etching solution containing ultra pure water (DI water) is used. The micro semi etching solution has a specific gravity of 1.031 to 1.041, a pH of 3.00 or less, a temperature of 28 ° C. (± 5 ° C.), and a thickness of 1.8 μm to 2.5 μm. A second micro semi etch process is performed under conditions having an etch rate.
마이크로 세미 에칭 공정을 수행하는 이유는, 외층 이미지 공정에서의 유기 물질 또는 무기 물질 등의 불순물을 제거하고, 회로와 회로 사이 또는 홀 주위의 Cu 잔사 등을 제거하며, 회로와 홀 랜드의 상부의 내층의 동박 표면을 균일하게 조도를 형성하고, 미세한 산화피막과 드라이 필름 공정 시에 사용되는 드라이 필름의 잔사 등 레지스트의 잔유물을 제거하기 위함이다. 또한, 본 발명에서는 각층별로의 밀착력은 제품의 신뢰성과 내구성에 중요하므로, 열 충격시 또는 물리적인 충격시에도 밀착력을 향상시키기 위함이다.The reason for performing the micro semi-etching process is to remove impurities such as organic or inorganic materials in the outer layer imaging process, to remove Cu residues between the circuit and the circuits or around the holes, and the inner layer of the circuit and the upper part of the hole land. Roughness is formed uniformly on the copper foil surface, and the residue of a resist, such as the residue of a fine oxide film and the dry film used at the dry film process, is removed. In addition, in the present invention, the adhesion to each layer is important for the reliability and durability of the product, to improve the adhesion even during thermal shock or physical impact.
다음, 도 15는 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 14 공정을 나타내는 단면도이다.Next, FIG. 15 is a cross-sectional view showing a fourteenth step of a method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 15를 참조하면, 플러깅 잉크(330) 및 관통홀(B)의 홀랜드 이외의 영역에 솔더 레지스트 잉크(340)로 최외층을 인쇄한다.Referring to FIG. 15, the outermost layer is printed with the solder resist ink 340 in regions other than the holland of the plugging ink 330 and the through hole B. FIG.
즉, 에칭 후의 각각의 회로가 형성된 부위 및 홀랜드와, 에폭시 노출 부위 및 Cu 표면 노출 부위를 솔더 레지스트 잉크와 같은 비 전도체성의 광학용 잉크로 도포하여, 회로와 회로 사이의 노이즈 발생을 차단하고 인쇄회로기판 위에 장착되는 부품의 Cream solder시 또는 솔더링(soldering) 작업시의 쇼트를 방지하기 위함이다.That is, each of the circuits and the holes where the circuits are formed after etching, and the epoxy exposed portion and the Cu surface exposed portion are coated with a non-conductive optical ink such as solder resist ink to block the generation of noise between the circuit and the circuit and to print the printed circuit. This is to prevent short during cream soldering or soldering work of components mounted on the board.
본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 특성상, 외층 홀의 직경이 0.1m/m이고, BGA ball 인쇄 부위가 좁으며, 제품의 외곽에 부품이 실장 되는 PAD가 외곽 부위와 매우 인접하게 되어 있고, 회로와 회로 사이의 간격도 인접하고 있으므로 잉크의 도포 두께가 매우 중요하다.Due to the characteristics of the multilayered printed circuit board for Bluetooth according to the present invention, the diameter of the outer layer hole is 0.1m / m, the BGA ball printing area is narrow, the PAD to be mounted on the outside of the product is very close to the outer area, Since the distance between the circuit and the circuit is also adjacent, the coating thickness of the ink is very important.
이에 의해, 작업 조건 또한 엄격하게 관리되어야 한다. 인쇄 도포시의 잉크 두께는 Cu 표면상의 두께는 30~35㎛, Epoxy 상의 잉크 두께는 35~40㎛가 보장되어야 한다.By this, the working conditions must also be strictly controlled. Ink thickness during printing application should be 30 ~ 35㎛ the thickness on Cu surface and 35 ~ 40㎛ the ink thickness on epoxy.
따라서, 솔더 레지스트 잉크(340)로 최외층을 인쇄하는 공정 조건은, 270±10poise의 주제와, 30±10poise의 경화제가 혼합하여 150±10poise의 잉크 점도를 갖고, 1.48 ~ 1.52의 비중을 갖는 110 ~ 120 mesh의 인쇄 실크 스크린을, 78℃에서 15분 ~ 20분 동안 1차 조기경화(pre-curing) 및 78℃에서 15분 ~ 20분 동안 2차 조기경화(pre-curing)를 2회 반복 후, 150℃에서 70분 ~ 75분 동안 후경화(post-curing)를 수행하는 건조와, 420 ~ 550 mJ/㎝2의 광량으로 조사되는 노광과, 30℃ ± 1℃의 온도인 1wt%의 탄산나트륨 현상액이 50 ~ 65분 동안 1.8 ~ 2.5kgf/㎝2의 스프레이 압력으로 분사되는 현상에 의해 수행된다.Therefore, the process conditions for printing the outermost layer with the solder resist ink 340 are 110 with the ink viscosity of 150 ± 10 poise by mixing the main material of 270 ± 10 poise and the curing agent of 30 ± 10 poise, and having a specific gravity of 1.48 to 1.52. Printed silk screens of ˜120 mesh were repeated twice pre-curing at 78 ° C. for 15-20 minutes and second pre-curing at 78 ° C. for 15-20 minutes. After drying at 150 ° C. for 70 minutes to 75 minutes, the exposure was irradiated with an amount of light of 420 to 550 mJ / cm 2 , and the temperature of 30 ° C. ± 1 ° C. of 1wt% The sodium carbonate developer is carried out by spraying at a spray pressure of 1.8 to 2.5 kgf / cm 2 for 50 to 65 minutes.
한편, 솔더 레지스트 잉크(340)로 최외층을 인쇄하는 공정 이후, 200±10poise의 주제와, 150±10poise의 경화제가 혼합하여 170±10poise의 잉크 점도를 갖고, 1.5 ~ 1.6의 비중을 갖는 110 ~ 120 mesh의 인쇄 실크 스크린을, 78℃에서 15분 ~ 20분 동안 1차 조기경화(pre-curing) 및 78℃에서 15분 ~ 20분 동안 2차 조기경화(pre-curing)를 2회 반복 후, 150℃에서 65분 ~ 75분 동안 후경화(post-curing)를 수행하는 건조와, 650 ~ 820 mJ/㎝2의 광량으로 조사되는 노광과, 30℃ ± 1℃의 온도인 1wt%의 탄산나트륨 현상액이 20분 동안 1.8 ~ 2.5kgf/㎝2의 스프레이 압력으로 분사되는 현상에 의해 수행되는 마킹 인쇄 공정을 더 수행한다.On the other hand, after the process of printing the outermost layer with the solder resist ink 340, the main material of 200 ± 10 poise and the curing agent of 150 ± 10 poise is mixed to have an ink viscosity of 170 ± 10 poise, 110 ~ having a specific gravity of 1.5 ~ 1.6 Printed silk screens of 120 mesh were subjected to two rounds of first precuring at 78 ° C. for 15-20 minutes and second precuring at 78 ° C. for 15-20 minutes. , Post-curing at 150 ° C. for 65-75 minutes, exposure to light quantity of 650-820 mJ / cm 2 , exposure to 1650% sodium carbonate at a temperature of 30 ° C. ± 1 ° C. The marking printing process is further performed by the developer being sprayed at a spray pressure of 1.8 to 2.5 kgf / cm 2 for 20 minutes.
본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 용도는 스마트폰과 같은 이동통신단말 또는 이동 수단인 자동차 등에서 사용 빈도가 높고, 특히 무선상의 통신 중에 서로의 주파수 간에 발생 될 수 있는 통신 장애에 매우 민감하다. 따라서, 각자의 통신 접근성에 가장 부합한 송수신 능력 및 음질 등에 민감하다. 이에 의해, 마킹 인쇄시 특정한 홀 또는 비아홀에 마킹 잉크로 홀 랜드를 도포하는 것이 바람직하다.The use of the multi-layered printed circuit board for Bluetooth according to the present invention is frequently used in a mobile communication terminal such as a smartphone or a vehicle, which is a means of transportation, and is particularly sensitive to communication disturbances that may occur between each other during wireless communication. . Therefore, it is sensitive to transmission and reception capability and sound quality that best match each communication accessibility. Thereby, it is preferable to apply a hole land with marking ink to a specific hole or via hole in marking printing.
또한, 마킹 인쇄 공정 이후, 260℃의 컨베이어 챔버(conveyor chamber)에서 4.3분 동안 리플로우(reflow) 공정을 더 수행한다.In addition, after the marking printing process, a reflow process is further performed for 4.3 minutes in a conveyor chamber at 260 ° C.
본 발명에 따른 인쇄회로기판의 내층 구조상 함습되어 있을 수 있는 수분 등의 성분을 제거하고, 특히 OXID 층의 특성상 함습율이 높을 수 있기 때문에 합습율의 량을 완전히 제거하여 신뢰성 검증 및 내구성 검증을 위한 260℃의 고열의 컨베이어 챔버(Conveyor chamber)를 통과시킴으로써 제품상의 불량 발생 원인을 제거하는 리플로우 공정을 더 수행할 수 있다.Removed components such as moisture that may be condensed in the inner layer structure of the printed circuit board according to the present invention, in particular, because the moisture content of the OXID layer can be high because the moisture content is completely removed to verify the reliability and durability verification By passing through a high temperature conveyor chamber at 260 ° C., a reflow process for eliminating the cause of product defects may be further performed.
상기의 리플로우 공정시에 제품 내/외부 상에 디라미네이션(Delamination) 또는 블리스터(Blister), 세퍼레이션(Separation) 등의 불량이 없어야 된다.During the reflow process, there should be no defects such as delamination, blister, and separation on the inside and outside of the product.
상기 리플로우 공정 이후, 상기 마킹 인쇄 공정에 의해 형성된 표면에 JET Scrubbing(JET 연마) 및 Ultrasonic cleaning(초음파 세척) 공정을 각각 더 수행하되, JET Scrubbing 및 Ultrasonic cleaning 공정은 1.8m/min ~ 2.3m/min의 속도로 이동하는 컨베이어에서, 45㎖/l의 H2SO4(95%)와 DI water(초순수물)을 포함하는 산수세(Acid Rinse)와, 1.8 ~ 2.3m/min의 컨베이어 속도에서 1.6㎏f/㎝2 ~ 2.3㎏f/㎝2의 압력으로 산화알루미늄(Al2O3(#360))을 분사하는 JET Scrubbing(JET 연마) 및 1200Watt × 4zone/4㎑에서 시수 5단린스 후에 DI water(3단 린스)로 세척하고 Ultrasonic cleaning(초음파 세척)을 수행 후 80℃ ~ 95℃로 건조함으로써 상기 마킹 인쇄 공정에 의해 형성된 표면에 이물질을 제거하고 조도를 형성한다.After the reflow process, the JET Scrubbing and Ultrasonic cleaning processes are further performed on the surfaces formed by the marking printing process, respectively, but the JET Scrubbing and Ultrasonic cleaning processes are 1.8 m / min to 2.3 m /. At conveyors moving at min speed, Acid Rinse containing 45 ml / l H 2 SO 4 (95%) and DI water (ultra pure water), and at conveyor speeds of 1.8 to 2.3 m / min. After JET Scrubbing (JET polishing) spraying aluminum oxide (Al 2 O 3 (# 360)) at a pressure of 1.6 kgf / cm 2 to 2.3 kgf / cm 2 and 5 hours of rinse at 1200 Watt × 4 zone / 4㎑ After washing with DI water (three-stage rinse), performing an Ultrasonic cleaning, and drying at 80 ° C to 95 ° C to remove foreign substances and form roughness on the surface formed by the marking printing process.
즉, 이러한 JET Scrubbing(JET 연마) 및 Ultrasonic cleaning(초음파 세척) 공정은 인쇄, 마킹, 리플로우 공정 등을 진행하면서 표면 산화가 심하게 형성되고, 잉크류의 잔사 및 잉크 소재에 포함된 잔유물 등을 Al2O3로 제거하며, 차기 공정인 니켈 도금과 금도금 공정 과정에서의 구리 표면으로 노출된 부위에 거칠기(조도)를 인위적으로 조성시켜 줌으로써, 밀착력을 증가시키기 위해 표면적을 향상시키며 산수세(Acid Rinse)를 병행하여 노출된 구리 표면을 클리닝(Cleaning) 시켜줌과 더불어 노출된 회로의 에지(Edge) 부위를 매끄럽게 라운딩(Rounding)시켜주게 된다.That is, in the JET Scrubbing and Ultrasonic cleaning processes, surface oxidation is severely formed during printing, marking, and reflow processes, and the residues of the ink and the residues contained in the ink material are Al. 2 O 3 is removed and artificial roughness (roughness) is formed on the exposed parts of the copper surface during the next nickel plating and gold plating process, thereby improving surface area and increasing acid wash (Acid Rinse). In addition to cleaning the exposed copper surface in parallel, the edges of the exposed circuits are smoothly rounded.
다음, 도 16은 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판 제조 방법의 제 15 공정을 나타내는 단면도이다.Next, Figure 16 is a cross-sectional view showing a fifteenth step of the method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth according to the present invention.
도 16을 참조하면, 관통홀(B)의 홀랜드 상에 니켈 도금층(350) 및 금 도금층(360)을 순차적으로 형성한다.Referring to FIG. 16, the nickel plating layer 350 and the gold plating layer 360 are sequentially formed on the holland of the through hole B. FIG.
여기서, 니켈 도금층(350)은, 45g/l의 염화 니켈(Nickel Chloride)과, 100g/l의 시클로프로필아민 포스폰산(aminotrimethylen phosphonic acid)과, 100g/l의 황산 니켈(Nickel sulfate)과, 52g/l의 아스코브산(Ascorbic acid)과, 52g/l의 붕산(Boric acid)과, 0.12g/l의 광택제를 포함하는 니켈 도금액을 50℃의 온도에서 0.2 ~ 0.4 A/dm2의 전류 밀도로 10분 ~ 15분 동안 전기 도금하여 3㎛ ~ 4㎛의 두께로 형성하고,Here, the nickel plating layer 350, 45g / l Nickel Chloride, 100g / l cyclopropylamine phosphonic acid, 100g / l Nickel sulfate, 52g A nickel plating solution containing / l ascorbic acid, 52 g / l boric acid, and 0.12 g / l brightener at a temperature of 0.2 to 0.4 A / dm 2 at a temperature of 50 ° C. Electroplating for 10-15 minutes with a thickness of 3㎛ ~ 4㎛,
또한, 금 도금층(360)은, 16g/l의 칼륨 금 시안화물(Potassium gold cyanide)과, 116g/l의 구연산칼륨(Tripotassium citrate monohydrate)과, 63g/l의 구연산 무수물(Citric anhydride)과, 0.53g/l의 헥사메틸렌테트라민(Hexamethylene tetramine)과, 0.53g/l의 3-피라딘 카르복시산(3-pyridine carboxylic acid)을 포함하는 금(soft gold) 도금액을 53℃의 온도와, 4.5pH에서 12A/dm2의 전류 밀도로 9분 ~ 12분 동안 전기 도금하여 0.2㎛ ~ 0.4㎛의 두께로 형성한다.In addition, the gold plating layer 360 is 16 g / l Potassium gold cyanide, 116 g / l Tripotassium citrate monohydrate, 63 g / l Citric anhydride, and 0.53 A soft gold plating solution containing g / l hexamethylene tetramine and 0.53 g / l 3-pyridine carboxylic acid was prepared at a temperature of 53 ° C. and 4.5 pH. It is electroplated for 9 to 12 minutes at a current density of 12 A / dm 2 to form a thickness of 0.2 μm to 0.4 μm.
이와 같은 본 발명에 따른 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 특성상 무선 통신의 통신 수단으로서 전류 밀도와 주파수의 한계 및 주파수와의 접근성이 매우 중요하다. 미세한 노이즈의 발생 등으로 통신 장애가 야기될 수 있으므로, 니켈 도금과 금도금 원자재의 불순물 함유량이 없는 고순도 원료를 채택으로써 신뢰성과 기능성이 뛰어난 각각의 도금 품질과 두께를 획득할 수 있다. Due to the characteristics of the multilayered printed circuit board for Bluetooth according to the present invention, as a communication means of wireless communication, the limitation of current density and frequency and accessibility with frequency are very important. Since communication disturbance may be caused due to the generation of fine noise, the plating quality and thickness excellent in reliability and functionality can be obtained by adopting a high purity raw material without the impurity content of nickel plating and gold plating raw materials.
이후, 외형 가공(CNC router M/C)을 수행한다.After that, the external machining (CNC router M / C) is performed.
이때, 스펙에 준한 외형 가공을 실시하고, 최대의 허용 공차는 ±0.5m/m로 블루투스 특성상 부품 삽입 및 칩 본딩(chip bonding) 이후에 AL Case에 장착될 정도의 사이즈가 되어야 한다.At this time, the external processing according to the specification should be carried out, and the maximum allowable tolerance should be ± 0.5m / m, which is enough to be installed in the AL case after inserting and chip bonding due to the characteristics of Bluetooth.
다음, Auto bare boad test를 수행한다.Next, run the Auto bare boad test.
Auto bare boad test는 회로 기판의 전자적인 신뢰성 검증용 bare board test로써 회로의 내, 외층의 open, short 및 Hole 내부의 open 상태 등도 검출이 가능하다. 단, 블루투스 PCB 특성상 BGA ball 및 PAD point 등에 bare board test용 pin이 사용되는데, pin 자국이 bonding 부위의 side에 찍혀서 cream solder가 흘러내려가서는 안된다.The auto bare boad test is a bare board test for electronic reliability verification of circuit boards and can detect open, short, and open states inside and outside the circuit. However, due to the characteristics of the Bluetooth PCB, bare board test pins are used for BGA ball and PAD points, and the cream marks should not flow down due to the pin marks on the side of the bonding site.
이러한 Auto bare boad test의 수행 조건은 다음과 같다.The execution conditions of this auto bare boad test are as follows.
- Test voltage = 250volt-Test voltage = 250volt
- Contimuity Resistance = 50ΩContimuity Resistance = 50Ω
- Isolation Resitance = 20MΩ-Isolation Resitance = 20MΩ
이후, Baking을 수행한다.After that, Baking is performed.
베이킹(baking)은 본 발명의 불량 유무의 최종 단계에 근접한 공정으로써, 본 제품의 중간 공정 중에 250℃의 고온 및 리플로우(Reflow) 공정에서의 반복적인 검증을 하였으나, 제품 내부에 수분 함습 유무가 매우 민감하다. 따라서, 제품 내부에 함습율이 있을 경우 디라미네이션(Delamination)이 발생하므로, 제품 내부의 함습율이 zero point가 되도록 최종적으로 베이킹(baking)을 실시하고 제품의 휨(twist) 발생도 교정하도록 할 수 있다.Baking is a process that is close to the final stage of the present invention, and repeated verification in the high temperature and reflow process of 250 ℃ during the intermediate process of the product, but the presence of moisture moisture inside the product Very sensitive. Therefore, when there is a moisture content inside the product, delamination occurs, so that the final baking is carried out so that the moisture content inside the product becomes zero point, and the occurrence of twist of the product can be corrected. have.
이러한 베이킹의 작업 조건은 다음과 같다.The working conditions of this baking are as follows.
- Box oven 사용-Box oven
- Baking temp = 130℃Baking temp = 130 ℃
- Time = 5시간 이상-Time = 5 hours or more
- Stacke = 25kit(25pcs)Stacke = 25kit (25pcs)
- Kit 상부에 교정물 중량 = 100kg/㎡-Calibration weight on top of kit = 100kg / ㎡
마지막으로, 외관 치수, 검사 및 출하를 수행한다.Finally, the external dimensions, inspection and release are carried out.
즉, 스펙(Spec)에 준한 외관 치수 외의 검사 및 출하를 수행하게 된다.In other words, inspection and shipment other than the external dimensions according to the specification are performed.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The above description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and those skilled in the art to which the present invention pertains may make various modifications and changes without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention but to describe the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be interpreted by the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be construed as being included in the scope of the present invention.

Claims (18)

  1. 에폭시층(100)의 양면에 적층된 제 1 동박(110) 상에 제 1 동도금층(120)을 적층하는 제 1 단계(S100)와,A first step (S100) of laminating the first copper plating layer 120 on the first copper foil 110 laminated on both surfaces of the epoxy layer 100,
    상기 제 1 동박(110) 및 상기 제 1 동도금층(120)에 내층 이미지 공정을 수행하여 소정의 회로 패턴을 형성하는 제 2 단계(S200)와,A second step (S200) of forming a predetermined circuit pattern by performing an inner layer imaging process on the first copper foil 110 and the first copper plating layer 120;
    양면에 소정의 회로 패턴이 형성된 상기 에폭시층(100) 및 소정의 회로 패턴 상에 제 2 동박(201)이 양 표면에 형성된 제 1 프리프레그층(200)을 각각 적층하되, 상기 제 1 프리프레그층(200)의 일 표면에 형성되는 상기 제 2 동박(201)이 상기 에폭시층(100) 및 소정의 회로 패턴에 각각 접하도록 형성하는 제 3 단계(S300)와,The first prepreg layer 200 in which the second copper foil 201 is formed on both surfaces of the epoxy layer 100 having a predetermined circuit pattern formed on both surfaces and the predetermined circuit pattern is laminated, respectively, and the first prepreg A third step (S300) of forming the second copper foil 201 formed on one surface of the layer 200 to be in contact with the epoxy layer 100 and a predetermined circuit pattern, respectively;
    상면과 하면을 관통하는 관통홀(A)을 형성하는 제 4 단계(S400)와,A fourth step S400 of forming a through hole A penetrating the upper and lower surfaces;
    상기 관통홀(A)의 내면 및 상기 제 1 프리프레그층(200)의 양표면에 형성된 상기 제 2 동박(201) 상에 무전해 동도금층(210)을 형성하고, 상기 무전해 동도금층(210) 상에 전해 동도금층(220)을 형성하는 제 5 단계(S500)와,An electroless copper plating layer 210 is formed on the second copper foil 201 formed on the inner surface of the through hole A and both surfaces of the first prepreg layer 200, and the electroless copper plating layer 210 is formed. The fifth step (S500) of forming an electrolytic copper plating layer 220 on the),
    상기 관통홀(A) 내에 플러깅 잉크(plugging ink)(230)로 홀 플러깅(hole plugging)을 수행하는 제 6 단계(S600)와,A sixth step (S600) of performing hole plugging with plugging ink 230 in the through hole A;
    상기 제 2 동박(201), 상기 무전해 동도금층(210) 및 상기 전해 동도금층(220)에 외층 이미지 공정을 수행하여 소정의 회로 패턴을 형성하는 제 7 단계(S700)와,A seventh step S700 of forming a predetermined circuit pattern by performing an outer layer imaging process on the second copper foil 201, the electroless copper plating layer 210, and the electrolytic copper plating layer 220;
    양면에 소정의 회로 패턴이 형성된 상하부의 상기 제 1 프리프레그층(200) 및 소정의 회로 패턴과, 홀랜드 상에 제 3 동박(301)이 양 표면에 형성된 제 2 프리프레그층(300)을 각각 적층하되, 상기 제 2 프리프레그층(300)의 일 표면에 형성되는 제 3 동박(301)이 상기 제 1 프리프레그층(200) 및 소정의 회로 패턴과, 홀랜드 상에 각각 접하도록 형성하는 제 8 단계(S800)와,The first prepreg layer 200 and the predetermined circuit pattern on the upper and lower portions, each having a predetermined circuit pattern formed on both surfaces thereof, and the second prepreg layer 300 having the third copper foil 301 formed on both surfaces thereof, respectively, in Holland. A third copper foil 301 formed on one surface of the second prepreg layer 300 so as to be in contact with the first prepreg layer 200 and a predetermined circuit pattern on the holland. With eight steps (S800),
    상면과 하면을 관통하는 관통홀(B)을 형성하고, 상하부의 상기 제 3 동박을 갖는 제 2 프리프레그층(300)의 소정 영역에 블라인드 비아홀(C)을 각각 형성하는 제 9 단계(S900)와,A ninth step S900 of forming a through hole B penetrating the upper and lower surfaces, and forming a blind via hole C in a predetermined region of the second prepreg layer 300 having the upper and lower third copper foils. Wow,
    상기 관통홀(B)의 내면 및 블라인드 비아홀(C)의 내면과, 상기 제 2 프리프레그층(300)의 타 표면에 형성된 제 3 동박(301) 상에 무전해 동도금층(310)을 형성하고, 상기 무전해 동도금층(310) 상에 전해 동도금층(320)을 형성하는 제 10 단계(S1000)와,The electroless copper plating layer 310 is formed on the inner surface of the through hole B and the inner surface of the blind via hole C and the third copper foil 301 formed on the other surface of the second prepreg layer 300. A tenth step (S1000) of forming an electrolytic copper plating layer 320 on the electroless copper plating layer 310;
    상기 관통홀(B) 내에 플러깅 잉크(330)로 홀 플러깅(hole plugging)을 수행하는 제 11 단계(S1100)와,An eleventh step (S1100) of performing hole plugging with the plugging ink 330 in the through hole B;
    상기 제 3 동박(301), 상기 무전해 동도금층(310) 및 상기 전해 동도금층(320)에 최외층 이미지 공정을 수행하여 소정의 회로 패턴을 형성하는 제 12 단계(S1200)와,A twelfth step (S1200) of forming a predetermined circuit pattern by performing an outermost image process on the third copper foil 301, the electroless copper plating layer 310, and the electrolytic copper plating layer 320;
    상기 플러깅 잉크(330) 및 상기 관통홀(B)의 홀랜드 이외의 영역에 솔더 레지스트 잉크(340)로 최외층을 인쇄하는 제 13 단계(S1300)와,A thirteenth step (S1300) of printing the outermost layer with the solder resist ink 340 in regions other than the holing ink 330 and the through hole B;
    상기 관통홀(B)의 홀랜드 상에 니켈 도금층(350) 및 금 도금층(360)을 순차적으로 형성하는 제 14 단계(S1400)를 포함하는 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법.Method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth comprising a fourteenth step (S1400) to sequentially form a nickel plating layer 350 and a gold plating layer 360 on the hole of the through hole (B).
  2. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 에폭시층(100)은 0.2m/m(1oz)의 CCL(동박적층판)로 열팽창계수가 CTE 45ppm/℃이고, 유리전이온도가 TG 150℃이며, 열분해 온도가 TD 370℃이고, 1/3oz(12㎛)의 제 1 동박(110)을 양면에 포함하는 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법.The epoxy layer 100 is 0.2m / m (1oz) CCL (copper laminate) of CTE thermal expansion coefficient of 45ppm / ℃, glass transition temperature of TG 150 ℃, thermal decomposition temperature of TD 370 ℃, 1 / 3oz The manufacturing method of the multilayer printed circuit board for Bluetooth which includes the (12 micrometers) 1st copper foil 110 on both surfaces.
  3. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 내층 이미지 공정은,The inner layer imaging process,
    상기 제 1 동박(110) 상에 포토레지스트(PR)를 적층하고 95℃ ~ 120℃(±5℃)의 롤러 온도와, 0.2 ~ 0.4MPa의 롤러 압력과, 0.9 ~ 1.2m/min의 롤러 속도를 갖는 롤러에 의해, 상기 포토레지스트 상에 소정 형상의 회로 패턴이 형성된 드라이 필름을 적층하는 적층(Lamination) 공정(A1)과, 상기 포토레지스트에 소정 형상의 회로 패턴이 형성되도록 8㎾의 평행광 노광기에 의해 20 ~ 55 mJ/㎠의 광량으로 조사되는 광을 소정 형상의 회로 패턴이 형성된 상기 드라이 필름에 조사하는 노광(Exposure) 공정(B1)과, 25℃ ~ 30℃의 온도인 0.5% ~ 1.0%(VOL)의 탄산나트륨 현상액이 0.10MPa ~ 0.18MPa의 스프레이 압력으로 분사하여 소정 형상의 회로 패턴을 제외한 영역의 포토레지스트를 제거하는 현상(Developing) 공정(C1)과, 48℃ ~ 52℃의 온도와, 1.19±0.02의 비중(20℃)을 갖는 150g/l ~ 220g/l의 구리 금속(copper metal) 에칭액이 1,5kgf/㎝2(±1.0)의 압력으로 분사되어 소정 형상의 회로 패턴을 제외한 영역의 상기 제 1 동박(110)이 제거되는 식각(Etching) 공정(D1)과, 48℃ ~ 58℃의 온도인 2% ~ 4.2%(VOL)의 수산화나트륨 박리액이 0.14MPa ~ 0.16MPa의 스프레이 압력으로 분사되어 소정 형상의 회로 패턴 상에 남아있는 포토레지스트를 제거하는 박리(Stripping) 공정(E1)을 각각 수행하여 소정의 내층 회로 및 홀랜드를 형성하는 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법.The photoresist PR was laminated on the first copper foil 110, and the roller temperature was 95 ° C to 120 ° C (± 5 ° C), the roller pressure was 0.2 to 0.4 MPa, and the roller speed was 0.9 to 1.2 m / min. A lamination step (A1) of laminating a dry film having a circuit pattern having a predetermined shape on the photoresist by a roller having a film; and parallel light of 8 되도록 so that a circuit pattern having a predetermined shape is formed on the photoresist. An exposure step (B1) of irradiating light irradiated with an amount of light of 20 to 55 mJ / cm 2 to the dry film on which a circuit pattern of a predetermined shape is formed, and 0.5% to 25 ° C to 30 ° C temperature. 1.0% (VOL) of sodium carbonate developer is sprayed at a spray pressure of 0.10 MPa to 0.18 MPa to remove the photoresist in the region excluding the circuit pattern of a predetermined shape (Developing) process (C1), and 48 ℃ to 52 ℃ 150 g / l to 220 g / l copper metal with temperature and specific gravity (20 ° C) of 1.19 ± 0.02 r metal) An etching process (D1) in which etching liquid is injected at a pressure of 1,5 kgf / cm 2 (± 1.0) to remove the first copper foil 110 in a region excluding a circuit pattern having a predetermined shape, and 48 2% to 4.2% (VOL) of sodium hydroxide stripping solution, which is a temperature of ℃ to 58 ° C, is sprayed at a spray pressure of 0.14 MPa to 0.16 MPa to remove photoresist remaining on a circuit pattern of a predetermined shape. A method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth, which performs step (E1) to form a predetermined inner layer circuit and a hole, respectively.
  4. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 무전해 동도금층(210)은 77g/l의 황산구리(copper sulfate)와, 145g/l의 에틸렌디아민사아세트산(EDTA)과, 28g/l의 포름알데히드(HCHO)와, 39g/l의 수산화나트륨(NaOH)과, 0.12g/l의 폴리에틸렌글리콜(PEG)과, 78㎎/l의 비피리딜(Bipyridyl)을 포함하는 도금액으로 38℃의 온도에서 35분 동안 수행함으로써 0.8㎛ ~ 1.3㎛의 두께로 형성하는 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법.The electroless copper plating layer 210 includes 77 g / l copper sulfate, 145 g / l ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA), 28 g / l formaldehyde (HCHO), and 39 g / l sodium hydroxide. (NaOH), 0.12 g / l polyethylene glycol (PEG) and 78 mg / l bipyridyl (Bipyridyl) was carried out for 35 minutes at a temperature of 38 ℃ with a plating solution containing a thickness of 0.8 ㎛ ~ 1.3 ㎛ Method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth formed by.
  5. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 전해 동도금층(220)은 178g/l의 반탑식 황산(Surfuric Acid)과, 78g/l의 황산구리(copper sulfate)와, 19mg/l의 첨가제(additive)와, 48㎎/l의 균염제(levelling agent)와, 52㎎/l의 광택제(Brightner)를 포함하는 도금액을 21℃의 온도로 80분 동안 0.85 A/dm2 으로 전기 도금하여 18㎛ ~ 20㎛의 두께로 형성하는 조건으로 수행하는 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법.The electrolytic copper plating layer 220 is 178 g / l of semi-sulfuric acid (Surfuric Acid), 78 g / l copper sulfate (copper sulfate), 19 mg / l additive (additive), 48 mg / l leveling agent (leveling) agent) and a plating solution containing 52 mg / l of Brightner are electroplated at 0.85 A / dm 2 for 80 minutes at a temperature of 21 ° C. to form a thickness of 18 μm to 20 μm. Method of manufacturing a multilayer printed circuit board for use.
  6. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 제 6 단계(S600)에서,In the sixth step (S600),
    상기 홀 플러깅은 300P(25℃) ~ 500P(25℃)의 점도를 갖는 잉크를 150℃ ~ 155℃의 경화 조건(box-oven)에서 55분의 경화시간 동안 40CTE(열팽창계수)와, 150℃의 TG(유리전이온도)의 조건으로 수행되는 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법.The hole plugging is carried out at 40 CTE (coefficient of thermal expansion) and 150 ° C. for 55 minutes of curing time at 150 ° C. to 155 ° C. (box-oven). Method of manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth is carried out under the conditions of TG (glass transition temperature).
  7. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 외층 이미지 공정은,The outer layer imaging process,
    상기 무전해 동도금층(210), 상기 전해 동도금층(220) 및 상기 플러깅 잉크(230) 상에 포토레지스트(PR)를 적층하고 95℃ ~ 120℃(±5℃)의 롤러 온도와, 0.2 ~ 0.4MPa의 롤러 압력과, 0.9 ~ 2.2m/min의 롤러 속도를 갖는 롤러에 의해, 상기 포토레지스트 상에 소정 형상의 회로 패턴이 형성된 드라이 필름을 적층하는 적층(Lamination) 공정(a1)과, 상기 포토레지스트에 소정 형상의 회로 패턴이 형성되도록 10㎾의 평행광 노광기에 의해 20 ~ 55 mJ/㎠의 광량으로 조사되는 광을 소정 형상의 회로 패턴이 형성된 상기 드라이 필름에 조사하는 노광(Exposure) 공정(b1)과, 25℃ ~ 30℃의 온도인 0.5% ~ 1.0%(VOL)의 탄산나트륨 현상액이 0.10MPa ~ 0.18MPa의 스프레이 압력으로 분사되어 소정 형상의 회로 패턴을 제외한 영역의 포토레지스트를 제거하는 현상(Developing) 공정(c1)과, 48℃ ~ 52℃의 온도와, 1.19±0.02의 비중(20℃)을 갖는 150g/l ~ 210g/l의 구리 금속(copper metal) 에칭액이 1,5kgf/㎝2(±1.0)의 압력으로 분사되어 소정 형상의 회로 패턴을 제외한 영역의 무전해 동도금층(210) 및 전해 동도금층(220)이 제거되는 식각(Etching) 공정(d1)과, 45℃ ~ 58℃의 온도인 2% ~ 4.0%(VOL)의 수산화나트륨 박리액이 0.14MPa ~ 0.17MPa의 스프레이 압력으로 분사되어 소정 형상의 회로 패턴 상에 남아있는 포토레지스트를 제거하는 박리(Stripping) 공정(e1)을 각각 수행하여 소정의 외층 회로 및 홀랜드를 형성하는 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법.The photoresist PR is laminated on the electroless copper plating layer 210, the electrolytic copper plating layer 220, and the plugging ink 230, and a roller temperature of 95 ° C. to 120 ° C. (± 5 ° C.), and 0.2 to Lamination process (a1) of laminating | stacking the dry film in which the circuit pattern of a predetermined shape was formed on the said photoresist by the roller which has a roller pressure of 0.4 MPa and a roller speed of 0.9-2.2 m / min, and the said An exposure process of irradiating the dry film having a predetermined circuit pattern with light irradiated with a light amount of 20 to 55 mJ / cm 2 by a 10 평행 parallel light exposure machine to form a circuit pattern having a predetermined shape in the photoresist. (b1) and 0.5% to 1.0% (VOL) of sodium carbonate developer at a temperature of 25 ° C to 30 ° C are sprayed at a spray pressure of 0.10 MPa to 0.18 MPa to remove photoresist in an area excluding a circuit pattern of a predetermined shape. Developing process (c1), and the temperature of 48 ℃ ~ 52 ℃, 150g / l to 210g / l copper metal etching solution having a specific gravity (20 ° C) of 1.19 ± 0.02 is injected at a pressure of 1,5kgf / cm 2 (± 1.0) to exclude a circuit pattern having a predetermined shape Etching process (d1) in which the electroless copper plating layer 210 and the electrolytic copper plating layer 220 are removed, and 2% to 4.0% (VOL) of sodium hydroxide stripping liquid having a temperature of 45 ° C to 58 ° C Multilayer printing for Bluetooth, which is sprayed at a spray pressure of 0.14 MPa to 0.17 MPa to perform a stripping process (e1) for removing photoresist remaining on a circuit pattern of a predetermined shape to form a predetermined outer layer circuit and a hole, respectively. Method of manufacturing a circuit board.
  8. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein
    상기 외층 이미지 공정 이후, 1.3m/min ~ 1.8m/min의 속도로 이동하는 컨베이어에서, 90ml/l의 95% 황산(H2SO4)과, 58ml/l의 35% 과산화수소(H2O2)와, 소정의 초순수(DI water)가 포함되는 마이크로 세미 에칭액을 이용하되, 상기 마이크로 세미 에칭액이 1.031 ~ 1.041의 비중과, 3.00 이하의 pH와, 28℃(±5℃)의 온도와, 1.8㎛ ~ 2.5㎛의 에칭률을 갖는 조건으로 제 1 마이크로 세미 에칭 공정(micro semi etching)을 수행하는 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법.90 ml / l of 95% sulfuric acid (H 2 SO 4 ) and 58 ml / l of 35% hydrogen peroxide (H 2 O 2 ) on a conveyor moving at a speed of 1.3 m / min to 1.8 m / min after the outer layer imaging process And a micro semi-etching solution containing a predetermined amount of ultrapure water (DI water), wherein the micro semi-etching solution has a specific gravity of 1.031 to 1.041, a pH of 3.00 or less, a temperature of 28 ° C (± 5 ° C), and 1.8 A method of manufacturing a multilayered printed circuit board for Bluetooth, which performs a first micro semi etching process under conditions having an etching rate of μm to 2.5 μm.
  9. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 무전해 동도금층(310)은 77g/l의 황산구리(copper sulfate)와, 145g/l의 에틸렌디아민사아세트산(EDTA)과, 28g/l의 포름알데히드(HCHO)와, 39g/l의 수산화나트륨(NaOH)과, 0.12g/l의 폴리에틸렌글리콜(PEG)과, 78㎎/l의 비피리딜(Bipyridyl)을 포함하는 도금액으로 38℃의 온도에서 35분 동안 수행함으로써 0.8㎛ ~ 1.3㎛의 두께로 형성하는 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법.The electroless copper plating layer 310 includes 77 g / l copper sulfate, 145 g / l ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA), 28 g / l formaldehyde (HCHO), and 39 g / l sodium hydroxide (NaOH), 0.12 g / l polyethylene glycol (PEG) and 78 mg / l bipyridyl (Bipyridyl) was carried out for 35 minutes at a temperature of 38 ℃ with a plating solution containing a thickness of 0.8 ㎛ ~ 1.3 ㎛ Method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth formed by.
  10. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 전해 동도금층(320)은 178g/l의 반탑식 황산(Surfuric Acid)과, 78g/l의 황산구리(copper sulfate)와, 19mg/l의 첨가제(additive)와, 48㎎/l의 균염제(levelling agent)와, 52㎎/l의 광택제(Brightner)를 포함하는 도금액을 21℃의 온도로 80분 동안 0.85 A/dm2 으로 전기 도금하여 18㎛ ~ 20㎛의 두께로 형성하는 조건으로 수행하는 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법.The electrolytic copper plating layer 320 is 178 g / l of semi-sulfuric acid (Surfuric Acid), 78 g / l copper sulfate (copper sulfate), 19 mg / l additive (additive), 48 mg / l leveling agent (leveling) agent) and a plating solution containing 52 mg / l of Brightner are electroplated at 0.85 A / dm 2 for 80 minutes at a temperature of 21 ° C. to form a thickness of 18 μm to 20 μm. Method of manufacturing a multilayer printed circuit board for use.
  11. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 제 11 단계(S1100)에서,In the eleventh step (S1100),
    상기 홀 플러깅은 300P(25℃) ~ 500P(25℃)의 점도를 갖는 잉크를 150℃ ~ 155℃의 경화 조건(box-oven)에서 55분의 경화시간 동안 40CTE(열팽창계수)와, 150℃의 TG(유리전이온도)의 조건으로 수행되는 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법.The hole plugging is carried out at 40 CTE (coefficient of thermal expansion) and 150 ° C. for 55 minutes of curing time at 150 ° C. to 155 ° C. (box-oven). Method of manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth is carried out under the conditions of TG (glass transition temperature).
  12. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 최외층 이미지 공정은,The outermost image process,
    상기 제 3 동박(301), 상기 무전해 동도금층(310) 및 상기 전해 동도금층(320) 상에 포토레지스트(PR)를 적층하고 95℃ ~ 120℃(±5℃)의 롤러 온도와, 0.2 ~ 0.4MPa의 롤러 압력과, 0.9 ~ 2.2m/min의 롤러 속도를 갖는 롤러에 의해, 상기 포토레지스트 상에 소정 형상의 회로 패턴이 형성된 드라이 필름을 적층하는 적층(Lamination) 공정(1)과, 상기 포토레지스트에 소정 형상의 회로 패턴이 형성되도록 10㎾의 평행광 노광기에 의해 20 ~ 55 mJ/㎠의 광량으로 조사되는 광을 소정 형상의 회로 패턴이 형성된 상기 드라이 필름에 조사하는 노광(Exposure) 공정(2)과, 25℃ ~ 30℃의 온도인 0.5% ~ 1.0%(VOL)의 탄산나트륨 현상액이 0.10MPa ~ 0.18MPa의 스프레이 압력으로 분사되어 소정 형상의 회로 패턴을 제외한 영역의 포토레지스트를 제거하는 현상(Developing) 공정(3)과, 48℃ ~ 52℃의 온도와, 1.19±0.02의 비중(20℃)을 갖는 150g/l ~ 210g/l의 구리 금속(copper metal) 에칭액이 1,5kgf/㎝2(±1.0)의 압력으로 분사되어 소정 형상의 회로 패턴을 제외한 영역의 제 3 동박(301), 무전해 동도금층(310) 및 전해 동도금층(320)이 제거되는 식각(Etching) 공정(4)과, 45℃ ~ 58℃의 온도인 2% ~ 4.0%(VOL)의 수산화나트륨 박리액이 0.14MPa ~ 0.17MPa의 스프레이 압력으로 분사되어 소정 형상의 회로 패턴 상에 남아있는 포토레지스트를 제거하는 박리(Stripping) 공정(5)을 각각 수행하여 소정의 최외층 회로 및 홀랜드를 형성하는 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법.Photoresist PR is laminated on the third copper foil 301, the electroless copper plating layer 310, and the electrolytic copper plating layer 320, and a roller temperature of 95 ° C. to 120 ° C. (± 5 ° C.), and 0.2 A lamination step (1) of laminating a dry film having a circuit pattern having a predetermined shape on the photoresist by a roller having a roller pressure of ˜0.4 MPa and a roller speed of 0.9 to 2.2 m / min, Exposure to irradiate the dry film on which the circuit pattern of a predetermined shape is irradiated with a light amount of 20 to 55 mJ / cm 2 by a 10 평행 parallel light exposure machine to form a circuit pattern of a predetermined shape to the photoresist. Process (2) and 0.5% to 1.0% (VOL) of sodium carbonate developer at a temperature of 25 ° C to 30 ° C are sprayed at a spray pressure of 0.10 MPa to 0.18 MPa to remove photoresist in the region excluding a circuit pattern of a predetermined shape. Developing process (3), temperature of 48 ° C to 52 ° C, 1.19 ± 150 g / l to 210 g / l copper metal etching solution having a specific gravity (20 ° C.) of 0.02 was sprayed at a pressure of 1,5 kgf / cm 2 (± 1.0) to remove the specific area of the circuit pattern. 3 The etching process (4) in which the copper foil 301, the electroless copper plating layer 310 and the electrolytic copper plating layer 320 are removed, and 2% to 4.0% (VOL) which is a temperature of 45 ° C to 58 ° C Sodium hydroxide stripping liquid is sprayed at a spray pressure of 0.14 MPa to 0.17 MPa to perform a stripping process (5) for removing photoresist remaining on a circuit pattern of a predetermined shape, respectively, to provide a predetermined outermost layer circuit and a holland. Method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth to be formed.
  13. 제 12 항에 있어서,The method of claim 12,
    상기 최외층 이미지 공정 이후, 1.3m/min ~ 1.8m/min의 속도로 이동하는 컨베이어에서, 90ml/l의 95% 황산(H2SO4)과, 58ml/l의 35% 과산화수소(H2O2)와, 소정의 초순수(DI water)가 포함되는 마이크로 세미 에칭액을 이용하되, 상기 마이크로 세미 에칭액이 1.031 ~ 1.041의 비중과, 3.00 이하의 pH와, 28℃(±5℃)의 온도와, 1.8㎛ ~ 2.5㎛의 에칭률로 갖는 조건으로 제 2 마이크로 세미 에칭 공정을 수행하는 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법.90 ml / l of 95% sulfuric acid (H 2 SO 4 ) and 58 ml / l of 35% hydrogen peroxide (H 2 O) on a conveyor moving at a speed of 1.3 m / min to 1.8 m / min after the outermost layer imaging process 2 ) and a micro semi-etching solution containing a predetermined amount of ultra pure water (DI water), wherein the micro semi-etching solution has a specific gravity of 1.031 to 1.041, a pH of 3.00 or less, a temperature of 28 ° C. (± 5 ° C.), A method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth, which performs the second micro semi-etch process under conditions having an etching rate of 1.8 µm to 2.5 µm.
  14. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 솔더 레지스트 잉크로 최외층을 인쇄하는 공정 조건은,Process conditions for printing the outermost layer with the solder resist ink,
    270±10poise의 주제와, 30±10poise의 경화제가 혼합하여 150±10poise의 잉크 점도를 갖고, 1.48 ~ 1.52의 비중을 갖는 110 ~ 120 mesh의 인쇄 실크 스크린을, 78℃에서 15분 ~ 20분 동안 1차 조기경화(pre-curing) 및 78℃에서 15분 ~ 20분 동안 2차 조기경화(pre-curing)를 2회 반복 후, 150℃에서 70분 ~ 75분 동안 후경화(post-curing)를 수행하는 건조와, 420 ~ 550 mJ/㎝2의 광량으로 조사되는 노광과, 30℃ ± 1℃의 온도인 1wt%의 탄산나트륨 현상액이 50 ~ 65분 동안 1.8 ~ 2.5kgf/㎝2의 스프레이 압력으로 분사되는 현상에 의해 수행되는 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법.270 ± 10 poise motifs and 30 ± 10 poise hardeners were mixed to produce a 110 to 120 mesh printed silk screen with an ink viscosity of 150 ± 10 poises and a specific gravity of 1.48 to 1.52 for 15 to 20 minutes at 78 ° C. First pre-curing and two second pre-curings at 78 ° C. for 15-20 minutes, post-curing at 150 ° C. for 70-75 minutes Exposure to irradiated with a light amount of 420 to 550 mJ / cm 2 , and 1 wt% sodium carbonate developer at a temperature of 30 ° C. ± 1 ° C., spray pressure of 1.8 to 2.5 kgf / cm 2 for 50 to 65 minutes. Method of manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth performed by the phenomenon of spraying.
  15. 제 14 항에 있어서,The method of claim 14,
    상기 솔더 레지스트 잉크로 최외층을 인쇄하는 공정 이후,After the process of printing the outermost layer with the solder resist ink,
    200±10poise의 주제와, 150±10poise의 경화제가 혼합하여 170±10poise의 잉크 점도를 갖고, 1.5 ~ 1.6의 비중을 갖는 110 ~ 120 mesh의 인쇄 실크 스크린을, 78℃에서 15분 ~ 20분 동안 1차 조기경화(pre-curing) 및 78℃에서 15분 ~ 20분 동안 2차 조기경화(pre-curing)를 2회 반복 후, 150℃에서 65분 ~ 75분 동안 후경화(post-curing)를 수행하는 건조와, 650 ~ 820 mJ/㎝2의 광량으로 조사되는 노광과, 30℃ ± 1℃의 온도인 1wt%의 탄산나트륨 현상액이 20분 동안 1.8 ~ 2.5kgf/㎝2의 스프레이 압력으로 분사되는 현상에 의해 수행되는 마킹 인쇄 공정을 더 포함하는 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법.A 200 ± 10 poise motif and a 150 ± 10 poise curing agent were mixed to produce an ink viscosity of 170 ± 10 poise and 110 to 120 mesh printed silk screen with a specific gravity of 1.5 to 1.6 for 15 to 20 minutes at 78 ° C. 1st pre-curing and 2 times of pre-curing at 78 ° C for 15-20 minutes, post-curing at 150 ° C for 65-75 minutes Exposure to irradiate at a light quantity of 650 to 820 mJ / cm 2 , and 1 wt% sodium carbonate developer at a temperature of 30 ° C. ± 1 ° C., sprayed at a spray pressure of 1.8 to 2.5 kgf / cm 2 for 20 minutes. The manufacturing method of a multilayer printed circuit board for Bluetooth further comprising a marking printing process performed by the phenomenon.
  16. 제 15 항에 있어서,The method of claim 15,
    상기 마킹 인쇄 공정 이후,After the marking printing process,
    260℃의 컨베이어 챔버(conveyor chamber)에서 4.3분 동안 리플로우(reflow) 공정을 더 포함하는 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법.A method for manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth further comprising a reflow process for 4.3 minutes in a conveyor chamber at 260 ° C.
  17. 제 16 항에 있어서,The method of claim 16,
    상기 리플로우 공정 이후, 상기 마킹 인쇄 공정에 의해 형성된 표면에 JET Scrubbing(JET 연마) 및 Ultrasonic cleaning(초음파 세척) 공정을 각각 더 수행하되,After the reflow process, the JET Scrubbing and Ultrasonic cleaning processes are further performed on the surface formed by the marking printing process, respectively.
    상기 JET Scrubbing 및 Ultrasonic cleaning 공정은 1.8m/min ~ 2.3m/min의 속도로 이동하는 컨베이어에서, 45㎖/l의 H2SO4(95%)와 DI water(초순수물)을 포함하는 산수세(Acid Rinse)와, 1.8 ~ 2.3m/min의 컨베이어 속도에서 1.6㎏f/㎝2 ~ 2.3㎏f/㎝2의 압력으로 산화알루미늄(Al2O3(#360))을 분사하는 JET Scrubbing(JET 연마) 및 1200Watt × 4zone/4㎑에서 시수 5단린스 후에 DI water(3단 린스)로 세척하고 Ultrasonic cleaning(초음파 세척)을 수행 후 80℃ ~ 95℃로 건조함으로써 상기 마킹 인쇄 공정에 의해 형성된 표면에 이물질을 제거하고 조도를 형성하는 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법.The JET Scrubbing and Ultrasonic cleaning process includes a pickling solution containing 45 ml / l H 2 SO 4 (95%) and DI water (ultra pure water) in a conveyor moving at a speed of 1.8 m / min to 2.3 m / min. (Acid Rinse) and, 1.8 ~ jET for spraying 2.3m / min at a conveyor speed of 1.6㎏f / ㎝ 2 ~ aluminum oxide at a pressure of 2.3㎏f / ㎝ 2 (Al 2 O 3 (# 360)) Scrubbing ( Formed by the marking printing process by washing with DI water (three stages rinse), performing ultrasonic cleaning and drying at 80 ° C. to 95 ° C. after 5 steps of rinse at JW polishing) and 1200Watt × 4zone / 4㎑. Method of manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth to remove foreign substances on the surface and form roughness.
  18. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 니켈 도금층(350) 및 상기 금 도금층(360)은,The nickel plating layer 350 and the gold plating layer 360,
    45g/l의 염화 니켈(Nickel Chloride)과, 100g/l의 시클로프로필아민 포스폰산(aminotrimethylen phosphonic acid)과, 100g/l의 황산 니켈(Nickel sulfate)과, 52g/l의 아스코브산(Ascorbic acid)과, 52g/l의 붕산(Boric acid)과, 0.12g/l의 광택제를 포함하는 니켈 도금액을 50℃의 온도에서 0.2 ~ 0.4 A/dm2의 전류 밀도로 10분 ~ 15분 동안 전기 도금하여 3㎛ ~ 4㎛의 두께로 니켈 도금층을 형성하고,45 g / l Nickel Chloride, 100 g / l cyclotrimethylamine phosphonic acid, 100 g / l Nickel sulfate, 52 g / l Ascorbic acid ), A nickel plating solution containing 52 g / l of boric acid and 0.12 g / l of a brightener, electroplated for 10 to 15 minutes at a current density of 0.2 to 0.4 A / dm 2 at a temperature of 50 ° C. To form a nickel plated layer with a thickness of 3 μm to 4 μm,
    16g/l의 칼륨 금 시안화물(Potassium gold cyanide)과, 116g/l의 구연산칼륨(Tripotassium citrate monohydrate)과, 63g/l의 구연산 무수물(Citric anhydride)과, 0.53g/l의 헥사메틸렌테트라민(Hexamethylene tetramine)과, 0.53g/l의 3-피라딘 카르복시산(3-pyridine carboxylic acid)을 포함하는 금(soft gold) 도금액을 53℃의 온도와, 4.5pH에서 12A/dm2의 전류 밀도로 9분 ~ 12분 동안 전기 도금하여 0.2㎛ ~ 0.4㎛의 두께로 금도금층을 형성하는 블루투스용 다층 인쇄회로기판의 제조 방법.16 g / l potassium gold cyanide, 116 g / l tripotassium citrate monohydrate, 63 g / l citric anhydride, and 0.53 g / l hexamethylenetetramine A soft gold plating solution containing hexamethylene tetramine and 0.53 g / l 3-pyridine carboxylic acid was used at a temperature of 53 ° C. and a current density of 12 A / dm 2 at 4.5 pH. Method of manufacturing a multilayer printed circuit board for Bluetooth to form a gold plated layer with a thickness of 0.2 ㎛ ~ 0.4 ㎛ by electroplating for minutes to 12 minutes.
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