KR20060028155A - Method for fabricating printed circuit board using hybrid build-up process - Google Patents

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Abstract

본 발명은 중심 회로층은 저비용의 빌드업(build-up) 공정을 이용하고, 외부 회로층을 병렬로 제작하여 일괄적층하는 혼합형 빌드업 공법을 이용한 인쇄회로기판 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a printed circuit board using a hybrid build-up method in which a central circuit layer uses a low-cost build-up process and fabricates and stacks external circuit layers in parallel.

본 발명에 따른 혼합형 빌드업 공법을 이용한 인쇄회로기판 제조방법은 (A) 빌드업 방식에 따라, 소정의 회로패턴 및 다수의 비아홀을 포함하는 적어도 4층 구조의 중심 코어를 제공하는 단계; (B) 양면에 소정의 회로패턴이 형성되고 있고, 상기 중심 코어의 비아홀 중 적어도 일부에 대응하는 비아홀이 형성되어 있는 적어도 하나의 외부 코어를 제공하는 단계; (C) 상기 중심 코어의 비아홀과 상기 외부 코어의 비아홀을 전기적으로 연결하기 위하여, 상기 외부 코어의 비아홀에 대응하고 내부에 전도성 페이스트가 충진된 비아홀을 포함하는 절연층으로 이루어진 적어도 하나의 언클레드를 제공하는 단계; 및 (D) 상기 중심 코어의 적어도 일면에 상기 언클래드와 상기 외부 코어를 교대로 배치하여 예비 레이업한 후, 일괄적으로 적층하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.Printed circuit board manufacturing method using the hybrid build-up method according to the present invention comprises the steps of (A) providing a central core of at least four-layer structure including a predetermined circuit pattern and a plurality of via holes according to the build-up method; (B) providing at least one outer core having predetermined circuit patterns formed on both surfaces thereof and having via holes corresponding to at least some of the via holes of the central core; (C) at least one unclad insulating layer including a via hole corresponding to the via hole of the outer core and having a conductive paste filled therein to electrically connect the via hole of the center core and the via hole of the outer core; Providing; And (D) arranging the unclad and the outer core alternately on at least one surface of the central core to pre-lay up, and stacking them in a batch.

인쇄회로기판, 빌드업, 일괄적층, ALIVH, B²ITPrinted Circuit Boards, Buildup, Batch Lamination, ALIVH, B²IT

Description

혼합형 빌드업 공법을 이용한 인쇄회로기판 제조방법{Method for fabricating printed circuit board using hybrid build-up process}Manufacturing method for fabricated printed circuit board using hybrid build-up process

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 혼합형 빌드업 공법을 이용한 인쇄회로기판 제조방법의 흐름도이다.1 is a flow chart of a printed circuit board manufacturing method using a hybrid build-up method according to an embodiment of the present invention.

도 2a 내지 도 2q는 도 1의 중심 코어 형성 단계의 흐름을 나타내는 단면도이다.2A to 2Q are cross-sectional views illustrating the flow of the center core forming step of FIG. 1.

도 3a 내지 도 3h는 도 1의 외부 코어 형성 단계의 흐름을 나타내는 단면도이다.3A to 3H are cross-sectional views illustrating the flow of the outer core forming step of FIG. 1.

도 4a 내지 도 4e는 도 1의 언클래드 형성 단계의 흐름을 나타내는 단면도이다.4A to 4E are cross-sectional views illustrating the flow of the unclad forming step of FIG. 1.

도 5a 및 도 5b는 도 1의 일괄 적층 단계의 흐름을 나타내는 단면도이다.5A and 5B are cross-sectional views illustrating the flow of the batch lamination step of FIG. 1.

본 발명은 혼합형 빌드업 공법을 이용한 인쇄회로기판 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 중심 회로층은 저비용의 빌드업(build-up) 공정을 이용하고, 외부 회로층을 병렬로 제작하여 일괄적층하는 인쇄회로기판 제조방법에 관한 것이 다.The present invention relates to a method for manufacturing a printed circuit board using a hybrid build-up method. More specifically, the central circuit layer is a low-cost build-up process, and an external circuit layer is manufactured in parallel to collectively stack. It relates to a printed circuit board manufacturing method.

최근 전자산업의 급속한 디지털화, 네트워크화 및 첨단화로 인하여 인쇄회로기판 기술도 급속도로 진전하고 있다. 현재 전자기기들의 동향이 경박단소화 됨에 따라 전자기기들의 뼈대라고 할 수 있는 인쇄회로기판 기술도 소형화, 경량화, 박형화, 고기능화 및 고밀도화가 요구되고 있다. 이러한 요구들을 만족시키기 위하여, 인쇄회로기판의 제조방법은 빌드업(build-up) 방법으로 변화되어왔다.Recently, due to the rapid digitalization, networking, and cutting-edge of the electronic industry, printed circuit board technology is also rapidly progressing. As the current trend of electronic devices is light and short, the printed circuit board technology, which is a skeleton of electronic devices, is also required to be miniaturized, light weight, thin, high functional and high density. In order to satisfy these requirements, the manufacturing method of the printed circuit board has been changed to the build-up method.

그러나, 인쇄회로기판의 회로패턴이 고밀도화 되어감에 따라, 빌드업 방법은 미세한 회로패턴을 집적하는데 어려움이 있으며, 특히 외층의 회로패턴을 고밀도로 집적하는데 큰 어려움이 발생하는 문제점이 있었다. 따라서, 보다 고밀도의 인쇄회로기판을 제조하기 위하여, 다양한 인쇄회로기판 제조방법이 요구되고 있다.However, as the circuit pattern of the printed circuit board is increased, the build-up method has a difficulty in integrating a fine circuit pattern, and in particular, there is a problem in that a great difficulty occurs in integrating an outer layer circuit pattern at a high density. Therefore, in order to manufacture a denser printed circuit board, various printed circuit board manufacturing methods are required.

현재 개발되고 있는 인쇄회로기판 제조방법은 일괄적층 방법, ALIVH(All Layer Inner Via Hole) 방법 및 B2IT(Buried Bump Interconnection Technology) 방법 등이 있다.Printed circuit board manufacturing methods currently being developed include a batch lamination method, an All Layer Inner Via Hole (ALIVH) method, and a B 2 IT (Buried Bump Interconnection Technology) method.

이 중에서, 일괄적층 방법은 인쇄회로기판의 전회로층의 회로패턴을 고밀도로 제작할 수 있는 장점이 있다. 그러나, 적층되는 각각의 회로층에 공정비용이 큰 드릴링 공정을 수행해야 하기 때문에, 회로층의 수에 따라 공정비용이 크게 증가하는 문제점이 있었다.Among them, the batch lamination method has an advantage that the circuit pattern of the entire circuit layer of the printed circuit board can be manufactured with high density. However, since a drilling process having a high process cost must be performed on each circuit layer to be stacked, there is a problem that the process cost greatly increases according to the number of circuit layers.

한편, ALIVH 방법은 비아홀 내벽에 동도금 대신에 도전체를 충진하여 접속신뢰성의 향상시킬 수 있는 장점이 있다. 그러나, 순차적으로 적층하여 다층 인쇄회 로기판을 제조하기 때문에, 공정시간이 긴 문제점이 있었다. 또한, 빌드업 방법과 유사하게, ALIVH 방법은 순차적으로 적층하여 회로층을 형성하기 때문에, 빌드업 방법과 같이 회로패턴이 고밀도로 집적된 인쇄회로기판을 제작하는데 한계가 있는 문제점도 있었다.On the other hand, the ALIVH method has an advantage of improving connection reliability by filling a conductor in the via hole inner wall instead of copper plating. However, there is a problem in that the process time is long because the multilayer printed circuit board is sequentially manufactured by lamination. In addition, similar to the build-up method, since the ALIVH method is sequentially stacked to form a circuit layer, there is a problem in that there is a limit in manufacturing a printed circuit board in which circuit patterns are densely integrated like the build-up method.

다른 한편, B2IT 방법은 상술한 ALIVH 방법과 유사한 점이 많기 때문에, 제작된 인쇄회로기판의 특성도 유사하다. 따라서, ALIVH 방법과 같이, B2IT 방법도 공정시간이 길고, 고밀도의 인쇄회로기판을 제작하는데 한계가 있는 문제점이 있다.On the other hand, since the B 2 IT method has many similarities to the above-described ALIVH method, the characteristics of the manufactured printed circuit board are similar. Therefore, like the ALIVH method, the B 2 IT method has a long process time and has a problem in manufacturing a high density printed circuit board.

상기 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 기술적 과제는 고밀도의 회로패턴(특히, 외층의 회로패턴)을 형성할 수 있는 인쇄회로기판 제조방법을 제공하는 것이다.The technical problem of the present invention for solving the above problems is to provide a printed circuit board manufacturing method capable of forming a high-density circuit pattern (in particular, the circuit pattern of the outer layer).

본 발명의 다른 기술적 과제는 드릴링 공정의 수를 감소시킬 수 있는 인쇄회로기판 제조방법을 제공하는 것이다.Another technical problem of the present invention is to provide a printed circuit board manufacturing method capable of reducing the number of drilling processes.

본 발명의 또 다른 기술적 과제는 전체 공정시간을 단축할 수 있는 인쇄회로기판 제조방법을 제공하는 것이다.Another technical problem of the present invention is to provide a printed circuit board manufacturing method which can shorten the overall process time.

상기 기술적 과제를 해결하기 위하여, 본 발명에 따른 혼합형 빌드업 공법을 이용한 인쇄회로기판 제조방법은 (A) 빌드업 방식에 따라, 소정의 회로패턴 및 다 수의 비아홀을 포함하는 적어도 4층 구조의 중심 코어를 제공하는 단계; (B) 양면에 소정의 회로패턴이 형성되고 있고, 상기 중심 코어의 비아홀 중 적어도 일부에 대응하는 비아홀이 형성되어 있는 적어도 하나의 외부 코어를 제공하는 단계; (C) 상기 중심 코어의 비아홀과 상기 외부 코어의 비아홀을 전기적으로 연결하기 위하여, 상기 외부 코어의 비아홀에 대응하고 내부에 전도성 페이스트가 충진된 비아홀을 포함하는 절연층으로 이루어진 적어도 하나의 언클레드를 제공하는 단계; 및 (D) 상기 중심 코어의 적어도 일면에 상기 언클래드와 상기 외부 코어를 교대로 배치하여 예비 레이업한 후, 일괄적으로 적층하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to solve the above technical problem, the printed circuit board manufacturing method using the hybrid build-up method according to the present invention (A) according to the build-up method, at least four-layer structure including a predetermined circuit pattern and a plurality of via holes Providing a central core; (B) providing at least one outer core having predetermined circuit patterns formed on both surfaces thereof and having via holes corresponding to at least some of the via holes of the central core; (C) at least one unclad insulating layer including a via hole corresponding to the via hole of the outer core and having a conductive paste filled therein to electrically connect the via hole of the center core and the via hole of the outer core; Providing; And (D) arranging the unclad and the outer core alternately on at least one surface of the central core to pre-lay up, and stacking them in a batch.

본 발명에 따른 혼합형 빌드업 공법을 이용한 인쇄회로기판 제조방법의 상기 (A) 단계는, (A-1) 양면에 소정의 회로패턴이 형성되어 있는 베이스 기판을 제공하는 과정; (A-2) 상기 베이스 기판의 양면에 절연층을 각각 적층한 후, 상기 절연층을 연결하는 비아홀을 형성하는 과정; (A-3) 상기 절연층 및 상기 비아홀의 내벽에 제 1 동도금층을 형성한 후, 상기 비아홀의 내부에 전도성 또는 비전도성 페이스트를 충진하는 과정; (A-4) 상기 제 1 동도금층 및 상기 전도성 또는 비전도성 페이스트의 노출부분에 제 2 동도금층을 형성하는 과정; (A-5) 상기 제 2 동도금층의 표면에 에칭 레지스트를 도포한 후, 상기 에칭 레지스트를 노광 및 현상하여 소정의 에칭 레지스트 패턴을 형성하는 과정; 및 (A-6) 상기 에칭 레지스트 패턴을 이용하여 상기 제 1 동도금층 및 상기 제 2 동도금층을 에칭함으로써, 상기 에칭 레지스트 패턴에 대응하는 회로패턴을 형성하는 과정;을 포함하는 것이 바람직하다.Step (A) of the method for manufacturing a printed circuit board using the hybrid build-up method according to the present invention includes: providing a base substrate having predetermined circuit patterns formed on both surfaces of (A-1); (A-2) stacking insulating layers on both sides of the base substrate and forming via holes connecting the insulating layers; (A-3) forming a first copper plating layer on an inner wall of the insulating layer and the via hole, and then filling a conductive or non-conductive paste into the via hole; (A-4) forming a second copper plating layer on the exposed portion of the first copper plating layer and the conductive or non-conductive paste; (A-5) applying an etching resist to the surface of the second copper plating layer, and then exposing and developing the etching resist to form a predetermined etching resist pattern; And (A-6) forming a circuit pattern corresponding to the etching resist pattern by etching the first copper plating layer and the second copper plating layer using the etching resist pattern.

본 발명에 따른 혼합형 빌드업 공법을 이용한 인쇄회로기판 제조방법의 상기 (B) 단계는, (B-1) 절연수지층의 양면에 동박층이 입혀진 적어도 하나의 베이스 기판을 제공하는 과정; (B-2) 상기 베이스 기판에 상기 중심 코어의 비아홀 중 적어도 일부에 대응하는 비아홀을 각각 형성한 후, 상기 비아홀의 내부가 충진되도록 상기 동박층 및 상기 비아홀의 내부 동도금층을 각각 형성하는 과정; (B-3) 상기 동도금층 표면에 에칭 레지스틀 도포한 후, 상기 에칭 레지스트를 노광 및 현상하여 소정의 에칭 레지스트 패턴을 각각 형성하는 과정; 및 (B-4) 상기 에칭 레지스트 패턴을 이용하여 상기 동도금층을 에칭함으로써, 상기 에칭 레지스트 패턴에 대응하는 회로패턴을 각각 형성하는 과정;을 포함하는 것이 바람직하다.The step (B) of the method for manufacturing a printed circuit board using the hybrid build-up method according to the present invention includes: (B-1) providing at least one base substrate coated with a copper foil layer on both sides of the insulating resin layer; (B-2) forming via holes corresponding to at least some of the via holes of the center core in the base substrate, and then forming the copper foil layer and the inner copper plating layer of the via holes so as to fill the via holes; (B-3) applying an etching resist on the surface of the copper plating layer, and then exposing and developing the etching resist to form predetermined etching resist patterns, respectively; And (B-4) forming the circuit patterns corresponding to the etching resist patterns by etching the copper plating layer using the etching resist patterns.

본 발명에 따른 혼합형 빌드업 공법을 이용한 인쇄회로기판 제조방법의 상기 (C) 단계는, (C-1) 절연층의 양면에 보호 필름이 부착된 적어도 하나의 언클래드 자재를 제공하는 과정; (C-2) 상기 언클래드 자재에 상기 외부 코어의 비아홀에 대응하는 비아홀을 각각 형성한 후, 상기 비아홀 내부에 전도성 페이스트를 각각 충진하는 과정; 및 (C-3) 상기 보호 필름을 각각 제거하는 과정;을 포함하는 것이 바람직하다.Step (C) of the method for manufacturing a printed circuit board using the hybrid build-up method according to the present invention includes: (C-1) providing at least one unclad material having a protective film attached to both surfaces of the insulating layer; (C-2) forming via holes corresponding to the via holes of the outer core in the unclad material, and then filling conductive paste into the via holes, respectively; And (C-3) removing the protective films, respectively.

본 발명에 따른 혼합형 빌드업 공법을 이용한 인쇄회로기판 제조방법의 상기 (A) 단계, (B) 단계 및 (C) 단계는 병렬로 동시에 수행되는 것이 바람직하다.Steps (A), (B) and (C) of the printed circuit board manufacturing method using the hybrid build-up method according to the present invention are preferably performed simultaneously in parallel.

이하, 도면을 참조하여 본 발명에 따른 혼합형 빌드업 공법을 이용한 인쇄회로기판 제조방법을 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, a method of manufacturing a printed circuit board using the mixed build-up method according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 혼합 빌드업 공법을 이용한 인쇄회로기판 제조방법의 흐름도이고, 도 2a 내지 도 2q는 도 1의 중심 코어 형성 단계의 흐름을 나타내는 단면도이며, 도 3a 내지 도 3h는 도 1의 외부 코어 형성 단계의 흐름을 나타내는 단면도이고, 도 4a 내지 도 4e는 도 1의 언클래드 형성 단계의 흐름을 나타내는 단면도이며, 도 5a 및 도 5b는 도 1의 일괄 적층 단계의 흐름을 나타내는 단면도이다.1 is a flow chart of a method for manufacturing a printed circuit board using the mixed build-up method according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 2A to 2Q are cross-sectional views illustrating a flow of the core core forming step of FIG. 1. 3H is a cross-sectional view illustrating the flow of the outer core forming step of FIG. 1, and FIGS. 4A to 4E are cross-sectional views showing the flow of the unclad forming step of FIG. 1, and FIGS. 5A and 5B are the flow of the batch laminating step of FIG. 1. It is sectional drawing which shows.

도 1에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따른 혼합 빌드업 공법을 이용한 인쇄회로기판 제조방법은 중심 코어(central core) 형성 단계(S110), 외부 코어(outer core) 형성 단계(S120), 언클래드(unclad) 형성 단계(S130), 및 중심 코어, 외부 코어 및 언클래드의 일괄적층 단계(S140)를 포함하여 이루어진다.As shown in FIG. 1, the method for manufacturing a printed circuit board using the mixed build-up method according to the present invention includes forming a central core (S110), forming an outer core (S120), and an unclad ( unclad) forming step (S130), and stacking step (S140) of a central core, an outer core, and an unclad.

여기서 중심 코어 형성 단계(S110), 외부 코어 형성 단계(S120) 및 언클래드 형성 단계(S130)는 순차적으로 수행할 수 있으나, 전체 공정시간을 단축하기 위하여 병렬로 동시에 수행하는 것이 바람직하다.Here, the center core forming step S110, the outer core forming step S120, and the unclad forming step S130 may be performed sequentially, but in order to shorten the overall process time, it is preferable to simultaneously perform the parallel processing.

먼저, 중심 코어 형성 단계(S110)를 살펴보면, 도 2a에서와 같이, 절연수지층(111)의 양면에 동박층(112, 112')이 입혀진 동박적층판(copper clad laminate)인 베이스 기판(110)을 준비한다.First, referring to the center core forming step (S110), as shown in FIG. 2A, the base substrate 110 is a copper clad laminate in which copper foil layers 112 and 112 ′ are coated on both surfaces of the insulating resin layer 111. Prepare.

여기서 베이스 기판(110)으로 사용된 동박적층판은 그 용도에 따라, 유리/에폭시 동박적층판, 내열수지 동박적층판, 종이/페놀 동박적층판, 고주파용 동박적층판, 플렉시블 동박적층판(flexible copper clad laminate), 복합 동박적층판 등을 사용할 수 있다. 그러나, 본 발명에 따른 인쇄회로기판의 제조에서, 유리섬유와 에폭시 수지를 사용한 유리/에폭시 동박적층판 또는 유리섬유와 BT 수지를 사용한 내열수지 동박적층판을 베이스 기판(110)으로 사용하는 것이 바람직하다.Here, the copper clad laminate used as the base substrate 110 may be a glass / epoxy copper clad laminate, a heat-resistant resin copper clad laminate, a paper / phenolic copper clad laminate, a high frequency copper clad laminate, a flexible copper clad laminate, or a composite. Copper foil laminated board etc. can be used. However, in the manufacture of the printed circuit board according to the present invention, it is preferable to use a glass / epoxy copper clad laminate using glass fiber and epoxy resin or a heat resistant resin copper clad laminate using glass fiber and BT resin as the base substrate 110.

도 2a에서, 2층 구조를 갖는 베이스 기판(110)이 도시되어 있으나, 사용 목적 또는 용도에 따라 내층에 소정의 회로패턴 및 비아홀이 형성된 4층, 6층 및 8층 등의 다층 구조를 갖는 베이스 기판(110)을 사용할 수도 있다.In FIG. 2A, a base substrate 110 having a two-layer structure is illustrated, but a base having a multi-layer structure such as four, six, and eight layers in which predetermined circuit patterns and via holes are formed in an inner layer according to a purpose or purpose of use. The substrate 110 may be used.

도 2b에서와 같이, 베이스 기판(110)의 상하 동박층(112, 112')에 드라이 필름(dry film; 120a, 120a')을 각각 도포한다.As shown in FIG. 2B, dry films 120a and 120a 'are applied to upper and lower copper foil layers 112 and 112 ′ of the base substrate 110, respectively.

도 2c에서와 같이, 소정의 패턴이 인쇄된 아트 워크 필름(art work film; 130a, 130a')을 상하 드라이 필름(120a, 120a')에 각각 밀착시킨 후, 자외선을 조사한다. 이때, 아트 워크 필름(130a, 130a')의 소정의 패턴이 인쇄된 검은 부분(131a, 131a')은 자외선이 투과하지 못하고, 인쇄되지 않은 부분(132a, 132a')은 자외선이 투과하여 아트 워크 필름(130a, 130a') 아래의 드라이 필름(120a, 120a')을 경화시킨다.As shown in FIG. 2C, the art work films 130a and 130a 'printed with a predetermined pattern are adhered to the upper and lower dry films 120a and 120a', respectively, and then irradiated with ultraviolet rays. In this case, the black portions 131a and 131a 'on which the predetermined patterns of the artwork films 130a and 130a' are printed do not transmit ultraviolet rays, and the non-printed portions 132a and 132a 'transmit the artwork. The dry films 120a and 120a 'under the films 130a and 130a' are cured.

도 2d에서와 같이, 아트 워크 필름(130a, 130a')을 제거한 후, 베이스 기판(110)을 현상액에 담그면, 경화되지 않은 드라이 필름(120a, 120a') 부분이 현상액에 의해 제거되고, 경화된 드라이 필름(120a, 120a') 부분만 남아서 에칭 레지스트 패턴(etching resist pattern)을 형성한다. 여기서 현상액은 탄산나트륨(Na2CO3) 또는 탄산칼륨(K2CO3)의 수용액 등을 사용한다.As shown in FIG. 2D, after removing the artwork films 130a and 130a ', the base substrate 110 is immersed in the developer, and the portion of the uncured dry film 120a and 120a' is removed by the developer and cured. Only portions of the dry films 120a and 120a 'remain to form an etching resist pattern. Here, the developing solution uses an aqueous solution of sodium carbonate (Na 2 CO 3 ) or potassium carbonate (K 2 CO 3 ).

도 2e에서와 같이, 소정의 패턴이 형성된 드라이 필름(120a, 120a')을 에칭 레지스트로 사용하고, 베이스 기판(110)을 에칭액에 침수시킴으로써, 드라이 필름 (120a, 120a')의 소정의 패턴에 대응하는 부분을 제외한 나머지 부분의 상하 동박층(112, 112')을 제거한다.As shown in FIG. 2E, the dry films 120a and 120a 'having a predetermined pattern are used as etching resists, and the base substrate 110 is immersed in the etching solution, thereby providing a predetermined pattern of the dry films 120a and 120a'. The upper and lower copper foil layers 112 and 112 'of the remaining portions except for the corresponding portions are removed.

도 2f에서와 같이, 베이스 기판(210)(110)의 상하 양면에 도포된 드라이 필름(120a, 120a')을 박리하여 제거한다. 여기서 드라이 필름(120a, 120a')은 수산화나트륨(NaOH) 또는 수산화칼륨(KOH) 등이 포함된 박리액을 사용하여 제거한다.As shown in FIG. 2F, the dry films 120a and 120a ′ applied to the upper and lower surfaces of the base substrate 210 and 110 are peeled off and removed. Here, the dry films 120a and 120a 'are removed using a stripping solution containing sodium hydroxide (NaOH) or potassium hydroxide (KOH).

상술한 도 2b 내지 도 2f의 과정에서, 에칭 레지스트로 드라이 필름(120a, 120a')을 사용하였으나, 액체 상태의 감광재를 에칭 레지스트로 사용할 수 있다.2B to 2F, dry films 120a and 120a ′ are used as etching resists, but a liquid photosensitive material may be used as an etching resist.

이 경우, 자외선에 감광되는 액체 상태의 감광재를 베이스 기판(110)의 동박층(112, 112')에 도포한 후, 건조시킨다. 다음으로, 소정의 패턴이 형성된 아트 워크 필름(130a, 130a')을 이용하여 감광재를 노광 및 현상함으로써, 감광재에 소정의 패턴을 형성한다. 그 다음으로, 소정의 패턴이 형성된 감광재를 에칭 레지스트로 사용하고, 베이스 기판(110)에 에칭액을 분무시킴으로써, 감광재의 소정의 패턴에 대응하는 부분을 제외한 나머지 부분의 상하 동박층(112, 112')을 제거한다. 그 후, 감광재를 제거한다. 여기서 액체 상태의 감광재를 코팅하는 방식은 딥 코팅(dip coating) 방식, 롤 코팅(roll coating) 방식, 전기증착(electro-deposition) 방식 등이 있다.In this case, the liquid photosensitive material exposed to ultraviolet rays is applied to the copper foil layers 112 and 112 'of the base substrate 110 and then dried. Next, a predetermined pattern is formed on the photosensitive material by exposing and developing the photosensitive material using the artwork films 130a and 130a 'provided with the predetermined pattern. Next, by using the photosensitive material in which the predetermined pattern was formed as an etching resist, and spraying the etching liquid on the base substrate 110, the upper and lower copper foil layers 112 and 112 of the remaining portions except for the portion corresponding to the predetermined pattern of the photosensitive material. Remove the '). Thereafter, the photosensitive material is removed. The method of coating the photosensitive material in the liquid state may include a dip coating method, a roll coating method, an electro-deposition method, and the like.

이러한 액체 상태의 감광재를 이용하는 방식은 드라이 필름(120a, 120a')보다 얇게 도포할 수 있으므로, 보다 미세한 회로패턴을 형성할 수 있는 장점이 있다. 또한, 베이스 기판(110)의 표면에 요철이 있는 경우, 이를 채워 균일한 표면을 형성할 수 있는 장점도 있다.The method using the liquid photosensitive material may be applied thinner than the dry films 120a and 120a ', and thus, a finer circuit pattern may be formed. In addition, when the surface of the base substrate 110 has irregularities, there is also an advantage that can form a uniform surface by filling it.

도 2g에서와 같이, 베이스 기판(110)의 양면에 각각 절연층(113, 113')(예를 들면, 프리프레그(prepreg))을 적층한 후, 소정의 온도와 압력(예를 들면, 약 150℃∼200, 200'℃ 및 30kg/cm2∼40kg/cm2)에서 가온 및 가압한다.As shown in FIG. 2G, after insulating layers 113 and 113 ′ (eg, prepreg) are laminated on both sides of the base substrate 110, a predetermined temperature and pressure (eg, about Heated and pressurized at 150 ° C. to 200 ° C., 200 ′ ° C. and 30 kg / cm 2 to 40 kg / cm 2 ).

여기서 절연층(113, 113')상에 동박을 적층하거나, 절연층(113, 113') 대신에 RCC(Resin Coated Copper)를 적층할 수 있다. 이 경우, 이후 형성되는 동도금층의 두께를 얇게 할 수 있기 때문에, 동도금 공정시간을 줄일 수 있는 장점이 있다.In this case, copper foil may be laminated on the insulating layers 113 and 113 'or Resin Coated Copper (RCC) may be laminated instead of the insulating layers 113 and 113'. In this case, since the thickness of the copper plating layer to be formed later can be reduced, there is an advantage of reducing the copper plating process time.

도 2h에서와 같이, 절연층(113, 113')이 적층된 베이스 기판(110)의 상하면이 도통되도록 비아홀(via hole; 140)을 형성한다.As shown in FIG. 2H, a via hole 140 is formed so that upper and lower surfaces of the base substrate 110 on which the insulating layers 113 and 113 ′ are stacked are conductive.

여기서 비아홀(140)은 CNC(Computer Numerical Control) 드릴 또는 레이저 드릴을 사용하여 사전에 설정된 위치에 따라 비아홀(140)을 형성하는 방식을 사용하는 것이 바람직하다.Here, the via hole 140 may be a method of forming the via hole 140 according to a preset position using a CNC (Computer Numerical Control) drill or a laser drill.

또한, 비아홀(140)을 형성한 후에, 드릴링 시 발생하는 버(burr), 비아홀(140) 내벽의 먼지, 절연층(113, 113') 표면의 먼지 등을 제거하는 디버링(deburring) 공정, 및 비아홀(140) 형성 시 발생하는 열로 인하여 절연수지층(111) 및 절연층(113, 113')이 녹아서 비아홀(140)의 내벽에 발생하는 스미어(smear)를 제거하는 디스미어(desmea) 공정을 더 수행하는 것이 바람직하다. 디버링 공정에서, 절연층(113, 113') 표면에 거칠기(roughness)가 부여됨으로써, 이후 동도금 공정에서 동과의 밀착력이 향상되는 장점이 있다.In addition, after the via hole 140 is formed, a deburring process of removing burrs generated during drilling, dust on the inner wall of the via holes 140, dust on the surfaces of the insulating layers 113 and 113 ′, and the like, and The desmear process of removing the smear generated on the inner wall of the via hole 140 by melting the insulating resin layer 111 and the insulating layers 113 and 113 'due to the heat generated when the via hole 140 is formed. It is preferable to carry out more. In the deburring process, a roughness is applied to the surfaces of the insulating layers 113 and 113 ', thereby improving adhesion to copper in the copper plating process.

도 2i에서와 같이, 형성된 비아홀(140)의 전기적 연결을 위하여, 상하 절연층(113, 113') 및 비아홀(140)의 내벽에 제 1 동도금층(114, 114')을 형성한다.As shown in FIG. 2I, first copper plating layers 114 and 114 ′ are formed on upper and lower insulating layers 113 and 113 ′ and inner walls of the via holes 140 to electrically connect the formed via holes 140.

여기서 비아홀(140)의 내벽이 절연수지층(111) 및 절연층(113, 113')을 포함하므로, 무전해 동도금을 먼저 수행한 후, 물성이 좋은 전해 동도금을 수행하여 제 1 동도금층(114, 114')을 형성하는 것이 바람직하다.Since the inner wall of the via hole 140 includes the insulating resin layer 111 and the insulating layers 113 and 113 ′, the electroless copper plating is performed first, and then the first copper plating layer 114 is performed by performing electrolytic copper plating having good physical properties. , 114 ').

도 2j에서와 같이, 동도금된 비아홀(140)의 내부에 전도성 또는 비전도성 페이스트(150)를 충진한다.As shown in FIG. 2J, the conductive or non-conductive paste 150 is filled in the copper plated via hole 140.

도 2k에서와 같이, 제 1 동도금층(114, 114')의 표면밖으로 돌출된 전도성 또는 비전도성 페이스트(150)를 버프(buff) 등을 이용하여 평탄하게 제거한다.As shown in FIG. 2K, the conductive or non-conductive paste 150 protruding out of the surfaces of the first copper plating layers 114 and 114 ′ is removed by using a buff or the like.

도 2l에서와 같이, 제 1 동도금층(114, 114') 및 전도성 페이스트(150)의 노출부분에 제 2 동도금층(115, 115')을 형성한다.As shown in FIG. 2L, second copper plating layers 115 and 115 ′ are formed on exposed portions of the first copper plating layers 114 and 114 ′ and the conductive paste 150.

만약, 도 2j의 과정에서 전도성 페이스트(150)를 충진하는 경우, 직접 전해 동도금을 수행할 수 있다. 그러나, 전도성 페이스트(150)가 에폭시 수지와 같은 절연물질을 포함하고 있기 때문에, 그 전기적 전도성이 제 1 동도금층(114, 114')보다 좋지 않다. 따라서, 무전해 동도금을 수행한 후, 전해 동도금을 수행하여 제 2 동도금층(115, 115')을 형성하는 것이 바람직하다.If the conductive paste 150 is filled in the process of FIG. 2J, electrolytic copper plating may be performed directly. However, since the conductive paste 150 includes an insulating material such as an epoxy resin, its electrical conductivity is worse than that of the first copper plating layers 114 and 114 '. Therefore, after the electroless copper plating is performed, it is preferable to form the second copper plating layers 115 and 115 'by performing electrolytic copper plating.

한편, 도 2j의 과정에서 비전도성 페이스트(150)를 충진하는 경우, 전도성 페이스트(150) 경우와 마찬가지로 무전해 동도금을 수행한 후 전해 동도금을 수행하여 제 2 동도금층(115, 115')을 형성하는 것이 바람직하다.Meanwhile, when the non-conductive paste 150 is filled in the process of FIG. 2J, the second copper plating layers 115 and 115 ′ are formed by performing electroless copper plating and then electrolytic copper plating as in the case of the conductive paste 150. It is desirable to.

도 2m에서와 같이, 상하 제 2 동도금층(115, 115')에 드라이 필름(120b, 120b')을 도포한다.As shown in FIG. 2M, dry films 120b and 120b 'are applied to the upper and lower second copper plating layers 115 and 115'.

도 2n에서와 같이, 소정의 패턴이 인쇄된 아트 워크 필름(130b, 130b')을 상하 드라이 필름(120b, 120b')에 각각 밀착시킨 후, 자외선을 조사한다. 이때, 아트 워크 필름(130b, 130b')의 소정의 패턴이 인쇄된 검은 부분(131b, 131b')은 자외선이 투과하지 못하고, 인쇄되지 않은 부분(132b, 132b')은 자외선이 투과하여 아트 워크 필름(130b, 130b') 아래의 드라이 필름(120b, 120b')을 경화시킨다.As shown in FIG. 2N, the artwork films 130b and 130b 'on which the predetermined patterns are printed are brought into close contact with the upper and lower dry films 120b and 120b', respectively, and then irradiated with ultraviolet rays. At this time, the black portions 131b and 131b 'on which the predetermined patterns of the artwork films 130b and 130b' are printed do not transmit ultraviolet rays, and the non-printed portions 132b and 132b 'transmit the artwork. The dry films 120b and 120b 'under the films 130b and 130b' are cured.

도 2o에서와 같이, 아트 워크 필름(130b, 130b')을 제거한 후, 탄산나트륨(Na2CO3) 또는 탄산칼륨(K2CO3)의 수용액 등의 현상액에 담금으로써, 소정의 에칭 레지스트 패턴을 형성한다.As shown in FIG. 2O, after removing the artwork films 130b and 130b ', the predetermined etching resist pattern is immersed in a developer such as an aqueous solution of sodium carbonate (Na 2 CO 3 ) or potassium carbonate (K 2 CO 3 ). Form.

도 2p에서와 같이, 드라이 필름(120b, 120b')을 에칭 레지스트로 사용하고, 기판을 에칭액에 침수시킴으로써, 드라이 필름(120b, 120b')의 소정의 패턴에 대응하는 부분을 제외한 나머지 부분의 상하 제 1 및 제 2 동도금층(114, 114', 115, 115')을 제거한다.As shown in FIG. 2P, the dry films 120b and 120b 'are used as etching resists, and the substrate is immersed in the etching liquid, so that the upper and lower portions of the remaining portions except for the portions corresponding to the predetermined patterns of the dry films 120b and 120b' are etched. The first and second copper plating layers 114, 114 ′, 115, and 115 ′ are removed.

도 2q에서와 같이, 상하 제 2 동도금층(115, 115')에 도포된 드라이 필름(120b, 120b')을 수산화나트륨(NaOH) 또는 수산화칼륨(KOH) 등이 포함된 박리액을 사용하여 제거하면, 본 발명에 따른 4층 구조의 중심 코어(100)가 형성된다.As shown in FIG. 2q, the dry films 120b and 120b 'applied to the upper and lower second copper plating layers 115 and 115' are removed using a stripping solution containing sodium hydroxide (NaOH), potassium hydroxide (KOH), or the like. When the center core 100 of the four-layer structure according to the invention is formed.

상술한 도 2b 내지 도 2f의 과정과 유사하게, 도 2m 내지 도 2q의 과정도 액체 상태의 감광재를 에칭 레지스트로 사용하여, 소정의 회로패턴을 형성할 수 있다.Similar to the process of FIGS. 2B to 2F described above, the process of FIGS. 2M to 2Q may also use a liquid photosensitive material as an etching resist to form a predetermined circuit pattern.

다음으로, 외부 코어 형성 단계(S120)를 살펴보면, 도 3a에서와 같이, 절연수지층(211)의 양면에 동박층(212, 212')이 입혀진 동박적층판인 베이스 기판(210)을 준비한다.Next, referring to the external core forming step (S120), as shown in FIG. 3A, a base substrate 210, which is a copper clad laminate plate having copper foil layers 212 and 212 ′ coated on both surfaces of the insulating resin layer 211, is prepared.

도 3b에서와 같이, 베이스 기판(210)의 상하 동박층(212, 212')의 회로 연결을 위하여, CNC 드릴 또는 레이저 드릴을 사용하여 비아홀(240)을 형성한다.As shown in FIG. 3B, the via holes 240 are formed using a CNC drill or a laser drill to connect circuits of the upper and lower copper foil layers 212 and 212 ′ of the base substrate 210.

도 3c에서와 같이, 형성된 비아홀(240)의 전기적 연결을 위하여, 베이스 기판(210)의 상하 동박층(212, 212') 및 비아홀(240)의 내부에 동도금층(213, 213')을 형성한다. 이때, 비아홀(240)의 내부를 동도금으로 충진한다. 여기서 비아홀(240)의 내벽이 절연수지층(211)을 포함하므로, 무전해 동도금을 먼저 수행한 후, 물성이 좋은 전해 동도금을 수행하여 동도금층(213, 213')을 형성하는 것이 바람직하다.As shown in FIG. 3C, copper plating layers 213 and 213 ′ are formed in upper and lower copper foil layers 212 and 212 ′ of the base substrate 210 and inside the via holes 240 for electrical connection of the formed via holes 240. do. At this time, the inside of the via hole 240 is filled with copper plating. Since the inner wall of the via hole 240 includes the insulating resin layer 211, it is preferable to perform electroless copper plating first, and then to perform the electrolytic copper plating having good physical properties to form the copper plating layers 213 and 213 ′.

도 3d에서와 같이, 상하 동도금층(213, 213')에 드라이 필름(220, 220')을 도포한다.As shown in FIG. 3D, dry films 220 and 220 ′ are applied to the upper and lower copper plating layers 213 and 213 ′.

도 3e에서와 같이, 소정의 패턴이 인쇄된 아트 워크 필름(230, 230')을 상하 드라이 필름(220, 220')에 각각 밀착시킨 후, 자외선을 조사한다. 이때, 아트 워크 필름(230, 230')의 소정의 패턴이 인쇄된 검은 부분(231, 231')은 자외선이 투과하지 못하고, 인쇄되지 않은 부분(232, 232')은 자외선이 투과하여 아트 워크 필름(230, 230') 아래의 드라이 필름(220, 220')을 경화시킨다.As shown in FIG. 3E, the artwork films 230 and 230 ′ printed with a predetermined pattern are adhered to the upper and lower dry films 220 and 220 ′, respectively, and then irradiated with ultraviolet rays. In this case, the black portions 231 and 231 'on which the predetermined patterns of the artwork films 230 and 230' are printed do not transmit ultraviolet rays, and the non-printed portions 232 and 232 'transmit the artwork. The dry films 220 and 220 'under the films 230 and 230' are cured.

도 3f에서와 같이, 아트 워크 필름(230, 230')을 제거한 후, 탄산나트륨 (Na2CO3) 또는 탄산칼륨(K2CO3)의 수용액 등의 현상액에 담금으로써, 소정의 에칭 레지스트 패턴을 형성한다.3F, after removing the artwork films 230 and 230 ′, the predetermined etching resist pattern is immersed in a developer such as an aqueous solution of sodium carbonate (Na 2 CO 3 ) or potassium carbonate (K 2 CO 3 ). Form.

도 3g에서와 같이, 드라이 필름(220, 220')을 에칭 레지스트로 사용하고, 베이스 기판(210)을 에칭액에 침수시킴으로써, 드라이 필름(220, 220')의 소정의 패턴에 대응하는 부분을 제외한 나머지 부분의 상하 동박층(212, 212') 및 동도금층(213, 213')을 제거한다.As shown in FIG. 3G, the dry films 220 and 220 ′ are used as etching resists, and the base substrate 210 is immersed in the etching solution, thereby excluding portions corresponding to predetermined patterns of the dry films 220 and 220 ′. The upper and lower copper foil layers 212 and 212 'and the copper plating layers 213 and 213' of the remaining portions are removed.

도 3h에서와 같이, 상하 동도금층(213, 213')에 도포된 드라이 필름(220, 220')을 수산화나트륨(NaOH) 또는 수산화칼륨(KOH) 등이 포함된 박리액을 사용하여 제거하면, 본 발명에 따른 외부 코어(200)가 형성된다.As shown in FIG. 3H, when the dry films 220 and 220 ′ applied to the upper and lower copper plating layers 213 and 213 ′ are removed using a stripping solution containing sodium hydroxide (NaOH) or potassium hydroxide (KOH), and the like, An outer core 200 according to the invention is formed.

상술한 중심 코어의 회로패턴 형성 과정과 유사하게, 도 3d 내지 도 3h의 과정도 액체 상태의 감광재를 에칭 레지스트로 사용하여, 소정의 회로패턴을 형성할 수 있다.Similar to the process of forming the circuit pattern of the center core described above, the process of FIGS. 3D to 3H may also use a liquid photosensitive material as an etching resist to form a predetermined circuit pattern.

다음으로, 언클래드 형성 단계(S130)를 살펴보면, 도 4a에서와 같이, 절연층(311)(예를 들면, 프리프레그)의 양면에 보호 필름(312, 312')(예를 들면, 폴리에스테르 필름)이 부착된 언클래드 자재(310)를 준비한다.Next, referring to the unclad forming step S130, as shown in FIG. 4A, protective films 312 and 312 ′ (eg, polyester) are formed on both surfaces of the insulating layer 311 (eg, prepreg). An unclad material 310 having a film) is prepared.

도 4b에서와 같이, 언클래드 자재(310)를 CNC 드릴 또는 레이저 드릴을 사용하여 비아홀(320)을 형성한다. 이때, 이후 일괄적층 단계에서 회로층과의 접속을 고려하여 중심 코어 및 외부 코어에 형성된 비아홀 지름보다 약간 더 크게 언클래드 자재(310)의 비아홀(320)을 형성하는 것이 바람직하다.As in FIG. 4B, the via cladding 310 is formed using a CNC drill or a laser drill to form the via holes 320. At this time, it is preferable to form the via hole 320 of the unclad material 310 slightly larger than the via hole diameter formed in the center core and the outer core in consideration of the connection with the circuit layer in the subsequent stacking step.

도 4c에서와 같이, 형성된 비아홀(320)의 전기적 연결을 위하여, 비아홀(320)의 내부에 전도성 페이스트(330)를 충진한다.As shown in FIG. 4C, the conductive paste 330 is filled in the via hole 320 for electrical connection of the formed via hole 320.

도 4d에서와 같이, 보호 필름(312, 312')의 표면밖으로 돌출된 전도성 페이스트(330)를 버프 등을 이용하여 평탄하게 제거한다.As shown in FIG. 4D, the conductive paste 330 protruding out of the surfaces of the protective films 312 and 312 ′ may be removed by using a buff or the like.

도 4e에서와 같이, 절연층(311) 양면에 보호 필름(312, 312')을 제거하면, 본 발명에 따른 언클래드(300)가 형성된다.As shown in FIG. 4E, when the protective films 312 and 312 ′ are removed on both surfaces of the insulating layer 311, an unclad 300 according to the present invention is formed.

다음으로, 일괄적층 단계(S140)를 살펴보면, 도 5a에서와 같이, 도 2a 내지 도 2q에 도시된 방법으로 형성된 중심 코어(100)를 중심으로, 도 3a 내지 도 3h에 도시된 방법으로 형성된 상부 및 하부 외부 코어(200, 200') 및 도 4a 내지 도 4e에 도시된 방법으로 형성된 상부 및 하부 언클래드(300, 300')를 예비 레이업(lay-up)한다.Next, referring to the batch stacking step (S140), as shown in FIG. 5A, the upper part formed by the method illustrated in FIGS. 3A to 3H, centered on the center core 100 formed by the method illustrated in FIGS. 2A to 2Q, is illustrated. And preliminary lay-up of the lower outer cores 200, 200 'and the upper and lower unclads 300, 300' formed by the method shown in FIGS. 4A-4E.

여기서 중심 코어(100), 상하부 외부 코어(200, 200') 및 상하부 언클래드(300, 300')의 비아홀들이 정확하게 일치시키기 위하여, 타겟팅(targeting) 방식 또는 핀(pin) 정합 방식 등을 사용하여 예비 레이업을 수행하는 것이 바람직하다.Here, in order to accurately match the via holes of the central core 100, the upper and lower outer cores 200 and 200 ′, and the upper and lower unclad 300 and 300 ′, a targeting method or a pin matching method may be used. It is desirable to perform a preliminary layup.

타켓팅 방식은 중심 코어(100), 상하부 외부 코어(200, 200') 및 상하부 언클래드(300, 300')를 적층한 후, 기준점인 각각의 '타겟 가이드 마크(target guide mark)'에 타겟 구멍을 가공하는 방식으로, 통상적으로 X-선에 의한 타겟 드릴을 사용한다.The targeting method stacks the center core 100, the upper and lower outer cores 200 and 200 ', and the upper and lower uncladding 300 and 300', and then targets holes in the respective target target marks. In the manner of processing, a target drill by X-rays is usually used.

한편, 핀 정합 방식은 중심 코어(100), 상하부 외부 코어(200, 200') 및 상하부 언클래드(300, 300')간의 기준이 되는 홀인 가이드 홀(guide hole)을 동일한 위치에 각각 형성함으로써, 중심 코어(100), 외부 코어(200, 200') 및 언클래드(300, 300')를 정확하게 정합시키는 방식이다.Meanwhile, in the pin matching method, guide holes, which are a reference hole between the center core 100, the upper and lower outer cores 200 and 200 ', and the upper and lower uncladding 300 and 300', respectively, are formed at the same position, The core core 100, the outer cores 200 and 200 'and the uncladding 300 and 300' are accurately matched.

도 5b에서와 같이, 위에서부터 순차적으로 예비 레이업된 상부 외부 코어(200), 상부 언클래드(300), 중심 코어(100), 하부 언클래드(300') 및 하부 외부 코어(200')를 압축 프레스로 압착하여 일괄적으로 적층하면, 8층 구조의 인쇄회로기판(1000)이 완성된다.As shown in FIG. 5B, the upper outer core 200, the upper unclad 300, the center core 100, the lower unclad 300 'and the lower outer core 200' which are sequentially laid up from the top are sequentially When the sheets are compressed and stacked in a batch, the printed circuit board 1000 having an eight-layer structure is completed.

이후, 솔더 레지스트(solder resist) 형성 공정, 니켈/금도금 공정 및 외곽 형성 공정을 수행하다.Thereafter, a solder resist forming process, a nickel / gold plating process, and an outer forming process are performed.

본 발명의 바람직한 실시예에서, 중심 코어, 상부 외부 코어 및 하부 외부 코어의 비아홀의 수는 서로 다르게 형성될 수 있다. 예를 들면, 중심 코어에 1000개의 비아홀이 형성되고, 상부 외부 코어에 500개의 비아홀이 형성되며, 하부 외부 코어에 600개의 비아홀이 형성될 수 있다. 이 경우, 상부 언클래드는 상부 외부 코어의 비아홀과 중심 코어의 비아홀을 전기적으로 연결시켜야 하므로, 상부 외부 코어와 동일한 500개의 비아홀을 형성하는 것이 바람직하다. 마찬가지로, 하부 언클래드도 하부 외부 코어의 비아홀과 중심 코어의 비아홀을 전기적으로 연결시켜야 하므로, 600개의 비아홀을 형성하는 것이 바람직하다.In a preferred embodiment of the present invention, the number of via holes of the center core, the upper outer core and the lower outer core may be formed differently. For example, 1000 via holes may be formed in the central core, 500 via holes may be formed in the upper outer core, and 600 via holes may be formed in the lower outer core. In this case, since the upper unclad must electrically connect the via hole of the upper outer core and the via hole of the center core, it is preferable to form the same 500 via holes as the upper outer core. Similarly, since the lower unclad must electrically connect the via hole of the lower outer core and the via hole of the center core, it is preferable to form 600 via holes.

본 발명의 다른 바람직한 실시예에서, 중심 코어에 다수의 상부 외부 코어 또는 다수의 하부 외부 코어를 적층하여 8층 이상의 인쇄회로기판을 제조할 수 있다.In another preferred embodiment of the present invention, a plurality of upper outer cores or a plurality of lower outer cores may be stacked on a center core to manufacture eight or more printed circuit boards.

이상에서 본 발명에 대하여 설명하였으나, 이는 일실시예에 불과하며, 본 발 명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 얼마든지 다양한 변화 및 변형이 가능함은 본 기술분야에서 통상적으로 숙련된 당업자에게 분명할 것이다. 하지만, 이러한 변화 및 변형이 본 발명의 범위 내에 속한다는 것은 이하 특허청구범위를 통하여 확인될 것이다.Although the present invention has been described above, this is only one embodiment, and it will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. . However, it will be confirmed through the claims that such changes and modifications fall within the scope of the present invention.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 혼합형 빌드업 공법을 이용한 인쇄회로기판 제조방법은 내층 부분인 중심 코어를 드릴링 수가 적은 빌드업 공정으로 제작하므로, 고밀도의 인쇄회로기판을 제조하는데 비용을 절감할 수 있는 효과가 있다.As described above, the method of manufacturing a printed circuit board using the hybrid build-up method according to the present invention may reduce the cost of manufacturing a high-density printed circuit board since the core core, which is an inner part, is manufactured in a build-up process with less drilling. It has an effect.

또한, 본 발명에 따른 혼합형 빌드업 공법을 이용한 인쇄회로기판 제조방법은 내층의 비아홀에 페이스트 충진하여 내부 기포가 발생하지 않으므로, 열충격 등의 외부 환경 테스트에서 홀 균열, 홀 터짐 등의 치명적인 신뢰성 불량을 방지할 수 있는 효과도 있다.In addition, in the method of manufacturing a printed circuit board using the mixed build-up method according to the present invention, since internal bubbles are not generated by pasting the via hole of the inner layer, deadly reliability defects such as hole cracking and hole bursting may be prevented in external environmental tests such as thermal shock. There is also an effect that can be prevented.

또한, 본 발명에 따른 혼합형 빌드업 공법을 이용한 인쇄회로기판 제조방법은 외층이 병렬로 제작되어 전체 인쇄회로기판의 표면에 함몰부분이 발생하지 않으므로, 솔더 볼 기포(solder ball void)가 발생하지 않아 실장시 솔더 볼 균열의 발생을 방지할 수 있는 효과도 있다.In addition, the method of manufacturing a printed circuit board using the mixed build-up method according to the present invention does not generate solder balls on the surface of the entire printed circuit board because the outer layers are manufactured in parallel, so that solder ball voids do not occur. It also has the effect of preventing solder ball cracks during mounting.

또한, 본 발명에 따른 혼합형 빌드업 공법을 이용한 인쇄회로기판 제조방법은 외층이 별도로 회로가 형성된 후 적층되므로, 두꺼운 동도금 형성이 필요없어 미세한 회로패턴을 외층에 형성할 수 있는 효과도 있다.In addition, the method of manufacturing a printed circuit board using the mixed build-up method according to the present invention has an effect of forming a fine circuit pattern on the outer layer because the outer layer is separately laminated after the circuit is formed, so that thick copper plating is not required.

또한, 본 발명에 따른 혼합형 빌드업 공법을 이용한 인쇄회로기판 제조방법 은 중심 코어, 외부 코어 및 언클래드를 병렬로 제작하여 일괄적층하므로, 공정시간을 단축할 수 있는 효과도 있다.In addition, the method of manufacturing a printed circuit board using the hybrid build-up method according to the present invention has the effect of shortening the process time since the core core, the external core, and the unclad fabric are manufactured and stacked in parallel.

Claims (5)

(A) 빌드업 방식에 따라, 소정의 회로패턴 및 다수의 비아홀을 포함하는 적어도 4층 구조의 중심 코어를 제공하는 단계;(A) providing a central core of at least a four-layer structure including a predetermined circuit pattern and a plurality of via holes, according to a buildup scheme; (B) 양면에 소정의 회로패턴이 형성되고 있고, 상기 중심 코어의 비아홀 중 적어도 일부에 대응하는 비아홀이 형성되어 있는 적어도 하나의 외부 코어를 제공하는 단계;(B) providing at least one outer core having predetermined circuit patterns formed on both surfaces thereof and having via holes corresponding to at least some of the via holes of the central core; (C) 상기 중심 코어의 비아홀과 상기 외부 코어의 비아홀을 전기적으로 연결하기 위하여, 상기 외부 코어의 비아홀에 대응하고 내부에 전도성 페이스트가 충진된 비아홀을 포함하는 절연층으로 이루어진 적어도 하나의 언클레드를 제공하는 단계; 및(C) at least one unclad insulating layer including a via hole corresponding to the via hole of the outer core and having a conductive paste filled therein to electrically connect the via hole of the center core and the via hole of the outer core; Providing; And (D) 상기 중심 코어의 적어도 일면에 상기 언클래드와 상기 외부 코어를 교대로 배치하여 예비 레이업한 후, 일괄적으로 적층하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 혼합형 빌드업 공법을 이용한 인쇄회로기판 제조방법.(D) a preliminary lay-up by alternately arranging the unclad and the outer core on at least one surface of the center core, and then laminating them collectively; a printed circuit using a hybrid build-up method comprising a Substrate manufacturing method. 제 1 항에 있어서, 상기 (A) 단계는,The method of claim 1, wherein step (A) comprises: (A-1) 양면에 소정의 회로패턴이 형성되어 있는 베이스 기판을 제공하는 과정;(A-1) providing a base substrate having predetermined circuit patterns formed on both surfaces thereof; (A-2) 상기 베이스 기판의 양면에 절연층을 각각 적층한 후, 상기 절연층을 연결하는 비아홀을 형성하는 과정;(A-2) stacking insulating layers on both sides of the base substrate and forming via holes connecting the insulating layers; (A-3) 상기 절연층 및 상기 비아홀의 내벽에 제 1 동도금층을 형성한 후, 상기 비아홀의 내부에 전도성 또는 비전도성 페이스트를 충진하는 과정;(A-3) forming a first copper plating layer on an inner wall of the insulating layer and the via hole, and then filling a conductive or non-conductive paste into the via hole; (A-4) 상기 제 1 동도금층 및 상기 전도성 또는 비전도성 페이스트의 노출부분에 제 2 동도금층을 형성하는 과정;(A-4) forming a second copper plating layer on the exposed portion of the first copper plating layer and the conductive or non-conductive paste; (A-5) 상기 제 2 동도금층의 표면에 에칭 레지스트를 도포한 후, 상기 에칭 레지스트를 노광 및 현상하여 소정의 에칭 레지스트 패턴을 형성하는 과정; 및(A-5) applying an etching resist to the surface of the second copper plating layer, and then exposing and developing the etching resist to form a predetermined etching resist pattern; And (A-6) 상기 에칭 레지스트 패턴을 이용하여 상기 제 1 동도금층 및 상기 제 2 동도금층을 에칭함으로써, 상기 에칭 레지스트 패턴에 대응하는 회로패턴을 형성하는 과정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 혼합형 빌드업 공법을 이용한 인쇄회로기판 제조방법.(A-6) forming a circuit pattern corresponding to the etching resist pattern by etching the first copper plating layer and the second copper plating layer using the etching resist pattern. Printed circuit board manufacturing method using the up method. 제 1 항에 있어서, 상기 (B) 단계는,According to claim 1, wherein (B) step, (B-1) 절연수지층의 양면에 동박층이 입혀진 적어도 하나의 베이스 기판을 제공하는 과정;(B-1) providing at least one base substrate coated with a copper foil layer on both sides of the insulating resin layer; (B-2) 상기 베이스 기판에 상기 중심 코어의 비아홀 중 적어도 일부에 대응하는 비아홀을 각각 형성한 후, 상기 비아홀의 내부가 충진되도록 상기 동박층 및 상기 비아홀의 내부 동도금층을 각각 형성하는 과정;(B-2) forming via holes corresponding to at least some of the via holes of the center core in the base substrate, and then forming the copper foil layer and the inner copper plating layer of the via holes so as to fill the via holes; (B-3) 상기 동도금층 표면에 에칭 레지스틀 도포한 후, 상기 에칭 레지스트를 노광 및 현상하여 소정의 에칭 레지스트 패턴을 각각 형성하는 과정; 및(B-3) applying an etching resist on the surface of the copper plating layer, and then exposing and developing the etching resist to form predetermined etching resist patterns, respectively; And (B-4) 상기 에칭 레지스트 패턴을 이용하여 상기 동도금층을 에칭함으로써, 상기 에칭 레지스트 패턴에 대응하는 회로패턴을 각각 형성하는 과정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 혼합형 빌드업 공법을 이용한 인쇄회로기판 제조방법.(B-4) forming a circuit pattern corresponding to the etching resist pattern by etching the copper plating layer using the etching resist pattern; a printed circuit board using a mixed buildup method Manufacturing method. 제 1 항에 있어서, 상기 (C) 단계는,The method of claim 1, wherein step (C) comprises: (C-1) 절연층의 양면에 보호 필름이 부착된 적어도 하나의 언클래드 자재를 제공하는 과정;(C-1) providing at least one unclad material having a protective film attached to both sides of the insulating layer; (C-2) 상기 언클래드 자재에 상기 외부 코어의 비아홀에 대응하는 비아홀을 각각 형성한 후, 상기 비아홀 내부에 전도성 페이스트를 각각 충진하는 과정; 및(C-2) forming via holes corresponding to the via holes of the outer core in the unclad material, and then filling conductive paste into the via holes, respectively; And (C-3) 상기 보호 필름을 각각 제거하는 과정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 혼합형 빌드업 공법을 이용한 인쇄회로기판 제조방법.(C-3) removing each of the protective films; a printed circuit board manufacturing method using a mixed build-up method comprising a. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 4, 상기 (A) 단계, (B) 단계 및 (C) 단계는 병렬로 동시에 수행되는 것을 특징으로 하는 혼합형 빌드업 공법을 이용한 인쇄회로기판 제조방법.The steps (A), (B) and (C) are performed at the same time in parallel, the printed circuit board manufacturing method using a hybrid build-up method.
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