WO2016136937A1 - 全反射試料照明装置 - Google Patents

全反射試料照明装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2016136937A1
WO2016136937A1 PCT/JP2016/055789 JP2016055789W WO2016136937A1 WO 2016136937 A1 WO2016136937 A1 WO 2016136937A1 JP 2016055789 W JP2016055789 W JP 2016055789W WO 2016136937 A1 WO2016136937 A1 WO 2016136937A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
slide glass
device substrate
laser light
incident
total reflection
Prior art date
Application number
PCT/JP2016/055789
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
洋平 佐藤
真帆 漆谷
秀介 牧野
Original Assignee
学校法人 慶應義塾
ニイガタ株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 学校法人 慶應義塾, ニイガタ株式会社 filed Critical 学校法人 慶應義塾
Priority to EP16755681.0A priority Critical patent/EP3264069B1/en
Publication of WO2016136937A1 publication Critical patent/WO2016136937A1/ja

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
    • G01N21/64—Fluorescence; Phosphorescence
    • G01N21/645—Specially adapted constructive features of fluorimeters
    • G01N21/6456—Spatial resolved fluorescence measurements; Imaging
    • G01N21/6458—Fluorescence microscopy
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
    • G01N21/64—Fluorescence; Phosphorescence
    • G01N21/645—Specially adapted constructive features of fluorimeters
    • G01N21/648—Specially adapted constructive features of fluorimeters using evanescent coupling or surface plasmon coupling for the excitation of fluorescence
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
    • G01N21/65—Raman scattering
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00—Microscopes
    • G02B21/06—Means for illuminating specimens
    • G02B21/08—Condensers
    • G02B21/10—Condensers affording dark-field illumination
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00—Microscopes
    • G02B21/16—Microscopes adapted for ultraviolet illumination ; Fluorescence microscopes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00—Microscopes
    • G02B21/0004—Microscopes specially adapted for specific applications
    • G02B21/0088—Inverse microscopes

Definitions

  • the present invention relates to a total reflection sample illumination device that generates an evanescent wave as excitation light, for example, in fluorescence observation with a microscope or measurement using total reflection Raman scattered light.
  • Fluorescence observation using an evanescent wave as local excitation light is known as a technique for observing and measuring only the very vicinity of the sample interface.
  • An evanescent wave is a material side with a low refractive index when light is incident on the interface between two materials with different refractive indexes from the material side with a large refractive index at a critical angle or more and totally reflected at the interface. The light that oozes out. Since the intensity of the evanescent wave attenuates exponentially as the distance from the total reflection interface increases, in the fluorescence observation using the evanescent wave, a fluorescent dye existing at a distance of about 100 nm from the total reflection interface is selectively excited. It is possible to realize observation and measurement specialized only in a shallow region in the immediate vicinity of the interface.
  • Patent Document 1 As a total reflection sample illumination device for irradiating an evanescent wave, one disclosed in Patent Document 1 is known.
  • This apparatus includes an incident prism fixed to a laser light source, and a radiation prism supported so that the position of the prism can be adjusted in a direction close to the incident prism.
  • the incident prism and the radiating prism are supported from below.
  • Laser light emitted from the laser light source is guided into the slide glass through a contact surface between the incident prism and the slide glass, and after repeating the total reflection a plurality of times in the slide glass, the slide glass And the radiation prism are guided into the radiation prism and radiated to the outside from the radiation prism.
  • an evanescent wave is generated on the surface of the slide glass corresponding to the total reflection position of the laser light, and only in the vicinity of the surface of the slide glass.
  • the fluorescent dye is excited by irradiation with the evanescent wave, and the excitation light can be observed with an objective lens disposed below the slide glass.
  • the present invention has been made in view of such problems, and the object of the present invention is to generate an evanescent wave simply by entering a laser beam without skilled techniques, and to perform observation and measurement.
  • An object of the present invention is to provide a total reflection sample illumination device that can be easily handled.
  • the present invention introduces a laser beam into the slide glass and causes multiple total reflection of the laser beam within the slide glass to generate an evanescent wave on the upper surface of the slide glass, and is positioned on the upper surface of the slide glass.
  • a total reflection sample illumination device that illuminates a sample with its evanescent wave, and has a device substrate formed of a material having a refractive index comparable to that of the slide glass.
  • the apparatus substrate is provided with an opening penetrating between the upper surface and the bottom surface, and the slide glass can be disposed on the upper surface so as to close the opening.
  • a light source holder for holding a laser light source is fixed to the upper surface of the apparatus substrate, and laser light emitted from the laser light source is incident on the upper surface of the apparatus substrate at a predetermined angle.
  • a reflection surface for incidence is provided on the bottom surface side of the device substrate, and laser light incident on the device substrate from the laser light source is reflected by the reflection surface for incidence and enters the slide glass, and enters the opening. Multiple total reflections are caused within the overlapping glass slides.
  • an evanescent wave is generated on the surface of the slide glass corresponding to the part where the laser beam is totally reflected, and the sample on the eslide glass can be illuminated with the evanescent wave.
  • an exit reflecting surface is provided at a portion facing the entrance reflecting surface across the opening, and the exit reflecting surface is incident on the device substrate from the slide glass. The laser light is reflected in a direction parallel to the upper surface of the apparatus main body and in a direction not interfering with the opening, and the laser light is emitted outside the apparatus substrate.
  • the incident reflection surface is formed on the apparatus substrate and the light source holder holding the laser light source is fixed to the apparatus substrate, the laser beam against the incident reflection surface is fixed.
  • the incident angle is always constant, and since the slide glass is installed on the apparatus substrate, the relationship between the slide glass and the incident reflecting surface is also constant.
  • the device substrate is made of a material having a refractive index similar to that of the slide glass, the refraction of the laser beam at the boundary surface between the slide glass and the device substrate hardly needs to be considered.
  • the total reflection of the laser light occurs only on the surface of the slide glass on which the sample is placed and on the back surface of the slide glass facing the opening.
  • the incident angle of the laser light to the slide glass is always constant, and the slide glass overlaps the opening of the apparatus substrate.
  • the laser light incident on the apparatus substrate from the slide glass after generating the evanescent wave is parallel to the surface of the apparatus substrate by the emission reflecting surface formed on the apparatus substrate and does not interfere with the opening. Since the laser beam is then emitted from the apparatus substrate, the laser beam is not reflected by an objective lens or its revolver such as a microscope below the stage such as a microscope, and scattered light is not generated. Good observation and measurement with a high N ratio are possible.
  • the device substrate may have any outer shape as long as the device substrate is formed in a plate shape with an opening that induces total reflection of the laser light at a substantially central position.
  • the device substrate is preferably formed in a rectangular shape.
  • the total reflection sample illumination device of the present invention is used on, for example, the stage of an inverted microscope or the stage of various measuring devices. At that time, the device can be easily fixed to the stage. From a viewpoint, a support plate portion to be placed on the stage is provided around the upper surface side of the device substrate, and a boss for positioning the device substrate in the through hole of the stage is provided on the back surface side of the support plate portion. It is preferable to provide it. If comprised in this way, the objective lens of a microscope can be matched with the opening of the said apparatus board
  • the material of the device substrate a material having a refractive index similar to that of a slide glass, high transparency, and not having autofluorescence is preferable.
  • a plate material made of a colorless and transparent acrylic resin hereinafter referred to as “acrylic”). Board)
  • the incident reflection surface and the emission reflection surface may directly deposit a metal thin film on an acrylic plate serving as a device substrate.
  • the device substrate may be formed by bonding this acrylic mirror plate to a colorless and transparent acrylic plate. This makes it possible to manufacture the device substrate at a low cost.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a total reflection sample illumination device (hereinafter referred to as “illumination device”) to which the present invention is applied.
  • the illuminating device 1 is used by being mounted on a stage S of an inverted fluorescent microscope, for example.
  • the slide glass 2 is set at a predetermined position of the illuminating device 1 and is fixed to the illuminating device 1.
  • an evanescent wave Ev is generated at a predetermined position on the surface of the slide glass 2.
  • the slide glass 2 on which the sample containing the fluorescent dye is placed is set in the illumination device 1, the fluorescent dye in the sample is excited by the evanescent wave Ev that has oozed out on the surface of the slide glass 2, and the sample is placed on the microscope stage. It is possible to observe the fluorescence with the objective lens R through the slide glass 2 from below S.
  • the illuminating device 1 is disposed in the through hole of the microscope stage S and has an apparatus substrate 4 having an opening 40 of the objective lens R substantially at the center, and projects around the upper surface side of the apparatus substrate 4 so as to be attached to the microscope stage S.
  • a support plate portion 5 to be overlaid and a light source holder 6 that is fixed to the upper surface 4a of the apparatus substrate 4 and holds the laser light source 3 are provided.
  • the apparatus substrate 4 is incident on the apparatus substrate 4 from the slide glass 2 and the incident reflecting surface 7 that reflects the laser light L incident on the apparatus substrate 4 from the laser light source 3 toward the slide glass 2.
  • An emission reflecting surface 8 that reflects the laser beam L and emits the laser beam L from the apparatus substrate 4 to the outside is provided.
  • the support plate 5 and the device substrate 4 are integrally formed, and the light source holder 6 is fixed to the upper surface of the device substrate 4 with screws. Further, a boss 9 that fits into the through hole of the microscope stage S is provided around the apparatus substrate 4 on the lower surface side of the support plate portion 5 so that the boss 9 is fitted into the through hole.
  • the opening 40 provided in the apparatus substrate 4 is positioned at the center of the through hole of the microscope stage S, and the objective lens R of the microscope is positioned in the opening 40. It is supposed to be.
  • the device substrate 4 is formed of a material having a refractive index comparable to that of the slide glass 2 and having high transparency and not having autofluorescence with respect to the wavelength of the laser light L to be used.
  • a material having a refractive index comparable to that of the slide glass 2 and having high transparency and not having autofluorescence with respect to the wavelength of the laser light L to be used for example, the same material as that of the slide glass 2 for observation can be used.
  • an acrylic plate that can be easily processed such as cutting and adhesion and is available at a lower cost than a glass plate is used.
  • FIGS. 2 to 4 are a bottom view, a front view, and a rear view showing details of the shape of the illumination device 1, and shows a state in which the light source holder 6 is detached from the device substrate 4.
  • the support plate portion 5 is formed in a square shape, and the boss 9 is formed in a substantially circular shape at the center of the bottom surface.
  • the shape of the boss 9 matches the shape of the through hole of the microscope stage S, and differs depending on the manufacturer of the microscope.
  • the device substrate 4 protrudes in a substantially rectangular shape on the bottom surface of the boss 9.
  • the opening 40 is located at the center of the boss 9 and penetrates between the upper surface and the bottom surface of the device substrate 4, but exists at a position slightly deviated from the center of the device substrate 4. is doing.
  • the incident reflecting surface 7 and the emitting reflecting surface 8 are formed as inclined surfaces obtained by obliquely cutting off the corners on the bottom surface side of the apparatus substrate 4 at a predetermined angle, and a metal thin film such as aluminum is formed on the inclined surfaces. Can be formed by vapor deposition.
  • the lighting device 1 of the present invention actually manufactured by the inventors, a commercially available acrylic mirror plate is used for the incident reflecting surface 7 and the emitting reflecting surface 8 in order to reduce the manufacturing cost.
  • the device substrate 4 was provided with an incident reflecting surface 7 and an emitting reflecting surface 8.
  • the support plate portion 5, the boss 9, and the device substrate 4 were molded into a predetermined shape by joining acrylic plates having different thicknesses.
  • the bonding surface was mirror-polished, and an ultraviolet curable resin was used as an adhesive so that minute cracks and bubbles would not enter the surface of the acrylic plate during bonding.
  • the incident reflecting surface 7 reflects the laser beam L incident from the upper surface of the apparatus substrate 4 toward the center of the opening 40, and beyond that, the emission surface is formed.
  • a reflective surface 8 is present.
  • the laser light L does not go straight from the reflecting surface 7 for incidence to the reflecting surface 8 for emission, but is obliquely incident on the slide glass 2 from below as shown in FIG. After passing through the slide glass 2 while repeating reflection, the light enters the reflecting surface 8 for emission.
  • the exit reflecting surface 8 reflects the laser light L in a direction parallel to the upper surface of the device substrate 4 in the vertical direction, but the incident reflecting surface 7 in the horizontal plane direction. Instead of returning in the direction of, as shown in FIG. 2, it is reflected in a direction that makes an angle ⁇ with the incident laser light L. This prevents the laser light L from interfering with the opening 40 of the objective lens R.
  • FIG. 5 is a plan view of the illumination device 1 and shows a state where the light source holder 6 is removed.
  • a recess 20 for positioning the slide glass 2 is provided at the center of the upper surface 4 a of the apparatus substrate 4, and the opening 40 is opened at the center of the recess 20.
  • a refractive index matching liquid such as oil immersion oil may be dropped between the slide glass 2 and the apparatus substrate 4.
  • a holder fixing seat 60 is provided adjacent to the recess on the upper surface 4a of the apparatus substrate, and the light source holder 6 is screwed to the holder fixing seat 60.
  • the holder fixing seat 60 is located immediately above the incident reflecting surface 7 provided on the apparatus substrate 4.
  • the laser light L emitted from the laser light source 3 is held by the light source holder 6, the laser light L emitted from the laser light source 3 is held. Is incident perpendicularly to the upper surface of the apparatus substrate 4, and the laser beam L is incident on the incident reflecting surface 7 at a certain angle.
  • the illuminating device 1 of the present invention actually manufactured is obtained by joining an acrylic plate serving as the device substrate 4 to an acrylic plate serving as the support plate portion 5, the holder fixing seat 60 serves as the support plate portion 5.
  • An introduction hole 65 having a depth corresponding to the thickness of the acrylic plate is provided, and the laser light L emitted from the laser light source 3 enters the apparatus substrate 4 through the introduction hole 65. Therefore, when the support plate portion 5 and the device substrate 4 are formed from a single acrylic plate, the introduction hole 65 need not be provided.
  • FIG. 6 is a schematic view of the light source holder 6.
  • the light source holder 6 is integrally provided with a base portion 61 screwed to the holder fixing seat 60, a light source holding portion 62 standing upright from the base portion 61, and the base portion 61 and the light source holding portion 62.
  • the heat radiating fins 63 are provided. A plurality of the radiating fins 63 are arranged along the depth direction in FIG.
  • the laser light source 3 is fixed to the light source holding part 62, and the irradiated laser light L passes through a through hole 64 provided in the base part 61 and enters the apparatus substrate 4.
  • the light source holder 6 is formed of a metal having good thermal conductivity, such as aluminum.
  • the heat generated by the laser light source 3 is radiated into the ambient atmosphere by the heat radiating fins 63.
  • the laser light L emitted from the laser light source 3 is reflected by the incident reflecting surface 7 and enters the slide glass 2 at a predetermined angle.
  • the total reflection is repeated a plurality of times inside the slide glass 2. Since the device substrate 4 is formed of a material having a refractive index similar to that of the slide glass 2, the laser light L passes through the interface between the slide glass 2 and the device substrate 4 with almost no refraction, and the slide glass 2 After total reflection on the surface, total reflection is also performed on the back side of the slide glass 2 that overlaps the opening 40.
  • the laser light L repeats total reflection in the slide glass 2 at the portion where the slide glass 2 overlaps the opening 40, and reaches the portion where the slide glass 2 and the device substrate 4 overlap, The light passes through the interface of the device substrate 4 and enters the device substrate 4.
  • the laser light source 3 is held in a predetermined posture by the light source holder 6 fixed to the apparatus substrate 4 and the laser light L is incident on the incident reflection surface 7 of the apparatus substrate 4 at a predetermined angle.
  • the laser light source 3 is held in a predetermined posture by the light source holder 6 fixed to the apparatus substrate 4 and the laser light L is incident on the incident reflection surface 7 of the apparatus substrate 4 at a predetermined angle.
  • an evanescent wave Ev is generated at the surface portion of the slide glass 2 where the total reflection occurs.
  • an evanescent wave can be generated easily and stably without requiring a troublesome adjustment work.
  • the laser light incident on the apparatus substrate from the slide glass is incident on the reflection surface for emission, reflected in a direction parallel to the upper surface of the apparatus substrate and in a direction not interfering with the opening, and then around the apparatus substrate. Radiated from the surface. Below the microscope stage S, there are instruments attached to the microscope, such as an objective lens and its revolver. In this way, the direction parallel to the upper surface of the apparatus substrate, in other words, parallel to the surface of the microscope stage. If laser light is emitted in the direction, it is possible to avoid the occurrence of scattered light that is difficult to predict due to reflection of the laser light to the equipment below the microscope stage. Thereby, good fluorescence observation with a high S / N ratio becomes possible.
  • the total reflection sample illumination device of the present invention is installed on the stage of a microscope, an evanescent wave can be generated easily and stably, and the total reflection fluorescence microscope using the evanescent wave can be used. Observation of the object is easy, and it is expected to be widely spread in a wide range of fields such as the bio field, the medical field, and the environmental field.
  • the total reflection sample illumination device of the present invention that easily and stably generates an evanescent wave is also effective in measurement using total reflection Raman scattered light using the evanescent wave as excitation light.
  • noninvasive measurement since noninvasive measurement is possible, it is expected to be used in a wide range of fields such as the bio field, the medical field, and the environmental field.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

　熟練した技術がなくともレーザー光を入射するだけで簡単にエバネッセント波を発生させることができ、蛍光観察や非侵襲ラマンイメージング等を行う際の取り扱いが容易な全反射試料照明装置であって、試料を載せたスライドガラス(2)と同程度の屈折率を有する材料から形成されて上面に当該スライドガラスが配設される装置基板(4)と、レーザー光源(3)の発するレーザー光を前記装置基板(4)の上面に対して所定の角度で入射させる光源ホルダ(6)と、前記装置基板(4)に入射したレーザー光を反射して前記スライドガラス(2)に入射させると共に前記スライドガラス(2)内で多重全反射を生じさせる入射用反射面(7)と、前記スライドガラス(2)から前記装置本体(4)に入射したレーザー光を当該装置基板(4)の上面と平行な方向へ反射する射出用反射面(8)と、を備えている。

Description

全反射試料照明装置
　本発明は、例えば顕微鏡による蛍光観察や全反射ラマン散乱光を用いた計測において、励起光としてのエバネッセント波を発生させる全反射試料照明装置に関する。
　試料の界面の極近傍のみを観察・計測する手法として、エバネッセント波を局所的な励起光とした用いた蛍光観察が知られている。エバネッセント波とは、屈折率の異なる二つの物質の界面に対して、光が屈折率の大きな物質側から臨界角以上で入射して当該界面にて全反射した際に、屈折率の小さい物質側に染み出る光のことである。このエバネッセント波の強度は全反射界面から離れるに従い指数関数的に減衰するので、かかるエバネッセント波を用いた蛍光観察では、全反射界面から１００ｎｍ程度の距離に存在する蛍光色素を選択的に励起することができ、当該界面の極近傍の浅い領域のみに特化した観察・計測を実現することが可能である。
　従来、エバネッセント波を照射する全反射試料照明装置としては、特許文献１に開示されるものが知られている。この装置は、レーザー光源に対して固定された入射プリズムと、前記入射プリズムに対して近接する方向へ位置調整可能に支持された放射プリズムとを備えており、試料を載せたスライドガラスの両端を前記入射プリズム及び放射プリズムによって下方から支持するように構成されている。前記レーザー光源から射出されたレーザー光は前記入射プリズムと前記スライドガラスとの接触面を介して当該スライドガラス内に導かれ、かかるスライドガラス内において複数回の全反射を繰り返した後、前記スライドガラスと前記放射プリズムとの接触面から当該放射プリズム内に導かれ、かかる放射プリズムから外部へ放射される。
　前記レーザー光がスライドガラス内で全反射する際に、前記スライドガラスの表面にはレーザー光の全反射位置に対応してエバネッセント波が発生し、当該スライドガラスの表面の極近傍においてのみ試料中の蛍光色素が前記エバネッセント波の照射によって励起され、その励起光を前記スライドガラスの下方に配置した対物レンズによって観察することが可能となっている。
　また近年では、蛍光色素を用いることなく、エバネッセント波を励起光として試料から発生する全反射ラマン散乱光を捉えることで、界面近傍を非侵襲で計測する技術も提案されており、（非特許文献１）、バイオ分野、医療分野、環境分野などの幅広い分野において、エバネッセント波を発生する全反射試料照明装置の応用が期待されている。
特開２００７－８５９１５号公報
Kuriyama.R, Tateishi.T, Sato.Y, "Development of Total Internal Reflection Raman Imaging for Non-intrusive Quantitative Visualization of Near-wall Concentration", 17th International Symposium on Applications of Laser Techniques to Fluid Mechanics, 2014
　しかし、このような従来の全反射照明装置では、前記入射プリズムを介して前記スライドガラスに入射するレーザー光の入射角度が１度異なると、スライドガラスの表面に発生するエバネッセント波の大きさや強度が変化してしまうため、前記レーザー光源と前記入射プリズムの位置関係の調整に熟練した技術が必要であった。また、前記放射プリズムの位置が最適に調整されないと、放射プリズムから外部に放射されたレーザー光が散乱光を発生させ、かかる散乱光が観察・計測の際のＳＮ比の低下の要因となってしまう。加えて、前記レーザー光源と前記入射プリズムの位置関係を調整すると、それに伴って放射プリズムの位置調整も必要となり、装置の取り扱いに手間がかかるといった課題があった。
　本発明はこのような課題に鑑みなされたものであり、その目的とするところは、熟練した技術がなくともレーザー光を入射するだけで簡単にエバネッセント波を発生させることができ、観察・計測を行う際の取り扱いが容易な全反射試料照明装置を提供することにある。
　すなわち、本発明は、レーザー光をスライドガラス内に導入し、前記スライドガラス内でレーザー光を多重全反射させることで当該スライドガラスの上面にエバネッセント波を発生させ、前記スライドガラスの上面に位置する試料をそのエバネッセント波によって照明する全反射試料照明装置であって、前記スライドガラスと同程度の屈折率を有する材料から形成された装置基板を有している。
　この装置基板には上面と底面との間を貫通する開口が設けられると共に、上面には前記開口を塞ぐようにして前記スライドガラスが配設可能である。また、装置基板の上面にはレーザー光源を保持する光源ホルダが固定されており、前記レーザー光源が発するレーザー光を前記装置基板の上面に対して所定の角度で入射させるようになっている。前記装置基板の底面側には入射用反射面が設けられており、前記レーザー光源から前記装置基板に入射したレーザー光はこの入射用反射面で反射して前記スライドガラスに入射し、前記開口に重なった前記スライドガラスの部位内で多重全反射を生じさせる。これにより、レーザー光が全反射する部位に対応して、前記スライドガラスの表面にはエバネッセント波が発生し、当該エスライドガラス上の試料をエバネッセント波によって照明することができる。一方、前記装置基板の底面側には前記開口を挟んで入射用反射面と対向する部位に射出用反射面が設けられており、この射出用反射面は前記スライドガラスから前記装置基板に入射したレーザー光を当該装置本体の上面と平行な方向で且つ前記開口と干渉しない方向へ反射し、レーザー光を装置基板の外へ放射する。
　このような本発明によれば、前記装置基板に対して入射用反射面を形成すると共に、当該装置基板に対してレーザー光源を保持する光源ホルダを固定したので、前記入射用反射面に対するレーザー光線の入射角度は常に一定したものとなり、また、前記装置基板に対してスライドガラスを設置するので、スライドガラスと前記入射用反射面の関係も一定となる。そして、前記装置基板としては屈折率がスライドガラスのそれと同程度の材質を使用しているので、スライドガラスと装置基板の境界面におけるレーザー光の屈折は殆ど考慮する必要がなく、スライドガラス内におけるレーザー光の全反射は試料が載せられた当該スライドガラスの表面と前記開口に面したスライドガラスの裏面においてのみ発生することになる。これにより、装置基板に対してスライドガラスとレーザー光源を保持した光源ホルダをセットさえすれば、前記スライドガラスに対するレーザー光の入射角度は常に一定のものとなり、当該スライドガラスが装置基板の開口に重なった部位でのみエバネッセント波を安定的に発生させることが可能となる他、面倒な調整作業を必要とせず、簡易にエバネッセント波を発生させることが可能となる。
　また、エバネッセント波を発生させた後にスライドガラスから装置基板に入射したレーザー光は、当該装置基板に形成された射出用反射面によって当該装置基板の表面と平行な方向で且つ前記開口と干渉しない方向へ反射され、その後に前記装置基板から放射されるので、レーザー光が顕微鏡等のステージの下方に位置する対物レンズやそのレボルバー等の機器に反射して散乱光を発生させることがなく、Ｓ／Ｎ比の高い良好な観察・計測が可能となる。
　前記装置基板としては、レーザー光の全反射を誘引する開口を略中央に備えて板状に形成されたものであれば、その外形状はいかなるものであっても差し支えないが、前記入射用反射面及び前記射出用反射面の形成を容易なものにするという観点からすれば、当該装置基板は矩形状に形成されるのが好ましい。前記装置基板を矩形状に形成することで、前記開口を挟んだ一対の隅角部に対して、当該隅角部を斜めに切り欠くようにして前記入射用反射面及び前記射出用反射面を形成することが可能となる。
　また、本発明の全反射試料照明装置は例えば倒立式顕微鏡のステージや各種計測機器のステージに載せて使用することになるが、その際に当該装置をステージに対して容易に固定可能にするといった観点からすれば、前記装置基板の上面側の周囲にステージに載せる支持板部を設けると共に、前記支持板部の裏面側には前記装置基板を前記ステージの透孔内に位置決めするためのボスを設けるのが好ましい。このように構成すれば、本発明の装置をステージに載せるだけで、例えば顕微鏡の対物レンズを前記装置基板の開口に対して合わせることができ、エバネッセント波を用いた観察を容易に開始することが可能となる。
　前記装置基板の材質としては、屈折率がスライドガラスと同程度であり、且つ、透明度が高く、自家蛍光を具備していないものがよく、例えば無色透明なアクリル樹脂製の板材（以下、「アクリル板」という）を使用することが可能である。その際、前記入射用反射面及び射出用反射面は装置基板となるアクリル板に対して金属薄膜を直接蒸着しても良いが、金属薄膜が一面に蒸着されたアクリル板（以下、「アクリルミラー板」という）が市販されているので、このアクリルミラー板を無色透明なアクリル板と接着して前記装置基板を形成してもよい。これにより、前記装置基板を安価に製作することが可能となる。
本発明を適用した全反射試料照明装置の実施形態の一例を示す概略図である。 実施形態に係る全反射試料照明装置を示す底面図である。 実施形態に係る全反射試料照明装置を示す正面図である。 実施形態に係る全反射試料照明装置を示す背面図である。 実施形態に係る全反射試料照明装置を示す平面図である。 実施形態に係る全反射試料照明装置の光源ホルダを示す側面図である。
　以下、添付図面を参照しながら本発明を適用した全反射試料照明装置の実施形態を説明する。
　図１は本発明を適用した全反射試料照明装置（以下、「照明装置」という）の概略を示す断面図である。この照明装置１は、例えば倒立式の蛍光顕微鏡のステージＳに載せて使用するものであり、スライドガラス２を当該照明装置１の所定の位置にセットすると共に、当該照明装置１に固定したレーザー光源３からレーザー光Ｌを射出すると、スライドガラス２の表面の所定位置にエバネッセント波Ｅｖが発生するようになっている。このため、蛍光色素を含む試料が載ったスライドガラス２を前記照明装置１にセットすると、スライドガラス２の表面に染み出たエバネッセント波Ｅｖによって試料中の蛍光色素が励起され、前記試料を顕微鏡ステージＳの下方からスライドガラス２を通して対物レンズＲで蛍光観察することが可能となっている。
　前記照明装置１は、顕微鏡ステージＳの透孔内に配置されると共に対物レンズＲの開口４０を略中央に有する装置基板４と、この装置基板４の上面側の周囲に張り出して顕微鏡ステージＳに重ねられる支持板部５と、前記装置基板４の上面４ａに固定されてレーザー光源３を保持する光源ホルダ６とを備えている。また、前記装置基板４には、レーザー光源３から当該装置基板４に入射したレーザー光Ｌを前記スライドガラス２に向けて反射する入射用反射面７と、スライドガラス２から装置基板４に入射したレーザー光Ｌを反射して当該装置基板４から外部に放射する射出用反射面８とが設けられている。
　前記支持板部５と前記装置基板４は一体に形成されており、前記光源ホルダ６は前記装置基板４の上面にネジで固定される。また、前記支持板部５の下面側における前記装置基板４の周囲には、顕微鏡ステージＳの透孔に嵌合するボス９が設けられており、このボス９を透孔に嵌合させるように前記支持板部５を顕微鏡ステージＳに載せると、前記装置基板４に設けられた前記開口４０が前記顕微鏡ステージＳの透孔の中央に位置決めされ、顕微鏡の対物レンズＲが前記開口４０内に位置するようになっている。
　前記装置基板４は、前記スライドガラス２と同程度の屈折率を有し、且つ、透明度が高く、しかも使用するレーザー光Ｌの波長に対して自家蛍光を具備していない材質で形成されていることが必要であり、例えば観察用のスライドガラス２と同じ材質を使用することが可能である。本実施形態では、切削や接着等の加工が容易であり、しかもガラス板に比べて安価に入手可能なアクリル板を使用している。
　図２乃至図４は前記照明装置１の形状の詳細を示す底面図、正面図及び背面図であり、前記光源ホルダ６を前記装置基板４から取り外した状態を示している。前記支持板部５は四角形状に形成され、その底面の中央には前記ボス９が略円形状に形成されている。このボス９の形状は顕微鏡ステージＳの透孔の形状に合致しており、顕微鏡の製造元によって異なったものとなる。また、前記ボス９の底面には前記装置基板４が略矩形状に突出している。前記開口４０は前記ボス９の中央に位置して前記装置基板４の上面と底面との間を貫通しているが、前記装置基板４に対してはその中央よりわずかに偏位した位置に存在している。
　矩形状に形成された前記装置基板４の底面側には4つの隅角部が存在するが、前記開口４０を挟んで対角線上に位置する二つの隅角部には前記入射用反射面７及び前記射出用反射面８が位置している。これら入射用反射面７及び射出用反射面８は装置基板４の底面側の隅角部を所定角度で斜めに切り落とした傾斜面として形成されており、かかる傾斜面に対してアルミニウム等の金属薄膜を蒸着して形成することができる。
　実際に発明者らが製作した本発明の照明装置１では、製作コストを抑えるため、入射用反射面７及び射出用反射面８に関しては市販のアクリルミラー板を利用し、これを前述のアクリル板と貼り合わせて前記装置基板４に入射用反射面７及び射出用反射面８を具備させた。また、前記支持板部５、ボス９及び装置基板４に関しても厚さの異なるアクリル板を接合することで、所定の形状に成形した。接合面に関しては鏡面研磨を行い、接合の際にアクリル板の表面に微小なクラックや気泡が入らぬよう、接着剤としては紫外線硬化樹脂を使用した。また、略矩形状に形成された前記装置基板４の周囲の面の表面粗さはＲa＝０．０５以内となるようにした。
　図２の平面図に示すように、前記入射用反射面７は前記装置基板４の上面から入射したレーザー光Ｌを前記開口４０の中心方向へ向けて反射しており、その先には前記射出用反射面８が存在している。実際には、レーザー光Ｌは前記入射用反射面７から一直線に前記射出用反射面８に向かうのではなく、図１に示すように前記スライドガラス２に対して下方から斜めに入射し、全反射を繰り返しながらスライドガラス２内を通過した後、前記射出用反射面８に入射する。前記射出用反射面８は、縦方向に関しては、図１に示すように、レーザー光Ｌを前記装置基板４の上面と平行な方向へ反射するが、水平面方向に関しては、前記入射用反射面７の方向へ返すのではなく、図２に示すように、入射したレーザー光Ｌと角度αをなす方向に反射する。これにより、レーザー光Ｌが対物レンズＲの開口４０と干渉するのを防止している。
　図５は前記照明装置１の平面図であり、前記光源ホルダ６を取り外した状態を示している。前記装置基板４の上面４ａの中央には前記スライドガラス２を位置決めするための凹所２０が設けられており、前記開口４０はこの凹所２０の中央に開口している。前記凹所２０内にスライドガラス２を設置する際には、当該スライドガラス２と装置基板４との間に油浸オイル等の屈折率整合液を滴下しても良い。また、前記装置基板の上面４ａには前記凹所と隣接してホルダ固定座６０が設けられており、当該ホルダ固定座６０には前記光源ホルダ６がネジ止めされるようになっている。このホルダ固定座６０は前記装置基板４に設けられた入射用反射面７の真上に位置しており、光源ホルダ６によってレーザー光源３を保持すると、かかるレーザー光源３から射出されたレーザー光Ｌが前記装置基板４の上面に対して垂直に入射し、前記入射用反射面７に対して一定の角度でレーザー光Ｌが入射するようになっている。
　尚、実際に製作した本発明の照明装置１は支持板部５となるアクリル板に対して装置基板４となるアクリル板を接合したものなので、前記ホルダ固定座６０には支持板部５となるアクリル板の板厚に対応した深さの導入穴６５が設けられており、前記レーザー光源３から照射されたレーザー光Ｌは前記導入穴６５を通して装置基板４に入射するようになっている。従って、前記支持板部５と装置基板４を単一のアクリル板から形成する場合は、前記導入穴６５は設ける必要がない。
　図６は前記光源ホルダ６の概略図である。この光源ホルダ６は、前記ホルダ固定座６０にネジ止めされるベース部６１と、このベース部６１から垂直に起立した光源保持部６２と、前記ベース部６１及び光源保持部６２と一体的に設けられた放熱フィン６３とを有している。前記放熱フィン６３は図６紙面奥行方向に沿って複数枚が配列されている。前記レーザー光源３は前記光源保持部６２に対して固定され、照射したレーザー光Ｌは前記ベース部６１に設けられた貫通孔６４を通過して前記装置基板４に入射するようになっている。また、レーザー光Lの照射時に前記レーザー光源3が過熱して、その熱が装置基板4に伝導するのを防止するため、前記光源ホルダ6は熱伝導性の良好な金属、例えばアルミニウムによって形成されており、前記レーザー光源３で発生した熱は前記放熱フィン63によって周辺雰囲気中に放熱される。
　このように構成された照明装置では、図１に示すように、前記レーザー光源３から照射されたレーザー光Ｌは前記入射用反射面７で反射されて前記スライドガラス２に所定角度で入射し、当該スライドガラス２の内部で複数回の全反射を繰り返す。前記装置基板４は屈折率がスライドガラス２のそれと同程度の材質から形成されているので、レーザー光Ｌはスライドガラス２と装置基板４の界面は殆ど屈折することなく通過し、スライドガラス２の表面で全反射した後、前記開口４０に重なったスライドガラス２の裏面側でも全反射する。そして、レーザー光Ｌはスライドガラス２が前記開口４０と重なった部位においては当該スライドガラス２内で全反射を繰り返し、スライドガラス２と装置基板４とが重なった部に到達すると、スライドガラス２と装置基板４の界面を通過して当該装置基板４に入射する。
　従って、前記装置基板４に固定された光源ホルダ６によってレーザー光源３を所定の姿勢で保持し、当該装置基板４の入射用反射面７に対して所定の角度でレーザー光Ｌを入射させれば、前記スライドガラス２内で自ずと多重全反射が生じ、全反射が生じたスライドガラス２の表面部位においてエバネッセント波Ｅｖが発生することになる。これにより、面倒な調整作業を必要とせず、簡易に且つ安定的にエバネッセント波を発生させることができる。
　一方、前記スライドガラスから装置基板に入射したレーザー光は前記射出用反射面に入射し、装置基板の上面と平行な方向で且つ前記開口と干渉しない方向へ反射され、その後に前記装置基板の周囲面から放射される。顕微鏡ステージＳの下方には顕微鏡に備え付けの機器類、例えば対物レンズやそのレボルバー等が存在しているが、このように装置基板の上面と水平な方向、換言すれば顕微鏡ステージの表面と平行な方向へレーザー光を放射すれば、レーザー光が顕微鏡ステージ下方の機器類に反射して予想困難な散乱光を発生させるのを回避することができる。これにより、Ｓ／Ｎ比の高い良好な蛍光観察が可能となる。
　以上説明してきたように、本発明の全反射試料照明装置を顕微鏡のステージに設置すれば、簡易に且つ安定的にエバネッセント波を発生させることができ、当該エバネッセント波を用いた全反射蛍光顕微鏡による対象物の観察が容易なものとなり、バイオ分野、医療分野、環境分野等の幅広い分野で一般的に普及することが期待される。
　また、簡易に且つ安定的にエバネッセント波を発生させる本発明の全反射試料照明装置は当該エバネッセント波を励起光とする全反射ラマン散乱光を用いた計測においても有効であり、当該計測は極界面且つ非侵襲の計測が可能となることから、バイオ分野、医療分野、環境分野などの幅広い分野での使用が期待される。
 
 

Claims (4)

  1. レーザー光をスライドガラス(2)内に導入し、前記スライドガラス内でレーザー光を多重全反射させることで当該スライドガラスの上面にエバネッセント波を発生させ、前記スライドガラスの上面に位置する試料をそのエバネッセント波によって照明する全反射試料照明装置であって、
    前記スライドガラス(2)と同程度の屈折率を有する材料から形成され、上面と底面との間を貫通する開口(40)が設けられると共に、上面には前記開口を塞ぐようにして前記スライドガラスが配設される装置基板(4)と、
    レーザー光源(3)を保持して前記装置基板(4)の上面に固定され、当該レーザー光源が発するレーザー光を前記装置基板の上面に対して所定の角度で入射させる光源ホルダ(6)と、
    前記装置基板(4)の底面側に設けられ、前記レーザー光源(3)から前記装置基板(4)に入射したレーザー光を反射して前記スライドガラス(2)に入射させ、前記開口(40)に重なった当該スライドガラス(2)の部位内で多重全反射を生じさせる入射用反射面(7)と、
    前記装置基板(4)の底面側で前記開口(40)を挟んで入射用反射面(7)と対向する部位に設けられ、前記スライドガラス(2)から前記装置基板(4)に入射したレーザー光を当該装置基板(4)の上面と平行な方向で且つ前記開口(40)と干渉しない方向へ反射する射出用反射面(8)と、
    を備えたことを特徴とする全反射試料照明装置。
  2. 前記装置基板(4)は矩形状に形成され、前記入射用反射面(7)及び前記射出用反射面(8)は前記開口(40)を挟んだ一対の隅角部に設けられていることを特徴とする請求項１記載の全反射試料照明装置。
  3. 前記装置基板(4)の上面側の周囲には観察ステージに載置される支持板部(5)が設けられると共に、前記支持板部(5)には前記装置基板(4)を前記観察ステージの透孔内に位置決めするためのボス(9)が設けられていることを特徴とする請求項１又は２記載の全反射試料照明装置。
  4. 前記装置基板(4)は、前記入射用反射面(7)及び前記射出用反射面(8)となる金属薄膜が蒸着されたアクリル板を無色透明な他のアクリル板と接着して形成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の全反射試料照明装置。
PCT/JP2016/055789 2015-02-27 2016-02-26 全反射試料照明装置 WO2016136937A1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP16755681.0A EP3264069B1 (en) 2015-02-27 2016-02-26 Total internal reflection sample illuminating device

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015-038153 2015-02-27
JP2015038153A JP6062980B2 (ja) 2015-02-27 2015-02-27 全反射試料照明装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2016136937A1 true WO2016136937A1 (ja) 2016-09-01

Family

ID=56788762

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2016/055789 WO2016136937A1 (ja) 2015-02-27 2016-02-26 全反射試料照明装置

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP3264069B1 (ja)
JP (1) JP6062980B2 (ja)
WO (1) WO2016136937A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113758901A (zh) * 2020-06-04 2021-12-07 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 衍射层析显微成像系统及方法
CN115097617A (zh) * 2022-07-15 2022-09-23 中国科学技术大学 一种基于平面芯片的全内反射荧光显微镜系统

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1994000761A1 (en) * 1992-06-26 1994-01-06 Daikin Industries, Ltd. Optical measurement instrument
US5442169A (en) * 1991-04-26 1995-08-15 Paul Scherrer Institut Method and apparatus for determining a measuring variable by means of an integrated optical sensor module
JP2006153643A (ja) * 2004-11-29 2006-06-15 Toshiba Corp 測定装置
WO2007034796A1 (ja) * 2005-09-26 2007-03-29 National University Corporation Hamamatsu University School Of Medicine 複数の観察手法を用いた顕微鏡細胞観察・検査システム
JP2008309785A (ja) * 2007-06-13 2008-12-25 Mettler-Toledo Ag 減衰全反射センサー
WO2009066515A1 (ja) * 2007-11-19 2009-05-28 Central Glass Company, Limited エバネッセント光源
JP2012117837A (ja) * 2010-11-29 2012-06-21 Hamamatsu Photonics Kk 全反射分光計測装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10217098B4 (de) * 2002-04-17 2004-04-15 Carl Zeiss Jena Gmbh Auflicht-Beleuchtungsanordnung für ein Mikroskop
DE102005040833A1 (de) * 2005-08-25 2007-03-08 Carl Zeiss Jena Gmbh TIRF-Beleuchtung für Mikroskope
CN102323218A (zh) * 2011-05-26 2012-01-18 浙江大学 基于光谱技术的物料实时检测监控装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5442169A (en) * 1991-04-26 1995-08-15 Paul Scherrer Institut Method and apparatus for determining a measuring variable by means of an integrated optical sensor module
WO1994000761A1 (en) * 1992-06-26 1994-01-06 Daikin Industries, Ltd. Optical measurement instrument
JP2006153643A (ja) * 2004-11-29 2006-06-15 Toshiba Corp 測定装置
WO2007034796A1 (ja) * 2005-09-26 2007-03-29 National University Corporation Hamamatsu University School Of Medicine 複数の観察手法を用いた顕微鏡細胞観察・検査システム
JP2008309785A (ja) * 2007-06-13 2008-12-25 Mettler-Toledo Ag 減衰全反射センサー
WO2009066515A1 (ja) * 2007-11-19 2009-05-28 Central Glass Company, Limited エバネッセント光源
JP2012117837A (ja) * 2010-11-29 2012-06-21 Hamamatsu Photonics Kk 全反射分光計測装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP3264069A4 *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113758901A (zh) * 2020-06-04 2021-12-07 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 衍射层析显微成像系统及方法
CN113758901B (zh) * 2020-06-04 2024-04-12 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 衍射层析显微成像系统及方法
CN115097617A (zh) * 2022-07-15 2022-09-23 中国科学技术大学 一种基于平面芯片的全内反射荧光显微镜系统
CN115097617B (zh) * 2022-07-15 2022-12-30 中国科学技术大学 一种基于平面芯片的全内反射荧光显微镜系统

Also Published As

Publication number Publication date
EP3264069A4 (en) 2018-06-06
JP2016161319A (ja) 2016-09-05
EP3264069A1 (en) 2018-01-03
EP3264069B1 (en) 2019-05-22
JP6062980B2 (ja) 2017-01-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP3064929B1 (en) Surface plasmon resonance fluorescence analysis method and surface plasmon resonance fluorescence analysis device
JP6424890B2 (ja) 表面プラズモン増強蛍光測定方法、表面プラズモン増強蛍光測定装置および分析チップ
JP6587024B2 (ja) 検出方法および検出装置
WO2018021238A1 (ja) 検出チップ、検出システムおよび検出方法
US20160356717A1 (en) Surface Plasmon Resonance Fluorescence Analysis Device and Surface Plasmon Resonance Fluorescence Analysis Method
WO2016136937A1 (ja) 全反射試料照明装置
JP6733664B2 (ja) 検出チップの製造方法および検出チップ
JP6766820B2 (ja) 光学式検体検出システム
WO2016093039A1 (ja) 検出チップおよび検出方法
JP2015111063A (ja) 表面プラズモン増強蛍光測定方法および表面プラズモン増強蛍光測定装置
JP6588055B2 (ja) 細菌検出装置
KR101036619B1 (ko) 프리즘의 소산파를 이용한 바이오 시편 측정 장치 및 그 방법
JP6687040B2 (ja) 形状測定方法、形状測定装置、検出方法および検出装置
JP6658752B2 (ja) 検出チップ、検出方法、検出装置および検出システム
US9791375B2 (en) Light measuring apparatus employing optical electric field enhancing device
JP6586884B2 (ja) チップおよび表面プラズモン増強蛍光測定方法
WO2016125614A1 (ja) 検出方法、検出装置およびチップ
KR101247661B1 (ko) 전반사 패턴을 이용한 단면검사부재 및 그를 이용한 검사방법
KR102223360B1 (ko) 조명을 이용한 검사 장치
WO2015125735A1 (ja) 検出装置
JP4813294B2 (ja) 光学式検査装置
JP6599675B2 (ja) 光学式センサ
JP2020085813A (ja) 赤外スペクトルの測定装置および測定方法
JP2018155633A (ja) 光学装置及び増強電場調整方法
JPH08114434A (ja) 平面度測定装置

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 16755681

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

REEP Request for entry into the european phase

Ref document number: 2016755681

Country of ref document: EP