WO2016136358A1

WO2016136358A1 - 顔料分散液、樹脂組成物、転写材料、基材、タッチパネル、及び、情報表示装置

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Publication number: WO2016136358A1
Application number: PCT/JP2016/052115
Authority: WO
Inventors: 隆志有冨; 崇一郎長田
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2015-02-26
Filing date: 2016-01-26
Publication date: 2016-09-01
Also published as: JP2016155977A

Abstract

経時での粘度安定性に優れた顔料分散液、上記顔料分散液を使用した樹脂組成物、上記樹脂組成物を用いた転写材料及び基材、上記基材を有するタッチパネル、並びに、上記タッチパネルを有する情報表示装置を提供すること。顔料分散液は、成分Ａとして顔料と、成分Ｂとして顔料分散剤と、成分Ｃとして下記式Ｃ－１で表される構造を有するシリコーン化合物と、成分Ｄとして有機溶媒を含有する。式Ｃ－１中、Ｒ^c1は水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、Ｙは水酸基又は下記式Ｃ－２で表される基を表し、ｋは１以上の整数を表し、式Ｃ－２中、Ｒ^c2は２価の有機基を表し、Ｒ^c3はカルボキシ基又は水酸基を表す。―Ｒ^c2―Ｒ^c3（Ｃ－２）

Description

顔料分散液、樹脂組成物、転写材料、基材、タッチパネル、及び、情報表示装置

　本発明は、顔料分散液、樹脂組成物、転写材料、基材、タッチパネル、及び、情報表示装置に関する。

　携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、銀行の端末などの電子機器では、近年、液晶装置などの表面にタッチパネル型の入力装置が配置され、液晶装置の画像表示領域に表示された指示画像を参照しながら、この指示画像が表示されている箇所に指又はタッチペンなどを触れることで、指示画像に対応する情報の入力が行えるものがある。
　このような入力装置には、抵抗膜型、静電容量型などがある。静電容量型の入力装置は、単に一枚の基板に透光性導電膜を形成すればよいという利点がある。また、静電容量型の入力装置は、一枚の基板に透光性導電膜を形成すればよいという利点がある。カバーガラス一体型（ＯＧＳ：ＯｎｅＧｌａｓｓＳｏｌｕｔｉｏｎ）タッチパネルの静電容量型タッチパネルは、前面板が静電容量型の入力装置と一体化しているため、薄層／軽量化が可能となる。

　このような静電容量型の入力装置においては、表示装置の引き回し回路等を使用者から視認されないようにするため、また、見栄えをよくするため、指又はタッチペンなどで触れる情報表示部（画像表示部、透光領域ともいう。）を囲む枠状に加飾材が形成されて、加飾が行われている。このような加飾をするための加飾材としては、黒色加飾材や、白色加飾材が求められている。また、白色加飾材だけでは、表示装置の引き回し回路等が透けて使用者から視認されてしまう場合がある。そこで、これを防止するために黒色加飾材（遮光層と呼ばれることもある。）や、その他の色に着色された加飾材を用いることが求められることもある。
　黒色加飾材を製造する際に、一般的に顔料分散液を用いる方法が知られている。顔料分散液には、顔料の分散性を高めるために高分子化合物を顔料分散剤として添加されることがある。

　特許文献１には、処理工程が簡易で、優れた分散性を有するカーボンブラック分散液を提供することを目的として、少なくとも、シリコーン変成ポリイミドによる表面処理を施したカーボンブラック、及び分散媒を含有していることを特徴とするカーボンブラック分散液が開示されている。

特開２００７－２０４５３１号公報

　分散剤を使用した顔料分散液は、経時での粘度安定性が悪いという問題があった。
　本発明が解決しようとする課題は、経時での粘度安定性に優れた顔料分散液を提供することである。また、上記顔料分散液を使用した樹脂組成物、上記樹脂組成物を用いた転写材料及び基材、上記基材を有するタッチパネル、並びに、上記タッチパネルを有する情報表示装置を提供することである。

　本発明の上記課題は、以下の＜１＞、＜８＞、＜９＞、＜１２＞、＜１３＞、＜１５＞又は＜１６＞に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である、＜２＞～＜７＞、＜１０＞、＜１１＞及び＜１４＞と共に以下に記載する。
　＜１＞　成分Ａとして顔料と、成分Ｂとして顔料分散剤と、成分Ｃとして下記式Ｃ－１で表される構造を有するシリコーン化合物と、成分Ｄとして有機溶媒と、を含有する、顔料分散液、

　式Ｃ－１中、Ｒ^c1は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、Ｙは水酸基又は下記式Ｃ－２で表される基を表し、ｋは１以上の整数を表す。

　式Ｃ－２中、Ｒ^c2は２価の有機基を表し、Ｒ^c3はカルボキシ基又は水酸基を表す。

　＜２＞　成分Ａが、黒色顔料、及び／又は、白色顔料である、＜１＞に記載の顔料分散液、
　＜３＞　成分Ｃが、式Ｃ－１で表される構造を１分子中に合計して２個以上含有する、＜１＞又は＜２＞に記載の顔料分散液、
　＜４＞　成分Ｃが、式Ｃ－１で表される構造を側鎖、又は、主鎖両末端に有する、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の顔料分散液、
　＜５＞　成分Ｃの含有量が、成分Ａ１００質量部に対して２質量部以上である、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の顔料分散液、
　＜６＞　成分Ｂが、下記式１で表されるグラフト型シリコーンポリマーである、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の顔料分散液、

　式１中、Ｒ¹～Ｒ¹⁰はそれぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基、アリール基又は炭素数１～３のアルキル基を表し、Ｒ¹¹及びＲ¹²はそれぞれ独立に、アリーレン基又は炭素数
１～３のアルキレン基を表し、Ｒ¹³及びＲ¹⁴はそれぞれ独立に、単結合又は２価の有機連結基を表し、Ａは顔料吸着部位を有する基を表し、Ｂは下記式２で表される構造を有する基を表し、ｌ及びｎはそれぞれ独立に、１以上の整数を表し、ｍは０以上の整数を表す。

　式２中、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶はそれぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基、アリール基又は炭素数１～３のアルキル基を表し、ｋは１以上の整数を表す。

　＜７＞　成分Ｂが、下記式３で表されるグラフト型シリコーンポリマーである、＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の顔料分散液、

　式３中、Ｒ¹¹及びＲ¹²はそれぞれ独立に、アリーレン基又は炭素数１～３のアルキレン基を表し、Ｒ¹³及びＲ¹⁴はそれぞれ独立に、単結合又は２価の有機連結基を表し、Ａは酸性基、塩基性窒素原子を有する基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、炭素原子数４以上の炭化水素基、複素環基、アミド基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアナト基、ヒドロキシ基、及び、チオール基よりなる群から選択される基を少なくとも１つ有する顔料吸着部位を有する基を表し、Ｂは下記式２で表される構造を有する基を表し、ｌ、ｍ１及びｎはそれぞれ独立に、１以上の整数を表す。

　＜８＞　＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の顔料分散液、及び、シリコーン樹脂を含有する、樹脂組成物、
　＜９＞　仮支持体と、上記仮支持体上に形成された黒色層と、を有し、上記黒色層が、＜８＞に記載の樹脂組成物からなる、転写材料、
　＜１０＞　黒色層の上に形成された白色層、を更に有する、＜９＞に記載の転写材料、
　＜１１＞　上記白色層が、＜８＞に記載の樹脂組成物からなる、＜１０＞に記載の転写材料、
　＜１２＞　＜８＞に記載の樹脂組成物を用いて作製された、基材、
　＜１３＞　＜９＞～＜１１＞のいずれか１つに記載の転写材料を用いて作製された、基材、
　＜１４＞　加飾用である、＜１２＞又は＜１３＞に記載の基材、
　＜１５＞　＜１２＞～＜１４＞のいずれか１つに記載の基材を含む、タッチパネル、
　＜１６＞　＜１５＞に記載のタッチパネルを有する、情報表示装置。

　本発明によれば、経時での粘度安定性に優れた顔料分散液を提供することができる。また、上記顔料分散液を使用した樹脂組成物、上記樹脂組成物を用いた転写材料及び基材、上記基材を有するタッチパネル、並びに、上記タッチパネルを有する情報表示装置を提供することができる。

加飾材の一例を示す、部分拡大断面図である。加飾材の他の一例を示す、部分拡大断面図である。加飾材の他の一例を示す、部分拡大断面図である。傾斜部と基材とのなす傾斜角を表した部分拡大断面図である。本発明の加飾材付き基材を用いた、本発明のタッチパネルの一例の構成を示す断面概略図である。本発明の加飾材付き基材を用いた、本発明のタッチパネルの他の一例の構成を示す断面概略図である。本発明のタッチパネルにおける前面板の一例を示す説明図である。本発明のタッチパネルにおける第一の透明電極パターン及び第二の透明電極パターンの一例を示す説明図である。開口部が形成された強化処理ガラスの一例を示す上面図である。加飾材及び遮光層が形成された本発明のタッチパネルの一例を示す上面図である。第一の透明電極パターンが形成された本発明のタッチパネルの一例を示す上面図である。第一及び第二の透明電極パターンが形成された本発明のタッチパネルの一例を示す上面図である。第一及び第二の透明電極パターンとは別の導電性要素が形成された本発明のタッチパネルの一例を示す上面図である。

　以下において、本発明の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本願明細書において「～」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
　本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
　なお、本明細書中において、“（メタ）アクリレート”はアクリレート及びメタクリレートを表し、“（メタ）アクリル”はアクリル及びメタクリルを表し、“（メタ）アクリロイル”はアクリロイル及びメタクリロイルを表す。
　本発明において、「成分Ａ：黒色顔料」等を、単に成分Ａ等ともいう。
　また、本発明において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
　また、本発明において、好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
　本発明では、ポリマー成分の分子量については、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を溶媒とした場合のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量である。具体的には、下記の条件で測定することができる。
　・カラム：ＧＰＣカラムＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＨＺＭ－Ｈ（東ソー（株）製）
　・溶媒：テトラヒドロフラン
　・標準物質：単分散ポリスチレン

１．顔料分散液
　本発明の顔料分散液は、成分Ａとして顔料と、成分Ｂとして顔料分散剤と、成分Ｃとして上記式Ｃ－１で表される構造を有するシリコーン化合物と、成分Ｄとして有機溶媒を含有することを特徴とする。
　本発明の顔料分散液は、更にシリコーン樹脂を添加して、樹脂組成物として使用されることが好ましく、上記樹脂組成物は、黒色層（遮光層）や白色層を形成するために使用されることが好ましく、転写材料、好ましくは加飾層形成用転写材料、又は、基材の黒色層及び／又は白色層を形成するために使用されることがより好ましい。また、上記転写材料は、加飾材付き基材を作製するために使用されることが好ましい。
　また、上記黒色層及び／又は白色層を有する基材は、タッチパネル用に使用されることが好ましく、また、タッチパネルを有する情報表示装置に使用されることが好ましい。

　顔料を含有する顔料分散液では、分散性を向上させるために、顔料分散剤（以下、単に「分散剤」という場合もある）が使用される。このように分散剤が用いられた顔料分散液では、経時での粘度安定性が悪い（経時により粘度が変化しやすい）という問題があった。
　本発明者らは鋭意検討した結果、顔料分散液に成分Ｃを添加することによって、経時での粘度安定性が向上することを見出し、本発明を完成するに至った。
　その詳細な作用機序は明確ではないが、成分Ｃとして、カルボキシ基及び／又は水酸基などを官能基として有するシリコーン化合物を添加することにより、これが分散助剤として機能し、経時での粘度安定性が向上したものと推定している。
　また、予測しがたい効果として、例えば、顔料として黒色顔料を用いた場合、黒色顔料分散液を用いて黒色樹脂組成物を調製し、これを用いて黒色層を形成すると、ＯＤ値（光学濃度、Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｄｅｎｓｉｔｙ）が高い黒色層が形成されることを見出した。
　その詳細な作用機序は明確ではないが、成分Ｃのシリコーン化合物により顔料表面の活性点が封鎖されることにより、顔料間の分散剤の橋かけ架橋が抑えられ、顔料の経時での凝集等の発生が抑制された結果、高いＯＤ値が得られたものと推定される。
　以下、本発明の顔料分散液が含有する各種成分について説明する。

成分Ａ：顔料
　本発明の顔料分散液は、顔料を含有する。
　顔料としては特に限定されず、有機顔料及び無機顔料のいずれを使用してもよいが、無機顔料を使用することが、本発明の効果の観点から好ましい。成分Ａとしては、黒色顔料又は白色顔料が好ましく、黒色顔料が特に好ましい。すなわち、本発明の顔料分散剤は、顔料として黒色顔料を含有する黒色顔料分散液、又は、顔料として白色顔料を含有する白色顔料分散液であることが好ましく、顔料として黒色顔料を含有する黒色顔料分散液であることがより好ましい。
＜黒色顔料＞
　黒色顔料としては、例えば、カーボンブラック、チタンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、酸化チタン、黒鉛などが挙げられ、黒色顔料としては、酸化チタン及びカーボンブラックのうち少なくとも１つを含むことが好ましく、着色力の観点から、カーボンブラック又はチタンブラックを含むことがより好ましく、カーボンブラックを含むことが更に好ましい。

　本発明で用いる黒色顔料は、分散安定性及び隠ぺい力の観点から、一次粒子の平均粒径が５～１００ｎｍであることが好ましく、１０～５０ｎｍであることがより好ましい。一次粒子の平均粒径が５ｎｍ以上であると、隠ぺい力が高く、黒色層（「遮光層」ともいう。）の下地が見えにくくなり、かつ、粘度上昇を起こしにくい。一方、１００ｎｍ以下であると色度が十分に高く、隠ぺい力が高く、また塗布した際の面状が良好となる。
　なお、「一次粒子の平均粒径」とは、粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円としたときの直径をいう。また「数平均粒径」とは、多数の粒子について前述の粒径を求め、この１００個の平均値をいう。

　黒色顔料の含有量は、顔料分散液の全固形分に対して、５０～９５質量％であることが好ましく、６０～９０質量％であることがより好ましく、７０～８５質量％であることが更に好ましい。なお、全固形分とは、顔料分散液から、溶媒等の揮発性成分を除いた成分を意味する。
　また、黒色顔料の含有量は、顔料分散液に対して、３～４０質量％であることが好ましく、５～３０質量％であることがより好ましい。

＜白色顔料＞
　本発明において、顔料として白色顔料を使用することも好ましい。
　白色顔料としては特に限定されないが、特開２００５－７７６５号公報の段落００１５や段落０１１４に記載の白色顔料を用いることができる。
　具体的には、白色顔料としては二酸化チタン、酸化亜鉛、リトポン、軽質炭酸カルシウム、ホワイトカーボン、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、硫酸バリウムが好ましく、二酸化チタン、酸化亜鉛がより好ましく、本発明では白色顔料が二酸化チタンであることが更に好ましく、その中でもルチル型又はアナターゼ型二酸化チタンが特に好ましく、ルチル型二酸化チタンが最も好ましい。

　二酸化チタンの表面はシリカ処理、アルミナ処理、チタニア処理、ジルコニア処理、有機物処理及びそれらを併用することができる。
　これにより二酸化チタンの触媒活性を抑制でき、耐熱性、及び褪光性等を改善することができる。
　白色層形成用組成物の塗布膜を高温処理した後のｂ値を抑制する観点から、二酸化チタンの表面への表面処理はアルミナ処理、ジルコニア処理、又はシリカ処理が好ましく、アルミナ／ジルコニア併用、又はアルミナ／シリカ併用処理が特に好ましい。

　白色顔料は、分散安定性及び隠ぺい力の観点から、一次粒子の平均粒径が０.１０μｍ～０．３μｍであること好ましく、０．１５μｍ～０．２７μｍであることがより好ましく、０．１５μｍ～０．２５μｍであることが更に好ましい。一次粒子の平均粒径が０.１０μｍ以上であると、隠ぺい力が高く、遮光層の下地が見えにくくなり、かつ、粘度上昇を起こしにくい。一方、０．３μｍ以下であると白色度が十分に高く、隠ぺい力が高く、また塗布した際の面状が良好となる。
　なお、ここでいう「一次粒子の平均粒径」とは、粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円としたときの直径をいう。また「数平均粒径」とは、多数の粒子について上記の粒径を求め、この１００個の平均値をいう。
　一方、分散液及び塗布液中の平均粒径で測定する場合には、レーザー散乱ＨＯＲＩＢＡＨ（（株）堀場アドバンスドテクノ製）を用いることができる。

　白色顔料の含有量は、顔料分散液の全固形分に対して、５０～９９質量％であることが好ましく、６０～９８質量％であることがより好ましい。なお、全固形分とは、顔料分散液から、溶媒等の揮発性成分を除いた成分を意味する。
　また、白色顔料の含有量は、顔料分散液に対して、３０～９０質量％であることが好ましく、５０～８５質量％であることがより好ましい。

　黒色顔料及び白色顔料以外の顔料としては、アントラキノン顔料、ジケトピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料、キノフタロン顔料、イソインドリン顔料、アゾメチン顔料、及び、ジオキサジン顔料から選ばれる顔料であることが好ましい。特に、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７（アントラキノン顔料），Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４（ジケトピロロピロール顔料）、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７，３６，５８、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６（フタロシアニン顔料）、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８（キノフタロン顔料）、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９，１８５（イソインドリン顔料）、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０（アゾメチン顔料）、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３（ジオキサジン顔料）が好ましく例示される。
　黒色顔料及び白色顔料以外の顔料の含有量は、顔料分散液の全固形分に対して、５０～９５質量％であることが好ましく、６０～９０質量％であることがより好ましい。なお、全固形分とは、顔料分散液から、溶媒等の揮発性分を除いた成分を意味する。
　また、黒色顔料及び白色顔料以外の顔料の含有量は、顔料分散液に対して、３～９９質量％であることが好ましく、５～９０質量％であることがより好ましい。

成分Ｂ：顔料分散剤
　本発明の顔料分散液は、顔料分散剤を含有する。顔料分散剤を含有することにより、顔料分散液中での顔料の分散性を向上させることができる。
　顔料分散剤としては、公知の顔料分散剤から適宜選択して用いることができる。
　顔料分散剤は、単独で顔料の分散性を向上させる機能を有する化合物である。顔料分散剤がない又は顔料分散剤が少ないと、顔料分散液の経時粘度安定性が悪化したり、塗膜にした際凝集物が多く存在し面状不良となったりする。本発明において、高分子分散剤が好ましく例示される。高分子分散剤は、顔料吸着基、及び、立体反発鎖の双方を有していることが好ましい。

　本発明に用いうる顔料分散剤の具体例としては、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ－１０１（ポリアミドアミン燐酸塩）、１０７（カルボン酸エステル）、１１０（酸基を含む共重合物）、１３０（ポリアミド）、１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１７０（高分子共重合物）」、「ＢＹＫ－Ｐ１０４、Ｐ１０５（高分子量不飽和ポリカルボン酸）」、ＥＦＫＡ社製「ＥＦＫＡ４０４７、４０５０、４０１０（ポリウレタン系）、４１６５（ポリウレタン系）、ＥＦＫＡ４３００（アクリルブロック共重合体）、ＥＦＫＡ４３３０、４３４０（ブロック共重合体）、４４００、４４０２（変性ポリアクリレート）、５０１０（ポリエステルアミド）、５７６５（高分子量ポリカルボン酸塩）、６２２０（脂肪酸ポリエステル）、６７４５（フタロシアニン誘導体）、６７５０（アゾ顔料誘導体）」、味の素ファインテクノ（株）製「アジスパーＰＢ８２１、ＰＢ８２２」、共栄社化学（株）製「フローレンＴＧ－７１０（ウレタンオリゴマー）」、「ポリフローＮｏ．５０Ｅ、Ｎｏ．３００（アクリル系共重合体）」、楠本化成（株）製「ディスパロンＫＳ－８６０、８７３ＳＮ、８７４、＃２１５０（脂肪族多価カルボン酸）、＃７００４（ポリエーテルエステル）、ＤＡ－７０３－５０、ＤＡ－７０５、ＤＡ－７２５」、花王（株）製「デモールＲＮ、Ｎ（ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物）、ＭＳ、Ｃ、ＳＮ－Ｂ（芳香族スルホン酸ホルマリン重縮合物）」、「ホモゲノールＬ－１８（高分子ポリカルボン酸）」、「エマルゲン９２０、９３０、９３５、９８５（ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル）」、「アセタミン８６（ステアリルアミンアセテート）」、ルーブリゾール社製「ソルスパース５０００（フタロシアニン誘導体）、２２０００（アゾ顔料誘導体）、１３２４０（ポリエステルアミン）、３０００、１７０００、２７０００（末端部に機能部を有する高分子）、２４０００、２８０００、３２０００、３８５００（グラフト型高分子）」、日光ケミカルズ（株）「ニッコールＴ１０６（ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート）、ＭＹＳ－ＩＥＸ（ポリオキシエチレンモノステアレート）」、信越シリコーン（株）製「ＫＰ－５４１、ＫＰ－５４３、ＫＰ－５４５、ＫＰ－５４５Ｌ、ＫＰ－５４９、ＫＰ－５５０、ＫＰ－５７８（アクリルシリコーン）」等が挙げられる。
　これらの中でも、シリコーン系の顔料分散剤が好ましく、具体的には、信越シリコーン（株）製「ＫＰ－５４１、ＫＰ－５４３、ＫＰ－５４５、ＫＰ－５４５Ｌ、ＫＰ－５４９、ＫＰ－５５０、ＫＰ－５７８（アクリルシリコーン）」等が挙げられる。

　本発明において、成分Ｂとしては、下記式１で表されるグラフト型シリコーンポリマーが好ましく例示される。

　式１中、Ｒ¹～Ｒ¹⁰はそれぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基、アリール基又は炭素数１～３のアルキル基を表し、Ｒ¹¹及びＲ¹²はそれぞれ独立に、アリーレン基又は炭素数１～３のアルキレン基を表し、Ｒ¹³及びＲ¹⁴はそれぞれ独立に、単結合又は２価の有機連結基を表し、Ａは顔料吸着部位を有する基を表し、Ｂは下記式２で表される構造を有する基を表し、ｌ及びｎはそれぞれ独立に、１以上の整数を表し、ｍは０以上の整数を表す。

　式１中、Ｒ¹～Ｒ¹⁰はそれぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基、アリール基又は炭素数１～３のアルキル基を表し、アリール基又は炭素数１～３のアルキル基であることが好ましく、炭素数１～３のアルキル基であることがより好ましい。
　Ｒ¹～Ｒ¹⁰におけるアリール基としては、フェニル基や置換フェニル基を挙げることができる。
　Ｒ¹～Ｒ¹⁰における炭素数１～３のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基を挙げることができ、メチル基、エチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
　Ｒ¹～Ｒ¹⁰は、更に置換基を有していてもよい。例えば、Ｒ¹～Ｒ¹⁰がヒドロキシ基を表す場合、任意のアルキル基を更に置換基として有し、アルコキシ基を形成してもよい。ただし、Ｒ¹～Ｒ¹⁰は更に置換基を有さないことが好ましい。

　ｌが２以上である場合、ｌ個のＲ⁴及びＲ⁵はそれぞれ互いに同一であっても、異なっていてもよい。
　ｍが２以上である場合、ｍ個のＲ⁶は互いに同一であっても、異なっていてもよい。
　ｎが２以上である場合、ｎ個のＲ⁷は互いに同一であっても、異なっていてもよい。

　式１中、Ｒ¹¹及びＲ¹²はそれぞれ独立に、アリーレン基又は炭素数１～３のアルキレン基を表し、炭素数１～３のアルキレン基が好ましい。
　ｍが２以上である場合、ｍ個のＲ¹¹は互いに同一であっても、異なっていてもよい。
　ｎが２以上である場合、ｎ個のＲ¹²は互いに同一であっても、異なっていてもよい。

　式１中、Ｒ¹³は、単結合又は２価の有機連結基を表す。
　ｍが２以上である場合、ｍ個のＲ¹³は互いに同一であっても、異なっていてもよい。
　式１中、Ｒ¹⁴は、単結合又は２価の有機連結基を表す。
　ｎが２以上である場合、ｎ個のＲ¹³は互いに同一であっても、異なっていてもよい。
　Ｒ¹³又はＲ¹⁴における２価の有機連結基としては、１～１００個の炭素原子、０～１０個の窒素原子、０～５０個の酸素原子、１～２００個の水素原子、及び、０～２０個の硫黄原子からなる基が含まれ、無置換でも置換基を更に有していてもよい。
　Ｒ¹³又はＲ¹⁴における２価の有機連結基は、具体的な例として、下記の構造単位群Ｇから選ばれる構造単位、又は、これらの構造単位が組み合わさって構成される基を挙げることができる。

　構造単位群Ｇ

　Ｒ¹³又はＲ¹⁴としては、単結合、又は、１～５０個の炭素原子、０～８個の窒素原子、０～２５個の酸素原子、１～１００個の水素原子及び０～１０個の硫黄原子からなる２価の有機連結基が好ましく、単結合、又は、１～３０個の炭素原子、０～６個の窒素原子、０～１５個の酸素原子、１～５０個の水素原子及び０～７個の硫黄原子からなる２価の有機連結基がより好ましく、単結合、又は、１～１０個の炭素原子、０～５個の窒素原子、０～１０個の酸素原子、１～３０個の水素原子及び０～５個の硫黄原子からなる２価の有機連結基が特に好ましい。

　Ｒ¹³又はＲ¹⁴は、単結合、又は、上記構造単位群Ｇから選ばれた構造単位若しくはこれらの構造単位が組み合わさって構成される、「１～１０個の炭素原子、０～５個の窒素原子、０～１０個の酸素原子、１～３０個の水素原子及び０～５個の硫黄原子」からなる２価の有機連結基（置換基を有していてもよく、この置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素原子数１～２０のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素原子数６～１６のアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ－スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素原子数１～６のアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素原子数１～６のアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素原子数２～７のアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ－ブチルカーボネート等の炭酸エステル基、等が挙げられる。）であることが好ましい。
　Ｒ¹³は、－（ＣＨ₂）－ＣＨ（Ｒ^13A）－で表される２価の有機連結基であることが好ましい。Ｒ^13Aは、水素原子又は炭素数１～３のアルキル基を表し、水素原子又はメチル基であることが好ましい。Ｒ^13Aは、更に置換基を有していてもよく、置換基を有する場合は、カルボキシル基が好ましい。
　Ｒ¹⁴は、－（ＣＨ₂）－ＣＨ（Ｒ^14A）－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（Ｃ_qＨ_2q）－で表される２価の有機連結基であることが好ましい。Ｒ^14Aは、水素原子又は炭素数１～３のアルキル基を表し、水素原子又はメチル基であることが好ましい。Ｒ^14Aは、更に置換基を有していてもよい。ｑは０以上の整数を表し、１以上の整数であることが好ましい。

　式１中、Ａは顔料吸着部位を有する基を表す。
　ｍが２以上である場合、ｍ個のＡは互いに同一であっても、異なっていてもよい。
　Ａは、１つの顔料吸着部位を有していてもよいし、複数の顔料吸着部位を有していてもよい。Ａが複数の顔料吸着部位を有する場合は、それらは互いに同一であっても異なっていてもよい。
　Ａは、例えば、顔料吸着部位と、１～２００個の炭素原子、０～２０個の窒素原子、０～１００個の酸素原子、１～４００個の水素原子及び０～４０個の硫黄原子から構成される有機連結基とが結合してなる１価の有機基であることが好ましい。顔料吸着部位自体が１価の有機基を構成する場合には、顔料吸着部位そのものがＡで表される有機基であってももちろんよい。

　上記顔料吸着部位は、酸性基、塩基性窒素原子を有する基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、炭素数４以上の炭化水素基、複素環残基、アミド基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基、ヒドロキシ基及びチオール基よりなる群から選択される部位を、少なくとも１種類含むことが好ましく、酸性基、塩基性窒素原子を有する基、ウレア基、配位性酸素原子を有する基、複素環残基、アミド基、アルコキシシリル基、ヒドロキシ基及びチオール基よりなる群から選択される部位を少なくとも１種類含むことがより好ましく、酸性基及びアルコキシシリル基よりなる群から選択される部位を少なくとも１種類含むことが更に好ましく、カルボン酸基、リン酸基又はトリメトキシシリル基であることが特に好ましい。

　顔料吸着部位における酸性基としては、カルボン酸基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン酸基（ホスホノ基など）、ホスホノオキシ基、モノリン酸エステル基、及び、ホウ酸基が好ましく挙げられ、カルボン酸基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、ホスホノオキシ基、及び、モノリン酸エステル基がより好ましく挙げられ、カルボン酸基、スルホン酸基、及び、リン酸基が特に好ましく挙げられる。

　顔料吸着部位における塩基性窒素原子を有する基としては、アミノ基（－ＮＨ₂）、置換イミノ基（－ＮＨＲ^C1、－ＮＲ^C2Ｒ^C3、ここで、Ｒ^C1、Ｒ^C2及びＲ^C3はそれぞれ独立に、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６以上のアリール基又は炭素数７以上のアラルキル基を表す。）、グアニジル基又はアミジニル基などが挙げられる。

　顔料吸着部位におけるウレア基としては、－ＮＲ^C4ＣＯＮＲ^C5Ｒ^C6（ここで、Ｒ^C4～Ｒ^C6はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６以上のアリール基又は炭素数７以上のアラルキル基を表す。）が挙げられ、－ＮＲ^C4ＣＯＮＨＲ^C6（ここで、Ｒ^C4及びＲ^C6はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数６以上のアリール基又は炭素数７以上のアラルキル基を表す。）がより好ましく、－ＮＨＣＯＮＨＲ^C6（ここで、Ｒ^C6は水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数６以上のアリール基又は炭素数７以上のアラルキル基を表す。）が特に好ましい。

　顔料吸着部位におけるウレタン基としては、－ＮＨＣＯＯＲ^C7、－ＮＲ^C8ＣＯＯＲ^C9、－ＯＣＯＮＨＲＣ¹⁰、－ＯＣＯＮＲ^C11Ｒ^C12（ここで、Ｒ^C7～Ｒ^C12はそれぞれ独立に、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６以上のアリール基又は炭素数７以上のアラルキル基を表す。）などが挙げられ、－ＮＨＣＯＯＲ^C7、－ＯＣＯＮＨＲ^C10（ここで、Ｒ^C7及びＲ^C10はそれぞれ独立に、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６以上のアリール基又は炭素数７以上のアラルキル基を表す。）がより好ましく、－ＮＨＣＯＯＲ^C7、－ＯＣＯＮＨＲ^C10（ここで、Ｒ^C7及びＲ^C10はそれぞれ独立に、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数６以上のアリール基又は炭素数７以上のアラルキル基を表す。）が特に好ましい。

　顔料吸着部位における配位性酸素原子を有する基としては、アセチルアセトナート基、クラウンエーテルなどが挙げられる。

　顔料吸着部位における炭素数４以上の炭化水素基としては、炭素数４以上のアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基などが挙げられ、炭素数４～２０アルキル基、炭素数６～２０のアリール基又は炭素数７～２０のアラルキル基がより好ましく、炭素数４～１５アルキル基（例えば、オクチル基、ドデシル基など）、炭素数６～１５のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基など）又は炭素数７～１５のアラルキル基（例えばベンジル基など）が特に好ましい。

　顔料吸着部位における複素環残基としては、チオフェン、フラン、キサンテン、ピロール、ピロリン、ピロリジン、ジオキソラン、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾリジン、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、チアジアゾール、ピラン、ピリジン、ピペリジン、ジオキサン、モルホリン、ピリダジン、ピリミジン、ピペラジン、トリアジン、トリチアン、イソインドリン、イソインドリノン、ベンズイミダゾロン、ベンゾチアゾール、コハクイミド、フタルイミド、ナフタルイミド、ヒダントイン、インドール、キノリン、カルバゾール、アクリジン、アクリドン、及び、アントラキノンよりなる群から選ばれた複素環を有する残基等が挙げられる。

　顔料吸着部位におけるアミド基としては、－ＣＯＮＨＲ^C13（ここで、Ｒ^C13は、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６以上のアリール基又は炭素数７以上のアラルキル基を表す。）などが挙げられる。

　顔料吸着部位におけるアルコキシシリル基としては、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基などが挙げられる。

　顔料吸着部位を有する有機基のその他のとり得る態様の例は、特開２０１３－４３９６２号公報の段落００１６～００４６に記載された態様が挙げられ、特開２０１３－４３９６２号公報の段落００１６～００４６は本発明に組み込まれる。

　式１中、Ｂは式２で表される構造を有する基を表す。

　Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶はそれぞれ独立に、炭素数１～３のアルキル基であることが好ましく、メチル基又はエチル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
　ｋは１以上の整数を表し、２～３００の整数であることが好ましく、１０～２００の整数であることがより好ましい。

　Ｂは式２で表される構造を有する基を表す。
　式２で表される構造は、シリコーン系モノマーから誘導される構造であることが好ましい。Ｂ単独がシリコーン系モノマーから誘導される構造であってもよく、ＢとＲ¹⁴の組み合わせがシリコーン系モノマーから誘導される構造であってもよい。シリコーン系モノマーは、シリコーン系マクロマーであってもよい。なお、本明細書中、「マクロマー（マクロモノマーともいう。）」は、重合性官能基を持ったオリゴマー（重合度２以上３００以下程度）あるいはポリマーの総称であり、高分子と単量体（モノマー）との両方の性質を有するものである。上記式２で表される構造は、重量平均分子量が１，０００～５０，０００（より好ましくは１，０００～１０，０００であり、更に好ましくは１，０００～５，０００）であるシリコーン系マクロマーから誘導される構造であることが好ましい。

　更には、式１で表されるグラフト型シリコーンポリマーは、有機溶媒に可溶であることが好ましい。有機溶媒との親和性が高いと、例えば、分散剤として使用した場合、分散媒との親和性が強まり、分散安定化に十分な吸着層を確保しやすい。

　式２で表される構造を有する基の例には、信越化学工業（株）製のＸ－２２－１７４ＡＳＸ、Ｘ－２２－１７４ＢＸ、ＫＦ－２０１２、Ｘ－２２－１７３ＢＸ、Ｘ－２２－３７１０由来の基などを挙げることができる。

　式１中、ｌは１以上の整数を表し、１～１００の整数であることが好ましく、１～６０の整数であることがより好ましく、１～３０の整数であることが特に好ましい。
　式１中、ｍは０以上の整数を表し、１以上の整数であることが顔料の分散性を高める観点から好ましく、１～６０の整数であることがより好ましく、１～３０の整数であることが特に好ましい。
　式１中、ｎは１以上の整数を表し、１～１００の整数であることが好ましく、１～６０の整数であることがより好ましく、１～３０の整数であることが特に好ましい。

　式１で表されるグラフト型シリコーンポリマーにおける各部分構造の含有量の割合は、特に制限はない。すなわち、式１中、ｌとｍとｎとの割合は、特に制限はない。
　また、式１で表されるグラフト型シリコーンポリマーにおける各部分構造（右下にｌ～ｎの添え字が付された各括弧内の構造や、後述する式３で表される繰り返し単位）の順番は、特に制限はなく、任意の順番で結合していればよく、例えば、ブロックを形成して結合していても、ランダムに結合していてもよい。
　本発明において、式１中、ｍは１以上の整数を表すことが好ましい。

　式１で表されるグラフト型シリコーンポリマーはｌ、ｍ、ｎ、ｋ個の繰り返し単位以外のその他の繰り返し単位を有していてもよいが、その他の繰り返し単位を有さないことが好ましい。
　その他の繰り返し単位としては、Ａ以外の顔料吸着部位を有するその他の繰り返し単位を挙げることができる。例えば、式１で表されるグラフト型シリコーンポリマーは、下記式４で表される（未反応の）チオール基を有する繰り返し単位を有していてもよい。

　式４中、Ｒ¹⁷は、水素原子、ヒドロキシ基、アリール基又は炭素数１～３のアルキル基を表し、Ｒ¹⁸は、アリーレン基又は炭素数１～３のアルキレン基を表し、ｓは０以上の整数を表す。

　式４におけるＲ¹⁷及びＲ¹⁸の好ましい態様は、式１におけるＲ⁶及びＲ¹¹の好ましい態様と同様である。
　ｓが２以上である場合、ｓ個のＲ¹⁷及びＲ¹⁸はそれぞれ互いに同一であっても、異なっていてもよい。ｓは、０であることが好ましい。
　式４で表されるチオール基を有する繰り返し単位を含むポリマーの例には、信越化学工業（株）製ＫＦ－２００１及びＫＦ－２００４などを挙げることができる。

　本発明において、式１で表されるグラフト型シリコーンポリマーは、下記式３で表される化合物であることがより好ましい。

　式３におけるＲ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ａ、Ｂ、ｌ及びｎの定義、及び、好ましい範囲は、式１におけるＲ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ａ、Ｂ、ｌ及びｎの定義、及び、好ましい範囲とそれぞれ同様である。
　式３におけるｍ１の好ましい範囲は、式１におけるｍの好ましい範囲とそれぞれ同様である。

＜グラフト型シリコーンポリマーの製造方法＞
　上述の式１で表されるグラフト型シリコーンポリマーの製造方法としては特に制限はない。
　例えば、以下のメルカプト変性シリコーンである化合物Ａ、シリコーンマクロモノマーである化合物Ｂ、及び、顔料吸着部位を有するマクロモノマーである化合物Ｃの組み合わせにより合成することができ、例えば以下のスキーム１により合成できる。なお、下記スキーム１ではマクロモノマー（具体的にはラジカル重合性モノマー、より具体的には（メタ）アクリルモノマー）である化合物Ｂ及び化合物Ｃを用いた例を示したが、上述の式１で表されるグラフト型シリコーンポリマーの製造方法はこのような製造方法に限定されるものではない。
　化合物Ａ、Ｂ、Ｃ及びスキーム１中、Ｒ¹～Ｒ¹¹、ｌ、ｍ、及び、ｎは、式１中のＲ¹～Ｒ¹¹、ｌ、ｍ、及び、ｎとそれぞれ同義であり、ｐは０以上の整数であり、ｋは１以上の整数であり、Ｒ^Bは任意の置換基であり、Ｒ及びＸはそれぞれ後掲の表１中の置換基を表し、ＰＧＭＥＡはエステル系溶媒の一例であるプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートであり、Ｖ－６０１は重合開始剤の一例であるジメチル－２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）である。

　上記顔料分散剤の製造方法は、特開２０１３－４３９６２号公報の＜０１１０＞～＜０１３４＞の記載を参照してもよく、特開２０１３－４３９６２号公報の＜０１１０＞～＜０１３４＞は本発明に組み込まれる。ただし、本発明においては、これらに制限されるものではない。

　グラフト型シリコーンポリマーの重量平均分子量は、１，０００～５，０００，０００であることが好ましく、２，０００～３，０００，０００であることがより好ましく、２，５００～３，０００，０００であることが更に好ましい。重量平均分子量が１，０００以上であると、製膜性が良好となる。
　グラフト型シリコーンポリマーの数平均分子量は、１，０００～５，０００，０００であることが好ましく、２，０００～３，０００，０００であることがより好ましく、２，５００～３，０００，０００であることが更に好ましい。分子量が１，０００以上であると、製膜性が良好となる。数平均分子量は、重量平均分子量と同様の方法で、測定することができる。

　本発明において、顔料分散剤は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
　顔料分散剤の含有量は、顔料１００質量部に対し、１～４０質量部であることが好ましく、３～３５質量部であることがより好ましく、５～３０質量部であることが更に好ましい。

成分Ｃ：式Ｃ－１で表される構造を有するシリコーン化合物
　本発明の顔料分散液は、下記式Ｃ－１で表される構造を有するシリコーン化合物（以下、変性シリコーン化合物ともいう。）を含有する。本発明において、成分Ｃを含有することにより、経時での粘度安定性に優れた顔料分散液が得られる。
　変性シリコーン化合物は、室温において流動性を有することが好ましく、室温において液状である、シリコーンオイルであることがより好ましい。

　式Ｃ－１中、Ｒ^c1は水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。アルキル基としては、炭素数１～２０のアルキル基が好ましく、炭素数１～１２のアルキル基がより好ましく、炭素数１～６のアルキル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。アリール基としては、炭素数６～２０のアルキル基が好ましく、炭素数６～１４のアリール基がより好ましく、炭素数６～１０のアリール基が更に好ましく、フェニル基が特に好ましい。Ｒｃ１は、アルキル基又はアリール基であることが好ましく、メチル基又はフェニル基であることがより好ましく、メチル基であることが更に好ましい。
　なお、ｋが２以上の整数を表す場合、複数存在するＲ^c1及びＹは同一でも異なっていてもよいが、合成の観点からは同一であることが好ましい。

　式Ｃ－１中、Ｙは水酸基又は上記式Ｃ－２で表される基を表し、式Ｃ－２で表される基であることが好ましい。
　式Ｃ－２中、Ｒ^c2は２価の有機基を表し、２価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基又は（ポリ）シロキサン基であることが好ましく、炭化水素基であることがより好ましい。
　炭化水素基は、その一部の炭素原子が酸素原子、窒素原子（ＮＲ、Ｒは水素原子又は炭素数１～６のアルキル基）又は硫黄原子で置換されていてもよい。具体的には、アルキレン基、アルキレンオキシアルキレン基、アリーレン基、アラルキレン基等が例示される。これらの中でも、アルキレン基、アルキレンオキシアルキレン基、アラルキレン基が好ましい。Ｒ^c2で表される炭化水素基は、炭素数が１～３２であることが好ましく、１～２０であることがより好ましく、１～１２であることが更に好ましい。なお、Ｒｃ２が炭化水素基である場合、上記炭化水素基は更に置換基を有していてもよく、置換基としては、水酸基が例示される。
　Ｒ^c2が（ポリ）シロキサン基である場合、－Ｏ－ＳｉＲ^c11Ｒ^C12－（ここで、Ｒ^c11及びＲ^c12はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、水素原子、メチル基又はフェニル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。）で表される構造を１～２０繰り返し有することが好ましい。
　式Ｃ－２中、Ｒ^c3はカルボキシ基又は水酸基を表し、水酸基であることが好ましい。

　式Ｃ－１中、ｋは１以上の整数を表し、２以上の整数であることが好ましい。

　本発明において、変性シリコーン化合物は、上記式Ｃ－１で表される構造を、１分子中に合計して２つ以上含有することが好ましい。
　変性シリコーン化合物は、上記式Ｃ－１で表される構造を、主鎖の片末端に有していてもよく、主鎖の両末端に有していてもよく、側鎖に有していてもよく、特に限定されないが、主鎖の両末端に有するか、及び／又は、側鎖に有することが好ましく、主鎖の両末端に有するか、又は、側鎖に有することがより好ましく、側鎖に有することが更に好ましい。

　本発明において、変性シリコーン化合物は、ポリオルガノシロキサンの少なくとも１つのケイ素原子が、上記Ｙで修飾されたシリコーン化合物であることが好ましく、ポリジメチルシロキサン、ポリ（ジメチルシロキサン－コ－メチルフェニルシロキサン）、ポリ（ジメチルシロキサン－コ－ジフェニルシロキサン）、ポリ（ジメチルシロキサン－コ－メチルアルキルシロキサン）などのシリコーン化合物の少なくとも１つケイ素原子が、上記Ｙ（水酸基（－ＯＨ）、又は、－Ｒ^c2－Ｒ^c3で表される基）で修飾されたシリコーン化合物であることがより好ましい。

　式Ｃ－１で表される構造を有するシリコーン化合物は、以下の式Ｃ１－１～式Ｃ１－５で表される化合物であることが好ましい。

　式Ｃ１－１～式Ｃ１－５中、Ｒ^c1、Ｙ、及びｋは式Ｃ－１におけるＲ^c1、Ｙ、及びｋと同義であり、好ましい範囲も同様である。
　式Ｃ１－１～式Ｃ１－５中、Ｒ^czはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。アルキル基としては、炭素数１～２０のアルキル基が好ましく、炭素数１～１２のアルキル基がより好ましく、炭素数１～６のアルキル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。アリール基としては、炭素数６～２０のアルキル基が好ましく、炭素数６～１４のアリール基がより好ましく、炭素数６～１０のアリール基が更に好ましく、フェニル基が特に好ましい。Ｒ^czは、アルキル基又はアリール基であることが好ましく、メチル基又はフェニル基であることがより好ましく、メチル基であることが更に好ましい。なお、複数存在するＲ^ｃｚはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。

　これらの中でも、変性シリコーン化合物は、主鎖両末端のみが－Ｙで変性されている式Ｃ１－２で表される化合物、側鎖のみが－Ｙで変性されている式Ｃ１－１で表される化合物、主鎖片末端及び側鎖が－Ｙで変性されている式Ｃ１－４で表される化合物、又は、主鎖両末端及び側鎖が－Ｙで変性されている式Ｃ１－５で表される化合物であることが好ましく、式Ｃ１－１で表される化合物、式Ｃ１－４で表される化合物、又は、式Ｃ１－５で表される化合物であることがより好ましい。

　変性シリコーン化合物は、２５℃における粘度が１０～５０，０００ｍｍ²／ｓの範囲にあることが好ましい。１０～１０，０００ｍｍ²／ｓであることがより好ましく、２５～５，０００ｍｍ²／ｓであることが更に好ましい。粘度が上記範囲内であると、取り扱いが容易であり、顔料分散液の調製が容易であるので好ましい。
　また、変性シリコーン化合物の官能基当量（ヒドロキシ基、又は、カルボキシ基の当量）は、５０～５０，０００ｇ／ｍｏｌであることが好ましく、１００～２０，０００ｇ／ｍｏｌであることがより好ましい。官能基当量が上記範囲内であると、顔料分散液の経時による粘度がより安定となるので好ましい。

　変性シリコーン化合物としては、上市されている製品を使用してもよい。なお、以下に例示する化合物において、粘度は２５℃における粘度を表す。
　Ｙが水酸基であるシリコーン化合物の具体例としては、Ｘ－２１－５８４１（両末端が水酸基で変性、粘度：３０ｍｍ²／ｓ、官能基当量：５００ｇ／ｍｏｌ）、ＫＦ－９７０１（両末端が水酸基で変性、粘度：６０ｍｍ²／ｓ、官能基当量：１，５００ｇ／ｍｏｌ）（以上、信越化学工業（株）製）が挙げられる。

　Ｙが－Ｒ^c2－Ｒ^c3であり、Ｒ^c3が水酸基であるシリコーン化合物の具体例としては、Ｘ－２２－１６０ＡＳ（両末端が－Ｃ₃Ｈ₆ＯＣ₂Ｈ₄ＯＨで変性、粘度：３５ｍｍ²／ｓ、官能基当量：４７０ｇ／ｍｏｌ）、ＫＦ－６００１（両末端が－Ｃ₃Ｈ₆ＯＣ₂Ｈ₄ＯＨで変性、粘度４５ｍｍ²／ｓ、官能基当量：９００ｇ／ｍｏｌ）、ＫＦ－６００２（両末端が－Ｃ₃Ｈ₆ＯＣ₂Ｈ₄ＯＨで変性、粘度：７０ｍｍ²／ｓ、官能基当量：１，６００ｇ／ｍｏｌ）、ＫＦ－６００３（両末端が－Ｃ₃Ｈ₆ＯＣ₂Ｈ₄ＯＨで変性、粘度：１１０ｍｍ²／ｓ、官能基当量：２，５００ｇ／ｍｏｌ）、Ｘ－２２－１８２１（両末端が－Ｃ₃Ｈ₆－Ｐｈ－ＯＨで変性、Ｐｈはフェニレン基、粘度：１００ｍｍ²／ｓ、官能基当量：１，６００ｇ／ｍｏｌ）、Ｘ－２２－１７０ＢＸ（片末端が－Ｃ₃Ｈ₆ＯＣ₂Ｈ₄ＯＨで変性、粘度：４０ｍｍ²／ｓ、官能基当量：２，８００ｇ／ｍｏｌ）、Ｘ－２２－１７０ＤＸ（片末端が－Ｃ₃Ｈ₆ＯＣ₂Ｈ₄ＯＨで変性、粘度：６５ｍｍ²／ｓ、官能基当量：４，７００ｇ／ｍｏｌ）、Ｘ－２２－１７６ＤＸ（－Ｃ₃Ｈ₆ＯＣＨ₂Ｃ（Ｃ₂Ｈ₅）（ＣＨ₂ＯＨ）₂、粘度：１３０ｍｍ²／ｓ、官能基当量：３，２００ｇ／ｍｏｌ）、Ｘ－２２－１７６ＧＸ－Ａ（－Ｃ₃Ｈ₆ＯＣＨ₂Ｃ（Ｃ₂Ｈ₅）（ＣＨ₂ＯＨ）₂、粘度：４００ｍｍ²／ｓ、官能基当量：１４，０００ｇ／ｍｏｌ）、Ｘ－２２－４０３９（側鎖カルビノール変性、粘度：９０ｍｍ²／ｓ、官能基当量：１，０００ｇ／ｍｏｌ）、Ｘ－２２－４０１５（側鎖カルビノール変性、粘度：１３０ｍｍ²／ｓ、官能基当量：１，９００ｇ／ｍｏｌ）（以上、信越化学工業（株）製）、ＸＦ４２－Ｂ０９７０（両末端カルビノール変性、粘度：５０ｍｍ²／ｓ、官能基当量：９００ｇ／ｍｏｌ）（以上、ＧＥ東芝シリコーン（株）製）、ＳＦ８４２７（両末端カルビノール変性、粘度：３２０ｍｍ²／ｓ、官能基当量：１，２００ｇ／ｍｏｌ）、ＢＹ１６－２０１（両末端カルビノール変性、粘度：４５ｍｍ²／ｓ、官能基当量：９５０ｇ／ｍｏｌ）、ＳＦ８４２８（側鎖カルビノール変性、粘度：１３０ｍｍ²／ｓ、官能基当量：１，６００ｇ／ｍｏｌ）、ＦＺ－２１６２（側鎖カルビノール変性、粘度：１８０ｍｍ²／ｓ、官能基当量：７５０ｇ／ｍｏｌ）（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）が挙げられる。

　Ｙが－Ｒ^c2－Ｒ^c3であり、Ｒ^c3がカルボキシル基であるシリコーン化合物の具体例としては、Ｘ－２２－３７１０（片末端が－ＲＣＯＯＨで変性、粘度：６０ｍｍ²／ｓ、官能基当量：１，４５０ｇ／ｍｏｌ）、Ｘ－２２－３７０１Ｅ（側鎖末端が－ＲＣＯＯＨで変性、粘度：２，０００ｍｍ²／ｓ、官能基当量４，０００ｇ／ｍｏｌ）、Ｘ－２２－１６２Ｃ（両末端が－Ｃ₂Ｈ₄ＣＯＯＨで変性、粘度：２２０ｍｍ²／ｓ、官能基当量：２，３００ｇ／ｍｏｌ）（以上、信越化学工業（株）製）、ＢＹ１６－８８０（側鎖末端が－ＲＣＯＯＨで変性、粘度：２，５００ｍｍ²／ｓ、官能基当量：３，５００ｇ／ｍｏｌ）、ＢＹ１６－７５０（主鎖の両末端が－ＲＣＯＯＨで変性、粘度：１８０ｍｍ²／ｇ、官能基当量：７５０ｇ／ｍｏｌ）（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）などが挙げられる。もちろん、これらに限定されるものではない。

　本発明において、成分Ｃは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
　顔料組成物における成分Ｃの含有量は、顔料１００質量部に対して、１～５０質量部であることが好ましく、２～４０質量部であることがより好ましく、３～３０質量部であることが更に好ましい。
　また、顔料分散液における成分Ｃの含有量は、固形分総量に対して、０．２～１０質量％であることが好ましく、０．４～６質量％であることがより好ましく、０．６～８質量％であることが更に好ましい。
　また、成分Ｃの含有量は、成分Ｂ１００質量部に対して、１０～５００質量部であることが好ましく、１５～４００質量部であることがより好ましく、２０～２００質量部であることが更に好ましい。

成分Ｄ：有機溶媒
　本発明の顔料分散液は、成分Ｄとして有機溶媒を含有する。顔料分散液に用いられる溶媒としては、炭化水素系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒及びアルコール系溶媒よりなる群から選ばれた少なくとも１種の溶媒を用いることが好ましい。
　炭化水素系溶媒としては、キシレン、トルエン、ベンゼン、エチルベンゼン、ヘキサンなどが好ましい。
　ケトン系溶媒としては、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトン、ジエチルケトンなどが好ましい。
　エステル系溶媒としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテートなどが好ましい。
　アルコール系溶媒としては、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ノルマルプロピルアルコール、ブタノールなどが好ましい。
　中でも、炭化水素系溶媒、エステル系溶媒及びケトン系溶媒よりなる群から選ばれた少なくとも１種の溶媒が好ましく、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及び酢酸エチルよりなる群から選ばれた少なくとも１種の溶媒が特に好ましい。

　成分Ｄは沸点を有することが好ましく、沸点は５０～３００℃であることが好ましく、６０～２５０℃であることがより好ましく、６０～２００℃であることが更に好ましい。
　顔料分散液（全固形分と溶媒の合計）に対する溶媒の含有量としては、１０～９８質量％が好ましく、１０～９５質量％がより好ましく、２０～９０質量％が特に好ましい。

　本発明の顔料分散液は、上記成分Ａ～成分Ｄに加え、他の成分を含有していてもよい。他の成分としては、バインダー（分散バインダー）が例示される。
　顔料粒子の沈降及び凝集を抑制するため、バインダーを顔料分散液に添加してもよい。バインダーとしては、熱着色の点から、シリコーン樹脂等が挙げられる。
　顔料分散液中の全固形分に対するバインダーの含有量としては、０．１～３０質量％が好ましく、０．２～２０質量％がより好ましく、０．５～１０質量％が特に好ましい。

　顔料分散液を調製する方法としては、特に制限はないが、顔料分散時には顔料、顔料分散剤、変性シリコーン化合物、溶媒及び選択的に少量の分散バインダーのみが使われることが好ましい。
　また、白色顔料又は黒色顔料の分散時には、追加のバインダーや、重合触媒などの添加剤を顔料分散液の成分として添加してもよい。

　顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８頁に記載されているニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル、ビーズミル等の公知の分散機が挙げられる。更に前述の文献３１０頁記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。

２．樹脂組成物
　本発明の顔料分散液は、樹脂組成物に好適に使用され、上記樹脂組成物は、本発明の顔料分散液、及び、樹脂を含有する。
　なお、本発明において、樹脂組成物は、黒色層（遮光層）形成用組成物又は白色層形成用組成物として使用することが好ましく、加飾層形成用転写材料の黒色層形成用組成物又は白色層形成用組成物、あるいは、加飾材付き基材の黒色層形成用組成物又は白色層形成用組成物として使用することがより好ましい。
　なお、樹脂組成物は、黒色顔料を含有する黒色顔料分散液、及び、樹脂を含有する黒色樹脂組成物、又は、白色顔料を含有する白色顔料分散液、及び、樹脂を含有する白色樹脂組成物であることが好ましく、黒色樹脂組成物であることがより好ましい。

（樹脂）
　樹脂組成物が含有する樹脂は特に制限はないが、熱架橋性樹脂であることが好ましい。熱架橋性樹脂としては、例えば、シロキサン結合を主鎖に有するシリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂等が挙げられ、中でもシロキサン結合を主鎖に有するシリコーン樹脂が好ましい。なお、シリコーン樹脂は、上記成分Ｂ、及び、成分Ｃ以外のシリコーン樹脂である。
　上記シリコーン樹脂は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以上であることが好ましい。
　シリコーン樹脂のＴｇは、１０℃以上であることが好ましく、１０℃～１２０℃であることがより好ましい。Ｔｇが上記範囲であることにより、得られる硬化物の加熱時のクラック耐性に優れ、また、転写材料や加飾材としてより好適に用いることができる。
　シリコーン樹脂のＴｇの測定方法としては、示差走査熱量計（ＤＳＣ）を用いて測定する方法が挙げられる。

　シリコーン樹脂としては、公知のものが使用でき、メチル系ストレートシリコーンレジン（ポリジメチルシロキサン）、メチルフェニル系ストレートシリコーンレジン（メチル基の一部をフェニル基に置換したポリジメチルシロキサン）、アクリル樹脂変性シリコーンレジン、ポリエステル樹脂変性シリコーンレジン、エポキシ樹脂変性シリコーンレジン、アルキッド樹脂変性シリコーンレジン及びゴム系のシリコーンレジン等が好ましく使用できる。中でも、メチル系ストレートシリコーンレジン、メチルフェニル系ストレートシリコーンレジン、アクリル樹脂変性シリコーンレジンがより好ましく挙げられ、メチル系ストレートシリコーンレジン、メチルフェニル系ストレートシリコーンレジンが更に好ましく挙げられる。
　中でも、シリコーン樹脂としては、シラノール基を有し、かつＴｇが１０℃以上であるシリコーン樹脂であることが好ましい。上記態様であると、得られる硬化物の加熱時のクラック耐性により優れ、硬化物の熱による着色がより少なく、また、硬化物の耐摩耗性により優れる。
　シリコーン樹脂は、１種のみを用いても、２種以上を混合して用いてもよい。これらを任意の比率で混合することにより膜物性を制御することもできる。
　シリコーン樹脂は、有機溶媒などに溶解されたものを用いてもよく、例えば、キシレン溶液やトルエン溶液に溶解されたものを用いることができる。

　シリコーン樹脂としては、市販のシリコーン樹脂を用いてもよく、例えば、信越化学工業（株）製ＫＲ２５１、ＫＲ２５５、ＫＲ３００、ＫＲ３１１、ＫＲ２１６、ＥＳ－１００１Ｎ、ＥＳ－１００２Ｔ、ＥＳ－１０２３等が好ましく挙げられる。

　シリコーン樹脂の重量平均分子量としては、１，０００以上であることが好ましく、２，０００以上であることがより好ましく、また、５，０００，０００以下であることが好ましく、３，０００，０００以下であることがより好ましい。

　シリコーン樹脂の含有量は、樹脂組成物の全固形分量に対し、１～９０質量％であることが好ましく、１０～８０質量％であることがより好ましく、３０～７０質量％であることが更に好ましい。

（溶媒）
　本発明の樹脂組成物は、溶媒を含有していてもよい。
　溶媒としては、特に制限はなく、公知の溶媒を用いることができる。中でも、有機溶媒であることが好ましく、上述した、炭化水素系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒及びアルコール系溶媒よりなる群から選ばれた少なくとも１種の溶媒が好ましく挙げられ、炭化水素系溶媒及びケトン系溶媒よりなる群から選ばれた少なくとも１種の溶媒がより好ましく挙げられ、芳香族炭化水素系溶媒及びケトン系溶媒よりなる群から選ばれた少なくとも１種の溶媒が更に好ましく挙げられる。
　溶媒は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
　本発明の樹脂組成物における溶媒の含有量は、特に制限はないが、樹脂組成物の全質量に対し、１０～９０質量％であることが好ましく、２０～８５質量％であることがより好ましい。

（硬化触媒）
　本発明において、樹脂組成物がシリコーン樹脂を含有する場合、その架橋反応を促進し、硬化皮膜を形成するために、縮合反応硬化触媒（縮合触媒、又は、重合触媒ともいう。）を用いてもよい。縮合反応硬化触媒は、金属塩であることが好ましく、有機酸金属塩を含有する縮合触媒であることがより好ましい。

　金属塩（アルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩を除く。）、より好ましくは有機酸金属塩（アルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩を除く。）からなる縮合触媒は、従来公知の縮合触媒が好適に用いられる。すなわち、硬化触媒として、有機酸のアルミニウム塩、錫塩、鉛塩又は遷移金属塩を挙げることができ、有機酸と金属イオンとがキレート構造に代表される錯塩を形成しているものでもよい。このような硬化触媒はアルミニウム、チタン、鉄、コバルト、ニッケル、亜鉛、ジルコニウム、コバルト、パラジウム、錫、水銀又は鉛から選ばれる１種又は２種以上の金属を含有する縮合触媒が特に好適であって、有機酸ジルコニウム塩、有機酸錫塩、有機酸アルミニウム塩が最も好適に用いられる。

　縮合触媒の具体例として、ジブチルスズジアセテ－ト、ジブチルスズジオクテ－ト、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジマレート、ジオクチルスズジラウレート、ジオクチルスズジマレート、オクチル酸スズなどの有機酸スズ塩；テトラ（ｉ－プロピル）チタネート、テトラ（ｎ－ブチル）チタネート、ジブトキシビス（アセチルアセトナート）チタン、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリス（ジオクチルパイロホスフェート）チタネート、ビス（ジオクチルパイロホスフェート）オキシアセテートチタネートなどの有機酸チタン塩；テトラブチルジルコネート、テトラキス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、テトライソブチルジルコネート、ブトキシトリス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、オクチル酸ジルコニウムなどの有機酸ジルコニウム塩；トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナート）アルミニウムなどの有機酸アルミニウム塩；ナフテン酸亜鉛、ギ酸亜鉛、亜鉛アセチルアセトナート、鉄アセチルアセトナート、ナフテン酸コバルト、オクチル酸コバルトなどの有機酸金属塩が挙げられる。また、市販品として、ＣＡＴ－ＡＣ、Ｄ－１５、Ｄ－２０、Ｄ－２５（以上、信越化学工業（株）製）を用いてもよい。

　上記触媒の使用量は触媒量でよいが、顔料分散剤、分散バインダー及び追加のバインダー樹脂に対し、金属分として０．１～２０質量％使用することが好ましく、硬化条件により任意に選択できる。

（他の添加剤）
　本発明において樹脂組成物は、上述した以外のその他の添加剤を含有していてもよい。
　他の添加剤としては、特に制限はなく、公知の添加剤を用いることができ、例えば、塗布助剤、酸化防止剤、重合禁止剤等を用いることができる。

　樹脂組成物が黒色樹脂組成物である場合、顔料分散液は黒色顔料分散液であることが好ましく、樹脂組成物が白色樹脂組成物である場合、顔料分散液は白色顔料分散液であることが好ましい。
　樹脂組成物における顔料の含有量は、樹脂組成物の固形分総質量に対して５～７５質量％であることが好ましく、１５～６５質量％であることがより好ましく、２５～５５質量％であることが更に好ましい。

　樹脂組成物の固形分中に含まれる顔料以外の成分に対する変性シリコーン化合物、グラフト型シリコーンポリマーを含むシリコーン系顔料分散剤及びシリコーン樹脂の合計割合が６０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上であることが更に好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。

　後述する本発明の基材における黒色層及び白色層の膜厚は、隠ぺい力を高めるための観点から、１．０～５．０μｍであることが好ましく、１．０～４．０μｍであることがより好ましい。
　なお、黒色層の光学濃度（ＯＤ）は、黒色層の隠ぺい力を高めるための観点から、３．５以上であることが好ましく、４．０以上であることが特に好ましい。黒色層の表面抵抗は、１．０×１０¹⁰Ω／□以上であることが好ましく、１．０×１０¹¹Ω／□以上であることがより好ましく、１．０×１０¹²Ω／□以上であることが更に好ましく、１．０×１０¹³Ω／□以上であることが特に好ましい。なお、「Ω／□」は、Ω毎スクウェアである。

３．転写材料
　本発明の転写材料は、本発明の顔料分散液を使用して作製された樹脂組成物からなる層（黒色層、白色層等）を、仮支持体上に有することが好ましい。
　また、本発明の転写材料は、仮支持体上に少なくとも黒色層を有することが好ましく、黒色層及び白色層をこの順で有することがより好ましい。なお、以下の説明において、仮支持体上に黒色層及び白色層をこの順で有する転写材料を中心に説明するが、本発明の転写材料はこれに限定されるものではなく、白色層を有していなくてもよく、また、白色層の代わりに他の色相を有する層を有していてもよく、特に限定されるものではない。
　本発明において、転写材料は、加飾材形成用の転写材料であることが好ましい。
　なお、本発明において、転写材料は、顔料として黒色顔料を含有する黒色樹脂組成物を用いて形成された黒色層又は未硬化黒色層を有することが好ましく、顔料として黒色顔料を含有する黒色樹脂組成物を用いて形成された黒色層又は未硬化黒色層と、顔料として白色顔料を含有する白色樹脂組成物を用いて形成された白色層又は未硬化白色層とを有することがより好ましい。なお、少なくとも黒色樹脂組成物が、本発明の樹脂組成物であることが好ましく、黒色樹脂組成物及び白色樹脂組成物の双方が本発明の樹脂組成物であることがより好ましい。

（フィルム転写：フィルム転写材料）
　本発明において、転写材料は加飾材形成用の転写材料であることが好ましく、仮支持体上に、白色樹脂組成物からなる層（硬化白色層）又は白色樹脂組成物を乾燥させた層（未硬化白色層）を有し、更に、黒色樹脂組成物からなる層又は黒色樹脂組成物を乾燥させた層（未硬化黒色層）を有することが好ましい。
　本発明において、加飾材形成用の転写材料は、フィルム転写材料であることが好ましい。
　図７の構成の開口部８を有する静電容量型入力装置において、図５に記載される未硬化白色層（加熱前の加飾材２ａ）や未硬化黒色層２ｂ等を、フィルム転写材料を用いて形成すると、開口部を有する基板（前面板）でも開口部分からレジスト成分のモレがない。特に、前面板の境界ギリギリまで遮光パターンを形成する必要のある加飾材２ａや黒色層２ｂでのガラス端からのレジスト成分のはみ出しがないため、基板裏側を汚染することなく、簡略な工程で、薄層／軽量化のメリットがあるタッチパネルの製造が可能となる。
　フィルム転写材料は、仮支持体、未硬化黒色層、及び、未硬化白色層を有することが好ましい。

＜仮支持体＞
　転写材料は、仮支持体を有することが好ましい。
　仮支持体としては、可撓性を有し、加圧下、又は、加圧及び加熱下においても著しい変形、収縮又は伸びを生じないことが好ましい。そのような仮支持体の例としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等を挙げることができ、中でも、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
　仮支持体の厚さは、特に限定はないが、５～３００μｍが好ましく、２０～２００μｍがより好ましい。
　また、仮支持体は、透明でもよいし、染料化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウム塩などを含有していてもよい。
　また、仮支持体には、特開２００５－２２１７２６号公報に記載の方法などにより、導電性を付与することができる。

＜熱可塑性樹脂層＞
　転写材料は、熱可塑性樹脂層を少なくとも１層有していてもよい。
　熱可塑性樹脂層は、仮支持体と未硬化白色層との間に設けられることが好ましい。すなわち、転写材料は、仮支持体、熱可塑性樹脂層、未硬化白色層及び未硬化黒色層をこの順で含むことが好ましい。
　熱可塑性樹脂層に用いる成分としては、特開平５－７２７２４号公報に記載されている有機高分子物質が好ましく、ヴイカーＶｉｃａｔ法（具体的には、アメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選ばれることが特に好ましい。

　熱可塑性樹脂層に用いられる熱可塑性樹脂層として具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル又はそのケン化物との共重合体、エチレンとアクリル酸エステル又はそのケン化物との共重合体などのエチレン共重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニル及びそのケン化物との共重合体などの塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル又はそのケン化物との共重合体などのスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル又はそのケン化物の共重合体などのビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニルとの共重合体などの（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ－アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ－ジメチルアミノ化ナイロンなどのポリアミド樹脂等の有機高分子が挙げられる。

　熱可塑性樹脂層の厚さは、６～１００μｍが好ましく、６～５０μｍがより好ましい。上記範囲であると、基材としての仮支持体上に凹凸がある場合であっても、凹凸を十分に吸収でき、平滑性に優れる。

＜中間層＞
　転写材料は、複数の塗布層の塗布時、及び塗布後の保存時における成分の混合を防止する目的から、中間層を少なくとも１層有していてもよい。
　中間層は、仮支持体と未硬化白色層との間、熱可塑性樹脂層を有する場合には、熱可塑性樹脂層と未硬化白色層との間に設けられることが好ましい。すなわち、転写材料は、仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層、未硬化白色層及び未硬化黒色層をこの順で含むことが好ましい。
　中間層としては、特開平５－７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜を用いることが好ましく、この場合、露光時感度がアップし、露光機の時間負荷が減り、生産性が向上する。
　酸素遮断膜としては、低い酸素透過性を示し、水又はアルカリ水溶液に分散又は溶解するものが好ましく、公知のものの中から適宜選択することができる。中でも、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとを含有する層が特に好ましい。

　中間層の厚さは、０．１～５．０μｍが好ましく、０．５～２．０μｍがより好ましい。上記範囲であると、酸素遮断機能が低下することもなく、現像時又は中間層除去時に時間がかかりすぎることもない。

＜保護剥離層＞
　転写材料には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護するために未硬化層を覆うようにして、保護剥離層（カバーフィルムともいう。）が設けられることが好ましい。保護剥離層は仮支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、未硬化黒色層から容易に分離されねばならない。保護剥離層の材料としては、例えば、シリコーン紙、ポリオレフィン又はポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。
　保護剥離層の厚さは、１～１００μｍであることが好ましく、５～５０μｍであることがより好ましく、１０～３０μｍであることが特に好ましい。この厚さが１μｍ以上であれば、保護剥離層の強度が十分であり、破断しにくく、また、１００μｍ以下であると保護剥離層の価格が高くならず、また、保護剥離層をラミネートする際にシワが発生しにくい。

　保護剥離層は、市販のものとして、例えば、王子製紙（株）製アルファンＭＡ－４１０、Ｅ－２００Ｃ、Ｅ－５０１、信越フィルム（株）製等のポリプロピレンフィルム、帝人（株）製ＰＳ－２５等のＰＳシリーズなどのポリエチレンテレフタレートフィルム等が挙げられるが、これらに限られるものではない。また、市販のフィルムをサンドブラスト加工することにより、簡単に製造することが可能である。

　保護剥離層としては、ポリエチレンフィルムなどのポリオレフィンフィルムを用いることができる。また、保護剥離層として用いられるポリオレフィンフィルムは、原材料を熱溶融し、混練、押し出し、２軸延伸、キャスティング又はインフレーション法によって好適に製造される。

（フィルム転写材料の製造方法）
　フィルム転写材料を製造する方法としては、特に限定はないが、例えば、特開２００５－３８６１号公報の段落００６４～００６６に記載の工程によって製造することができる。また、フィルム転写材料は、例えば特開２００９－１１６０７８号公報に記載の方法で作製することもできる。
　フィルム転写材料の製造方法の一例としては、仮支持体上に熱硬化性樹脂組成物を塗布し、乾燥させて層を形成する工程と、形成された層を保護剥離層で覆う工程と、を有して構成される方法が挙げられる。

　ここで、本発明に用いることができるフィルム転写材料は、未硬化白色層及び未硬化黒色層の２層を少なくとも形成したものを用いてもよい。また、フィルム転写材料は、仮支持体及び未硬化白色層を有するフィルム転写材料を基材上に転写した後に仮支持体を取り除き、続けて、少なくとも仮支持体及び未硬化黒色層を含むフィルム転写材料を未硬化白色層上に転写する場合は、未硬化白色層及び未硬化黒色層のうち少なくとも１層を形成したものを用いてもよい。前者の場合、本発明の転写材料は、仮支持体上に、未硬化白色層及び未硬化黒色層をこの順番で積層したものであってもよく、この場合は、基材、好ましくはガラス上に、一度に白色層と黒色層を設けることができ、工程的に好ましい。
　本発明に用いることができるフィルム転写材料では、本発明の趣旨に反しない限りにおいて、その他の層を更に形成してもよい。また、未硬化白色層の形成前に、熱可塑性樹脂層及び／又は中間層（酸素遮断層）を塗布形成してもよい。
　仮支持体上に、白色層形成用組成物（白色樹脂組成物）、黒色層形成用組成物（黒色樹脂組成物）、熱可塑性樹脂層形成用の塗布液、中間層形成用の塗布液等を塗布する方法としては公知の塗布方法を用いることができる。例えば、スピナー、ホワイラー、ローラーコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、ワイヤーバーコーター、エクストルーダー等の塗布機を用いて、それらの塗液を塗布し、乾燥させることにより形成できる。

＜溶媒＞
　フィルム転写材料の各層は、各成分と共に溶媒を用いて好適に調製することができる。
　溶媒としては、エステル類、例えば酢酸エチル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、並びに、３－オキシプロピオン酸メチル及び３－オキシプロピオン酸エチルなどの３－オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル）、並びに、２－オキシプロピオン酸メチル、２－オキシプロピオン酸エチル及び２－オキシプロピオン酸プロピルなどの２－オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、２－メトキシプロピオン酸メチル、２－メトキシプロピオン酸エチル、２－メトキシプロピオン酸プロピル、２－エトキシプロピオン酸メチル、２－エトキシプロピオン酸エチル、２－オキシ－２－メチルプロピオン酸メチル、２－オキシ－２－メチルプロピオン酸エチル、２－メトキシ－２－メチルプロピオン酸メチル、２－エトキシ－２－メチルプロピオン酸エチル）、並びに、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２－オキソブタン酸メチル、２－オキソブタン酸エチル等；
　エーテル類、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート等；
　ケトン類、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン等；
　芳香族炭化水素類、例えばトルエン、キシレン；等が挙げられる。
　これらのうち、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、キシレン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が好適である。
　溶媒は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

　保護剥離層で黒色層又は未硬化黒色層を覆う方法としては特に限定はないが、仮支持体上の黒色層又は未硬化黒色層に保護剥離層を重ね、圧着する方法を用いることができる。
　圧着には、ラミネーター、真空ラミネーター、及び、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネーターを使用することができる。
　圧着の条件としては、雰囲気温度２０～４５℃、線圧１，０００～１０，０００Ｎ／ｍが好ましい。

（転写方法（ラミネート方法））
　本発明において、転写方法（ラミネート方法）は、本発明の加飾層形成用の転写材料を用いる方法であり、白色層及び黒色層、又は、白色層形成用組成物を乾燥させた層（未硬化白色層）及び黒色層形成用組成物を乾燥させた層（未硬化黒色層）を少なくとも基材へ転写する転写工程を含む方法であることが好ましい。
　未硬化白色層及び未硬化黒色層の基材表面への転写（貼り合わせ）は、未硬化白色層を基材表面に重ね、加圧及び加熱することにより行われる。貼り合わせには、上記したような公知のラミネーターを使用することができる。
　ラミネート方法は、所望の打ち抜いた未硬化白色層及び未硬化黒色層を基材に転写することから、毎葉式で精度よく、基材と未硬化白色層間に気泡が入らない方法が、得率を上げられる観点から好ましい。具体的には、真空ラミネーターの使用を好ましく挙げることができる。
　ラミネート（連続式／枚葉式）に用いられる装置としては、例えば、クライムプロダクツ（株）製Ｖ－ＳＥ３４０ａａＨなどを挙げることができる。
　真空ラミネーター装置としては、例えば、高野精機（有）製のものや、大成ラミネーター（株）製ＦＶＪ－５４０Ｒ、ＦＶ７００などを挙げることができる。

　フィルム転写材料を基材に貼り付ける前に、仮支持体の未硬化白色層と反対側、すなわち、未硬化黒色層側に、更に支持体を積層する工程を含むことで、ラミネート時に気泡を入れない好ましい効果を得ることができることがある。このときに用いる支持体としては、特に制限はないが、支持体の材質としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、シクロオレフィンポリマーを挙げることができる。
　また、上記支持体の膜厚は、５０～２００μｍの範囲であることが好ましい。

＜仮支持体を取り除く工程＞
　本発明の転写方法は、基材に貼り付けられた転写材料から仮支持体を取り除く工程を含むことが好ましい。

＜熱可塑性樹脂層を除去する工程、中間層を除去する工程＞
　更に、フィルム転写材料が熱可塑性樹脂層や中間層を含む場合は、熱可塑性樹脂層及び／又は中間層を除去する工程と有することが好ましい。
　熱可塑性樹脂層及び／又は中間層を除去する工程は、一般にフォトリソ方式で使用されるアルカリ現像液を用いて行うことができる。
　アルカリ現像液としては、特に制約はなく、特開平５－７２７２４号公報に記載のものなど、公知の現像液を使用することができる。なお、現像液は加飾材が溶解型の現像挙動をするものが好ましく、例えば、ｐＫａ＝７～１３の化合物を０．０５～５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含むものが好ましいが、更に水と混和性を有する有機溶媒を少量添加してもよい。
　水と混和性を有する有機溶媒としては、メタノール、エタノール、２－プロパノール、１－プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε－カプロラクトン、γ－ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε－カプロラクタム、Ｎ－メチルピロリドン等を挙げることができる。有機溶媒の濃度は、０．１～３０質量％が好ましい。
　また、アルカリ現像液には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は、０．０１～１０質量％が好ましい。

　熱可塑性樹脂層及び／又は中間層を除去する工程の方式としては、パドル、シャワー、シャワー＆スピン、ディプ等のいずれでもよい。ここで、シャワーについて説明すると、熱可塑性樹脂層や中間層を、現像液をシャワーにより吹き付けることにより除去することができる。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、残渣を除去することが好ましい。液温度は２０℃～４０℃が好ましく、また、ｐＨは、８～１３が好ましい。

＜ポストベーク工程＞
　本発明において、転写工程後にポストベーク工程を含むことが好ましく、熱可塑性樹脂層及び／又は中間層を除去する工程後にポストベークを行う工程を含むことがより好ましい。ポストベークを行うことにより、未硬化層を硬化させ加飾材とすることが好ましい。
　ポストベーク工程においては、転写材料の未硬化白色層及び未硬化黒色層を０．０８～１．２気圧の環境下で５０℃～３００℃に加熱して形成することが強度と生産性との両立の観点から好ましい。なお、１気圧＝０．１０１３２５ＭＰａである。
　また、本発明において、加飾材の内縁には、透光領域の内方に向かい加飾材の厚さが薄くなるように形成された傾斜部を有することが好ましい。傾斜部は、黒色層を加熱により収縮させることにより形成することが好ましい。例えば、ポストベーク工程において、加飾材を５０℃～３００℃で加熱することにより黒色層を収縮させ、これにより傾斜部を形成することができる。

　ポストベークの加熱は、０．５気圧以上の環境下で行うことがより好ましい。一方、１．１気圧以下の環境下で行うことがより好ましく、１．０気圧以下の環境下で行うことが特に好ましい。更に、約１気圧（大気圧）環境下で行うことが特別な減圧装置を用いることなく製造コストを低減できる観点からより特に好ましい。ここで、従来は白色層及び黒色層を加熱により硬化して形成する場合、非常に低い圧力の減圧環境下で行い、酸素濃度を低くすることでベーク後の強度を維持していたが、フィルム転写材料を用いることにより、上記圧力の範囲でベークした後も加飾材付き基材の加飾材及び黒色層の基材側の色味を改善し（ｂ^*値を小さくし）、白色度を高めることができる。
　ポストベークの温度は、５０℃～３００℃が好ましく、１００℃～３００℃がより好ましく、１２０℃～３００℃がより好ましい。
　また、ポストベークは２以上の異なる温度でそれぞれ所定の時間だけ行ってもよい。例えば、まず、好ましくは５０℃～２００℃、より好ましくは１００℃～２００℃で加熱し、次いで、好ましくは２００℃～２８０℃、より好ましくは２２０℃～２６０℃で加熱することができる。
　ポストベークの時間は、２０～１５０分であることがより好ましく、３０～１００分であることが特に好ましい。２段階以上の温度で行う場合には、各段階の温度の合計が２０～１５０分となるように行うことが好ましい。
　ポストベークは、空気環境下で行っても、窒素置換環境下で行ってもよいが、空気環境下で行うことが、特別な減圧装置を用いることなく製造コストを低減できる観点から特に好ましい。

＜その他の工程＞
　本発明において、転写方法は、上述した以外のその他の工程を有していてもよい。
　なお、現像工程、熱可塑性樹脂層及び／又は中間層を除去する工程、並びに、その他の工程の例としては、特開２００６－２３６９６号公報の段落００３５～００５１に記載の方法を本発明においても好適に用いることができる。

（熱転写印刷）
　熱転写印刷は、仮支持体上に少なくとも未硬化白色層及び未硬化黒色層の一方を含む熱転写材料の仮支持体側を加熱して、この仮支持体から少なくとも未硬化白色層及び未硬化黒色層の一方を転写する熱転写印刷により、未硬化白色層及び未硬化黒色層を作製することが好ましい。なお、熱転写においては、未硬化層が完全に硬化しない程度の加熱温度及び加熱時間で行うことが好ましい。
　熱転写印刷の方法としては、インクリボン印刷が好ましい。本発明の加飾材付き基材の製造方法に用いられるインクリボン印刷の方法としては、「ノンインパクトプリンティング－技術と材料－（（株）シーエムシー刊、１９８６年１２月１日）」などに記載の方法を挙げることができる。

（スクリーン印刷）
　スクリーン印刷は、白色層形成用組成物（白色樹脂組成物）及び／又は黒色層形成用組成物（黒色樹脂組成物）のスクリーン印刷により、未硬化白色層及び／又は未硬化黒色層を作製する。これに用いる白色層形成用組成物及び／又は黒色層形成用組成物が、成分Ａ～成分Ｄを含む。
　スクリーン印刷の方法としては、特に制限はなく公知の方法を用いることができ、例えば特許第４０２１９２５号公報に記載の方法などを用いることができる。また、スクリーン印刷を複数回行うことにより、スクリーン印刷でも膜厚を厚くすることもできる。

（インクジェット印刷）
　インクジェット印刷は、白色層形成用組成物及び／又は黒色層形成用組成物のインクジェット印刷により、未硬化白色層及び／又は未硬化黒色層を作製する。これに用いる白色層形成用組成物及び／又は黒色層形成用組成物が、成分Ａ～成分Ｄを含む。本発明の加飾材付き基材の製造方法に用いられるインクジェット印刷の方法としては、「インクジェット技術のエレクトロニクス応用（（株）リアライズ理工センター刊、２００６年９月２９日）」などに記載の方法を挙げることができる。

４．基材
　本発明において、基材は、上述した本発明の転写材料を用いて作製された基材であるか、又は、本発明の黒色樹脂組成物及び／又は本発明の白色樹脂組成物を用いて作製された基材であることが好ましい。
　本発明の基材は、加飾用の基材であることが好ましく、加飾材付き基材であることがより好ましい。加飾材として、少なくとも黒色層又は白色層を有していることが好ましく、基板、白色層、及び、黒色層をこの順で有することが好ましく、上記黒色層が、成分Ａ～成分Ｄを含有する黒色樹脂組成物により形成され、かつ、上記白色層が、成分Ａ～成分Ｄを含有する白色樹脂組成物により形成されたことが好ましい。
　白色層を有する加飾材付き基材では、白色層が熱処理等によって変色（着色）することが問題となっていた。本発明において、分散剤として上述した式１で表されるグラフト型シリコーンポリマーや、シリコーン系顔料分散剤を使用する場合には、白色層の変色（着色）が抑制されるのでより好ましい。
　その詳細な作用機序は明確ではないが、以下のように推定される。すなわち、白色層と隣接する黒色層に、黒色顔料の分散剤として、従来の高分子分散剤が使用されている場合、この高分子分散剤の一部が白色層に移動する。加飾材付き基材に熱処理が行われた際に、白色層に移動した高分子分散剤が着色し、その結果、白色層の変色が起こる。一方、黒色層に、黒色顔料の分散剤として上述した式１で表されるグラフト型シリコーンポリマーやシリコーン系顔料分散剤が使用されている場合、分散剤の一部が白色層に移動した場合であっても、着色が抑制され、その結果、白色層の変色が抑制される。従って、白色顔料分散液及び黒色顔料分散液の双方が、顔料分散剤として、上記式１で表されるグラフト型シリコーンポリマー及び／又はシリコーン系顔料分散剤を含有することが好ましく、式１で表されるグラフト型シリコーンンポリマーを含有することがより好ましい。
　以下、基板上に白色層と黒色層とが設けられた基材を、加飾材付き基材ともいう。

　本発明において加飾材付き基材は、基板と、白色層と、黒色層（遮光層）とを有することが好ましい。
　また、本発明において加飾材付き基材は、導電性層を更に有することが好ましい。
　本発明において、加飾材付き基材は、基板、白色層、及び、黒色層をこの順で有し、基板、白色層、黒色層及び導電性層をこの順で有する加飾材付き基材であることが好ましい。
　本発明の加飾材付き基材は、基板、白色層、及び、黒色層をこの順で有し、加飾材付き基材は、厚さ方向に光を透過する透光領域を有し、白色層及び黒色層は、透光領域を囲むように基板上に積層され、加飾材の内縁には、透光領域の内方に向かい加飾材の厚さが薄くなるように形成された傾斜部を有することが好ましい。傾斜部表面と基板表面とのなす傾斜角が１０～６０度であることが好ましい。加飾材に傾斜部を有し、傾斜部表面と基板表面とのなす傾斜角が１０～６０度であることにより、加飾材と、この加飾材が形成されていない基板の箇所との間の膜厚段差が緩やかとなり、黒色層上の導電性層が断線等の問題を起こしにくくなる。
　以下、本発明の加飾材付き基材の好ましい態様について説明する。

　本発明の加飾材付き基材は、加飾材付き基材の光学濃度が、３．５～６．０であることが好ましく、４．０～５．５であることがより好ましく、４．５～５．０であることが特に好ましい。
　本発明の加飾材付き基材は、基材側の色味が、ＳＣＩ指標で、Ｌ^*値が８９以上であることが好ましく、９０以上であることがより好ましく、９１以上であることが特に好ましい。更に本発明の加飾材付き基材は、２８０℃、４０分間の高温処理後の加飾材付き基材の基材側のＬ^*値がＳＣＩ指標で、上記範囲であることが、遮光層の上に導電性層をスパッタにより蒸着した後の色味を改善する観点から好ましい。
　本発明の加飾材付き基材は、基材側の色味が、ＳＣＩ指標で、ｂ^*値が１．０未満であることが好ましく、０．５以下であることがより好ましく、０．０以下であることが特に好ましい。更に、本発明の加飾材付き基材は、２８０℃、４０分間の高温処理後の加飾材付き基材の基材側のｂ^*値がＳＣＩ指標で、上記範囲であることが、遮光層の上に導電性層をスパッタにより蒸着した後の色味を改善する観点から好ましい。

　加飾材の好ましい実施態様は、タッチパネル前面板の非接触側に形成された透光領域（表示領域）周囲の額縁状のパターンであり、引回し配線等が見えないようにする目的や、加飾を目的として形成される。図１～図３に一例を示すように、基材１上に設けられた、加飾材２ａと遮光層２ｂとの積層体である加飾材の内縁には、透光領域の内方に向かい加飾材の厚さが薄くなるように形成された傾斜部２ｃを有することが好ましい。導電性層６は、加飾材上に形成されており、加飾材の傾斜部２ｃに沿って、基板１に延在していることが好ましい。
　傾斜部を設けたことにより、加飾材と、この加飾材が形成されていない基板の箇所との間の膜厚段差が緩やかとなり、導電性層の断線等の問題を起こしにくくなる。
　傾斜部の形成方法については、特に限定されず、黒色層を加熱により収縮させることにより形成する方法、本発明の熱硬化性樹脂組成物からなる層又は本発明の熱硬化性樹脂組成物を乾燥させた層（以下、「未硬化層」ともいう。）を加熱によりメルトさせることにより形成する方法などが挙げられ、黒色層を加熱により収縮させることにより形成する方法が好ましい。遮光部が加熱により収縮することにより、遮光部側の未硬化層も黒色層に追随して収縮する一方、基材側の未硬化層は黒色層に追随しないので、傾斜部を形成することができる。黒色層を加熱により収縮させることにより傾斜部を形成することについては後記する。

　加飾材における傾斜部２ｃの形状については特に制限はなく、例えば、図１及び図３に一例を示すように、盛り上がった突出部を有していたり、図２に一例を示すように、なだらかな曲線でつながる形状を有していたりしていてもよい。また、図１～図３に示したように、傾斜部２ｃは加飾材２ａの厚さが透光領域の内方に向かい薄くなっていればよく、遮光層２ｂも加飾材２ａと共に厚さが透光領域の内方に向かい薄くなっていてもよい。図３に一例を示したように、加飾材は、加飾材２ａが２層以上積層されている態様であってもよい。

　図４に示す傾斜部表面と基材表面とのなす傾斜角θは、１０～６０度であり、１５～５５度がより好ましい。傾斜角θが１０度以上であると、加飾材上に黒色層を有さない箇所が減少し、外観異常、すなわち、光学濃度が低い領域が減少し、表示装置の光漏れや回路の輔が見える場合が少なくなる。一方、傾斜角θが６０度以下であると、導電性層が断線等の問題を引き起こすことが少なくなる。
　傾斜角θは、図１～図４の点線で示すように、傾斜部表面を平面に近似し、この平面と基材表面とのなす傾斜角である。傾斜角θは、基板を切断し、断面方向から光学顕微鏡を用いて基板と傾斜のなす角度を測定することで求めことができる。
　黒色層を加熱により収縮させることで傾斜部を形成する場合、加飾材及び／又は黒色層を構成する樹脂の種類及び／又は組成を変化させることにより、所望の傾斜角を有する傾斜部を形成することができる。

　本発明においては、加飾材の基材側の幅と、黒色層の幅との差が、２００μｍ以下となるように、傾斜角θを設けることが好ましい。このような構成とすることで、外観異常及び導電性層の断線等の問題を解消することができる。
　加飾材の基材側の幅と、遮光層の幅との差（エッジの差）としては、２００μｍ以下が好ましく、５～１００μｍがより好ましく、１０～９０μｍが更に好ましい。
　加飾材の基材側の幅とは、加飾材のうち、基材と接している側の加飾材の幅をいう。

（基板）
　本発明の加飾材付き基材に用いる基板としては、種々のものを用いることができるが、フィルム基板であることが好ましく、光学的に歪みがないものや、透明度が高いものがより好ましい。本発明の加飾材付き基材における基板は、全光透過率が、８０％以上であることが好ましい。

　基板がフィルム基材である場合の具体的な素材には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート（ＰＣ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）を挙げることができる。
　また、基板は、ガラスなどでもよい。
　本発明の加飾材付き基材では、基板は、ガラス、ＴＡＣ、ＰＥＴ、ＰＣ、ＣＯＰ又はシリコーン樹脂（ただし、本明細書中におけるシリコーン樹脂やポリオルガノシロキサンは、Ｒ₂ＳｉＯの構成単位で現れる狭義の意味に限定されるものではなく、ＲＳｉＯ_1.5の構成単位で表されるシルセスキオキサン化合物も含む。）から選ばれることが好ましく、ガラス、シクロオレフィンポリマー又はシリコーン樹脂からなることが好ましい。
　シリコーン樹脂は、籠型ポリオルガノシロキサンを主成分とすることが好ましく、かご型シルセスキオキサンを主成分とすることがより好ましい。なお、組成物又は層の主成分とは、その組成物又はその層の５０質量％以上を占める成分のことをいう。
　シリコーン樹脂を含む基材としては、特許第４１４２３８５号、特許第４４０９３９７号、特許第５０７８２６９号、特許第４９２０５１３号、特許第４９６４７４８号、特許第５０３６０６０号、特開２０１０－９６８４８号、特開２０１１－１９４６４７号、特開２０１２－１８３８１８号、特開２０１２－１８４３７１号、特開２０１２－２１８３２２号の各公報に記載のものを用いることができ、これらの公報に記載の内容は本発明に組み込まれる。

　また、基板表面には、種々の機能を付加してもよい。具体的には、反射防止層、防眩層、位相差層、視野角向上層、保護層、自己修復層、帯電防止層、防汚層、防電磁波層、導電性層を挙げることができる。
　本発明の加飾材付き基材では、基材は、基材表面に導電性層を有することが好ましい。導電性層としては、特表２００９－５０５３５８号公報に記載のものが好ましく挙げられる。
　また、基材は、耐傷層及び防眩層のうち少なくとも１つを更に有することが好ましい。

　本発明の加飾材付き基材における基板の膜厚は、３５～２００μｍであることが好ましく、４０～１５０μｍであることがより好ましく、４０～１００μｍであることが特に好ましい。

　また、転写材料に加飾材を用いる場合、加飾材の密着性を高めるために、予め基板（前面板）の非接触面（黒色層などを形成する側の面）に表面処理を施すことができる。表面処理としては、シラン化合物を用いた表面処理（シランカップリング処理）を実施することが好ましい。シラン化合物を用いた表面処理としては、例えば、シランカップリング液（Ｎ－β（アミノエチル）γ－アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄する。この後、加熱により反応させる。加熱槽を用いてもよく、ラミネーターの基材予備加熱でも反応を促進できる。

（黒色層）
　本発明の加飾材付き基材は、本発明の黒色顔料分散液を用いて調製された黒色樹脂組成物を用いて形成された黒色層を含むことが好ましい。また、白色層に対して基材とは反対側の面上に黒色層を含むことが好ましい。黒色層は、白色層と隣接して設けられることが好ましいが、白色層と黒色層との間に、接着層等が設けられていてもよい。
　黒色層を形成するための組成物を、黒色層形成用組成物ともいう。

　黒色層は、少なくとも上述した成分Ａ～成分Ｃを含有することが好ましい。黒色層形成用組成物は、成分Ａ～成分Ｄを含有することが好ましい。黒色層形成用組成物は、成分Ａ～成分Ｄに加えて、樹脂を含有することが好ましく、上記樹脂として、シリコーン樹脂を含有することがより好ましい。
　黒色層形成用組成物としては、上述した本発明の黒色樹脂組成物が好適に使用される。

（白色層）
　本発明の加飾材付き基材は、基材と黒色層との間に、白色層を有することが好ましい。
　白色層は、白色顔料を含有し、本発明の白色顔料分散液を用いて調製された白色樹脂組成物を用いて形成された白色層を含むことが好ましい。

　白色層は、少なくとも上述した成分Ａ～成分Ｃを含有することが好ましい。白色層形成用組成物は、成分Ａ～成分Ｄを含有することが好ましい。白色層形成用組成物は、成分Ａ～成分Ｄに加えて、樹脂を含有することが好ましく、上記樹脂として、シリコーン樹脂を含有することがより好ましい。
　白色層形成用組成物としては、上述した本発明の白色樹脂組成物が好適に使用される。

（導電性層）
　本発明の加飾材付き基材は、黒色層上に、導電性層を更に有することが好ましい。
　導電性層としては、特表２００９－５０５３５８号公報に記載のものを好ましく用いることができる。また、導電性層の構成や形状については、後述の本発明のタッチパネルの説明中における第一の透明電極パターン、第二の電極パターン、他の導電性要素の説明に記載する。
　本発明の加飾材付き基材は、導電性層が、インジウム（酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）やインジウム合金など、インジウム含有化合物を含む。）を含むことが好ましい。
　本発明の加飾材付き基材は、本発明の加飾材のクラック耐性が高いため、導電性層をスパッタにより蒸着してなる場合でも加飾材の膜物性を改善することができ、また、加飾材が白色加飾材である場合、加飾材のｂ^*値を小さくすることができる。

（加飾材付き基材の製造方法）
　本発明の加飾材付き基材の製造方法としては、特に制限はないが、白色層形成用組成物からなる層及び黒色層形成用組成物からなる層、又は、白色層形成用組成物を乾燥させた層（未硬化白色層）及び遮光層形成用組成物を乾燥させた層（未硬化黒色層）を、フィルム転写、熱転写印刷、スクリーン印刷及びインクジェット印刷よりなる群から選ばれた方法で作製することが好ましく、フィルム転写により作製することがより好ましい。
　具体的には、加飾材付き基材の製造方法は、基板上に未硬化白色層及び未硬化黒色層をこの順で積層する工程を含む。未硬化白色層及び未硬化黒色層それぞれは、例えば、以下の方法で作製されることが好ましい。仮支持体上に少なくとも未硬化白色層及び未硬化遮黒色層の一方を含むフィルム転写材料から少なくとも未硬化白色層及び未硬化黒色層の一方を転写した後に仮支持体を取り除く方法で作製する。あるいは、仮支持体上に少なくとも未硬化白色層及び未硬化黒色層の一方を含む熱転写材料の仮支持体側を加熱して、仮支持体から少なくとも未硬化白色層及び未硬化黒色層の一方を転写する熱転写印刷、白色層形成用組成物又は黒色層形成用組成物のスクリーン印刷、及び、白色層形成用組成物又は黒色層形成用組成物のインクジェット印刷よりなる群から選ばれた方法で作製する。また、加飾材は、基板上において透光領域を囲むよう額縁上の形状を有するようにし、加飾材の内縁には、透光領域の内方に向かい加飾材の厚さが薄くなるよう傾斜部を形成する工程を含むことが好ましい。

　未硬化白色層及び未硬化黒色層は、フィルム転写、熱転写印刷、スクリーン印刷及びインクジェット印刷のうちの複数を組み合わせて形成してもよい。
　更に、加飾材付き基材の製造方法は、未硬化白色層及び未硬化黒色層を、少なくとも仮支持体、未硬化黒色層及び未硬化白色層の順に含むフィルム転写材料から未硬化黒色層及び未硬化白色層を、基材上に転写した後に仮支持体を取り除くこと、あるいは、仮支持体及び未硬化白色層を有するフィルム転写材料から未硬化白色層を基材上に転写した後に仮支持体を取り除き、更に少なくとも仮支持体及び未硬化黒色層を含むフィルム転写材料から未硬化黒色層を未硬化白色層上に転写した後に仮支持体を取り除くことにより形成することが好ましい。

５．タッチパネル
　本発明のタッチパネルは、本発明の基材（加飾材付き基材）を有する。
　このようなタッチパネルは、静電容量型入力装置であることが好ましい。

（静電容量型入力装置、及び、静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置）
　静電容量型入力装置は、前面板（基板ともいう。）と、前面板の非接触側に少なくとも下記（１）～（４）の要素を有し、前面板（基板）と（１）加飾材の積層体として本発明の加飾材付き基材を含むことが好ましい。
（１）加飾材
（２）複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン
（３）第一の透明電極パターンと電気的に絶縁され、第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の電極パターン
（４）第一の透明電極パターンと第二の電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層
　また、静電容量型入力装置は、第二の電極パターンが透明電極パターンであってもよい。
　更に、静電容量型入力装置は、下記（５）を更に有していてもよい。
（５）第一の透明電極パターン及び第二の透明電極パターンの少なくとも一方に電気的に接続され、第一の透明電極パターン及び第二の透明電極パターンとは別の導電性要素
　更に、静電容量型入力装置は、前面板（基板）と（１）加飾材と、導電性層として上述の（２）、（３）及び（５）のうち少なくとも１つの電極パターンを有する積層体として、本発明の加飾材付き基材を含むことがより好ましい。
　（１）加飾材は、遮光層を更に有していることが好ましい。

（静電容量型入力装置の構成）
　まず、本発明の製造方法によって形成される静電容量型入力装置の構成について説明する。
　図５及び図６は、本発明の静電容量型入力装置の中でも好ましい構成を示す断面図である。
　図５において静電容量型入力装置１０は、前面板１Ｇ（カバーガラス）と、加飾材２ａと、遮光層２ｂと、第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、絶縁層５と、導電性要素６と、透明保護層７と、から構成されている。加飾材２ａには傾斜部２ｃが設けられており、加飾材２ａは、静電容量型入力装置１０の内方に向かい厚みが薄くなるように形成されている。

　前面板１及び／又は１Ｇは、透光性基材で構成されていることが好ましい。透光性基材はカバーガラス１Ｇに下記加飾材を設けたもの、又は、カバーガラス１Ｇ、フィルム基材１の順にフィルム基材に下記加飾材を設けたもの、いずれをも用いることができる。
　カバーガラスに加飾材を設ける場合は、タッチパネル薄型化に、フィルム基材に加飾材を設け、それをカバーガラスに張り合わせる場合は、タッチパネル生産性に、各々好ましい。
　また、フィルム基材の電極の反対側に、更にカバーガラス１Ｇを設けることができる。
　ガラス基材としては、コーニング社のゴリラガラスに代表される強化ガラスなどを用いることができる。
　また、図５及び図６において、前面板１及び／又は１Ｇの各要素が設けられている側を非接触面１ａと称する。本発明の静電容量型入力装置１０においては、前面板１及び／又は１Ｇの接触面（１ａ非接触面の反対の面）に指などを接触などさせて入力が行われる。以下、前面板を、「基材」と称する場合がある。

　また、前面板１及び／又は１Ｇの非接触面上には加飾材２ａと遮光層２ｂとが設けられている。加飾材２ａと遮光層２ｂとは加飾材として、タッチパネル前面板の非接触側に形成された透光領域（表示領域）周囲の額縁状のパターンであり、引回し配線等が見えないようにする目的や、加飾を目的として形成される。
　本発明の静電容量型入力装置１０には、不図示の配線取出し口を設けることができる。配線取出し部を有する静電容量型入力装置の加飾材付き基材を形成する場合、加飾材形成用液体レジストやスクリーン印刷インクを用いて加飾材２ａを形成してもよいが、基材裏側の汚染を容易に防ぐ観点から、配線取出し部を有する加飾材付き基材を用いることが好ましい。

　前面板１及び／又は１Ｇの非接触面には、複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン３と、第一の透明電極パターン３と電気的に絶縁され、第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の透明電極パターン４と、第一の透明電極パターン３と第二の透明電極パターン４を電気的に絶縁する絶縁層５とが形成されている。第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、後述する導電性要素６とは、例えば、ＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ）やＩＺＯ（ＩｎｄｉｕｍＺｉｎｃＯｘｉｄｅ）などの透光性の導電性金属酸化膜で作製することができる。このような金属膜としては、ＩＴＯ膜；Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ等の金属膜；ＳｉＯ₂等の金属酸化膜などが挙げられる。この際、各要素の、膜厚は１０～２００ｎｍとすることができる。また、焼成により、アモルファスのＩＴＯ膜を多結晶のＩＴＯ膜とするため、電気的抵抗を低減することもできる。また、第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、後述する導電性要素６とは、上述の導電性繊維を用いた加飾材を有する転写フィルムを用いて製造することもできる。その他、ＩＴＯ等によって第一の導電性パターン等を形成する場合には、特許第４５０６７８５号公報の段落００１４～００１６等を参考にすることができる。

　また、第一の透明電極パターン３及び第二の透明電極パターン４の少なくとも一方は、前面板１及び／又は１Ｇの非接触面及び遮光層２ｂの前面板１及び／又は１Ｇとは逆側の面の両方の領域にまたがって設置することができる。図５及び図６においては、第二の透明電極パターン４が、前面板１及び／又は１Ｇの非接触面及び遮光層２ｂの前面板１及び／又は１Ｇとは逆側の面の両方の領域にまたがって設置され、加飾材２ａの側面を第二の透明電極パターン４が覆っている図が示されている。ただし、加飾材２ａの幅を、遮光層２ｂの幅よりも狭くすることもでき、その場合は第一の透明電極パターン３及び第二の透明電極パターン４の少なくとも一方は、前面板１及び／又は１Ｇの非接触面、加飾材２ａ及び遮光層２ｂの前面板１及び／又は１Ｇとは逆側の面の領域にまたがって設置することができる。このように、一定の厚みが必要な加飾材２ａ及び遮光層２ｂを含む加飾材と前面板裏面とにまたがって転写フィルムをラミネートする場合でも、フィルム転写材料（特に熱可塑性樹脂層を有するフィルム転写材料）を用いることで真空ラミネーターなどの高価な設備を用いなくても、簡単な工程で加飾材２ａの部分境界に泡の発生がないラミネートが可能になる。

　図８を用いて第一の透明電極パターン３及び第二の透明電極パターン４について説明する。
　図８は、本発明における第一の透明電極パターン及び第二の透明電極パターンの一例を示す説明図である。
　図８に示すように、第一の透明電極パターン３は、パッド部分３ａが接続部分３ｂを介して第一の方向に延在して形成されている。また、第二の透明電極パターン４は、第一の透明電極パターン３と絶縁層５によって電気的に絶縁されており、第一の方向に交差する方向（図８における第二の方向）に延在して形成された複数のパッド部分によって構成されている。ここで、第一の透明電極パターン３を形成する場合、パッド部分３ａと接続部分３ｂとを一体として作製してもよいし、接続部分３ｂのみを作製して、パッド部分３ａと第二の透明電極パターン４とを一体として作製（パターニング）してもよい。パッド部分３ａと第二の透明電極パターン４とを一体として作製（パターニング）する場合、図８に示すように接続部分３ｂの一部とパッド部分３ａの一部とが連結され、かつ、絶縁層５によって第一の透明電極パターン３と第二の透明電極パターン４とが電気的に絶縁されるように各層が形成される。

　図５及び図６において、遮光層２ｂの前面板１及び／又は１Ｇとは逆側の面側には導電性要素６が設置されている。導電性要素６は、第一の透明電極パターン３及び第二の透明電極パターン４の少なくとも一方に電気的に接続され、かつ、第一の透明電極パターン３及び第二の透明電極パターン４とは別の要素である。図５及び図６においては、導電性要素６が第二の透明電極パターン４に接続されている図が示されている。

　また、図５及び図６においては、各構成要素の全てを覆うように透明保護層７が設置されている。透明保護層７は、各構成要素の一部のみを覆うように構成されていてもよい。絶縁層５と透明保護層７とは、同一材料であってもよいし、異なる材料であってもよい。絶縁層５と透明保護層７とを構成する材料としては、表面硬度、耐熱性が高いものが好ましく、公知の感光性シロキサン樹脂材料、アクリル樹脂材料などが用いられる。

　本発明の製造方法の過程で形成される態様例として、図９～１３の態様を挙げることができる。
　図９は、開口部８が形成された強化処理ガラス１１の一例を示す上面図である。図１０は、加飾材２ａが形成された前面板の一例を示す上面図である。図１１は、第一の透明電極パターン３が形成された前面板の一例を示す上面図である。図１２は、第二の透明電極パターン４が形成された前面板の一例を示す上面図である。図１３は、第一及び第二の透明電極パターンとは別の導電性要素６が形成された前面板の一例を示す上面図である。これらは、上記説明を具体化した例を示すものであり、本発明の範囲はこれらの図面により限定的に解釈されることはない。

　静電容量型入力装置、及び、この静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置は、『最新タッチパネル技術』（２００９年７月６日発行、（株）テクノタイムズ社）、三谷雄二監修、“タッチパネルの技術と開発”、シーエムシー出版（２００４．１２）、ＦＰＤＩｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ２００９ＦｏｒｕｍＴ－１１講演テキストブック、ＣｙｐｒｅｓｓＳｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎアプリケーションノートＡＮ２２９２等に開示されている構成を適用することができる。

６．情報表示装置
　本発明の情報表示装置は、本発明のタッチパネルを有する。本発明のタッチパネルは、ＯＧＳ型タッチパネルとして用いることが有効である。
　本発明のタッチパネルを使用することができる情報表示装置としては、モバイル機器が好ましく、例えば、以下の情報表示装置を挙げることができる。
　ｉＰｈｏｎｅ４（登録商標）、ｉＰａｄ（登録商標）（以上、米国アップル社製）、Ｘｐｅｒｉａ（ＳＯ－０１Ｂ）（ソニー・エリクソン・モバイルコミュニケーション（株）製）、ＧａｌａｘｙＳ（ＳＣ－０２Ｂ）、ＧａｌａｘｙＴａｂ（ＳＣ－０１Ｃ）（以上、韓国サムスン電子社製）、ＢｌａｃｋＢｅｒｒｙ８７０７ｈ（加国リサーチ・イン・モーション社製）、Ｋｉｎｄｌｅ（米国アマゾン社製）、ＫｏｂｏＴｏｕｃｈ（楽天（株）製）。

　以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。

（顔料分散剤Ｓ１～Ｓ３の作製）
＜顔料分散剤Ｓ１の合成＞
　キシレン１００部にＫＦ－２００１（信越化学工業（株）製）　４５．８部、ＫＦ－２０１２（信越化学工業（株）製）　５３．３部、メタクリル酸　０．９部を溶解すると共に、重合開始剤（Ｖ－６０１：ジメチル－２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）、（和光純薬工業（株）製））を全重合成分に対する比率で０．３ｍｏｌ％溶解させ、窒素雰囲気下、８０℃で重合を行った。途中、重合開始２時間後に重合開始剤（Ｖ－６０１）を全重合成分に対する比率で０．３ｍｏｌ％追添し、合計４時間重合した。重合後、精製処理及び乾燥を行い、顔料分散剤Ｓ１（重量平均分子量３６，０００、数平均分子量２２，０００）を得た。

＜顔料分散剤Ｓ２、Ｓ３の合成＞
　キシレン１００部にＫＦ－２００１　６１．４部、Ｘ－２２－１７４ＢＸ（信越化学工業（株）製）　３７．２部、メタクリル酸　１．４部を溶解すると共に、重合開始剤（Ｖ－６０１）を全重合成分に対する比率で０．３ｍｏｌ％溶解させ、窒素雰囲気下、８０℃で重合を行った。途中、重合開始２時間後に重合開始剤（Ｖ－６０１）を全重合成分に対する比率で０．３ｍｏｌ％追添し、合計４時間重合した。重合後、精製処理及び乾燥を行い、顔料分散剤Ｓ２（重量平均分子量３９，０００、数平均分子量２４、０００）を得た。
　また、ＫＦ－２００１　５７．３部、Ｘ－２２－１７４ＢＸ　４１．６部、メタクリル酸　１．０部に変えた以外、顔料分散剤Ｓ２と同様に合成することにより、顔料分散剤Ｓ３（重量平均分子量３７，０００、数平均分子量２５，０００）を得た。

　なお、ＫＦ－２００１は、以下の式で表される構造（Ｒ^Aは任意の連結基を表し、ａ１及びａ２は自然数を表す。）であり、官能基当量１，９００（ｇ／ｍｏｌ）である。

　また、ＫＦ－２０１２及びＸ－２２－１７４ＢＸは、それぞれ以下の式で表される構造（Ｒは任意の置換基又は連結基を表し、ｎは自然数を表す。）であり、ＫＦ－２０１２は官能基当量４，６００（ｇ／ｍｏｌ）、Ｘ－２２－１７４ＢＸは官能基当量２，３００（ｇ／ｍｏｌ）である。

＜顔料分散剤の分子量＞
　顔料分散剤Ｓ１～Ｓ３の重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、ＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー：Ｇｅｌ　Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ　Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ）を用いて測定した。ＧＰＣに用いたカラム等の詳細を以下に示す。
　・カラム：ＧＰＣカラム　ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒ　ＨＺＭ－Ｈ（東ソー（株）製）
　・溶媒：テトラヒドロフラン
　・標準物質：単分散ポリスチレン

（実施例１～１８及び比較例１～７）
＜顔料分散液（黒色分散液）の作製＞
　顔料分散剤Ｓ１（固形分５０質量％）とカーボンブラック（カーボンともいう；三菱化学（株）製、平均粒径：１８ｎｍ）とを表２に記載の割合でキシレンと混合し、直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを用いてビーズミルで３時間分散した。更に、Ｘ－２２－４０３９（信越化学工業（株）製）を加え、１０分間追加分散することにより、実施例１の黒色顔料分散液１（黒色分散液１）を得た。
　また、表２に記載の割合で原料を添加し、実施例１と同様に分散を行うことにより、実施例２～１７、及び、比較例１～７の黒色顔料分散液１～１７、１９～２５（黒色分散液１～１７、１９～２５）を得た。
　カーボンブラックのかわりに、チタンブラック（三菱マテリアル電子化成（株）製、平均粒径８０～１００ｎｍ）を用いた以外は実施例１と同様に分散を実施することにより、実施例１８の黒色顔料分散液１８（黒色分散液１８）を得た。
　なお、表２中の各成分の添加量は、有効成分の黒色顔料分散液に対する質量％で示している。また、表中の「－」の記載は、該当する成分を含有していないことを意味する。

＜顔料分散液の粘度（分散性）の評価＞
〔粘度〕
　得られた各実施例及び比較例の顔料分散液の初期粘度、及び、４０℃１週間経時後の粘度を、コーンプレート型粘度計（東機産業（株）製、型番ＲＥ－８５Ｌ）を用いて、２５℃の環境下で粘度を測定した。
　得られた顔料分散液の初期粘度を、下記表２に記載した。

〔経時粘度安定性〕
　経時粘度変化率を下記式を用いて算出し、経時粘度安定性を評価した。経時粘度変化（％）を、下記表２に記載した。
経時粘度変化率（％）＝［（４０℃１週間経時後の粘度）／（初期粘度）］×１００
　経時粘度変化としては、２００％以下が好ましく、１５０％以下がより好ましく、１１０％以下が更に好ましい。

（実施例１０１～１１８及び比較例１０１～１０６）
＜黒加飾材作製用転写材料の作製＞
　本発明で得られた黒色分散液を、黒加飾材に適用した。
〔黒色樹脂組成物（黒色層形成用組成物）の調製〕
　下記表３記載の黒色樹脂組成物（黒色層形成用組成物）１～２４を、以下の材料を用いて調製した。表３中の数値は添加したそれぞれの質量部を示す。

　表２及び表３で使用した材料等は、以下の通りである。
　・Ｓ４（ＫＰ－５４１、信越化学工業（株）製、アクリルシリコーン）
　・Ｓ５（ＫＰ－５７８、信越化学工業（株）製、アクリルシリコーン）
　・Ｓ６（ＥＦＫＡ　４０１０、ＢＡＳＦ社製、ウレタン系高分子分散剤）
　・Ｓ７（ＥＦＫＡ　４３００、ＢＡＳＦ社製、アクリル系高分子分散剤）

　・Ｘ－２２－４０３９（側鎖型カルビノール変性シリコーンオイル、信越化学工業（株）製）
　・Ｘ－２２－４０１５（側鎖型カルビノール変性シリコーンオイル、信越化学工業（株）製）
　・ＫＦ－６００１（両末端型カルビノール変性シリコーンオイル、信越化学工業（株）製）
　・Ｘ－２２－１７０ＤＸ（片末端型カルビノール変性シリコーンオイル、信越化学工業（株）製）
　・Ｘ－２２－３７０１Ｅ（側鎖型カルボキシ変性シリコーンオイル、信越化学工業（株）製）
　・Ｘ－２１－５８４１（両末端型シラノール変性シリコーンオイル、信越化学工業（株）製）
　・ＫＦ－２００１（側鎖型メルカプト変性シリコーンオイル、信越化学工業（株）製）
　・ＫＦ－８６４（側鎖型モノアミン変性シリコーンオイル、信越化学工業（株）製）

　・重合触媒２（Ｄ－１５、信越化学工業（株）製、亜鉛含有触媒のキシレン溶液（固形分２５質量％））
　・塗布助剤（メガファックＦ－７８０Ｆ、ＤＩＣ（株）製、界面活性剤のメチルエチルケトン溶液（不揮発分３０質量％））
　・シリコーン樹脂１（ＫＲ３００、信越シリコーン（株）製、下記組成）
　　シリコーン樹脂のキシレン溶液（固形分５０質量％）
　・シリコーン樹脂２（ＫＲ３１１、信越シリコーン（株）製、下記組成）
　　シリコーン樹脂のキシレン溶液（固形分６０質量％）

＜加飾材形成用転写材料の作製＞
〔剥離フィルムの準備〕
　転写材料の剥離層付きの仮支持体として、以下の剥離フィルムを準備した。
　・ユニピール　ＴＲ６（ユニチカ（株）製、厚さ７５μｍのＰＥＴフィルム上にオレフィン系の剥離層を有し、この剥離層からマット剤が２００ｎｍ隆起している。）

〔保護フィルムの準備〕
　次に、以下の保護フィルムを準備した。
　・アルファンＥ－５０１（王子エフテックス（株）製、厚さ１２μｍのポリプロピレンフィルム）

〔仮支持体上への色材層（黒色層からなる転写層）の作製〕
　エクストルージョン型塗布機を使用し、剥離層付きの仮支持体の剥離層上に、黒色層（遮光層）を形成するための黒色樹脂組成物１～２４（黒色層形成用組成物１～２４）を乾燥厚み３．０μｍとなるように塗布し、乾燥させた。この黒色層の上に、上記の保護フィルムを圧着した。
　こうして仮支持体と、黒色層とが一体となった下記表４に記載の転写材料１～２４を作製した。得られた転写材料１～２４を、それぞれ実施例１０１～１１８、及び、比較例１０１～１０６の加飾材形成用の転写材料とした。

（実施例１１９～１２３）
＜白加飾材作製用転写材料の作製＞
　黒色分散液を、白加飾材の黒色層（遮光層）に適用する。
〔白色樹脂組成物（白色層形成用組成物））の調製〕
　下記表５記載の白色樹脂組成物１～３を、以下の材料を用いて調製した。表５中の数値は質量部を示す。

　表５で使用した材料等は、以下の通りである。
　・白色顔料分散液１
　以下の材料を混合した。
　酸化チタン（ＣＲ－９７、石原産業（株）製）　　　　　６０．０ｇ
　分散剤Ｓ１（合成法既記載）　　　　　　　　　　　　　　６．０ｇ
　キシレン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３４．０ｇ
　混合物に対しジルコニアビーズ（粒径０．５ｍｍ）を加え、ビーズミル（アイメックス（株）製、ＢＳＧ－０１）を用いて、２，０００ｒｐｍ、１時間分散処理を行い，白色顔料分散液１を得た（初期粘度：２０ｍＰａ・ｓ、経時粘度（４０℃７日後）：２７ｍＰａ・ｓ）。

　・白色顔料分散液２
　以下の材料を混合した。
　酸化チタン（ＣＲ－９７、石原産業（株）製）　　　　　６０．０ｇ
　分散剤Ｓ１（合成法既記載）　　　　　　　　　　　　　　６．０ｇ
　Ｘ－２２－４０３９（信越化学工業（株）製）　　　　　　３．０ｇ
　キシレン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３１．０ｇ
　混合物に対しジルコニアビーズ（粒径０．５ｍｍ）を加え、ビーズミル（アイメックス（株）製、ＢＳＧ－０１）を用いて、２，０００ｒｐｍ、１時間分散処理を行い，白色顔料分散液２を得た（初期粘度　２２ｍＰａ・ｓ、経時粘度（４０℃７日後）２１ｍＰａ・ｓ）。

　・シリコーン樹脂（ＫＲ－２５１、信越シリコーン（株）製、（固形分２０質量％））
　・シリコーンオリゴマー（Ｘ－４０－９２４６、信越シリコーン（株）製、シリコーンオリゴマー（１００質量％））
　・重合触媒１（テトラキス（アセチルアセトナト）ジルコニウム（ＩＶ））
　・酸化防止剤（ＩＲＧＡＦＯＳ　１６８、ＢＡＳＦ社製、下記化合物）

　・塗布助剤（メガファックＦ－７８０Ｆ、ＤＩＣ（株）製、界面活性剤のメチルエチルケトン溶液（不揮発分３０質量％））

〔仮支持体上への色材層（黒色層及び白色層からなる転写層）の作製〕
　エクストルージョン型塗布機を使用し、剥離層付きの仮支持体の剥離層上に、黒色層（遮光層）を形成するための黒色樹脂組成物（黒色層形成用組成物）１又は２を乾燥厚み３．０μｍとなるように塗布し、乾燥させた。このようにして黒色層を形成した。
　黒色層の上に、白色層を形成するための白色樹脂組成物（白色層形成用組成物）１～３のいずれかを乾燥厚み４０．０μｍとなるように塗布し、乾燥させた。白色層の上に、上記の保護フィルムを圧着した。
　こうして仮支持体と、黒色層（遮光層）及び白色層とが一体となった、黒色層（遮光層）及び白色層からなる下記表６に記載の転写材料２５～２９を作製した。

（加飾材付き基材の作製（実施例２０１））
　図７のような開口部（１５ｍｍΦ）が形成された強化処理ガラス（３００ｍｍ×４００ｍｍ×０．７ｍｍ）を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄した。このガラス基板を基材予備加熱装置で９０℃、２分間予備加熱した。
　上記のガラス基板上に、転写材料１０１をガラス基板の四辺に対応するサイズの額縁状に成形した後で転写した。その後、転写材料１０１の仮支持体を剥離した。黒色層を硬化するため、得た膜をガラス基板（基材）ごと、１５０℃３０分加熱、更に、２４０℃３０分の順で熱処理を行った。これにより、黒色層を加熱して形成されてなる黒色加飾材を有する、実施例２０１の黒色加飾材付き基材を得た。

（加飾材付き基材の作製（実施例２０２～２２３））
　実施例２０１において、用いた転写材料を上記表７に記載のとおりに変更した以外は実施例１０１と同様に、ガラス基板上に黒色層が形成された実施例２０２～２１８の黒色加飾材付き基材、及び、実施例２１９～２２３の白色加飾材付き基材を得た。

＜加飾材の光学濃度（ＯＤ）の評価＞
　作製した各実施例及び比較例の転写層付き基材の、転写層（遮光層と白色層）と被転写基材の積層体の光学濃度を、サカタインクス（株）製　ＢＭＴ－１を用いて測定した。評価した結果を表２に示した。

＜評価＞
　上記で得た各実施例の黒色又は白色加飾材付き基材の外観を官能評価した。
　作製した、実施例２０１～２２３の黒色又は白色加飾材付き基材は、ＯＤが高く、また凝集等の異常が見られないことから、前面板一体型タッチパネル用の加飾材として好ましいものであった。

（実施例３０１：タッチパネルの作製）
＜第一の透明電極パターンの形成＞
〔透明電極層の形成〕
　実施例２０１の黒加飾材付き基材を、真空チャンバー内に導入し、ＳｎＯ₂含有率が１０質量％のＩＴＯターゲット（インジウム：錫＝９５：５（モル比））を用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング（条件：基材の温度２５０℃、アルゴン圧０．１３Ｐａ、酸素圧０．０１Ｐａ）により、厚さ４０ｎｍのＩＴＯ薄膜を形成し、透明電極層を形成した前面板を得た。ＩＴＯ薄膜の表面抵抗は８０Ω／□であった。

〔第一の透明電極パターンの形成〕
　白色加飾材、黒色層（遮光層）、透明電極層を形成した前面板を洗浄し、保護フィルムを除去したエッチング用転写フィルムＥ１をラミネートした（基材温度：１３０℃、ゴムローラー温度１２０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分）。仮支持体を剥離後、露光マスク（透明電極パターンを有する石英露光マスク）面と前述のエッチング用光硬化性樹脂層との間の距離を２００μｍに設定し、露光量５０ｍＪ／ｃｍ²（ｉ線）でパターン露光した。

≪エッチング用転写フィルムＥ１の調製≫
　以下の方法で仮支持体上に熱可塑性樹脂層と中間層を形成した。
　厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。次に、下記処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させた。

－熱可塑性樹脂層用塗布液：処方Ｈ１－
　・メタノール：１１．１質量部
　・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート：６．３６質量部
　・メチルエチルケトン：５２．４質量部
　・メチルメタクリレート／２－エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８、重量平均分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）：５．８３質量部
　・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）：１３．６質量部
　・モノマー（商品名：ＢＰＥ－５００、新中村化学工業（株）製）：９．１質量部
　・塗布助剤（メガファックＦ－７８０Ｆ、ＤＩＣ（株）製）：０．５４質量部

　なお、熱可塑性樹脂層用塗布液Ｈ１の溶媒除去後の１２０℃の粘度は１，５００Ｐａ・ｓｅｃであった。
　次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ－ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を２５℃で１００秒間、界面活性剤含有洗浄液（商品名：Ｔ－ＳＤ３（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で２０秒間処理し、回転ブラシ、超高圧洗浄ノズルで熱可塑性樹脂層と中間層の残渣除去を行い、更に１３０℃、３０分間のポストベーク処理を行って、白色層、黒色層、透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成した前面板を得た。

　白色層、黒色層、透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成した前面板を、ＩＴＯエッチャント（塩酸、塩化カリウム水溶液。液温３０℃）を入れたエッチング槽に浸漬し、１００秒処理し、エッチング用光硬化性樹脂層で覆われていない露出した領域の透明電極層を溶解除去し、白色層、黒色層、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極層パターン付の前面板を得た。
　次に、エッチング用光硬化性樹脂層パターンの付いた透明電極層パターン付の前面板を、レジスト剥離液（Ｎ－メチル－２－ピロリドン、モノエタノールアミン、界面活性剤（商品名：サーフィノール４６５、エアープロダクツ製）液温４５℃）を入れたレジスト剥離槽に浸漬し、２００秒処理し、エッチング用光硬化性樹脂層を除去し、白色層と、遮光層と、前述の前面板の非接触面及び前述の遮光層の前述の前面板とは逆側の面の両方の領域にまたがって図５のように設置された第一の透明電極パターンとを形成した前面板を得た。

〔絶縁層の形成〕
≪絶縁層形成用転写フィルムＷ１の調製≫
　エッチング用転写フィルムＥ１作製において、前述のエッチングレジストＥ１を、下記処方Ｗ１からなる絶縁層形成用塗布液に代えた以外はエッチング用転写フィルムＥ１の調製と同様にして、仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層（酸素遮断膜）、絶縁層用光硬化性樹脂層及び保護フィルムとが一体となった、絶縁層形成用転写フィルムＷ１を得た（絶縁層用光硬化性樹脂層の膜厚は１．４μｍ）。

－絶縁層形成用塗布液：処方Ｗ１－
　・バインダー３（シクロヘキシルメタクリレート（ａ）／メチルメタクリレート（ｂ）／メタクリル酸共重合体（ｃ）のグリシジルメタクリレート付加物（ｄ）（組成（質量％）：ａ／ｂ／ｃ／ｄ＝４６／１／１０／４３、重量平均分子量：３６，０００、酸価６６ｍｇＫＯＨ／ｇ）の１－メトキシ－２－プロパノール、メチルエチルケトン溶液（固形分：４５％））：１２．５質量部
　・ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬（株）製）のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（不揮発分７６質量％）：１．４質量部
　・ウレタン系モノマー（商品名：ＮＫオリゴＵＡ－３２Ｐ、新中村化学（株）製、不揮発分７５質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２５質量％）：０．６８質量部
　・トリペンタエリスリトールオクタアクリレート（商品名：Ｖ＃８０２、大阪有機化学工業（株）製）：１．８質量部
　・ジエチルチオキサントン：０．１７質量部
　・２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン（商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ３７９、ＢＡＳＦ製）：０．１７質量部
　・分散剤（商品名：ソルスパース２００００、アビシア製）：０．１９質量部
　・界面活性剤（商品名：メガファックＦ－７８０Ｆ、ＤＩＣ（株）製）：０．０５質量部
　・メチルエチルケトン：２３．３質量部
　・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート：５９．８質量部
　なお、絶縁層形成用塗布液Ｗ１の溶媒除去後の１００℃の粘度は４，０００Ｐａ・ｓｅｃであった。

　前述の白色加飾材、遮光層、第一の透明電極パターン付の前面板を洗浄し、保護フィルムを除去した絶縁層形成用転写フィルムＷ１をラミネートした（基材温度：１００℃、ゴムローラー温度１２０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．３ｍ／分）。仮支持体を剥離後、露光マスク（絶縁層用パターンを有す石英露光マスク）面と前述のエッチング用光硬化性樹脂層との間の距離を１００μｍに設定し、露光量３０ｍＪ／ｃｍ²（ｉ線）でパターン露光した。
　次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ－ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を３３℃で６０秒間、炭酸ナトリウム／炭酸水素ナトリウム系現像液（商品名：Ｔ－ＣＤ１（富士フイルム（株）製）を純水で５倍に希釈した液）を２５℃で５０秒間、界面活性剤含有洗浄液（商品名：Ｔ－ＳＤ３（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で２０秒間処理し、回転ブラシ、超高圧洗浄ノズルで残渣除去を行い、更に２３０℃、６０分間のポストベーク処理を行って、白色加飾材、遮光層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターンを形成した前面板を得た。

〔第二の透明電極パターンの形成〕
≪透明電極層の形成≫
　第一の透明電極パターンの形成と同様にして、白色加飾材、遮光層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターンを形成した前面板をＤＣマグネトロンスパッタリング処理し（条件：基材の温度５０℃、アルゴン圧０．１３Ｐａ、酸素圧０．０１Ｐａ）、厚さ８０ｎｍのＩＴＯ薄膜を形成し、白色加飾材、遮光層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、透明電極層を形成した前面板を得た。ＩＴＯ薄膜の表面抵抗は１１０Ω／□であった。

　第一の透明電極パターンの形成と同様にして、エッチング用転写フィルムＥ１を用いて、白色加飾材、遮光層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、透明電極層、エッチング用光硬化性樹脂層パターンを形成した前面板を得た（ポストベーク処理；１３０℃、３０分間）。
　更に、第一の透明電極パターンの形成と同様にして、エッチング（３０℃、５０秒間）して、エッチング用光硬化性樹脂層を除去（４５℃、２００秒間）することにより、白色加飾材、遮光層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、前述の前面板の非接触面及び前述の遮光層の前述の前面板とは逆側の面の両方の領域にまたがって図５のように設置された第二の透明電極パターンを形成した前面板を得た。

〔第一及び第二の透明電極パターンとは別の導電性要素の形成〕
　第一、及び、第二の透明電極パターンの形成と同様にして、白色加飾材、遮光層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターンを形成した前面板をＤＣマグネトロンスパッタリング処理し、厚さ２００ｎｍのアルミニウム（Ａｌ）薄膜を形成した前面板を得た。

　第一、及び、第二の透明電極パターンの形成と同様にして、エッチング用転写フィルムＥ１を用いて、白色加飾材、遮光層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、アルミニウム薄膜、エッチング用光硬化性樹脂層パターンを形成した前面板を得た（ポストベーク処理；１３０℃、３０分間）。
　更に、第一の透明電極パターンの形成と同様にして、エッチング（３０℃、５０秒間）して、エッチング用光硬化性樹脂層を除去（４５℃、２００秒間）することにより、白色加飾材、遮光層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、第一及び第二の透明電極パターンとは別の導電性要素を形成した前面板を得た。

〔透明保護層の形成〕
　絶縁層の形成と同様にして、第一及び第二の透明電極パターンとは別の導電性要素まで形成した前面板に、保護フィルムを除去した絶縁層形成用転写フィルムＷ１をラミネートし、仮支持体を剥離後、露光マスクを介さずに露光量５０ｍＪ／ｃｍ²（ｉ線）で全面露光し、現像、ポスト露光（１，０００ｍＪ／ｃｍ²）、ポストベーク処理を行って、白色加飾材、遮光層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、第一及び第二の透明電極パターンとは別の導電性要素の全てを覆うように絶縁層（透明保護層）を図５のように積層した前面板を得た。得られた前面板は静電容量型入力装置として利用可能である。

＜画像表示装置（タッチパネル）の作製＞　特開２００９－４７９３６号公報の＜００９７＞～＜０１１９＞段落に記載の方法で製造した液晶表示素子に、先に製造した実施例２０１の前面板（静電容量型入力装置）を貼り合わせ、公知の方法で静電容量型入力装置を構成要素として備えた実施例３０１の画像表示装置を作製した。
　実施例２０１黒色加飾材付き基材に代えて、実施例２０２～２１８の黒色加飾材付き基材、及び、実施例２１９～２２３の白色加飾材付き基材を用いて、画像表示装置を作製することにより、実施例３０２～３２３の画像表示装置を作製した。

＜前面板、及び、画像表示装置の全体評価＞
　実施例３０１～３２３の画像表示装置では、上述の各工程において、加飾材、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、第一及び第二の透明電極パターンとは別の導電性要素を形成した前面板（静電容量型入力装置）は、開口部、及び裏面に汚れがなく、洗浄が容易であり、かつ、他部材の汚染の問題がなかった。
　また、加飾材にはピンホールがなく、ムラも問題なかった。
　そして、第一の透明電極パターン、第二の透明電極パターン、及び、これらとは別の導電性要素の、各々の導電性には問題がなく、一方で、第一の透明電極パターンと第二の透明電極パターンの間では絶縁性を有していた。
　更に、透明保護層にも気泡等の欠陥がなく、また、表示特性及び動作性に優れた画像表示装置が得られた。

　１：基材（フィルム基材。フィルム基材のみを前面板としてもよい。）
　１Ｇ：ガラス（カバーガラス。カバーガラスのみを前面板としてもよく、基材とガラスの積層体を前面板としてもよい。）
　２ａ：加飾材
　２ｂ：黒色層（遮光層）
　２ｃ：傾斜部
　３：導電性層（第一の透明電極パターン）
　３ａ：パッド部分
　３ｂ：接続部分
　４：導電性層（第二の透明電極パターン）
　５：絶縁層
　６：導電性層（他の導電性要素）
　７：透明保護層
　８：開口部
　１０：静電容量型入力装置
　１１：強化処理ガラス
　Ｃ：第１の方向
　Ｄ：第２の方向

Claims

　成分Ａとして顔料と、
　成分Ｂとして顔料分散剤と、
　成分Ｃとして下記式Ｃ－１で表される構造を有するシリコーン化合物と、
　成分Ｄとして有機溶媒と、を含有する、
　顔料分散液。

　式Ｃ－１中、Ｒ^c1は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、Ｙは水酸基又は下記式Ｃ－２で表される基を表し、ｋは１以上の整数を表す。

　式Ｃ－２中、Ｒ^c2は２価の有機基を表し、Ｒ^c3はカルボキシ基又は水酸基を表す。
　成分Ａが、黒色顔料、及び／又は、白色顔料である、請求項１に記載の顔料分散液。
　成分Ｃが、式Ｃ－１で表される構造を１分子中に合計して２個以上含有する、請求項１又は２に記載の顔料分散液。
　成分Ｃが、式Ｃ－１で表される構造を側鎖、又は、主鎖両末端に有する、請求項１～３のいずれか１項に記載の顔料分散液。
　成分Ｃの含有量が、成分Ａ１００質量部に対して２質量部以上である、請求項１～４のいずれか１項に記載の顔料分散液。
　成分Ｂが、下記式１で表されるグラフト型シリコーンポリマーである、請求項１～５のいずれか１項に記載の顔料分散液。

　式１中、Ｒ¹～Ｒ¹⁰はそれぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基、アリール基又は炭素数１～３のアルキル基を表し、
　Ｒ¹¹及びＲ¹²はそれぞれ独立に、アリーレン基又は炭素数１～３のアルキレン基を表し、
　Ｒ¹³及びＲ¹⁴はそれぞれ独立に、単結合又は２価の有機連結基を表し、
　Ａは顔料吸着部位を有する基を表し、
　Ｂは下記式２で表される構造を有する基を表し、
　ｌ及びｎはそれぞれ独立に、１以上の整数を表し、
　ｍは０以上の整数を表す。

　式２中、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶はそれぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基、アリール基又は炭素数１～３のアルキル基を表し、ｋは１以上の整数を表す。
　成分Ｂが、下記式３で表されるグラフト型シリコーンポリマーである、請求項１～６のいずれか１項に記載の顔料分散液。

　式３中、Ｒ¹¹及びＲ¹²はそれぞれ独立に、アリーレン基又は炭素数１～３のアルキレン基を表し、
　Ｒ¹³及びＲ¹⁴はそれぞれ独立に、単結合又は２価の有機連結基を表し、
　Ａは酸性基、塩基性窒素原子を有する基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、炭素原子数４以上の炭化水素基、複素環基、アミド基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアナト基、ヒドロキシ基、及び、チオール基よりなる群から選択される基を少なくとも１つ有する顔料吸着部位を有する基を表し、
　Ｂは下記式２で表される構造を有する基を表し、
　ｌ、ｍ１及びｎはそれぞれ独立に、１以上の整数を表す。

　式２中、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶はそれぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基、アリール基又は炭素数１～３のアルキル基を表し、ｋは１以上の整数を表す。
　請求項１～７のいずれか１項に記載の顔料分散液、及び、シリコーン樹脂を含有する、樹脂組成物。
　仮支持体と、
　前記仮支持体上に形成された黒色層と、
　を有し、
　前記黒色層が、請求項８に記載の樹脂組成物からなる、転写材料。
　前記黒色層の上に形成された白色層、を更に有する、請求項９に記載の転写材料。
　前記白色層が、請求項８に記載の樹脂組成物からなる、請求項１０に記載の転写材料。
　請求項８に記載の樹脂組成物を用いて作製された、基材。
　請求項９～１１のいずれか１項に記載の転写材料を用いて作製された、基材。
　加飾用である、請求項１２又は１３に記載の基材。
　請求項１２～１４のいずれか１項に記載の基材を含む、タッチパネル。
　請求項１５に記載のタッチパネルを有する、情報表示装置。