WO2016103991A1

WO2016103991A1 - 硬化性組成物、転写フィルム、画像表示装置の前面板、前面板一体型センサー、画像表示装置および画像表示装置の前面板の製造方法

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Publication number: WO2016103991A1
Application number: PCT/JP2015/082337
Authority: WO
Inventors: 一真両角; 崇一郎長田; 公竹内
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2014-12-26
Filing date: 2015-11-18
Publication date: 2016-06-30
Also published as: JP2016124720A; EP3239111A4; JP6375226B2; EP3239111B1; EP3239111A1

Abstract

強化処理されたガラスとガラスの一方の面に形成される透明導電膜との間に硬化膜を形成するための硬化性組成物であって、有機基およびシロキサン結合を持つ化合物を含有する硬化性組成物；転写フィルム；画像表示装置の前面板；前面板一体型センサー；画像表示装置；画像表示装置の前面板の製造方法。

Description

硬化性組成物、転写フィルム、画像表示装置の前面板、前面板一体型センサー、画像表示装置および画像表示装置の前面板の製造方法

　本発明は、硬化性組成物、転写フィルム、画像表示装置の前面板、前面板一体型センサー、画像表示装置および画像表示装置の前面板の製造方法に関する。より詳しくは、強化処理されたガラスとガラスの一方の面に形成される透明導電膜との間に硬化膜を形成するための硬化性組成物であって、強化処理されたガラスの透明導電膜の形成による面強度低下が抑制でき、光の透過率も高い硬化性組成物；この硬化性組成物を用いた転写フィルム；この硬化性組成物を用いた画像表示装置の前面板；この画像表示装置の前面板を用いた前面板一体型センサー；この前面板一体型センサーを備えた画像表示装置；および前述の硬化性組成物を用いた画像表示装置の前面板の製造方法に関する。

　携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、銀行の端末などの電子機器では、近年、液晶表示装置などの画像表示装置の表面にタブレット型の入力装置が配置され、画像表示装置の画像表示領域に表示された指示画像を参照しながら、この指示画像が表示されている箇所に指またはタッチペンなどを触れることで、指示画像に対応する情報の入力が行えるものがある。
　このような入力装置（タッチパネル）には、抵抗膜型、静電容量型などがある。静電容量型の入力装置は、単に一枚の基板に透光性導電膜を形成すればよいという利点がある。静電容量型入力装置として、前面板が静電容量型入力装置と一体化した前面板一体型（カバーガラス一体型、ＯＧＳ：Ｏｎｅ　Ｇｌａｓｓ　Ｓｏｌｕｔｉｏｎとも言う）センサーを備えた静電容量型入力装置が知られている。
　静電容量型タッチパネルを液晶や有機ＥＬディスプレイ上に備えたスマートフォンやタブレット型コンピュータなどの画像表示装置の前面板として、コーニング社のゴリラガラスに代表される強化処理されたガラス（強化ガラスと言われることもある）を用いることが知られている（例えば特許文献１および特許文献２参照）。

　特許文献１には、
ガラス板と、
ガラス板の一方の面に形成され、第１の方向に延在する第１の透明導電膜および第１の方向とは異なる方向に延在する第２の透明導電膜と、
第１の透明導電膜および第２の透明導電膜とガラス板との間に形成される、透明な有機化合物からなる下地絶縁膜と、
を備えるセンサ一体型カバーガラスが記載されている。特許文献１によればこの構成により、静電容量型タッチパネルに用いられる、カバーガラスに位置検出用の透明導電膜等を形成してなるセンサ一体型カバーガラスであって、耐久性に優れる静電容量型タッチパネルを実現可能なセンサ一体型カバーガラスを提供することができると記載されている。
具体的には、従来のセンサ一体型カバーガラスでは、強化処理されたガラス板のセンサ面の面強度が弱いことに着目し、下地絶縁膜を有することにより、ガラス板の強度を大幅に向上し、耐久性に優れるスマートフォンやタブレット型コンピュータ等のタッチセンサを実現した、と記載されている。

　一方、特許文献２には、透明な前面板と、前面板の一方の面の一部に配置された加飾層と、前面板の一方の面側に配置された電極パターンと、を有する静電容量型入力装置において、上記の前面板と加飾層との間の段差を生めるために、少なくともシリコーン系レジンをバインダー樹脂として含み、かつ、厚みが５μｍ以上ある透明樹脂膜を用いることが記載されている。

ＷＯ２０１４／０３０５９９特開２０１４－１６０４６０号公報

　近年、タッチパネルの感度を高めるために、透明導電膜の抵抗を下げることが求められている。そのためには例えば酸化インジウムスズ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅまたはｔｉｎ－ｄｏｐｅｄ　ｉｎｄｉｕｍ　ｏｘｉｄｅ：以下、ＩＴＯと言う）などからなる透明導電膜を高温でアニールすることが必要である。
　本発明者らは、特許文献１に記載の画像表示装置の前面板の透明導電膜の抵抗を下げるために高温でアニールすることを検討した。その結果、下地絶縁膜として特許文献１が実際に採用しているアクリルの重合性化合物を用いて硬化膜を設けた画像表示装置の前面板は、タッチパネルの感度を十分に高め得る程度に透明導電膜の抵抗を下げようとすると、下地絶縁膜が熱により着色し、光の透過率が画像表示装置用途として実用できない程度にまで低下してしまうことがわかった。

　本発明が解決しようとする課題は、強化処理されたガラスとガラスの一方の面に形成される透明導電膜との間に硬化膜を形成するための硬化性組成物であって、強化処理されたガラスの透明導電膜の形成による面強度低下が抑制でき、透過率も高い硬化性組成物を提供することにある。

　本発明者らは、有機基およびシロキサン結合を持つ化合物を含有する硬化性組成物を用いて強化処理されたガラスとガラスの一方の面に形成される透明導電膜との間に硬化膜を形成することで、強化処理されたガラスの透明導電膜の形成による面強度低下が抑制でき、透過率も高い硬化性組成物を提供できることを見出し、本発明に至った。

　上記課題を解決するための具体的な手段である本発明および本発明の好ましい態様は以下のとおりである。
［１］　強化処理されたガラスとガラスの一方の面に形成される透明導電膜との間に硬化膜を形成するための硬化性組成物であって、
　有機基およびシロキサン結合を持つ化合物を含有する硬化性組成物。
［２］　［１］に記載の硬化性組成物は、０．１μｍ以上５μｍ未満の硬化膜を形成するための硬化性組成物であることが好ましい。
［３］　［１］または［２］に記載の硬化性組成物は、硬化性組成物の金属酸化物を除く固形分の量に対する、有機基およびシロキサン結合を持つ化合物の含有率が、８０質量％以上であることが好ましい。
［４］　［１］～［３］のいずれか一つに記載の硬化性組成物は、有機基およびシロキサン結合を持つ化合物として、少なくとも有機変性シリコーンを含むことが好ましい。
［５］　［１］～［４］のいずれか一つに記載の硬化性組成物は、さらに金属酸化物を含有することが好ましい。
［６］　仮支持体と、
　［１］～［５］のいずれか一つに記載の硬化性組成物を含む硬化性組成物層と、
を含む転写フィルム。
［７］　強化処理されたガラスと、
　ガラスの一方の面に形成される透明導電膜と、
　ガラスとガラスの一方の面に形成される透明導電膜との間に配置された硬化膜と、
を有し、
　硬化膜が、［１］～［５］のいずれか一つに記載の硬化性組成物を硬化した硬化膜であるか、あるいは、［６］に記載の転写フィルムの硬化性組成物層をガラスに積層した硬化性組成物を硬化した硬化膜である、
画像表示装置の前面板。
［８］　［７］に記載の画像表示装置の前面板は、硬化膜が、ガラスと透明導電膜との間にのみ形成されたことが好ましい。
［９］　［７］に記載の画像表示装置の前面板は、硬化膜が、少なくとも透明導電膜の形成された領域において、ガラスを全面的に覆う連続膜として形成されたことが好ましい。［１０］　［７］～［９］のいずれか一つに記載の画像表示装置の前面板を有し、
　透明導電膜が電極パターンを含むセンサーである前面板一体型センサー。
［１１］　［１０］に記載の前面板一体型センサーを構成要素として備えた、画像表示装置。
［１２］　［１］～［５］のいずれか一つに記載の硬化性組成物を強化処理されたガラス上に製膜する工程、あるいは、［６］に記載の転写フィルムの硬化性組成物層をガラスに積層して硬化性組成物を製膜する工程と；
　硬化性組成物を硬化して硬化膜を製膜する硬化工程と；
　硬化膜上に透明導電膜を形成する工程と；
を含む画像表示装置の前面板の製造方法。
［１３］　［１２］に記載の画像表示装置の前面板の製造方法は、硬化工程が、ガラス上で硬化性組成物を２００℃以上で熱処理する工程であることが好ましい。
［１４］　［１２］または［１３］に記載の画像表示装置の前面板の製造方法は、透明導電膜にエッチングレジストを積層した後にエッチングレジストが積層されていない領域の透明導電膜をエッチングして透明電極パターンを形成する工程を含み、
　エッチングレジストが、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよびエトキシプロピオン酸エチルから選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。

　本発明によれば、強化処理されたガラスとガラスの一方の面に形成される透明導電膜との間に硬化膜を形成するための硬化性組成物であって、強化処理されたガラスの透明導電膜の形成による面強度低下が抑制でき、透過率も高い硬化性組成物を提供できる。

本発明の画像表示装置の前面板の一例の断面を示す概略図である。本発明の画像表示装置の前面板の他の一例の断面を示す概略図である。本発明における第一の透明電極パターンおよび第二の透明電極パターンの一例を示す説明図である。開口部が形成された強化処理されたガラスの一例を示す上面図である。加飾層が形成された画像表示装置の前面板の一例を示す上面図である。第一の透明電極パターンが形成された画像表示装置の前面板の一例を示す上面図である。第一および第二の透明電極パターンが形成された画像表示装置の前面板の一例を示す上面図である。加飾層、第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素が形成された画像表示装置の前面板の一例を示す上面図である。面強度の評価に用いた面強度測定器具の概略図である。本発明の転写フィルムの一例の断面を示す概略図である。

　以下、本発明の硬化性組成物、転写フィルム、画像表示装置の前面板、前面板一体型センサー、画像表示装置および画像表示装置の前面板の製造方法について説明する。
　以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。尚、本明細書において「～」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。

［硬化性組成物］
　本発明の硬化性組成物は、強化処理されたガラスとガラスの一方の面に形成される透明導電膜との間に硬化膜を形成するための硬化性組成物であって、有機基およびシロキサン結合を持つ化合物を含有する硬化性組成物である。
　本発明の硬化性組成物は、強化処理されたガラスの透明導電膜の形成による面強度低下が抑制でき、光の透過率も高い硬化膜を提供する。強化処理されたガラスと透明導電膜の間に本発明の硬化性組成物によって硬化膜を形成した場合、強化処理されたガラス上に直接透明導電膜（透明電極パターンを含む）を形成した場合に比較して、ＷＯ２０１４／０３０５９９と同様に、強化処理されたガラスの透明導電膜の形成による面強度低下が抑制できる。また、本発明の硬化性組成物は有機基およびシロキサン結合を持つ化合物を用いているため、強化処理されたガラスとガラスの一方の面に形成される透明導電膜との間に硬化膜を製膜した場合に、硬化時やその他のプロセスでの加熱時に加熱による着色が少なく、光の透過率が低下しない。そのため、本発明の硬化性組成物を用いることで、タッチパネルの感度が高く、かつ、画像表示部分の光の透過率が高い画像表示装置の前面板を提供することができる。

＜有機基およびシロキサン結合を持つ化合物＞
　本発明の硬化性組成物は、有機基およびシロキサン結合を持つ化合物を含有する。
　有機基およびシロキサン結合を持つ化合物とは、有機基およびシロキサン結合を１分子内に持つ化合物のことを言う。

　シロキサン結合を持つ化合物とは、シロキサン結合を少なくとも１つ分子内に有する化合物のことを言う。有機基およびシロキサン結合を持つ化合物は、複数のシロキサン結合を分子内に持つポリシロキサン化合物（いわゆるシリコーン）であることが好ましい。

　有機基およびシロキサン結合を持つ化合物が有する有機基の位置、種類、分子内の個数は、いずれも特に制限はない。
　有機基およびシロキサン結合を持つ化合物が有する有機基の位置としては、少なくとも２つのシロキサン結合に関与するケイ素原子に置換する位置（シリコーンの側鎖の位置）や、１つのシロキサン結合に関与するケイ素原子に置換する位置（シリコーンの末端の位置）や、１つのシロキサン結合に関与する酸素原子に置換する位置（シリコーンの末端の位置）などを上げることができる。有機基およびシロキサン結合を持つ化合物が有する有機基の位置は、シロキサン結合を少なくとも２つ有するケイ素原子に置換する位置（シリコーンの側鎖の位置）または１つのシロキサン結合に関与するケイ素原子に置換する位置（シリコーンの末端の位置）であることが好ましく、シロキサン結合を少なくとも２つ有するケイ素原子に置換する位置（シリコーンの側鎖の位置）および１つのシロキサン結合に関与するケイ素原子に置換する位置（シリコーンの末端の位置）であることが、透明導電膜をエッチングする際にエッチングレジストに用いられるプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）などの有機溶媒に対する耐性を高める観点からより好ましい。すなわち、有機基およびシロキサン結合を持つ化合物は、有機溶媒耐性を高める観点から有機変性シリコーンであることが好ましい。
　有機基およびシロキサン結合を持つ化合物が有する有機基の種類としては、公知のシリコーンの側鎖に用いられる有機基や、公知の有機変性シリコーンに用いられる有機変性基を挙げることができる。公知の有機変性シリコーンに用いられる有機変性基は、繰り返し単位を有する共重合成分であってもよい。有機基の例としては、後述のシラン化合物の例が有する有機基を挙げることができる。有機基およびシロキサン結合を持つ化合物が有する有機基は１種のみであってもよく、２種以上であってもよい。
　有機基およびシロキサン結合を持つ化合物が有する有機基の分子内の個数としては、１つ以上であることが好ましく、２つ以上であることがより好ましく、有機基およびシロキサン結合を持つ化合物が有するケイ素原子の数の２倍以上であることが特に好ましい。

　シリコーンは、室温でゴム弾性を有するエラストマーであるシリコーンゴムと、その他のシリコーンレジンに分けることができる。本発明の硬化性組成物は、有機基およびシロキサン結合を持つ化合物がシリコーンレジンであることが好ましい。

（シリコーンゴム）
　シリコーンゴムは、一般的に耐熱性、透明性が優れている。
　生ゴム状のシロキサン構造を有する化合物（例えば高重合度ジメチルポリシロキサン）と補強材として粒子（例えば微粉末シリカ）とを基本成分として、必要に応じて各種添加剤を配合してシリコーンゴム前駆体が得られる。この補強材としての粒子は、フィラーと言われることもある。このシリコーンゴム前駆体の中で、特に高重合度のものをシリコーンゴムコンパウンドと言われる。このシリコーンゴム前駆体に、必要に応じて有機過酸化物などの架橋剤や触媒を添加して加熱硬化すると、狭義のシリコーンゴムが得られる。本明細書におけるシリコーンゴムには、シリコーンゴム前駆体と加熱硬化後の狭義のシリコーンゴムの両方が含まれる。

　シリコーンゴムとしては、両末端にのみビニル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンからなるシリコーンと、両末端及び側鎖にビニル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンからなるシリコーンと、末端にのみビニル基を有する分岐状ポリオルガノシロキサンからなるシリコーンと、末端及び側鎖にビニル基を有する分岐状ポリオルガノシロキサンからなるシリコーンと、
から選ばれる少なくとも１種のシリコーンを架橋させてなるシリコーンゴムが挙げられる。

　両末端にのみビニル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンとは下記一般式（特開２０１１－２２１３６８号公報の化１）のいずれかで表せられる化合物である。

　両末端および側鎖にビニル基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンからなるシリコーンは、下記一般式（特開２０１１－２２１３６８号公報の化１）中のＲの一部がビニル基である化合物である。

（上記式中、Ｒは有機基、ｎは整数を表す）

末端にのみビニル基を有する分岐状ポリオルガノシロキサンからなるシリコーンは下記一般式（特開２０１１－２２１３６８号公報の化２）で表される化合物である。
末端及び側鎖にビニル基を有する分岐状ポリオルガノシロキサンからなるシリコーンは下記一般式（特開２０１１－２２１３６８号公報の化２）中のＲの一部がビニル基である化合物である。

（上記式中、Ｒは有機基、ｍ、ｎは各々独立に整数を表す）

　ビニル基以外のケイ素原子に結合した有機基（Ｒ）は異種でも同種でもよいが、具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基などのアルキル基、フェニル基、トリル基などのアリール基、又はこれらの基の炭素原子に結合した水素原子の一部又は全部をハロゲン原子、シアノ基などで置換した同種又は異種の非置換又は置換の１価炭化水素基（脂肪族不飽和基を除く）が挙げられる。Ｒの少なくとも５０モル％がメチル基であるポリオルガノシロキサンが好ましい。このポリオルガノポリシロキサンは単独でも２種以上の混合物であってもよい。

　ここで架橋反応に用いる架橋剤は公知のものでよい。架橋剤の例として、オルガノハイドロジェンポリシロキサンが挙げられる。オルガノハイドロジェンポリシロキサンは１分子中にケイ素原子に結合した水素原子を少なくとも３個有するものであるが、実用上からは分子中に２個の≡ＳｉＨ結合を有するものをその全量の５０質量％までとし、残余を分子中に少なくとも３個の≡ＳｉＨ結合を含むものとすることがよい。

　架橋反応に用いる触媒は白金系触媒が好ましい。白金系触媒は公知のものでよく、これには塩化第一白金酸、塩化第二白金酸などの塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール化合物、アルデヒド化合物あるいは塩化白金酸と各種オレフィンとの鎖塩などがあげられる。架橋反応したシリコーン層は、シリコーンゴムのような柔軟性を持ったものとなり、この柔軟性が被着体との密着を容易にさせるものである。

　シリコーンゴムとしては、高重合度のガム状ジメチルポリシロキサン、ガム状のジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体等を挙げることができる。
本発明に用いられるシリコーンゴムの市販品の形状は、無溶剤型、溶剤型、エマルション型があるが、いずれの型も使用できる。中でも、無溶剤型は、溶剤を使用しないため、安全性、衛生性、大気汚染の面で非常に利点がある。経済性を考慮する場合は、無溶剤型のシリコーンゴムを用いるのがよい。

　シリコーンゴムは、粒子を含むことが好ましく、無機粒子を含むことがより好ましく、シリカ、チタニア、ジルコニアのうち少なくとも１種の粒子を含むことが特に好ましい。

　シリコーンゴムとしては、例えば信越化学工業株式会社の商品名ＫＥ－１０９、ＫＥ－１０６、ＫＥ－１０３１、ＫＥ－１０３、ＫＥ－１０８、ＫＥ－５８１Ｕ、ＫＥ－１６７Ｕ、ＫＥ－１８２０およびＫＥ１８８６を挙げることができ、ＫＥ－１６７Ｕ、ＫＥ－１８２０およびＫＥ－１８８６が好ましい。

（シリコーンレジン）
　シリコーンレジンとして公知のシリコーンレジンが使用できる。
　シリコーンレジンは、樹脂を下記シラン化合物で一部変性し、多様な特性が付与されたた変性シリコーンレジンと、アルコキシ基又はシラノール基を有するシラン化合物を脱水縮合させ、シリコーン本来の性質を利用したストレートシリコーンレジンとに分類できる。上記シリコーンレジンが、有機変性シリコーンレジン、または、ストレートシリコーンレジンであることが好ましく、有機変性シリコーンレジンであることがより好ましい。すなわち、本発明の硬化性組成物は、有機基およびシロキサン結合を持つ化合物として、少なくとも有機変性シリコーンを含むことが好ましい。

　変性シリコーンレジンとしては、ポリエステルの水酸基等にシラン化合物を反応させたポリエステル変性シリコーンレジン（信越化学工業株式会社製ＫＲ－５２３０、ＫＲ－５２３５など）、アクリル酸などのアクリルモノマーにシラン化合物を反応させたモノマーを重合又は他のアクリルモノマーに共重合させたアクリル変性シリコーンレジン（信越化学工業株式会社製ＫＲ－９７０６など）、樹脂のアミノ基残基等にエポキシ含有シラン化合物を反応させたエポキシ変性シリコーンレジン（信越化学工業（株）製ＥＳ－１００２Ｔ、ＥＳ－１０２３など）、ポリイミド変性シリコーン（信越化学工業（株）製）ＭＰ－２００３ＰＧＭＥＡなど）、アルキル変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、フェノール変性シリコーン、カルボキシ変性シリコーン（信越化学工業（株）製）Ｘ－２２－３７１０ＳＴなど）、メタクリル変性シリコーン、アルキッド樹脂を反応性シラン化合物で変性したアルキッド変性シリコーンレジン（信越化学工業（株）製ＫＲ－５２０６など）、アルコキシオリゴマー変性シリコーン（信越化学工業（株）製ＫＲ－２５１、Ｘ－４０－９２４６、ＫＲ－４００、ＫＲ－４０１など）、オキシム系開始剤を用いて樹脂と直接共有結合を形成させるゴム系のシリコーンレジン等が使用できる。この中でも、本発明の硬化性組成物は、有機変性シリコーンが、少なくともポリエステル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、ポリイミド変性シリコーン、アルキル変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、フェノール変性シリコーン、カルボキシ変性シリコーン、メタクリル変性シリコーンおよびアルキッド変性シリコーンのいずれか１種以上であることが透明導電膜をエッチングする際にエッチングレジストに用いられるＰＧＭＥＡなどの有機溶媒耐性を高める観点から好ましく、ポリエステル変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、ポリイミド変性シリコーン、カルボキシ変性シリコーンおよびアルキッド変性シリコーンのいずれか１種以上であることがより好ましく、ポリエステル変性シリコーンまたはエポキシ変性シリコーンであることが特に好ましい。
　有機変性シリコーンのシリコーン成分の構造としては、後述のストレートシリコーンレジンの好ましい構造と同様である。

　ストレートシリコーンレジンとしては、分子内に少なくとも下記一般式（１）で表されるシロキサン構造を含有するものが使用できる。

　一般式（１）中、Ｒ¹は独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシ基、炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状の置換アルキル基、炭素数２～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルケニル基、炭素数６～２０のアリール基または炭素数７～２０のアラルキル基であり、複数のＲ¹は同一であっても異なっていてもよい。すなわち上記一般式（１）で表されるシロキサン構造を有するストレートシリコーンレジンは、同一シロキサン構造の縮合体でも良いし、異なる組合せの共縮合体でも良い。

　Ｒ¹の表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子等を挙げることができる。
　Ｒ¹の表す炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｉ－ブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基、ｎ－ヘキシルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等を挙げることができる。
　Ｒ¹の表す炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｉ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。Ｒ¹の表す炭素数１～２０の直鎖状、
分岐状もしくは環状のアルキル基の中では、炭素数１～３のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
　また、Ｒ¹の表す炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状の置換アルキル基としては、例えばアリールアルキル基、フルオロアルキル基、クロロアルキル基、ヒドロキシアルキル基、（メタ）アクリロキシアルキル基およびメルカプトアルキル基を挙げることができる。これらの具体例としては、例えば、フェニルメチル（ベンジル）基、ジフェニルメチル基、１－フェニルエチル基、２－フェニルエチル基、１－フェニル－ｎ－プロピル基、２－フェニル－２－プロピル（クミル）基、３－フェニル－ｎ－プロピル基、１－フェニルブチル基、２－フェニルブチル基、３－フェニルブチル基、４－フェニルブチル基、１－フェニルペンチル基、２－フェニルペンチル基、３－フェニルペンチル基、４－フェニルペンチル基、５－フェニルペンチル基、１－フェニルヘキシル基、２－フェニルヘキシル基、３－フェニルヘキシル基、４－フェニルヘキシル基、５－フェニルヘキシル基、６－フェニルヘキシル基、１－フェニルシクロヘキシル基、２－フェニルシクロヘキシル基、３－フェニルシクロヘキシル基、１－フェニルヘプチル基、２－フェニルヘプチル基、３－フェニルヘプチル基、４－フェニルヘプチル基、５－フェニルヘプチル基、６－フェニルヘプチル基、１－フェニルオクチル基、２－フェニルオクチル基、３－フェニルオクチル基、４－フェニルオクチル基、５－フェニルオクチル基、６－フェニルオクチル基、１－ナフチルエチル基、２－ナフチルエチル基、１－ナフチル－ｎ－プロピル基、２－ナフチル－２－プロピル基、３－ナフチル－ｎ－プロピル基、１－ナフチルブチル基、２－ナフチルブチル基、３－ナフチルブチル基、４－ナフチルブチル基、１－ナフチルペンチル基、２－ナフチルペンチル基、３－ナフチルペンチル基、４－ナフチルペンチル基、５－ナフチルペンチル基、１－ナフチルヘキシル基、２－ナフチルヘキシル基、３－ナフチルヘキシル基、４－ナフチルヘキシル基、５－ナフチルヘキシル基、６－ナフチルヘキシル基、１－ナフチルシクロヘキシル基、２－ナフチルシクロヘキシル基、３－ナフチルシクロヘキシル基、１－ナフチルヘプチル基、２－ナフチルヘプチル基、３－ナフチルヘプチル基、４－ナフチルヘプチル基、５－ナフチルヘプチル基、６－ナフチルヘプチル基、１－ナフチルオクチル基、２－ナフチルオクチル基、３－ナフチルオクチル基、４－ナフチルオクチル基、５－ナフチルオクチル基、６－ナフチルオクチル基、などのアリールアルキル基；フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２－フルオロエチル基、（トリフルオロメチル）メチル基、ペンタフルオロエチル基、３－フルオロ－ｎ－プロピル基、２－（トリフルオロメチル）エチル基、（ペンタフルオロエチル）メチル基、ヘプタフルオロ－ｎ－プロピル基、４－フルオロ－ｎ－ブチル基、３－（トリフルオロメチル）－ｎ－プロピル基、２－（ペンタフルオロエチル）エチル基、（ヘプタフルオロ－ｎ－プロピル）メチル基、ノナフルオロ－ｎ－ブチル基、５－フルオロ－ｎ－ペンチル基、４－（トリフルオロメチル）－ｎ－ブチル基、３－（ペンタフルオロエチル）－ｎ－プロピル基、２－（ヘプタフルオロ－ｎ－プロピル）エチル基、（ノナフルオロ－ｎ－ブチル）メチル基、パーフルオロ－ｎ－ペンチル基、６－フルオロ－ｎ－ヘキシル基、５－（トリフルオロメチル）－ｎ－ペンチル基、４－（ペンタフルオロエチル）－ｎ－ブチル基、３－（ヘプタフルオロ－ｎ－プロピル）－ｎ－プロピル基、２－（ノナフルオロ－ｎ－ブチル）エチル基、（パーフルオロ－ｎ－ペンチル）メチル基、パーフルオロ－ｎ－ヘキシル基、７－（トリフルオロメチル）－ｎ－ヘプチル基、６－（ペンタフルオロエチル）－ｎ－ヘキシル基、５－（ヘプタフルオロ－ｎ－プロピル）－ｎ－ペンチル基、４－（ノナフルオロ－ｎ－ブチル）－ｎ－ブチル基、３－（パーフルオロ－ｎ－ペンチル）－ｎ－プロピル基、２－（パーフルオロ－ｎ－ヘキシル）エチル基、（パーフルオロ－ｎ－ヘプチル）メチル基、パーフルオロ－ｎ－オクチル基、９－（トリフルオロメチル）－ｎ－ノニル基、８－（ペンタフルオロエチル）－ｎ－オクチル基、７－（ヘプタフルオロ－ｎ－プロピル）－ｎ－ヘプチル基、６－（ノナフルオロ－ｎ－ブチル）－ｎ－ヘキシル基、５－（パーフルオロ－ｎ－ペンチル）－ｎ－ペンチル基、４－（パーフルオロ－ｎ－ヘキシル）－ｎ－ブチル基、３－（パーフルオロ－ｎ－ヘプチル）－ｎ－プロピル基、２－（パーフルオロ－ｎ－オクチル）エチル基、（パーフルオロ－ｎ－ノニル）メチル基、パーフルオロ－ｎ－デシル基、４－フルオロシクロペンチル基、４－フルオロシクロヘキシル基等のフルオロアルキル基；ならびにクロロメチル基、２－クロロエチル基、３－クロロ－ｎ－プロピル基、４－クロロ－ｎ－ブチル基、３－クロロシクロペンチル基、４－クロロシクロヘキシル基、ヒドロキシメチル基、２－ヒドロキシエチル基、３－ヒドロキシシクロペンチル基、４－ヒドロキシシクロヘキシル基、３－（メタ）アクリロキシプロピル基、３－メルカプトプロピル基等を挙げることができる。
　また、Ｒ¹の表す炭素数２～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、１－メチルビニル基、１－プロペニル基、アリル基（２－プロペニル基）、２－メチル－２－プロペニル基、１－ブテニル基、２－ブテニル基、３－ブテニル基、３－シクロペンテニル基、３－シクロヘキセニル基等を挙げることができる。Ｒ¹の表す炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状の置換アルキル基の中では、アリールアルキル基が好ましく、クミル基がより好ましい。
　また、Ｒ¹の表す炭素数６～２０のアリール基としては、例えば、フェニル基、ｏ－トリル基、ｍ－トリル基、ｐ－トリル基、２，３－キシリル基、２，４－キシリル基、２，５－キシリル基、２，６－キシリル基、３，４－キシリル基、３，５－キシリル基、１－ナフチル基等を挙げることができる。Ｒ¹の表す炭素数６～２０のアリール基のなかでは、加熱時にベンゼンを発生しにくい観点から無置換のフェニル基以外、すなわち、ｏ－トリル基、ｍ－トリル基、ｐ－トリル基、２，３－キシリル基、２，４－キシリル基、２，５－キシリル基、２，６－キシリル基、３，４－キシリル基、３，５－キシリル基、１－ナフチル基が好ましく、ｏ－トリル基、ｍ－トリル基、ｐ－トリル基がより好ましい。
　また、Ｒ¹の表す炭素数７～２０のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基等を挙げることができる。

　上記一般式（１）中、Ｒ¹は独立して、水素原子、炭素数１～２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数１～６の直鎖状、分岐状もしくは環状の置換アルキル基または炭素数６～９のアリール基であることが好ましく、水素原子、メチル基、フェニル基またはトリル基を表すことがより好ましい。
　上記一般式（１）で表されるシロキサン構造は、Ｒ¹としてメチル基を含むことが、加飾層のＬ値を特に高めることができる観点から好ましい。

　上記ストレートシリコーンレジンは、Ｒ¹が互いに異なる２種以上の上記一般式（１）で表されるシロキサン構造の共重合体であることも好ましい。この場合、Ｒ¹がアルキル基である上記一般式（１）で表されるシロキサン構造と、Ｒ¹が水素原子、置換アルキル基またはアリール基である上記一般式（１）で表されるシロキサン構造との共重合体を好ましく挙げることができる。共重合比としては特に制限はないが、Ｒ¹がアルキル基である上記一般式（１）で表されるシロキサン構造が、全ての上記一般式（１）で表されるシロキサン構造中、５０～１００モル％であることが好ましく、６０～１００モル％であることがより好ましく、７０～１００モル％であることが特に好ましい。

　本発明に用いられるストレートシリコーンレジンとしては、分子内に上記一般式（１）で表されるシロキサン構造に加えて、下記一般式（２）で表されるシロキサン構造との共縮合からなるシロキサン構造を含有するものも好ましく使用できる。

　一般式（２）中、Ｒ²は上記一般式（１）のＲ¹と同様のものが使用できる同義であり、好ましい範囲もＲ¹と同様である。

　ストレートシリコーンレジンの具体例としては、炭素数１～２０のアルキル基とアルコキシ基を有するシラン化合物の縮合から調製されるアルキル系ストレートシリコーン（メチル系ストレートシリコーン等）、メチルフェニル等のアルキル・アリール系ストレートシリコーン、フェニル等のアリール系ストレートシリコーン、メチルハイドロジェン等のハイドロジェン系ストレートシリコーンが使用できる。
　より好ましいのは、メチル系ストレートシリコーンレジン、メチルトリル系ストレートシリコーンレジン、メチルフェニル系ストレートシリコーンレジン、アクリル樹脂変性シリコーンレジン、メチルハイドロジェン系ストレートシリコーンレジン、ハイドロジェントリル系ストレートシリコーンレジンであり、加熱時にベンゼンを発生せず、明度の低下抑制の観点から、特に好ましいのは、メチル系ストレートシリコーンレジン、メチルトリル系ストレートシリコーンレジン、メチルハイドロジェン系ストレートシリコーンレジン、ハイドロジェントリル系ストレートシリコーンレジンである。
　これらのシリコーンレジンは単独で使用しても２種以上を併用してもよく、これらを任意の比率で混合することにより膜物性を制御できる。

　ストレートシリコーンレジンの重量平均分子量は１０００～５００００００であることが好ましく、２０００～３００００００であることがより好ましく、２５００～３００００００であることが特に好ましい。分子量が１０００以上であると、製膜性が良好となる。

　　本明細書における重量平均分子量は、例えば、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定することができる。具体的には、下記の条件で測定することができる。
・カラム：ＧＰＣカラム　ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒ　ＨＺＭ－Ｈ（東ソー社製）
・溶媒：テトラヒドロフラン
・標準物質：単分散ポリスチレン

　変性シリコーンレジン及びストレートシリコーンレジンを調製するために使用するシラン化合物としては、
　テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラｎ－プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラｎ－ブトキシシラン、テトライソブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、クミルトリメトキシシラン、トリルトリメトキシシラン、３，３，３－トリフロロプロピルトリメトキシシラン、γ－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、γ－アミノプロピルトリエトキシシラン、γ－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ－メルカプトプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－β（アミノエチル）－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－β（アミノエチル）－γ－アミノプロピルトリエトキシシラン、β－シアノエチルトリエトキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α－グリシドキシエチルトリメトキシシラン、α－グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β－グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β－グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリメトキシエトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリフェノキシシラン、α－グリシドキシブチルトリメトキシシラン、α－グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β－グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β－グリシドキシブチルトリエトキシシラン、γ－グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシブチルトリエトキシシラン、δ－グリシドキシブチルトリメトキシシラン、δ－グリシドキシブチルトリエトキシシラン、（３，４－エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキシシラン、（３，４－エポキシシクロヘキシル）メチルトリエトキシシラン、β－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、β－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリプロポキシシラン、β－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリブトキシシラン、β－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリフェノキシシラン、γ－（３，４－エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシラン、γ－（３，４－エポキシシクロヘキシル）プロピルトリエトキシシラン、δ－（３，４－エポキシシクロヘキシル）ブチルトリエトキシシランなどのトリアルコキシ、トリアシルオキシまたはトリフェノキシシラン類、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ－メルカプトプロピルメチルジメチルジメトキシシラン、γ－メルカプトプロピルジエトキシシラン、γ－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ－アミノプロピルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、グリシドキシメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルジエトキシシラン、α－グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、α－グリシドキシエチルジエトキシシラン、β－グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、β－グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、α－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、α－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、β－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシラン、γ－グリシドキシプロピルメチルジブトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルメチルジメトキシエトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルメチルジフェノキシシラン、γ－グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルエチルジエトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルエチルジプロポキシシラン、γ－グリシドキシプロピルビニルジメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルビニルジエトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルフェニルジメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシランなどのアルコキシシランまたはジアシルオキシシラン類、ジメトキシメチルシラン、トリメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジアセトキシメチルシラン、ジエトキシメチルシラン、ジエチルメチルシラン、トリエチルシラン、ブチルジメチルシラン、ジメチルフェニルシラン、メチルフェニルビニルシラン、ジフェニルメチルシラン、トリプロピルシラン、トリペンチルオキシシラン、トリフェニルシラン、トリヘキシルシラン、ジエチルシラン、アリルジメチルシラン、メチルフェニルシラン、ジフェニルシラン、フェニルシラン、オクチルシラン、１，４－ビス（ジメチルシリル）ベンゼン、および１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン、ジメチルトリルシラン、メチルトリルビニルシラン、ジトリルメチルシラン、トリトリルシラン、ジメチルベンジルシラン、メチルベンジルビニルシラン、ジベンジルメチルシラン、トリベンジルシラン、ジフェニルシラン、２－クロロエチルシラン、ビス［（ｐ－ジメチルシリル）フェニル］エーテル、１，４－ジメチルジシリルエタン、１，３，５－トリス（ジメチルシリル）ベンゼン、１，３，５－トリメチル－１，３，５－トリシラン、ポリ（メチルシリレン）フェニレン、及びポリ（メチルシリレン）メチレン、テトラクロロシラン、トリクロロシラン、トリエトキシシラン、トリ－ｎ－プロポキシシラン、トリ－ｉ－プロポキシシラン、トリ－ｎ－ブトキシシラン、トリ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、フルオロトリクロロシラン、フルオロトリメトキシシラン、フルオロトリエトキシシラン、フルオロトリ－ｎ－プロポキシシラン、フルオロトリ－ｉ－プロポキシシラン、フルオロトリ－ｎ－ブトキシシラン、フルオロトリ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、メチルトリクロロシラン、メチルトリ－ｎ－プロポキシシラン、メチルトリ－ｉ－プロポキシシラン、メチルトリ－ｎ－ブトキシシラン、メチルトリ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、２－（トリフルオロメチル）エチルトリクロロシシラン、２－（トリフルオロメチル）エチルトリメトキシシラン、２－（トリフルオロメチル）エチルトリエトキシシラン、２－（トリフルオロメチル）エチルトリ－ｎ－プロポキシシラン、２－（トリフルオロメチル）エチルトリ－ｉ－プロポキシシラン、２－（トリフルオロメチル）エチルトリ－ｎ－ブトキシシラン、２－（トリフルオロメチル）エチルトリ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、２－（パーフルオロ－ｎ－ヘキシル）エチルトリクロロシラン、２－（パーフルオロ－ｎ－ヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２－（パーフルオロ－ｎ－ヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２－（パーフルオロ－ｎ－ヘキシル）エチルトリ－ｎ－プロポキシシラン、２－（パーフルオロ－ｎ－ヘキシル）エチルトリ－ｉ－プロポキシシラン、２－（パーフルオロ－ｎ－ヘキシル）エチルトリ－ｎ－ブトキシシラン、２－（パーフルオロ－ｎ－ヘキシル）エチルトリ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、２－（パーフルオロ－ｎ－オクチル）エチルトリクロロシラン、２－（パーフルオロ－ｎ－オクチル）エチルトリメトキシシラン、２－（パーフルオロ－ｎ－オクチル）エチルトリエトキシシラン、２－（パーフルオロ－ｎ－オクチル）エチルトリ－ｎ－プロポキシシラン、２－（パーフルオロ－ｎ－オクチル）エチルトリ－ｉ－プロポキシシラン、２－（パーフルオロ－ｎ－オクチル）エチルトリ－ｎ－ブトキシシラン、２－（パーフルオロ－ｎ－オクチル）エチルトリ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、ヒドロキシメチルトリクロロシラン、ヒドロキシメチルトリメトキシシラン、ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、ヒドロキシメチルトリ－ｎ－プロポキシシラン、ヒドロキシメチルトリ－ｉ－プロポキシシラン、ヒドロキシメチルトリ－ｎ－ブトキシシラン、ヒドロキシメチルトリ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、３－（メタ）アクリロキシプロピルトリクロロシラン、３－（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－（メタ）アクリロキシプロピルトリ－ｎ－プロポキシシラン、３－（メタ）アクリロキシプロピルトリ－ｉ－プロポキシシラン、３－（メタ）アクリロキシプロピルトリ－ｎ－ブトキシシラン、３－（メタ）アクリロキシプロピルトリ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリクロロシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリ－ｎ－プロポキシシラン、３－メルカプトプロピルトリ－ｉ－プロポキシシラン、３－メルカプトプロピルトリ－ｎ－ブトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリ－ｎ－プロポキシシラン、ビニルトリ－ｉ－プロポキシシラン、ビニルトリ－ｎ－ブトキシシラン、ビニルトリ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、アリルトリクロロシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリ－ｎ－プロポキシシラン、アリルトリ－ｉ－プロポキシシラン、アリルトリ－ｎ－ブトキシシラン、アリルトリ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、フェニルトリクロロシラン、フェニルトリ－ｎ－プロポキシシラン、フェニルトリ－ｉ－プロポキシシラン、フェニルトリ－ｎ－ブトキシシラン、フェニルトリ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、メチルジクロロシラン、メチルジエトキシシラン、メチルジ－ｎ－プロポキシシラン、メチルジ－ｉ－プロポキシシラン、メチルジ－ｎ－ブトキシシラン、メチルジ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジ－ｎ－プロポキシシラン、ジメチルジ－ｉ－プロポキシシラン、ジメチルジ－ｎ－ブトキシシラン、ジメチルジ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、（メチル）〔２－（パーフルオロ－ｎ－オクチル）エチル〕ジクロロシラン、（メチル）〔２－（パーフルオロ－ｎ－オクチル）エチル〕ジメトキシシラン、（メチル）〔２－（パーフルオロ－ｎ－オクチル）エチル〕ジエメトキシシラン、（メチル）〔２－（パーフルオロ－ｎ－オクチル）エチル〕ジ－ｎ－プロポキシシラン、（メチル）〔２－（パーフルオロ－ｎ－オクチル）エチル〕ジ－ｉ－プロポキシシラン、（メチル）〔２－（パーフルオロ－ｎ－オクチル）エチル〕ジ－ｎ－ブトキシシラン、（メチル）〔２－（パーフルオロ－ｎ－オクチル）エチル〕ジ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、（メチル）（γ－グリシドキシプロピル）ジクロロシラン、（メチル）（γ－グリシドキシプロピル）ジメトキシシラン、（メチル）（γ－グリシドキシプロピル）ジエトキシシラン、（メチル）（γ－グリシドキシプロピル）ジ－ｎ－プロポキシシラン、（メチル）（γ－グリシドキシプロピル）ジ－ｉ－プロポキシシラン、（メチル）（γ－グリシドキシプロピル）ジ－ｎ－ブトキシシラン、（メチル）（γ－グリシドキシプロピル）ジ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、（メチル）（３－メルカプトプロピル）ジクロロシラン、（メチル）（３－メルカプトプロピル）ジ
メトキシシラン、（メチル）（３－メルカプトプロピル）ジエトキシシラン、（メチル）（３－メルカプトプロピル）ジ－ｎ－プロポキシシラン、（メチル）（３－メルカプトプロピル）ジ－ｉ－プロポキシシラン、（メチル）（３－メルカプトプロピル）ジ－ｎ－ブトキシシラン、（メチル）（３－メルカプトプロピル）ジ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、（メチル）（ビニル）ジクロロシラン、（メチル）（ビニル）ジメトキシシラン、（メチル）（ビニル）ジエトキシシラン、（メチル）（ビニル）ジ－ｎ－プロポキシシラン、（メチル）（ビニル）ジ－ｉ－プロポキシシラン、（メチル）（ビニル）ジ－ｎ－ブトキシシラン、（メチル）（ビニル）ジ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、ジビニルジクロロシラン、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジエトキシシラン、ジビニルジ－ｎ－プロポキシシラン、ジビニルジ－ｉ－プロポキシシラン、ジビニルジ－ｎ－ブトキシシラン、ジビニルジ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、ジフェニルジクロロシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジ－ｎ－プロポキシシラン、ジフェニルジ－ｉ－プロポキシシラン、ジフェニルジ－ｎ－ブトキシシラン、ジフェニルジ－ｓｅｃ－ブトキシシラン、クロロジメチルシラン、メトキシジメチルシラン、エトキシジメチルシラン、クロロトリメチルシラン、ブロモトリメチルシシラン、ヨードトリメチルシラン、メトキシトリメチルシラン、エトキシトリメチルシラン、ｎ－プロポキシトリメチルシラン、ｉ－プロポキシトリメチルシラン、ｎ－ブトキシトリメチルシラン、ｓｅｃ－ブトキシトリメチルシラン、ｔ－ブトキシトリメチルシラン、（クロロ）（ビニル）ジメチルシラン、（メトキシ）（ビニル）ジメチルシラン、（エトキシ）（ビニル）ジメチルシラン、（クロロ）（メチル）ジフェニルシラン、（メトキシ）（メチル）ジフェニルシラン、（エトキシ）（メチル）ジフェニルシラン等をそれぞれ挙げることができる。但し、本発明はこれらの具体例により限定されない。

　変性シリコーンレジン及びストレートシリコーンレジンなどの上記シリコーンレジンとしては、市販のものを用いることができる。商品名では、例えば、
　ＫＣ－８９、ＫＣ－８９Ｓ、Ｘ－２１－３１５３、Ｘ－２１－５８４１、Ｘ－２１－５８４２、Ｘ－２１－５８４３、Ｘ－２１－５８４４、Ｘ－２１－５８４５、Ｘ－２１－５８４６、Ｘ－２１－５８４７、Ｘ－２１－５８４８、Ｘ－２２－１６０ＡＳ、Ｘ－２２－１７０Ｂ、Ｘ－２２－１７０ＢＸ、Ｘ－２２－１７０Ｄ、Ｘ－２２－１７０ＤＸ、Ｘ－２２－１７６Ｂ、Ｘ－２２－１７６Ｄ、Ｘ－２２－１７６ＤＸ、Ｘ－２２－１７６Ｆ、Ｘ－２２－３７１０ＳＴ、Ｘ－４０－２３０８、Ｘ－４０－２６５１、Ｘ－４０－２６５５Ａ、Ｘ－４０－２６７１、Ｘ－４０－２６７２、Ｘ－４０－９２２０、Ｘ－４０－９２２５、Ｘ－４０－９２２６、Ｘ－４０－９２２７、Ｘ－４０－９２４６、Ｘ－４０－９２４７、Ｘ－４０－９２５０、Ｘ－４０－９３２３、Ｘ－４０－２４６０Ｍ、Ｘ－４１－１０５３、Ｘ－４１－１０５６、Ｘ－４１－１８０５、Ｘ－４１－１８１０、ＫＦ６００１、ＫＦ６００２、ＫＦ６００３、ＫＲ－２１２、ＫＲ－２１３、ＫＲ－２１７、ＫＲ－２２０、ＫＲ－２４０、ＫＲ－２４２Ａ、ＫＲ－２５１、ＫＲ－２５３、ＫＲ－２５５、ＫＲ－２７１、ＫＲ－２８２、ＫＲ－３００、ＫＲ－３１１、ＫＲ－４００、ＫＲ－４０１Ｎ、ＫＲ－５００、ＫＲ－５１０、ＫＲ－５２０６、ＫＲ－５２３０、ＫＲ－５２３５、ＫＲ－９２１８、ＫＲ－９７０６、ＫＲ－１６５、ＳＭＰ－２００３ＰＧＭＥＡ、ＥＳ－１０２３（以上、信越化学工業（株）社）；
　ＳＨ８０４、ＳＨ８０５、ＳＨ８０６Ａ、ＳＨ８４０、ＳＲ２４００、ＳＲ２４０２、ＳＲ２４０５、ＳＲ２４０６、ＳＲ２４１０、ＳＲ２４１１、ＳＲ２４１６、ＳＲ２４２０（以上、東レ・ダウコーニング社）；
　ＹＲ３１８７、ＹＲ３３７０、ＴＳＲ１２７Ｂ（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社）
　ＦＺ３７１１、ＦＺ３７２２（以上、日本ユニカー社）；
　ＤＭＳ－Ｓ１２、ＤＭＳ－Ｓ１５、ＤＭＳ－Ｓ２１、ＤＭＳ－Ｓ２７、ＤＭＳ－Ｓ３１、ＤＭＳ－Ｓ３２、ＤＭＳ－Ｓ３３、ＤＭＳ－Ｓ３５、ＤＭＳ－Ｓ３８、ＤＭＳ－Ｓ４２、ＤＭＳ－Ｓ４５、ＤＭＳ－Ｓ５１、ＤＭＳ－２２７、ＰＳＤ－０３３２、ＰＤＳ－１６１５、ＰＤＳ－９９３１、ＸＭＳ－５０２５（以上、チッソ社）；
　メチルシリケートＭＳ５１、メチルシリケートＭＳ５６（以上、三菱化学社）；
　エチルシリケート２８、エチルシリケート４０、エチルシリケート４８（以上、コルコート社）；
　グラスレジンＧＲ１００、ＧＲ６５０、ＧＲ９０８、ＧＲ９５０（以上、昭和電工社）等の部分縮合物：
が挙げられる。但し、本発明はこれらの具体例により限定されない。

　本発明の硬化性組成物は、硬化性組成物の金属酸化物を除く固形分の量に対して、有機基およびシロキサン結合を持つ化合物の含有量が８０質量％以上であることが好ましく、８５質量％以上であることがより好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましく、９５質量％以上であることがより特に好ましい。

＜他の重合性化合物＞
　硬化性組成物が有機基およびシロキサン結合を持つ化合物以外の他の重合性化合物を含んでいてもよい。
　他の重合性化合物としては、光重合性化合物が好ましい。光重合性化合物の有する光重合性基としては特に制限は無く、エチレン性不飽和基、エポキシ基などを挙げることができる。硬化性組成物に用いられる重合性化合物は、エチレン性不飽和結合含有化合物が好ましく、（メタ）アクリロイル基を有する化合物を含むことがより好ましい。
　エチレン性不飽和結合含有化合物としては、特許第４０９８５５０号の段落＜００２３＞～＜００２４＞に記載の重合性化合物や、トリシクロデカンジオールジメタノールジアクリレートなどの２官能の重合性化合物を用いることができる。
　硬化性組成物には、ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）、ジペンタエリスリトール（ペンタ／ヘキサ）アクリレートやトリペンタエリスリトールオクタアクリレートなどの少なくとも５つのエチレン性不飽和基を有する重合性化合物；ウレタン（メタ）アクリレート化合物などのウレタン系モノマー；エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレートやトリシクロデカンジオールジメタノールジアクリレートなどの２官能の重合性化合物を好ましく用いることができる。
　硬化性組成物が、少なくとも５つのエチレン性不飽和基を有する重合性化合物を含むことが感度の観点から好ましい。
　他の重合性化合物は、１種のみを単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよいが、２種以上を組み合わせて用いることが、感度の観点から好ましい。
　他の重合性化合物は有機基およびシロキサン結合を持つ化合物に対して５０質量％以下の範囲で使用することが好ましく、２０質量％以下の範囲で使用することがより好ましく、１０質量％以下の範囲で使用することが特に好ましく、５質量％以下の範囲で使用することがより特に好ましく、実質的に０質量％であることがさらにより特に好ましい。
　他の重合性化合物は、平均分子量が２００～３０００であることが好ましく、２５０～２６００であることがより好ましく、２８０～２２００であることが特に好ましい。

＜触媒＞
　硬化性組成物が触媒を含むことが、上記有機基およびシロキサン結合を持つ化合物を含む硬化膜を硬化して脆性を改善する観点から好ましい。特に、有機基およびシロキサン結合を持つ化合物を２種以上用いる場合、脱水・脱アルコール縮合反応させることによる架橋促進のために触媒が好ましく用いられる。
　上記触媒として公知の触媒が使用できる。
　好ましい触媒としては、金属成分としてスズ（Ｓｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、鉄（Ｆｅ）、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ビスマス（Ｂｉ）、ハフニウム（Ｈｆ）、イットリウム（Ｙ）、アルミニウム（Ａｌ）、ホウ素（Ｂ）及びガリウム（Ｇａ）からなる群から選ばれる少なくとも一種の金属の有機錯体又は有機酸塩のような有機金属化合物触媒が挙げられる。
　これらの中でもＳｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｇａは、反応活性が高い点で好ましく、ベーク時のひび割れ防止の観点からＺｎまたはＴｉがより好ましく、ポットライフ向上の観点からＺｎが特に好ましい。
　亜鉛（Ｚｎ）を含有する有機金属化合物触媒としては、亜鉛トリアセチルアセトネート、ステアリン酸亜鉛、ビス（アセチルアセトナト）亜鉛（ＩＩ）（一水和物）等が挙げられる。
　スズ（Ｓｎ）、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（Ｈｆ）、ガリウム（Ｇａ）を含有する有機金属化合物触媒の例としては、例えば、特開２０１２－２３８６３６号公報に記載の触媒を好ましく用いることができる。
　上記触媒としては市販の触媒を用いることもできる。例えば、亜鉛系縮合触媒Ｄ－１５（信越化学工業式会社製）などを挙げることができる。
　上記触媒は１種類を単独で用いてもよく、また２種類以上を任意の組み合わせ及び比率で用いてもよい。また反応促進剤や反応抑制剤と併用してもよい。
　上記触媒の含有量は、上記有機基およびシロキサン結合を持つ化合物に対して、０．０１～１０質量％であることがベーク時のひび割れ防止およびポットライフ向上の観点から好ましく、より好ましくは０．０３～５．０質量％である。

＜重合開始剤＞
　硬化性組成物は、光硬化性樹脂や光重合開始剤を含んでいても含んでいなくてもよい。硬化性組成物に用いられる光重合開始剤としては、特開２０１１－９５７１６号公報に記載の＜００３１＞～＜００４２＞に記載の光重合開始剤を用いることができる。
なお、本発明の硬化性組成物は、光重合開始剤を含まないことが好ましい。そのため、上記有機基およびシロキサン結合を持つ化合物は熱硬化性であることが好ましい。

＜金属酸化物＞
　本発明の硬化性組成物では、さらに金属酸化物を含有することが好ましく、これにより、透明導電膜をパターン形成して得られた透明電極パターンが視認されてしまう問題（骨見え＝Ｓｋｅｌｅｔｏｎ　ｖｉｓｉｂｉｌｉｔｙ）の発生を防止することができる。すなわち、本発明では、硬化膜に屈折率調整層としての機能を持たせることが好ましい。
　硬化性組成物は、屈折率や光透過性を調節することを目的として、金属酸化物粒子を含有することが好ましい。金属酸化物粒子は、高屈折率で透明性が高く、光透過性を有するため、強化処理ガラスよりも透明導電膜に近い高屈折率で、透明性に優れた硬化性組成物が得られる。なお、前述した特許文献１（ＷＯ２０１４／０３０５９９）では「透明な有機化合物からなる下地絶縁膜」を用いており、下地絶縁膜に金属酸化物を添加することは想定されていない。
　金属酸化物粒子は、金属酸化物粒子を除いた材料からなる硬化性組成物の屈折率より屈折率が高いものであることが好ましく、具体的には、４００～７５０ｎｍの波長を有する光における屈折率が１．５０以上の粒子がより好ましく、屈折率が１．７０以上の粒子が更に好ましく、１．９０以上の粒子が特に好ましい。
　ここで、４００～７５０ｎｍの波長を有する光における屈折率が１．５０以上であるとは、上記範囲の波長を有する光における平均屈折率が１．５０以上であることを意味し、上記範囲の波長を有する全ての光における屈折率が１．５０以上であることを要しない。また、平均屈折率は、上記範囲の波長を有する各光に対する屈折率の測定値の総和を、測定点の数で割った値である。

　なお、金属酸化物粒子の「金属」には、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｔｅ等の半金属も含まれるものとする。
　光透過性で屈折率の高い金属酸化物粒子として、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｔｅ等の原子を含む酸化物粒子が好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、インジウム／スズ酸化物、アンチモン／スズ酸化物がより好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化ジルコニウムが更に好ましく、酸化チタン、酸化ジルコニウムが特に好ましく、二酸化チタンが最も好ましい。二酸化チタンとしては、特に屈折率の高いルチル型が好ましい。これら金属酸化物粒子は、分散安定性付与のために表面を有機材料で処理することもできる。

　硬化性組成物の透明性の観点から、金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、１～２００ｎｍが好ましく、３～８０ｎｍが特に好ましい。ここで粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡により任意の粒子２００個の粒子径を測定し、その算術平均をいう。また、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を径とする。

　また、金属酸化物粒子は、１種単独で使用してよいし、２種以上を併用することもできる。
　その他の金属酸化物としては、特開２０１３－９７３６２号公報の段落＜００２１＞に記載の金属酸化物などを用いることができる。
　硬化性組成物における金属酸化物粒子の含有量は、硬化性組成物により得られる光学部材に要求される屈折率や、光透過性等を考慮して、適宜決定すればよいが、硬化性組成物の全固形分に対して、５～８０質量％とすることが好ましく、５～７０質量％とすることがより好ましく、１０～７０質量％とすることが特に好ましい。
　硬化性組成物が、酸化ジルコニウム粒子および酸化チタン粒子のうち少なくとも一方を有することが、硬化膜の屈折率を好ましい範囲に制御する観点から好ましく、酸化ジルコニウム粒子がより好ましい。
　金属酸化物粒子が酸化ジルコニウムである場合、硬化性組成物が金属酸化物粒子を４０．０～８０質量％含有することが好ましく、４０．０～７０質量％含有することがより好ましく、４０．０～６９．８質量％含有することが特に好ましく、４０．０質量％を超え６９．８質量％以下含有することがより特に好ましく、５０．０～６５．０質量％含有することがさらにより特に好ましく、６０．０～６５．０質量％含有することが最も好ましい。金属酸化物粒子が酸化チタンである場合、硬化性組成物が金属酸化物粒子を３０～７０質量％含有することが好ましい。
　硬化性組成物から得られる硬化膜の金属酸化物粒子の含有量を測定する方法は、以下のとおりである。
　硬化膜の断面を切削した後、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で、断面を観察する。硬化膜の膜断面積における、金属酸化物粒子の占有面積の割合を層内の任意の３箇所で測定し、その平均値を体積分率（ＶＲ）と見なす。
　体積分率（ＶＲ）と重量分率（ＷＲ）は、下記の式で換算することにより、硬化膜内における金属酸化物粒子の重量分率（ＷＲ）を算出する。
　ＷＲ＝１／（１．１＊（１／（Ｄ＊ＶＲ）－１）＋１）
　Ｄ：金属酸化物粒子の比重
　金属酸化物粒子が、酸化チタンの場合Ｄ＝４．０、酸化ジルコニウムの場合Ｄ＝６．０として計算することができる。

＜添加剤＞
　さらに、上記硬化性組成物には、その他の添加剤を用いてもよい。上記添加剤としては、例えば特許第４５０２７８４号公報の段落００１７、特開２００９－２３７３６２号公報の段落００６０～００７１に記載の界面活性剤や、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載の熱重合防止剤、さらに、特開２０００－３１０７０６号公報の段落００５８～００７１に記載のその他の添加剤が挙げられる。硬化性組成物がバインダーを含んでいてもよいが、実質的に含まないことが好ましい。バインダーとしては、バインダーとしては本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限は無く、公知のものの中から適宜選択でき、アルカリ可溶性高分子化合物が好ましい。アルカリ可溶性高分子化合物としては、特開２０１１－９５７１６号公報の段落＜００２５＞、特開２０１０－２３７５８９号公報の段落＜００３３＞～＜００５２＞に記載のポリマーを用いることができる。
　上記硬化性組成物に含まれる界面活性剤の濃度は硬化性組成物の全固形分に対して０．０１質量％～１０質量％が好ましい。

＜溶剤＞
　また、硬化性組成物層を塗布により製造する際の溶剤としては、特開２０１１－９５７１６号公報の段落００４３～００４４に記載の溶剤を用いることができる。

＜用途＞
　本発明の硬化性組成物は、硬化性組成物が０．１μｍ以上５μｍ未満の硬化膜を形成するための硬化性組成物であることが好ましく、０．７～４μｍの硬化膜を形成するための硬化性組成物であることがより好ましく、１～３μｍの硬化膜を形成するための硬化性組成物であることが特に好ましい。
　硬化膜の厚みが上記の下限値よりも厚い方が、強化処理されたガラスの透明導電膜の形成による面強度低下を抑制する観点から好ましい。硬化膜の厚みが上記の上限値よりも薄い方が、有機基およびシロキサン結合を持つ化合物の熱収縮を抑制して有機基およびシロキサン結合を持つ化合物の熱収縮に伴う強化処理ガラスの歪みによる面強度の低下を抑制する観点と、透明導電膜をエッチングする際にエッチングレジストに用いられるＰＧＭＥＡなどの有機溶媒による硬化膜の膨潤を抑制して有機溶媒耐性を高める観点から好ましい。
　本発明の硬化性組成物は、前面板一体型センサーが通常画像表示領域を囲う枠状に有する加飾層とガラスとの段差を埋めるために用いてもよいが、加飾層とガラスとの段差を埋める必要はない。加飾層とガラスとの段差を埋める高さと同程度の厚みに調整するよりも、前述の強化処理されたガラスの透明導電膜の形成による面強度低下の抑制や有機溶剤耐性を高めるために、硬化性組成物層は転写フィルムに用いる段階で前述の硬化膜の好ましい膜厚程度の厚みに調製しておくことが好ましい。

［転写フィルム］
　本発明の転写フィルムは、仮支持体と、本発明の硬化性組成物を含む硬化性組成物層と、を含む。
　また、本発明の転写フィルムは、仮支持体と硬化性組成物層との間に熱可塑性樹脂層を有していてもよい。
　本発明の転写フィルムの一例の断面を示す概略図を図１０に示す。図１０に示した転写フィルム３０は、仮支持体２６、熱可塑性樹脂層２７、中間層２８、本発明の硬化性組成物を含む硬化性組成物層２５および保護剥離層（保護フィルム）２９がこの順で積層された構成である。
　以下、各層の好ましい構成など、転写フィルムの好ましい態様について説明する。

＜仮支持体＞
　仮支持体としては、可撓性を有し、加圧下または、加圧および加熱下で著しい変形、収縮もしくは伸びを生じない材料を用いることができる。このような仮支持体の例として、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられ、中でも２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。

　仮支持体の厚みには、特に制限はなく、５～２００μｍの範囲が一般的であり、取扱い易さ、汎用性などの点で、特に１０～１５０μｍの範囲が好ましい。
　また、仮支持体は透明でもよいし、酸化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウム塩などを含有していてもよい。
　また、仮支持体には、特開２００５－２２１７２６号公報に記載の方法などにより、導電性を付与することができる。

＜硬化性組成物層＞
　本発明の転写フィルムは、本発明の硬化性組成物を含む硬化性組成物層を含む。

　硬化性組成物層の１００℃で測定した粘度が１～５００００Ｐａ・ｓｅｃの領域にあることが好ましい。

　ここで、各層の粘度は、次のようにして測定できる。大気圧および減圧乾燥により、硬化性組成物や熱可塑性樹脂層用塗布液から溶剤を除去して測定サンプルとし、例えば、測定器として、バイブロン（ＤＤ－ＩＩＩ型：東洋ボールドウィン（株）製）を使用し、測定開始温度５０℃、測定終了温度１５０℃、昇温速度５℃／分および振動数１Ｈｚ／ｄｅｇの条件で測定し、１００℃の測定値を用いることができる。

＜熱可塑性樹脂層＞
　転写フィルムは、仮支持体と硬化性組成物層との間に熱可塑性樹脂層が設けられることが好ましい。熱可塑性樹脂層はアルカリ可溶性であることが好ましい。熱可塑性樹脂層は、下地表面の凹凸（既に形成されている画像などによる凹凸等も含む。）を吸収することができるようにクッション材としての役割を担うものであり、対象面の凹凸に応じて変形しうる性質を有していることが好ましい。

　熱可塑性樹脂層は、特開平５－７２７２４号公報に記載の有機高分子物質を成分として含む態様が好ましく、ヴィカー（Ｖｉｃａｔ）法〔具体的には、アメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法〕による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選ばれる少なくとも１種を含む態様が特に好ましい。

　具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニルまたはそのケン化物等とのエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステルまたはそのケン化物との共重合体、ポリ塩化ビニルや塩化ビニルと酢酸ビニルまたはそのケン化物等との塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステルまたはそのケン化物等とのスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステルまたはそのケン化物等とのビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等との（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ－アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ－ジメチルアミノ化ナイロン等のポリアミド樹脂、ポリエステル、などの有機高分子が挙げられる。

　また、熱可塑性樹脂層に剥離性を制御するための発泡剤等を添加することが好ましく、特開２００７－２２５９３９号公報の段落００２０～００２８に記載のものを適宜使用することができる。

　熱可塑性樹脂層に界面活性剤を添加することも好ましく、例えば特許第４５０２７８４号公報の段落００１７、特開２００９－２３７３６２号公報の段落００６０～００７１に記載のものを適宜使用することができる。

　熱可塑性樹脂層の層厚は、３～３０μｍが好ましい。熱可塑性樹脂層の層厚が３μｍ以上の場合には、ラミネート時の追随性が十分で、下地表面の凹凸を完全に吸収しやすい。また、層厚が３０μｍ以下である場合には、仮支持体への熱可塑性樹脂層の形成時の乾燥（溶剤除去）に負荷がかかりにくく、熱可塑性樹脂層の現像に時間を要し過ぎず、プロセス適性が良好となる。熱可塑性樹脂層の層厚としては、４～２５μｍが更に好ましく、５～２０μｍが特に好ましい。

　熱可塑性樹脂層は、熱可塑性の有機高分子を含む調製液を塗布等して形成することができ、塗布等の際に用いる調製液は溶媒を用いて調製できる。溶媒には、熱可塑性樹脂層を構成する高分子成分を溶解し得るものであれば特に制限なく、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ｎ－プロパノール、２－プロパノール等が挙げられる。

　熱可塑性樹脂層の１００℃で測定した粘度が１０００～５００００Ｐａ・ｓｅｃの領域にあることが好ましい。

＜他の層＞
　転写フィルムには、硬化性組成物層と熱可塑性樹脂層との間に中間層を設けたり、あるいは硬化性組成物層の表面に保護フィルムなどを更に設けたりして好適に構成することができる。

　転写フィルムには、複数層を塗布する際および塗布後の保存の際における成分の混合を防止する目的で、中間層を設けることが好ましい。中間層としては、特開平５－７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜が好ましく、露光時の感度がアップし、露光機の時間負荷を低減し得、生産性が向上する。

　中間層および保護フィルムとしては、特開２００６－２５９１３８号公報の段落００８３～００８７および００９３に記載のものを適宜使用することができる。

＜転写フィルムの作製方法＞
　本発明の転写フィルムは、特開２００６－２５９１３８号公報の段落００９４～００９８に記載の感光性転写材料の作製方法に準じて作製することができる。
　中間層を有する転写フィルムを形成する場合には、仮支持体上に、熱可塑性の有機高分子と共に添加剤を含む調整液（熱可塑性樹脂層用塗布液）を塗布し、乾燥させて熱可塑性樹脂層を設けた後、この熱可塑性樹脂層上に熱可塑性樹脂層を溶解しない溶剤に樹脂や添加剤を加えて調製した調製液（中間層用塗布液）を塗布し、乾燥させて中間層を積層し、この中間層上に更に、中間層を溶解しない溶剤を用いて調製した本発明の硬化性組成物を塗布し、乾燥させて、熱可塑性樹脂層、中間層および硬化性組成物層を積層することによって、好適に作製することができる。

［画像表示装置の前面板］
　本発明の画像表示装置の前面板は、強化処理されたガラスと、ガラスの一方の面に形成される透明導電膜と、ガラスとガラスの一方の面に形成される透明導電膜との間に配置された硬化膜と、を有し、
　硬化膜が、本発明の硬化性組成物を硬化した硬化膜であるか、あるいは、本発明の転写フィルムの硬化性組成物層をガラスに積層した硬化性組成物を硬化した硬化膜である。

＜構成＞
　まず、本発明の画像表示装置の前面板の構成を、図面を参照しながら説明する。
　図１は、本発明の画像表示装置の前面板の一例の断面を示す概略図である。図１の画像表示装置の前面板１０は、強化処理されたガラス１と、強化処理されたガラス１の一方の面に形成される透明導電膜３または４と、強化処理されたガラス１と透明導電膜３または４との間に配置された硬化膜１２とを有し、硬化膜１２が、強化処理されたガラス１と透明導電膜３または４との間にのみ形成された構成である。
　図２は、本発明の画像表示装置の前面板の他の一例の断面を示す概略図である。図２の画像表示装置の前面板１０は、強化処理されたガラス１と、強化処理されたガラス１の一方の面に形成される透明導電膜３または４と、強化処理されたガラス１と透明導電膜３または４との間に配置された硬化膜１２とを有し、硬化膜１２が、少なくとも透明導電膜３または４の形成された領域（静電容量型入力装置の入力面）において、ガラスを全面的に覆う連続膜として形成された構成である。
　このような構成により、本発明の画像表示装置の前面板は強化処理されたガラスの透明導電膜の形成による面強度低下が抑制でき、透過率も高い。

＜強化処理されたガラス＞
　画像表示装置の前面板は、強化処理されたガラスを有する。強化処理されたガラスの透明導電層や透明電極パターンが設けられたセンサー面の面強度は、透明導電膜の形成による面強度低下が起こるため、十分に高くならない。本発明では、強化処理されたガラスとガラスの一方の面に形成される透明導電膜との間に、有機基およびシロキサン結合を持つ化合物を含有する硬化性組成物を用いて硬化膜を形成することで、強化処理されたガラスの透明導電膜の形成による面強度低下が抑制でき、透過率も高くなる。
　強化処理されたガラスとは、表面に、強化層（圧縮応力層）を形成して圧縮応力を働かせることにより、強度を高めたガラスである。
　強化処理されたガラスの製造方法としては、加熱と冷却によるガラスの膨張と収縮を利用して、強化層を形成する物理強化法（風冷強化法）と、ガラス中のアルカリイオンをよりイオン半径の大きな他のアルカリイオンと交換することで、強化層を形成する化学強化法が知られている。
　タッチパネルのカバーガラスなどの薄いガラスでは、一般的に、化学強化法により強化処理されたガラス、いわゆる化学強化ガラスが利用される。一方、物理強化法により強化処理されたガラス、いわゆる物理強化ガラスを用いてもよい。
　本発明に用いられる強化処理されたガラスとしては、前述の化学強化ガラスや物理強化ガラス等の強化ガラスが例示される。化学強化や物理強化は、公知の方法で行えばよい。中でも、アルミノシリケート化学強化ガラス、ソーダライム化学強化ガラス等は、好適に利用される。
　強化処理されたガラスの厚さは、公知のタッチセンサに用いられるカバーガラスと同様でよい。なお、強化処理されたガラスの厚さは、通常、０．３～１．５ｍｍであり、好ましくは、０．５～１．１ｍｍである。
　強化処理されたガラスとしては、ＷＯ２０１４／０３０５９９の＜００２１＞～＜００２３＞に記載の強化処理されたガラスを用いることができ、この公報の内容は本発明に組み込まれる。

　更に、強化処理されたガラス１には、図４に示すように一部に開口部８を設けることができる。開口部８には、押圧式のメカニカルなスイッチを設置することができる。

＜硬化膜＞
　本発明の画像表示装置の前面板は、本発明の硬化性組成物を硬化した硬化膜を有する。

（膜厚）
　硬化膜の膜厚は０．１～１０μｍとすることができるが、本発明の硬化性組成物の＜用途＞の説明部分に記載したとおり、０．１μｍ以上５μｍ未満であることが好ましく、０．７～４μｍであることがより好ましく、１～３μｍであることが特に好ましい。

＜透明導電膜＞
　本発明の画像表示装置の前面板は、ガラスの一方の面に形成される透明導電膜を有する。
　透明導電膜は、連続膜の形状であっても、タッチパネルなどの静電容量型入力装置のセンサーとして用いられる透明電極パターンの形状であってもよい。連続膜の形状の透明導電膜は、フォトリソグラフィなどの公知の方法によって前面板一体型センサーにおける電極パターンの一部または全部の透明電極パターンとして用いられる。

（透明電極パターン）
　後述する本発明の前面板一体型センサーは、透明導電膜から形成されてなる透明電極パターンを有することが好ましい。
　前面板一体型センサー中、電極パターンは行方向と列方向の略直交する２つの方向にそれぞれ第一の電極パターンおよび第二の電極パターンとして設けられることがある（例えば、図３参照）。例えば図３の構成では、本発明の画像表示装置の前面板における透明導電膜から形成されてなる透明電極パターンは、第二の電極パターン４であっても、第一の電極パターン３であってもよい。
　図３を用いて第一の電極パターン３および第二の電極パターン４について説明する。図３は、第一の電極パターンおよび第二の電極パターンの一例を示す説明図である。図３に示すように、第一の電極パターン３は、パッド部分３ａが接続部分３ｂを介して第一の方向（図３における矢印Ｃの方向）に延在して形成されている。また、第二の電極パターン４は、第一の電極パターン３と絶縁層５によって電気的に絶縁されており、第一の方向に交差する第二の方向（図３における矢印Ｄの方向）に延在して形成された複数のパッド部分によって構成されている。ここで、第一の電極パターン３を形成する場合、前述のパッド部分３ａと接続部分３ｂとを一体として作製してもよいし、接続部分３ｂのみを作製して、パッド部分３ａと第二の電極パターン４とを一体として作製（パターニング）してもよい。パッド部分３ａと第二の電極パターン４とを一体として作製（パターニング）する場合、図３に示すように接続部分３ｂの一部とパッド部分３ａの一部とが連結され、且つ、絶縁層５によって第一の電極パターン３と第二の電極パターン４とが電気的に絶縁されるように各層が形成される。

　前面板一体型センサーは、前述の電極パターンが形成されていない非パターン領域を含むことが好ましい。本明細書中、非パターン領域とは、電極パターンが形成されていない領域を意味する。

　前述の電極パターンの端部は、その形状に特に制限はないがテーパー形状を有していてもよく、例えば、前述の強化処理されたガラス側の面の方が、前述の強化処理されたガラスと反対側の面よりも広いようなテーパー形状を有していてもよい。
　ここで、前述の電極パターンの端部がテーパー形状であるときの電極パターンの端部の角度（以下、テーパー角とも言う）は、３０°以下であることが好ましく、０．１～１５°であることがより好ましく、０．５～５°であることが特に好ましい。
　本明細書中におけるテーパー角の測定方法は、前述の電極パターンの端部の顕微鏡写真を撮影し、その顕微鏡写真のテーパー部分を三角形に近似し、テーパー角を直接測定して求めることができる。
　テーパー部分を近似した三角形の底面は、１０～３０００ｎｍであることが好ましく、１００～１５００ｎｍであることがより好ましく、３００～１０００ｎｍであることが特に好ましい。
　なお、テーパー部分を近似した三角形の高さの好ましい範囲は、電極パターンの膜厚の好ましい範囲と同様である。

　前述の第一の電極パターンが透明電極パターンであっても、透明電極パターンでなくてもよいが、透明電極パターンであることが好ましい。
　前述の第二の電極パターンが透明電極パターンであっても、透明電極パターンでなくてもよいが、透明電極パターンであることが好ましい。

［画像表示装置の前面板の製造方法］
　本発明の画像表示装置の前面板を製造する方法に特に制限はないが、以下に記載する方法によって製造することが好ましい。
　画像表示装置の前面板の好ましい製造方法は、本発明の硬化性組成物を強化処理されたガラス上に製膜する工程、あるいは、本発明の転写フィルムの硬化性組成物層を強化処理されたガラスに積層して硬化性組成物を製膜する工程と；
　硬化性組成物を硬化して硬化膜を製膜する硬化工程と；
　硬化膜上に透明導電膜を形成する工程と；
を含む画像表示装置の前面板の製造方法である。

＜製膜＞
　本発明の画像表示装置の前面板の製造方法は、本発明の硬化性組成物を強化処理されたガラス上に製膜する工程、あるいは、本発明の転写フィルムの硬化性組成物層を強化処理されたガラスに積層して硬化性組成物を製膜する工程を含む。
　上記硬化膜の製膜方法としては特に制限はない。例えば、塗布（印刷を含む）や蒸着などを用いることができる。
　本発明の画像表示装置の前面板の製造方法は、製膜工程が、硬化性組成物を強化処理されたガラス上に塗布する工程、あるいは、本発明の転写フィルムの硬化性組成物層を強化処理されたガラスに積層して硬化性組成物を製膜する工程であることが、蒸着よりも製造コストを下げられる観点から好ましい。また、転写フィルムの硬化性組成物層を強化処理されたガラスに積層して硬化性組成物を製膜する工程は、硬化性組成物を仮支持体上に塗布する工程で得られた転写フィルムの硬化性組成物層を強化処理されたガラスに積層して硬化性組成物を製膜する工程であることが好ましい。
　上記有機基およびシロキサン結合を持つ化合物や他の添加剤を含む本発明の硬化性組成物を塗布液として用いて塗布等して形成することが好ましく、塗布等の際に用いる硬化性組成物は溶媒を用いて調製できる。
　硬化膜の塗布による形成方法としては特に制限は無く、スクリーン印刷などを挙げることができる。

＜硬化＞
　本発明の画像表示装置の前面板の製造方法は、硬化性組成物を硬化して硬化膜を製膜する硬化工程を含む。
　本発明の画像表示装置の前面板の製造方法は、硬化工程が、強化処理されたガラス上で硬化性組成物を２００℃以上で熱処理する工程であることが好ましい。熱処理において、有機基とシロキサン結合を持つ化合物は、加熱により着色せずに硬化させることができる。
　上記熱処理の温度は、２００～３００℃であることがより好ましく、２２０～２６０℃であることが特に好ましい。
　上記熱処理の時間は、１０～１５０分であることがより好ましく、２０～１００分であることが特に好ましい。
　上記熱処理は、空気環境下で行っても、窒素置換環境下で行ってもよいが、空気環境下で行うことが、特別な減圧装置を用いることなく製造コストを低減できる観点から特に好ましい。

＜透明導電膜の形成＞
　本発明の画像表示装置の前面板の製造方法は、硬化膜上に透明導電膜を形成する工程を含む。
　透明導電膜の屈折率は１．７５～２．１であることが好ましい。
　透明導電膜の材料は特に制限されることはなく、公知の材料を用いることができる。例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）やＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｚｉｎｃ　Ｏｘｉｄｅ）などの透光性の導電性金属酸化膜で作製することができる。このような金属膜としては、ＩＴＯ膜；Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ等の金属膜；ＳｉＯ₂等の金属酸化膜などが挙げられる。この際、各要素の、膜厚は１０～２００ｎ
ｍとすることができる。また、焼成により、アモルファスのＩＴＯ膜を多結晶のＩＴＯ膜とするため、電気的抵抗を低減することが好ましい。その中でも、前述の透明導電膜は、ＩＴＯ膜であることが好ましい。
　ＩＴＯ等の透明導電膜の成膜は、スパッタリングや蒸着等の公知の方法で行えばよい。また、前述の第一の電極パターン３と、第二の電極パターン４と、後述する引き回し配線６とは、導電性繊維を用いた光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて製造することもできる。その他、ＩＴＯ等によって第一の電極パターン等を形成する場合には、特許第４５０６７８５号公報の段落００１４～００１６等を参考にすることができる。

（透明電極パターンの形成）
　透明導電膜から、前面板一体型センサーにおける電極パターンの一部または全部の透明電極パターンを形成することが好ましい。透明導電膜から透明電極パターンを形成する方法としては特に制限は無く、フォトリソグラフィなどの公知の方法によって透明導電膜から透明電極パターンを形成することができる。フォトリソグラフィによって透明導電膜から透明電極パターンを形成する場合、エッチングレジストを設けてマスク露光による露光・現像、すなわちエッチング処理を行うことが好ましい。

　エッチング処理によって、透明電極パターンを形成する場合、硬化膜上にＩＴＯ等の透明電極層をスパッタリング等によって形成することが好ましい。次いで、透明電極層上に硬化性樹脂層としてエッチング用光硬化性樹脂層を有する以外は硬化膜の形成に用いる本発明の転写フィルムと同様の転写フィルムを用いて露光・現像によってエッチングパターンを形成することが好ましい。その後、透明電極層をエッチングして透明電極をパターニングし、エッチングパターンを除去することで、透明電極パターンを形成することができる。
　光硬化性樹脂層を有する転写フィルムをエッチングレジスト（エッチングパターン）として用いる場合にも、前述の方法と同様にして、レジストパターンを得ることができる。前述のエッチングは、特開２０１０－１５２１５５公報の段落００４８～００５４等に記載の公知の方法でエッチング、レジスト剥離を適用することができる。

　例えば、エッチングの方法としては、一般的に行われている、エッチング液に浸漬するウェットエッチング法が挙げられる。
　ウェットエッチングに用いられるエッチングレジストは樹脂と溶媒を含むことが好ましい。エッチングレジスト用の樹脂としては特に制限はなく、公知の材料を用いることができる。エッチングレジスト用の溶媒としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよびエトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノンを挙げることができる。エッチングレジスト用の溶媒としては、特開２０１０－１８１７２９号公報の段落＜０１０４＞に記載の材料も用いることができる。本発明の画像表示装置の前面板の製造方法は、透明導電膜にエッチングレジストを積層した後にエッチングレジストが積層されていない領域の透明導電膜をエッチングして透明電極パターンを形成する工程を含み、エッチングレジストが、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよびエトキシプロピオン酸エチルから選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。エッチングレジストが、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよびエトキシプロピオン酸エチルから選ばれる少なくとも１種を含む場合も、本発明の硬化性組成物から形成された硬化膜はこれらの有機溶媒耐性が高いため、エッチングレジスト用の溶媒がプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよびエトキシプロピオン酸エチルから選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。

　ウェットエッチングに用いられるエッチング液は、エッチングの対象に合わせて酸性タイプまたはアルカリ性タイプのエッチング液を適宜選択すればよい。酸性タイプのエッチング液としては、塩酸、硫酸、フッ酸、リン酸等の酸性成分単独の水溶液、酸性成分と塩化第２鉄、フッ化アンモニウム、過マンガン酸カリウム等の塩の混合水溶液等が例示される。酸性成分は、複数の酸性成分を組み合わせたものを使用してもよい。また、アルカリ性タイプのエッチング液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、有機アミン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドのような有機アミンの塩等のアルカリ成分単独の水溶液、アルカリ成分と過マンガン酸カリウム等の塩の混合水溶液等が例示される。アルカリ成分は、複数のアルカリ成分を組み合わせたものを使用してもよい。

　エッチング液の温度は特に限定されないが、４５℃以下であることが好ましい。エッチングレジスト（エッチングマスク、エッチングパターン、樹脂パターンとも言われる）として使用されるエッチング用光硬化性樹脂層は、このような温度域における酸性およびアルカリ性のエッチング液に対して特に優れた耐性を発揮する。したがって、エッチング工程中に樹脂パターンが剥離することが防止され、樹脂パターンの存在しない部分が選択的にエッチングされることになる。
　エッチング後、ライン汚染を防ぐために必要に応じて、洗浄工程・乾燥工程を行ってもよい。洗浄工程については、例えば常温で純水により１０～３００秒間基材を洗浄して行い、乾燥工程については、エアブローを使用して、エアブロー圧（０．１～５ｋｇ／ｃｍ²程度）を適宜調整し行えばよい。

　次いで、樹脂パターンの剥離方法としては、特に限定されないが、例えば、３０～８０℃、好ましくは５０～８０℃にて攪拌中の剥離液に基材を５～３０分間浸漬する方法が挙げられる。エッチングレジストとして使用される樹脂パターンは、４５℃以下において優れた薬液耐性を示すものであることが好ましいが、薬液温度が５０℃以上になるとアルカリ性の剥離液により膨潤する性質を示す。このような性質により、５０～８０℃の剥離液を使用して剥離工程を行うと工程時間が短縮され、樹脂パターンの剥離残渣が少なくなるという利点がある。すなわち、前述のエッチング工程と剥離工程との間で薬液温度に差を設けることにより、本発明でエッチングレジストとして使用される樹脂パターンは、エッチング工程において良好な薬液耐性を発揮する一方で、剥離工程において良好な剥離性を示すことになり、薬液耐性と剥離性という、相反する特性を両方とも満足することができる。

　剥離液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機アルカリ成分や、第３級アミン、第４級アンモニウム塩等の有機アルカリ成分を、水、ジメチルスルホキシド、Ｎ－メチルピロリドン、またはこれらの混合溶液に溶解させた剥離液が挙げられる。前述の剥離液を使用し、スプレー法、シャワー法、パドル法等により剥離してもよい。

［前面板一体型センサー］
　本発明の前面板一体型センサーは、本発明の画像表示装置の前面板と、少なくとも電極パターンを含むセンサーと、を有する前面板一体型センサーである。
　前面板一体型センサーは、静電容量型入力装置であることが好ましい。
　以下、本発明の前面板一体型センサーの好ましい態様の詳細を説明する。

＜前面板一体型センサーの構成＞
　まず、本発明の前面板一体型センサーの好ましい構成について、装置を構成する各部材の製造方法とあわせて説明する。

　強化処理されたガラス１の各要素が設けられている側を非接触面側と称する。本発明の前面板一体型センサーにおいては、強化処理されたガラス１の接触面（非接触面の反対の面）に指などを接触などさせて入力が行われる。

　本発明の前面板一体型センサーを製造する過程で形成される態様例として、図４～８の態様を挙げることができる。図４は、開口部８が形成された強化処理されたガラス１の一例を示す上面図である。図５は、加飾層２が形成された画像表示装置の前面板の一例を示す上面図である。
　図６～８は、前面板一体型センサーの構成の一例である。図６は、第一の電極パターン３が形成された前面板一体型センサーの一例を示す上面図である。図７は、第一の電極パターン３と第二の電極パターン４が形成された前面板一体型センサーの一例を示す上面図である。図８は、第一および第二の電極パターンとは引き回し配線６が形成された前面板一体型センサーの一例を示す上面図である。これらは、以下の説明を具体化した例を示すものであり、本発明の範囲はこれらの図面により限定的に解釈されることはない。

　一定の厚みが必要な引き回し配線６とオーバーコート層とにまたがって転写フィルムから加飾層を形成するための着色組成物層をラミネートする場合でも、転写フィルムを用いることで真空ラミネーターなどの高価な設備を用いなくても、簡単な工程でマスク部分境界に泡の発生がないラミネートが可能になる。
　加飾層は、枠状の加飾層であることが好ましい。すなわち、画像表示装置に用いた場合に、中央の画像表示部分（電子機器表示窓）を加飾層が枠状に囲むことが好ましい。加飾層の好ましい態様としては、特許５０２０５８０号公報に記載の枠状遮光層と同様の態様を挙げることができる。

　引き回し配線６は、第一の電極パターン３および第二の電極パターン４の少なくとも一方に電気的に接続され、且つ、第一の電極パターン３および第二の電極パターン４とは別の要素であることが好ましい。
　引き回し配線は、枠状であることが好ましい。すなわち、画像表示装置に用いた場合に、中央の画像表示部分を引き回し配線が枠状に囲むことが好ましい。

　遮光性導電膜は枠状であることが好ましい。すなわち、画像表示装置に用いた場合に、中央の画像表示部分を遮光性導電膜が枠状に囲むことが好ましい。

　オーバーコート層は、各構成要素の一部のみを覆うように構成されていてもよい。
　前述のオーバーコート層によって、前述の電極パターンおよび前述の電極パターンが形成されていない非パターン領域の両方が連続して直接または他の層を介して被覆されたことが好ましい。
　ここで、「連続して」とは、前述のオーバーコート層がパターン膜ではなく、連続膜であることを意味する。すなわち、前述のオーバーコート層は、開口部を有していないことが、電極パターンを視認されにくくする観点から好ましい。
　また、前述のオーバーコート層によって、前述の電極パターンおよび前述の非パターン領域が、他の層を介して被覆されるよりも、直接被覆されることが好ましい。他の層を介して被覆される場合における「他の層」としては、遮光性導電膜が含まれる場合の遮光性導電膜などを挙げることができる。

（引き回し配線）
　引き回し配線は、電極パターンの引き回し配線であることが好ましく、電極パターンとは別の導電性要素である。引き回し配線は後述の遮光性導電膜とは別の導電性要素であってもよく、引き回し配線は後述の遮光性導電膜とは同じ部材であってもよい。
　引き回し配線の材料は特に制限されることはなく、公知の材料を用いることができる。従来は導電性が高く微細加工が容易な点から、引き回し配線の材料としてＭｏ／Ａｌ／Ｍｏの３層構造のＭＡＭが一般的に用いられてきたが、上述の電極パターンの材料と同じ材料を好ましく用いることができ、さらにＡｕ（金）、Ａｇ（銀）、Ｃｕ（銅）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｐｄ（パラジウム）、Ｐｔ（白金）、Ｃ（炭素）、Ｆｅ（鉄）などの金属を用いることもできる。これらの金属が含まれる導電性ペーストまたは導電性インクをウェット法により成膜することで、蒸着法に比べてより安価なプロセスで引き回し配線を得ることができる。引き回し配線の材料は金属であることが好ましく、銅またはアルミニウムであることがより好ましい。

（加飾層）
　本発明の画像表示装置の前面板は、加飾層を有していてもよい。
　加飾層は、画像表示装置の前面板上の一部に枠状（額縁状）に形成された加飾層であることが好ましい。

　加飾層２は、画像表示装置の前面板（例えばタッチパネル前面板）の非接触面側に形成された表示領域周囲の額縁状のパターンであり、引回し配線等が見えないようにするために形成されることが好ましい。
　画像表示装置の前面板には、図５～８に示すように、強化処理されたガラス１の一部の領域（図５～８においては入力面以外の領域）を覆うように加飾層２が設けられていることが好ましい。
　前述の加飾層は、指またはタッチペンなどで触れる領域の周囲に黒色の額縁として、電極パターンの引き回し配線を接触側から視認できないようにしたり、加飾をしたりするためにも設けられる。前述の加飾層は、指またはタッチペンなどで触れる領域の周囲に額縁として加飾のために設けられ、例えば白色または黒色の加飾層を設けることが好ましい。

　上記加飾層の形成方法は、特に制限はないが、仮支持体と樹脂層とをこの順で有する転写フィルムを用いて形成することが好ましく、仮支持体と光硬化性樹脂層とをこの順で有する感光性転写フィルムを用いて形成することがより好ましく、仮支持体と熱可塑性樹脂層と光硬化性樹脂層とをこの順で有する感光性転写フィルムを用いて形成することが特に好ましい。例えば黒色の加飾層を形成する場合には、上記光硬化性樹脂層として黒色光硬化性樹脂層を有する感光性転写フィルムを用いて、上記強化処理されたガラスの表面に上記黒色光硬化性樹脂層を転写することで形成することが好ましい。
　上記転写フィルムを用いて加飾層を形成する場合には、樹脂層に着色剤を用いることができる。上記着色剤としては、前述の着色剤（有機顔料、無機顔料、染料等）を好適に用いることができる。

　図２の構成の開口部８を有する前面板一体型センサーにおいて、上記加飾層２等を、転写フィルムを用いて形成すると、開口部を有する強化処理されたガラス（前面板）でも開口部分からレジスト成分のモレがない。特に転写フィルムを用いて形成すると、強化処理されたガラスの境界線直上まで遮光パターンを形成する必要のある加飾層において、強化処理されたガラス端からのレジスト成分のはみ出し（モレ）がないため強化処理されたガラス裏側を汚染することなく、簡略な工程で、薄層化および軽量化のメリットがあるタッチパネルを製造することができる。

　上記加飾層を、転写フィルムを用いて形成する方法は、特開２０１４－１６０４６０号公報の＜００８３＞～＜０１１６＞に記載の方法を用いることができ、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。

（遮光性導電膜）
　遮光性導電膜は、導電率が高くかつ遮光性の良い単一の金属膜やそれらの合金または化合物などからなる層が挙げられ、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、鍍金法などで形成するとよい。また、遮光性導電膜は、電極パターンはエッチングされないが遮光性導電膜自身はエッチングされるというエッチャントが存在することが好ましい。その好ましい金属の例としては、アルミニウム、ニッケル、銅、銀、錫などが挙げられる。とくに銅箔からなる厚み２０～１０００ｎｍの金属膜は、導電性、遮光性に優れ、電極パターンはエッチングされない酸性雰囲気下でも過酸化水素水で容易にエッチングできるため非常に好ましい。遮光性導電膜の厚みはより好ましくは、厚み３０ｎｍ以上である。遮光性導電膜の厚みはさらに好ましくは、１００～５００ｎｍにするとよい。１００ｎｍ以上の厚みに設定することで高い導電性の遮光性導電膜が得られ、５００ｎｍ以下にすることで取り扱いやすく加工性に優れた遮光性導電膜が得られるからである。

（オーバーコート層）
　オーバーコート層を透明電極パターンの上に転写して作製されてなることが好ましい。
　センサー上に作製されたフレキシブル配線である電極パターンおよび引き回し配線を、引き回し配線の端末部３１に直接つなぐことができ、これにより、センサーの信号を電気回路に送ることが可能になる。
　オーバーコート層は、光硬化性であっても、熱硬化性かつ光硬化性であってもよい。その中でも、オーバーコート層は熱硬化性透明樹脂層かつ光硬化性透明樹脂層であることが、転写後に光硬化して製膜しやすく、かつ、製膜後に熱硬化して膜の信頼性を付与できる観点から好ましい。
　オーバーコート層としては、特開２０１４－１７８９２２号公報の＜００２４＞～＜００３６＞に記載の保護層と同じ層を用いることができる。

［画像表示装置］
　本発明の画像表示装置は、本発明の前面板一体型センサーを構成要素として備えた、画像表示装置である。
　本発明の前面板一体型センサーを構成要素として備えた画像表示装置は、『最新タッチパネル技術』（２００９年７月６日発行（株）テクノタイムズ）、三谷雄二監修、“タッチパネルの技術と開発”、シーエムシー出版（２００４，１２）、ＦＰＤ　Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　２００９　Ｆｏｒｕｍ　Ｔ－１１講演テキストブック、Ｃｙｐｒｅｓｓ
　Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ　アプリケーションノートＡＮ２２９２等に開示されている構成を適用することができる。

　以下、本発明を実施例により更に具体的に説明する。
　以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。なお、特に断りのない限り、「％」および「部」は質量基準である。

［実施例１］
＜硬化性組成物１の調製＞
　下記の組成となるように、有機基およびシロキサン結合を持つ化合物であるシリコーン樹脂、界面活性剤、硬化触媒及び溶剤を量り取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度２４℃（±２℃）のもと、１５０ＲＰＭ（Ｒｏｕｎｄ　ｐｅｒ　ｍｉｎｕｔｅｓ）で３０分間攪拌することで硬化性組成物１を得た。得られた硬化性組成物１を、実施例１の硬化性組成物とした。
　下記表１に硬化性組成物１の組成を記載した。なお、表１に記載された量は質量基準の部数である。
・シリコーンレジン：ＫＲ－３００（信越化学工業（株）製；ストレートシリコーンのキシレン溶液（固形分５０質量％））：３００質量部
・シリコーン樹脂：ＫＲ－３１１（信越化学工業（株）製；ストレートシリコーンのキシレン溶液（固形分６０質量％））：２５０質量部
・シリコーン樹脂用Ｚｎ硬化触媒；Ｄ－１５（信越化学工業（株）製；キシレン溶液（固形分２５質量％））：１２．０質量部
・界面活性剤：下記構造物１：１０．０質量部
・キシレン：２１８質量部
・メチルエチルケトン：２１０質量部

＜硬化膜１の形成＞
（積層）
　次に、１５０ｍｍ×１５０ｍｍ×厚み０．５５ｍｍの化学強化済みのゴリラガラス３（コーニング（株）製、応力層４０μｍ、圧縮応力８１０ＭＰａ）上に硬化性組成物１をスピンコートして積層し、１００℃、３分間の条件で揮発成分を揮発させて硬化性組成物膜１を形成した。

（硬化）
　冷却後、この硬化性組成物膜１を、２４０℃、３０分間の条件で熱処理（ポストベーク処理）して硬化し、強化処理されたガラス上に２μｍの硬化膜１を作製した。

＜透過率の評価＞
　上記にて作製された硬化膜１の透過率を、硬化膜のついていない強化処理されたガラスをブランクとして、オリンパス（株）製の顕微分光測定装置ＯＳＰ－ＳＰ２００を用いて測定した。熱着色で最も透過率が低下する４００ｎｍの透過率を下記の評価基準に従って評価し、得られた結果を下記表２に記載した。透過率は値が大きいほど好ましく、Ａ、ＢまたはＣが実用範囲である。
（評価基準）
　Ａ：９８％以上
　Ｂ：９５％以上９８％未満
　Ｃ：９０％以上９５％未満
　Ｄ：８５％以上９０％未満
　Ｅ：８５％未満

＜面強度の評価＞
　続いて、得られた硬化膜１付きの強化処理されたガラスの硬化膜１の上に、スパッタリング法によりＩＴＯを前面に１００ｎｍ厚となるように成膜して、透明導電膜付きの画像表示装置の前面板を得た。
　得られたサンプルに対し、ＡＧＳ－Ｘ（島津製作所製）を用いてガラスの面強度測定を行った。図９に示した、リング状の凸部(直径１５ｃｍ)を有する支持部Ｓと、リング状の接触部（直径５ｃｍ）を有する荷重部Ｌと、を備える強度測定器具を用いた。支持部Ｓのリングの中心と透明導電膜付きの画像表示装置の前面板１０の中心を一致させて、ＩＴＯ蒸着面が支持部Ｓ側に対抗するように、前面板１０を支持部Ｓのリング上に設置した。次いで、支持部Ｓのリングの中心が荷重部Ｌのリング状の接触部の中心と重なるように、荷重部Ｌを前面板１０に押し付けて荷重をかけ、強化処理されたガラスが割れた際の荷重から透明導電膜付きの画像表示装置の前面板の面強度を測定した。
　得られた結果を下記表２に記載した。値が大きいほど好ましく、Ａ、ＢまたはＣが実用範囲である。
Ａ：５００ＭＰａ以上
Ｂ：４００ＭＰａ以上５００ＭＰａ未満
Ｃ：３００ＭＰａ以上４００ＭＰａ未満
Ｄ：２００ＭＰａ以上３００ＭＰａ未満
Ｅ：２００ＭＰａ未満

＜有機溶媒（ＰＧＭＥＡ）耐性評価＞
　硬化膜１付きの強化処理されたガラスを、真空チャンバー内に導入し、ＳｎＯ₂含有率
が１０質量％のＩＴＯターゲット（インジウム：錫＝９５：５（モル比））を用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング（条件：基材の温度２５０℃、アルゴン圧０．１３Ｐａ、酸素圧０．０１Ｐａ）により、硬化膜１上に、厚さ４０ｎｍのＩＴＯ透明導電膜を形成して、透明導電膜付きの画像表示装置の前面板を得た。ＩＴＯ透明導電膜の表面抵抗は８０Ω／□であった。
　この透明導電膜に２５℃のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ、和光純薬製）を滴下し、表面形状の変化を光学顕微鏡にて観察した。Ａ、Ｂ、Ｃが実用範囲である。Ｄの場合は、透明導電膜をパターニングするためのエッチングレジストを塗布した際に透明導電膜にヒビ割れが生じるため実用できない。
Ａ：滴下２０分以降も変化なし
Ｂ：滴下１５分後まで変化ないが、２０以降に透明導電膜にヒビが生じる
Ｃ：滴下１０分後まで変化ないが、１５分以降に透明導電膜にヒビが生じる
Ｄ：滴下１０分後までにヒビが生じる

＜骨見え評価＞
（画像表示装置の前面板の作製）
　硬化膜１の上に有機溶媒耐性評価と同様のスパッタリング法によりＩＴＯを１００ｎｍ厚となるように成膜して、透明導電膜付きの画像表示装置の前面板１を得た。

（前面板一体型センサーの作製）
　次に、得られた画像表示装置の前面板１の透明導電膜に対して以下の方法でウェットエッチングして、透明導電膜をストライプ状にパターン形成して透明電極パターンを形成した。得られたサンプルを骨見え評価用のサンプルである前面板一体型センサーとした。

－エッチング用感光性フィルムＥ１の調製－
　厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、後述の実施例１４の転写フィルムに用いた処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。次に、後述の実施例１４の転写フィルムに用いた処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させた。更に、下記の処方Ｅ１からなるエッチング用光硬化性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。このようにして仮支持体の上に乾燥膜厚が１５．１μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、膜厚２．０μｍエッチング用光硬化性樹脂層から成る積層体を得、最後に保護フイルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）とエッチング用光硬化性樹脂層とが一体となったエッチング用感光性フィルムＥ１を作製した。

－エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液：処方Ｅ１－
・メチルメタクリレート／スチレン／メタクリル酸共重合体（共重合体組成（質量％）；３１／４０／２９、質量平均分子量６００００、酸価１６３ｍｇＫＯＨ／ｇ）：１６質量部
・モノマー１（商品名：ＢＰＥ－５００、新中村化学工業（株）製）：５．６質量部
・ヘキサメチレンジイソシアネートのテトラエチレンオキシドモノメタクリレート０．５モル付加物：７質量部
・分子中に重合性基を１つ有する化合物としてのシクロヘキサンジ　メタノールモノアクリレート：２．８質量部
・２－クロロ－Ｎ－ブチルアクリドン：０．４２質量部
・２，２－ビス（ｏ－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール：２．１７質量部
・マラカイトグリーンシュウ酸塩：０．０２質量部
・ロイコクリスタルバイオレット：０．２６質量部
・フェノチアジン：０．０１３質量部
・界面活性剤（商品名：メガファックＦ－７８０Ｆ、大日本インキ（株）製）：０．０３質量部
・メチルエチルケトン：４０質量部
・１－メトキシ－２－プロパノール：２０質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート：３５質量部
　なお、エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液Ｅ１の溶剤除去後の１００℃の粘度は２５００Ｐａ・ｓｅｃであった。

（透明電極パターンの形成）
　画像表示装置の前面板１を洗浄し、透明導電膜上に、保護フィルムを除去したエッチング用感光性フィルムＥ１をラミネートした（透明フィルム基板の温度：１３０℃、ゴムローラー温度１２０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分）。仮支持体を剥離後、露光マスク（透明電極パターンを有する石英露光マスク）面とエッチング用光硬化性樹脂層との間の距離を２００μｍに設定し、露光量５０ｍＪ／ｃｍ²（ｉ線）でパターン露光した。
　次に、露光済みの画像表示装置の前面板１を、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ－ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて２５℃で１００秒間、現像処理し、界面活性剤含有洗浄液（商品名：Ｔ－ＳＤ３（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で２０秒間、洗浄処理し、回転ブラシを用いて、超高圧洗浄ノズルから超純水を噴射することでで残渣除去を行った。さらに１３０℃３０分間のポストベーク処理を行って、画像表示装置の前面板１の透明電極層上にエッチング用光硬化性樹脂層パターンを形成した。
　透明導電層上にエッチング用光硬化性樹脂層パターンを形成した画像表示装置の前面板１を、ＩＴＯエッチャント（塩酸、塩化カリウム水溶液。液温３０℃）を入れたエッチング槽に浸漬し、１００秒処理し、エッチング用光硬化性樹脂層で覆われていない露出した領域の透明電極層を溶解除去し、画像表示装置の前面板１上にエッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極パターンを得た。
　次に、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極パターンを有する画像表示装置の前面板１を、レジスト剥離液（Ｎ－メチル－２－ピロリドン、モノエタノールアミン、界面活性剤（商品名：サーフィノール４６５、エアープロダクツ製）液温４５℃）を入れたレジスト剥離槽に浸漬し、２００秒処理し、エッチング用光硬化性樹脂層を除去し、画像表示装置の前面板１上に透明電極パターンを形成した前面板一体型センサー１を得た。

（前面板一体型センサーの骨見え評価）
　この前面板一体型センサー１を黒い布の上に置き、目視により透明電極パターン部が視認できるか、下記の基準で評価した。Ａ、Ｂが実用範囲である。
Ａ：透明電極パターン部が視認できない
Ｂ：透明電極パターン部がかすかに視認できるＣ：透明電極パターン部がはっきり視認できる

［実施例２～１３、比較例２］
　実施例１において、膜厚と硬化性組成物１を下記表１に記載の膜厚と硬化性組成物２～１３またはＣ２に変更した以外は実施例１と同様にして実施例２～１３、比較例２の硬化性組成物および画像表示装置の前面板を作製し、評価を行った。実施例２～１３および比較例２で得られた硬化膜を硬化膜２～１３およびＣ２とした。
　硬化性組成物２、８および１３で用いたＫＲ－２５１はジメチルシリコーンレジンであり、硬化性組成物２、８および１３で用いたＸ－４０－９２４６はアルコキシオリゴマー変性メチル系シリコーンレジン（いずれも信越化学工業（株）製）である。
　硬化性組成物３、５、１１および１２で用いたＫＲ－５２３０はポリエステル変性シリコーンレジン（いずれも信越化学工業（株）製）である。
　硬化性組成物４で用いたＥＳ－１００２Ｔはエポキシ変性シリコーンレジン（信越化学工業（株）製）である。
　硬化性組成物７で用いたＫＥ－１８２０は一液系シリコーンゴム（信越化学工業（株）製）である。
　硬化性組成物８で用いたＫＲ－４００はアルコキシオリゴマー変性メチルシリコーンレジン（信越化学工業（株）製）である。
　硬化性組成物１１、１２およびＣ２で用いた日本化薬製　ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡはジペンタエリスリトール（ペンタ／ヘキサ）アクリレートである。
　硬化性組成物Ｃ２で用いたアクリベース　ＦＦ１８７はベンジルメタクリレート／メタアクリル酸（＝７０／３０［モル比］）共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（４５％、重量平均分子量３００００、藤倉化成（株）製）である。
　硬化性組成物５、６および８で金属酸化物として用いたナノユース　ＯＺ－Ｓ２０Ｍ（日産化学製）は顔料濃度３０％、一次粒子径１０ｎｍ、屈折率１．９の酸化ジルコニウム分散液である。

［比較例１］
　比較例１については、硬化性組成物を塗布せずに、強化処理されたガラス上に直接ＩＴＯ層を形成して比較例１の画像表示装置の前面板を作製し、評価を行った。

［実施例１４］
＜転写フィルムの作製＞
　厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。次に、下記処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させた。更に、前述の硬化膜の形成用の組成物である硬化性組成物１を塗布、乾燥させた。このようにして仮支持体の上に乾燥膜厚が１５．１μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、乾燥膜厚が２．０μｍの硬化性組成物層を設け、最後に保護フイルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）と硬化性組成物層とが一体となった転写フィルムを作製し、サンプル名を実施例１４の転写フィルムとした。

（熱可塑性樹脂層用塗布液：処方Ｈ１）
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　：　１１．１質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート　　：　６．３６質量部
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　：　５２．４質量部
・メチルメタクリレート／２－エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）　　　　　　　　　　　　：　５．８３質量部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）　　　　　　　　　　　　　　：　１３．６質量部
・２，２－ビス［４－（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル］プロパン（新中村化学工業（株）製）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　：　９．１質量部
・フッ素系ポリマー　　　　　　　　　　　　　　　　　　：　０．５４質量部
　（Ｃ₆Ｆ₁₃ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ₂　４０部と　Ｈ（ＯＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂）７ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ₂　５５部と　Ｈ（ＯＣＨＣＨ₂）₇ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ₂　５部との共重合体、重量平均分子量３万、メチルエチルケトン３０質量％溶液、大日本インキ化学工業製、商品名：メガファックＦ７８０Ｆ）

（中間層用塗布液：処方Ｐ１）
・ＰＶＡ２０５　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　：　３２．２質量部
　（ポリビニルアルコール、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）
・ポリビニルピロリドン　　　　　　　　　　　　　　　　：　１４．９質量部
　（アイエスピー・ジャパン社製、Ｋ－３０）
・蒸留水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　：　５２４質量部
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　：　４２９質量部

　上記の製法にて作製された実施例１４の転写フィルムから保護フィルムを除去し、除去後に露出した硬化性組成物層の表面と、９０度で予備加熱した実施例１に記載のゴリラガラス３の表面とが接するように重ね合わせ、ラミネーター（株式会社日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用いて、ゴムローラー温度５０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。続いてポリエチレンテレフタレートの仮支持体を、熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体を除去した。
　次に、仮支持体を除去した試料に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ－ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１２倍（Ｔ－ＰＤ２を１部と純水１１部の割合で混合）に希釈した液）を３０℃で２０秒間、フラットノズル圧力０．１ＭＰａで噴射してシャワー現像し、熱可塑性樹脂層と中間層とを除去し、硬化性組成物層を転写して形成した硬化性組成物膜１４を得た。引き続き、この硬化性組成物膜１４の上面にエアを吹きかけて液を吹き飛ばした後、純水をシャワーにより１０秒間吹き付け、シャワー洗浄し、エアを吹きかけて膜上の液だまりを減らした。この硬化性組成物膜１４を、２４０℃３０分間ポストベーク処理し、強化処理されたガラス上に２μｍの硬化膜１４を作製した。
　上記硬化膜作製法以外は実施例１と同様にして画像表示装置の前面板および前面板一体型センサーを作製し、評価を行った。

［画像表示装置（タッチパネル）の作製］
　特開２００９－４７９３６号公報の実施例１に記載の方法で製造した液晶表示素子に、先に製造した各実施例の前面板一体型センサーを貼り合せ、公知の方法で静電容量型入力装置である各実施例の前面板一体型センサーを構成要素として備えた、各実施例の画像表示装置を作製した。

　上記表２より、各実施例の硬化性組成物を用いた各実施例の画像表示装置の前面板は、強化処理されたガラスの透明導電膜の形成（ＩＴＯ蒸着）による面強度低下が抑制でき、透過率も高いため、画像表示装置の前面板として好適なものであった。
　一方で、強化処理されたガラスとガラスの一方の面に形成される透明導電膜との間に硬化膜を形成していない比較例１の画像表示装置の前面板は、強化処理されたガラスが透明導電膜の形成（ＩＴＯ蒸着）により面強度が低下し、画像表示装置用途として実用に耐えなかった。
　有機基およびシロキサン結合を持つ化合物ではなく、ＷＯ２０１４／０３０５９９で採用しているアクリルの重合性化合物を用いて硬化膜を設けた比較例２の画像表示装置の前面板は熱により着色し、画像表示装置用途として実用できない透過率まで低下した。

　また、各実施例の前面板一体型センサーは、前面板を通してみる表示画面が明るい点でも好ましかった。一方、比較例２の前面板一体型センサーは表示画面部分が着色してしまった。

（符号の説明）
１　　強化処理されたガラス
２　　加飾層
３　　透明導電膜（電極パターン、第一の電極パターン）
３ａ　パッド部分
３ｂ　接続部分
４　　透明導電膜（電極パターン、第二の電極パターン）
５　　絶縁層
６　　引き回し配線（別の導電性要素）
８　　開口部
１０　画像表示装置の前面板
１２　硬化膜
２５　　硬化性組成物層
２６　　仮支持体
２７　　熱可塑性樹脂層
２８　　中間層
２９　　保護剥離層（保護フィルム）
３０　　転写フィルム
Ｃ　　第１の方向
Ｄ　　第２の方向
Ｌ　　荷重部
Ｓ　　支持部

Claims

　強化処理されたガラスと前記ガラスの一方の面に形成される透明導電膜との間に硬化膜を形成するための硬化性組成物であって、
　有機基およびシロキサン結合を持つ化合物を含有する硬化性組成物。
　前記硬化性組成物が０．１μｍ以上５μｍ未満の硬化膜を形成するための硬化性組成物である請求項１に記載の硬化性組成物。
　前記硬化性組成物の金属酸化物を除く固形分の量に対する、前記有機基およびシロキサン結合を持つ化合物の含有率が、８０質量％以上である請求項１または２に記載の硬化性組成物。
　前記有機基およびシロキサン結合を持つ化合物として、少なくとも有機変性シリコーンを含む請求項１～３のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
　前記硬化性組成物が、さらに金属酸化物を含有する請求項１～４のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
　仮支持体と、
　請求項１～５のいずれか一項に記載の硬化性組成物を含む硬化性組成物層と、
を含む転写フィルム。
　強化処理されたガラスと、
　前記ガラスの一方の面に形成される透明導電膜と、
　前記ガラスと前記ガラスの一方の面に形成される透明導電膜との間に配置された硬化膜と、
を有し、
　前記硬化膜が、請求項１～５のいずれか一項に記載の硬化性組成物を硬化した硬化膜であるか、あるいは、請求項６に記載の転写フィルムの硬化性組成物層を前記ガラスに積層した硬化性組成物を硬化した硬化膜である、
画像表示装置の前面板。
　前記硬化膜が、前記ガラスと前記透明導電膜との間にのみ形成された請求項７に記載の画像表示装置の前面板。
　前記硬化膜が、少なくとも前記透明導電膜の形成された領域において、前記ガラスを全面的に覆う連続膜として形成された請求項７に記載の画像表示装置の前面板。
　請求項７～９のいずれか一項に記載の画像表示装置の前面板を有し、
　前記透明導電膜が電極パターンを含むセンサーである前面板一体型センサー。
　請求項１０に記載の前面板一体型センサーを構成要素として備えた、画像表示装置。
　請求項１～５のいずれか一項に記載の硬化性組成物を強化処理されたガラス上に製膜する工程、あるいは、請求項６に記載の転写フィルムの硬化性組成物層を前記ガラスに積層して硬化性組成物を製膜する工程と；
　前記硬化性組成物を硬化して硬化膜を製膜する硬化工程と；
　前記硬化膜上に透明導電膜を形成する工程と；
を含む画像表示装置の前面板の製造方法。
　前記硬化工程が、前記ガラス上で前記硬化性組成物を２００℃以上で熱処理する工程である請求項１２に記載の画像表示装置の前面板の製造方法。
　前記透明導電膜にエッチングレジストを積層した後にエッチングレジストが積層されていない領域の透明導電膜をエッチングして透明電極パターンを形成する工程を含み、
　前記エッチングレジストが、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよびエトキシプロピオン酸エチルから選ばれる少なくとも１種を含む請求項１２または１３に記載の画像表示装置の前面板の製造方法。