WO2015178650A1 - 유리기판의 모서리 가공방법 및 가공장치 - Google Patents

유리기판의 모서리 가공방법 및 가공장치 Download PDF

Info

Publication number
WO2015178650A1
WO2015178650A1 PCT/KR2015/004974 KR2015004974W WO2015178650A1 WO 2015178650 A1 WO2015178650 A1 WO 2015178650A1 KR 2015004974 W KR2015004974 W KR 2015004974W WO 2015178650 A1 WO2015178650 A1 WO 2015178650A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
glass substrate
heating
temperature
edge
area
Prior art date
Application number
PCT/KR2015/004974
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
손동진
김동환
김종민
탁광용
Original Assignee
동우 화인켐 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 동우 화인켐 주식회사 filed Critical 동우 화인켐 주식회사
Publication of WO2015178650A1 publication Critical patent/WO2015178650A1/ko

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B9/00Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor
    • B24B9/02Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground
    • B24B9/06Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
    • B24B9/08Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain of glass
    • B24B9/10Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain of glass of plate glass
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B33/00Severing cooled glass
    • C03B33/09Severing cooled glass by thermal shock

Definitions

  • the present invention relates to a method for processing the edge of a glass substrate.
  • Processing of glass substrates used in flat panel displays or the like generally involves cutting a glass substrate into a desired shape and then grinding and / or polishing the edges of the cut glass substrate to remove sharp corners.
  • Korean Patent Application No. 2012-0002573 discloses a method of cutting a corner in a strip form by moving a heated member in contact with a corner of a cooled glass substrate, as shown in FIG. 1. This method can prevent the glass dust generated during the polishing of the edge of the glass substrate inherently, and may be useful in this field.
  • the method has the disadvantage that, as shown in Fig. 2, the cut strip is cut in contact with the heating member and the induction coil provided in the heating member, whereby chipping occurs and an uneven cutting surface can be obtained. There is this.
  • the present inventors have made diligent efforts to solve the problems of the prior art, and found that the direction of generation of the strip can be adjusted by partially adjusting the temperature of the glass substrate in contact with the heating member. .
  • the present invention controls the generation direction of the strip generated when cutting the edge of the glass substrate to block the interference to the heating member of the strip, and to prevent the generation of chipping by the cutting of the strip and the resulting non-uniform processing surface
  • An object of the present invention is to provide a method for processing a corner of a substrate.
  • the present invention is a.
  • the temperature of the adjacent portion of the heating element contact point of the larger area of the two surfaces of the glass substrate forming the edge is equal to or lower than the temperature of the adjacent contact of the heating element of the smaller area. It provides an edge processing method of the glass substrate, characterized in that to partially control the temperature of the glass substrate to be maintained.
  • the method of processing the edge of the glass substrate of the present invention it is possible to control the direction of generation of the strip generated when cutting the edge of the glass substrate, so as to block the interference of the heating member of the strip, the chipping by the cutting of the strip and Thereby, generation
  • FIG. 2 is a view showing a problem (strip interference) of the method of cutting the edge of the glass substrate of the prior art
  • FIG. 3 is a view showing the heat distribution inside the glass substrate when the heating member touches the edge of the glass substrate
  • FIG. 4 is a view showing the heat distribution inside the glass substrate when the heating member touches the edge of the glass substrate, when the air cooling on one surface of the glass substrate,
  • FIG. 5 illustrates an example of a method of processing a corner of a glass substrate of the present invention, and when air is in contact with a corner, the air is sprayed to the larger surface of the two surfaces of the glass substrate forming the corner.
  • This is a diagram schematically showing the method of forced convection.
  • FIG. 6 and 7 illustrate the strips generated at the edges when the edges of the glass substrate are processed in the same manner as in FIG. 5 when the amount of injected wind is small (a) and when the amount of wind is large (b). It is a figure which shows a generation form typically.
  • FIG. 8 is a photograph showing an example of a processing apparatus used in the corner processing method of the glass substrate of the present invention.
  • Edge processing method of the glass substrate characterized in that to partially control the temperature of the glass substrate to be maintained.
  • the present inventors have found that the direction of generation of the strip can be controlled by partially adjusting the temperature of the glass substrate in contact with the heating member, thereby completing the present invention.
  • the area of the horizontal plane of glass is 10 times larger than the area of the vertical plane (as is the length of the glass substrate). Therefore, the heat transferred in the vertical direction and the adjoining direction of the glass substrate is in contact with the air at a distance closer than the heat transmitted in the horizontal direction and the adjoining direction thereof. Therefore, the convection activity is more active in the vertical plane, so it appears that such heat distribution occurs.
  • FIG. 4 is a surface having a smaller area at a temperature near a heating member contact point of a surface having a larger area among two surfaces of a glass substrate forming the corner when the heating member is in contact with an edge according to the technical feature of the present invention.
  • the heat distribution in the case of forced convection by injecting air to a larger area is shown.
  • Such forced convection may be accomplished by a device as shown in FIG. 5.
  • the strip which the heating member is cut off by contacting the edge of the glass substrate is directed downward than the horizontal direction as shown in FIGS. 6 (a) and 7 (a).
  • Partial control of the temperature of the glass substrate may be achieved by cooling some or all of the larger surface area or by heating some or all of the smaller surface area.
  • the "part” is not particularly limited as long as the temperature of the area adjacent to the heating element contact point of the surface having the larger area is the same or lower than the temperature of the area adjacent to the heating element contact point of the surface having the smaller area.
  • Cooling part or all of the surface having a larger area is, for example, a cooling means for contacting a cooling body having a lower temperature than the surface having a larger area with some or all of the surface having a larger area, or where cold air is delivered. This can be done by placing it in an adjacent location.
  • cooling part or all of the larger area may be accomplished by, for example, contacting some or all of the wind having a lower temperature than that of the larger area as the cooling means. .
  • Cooling part or all of the surface having a larger area may be achieved by applying the cooling means to the vicinity of the heating member contact point of the surface having a larger area, in which case an advantage of increasing energy efficiency may be obtained. .
  • cooling body for example, a cooling tube through which a cooling fluid circulates may be used.
  • Heating part or all of the smaller surface area is, for example, a heating means for contacting a heating element having a higher temperature than the smaller surface area with some or all of the smaller area surface, or to transmit warmth. This can be done by placing it in an adjacent location.
  • heating part or all of the smaller area may be accomplished by, for example, contacting some or all of the smaller area with the wind having a higher temperature as the heating means than the smaller area.
  • Heating part or all of the smaller surface area may be achieved by applying the heating means to the vicinity of the heating element contact point of the smaller area, in which case an advantage of increasing energy efficiency may be obtained.
  • a heating tube through which a warm fluid circulates may be used.
  • the Tg temperature of the glass varies from 750 ° C to 1300 ° C depending on the type of glass.
  • the temperature of the heating member is preferably maintained at 50 ° C or higher, preferably 100 ° C or higher, even more preferably 200-500 ° C or higher than the Tg of the glass in order to appropriately cut the processed portion. .
  • the heating member can be cut out of the strip due to the temperature difference in the glass even when the temperature of the glass substrate is 0 to 50 ° C.
  • the cooling may cool the glass substrate as a whole or selectively cool only the processed portion of the glass substrate, but it is preferable to cool the entire glass substrate for stable control.
  • Cooling of the glass substrate may be performed by placing a glass substrate in a working environment maintained at a low temperature for a predetermined time, or by contacting the glass substrate to a cooling plate maintained at a low temperature.
  • the cutting operation is performed in a state of being fixed to a cooling plate maintained at a constant temperature so as to avoid an increase in the temperature of the glass during the operation.
  • the temperature of the glass substrate is preferably 10 °C or less, more preferably in the range 0 ⁇ 10 °C to reduce the energy consumed for excessive cooling.
  • any of the devices known in the art may be used, as long as the above technical features can be implemented.
  • a heating member, the heating member support, and a glass substrate support may be included, and any one or more of the heating member support and the glass substrate support may sequentially contact the cut portions of the glass substrate fixed to the heating member and the glass substrate support.
  • Edge processing apparatus of the glass substrate can be used so as to be movable.
  • a portion in contact with the edge of the glass substrate may have a tapered shape toward the central axis at the outer circumferential surface thereof (see FIG. 7).
  • the shape tapered from the outer circumferential surface toward the center is not particularly limited, but examples thereof include a cone-like form.
  • the upper portion of the tapered portion is not particularly limited but may have a cylindrical shape.
  • the heating member may be heated by means commonly used in the art.
  • an electric resistance method, a high frequency induction heating method, or the like can be used.
  • the high frequency induction heating method refers to a method in which a heating member located in the middle of a coil in which a high frequency current flows is heated by a method of heating rapidly by the eddy current EDDYCURRENT generated by the electromagnetic induction action and the heat loss of some HYSTERESIS.
  • the high frequency induction heating method can effectively concentrate energy on the heating member penetrating the coil, so that it is possible to increase the temperature quickly and is particularly advantageous in preventing the temperature drop of the heating member due to contact with the cooling member. Can be used.
  • the heating member is fixed to the heating member support.
  • the heating member support is not particularly limited as long as it has a structure capable of fixing the heating member, a form known in the art may be used.
  • the glass substrate support is a component capable of fixing the glass substrate, and may be provided with various forms of fixing means known in the art.
  • the glass substrate support may further include cooling means for cooling the glass substrate.
  • the cooling means may be, for example, a cooling plate formed with a pipe through which a low temperature refrigerant flows is formed at the bottom of the support.
  • the heating member and the glass substrate can be moved relatively. That is, the heating member may move, the glass substrate may move, or the glass substrate and the heating member may move simultaneously. Movement of the heating member and the glass substrate may be performed by operation of the heating member support and the glass substrate support, respectively.
  • the moving speed of the heating member and / or the glass substrate may be adjusted in consideration of productivity, cutting depth, temperature difference, and pressure difference.
  • one of the heating member support and the glass substrate support is fixed, the other one may be installed so as to move while maintaining the processing portion of the heating member and the glass substrate cut.
  • the heating member support is fixed and the glass substrate support moves. This is because, when the heating member support moves, a temperature change occurs in the heating part due to the convection caused by the movement, so that it is difficult to cut the uniform strip.
  • the contact of the heating member and the cut portion of the glass substrate is made by being pressed to apply a pressure of about 0.1-3.0 Kgf / cm 2, more preferably about 0.5-1.5 Kgf / cm 2.
  • the structure, each component and the like of the edge processing apparatus of the glass substrate of the present invention can be used without limitation those known in the art.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)

Abstract

본 발명은 (a) 유리기판을 유리기판 지지대에 고정하는 단계; (b) 가열부재를 유리기판의 Tg 온도보다 고온으로 가열하는 단계; 및 (c) 상기 가열된 가열부재를 유리기판의 모서리와 접촉시켜서 모서리를 절취하는 유리기판의 모서리 가공방법으로서, 가열부재와 모서리의 접촉시, 상기 모서리를 형성하는 유리기판의 2개의 면 중, 면적이 더 큰 면의 가열부재 접촉점 인접부의 온도가 면적이 더 작은 면의 가열부재 접촉점 인접부의 온도와 같거나 낮게 유지되도록 유리기판의 온도를 부분적으로 조절하는 것을 특징으로 하는 유리기판의 모서리 가공방법에 관한 것이다.

Description

유리기판의 모서리 가공방법 및 가공장치
본 발명은 유리기판의 모서리 가공방법에 관한 것이다.
평판표시장치 등에 사용되는 유리기판의 가공에는 일반적으로 유리기판을 원하는 형태로 절단한 후 절단된 유리기판의 모서리를 연삭 및/또는 연마하여 날카로운 구석을 제거하는 공정이 수반된다.
상기와 같은 일반적인 가공방법에 의하면 유리기판의 모서리를 가공하는 동안 발생된 입자들이 유리기판의 표면을 오염시키므로, 이를 세척하기 위하여 세정과 건조 공정이 요구되게 되며, 이에 따라 유리기판의 제조비용이 증가된다. 또한, 가공시 벨트와 유리기판 사이에 잡힌 입자들과 칩들이 유리기판의 표면을 심각하게 손상시키므로, 종종 일련의 가공단계를 중단시키는 원인을 야기한다.
상기와 같은 문제를 해결하기 위하여, 유리기판의 연마 후 유리기판 내부에 잔존해 있는 미세 크랙(Crack) 및 칩핑(Chipping)을 불산, 보강제 등을 이용하여 제거하거나 무디게 만드는 보강 공정이 수행되고 있다. 그러나, 이러한 공정은 유리기판의 가공 공정수를 늘리고, 생산단가를 높이는 단점을 갖는다.
대한민국 특허출원 제2012-0002573호에서는, 도 1에 도시된 바와 같이, 냉각된 유리기판의 모서리에 가열된 부재를 접촉시키면서 이동시킴으로써 모서리를 스트립 형태로 절취할 수 있는 방법을 개시하고 있다. 이 방법은 유리기판의 모서리 연마시 발생되는 유리 분진을 원천적으로 방지할 수 있어서 이 분야에서 유용하게 사용될 수 있을 것으로 보인다.
그러나, 상기 방법은 도 2에 도시된 바와 같이, 절취된 스트립이 가열부재 및 가열부재에 구비된 유도코일과 접촉하여 절단되고, 그로 인하여 칩핑이 발생되고, 불균일한 절취면이 얻어질 수 있다는 단점이 있다.
본 발명자들은 상기와 같은 종래기술의 문제를 해결하기 위하여 예의 노력한 바, 가열부재와 접촉하는 유리기판의 온도를 부분적으로 조절함으로써, 스트립의 발생 방향을 조절할 수 있음을 발견하여 본 발명을 완성하게 되었다.
본 발명은 유리기판의 모서리 절취시 발생하는 스트립의 발생 방향을 조절하여 스트립의 가열부재에 대한 간섭을 차단하고, 스트립의 절단에 의한 칩핑 발생과 그로 인한 불균일 가공면의 발생을 방지할 수 있는 유리기판의 모서리 가공방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은
(a) 유리기판을 유리기판 지지대에 고정하는 단계;
(b) 가열부재를 유리기판의 Tg 온도보다 고온으로 가열하는 단계; 및
(c) 상기 가열된 가열부재를 유리기판의 모서리와 접촉시켜서 모서리를 절취하는 유리기판의 모서리 가공방법으로서,
가열부재와 모서리의 접촉시, 상기 모서리를 형성하는 유리기판의 2개의 면 중, 면적이 더 큰 면의 가열부재 접촉점 인접부의 온도가 면적이 더 작은 면의 가열부재 접촉점 인접부의 온도와 같거나 낮게 유지되도록 유리기판의 온도를 부분적으로 조절하는 것을 특징으로 하는 유리기판의 모서리 가공방법을 제공한다.
본 발명의 유리기판의 모서리 가공방법에 의하면, 유리기판의 모서리 절취시 발생하는 스트립의 발생 방향을 조절하는 것이 가능하므로, 스트립의 가열부재에 대한 간섭을 차단하고, 스트립의 절단에 의한 칩핑 발생과 그로 인한 불균일 가공면의 발생을 방지할 수 있다.
또한, 상기와 같은 효과에 의해서 모서리 가공공정의 효율성을 높일 수 있으며, 더 우수한 품질을 갖는 유리기판을 제공할 수 있다.
도 1은 종래기술의 유리기판의 모서리 절취 방법을 도시한 것이며,
도 2는 종래기술의 유리기판의 모서리 절취 방법의 문제점(스트립 간섭)을 도시한 도면이며,
도 3은 가열부재가 유리기판의 모서리에 닿았을 때, 유리기판 내부의 열분포를 나타낸 도면이며,
도 4는 가열부재가 유리기판의 모서리에 닿았을 때, 유리기판의 일면에서 공기냉각을 시키는 경우의 유리기판 내부의 열분포를 나타낸 도면이며,
도 5는 본 발명의 유리기판의 모서리 가공방법의 일예를 도시한 것으로서, 가열부재와 모서리의 접촉시, 상기 모서리를 형성하는 유리기판의 2개의 면 중, 면적이 더 큰 면 쪽에 공기를 분사하여 강제대류를 시키는 방식을 모식적으로 나타낸 도면이며,
도 6 및 도 7은 상기 도 5에서와 같은 방법으로 유리기판의 모서리를 가공하는 경우, 분사되는 바람의 양이 적은 경우(a)와 바람의 량이 많은 경우(b)에 모서리에서 발생하는 스트립의 발생 형태를 모식적으로 도시한 도면이다.
도 8은 본 발명의 유리기판의 모서리 가공방법에 사용되는 가공장치의 일예를 도시한 사진이다.
이하에서, 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세히 설명한다. 본 발명을 설명하기에 앞서 관련된 공지기능 및 구성에 대한 구체적 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그에 대한 설명은 생략하기로 한다.
아래 설명과 도면은 당업자가 설명되는 장치와 방법을 용이하게 실시할 수 있도록 특정 실시예를 예시한다. 다른 실시예는 구조적, 논리적으로 다른 변형을 포함할 수 있다. 개별 구성 요소와 기능은 명확히 요구되지 않는 한, 일반적으로 선택될 수 있으며, 과정의 순서는 변할 수 있다. 몇몇 실시예의 부분과 특징은 다른 실시예에 포함되거나 다른 실시예로 대체될 수 있다.
본 발명은,
(a) 유리기판을 유리기판 지지대에 고정하는 단계;
(b) 가열부재를 유리기판의 Tg 온도보다 고온으로 가열하는 단계; 및
(c) 상기 가열된 가열부재를 유리기판의 모서리와 접촉시켜서 모서리를 절취하는 유리기판의 모서리 가공방법으로서,
가열부재와 모서리의 접촉시, 상기 모서리를 형성하는 유리기판의 2개의 면 중, 면적이 더 큰 면의 가열부재 접촉점 인접부의 온도가 면적이 더 작은 면의 가열부재 접촉점 인접부의 온도와 같거나 낮게 유지되도록 유리기판의 온도를 부분적으로 조절하는 것을 특징으로 하는 유리기판의 모서리 가공방법에 관한 것이다.
본 발명자들은 가열부재와 접촉하는 유리기판의 온도를 부분적으로 조절함으로써, 스트립의 발생 방향을 조절할 수 있음을 발견하여 본 발명을 완성하게 되었다.
도 3에 도시된 바와 같이, 가열부재가 유리기판의 모서리에 닿는 경우, 유리기판 내부의 열분포는 수직방향보다 수평방향으로 더 많이 분포되어 있는 것을 볼 수 있다. 그러므로, 이러한 열분포 때문에, 가열부재가 유리기판 모서리에 접촉되어 절취되는 스트립은 도 6의 (a) 및 도 7의 (a)와 같이 가열부재 방향으로 말려 올라가게 된다.
구체적으로, 도 3에 도시된 유리기판에서 유리의 수평방향 면의 면적은 수직방향 면의 면적에 비해 10배 이상 크다(유리기판의 길이도 마찬가지임). 그러므로, 유리기판의 수직방향 및 그의 인접방향으로 전달된 열은 수평방향 및 그의 인접방향으로 전달된 열보다 더 가까운 거리에서 공기와 접촉하게 된다. 따라서, 수직면에서 대류 활동이 더 활발히 일어나게 되므로 상기와 같은 열분포가 발생하는 것으로 보인다.
도 4는 본 발명의 기술적 특징에 따라, 가열부재와 모서리의 접촉시, 상기 모서리를 형성하는 유리기판의 2개의 면 중, 면적이 더 큰 면의 가열부재 접촉점 인접부의 온도가 면적이 더 작은 면의 가열부재 접촉점 인접부의 온도와 같거나 낮게 유지되도록 하기 위하여, 면적이 더 큰 면에 공기를 분사하여 강제대류를 일으킨 경우의 열분포를 나타낸 것이다.
상기와 같은 강제대류는 도 5에 도시된 바와 같은 장치에 의해서 이루어질 수 있다.
도 4로부터 강제대류를 실시하기 전(도 3)과 비교하여, 열분포에 변화가 발생하여, 면적이 더 큰 면의 가열부재 접촉점 인접부의 온도가 면적이 더 작은 면의 가열부재 접촉점 인접부의 온도와 같거나 낮게 변화된 것을 확인할 수 있다.
상기와 같은 열분포를 갖는 경우, 가열부재가 유리기판 모서리에 접촉되어 절취되는 스트립은 도 6의 (a) 및 도 7의 (a)와 같이 수평방향 보다 아래쪽으로 향하게 된다.
본 발명의 유리기판의 모서리 가공방법에 있어서,
상기 유리기판의 온도를 부분적으로 조절하는 것은 면적이 더 큰 면의 일부 또는 전부를 냉각시키거나, 면적이 더 작은 면의 일부 또는 전부를 가열하는 것에 의해 이루어질 수 있다.
상기에서 “일부”는 면적이 더 큰 면의 가열부재 접촉점 인접부의 온도가 면적이 더 작은 면의 가열부재 접촉점 인접부의 온도와 같거나 낮게 유지되게 할 수 있는 부분이라면 특별히 제한되는 위치가 아니다.
상기 면적이 더 큰 면의 일부 또는 전부를 냉각시키는 것은, 예컨대,냉각수단으로서 상기 면적이 더 큰 면보다 온도가 낮은 냉각체를 면적이 더 큰 면의 일부 또는 전부와 접촉시키거나, 냉기가 전달되는 인접장소에 위치시키는 것에 의해 이루어질 수 있다.
또한, 상기 면적이 더 큰 면의 일부 또는 전부를 냉각시키는 것은, 예컨대, 냉각수단으로서 상기 면적이 더 큰 면보다 온도가 낮은 바람을 면적이 더 큰 면의 일부 또는 전부에 접촉시키는 것에 의해 이루어질 수도 있다.
상기 면적이 더 큰 면의 일부 또는 전부를 냉각시키는 것은 상기 냉각수단을 면적이 더 큰 면의 가열부재 접촉점 인접부에 적용함으로써 이루어질 수 있으며, 이 경우에는 에너지 효율을 높일 수 있는 장점을 얻을 수 있다.
상기 냉각체로는 예컨대, 냉유체가 순환하는 냉각관이 사용될 수 있다.
상기 면적이 더 작은 면의 일부 또는 전부를 가열하는 것은, 예컨대,가열수단으로서 상기 면적이 더 작은 면보다 온도가 높은 가열체를 면적이 더 작은 면의 일부 또는 전부와 접촉시키거나, 온기가 전달되는 인접장소에 위치시키는 것에 의해 이루어질 수 있다.
또한, 상기 면적이 더 작은 면의 일부 또는 전부를 가열시키는 것은, 예컨대, 가열수단으로서 상기 면적이 더 작은 면보다 온도가 높은 바람을 면적이 더 작은 면의 일부 또는 전부에 접촉시키는 것에 의해 이루어질 수 있다.
상기 면적이 더 작은 면의 일부 또는 전부를 가열시키는 것은 상기 가열수단을 면적이 더 작은 면의 가열부재 접촉점 인접부에 적용함으로써 이루어질 수 있으며, 이 경우에는 에너지 효율을 높일 수 있는 장점을 얻을 수 있다.
상기 가열체로는 예컨대, 온유체가 순환하는 가열관이 사용될 수 있다.
본 발명의 유리기판의 모서리 가공방법은 에 있어서,
유리의 Tg 온도는 유리의 종류에 따라 750℃에서 1300℃까지 다양하다. 본 발명의 실시에 있어서, 가열부재의 온도는 가공부의 적절한 절취를 위해서, 유리의 Tg 보다 50℃이상, 바람직하게는 100℃ 이상, 보다 더 바람직하게는 200-500℃ 정도 높게 유지되는 것이 바람직하다.
상기 가공시 유리기판의 온도는 가열부재가 유리의 Tg 이상으로 가열되므로, 유리기판의 온도가 0~50℃인 상태에서도 유리내부의 온도차이에 의해서 스트립의 절취가 가능하다.
그러나, 스트립 절취의 효과를 높이기 위해서 유리기판을 냉각시키는 것도 가능하다. 상기 "냉각"은 강제적인 방식에 의해서 유리기판의 온도가 주변부보다 낮은 상태로 하는 것을 의미한다.
상기 냉각은 유리기판을 전체적으로 냉각시키거나, 유리기판의 가공부만을 선별적으로 냉각시키는 것도 가능하지만, 안정적인 제어를 위해서 유리기판 전체를 냉각하는 것이 바람직하다.
상기 유리기판의 냉각은 저온으로 유지되는 작업 환경에 유리기판을 일정시간 적치하여 이루어질 수 있으며, 또한 저온으로 유지되는 냉각 판에 유리기판을 접촉시킴으로써 이루어질 수도 있다. 바람직하게는 작업 중 유리의 온도가 상승하는 것을 피할 수 있도록 일정온도로 유지되는 냉각 판에 고정한 상태로 절취 작업이 이루어지는 것이 좋다.
본 발명에서 유리기판의 냉각 온도는 상온(=25 ℃)보다 낮은 온도, 보다 바람직하게는 가열부재과 접촉된 유리기판이 분진 없이 절단되어 분리될 수 있도록 상온보다 10℃이상 낮은 온도로 냉각되는 것이 좋다. 본 발명의 실시에 있어서, 상기 유리기판의 온도는 10℃ 이하가 바람직하며, 과다한 냉각에 소비되는 에너지를 줄일 수 있도록 0~10℃ 범위가 더욱 바람직하다.
상기 유리기판의 온도가 높을 경우에는 모서리로부터 절취되는 양이 많아져 박판 유리에 대한 정밀한 모서리 절취가 어려워지며, 상기 유리기판의 온도가 지나치게 낮을 경우 과다한 에너지 소비를 유발하게 되며 일정 공정 제어가 어려워질 수 있다.
본 발명의 유리기판의 모서리 가공방법에는, 상기 기술적 특징을 구현할 수 있는 것이라면, 이 분야에서 공지된 장치가 모두 사용될 수 있다.
예컨대, 가열부재, 상기 가열부재 지지대, 및 유리기판 지지대를 포함하며, 상기 가열부재 지지대 및 유리기판 지지대 중 어느 하나 이상은 가열부재와 유리기판 지지대에 고정되는 유리기판의 절단부가 순차적으로 접촉될 수 있도록 이동이 가능하게 구비되는 유리기판의 모서리 가공장치가 사용될 수 있다.
상기 가열부재로는 예컨대, 유리기판 모서리와 접촉되는 부분이 외주면에서 중심축을 향하여 테이퍼진 형상을 가지는 것이 사용될 수 있다(도 7 참조). 상기 외주면에서 중심부를 향하여 테이퍼진 형상은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 원뿔과 유사한 형태를 예로 들 수 있다.
상기와 같이 테이퍼진 형상을 가질 경우, 유리기판 모서리와의 접촉 및 코너링에 유리할 수 있다.
상기 테이퍼진 부분의 윗부분은 특별히 한정되는 것은 아니지만 원통형의 형상일 수 있다.
상기 가열부재는 이 분야에서 통상적으로 사용되는 수단에 의해서 가열될 수 있다. 예컨대, 전기저항방식, 고주파유도가열방식 등이 사용될 수 있다. 상기 고주파유도가열방식은 고주파 전류가 흐르는 코일의 중간에 위치한 가열부재가 전자 유도 작용으로 일어나는 와전류(EDDYCURRENT)및 일부의 HYSTERESIS의 열손실에 의해서 급속히 가열되는 방식에 의해 가열되는 방식의 의미한다.
상기 고주파유도가열방식은 코일을 관통하는 가열부재에 에너지를 효과적으로 집중시킬 수 있어, 빠른 온도 상승이 가능하고 냉각 부재와의 접촉에 의한 가열부재의 온도저하를 방지하는데 특히 유리하므로, 본 발명에서 바람직하게 사용될 수 있다.
상기 가열부재는 가열부재 지지대에 고절된다. 상기 가열부재 지지대는 가열부재를 고정할 수 있는 구조를 갖는 것이라면 그 형태는 특별히 한정되지 않으며, 이 분야에서 공지된 형태가 사용될 수 있다.
상기 유리기판 지지대는 유리기판을 고정할 수 있는 구성요소로서, 이 분야에서 공지된 다양한 형태의 고정수단을 구비할 수 있다. 특히, 유리기판 지지대는 유리기판을 냉각시키기 위한 냉각수단을 더 구비할 수 있다. 상기 냉각수단은 예컨대, 저온의 냉매가 흐르는 관로가 형성되어 있는 냉각판이 지지대 바닥에 형성된 것일 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 가열부재와 유리기판은 상대적으로 이동할 수 있다. 즉, 가열부재가 이동하거나, 유리기판이 이동하거나, 유리 기판과 가열부재가 동시에 이동하는 것일 수도 있다. 상기 가열부재 및 유리기판의 이동은 각각 가열부재 지지대 및 유리기판 지지대의 작동에 의해서 이루어질 수 있다.
상기 가열부재 및/또는 유리기판의 이동 속도는 생산성, 절취 깊이, 온도차, 및 압력차를 고려해서 조절될 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 가열부재 지지대 및 유리기판 지지대는 둘 중 하나는 고정되고, 나머지 하나는 가열부재와 유리기판 절단부의 가공부가 접촉을 유지하면서 이동할 수 있도록 설치될 수 있다. 바람직하게는 가열부재 지지대가 고정되고 유리기판 지지대가 이동을 하는 것이 좋다. 왜냐하면, 가열부재 지지대가 움직일 경우 움직임에 의한 대류 현상으로 인하여 가열부에 온도 변화가 발생하여 균일한 스트립의 절취가 어렵기 때문이다.
본 발명에 있어서, 가열부재와 유리기판 절단부의 접촉은 가열부재에 0.1-3.0 Kgf/㎠, 보다 바람직하게는 0.5-1.5 Kgf/㎠정도의 압력이 가해지도록 가압되는 것에 의하여 이루어지는 것이 바람직하다.
상기에서 기재된 내용을 제외하고, 본 발명의 유리기판의 모서리 가공장치의 구조, 각 구성요소 등은 이 분야에서 공지된 것들이 제한 없이 사용될 수 있다.
비록 본 발명이 상기 언급된 바람직한 실시예와 관련되어 설명되었지만, 발명의 요지와 범위로부터 벗어남이 없이 다양한 수정이나 변형을 하는 것이 가능하다. 따라서, 첨부된 특허청구범위는 본 발명의 요지에 속하는 한 이러한 수정이나 변형을 포함할 것이다.

Claims (10)

  1. (a) 유리기판을 유리기판 지지대에 고정하는 단계;
    (b) 가열부재를 유리기판의 Tg 온도보다 고온으로 가열하는 단계; 및
    (c) 상기 가열된 가열부재를 유리기판의 모서리와 접촉시켜서 모서리를 절취하는 유리기판의 모서리 가공방법으로서,
    가열부재와 모서리의 접촉시, 상기 모서리를 형성하는 유리기판의 2개의 면 중, 면적이 더 큰 면의 가열부재 접촉점 인접부의 온도가 면적이 더 작은 면의 가열부재 접촉점 인접부의 온도와 같거나 낮게 유지되도록 유리기판의 온도를 부분적으로 조절하는 것을 특징으로 하는 유리기판의 모서리 가공방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 유리기판의 온도를 부분적으로 조절하는 것은 면적이 더 큰 면의 일부 또는 전부를 냉각시키거나, 면적이 더 작은 면의 일부 또는 전부를 가열하는 것에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 유리기판의 모서리 가공방법.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 면적이 더 큰 면의 일부 또는 전부를 냉각시키는 것은, 냉각수단으로서 상기 면적이 더 큰 면보다 온도가 낮은 냉각체를 면적이 더 큰 면의 일부 또는 전부와 접촉시키거나, 냉기가 전달되는 인접장소에 위치시키는 것에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 유리기판의 모서리 가공방법.
  4. 청구항 2에 있어서,
    상기 면적이 더 큰 면의 일부 또는 전부를 냉각시키는 것은, 냉각수단으로서 상기 면적이 더 큰 면보다 온도가 낮은 바람을 면적이 더 큰 면의 일부 또는 전부에 접촉시키는 것에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 유리기판의 모서리 가공방법.
  5. 청구항 3 또는 청구항 4에 있어서,
    상기 면적이 더 큰 면의 일부 또는 전부를 냉각시키는 것은 상기 냉각수단을 면적이 더 큰 면의 가열부재 접촉점 인접부에 적용함으로써 이루어지는 것을 특징으로 하는 유리기판의 모서리 가공방법.
  6. 청구항 3에 있어서,
    상기 냉각체는 냉유체가 순환하는 냉각관인 것을 특징으로 하는 유리기판의 모서리 가공방법.
  7. 청구항 2에 있어서,
    상기 면적이 더 작은 면의 일부 또는 전부를 가열하는 것은, 가열수단으로서 상기 면적이 더 작은 면보다 온도가 높은 가열체를 면적이 더 작은 면의 일부 또는 전부와 접촉시키거나, 온기가 전달되는 인접장소에 위치시키는 것에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 유리기판의 모서리 가공방법.
  8. 청구항 2에 있어서,
    상기 면적이 더 작은 면의 일부 또는 전부를 가열시키는 것은, 가열수단으로서 상기 면적이 더 작은 면보다 온도가 높은 바람을 면적이 더 작은 면의 일부 또는 전부에 접촉시키는 것에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 유리기판의 모서리 가공방법.
  9. 청구항 7 또는 청구항 8에 있어서,
    상기 면적이 더 작은 면의 일부 또는 전부를 가열시키는 것은 상기 가열수단을 면적이 더 작은 면의 가열부재 접촉점 인접부에 적용함으로써 이루어지는 것을 특징으로 하는 유리기판의 모서리 가공방법.
  10. 청구항 7에 있어서,
    상기 가열체는 온유체가 순환하는 가열관인 것을 특징으로 하는 유리기판의 모서리 가공방법.
PCT/KR2015/004974 2014-05-19 2015-05-18 유리기판의 모서리 가공방법 및 가공장치 WO2015178650A1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2014-0059929 2014-05-19
KR1020140059929A KR102218981B1 (ko) 2014-05-19 2014-05-19 유리기판의 모서리 가공방법 및 가공장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2015178650A1 true WO2015178650A1 (ko) 2015-11-26

Family

ID=54554256

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/KR2015/004974 WO2015178650A1 (ko) 2014-05-19 2015-05-18 유리기판의 모서리 가공방법 및 가공장치

Country Status (3)

Country Link
KR (1) KR102218981B1 (ko)
TW (1) TWI673238B (ko)
WO (1) WO2015178650A1 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108994686A (zh) * 2018-09-02 2018-12-14 梁显梅 一种改进的玻璃磨边机
CN111348824A (zh) * 2020-04-30 2020-06-30 重庆鑫景特种玻璃有限公司 一种玻璃边部加热器、浮法玻璃加工方法及玻璃

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010014665A (ko) * 1999-03-31 2001-02-26 가네꼬 히사시 유리기판 절단방법 및 절단장치
JP2009035433A (ja) * 2007-07-31 2009-02-19 Asahi Glass Co Ltd ガラス基板の面取り方法および装置、面取りされたガラス基板
KR20090027565A (ko) * 2007-09-12 2009-03-17 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 취성재료기판의 챔퍼링 방법
WO2014021606A2 (ko) * 2012-08-01 2014-02-06 주식회사 라미넥스 고주파 유도 가열기를 이용한 유리 모서리 가공 방법 및 장치
WO2014036108A1 (en) * 2012-08-31 2014-03-06 Corning Incorporated Edge treating a cut edge of a glass piece

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102361738B (zh) 2009-03-27 2014-08-13 柯尼卡美能达精密光学株式会社 光学元件用树脂成型品、光学元件用树脂成型品的制造方法、光学元件用树脂成型品的制造装置、以及扫描光学装置
JP5795000B2 (ja) * 2009-11-30 2015-10-14 コーニング インコーポレイテッド ガラス基板のレーザスクライブおよび分離方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010014665A (ko) * 1999-03-31 2001-02-26 가네꼬 히사시 유리기판 절단방법 및 절단장치
JP2009035433A (ja) * 2007-07-31 2009-02-19 Asahi Glass Co Ltd ガラス基板の面取り方法および装置、面取りされたガラス基板
KR20090027565A (ko) * 2007-09-12 2009-03-17 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 취성재료기판의 챔퍼링 방법
WO2014021606A2 (ko) * 2012-08-01 2014-02-06 주식회사 라미넥스 고주파 유도 가열기를 이용한 유리 모서리 가공 방법 및 장치
WO2014036108A1 (en) * 2012-08-31 2014-03-06 Corning Incorporated Edge treating a cut edge of a glass piece

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108994686A (zh) * 2018-09-02 2018-12-14 梁显梅 一种改进的玻璃磨边机
CN111348824A (zh) * 2020-04-30 2020-06-30 重庆鑫景特种玻璃有限公司 一种玻璃边部加热器、浮法玻璃加工方法及玻璃
CN111348824B (zh) * 2020-04-30 2024-02-27 重庆鑫景特种玻璃有限公司 一种玻璃边部加热器、浮法玻璃加工方法及玻璃

Also Published As

Publication number Publication date
KR102218981B1 (ko) 2021-02-23
KR20150133072A (ko) 2015-11-27
TW201604148A (zh) 2016-02-01
TWI673238B (zh) 2019-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2014021606A2 (ko) 고주파 유도 가열기를 이용한 유리 모서리 가공 방법 및 장치
WO2013105773A1 (ko) 유리판 모서리 가공 방법 및 장치
WO2015178646A1 (ko) 유리기판의 절단부 가공방법 및 가공장치
WO2015178645A1 (ko) 유리기판의 모서리 가공장치 및 그를 이용한 가공방법
WO2015178650A1 (ko) 유리기판의 모서리 가공방법 및 가공장치
WO2012165864A2 (ko) 유리판의 절단 모서리 크랙 제거 방법 및 장치, 그리고 절단 모서리 크랙이 제거된 유리판
CN103765143B (zh) 具有外壳集成冷却系统的炉系统
WO2018124722A1 (ko) 성형 장치
JPS61198735A (ja) フラツシユランプアニ−ル装置
WO2015178647A1 (ko) 유리기판의 절단부 가공장치
WO2015178649A1 (ko) 유리기판의 절단부 가공방법
CN209024408U (zh) 一种用于玻璃生产时退火炉内温度和应力的控制装置
WO2016064101A1 (ko) 유리 면취 방법
CN104890362A (zh) 能进行二次加工且图案永不褪色的玻璃深加工工艺
WO2016060391A1 (ko) 유리 면취가공용 발열장치
CN213382154U (zh) 一种新型陶瓷生产用成品快速冷却装置
JP2002313700A (ja) 加熱装置及び冷却装置
WO2015069088A1 (ko) 곡면유리 제조 시스템 및 방법
WO2016085175A1 (ko) 유리 기판 모서리 가공 장치
WO2016085174A1 (ko) 유리 기판 모서리 가공 장치
WO2016085181A1 (ko) 유리 기판 모서리 가공 장치
KR102170150B1 (ko) 분리형 기판 열처리 장치
CN216972605U (zh) 一种具有温度调节组件的铸造退火炉
CN216585320U (zh) 一种石英晶片热应力处理设备
WO2012074170A1 (ko) 플렉시블 디스플레이용 홀더의 기판 적재 방법 및 그 시스템

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 15796961

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 15796961

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1