WO2015142000A1 - 오늄염 유도체 및 이를 포함하는 광산발생제 - Google Patents

오늄염 유도체 및 이를 포함하는 광산발생제 Download PDF

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salt derivative
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최한영
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Dongwoo Fine Chem Co Ltd
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    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable

Definitions

  • the present invention relates to an onium salt derivative capable of imparting excellent photosensitivity when used in a photosensitive resin composition and the like and significantly improving the curing rate, and a photoacid generator including the same.
  • the photosensitive resin composition is selectively exposed and developed by a photolithography process to form a desired photocuring pattern.
  • the photosensitive resin has high sensitivity.
  • a resin composition is required.
  • the onium salt compound to which a sulfonium salt compound and an iodonium salt compound belong is a substance which produces
  • the present invention is to solve the above problems, one object of the present invention is to provide an onium salt derivative that can improve the light sensitivity when used in the photosensitive resin composition and the like to increase the curing rate.
  • Another object of the present invention to provide a photoacid generator comprising the onium salt derivative.
  • Still another object of the present invention is to provide a photosensitive resin composition comprising the photoacid generator.
  • Still another object of the present invention is to provide a photocurable adhesive composition comprising the photoacid generator.
  • the present invention provides an onium salt derivative represented by the following formula (1) to (3).
  • R 1 to R 5 are each independently hydrogen, C 1 -C 12 alkyl group, aryl group, halogen, C 1 -C 6 alkoxy group, C 1 -C 6 alkylcarbonyl group, arylthio group, cyano or nitro ego,
  • R 1 to R 5 are the same as or different from each other when two or more are present;
  • R 1 to R 5 each form an aromatic ring together with the carbon atom to which they are attached when two or more are present,
  • R 4 and R 5 are connected to each other to form a 5 to 7 hexagonal ring
  • p, q and r are each independently an integer from 1 to 4,
  • n is an integer of 0-5.
  • the present invention provides a photoacid generator comprising the onium salt derivative.
  • the present invention provides a photosensitive resin composition comprising the photoacid generator and the photopolymerizable compound.
  • this invention provides the photocuring pattern formed using the said photosensitive resin composition.
  • the present invention provides an image display device including the photocuring pattern.
  • the present invention provides an adhesive composition comprising the photoacid generator and the photopolymerizable monomer.
  • the present invention is a polarizer; An adhesive layer laminated on one or both surfaces of the polarizer and formed from the adhesive composition; And it provides a polarizing plate comprising a polarizer protective film laminated on the adhesive layer.
  • the present invention provides a liquid crystal display device comprising the polarizing plate.
  • the onium salt derivative according to the present invention can impart excellent light sensitivity to the photosensitive resin composition or the adhesive composition and can significantly improve the curing rate.
  • One embodiment of the present invention relates to an onium salt derivative represented by the following Chemical Formulas 1-3.
  • R 1 to R 5 are each independently hydrogen, C 1 -C 12 alkyl group, aryl group, halogen, C 1 -C 6 alkoxy group, C 1 -C 6 alkylcarbonyl group, arylthio group, cyano or nitro ego,
  • R 1 to R 5 are the same as or different from each other when two or more are present;
  • R 1 to R 5 each form an aromatic ring together with the carbon atom to which they are attached when two or more are present,
  • R 4 and R 5 are connected to each other to form a 5 to 7 hexagonal ring
  • p, q and r are each independently an integer from 1 to 4,
  • n is an integer of 0-5.
  • an alkyl group of C 1 -C 12 refers to a straight or branched hydrocarbon having 1 to 12 carbon atoms, for example methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, i- Butyl, t-butyl, n-pentyl, n-hexyl, and the like.
  • the aryl group includes both aromatic groups and heteroaromatic groups and their partially reduced derivatives.
  • the aromatic group is a simple or fused cyclic consisting of 5 to 15 pentagons
  • heteroaromatic group refers to an aromatic group containing one or more oxygen, sulfur or nitrogen.
  • representative aryl groups include phenyl, naphthyl, pyridinyl, furanyl, thiophenyl, indolyl, quinolinyl, imidazolinyl, Oxazolyl, thiazolyl, tetrahydronaphthyl, and the like, but are not limited thereto.
  • a C 1 -C 6 alkoxy group means a straight or branched alkoxy group composed of 1 to 6 carbon atoms, and includes, but is not limited to, methoxy, ethoxy, n-propaneoxy and the like.
  • an alkylcarbonyl group of C 1 -C 6 represents a group of the formula -COR wherein R is hydrogen or an alkyl group of C 1 -C 5 , and includes, but is not limited to, a formyl group, an acetyl group, and the like. no.
  • an arylthio group refers to a sulfur functional group bonded to an aryl group, and includes, but is not limited to, phenylthio, benzylthio, and the like.
  • R 1 to R 5 are each independently hydrogen, an alkyl group of C 1 -C 12 , a halogen, an alkoxy group of C 1 -C 6 , phenylthio or nitro,
  • R 1 to R 5 are the same as or different from each other when two or more are present;
  • R 1 to R 5 each form two or more benzene rings together with the carbon atoms to which they are attached, or
  • R 4 and R 5 are connected to each other to form a 5 to 7 hexagonal ring
  • p, q and r are each independently an integer from 1 to 4,
  • n is an integer of 0-5.
  • n zero.
  • cation in the onium salt derivative according to the embodiment of the present invention may include a cation represented by the following formula.
  • anion in the onium salt derivative according to an embodiment of the present invention may include an anion represented by the following formula.
  • Representative compounds of the onium salt derivatives according to one embodiment of the present invention may be selected from compounds of the following formulas (4) and (5).
  • the onium salt derivative of the present invention can be easily prepared by methods known in the art.
  • the onium salt derivative according to the present invention can impart excellent photosensitivity to the photosensitive resin composition or photocurable adhesive composition and can significantly improve the curing rate, and thus can be usefully used as a photoacid generator.
  • one embodiment of the present invention relates to a photoacid generator comprising an onium salt derivative according to the present invention.
  • one Embodiment of this invention relates to the photosensitive resin composition containing the photo-acid generator and photopolymerizable compound which concerns on this invention.
  • the content of the photoacid generator is not particularly limited, and may be included, for example, in an amount of 0.1 to 10 parts by weight, and preferably 0.5 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the photopolymerizable compound.
  • an amount of 0.1 to 10 parts by weight, and preferably 0.5 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the photopolymerizable compound When included in the above range is high sensitivity to shorten the exposure time to improve productivity, and also the strength of the formed pattern and the smoothness of the surface can be improved. If the photoacid generator is included in an amount greater than 10 parts by weight, the curing rate of the pattern may be better, but the color of the pattern may change after curing by absorbing some of the visible light.
  • the photopolymerizable compound is not particularly limited as long as it is cured with the photoacid generator of the present invention, and may be, for example, an epoxy compound, an oxetane compound, or a vinyl ether compound, and preferably an epoxy compound. It may be a system compound.
  • the epoxy compound examples include a monofunctional epoxy compound, a bifunctional epoxy compound, a trifunctional epoxy compound, a tetrafunctional epoxy compound, and the like, and preferably may be selected from a monofunctional epoxy compound and a bifunctional epoxy compound. have. These can be used individually or in mixture of 2 or more types.
  • the monofunctional epoxy compound examples include glycidyl phenyl ether, 1,2-epoxyethylbenzene, and the like.
  • the bifunctional epoxy compound 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ', 4' -Epoxycyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-meta-dioxane, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) Adipate, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexyl-3 ', 4'-epoxy-6'-methylcyclohexanecarboxylate , ⁇ -caprolactone modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate,
  • oxetane-based compound examples include 3- (methacryloyloxymethyl) oxetane, 3- (methacryloyloxymethyl) -3-ethyloxetane, 3- (methacryloyloxymethyl)- 2-trifluoromethyloxetane, 3- (methacryloyloxymethyl) -2-phenyloxetane, 2- (methacryloyloxymethyl) oxetane, 2- (methacryloyloxymethyl)- 4-trifluoromethyl oxetane, etc. can be mentioned, These can be used individually or in mixture of 2 or more types.
  • vinyl ether compound examples include styrene, vinyltoluene, methyl styrene, p-chlorostyrene, o-methoxy styrene, m-methoxy styrene, p-methoxy styrene, o-vinyl benzyl methyl ether, and m- Vinyl benzyl methyl ether, p-vinyl benzyl methyl ether, o-vinyl benzyl glycidyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether, p-vinyl benzyl glycidyl ether, and the like. It can be used by mixing the above.
  • the photosensitive resin composition which concerns on one Embodiment of this invention may further contain additives, such as a coloring agent, a silane coupling agent, an adhesion promoter, antioxidant, an ultraviolet absorber, and anti-agglomeration agent, as needed.
  • additives such as a coloring agent, a silane coupling agent, an adhesion promoter, antioxidant, an ultraviolet absorber, and anti-agglomeration agent, as needed.
  • the photosensitive resin composition of the present invention may further be used as a composition capable of developing after curing, further including an alkali-soluble resin, if necessary.
  • an alkali-soluble resin used in the art may be used without particular limitation. In this case, it may further include a suitable solvent used in the art.
  • One Embodiment of this invention relates to the photocuring pattern formed using the photosensitive resin composition mentioned above.
  • the photocuring pattern formed using the said photosensitive resin composition is very excellent in adhesive force with a base material. Accordingly, in the image display apparatus, it can be used as various patterns, for example, an adhesive layer, an array planarization film, a protective film, an insulating film pattern, and the like, and can be used as a photoresist, a color filter, a black matrix, a column spacer pattern, a black column spacer pattern, or the like. It may be used, but is not limited thereto.
  • the photocuring pattern which concerns on one Embodiment of this invention can be manufactured by apply
  • heat-drying removes volatile components, such as a solvent, and obtains a smooth coating film.
  • a coating method it can carry out by a spin coat, cast coating method, the roll coating method, the slit and spin coat, the slit coat method, etc., for example.
  • heating temperature is 70-200 degreeC normally, Preferably it is 80-130 degreeC.
  • the coating film thickness after heat drying is about 1-8 micrometers normally.
  • the coating film thus obtained is irradiated with ultraviolet rays through a mask for forming a target pattern.
  • apparatuses such as a mask aligner and a stepper, so that the parallel light beam may be irradiated uniformly to the whole exposure part, and the exact alignment of a mask and a board
  • ultraviolet light is irradiated, curing of the site irradiated with ultraviolet light is performed.
  • G-rays (wavelength: 436 nm), h-rays, i-rays (wavelength: 365 nm) and the like can be used as the ultraviolet rays.
  • the irradiation amount of ultraviolet rays may be appropriately selected as necessary, and the present invention is not limited thereto.
  • the desired pattern shape can be formed by making the coating film after hardening contact with a developing solution as needed, melt
  • the developing method may be any of a liquid addition method, a dipping method, a spray method and the like.
  • the substrate may be tilted at an arbitrary angle.
  • the developer is usually an aqueous solution containing an alkaline compound and a surfactant.
  • the alkaline compound may be either an inorganic or organic alkaline compound.
  • the inorganic alkaline compound include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium dihydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, sodium silicate, potassium silicate, sodium carbonate, potassium carbonate And sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, ammonia and the like.
  • organic alkaline compound examples include tetramethylammonium hydroxide, 2-hydroxyethyltrimethylammonium hydroxide, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, Monoisopropylamine, diisopropylamine, ethanolamine and the like.
  • concentration of the alkaline compound in the alkaline developer is preferably 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.03 to 5% by weight.
  • the surfactant in the developer may be at least one selected from the group consisting of nonionic surfactants, anionic surfactants and cationic surfactants.
  • nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene aryl ethers, polyoxyethylene alkyl aryl ethers, other polyoxyethylene derivatives, oxyethylene / oxypropylene block copolymers, and sorbitan fatty acid esters.
  • polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester polyoxyethylene sorbitol fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene alkylamine and the like.
  • anionic surfactants include higher alcohol sulfate ester salts such as sodium lauryl alcohol sulfate and sodium oleyl alcohol sulfate, alkyl sulfates such as sodium lauryl sulfate and ammonium lauryl sulfate, and sodium dodecylbenzenesulfonate And alkyl aryl sulfonates such as sodium dodecyl naphthalene sulfonate.
  • cationic surfactant examples include amine salts such as stearylamine hydrochloride and lauryl trimethylammonium chloride, or quaternary ammonium salts. These surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.
  • the concentration of the surfactant in the developer is usually 0.01 to 10% by weight, preferably 0.05 to 8% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight. After image development, it washes with water and can also perform post-baking for 10 to 60 minutes at 150-230 degreeC as needed.
  • One embodiment of the present invention relates to an image display apparatus including the above-described photocuring pattern.
  • the image display device having the photocurable pattern may include a liquid crystal display device, an OLED, a flexible display, and the like, but is not limited thereto. Examples of all image display devices known in the art may be applicable.
  • one embodiment of the present invention relates to an adhesive composition
  • an adhesive composition comprising a photoacid generator and a photopolymerizable monomer according to the present invention.
  • the content of the photoacid generator is not particularly limited, and may be included, for example, in an amount of 0.1 to 10 parts by weight, and preferably 0.5 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the photopolymerizable monomer.
  • an amount of 0.1 to 10 parts by weight, and preferably 0.5 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the photopolymerizable monomer When included in the above range is high sensitivity to shorten the exposure time to improve the productivity, and may also improve the smoothness of the surface.
  • the photoacid generator is included in an amount greater than 10 parts by weight, the curing rate of the adhesive may be better, but the color of the adhesive layer may change after curing by absorbing some of the visible light.
  • At least one selected from the group consisting of an acrylic monomer and an epoxy monomer may be used as the photopolymerizable monomer.
  • the acrylic monomer is a compound having a (meth) acryloyl group as a photocurable functional group, and specifically, acrylic acid, methacrylic acid, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, and 2-hydride. At least one selected from the group consisting of hydroxypropyl methacrylate, hydroxybutyl acrylate, hydroxybutyl methacrylate, 4-morpholinyl acrylate and 4-morpholinyl methacrylate, including but not limited to It is not.
  • the photoacid generator of the present invention can be applied as a photopolymerization initiator of the acrylic monomer because it undergoes a radical intermediate step in the process of generating an acid by light.
  • the epoxy monomer may be an epoxy compound including at least one epoxidized aliphatic ring group, an epoxy compound including at least one glycidyl ether group, or a compound having at least two epoxy groups and at least one aromatic ring in a molecule thereof.
  • Epoxy compounds containing at least one epoxidized aliphatic ring group include 3,4-epoxycyclohexylmethyl, 3,4-epoxycyclohexane carboxylate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipatedicyclopentadienedio It is preferably at least one selected from the group consisting of seed, limonene dioxide and 4-vinylcyclohexene dioxide, but is not limited thereto.
  • Epoxy compounds containing at least one glycidyl ether group include 1,4-cyclohexanedimethanol diglycidyl ether, novolac epoxy, bisphenol A epoxy, bisphenol F epoxy, brominated bisphenol epoxy, 1,6- Hexanediol diglycidyl ether, trimethylolpropanetriglycidyl ether, n-butyl glycidyl ether, aliphatic glycidyl ether (C 12 -C 14 ), 2-ethylhexyl glycidyl ether, phenyl glycidyl Dyl ether, o-cresyl glycidyl ether, nonyl phenyl glycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether and ethylene glycol diglycidyl ether At least one selected from the group consisting of, but is not limited thereto
  • the photopolymerizable monomer is preferably included 90 to 99 parts by weight based on 100 parts by weight of the total adhesive composition based on the solid content. If the content is in the above range, it is suitable for expressing adhesion and cohesion.
  • the adhesive composition according to one embodiment of the present invention may further include a radical photopolymerization initiator.
  • the radical photopolymerization initiator preferably has an absorption wavelength at a wavelength of 340 nm or more, and is preferably included in an amount of 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the photopolymerizable monomer.
  • the radical photopolymerization initiator include benzophenone, benzyldimethyl ketan, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, and 1- [4- (2-hydroxy Ethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propane-1-one, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one , 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethanone, 4- (2-hydroxyethoxy) Phenyl- (2-hydroxy-2-propyl)
  • the adhesive composition according to one embodiment of the present invention is a compound which produces a cation species or Lewis acid by irradiation of active energy rays in addition to the onium salt derivative of the present invention, for example, an aromatic diazonium salt and an aromatic iodine Aluminum salts, onium salts such as aromatic sulfonium salts, iron-arene complexes and the like may be further used, but are not limited thereto.
  • the adhesive composition according to one embodiment of the present invention may further include one or more kinds of photosensitizers, antioxidants, and the like, as required in the art.
  • One embodiment of the present invention is a polarizer; An adhesive layer laminated on one or both surfaces of the polarizer and formed from the adhesive composition; And it relates to a polarizing plate comprising a polarizer protective film laminated on the adhesive layer.
  • the polarizer is a dichroic dye adsorbed on the stretched polyvinyl alcohol-based film.
  • the polyvinyl alcohol-based resin constituting the polarizer can be obtained by saponifying a polyvinyl acetate-based resin.
  • polyvinyl acetate type resin the copolymer etc. of vinyl acetate and the other monomer copolymerizable with this besides the polyvinyl acetate which is a homopolymer of vinyl acetate are mentioned.
  • an unsaturated carboxylic acid type, an unsaturated sulfonic acid type, an olefin type, a vinyl ether type, an acrylamide type monomer which has an ammonium group, etc. are mentioned.
  • the polyvinyl alcohol-based resin may be modified, for example, polyvinyl formal or polyvinyl acetal modified with aldehydes may be used.
  • the saponification degree of the polyvinyl alcohol-based resin is usually 85 to 100 mol%, preferably 98 mol% or more.
  • the degree of polymerization of the polyvinyl alcohol-based resin is usually 1,000 to 10,000, preferably 1,500 to 5,000.
  • What formed such a polyvinyl alcohol-type resin into a film is used as a raw film of a polarizer.
  • the film formation method of polyvinyl alcohol-type resin is not specifically limited, A well-known method can be used.
  • the film thickness of the raw film is not particularly limited, and may be, for example, 10 to 150 ⁇ m.
  • the polarizer is passed through a process of uniaxially stretching a polyvinyl alcohol-based film in an aqueous solution, dyeing with a dichroic dye to adsorb, treating with an aqueous boric acid solution, washing with water, and drying. It is manufactured by.
  • the process of uniaxially stretching the polyvinyl alcohol-based film may be performed before dyeing, may be simultaneously performed with dyeing, or may be performed after dyeing.
  • the uniaxial stretching is performed after dyeing, it may be performed before boric acid treatment, or may be performed during boric acid treatment.
  • rolls or heat rolls with different circumferential speeds can be used.
  • uniaxial stretching may be dry stretching extending
  • the draw ratio is usually 4 to 8 times.
  • the method of immersing a polyvinyl alcohol-type film in the aqueous solution containing a dichroic dye can be used, for example.
  • a dichroic dye iodine or a dichroic dye is used.
  • the polyvinyl alcohol-based film is preferably swelled by dipping in water before dyeing.
  • the method of immersing and dyeing a polyvinyl alcohol-type film in the dyeing aqueous solution containing iodine and potassium iodide can be used normally.
  • the content of iodine in the aqueous solution for dyeing is 0.01 to 1 part by weight based on 100 parts by weight of water (distilled water), and the content of potassium iodide is 0.5 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of water.
  • the temperature of the aqueous solution for dyeing is usually 20 to 40 ° C.
  • the immersion time (dyeing time) is usually 20 to 1,800 seconds.
  • the method of immersing and dyeing a polyvinyl alcohol-type film in the aqueous solution containing water-soluble dichroic dye is employ
  • the content of the dichroic dye in this aqueous solution is usually 1 ⁇ 10 -4 to 10 parts by weight, preferably 1 ⁇ 10 -3 to 1 part by weight per 100 parts by weight of water.
  • This aqueous solution may contain inorganic salts, such as sodium sulfate, as a dyeing adjuvant.
  • the temperature of the dye aqueous solution used for dyeing is 20-80 degreeC normally, and the immersion time with this aqueous solution is 10-1,800 second normally.
  • Boric acid treatment of the dyed polyvinyl alcohol-based film can be carried out by immersing in a boric acid-containing aqueous solution.
  • the content of boric acid in the aqueous solution containing boric acid is 2 to 15 parts by weight, preferably 5 to 12 parts by weight with respect to 100 parts by weight of water.
  • the boric acid-containing aqueous solution preferably contains potassium iodide, and its content is usually 0.1 to 15 parts by weight, preferably 5 to 12 parts by weight with respect to 100 parts by weight of water.
  • the temperature of the boric acid-containing aqueous solution is usually 50 ° C or higher, preferably 50 to 85 ° C, more preferably 60 to 80 ° C, and the immersion time is usually 60 to 1,200 seconds, preferably 150 to 600 seconds, more preferably 200 to 400 seconds.
  • the polyvinyl alcohol-based film is usually washed with water and dried. Washing treatment can be performed by immersing the boric acid-treated polyvinyl alcohol-based film in water.
  • cleaning process is 5-40 degreeC normally, and immersion time is 1-120 second normally.
  • a polarizer can be obtained by drying after washing with water.
  • the drying treatment can usually be carried out using a hot air dryer or a far infrared heater.
  • the drying treatment temperature is usually 30 to 100 ° C, preferably 50 to 80 ° C, and the drying time is usually 60 to 600 seconds, preferably 120 to 600 seconds.
  • the thickness of the polarizer produced as described above is typically 5 to 40 ⁇ m.
  • the polarizer protective film is not particularly limited as long as it is excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding, isotropy, etc., specifically, acrylic, cellulose, polyester, etc. may be used.
  • Acrylic resin such as polymethyl (meth) acrylate and polyethyl (meth) acrylate
  • Polyester resins such as polyethylene terephthalate, polyethylene isophthalate, polyethylene naphthalate, and polybutylene terephthalate
  • Cellulose resins such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose can be used.
  • the polarizer protective film has a thickness of 10 to 200 ⁇ m, preferably 10 to 150 ⁇ m. In addition, when the polarizer protective film is laminated on both sides of the polarizer may maintain the same or different thickness.
  • the surface easily bonded to the polarizer of the protective film can be easily bonded.
  • easy bonding include dry treatment such as primer treatment, plasma treatment, corona treatment, chemical treatment such as alkali treatment (soap treatment), and coating treatment to form an easy adhesive layer.
  • the polarizing plate which concerns on one Embodiment of this invention adheres the photocurable adhesive agent of this invention to a protective film in an uncured state, and forms an adhesive coating surface, and adhere
  • the photocurable adhesive of the present invention is dropped in an uncured state between the polarizer and the protective film, and then uniformly spread with a roll or the like, followed by compression, followed by curing the photocurable adhesive. To form an adhesive layer.
  • the coating method of the photocurable adhesive for the protective film there is no particular limitation on the coating method of the photocurable adhesive for the protective film, and various coating methods such as a doctor blade, a wire bar, a die coater, a comma coater, and a gravure coater can be used.
  • various coating methods such as a doctor blade, a wire bar, a die coater, a comma coater, and a gravure coater can be used.
  • a metal or rubber as the material of the roll in a method of pressing and spreading and spreading evenly by a roll or the like.
  • these rolls may be the same material, and may be a different material.
  • curing the photocurable adhesive agent of this invention 20 micrometers or less are more preferable, and its 10 micrometers or less are still more preferable.
  • the thickness of an adhesive bond layer is 0.1 micrometer or more normally, Preferably it is 0.5 micrometer or more.
  • the photocurable adhesive is cured by irradiating active energy rays to fix the protective film onto the polarizer.
  • the light source of the active energy ray is not particularly limited, but an active energy ray having a light emission distribution having a wavelength of 400 nm or less is preferable, and specifically, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, a chemical lamp, a black light lamp, a microwave A mercury lamp, a metal halide lamp, etc. are preferable here.
  • strength with respect to a photocurable adhesive agent is suitably determined according to the composition of the photocurable adhesive agent, although it does not specifically limit, It is preferable that the irradiation intensity of the wavelength range effective for activation of a polymerization initiator is 0.1-6000 mW / cm ⁇ 2>.
  • the reaction time does not become too long, and when 6000 mW / cm 2 or less, there is little possibility that yellowing and deterioration of the polarizer are caused by heat radiated from the light source and heat generated during curing of the photocurable adhesive.
  • the light irradiation time with respect to a photocurable adhesive agent is controlled for every photocurable adhesive agent to harden
  • the amount of accumulated light for the photocurable adhesive is 10 mJ / cm 2 or more, a sufficient amount of active species derived from the polymerization initiator may be generated to more reliably proceed the curing reaction, and in the case of 10000 mJ / cm 2 or less, the irradiation time may not be too long and may be good. Productivity can be maintained.
  • a photocurable adhesive agent When hardening a photocurable adhesive agent by irradiation of an active energy ray, it is preferable to harden on the conditions which the function of a polarizing plate, such as the polarization degree of light polarizer, a transmittance
  • the polarizing plate according to the present invention can be applied to all conventional liquid crystal display devices. Accordingly, one embodiment of the present invention relates to a liquid crystal display device including the polarizing plate.
  • Triphenylsulfonium bromide (Triphenylsulfonium Bromide, manufactured by TCI, 34.3 g, 0.1 mol) was dissolved in 200 mL of distilled water, and potassium trifluoromethyltrifluoroborate (TCI, 26.4 g, 0.15 mol) was dissolved in 100 g of distilled water. The mixture was stirred at room temperature for 2 hours, extracted with toluene (200 mL), and the toluene layer was distilled under reduced pressure to remove the solvent to obtain a compound of formula 4 (59.2 g).
  • Diphenyliodonium bromide (Diphenyliodonium Bromide, manufactured by TCI, 31.6 g, 0.1 mol) was dissolved in 200 mL of distilled water, and potassium trifluoromethyltrifluoroborate (TCI, 26.4 g, 0.15 mol) was dissolved in 100 g of distilled water. After adding to the solution and stirring at room temperature for 2 hours, the mixture was extracted using toluene (200 mL), and the toluene layer was distilled under reduced pressure to remove the solvent to obtain a compound of formula 5 (59.2 g).
  • TCI potassium trifluoromethyltrifluoroborate
  • A-1 glycidyl phenyl ether (made by TCI)
  • A-2 1,2-epoxyethylbenzene (1,2-Epoxyethylbenzene) (made by TCI Corporation)
  • the photocurable compositions obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 were coated on glass with a Mayer bar at a thickness of 10 ⁇ m, exposed to light of 100 mJ / cm 2 using a high pressure mercury lamp, and 80 ° C. After heating for 10 minutes at, a part of the cured film was taken, dissolved in a CDCl 3 solvent and analyzed by NMR, the content of the remaining epoxy groups was analyzed and the reaction rate was calculated according to the following equation.
  • the epoxy content before and after the exposure was confirmed by calculating from the integral of the epoxy on the spectrum, compared to the NMR integral of the phenyl group in the molecule.
  • compositions of Examples 1 to 3 using an onium salt derivative containing trifluoromethyltrifluoroborate as an anion as a photoacid generator were excellent in curing rate, and no color change of the pattern was observed. Did.
  • compositions of Comparative Examples 1 to 3 using onium salt derivatives containing triflate (trifluoromethanesulfonate) as an anion as photoacid generators were very poor in curing rate.

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Abstract

본 발명은 감광성 수지 조성물 등에 사용시 우수한 광감도를 부여하며 경화율을 현저히 향상시킬 수 있는 오늄염 유도체 및 이를 포함하는 광산발생제를 제공한다.

Description

오늄염 유도체 및 이를 포함하는 광산발생제
본 발명은 감광성 수지 조성물 등에 사용시 우수한 광감도를 부여하며 경화율을 현저히 향상시킬 수 있는 오늄염 유도체 및 이를 포함하는 광산발생제에 관한 것이다.
디스플레이 분야에 있어서, 감광성 수지 조성물을 포토리소그래피 공정에 의해 선택적으로 노광 및 현상하여 원하는 광경화 패턴을 형성하는데, 이 과정에서 공정 상의 수율을 향상시키고 적용 대상의 물성을 향상시키기 위해, 고감도를 가지는 감광성 수지 조성물이 요구되고 있다.
술포늄염 화합물과 요오도늄염 화합물이 속하는 오늄염 화합물은 광 등의 에너지선 조사에 의해 산을 발생시키는 물질이며, 반도체 등의 전자 회로 형성에 사용되는 포토리소그래피용 레지스트 조성물에 있어서 광산발생제나, 도료, 코팅, 접착제 등의 광중합성 조성물에 있어서 양이온 중합 개시제 등으로 사용되고 있다.
미국 특허 제6,620,957호에는 오늄염 술폰산 유도체 및 오늄염 인산 유도체가 광산발생제로서 유용한 것으로 기재되어 있으나, 이들은 감도가 불충분한 문제점이 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 한 목적은 감광성 수지 조성물 등에 사용시 광감도를 향상시켜 경화율을 높일 수 있는 오늄염 유도체를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기 오늄염 유도체를 포함하는 광산발생제를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 상기 광산발생제를 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 상기 광산발생제를 포함하는 광경화성 접착제 조성물을 제공하는 것이다.
한편으로, 본 발명은 하기 화학식 1 내지 3으로 표시되는 오늄염 유도체를 제공한다.
[화학식 1]
Figure PCTKR2015002493-appb-I000001
[화학식 2]
Figure PCTKR2015002493-appb-I000002
[화학식 3]
Figure PCTKR2015002493-appb-I000003
상기 화학식에서,
R1 내지 R5는 각각 독립적으로 수소, C1-C12의 알킬기, 아릴기, 할로겐, C1-C6의 알콕시기, C1-C6의 알킬카르보닐기, 아릴티오기, 시아노 또는 니트로이고,
R1 내지 R5는 각각 둘 이상 존재할 때 동일하거나 상이하거나,
R1 내지 R5는 각각 둘 이상 존재할 때 결합되어 있는 탄소원자와 함께 방향족 고리를 형성하거나,
R4 및 R5는 서로 연결되어 5 내지 7각형 고리를 형성하며,
p, q 및 r은 각각 독립적으로 1 내지 4의 정수이고,
n은 0 내지 5의 정수이다.
다른 한편으로, 본 발명은 상기 오늄염 유도체를 포함하는 광산발생제를 제공한다.
또 다른 한편으로, 본 발명은 상기 광산발생제 및 광중합성 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.
또 다른 한편으로, 본 발명은 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성되는 광경화 패턴을 제공한다.
또 다른 한편으로, 본 발명은 상기 광경화 패턴을 포함하는 화상표시장치를 제공한다.
또 다른 한편으로, 본 발명은 상기 광산발생제 및 광중합성 단량체를 포함하는 접착제 조성물을 제공한다.
또 다른 한편으로, 본 발명은 편광자; 상기 편광자의 일면 또는 양면에 적층되고, 상기 접착제 조성물로부터 형성되는 접착제층; 및 상기 접착제층 상에 적층된 편광자 보호필름을 포함하는 편광판을 제공한다.
또 다른 한편으로, 본 발명은 상기 편광판을 포함하는 액정표시장치를 제공한다.
본 발명에 따른 오늄염 유도체는 감광성 수지 조성물 또는 접착제 조성물에 우수한 광감도를 부여하며 경화율을 현저히 향상시킬 수 있다.
이하, 본 발명을 상세히 설명한다.
본 발명의 일 실시형태는 하기 화학식 1 내지 3으로 표시되는 오늄염 유도체에 관한 것이다.
[화학식 1]
Figure PCTKR2015002493-appb-I000004
[화학식 2]
Figure PCTKR2015002493-appb-I000005
[화학식 3]
Figure PCTKR2015002493-appb-I000006
상기 화학식에서,
R1 내지 R5는 각각 독립적으로 수소, C1-C12의 알킬기, 아릴기, 할로겐, C1-C6의 알콕시기, C1-C6의 알킬카르보닐기, 아릴티오기, 시아노 또는 니트로이고,
R1 내지 R5는 각각 둘 이상 존재할 때 동일하거나 상이하거나,
R1 내지 R5는 각각 둘 이상 존재할 때 결합되어 있는 탄소원자와 함께 방향족 고리를 형성하거나,
R4 및 R5는 서로 연결되어 5 내지 7각형 고리를 형성하며,
p, q 및 r은 각각 독립적으로 1 내지 4의 정수이고,
n은 0 내지 5의 정수이다.
본 명세서에서 사용되는 C1-C12의 알킬기는 탄소수 1 내지 12개로 구성된 직쇄형 또는 분지형 탄화수소를 의미하며, 예를 들어 메틸, 에틸, n-프로필, i-프로필, n-부틸, i-부틸, t-부틸, n-펜틸, n-헥실 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에서 사용되는 아릴기는 아로메틱기와 헤테로아로메틱기 및 그들의 부분적으로 환원된 유도체를 모두 포함한다. 상기 아로메틱기는 5 내지 15각형으로 이루어진 단순 또는 융합 고리형이며, 헤테로아로메틱기는 산소, 황 또는 질소를 하나 이상 포함하는 아로메틱기를 의미한다. 대표적인 아릴기의 예로는 페닐, 나프틸, 피리디닐(pyridinyl), 푸라닐(furanyl), 티오페닐(thiophenyl), 인돌릴(indolyl), 퀴놀리닐(quinolinyl), 이미다졸리닐(imidazolinyl), 옥사졸릴(oxazolyl), 티아졸릴(thiazolyl), 테트라히드로나프틸 등이 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에서 사용되는 C1-C6의 알콕시기는 탄소수 1 내지 6개로 구성된 직쇄형 또는 분지형 알콕시기를 의미하며, 메톡시, 에톡시, n-프로판옥시 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에서 사용되는 C1-C6의 알킬카르보닐기는 화학식 -COR의 기(이때 R은 수소 또는 C1-C5의 알킬기이다)를 나타내며, 포르밀기, 아세틸기 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에서 사용되는 아릴티오(arylthio)기는 아릴기에 단일결합된 황 작용기를 의미하며, 페닐티오, 벤질티오 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 일 실시형태에서,
R1 내지 R5는 각각 독립적으로 수소, C1-C12의 알킬기, 할로겐, C1-C6의 알콕시기, 페닐티오 또는 니트로이고,
R1 내지 R5는 각각 둘 이상 존재할 때 동일하거나 상이하거나,
R1 내지 R5는 각각 둘 이상 존재할 때 결합되어 있는 탄소원자와 함께 벤젠 고리를 형성하거나,
R4 및 R5는 서로 연결되어 5 내지 7각형 고리를 형성하며,
p, q 및 r은 각각 독립적으로 1 내지 4의 정수이고,
n은 0 내지 5의 정수이다.
본 발명의 일 실시형태에서,
n은 0이다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 오늄염 유도체 중 양이온의 구체적인 예는 하기 화학식으로 표시되는 양이온을 포함할 수 있다.
Figure PCTKR2015002493-appb-I000007
Figure PCTKR2015002493-appb-I000008
본 발명의 일 실시형태에 따른 오늄염 유도체 중 음이온의 구체적인 예는 하기 화학식으로 표시되는 음이온을 포함할 수 있다.
Figure PCTKR2015002493-appb-I000009
본 발명의 일 실시형태에 따른 오늄염 유도체 중 대표적인 화합물은 하기 화학식 4 및 5의 화합물에서 선택될 수 있다.
[화학식 4]
Figure PCTKR2015002493-appb-I000010
[화학식 5]
Figure PCTKR2015002493-appb-I000011
본 발명의 오늄염 유도체는 당해 분야에서 공지된 방법에 의해 용이하게 제조할 수 있다.
본 발명에 따른 오늄염 유도체는 감광성 수지 조성물 또는 광경화성 접착제 조성물에 우수한 광감도를 부여하며 경화율을 현저히 향상시킬 수 있으므로, 광산발생제로 유용하게 사용될 수 있다.
따라서 본 발명의 일 실시형태는 본 발명에 따른 오늄염 유도체를 포함하는 광산발생제에 관한 것이다.
또한, 본 발명의 일 실시형태는 본 발명에 따른 광산발생제 및 광중합성 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
상기 광산발생제의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 광중합성 화합물 100중량부에 대하여 0.1 내지 10중량부로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 0.5 내지 5중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위 내로 포함되는 경우 고감도화되어 노광 시간이 단축되어 생산성이 향상되며, 또한 형성된 패턴의 강도와 표면의 평활성이 양호해질 수 있다. 광산발생제가 10중량부 초과로 포함되면 패턴의 경화율은 보다 우수해질 수 있으나, 가시광선을 일부 흡수하여 경화 후에 패턴의 색상이 변화할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 광중합성 화합물은 본 발명의 광산발생제로 경화되는 것이라면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 에폭시계 화합물, 옥세탄계 화합물, 비닐에테르계 화합물일 수 있으며, 바람직하게는 에폭시계 화합물일 수 있다.
에폭시계 화합물의 구체적인 예를 들면, 단관능 에폭시 화합물, 2관능 에폭시 화합물, 3관능 에폭시 화합물, 4관능 에폭시 화합물 등을 들 수 있으며, 바람직하게는 단관능 에폭시 화합물 및 2관능 에폭시 화합물 중에서 선택될 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용될 수 있다.
구체적인 예시를 들자면, 단관능 에폭시 화합물로는 글리시딜페닐에테르, 1,2-에폭시에틸벤젠 등을 들 수 있으며, 2관능 에폭시 화합물로는 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 2-(3,4-에폭시시클로헥실-5,5-스피로-3,4-에폭시)시클로헥산-메타-디옥산, 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸)아디페이트, 비스(3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실메틸)아디페이트, 3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실-3',4'-에폭시-6'-메틸시클로헥산카르복실레이트, ε-카프로락톤 변성 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 트리메틸카프로락톤 변성 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트, β-메틸-δ-발레로락톤 변성 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 메틸렌비스(3,4-에폭시시클로헥산), 에틸렌글리콜의 (3,4-에폭시시클로헥실메틸)에테르, 에틸렌비스(3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트), 에폭시시클로헥사히드로프탈산디옥틸, 에폭시시클로헥사히드로프탈산 디-2-에틸헥실 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
옥세탄계 화합물의 구체적인 예를 들면, 3-(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-3-에틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-트리플루오로메틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-페닐옥세탄, 2-(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄, 2-(메타크릴로일옥시메틸)-4-트리플루오로메틸옥세탄 등을 들 수 있으며, 이들은 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용될 수 있다.
비닐에테르계 화합물의 구체적인 예를 들면, 스티렌, 비닐톨루엔, 메틸스티렌, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르 등을 들 수 있으며, 이들은 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용될 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 착색제, 실란 커플링제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등의 첨가제를 더 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 알칼리 가용성 수지 등을 더 포함하여 경화 후 현상이 가능한 조성물로 사용될 수도 있다. 상기 알칼리 가용성 수지로는 당해 분야에 사용되는 알칼리 가용성 수지가 특별한 제한 없이 사용될 수 있다. 이 경우, 당해 분야에서 사용되는 적절한 용매를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태는 상술한 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성되는 광경화 패턴에 관한 것이다.
상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성되는 광경화 패턴은 기재와의 밀착력이 매우 우수하다. 이에 따라 화상표시장치에 있어서 각종 패턴, 예를 들면 접착제층, 어레이 평탄화막, 보호막, 절연막 패턴 등으로 이용될 수 있고, 포토레지스트, 컬러필터, 블랙 매트릭스, 컬럼 스페이서 패턴, 블랙 컬럼 스페이서 패턴 등으로 이용될 수도 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 광경화 패턴은 상술한 본 발명의 감광성 수지 조성물을 기재 상에 도포하고, (필요에 따라 현상 공정을 거친 후) 광경화 패턴을 형성함으로써 제조할 수 있다.
먼저, 감광성 수지 조성물을 기판에 도포한 후 가열 건조함으로써 용매 등의 휘발 성분을 제거하여 평활한 도막을 얻는다. 도포 방법으로는, 예를 들어 스핀 코트, 유연 도포법, 롤 도포법, 슬릿 앤드 스핀 코트 또는 슬릿 코트법 등에 의해 실시될 수 있다. 도포 후 가열 건조(프리베이크), 또는 감압 건조 후에 가열하여 용매 등의 휘발 성분을 휘발시킨다. 여기에서, 가열 온도는 통상 70 내지 200℃, 바람직하게는 80 내지 130℃이다. 가열 건조 후의 도막 두께는 통상 1 내지 8㎛ 정도이다.
이렇게 하여 얻어진 도막에, 목적으로 하는 패턴을 형성하기 위한 마스크를 통해 자외선을 조사한다. 이 때, 노광부 전체에 균일하게 평행 광선이 조사되고, 또한 마스크와 기판의 정확한 위치 맞춤이 실시되도록 마스크 얼라이너나 스테퍼 등의 장치를 사용하는 것이 바람직하다. 자외선을 조사하면, 자외선이 조사된 부위의 경화가 이루어진다. 상기 자외선으로는 g선(파장: 436㎚), h선, i선(파장: 365㎚) 등을 사용할 수 있다. 자외선의 조사량은 필요에 따라 적절히 선택될 수 있는 것이며, 본 발명에서 이를 한정하지는 않는다.
경화가 종료된 도막을 필요에 따라 현상액에 접촉시켜 비노광부를 용해시켜 현상하면 목적으로 하는 패턴 형상을 형성할 수 있다. 상기 현상 방법은, 액첨가법, 디핑법, 스프레이법 등 어느 것을 사용하여도 무방하다. 또한 현상시에 기판을 임의의 각도로 기울여도 된다. 상기 현상액은 통상 알칼리성 화합물과 계면활성제를 함유하는 수용액이다. 상기 알칼리성 화합물은 무기 및 유기 알칼리성 화합물의 어느 것이어도 된다. 무기 알칼리성 화합물의 구체적인 예로는, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 인산수소 2나트륨, 인산2수소 나트륨, 인산수소 2암모늄, 인산2수소 암모늄, 인산2수소 칼륨, 규산 나트륨, 규산 칼륨, 탄산 나트륨, 탄산 칼륨, 탄산수소 나트륨, 탄산수소 칼륨, 붕산 나트륨, 붕산 칼륨, 암모니아 등을 들 수 있다. 또한, 유기 알칼리성 화합물의 구체적인 예로는, 테트라메틸암모늄히드록사이드, 2-히드록시에틸트리메틸암모늄히드록사이드, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노이소프로필아민, 디이소프로필아민, 에탄올아민 등을 들 수 있다. 이들 무기 및 유기 알칼리성 화합물은, 각각 단독 또는 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 알칼리 현상액 중의 알칼리성 화합물의 농도는, 바람직하게는 0.01 내지 10중량%이고, 보다 바람직하게는 0.03 내지 5중량%이다.
상기 현상액 중의 계면활성제는 비이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제 및 양이온계 계면활성제로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 사용할 수 있다.
상기 비이온계 계면활성제의 구체적인 예로는, 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌아릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르, 그 밖의 폴리옥시에틸렌 유도체, 옥시에틸렌/옥시프로필렌 블록 공중합체, 소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비톨지방산에스테르, 글리세린지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬아민 등을 들 수 있다.
상기 음이온계 계면활성제의 구체적인 예로는, 라우릴알코올황산에스테르나트륨이나 올레일알코올황산에스테르나트륨 등의 고급 알코올 황산에스테르염류, 라우릴황산나트륨이나 라우릴황산암모늄 등의 알킬황산염류, 도데실벤젠술폰산나트륨이나 도데실나프탈렌술폰산나트륨 등의 알킬아릴술폰산염류 등을 들 수 있다.
상기 양이온계 계면활성제의 구체적인 예로는, 스테아릴아민염산염이나 라우릴트리메틸암모늄클로라이드 등의 아민염 또는 4급 암모늄염 등을 들 수 있다. 이들 계면활성제는 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
상기 현상액 중의 계면활성제의 농도는 통상 0.01 내지 10중량%, 바람직하게는 0.05 내지 8중량%, 보다 바람직하게는 0.1 내지 5중량%이다. 현상 후 수세하고, 또한 필요에 따라 150 내지 230℃ 에서 10 내지 60분의 포스트베이크를 실시할 수도 있다.
본 발명의 일 실시형태는 상술한 광경화 패턴을 포함하는 화상표시장치에 관한 것이다.
상기 광경화 패턴을 구비한 화상표시장치로는 액정표시장치, OLED, 플렉서블 디스플레이 등이 있을 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며 적용이 가능한 당해 분야에 알려진 모든 화상표시장치를 예시할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시형태는 본 발명에 따른 광산발생제 및 광중합성 단량체를 포함하는 접착제 조성물에 관한 것이다.
상기 광산발생제의 함량은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 광중합성 단량체 100중량부에 대하여 0.1 내지 10중량부로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 0.5 내지 5중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위 내로 포함되는 경우 고감도화되어 노광 시간이 단축되어 생산성이 향상되며, 또한 표면의 평활성이 양호해질 수 있다. 광산발생제가 10중량부 초과로 포함되면 접착제의 경화율은 보다 우수해질 수 있으나, 가시광선을 일부 흡수하여 경화 후에 접착제층의 색상이 변화할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 광중합성 단량체로는 아크릴 단량체 및 에폭시 단량체로 구성된 군으로부터 선택된 1종 이상을 사용할 수 있다.
상기 아크릴 단량체는 광경화형 관능기로 (메타)아크릴로일기를 가지는 화합물로서, 구체적으로 아크릴산, 메타아크릴산, 히드록시에틸 아크릴레이트, 히드록시에틸 메타아크릴레이트, 2-히드록시프로필 아크릴레이트, 2-히드록시프로필 메타아크릴레이트, 히드록시부틸 아크릴레이트, 히드록시부틸 메타크릴레이트, 4-모르폴리닐 아크릴레이트 및 4-모르폴리닐 메타아크릴레이트로 구성된 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함하나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 광산발생제가 상기 아크릴 단량체의 광중합 개시제로 적용될 수 있는 것은, 광에 의해 산을 발생시키는 과정에서 라디컬 중간 단계를 거치기 때문이다.
상기 에폭시 단량체는 에폭시화 지방족 고리기를 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물, 글리시딜에테르기를 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물 또는 분자 내에 적어도 2개의 에폭시기와 적어도 1개의 방향환을 갖는 화합물일 수 있다.
상기 에폭시화 지방족 고리기를 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물은 3,4-에폭시시클로헥실메틸, 3,4-에폭시시클로헥산 카복실레이트, 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸)아디페이트디시클로펜타디엔디옥시드, 리모넨디옥시드 및 4-비닐시클로헥센디옥시드로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 하나인 것이 바람직하나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 글리시딜에테르기를 하나 이상 포함하는 에폭시 화합물은 1,4-시클로헥산디메탄올 디글리시딜 에테르, 노볼락 에폭시, 비스페놀 A계 에폭시, 비스페놀 F계 에폭시, 브롬화 비스페놀계 에폭시, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, n-부틸 글리시딜 에테르, 알리파틱 글리시딜 에테르(C12-C14), 2-에틸헥실 글리시딜 에테르, 페닐 글리시딜 에테르, o-크레실(Cresyl) 글리시딜 에테르, 노닐 페닐 글리시딜 에테르, 1,4-부탄다이올디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르 및 에틸렌글리콜디글리시딜에테르로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 하나인 것이 바람직하나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 광중합성 단량체는 고형분 함량을 기준으로 접착제 조성물 전체 100중량부에 대하여 90 내지 99중량부 포함되는 것이 바람직하다. 상기 함량이 상기 범위이면 접착력과 응집력을 발현하는데 적합하다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 접착제 조성물은 라디칼 광중합 개시제를 추가로 포함할 수 있다.
상기 라디칼 광중합 개시제는 340nm 파장 이상에서 흡수 파장을 가지는 것이 바람직하고, 고형분 함량을 기준으로 상기 광중합성 단량체 100중량부에 대하여 0.1 내지 10중량부로 포함되는 것이 바람직하다. 상기 라디칼 광중합 개시제로는 벤조페논, 벤질디메틸케탄, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-[4-(2-히드록시에톡시)-페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2-메틸-1-[4-(메틸치오)페닐]-2-몰폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰폴리노페닐)-부탄논, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에타논, 4-(2-히드록시에톡시)페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤, 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥시드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥시드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥시드 등이 바람직하고, 단독 또는 2개 이상 동시에 사용할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시형태에 따른 접착제 조성물은 본 발명의 오늄염 유도체 외에도 활성 에너지 선의 조사에 의해 양이온(cation) 종이나 루이스산을 만들어내는 화합물로서, 예를 들면 방향족 디아조늄염, 방향족 요오드 알루미늄염, 방향족 설포늄염과 같은 오늄염, 철-아렌 착제 등을 추가로 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 접착제 조성물은 필요에 따라 당해 분야에 알려진 광 증감제, 산화 방지제 등을 1종 이상 추가로 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태는 편광자; 상기 편광자의 일면 또는 양면에 적층되고, 상기 접착제 조성물로부터 형성되는 접착제층; 및 상기 접착제층 상에 적층된 편광자 보호필름을 포함하는 편광판에 관한 것이다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 편광자는 연신된 폴리비닐알코올계 필름에 이색성 색소가 흡착 배향된 것이다.
편광자를 구성하는 폴리비닐알코올계 수지는 폴리아세트산 비닐계 수지를 비누화함으로써 얻어질 수 있다. 폴리아세트산 비닐계 수지로는 아세트산 비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산 비닐 이외에, 아세트산 비닐과 이와 공중합 가능한 다른 단량체와의 공중합체 등을 들 수 있다. 아세트산 비닐과 공중합 가능한 다른 단량체로는 불포화 카르복시산계, 불포화 술폰산계, 올레핀계, 비닐에테르계, 암모늄기를 갖는 아크릴아미드계 단량체 등을 들 수 있다. 또한 폴리비닐알코올계 수지는 변성된 것일 수도 있으며, 예를 들면 알데히드류로 변성된 폴리비닐포르말이나 폴리비닐아세탈 등도 사용할 수 있다. 폴리비닐알코올계 수지의 비누화도는 통상 85 내지 100몰%이며, 바람직하게는 98몰% 이상이다. 또한 폴리비닐알코올계 수지의 중합도는 통상 1,000 내지 10,000이며, 바람직하게는 1,500 내지 5,000이다.
이러한 폴리비닐알코올계 수지를 막으로 형성한 것이 편광자의 원반 필름으로서 사용된다. 폴리비닐알코올계 수지의 막 형성 방법은 특별히 제한되는 것은 아니며, 공지된 방법을 이용할 수 있다. 원반 필름의 막 두께는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면 10 내지 150㎛일 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 편광자는 수용액 상에서 연속적으로 폴리비닐알코올계 필름을 일축 연신하는 공정, 이색성 색소로 염색하여 흡착시키는 공정, 붕산 수용액으로 처리하는 공정 및 수세, 건조하는 공정을 경유하여 제조된다.
폴리비닐알코올계 필름을 일축 연신하는 공정은 염색 전에 수행할 수 있고, 염색과 동시에 수행할 수 있으며, 염색 후에 수행할 수도 있다. 일축 연신을 염색 후에 수행하는 경우에는 붕산 처리 전에 수행할 수 있고, 붕산 처리 중에 수행할 수도 있다. 물론 이들 복수개의 단계로 일축 연신을 수행하는 것도 가능하다. 일축 연신에는 주속이 다른 롤 또는 열 롤을 이용할 수 있다. 또한 일축 연신은 대기 중에서 연신하는 건식 연신일 수도 있고, 용매로 팽윤시킨 상태에서 연신하는 습식 연신일 수도 있다. 연신비는 통상 4 내지 8배이다.
연신된 폴리비닐알코올계 필름을 이색성 색소로 염색하는 공정은, 예를 들면 폴리비닐알코올계 필름을 이색성 색소를 함유하는 수용액에 침지하는 방법을 이용할 수 있다. 이색성 색소로는 요오드나 이색성 염료가 이용된다. 또한, 폴리비닐알코올계 필름은 염색 전에 물에 미리 침지하여 팽윤시키는 것이 바람직하다.
이색성 색소로서 요오드를 이용하는 경우에는 통상 요오드 및 요오드화칼륨을 함유하는 염색용 수용액에 폴리비닐알코올계 필름을 침지하여 염색하는 방법을 이용할 수 있다. 통상 염색용 수용액에서의 요오드의 함량은 물(증류수) 100중량부에 대하여 0.01 내지 1중량부이고, 요오드화칼륨의 함량은 물 100중량부에 대하여 0.5 내지 20중량부이다. 염색용 수용액의 온도는 통상 20 내지 40℃이고, 침지시간(염색시간)은 통상 20 내지 1,800초이다.
이색성 색소로서 이색성 염료를 이용하는 경우에는 통상 수용성 이색성 염료를 포함하는 수용액에 폴리비닐알코올계 필름을 침지하여 염색하는 방법이 채용된다. 이 수용액에 있어서의 2색성 염료의 함량은, 물 100중량부 당 통상 1×10-4 내지 10중량부, 바람직하게는 1×10-3 내지 1중량부이다. 이 수용액은 황산나트륨 등의 무기염을 염색 보조제로서 함유할 수도 있다. 염색에 이용하는 염료 수용액의 온도는 통상 20 내지 80℃이고, 이 수용액에 대한 침지시간은 통상 10 내지 1,800초이다.
염색된 폴리비닐알코올계 필름을 붕산 처리하는 공정은 붕산 함유 수용액에 침지함으로써 수행할 수 있다. 통상 붕산 함유 수용액에서의 붕산의 함량은 물 100중량부에 대하여 2 내지 15중량부, 바람직하게는 5 내지 12중량부이다. 이색성 색소로서 요오드를 이용한 경우에는 붕산 함유 수용액은 요오드화칼륨을 함유하는 것이 바람직하며, 그 함량은 통상 물 100중량부에 대하여 0.1 내지 15중량부, 바람직하게는 5 내지 12중량부이다. 붕산 함유 수용액의 온도는 통상 50℃ 이상, 바람직하게는 50 내지 85℃, 보다 바람직하게는 60 내지 80℃이고, 침지시간은 통상 60 내지 1,200초, 바람직하게는 150 내지 600초, 보다 바람직하게는 200 내지 400초이다.
붕산 처리 후 폴리비닐알코올계 필름은 통상 수세 및 건조된다. 수세처리는 붕산 처리된 폴리비닐알코올계 필름을 물에 침지함으로써 수행할 수 있다. 수세처리의 물의 온도는 통상 5 내지 40℃이고, 침지시간은 통상 1 내지 120초이다. 수세 후 건조함으로써 편광자를 얻을 수 있다. 건조처리는 통상 열풍 건조기나 원적외선 가열기를 이용하여 수행할 수 있다. 건조처리 온도는 통상 30 내지 100℃, 바람직하게는 50 내지 80℃이고, 건조시간은 통상 60 내지 600초, 바람직하게는 120 내지 600초이다.
상기한 바와 같이 제조된 편광자의 두께는 통상적으로 5 내지 40㎛이다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 편광자 보호필름은 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 수분차폐성, 등방성 등이 우수한 것이라면 특별히 제한되지 않으며, 구체적으로 아크릴계, 셀룰로스계, 폴리에스테르계 등이 사용될 수 있다.
예컨대, 폴리메틸(메타)아크릴레이트, 폴리에틸(메타)아크릴레이트 등의 아크릴계 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌이소프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; 디아세틸셀룰로스, 트리아세틸셀룰로스 등의 셀룰로스계 수지 등을 사용할 수 있다.
상기 편광자 보호필름의 두께는 10 내지 200㎛, 바람직하게는 10 내지 150㎛이다. 또한, 편광자의 양면에 편광자 보호필름이 적층되는 경우 동일하거나 상이한 두께를 유지할 수 있다.
보호필름의 편광자와 접합되는 면에는 접합 용이 처리를 행할 수 있다. 접합 용이 처리로서는 프라이머 처리, 플라즈마 처리, 코로나 처리 등의 드라이 처리, 알칼리 처리(비누화 처리) 등의 화학 처리, 용이한 접착제층을 형성하는 코팅 처리 등을 들 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 편광판은 일반적으로, 본 발명의 광경화성 접착제를 미경화 상태로 보호필름에 도공하여 접착제 도공면을 형성하는 도공 공정과, 보호필름의 그 접착제 도공면에 편광자를 접착하는 접착 공정과, 광경화성 접착제를 경화하는 경화 공정을 포함하는 방법으로 제조할 수 있다.
본 발명에서 편광판을 제조하는 다른 방법으로는, 편광자와 보호필름 사이에 본 발명의 광경화성 접착제를 미경화 상태로 적하한 후, 롤 등으로 균일하게 펴 넓히면서 압착시키고, 이어서 상기 광경화성 접착제를 경화하여 접착제층을 형성하는 방법 등도 채택할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 보호필름에 대한 광경화성 접착제의 도공 방법에 특별한 한정은 없고, 예를 들어 닥터 블레이드, 와이어바, 다이 코터, 콤마 코터, 그라비아 코터 등 여러 가지 도공 방식을 이용할 수 있다. 또한, 편광자와 보호필름 사이에 상기 광경화성 접착제를 적하한 후, 롤 등으로 가압하여 균일하게 펴서 넓히는 방법에서, 롤의 재질로는 금속이나 고무 등을 사용하는 것이 가능하다. 또한, 편광자와 보호필름 사이에 상기 광경화성 접착제를 적하한 것을 롤과 롤 사이에 통과시켜 가압해서 펴 넓히는 방법에서, 이들 롤은 동일한 재질이어도 되고, 상이한 재질이어도 된다.
본 발명의 광경화성 접착제를 경화하여 형성되는 접착제층의 두께는, 50 ㎛ 이하가 바람직하고, 20 ㎛ 이하가 보다 바람직하며, 10 ㎛ 이하가 보다 더 바람직하다. 접착제층의 두께가 50 ㎛ 이하인 경우 편광판의 외관을 손상시킬 우려가 적다. 접착제층의 두께는, 통상 0.1 ㎛ 이상, 바람직하게는 0.5 ㎛ 이상이다.
보호필름에 본 발명의 광경화성 접착제를 도공했을 때에는, 이어서 그 접착제 도공면에 편광자가 접착된다. 또한, 편광자와 보호필름 사이에 광경화성 접착제를 적용했을 때에는 그대로 양자가 접착된다.
이상과 같이, 미경화 상태의 광경화성 접착제를 통해 편광자와 보호필름을 접착한 후, 활성 에너지선을 조사함으로써 광경화성 접착제를 경화하여 보호필름을 편광자 상에 고착시킨다.
활성 에너지선의 광원은 특별히 한정되지 않지만, 파장 400 nm 이하의 발광 분포를 갖는 활성 에너지선이 바람직하고, 구체적으로는 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 케미컬 램프, 블랙라이트 램프, 마이크로웨이브 여기 수은등, 메탈할라이드 램프 등이 바람직하다. 광경화성 접착제에 대한 광조사 강도는, 그 광경화성 접착제의 조성에 따라 적절하게 결정되며, 특별히 한정되지 않지만, 중합개시제의 활성화에 유효한 파장 영역의 조사 강도는 0.1 내지 6000 mW/㎠인 것이 바람직하다. 그 조사 강도가 0.1 mW/㎠ 이상인 경우 반응 시간이 지나치게 길어지지 않고, 6000 mW/㎠ 이하인 경우 광원으로부터 복사되는 열 및 광경화성 접착제의 경화시의 발열에 의한 황변이나 편광자의 열화가 생길 우려가 적다. 광경화성 접착제에 대한 광 조사 시간은 경화하는 광경화성 접착제마다 제어되는 것으로, 특별히 한정되지 않지만, 상기 조사 강도와 조사 시간의 곱으로서 나타내는 적산광량이 10 내지 10000 mJ/㎠가 되도록 설정되는 것이 바람직하다. 광경화성 접착제에 대한 적산광량이 10 mJ/㎠ 이상인 경우 중합개시제 유래의 활성 종을 충분 량 발생시켜 경화 반응을 보다 확실하게 진행시킬 수 있고, 10000 mJ/㎠ 이하인 경우 조사 시간이 지나치게 길어지지 않아 양호한 생산성을 유지할 수 있다.
활성 에너지선의 조사에 의해 광경화성 접착제를 경화하는 경우, 편광자의 편광도, 투과율 및 색상, 및 보호필름의 투명성과 같은 편광판의 제 기능이 저하되지 않는 조건으로 경화하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 편광판은 통상의 액정표시장치에 모두 적용 가능하다. 따라서, 본 발명의 일 실시형태는 상기 편광판을 포함하는 액정표시장치에 관한 것이다.
이하, 실시예, 비교예 및 실험예에 의해 본 발명을 보다 구체적으로 설명하고자 한다. 이들 실시예, 비교예 및 실험예는 오직 본 발명을 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 이들에 국한되지 않는다는 것은 당업자에게 있어서 자명하다.
제조예 1: 화학식 4의 화합물의 제조
Figure PCTKR2015002493-appb-I000012
트리페닐설포늄 브로마이드(Triphenylsulfonium Bromide, TCI사제, 34.3g, 0.1mol)를 증류수 200mL에 녹이고, 이를 포타슘트리플루오로메틸트리플루오로보레이트(TCI사제, 26.4g, 0.15mol)를 증류수 100g에 녹인 용액에 가하고, 상온에서 2시간 교반한 후, 톨루엔(200mL)을 이용하여 추출한 뒤, 톨루엔층을 감압증류하여 용제를 제거하여 화학식 4의 화합물(59.2g)을 얻었다.
원소분석기(Thermo Electron Scientific Instrument사 Flash EA 1112)를 이용하여 분석하여, 화학식 4의 화합물임을 확인하였다.
원소분석데이타: C, 57.19; H, 3.78; S, 8.02
제조예 2: 화학식 5의 화합물의 제조
Figure PCTKR2015002493-appb-I000013
디페닐요오도늄 브로마이드(Diphenyliodonium Bromide, TCI사제, 31.6g, 0.1mol)을 증류수 200mL에 녹이고, 이를 포타슘 트리플루오로메틸트리플루오로보레이트(TCI사제, 26.4g, 0.15mol)을 증류수 100g에 녹인 용액에 가하고, 상온에서 2시간 교반한 후, 톨루엔(200mL)을 이용하여 추출한 뒤, 톨루엔층을 감압증류하여 용제를 제거하여 화학식 5의 화합물(59.2g)을 얻었다.
원소분석기(Thermo Electron Scientific Instrument사 Flash EA 1112)를 이용하여 분석한 뒤, 화학식 5의 화합물임을 확인하였다.
원소분석데이타: C, 37.36; H, 2.41
실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 3: 광경화성 조성물의 제조
하기 표 1의 조성으로 광경화성 조성물을 제조하였다.
표 1
에폭시 화합물 광산발생제
실시예 1 A-1 / 100g B-1/1g
실시예 2 A-1 / 100g B-2/1g
실시예 3 A-2 / 100g B-1/1g
비교예 1 A-1 / 100g B-3/1g
비교예 2 A-1 / 100g B-4/1g
비교예 3 A-2 / 100g B-3/1g
A-1: 글리시딜 페닐 에테르(glycidyl phenyl ether) (TCI사제)
A-2: 1,2-에폭시에틸벤젠(1,2-Epoxyethylbenzene) (TCI사제)
B-1: 화학식 4의 화합물
B-2: 화학식 5의 화합물
B-3: 트리페닐설포늄 트리플레이트(Triphenylsulfonium triflate) (알드리치사제)
B-4: 디페닐요오도늄 트리플레이트(DiphenylIodonium triflate) (TCI사제)
실험예 1: 경화율 평가
실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 3에서 수득한 광경화성 조성물을 글라스 위에 10㎛ 두께로 메이어바를 이용하여 코팅하고, 고압력 수은 램프를 사용하여 100 mJ/cm2의 광에 노출하고, 80℃에서 10분간 가열한 뒤, 경화막의 일부를 취하여 CDCl3 용매에 녹이고 NMR 분석하여, 잔존 에폭시기의 함량을 분석하여 반응률을 하기 식에 따라 계산하였다.
반응률 = (노광전 에폭시 함량 - 노광후 에폭시 함량)/노광전 에폭시 함량 * 100
그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
상기 노광 전후의 에폭시 함량은 분자 중의 페닐기의 NMR integral 대비, 스펙트럼 상의 에폭시의 integral로부터 계산하여 확인하였다.
표 2
경화율
실시예 1 89
실시예 2 91
실시예 3 92
비교예 1 78
비교예 2 81
비교예 3 79
상기 표 2에서 보듯이, 음이온으로 트리플루오로메틸트리플루오로보레이트를 포함하는 오늄염 유도체를 광산발생제로 사용한 실시예 1 내지 3의 조성물은 경화율이 매우 우수하였고, 패턴의 색상 변화가 관찰되지 않았다.
그러나, 음이온으로 트리플레이트(트리플루오로메탄술포네이트)를 포함하는 오늄염 유도체를 광산발생제로 사용한 비교예 1 내지 3의 조성물은 경화율이 매우 떨어졌다.
이상으로 본 발명의 특정한 부분을 상세히 기술하였는 바, 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 이러한 구체적인 기술은 단지 바람직한 구현예일 뿐이며, 이에 본 발명의 범위가 제한되는 것이 아님은 명백하다. 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기 내용을 바탕으로 본 발명의 범주 내에서 다양한 응용 및 변형을 행하는 것이 가능할 것이다.
따라서, 본 발명의 실질적인 범위는 첨부된 특허청구범위와 그의 등가물에 의하여 정의된다고 할 것이다.

Claims (13)

  1. 하기 화학식 1 내지 3으로 표시되는 오늄염 유도체:
    [화학식 1]
    Figure PCTKR2015002493-appb-I000014
    [화학식 2]
    Figure PCTKR2015002493-appb-I000015
    [화학식 3]
    Figure PCTKR2015002493-appb-I000016
    상기 화학식에서,
    R1 내지 R5는 각각 독립적으로 수소, C1-C12의 알킬기, 아릴기, 할로겐, C1-C6의 알콕시기, C1-C6의 알킬카르보닐기, 아릴티오기, 시아노 또는 니트로이고,
    R1 내지 R5는 각각 둘 이상 존재할 때 동일하거나 상이하거나,
    R1 내지 R5는 각각 둘 이상 존재할 때 결합되어 있는 탄소원자와 함께 방향족 고리를 형성하거나,
    R4 및 R5는 서로 연결되어 5 내지 7각형 고리를 형성하며,
    p, q 및 r은 각각 독립적으로 1 내지 4의 정수이고,
    n은 0 내지 5의 정수이다.
  2. 제1항에 있어서,
    R1 내지 R5는 각각 독립적으로 수소, C1-C12의 알킬기, 할로겐, C1-C6의 알콕시기, 페닐티오 또는 니트로이고,
    R1 내지 R5는 각각 둘 이상 존재할 때 동일하거나 상이하거나,
    R1 내지 R5는 각각 둘 이상 존재할 때 결합되어 있는 탄소원자와 함께 벤젠 고리를 형성하거나,
    R4 및 R5는 서로 연결되어 5 내지 7각형 고리를 형성하며,
    p, q 및 r은 각각 독립적으로 1 내지 4의 정수이고,
    n은 0 내지 5의 정수인 것을 특징으로 하는 오늄염 유도체.
  3. 제1항에 있어서, n은 0인 것을 특징으로 하는 오늄염 유도체.
  4. 제1항에 있어서, 오늄염 유도체가 하기 화학식 4 및 5의 화합물에서 선택되는 것을 특징으로 하는 오늄염 유도체:
    [화학식 4]
    Figure PCTKR2015002493-appb-I000017
    [화학식 5]
    Figure PCTKR2015002493-appb-I000018
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 따른 오늄염 유도체를 포함하는 광산발생제.
  6. 제5항에 따른 광산발생제 및 광중합성 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물.
  7. 제6항에 있어서, 광산발생제가 광중합성 화합물 100중량부에 대하여 0.1 내지 10중량부로 포함되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
  8. 제6항에 따른 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성되는 광경화 패턴.
  9. 제8항에 따른 광경화 패턴을 포함하는 화상표시장치.
  10. 제5항에 따른 광산발생제 및 광중합성 단량체를 포함하는 접착제 조성물.
  11. 제10항에 있어서, 광산발생제가 광중합성 단량체 100중량부에 대하여 0.1 내지 10중량부로 포함되는 것을 특징으로 하는 접착제 조성물.
  12. 편광자; 상기 편광자의 일면 또는 양면에 적층되고, 제10항에 따른 접착제 조성물로부터 형성되는 접착제층; 및 상기 접착제층 상에 적층된 편광자 보호필름을 포함하는 편광판.
  13. 제12항에 따른 편광판을 포함하는 액정표시장치.
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