WO2015137446A1

WO2015137446A1 - 液晶表示装置

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Publication number: WO2015137446A1
Application number: PCT/JP2015/057294
Authority: WO
Inventors: 佐藤　寛; 千枝新福; 晶山本; 雄二郎矢内; 義明久門
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2014-03-13
Filing date: 2015-03-12
Publication date: 2015-09-17
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Abstract

　本発明は、薄型化した場合であっても表示性能に優れ、温湿度環境変化に対する耐久性に優れた液晶表示装置を提供することを課題とする。本発明の液晶表示装置は、視認側からバックライト側の方向に、第１の偏光子（Ｐ１）、第１の光学異方性層（Ｂ１）、第１の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ｃ１）、垂直配向モード液晶セル、第２の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ｃ２）、第２の光学異方性層（Ｂ２）、および、第２の偏光子（Ｐ２）をこの順に有し、偏光子（Ｐ１）および偏光子（Ｐ２）が、それぞれの吸収軸を互いに直交にして配置され、光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）の厚みが、いずれも１０μｍ以下であり、光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）が、所定の関係式（１－１）～（１－２）を満たし、かつ、光学異方性層（Ｂ１）および光学異方性層（Ｂ２）が、所定の関係式（１－３）～（１－７）を満たす、液晶表示装置である。

Description

液晶表示装置

　本発明は、垂直配向モード液晶セルを有する液晶表示装置に関する。

　近年、液晶表示装置の薄型化が進んでおり、それに伴い使用される部材（例えば偏光板）の薄型化が求められている。偏光板の薄型化の方法として、例えば、偏光子自体や偏光子の保護フィルムを薄くする方法や、偏光子と液晶セルとの間に配置されていた保護フィルムや位相差フィルムをなくす方法等が挙げられる。

　薄型化が可能な液晶表示装置として、例えば、特許文献１には、「黒表示時に基板に対して垂直配向する液晶層を有する液晶セルと、該液晶セルを挟んで、それぞれの吸収軸を互いに直交にして配置される２枚の偏光子と、前記２枚の偏光子のそれぞれと液晶セルとの間に配置される、光学的異方性が同等である位相差膜とを有する液晶表示装置であって、前記位相差膜がセルロースアシレート及び液晶化合物を含み、且つ下記式（Ｉ）～（IV）を満たすことを特徴とする液晶表示装置。
　（Ｉ）３０≦Ｒｅ（５５０）≦８０
　（II）７０≦Ｒｔｈ（５５０）≦１４０
　（III）Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１
　（IV）Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＞１
（Ｒｅ（λ）は波長λ［ｎｍ］で測定したフィルム面内のレターデーション［ｎｍ］を、及びＲｔｈ（λ）は波長λ［ｎｍ］で測定したフィルム膜厚方向のレターデーション［ｎｍ］を表す。）」が記載されている。

特開２０１０－０２０２６９号公報

　本発明者らは、特許文献１に記載された液晶表示装置について検討したところ、液晶セルに対して斜め方向から観察した際に生じる色変化（カラーシフト）や光漏れ（黒輝度）に改善の余地があり、また、温湿度環境変化に起因して表示ムラが発生する場合があることを明らかとした。

　そこで、本発明は、薄型化した場合であっても表示性能（色変化および光漏れの防止）に優れ、温湿度環境変化に対する耐久性（表示ムラの発生を抑制する性能）に優れた液晶表示装置を提供することを課題とする。

　本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意研究した結果、垂直配向モード液晶セルの光学補償を所望の光学特性を有する２枚（視認側およびバックライト側で各１枚）の光学異方性層で担保し、かつ、視認側偏光子およびバックライト側偏光子のそれぞれの光学補償を所望の光学特性を有する光学異方性層で担保することにより、液晶表示装置を薄型化した場合であっても表示性能に優れ、温湿度環境変化に対する耐久性に優れることを見出し、本発明を完成させた。
　すなわち、以下の構成により上記目的を達成することができることを見出した。

　［１］　視認側からバックライト側の方向に、第１の偏光子（Ｐ１）、第１の光学異方性層（Ｂ１）、第１の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ｃ１）、垂直配向モード液晶セル、第２の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ｃ２）、第２の光学異方性層（Ｂ２）、および、第２の偏光子（Ｐ２）をこの順に有し、
　偏光子（Ｐ１）および偏光子（Ｐ２）が、それぞれの吸収軸を互いに直交にして配置され、
　光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）の厚みが、いずれも１０μｍ以下であり、
　光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）が、いずれも下記式（１－１）および（１－２）を満たし、
　　Ｒｅ（５５０）≦３０ｎｍ　　　　　　　　　　　　式（１－１）
　　１０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１００ｎｍ　　　　　式（１－２）
　光学異方性層（Ｂ１）および光学異方性層（Ｂ２）が、いずれも下記式（１－３）、（１－４）、（１－５）、（１－６）および（１－７）を満たす、液晶表示装置。
　　２０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１６０ｎｍ　　　　　式（１－３）
　　２０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１６０ｎｍ　　　　式（１－４）
　　Ｒｔｈ（５５０）≧（－９）×Ｒｅ（５５０）＋４００ｎｍ　　　　式（１－５）
　　Ｒｔｈ（５５０）≦（－９／５）×Ｒｅ（５５０）＋３１０ｎｍ　　式（１－６）
　　Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０５　　　　　　　　　　　式（１－７）
（Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍにおける厚み方向のレターデーションを表す。）

　［２］　視認側からバックライト側の方向に、第１の偏光子（Ｐ１）、第１の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ｃ１）、第１の光学異方性層（Ｂ１）、垂直配向モード液晶セル、第２の光学異方性層（Ｂ２）、第２の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ｃ２）、および、第２の偏光子（Ｐ２）をこの順に有し、
　偏光子（Ｐ１）および偏光子（Ｐ２）が、それぞれの吸収軸を互いに直交にして配置され、
　光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）の厚みが、いずれも１０μｍ以下であり、
　光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）が、いずれも下記式（２－１）および（２－２）を満たし、
　　Ｒｅ（５５０）≦３０ｎｍ　　　　　　　　　　　式（２－１）
　　３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１２０ｎｍ　　　　式（２－２）
　光学異方性層（Ｂ１）および光学異方性層（Ｂ２）が、いずれも下記式（２－３）、（２－４）および（２－５）を満たす、液晶表示装置。
　　１５ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦７０ｎｍ　　　　　　式（２－３）
　　２０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１２０ｎｍ　　　　式（２－４）
　　Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．１　　　　式（２－５）
（Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍにおける厚み方向のレターデーションを表す。）

　［３］　視認側からバックライト側の方向に、第１の偏光子（Ｐ１）、第１の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ａ１）、第１の光学異方性層（Ｃ１）、垂直配向モード液晶セル、第２の光学異方性層（Ｃ２）、第２の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ａ２）、および、第２の偏光子（Ｐ２）をこの順に有し、
　偏光子（Ｐ１）および偏光子（Ｐ２）が、それぞれの吸収軸を互いに直交にして配置され、
　光学異方性層（Ａ１）および光学異方性層（Ａ２）の厚みが、いずれも１０μｍ以下であり、
　光学異方性層（Ａ１）および光学異方性層（Ａ２）が、いずれも下記式（３－１）、（３－２）および（３－３）を満たし、
　　５０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１３０　　　　　　　式（３－１）
　　２０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦７０　　　　　　　式（３－２）
　　Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０５　　　式（３－３）
　光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）が、いずれも下記式（３－４）および（３－５）を満たす、液晶表示装置。
　　Ｒｅ（５５０）≦３０ｎｍ　　　　　　　　　式（３－４）
　　２０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１２０　　　　式（３－５）
（Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍにおける厚み方向のレターデーションを表す。）

　［４］　視認側からバックライト側の方向に、第１の偏光子（Ｐ１）、第１の光学異方性層（Ｃ１）、第１の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ａ１）、垂直配向モード液晶セル、第２の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ａ２）、第２の光学異方性層（Ｃ２）、および、第２の偏光子（Ｐ２）をこの順に有し、
　偏光子（Ｐ１）および偏光子（Ｐ２）が、それぞれの吸収軸を互いに直交にして配置され、
　光学異方性層（Ａ１）および光学異方性層（Ａ２）の厚みが、いずれも１０μｍ以下であり、
　光学異方性層（Ａ１）および光学異方性層（Ａ２）が、いずれも下記式（４－１）、（４－２）および（４－３）を満たし、
　　１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦７０ｎｍ　　　　　　式（４－１）
　　０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦４０ｎｍ　　　　　　式（４－２）
　　Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０５　　　式（４－３）
　光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）が、いずれも下記式（４－４）および（４－５）を満たす、液晶表示装置。
　　Ｒｅ（５５０）≦３０ｎｍ　　　　　　　　　　　式（４－４）
　　７０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１８０ｎｍ　　　　式（４－５）
（Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍにおける厚み方向のレターデーションを表す。）

　［５］　光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）が含有する液晶性化合物が、いずれもディスコティック液晶性化合物であり、
　光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）が、いずれも下記式（５）を満たす、［１］または［２］に記載の液晶表示装置。
　　０．９＜Ｒｅ４０（４５０）／Ｒｅ４０(５５０)≦１．２　　　式（５）
（Ｒｅ４０（λ）は、波長λｎｍにおける極角４０°から測定したレターデーションを表す。）
　［６］　光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）が、いずれもディスコティック液晶性化合物を含有し、
　光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）が、いずれも下記式（５）を満たす、［３］または［４］に記載の液晶表示装置。
　　０．９＜Ｒｅ４０（４５０）／Ｒｅ４０(５５０)≦１．２　　　式（５）
（Ｒｅ４０（λ）は、波長λｎｍにおける極角４０°から測定したレターデーションを表す。）
　［７］　光学異方性層（Ａ１）および光学異方性層（Ａ２）が含有する液晶性化合物が、いずれも棒状液晶性化合物である、［３］、［４］および［６］のいずれかに記載の液晶表示装置。
　［８］　光学異方性層（Ａ１）および光学異方性層（Ａ２）が、いずれも下記式（６）を満たす、［７］に記載の液晶表示装置。
　　Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０　　　式（６）
（Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内レターデーションを表す。）
　［９］　偏光子（Ｐ１）と光学異方性層（Ｃ１）とが隣接し、偏光子（Ｐ２）と光学異方性層（Ｃ２）とが隣接している、［２］に記載の液晶表示装置。
　［１０］　偏光子（Ｐ１）と光学異方性層（Ａ１）とが隣接し、偏光子（Ｐ２）と光学異方性層（Ａ２）とが隣接している、［３］に記載の液晶表示装置。
　［１１］　偏光子（Ｐ１）と光学異方性層（Ｃ１）とが配向膜を介して積層され、偏光子（Ｐ２）と光学異方性層（Ｃ２）とが配向膜を介して積層されている、［２］に記載の液晶表示装置。
　［１２］　偏光子（Ｐ１）と光学異方性層（Ａ１）とが配向膜を介して積層され、偏光子（Ｐ２）と光学異方性層（Ａ２）とが配向膜を介して積層されている、［３］に記載の液晶表示装置。
　［１３］　偏光子（Ｐ１）と光学異方性層（Ｃ１）とが接着剤層または粘着剤層を介して積層され、偏光子（Ｐ２）と光学異方性層（Ｃ２）とが接着剤層または粘着剤層を介して積層されている、［２］に記載の液晶表示装置。
　［１４］　偏光子（Ｐ１）と光学異方性層（Ａ１）とが接着剤層または粘着剤層を介して積層され、偏光子（Ｐ２）と光学異方性層（Ａ２）とが接着剤層または粘着剤層を介して積層されている、［３］に記載の液晶表示装置。
　［１５］　偏光子（Ｐ１）の視認側および偏光子（Ｐ２）のバックライト側のいずれか一方または両方に保護膜を有し、
　保護膜の透湿度が、１００ｇ／ｍ²／２４ｈ以下である、［１］～［１４］のいずれかに記載の液晶表示装置。
　［１６］　光学異方性層（Ａ１）、光学異方性層（Ａ２）、光学異方性層（Ｂ１）、光学異方性層（Ｂ２）、光学異方性層（Ｃ１）、および、光学異方性層（Ｃ２）からなる群から選択される少なくとも１つの光学異方性層の透湿度が、５０ｇ／ｍ²／２４ｈ以下である、［１］～［１５］のいずれかに記載の液晶表示装置。
　［１７］　偏光子（Ｐ１）の視認側および偏光子（Ｐ２）のバックライト側のいずれか一方または両方にラミネートフィルムを有し、
　ラミネートフィルムの透湿度が、３０ｇ／ｍ²／２４ｈ以下である、［１］～［１４］のいずれかに記載の液晶表示装置。
　［１８］　偏光子（Ｐ１）および偏光子（Ｐ２）の少なくとも一方の厚さが、２５μｍ以下である、［１］～［１７］のいずれかに記載の液晶表示装置。

　本発明によれば、薄型化した場合であっても表示性能に優れ、温湿度環境変化に対する耐久性にも優れた液晶表示装置を提供することができる。

図１（Ａ）～（Ｃ）は、それぞれ、本発明の液晶表示装置の第１の態様の一例を示す模式的な断面図である。図２（Ａ）～（Ｃ）は、それぞれ、本発明の液晶表示装置の第２の態様の一例を示す模式的な断面図である。図３（Ａ）～（Ｃ）は、それぞれ、本発明の液晶表示装置の第３の態様の一例を示す模式的な断面図である。図４（Ａ）～（Ｃ）は、それぞれ、本発明の液晶表示装置の第４の態様の一例を示す模式的な断面図である。

　以下、本発明について詳細に説明する。
　以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
　なお、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
　次に、本明細書で用いられる用語について説明する。

　＜Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）＞
　本明細書において、Ｒｅ（λ）、および、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーション、および、厚さ方向のレターデーションを表す。
　Ｒｅ（λ）は、ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨまたはＫＯＢＲＡＷＲ（いずれも王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。

　ここで、測定されるフィルムが、１軸または２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）が算出される。
　Ｒｔｈ（λ）は、Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨまたはＫＯＢＲＡＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨまたはＫＯＢＲＡＷＲにおいて算出される。
　上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨまたはＫＯＢＲＡＷＲにおいて算出される。
　なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基に、以下の数式（１）および数式（２）よりＲｔｈを算出することもできる。

　式中、Ｒｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。また、ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚは、ｎｘおよびｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄはフィルムの膜厚を表す。

　測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ＯＰＴＩＣＡＸＩＳ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）が算出される。
　Ｒｔｈ（λ）は、Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨまたはＫＯＢＲＡＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して－５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨまたはＫＯＢＲＡＷＲにより算出される。

　上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨまたはＫＯＢＲＡＷＲにおいてｎｘ、ｎｙ、ｎｚが算出される。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚによりＮｚ＝（ｎｘ－ｎｚ）／（ｎｘ－ｎｙ）が更に算出される。

　また、本明細書において、Ｒｅ４０（λ）は、波長λｎｍにおける極角４０°から測定したレターデーションを表す。
　また、角度の関係（例えば「直交」、「平行」、「９０°」等）については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。具体的には、厳密な角度±１０°未満の範囲内であることを意味し、厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。

　＜透湿度＞
　本明細書において、透湿度とは、ＪＩＳＺ０２０８：１９７６の「防湿包装材料の透湿度試験方法（カップ法）」に記載された手法に従い、温度４０℃、相対湿度９０％の雰囲気中、試料を２４時間に通過する水蒸気の質量を測定し、面積１ｍ²あたりに換算した量（ｇ／ｍ²／ｄａｙ）をいう。

［液晶表示装置］
　本発明の液晶表示装置は、垂直配向モード液晶セルと、この液晶セルとを挟んでそれぞれの吸収軸を互いに直交して配置される２枚の偏光子（後述する偏光子（Ｐ１）および（Ｐ２））とを有する液晶表示装置である。

　ここで、本発明の第１の態様に係る液晶表示装置は、視認側からバックライト側の方向に、第１の偏光子（Ｐ１）、第１の光学異方性層（Ｂ１）、第１の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ｃ１）、垂直配向モード液晶セル、第２の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ｃ２）、第２の光学異方性層（Ｂ２）、および、第２の偏光子（Ｐ２）をこの順に有し、上述した式（１－１）～（１－７）を満たす液晶表示装置である。
　また、第２の態様に係る液晶表示装置は、視認側からバックライト側の方向に、第１の偏光子（Ｐ１）、第１の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ｃ１）、第１の光学異方性層（Ｂ１）、垂直配向モード液晶セル、第２の光学異方性層（Ｂ２）、第２の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ｃ２）、および、第２の偏光子（Ｐ２）をこの順に有し、上述した式（２－１）～（２－５）を満たす液晶表示装置である。
　また、第３の態様に係る液晶表示装置は、視認側からバックライト側の方向に、第１の偏光子（Ｐ１）、第１の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ａ１）、第１の光学異方性層（Ｃ１）、垂直配向モード液晶セル、第２の光学異方性層（Ｃ２）、第２の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ａ２）、および、第２の偏光子（Ｐ２）をこの順に有し、上述した式（３－１）～（３－５）を満たす液晶表示装置である。
　また、第４の態様に係る液晶表示装置は、視認側からバックライト側の方向に、第１の偏光子（Ｐ１）、第１の光学異方性層（Ｃ１）、第１の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ａ１）、垂直配向モード液晶セル、第２の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ａ２）、第２の光学異方性層（Ｃ２）、および、第２の偏光子（Ｐ２）をこの順に有し、上述した式（４－１）～（４－５）を満たす液晶表示装置である。

　このような構成を有することにより、液晶表示装置を薄型化した場合であっても表示性能が良好となり、温湿度環境変化に対する耐久性も良好となる。
　これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
　すなわち、垂直配向モード液晶セルの光学補償を液晶セルを挟んで配置される光学異方性層（Ｃ１）および（Ｃ２）で行い、かつ、偏光子（Ｐ１）および（Ｐ２）のそれぞれの光学補償を、光学異方性層（Ｂ１）および（Ｂ２）、または、光学異方性層（Ａ１）および（Ａ２）で行うことにより、光学補償の機能を適切に分離することができたためと考えられる。
　また、偏光子と垂直配向モード液晶セルとの間に、液晶性化合物を含有する膜厚の薄い光学異方性層を設けることにより、バックライトの変形や温湿環境変化に対する表示ムラを抑制することができたためと考えられる。

　次に、本発明の液晶表示装置について、第１の態様～第４の態様をそれぞれ図１～図４を用いて説明する。

〔第１の態様〕
　図１は、本発明の第１の態様に係る液晶表示装置の一例を示す模式的な断面図である。
　図１（Ａ）に示す液晶表示装置４０は、視認側からバックライト側の方向に、第１の偏光子（Ｐ１）１、第１の光学異方性層（Ｂ１）２、第１の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ｃ１）３、垂直配向モード液晶セル２０、第２の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ｃ２）１３、第２の光学異方性層（Ｂ２）１２、および、第２の偏光子（Ｐ２）１１をこの順に有し、偏光子（Ｐ１）１の吸収軸と偏光子（Ｐ２）１１の吸収軸とが直交して配置されている。
　また、図１（Ｂ）に示す液晶表示装置４０は、図１（Ａ）に示す液晶表示装置の偏光子（Ｐ１）１の視認側に任意の保護膜４を有し、偏光子（Ｐ２）１１のバックライト側に任意の保護膜１４を有する態様である。なお、任意の保護膜は、図１（Ｂ）に示す態様とは別に、偏光子（Ｐ１）１の視認側および偏光子（Ｐ２）１１のバックライト側のいずれか一方にのみ有していてもよい。
　また、図１（Ｃ）液晶表示装置４０は、図１（Ｂ）に示す液晶表示装置の保護膜４の視認側に任意のラミネートフィルム５を有し、保護膜１４のバックライト側に任意のラミネートフィルム１５を有する態様である。なお、任意のラミネートフィルムは、図１（Ｃ）に示す態様とは別に、保護膜４の視認側および保護膜１４のバックライト側のいずれか一方にのみ有していてもよく、また、保護膜を有していない態様、すなわち、偏光子（Ｐ１）１の視認側および偏光子（Ｐ２）１１のバックライト側の少なくとも一方に有していてもよい。
　また、図１中、符号１０は視認側偏光板を示し、符号３０はバックライト側偏光板を示す。

　第１の態様に係る液晶表示装置は、光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）が、いずれも下記式（１－１）および（１－２）を満たし、かつ、光学異方性層（Ｂ１）および光学異方性層（Ｂ２）が、いずれも下記式（１－３）、（１－４）、（１－５）、（１－６）および（１－７）を満たす態様である。
　＜光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）＞
　・Ｒｅ（５５０）≦３０ｎｍ　　　　　　　　　　　　式（１－１）
　・１０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１００ｎｍ　　　　　式（１－２）
　＜光学異方性層（Ｂ１）および光学異方性層（Ｂ２）＞
　・２０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１６０ｎｍ　　　　　　式（１－３）
　・２０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１６０ｎｍ　　　　　式（１－４）
　・Ｒｔｈ（５５０）≧（－９）×Ｒｅ（５５０）＋４００ｎｍ　　　　式（１－５）
　・Ｒｔｈ（５５０）≦（－９／５）×Ｒｅ（５５０）＋３１０ｎｍ　　式（１－６）
　・Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０５　　　　　　　　　　　式（１－７）

　ここで、第１の態様においては、光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）は、斜め方向から観察した際に生じる光漏れ（黒輝度）がより抑制され、薄型化した場合であっても表示性能がより良好となる理由から、Ｒｅ（５５０）が２０ｎｍ以下であるのが好ましく、１０ｎｍ以下であるのがより好ましく、Ｒｔｈ（５５０）が２０ｎｍ～９０ｎｍであるのが好ましく、２５ｎｍ～８０ｎｍであるのがより好ましい。
　また、光学異方性層（Ｂ１）および光学異方性層（Ｂ２）は、斜め方向から観察した際に生じる光漏れ（黒輝度）がより抑制され、薄型化した場合であっても表示性能がより良好となる理由から、Ｒｅ（５５０）が３５ｎｍ～１４０ｎｍであるのが好ましく、４５ｎｍ～１２０ｎｍであるのがより好ましく、Ｒｔｈ（５５０）が３０ｎｍ～１２０ｎｍであるのが好ましく、４０ｎｍ～１００ｎｍであるのがより好ましい。更に、斜め方向から観察した際に生じる色変化（カラーシフト）がより抑制され、薄型化した場合であっても表示性能がより良好となる理由から、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が１．０以下であるのが好ましく、０．９５以下であるのがより好ましい。

　また、第１の態様においては、液晶性化合物を有する光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）の厚みが、いずれも１０μｍ以下であり、７μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下であることがより好ましい。

〔第２の態様〕
　図２は、本発明の第２の態様に係る液晶表示装置の一例を示す模式的な断面図である。
　図２（Ａ）に示す液晶表示装置４０は、視認側からバックライト側の方向に、第１の偏光子（Ｐ１）１、第１の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ｃ１）３、第１の光学異方性層（Ｂ１）２、垂直配向モード液晶セル２０、第２の光学異方性層（Ｂ２）１２、第２の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ｃ２）１３、および、第２の偏光子（Ｐ２）１１をこの順に有し、偏光子（Ｐ１）１の吸収軸と偏光子（Ｐ２）１１の吸収軸とが直交して配置されている。
　また、図２（Ｂ）に示す液晶表示装置４０は、図２（Ａ）に示す液晶表示装置の偏光子（Ｐ１）１の視認側に任意の保護膜４を有し、偏光子（Ｐ２）１１のバックライト側に任意の保護膜１４を有する態様である。なお、任意の保護膜は、図２（Ｂ）に示す態様とは別に、偏光子（Ｐ１）１の視認側および偏光子（Ｐ２）１１のバックライト側のいずれか一方にのみ有していてもよい。
　また、図２（Ｃ）液晶表示装置４０は、図２（Ｂ）に示す液晶表示装置の保護膜４の視認側に任意のラミネートフィルム５を有し、保護膜１４のバックライト側に任意のラミネートフィルム１５を有する態様である。なお、任意のラミネートフィルムは、図２（Ｃ）に示す態様とは別に、保護膜４の視認側および保護膜１４のバックライト側のいずれか一方にのみ有していてもよく、また、保護膜を有していない態様、すなわち、偏光子（Ｐ１）１の視認側および偏光子（Ｐ２）１１のバックライト側の少なくとも一方に有していてもよい。
　また、図２中、符号１０は視認側偏光板を示し、符号３０はバックライト側偏光板を示す。

　第２の態様に係る液晶表示装置は、光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）が、いずれも下記式（２－１）および（２－２）を満たし、かつ、光学異方性層（Ｂ１）および光学異方性層（Ｂ２）が、いずれも下記式（２－３）、（２－４）および（２－５）を満たす態様である。
　＜光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）＞
　・Ｒｅ（５５０）≦３０ｎｍ　　　　　　　　　　　式（２－１）
　・３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１２０ｎｍ　　　　式（２－２）
　＜光学異方性層（Ｂ１）および光学異方性層（Ｂ２）＞
　・１５ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦７０ｎｍ　　　　　　式（２－３）
　・２０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１２０ｎｍ　　　　式（２－４）
　・Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．１　　　　式（２－５）

　ここで、第２の態様においては、光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）は、斜め方向から観察した際に生じる光漏れ（黒輝度）がより抑制され、薄型化した場合であっても表示性能がより良好となる理由から、Ｒｅ（５５０）が２０ｎｍ以下であるのが好ましく、１０ｎｍ以下であるのがより好ましく、Ｒｔｈ（５５０）が３５ｎｍ～１１０ｎｍであるのが好ましく、４０ｎｍ～１００ｎｍであるのがより好ましい。
　また、光学異方性層（Ｂ１）および光学異方性層（Ｂ２）は、斜め方向から観察した際に生じる光漏れ（黒輝度）がより抑制され、薄型化した場合であっても表示性能がより良好となる理由から、Ｒｅ（５５０）が２０ｎｍ～６５ｎｍであるのが好ましく、２５ｎｍ～６０ｎｍであるのがより好ましく、Ｒｔｈ（５５０）が３０ｎｍ～１００ｎｍであるのが好ましく、４０ｎｍ～９０ｎｍであるのがより好ましい。更に、斜め方向から観察した際に生じる色変化（カラーシフト）がより抑制され、薄型化した場合であっても表示性能がより良好となる理由から、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が１．０以下であるのが好ましく、０．９５以下であるのがより好ましい。

　また、第２の態様においては、液晶性化合物を有する光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）の厚みが、いずれも１０μｍ以下であり、７μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下であることがより好ましい。

　また、第２の態様においては、液晶表示装置をより薄型化することができ、また、温湿度環境変化に対する耐久性がより向上する理由から、偏光子（Ｐ１）と液晶性化合物を有する光学異方性層（Ｃ１）との間、および、偏光子（Ｐ２）と液晶性化合物を有する光学異方性層（Ｃ２）との間に位相差を持つ部材が存在していない構成であるのが好ましく、具体的には、例えば、偏光子（Ｐ１）と光学異方性層（Ｃ１）とが隣接し、偏光子（Ｐ２）と光学異方性層（Ｃ２）とが隣接している構成（図２参照）；偏光子（Ｐ１）と光学異方性層（Ｃ１）とが配向膜を介して積層され、偏光子（Ｐ２）と光学異方性層（Ｃ２）とが配向膜を介して積層されている構成；偏光子（Ｐ１）と光学異方性層（Ｃ１）とが接着剤層または粘着剤層を介して積層され、偏光子（Ｐ２）と光学異方性層（Ｃ２）とが接着剤層または粘着剤層を介して積層されている構成；等であるのが好ましい。

〔第３の態様〕
　図３は、本発明の第３の態様に係る液晶表示装置の一例を示す模式的な断面図である。
　図３（Ａ）に示す液晶表示装置４０は、視認側からバックライト側の方向に、第１の偏光子（Ｐ１）１、第１の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ａ１）６、第１の光学異方性層（Ｃ１）３、垂直配向モード液晶セル２０、第２の光学異方性層（Ｃ２）１３、第２の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ａ２）１６、および、第２の偏光子（Ｐ２）１１をこの順に有し、偏光子（Ｐ１）１の吸収軸と偏光子（Ｐ２）１１の吸収軸とが直交して配置されている。
　また、図３（Ｂ）に示す液晶表示装置４０は、図３（Ａ）に示す液晶表示装置の偏光子（Ｐ１）１の視認側に任意の保護膜４を有し、偏光子（Ｐ２）１１のバックライト側に任意の保護膜１４を有する態様である。なお、任意の保護膜は、図３（Ｂ）に示す態様とは別に、偏光子（Ｐ１）１の視認側および偏光子（Ｐ２）１１のバックライト側のいずれか一方にのみ有していてもよい。
　また、図３（Ｃ）液晶表示装置４０は、図３（Ｂ）に示す液晶表示装置の保護膜４の視認側に任意のラミネートフィルム５を有し、保護膜１４のバックライト側に任意のラミネートフィルム１５を有する態様である。なお、任意のラミネートフィルムは、図３（Ｃ）に示す態様とは別に、保護膜４の視認側および保護膜１４のバックライト側のいずれか一方にのみ有していてもよく、また、保護膜を有していない態様、すなわち、偏光子（Ｐ１）１の視認側および偏光子（Ｐ２）１１のバックライト側の少なくとも一方に有していてもよい。
　また、図３中、符号１０は視認側偏光板を示し、符号３０はバックライト側偏光板を示す。

　第３の態様に係る液晶表示装置は、光学異方性層（Ａ１）および光学異方性層（Ａ２）が、いずれも下記式（３－１）、（３－２）および（３－３）を満たし、かつ、光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）が、いずれも下記式（３－４）および（３－５）を満たす態様である。
　＜光学異方性層（Ａ１）および光学異方性層（Ａ２）＞
　・５０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１３０　　　　　　　式（３－１）
　・２０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦７０　　　　　　　式（３－２）
　・Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０５　　　式（３－３）
　＜光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）＞
　・Ｒｅ（５５０）≦３０ｎｍ　　　　　　　　　式（３－４）
　・２０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１２０　　　　式（３－５）

　ここで、第３の態様においては、光学異方性層（Ａ１）および光学異方性層（Ａ２）は、斜め方向から観察した際に生じる光漏れ（黒輝度）がより抑制され、薄型化した場合であっても表示性能がより良好となる理由から、Ｒｅ（５５０）が６０ｎｍ～１２０ｎｍであるのが好ましく、７０ｎｍ～１１０ｎｍであるのがより好ましく、Ｒｔｈ（５５０）が３０ｎｍ～６０ｎｍであるのが好ましく、３５ｎｍ～５５ｎｍであるのがより好ましい。更に、斜め方向から観察した際に生じる色変化（カラーシフト）がより抑制され、薄型化した場合であっても表示性能がより良好となる理由から、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が１．０未満であるのが好ましく、０．９５以下であるのがより好ましい。
　一方、光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）は、斜め方向から観察した際に生じる光漏れ（黒輝度）がより抑制され、薄型化した場合であっても表示性能がより良好となる理由から、Ｒｅ（５５０）が２０ｎｍ以下であるのが好ましく、１０ｎｍ以下であるのがより好ましく、Ｒｔｈ（５５０）が３０ｎｍ～１００ｎｍであるのが好ましく、４０ｎｍ～９０ｎｍであるのがより好ましい。

　また、第３の態様においては、液晶性化合物を有する光学異方性層（Ａ１）および光学異方性層（Ａ２）の厚みが、いずれも１０μｍ以下であり、７μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下であることがより好ましい。

　また、第３の態様においては、液晶表示装置をより薄型化することができ、また、温湿度環境変化に対する耐久性がより向上する理由から、偏光子（Ｐ１）と液晶性化合物を有する光学異方性層（Ａ１）との間、および、偏光子（Ｐ２）と液晶性化合物を有する光学異方性層（Ａ２）との間に位相差を持つ部材が存在していない構成であるのが好ましく、具体的には、例えば、偏光子（Ｐ１）と光学異方性層（Ａ１）とが隣接し、偏光子（Ｐ２）と光学異方性層（Ａ２）とが隣接している構成（図３参照）；偏光子（Ｐ１）と光学異方性層（Ａ１）とが配向膜を介して積層され、偏光子（Ｐ２）と光学異方性層（Ａ２）とが配向膜を介して積層されている構成；偏光子（Ｐ１）と光学異方性層（Ａ１）とが接着剤層または粘着剤層を介して積層され、偏光子（Ｐ２）と光学異方性層（Ａ２）とが接着剤層または粘着剤層を介して積層されている構成；等であるのが好ましい。

〔第４の態様〕
　図４は、本発明の第１の態様に係る液晶表示装置の一例を示す模式的な断面図である。
　図４（Ａ）に示す液晶表示装置４０は、視認側からバックライト側の方向に、第１の偏光子（Ｐ１）１、第１の光学異方性層（Ｃ１）３、第１の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ａ１）６、垂直配向モード液晶セル２０、第２の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ａ２）１６、第２の光学異方性層（Ｃ２）１３、および、第２の偏光子（Ｐ２）１１をこの順に有し、偏光子（Ｐ１）１の吸収軸と偏光子（Ｐ２）１１の吸収軸とが直交して配置されている。
　また、図４（Ｂ）に示す液晶表示装置４０は、図４（Ａ）に示す液晶表示装置の偏光子（Ｐ１）１の視認側に任意の保護膜４を有し、偏光子（Ｐ２）１１のバックライト側に任意の保護膜１４を有する態様である。なお、任意の保護膜は、図４（Ｂ）に示す態様とは別に、偏光子（Ｐ１）１の視認側および偏光子（Ｐ２）１１のバックライト側のいずれか一方にのみ有していてもよい。
　また、図４（Ｃ）液晶表示装置４０は、図４（Ｂ）に示す液晶表示装置の保護膜４の視認側に任意のラミネートフィルム５を有し、保護膜１４のバックライト側に任意のラミネートフィルム１５を有する態様である。なお、任意のラミネートフィルムは、図４（Ｃ）に示す態様とは別に、保護膜４の視認側および保護膜１４のバックライト側のいずれか一方にのみ有していてもよく、また、保護膜を有していない態様、すなわち、偏光子（Ｐ１）１の視認側および偏光子（Ｐ２）１１のバックライト側の少なくとも一方に有していてもよい。
　また、図４中、符号１０は視認側偏光板を示し、符号３０はバックライト側偏光板を示す。

　第４の態様に係る液晶表示装置は、光学異方性層（Ａ１）および光学異方性層（Ａ２）が、いずれも下記式（４－１）、（４－２）および（４－３）を満たし、かつ、光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）が、いずれも下記式（４－４）および（４－５）を満たす態様である。
　＜光学異方性層（Ａ１）および光学異方性層（Ａ２）＞
　・１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦７０ｎｍ　　　　　　式（４－１）
　・０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦４０ｎｍ　　　　　　式（４－２）
　・Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０５　　　式（４－３）
　＜光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）＞
　・Ｒｅ（５５０）≦３０ｎｍ　　　　　　　　　　　式（４－４）
　・７０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１８０ｎｍ　　　　式（４－５）

　ここで、第４の態様においては、光学異方性層（Ａ１）および光学異方性層（Ａ２）は、斜め方向から観察した際に生じる光漏れ（黒輝度）がより抑制され、薄型化した場合であっても表示性能がより良好となる理由から、Ｒｅ（５５０）が１５ｎｍ～６０ｎｍであるのが好ましく、２０ｎｍ～５０ｎｍであるのがより好ましく、Ｒｔｈ（５５０）が５ｎｍ～３０ｎｍであるのが好ましく、１０ｎｍ～２５ｎｍであるのがより好ましい。更に、斜め方向から観察した際に生じる色変化（カラーシフト）がより抑制され、薄型化した場合であっても表示性能がより良好となる理由から、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が１．０未満であるのが好ましく、０．９５以下であるのがより好ましい。
　一方、光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）は、斜め方向から観察した際に生じる光漏れ（黒輝度）がより抑制され、薄型化した場合であっても表示性能がより良好となる理由から、Ｒｅ（５５０）が２０ｎｍ以下であるのが好ましく、１０ｎｍ以下であるのがより好ましく、Ｒｔｈ（５５０）が８０ｎｍ～１６０ｎｍであるのが好ましく、９０ｎｍ～１４０ｎｍであるのがより好ましい。

　また、第４の態様においては、液晶性化合物を有する光学異方性層（Ａ１）および光学異方性層（Ａ２）の厚みが、いずれも１０μｍ以下であり、７μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下であることがより好ましい。

〔第１および第２の態様（共通）〕
　第１の態様および第２の態様においては、斜め方向から観察した際に生じる光漏れ（黒輝度）および色変化（カラーシフト）がより抑制され、薄型化した場合であっても表示性能がより良好となる理由から、上述した光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）が含有する液晶性化合物が、いずれも後述するディスコティック液晶性化合物であり、かつ、光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）が、いずれも下記式（５）を満たすことが好ましく、下記式（５－１）を満たすことがより好ましく、下記式（５－２）を満たすことが更に好ましい。
　・０．９＜Ｒｅ４０（４５０）／Ｒｅ４０(５５０)≦１．２　　　　式（５）
　・０．９５＜Ｒｅ４０（４５０）／Ｒｅ４０(５５０)≦１．１９　　式（５－１）
　・０．９９＜Ｒｅ４０（４５０）／Ｒｅ４０(５５０)≦１．１８　　式（５－２）

　また、第１の態様および第２の態様においては、上述した光学異方性層（Ｂ１）および光学異方性層（Ｂ２）は、いずれも後述するポリマーフィルムを含む光学異方性層であることが好ましい。

〔第３および第４の態様（共通）〕
　第３の態様および第４の態様においては、斜め方向から観察した際に生じる光漏れ（黒輝度）および色変化（カラーシフト）がより抑制され、薄型化した場合であっても表示性能がより良好となる理由から、光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）が、いずれも後述するディスコティック液晶性化合物を含有し、かつ、光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）が、いずれも下記式（５）を満たすことが好ましく、下記式（５－１）を満たすことがより好ましく、下記式（５－２）を満たすことが更に好ましい。
　・０．９＜Ｒｅ４０（４５０）／Ｒｅ４０(５５０)≦１．２　　　　式（５）
　・０．９５＜Ｒｅ４０（４５０）／Ｒｅ４０(５５０)≦１．１９　　式（５－１）
　・０．９９＜Ｒｅ４０（４５０）／Ｒｅ４０(５５０)≦１．１８　　式（５－２）

　また、第３の態様および第４の態様においては、斜め方向から観察した際に生じる光漏れ（黒輝度）および色変化（カラーシフト）がより抑制され、薄型化した場合であっても表示性能がより良好となる理由から、光学異方性層（Ａ１）および光学異方性層（Ａ２）が含有する上記液晶性化合物が、いずれも後述する棒状液晶性化合物であることが好ましい。
　同様の理由から、光学異方性層（Ａ１）および光学異方性層（Ａ２）が、いずれも下記式（６）を満たすことが好ましく、下記式（６－１）を満たすことがより好ましく、下記式（６－２）を満たすことが更に好ましい。
　・Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０　　　式（６）
　・Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜０．９８　　式（６－１）
　・Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜０．９６　　式（６－２）

　また、第３の態様および第４の態様においては、光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）は、液晶性化合物を有する好適態様以外に、ポリマーフィルムを含む光学異方性層であってもよい。

〔第１～第４態様（共通）〕
　次に、本発明の第１の態様～第４の態様に係る液晶表示装置が有する必須の構成（偏光子、光学異方性層、垂直配向モード液晶セル）および任意の構成（保護膜、ラミネートフィルム、配向膜、粘着剤層など）について、詳述する。
　なお、以下の説明において、第１の態様などと明記していない構成の説明については、第１の態様～第４の態様に共通する説明である。

＜光学異方性層＞
｛液晶性化合物｝
　第１および第２の態様に係る光学異方性層（Ｃ１）および（Ｃ２）は、液晶性化合物を有する層であり、上述した通り、ディスコティック液晶性化合物を含有しているのが好ましい。
　また、第３および第４の態様に係る光学異方性層（Ｃ１）および（Ｃ２）は、上述した通り、ディスコティック液晶性化合物を含有する層であるのが好ましい。
　また、第３および第４の態様に係る光学異方性層（Ａ１）および光学異方性層（Ａ２）は、液晶性化合物を有する層であり、上述した通り、棒状液晶性化合物を含有しているのが好ましい。

　本発明においては、液晶性化合物は、各種公知のディスコティック液晶性化合物、棒状液晶性化合物を用いることができる。なお、本発明において、液晶性化合物とは、重合等により液晶性を示さなくなったものも含む。

〈ディスコティック液晶性化合物〉
　本発明に用いられるディスコティック液晶性化合物は各種公知のものを用いることができる。ディスコティック液晶性化合物の例には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ　ｌｅｔｔ、Ａ、７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．、１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。具体的には特開２０００－１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１５１］～「０１６８」、特開２０１３－５４２０１号公報の［００２０］～［００３６］に記載のもの等を用いることができる。

　光学異方性層にディスコティック液晶性化合物が含まれる場合、光学異方性層（例えば上述した光学異方性層（Ｃ１）など）は、上述した通り、下記式（５）を満たすことが好ましく、下記式（５－１）を満たすことがより好ましく、下記式（５－２）を満たすことが更に好ましい。
　・０．９＜Ｒｅ４０（４５０）／Ｒｅ４０(５５０)≦１．２　　　　式（５）
　・０．９５＜Ｒｅ４０（４５０）／Ｒｅ４０(５５０)≦１．１９　　式（５－１）
　・０．９９＜Ｒｅ４０（４５０）／Ｒｅ４０(５５０)≦１．１８　　式（５－２）

〈棒状液晶性化合物〉
　本発明に用いられる棒状液晶性化合物は各種公知のものを用いることができる。
　棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
　その他、国際公開第２０１３／０１８５２６号の［００２５］～［０１８３］に記載のもの等を用いることができる。

　光学異方性層に棒状液晶性化合物が含まれる場合、光学異方性層（例えば上述した光学異方性層（Ａ１）など）は、下記式（６）を満たすことが好ましく、下記式（６－１）を満たすことがより好ましく、下記式（６－２）を満たすことが更に好ましい。
　・Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０　　　式（６）
　・Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜０．９８　　式（６－１）
　・Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜０．９６　　式（６－２）

〈ボロン酸化合物〉
　本発明において、偏光子上に液晶性化合物を含む光学異方性層を直接形成する際、偏光子と光学異方性層の密着性を高めるため、光学異方性層に、液晶性化合物とともにボロン酸化合物を用いてもよい。

　本発明に用いることができるボロン酸化合物としては、例えば、少なくとも一つのボロン酸基、もしくは、ボロン酸エステル基を有する化合物を表し、且つ、それらを配位子とした金属錯体や、４配位の硼素原子を有するボロニウムイオンも同時に表し、特開２０１３－０５４２０１号公報、段落番号［００４０］～［００５３］に記載のものを用いることができる。

　光学異方性層中におけるボロン酸化合物の含有量の好ましい範囲は、光学異方性層中（層形成前の組成物においては、組成物の溶媒を除く全固形分中）、０．００５～８質量％であるのが好ましく、０．０１～５質量％であるのがより好ましく、０．０５～１質量％であるのがさらに好ましい。

＜光学異方性層＞
｛ポリマーフィルム｝
　第１の態様および第２の態様に係る光学異方性層（Ｂ１）および光学異方性層（Ｂ２）は、上述した通り、ポリマーフィルムを含む光学異方性層であることが好ましい。
　また、第３の態様および第４の態様に係る光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｃ２）は、ポリマーフィルムを含む光学異方性層であってもよい。

　本発明に用いられるポリマーフィルムは各種公知のポリマーフィルムを用いることができ、具体的にはセルロースアシレート系フィルム、（メタ）アクリル樹脂系フィルム、ポリエステル樹脂系フィルム、シクロオレフィン系樹脂フィルム等が挙げられる。

　ポリマーフィルムの厚みは２５０μｍ以下が好ましく、２００μｍ以下がより好ましく、１５０μｍ以下が更に好ましい。下限は特に限定されないが、一般的に１０μｍ以上である。

　本発明においては、温湿度環境変化に対する耐久性がより良好となる理由から、ポリマーフィルムの温度４０℃相対湿度９０％における透湿度は５０ｇ／ｍ²／２４ｈ以下であることが好ましく、４０ｇ／ｍ²／２４ｈ以下であることがより好ましく、３０ｇ／ｍ²／２４ｈ以下であることが更に好ましい。透湿度がこの値を満たすポリマーフィルムとしては、（メタ）アクリル樹脂系フィルム、ポリエステル樹脂系フィルム、シクロオレフィン系樹脂フィルム等が挙げられる。

　なお、（メタ）アクリル系樹脂は、メタクリル系樹脂とアクリル系樹脂の両方を含む概念であり、アクリレート／メタクリレートの誘導体、特にアクリレートエステル／メタクリレートエステルの（共）重合体も含まれる。
　さらに、上記（メタ）アクリル系樹脂は、メタクリル系樹脂、アクリル系樹脂の他に、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体も含み、ラクトン環を有する重合体、無水コハク酸環を有する無水マレイン酸系重合体、無水グルタル酸環を有する重合体、グルタルイミド環含有重合体を含む。

　ポリエステル系樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが好ましい。

　本発明に用いることができるシクロオレフィン系樹脂フィルムは各種公知のものを用いることができ、具体的には特開２００６－１８８６７１号公報の段落［００３０］～［０１４４］に記載のもの等を用いることができる。

　本発明に用いることができるセルロースアシレート系フィルムとしては、各種公知のものを用いることができ、具体的には特開２０１２－０７６０５１号公報に記載のもの等を用いることができる。

　本発明に用いられるポリマーフィルムは、必要に応じて各種添加剤を含有することができる。添加剤の具体例としては、紫外線吸収剤、可塑剤、マット剤微粒子等が挙げられ、各種公知のものを使用できる。本発明のポリマーフィルムが添加剤を含有する場合、添加剤の総量は、ポリマーフィルムの樹脂に対して５～５０質量％であることが好ましく、５～４０質量％であることがより好ましく、５～３０質量％であることが更に好ましい。

＜光学異方性層の作成方法＞
　本発明に用いられる光学異方性層は各種公知の方法で作成することができる。

｛液晶性化合物を含む光学異方性層の作成方法｝
　本発明に用いられる液晶性化合物を含む光学異方性層は、偏光子に液晶性化合物を含む組成物を塗布して偏光子上に直接作成することが好ましい。ここで、偏光子上に配向膜を作成してからその上に光学異方性層を作成してもよい。また、別の仮支持体を用意し、仮支持体上で液晶性化合物を含む光学異方性層を作成し、光学異方性層を仮支持体から剥離し、偏光子と光学異方性層とを粘着剤または接着剤を介して配置する転写方式で作成してもよい。

　液晶性化合物を含む光学異方性層を、偏光子上に塗布または転写方式で作成することで、偏光子と光学異方性層とが隣接した構成、または、偏光子と、配向膜、接着剤もしくは粘着剤とが隣接し、かつ、配向膜、接着剤もしくは粘着剤と光学異方性層とが隣接した構成とすることができる。この構成では、液晶性化合物を含む通常光学フィルムが有する支持体をなくすことができ、液晶表示装置の薄型化に有効である。また温湿度変化によって発生する液晶表示装置の表示ムラを低減することに有効である。

　偏光子が高温になることによる偏光子性能の劣化、しわ等を低減できる理由から、液晶性化合物を偏光子上で配向、硬化させる場合は、配向、硬化時の温度を、偏光子のガラス転移温度以下で行うことが好ましい。

｛ポリマーフィルムを含む光学異方性層の作成方法｝
　本発明に用いられるポリマーフィルムを含む光学異方性層は各種公知の方法で作成できる。

〔偏光子〕
　本発明に用いられる偏光子は各種公知のものを用いることができ、具体的にはポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムにヨウ素を吸着させたヨウ素偏光子、二色性有機色素を用いた偏光子などが挙げられる。

＜偏光子の厚さ＞
　偏光子の厚さは、２５μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がより好ましく、１７μｍ以下が更に好ましい。膜厚の制御は公知の方法で制御することができ、例えば流延工程におけるダイスリット幅や、延伸条件を適切な値に設定することで制御できる。
　偏光子の厚さを薄くできる観点から、仮支持体上にＰＶＡ溶液を塗布し、仮支持体ごとヨウ素を吸着、延伸した塗布型偏光子も好ましい。塗布型偏光子は例えば、特許第４６９１２０５号公報や特許第４７５１４８１号公報に記載の塗布法を用いた製造方法により形成することができる。

〔保護膜〕
　本発明の液晶表示装置は、図１～図４でも示した通り、任意の保護膜を有していてもよい。
　本発明に用いられる保護膜は各種公知のものを用いることができ、具体的には上述したポリマーフィルムなどが挙げられる。

　高温高湿環境経時中に偏光板内へ入る水の量を抑制し、液晶パネルの反り等による表示ムラを抑制できる等の理由から、保護膜の温度４０℃相対湿度９０％における透湿度は１００ｇ／ｍ²／２４ｈ以下であることが好ましく、５０ｇ／ｍ²／２４ｈ以下であることがより好ましく、４０ｇ／ｍ²／２４ｈ以下であることが更に好ましく、３０ｇ／ｍ²／２４ｈ以下であることが特に好ましい。
　保護膜の透湿度を下げるために、ポリマーフィルムに透湿度の低い部材による低透湿層を設けることも好ましい。透湿度の低い部材としては（メタ）アクリル樹脂系フィルム、ポリエステル樹脂系フィルム、シクロオレフィン系樹脂フィルムなどが挙げられる。

　保護膜には更に、各種目的に応じて機能層を設けてもよい。機能層としてはハードコート層、アンチグレア層、低反射層などが挙げられる。

〔ラミネートフィルム〕
　本発明の液晶表示装置は、図１～図４でも示した通り、任意のラミネートフィルムを有していてもよい。
　本発明に用いられるラミネートフィルムは各種公知のものを用いることができる。ラミネートフィルムは液晶表示装置の視認側および／またはバックライト側最表面に配置され、使用時には剥離される。
　液晶表示装置の輸送時において、液晶表示装置への水分の侵入による悪影響を低減できる等の理由から、ラミネートフィルムの温度４０℃相対湿度９０％における透湿度は５０ｇ／ｍ²・日以下であることが好ましく、４０以下であることがより好ましく、３０以下であることが更に好ましい。

〔輝度向上フィルム〕
　本発明の液晶表示装置は、任意の輝度向上フィルムと組み合わせて使用することができる。輝度向上フィルムは、円偏光もしくは直線偏光の分離機能を有しており、偏光板とバックライトとの間に配置され、一方の円偏光もしくは直線偏光をバックライト側に後方反射もしくは後方散乱する。バックライト部からの再反射光は、部分的に偏光状態を変化させ、輝度向上フィルムおよび偏光板に再入射する際、部分的に透過するため、この過程を繰り返すことにより光利用率が向上し、正面輝度が１．４倍程度に向上する。輝度向上フィルムとしては異方性反射方式および異方性散乱方式が知られており、いずれも本発明における用いられる偏光板と組み合わせることができる。

　また、本発明では国際公開第９７／３２２２３号パンフレット、国際公開第９７／３２２２４号パンフレット、国際公開第９７／３２２２５号パンフレット、国際公開第９７／３２２２６号パンフレットの各明細書および特開平９－２７４１０８号、同１１－１７４２３１号の各公報に記載された正の固有複屈折性ポリマーと負の固有複屈折性ポリマーとをブレンドして一軸延伸した異方性散乱方式の輝度向上フィルムと組み合わせて使用することも好ましい。異方性散乱方式輝度向上フィルムとしては、ＤＲＰＦ－Ｈ（３Ｍ社製）が好ましい。

〔液晶セル〕
　本発明に用いられる液晶セルは、垂直配向モードの液晶セルであり、各種公知のものが使用できる

　垂直配向モードの液晶セルのΔｎ・ｄは２５０ｎｍ≦Δｎ・ｄ≦４００ｎｍであることが好ましい。ここで、Δｎは垂直配向モードの液晶セルに用いられている液晶材料の複屈折を、ｄはセル液晶層の厚みを表す。

　一画素を複数の領域に分割するマルチドメインと呼ばれる構造にすると上下左右の視野角特性が平均化され表示品質が向上するので好ましい。

　以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

〔液晶表示装置の構成〕
　各実施例および各比較例において作製した液晶表示装置の構成は、下記表１に示す第１～第４の態様である。なお、各態様における評価結果は、それぞれ下記表２～表５に示す通りである。

［第１の態様］
＜実施例１－１＞
〔保護膜の作製〕
　下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液（ドープ）を調製した。
（セルロースアセテート溶液（ドープ）の組成）
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・セルロースアセテート　　　　　　　　　　　　　　　　　１００質量部
　（アセチル置換度２．８６、粘度平均重合度３１０）
・トリフェニルホスフェート　　　　　　　　　　　　　　　８．０質量部
・ビフェニルジフェニルホスフェート　　　　　　　　　　　４．０質量部
・チヌビン３２８　チバ・ジャパン製　　　　　　　　　　　１．０質量部
・チヌビン３２６　チバ・ジャパン製　　　　　　　　　　　０．２質量部
・メチレンクロライド　　　　　　　　　　　　　　　　　　３６９質量部
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８０質量部
・１－ブタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

　得られたドープを３０℃に加温し、流延ギーサーを通して直径３ｍのドラムである鏡面ステンレス支持体上に流延した。支持体の表面温度は－５℃に設定した。流延部全体の空間温度は、１５℃に設定した。そして、流延部の終点部から５０ｃｍ手前で、流延して回転してきたセルロースエステルフィルムをドラムから剥ぎ取った後、両端をピンテンターでクリップした。剥ぎ取り直後のセルロースエステルウェブの残留溶媒量は７０％およびセルロースエステルウェブの膜面温度は５℃であった。

　ピンテンターで保持されたセルロースエステルウェブは、乾燥ゾーンに搬送した。初めの乾燥では４５℃の乾燥風を送風した。次に１１０℃で５分、さらに１４０℃で１０分乾燥した。これを保護膜０１とした。

　得られた保護膜０１の厚さは６０μｍであり、透湿度は６００ｇ／ｍ²／２４ｈであった。また、Ｒｅ(５５０)＝１．５ｎｍ、Ｒｔｈ(５５０)＝４０ｎｍであった。屈折率はｎｘ＝１．４８とした。

〔保護膜と偏光子との貼り合わせ〕
＜フィルムのケン化＞
　作製した保護膜０１を３７℃に調温した４．５ｍｏｌ/Ｌの水酸化ナトリウム水溶液（ケン化液）に１分間浸漬した後、水洗し、その後、０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液に３０秒浸漬した後、更に水洗浴に通した。そして、エアナイフによる水切りを３回繰り返し、水を落とした後に７０℃の乾燥ゾーンに１５秒間滞留させて乾燥し、ケン化処理した保護膜０１を作製した。
＜偏光子の作製＞
　特開２００１－１４１９２６号公報の実施例１に従い、２対のニップロール間に周速差を与え、長手方向に延伸し、幅１３３０ｍｍ、厚みは１５μｍの偏光子を調製した。このようにして作製した偏光子を偏光子１とした。
＜貼り合わせ＞
　このようにして得た偏光子１と、上記ケン化処理した保護膜０１とを、ＰＶＡ（（株）クラレ製、ＰＶＡ－１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、偏光軸とフィルムの長手方向とが直交するようにロールツーロールで貼りあわせて片面保護膜付き偏光板０１を作製した。

〔光学異方性層（Ｂ１）の形成〕
　特開２００９－０６３９８３号公報の実施例に記載のフィルム試料Ｎｏ．１１０およびフィルム試料Ｎｏ．１１１の作製方法を参考に、下記に示す組成、延伸方法、延伸温度および延伸倍率を変更し、膜厚４２μｍ、Ｒｅ（５５０）＝７５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝８０ｎｍ、波長分散を示すＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８３の光学異方性層（Ｂ１）を作製した。屈折率はｎｘ＝１．４８とした。
（セルロースアセテートの組成）
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・セルロースアセテート（アセチル置換度２．９４）　　　　１００質量部
・トリフェニルホスフェート　　　　　　　　　　　　　　　４．３質量部
・ビフェニルジフェニルホスフェート　　　　　　　　　　　３．０質量部
・レターデーション発現剤１（下記式）　　　　　　　　　　６．０質量部
・レターデーション発現剤３（下記式）　　　　　　　　　　５．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
（延伸方法）　固定端１軸延伸（ＴＤ方向）
（延伸温度）　１８５℃
（延伸倍率）　２３％

〔光学異方性層（Ｃ１）の形成／視認側偏光板の作製〕
　下記化合物３－１～３－６を混合し、メチルエチルケトンに溶解して光学異方性層Ｃ１用塗布液を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層Ｃ１用塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ディスコティック液晶性化合物３－１　　　　　　　　　９１．０質量部
・化合物３－２　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９．０質量部
・重合開始剤：化合物３－３　　　　　　　　　　　　　　　３．０質量部
・重合開始剤：化合物３－４　　　　　　　　　　　　　　　１．０質量部
・含フッ素界面活性剤：化合物３－５　　　　　　　　　　　０．８質量部
・密着向上剤：化合物３－６　　　　　　　　　　　　　　　０．５質量部
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　４０８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

　塗布液を上記作製した光学異方性層（Ｂ１）に、＃２．０のワイヤーバーを用いて塗布し、乾燥した。７０℃で６０秒加熱して、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。
　その後、ただちに７０℃の温度条件で、２９０ｍＪ/ｃｍ²の紫外線を照射して、ディスコティック液晶性化合物を重合させ、配向状態を固定し、光学異方性層（Ｃ１）を形成した。形成した光学異方性層（Ｃ１）の厚みは１μｍであった。光学異方性層の厚みはレーザー膜厚計にて計測した。
　なお、光学異方性層（Ｃ１）をガラス基板上に実施例と同条件で形成させ、光学異方性層のみのレターデーションを測定したところ、Ｒｅ（５５０）＝０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝４０ｎｍ、波長分散を示すＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．１５であった。屈折率はｎｘ＝１．５８とした。

　光学異方性層（Ｂ１）上に光学異方性層（Ｃ１）を形成させた後、保護膜と同様の方法で、片面保護膜付き偏光板０１の保護膜と反対側に貼り合わせることにより、視認側偏光板を作製した。

〔バックライト側偏光板〕
　視認側偏光板と同様の方法で、バックライト側偏光板を作製した。

〔液晶表示装置の作製〕
　市販の垂直配向モード液晶表示装置（ＵＮ４０ＥＨ６０３０Ｆ、Ｓａｍｓｕｎｇ社製）の表裏の偏光板を剥がして、上記作製した視認側偏光板およびバックライト側偏光板を互いの偏光子の吸収軸が直交するように貼り合わせることにより、実施例１－１の液晶表示装置を作製した。

〔液晶表示装置の評価〕
　作製した液晶表示装置を下記の方法で評価し、その結果を下記表２に記載した。
＜表示性能（光漏れ、色変化）＞
｛光漏れの評価基準｝
　暗室内で液晶表示装置の黒表示時に測定機（ＥＺ－Ｃｏｎｔｒａｓｔ　ＸＬ８８、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて黒輝度を計測した。極角６０°における方位角４５°、１３５°、２２５°、３１５°における輝度の平均値を光漏れＹとして評価した。なお、偏光子の吸収軸は特に断りのない限り、視認側を方位角０°、バックライト側を方位角９０°に配置している。
　Ａ：Ｙ＜０．６（ｃｄ/ｍ^２）
　Ｂ：０．６（ｃｄ/ｍ^２）≦ Ｙ＜０．８（ｃｄ/ｍ^２）
　Ｃ：０．８（ｃｄ/ｍ^２）≦ Ｙ

｛色変化の評価基準｝
　暗室内で液晶表示装置の黒表示時に測定機（ＥＺ－Ｃｏｎｔｒａｓｔ　ＸＬ８８、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて色度を計測した。具体的には極角６０°における方位角０°から３４５°まで１５°刻みで色度ｕ’、ｖ’を算出し、各々ｕ’、ｖ’の最小値（ｕ’ｍｉｎ、ｖ’ｍｉｎ）、最大値（ｕ’ｍａｘ、ｖ’ｍａｘ）を抜き出し、以下の式で色変化Δｕ’ｖ’を評価した。
Δｕ’ｖ’＝√（（ｕ’ｍａｘ - ｕ’ｍｉｎ）^２＋（ｖ’ｍａｘ - ｖ’ｍｉｎ）^２）
　Ａ：Δｕ’ｖ’ ＜　０．１
　Ｂ：０．１ ≦ Δｕ’ｖ’ ＜　０．１４
　Ｃ：０．１４ ≦ Δｕ’ｖ’

＜耐久性（表示ムラ）＞
　作製した液晶表示装置について、４０℃相対湿度９５％で２４時間サーモ後、２５℃相対湿度６０％で液晶表示装置のバックライトを点灯し、点灯から５～１０時間後のパネルについて、その四隅の光漏れを、輝度計測用カメラ「ＰｒｏＭｅｔｒｉｃ」（Ｒａｄｉａｎｔ　Ｉｍａｇｉｎｇ社製）で画面正面から黒表示画面を撮影し、全画面の平均輝度と、４角の光漏れが大きい箇所の輝度差をもとにして、評価した。
｛表示ムラの評価基準｝
　Ａ：パネル４角の光漏れが視認されない。（パネルの光漏れがサーモ投入前と同程度）
　Ｂ：パネル４角のうち、１～２角でわずかな光漏れが視認されるが許容できる。
　Ｃ：パネル４角のうち、３～４角でわずかな光漏れが視認されるが許容できる。
　Ｄ：パネル４角の光漏れが強く、許容できない。
　また２５℃相対湿度６０％で液晶表示装置のバックライトを５時間点灯の変わりに、４０℃ＤＲＹ環境で２時間サーモ後、２５℃相対湿度６０％で液晶表示装置のバックライトを２４時間点灯として同様の評価を実施したが、光漏れ量や表示ムラの評価結果は２５℃相対湿度６０％で２時間放置の場合と同様であった。

＜実施例１－２＞
〔光学異方性層（Ｂ１）の形成〕
　実施例１－１の光学異方性層（Ｂ１）の形成において、延伸温度を１９５℃に変更した以外は、実施例１－１と同様にして、下記表２に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｂ１）を形成した。

〔光学異方性層（Ｃ１）の形成／視認側偏光板の作製〕
　上記光学異方性層（Ｂ１）を用いた以外は、実施例１－１と同様にして、下記表２に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｃ１）を形成し、視認側偏光板を作製した。

〔液晶表示装置の作製、評価〕
　上記で作製した偏光板を用いた以外は、実施例１－１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価を行った。

＜実施例１－３＞
〔光学異方性層（Ｂ１）の形成〕
　特開２００９－０６３９８３号公報の実施例に記載のフィルム試料Ｎｏ．１１０およびフィルム試料Ｎｏ．１１１の作製方法を参考に、下記に示す組成、延伸方法、延伸温度および延伸倍率を変更し、下記表２に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｂ１）を作製した。
（セルロースアセテートの組成）
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・セルロースアセテート（アセチル置換度２．８６）　　　　１００質量部
・トリフェニルホスフェート　　　　　　　　　　　　　　　６．６質量部
・ビフェニルジフェニルホスフェート　　　　　　　　　　　４．７質量部
・レターデーション発現剤１　　　　　　　　　　　　　　　５．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
（延伸方法）　固定端２軸延伸
（延伸温度）　１８０℃
（延伸倍率）　４０％、ＴＤ方向
（延伸緩和）　４５％、ＭＤ方向

〔光学異方性層（Ｃ１）の形成／視認側偏光板の作製〕
　実施例１－１の光学異方性層（Ｃ１）の形成において、メチルエチルケトンを２３７質量部に変更した以外は、実施例１－１と同様にして光学異方性層Ｃ１用塗布液を調製した。
　次いで、上記光学異方性層（Ｂ１）および上記光学異方性層Ｃ１用塗布液を用いた以外は、実施例１－１と同様にして、下記表２に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｃ１）を形成し、視認側偏光板を作製した。

＜実施例１－４＞
〔光学異方性層（Ｂ１）の形成〕
　実施例１－１の光学異方性層（Ｂ１）の形成において、延伸倍率を１０％に変更し、膜厚を７０μｍにした以外は、実施例１－１と同様にして、下記表２に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｂ１）を形成した。

＜実施例１－５＞
〔光学異方性層（Ｂ１）の形成〕
　実施例１－３の光学異方性層（Ｂ１）の形成において、延伸倍率を３５％に変更し、膜厚を８９μｍにした以外は、実施例１－１と同様にして、下記表２に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｂ１）を形成した。

＜実施例１－６＞
〔光学異方性層（Ｂ１）の形成〕
＜合成例１＞
（スピロ[フルオレン－９,８'－トリシクロ［４.３.０.１2,5］[3]デセン]（ｅｎｄo体、下記式（Ａ）参照）の合成）

　滴下ロートを取り付けた１０００ｍｌフラスコにフルオレン１５．５２ｇ（０．０９３４ｍｏｌ）をはかり取り、系内を窒素置換した。これに脱水ＴＨＦ１６５ｍｌを加え、スターラーにてよく攪拌して溶解させた。次にｎ－ブチルリチウムの１．６ｍｏｌ／ｌヘキサン溶液１１７ｍｌを反応系の温度をドライアイスバス中で－７８℃に保ちながら徐々に滴下した。滴下終了後、反応系を－７８℃に保持しつつ、１時間攪拌を継続した。この反応液中に、下記式（Ｂ）で表される２endo，３endo－ビス－（トルエン－４－スルホニルオキシ）－５－ノルボルネン（endo体）２１．６０gを予め脱水ＴＨＦ５００ｍｌに溶解させたものを、反応系の温度を－７８℃に保ちながら徐々に滴下した。滴下終了後、ドライアイスバス中で１時間攪拌を継続し、その後、冷却バスを取りのぞき、反応系が完全に室温に戻るまで攪拌を継続した（約３時間）。これに、食塩水を添加してクエンチした後、反応液を蒸留水で３回洗浄を行い、硫酸ナトリウムを用いて乾燥させた。その後、減圧、加熱して溶媒を除去し、得られた結晶をメタノールを用いて再結晶させ、薄黄色の結晶として、上記式（Ａ）で表されるスピロ［フルオレン－９,８'－トリシクロ［４.３.０.１2,5］[3]デセン］（endo体）５．６８ｇを得た。

＜重合体合成例１＞
　ノルボルネン系単量体（Ｉｍ）として、上記構造式（Ａ）で表されるスピロ［フルオレン－９,８'－トリシクロ［４.３.０.１2,5］[3]デセン］（endo体）１．９０ｇ、下記式（Ｃ）で表される８－メトキシカルボニル－８－メチルテトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］－３－ドデセン５．５ｇ、分子量調節剤の１－ヘキセン０．３９１ｇ、および、トルエン１６．４ｇを、窒素置換した反応容器に仕込み、８０℃に加熱した。これにトリエチルアルミニウム（０．６モル／Ｌ）のトルエン溶液０．１６９ｍｌ、メタノール変性ＷＣｌ6のトルエン溶液（０．０２５モル／Ｌ）０．１３８ｍｌを加え、８０℃で３時間反応させることにより開環共重合体溶液を得た。得られた開環共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は１０．０×１０⁴であり、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は４．８０であった。

　次いで得られた開環共重合体溶液をオートクレーブに入れ、さらにトルエンを８３．８ｇ加えた。水添触媒であるＲｕＨＣｌ(ＣＯ)[Ｐ(Ｃ₆Ｈ₅)]₃をモノマー仕込み量に対して２５００ｐｐｍ添加し、水素ガス圧を９～１０ＭＰａとし、１６０～１６５℃にて３時間の反応を行った。反応終了後、多量のメタノール溶液に沈殿させることにより水素添加物を得た。得られた開環共重合体の水素添加物（樹脂（Ｐ１））は、重量平均分子量（Ｍｗ）＝９．１５×１０⁴、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝３．７６、固有粘度［η］＝０．６３、ガラス転移温度（Ｔｇ）＝１８４．０℃であった。

　また、樹脂（Ｐ１）におけるスピロ[フルオレン－９,８'－トリシクロ［４.３.０.１2,5］[3]デセン]（endo体）に由来する構造単位（Ｉ）の割合が２０．６モル％、８－メチル－８－メトキシカルボニルテトラシクロ〔４.４.０.１2,5.１7,10〕－３－ドデセンに由来する構造単位（II）の割合が７９．４モル％であった。また、樹脂（Ｐ１）を1Ｈ－ＮＭＲにより分析した結果、オレフィン性二重結合に対する水素添加率は９９％以上であり、また、芳香環の残存率は実質的に１００％であった。

＜光学異方性層（Ｂ１）の作製＞
　上記の合成例１で得た樹脂（Ｐ１）を塩化メチレンキャスト法により厚さ１１０μｍ、溶媒残留量０．２％以下の無色透明なキャストフィルムを得た。このフィルムをテンター内で、Ｔｇ＋１０℃である１９４℃に加熱し、延伸速度２２０％／分でＴＤ方向に７０％、ＭＤ方向に３％延伸した後、冷却して取り出し、下記表２に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｂ１）を得た。屈折率はｎｘ＝１．５２として光学特性を測定した。

＜実施例１－７＞
〔保護膜の作製〕
＜延伸ＰＥＴ１００μｍ＞
　以下に示すように、テレフタル酸及びエチレングリコールを直接反応させて水を留去し、エステル化した後、減圧下で重縮合を行なう直接エステル化法を用いて、連続重合装置により原料ポリエステル１（Ｓｂ触媒系ＰＥＴ）を得た。

（１）エステル化反応
　第一エステル化反応槽に、高純度テレフタル酸４．７トンとエチレングリコール１．８トンを９０分かけて混合してスラリー形成させ、３８００ｋｇ／ｈの流量で連続的に第一エステル化反応槽に供給した。更に三酸化アンチモンのエチレングリコール溶液を連続的に供給し、反応槽内温度２５０℃、攪拌下、平均滞留時間約４．３時間で反応を行なった。このとき、三酸化アンチモンはＳｂ添加量が元素換算値で１５０ｐｐｍとなるように連続的に添加した。

　この反応物を第二エステル化反応槽に移送し、攪拌下、反応槽内温度２５０℃で、平均滞留時間で１．２時間反応させた。第二エステル化反応槽には、酢酸マグネシウムのエチレングリコール溶液と、リン酸トリメチルのエチレングリコール溶液を、Ｍｇ添加量およびＰ添加量が元素換算値でそれぞれ６５ｐｐｍ、３５ｐｐｍになるように連続的に供給した。

（２）重縮合反応
　上記で得られたエステル化反応生成物を連続的に第一重縮合反応槽に供給し、攪拌下、反応温度２７０℃、反応槽内圧力２０ｔｏｒｒ（２．６７×１０^-3ＭＰａ）で、平均滞留時間約１．８時間で重縮合させた。

　更に、第二重縮合反応槽に移送し、この反応槽において攪拌下、反応槽内温度２７６℃、反応槽内圧力５ｔｏｒｒ（６．６７×１０^-4ＭＰａ）で滞留時間約１．２時間の条件で反応（重縮合）させた。

　次いで、更に第三重縮合反応槽に移送し、この反応槽では、反応槽内温度２７８℃、反応槽内圧力１．５ｔｏｒｒ（２．０×１０^-4ＭＰａ）で、滞留時間１．５時間の条件で反応（重縮合）させ、反応物（ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ））を得た。

　次に、得られた反応物を、冷水にストランド状に吐出し、直ちにカッティングしてポリエステルのペレット＜断面：長径約４ｍｍ、短径約２ｍｍ、長さ：約３ｍｍ＞を作製した。
　得られたポリマーは、固有粘度ＩＶ＝０．６３であった。このポリマーを原料ポリエステル１とした。
　固有粘度ＩＶは、原料ポリエステル１を、１，１，２，２－テトラクロルエタン／フェノール（＝２／３[質量比]）混合溶媒に溶解し、該混合溶媒中の２５℃での溶液粘度から求めた。

（原料ポリエステル２）
　乾燥させた紫外線吸収剤（２，２’－（１，４－フェニレン）ビス（４Ｈ－３，１－ベンズオキサジノン－４－オン）１０質量部、原料ポリエステル１（ＩＶ＝０．６３）９０質量部を混合し、混練押出機を用い、紫外線吸収剤を含有する原料ポリエステル２を得た。

（製造例）
＜３層共押ＰＥＴ８０μｍ＞
－フィルム成形工程－
　原料ポリエステル１（９０質量部）と、紫外線吸収剤を含有した原料ポリエステル２（１０質量部）を、含水率２０ｐｐｍ以下に乾燥させた後、直径５０ｍｍの１軸混練押出機１のホッパー１に投入し、押出機１で３００℃に溶融した（中間層ＩＩ層）。また原料ポリエステル１を、含水率２０ｐｐｍ以下に乾燥させた後、直径３０ｍｍの１軸混練押出機２のホッパー２に投入し、押出機２で３００℃に溶融した（外層Ｉ層、外層ＩＩＩ層）。
　これらの２種のポリマー溶融物をそれぞれギアポンプ、濾過器（孔径２０μｍ）に介した後、２種３層合流ブロックにて、押出機１から押出されたポリマーが中間層（ＩＩ層）に、押出機２から押出されたポリマーが外層（Ｉ層及びＩＩＩ層）になるように積層し、ダイよりシート状に押し出した。
　溶融樹脂の押出条件は、圧力変動を１％、溶融樹脂の温度分布を２％として、溶融樹脂をダイから押出した。具体的には、背圧を、押出機のバレル内平均圧力に対して１％加圧し、押出機の配管温度を、押出機のバレル内平均温度に対して２％高い温度で加熱した。
　ダイから押出した溶融樹脂は、温度２５℃に設定された冷却キャストドラム上に押出し、静電印加法を用い冷却キャストドラムに密着させた。冷却キャストドラムに対向配置された剥ぎ取りロールを用いて剥離し、未延伸ポリエステルフィルム２を得た。このとき、Ｉ層、ＩＩ層、ＩＩＩ層の厚さの比は１０：８０：１０となるように各押出機の吐出量を調整した。

　得られた未延伸ポリエステルフィルム２を、下記条件で横延伸し、厚さ８０μｍ、面内方向のレターデーションＲｅが８２００ｎｍ、膜厚方向のレターデーションＲｔｈが９４００ｎｍのＰＥＴフィルムを製造した。
｛条件｝
　・横延伸温度：９０℃
　・横延伸倍率：４．３倍

（熱固定部）
　次いで、ポリエステルフィルムの膜面温度を下記範囲に制御しながら、熱固定処理を行った。
　｛条件｝
　・熱固定温度：１８０℃
　・熱固定時間：１５秒

（熱緩和部）
　熱固定後のポリエステルフィルムを下記の温度に加熱し、フィルムを緩和した。
｛条件｝
　・熱緩和温度：１７０℃
　・熱緩和率：ＴＤ方向（フィルム幅方向、横方向）２％

（冷却部）
　次に、熱緩和後のポリエステルフィルムを５０℃の冷却温度にて冷却した。

〔保護膜と偏光子との貼り合わせ〕
　上記の製造例で作製したポリエステルフィルムを保護膜として用い、以下の方法にしたがって偏光子と接着層を介して貼合した。
　なお、作製したポリエステルフィルムの透湿度は１０ｇ／ｍ²／２４ｈであった。また、Ｒｅ(５５０)＝８２００ｎｍ、Ｒｔｈ(５５０)＝９４００ｎｍであった。屈折率はｎｘ＝１．４８とした。

（偏光子側易接着層の形成）
（１）共重合ポリエステル樹脂（Ａ－１）の合成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ジメチルテレフタレート　　　　　　　　　　　　　　１９４．２質量部
・ジメチルイソフタレート　　　　　　　　　　　　　　１８４．５質量部
・ジメチル－５－ナトリウムスルホイソフタレート　　　　１４．８質量部
・ジエチレングリコール　　　　　　　　　　　　　　　２３３．５質量部
・エチレングリコール　　　　　　　　　　　　　　　　１３６．６質量部
・テトラ－ｎ－ブチルチタネート　　　　　　　　　　　　　０．２質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
　上記化合物を仕込み、１６０℃から２２０℃の温度で４時間かけてエステル交換反応を行なった。次いで２５５℃まで昇温し、反応系を徐々に減圧した後、３０Ｐａの減圧下で１時間３０分反応させ、共重合ポリエステル樹脂（Ａ－１）を得た。

（２）ポリエステル水分散体（Ａｗ－１）の作製
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・共重合ポリエステル樹脂（Ａ－１）　　　　　　　　　　　　３０質量部
・エチレングリコールｎ－ブチルエーテル　　　　　　　　　　１５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
　上記化合物を入れ、１１０℃で加熱、攪拌し樹脂を溶解した。樹脂が完全に溶解した後、水５５質量部をポリエステル溶液に攪拌しつつ徐々に添加した。添加後、液を攪拌しつつ室温まで冷却して、固形分３０質量％の乳白色のポリエステル水分散体（Ａｗ－１）を作製した。

（３）ポリビニルアルコール水溶液（Ｂｗ－１）の作製
　水９０質量部を入れ、攪拌しながらケン化度が８８％で重合度５００のポリビニルアルコール樹脂（クラレ製）（Ｂ－１）１０質量部を徐々に添加した。添加後、液を攪拌しながら、９５℃まで加熱し、樹脂を溶解させた。溶解後、攪拌しながら室温まで冷却して、固形分１０質量％のポリビニルアルコール水溶液（Ｂｗ－１）を作製した。

（４）ブロックポリイソシアネート水分散液（Ｃ－１）の作製
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ヘキサメチレンジイソシアネートを原料とした
　イソシアヌレート構造を有するポリイソシアネート化合物
　（旭化成ケミカルズ製、デュラネートＴＰＡ）　　　　　　１００質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート　　　　５５質量部
・ポリエチレングリコールモノメチルエーテル
　（平均分子量７５０）　　　　　　　　　　　　　　　　　　３０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
　上記化合物を仕込み、窒素雰囲気下、７０℃で４時間保持した。その後、反応液温度を５０℃に下げ、メチルエチルケトオキシム４７質量部を滴下した。反応液の赤外スペクトルを測定し、イソシアネート基の吸収が消失したことを確認し、固形分７５質量％のブロックポリイソシアネート水分散液（Ｃ－１）を得た。

　下記の塗剤を混合し、ポリエステル系樹脂（Ａ）／ポリビニルアルコール系樹脂（Ｂ）の質量比が７０／３０になる偏光子側易接着用の塗布液Ｐ１を作製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４０．６１質量％
・イソプロパノール　　　　　　　　　　　　　　　　　３０．００質量％
・ポリエステル水分散体（Ａｗ－１）　　　　　　　　　１１．６７質量％
・ポリビニルアルコール水溶液（Ｂｗ－１）　　　　　　１５．００質量％
・ブロックイソシアネート系架橋剤（Ｃ－１）　　　　　　０．６７質量％
・粒子（平均粒径１００ｎｍのシリカゾル、固形分濃度４０質量％）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．２５質量％
・触媒（有機スズ系化合物　固形分濃度１４質量％）　　　　０．３質量％
・界面活性剤（シリコン系、固形分濃度１０質量％）　　　　０．５質量％
――――――――――――――――――――――――――――――――――

（ポリエステルフィルムへの易接着層の塗布）
　リバースロール法にて、上記ポリエステルフィルム（保護膜）の片側に偏光子側易接着用の塗布液Ｐ１を乾燥後の塗布量が０．１２ｇ／ｍ²になるように調整しながら、塗布した。

　ポリエステルフィルム試料の偏光子側易接着層用の塗布液Ｐ１が塗布された面を偏光子側としロールツーロールで積層し、得られた積層体に対して接着剤を硬化させるためにロール上を搬送しながら、７０℃、相対湿度６０％で加熱し、貼合した。このようにして、片面保護膜付き偏光板０２を作製した。

〔液晶表示装置の作製、評価〕
　上記で作製した片面保護膜付き偏光板０２を用いた以外は、実施例１－１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価を行った。

＜実施例１－８＞
〔保護膜の作製〕
＜熱可塑性樹脂フィルム１＞

［上記一般式（１）中、Ｒ^１は水素原子、Ｒ^２およびＲ^３はメチル基であるラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂｛共重合モノマー質量比＝メタクリル酸メチル／２－（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル＝８／２、ラクトン環化率約１００％、ラクトン環構造の含有割合１９．４％、質量平均分子量１３３０００、メルトフローレート６．５ｇ／１０分（２４０℃、１０ｋｇｆ）、Ｔｇ１３１℃｝９０質量部と、アクリロニトリル－スチレン（ＡＳ）樹脂｛トーヨーＡＳ　ＡＳ２０、東洋スチレン社製｝１０質量部との混合物；Ｔｇ１２７℃］のペレットを二軸押し出し機に供給し、約２８０℃でシート状に溶融押し出しして、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂シートを得た。この未延伸シートを、１６０℃の温度条件下、縦、横に延伸して熱可塑性樹脂フィルム（厚さ：４０μｍ、面内位相差Ｒｅ：０．８ｎｍ、厚み方向位相差Ｒｔｈ：１．５ｎｍ）を得た。

　偏光子の片方の面に、アクリル接着剤を用いて、作製した熱可塑性樹脂フィルムにコロナ処理を施したのち、貼合して片面保護膜付き偏光板０３を作製した。

〔液晶表示装置の作製、評価〕
　上記で作製した片面保護膜付き偏光板０３を用いた以外は、実施例１－１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価を行った。

＜実施例１－９＞
〔保護膜の作製〕
　特開２０１１‐１３８１１９号公報の［０１７３］～［０１７６］に記載の方法で、イミド化樹脂を得た。
　得られたイミド化樹脂（ＩＩＩ）１００重量部と、下記トリアジン化合物Ａ０．１０質量部を単軸押出機を用いてペレットにした。
　上記ペレットを用いて、未延伸フィルムを縦方向、横方向に延伸して、その他条件は実施例１－８と同様の方法で熱可塑性樹脂フィルムを作製した。

　得られたフィルムの厚さは４０μｍであった。Ｒｅ＝１．０ｎｍであり、Ｒｔｈ＝３．０ｎｍであった。

　偏光子の片方の面に、アクリル接着剤を用いて、作製した熱可塑性樹脂フィルムをコロナ処理を施したのち、貼合して片面保護膜付き偏光板０４を作製した。

〔液晶表示装置の作製、評価〕
　上記で作製した片面保護膜付き偏光板０４を用いた以外は実施例１－１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価を行った

＜実施例１－１０＞
〔保護膜の作製〕
（組成物Ｂ－１の組成）
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・Ａ－ＤＣＰ（１００％）：
　トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート
　［新中村化学工業（株）製］　　　　　　　　　　　　　９７．０質量部
・イルガキュア９０７（１００％）：重合開始剤
　［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製］　　　　　３．０質量部
・ＳＰ－１３（レベリング剤）：　　　　　　　　　　　　０．０４質量部
・ＭＥＫ（メチルエチルケトン）：　　　　　　　　　　　８１．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

（基材フィルムの作製）
　下記に記載の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、ドープを調製した。

｛セルロースエステル｝
　アシル基総置換度２．７５、アセチル置換度０．１９、プロピオニル置換度２．５６、重量平均分子量２０００００のセルロースエステルを使用した。
　このセルロースエステルは、以下のように合成した。
　セルロースに触媒として硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）を添加し、アシル置換基の原料となるカルボン酸を添加して４０℃でアシル化反応を行った。この時、カルボン酸の量を調整することでアセチル基及びプロピオニル基の置換度を調整した。またアシル化後に４０℃で熟成を行った。更にこのセルロースエステルの低分子量成分をアセトンで洗浄し除去した。

（ドープの組成）
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・セルロースエステル　　　　　　　　　　　　　　　　　３０．０質量部
・アクリル樹脂　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７０．０質量部
　（ダイヤナールＢＲ８５　三菱レイヨン（株）製）
・チヌビン３２８　チバ・ジャパン製　　　　　　　　　　　１．０質量部
・メチレンクロライド　　　　　　　　　　　　　　　　　　３２０質量部
・エタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

　バンド流延装置を用い、上記調製したドープをステンレス製のエンドレスバンド（流延支持体）に流延ダイから均一に流延した。ドープ中の残留溶媒量が４０質量％になった時点で流延支持体から高分子膜として剥離し、テンターにて積極的に延伸をせずに搬送し、乾燥ゾーンで１３０℃で乾燥を行った。
　得られたフィルムの厚さは４０μｍであった。また、得られた基材フィルムのＲｅおよびＲｔｈの値を方法で測定したところ、Ｒｅ＝１．０ｎｍであり、Ｒｔｈ＝５．０ｎｍであった。このフィルムを基材フィルムとした。

　上記基材フィルムに上記組成物Ｂ－１を使用し、特開２００６－１２２８８９号公報実施例１に記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥させた。その後、更に窒素パージ下酸素濃度約０．１％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量６０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、巻き取った。塗布層の膜厚は１２μｍになるよう塗布量を調整した。得られた光学フィルムを保護膜Ａとした。

＜偏光板の作製＞
　偏光子の片方の面に、アクリル接着剤を用いて、作製した保護膜Ａをコロナ処理を施したのち、貼合して片面保護膜付き偏光板０５を作製した。

〔液晶表示装置の作製、評価〕
　上記で作製した片面保護膜付き偏光板０５を用いた以外は、実施例１－１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価を行った

＜比較例１＞

　（ドープ調製）
下記に記載の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、ドープを調製した。

［光学異方性層］
（ドープ組成）
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・セルロースエステル（アセチル置換度２．８１）　　　　　１００質量部
・トリフェニルホスフェート　　　　　　　　　　　　　　　６．８質量部
・ビフェニルジフェニルホスフェート　　　　　　　　　　　４．９質量部
・レターデーション発現剤Ｒ－１　　　　　　　　　　　　　４．０質量部
・平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子
　（ａｅｒｏｓｉｌＲ９７２日本アエロジル（株）製）　０．１５質量部
・ジクロロメタン　　　　　　　　　　　　　　　　　　４２９．７質量部
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６４．２質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

（レターデーション発現剤）
　下記に記載のレターデーション発現剤を使用した。これらのレターデーション発現剤は公知の合成方法により入手可能である。

　ドープの固形分濃度（セルロースエステル、アクリル樹脂、レターデーション発現剤の合計濃度）は１９質量％であった。

　バンド流延装置を用い、前記調製したドープを２０００ｍｍ幅でステンレス製のエンドレスバンド（流延支持体）に流延ダイから均一に流延した。ドープ中の残留溶媒量が４０質量％になった時点で流延支持体から高分子膜として剥離し、テンターにて積極的に延伸をせずに搬送し、乾燥ゾーンで１３０℃で乾燥を行った後、得られた未延伸フィルムの膜厚は７０μｍ、ガラス転移温度Ｔｇは１４２℃であった。
　また、上記と同様の方法で流延を行い、支持体から剥離した高分子膜の両端をクリップを有したテンターで固定して、幅方向（ＴＤ方向）に延伸し、搬送ながら乾燥ゾーンで１３０℃で乾燥し、耳部をスリットして幅１５００ｍｍのフィルムを得た。テンターで延伸を始めたときの高分子膜中の残留溶剤量は１０質量％であった。ここで、搬送方向（ＭＤ方向）については、ステンレスバンドと支持体の回転速度とテンターの運動速度から算出すると、搬送により若干延伸された。延伸時の温度は１４０℃、ＭＤ方向の延伸倍率を１．０２、ＴＤ方向の延伸倍率を１．３０になるようにした。
　作製した光学異方性層の厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を下記表２に示す。

〔視認側偏光板の作製〕
　上記光学異方性層（Ｂ１）を用い、光学異方性層（Ｃ１）を形成しなかった以外は、実施例１－１と同様にして、視認側偏光板を作製した。

＜比較例２＞

〔光学異方性層（Ｂ１）の形成〕
　実施例１－１の光学異方性層（Ｂ１）の形成において、延伸温度を１９５℃に変更し、延伸倍率を１０％に変更した以外は、実施例１－１と同様にして、下記表２に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層を形成した。

＜比較例３＞
〔光学異方性層（Ｂ１）の形成〕
　実施例１－３の光学異方性層Ｂ１の形成において、延伸倍率を３５％に変更した以外は、実施例１－１と同様にして、下記表２に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層を形成した。

〔光学異方性層（Ｃ１）の形成／視認側偏光板の作製〕
　上記光学異方性層（Ｂ１）を用いた以外は、実施例１－３と同様にして、下記表２に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｃ１）を形成し、視認側偏光板を作製した。

〔液晶表示装置の作製、評価〕
　上記で作製した偏光板を用いた以外は、実施例１－３と同様にして液晶表示装置を作製し、評価を行った。

［第２の態様］
＜実施例２－１＞
　実施例１－１と同様の方法により、片面保護膜付き偏光板０１を作製した。

〔光学異方性層（Ｃ１）の形成〕
　次いで、実施例１－１で調製した光学異方性層（Ｃ１）の塗布液においてメチルエチルケトンを１５２質量部に変更し、上記作製した片面保護膜付き偏光板０１の偏光子側の面に、＃２．０のワイヤーバーを用いて塗布し、乾燥した。７０℃で６０秒加熱して、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。
　その後、ただちに７０℃の温度条件で、２９０ｍＪ/ｃｍ²の紫外線を照射して、ディスコティック液晶性化合物を重合させ、配向状態を固定し、光学異方性層（Ｃ１）を形成した。形成した光学異方性層（Ｃ１）の厚みは１μｍであった。光学異方性層の厚みはレーザー膜厚計にて計測した。
　なお、光学異方性層（Ｃ１）をガラス基板上に実施例と同条件で形成させ、光学異方性層のみのレターデーションを測定したところ、Ｒｅ（５５０）＝０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝８０ｎｍ、波長分散を示すＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．１５であった。屈折率はｎｘ＝１．５８とした。

〔光学異方性層（Ｂ１）の形成〕
　実施例１－１の光学異方性層Ｂ１の形成において、延伸温度を１９５℃に変更し、膜厚を２６μｍにした以外は、実施例１－１と同様にして、下記表３に示す光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層を形成した。

〔視認側偏光板の作製〕
　上記光学異方性層（Ｂ１）と、上記光学異方性層（Ｃ１）を形成した片面保護膜付き偏光板０１の光学異方性層（Ｃ１）側とを、ＰＶＡ（（株）クラレ製、ＰＶＡ－１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として用いて貼りあわせて視認側偏光板を作製した。

〔液晶表示装置の作製および評価〕
　実施例１－１と同様の方法により、実施例２－１の液晶表示装置を作製した。
　作製した液晶表示装置について、実施例１－１と同様の方法により評価した。その結果を表３に記載した。

＜実施例２－２＞
〔光学異方性層（Ｃ１）の形成〕
　実施例２－１の光学異方性層（Ｃ１）の作製において、メチルエチルケトンを２３７質量部に変更した以外は、実施例２－１と同様にして、下記表３に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｃ１）を形成した。

〔光学異方性層（Ｂ１）の形成〕
　実施例１－１の光学異方性層（Ｂ１）の形成において、延伸倍率を１０％に変更した以外は、実施例１－１と同様にして、下記表３に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｂ１）を形成した。

〔視認側およびバックライト側の偏光板の作製〕
　上記光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ｂ１）を用いた以外は、実施例２－１と同様の方法で、視認側およびバックライト側の偏光板を作製した。

＜実施例２－３＞
〔光学異方性層（Ｃ１）の形成〕
　実施例２－２と同様にして、下記表３に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｃ１）を形成した。

〔光学異方性層（Ｂ１）の形成〕
　実施例１－１の光学異方性層（Ｂ１）の形成において、延伸温度を１７５％に変更した以外は、実施例１－１と同様にして、下記表３に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｂ１）を形成した。

＜実施例２－４＞
〔光学異方性層（Ｃ１）の形成〕
　実施例２－２と同様にして、下記表３に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｃ１）を形成した。

〔光学異方性層（Ｂ１）の形成〕
　実施例１－１の光学異方性層Ｂ１の形成において、延伸温度を１９５℃に変更し、延伸倍率を１０％に変更した以外は、実施例１－１と同様にして、下記表３に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｂ１）を形成した。

＜実施例２－５＞
〔光学異方性層（Ｃ１）の形成／視認側偏光板の作製〕
　実施例２－２と同様にして、下記表３に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｃ１）を形成した。

〔光学異方性層（Ｂ１）の形成〕
　実施例１－１の光学異方性層（Ｂ１）の形成において、延伸温度を１７５℃に変更した以外は、実施例１－１と同様にして、下記表３に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｂ１）を形成した。

＜実施例２－６＞
〔光学異方性層（Ｃ１）の形成／視認側偏光板の作製〕
　実施例２－２と同様にして、下記表３に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｃ１）を形成した。

〔光学異方性層（Ｂ１）の形成〕
　上記の合成例１で得た樹脂（Ｐ１）を塩化メチレンキャスト法により厚さ７０μｍ、溶媒残留量０．２％以下の無色透明なキャストフィルムを得た。このフィルムをテンター内で、Ｔｇ＋１０℃である１９４℃に加熱し、延伸速度２２０％／分でＴＤ方向に６５％、ＭＤ方向に３％延伸した後、冷却して取り出し、下記表３に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｂ１）を得た。屈折率はｎｘ＝１．５２として光学特性を測定した。

＜実施例２－７＞
　実施例１－７で作製した片面保護膜付き偏光板０２を用いた以外は、実施例２－１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価を行った。

＜実施例２－８＞
　実施例１－８で作製した片面保護膜付き偏光板０３を用いた以外は、実施例２－１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価を行った。

＜実施例２－９＞
　実施例１－９で作製した片面保護膜付き偏光板０４を用いた以外は、実施例２－１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価を行った。

＜実施例２－１０＞
　実施例１－１０で作製した片面保護膜付き偏光板０５を用いた以外は、実施例２－１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価を行った。

＜比較例４＞
〔光学異方性層（Ｃ１）の形成〕
　実施例２－２と同様にして、下記表３に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｃ１）を形成した。

〔光学異方性層（Ｂ１）の形成〕
　実施例１－１の光学異方性層（Ｂ１）の形成において、延伸温度を１９５℃に変更し、延伸倍率を５％に変更した以外は、下記表３に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する実施例１－１と同様にして、光学異方性層（Ｂ１）を形成した。

＜比較例５＞

〔光学異方性層（Ｃ１）の形成〕
　実施例２－２と同様にして、下記表３に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｃ１）を形成した。

〔光学異方性層（Ｂ１）の形成〕
実施例１－１の光学異方性層Ｂ１の形成において、延伸温度を１７５℃に変更した以外は、実施例１－１と同様にして、下記表３に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｂ１）を形成した。

［第３の態様］
＜実施例３－１＞
　実施例１－１と同様の方法により、片面保護膜付き偏光板０１を作製した。

〔光学異方性層（Ａ１）の形成〕
　片面保護膜付き偏光板０１の偏光子側の面に、偏光子の吸収軸と直交方向にラビング処理を施した。ラビング処理面上に下記光学異方性層用塗布液Ａを、バー番手＃２．４のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度６０℃で３０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度６０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより光学異方性層（Ａ１）を形成した。形成された光学異方性層（Ａ１）は、棒状液晶が水平配向しており、遅相軸方向はラビング方向に平行、すなわち、遅相軸方向が偏光子の吸収軸方向に対して直交していた。このとき、光学異方性層の厚みは１μｍであった。
　なお、光学異方性層（Ａ１）をガラス基板上に実施例と同条件で形成させ、光学異方性層のみのレターデーションを測定したところ、Ｒｅ（５５０）＝９０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝４５ｎｍ、波長分散を示すＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．９０であった。屈折率はｎｘ＝１．５３とした。

（光学異方性層用塗布液Ａの組成）
──────────────────────────────────
・国際公開公報第２０１３／０１８５２６号の
　製造例１で合成された化合物１　　　　　　　　　　　　　１００質量部
・光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ（株）製）　　　３質量部
・界面活性剤（ＫＨ－４０、ＡＧＣセイミケミカル社製）　　０．１質量部
・シクロペンタノン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３９２質量部
──────────────────────────────────

〔光学異方性層（Ｃ１）の形成／視認側偏光板の作製〕
　次いで、実施例１－１で調製した光学異方性層（Ｃ１）の塗布液においてメチルエチルケトンを２１１質量部に変更し、上記作製した光学異方性層（Ａ１）を積層した片面保護膜付き偏光板０１の光学異方性層（Ａ１）側の面に、＃２．０のワイヤーバーを用いて塗布し、乾燥した。７０℃で６０秒加熱して、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。
　その後、ただちに７０℃の温度条件で、２９０ｍＪ/ｃｍ²の紫外線を照射して、ディスコティック液晶性化合物を重合させ、配向状態を固定し、光学異方性層（Ｃ１）を形成することにより、視認側偏光板を作製した。形成した光学異方性層（Ｃ１）の厚みは１μｍであった。光学異方性層の厚みはレーザー膜厚計にて計測した。
　なお、光学異方性層（Ｃ１）をガラス基板上に実施例と同条件で形成させ、光学異方性層のみのレターデーションを測定したところ、Ｒｅ（５５０）＝０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝６５ｎｍ、波長分散を示すＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．１５であった。屈折率はｎｘ＝１．５８とした。

〔液晶表示装置の作製および評価〕
　実施例１－１と同様の方法により、実施例３－１の液晶表示装置を作製した。
　作製した液晶表示装置について、実施例１－１と同様の方法により評価した。その結果を表４に記載した。

＜実施例３－２＞
〔光学異方性層（Ａ１）の形成〕
　実施例３－１の光学異方性層（Ａ１）の作製において、メチルエチルケトンを４５４質量部に変更した以外は、実施例３－１と同様にして、下記表４に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ａ１）を形成した。

〔光学異方性層（Ｃ１）の形成〕
　実施例３－１の光学異方性層（Ｃ１）の作製において、メチルエチルケトンを１６９質量部に変更した以外は、実施例３－１と同様にして下記表４に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｃ１）を作製した。

〔視認側およびバックライト側の偏光板の作製〕
　上記光学異方性層（Ａ１）および光学異方性層（Ｃ１）を用いた以外は、実施例３－１と同様の方法で、視認側およびバックライト側の偏光板を作製した。

＜実施例３－３＞

〔光学異方性層（Ａ１）の形成〕
　実施例３－１の光学異方性層（Ａ１）の作製において、メチルエチルケトンを３４３質量部に変更した以外は、実施例３－１と同様にして、下記表４に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ａ１）を形成した。

〔光学異方性層（Ｃ１）の形成〕
　実施例３－１の光学異方性層（Ｃ１）の作製において、メチルエチルケトンを２６８質量部に変更した以外は、実施例３－１と同様にして、下記表４に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｃ１）を作製した。

＜実施例３－４＞
〔光学異方性層（Ａ１）の形成〕
　実施例３－１の光学異方性層（Ａ１）の作製において、メチルエチルケトンを５３４質量部に変更した以外は、実施例３－１と同様にして、下記表４に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ａ１）を形成した。

〔光学異方性層（Ｃ１）の形成〕
実施例３－１の光学異方性層Ｃ１、Ｃ２の作製において、メチルエチルケトンを１３６質量部に変更した以外は、実施例３－１と同様にして、下記表４に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｃ１）を作製した。

＜実施例３－５＞
〔光学異方性層（Ａ１）の形成〕
　実施例３－１の光学異方性層（Ａ１）の作製において、メチルエチルケトンを３０２質量部に変更した以外は、実施例３－１と同様にして、下記表４に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ａ１）を形成した。

〔光学異方性層（Ｃ１）の形成〕
　実施例３－１の光学異方性層（Ｃ１）の作製において、メチルエチルケトンを３１５質量部に変更した以外は、実施例３－１と同様にして、下記表４に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｃ１）を作製した。

＜実施例３－６＞
〔光学異方性層（Ａ１）の形成〕
　実施例３－１と同様にして、下記表４に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ａ１）を形成した。

〔光学異方性層（Ｃ１）の形成〕
　ゼオノア１４３０Ｒ（ノルボルネン系開環重合体水素化物、日本ゼオン社製、Ｔｇ１３８℃）のペレットを単軸押出機（三菱重工社製：シリンダー内径が９０ｍｍ、スクリューのＬ／Ｄが２５）で温度２４０℃で溶融し、厚さ２５μｍの透明樹脂を得た。次いでゾーン加熱の縦一軸（ＭＤ）延伸装置とテンター延伸（横一軸（ＴＤ）延伸）装置に順次送り込んで逐次二軸延伸を行い、下記表４に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｃ１）を得た。延伸温度は縦延伸、横延伸のいずれも１４０℃、延伸倍率はＭＤ方向に３０％、ＴＤ方向に３０％とした。屈折率はｎｘ＝１．５２として光学特性を測定した。

＜実施例３－７＞
　実施例１－７で作製した片面保護膜付き偏光板０２を用いた以外は、実施例３－１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価を行った。

＜実施例３－８＞
　実施例１－８で作製した片面保護膜付き偏光板０３を用いた以外は、実施例３－１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価を行った。

＜実施例３－９＞
　実施例１－９で作製した片面保護膜付き偏光板０４を用いた以外は、実施例３－１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価を行った。

＜実施例３－１０＞
実施例１－１０で作製した片面保護膜付き偏光板０５を用いた以外は、実施例３－１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価を行った。

＜比較例６＞
〔光学異方性層（Ａ１）の形成〕
　実施例３－１の光学異方性層（Ａ１）の作製において、＃２．０のワイヤーバーに変更した以外は、実施例３－１と同様にして、下記表４に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ａ１）を形成した。

〔光学異方性層（Ｃ１）の形成〕
　実施例３－１の光学異方性層（Ｃ１）の作製において、メチルエチルケトンを３０６質量部に変更し、＃４．４のワイヤーバーに変更した以外は、下記表４に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する実施例３－１と同様にして光学異方性層（Ｃ１）を作製した。

＜比較例７＞
〔光学異方性層（Ａ１）の形成〕
　実施例３－１の光学異方性層（Ａ１）の作製において、メチルエチルケトンを２２７質量部に変更した以外は、実施例３－１と同様にして、下記表４に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ａ１）を形成した。

〔光学異方性層（Ｃ１）の形成〕
　実施例３－１の光学異方性層（Ｃ１）の作製において、メチルエチルケトンを７１６質量部に変更し、＃１．２のワイヤーバーに変更した以外は、下記表４に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する実施例３－１と同様にして光学異方性層を作製した。

［第４の態様］
＜実施例４－１＞
　実施例１－１と同様の方法により、片面保護膜付き偏光板０１を作製した。

〔光学異方性層（Ｃ１）の形成〕
　下記化合物を混合、溶解して位相差層用塗布液Ｃを調製した。

──────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液Ｃの組成
──────────────────────────────────
・ディスコティック液晶性化合物１　　　　　　　　　　　　　７２質量部
・ディスコティック液晶性化合物２　　　　　　　　　　　　　１８質量部
・重合性化合物　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０質量部
・光重合開始剤２　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３．０質量部
　（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦ（株）製）
・含フッ素化合物Ｃ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．８質量部
・密着改良剤２　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．５質量部
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　１４０質量部
──────────────────────────────────

ディスコティック液晶性化合物１

ディスコティック液晶性化合物２

重合性化合物

含フッ素化合物Ｃ

密着改良剤２

　次いで、上記で調製した光学異方性層（Ｃ１）の塗布液Ｃを上記作製した片面保護膜付き偏光板０１の偏光子側の面に、＃２．０のワイヤーバーを用いて塗布し、乾燥した。７０℃で９０秒加熱して、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。
　その後、ただちに７０℃の温度条件で、２９０ｍＪ/ｃｍ²の紫外線を照射して、ディスコティック液晶性化合物を重合させ、配向状態を固定し、光学異方性層（Ｃ１）を形成した。形成した光学異方性層（Ｃ１）の厚みは１μｍであった。光学異方性層の厚みはレーザー膜厚計にて計測した。
　なお、光学異方性層（Ｃ１）をガラス基板上に実施例と同条件で形成させ、光学異方性層のみのレターデーションを測定したところ、Ｒｅ（５５０）＝０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝１２５ｎｍ、波長分散を示すＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０９であった。屈折率はｎｘ＝１．５８とした。

〔光学異方性層（Ａ１）の形成〕
　次いで、光学異方性層（Ｃ１）の表面に、偏光子の吸収軸と直交方向にラビング処理を施した。ラビング処理面上に実施例３－１で調製した光学異方性層用塗布液Ａのメチルエチルケトンを６４０質量部に変更し、バー番手＃２．０のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度１１０℃で３０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度６０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより光学異方性層（Ａ１）を形成することにより、視認側偏光板を作製した。
　形成された光学異方性層（Ａ１）は、棒状液晶が水平配向しており、遅相軸方向はラビング方向に平行、すなわち、遅相軸方向が偏光子の吸収軸方向に対して直交していた。このとき、光学異方性層の厚みは１μｍであった。
　なお、光学異方性層（Ａ１）をガラス基板上に実施例と同条件で形成させ、光学異方性層のみのレターデーションを測定したところ、Ｒｅ（５５０）＝３０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝１５ｎｍ、波長分散を示すＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．９０であった。屈折率はｎｘ＝１．４８とした。

〔液晶表示装置の作製および評価〕
　実施例１－１と同様の方法により、実施例４－１の液晶表示装置を作製した。
　作製した液晶表示装置について、実施例１－１と同様の方法により評価した。その結果を表５に記載した。

＜実施例４－２＞
〔光学異方性層（Ｃ１）の形成〕
　実施例４－１の光学異方性層（Ｃ１）の作製において、メチルエチルケトンを１２２質量部に変更した以外は実施例４－１と同様にして、下記表５に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｃ１）を形成した。

〔光学異方性層（Ａ１）の形成〕
　実施例４－１の光学異方性層（Ａ１）の作製において、メチルエチルケトンを５６６質量部に変更し、＃１．２のワイヤーバーに変更した以外は、実施例４－１と同様にして、下記表５に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ａ１）を作製した。

〔視認側およびバックライト側の偏光板の作製〕
　上記光学異方性層（Ｃ１）および光学異方性層（Ａ１）を用いた以外は、実施例４－１と同様の方法で、視認側およびバックライト側の偏光板を作製した。

＜実施例４－３＞
〔光学異方性層（Ｃ１）の形成〕
　実施例４－１の光学異方性層（Ｃ１）の作製において、メチルエチルケトンを１６２質量部に変更した以外は、実施例４－１と同様にして、下記表５に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｃ１）を形成した。

〔光学異方性層（Ａ１）の形成〕
　実施例４－１の光学異方性層（Ａ１）の作製において、メチルエチルケトンを４５４質量部に変更し、＃２．０のワイヤーバーに変更した以外は実施例４－１と同様にして、下記表５に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ａ１）を作製した。

＜実施例４－４＞
〔光学異方性層（Ｃ１）の形成〕
　実施例４－１の光学異方性層（Ｃ１）の作製において、メチルエチルケトンを２１８質量部に変更した以外は実施例４－１と同様にして、下記表５に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｃ１）を形成した。

〔光学異方性層（Ａ１）の形成〕
　実施例４－１の光学異方性層（Ａ１）の作製において、メチルエチルケトンを３４３質量部に変更し、＃２．０のワイヤーバーに変更した以外は、実施例４－１と同様にして、下記表５に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ａ１）を作製した。

＜実施例４－５＞
〔光学異方性層（Ｃ１）の形成〕
　ゼオノア１４３０Ｒ（ノルボルネン系開環重合体水素化物、日本ゼオン社製、Ｔｇ１３８℃）のペレットを単軸押出機（三菱重工社製：シリンダー内径が９０ｍｍ、スクリューのＬ／Ｄが２５）で温度２４０℃で溶融し、厚さ４５μｍの透明樹脂を得た。次いでゾーン加熱の縦一軸（ＭＤ）延伸装置とテンター延伸（横一軸（ＴＤ）延伸）装置に順次送り込んで逐次二軸延伸を行い、下記表５に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｃ１）を得た。延伸温度は縦延伸、横延伸のいずれも１４０℃、延伸倍率はＭＤ方向に３０％、ＴＤ方向に３０％とした。屈折率はｎｘ＝１．５２として光学特性を測定した。

〔光学異方性層（Ａ１）の形成〕
　実施例４－１と同様にして、下記表５に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層を作製した。

＜実施例４－６＞
　実施例１－７で作製した片面保護膜付き偏光板０２を用いた以外は、実施例４－１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価を行った。

＜実施例４－７＞
　実施例１－８で作製した片面保護膜付き偏光板０３を用いた以外は、実施例４－１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価を行った。

＜実施例４－８＞
　実施例１－９で作製した片面保護膜付き偏光板０４を用いた以外は、実施例４－１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価を行った。

＜実施例４－９＞
　実施例１－１０で作製した片面保護膜付き偏光板０５を用いた以外は、実施例４－１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価を行った。

＜比較例６＞
〔光学異方性層（Ｃ１）の形成〕
　実施例４－１の光学異方性層（Ｃ１）の作製において、メチルエチルケトンを８８質量部に変更した以外は、実施例４－１と同様にして、下記表５に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｃ１）を形成した。

〔光学異方性層（Ａ１）の形成〕
　実施例４－１の光学異方性層（Ａ１）の作製において、メチルエチルケトンを１５６９質量部に変更し、＃１．２のワイヤーバーに変更した以外は実施例４－１と同様にして、下記表５に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ａ１）を作製した。

＜比較例７＞
〔光学異方性層（Ｃ１）の形成〕
　実施例４－１の光学異方性層（Ｃ１）の作製において、メチルエチルケトンを３３３質量部に変更した以外は実施例４－１と同様にして下記表５に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ｃ１）を形成した。

〔光学異方性層（Ａ１）の形成〕
　実施例４－１の光学異方性層（Ａ１）の作製において、メチルエチルケトンを４９１質量部に変更し、＃４．０のワイヤーバーに変更した以外は実施例４－１と同様にして下記表５に示す厚みおよび光学特性（Ｒｅ、Ｒｔｈおよび波長分散）を有する光学異方性層（Ａ１）を作製した。

　表２～表５に示す結果から、垂直配向モード液晶セルを所定の関係式を満たす光学特性を有する２枚（視認側およびバックライト側で各１枚）の光学異方性層で光学補償し、かつ、視認側偏光子およびバックライト側偏光子のそれぞれを所定の関係式を満たす光学性を有する光学異方性層で光学補償することにより、液晶表示装置を薄型化した場合であっても表示性能に優れ、温湿度環境変化に対する耐久性に優れることが分かった（実施例１－１～実施例１－１０、実施例２－１～実施例２－１０、実施例３－１～実施例３－１０、実施例４－１～実施例４－９）。
　特に、保護膜の透湿度が１００ｇ／ｍ²／２４ｈ以下であると、表示ムラがより低減し、耐久性が更に向上していることが分かった（実施例１－７～実施例１－１０、実施例２－７～実施例２－１０、実施例３－７～実施例３－１０、実施例４－６～実施例４－９）。

　１　偏光子（Ｐ１）
　２　光学異方性層（Ｂ１）
　３　光学異方性層（Ｃ１）
　４，１４　保護膜
　５，１５　ラミネートフィルム
　６　光学異方性層（Ａ１）
　１０　視認側偏光板
　１１　偏光子（Ｐ２）
　１２　光学異方性層（Ｂ２）
　１３　光学異方性層（Ｃ２）
　１６　光学異方性層（Ａ２）
　２０　垂直配向モード液晶セル
　３０　バックライト側偏光板
　４０　液晶表示装置

Claims

　視認側からバックライト側の方向に、第１の偏光子（Ｐ１）、第１の光学異方性層（Ｂ１）、第１の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ｃ１）、垂直配向モード液晶セル、第２の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ｃ２）、第２の光学異方性層（Ｂ２）、および、第２の偏光子（Ｐ２）をこの順に有し、
　前記偏光子（Ｐ１）および前記偏光子（Ｐ２）が、それぞれの吸収軸を互いに直交にして配置され、
　前記光学異方性層（Ｃ１）および前記光学異方性層（Ｃ２）の厚みが、いずれも１０μｍ以下であり、
　前記光学異方性層（Ｃ１）および前記光学異方性層（Ｃ２）が、いずれも下記式（１－１）および（１－２）を満たし、
　　Ｒｅ（５５０）≦３０ｎｍ　　　　　　　　　　　　式（１－１）
　　１０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１００ｎｍ　　　　　式（１－２）
　前記光学異方性層（Ｂ１）および前記光学異方性層（Ｂ２）が、いずれも下記式（１－３）、（１－４）、（１－５）、（１－６）および（１－７）を満たす、液晶表示装置。
　　２０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１６０ｎｍ　　　　　式（１－３）
　　２０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１６０ｎｍ　　　　式（１－４）
　　Ｒｔｈ（５５０）≧（－９）×Ｒｅ（５５０）＋４００ｎｍ　　　　式（１－５）
　　Ｒｔｈ（５５０）≦（－９／５）×Ｒｅ（５５０）＋３１０ｎｍ　　式（１－６）
　　Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０５　　　　　　　　　　　式（１－７）
　ただし、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍにおける厚み方向のレターデーションを表す。
　視認側からバックライト側の方向に、第１の偏光子（Ｐ１）、第１の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ｃ１）、第１の光学異方性層（Ｂ１）、垂直配向モード液晶セル、第２の光学異方性層（Ｂ２）、第２の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ｃ２）、および、第２の偏光子（Ｐ２）をこの順に有し、
　前記偏光子（Ｐ１）および前記偏光子（Ｐ２）が、それぞれの吸収軸を互いに直交にして配置され、
　前記光学異方性層（Ｃ１）および前記光学異方性層（Ｃ２）の厚みが、いずれも１０μｍ以下であり、
　前記光学異方性層（Ｃ１）および前記光学異方性層（Ｃ２）が、いずれも下記式（２－１）および（２－２）を満たし、
　　Ｒｅ（５５０）≦３０ｎｍ　　　　　　　　　　　式（２－１）
　　３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１２０ｎｍ　　　　式（２－２）
　前記光学異方性層（Ｂ１）および前記光学異方性層（Ｂ２）が、いずれも下記式（２－３）、（２－４）および（２－５）を満たす、液晶表示装置。
　　１５ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦７０ｎｍ　　　　　　式（２－３）
　　２０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１２０ｎｍ　　　　式（２－４）
　　Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．１　　　　式（２－５）
　ただし、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍにおける厚み方向のレターデーションを表す。
　視認側からバックライト側の方向に、第１の偏光子（Ｐ１）、第１の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ａ１）、第１の光学異方性層（Ｃ１）、垂直配向モード液晶セル、第２の光学異方性層（Ｃ２）、第２の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ａ２）、および、第２の偏光子（Ｐ２）をこの順に有し、
　前記偏光子（Ｐ１）および前記偏光子（Ｐ２）が、それぞれの吸収軸を互いに直交にして配置され、
　前記光学異方性層（Ａ１）および前記光学異方性層（Ａ２）の厚みが、いずれも１０μｍ以下であり、
　前記光学異方性層（Ａ１）および前記光学異方性層（Ａ２）が、いずれも下記式（３－１）、（３－２）および（３－３）を満たし、
　　５０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１３０　　　　　　　式（３－１）
　　２０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦７０　　　　　　　式（３－２）
　　Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０５　　　式（３－３）
　前記光学異方性層（Ｃ１）および前記光学異方性層（Ｃ２）が、いずれも下記式（３－４）および（３－５）を満たす、液晶表示装置。
　　Ｒｅ（５５０）≦３０ｎｍ　　　　　　　　　式（３－４）
　　２０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１２０　　　　式（３－５）
　ただし、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍにおける厚み方向のレターデーションを表す。
　視認側からバックライト側の方向に、第１の偏光子（Ｐ１）、第１の光学異方性層（Ｃ１）、第１の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ａ１）、垂直配向モード液晶セル、第２の液晶性化合物を有する光学異方性層（Ａ２）、第２の光学異方性層（Ｃ２）、および、第２の偏光子（Ｐ２）をこの順に有し、
　前記偏光子（Ｐ１）および前記偏光子（Ｐ２）が、それぞれの吸収軸を互いに直交にして配置され、
　前記光学異方性層（Ａ１）および前記光学異方性層（Ａ２）の厚みが、いずれも１０μｍ以下であり、
　前記光学異方性層（Ａ１）および前記光学異方性層（Ａ２）が、いずれも下記式（４－１）、（４－２）および（４－３）を満たし、
　　１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦７０ｎｍ　　　　　　式（４－１）
　　０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦４０ｎｍ　　　　　　式（４－２）
　　Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０５　　　式（４－３）
　前記光学異方性層（Ｃ１）および前記光学異方性層（Ｃ２）が、いずれも下記式（４－４）および（４－５）を満たす、液晶表示装置。
　　Ｒｅ（５５０）≦３０ｎｍ　　　　　　　　　　　式（４－４）
　　７０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１８０ｎｍ　　　　式（４－５）
　ただし、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍにおける厚み方向のレターデーションを表す。
　前記光学異方性層（Ｃ１）および前記光学異方性層（Ｃ２）が含有する前記液晶性化合物が、いずれもディスコティック液晶性化合物であり、
　前記光学異方性層（Ｃ１）および前記光学異方性層（Ｃ２）が、いずれも下記式（５）を満たす、請求項１または２に記載の液晶表示装置。
　　０．９＜Ｒｅ４０（４５０）／Ｒｅ４０(５５０)≦１．２　　　式（５）
　ただし、Ｒｅ４０（λ）は、波長λｎｍにおける極角４０°から測定したレターデーションを表す。
　前記光学異方性層（Ｃ１）および前記光学異方性層（Ｃ２）が、いずれもディスコティック液晶性化合物を含有し、
　前記光学異方性層（Ｃ１）および前記光学異方性層（Ｃ２）が、いずれも下記式（５）を満たす、請求項３または４に記載の液晶表示装置。
　　０．９＜Ｒｅ４０（４５０）／Ｒｅ４０(５５０)≦１．２　　　式（５）
　ただし、Ｒｅ４０（λ）は、波長λｎｍにおける極角４０°から測定したレターデーションを表す。
　前記光学異方性層（Ａ１）および前記光学異方性層（Ａ２）が含有する前記液晶性化合物が、いずれも棒状液晶性化合物である、請求項３、４および６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
　前記光学異方性層（Ａ１）および前記光学異方性層（Ａ２）が、いずれも下記式（６）を満たす、請求項７に記載の液晶表示装置。
　　Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０　　　式（６）
　ただし、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内レターデーションを表す。
　前記偏光子（Ｐ１）と前記光学異方性層（Ｃ１）とが隣接し、前記偏光子（Ｐ２）と前記光学異方性層（Ｃ２）とが隣接している、請求項２に記載の液晶表示装置。
　前記偏光子（Ｐ１）と前記光学異方性層（Ａ１）とが隣接し、前記偏光子（Ｐ２）と前記光学異方性層（Ａ２）とが隣接している、請求項３に記載の液晶表示装置。
　前記偏光子（Ｐ１）と前記光学異方性層（Ｃ１）とが配向膜を介して積層され、前記偏光子（Ｐ２）と前記光学異方性層（Ｃ２）とが配向膜を介して積層されている、請求項２に記載の液晶表示装置。
　前記偏光子（Ｐ１）と前記光学異方性層（Ａ１）とが配向膜を介して積層され、前記偏光子（Ｐ２）と前記光学異方性層（Ａ２）とが配向膜を介して積層されている、請求項３に記載の液晶表示装置。
　前記偏光子（Ｐ１）と前記光学異方性層（Ｃ１）とが接着剤層または粘着剤層を介して積層され、前記偏光子（Ｐ２）と前記光学異方性層（Ｃ２）とが接着剤層または粘着剤層を介して積層されている、請求項２に記載の液晶表示装置。
　前記偏光子（Ｐ１）と前記光学異方性層（Ａ１）とが接着剤層または粘着剤層を介して積層され、前記偏光子（Ｐ２）と前記光学異方性層（Ａ２）とが接着剤層または粘着剤層を介して積層されている、請求項３に記載の液晶表示装置。
　前記偏光子（Ｐ１）の視認側および前記偏光子（Ｐ２）のバックライト側のいずれか一方または両方に保護膜を有し、
　前記保護膜の透湿度が、１００ｇ／ｍ²／２４ｈ以下である、請求項１～１４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
　前記光学異方性層（Ａ１）、前記光学異方性層（Ａ２）、前記光学異方性層（Ｂ１）、前記光学異方性層（Ｂ２）、前記光学異方性層（Ｃ１）、および、前記光学異方性層（Ｃ２）からなる群から選択される少なくとも１つの光学異方性層の透湿度が、５０ｇ／ｍ²／２４ｈ以下である、請求項１～１５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
　前記偏光子（Ｐ１）の視認側および前記偏光子（Ｐ２）のバックライト側のいずれか一方または両方にラミネートフィルムを有し、
　前記ラミネートフィルムの透湿度が、３０ｇ／ｍ²／２４ｈ以下である、請求項１～１４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
　前記偏光子（Ｐ１）および前記偏光子（Ｐ２）の少なくとも一方の厚さが、２５μｍ以下である、請求項１～１７のいずれか１項に記載の液晶表示装置。