WO2015114923A1 - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2015114923A1
WO2015114923A1 PCT/JP2014/081063 JP2014081063W WO2015114923A1 WO 2015114923 A1 WO2015114923 A1 WO 2015114923A1 JP 2014081063 W JP2014081063 W JP 2014081063W WO 2015114923 A1 WO2015114923 A1 WO 2015114923A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
voltage
output terminal
type
power supply
potential
Prior art date
Application number
PCT/JP2014/081063
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
潤一 斉藤
智之 澤田石
Original Assignee
アルプス電気株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by アルプス電気株式会社 filed Critical アルプス電気株式会社
Priority to JP2015559742A priority Critical patent/JP6177939B2/ja
Priority to EP14881373.6A priority patent/EP3101686B1/en
Publication of WO2015114923A1 publication Critical patent/WO2015114923A1/ja
Priority to US15/214,078 priority patent/US9559681B2/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
    • H01L27/0203Particular design considerations for integrated circuits
    • H01L27/0248Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
    • H01L27/0251Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices
    • H01L27/0266Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices using field effect transistors as protective elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body
    • H01L27/08Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
    • H01L27/085Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only
    • H01L27/088Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate
    • H01L27/092Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate complementary MIS field-effect transistors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/76Unipolar devices, e.g. field effect transistors
    • H01L29/772Field effect transistors
    • H01L29/78Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
    • H01L29/7801DMOS transistors, i.e. MISFETs with a channel accommodating body or base region adjoining a drain drift region
    • H01L29/7816Lateral DMOS transistors, i.e. LDMOS transistors
    • H01L29/7817Lateral DMOS transistors, i.e. LDMOS transistors structurally associated with at least one other device
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02HEMERGENCY PROTECTIVE CIRCUIT ARRANGEMENTS
    • H02H11/00Emergency protective circuit arrangements for preventing the switching-on in case an undesired electric working condition might result
    • H02H11/002Emergency protective circuit arrangements for preventing the switching-on in case an undesired electric working condition might result in case of inverted polarity or connection; with switching for obtaining correct connection
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/08Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage
    • H03K17/081Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage without feedback from the output circuit to the control circuit
    • H03K17/0812Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage without feedback from the output circuit to the control circuit by measures taken in the control circuit
    • H03K17/08122Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage without feedback from the output circuit to the control circuit by measures taken in the control circuit in field-effect transistor switches
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/08Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage
    • H03K17/082Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage by feedback from the output to the control circuit
    • H03K17/0822Modifications for protecting switching circuit against overcurrent or overvoltage by feedback from the output to the control circuit in field-effect transistor switches
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/16Modifications for eliminating interference voltages or currents
    • H03K17/161Modifications for eliminating interference voltages or currents in field-effect transistor switches

Definitions

  • the present invention relates to a semiconductor integrated circuit device having a signal output terminal, and more particularly to a semiconductor integrated circuit device capable of protecting an internal circuit even when a voltage lower than ground is applied to the output terminal.
  • An IC having a sensing function generally includes a power supply terminal (+ terminal, ⁇ terminal) for supplying power from outside and an output terminal for outputting a sensing signal.
  • the terminals are usually connected to the controller via a cable. For this reason, there is a possibility that the power supply line is erroneously connected to the output terminal of the IC signal due to a mistake in cable wiring, in which case an excessive current may flow inside the IC.
  • FIG. 4 is a diagram showing a general open drain type signal output circuit.
  • the signal output circuit shown in FIG. 4 is composed of an N-type MOS transistor 51.
  • the source of the MOS transistor 51 is connected to the ground terminal T1, the drain is connected to the output terminal T2, and the signal IN_B is input to the gate.
  • This output terminal is connected to an external power supply voltage 53 via a pull-up resistor 52.
  • the MOS transistor 51 When the MOS transistor 51 is off, the voltage VOUT at the output terminal T2 is at a high level, and when the MOS transistor 51 is on, the voltage VOUT at the output terminal T2 is at a low level.
  • the voltage VOUT at the output terminal T2 never becomes lower than the ground potential VSS. However, if there is a cable misconnection or the like, the voltage VOUT may be lower than the ground potential VSS.
  • FIG. 5 is a diagram showing a case where the voltage VOUT at the output terminal T2 becomes lower than the ground potential VSS in the signal output circuit shown in FIG.
  • the signal line to be connected to the output terminal T2 is connected to the ground terminal T2
  • the low-voltage side power line to be connected to the ground terminal T2 is connected to the output terminal T2.
  • a current flows from the ground terminal T1 to the output terminal T2 through the parasitic diode of the MOS transistor 51, as indicated by a one-dot chain line.
  • FIG. 6 is a diagram for explaining a parasitic diode of an N-type MOS transistor.
  • FIG. 6A shows the structure of the MOS transistor
  • FIG. 6B shows the current flowing through the parasitic diode.
  • the parasitic diode existing between the bulk (P well) and the drain of the N-type MOS transistor becomes conductive. Current flows.
  • a current flows through the parasitic diode there arises a problem that the circuit becomes unstable and a power loss occurs in the parasitic diode.
  • the following patent document proposes a method of providing an N-type MOS transistor for preventing reverse current in series with an N-type MOS transistor for signal output.
  • FIG. 7 is a diagram showing a conventional protection circuit described in Patent Document 1.
  • an N-type DMOS transistor MP is provided in series with an N-type DMOS (double-diffused metal-oxide-semiconductor) transistor MI for signal output.
  • N-type DMOS double-diffused metal-oxide-semiconductor
  • the output signal of the comparator 63 becomes high level.
  • the DMOS transistor MI When the output voltage VOUT is higher than the ground potential VSS, the output signal of the comparator 63 becomes high level.
  • the high level signal IN_B is input to the gate of the DMOS transistor MI, the DMOS transistor MI is turned on.
  • the output of the AND circuit 64 becomes high level, current flows from the current source 61 to the resistor 62, the gate of the DMOS transistor MP becomes high level, and the DMOS transistor MP is also turned on. .
  • both the DMOS transistors MI and MP are turned on, and the output voltage VOUT becomes low level.
  • the channel of the DMOS transistor MP becomes conductive, no current flows through the parasitic diode of the DMOS transistor MP, so that no power loss of the parasitic diode occurs.
  • the output of the comparator 63 becomes low level
  • the output of the AND circuit 64 always becomes low level, and current does not flow from the current source 61 to the resistor 62. Therefore, the DMOS transistor MP is held in the off state.
  • the parasitic transistor of the DMOS transistor MI is in the forward direction with respect to the current flowing from the ground potential VSS to the output terminal, the reverse current does not flow from the ground terminal to the output terminal because the parasitic transistor of the DMOS transistor MP is in the reverse direction. .
  • the present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit capable of preventing a backflow current due to erroneous connection of signal lines and the like and suppressing unnecessary power loss of a circuit in a normal operation state. It is to provide a circuit device.
  • the semiconductor integrated circuit device is provided with an output terminal for outputting a signal, and a first switching which is provided in a current path between the output terminal and the first power supply line and is turned on or off according to an input signal.
  • the second switching circuit that is turned on when higher, and the potential of the output terminal when the potential of the output terminal is higher than the potential of the first power supply line, When the gate voltage of the N-type DMOS transistor is set to a second voltage higher than the threshold voltage compared to the first voltage, and the potential of the output terminal is lower than the
  • the voltage of the gate of the N-type DMOS transistor with respect to the potential of the output terminal is set as the control circuit. Is set to a voltage lower than the threshold value, so that the N-type DMOS transistor is turned off.
  • the second switching circuit is also turned off. To do. As a result, the current path between the output terminal and the first power supply line is interrupted, and no backflow current flows through the current path.
  • the voltage of the gate of the N-type DMOS transistor with respect to the potential of the first power supply line is the control voltage.
  • the second voltage is set by a circuit.
  • the second voltage is higher than the threshold voltage compared to the first voltage.
  • the gate potential of the N-type DMOS transistor becomes lower than the threshold voltage compared to the source potential.
  • the N-type DMOS transistor is turned off.
  • the second switching circuit is turned on because the output voltage is higher than the first voltage.
  • the gate potential of the N-type DMOS transistor is higher than the threshold voltage compared to the source potential. Therefore, the N-type DMOS transistor is turned on. At this time, since the second voltage is higher than the threshold voltage compared to the first voltage, the output voltage is higher than the first voltage. Therefore, the second switching circuit is continuously turned on. When the output voltage further decreases and becomes lower than the first voltage, the second switching circuit is turned off. At this time, since the potential of the gate of the N-type DMOS transistor is higher than the threshold voltage compared to the potential of the source, the N-type DMOS transistor is continuously turned on.
  • the second switching circuit includes a first P-type MOS transistor having a source connected to the output terminal, a drain connected to the first switching circuit, and a gate connected to the first power supply line. It's okay.
  • control circuit includes a resistor connected between a gate and a source of the N-type DMOS transistor and a gate of the N-type DMOS transistor when the potential of the output terminal is higher than the potential of the first power supply line.
  • a voltage output circuit that outputs the second voltage and sets the output impedance to a high impedance state when the output terminal is at a lower potential than the first power supply line.
  • the voltage output circuit includes a second P-type MOS transistor connected between a second power supply line having the second voltage with respect to the first power supply line and a gate of the N-type DMOS transistor.
  • the voltage of the output terminal is compared with the voltage of the first power supply line, and the voltage for turning on or off the second P-type MOS transistor according to the comparison result is set to the gate of the second P-type MOS transistor.
  • a comparison circuit for outputting to the output.
  • N-type wells of the first P-type MOS transistor and the second P-type MOS transistor may be connected to the second power supply line.
  • the present invention it is possible to prevent a reverse current due to a signal line misconnection or the like and to suppress unnecessary power loss of the circuit in a normal operation state.
  • FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a configuration of a semiconductor integrated circuit device according to a first embodiment. It is a figure which shows an example of the structure of an N-type DMOS transistor.
  • FIG. 2A shows a cross-sectional structure of an N-type DMOS transistor, and
  • FIG. 2B shows an equivalent circuit thereof. It is a figure which shows an example of a structure of the semiconductor integrated circuit device which concerns on 2nd Embodiment. It is a figure which shows a general open drain type signal output circuit.
  • FIG. 5 is a diagram showing a case where the voltage at the output terminal is lower than the ground potential in the signal output circuit shown in FIG. 4. It is a figure for demonstrating the parasitic diode of an N-type MOS transistor.
  • 6A shows the structure of the MOS transistor 51
  • FIG. 6B shows the current flowing through the parasitic diode. It is a figure which shows the conventional protection circuit.
  • FIG. 1 is a diagram illustrating an example of the configuration of the semiconductor integrated circuit device according to the first embodiment.
  • the semiconductor integrated circuit device shown in FIG. 1 includes a ground terminal T1, an output terminal T2, a first switching circuit 11, a second switching circuit 12, an N-type DMOS transistor Qd1, and a control circuit 20.
  • the output terminal T2 is a terminal for outputting a signal to the outside, and is connected to a signal output destination device via a signal line (not shown).
  • the signal line is connected to the power supply line (VDD) via, for example, a pull-up resistor in the signal output destination device.
  • the ground terminal T1 is connected to the ground (VSS) of a signal output destination device via a power supply line (not shown).
  • the first switching circuit 11 is a circuit that generates an output voltage VOUT according to the input signal IN_B, is provided in a current path between the output terminal T2 and the ground, and is turned on or off according to the input signal IN_B.
  • “ground” indicates a low-voltage power supply line connected to the ground terminal T1, and corresponds to the first power supply line in the present invention.
  • the first switching circuit 11 is configured by an N-type MOS transistor Qn1, for example, as shown in FIG.
  • the N-type MOS transistor Qn1 has a source connected to the ground, a drain connected to the output terminal T2 via the N-type DMOS transistor Qd1, and an input signal IN_B input to the gate.
  • the N-type MOS transistor Qn1 is turned on when the input signal IN_B is at a high level and turned off when the input signal IN_B is at a low level.
  • the N-type DMOS transistor Qd1 is provided in the current path between the first switching circuit 11 and the output terminal T2, the source is connected to the output terminal T2, and the drain is connected to the first switching circuit 11.
  • the N-type DMOS transistor Qd1 is turned on when the gate potential becomes higher than the threshold voltage Vth as compared with the source potential, and turned off when the potential becomes lower than the threshold voltage Vth.
  • FIG. 2 is a diagram showing an example of the structure of the N-type DMOS transistor Qd1.
  • FIG. 2A shows a cross-sectional structure of the N-type DMOS transistor Qd1
  • FIG. 2B shows an equivalent circuit thereof.
  • An N type diffusion region (N well) is formed on the surface of the P type substrate, and a P type diffusion region (P well) is formed inside thereof.
  • An N type diffusion region (N +) serving as a source is formed inside the P well, and a P type diffusion region (P +) for electrically connecting the source and the P well is formed further inside.
  • a gate electrode is formed on the boundary portion between the P well and the N well on the surface of the P-type substrate via an insulating film.
  • An N-type diffusion region (N +) for conducting the drain and the N-well is formed in the N-well region on the surface of the P-type substrate.
  • a parasitic diode D1 is formed at the boundary between the P well and the N well.
  • the anode of the parasitic diode D1 is connected to the source via the P well, and the cathode of the parasitic diode D1 is connected to the drain via the N well.
  • a parasitic diode D2 is formed between the N well and the P-type substrate.
  • the anode of the parasitic diode D2 is connected to the P-type substrate, and the cathode of the parasitic diode D2 is connected to the drain via the N well.
  • the anode of the parasitic diode D2 is connected to the ground.
  • the second switching circuit 12 is connected in parallel with the N-type DMOS transistor Qd1.
  • the second switching circuit 12 is turned on when the output voltage VOUT of the output terminal T2 with respect to the ground potential VSS becomes higher than the positive first voltage V1, and turned off when the output voltage VOUT becomes lower than the first voltage V1.
  • the second switching circuit 12 includes a first P-type MOS transistor Qp1 as shown in FIG.
  • the first P-type MOS transistor Qp1 has a source connected to the output terminal T2, a drain connected to the first switching circuit 11, and a gate connected to the ground.
  • the bulk of the first P-type MOS transistor Qp1 is connected to an appropriate potential (for example, the power supply voltage VDD).
  • the output voltage VOUT is equal to the voltage between the gate and source of the first P-type MOS transistor Qp1.
  • the first P-type MOS transistor Qp1 is turned on when the output voltage VOUT becomes higher than the first voltage V1, and turned off when the output voltage VOUT becomes lower than the first voltage V1.
  • the first voltage V1 corresponds to a threshold voltage between the gate and the source in the first P-type MOS transistor Qp1.
  • the control circuit 20 controls the gate voltage of the N-type DMOS transistor Qd1 according to the potential of the output terminal T2.
  • the control circuit 20 uses the voltage Vg1 of the gate of the N-type DMOS transistor Qd1 with respect to the ground potential VSS as the second voltage V2.
  • the second voltage V2 is a voltage (V2> V1 + Vth) higher than the threshold voltage Vth compared to the first voltage V1.
  • the control circuit 20 applies the power supply voltage VDD sufficiently higher than “V1 + Vth” to the gate of the N-type DMOS transistor Qd1 as the second voltage V2.
  • the control circuit 20 uses the voltage Vg2 of the gate of the N-type DMOS transistor Qd1 with reference to the potential of the output terminal T2.
  • the voltage is set lower than the threshold value Vth, and the N-type DMOS transistor Qd1 is turned off.
  • the control circuit 20 sets the gate voltage Vg1 of the N-type DMOS transistor Qd1 to the power supply voltage VDD because the output voltage VOUT is higher than the ground potential VSS.
  • the N-type DMOS transistor Qd1 is turned off because the gate and source voltages are substantially the same voltage (VDD).
  • the first P-type MOS transistor Qp1 is turned on because the voltage (VOUT) between the gate and the source is higher than the first voltage V1.
  • the N-type MOS transistor Qn1 When the input signal IN_B changes from low level to high level, the N-type MOS transistor Qn1 is turned on. When the output voltage VOUT is close to the power supply voltage VDD, the N-type DMOS transistor Qd1 is in an off state, while the first P-type MOS transistor Qp1 is in an on state. A current flows to the ground via the P-type MOS transistor Qp1 and the N-type MOS transistor Qn1. Since both ends of the parasitic diode D1 of the N-type DMOS transistor Qd1 are short-circuited by the first P-type MOS transistor Qp1, almost no current flows through the parasitic diode D1.
  • the output voltage VOUT becomes “VDD ⁇ Vth”.
  • the power supply voltage VDD applied to the gate of the N-type DMOS transistor Qd1 by the control circuit 20 is a voltage sufficiently higher than “V1 + Vth” (VDD> V1 + Vth). Therefore, “VDD ⁇ Vth” is a voltage sufficiently higher than the first voltage V1 (VDD ⁇ Vth> V1). Therefore, even when the output voltage VOUT decreases to “VDD ⁇ Vth”, the first P-type MOS transistor Qp1 is continuously maintained in the ON state.
  • both the N-type DMOS transistor Qd1 and the N-type MOS transistor Qn1 are turned on, and the output terminal T2 and the ground are short-circuited by the transistors (Qd1, Qp1, Qn1). Further, since the N-type DMOS transistor Qd1 and the first P-type MOS transistor Qp1 are in the on state, almost no current flows through the parasitic diode D1 of the N-type DMOS transistor Qd1.
  • the first P-type MOS transistor Qp1 When the output voltage VOUT further decreases due to a voltage drop of a pull-up resistor (not shown) and becomes lower than the first voltage V1, which is the threshold voltage of the first P-type MOS transistor Qp1, the first P-type MOS transistor Qp1 is turned off. It becomes a state.
  • the gate-source voltage Vg2 of the N-type DMOS transistor Qd1 since the gate-source voltage Vg2 of the N-type DMOS transistor Qd1 further increases due to the decrease in the output voltage VOUT, the N-type DMOS transistor Qd1 continues to be kept on. Therefore, the output terminal T2 and the ground are short-circuited by the transistors (Qd1, Qn1).
  • the N-type DMOS transistor Qd1 Since the N-type DMOS transistor Qd1 is in the on state, almost no current flows through the parasitic diode D1 of the N-type DMOS transistor Qd1. As described above, when the N-type MOS transistor Qn1 is turned on, the output voltage VOUT is reduced from the power supply voltage VDD to near the ground potential VSS without current flowing through the parasitic diode D1.
  • the control circuit 20 sets the gate voltage Vg2 of the N-type DMOS transistor Qd1 with reference to the potential of the output terminal T2 to a voltage (for example, zero) lower than the threshold value Vth, the N-type DMOS transistor Qd1 is also turned off. It becomes a state.
  • the semiconductor integrated circuit device of this embodiment when the output voltage VOUT becomes an abnormal state lower than the ground potential VSS due to misconnection or the like, the N-type DMOS transistor Qd1 and the first P Since the MOS transistor Qp1 is turned off and a voltage is applied to these parasitic diodes in the reverse direction so that no current flows, it is possible to reliably prevent a backflow current from flowing from the ground to the output terminal T2.
  • the power supply voltage VDD higher than “V1 + Vth” is applied to the gate of the N-type DMOS transistor Qd1 in the normal state where the output voltage VOUT is higher than the ground potential VSS.
  • the type DMOS transistor Qd1 is turned on and the output voltage VOUT is lower than “VDD ⁇ Vth” and higher than the first voltage V1 (VDD ⁇ Vth> VOUT> V1), the N type DMOS transistor Qd1 and the first P type MOS transistor Qp1 Both turn on.
  • At least one of the N-type DMOS transistor Qd1 and the first P-type MOS transistor Qp1 connected in parallel is turned on, and no current flows through the parasitic diode D1 of the N-type DMOS transistor Qd1. Therefore, unnecessary power loss in the parasitic diode D1 can be suppressed, and deterioration of circuit characteristics due to heat generation can be prevented.
  • FIG. 3 is a diagram illustrating an example of the configuration of the semiconductor integrated circuit device according to the second embodiment.
  • the semiconductor integrated circuit device according to the present embodiment embodies the configuration of the control circuit 20 in the semiconductor integrated circuit device shown in FIG. 1, and the other configuration is the same as that of the semiconductor integrated circuit device shown in FIG.
  • the control circuit 20 has a resistor R1 connected between the gate and source of the N-type DMOS transistor Qd1 and a voltage output circuit 21.
  • the voltage output circuit 21 In a normal state where the output voltage VOUT is higher than the ground potential VSS, the voltage output circuit 21 outputs the power supply voltage VDD as the second voltage V2 (V2> V1 + Vth) to the gate of the N-type DMOS transistor Qd1, and the output voltage VOUT is grounded.
  • the output impedance is set to a high impedance state.
  • the voltage output circuit 21 includes a second P-type MOS transistor Qp2 and a comparison circuit 22, for example, as shown in FIG.
  • the second P-type MOS transistor Qp2 is connected between the power supply line (second power supply line) of the power supply voltage VDD and the gate of the N-type DMOS transistor Qd1, and the power supply voltage VDD is applied to the bulk.
  • the comparison circuit 22 compares the output voltage VOUT and the ground potential VSS, and when the output voltage VOUT is higher than the ground potential VSS, the low level voltage (for example, the ground potential VSS) that turns on the second P-type MOS transistor Qp2. When the output voltage VOUT is lower than the ground potential VSS, a high level voltage (for example, the power supply voltage VDD) that turns off the second P-type MOS transistor Qp2 is output.
  • the output voltage VOUT when the output voltage VOUT is in an abnormal state lower than the ground potential VSS due to misconnection or the like, the first voltage connected between the power supply line of the power supply voltage VDD and the gate of the N-type DMOS transistor Qd1.
  • the second P-type MOS transistor Qp2 When the second P-type MOS transistor Qp2 is turned off, the output of the voltage output circuit 21 becomes a high impedance state, and the gate of the N-type DMOS transistor Qd1 is connected to the output terminal T2 via the resistor R1.
  • the gate and source of the N-type DMOS transistor Qd1 have substantially the same potential, and the N-type DMOS transistor Qd1 is turned off. Therefore, it is possible to prevent a backflow current from flowing from the ground to the output terminal T2 by the same operation as the semiconductor integrated circuit device of FIG.
  • the second P-type MOS transistor Qp2 In a normal state where the output voltage VOUT is higher than the ground potential VSS, the second P-type MOS transistor Qp2 is turned on, and the power supply voltage VDD is applied to the gate of the N-type DMOS transistor Qd1. Accordingly, at least one of the N-type DMOS transistor Qd1 and the first P-type MOS transistor Qp1 connected in parallel is turned on by the same operation as that of the semiconductor integrated circuit device of FIG. Unnecessary power loss due to current flowing through can be suppressed.
  • an N-type MOS transistor Qn1
  • Qn1 N-type MOS transistor
  • a switching element may be used.
  • the P-type MOS transistor (Qp1) is used as the second switching circuit 12.
  • the semiconductor integrated circuit device is turned on.
  • Other types of switching elements may be used as long as the switching elements are turned off when the voltage is lower than the first voltage V1 and no reverse current flows from the ground to the output terminal T2.
  • the transistors (Qd1, Qn1, Qp1) provided in the current path between the output terminal T2 and the ground may each be constituted by a single transistor, or a plurality of the same types depending on the convenience of current capacity and layout. These transistors may be provided in parallel.

Abstract

【課題】信号線の誤接続等による逆流電流を防止できるとともに、通常の動作状態において回路の不要な電力損失を抑えることができる半導体集積回路装置を提供する。 【解決手段】誤接続等によって出力電圧VOUTがグランド電位VSSより低い異常な状態となった場合、N型DMOSトランジスタQd1及び第1のP型MOSトランジスタQp1がオフ状態になるとともに、それらの寄生ダイオードには逆方向に電圧が加わって電流が流れない。出力電圧VOUTがグランド電位VSSより高い通常の状態では、並列に接続されたN型DMOSトランジスタQd1及び第1のP型MOSトランジスタQp1の少なくとも一方がオン状態となり、N型DMOSトランジスタQd1の寄生ダイオードD1には電流が流れない。

Description

半導体集積回路装置
 本発明は、信号の出力端子を備えた半導体集積回路装置に係り、特に、グランドより低い電圧が出力端子に印加された場合でも内部回路を保護できる半導体集積回路装置に関するものである。
 センシング機能を有するICは、一般に外部から電源を供給するための電源端子(+端子,-端子)と、センシング信号を出力するための出力端子を備える。コントーラから離れた場所にセンサモジュールが設置される場合、通常それらの端子はケーブルを介してコントローラに接続される。そのため、ケーブル配線のミスなどによってICの信号の出力端子に電源線が誤って接続される可能性があり、その場合ICの内部に過大な電流が流れることがある。
 図4は、一般的なオープンドレイン型の信号出力回路を示す図である。図4に示す信号出力回路は、N型のMOSトランジスタ51で構成される。MOSトランジスタ51のソースはグランド端子T1に接続され、ドレインは出力端子T2に接続され、ゲートには信号IN_Bが入力される。この出力端子は、外部の電源電圧53にプルアップ抵抗52を介して接続される。MOSトランジスタ51がオフの場合、出力端子T2の電圧VOUTはハイレベルとなり、MOSトランジスタ51がオンの場合、出力端子T2の電圧VOUTはローレベルとなる。通常、出力端子T2がプルアップ抵抗52を介して電源電圧53に接続されるため、出力端子T2の電圧VOUTがグランド電位VSSより低くなることはない。しかしながら、ケーブルの誤接続等があると、電圧VOUTがグランド電位VSSよりも低くなる場合がある。
 図5は、図4に示す信号出力回路において出力端子T2の電圧VOUTがグランド電位VSSより低くなる場合を示す図である。図5の例では、出力端子T2に接続されるべき信号線がグランド端子T2に接続され、グランド端子T2に接続されるべき低電圧側の電源線が出力端子T2に接続されている。この場合、一点鎖線で示すように、MOSトランジスタ51の寄生ダイオードを通じてグランド端子T1から出力端子T2に電流が流れてしまう。
 図6は、N型のMOSトランジスタの寄生ダイオードを説明するための図である。図6AはMOSトランジスタの構造を示し、図6Bは寄生ダイオードに流れる電流を示す。ソースSとバルクBの電位がドレインDの電位より高くなると、N型のMOSトランジスタのバルク(Pウェル)とドレインの間に存在する寄生ダイオードが導通するため、図中の一点鎖線で示すように電流が流れる。寄生ダイオードに電流が流れると、回路が不安定になるという問題や、寄生ダイオードにおいて電力損失が発生するという問題が生じる。
 MOSトランジスタの寄生ダイオードに電流が流れることを防止するため、例えば電流経路に寄生ダイオードと逆方向のダイオードを別途挿入する方法も考えられるが、そうすると、通常の動作状態においてダイオードに電圧降下や電力損失が生じるという別の問題が発生する。そこで下記の特許文献では、信号出力用のN型MOSトランジスタと直列に逆電流防止用のN型MOSトランジスタを設ける方法が提案されている。
特開2000-58756号公報
 図7は、上記特許文献1に記載される従来の保護回路を示す図である。この保護回路では、信号出力用のN型のDMOS(double-diffused metal-oxide-semiconductor)トランジスタMIと直列に、N型のDMOSトランジスタMPが設けられている。
 出力電圧VOUTがグランド電位VSSより高い場合、コンパレータ63の出力信号はハイレベルになる。ハイレベルの信号IN_BがDMOSトランジスタMIのゲートに入力されると、DMOSトランジスタMIはオンする。また、信号IN_Bがハイレベルになると、AND回路64の出力がハイレベルになり、電流源61から抵抗62に電流が流れて、DMOSトランジスタMPのゲートがハイレベルになり、DMOSトランジスタMPもオンする。これにより、DMOSトランジスタMI,MPが共にオン状態となり、出力電圧VOUTはローレベルになる。また、DMOSトランジスタMPのチャンネルが導通することにより、DMOSトランジスタMPの寄生ダイオードに電流が流れないため、寄生ダイオードの電力損失は生じない。
 他方、誤接続などによって出力電圧VOUTがグランド電位VSSより低くなると、コンパレータ63の出力がローレベルになり、AND回路64の出力は常にローレベルとなり、電流源61から抵抗62に電流が流れなくなる。そのため、DMOSトランジスタMPはオフ状態に保持される。グランド電位VSSから出力端子へ流れる電流に対して、DMOSトランジスタMIの寄生トランジスタは順方向であるが、DMOSトランジスタMPの寄生トランジスタは逆方向であるため、グランド端子から出力端子へ逆電流は流れない。
 このように、図7に示す保護回路によれば、誤接続等による逆電流を防止することができる。しかしながら、誤接続のない通常の動作時において出力端子が電源電圧VCCとほぼ等しい電圧にプルアップされている場合、DMOSトランジスタMIがオフの状態において出力電圧VOUTが電源電圧VCCに近づき、DMOSトランジスタMPのゲート-ソース間の電圧がほぼゼロになるため、DMOSトランジスタMPがオフする。この場合、DMOSトランジスタMIがオフからオンに変わると、DMOSトランジスタMPの寄生ダイオードに順方向の電流が流れるため、寄生ダイオードに不要な電力損失が生じる。寄生ダイオードの発熱によってICチップの温度が上昇すると、特性の劣化等を生じる原因となる。
 本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、信号線の誤接続等による逆流電流を防止できるとともに、通常の動作状態において回路の不要な電力損失を抑えることができる半導体集積回路装置を提供することにある。
 本発明に係る半導体集積回路装置は、信号を出力するための出力端子と、前記出力端子と第1電源ラインとの間の電流経路に設けられ、入力信号に応じてオン又はオフする第1スイッチング回路と、前記出力端子と前記第1スイッチング回路との間の電流経路に設けられ、ソースが前記出力端子に接続され、ドレインが前記第1スイッチング回路に接続され、ゲートの電位が前記ソースの電位に比べてしきい電圧より高くなるとオンするN型DMOSトランジスタと、前記N型DMOSトランジスタと並列に接続され、前記第1電源ラインの電位を基準とする前記出力端子の電圧が正の第1電圧より高くなるとオンする第2スイッチング回路と、前記出力端子の電位が前記第1電源ラインの電位より高い場合、前記第1電源ラインの電位を基準とする前記N型DMOSトランジスタのゲートの電圧を前記第1電圧に比べて前記しきい電圧より高い第2電圧に設定し、前記出力端子の電位が前記第1電源ラインの電位より低い場合、前記出力端子の電位を基準とする前記N型DMOSトランジスタのゲートの電圧を前記しきい値より低い電圧に設定する制御回路とを有することを特徴とする。
 上記の構成によれば、誤接続等によって前記出力端子の電位が前記第1電源ラインの電位より低くなると、前記出力端子の電位を基準とする前記N型DMOSトランジスタのゲートの電圧が前記制御回路によって前記しきい値より低い電圧に設定されるため、前記N型DMOSトランジスタがオフする。また、前記第1電源ラインの電位を基準とする前記出力端子の電圧(以下、「出力電圧」と略記する場合がある。)が前記第1電圧より低くなるため、前記第2スイッチング回路もオフする。これにより、前記出力端子と前記第1電源ラインとの間の電流経路が遮断され、当該電流経路に逆流電流は流れない。
 また、上記の構成によれば、前記出力端子の電位が前記第1電源ラインの電位より高い場合、前記第1電源ラインの電位を基準とする前記N型DMOSトランジスタのゲートの電圧が、前記制御回路によって前記第2電圧に設定される。前記第2電圧は、前記第1電圧に比べて前記しきい電圧より高い電圧である。
 この場合、前記出力電圧が前記第2電圧に近い、若しくは、前記第2電圧より高くなると、前記N型DMOSトランジスタの前記ゲートの電位が前記ソースの電位に比べて前記しきい電圧より低くなるため、前記N型DMOSトランジスタはオフする。他方、前記第2スイッチング回路は、前記出力電圧が前記第1電圧より高くなるため、オン状態となる。
 前記出力電圧が前記第2電圧に比べて低くなり、その低下分が前記しきい電圧に達すると、前記N型DMOSトランジスタの前記ゲートの電位が前記ソースの電位に比べて前記しきい電圧より高くなるため、前記N型DMOSトランジスタはオンする。このとき、前記第2電圧は前記第1電圧に比べて前記しきい電圧より高い電圧であることから、前記出力電圧は前記第1電圧より高くなる。そのため、前記第2スイッチング回路は引き続きオンする。
 前記出力電圧が更に低下して前記第1電圧より低くなると、前記第2スイッチング回路はオフする。このとき、前記N型DMOSトランジスタの前記ゲートの電位は前記ソースの電位に比べて前記しきい電圧より高いため、前記N型DMOSトランジスタは引き続きオンする。
 以上により、前記出力端子の電位が前記第1電源ラインの電位より高い場合は、前記N型DMOSトランジスタ及び前記第2スイッチング回路の少なくとも一方がオン状態になる。これにより、前記第1スイッチング回路がオン状態となって前記出力端子から前記第1電源ラインへ電流が流れる場合に、この電流は前記N型DMOSトランジスタ及び前記第2スイッチング回路の少なくとも一方に流れる。そのため、前記N型DMOSトランジスタのバルクと前記ドレインとの間に存在する寄生ダイオードには、ほとんど電流が流れない。
 好適に、前記第2スイッチング回路は、ソースが前記出力端子に接続され、ドレインが前記第1スイッチング回路に接続され、ゲートが前記第1電源ラインに接続された第1のP型MOSトランジスタを含んでよい。
 好適に、前記制御回路は、前記N型DMOSトランジスタのゲートとソースの間に接続された抵抗と、前記出力端子の電位が前記第1電源ラインの電位より高い場合、前記N型DMOSトランジスタのゲートに前記第2電圧を出力し、前記出力端子が前記第1電源ラインより低電位の場合、出力インピーダンスを高インピーダンス状態にする電圧出力回路とを含んでよい。
 好適に、前記電圧出力回路は、前記第1電源ラインに対して前記第2電圧を有する第2電源ラインと前記N型DMOSトランジスタのゲートとの間に接続された第2のP型MOSトランジスタと、前記出力端子の電圧と前記第1電源ラインの電圧とを比較し、当該比較結果に応じて前記第2のP型MOSトランジスタをオン又はオフさせる電圧を前記第2のP型MOSトランジスタのゲートに出力する比較回路とを含んでよい。
 好適に、前記第1のP型MOSトランジスタ及び前記第2のP型MOSトランジスタのN型ウェルは、前記第2電源ラインに接続されてよい。
 本発明によれば、信号線の誤接続等による逆流電流を防止できるとともに、通常の動作状態において回路の不要な電力損失を抑えることができる。
第1の実施形態に係る半導体集積回路装置の構成の一例を示す図である。 N型DMOSトランジスタの構造の一例を示す図である。図2AはN型DMOSトランジスタの断面構造を示し、図2Bはその等価回路を示す。 第2の実施形態に係る半導体集積回路装置の構成の一例を示す図である。 一般的なオープンドレイン型の信号出力回路を示す図である。 図4に示す信号出力回路において、出力端子の電圧がグランド電位より低くなる場合を示す図である。 N型のMOSトランジスタの寄生ダイオードを説明するための図である。図6AはMOSトランジスタ51の構造を示し、図6Bは寄生ダイオードに流れる電流を示す。 従来の保護回路を示す図である。
<第1の実施形態>
 以下、本発明の第1の実施形態に係る半導体集積回路装置について図面を参照しながら説明する。
 図1は、第1の実施形態に係る半導体集積回路装置の構成の一例を示す図である。図1に示す半導体集積回路装置は、グランド端子T1と、出力端子T2と、第1スイッチング回路11と、第2スイッチング回路12と、N型DMOSトランジスタQd1と、制御回路20を有する。
 出力端子T2は、外部に信号を出力するための端子であり、不図示の信号ラインを介して信号出力先の装置に接続される。信号ラインは、信号出力先の装置において例えばプルアップ抵抗を介して電源ライン(VDD)に接続される。
 グランド端子T1は、不図示の電源ラインを介して信号出力先の装置のグランド(VSS)に接続される。
 第1スイッチング回路11は、入力信号IN_Bに応じた出力電圧VOUTを発生させる回路であり、出力端子T2とグランドとの間の電流経路に設けられ、入力信号IN_Bに応じてオン又はオフする。なお、ここで「グランド」は、グランド端子T1につながる低電圧側の電源ラインを示しており、本発明における第1電源ラインに対応する。
 第1スイッチング回路11は、例えば図1において示すように、N型MOSトランジスタQn1によって構成される。N型MOSトランジスタQn1は、ソースがグランドに接続され、ドレインがN型DMOSトランジスタQd1を介して出力端子T2に接続され、ゲートに入力信号IN_Bが入力される。N型MOSトランジスタQn1は、入力信号IN_Bがハイレベルのときオンし、入力信号IN_Bがローレベルのときオフする。
 N型DMOSトランジスタQd1は、第1スイッチング回路11と出力端子T2との間の電流経路に設けられており、ソースが出力端子T2に接続され、ドレインが第1スイッチング回路11に接続される。N型DMOSトランジスタQd1は、ゲートの電位がソースの電位に比べてしきい電圧Vthより高くなるとオンし、しきい電圧Vthより低くなるとオフする。
 図2は、N型DMOSトランジスタQd1の構造の一例を示す図である。図2AはN型DMOSトランジスタQd1の断面構造を示し、図2Bはその等価回路を示す。P型基板の表面にN型拡散領域(Nウェル)が形成され、その内側にP型拡散領域(Pウェル)が形成される。Pウェルの内側には、ソースとなるN型拡散領域(N+)が形成され、その更に内側には、ソースとPウェルを導通させるためのP型拡散領域(P+)が形成される。P型基板の表面におけるPウェルとNウェルとの境界部分には、絶縁膜を介してゲート電極が形成される。P型基板の表面におけるNウェルの領域には、ドレインとNウェルを導通させるためのN型拡散領域(N+)が形成される。
 PウェルとNウェルとの境界には、寄生ダイオードD1が形成される。寄生ダイオードD1のアノードはPウェルを介してソースにつながり、寄生ダイオードD1のカソードはNウェルを介してドレインにつながる。
 また、NウェルとP型基板との間には、寄生ダイオードD2が形成される。寄生ダイオードD2のアノードはP型基板につながり、寄生ダイオードD2のカソードはNウェルを介してドレインにつながる。図1の例において、P型基板はグランドに接続されるため、寄生ダイオードD2のアノードはグランドに接続される。
 図1に戻る。
 第2スイッチング回路12は、N型DMOSトランジスタQd1と並列に接続される。第2スイッチング回路12は、グランド電位VSSを基準とする出力端子T2の出力電圧VOUTが正の第1電圧V1より高くなるとオンし、第1電圧V1より低くなるとオフする。
 例えば第2スイッチング回路12は、図1において示すように、第1のP型MOSトランジスタQp1によって構成される。第1のP型MOSトランジスタQp1は、ソースが出力端子T2に接続され、ドレインが第1スイッチング回路11に接続され、ゲートがグランドに接続される。第1のP型MOSトランジスタQp1のバルクは、適切な電位(例えば電源電圧VDD)に接続される。出力電圧VOUTは、第1のP型MOSトランジスタQp1のゲート-ソース間の電圧と等しくなる。第1のP型MOSトランジスタQp1は、この出力電圧VOUTが第1電圧V1より高くなるとオンし、第1電圧V1より低くなるとオフする。第1電圧V1は、第1のP型MOSトランジスタQp1におけるゲート-ソース間のしきい電圧に相当する。
 制御回路20は、出力端子T2の電位に応じてN型DMOSトランジスタQd1のゲート電圧を制御する。出力端子T2の電位がグランド電位VSSより高い場合(出力電圧VOUTが正電圧の場合)、制御回路20は、グランド電位VSSを基準とするN型DMOSトランジスタQd1のゲートの電圧Vg1を第2電圧V2に設定する。第2電圧V2は、第1電圧V1に比べてしきい電圧Vthより高い電圧(V2>V1+Vth)である。例えば制御回路20は、第2電圧V2として、「V1+Vth」より十分に高い電源電圧VDDをN型DMOSトランジスタQd1のゲートに印加する。
 他方、出力端子T2の電位がグランド電位VSSより低い場合(出力電圧VOUTが負電圧の場合)、制御回路20は、出力端子T2の電位を基準とするN型DMOSトランジスタQd1のゲートの電圧Vg2をしきい値Vthより低い電圧に設定して、N型DMOSトランジスタQd1をオフさせる。
 ここで、上述した構成を有する半導体集積回路装置の動作を説明する。
 まず、出力電圧VOUTがグランド電位VSSより高い正常状態の動作について述べる。出力端子T2は、図示しないプルアップ抵抗によって電源電圧VDDにプルアップされているものとする。ローレベルの入力信号IN_BがN型MOSトランジスタQn1のゲートに入力されると、N型MOSトランジスタQn1がオフするため、出力端子T2からグランドへの電流経路が遮断され、出力端子T2の出力電圧VOUTはほぼ電源電圧VDDとなる。制御回路20は、出力電圧VOUTがグランド電位VSSより高電位になっているため、N型DMOSトランジスタQd1のゲート電圧Vg1を電源電圧VDDに設定する。N型DMOSトランジスタQd1は、ゲートとソースの電圧がほぼ同じ電圧(VDD)になるため、オフ状態となる。他方、第1のP型MOSトランジスタQp1は、ゲートとソースの間の電圧(VOUT)が第1電圧V1より高くなるため、オン状態となる。
 入力信号IN_Bがローベルからハイレベルに変化すると、N型MOSトランジスタQn1がオンする。出力電圧VOUTが電源電圧VDDに近いとき、N型DMOSトランジスタQd1がオフ状態になっている一方で、第1のP型MOSトランジスタQp1がオン状態になっているため、出力端子T2から第1のP型MOSトランジスタQp1及びN型MOSトランジスタQn1を介してグランドに電流が流れる。N型DMOSトランジスタQd1の寄生ダイオードD1の両端は、第1のP型MOSトランジスタQp1によって短絡されるため、寄生ダイオードD1にはほとんど電流が流れない。
 出力端子T2からグランドへ電流が流れると、不図示のプルアップ抵抗において電圧降下が生じ、出力端子T2の出力電圧VOUTが電源電圧VDDから低下する。出力電圧VOUTが電源電圧VDDから低下すると、N型DMOSトランジスタQd1のゲート-ソース間の電圧Vg2は上昇する。電圧Vg2が上昇してN型DMOSトランジスタQd1のしきい電圧Vthを超えると、N型DMOSトランジスタQd1はオン状態となる。
 N型DMOSトランジスタQd1のゲート-ソース間電圧Vg2がしきい電圧Vthに達したとき、出力電圧VOUTは「VDD-Vth」となる。ここで、制御回路20がN型DMOSトランジスタQd1のゲートに印加している電源電圧VDDは、「V1+Vth」より十分に高い電圧である(VDD>V1+Vth)。そのため、「VDD-Vth」は第1電圧V1より十分高い電圧となる(VDD-Vth>V1)。従って、出力電圧VOUTが「VDD-Vth」まで低下したときも、第1のP型MOSトランジスタQp1は引き続きオン状態に維持される。すなわち、N型DMOSトランジスタQd1とN型MOSトランジスタQn1が共にオン状態となり、出力端子T2とグランドはトランジスタ(Qd1,Qp1,Qn1)によって短絡される。また、N型DMOSトランジスタQd1及び第1のP型MOSトランジスタQp1がオン状態のため、N型DMOSトランジスタQd1の寄生ダイオードD1にはほとんど電流が流れない。
 不図示のプルアップ抵抗の電圧降下によって出力電圧VOUTが更に低下し、第1のP型MOSトランジスタQp1のしきい電圧である第1電圧V1より低くなると、第1のP型MOSトランジスタQp1はオフ状態となる。他方、N型DMOSトランジスタQd1のゲート-ソース間電圧Vg2は、出力電圧VOUTの低下によって更に上昇するため、N型DMOSトランジスタQd1は引き続きオン状態に維持される。従って、出力端子T2とグランドはトランジスタ(Qd1,Qn1)によって短絡される。N型DMOSトランジスタQd1がオン状態のため、N型DMOSトランジスタQd1の寄生ダイオードD1にはほとんど電流が流れない。
 以上により、N型MOSトランジスタQn1がオンする場合、寄生ダイオードD1へ電流が流れることなく、出力電圧VOUTは電源電圧VDDからグランド電位VSS近くまで低下する。
 次に、出力電圧VOUTがグランド電位VSSより低い異常状態の動作について述べる。この場合、第1のP型MOSトランジスタQp1のゲート-ソース間電圧はしきい電圧(第1電圧V1)より低くなるため、第1のP型MOSトランジスタQp1はオフする。また、制御回路20は、出力端子T2の電位を基準とするN型DMOSトランジスタQd1のゲートの電圧Vg2をしきい値Vthより低い電圧(例えばゼロ)に設定するため、N型DMOSトランジスタQd1もオフ状態となる。出力電圧VOUTがグランド電位VSSより低くなると、N型DMOSトランジスタQd1の寄生ダイオードD1には逆方向の電圧が加わるため電流が流れない。また、第1のP型MOSトランジスタQp1のバルクには電源電圧VDDが印加されるため、第1のP型MOSトランジスタQp1の寄生ダイオードにも逆方向の電圧が加わり、電流が流れない。従って、グランドと出力端子T2との間の電流経路が全て遮断されるため、グランドから出力端子T2へ逆流電流は流れない。
 以上説明したように、本実施形態に係る半導体集積回路装置によれば、誤接続等によって出力電圧VOUTがグランド電位VSSより低い異常な状態となった場合、N型DMOSトランジスタQd1及び第1のP型MOSトランジスタQp1がオフ状態になるとともに、それらの寄生ダイオードには逆方向に電圧が加わって電流が流れないため、グランドから出力端子T2へ逆流電流が流れることを確実に防止できる。
 また、本実施形態に係る半導体集積回路装置によれば、出力電圧VOUTがグランド電位VSSより高い通常の状態において、N型DMOSトランジスタQd1のゲートには、「V1+Vth」より高い電源電圧VDDが印加される。出力電圧VOUTが第1電圧V1より高い場合(VOUT>V1)、第1のP型MOSトランジスタQp1がオンし、出力電圧VOUTが「VDD-Vth」より低い場合(VDD-Vth>VOUT)、N型DMOSトランジスタQd1がオンし、出力電圧VOUTが「VDD-Vth」より低く第1電圧V1より高い場合(VDD-Vth>VOUT>V1)、N型DMOSトランジスタQd1及び第1のP型MOSトランジスタQp1の両方がオンする。すなわち、並列に接続されたN型DMOSトランジスタQd1及び第1のP型MOSトランジスタQp1の少なくとも一方がオン状態となり、N型DMOSトランジスタQd1の寄生ダイオードD1には電流が流れない。そのため、寄生ダイオードD1における不要な電力損失を抑えることができ、発熱による回路特性の劣化等を防止できる。
<第2の実施形態>
 次に、本発明の第2の実施形態について説明する。
 図3は、第2の実施形態に係る半導体集積回路装置の構成の一例を示す図である。本実施形態に係る半導体集積回路装置は、図1に示す半導体集積回路装置における制御回路20の構成を具体化したものであり、その他の構成は図1に示す半導体集積回路装置と同じである。
 図3に示す半導体集積回路装置において、制御回路20は、N型DMOSトランジスタQd1のゲートとソースの間に接続された抵抗R1と、電圧出力回路21を有する。電圧出力回路21は、出力電圧VOUTがグランド電位VSSより高い正常な状態において、N型DMOSトランジスタQd1のゲートに第2電圧V2(V2>V1+Vth)として電源電圧VDDを出力し、出力電圧VOUTがグランド電位VSSより低い異常な状態においては、出力インピーダンスを高インピーダンス状態とする。
 電圧出力回路21は、例えば図3において示すように、第2のP型MOSトランジスタQp2と比較回路22を有する。
 第2のP型MOSトランジスタQp2は、電源電圧VDDの電源ライン(第2電源ライン)とN型DMOSトランジスタQd1のゲートとの間に接続されており、バルクに電源電圧VDDが印加される。
 比較回路22は、出力電圧VOUTとグランド電位VSSとを比較し、出力電圧VOUTがグランド電位VSSより高い場合には第2のP型MOSトランジスタQp2をオンさせるローレベルの電圧(例えばグランド電位VSS)を出力し、出力電圧VOUTがグランド電位VSSより低い場合には第2のP型MOSトランジスタQp2をオフさせるハイレベルの電圧(例えば電源電圧VDD)を出力する。
 上記の構成によれば、誤接続等によって出力電圧VOUTがグランド電位VSSより低い異常な状態となった場合、電源電圧VDDの電源ラインとN型DMOSトランジスタQd1のゲートとの間に接続された第2のP型MOSトランジスタQp2がオフ状態となることによって、電圧出力回路21の出力が高インピーダンス状態となり、N型DMOSトランジスタQd1のゲートは抵抗R1を介して出力端子T2に接続される。これにより、N型DMOSトランジスタQd1のゲートとソースがほぼ同電位となり、N型DMOSトランジスタQd1はオフ状態となる。従って、既に説明した図1の半導体集積回路装置と同様の動作により、グランドから出力端子T2へ逆流電流が流れることを防止できる。
 また、出力電圧VOUTがグランド電位VSSより高い正常状態では、第2のP型MOSトランジスタQp2がオン状態となって、N型DMOSトランジスタQd1のゲートには電源電圧VDDが印加される。従って、既に説明した図1の半導体集積回路装置と同様の動作により、並列に接続されたN型DMOSトランジスタQd1及び第1のP型MOSトランジスタQp1の少なくとも一方がオン状態となるため、寄生ダイオードD1に電流が流れることによる不要な電力損失を抑えることができる。
 以上、本発明の幾つかの実施形態について説明したが、本発明は上述した実施形態にのみ限定されるものではなく、種々のバリエーションを含んでいる。
 例えば、図1,図3に示す半導体集積回路装置では、第1スイッチング回路11としてN型MOSトランジスタ(Qn1)を用いているが、本発明はこれに限定されるものではなく、他の種類のスイッチング素子を用いてもよい。また、図1,図3に示す半導体集積回路装置では、第2スイッチング回路12としてP型MOSトランジスタ(Qp1)を用いているが、出力電圧VOUTが所定の第1電圧Vより高くなるとオン状態となり、第1電圧V1より低くなるとオフ状態となるスイッチング素子であって、グランドから出力端子T2への逆流電流が流れないものであれば、他の種類のスイッチング素子を用いてもよい。
 出力端子T2とグランドとの電流経路に設けられたトランジスタ(Qd1,Qn1,Qp1)は、それぞれ単一のトランジスタで構成してもよいし、電流容量やレイアウトの都合に応じて、複数の同一種類のトランジスタを並列に設けてもよい。
 11…第1スイッチング回路、12…第2スイッチング回路、20…制御回路、21…電圧出力回路、22…比較回路、Qd1…N型DMOSトランジスタ、Qn1…N型MOSトランジスタ、Qp1…第1のP型MOSトランジスタ、Qp2…第2のP型MOSトランジスタ、D1,D2…寄生ダイオード、T1…グランド端子、T2…出力端子、VSS…グランド電位、VDD…電源電圧、VOUT…出力電圧。
 

Claims (5)

  1.  信号を出力するための出力端子と、
     前記出力端子と第1電源ラインとの間の電流経路に設けられ、入力信号に応じてオン又はオフする第1スイッチング回路と、
     前記出力端子と前記第1スイッチング回路との間の電流経路に設けられ、ソースが前記出力端子に接続され、ドレインが前記第1スイッチング回路に接続され、ゲートの電位が前記ソースの電位に比べてしきい電圧より高くなるとオンするN型DMOSトランジスタと、
     前記N型DMOSトランジスタと並列に接続され、前記第1電源ラインの電位を基準とする前記出力端子の電圧が正の第1電圧より高くなるとオンする第2スイッチング回路と、
     前記出力端子の電位が前記第1電源ラインの電位より高い場合、前記第1電源ラインの電位を基準とする前記N型DMOSトランジスタのゲートの電圧を前記第1電圧に比べて前記しきい電圧より高い第2電圧に設定し、前記出力端子の電位が前記第1電源ラインの電位より低い場合、前記出力端子の電位を基準とする前記N型DMOSトランジスタのゲートの電圧を前記しきい値より低い電圧に設定する制御回路と
     を有することを特徴とする半導体集積回路装置。
  2.  前記第2スイッチング回路は、ソースが前記出力端子に接続され、ドレインが前記第1スイッチング回路に接続され、ゲートが前記第1電源ラインに接続された第1のP型MOSトランジスタを含む
     ことを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路装置。
  3.  前記制御回路は、
      前記N型DMOSトランジスタのゲートとソースの間に接続された抵抗と、
      前記出力端子の電位が前記第1電源ラインの電位より高い場合、前記N型DMOSトランジスタのゲートに前記第2電圧を出力し、前記出力端子が前記第1電源ラインより低電位の場合、出力インピーダンスを高インピーダンス状態にする電圧出力回路と
     を含むことを特徴とする請求項2に記載の半導体集積回路装置。
  4.  前記電圧出力回路は、
      前記第1電源ラインに対して前記第2電圧を有する第2電源ラインと前記N型DMOSトランジスタのゲートとの間に接続された第2のP型MOSトランジスタと、
      前記出力端子の電圧と前記第1電源ラインの電圧とを比較し、当該比較結果に応じて前記第2のP型MOSトランジスタをオン又はオフさせる電圧を前記第2のP型MOSトランジスタのゲートに出力する比較回路と
     を含むことを特徴とする請求項3に記載の半導体集積回路装置。
  5.  前記第1のP型MOSトランジスタ及び前記第2のP型MOSトランジスタのN型ウェルが前記第2電源ラインに接続されている
     ことを特徴とする請求項4に記載の半導体集積回路装置。
     
PCT/JP2014/081063 2014-01-31 2014-11-25 半導体集積回路装置 WO2015114923A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015559742A JP6177939B2 (ja) 2014-01-31 2014-11-25 半導体集積回路装置
EP14881373.6A EP3101686B1 (en) 2014-01-31 2014-11-25 Semiconductor integrated circuit device
US15/214,078 US9559681B2 (en) 2014-01-31 2016-07-19 Semiconductor integrated circuit device

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014-018026 2014-01-31
JP2014018026 2014-01-31

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US15/214,078 Continuation US9559681B2 (en) 2014-01-31 2016-07-19 Semiconductor integrated circuit device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2015114923A1 true WO2015114923A1 (ja) 2015-08-06

Family

ID=53756517

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2014/081063 WO2015114923A1 (ja) 2014-01-31 2014-11-25 半導体集積回路装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9559681B2 (ja)
EP (1) EP3101686B1 (ja)
JP (1) JP6177939B2 (ja)
WO (1) WO2015114923A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020145346A (ja) * 2019-03-07 2020-09-10 ローム株式会社 半導体装置
CN113037687A (zh) * 2019-12-24 2021-06-25 中移物联网有限公司 一种流量识别方法及电子设备

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11522363B2 (en) * 2018-09-03 2022-12-06 Stmicroelectronics S.R.L. Supply protection circuit that protects power transistor from a supply signal of an incorrect polarity
CN112968518B (zh) * 2021-03-11 2022-10-14 湖南国科微电子股份有限公司 一种包括后备电源的供电系统

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02122665A (ja) * 1988-09-27 1990-05-10 Sgs Thomson Microelettronica Spa 電源バッテリの極性の反転に対して自己保護されている集積回路
JPH11191595A (ja) * 1997-12-25 1999-07-13 Seiko Epson Corp 半導体装置及び電子機器
JP2000058756A (ja) 1998-04-27 2000-02-25 Stmicroelectronics Srl 双方向電子スイッチ
JP2014011233A (ja) * 2012-06-28 2014-01-20 Alps Electric Co Ltd 保護回路

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0305936A3 (en) * 1987-08-31 1991-03-27 National Semiconductor Corporation Mos ic reverse battery protection
DE4432957C1 (de) * 1994-09-16 1996-04-04 Bosch Gmbh Robert Schaltmittel
DE19509024C1 (de) * 1995-03-13 1996-10-31 Sgs Thomson Microelectronics Integrierte Halbleiterschaltung (steuerbarer Halbleiterschalter) mit Schutz gegen zu negatives Potential
US6413806B1 (en) * 2000-02-23 2002-07-02 Motorola, Inc. Semiconductor device and method for protecting such device from a reversed drain voltage
US6650520B2 (en) * 2001-10-26 2003-11-18 Koninklijke Philips Electronics N.V. Power supply reverse bias protection circuit for protecting both analog and digital devices coupled thereto
DE102006013203B3 (de) 2006-03-22 2008-01-10 Infineon Technologies Ag Integrierte Halbleiteranordnung mit Rückstromkomplex zur Verringerung eines Substratstroms und Verfahren zu deren Herstellung
US8013475B2 (en) * 2007-03-15 2011-09-06 Infineon Technologies Ag Reverse voltage protected integrated circuit arrangement for multiple supply lines
US7911260B2 (en) * 2009-02-02 2011-03-22 Infineon Technologies Ag Current control circuits
JP6198642B2 (ja) * 2014-03-06 2017-09-20 アルプス電気株式会社 電圧選択回路及びこれを有する半導体集積回路装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02122665A (ja) * 1988-09-27 1990-05-10 Sgs Thomson Microelettronica Spa 電源バッテリの極性の反転に対して自己保護されている集積回路
JPH11191595A (ja) * 1997-12-25 1999-07-13 Seiko Epson Corp 半導体装置及び電子機器
JP2000058756A (ja) 1998-04-27 2000-02-25 Stmicroelectronics Srl 双方向電子スイッチ
JP2014011233A (ja) * 2012-06-28 2014-01-20 Alps Electric Co Ltd 保護回路

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP3101686A4

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020145346A (ja) * 2019-03-07 2020-09-10 ローム株式会社 半導体装置
JP7295662B2 (ja) 2019-03-07 2023-06-21 ローム株式会社 半導体装置
CN113037687A (zh) * 2019-12-24 2021-06-25 中移物联网有限公司 一种流量识别方法及电子设备
CN113037687B (zh) * 2019-12-24 2022-09-16 中移物联网有限公司 一种流量识别方法及电子设备

Also Published As

Publication number Publication date
US9559681B2 (en) 2017-01-31
EP3101686A1 (en) 2016-12-07
US20160329886A1 (en) 2016-11-10
JPWO2015114923A1 (ja) 2017-03-23
JP6177939B2 (ja) 2017-08-09
EP3101686B1 (en) 2019-04-17
EP3101686A4 (en) 2017-11-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101870995B1 (ko) 반도체 집적회로의 esd 보호 회로
US9337651B2 (en) Electrostatic discharge protection circuit
US7643258B2 (en) Methods and apparatus for electrostatic discharge protection in a semiconductor circuit
US8228650B2 (en) Input-output interface circuit, integrated circuit device and electronic apparatus
US8937793B2 (en) Semiconductor device
US20130188287A1 (en) Protection circuit, charge control circuit, and reverse current prevention method employing charge control circuit
CN107004638B (zh) 半导体集成电路
JP6177939B2 (ja) 半導体集積回路装置
US9374074B2 (en) Voltage selection circuit and semiconductor integrated circuit device having the same
JP2007214420A (ja) 半導体集積回路
EP3309836A1 (en) Electrostatic discharge circuit
JP6332601B2 (ja) 半導体集積回路装置
TWI500230B (zh) ESD protection circuit
US20100149704A1 (en) Esd protection circuit
US11824349B2 (en) Electrostatic discharge protection circuit
US10396068B2 (en) Electrostatic discharge protection device
US20140334046A1 (en) Semiconductor circuit
US8085604B2 (en) Snap-back tolerant integrated circuits
US11190012B2 (en) Electrostatic protection circuit
US7295039B2 (en) Buffer circuit
JP5332528B2 (ja) 電子回路および電圧検出回路
KR101555712B1 (ko) 풀다운 회로 및 반도체 장치
WO2015060095A1 (ja) センサ装置
JP6222381B2 (ja) 半導体装置および負電位印加防止方法
CN111786642A (zh) 具有端口电压保护功能的推挽结构端口输出电路

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 14881373

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

REEP Request for entry into the european phase

Ref document number: 2014881373

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2014881373

Country of ref document: EP

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2015559742

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE