WO2015105272A1 - 투명 다색필름, 그의 제조방법 및 그의 제조에 사용되는 광반사층 코팅필름 - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to a transparent multi-color film that exhibits a variety of colors, a method for manufacturing the same, and a light reflection layer coating film used for the production thereof, wherein the light is formed on a design printed layer or hologram embossed layer formed by various methods such as gravure roll printing.
- the reflective layer is composed of an inorganic material or a mixture of inorganic and organic resins, and a coating layer having a refractive index of 1.65 or more is formed, and even though other materials such as a transparent adhesive are coated or adhered thereon, various colors of reflected light are printed depending on the printed or coated image.
- the present invention relates to a transparent multicolor film and a method for producing the same, wherein the intact or engraved image is retained.
- the present invention relates to a light reflection layer coating film for producing a transparent multi-color film and a method of manufacturing the same, and more specifically, to light on the base film layer 1 or the release layer 2 formed on the base film layer 1.
- a transparent polychromatic film made of an inorganic material or a mixture of an inorganic resin and an organic resin is formed to form a coating layer having a refractive index of 1.65 or more, and is coated or adhered to another material such as a transparent adhesive on a coating layer which is a light reflection layer during the transparent polychromatic film manufacturing process.
- the present invention relates to a light reflecting layer coating film for manufacturing a transparent multi-colored film and a method of manufacturing the same, which may maintain reflected light of various colors as it is, according to a printed, stamped or coated image in a transparent state.
- a transparent hologram film which is a type of conventional transparent multicolor film, in International Patent Application No. PCT / US2006 / 021279, a hologram embossing layer is formed by coating a base film layer with a resin for forming a hologram embossing layer, which is a room temperature curable resin, and then engraving the surface.
- the hologram film manufactured by the method is shown.
- the conventional hologram film does not have a light reflection layer, when a material such as a transparent adhesive is coated on the hologram embossing layer, the hologram image disappears.
- Japanese Patent Application Laid-Open No. 06-166299 disclose vacuum coating inorganic materials such as ZnS on the hologram embossing layer by vacuum deposition.
- the hologram film in which the reflection layer (transparent deposition layer) was formed is shown.
- the conventional transparent hologram film having various colors due to the thickness difference and the reflection angle difference of the embossing layer is provided with a light reflection layer to maintain the hologram image even when a material such as a transparent adhesive is coated thereon.
- a material such as a transparent adhesive
- a method of manufacturing a transparent hologram film by forming a light reflection layer on a hologram layer embossing layer by vacuum deposition of an inorganic material using an electron beam is also known, but the conventional technique also has a lot of problems in production because the manufacturing cost is too expensive. Occurred.
- the object of the present invention is to use a high-reflective light reflecting layer formed on the design printing layer or hologram embossing layer formed by a method such as resin coating or printing without the problem of corrosion of the device without the problem of corrosion of the device without using a high vacuum equipment to the other number on the light reflection layer
- the transparent rainbow film, transparent aurora film, transparent which maintains the multi-colored design image or the imprinted image and reflectance according to the printing or coating conditions of the design printing layer even when a material such as adhesive or adhesive is coated or laminated. It is to provide a transparent multicolored film called a hologram film or the like and a method of manufacturing the same.
- Yet another object of the present invention is to use a high vacuum refractive index film manufacturing process by forming a high refractive index light reflecting layer on the release film formed on the base film or the base film without the problem of corrosion, but the device cost is low because no high vacuum equipment is used.
- a transparent rainbow film in which a multicolor design image (design) and reflectance are maintained according to a printed, stamped or coated image even when other resins or adhesives are coated or laminated on the light reflection layer.
- a light reflecting layer coating film for producing a transparent multi-color film called a transparent aurora film, a transparent hologram film and the like, and a method of manufacturing the same.
- a transparent polychromatic film is prepared by forming a coating layer made of an inorganic material or a mixture of an inorganic material and an organic resin and having a refractive index of 1.65 or more as a light reflection layer on a design printed layer or a hologram embossing layer. .
- a reflective coating film was prepared.
- the present invention can prevent the corrosion of the device due to sulfur (S) molecules compared to forming a light reflection layer by a conventional vacuum deposition method, and can be produced at a low cost and a large amount of production without the need for high vacuum equipment.
- S sulfur
- the transparent multicolor film of the present invention is coated with a light reflection layer on the design printing layer, even if other resins or adhesives are coated on the portion, the multicolor image or the imprinted image is maintained without being lost.
- the prepared multicolor film is maintained as it is without losing the multicolor image.
- the light reflection layer is formed by the coating method as in the present invention, the following remarkable effects can be obtained when compared with the conventional method of forming the light reflection layer (transparent deposition layer) by the deposition method.
- the conventional method requires an expensive and high vacuum equipment
- the present invention can form a light reflection layer with a low cost general coating equipment
- the conventional method has a problem of corrosion of the high vacuum equipment to form a light reflection layer, in the present invention, there is no problem of corrosion of the coating equipment,
- the deposition method of the conventional method is carried out in a vacuum (batch type) in the vacuum chamber, the process of high vacuum in the vacuum chamber takes a lot of cost and time, so small production is difficult and rolls of more than 20,000m in roll units
- the coating method of the present invention is a continuous process, a small amount of work can be as much as the user wants, cost / time is reduced,
- the manufacturing cost is significantly reduced compared to the transparent hologram film prepared by the present invention by the conventional method.
- FIGS. 1 to 4 are cross-sectional schematic diagrams of the present invention multicolor film, which is a transparent rainbow film type used as a product for lamination.
- 5 to 8 are schematic cross-sectional views of the present invention transparent multi-color film of the transparent rainbow film type used as a transfer product.
- FIG. 9 is a schematic view showing an image of a printing roll for forming a design printed layer.
- 10 to 13 are schematic cross-sectional views of the present invention transparent multi-color film of the type of transparent hologram film used as a product for lamination.
- FIG. 14 to 17 are schematic cross-sectional views of the present invention transparent multicolor film of the type of transparent hologram film used as a transfer article.
- 18 to 19 is a schematic cross-sectional view of the light reflection layer coating film for producing a transparent multi-color film according to the present invention.
- 20 to 21 is a schematic cross-sectional view of a transparent multi-color film produced using the light reflection layer coating film for producing a transparent multi-color film of the present invention Figures 18 to 19.
- the transparent rainbow film type transparent multi-color film according to the present invention is used as a product for lamination, as a first embodiment, as shown in Figs. 1 to 2 (i) the base film layer (1), (ii) A design printing layer 3 formed on the base film layer 1 and (iii) a light reflection layer 4 formed on the design printing layer 3, wherein the light reflection layer 4 comprises an inorganic material or an inorganic material and an organic material resin. It is composed of one selected from a mixture of and consists of a coating layer having a refractive index of at least 1.65.
- the transparent rainbow film type transparent multi-color film according to the present invention is used as a product for lamination, as a second embodiment, as shown in Figs. 3 to 4 (i) the base film layer (1), (ii) A light reflection layer 4 'formed on the base film layer 1, (iii) a design print layer 3 formed on the light reflection layer 4' and (iv) a light reflection layer formed on the design print layer 3 ( 4), the light reflection layers (4, 4 ') is composed of one selected from inorganic materials or mixtures of inorganic and organic resins and consists of a coating layer having a refractive index of 1.65 or more.
- the reason for forming the light reflection layer once more on the base film layer 1 in the case of lamination is to strengthen the light intensity of the color in design.
- the transparent multi-color film of the present invention used as a product for lamination may further include an adhesive layer 5 on the light reflection layer 4, as shown in Figs.
- 1 to 4 are cross-sectional schematic diagrams of the present invention transparent multicolor film used as a product for lamination.
- the transparent rainbow type transparent multi-color film according to the present invention is used as a transfer product
- a third embodiment as shown in Figures 5 to 6 basically (i) the base film layer (1), (ii) a release layer (2) formed on the base film layer (1), (iii) a design print layer (3) formed on the release layer (2), (iv) a light reflection layer formed on the design print layer (3) (4), wherein the light reflection layer 4 is composed of an inorganic material or a mixture of inorganic and organic resins, and is composed of a coating layer having a refractive index of 1.65 or more.
- the fourth embodiment basically includes (i) the base film layer (1) and (ii) as shown in FIGS. Release layer 2 formed on the base film layer 1, (iii) Light reflection layer 4 'formed on the release layer 2, (iv) Design printed layer 3 formed on the light reflection layer 4' ), (v) a light reflection layer 4 again formed on the design printed layer 3, wherein the light reflection layers 4.4 'are composed of a coating layer having an index of refraction of 1.65 or more by being composed of an inorganic material or a mixture of inorganic and organic resins. do.
- the reason for forming the light reflection layer 4 'on the release layer 2 in advance in the case of the transfer is that the increase in the reflection light intensity of the color after the transfer and the blurring or disappearing of the multicolored image when the additional coating, printing or lamination is performed. This is to prevent.
- the transparent multicolor film of the present invention used as a transfer product may further include an adhesive layer 5 on the light reflection layer 4 as shown in FIGS. 6 and 8.
- 5 to 8 are cross-sectional schematic diagrams of the present invention transparent multicolor film used as a transfer article.
- the base film layer 1 is a transparent matte film or a matte film treated with a matte, in the case of a matte film is a matte multi-color film is produced.
- the inorganic material As another specific example of the inorganic material, (i) HfO 2 , ITO, MgO, T a2 O 5 , TiO 2 , ZrO 2 , Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF 2 , Sb 2 O 3 , having a refractive index of 1.65 or more, BaTiO 3 , Cr 2 O 3 , Cu 2 O, CuO, Fe 2 O 3 , Fe 2 O 4 , FeO, Mn 3 O 4 , MnO 2 , NiO Or a mixture thereof and (ii) Al 2 O 3 , CeF 3 , Na 3 AlF 6 , CaF 2 , MgF 2 , SiO 2 or mixtures thereof having a refractive index of less than 1.65.
- the organic resins constituting the light reflection layers 4, 4 ' are urethane resins, acrylic resins, polyester resins, vinyl resins, epoxy resins, melamine resins, amide resins or modified resins thereof, and the like. It is preferable that it is 0-200 weight part with respect to 100 weight part of silver minerals.
- the refractive index of the light reflection layer (4, 4 ') consisting of the coating layer is 1.65 or more, preferably 1.65 ⁇ 3.4, the reflected light intensity of the design printed layer (3) is large and can exhibit various colors, the adhesive layer (5) After the formation, the multi-color design image (top) can be maintained as it is.
- the inorganic material constituting the light reflection layers 4 and 4 ' is preferably 0.1 to 1,000 nm in particle size, preferably 0.1 to 100 nm, in order to maintain a good design of a multicolor.
- the inorganic material constituting the light reflection layer 4, 4 ' may be one kind of inorganic material having a refractive index of at least 1.65 or a mixture of two or more kinds of inorganic materials, and at least one inorganic material having a refractive index of less than 1.65 and at least one inorganic material having a refractive index of at least 1.65. It may be a mixture.
- the refractive index of the whole mixture should be maintained at 1.65 or higher.
- Transparent rainbow film type transparent multi-color film manufacturing method is a coating or printing roll (gradation of the resin layer for the design forming (engraved so that the thickness of the resin solution to be coated or printed depending on the pattern or design is different) A roll), which may be printed or coated on the base film 1 to form the design printed layer 3, and then the light reflection layer 4 may be formed thereon by a coating method.
- a coating or printing roll grade of the resin layer for the design forming (engraved so that the thickness of the resin solution to be coated or printed depending on the pattern or design is different) A roll
- the resin layer for design formation is coated with a uniform thickness
- a light reflection layer 4 is formed thereon by a coating method, and then the resin formation layer and the light reflection layer 4 are formed by a roll of heat and / or pressure together.
- a first method of manufacturing a transparent rainbow film type transparent multicolor film includes (i) forming a design printing layer 3 by coating a coating liquid for design formation on a base film 1; (ii) forming a light reflection layer 4 having a refractive index of 1.65 or more by coating a coating liquid for forming a light reflection layer on the design printed layer 3 to produce a transparent multicolor film.
- the transparent multicolor film manufactured by the first method has a cross-sectional structure shown in FIG. 1 and is used as a product for lamination.
- an adhesive is applied to the surface of a subject, and then the transparent multicolor film is attached thereto.
- the design printing layer 3 and the light reflection layer 4 are sequentially formed on the base film 1 by the first method.
- An adhesive layer 5 is further formed by coating a coating liquid for forming an adhesive on the light reflection layer 4 to prepare a transparent multicolor film.
- the transparent multicolor film manufactured by the second method has a cross-sectional structure shown in FIG. 2 and is used as a product for lamination.
- a third method of manufacturing a transparent holographic film of the transparent rainbow film type in the present invention (i) coating a coating liquid for forming a light reflection layer on the base film (1) to form a light reflection layer (4 ') having a refractive index of 1.65 or more. Process of doing; (ii) forming a design printing layer 3 by coating a coating liquid for design formation on the light reflection layer 4 '; (iii) coating the coating liquid for forming a light reflection layer on the design printing layer 3 to form a light reflection layer 4 having a refractive index of 1.65 or more; thereby producing a transparent multicolor film.
- the transparent multicolor film manufactured by the third method has a cross-sectional structure shown in FIG. 3 and is used as a product for lamination.
- an adhesive is applied to the surface of a subject, and then the transparent multicolor film is attached thereto.
- a fourth method of manufacturing a transparent multi-color film of the transparent rainbow type includes the light reflection layer 4 ', the design printing layer 3, and the light reflection layer 4 on the base film 1 by the third method. After forming in turn, the coating solution for forming an adhesive is coated on the light reflection layer 4 to further form an adhesive layer 5 to prepare a transparent multicolor film.
- the transparent multicolor film manufactured by the fourth method has a cross-sectional structure shown in FIG. 4 and is used as a product for lamination.
- the fifth method of manufacturing a transparent rainbow-colored film of the transparent rainbow type (i) a step of forming a release layer (2) by coating a coating liquid for forming a release layer on the base film (1); (ii) forming a design printing layer 3 by coating a coating liquid for design formation on the release layer 2; (iii) forming a light reflection layer 4 having a refractive index of 1.65 or more by coating a coating liquid for forming a light reflection layer on the design printed layer 3 to produce a transparent multicolor film.
- the transparent multicolor film manufactured by the fifth method has a cross-sectional structure shown in FIG. 5 and is used as a transfer product.
- an adhesive is applied to the surface of the object, and then the transparent multicolor film is attached thereto.
- the release layer (2), the design printing layer (3) and the light reflection layer (4) on the base film (1) in turn by the fifth method
- the coating solution for forming an adhesive is coated on the light reflection layer 4 to further form an adhesive layer 5 to prepare a transparent multicolor film.
- the transparent multicolor film manufactured by the sixth method has a cross-sectional structure shown in FIG. 6 and is used as a transfer product.
- the seventh method for producing a transparent multi-color film of the transparent rainbow film type (i) a step of forming a release layer (2) by coating a coating liquid for forming a release layer on the base film (1); (ii) forming a light reflection layer 4 'having a refractive index of at least 1.65 by coating a coating liquid for forming a light reflection layer on the release layer 2; (iii) forming a design printing layer 3 by coating a coating liquid for design formation on the light reflection layer 4 '; And (iv) coating the coating liquid for forming a light reflection layer on the design printing layer 3 to form a light reflection layer 4 having a refractive index of 1.65 or more.
- the transparent multicolor film manufactured by the seventh method has a cross-sectional structure shown in FIG. 7 and is used as a transfer product.
- an adhesive is applied to the surface of the object, and then the transparent multicolor film is attached thereto.
- the release layer (2), the light reflection layer (4 '), the design printing layer (3) on the base film (1) by the seventh method And after forming the light reflection layer (4), by coating the coating liquid for adhesive formation on the light reflection layer (4) to further form an adhesive layer (5) to prepare a transparent multi-color film.
- the transparent multicolor film manufactured by the eighth method has a cross-sectional structure shown in FIG. 8 and is used as a transfer product.
- the coating liquid for forming the light reflection layer may be composed of (i) an inorganic material and a solvent, and (ii) an inorganic material, an organic resin, and a solvent.
- the solvent constituting the coating liquid for forming the light reflection layer composed of an inorganic material and a solvent is water, alcohol, ketone or a mixture thereof.
- the solid content of the inorganic material in the coating liquid for forming the light reflection layer composed of the inorganic material and the solvent is preferably 0.01 to 30% by weight.
- the inorganic material in the coating liquid for forming the light reflection layer preferably has a particle diameter of 0.1 nm to 1,000 nm to maintain a multicolored phase satisfactorily.
- the inorganic material in the coating liquid for forming the light reflection layer may be a mixture of at least one inorganic material having a refractive index of 1.65 or more, or a mixture of at least one inorganic material having a refractive index of less than 1.65 and at least one inorganic material having a refractive index of 1.65 or more.
- the refractive index of the whole mixture should be maintained at 1.65 or higher.
- the inorganic material As another specific example of the inorganic material, (i) HfO 2 , ITO, MgO, T a2 O 5 , TiO 2 , ZrO 2 , Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF 2 , Sb 2 O 3 , having a refractive index of 1.65 or more, BaTiO 3 , Cr 2 O 3 , Cu 2 O, CuO, Fe 2 O 3 , Fe 2 O 4 , FeO, Mn 3 O 4 , MnO 2 , NiO Or a mixture thereof and (ii) Al 2 O 3 , CeF 3 , Na 3 AlF 6 , CaF 2 , MgF 2 , SiO 2 or mixtures thereof having a refractive index of less than 1.65.
- the organic resin in the coating liquid for forming the light reflection layer is used for the purpose of preventing sedimentation of inorganic materials, improving adhesion, and examples thereof include urethane resins, acrylic resins, polyester resins, vinyl resins, epoxy resins, melamine resins, and amide resins. Or these modified resins, and the content of the organic resin is preferably 0 to 200 parts by weight relative to 100 parts by weight of the inorganic material.
- a transparent multi-color film (hereinafter referred to as "transparent hologram film”), which is a transparent holographic film type according to the present invention, when used as a laminated product, as shown in Figures 10 to 11 (i) the base film layer ( 1), (ii) a hologram embossing layer 3 'formed on the base film layer 1, and (iii) a light reflection layer 4 formed on the hologram embossing layer 3', wherein the light reflection layer 4 ) Is composed of one kind selected from inorganic materials or mixtures of inorganic materials and organic resins, and consists of a coating layer having a refractive index of 1.65 or more.
- the transparent hologram film of the present invention used as a product for lamination may further include an adhesive layer 5 on the light reflection layer 4 as shown in Figs.
- 10 to 13 are cross-sectional schematic diagrams of the present invention transparent hologram film used as a product for lamination.
- the transparent hologram film according to the present invention is used as a transfer product, as shown in FIGS. 14 to 15, (i) a release film formed on the base film layer (1) and (ii) the base film layer (1) Layer (2), (iii) a hologram embossing layer (3 ') formed on the release layer (2), (iv) a light reflection layer (4) formed on the hologram embossing layer (3'), the light reflection layer ( 4) is composed of inorganic material or mixture of inorganic material and organic resin and consists of coating layer with refractive index of 1.65 or more.
- the transparent hologram film of the present invention used as a transfer product may further include an adhesive layer 5 on the light reflection layer 4 of FIGS. 14 and 15, as shown in FIGS. 16 to 17.
- 14 to 17 are cross-sectional schematic diagrams of the present invention transparent hologram film used as a transfer article.
- the inorganic material As another specific example of the inorganic material, (i) HfO 2 , ITO, MgO, T a2 O 5 , TiO 2 , ZrO 2 , Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF 2 , Sb 2 O 3 , having a refractive index of 1.65 or more, BaTiO 3 , Cr 2 O 3 , Cu 2 O, CuO, Fe 2 O 3 , Fe 2 O 4 , FeO, Mn 3 O 4 , MnO 2 , NiO Or a mixture thereof and (ii) Al 2 O 3 , CeF 3 , Na 3 AlF 6 , CaF 2 , MgF 2 , SiO 2 or mixtures thereof having a refractive index of less than 1.65.
- the organic resin constituting the light reflection layer 4 is used for the purpose of preventing sedimentation of inorganic materials, improving adhesion, and examples thereof include urethane resin, acrylic resin, polyester resin, vinyl resin, epoxy resin, melamine resin, and ami. Dide resin or modified resin thereof, and the content of the organic resin is preferably 0 to 200 parts by weight relative to 100 parts by weight of inorganic material.
- the adhesive layer 5 is compared to the reflected light intensity of the hologram embossing layer 4 before the adhesive layer 5 is formed.
- the reflection light intensity of the hologram embossing layer 4 after the formation can be maintained at a level of 50% or more, so that the hologram image can be maintained as it is even after the adhesive layer 5 is formed.
- the inorganic material constituting the light reflection layer 4 has a particle diameter of 0.1 to 1,000 nm, preferably 0.1 to 100 nm, so that the hologram image is preferably maintained.
- the inorganic material constituting the light reflection layer 4 may be a mixture of at least one inorganic material having a refractive index of at least 1.65 or at least two inorganic materials, or may be a mixture of at least one inorganic material having a refractive index of less than 1.65 and at least one inorganic material having a refractive index of at least 1.65. have.
- the refractive index of the whole mixture should be maintained at 1.65 or higher.
- the manufacturing method according to the present invention may form a holographic embossing layer 3 'by engraving a resin layer for forming a holographic embossing layer, and then form a light reflection layer thereon as a coating method. After forming the light reflection layer on the coating method in a state in which the resin layer is not inscribed, a transparent hologram film is prepared by engraving together the resin layer for forming the hologram embossing layer and the light reflection layer.
- the first method for producing a transparent hologram film (i) coating a coating liquid for forming a hologram embossing layer on the base film (1) to form a resin layer for forming a hologram embossing layer; (ii) forming a hologram embossing layer 3 'by engraving the resin layer for forming the embossing layer; And (iii) coating the coating liquid for forming a light reflection layer on the hologram embossing layer 3 'to form a light reflection layer 4 having a refractive index of 1.65 or more.
- the transparent hologram film manufactured by the first method has a cross-sectional structure shown in FIG. 10 and is used as a product for lamination. In the case of using as a product for lamination, after applying an adhesive to the surface of the subject, the transparent hologram film is attached thereto.
- the hologram embossing layer 3 'and the light reflection layer 4 are sequentially formed on the base film 1 by the first method, and then the light reflection layer 4 ) To form a transparent hologram film by coating the coating solution for adhesive formation on the adhesive layer 5.
- the transparent hologram film manufactured by the second method has a cross-sectional structure shown in FIG. 12 and is used as a product for lamination.
- a third method of manufacturing a transparent hologram film comprising the steps of (i) coating a coating liquid for forming a hologram embossing layer on the base film (1) to form a resin layer for forming a hologram embossing layer; (ii) forming a light reflection layer (4) having a refractive index of 1.65 or more by coating a coating liquid for forming a light reflection layer on the resin layer for forming the hologram embossing layer; And (iii) forming the hologram embossing layer 3 'by engraving together the resin layer for forming the embossing layer and the light reflection layer 4 together to produce a transparent hologram film.
- the transparent hologram film manufactured by the third method has a cross-sectional structure shown in FIG. 11 and is used as a product for lamination. In the case of using as a product for lamination, after applying an adhesive to the surface of the subject, the transparent hologram film is attached thereto.
- the hologram embossing layer 3 'and the light reflection layer 4 are formed on the base film 1 by the third method, and then the light reflection layer 4 is formed. Coating the coating liquid for adhesive formation thereon to further form an adhesive layer (5) to produce a transparent holographic film.
- the transparent hologram film manufactured by the fourth method has a cross-sectional structure shown in FIG. 13 and is used as a product for lamination.
- a fifth method of manufacturing a transparent hologram film comprising the steps of: (i) coating a coating liquid for forming a release layer on the base film (1) to form a release layer (2); (ii) coating a coating liquid for forming a hologram embossing layer on the release layer 2 to form a resin layer for forming a hologram embossing layer; (iii) forming a hologram embossing layer 3 'by engraving the resin layer for forming the embossing layer; And (iv) coating the coating liquid for forming a light reflection layer on the hologram embossing layer 3 'to form a light reflection layer 4 having a refractive index of 1.65 or more.
- the transparent hologram film manufactured by the fifth method has a cross-sectional structure shown in FIG. 14 and is used as a transfer product.
- an adhesive is applied to the surface of the object, and then the transparent hologram film is attached thereto.
- the holographic embossing layer 3 'and the light reflection layer 4 are sequentially formed on the base film 1 by the fifth method, and then the light reflection layer 4 is formed.
- the coating solution for adhesive formation on the adhesive layer 5 To form a transparent hologram film by coating the coating solution for adhesive formation on the adhesive layer 5.
- the transparent hologram film manufactured by the sixth method has a cross-sectional structure shown in FIG. 16 and is used as a transfer product.
- the seventh method of manufacturing a transparent hologram film (i) the step of forming a release layer (2) by coating a coating liquid for forming a release layer on the base film (1); (ii) coating a coating liquid for forming a hologram embossing layer on the release layer 2 to form a resin layer for forming a hologram embossing layer; (iii) forming a light reflection layer (4) having a refractive index of 1.65 or more by coating a coating liquid for forming a light reflection layer on the resin layer for forming the hologram embossing layer; And (iv) forming the hologram embossing layer 3 'by engraving together the resin layer for forming the embossing layer and the light reflection layer 4 together to produce a transparent hologram film.
- the transparent hologram film manufactured by the seventh method has a cross-sectional structure shown in FIG. 15 and is used as a transfer product.
- an adhesive is applied to the surface of the object, and then the transparent hologram film is attached thereto.
- a hologram embossing layer 3 'and a light reflection layer 4 are formed on the base film 1 by the seventh method, and then the light reflection layer 4 is formed. Coating the coating liquid for adhesive formation thereon to further form an adhesive layer (5) to produce a transparent holographic film.
- the transparent hologram film manufactured by the eighth method has a cross-sectional structure shown in FIG. 17 and is used as a product for lamination.
- the coating liquid for forming the light reflection layer may be composed of (i) an inorganic material and a solvent, and (ii) an inorganic material, an organic resin, and a solvent.
- the solvent constituting the coating liquid for forming the light reflection layer composed of an inorganic material and a solvent is water, alcohol, ketone or a mixture thereof.
- the solid content of the inorganic material in the coating liquid for forming the light reflection layer composed of the inorganic material and the solvent is preferably 0.01 to 30% by weight.
- Inorganic substances in the coating liquid for forming the light reflection layer preferably have a particle diameter of 0.1 to 1,000 nm to maintain the hologram satisfactorily.
- the inorganic material in the coating liquid for forming the light reflection layer may be a mixture of at least one inorganic material having a refractive index of 1.65 or more, or a mixture of at least one inorganic material having a refractive index of less than 1.65 and at least one inorganic material having a refractive index of 1.65 or more.
- the refractive index of the whole mixture should be maintained at 1.65 or higher.
- the inorganic substance include HfO 2 , ITO, MgO, T a2 O5, TiO 2 , ZrO 2 , Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF 2 , Sb 2 O 3 , BaTiO 3 , Cr 2 O having a refractive index of 1.65 or more. 3 , Cu 2 O, CuO, Fe 2 O 3 , Fe 2 O 4 , FeO, Mn 3 O 4 , MnO 2 , NiO Or mixtures thereof.
- the inorganic material As another specific example of the inorganic material, (i) HfO 2 , ITO, MgO, T a2 O 5 , TiO 2 , ZrO 2 , Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF 2 , Sb 2 O 3 , having a refractive index of 1.65 or more, BaTiO 3 , Cr 2 O 3 , Cu 2 O, CuO, Fe 2 O 3 , Fe 2 O 4 , FeO, Mn 3 O 4 , MnO 2 , NiO Or a mixture thereof and (ii) Al 2 O 3 , CeF 3 , Na 3 AlF 6 , CaF 2 , MgF 2 , SiO 2 or mixtures thereof having a refractive index of less than 1.65.
- the organic resin in the coating liquid for forming the light reflection layer is used for the purpose of preventing sedimentation of inorganic materials, improving adhesion, and examples thereof include urethane resins, acrylic resins, polyester resins, vinyl resins, epoxy resins, melamine resins, and amide resins. Or these modified resins, and the content of the organic resin is preferably 0 to 200 parts by weight relative to 100 parts by weight of the inorganic material.
- the light reflection layer coating film for producing a transparent multi-color film according to the present invention is (i) the base film layer (1) and (ii) the base as shown in FIG. It includes a light reflection layer (4) formed on the film layer (1), the light reflection layer (4) is characterized in that the coating layer is composed of one selected from inorganic and mixtures of inorganic and organic resins, the refractive index is 1.60 or more.
- the light reflection layer coating film of the present invention shown in Figure 18 is mainly used as a product for lamination.
- the light reflection layer coating film according to the present invention is characterized in that the release layer 2 is further formed between the base film layer 1 and the light reflection layer 4 of FIG. do.
- the light reflection layer coating film of the present invention shown in Figure 19 is mainly used as a transfer product.
- the method of manufacturing the light reflection layer coating film of the present invention shown in FIG. 18 includes a process of forming a light reflection layer 4 having a refractive index of 1.65 or more by coating a coating liquid for forming a light reflection layer on a base film.
- the method of manufacturing the light reflection layer coating film of the present invention shown in FIG. 19 includes the steps of (i) first coating a coating liquid for forming a release layer on a base film to form a release layer (2), and (ii) the release layer And coating a coating liquid for forming a light reflection layer on (2) to form a light reflection layer 4 having a refractive index of 1.65 or more.
- the coating liquid for light reflection layer formation is composed of an inorganic material and a solvent, or an inorganic material, an organic resin, and a solvent.
- the reason for forming the light reflection layer on both the upper and lower portions of the design printed layer is to make the light intensity of the color on the design stronger.
- the light reflecting layer is formed on both the upper and lower portions of the design printed layer to increase the light intensity of the color on the post-transfer design and to prevent the image image from blurring or disappearing during further coating or printing.
- the base film layer 1 and the base film are transparent glossy films or matte coated films.
- the base film layer 1 and the base film are composed of one or two or more copolymers selected from polyester, polyamide, polypropylene, polyethylene, polyurethane, polyacryl, and polyvinyl chloride.
- the inorganic material constituting the light reflection layer 4 (i) HfO 2 , ITO, MgO, T a2 O 5 , TiO 2 , ZrO 2 , Si, Ge, ZnSe, ZnS, having a refractive index of 1.65 or more; PbF 2, Sb 2 O 3, BaTiO 3 , Cr 2 O 3 , Cu 2 O, CuO, Fe 2 O 3 , Fe 3 O 4 , FeO, Mn 3 O 4 , MnO 2 , NiO, etc.
- a mixture thereof and (ii) Al 2 O 3 , CeF 3 , Na 3 AlF 6 , CaF 2 , MgF 2 , SiO 2 or the like, or a mixture thereof, having a refractive index of less than 1.65 may be used.
- the organic resin constituting the light reflection layer 4 is used for the purpose of preventing sedimentation of inorganic materials, improving adhesion, and examples thereof include urethane resin, acrylic resin, polyester resin, vinyl resin, epoxy resin, melamine resin, and ami. Dide resin or modified resin thereof, and the content of the organic resin is preferably 0 to 200 parts by weight relative to 100 parts by weight of inorganic material.
- the refractive index of the light reflection layer 4 is 1.65 or more, preferably 1.65 to 3.4, the reflected light intensity of the design printed layer 4 may be large, and thus various colors may be exhibited, and the multicolor design may be performed even after the adhesive layer 5 is formed. You can keep the image as it is.
- the inorganic material constituting the light reflection layer 4 preferably has a particle diameter of 0.1 to 1,000 nm, preferably 0.1 to 100 nm, in order to maintain a good design of multicolor.
- the inorganic material constituting the light reflection layer 4 may be a mixture of at least one inorganic material having a refractive index of at least 1.65 or at least two inorganic materials, or may be a mixture of at least one inorganic material having a refractive index of less than 1.65 and at least one inorganic material having a refractive index of at least 1.65. have.
- the refractive index of the whole mixture should be maintained at 1.65 or higher.
- Method for producing a transparent multi-color film using the light reflection layer coating film according to the present invention is a coating or printing roll (gradation of a pattern or design on the light reflection layer 4 constituting the light reflection layer coating film) Depending on the thickness of the resin solution to be coated or printed according to the printing or coating is rolled (engraved roll) to form a design printing layer (3) and then the light reflection layer (4) may be formed on the coating method thereon.
- a transparent multicolor film may be manufactured by coating a resin layer for forming a hologram with a uniform thickness and forming a light reflection layer thereon in a stamped manner, as in the method of a hologram film.
- the coating liquid for forming the light reflection layer may be composed of (i) an inorganic material and a solvent, and (ii) an inorganic material, an organic resin, and a solvent.
- the solvent constituting the coating liquid for forming a light reflection layer composed of an inorganic material and a solvent or an inorganic material, an organic resin, and a solvent is water, alcohol, ketone, or a mixture thereof.
- the solids content of the inorganic material in the coating liquid for forming the light reflection layer composed of the inorganic material and the solvent or the inorganic material, the organic material resin and the solvent is preferably 0.01 to 30% by weight.
- the inorganic material in the coating liquid for forming the light reflection layer preferably has a particle diameter of 0.1 nm to 1,000 nm to maintain a multicolored phase satisfactorily.
- the inorganic material in the coating liquid for forming the light reflection layer may be a mixture of at least one inorganic material having a refractive index of 1.65 or more, or a mixture of at least one inorganic material having a refractive index of less than 1.65 and at least one inorganic material having a refractive index of 1.65 or more.
- the refractive index of the whole mixture should be maintained at 1.65 or higher.
- the inorganic substance include HfO 2 , ITO, MgO, T a2 O5, TiO 2 , ZrO 2 , Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF 2, Sb 2 O 3, BaTiO 3 , Cr 2 O having a refractive index of 1.65 or more.
- Single substance such as 3 , Cu 2 O, CuO, Fe 2 O 3 , Fe 3 O 4 , FeO, Mn 3 O 4 , MnO 2 , NiO Or mixtures thereof.
- the inorganic material in the coating liquid for forming the light reflection layer (i) HfO 2 , ITO, MgO, T a2 O 5 , TiO 2 , ZrO 2 , Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF 2 having a refractive index of 1.65 or more Single products such as , Sb 2 O 3, BaTiO 3 , Cr 2 O 3 , Cu 2 O, CuO, Fe 2 O 3 , Fe 3 O 4 , FeO, Mn 3 O 4 , MnO 2 , NiO Alternatively, a mixture of these and (ii) Al 2 O 3 , CeF 3 , Na 3 AlF 6 , CaF 2 , MgF 2 , SiO 2 or the like having a refractive index of less than 1.65 may be used in combination.
- the organic resin in the coating liquid for forming the light reflection layer is a urethane resin, an acrylic resin, a polyester resin, a vinyl resin, an epoxy resin, a melamine resin, an amide resin, or a modified resin thereof, and the content of the organic resin is 100 parts by weight of inorganic material. It is preferably 0 to 200 parts by weight.
- coating and drying the light reflection layer-forming coating liquid contained 4% by weight and 3% by weight in isopropanol, respectively, to form a light reflection layer 4 and coating and drying the coating liquid for polyurethane-based adhesive layer formation on the light reflection layer to form an adhesive layer ( 5) to form a transparent multi-color film having a cross-sectional structure shown in FIG.
- the design printing layer was coated with a design roll of 20 wt% of a solid content of cellulose resin added to cellulose resin on a polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m with a design roll of FIG. (3) and then coating and drying the coating solution for forming a light reflection layer containing 8% by weight of ZrO 2 isopropanol with a particle size of 10 nm on the design printing layer (3) to form a light reflection layer (4)
- a transparent multicolored film having a cross-sectional structure shown in FIG. 1 was prepared.
- a coating solution for forming a light reflection layer containing 8 wt% of ZrO 2 with isopropanol having a particle size of 10 nm was coated and dried to form a light reflection layer 4 ′.
- the design liquid of 20 wt% of the solid content of the cellulose resin added to the acrylic resin on the light reflection layer 4 'with the design roll of FIG. 9 was passed through a drying chamber of hot air.
- the coating solution for forming a light reflection layer containing 8% by weight of ZrO 2 in isopropanol having a particle size of 10 nm is coated on the design printed layer 3 and dried to form a light reflection layer 4 as shown in FIG. 3.
- a transparent multicolored film having a cross sectional structure was prepared.
- the coating liquid for forming a light reflection layer containing 10% by weight of 10% by weight of TiO 2 methanol having a particle size on the design printing layer Coating and drying to form a light reflection layer (4) to prepare a transparent multi-color film having a cross-sectional structure shown in FIG.
- the design printing layer was coated with a design roll of 20 wt% of a solid content of cellulose resin added to cellulose resin on a polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m with a design roll of FIG. (3), and then coated and dried a coating solution for forming a light reflection layer containing 5 wt% and 2 wt% of ZrO 2 and SiO 2 each having a particle size of 10 nm on the design printed layer 3 After the light reflection layer 4 was formed, a polyurethane-based resin coating solution was coated on the light reflection layer and dried to form an adhesive layer 5 to prepare a transparent multicolor film having a cross-sectional structure shown in FIG. 2.
- a transparent acrylic resin solution was coated on a polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m to form a release layer 2, and then 20 weights of solids obtained by adding cellulose resin to an acrylic resin on the release layer 2.
- 9% of the coating solution for design formation was coated with the design roll of FIG. 9 to form a design printing layer 3 by passing through a drying chamber of hot air, and then the refractive index was 1.46 and the particle size was 10 nm on the design printing layer 3.
- Phosphorus SiO 2 was coated with a coating solution for forming a light reflection layer containing 8% by weight in methanol to form a light reflection layer (4) to produce a film having a cross-sectional structure shown in Figure 5, but the reflected light intensity is weak to use as a product It was a difficult state.
- Comparative Example 1 Except that the concentration of the coating liquid for forming a light reflection layer during the process of Comparative Example 1 was coated to 10% by weight, the rest of the process was carried out in the same manner, but there was no significant difference from Comparative Example 1.
- a transparent acrylic resin solution was coated on a polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m to form a release layer 2, and then 20 weights of solids obtained by adding cellulose resin to an acrylic resin on the release layer 2.
- 9% of the coating solution for design formation was coated with the design roll of FIG. 9 to form a design printing layer 3 by passing through a drying chamber of hot air, and then the particle size of which the refractive index was adjusted to 1.58 on the design printing layer 3 was adjusted.
- 10 nm of SiO 2 and ZrO 2 was coated with a coating solution for forming a light reflection layer mixed with methanol to form a light reflection layer 4 by coating and drying to form a film having a cross-sectional structure shown in FIG. It was weak and difficult to use as a product.
- a transparent acrylic resin solution was coated on a polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m to form a release layer 2, and then 20 weights of solids obtained by adding cellulose resin to an acrylic resin on the release layer 2.
- 9% of the coating liquid for design formation was coated with the design roll of FIG. 9 to form a design printing layer 3 by passing through a drying chamber of hot air, and then the refractive index was 1.63 and the particle size was 10 nm on the design printing layer 3.
- Phosphorus Al 2 O 3 is coated with a coating solution for forming a light reflection layer mixed with 8% by weight in ethanol and dried to form a light reflection layer (4) to produce a film having a cross-sectional structure shown in FIG. It was in a difficult state to use.
- Holographic embossing layer of 20% by weight of solid content obtained by coating a transparent acrylic resin solution on a polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m and then adding a cellulose resin to an acrylic urethane resin on the release layer.
- the coating liquid for coating was coated with a coating bar # 5 (corresponding to 200 printing copper plates) and dried in an oven for 30 seconds in an oven at 150 ° C. to form a resin layer for forming a hologram, and then pressurized and heated while passing it through a roll of roll.
- a coating solution for forming a light reflection layer containing 8 wt% of TiO 2 with isopropanol having a particle size of 10 nm is formed on the hologram embossing layer to form a light reflection layer.
- an adhesive layer type in which 200 g of polymethyl methacrylate resin was dissolved in a mixed solvent of 560 g of methyl ethyl ketone and 240 g of toluene on the light reflection layer.
- the coating liquid for coating was dried and a transparent hologram film having a cross-sectional structure shown in FIG. 7 was prepared.
- Reflected light intensity of the prepared transparent hologram film was measured by a Micro-Gloss E4460 glossmeter of BYK-Gardner company as a result of maintaining the 70% of the reflected light intensity of the hologram embossed layer in the state that the adhesive layer is not formed.
- Holographic embossing layer of 20% by weight of solid content obtained by coating a transparent acrylic resin solution on a polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m and then adding a cellulose resin to an acrylic urethane resin on the release layer.
- the coating liquid for coating was coated with a coating bar # 5 (corresponding to 200 printing copper plates) and dried in an oven for 30 seconds in an oven at 150 ° C. to form a resin layer for forming a hologram.
- a coating solution for forming a light reflection layer containing 5 wt% of TiO 2 having a particle size of 10 nm in methanol was coated and dried on the hologram embossing layer to form a light reflection layer.
- 200g of polymethyl methacrylate resin was dissolved in a mixed solvent of 560 g of methyl ethyl ketone and 240 g of toluene on the light reflection layer. Tingaek to prepare a coated and dried to a transparent hologram film having a sectional structure shown in Fig.
- Reflected light intensity of the prepared transparent hologram film was measured by a Micro-Gloss E4460 glossmeter of BYK-Gardner company as a result of maintaining the 70% of the reflected light intensity of the hologram embossed layer in the state that the adhesive layer is not formed.
- Holographic embossing layer of 20% by weight of solid content obtained by coating a transparent acrylic resin solution on a polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m and then adding a cellulose resin to an acrylic urethane resin on the release layer.
- the coating liquid for coating was coated with a coating bar # 5 (corresponding to 200 printing copper plates) and dried in an oven for 30 seconds in an oven at 150 ° C. to form a resin layer for forming a hologram, and then pressurized and heated while passing it through a roll of roll.
- a coating solution for forming a light reflection layer containing 5 wt% and 2 wt% of TiO 2 and SiO 2 each having a particle size of 10 nm on isopropanol was formed on the hologram embossing layer.
- 200g of polymethyl methacrylate resin is mixed with 560g of methyl ethyl ketone and 240g of toluene on the light reflection layer.
- the adhesive layer-forming coating solution was prepared in a coating, drying and a transparent hologram film having a sectional structure shown in Fig. 7 were dissolved in.
- Reflected light intensity of the prepared transparent hologram film was measured with a Micro-Gloss E4460 glossmeter of BYK-Gardner company, and maintained 50% of the reflected light intensity of the hologram embossed layer in which the adhesive layer was not formed.
- Holographic embossing layer of 20% by weight of solid content obtained by coating a transparent acrylic resin solution on a polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m and then adding a cellulose resin to an acrylic urethane resin on the release layer.
- the coating liquid for coating was coated with a coating bar # 5 (corresponding to 200 printing copper plates) and dried in an oven for 30 seconds in an oven at 150 ° C. to form a resin layer for forming a hologram.
- a coating solution for forming a light reflection layer containing 8% by weight of ITO having a particle size of 10 nm in methanol was coated and dried on the hologram embossing layer to form a light reflection layer.
- an adhesive layer forming nose in which 200 g of polymethyl methacrylate resin was dissolved in a mixed solvent of 560 g of methyl ethyl ketone and 240 g of toluene on the light reflection layer.
- a transparent holographic film by coating a solution, drying with a sectional structure shown in Figure 7 was prepared.
- Reflected light intensity of the prepared transparent hologram film was measured with a Micro-Gloss E4460 gloss meter of BYK-Gardner company, and maintained 80% of the reflected light intensity of the hologram embossed layer in which the adhesive layer was not formed.
- Holographic embossing layer of 20% by weight of solid content obtained by coating a transparent acrylic resin solution on a polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m and then adding a cellulose resin to an acrylic urethane resin on the release layer.
- the coating liquid for coating was coated with a coating bar # 5 (corresponding to 200 printing copper plates) and dried in an oven for 30 seconds in an oven at 150 ° C. to form a resin layer for forming a hologram, and then pressurized and heated while passing it through a roll of roll.
- a coating solution for forming a light reflection layer containing 8 wt% of TiO 2 having a particle size of 100 nm in methanol is coated and dried on the hologram embossing layer to form a light reflection layer.
- 200g of polymethyl methacrylate resin was dissolved in a mixed solvent of 560 g of methyl ethyl ketone and 240 g of toluene on the light reflection layer. Tingaek to prepare a coated and dried to a transparent hologram film having a sectional structure shown in Fig.
- Reflected light intensity of the prepared transparent hologram film was measured by a Micro-Gloss E4460 glossmeter of BYK-Gardner company as a result of maintaining the 75% level of the reflected light intensity of the holographic embossed layer in the adhesive layer is not formed.
- Holographic embossing layer of 20% by weight of solid content obtained by coating a transparent acrylic resin solution on a polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m and then adding a cellulose resin to an acrylic urethane resin on the release layer.
- the coating liquid for coating was coated with a coating bar # 5 (corresponding to 200 printing copper plates) and dried in an oven for 30 seconds in an oven at 150 ° C. to form a resin layer for forming a hologram, and then pressurized and heated while passing it through a roll of roll.
- a holographic embossing layer in which a crystal-shaped hologram was imprinted After forming a holographic embossing layer in which a crystal-shaped hologram was imprinted, and then forming a light reflection layer containing 4 wt% and 3 wt% of TiO 2 and Al 2 O 3 having a particle size of 50 nm on isopropanol on the hologram embossing layer, respectively.
- 200 g of polymethyl methacrylate resin was mixed with 560 g of methyl ethyl ketone and 240 g of toluene on the light reflection layer.
- the adhesive layer-forming coating liquid was dissolved in sheets to prepare a coated and dried to a transparent hologram film having a sectional structure shown in Fig.
- Reflected light intensity of the prepared transparent hologram film was measured by a Micro-Gloss E4460 glossmeter of BYK-Gardner company as a result of maintaining the 70% of the reflected light intensity of the hologram embossed layer in the state that the adhesive layer is not formed.
- Holographic embossing layer of 20% by weight of solid content obtained by coating a transparent acrylic resin solution on a polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m and then adding a cellulose resin to an acrylic urethane resin on the release layer.
- the coating liquid for forming with the coating bar # 5 (corresponding to 200 printing copper plate) and dried for 30 seconds in an oven at 150 °C heat to form a resin layer for forming the hologram
- the adhesive was dissolved in 200 g of polymethyl methacrylate resin in a mixed solvent of 560 g of methyl ethyl ketone and 240 g of toluene on
- the coating solution for layer formation was coated and dried to prepare a transparent hologram film having a cross-sectional structure shown in FIG. 8.
- Reflected light intensity of the prepared transparent hologram film was measured with a Micro-Gloss E4460 glossmeter of BYK-Gardner company, and maintained 100% of the reflected light intensity of the hologram embossed layer in which the adhesive layer was not formed.
- Holographic embossing layer of 20% by weight of solid content obtained by coating a transparent acrylic resin solution on a polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m and then adding a cellulose resin to an acrylic urethane resin on the release layer.
- the coating liquid for forming with the coating bar # 5 (corresponding to 200 printing copper plate) and dried for 30 seconds in an oven at 150 °C heat to form a resin layer for forming the hologram
- Holographic embossing layer of 20% by weight of solid content obtained by coating a transparent acrylic resin solution on a polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m and then adding a cellulose resin to an acrylic urethane resin on the release layer.
- the coating liquid for forming with the coating bar # 5 (corresponding to 200 printing copper plate) and dried for 30 seconds in an oven at 150 °C heat to form a resin layer for forming the hologram
- the particle size on the resin layer for forming the hologram 10 nm of TiO 2 and SiO 2 are coated with a coating solution for forming a light reflection layer containing 5% by weight and 2% by weight in methanol to form a light reflection layer, which is then pressed and heated while passing through a roll to form a crystal.
- the mixed solvent of 560 g of methyl ethyl ketone and 240 g of toluene 200 g of polymethyl methacrylate resin on the light reflection layer The coating solution for forming the adhesive layer dissolved in the coating and dried to prepare a transparent hologram film having a cross-sectional structure shown in FIG. Reflected light intensity of the prepared transparent hologram film was measured with a Micro-Gloss E4460 glossmeter of BYK-Gardner company, and maintained 50% of the reflected light intensity of the hologram embossed layer in which the adhesive layer was not formed.
- Holographic embossing layer of 20% by weight of solid content obtained by coating a transparent acrylic resin solution on a polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m and then adding a cellulose resin to an acrylic urethane resin on the release layer.
- the coating liquid for forming with the coating bar # 5 (corresponding to 200 printing copper plate) and dried for 30 seconds in an oven at 150 °C heat to form a resin layer for forming the hologram
- the particle size on the resin layer for forming the hologram 10 nm ITO is coated with a coating solution for forming a light reflection layer containing 8% by weight in ethanol and dried to form a light reflection layer, which is then pressed and heated while passing through an engraving roll to form a hologram embossed layer in which a crystal hologram is inscribed.
- the coating liquid for forming the hologram embossing layer of 20 weight% of solid content which added cellulose resin to the acrylic urethane resin on the polyester film (base film) of thickness 12micrometer was coated with the coating bar # 5 (200 printing copper plates). After drying in an oven for 30 seconds in a 150 °C heat to form a resin layer for forming a hologram, and then pressurized and heated while passing through a roll to form a holographic embossed layer of the crystal-shaped hologram, and then the hologram embossed layer After coating and drying the light reflection layer-forming coating solution containing 8% by weight of TiO 2 isopropanol having a particle size of 10 nm thereon to form a light reflection layer, 200 g of polymethyl methacrylate resin on the light reflection layer was 560 g of methyl ethyl ketone.
- Transparent hologram having a cross-sectional structure shown in Figure 3 by coating and drying the coating liquid for forming an adhesive layer dissolved in a mixed solvent of toluene and 240g A film was prepared.
- Reflected light intensity of the prepared transparent hologram film was measured with a Micro-Gloss E4460 gloss meter of BYK-Gardner company, and maintained 80% of the reflected light intensity of the hologram embossed layer in which the adhesive layer was not formed.
- the coating liquid for forming the hologram embossing layer of 20 weight% of solid content which added cellulose resin to the acrylic urethane resin on the polyester film (base film) of thickness 12micrometer was coated with the coating bar # 5 (200 printing copper plates). After drying for 30 seconds in an oven in 150 °C heat to form a resin layer for forming a hologram, the coating solution for forming a light reflection layer containing 8% by weight of TiO 2 isopropanol having a particle size of 10nm on the resin layer for forming the hologram.
- Reflected light intensity of the prepared transparent hologram film was measured with a Micro-Gloss E4460 gloss meter of BYK-Gardner company, and maintained 80% of the reflected light intensity of the hologram embossed layer in which the adhesive layer was not formed.
- Holographic embossing layer of 20% by weight of solid content obtained by coating a transparent acrylic resin solution on a polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m and then adding a cellulose resin to an acrylic urethane resin on the release layer.
- the coating liquid for coating was coated with a coating bar # 5 (corresponding to 200 printing copper plates) and dried in an oven for 30 seconds in an oven at 150 ° C. to form a resin layer for forming a hologram, and then pressurized and heated while passing it through a roll of roll.
- the coating solution for forming a light reflection layer containing 8 wt% of SiO 2 containing a refractive index of 1.46 and a particle size of 10 nm on methanol was coated and dried on the hologram embossing layer.
- 200 g of polymethyl methacrylate resin was dissolved in a mixed solvent of 560 g of methyl ethyl ketone and 240 g of toluene on the light reflection layer.
- a transparent holographic film for the tinted coating agent layer forming coating liquid and dried to also having a cross-sectional structure shown in Figure 7 was prepared.
- Reflected light intensity of the prepared transparent hologram film was measured with a Micro-Gloss E4460 glossmeter of BYK-Gardner company, and maintained 30% of the reflected light intensity of the hologram embossed layer in which the adhesive layer was not formed.
- Holographic embossing layer of 20% by weight of solid content obtained by coating a transparent acrylic resin solution on a polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m and then adding a cellulose resin to an acrylic urethane resin on the release layer.
- the coating liquid for coating was coated with a coating bar # 5 (corresponding to 200 printing copper plates) and dried in an oven for 30 seconds in an oven at 150 ° C. to form a resin layer for forming a hologram, and then pressurized and heated while passing it through a roll of roll.
- a coating solution for forming a light reflection layer containing 3 wt% of TiO 2 having a refractive index of 1.46 and a particle size of 10 nm on methanol was coated and dried on the hologram embossing layer.
- 200 g of polymethyl methacrylate resin was dissolved in a mixed solvent of 560 g of methyl ethyl ketone and 240 g of toluene on the light reflection layer.
- a transparent holographic film for the tinted coating agent layer forming coating liquid and dried to also having a cross-sectional structure shown in Figure 7 was prepared.
- Reflected light intensity of the prepared transparent hologram film was measured with a Micro-Gloss E4460 glossmeter of BYK-Gardner company, and maintained 20% of the reflected light intensity of the hologram embossed layer in which the adhesive layer was not formed.
- Holographic embossing layer of 20% by weight of solid content obtained by coating a transparent acrylic resin solution on a polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m and then adding a cellulose resin to an acrylic urethane resin on the release layer.
- the coating liquid for coating was coated with a coating bar # 5 (corresponding to 200 printing copper plates) and dried in an oven for 30 seconds in an oven at 150 ° C. to form a resin layer for forming a hologram.
- a coating solution for forming a light reflection layer containing 15 wt% of TiO 2 having a refractive index of 1.46 and a particle size of 10 nm on isopropanol was coated and dried on the hologram embossing layer.
- 200 g of polymethyl methacrylate resin was mixed with 560 g of methyl ethyl ketone and 240 g of toluene on the light reflection layer.
- For the melted adhesive layer forming coating solution was prepared by coating dried to a transparent hologram film having a sectional structure shown in Fig.
- Reflected light intensity of the prepared transparent hologram film was measured by a Micro-Gloss E4460 glossmeter of BYK-Gardner company as a result of maintaining the level of 10% of the reflected light intensity of the hologram embossed layer in the adhesive layer is not formed.
- Holographic embossing layer of 20% by weight of solid content obtained by coating a transparent acrylic resin solution on a polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m and then adding a cellulose resin to an acrylic urethane resin on the release layer.
- the coating liquid for coating was coated with Coating Bar # 5 (corresponding to 200 copper plates) and dried in an oven at 150 ° C. for 30 seconds to form a resin layer for forming a hologram, and a refractive index of 1.46 on the resin layer for forming a hologram.
- a light reflecting layer-forming coating solution containing 8 wt% of SiO 2 in methanol with a particle size of 10 nm was then pressed and heated while passing through an engraving roll to form a crystal hologram.
- 200 g of polymethyl methacrylate resin was added to the mixed solvent of 560 g of methyl ethyl ketone and 240 g of toluene on the light reflection layer.
- a coating liquid for forming the adhesive layer to prepare a coated, transparent holographic film has dried to a sectional structure shown in Fig.
- Reflected light intensity of the prepared transparent hologram film was measured with a Micro-Gloss E4460 glossmeter of BYK-Gardner company, and maintained 30% of the reflected light intensity of the hologram embossed layer in which the adhesive layer was not formed.
- a release layer After forming a release layer by coating a transparent acrylic resin solution on a polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m, the light containing 8% by weight of TiO 2 isopropanol having a particle size of 10 nm on the release layer
- the coating solution for forming a reflective layer was coated and dried to form a light reflection layer, thereby preparing a light reflection layer coating film for preparing a transparent multicolor film having a cross-sectional structure shown in FIG. 2.
- the coating liquid for design formation of 20% by weight of solid content added with a cellulose resin to an acrylic resin on the light reflection layer of the light reflection layer coating film shown in FIG. 2 was coated with the design coating roll of FIG. 9 and then passed through a drying chamber of hot air. After forming the print layer, the coating solution for forming the light reflection layer containing 8 wt% of TiO 2 with isopropanol having a particle size of 10 nm on the design printing layer and dried to form a light reflection layer, the cross-sectional structure shown in FIG. A transparent multicolor film having was prepared.
- a coating solution for forming a light reflection layer containing 8 wt% of TiO 2 having a particle size of 10 nm in isopropanol was dried and a light reflection layer was formed.
- a light reflection layer coating film for producing a transparent multicolor film having a cross-sectional structure was prepared.
- the coating solution for design formation of 20% by weight of solid content added with cellulose resin to acrylic resin on the light reflection layer of the light reflection layer coating film shown in FIG. 1 was coated with the design coating roll of FIG. 9 and then passed through a drying chamber of hot air. After forming the printed layer, the coating solution for forming a light reflection layer containing 8% by weight of TiO 2 isopropanol having a particle size of 10 nm on the design printing layer and dried to form a light reflection layer to form a cross-sectional structure shown in FIG. A transparent multicolor film having was prepared.
- a release layer After forming a release layer by coating a transparent acrylic resin solution on a polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m, and forming a light reflection layer containing 5% by weight of CuO having a particle size of 10 nm in methanol on the release layer
- the coating liquid for coating was dried to prepare a light reflection layer coating film having a light reflection layer having a cross-sectional structure shown in FIG. 2.
- the coating liquid for design formation of 20% by weight of solid content of cellulose resin added to the acrylic urethane resin on the light reflection layer of the light reflection layer coating film was coated with the design coating roll of FIG. 9 and then passed through a drying chamber of hot air to form a design printing layer. Then, a coating solution for forming a light reflection layer containing 10 wt% of CuO having a particle size of 10 nm in methanol on the design printed layer and dried to form a light reflection layer to form a transparent multicolor film having a cross-sectional structure shown in FIG. was prepared.
- polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m On the polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m, a coating solution for forming a light reflection layer containing 5 wt% of CuO having a particle size of 10 nm in methanol was coated and dried to have a light reflection layer having a cross-sectional structure shown in FIG. 1. This formed light reflection layer coating film was prepared.
- the coating liquid for design formation of 20% by weight of solid content of cellulose resin added to the acrylic urethane resin on the light reflection layer of the light reflection layer coating film was coated with the design coating roll of FIG. 9 and then passed through a drying chamber of hot air to form a design printing layer. Then, a coating material for forming a light reflection layer containing 10 wt% of CuO having a particle size of 10 nm in methanol on the design printed layer and dried to form a light reflection layer to form a transparent multicolor film having a cross-sectional structure shown in FIG. was prepared.
- a coating solution for forming a light reflection layer containing 8 wt% of ITO having a particle size of 10 nm in ethanol was coated and dried to form a light reflection layer.
- a light reflection layer coating film for preparing a transparent multicolor film having was prepared.
- the coating solution for design formation of 20% by weight of solid content added with cellulose resin to acrylic resin on the light reflection layer of the light reflection layer coating film shown in FIG. 1 was coated with the design coating roll of FIG. 9 and then passed through a drying chamber of hot air. After forming a printed layer, the coating solution for forming a light reflection layer containing 8 wt% of ITO having a particle size of 10 nm on ethanol was coated on the design print layer, and dried to form a light reflection layer. A transparent multicolor film was prepared.
- a release layer by coating a transparent acrylic resin solution on a polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m, a light reflection layer containing 8% by weight of SiO 2 of methanol having a particle size of 10 nm on the release layer
- a coating liquid for coating dried to form a light reflection layer to prepare a light reflection layer coating film having a cross-sectional structure shown in FIG.
- the coating liquid for design formation of 20% by weight of solid content of cellulose resin added to the acrylic urethane resin on the light reflection layer of the light reflection layer coating film was coated with the design coating roll of FIG. 9 and then passed through a drying chamber of hot air to form a design printing layer. Then, a coating solution for forming a light reflection layer containing 8 wt% of SiO 2 having a particle size of 10 nm in methanol on the design printed layer and dried to form a light reflection layer to have a transparent multicolored structure having a cross-sectional structure shown in FIG. 4. Although the film was manufactured, it was difficult to use as a product due to the low reflected light intensity.
- a release layer by coating a transparent acrylic resin solution on a polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m, a light reflection layer containing 10% by weight of SiO 2 in methanol having a particle size of 10 nm on the release layer
- a coating liquid for coating dried to form a light reflection layer to prepare a light reflection layer coating film having a cross-sectional structure shown in FIG.
- the coating liquid for design formation of 20% by weight of solid content of cellulose resin added to the acrylic urethane resin on the light reflection layer of the light reflection layer coating film was coated with the design coating roll of FIG. 9 and then passed through a drying chamber of hot air to form a design printing layer. Then, a coating solution for forming a light reflection layer containing 8 wt% of SiO 2 having a particle size of 10 nm in methanol on the design printed layer and dried to form a light reflection layer to have a transparent multicolored structure having a cross-sectional structure shown in FIG. 4. Although the film was manufactured, it was difficult to use as a product due to the low reflected light intensity.
- a release layer by coating a transparent acrylic resin solution on a polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m, a light reflection layer containing 15% by weight of SiO 2 of methanol having a particle size of 10 nm on the release layer
- a coating liquid for coating dried to form a light reflection layer to prepare a light reflection layer coating film having a cross-sectional structure shown in FIG.
- the coating liquid for design formation of 20% by weight of solid content of cellulose resin added to the acrylic urethane resin on the light reflection layer of the light reflection layer coating film was coated with the design coating roll of FIG. 9 and then passed through a drying chamber of hot air to form a design printing layer. Then, a coating solution for forming a light reflection layer containing 8 wt% of SiO 2 having a particle size of 10 nm in methanol on the design printed layer and dried to form a light reflection layer to have a transparent multicolored structure having a cross-sectional structure shown in FIG. 4. Although the film was manufactured, it was difficult to use as a product due to the low reflected light intensity.
- a release layer by coating a transparent acrylic resin solution on a polyester film (base film) having a thickness of 12 ⁇ m, a mixture of SiO 2 and ZrO 2 having a particle size of 10 nm on the release layer (1: 1) methanol 8 wt% of the coating liquid for forming a light reflection layer was coated and dried to form a light reflection layer to prepare a light reflection layer coating film having a cross-sectional structure shown in FIG.
- the coating liquid for design formation of 20% by weight of solid content of cellulose resin added to the acrylic urethane resin on the light reflection layer of the light reflection layer coating film was coated with the design coating roll of FIG. 9 and then passed through a drying chamber of hot air to form a design printing layer. Then, SiO 2 having a particle size of 10 nm on the design printed layer; ZrO 2 mixture (1: 1) 8 wt% of the coating solution for forming a light reflection layer in methanol was coated and dried to form a light reflection layer to prepare a transparent multicolor film having the cross-sectional structure shown in FIG. It was in a difficult state to use.
- a coating solution for forming a light reflection layer mixed with 8 wt% of Al 2 O 3 having a refractive index of 1.63 and a particle size of 10 nm was coated and dried to form a light reflection layer.
- a light reflection layer coating film having a cross-sectional structure shown in FIG. 1 was prepared.
- the coating liquid for design formation of 20% by weight of solid content of cellulose resin added to the acrylic urethane resin on the light reflection layer of the light reflection layer coating film was coated with the design coating roll of FIG. 9 and then passed through a drying chamber of hot air to form a design printing layer. Then, the coating solution for forming a light reflection layer mixed so that 8 wt% of Al 2 O 3 having the same particle size as 10 nm on ethanol was coated and dried on the design printed layer to form a light reflection layer as shown in FIG. Although a transparent multicolor film having a cross-sectional structure was manufactured, it was difficult to use as a product due to the low reflected light intensity.
- the transparent multicolored film of the present invention is used in various industrial fields as a film for food packaging, a decorative film and the like.
- the light reflection layer coating film of the present invention is used as a material for producing a transparent multicolor film of the present invention, which is called a transparent rainbow film, a transparent aurora film, a transparent hologram film, or the like.
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
본 발명에 따른 투명 다색 필름은 (i) 베이스 필름층(1), (ii) 상기 베이스 필름층(1) 위에 형성된 디자인 인쇄층(3) 또는 홀로그램 엠보싱층(3') 및 (iii) 상기 디자인 인쇄층(3) 또는 홀로그램 엠보싱층(3') 위에 형성된 광반사층(4)을 포함하며, 상기 광반사층(4)은 무기물 및 무기물과 유기물수지의 혼합물 중에서 선택된 1종으로 구성되며 굴절율이 1.65 이상인 코팅층인 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명의 투명 다색 필름은 디자인 인쇄층(3) 또는 홀로그램 엠보싱층(3') 위에 광반사층(4)이 코팅되어 있어서 상기 광반사층(4) 위에 다른 수지나 접착제 등이 추가로 코팅, 인쇄 또는 합지되어도 다색의 디자인상이나 인각된 상이 없어지지 않고 그대로 유지된다.
Description
본 발명은 투명하면서도 여러 가지 색상을 나타내는 투명 다색 필름, 그의 제조방법 및 그의 제조에 사용되는 광반사층 코팅필름에 관한 것으로서, 그라비아롤 인쇄 등과 같은 여러 가지 방법으로 형성된 디자인 인쇄층 또는 홀로그램 엠보싱층 위에 광반사층으로써 무기물 또는 무기물과 유기물수지의 혼합물로 구성되어 굴절율이 1.65 이상인 코팅층이 형성되어 그 위에 투명 접착제 등의 다른 물질이 코팅 또는 접착되어도 투명한 상태로 인쇄 또는 코팅된 이미지에 따라 여러 가지 색상의 반사광이 그대로 유지되거나 인각된 상이 그대로 유지되는 투명 다색 필름 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅필름 및 그의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 베이스 필름층(1) 또는 상기 베이스 필름층(1) 상에 형성된 이형층(2) 상에 광반사층으로써 무기물 또는 무기물과 유기물수지의 혼합물로 구성되어 굴절율이 1.65 이상인 코팅층이 형성되어, 투명 다색 필름 제조공정 중 광반사층인 코팅층 위에 투명 접착제 등의 다른 물질이 코팅 또는 접착되어도 제조된 투명 다색 필름이 투명한 상태로 인쇄, 인각 또는 코팅된 이미지에 따라 여러가지 색상의 반사광이 그대로 유지하도록 해 줄 수 있는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅필름 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
종래 투명 다색 필름의 일종인 투명 홀로그램 필름으로 국제특허출원 PCT/US2006/021279호에서는 베이스 필름 층에 상온 경화성 수지인 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지를 코팅한 후 그 표면을 인각 처리하여 홀로그램 엠보싱층을 형성하는 방법으로 제조된 홀로그램 필름을 게재하고 있다.
그러나, 상기 종래의 홀로그램 필름은 광반사층을 구비하지 않아 투명 접착제 등의 물질이 홀로그램 엠보싱층 위에 코팅되면 홀로그램 상이 사라지는 문제가 있었다.
또 다른 종래 투명 홀로그램 필름으로 일본 특개평06-166299호, 일본 공개특허 특개2010-240994호 및 일본 특개소61-292181호등에서는 홀로그램 엠보싱층 위에 진공증착방식으로 ZnS 등의 무기물을 진공 증착하여 광반사층(투명증착층)을 형성시킨 홀로그램 필름을 게재하고 있다.
상기 엠보싱층의 두께 차이와 반사각 차이에 의해 여러 가지 색상이 나타나는 종래의 투명 홀로그램 필름은 광반사층을 구비하여 그 위에 투명 접착제 등의 물질이 코팅되어도 홀로그램 상을 그대로 유지할 수 있지만, 고진공 설비 사용으로 원가가 상승하며 진공증착중 황(S) 분자로 인한 기기의 부식도 심하게 발생되는 문제점이 발생 되었다.
또 다른 종래 기술로서 전자빔을 이용한 무기물의 진공증착법으로 홀로그램층 엠보싱층 위에 광반사층을 형성시켜 투명 홀로그램 필름을 제조하는 방법도 알려져 있으나, 상기 종래기술 역시 제조원가가 너무 고가라서 생산에 제약이 많은 문제가 발생되었다.
본 발명의 과제는 고진공 설비를 사용하지 않아 제조원가가 저렴하면서도 기기의 부식문제 없이 수지 코팅 또는 인쇄 등의 방법으로 형성된 디자인 인쇄층 또는 홀로그램 엠보싱층 위에 고굴절율의 광반사층을 형성시켜 광반사층 위에 다른 수지나 접착제 등의 물질이 코팅 또는 합지되어도 상기 디자인 인쇄층의 인쇄 또는 코팅조건에 따라 다색의 디자인 이미지 또는 인각된 상과 반사율이 그대로 유지되는 투명 레인보우(rainbow) 필름, 투명 오로라(aurora)필름, 투명 홀로그램 필름 등으로 불려지는 투명 다색 필름 및 그의 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 과제는 고진공 설비를 사용하지 않아 제조원가가 저렴하면서도 기기의 부식문제 없이 베이스 필름 또는 베이스 필름 위에 형성된 이형층 위에 고굴절율의 광반사층을 코팅방식으로 형성시켜 투명 다색 필름 제조공정 중 상기 광반사층 위에 다른 수지나 접착제 등의 물질이 코팅 또는 합지되어도 제조된 투명 다색 필름이 인쇄, 인각 또는 코팅된 이미지에 따라 다색의 디자인 이미지(디자인상)와 반사율이 그대로 유지되는 투명 레인보우(rainbow) 필름, 투명 오로라(aurora)필름, 투명 홀로그램 필름 등으로 불려지는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅필름 및 그의 제조방법을 제공하는 것이다.
이와 같은 과제를 달성하기 위해서 본 발명에서는 디자인 인쇄층 또는 홀로그램 엠보싱층 상에 광반사층으로서 굴절율이 1.65 이상이며 무기물 또는 무기물과 유기물수지의 혼합물로 이루어진 코팅층을 코팅방식으로 형성시켜 투명 다색 필름을 제조한다.
또한, 본 발명에서는 여러 종류의 베이스필름 또는 상기 베이스 필름상에 형성된 이형층 위에 광반사층으로서 굴절율이 1.65 이상이며 무기물 또는 무기물과 유기물수지의 혼합물로 이루어진 코팅층을 코팅방식으로 형성시켜 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름을 제조한다.
본 발명은 종래 진공증착방법 등으로 광반사층을 형성하는 것과 비교시 황(S) 분자에 의한 기기부식을 방지할 수 있고, 고진공설비가 필요 없어 제조원가가 저렴함과 동시에 다량생산이 가능하다.
또한, 본 발명의 투명 다색 필름은 디자인 인쇄층 위의 광반사층이 코팅이 되어 있어 상기 부분에 다른 수지나 접착제 등이 코팅되어도 다색의 이미지상 또는 인각된 상이 없어지지 않고 그대로 유지된다.
또한, 본 발명의 광반사층 코팅 필름을 이용하여 투명 다색 필름을 제조하는 경우 상기 광반사층 부분에 다른 수지나 접착제 등이 코팅되어도 제조된 투명 다색 필름은 다색의 이미지상이 없어지지 않고 그대로 유지된다.
본 발명과 같이 광반사층을 코팅방식으로 형성하게 되면 종래와 같이 광반사층(투명 증착층)을 증착방식으로 형성하는 것과 비교시 아래와 같은 현저한 효과를 얻을수 있다.
첫째, 종래방법은 고가의 고진공 설비가 필요하나, 본 발명은 저가의 일반 코팅설비로 광반사층을 형성할 수 있고,
둘째, 종래방법은 광반사층을 형성하는 고진공 설비의 부식문제가 있으나, 본 발명에서는 코팅설비의 부식문제가 없고,
셋째, 종래방법의 증착방법은 진공챔버 내에서 배치식(Batch type)으로 증착공정이 실시되며 진공챔버에 고진공 거는 비용과 시간이 많이 소요되므로 소량 생산은 어렵고 20,000m 이상으로 롤(Roll) 단위로 작업이 이루어지나, 본 발명의 코팅방식은 연속식 공정이며, 수요자가 원하는 만큼의 소량작업이 가능하고 비용/시간도 절감되고,
넷째, 본 발명으로 제조된 투명 홀로그램 필름은 종래방법으로 제조된 투명 홀로그램 필름과 비교시 제조비용이 크게 절감된다.
도 1 내지 도 4는 합지용 제품으로 사용되는 투명 레인보우 필름 타입인 본 발명 다색 필름의 단면 개략도.
도 5 내지 도 8은 전사용 제품으로 사용되는 투명 레인보우 필름타입인 본 발명 투명 다색 필름의 단면 개략도.
도 9는 디자인 인쇄층 형성용 인쇄롤의 이미지를 나타낸 개략도.
도 10 내지 도 13은 합지용 제품으로 사용되는 투명 홀로그램 필름 타입인 본 발명 투명 다색 필름의 단면 개략도.
도 14 내지 도 17은 전사용 제품으로 사용되는 투명 홀로그램 필름 타입인 본 발명 투명 다색 필름의 단면 개략도.
도 18 내지 도 19는 본 발명에 따른 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름의 단면 개략도.
도 20 내지 도 21은 본 발명 도 18 내지 도 19의 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅필름을 사용하여 제조된 투명 다색 필름의 단면 개략도.
이하, 첨부한 도면 등을 통하여 본 발명을 상세하게 설명한다.
본 발명에 따른 투명 레인보우 필름 타입의 투명 다색 필름은 합지용 제품으로 사용되는 경우, 제1구현예로는 도 1 내지 도 2에 도시된 바와 같이 (i) 베이스 필름층(1), (ii) 상기 베이스 필름층(1) 위에 형성된 디자인 인쇄층(3) 및 (iii) 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 형성된 광반사층(4)을 포함하며, 상기 광반사층(4)은 무기물 또는 무기물과 유기물수지의 혼합물 중에서 선택된 1종으로 구성되며 굴절율이 1.65 이상인 코팅층으로 구성된다.
본 발명에 따른 투명 레인보우 필름 타입의 투명 다색 필름은 합지용 제품으로 사용되는 경우, 제2구현예로는 도 3 내지 도 4에 도시된 바와 같이 (i) 베이스 필름층(1), (ii) 상기 베이스 필름층(1) 위에 형성된 광반사층(4'), (iii) 상기 광반사층(4') 위에 형성된 디자인 인쇄층(3) 및 (iv) 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 형성된 광반사층(4)을 포함하며, 상기 광반사층(4,4')들은 무기물 또는 무기물과 유기물수지의 혼합물 중에서 선택된 1종으로 구성되며 굴절율이 1.65 이상인 코팅층으로 구성된다.
이와 같이 합지용의 경우 베이스 필름층(1) 위에 광반사층을 한번 더 형성하는 이유는 디자인상의 색상의 광세기를 더 강하게 하는 목적이 있다.
도 1 및 도 3과 같이 광반사층(4) 위에 접착층(5)이 형성안된 경우 피착체의 표면에 접착제를 도포하여 거기에 본 발명의 투명 다색 필름을 부착한다.
또한, 합지용 제품으로 사용되는 본 발명 투명 다색 필름은 도 2 및 도 4에 도시된 바와 같이 상기 광반사층(4) 위에 접착제층(5)을 추가로 더 구비할 수도 있다.
도 1 내지 도 4는 합지용 제품으로 사용되는 본 발명 투명 다색 필름의 단면 개략도이다.
한편, 본 발명에 따른 투명 레인보우 타입의 투명 다색 필름은 전사용 제품으로 사용되는 경우, 제3구현예로는 도 5 내지 도 6에 도시된 바와 같이 기본적으로 (i) 베이스 필름층(1), (ii) 상기 베이스 필름층(1) 위에 형성된 이형층(2), (iii) 상기 이형층(2) 위에 형성된 디자인 인쇄층(3), (iv) 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 형성된 광반사층(4)을 포함하며, 상기 광반사층(4)은 무기물 또는 무기물과 유기물수지의 혼합물로 구성되어 굴절율이 1.65 이상인 코팅층으로 구성된다.
본 발명에 따른 투명 레인보우 타입의 투명 다색 필름은 전사용 제품으로 사용되는 경우, 제4구현예로는 도 7 내지 8에 도시된 바와 같이 기본적으로 (i) 베이스 필름층(1), (ii) 상기 베이스 필름층(1) 위에 형성된 이형층(2), (iii) 상기 이형층(2) 위에 형성된 광반사층(4'), (iv) 상기 광반사층(4') 위에 형성된 디자인 인쇄층(3), (v) 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 다시 형성된 광반사층(4)을 포함하며, 상기 광반사층(4.4')들은 무기물 또는 무기물과 유기물수지의 혼합물로 구성되어 굴절율이 1.65 이상인 코팅층으로 구성된다.
이와 같이 전사용의 경우에도 이형층(2) 위에 광반사층(4')을 미리 한번 더 형성시키는 이유는 전사 후 색상의 반사광세기 증가와 추가 코팅이나 인쇄, 합지시 다색의 이미지상이 흐려지거나 사라지는 것을 방지하기 위함이다.
전사용 제품으로 사용되는 본 발명 투명 다색 필름은 도 6 및 도 8과 같이 상기 광반사층(4) 위에 접착제층(5)을 추가로 더 구비할 수도 있다.
도 5 및 도 7과 같이 광반사층(4) 위에 접착층(5)이 형성안된 경우 피착체의 표면에 접착제를 도포하여 거기에 상기 투명 다색 필름을 부착한다.
도 5 내지 도 8은 전사용 제품으로 사용되는 본 발명 투명 다색 필름의 단면 개략도이다.
상기 베이스 필름층(1)은 투명한 유광 필름 또는 무광 처리된 무광 필름이며, 무광 필름인 경우 표면이 무광인 다색 필름이 제조된다.
상기 광반사층(4,4')들을 구성하는 무기물의 구체적인 예로서, 굴절율이 1.65 이상인 HfO2, ITO, MgO, Ta2O5, TiO2, ZrO2, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF2, Sb2O3, BaTiO3, Cr2O3, Cu2O, CuO, Fe2O3, Fe2O4, FeO, Mn3O4, MnO2, NiO 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.
상기 무기물의 또 다른 구체적인 예로서, (i) 굴절율이 1.65 이상인 HfO2, ITO, MgO, Ta2O5, TiO2, ZrO2, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF2, Sb2O3, BaTiO3, Cr2O3, Cu2O, CuO, Fe2O3, Fe2O4, FeO, Mn3O4, MnO2, NiO 또는 이들의 혼합물과 (ii) 굴절율이 1.65 미만인 Al2O3, CeF3, Na3AlF6, CaF2, MgF2, SiO2 또는 이들의 혼합물을 혼합 사용할 수도 있다.
상기 광반사층(4,4')들을 구성하는 유기물수지는 우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 비닐 수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지, 아미이드 수지 또는 이들의 변성수지 등이며, 상기 유기물수지의 함량은 무기물 100 중량부 대비 0~200중량부 인 것이 바람직하다.
상기 코팅층으로 이루어진 광반사층(4,4')의 굴절율은 1.65 이상, 바람직하기로는 1.65~3.4인 경우에 디자인 인쇄층(3)의 반사광 세기가 커서 여러 가지 색상을 나타낼 수 있고, 접착제층(5) 형성 후에도 다색의 디자인 이미지(상)를 그대로 유지할 수 있게 된다.
상기 광반사층(4,4')을 구성하는 무기물은 입경이 0.1~1,000㎚, 바람직하기로는 0.1~100㎚인 것이 다색의 디자인상을 양호하게 유지하는데 바람직하다.
상기 광반사층(4,4')을 구성하는 무기물은 굴절율이 1.65 이상인 1종의 무기물 또는 2종 이상의 무기물 혼합물일 수도 있고, 굴절율이 1.65 미만인 1종 이상의 무기물과 굴절율이 1.65 이상인 1종 이상의 무기물들의 혼합물일 수도 있다.
무기물 혼합물의 경우라도 혼합물 전체의 굴절율은 1.65 이상을 유지하여야 한다.
본 발명에 따른 투명 레인보우 필름 타입인 투명 다색 필름의 제조방법은 디자인 형성용 수지층을 그라데이션을 준 코팅 또는 인쇄롤(무늬나 디자인에 따라 코팅 또는 인쇄되는 수지용액의 두께가 다르게 인쇄 또는 코팅되도록 음각되어 있는 롤)로 베이스 필름(1)에 인쇄 또는 코팅하여 디자인 인쇄층(3)을 형성한 후 그 위에 광반사층(4)을 코팅방식으로 형성할 수도 있고, 또 다른 방법으로서 홀로그램 필름의 한 방법처럼 디자인 형성용 수지층을 균일한 두께로 코팅한 상태에서 그 위에 광반사층(4)을 코팅방식으로 형성한 후 상기 디자인 형성용 수지층과 광반사층(4)을 함께 인각롤로 열과(또는) 압력을 가하여 투명 다색 필름을 제조한다.
구체적으로 본 발명에서 투명 레인보우 필름 타입인 투명 다색 필름을 제조하는 제1방법으로는 (i) 베이스 필름(1) 상에 디자인 형성용 코팅액을 코팅하여 디자인 인쇄층(3)을 형성하는 공정; (ii) 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정;을 거쳐 투명 다색 필름을 제조한다.
상기 제1방법으로 제조된 투명 다색 필름은 도 1에 도시된 단면 구조를 갖게되어 합지용 제품으로 사용된다. 합지용 제품으로 사용시에는 피사물 표면에 접착제를 도포한 후 거기에 상기 투명 다색 필름을 부착한다.
본 발명에서 투명 레인보우 필름 타입인 투명 다색 필름을 제조하는 제2방법으로는 상기 제1방법으로 베이스필름(1) 상에 디자인 인쇄층(3)과 광반사층(4)을 차례로 형성시킨 다음, 상기 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 추가로 형성하여 투명 다색 필름을 제조한다.
상기 제2방법으로 제조된 투명 다색 필름은 도 2에 도시된 단면 구조를 갖게되어 합지용 제품으로 사용된다.
본 발명에서 투명 레인보우 필름 타입인 투명 홀로그램 필름을 제조하는 제3방법으로는, (i) 베이스 필름(1) 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4')을 형성하는 공정; (ii) 상기 광반사층(4') 상에 디자인 형성용 코팅액을 코팅하여 디자인 인쇄층(3)을 형성하는 공정; (iii) 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정;을 거쳐 투명 다색 필름을 제조한다.
상기 제3방법으로 제조된 투명 다색 필름은 도 3에 도시된 단면 구조를 갖게되어 합지용 제품으로 사용된다. 합지용 제품으로 사용시에는 피사물 표면에 접착제를 도포한 후 거기에 상기 투명 다색 필름을 부착한다.
본 발명에서 투명 레인보우 타입인 투명 다색 필름을 제조하는 제4방법으로는 상기 제3방법으로 베이스필름(1) 상에 광반사층(4'), 디자인 인쇄층(3) 및 광반사층(4)을 차례로 형성시킨 다음, 상기 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 추가로 형성하여 투명 다색 필름을 제조한다.
상기 제4방법으로 제조된 투명 다색 필름은 도 4에 도시된 단면 구조를 갖게되어 합지용 제품으로 사용된다.
본 발명에서 투명 레인보우 타입인 투명 다색 필름을 제조하는 제5방법으로는, (i) 베이스 필름(1) 상에 이형층 형성용 코팅액을 코팅하여 이형층(2)을 형성하는 공정; (ii) 상기 이형층(2) 상에 디자인 형성용 코팅액을 코팅하여 디자인 인쇄층(3)을 형성하는 공정; (iii) 상기 디자인 인쇄층(3) 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정;을 거쳐 투명 다색 필름을 제조한다.
상기 제5방법으로 제조된 투명 다색 필름은 도 5에 도시된 단면 구조를 갖게되어 전사용 제품으로 사용된다. 전사용 제품으로 사용시에는 피사물 표면에 접착제를 도포한 후 거기에 상기 투명 다색 필름을 부착한다.
본 발명에서 투명 레인보우 타입인 투명 다색 필름을 제조하는 제6방법으로는 상기 제5방법으로 베이스필름(1) 상에 이형층(2), 디자인 인쇄층(3) 및 광반사층(4)을 차례로 형성시킨 다음, 상기 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 추가로 형성하여 투명 다색 필름을 제조한다.
상기 제6방법으로 제조된 투명 다색 필름은 도 6에 도시된 단면 구조를 갖게되어 전사용 제품으로 사용된다.
본 발명에서 투명 레인보우 필름 타입인 투명 다색 필름을 제조하는 제7방법으로는, (i) 베이스 필름(1) 상에 이형층 형성용 코팅액을 코팅하여 이형층(2)을 형성하는 공정; (ii) 상기 이형층(2) 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4')을 형성하는 공정; (iii) 상기 광반사층(4') 상에 디자인 형성용 코팅액을 코팅하여 디자인 인쇄층(3)을 형성하는 공정; 및 (iv) 상기 디자인 인쇄층(3) 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정;을 거쳐 투명 다색 필름을 제조한다.
상기 제7방법으로 제조된 투명 다색 필름은 도 7에 도시된 단면 구조를 갖게되어 전사용 제품으로 사용된다. 전사용 제품으로 사용시에는 피사물 표면에 접착제를 도포한 후 거기에 상기 투명 다색 필름을 부착한다.
본 발명에서 투명 레인보우 필름 타입인 투명 다색 필름을 제조하는 제8방법으로는 상기 제7방법으로 베이스필름(1) 상에 이형층(2), 광반사층(4'), 디자인 인쇄층(3) 및 광반사층(4)을 형성시킨 다음, 상기 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 추가로 형성하여 투명 다색 필름을 제조한다.
상기 제8방법으로 제조된 투명 다색 필름은 도 8에 도시된 단면 구조를 갖게되어 전사용 제품으로 사용된다.
상기 광반사층 형성용 코팅액은 (i) 무기물과 용매로 구성될 수도 있고, (ii) 무기물, 유기물수지 및 용매로 구성될 수도 있다.
무기물과 용매로 구성된 광반사층 형성용 코팅액을 이루는 용매는 물, 알코올, 케톤 또는 이들의 혼합물 등이다.
무기물과 용매로 구성된 광반사층 형성용 코팅액내 무기물의 고형분 함량은 0.01~30중량%인 것이 바람직하다.
광반사층 형성용 코팅액내 무기물은 입경이 0.1~1,000㎚인 것이 다색의 상을 양호하게 유지하는데 바람직하다.
상기 광반사층 형성용 코팅액내 무기물은 굴절율이 1.65 이상인 1종의 무기물 또는 2종 이상의 무기물 혼합물일 수도 있고, 굴절율이 1.65 미만인 1종 이상의 무기물과 굴절율이 1.65 이상인 1종 이상의 무기물들의 혼합물일 수도 있다.
무기물 혼합물의 경우라도 혼합물 전체의 굴절율은 1.65 이상을 유지하여야 한다.
상기 무기물의 구체적인 예로서, 굴절율이 1.65 이상인 HfO2, ITO, MgO, Ta2O5, TiO2, ZrO2, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF2, Sb2O3, BaTiO3, Cr2O3, Cu2O, CuO, Fe2O3, Fe2O4, FeO, Mn3O4, MnO2, NiO 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.
상기 무기물의 또 다른 구체적인 예로서, (i) 굴절율이 1.65 이상인 HfO2, ITO, MgO, Ta2O5, TiO2, ZrO2, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF2, Sb2O3, BaTiO3, Cr2O3, Cu2O, CuO, Fe2O3, Fe2O4, FeO, Mn3O4, MnO2, NiO 또는 이들의 혼합물과 (ii) 굴절율이 1.65 미만인 Al2O3, CeF3, Na3AlF6, CaF2, MgF2, SiO2 또는 이들의 혼합물을 혼합 사용할 수도 있다.
상기 광반사층 형성용 코팅액 내 유기물수지는 무기물의 침강방지, 접착력 향상 등의 목적으로 사용되며, 그 일례로는 우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 비닐 수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지, 아미이드 수지 또는 이들의 변성수지 등이며, 상기 유기물수지의 함량은 무기물 100 중량부 대비 0~200중량부 인 것이 바람직하다.
한편, 본 발명에 따른 투명 홀로그램 필름 타입인 투명 다색 필름(이하 "투명 홀로그램 필름"이라고 약칭한다)은 합지용 제품으로 사용되는 경우 도 10 내지 도 11에 도시된 바와 같이 (i) 베이스 필름층(1), (ii) 상기 베이스 필름층(1) 위에 형성된 홀로그램 엠보싱층(3') 및 (iii) 상기 홀로그램 엠보싱층(3') 위에 형성된 광반사층(4)을 포함하며, 상기 광반사층(4)은 무기물 또는 무기물과 유기물수지의 혼합물 중에서 선택된 1종으로 구성되며 굴절율이 1.65 이상인 코팅층으로 구성된다.
도 10 내지 도 11과 같이 광반사층(4)위에 접착층(5)이 형성안된 경우 피착체의 표면에 접착제를 도포하여 거기에 본 발명의 투명 홀로그램 필름을 부착한다.
또한, 합지용 제품으로 사용되는 본 발명 투명 홀로그램 필름은 도 12 내지 도 13에 도시된 바와 같이 상기 광반사층(4) 위에 접착제층(5)을 추가로 더 구비할 수도 있다.
도 10 내지 도 13는 합지용 제품으로 사용되는 본 발명 투명 홀로그램 필름의 단면 개략도이다.
한편, 본 발명에 따른 투명 홀로그램 필름은 전사용 제품으로 사용되는 경우 도 14 내지 도 15에 도시된 바와 같이 (i) 베이스 필름층(1), (ii) 상기 베이스 필름층(1) 위에 형성된 이형층(2), (iii) 상기 이형층(2) 위에 형성된 홀로그램 엠보싱층(3'), (iv) 상기 홀로그램 엠보싱층(3') 위에 형성된 광반사층(4)으로 이루어지며, 상기 광반사층(4)은 무기물 또는 무기물과 유기물수지의 혼합물로 구성되어 굴절율이 1.65 이상인 코팅층으로 구성된다.
또한, 전사용 제품으로 사용되는 본 발명 투명 홀로그램 필름은 도 16 내지 도 17에 도시된 바와 같이 도 14 및 도 15의 광반사층(4) 위에 접착제층(5)을 추가로 더 구비할 수도 있다.
도 14 및 도 15와 같이 광반사층(4) 위에 접착층(5)이 형성안된 경우 피착체의 표면에 접착제를 도포하여 거기에 상기 투명 홀로그램 필름을 부착한다.
도 14 내지 도 17은 전사용 제품으로 사용되는 본 발명 투명 홀로그램 필름의 단면 개략도이다.
상기 무기물의 구체적인 예로서, 굴절율이 1.65 이상인 HfO2, ITO, MgO, Ta2O5, TiO2, ZrO2, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF2, Sb2O3, BaTiO3, Cr2O3, Cu2O, CuO, Fe2O3, Fe2O4, FeO, Mn3O4, MnO2, NiO 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.
상기 무기물의 또 다른 구체적인 예로서, (i) 굴절율이 1.65 이상인 HfO2, ITO, MgO, Ta2O5, TiO2, ZrO2, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF2, Sb2O3, BaTiO3, Cr2O3, Cu2O, CuO, Fe2O3, Fe2O4, FeO, Mn3O4, MnO2, NiO 또는 이들의 혼합물과 (ii) 굴절율이 1.65 미만인 Al2O3, CeF3, Na3AlF6, CaF2, MgF2, SiO2 또는 이들의 혼합물을 혼합 사용할 수도 있다.
상기 광반사층(4)을 구성하는 유기물수지는 무기물의 침강방지, 접착력 향상 등의 목적으로 사용되며, 그 일례로는 우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 비닐 수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지, 아미이드 수지 또는 이들의 변성수지 등이며, 상기 유기물수지의 함량은 무기물 100 중량부 대비 0~200중량부 인 것이 바람직하다.
상기 코팅층으로 이루어진 광반사층(4)의 굴절율은 1.65 이상, 바람직하기로는 1.65~3.40인 경우에만 접착제층(5)이 형성되기 이전의 홀로그램 엠보싱층(4)의 반사광 세기 대비 접착제층(5)이 형성된 후의 홀로그램 엠보싱층(4)의 반사광 세기가 50% 이상 수준을 유지할 수 있어 접착제층(5) 형성 후에도 홀로그램 상을 그대로 유지할 수 있게 된다.
광반사층(4)을 구성하는 무기물은 입경이 0.1~1,000㎚, 바람직하기로는 0.1~100㎚인 것이 홀로그램 상을 양호하게 유지하는데 바람직하다.
상기 광반사층(4)을 구성하는 무기물은 굴절율이 1.65 이상인 1종의 무기물 또는 2종 이상의 무기물 혼합물일 수도 있고, 굴절율이 1.65 미만인 1종 이상의 무기물과 굴절율이 1.65 이상인 1종 이상의 무기물들의 혼합물일 수도 있다.
무기물 혼합물의 경우라도 혼합물 전체의 굴절율은 1.65 이상을 유지하여야 한다.
본 발명에 따른 제조방법은 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층을 인각하여 홀로그램 엠보싱층(3')을 형성한 후 그 위에 광반사층을 코팅방식으로 형성할 수도 있고, 또 다른 방법으로서 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층을 인각하지 않은 상태에서 그 위에 광반사층을 코팅방식으로 형성한 후 상기 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층과 광반사층을 함께 인각하여 투명 홀로그램 필름을 제조한다.
본 발명에서 투명 홀로그램 필름을 제조하는 제1 방법으로는, (i) 베이스 필름(1) 상에 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅하여 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층을 형성하는 공정; (ii) 상기 엠보싱층 형성용 수지층을 인각하여 홀로그램 엠보싱층(3')을 형성하는 공정; 및 (iii)상기 홀로그램 엠보싱층(3') 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정;을 거쳐 투명 홀로그램 필름을 제조한다.
상기 제1 방법으로 제조된 투명 홀로그램 필름은 도 10에 도시된 단면 구조를 갖게되어 합지용 제품으로 사용된다. 합지용 제품으로 사용시에는 피사물 표면에 접착제를 도포한 후 거기에 상기 투명 홀로그램 필름을 부착한다.
본 발명에서 투명 홀로그램 필름을 제조하는 제2 방법으로는 상기 제1 방법으로 베이스필름(1) 상에 홀로그램 엠보싱층(3')과 광반사층(4)을 차례로 형성시킨 다음, 상기 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 추가로 형성하여 투명 홀로그램 필름을 제조한다.
상기 제2 방법으로 제조된 투명 홀로그램 필름은 도 12에 도시된 단면 구조를 갖게되어 합지용 제품으로 사용된다.
본 발명에서 투명 홀로그램 필름을 제조하는 제3 방법으로는, (i) 베이스 필름(1) 상에 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅하여 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층을 형성하는 공정; (ii) 상기 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정; 및 (iii) 상기 엠보싱층 형성용 수지층과 광반사층(4)을 함께 인각하여 홀로그램 엠보싱층(3')을 형성하는 공정;을 거쳐 투명 홀로그램 필름을 제조한다.
상기 제3 방법으로 제조된 투명 홀로그램 필름은 도 11에 도시된 단면 구조를 갖게되어 합지용 제품으로 사용된다. 합지용 제품으로 사용시에는 피사물 표면에 접착제를 도포한 후 거기에 상기 투명 홀로그램 필름을 부착한다.
본 발명에서 투명 홀로그램 필름을 제조하는 제4 방법으로는 상기 제3 방법으로 베이스필름(1) 상에 홀로그램 엠보싱층(3')과 광반사층(4)을 형성시킨 다음, 상기 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 추가로 형성하여 투명 홀로그램 필름을 제조한다.
상기 제4 방법으로 제조된 투명 홀로그램 필름은 도 13에 도시된 단면 구조를 갖게되어 합지용 제품으로 사용된다.
본 발명에서 투명 홀로그램 필름을 제조하는 제5 방법으로는, (i) 베이스 필름(1) 상에 이형층 형성용 코팅액을 코팅하여 이형층(2)을 형성하는 공정; (ii) 상기 이형층(2) 상에 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅하여 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층을 형성하는 공정; (iii) 상기 엠보싱층 형성용 수지층을 인각하여 홀로그램 엠보싱층(3')을 형성하는 공정; 및 (iv) 상기 홀로그램 엠보싱층(3') 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정;을 거쳐 투명 홀로그램 필름을 제조한다.
상기 제5 방법으로 제조된 투명 홀로그램 필름은 도 14에 도시된 단면 구조를 갖게되어 전사용 제품으로 사용된다. 전사용 제품으로 사용시에는 피사물 표면에 접착제를 도포한 후 거기에 상기 투명 홀로그램 필름을 부착한다.
본 발명에서 투명 홀로그램 필름을 제조하는 제6 방법으로는 상기 제5 방법으로 베이스필름(1) 상에 홀로그램 엠보싱층(3')과 광반사층(4)을 차례로 형성시킨 다음, 상기 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 추가로 형성하여 투명 홀로그램 필름을 제조한다.
상기 제6 방법으로 제조된 투명 홀로그램 필름은 도 16에 도시된 단면 구조를 갖게되어 전사용 제품으로 사용된다.
본 발명에서 투명 홀로그램 필름을 제조하는 제7방법으로는, (i) 베이스 필름(1) 상에 이형층 형성용 코팅액을 코팅하여 이형층(2)을 형성하는 공정; (ii) 상기 이형층(2) 상에 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅하여 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층을 형성하는 공정; (iii) 상기 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정; 및 (iv) 상기 엠보싱층 형성용 수지층과 광반사층(4)을 함께 인각하여 홀로그램 엠보싱층(3')을 형성하는 공정;을 거쳐 투명 홀로그램 필름을 제조한다.
상기 제7 방법으로 제조된 투명 홀로그램 필름은 도 15에 도시된 단면 구조를 갖게되어 전사용 제품으로 사용된다. 전사용 제품으로 사용시에는 피사물 표면에 접착제를 도포한 후 거기에 상기 투명 홀로그램 필름을 부착한다.
본 발명에서 투명 홀로그램 필름을 제조하는 제8 방법으로는 상기 제7 방법으로 베이스필름(1) 상에 홀로그램 엠보싱층(3')과 광반사층(4)을 형성시킨 다음, 상기 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 추가로 형성하여 투명 홀로그램 필름을 제조한다.
상기 제8 방법으로 제조된 투명 홀로그램 필름은 도 17에 도시된 단면 구조를 갖게되어 합지용 제품으로 사용된다.
상기 광반사층 형성용 코팅액은 (i) 무기물과 용매로 구성될 수도 있고, (ii) 무기물, 유기물수지 및 용매로 구성될 수도 있다.
무기물과 용매로 구성된 광반사층 형성용 코팅액을 이루는 용매는 물, 알코올, 케톤 또는 이들의 혼합물 등이다.
무기물과 용매로 구성된 광반사층 형성용 코팅액내 무기물의 고형분 함량은 0.01~30중량%인 것이 바람직하다.
광반사층 형성용 코팅액내 무기물은 입경이 0.1~1,000㎚인 것이 홀로그램 상을 양호하게 유지하는데 바람직하다.
상기 광반사층 형성용 코팅액내 무기물은 굴절율이 1.65 이상인 1종의 무기물 또는 2종 이상의 무기물 혼합물일 수도 있고, 굴절율이 1.65 미만인 1종 이상의 무기물과 굴절율이 1.65 이상인 1종 이상의 무기물들의 혼합물일 수도 있다.
무기물 혼합물의 경우라도 혼합물 전체의 굴절율은 1.65 이상을 유지하여야 한다.
상기 무기물의 구체적인 예로서, 굴절율이 1.65 이상인 HfO2, ITO, MgO, Ta2O5, TiO2, ZrO2, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF2, Sb2O3, BaTiO3, Cr2O3, Cu2O, CuO, Fe2O3, Fe2O4, FeO, Mn3O4, MnO2, NiO 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.
상기 무기물의 또 다른 구체적인 예로서, (i) 굴절율이 1.65 이상인 HfO2, ITO, MgO, Ta2O5, TiO2, ZrO2, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF2, Sb2O3, BaTiO3, Cr2O3, Cu2O, CuO, Fe2O3, Fe2O4, FeO, Mn3O4, MnO2, NiO 또는 이들의 혼합물과 (ii) 굴절율이 1.65 미만인 Al2O3, CeF3, Na3AlF6, CaF2, MgF2, SiO2 또는 이들의 혼합물을 혼합 사용할 수도 있다.
상기 광반사층 형성용 코팅액 내 유기물수지는 무기물의 침강방지, 접착력 향상 등의 목적으로 사용되며, 그 일례로는 우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 비닐 수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지, 아미이드 수지 또는 이들의 변성수지 등이며, 상기 유기물수지의 함량은 무기물 100 중량부 대비 0~200중량부 인 것이 바람직하다.
한편, 본 발명에 따른 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅필름은(이하 "광반사층 코팅필름"이라고 약칭한다)은 도 18에 도시된 바와 같이 (i) 베이스 필름층(1) 및 (ii) 상기 베이스 필름층(1) 위에 형성된 광반사층(4)을 포함하며, 상기 광반사층(4)은 무기물 및 무기물과 유기물수지의 혼합물 중에서 선택된 1종으로 구성되며 굴절율이 1.60 이상인 코팅층인 것을 특징으로 한다.
도 18에 도시된 본 발명의 광반사층 코팅필름은 주로 합지용 제품으로 사용된다.
한편, 본 발명에 따른 광반사층 코팅필름은 도 19에 도시된 바와 같이 도 1의 베이스 필름층(1)과 광반사층(4) 사이에 이형층(2)이 추가로 더 형성된 구조인 것을 특징으로 한다.
도 19에 도시된 본 발명의 광반사층 코팅필름은 주로 전사용 제품으로 사용된다.
도 18에 도시된 본 발명의 광반사층 코팅필름을 제조하는 방법은 베이스 필름 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정을 포함한다.
도 19에 도시된 본 발명의 광반사층 코팅필름을 제조하는 방법은 (i) 베이스 필름 상에 이형층 형성용 코팅액을 먼저 코팅하여 이형층(2)을 형성하는 공정과, (ii) 상기 이형층(2) 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정을 포함한다.
상기 광반사층 형성용 코팅액은 무기물과 용매로 구성되거나, 무기물, 유기물수지 및 용매로 구성된다.
도 18에 도시된 본 발명의 광반사층 코팅필름을 이용하여 합지용 투명 다색 필름을 제조하는 구현일례로는 도 18에 도시된 본 발명의 광반사층 코팅필름을 구성하는 광반사층(4)위에 디자인 인쇄층(3)과 상기와 같은 또 다른 광반사층(4)을 차례로 형성하여 도 20에 도시된 합지용 투명 다색 필름을 제조한다.
이때 광반사층을 디자인 인쇄층 상부 및 하부 모두에 형성하는 이유는 디자인 상의 색상의 광세기를 더 강하게 하기 위한 것이다.
도 19에 도시된 본 발명의 광반사층 코팅필름을 이용하여 전사용 투명 다색 필름을 제조하는 구현일례로는 도 19에 도시된 본 발명의 광반사층 코팅필름을 구성하는 광반사층(4)위에 디자인 인쇄층(3)과 상기와 같은 또 다른 광반사층(4)을 차례로 형성하여 도 21에 도시된 전사용 투명 다색 필름을 제조한다.
이때 광반사층을 디자인 인쇄층 상부 및 하부 모두에 형성하는 것은 전사후 디자인 상의 색상의 광세기를 증가시키고 추가 코팅이나 인쇄시 이미지 상이 흐려지거나 사라지는 것을 방지하기 위해서이다.
상기 베이스 필름층(1) 및 베이스 필름은 투명한 유광 필름이거나 무광처리된 무광필름이다.
상기 베이스 필름층(1) 및 베이스 필름은 폴리에스터, 폴리아마이드, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리우레탄, 폴리아크릴 및 폴리비닐클로라이드 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 공중합체로 구성된다.
상기 광반사층(4)을 구성하는 무기물의 구체적인 예로서, 굴절율이 1.66 이상인 HfO2, ITO, MgO, Ta2O5, TiO2, ZrO2, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF2, Sb2O3, BaTiO3, Cr2O3, Cu2O, CuO, Fe2O3, Fe3O4, FeO, Mn3O4, MnO2, NiO 등의 단독물 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.
상기 광반사층(4)을 구성하는 무기물의 또 다른 구체적인 예로서, (i) 굴절율이 1.65 이상인 HfO2, ITO, MgO, Ta2O5, TiO2, ZrO2, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF2, Sb2O3, BaTiO3, Cr2O3, Cu2O, CuO, Fe2O3, Fe3O4, FeO, Mn3O4, MnO2, NiO등의 단독물 또는 이들의 혼합물과 (ii) 굴절율이 1.65 미만인 Al2O3, CeF3, Na3AlF6, CaF2, MgF2, SiO2 등 단독 또는 이들의 혼합물을 혼합 사용할 수도 있다.
상기 광반사층(4)을 구성하는 유기물수지는 무기물의 침강방지, 접착력 향상 등의 목적으로 사용되며, 그 일례로는 우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 비닐 수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지, 아미이드 수지 또는 이들의 변성수지 등이며, 상기 유기물수지의 함량은 무기물 100 중량부 대비 0~200중량부 인 것이 바람직하다.
상기 광반사층(4)의 굴절율은 1.65 이상, 바람직하기로는 1.65~3.4인 경우에 디자인 인쇄층(4)의 반사광 세기가 커서 여러 가지 색상을 나타낼 수 있고, 접착제층(5) 형성 후에도 다색의 디자인 이미지(상)를 그대로 유지할 수 있게 된다.
상기 광반사층(4)을 구성하는 무기물은 입경이 0.1~1,000㎚, 바람직하기로는 0.1~100㎚인 것이 다색의 디자인상을 양호하게 유지하는데 바람직하다.
상기 광반사층(4)을 구성하는 무기물은 굴절율이 1.65 이상인 1종의 무기물 또는 2종 이상의 무기물 혼합물일 수도 있고, 굴절율이 1.65 미만인 1종 이상의 무기물과 굴절율이 1.65 이상인 1종 이상의 무기물들의 혼합물일 수도 있다.
무기물 혼합물의 경우라도 혼합물 전체의 굴절율은 1.65 이상을 유지하여야 한다.
본 발명에 따른 광반사층 코팅 필름을 이용하여 투명 다색 필름을 제조하는 방법은 광반사층 코팅필름을 구성하는 광반사층(4) 위에 디자인 형성용 수지층을 그라데이션을 준 코팅 또는 인쇄롤(무늬나 디자인에 따라 코팅 또는 인쇄되는 수지용액의 두께가 다르게 인쇄 또는 코팅되도록 음각되어 있는 롤)로 인쇄 또는 코팅하여 디자인 인쇄층(3)을 형성한 후 그 위에 광반사층(4)을 코팅방식으로 형성할 수도 있고, 또 다른 방법으로서 홀로그램 필름의 한 방법처럼 홀로그램 형성용 수지층을 균일한 두께로 코팅하고 인각한 상태에서 그 위에 광반사층을 코팅방식으로 형성하여 투명 다색 필름을 제조할 수 있다.
상기 광반사층 형성용 코팅액은 (i) 무기물과 용매로 구성될 수도 있고, (ii) 무기물, 유기물수지 및 용매로 구성될 수도 있다.
무기물과 용매 또는 무기물, 유기물 수지 및 용매로 구성된 광반사층 형성용 코팅액을 이루는 용매는 물, 알코올, 케톤 또는 이들의 혼합물 등이다.
무기물과 용매 또는 무기물, 유기물 수지 및 용매로 구성된 광반사층 형성용 코팅액내 무기물의 고형분 함량은 0.01~30중량%인 것이 바람직하다.
광반사층 형성용 코팅액내 무기물은 입경이 0.1~1,000㎚인 것이 다색의 상을 양호하게 유지하는데 바람직하다.
상기 광반사층 형성용 코팅액내 무기물은 굴절율이 1.65 이상인 1종의 무기물 또는 2종 이상의 무기물 혼합물일 수도 있고, 굴절율이 1.65 미만인 1종 이상의 무기물과 굴절율이 1.65 이상인 1종 이상의 무기물들의 혼합물일 수도 있다.
무기물 혼합물의 경우라도 혼합물 전체의 굴절율은 1.65 이상을 유지하여야 한다.
상기 무기물의 구체적인 예로서, 굴절율이 1.65 이상인 HfO2, ITO, MgO, Ta2O5, TiO2, ZrO2, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF2, Sb2O3, BaTiO3, Cr2O3, Cu2O, CuO, Fe2O3, Fe3O4, FeO, Mn3O4, MnO2, NiO 등의 단독물 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.
상기 광반사층 형성용 코팅액내 무기물의 또 다른 구체적인 예로서, (i) 굴절율이 1.65 이상인 HfO2, ITO, MgO, Ta2O5, TiO2, ZrO2, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF2, Sb2O3, BaTiO3, Cr2O3, Cu2O, CuO, Fe2O3, Fe3O4, FeO, Mn3O4, MnO2, NiO 등의 단독물 또는 이들의 혼합물과 (ii) 굴절율이 1.65 미만인 Al2O3, CeF3, Na3AlF6, CaF2, MgF2, SiO2 등의 단독 또는 이들의 혼합물을 혼합 사용할 수도 있다.
상기 광반사층 형성용 코팅액 내 유기물수지는 우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 비닐 수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지, 아미이드 수지 또는 이들의 변성수지 등이며, 상기 유기물수지의 함량은 무기물 100 중량부 대비 0~200중량부 인 것이 바람직하다.
이하, 실시예 및 비교실시예들을 통하여 본 발명을 보다 구체적으로 살펴본다. 그러나 후술하는 실시예들은 본 발명의 바람직한 구현예에 불과한 것으로서 본 발명의 보호범위를 한정하는 것은 아니다.
실시예 1
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층(2)을 형성한 다음, 상기 이형층(2) 상에 아크릴계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 입자크기가 10㎚인 ZrO2가 이소프로판올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성시켜 도 5에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.
실시예 2
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층(2)을 형성한 다음, 상기 이형층(2) 상에 아크릴계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 입자크기가 10㎚인 TiO2가 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성하여 도 5에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.
실시예 3
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층(2)을 형성한 다음, 상기 이형층(2) 상에 아크릴계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 입자크기가 10㎚인 ZrO2 와 SiO2 각각이 이소프로판올에 5중량% 및 2중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리우레탄계 수지 코팅액을 코팅, 건조하여 접착제층(5)을 형성하여 도 6에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.
실시예 4
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층(2)을 형성한 다음, 상기 이형층(2) 상에 아크릴계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 입자크기가 10㎚인 ITO가 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성하여 도 5에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.
실시예 5
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층(2)을 형성한 다음, 상기 이형층(2) 상에 아크릴계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 입자크기가 100㎚인 TiO2가 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성하여 도 5에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.
실시예 6
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층(2)을 형성한 다음, 상기 이형층(2) 상에 아크릴계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 입자크기가 50㎚인 TiO2 및 Al2O3 각각 이소프로판올에 4중량% 및 3중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성하고 상기 광반사층 위에 폴리우레탄계 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 접착제층(5)을 형성하여 도 6에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.
실시예 7
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 아크릴계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 입자크기가 10㎚인 ZrO2가 이소프로판올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성시켜 도 1에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.
실시예 8
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 입자크기가 10㎚인 ZrO2가 이소프로판올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4')을 형성한 다음, 상기 광반사층(4') 상에 아크릴계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 입자크기가 10㎚인 ZrO2가 이소프로판올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성시켜 도 3에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.
실시예 9
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층(2)을 형성한 다음, 상기 이형층(2) 위에 입자크기가 10인 TiO2가 메탄올에 5중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4')을 형성한 다음, 상기 광반사층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 입자크기가 10㎚인 TiO2가 메탄올에 10중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성하여 도 7에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.
실시예 10
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 아크릴계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 입자크기가 10㎚인 ZrO2 와 SiO2 각각이 이소프로판올에 5중량% 및 2중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리우레탄계 수지 코팅액을 코팅, 건조하여 접착제층(5)을 형성하여 도 2에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.
실시예 11
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층(2)을 형성한 다음, 상기 이형층(2) 위에 입자크기가 10인 ITO가 에탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4')을 형성한 다음, 상기 광반사층(4') 위에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 입자크기가 10㎚인 ITO가 에탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성하고 상기 광반사층 위에 폴리우레탄계 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 접착제층(5)을 형성하여 도 8에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.
실시예 12
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층(2)을 형성한 다음, 상기 이형층(2) 위에 입자크기가 80인 TiO2가 에탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4')을 형성한 다음, 상기 광반사층(4') 위에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 입자크기가 10㎚인 ITO가 에탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성하여 도 7에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.
비교실시예 1
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층(2)을 형성한 다음, 상기 이형층(2) 상에 아크릴계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 굴절율이 1.46이며 입자크기가 10㎚인 SiO2가 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성하여 도 5에 도시된 단면 구조를 갖는 필름을 제조하였으나 반사광 세기가 약하여 제품으로 사용하기 어려운 상태였다.
비교실시예 2
비교실시예 1의 공정중 광반사층 형성용 코팅액의 농도를 10중량%로 올려 코팅한 것을 제외하고 나머지 공정은 동일하게 실시하였으나 비교실시예 1과 큰 차이가 없었다.
비교실시예 3
비교실시예 1의 공정중 광반사층 형성용 코팅액의 농도를 15중량%로 올려 코팅한 것을 제외하고 나머지 공정은 동일하게 실시하였으나 비교실시예 1과 큰 차이가 없었다.
비교실시예 4
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층(2)을 형성한 다음, 상기 이형층(2) 상에 아크릴계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 굴절율이 1.58로 조절된 입자크기가 10㎚인 SiO2와 ZrO2를 메탄올에 8중량%되도록 혼합된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성하여 도 5에 도시된 단면 구조를 갖는 필름을 제조하였으나 반사광 세기가 약하여 제품으로 사용하기 어려운 상태였다.
비교실시예 5
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층(2)을 형성한 다음, 상기 이형층(2) 상에 아크릴계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 굴절율이 1.63이며 입자크기가 10㎚인 Al2O3를 에탄올에 8중량%되도록 혼합된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성하여 도 5에 도시된 단면 구조를 갖는 필름을 제조하였으나 반사광 세기가 약하여 제품으로 사용하기 어려운 상태였다.
실시예 13
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 엠보싱층 위에 입자크기가 10㎚인 TiO2가 이소프로판올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 7에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 70% 수준을 유지하였다.
실시예 14
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 엠보싱층 위에 입자크기가 10㎚인 TiO2가 메탄올에 5중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 7에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 70% 수준을 유지하였다.
실시예 15
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 엠보싱층 위에 입자크기가 10㎚인 TiO2 와 SiO2 각각이 이소프로판올에 5중량% 및 2중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 7에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 50% 수준을 유지하였다.
실시예 16
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 엠보싱층 위에 입자크기가 10㎚인 ITO가 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 7에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 80% 수준을 유지하였다.
실시예 17
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 엠보싱층 위에 입자크기가 100㎚인 TiO2가 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 7에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 75% 수준을 유지하였다.
실시예 18
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 엠보싱층 위에 입자크기가 50㎚인 TiO2 및 Al2O3 각각이 이소프로판올에 4중량% 및 3중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 7에 도시된 단면 구조를 갖는 투명홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 70% 수준을 유지하였다.
실시예 19
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 형성용 수지층 위에 입자크기가 10㎚인 TiO2가 이소프로판올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 8에 도시된 단면 구조를 갖는 투명홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 100% 수준을 유지하였다.
실시예 20
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 형성용 수지층 위에 입자크기가 10㎚인 TiO2가 메탄올에 5중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 8에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 70% 수준을 유지하였다.
실시예 21
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 형성용 수지층 위에 입자크기가 10㎚인 TiO2 및 SiO2 각각이 메탄올에 5중량% 및 2중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 8에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 50% 수준을 유지하였다.
실시예 22
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 형성용 수지층 위에 입자크기가 10㎚인 ITO가 에탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 8에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 80% 수준을 유지하였다.
실시예 23
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 엠보싱층 위에 입자크기가 10㎚인 TiO2가 이소프로판올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 3에 도시된 단면 구조를 갖는 투명홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 80% 수준을 유지하였다.
실시예 24
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 형성용 수지층 위에 입자크기가 10㎚인 TiO2가 이소프로판올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 4에 도시된 단면 구조를 갖는 투명홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 80% 수준을 유지하였다.
비교실시예 6
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 엠보싱층 위에 굴절율이 1.46이며 입자크기가 10㎚인 SiO2가 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 7에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 30% 수준을 유지하였다.
비교실시예 7
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 엠보싱층 위에 굴절율이 1.46이며 입자크기가 10㎚인 TiO2가 메탄올에 3중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 7에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 20% 수준을 유지하였다.
비교실시예 8
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 엠보싱층 위에 굴절율이 1.46이며 입자크기가 10㎚인 TiO2가 이소프로판올에 15중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 7에 도시된 단면 구조를 갖는 투명홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 10% 수준을 유지하였다.
비교실시예 9
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 형성용 수지층 위에 굴절율이 1.46이고 입자크기가 10㎚인 SiO2가 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 8에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 30% 수준을 유지하였다.
실시예 25
1) 광반사층 코팅 필름의 제조
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 입자크기가 10㎚인 TiO2가 이소프로판올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성시켜 도 2에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름제조용 광반사층 코팅 필름을 제조하였다.
2) 광반사층 코팅 필름을 이용한 다색 투명 필름의 제조
상기 도 2에 도시된 광반사층 코팅 필름의 광반사층 위에 아크릴계 수지에 셀룰로오스계 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인 코팅롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 입자크기가 10㎚인 TiO2가 이소프로판올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성시켜 도 4에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.
실시예 26
1) 광반사층 코팅 필름의 제조
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 입자크기가 10㎚인 TiO2가 이소프로판올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성시켜 도 1에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름제조용 광반사층 코팅 필름을 제조하였다.
2) 광반사층 코팅 필름을 이용한 다색 투명 필름의 제조
상기 도 1에 도시된 광반사층 코팅 필름의 광반사층 위에 아크릴계 수지에 셀룰로오스계 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인 코팅롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 입자크기가 10㎚인 TiO2가 이소프로판올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성시켜 도 3에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.
실시예 27
1) 광반사층 코팅 필름의 제조
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 위에 입자크기가 10㎚인 CuO가 메탄올에 5중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 2에 도시된 단면구조를 갖는 광반사층이 형성된 광반사층 코팅 필름을 제조하였다.
2) 광반사층 코팅필름을 이용한 투명 다색 필름의 제조
상기 광반사층 코팅 필름의 광반사층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인 코팅롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 입자크기가 10㎚인 CuO가 메탄올에 10중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성하여 도 4에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.
실시예 28
1) 광반사층 코팅 필름의 제조
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 입자크기가 10㎚인 CuO가 메탄올에 5중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 1에 도시된 단면구조를 갖는 광반사층이 형성된 광반사층 코팅 필름을 제조하였다.
2) 광반사층 코팅필름을 이용한 투명 다색 필름의 제조
상기 광반사층 코팅 필름의 광반사층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인 코팅롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 입자크기가 10㎚인 CuO가 메탄올에 10중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성하여 도 3에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.
실시예 29
1) 광반사층 코팅 필름의 제조
두께가 30㎛인 OPP 필름(베이스 필름) 상에 입자크기가 10㎚인 ITO가 에탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성시켜 도 1에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름제조용 광반사층 코팅 필름을 제조하였다.
2) 광반사층 코팅 필름을 이용한 다색 투명 필름의 제조
상기 도 1에 도시된 광반사층 코팅 필름의 광반사층 위에 아크릴계 수지에 셀룰로오스계 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인 코팅롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 입자크기가 10㎚인 ITO가 에탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성시켜 도 3에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.
비교실시예 10
1) 광반사층 코팅 필름의 제조
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 위에 입자크기가 10㎚인 SiO2가 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성시켜 도 2에 도시된 단면구조를 갖는 광반사층 코팅 필름을 제조하였다.
2) 광반사층 코팅 필름을 이용한 투명 다색 필름의 제조
상기 광반사층 코팅 필름의 광반사층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인 코팅롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 입자크기가 10㎚인 SiO2가 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성하여 도 4에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였으나 반사광 세기가 약하여 제품으로 사용하기 어려운 상태였다.
비교실시예 11
1) 광반사층 코팅 필름의 제조
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 위에 입자크기가 10㎚인 SiO2가 메탄올에 10중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성시켜 도 2에 도시된 단면구조를 갖는 광반사층 코팅 필름을 제조하였다.
2) 광반사층 코팅 필름을 이용한 투명 다색 필름의 제조
상기 광반사층 코팅 필름의 광반사층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인 코팅롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 입자크기가 10㎚인 SiO2가 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성하여 도 4에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였으나 반사광 세기가 약하여 제품으로 사용하기 어려운 상태였다.
비교실시예 12
1) 광반사층 코팅 필름의 제조
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 위에 입자크기가 10㎚인 SiO2가 메탄올에 15중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성시켜 도 2에 도시된 단면구조를 갖는 광반사층 코팅 필름을 제조하였다.
2) 광반사층 코팅 필름을 이용한 투명 다색 필름의 제조
상기 광반사층 코팅 필름의 광반사층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인 코팅롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 입자크기가 10㎚인 SiO2가 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성하여 도 4에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였으나 반사광 세기가 약하여 제품으로 사용하기 어려운 상태였다.
비교실시예 13
1) 광반사층 코팅 필름의 제조
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 위에 입자크기가 10㎚인 SiO2와 ZrO2 혼합물 (1:1) 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성시켜 도 2에 도시된 단면구조를 갖는 광반사층 코팅 필름을 제조하였다.
2) 광반사층 코팅 필름을 이용한 투명 다색 필름의 제조
상기 광반사층 코팅 필름의 광반사층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인 코팅롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 입자크기가 10㎚인 SiO2와 ZrO2 혼합물(1:1) 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성하여 도 4에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였으나 반사광 세기가 약하여 제품으로 사용하기 어려운 상태였다.
비교실시예 14
1) 광반사층 코팅 필름의 제조
두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 위에 굴절율이 1.63이며 입자크기가 10㎚인 Al2O3를 에탄올에 8중량%되도록 혼합된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성시켜 도 1에 도시된 단면 구조를 갖는 광반사층 코팅 필름을 제조하였다.
2) 광반사층 코팅 필름을 이용한 투명 다색 필름의 제조
상기 광반사층 코팅 필름의 광반사층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인 코팅롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 앞에서와 동일한 입자크기가 10㎚인 Al2O3를 에탄올에 8중량%되도록 혼합된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성하여 도 3에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였으나 반사광 세기가 약하여 제품으로 사용하기 어려운 상태였다.
본 발명의 투명 다색 필름은 식품 포장용 필름이나 장식용 필름 등으로 다양한 산업분야에 이용된다.
또한, 본 발명의 광반사층 코팅 필름은 투명 레인보우 필름, 투명 오로라(aurora)필름, 투명 홀로그램 필름 등으로 불려지는 본 발명의 투명 다색 필름 제조용 소재로 이용된다.
Claims (63)
- (i) 베이스 필름층(1), (ii) 상기 베이스 필름층(1) 위에 형성된 디자인 인쇄층(3) 및 (iii) 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 형성된 광반사층(4)을 포함하며, 상기 광반사층(4)은 무기물 및 무기물과 유기물수지의 혼합물 중에서 선택된 1종으로 구성되며 굴절율이 1.65 이상인 코팅층인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
- 제1항에 있어서, 상기 베이스 필름층(1)과 디자인 인쇄층(3) 사이에 광반사층(4')이 추가로 더 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 광반사층(4) 위에 접착제층(5)이 추가로 더 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
- 제1항에 있어서, 상기 베이스 필름층(1)과 디자인 인쇄층(3) 사이에 이형층(2)이 추가로 더 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
- 제2항에 있어서, 상기 베이스 필름층(1)과 광반사층(4') 사이에 이형층(2)이 추가로 더 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
- 제1항에 있어서, 상기 베이스 필름층(1)과 디자인 인쇄층(3) 사이에 이형층(2)이 추가로 더 형성되어 있으며, 상기 광반사층(4) 위에 접착제층(5)이 추가로 더 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
- 제2항에 있어서, 상기 베이스 필름층(1)과 광반사층(4') 사이에 이형층(2)이 추가로 더 형성되어 있으며, 상기 광반사층(4) 위에 접착제층(5)이 추가로 더 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
- 제1항 또는 2항에 있어서, 상기 베이스 필름층(1)은 투명한 유광필름 및 무광처리된 무광필름 중에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 다색 필름.
- 제1항, 제3항, 제4항 또는 제6항에 있어서, 상기 광반사층(4)을 구성하는 무기물은 HfO2, ITO, MgO, Ta2O5, TiO2, ZrO2, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF2, Sb2O3, BaTiO3, Cr2O3, Cu2O, CuO, Fe2O3, Fe3O4, FeO, Mn3O4, MnO2 및 NiO 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
- 제1항, 제3항, 제4항 또는 제6항에 있어서,광반사층(4)을 구성하는 무기물은 (i) HfO2, ITO, MgO, Ta2O5, TiO2, ZrO2, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF2, Sb2O3, BaTiO3, Cr2O3, Cu2O, CuO, Fe2O3, Fe3O4, FeO, Mn3O4, MnO2 및 NiO 중에서 선택된 1종 이상과 (ii) Al2O3, CeF3, Na3AlF6, CaF2, MgF2 및 SiO2 중에서 선택된 1종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
- 제1항, 제3항, 제4항 또는 제6항에 있어서, 상기 광반사층(4)을 구성하는 유기물수지는 우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 비닐수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지 및 아미드 수지 중에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
- 제1항, 제3항, 제4항 또는 제6항에 있어서, 상기 광반사층(4)을 구성하는 유기물수지의 함량은 무기물 100 중량부대비 0~200 중량부인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
- 제2항, 제5항 또는 제7항이 있어서, 상기 광반사층(4')을 구성하는 무기물은 HfO2, ITO, MgO, Ta2O5, TiO2, ZrO2, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF2, Sb2O3, BaTiO3, Cr2O3, Cu2O, CuO, Fe2O3, Fe3O4, FeO, Mn3O4, MnO2 및 NiO 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
- 제2항, 제5항 또는 제7항이 있어서, 상기 광반사층(4')을 구성하는 무기물은 (i) HfO2, ITO, MgO, Ta2O5, TiO2, ZrO2, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF2, Sb2O3, BaTiO3, Cr2O3, Cu2O, CuO, Fe2O3, Fe3O4, FeO, Mn3O4, MnO2 및 NiO 중에서 선택된 1종 이상과 (ii) Al2O3, CeF3, Na3AlF6, CaF2, MgF2 및 SiO2 중에서 선택된 1종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
- 제2항, 제5항 또는 제7항이 있어서, 상기 광반사층(4')을 구성하는 유기물수지는 우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 비닐수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지 및 아미드 수지 중에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
- 제2항, 제5항 또는 제7항이 있어서, 상기 광반사층(4')을 구성하는 유기물수지의 함량은 무기물 100 중량부대비 0~200 중량부인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
- (i) 베이스 필름(1) 상에 디자인 형성용 코팅액을 코팅하여 디자인 인쇄층(3)을 형성하는 공정;(ii) 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
- (i) 베이스 필름(1) 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4')을 형성하는 공정;(ii) 상기 광반사층(4') 상에 디자인 형성용 코팅액을 코팅하여 디자인 인쇄층(3)을 형성하는 공정;(iii) 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
- 제17항 또는 제18항에 있어서, 상기 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 형성하는 공정을 추가로 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
- (i) 베이스 필름(1) 상에 이형층 형성용 코팅액을 코팅하여 이형층(2)을 형성하는 공정;(ii) 상기 이형층(2) 상에 디자인 형성용 코팅액을 코팅하여 디자인 인쇄층(3)을 형성하는 공정;(iii) 상기 디자인 인쇄층(3) 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
- (i) 베이스 필름(1) 상에 이형층 형성용 코팅액을 코팅하여 이형층(2)을 형성하는 공정;(ii) 상기 이형층(2) 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4')을 형성하는 공정;(iii) 상기 광반사층(4') 상에 디자인 형성용 코팅액을 코팅하여 디자인 인쇄층(3)을 형성하는 공정; 및(iv) 상기 디자인 인쇄층(3) 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
- 제20항 또는 제21항에 있어서, 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 형성하는 공정을 추가로 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
- 제17항, 제18항, 제20항 또는 제21항에 있어서, 광반사층 형성용 코팅액은 무기물과 용매로 구성되는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
- 제17항, 제18항, 제20항 또는 제21항에 있어서, 광반사층 형성용 코팅액은 무기물, 유기물수지 및 용매로 구성되는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
- 제17항, 제18항, 제20항 또는 제21항에 있어서, 상기 베이스층(1)은 투명한 유광필름 및 무광처리된 무광필름 중에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 다색 필름의 제조방법.
- (i) 베이스 필름층(1), (ii) 상기 베이스 필름층(1) 위에 형성된 홀로그램 엠보싱층(3') 및 (iii) 상기 홀로그램 엠보싱층(3') 위에 형성된 광반사층(4)을 포함하며, 상기 광반사층(4)은 무기물 및 무기물과 유기물수지의 혼합물 중에서 선택된 1종으로 구성되며 굴절율이 1.65 이상인 코팅층인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
- 제26항에 있어서, 상기 광반사층(4) 위에 접착제층(5)이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
- 제26항에 있어서, 상기 베이스층(1)과 홀로그램 엠보싱층(3') 사이에 이형층(2)이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
- 제26항에 있어서, 상기 베이스층(1)과 홀로그램 엠보싱층(3') 사이에 이형층(2)이 형성되어 있으며, 상기 광반사층(4) 위에 접착제층(5)이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
- 제26항,제27항,제28항 또는 제29항에 있어서, 상기 광반사층(4)을 구성하는 무기물은 HfO2, ITO, MgO, Ta2O5, TiO2, ZrO2, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF2, Sb2O3, BaTiO3, Cr2O3, Cu2O, CuO, Fe2O3, Fe3O4, FeO, Mn3O4, MnO2 및 NiO 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
- 제26항,제27항,제28항 또는 제29항에 있어서, 광반사층(4)을 구성하는 무기물은 (i) HfO2, ITO, MgO, Ta2O5, TiO2, ZrO2, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF2, Sb2O3, BaTiO3, Cr2O3, Cu2O, CuO, Fe2O3, Fe3O4, FeO, Mn3O4, MnO2 및 NiO 중에서 선택된 1종 이상과 (ii) Al2O3, CeF3, Na3AlF6, CaF2, MgF2 및 SiO2 중에서 선택된 1종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
- 제26항,제27항,제28항 또는 제29항에 있어서, 상기 광반사층(4)을 구성하는 유기물수지는 우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 비닐수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지 및 아미드 수지 중에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
- 제26항,제27항,제28항 또는 제29항에 있어서, 상기 광반사층(4)을 구성하는 유기물수지의 함량은 무기물 100중량부 대비 0~200중량부인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
- (i) 베이스 필름(1) 상에 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅하여 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층을 형성하는 공정;(ii) 상기 엠보싱층 형성용 수지층을 인각하여 홀로그램 엠보싱층(3')을 형성하는 공정; 및(iii) 상기 홀로그램 엠보싱층(3') 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
- 제34항에 있어서, 상기 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 형성하는 공정을 추가로 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
- (i) 베이스 필름(1) 상에 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅하여 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층을 형성하는 공정;(ii) 상기 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정; 및(iii) 상기 엠보싱층 형성용 수지층과 광반사층(4)을 함께 인각하여 홀로그램 엠보싱층(3')을 형성하는 공정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
- 제36항에 있어서, 엠보싱층 형성용 수지층과 광반사층(4)을 함께 인각하여 홀로그램 엠보싱층(3')을 형성한 다음, 인각 처리된 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 형성하는 공정을 추가로 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
- (i) 베이스 필름(1) 상에 이형층 형성용 코팅액을 코팅하여 이형층(2)을 형성하는 공정;(ii) 상기 이형층(2) 상에 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅하여 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층을 형성하는 공정;(iii) 상기 엠보싱층 형성용 수지층을 인각하여 홀로그램 엠보싱층(3')을 형성하는 공정; 및(iv) 상기 홀로그램 엠보싱층(3') 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
- 제38항에 있어서, 상기 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 형성하는 공정을 추가로 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
- (i) 베이스 필름(1) 상에 이형층 형성용 코팅액을 코팅하여 이형층(2)을 형성하는 공정;(ii) 상기 이형층(2) 상에 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅하여 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층을 형성하는 공정;(iii) 상기 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정; 및(iv) 상기 엠보싱층 형성용 수지층과 광반사층(4)을 함께 인각하여 홀로그램 엠보싱층(3')을 형성하는 공정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
- 제40항에 있어서, 엠보싱층 형성용 수지층과 광반사층(4)을 함께 인각하여 홀로그램 엠보싱층(3')을 형성한 다음, 인각 처리된 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 형성하는 공정을 추가로 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
- 제34항,제36항,제38항 또는 제40항에 있어서, 광반사층 형성용 코팅액은 무기물과 용매로 구성되는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
- 제34항,제36항,제38항 또는 제40항에 있어서, 광반사층 형성용 코팅액은 무기물, 유기물수지 및 용매로 구성되는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
- (i) 베이스 필름층(1) 및 (ii) 상기 베이스 필름층(1) 위에 형성된 광반사층(4)을 포함하며, 상기 광반사층(4)은 무기물 및 무기물과 유기물수지의 혼합물 중에서 선택된 1종으로 구성되며 굴절율이 1.60 이상인 코팅층인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅필름.
- 제44항에 있어서, 상기 베이스 필름층(1)과 광반사층(4) 사이에 이형층(2)이 추가로 더 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅필름.
- 제44항 또는 제45항에 있어서, 상기 베이스 필름층(1)은 투명한 유광필름 및 무광처리된 무광필름 중에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름.
- 제44항 또는 제45항에 있어서, 상기 베이스 필름층(1)은 폴리에스터, 폴리아마이드, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리우레탄, 폴리아크릴 및 폴리비닐클로라이드 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 공중합체로 구성되는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름.
- 제44항 또는 제45항에 있어서, 상기 광반사층(4)을 구성하는 무기물은 HfO2, ITO, MgO, Ta2O5, TiO2, ZrO2, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF2, Sb2O3, BaTiO3, Cr2O3, Cu2O, CuO, Fe2O3, Fe3O4, FeO, Mn3O4, MnO2 및 NiO 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름.
- 제44항 또는 제45항에 있어서,광반사층(4)을 구성하는 무기물은 (i) HfO2, ITO, MgO, Ta2O5, TiO2, ZrO2, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF2, Sb2O3, BaTiO3, Cr2O3, Cu2O, CuO, Fe2O3, Fe3O4, FeO, Mn3O4, MnO2 및 NiO 중에서 선택된 1종 이상과 (ii) Al2O3, CeF3, Na3AlF6, CaF2, MgF2 및 SiO2 중에서 선택된 1종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름.
- 제44항 또는 제45항에 있어서, 상기 광반사층(4)을 구성하는 유기물수지는 우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 비닐수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지 및 아미드 수지 중에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름.
- 제44항 또는 제45항에 있어서, 상기 광반사층(4)을 구성하는 유기물수지의 함량은 무기물 100중량부 대비 0~200중량부인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름.
- 베이스 필름 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름의 제조방법.
- 제52항에 있어서, 베이스 필름 상에 광반사층(4)을 형성하기 전에 이형층 형성용 코팅액을 먼저 코팅하여 이형층(2)을 형성하는 공정을 추가로 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름의 제조방법.
- 제52항 또는 제53항에 있어서, 광반사층 형성용 코팅액은 무기물과 용매로 구성되는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름의 제조방법.
- 제52항 또는 제53항에 있어서, 광반사층 형성용 코팅액은 무기물, 유기물수지 및 용매로 구성되는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름제조용 광반사층 코팅 필름의 제조방법.
- 제52항 또는 제53항에 있어서, 상기 베이스 필름은 투명한 유광필름 및 무광처리된 무광필름 중에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름의 제조방법.
- 제52항 또는 제53항에 있어서, 상기 베이스 필름을 폴리에스터, 폴리아마이드, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리우레탄, 폴리아크릴 및 폴리비닐클로라이드 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 공중합체로 구성되는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름의 제조방법.
- 제54항 또는 제55항에 있어서, 상기 광반사층 형성용 코팅액을 구성하는 무기물은 HfO2, ITO, MgO, Ta2O5, TiO2, ZrO2, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF2, Sb2O3, BaTiO3, Cr2O3, Cu2O, CuO, Fe2O3, Fe3O4, FeO, Mn3O4, MnO2 및 NiO 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름의 제조방법.
- 제54항 또는 55항에 있어서, 광반사층 형성용 코팅액을 구성하는 무기물은 (i) HfO2, ITO, MgO, Ta2O5, TiO2, ZrO2, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF2, Sb2O3, BaTiO3, Cr2O3, Cu2O, CuO, Fe2O3, Fe3O4, FeO, Mn3O4, MnO2, NiO 중에서 선택된 1종 이상과 (ii) Al2O3, CeF3, Na3AlF6, CaF2, MgF2 및 SiO2 중에서 선택된 1종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름의 제조방법.
- 제54항 또는 55항에 있어서, 상기 광반사층 형성용 코팅액을 구성하는 유기물수지는 우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 비닐수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지 및 아미드 수지 중에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름의 제조방법.
- 제54항 또는 55항에 있어서, 상기 광반사층 형성용 코팅액을 구성하는 유기물수지의 함량은 무기물 100중량부 대비 0~200중량부인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름의 제조방법.
- 제54항 또는 제55항에 있어서, 상기 광반사층 형성용 코팅액을 구성하는 용매는 물, 알코올 화합물 및 케톤류 혼합물 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅필름의 제조방법.
- 제54항 또는 제55항에 있어서, 상기 광반사층 형성용 코팅액내 무기물의 고형분 함량은 0.01~30중량%인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅필름의 제조방법.
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CN113087952A (zh) * | 2019-12-20 | 2021-07-09 | 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 | 一种全息膜材料及其制作方法 |
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