WO2015105272A1

WO2015105272A1 - 투명 다색필름, 그의 제조방법 및 그의 제조에 사용되는 광반사층 코팅필름

Info

Publication number: WO2015105272A1
Application number: PCT/KR2014/011163
Authority: WO
Inventors: 류석철
Original assignee: 류석철
Priority date: 2014-01-10
Filing date: 2014-11-20
Publication date: 2015-07-16

Abstract

본 발명에 따른 투명 다색 필름은 (i) 베이스 필름층(1), (ii) 상기 베이스 필름층(1) 위에 형성된 디자인 인쇄층(3) 또는 홀로그램 엠보싱층(3') 및 (iii) 상기 디자인 인쇄층(3) 또는 홀로그램 엠보싱층(3') 위에 형성된 광반사층(4)을 포함하며, 상기 광반사층(4)은 무기물 및 무기물과 유기물수지의 혼합물 중에서 선택된 1종으로 구성되며 굴절율이 1.65 이상인 코팅층인 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명의 투명 다색 필름은 디자인 인쇄층(3) 또는 홀로그램 엠보싱층(3') 위에 광반사층(4)이 코팅되어 있어서 상기 광반사층(4) 위에 다른 수지나 접착제 등이 추가로 코팅, 인쇄 또는 합지되어도 다색의 디자인상이나 인각된 상이 없어지지 않고 그대로 유지된다.

Description

투명 다색필름, 그의 제조방법 및 그의 제조에 사용되는 광반사층 코팅필름

본 발명은 투명하면서도 여러 가지 색상을 나타내는 투명 다색 필름, 그의 제조방법 및 그의 제조에 사용되는 광반사층 코팅필름에 관한 것으로서, 그라비아롤 인쇄 등과 같은 여러 가지 방법으로 형성된 디자인 인쇄층 또는 홀로그램 엠보싱층 위에 광반사층으로써 무기물 또는 무기물과 유기물수지의 혼합물로 구성되어 굴절율이 1.65 이상인 코팅층이 형성되어 그 위에 투명 접착제 등의 다른 물질이 코팅 또는 접착되어도 투명한 상태로 인쇄 또는 코팅된 이미지에 따라 여러 가지 색상의 반사광이 그대로 유지되거나 인각된 상이 그대로 유지되는 투명 다색 필름 및 그의 제조방법에 관한 것이다.

또한, 본 발명은 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅필름 및 그의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 베이스 필름층(1) 또는 상기 베이스 필름층(1) 상에 형성된 이형층(2) 상에 광반사층으로써 무기물 또는 무기물과 유기물수지의 혼합물로 구성되어 굴절율이 1.65 이상인 코팅층이 형성되어, 투명 다색 필름 제조공정 중 광반사층인 코팅층 위에 투명 접착제 등의 다른 물질이 코팅 또는 접착되어도 제조된 투명 다색 필름이 투명한 상태로 인쇄, 인각 또는 코팅된 이미지에 따라 여러가지 색상의 반사광이 그대로 유지하도록 해 줄 수 있는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅필름 및 그의 제조방법에 관한 것이다.

종래 투명 다색 필름의 일종인 투명 홀로그램 필름으로 국제특허출원 PCT/US2006/021279호에서는 베이스 필름 층에 상온 경화성 수지인 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지를 코팅한 후 그 표면을 인각 처리하여 홀로그램 엠보싱층을 형성하는 방법으로 제조된 홀로그램 필름을 게재하고 있다.

그러나, 상기 종래의 홀로그램 필름은 광반사층을 구비하지 않아 투명 접착제 등의 물질이 홀로그램 엠보싱층 위에 코팅되면 홀로그램 상이 사라지는 문제가 있었다.

또 다른 종래 투명 홀로그램 필름으로 일본 특개평06-166299호, 일본 공개특허 특개2010-240994호 및 일본 특개소61-292181호등에서는 홀로그램 엠보싱층 위에 진공증착방식으로 ZnS 등의 무기물을 진공 증착하여 광반사층(투명증착층)을 형성시킨 홀로그램 필름을 게재하고 있다.

상기 엠보싱층의 두께 차이와 반사각 차이에 의해 여러 가지 색상이 나타나는 종래의 투명 홀로그램 필름은 광반사층을 구비하여 그 위에 투명 접착제 등의 물질이 코팅되어도 홀로그램 상을 그대로 유지할 수 있지만, 고진공 설비 사용으로 원가가 상승하며 진공증착중 황(S) 분자로 인한 기기의 부식도 심하게 발생되는 문제점이 발생 되었다.

또 다른 종래 기술로서 전자빔을 이용한 무기물의 진공증착법으로 홀로그램층 엠보싱층 위에 광반사층을 형성시켜 투명 홀로그램 필름을 제조하는 방법도 알려져 있으나, 상기 종래기술 역시 제조원가가 너무 고가라서 생산에 제약이 많은 문제가 발생되었다.

본 발명의 과제는 고진공 설비를 사용하지 않아 제조원가가 저렴하면서도 기기의 부식문제 없이 수지 코팅 또는 인쇄 등의 방법으로 형성된 디자인 인쇄층 또는 홀로그램 엠보싱층 위에 고굴절율의 광반사층을 형성시켜 광반사층 위에 다른 수지나 접착제 등의 물질이 코팅 또는 합지되어도 상기 디자인 인쇄층의 인쇄 또는 코팅조건에 따라 다색의 디자인 이미지 또는 인각된 상과 반사율이 그대로 유지되는 투명 레인보우(rainbow) 필름, 투명 오로라(aurora)필름, 투명 홀로그램 필름 등으로 불려지는 투명 다색 필름 및 그의 제조방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 과제는 고진공 설비를 사용하지 않아 제조원가가 저렴하면서도 기기의 부식문제 없이 베이스 필름 또는 베이스 필름 위에 형성된 이형층 위에 고굴절율의 광반사층을 코팅방식으로 형성시켜 투명 다색 필름 제조공정 중 상기 광반사층 위에 다른 수지나 접착제 등의 물질이 코팅 또는 합지되어도 제조된 투명 다색 필름이 인쇄, 인각 또는 코팅된 이미지에 따라 다색의 디자인 이미지(디자인상)와 반사율이 그대로 유지되는 투명 레인보우(rainbow) 필름, 투명 오로라(aurora)필름, 투명 홀로그램 필름 등으로 불려지는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅필름 및 그의 제조방법을 제공하는 것이다.

이와 같은 과제를 달성하기 위해서 본 발명에서는 디자인 인쇄층 또는 홀로그램 엠보싱층 상에 광반사층으로서 굴절율이 1.65 이상이며 무기물 또는 무기물과 유기물수지의 혼합물로 이루어진 코팅층을 코팅방식으로 형성시켜 투명 다색 필름을 제조한다.

또한, 본 발명에서는 여러 종류의 베이스필름 또는 상기 베이스 필름상에 형성된 이형층 위에 광반사층으로서 굴절율이 1.65 이상이며 무기물 또는 무기물과 유기물수지의 혼합물로 이루어진 코팅층을 코팅방식으로 형성시켜 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름을 제조한다.

본 발명은 종래 진공증착방법 등으로 광반사층을 형성하는 것과 비교시 황(S) 분자에 의한 기기부식을 방지할 수 있고, 고진공설비가 필요 없어 제조원가가 저렴함과 동시에 다량생산이 가능하다.

또한, 본 발명의 투명 다색 필름은 디자인 인쇄층 위의 광반사층이 코팅이 되어 있어 상기 부분에 다른 수지나 접착제 등이 코팅되어도 다색의 이미지상 또는 인각된 상이 없어지지 않고 그대로 유지된다.

또한, 본 발명의 광반사층 코팅 필름을 이용하여 투명 다색 필름을 제조하는 경우 상기 광반사층 부분에 다른 수지나 접착제 등이 코팅되어도 제조된 투명 다색 필름은 다색의 이미지상이 없어지지 않고 그대로 유지된다.

본 발명과 같이 광반사층을 코팅방식으로 형성하게 되면 종래와 같이 광반사층(투명 증착층)을 증착방식으로 형성하는 것과 비교시 아래와 같은 현저한 효과를 얻을수 있다.

첫째, 종래방법은 고가의 고진공 설비가 필요하나, 본 발명은 저가의 일반 코팅설비로 광반사층을 형성할 수 있고,

둘째, 종래방법은 광반사층을 형성하는 고진공 설비의 부식문제가 있으나, 본 발명에서는 코팅설비의 부식문제가 없고,

셋째, 종래방법의 증착방법은 진공챔버 내에서 배치식(Batch type)으로 증착공정이 실시되며 진공챔버에 고진공 거는 비용과 시간이 많이 소요되므로 소량 생산은 어렵고 20,000m 이상으로 롤(Roll) 단위로 작업이 이루어지나, 본 발명의 코팅방식은 연속식 공정이며, 수요자가 원하는 만큼의 소량작업이 가능하고 비용/시간도 절감되고,

넷째, 본 발명으로 제조된 투명 홀로그램 필름은 종래방법으로 제조된 투명 홀로그램 필름과 비교시 제조비용이 크게 절감된다.

도 1 내지 도 4는 합지용 제품으로 사용되는 투명 레인보우 필름 타입인 본 발명 다색 필름의 단면 개략도.

도 5 내지 도 8은 전사용 제품으로 사용되는 투명 레인보우 필름타입인 본 발명 투명 다색 필름의 단면 개략도.

도 9는 디자인 인쇄층 형성용 인쇄롤의 이미지를 나타낸 개략도.

도 10 내지 도 13은 합지용 제품으로 사용되는 투명 홀로그램 필름 타입인 본 발명 투명 다색 필름의 단면 개략도.

도 14 내지 도 17은 전사용 제품으로 사용되는 투명 홀로그램 필름 타입인 본 발명 투명 다색 필름의 단면 개략도.

도 18 내지 도 19는 본 발명에 따른 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름의 단면 개략도.

도 20 내지 도 21은 본 발명 도 18 내지 도 19의 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅필름을 사용하여 제조된 투명 다색 필름의 단면 개략도.

이하, 첨부한 도면 등을 통하여 본 발명을 상세하게 설명한다.

본 발명에 따른 투명 레인보우 필름 타입의 투명 다색 필름은 합지용 제품으로 사용되는 경우, 제1구현예로는 도 1 내지 도 2에 도시된 바와 같이 (i) 베이스 필름층(1), (ii) 상기 베이스 필름층(1) 위에 형성된 디자인 인쇄층(3) 및 (iii) 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 형성된 광반사층(4)을 포함하며, 상기 광반사층(4)은 무기물 또는 무기물과 유기물수지의 혼합물 중에서 선택된 1종으로 구성되며 굴절율이 1.65 이상인 코팅층으로 구성된다.

본 발명에 따른 투명 레인보우 필름 타입의 투명 다색 필름은 합지용 제품으로 사용되는 경우, 제2구현예로는 도 3 내지 도 4에 도시된 바와 같이 (i) 베이스 필름층(1), (ii) 상기 베이스 필름층(1) 위에 형성된 광반사층(4'), (iii) 상기 광반사층(4') 위에 형성된 디자인 인쇄층(3) 및 (iv) 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 형성된 광반사층(4)을 포함하며, 상기 광반사층(4,4')들은 무기물 또는 무기물과 유기물수지의 혼합물 중에서 선택된 1종으로 구성되며 굴절율이 1.65 이상인 코팅층으로 구성된다.

이와 같이 합지용의 경우 베이스 필름층(1) 위에 광반사층을 한번 더 형성하는 이유는 디자인상의 색상의 광세기를 더 강하게 하는 목적이 있다.

도 1 및 도 3과 같이 광반사층(4) 위에 접착층(5)이 형성안된 경우 피착체의 표면에 접착제를 도포하여 거기에 본 발명의 투명 다색 필름을 부착한다.

또한, 합지용 제품으로 사용되는 본 발명 투명 다색 필름은 도 2 및 도 4에 도시된 바와 같이 상기 광반사층(4) 위에 접착제층(5)을 추가로 더 구비할 수도 있다.

도 1 내지 도 4는 합지용 제품으로 사용되는 본 발명 투명 다색 필름의 단면 개략도이다.

한편, 본 발명에 따른 투명 레인보우 타입의 투명 다색 필름은 전사용 제품으로 사용되는 경우, 제3구현예로는 도 5 내지 도 6에 도시된 바와 같이 기본적으로 (i) 베이스 필름층(1), (ii) 상기 베이스 필름층(1) 위에 형성된 이형층(2), (iii) 상기 이형층(2) 위에 형성된 디자인 인쇄층(3), (iv) 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 형성된 광반사층(4)을 포함하며, 상기 광반사층(4)은 무기물 또는 무기물과 유기물수지의 혼합물로 구성되어 굴절율이 1.65 이상인 코팅층으로 구성된다.

본 발명에 따른 투명 레인보우 타입의 투명 다색 필름은 전사용 제품으로 사용되는 경우, 제4구현예로는 도 7 내지 8에 도시된 바와 같이 기본적으로 (i) 베이스 필름층(1), (ii) 상기 베이스 필름층(1) 위에 형성된 이형층(2), (iii) 상기 이형층(2) 위에 형성된 광반사층(4'), (iv) 상기 광반사층(4') 위에 형성된 디자인 인쇄층(3), (v) 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 다시 형성된 광반사층(4)을 포함하며, 상기 광반사층(4.4')들은 무기물 또는 무기물과 유기물수지의 혼합물로 구성되어 굴절율이 1.65 이상인 코팅층으로 구성된다.

이와 같이 전사용의 경우에도 이형층(2) 위에 광반사층(4')을 미리 한번 더 형성시키는 이유는 전사 후 색상의 반사광세기 증가와 추가 코팅이나 인쇄, 합지시 다색의 이미지상이 흐려지거나 사라지는 것을 방지하기 위함이다.

전사용 제품으로 사용되는 본 발명 투명 다색 필름은 도 6 및 도 8과 같이 상기 광반사층(4) 위에 접착제층(5)을 추가로 더 구비할 수도 있다.

도 5 및 도 7과 같이 광반사층(4) 위에 접착층(5)이 형성안된 경우 피착체의 표면에 접착제를 도포하여 거기에 상기 투명 다색 필름을 부착한다.

도 5 내지 도 8은 전사용 제품으로 사용되는 본 발명 투명 다색 필름의 단면 개략도이다.

상기 베이스 필름층(1)은 투명한 유광 필름 또는 무광 처리된 무광 필름이며, 무광 필름인 경우 표면이 무광인 다색 필름이 제조된다.

상기 광반사층(4,4')들을 구성하는 무기물의 구체적인 예로서, 굴절율이 1.65 이상인 HfO₂, ITO, MgO, T_a2O₅, TiO₂, ZrO₂, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF₂, Sb₂O₃, BaTiO₃, Cr₂O₃, Cu₂O, CuO, Fe₂O₃, Fe₂O₄, FeO, Mn₃O₄, MnO₂, NiO또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.

상기 무기물의 또 다른 구체적인 예로서, (i) 굴절율이 1.65 이상인 HfO₂, ITO, MgO, T_a2O₅, TiO₂, ZrO₂, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF₂, Sb₂O₃, BaTiO₃, Cr₂O₃, Cu₂O, CuO, Fe₂O₃, Fe₂O₄, FeO, Mn₃O₄, MnO₂, NiO또는 이들의 혼합물과 (ii) 굴절율이 1.65 미만인 Al₂O₃, CeF₃, Na₃AlF₆, CaF₂, MgF₂, SiO₂ 또는 이들의 혼합물을 혼합 사용할 수도 있다.

상기 광반사층(4,4')들을 구성하는 유기물수지는 우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 비닐 수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지, 아미이드 수지 또는 이들의 변성수지 등이며, 상기 유기물수지의 함량은 무기물 100 중량부 대비 0~200중량부 인 것이 바람직하다.

상기 코팅층으로 이루어진 광반사층(4,4')의 굴절율은 1.65 이상, 바람직하기로는 1.65~3.4인 경우에 디자인 인쇄층(3)의 반사광 세기가 커서 여러 가지 색상을 나타낼 수 있고, 접착제층(5) 형성 후에도 다색의 디자인 이미지(상)를 그대로 유지할 수 있게 된다.

상기 광반사층(4,4')을 구성하는 무기물은 입경이 0.1~1,000㎚, 바람직하기로는 0.1~100㎚인 것이 다색의 디자인상을 양호하게 유지하는데 바람직하다.

상기 광반사층(4,4')을 구성하는 무기물은 굴절율이 1.65 이상인 1종의 무기물 또는 2종 이상의 무기물 혼합물일 수도 있고, 굴절율이 1.65 미만인 1종 이상의 무기물과 굴절율이 1.65 이상인 1종 이상의 무기물들의 혼합물일 수도 있다.

무기물 혼합물의 경우라도 혼합물 전체의 굴절율은 1.65 이상을 유지하여야 한다.

본 발명에 따른 투명 레인보우 필름 타입인 투명 다색 필름의 제조방법은 디자인 형성용 수지층을 그라데이션을 준 코팅 또는 인쇄롤(무늬나 디자인에 따라 코팅 또는 인쇄되는 수지용액의 두께가 다르게 인쇄 또는 코팅되도록 음각되어 있는 롤)로 베이스 필름(1)에 인쇄 또는 코팅하여 디자인 인쇄층(3)을 형성한 후 그 위에 광반사층(4)을 코팅방식으로 형성할 수도 있고, 또 다른 방법으로서 홀로그램 필름의 한 방법처럼 디자인 형성용 수지층을 균일한 두께로 코팅한 상태에서 그 위에 광반사층(4)을 코팅방식으로 형성한 후 상기 디자인 형성용 수지층과 광반사층(4)을 함께 인각롤로 열과(또는) 압력을 가하여 투명 다색 필름을 제조한다.

구체적으로 본 발명에서 투명 레인보우 필름 타입인 투명 다색 필름을 제조하는 제1방법으로는 (i) 베이스 필름(1) 상에 디자인 형성용 코팅액을 코팅하여 디자인 인쇄층(3)을 형성하는 공정; (ii) 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정;을 거쳐 투명 다색 필름을 제조한다.

상기 제1방법으로 제조된 투명 다색 필름은 도 1에 도시된 단면 구조를 갖게되어 합지용 제품으로 사용된다. 합지용 제품으로 사용시에는 피사물 표면에 접착제를 도포한 후 거기에 상기 투명 다색 필름을 부착한다.

본 발명에서 투명 레인보우 필름 타입인 투명 다색 필름을 제조하는 제2방법으로는 상기 제1방법으로 베이스필름(1) 상에 디자인 인쇄층(3)과 광반사층(4)을 차례로 형성시킨 다음, 상기 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 추가로 형성하여 투명 다색 필름을 제조한다.

상기 제2방법으로 제조된 투명 다색 필름은 도 2에 도시된 단면 구조를 갖게되어 합지용 제품으로 사용된다.

본 발명에서 투명 레인보우 필름 타입인 투명 홀로그램 필름을 제조하는 제3방법으로는, (i) 베이스 필름(1) 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4')을 형성하는 공정; (ii) 상기 광반사층(4') 상에 디자인 형성용 코팅액을 코팅하여 디자인 인쇄층(3)을 형성하는 공정; (iii) 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정;을 거쳐 투명 다색 필름을 제조한다.

상기 제3방법으로 제조된 투명 다색 필름은 도 3에 도시된 단면 구조를 갖게되어 합지용 제품으로 사용된다. 합지용 제품으로 사용시에는 피사물 표면에 접착제를 도포한 후 거기에 상기 투명 다색 필름을 부착한다.

본 발명에서 투명 레인보우 타입인 투명 다색 필름을 제조하는 제4방법으로는 상기 제3방법으로 베이스필름(1) 상에 광반사층(4'), 디자인 인쇄층(3) 및 광반사층(4)을 차례로 형성시킨 다음, 상기 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 추가로 형성하여 투명 다색 필름을 제조한다.

상기 제4방법으로 제조된 투명 다색 필름은 도 4에 도시된 단면 구조를 갖게되어 합지용 제품으로 사용된다.

본 발명에서 투명 레인보우 타입인 투명 다색 필름을 제조하는 제5방법으로는, (i) 베이스 필름(1) 상에 이형층 형성용 코팅액을 코팅하여 이형층(2)을 형성하는 공정; (ii) 상기 이형층(2) 상에 디자인 형성용 코팅액을 코팅하여 디자인 인쇄층(3)을 형성하는 공정; (iii) 상기 디자인 인쇄층(3) 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정;을 거쳐 투명 다색 필름을 제조한다.

상기 제5방법으로 제조된 투명 다색 필름은 도 5에 도시된 단면 구조를 갖게되어 전사용 제품으로 사용된다. 전사용 제품으로 사용시에는 피사물 표면에 접착제를 도포한 후 거기에 상기 투명 다색 필름을 부착한다.

본 발명에서 투명 레인보우 타입인 투명 다색 필름을 제조하는 제6방법으로는 상기 제5방법으로 베이스필름(1) 상에 이형층(2), 디자인 인쇄층(3) 및 광반사층(4)을 차례로 형성시킨 다음, 상기 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 추가로 형성하여 투명 다색 필름을 제조한다.

상기 제6방법으로 제조된 투명 다색 필름은 도 6에 도시된 단면 구조를 갖게되어 전사용 제품으로 사용된다.

본 발명에서 투명 레인보우 필름 타입인 투명 다색 필름을 제조하는 제7방법으로는, (i) 베이스 필름(1) 상에 이형층 형성용 코팅액을 코팅하여 이형층(2)을 형성하는 공정; (ii) 상기 이형층(2) 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4')을 형성하는 공정; (iii) 상기 광반사층(4') 상에 디자인 형성용 코팅액을 코팅하여 디자인 인쇄층(3)을 형성하는 공정; 및 (iv) 상기 디자인 인쇄층(3) 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정;을 거쳐 투명 다색 필름을 제조한다.

상기 제7방법으로 제조된 투명 다색 필름은 도 7에 도시된 단면 구조를 갖게되어 전사용 제품으로 사용된다. 전사용 제품으로 사용시에는 피사물 표면에 접착제를 도포한 후 거기에 상기 투명 다색 필름을 부착한다.

본 발명에서 투명 레인보우 필름 타입인 투명 다색 필름을 제조하는 제8방법으로는 상기 제7방법으로 베이스필름(1) 상에 이형층(2), 광반사층(4'), 디자인 인쇄층(3) 및 광반사층(4)을 형성시킨 다음, 상기 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 추가로 형성하여 투명 다색 필름을 제조한다.

상기 제8방법으로 제조된 투명 다색 필름은 도 8에 도시된 단면 구조를 갖게되어 전사용 제품으로 사용된다.

상기 광반사층 형성용 코팅액은 (i) 무기물과 용매로 구성될 수도 있고, (ii) 무기물, 유기물수지 및 용매로 구성될 수도 있다.

무기물과 용매로 구성된 광반사층 형성용 코팅액을 이루는 용매는 물, 알코올, 케톤 또는 이들의 혼합물 등이다.

무기물과 용매로 구성된 광반사층 형성용 코팅액내 무기물의 고형분 함량은 0.01~30중량%인 것이 바람직하다.

광반사층 형성용 코팅액내 무기물은 입경이 0.1~1,000㎚인 것이 다색의 상을 양호하게 유지하는데 바람직하다.

상기 광반사층 형성용 코팅액내 무기물은 굴절율이 1.65 이상인 1종의 무기물 또는 2종 이상의 무기물 혼합물일 수도 있고, 굴절율이 1.65 미만인 1종 이상의 무기물과 굴절율이 1.65 이상인 1종 이상의 무기물들의 혼합물일 수도 있다.

상기 무기물의 구체적인 예로서, 굴절율이 1.65 이상인 HfO₂, ITO, MgO, T_a2O₅, TiO₂, ZrO₂, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF₂, Sb₂O₃, BaTiO₃, Cr₂O₃, Cu₂O, CuO, Fe₂O₃, Fe₂O₄, FeO, Mn₃O₄, MnO₂, NiO또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.

상기 광반사층 형성용 코팅액 내 유기물수지는 무기물의 침강방지, 접착력 향상 등의 목적으로 사용되며, 그 일례로는 우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 비닐 수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지, 아미이드 수지 또는 이들의 변성수지 등이며, 상기 유기물수지의 함량은 무기물 100 중량부 대비 0~200중량부 인 것이 바람직하다.

한편, 본 발명에 따른 투명 홀로그램 필름 타입인 투명 다색 필름(이하 "투명 홀로그램 필름"이라고 약칭한다)은 합지용 제품으로 사용되는 경우 도 10 내지 도 11에 도시된 바와 같이 (i) 베이스 필름층(1), (ii) 상기 베이스 필름층(1) 위에 형성된 홀로그램 엠보싱층(3') 및 (iii) 상기 홀로그램 엠보싱층(3') 위에 형성된 광반사층(4)을 포함하며, 상기 광반사층(4)은 무기물 또는 무기물과 유기물수지의 혼합물 중에서 선택된 1종으로 구성되며 굴절율이 1.65 이상인 코팅층으로 구성된다.

도 10 내지 도 11과 같이 광반사층(4)위에 접착층(5)이 형성안된 경우 피착체의 표면에 접착제를 도포하여 거기에 본 발명의 투명 홀로그램 필름을 부착한다.

또한, 합지용 제품으로 사용되는 본 발명 투명 홀로그램 필름은 도 12 내지 도 13에 도시된 바와 같이 상기 광반사층(4) 위에 접착제층(5)을 추가로 더 구비할 수도 있다.

도 10 내지 도 13는 합지용 제품으로 사용되는 본 발명 투명 홀로그램 필름의 단면 개략도이다.

한편, 본 발명에 따른 투명 홀로그램 필름은 전사용 제품으로 사용되는 경우 도 14 내지 도 15에 도시된 바와 같이 (i) 베이스 필름층(1), (ii) 상기 베이스 필름층(1) 위에 형성된 이형층(2), (iii) 상기 이형층(2) 위에 형성된 홀로그램 엠보싱층(3'), (iv) 상기 홀로그램 엠보싱층(3') 위에 형성된 광반사층(4)으로 이루어지며, 상기 광반사층(4)은 무기물 또는 무기물과 유기물수지의 혼합물로 구성되어 굴절율이 1.65 이상인 코팅층으로 구성된다.

또한, 전사용 제품으로 사용되는 본 발명 투명 홀로그램 필름은 도 16 내지 도 17에 도시된 바와 같이 도 14 및 도 15의 광반사층(4) 위에 접착제층(5)을 추가로 더 구비할 수도 있다.

도 14 및 도 15와 같이 광반사층(4) 위에 접착층(5)이 형성안된 경우 피착체의 표면에 접착제를 도포하여 거기에 상기 투명 홀로그램 필름을 부착한다.

도 14 내지 도 17은 전사용 제품으로 사용되는 본 발명 투명 홀로그램 필름의 단면 개략도이다.

상기 광반사층(4)을 구성하는 유기물수지는 무기물의 침강방지, 접착력 향상 등의 목적으로 사용되며, 그 일례로는 우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 비닐 수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지, 아미이드 수지 또는 이들의 변성수지 등이며, 상기 유기물수지의 함량은 무기물 100 중량부 대비 0~200중량부 인 것이 바람직하다.

상기 코팅층으로 이루어진 광반사층(4)의 굴절율은 1.65 이상, 바람직하기로는 1.65~3.40인 경우에만 접착제층(5)이 형성되기 이전의 홀로그램 엠보싱층(4)의 반사광 세기 대비 접착제층(5)이 형성된 후의 홀로그램 엠보싱층(4)의 반사광 세기가 50% 이상 수준을 유지할 수 있어 접착제층(5) 형성 후에도 홀로그램 상을 그대로 유지할 수 있게 된다.

광반사층(4)을 구성하는 무기물은 입경이 0.1~1,000㎚, 바람직하기로는 0.1~100㎚인 것이 홀로그램 상을 양호하게 유지하는데 바람직하다.

상기 광반사층(4)을 구성하는 무기물은 굴절율이 1.65 이상인 1종의 무기물 또는 2종 이상의 무기물 혼합물일 수도 있고, 굴절율이 1.65 미만인 1종 이상의 무기물과 굴절율이 1.65 이상인 1종 이상의 무기물들의 혼합물일 수도 있다.

본 발명에 따른 제조방법은 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층을 인각하여 홀로그램 엠보싱층(3')을 형성한 후 그 위에 광반사층을 코팅방식으로 형성할 수도 있고, 또 다른 방법으로서 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층을 인각하지 않은 상태에서 그 위에 광반사층을 코팅방식으로 형성한 후 상기 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층과 광반사층을 함께 인각하여 투명 홀로그램 필름을 제조한다.

본 발명에서 투명 홀로그램 필름을 제조하는 제1 방법으로는, (i) 베이스 필름(1) 상에 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅하여 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층을 형성하는 공정; (ii) 상기 엠보싱층 형성용 수지층을 인각하여 홀로그램 엠보싱층(3')을 형성하는 공정; 및 (iii)상기 홀로그램 엠보싱층(3') 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정;을 거쳐 투명 홀로그램 필름을 제조한다.

상기 제1 방법으로 제조된 투명 홀로그램 필름은 도 10에 도시된 단면 구조를 갖게되어 합지용 제품으로 사용된다. 합지용 제품으로 사용시에는 피사물 표면에 접착제를 도포한 후 거기에 상기 투명 홀로그램 필름을 부착한다.

본 발명에서 투명 홀로그램 필름을 제조하는 제2 방법으로는 상기 제1 방법으로 베이스필름(1) 상에 홀로그램 엠보싱층(3')과 광반사층(4)을 차례로 형성시킨 다음, 상기 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 추가로 형성하여 투명 홀로그램 필름을 제조한다.

상기 제2 방법으로 제조된 투명 홀로그램 필름은 도 12에 도시된 단면 구조를 갖게되어 합지용 제품으로 사용된다.

본 발명에서 투명 홀로그램 필름을 제조하는 제3 방법으로는, (i) 베이스 필름(1) 상에 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅하여 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층을 형성하는 공정; (ii) 상기 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정; 및 (iii) 상기 엠보싱층 형성용 수지층과 광반사층(4)을 함께 인각하여 홀로그램 엠보싱층(3')을 형성하는 공정;을 거쳐 투명 홀로그램 필름을 제조한다.

상기 제3 방법으로 제조된 투명 홀로그램 필름은 도 11에 도시된 단면 구조를 갖게되어 합지용 제품으로 사용된다. 합지용 제품으로 사용시에는 피사물 표면에 접착제를 도포한 후 거기에 상기 투명 홀로그램 필름을 부착한다.

본 발명에서 투명 홀로그램 필름을 제조하는 제4 방법으로는 상기 제3 방법으로 베이스필름(1) 상에 홀로그램 엠보싱층(3')과 광반사층(4)을 형성시킨 다음, 상기 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 추가로 형성하여 투명 홀로그램 필름을 제조한다.

상기 제4 방법으로 제조된 투명 홀로그램 필름은 도 13에 도시된 단면 구조를 갖게되어 합지용 제품으로 사용된다.

본 발명에서 투명 홀로그램 필름을 제조하는 제5 방법으로는, (i) 베이스 필름(1) 상에 이형층 형성용 코팅액을 코팅하여 이형층(2)을 형성하는 공정; (ii) 상기 이형층(2) 상에 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅하여 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층을 형성하는 공정; (iii) 상기 엠보싱층 형성용 수지층을 인각하여 홀로그램 엠보싱층(3')을 형성하는 공정; 및 (iv) 상기 홀로그램 엠보싱층(3') 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정;을 거쳐 투명 홀로그램 필름을 제조한다.

상기 제5 방법으로 제조된 투명 홀로그램 필름은 도 14에 도시된 단면 구조를 갖게되어 전사용 제품으로 사용된다. 전사용 제품으로 사용시에는 피사물 표면에 접착제를 도포한 후 거기에 상기 투명 홀로그램 필름을 부착한다.

본 발명에서 투명 홀로그램 필름을 제조하는 제6 방법으로는 상기 제5 방법으로 베이스필름(1) 상에 홀로그램 엠보싱층(3')과 광반사층(4)을 차례로 형성시킨 다음, 상기 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 추가로 형성하여 투명 홀로그램 필름을 제조한다.

상기 제6 방법으로 제조된 투명 홀로그램 필름은 도 16에 도시된 단면 구조를 갖게되어 전사용 제품으로 사용된다.

본 발명에서 투명 홀로그램 필름을 제조하는 제7방법으로는, (i) 베이스 필름(1) 상에 이형층 형성용 코팅액을 코팅하여 이형층(2)을 형성하는 공정; (ii) 상기 이형층(2) 상에 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅하여 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층을 형성하는 공정; (iii) 상기 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정; 및 (iv) 상기 엠보싱층 형성용 수지층과 광반사층(4)을 함께 인각하여 홀로그램 엠보싱층(3')을 형성하는 공정;을 거쳐 투명 홀로그램 필름을 제조한다.

상기 제7 방법으로 제조된 투명 홀로그램 필름은 도 15에 도시된 단면 구조를 갖게되어 전사용 제품으로 사용된다. 전사용 제품으로 사용시에는 피사물 표면에 접착제를 도포한 후 거기에 상기 투명 홀로그램 필름을 부착한다.

본 발명에서 투명 홀로그램 필름을 제조하는 제8 방법으로는 상기 제7 방법으로 베이스필름(1) 상에 홀로그램 엠보싱층(3')과 광반사층(4)을 형성시킨 다음, 상기 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 추가로 형성하여 투명 홀로그램 필름을 제조한다.

상기 제8 방법으로 제조된 투명 홀로그램 필름은 도 17에 도시된 단면 구조를 갖게되어 합지용 제품으로 사용된다.

광반사층 형성용 코팅액내 무기물은 입경이 0.1~1,000㎚인 것이 홀로그램 상을 양호하게 유지하는데 바람직하다.

상기 무기물의 구체적인 예로서, 굴절율이 1.65 이상인 HfO₂, ITO, MgO, T_a2O5, TiO₂, ZrO₂, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF₂, Sb₂O₃, BaTiO₃, Cr₂O₃, Cu₂O, CuO, Fe₂O₃, Fe₂O₄, FeO, Mn₃O₄, MnO₂, NiO또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.

한편, 본 발명에 따른 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅필름은(이하 "광반사층 코팅필름"이라고 약칭한다)은 도 18에 도시된 바와 같이 (i) 베이스 필름층(1) 및 (ii) 상기 베이스 필름층(1) 위에 형성된 광반사층(4)을 포함하며, 상기 광반사층(4)은 무기물 및 무기물과 유기물수지의 혼합물 중에서 선택된 1종으로 구성되며 굴절율이 1.60 이상인 코팅층인 것을 특징으로 한다.

도 18에 도시된 본 발명의 광반사층 코팅필름은 주로 합지용 제품으로 사용된다.

한편, 본 발명에 따른 광반사층 코팅필름은 도 19에 도시된 바와 같이 도 1의 베이스 필름층(1)과 광반사층(4) 사이에 이형층(2)이 추가로 더 형성된 구조인 것을 특징으로 한다.

도 19에 도시된 본 발명의 광반사층 코팅필름은 주로 전사용 제품으로 사용된다.

도 18에 도시된 본 발명의 광반사층 코팅필름을 제조하는 방법은 베이스 필름 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정을 포함한다.

도 19에 도시된 본 발명의 광반사층 코팅필름을 제조하는 방법은 (i) 베이스 필름 상에 이형층 형성용 코팅액을 먼저 코팅하여 이형층(2)을 형성하는 공정과, (ii) 상기 이형층(2) 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정을 포함한다.

상기 광반사층 형성용 코팅액은 무기물과 용매로 구성되거나, 무기물, 유기물수지 및 용매로 구성된다.

도 18에 도시된 본 발명의 광반사층 코팅필름을 이용하여 합지용 투명 다색 필름을 제조하는 구현일례로는 도 18에 도시된 본 발명의 광반사층 코팅필름을 구성하는 광반사층(4)위에 디자인 인쇄층(3)과 상기와 같은 또 다른 광반사층(4)을 차례로 형성하여 도 20에 도시된 합지용 투명 다색 필름을 제조한다.

이때 광반사층을 디자인 인쇄층 상부 및 하부 모두에 형성하는 이유는 디자인 상의 색상의 광세기를 더 강하게 하기 위한 것이다.

도 19에 도시된 본 발명의 광반사층 코팅필름을 이용하여 전사용 투명 다색 필름을 제조하는 구현일례로는 도 19에 도시된 본 발명의 광반사층 코팅필름을 구성하는 광반사층(4)위에 디자인 인쇄층(3)과 상기와 같은 또 다른 광반사층(4)을 차례로 형성하여 도 21에 도시된 전사용 투명 다색 필름을 제조한다.

이때 광반사층을 디자인 인쇄층 상부 및 하부 모두에 형성하는 것은 전사후 디자인 상의 색상의 광세기를 증가시키고 추가 코팅이나 인쇄시 이미지 상이 흐려지거나 사라지는 것을 방지하기 위해서이다.

상기 베이스 필름층(1) 및 베이스 필름은 투명한 유광 필름이거나 무광처리된 무광필름이다.

상기 베이스 필름층(1) 및 베이스 필름은 폴리에스터, 폴리아마이드, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리우레탄, 폴리아크릴 및 폴리비닐클로라이드 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 공중합체로 구성된다.

상기 광반사층(4)을 구성하는 무기물의 구체적인 예로서, 굴절율이 1.66 이상인 HfO₂, ITO, MgO, T_a2O₅, TiO₂, ZrO₂, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF_2, Sb₂O_3,BaTiO₃, Cr₂O₃, Cu₂O, CuO, Fe₂O₃, Fe₃O₄, FeO, Mn₃O₄, MnO₂, NiO 등의 단독물 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.

상기 광반사층(4)을 구성하는 무기물의 또 다른 구체적인 예로서, (i) 굴절율이 1.65 이상인 HfO₂, ITO, MgO, T_a2O₅, TiO₂, ZrO₂, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF_2, Sb₂O_3,BaTiO₃, Cr₂O₃, Cu₂O, CuO, Fe₂O₃, Fe₃O₄, FeO, Mn₃O₄, MnO₂, NiO등의 단독물또는 이들의 혼합물과 (ii) 굴절율이 1.65 미만인 Al₂O₃, CeF₃, Na₃AlF₆, CaF₂, MgF₂, SiO₂ 등 단독 또는 이들의 혼합물을 혼합 사용할 수도 있다.

상기 광반사층(4)의 굴절율은 1.65 이상, 바람직하기로는 1.65~3.4인 경우에 디자인 인쇄층(4)의 반사광 세기가 커서 여러 가지 색상을 나타낼 수 있고, 접착제층(5) 형성 후에도 다색의 디자인 이미지(상)를 그대로 유지할 수 있게 된다.

상기 광반사층(4)을 구성하는 무기물은 입경이 0.1~1,000㎚, 바람직하기로는 0.1~100㎚인 것이 다색의 디자인상을 양호하게 유지하는데 바람직하다.

본 발명에 따른 광반사층 코팅 필름을 이용하여 투명 다색 필름을 제조하는 방법은 광반사층 코팅필름을 구성하는 광반사층(4) 위에 디자인 형성용 수지층을 그라데이션을 준 코팅 또는 인쇄롤(무늬나 디자인에 따라 코팅 또는 인쇄되는 수지용액의 두께가 다르게 인쇄 또는 코팅되도록 음각되어 있는 롤)로 인쇄 또는 코팅하여 디자인 인쇄층(3)을 형성한 후 그 위에 광반사층(4)을 코팅방식으로 형성할 수도 있고, 또 다른 방법으로서 홀로그램 필름의 한 방법처럼 홀로그램 형성용 수지층을 균일한 두께로 코팅하고 인각한 상태에서 그 위에 광반사층을 코팅방식으로 형성하여 투명 다색 필름을 제조할 수 있다.

무기물과 용매 또는 무기물, 유기물 수지 및 용매로 구성된 광반사층 형성용 코팅액을 이루는 용매는 물, 알코올, 케톤 또는 이들의 혼합물 등이다.

무기물과 용매 또는 무기물, 유기물 수지 및 용매로 구성된 광반사층 형성용 코팅액내 무기물의 고형분 함량은 0.01~30중량%인 것이 바람직하다.

상기 무기물의 구체적인 예로서, 굴절율이 1.65 이상인 HfO₂, ITO, MgO, T_a2O5, TiO₂, ZrO₂, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF_2, Sb₂O_3,BaTiO₃, Cr₂O₃, Cu₂O, CuO, Fe₂O₃, Fe₃O₄, FeO, Mn₃O₄, MnO₂, NiO 등의 단독물 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.

상기 광반사층 형성용 코팅액내 무기물의 또 다른 구체적인 예로서, (i) 굴절율이 1.65 이상인 HfO₂, ITO, MgO, T_a2O₅, TiO₂, ZrO₂, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF_2, Sb₂O_3,BaTiO₃, Cr₂O₃, Cu₂O, CuO, Fe₂O₃, Fe₃O₄, FeO, Mn₃O₄, MnO₂, NiO 등의 단독물 또는 이들의 혼합물과 (ii) 굴절율이 1.65 미만인 Al₂O₃, CeF₃, Na₃AlF₆, CaF₂, MgF₂, SiO₂ 등의 단독 또는 이들의 혼합물을 혼합 사용할 수도 있다.

상기 광반사층 형성용 코팅액 내 유기물수지는 우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 비닐 수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지, 아미이드 수지 또는 이들의 변성수지 등이며, 상기 유기물수지의 함량은 무기물 100 중량부 대비 0~200중량부 인 것이 바람직하다.

이하, 실시예 및 비교실시예들을 통하여 본 발명을 보다 구체적으로 살펴본다. 그러나 후술하는 실시예들은 본 발명의 바람직한 구현예에 불과한 것으로서 본 발명의 보호범위를 한정하는 것은 아니다.

실시예 1

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층(2)을 형성한 다음, 상기 이형층(2) 상에 아크릴계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 입자크기가 10㎚인 ZrO₂가 이소프로판올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성시켜 도 5에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.

실시예 2

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층(2)을 형성한 다음, 상기 이형층(2) 상에 아크릴계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 입자크기가 10㎚인 TiO₂가 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성하여 도 5에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.

실시예 3

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층(2)을 형성한 다음, 상기 이형층(2) 상에 아크릴계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 입자크기가 10㎚인 ZrO₂ 와 SiO₂ 각각이 이소프로판올에 5중량% 및 2중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리우레탄계 수지 코팅액을 코팅, 건조하여 접착제층(5)을 형성하여 도 6에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.

실시예 4

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층(2)을 형성한 다음, 상기 이형층(2) 상에 아크릴계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 입자크기가 10㎚인 ITO가 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성하여 도 5에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.

실시예 5

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층(2)을 형성한 다음, 상기 이형층(2) 상에 아크릴계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 입자크기가 100㎚인 TiO₂가 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성하여 도 5에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.

실시예 6

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층(2)을 형성한 다음, 상기 이형층(2) 상에 아크릴계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 입자크기가 50㎚인 TiO₂및 Al₂O₃ 각각 이소프로판올에 4중량% 및 3중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성하고 상기 광반사층 위에 폴리우레탄계 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 접착제층(5)을 형성하여 도 6에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.

실시예 7

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 아크릴계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 입자크기가 10㎚인 ZrO₂가 이소프로판올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성시켜 도 1에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.

실시예 8

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 입자크기가 10㎚인 ZrO₂가 이소프로판올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4')을 형성한 다음, 상기 광반사층(4') 상에 아크릴계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 입자크기가 10㎚인 ZrO₂가 이소프로판올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성시켜 도 3에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.

실시예 9

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층(2)을 형성한 다음, 상기 이형층(2) 위에 입자크기가 10인 TiO₂가 메탄올에 5중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4')을 형성한 다음, 상기 광반사층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 입자크기가 10㎚인 TiO₂가 메탄올에 10중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성하여 도 7에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.

실시예 10

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 아크릴계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 입자크기가 10㎚인 ZrO₂ 와 SiO₂ 각각이 이소프로판올에 5중량% 및 2중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리우레탄계 수지 코팅액을 코팅, 건조하여 접착제층(5)을 형성하여 도 2에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.

실시예 11

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층(2)을 형성한 다음, 상기 이형층(2) 위에 입자크기가 10인 ITO가 에탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4')을 형성한 다음, 상기 광반사층(4') 위에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 입자크기가 10㎚인 ITO가 에탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성하고 상기 광반사층 위에 폴리우레탄계 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 접착제층(5)을 형성하여 도 8에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.

실시예 12

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층(2)을 형성한 다음, 상기 이형층(2) 위에 입자크기가 80인 TiO₂가 에탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4')을 형성한 다음, 상기 광반사층(4') 위에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 입자크기가 10㎚인 ITO가 에탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성하여 도 7에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.

비교실시예 1

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층(2)을 형성한 다음, 상기 이형층(2) 상에 아크릴계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 굴절율이 1.46이며 입자크기가 10㎚인 SiO₂가 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성하여 도 5에 도시된 단면 구조를 갖는 필름을 제조하였으나 반사광 세기가 약하여 제품으로 사용하기 어려운 상태였다.

비교실시예 2

비교실시예 1의 공정중 광반사층 형성용 코팅액의 농도를 10중량%로 올려 코팅한 것을 제외하고 나머지 공정은 동일하게 실시하였으나 비교실시예 1과 큰 차이가 없었다.

비교실시예 3

비교실시예 1의 공정중 광반사층 형성용 코팅액의 농도를 15중량%로 올려 코팅한 것을 제외하고 나머지 공정은 동일하게 실시하였으나 비교실시예 1과 큰 차이가 없었다.

비교실시예 4

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층(2)을 형성한 다음, 상기 이형층(2) 상에 아크릴계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 굴절율이 1.58로 조절된 입자크기가 10㎚인 SiO₂와 ZrO₂를 메탄올에 8중량%되도록 혼합된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성하여 도 5에 도시된 단면 구조를 갖는 필름을 제조하였으나 반사광 세기가 약하여 제품으로 사용하기 어려운 상태였다.

비교실시예 5

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층(2)을 형성한 다음, 상기 이형층(2) 상에 아크릴계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층(3)을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 굴절율이 1.63이며 입자크기가 10㎚인 Al₂O₃를 에탄올에 8중량%되도록 혼합된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층(4)을 형성하여 도 5에 도시된 단면 구조를 갖는 필름을 제조하였으나 반사광 세기가 약하여 제품으로 사용하기 어려운 상태였다.

실시예 13

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 엠보싱층 위에 입자크기가 10㎚인 TiO₂가 이소프로판올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 7에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 70% 수준을 유지하였다.

실시예 14

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 엠보싱층 위에 입자크기가 10㎚인 TiO₂가 메탄올에 5중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 7에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 70% 수준을 유지하였다.

실시예 15

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 엠보싱층 위에 입자크기가 10㎚인 TiO₂ 와 SiO₂ 각각이 이소프로판올에 5중량% 및 2중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 7에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 50% 수준을 유지하였다.

실시예 16

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 엠보싱층 위에 입자크기가 10㎚인 ITO가 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 7에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 80% 수준을 유지하였다.

실시예 17

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 엠보싱층 위에 입자크기가 100㎚인 TiO₂가 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 7에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 75% 수준을 유지하였다.

실시예 18

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 엠보싱층 위에 입자크기가 50㎚인 TiO₂및 Al₂O₃ 각각이 이소프로판올에 4중량% 및 3중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 7에 도시된 단면 구조를 갖는 투명홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 70% 수준을 유지하였다.

실시예 19

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 형성용 수지층 위에 입자크기가 10㎚인 TiO₂가 이소프로판올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 8에 도시된 단면 구조를 갖는 투명홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 100% 수준을 유지하였다.

실시예 20

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 형성용 수지층 위에 입자크기가 10㎚인 TiO₂가 메탄올에 5중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 8에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 70% 수준을 유지하였다.

실시예 21

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 형성용 수지층 위에 입자크기가 10㎚인 TiO₂ 및 SiO₂ 각각이 메탄올에 5중량% 및 2중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 8에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 50% 수준을 유지하였다.

실시예 22

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 형성용 수지층 위에 입자크기가 10㎚인 ITO가 에탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 8에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 80% 수준을 유지하였다.

실시예 23

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 엠보싱층 위에 입자크기가 10㎚인 TiO₂가 이소프로판올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 3에 도시된 단면 구조를 갖는 투명홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 80% 수준을 유지하였다.

실시예 24

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 형성용 수지층 위에 입자크기가 10㎚인 TiO₂가 이소프로판올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 4에 도시된 단면 구조를 갖는 투명홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 80% 수준을 유지하였다.

비교실시예 6

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 엠보싱층 위에 굴절율이 1.46이며 입자크기가 10㎚인 SiO₂가 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 7에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 30% 수준을 유지하였다.

비교실시예 7

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 엠보싱층 위에 굴절율이 1.46이며 입자크기가 10㎚인 TiO₂가 메탄올에 3중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 7에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 20% 수준을 유지하였다.

비교실시예 8

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 엠보싱층 위에 굴절율이 1.46이며 입자크기가 10㎚인 TiO₂가 이소프로판올에 15중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 7에 도시된 단면 구조를 갖는 투명홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 10% 수준을 유지하였다.

비교실시예 9

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅바 #5(인쇄동판 200목에 해당)로 코팅한 후 150℃열 중 오븐에서 30초간 건조시켜 홀로그램 형성용 수지층을 형성한 다음, 상기 홀로그램 형성용 수지층 위에 굴절율이 1.46이고 입자크기가 10㎚인 SiO₂가 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성한 다음, 이를 인각롤을 통과시키면서 가압, 가열하여 크리스탈 모양의 홀로그램이 인각된 홀로그램 엠보싱층을 형성한 다음, 상기 광반사층 위에 폴리메틸메타크릴레이트 수지 200g을 메틸에틸케톤 560g과 톨루엔 240g의 혼합용매에 녹인 접착제층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 8에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 홀로그램 필름을 제조하였다. 제조된 투명 홀로그램 필름의 반사광 세기를 BYK-Gardner 회사의 Micro-Gloss E4460 광택계로 측정한 결과 상기 접착제층이 형성되지 않은 상태인 홀로그램 엠보싱층의 반사광 세기의 30% 수준을 유지하였다.

실시예 25

1) 광반사층 코팅 필름의 제조

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 상에 입자크기가 10㎚인 TiO₂가 이소프로판올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성시켜 도 2에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름제조용 광반사층 코팅 필름을 제조하였다.

2) 광반사층 코팅 필름을 이용한 다색 투명 필름의 제조

상기 도 2에 도시된 광반사층 코팅 필름의 광반사층 위에 아크릴계 수지에 셀룰로오스계 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인 코팅롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 입자크기가 10㎚인 TiO₂가 이소프로판올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성시켜 도 4에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.

실시예 26

1) 광반사층 코팅 필름의 제조

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 입자크기가 10㎚인 TiO₂가 이소프로판올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성시켜 도 1에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름제조용 광반사층 코팅 필름을 제조하였다.

2) 광반사층 코팅 필름을 이용한 다색 투명 필름의 제조

상기 도 1에 도시된 광반사층 코팅 필름의 광반사층 위에 아크릴계 수지에 셀룰로오스계 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인 코팅롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 입자크기가 10㎚인 TiO₂가 이소프로판올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성시켜 도 3에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.

실시예 27

1) 광반사층 코팅 필름의 제조

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 위에 입자크기가 10㎚인 CuO가 메탄올에 5중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 2에 도시된 단면구조를 갖는 광반사층이 형성된 광반사층 코팅 필름을 제조하였다.

2) 광반사층 코팅필름을 이용한 투명 다색 필름의 제조

상기 광반사층 코팅 필름의 광반사층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인 코팅롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 입자크기가 10㎚인 CuO가 메탄올에 10중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성하여 도 4에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.

실시예 28

1) 광반사층 코팅 필름의 제조

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 입자크기가 10㎚인 CuO가 메탄올에 5중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 도 1에 도시된 단면구조를 갖는 광반사층이 형성된 광반사층 코팅 필름을 제조하였다.

2) 광반사층 코팅필름을 이용한 투명 다색 필름의 제조

상기 광반사층 코팅 필름의 광반사층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인 코팅롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 입자크기가 10㎚인 CuO가 메탄올에 10중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성하여 도 3에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.

실시예 29

1) 광반사층 코팅 필름의 제조

두께가 30㎛인 OPP 필름(베이스 필름) 상에 입자크기가 10㎚인 ITO가 에탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성시켜 도 1에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름제조용 광반사층 코팅 필름을 제조하였다.

2) 광반사층 코팅 필름을 이용한 다색 투명 필름의 제조

상기 도 1에 도시된 광반사층 코팅 필름의 광반사층 위에 아크릴계 수지에 셀룰로오스계 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인 코팅롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 입자크기가 10㎚인 ITO가 에탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성시켜 도 3에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였다.

비교실시예 10

1) 광반사층 코팅 필름의 제조

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 위에 입자크기가 10㎚인 SiO₂가 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성시켜 도 2에 도시된 단면구조를 갖는 광반사층 코팅 필름을 제조하였다.

2) 광반사층 코팅 필름을 이용한 투명 다색 필름의 제조

상기 광반사층 코팅 필름의 광반사층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인 코팅롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 입자크기가 10㎚인 SiO₂가 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성하여 도 4에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였으나 반사광 세기가 약하여 제품으로 사용하기 어려운 상태였다.

비교실시예 11

1) 광반사층 코팅 필름의 제조

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 위에 입자크기가 10㎚인 SiO₂가 메탄올에 10중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성시켜 도 2에 도시된 단면구조를 갖는 광반사층 코팅 필름을 제조하였다.

2) 광반사층 코팅 필름을 이용한 투명 다색 필름의 제조

비교실시예 12

1) 광반사층 코팅 필름의 제조

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 위에 입자크기가 10㎚인 SiO₂가 메탄올에 15중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성시켜 도 2에 도시된 단면구조를 갖는 광반사층 코팅 필름을 제조하였다.

2) 광반사층 코팅 필름을 이용한 투명 다색 필름의 제조

비교실시예 13

1) 광반사층 코팅 필름의 제조

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 상에 투명 아크릴계 수지 용액을 코팅하여 이형층을 형성한 다음, 상기 이형층 위에 입자크기가 10㎚인 SiO₂와 ZrO₂ 혼합물 (1:1) 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성시켜 도 2에 도시된 단면구조를 갖는 광반사층 코팅 필름을 제조하였다.

2) 광반사층 코팅 필름을 이용한 투명 다색 필름의 제조

상기 광반사층 코팅 필름의 광반사층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인 코팅롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 입자크기가 10㎚인 SiO₂와ZrO₂ 혼합물(1:1) 메탄올에 8중량% 함유된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성하여 도 4에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였으나 반사광 세기가 약하여 제품으로 사용하기 어려운 상태였다.

비교실시예 14

1) 광반사층 코팅 필름의 제조

두께가 12㎛인 폴리에스테르 필름(베이스 필름) 위에 굴절율이 1.63이며 입자크기가 10㎚인 Al₂O₃를 에탄올에 8중량%되도록 혼합된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성시켜 도 1에 도시된 단면 구조를 갖는 광반사층 코팅 필름을 제조하였다.

2) 광반사층 코팅 필름을 이용한 투명 다색 필름의 제조

상기 광반사층 코팅 필름의 광반사층 상에 아크릴 우레탄계 수지에 셀룰로오즈 수지를 첨가한 고형분 20중량%의 디자인 형성용 코팅액을 도 9의 디자인 코팅롤로 코팅한 후 열풍의 건조챔버를 통과시켜 디자인 인쇄층을 형성한 다음, 상기 디자인 인쇄층 위에 앞에서와 동일한 입자크기가 10㎚인 Al₂O₃를 에탄올에 8중량%되도록 혼합된 광반사층 형성용 코팅액을 코팅, 건조하여 광반사층을 형성하여 도 3에 도시된 단면 구조를 갖는 투명 다색 필름을 제조하였으나 반사광 세기가 약하여 제품으로 사용하기 어려운 상태였다.

본 발명의 투명 다색 필름은 식품 포장용 필름이나 장식용 필름 등으로 다양한 산업분야에 이용된다.

또한, 본 발명의 광반사층 코팅 필름은 투명 레인보우 필름, 투명 오로라(aurora)필름, 투명 홀로그램 필름 등으로 불려지는 본 발명의 투명 다색 필름 제조용 소재로 이용된다.

Claims

(i) 베이스 필름층(1), (ii) 상기 베이스 필름층(1) 위에 형성된 디자인 인쇄층(3) 및 (iii) 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 형성된 광반사층(4)을 포함하며, 상기 광반사층(4)은 무기물 및 무기물과 유기물수지의 혼합물 중에서 선택된 1종으로 구성되며 굴절율이 1.65 이상인 코팅층인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
제1항에 있어서, 상기 베이스 필름층(1)과 디자인 인쇄층(3) 사이에 광반사층(4')이 추가로 더 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 광반사층(4) 위에 접착제층(5)이 추가로 더 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
제1항에 있어서, 상기 베이스 필름층(1)과 디자인 인쇄층(3) 사이에 이형층(2)이 추가로 더 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
제2항에 있어서, 상기 베이스 필름층(1)과 광반사층(4') 사이에 이형층(2)이 추가로 더 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
제1항에 있어서, 상기 베이스 필름층(1)과 디자인 인쇄층(3) 사이에 이형층(2)이 추가로 더 형성되어 있으며, 상기 광반사층(4) 위에 접착제층(5)이 추가로 더 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
제2항에 있어서, 상기 베이스 필름층(1)과 광반사층(4') 사이에 이형층(2)이 추가로 더 형성되어 있으며, 상기 광반사층(4) 위에 접착제층(5)이 추가로 더 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
제1항 또는 2항에 있어서, 상기 베이스 필름층(1)은 투명한 유광필름 및 무광처리된 무광필름 중에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 다색 필름.
제1항, 제3항, 제4항 또는 제6항에 있어서, 상기 광반사층(4)을 구성하는 무기물은 HfO₂, ITO, MgO, T_a2O5, TiO₂, ZrO₂, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF_2, Sb₂O_3,BaTiO₃, Cr₂O₃, Cu₂O, CuO, Fe₂O₃, Fe₃O₄, FeO, Mn₃O₄, MnO₂및 NiO 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
제1항, 제3항, 제4항 또는 제6항에 있어서,광반사층(4)을 구성하는 무기물은 (i) HfO₂, ITO, MgO, T_a2O5, TiO₂, ZrO₂, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF_2, Sb₂O_3,BaTiO₃, Cr₂O₃, Cu₂O, CuO, Fe₂O₃, Fe₃O₄, FeO, Mn₃O₄, MnO₂및 NiO 중에서 선택된 1종 이상과 (ii) Al₂O₃, CeF₃, Na₃AlF₆, CaF₂, MgF₂ 및 SiO₂ 중에서 선택된 1종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
제1항, 제3항, 제4항 또는 제6항에 있어서, 상기 광반사층(4)을 구성하는 유기물수지는 우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 비닐수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지 및 아미드 수지 중에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
제1항, 제3항, 제4항 또는 제6항에 있어서, 상기 광반사층(4)을 구성하는 유기물수지의 함량은 무기물 100 중량부대비 0~200 중량부인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
제2항, 제5항 또는 제7항이 있어서, 상기 광반사층(4')을 구성하는 무기물은 HfO₂, ITO, MgO, T_a2O5, TiO₂, ZrO₂, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF_2, Sb₂O_3,BaTiO₃, Cr₂O₃, Cu₂O, CuO, Fe₂O₃, Fe₃O₄, FeO, Mn₃O₄, MnO₂및 NiO 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
제2항, 제5항 또는 제7항이 있어서, 상기 광반사층(4')을 구성하는 무기물은 (i) HfO₂, ITO, MgO, T_a2O5, TiO₂, ZrO₂, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF_2, Sb₂O_3,BaTiO₃, Cr₂O₃, Cu₂O, CuO, Fe₂O₃, Fe₃O₄, FeO, Mn₃O₄, MnO₂및 NiO 중에서 선택된 1종 이상과 (ii) Al₂O₃, CeF₃, Na₃AlF₆, CaF₂, MgF₂ 및 SiO₂ 중에서 선택된 1종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
제2항, 제5항 또는 제7항이 있어서, 상기 광반사층(4')을 구성하는 유기물수지는 우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 비닐수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지 및 아미드 수지 중에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
제2항, 제5항 또는 제7항이 있어서, 상기 광반사층(4')을 구성하는 유기물수지의 함량은 무기물 100 중량부대비 0~200 중량부인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
(i) 베이스 필름(1) 상에 디자인 형성용 코팅액을 코팅하여 디자인 인쇄층(3)을 형성하는 공정;

(ii) 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
(i) 베이스 필름(1) 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4')을 형성하는 공정;

(ii) 상기 광반사층(4') 상에 디자인 형성용 코팅액을 코팅하여 디자인 인쇄층(3)을 형성하는 공정;

(iii) 상기 디자인 인쇄층(3) 위에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
제17항 또는 제18항에 있어서, 상기 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 형성하는 공정을 추가로 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
(i) 베이스 필름(1) 상에 이형층 형성용 코팅액을 코팅하여 이형층(2)을 형성하는 공정;

(ii) 상기 이형층(2) 상에 디자인 형성용 코팅액을 코팅하여 디자인 인쇄층(3)을 형성하는 공정;

(iii) 상기 디자인 인쇄층(3) 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
(i) 베이스 필름(1) 상에 이형층 형성용 코팅액을 코팅하여 이형층(2)을 형성하는 공정;

(ii) 상기 이형층(2) 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4')을 형성하는 공정;

(iii) 상기 광반사층(4') 상에 디자인 형성용 코팅액을 코팅하여 디자인 인쇄층(3)을 형성하는 공정; 및

(iv) 상기 디자인 인쇄층(3) 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
제20항 또는 제21항에 있어서, 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 형성하는 공정을 추가로 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
제17항, 제18항, 제20항 또는 제21항에 있어서, 광반사층 형성용 코팅액은 무기물과 용매로 구성되는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
제17항, 제18항, 제20항 또는 제21항에 있어서, 광반사층 형성용 코팅액은 무기물, 유기물수지 및 용매로 구성되는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
제17항, 제18항, 제20항 또는 제21항에 있어서, 상기 베이스층(1)은 투명한 유광필름 및 무광처리된 무광필름 중에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 다색 필름의 제조방법.
(i) 베이스 필름층(1), (ii) 상기 베이스 필름층(1) 위에 형성된 홀로그램 엠보싱층(3') 및 (iii) 상기 홀로그램 엠보싱층(3') 위에 형성된 광반사층(4)을 포함하며, 상기 광반사층(4)은 무기물 및 무기물과 유기물수지의 혼합물 중에서 선택된 1종으로 구성되며 굴절율이 1.65 이상인 코팅층인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
제26항에 있어서, 상기 광반사층(4) 위에 접착제층(5)이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
제26항에 있어서, 상기 베이스층(1)과 홀로그램 엠보싱층(3') 사이에 이형층(2)이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
제26항에 있어서, 상기 베이스층(1)과 홀로그램 엠보싱층(3') 사이에 이형층(2)이 형성되어 있으며, 상기 광반사층(4) 위에 접착제층(5)이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
제26항,제27항,제28항 또는 제29항에 있어서, 상기 광반사층(4)을 구성하는 무기물은 HfO₂, ITO, MgO, T_a2O5, TiO₂, ZrO₂, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF_2, Sb₂O_3,BaTiO₃, Cr₂O₃, Cu₂O, CuO, Fe₂O₃, Fe₃O₄, FeO, Mn₃O₄, MnO₂및 NiO 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
제26항,제27항,제28항 또는 제29항에 있어서, 광반사층(4)을 구성하는 무기물은 (i) HfO₂, ITO, MgO, T_a2O5, TiO₂, ZrO₂, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF_2, Sb₂O_3,BaTiO₃, Cr₂O₃, Cu₂O, CuO, Fe₂O₃, Fe₃O₄, FeO, Mn₃O₄, MnO₂및 NiO 중에서 선택된 1종 이상과 (ii) Al₂O₃, CeF₃, Na₃AlF₆, CaF₂, MgF₂ 및 SiO₂ 중에서 선택된 1종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
제26항,제27항,제28항 또는 제29항에 있어서, 상기 광반사층(4)을 구성하는 유기물수지는 우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 비닐수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지 및 아미드 수지 중에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
제26항,제27항,제28항 또는 제29항에 있어서, 상기 광반사층(4)을 구성하는 유기물수지의 함량은 무기물 100중량부 대비 0~200중량부인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름.
(i) 베이스 필름(1) 상에 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅하여 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층을 형성하는 공정;

(ii) 상기 엠보싱층 형성용 수지층을 인각하여 홀로그램 엠보싱층(3')을 형성하는 공정; 및

(iii) 상기 홀로그램 엠보싱층(3') 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
제34항에 있어서, 상기 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 형성하는 공정을 추가로 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
(i) 베이스 필름(1) 상에 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅하여 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층을 형성하는 공정;

(ii) 상기 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정; 및

(iii) 상기 엠보싱층 형성용 수지층과 광반사층(4)을 함께 인각하여 홀로그램 엠보싱층(3')을 형성하는 공정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
제36항에 있어서, 엠보싱층 형성용 수지층과 광반사층(4)을 함께 인각하여 홀로그램 엠보싱층(3')을 형성한 다음, 인각 처리된 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 형성하는 공정을 추가로 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
(i) 베이스 필름(1) 상에 이형층 형성용 코팅액을 코팅하여 이형층(2)을 형성하는 공정;

(ii) 상기 이형층(2) 상에 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅하여 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층을 형성하는 공정;

(iii) 상기 엠보싱층 형성용 수지층을 인각하여 홀로그램 엠보싱층(3')을 형성하는 공정; 및

(iv) 상기 홀로그램 엠보싱층(3') 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
제38항에 있어서, 상기 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 형성하는 공정을 추가로 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
(i) 베이스 필름(1) 상에 이형층 형성용 코팅액을 코팅하여 이형층(2)을 형성하는 공정;

(ii) 상기 이형층(2) 상에 홀로그램 엠보싱층 형성용 코팅액을 코팅하여 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층을 형성하는 공정;

(iii) 상기 홀로그램 엠보싱층 형성용 수지층 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정; 및

(iv) 상기 엠보싱층 형성용 수지층과 광반사층(4)을 함께 인각하여 홀로그램 엠보싱층(3')을 형성하는 공정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
제40항에 있어서, 엠보싱층 형성용 수지층과 광반사층(4)을 함께 인각하여 홀로그램 엠보싱층(3')을 형성한 다음, 인각 처리된 광반사층(4) 위에 접착제 형성용 코팅액을 코팅하여 접착제층(5)을 형성하는 공정을 추가로 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
제34항,제36항,제38항 또는 제40항에 있어서, 광반사층 형성용 코팅액은 무기물과 용매로 구성되는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
제34항,제36항,제38항 또는 제40항에 있어서, 광반사층 형성용 코팅액은 무기물, 유기물수지 및 용매로 구성되는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름의 제조방법.
(i) 베이스 필름층(1) 및 (ii) 상기 베이스 필름층(1) 위에 형성된 광반사층(4)을 포함하며, 상기 광반사층(4)은 무기물 및 무기물과 유기물수지의 혼합물 중에서 선택된 1종으로 구성되며 굴절율이 1.60 이상인 코팅층인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅필름.
제44항에 있어서, 상기 베이스 필름층(1)과 광반사층(4) 사이에 이형층(2)이 추가로 더 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅필름.
제44항 또는 제45항에 있어서, 상기 베이스 필름층(1)은 투명한 유광필름 및 무광처리된 무광필름 중에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름.
제44항 또는 제45항에 있어서, 상기 베이스 필름층(1)은 폴리에스터, 폴리아마이드, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리우레탄, 폴리아크릴 및 폴리비닐클로라이드 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 공중합체로 구성되는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름.
제44항 또는 제45항에 있어서, 상기 광반사층(4)을 구성하는 무기물은 HfO₂, ITO, MgO, T_a2O5, TiO₂, ZrO₂, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF_2, Sb₂O_3,BaTiO₃, Cr₂O₃, Cu₂O, CuO, Fe₂O₃, Fe₃O₄, FeO, Mn₃O₄, MnO₂및 NiO 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름.
제44항 또는 제45항에 있어서,광반사층(4)을 구성하는 무기물은 (i) HfO₂, ITO, MgO, T_a2O5, TiO₂, ZrO₂, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF_2, Sb₂O_3,BaTiO₃, Cr₂O₃, Cu₂O, CuO, Fe₂O₃, Fe₃O₄, FeO, Mn₃O₄, MnO₂및 NiO 중에서 선택된 1종 이상과 (ii) Al₂O₃, CeF₃, Na₃AlF₆, CaF₂, MgF₂ 및 SiO₂ 중에서 선택된 1종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름.
제44항 또는 제45항에 있어서, 상기 광반사층(4)을 구성하는 유기물수지는 우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 비닐수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지 및 아미드 수지 중에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름.
제44항 또는 제45항에 있어서, 상기 광반사층(4)을 구성하는 유기물수지의 함량은 무기물 100중량부 대비 0~200중량부인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름.
베이스 필름 상에 광반사층 형성용 코팅액을 코팅하여 굴절율이 1.65 이상인 광반사층(4)을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름의 제조방법.
제52항에 있어서, 베이스 필름 상에 광반사층(4)을 형성하기 전에 이형층 형성용 코팅액을 먼저 코팅하여 이형층(2)을 형성하는 공정을 추가로 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름의 제조방법.
제52항 또는 제53항에 있어서, 광반사층 형성용 코팅액은 무기물과 용매로 구성되는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름의 제조방법.
제52항 또는 제53항에 있어서, 광반사층 형성용 코팅액은 무기물, 유기물수지 및 용매로 구성되는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름제조용 광반사층 코팅 필름의 제조방법.
제52항 또는 제53항에 있어서, 상기 베이스 필름은 투명한 유광필름 및 무광처리된 무광필름 중에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름의 제조방법.
제52항 또는 제53항에 있어서, 상기 베이스 필름을 폴리에스터, 폴리아마이드, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리우레탄, 폴리아크릴 및 폴리비닐클로라이드 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 공중합체로 구성되는 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름의 제조방법.
제54항 또는 제55항에 있어서, 상기 광반사층 형성용 코팅액을 구성하는 무기물은 HfO₂, ITO, MgO, T_a2O5, TiO₂, ZrO₂, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF_2, Sb₂O_3,BaTiO₃, Cr₂O₃, Cu₂O, CuO, Fe₂O₃, Fe₃O₄, FeO, Mn₃O₄, MnO₂및 NiO 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름의 제조방법.
제54항 또는 55항에 있어서, 광반사층 형성용 코팅액을 구성하는 무기물은 (i) HfO₂, ITO, MgO, T_a2O5, TiO₂, ZrO₂, Si, Ge, ZnSe, ZnS, PbF_2, Sb₂O_3,BaTiO₃, Cr₂O₃, Cu₂O, CuO, Fe₂O₃, Fe₃O₄, FeO, Mn₃O₄, MnO₂, NiO 중에서 선택된 1종 이상과 (ii) Al₂O₃, CeF₃, Na₃AlF₆, CaF₂, MgF₂ 및 SiO₂ 중에서 선택된 1종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름의 제조방법.
제54항 또는 55항에 있어서, 상기 광반사층 형성용 코팅액을 구성하는 유기물수지는 우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 비닐수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지 및 아미드 수지 중에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름의 제조방법.
제54항 또는 55항에 있어서, 상기 광반사층 형성용 코팅액을 구성하는 유기물수지의 함량은 무기물 100중량부 대비 0~200중량부인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅 필름의 제조방법.
제54항 또는 제55항에 있어서, 상기 광반사층 형성용 코팅액을 구성하는 용매는 물, 알코올 화합물 및 케톤류 혼합물 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅필름의 제조방법.
제54항 또는 제55항에 있어서, 상기 광반사층 형성용 코팅액내 무기물의 고형분 함량은 0.01~30중량%인 것을 특징으로 하는 투명 다색 필름 제조용 광반사층 코팅필름의 제조방법.