WO2015044029A1 - Strahlungsemittierende vorrichtung und verfahren zur herstellung derselben - Google Patents

Strahlungsemittierende vorrichtung und verfahren zur herstellung derselben Download PDF

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WO2015044029A1
WO2015044029A1 PCT/EP2014/069914 EP2014069914W WO2015044029A1 WO 2015044029 A1 WO2015044029 A1 WO 2015044029A1 EP 2014069914 W EP2014069914 W EP 2014069914W WO 2015044029 A1 WO2015044029 A1 WO 2015044029A1
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electrode surface
radiation
emitting device
region
line
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Andrew Ingle
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Osram Oled Gmbh
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    • H10K71/621—Providing a shape to conductive layers, e.g. patterning or selective deposition

Definitions

  • Luminous area varies.
  • a location-dependent radiation intensity can be used to display information on a sign, for example by arranging areas of different radiation intensity in the form of writing or symbols.
  • At least one object of certain embodiments is to provide a radiation-emitting device in which the radiation intensity varies locally, and a
  • This object is achieved by a radiation-emitting
  • Radiation-emitting device comprises a
  • the layer sequence comprises at least a first one
  • Electrode surface at least a second electrode surface - -
  • At least one removal region Between at least two points of the first electrode surface, which are conductively connected to one another by the first electrode surface, is at least one removal region
  • Area of the surface of the radiation-emitting device meant, d. h., An area extends in the two dimensions in which the electrode surfaces and the
  • Functional layer are formed flat. With a region in which the first electrode surface at least partially
  • the first electrode surface either does not exist or at least has a smaller thickness, preferably
  • Area in which the first electrode surface is not removed is meant a region in which the first electrode surface is not removed
  • Electrode surface is either completely present or at least has a greater thickness than in the
  • the electrode surface is meant here and below the maximum thickness of the first electrode surface, that is to say the thickness which the first electrode surface has, where it
  • Between two other layers or elements may be arranged and applied here and in the following meaning that the one layer or the one element is arranged directly in direct mechanical and / or electrical contact with the other layer or the other element.
  • the one layer or the one element is arranged indirectly on or above the other layer or the other element.
  • Electrode surface preferably comprises a transparent conductive oxide (TCO).
  • TCO transparent conductive oxide
  • Transparent conductive oxides are transparent, conductive
  • the at least one functional layer preferably comprises an organic functional layer, in particular an organic electroluminescent layer.
  • the radiation-emitting device may in particular be designed as an organic light-emitting diode (OLED) or comprise such.
  • the at least one functional layer may in particular comprise an organic functional layer stack with a
  • the organic functional layer stack may include, for example, a hole injection layer, a hole transport layer, an electron blocking layer, a hole blocking layer, an electron transport layer, and / or a
  • the substrate may, for example, glass, quartz, a
  • Silicon wafers or other suitable substrate material include or consist of.
  • the first electrode surface may comprise at least one contact via which a voltage to the first
  • Electrode surface can be applied.
  • the at least one contact of the first electrode surface is preferably at an edge or in the vicinity of an edge of the first electrode surface
  • the resistance between any two points of the first electrode surface is increased compared to the case in which the electrode surface is present in full thickness throughout.
  • the resistance between two points of the first electrode surface is increased the longer the path that the current has to travel due to the interruption through the at least one ablation region and the narrower the region over which the first electrode surface conducts the two points to one another combines.
  • Electrode surface and the second electrode surface a current - -
  • This current is from the contacts of the first
  • Electrode surface to the second electrode surface flowing current increases with the existing between the first electrode surface and the second electrode surface potential difference. Due to the surface resistance of the first and second electrode surfaces, there is a voltage drop between the contacts of the
  • Electrode surfaces The local flow of electricity from the first
  • Electrode area to the second electrode surface depends on the local potential difference between the first and the second electrode surface
  • This local potential difference is smaller at a given point, the greater the voltage drop between the contacts of the electrode surfaces and this point of the electrode surfaces.
  • At least one contact of the first electrode surface and points inside the first electrode surface is increased due to the at least one ablation region, the
  • the at least one removal region is preferably formed linear.
  • the width of a linear ablation region is preferably constant along its course.
  • the constant width is preferably between 25 ym and 100 ym, more preferably between 40 ym and 60 ym.
  • the linear ablation area may have the shape of a straight line.
  • the first linear ablation region is preferably formed linear.
  • linear ablation area over its course direction changes. It can also be formed a plurality of linear Abtragungs Symposiume.
  • a sheet-like removal area in each direction has a width of at least 1 mm, particularly preferably at least learning.
  • At least one is between two ablation regions or two parts of an ablation region
  • first electrode surface preferably by the first electrode surface conductive with the at least one contact of the first electrode surface
  • the conduction area is preferably
  • the line region preferably has a constant width over at least part of its course.
  • the constant width is preferably - -
  • the line area can be in a specific
  • Direction or he can change direction over his course.
  • the distance between the ablation regions delimiting the conduction region or parts of an ablation region remains constant.
  • Part of the boundary of a line region may be formed by a continuous erosion region.
  • part of the limit of a line range may be two or more
  • Electrode surface is not removed.
  • the at least one line region is preferably conductively connected to the at least one contact of the first electrode surface via parts of the first electrode surface that are not removed.
  • the parts of the boundary of a line region which are not formed by removal regions form opening regions, via which the conduction region is conductively connected to the at least one contact of the first electrode surface. If the boundary of a line region has only one opening region, the radiation intensity decreases from the opening region toward the interior of the line region.
  • Opening area is. A minimum radiation intensity within the line area occurs in this case, - -
  • a minimum radiation intensity occurs within the line area at a distance from all the opening areas, for example when the line area and the opening areas are equidistantly equidistant from each other
  • the at least one line region has the shape of at least one letter, at least one digit or at least one logo, wherein one or more
  • Letter-shaped line areas can form one or more words and / or one or more numeric
  • Line areas can form one or more numbers. In a further embodiment, at least one
  • Conduction area be formed spirally.
  • the first electrode surface preferably has a thickness of 20 nm to 1 ⁇ m, particularly preferably 100 nm to 200 nm and particularly preferably 100 nm to 170 nm.
  • the first electrode surface is preferably completely removed.
  • the first electrode surface in the ablation region can only be partially removed, for example up to half of its thickness.
  • the region of the electrode surface in which ablation regions are arranged preferably comprises at least 50% of the entire luminous surface.
  • the entire light-emitting surface is preferably between 10 cm 2 and 1000 cm 2, more preferably _ _
  • the luminous area may be rectangular, for example, for example, with a length of 15cm and a width of 9cm, or square with a length and width of, for example, each 10cm.
  • the substrate is preferably transparent or translucent to the electromagnetic radiation generated by the at least one functional layer.
  • the substrate may be a glass substrate.
  • electromagnetic radiation exits the side of the substrate remote from the first electrode surface.
  • the first electrode surface preferably transparent or translucent to the first electrode surface.
  • Electrode surface facing away from the substrate be mirrored.
  • electromagnetic can be used
  • the radiation-emitting device may thus be a top emitter or a bottom emitter or emit electromagnetic radiation in both directions.
  • the method comprises providing a first electrode surface on a substrate, at least partially removing the first electrode surface in at least one removal region, applying at least one functional layer which is suitable in an activated operating state
  • Electrode surface on the at least one functional layer wherein in the at least partial removal of the first - -
  • the at least partial removal of the first electrode surface may include laser ablation.
  • the diameter of the laser beam is preferably between 25m and 100m, more preferably 60m or less.
  • the laser may be a diode pumped solid state laser. The laser can generate laser radiation in the UV range,
  • the removal of the first electrode surface with a laser is particularly suitable for the formation of linear
  • the diameter of the laser beam essentially corresponds to the line width of
  • this can be at least partially
  • the etching may include wet chemical etching, in particular photochemical etching with a mixture of nitric acid and ferric chloride.
  • the etching may include dry etching, in particular plasma etching.
  • Figure 1 is a sectional view of an inventive
  • Figure 2 is a plan view of an inventive
  • Figure 3 is a schematic representation of a possible
  • Figure 4 is a plan view of an inventive
  • Figure 5 is a plan view of an inventive
  • FIG. 1 shows a first exemplary embodiment of a device according to the invention, indicated as a whole by 100
  • a first electrode surface 2 is arranged, which may for example consist of indium tin oxide.
  • the first electrode surface 2 is removed.
  • the first electrode surface 2 in the ablation regions 3 is completely ablated, i. in the ablation regions 3, the first electrode surface 2 is absent.
  • the first electrode surface 2 may be only partially removed in the ablation regions 3;
  • a functional layer 4 for example, an organic functional layer
  • a second electrode surface 5 is arranged on the functional layer 4, which is adapted to generate in an activated operating state electromagnetic radiation.
  • the second electrode surface 5 may for example consist of indium tin oxide.
  • the first contact 6 is electrically connected by a resistor 7 of the functional layer 4 and the second
  • Electrode surface 5 isolated. At the opposite edge of the radiation-emitting device 100, a second contact 8, which is insulated from the first electrode surface 2, is arranged on the first electrode surface 2.
  • the second contact 8 is conductively connected to the second electrode surface 5 and electrically insulated from the functional layer 4 by a resistor 9. In the operating state, a positive voltage is applied to the first contact 6, and a negative voltage is applied to the second contact 8.
  • the first electrode surface 2 thus acts as an anode
  • the second electrode surface 5 acts as a cathode.
  • Adhesive layer 10 a cover glass layer 11 is arranged.
  • the radiation-emitting device 100 is designed to emit electromagnetic radiation in an active region 12.
  • the active region 12 thus forms the
  • Electrode surfaces 2, 5 transparent, and the
  • Radiation emitting device 100 has both
  • Layer sequence can emit electromagnetic radiation. - -
  • one or both electrode surfaces 2, 5 may be translucent.
  • one of the outer surfaces may be mirrored and / or one of the electrode surfaces 2, 5 may be made of a metal such that the device 100 is only perpendicular in one of the two directions
  • Figure 2 shows a second embodiment of a total of 200 designated according to the invention
  • Device 200 has a non-active region 21 on the outside and an active region 22 on the inside. In the active region 22, the radiation-emitting device 200 emits
  • the first electrode surface is removed along a line 23.
  • the line 23 in this case has the shape of a right-angled spiral.
  • the line 23 defines a line region 24, which due to the spiral shape of the line 23 also has a
  • Windings of the spiral line 23 extend at a constant distance from one another, the line region delimited by the line 23 has a constant width.
  • Electrode surface in the outer region 25 is a conductive connection via the opening portion 26, in which the first electrode surface is also not removed.
  • Electrode surface is applied. - -
  • Electrode surface and the second electrode surface a current.
  • a current must flow into the first electrode surface from the contacts of the first electrode surface. Due to the surface resistance of the first electrode surface, a voltage drops along the current flow in the first electrode surface. Because the line region 24 is delimited from the outer region 25 by the line 23 along which the first electrode surface has been removed, there is a connection between the line region 24 and that in FIG
  • FIG. 3 shows a schematic illustration of a possible contacting of the radiation-emitting device 200 - -
  • Radiation-emitting device has two
  • the contacts 28 are connected to two edges of the first electrode surface, which thus acts as a cathode.
  • the contacts 29 are conductively connected to two edges of the second electrode surface, which thus acts as an anode.
  • Contacts 29 there is no conductive connection, so that a current can flow from the contacts 28 to the contacts 29 only over the layer sequence.
  • the invention is not limited to this form of contacting;
  • the contacts can also be arranged, for example, only on one edge or on two adjoining edges of the two electrode surfaces.
  • FIG. 4 shows a third exemplary embodiment of a device according to the invention, indicated as a whole by 300
  • the first electrode surface is removed along two lines 31 and 32.
  • the lines 31 and 32 are separated from each other by areas where the first electrode surface is not removed. Together, lines 31 and 32 delimit a line region 33.
  • the conduction region 33 is connected via two opening regions 34 to an outer region 35 in which the contacts of the first electrode surface (not shown) are arranged. In the lead region 33 and the outer region 35, the first electrode surface is not
  • the line region 33 in this case has the shape of
  • Opening portions 34 farthest ends 36 of the line portion 33 is radiation with a minimum
  • FIG. 5 shows a fourth exemplary embodiment of a total invention designated 400
  • the first electrode surface is removed along four lines 41, 42, 43 and 44.
  • the lines 41 to 44 are separated from each other by regions in which the first electrode surface is not removed. Together, the lines 41 to 44 border _ _
  • the conduction region 45 is connected via four opening regions 46, 47 to an outer region 48, in which the contacts of the first electrode surface (not shown) are arranged. In the lead region 45 and the outer region 48, the first electrode surface is not removed. Characterized in that the line region 45 is delimited by the lines 41 to 44 from the outer region 48, the resistance between the line region 45 and the
  • the lead region 45 also in this case has the shape of the capital letter H.
  • Embodiment via two additional opening portions 47 connected to the outer region 48. This results in a different voltage curve and thus another
  • Intensity profile in the interior of the line region 45 From the opening regions 46, 47 to the interior of the line region 45 towards the voltage drop across the contacts of the first electrode surface increases, so that the intensity of the emitted radiation decreases from a maximum emission intensity in the outer region 48 along the line region 45 ; At the center 49 of the line region 45 furthest from the opening regions 46, 47, radiation with a minimum emission intensity is emitted.
  • the line region 33 has a constant width, because the lines 41 and 44 are arranged so that respective adjacent parts of them extend at a constant distance from each other. In contrast to _ -
  • each portion of the line portion 45 of two different lines of the lines 41 to 44 limited.
  • the invention is not limited to a single conduit area.
  • a plurality of conductive regions can be delimited by one or more ablation regions.
  • the line areas may form one or more words.
  • the lead areas may also take the form of digits and together form one or more numbers. Due to the reduced emission intensity in the interior of the line regions, those of the
  • Such a radiation-emitting device can be used, for example, in a shield.
  • radiation-emitting devices according to the invention can be used in decorative elements, for branding and for the production of logos or mottos.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

Eine Strahlungsemittierende Vorrichtung (100; 200; 300; 400) umfasst ein Substrat (1) und eine auf dem Substrat (1) angeordnete, zur Erzeugung elektromagnetischer Strahlung geeignete Schichtenfolge, umfassend eine erste Elektrodenfläche (2), eine zweite Elektrodenfläche (5), und mindestens eine Funktionsschicht (4) zwischen der ersten Elektrodenfläche (2) und der zweiten Elektrodenfläche (5). Die mindestens eine Funktionsschicht (4) ist dazu geeignet, in einem eingeschalteten Betriebszustand elektromagnetische Strahlung zu erzeugen. Zwischen mindestens zwei Punkten der ersten Elektrodenfläche (2), die durch die erste Elektrodenfläche (2) miteinander leitend verbunden sind, ist mindestens ein durch die erste Elektrodenfläche (2) eingeschlossener Abtragungsbereich (3) angeordnet, durch den die erste Elektrodenfläche (2) unterbrochen ist.

Description

Beschreibung
Strahlungsemittierende Vorrichtung und Verfahren zur
Herstellung derselben
Es werden eine Strahlungsemittierende Vorrichtung und ein Verfahren zur Herstellung derselben angegeben.
Diese Patentanmeldung beansprucht die Priorität der deutschen Patentanmeldung 102013110666.8, deren Offenbarungsgehalt hiermit durch Rückbezug aufgenommen wird.
Strahlungsemittierende Vorrichtungen eignen sich als
großflächige, dünne Leuchtelemente. In vielen
Anwendungsfällen ist es wünschenswert, dass die Intensität der emittierten elektromagnetischen Strahlung über die
Leuchtfläche hinweg variiert. Beispielsweise kann eine ortsabhängige Strahlungsintensität dazu genutzt werden, Informationen auf einem Schild darzustellen, beispielsweise indem Bereiche verschiedener Strahlungsintensität in Form von Schrift oder Symbolen angeordnet werden.
Es ist bekannt, in Strahlungsemittierenden Vorrichtungen verschiedene Strahlungsintensitäten zu erreichen, indem verschiedene Bereiche der Vorrichtung gezielt mit
verschiedenen Spannungen angesteuert werden. Dadurch kann eine orts- und zeitabhängige Intensitätsverteilung erreicht werden; es sind jedoch eine aufwendige Steuerung der
verschiedenen Spannungen und eine komplexe Struktur zum
Anlegen der verschiedenen Spannungen an verschiedene Teile der Vorrichtung erforderlich. - -
Bekannt ist auch, nur bestimmte Bereiche einer
Strahlungsemittierenden Vorrichtung dazu auszulegen,
Strahlung zu emittieren. Diese Lösung erlaubt keine
kontinuierlichen Übergänge im Intensitätsverlauf und
erfordert eine flächige Variation im Aufbau der
strahlungsemittierenden Vorrichtung .
Zumindest eine Aufgabe von bestimmten Ausführungsformen ist es, eine Strahlungsemittierende Vorrichtung anzugeben, in der die Strahlungsintensität örtlich variiert, sowie ein
Verfahren zur Herstellung der Strahlungsemittierenden
Vorrichtung. Insbesondere ist es eine Aufgabe, kontinuerliche Übergänge in der Strahlungsintensität zu ermöglichen, ohne dass eine gezielte Ansteuerung verschiedener Teile der
Strahlungsemittierenden Vorrichtung mit verschiedenen
Spannungen erforderlich ist.
Diese Aufgabe wird durch eine Strahlungsemittierende
Vorrichtung gemäß dem Patentanspruch 1 und ein Verfahren gemäß dem Patentanspruch 10 gelöst.
Vorteilhafte Ausführungsformen und Weiterbildungen des
Gegenstands und des Verfahrens sind in den abhängigen
Ansprüchen gekennzeichnet und gehen weiterhin aus der
nachfolgenden Beschreibung und den Zeichnungen hervor.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform der
Strahlungsemittierenden Vorrichtung umfasst eine
Strahlungsemittierende Vorrichtung ein Substrat sowie
mindestens eine auf dem Substrat angeordnete, zur Erzeugung elektromagnetischer Strahlung geeignete Schichtenfolge. Die Schichtenfolge umfasst mindestens eine erste
Elektrodenfläche, mindestens eine zweite Elektrodenfläche - -
sowie mindestens eine Funktionsschicht zwischen der ersten Elektrodenfläche und der zweiten Elektrodenfläche, wobei die Funktionsschicht dazu geeignet ist, in einem eingeschalteten Betriebszustand elektromagnetische Strahlung zu erzeugen. Zwischen mindestens zwei Punkten der ersten Elektrodenfläche, die durch die erste Elektrodenfläche miteinander leitend verbunden sind, ist mindestens ein Abtragungsbereich
angeordnet, in dem die erste Elektrodenfläche zumindest teilweise abgetragen ist.
Mit einem Bereich ist hier und im Folgenden jeweils ein
Bereich der Fläche der Strahlungsemittierenden Vorrichtung gemeint, d. h., ein Bereich erstreckt sich in den beiden Dimensionen, in denen die Elektrodenflächen und die
Funktionsschicht flächig ausgebildet sind. Mit einem Bereich, in dem die erste Elektrodenfläche zumindest teilweise
abgetragen ist, ist ein Bereich gemeint, in dem die erste Elektrodenfläche entweder gar nicht vorhanden ist oder zumindest eine geringere Dicke aufweist, vorzugsweise
höchstens die Hälfte ihrer nominellen Dicke. Mit einem
Bereich, in dem die erste Elektrodenfläche nicht abgetragen ist, ist ein Bereich gemeint, in dem die erste
Elektrodenfläche entweder vollständig vorhanden ist oder zumindest eine größere Dicke aufweist als in den
Abtragungsbereichen, vorzugsweise mindestens die Hälfte ihrer nominellen Dicke. Mit der nominellen Dicke der ersten
Elektrodenfläche ist hier und im Folgenden die maximale Dicke der ersten Elektrodenfläche gemeint, also diejenige Dicke, die die erste Elektrodenfläche dort aufweist, wo sie
vollständig ausgebildet und nicht abgetragen ist.
Dass eine Schicht oder ein Element „auf" oder „über" einer anderen Schicht oder einem anderen Element oder auch - -
„zwischen" zwei anderen Schichten oder Elementen angeordnet oder aufgebracht ist, kann hier und im Folgenden bedeuten, dass die eine Schicht oder das eine Element unmittelbar im direkten mechanischen und/oder elektrischen Kontakt auf der anderen Schicht oder dem anderen Element angeordnet ist.
Weiterhin kann es auch bedeuten, dass die eine Schicht oder das eine Element mittelbar auf beziehungsweise über der anderen Schicht oder dem anderen Element angeordnet ist.
Dabei können dann weitere Schichten und/oder Elemente
zwischen der einen und der anderen Schicht oder dem einen und dem anderen Element angeordnet sein.
Die erste Elektrodenfläche und/oder die zweite
Elektrodenfläche umfasst vorzugsweise ein transparentes leitendes Oxid (Transparent Conductive Oxide, TCO) .
Transparente leitende Oxide sind transparente, leitende
Materialien, in der Regel Metalloxide, wie beispielsweise Zinkoxid, Zinnoxid, Cadmiumoxid, Titanoxid, Indiumoxid oder Indiumzinnoxid (ITO). Die zumindest eine Funktionsschicht umfasst vorzugsweise eine organische Funktionsschicht, insbesondere eine organische elektrolumineszierende Schicht. Die Strahlungsemittierende Vorrichtung kann insbesondere als organische Leuchtdiode (OLED) ausgebildet sein oder eine solche umfassen.
Die mindestens eine Funktionsschicht kann insbesondere einen organischen funktionellen Schichtenstapel mit einer
organischen elektrolumineszierenden Schicht umfassen. Der organische funktionelle Schichtenstapel kann beispielsweise eine Lochinjektionsschicht, eine Löchertransportschicht, eine Elektronenblockierschicht , eine Löcherblockierschicht, eine Elektronentransportschicht und/oder eine
Elektroneninjektionsschicht aufweisen, die geeignet sind, - -
Löcher bzw. Elektronen zu der organischen
elektrolumineszierenden Schicht zu leiten bzw. den jeweiligen Transport zu blockieren. Geeignete Schichtaufbauten für den organischen funktionellen Schichtenstapel sind dem Fachmann bekannt und werden daher hier nicht weiter ausgeführt.
Das Substrat kann beispielsweise Glas, Quarz, eine
Kunststofffolie, Metall, eine Metallfolie, einen
Siliziumwafer oder ein anderes geeignetes Substratmaterial umfassen oder daraus bestehen.
Die erste Elektrodenfläche kann mindestens einen Kontakt umfassen, über den eine Spannung an die erste
Elektrodenfläche anlegbar ist. Der mindestens eine Kontakt der ersten Elektrodenfläche ist bevorzugt an einem Rand oder in der Nähe eines Randes der ersten Elektrodenfläche
angeordnet .
Dadurch, dass die erste Elektrodenfläche durch mindestens einen Abtragungsbereich unterbrochen ist, ist der Widerstand zwischen je zwei Punkten der ersten Elektrodenfläche erhöht gegenüber dem Fall, in dem die Elektrodenfläche durchgehend in voller Dicke vorhanden ist. Dabei ist der Widerstand zwischen zwei Punkten der ersten Elektrodenfläche umso mehr erhöht, je länger der Weg ist, den der Strom aufgrund der Unterbrechung durch den mindestens einen Abtragungsbereich zurücklegen muss und je schmaler der Bereich ist, über den die erste Elektrodenfläche die beiden Punkte miteinander leitend verbindet.
Die Strahlungsemission der Strahlungsemittierenden
Vorrichtung beruht darauf, dass zwischen der ersten
Elektrodenfläche und der zweiten Elektrodenfläche ein Strom - -
fließt. Dieser Strom wird von den Kontakten der ersten
Elektrodenfläche über die erste Elektrodenfläche in die erste Elektrodenfläche hineingeführt, um von dort über die
Funktionsschicht in die zweite Elektrodenfläche zu fließen und dabei Strahlungsemission anzuregen. Die
Strahlungsintensität nimmt mit dem von der ersten
Elektrodenfläche zu der zweiten Elektrodenfläche fließenden Strom zu, und dieser wiederum nimmt mit der zwischen der ersten Elektrodenfläche und der zweite Elektrodenfläche bestehenden Potentialdifferenz zu. Dabei besteht aufgrund des Flächenwiderstands der ersten und zweiten Elektrodenflächen ein Spannungsabfall zwischen den Kontakten der
Elektrodenflächen und Punkten im Inneren der
Elektrodenflächen. Der lokale Stromfluss von der ersten
Elektrodenfläche zu der zweiten Elektrodenfläche hängt von der lokalen Potentialdifferenz zwischen der ersten
Elektrodenfläche und der zweiten Elektrodenfläche ab. Diese lokale Potentialdifferenz ist an einem gegebenen Punkt kleiner, je größer der Spannungsabfall zwischen den Kontakten der Elektrodenflächen und diesem Punkt der Elektrodenflächen ist .
Somit wird dadurch, dass der Widerstand zwischen dem
mindestens einen Kontakt der ersten Elektrodenfläche und Punkten im Inneren der ersten Elektrodenfläche aufgrund des mindestens einen Abtragungsbereichs erhöht ist, die
Strahlungsintensität herabgesetzt. Die Strahlungsintensität an einem Punkt ist umso stärker herabgesetzt, je stärker der Stromfluss zwischen diesem Punkt und dem Kontakt der ersten Elektrodenfläche durch den mindestens einen Abtragungsbereich unterbrochen ist. Somit lässt sich durch die Form des
mindestens einen Abtragungsbereichs der Intensitätsverlauf entlang der Ausdehnung der ersten und zweiten - -
Elektrodenflächen bestimmen. Insbesondere kann somit ein kontinuierlicher Übergang zwischen verschiedenen Graustufen in verschiedenen Bereichen der Strahlungsemittierenden
Vorrichtung erreicht werden.
Der mindestens eine Abtragungsbereich ist vorzugsweise linienförmig ausgebildet. Die Breite eines linienförmigen Abtragungsbereichs ist vorzugsweise entlang seines Verlaufs konstant. Die konstante Breite beträgt vorzugsweise zwischen 25 ym und 100 ym, besonders bevorzugt zwischen 40 ym und 60 ym. Der linienförmige Abtragungsbereich kann die Form einer geraden Strecke aufweisen. Vorzugsweise weist der
linienförmige Abtragungsbereich über seinen Verlauf hinweg Richtungsänderungen auf. Es können auch mehrere linienförmige Abtragungsbereiche ausgebildet sein.
Wahlweise kann der mindestens eine Abtragungsbereich
flächenförmig ausgebildet sein. Vorzugsweise weist ein flächenförmiger Abtragungsbereich in jeder Richtung eine Breite von mindestens 1mm, besonders bevorzugt von mindestens lern auf.
Vorzugsweise ist zwischen zwei Abtragungsbereichen oder zwei Teilen eines Abtragungsbereichs mindestens ein
Leitungsbereich angeordnet, in dem die erste Elektrodenfläche nicht abgetragen ist oder zumindest mehr als die Hälfte ihrer nominellen Dicke aufweist. Der Leitungsbereich ist
vorzugsweise durch die erste Elektrodenfläche leitend mit dem mindestens einen Kontakt der ersten Elektrodenfläche
verbunden. Der Leitungsbereich ist vorzugsweise
zusammenhängend. Vorzugsweise weist der Leitungsbereich zumindest über einen Teil seines Verlaufs eine konstante Breite auf. Die konstante Breite beträgt vorzugsweise - -
zwischen 1mm und 10cm, besonders bevorzugt zwischen 5mm und 2cm. Der Leitungsbereich kann sich in einer bestimmten
Richtung erstrecken, oder er kann seine Richtung über seinen Verlauf hinweg ändern. Vorzugsweise bleibt dabei über den Verlauf des Leitungsbereichs hinweg der Abstand zwischen den den Leitungsbereich begrenzenden Abtragungsbereichen oder Teilen eines Abtragungsbereichs konstant. Ein Teil der Grenze eines Leitungsbereichs kann durch einen zusammenhängenden Abtragungsbereich gebildet sein. Wahlweise kann ein Teil der Grenze eines Leitungsbereichs von zwei oder mehr
Abtragungsbereichen gebildet sein, die jeweils durch Bereiche voneinander getrennt sind, in denen die erste
Elektrodenfläche nicht abgetragen ist. Vorzugsweise ist der mindestens eine Leitungsbereich über nicht abgetragene Teile der ersten Elektrodenfläche leitend mit dem mindestens einen Kontakt der ersten Elektrodenfläche verbunden. Vorzugsweise sind über 50%, besonders bevorzugt über 80% und besonders bevorzugt über 90% der Grenze eines Leitungsbereichs durch einen oder mehrere Abtragungsbereiche gebildet. Die nicht durch Abtragungsbereiche gebildeten Teile der Grenze eines Leitungsbereichs bilden Öffnungsbereiche, über die der Leitungsbereich leitend mit dem mindestens einen Kontakt der ersten Elektrodenfläche verbunden ist. Weist die Grenze eines Leitungsbereichs nur einen Öffnungsbereich auf, so nimmt die Strahlungsintensität von dem Öffnungsbereich her zum Inneren des Leitungsbereichs hin ab. Die
Strahlungsintensität an einem Punkt des Leitungsbereichs ist geringer, je größer der effektive Widerstand der ersten
Elektrodenfläche und damit der Spannungsabfall in der ersten Elektrodenfläche zwischen besagtem Punkt und besagtem
Öffnungsbereich ist. Eine minimale Strahlungsintensität innerhalb des Leitungsbereichs tritt in diesem Fall dort auf, - -
wo der Spannungsabfall in der ersten Elektrodenfläche
gegenüber dem Öffnungsbereich am größten ist.
Weist die Grenze eines Leitungsbereichs mehrere
Öffnungsbereiche auf, so nimmt die Strahlungsintensität jeweils von den Öffnungsbereichen her zum Inneren des
Leitungsbereichs hin ab. In diesem Fall tritt eine minimale Strahlungsintensität innerhalb des Leitungsbereichs in einem Abstand von sämtlichen Öffnungsbereichen auf, beispielsweise bei symmetrischer Ausbildung des Leitungsbereichs und der Öffnungsbereiche in gleichem Abstand von sämtlichen
Öffnungsbereichen .
Vorzugsweise hat der mindestens eine Leitungsbereich die Form mindestens eines Buchstabens, mindestens einer Ziffer oder mindestens eines Logos, wobei ein oder mehrere
buchstabenförmige Leitungsbereiche ein oder mehrere Wörter bilden können und/oder ein oder mehrere ziffernförmige
Leitungsbereiche eine oder mehrere Zahlen bilden können. In einer weiteren Ausführungsform kann mindestens ein
Leitungsbereich spiralförmig ausgebildet sein.
Die erste Elektrodenfläche hat vorzugsweise eine Dicke von 20nm bis lym, besonders bevorzugt von 100 nm bis 200 nm und besonders bevorzugt von 100 nm bis 170nm. In dem mindestens einen Abtragungsbereich ist die erste Elektrodenfläche vorzugsweise vollständig abgetragen. Wahlweise kann die erste Elektrodenfläche in dem Abtragungsbereich nur teilweise abgetragen sein, beispielsweise bis zur Hälfte ihrer Dicke. Der Bereich der Elektrodenfläche, in dem Abtragungsbereiche angeordnet sind, umfasst vorzugsweise mindestens 50% der gesamten Leuchtfläche. Die gesamte Leuchtfläche beträgt vorzugsweise zwischen 10cm2 und 1000cm2, besonders bevorzugt _ _
zwischen 50cm2 und 200cm2 und besonders bevorzugt zwischen 100cm2 und 150cm2. Die Leuchtfläche kann beispielsweise rechteckig ausgebildet sein, beispielsweise mit einer Länge von 15cm und einer Breite von 9cm, oder quadratisch mit einer Länge und Breite von beispielsweise jeweils 10cm.
Das Substrat ist vorzugsweise für die von der mindestens einen Funktionsschicht erzeugte elektromagnetische Strahlung transparent oder transluzent. Insbesondere kann das Substrat ein Glassubstrat sein. Vorzugsweise tritt elektromagnetische Strahlung aus der der ersten Elektrodenfläche abgewandten Seite des Subtrats aus. Wahlweise kann die der ersten
Elektrodenfläche abgewandte Seite des Subtrats verspiegelt sein. Wahlweise oder zusätzlich kann elektromagnetische
Strahlung aus der dem Substrat abgewandten Seite der zweiten Elektrodenfläche austreten. In diesem Fall ist die zweite Elektrodenfläche vorzugsweise transparent oder transluzent. Die strahlungsemittierende Vorrichtung kann somit ein Top- Emitter oder ein Bottom-Emitter sein oder in beide Richtungen elektromagnetische Strahlung emittieren.
Gemäß zumindest einer weiteren Ausführungsform der Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung einer
Strahlungsemittierenden Vorrichtung bereitgestellt. Das Verfahren umfasst Bereitstellen einer ersten Elektrodenfläche auf einem Substrat, zumindest teilweises Abtragen der ersten Elektrodenfläche in mindestens einem Abtragungsbereich, Aufbringen mindestens einer Funktionsschicht, die geeignet ist, in einem eingeschalteten Betriebszustand
elektromagnetische Strahlung zu erzeugen, auf der ersten Elektrodenfläche, sowie Aufbringen einer zweiten
Elektrodenfläche auf der mindestens einen Funktionsschicht, wobei bei dem zumindest teilweisen Abtragen der ersten - -
Elektrodenfläche zwischen mindestens zwei Punkten der ersten Elektrodenfläche, die durch die erste Elektrodenfläche miteinander leitend verbunden sind, mindestens ein
Abtragungsbereich angeordnet wird.
Das zumindest teilweise Abtragen der ersten Elektrodenfläche kann Laserablation umfassen. Dabei beträgt der Durchmesser des Laserstrahls vorzugsweise zwischen 25ym und lOOym, besonders bevorzugt 60ym oder weniger. Bei dem Laser kann es sich um einen diodengepumpten Festkörperlaser handeln. Der Laser kann Laserstrahlung im UV-Bereich erzeugen,
beispielsweise mit einer Wellenlänge von 370nm. Die Leistung des Lasers kann beispielsweise zwischen 1W und 4W betragen. Das Abtragen der ersten Elektrodenfläche mit einem Laser eignet sich insbesondere zur Ausbildung linienförmiger
Abtragungsbereiche. Dabei entspricht der Durchmesser des Laserstrahls im Wesentlichen der Linienbreite der
linienförmigen Abtragungsbereiche. Auf diese Weise lassen sich beispielsweise durch eine programmierbare mechanische Bewegung des Lasers flächige Intensitätsvariationen
erreichen, ohne dass eine flächige Variation in den
physikalischen Eigenschaften der Schichtenfolge herbeigeführt werden muss.
Wahlweise oder zusätzlich kann das zumindest teilweise
Abtragen der ersten Elektrodenfläche Ätzen umfassen. Das Ätzen kann nasschemisches Ätzen, insbesondere photochemisches Ätzen mit einer Mischung aus Salpetersäure und Eisen- (III)- Chlorid umfassen. Wahlweise oder zusätzlich kann das Ätzen Trockenätzen, insbesondere Plasmaätzen umfassen. Das Ätzen bietet gegenüber der Laserablation den Vorteil, dass es einfacher ist, eine Beschädigung des Glassubstrats zu - -
vermeiden, bei Bedarf nur Teile der ersten Elektrodenfläche abzutragen und/oder bei Bedarf flächige Abtragungsbereiche zu erzeugen . Weitere Vorteile, vorteilhafte Ausführungsformen und
Weiterbildungen ergeben sich aus den im Folgenden in
Verbindung mit den Figuren beschriebenen
Ausführungsbeispielen . Es zeigen:
Figur 1 eine Schnittansicht einer erfindungsgemäßen
Strahlungsemittierenden Vorrichtung gemäß einem ersten
Ausführungsbeispiel ,
Figur 2 eine Draufsicht einer erfindungsgemäßen
Strahlungsemittierenden Vorrichtung gemäß einem zweiten Ausführungsbeispiel , Figur 3 eine schematische Darstellung einer möglichen
Kontaktierung der strahlungsemittierenden Vorrichtung gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel,
Figur 4 eine Draufsicht einer erfindungsgemäßen
strahlungsemittierenden Vorrichtung gemäß einem
Ausführungsbeispiel, und
Figur 5 eine Draufsicht einer erfindungsgemäßen
strahlungsemittierenden Vorrichtung gemäß einem
Ausführungsbeispiel .
In den Ausführungsbeispielen und Figuren können gleiche, gleichartige oder gleich wirkende Elemente jeweils mit _ _
denselben Bezugszeichen versehen sein. Die dargestellten Elemente und deren Größenverhältnisse untereinander sind nicht als maßstabsgerecht anzusehen; vielmehr können einzelne Elemente, wie zum Beispiel Schichten, Bauteile, Bauelemente und Bereiche, zur besseren Darstellbarkeit und/oder zum besseren Verständnis überproportional groß dargestellt sein; dies kann sich auf einzelne Abmessungen oder auf alle
Abmessungen der Elemente beziehen.
Figur 1 zeigt ein erstes Ausführungsbeispiel einer insgesamt mit 100 bezeichneten erfindungsgemäßen
Strahlungsemittierenden Vorrichtung anhand einer
schematischen Seitenansicht. Die Strahlungsemittierende
Vorrichtung 100 weist ein Glassubtrat 1 auf. Auf dem
Glassubstrat 1 ist eine erste Elektrodenfläche 2 angeordnet, die beispielsweise aus Indium-Zinn-Oxid bestehen kann. In Abtragungsbereichen 3 ist die erste Elektrodenfläche 2 abgetragen. In diesem Fall ist die erste Elektrodenfläche 2 in den Abtragungsbereichen 3 vollständig abgetragen, d.h. in den Abtragungsbereichen 3 ist die erste Elektrodenfläche 2 nicht vorhanden. Wahlweise kann die erste Elektrodenfläche 2 in den Abtragungsbereichen 3 nur teilweise abgetragen sein; beispielsweise kann die erste Elektrodenfläche 2 in den
Abtragungsbereichen 3 die Hälfte ihrer nominellen Dicke aufweisen .
Auf der ersten Elektrodenfläche 2 ist eine Funktionsschicht 4, beispielsweise eine organische Funktionsschicht,
angeordnet, die dazu geeignet ist, in einem eingeschalteten Betriebszustand elektromagnetische Strahlung zu erzeugen. Auf der Funktionsschicht 4 ist eine zweite Elektrodenfläche 5 angeordnet. Die zweite Elektrodenfläche 5 kann beispielsweise aus Indium-Zinn-Oxid bestehen. _ _
An einem Rand der Strahlungsemittierenden Vorrichtung 100 ist auf der ersten Elektrodenfläche 2 ein erster Kontakt 6 angeordnet, der mit der ersten Elektrodenfläche 2 leitend verbunden ist. Der erste Kontakt 6 ist durch einen Widerstand 7 elektrisch von der Funktionsschicht 4 und der zweiten
Elektrodenfläche 5 isoliert. An dem gegenüberliegenden Rand der Strahlungsemittierenden Vorrichtung 100 ist auf der ersten Elektrodenfläche 2 ein zweiter Kontakt 8 angeordnet, der von der ersten Elektrodenfläche 2 isoliert ist. Der zweite Kontakt 8 ist mit der zweiten Elektrodenfläche 5 leitend verbunden und durch einen Widerstand 9 elektrisch von der Funktionsschicht 4 isoliert. Im Betriebszustand wird an den ersten Kontakt 6 eine positive Spannung angelegt, und an den zweiten Kontakt 8 wird eine negative Spannung angelegt. Die erste Elektrodenfläche 2 wirkt somit als Anode, und die zweite Elektrodenfläche 5 wirkt als Kathode.
Auf der zweiten Elektrodenfläche 5 ist mit Hilfe einer
Klebeschicht 10 eine Abschlussglasschicht 11 angeordnet. Die Strahlungsemittierende Vorrichtung 100 ist dazu ausgelegt, in einem aktiven Bereich 12 elektromagnetische Strahlung zu emittieren. Der aktive Bereich 12 bildet somit die
Leuchtfläche der Strahlungsemittierenden Vorrichtung 100.
In dem ersten Ausführungsbeispiel sind beide
Elektrodenflächen 2, 5 transparent, und die
Strahlungsemittierende Vorrichtung 100 weist auf beiden
Seiten transparente Glasoberflächen 10, 16 auf, so dass die Vorrichtung 100 in beide Richtungen senkrecht zu der
Schichtenfolge elektromagnetische Strahlung emittieren kann. - -
Wahlweise können eine oder beide Elektrodenflächen 2, 5 transluzent sein. Wahlweise kann eine der Außenflächen verspiegelt sein und/oder eine der Elektrodenflächen 2, 5 kann aus einem Metall bestehen, so dass die Vorrichtung 100 nur in einer der beiden Richtungen senkrecht zu der
Schichtenfolge elektromagnetische Strahlung emittiert.
Figur 2 zeigt ein zweites Ausführungsbeispiel einer insgesamt mit 200 bezeichneten erfindungsgemäßen
strahlungsemittierenden Vorrichtung anhand einer
schematischen Draufsicht. Die Strahlungsemittierende
Vorrichtung 200 weist außen einen nichtaktiven Bereich 21 und innen einen aktiven Bereich 22 auf. In dem aktiven Bereich 22 emittiert die Strahlungsemittierende Vorrichtung 200
elektromagnetische Strahlung. In dem aktiven Bereich ist entlang einer Linie 23 die erste Elektrodenfläche abgetragen. Die Linie 23 hat in diesem Fall die Form einer rechtwinkligen Spirale. Die Linie 23 begrenzt einen Leitungsbereich 24, der aufgrund der Spiralform der Linie 23 ebenfalls eine
Spiralform aufweist. Dadurch, dass aufeinanderfolgende
Windungen der spiralförmigen Linie 23 in konstantem Abstand zueinander verlaufen, weist der durch die Linie 23 begrenzte Leitungsbereich eine konstante Breite auf. In dem
Leitungsbereich 24 sowie in einem Außenbereich 25 ist die erste Elektrodenfläche nicht abgetragen. Zwischen der ersten Elektrodenfläche im Leitungsbereich 24 und der ersten
Elektrodenfläche im Außenbereich 25 besteht eine leitende Verbindung über den Öffnungsbereich 26, in dem die erste Elektrodenfläche ebenfalls nicht abgetragen ist. In dem
Außenbereich 25 befinden sich Kontakte (nicht gezeigt) , über die im Betriebszustand eine Spannung an die erste
Elektrodenfläche angelegt wird. - -
Im Betriebszustand fließt zwischen der ersten
Elektrodenfläche und der zweiten Elektrodenfläche ein Strom. Dazu muss von den Kontakten der ersten Elektrodenfläche ein Strom in die erste Elektrodenfläche hineinfließen. Aufgrund des Flächenwiderstands der ersten Elektrodenfläche fällt dabei entlang des Stromflusses in der ersten Elektrodenfläche eine Spannung ab. Dadurch, dass der Leitungsbereich 24 durch die Linie 23, entlang derer die erste Elektrodenfläche abgetragen ist, von dem Außenbereich 25 abgegrenzt ist, besteht zwischen dem Leitungsbereich 24 und den im
Außenbereich 25 angeordneten Kontakten ein größerer
elektrischer Widerstand, als dies bei einer durchgängig leitenden ersten Elektrodenfläche der Fall wäre. Insbesondere ist dadurch, dass die Linie 23 spiralförmig ausgebildet ist, der effektive Widerstand und damit der Spannungsabfall zwischen einem Punkt der ersten Elektrodenfläche im
Leitungsbereich 24 und den im Außenbereich angeordneten
Kontakten größer, je weiter der Punkt im Inneren der Spirale liegt. Durch den zunehmenden Spannungsabfall steht zum
Inneren der Spirale hin immer weniger Spannung zur Anregung der Strahlungsemission zur Verfügung. Dadurch ergibt sich ein kontinuierlicher Graustufenverlauf von einer maximalen
Emissionsintensität im Außenbereich 25 über abnehmende
Emissionsintensität entlang des Spiralverlaufs des
Leitungsbereichs 24 bis hin zu einem Ort 27 minimaler
Emissionsintensität ganz im Inneren der Spirale, an dem der Spannungsabfall gegenüber den im Außenbereich angeordneten Kontakten am größten ist. Die unterschiedliche
Emissionsintensität ist in der Zeichnung durch
unterschiedliche Schraffuren dargestellt.
Figur 3 zeigt eine schematische Darstellung einer möglichen Kontaktierung der Strahlungsemittierenden Vorrichtung 200 - -
gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel. Die
Strahlungsemittierende Vorrichtung weist an zwei
gegenüberliegenden Rändern zwei Kontakte 28 und an den zwei anderen gegenüberliegenden Rändern zwei weitere Kontakte 29 auf. Im Betriebszustand wird an die Kontakte 28 ein höheres Potential angelegt als an die Kontakte 29. Die Kontakte 28 sind mit zwei Rändern der ersten Elektrodenfläche verbunden, die somit als Kathode wirkt. Die Kontakte 29 sind leitend mit zwei Rändern der zweiten Elektrodenfläche verbunden, die somit als Anode wirkt. Zwischen den Kontakten 28 und den
Kontakten 29 besteht keine leitende Verbindung, so dass ein Strom von den Kontakten 28 zu den Kontakten 29 nur über die Schichtenfolge fließen kann. Die Erfindung ist nicht auf diese Form der Kontaktierung beschränkt; die Kontakte können auch beispielsweise nur an je einem Rand oder an je zwei aneinander grenzenden Rändern der beiden Elektrodenflächen angeordnet sein.
Figur 4 zeigt ein drittes Ausführungsbeispiel einer insgesamt mit 300 bezeichneten erfindungsgemäßen
Strahlungsemittierenden Vorrichtung anhand einer
schematischen Draufsicht. In diesem Ausführungsbeispiel ist die erste Elektrodenfläche entlang zweier Linien 31 und 32 abgetragen. Die Linien 31 und 32 sind durch Bereiche, in denen die erste Elektrodenfläche nicht abgetragen ist, voneinander getrennt. Gemeinsam grenzen die Linien 31 und 32 einen Leitungsbereich 33 ab. Der Leitungsbereich 33 ist über zwei Öffnungsbereiche 34 mit einem Außenbereich 35 verbunden, in dem die Kontakte der ersten Elektrodenfläche (nicht gezeigt) angeordnet sind. In dem Leitungsbereich 33 und dem Außenbereich 35 ist die erste Elektrodenfläche nicht
abgetragen. Dadurch, dass der Leitungsbereich 33 durch die Linien 31 und 32 von dem Außenbereich 35 abgegrenzt ist, ist - -
der Widerstand zwischen dem Leitungsbereich 33 und den
Kontakten der ersten Elektrodenfläche größer, als es bei einer durchgängig leitenden ersten Elektrodenfläche der Fall wäre .
Der Leitungsbereich 33 hat in diesem Fall die Form des
Großbuchstaben H. Von den Öffnungsbereichen 34 zum Inneren des Leitungsbereichs 33 hin nimmt der Spannungsabfall gegenüber den Kontakten der ersten Elektrodenfläche zu, so dass die Intensität der emittierten Strahlung von einer maximalen Emissionsintensität in dem Außenbereich 35 entlang des Leitungsbereichs 33 abnimmt; an den von den
Öffnungsbereichen 34 am weitesten entfernten Enden 36 des Leitungsbereichs 33 wird Strahlung mit einer minimalen
Emissionsintensität emittiert. Auch in diesem
Ausführungsbeispiel weist der Leitungsbereich 33 eine
konstante Breite auf, weil die Linien 31 und 32 so angeordnet sind, dass jeweils benachbarte Teile von ihnen in einem konstanten Abstand voneinander verlaufen. Dabei wird der Leitungsbereich 33 in manchen Teilbereichen auf der einen
Seite durch die Linie 31 und auf der anderen Seite durch die Linie 32 begrenzt, während er in anderen Teilbereichen auf beiden Seiten von verschiedenen Teilen der Linie 31 begrenzt wird .
Figur 5 zeigt ein viertes Ausführungsbeispiel einer insgesamt mit 400 bezeichneten erfindungsgemäßen
Strahlungsemittierenden Vorrichtung anhand einer
schematischen Draufsicht. In diesem Ausführungsbeispiel ist die erste Elektrodenfläche entlang vierer Linien 41, 42, 43 und 44 abgetragen. Die Linien 41 bis 44 sind durch Bereiche, in denen die erste Elektrodenfläche nicht abgetragen ist, voneinander getrennt. Gemeinsam grenzen die Linien 41 bis 44 _ _
einen Leitungsbereich 45 ab. Der Leitungsbereich 45 ist über vier Öffnungsbereiche 46, 47 mit einem Außenbereich 48 verbunden, in dem die Kontakte der ersten Elektrodenfläche (nicht gezeigt) angeordnet sind. In dem Leitungsbereich 45 und dem Außenbereich 48 ist die erste Elektrodenfläche nicht abgetragen. Dadurch, dass der Leitungsbereich 45 durch die Linien 41 bis 44 von dem Außenbereich 48 abgegrenzt ist, ist der Widerstand zwischen dem Leitungsbereich 45 und den
Kontakten der ersten Elektrodenfläche größer, als es bei einer durchgängig leitenden ersten Elektrodenfläche der Fall wäre .
Der Leitungsbereich 45 hat auch in diesem Fall die Form des Großbuchstaben H. Im Unterschied zu dem Leitungsbereich 33 der strahlungsemittierenden Vorrichtung 300 des dritten
Ausführungsbeispiels ist der Leitungsbereich 45 der
strahlungsemittierenden Vorrichtung 400 des vierten
Ausführungsbeispiels über zwei zusätzliche Öffnungsbereiche 47 mit dem Außenbereich 48 verbunden. Dadurch ergibt sich ein anderer Spannungsverlauf und damit auch ein anderer
Intensitätsverlauf im Inneren des Leitungsbereichs 45. Von den Öffnungsbereichen 46, 47 zum Inneren des Leitungsbereichs 45 hin nimmt der Spannungsabfall gegenüber den Kontakten der ersten Elektrodenfläche zu, so dass die Intensität der emittierten Strahlung von einer maximalen Emissionsintensität in dem Außenbereich 48 entlang des Leitungsbereichs 45 abnimmt; an dem von den Öffnungsbereichen 46, 47 am weitesten entfernten Zentrum 49 des Leitungsbereichs 45 wird Strahlung mit einer minimalen Emissionsintensität emittiert. Auch in diesem Ausführungsbeispiel weist der Leitungsbereich 33 eine konstante Breite auf, weil die Linien 41 und 44 so angeordnet sind, dass jeweils benachbarte Teile von ihnen in einem konstanten Abstand voneinander verlaufen. Im Unterschied zum _ -
dritten Ausführungsbeispiel wird in diesem vierten
Ausführungsbeispiel jeder Teilbereich des Leitungsbereichs 45 von zwei verschiedenen Linien der Linien 41 bis 44 begrenzt. Die Erfindung ist nicht auf einen einzelnen Leitungsbereich begrenzt. In verschiedenen Teilen der ersten Elektrodenfläche können durch einen oder mehrere Abtragungsbereiche mehrere Leitungsbereiche abgegrenzt werden. Beispielsweise kann jeder Leitungsbereich wie im dritten und vierten
Ausführungsbeispiel gezeigt die Form eines Buchstabens aufweisen, und zusammen können die Leitungsbereiche ein oder mehrere Wörter bilden. Die Leitungsbereiche können auch die Form von Ziffern haben und zusammen eine oder mehrere Zahlen bilden. Aufgrund der herabgesetzten Emissionsintensität im Inneren der Leitungsbereiche können für einen Betrachter der Strahlungsemittierenden Vorrichtung die von den
Leitungsbereichen gebildeten Wörter und/oder Zahlen lesbar sein. Eine solche strahlungsemittierende Vorrichtung kann beispielsweise in einem Schild zum Einsatz kommen.
Erfindungsgemäße strahlungsemittierende Vorrichtungen können zudem in dekorativen Elementen, zur Markenkennzeichnung und zur Darstellung von Logos oder Mottos eingesetzt werden.

Claims

Patentansprüche
1. Strahlungsemittierende Vorrichtung (100, 200, 300, 400), umfassend
- ein Substrat (1) und
mindestens eine auf dem Substrat (1) angeordnete, zur Erzeugung elektromagnetischer Strahlung geeignete
Schichtenfolge, umfassend
mindestens eine erste Elektrodenfläche (2),
- mindestens eine zweite Elektrodenfläche (5) , und
mindestens eine Funktionsschicht (4) zwischen der ersten Elektrodenfläche (2) und der zweiten Elektrodenfläche (5), wobei die Funktionsschicht (4) dazu geeignet ist, in einem eingeschalteten Betriebszustand elektromagnetische Strahlung zu erzeugen, und
wobei zwischen mindestens zwei Punkten der ersten
Elektrodenfläche (2), die durch die erste Elektrodenfläche (2) miteinander leitend verbunden sind, mindestens ein
Abtragungsbereich (3, 23, 31, 32, 41, 42, 43, 44) angeordnet ist, in dem die erste Elektrodenfläche (2) zumindest
teilweise abgetragen ist.
2. Strahlungsemittierende Vorrichtung (100, 200, 300, 400) nach Anspruch 1, wobei die strahlungsemittierende Vorrichtung eine organische lichtemittierende Vorrichtung ist.
3. Strahlungsemittierende Vorrichtung (200, 300, 400) nach Anspruch 1 oder 2, wobei mindestens ein Abtragungsbereich linienförmig ausgebildet ist.
4. Strahlungsemittierende Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei mindestens ein
Abtragungsbereich flächenförmig ausgebildet ist.
5. Strahlungsemittierende Vorrichtung (200, 300, 400) nach einem der vorhergenden Ansprüche, wobei zwischen zwei
Abtragungsbereichen (31, 32, 41, 42, 43, 44) oder zwei
Teilen eines Abtragungsbereiches (23, 31) mindestens ein Leitungsbereich (24, 33, 45) angeordnet ist, in dem die erste Elektrodenfläche (2) nicht abgetragen ist.
6. Strahlungsemittierende Vorrichtung (200, 300, 400) nach Anspruch 5, wobei mindestens ein Leitungsbereich (24, 33, 45) zumindest über einen Teil seines Verlaufs eine konstante Breite aufweist.
7. Strahlungsemittierende Vorrichtung (200, 300, 400) nach Anspruch 5 oder 6, wobei mindestens 90% der Grenze mindestens eines Leitungsbereichs (24, 33, 45) durch mindestens einen Abtragungsbereich (3, 23, 31, 32, 41, 42, 43, 44) gebildet sind .
8. Strahlungsemittierende Vorrichtung (200) nach einem der Ansprüche 5 bis 7, wobei die Grenze mindestens eines
Leitungsbereichs (24) genau einen Öffnungsbereich (26) umfasst, in dem die erste Elektrodenfläche (2) nicht
abgetragen ist.
9. Strahlungsemittierende Vorrichtung (300, 400) nach einem der Ansprüche 5 bis 8, wobei die Grenze mindestens eines Leitungsbereichs (33, 45) mehrere Öffnungsbereiche (34, 46, 47) umfasst, in denen die erste Elektrodenfläche (2) nicht abgetragen ist.
10. Verfahren zur Herstellung einer Strahlungsemittierenden Vorrichtung (100, 200, 300, 400), umfassend Bereitstellen einer ersten Elektrodenfläche (2) auf einem Substrat (1),
zumindest teilweises Abtragen der ersten
Elektrodenfläche (2) in mindestens einem Abtragungsbereich (3, 23, 31, 32, 41, 42, 43, 44),
Aufbringen mindestens einer Funktionsschicht (4), die geeignet ist, in einem eingeschalteten Betriebszustand elektromagnetische Strahlung zu erzeugen, auf der ersten Elektrodenfläche (2), und
- Aufbringen einer zweiten Elektrodenfläche (5) auf der mindestens einen Funktionsschicht (4),
wobei bei dem zumindest teilweisen Abtragen der ersten
Elektrodenfläche (2) zwischen mindestens zwei Punkten der ersten Elektrodenfläche (2), die durch die erste
Elektrodenfläche (2) miteinander leitend verbunden sind, mindestens ein Abtragungsbereich (3, 23, 31, 32, 41, 42, 43, 44) angeordnet wird.
11. Verfahren nach Anspruch 10, wobei das zumindest
teilweise Abtragen der ersten Elektrodenfläche (2)
Laserablation umfasst.
12. Verfahren nach Anspruch 10 oder 11, wobei das zumindest teilweise Abtragen der ersten Elektrodenfläche (2) Ätzen umfasst.
13. Verfahren nach Anspruch 12, wobei das Ätzen
nasschemisches Ätzen umfasst.
14. Verfahren nach Anspruch 13, wobei das nasschemische Ätzen photochemisches Ätzen mit einer Mischung aus
Salpetersäure und Eisen- ( I I I ) -Chlorid umfasst.
15. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 14, wobe Ätzen Trockenätzen umfasst.
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