WO2014201714A1 - Cf玻璃基板及其制作方法、液晶显示装置 - Google Patents

Cf玻璃基板及其制作方法、液晶显示装置 Download PDF

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柯智胜
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Definitions

  • liquid crystal display device
  • This invention relates to the field of liquid crystal displays. More specifically, it relates to a CF glass substrate, a method of fabricating the same, and a liquid crystal display device.
  • a slit type (Sl it) or a non-rotating (Spinless) coater is often used for coating the photoresist.
  • the nozzle of the coater (Nozzle) also lengthens.
  • the film thickness uniformity of the photoresist applied on the entire glass substrate becomes an increasingly prominent problem. This problem is particularly noticeable when coating PS (Photo Spacer) photoresist, because: 1.
  • the film thickness of the PS photoresist determines the TFT (Thin Film Transistor) glass substrate and CF.
  • the cell thickness of the glass substrate after the glass substrate (Cell Gap), Cell Gap is a particularly important parameter in the liquid crystal display device, which requires high precision of the film thickness of the PS photoresist.
  • a black matrix (BM), RGB three primary color sub-pixels, ITO (Indium Tin Oxides) conductive film, etc. have been formed on one surface of the glass substrate. Since the values of the film thickness of the RGB three primary color sub-pixels are different in the design process, the PS photoresist is not coated on the surface of a flat glass substrate. The flow of the wet film formed after the PS photoresist coating is made difficult to control.
  • an object of the present invention is to provide a CF glass substrate including an upper surface and a lower surface, wherein the upper surface is sequentially provided with a black matrix, a conductive film, and a support body. A plurality of pixels are provided on the surface. Further, the pixel includes three sub-pixels whose positions correspond to blank spaces in the black matrix. Furthermore, the support is located above the black body in the black matrix.
  • Another object of the present invention is to provide a method for fabricating a CF glass substrate, comprising: forming a black matrix on an upper surface of the glass substrate; forming a conductive film on an upper surface of the glass substrate; A support is formed on the upper surface of the substrate; a plurality of pixels are formed on the lower surface of the glass substrate. Further, the pixel includes three sub-pixels whose positions correspond to blank spaces in the black matrix. Furthermore, the support is located above the black body in the black matrix.
  • Another object of the present invention is to provide a liquid crystal display device comprising a CF glass substrate and a TFT glass substrate disposed in parallel with the CF glass substrate, wherein the CF glass substrate and the TFT glass substrate are sequentially opposite to each other.
  • a black matrix, a conductive film, and a support are disposed, and the CF glass substrate is provided with a plurality of pixels on a surface opposite to the TFT glass substrate. Further, the pixel includes three sub-pixels whose positions correspond to blank spaces in the black matrix. Furthermore, the support is located above the black body in the black matrix.
  • the CF glass substrate of the present invention forms sub-pixels of three primary colors (ie, red, green, and blue) on the lower surface of the glass substrate, and is not formed on the upper surface having the black matrix, the conductive film, and the support, thereby avoiding the three primary colors.
  • the film thickness of the sub-pixels is different, which causes the flow of the wet film formed after the PS photoresist coating to be difficult to control, and eliminates the variation of the thickness of the PS photoresist film and adversely affects the measurement result, thereby improving the PS.
  • the uniformity of the film thickness of the film formed by the photoresist after coating can be used to control the film thickness precision of the coated PS photoresist to meet all the sizes. Panel.
  • FIG. 1 is a schematic view of a CF glass substrate in accordance with an embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 is a schematic view of a CF glass substrate in accordance with an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, a glass substrate 10 is provided, and the glass substrate 10 is cleaned to wash the glass substrate.
  • a black matrix is formed on the upper surface 11 of the glass substrate 10, and the black matrix is formed by a blank between the black body 20 and the black body 20, and the black matrix can be coated, exposed, developed, etc. by a black matrix photoresist. It is formed on the upper surface 11 of the glass substrate 10.
  • a conductive film 30, such as an ITO (Indium Tin Oxides) transparent conductive film is formed on the upper surface 11 of the glass substrate 10, and the conductive film 30 can be deposited on the glass substrate 10 by sputter deposition or other plating process. On the upper surface 11, it can be seen that the conductive film 30 covers the black matrix 20 of the black matrix and the space between the black bodies 20.
  • a support 40 is formed on the upper surface 11 of the glass substrate 10, that is, on the conductive film 30.
  • the support 40 can be coated, exposed, developed, etc. by a PS (Photo Spacer) photoresist. It is formed on the upper surface 11 of the glass substrate 10.
  • a plurality of red sub-pixels R, green sub-pixels G, and blue sub-pixels B are formed on the lower surface 12 of the glass substrate 10, and one red sub-pixel R, one green sub-pixel G, and one blue sub-pixel B form one a pixel (Pixel), wherein the red sub-pixel R can be formed on the lower surface 12 of the glass substrate 10 by a process of coating, exposing, developing, etc.
  • a CF (Color Filter) glass substrate of an embodiment of the present invention was formed by the above-described fabrication process.
  • the position of each sub-pixel corresponds to a space between the black bodies 20 of the black matrix to prevent the black body 20 of the black matrix from occluding the light emitted by the sub-pixels.
  • the support 40 is formed above the black body 20 of the black matrix.
  • the support body 40 need not be formed above each black body 20, and may be disposed above any of the plurality of black bodies 20 according to actual needs, for example, a support body. 40 can be set by spacing a black body 20.
  • the CF glass substrate of the present invention forms three primary color (ie, red, green, and blue) sub-pixels on the lower surface of the glass substrate than the CF glass substrate of the prior art, and does not form the black matrix or the conductive film.
  • the thickness of the PS photoresist film refers to 90% of the distance from the tip end of the support body to the bottom end of the support body. Controlling the thickness of the PS photoresist film, since the technical solution of the present invention has effectively improved the uniformity of the film thickness at the bottom end of the support, thereby eliminating the defect of the measurement result due to the variation of the thickness of the PS photoresist film during the process.
  • the coating machine can be used to control the film thickness precision of the coated PS photoresist to meet all the sizes.
  • Panel a liquid crystal display device having the above CF glass substrate will be described.
  • the liquid crystal display device 20 includes a CF glass substrate 21, a TFT (Thin Film Transistor) glass substrate 22, and a backlight module 23.
  • the TFT glass substrate 22 can be fabricated by a prior art process such as film formation, exposure, etching, and lift-off, and will not be described herein.
  • the CF glass substrate 21 is disposed in parallel with the TFT glass substrate 22, and is assembled with the TFT glass substrate 22 to form a liquid crystal display panel.
  • the CF glass substrate 21 is a CF glass substrate as shown in FIG.
  • the glass substrate 21 is formed with a black matrix, a conductive film, and a surface of the support with respect to the TFT glass substrate 22.
  • the surface of the CF glass substrate 21 on which the three primary color sub-pixels are formed faces away from the TFT glass substrate 22.
  • the backlight module 23 is disposed under the TFT glass substrate 22 and provides a display light source to the formed liquid crystal display panel to display the image on the liquid crystal display panel.

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Abstract

一种CF玻璃基板及其制作方法、液晶显示装置。该液晶显示装置的CF玻璃基板包括上表面（11）和下表面（12），所述上表面（11）上依次设有黑色矩阵、导电薄膜（30）以及支撑体（40），所述下表面（12）上设有多个像素，所述像素包括三个子像素，所述子像素的位置对应于所述黑色矩阵中的空白处，所述支撑体（40）位于所述黑色矩阵中的黑体（20）的上方。该CF玻璃基板是将三原色（即红色、绿色和蓝色）子像素形成在玻璃基板的下表面，并未将其形成在具有黑色矩阵、导电薄膜和支撑体的上表面，避免因三原色子像素的膜厚各不相同而导致PS光阻涂布后形成的湿膜的流动难以控制的情况出现，从而改善PS光阻在涂布后形成的薄膜的膜厚均一性。

Description

说 明 书
CF玻璃基板及其制作方法、 液晶显示装置 技术领域
本发明涉及液晶显示领域。 更具体地讲， 涉及一种 CF玻璃基板及其制作 方法、 液晶显示装置。
背景技术
在大尺寸面板的生产中， 多采用狭缝式 （Sl it ) 或非旋转式 （Spinless ) 涂布机来进行光阻的涂布。随着玻璃基板尺寸的增大，涂布机的喷嘴（Nozzle) 也随之加长， 在这种情况下， 在整块玻璃基板上涂布的光阻的膜厚均一性成为 日益突出的问题。 该问题在涂布 PS (Photo Spacer, 感光间隙子）光阻时表现 得尤其明显， 其原因是： 1、 PS光阻的膜厚决定 TFT (Thin Film Transistor, 薄膜场效应晶体管） 玻璃基板与 CF (Color Fi lter, 彩色滤光片） 玻璃基板对 组后的液晶盒厚度 （Cell Gap ), Cell Gap是液晶显示装置中特别重要的参数， 这就要求 PS光阻的膜厚有很高的精度； 2、 在进行 PS光阻涂布时， 玻璃基板 的一表面上已经形成有黑色矩阵 （Black Matrix, 简称 BM)， RGB三原色子像 素， ITO ( Indium Tin Oxides, 氧化铟锡） 导电薄膜等， 而由于在设计过程中 要考虑色域 NTSC (National Television Systems Committee) 值， RGB三原 色子像素的膜厚的值各不相同， 那么 PS光阻并不是在一个平整的玻璃基板的 表面上进行涂布， 使得 PS光阻涂布后形成的湿膜的流动变得难以控制。 在不 同尺寸面板的设计上， RGB三原色子像素的膜厚和排版不尽相同， 导致利用涂 布机来控制涂布后的 PS光阻的膜厚的精度来满足所有尺寸的面板变得困难。 发明内容 为了解决上述现有技术存在的问题， 本发明的目的在于提供一种 CF玻璃 基板， 其包括上表面和下表面， 所述上表面上依次设有黑色矩阵、 导电薄膜以 及支撑体， 所述下表面上设有多个像素。 此外， 所述像素包括三个子像素， 所述子像素的位置对应于所述黑色矩阵 中的空白处。 此外， 所述支撑体位于所述黑色矩阵中的黑体的上方。 本发明的另一目的还在于提供一种 CF玻璃基板的制作方法， 包括： 在所 述玻璃基板的上表面上形成黑色矩阵； 在所述玻璃基板的上表面上形成导电薄 膜； 在所述玻璃基板的上表面上形成支撑体； 在所述玻璃基板的下表面上形成 多个像素。 此外， 所述像素包括三个子像素， 所述子像素的位置对应于所述黑色矩阵 中的空白处。 此外， 所述支撑体位于所述黑色矩阵中的黑体的上方。 本发明的另一目的还在于提供一种液晶显示装置， 包括 CF玻璃基板以及 与所述 CF玻璃基板相对平行设置的 TFT玻璃基板， 所述 CF玻璃基板与所述 TFT 玻璃基板相对的表面上依次设有黑色矩阵、 导电薄膜以及支撑体， 所述 CF玻璃基板与所述 TFT玻璃基板相背的表面上设有多个像素。 此外， 所述像素包括三个子像素， 所述子像素的位置对应于所述黑色矩阵 中的空白处。 此外， 所述支撑体位于所述黑色矩阵中的黑体的上方。
本发明的 CF玻璃基板是将三原色 （即红色、 绿色和蓝色） 子像素形成在 玻璃基板的下表面， 并未将其形成在具有黑色矩阵、 导电薄膜和支撑体的上表 面， 避免因三原色子像素的膜厚各不相同而导致 PS光阻涂布后形成的湿膜的 流动难以控制的情况出现， 同时消除了 PS光阻膜厚的变异而对测量结果产生 的不良影响， 从而改善 PS光阻在涂布后形成的薄膜的膜厚的均一性。 而且在 不同尺寸面板的设计上， 由于涂布 PS光阻的表面上未形成三原色子像素， 可 较易地利用涂布机来控制涂布后的 PS光阻的膜厚的精度来满足所有尺寸的面 板。
附图说明 图 1是根据本发明的实施例的 CF玻璃基板的示意图。
图 2是具有图 1所示 CF玻璃基板的液晶显示装置的示意图。 具体实施方式 现在对本发明的实施例进行详细的描述， 其示例表示在附图中， 其中， 相 同的标号始终表示相同部件。下面通过参照附图对实施例进行描述以解释本发 明。 在附图中， 为了清晰起见， 可以夸大层和区域的厚度。 在下面的描述中， 为了避免公知结构和 /或功能的不必要的详细描述所导致的本发明构思的混淆， 可省略公知结构和 /或功能的不必要的详细描述。 图 1是根据本发明的实施例的 CF玻璃基板的示意图。 如图 1所示， 提供一玻璃基板 10， 并对该玻璃基板 10进行清洗， 以使该 玻璃基板洗净。 在该玻璃基板 10的上表面 11上形成黑色矩阵， 该黑色矩阵是 由黑体 20以及黑体 20之间的空白构成， 并且该黑色矩阵可通过黑色矩阵光阻 的涂布、 曝光、 显影等工序后形成在玻璃基板 10的上表面 11上。 接着， 在该 玻璃基板 10的上表面 11上形成导电薄膜 30， 例如 ITO (Indium Tin Oxides, 氧化铟锡） 透明导电薄膜， 该导电薄膜 30可通过溅射沉积或者其它镀膜工艺 沉积在玻璃基板 10的上表面 11上， 图中可见， 该导电薄膜 30覆盖了黑色矩 阵的黑体 20以及黑体 20之间的空白。再接着，在该玻璃基板 10的上表面 11， 即导电薄膜 30上形成支撑体 40， 该支撑体 40可通过 PS (Photo Spacer, 感光 间隙子）光阻的涂布、曝光、显影等工序后形成在玻璃基板 10的上表面 11上。 在该玻璃基板 10的下表面 12上形成多个红色子像素 R、绿色子像素 G和蓝色 子像素 B, —个红色子像素 R、一个绿色子像素 G和一个蓝色子像素 B形成一 个像素 （Pixel), 其中， 红色子像素 R可通过红色光阻的涂布、 曝光、 显影等 工序后形成在玻璃基板 10的下表面 12上，绿色子像素 G可通过绿色光阻的涂 布、 曝光、 显影等工序后形成在玻璃基板 10的下表面 12上， 蓝色子像素 B可 通过蓝色光阻的涂布、曝光、显影等工序后形成在玻璃基板 10的下表面 12上。 这样， 通过上述的制作过程， 形成了本发明的实施例的 CF (Color Filter, 彩色 滤光片） 玻璃基板。 在本实施例中， 优选地， 每个子像素的位置对应于黑色矩阵的黑体 20之 间的空白处， 以避免黑色矩阵的黑体 20将子像素发出的光遮挡。 另外， 为了 避免支撑体 40将子像素发出的光遮挡， 优选地， 支撑体 40形成于黑色矩阵的 黑体 20的上方。 当然， 应当理解， 在本发明中， 支撑体 40无需形成于每个黑 体 20的上方， 可根据实际需求在任意多个黑体 20的上方设置， 例如， 支撑体 40可间隔一个黑体 20而设置。 本发明的 CF玻璃基板与现有技术的 CF玻璃基板相比， 将三原色 （即红 色、 绿色和蓝色）子像素形成在玻璃基板的下表面， 并未将其形成在具有黑色 矩阵、 导电薄膜和支撑体的上表面， 避免因三原色子像素的膜厚各不相同而导 致形成支撑体 40的 PS光阻涂布后形成的湿膜的流动难以控制的情况出现。此 外， 在形成支撑体 40的制程过程中需要对涂布后的 PS光阻膜厚 （PS光阻膜 厚是指支撑体顶端到支撑体底端的距离的百分之九十)进行实时测量以控制 PS 光阻膜厚， 由于本发明的技术方案已经有效地改善了支撑体底端的膜厚的均匀 性， 因而消除了在制程过程中由于 PS光阻膜厚的变异而对测量结果产生的不 良影响， 从而改善 PS光阻在涂布后形成的薄膜的膜厚的均一性。 而且在不同 尺寸面板的设计上， 由于涂布 PS光阻的表面上未形成三原色子像素， 可较易 地利用涂布机来控制涂布后的 PS光阻的膜厚的精度来满足所有尺寸的面板。 以下文中， 将对具有上述的 CF玻璃基板的液晶显示装置进行描述。 图 2是具有图 1所示 CF玻璃基板的液晶显示装置的示意图。 如图 2所示， 液晶显示装置 20包括 CF玻璃基板 21、 TFT (Thin Film Transistor, 薄膜场效应晶体管） 玻璃基板 22和背光模组 23。 其中， TFT玻璃 基板 22可通过成膜、 曝光、 刻蚀和剥离等现有技术的工序制作而成， 在此不 再赘述。
具体而言， CF玻璃基板 21与 TFT玻璃基板 22相对平行设置， 并与 TFT 玻璃基板 22对盒组装形成液晶显示面板， 其中， CF玻璃基板 21为图 1所示 的 CF玻璃基板， 并且该 CF玻璃基板 21的形成有黑色矩阵、 导电薄膜以及支 撑体的表面相对于 TFT玻璃基板 22， CF玻璃基板 21的形成有三原色子像素 的表面背对于 TFT玻璃基板 22。 背光模组 23设于 TFT玻璃基板 22的下方， 提供显示光源给形成的液晶显示面板， 以使液晶显示面板显示影像。
尽管已经参照其示例性实施例具体显示和描述了本发明，但是本领域的技 术人员应该理解， 在不脱离权利要求所限定的本发明的精神和范围的情况下， 可以对其进行形式和细节上的各种改变。

Claims

权利要求书
1、 一种 CF玻璃基板， 包括上表面和下表面， 其中， 所述上表面上依次设 有黑色矩阵、 导电薄膜以及支撑体， 所述下表面上设有多个像素。
2、根据权利要求 1所述的 CF玻璃基板，其中，所述像素包括三个子像素， 所述子像素的位置对应于所述黑色矩阵中的空白处。
3、根据权利要求 1所述的 CF玻璃基板， 其中， 所述支撑体位于所述黑色 矩阵中的黑体的上方。
4、根据权利要求 2所述的 CF玻璃基板， 其中， 所述支撑体位于所述黑色 矩阵中的黑体的上方。
5、 一种 CF玻璃基板的制作方法， 其中， 包括： 在所述玻璃基板的上表面上形成黑色矩阵； 在所述玻璃基板的上表面上形成导电薄膜； 在所述玻璃基板的上表面上形成支撑体； 在所述玻璃基板的下表面上形成多个像素。
6、 根据权利要求 5所述的制作方法， 其中， 所述像素包括三个子像素， 所述子像素的位置对应于所述黑色矩阵中的空白处。
7、 根据权利要求 5所述的制作方法， 其中， 所述支撑体位于所述黑色矩 阵中的黑体的上方。
8、 根据权利要求 6所述的制作方法， 其中， 所述支撑体位于所述黑色矩 阵中的黑体的上方。
9、 一种液晶显示装置， 包括 CF玻璃基板以及与所述 CF玻璃基板相对平 行设置的 TFT玻璃基板，其中，所述 CF玻璃基板与所述 TFT玻璃基板相对的 表面上依次设有黑色矩阵、导电薄膜以及支撑体，所述 CF玻璃基板与所述 TFT 玻璃基板相背的表面上设有多个像素。
10、 根据权利要求 9所述的液晶显示装置， 其中， 所述像素包括三个子像 素， 所述子像素的位置对应于所述黑色矩阵中的空白处。
11、 根据权利要求 9所述的液晶显示装置， 其中， 所述支撑体位于所述黑 色矩阵中的黑体的上方。
12、 根据权利要求 10所述的液晶显示装置， 其中， 所述支撑体位于所述 黑色矩阵中的黑体的上方。
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